WO2014167750A1 - 電子ビーム描画装置、電子ビーム描画方法、および記録媒体 - Google Patents

電子ビーム描画装置、電子ビーム描画方法、および記録媒体 Download PDF

Info

Publication number
WO2014167750A1
WO2014167750A1 PCT/JP2013/082771 JP2013082771W WO2014167750A1 WO 2014167750 A1 WO2014167750 A1 WO 2014167750A1 JP 2013082771 W JP2013082771 W JP 2013082771W WO 2014167750 A1 WO2014167750 A1 WO 2014167750A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
approximate
graphic
width
unit
figures
Prior art date
Application number
PCT/JP2013/082771
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
拓也 田尾
政和 濱路
Original Assignee
日本コントロールシステム株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日本コントロールシステム株式会社 filed Critical 日本コントロールシステム株式会社
Priority to US14/406,641 priority Critical patent/US9430607B2/en
Priority to EP13881981.8A priority patent/EP2876667B1/en
Priority to KR1020147012307A priority patent/KR102065197B1/ko
Publication of WO2014167750A1 publication Critical patent/WO2014167750A1/ja

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F30/00—Computer-aided design [CAD]
    • G06F30/30—Circuit design
    • G06F30/39—Circuit design at the physical level
    • G06F30/398—Design verification or optimisation, e.g. using design rule check [DRC], layout versus schematics [LVS] or finite element methods [FEM]
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
    • G03F1/76—Patterning of masks by imaging
    • G03F1/78—Patterning of masks by imaging by charged particle beam [CPB], e.g. electron beam patterning of masks
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/302—Controlling tubes by external information, e.g. programme control
    • H01J37/3023—Programme control
    • H01J37/3026—Patterning strategy
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/317—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
    • H01J37/3174—Particle-beam lithography, e.g. electron beam lithography
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
    • H01J2237/317—Processing objects on a microscale
    • H01J2237/3175—Lithography
    • H01J2237/31761—Patterning strategy
    • H01J2237/31764—Dividing into sub-patterns

