WO2014132625A1 - 光学フィルムロールの製造方法 - Google Patents

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WO2014132625A1
WO2014132625A1 PCT/JP2014/000979 JP2014000979W WO2014132625A1 WO 2014132625 A1 WO2014132625 A1 WO 2014132625A1 JP 2014000979 W JP2014000979 W JP 2014000979W WO 2014132625 A1 WO2014132625 A1 WO 2014132625A1
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film
resin film
winding
resin
vibration
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PCT/JP2014/000979
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直矢 岩上
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コニカミノルタ株式会社
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    • B65H23/00—Registering, tensioning, smoothing or guiding webs
    • B65H23/02—Registering, tensioning, smoothing or guiding webs transversely
    • B65H23/032—Controlling transverse register of web
    • B65H23/0328—Controlling transverse register of web by moving the winding device
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B65H2801/00—Application field
    • B65H2801/61—Display device manufacture, e.g. liquid crystal displays

Definitions

  • the present invention relates to a method for producing an optical film roll.
  • Resin films are used in various fields, such as liquid crystal display devices, in view of their chemical characteristics, mechanical characteristics, electrical characteristics, and the like.
  • various resin films such as a transparent protective film for protecting the polarizing element of the polarizing plate, are disposed in the image display area of the liquid crystal display device.
  • a resin film for example, a resin film having excellent translucency such as a cellulose ester film is used.
  • Such a resin film is generally manufactured as a long resin film by a solution casting film forming method, a melt casting film forming method, or the like, and is wound around a winding core (winding core) in a roll shape. It is used for storage and transportation. Moreover, when using a resin film, the resin film is drawn
  • the resin film is required to be widened.
  • the film roll wound with the resin film reduces the replacement frequency of the film roll and improves the working efficiency, so that the length of the resin film wound around the core ( Longer lengths are also required.
  • the long resin film (film roll) wound up in such a roll shape has problems such as the end face of the wound resin film being displaced or the wound resin film being deformed. There was a thing. Moreover, with the widening and lengthening of the resin film, the occurrence of such problems has become more prominent. Therefore, a long resin film (film roll) wound up in such a roll shape is a deviation (winding shift) of the end surface of the wound resin film or a deformation (winding) of the wound resin film. In order to suppress the occurrence of deformation, etc., before winding into a roll shape, embossed portions are formed along the longitudinal direction at both ends in the width direction of the resin film, and the resin film on which the embossed portions are formed is wound. It is being considered to take.
  • Examples of a method for producing a film roll by winding a resin film having an embossed portion around a core include the method described in Patent Document 1.
  • Patent Document 1 after the straight winding step of winding the film around a core so that the side edges of the film are aligned, and after the straight winding step, the side edges are within a certain range with respect to the width direction of the film.
  • the film winding method includes an oscillating winding step of periodically vibrating the film or the core in the width direction of the film so as to periodically shift the film and winding the film around the core. ing.
  • an embossed portion is broken and a phenomenon that the both end portions (ear portions) of the film are extended in the width direction and an occurrence of winding deviation is not obtained. ing.
  • An object of the present invention is to provide a method for producing an optical film roll in which the occurrence of deformation is sufficiently suppressed even when stored for a long period of time.
  • One aspect of the present invention includes a step of producing a long resin film having an embossed portion along the longitudinal direction at both ends in the width direction, and a winding step of winding the resin film into a roll around a core.
  • the winding step has an x-axis as the integrated thickness of the resin film being wound at the position of the resin film that starts to be wound around the core, and a center position in the width direction of the resin film,
  • a sinusoidal vibration whose area surrounded by the function f (x) with the distance from the center position in the width direction of the winding core as the y-axis and the x-axis has the same amplitude and period as the f (x) Is larger than the area surrounded by the function a (x) and the x axis, and smaller than the area surrounded by the function b (x) of the rectangular wave vibration having the same amplitude and period as the f (x) and the x axis. So that at least one of the resin film and the core While periodically
  • FIG. 1 is a schematic view showing a winding device used in the method for producing an optical film roll according to this embodiment.
  • FIG. 2 is a graph for explaining vibrations in the vibration winding process in the method of manufacturing an optical film roll according to the present embodiment.
  • FIG. 3 is a schematic diagram showing the integrated emboss height in the width direction of the optical film roll.
  • FIG. 4 is a schematic view showing a long resin film having an embossed portion and a film roll obtained by winding the resin film into a roll around a core.
  • FIG. 5 is a drawing for explaining the shape of the embossed portion.
  • FIG. 6 is a schematic diagram showing a basic configuration of an apparatus for producing a resin film by a solution casting film forming method.
  • FIG. 1 is a schematic view showing a winding device used in the method for producing an optical film roll according to this embodiment.
  • FIG. 2 is a graph for explaining vibrations in the vibration winding process in the method of manufacturing an optical film roll according to the present embodiment.
  • FIG. 7 is a schematic view showing a basic configuration of a resin film manufacturing apparatus using a melt casting film forming method.
  • FIG. 8 is a schematic diagram showing a basic configuration of an optical film manufacturing apparatus.
  • FIG. 9 is a graph for explaining the vibration in the vibration winding process in the example and the comparative example.
  • FIG. 10 is a schematic diagram showing an outline of a configuration of a polarizing plate provided in a liquid crystal display device used for evaluation in Examples and Comparative Examples.
  • Resin films are required not only to be wider and longer, but also thinner.
  • Resin films in the case of a resin film used for a liquid crystal display device or the like, it is also required to make the resin film thinner in order to meet the demand for thinning the liquid crystal display device or the like.
  • the present inventor has inferred the reason why the above problem cannot be sufficiently suppressed even when the oscillating winding is performed as in the winding method described in Patent Document 1. Even in the case of oscillating winding as in the winding method described in Patent Document 1, if the oscillation of the oscillating winding is simply sinusoidal vibration, the region where the embossed portion in the width direction of the film roll exists It was inferred that the occurrence of problems such as deformation could not be sufficiently suppressed due to the fact that many embossed portions overlapped with the central portion. Therefore, the present inventor has arrived at the present invention as described below by examining in detail the vibration that changes the relative position between the resin film and the core when the film is wound.
  • An optical film roll manufacturing method includes a resin film manufacturing process for manufacturing a long resin film having an embossed portion along the longitudinal direction at both ends in the width direction, and winding the resin film.
  • the integrated thickness of the resin film being wound at the position of the resin film that starts to be wound around the core is defined as the x-axis, the center position in the width direction of the resin film, and the winding
  • a function f (x) having the distance from the center position in the width direction of the core as a y-axis and the area surrounded by the x-axis is a function a of sinusoidal vibration having the same amplitude and cycle as the f (x).
  • the resin film manufactured in the resin film manufacturing process is wound up in a roll shape around the core, and even when stored for a long period of time, deformation is sufficient. It is possible to produce an optical film roll suppressed in the above. This is because the vibration that changes the relative position between the resin film and the core in the vibration winding step is embossed in the state of a film roll in which the resin film is wound around the core as described later. This is considered to be due to the vibration that effectively reduces the overlap of the parts.
  • the side shape of the obtained optical film roll becomes wavy due to the vibration.
  • the sharpness of the top of the convex portion of the wave shape becomes gentler when the side surface shape is the case of the vibration at f (x) than the case of the sinusoidal vibration. Therefore, the occurrence of damage to the side surface shape of the optical film roll can also be suppressed.
  • the resin film manufacturing process is not particularly limited as long as it is a process for manufacturing a long resin film having an embossed portion along the longitudinal direction at both ends in the width direction. Specifically, it will be described later.
  • the winding process may be a process of winding the resin film in a roll shape around a core, and may include a vibration winding process for causing vibration as described above.
  • a winding process is performed by the winding apparatus 10 as shown, for example in FIG.
  • FIG. 1 is schematic which shows the winding apparatus 10 used for the manufacturing method of the optical film roll which concerns on this embodiment.
  • 1A is a side view seen from the axial direction of the core 1 of the winding device 10
  • FIG. 1B is a plan view seen from above the resin film 2. As shown in FIG.
  • the winding device 10 includes a winding core 1, a rotating device (not shown), a guide roller 3, a vibration control device 4, a touch roller 6, and the like.
  • the said winding core 1 winds up the resin film 2 on the surface, and becomes a shaft material of a film roll.
  • the rotating device is a device for rotating the winding core 1.
  • the guide roller 3 is a member that is disposed at a position in contact with the resin film 2 that has traveled, and is rotated by the travel of the resin film 2. The guide roller 3 can reduce the fluctuation of the travel position of the resin film 2 and can smoothly supply the resin film 2 to the core 1.
  • the winding of the resin film 2 around the core 1 is performed by rotating the core 1 by rotating the resin film 2 that has traveled to the surface of the core 1 with a rotating device, as shown in FIG. It is performed by winding up sequentially on the surface of the film.
  • vibration is applied to change the relative position between the resin film and the core.
  • the vibration control device 4 controls the vibration, which will be described later.
  • the touch roller 6 is a member that rotates following the surface of the core 1 and the resin film 2 wound around the core 1 by rotating the core 1. The touch roller 6 can prevent the resin film 2 wound around the core 1 from being separated from the core 1.
  • the vibration control device 4 vibrates the winding core 1 and controls the vibration to be the vibration.
  • the vibration will be described with reference to FIG.
  • FIG. 2 is a graph for explaining vibrations in the vibration winding process in the method of manufacturing an optical film roll according to the present embodiment.
  • the winding core is vibrated, but the relative position between the resin film and the winding core may be vibration as described above, and the resin film may be vibrated. Both the resin film and the winding core may be vibrated.
  • the x-axis in the graph shown in FIG. 2 indicates the integrated thickness [mm] of the resin film being wound at the position of the resin film that starts to be wound around the core. That is, the distance between the outermost surface of the wound resin film and the surface of the core at the position of the resin film that starts to be wound around the core, and corresponds to the integrated thickness x of the resin film shown in FIG. .
  • the vibration in this embodiment is a vibration that becomes a function represented by the curve 51 shown in FIG.
  • a function f (x) representing vibration in the vibration winding process will be described with reference to FIG.
  • the sinusoidal vibration having the same amplitude A and period T as f (x) is expressed as a function a (x) represented by a curve 52 shown in FIG.
  • the vibration is such that
  • the rectangular wave vibration having the same amplitude A and period T as f (x) is expressed as a function b (x expressed by a curve 53 shown in FIG. ).
  • the area surrounded by the function f (x) and the x axis is larger than the area surrounded by the function a (x) and the x axis, and the function b (x)
  • the vibration is smaller than the area surrounded by the x-axis. That is, the vibration in the vibration winding process is such that f (x) exists between a (x) and b (x).
  • the function in FIG. 2 is a function existing on the x-axis represented by a straight line 54.
  • FIG. 3 is a schematic view showing the integrated emboss height in the width direction of the optical film roll.
  • the x axis indicates the position of the optical film roll in the width direction, and the y axis indicates the integrated emboss height.
  • the embossed part is wound up at the same position, and the integrated embossed height is a value obtained by integrating the number of times of winding up to the height of the embossed part.
  • the amplitude A in that case is below about the width
  • the embossed portion overlaps near the center position of the vibration amplitude A.
  • it vibrates so that it may become the said f (x) it will become the graph shown on the line 55.
  • the f (x) may be a function in which the vibration period T and amplitude A periodically change.
  • the relationship may be such that the thickness x gradually decreases as the thickness x increases.
  • the vibration amplitude A in the vibration winding process may be a function that gradually increases as the integrated thickness x of the resin film increases.
  • the amplitude A of vibration in the vibration winding process gradually increases as the integrated thickness of the resin film increases.
  • the amplitude of vibration is large, the overlapping of the embossed portions can be further suppressed and the occurrence of deformation can be further suppressed.
  • the actually usable width of the resin film drawn out from the optical film roll and used is shortened. That is, the embossed portion and the portion that comes into contact with the embossed portion increase, and the width that can be used as a product is shortened.
  • the vibration period T in the vibration winding process is gradually decreased as the integrated thickness of the resin film is increased. By doing so, generation
  • the winding process only needs to include the vibration winding process, and may be a vibration winding process or may include other winding processes. Examples of other winding processes include a process of winding without changing the center distance y (non-vibrating winding process).
  • the non-vibrating winding process is preferably performed after the vibrating winding process. That is, it is preferable that the winding process includes the non-vibrating winding process after the vibrating winding process.
  • an optical film roll capable of smoothly feeding the resin film immediately after the start of feeding can be obtained. That is, since the winding without vibration as described above is performed after the vibration winding process, it is possible to suppress the problem of unwinding that may occur immediately after the start of unwinding of the resin film. It is possible to suppress deformation of the optical film roll at the portion where the film is wound.
  • the said resin film manufacturing process is a process which can manufacture the elongate resin film 2 which has the embossing part 5 along a longitudinal direction in both ends of a width direction, as shown to Fig.4 (a). If there is, it will not be specifically limited. That is, any method may be used as long as the predetermined embossed portion 5 is formed on the resin film. Specifically, a method of forming an embossed part by pressing a roller such as an embossing ring against the resin film can be used. In addition to the method of forming the embossed portion by such a contact method, a method of forming the embossed portion by a non-contact method can be mentioned.
  • a resin film is irradiated with laser light to form an embossed portion, or a liquid material for forming the embossed portion is formed by an inkjet method.
  • coating are mentioned.
  • FIG. 4 is a schematic view showing a long resin film having an embossed portion and a film roll obtained by winding the resin film into a roll around a core.
  • FIG. 4A shows an example of a resin film
  • FIG. 4B shows an example of a film roll.
  • the resin film 2 is a long resin film 2 having embossed portions 5 along the longitudinal direction at both ends in the width direction.
  • the film roll 7 is the film roll 7 which wound up the resin film 2 around the core 1 in roll shape.
  • This thickness difference L depends on the integrated emboss height. That is, the thickness difference L is smaller by performing the vibration winding process according to the present embodiment than when the vibration winding process is not performed.
  • the embossed part 5 formed by the resin film manufacturing process may be formed along the longitudinal direction at both ends in the width direction of the resin film 2.
  • the width direction both ends of the resin film 2 are not particularly limited, and examples thereof include a region of about 0.5 to 30 mm from the outer edge of the resin film. Further, the widthwise both ends of the resin film 2 include, for example, a region that occupies about 0.2 to 6% of the width of the resin film from the outer edge of the resin film. If the width of the embossed portion is too narrow, the transportability of the resin film tends not to be sufficiently improved. Moreover, when the width
  • the height of the embossed part is not particularly limited, but is preferably about 1 to 20 mm. If the embossed portion is too low, the effect of the embossed portion, such as suppressing winding slippage in the film roll state, tends to be insufficient. In addition, if the embossed portion is too high, the region where the embossed portion of the resin film overlaps becomes too thicker than the region where the embossed portion overlaps, and even if the vibration winding process according to this embodiment is performed, the obtained film roll There is a tendency that the effect of suppressing the deformation cannot be sufficiently exhibited.
  • the shape of the embossed part 5 formed by the resin film manufacturing process is not particularly limited. Specifically, a shape as shown in FIG. 5 is mentioned.
  • FIG. 5 is a drawing for explaining the shape of the embossed portion.
  • Examples of the shape of the embossed portion 5 include the following shapes.
  • the cross-sectional shape of the embossed part 5 is a rectangular shape as shown in FIG.
  • FIG.5 (b) the thing of the shape where the recessed part 5a in which the width direction both ends of the embossed part 5 became low in the width direction center part of the embossed part 5 was formed is mentioned.
  • FIG.5 (c) what has the some convex part 5b, 5c as the embossing part 5 is shown to FIG.5 (c) is mentioned.
  • the convex portion 5 b existing at the center in the width direction of the embossed portion 5 is lower than the convex portion 5 c existing at the center in the width direction of the embossed portion 5.
  • the embossed part formed in this way is preferable. If it is such an embossed part, the film roll which can suppress generation
  • the overlap of the embossed portion in the center in the width direction is larger than the end portion of the embossed portion. If the convex part 5b which exists in the width direction center part of the embossed part 5 as mentioned above is a low embossed part, it is thought that the overlap of the width direction center part of an embossed part can be decreased. By this, the film roll which can contribute to the reduction
  • both end portions and the central portion in the embossed portion are not particularly limited, but the both end portions in the embossed portion include, for example, a region that occupies about 40 to 80% of the width of the embossed portion from the outer edge of the embossed portion. .
  • the embossed portion may be cut before being used as an optical film or the like, and is actually often cut. Therefore, the material of the embossed part is not particularly limited as long as the effect of the embossed part such as suppressing the winding deviation in the film roll state can be sufficiently exhibited.
  • the thickness of the resin film is not particularly limited, but it is required to make the resin film thinner. In order to satisfy this requirement, the thickness of the resin film is preferably 10 to 35 ⁇ m. Moreover, if it is a resin film of such thickness, since it is thinner than the conventional resin film, the winding length of an optical film roll can also be lengthened. On the other hand, such a thin resin film is prone to deformation of a film roll obtained by winding it into a roll shape. An optical film roll whose generation is sufficiently suppressed is obtained. For these reasons, the thickness of the resin film is preferably 10 to 35 ⁇ m, which is in the above range. Here, the thickness is an average value of the thickness.
  • the thickness is measured at 20 to 200 locations in the width direction of the film, and the average value of the measured values is the thickness. As shown. Further, the width of the resin film is not particularly limited, and is preferably, for example, 1000 to 4000 mm.
  • the resin film for forming the embossed part is not particularly limited.
  • the resin film may be, for example, a resin film that is not subjected to any treatment on a resin film made of a transparent resin, or may be a resin film other than that.
  • the resin film the following resin films used in the optical field can be preferably used.
  • the resin film is preferably an optical film used as a polarizing plate protective film.
  • an optical film roll is manufactured by the optical film roll manufacturing method according to the present embodiment using the optical film used as such a polarizing plate protective film as a resin film, the occurrence of problems due to the deformation of the optical film roll is sufficient.
  • An optical film roll capable of sequentially feeding and providing the suppressed optical film is obtained.
  • the resin film is preferably a retardation film used as an optical compensation film for a liquid crystal display device.
  • a retardation film used as an optical compensation film for such a liquid crystal display device is used as a resin film, and an optical film roll is manufactured by the method for manufacturing an optical film roll according to this embodiment, a defect due to deformation of the optical film roll
  • an optical film roll capable of sequentially feeding out and providing a retardation film in which the occurrence of the above is sufficiently suppressed is obtained.
  • the resin film is preferably an optical film including a base film and a functional layer present on the base film.
  • This base film is not specifically limited, For example, the resin film etc. which have not performed any process with respect to the resin film which consists of transparent resin are mentioned.
  • a functional layer is used as a functional layer of an optical film, it will not be specifically limited.
  • the said optical film is equipped with a base film and a functional layer at least, the deformation
  • a method for producing a resin film by a solution casting film forming method includes a casting step of casting a resin solution (dope) containing a transparent resin on a traveling support to form the film, Examples of the method include a peeling step of peeling from the support and a drying step of drying the film by transporting the peeled film with a plurality of transport rollers. Furthermore, the method for producing the resin film includes an embossed portion forming step for forming an embossed portion on the film between the peeling step and the drying step or after the drying step. For example, it is performed by a resin film manufacturing apparatus as shown in FIG. In addition, as a manufacturing apparatus of a resin film, if the said each process is performed, it will not specifically limit to what is shown in FIG. 6, The thing of another structure may be sufficient.
  • the film means a film after a cast film (web) made of a dope cast on a support is dried on the support and can be peeled off from the support.
  • FIG. 6 is a schematic diagram showing a basic configuration of a resin film manufacturing apparatus using a solution casting film forming method.
  • the resin film manufacturing apparatus 11 includes an endless belt support 12, a casting die 13, a peeling roller 14, a stretching apparatus 15, a drying apparatus 17, an embossed part forming apparatus 18, a winding apparatus 10, and the like.
  • the casting die 13 casts a resin solution (dope) 19 in which a transparent resin is dissolved onto the surface of the endless belt support 12.
  • the endless belt support 12 is formed into a film by forming a web made of the dope 19 cast from the casting die 13 and drying it while being conveyed.
  • the peeling roller 14 peels the film from the endless belt support 12.
  • the stretching device 15 stretches the peeled film.
  • the drying device 17 dries the stretched film while being transported by a transport roller.
  • the embossed part forming device 18 forms an embossed part at the end of the dried film.
  • the said winding apparatus 10 winds up the film in which the embossed part was formed, and makes it a film roll.
  • the casting die 13 is supplied with a dope 19 from a dope supply pipe connected to an upper end portion of the casting die 13. Then, the supplied dope is discharged from the casting die 13 to the endless belt support 12, and a web is formed on the endless belt support 12.
  • the endless belt support 12 is a metal endless belt having a mirror surface and traveling infinitely.
  • a belt made of stainless steel or the like is preferably used from the viewpoint of peelability of the film.
  • the width of the cast film cast by the casting die 13 is preferably 80 to 99% of the width of the endless belt support 12 from the viewpoint of effectively utilizing the width of the endless belt support 12. .
  • the width of the endless belt support 12 is preferably 1800 to 5000 mm.
  • a rotating metal drum (endless drum support) having a mirror surface may be used instead of the endless belt support.
  • the endless belt support 12 dries the solvent in the dope while transporting a cast film (web) formed on the surface thereof.
  • the drying is performed, for example, by heating the endless belt support 12 or blowing heated air on the web.
  • the temperature of the web varies depending on the dope solution, the range of ⁇ 5 to 70 ° C. is preferable and the range of 0 to 60 ° C. is preferable in consideration of the conveyance speed and productivity accompanying the evaporation time of the solvent. More preferred.
  • the higher the temperature of the web the faster the solvent can be dried. However, when the temperature is too high, the web tends to foam or the flatness tends to deteriorate.
  • a method of heating the web on the endless belt support 12 with an infrared heater for example, a method of heating the back of the endless belt support 12 with an infrared heater, the back of the endless belt support 12 And a method of heating by blowing heated air, and the like can be selected as needed.
  • the wind pressure of the heated air is preferably 50 to 5000 Pa in consideration of the uniformity of solvent evaporation and the like.
  • the temperature of the heating air may be dried at a constant temperature, or may be supplied in several steps in the running direction of the endless belt support 12.
  • the time between casting the dope on the endless belt support 12 and peeling the web from the endless belt support 12 varies depending on the thickness of the optical film to be produced and the solvent used. Considering the peelability from the support 12, it is preferably in the range of 0.5 to 5 minutes.
  • the transport speed of the cast film by the endless belt support 12 is preferably about 50 to 200 m / min, for example. Further, the ratio (draft ratio) of the transport speed of the cast film to the traveling speed of the endless belt support 12 is preferably about 0.8 to 1.2. When the draft ratio is within this range, the cast film can be stably formed. For example, if the draft ratio is too large, there is a tendency to cause a phenomenon called neck-in in which the cast film is reduced in the width direction, and if so, a wide film cannot be formed.
  • the peeling roller 14 is in contact with the surface of the endless belt support 12 on which the dope 19 is cast, and the dried web (film) is peeled by applying pressure to the endless belt support 12 side. .
  • the film is peeled from the endless belt support 12
  • the film is stretched in the film transport direction (machine direction: MD direction) by the peeling tension and the subsequent transport tension.
  • MD direction film transport direction
  • the peeling tension and the conveying tension when peeling the film from the endless belt support 12 are 30 to 400 N / m.
  • the total residual solvent amount of the film when the film is peeled off from the endless belt support 12 is formed after the peelability from the endless belt support 12, the residual solvent amount at the time of peeling, the transportability after peeling, and the transport / drying.
  • the physical properties of the optical film it is preferably 10 to 200% by mass.
  • the stretching device 15 stretches the film peeled from the endless belt support 12 in a direction (Transverse Direction: TD direction) orthogonal to the web conveyance direction. Specifically, both ends in a direction perpendicular to the film transport direction are gripped with a clip or the like, and the distance between the opposing clips is increased to extend in the TD direction. And the said extending
  • the drying device 17 includes a plurality of transport rollers, and dries the film while transporting the film between the rollers. In that case, you may dry using heating air, infrared rays, etc. independently, and you may dry using heating air and infrared rays together. It is preferable to use heated air from the viewpoint of simplicity.
  • the drying temperature varies depending on the amount of residual solvent in the film. However, the drying temperature is appropriately selected in the range of 30 to 180 ° C. depending on the amount of residual solvent in consideration of drying time, shrinkage unevenness, stability of expansion and contraction, and the like. That's fine. Further, it may be dried at a constant temperature, or may be divided into two to four stages of temperature and may be divided into several stages of temperature.
