WO2015096351A1 - 有机发光二极管显示面板及其制作方法 - Google Patents

有机发光二极管显示面板及其制作方法 Download PDF

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WO2015096351A1
WO2015096351A1 PCT/CN2014/077298 CN2014077298W WO2015096351A1 WO 2015096351 A1 WO2015096351 A1 WO 2015096351A1 CN 2014077298 W CN2014077298 W CN 2014077298W WO 2015096351 A1 WO2015096351 A1 WO 2015096351A1
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optical
light
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张粲
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京东方科技集团股份有限公司
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Definitions

  • Embodiments of the present invention relate to an OLED display panel and a method of fabricating the same. Background technique
  • OLED Organic Light-Emitting Diode
  • LCDs liquid crystal displays
  • PDPs plasma display panels
  • OLEDs have a wide range of applications in the field of display and illumination.
  • the semiconductor light emitting element ensures high functional reliability and lower power consumption, it is necessary to improve the external quantum efficiency of the element itself (External quantum efficiency) 0
  • the external quantum efficiency of the semiconductor light emitting element depends on its own Internal quantum efficiency and light extraction efficiency. The internal quantum efficiency is determined by the characteristics of the material itself. Therefore, it is particularly important to increase the light extraction efficiency of the semiconductor light-emitting component in the case where the internal quantum efficiency cannot be effectively improved. Summary of the invention
  • At least one embodiment of the present invention provides a method of fabricating an OLED display panel, comprising: sequentially forming an anode, an organic light emitting layer, a cathode, and a first light coupling layer on a substrate, and in the first light bonding layer The side facing away from the cathode forms a second light-kapped layer arranged by a plurality of raised structures having a curved surface.
  • the first reticle is vapor deposited on the first light-bonding layer to form the second light-coupling layer; the first reticle includes a plurality of layers for vapor deposition. An opening of the two light coupling layers, and the hole wall of the opening is perpendicular to the surface of the first mask.
  • the opening on the first reticle is a slit
  • the direction in which the slit is placed is perpendicular to a direction in which the slit on the second reticle on which the organic luminescent layer is formed is disposed.
  • the surface formed by the vapor deposition is a semi-cylindrical shape in which the convex structure of the curved surface is a strip shape.
  • the slit width on the first reticle is less than the slit width of the second reticle.
  • the opening on the first mask is in the shape of a dot, and the surface formed by evaporation is an arc.
  • the raised structure of the face is hemispherical.
  • the aperture width of the dot-shaped opening is smaller than the width of the slit on the second mask used in forming the organic light-emitting layer.
  • the sum of the thicknesses of the first light ply and second light ply layers is A / 4", A is the illuminating peak wavelength, and "is the first light ply and second The refractive index of the light-bonded layer.
  • the materials of the first light ply and second light ply layers include: a mixed material of one or a mixture of ZnSe, Ti0 2 , Si0 2 , Si 3 N 4 , Alq 3 .
  • At least one embodiment of the present invention also provides an OLED display panel including an anode, an organic light-emitting layer, a cathode, and a first light-bonding layer sequentially formed on a base substrate, and formed in the first light-combined layer
  • the second light coupling layer is formed by a raised structure of a plurality of surfaces having a curved surface facing away from the side of the cathode.
  • the raised surface having a curved surface is a strip-shaped semi-cylindrical shape.
  • the diameter of the semi-cylindrical is smaller than the sub-pixel width of the display panel.
  • the raised structure having a curved surface is hemispherical.
  • the hemisphere has an aperture width that is less than a sub-pixel width of the display panel.
  • the sum of the thicknesses of the first light ply layer and the second light ply layer is ⁇ / 4 ⁇ , which is the illuminating peak wavelength, and ⁇ is the first light ply and second light The refractive index of the layer.