Definitions

  • the present invention relates to an electron beam lithography apparatus for performing electron beam lithography.
  • Patent Document 1 an electron beam lithography apparatus for performing electron beam lithography has been developed (see Patent Document 1 and Patent Document 2).
  • a photomask is used in a lithography process for semiconductor fabrication. Also, with recent miniaturization of photomasks, pattern modification and addition of auxiliary patterns by RET (Resolution Enhancement Technique) typified by OPC (Optical Proximity Effect Correction) has become common.
  • RET Resolution Enhancement Technique
  • OPC Optical Proximity Effect Correction
  • the electron beam drawing apparatus includes a receiving unit that receives input graphic information that is information indicating one or more graphics, and a graphic width acquisition unit that acquires the width of each of the one or more graphics indicated by input graphic information
  • a drawing unit that draws one or more approximate figures indicated by the approximate figure information created by the creation unit.
  • This configuration can reduce the total number of rectangles during fracturing and reduce drawing time.
  • the total number of rectangles at the time of fracturing can be reduced, and the drawing time can be reduced.
  • FIG. 1 is a block diagram of an electron beam drawing apparatus 1 according to the first embodiment.
  • Figure showing an example of the same figure width Figure showing an example of the same figure width A flowchart for explaining the overall operation of the electron beam lithography apparatus 1 Flowchart for explaining processing for acquiring the same graphic width Flowchart for explaining processing for creating approximate graphic information corresponding to the auxiliary pattern Figure showing an example of the same figure.
  • the figure which shows the example of the same bitmap image The figure which shows the example of the same center line
  • the figure which shows the example of detection of the same width formation point The figure which shows the example of the same center line Figure showing an example of the same approximate figure Figure showing an example of the same approximate figure
  • the figure which shows the example of the figure corresponding to the 1st main pattern and the 2nd main pattern The figure which shows the example of the approximate outline Figure showing an example of the same approximate figure Figure showing an example of the same approximate figure Block diagram of drawing graphic data creation apparatus 2 in Embodiment 2 Figure showing
  • the electron beam drawing apparatus 1 uses the input graphic information indicating one or more graphics and a rectangle to create approximate graphic information indicating one or more graphics that approximate the one or more graphics.
  • the electron beam drawing apparatus 1 draws one or more figures indicated by the approximate figure information.
  • FIG. 1 is a block diagram of an electron beam drawing apparatus 1 in the present embodiment.
  • the electron beam drawing apparatus 1 includes a storage unit 10, a reception unit 11, a graphic width acquisition unit 12, a determination unit 13, a creation unit 14, and a drawing unit 15.
  • the graphic width acquisition unit 12 includes a distance map creation unit 121 and a graphic width acquisition unit 122.
  • the creation unit 14 includes a center line acquisition unit 141, an approximate contour acquisition unit 142, and a creation unit 143.
  • the input figure information is information indicating one or more figures to be drawn by the electron beam drawing apparatus 1.
  • the shape of the figure does not matter.
  • the shape of the figure is usually an elongated shape such as a line shape or a rod shape, or a round shape such as a circle or an ellipse.
  • the shape of the figure may be, for example, a shape in which the elongated shape and the round shape are combined.
  • the figure usually has a so-called curve.
  • the figure is generally called a drawing pattern or a mask pattern.
  • the input figure information usually has one or more coordinate sets having at least one coordinate.
  • the one coordinate set usually indicates the outline of one figure. That is, for example, when two or more figures are shown, the input figure information usually has two or more coordinate sets.
  • one or more coordinates included in the coordinate set usually have an order of points constituting the contour line.
  • the coordinate set has 3 or more coordinates.
  • the precision of the outline shown by the said coordinate set is not ask
  • a graphic identifier for identifying a graphic may be associated with the coordinate set.
  • the graphic information may have a coordinate set having the coordinates of four vertices of the rectangle, for example.
  • the graphic information may have a coordinate set having the coordinates of the end points of the four sides (straight lines) of the rectangle.
  • the graphic information may have a coordinate set having, for example, the coordinates of one reference vertex and information indicating the horizontal width and the vertical width.
  • the data format of the input graphic information is not limited.
  • the data format of the input graphic information is usually a data format called so-called mask design data or layout design data.
  • Specific data formats of the input graphic information are, for example, GDS-2, OASIS, MEBES, and the like.
  • the input graphic information may be a so-called image.
  • the data format of the image is usually a bitmap.
  • the approximate graphic information is information indicating an approximate graphic which is a graphic actually drawn by the electron beam drawing apparatus 1. That is, the approximate figure is usually a figure in which one or more figures indicated by input figure information are divided into rectangles by so-called fracturing. In other words, the approximate figure is usually a figure that approximates one or more figures indicated by the input figure information. An approximate figure is usually composed of one or more rectangles.
  • the size of each of the one or more rectangles constituting the approximate figure is usually equal to or less than the maximum shot size, but it may not be so.
  • the maximum shot size is the maximum rectangular size that can be drawn by the electron beam drawing apparatus 1 in one drawing.
  • the maximum shot size is usually the horizontal length and the vertical length of the rectangle. Further, the maximum shot size may be, for example, the length of the diagonal line of the rectangle, the area of the rectangle, or the like.
  • the unit of the maximum shot size is not limited.
  • each of the one or more rectangles constituting the approximate figure is usually a rectangle constituted by a horizontal straight line and a vertical straight line.
  • a horizontal straight line is a horizontal straight line.
  • the vertical straight line is a straight line in the vertical direction.
  • the straight line which comprises the said rectangle is a so-called line segment normally.
  • the horizontal direction is usually a direction parallel to the horizontal axis (x axis) in the orthogonal coordinate system.
  • the vertical direction is usually a direction parallel to the vertical axis (y-axis) in the orthogonal coordinate system.
  • the rectangle may be a figure having a predetermined shape such as a circle or an ellipse.
  • the approximate graphic information usually has one or more coordinate sets having at least one coordinate.
  • the one coordinate set usually indicates one rectangle.
  • the data format of approximate graphic information is usually the same as that of input graphic information.
  • the storage unit 10 normally stores two or more pattern management information.
  • the pattern management information is information in which a graphic classification condition is associated with a pattern identifier.
  • the figure classification condition is a condition for classifying one or more figures indicated by input figure information into two or more patterns. Further, the figure classification condition is usually a condition related to the width of the figure.
  • the pattern identifier is information for identifying a graphic pattern. The pattern identified by the pattern identifier is usually a pattern based on the graphic width. Moreover, the said pattern is 2 or more normally, and is predetermined.
  • the graphic classification conditions are, for example, that the graphic width is equal to or smaller than a predetermined threshold, the graphic width is larger than the predetermined threshold, the graphic width is constant, the graphic width Is not constant.
  • the graphic classification condition may be a combination of one or more of these conditions. The combination is usually a logical product (AND), but may be a logical sum (OR).
  • the storage unit 10 normally stores two pattern management information.
  • the two patterns identified by the pattern identifiers included in each of the two pattern management information are an auxiliary pattern and a main pattern.
  • the auxiliary pattern is usually a pattern of a figure that is so small that the figure width satisfies the figure classification condition.
  • the auxiliary pattern is usually preferably a linear shape having a certain width.
  • the main pattern is usually a graphic pattern that is large enough to satisfy the graphic classification condition.
  • the graphic classification condition for classifying into the auxiliary pattern and the graphic classification condition for classifying into the main pattern are usually in a complementary relationship.
  • the two graphic classification conditions are a graphic classification condition A and a graphic classification condition B.
  • the graphic classification condition A and the graphic classification condition B have the following two relationships. (1) When the figure width satisfies the figure classification condition A, the figure classification condition B is not satisfied. (2) When the width of the graphic satisfies the graphic classification condition B, the graphic classification condition A is not satisfied.
  • the graphic classification condition associated with the pattern identifier for identifying the auxiliary pattern is “width ⁇ 20”.
  • the graphic classification condition means that the graphic width is “20” or less.
  • the graphic classification condition associated with the pattern identifier for identifying the main pattern is normally “width> 20”.
  • the graphic classification condition means that the graphic width is larger than “20”.
  • the storage unit 10 may store the maximum shot size.
  • the maximum shot size is usually information indicating the maximum shot size.
  • the storage unit 10 normally stores a pattern identifier for identifying the following two patterns.
  • First main pattern a pattern of a figure whose figure size is larger than the maximum shot size among figures corresponding to the main pattern
  • second main pattern a figure size among figures corresponding to the main pattern Pattern of which is less than the maximum shot size
  • the size of a figure is usually a rectangle circumscribing the figure, and is a horizontal length and a vertical length of a rectangle composed of a horizontal straight line and a vertical straight line.
  • the size of the figure may be, for example, the length of the diagonal line of the rectangle or the area of the rectangle.
  • the straight line constituting the rectangle circumscribing the figure may be a straight line having a predetermined angle, for example.
  • the predetermined angle is usually an angle with respect to the horizontal direction.
  • the predetermined angle may be an angle with respect to the vertical direction, for example.
  • the storage unit 10 is preferably a non-volatile recording medium, but can also be realized by a volatile recording medium. Moreover, the process in which predetermined information is memorize
  • the predetermined information may be stored in the storage unit 10 or the like via a recording medium, a communication line, an input device, or the like.
  • the accepting unit 11 accepts input graphic information.
  • the reception unit 11 may receive, for example, a graphic width, a maximum shot size, and the like.
  • the reception unit 11 normally accumulates the width of the received graphic, the maximum shot size, and the like in the storage unit 10. Further, when accumulating the width of a graphic, the receiving unit 11 usually accumulates the width of the graphic as a graphic classification condition.
  • the reception unit 11 may receive auxiliary pattern identification information which is information indicating a graphic corresponding to the auxiliary pattern among one or more figures indicated by the input graphic information.
  • the auxiliary pattern identification information usually has a graphic identifier for identifying a graphic corresponding to the auxiliary pattern.
  • the reception unit 11 normally accumulates the received maximum shot size in the storage unit 10.
  • Acceptance refers to acquisition of information input from an input device such as a touch panel or a keyboard, acquisition of information stored in a recording medium such as an optical disk, magnetic disk, or semiconductor memory, via a wired or wireless communication line. It is a concept that includes reception of information transmitted in the same manner.
  • the input means such as information and instructions in the reception unit 11 may be anything such as a menu screen or a keyboard.
  • the accepting unit 11 can be realized by control software for a menu screen, a device driver for input means such as a keyboard, and the like.
  • the figure width acquisition unit 12 acquires the width of one or more figures indicated by the input figure information (hereinafter, as appropriate, figure width) using the input figure information.
  • Acquiring the graphic width usually means acquiring information indicating the width of the graphic.
  • the figure width is usually the length of the short side constituting the rectangle circumscribing the figure, but may be the length of the long side constituting the rectangle.
  • the rectangle is usually a rectangle having the smallest size among one or more rectangles circumscribing the figure.
  • the size here is usually an area.
  • the figure width may be, for example, the distance between the width forming points.
  • the width forming point is a set of two points among points constituting the contour line of the figure.
  • the distance between the width forming points is the distance between the two points.
  • the two points are usually intersections of the width forming straight line and the contour line of the figure.
  • the width forming straight line is usually a straight line parallel to the short side forming a rectangle circumscribing the figure.
  • the width forming straight line may be, for example, a horizontal straight line, a vertical straight line, or a straight line parallel to other directions.
  • the figure width may be a set of distances between two or more width forming points, for example.
  • the figure width may be an average of the distances between the two or more width forming points.
  • the width forming straight line is 2 or more.
  • the interval between the two or more width forming straight lines is usually preferably “1”.
  • the shape of the figure is a linear shape elongated in the horizontal direction.
  • a rectangle composed of a horizontal straight line and a vertical straight line among the one or more rectangles circumscribing the figure is the smallest rectangle.
  • the width of the figure is usually the length of the side of the rectangle that circumscribes the figure in the vertical direction.
  • the width of the figure is, for example, the distance between the straight line at the lower end and the second straight line from the top among two or more horizontal lines inscribed or circumscribed on the figure, as shown in FIG. May be.
  • the width of the figure is, for example, a set of distances of two or more width forming points, which are distances between two points where the two or more width forming straight lines and the contour line intersect, as shown in FIG. Also good.
  • the two or more width forming straight lines may have different directions as shown in FIG. 20, for example.
  • the width of the figure may be, for example, the average of the distances between the two or more width forming points.
  • figure width acquisition unit 12 usually acquires the width of one or more figures by means described below.
  • the distance map creating means 121 creates a distance map.
  • the distance map is information indicating one or more sets of distances from one or more points constituting the center line of the figure to the outline of the figure for one figure.
  • the distance is usually the shortest distance.
  • the point is usually indicated by one coordinate.
  • the center line of a figure is usually a line composed of midpoints of one or more width forming points.
  • the midpoint of the width formation point is the midpoint of two points that are width formation points.
  • the distance map may have a distance from a point other than one or more points constituting the center line to the contour of the figure, for example.
  • the point is usually a point inside the figure.
  • the distance map may be information corresponding to one or more graphics indicated by the input graphic information, or may be information corresponding to all the one or more graphics.
  • the data structure of the distance map is not limited.
  • the distance map creating means 121 usually creates a distance map using the input graphic information. Further, the distance map creating means 121 may create a distance map using the input graphic information, and its method and procedure are not limited.
  • the distance map creating means 121 usually acquires a center line of a graphic and creates a distance map using the center line. Note that acquiring the center line means acquiring a coordinate set indicating the center line.
  • the distance map creating means 121 creates a distance map by, for example, any one of the following methods.
  • A Method of creating a bitmap image
  • B Method of not creating a bitmap image
  • the method (A) is a method of creating a distance map using a bitmap format image (hereinafter referred to as a bitmap image as appropriate) indicating one or more graphics indicated by input graphic information.
  • a specific procedure for creating a distance map corresponding to one graphic indicated by the input graphic information is as follows, for example. (1) The distance map creating means 121 creates a bitmap image indicating one graphic indicated by the input graphic information using the input graphic information. (2) The distance map creation unit 121 acquires one or more coordinates indicating one or more points constituting the contour line of the figure using the bitmap image created in (1). (3) The distance map creation unit 121 acquires one or more coordinate sets indicating one or more width formation points using the one or more coordinates acquired in (2).
  • the coordinate set usually has two coordinates.
  • the distance map creation unit 121 uses one or more coordinate sets acquired in (3) to indicate one or more points indicating the midpoint between two points indicated by the two coordinates of the one or more coordinate sets. Get the coordinates of.
  • the acquired one or more coordinates are coordinates indicating one or more points constituting the center line.
  • the distance map creating means 121 uses the one or more coordinates acquired in (2) and the one or more coordinates acquired in (4) to start from the point indicated by one or more coordinates indicating the center line. The distance to the contour line is calculated.
  • the distance map creating means 121 may calculate, for example, coordinates indicating a point between two points constituting the contour line by so-called interpolation.
  • the interpolation is, for example, linear interpolation.
  • the method (B) is a method of creating a distance map using input graphic information without creating a bitmap image. That is, this method is not usually used when the input graphic information is a bitmap image.
  • a specific procedure for creating a distance map corresponding to one graphic indicated by the input graphic information is as follows, for example. (1) The distance map creating means 121 acquires one or more coordinates indicating one or more points constituting the contour line of the graphic using the input graphic information. (2) The distance map creating unit 121 acquires one or more coordinate sets indicating one or more width forming points using one or more coordinates indicating the contour line acquired in (1). The coordinate set usually has two coordinates.
  • the distance map creation unit 121 uses one or more coordinate sets acquired in (2) to indicate one or more points indicating a midpoint between two points indicated by two coordinates of the one or more coordinate sets. Get the coordinates of.
  • the acquired one or more coordinates are coordinates indicating one or more points constituting the center line.
  • the distance map creation unit 121 uses the one or more coordinates acquired in (1) and the one or more coordinates acquired in (3) to start from the point indicated by one or more coordinates indicating the center line. The distance to the contour line is calculated.
  • the distance map creating means 121 may calculate, for example, coordinates indicating points between two points by so-called interpolation.
  • the interpolation is, for example, linear interpolation.
  • the figure width acquisition unit 122 acquires the width of each of one or more figures indicated by the input figure information.
  • the method and procedure for obtaining the graphic width are not limited.
  • the graphic width acquisition unit 122 acquires the graphic width by any of the following methods, for example.
  • a specific procedure for acquiring the width of one graphic indicated by the input graphic information is as follows, for example.
  • the figure width obtaining unit 122 obtains the distance to the contour line corresponding to one or more points constituting the center line of the figure from the distance map.
  • the figure width acquisition unit 122 acquires one or more values obtained by doubling each of the one or more distances acquired in (1). The acquired value is the figure width.
  • the figure width acquisition unit 122 may acquire, for example, an average of one or more acquired values as the figure width.