  • the film can be stretched in the MD direction while being conveyed in the drying device 17.
  • the amount of residual solvent in the film after the drying treatment in the drying device 17 is preferably 0.001 to 5% by mass in consideration of the load of the drying process, the dimensional stability expansion / contraction ratio during storage, and the like.
  • the embossed part forming device 18 forms embossed parts at both ends (widthwise direction) perpendicular to the film transport direction during transport of the film.
  • the shape and width of the embossed portion may be the shape and width described above.
  • the embossed portion may be formed by a contact method or a non-contact method.
  • the winding device 10 may be the winding device described above. Specifically, the winding apparatus etc. which can perform the said vibration winding process are mentioned.
  • the transparent resin used in the solution casting film forming method is not particularly limited as long as it is a resin having transparency when formed into a film shape, but is easy to manufacture by the solution casting film forming method or the like.
  • the transparency means that the visible light transmittance is 60% or more, preferably 80% or more, and more preferably 90% or more.
  • the transparent resin include cellulose ester resins such as cellulose triacetate resin.
  • the dope used here may contain fine particles.
  • the fine particles may be inorganic fine particles such as silicon oxide or organic fine particles such as acrylic resin.
  • a solvent containing a good solvent for the transparent resin can be used, and a poor solvent may be contained as long as the transparent resin does not precipitate.
  • the good solvent for the cellulose ester resin include organic halogen compounds such as methylene chloride.
  • the poor solvent for the cellulose ester resin include alcohols having 1 to 8 carbon atoms such as methanol.
  • the resin solution used here may contain other components (additives) other than the transparent resin, fine particles and solvent as long as the effects of the present invention are not impaired.
  • the additive include a plasticizer, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a heat stabilizer, a conductive substance, a flame retardant, a lubricant, and a matting agent.
  • a cellulose ester resin solution can be obtained by mixing the above-mentioned compositions.
  • the obtained cellulose ester resin solution is preferably filtered using a suitable filter medium such as filter paper.
  • the resin film is a retardation film used as an optical compensation film for a liquid crystal display device as described above
  • the resin solution used in the solution casting film forming method is obtained by stretching or the like.
  • the resin solution is not particularly limited as long as it can be obtained.
  • melt casting method Moreover, as another specific example of the said resin film manufacturing process, the method etc. which manufacture a resin film by the following melt casting film forming methods etc. are mentioned, for example.
  • a method for producing a resin film by a melt casting film forming method includes a casting step of casting a resin melt obtained by melting a transparent resin on a traveling support to form a casting film, and the casting A cooling step of cooling the film to form a film; a peeling step of peeling the film from the support; and a stretching step of stretching the film by transporting the peeled film with a plurality of transport rollers. Methods and the like.
  • the method for producing the resin film includes an embossed portion forming step for forming an embossed portion on the film between the peeling step and the stretching step, after the stretching step, or the like. For example, it is performed by a resin film manufacturing apparatus as shown in FIG.
  • the resin film manufacturing apparatus is not particularly limited to the one shown in FIG.
  • film refers to a film after a cast film (web) made of a dope cast on a support is cooled on the support and can be peeled off from the support.
  • FIG. 7 is a schematic diagram showing a basic configuration of a resin film manufacturing apparatus using a melt casting film forming method.
  • the resin film manufacturing apparatus 21 includes a first cooling roller 22, a casting die 23, a surface correction touch roller 24, a second cooling roller 25, a third cooling roller 26, a peeling roller 27, a conveying roller 29, a stretching apparatus 30, an embossing A part forming device 31 and a winding device 10 are provided.
  • the casting die 23 casts a resin melt (dope) obtained by melting a transparent resin onto the surface of the first cooling roller 22.
  • the first cooling roller 22 forms a casting film made of dope cast from the casting die 23, cools the casting film while transporting it, and transports the casting film to the second cooling roller 25.
  • the thickness of the cast film is adjusted and the surface is smoothed by the surface correction touch roller 24 provided to circumscribe the first cooling roller 22.
  • the second cooling roller 25 cools the cast film while transporting the cast film, and transports the cast film to the third cooling roller 26. By so doing, the cast film is used as a film.
  • the peeling roller 27 peels the film from the third cooling roller 26.
  • the transport roller 29 extends in the MD direction while transporting the peeled film.
  • the stretching device 30 stretches the film in the TD direction.
  • the embossed part forming device 31 forms an embossed part at the end of the stretched film.
  • the winding device 10 winds the cooled and solidified film to form a film roll.
  • the casting die 23 has the same configuration as the casting die 13 except that a resin melt is discharged as a dope instead of the resin solution.
  • the first cooling roller 22, the second cooling roller 25, and the third cooling roller 26 are metal rollers having a mirror surface.
  • a roller made of stainless steel or the like is preferably used from the viewpoint of peelability of a cast film or a film.
  • the surface correction touch roller 24 has an elastic surface, and is deformed along the surface of the first cooling roller 22 by the pressing force to the first cooling roller 22, and between the first cooling roller 22 and the surface correction touch roller 24. A nip is formed.
  • any touch roller conventionally used in the melt casting film forming method can be used without any particular limitation. Specifically, the thing made from stainless steel is mentioned, for example.
  • the peeling roller 27 is in contact with the third cooling roller 26, and the film is peeled by pressurization.
  • the transport roller 29 is composed of a plurality of transport rollers, and can be stretched in the MD direction of the film by setting a different rotational speed for each transport roller.
  • the stretching device 30 and the embossed part forming device 31 can be the same as the stretching device 15 and the embossed part forming device 18.
  • the winding device 10 may be a winding device that can perform the vibration winding step as in the case of the solution casting film forming method.
  • the transparent resin used in the melt casting film forming method can be the same as the transparent resin in the solution casting film forming method as long as it can be heated and melted. Also, other compositions can be used as in the case of the solution casting film forming method.
  • a resin film it is preferable that it is an optical film provided with a base film and the functional layer which exists on the said base film as mentioned above.
  • the base film include a resin film obtained without forming an embossed part by the solution casting film forming method or the melt casting film forming method as described above.
  • a functional layer will not be specifically limited if it is used as a functional layer of an optical film. Specifically, it will be described later.
  • Examples of a method for producing an optical film having such a functional layer include, for example, a coating process in which a liquid resin composition is applied to at least one surface of a base film, and a function in which the resin composition is cured or dried. And a method including a layer forming step of forming a layer. Furthermore, this optical film manufacturing method includes an embossed portion forming step of forming an embossed portion on the film after the layer forming step. For example, it is performed by an optical film manufacturing apparatus as shown in FIG. In addition, as an optical film manufacturing apparatus, it is not limited to what is shown in FIG. 8, The thing of another structure may be sufficient.
  • FIG. 8 is a schematic diagram showing a basic configuration of an optical film manufacturing apparatus.
  • the optical film manufacturing apparatus 41 includes an unwinding apparatus 42, a coating apparatus 43, a drying apparatus 44, a curing apparatus 45, an embossed part forming apparatus 46, a winding apparatus 10, and the like.
  • the unwinding device 42 supplies the base film to the coating device 43 and the like.
  • the unwinding device 42 includes, for example, an unwinding roller wound so as to be able to unwind a base film, and supplies the base film to the coating device 43 and the like by rotating the unwinding roller. is there.
  • the coating device 43 applies a liquid resin composition onto the surface of the base film supplied from the unwinding device 42.
  • the coating device 43 can use a general coating device without limitation. For example, an extrusion method, a dip coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, a roller coating method, a rod coating method, a gravure coating method, and an inkjet method. And the like.
  • a plurality of layers are applied and formed on a base film, multiple layers may be simultaneously applied with a single application device, such as an extrusion die having a multi-manifold, or a single layer may be applied.
  • a plurality of apparatuses may be arranged side by side and applied sequentially.
  • the step of applying the liquid resin composition by the applying device 43 corresponds to the applying step.
  • the drying device 44 dries the liquid resin composition applied on the base film.
  • the drying device 44 may employ, for example, a convection drying method using hot air, a radiant drying method using radiant heat such as infrared rays, or the like. Note that the drying device 44 may not be completely dried.
  • the curing device 45 cures the liquid resin composition applied on the base film.
  • the curing device 45 differs depending on whether the liquid resin composition contains an active ray curable resin such as an ultraviolet curable resin or an electron beam curable resin or a thermosetting resin.
  • an actinic radiation irradiation apparatus such as an ultraviolet irradiation apparatus can be used.
  • a thermosetting resin a heat treatment apparatus is mentioned.
  • the embossed part forming apparatus 46 may be the same as the embossed part forming apparatus 18.
  • the surface on which the embossed portion is formed may be the side on which the resin composition is applied, or the side on which the embossed portion is not applied. Moreover, both sides may be sufficient.
  • the winding device 10 may be a winding device that can perform the vibration winding step as in the case of the solution casting film forming method or the melt casting film forming method.
  • the winding device 10 may not include a touch roller, and here, a winding device that does not include a touch roller is used.
  • the functional layer is not particularly limited as long as it is used as the functional layer of the optical film as described above. Specifically, first, the following hard coat layers and the like can be mentioned.
  • the hard coat layer one containing an actinic radiation curable resin is preferably used in that it has excellent mechanical film strength such as scratch resistance and pencil hardness. That is, examples of the hard coat layer include a layer mainly composed of an actinic radiation curable resin that has been cured through a crosslinking reaction by irradiation with actinic rays (also referred to as actinic energy rays) such as ultraviolet rays and electron beams.
  • actinic energy rays also referred to as actinic energy rays
  • the actinic radiation curable resin is preferably a resin obtained using a component containing a monomer having an ethylenically unsaturated double bond. That is, when the hard coat layer is a layer containing the active ray curable resin as a main component, a component containing a monomer having an ethylenically unsaturated double bond is polymerized and cured by irradiation with the active ray. It is preferable that it is the obtained active ray curable resin layer.
  • an actinic radiation curable resin obtained by polymerizing and curing actinic radiation curable compounds such as an ultraviolet curable compound cured by ultraviolet irradiation and an electron beam curable compound cured by electron beam irradiation.
  • actinic radiation curable resin obtained by curing by ultraviolet irradiation is particularly preferable from the viewpoint of excellent mechanical film strength (abrasion resistance, pencil hardness).
  • the ultraviolet curable compound is not particularly limited as long as it can obtain an actinic radiation curable resin which is polymerized and cured by ultraviolet irradiation.
  • the ultraviolet curable compound includes an ultraviolet curable acrylate compound, an ultraviolet curable urethane acrylate compound, an ultraviolet curable polyester acrylate compound, an ultraviolet curable epoxy acrylate compound, and an ultraviolet curable polyol acrylate compound.
  • a compound or an ultraviolet curable epoxy compound is preferably used.
  • an ultraviolet curable acrylate compound or an ultraviolet curable urethane acrylate compound is preferable.
  • polyfunctional acrylate is preferable.
  • the polyfunctional acrylate is preferably selected from the group consisting of, for example, pentaerythritol polyfunctional acrylate, dipentaerythritol polyfunctional acrylate, pentaerythritol polyfunctional methacrylate, and dipentaerythritol polyfunctional methacrylate.
  • the polyfunctional acrylate is a compound having two or more acryloyloxy groups or methacryloyloxy groups in the molecule.
  • polyfunctional acrylates include ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolethane triacrylate, tetramethylol.
  • the active energy ray-curable isocyanurate derivative is not particularly limited as long as it is a compound having a structure in which one or more ethylenically unsaturated groups are bonded to the isocyanuric acid skeleton, but there are three or more in the same molecule.
  • Compounds having an ethylenically unsaturated group and one or more isocyanurate rings are preferred.
  • a compound represented by the following general formula (1) is preferably used.
  • it does not specifically limit as an ethylenically unsaturated group For example, an acryloyl group, a methacryloyl group, a styryl group, a vinyl ether group etc. are mentioned. Among these, a methacryloyl group or an acryloyl group is preferable, and an acryloyl group is particularly preferable.
  • L 2 is a divalent linking group.
  • L 2 include a substituted or unsubstituted alkyleneoxy group having 4 or less carbon atoms in which a carbon atom is bonded to an isocyanurate ring, or a polyalkyleneoxy group. Among these, the said alkyleneoxy group is preferable.
  • L 2 may be the same or different.
  • R 2 independently represents a hydrogen atom or a methyl group.
  • Examples of other compounds of the active energy ray-curable isocyanurate derivative include isocyanuric acid diacrylate compounds, and isocyanuric acid ethoxy-modified diacrylate is preferably used. Specific examples include compounds represented by the following general formula (2).
  • ⁇ -caprolactone-modified active energy ray-curable isocyanurate derivatives can also be mentioned.
  • Specific examples include compounds represented by the following general formula (3).
  • R 1 to R 3 each independently represents any of the functional groups represented by the following a, b and c. At least one of R 1 to R 3 represents a functional group represented by the following b.
  • Examples of commercially available isocyanuric acid triacrylate compounds include A-9300 manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.
  • Examples of commercially available isocyanuric acid diacrylate compounds include Aronix M-215 manufactured by Toagosei Co., Ltd.
  • Examples of commercially available mixtures of isocyanuric acid triacrylate compounds and isocyanuric acid diacrylate compounds include Aronix M-315 and Aronix M-313 manufactured by Toagosei Co., Ltd.
  • Examples of the ⁇ -caprolactone-modified active energy ray-curable isocyanurate derivatives include ⁇ -caprolactone-modified tris- (acryloxyethyl) isocyanurate.
  • Examples of the commercially available products include A-9300-1CL manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., Aronix M-327 manufactured by Toagosei Co., Ltd., and the like.
  • Examples of commercially available active energy ray-curable isocyanurate derivatives include, but are not limited to, those described above.
  • active energy ray-curable isocyanurate derivatives include Adekaoptomer N series, Sunrad H-601, RC-750, RC-700, RC-600, RC-500, RC-611, RC- 612 (manufactured by Sanyo Chemical Industries), Aronix M-6100, M-8030, M-8060, Aronix M-215, Aronix M-315, Aronix M-313, Aronix M-327 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) ), NK-ester A-TMM-3L, NK-ester AD-TMP, NK-ester ATM-35E, NK ester A-DOG, NK ester A-IBD-2E, A-9300, A-9300-1CL (new) Nakamura Chemical Co., Ltd.) and PE-3A (Kyoeisha Chemical) are also included.
  • Adekaoptomer N series Sunrad H-601, RC-750, RC-700,
  • the ultraviolet curable urethane acrylate compound for example, an ultraviolet curable compound which is a polyurethane compound obtained by reacting an alcohol, a polyol, and / or a hydroxyl group-containing compound such as a hydroxyl group-containing acrylate with isocyanates.
  • examples thereof include urethane acrylate resins.
  • the ultraviolet curable urethane acrylate resin may be an ultraviolet curable urethane acrylate resin obtained by esterifying the polyurethane compound with (meth) acrylic acid, if necessary. More specifically, an addition reaction product of polyisocyanate and an acrylate having one hydroxy group and one or more (meth) acryloyl groups in one molecule may be mentioned.
  • polyisocyanates examples include 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 1,3-xylylene diisocyanate, 4,4'-diphenyl diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, 4,4 ' -Aromatic isocyanates such as diphenylmethane diisocyanate;
  • polyisocyanates include, for example, compounds having two isocyanate groups bonded to alicyclic hydrocarbons such as dicyclohexylmethane diisocyanate, isophorone diisocyanate, norbornane diisocyanate, 1,4-cyclohexane diisocyanate (hereinafter referred to as “polyisocyanate”).
  • alicyclic diisocyanate compounds having two isocyanate groups bonded to aliphatic hydrocarbons such as trimethylene diisocyanate and hexamethylene diisocyanate (hereinafter abbreviated as aliphatic diisocyanate), phenylene diisocyanate, toluene diisocyanate, etc.
  • Aromatic diisocyanates such as aromatic diisocyanates and xylylene diisocyanates. These polyisocyanates can be used alone or in combination of two or more.
  • the polyisocyanate is preferably an aliphatic diisocyanate or an alicyclic diisocyanate among the compounds exemplified above, and is preferably isophorone diisocyanate, norbornane diisocyanate, toluene diisocyanate or hexamethylene diisocyanate.
  • Examples of acrylates having one hydroxy group and one or more (meth) acryloyl groups in one molecule include trimethylolpropane di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) And polyacrylates of polyvalent hydroxy group-containing compounds such as acrylates.
  • Other examples of the acrylate include an adduct of the polyacrylate and ⁇ -caprolactone, an adduct of the polyacrylate and alkylene oxide, and the like.
  • epoxy acrylates etc. are mentioned as another example of the said acrylate.
  • the acrylate having one hydroxy group and one or more (meth) acryloyl groups in one molecule can be used alone or in combination of two or more.
  • an acrylate having one hydroxy group and 3 to 5 (meth) acryloyl groups in one molecule is preferable.
  • examples of such acrylates include pentaerythritol triacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate.
  • UV curable urethane acrylate resin examples include purple light UV-1700B, UV-6300B, UV-7600B, UV-7630B, UV-7630B, and UV-7640B manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. Kyoeisha Chemical Co., Ltd. UA-306H, UA-306T, UA-306I, UA-510H, Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd. NK Oligo UA-1100H, NK Oligo UA-53H, NK Oligo UA-33H, NK oligo UA-15HA etc. are mentioned.
  • the viscosity of the actinic radiation curable resin can be measured using a B-type viscometer under the condition of 25 ° C. after stirring and mixing the resin with a disper.
  • a monofunctional acrylate may be used in addition to the polyfunctional acrylate.
  • Examples of monofunctional acrylates include isobornyl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, isostearyl acrylate, benzyl acrylate, ethyl carbitol acrylate, phenoxyethyl acrylate, lauryl acrylate, isooctyl acrylate, and tetrahydrofurfuryl acrylate. , Behenyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, cyclohexyl acrylate, and the like. Such monofunctional acrylates can be obtained from Nippon Kasei Kogyo Co., Ltd., Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., Osaka Organic Chemical Co., Ltd., etc.
  • monofunctional acrylate 80: 20 to 98: 2 in terms of the mass ratio of polyfunctional acrylate to monofunctional acrylate.
  • Photopolymerization initiator when producing the hard coat layer, in addition to the above-mentioned polyfunctional acrylate which is a raw material of the actinic radiation curable resin which can be the main component of the hard coat layer, it contains a photopolymerization initiator for accelerating the curing of this raw material. It is preferable to use a resin composition.
  • the photopolymerization initiator is not particularly limited. Specific examples of the photopolymerization initiator include alkylphenone series, acetophenone, benzophenone, hydroxybenzophenone, Michler's ketone, ⁇ -amyloxime ester, thioxanthone, and derivatives thereof.
  • photopolymerization initiators Commercially available products may be used as such photopolymerization initiators, and preferred examples include Irgacure 184, Irgacure 907, Irgacure 651 and the like manufactured by BASF Japan.
  • the hard coat layer may contain a conductive agent in order to impart antistatic properties. That is, the resin composition used for forming the hard coat layer (hard coat layer forming resin composition) may contain a conductive material.
  • Preferred conductive agents include metal oxide particles or ⁇ -conjugated conductive polymers.
  • An ionic liquid is also preferably used as the conductive compound.
  • the hard coat layer may contain an additive such as a silicone surfactant, a fluorine surfactant, an anionic surfactant, and a fluorine-siloxane graft compound, a fluorine compound, and an acrylic copolymer. That is, the resin composition used for forming the hard coat layer may contain the additive. Further, as an additive, a compound having an HLB value in the range of 3 to 18 may be contained. Water repellency can be controlled by adjusting the type and amount of these additives.
  • the HLB value is a hydrophilic-lipophilic-balance (hydrophile-lipophile-balance). That is, the HLB value is a value indicating the hydrophilicity or lipophilicity of the compound. The smaller the HLB value, the higher the lipophilicity, and the higher the value, the higher the hydrophilicity.
  • the HLB value can be obtained by the following calculation formula.
  • HLB 7 + 11.7Log (Mw / Mo)
  • Mw represents the molecular weight of the hydrophilic group
  • Mo represents the molecular weight of the lipophilic group
  • Mw + Mo M (molecular weight of the compound).
  • Specific examples of the compound having an HLB value in the range of 3 to 18 include the following compounds, but are not particularly limited thereto.
  • () shows an HLB value.
  • Examples of compounds having an HLB value in the range of 3 to 18 include Kao Corporation: Emulgen 102KG (6.3), Emulgen 103 (8.1), Emulgen 104P (9.6), Emulgen 105 (9.7) , Emulgen 106 (10.5), Emulgen 108 (12.1), Emulgen 109P (13.6), Emulgen 120 (15.3), Emulgen 123P (16.9), Emulgen 147 (16.3), Emulgen 210P (10.7), Emulgen 220 (14.2), Emulgen 306P (9.4), Emulgen 320P (13.9), Emulgen 404 (8.8), Emulgen 408 (10.0), Emulgen 409PV ( 12.0), Emulgen 420 (13.6), Emulgen 430 (16.2), Emulgen 705 (10.5) Emulgen 707 (12.1), Emulgen 709 (13.3), Emulgen 1108 (13.5), Emulgen 1118S-70 (16.4), Emulgen 1135S-70 (17.9), Emulgen 2020G
  • examples of the silicone-based surfactant include polyether-modified silicone, and more specifically, the KF series manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. and the like.
  • examples of the acrylic copolymer include commercially available compounds such as BYK-350 and BYK-352 manufactured by BYK Japan.
  • examples of the fluorosurfactant include Megafac RS series and Megafac F-444 Megafac F-556 manufactured by DIC Corporation.
  • fluorine-siloxane graft compound examples include a compound of a copolymer obtained by grafting a polysiloxane containing siloxane and / or organosiloxane alone and / or an organopolysiloxane to a fluorine resin.
  • examples of the commercially available products include ZX-022H, ZX-007C, ZX-049, ZX-047-D and the like manufactured by Fuji Chemical Industry Co., Ltd.
  • OPTOOL DSX, OPTOOL DAC, etc. can be mentioned. These components are preferably added in the range of 0.005 parts by mass or more and 5 parts by mass or less with respect to the solid component in the hard coat composition.
  • the hard coat layer may contain an ultraviolet absorber. That is, the resin composition used for forming the hard coat layer may contain an ultraviolet absorber.
  • the composition of the film in the case of containing an ultraviolet absorber is composed of two or more layers and the substrate film is a cellulose ester film, it is preferable that the hard coat layer in contact with the cellulose ester film contains an ultraviolet absorber.
  • the content of the ultraviolet absorber is preferably in the range of 0.01: 100 to 10: 100 in terms of mass ratio.
  • the thickness of the hard coat layer in contact with the cellulose ester film is preferably in the range of 0.05 to 2 ⁇ m.
  • Two or more layers may be formed as a simultaneous multilayer.
  • the simultaneous multi-layering is to form a hard coat layer by applying two or more hard coat layers on a base material without going through a drying step.
  • the layers are stacked one after another with an extrusion coater or simultaneously with a slot die having a plurality of slits. Can be done.
  • the hard coat layer may be a resin composition for forming a hard coat layer by diluting the components forming the hard coat layer with a solvent that swells or partially dissolves the cellulose ester film that is the base film.
  • the resin composition for forming a hard coat layer contains a good solvent for a cellulose ester film that is a base film.
  • ketones methyl ethyl ketone, acetone, etc.
  • acetate esters methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, etc.
  • alcohols ethanol, methanol
  • propylene glycol monomethyl ether cyclohexanone, methyl isobutyl ketone, etc.
  • the coating amount of the hard coat layer-forming resin composition is suitably in the range of 0.1 to 40 ⁇ m, preferably in the range of 0.5 to 30 ⁇ m, as the wet film thickness.
  • the dry film thickness is in the range of an average film thickness of 0.01 to 20 ⁇ m, preferably in the range of 0.5 to 10 ⁇ m. More preferably, it is in the range of 0.5 to 5 ⁇ m.
  • a method for applying the resin composition for forming a hard coat layer known methods such as a gravure coater, a dip coater, a reverse coater, a wire bar coater, a die coater, and an ink jet method can be used.
  • the formation method of a hard-coat layer is obtained by hardening the above resin compositions for hard-coat layer formation on a base film. Specifically, a hard coat layer is formed by applying a resin composition for forming a hard coat layer on a base film, then drying the applied layer and irradiating and curing with an active ray. More specifically, a method of forming using an optical film manufacturing apparatus as shown in FIG. Moreover, as a method of curing by irradiating active rays, for example, a UV curing treatment and the like can be mentioned. Moreover, you may heat-process as needed after the hardening process which irradiated the active rays, such as UV hardening process.