  • materials of the first light ply and second light ply layers include: ZnSe,
  • FIG. 1 is a schematic structural view of an OLED display panel; a schematic view of a thin mask;
  • Figure 3 is a cross-sectional view of the fine mask of the ordinary pixel of Figure 2 taken along the line AA; intent;; , , 1 , " Figure 5 is a cross-sectional view of the fine mask of Figure 4 taken along line BB;
  • FIG. 6 is a schematic structural diagram of an OLED display panel according to an embodiment of the present invention. detailed description
  • a material having a suitable thickness and a refractive index matching may be used as the cathode coating layer.
  • a material having a high refractive index is usually used as an antireflection layer to increase the light extraction efficiency of the top emission device.
  • the refractive index of the antireflection layer is greater than the refractive index of the air, part of the light is totally reflected when the light exits to the top end of the cathode coating. Therefore, full emission occurs on the light exiting side, which is not conducive to the removal of light and the loss of part of the light.
  • An OLED display panel manufacturing method is provided by an embodiment of the present invention, and an OLED display panel as shown in FIG. 2 is manufactured.
  • the method includes:
  • step S1 the anode 2, the organic light-emitting layer 3, the cathode 4, and the first light-coupling layer 5 are sequentially formed on the base substrate 1.
  • Each pixel of the OLED display panel includes a corresponding anode 2 and an organic light-emitting layer 3 And a cathode 4 and a first light junction layer 5.
  • the anode 2, the organic light-emitting layer 3, the cathode 4, and the first light-bonding layer 5 are all fabricated using a conventional mask.
  • the patterns of the corresponding anode 2, the organic light-emitting layer 3, the cathode 4, and the first light-bonding layer 5 can be sequentially vapor-deposited onto the base substrate 1 by vapor deposition.
  • the step of fabricating the organic light-emitting layer 3 includes: sequentially depositing a hole injection layer and a hole transport layer on the anode 2; and vapor-depositing the sub-pixel R, G, and B light-emitting layers on the hole transport layer; The electron transport layer is vapor-deposited; and an electron injection layer is evaporated on the electron transport layer.
  • FIG. 3 A schematic and cross-sectional view of a conventional mask (second mask) for vapor-depositing sub-pixel R, G, B light-emitting layers is shown in Figs. 3 and 4, respectively.
  • a plurality of parallel slits 8 are present on the second mask, and R, G, and B luminescent materials are vapor-deposited through the slits 8 on the hole transport layer.
  • the above description is made only by three sub-pixel light-emitting layers of R, G, and B.
  • embodiments of the present invention are not limited to the light-emitting layer of the above sub-pixel, and may include other colors such as yellow or white.
  • the cross section of the slit on the second mask is as shown in Fig. 3.
  • the manufacturing method of the second mask is a conventional manufacturing method, and details are not described herein again.
  • step S2 a second light-receiving layer 6 arranged by a plurality of convex structures having a curved surface is formed on a side of the first light-complex layer 5 facing away from the cathode 4.
  • Step S2 includes: performing vapor deposition on the first light carrier layer 5 using the first mask to form a second light carrier layer 6.
  • the first mask includes a plurality of openings for vapor-depositing the second light-bonding layer 6, and the aperture walls of the openings are perpendicular to the surface of the first mask. In this manner, the light-bonding layer material that is passed through the aperture is formed into a convex structure having a curved surface.
  • the convex structure of the surface of the second light-trafficking layer 6 is such that the light originally on the surface of the first light-combination layer 5 is scattered, so that the light to be totally reflected can be transmitted, thereby reducing the total reflection of the light. Increases the light extraction rate and increases the external quantum efficiency of the device.
  • the opening 8 on the first mask may be a slit, and the surface formed by vapor deposition is a curved semi-cylindrical structure having a convex structure.
  • the direction in which the slits of the first mask are placed is perpendicular to the direction in which the slits on the second mask on which the organic light-emitting layer 5 is formed, so that the manufacturing process is simple and the semi-cylindrical can be closely arranged, further increasing The light extraction rate increases the external quantum efficiency of the device.
  • the slit width on the first reticle is smaller than the slit width of the second reticle, such that the radius of the vapor-deposited semi-cylindrical is smaller than the sub-pixel width, which is more advantageous to the removal of light to some extent.