  • the graphic width acquisition unit 122 may acquire, for example, the maximum or minimum value among the acquired one or more values as the graphic width.
  • a specific procedure for acquiring the width of one graphic indicated by the input graphic information is as follows, for example.
  • the figure width obtaining unit 122 obtains one or more coordinates indicating one or more points constituting the outline of the figure from the input figure information.
  • the figure width acquisition unit 122 acquires one or more coordinate sets indicating one or more width formation points using the one or more coordinates acquired in (1).
  • the coordinate set usually has two coordinates.
  • the graphic width acquisition unit 122 uses the one or more coordinate sets acquired in (2), and is one or more that is a distance between two points indicated by two coordinates of the one or more coordinate sets. Get the distance.
  • the acquired one or more distances are figure widths.
  • the figure width acquisition unit 122 may acquire, for example, the average of one or more acquired distances as the figure width.
  • the graphic width acquisition unit 122 may acquire, for example, the maximum or minimum distance among the acquired one or more distances as the graphic width.
  • the determination unit 13 determines whether one or more figures indicated by the input figure information are two or more patterns based on the width of the figure.
  • the determination usually means obtaining a pattern identifier indicating the determination result.
  • the determination unit 13 normally determines which of the two or more graphic classification conditions stored in the storage unit 10 the graphic width acquired by the graphic width acquisition unit 12 satisfies. Then, the determination unit 13 acquires a pattern identifier associated with the graphic classification condition determined to be satisfied. Then, the determination unit 13 determines that the graphic for which the graphic width is acquired is a pattern identified by the acquired pattern identifier.
  • the determination unit 13 determines that the graphic width satisfies the graphic classification condition.
  • the graphic classification condition means that the graphic width is 10 or more and 30 or less and the graphic width is constant. In such a case, the determination unit 13 determines that the one or more graphic widths satisfy the graphic classification condition.
  • the determination unit 13 determines whether or not the size of the graphic that is determined to be the main pattern is larger than the maximum shot size.
  • the storage unit 10 stores a maximum shot size, a pattern identifier that identifies the first main pattern, and a first identifier that identifies the second main pattern. For example, when the size of the figure is larger than the maximum shot size, the determination unit 13 acquires a pattern identifier for identifying the first main pattern. For example, when the size of the figure is equal to or smaller than the maximum shot size, the determination unit 13 acquires a pattern identifier for identifying the second main pattern.
  • the determination unit 13 acquires, for example, a rectangle circumscribing the graphic for the graphic determined to be the main pattern.
  • the rectangle is usually a rectangle composed of a horizontal straight line and a vertical straight line.
  • the determination unit 13 determines whether or not the acquired rectangle size is larger than the maximum shot size.
  • the determination unit 13 compares the lengths in the horizontal direction, the lengths in the vertical direction, the lengths of the diagonal lines, the areas of the rectangles, and the maximum shot size.
  • the determination unit 13 determines that the size of the figure is larger than the maximum shot size when any one of the horizontal length, the vertical length, the diagonal length, the area, and the like is larger than the maximum shot size. to decide.
  • the figure size is usually acquired by a figure size acquisition unit (not shown).
  • the figure size acquisition unit usually acquires the size of one or more figures indicated by the input figure information using the input figure information. Since the method and procedure for obtaining the size of the figure are known, detailed description thereof will be omitted.
  • the creation unit 14 creates approximate figure information using the input figure information.
  • the creating unit 14 usually creates approximate graphic information indicating one or more approximate figures that approximate one or more respective figures by different methods according to the pattern identifier acquired by the determination unit 13. Further, the creating unit 14 usually creates approximate figure information for each of one or more figures indicated by the input figure information. Then, the creation unit 14 combines the created one or more pieces of approximate graphic information to create one piece of approximate graphic information.
  • creating unit 14 usually creates approximate graphic information by means described below.
  • the center line acquisition means 141 acquires the center line of one or more figures using the input figure information.
  • the one or more figures are usually figures determined by the determination unit 13 as auxiliary patterns. Further, the one or more figures may be, for example, figures determined by the determination unit 13 as the main pattern.
  • the distance map creating unit 121 when the distance map creating unit 121 creates a distance map, the distance map creating unit 121 usually acquires a center line of one or more figures indicated by the input figure information. Therefore, in this case, the center line acquisition unit 141 normally acquires the center line of the figure corresponding to the auxiliary pattern from the distance map generation unit 121 among the center lines acquired when the distance map is generated. For example, when the distance map creation unit 121 does not create a distance map, the center line acquisition unit 141 usually acquires the center line of the figure corresponding to the auxiliary pattern using the input figure information. Since the method and procedure for acquiring the center line are the same as the method and procedure for acquiring the center line by the distance map creating means 121, description thereof will be omitted.
  • the approximate contour acquisition unit 142 acquires the approximate contour using the input graphic information.
  • the approximate contour is a contour of one or more figures, and is generally a contour composed of a horizontal straight line and a vertical straight line. Further, the approximate contour line may be constituted by a straight line having a predetermined angle, for example.
  • acquiring the approximate contour line usually means acquiring a coordinate set indicating the approximate contour line.
  • the one or more figures are usually figures determined by the determination unit 13 as the main pattern.
  • the contour line of the graphic indicated by the input graphic information is hereinafter appropriately referred to as the original contour line.
  • the approximate contour acquisition unit 142 usually acquires the approximate contour so that the error between the original contour and the approximate contour becomes small enough to satisfy a predetermined condition (hereinafter, an error condition as appropriate).
  • the error between the original outline and the approximate outline is, for example, the difference between the size of the figure indicated by the original outline and the size of the figure indicated by the approximate outline, or the length of the original outline and the length of the approximate outline. And the number of intersections between the original contour line and the approximate contour line.
  • the difference may be, for example, a ratio or a ratio.
  • the error condition is, for example, that the error is equal to or less than a predetermined threshold, or that the error is within a predetermined range.
  • the approximate contour acquisition unit 142 determines whether or not an error between the original contour and the approximate contour satisfies the error condition, for example. For example, when the error does not satisfy the error condition, the approximate contour acquisition unit 142 enlarges or reduces the graphic indicated by the approximate contour so that the error satisfies the error condition.
  • the approximate contour line may be, for example, a polygon inscribed in the figure, a polygon inscribed in the figure, or not both.
  • the method and procedure for obtaining the approximate contour so that the error between the original contour and the approximate contour satisfies the error condition are well known, and detailed description thereof will be omitted.
  • the method is, for example, quantization. That is, for example, the approximate contour can be obtained by regarding the original contour as a so-called analog signal waveform and quantizing the original contour.
  • the creation unit 143 creates approximate graphic information according to the pattern identifier acquired by the determination unit 13.
  • the approximate graphic information is approximate graphic information indicating an approximate graphic that approximates a graphic corresponding to the pattern of the graphic identified by the pattern identifier.
  • Creating approximate graphic information usually means acquiring one or more pieces of coordinate information indicating one or more rectangles constituting the approximate graphic.
  • “create approximate graphic information” is hereinafter referred to as “create approximate graphic” as appropriate.
  • the figure indicated by the input figure information is hereinafter appropriately referred to as an original figure.
  • the approximate figure is usually created by arranging a rectangle by a predetermined method or procedure, or by dividing the figure indicated by the input figure information into one or more rectangles.
  • the figure pattern identified by the pattern identifier acquired by the determination unit 13 is usually one of the following.
  • the creating unit 143 normally arranges one or more rectangles that match the width of the figure along the center line of the figure corresponding to the auxiliary pattern. Then, the creating unit 143 creates one or more approximate figures that approximate one or more figures corresponding to the auxiliary pattern by the arrangement.
  • the term “along the center line” usually means that the center of the rectangle is arranged so as to overlap the center line. Further, along the center line, for example, any one of the four vertices of the rectangle or any one of the four sides constituting the rectangle is arranged so as to overlap the center line. It may be.
  • the creating unit 143 when arranging along the center line, the creating unit 143 normally arranges the rectangles sequentially from one end point of the center line toward the other end point of the center line. In addition, the creating unit 143 may arrange one or more rectangles that match the width of the graphic without following the center line of the graphic corresponding to the auxiliary pattern, for example.
  • a rectangle that conforms to the width of a figure usually has a short side length, a long side length, or a diagonal length that is determined by the width of the figure and a predetermined condition (hereinafter appropriately, The rectangle is close enough to satisfy the (rectangular size condition).
  • the rectangle size condition is usually a condition related to the size of the rectangle.
  • the size of the rectangle is, for example, one of the length of the short side of the rectangle, the length of the long side of the rectangle, and the length of the diagonal line of the rectangle.
  • position may differ in size for every arrangement
  • the creating unit 143 normally arranges the rectangles so that the rectangles do not overlap each other. “To prevent the rectangles from overlapping each other” usually means arranging the rectangles so as to be adjacent to the already arranged rectangles.
  • the creation unit 143 may arrange the rectangles so that the rectangles overlap, for example.
  • “To make the rectangles overlap” usually means to arrange the rectangles so that the size of the portion that overlaps the already arranged figure satisfies a predetermined condition (hereinafter referred to as overlap amount condition as appropriate) It is.
  • the overlap amount condition is usually a condition related to the size (area) of the portion where the figures overlap. Further, the overlap amount condition may be, for example, a condition relating to a ratio of the size of the overlapping portion to the size of the arranged graphic.
  • the creating unit 143 normally arranges the rectangles so that the rectangles are adjacent to each other. .
  • the creation unit 143 determines the position where the rectangle is to be arranged next, the size of the rectangle to be arranged, and the like using the position of the arranged rectangle, the size of the arranged rectangle, and the like.
  • the position is, for example, coordinates corresponding to the center of the rectangle, coordinates corresponding to any one or more of the four vertices of the rectangle, and the like.
  • the position and size may be calculated by, for example, a predetermined calculation formula.
  • the calculation formula includes, for example, a variable indicating the width of the rectangle, the height of the rectangle, the position of the rectangle, and other constants.
  • the creating unit 143 usually creates the approximate figure so that the error between the original figure and the approximate figure becomes small enough to satisfy the error condition.
  • the error between the original figure and the approximate figure is, for example, the difference between the size of the original figure and the size of the approximate figure, the difference between the length of the outline of the original figure and the length of the outline of the approximate figure, the outline of the original figure The number of intersections between the line and the outline of the approximate figure.
  • the “difference” may be, for example, a ratio or a ratio.
  • the creating unit 143 determines whether or not an error between the original graphic and the approximate graphic satisfies the error condition. For example, when the error does not satisfy the error condition, the creating unit 143 performs, for example, re-rectangular arrangement or enlargement or reduction of the approximate figure so that the error satisfies the error condition.
  • the creating unit 143 arranges one or more rectangles along the center line of the figure for the figure corresponding to the auxiliary pattern, so that an approximate figure whose error from the size of the figure satisfies the error condition is small. It only has to be created. Moreover, the method and procedure etc. which produce the said approximate figure are not ask
  • the creating unit 143 normally arranges one or more rectangles that conform to the shape of the figure indicated by the approximate outline of the figure corresponding to the first main pattern. Then, the creation unit 143 creates one or more approximate figures that approximate one or more figures corresponding to the first main pattern by the arrangement.
  • a rectangle that conforms to the shape of the graphic indicated by the approximate contour is usually a rectangle that is smaller in size than the graphic indicated by the approximate contour.
  • the approximate contour line is usually the approximate contour line acquired by the approximate contour line acquisition unit 142.
  • the creation unit 143 normally arranges a rectangle along the approximate contour line. “Along the approximate outline” means that the arranged rectangle does not protrude from the approximate outline and there is no gap.
  • the creating unit 143 may arrange the rectangles so that the rectangles do not overlap each other, or may arrange the rectangles so that the rectangles overlap each other.
  • the creating unit 143 usually arranges the rectangles so as to satisfy the overlapping amount condition.
  • the creating unit 143 normally arranges the rectangles so that the total number of rectangles is reduced. Since a method and a procedure for arranging rectangles having a size equal to or smaller than a predetermined size along a predetermined polygonal outline so as to reduce the total number are well known, detailed description will be made. Is omitted.
  • the predetermined polygon is a figure indicated by the approximate outline here.
  • the creating unit 143 normally divides the figure indicated by the approximate outline into two or more rectangles along the approximate outline of the figure corresponding to the second main pattern.
  • “Along the approximate contour line” usually means that a straight line that divides a figure indicated by the approximate contour line is divided so as to overlap a horizontal straight line or a vertical straight line that constitutes the approximate contour line.
  • “dividing into rectangles” usually means dividing in one of the horizontal direction and the vertical direction. Then, the creation unit 143 creates one or more approximate figures that approximate one or more figures corresponding to the second main pattern by the division.
  • the creating unit 143 usually divides the approximate contour line into two or more rectangles in the horizontal direction or the vertical direction along the approximate contour line so that the total number of rectangles is reduced. For example, the creating unit 143 divides the figure indicated by the approximate contour line in each of the horizontal direction and the vertical direction, and creates two approximate figures. Then, the creation unit 143 acquires the approximate figure having the smaller number of rectangles obtained by the division.
  • the creating unit 143 normally adds the graphic to the graphic by a predetermined method or procedure. Approximate graphic information indicating the corresponding approximate graphic is created.
  • the creation method information usually represents an algorithm for creating approximate graphic information.
  • the creation method information includes, for example, an execution program for creating approximate graphic information from input graphic information, a source code indicating a procedure for generating approximate graphic information from input graphic information, a pseudo program code indicating the procedure, and the procedure.
  • the pseudo program code is an algorithm described as a programming language using a natural language.
  • the grammar of the pseudo program code is usually similar to that of an existing programming language.
  • the drawing unit 15 draws one or more approximate figures indicated by the approximate figure information created by the creation unit 14.
  • the drawing target is not limited.
  • the drawing target is, for example, a photomask or a wafer.
  • the drawing unit 15 can usually be realized by an electron gun such as a field emission type, a Schottky type, or a thermoelectron type, an electron lens, a height detector, and the like.
  • the shape of the cross section of the electron beam emitted from the drawing unit 15 is usually a rectangle.
  • the processing procedure of the drawing unit 15 is usually realized by software, and the software is recorded on a recording medium such as a ROM.
  • the figure width acquisition unit 12, the distance map creation unit 121, the figure width acquisition unit 122, the determination unit 13, the creation unit 14, the center line acquisition unit 141, the approximate contour acquisition unit 142, and the creation unit 143 are usually MPU, It can be realized from a memory or the like.
  • the processing procedure of the figure width acquisition unit 12 and the like is usually realized by software, and the software is recorded in a recording medium such as a ROM.
  • the figure width acquisition unit 12 and the like may be realized by hardware (dedicated circuit).
  • FIG. 4 is a flowchart showing the overall operation of the electron beam drawing apparatus 1.
  • Step S401 The graphic width acquisition unit 12 determines whether or not the reception unit 11 has received input graphic information. If accepted, the process proceeds to step S402; otherwise, the process returns to step S401.
  • the input figure information indicates m figures.
  • Step S402 The creation unit 14 sets 1 to the counter i.
  • Step S403 The graphic width acquisition unit 12 acquires the graphic width of the graphic [i]. Details of this processing will be described with reference to the flowchart of FIG.
  • Step S404 The determination unit 13 determines whether or not the graphic width acquired in Step S403 satisfies the graphic classification condition. If so, the process proceeds to step S405. Otherwise, the process proceeds to step S406.
  • Step S405 The creation unit 14 creates an approximate figure corresponding to the figure [i] corresponding to the auxiliary pattern. Details of this processing will be described with reference to the flowchart of FIG.
  • Step S406 The approximate contour acquisition means 142 acquires the approximate contour corresponding to the figure [i].
  • Step S407 The determination unit 13 determines whether the size of the figure [i] is larger than the maximum shot size. If it is larger than the maximum shot size, the process proceeds to step S408, and if not, the process proceeds to step S409.
  • Step S408 The creating unit 143 arranges one or more rectangles along the approximate contour acquired in Step S406. With this arrangement, the creation unit 143 creates an approximate figure corresponding to the figure [i].
  • Step S409 The creation unit 143 divides the figure indicated by the approximate contour into two or more rectangles along the approximate contour acquired in Step S406. By the division, the creating unit 143 creates an approximate figure corresponding to the figure [i].
  • Step S410 The creation unit 14 determines whether i is m. When it is m, it progresses to step S412, and when that is not right, it progresses to step S411.
  • Step S411 The creation unit 14 increments i by 1. Then, the process returns to step S403.
  • Step S412 The drawing unit 15 draws one or more approximate figures created in steps S403 to S409.
  • the process may be terminated by turning off the power or by interrupting the process.
  • step S403 may be performed for each of the m figures.
  • processing from step S404 to step S409 is performed for each of the m figures.
  • step S404 is synonymous with the following process of step S404-1.