  • the heat treatment temperature after the UV curing treatment or the like is preferably 80 ° C. or higher, more preferably 100 ° C. or higher, and further preferably 120 ° C. or higher.
  • the drying is performed by a high temperature treatment in which the temperature of the decreasing rate drying section is 90 ° C. or higher. More preferably, the temperature in the decreasing rate drying section is 90 ° C. or higher and 125 ° C. or lower.
  • the drying process changes from a constant state to a gradually decreasing state when drying starts.
  • the decreasing section is called the decreasing rate drying section.
  • the constant rate drying section the amount of heat flowing in is all consumed for solvent evaporation on the coating film surface, and when the solvent on the coating film surface decreases, the evaporation surface moves from the surface to the inside and enters the decreasing rate drying section. Thereafter, the temperature of the coating film surface rises and approaches the hot air temperature, so that the temperature of the actinic radiation curable resin composition rises, the resin viscosity decreases, and the fluidity increases.
  • any light source that generates ultraviolet rays can be used without limitation.
  • a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used.
  • Irradiation conditions vary depending on each lamp, but the irradiation amount of active rays is usually in the range of 50 to 1000 mJ / cm 2 , preferably in the range of 50 to 300 mJ / cm 2 .
  • oxygen removal for example, replacement with an inert gas such as nitrogen purge
  • the cured state of the surface can be controlled by adjusting the removal amount of the oxygen concentration.
  • irradiating actinic radiation it is preferably performed while applying tension in the film transport direction, and more preferably while applying tension in the width direction.
  • the tension to be applied is preferably 30 to 300 N / m.
  • the method for applying the tension is not particularly limited, and the tension may be applied in the transport direction on the back roller, or the tension may be applied in the width direction or the biaxial direction by a tenter. Thereby, a film having further excellent flatness can be obtained.
  • the hard coat film has a pencil hardness, which is an index of hardness, of HB or more, more preferably H or more. If it is more than HB, it will be hard to be damaged in the process of manufacturing a polarizing plate using this hard coat film.
  • the pencil hardness is determined by conditioning the prepared optical film at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 55% for 2 hours or more, and then using a test pencil specified by JIS S6006 under a load of 500 g, It is the value which measured the functional layer in accordance with the pencil hardness evaluation method prescribed
  • the functional layer may be a layer other than the hard coat layer. Moreover, you may provide another layer on a hard-coat layer. Specifically, the following layers may be provided.
  • the hard coat film can be used as an antireflection film having an antireflection function for external light by coating an antireflection layer on the hard coat layer.
  • the antireflection layer is preferably laminated in consideration of the refractive index, the film thickness, the number of layers, the layer order, and the like so that the reflectance is reduced by optical interference.
  • the antireflection layer is composed of a low refractive index layer having a lower refractive index than the protective film as the support, or a combination of a high refractive index layer and a low refractive index layer having a higher refractive index than the protective film as the support.
  • it is.
  • it is an antireflection layer composed of three or more refractive index layers, and three layers having different refractive indexes from the support side are divided into medium refractive index layers (high refractive index layers having a higher refractive index than the support).
  • an antireflection layer having a layer structure of four or more layers in which two or more high refractive index layers and two or more low refractive index layers are alternately laminated is also preferably used.
  • the layer structure the following structure is conceivable, but is not limited thereto.
  • Cellulose ester film (base film) / hard coat layer / low refractive index layer Cellulose ester film / hard coat layer / high refractive index layer / low refractive index layer Cellulose ester film / hard coat layer / medium refractive index layer / high refractive index Layer / low refractive index layer hard coat layer / cellulose ester film / hard coat layer / low refractive index layer hard coat layer / cellulose ester film / hard coat layer / high refractive index layer / low refractive index layer hard coat layer / cellulose ester film / Hard coat layer / Medium refractive index layer / High refractive index layer / Low refractive index layer Low refractive index layer / Hard coat layer / Cellulose ester film / Hard coat layer / Low refractive index layer
  • the low refractive index layer preferably contains silica-based fine particles, and the refractive index is preferably in the range of 1.30 to 1.45 when measured at 23 ° C. and wavelength of 550 nm.
  • the film thickness of the low refractive index layer is preferably in the range of 5 nm to 0.5 ⁇ m, more preferably in the range of 10 nm to 0.3 ⁇ m, and in the range of 30 nm to 0.2 ⁇ m. Most preferred.
  • the composition for forming a low refractive index layer preferably contains at least one kind of particles having an outer shell layer and porous or hollow inside as silica-based fine particles.
  • the particles having the outer shell layer and porous or hollow inside are preferably hollow silica-based fine particles.
  • composition for forming a low refractive index layer may contain an organosilicon compound represented by the following general formula (OSi-1) or a hydrolyzate thereof, or a polycondensate thereof.
  • OSi-1 organosilicon compound represented by the following general formula (OSi-1) or a hydrolyzate thereof, or a polycondensate thereof.
  • R represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Specifically, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane and the like are preferably used.
  • a solvent and if necessary, a silane coupling agent, a curing agent, a surfactant and the like may be added. Further, it may contain a thermosetting and / or photocurable compound mainly containing a fluorine-containing compound containing a fluorine atom in a range of 35 to 80% by mass and containing a crosslinkable or polymerizable functional group. Specifically, a fluorine-containing polymer or a fluorine-containing sol-gel compound is used.
  • fluorine-containing polymer examples include hydrolysates and dehydration condensates of perfluoroalkyl group-containing silane compounds [eg (heptadecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrodecyl) triethoxysilane], and fluorine-containing monomers. Examples thereof include fluorine-containing copolymers having units and cross-linking reactive units as constituent units.
  • the refractive index of the high refractive index layer is preferably adjusted to a range of 1.4 to 2.2 by measuring at 23 ° C. and a wavelength of 550 nm.
  • the thickness of the high refractive index layer is preferably 5 nm to 1 ⁇ m, more preferably 10 nm to 0.2 ⁇ m, and most preferably 30 nm to 0.1 ⁇ m.
  • the means for adjusting the refractive index can be achieved by adding metal oxide fine particles and the like.
  • the metal oxide fine particles used preferably have a refractive index of 1.80 to 2.60, more preferably 1.85 to 2.50.
  • the kind of metal oxide fine particles is not particularly limited, and Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, Fe, Mn, Pb, Cd, As, Cr, Hg, Zn, Al, Mg, Si, P and S A metal oxide having at least one element selected from can be used.
  • a conductive layer may be formed on the hard coat layer.
  • a generally well-known conductive material can be used.
  • metal oxides such as indium oxide, tin oxide, indium tin oxide, gold, silver, and palladium can be used. These can be formed as a thin film on the hard coat film by vacuum deposition, sputtering, ion plating, solution coating, or the like.
  • organic conductive material which is the above-described ⁇ -conjugated conductive polymer.
  • a conductive material that is excellent in transparency and conductivity, and that has a main component of any one of indium oxide, tin oxide, and indium tin oxide obtained at a relatively low cost can be suitably used.
  • the thickness of the conductive layer varies depending on the material to be applied, it cannot be said unconditionally.
  • the surface resistivity is 1000 ⁇ or less, preferably 500 ⁇ or less, and considering the economy, A range of 10 nm or more, preferably 20 nm or more and 80 nm or less, preferably 70 nm or less is suitable. In such a thin film, visible light interference fringes due to uneven thickness of the conductive layer are unlikely to occur.
  • One aspect of the present invention includes a step of producing a long resin film having an embossed portion along the longitudinal direction at both ends in the width direction, and a winding step of winding the resin film into a roll around a core.
  • the winding step has an x-axis as the integrated thickness of the resin film being wound at the position of the resin film that starts to be wound around the core, and a center position in the width direction of the resin film,
  • a sinusoidal vibration whose area surrounded by the function f (x) with the distance from the center position in the width direction of the winding core as the y-axis and the x-axis has the same amplitude and period as the f (x) Is larger than the area surrounded by the function a (x) and the x axis, and smaller than the area surrounded by the function b (x) of the rectangular wave vibration having the same amplitude and period as the f (x) and the x axis. So that at least one of the resin film and the core While periodically
  • the side shape of the obtained optical film roll becomes wavy due to the vibration.
  • the sharpness of the top of the convex portion of the wave shape becomes gentler when the side surface shape is the case of the vibration at f (x) than the case of the sinusoidal vibration. Therefore, the occurrence of damage to the side surface shape of the optical film roll can also be suppressed.
  • the integrated thickness of the resin film being wound is large at the position of the resin film where the amplitude of the vibration in the vibration winding step starts to be wound on the core. As it becomes, it is preferable to gradually increase.
  • an optical film roll in which the occurrence of deformation is further suppressed can be manufactured. This is considered to be due to the following. First, if the amplitude of vibration is large, the width of the resin film that is used by being drawn out from the optical film roll can be shortened, but the overlapping of the embossed portions can be further suppressed and the occurrence of deformation can be further suppressed. it is conceivable that. Then, as the resin film is wound around the core, the integrated thickness of the wound resin film increases and deformation is likely to occur. It is considered that the occurrence of deformation can be further suppressed by applying a vibration having a large amplitude that can further suppress the occurrence of deformation when the integrated thickness of the resin film is likely to occur.
  • the integrated thickness of the resin film being wound is large at a position of the resin film where the period of vibration in the vibration winding process starts to be wound around the core. As it becomes, it is preferable to gradually become smaller.
  • the occurrence of deformation can be further suppressed. This is considered to be due to the following. First, if the period of vibration is small, winding deviation is likely to occur, but the load on the resin film can be reduced. Then, as the resin film is wound around the core, the integrated thickness of the wound resin film increases and deformation is likely to occur. It is considered that the occurrence of deformation can be further suppressed by applying a vibration having a small period that can reduce the load on the resin film when the integrated thickness of the resin film is likely to generate such deformation. From these things, according to said structure, it is thought that generation
  • the winding step includes a distance between a center position in the width direction of the resin film and a center position in the width direction of the core after the vibration winding step. It is preferable to provide a step of winding the resin film around the core without changing the length.
  • the resin film When the optical film roll is manufactured, the resin film is wound up to the end by the vibration winding process, and when the resin film is started to be unwound from the obtained optical film roll, the resin film can be smoothly unwound by meandering of the resin film.
  • a resin film can be smoothly drawn out from the obtained optical film roll. That is, since the winding without vibration as described above is performed after the vibration winding process, it is possible to suppress the problem of unwinding that may occur immediately after the start of unwinding of the resin film. It is possible to suppress deformation of the optical film roll at the portion where the film is wound.
  • the resin film has a thickness of 10 to 35 ⁇ m.
  • the winding length of the optical film roll can be increased. Further, in the case of such a thinned resin film, as described above, the optical film roll is likely to be deformed, but the optical film roll is manufactured by the optical film roll manufacturing method according to one embodiment of the present invention. By doing so, an optical film roll in which the occurrence of deformation is sufficiently suppressed can be obtained.
  • the embossed part has a plurality of convex parts, and the convex part existing in the center in the width direction of the embossed part among the plurality of convex parts is the embossed part. It is preferable that it is lower than the convex part which exists in the width direction both ends of a part.
  • the occurrence of deformation can be further suppressed.
  • the overlap due to the convex portion existing in the center in the width direction of the embossed portion becomes thick. It is thought that this is because it can be suppressed.
  • the resin film is preferably an optical film used as a polarizing plate protective film.
  • the optical film used as the polarizing plate protective film is a resin film.
  • An optical film roll capable of sequentially feeding out and providing an optical film in which the occurrence of defects based on it is sufficiently suppressed is obtained.
  • the resin film is preferably a retardation film used as an optical compensation film for a liquid crystal display device.
  • an optical film roll is obtained.
  • An optical film roll capable of sequentially feeding out and providing a retardation film in which the occurrence of problems due to deformation of the film roll is sufficiently suppressed is obtained.
  • the resin film is preferably an optical film including a base film and a functional layer present on the base film.
  • the optical film when the optical film is manufactured by the optical film roll manufacturing method according to one aspect of the present invention using the optical film as a resin film, the occurrence of defects based on deformation of the optical film roll is sufficient.
  • an optical film roll capable of sequentially feeding and providing the optical film suppressed by the above is obtained.
  • the said optical film is equipped with a base film and a functional layer at least, the deformation
  • Example 1 an optical film that can be used as a polarizing plate protective film was used as the resin film. Specifically, the following cellulose triacetate film was used.
  • the optical film roll was manufactured using the manufacturing apparatus of the resin film by a solution casting film forming method as shown in FIG. First, the dope was cast from a casting die (coat hanger die) onto an endless belt support made of stainless steel. Then, the web was dried (the solvent in the web was evaporated) until the residual solvent amount of the web cast on the endless belt support reached 100 mass, and then the web was peeled off as a film from the endless belt support.
  • a casting die coat hanger die
  • the web was dried (the solvent in the web was evaporated) until the residual solvent amount of the web cast on the endless belt support reached 100 mass, and then the web was peeled off as a film from the endless belt support.
  • the peeled film was further dried at 35 ° C. and slit to a width of 1.15 m. Thereafter, the slit film was stretched 1.15 times in the width direction (TD direction) using a stretching device (tenter), and further dried at 140 ° C. Thereafter, the film was dried for 15 minutes while the film was transported by a number of rollers in a drying apparatus set to 120 ° C., and then slit to a width of 1.3 m. Then, knurling which forms an embossed part having a shape as shown in FIG. 5A and a width of 10 mm and a height of 5 ⁇ m was performed on both ends of the film with an embossing apparatus.
  • the resin film was manufactured so that the thickness of a film might be 25 micrometers. Further, the draw ratio in the MD direction calculated from the rotational speed of the endless belt support and the operating speed of the tenter was 1.01. Moreover, the resin film obtained here is also called TAC1.
  • an optical film roll was manufactured by winding the obtained resin film in a roll shape around a core using a winding device. Specifically, it was manufactured as follows. The knurled film was wound on a winding core at a speed of 80 m / min, a winding initial tension of 140 N, a winding end tension of 90 N, and the nip force of the touch roller was constant at 20 N, and the film was wound up 4000 m to produce an optical film roll. Further, when the resin film was wound around the core, vibration winding (oscillate winding) was performed in which the core was vibrated while vibrating. Further, the vibration was performed so that the vibration was a function f (x) represented by a curve 61 shown in FIG. By doing so, the optical film roll concerning Example 1 was obtained.
  • FIG. 9 is a graph for explaining vibrations in the vibration winding process in Examples and Comparative Examples.
  • Example 2 It is the same as that of Example 1 except having used the film (TAC3) manufactured so that thickness might be set to 40 micrometers instead of TAC1 used in Example 1 with the same composition as TAC1.
  • TAC3 film manufactured so that thickness might be set to 40 micrometers instead of TAC1 used in Example 1 with the same composition as TAC1.
  • Example 3 instead of TAC1 used in Example 1, it is the same as Example 1 except that a film (TAC2) having the same composition as TAC1 and having a thickness of 30 ⁇ m was used.
  • TAC2 a film having the same composition as TAC1 and having a thickness of 30 ⁇ m was used.
  • Example 4 a retardation film that can be used as an optical compensation film for a liquid crystal display device was used as the resin film. Specifically, the following cellulose acetate propionate film was used.
  • cellulose acetate propionate (acetyl group substitution degree 1.5, propionyl group substitution degree 1, acyl group substitution degree) was used as a transparent resin.
  • the resin component was dissolved by stirring under heating conditions. The resin solution obtained by doing so was used as Azumi Filter Paper No. Filtered using 244.
  • a reaction vessel was charged with 410 parts by weight of phthalic acid, 610 parts by weight of benzoic acid, 418 parts by weight of 1,3-propanediol, and 0.35 parts by weight of tetraisopropyl titanate as a catalyst. Then, while stirring in a nitrogen stream, attach a reflux condenser to reflux excess monohydric alcohol, and continue heating at 130-250 ° C until the acid value becomes 2 or less, and continuously remove the water produced. did. Next, the distillate was removed at 200 to 230 ° C. under reduced pressure of 400 Pa or less, and then filtered. By doing so, an aromatic terminal ester having the following properties was obtained.
  • Viscosity 25 ° C., mPa ⁇ s); 37000 Acid value: 0.05
  • the optical film roll was manufactured using the manufacturing apparatus of the resin film by a solution casting film forming method as shown in FIG. First, the dope having a temperature adjusted to 35 ° C. was cast from a casting die (coat hanger die) to an endless belt support having a length of 100 m so that the casting width was 1650 mm.
  • a casting die coat hanger die
  • an endless belt support made of a stainless steel endless belt having a width of 1800 mm whose surface was polished to a mirror surface was used.
  • the film is removed from the endless belt support with a peeling tension of 100 N / m using a peeling roller. As peeled off. At the time of peeling, 10 ° C. cold air was blown onto the web. Moreover, the conveyance tension
  • tensile_strength to a uniaxial stretching apparatus was 200 N / m.
  • the peeled film was stretched 30% in the width direction (TD direction) using a uniaxial stretching apparatus using a clip tenter.
  • heating air was sprayed on the film at the time of extending
  • the film was dried while transporting the film with a large number of rollers in the drying apparatus.
  • the temperature of the heating air in a drying apparatus was adjusted so that the residual solvent amount of the film after drying might be 0.01 mass%.
  • knurling which forms an embossed part having a shape as shown in FIG. 5A and a width of 10 mm and a height of 5 ⁇ m was performed on both ends of the film with an embossing apparatus.
  • the resin film was manufactured so that the thickness of a film might be set to 30 micrometers.
  • the resin film obtained here is a phase difference film, and is called CAP here.
  • an optical film roll was manufactured by winding the obtained resin film in a roll shape around a core using a winding device. Specifically, it was manufactured as follows. The knurled film was wound on a winding core at a speed of 80 m / min, a winding initial tension of 165 N, a winding end tension of 105 N, and the nip force of the touch roller was constant at 24 N, and the film was wound up 4000 m to produce an optical film roll. Further, when the resin film was wound around the core, vibration winding (oscillate winding) was performed in which the core was vibrated while vibrating. Further, the vibration was performed so that the vibration was a function f (x) represented by a curve 61 shown in FIG. By doing so, the optical film roll which concerns on Example 4 was obtained.
  • vibration winding oscill winding
  • Example 5 an optical film including a base film and a functional layer present on the base film was used as the resin film. Specifically, a hard coat film provided with a hard coat layer as a functional layer as described below was used.
  • Base film As a base film, the cellulose triacetate film in Example 1 was used. That is, the resin film before knurling in Example 1 was used.
  • the resin composition for forming a hard coat layer was applied to the surface of the base film that was not in contact with the endless belt support (A surface) during production using an extrusion coater.
  • the film on which the resin composition for forming a hard coat layer was applied on the surface was dried by being conveyed into a drying apparatus having an apparatus internal temperature of 50 ° C. Thereafter, while purging with nitrogen so that the atmosphere had an oxygen concentration of 1% by volume or less, the application side of the dried film was irradiated with ultraviolet rays using an ultraviolet lamp.
  • HC-TAC hard coat film
  • an optical film roll was manufactured by winding the obtained film in a roll shape around a core using a winding device. Specifically, it was manufactured as follows. The film subjected to the knurling process was wound on a winding core at a speed of 30 m / min, a winding initial tension of 250 N and a winding end tension of 150 N, and wound up to 4000 m to prepare an optical film roll. Here, no touch roller was used. Further, when the resin film was wound around the core, vibration winding (oscillate winding) was performed in which the core was vibrated while vibrating. Further, the vibration was performed so that the vibration was a function f (x) represented by a curve 61 shown in FIG. By doing so, the optical film roll which concerns on Example 5 was obtained.
  • vibration winding oscill winding
  • Example 6 Example 1 except that when the resin film is wound around the core, the amplitude of vibration in the oscillating winding gradually increases as the integrated thickness of the resin film wound around the core increases. It is the same. Specifically, the amplitude of vibration was 5 mm at the beginning of winding and gradually increased, and the amplitude of vibration was 7 mm at the end of winding.
  • Example 7 Example 1 except that when the resin film is wound around the winding core, the period of vibration in the oscillating winding gradually decreases as the integrated thickness of the resin film wound around the winding core increases. It is the same. Specifically, at the beginning of winding, the vibration period was 160 mm and gradually decreased, and at the end of winding, the vibration period was set to 100 mm.
  • Example 8 instead of TAC1 used in Example 1, it was the same as Example 1 except that a film (TAC4) in which an embossed part having a shape as shown in FIG. is there.
  • TAC4 a film in which an embossed part having a shape as shown in FIG. is there.
  • Example 1 When winding the resin film around the core, it is the same as in Example 1 except that the center distance between the resin film and the core is not changed. That is, it is the same as in Example 1 except that the resin film is wound around the core without changing the distance between the center position in the width direction of the resin film and the center position in the width direction of the core.
  • Example 1 is the same as Example 1 except that the vibration at the time of oscillating winding is such that the vibration becomes the function a (x) represented by the curve 62 shown in FIG. That is, the first embodiment is different from the first embodiment except that the vibration at the time of oscillating winding is a vibration that is a function of a sinusoidal vibration a (x) having the same amplitude and period as f (x). It is the same.
  • Example 6 When winding the resin film around the core, it is the same as in Example 1 except that the center distance between the resin film and the core is not changed. That is, it is the same as Example 4 except that the resin film is wound around the core without changing the distance between the center position in the width direction of the resin film and the center position in the width direction of the core.
  • Example 1 is the same as Example 1 except that the vibration at the time of oscillating winding is such that the vibration becomes the function a (x) represented by the curve 62 shown in FIG. That is, the fourth embodiment is different from the fourth embodiment except that the vibration at the time of oscillating winding is such that the vibration is a function of sinusoidal vibration a (x) having the same amplitude and period as f (x). It is the same.
  • Example 8 When winding the resin film around the core, it is the same as in Example 1 except that the center distance between the resin film and the core is not changed. That is, it is the same as Example 5 except that the resin film is wound around the core without changing the distance between the center position in the width direction of the resin film and the center position in the width direction of the core.
  • Example 1 is the same as Example 1 except that the vibration at the time of oscillating winding is such that the vibration becomes the function a (x) represented by the curve 62 shown in FIG. That is, the fifth embodiment is different from the fifth embodiment except that the vibration at the time of oscillating winding is such that the vibration is a function of sinusoidal vibration a (x) having the same amplitude and period as f (x). It is the same.
  • each optical film roll obtained as described above was subjected to a durability test assuming long-term storage. Specifically, each optical film roll obtained as described above was stored for 10 days in a thermostatic bath at 50 ° C. and a relative humidity of 80% while being wrapped in an aluminum moisture-proof sheet. After storage for 10 days, the aluminum moisture-proof sheet was removed. And the external appearance of the optical film roll was evaluated. As a result, the area of the concave deformation such that the width direction center portion of the optical film roll is recessed downward, and as a result, the width deformation center portion of the optical film roll is recessed downward.
  • the area is 5% or less with respect to the entire surface of the film roll, it is evaluated as “ ⁇ ”, and if it exceeds 5% and 20% or less, it is evaluated as “ ⁇ ” and exceeds 20% and exceeds 50%. If it was less than%, it was evaluated as “ ⁇ ”, and if it was 50% or more, it was evaluated as “x”.
  • FIG. 10 is a schematic diagram illustrating an outline of a configuration of a polarizing plate provided in a liquid crystal display device used for evaluation in Examples and Comparative Examples.
  • Examples of the polarizing plate 101 include a polarizing plate including a hard coat film 102, a polarizing film 105, a retardation film 106, and an adhesive layer 107 for bonding to a liquid crystal layer in this order from the viewing side.
  • the hard coat film 102 is a film in which a hard coat layer 103 and a base film 104 are laminated.
  • the hard coat film 102 is bonded to the polarizing film 105 on the base film 104 side.
  • the polarizing plate 101 may be an optical film (polarizing plate protective film) that does not include the hard coat layer 103 instead of the hard coat film 102.
  • a polarizing plate protective film (KC4UY manufactured by Konica Minolta Co., Ltd.) is used for the hard coat film 102 in FIG.
  • the retardation film (KC4DR-1 manufactured by Konica Minolta Co., Ltd.) was used.
  • the film used from the film roll after performing the durability test of the said film roll was used for the film.
  • the obtained PVA film had an average thickness of 25 ⁇ m, a moisture content of 4.4%, and a film width of 3 m.