  • the opening size L1 of the second mask is about 46.5 ⁇ m
  • the opening size L2 of the first mask is about 3 ⁇ m
  • the opening size L1 of the second mask is about 70 ⁇ m
  • first The opening size L2 of the mask is about 5 ⁇ m. In this way, the radius of the semi-cylindrical is much smaller than the sub-pixel width.
  • the opening 8 on the first reticle may also be in the form of a dot, and the surface formed by the vapor deposition may be a hemispherical convex structure.
  • the aperture width of the dot-shaped opening is smaller than the width of the slit on the second mask used when the organic light-emitting layer 5 is formed.
  • the sum of the thicknesses of the first light ply layer 5 and the second light ply layer 6 is ⁇ / 4 ⁇ , where ⁇ is the illuminating peak wavelength, “for the first light ply 5 And the refractive index of the second light-receiving layer 6. Since the material with a higher refractive index is advantageous for light extraction, in order to maximize the external quantum efficiency, "greater than or equal to 1.8.
  • the materials of the first light coupling layer 5 and the second light coupling layer 6 are selected from materials having a higher refractive index, including: ZnSe, Ti0 2 , Si0 2 , Si 3 N 4 , Alq 3 (octahydroxyindole-Lin aluminum) One or a mixture of at least two.
  • the spacing between two adjacent slits or two adjacent circular holes on the first reticle is brought to an appropriate distance, so that two adjacent strip-shaped semi-cylindrical or adjacent ones formed by evaporation are formed.
  • the two hemispheres are in intimate contact to further increase the external quantum efficiency.
  • An embodiment of the present invention further provides an OLED display panel, as shown in FIG. 2, comprising an anode 2, an organic light-emitting layer 3, a cathode 4, and a first light-bonding layer 5 which are sequentially formed on the base substrate 1.
  • the display panel further includes: a second light peg layer 6 formed by a convex structure having a curved surface on a side of the first light peg layer 5 facing away from the cathode 4.
  • the raised structure having a curved surface may be a strip-shaped semi-cylindrical shape.
  • the diameter of the semi-cylindrical is smaller than the sub-pixel width of the display panel.
  • the raised structure having a curved surface may also be hemispherical.
  • the aperture width of the hemisphere is less than the sub-pixel width of the display panel.
  • the sum of the thicknesses of the first light-bonding layer and the second light-complexing layer is A / 4n, where A is the illuminating peak wavelength and n is the refractive index of the first light-traveling layer and the second light-combining layer. In an embodiment, n is greater than or equal to 1.8.
  • the first optical coupling layer and the second optical coupling layer select a material having a higher transmittance, including: one or at least two of ZnSe, Ti0 2 , Si0 2 , Si 3 N 4 , Alq 3 (octahydroxyquinoline aluminum) Mixed material.
  • Embodiments of the present invention provide an OLED display panel and a method for fabricating the same, wherein a light-emitting structure on a surface of a first light-bonding layer is transmitted through a convex structure having a curved surface on a surface of the second light-coupling layer, thereby reducing The total reflection of light increases the extraction rate of light and increases the external amount of the device. Sub-efficiency.