  • Step S404-1 The determination unit 13 acquires, from the storage unit 10, the pattern identifier corresponding to the graphic classification condition that the graphic width satisfies.
  • the process proceeds to step S405. If the pattern identifier for identifying the main pattern is acquired, the process proceeds to step S406.
  • step S407 is synonymous with the following process in step S407-1.
  • Step S407-1 The determination unit 13 determines whether the size of the figure [i] is larger than the maximum shot size. When larger than the maximum shot size, the determination unit 13 acquires a pattern identifier for identifying the first main pattern from the storage unit 10. If it is not larger than the maximum shot size, the determination unit 13 acquires a pattern identifier for identifying the second main pattern from the storage unit 10. If the pattern identifier for identifying the first main pattern is acquired, the process proceeds to step S408. If the pattern identifier for identifying the second main pattern is acquired, the process proceeds to step S409.
  • FIG. 5 is a flowchart showing the graphic width acquisition process in step S403 of the flowchart of FIG.
  • “figure [i]” in the flowchart of FIG. 4 is expressed as “figure”.
  • Step S501 The distance map creating means 121 creates a bitmap image of the figure using the input figure information.
  • Step S502 The distance map creating means 121 uses the bitmap image created in Step S501 to obtain the contour line of the figure.
  • Step S503 The distance map creating means 121 obtains the center line of the figure using the contour line obtained in Step S502. Here, it is assumed that the center line is composed of m points.
  • Step S504 The distance map creating means 121 sets 1 to the counter i.
  • Step S505 The distance map creating means 121 obtains the shortest distance from the point [i] to the contour line obtained in Step S502.
  • Step S506 The width acquisition unit 122 doubles the distance acquired in Step S505, and sets it to the width [i] of the figure at the point [i].
  • Step S507 The distance map creating means 121 determines whether i is m. When it is m, it progresses to step S509, and when that is not right, it progresses to step S508.
  • Step S508 The distance map creating means 121 increments i by 1. Then, the process returns to step S505.
  • Step S509 The distance map creating means 121 sets the average of the m widths acquired in Step S506 as the figure width. Then, the process returns to the upper process.
  • FIG. 6 is a flowchart showing a process for creating approximate graphic information corresponding to the auxiliary pattern in step S405 of the flowchart of FIG.
  • “figure [i]” in the flowchart of FIG. 4 is expressed as “figure”.
  • Step S601 The center line acquisition means 141 acquires the center line of the figure.
  • Step S602 The creation unit 143 sets the start coordinates of the center line acquired in Step S601 to the arrangement position.
  • the start coordinate of the center line is a coordinate indicating one of the end points at both ends of the center line.
  • Step S603 The creation unit 143 determines the size of the rectangle to be arranged according to the width of the figure at the arrangement position.
  • Step S604 The creation unit 143 arranges the rectangle whose size is determined in Step S603 at the arrangement position.
  • Step S605 The creation unit 143 determines whether or not the size of the portion where the rectangle arranged in Step S604 overlaps the rectangle already arranged satisfies the overlap amount condition. If the overlap amount condition is satisfied, the process proceeds to step S607. Otherwise, the process proceeds to step S606.
  • Step S606 The creation unit 143 arranges the rectangles arranged in Step S604 so that the size of the portion where the rectangle arranged in Step S604 overlaps the already arranged rectangle satisfies the overlap amount condition. Change position and size.
  • Step S607 The creation unit 143 determines the position and size of the next rectangle to be arranged according to the size of the rectangle arranged in Step S604, the width of the figure at the position where Step S604 is arranged, and the like.
  • Step S608 The creation unit 143 determines whether or not the arrangement position is larger than the end coordinates of the center line.
  • the end coordinate of the center line is a coordinate indicating a point that is not the point indicated by the start coordinate among the end points at both ends of the center line. If it is larger than the end coordinate, the process returns to the upper process, and if not, the process returns to step S604.
  • Example 1 In this example, an example in which a figure width is acquired using a distance map will be described.
  • the receiving unit 11 receives input graphic information indicating the graphic shown in FIG.
  • the distance map creating means 121 creates the bitmap image shown in FIG. 8 using the input graphic information received by the receiving unit 11.
  • the bitmap image is an image in which the inside of the figure in FIG. 7 is “white” and the outside of the figure is “black”.
  • the distance map creating means 121 uses the bitmap image of FIG. 8 to obtain a coordinate set indicating the contour line of the figure indicated by the bitmap image.
  • the distance map creation unit 121 detects, for example, two pixels in which a white pixel and a black pixel are adjacent to each other in the bitmap image of FIG. Then, the distance map creating unit 121 acquires one or more coordinates indicating the position of the white pixel.
  • the “adjacent” may be up and down or left and right.
  • the distance map creating means 121 calculates an average of y coordinates of two coordinates having the same x coordinate, using a coordinate set indicating an outline. Then, the distance map creating unit 121 obtains one or more coordinates indicating the midpoint between the two coordinates, and obtains the center line shown in FIG.
  • the distance map creation unit 121 calculates the distance to the contour line from the point indicated by one or more coordinates indicating the center line, using the coordinate set indicating the contour line and the coordinate set indicating the center line. To do. At this time, the distance map creating unit 121 calculates the distance to the contour line for points other than the center line, for example. At this time, the distance map creating unit 121 calculates, for example, the distance to the contour line as “0” for the points outside the figure in FIG. As a result, the created distance map is, for example, FIG. Each cell in FIG. 10 corresponds to each pixel in the bitmap image in FIG. In FIG. 10, a cell whose value is “0” corresponds to a pixel outside the graphic of FIG. 7, and a cell whose value is not “0” corresponds to a pixel inside the graphic of FIG. 7. In FIG. 10, a cell having a value of “90” corresponds to a pixel (point) constituting the center line in FIG.
  • the figure width acquisition means 122 acquires the distance to the contour line corresponding to one or more points constituting the center line from the distance map of FIG.
  • the graphic width acquisition unit 122 acquires the distance “90” corresponding to the upper end point with respect to the center line in FIG. 9.
  • the graphic width acquisition unit 122 doubles the acquired distance and acquires the graphic width “180” corresponding to the end point.
  • the graphic width acquisition unit 122 normally performs the same processing as described above for one or more points constituting the center line, and acquires the graphic width corresponding to the one or more points.
  • Example 2 In this example, an example in which a figure width is acquired without using a distance map will be described.
  • the receiving unit 11 receives input graphic information indicating the graphic shown in FIG.
  • the figure width acquisition unit 122 has two or more widths that are the intersections of two or more straight lines parallel to the short side constituting the minimum rectangle circumscribing the figure and the outline of the figure. Detect formation points. Then, the graphic width obtaining unit 122 obtains two or more coordinate sets having two coordinates indicating the two or more width forming points.
  • the interval between the two or more straight lines is assumed to be “1” in FIG.
  • the figure width acquisition unit 122 calculates the distance between two points indicated by the two coordinates of the coordinate set. Then, the graphic width acquisition unit 122 acquires a graphic width corresponding to each of the one or more intersections.
  • Example 3 In this example, an example of creating an approximate graphic corresponding to a graphic corresponding to an auxiliary pattern will be described.
  • the figure corresponding to the auxiliary pattern is the figure shown in FIG. That is, the figure is a figure for which the pattern identifier for identifying the auxiliary pattern is acquired by the determination unit 13.
  • the graphic classification conditions at this time are, for example, the following conditions.
  • Figure classification condition The figure width is 200 or less and the figure width is constant.
  • the center line acquisition means 141 acquires the center line of the figure of FIG. 7, as shown in FIG. 12, using the input information indicating the figure of FIG.
  • An example of acquiring the center line is the same as that in Example 1, and thus the description thereof is omitted.
  • the creation means 143 arranges one or more rectangles along the center line of FIG. At this time, the creation unit 143 arranges the rectangles in order from the upper end to the lower end of the center line in FIG. At this time, the creating unit 143 arranges the center of the rectangle to be arranged, any one of the four vertices, or any one of the midpoints of the four sides so as to overlap the center line. . At this time, the creation unit 143 arranges the rectangles so that the rectangles do not overlap each other. At this time, the creation unit 143 also determines the size of the placed rectangle, the placed position, the distance between two points that are the intersection of the horizontal straight line and the contour of the figure at the placed position, and the like. Next, the size of the rectangle to be arranged is determined.
  • FIG. 13 shows an example of the approximate graphic created by the creation unit 143 as a result of the arrangement.
  • the creating means 143 first arranges a rectangle (rectangle a in FIG. 13) circumscribing the upper end of the figure.
  • the horizontal width of the rectangle a is, for example, the distance between two points that are the intersections of the contour line of the figure in FIG. 12 and the horizontal straight line.
  • the vertical width of the rectangle is determined so that, for example, the error between the original figure and the approximate figure satisfies the error condition, and the total number of rectangles is minimized.
  • the creating unit 143 arranges the rectangle b in FIG. 13 adjacent to the rectangle a in FIG.
  • the horizontal width and vertical width of the rectangle b are the same as the horizontal width and vertical width of the rectangle a, for example.
  • the creating unit 143 arranges the rectangles c, d, e, f, g, h, i, j, k, and l in FIG. 13 in order, similarly to the rectangle b in FIG.
  • FIG. 14 shows an example of the approximate figure created by the creation unit 143 as a result of arranging the rectangles so as to overlap each other.
  • the creating unit 143 first arranges a rectangle (rectangle a in FIG. 14) circumscribing the upper end of the figure.
  • the horizontal width of the rectangle a is, for example, the distance between two points that are the intersections of the contour line of the figure in FIG. 12 and the horizontal straight line.
  • the vertical width of the rectangle is selected randomly within a predetermined vertical width range, for example.
  • the creating unit 143 arranges the rectangle b in FIG. 14 adjacent to the rectangle a in FIG.
  • the horizontal width and vertical width of the rectangle b are the same as the horizontal width and vertical width of the rectangle a, for example.
  • the creating unit 143 arranges the rectangle c in FIG. 14 that overlaps the rectangle b in FIG.
  • the width of the rectangle c is the same as the width of the rectangle b, for example.
  • the vertical width of the rectangle c is, for example, twice the vertical width of the rectangle b.
  • the creation unit 143 arranges the rectangles d, e, f, g, h, i, and j in FIG. 14 in order, similarly to the rectangle c in FIG.
  • Example 4 In this example, an example of creating an approximate graphic corresponding to the graphic corresponding to the first main pattern will be described.
  • the figure corresponding to the first main pattern is the figure shown in FIG. That is, the figure is a figure from which the determination unit 13 has acquired the pattern identifier for identifying the main pattern and the pattern identifier for identifying the first main pattern.
  • the graphic classification conditions at this time are, for example, the following conditions.
  • the maximum shot size at this time is, for example, the following size. ( Figure classification condition)
  • the figure width is larger than 200 (maximum shot size) 250 ⁇ 250
  • the approximate contour acquisition unit 142 uses the input graphic information indicating the graphic of FIG. 15 to quantize the contour of the graphic of FIG. 15 and acquire the approximate contour of the graphic as shown in FIG. .
  • a dotted line shows the outline of the figure of FIG.
  • the creation means 143 arranges one or more rectangles having a size equal to or smaller than the maximum shot size along the contour line in FIG.
  • FIG. 17 shows an example of the approximate graphic created by the creation means 143 as a result of the arrangement.
  • the creating unit 143 first arranges the largest rectangle (rectangle a in FIG. 17) that is not larger than the maximum shot size and fits within the contour line in FIG. 16.
  • the creation unit 143 arranges the largest rectangle that can be placed in the region that is adjacent to the rectangle a in FIG. 17 for the region in which the rectangle in the outline in FIG. 16 is not placed.
  • the rectangles are the rectangle b1 and the rectangle b2 in FIG.
  • the creating unit 143 arranges the rectangles c1, c2, d1, and d2 in FIG. 17 in order, similarly to the rectangles b1 and b2 in FIG. Finally, the creating unit 143 arranges the rectangles e1 and e2 in FIG.
  • Example 5 In this example, an example of creating an approximate graphic corresponding to a graphic corresponding to the second main pattern will be described.
  • the figure corresponding to the second main pattern is the figure shown in FIG. That is, the figure is a figure from which the pattern identifier for identifying the main pattern and the pattern identifier for identifying the second main pattern are acquired by the determination unit 13.
  • the graphic classification conditions at this time are, for example, the following conditions.
  • the maximum shot size at this time is, for example, the following size. ( Figure classification condition)
  • the figure width is larger than 200 (maximum shot size) 250 ⁇ 250
  • the approximate contour acquisition unit 142 uses the input graphic information indicating the graphic of FIG. 15 to quantize the contour of the graphic of FIG. 15 and acquire the approximate contour of the graphic as shown in FIG. .
  • a dotted line shows the outline of the figure of FIG.
  • the creating unit 143 divides the figure indicated by the contour line in FIG. 16 into rectangles in order from the top along the horizontal straight line constituting the contour line.
  • FIG. 18 shows an example of the approximate graphic created by the creation means 143 as a result of the division.
  • the creating unit 143 first divides the figure indicated by the contour line along the second horizontal straight line from the top. As a result, a rectangle a in FIG. 18 is created.
  • the creating unit 143 divides the graphic indicated by the contour line along the third horizontal straight line from the top of the contour line in FIG. As a result, a rectangle b in FIG. 18 is created.
  • the creating unit 143 sequentially divides the figure indicated by the contour line in FIG.
  • rectangles c to i in FIG. 18 are created.
  • the size of each rectangle in FIG. 18 is necessarily less than or equal to the maximum shot size.
  • the total number of rectangles during fracturing can be reduced, and the drawing time can be reduced.
  • FIG. 19 is a block diagram of the drawing graphic data creation apparatus 2 in the present embodiment.
  • the drawing graphic data creation device 2 includes a reception unit 11, a graphic width acquisition unit 12, a determination unit 13, and a creation unit 14.
  • the graphic width acquisition unit 12 includes a distance map creation unit 121 and a graphic width acquisition unit 122.
  • the creation unit 14 includes a center line acquisition unit 141, an approximate contour acquisition unit 142, and a creation unit 143.
  • the approximate graphic information created by the drawing graphic data creation device 2 is transmitted to a device for drawing a graphic (for example, the electron beam drawing device 1 of the first embodiment). Then, the device that has received the approximate graphic information draws one or more graphics indicated by the approximate graphic information.
  • the electron beam drawing apparatus in each of the above embodiments may be, for example, a stand-alone apparatus or a server apparatus in a server / client system.
  • each process or each function may be realized by centralized processing by a single device or a single system, or distributed by a plurality of devices or a plurality of systems. It may be realized by being processed.
  • each component may be configured by dedicated hardware, or a component that can be realized by software may be realized by executing a program.
  • each component can be realized by a program execution unit such as a CPU reading and executing a software program recorded on a recording medium such as a hard disk or a semiconductor memory.
  • the software that realizes the electron beam drawing apparatus in each of the above embodiments is, for example, the following program. That is, this program causes the computer to receive input graphic information that is information indicating one or more graphics, a graphic width acquisition unit that acquires the width of each of the one or more graphics indicated by the input graphic information, A creation unit for creating approximate figure information indicating one or more approximate figures that are figures composed of one or more rectangles conforming to the width of the figure and that are approximate to one or more figures indicated by the input figure information And a program for causing the drawing unit to function as a drawing unit that draws one or more approximate figures indicated by the approximate figure information created by the creation unit.
  • the software that realizes the drawing graphic data creation device in each of the above embodiments is, for example, the following program. That is, this program causes the computer to receive input graphic information that is information indicating one or more graphics, a graphic width acquisition unit that acquires the width of each of the one or more graphics indicated by the input graphic information, A creation unit for creating approximate figure information indicating one or more approximate figures that are figures composed of one or more rectangles conforming to the width of the figure and that are approximate to one or more figures indicated by the input figure information It is a program to make it function as.
  • the functions realized by the program do not include functions that can only be realized by hardware.
  • the program may be executed by being downloaded from a server or the like, or a program recorded on a predetermined recording medium (for example, an optical disk such as a CD-ROM, a magnetic disk, a semiconductor memory, etc.) is read out. May be executed. Further, this program may be used as a program constituting a program product.
  • a predetermined recording medium for example, an optical disk such as a CD-ROM, a magnetic disk, a semiconductor memory, etc.
  • the computer that executes the program may be singular or plural. That is, centralized processing may be performed, or distributed processing may be performed.
  • FIG. 21 is an overview of the computer system 9 that executes the above-described program to realize the electron beam drawing apparatus and the like of the above-described embodiment.
  • the above-described embodiments can be realized by computer hardware and a computer program executed thereon.
  • the computer system 9 includes a computer 901 including a CD-ROM drive 9011 and an FD drive 9012, a keyboard 902, a mouse 903, and a monitor 904.
  • FIG. 22 is a block diagram of the computer system 9.
  • a computer 901 is connected to an MPU 9013, a ROM 9014 for storing a program such as a boot-up program, and an MPU 9013 in addition to a CD-ROM drive 9011 and an FD drive 9012, and temporarily commands the application program.
  • the computer 901 may further include a network card that provides connection to a LAN.
  • a program for causing the computer system 9 to execute the functions of the electron beam drawing apparatus of the above-described embodiment is stored in the CD-ROM 9101 or the FD 9102, inserted into the CD-ROM drive 9011 or the FD drive 9012, and further a hard disk 9016 may be transferred.
  • the program may be transmitted to the computer 901 via a network (not shown) and stored in the hard disk 9016.
  • the program is loaded into the RAM 9015 when executed.
  • the program may be loaded directly from the CD-ROM 9101, the FD 9102, or the network.
  • the program does not necessarily include an operating system (OS) or a third-party program that causes the computer 901 to execute the functions of the electron beam drawing apparatus of the above-described embodiment.
  • the program only needs to include an instruction portion that calls an appropriate function (module) in a controlled manner and obtains a desired result. How the computer system 9 operates is well known and will not be described in detail.
  • the electron beam drawing apparatus has the effect of reducing the total number of rectangles at the time of fracturing and reducing the drawing time, and can draw various figures on a photomask, a wafer, or the like. It is useful as an electron beam drawing apparatus.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • Evolutionary Computation (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