  • the obtained PVA film was continuously processed in the order of preliminary swelling, dyeing, uniaxial stretching by a wet method, fixing treatment, drying, and heat treatment to prepare a polarizing film. That is, the PVA film was immersed in water at a temperature of 30 ° C. for 30 seconds to be pre-swelled, and immersed in an aqueous solution having an iodine concentration of 0.4 g / liter and a potassium iodide concentration of 40 g / liter at a temperature of 35 ° C. for 3 minutes.
  • the film was uniaxially stretched 6 times in a 50% aqueous solution with a boric acid concentration of 4% under a tension of 700 N / m.
  • the potassium iodide concentration was 40 g / liter
  • the boric acid concentration was 40 g / liter.
  • it was immersed in an aqueous solution having a zinc chloride concentration of 10 g / liter and a temperature of 30 ° C. for 5 minutes for fixing.
  • the PVA film was taken out, dried with hot air at a temperature of 40 ° C., and further heat-treated at a temperature of 100 ° C. for 5 minutes. By doing so, a polarizing film was obtained.
  • the obtained polarizing film had an average thickness of 13 ⁇ m, a polarizing performance of a transmittance of 43.0%, a polarization degree of 99.5%, and a dichroic ratio of 40.1.
  • Step 1 The polarizing film described above was immersed in a storage tank of a polyvinyl alcohol adhesive solution having a solid content of 2% by mass for 1 to 2 seconds.
  • Step 2 The polarizing plate protective film or the hard coat film and the retardation film were subjected to alkali treatment under the following conditions.
  • the polarizing film was immersed in the polyvinyl alcohol adhesive solution. The excess adhesive adhering to the immersed polarizing film is lightly removed, and a polarizing plate protective film or hard coat film and a retardation film having a thickness of 40 ⁇ m are sandwiched between the polarizing films as shown in FIG. Arranged.
  • Step 3 The laminate was laminated with two rotating rollers at a pressure of 20-30 N / cm 2 at a speed of about 2 m / min. At this time, care was taken to prevent bubbles from entering.
  • Step 4 The sample produced in Step 3 was dried in a dryer at a temperature of 100 ° C. for 5 minutes.
  • the adhesive layer 107 was provided on the obtained laminate as follows.
  • Adhesive layer A commercially available acrylic pressure-sensitive adhesive was applied to the retardation film 106 of the polarizing plate so that the thickness after drying was 25 ⁇ m, and dried in an oven at 110 ° C. for 5 minutes to form an adhesive layer 107. Thereafter, a peelable protective film was attached to the adhesive layer 107.
  • Liquid crystal display device Of the two pairs of polarizing plates installed on the VA mode type liquid crystal display device (BRAVIA KDL-52W5 manufactured by SONY) with the liquid crystal layer sandwiched therebetween, the polarizing plate on one side on the viewer side is peeled off, and the polarizing plate 101 produced above is removed. The adhesive layer 107 and the liquid crystal layer (liquid crystal cell glass) were bonded so that the hard coat layer was on the viewing side.
  • a liquid crystal display device was manufactured by arranging the transmission axis of the polarizing plate on the observer side and the transmission axis of the polarizing plate on the backlight side to be orthogonal to each other.
  • the obtained liquid crystal display device was placed on a desk having a height of 80 cm from the floor.
  • Two sets of daylight direct fluorescent lamps (FLR40S • D / MX, Panasonic Corporation, 40W) were set on a ceiling portion 3 m from the floor, and 10 sets were arranged at 1.5 m intervals.
  • the liquid crystal display device and the fluorescent lamp are arranged so that the fluorescent lamp comes to the ceiling from behind the evaluator's head toward the rear. Then, the following criteria were used to evaluate the shape of the fluorescent lamp reflected in the image forming unit of the liquid crystal display device.

Landscapes

  • Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
  • Moulding By Coating Moulds (AREA)
  • Winding Of Webs (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)

Abstract

　本発明の一局面は、幅手方向両端部に長手方向に沿ってエンボス部を有する長尺状の樹脂フィルムを製造する工程と、樹脂フィルムを巻芯にロール状に巻き取る巻取工程とを備え、巻取工程は、巻き取られている樹脂フィルムの積算の厚みをｘ軸とし、樹脂フィルムと巻芯との幅手方向における中心間距離をｙ軸としたｆ（ｘ）とｘ軸とで囲まれる面積が、ｆ（ｘ）と振幅・周期が同一の正弦波振動のａ（ｘ）とｘ軸とで囲まれる面積より大きく、ｆ（ｘ）と振幅・周期が同一の矩形波振動のｂ（ｘ）とｘ軸とで囲まれる面積より小さくなるように、樹脂フィルム及び巻芯の少なくとも一方を、樹脂フィルムの幅手方向に周期的に振動させながら、樹脂フィルムを巻芯に巻き取る振動巻取工程を備える光学フィルムロールの製造方法である。

Description

光学フィルムロールの製造方法
　本発明は、光学フィルムロールの製造方法に関する。
　樹脂フィルムは、その化学的特性、機械的特性及び電気的特性等に鑑み、様々な分野、例えば、液晶表示装置等に用いられている。具体的には、液晶表示装置の画像表示領域には、種々の樹脂フィルム、例えば、偏光板の偏光素子を保護するための透明保護フィルム等が配置されている。このような樹脂フィルムとしては、例えば、セルロースエステルフィルム等の透光性に優れた樹脂フィルムが用いられている。
　このような樹脂フィルムは、一般的に、溶液流延製膜法や溶融流延製膜法等により、長尺状の樹脂フィルムとして製造され、巻芯（巻取コア）にロール状に巻き取られた状態で、保存及び輸送に供されている。また、樹脂フィルムを使用する際には、樹脂フィルムが巻芯にロール状に巻き取られたフィルムロールから樹脂フィルムを順次繰り出して、樹脂フィルムを使用している。
　一方、樹脂フィルムは、広幅化が求められている。例えば、液晶表示装置等に用いられる樹脂フィルムの場合、液晶表示装置等の大画面化の要求に対応するために、樹脂フィルムの広幅化も求められている。また、樹脂フィルムを巻回したフィルムロールは、樹脂フィルムを使用する際に、フィルムロールの交換頻度を減らして、作業効率を向上させるために、巻芯に巻き取られた樹脂フィルムの長さ（巻長）が長い長尺化も求められている。
　このようなロール状に巻き取られた長尺状の樹脂フィルム（フィルムロール）は、巻き取られた樹脂フィルムの端面がずれたり、巻き取った状態の樹脂フィルムが変形する等の問題が発生することがあった。また、樹脂フィルムの広幅化や長尺化に伴い、このような問題の発生がより顕著となってきた。そこで、このようなロール状に巻き取られた長尺状の樹脂フィルム（フィルムロール）は、巻き取られた樹脂フィルムの端面のずれ（巻きずれ）や巻き取った状態の樹脂フィルムの変形（巻き変形）等の発生を抑制するために、ロール状に巻き取る前に、樹脂フィルムの幅手方向両端部に長手方向に沿ってエンボス部を形成させ、このエンボス部が形成された樹脂フィルムを巻き取ることが検討されている。
　エンボス部を有する樹脂フィルムを巻芯に巻き取って、フィルムロールを製造する方法としては、例えば、特許文献１に記載の方法が挙げられる。
　特許文献１には、フィルムの側縁が揃うように前記フィルムを巻芯に巻き取るストレート巻き工程と、前記ストレート巻き工程の後に、前記側縁が前記フィルムの幅手方向に対して一定範囲で周期的にずれるように、前記フィルムの幅手方向に前記フィルムまたは前記巻芯を周期的に振動させて前記フィルムを前記巻芯に巻き取るオシレート巻き工程とを有するフィルムの巻取方法が記載されている。また、特許文献１によれば、エンボス部が崩れるとともに、フィルムの両端部（耳部）が幅手方向に伸びてしまう耳伸びという現象や、巻きずれが生じないものが得られることが開示されている。
特開２０１０－１５００４１号公報
　本発明は、長期間保存しても、変形の発生が充分に抑制された光学フィルムロールの製造方法を提供することを目的とする。
　本発明の一局面は、幅手方向両端部に長手方向に沿ってエンボス部を有する長尺状の樹脂フィルムを製造する工程と、前記樹脂フィルムを巻芯にロール状に巻き取る巻取工程とを備え、前記巻取工程は、前記巻芯に巻き取られ始める樹脂フィルムの位置における、巻き取られている樹脂フィルムの積算の厚みをｘ軸とし、前記樹脂フィルムの幅手方向の中心位置と、前記巻芯の幅手方向の中心位置との距離をｙ軸とした関数ｆ（ｘ）と前記ｘ軸とで囲まれる面積が、前記ｆ（ｘ）と振幅及び周期が同一の正弦波振動の関数ａ（ｘ）と前記ｘ軸とで囲まれる面積より大きく、前記ｆ（ｘ）と振幅及び周期が同一の矩形波振動の関数ｂ（ｘ）と前記ｘ軸とで囲まれる面積より小さくなるように、前記樹脂フィルム及び前記巻芯の少なくとも一方を、前記樹脂フィルムの幅手方向に周期的に振動させながら、前記樹脂フィルムを前記巻芯に巻き取る振動巻取工程を備える光学フィルムロールの製造方法である。
　本発明の目的、特徴、局面、及び利点は、以下の詳細な記載と添付図面とによって、より明白となる。
図１は、本実施形態に係る光学フィルムロールの製造方法に用いられる巻取装置を示す概略図である。 図２は、本実施形態に係る光学フィルムロールの製造方法における振動巻取工程での振動を説明するためのグラフである。 図３は、光学フィルムロールの幅手方向における、積算エンボス高さを示す概略図である。 図４は、エンボス部を有する長尺状の樹脂フィルム、及び前記樹脂フィルムを巻芯にロール状に巻き取ったフィルムロールを示す概略図である。 図５は、エンボス部の形状を説明するための図面である。 図６は、溶液流延製膜法による樹脂フィルムの製造装置の基本的な構成を示す概略図である。 図７は、溶融流延製膜法による樹脂フィルムの製造装置の基本的な構成を示す概略図である。 図８は、光学フィルムの製造装置の基本的な構成を示す概略図である。 図９は、実施例及び比較例における振動巻取工程での振動を説明するためのグラフである。 図１０は、実施例及び比較例での評価に用いる液晶表示装置に備えられる偏光板の構成の概略を示す模式図である。
　樹脂フィルムは、広幅化や長尺化だけではなく、薄膜化も求められている。例えば、液晶表示装置等に用いられる樹脂フィルムの場合、液晶表示装置等の薄型化の要求に対応するために、樹脂フィルムの薄膜化も求められている。
　このような薄膜化された樹脂フィルムを、巻芯に巻き取って、フィルムロールにする際、その巻芯に巻き取る前に、樹脂フィルムの幅手方向両端部にエンボス部を形成したとしても、巻きずれや巻き変形等の発生を充分に抑制できない場合があった。具体的には、エンボス部を形成した後に巻芯に巻き取って得られたフィルムロールにおいて、エンボス部が形成された両端部での盛り上がりが顕著になり、巻きずれや巻き変形等の変形が発生しやすくなってしまう場合があった。
　本発明者の検討によれば、このことは、まず、樹脂フィルムが薄いほど、エンボス部の高さに対する、樹脂フィルムの厚みの比率が低くなることによるものであると推察した。また、樹脂フィルムが薄いほど、樹脂フィルムの腰が弱くなり、樹脂フィルムの自重を支えにくくなることによるものと推察した。すなわち、フィルムロールにおける樹脂フィルムの中央部が、直下に存在する樹脂フィルムに密着するように、垂れ下がってしまうことによるものと推察した。
　一方、特許文献１に記載の巻取方法のように、オシレート巻きをすれば、樹脂フィルムの幅手方向における同一位置でのエンボス部の重なり合いを低減させることができ、上記問題の発生を低減させることができると考えられる。
　しかしながら、特許文献１に記載の巻取方法であっても、上記問題の発生を充分に抑制できない場合があった。
　本発明者は、特許文献１に記載の巻取方法のような、オシレート巻きをした場合であっても、上記問題の発生を充分に抑制できない理由を、以下のように推察した。特許文献１に記載の巻取方法のような、オシレート巻きをした場合であっても、オシレート巻きの振動が、単に正弦波振動であれば、フィルムロールの幅手方向におけるエンボス部が存在する領域の中央部に、エンボス部が多く重なることになり、このことが原因で、変形等の問題の発生を充分に抑制できないと推察した。そこで、本発明者は、フィルムを巻き取る際の、樹脂フィルムと巻芯との相対位置を変動させる振動について、詳細に検討することにより、以下のような本発明に想到するに到った。
　以下、本発明に係る実施形態について説明するが、本発明は、これらに限定されるものではない。
　本発明の実施形態に係る光学フィルムロールの製造方法は、幅手方向両端部に長手方向に沿ってエンボス部を有する長尺状の樹脂フィルムを製造する樹脂フィルム製造工程と、前記樹脂フィルムを巻芯にロール状に巻き取る巻取工程とを備える。前記巻取工程は、前記巻芯に巻き取られ始める樹脂フィルムの位置における、巻き取られている樹脂フィルムの積算の厚みをｘ軸とし、前記樹脂フィルムの幅手方向の中心位置と、前記巻芯の幅手方向の中心位置との距離をｙ軸とした関数ｆ（ｘ）と前記ｘ軸とで囲まれる面積が、前記ｆ（ｘ）と振幅及び周期が同一の正弦波振動の関数ａ（ｘ）と前記ｘ軸とで囲まれる面積より大きく、前記ｆ（ｘ）と振幅及び周期が同一の矩形波振動の関数ｂ（ｘ）と前記ｘ軸とで囲まれる面積より小さくなるように、前記樹脂フィルム及び前記巻芯の少なくとも一方を、前記樹脂フィルムの幅手方向に周期的に振動させながら、前記樹脂フィルムを前記巻芯に巻き取る振動巻取工程を備える。
　上記のような振動巻取工程を備える巻取工程で、前記樹脂フィルム製造工程で製造された樹脂フィルムを、巻芯にロール状に巻き取ると、長期間保存しても、変形の発生が充分に抑制された光学フィルムロールを製造することができる。このことは、前記振動巻取工程における、樹脂フィルムと巻芯との相対的な位置を変化させる振動が、後述するように、樹脂フィルムを巻芯に巻き取ったフィルムロールの状態での、エンボス部の重なり合いを効果的に低減させる振動であることによると考えられる。
　また、得られた光学フィルムロールの側面形状が、前記振動によって波状になる。この側面形状が、正弦波振動の場合より、上記ｆ（ｘ）での振動による場合のほうが、波形状の凸部頂部の尖りが緩やかになる。よって、光学フィルムロールの側面形状の損傷の発生も抑制できる。
　前記樹脂フィルム製造工程は、幅手方向両端部に長手方向に沿ってエンボス部を有する長尺状の樹脂フィルムを製造する工程であれば、特に限定されない。具体的には、後述する。
　次に、前記巻取工程は、前記樹脂フィルムを巻芯にロール状に巻き取る工程であって、上記のような振動をさせる振動巻取工程を備えるものであればよい。また、巻取工程は、例えば、図１に示すような巻取装置１０によって行われる。なお、図１は、本実施形態に係る光学フィルムロールの製造方法に用いられる巻取装置１０を示す概略図である。また、図１（ａ）は、巻取装置１０の巻芯１の軸方向から見た側面図であり、図１（ｂ）は、樹脂フィルム２の上方から見た平面図である。
　前記巻取装置１０は、巻芯１、不図示の回転装置、案内ローラ３、振動制御装置４、及びタッチローラ６等を備えている。前記巻芯１は、樹脂フィルム２をその表面上に巻き取り、フィルムロールの軸材となるものである。前記回転装置は、巻芯１を回転させるための装置である。前記案内ローラ３は、走行してきた樹脂フィルム２に接する位置に配置され、樹脂フィルム２の走行によって従動回転する部材である。前記案内ローラ３によって、樹脂フィルム２の走行位置のぶれを低減させ、樹脂フィルム２を巻芯１へ円滑に供給できる。また、巻芯１に対する樹脂フィルム２の巻き取りは、図１に示すように、巻芯１の表面まで走行してきた樹脂フィルム２を、回転装置によって巻芯１を回転させることによって、巻芯１の表面上に順次巻き取っていくことによって行う。その巻き取りの際、前記振動巻取工程では、上記のような樹脂フィルムと巻芯との相対的な位置を変化させる振動を付与する。また、振動制御装置４は、後述するが、前記振動を制御する。また、前記タッチローラ６は、巻芯１の表面や巻芯１に巻き取られた樹脂フィルム２を押圧し、巻芯１の回転によって、従動回転する部材である。前記タッチローラ６によって、巻芯１に巻き取られた樹脂フィルム２が巻芯１から離間することを抑制できる。
　また、振動制御装置４は、前記巻芯１を振動させ、その振動が、前記振動になるように制御する。振動については、以下、図２を用いて説明する。図２は、本実施形態に係る光学フィルムロールの製造方法における振動巻取工程での振動を説明するためのグラフである。なお、本実施形態では、巻芯を振動しているが、樹脂フィルムと巻芯との相対的な位置が、上記のようになる振動であればよく、樹脂フィルムを振動させてもよく、また、樹脂フィルムと巻芯との両方を振動させてもよい。
　まず、図２に示すグラフにおけるｘ軸は、巻芯に巻き取られ始める樹脂フィルムの位置における、巻き取られている樹脂フィルムの積算の厚み［ｍｍ］を示す。すなわち、巻芯に巻き取られ始める樹脂フィルムの位置における、巻き取られている樹脂フィルムの最外面と、巻芯表面との距離を示し、図１に示す樹脂フィルムの積算の厚みｘに相当する。
　また、図２に示すグラフにおけるｙ軸は、樹脂フィルムの幅手方向の中心位置と、巻芯の幅手方向の中心位置との距離（樹脂フィルムと巻芯との中心間距離）［ｍｍ］を示す。すなわち、巻芯に向かって走行する樹脂フィルムの幅手方向の中心位置と、巻芯の幅手方向の中心位置との距離を示し、図１に示す中心間距離ｙに相当する。
　そして、本実施形態における振動は、このようなｘ軸及びｙ軸とした関数に表すと、図２に示す曲線５１で表される関数となるような振動である。具体的には、振動巻取工程における振動を表す関数ｆ（ｘ）を、図２を用いて説明する。まず、前記ｆ（ｘ）と振幅Ａ及び周期Ｔが同一の正弦波振動は、前記ｘ軸及び前記ｙ軸とした関数に表すと、図２に示す曲線５２で表される関数ａ（ｘ）となるような振動である。次に、前記ｆ（ｘ）と振幅Ａ及び周期Ｔが同一の矩形波振動は、前記ｘ軸及び前記ｙ軸とした関数に表すと、図２に示す曲線５３で表される関数ｂ（ｘ）となるような振動である。そこで、振動巻取工程における振動は、前記関数ｆ（ｘ）とｘ軸とで囲まれる面積が、前記関数ａ（ｘ）とｘ軸とで囲まれる面積より大きく、前記関数ｂ（ｘ）とｘ軸とで囲まれる面積より小さくなるような振動である。すなわち、振動巻取工程における振動は、前記ｆ（ｘ）が、前記ａ（ｘ）と、前記ｂ（ｘ）との間に存在するような振動である。なお、振動しない場合は、図２において、その関数は、直線５４で表される、ｘ軸上に存在する関数である。
　また、上記のようなｆ（ｘ）及びａ（ｘ）となるような振動をさせた場合や振動させない場合における、それぞれのエンボス部の高さについて検討する。それぞれの場合における、エンボス部の積算の高さ（積算エンボス高さ）を、シミュレーションにより求める。その結果を、図３に示す。なお、図３は、光学フィルムロールの幅手方向における、積算エンボス高さを示す概略図である。なお、ｘ軸には、光学フィルムロールの幅手方向における位置を示し、ｙ軸には、積算エンボス高さを示す。振動させない場合、線５７に示すグラフとなる。振動させない場合、線５７に示すようにグラフとなる。このことから、エンボス部が同一の位置で巻き取られ、その積算エンボス高さが、エンボス部の高さに巻き取る回数を積算した値となる。また、前記ａ（ｘ）となるように振動させ、その際の振幅Ａが、エンボス部の幅程度以下である場合、線５６に示すグラフとなる。このような場合、振動の振幅Ａの中心位置付近で、エンボス部の重なりが高くなることがわかる。これらに対して、前記ｆ（ｘ）となるように振動させた場合、線５５に示すグラフとなる。前記ｆ（ｘ）となるように振動させた場合、振動のｙ変位の絶対値が大きいときの滞在時間が比較的長くなるため、樹脂フィルムを巻芯に巻き取ったフィルムロールの状態での、エンボス部の重なり合いを効果的に低減させる振動であることがわかる。このことから、本実施形態に係る光学フィルムロールの製造方法であれば、前記樹脂フィルム製造工程で製造された樹脂フィルムを、巻芯にロール状に巻き取ると、長期間保存しても、変形の発生が充分に抑制された光学フィルムロールを製造することができる。