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Abstract

一种OLED显示面板制作方法和OLED显示面板，该制作方法包括：在衬底基板（1）上依次形成阳极（2）、有机发光层（3）、阴极（4）、第一光耦合层（5），以及在第一光耦合层（5）背离阴极（4）的一侧形成由若干表面为弧面的凸起结构排列成的第二光耦合层（6）。通过第二光耦合层（6）表面为弧面的凸起结构的设计使得原来在第一光耦合层（5）表面将要发生全反射的光线透射出去，从而减少了光的全反射，增加了光的取出率，提高器件的外量子效率。

Description

有机发光二极管显示面板及其制作方法 技术领域
本发明的实施例涉及一种 OLED显示面板及其制作方法。 背景技术
有机发光二极管 （ Organic Light-Emitting Diode, OLED )具有自发光、 全固态、 宽视角、 响应快等诸多优点， 并且在平板显示中有着巨大的应用前 景。 OLED被认为是继液晶显示器（Liquid Crystal Display, LCD), 等离子显 示板（Plasma Display Panel, PDP )之后的新一代平板显示产品和技术。 目 前 OLED在显示和照明领域都有广泛的应用。 为了让半导体发光元件确保较 高的功能可靠性及其较低的能耗， 需要提高元件本身的外部量子效率 ( External quantum efficiency )0 一般来说， 半导体发光元件的外部量子效率 取决于其本身的内部量子效率以及光取出效率。 其中内量子效率由材料本身 的特性所决定， 因此在内部量子效率无法有效提升的情况下， 增加半导体发 光组件的光取出效率尤为重要。 发明内容
本发明的至少一个实施例提供了一种 OLED显示面板制作方法， 包括： 在衬底基板上依次形成阳极、 有机发光层、 阴极及第一光耦合层， 以及在所 述第一光辆合层背离所述阴极的一侧形成由若干表面为弧面的凸起结构排列 成的第二光辆合层。
在一个示例中， 釆用第一掩模板在所述第一光辆合层上进行蒸镀， 形成 所述第二光耦合层； 所述第一掩模板上包括若干用于蒸镀所述第二光耦合层 的开孔， 且所述开孔的孔壁与所述第一掩模板表面垂直。
在一个示例中， 所述第一掩模板上的开孔为狭缝， 且狭缝的放置方向与 在形成所述有机发光层时釆用的第二掩模板上的狭缝的放置方向垂直， 蒸镀 形成的所述表面为弧面的凸起结构为条形的半圓柱。
在一个示例中， 所述第一掩模板上的狭缝宽度小于所述第二掩模板的狭 缝宽度。
在一个示例中， 所述第一掩模板上的开孔为点状， 蒸镀形成的表面为弧 面的凸起结构为半球形。
在一个示例中， 圓点状的开孔的孔径宽度小于在形成所述有机发光层时 釆用的第二掩模板上的狭缝的宽度。
在一个示例中， 所述第一光辆合层和第二光辆合层的厚度之和为 A / 4"， A为发光峰值波长， 而"为所述第一光辆合层和第二光辆合层的折射率。
在一个示例中， 所述《大于等于 1.8。
在一个示例中， 所述第一光辆合层和第二光辆合层的材料包括： ZnSe、 Ti02、 Si02、 Si3N4、 Alq3其中之一或至少两种的混合材料。
本发明的至少一个实施例还提供了一种 OLED显示面板， 包括依次形成 在衬底基板上的阳极、 有机发光层、 阴极及第一光辆合层， 以及形成在所述 第一光辆合层背离所述阴极的一侧的由若干表面为弧面的凸起结构排列成的 第二光耦合层。
在一个示例中， 所述表面为弧面的凸起结构为条形的半圓柱。
在一个示例中， 所述半圓柱的直径小于所述显示面板的亚像素宽度。 在一个示例中， 所述表面为弧面的凸起结构为半球形。
在一个示例中， 所述半球的孔径宽度小于所述显示面板的亚像素宽度。 在一个示例中， 所述第一光辆合层和第二光辆合层的厚度之和为 Λ / 4η , 为发光峰值波长， 而 η为所述第一光辆合层和第二光辆合层的折射率。