【課題】従来の電子ビーム描画装置では、フラクチャリング時の合計の矩形数が多く、描画時間が長かった。 【解決手段】１以上の図形を示す情報である入力図形情報を受け付ける受付部と、入力図形情報が示す１以上の各図形の幅を取得する図形幅取得部と、図形の幅に適合する１以上の矩形から構成される図形であり、入力図形情報が示す１以上の各図形に近似する図形である１以上の近似図形を示す近似図形情報を作成する作成部と、作成部が作成した近似図形情報が示す１以上の近似図形を描画する描画部とを備える電子ビーム描画装置により、フラクチャリング時の合計の矩形数を減らし、描画時間を減らすことができる。

Description

電子ビーム描画装置、電子ビーム描画方法、および記録媒体
　本発明は、電子線リソグラフィを行うための電子ビーム描画装置等に関するものである。
　従来、電子線リソグラフィを行うための電子ビーム描画装置などが開発されている（特許文献１、特許文献２参照）。
特表２０１３－５０３４８６ 特表２０１２－５０１４７６
　半導体作成のリソグラフィプロセスにおいて、フォトマスクが使用される。また、近年のフォトマスクの微細化により、ＯＰＣ（光近接効果補正）を代表とするＲＥＴ（Ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ　Ｅｎｈａｎｃｅｍｅｎｔ　Ｔｅｃｈｎｉｑｕｅ）によるパターンの改変や補助パターンの付加が一般的になっている。また、ＲＥＴの一種であるＩＬＴ（Ｉｎｖｅｒｓｅ　Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）という手法で作成されたマスクパターンは曲線で構成される。
　現在、フォトマスクの作成は、ＶＳＢ（Ｖａｒｉａｂｌｅ　ｓｈａｐｅｄ　ｂｅａｍ）方式の電子線を用いた描画機で作成される。ＶＳＢ方式の電子線では、可変サイズの矩形しか描画できないため、曲線部分は近似を用いて描画する。従来の手法では、まず曲線を台形に分割した後、それぞれを矩形で近似する。そのため、矩形数が増大し、マスクの描画時間が長くなる。
　本第一の発明の電子ビーム描画装置は、１以上の図形を示す情報である入力図形情報を受け付ける受付部と、入力図形情報が示す１以上の各図形の幅を取得する図形幅取得部と、図形の幅に適合する１以上の矩形から構成される図形であり、入力図形情報が示す１以上の各図形に近似する図形である１以上の近似図形を示す近似図形情報を作成する作成部と、作成部が作成した近似図形情報が示す１以上の近似図形を描画する描画部とを備える電子ビーム描画装置である。
　このような構成により、フラクチャリング時の合計の矩形数を減らし、描画時間を減らすことができる。
　本発明による電子ビーム描画装置等によれば、フラクチャリング時の合計の矩形数を減らし、描画時間を減らすことができる。
実施の形態１における電子ビーム描画装置１のブロック図 同図形幅の例を示す図 同図形幅の例を示す図 同電子ビーム描画装置１の全体動作について説明するフローチャート 同図形幅の取得処理について説明するフローチャート 同補助パターンに対応する近似図形情報の作成処理について説明するフローチャート 同図形の例を示す図 同ビットマップ画像の例を示す図 同中心線の例を示す図 同距離マップの例を示す図 同幅形成点の検出例を示す図 同中心線の例を示す図 同近似図形の例を示す図 同近似図形の例を示す図 同第一メインパターンおよび第二メインパターンに対応する図形の例を示す図 同近似輪郭線の例を示す図 同近似図形の例を示す図 同近似図形の例を示す図 実施の形態２における描画用図形データ作成装置２のブロック図 同図形幅の例を示す図 上記実施の形態におけるコンピュータシステムの概観図 上記実施の形態におけるコンピュータシステムのブロック図
　以下、本発明による電子ビーム描画装置等の実施形態について図面を参照して説明する。なお、実施の形態において同じ符号を付した構成要素は同様の動作を行うので、再度の説明を省略する場合がある。また、本実施の形態において説明する各情報の形式、内容などは、あくまで例示であり、各情報の持つ意味を示すことができれば、形式、内容などは問わない。
　（実施の形態１）
　本実施の形態において、電子ビーム描画装置１について説明する。電子ビーム描画装置１は、１以上の図形を示す入力図形情報と、矩形とを用いて、当該１以上の各図形に近似する１以上の図形を示す近似図形情報を作成する。そして、電子ビーム描画装置１は、当該近似図形情報が示す１以上の図形を描画する。
　図１は、本実施の形態における電子ビーム描画装置１のブロック図である。電子ビーム描画装置１は、格納部１０、受付部１１、図形幅取得部１２、判断部１３、作成部１４、描画部１５を備える。また、図形幅取得部１２は、距離マップ作成手段１２１、図形幅取得手段１２２を備える。また、作成部１４は、中心線取得手段１４１、近似輪郭線取得手段１４２、作成手段１４３を備える。
　ここで、入力図形情報とは、電子ビーム描画装置１に描画させる１以上の図形を示す情報である。当該図形の形状は、問わない。当該図形の形状は、通常、線状や棒状などの細長い形状や、円形や楕円形などの丸い形状などである。また、当該図形の形状は、例えば、当該細長い形状と当該丸い形状とが組み合わさった形状であってもよい。また、当該図形は、通常、いわゆる曲線を有する。また、当該図形は、一般的には、描画パターンや、マスクパターンなどと呼ばれるものである。
　また、入力図形情報は、通常、少なくとも１以上の座標を有する座標集合を、１以上有する。当該１つの座標集合は、通常、１つの図形の輪郭線を示す。つまり、例えば、２以上の図形を示す場合、入力図形情報は、通常、２以上の座標集合を有する。また、座標集合が有する１以上の座標は、通常、輪郭線を構成する点の順序を有する。当該座標集合が有する座標は、通常、３以上であることが好適である。また、当該座標集合により示される輪郭線の精度は、問わない。つまり、当該１以上の座標は、通常、予め決められた間隔で当該１以上の各図形の輪郭線を示すことができればよい。また、座標集合には、例えば、図形を識別する図形識別子が対応付いていてもよい。
　例えば、１つの矩形を示す場合、図形情報は、例えば、当該矩形の４つの各頂点の座標を有する座標集合を有していてもよい。また、この場合、図形情報は、例えば、当該矩形の４つの各辺（直線）の端点の座標を有する座標集合を有していてもよい。また、この場合、図形情報は、例えば、基準となる１つの頂点の座標と、横幅および縦幅を示す情報とを有する座標集合を有していてもよい。
　また、入力図形情報のデータ形式は、問わない。入力図形情報のデータ形式は、通常、いわゆるマスク設計データや、レイアウト設計データなどと呼ばれるデータ形式である。入力図形情報の具体的なデータ形式は、例えば、ＧＤＳ－２や、ＯＡＳＩＳ、ＭＥＢＥＳなどである。また、入力図形情報は、いわゆる画像であってもよい。当該画像のデータ形式は、通常、ビットマップである。
　また、近似図形情報とは、電子ビーム描画装置１が実際に描画する図形である近似図形を示す情報である。つまり、当該近似図形は、通常、入力図形情報が示す１以上の各図形が、いわゆるフラクチャリングにより矩形に分割された図形である。言い換えると、近似図形は、通常、入力図形情報が示す１以上の各図形に近似する図形である。また、近似図形は、通常、１以上の矩形から構成される。
　近似図形を構成する１以上の各矩形のサイズは、通常、最大ショットサイズ以下であるが、そうでなくてもよい。最大ショットサイズとは、電子ビーム描画装置１が一度の描画で描画できる最大の矩形のサイズである。また、最大ショットサイズは、通常、当該矩形の水平方向の長さおよび垂直方向の長さである。また、最大ショットサイズは、例えば、当該矩形の対角線の長さや、当該矩形の面積などであってもよい。また、最大ショットサイズの単位は問わない。
　また、近似図形を構成する１以上の各矩形は、通常、水平直線および垂直直線から構成される矩形である。水平直線とは、水平方向の直線である。また、垂直直線とは、垂直方向の直線である。また、当該矩形を構成する直線は、通常、いわゆる線分である。また、水平方向とは、通常、直交座標系における横軸（ｘ軸）に平行な方向である。また、垂直方向とは、通常、直交座標系における縦軸（ｙ軸）に平行な方向である。また、当該矩形は、例えば、円形や楕円形など、予め決められた形状の図形であってもよい。
　また、近似図形情報は、通常、少なくとも１以上の座標を有する座標集合を、１以上有する。当該１つの座標集合は、通常、１つの矩形を示す。また、近似図形情報のデータ形式は、通常、入力図形情報と同様である。
　格納部１０には、通常、２以上のパターン管理情報が格納される。パターン管理情報とは、図形分類条件と、パターン識別子とが対応付いた情報である。図形分類条件とは、入力図形情報が示す１以上の図形を、２以上のパターンに分類するための条件である。また、図形分類条件は、通常、図形の幅に関する条件である。また、パターン識別子とは、図形のパターンを識別するための情報である。パターン識別子により識別されるパターンは、通常、図形の幅に基づくパターンである。また、当該パターンは、通常、２以上であり、予め決められている。
　ここで、図形分類条件は、例えば、図形の幅が予め決められた閾値以下であることや、図形の幅が予め決められた閾値より大きいこと、図形の幅が一定であること、図形の幅が一定でないことなどである。また、図形分類条件は、これらの条件の１以上の組み合わせであってもよい。当該組み合わせは、通常、論理積（ＡＮＤ）であるが、論理和（ＯＲ）であってもよい。
　また、格納部１０には、通常、２つのパターン管理情報が格納されていることが好適である。また、当該２つのパターン管理情報の各々が有するパターン識別子が識別する２つのパターンは、補助パターンとメインパターンである。補助パターンとは、通常、図形の幅が図形分類条件を満たすほど小さい図形のパターンである。また、補助パターンは、通常、一定の幅を有する線状の形状であることが好適である。また、メインパターンとは、通常、図形の幅が図形分類条件を満たすほど大きい図形のパターンである。また、補助パターンに分類するための図形分類条件と、メインパターンに分類するための図形分類条件とは、通常、相補関係にあることが好適である。
　ここで、当該２つの図形分類条件を図形分類条件Ａ、図形分類条件Ｂとする。この場合、図形分類条件Ａと図形分類条件Ｂとは、以下の２つの関係にある。
（１）図形の幅が図形分類条件Ａを満たす場合は、図形分類条件Ｂは満たされない。
（２）図形の幅が図形分類条件Ｂを満たす場合は、図形分類条件Ａは満たされない。
　例えば、補助パターンを識別するパターン識別子に対応付いている図形分類条件が「幅≦２０」であるとする。当該図形分類条件は、図形の幅が「２０」以下であることを意味する。この様な場合、メインパターンを識別するパターン識別子に対応付いている図形分類条件は、通常、「幅＞２０」である。当該図形分類条件は、図形の幅が「２０」より大きいことを意味する。
　また、格納部１０には、最大ショットサイズが格納されてもよい。当該最大ショットサイズは、通常、最大ショットサイズを示す情報である。また、格納部１０に最大ショットサイズが格納されている場合、格納部１０には、通常、以下の２つのパターンを識別するパターン識別子が格納されている。
（１）第一メインパターン：メインパターンに対応する図形のうち、図形のサイズが最大ショットサイズよりも大きい図形のパターン
（２）第二メインパターン：メインパターンに対応する図形のうち、図形のサイズが最大ショットサイズ以下である図形のパターン
　ここで、図形のサイズとは、通常、図形に外接する矩形であり、水平直線および垂直直線から構成される矩形の水平方向の長さおよび垂直方向の長さである。また、図形のサイズは、例えば、当該矩形の対角線の長さや、当該矩形の面積などであってもよい。また、図形に外接する矩形を構成する直線は、例えば、予め決められた角度の直線であってもよい。予め決められた角度とは、通常、水平方向に対する角度である。また、予め決められた角度は、例えば、垂直方向に対する角度であってもよい。
　また、格納部１０は、不揮発性の記録媒体が好適であるが、揮発性の記録媒体でも実現可能である。また、格納部１０などに所定の情報が記憶される過程は、問わない。例えば、当該所定の情報は、記録媒体や、通信回線、入力デバイスなどを介して格納部１０などに記憶されてもよい。
　受付部１１は、入力図形情報を受け付ける。また、受付部１１は、例えば、図形の幅や、最大ショットサイズなどを受け付けてもよい。また、受付部１１は、当該受け付けた図形の幅や最大ショットサイズなどを、通常、格納部１０に蓄積する。また、図形の幅を蓄積する場合、受付部１１は、当該図形の幅を、通常、図形分類条件として蓄積する。
　また、受付部１１は、例えば、入力図形情報が示す１以上の図形のうち、補助パターンに対応する図形を示す情報である補助パターン識別情報を受け付けてもよい。補助パターン識別情報は、通常、補助パターンに対応する図形を識別する図形識別子を有する。また、受付部１１は、受け付けた最大ショットサイズを、通常、格納部１０に蓄積する。
　また、受け付けとは、タッチパネルや、キーボードなどの入力デバイスから入力された情報の取得、光ディスクや磁気ディスク、半導体メモリなどの記録媒体に格納されている情報の取得、有線もしくは無線の通信回線を介して送信された情報の受信などを含む概念である。
　なお、受付部１１における情報や指示などの入力手段は、メニュー画面によるものや、キーボードなど、何でもよい。受付部１１は、メニュー画面の制御ソフトウェアや、キーボード等の入力手段のデバイスドライバなどで実現され得る。
　図形幅取得部１２は、入力図形情報を用いて、入力図形情報が示す１以上の各図形の幅（以下、適宜、図形幅）を取得する。図形幅を取得するとは、通常、図形の幅を示す情報を取得することである。
　図形幅とは、通常、図形に外接する矩形を構成する短辺の長さであるが、当該矩形を構成する長辺の長さであってもよい。また、当該矩形は、通常、図形に外接する１以上の矩形のうち、サイズが最小である矩形である。ここでのサイズは、通常、面積である。
　また、図形幅は、例えば、幅形成点の距離であってもよい。幅形成点とは、図形の輪郭線を構成する点のうちの２つの点の組である。また、幅形成点の距離とは、当該２つの点間の距離である。当該２つの点は、通常、幅形成直線と図形の輪郭線との交点である。また、幅形成直線は、通常、図形に外接する矩形を構成する短辺に平行な直線である。また、幅形成直線は、例えば、水平直線や、垂直直線、その他の方向に平行な直線であってもよい。
　また、図形幅は、例えば、２以上の幅形成点の距離の集合であってもよい。また、図形幅は、当該２以上の幅形成点の距離の平均であってもよい。これらの場合、幅形成直線は、２以上である。また、当該２以上の幅形成直線の間隔は、通常、「１」であることが好適である。
　例えば、図形の形状が、水平方向に細長い線状の形状であるとする。また、当該図形に外接する１以上の矩形のうち、水平直線および垂直直線から構成される矩形が、サイズが最小の矩形であるとする。この場合、当該図形の幅は、通常、当該図形に外接する矩形の垂直方向の辺の長さである。また、当該図形の幅は、例えば、図２に示す様に、当該図形に内接または外接する水平方向の２以上の直線のうち、下端の直線と上から２本目の直線との距離であってもよい。また、当該図形の幅は、例えば、図３に示す様に、２以上の幅形成直線と輪郭線とが交わる２つの点間の距離である２以上の幅形成点の距離の集合であってもよい。また、当該２以上の幅形成直線は、例えば、図２０に示す様に、それぞれの方向が異なっていてもよい。また、当該図形の幅は、例えば、当該２以上の幅形成点の距離の平均であってもよい。
　なお、図形幅取得部１２は、通常、後述の各手段により、１以上の各図形の幅を取得する。
　距離マップ作成手段１２１は、距離マップを作成する。距離マップとは、一の図形について、当該図形の中心線を構成する１以上の各点から、当該図形の輪郭線までの距離の１以上の集合を示す情報である。当該距離は、通常、最短距離である。また、当該点は、通常、一の座標により示される。
　また、図形の中心線とは、通常、１以上の幅形成点の中点から構成される線である。幅形成点の中点とは、幅形成点である２つの点の中点である。
　また、距離マップは、例えば、中心線を構成する１以上の点以外の点から、図形の輪郭線までの距離を有していてもよい。当該点は、通常、図形の内側の点である。また、距離マップは、例えば、入力図形情報が示す１以上の各図形に対応する情報であってもよいし、当該１以上のすべての図形に対応する情報であってもよい。また、距離マップのデータ構造は、問わない。
　また、距離マップ作成手段１２１は、通常、入力図形情報を用いて距離マップを作成する。また、距離マップ作成手段１２１は、入力図形情報を用いて距離マップを作成すればよく、その方法や手順などは、問わない。距離マップ作成手段１２１は、通常、図形の中心線を取得し、当該中心線を用いて、距離マップを作成する。なお、中心線を取得するとは、中心線を示す座標集合を取得することである。
　距離マップ作成手段１２１は、例えば、以下のいずれかの方法により、距離マップを作成する。
（Ａ）ビットマップ画像を作成する方法
（Ｂ）ビットマップ画像を作成しない方法
　（Ａ）の方法は、入力図形情報が示す１以上の各図形を示すビットマップ形式の画像（以下、適宜、ビットマップ画像）を用いて、距離マップを作成する方法である。当該方法において、例えば、入力図形情報が示す一の図形に対応する距離マップを作成する具体的な手順は、例えば、以下のとおりである。
（１）距離マップ作成手段１２１は、入力図形情報を用いて、当該入力図形情報が示す一の図形を示すビットマップ画像を作成する。
（２）距離マップ作成手段１２１は、（１）で作成したビットマップ画像を用いて、図形の輪郭線を構成する１以上の各点を示す１以上の座標を取得する。
（３）距離マップ作成手段１２１は、（２）で取得した１以上の座標を用いて、１以上の各幅形成点を示す１以上の座標集合を取得する。当該座標集合は、通常、２つの座標を有する。
（４）距離マップ作成手段１２１は、（３）で取得した１以上の座標集合を用いて、当該１以上の各座標集合が有する２つの各座標が示す２つの点の中点を示す１以上の座標を取得する。当該取得した１以上の座標は、中心線を構成する１以上の各点を示す座標である。
（５）距離マップ作成手段１２１は、（２）で取得した１以上の座標と、（４）で取得した１以上の座標とを用いて、中心線を示す１以上の各座標が示す点から、輪郭線までの距離を算出する。
　なお、入力図形情報がビットマップ形式の画像である場合、上記（１）の処理は、通常、行わない。
　また、上記（１）において、ビットマップ画像を作成する方法や手順などは、公知であるので、詳細な説明を省略する。
　また、上記（１）において、距離マップ作成手段１２１は、例えば、輪郭線を構成する２つの点間の点を示す座標を、いわゆる補間により算出してもよい。当該補間は、例えば、線形補間である。
　（Ｂ）の方法は、ビットマップ画像を作成することなく、入力図形情報を用いて距離マップを作成する方法である。つまり、当該方法は、入力図形情報がビットマップ画像である場合は、通常、用いない。また、当該方法において、例えば、入力図形情報が示す一の図形に対応する距離マップを作成する具体的な手順は、例えば、以下のとおりである。
（１）距離マップ作成手段１２１は、入力図形情報を用いて、図形の輪郭線を構成する１以上の各点を示す１以上の座標を取得する。
（２）距離マップ作成手段１２１は、（１）で取得した輪郭線を示す１以上の座標を用いて、１以上の各幅形成点を示す１以上の座標集合を取得する。当該座標集合は、通常、２つの座標を有する。
（３）距離マップ作成手段１２１は、（２）で取得した１以上の座標集合を用いて、当該１以上の各座標集合が有する２つの各座標が示す２つの点の中点を示す１以上の座標を取得する。当該取得した１以上の座標は、中心線を構成する１以上の各点を示す座標である。
（４）距離マップ作成手段１２１は、（１）で取得した１以上の座標と、（３）で取得した１以上の座標とを用いて、中心線を示す１以上の各座標が示す点から、輪郭線までの距離を算出する。
　なお、上記（１）において、距離マップ作成手段１２１は、例えば、各２つの点間の点を示す座標を、いわゆる補間により算出してもよい。当該補間は、例えば、線形補間である。
　図形幅取得手段１２２は、入力図形情報が示す１以上の各図形の幅を取得する。当該図形幅を取得する方法や手順などは、問わない。図形幅取得手段１２２は、例えば、以下のいずれかの方法により、図形幅を取得する。
（Ａ）距離マップを用いる方法
（Ｂ）距離マップを用いない方法
　（Ａ）の方法において、例えば、入力図形情報が示す一の図形の幅を取得する具体的な手順は、例えば、以下のとおりである。
（１）図形幅取得手段１２２は、図形の中心線を構成する１以上の各点に対応する輪郭線までの距離を、距離マップから取得する。
（２）図形幅取得手段１２２は、（１）で取得した１以上の各距離を２倍した１以上の値を取得する。当該取得した値は、図形幅である。