　また、前記ｆ（ｘ）は、振動の周期Ｔや振幅Ａが周期的に変動する関数であればよい。具体的には、前記ｆ（ｘ）は、ｆ（ｘ）＝ｆ（ｘ＋Ｔ）が成り立つ周期関数であってもよいし、振動巻取工程における周期振動の周期Ｔが、前記樹脂フィルムの積算の厚みｘが大きくなるに従って、徐々に小さくなるような関係であってもよい。また、振動巻取工程における振動の振幅Ａが、前記樹脂フィルムの積算の厚みｘが大きくなるに従って、徐々に大きくなるような関数であってもよい。
　また、振動巻取工程における振動の振幅Ａが、前記樹脂フィルムの積算の厚みが大きくなるに従って、徐々に大きくなることが好ましい。そうすることによって、変形の発生がより抑制された光学フィルムロールを製造することができる。
　まず、振動の振幅が大きいと、エンボス部の重なり合いをより抑制でき、変形の発生をより抑制できると考えられる。しかしながら、光学フィルムロールから繰り出されて用いられる樹脂フィルムの、実際に用いることができる幅が短くなる。すなわち、エンボス部及びエンボス部と接触する部分が増え、製品として用いることができる幅が短くなる。
　一方で、樹脂フィルムが巻芯に巻き取られていくにつれて、巻き取られている樹脂フィルムの積算の厚みが大きくなり、変形が発生しやすくなると考えられる。
　このような変形が発生しやすくなる、樹脂フィルムの積算の厚みが大きい場合に、変形の発生をより抑制できる、振幅の大きい振動を適用することによって、変形の発生をより抑制できると考えられる。一方、変形が発生しにくい、巻き始めは、振幅の小さい振動を適用しても、変形の発生を充分に抑制できると考えられる。これらのことから、上記のような構成によれば、巻き取られている樹脂フィルムの積算の厚みに応じて、変形の発生を効率的に抑制できると考えられる。よって、変形の発生がより抑制された光学フィルムロールを製造することができると考えられる。
　また、振動巻取工程における振動の周期Ｔが、前記樹脂フィルムの積算の厚みが大きくなるに従って、徐々に小さくなることが好ましい。そうすることによって、変形の発生をより抑制できる。
　まず、振動の周期が小さいと、巻きずれが発生しやすくなるが、樹脂フィルムへの負荷は低減できると考えられる。そして、樹脂フィルムが巻芯に巻き取られていくにつれて、巻き取られている樹脂フィルムの積算の厚みが大きくなり、変形が発生しやすくなると考えられる。このような変形が発生しやすくなる、樹脂フィルムの積算の厚みが大きい場合に、樹脂フィルムへの負荷を低減できる周期の小さい振動を適用することによって、変形の発生をより抑制できると考えられる。これらのことから、上記の構成によれば、巻き取られている樹脂フィルムの積算の厚みに応じて、変形の発生を効率的に抑制できると考えられる。
　また、前記巻取工程は、前記振動巻取工程を備えていればよく、全て振動巻取工程であってもよいし、他の巻取工程を備えていてもよい。他の巻取工程としては、例えば、前記中心間距離ｙを変動させずに巻き取る工程（非振動巻取工程）等が挙げられる。また、前記非振動巻取工程は、前記振動巻取工程の後に行うことが好ましい。すなわち、前記巻取工程が、前記振動巻取工程の後に、前記非振動巻取工程を備えることが好ましい。光学フィルムロールを製造する際、樹脂フィルムを最後まで、前記振動巻取工程で巻き取ると、得られた光学フィルムロールから、樹脂フィルムを繰り出し始めた際に、樹脂フィルムの蛇行等により円滑に繰り出せない場合があった。上記のように、前記振動巻取工程の後に、前記非振動巻取工程を備えれば、繰り出し開始直後から、樹脂フィルムを円滑に繰り出すことができる光学フィルムロールを得ることができる。すなわち、振動巻取工程の後に、上記のような振動させない巻取を行うので、樹脂フィルムの繰り出し開始直後に発生しうる繰り出しの不具合を抑制することができ、さらに、振動巻取工程で樹脂フィルムを巻き取った部分で、光学フィルムロールの変形を抑制することができる。
　また、前記樹脂フィルム製造工程は、図４（ａ）に示すように、幅手方向両端部に長手方向に沿ってエンボス部５を有する長尺状の樹脂フィルム２を製造することができる工程であれば、特に限定されない。すなわち、樹脂フィルムに対して、所定のエンボス部５を形成する方法であればよい。具体的には、樹脂フィルムに対して、エンボスリング等のローラを押し付けて、エンボス部を形成する方法等が挙げられる。このような接触方式でエンボス部を形成する方法以外に、非接触方式でエンボス部を形成する方法が挙げられる。この非接触方式でエンボス部を形成する方法としては、樹脂フィルムに対して、レーザ光を照射することによって、エンボス部を形成する方法や、エンボス部を形成させるための液状の材料をインクジェット方式で塗布することで、エンボス部を形成する方法等が挙げられる。
　なお、図４は、エンボス部を有する長尺状の樹脂フィルム、及び前記樹脂フィルムを巻芯にロール状に巻き取ったフィルムロールを示す概略図である。また、図４（ａ）は、樹脂フィルムの一例を示し、図４（ｂ）は、フィルムロールの一例を示す。樹脂フィルム２は、図４（ａ）に示すように、幅手方向両端部に長手方向に沿ってエンボス部５を有する長尺状の樹脂フィルム２である。また、フィルムロール７は、図４（ｂ）に示すように、樹脂フィルム２を巻芯１にロール状に巻き取ったフィルムロール７である。そして、樹脂フィルム２のエンボス部５が重なり合う領域は、エンボス部５以外が重なり合う領域より厚くなる。この厚みの差Ｌは、前記積算エンボス高さに依存する。すなわち、この厚みの差Ｌは、本実施形態に係る振動巻取工程を施すことによって、前記振動巻取工程を施さない場合より、小さくなる。
　また、前記樹脂フィルム製造工程によって形成されるエンボス部５は、樹脂フィルム２の幅手方向両端部に長手方向に沿って形成されていればよい。樹脂フィルム２の幅手方向両端部とは、特に限定されないが、例えば、樹脂フィルムの外縁から、０．５～３０ｍｍ程度である領域等が挙げられる。また、樹脂フィルム２の幅手方向両端部とは、例えば、樹脂フィルムの外縁から、樹脂フィルムの幅に対して０．２～６％程度占める領域等が挙げられる。エンボス部の幅が狭すぎると、樹脂フィルムの搬送性が充分に向上しない傾向がある。また、エンボス部の幅が広すぎると、エンボス部が形成されていない領域、つまり光学フィルム等として利用する部分の面積が狭くなってしまう。
　また、エンボス部の高さは、特に限定されないが、１～２０ｍｍ程度であることが好ましい。エンボス部が低すぎると、フィルムロールの状態での巻きずれを抑制する等のエンボス部の効果を充分に発揮できない傾向がある。また、エンボス部が高すぎると、樹脂フィルムのエンボス部が重なり合う領域が、エンボス部以外が重なり合う領域より厚くなりすぎて、本実施形態に係る振動巻取工程を施しても、得られたフィルムロールの変形を抑制する効果を充分に発揮できない傾向がある。
　また、前記樹脂フィルム製造工程によって形成されるエンボス部５の形状は、特に限定されない。具体的には、図５に示すような形状が挙げられる。図５は、エンボス部の形状を説明するための図面である。エンボス部５の形状としては、以下のような形状が挙げられる。具体的には、エンボス部５の断面形状が、図５（ａ）に示すような、矩形状のものが挙げられる。また、図５（ｂ）に示すように、エンボス部５の幅手方向両端部が、エンボス部５の幅手方向中央部に低くなるような凹部５ａが形成された形状のものが挙げられる。また、エンボス部５は、図５（ｃ）に示すような、複数の凸部５ｂ、５ｃを有するものが挙げられる。このような場合、複数の凸部５ｂ、５ｃのうち、エンボス部５の幅手方向中央部に存在する凸部５ｂが、エンボス部５の幅手方向中央部に存在する凸部５ｃより低くなるように形成されたエンボス部が好ましい。このようなエンボス部であれば、変形の発生をより抑制できるフィルムロールが得られる。このことは、以下のことによると考えられる。樹脂フィルムを巻き取る際、前記振動巻取工程を適用しても、エンボス部の幅手方向中央部の重なりが、エンボス部の端部に比べて多くなってしまう。上記のような、エンボス部５の幅手方向中央部に存在する凸部５ｂが低いエンボス部であれば、エンボス部の幅手方向中央部の重なりを少なくすることができると考えられる。このことにより、フィルムロールにおけるエンボス部の厚みの減少に寄与でき、変形をより抑制したフィルムロールが得られる。また、エンボス部における両端部や中央部は、特に限定されないが、エンボス部における両端部は、例えば、エンボス部の外縁から、エンボス部の幅に対して４０～８０％程度占める領域等が挙げられる。
　また、前記エンボス部は、光学フィルム等として利用する前に、切断すればよく、実際に、切断されることが多い。よって、前記エンボス部の材質は、フィルムロールの状態での巻きずれを抑制する等のエンボス部の効果を充分に発揮することができれば、特に限定されない。
　また、樹脂フィルムの厚みは、特に限定されないが、樹脂フィルムの薄膜化が求められている。この要求を満たすためにも、樹脂フィルムの厚みは、１０～３５μｍであることが好ましい。また、このような厚みの樹脂フィルムであれば、従来の樹脂フィルムより薄いので、光学フィルムロールの巻長を長くすることもできる。一方、このような薄膜化された樹脂フィルムは、ロール状に巻き取って得られたフィルムロールの変形が発生しやすいものであるが、上述したような振動巻取工程を施すことによって、変形の発生が充分に抑制された光学フィルムロールが得られる。これらのことから、樹脂フィルムの厚みは、上記の範囲である１０～３５μｍであることが好ましい。ここで厚みとは、厚みの平均値のことであり、株式会社ミツトヨ製の接触式膜厚計により、フィルムの幅方向に２０～２００箇所、厚みを測定し、その測定値の平均値を厚みとして示す。また、樹脂フィルムの幅は、特に限定されず、例えば、１０００～４０００ｍｍであることが好ましい。
　また、前記樹脂フィルム製造工程において、エンボス部を形成させる樹脂フィルムは、特に限定されない。前記樹脂フィルムとしては、例えば、透明性樹脂からなる樹脂フィルムに対して、何ら処理を施していない樹脂フィルムであってもよく、それ以外の樹脂フィルムであってもよい。具体的には、前記樹脂フィルムとしては、以下のような、光学分野で用いられる樹脂フィルムが好ましく用いることができる。
　また、前記樹脂フィルムとしては、偏光板保護フィルムとして用いられる光学フィルムであることが好ましい。このような偏光板保護フィルムとして用いられる光学フィルムを、樹脂フィルムとして、本実施形態に係る光学フィルムロールの製造方法で光学フィルムロールを製造すると、光学フィルムロールの変形に基づく不具合の発生が充分に抑制された光学フィルムを順次繰り出して提供することができる光学フィルムロールが得られる。
　また、前記樹脂フィルムとしては、液晶表示装置用の光学補償フィルムとして用いられる位相差フィルムであることが好ましい。このような液晶表示装置用の光学補償フィルムとして用いられる位相差フィルムを、樹脂フィルムとして、本実施形態に係る光学フィルムロールの製造方法で光学フィルムロールを製造すると、光学フィルムロールの変形に基づく不具合の発生が充分に抑制された位相差フィルムを順次繰り出して提供することができる光学フィルムロールが得られる。
　また、前記樹脂フィルムとしては、基材フィルムと、前記基材フィルム上に存在する機能性層とを備える光学フィルムであることが好ましい。この基材フィルムは、特に限定されず、例えば、透明性樹脂からなる樹脂フィルムに対して、何ら処理を施していない樹脂フィルム等が挙げられる。また、機能性層も、光学フィルムの機能性層として用いられるものであれば、特に限定されない。このような光学フィルムを、樹脂フィルムとして、本実施形態に係る光学フィルムロールの製造方法で光学フィルムロールを製造すると、光学フィルムロールの変形に基づく不具合の発生が充分に抑制された光学フィルムを順次繰り出して提供することができる光学フィルムロールが得られる。また、前記光学フィルムは、基材フィルムと機能性層とを少なくとも備えるので、自重による変形が起こりやすい。このような光学フィルムを樹脂フィルムとして用いても、本実施形態に係る光学フィルムロールの製造方法で、光学フィルムロールを製造することによって、変形の発生が充分に抑制された光学フィルムロールが得られる。
　（溶液流延製膜法）
　また、前記樹脂フィルム製造工程の具体例としては、例えば、以下のような、溶液流延製膜法によって、樹脂フィルムを製造する方法等が挙げられる。
　溶液流延製膜法による樹脂フィルムの製造方法は、透明性樹脂を含有する樹脂溶液（ドープ）を、走行する支持体上に流延してフィルムを形成する流延工程と、前記フィルムを前記支持体から剥離する剥離工程と、剥離したフィルムを複数の搬送ローラで搬送させることによって、前記フィルムを乾燥させる乾燥工程とを備える方法等が挙げられる。さらに、この樹脂フィルムの製造方法は、前記剥離工程と前記乾燥工程との間や、前記乾燥工程の後等に、前記フィルムにエンボス部を形成するエンボス部形成工程を備える。例えば、図６に示すような樹脂フィルムの製造装置によって行われる。なお、樹脂フィルムの製造装置としては、前記各工程を行うものであれば、図６に示すものに特に限定されず、他の構成のものであってもよい。また、ここでフィルムとは、支持体上に流延されたドープからなる流延膜（ウェブ）が支持体上で乾燥され、支持体から剥離しうる状態となった以後のものを言う。
　図６は、溶液流延製膜法による樹脂フィルムの製造装置の基本的な構成を示す概略図である。樹脂フィルムの製造装置１１は、無端ベルト支持体１２、流延ダイ１３、剥離ローラ１４、延伸装置１５、乾燥装置１７、エンボス部形成装置１８、及び巻取装置１０等を備える。前記流延ダイ１３は、透明性樹脂を溶解した樹脂溶液（ドープ）１９を無端ベルト支持体１２の表面上に流延する。前記無端ベルト支持体１２は、前記流延ダイ１３から流延されたドープ１９からなるウェブを形成し、搬送させながら乾燥させることによってフィルムとする。前記剥離ローラ１４は、フィルムを無端ベルト支持体１２から剥離する。前記延伸装置１５は、剥離されたフィルムを延伸する。前記乾燥装置１７は、延伸したフィルムを搬送ローラで搬送させながら、乾燥させる。前記エンボス部形成装置１８は、乾燥されたフィルムの端部にエンボス部を形成する。前記巻取装置１０は、エンボス部を形成したフィルムを巻き取って、フィルムロールとする。
　前記流延ダイ１３は、図６に示すように、前記流延ダイ１３の上端部に接続されたドープ供給管からドープ１９が供給される。そして、その供給されたドープが前記流延ダイ１３から前記無端ベルト支持体１２に吐出され、前記無端ベルト支持体１２上にウェブが形成される。
　前記無端ベルト支持体１２は、図６に示すように、表面が鏡面の、無限に走行する金属製の無端ベルトである。前記ベルトとしては、フィルムの剥離性の点から、例えば、ステンレス鋼等からなるベルトが好ましく用いられる。前記流延ダイ１３によって流延する流延膜の幅は、無端ベルト支持体１２の幅を有効活用する観点から、無端ベルト支持体１２の幅に対して、８０～９９％とすることが好ましい。そして、最終的に１０００～４０００ｍｍの幅の樹脂フィルムを得るためには、無端ベルト支持体１２の幅は、１８００～５０００ｍｍであることが好ましい。また、無端ベルト支持体の代わりに、表面が鏡面の、回転する金属製のドラム（無端ドラム支持体）を用いてもよい。
　そして、前記無端ベルト支持体１２は、その表面上に形成された流延膜（ウェブ）を搬送しながら、ドープ中の溶媒を乾燥させる。前記乾燥は、例えば、無端ベルト支持体１２を加熱したり、加熱風をウェブに吹き付けることによって行う。その際、ウェブの温度が、ドープの溶液によっても異なるが、溶媒の蒸発時間に伴う搬送速度や生産性等を考慮して、－５～７０℃の範囲が好ましく、０～６０℃の範囲がより好ましい。ウェブの温度は、高いほど溶媒の乾燥速度を早くできるので好ましいが、高すぎると、発泡したり、平面性が劣化する傾向がある。
　無端ベルト支持体１２を加熱する場合、例えば、無端ベルト支持体１２上のウェブを赤外線ヒータで加熱する方法、無端ベルト支持体１２の裏面を赤外線ヒータで加熱する方法、無端ベルト支持体１２の裏面に加熱風を吹き付けて加熱する方法等が挙げられ、必要に応じて適宜選択することが可能である。
　また、加熱風を吹き付ける場合、その加熱風の風圧は、溶媒蒸発の均一性等を考慮し、５０～５０００Ｐａであることが好ましい。加熱風の温度は、一定の温度で乾燥してもよいし、無端ベルト支持体１２の走行方向で数段階の温度に分けて供給してもよい。
　無端ベルト支持体１２の上にドープを流延した後、無端ベルト支持体１２からウェブを剥離するまでの間での時間は、作製する光学フィルムの厚み、使用する溶媒によっても異なるが、無端ベルト支持体１２からの剥離性を考慮し、０．５～５分間の範囲であることが好ましい。
　前記無端ベルト支持体１２による流延膜の搬送速度は、例えば、５０～２００ｍ／分程度であることが好ましい。また、前記無端ベルト支持体１２の走行速度に対する、流延膜の搬送速度の比（ドラフト比）は、０．８～１．２程度であることが好ましい。前記ドラフト比がこの範囲内であると、安定して流延膜を形成させることができる。例えば、ドラフト比が大きすぎると、流延膜が幅方向に縮小されるネックインという現象を発生させる傾向があり、そうなると、広幅のフィルムを形成できなくなる。
　前記剥離ローラ１４は、無端ベルト支持体１２のドープ１９が流延される側の表面に接しており、無端ベルト支持体１２側に加圧することによって、乾燥されたウェブ（フィルム）が剥離される。無端ベルト支持体１２からフィルムを剥離する際に、剥離張力及びその後の搬送張力によってフィルムは、フィルムの搬送方向（Ｍａｃｈｉｎｅ　Ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ：ＭＤ方向）に延伸する。このため、無端ベルト支持体１２からフィルムを剥離する際の剥離張力及び搬送張力は、３０～４００Ｎ／ｍにすることが好ましい。
　また、フィルムを無端ベルト支持体１２から剥離する時のフィルムの全残留溶媒量は、無端ベルト支持体１２からの剥離性、剥離時の残留溶媒量、剥離後の搬送性、搬送・乾燥後にできあがる光学フィルムの物理特性等を考慮し、１０～２００質量％であることが好ましい。
　前記延伸装置１５は、無端ベルト支持体１２から剥離されたフィルムを、ウェブの搬送方向と直交する方向（Ｔｒａｎｓｖｅｒｓｅ　Ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ：ＴＤ方向）に延伸させる。具体的には、フィルムの搬送方向に垂直な方向の両端部をクリップ等で把持して、対向するクリップ間の距離を大きくすることによって、ＴＤ方向に延伸する。そして、前記延伸装置１５は、クリップを把持していた領域を切断する装置を備えていてもよい。また、ここでは、延伸装置１５を備えていたが、備えていなくてもよい。
　前記乾燥装置１７は、複数の搬送ローラを備え、そのローラ間をフィルムを搬送させる間にフィルムを乾燥させる。その際、加熱空気、赤外線等を単独で用いて乾燥してもよいし、加熱空気と赤外線とを併用して乾燥してもよい。簡便さの点から加熱空気を用いることが好ましい。乾燥温度としては、フィルムの残留溶媒量により、好適温度が異なるが、乾燥時間、収縮ムラ、伸縮量の安定性等を考慮し、３０～１８０℃の範囲で残留溶媒量により適宜選択して決めればよい。また、一定の温度で乾燥してもよいし、２～４段階の温度に分けて、数段階の温度に分けて乾燥してもよい。また、乾燥装置１７内を搬送される間に、フィルムを、ＭＤ方向に延伸させることもできる。前記乾燥装置１７での乾燥処理後のフィルムの残留溶媒量は、乾燥工程の負荷、保存時の寸法安定性伸縮率等を考慮し、０．００１～５質量％が好ましい。
　前記エンボス部形成装置１８は、前記フィルムの搬送中に、フィルムの搬送方向に垂直な方向（幅手方向）両端部にエンボス部を形成させる。エンボス部の形状や幅は、上述した形状や幅であればよい。また、エンボス部を形成する方法も、上述したように、接触方式で形成する方法であってもよいし、非接触方式で形成する方法であってもよい。
　前記巻取装置１０は、上述した巻取装置であればよい。具体的には、前記振動巻取工程を行うことができる巻取装置等が挙げられる。
　以下、溶液流延製膜法で使用する樹脂溶液の組成について説明する。
　溶液流延製膜法で使用される透明性樹脂は、フィルム状に成形したときに透明性を有する樹脂であればよく、特に制限されないが、溶液流延製膜法等による製造が容易であること、ハードコート層等との接着性に優れていること、光学的に等方性であること等が好ましい。なお、ここで透明性とは、可視光の透過率が６０％以上であることであり、好ましくは８０％以上、より好ましくは９０％以上である。
　前記透明性樹脂としては、具体的には、例えば、セルローストリアセテート樹脂等のセルロースエステル系樹脂等を挙げることができる。また、ここで使用されるドープには、微粒子を含有させてもよい。前記微粒子としては、酸化珪素等の無機微粒子であってもよいし、アクリル系樹脂等の有機微粒子であってもよい。ここで使用される溶媒は、前記透明性樹脂に対する良溶媒を含有する溶媒を用いることができ、透明性樹脂が析出してこない範囲で、貧溶媒を含有させてもよい。セルロースエステル系樹脂に対する良溶媒としては、例えば、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物等が挙げられる。また、セルロースエステル系樹脂に対する貧溶媒としては、例えば、メタノール等の炭素原子数１～８のアルコール等が挙げられる。ここで使用される樹脂溶液は、本発明の効果を阻害しない範囲で、透明性樹脂、微粒子及び溶媒以外の他の成分（添加剤）を含有してもよい。前記添加剤としては、例えば、可塑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、熱安定化剤、導電性物質、難燃剤、滑剤、及びマット剤等が挙げられる。
　また、上記各組成を混合させることによってセルロースエステル系樹脂の溶液が得られる。また、得られたセルロースエステル系樹脂の溶液は、濾紙等の適当な濾過材を用いて濾過することが好ましい。
　また、樹脂フィルムが、上記のような、液晶表示装置用の光学補償フィルムとして用いられる位相差フィルムである場合、溶液流延製膜法で使用する樹脂溶液は、延伸等によって、前記位相差フィルムが得られるような樹脂溶液であれば、特に限定されない。
　（溶融流延製膜法）
　また、前記樹脂フィルム製造工程の他の具体例としては、例えば、以下のような、溶融流延製膜法によって、樹脂フィルムを製造する方法等が挙げられる。
　溶融流延製膜法による樹脂フィルムの製造方法は、透明性樹脂を溶融させた樹脂溶融液を、走行する支持体上に流延して流延膜を形成する流延工程と、前記流延膜を冷却させてフィルムを形成する冷却工程と、前記フィルムを前記支持体から剥離する剥離工程と、剥離したフィルムを複数の搬送ローラで搬送させることによって、前記フィルムを延伸させる延伸工程とを備える方法等が挙げられる。さらに、この樹脂フィルムの製造方法は、前記剥離工程と前記延伸工程との間や、前記延伸工程の後等に、前記フィルムにエンボス部を形成するエンボス部形成工程を備える。例えば、図７に示すような樹脂フィルムの製造装置によって行われる。なお、樹脂フィルムの製造装置としては、前記各工程を行うものであれば、図７に示すものに特に限定されず、他の構成のものであってもよい。また、ここでフィルムとは、支持体上に流延されたドープからなる流延膜（ウェブ）が支持体上で冷却され、支持体から剥離しうる状態となった以後のものを言う。
　図７は、溶融流延製膜法による樹脂フィルムの製造装置の基本的な構成を示す概略図である。樹脂フィルムの製造装置２１は、第１冷却ローラ２２、流延ダイ２３、面矯正タッチローラ２４、第２冷却ローラ２５、第３冷却ローラ２６、剥離ローラ２７、搬送ローラ２９、延伸装置３０、エンボス部形成装置３１、及び巻取装置１０等を備える。前記流延ダイ２３は、透明性樹脂を溶融させた樹脂溶融液（ドープ）を第１冷却ローラ２２の表面上に流延する。前記第１冷却ローラ２２は、前記流延ダイ２３から流延されたドープからなる流延膜を形成し、搬送させながら冷却させ、前記流延膜を第２冷却ローラ２５に搬送する。その際、第１冷却ローラ２２に外接されて設けられる面矯正タッチローラ２４によって、流延膜の厚さの調整や表面の平滑化がなされる。そして、第２冷却ローラ２５は、前記流延膜を搬送させながら冷却させ、前記流延膜を第３冷却ローラ２６に搬送する。そうすうことによって、前記流延膜をフィルムとする。前記剥離ローラ２７は、フィルムを第３冷却ローラ２６から剥離する。前記搬送ローラ２９は、剥離されたフィルムを搬送しながら、ＭＤ方向に延伸する。前記延伸装置３０は、フィルムをＴＤ方向に延伸する。前記エンボス部形成装置３１は、延伸されたフィルムの端部にエンボス部を形成する。前記巻取装置１０は、冷却固化されたフィルムを巻き取って、フィルムロールとする。
　前記流延ダイ２３は、ドープとして、樹脂溶液の代わりに、樹脂溶融液を吐出する以外、前記流延ダイ１３と同様の構成である。
　前記第１冷却ローラ２２、第２冷却ローラ２５及び第３冷却ローラ２６は、表面が鏡面の金属製のローラである。前記各ローラとしては、流延膜やフィルムの剥離性の点から、例えば、ステンレス鋼等からなるローラが好ましく用いられる。前記流延ダイ２３によって流延する流延膜の幅や前記第１冷却ローラ２２、第２冷却ローラ２５及び第３冷却ローラ２６による流延膜の搬送速度等は、上記流延製膜法の場合と同様である。