在一个示例中， 所述《大于等于 1.8。
在一个示例中， 所述第一光辆合层和第二光辆合层的材料包括： ZnSe、
Ti02、 Si02、 Si3N4、 Alq3其中之一或至少两种的混合材料。 附图说明
以下将结合附图对本发明的实施例进行更详细的说明， 以使本领域普通 技术人员更加清楚地理解本发明， 其中：
图 1是一种 OLED显示面板的结构示意图； 细掩模板示意图；
图 3是图 2中的普通像素的精细掩模板的沿 A-A向的截面示意图； 意图;； ， 、 1 、 " 图 5是图 4中的精细掩模板沿 B-B向的截面示意图；
图 6是本发明实施例提供的 OLED显示面板结构示意图。 具体实施方式
为使本发明的实施例的目的、 技术方案和优点更加清楚， 下面将结合本 发明实施例的附图对本发明的实施例的技术方案进行清楚、 完整的描述。 显 然， 所描述的实施例仅是本发明的一部分示例性实施例， 而不是全部的实施 例。 基于所描述的本发明的示例性实施例， 本领域普通技术人员在无需创造 性劳动的前提下所获得的所有其它实施例都属于本发明的保护范围。
除非另作定义， 此处使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领 域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。 本发明专利申请说明书以及权 利要求书中使用的"第一"、 "第二 "以及类似的词语并不表示任何顺序、 数量 或者重要性， 而只是用来区分不同的组成部分。 同样， "一个，，、 "一"或者"该，， 等类似词语也不表示数量限制， 而是表示存在至少一个。 "包括，，或者"包含" 等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的 元件或者物件及其等同， 而不排除其他元件或者物件。 "上"、 "下"、 等仅用 于表示相对位置关系， 当被描述对象的绝对位置改变后， 则该相对位置关系 也可能相应地改变。
为了提高顶发射器件的光取出效率， 可釆用适当厚度且折射率相配的材 料作为阴极覆盖层。 一般釆用折射率越大的材料， 阴极的透过率越大， 越有 利于光的取出。 因此通常釆用高折射率的材料作为增透层， 增加顶发射器件 的光取出效率。如图 1所示的 OLED显示面板，在基板 1上依次形成阳极 2、 有机发光层 3及阴极 4， 在阴极 4背离所述基板 1的一侧形成一层平面光辆 合层 5。 由于增透层的折射率大于空气折射率， 光在出射到阴极覆盖层的顶 端时， 部分光发生了全反射。 因此， 在出光侧会发生全发射， 不利于光的取 出， 损失了部分光。
本发明的实施例提供的一种 OLED显示面板制作方法， 制作如图 2所示 的 OLED显示面板， 该方法包括：
步骤 S1， 在衬底基板 1上依次形成阳极 2、 有机发光层 3、 阴极 4及第 一光耦合层 5。 OLED显示面板每个像素都包括对应的阳极 2、 有机发光层 3 及阴极 4及第一光辆合层 5。 阳极 2、有机发光层 3及阴极 4及第一光辆合层 5 都釆用普通掩模板进行制作。 例如， 可通过普通掩模板釆用蒸镀的方式将 相应的阳极 2、有机发光层 3、 阴极 4及第一光辆合层 5图形依次蒸镀到衬底 基板 1上。 制作有机发光层 3的步骤包括： 在阳极 2上依次蒸镀空穴注入层 和空穴传输层； 在空穴传输层上， 分别蒸镀亚像素的 R、 G、 B发光层； 在 发光层上蒸镀电子传输层； 在电子传输层上蒸镀电子注入层。
用于蒸镀亚像素的 R、 G、 B发光层的普通掩模板（第二掩模板） 的示 意图及截面示意图， 分别如图 3和图 4所示。 第二掩模板上存在若干平行的 狭缝 8， R、 G、 B发光材料透过狭缝 8蒸镀在空穴传输层上。 上述仅是以 R、 G、 B 三种亚像素发光层为例进行说明的， 但是本发明的实施例不限于上述 亚像素的发光层， 还可以包括其它颜色， 例如， 黄色或白色等。 为防止每个 亚像素中各层的图形蒸镀成为半球状， 第二掩模板上的狭缝的截面如图 3所 示。 第二掩模板的制作方法为常规制作方法， 在此不再赘述。