　なお、上記（２）において、図形幅取得手段１２２は、例えば、取得した１以上の値の平均を、図形幅として取得してもよい。また、図形幅取得手段１２２は、例えば、取得した１以上の値のうち、最大または最小の値を、図形幅として取得してもよい。
　（Ｂ）の方法において、例えば、入力図形情報が示す一の図形の幅を取得する具体的な手順は、例えば、以下のとおりである。
（１）図形幅取得手段１２２は、入力図形情報から、図形の輪郭線を構成する１以上の各点を示す１以上の座標を取得する。
（２）図形幅取得手段１２２は、（１）で取得した１以上の座標を用いて、１以上の各幅形成点を示す１以上の座標集合を取得する。当該座標集合は、通常、２つの座標を有する。
（３）図形幅取得手段１２２は、（２）で取得した１以上の座標集合を用いて、当該１以上の各座標集合が有する２つの各座標が示す２つの点間の距離である１以上の距離を取得する。当該取得した１以上の距離は、図形幅である。
　なお、上記（３）において、図形幅取得手段１２２は、例えば、取得した１以上の距離の平均を、図形幅として取得してもよい。また、図形幅取得手段１２２は、例えば、取得した１以上の距離のうち、最大または最小の距離を、図形幅として取得してもよい。
　判断部１３は、入力図形情報が示す１以上の各図形が、図形の幅に基づく２以上のパターンのいずれであるかを判断する。当該判断するとは、通常、当該判断結果を示すパターン識別子を取得することである。
　判断部１３は、通常、図形幅取得部１２が取得した図形幅が、格納部１０に格納されている２以上の図形分類条件のいずれを満たすかを判断する。そして、判断部１３は、満たすと判断した図形分類条件に対応付いているパターン識別子を取得する。そして、判断部１３は、当該図形幅が取得された図形について、当該取得したパターン識別子により識別されるパターンであると判断する。
　例えば、図形幅が「１８」であるとする。また、図形分類条件が「図形幅≦２０」であるとする。当該図形分類条件は、図形幅が２０以下であることを意味する。この様な場合、判断部１３は、当該図形幅が当該図形分類条件を満たすと判断する。
　また、例えば、１以上の図形幅が「２０、２０、２０、２０」であるとする。また、図形分類条件が「（１０≦図形幅≦３０）＆（図形幅＝一定）」であるとする。当該図形分類条件は、図形幅が１０以上３０以下であり、かつ、図形幅が一定であることを意味する。この様な場合、判断部１３は、当該１以上の図形幅が当該図形分類条件を満たすと判断する。
　また、判断部１３は、通常、メインパターンであると判断した図形について、当該図形のサイズが最大ショットサイズより大きいか否かを判断する。この場合、格納部１０には、最大ショットサイズと、第一メインパターンを識別するパターン識別子と、第二メインパターンを識別する第一識別子とが格納されている。そして、例えば、当該図形のサイズが最大ショットサイズより大きい場合、判断部１３は、当該第一メインパターンを識別するパターン識別子を取得する。また、例えば、当該図形のサイズが最大ショットサイズ以下である場合、判断部１３は、当該第二メインパターンを識別するパターン識別子を取得する。
　上記、第一メインパターンであるか第二メインパターンであるかを判断する場合、判断部１３は、例えば、メインパターンであると判断した図形について、当該図形に外接する矩形を取得する。当該矩形は、通常、水平直線および垂直直線から構成される矩形である。そして、判断部１３は、当該取得した矩形のサイズが、最大ショットサイズより大きいか否かを判断する。このとき、判断部１３は、例えば、矩形のサイズと最大ショットサイズについて、水平方向の長さ同士、垂直方向の長さ同士、対角線の長さ同士、面積同士などを比較する。そして、判断部１３は、水平方向の長さ、垂直方向の長さ、対角線の長さ、面積などのいずれかが、最大ショットサイズより大きい場合に、当該図形のサイズが最大ショットサイズより大きいと判断する。
　なお、図形のサイズは、通常、図示しない図形サイズ取得部が取得する。図形サイズ取得部は、通常、入力図形情報を用いて、入力図形情報が示す１以上の各図形のサイズを取得する。なお、当該図形のサイズを取得する方法や手順などは、公知であるので、詳細な説明を省略する。
　作成部１４は、入力図形情報を用いて、近似図形情報を作成する。作成部１４は、通常、判断部１３が取得したパターン識別子に応じて、異なる方法により、１以上の各図形に近似する１以上の近似図形を示す近似図形情報を作成する。また、作成部１４は、通常、入力図形情報が示す１以上の図形ごとに近似図形情報を作成する。そして、作成部１４は、当該作成した１以上の近似図形情報を結合し、一の近似図形情報を作成する。
　なお、作成部１４は、通常、後述の各手段により、近似図形情報を作成する。
　中心線取得手段１４１は、入力図形情報を用いて、１以上の各図形の中心線を取得する。当該１以上の各図形は、通常、判断部１３により補助パターンであると判断された図形である。また、当該１以上の各図形は、例えば、判断部１３によりメインパターンであると判断された図形であってもよい。
　例えば、距離マップ作成手段１２１が距離マップを作成した場合、距離マップ作成手段１２１は、通常、入力図形情報が示す１以上の各図形の中心線を取得している。従って、この場合、中心線取得手段１４１は、通常、当該距離マップの作成の際に取得した中心線のうち、補助パターンに対応する図形の中心線を、距離マップ作成手段１２１から取得する。また、例えば、距離マップ作成手段１２１が距離マップを作成しなかった場合、中心線取得手段１４１は、通常、補助パターンに対応する図形の中心線を、入力図形情報を用いて取得する。当該中心線の取得の方法や手順などは、距離マップ作成手段１２１による中心線の取得の方法や手順などと同様であるので、説明を省略する。
　近似輪郭線取得手段１４２は、入力図形情報を用いて、近似輪郭線を取得する。近似輪郭線とは、１以上の各図形の輪郭線であり、通常、水平直線および垂直直線から構成される輪郭線である。また、近似輪郭線は、例えば、予め決められた角度の直線から構成されてもよい。また、近似輪郭線を取得するとは、通常、当該近似輪郭線を示す座標集合を取得することである。また、当該１以上の各図形は、通常、判断部１３によりメインパターンであると判断された図形である。また、入力図形情報が示す図形の輪郭線を、以下、適宜、元輪郭線とする。
　また、近似輪郭線取得手段１４２は、通常、元輪郭線と近似輪郭線との誤差が、予め決められた条件（以下、適宜、誤差条件）を満たすほど小さくなるように、近似輪郭線を取得する。元輪郭線と近似輪郭線との誤差とは、例えば、元輪郭線が示す図形のサイズと近似輪郭線が示す図形のサイズとの差や、元輪郭線の長さと近似輪郭線の長さとの差、元輪郭線と近似輪郭線との交点の数などである。当該差は、例えば、割合や比率などであってもよい。
　ここで、誤差条件は、例えば、上記誤差が予め決められた閾値以下であることや、上記誤差が予め決められた範囲内であることなどである。
　つまり、近似輪郭線取得手段１４２は、例えば、元輪郭線と近似輪郭線との誤差が、誤差条件を満たすか否かを判断する。そして、例えば、当該誤差が誤差条件を満たさない場合、近似輪郭線取得手段１４２は、当該誤差が誤差条件を満たすように、当該近似輪郭線が示す図形を拡大または縮小する。
　また、近似輪郭線は、例えば、図形に内接する多角形であってもよいし、図形に外接する多角形であってもよいし、両者のいずれでなくてもよい。
　なお、元輪郭線と近似輪郭線との誤差が誤差条件を満たす様に近似輪郭線を取得する方法や手順などは、公知であるので、詳細な説明を省略する。当該方法は、例えば、量子化である。つまり、例えば、元輪郭線をいわゆるアナログ信号の波形と見なし、当該元輪郭線を量子化することにより、近似輪郭線を取得することができる。
　作成手段１４３は、判断部１３が取得したパターン識別子に応じて、近似図形情報を作成する。当該近似図形情報は、当該パターン識別子により識別される図形のパターンに対応する図形を近似する近似図形を示す近似図形情報である。近似図形情報を作成するとは、通常、近似図形を構成する１以上の各矩形を示す１以上の座標情報を取得することである。また、「近似図形情報を作成する」を、以下、適宜、「近似図形を作成する」と表記する。また、入力図形情報が示す図形を、以下、適宜、元図形とする。また、近似図形は、通常、予め決められた方法や手順により矩形を配置することや、入力図形情報が示す図形を１以上の矩形に分割することなどにより作成される。また、判断部１３が取得したパターン識別子により識別される図形のパターンは、通常、以下のいずれかである。
（Ａ）補助パターン
（Ｂ）第一メインパターン
（Ｃ）第二メインパターン
　（Ａ）について：この場合、作成手段１４３は、通常、補助パターンに対応する図形の中心線に沿って、当該図形の幅に適合する１以上の矩形を配置する。そして、作成手段１４３は、当該配置により、補助パターンに対応する１以上の各図形に近似する１以上の近似図形を作成する。中心線に沿ってとは、通常、矩形の中心が、中心線と重なるように配置することである。また、中心線に沿ってとは、例えば、矩形の４つの頂点のうちのいずれか頂点や、矩形を構成する４つの辺のうちのいずれかの辺などが、中心線と重なるように配置することであってもよい。また、中心線に沿って配置する場合、作成手段１４３は、通常、中心線の一方の端点から、中心線の他方の端点に向かって、順に、矩形を配置する。また、作成手段１４３は、例えば、補助パターンに対応する図形の中心線に沿わないで、当該図形の幅に適合する１以上の矩形を配置してもよい。
　また、図形の幅に適合する矩形とは、通常、短辺の長さ、長辺の長さ、対角線の長さのいずれかが、当該図形の幅と予め決められた条件（以下、適宜、矩形サイズ条件）を満たすほど近い矩形である。当該矩形サイズ条件は、通常、矩形のサイズに関する条件である。矩形のサイズとは、例えば、矩形の短辺の長さ、矩形の長辺の長さ、矩形の対角線の長さのいずれかである。また、配置する矩形は、配置ごとにサイズが異なっていてもよい。
　また、上記の配置において、作成手段１４３は、通常、矩形同士が重ならないように矩形を配置する。「矩形同士が重ならないように」とは、通常、既に配置されている矩形に隣接するように、矩形を配置することである。
　また、上記の配置において、作成手段１４３は、例えば、矩形同士が重なるように矩形を配置してもよい。「矩形同士が重なるように」とは、通常、既に配置されている図形と重なる部分の大きさが予め決められた条件（以下、適宜、重なり量条件）を満たすように、矩形を配置することである。当該重なり量条件は、通常、図形同士が重なっている部分の大きさ（面積）に関する条件である。また、重なり量条件は、例えば、配置した図形の大きさに対する当該重なっている部分の大きさの割合に関する条件であってもよい。
　なお、当該重なり量条件が、例えば、図形同士が重なっている部分の大きさが「０」であることを意味する場合、作成手段１４３は、通常、矩形同士が隣接するように矩形を配置する。
　また、上記の配置において、作成手段１４３は、例えば、配置した矩形の位置や、配置した矩形のサイズなどを用いて、次に矩形を配置する位置や、配置する矩形のサイズなどを決定する。当該位置とは、例えば、矩形の中心に対応する座標や、矩形の４つの頂点のうちのいずれか１以上の頂点に対応する座標などである。また、当該位置やサイズは、例えば、予め決められた算出式により算出されてもよい。当該算出式は、例えば、矩形の横幅や、矩形の縦幅、矩形の位置などを示す変数や、その他の定数などを有する。
　また、上記の配置において、作成手段１４３は、通常、元図形と近似図形との誤差が、誤差条件を満たすほど小さくなるように、近似図形を作成する。元図形と近似図形との誤差とは、例えば、元図形のサイズと近似図形のサイズとの差や、元図形の輪郭線の長さと近似図形の輪郭線の長さとの差、元図形の輪郭線と近似図形の輪郭線との交点の数などである。当該「差」は、例えば、割合や比率などであってもよい。
　つまり、作成手段１４３は、例えば、元図形と近似図形との誤差が、誤差条件を満たすか否かを判断する。そして、例えば、当該誤差が誤差条件を満たさない場合、作成手段１４３は、当該誤差が誤差条件を満たすように、例えば、再度の矩形配置や、近似図形の拡大または縮小などを行う。
　なお、作成手段１４３は、補助パターンに対応する図形について、当該図形の中心線に沿って１以上の矩形を配置することにより、当該図形のサイズとの誤差が誤差条件を満たすほど小さい近似図形を作成することができればよい。また、当該近似図形を作成する方法や手順などは、問わない。
　（Ｂ）について：この場合、作成手段１４３は、通常、第一メインパターンに対応する図形の近似輪郭線が示す図形の形状に適合する１以上の矩形を順に配置する。そして、作成手段１４３は、当該配置により、第一メインパターンに対応する１以上の各図形に近似する１以上の近似図形を作成する。近似輪郭線が示す図形の形状に適合する矩形とは、通常、サイズが、当該近似輪郭線が示す図形よりも小さい矩形である。また、当該近似輪郭線は、通常、近似輪郭線取得手段１４２が取得した近似輪郭線である。
　また、上記の配置において、作成手段１４３は、通常、近似輪郭線に沿って、矩形を配置する。「近似輪郭線に沿って」とは、通常、配置された矩形が、近似輪郭線からはみ出ることなくかつ隙間なく矩形を配置することである。
　また、上記の配置において、作成手段１４３は、例えば、矩形同士が重ならないように矩形を配置してもよいし、矩形同士が重なるように矩形を配置してもよい。矩形同士が重なるように矩形を配置する場合、作成手段１４３は、通常、重なり量条件を満たすように、矩形を配置する。
　また、上記の配置において、作成手段１４３は、通常、矩形の合計数が少なくなるように矩形を配置する。なお、予め決められた多角形の輪郭線に沿って、予め決められたサイズ以下のサイズの矩形を、合計数が少なくなるように配置する方法や手順などは、公知であるので、詳細な説明を省略する。また、予め決められた多角形とは、ここでは、近似輪郭線が示す図形である。
　（Ｃ）について：この場合、作成手段１４３は、通常、第二メインパターンに対応する図形の近似輪郭線に沿って、当該近似輪郭線が示す図形を２以上の矩形に分割する。「近似輪郭線に沿って」とは、通常、近似輪郭線が示す図形を分割する直線が、近似輪郭線を構成する水平直線または垂直直線と重なるように分割することである。また、「矩形に分割する」とは、通常、水平方向、垂直方向のいずれか一方に分割することである。そして、作成手段１４３は、当該分割により、第二メインパターンに対応する１以上の各図形に近似する１以上の近似図形を作成する。
　また、この場合、作成手段１４３は、通常、矩形の合計数が少なくなるように、近似輪郭線に沿って、近似輪郭線を、水平方向または垂直方向に２以上の矩形に分割する。作成手段１４３は、例えば、水平方向、垂直方向のそれぞれの方向で近似輪郭線が示す図形を分割し、２つの近似図形を作成する。そして、作成手段１４３は、当該分割して得られた矩形数が少ない方の近似図形を取得する。
　なお、予め決められた多角形を、分割後の矩形の合計数が少なくなるように、当該多角形の輪郭線に沿って水平方向または垂直方向に分割する方法や手順などは、公知であるので、詳細な説明を省略する。また、予め決められた多角形とは、ここでは、近似輪郭線が示す図形である。
　また、入力図形情報が示す一の図形について、判断部１３が上記３つのパターン以外のパターンであると判断した場合、作成手段１４３は、通常、予め決められた方法や手順などにより、当該図形に対応する近似図形を示す近似図形情報を作成する。当該予め決められた方法や手順などを示す情報を、以下、適宜、作成方法情報とする。作成方法情報は、通常、近似図形情報を作成するアルゴリズムを表現したものである。作成方法情報は、例えば、入力図形情報から近似図形情報を作成する実行プログラムや、入力図形情報から近似図形情報を作成する手順を示すソースコード、当該手順を示す擬似的なプログラムコード、当該手順を示すフローチャートなどである。また、擬似的なプログラムコードとは、アルゴリズムを、自然言語を用いてプログラミング言語のように記述したものである。また、擬似的なプログラムコードの文法は、通常、既存のプログラミング言語の文法に似たものである。
　描画部１５は、作成部１４が作成した近似図形情報が示す１以上の近似図形を描画する。当該描画の対象は、問わない。当該描画の対象は、例えば、フォトマスクや、ウェハーなどである。また、描画部１５は、通常、電界放出型や、ショットキー型、熱電子型などの電子銃や、電子レンズ、高さ検出器などから実現され得る。また、描画部１５が発する電子線の断面の形状は、通常、矩形である。また、描画部１５の処理手順は、通常、ソフトウェアで実現され、当該ソフトウェアはＲＯＭ等の記録媒体に記録されている。
　なお、図形幅取得部１２、距離マップ作成手段１２１、図形幅取得手段１２２、判断部１３、作成部１４、中心線取得手段１４１、近似輪郭線取得手段１４２、作成手段１４３は、通常、ＭＰＵやメモリ等から実現され得る。また、図形幅取得部１２などの処理手順は、通常、ソフトウェアで実現され、当該ソフトウェアはＲＯＭ等の記録媒体に記録されている。なお、図形幅取得部１２などは、ハードウェア（専用回路）で実現されてもよい。
　次に、電子ビーム描画装置１の全体動作について、フローチャートを用いて説明する。なお、所定の情報におけるｉ番目の情報は、「情報［ｉ］」と記載するものとする。図４は、電子ビーム描画装置１の全体動作を示すフローチャートである。
　（ステップＳ４０１）図形幅取得部１２は、受付部１１が入力図形情報を受け付けたか否かを判断する。受け付けた場合は、ステップＳ４０２に進み、そうでない場合は、ステップＳ４０１に戻る。ここで、当該入力図形情報は、ｍ個の図形を示すものとする。
　（ステップＳ４０２）作成部１４は、カウンタｉに１をセットする。
　（ステップＳ４０３）図形幅取得部１２は、図形［ｉ］の図形幅を取得する。この処理の詳細は、図５のフローチャートを用いて説明する。
　（ステップＳ４０４）判断部１３は、ステップＳ４０３で取得した図形幅が、図形分類条件を満たすか否かを判断する。満たす場合は、ステップＳ４０５に進み、そうでない場合は、ステップＳ４０６に進む。
　（ステップＳ４０５）作成部１４は、補助パターンに対応する図形［ｉ］に対応する近似図形を作成する。この処理の詳細は、図６のフローチャートを用いて説明する。
　（ステップＳ４０６）近似輪郭線取得手段１４２は、図形［ｉ］に対応する近似輪郭線を取得する。
　（ステップＳ４０７）判断部１３は、図形［ｉ］のサイズが最大ショットサイズより大きいか否かを判断する。最大ショットサイズより大きい場合は、ステップＳ４０８に進み、そうでない場合は、ステップＳ４０９に進む。
　（ステップＳ４０８）作成手段１４３は、ステップＳ４０６で取得した近似輪郭線に沿って１以上の矩形を配置する。当該配置により、作成手段１４３は、図形［ｉ］に対応する近似図形を作成する。
　（ステップＳ４０９）作成手段１４３は、ステップＳ４０６で取得した近似輪郭線に沿って、当該近似輪郭線が示す図形を２以上の矩形に分割する。当該分割により、作成手段１４３は、図形［ｉ］に対応する近似図形を作成する。
　（ステップＳ４１０）作成部１４は、ｉがｍであるか否かを判断する。ｍである場合は、ステップＳ４１２に進み、そうでない場合は、ステップＳ４１１に進む。
　（ステップＳ４１１）作成部１４は、ｉを１インクリメントする。そして、ステップＳ４０３に戻る。
　（ステップＳ４１２）描画部１５は、ステップＳ４０３からステップＳ４０９までにおいて作成した１以上の各近似図形を描画する。
　なお、図４のフローチャートにおいて、電源オフや処理終了の割り込みにより処理を終了してもよい。
　また、図４のフローチャートにおいて、ステップＳ４０３の処理を、ｍ個の各図形ごとに行ってもよい。また、この場合、ステップＳ４０４からステップＳ４０９までの処理を、ｍ個の各図形ごとに行うことになる。
　また、図４のフローチャートにおいて、ステップＳ４０４の処理は、以下のステップＳ４０４－１の処理と同義である。
（ステップＳ４０４－１）判断部１３は、図形幅が満たす図形分類条件に対応するパターン識別子を、格納部１０から取得する。そして、補助パターンを識別するパターン識別子を取得した場合は、ステップＳ４０５に進む。また、メインパターンを識別するパターン識別子を取得した場合は、ステップＳ４０６に進む。
　また、図４のフローチャートにおいて、ステップＳ４０７の処理は、以下のステップＳ４０７－１の処理と同義である。
（ステップＳ４０７－１）判断部１３は、図形［ｉ］のサイズが最大ショットサイズより大きいか否かを判断する。最大ショットサイズより大きい場合、判断部１３は、第一メインパターンを識別するパターン識別子を、格納部１０から取得する。また、最大ショットサイズより大きくない場合、判断部１３は、第二メインパターンを識別するパターン識別子を、格納部１０から取得する。そして、第一メインパターンを識別するパターン識別子を取得した場合は、ステップＳ４０８に進む。また、第二メインパターンを識別するパターン識別子を取得した場合は、ステップＳ４０９に進む。