　前記面矯正タッチローラ２４は、表面が弾性を有し、前記第１冷却ローラ２２への押圧力によって、前記第１冷却ローラ２２の表面に沿って変形し、前記第１冷却ローラ２２との間に、ニップを形成する。前記面矯正タッチローラ２４としては、溶融流延製膜法で従来から用いられているタッチローラであれば、特に限定なく使用できる。具体的には、例えば、ステンレス鋼製のものが挙げられる。
　前記剥離ローラ２７は、第３冷却ローラ２６に接しており、加圧することによって、フィルムが剥離される。
　前記搬送ローラ２９は、複数の搬送ローラからなっており、搬送ローラ毎に異なる回転速度にすることによって、フィルムのＭＤ方向に延伸することができる。
　また、前記延伸装置３０及び前記エンボス部形成装置３１は、上記延伸装置１５及びエンボス部形成装置１８と同様のものを用いることができる。
　また、前記巻取装置１０は、溶液流延製膜法の場合と同様、前記振動巻取工程を行うことができる巻取装置等が挙げられる。
　以下、溶融流延製膜法で使用する樹脂溶融液の組成について説明する。
　溶融流延製膜法で使用される透明性樹脂は、加熱して溶融することができれば、上記溶液流延製膜法における透明樹脂と同様のものを用いることができる。また、その他の組成も、上記溶液流延製膜法の場合と同様のものを用いることができる。
　（機能性層形成）
　また、樹脂フィルムとしては、上述したように、基材フィルムと、前記基材フィルム上に存在する機能性層とを備える光学フィルムであることが好ましい。このような光学フィルムを得るためには、以下のような方法が挙げられる。基材フィルムとしては、例えば、上記のような、溶液流延製膜法や溶融流延製膜法で、エンボス部を形成せずに得られた樹脂フィルム等が挙げられる。また、機能性層は、光学フィルムの機能性層として用いられるものであれば、特に限定されない。具体的には、後述する。
　このような機能性層を備える光学フィルムの製造方法としては、例えば、基材フィルムの少なくとも一方の表面に液状の樹脂組成物を塗布する塗布工程と、前記樹脂組成物を硬化又は乾燥させて機能層を形成する層形成工程とを備える方法等が挙げられる。さらに、この光学フィルムの製造方法は、前記層形成工程の後等に、前記フィルムにエンボス部を形成するエンボス部形成工程を備える。例えば、図８に示すような光学フィルムの製造装置によって行われる。なお、光学フィルムの製造装置としては、図８に示すものに限定されず、他の構成のものであってもよい。
　図８は、光学フィルムの製造装置の基本的な構成を示す概略図である。光学フィルムの製造装置４１は、巻出装置４２、塗布装置４３、乾燥装置４４、硬化装置４５、エンボス部形成装置４６、及び巻取装置１０等を備える。
　前記巻出装置４２は、基材フィルムを前記塗布装置４３等に供給する。前記巻出装置４２は、例えば、基材フィルムを繰出可能に巻回された巻出ローラを備え、前記巻出ローラを回転させることによって、基材フィルムを前記塗布装置４３等に供給する装置である。
　前記塗布装置４３は、前記巻出装置４２から供給された基材フィルムの表面上に液状の樹脂組成物を塗布する。前記塗布装置４３は、一般的な塗布装置を限定なく使用でき、例えば、エクストルージョン法、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラコート法、ロッドコート法、グラビアコート法、インクジェット法等を採用した塗布装置が挙げられる。また、基材フィルム上に複数の層を塗布形成する場合には、マルチマニホールドを有するエクストルージョンダイのように一台の塗布装置で多層同時塗布してもよく、また、１層を塗布する塗布装置を複数並べて逐次塗布するようにしてもよい。なお、本実施形態では、この塗布装置４３による液状の樹脂組成物を塗布する工程が、塗布工程に相当する。
　前記乾燥装置４４は、基材フィルム上に塗布された液状の樹脂組成物を乾燥させる。前記乾燥装置４４は、例えば、熱風による対流乾燥方式、赤外線等の輻射熱による輻射乾燥方式等を採用してもよい。なお、乾燥装置４４においては、完全に乾燥させなくてもよい。
　前記硬化装置４５は、基材フィルム上に塗布された液状の樹脂組成物を硬化させる。前記硬化装置４５としては、液状の樹脂組成物が、紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等の活性線硬化性樹脂を含むものであるか、熱硬化性樹脂を含むものであるかによって異なる。具体的には、例えば、液状の樹脂組成物が活性線硬化性樹脂を含むものである場合には、紫外線照射装置等の活性線照射装置が挙げられる。また、液状の樹脂組成物が熱硬化性樹脂を含むものである場合には、熱処理装置が挙げられる。
　前記エンボス部形成装置４６は、上記エンボス部形成装置１８と同様のものを用いることができる。ここで、エンボス部を形成する表面は、樹脂組成物を塗布した側であってもよいし、塗布させていない側であってもよい。また、両面であってもよい。
　また、前記巻取装置１０は、溶液流延製膜法や溶融流延製膜法の場合と同様、前記振動巻取工程を行うことができる巻取装置等が挙げられる。また、前記巻取装置１０は、タッチローラを備えていなくてもよく、ここでは、タッチローラを備えていない巻取装置を用いている。
　また、機能性層は、上述したように、光学フィルムの機能性層として用いられるものであれば、特に限定されない。具体的には、まず、以下のようなハードコート層等が挙げられる。
　（ハードコート層）
　前記ハードコート層としては、耐擦傷性及び鉛筆硬度等の機械的膜強度に優れる点で、活性線硬化樹脂を含有するものが好ましく用いられる。すなわち、前記ハードコート層は、紫外線及び電子線等の活性線（活性エネルギー線ともいう。）の照射により、架橋反応を経て硬化した活性線硬化樹脂を主たる成分とする層等が挙げられる。
　前記活性線硬化樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分を用いて得られた樹脂であることが好ましい。すなわち、前記ハードコート層が、前記活性線硬化樹脂を主たる成分とする層である場合、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分を、前記活性線の照射により、重合させ硬化させて得られた活性線硬化樹脂層であることが好ましい。
　前記活性線硬化樹脂としては、紫外線照射によって硬化する紫外線硬化性化合物及び電子線照射によって硬化する電子線硬化性化合物等の活性線硬化性化合物を、重合させ硬化させて得られた活性線硬化樹脂が代表的なものとして挙げられる。この中でも、紫外線照射によって硬化して得られた活性線硬化樹脂が、特に機械的膜強度（耐擦傷性、鉛筆硬度）に優れる点から好ましい。
　前記紫外線硬化性化合物としては、紫外線照射によって重合し硬化した活性線硬化樹脂が得られるものであれば、特に限定されない。具体的には、前記紫外線硬化性化合物としては、紫外線硬化型アクリレート系化合物、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系化合物、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系化合物、紫外線硬化型エポキシアクリレート系化合物、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系化合物、又は紫外線硬化型エポキシ化合物等が好ましく用いられる。この中でも、紫外線硬化型アクリレート系化合物又は紫外線硬化型ウレタンアクリレート系化合物が好ましい。
　また、紫外線硬化型アクリレート系化合物としては、多官能アクリレートが好ましい。この多官能アクリレートとしては、例えば、ペンタエリスリトール多官能アクリレート、ジペンタエリスリトール多官能アクリレート、ペンタエリスリトール多官能メタクリレート、及びジペンタエリスリトール多官能メタクリレートよりなる群から選ばれることが好ましい。ここで、多官能アクリレートとは、分子中に２個以上のアクリロイルオキシ基又はメタクロイルオキシ基を有する化合物である。より具体的には、多官能アクリレートとしては、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリ／テトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、グリセリントリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、１，６－ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、テトラメチロールメタントリメタクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタクリレート、ペンタグリセロールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、グリセリントリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、活性エネルギー線硬化型のイソシアヌレート誘導体等が好ましく挙げられる。この中でも、活性エネルギー線硬化型のイソシアヌレート誘導体が好ましく用いられる。
　活性エネルギー線硬化型のイソシアヌレート誘導体としては、イソシアヌル酸骨格に１個以上のエチレン性不飽和基が結合した構造を有する化合物であればよく、特に限定されないが、同一分子内に３個以上のエチレン性不飽和基及び１個以上のイソシアヌレート環を有する化合物が好ましい。具体的には、下記一般式（１）で表される化合物が好ましく用いられる。また、エチレン性不飽和基としては、特に限定されないが、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチリル基、ビニルエーテル基等が挙げられる。この中でも、メタクリロイル基又はアクリロイル基が好ましく、アクリロイル基が特に好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
　上記式（１）中、Ｌ２は、２価の連結基である。具体的には、Ｌ２は、イソシアヌレート環に炭素原子が結合している置換又は無置換の炭素原子数４以下のアルキレンオキシ基又はポリアルキレンオキシ基等が挙げられる。この中でも、前記アルキレンオキシ基が好ましい。また、Ｌ２は、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。また、Ｒ２は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基を示す。
　上記一般式（１）で表される化合物の具体例を、以下に示すが、上記一般式（１）で表される化合物は、これらに限定されない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
　活性エネルギー線硬化型のイソシアヌレート誘導体の他の化合物としては、イソシアヌル酸ジアクリレート化合物が挙げられ、イソシアヌル酸エトキシ変性ジアクリレートが好ましく用いられる。具体的には、下記一般式（２）で表される化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
　また、活性エネルギー線硬化型のイソシアヌレート誘導体の他の化合物としては、ε－カプロラクトン変性の活性エネルギー線硬化型のイソシアヌレート誘導体を挙げることもできる。具体的には、下記一般式（３）で表される化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
　上記式（３）中、Ｒ１～Ｒ３は、それぞれ独立して、下記ａ，ｂ，ｃで示される官能基のいずれかを示す。また、Ｒ１～Ｒ３の少なくとも１つは、下記ｂで示される官能基を示す。
　ａは、－Ｈ、又は－（ＣＨ２）ｎ－ＯＨ（ｎ＝１～１０、好ましくはｎ＝２～６）である。
　ｂは、－（ＣＨ２）ｎ－Ｏ－（ＣＯＣ５Ｈ１０）ｍ－ＣＯＣＨ＝ＣＨ２（ｎ＝１～１０、好ましくはｎ＝２～６、ｍ＝２～８）である。
　ｃは、－（ＣＨ２）ｎ－Ｏ－Ｒ（Ｒは（メタ）アクリロイル基、ｎ＝１～１０、好ましくはｎ＝２～６）である。
　上記一般式（３）で表される化合物の具体例を、以下に示すが、上記一般式（３）で表される化合物は、これらに限定されない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
　イソシアヌル酸トリアクリレート化合物の市販品としては、例えば、新中村化学工業株式会社製のＡ－９３００等が挙げられる。イソシアヌル酸ジアクリレート化合物の市販品としては、例えば、東亞合成株式会社製のアロニックスＭ－２１５等が挙げられる。イソシアヌル酸トリアクリレート化合物及びイソシアヌル酸ジアクリレート化合物の混合物の市販品としては、例えば、東亞合成株式会社製の、アロニックスＭ－３１５、アロニックスＭ－３１３等が挙げられる。ε－カプロラクトン変性の活性エネルギー線硬化型のイソシアヌレート誘導体としては、ε－カプロラクトン変性トリス－（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。この市販品としては、新中村化学工業株式会社製のＡ－９３００－１ＣＬ、東亞合成株式会社製のアロニックスＭ－３２７等を挙げることができる。活性エネルギー線硬化型のイソシアヌレート誘導体の市販品としては、上記のものが挙げられるが、これらに限定されない。
　また、活性エネルギー線硬化型のイソシアヌレート誘導体の市販品としては、アデカオプトマーＮシリーズ、サンラッドＨ－６０１、ＲＣ－７５０、ＲＣ－７００、ＲＣ－６００、ＲＣ－５００、ＲＣ－６１１、ＲＣ－６１２（三洋化成工業（株）製）、アロニックスＭ－６１００、Ｍ－８０３０、Ｍ－８０６０、アロニックスＭ－２１５、アロニックスＭ－３１５、アロニックスＭ－３１３、アロニックスＭ－３２７（東亞合成（株）製）、ＮＫ－エステルＡ－ＴＭＭ－３Ｌ、ＮＫ－エステルＡＤ－ＴＭＰ、ＮＫ－エステルＡＴＭ－３５Ｅ、ＮＫエステルＡ－ＤＯＧ、ＮＫエステルＡ－ＩＢＤ－２Ｅ、Ａ－９３００、Ａ－９３００－１ＣＬ（新中村化学工業（株））、ＰＥ－３Ａ（共栄社化学）等も挙げられる。
　また、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系化合物としては、例えば、アルコール、ポリオール、及び／又はヒドロキシ基含有アクリレート等のヒドロキシ基含有化合物類とイソシアネート類とを反応させて得られたポリウレタン化合物である紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂等が挙げられる。また、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂は、必要に応じて、前記ポリウレタン化合物を（メタ）アクリル酸でエステル化して得られた紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂であってもよい。より具体的には、ポリイソシアネートと、１分子中に１つのヒドロキシ基及び１つ以上の（メタ）アクリロイル基とを有するアクリレートとの付加反応物等が挙げられる。
　ポリイソシアネートの例としては、２，４－トリレンジイソシアネート、２，６－トリレンジイソシアネート、１，３－キシリレンジイソシアネート、４，４’－ジフェニルジイソシアネート、１，５－ナフタレンジイソシアネート、４，４’－ジフェニルメタンジイソシアネート等の芳香族イソシアネート等が挙げられる。また、ポリイソシアネートの他の例としては、例えば、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート、１，４－シクロヘキサンジイソシアネート等の脂環式炭化水素に結合されたイソシアネート基を２個有する化合物（以下、脂環族ジイソシアネートと略す。）、トリメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族炭化水素に結合されたイソシアネート基を２個有する化合物（以下、脂肪族ジイソシアネートと略す。）、フェニレンジイソシアネート、トルエンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の芳香脂肪族ジイソシアネート等が挙げられる。これらポリイソシアネートは、単独で用いることも、２種以上を併用することもできる。また、ポリイソシアネートは、上記例示した化合物の中でも、脂肪族ジイソシアネート、脂環族ジイソシアネートが好ましく、イソホロンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート、トルエンジイソシアネート及びヘキサメチレンジイソシアネートが好ましい。
　１分子中に１つのヒドロキシ基及び１つ以上の（メタ）アクリロイル基を有するアクリレートの例としては、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等の多価ヒドロキシ基含有化合物のポリアクリレート類等が挙げられる。前記アクリレートの他の例としては、前記ポリアクリレート類とε－カプロラクトンとの付加物、前記ポリアクリレート類とアルキレンオキサイドとの付加物等も挙げられる。また、前記アクリレートの他の例としては、エポキシアクリレート類等も挙げられる。１分子中に１つのヒドロキシ基及び１つ以上の（メタ）アクリロイル基を有するアクリレートは、単独で用いることも、２種以上を併用することもできる。
　また、１分子中に１つのヒドロキシ基及び１つ以上の（メタ）アクリロイル基を有するアクリレートとしては、１分子中に１つのヒドロキシ基及び３～５つの（メタ）アクリロイル基を有するアクリレートが好ましい。このようなアクリレートとしては、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等が挙げられる。
　また、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂の具体的商品としては、日本合成化学工業株式会社製の、紫光ＵＶ－１７００Ｂ、同ＵＶ－６３００Ｂ、同ＵＶ－７６００Ｂ、同ＵＶ－７６３０Ｂ、同ＵＶ－７６４０Ｂ、共栄社化学株式会社製の、ＵＡ－３０６Ｈ、ＵＡ－３０６Ｔ、ＵＡ－３０６Ｉ、ＵＡ－５１０Ｈ、新中村化学工業式会社製の、ＮＫオリゴ　ＵＡ－１１００Ｈ、ＮＫオリゴ　ＵＡ－５３Ｈ、ＮＫオリゴ　ＵＡ－３３Ｈ、ＮＫオリゴ　ＵＡ－１５ＨＡ等が挙げられる。
　活性線硬化型樹脂の粘度は、樹脂をディスパーにて撹拌混合し２５℃の条件にてＢ型粘度計を用いて粘度測定を行うことができる。
　また、前記活性線硬化樹脂を得る際、上記多官能アクリレート等に加えて、単官能アクリレートを用いてもよい。
　単官能アクリレートとしては、例えば、イソボロニルアクリレート、２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピルアクリレート、イソステアリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ラウリルアクリレート、イソオクチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベヘニルアクリレート、４－ヒドロキシブチルアクリレート、２－ヒドロキシエチルアクリレート、２－ヒドロキシプロピルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート等が挙げられる。このような単官能アクリレートは、日本化成工業株式会社、新中村化学工業株式会社、大阪有機化学工業株式会社等から入手できる。
　単官能アクリレートを用いる場合には、多官能アクリレートと単官能アクリレートの含有質量比で、多官能アクリレート：単官能アクリレート＝８０：２０～９８：２の範囲で含有することが好ましい。
　（光重合開始剤）
　また、ハードコート層を製造する際、ハードコート層の主たる成分になりうる活性線硬化樹脂の原料である上記多官能アクリレート等以外に、この原料の硬化促進のため、光重合開始剤を含有する樹脂組成物を用いることが好ましい。光重合開始剤の含有量としては、質量比で、光重合開始剤：活性線硬化性化合物＝２０：１００～０．０１：１００の範囲で含有することが好ましい。
　光重合開始剤としては、特に限定されない。光重合開始剤は、具体的には、アルキルフェノン系、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α－アミロキシムエステル、チオキサントン等、及び、これらの誘導体等が挙げられる。
　このような光重合開始剤は、市販品を用いてもよく、例えば、ＢＡＳＦジャパン（株）製のイルガキュア１８４、イルガキュア９０７、イルガキュア６５１等が好ましい例示として挙げられる。
　（導電剤）
　ハードコート層には、帯電防止性を付与するために導電剤が含まれていてもよい。すなわち、ハードコート層を形成するために用いる樹脂組成物（ハードコート層形成用樹脂組成物）は、導電材を含有するものであってもよい。好ましい導電剤としては、金属酸化物粒子又はπ共役系導電性ポリマーが挙げられる。また、イオン液体も導電性化合物として好ましく用いられる。
　（添加剤）
　ハードコート層には、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、アニオン界面活性剤、及びフッ素－シロキサングラフト化合物、フッ素系化合物、アクリル共重合物等の添加剤を含有させてもよい。すなわち、ハードコート層を形成するために用いる樹脂組成物は、前記添加剤を含有するものであってもよい。また、添加剤として、ＨＬＢ値が３～１８の範囲内の化合物を含有しても良い。これら添加剤の種類や添加量を調整することで、撥水性を制御できる。
　ＨＬＢ値とは、親水性－親油性－バランス（Ｈｙｄｒｏｐｈｉｌｅ－Ｌｉｐｏｐｈｉｌｅ－Ｂａｌａｎｃｅ）のことである。つまり、ＨＬＢ値は、化合物の親水性又は親油性の大きさを示す値である。ＨＬＢ値が小さいほど親油性が高く、値が大きいほど親水性が高くなる。また、ＨＬＢ値は、以下のような計算式によって求めることができる。
　ＨＬＢ＝７＋１１．７Ｌｏｇ（Ｍｗ／Ｍｏ）
　式中、Ｍｗは親水基の分子量、Ｍｏは親油基の分子量を表し、Ｍｗ＋Ｍｏ＝Ｍ（化合物の分子量）である。ＨＬＢ値が３～１８の範囲内の化合物の具体的化合物としては、下記の化合物が挙げられるが、特にこれらに限定されるものでない。なお、（　）内は、ＨＬＢ値を示す。
　ＨＬＢ値が３～１８の範囲内の化合物としては、花王株式会社製：エマルゲン１０２ＫＧ（６．３）、エマルゲン１０３（８．１）、エマルゲン１０４Ｐ（９．６）、エマルゲン１０５（９．７）、エマルゲン１０６（１０．５）、エマルゲン１０８（１２．１）、エマルゲン１０９Ｐ（１３．６）、エマルゲン１２０（１５．３）、エマルゲン１２３Ｐ（１６．９）、エマルゲン１４７（１６．３）、エマルゲン２１０Ｐ（１０．７）、エマルゲン２２０（１４．２）、エマルゲン３０６Ｐ（９．４）、エマルゲン３２０Ｐ（１３．９）、エマルゲン４０４（８．８）、エマルゲン４０８（１０．０）、エマルゲン４０９ＰＶ（１２．０）、エマルゲン４２０（１３．６）、エマルゲン４３０（１６．２）、エマルゲン７０５（１０．５）、エマルゲン７０７（１２．１）、エマルゲン７０９（１３．３）、エマルゲン１１０８（１３．５）、エマルゲン１１１８Ｓ－７０（１６．４）、エマルゲン１１３５Ｓ－７０（１７．９）、エマルゲン２０２０Ｇ－ＨＡ（１３．０）、エマルゲン２０２５Ｇ（１５．７）、エマルゲンＬＳ－１０６（１２．５）、エマルゲンＬＳ－１１０（１３．４）、エマルゲンＬＳ－１１４（１４．０）、日信化学工業株式会社製：サーフィノール１０４Ｅ（４）、サーフィノール１０４Ｈ（４）、サーフィノール１０４Ａ（４）、サーフィノール１０４ＢＣ（４）、サーフィノール１０４ＤＰＭ（４）、サーフィノール１０４ＰＡ（４）、サーフィノール１０４ＰＧ－５０（４）、サーフィノール１０４Ｓ（４）、サーフィノール４２０（４）、サーフィノール４４０（８）、サーフィノール４６５（１３）、サーフィノール４８５（１７）、サーフィノールＳＥ（６）、信越化学工業株式会社製：Ｘ－２２－４２７２（７）、Ｘ－２２－６２６６（８）、ＫＦ－３５１（１２）、ＫＦ－３５２（７）、ＫＦ－３５３（１０）、ＫＦ－３５４Ｌ（１６）、ＫＦ－３５５Ａ（１２）、ＫＦ－６１５Ａ（１０）、ＫＦ－９４５（４）、ＫＦ－６１８（１１）、ＫＦ－６０１１（１２）、ＫＦ－６０１５（４）、及びＫＦ－６００４（５）等が挙げられる。
　また、シリコーン系界面活性剤としては、ポリエーテル変性シリコーン等を挙げることができ、より具体的には、上記信越化学工業社製のＫＦシリーズ等を挙げることができる。アクリル共重合物としては、例えば、ビックケミー・ジャパン社製のＢＹＫ－３５０、ＢＹＫ－３５２などの市販品化合物等を挙げることができる。フッ素系界面活性剤としては、例えば、ＤＩＣ株式会社製のメガファック　ＲＳシリーズ、メガファックＦ－４４４メガファックＦ－５５６等を挙げることができる。フッ素－シロキサングラフト化合物としては、フッ素系樹脂に、シロキサン及び／又はオルガノシロキサン単体を含むポリシロキサン及び／又はオルガノポリシロキサンをグラフト化させて得られる共重合体の化合物等が挙げられる。この市販品としては、富士化成工業株式会社製のＺＸ－０２２Ｈ、ＺＸ－００７Ｃ、ＺＸ－０４９、ＺＸ－０４７－Ｄ等が挙げられる。また、フッ素系化合物としては、ダイキン工業株式会社製のオプツールＤＳＸ、オプツールＤＡＣ等を挙げることができる。これら成分は、ハードコート組成物中の固形分成分に対し、０．００５質量部以上５質量部以下の範囲で添加することが好ましい。
　（紫外線吸収剤）
　ハードコート層には、紫外線吸収剤を含有させてもよい。すなわち、ハードコート層を形成するために用いる樹脂組成物は、紫外線吸収剤を含有するものであってもよい。紫外線吸収剤を含有する場合のフィルムの構成が２層以上で構成され、基材フィルムがセルロースエステルフィルムである場合、そのセルロースエステルフィルムと接するハードコート層に紫外線吸収剤を含有することが好ましい。
　紫外線吸収剤の含有量としては、質量比で、紫外線吸収剤：ハードコート層を構成する樹脂＝０．０１：１００～１０：１００の範囲で含有することが好ましい。２層以上設ける場合、セルロースエステルフィルムと接するハードコート層の厚みは、０．０５～２μｍの範囲であることが好ましい。２層以上の積層は同時重層で形成しても良い。同時重層とは、乾燥工程を経ずに基材上に２層以上のハードコート層をｗｅｔ　ｏｎ　ｗｅｔで塗布して、ハードコート層を形成することである。第１ハードコート層の上に乾燥工程を経ずに、第２ハードコート層をｗｅｔ　ｏｎ　ｗｅｔで積層するには、押し出しコーターにより逐次重層するか、若しくは複数のスリットを有するスロットダイにて同時重層を行えばよい。
　（溶剤）
　ハードコート層は、上記したハードコート層を形成する成分を、基材フィルムであるセルロースエステルフィルムを膨潤又は一部溶解をする溶剤で希釈して、ハードコート層形成用樹脂組成物とすることが好ましい。すなわち、ハードコート層形成用樹脂組成物には、基材フィルムであるセルロースエステルフィルムに対する良溶媒を含むことが好ましい。そして、このような溶媒を含むハードコート層形成用樹脂組成物を、以下のような方法で、基材フィルム上に塗布、乾燥、硬化してハードコート層を設けることが好ましい。
　溶剤としては、ケトン（メチルエチルケトン、アセトンなど）及び／又は酢酸エステル（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなど）、アルコール（エタノール、メタノール）、プロピレングリコールモノメチルエーテル、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなどが好ましい。ハードコート層形成用樹脂組成物の塗布量は、ウェット膜厚として０．１～４０μｍの範囲が適当で、好ましくは０．５～３０μｍの範囲である。また、ドライ膜厚としては平均膜厚０．０１～２０μｍの範囲、好ましくは０．５～１０μｍの範囲である。より好ましくは、０．５～５μｍの範囲である。
　ハードコート層形成用樹脂組成物の塗布方法は、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、及びインクジェット法等の公知の方法を用いることができる。
　（ハードコート層形成方法）
　ハードコート層の形成方法は、前記のようなハードコート層形成用樹脂組成物を基材フィルム上で硬化させることによって、得られる。具体的には、基材フィルム上に、ハードコート層形成用樹脂組成物を塗布した後、その塗布層を乾燥させ、活性線を照射して硬化させることによって、ハードコート層が形成される。より具体的には、図８に示すような光学フィルムの製造装置を用いて形成する方法等が挙げられる。また、活性線を照射して硬化する方法としては、例えば、ＵＶ硬化処理等が挙げられる。また、ＵＶ硬化処理等の、活性線を照射した硬化処理の後に、必要に応じて、加熱処理を施してもよい。ＵＶ硬化処理等の後の加熱処理温度としては、８０℃以上であることが好ましく、１００℃以上であることがより好ましく、１２０℃以上であることがさらに好ましい。このような高温でＵＶ硬化処理等の後の加熱処理を行うことで、膜強度に優れたハードコート層を得ることができる。
　前記乾燥は、減率乾燥区間の温度を９０℃以上の高温処理で行うことが好ましい。更に好ましくは、減率乾燥区間の温度は９０℃以上、１２５℃以下である。減率乾燥区間の温度を高温処理とすることで、ハードコート層の形成時に塗膜樹脂中で対流が生じ、その結果、ハードコート層表面に不規則な表面粗れが発現しやすく、算術平均粗さＲａに制御しやすい。
　一般に乾燥プロセスは、乾燥が始まると、乾燥速度が一定の状態から徐々に減少する状態へと変化していくことが知られており、乾燥速度が一定の区間を恒率乾燥区間、乾燥速度が減少していく区間を減率乾燥区間と呼ぶ。恒率乾燥区間においては流入する熱量は全て塗膜表面の溶媒蒸発に費やされており、塗膜表面の溶媒が少なくなると蒸発面が表面から内部に移動して減率乾燥区間に入る。これ以降は塗膜表面の温度が上昇し熱風温度に近づいていくため、活性線硬化型樹脂組成物の温度が上昇し、樹脂粘度が低下して流動性が増すと考えられる。
　ＵＶ硬化処理の光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。
　照射条件は、それぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は、通常５０～１０００ｍＪ／ｃｍ２の範囲、好ましくは５０～３００ｍＪ／ｃｍ２の範囲である。また、ＵＶ硬化処理では酸素による反応阻害を防止するため、酸素除去（例えば、窒素パージなどの不活性ガスによる置換）を行うこともできる。酸素濃度の除去量を調整することで、表面の硬化状態を制御できる。活性線を照射する際には、フィルムの搬送方向に張力を付与しながら行うことが好ましく、更に好ましくは幅方向にも張力を付与しながら行うことである。付与する張力は３０～３００Ｎ／ｍが好ましい。張力を付与する方法は特に限定されず、バックローラー上で搬送方向に張力を付与してもよく、テンターにて幅方向、又は２軸方向に張力を付与してもよい。これによって更に平面性の優れたフィルムを得ることができる。
　（ヘイズ）
　ハードコートフィルムのヘイズは、画像表示装置に用いた場合の視認性から０．２～１０％の範囲内であることが好ましい。ヘイズは、ＪＩＳ－Ｋ７１０５及びＪＩＳ　Ｋ７１３６に準じて測定できる。
　（硬度）
　ハードコートフィルムは、硬度の指標である鉛筆硬度がＨＢ以上、より好ましくはＨ以上である。ＨＢ以上であれば、このハードコートフィルムを用いて偏光板を製造する工程で、傷が付きにくい。鉛筆硬度は、作製した光学性フィルムを温度２３℃、相対湿度５５％の条件で２時間以上調湿した後、加重５００ｇ条件でＪＩＳ　Ｓ６００６が規定する試験用鉛筆を用いて、ハードコート層及び又は機能性層をＪＩＳ　Ｋ５４００が規定する鉛筆硬度評価方法に従い測定した値である。
　また、機能性層としては、上記ハードコート層以外の他の層であってもよい。また、ハードコート層上に他の層を備えるものであってもよい。具体的には、以下のような層を備えてもよい。
　＜他の層＞
　他の層としては、光学フィルムに備える層であれば特に限定されない。具体的には、反射防止層や導電性層等が挙げられる。また、ハードコート層上に他の層を備える場合、ハードコートフィルムには、そのフィルム上や、ハードコート層と基材フィルムとの間等に、反射防止層や導電性層等の、他の層を設けることができる。
　ハードコートフィルムは、ハードコート層上に反射防止層を塗設して、外光反射防止機能を有する反射防止フィルムとして用いることができる。
　反射防止層は、光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して積層されていることが好ましい。反射防止層は、支持体である保護フィルムよりも屈折率の低い低屈折率層、若しくは支持体である保護フィルムよりも屈折率の高い高屈折率層と低屈折率層を組み合わせて構成されていることが好ましい。特に好ましくは、３層以上の屈折率層から構成される反射防止層であり、支持体側から屈折率の異なる３層を、中屈折率層（支持体よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）／高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているものが好ましく用いられる。又は、２層以上の高屈折率層と２層以上の低屈折率層とを交互に積層した４層以上の層構成の反射防止層も好ましく用いられる。層構成としては下記のような構成が考えられるが、これに限定されるものではない。
　セルロースエステルフィルム（基材フィルム）／ハードコート層／低屈折率層
　セルロースエステルフィルム／ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層
　セルロースエステルフィルム／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
　ハードコート層／セルロースエステルフィルム／ハードコート層／低屈折率層
　ハードコート層／セルロースエステルフィルム／ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層
　ハードコート層／セルロースエステルフィルム／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
　低屈折率層／ハードコート層／セルロースエステルフィルム／ハードコート層／低屈折率層
　（低屈折率層）
　低屈折率層は、シリカ系微粒子を含有することが好ましく、その屈折率は、２３℃、波長５５０ｎｍ測定で、１．３０～１．４５の範囲であることが好ましい。
　低屈折率層の膜厚は、５ｎｍ～０．５μｍの範囲内であることが好ましく、１０ｎｍ～０．３μｍの範囲内であることが更に好ましく、３０ｎｍ～０．２μｍの範囲内であることが最も好ましい。
　低屈折率層形成用組成物については、シリカ系微粒子として、特に外殻層を有し内部が多孔質又は空洞の粒子を少なくとも１種類以上含むことが好ましい。特に該外殻層を有し内部が多孔質又は空洞である粒子が、中空シリカ系微粒子であることが好ましい。
　なお、低屈折率層形成用組成物には、下記一般式（ＯＳｉ－１）で表される有機珪素化合物若しくはその加水分解物、あるいは、その重縮合物を併せて含有させても良い。
　一般式（ＯＳｉ－１）：Ｓｉ（ＯＲ）４
　一般式で表される有機珪素化合物は、式中、Ｒは炭素数１～４のアルキル基を表す。具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等が好ましく用いられる。
　他に溶剤、必要に応じて、シランカップリング剤、硬化剤、界面活性剤等を添加してもよい。またフッ素原子を３５～８０質量％の範囲で含み、且つ架橋性若しくは重合性の官能基を含む含フッ素化合物を主としてなる熱硬化性及び／又は光硬化性を有する化合物を含有しても良い。具体的には含フッ素ポリマー、あるいは含フッ素ゾルゲル化合物などである。含フッ素ポリマーとしては、例えばパーフルオロアルキル基含有シラン化合物〔例えば（ヘプタデカフルオロ－１，１，２，２－テトラヒドロデシル）トリエトキシシラン〕の加水分解物や脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性単位とを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。その他、溶剤、必要に応じて、シランカップリング剤、硬化剤、界面活性剤等を添加してもよい。
　（高屈折率層）
　高屈折率層の屈折率は、２３℃、波長５５０ｎｍ測定で、屈折率を１．４～２．２の範囲に調整することが好ましい。また、高屈折率層の厚さは５ｎｍ～１μｍが好ましく、１０ｎｍ～０．２μｍであることが更に好ましく、３０ｎｍ～０．１μｍであることが最も好ましい。屈折率を調整する手段は、金属酸化物微粒子等を添加することで達成できる。
　また用いる金属酸化物微粒子の屈折率は１．８０～２．６０であるものが好ましく、１．８５～２．５０であるものが更に好ましい。
　金属酸化物微粒子の種類は特に限定されるものではなく、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐ及びＳから選択される少なくとも一種の元素を有する金属酸化物を用いることができる。
　（導電性層）
　ハードコートフィルムには、ハードコート層上に導電性層を形成しても良い。設けられる導電性層としては、一般的に広く知られた導電性材料を用いることができる。例えば、酸化インジウム、酸化錫、酸化インジウム錫、金、銀、パラジウム等の金属酸化物を用いることができる。これらは、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、溶液塗布法等により、ハードコートフィルム上に薄膜として形成することができる。また、前記したπ共役系導電性ポリマーである有機導電性材料を用いて、導電性層を形成することも可能である。
　特に、透明性、導電性に優れ、比較的低コストに得られる酸化インジウム、酸化錫又は酸化インジウム錫のいずれかを主成分とした導電性材料を好適に使用することができる。導電性層の厚さは、適用する材料によっても異なるため一概には言えないが、表面抵抗率で１０００Ω以下、好ましくは５００Ω以下になるような厚さであって、経済性をも考慮すると、１０ｎｍ以上、好ましくは２０ｎｍ以上、８０ｎｍ以下、好ましくは７０ｎｍ以下の範囲が好適である。このような薄膜においては導電性層の厚さムラに起因する可視光の干渉縞は発生しにくい。
　本明細書は、上述したように、様々な態様の技術を開示しているが、そのうち主な技術を以下に纏める。
　本発明の一局面は、幅手方向両端部に長手方向に沿ってエンボス部を有する長尺状の樹脂フィルムを製造する工程と、前記樹脂フィルムを巻芯にロール状に巻き取る巻取工程とを備え、前記巻取工程は、前記巻芯に巻き取られ始める樹脂フィルムの位置における、巻き取られている樹脂フィルムの積算の厚みをｘ軸とし、前記樹脂フィルムの幅手方向の中心位置と、前記巻芯の幅手方向の中心位置との距離をｙ軸とした関数ｆ（ｘ）と前記ｘ軸とで囲まれる面積が、前記ｆ（ｘ）と振幅及び周期が同一の正弦波振動の関数ａ（ｘ）と前記ｘ軸とで囲まれる面積より大きく、前記ｆ（ｘ）と振幅及び周期が同一の矩形波振動の関数ｂ（ｘ）と前記ｘ軸とで囲まれる面積より小さくなるように、前記樹脂フィルム及び前記巻芯の少なくとも一方を、前記樹脂フィルムの幅手方向に周期的に振動させながら、前記樹脂フィルムを前記巻芯に巻き取る振動巻取工程を備える光学フィルムロールの製造方法である。
　このような構成によれば、長期間保存しても、変形の発生が充分に抑制された光学フィルムロールの製造方法を提供することができる。
　このことは、前記振動巻取工程における、樹脂フィルムと巻芯との相対的な位置を変化させる振動が、樹脂フィルムを巻芯に巻き取ったフィルムロールの状態での、エンボス部の重なり合いを効果的に低減させる振動であることによると考えられる。
　また、得られた光学フィルムロールの側面形状が、前記振動によって波状になる。この側面形状が、正弦波振動の場合より、上記ｆ（ｘ）での振動による場合のほうが、波形状の凸部頂部の尖りが緩やかになる。よって、光学フィルムロールの側面形状の損傷の発生も抑制できる。
　また、前記光学フィルムロールの製造方法において、前記振動巻取工程における前記振動の振幅が、前記巻芯に巻き取られ始める樹脂フィルムの位置における、巻き取られている樹脂フィルムの積算の厚みが大きくなるに従って、徐々に大きくなることが好ましい。
　このような構成によれば、変形の発生がより抑制された光学フィルムロールを製造することができる。このことは、以下のことによると考えられる。まず、振動の振幅が大きいと、光学フィルムロールから繰り出されて用いられる樹脂フィルムの、実際に用いることができる幅が短くなるものの、エンボス部の重なり合いをより抑制でき、変形の発生をより抑制できると考えられる。そして、樹脂フィルムが巻芯に巻き取られていくにつれて、巻き取られている樹脂フィルムの積算の厚みが大きくなり、変形が発生しやすくなると考えられる。このような変形が発生しやすくなる、樹脂フィルムの積算の厚みが大きい場合に、変形の発生をより抑制できる、振幅の大きい振動を適用することによって、変形の発生をより抑制できると考えられる。一方、変形が発生しにくい、巻き始めは、振幅の小さい振動を適用しても、変形の発生を充分に抑制できると考えられる。これらのことから、上記の構成によれば、巻き取られている樹脂フィルムの積算の厚みに応じて、変形の発生を効率的に抑制できると考えられる。
　また、前記光学フィルムロールの製造方法において、前記振動巻取工程における前記振動の周期が、前記巻芯に巻き取られ始める樹脂フィルムの位置における、巻き取られている樹脂フィルムの積算の厚みが大きくなるに従って、徐々に小さくなることが好ましい。
　このような構成によれば、変形の発生をより抑制できる。このことは、以下のことによると考えられる。まず、振動の周期が小さいと、巻きずれが発生しやすくなるが、樹脂フィルムへの負荷は低減できると考えられる。そして、樹脂フィルムが巻芯に巻き取られていくにつれて、巻き取られている樹脂フィルムの積算の厚みが大きくなり、変形が発生しやすくなると考えられる。このような変形が発生しやすくなる、樹脂フィルムの積算の厚みが大きい場合に、樹脂フィルムへの負荷を低減できる周期の小さい振動を適用することによって、変形の発生をより抑制できると考えられる。これらのことから、上記の構成によれば、巻き取られている樹脂フィルムの積算の厚みに応じて、変形の発生を効率的に抑制できると考えられる。
　また、前記光学フィルムロールの製造方法において、前記巻取工程が、前記振動巻取工程の後に、前記樹脂フィルムの幅手方向の中心位置と、前記巻芯の幅手方向の中心位置との距離を変動させずに、前記樹脂フィルムを前記巻芯に巻き取る工程を備えることが好ましい。
　光学フィルムロールを製造する際、樹脂フィルムを最後まで、前記振動巻取工程で巻き取ると、得られた光学フィルムロールから、樹脂フィルムを繰り出し始めた際に、樹脂フィルムの蛇行等により円滑に繰り出せない場合があったが、上記構成によれば、得られた光学フィルムロールから、樹脂フィルムを円滑に繰り出すことができる。すなわち、振動巻取工程の後に、上記のような振動させない巻取を行うので、樹脂フィルムの繰り出し開始直後に発生しうる繰り出しの不具合を抑制することができ、さらに、振動巻取工程で樹脂フィルムを巻き取った部分で、光学フィルムロールの変形を抑制することができる。
　また、前記光学フィルムロールの製造方法において、前記樹脂フィルムの厚みが、１０～３５μｍであることが好ましい。
　このような構成によれば、樹脂フィルムが従来の樹脂フィルムより薄いので、光学フィルムロールの巻長を長くすることができる。また、このような薄膜化された樹脂フィルムの場合、上述したように、光学フィルムロールの変形が発生しやすいが、本発明の一態様に係る光学フィルムロールの製造方法で、光学フィルムロールを製造することによって、変形の発生が充分に抑制された光学フィルムロールが得られる。
　また、前記光学フィルムロールの製造方法において、前記エンボス部は、複数の凸部を有し、前記複数の凸部のうち、前記エンボス部の幅手方向中央部に存在する凸部が、前記エンボス部の幅手方向両端部に存在する凸部より低いことが好ましい。
　このような構成によれば、変形の発生をより抑制できる。このことは、樹脂フィルムを巻き取る際、前記振動巻取工程を適用しても、エンボス部の幅手方向中央部に存在する凸部による重なり合いが厚くなってしまうことを、上記構成によれば、抑制することができることによると考えられる。
　また、前記光学フィルムロールの製造方法において、前記樹脂フィルムが、偏光板保護フィルムとして用いられる光学フィルムであることが好ましい。
　このような構成によれば、偏光板保護フィルムとして用いられる光学フィルムを、樹脂フィルムとして、本発明の一態様に係る光学フィルムロールの製造方法で光学フィルムロールを製造すると、光学フィルムロールの変形に基づく不具合の発生が充分に抑制された光学フィルムを順次繰り出して提供することができる光学フィルムロールが得られる。
　また、前記光学フィルムロールの製造方法において、前記樹脂フィルムが、液晶表示装置用の光学補償フィルムとして用いられる位相差フィルムであることが好ましい。
　このような構成によれば、液晶表示装置用の光学補償フィルムとして用いられる位相差フィルムを、樹脂フィルムとして、本発明の一態様に係る光学フィルムロールの製造方法で光学フィルムロールを製造すると、光学フィルムロールの変形に基づく不具合の発生が充分に抑制された位相差フィルムを順次繰り出して提供することができる光学フィルムロールが得られる。
　また、前記光学フィルムロールの製造方法において、前記樹脂フィルムが、基材フィルムと、前記基材フィルム上に存在する機能性層とを備える光学フィルムであることが好ましい。
　このような構成によれば、前記光学フィルムを、樹脂フィルムとして、本発明の一態様に係る光学フィルムロールの製造方法で光学フィルムロールを製造すると、光学フィルムロールの変形に基づく不具合の発生が充分に抑制された光学フィルムを順次繰り出して提供することができる光学フィルムロールが得られる。また、前記光学フィルムは、基材フィルムと機能性層とを少なくとも備えるので、自重による変形が起こりやすい。このような光学フィルムを樹脂フィルムとして用いても、本発明の一態様に係る光学フィルムロールの製造方法で、光学フィルムロールを製造することによって、変形の発生が充分に抑制された光学フィルムロールが得られる。
　以下に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明は、これらに限定されるものではない。なお、実施例における「部」または「％」の表示は、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表すものとする。
　［実施例１］
　実施例１は、樹脂フィルムとして、偏光板保護フィルムとして用いることが可能な光学フィルムを用いた。具体的には、以下のようなセルローストリアセテートフィルムを用いた。
　（二酸化ケイ素分散液の調製）
　ドープに添加する二酸化ケイ素分散液の調製について説明する。
　まず、二酸化ケイ素（アエロジル　Ｒ８１２　日本アエロジル（株）製、１次粒子の平均径７ｎｍ）１０質量部及びエタノール９０質量部を、ディゾルバーで３０分間攪拌混合した後、マントンゴーリン分散機を用いて分散を行い、分散液を調製した。
　そして、溶解タンクにメチレンクロライドを８８質量部入れ、メチレンクロライドを充分に攪拌しながら上記調製した分散液をゆっくりと添加し、ディゾルバーで３０分間攪拌混合した。得られた分散液を、微粒子分散希釈液濾過器（アドバンテック東洋株式会社製：ポリプロピレンワインドカートリッジフィルターＴＣＷ－ＰＰＳ－１Ｎ）で濾過して、二酸化ケイ素分散液を調製した。
　（ドープの調製）
　次に、ドープの調製について説明する。
　まず、メチレンクロライド４３２質量部及びエタノール３８質量部を入れた溶解タンクに、透明性樹脂としてセルローストリアセテート樹脂（リンター綿から合成されたセルローストリアセテート、アセチル基の置換度２．８８、Ｍｎ＝１４００００）９０質量部を添加し、下記式（Ｘ－１）で表されるエステル化合物５質量部、下記式（Ｘ－１２）で表されるエステル化合物４質量部、チヌビン９２８（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）３質量部、及び上記二酸化ケイ素分散液４質量部を添加した。そして、加熱条件下で攪拌することによって、樹脂成分を溶解させた。そうすることによって得られた樹脂溶液を、安積濾紙株式会社製の安積濾紙Ｎｏ．２４を使用して濾過した。このようにして得られた樹脂溶液を、ドープとして使用して、以下のように、樹脂フィルムを製造した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
　（光学フィルムロールの製造）
　図６に示すような、溶液流延製膜法による樹脂フィルムの製造装置を用いて、光学フィルムロールを製造した。まず、ステンレス鋼製の無端ベルト支持体に流延ダイ（コートハンガーダイ）から、上記ドープを流延した。そして、無端ベルト支持体に流延されたウェブの残留溶媒量が１００質量になるまで、ウェブを乾燥（ウェブ中の溶媒を蒸発）させた後、ウェブを無端ベルト支持体からフィルムとして剥離した。
　剥離したフィルムを、３５℃でさらに乾燥させ、１．１５ｍ幅にスリットした。その後、スリットしたフィルムを、延伸装置（テンター）を用いて、幅手方向（ＴＤ方向）に１．１５倍に延伸し、１４０℃でさらに乾燥させた。その後、装置内を１２０℃になるように設定した乾燥装置内を、多数のローラでフィルムを搬送させながら、フィルムを１５分間乾燥させた後、１．３ｍ幅にスリットした。その後、エンボス形成装置で、フィルムの両端部に、図５（ａ）に示すような形状であって、幅１０ｍｍ高さ５μｍのエンボス部を形成するナーリング加工を施した。なお、フィルムの厚みが、２５μｍとなるように、樹脂フィルムを製造した。また、無端ベルト支持体の回転速度とテンターの運転速度とから算出されるＭＤ方向の延伸倍率は、１．０１倍であった。また、ここで得られた樹脂フィルムを、ＴＡＣ１とも称する。
　次に、得られた樹脂フィルムを、巻取装置を用いて巻芯にロール状に巻き取ることによって、光学フィルムロールを製造した。具体的には、以下のように製造した。ナーリング加工を施したフィルムを、巻芯に、速度８０ｍ／分、巻き取り初期張力１４０Ｎ、巻き終わり張力９０Ｎ、タッチローラのニップ力は２０Ｎで一定として、４０００ｍ巻き取り、光学フィルムロールを作製した。また、樹脂フィルムを巻芯に巻き取る際、巻芯を振動させながら巻き取る振動巻取（オシレート巻き）を施した。また、その振動が、図９に示す曲線６１で表される関数ｆ（ｘ）となるような振動となるように振動させた。そうすることによって、実施例１に係る光学フィルムロールが得られた。なお、図９は、実施例及び比較例における振動巻取工程での振動を説明するためのグラフである。
　［実施例２］
　実施例１で用いたＴＡＣ１の代わりに、ＴＡＣ１と同組成で、厚みが、４０μｍとなるように製造したフィルム（ＴＡＣ３）を用いたこと以外、実施例１と同様である。
　［実施例３］
　実施例１で用いたＴＡＣ１の代わりに、ＴＡＣ１と同組成で、厚みが、３０μｍとなるように製造したフィルム（ＴＡＣ２）を用いたこと以外、実施例１と同様である。
　［実施例４］
　実施例４は、樹脂フィルムとして、液晶表示装置用の光学補償フィルムとして用いることが可能な位相差フィルムを用いた。具体的には、以下のようなセルロースアセテートプロピオネートフィルムを用いた。
　（微粒子添加液の調製）
　ドープに添加する微粒子添加液について説明する。
　まず、微粒子（日本アエロジル（株）製のアエロジルＲ９７２Ｖ、一次粒径の平均径１６ｎｍ、みかけ比重９０ｇ／Ｌ）１１質量部及びエタノール８９質量部をディゾルバーで５０分間攪拌混合した後、マントンゴーリン分散機を用いて分散を行い、微粒子分散液を調製した。
　そして、溶解タンクにメチレンクロライドを９９質量部入れ、メチレンクロライドを充分に攪拌した後に、安積濾紙株式会社製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過した。濾過により得られた濾液を充分に攪拌しながら、上記調製した微粒子分散液１１質量部をゆっくりと添加した。さらに、二次粒子の粒径が、所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線株式会社製のファインメットＮＦで濾過して、微粒子添加液を調製した。
　（ドープの調製）
　次に、ドープの調製について説明する。
　まず、メチレンクロライド３９０質量部及びエタノール８０質量部を入れた加圧溶解タンクに、透明性樹脂としてセルロースアセテートプロピオネート（アセチル基の置換度１．５、プロピオニル基の置換度１、アシル基の総置換度２．５）１００質量部を添加し、下記の製法により得られる芳香族末端エステル化合物５質量部、及びトリメチロールプロパントリベンゾエート５．５質量部を添加した。そして、加熱条件下で攪拌することによって、樹脂成分を溶解させた。そうすることによって得られた樹脂溶液を、安積濾紙株式会社製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過した。次に、このようにして得られた樹脂溶液１００質量部と、上記微粒子添加液５質量部とを、インラインミキサ（東レ株式会社製の静止型管内混合機Ｈｉ－Ｍｉｘｅｒ、ＳＷＪ）で充分に攪拌して得られた液体を、ドープとして使用して、以下のように、樹脂フィルムを製造した。
　（芳香族末端エステル化合物の製造）
　反応容器に、フタル酸４１０質量部、安息香酸６１０質量部、１，３－プロパンジオール４１８質量部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．３５質量部を一括して仕込んだ。その後、窒素気流中で攪拌下、還流凝縮器を付して過剰の１価アルコールを還流させながら、酸価が２以下になるまで１３０～２５０℃で加熱を続け生成する水を連続的に除去した。次いで、２００～２３０℃で４００Ｐａ以下の減圧下、留出分を除去し、この後、濾過した。そうすることによって、次の性状を有する芳香族末端エステルが得られた。
　粘度（２５℃、ｍＰａ・ｓ）；３７０００
　酸価　　　　　　　　　　　；０．０５
　（光学フィルムロールの製造）
　図６に示すような、溶液流延製膜法による樹脂フィルムの製造装置を用いて、光学フィルムロールを製造した。まず、温度を３５℃に調整した上記ドープを、流延幅が１６５０ｍｍとなるように、流延ダイ（コートハンガーダイ）から長さ１００ｍの無端ベルト支持体に流延した。無端ベルト支持体としては、表面を鏡面に研磨した幅１８００ｍｍのステンレス鋼製のエンドレスベルトからなる無端ベルト支持体を用いた。
　そして、無端ベルト支持体に流延されたウェブを、無端ベルト支持体の回転により、１．５分間移動させた後、剥離ローラを用いて、剥離張力１００Ｎ／ｍで、無端ベルト支持体からフィルムとして剥離した。なお、剥離時には、１０℃の冷風をウェブに吹きつけた。また、一軸延伸装置までの搬送張力は、２００Ｎ／ｍとした。
　剥離したフィルムを、クリップテンターを使用した一軸延伸装置を用いて、幅手方向（ＴＤ方向）に３０％延伸した。なお、延伸後のフィルムの残留溶媒量が７質量％となるように、延伸時に、フィルムに加熱風を吹きつけ、加熱風の温度を調整した。
　乾燥装置内を、多数のローラでフィルムを搬送させながら、フィルムを乾燥させた。なお、乾燥後のフィルムの残留溶媒量が０．０１質量％となるように、乾燥装置内の加熱風の温度を調整した。その後、エンボス形成装置で、フィルムの両端部に、図５（ａ）に示すような形状であって、幅１０ｍｍ高さ５μｍのエンボス部を形成するナーリング加工を施した。なお、フィルムの厚みが、３０μｍとなるように、樹脂フィルムを製造した。また、ここで得られた樹脂フィルムは、位相差フィルムであり、ここでは、ＣＡＰと称する。
　次に、得られた樹脂フィルムを、巻取装置を用いて巻芯にロール状に巻き取ることによって、光学フィルムロールを製造した。具体的には、以下のように製造した。ナーリング加工を施したフィルムを、巻芯に、速度８０ｍ／分、巻き取り初期張力１６５Ｎ、巻き終わり張力１０５Ｎ、タッチローラのニップ力は２４Ｎで一定として、４０００ｍ巻き取り、光学フィルムロールを作製した。また、樹脂フィルムを巻芯に巻き取る際、巻芯を振動させながら巻き取る振動巻取（オシレート巻き）を施した。また、その振動が、図９に示す曲線６１で表される関数ｆ（ｘ）となるような振動となるように振動させた。そうすることによって、実施例４に係る光学フィルムロールが得られた。
　［実施例５］
　実施例５は、樹脂フィルムとして、基材フィルムと、前記基材フィルム上に存在する機能性層とを備える光学フィルムを用いた。具体的には、以下のような、機能性層として、ハードコート層を備えたハードコートフィルムを用いた。
　（基材フィルム）
　基材フィルムとしては、実施例１におけるセルローストリアセテートフィルムを用いた。すなわち、実施例１における、ナーリング加工を施す前の樹脂フィルムを用いた。
　（ハードコート層形成用樹脂組成物）
　活性線硬化性化合物としてのペンタエリスリトールトリ／テトラアクリレート（新中村化学工業（株）製のＮＫエステルＡ－ＴＭＭ－３Ｌ）７０質量部、トリメチロールプロパントリアクリレート（新中村化学工業（株）製のＡ－ＴＭＰＴ）３０質量部、イルガキュア１８４（ＢＡＳＦジャパン（株）製）６質量部、添加剤としてのポリエーテル変性シリコーンオイル（信越化学工業株式会社製のＫＦ－３５４Ｌ）２質量部を、プロピレングリコールモノメチルエーテル２０質量部と酢酸メチル３０質量部とメチルエチルケトン７０質量部との混合溶媒に投入し、攪拌して、樹脂組成物を調製した。得られた樹脂組成物を、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して、ハードコート層形成用樹脂組成物を調製した。
　（ハードコート層の形成）
　まず、上記基材フィルムの、製造時に無端ベルト支持体に接触していない面（Ａ面）上に、前記ハードコート層形成用樹脂組成物を、押し出しコーターを用いて塗布した。表面上にハードコート層形成用樹脂組成物が塗布されたフィルムを、装置内温度５０℃の乾燥装置内に搬送することにより、乾燥させた。その後、酸素濃度が１体積％以下の雰囲気下となるように窒素パージしながら、乾燥させたフィルムの塗布側に、紫外線ランプを用いて、紫外線を照射した。その際、照度が１００ｍＷ／ｃｍ２で、照射量を０．２Ｊ／ｃｍ２となるように紫外線を照射した。そうすることによって、ハードコート層が形成された。なお、ハードコート層の厚みが２．５μｍになるように、ハードコート層を形成した。その後、エンボス形成装置で、フィルムの両端部に、図５（ａ）に示すような形状であって、幅１０ｍｍ高さ５μｍのエンボス部を形成するナーリング加工を施した。このようにして得られた、ハードコート層を形成したフィルムは、ハードコートフィルムであり、ここでは、ＨＣ－ＴＡＣと称する。
　次に、得られたフィルムを、巻取装置を用いて巻芯にロール状に巻き取ることによって、光学フィルムロールを製造した。具体的には、以下のように製造した。ナーリング加工を施したフィルムを、巻芯に、速度３０ｍ／分、巻き取り初期張力２５０Ｎ、巻き終わり張力１５０Ｎで一定として、４０００ｍ巻き取り、光学フィルムロールを作製した。なお、ここでは、タッチローラを用いなかった。また、樹脂フィルムを巻芯に巻き取る際、巻芯を振動させながら巻き取る振動巻取（オシレート巻き）を施した。また、その振動が、図９に示す曲線６１で表される関数ｆ（ｘ）となるような振動となるように振動させた。そうすることによって、実施例５に係る光学フィルムロールが得られた。
　［実施例６］
　樹脂フィルムを巻芯に巻き取る際、オシレート巻きにおける振動の振幅が、巻芯に巻き取られた樹脂フィルムの積算の厚みが大きくなるに従って、徐々に大きくなるようにしたこと以外、実施例１と同様である。具体的には、巻き始めのときは、振動の振幅が５ｍｍで、徐々に大きくなり、巻き終わりの時には、振動の振幅が７ｍｍとなるようにした。
　［実施例７］
　樹脂フィルムを巻芯に巻き取る際、オシレート巻きにおける振動の周期が、巻芯に巻き取られた樹脂フィルムの積算の厚みが大きくなるに従って、徐々に小さくなるようにしたこと以外、実施例１と同様である。具体的には、巻き始めのときは、振動の周期が１６０ｍｍで、徐々に小さくなり、巻き終わりの時には、振動の周期が１００ｍｍとなるようにした。
　［実施例８］
　実施例１で用いたＴＡＣ１の代わりに、ナーリング加工の際に、図５（ｂ）に示すような形状のエンボス部を形成させたフィルム（ＴＡＣ４）を用いたこと以外、実施例１と同様である。
　［比較例１］
　樹脂フィルムを巻芯に巻き取る際、樹脂フィルムと巻芯との中心間距離が変化しないように巻き取ること以外、実施例１と同様である。すなわち、樹脂フィルムの幅手方向の中心位置と、巻芯の幅手方向の中心位置との距離を変動させずに、樹脂フィルムを巻芯に巻き取ること以外、実施例１と同様である。
　［比較例２］
　オシレート巻きの際の振動が、図９に示す曲線６２で表される関数ａ（ｘ）となるような振動となるように振動させたこと以外、実施例１と同様である。すなわち、オシレート巻きの際の振動が、前記ｆ（ｘ）と振幅及び周期が同一の正弦波振動の関数ａ（ｘ）となるような振動となるように振動させたこと以外、実施例１と同様である。
　［比較例３］
　ＴＡＣ１の代わりに、ＴＡＣ３を用いたこと以外、比較例１と同様である。
　［比較例４］
　ＴＡＣ１の代わりに、ＴＡＣ３を用いたこと以外、比較例２と同様である。
　［比較例５］
　ＴＡＣ１の代わりに、ＴＡＣ２を用いたこと以外、比較例２と同様である。
　［比較例６］
　樹脂フィルムを巻芯に巻き取る際、樹脂フィルムと巻芯との中心間距離が変化しないように巻き取ること以外、実施例１と同様である。すなわち、樹脂フィルムの幅手方向の中心位置と、巻芯の幅手方向の中心位置との距離を変動させずに、樹脂フィルムを巻芯に巻き取ること以外、実施例４と同様である。
　［比較例７］
　オシレート巻きの際の振動が、図９に示す曲線６２で表される関数ａ（ｘ）となるような振動となるように振動させたこと以外、実施例１と同様である。すなわち、オシレート巻きの際の振動が、前記ｆ（ｘ）と振幅及び周期が同一の正弦波振動の関数ａ（ｘ）となるような振動となるように振動させたこと以外、実施例４と同様である。
　［比較例８］
　樹脂フィルムを巻芯に巻き取る際、樹脂フィルムと巻芯との中心間距離が変化しないように巻き取ること以外、実施例１と同様である。すなわち、樹脂フィルムの幅手方向の中心位置と、巻芯の幅手方向の中心位置との距離を変動させずに、樹脂フィルムを巻芯に巻き取ること以外、実施例５と同様である。
　［比較例９］
　オシレート巻きの際の振動が、図９に示す曲線６２で表される関数ａ（ｘ）となるような振動となるように振動させたこと以外、実施例１と同様である。すなわち、オシレート巻きの際の振動が、前記ｆ（ｘ）と振幅及び周期が同一の正弦波振動の関数ａ（ｘ）となるような振動となるように振動させたこと以外、実施例５と同様である。
　実施例１～８及び比較例１～９における各条件を、下記表１にまとめて示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　上記のようにして得られた各光学フィルムロールに対して、以下の評価を行い、その結果を、表２に示す。
　［フィルムロールの耐久試験評価］
　上記のようにして得られた各光学フィルムロールに対して、それぞれ長期保管を想定した耐久試験を行った。具体的には、上記のようにして得られた各光学フィルムロールを、それぞれアルミ防湿シートに包んだ状態で、５０℃相対湿度８０％の恒温槽で１０日保存した。１０日間保存後、アルミ防湿シートを外した。そして、光学フィルムロールの外観を評価した。その結果、光学フィルムロールの幅手方向中央部が下方に凹む等の凹変形の面積が、その結果、光学フィルムロールの幅手方向中央部が、下方に凹む等の凹変形が発生している面積が、フィルムロールの表面の全面に対して、５％以下であれば、「◎」と評価し、５％を超え２０％以下であれば、「○」と評価し、２０％を超え５０％未満であれば、「△」と評価し、５０％以上であれば、「×」と評価した。
　［液晶表示装置における評価（表示特性）］
　次に、上記のようにして得られた各光学フィルムロールから繰り出されたフィルムを適用した液晶表示装置の表示特性を評価した。
　まず、以下のように、図１０に示すような偏光板を備える液晶表示装置を製造した。なお、図１０は、実施例及び比較例での評価に用いる液晶表示装置に備えられる偏光板の構成の概略を示す模式図である。
　ここでの偏光板１０１としては、視認側から順に、ハードコートフィルム１０２と、偏光膜１０５と、位相差フィルム１０６と、液晶層と貼り合せるための粘着層１０７とを備えた偏光板が挙げられる。ハードコートフィルム１０２は、ハードコート層１０３と基材フィルム１０４とを積層したフィルムである。ハードコートフィルム１０２は、基材フィルム１０４側を偏光膜１０５に貼りあわせる。また、偏光板１０１としては、ハードコートフィルム１０２の代わりに、ハードコート層１０３を備えていない光学フィルム（偏光板保護フィルム）であってもよい。
　本評価において、各光学フィルムロールから繰り出されたフィルムが、偏光板保護フィルムやハードコートフィルムである場合は、視認側に配置した。また、各光学フィルムロールから繰り出されたフィルムが、位相差フィルムである場合は、液晶層側に配置した。具体的には、実施例１～３、実施例５～８、比較例１～５、及び比較例８，９に係る光学フィルムロールから繰り出されたフィルムは、図１０におけるハードコートフィルム１０２の代わりに適用した。また、実施例４、及び比較例６，７に係る光学フィルムロールから繰り出されたフィルムは、図１０における位相差フィルム１０６の代わりに適用した。また、本実施例及び比較例を適用しない場合、図１０におけるハードコートフィルム１０２の箇所には、偏光板保護フィルム（コニカミノルタ社製のＫＣ４ＵＹ）を用い、位相差フィルム１０６としては、厚さ４０μｍの位相差フィルム（コニカミノルタ社製のＫＣ４ＤＲ－１）を用いた。なお、フィルムは、前記フィルムロールの耐久試験を行った後のフィルムロールから繰り出されたフィルムを用いた。
　より具体的には、以下のように製造した。
　（ａ）偏光膜の作製
　鹸化度９９．９５モル％、重合度２４００のポリビニルアルコール（以下、ＰＶＡと略記する）１００質量部に、グリセリン１０質量部、及び水１７０質量部を含浸させたものを溶融混練し、脱泡後、Ｔダイから金属ローラー上に溶融押出し、製膜した。その後、乾燥・熱処理して、ＰＶＡフィルムを得た。
　得られたＰＶＡフィルムは、平均厚さが２５μｍ、水分率が４．４％、フィルム幅が３ｍであった。次に、得られたＰＶＡフィルムを、予備膨潤、染色、湿式法による一軸延伸、固定処理、乾燥、熱処理の順番で、連続的に処理して、偏光膜を作製した。すなわち、ＰＶＡフィルムを温度３０℃の水中に３０秒間浸して予備膨潤し、ヨウ素濃度０．４ｇ／リットル、ヨウ化カリウム濃度４０ｇ／リットルの温度３５℃の水溶液中に３分間浸した。続いて、ホウ酸濃度４％の５０℃の水溶液中でフィルムにかかる張力が７００Ｎ／ｍの条件下で、６倍に一軸延伸を行い、ヨウ化カリウム濃度４０ｇ／リットル、ホウ酸濃度４０ｇ／リットル、塩化亜鉛濃度１０ｇ／リットルの温度３０℃の水溶液中に５分間浸漬して固定処理を行った。その後、ＰＶＡフィルムを取り出し、温度４０℃で熱風乾燥し、更に温度１００℃で５分間熱処理を行った。そうすることによって、偏光膜が得られた。得られた偏光膜は、平均厚さが１３μｍ、偏光性能については透過率が４３．０％、偏光度が９９．５％、２色性比が４０．１であった。
　（ｂ）偏光板の作製
　下記工程１～４に従って、偏光板保護フィルム又はハードコートフィルム１０２と、偏光膜１０５と、位相差フィルム１０６とを貼り合わせて偏光板を作製した。
　工程１：前述の偏光膜を固形分２質量％のポリビニルアルコール接着剤溶液の貯留槽中に１～２秒間浸漬した。
　工程２：偏光板保護フィルム又はハードコートフィルムと位相差フィルムを下記条件で、アルカリ処理を実施した。次いで、工程１でポリビニルアルコール接着剤溶液に偏光膜を浸漬した。浸漬した偏光膜に付着した過剰の接着剤を軽く取り除き、この偏光膜に偏光板保護フィルム又はハードコートフィルムと、厚さ４０μｍの位相差フィルムとを、図１０に示したとおりに挟み込んで、積層配置した。
　（アルカリ処理）
　　鹸化工程　　　２．５ｍｏｌ／Ｌ－ＫＯＨ　　５０℃　　１２０秒間
　　水洗工程　　　水　　　　　　　　　　　　　３０℃　　　６０秒間
　　中和工程　　　１０質量部ＨＣｌ　　　　　　３０℃　　　４５秒間
　　水洗工程　　　水　　　　　　　　　　　　　３０℃　　　６０秒間
　鹸化処理後、水洗、中和、水洗の順に行い、次いで１００℃で乾燥した。
　工程３：積層物を、２つの回転するローラにて２０～３０Ｎ／ｃｍ２の圧力で約２ｍ／分の速度で貼り合わせた。このとき、気泡が入らないように注意した。
　工程４：工程３で作製した試料を、温度１００℃の乾燥機中にて５分間乾燥処理した。
　その後、得られた積層物に、以下のようにして、粘着層１０７を設けた。
　（粘着層）
　偏光板の位相差フィルム１０６に、市販のアクリル系粘着剤を乾燥後の厚さが２５μｍとなるように塗布し、１１０℃のオーブンで５分間乾燥して、粘着層１０７を形成した。その後、粘着層１０７に剥離性の保護フィルムを貼り付けた。
　＜液晶表示装置の作製＞
　（耐久試験評価）
　上記作製した偏光板から、保護フィルムをはがし、その偏光板を、液晶表示装置の液晶層に貼り付けることによって、液晶表示装置を作製した。具体的には、以下のようにした。
　（液晶表示装置）
　ＶＡモード型液晶表示装置（ＳＯＮＹ製ＢＲＡＶＩＡ　ＫＤＬ－５２Ｗ５）に液晶層を挟んで設置されている２対の偏光板のうち、観察者側の片面の偏光板を剥がし、上記作製した偏光板１０１をハードコート層が視認側となるようにして、粘着層１０７と液晶層（液晶セルガラス）とを貼合した。観察者側の偏光板の透過軸とバックライト側の偏光板の透過軸とが直交するように配置して、液晶表示装置を作製した。
　得られた液晶表示装置を用いて、以下のような評価を行った。
　（むら評価）
　得られた液晶表示装置に黒画像を表示した。次いで、表示した黒画像を、正面から目視で観察した。その結果、変形に起因すると思われるむらが全く確認できない場合は、「◎」と評価した。また、変形に起因すると思われるむらがわずかに確認できる場合は、「○」と評価した。また、細かな、変形に起因すると思われるむらが確認できる場合は、「△」と評価した。また、変形に起因すると思われるむらがはっきりと確認できる場合は、「×」と評価した。
　（平面性）
　得られた液晶表示装置を、床から８０ｃｍの高さの机上に配置した。床から３ｍの天井部に、昼色光直管蛍光灯（ＦＬＲ４０Ｓ・Ｄ／Ｍ－Ｘ　パナソニック（株）製、４０Ｗ）２本を１セットとして、１．５ｍ間隔で１０セット配置した。その際、評価者が液晶表示装置の画像表示部の正面にいるときに、評価者の頭上より後方に向けて天井部に蛍光灯がくるように、液晶表示装置及び蛍光灯を配置した。そして、液晶表示装置の画像形成部に映りこむ蛍光灯の形状により、以下の基準で評価した。その結果、蛍光灯が真っ直ぐに見える場合は、「◎」と評価し、蛍光灯が若干曲がったように見える箇所が確認できる場合は、「○」と評価し、蛍光灯が全体にわたって少し曲がっているように見える場合は、「△」と評価し、蛍光灯が全体にわたって大きくうねって見える場合は、「×」と評価した。
　以上の評価結果を表２に示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　表１及び表２からわかるように、樹脂フィルムを巻き取る際、上記ｆ（ｘ）を満たすに巻芯を振動させた場合（実施例１～８）は、このような振動を行わない場合（比較例１～９）と比較して、得られたフィルムロールの変形が少ないことがわかる。また、実施例１～８に係るフィルムを液晶表示装置に用いた場合も、フィルムロールの変形による問題の発生が抑制されていることがわかる。
　本発明によれば、長期間保存しても、変形の発生が充分に抑制された光学フィルムロールの製造方法が提供される。
　１　巻芯
　２　樹脂フィルム
　３　案内ローラ
　４　振動制御装置
　５　エンボス部
　６　タッチローラ
　７　フィルムロール
　１０　巻取装置
　１１、２１　樹脂フィルムの製造装置
　１２　無端ベルト支持体
　１３、２３　流延ダイ
　１４、２７　剥離ローラ
　１５，３０　延伸装置
　１７　乾燥装置
　１８、３１、４６　エンボス部形成装置
　１９　ドープ
　２２　第１冷却ローラ
　２４　面矯正タッチローラ
　２５　第２冷却ローラ
　２６　第３冷却ローラ
　２９　搬送ローラ
　４１　光学フィルムの製造装置
　４２　巻出装置
　４３　塗布装置
　４４　乾燥装置
　４５　硬化装置
　１０１　偏光板
　１０２　ハードコートフィルム
　１０３　ハードコート層
　１０４　基材フィルム
　１０５　偏光膜
　１０６　位相差フィルム
　１０７　粘着層

Claims (9)

  1. 　幅手方向両端部に長手方向に沿ってエンボス部を有する長尺状の樹脂フィルムを製造する工程と、
    　前記樹脂フィルムを巻芯にロール状に巻き取る巻取工程とを備え、
    　前記巻取工程は、前記巻芯に巻き取られ始める樹脂フィルムの位置における、巻き取られている樹脂フィルムの積算の厚みをｘ軸とし、前記樹脂フィルムの幅手方向の中心位置と、前記巻芯の幅手方向の中心位置との距離をｙ軸とした関数ｆ（ｘ）と前記ｘ軸とで囲まれる面積が、前記ｆ（ｘ）と振幅及び周期が同一の正弦波振動の関数ａ（ｘ）と前記ｘ軸とで囲まれる面積より大きく、前記ｆ（ｘ）と振幅及び周期が同一の矩形波振動の関数ｂ（ｘ）と前記ｘ軸とで囲まれる面積より小さくなるように、前記樹脂フィルム及び前記巻芯の少なくとも一方を、前記樹脂フィルムの幅手方向に周期的に振動させながら、前記樹脂フィルムを前記巻芯に巻き取る振動巻取工程を備えることを特徴とする光学フィルムロールの製造方法。
  2. 　前記振動巻取工程における前記振動の振幅が、前記巻芯に巻き取られ始める樹脂フィルムの位置における、巻き取られている樹脂フィルムの積算の厚みが大きくなるに従って、徐々に大きくなる請求項１に記載の光学フィルムロールの製造方法。
  3. 　前記振動巻取工程における前記振動の周期が、前記巻芯に巻き取られ始める樹脂フィルムの位置における、巻き取られている樹脂フィルムの積算の厚みが大きくなるに従って、徐々に小さくなる請求項１又は請求項２に記載の光学フィルムロールの製造方法。
  4. 　前記巻取工程が、前記振動巻取工程の後に、前記樹脂フィルムの幅手方向の中心位置と、前記巻芯の幅手方向の中心位置との距離を変動させずに、前記樹脂フィルムを前記巻芯に巻き取る工程を備える請求項１～３のいずれか１項に記載の光学フィルムロールの製造方法。
  5. 　前記樹脂フィルムの厚みが、１０～３５μｍである請求項１～４のいずれか１項に記載の光学フィルムロールの製造方法。
  6. 　前記エンボス部は、複数の凸部を有し、
    　前記複数の凸部のうち、前記エンボス部の幅手方向中央部に存在する凸部が、前記エンボス部の幅手方向両端部に存在する凸部より低い請求項１～５のいずれか１項に記載の光学フィルムロールの製造方法。
  7. 　前記樹脂フィルムが、偏光板保護フィルムとして用いられる光学フィルムである請求項１～６のいずれか１項に記載の光学フィルムロールの製造方法。
  8. 　前記樹脂フィルムが、液晶表示装置用の光学補償フィルムとして用いられる位相差フィルムである請求項１～６のいずれか１項に記載の光学フィルムロールの製造方法。
  9. 　前記樹脂フィルムが、基材フィルムと、前記基材フィルム上に存在する機能性層とを備える光学フィルムである請求項１～６のいずれか１項に記載の光学フィルムロールの製造方法。
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