步骤 S2，在第一光辆合层 5背离所述阴极 4的一侧形成由若干表面为弧 面的凸起结构排列成的第二光辆合层 6。 步骤 S2包括： 釆用第一掩模板在第 一光辆合层 5上进行蒸镀， 形成第二光辆合层 6。 第一掩模板上包括若干用 于蒸镀第二光辆合层 6的开孔， 且所述开孔的孔壁与第一掩模板表面垂直。 以这种方式， 透过开孔的光辆合层材料形成为表面为弧面的凸起结构。
第二光辆合层 6的表面为弧面的凸起结构使得原来在第一光辆合层 5表 面的光发生散射， 这样能够将要发生全反射的光线透射出去， 从而减少了光 的全反射， 增加了光的取出率， 提高了器件的外量子效率。
如图 5和 6所示， 第一掩模板上的开孔 8可以为狭缝， 蒸镀形成的表面 为弧面的凸起结构为条形的半圓柱。 例如， 使第一掩模板的狭缝的放置方向 与在形成有机发光层 5时釆用的第二掩模板上的狭缝的放置方向垂直， 这样 制作工艺简单且半圓柱可紧密排列， 进一步增加光的取出率， 提高器件的外 量子效率。
在一实施例中， 第一掩模板上的狭缝宽度小于第二掩模板的狭缝宽度， 使得蒸镀的半圓柱的半径小于亚像素宽度， 这样在一定程度上更有利于光的 取出。 例如， 当入射光的亚像素尺寸为 40μπιχ120μπι， 则第二掩模板的开口 尺寸 L1约为 46.5μπι， 第一掩模板的开口尺寸 L2约为 3μπι; 当入射光的亚 像素尺寸为 200μπιχ60μπι时， 则第二掩模板的开口尺寸 L1约为 70μπι， 第一 掩模板的开口尺寸 L2约为 5μπι。 以这种方式， 使得半圓柱的半径远小于亚 像素宽度。
第一掩模板上的开孔 8也可以为圓点状， 蒸镀形成的表面为弧面的凸起 结构为半球形。 圓点状开孔的孔径宽度小于在形成有机发光层 5时釆用的第 二掩模板上的狭缝的宽度。
在一实施例中， 所述第一光辆合层 5 和第二光辆合层 6 的厚度之和为 Λ / 4η , 其中 Α为发光峰值波长， 《为所述第一光辆合层 5和第二光辆合层 6 的折射率。 由于折射率较高的材料有利于光的取出， 因此， 为了尽量提高外 量子效率， 《大于等于 1.8。
例如，第一光耦合层 5和第二光耦合层 6的材料选择折射率较高的材料， 包括： ZnSe、 Ti02、 Si02、 Si3N4、 Alq3 (八羟基喳-琳铝）其中之一或至少两 种的混合材料。
在制作过程中， 使第一掩模板上的相邻两个狭缝或相邻两个圓孔之间的 间距达到适当的距离， 使得蒸镀形成的相邻两个条形半圓柱或相邻两个半球 之间紧密接触， 从而进一步提高外量子效率。
本发明的实施例还提供了一种 OLED显示面板， 如图 2所示， 包括依次 形成在衬底基板 1上的阳极 2、 有机发光层 3、 阴极 4及第一光辆合层 5。 该 显示面板还包括： 形成在所述第一光辆合层 5背离所述阴极 4的一侧的由若 干表面为弧面的凸起结构排列成的第二光辆合层 6。
在一实施例中， 表面为弧面的凸起结构可以为条形的半圓柱形。 半圓柱 的直径小于所述显示面板的亚像素宽度。
表面为弧面的凸起结构还可以为半球形。 半球的孔径宽度小于所述显示 面板的亚像素宽度。
第一光辆合层和第二光辆合层的厚度之和为 A / 4n， 其中 A为发光峰值波 长， n为所述第一光辆合层和第二光辆合层的折射率。在一实施例中， n大于 等于 1.8。
第一光耦合层和第二光耦合层选择射率较高的材料， 包括： ZnSe、 Ti02、 Si02、 Si3N4、 Alq3 (八羟基喹啉铝）其中之一或至少两种的混合材料。
本发明实施例提供一种 OLED显示面板及其制作方法，通过第二光耦合 层表面为弧面的凸起结构使得原来在第一光辆合层表面将要发生全反射的光 线透射出去， 从而减少了光的全反射， 增加了光的取出率， 提高器件的外量 子效率。