　図５は、図４のフローチャートのステップＳ４０３の図形幅の取得処理を示すフローチャートである。なお、図５のフローチャートにおいて、図４のフローチャートにおける「図形［ｉ］」は、「図形」と表記するものとする。
　（ステップＳ５０１）距離マップ作成手段１２１は、入力図形情報を用いて、図形のビットマップ画像を作成する。
　（ステップＳ５０２）距離マップ作成手段１２１は、ステップＳ５０１で作成したビットマップ画像を用いて、図形の輪郭線を取得する。
　（ステップＳ５０３）距離マップ作成手段１２１は、ステップＳ５０２で取得した輪郭線を用いて、図形の中心線を取得する。ここで、当該中心線は、ｍ個の点から構成されているものとする。
　（ステップＳ５０４）距離マップ作成手段１２１は、カウンタｉに１をセットする。
　（ステップＳ５０５）距離マップ作成手段１２１は、点［ｉ］からステップＳ５０２で取得した輪郭線までの最短距離を取得する。
　（ステップＳ５０６）幅取得手段１２２は、ステップＳ５０５で取得した距離を２倍し、点［ｉ］における図形の幅［ｉ］にセットする。
　（ステップＳ５０７）距離マップ作成手段１２１は、ｉがｍであるか否かを判断する。ｍである場合は、ステップＳ５０９に進み、そうでない場合は、ステップＳ５０８に進む。
　（ステップＳ５０８）距離マップ作成手段１２１は、ｉを１インクリメントする。そして、ステップＳ５０５に戻る。
　（ステップＳ５０９）距離マップ作成手段１２１は、ステップＳ５０６で取得したｍ個の幅の平均を、図形幅にセットする。そして、上位処理にリターンする。
　図６は、図４のフローチャートのステップＳ４０５の補助パターンに対応する近似図形情報の作成処理を示すフローチャートである。なお、図６のフローチャートにおいて、図４のフローチャートにおける「図形［ｉ］」は、「図形」と表記するものとする。
　（ステップＳ６０１）中心線取得手段１４１は、図形の中心線を取得する。
　（ステップＳ６０２）作成手段１４３は、ステップＳ６０１で取得した中心線の開始座標を、配置位置にセットする。中心線の開始座標とは、中心線の両端の端点のうちのいずれか一方を示す座標である。
　（ステップＳ６０３）作成手段１４３は、配置位置における図形の幅に応じて、配置する矩形のサイズを決定する。
　（ステップＳ６０４）作成手段１４３は、配置位置にステップＳ６０３でサイズを決定した矩形を配置する。
　（ステップＳ６０５）作成手段１４３は、ステップＳ６０４で配置した矩形と、既に配置されている矩形とが重なっている部分の大きさが、重なり量条件を満たすか否かを判断する。重なり量条件を満たす場合は、ステップＳ６０７に進み、そうでない場合は、ステップＳ６０６に進む。
　（ステップＳ６０６）作成手段１４３は、ステップＳ６０４で配置した矩形と、既に配置されている矩形とが重なっている部分の大きさが、重なり量条件を満たすように、ステップＳ６０４で配置した矩形の配置位置およびサイズを変更する。
　（ステップＳ６０７）作成手段１４３は、ステップＳ６０４で配置した矩形のサイズや、ステップＳ６０４を配置した位置における図形の幅などに応じて、次に配置する矩形の位置およびサイズを決定する。
　（ステップＳ６０８）作成手段１４３は、配置位置が、中心線の終了座標より大きいか否かを判断する。中心線の終了座標とは、中心線の両端の端点のうち、開始座標で示される点ではない方の点を示す座標である。そして、終了座標より大きい場合は、上位処理にリターンし、そうでない場合は、ステップＳ６０４に戻る。
　（具体例）
　次に、電子ビーム描画装置１の動作の具体例について説明する。
　（例１）
　本例において、距離マップを用いて図形幅を取得する例について説明する。
　まず、受付部１１が、図７に示す図形を示す入力図形情報を受け付けたものとする。
　次に、距離マップ作成手段１２１は、受付部１１が受け付けた入力図形情報を用いて、図８に示すビットマップ画像を作成する。当該ビットマップ画像は、図７の図形の内側を「白」とし、当該図形の外側を「黒」とした画像である。
　次に、距離マップ作成手段１２１は、図８のビットマップ画像を用いて、当該ビットマップ画像が示す図形の輪郭線を示す座標集合を取得する。このとき、距離マップ作成手段１２１は、例えば、図８のビットマップ画像において、白の画素と黒の画素とが隣り合う２つの画素を検出する。そして、距離マップ作成手段１２１は、当該白の画素の位置を示す１以上の座標を取得する。また、当該「隣り合う」とは、上下または左右のどちらでもよい。
　次に、距離マップ作成手段１２１は、輪郭線を示す座標集合を用いて、ｘ座標が同一である２つの座標のｙ座標の平均を算出する。そして、距離マップ作成手段１２１は、当該２つの座標の中点を示す１以上の座標を取得し、図９に示す中心線を取得する。
　次に、距離マップ作成手段１２１は、輪郭線を示す座標集合と、中心線を示す座標集合とを用いて、中心線を示す１以上の各座標が示す点から、輪郭線までの距離を算出する。また、このとき、距離マップ作成手段１２１は、例えば、中心線以外の点についても、輪郭線までの距離を算出する。また、このとき、距離マップ作成手段１２１は、例えば、図７の図形の外側の点については、輪郭線までの距離を「０」と算出する。この結果、作成した距離マップは、例えば、図１０である。図１０の各セルは、図８のビットマップ画像の各画素に対応する。また、図１０において、値が「０」であるセルは、図７の図形の外側の画素に対応し、値が「０」でないセルは、図７の図形の内側の画素に対応する。また、図１０において、値が「９０」であるセルは、図９における中心線を構成する画素（点）に対応するものとする。
　次に、図形幅取得手段１２２は、中心線を構成する１以上の各点に対応する輪郭線までの距離を、図１０の距離マップから取得する。ここで、図形幅取得手段１２２は、例えば、図９における中心線について、上端の端点に対応する距離「９０」を取得したものとする。すると、図形幅取得手段１２２は、当該取得した距離を２倍し、当該端点に対応する図形幅「１８０」を取得する。
　また、図形幅取得手段１２２は、通常、上記と同様の処理を、中心線を構成する１以上の各点に対して行い、当該１以上の各点に対応する図形幅を取得する。
　（例２）
　本例において、距離マップを用いずに図形幅を取得する例について説明する。
　まず、受付部１１が、例１と同様に、図７に示す図形を示す入力図形情報を受け付けたものとする。
　次に、図形幅取得手段１２２は、図１１に示す様に、図形に外接する最小矩形を構成する短辺に平行な２以上の各直線と図形の輪郭線との交点である２以上の幅形成点を検出する。そして、図形幅取得手段１２２は、当該２以上の各幅形成点を示す２つの座標を有する２以上の座標集合を取得する。ここで、当該２以上の各直線の間隔は、図１１においては、「１」であるものとする。
　次に、図形幅取得手段１２２は、取得した１以上の座標集合ごとに、当該座標集合が有する２つの各座標が示す２つの点間の距離を算出する。そして、図形幅取得手段１２２は、当該１以上の各交点に対応する図形幅を取得する。
　（例３）
　本例において、補助パターンに対応する図形に対応する近似図形の作成の例について説明する。本例において、補助パターンに対応する図形は、図７に示す図形であるものとする。つまり、当該図形は、判断部１３により、補助パターンを識別するパターン識別子が取得された図形である。また、このときの図形分類条件は、例えば、以下の条件である。
（図形分類条件）図形幅が２００以下であり、かつ、図形幅が一定であること
　まず、中心線取得手段１４１は、図７の図形を示す入力情報を用いて、図１２に示す様に、図７の図形の中心線を取得する。当該中心線の取得例は、例１と同様であるので、説明を省略する。
　次に、作成手段１４３は、図１２の中心線に沿って、１以上の矩形を配置する。このとき、作成手段１４３は、図１２の中心線の上端から下端に沿って、順に矩形を配置する。また、このとき、作成手段１４３は、配置する矩形の中心、または、４つの頂点のうちのいずれか、または、４つの辺の中点のうちのいずれかが、中心線と重なるように配置する。また、このとき、作成手段１４３は、矩形同士が重ならないように矩形を配置する。また、このとき、作成手段１４３は、配置した矩形のサイズや、配置した位置、配置した位置における水平方向の直線と図形の輪郭線との交点である２つの点間の距離などに応じて、次に配置する矩形のサイズを決定する。当該配置の結果、作成手段１４３が作成した近似図形の例は、図１３である。
　図１２において、作成手段１４３は、まず、当該図形の上端に外接する矩形（図１３の矩形ａ）を配置する。当該矩形ａの横幅は、例えば、図１２の図形の輪郭線と水平方向の直線との交点である２つの点間の距離である。また、当該矩形の縦幅は、例えば、元図形と近似図形との誤差が誤差条件を満たすように、かつ、矩形の合計数が最少となるように決定される。次に、作成手段１４３は、図１３の矩形ａに隣接する図１３の矩形ｂを配置する。当該矩形ｂの横幅および縦幅は、例えば、矩形ａの横幅および縦幅と同様である。次に、作成手段１４３は、図１３の矩形ｂと同様に、図１３の矩形ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｉ、ｊ、ｋ、ｌを順に配置する。
　また、矩形同士が重なるように配置した結果、作成手段１４３が作成した近似図形の例は、図１４である。図１２において、作成手段１４３は、まず、当該図形の上端に外接する矩形（図１４の矩形ａ）を配置する。当該矩形ａの横幅は、例えば、図１２の図形の輪郭線と水平方向の直線との交点である２つの点間の距離である。また、当該矩形の縦幅は、例えば、予め決められた縦幅の範囲内においてランダムに選択する。次に、作成手段１４３は、図１４の矩形ａに隣接する図１４の矩形ｂを配置する。当該矩形ｂの横幅および縦幅は、例えば、矩形ａの横幅および縦幅と同様である。次に、作成手段１４３は、図１４の矩形ｂに重なる図１４の矩形ｃを配置する。当該矩形ｃの横幅は、例えば、矩形ｂの横幅と同様である。また、当該矩形ｃの縦幅は、例えば、矩形ｂの縦幅の２倍である。次に、作成手段１４３は、図１４の矩形ｃと同様に、図１４の矩形ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｉ、ｊを順に配置する。
　（例４）
　本例において、第一メインパターンに対応する図形に対応する近似図形の作成の例について説明する。本例において、第一メインパターンに対応する図形は、図１５に示す図形であるものとする。つまり、当該図形は、判断部１３により、メインパターンを識別するパターン識別子、および第一メインパターンを識別するパターン識別子が取得された図形である。このときの図形分類条件は、例えば、以下の条件である。また、このときの最大ショットサイズは、例えば、以下のサイズである。
（図形分類条件）図形幅が２００より大きいこと
（最大ショットサイズ）２５０×２５０
　まず、近似輪郭線取得手段１４２は、図１５の図形を示す入力図形情報を用いて、図１６に示す様に、図１５の図形の輪郭線を量子化し、当該図形の近似輪郭線を取得する。図１６において、点線は、図１５の図形の輪郭線を示す。
　次に、作成手段１４３は、図１６の輪郭線に沿って、最大ショットサイズ以下の１以上の矩形を配置する。当該配置の結果、作成手段１４３が作成した近似図形の例は、図１７である。図１６において、作成手段１４３は、まず、最大ショットサイズ以下の矩形であり、図１６の輪郭線内に収まる最大の矩形（図１７の矩形ａ）を配置する。次に、作成手段１４３は、図１６の輪郭線内の矩形が配置されていない領域について、図１７の矩形ａに隣接する矩形であり、当該領域内に配置できる最大の矩形を配置する。当該矩形は、図１７の矩形ｂ１と矩形ｂ２である。次に、作成手段１４３は、図１７の矩形ｂ１、ｂ２と同様に、図１７の矩形ｃ１、ｃ２、ｄ１、ｄ２を順に配置する。そして、作成手段１４３は、最後に、図１７の矩形ｅ１、ｅ２を配置する。
　（例５）
　本例において、第二メインパターンに対応する図形に対応する近似図形の作成の例について説明する。本例において、第二メインパターンに対応する図形は、図１５に示す図形であるものとする。つまり、当該図形は、判断部１３により、メインパターンを識別するパターン識別子、および第二メインパターンを識別するパターン識別子が取得された図形である。このときの図形分類条件は、例えば、以下の条件である。また、このときの最大ショットサイズは、例えば、以下のサイズである。
（図形分類条件）図形幅が２００より大きいこと
（最大ショットサイズ）２５０×２５０
　まず、近似輪郭線取得手段１４２は、図１５の図形を示す入力図形情報を用いて、図１６に示す様に、図１５の図形の輪郭線を量子化し、当該図形の近似輪郭線を取得する。図１６において、点線は、図１５の図形の輪郭線を示す。
　次に、作成手段１４３は、図１６の輪郭線が示す図形を、当該輪郭線を構成する水平直線に沿って、上から順に矩形に分割する。当該分割の結果、作成手段１４３が作成した近似図形の例は、図１８である。図１６において、作成手段１４３は、まず、上から２本目の水平直線に沿って輪郭線が示す図形を分割する。その結果、図１８の矩形ａが作成される。次に、作成手段１４３は、図１６の輪郭線の上から３本目の水平直線に沿って輪郭線が示す図形を分割する。その結果、図１８の矩形ｂが作成される。次に、作成手段１４３は、図１８の矩形ａ、ｂと同様に、図１６の輪郭線が示す図形を順に分割する。その結果、図１８の矩形ｃから矩形ｉまでが作成される。なお、本例において、図１５の図形のサイズは、最大ショットサイズ以下であるため、図１８の各矩形のサイズは、必然的に、最大ショットサイズ以下となる。
　以上、本実施の形態による電子ビーム描画装置１によれば、フラクチャリング時の合計の矩形数を減らし、描画時間を減らすことができる。
　（実施の形態２）
　本実施の形態において、矩形を用いて１以上の各図形に近似する１以上の図形を示す近似図形情報を作成する描画用図形データ作成装置２について説明する。
　図１９は、本実施の形態における描画用図形データ作成装置２のブロック図である。描画用図形データ作成装置２は、受付部１１、図形幅取得部１２、判断部１３、作成部１４を備える。また、図形幅取得部１２は、距離マップ作成手段１２１、図形幅取得手段１２２を備える。また、作成部１４は、中心線取得手段１４１、近似輪郭線取得手段１４２、作成手段１４３を備える。
　また、描画用図形データ作成装置２が作成した近似図形情報は、図形の描画を行う装置（例えば、実施の形態１の電子ビーム描画装置１）などに送信される。そして、近似図形情報を受信した装置は、近似図形情報が示す１以上の図形を描画する。
　また、描画用図形データ作成装置２の全体動作を示すフローチャートは、図９のフローチャートのステップＳ９１２以外の処理と同様であるので、説明を省略する。
　また、描画用図形データ作成装置２の動作の具体例については、実施の形態１の具体例と同様であるので、説明を省略する。
　また、上記各実施の形態における電子ビーム描画装置は、例えば、スタンドアロンの装置であってもよいし、サーバ・クライアントシステムにおけるサーバ装置であってもよい。
　また、上記各実施の形態において、各処理または各機能は、単一の装置または単一のシステムによって集中処理されることによって実現されてもよいし、あるいは、複数の装置または複数のシステムによって分散処理されることによって実現されてもよい。
　また、上記各実施の形態において、各構成要素は専用のハードウェアにより構成されてもよいし、あるいは、ソフトウェアにより実現可能な構成要素については、プログラムを実行することによって実現されてもよい。例えば、ハードディスクや半導体メモリ等の記録媒体に記録されたソフトウェア・プログラムをＣＰＵ等のプログラム実行部が読み出して実行することによって、各構成要素が実現され得る。
　また、上記各実施の形態における電子ビーム描画装置を実現するソフトウェアは、例えば、以下のようなプログラムである。つまり、このプログラムは、コンピュータを、１以上の図形を示す情報である入力図形情報を受け付ける受付部と、前記入力図形情報が示す１以上の各図形の幅を取得する図形幅取得部と、前記図形の幅に適合する１以上の矩形から構成される図形であり、前記入力図形情報が示す１以上の各図形に近似する図形である１以上の近似図形を示す近似図形情報を作成する作成部と、前記作成部が作成した近似図形情報が示す１以上の近似図形を描画する描画部として機能させるためのプログラムである。
　また、上記各実施の形態における描画用図形データ作成装置を実現するソフトウェアは、例えば、以下のようなプログラムである。つまり、このプログラムは、コンピュータを、１以上の図形を示す情報である入力図形情報を受け付ける受付部と、前記入力図形情報が示す１以上の各図形の幅を取得する図形幅取得部と、前記図形の幅に適合する１以上の矩形から構成される図形であり、前記入力図形情報が示す１以上の各図形に近似する図形である１以上の近似図形を示す近似図形情報を作成する作成部として機能させるためのプログラムである。
　なお、上記プログラムにおいて、上記プログラムが実現する機能には、ハードウェアでしか実現できない機能は含まれない。
　また、上記プログラムは、サーバなどからダウンロードされることによって実行されてもよいし、所定の記録媒体（例えば、ＣＤ－ＲＯＭなどの光ディスクや磁気ディスク、半導体メモリなど）に記録されたプログラムが読み出されることによって実行されてもよい。また、このプログラムは、プログラムプロダクトを構成するプログラムとして用いられてもよい。
　また、上記プログラムを実行するコンピュータは、単数であってもよいし、複数であってもよい。つまり、集中処理を行ってもよいし、あるいは分散処理を行ってもよい。
　また、図２１は、前述のプログラムを実行して、前述の実施の形態の電子ビーム描画装置等を実現するコンピュータシステム９の概観図である。前述の実施の形態は、コンピュータハードウェア、およびその上で実行されるコンピュータプログラムで実現され得る。
　図２１において、コンピュータシステム９は、ＣＤ－ＲＯＭドライブ９０１１、ＦＤドライブ９０１２を含むコンピュータ９０１と、キーボード９０２と、マウス９０３と、モニタ９０４とを備える。
　図２２は、コンピュータシステム９のブロック図である。図２２において、コンピュータ９０１は、ＣＤ－ＲＯＭドライブ９０１１、ＦＤドライブ９０１２に加えて、ＭＰＵ９０１３と、ブートアッププログラム等のプログラムを記憶するためのＲＯＭ９０１４と、ＭＰＵ９０１３に接続され、アプリケーションプログラムの命令を一時的に記憶するとともに一時記憶空間を提供するためのＲＡＭ９０１５と、アプリケーションプログラム、システムプログラム、およびデータを記憶するためのハードディスク９０１６と、ＣＤ－ＲＯＭドライブ９０１１、ＦＤドライブ９０１２、ＭＰＵ９０１３等を相互に接続するバス９０１７とを備える。ここでは図示しないが、コンピュータ９０１は、さらに、ＬＡＮへの接続を提供するネットワークカードを備えていてもよい。
　コンピュータシステム９に、前述の実施の形態の電子ビーム描画装置等の機能を実行させるプログラムは、ＣＤ－ＲＯＭ９１０１、またはＦＤ９１０２に記憶されて、ＣＤ－ＲＯＭドライブ９０１１またはＦＤドライブ９０１２に挿入され、さらにハードディスク９０１６に転送されてもよい。これに代えて、プログラムは、図示しないネットワークを介してコンピュータ９０１に送信され、ハードディスク９０１６に記憶されてもよい。プログラムは実行の際にＲＡＭ９０１５にロードされる。プログラムは、ＣＤ－ＲＯＭ９１０１、ＦＤ９１０２またはネットワークから直接、ロードされてもよい。
　プログラムは、コンピュータ９０１に、前述の実施の形態の電子ビーム描画装置等の機能を実行させるオペレーティングシステム（ＯＳ）、またはサードパーティープログラム等は、必ずしも含まなくてもよい。プログラムは、制御された態様で適切な機能（モジュール）を呼び出し、所望の結果が得られるようにする命令の部分のみを含んでいればよい。コンピュータシステム９がどのように動作するかは周知であり、詳細な説明は省略する。
　本発明は、以上の実施の形態に限定されることなく、種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることは言うまでもない。
　以上のように、本発明にかかる電子ビーム描画装置は、フラクチャリング時の合計の矩形数を減らし、描画時間を減らすことができるという効果を有し、フォトマスクやウェハーなどに図形を描画する種々の電子ビーム描画装置等として有用である。
　１　電子ビーム描画装置
　２　描画用図形データ作成装置
　１０　格納部
　１１　受付部
　１２　図形幅取得部
　１３　判断部
　１４　作成部
　１５　描画部
　１２１　距離マップ作成手段
　１２２　図形幅取得手段
　１４１　中心線取得手段
　１４２　近似輪郭線取得手段
　１４３　作成手段