以上实施方式仅用于说明本发明， 而并非对本发明的限制， 有关技术领 域的普通技术人员， 在不脱离本发明的精神和范围的情况下， 还可以做出各 种变化和变型， 这些变化、 变型以及所有等同的技术方案也应属于本发明的 范畴， 本发明的专利保护范围应由权利要求限定。
本申请要求于 2013年 12月 26日提交的名称为' OLED显示面板及其制 作方法 "的中国专利申请 No. 201310738154.6的优先权，该申请全文以引用方 式合并于本文。

Claims

权利要求书
1、 一种 OLED显示面板制作方法， 包括： 在衬底基板上依次形成阳极、 有机发光层、 阴极及第一光辆合层， 以及
在所述第一光辆合层背离所述阴极的一侧形成由若干表面为弧面的凸起 结构排列成的第二光辆合层。
2、 如权利要求 1所述的 0LED显示面板制作方法， 还包括： 釆用第一 掩模板在所述第一光辆合层上进行蒸镀形成所述第二光辆合层， 其中所述第 一掩模板上包括若干用于蒸镀所述第二光辆合层的开孔， 且所述开孔的孔壁 与所述第一掩模板表面垂直。
3、 如权利要求 2所述的 OLED显示面板制作方法， 其中所述第一掩模 板上的开孔为狭缝， 且狭缝的放置方向与在形成所述有机发光层时釆用的第 二掩模板上的狭缝的放置方向垂直， 使得蒸镀形成的所述表面为弧面的凸起 结构为条形的半圓柱形。
4、 如权利要求 2或 3所述的 OLED显示面板制作方法， 其中所述第一 掩模板上的狭缝宽度'〗、于所述第二掩模板的狭缝宽度。
5、 如权利要求 2-4任一项所述的 OLED显示面板制作方法， 其中所述 第一掩模板上的开孔为圓点状， 使得蒸镀形成的表面为弧面的凸起结构为半 球形。
6、 如权利要求 5所述的 OLED显示面板制作方法， 其中所述圓点状的 开孔的孔径宽度小于在形成所述有机发光层时釆用的第二掩模板上的狭缝的 宽度。
7、 如权利要求 1-6中任一项所述的 OLED显示面板制作方法， 其中所 述第一光耦合层和所述第二光耦合层的厚度之和为 A/ 4«， A为发光峰值波 长， 而《为所述第一光辆合层和第二光辆合层的折射率。
8、 如权利要求 7所述的 OLED显示面板制作方法， 其中所述《大于等 于 1.8。
9、 如权利要求 1-8中任一项所述的 OLED显示面板制作方法， 其中所 述第一光辆合层和所述第二光辆合层的材料包括： ZnSe、 Ti02、 Si02、 Si3N4、 Alq3其中之一或至少两种的混合材料。
10、 一种 OLED显示面板， 包括： 依次形成在衬底基板上的阳极、 有机 发光层、 阴极及第一光辆合层， 以及
形成在所述第一光辆合层背离所述阴极的一侧的由若干表面为弧面的凸 起结构排列成的第二光辆合层。
11、 如权利要求 10所述的 OLED显示面板， 其中所述表面为弧面的凸 起结构为条形的半圓柱。
12、 如权利要求 11所述的 OLED显示面板， 其中所述半圓柱的直径小 于所述显示面板的亚像素宽度。
13、 如权利要求 10所述的 OLED显示面板， 其中所述表面为弧面的凸 起结构为半球形。
14、 如权利要求 13所述的 OLED显示面板， 其中所述半球的孔径宽度 小于所述显示面板的亚像素宽度。
15、 如权利要求 10-14中任一项所述的 OLED显示面板， 其中所述第一 光辆合层和第二光辆合层的厚度之和为 A/ 4«， A为发光峰值波长， 而《为所 述第一光辆合层和所述第二光辆合层的折射率。
16、 如权利要求 15所述的 OLED显示面板， 其中所述《大于等于 1.8。
17、 如权利要求 10-14中任一项所述的 OLED显示面板， 其中所述第一光 耦合层和所述第二光辆合层的材料包括： ZnSe、 Ti02、 Si02、 Si3N4、 Alq3其 中之一或至少两种的混合材料。
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