Claims (12)

  1. １以上の図形を示す情報である入力図形情報を受け付ける受付部と、
    前記入力図形情報が示す１以上の各図形の幅を取得する図形幅取得部と、
    前記図形の幅に適合する１以上の矩形から構成される図形であり、前記入力図形情報が示す１以上の各図形に近似する図形である１以上の近似図形を示す近似図形情報を作成する作成部と、
    前記作成部が作成した近似図形情報が示す１以上の近似図形を描画する描画部とを備える電子ビーム描画装置。
  2. 図形の幅に関する条件である図形分類条件と、図形の幅に基づく予め決められたパターンを識別するパターン識別子とが対応付いた情報である２以上のパターン管理情報が格納される格納部と、
    前記図形の幅が満たす図形分類条件に対応するパターン識別子を取得する判断部とをさらに備え、
    前記作成部は、
    前記判断部が取得したパターン識別子に応じて、異なる方法により、前記１以上の各図形に近似する１以上の近似図形を示す近似図形情報を作成する請求項１記載の電子ビーム描画装置。
  3. 前記格納部には、
    図形の幅が前記図形分類条件を満たすほど小さい図形のパターンである補助パターンを識別するパターン識別子を有するパターン管理情報と、図形の幅が前記図形分類条件を満たすほど大きい図形のパターンであるメインパターンを識別するパターン識別子を有するパターン管理情報とが格納される請求項２記載の電子ビーム描画装置。
  4. 前記作成部は、
    前記１以上の各図形の中心線を取得する中心線取得手段と、
    前記中心線に沿って、前記図形の幅に適合する１以上の矩形を配置することにより、前記補助パターンに対応する１以上の各図形に近似する１以上の近似図形を示す近似図形情報を作成する作成手段とを備える請求項３記載の電子ビーム描画装置。
  5. 前記格納部には、
    最大ショットサイズと、図形のサイズが最大ショットサイズより大きい図形のパターンである第一メインパターンを識別するパターン識別子と、図形のサイズが最大ショットサイズ以下である図形のパターンである第二メインパターンを識別するパターン識別子とがさらに格納されており、
    前記判断部は、
    前記メインパターンに対応する１以上の各図形のサイズが最大ショットサイズより大きいか否かを判断し、最大ショットサイズより大きい場合は、前記第一メインパターンを識別するパターン識別子を取得し、最大ショットサイズ以下である場合は、前記第二メインパターンを識別する識別子を取得する請求項３記載の電子ビーム描画装置。
  6. 前記作成部は、
    前記第一メインパターンに対応する図形の輪郭線であり、水平の直線および垂直の直線および予め決められた角度の直線から構成される輪郭線である近似輪郭線を取得する近似輪郭線取得手段と、
    前記近似輪郭線が示す図形の形状に適合する１以上の矩形を配置することにより、前記第一メインパターンに対応する１以上の各図形に近似する１以上の近似図形を示す近似図形情報を作成する作成手段とを備える請求項５記載の電子ビーム描画装置。
  7. 前記作成部は、
    前記第二メインパターンに対応する図形の輪郭線であり、水平の直線および垂直の直線および予め決められた角度の直線から構成される輪郭線である近似輪郭線を取得する近似輪郭線取得手段と、
    前記近似輪郭線が示す図形を、前記近似輪郭線に沿って２以上の矩形に分割することにより、第二メインパターンに対応する１以上の各図形に近似する１以上の近似図形を示す近似図形情報を作成する作成手段とを備える請求項５記載の電子ビーム描画装置。
  8. 前記入力図形情報は、１以上の各図形の輪郭線を示す１以上の座標を有する情報であり、
    前記図形幅取得部は、
    前記入力図形情報が示す１以上の各図形の中心線を取得し、当該中心線を構成する１以上の各点から、当該１以上の各図形の輪郭線までの距離を示す距離マップを作成する距離マップ作成手段と、
    前記距離マップを用いて、前記１以上の各図形の幅を取得する図形幅取得手段とを備える請求項１記載の電子ビーム描画装置。
  9. 前記作成手段は、
    前記中心線に沿って、前記図形の幅に適合する１以上の矩形を、当該矩形同士が重ならないように配置することにより、前記補助パターンに対応する１以上の各図形に近似する１以上の近似図形を示す近似図形情報を作成する請求項４記載の電子ビーム描画装置。
  10. 前記作成手段は、
    前記中心線に沿って、前記図形の幅に適合する１以上の矩形を、当該矩形同士が重なるように配置することにより、前記補助パターンに対応する１以上の各図形に近似する１以上の近似図形を示す近似図形情報を作成する請求項４記載の電子ビーム描画装置。
  11. 受付部と、図形幅取得部と、作成部と、描画部とを用いて行われる電子ビーム描画方法であって、
    前記受付部が、
    １以上の図形を示す情報である入力図形情報を受け付ける受付ステップと、
    前記図形幅取得部が、
    前記入力図形情報が示す１以上の各図形の幅を取得する図形幅取得ステップと、
    前記作成部が、
    前記図形の幅に適合する１以上の矩形から構成される図形であり、前記入力図形情報が示す１以上の各図形に近似する図形である１以上の近似図形を示す近似図形情報を作成する作成ステップと、
    前記描画部が、
    前記作成部が作成した近似図形情報が示す１以上の近似図形を描画する描画ステップとを備える電子ビーム描画方法。
  12. コンピュータを、
    １以上の図形を示す情報である入力図形情報を受け付ける受付部と、
    前記入力図形情報が示す１以上の各図形の幅を取得する図形幅取得部と、
    前記図形の幅に適合する１以上の矩形から構成される図形であり、前記入力図形情報が示す１以上の各図形に近似する図形である１以上の近似図形を示す近似図形情報を作成する作成部と、
    前記作成部が作成した近似図形情報が示す１以上の近似図形を描画する描画部として機能させるためのプログラムを記録した記録媒体。
PCT/JP2013/082771 2013-04-11 2013-12-06 電子ビーム描画装置、電子ビーム描画方法、および記録媒体 WO2014167750A1 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US14/406,641 US9430607B2 (en) 2013-04-11 2013-12-06 Electron beam drawing apparatus, electron beam drawing method, and storage medium
EP13881981.8A EP2876667B1 (en) 2013-04-11 2013-12-06 Electron beam drawing apparatus, electron beam drawing method, and storage medium
KR1020147012307A KR102065197B1 (ko) 2013-04-11 2013-12-06 전자빔 묘화 장치, 전자빔 묘화 방법 및 기록 매체

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013083377A JP6169876B2 (ja) 2013-04-11 2013-04-11 電子ビーム描画装置、描画用図形データ作成装置、電子ビーム描画方法、描画用図形データ作成方法、およびプログラム
JP2013-083377 2013-04-11

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2014167750A1 true WO2014167750A1 (ja) 2014-10-16

Family

ID=51689174

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2013/082771 WO2014167750A1 (ja) 2013-04-11 2013-12-06 電子ビーム描画装置、電子ビーム描画方法、および記録媒体

Country Status (6)

Country Link
US (1) US9430607B2 (ja)
EP (1) EP2876667B1 (ja)
JP (1) JP6169876B2 (ja)
KR (1) KR102065197B1 (ja)
TW (1) TWI613510B (ja)
WO (1) WO2014167750A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2022549809A (ja) * 2019-09-23 2022-11-29 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド デジタルリソグラフィデバイス用のデジタルパターンファイルの最適化

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6484491B2 (ja) * 2015-04-10 2019-03-13 株式会社ニューフレアテクノロジー 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
JP2016225357A (ja) * 2015-05-27 2016-12-28 株式会社ニューフレアテクノロジー マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法
JP6617463B2 (ja) * 2015-07-31 2019-12-11 大日本印刷株式会社 パターン編集プログラム、パターン編集装置、パターン編集方法
JP6604087B2 (ja) * 2015-08-20 2019-11-13 大日本印刷株式会社 パターン編集プログラム、ショットデータ作成プログラム、パターン編集装置、ショットデータ作成装置、パターン編集方法
TWI620996B (zh) 2016-11-30 2018-04-11 國立臺灣大學 電子束微影方法及其系統
CN107918933B (zh) * 2017-11-28 2019-01-15 江苏中威科技软件系统有限公司 版式数据流文件测量的方法、装置以及存储装置
JP7552192B2 (ja) * 2020-09-24 2024-09-18 株式会社ニューフレアテクノロジー データ生成方法、荷電粒子ビーム照射装置及びプログラム
KR20220139736A (ko) 2021-04-08 2022-10-17 삼성전자주식회사 Euv 마스크 제조방법
US11783110B2 (en) 2021-07-30 2023-10-10 D2S, Inc. Method for reticle enhancement technology of a design pattern to be manufactured on a substrate
US11693306B2 (en) 2021-07-30 2023-07-04 D2S, Inc. Method for reticle enhancement technology of a design pattern to be manufactured on a substrate

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09298145A (ja) * 1996-05-07 1997-11-18 Mitsubishi Electric Corp 電子ビーム描画データ作成装置
JPH10335469A (ja) * 1997-06-04 1998-12-18 Sony Corp パタンデータ表示装置とその方法
JP2008096486A (ja) * 2006-10-06 2008-04-24 Elpida Memory Inc 照射パターンデータ作成方法、マスク製造方法、及び描画システム
JP2009058860A (ja) * 2007-09-03 2009-03-19 Dainippon Printing Co Ltd 図形パターン分割方法及びその方法を用いた描画装置、フォトマスク
JP2011071393A (ja) * 2009-09-28 2011-04-07 Toppan Printing Co Ltd 露光パターン生成方法
JP2012501476A (ja) 2008-09-01 2012-01-19 ディー・ツー・エス・インコーポレイテッド ２次元ドーズマップおよび荷電粒子ビームリソグラフィを用いたレチクルの設計および製造のための方法
JP2013050348A (ja) 2011-08-30 2013-03-14 Seiko Epson Corp 衛星信号受信装置および電子機器

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02210814A (ja) * 1989-02-10 1990-08-22 Fujitsu Ltd 半導体装置の製造方法
JP2880284B2 (ja) * 1990-11-30 1999-04-05 株式会社日立製作所 電子ビーム描画法および装置
JPH06140311A (ja) * 1992-10-28 1994-05-20 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 電子ビーム描画方法
JP3159810B2 (ja) * 1992-11-30 2001-04-23 株式会社日立製作所 電子線描画方法及びその装置
JP2910714B2 (ja) * 1996-12-26 1999-06-23 日本電気株式会社 電子線描画方法
US6415432B1 (en) * 1999-04-21 2002-07-02 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Lithography pattern data generation method, lithography pattern fabrication method and charged particle lithography system
US6396492B1 (en) * 1999-08-06 2002-05-28 Mitsubishi Electric Research Laboratories, Inc Detail-directed hierarchical distance fields
JP2002260982A (ja) * 2001-02-28 2002-09-13 Jeol Ltd 可変面積型電子ビーム描画装置を用いた描画方法
JP2002353102A (ja) * 2001-05-23 2002-12-06 Hitachi Ltd 半導体装置の製造方法
TWI275129B (en) * 2001-06-22 2007-03-01 Taiwan Semiconductor Mfg Method to improve the line-width uniformity and figure fidelity of OPC mask by adding an assistant gap on the mask
JP4006216B2 (ja) * 2001-10-26 2007-11-14 日本電子株式会社 可変面積型電子ビーム描画装置を用いた描画方法
US20090027396A1 (en) * 2007-07-26 2009-01-29 Tufts University Method for fitting a parametric representation to a set of objects
TWI496182B (zh) 2009-08-26 2015-08-11 D2S Inc 以可變束模糊技術使用帶電粒子束微影術製造表面之方法及系統
US8703389B2 (en) 2011-06-25 2014-04-22 D2S, Inc. Method and system for forming patterns with charged particle beam lithography
US8745549B2 (en) * 2012-02-05 2014-06-03 D2S, Inc. Method and system for forming high precision patterns using charged particle beam lithography
WO2013158574A1 (en) * 2012-04-18 2013-10-24 D2S, Inc. Method and system for critical dimension uniformity using charged particle beam lithography
US8984451B2 (en) * 2013-02-22 2015-03-17 Aselta Nanographics Free form fracturing method for electronic or optical lithography

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09298145A (ja) * 1996-05-07 1997-11-18 Mitsubishi Electric Corp 電子ビーム描画データ作成装置
JPH10335469A (ja) * 1997-06-04 1998-12-18 Sony Corp パタンデータ表示装置とその方法
JP2008096486A (ja) * 2006-10-06 2008-04-24 Elpida Memory Inc 照射パターンデータ作成方法、マスク製造方法、及び描画システム
JP2009058860A (ja) * 2007-09-03 2009-03-19 Dainippon Printing Co Ltd 図形パターン分割方法及びその方法を用いた描画装置、フォトマスク
JP2012501476A (ja) 2008-09-01 2012-01-19 ディー・ツー・エス・インコーポレイテッド ２次元ドーズマップおよび荷電粒子ビームリソグラフィを用いたレチクルの設計および製造のための方法
JP2011071393A (ja) * 2009-09-28 2011-04-07 Toppan Printing Co Ltd 露光パターン生成方法
JP2013050348A (ja) 2011-08-30 2013-03-14 Seiko Epson Corp 衛星信号受信装置および電子機器

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP2876667A4

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2022549809A (ja) * 2019-09-23 2022-11-29 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド デジタルリソグラフィデバイス用のデジタルパターンファイルの最適化
JP7534391B2 (ja) 2019-09-23 2024-08-14 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド デジタルリソグラフィデバイス用のデジタルパターンファイルの最適化

Also Published As

Publication number Publication date
TW201439667A (zh) 2014-10-16
EP2876667A4 (en) 2016-03-16
EP2876667A1 (en) 2015-05-27
EP2876667B1 (en) 2019-07-31
US9430607B2 (en) 2016-08-30
JP2014207299A (ja) 2014-10-30
US20150178439A1 (en) 2015-06-25
TWI613510B (zh) 2018-02-01
JP6169876B2 (ja) 2017-07-26
KR20160012064A (ko) 2016-02-02
KR102065197B1 (ko) 2020-01-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6169876B2 (ja) 電子ビーム描画装置、描画用図形データ作成装置、電子ビーム描画方法、描画用図形データ作成方法、およびプログラム
US8194974B1 (en) Merge and removal in a planar map of an image
JP2007133832A (ja) デジタルコンテンツ作成システム、デジタルコンテンツ作成方法およびプログラム
JP2008165760A (ja) グラフィックスを処理する方法および装置
US7515745B1 (en) Planar map to process a raster image
JP6342304B2 (ja) データ補正装置、描画装置、検査装置、データ補正方法、描画方法、検査方法およびプログラム
KR102566081B1 (ko) 묘화 장치, 데이터 처리 장치, 묘화 방법, 및 묘화 데이터 생성 방법
US10540793B2 (en) Image processing apparatus, image processing method, and storage medium
WO2022269951A1 (ja) 電子ビーム描画装置、電子ビーム描画方法、および記録媒体
US10035297B2 (en) Apparatus and method for generating bitmap of 3-dimensional model
US11341383B2 (en) Methods and apparatus to detect effective tiling area and fill tiles efficiently
JP5654070B2 (ja) 画像処理装置、画像処理方法、及びプログラム
US8860724B2 (en) Information processing apparatus, information processing method, and program storage medium
JP4863306B2 (ja) ベクターイメージ描画装置、ベクターイメージ描画方法およびプログラム
JP6329687B1 (ja) テロップ編集装置及びテロップ編集プログラム
JP2010140101A (ja) 描画装置
JP2009141306A (ja) 荷電粒子ビーム描画におけるパターン分割方法
JPH05242235A (ja) 画像処理装置
JP2014021684A (ja) 測定装置のテンプレート生成装置
JP2001307115A (ja) 画像処理装置および画像処理方法
JP2008134970A (ja) 文字認識装置、文字認識方法および文字認識プログラム
JP2000306801A (ja) 電子ビーム描画装置用の図形データの演算処理方法と演算処理装置、及び電子ビーム描画装置用の図形データの圧縮方法
JP2015184603A (ja) 露光装置
JP2007200141A (ja) 画像形成装置及び画像形成方法
JPH08194827A (ja) イメージ処理装置

Legal Events

Date Code Title Description
ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20147012307

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2013881981

Country of ref document: EP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 14406641

Country of ref document: US

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 13881981

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE