WO2014051127A1 - 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 - Google Patents

磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 Download PDF

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WO2014051127A1
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glass substrate
magnetic
polishing
peripheral side
end surface
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修平 東
修 輿水
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Hoya株式会社
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B31/00—Machines or devices designed for polishing or abrading surfaces on work by means of tumbling apparatus or other apparatus in which the work and/or the abrasive material is loose; Accessories therefor
    • B24B31/10—Machines or devices designed for polishing or abrading surfaces on work by means of tumbling apparatus or other apparatus in which the work and/or the abrasive material is loose; Accessories therefor involving other means for tumbling of work
    • B24B31/112—Machines or devices designed for polishing or abrading surfaces on work by means of tumbling apparatus or other apparatus in which the work and/or the abrasive material is loose; Accessories therefor involving other means for tumbling of work using magnetically consolidated grinding powder, moved relatively to the workpiece under the influence of pressure
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B1/00—Processes of grinding or polishing; Use of auxiliary equipment in connection with such processes
    • B24B1/005—Processes of grinding or polishing; Use of auxiliary equipment in connection with such processes using a magnetic polishing agent
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
    • G11B5/8404—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers manufacturing base layers

Definitions

  • the present invention relates to a method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk, and specifically to a method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk including a step of polishing an end surface of the glass substrate.
  • a personal computer, a notebook personal computer, or a DVD (Digital Versatile Disc) recording device has a built-in hard disk device for data recording.
  • a hard disk device used for portable equipment such as a notebook personal computer
  • a magnetic disk having a magnetic layer provided on a magnetic disk glass substrate is used.
  • magnetic recording information is recorded on or read from the magnetic layer of the magnetic disk by a magnetic head (DFH (Dynamic Flying Height) head) slightly lifted from this surface.
  • a glass substrate is preferably used because it has a property that it is less likely to undergo plastic deformation than a metal substrate or the like.
  • the density of magnetic recording is being increased.
  • the magnetic recording information area is miniaturized by extremely shortening the flying distance from the magnetic recording surface of the magnetic head.
  • the surface unevenness of the substrate is made as small as possible.
  • a magnetic head used in a hard disk device if there are minute irregularities on the surface of the magnetic disk, there is a possibility that a known thermal asperity failure may occur, causing malfunction in reproduction or making reproduction impossible. .
  • the cause of this thermal asperity failure is that the convex part formed on the surface of the magnetic disk by the foreign matter on the glass substrate causes adiabatic compression and expansion of the air in the vicinity of the head due to high-speed rotation of the magnetic disk, and the magnetic head generates heat. Due to That is, the thermal asperity failure can occur even when the magnetic head does not contact the magnetic disk.
  • the surface of the magnetic disk needs to be finished to a very smooth surface free from foreign matter.
  • the surface shape of the glass substrate for magnetic disks As a cause of foreign matter adhering to the surface of the glass substrate for magnetic disks, not only the surface shape of the glass substrate but also the surface shape of the end surface of the glass substrate is considered. That is, if the surface shape of the end surface of the glass substrate for magnetic disks is not smooth, the end surface rubs against the wall surface of the resin case and the like, and fine particles (particles) of resin and glass are generated by this rub. Such fine particles and fine particles in the atmosphere are captured and accumulated on the end face of the magnetic disk glass substrate. The fine particles accumulated on the end surface of the magnetic disk glass substrate become a source of dust generation in a later process or after being mounted on a hard disk device, causing foreign matter to adhere to the surface of the disk substrate.
  • fine particles accumulated on the end face of the magnetic disk glass substrate may adhere to the reading element or recording element of the magnetic head and damage the element.
  • the end surface on the inner peripheral side of the glass substrate for magnetic disks has a rougher surface shape than the end surface on the outer peripheral side, so that it is easy to capture fine particles, which is an obstacle to high cleaning of the surface of the glass substrate for magnetic disks. It is thought that there is.
  • Patent Document 1 the end surface of a glass substrate for a magnetic disk is generally polished using a brush and a polishing slurry.
  • the polishing power is small and the processing rate is low, and the magnetic disk It was difficult to produce a large number of glass substrates in a short time.
  • Patent Document 2 a method of polishing a glass substrate for a magnetic disk by applying a magnetic field to a slurry containing ferrite magnetic particles and abrasive grains is also known (Patent Document 2).
  • the step of polishing in the method of polishing by applying a magnetic field to the slurry, in the step of polishing the inner peripheral end surface of the circular hole at the center of the glass substrate, which is the material of the glass substrate for magnetic disks, on the inner peripheral side of the circular hole.
  • the slurry is moved with respect to the inner peripheral side end surface of the circular hole by forming a magnetic field, holding the slurry by the magnetic field in the circular hole, and moving the magnetic field with respect to the inner peripheral side end surface of the circular hole.
  • the end surface on the inner peripheral side of the circular hole is polished by a magnetic polishing method. More specifically, since the paired magnets are provided on the outer peripheral side of the magnetic disk glass substrate and the inner peripheral side of the circular hole, the lines of magnetic force formed by the paired magnets are the same as those of the magnetic disk glass substrate. Along the radial direction.
  • a magnet is provided on the outer peripheral side in addition to the inner peripheral side of the circular hole of the magnetic disk glass substrate.
  • the distance between the provided magnets increases. For this reason, there was a problem that the slurry could not be sufficiently held, the polishing processing rate was low, and the surface roughness of the inner peripheral side end surface to be polished could not be reduced efficiently.
  • the apparatus configuration in magnetic polishing is complicated in terms of the arrangement of magnets. Furthermore, the outer peripheral side end face of the magnetic disk glass substrate cannot be magnetically polished simultaneously with the inner peripheral end face.
  • the present invention provides a method for producing a glass substrate for magnetic disk, which can increase the polishing processing rate when polishing a glass substrate to be a glass substrate for magnetic disk, and can polish efficiently.
  • the purpose is to provide.
  • the present invention includes the following aspects.
  • One aspect of the present invention is a method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk.
  • the method is A step of polishing the end face of the glass substrate, In the step of polishing the end face, Form magnetic lines of force that proceed in the thickness direction of the glass substrate using magnetism generating means, By arranging a magnetic slurry containing abrasive grains and a magnetic functional fluid on the magnetic lines of force, the magnetic slurry is held along the lines of magnetic force, The end surface of the glass substrate is polished by relatively moving the end surface of the glass substrate in contact with the magnetic slurry held by the lines of magnetic force.
  • the magnetic slurry forms a lump along the magnetic field lines
  • the end surface of the glass substrate includes a side wall surface extending in a direction orthogonal to the main surfaces on both sides of the glass substrate, and a chamfered surface that is inclined with respect to the main surface and connects the side wall surface and the main surfaces on both sides.
  • the magnetism generating means includes a pair of magnets arranged in a state in which the N pole surface and the S pole surface are spaced apart from each other in the thickness direction of the glass substrate, The end surface of the glass substrate is pressed against the inside of the magnetic slurry so as to come into contact with the portion of the magnetic slurry held by the magnetic lines connecting the N pole and the S pole.
  • the glass substrate has a disc shape having a circular through hole having a center point at the center of the glass substrate,
  • the magnetism generating means is provided in the through hole of the glass substrate and forms an inner peripheral magnetic field line that advances in the thickness direction of the glass substrate around an inner peripheral end surface that is a side wall surface of the through hole.
  • Inner peripheral means to The inner peripheral side end surface of the glass substrate is moved relative to the inner peripheral side end surface in contact with the magnetic slurry held by the inner peripheral side magnetic force lines formed by the inner peripheral side means.
  • the magnetic slurry is formed in an annular shape on the surface of a rotating body having a central axis and rotatable around the central axis.
  • the magnetic slurry is rotated by the rotation of the rotating body, and the entire circumference of the inner peripheral side end surface of the glass substrate is brought into contact with the entire circumference of the magnetic slurry.
  • the magnetism generating means is further provided with an outer peripheral side means provided on the outer peripheral side of the glass substrate and forming outer peripheral side magnetic force lines that run in the thickness direction of the glass substrate around the outer peripheral side end face of the glass substrate. Have The inner peripheral side end surface and the outer peripheral side are moved relative to each other while the outer peripheral side end surface of the glass substrate is in contact with the magnetic slurry held by the outer peripheral magnetic field lines formed by the outer peripheral side means.
  • a method of manufacturing a plurality of magnetic disk glass substrates Laminating a plurality of glass substrates to form a laminated body of glass substrates, and in the state of the laminated body, a step of polishing an end face of each glass substrate, In the step of polishing the end face, Using magnetic generation means, magnetic lines of force that proceed in the stacking direction of the stack are formed at a plurality of positions, By arranging a magnetic slurry containing abrasive grains and a magnetic functional fluid at the plurality of positions, the magnetic slurry is held by the lines of magnetic force, The glass substrates of the laminate are moved relative to each other at the positions of the plurality of positions in a state where the end surfaces of the glass substrates of the laminate are in contact with the magnetic slurry held by the lines of magnetic force.
  • a method for producing a glass substrate for a magnetic disk comprising polishing an end face of the magnetic disk.
  • the magnetism generating means includes a plurality of pairs of magnets arranged in a state in which the N-pole surface and the S-pole surface are spaced apart from each other in the stacking direction of the stacked body, The manufacturing method of the glass substrate for magnetic discs of aspect 10 provided in the several position of the lamination direction of the said laminated body.
  • the glass substrate is a disc shape having a circular through hole
  • the magnetism generating means is provided in the through hole of the glass substrate of the laminated body, and the thickness direction of the glass substrate is around an inner peripheral side end surface that is a side wall surface of the through hole of the glass substrate.
  • the inner peripheral means for forming the inner peripheral magnetic field lines to go to The inner peripheral side end surface of the glass substrate is moved relative to the inner peripheral side end surface in contact with the magnetic slurry held by the inner peripheral side magnetic force lines formed by the inner peripheral side means. 14.
  • a method for producing a glass substrate for a magnetic disk comprising: A step of polishing the end face of the glass substrate, In the step of polishing the end face, In the thickness direction of the glass substrate, the abrasive grains and magnetism are generated by magnetic lines of force formed by a magnetic generating means including a pair of magnets arranged so that the N-pole surface and the S-pole surface are spaced apart from each other. Hold magnetic slurry containing functional fluid, A method for producing a glass substrate for a magnetic disk, comprising polishing the end surface of the glass substrate by relatively moving the end surface of the glass substrate in contact with the magnetic slurry held by the lines of magnetic force. .
  • a method for producing a glass substrate for a magnetic disk comprising: A step of polishing the end face of the glass substrate, In the step of polishing the end face, a magnetic force line that proceeds in the thickness direction of the glass substrate is formed using magnetism generating means, and a magnetic slurry containing a magnetorheological fluid and abrasive grains is held in the magnetic force line.
  • the glass substrate is polished by forming a lump of the magnetic slurry along the lines of magnetic force and relatively moving the end surface of the glass substrate in contact with the lump of the magnetic slurry. Manufacturing method of glass substrate for magnetic disk.
  • the glass substrate is a disc shape having a circular through hole
  • the magnetism generating means is provided in the through hole of the glass substrate and forms an inner peripheral magnetic field line that advances in the thickness direction of the glass substrate around an inner peripheral end surface that is a side wall surface of the through hole.
  • Inner peripheral means, and outer peripheral means provided on the outer peripheral side of the glass substrate and forming outer peripheral magnetic field lines that run in the thickness direction of the glass substrate around the outer peripheral end surface of the glass substrate.
  • a method of manufacturing a plurality of magnetic disk glass substrates Laminating a plurality of glass substrates to form a laminated body of glass substrates, and in the state of the laminated body, a step of polishing an end face of each glass substrate, In the step of polishing the end face, magnetic force lines that advance in the stacking direction of the stacked body are formed at a plurality of positions by using a magnetism generating means, and a magnetic slurry including a magnetorheological fluid and abrasive grains is formed at the plurality of positions.
  • the magnetic slurry lump is formed at a plurality of positions around the end surface of the glass substrate by holding the magnetic slurry along the lines of magnetic force, and the end surface of each glass substrate of the laminate is the lump of the magnetic slurry.
  • a method for producing a glass substrate for a magnetic disk comprising: polishing each glass substrate of the laminate by relative movement in contact with each of the substrates.
  • the magnetism generating means includes a plurality of pairs of magnets arranged in a state in which the N-pole surface and the S-pole surface are spaced apart from each other in the stacking direction of the stacked body, The manufacturing method of the glass substrate for magnetic discs of the aspect 20 provided in the several position of the lamination direction of the said laminated body.
  • the glass substrate is a disc shape having a circular through hole
  • the magnetism generating means is provided in the through hole of the glass substrate of the laminated body, and the thickness direction of the glass substrate is around an inner peripheral side end surface that is a side wall surface of the through hole of the glass substrate.
  • the inner peripheral side means for forming the inner peripheral magnetic field lines proceeding to and the outer peripheral side of the glass substrate of the laminate are provided in the thickness direction of the glass substrate around the outer peripheral end surface of the glass substrate.
  • An outer peripheral side means for forming an outer peripheral magnetic field line By relatively moving the inner inner peripheral side end surface and the outer peripheral side end surface of the glass substrate in contact with the lump of magnetic slurry formed by the inner peripheral side means and the outer peripheral side means, The method for producing a glass substrate for a magnetic disk according to any one of aspects 20 to 23, wherein both the inner peripheral end face and the outer peripheral end face are polished.
  • a method for producing a glass substrate for a magnetic disk comprising: A step of polishing the end face of the glass substrate, The step of polishing the end face is formed by a magnetic generating means including a pair of magnets arranged in a state where the N-pole surface and the S-pole surface are spaced apart from each other in the thickness direction of the glass substrate.
  • the magnetic slurry containing the magnetorheological fluid and the abrasive grains is held along the magnetic field lines to form a lump of the magnetic slurry around the end surface of the glass substrate, and the end surface of the glass substrate is formed on the end surface of the magnetic slurry.
  • a method for producing a glass substrate for a magnetic disk comprising: polishing the glass substrate by relatively moving it in contact with the lump.
  • the polishing processing rate can be made higher than before and the polishing can be performed efficiently.
  • (A) is a schematic block diagram which shows an example of the magnetic disc produced using the glass substrate for magnetic discs
  • (b) is sectional drawing of an example of a magnetic disc. It is a figure which shows the flow of one Embodiment of the manufacturing method of the glass substrate for magnetic discs.
  • (A)-(c) is a figure explaining the grinding
  • (A), (b) is a figure explaining the grinding
  • the magnetorheological fluid (MRF) referred to in the specification described below is one of magnetic functional fluids.
  • the magnetic functional fluid includes a magnetic fluid (MF) and a magnetic mixed fluid (MCF) in addition to the magnetorheological fluid.
  • the magnetic slurry referred to in the specification includes at least abrasive grains and a magnetorheological fluid.
  • FIG. 1A is a schematic configuration diagram showing an example of a magnetic disk manufactured using a magnetic disk glass substrate.
  • FIG. 1B is a schematic cross-sectional view of a magnetic disk.
  • the magnetic disk 1 forms a ring shape in which a central portion of a disk shape is hollowed out concentrically, and rotates with an axis passing through the center of the ring as a rotation axis.
  • the magnetic disk 1 has a predetermined diameter such as a 2.5-inch magnetic disk or a 3.5-inch magnetic disk.
  • the magnetic disk 1 includes a glass substrate 2 and at least magnetic layers 3A and 3B. In addition to the magnetic layers 3A and 3B, for example, an adhesion layer, a soft magnetic layer, a nonmagnetic underlayer, a perpendicular magnetic recording layer, a protective layer, a lubricating layer, and the like (not shown) are formed.
  • the adhesion layer for example, a Cr alloy or the like is used.
  • the adhesion layer functions as an adhesive layer with the glass substrate 2.
  • a CoTaZr alloy or the like is used.
  • a nonmagnetic underlayer for example, a granular nonmagnetic layer is used.
  • a granular magnetic layer is used for the perpendicular magnetic recording layer.
  • a material made of hydrogen carbon is used for the protective layer.
  • a fluorine-based resin or the like is used for example.
  • the magnetic disk 1 will be described using a more specific example.
  • an in-line sputtering apparatus is used to form CrTi adhesion layers, CoTaZr / Ru / CoTaZr soft magnetic layers, CoCrSiO 2 nonmagnetic granular underlayers, CoCrPt—SiO 2 on both main surfaces of the glass substrate 2.
  • a TiO 2 granular magnetic layer and a hydrogenated carbon protective film are sequentially formed. Further, a perfluoropolyether lubricating layer is formed on the formed uppermost layer by dipping.
  • Aluminosilicate glass, soda lime glass, borosilicate glass, or the like can be used as the material for the magnetic disk glass substrate in the present embodiment.
  • aluminosilicate glass can be suitably used in that it can be chemically strengthened and a glass substrate for a magnetic disk excellent in the flatness of the main surface and the strength of the substrate can be produced.
  • the aluminosilicate glass has a SiO 2 content of 50 to 75% and Al 2 O 3 in terms of mol% when converted to oxide standards. 1 to 15%, at least one component selected from Li 2 O, Na 2 O and K 2 O in total 12 to 35%, at least one selected from MgO, CaO, SrO, BaO and ZnO And 0 to 20% in total, and at least one component selected from ZrO 2 , TiO 2 , La 2 O 3 , Y 2 O 3 , Ta 2 O 5 , Nb 2 O 5 and HfO 2 It is preferable to use an aluminosilicate glass having a composition of 0 to 10% in total.
  • FIG. 2 is a diagram showing a flow of an embodiment of a method for manufacturing a glass substrate for magnetic disk.
  • a plate-shaped glass blank having a pair of main surfaces is formed (step S10).
  • the formed glass blank is scribed to produce an annular glass substrate (step S20).
  • a magnetic disk glass substrate (hereinafter simply referred to as a glass substrate) having a circular through hole having a center point at the center of the glass substrate is obtained.
  • shape processing is performed on the scribed glass substrate (step S30).
  • the glass substrate is ground (step S40).
  • step S50 the end surface of the glass substrate is polished (step S50).
  • step S60 1st grinding
  • polishing is performed to the main surface of a glass substrate (step S60).
  • step S70 the second polishing is performed on the glass substrate (step S70).
  • a glass substrate for a magnetic disk that satisfies the required surface irregularities can be obtained.
  • a circular glass substrate is produced from a glass blank by the process from a glass blank formation process (step S10) to a shape processing process (step S30).
  • step S10 a shape processing process
  • step S10 Glass blank forming step (step S10)
  • a float method is used.
  • the glass blank forming step first, molten glass is poured continuously into a bath filled with molten metal such as tin to obtain, for example, plate-like glass having the above-described composition.
  • the molten glass flows along the traveling direction in a bathtub that has been subjected to a strict temperature operation, and finally a plate-like glass adjusted to a desired thickness and width is formed.
  • a plate-shaped glass blank having a predetermined shape for example, a quadrangular shape in plan view
  • a press molding method can be used for forming the plate-shaped glass blank.
  • a glass gob glass lump made of molten glass is supplied onto a lower mold that is a receiving gob forming mold, and an upper mold that is an opposing gob forming mold is used.
  • the glass gob is press-molded. Thereby, the disk-shaped glass blank used as the origin of the glass substrate for magnetic discs is produced.
  • a plate-shaped glass blank can be manufactured not only using the method mentioned above but well-known manufacturing methods, such as a downdraw method, a redraw method, and a fusion method.
  • a disk-shaped glass blank that is the basis of a glass substrate for magnetic disks is cut out from a sheet glass made by a known manufacturing method such as a float method, a downdraw method, a redraw method, a fusion method, etc. It is.
  • scribe refers to two concentric (inner concentric circle and outer concentric circle) cutting lines formed on the surface of the glass blank by a scriber in order to use the formed glass blank as a ring-shaped glass substrate of a predetermined size. This refers to providing (linear scratches).
  • the glass blank scribed in the shape of two concentric circles is partially heated, and the outer portion of the outer concentric circle and the inner portion of the inner concentric circle are removed due to the difference in thermal expansion of the glass blank. Thereby, a ring-shaped glass substrate having a circular through hole is obtained.
  • the disk-shaped glass substrate with the circular through-hole can also be obtained by forming a circular hole using a core drill etc. with respect to a glass blank.
  • the shape processing step includes chamfering processing (chamfering of the outer peripheral side end surface and the inner peripheral side end surface) for the end portion of the glass substrate after the scribe step.
  • a chamfering process is a shape process which chamfers in the outer peripheral side end surface and inner peripheral side end surface of the glass substrate after a scribe process.
  • the chamfering inclination angle is, for example, 40 to 50 degrees with respect to the main surface, and is preferably about 45 degrees.
  • step S40 In the grinding process, the main surface of the glass substrate is ground using a double-side grinding apparatus having a known planetary gear mechanism including an upper surface plate, a lower surface plate, an internal gear, a carrier, and a sun gear. Specifically, the main surface on both sides of the glass substrate is ground while the outer peripheral side end face of the glass substrate is held in the holding hole provided in the holding member of the double-side grinding apparatus.
  • the double-sided grinding apparatus has a pair of upper and lower surface plates (upper surface plate and lower surface plate), and a glass substrate is sandwiched between the upper surface plate and the lower surface plate.
  • the glass substrate is sandwiched between the upper surface plate and the lower surface plate in a state where the glass substrate is held in a holding hole provided in the disk-shaped carrier. And by moving either the upper surface plate or the lower surface plate, or both, the glass substrate and each surface plate can be moved relatively to grind both main surfaces of the glass substrate. it can. In grinding, fixed abrasive grains provided on a surface plate or polishing slurry containing loose abrasive grains can be used.
  • step S50 End face polishing process
  • a magnetic slurry containing abrasive grains and a magnetorheological fluid is held by magnetic lines of force to form a mass of magnetic slurry in which the magnetic slurry is hardened, and this lump is combined with an inner peripheral end face and an outer peripheral end face. Polishing of the inner peripheral side end surface and the outer peripheral side end surface of the glass substrate is performed by bringing them into contact and moving relative to each other.
  • fine particles such as cerium oxide and zirconium oxide are used as abrasive grains.
  • polishing is 10 micrometers or less, More preferably, it is 5 micrometers or less.
  • end surface polishing it is possible to prevent occurrence of thermal asperity failure by removing damage such as contamination and scratches attached to dust and the like on the end surface of the glass substrate.
  • ion precipitation that causes corrosion such as sodium and potassium.
  • the end surface polishing of this embodiment is a conventional end surface polishing method, for example, a method of polishing the end surface of a glass substrate with a polishing slurry using a brush, and further polishing in a shorter time than a conventional magnetic polishing method. Production efficiency is extremely good. The end face polishing will be described later.
  • step S60 Next, 1st grinding
  • the glass substrate is polished while applying a polishing slurry, using a known double-side polishing apparatus having the same configuration as the double-side grinding apparatus used for grinding (step S40).
  • a polishing slurry containing loose abrasive grains is used.
  • cerium oxide abrasive grains or zirconia abrasive grains are used as the free abrasive grains used in the first polishing.
  • the glass substrate is sandwiched between a pair of upper and lower surface plates.
  • An annular flat plate polishing pad (for example, a resin polisher) is attached to the upper surface of the lower surface plate and the surface of the upper surface plate facing the glass substrate. Then, by moving either the upper surface plate or the lower surface plate, or both, the glass substrate and each surface plate are relatively moved, thereby polishing both main surfaces of the glass substrate.
  • a resin polisher for example, a resin polisher
  • step S70 Next, the second polishing is performed on the glass substrate. Also in the second polishing, a double-side polishing apparatus having the same configuration as the double-side polishing apparatus used for the first polishing is used. The second polishing is performed by appropriately adjusting the type and particle size of the loose abrasive and appropriately adjusting the hardness of the resin polisher.
  • the free abrasive grains used in the second polishing step for example, fine particles such as colloidal silica made turbid in a slurry are used.
  • the second polishing step is not necessarily an essential step, but it is preferable to carry out the second polishing step in that the level of surface irregularities on the main surface of the glass substrate can be further improved.
  • the roughness (Ra) of the main surface can be 0.1 nm or less and the micro waveness (MW-Rq) of the main surface can be 0.1 nm or less.
  • the second polished glass substrate becomes a glass substrate for a magnetic disk that satisfies the required surface irregularities.
  • chemical strengthening treatment by ion exchange may be performed as necessary between the first polishing and the second polishing.
  • the glass substrate is chemically strengthened before the (e) end surface polishing step (step S50), and the (e) end surface polishing step (step S50) is performed on the end surface of the chemically strengthened glass substrate. You may go. In this case, since the foreign material adhering to the glass substrate surface in the case of a chemical strengthening process can be removed, it is preferable.
  • a known method may be used as the chemical strengthening treatment.
  • FIGS. 3A to 3C and FIG. 4 are diagrams for explaining a polishing method for end face polishing according to the present embodiment, and are diagrams for easy understanding.
  • the apparatus 10 for polishing the end face polishes the end face of the glass substrate by using a magnetism generating means and a magnetic slurry.
  • magnetic lines that proceed in the thickness direction of the glass substrate 11 are formed using the magnet 12 and the magnet 14 that are magnetism generating means, and the magnetic slurry lump 20 is formed by arranging the magnetic slurry on the magnetic lines 11.
  • the magnetic slurry lump 20 is held along the lines of magnetic force.
  • FIG. 3A the apparatus 10 is made of a pair of magnets 12 and 14 that are permanent magnets, a spacer 16, and a non-magnetic material such as stainless steel. And a hollow columnar exterior member 18. Magnets 12 and 14 and a spacer 16 are built in the exterior member 18.
  • the glass substrate 11 for end face polishing is held by a holder (not shown).
  • the glass substrate 11 held by the holder is made to pass through the exterior member 18 through the circular through hole 11a, and a magnetic slurry lump 20 (see FIGS. 3C and 4) described later and the inner periphery of the glass substrate 11 Make contact with the side end face.
  • a holder (not shown) that holds the exterior member 18 and the glass substrate 11 of the apparatus 10 is mechanically connected to a drive motor (not shown). By rotating the exterior member 18 and the holder to relatively move the end surface of the glass substrate 11 and the lump 20, the inner peripheral side end surface of the glass substrate 11 can be polished.
  • the rotation direction of the exterior member 18 and the holder holding the glass substrate 11 may be rotated in opposite directions, and the relative speed of the peripheral speed between the exterior member 18 and the holder may be rotated at 50 to 300 m / min. More preferably, the relative speed is 40 to 100 m / min. That is, the magnetic slurry is formed in an annular shape on the surface of the exterior member 18 (rotary body) having a central axis and rotatable about the central axis. When polishing the inner peripheral side end surface of the glass substrate 11, the magnetic slurry is rotated by the rotation of the exterior member 18.
  • the glass substrate 11 it is preferable to rotate the glass substrate 11 in the reverse rotation direction with respect to the glass substrate 11 by bringing the entire circumference of the inner peripheral side end face of the glass substrate 11 into contact with the entire circumference of the magnetic slurry. Since the magnetic slurry is formed in an annular shape, the inner peripheral side end surface that is the inner wall surface of the circular through hole of the glass substrate 11 can be polished so as not to deform the shape of the circular hole.
  • the rotation speed of the glass substrate 11 is, for example, 500 to 4000 rpm
  • the rotation speed of the magnetic slurry is, for example, 50 to 300 rpm.
  • the rotation speed of the glass substrate 11 is, for example, 500 to 4000 rpm, and the rotation speed of the magnetic slurry is, for example, 50 to 300 rpm.
  • the end surface of the glass substrate 11 and the lump 20 can be moved relatively, either one of the end surface of the glass substrate 11 and the lump 20 may be fixed and the other may be rotated.
  • the polishing processing rate is likely to vary, and the temperature of the magnetic slurry becomes excessively high and the life of the magnetic slurry is reduced. In this regard, it is preferable to rotate the glass substrate 11 and the magnetic slurry in opposite directions.
  • the magnet 12 and the magnet 14 are close to each other and function as magnetism generating means to form a magnetic force line 19 as shown in FIG.
  • the lines of magnetic force 19 proceed so as to protrude outward from the centers of the magnets 12 and 14, and proceed in the thickness direction of the glass substrate 11.
  • a pair of magnets arranged in the thickness direction of the glass substrate 11 so that the N-pole surface and the S-pole surface are separated from each other is used as the magnetism generating means. It is done. Faces facing each other means that the faces face each other in parallel, that is, face each other.
  • a spacer 16 made of a non-magnetic material is provided between the magnets 12 and 14 so that the separation distance between the N pole end face of the magnet 12 and the S pole end face of the magnet 14 is a predetermined distance. It is done.
  • the separation distance between the end face of the N pole of the magnet 12 and the end face of the S pole of the magnet 14 is set to a predetermined distance by causing the magnetic field lines 19 to protrude outward as shown in FIG. This is because a magnetic slurry lump 20 as shown in FIG. Since the lump 20 is a portion that contacts the end surface of the glass substrate 11 and moves relative to the end surface, the lump 20 is desired to have a certain degree of magnetic force from the viewpoint of securing the rigidity of the lump 20.
  • the separation distance between the end face of the N pole of the magnet 12 and the end face of the S pole of the magnet 14 is short.
  • the separation distance between the end face of the N pole of the magnet 12 and the end face of the S pole of the magnet 14 is set to a certain predetermined range.
  • the end surface polishing of the glass substrate of the present embodiment is preferably performed in such a manner that the end surface of the glass substrate 11 is pressed into the lump 20 in a direction perpendicular to the lines of magnetic force in order to increase the polishing processing rate.
  • the end surface of the glass substrate 11 receives a large effect from the lump 20, and thus polishing is promoted.
  • the end surface of the glass substrate 11 is generally a glass main surface that connects a side wall surface extending in a direction orthogonal to the glass main surfaces on both sides of the glass substrate 11 and the side wall surfaces to the glass main surfaces on both sides. And a chamfered surface inclined with respect to the surface.
  • the side wall surface and the chamfered surface are preferably polished at the same time.
  • the end surface polishing of the side wall surface and the chamfered surface can be performed at the same time and at a high polishing rate, so that efficient end surface polishing can be performed.
  • the end surface of the glass substrate 11 of the present embodiment has a magnetic field line connecting the N pole of the magnet 12 and the S pole of the magnet 14 inside the magnetic slurry lump 20, that is, the magnetic field line extends from the N pole or from the S pole. It is preferably pressed against the inside of the mass 20 so as to come into contact with the part held by the closed magnetic field lines ending at the pole or N pole.
  • the portion of the magnetic slurry held along the magnetic field line connecting the N pole of the magnet 12 and the S pole of the magnet 14 is more rigid than the part where the magnetic field lines do not end at the pole of the magnet and realizes a high polishing processing rate.
  • the glass substrate 11 is pushed into the lump 20 so that the side wall surface and the chamfered surface are polished simultaneously.
  • the portion of the main surface of the glass substrate that contacts the lump 20 is substantial. Not polished.
  • the magnetic lines of force are blocked by the glass substrate, and the closed magnetic lines of force between the N- and S-curves are cut off, so that the hardness of the magnetic slurry lump is easily lowered.
  • the processing rate of polishing of the main surface of the glass substrate is extremely low, and the polishing of the main surface is not substantially polished during polishing of the end face of the glass substrate.
  • the glass substrate for magnetic disk which is an object to be polished in this embodiment, is preferably a thin plate, and more preferably has a thickness of 1 mm or less. In the present invention, it is more preferable to polish the end face of the thin glass substrate.
  • a permanent magnet is used as the magnetism generating means.
  • an electromagnet can also be used.
  • the spacer 16 is used in order to ensure a certain distance between the N pole end face of the magnet 12 and the S pole end face of the magnet 14, but the spacer 16 is not used and the exterior member 18 is used.
  • the magnets 12 and 14 are fixed, and the separation distance between the N pole end face of the magnet 12 and the S pole end face of the magnet 14 can be kept constant.
  • the magnetorheological fluid of the magnetic slurry used for end face polishing for example, a nonpolar oil containing 3 to 5 g / cm 3 of magnetic fine particles made of Fe of 0.1 to 10 ⁇ m and a fluid containing a surfactant are used.
  • Nonpolar oil or polar oil has a viscosity of 100 to 1000 (mPa ⁇ sec) at room temperature (20 ° C.), for example.
  • the magnetorheological fluid containing magnetic fine particles is formed as a lump on the lines of magnetic force, the lump 20 formed by the magnetic slurry includes abrasive grains as well as the magnetic particles.
  • the abrasive grains in the magnetorheological fluid are pushed out to a portion having a low magnetic force gradient due to the magnetic levitation effect, the abrasive grains are present in the vicinity of the end face of the glass substrate to be polished. And since it becomes a lump which has a comparatively high elastic characteristic with a magnetic force line, it can grind
  • abrasive grains contained in the magnetic slurry known abrasive grains of glass substrates such as cerium oxide, colloidal silica, zirconia oxide, alumina abrasive grains, diamond abrasive grains and the like can be used.
  • the particle size of the abrasive grains is, for example, 0.5 to 3 ⁇ m. By using abrasive grains in this range, the inner peripheral side end face of the glass substrate can be satisfactorily polished.
  • the abrasive grains are contained in the magnetic slurry, for example, 3 to 15 Vol%.
  • the viscosity of the magnetic slurry is 1000 to 2000 [mPa ⁇ sec] at room temperature (20 ° C.) by adjusting the concentration of the magnetorheological fluid, so that the magnetic slurry lump 20 is formed and the end face polishing is performed efficiently. preferable. If the viscosity is low (the concentration of the magnetorheological fluid is low), the lump 20 is difficult to form, and it is difficult to perform the relative movement while being pressed against the end face of the glass substrate 11 for polishing. On the other hand, when the viscosity of the magnetic slurry is excessively high, the lump 20 is formed along the end shape of the glass substrate 11 during polishing, and it is difficult to form a uniform pressed state.
  • the magnetic flux density in the magnetism generating means is preferably 0.3 to 0.8 [Tesla] from the viewpoint of forming the magnetic slurry lump 20 and efficiently polishing the end face.
  • the yield stress of the magnetorheological fluid is preferably 30 kPa or more, more preferably 30 to 60 kPa, with a 0.4 [Tesla] magnetic field applied.
  • the yield stress (yield shear stress) of the magnetorheological fluid can be obtained, for example, by the following method.
  • a device incorporating magnetic field application means permanent magnet, electromagnet, etc.
  • the yield stress of the magnetorheological fluid can be obtained by approximating the relationship between the obtained shear rate and the shear stress using a known Casson equation.
  • the yield stress affects the pressure that the glass substrate receives from the magnetic slurry, that is, the shear stress, when the magnetic slurry held by the magnetic field and the outer peripheral end surface of the glass substrate move relative to each other. Therefore, the higher the yield stress of the magnetic slurry (the higher the shear stress during the magnetic slurry flow), the more efficiently the polishing by contact between the abrasive grains and the glass substrate, and the higher the end polishing rate. Can do.
  • the magnetic slurry is formed in an annular shape on the surface of the exterior member 18 which is a rotating body having a central axis and rotatable around the central axis.
  • the magnetic slurry is rotated by the rotation of the rotating body, and the entire circumference of the inner peripheral side end surface of the glass substrate 11 is brought into contact with the entire circumference of the magnetic slurry.
  • the surface of the exterior member 18 that is a rotating body may be a cylindrical surface having a certain radius of curvature, or a groove that makes one round may be provided on the periphery of the surface of the rotating body. A magnetic slurry can be disposed in this groove.
  • Modification 1 3A to 3C and FIG. 4 describe the polishing of the inner peripheral side end surface of the glass substrate 11, the outer peripheral side end surface of the glass substrate can also be polished by the same method.
  • Modification 1 (not shown) is an example in which the outer peripheral end face is polished simultaneously with the polishing of the inner peripheral end face of the glass substrate 11.
  • the exterior member 18 incorporating the magnets 12 and 14 and the spacers 16 shown in FIGS. 3A to 3C is disposed in the vicinity of the outer peripheral side end surface of the glass substrate 11, and the exterior is covered by the magnets 12 and 14.
  • the magnetic slurry lump 20 is formed by holding the magnetic slurry along the magnetic field lines by the magnetic field lines formed on the outer peripheral side of the member 18. By relatively moving the lump 20 and the outer peripheral side end surface of the glass substrate in contact with each other, the outer peripheral side end surface of the glass substrate 11 is polished.
  • the magnets 12 and 14 shown in FIGS. 3A to 3C are provided in the through hole 11a of the glass substrate 11 to form magnetic lines as the magnetism generating means, and FIG.
  • the magnets 12 and 14 are provided on the outer peripheral side of the glass substrate 11 in the same manner as the magnets 12 and 14 shown in FIGS.
  • the inner peripheral means forms an inner peripheral magnetic field line that advances in the thickness direction of the glass substrate 11 around the inner peripheral side end surface of the glass substrate 11 surrounding the through hole 11a.
  • the outer peripheral means forms an outer peripheral magnetic field line that advances in the thickness direction of the glass substrate 11 around the outer peripheral end surface of the glass substrate 11.
  • the polishing of the end surface is performed by relatively moving the inner peripheral side end surface and the outer peripheral side end surface of the glass substrate 11 in contact with the magnetic slurry lump 20 formed by each of the inner peripheral side means and the outer peripheral side means.
  • both the inner peripheral side end surface and the outer peripheral side end surface are polished. Therefore, in the first modification, the inner peripheral side end face of the glass substrate 11 shown in FIGS. 3A to 3C and FIG. 4 can be polished and simultaneously the outer peripheral end face can be polished, which is efficient. Realize end face polishing. That is, the processing rate can be made higher than before, and polishing can be performed efficiently.
  • FIGS. 5A and 5B are diagrams showing a second modification of the end surface polishing.
  • Modification 2 is an example in which the inner peripheral side end surfaces of a plurality of glass substrates are polished together instead of a single glass substrate.
  • the modified example 2 by using a plurality of pairs of magnets, magnetic lines of force proceeding in the stacking direction of the laminated body of glass substrates are formed at a plurality of positions, and the magnetic slurry is arranged at a plurality of positions.
  • the magnetic slurry lump is formed at a plurality of positions by holding the same, and at each of the plurality of positions, the end surfaces of each glass substrate laminate are in contact with the lump held by the magnetic lines of force. By moving, the end surface of each glass substrate is polished.
  • the device 30 shown in FIG. 5A includes an exterior member 18, magnets 12, 14, 32, 34, 36 and spacers 16, 38, 40, 42.
  • the exterior member 18, the magnets 12 and 14, and the spacer 16 all have the same configuration as the exterior member 18, the magnets 12 and 14, and the spacer 16 shown in FIG.
  • the magnets 32, 34 and 36 have the same configuration as the magnets 12 and 14, and the spacers 38, 40 and 42 have the same configuration as the spacer 16. Therefore, description of the exterior member 18, the magnets 12, 14, 32, 34, and 36 and the spacers 16, 38, 40, and 42 is omitted.
  • the exterior member 18 is built in a layered manner so that the end face of the N pole of the magnet and the end face of the adjacent S pole face each other at a predetermined distance. Accordingly, the magnetic slurry lumps 20, 52, 54, and 56 are arranged along the longitudinal direction of the exterior member 18 along the magnetic field lines formed on the outside of the exterior member 18 by the exterior member 18 (four locations). )It is formed.
  • the exterior member 18 on which the lumps 20, 52, 54, and 56 are formed has a center point at the center of the glass substrates 11, 44, 46, and 48 (end surfaces of each glass substrate are chamfered) in a bundle.
  • the magnetic slurry lump 20, 52, 54, 56 and the inner peripheral side end surfaces of the glass substrates 11, 44, 46, 48 are brought into contact with each other. Therefore, the inner peripheral side end surfaces of the glass substrates 11, 44, 46, and 48 are moved relative to each other between the masses 20, 52, 54, and 56 and the inner peripheral side end surfaces of the glass substrates 11, 44, 46, and 48. It can be polished at the same time.
  • the glass substrates 11, 44, 46, and 48 are integrated as a laminate by an adhesive or the like.
  • any adhesive may be used as the adhesive used to form the laminate as long as the main surfaces of the glass substrates 11, 44, 46, and 48 can be bonded or peeled off.
  • an ultraviolet curable resin adhesive is easily solidified by irradiation with ultraviolet rays having a predetermined wavelength, so that the bonding operation is easy.
  • the ultraviolet curable resin one that can easily peel off the glass substrates 11, 44, 46, and 48 bonded with hot water or an organic solvent is preferable.
  • the adhesive in addition to the UV curable resin adhesive, wax, light curable resin, visible light curable resin, or the like can be used. Since the wax is softened at a predetermined temperature to become liquid and becomes solid at room temperature, the glass substrates 11, 44, 46, and 48 can be easily bonded and peeled off. Instead of the adhesive, a spacer may be sandwiched and pasted.
  • a thin spacer such as a resin material, a fiber material, a rubber material, a metal material, or a ceramic material can be used.
  • a bundle of glass substrates 11, 44, 46, and 48 is held by a holder (not shown).
  • the magnetic lines 12, 14, 32, 34, and 36 are used as magnetism generating means, and the lines of magnetic force are advanced in the stacking direction of the stack that is a bundle of glass substrates 11, 44, 46, and 48 Are formed at a plurality of positions, and the magnetic slurry is held along the lines of magnetic force at the plurality of positions, thereby forming magnetic slurry masses 20, 52, 54, and 56 at the plurality of positions around the end face of the glass substrate. .
  • the glass substrate is polished by relatively moving the inner peripheral side end surfaces of the glass substrates 11, 44, 46, and 48 in contact with the magnetic slurry lumps 20, 52, 54, and 56, respectively. Therefore, since the inner peripheral side end surfaces of a plurality of glass substrates can be simultaneously polished, efficient end surface polishing is realized. That is, the processing rate can be made higher than before, and polishing can be performed efficiently.
  • interval of the lump 20, 52, 54, 56 correspond, and the inner peripheral side end surface of the glass substrate 11, 44, 46, 48 is lump 20, 52, It is preferable to adjust the formation positions of the masses 20, 52, 54, and 56 by adjusting the spacers provided between the magnets so as to be in contact with the respective 54 and 56 simultaneously.
  • the magnets 12, 14, 32, 34, which are magnetism generating means, 36 and the bundle of glass substrates 11, 44, 46, and 48, which are laminated bodies preferably swing relative to the lamination direction of the laminated bodies (extending direction of the exterior member 18) during polishing.
  • the lump 20, 52, 54, 56 is in contact with each of the lump 20, 52, 56 during polishing, and the inner peripheral side end surfaces of the glass substrates 11, 44, 46, 48 can be uniformly polished.
  • a stroke of, for example, about 0.1 to 20 mm is swung at a speed of, for example, 24 to 600 [mm / min].
  • the side end face can be uniformly polished.
  • This swinging is not used only for polishing the end face of the laminated body of the glass substrates of Modification 2, but can also be applied when polishing the end face of a single glass substrate as shown in FIG. In this case, about half of the thickness of the glass substrate may be set as the swing range.
  • FIG. 6 is a diagram showing a third modification of the end surface polishing.
  • a plurality of glass substrates 11, 44, 46, and 48 are bonded with an adhesive to polish the inner peripheral side end face of each glass substrate of the laminate that is a bundle of glass substrates.
  • the outer peripheral side end face of each glass substrate is polished. That is, the outer member 18 formed with the lumps 20, 52, 54, and 56 is formed in a circular shape provided at the center of the glass substrates 11, 44, 46, and 48 that are bundled by joining the main surfaces with an adhesive.
  • the magnetic slurry lump 20, 52, 54, 56 and the inner peripheral side end surfaces of the glass substrates 11, 44, 46, 48 are brought into contact with each other through the through hole.
  • lumps 62, 64, 66, and 68 of magnetic slurry are formed on the surface of the exterior member 60 having the same configuration as the exterior member 18 provided on the outer peripheral side of each glass substrate of the laminate.
  • the exterior member 60 is positioned so that the masses 62, 64, 66 and 68 are in contact with the glass substrates 11, 44, 46 and 48.
  • the exterior member 60 is mechanically connected to a drive motor (not shown) like the exterior member 18 and is rotatable.
  • the outer peripheral means for forming the magnetic lines of force provided on the outer peripheral side of the glass substrates 11, 44, 46, and 48 constituting the body is used.
  • the inner peripheral means moves in the thickness direction of the glass substrate 11, 44, 46, 48 around the inner peripheral side end surface of the glass substrate surrounding the circular through hole of the glass substrate 11, 44, 46, 48. A circumferential magnetic field line is formed.
  • the outer peripheral means forms an outer peripheral magnetic field line that advances in the thickness direction of the glass substrate 11, 44, 46, 48 around the outer peripheral end surface of the glass substrate 11, 44, 46, 48. Then, the magnetic slurry lump 20, 52, 54, formed on the inner peripheral side end face and the outer peripheral side end face of the glass substrates 11, 44, 46, 48 at a plurality of positions by the inner peripheral side means and the outer peripheral side means, respectively.
  • the inner peripheral side end face and the outer peripheral side end face are polished simultaneously by moving relative to each other in a state of contact with 56, 62, 64, 66, and 68. Therefore, since the inner peripheral side end surfaces of a plurality of glass substrates can be simultaneously polished, efficient end surface polishing is realized. That is, the processing rate can be made higher than before, and polishing can be performed efficiently.
  • FIG. 7 is a diagram showing a fourth modification of end face polishing.
  • electromagnets are used instead of the permanent magnets 12 and 14 as shown in FIGS. 3 (a) to 3 (c) and FIG. That is, in the exterior member 18, two electromagnets 70 and 72, and a spacer 74 are incorporated so as to maintain a separation distance between the electromagnet 70 and the electromagnet 72, and the opposing end surfaces of the electromagnets 70 and 72 are S poles. And it is connected to the current sources 76 and 78 so as to be the N pole. Accordingly, when current flows through the electromagnets 70 and 72, magnetic lines of force 82 are formed between the electromagnets 70 and 72.
  • the current controller 80 controls on / off of the current flowing from the current sources 76 and 78 to the electromagnets 70 and 72 and the amount of the current. For example, in order to remove a lump of polishing slurry from the exterior member 18, the current flowing through the electromagnets 70 and 72 may be turned off.
  • the polishing ability of the polishing slurry in the lump is reduced, in order to maintain the polishing ability, the rigidity of the lump of the polishing slurry can be increased, and the pressure at which the lump presses the end surface of the glass substrate can be increased.
  • the fourth modification using the electromagnets 70 and 72 has an effect not exhibited in the embodiment using the permanent magnet and the first to third modifications.
  • the lines of magnetic force swell toward the outer side of the exterior member, whereby the magnetic slurry lumps up from the exterior member.
  • Any magnetic slurry may be used as long as it is formed by holding the magnetic slurry along the magnetic lines of force.
  • the produced glass substrate has an outer diameter of 65 mm and a thickness of 0.8 mm.
  • a chamfer of 0.25 mm in the thickness direction of the glass substrate is inclined at 45 degrees with respect to the main surface. gave.
  • a glass substrate for a 2.5-inch magnetic disk was laminated with an adhesive and integrated with a polishing apparatus having a cylindrical exterior member containing a plurality of magnets.
  • the laminate was inserted.
  • the dimensions of the built-in magnet were 19 mm in diameter and 15 mm in thickness.
  • a stainless steel spacer was inserted between the magnets. Thereby, the attraction between the magnets is limited.
  • magnetic slurry was given so that the surface of an exterior member might be met, and the lump of the magnetic slurry which rose from the surface of the exterior member was formed in a plurality of positions.
  • polishing was performed with the rotation speed of the end face of each glass substrate of the laminate and the exterior member set to 700 rpm (peripheral speed relative speed of 87 m / min) and the rotation directions opposite to each other.
  • the processing time was 3 minutes. Since there is a difference between the interval between the glass substrates of the laminated body and the interval at which the magnetic slurry lump is formed in the example, it was swung with a stalk length of 20 mm at a stroke speed of 200 mm / min.
  • the polishing slurry used for polishing the end face of the glass substrate is an average of a magneto-rheological fluid in which Fe fine particles having an average particle size of 2 ⁇ m are dispersed in non-magnetic oil (silicon oil) at 3 [g / cm 3 ]. What dispersed the cerium oxide whose particle diameter is 2 micrometers was used. The concentration of cerium oxide in the magnetic slurry was 5 vol%. As the magnets used in the examples, permanent magnets having a magnetic flux density of 0.5 [Tesla] were used.
  • the glass substrate was taken out at predetermined intervals from the start of polishing, and the surface roughness of the polished end face was measured.
  • the surface roughness was measured using a laser microscope. Specifically, the edge part including the end surface of the glass substrate of a prior art example and an Example was expanded 150 times using the said laser microscope, and the surface roughness was measured about the area
  • the maximum height roughness Rz of the polished surface was 0.20 ⁇ m after a processing time of 30 minutes.
  • the maximum height roughness Rz of the polished surface was 0.30 ⁇ m after a processing time of 60 minutes.
  • a polishing allowance of 20 ⁇ m or more is required to make the end surface a desired surface state.
  • the removal allowance for polishing to make the end surface in a desired surface state was 10 ⁇ m or less. From this, it can be seen that the example has a surface roughness equal to or better than that of the conventional examples 1 and 2 with short-time end face polishing.
  • the example when compared with Conventional Example 1, it was found that the example can perform equal or better polishing in about one-tenth of the polishing time. That is, it can be seen that, in the production method of the present invention, when polishing the end face of the glass substrate, the polishing processing rate can be made higher than before, and the polishing can be performed efficiently.
  • the manufacturing method of the glass substrate for magnetic discs of this invention was demonstrated in detail, this invention is not limited to the said embodiment and modification, In the range which does not deviate from the main point of this invention, various improvement and a change are carried out.
  • the exterior members 18 and 60 in the embodiment may be omitted, and the magnetic slurry may be brought into contact with the magnet and the spacer.
  • the diameters of the spacers 16, 38, 40, 42, 74 in the embodiment may be matched with the diameters of the magnets 12, 14, 32, 34, 36.

Landscapes

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Abstract

　磁気ディスク用ガラス基板を製造中、ガラス基板の端面研磨を行うとき、磁気発生手段を用いて前記ガラス基板の厚さ方向に進む磁力線を形成し、前記磁力線に研磨砥粒と磁気機能性流体を含む磁性スラリを配することにより、前記磁性スラリを前記磁力線に沿って保持させ、前記ガラス基板の端面を、前記磁力線に沿って保持された前記磁性スラリと接触させた状態で相対移動させることにより、前記ガラス基板の端面を研磨する。

Description

磁気ディスク用ガラス基板の製造方法
　本発明は、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、具体的には、ガラス基板の端面を研磨する工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法に関する。
　今日、パーソナルコンピュータ、ノート型パーソナルコンピュータ、あるいはＤＶＤ（Digital Versatile Disc）記録装置等には、データ記録のためにハードディスク装置が内蔵されている。特に、ノート型パーソナルコンピュータ等の可搬性を前提とした機器に用いられるハードディスク装置では、磁気ディスク用ガラス基板に磁性層が設けられた磁気ディスクが用いられる。磁気ディスクの面上では、この面から僅かに浮上させた磁気ヘッド（ＤＦＨ（Dynamic Flying Height）ヘッド）で磁気ディスクの磁性層に磁気記録情報が記録され、あるいは読み取られる。この磁気ディスクの基板には、金属基板等に比べて塑性変形をしにくい性質を持つことから、ガラス基板が好適に用いられている。
　今日、ハードディスク装置における記憶容量の増大の要請を受けて、磁気記録の高密度化が図られている。これに伴って、磁気ヘッドの磁気記録面からの浮上距離を極めて短くして磁気記録情報エリアを微細化することが行われている。このような磁気ディスク用ガラス基板においては、基板の表面凹凸は可能な限り小さく作製されている。
　ハードディスク装置に用いる磁気ヘッドにおいては、磁気ディスクの表面に微小な凹凸があると、公知のサーマルアスペリティ（Thermal Asperity）障害が生じ、再生に誤動作が生じたり、再生が不可能になる虞れがある。このサーマルアスペリティ障害の原因は、ガラス基板上の異物によって磁気ディスクの表面に形成された凸部が磁気ディスクの高速回転によりヘッドの近傍の空気の断熱圧縮及び断熱膨張を発生させ、磁気ヘッドが発熱することに起因する。すなわち、サーマルアスペリティ障害は、磁気ヘッドが磁気ディスクに接触しない場合においても発生し得る。
　したがって、このサーマルアスペリティ障害を防止するためには、磁気ディスクの表面は、極めて平滑で、かつ、異物の無い高清浄化された面に仕上げておく必要がある。
　磁気ディスク用ガラス基板の表面に異物が付着する原因としては、ガラス基板の表面形状のみならず、ガラス基板の端面の表面形状が考えられている。すなわち、磁気ディスク用ガラス基板の端面の表面形状が平滑でないと、この端面が樹脂製ケースの壁面などを擦過し、この擦過によって樹脂やガラスの微粒子（パーティクル）が発生する。そして、このような微粒子や雰囲気中の微粒子は、磁気ディスク用ガラス基板の端面に捕捉され蓄積されてしまう。磁気ディスク用ガラス基板の端面に蓄積された微粒子は、後工程において、あるいは、ハードディスク装置に搭載された後において、発塵源となり、ディスク基板の表面に異物が付着する原因となっている。さらに、磁気ディスク用ガラス基板の端面に蓄積された微粒子が磁気ヘッドの読み取り素子あるいは記録素子に付着して素子を損傷させる場合もある。特に、磁気ディスク用ガラス基板の内周側の端面は、外周側の端面に比較して表面形状が粗いので、微粒子を補足しやすく、磁気ディスク用ガラス基板の表面の高清浄化の障害になっていると考えられる。
　下記特許文献１に示すように、磁気ディスク用ガラス基板の端面はブラシと研磨スラリを用いて研磨されることが一般的であるが、この研磨では、研磨力が小さく加工レートが遅く、磁気ディスク用ガラス基板を短時間に多数製造することは難しかった。
　一方、フェライト系磁性粒子と研磨砥粒を含むスラリに磁場を加えることにより、磁気ディスク用ガラス基板を研磨する方法も知られている（特許文献２）。
　具体的には、スラリに磁場を加えて研磨する方法では、磁気ディスク用ガラス基板の素材であるガラス基板の中心部の円孔の内周端面を研磨する工程において、円孔の内周側に磁場を形成し、この円孔内において磁場によりスラリを保持させ、磁場を円孔の内周側の端面に対して移動させることにより、研磨剤を円孔の内周側の端面に対して移動させて円孔の内周側の端面を磁気研磨法によって研磨する。
　より具体的には、対となる磁石は、磁気ディスク用ガラス基板の外周側と、円孔の内周側とに設けるので、対となる磁石によって形成される磁力線は、磁気ディスク用ガラス基板の径方向に沿っている。
特開平１１－２８６４９号公報 特開２００５－５０５０１号公報
　しかし、上述した磁気ディスク用ガラス基板の磁気研磨方法では、磁気ディスク用ガラス基板の円孔の内周側の他に外周側にも磁石を設けるため、研磨対象の内周側端面と外周側に設けた磁石との間の距離が大きくなる。このため、スラリが十分に保持できず、研磨の加工レートが小さく、研磨対象の内周側端面の表面粗さを効率よく小さくすることはできないという問題があった。さらに磁気研磨における装置構成も磁石の配置の点で煩雑であった。さらに、磁気ディスク用ガラス基板の外周側端面を、内周側端面と同時に磁気研磨をすることはできない。
　そこで、本発明は、磁気ディスク用ガラス基板となるガラス基板を研磨する際、研磨の加工レートを従来よりも高くすることができ、効率よく研磨をすることができる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
　本発明は、以下の態様を含む。
　本発明の一態様は、磁気ディスク用ガラス基板を製造する方法である。
［態様１］
　当該方法は、
　ガラス基板の端面研磨を行う工程、を含み、
　前記端面研磨を行う工程では、
　磁気発生手段を用いて前記ガラス基板の厚さ方向に進む磁力線を形成し、
　前記磁力線に研磨砥粒と磁気機能性流体を含む磁性スラリを配することにより、前記磁性スラリを前記磁力線に沿って保持させ、
　前記ガラス基板の端面を、前記磁力線によって保持された前記磁性スラリと接触させた状態で相対移動させることにより、前記ガラス基板の端面を研磨する。
［態様２］
　前記磁性スラリは、前記磁力線に沿った塊を形成し、
　前記ガラス基板の端面は前記塊の内部に前記磁力線と直交する方向に押し付けられて前記ガラス基板の端面は研磨される、態様１に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
［態様３］
　前記ガラス基板の端面は、前記ガラス基板の両側の主表面に直交する方向に延びる側壁面と、前記側壁面と前記両側の主表面とを接続する、前記主表面に対して傾斜した面取り面とを、を有し、
　前記ガラス基板の端面を研磨するとき、前記側壁面と前記面取り面が同時に研磨される、態様１または２に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
［態様４］
　前記磁気発生手段は、前記ガラス基板の厚さ方向に、Ｎ極の面とＳ極の面が互いに対向するように離間した状態で配置された磁石の対を含む、態様１～３のいずれか１項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
［態様５］
　前記磁気発生手段は、前記ガラス基板の厚さ方向に、Ｎ極の面とＳ極の面が互いに対向するように離間した状態で配置された磁石の対を含み、
　前記ガラス基板の端面は、前記磁性スラリ内部の、前記Ｎ極と前記Ｓ極とを接続する磁力線に保持される部分と接触するように、前記磁性スラリの内部に押し付けられる、態様１～３のいずれか１項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
［態様６］
　前記磁石の対の前記Ｎ極の面と前記Ｓ極の面との間には、非磁性体からなるスペーサが設けられている、態様１～５のいずれか１項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
［態様７］
　前記ガラス基板は、前記ガラス基板の中心に中心点を持つ円形状の貫通孔を有する円板形状であり、
　前記磁気発生手段は、前記ガラス基板の前記貫通孔内に設けられて、前記貫通孔の側壁面である内周側端面の周りで、前記ガラス基板の厚さ方向に進む内周側磁力線を形成する内周側手段を有し、
　前記ガラス基板の前記内周側端面を、前記内周側手段によって形成される前記内周側磁力線によって保持された前記磁性スラリと接触させた状態で相対移動させることにより、前記内周側端面を研磨する、態様１～６のいずれか１項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
［態様８］
　前記磁性スラリは、中心軸を持ち前記中心軸の周りに回転可能な回転体の表面に円環形状に形成され、
　前記ガラス基板の前記内周側端面を研磨するとき、前記回転体の回転によって前記磁性スラリは回転し、かつ前記ガラス基板の前記内周側端面の全周と前記磁性スラリの全周とを接触させて、前記ガラス基板を、前記ガラス基板と逆回転方向に回転させる、態様７に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
［態様９］
　前記磁気発生手段は、さらに、前記ガラス基板の外周側に設けられて、前記ガラス基板の外周側端面の周りで、前記ガラス基板の厚さ方向に進む外周側磁力線を形成する外周側手段、を有し、
　前記ガラス基板の前記外周側端面を、前記外周側手段によって形成される前記外周側磁力線によって保持された前記磁性スラリと接触させた状態で相対移動させることにより、前記内周側端面及び前記外周側端面の両方を研磨する、態様７または８に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
［態様１０］
　複数の磁気ディスク用ガラス基板を製造する方法であって、
　複数のガラス基板を積層してガラス基板の積層体とし、前記積層体の状態で、それぞれのガラス基板の端面研磨を行う工程、を含み、
　前記端面研磨を行う工程では、
　磁気発生手段を用いて、前記積層体の積層方向に進む磁力線を複数の位置に形成させ、
　研磨砥粒と磁気機能性流体を含む磁性スラリを前記複数の位置に配することにより、前記磁力線によって前記磁性スラリを保持させ、
　前記複数の位置のそれぞれの位置で、前記積層体のそれぞれのガラス基板の端面を前記磁力線によって保持された前記磁性スラリと接触させた状態で相対移動させることにより、前記積層体のそれぞれのガラス基板の端面を研磨する、ことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
［態様１１］
　前記磁気発生手段は、前記積層体の積層方向に、Ｎ極の面とＳ極の面が互いに対向するように離間した状態で配置された複数の磁石の対を含み、前記複数の磁石は、前記積層体の積層方向の複数の位置に設けられている、態様１０に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
［態様１２］
　前記磁石の対のそれぞれのＮ極の面と前記Ｓ極の面との間には、非磁性体からなるスペーサが設けられている、態様１０または１１に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
［態様１３］
　前記磁気発生手段と前記積層体とは、研磨中、前記積層方向に対して相対的に揺動する、態様１０～１２のいずれか１項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
［態様１４］
　前記ガラス基板は、円形状の貫通孔を有する円板形状であり、
　前記磁気発生手段は、前記積層体の前記ガラス基板の前記貫通孔内に設けられて、前記ガラス基板の前記貫通孔の側壁面である内周側端面の周りで、前記ガラス基板の厚さ方向に進む内周側磁力線を形成する内周側手段を有し、
　前記ガラス基板の前記内側内周側端面を、前記内周側手段によって形成される前記内周側磁力線によって保持された前記磁性スラリと接触させた状態で相対移動させることにより、前記内周側端面を研磨する、態様１０～１３のいずれか１項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
［態様１５］
　磁気ディスク用ガラス基板を製造する方法であって、
　ガラス基板の端面研磨を行う工程、を含み、
　前記端面研磨を行う工程では、
　前記ガラス基板の厚さ方向に、Ｎ極の面とＳ極の面が互いに対向するように離間した状態で配置された磁石の対を含む磁気発生手段により形成される磁力線によって研磨砥粒と磁気機能性流体を含む磁性スラリを保持させ、
　前記ガラス基板の端面を、前記磁力線によって保持された前記磁性スラリと接触させた状態で相対移動させることにより、前記ガラス基板の端面を研磨する、ことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
 
［態様１６］
　磁気ディスク用ガラス基板を製造する方法であって、
　ガラス基板の端面研磨を行う工程、を含み、
　前記端面研磨を行う工程では、磁気発生手段を用いて前記ガラス基板の厚さ方向に進むような磁力線を形成し、磁気粘性流体と研磨砥粒を含む磁性スラリを前記磁力線に保持させることにより、前記磁力線に沿って前記磁性スラリの塊を形成させ、前記ガラス基板の端面を前記磁性スラリの前記塊と接触させた状態で相対移動させることにより、前記ガラス基板を研磨する、ことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
［態様１７］
　前記磁気発生手段は、前記ガラス基板の厚さ方向に、Ｎ極の面とＳ極の面が互いに対向するように離間した状態で配置された磁石の対を含む、態様１６に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
［態様１８］
　前記磁石の対の前記Ｎ極の面と前記Ｓ極の面との間には、非磁性体からなるスペーサが設けられている、態様１６または１７に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
［態様１９］
　前記ガラス基板は、円形状の貫通孔を有する円板形状であり、
　前記磁気発生手段は、前記ガラス基板の前記貫通孔内に設けられて、前記貫通孔の側壁面である内周側端面の周りで、前記ガラス基板の厚さ方向に進む内周側磁力線を形成する内周側手段と、前記ガラス基板の外周側に設けられて、前記ガラス基板の外周側端面の周りで、前記ガラス基板の厚さ方向に進む外周側磁力線を形成する外周側手段と、を有し、
　前記ガラス基板の前記内周側端面及び前記外周側端面を、前記内周側手段及び前記外周側手段のそれぞれによって形成される磁性スラリの前記塊と接触させた状態で相対移動させることにより、前記内周側端面及び前記外周側端面の両方を研磨する、請求項１６～１８のいずれか１項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
［態様２０］
　複数の磁気ディスク用ガラス基板を製造する方法であって、
　複数のガラス基板を積層してガラス基板の積層体とし、前記積層体の状態で、それぞれのガラス基板の端面研磨を行う工程、を含み、
　前記端面研磨を行う工程では、磁気発生手段を用いて、前記積層体の積層方向に進むような磁力線を複数の位置に形成させ、磁気粘性流体と研磨砥粒を含む磁性スラリを前記複数の位置で前記磁力線に沿って保持させることにより、前記ガラス基板の端面の周りに前記磁性スラリの塊を複数の位置でそれぞれ形成し、前記積層体のそれぞれのガラス基板の端面を前記磁性スラリの前記塊のそれぞれと接触させた状態で相対移動させることにより、前記積層体のそれぞれのガラス基板を研磨する、ことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
［態様２１］
　前記磁気発生手段は、前記積層体の積層方向に、Ｎ極の面とＳ極の面が互いに対向するように離間した状態で配置された複数の磁石の対を含み、前記複数の磁石は、前記積層体の積層方向の複数の位置に設けられている、態様２０に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
［態様２２］
　前記磁石の対のそれぞれのＮ極の面と前記Ｓ極の面との間には、非磁性体からなるスペーサが設けられている、態様２０または２１に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
［態様２３］
　前記磁気発生手段と前記積層体とは、研磨中、前記積層方向に対して相対的に揺動する、態様２０～２２のいずれか１項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
［態様２４］
　前記ガラス基板は、円形状の貫通孔を有する円板形状であり、
　前記磁気発生手段は、前記積層体の前記ガラス基板の前記貫通孔内に設けられて、前記ガラス基板の前記貫通孔の側壁面である内周側端面の周りで、前記ガラス基板の厚さ方向に進む内周側磁力線を形成する内周側手段と、前記積層体の前記ガラス基板の外周側に設けられて、前記ガラス基板の外周側端面の周りで、前記ガラス基板の厚さ方向に進む外周側磁力線を形成する外周側手段と、を有し、
　前記ガラス基板の前記内側内周側端面及び前記外周側端面を、前記内周側手段及び前記外周側手段のそれぞれによって形成される磁性スラリの前記塊と接触させた状態で相対移動させることにより、前記内周側端面及び前記外周側端面の両方を研磨する、態様２０～２３のいずれか１項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
［態様２５］
　磁気ディスク用ガラス基板を製造する方法であって、
　ガラス基板の端面研磨を行う工程、を含み、
　前記端面研磨を行う工程では、前記ガラス基板の厚さ方向に、Ｎ極の面とＳ極の面が互いに対向するように離間した状態で配置された磁石の対を含む磁気発生手段により形成される磁力線に沿って、磁気粘性流体と研磨砥粒を含む磁性スラリを保持させることにより、前記ガラス基板の端面の周りに前記磁性スラリの塊を形成させ、前記ガラス基板の端面を前記磁性スラリの前記塊と接触させた状態で相対移動させることにより、前記ガラス基板を研磨する、ことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
［態様２６］
　前記磁性スラリの粘度は、温度２０℃で１０００～２０００[ｍＰａ・秒]である、態様１～２５のいずれか１項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
［態様２７］
　前記磁気発生手段は、０．３～０．８[テスラ]の磁束密度を有する、態様１～２６のいずれか１項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
［態様２８］
　前記磁性スラリの降伏応力は、０．４[テスラ]の磁場を印加した状態で３０～６０ｋＰａである、態様１～２７のいずれか１項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
　上述の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法によれば、ガラス基板の端面を研磨する際、研磨の加工レートを従来よりも高くすることができ、効率よく研磨をすることができる。
（ａ）は、磁気ディスク用ガラス基板を用いて作製される磁気ディスクの一例を示す概略構成図であり、（ｂ）は、磁気ディスクの一例の断面図である。 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法の一実施形態のフローを示す図である。 （ａ）～（ｃ）は、本実施形態の研磨方法を説明する図である。 本実施形態の研磨の状態を説明する図である。 （ａ），（ｂ）は、本実施形態の磁気ディスク用ガラス基板の積層体を用いた研磨方法を説明する図である。 図５に示す実施形態における研磨方法の変形例を説明する図である。 本実施形態の他の変形例を説明する図である。
　以下、本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法について詳細に説明する。
　なお、以下説明する明細書中でいう磁気粘性流体（ＭＲＦ）は、磁気機能性流体の１つである。磁気機能性流体は、磁気粘性流体の他に、磁性流体（ＭＦ）及び磁気混合流体（ＭＣＦ）を含む。明細書中で言う磁性スラリは、少なくとも研磨砥粒と磁気粘性流体を含む。
（磁気ディスクおよび磁気ディスク用ガラス基板）
　まず、図１を参照して、磁気ディスク用ガラス基板を用いて作製される磁気ディスクについて説明する。図１（ａ）は、磁気ディスク用ガラス基板を用いて作製される磁気ディスクの一例を示す概略構成図である。図１（ｂ）は、磁気ディスクの概略断面図である。
　図１（ａ）に示されるように、磁気ディスク１は、円板の形状の中心部分が同心円形状にくり抜かれたリング状を成し、リングの中心を通る軸を回転軸として回転する。この磁気ディスク１は、例えば、２．５インチ型磁気ディスク、３．５インチ型磁気ディスクなどの所定の直径を有している。図１（ｂ）に示されるように、磁気ディスク１は、ガラス基板２と、少なくとも磁性層３Ａ，３Ｂと、を備える。なお、磁性層３Ａ，３Ｂ以外には、例えば、図示されない付着層、軟磁性層、非磁性下地層、垂直磁気記録層、保護層および潤滑層等が成膜される。付着層には、例えばＣｒ合金等が用いられる。付着層は、ガラス基板２との接着層として機能する。軟磁性層には、例えばＣｏＴａＺｒ合金等が用いられる。非磁性下地層には、例えばグラニュラー非磁性層等が用いられる。垂直磁気記録層には、例えばグラニュラー磁性層等が用いられる。保護層には、水素カーボンからなる材料が用いられる。潤滑層には、例えばフッ素系樹脂等が用いられる。
　磁気ディスク１について、より具体的な例を用いて説明する。本実施形態では、インライン型スパッタリング装置を用いて、ガラス基板２の両主表面に、ＣｒＴｉの付着層、ＣｏＴａＺｒ／Ｒｕ／ＣｏＴａＺｒの軟磁性層、ＣｏＣｒＳｉＯ２の非磁性グラニュラー下地層、ＣｏＣｒＰｔ－ＳｉＯ２・ＴｉＯ２のグラニュラー磁性層、水素化カーボン保護膜を順次成膜される。さらに、成膜された最上層にディップ法によりパーフルオロポリエーテル潤滑層が成膜される。
　本実施形態における磁気ディスク用ガラス基板の材料として、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ボロシリケートガラスなどを用いることができる。特に、化学強化を施すことができ、また主表面の平面度及び基板の強度において優れた磁気ディスク用ガラス基板を作製することができるという点で、アルミノシリケートガラスを好適に用いることができる。
　本実施形態の磁気ディスク用ガラス基板の組成を限定するものではないが、アルミノシリケートガラスとして、酸化物基準に換算した際に、モル％表示で、ＳｉＯ２を５０～７５％、Ａｌ２Ｏ３を１～１５％、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ及びＫ２Ｏから選択される少なくとも１種の成分を合計で１２～３５％、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ及びＺｎＯから選択される少なくとも１種の成分を合計で０～２０％、及び、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、Ｌａ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、Ｎｂ２Ｏ５及びＨｆＯ２から選択される少なくとも１種の成分を合計で０～１０％、有する組成からなるアルミノシリケートガラスを用いることが好ましい。
　次に、図２を参照して、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法のフローを説明する。図２は、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法の一実施形態のフローを示す図である。
　図２に示すように、先ず、一対の主表面を有する板状のガラスブランクを成形する（ステップＳ１０）。次に、成形されたガラスブランクをスクライブして、円環状のガラス基板を作製する（ステップＳ２０）。これにより、ガラス基板の中心に中心点を持つ円孔の貫通孔を有する磁気ディスク用ガラス基板（以降単にガラス基板という）が得られる。次に、スクライブされたガラス基板に対して形状加工（チャンファリング加工）を行う（ステップＳ３０）。次に、ガラス基板に対して研削を施す（ステップＳ４０）。次に、ガラス基板の端面研磨を行う（ステップＳ５０）。次に、ガラス基板の主表面に第１研磨を施す（ステップＳ６０）。次に、ガラス基板に対して第２研磨を施す（ステップＳ７０）。以上の工程を経て、要求された表面凹凸を満足する磁気ディスク用ガラス基板が得られる。なお、ガラスブランク成形工程（ステップＳ１０）から形状加工工程（ステップＳ３０）までの工程により、ガラスブランクから円形状のガラス基板が作製される。これらの各工程は常に必要であるわけでなく、適宜省略することもできる。また、各工程の順番を適宜変更することもできる。以下、各工程について、詳細に説明する。
　（ａ）ガラスブランク成形工程（ステップＳ１０）
　ガラスブランクの成形では、例えばフロート法が用いられる。ガラスブランクの成形工程では先ず、錫などの溶融金属の満たされた浴槽内に、溶融ガラスを連続的に流し入れることで例えば上述した組成の板状ガラスを得る。溶融ガラスは厳密な温度操作が施された浴槽内で進行方向に沿って流れ、最終的に所望の厚さ、幅に調整された板状ガラスが形成される。この板状ガラスから、磁気ディスク用ガラス基板の元となる所定形状（例えば平面視四角形状）の板状のガラスブランクが切り出される。浴槽内の溶融錫の表面は水平であるために、フロート法により得られる板状のガラスブランクは、その表面の平坦度が十分に高いものとなる。
　また、板状のガラスブランクの成形は、フロート法の他に、例えばプレス成形法を用いることもできる。プレス成形による板状のガラスブランクの成形では、受けゴブ形成型である下型上に、溶融ガラスからなるガラスゴブ（ガラス塊）が供給され、下型と対向ゴブ形成型である上型を使用してガラスゴブがプレス成形される。これにより、磁気ディスク用ガラス基板の元となる円板状のガラスブランクが作製される。
　なお、板状のガラスブランクは、上述した方法に限らず、ダウンドロー法、リドロー法、フュージョン法などの公知の製造方法を用いて製造することができる。フロート法やダウンドロー法、リドロー法、フュージョン法などの公知の製造方法で作られた板状ガラスから、後述するスクライブ工程を経て磁気ディスク用ガラス基板の元となる円板状のガラスブランクが切り出される。
　（ｂ）スクライブ工程（ステップＳ２０）
　次に、スクライブ工程について説明する。ガラスブランク成形工程の後、スクライブ工程では、成形されたガラスブランクに対してスクライブが行われる。
　ここでスクライブとは、成形されたガラスブランクを所定のサイズのリング形状のガラス基板とするために、ガラスブランクの表面にスクライバにより２つの同心円（内周側同心円および外周側同心円）状の切断線（線状のキズ）を設けることをいう。２つの同心円の形状にスクライブされたガラスブランクは、部分的に加熱され、ガラスブランクの熱膨張の差異により、外周側同心円の外側部分および内周側同心円の内側部分が除去される。これにより、円形状の貫通孔があいたリング状のガラス基板が得られる。なお、ガラスブランクに対してコアドリル等を用いて円孔を形成することにより円形状の貫通孔があいたディスク状のガラス基板を得ることもできる。
　（ｃ）形状加工工程（ステップＳ３０）
　次に、形状加工工程について説明する。形状加工工程では、スクライブ工程後のガラス基板の端部に対するチャンファリング加工（外周側端面および内周側端面の面取り加工）を含む。チャンファリング加工は、スクライブ工程後のガラス基板の外周側端面および内周側端面において面取りを施す形状加工である。面取りの傾斜角度は、主表面に対して例えば４０～５０度であり、略４５度であることが好ましい。この形状加工によって、所定の断面形状をしたガラス基板が作製される。
　（ｄ）研削工程（ステップＳ４０）
　研削工程では、上定盤、下定盤、インターナルギヤ、キャリヤ、太陽ギヤを備えた公知の遊星歯車機構を持った両面研削装置を用いて、ガラス基板の主表面に対して研削加工を行う。具体的には、ガラス基板の外周側端面が、両面研削装置の保持部材に設けられた保持孔内に保持されながらガラス基板の両側の主表面の研削が行われる。両面研削装置は、上下一対の定盤（上定盤および下定盤）を有しており、上定盤および下定盤の間にガラス基板が狭持される。ガラス基板の挟持は、円板状のキャリヤに設けられた保持孔にガラス基板が保持された状態で、キャリヤが上定盤および下定盤の間に挟まれる。そして、上定盤または下定盤のいずれか一方、または、双方を移動操作させることで、ガラス基板と各定盤とを相対的に移動させることにより、ガラス基板の両主表面を研削することができる。
なお、研削では、定盤に設けられた固定砥粒、あるいは遊離砥粒を含んだ研磨スラリーを用いることができる。
　（ｅ）端面研磨工程（ステップＳ５０）
　次に、端面研磨工程を説明する。端面研磨では、研磨砥粒と磁気粘性流体を含む磁性スラリを磁力線に保持させることにより、磁性スラリが硬くなった磁性スラリの塊を形成させ、この塊と内周側端面、外周側端面とをそれぞれ接触させて相対移動させることにより、ガラス基板の内周側端面、外周側端面の研磨を行う。磁性スラリには、研磨砥粒として、例えば、酸化セリウムや酸化ジルコニウム等の微粒子が用いられる。また、端面研磨による取り代は、１０μｍ以下であり、より好ましくは５μｍ以下である。端面研磨を行うことにより、ガラス基板の端面での塵埃等が付着した汚染、傷等の損傷の除去を行うことにより、サーマルアスペリティ障害の発生を防止することができる。さらに、ナトリウムやカリウム等のコロージョンの原因となるイオン析出の発生を防止することができる。本実施形態の端面研磨は、従来の端面研磨の方式、例えばブラシを用いて研磨スラリでガラス基板の端面を研磨する方式、さらには、従来の磁気研磨の方式に比べて短時間に研磨することができ、極めて生産効率がよい。端面研磨については後述する。
　（ｆ）第１研磨工程（ステップＳ６０）
　次に、研削のガラス基板の主表面に第１研磨が施される。具体的には、ガラス基板の外周側端面を、両面研磨装置の保持部材に設けられた保持孔内に保持しながらガラス基板の両側の主表面の研磨が行われる。
　第１研磨工程では、研削（ステップＳ４０）に用いる両面研削装置と同様の構成を備えた公知の両面研磨装置を用いて、研磨スラリを与えながらガラス基板が研磨される。第１研磨工程では、遊離砥粒を含んだ研磨スラリが用いられる。第１研磨に用いる遊離砥粒として、例えば、酸化セリウム砥粒、あるいはジルコニア砥粒などが用いられる。両面研磨装置も、両面研削装置と同様に、上下一対の定盤の間にガラス基板が狭持される。下定盤の上面及び上定盤のガラス基板と対向する面には、全体として円環形状の平板の研磨パッド（例えば、樹脂ポリッシャ）が取り付けられている。そして、上定盤または下定盤のいずれか一方、または、双方を移動操作させることで、ガラス基板と各定盤とを相対的に移動させることにより、ガラス基板の両主表面を研磨する。
　（ｇ）第２研磨（最終研磨）工程（ステップＳ７０）
　次に、ガラス基板に第２研磨が施される。第２研磨においても、第１研磨に用いる両面研磨装置と同様の構成を有する両面研磨装置が用いられる。第２研磨は、遊離砥粒の種類及び粒子サイズが適宜調整され、樹脂ポリッシャの硬度が適宜調整されて行われる。
　第２研磨工程に用いる遊離砥粒として、例えば、スラリに混濁させたコロイダルシリカ等の微粒子が用いられる。研磨されたガラス基板を洗浄することで、磁気ディスク用ガラス基板が得られる。
　第２研磨工程は、必ずしも必須な工程ではないが、ガラス基板の主表面の表面凹凸のレベルをさらに良好なものとすることができる点で実施することが好ましい。第２研磨工程を実施することで、主表面の粗さ(Ｒａ)を０．１ｎｍ以下かつ上記主表面のマイクロウェービネス（ＭＷ－Ｒｑ）を０．１ｎｍ以下とすることができる。
　このようにして、第２研磨されたガラス基板は要求された表面凹凸を満足する磁気ディスク用ガラス基板となる。なお、上記研磨工程の前、後、第1研磨と第2研磨との間に、必要に応じてイオン交換による化学強化処理を行ってもよい。例えば、前記（ｅ）端面研磨工程（ステップＳ５０）の前にガラス基板に対して化学強化処理を行い、化学強化されたガラス基板の端面に対して前記（ｅ）端面研磨工程（ステップＳ５０）を行ってもよい。この場合には、化学強化処理の際にガラス基板表面に付着した異物を除去できるため好ましい。化学強化処理として、公知の方法を用いればよい。
（端面研磨）
　ステップＳ５０で行う端面研磨についてより詳細に説明する。図３（ａ）～（ｃ）及び図４は、本実施形態の端面研磨の研磨方法を説明する図であり、わかり易く説明した図である。
　端面研磨を行う装置１０は、磁気発生手段と磁性スラリを用いてガラス基板の端面の研磨を行う。装置１０では、まず、磁気発生手段である磁石１２と磁石１４を用いてガラス基板１１の厚さ方向に進む磁力線を形成し、この磁力線１１に磁性スラリを配することにより磁性スラリの塊２０をつくり、この磁力線により、磁性スラリの塊２０を磁力線に沿って保持させる。そして、ガラス基板１１の端面を、磁力線によって保持された磁性スラリの塊２０と接触させた状態でガラス基板１１と塊２０とを相対移動させることにより、ガラス基板１１の端面を研磨する。
　図３（ａ）～（ｃ）及び図４は、ガラス基板の内周側端面の研磨を説明している。端面研磨を行う装置１０の概要を説明すると、図３（ａ）に示すように、装置１０は、永久磁石である一対の磁石１２，１４と、スペーサ１６と、非磁性体、例えばステンレスからなる中空の円柱形状の外装部材１８と、を含む。外装部材１８内に、磁石１２，１４及びスペーサ１６が内蔵されている。端面研磨を行うガラス基板１１は、図示されない保持具によって把持されている。保持具に把持されたガラス基板１１を、円形状の貫通孔１１ａに外装部材１８を貫通させ、後述する磁性スラリの塊２０（図３（ｃ），図４参照）とガラス基板１１の内周側端面とを接触させる。装置１０の外装部材１８及びガラス基板１１を保持する図示されない保持具は、図示されない駆動モータと機械的に接続されている。外装部材１８と保持具が回転してガラス基板１１の端面と塊２０とを相対的に移動させることにより、ガラス基板１１の内周側端面を研磨することができる。例えば、外装部材１８とガラス基板１１を保持する保持具との回転方向を互いに逆向きに回転させ、外装部材１８と保持具との周速度の相対速度を５０～３００ｍ／分として回転させることが好ましく、より好ましくは、上記相対速度は４０～１００ｍ/分である。すなわち、磁性スラリは、中心軸を持ち中心軸の周りに回転可能な外装部材１８（回転体）の表面に円環形状に形成される。ガラス基板１１の内周側端面を研磨するとき、外装部材１８の回転によって磁性スラリは回転する。ガラス基板１１の内周側端面の全周と磁性スラリの全周とを接触させて、ガラス基板１１を、ガラス基板１１と逆回転方向に回転させることが好ましい。磁性スラリは、円環形状に形成されているので、ガラス基板１１の円形の貫通孔の内壁面である内周側端面を、円孔の形状を変形させないように研磨することができる。この場合、ガラス基板１１の回転数は例えば５００～４０００ｒｐｍとし、磁性スラリの回転数は例えば５０～３００ｒｐｍとする。なお、後述するように、ガラス基板１１の外周側端面を研磨する場合も、ガラス基板１１の回転数は例えば５００～４０００ｒｐｍとし、磁性スラリの回転数は例えば５０～３００ｒｐｍとすることが好ましい。
　なお、ガラス基板１１の端面と塊２０とを相対的に移動させることができれば、ガラス基板１１の端面と塊２０とのいずれか一方を固定し他方を回転させてもよい。しかし、磁性スラリとガラス基板１１の回転方向を同じ回転方向にした場合、研磨の加工レートはばらつき易く、磁性スラリの温度が過度に高くなり磁性スラリの寿命が低下する。この点で、ガラス基板１１と磁性スラリの回転方向を互いに逆向きに回転させることが好ましい。
　端面研磨をより具体的に説明すると、磁石１２と磁石１４は、互いに近接して、磁気発生手段として機能し、図３（ｂ）に示すような磁力線１９を形成する。この磁力線１９は、磁石１２，１４の中心から外側に向けて突出するように進み、かつ、ガラス基板１１の厚さ方向に進む。図３（ｂ）に示す例では、ガラス基板１１の厚さ方向に、Ｎ極の面とＳ極の面が互いに対向するように離間した状態で配置された磁石の対が磁気発生手段として用いられる。面が互いに対向するとは、面と面が平行に向き合うこと、すなわち正対することをいう。磁石１２，１４との間には、磁石１２のＮ極の端面と磁石１４のＳ極の端面との間の離間距離を予め定めた距離とするために、非磁性体からなるスペーサ１６が設けられる。磁石１２のＮ極の端面と磁石１４のＳ極の端面との間の離間距離を予め定めた距離とするのは、磁力線１９が図３（ｂ）に示すように外側に突出させることにより、図３（ｃ）に示すような磁性スラリの塊２０を外装部材１８の外周につくるためである。塊２０は、ガラス基板１１の端面と接触し、この端面との間で相対運動する部分であるため、塊２０の剛性を確保する点から、磁力はある程度強いことが望まれる。このため、磁石１２のＮ極の端面と磁石１４のＳ極の端面との間の離間距離は短いことが好ましいが、過度に離間距離が短い場合、磁力線が外側に突出しにくくなり、塊２０を十分に形成することができなくなる。このため、磁石１２のＮ極の端面と磁石１４のＳ極の端面との間の離間距離はある所定の範囲に定められる。
　本実施形態のガラス基板の端面研磨は、ガラス基板１１の端面は塊２０の内部に磁力線と直交する方向に押し付けられて行われることが、研磨の加工レートを高める点で好ましい。磁力線と直交する方向に押し付けることで、ガラス基板１１の端面は塊２０から大きな効力を受けるので、研磨が促進される。
　また、ガラス基板１１の端面は、一般的に、ガラス基板１１の両側のガラス主表面に直交する方向に延びる側壁面と、この側壁面と両側のガラス主表面とを接続する、ガラス主表面に対して傾斜した面取り面とを、を有する。このガラス基板１１の端面を研磨するとき、側壁面と面取り面が同時に研磨されることが好ましい。本実施形態のガラス基板では、側壁面と面取り面の端面研磨を同時にしかも高い研磨レートで行えるので効率の良い端面研磨を行うことができる。
　本実施形態のガラス基板１１の端面は、磁性スラリの塊２０内部の、磁石１２のＮ極と磁石１４のＳ極とを接続する磁力線、すなわち、磁力線がＮ極からあるいはＳ極から延びてＳ極あるいはＮ極で終了する閉じた磁力線に保持される部分と接触するように、塊２０の内部に押し付けられる、ことが好ましい。磁石１２のＮ極と磁石１４のＳ極とを接続する磁力線に沿って保持される磁性スラリの部分は、磁力線が磁石の極で終了しない部分に比べて剛性が高まり高い研磨の加工レートを実現する。
　なお、上述したように側壁面と面取り面が同時に研磨されるように、ガラス基板１１を塊２０の内部に押し込むが、このとき、ガラス基板の主表面のうち塊２０に接触する部分は実質的に研磨されない。ガラス基板の主表面の近傍では、磁力線はガラス基板に遮断されてＮ曲とＳ曲との間で閉じた磁力線が切れるので磁気スラリの塊の硬さは低下し易い。このため、ガラス基板の主表面の研磨の加工レートはきわめて低くなり、ガラス基板の端面の研磨中、主表面の研磨は実質的に研磨されない。
　また、本実施形態の研磨対象である磁気ディスク用ガラス基板は、薄板状であることが好ましく、その板厚が１ｍｍ以下であることがより好ましい。そして、本発明は、薄板状のガラス基板の端面を研磨することがより好ましい。
　なお、図３（ａ）～（ｃ）及び図４に示す例では、磁気発生手段として永久磁石を用いたが、後述するように、電磁石を用いることもできる。また、磁石１２のＮ極の端面と磁石１４のＳ極の端面との間の離間距離を一定の距離に確保するために、スペーサ１６を用いたが、スペーサ１６を用いず、外装部材１８に磁石１２，１４が固定されて、磁石１２のＮ極の端面と磁石１４のＳ極の端面との間の離間距離を一定に確保することもできる。
　端面研磨に用いる磁性スラリの磁気粘性流体として、例えば、０．１～１０μｍのＦｅからなる磁性体微粒子を３～５ｇ／ｃｍ3含む非極性オイル、及び界面活性剤を含んだ流体が用いられる。非極性オイルあるいは極性オイルは、例えば、室温（２０℃）において１００～１０００（ｍＰa・秒）の粘度を有する。
　磁性スラリにより形成される塊２０は、磁性体微粒子を含む磁気粘性流体が磁力線上に塊として形成されるとき、磁性体粒子と同様に研磨砥粒も塊２０に含まれる。磁気粘性流体中の研磨砥粒は、磁気浮揚効果により磁力勾配の低い部分に押し出されるため、ガラス基板の研磨しようとする端面近傍に偏って存在する。しかも、磁力線により比較的高い弾性特性を有する塊となるので、ガラス基板の端面を塊２０に押圧することにより効率よく研磨することができる。すなわち、加工レートを従来よりも高くすることができ、効率よく研磨をすることができる。
　磁性スラリに含まれる研磨砥粒として、酸化セリウム、コロイダルシリカ、酸化ジルコニア、アルミナ砥粒、ダイヤモンド砥粒等の公知のガラス基板の研磨砥粒を用いることができる。研磨砥粒の粒径については、例えば０．５～３μｍである。この範囲の研磨砥粒を用いることにより、ガラス基板の内周側端面を良好に研磨することができる。研磨砥粒は、磁性スラリ中に、例えば３～１５Ｖｏｌ％含まれる。
　磁性スラリの粘度は、磁気粘性流体の濃度調整により、室温（２０℃）で１０００～２０００[ｍＰａ・秒]であることが、磁性スラリの塊２０を形成させ、端面研磨を効率よく行う点で好ましい。粘度が低い（磁気粘性流体の濃度が低い）と塊２０を形成し難くなり、ガラス基板１１の端面に押圧された状態で相対運動させて研磨することは難しい。一方、磁性スラリの粘度が過度に高い場合、塊２０が研磨中ガラス基板１１の端部形状に沿って形成され均一な押圧状態が形成し難い。また、磁気発生手段における磁束密度は、磁性スラリの塊２０を形成させ、端面研磨を効率よく行う点で、０．３～０．８[テスラ]であることが好ましい。また、磁気粘性流体の降伏応力は、０．４[テスラ]の磁場を印加した状態で３０ｋＰａ以上であることが好ましく、３０～６０ｋＰａであることがより好ましい。
　ここで、磁気粘性流体の降伏応力（降伏せん断応力）は、 例えば次の方法により求めることができる。
　回転粘度計に、０．４[テスラ]の磁場を印加可能な磁場印加手段（永久磁石、電磁石等）を組込んだ装置を用いて、磁気粘性流体のせん断速度とせん断応力の関係を求め、得られたせん断速度とせん断応力の関係を公知のCassonの式を用いて近似することよって、磁気粘性流体の降伏応力を求めることができる。
　上記降伏応力は、磁場によって保持された磁性スラリとガラス基板の外周側端面とが相対移動する際に、ガラス基板が磁性スラリから受ける圧力、即ちせん断応力に影響を与える。したがって、磁性スラリの降伏応力が高い程（磁性スラリ流動時のせん断応力が高い程）、研磨砥粒とガラス基板との接触による研磨が効率的に行われ、端面研磨の加工レートを向上させることができる。
　このように、磁性スラリは、中心軸を持ち中心軸の周りに回転可能な回転体である外装部材１８の表面に円環形状に形成されている。このとき、ガラス基板１１の内周側端面を研磨するとき、この回転体の回転によって磁性スラリは回転し、かつガラス基板１１の内周側端面の全周と磁性スラリの全周とを接触させて、ガラス基板１１を、ガラス基板１１と逆回転方向に回転させることが、内周側端面の研磨の加工レート向上の点で好ましい。
　なお、回転体である外装部材１８の表面は、一定の曲率半径を有する円筒表面であってもよいし、回転体の表面の周上に一周する溝が設けられてもよい。この溝に磁性スラリを配することができる。
（変形例１）
　図３（ａ）～（ｃ）及び図４は、ガラス基板１１の内周側端面の研磨について説明したが、ガラス基板の外周側端面についても、同様の方法により研磨することができる。変形例１（図示されない）は、ガラス基板１１の内周側端面の研磨と同時に外周側端面の研磨を行う例である。
　変形例１では、図３（ａ）～（ｃ）に示す磁石１２，１４及びスペーサ１６を内蔵した外装部材１８を、ガラス基板１１の外周側端面の近傍に配置し、磁石１２，１４によって外装部材１８の外周側に形成される磁力線によって磁力線に沿って磁性スラリを保持させることにより磁性スラリの塊２０を形成させる。この塊２０とガラス基板の外周側端面を接触させた状態で相対的に移動させることにより、ガラス基板１１の外周側端面の研磨が行われる。
　すなわち、変形例１では、磁気発生手段として、図３（ａ）～（ｃ）に示す磁石１２，１４をガラス基板１１の貫通孔１１ａ内に設け磁力線を形成する内周側手段と、図３（ａ）～（ｃ）に示す磁石１２，１４と同様に磁石１２，１４をガラス基板１１の外周側に設け磁力線を形成する外周側手段と、を含む。内周側手段は、貫通孔１１ａを取り巻くガラス基板１１の内周側端面の周りで、ガラス基板１１の厚さ方向に進む内周側磁力線を形成する。外周側手段は、ガラス基板１１の外周側端面の周りで、ガラス基板１１の厚さ方向に進む外周側磁力線を形成する。端面の研磨は、ガラス基板１１の内周側端面及び外周側端面を、上記内周側手段及び上記外周側手段のそれぞれによって形成される磁性スラリの塊２０と接触させた状態で相対移動させることにより、内周側端面及び外周側端面の両方を研磨する。したがって、変形例１では、図３（ａ）～（ｃ）及び図４に示すガラス基板１１の内周側端面の研磨を行うと同時に、外周側端面の研磨を行うことができ、効率のよい端面研磨を実現する。すなわち、加工レートを従来よりも高くすることができ、効率よく研磨をすることができる。
（変形例２）
　図５（ａ），（ｂ）は、端面研磨の変形例２を示す図である。
　変形例２では、一枚のガラス基板ではなく、複数のガラス基板の内周側端面を纏めて研磨する例である。
　変形例２では、複数の磁石の対を用いて、ガラス基板の積層体の積層方向に進む磁力線を複数の位置に形成させ、磁性スラリを複数の位置に配することにより、磁力線によって磁性スラリを保持させて磁性スラリの塊を複数の位置につくり、この複数の位置のそれぞれの位置で、ガラス基板の積層体のそれぞれのガラス基板の端面を磁力線によって保持された塊と接触させた状態で相対移動させることにより、それぞれのガラス基板の端面を研磨する。これにより、複数のガラス基板の端面研磨を短時間に行うことができる。
　図５（ａ）に示す装置３０は、外装部材１８と、磁石１２，１４，３２，３４，３６と、スペーサ１６，３８，４０，４２と、を含む。外装部材１８、磁石１２，１４、スペーサ１６は、いずれも、図３（ａ）に示す外装部材１８、磁石１２，１４、スペーサ１６と同じ構成のものである。また、磁石３２，３４，３６は、磁石１２，１４と同じ構成のものであり、スペーサ３８，４０，４２もスペーサ１６と同じ構成のものである。したがって、外装部材１８と、磁石１２，１４，３２，３４，３６と、スペーサ１６，３８，４０，４２との説明は省略する。
　外装部材１８には、磁石のＮ極の端面と隣り合うＳ極の端面とが一定距離離間して対向するように段重ねになって内蔵されている。したがって、このような外装部材１８によって、外装部材１８の外側に形成される磁力線に沿って、磁性スラリの塊２０，５２，５４，５６が外装部材１８の長手方向に沿って複数個所（４箇所）形成される。塊２０，５２，５４，５６が形成された外装部材１８を、束になったガラス基板１１，４４，４６，４８（各ガラス基板の端面は面取りされている）の中心に中心点を持つように設けられた円形状の貫通孔に貫通させ、磁性スラリの塊２０，５２，５４，５６とガラス基板１１，４４，４６，４８の内周側端面とを接触させる。したがって、塊２０，５２，５４，５６とガラス基板１１，４４，４６，４８の内周側端面との間で相対移動させることにより、ガラス基板１１，４４，４６，４８の内周側端面を同時に研磨することができる。ガラス基板１１，４４，４６，４８は接着剤等により積層体として一体化されている。ここで、積層体にするために用いる接着剤として、ガラス基板１１，４４，４６，４８の各主表面同士を接着または剥離可能であればいかなるものでも構わない．例えば、紫外線硬化樹脂接着剤は，所定の波長の紫外線の照射で容易に固化するため接着作業が容易である。また、紫外線硬化樹脂として，温水あるいは有機溶媒により接着したガラス基板１１，４４，４６，４８を容易に剥離させることができるものが好ましい．接着剤としては紫外線硬化樹脂接着剤のほか，ワックス，光硬化樹脂，可視光線硬化樹脂等も使用することができる。ワックスは，所定の温度で軟化して液状になり常温で固形状となるので，ガラス基板１１，４４，４６，４８の接着、剥離作業が容易である。接着剤の代わりにスペーサを挟み貼付してもよい。接着剤の代わりにスペーサをガラス基板１１，４４，４６，４８間に貼付する場合には，樹脂材料、繊維材料、ゴム材料、金属材料，セラミック材料等の薄厚のスペーサを使用することができる。ガラス基板１１，４４，４６，４８の束は、図示されない保持具で把持される。
　すなわち、端面研磨を行う工程では、磁石１２，１４，３２，３４，３６を磁気発生手段として用いて、ガラス基板１１，４４，４６，４８の束である積層体の積層方向に進むような磁力線を複数の位置に形成し、磁性スラリを複数の位置で磁力線に沿って保持させることにより、ガラス基板の端面の周りに磁性スラリの塊２０，５２，５４，５６を複数の位置でそれぞれ形成させる。ガラス基板１１，４４，４６，４８の内周側端面を磁性スラリの塊２０，５２，５４，５６のそれぞれと接触させた状態で相対移動させることにより、ガラス基板を研磨する。したがって、複数のガラス基板の内周側端面を同時に研磨することができるので、効率のよい端面研磨を実現する。すなわち、加工レートを従来よりも高くすることができ、効率よく研磨をすることができる。
　なお、ガラス基板１１，４４，４６，４８の間隔と、塊２０，５２，５４，５６の間隔は一致し、ガラス基板１１，４４，４６，４８の内周側端面が、塊２０，５２，５４，５６のそれぞれと同時に接触するように磁石間に設けるスペーサを調整することにより、塊２０，５２，５４，５６の形成位置を調整しておくことが好ましい。ガラス基板１１，４４，４６，４８の内周側端面が、塊２０，５２，５４，５６のそれぞれと同時に接触しない場合を考慮して、磁気発生手段である磁石１２，１４，３２，３４，３６と積層体であるガラス基板１１，４４，４６，４８の束とは、研磨中、積層体の積層方向（外装部材１８の延在方向）に対して相対的に揺動することが好ましい。揺動させることにより、塊２０，５２，５４，５６のそれぞれと研磨中、偏り無く接触し、ガラス基板１１，４４，４６，４８の内周側端面の研磨を均一に行うことができる。例えば、接着剤を用いて束にしたガラス基板の積層体の場合、例えば０．１～２０ｍｍ程度のストロークを例えば２４～６００［ｍｍ／分］の速度で揺動させる。これにより、側端面の研磨を均一に行うことができる。この揺動は、変形例２のガラス基板の積層体の端面研磨のみに用いられるわけではなく、図４に示すような一枚のガラス基板の端面を研磨する場合にも適用できる。この場合、ガラス基板の厚みの半分程度を揺動の範囲とするとよい。
（変形例３）
　図６は、端面研磨の変形例３を示す図である。変形例３では、変形例２と同様に、複数のガラス基板１１，４４，４６，４８を接着剤で接着しガラス基板の束となった積層体の各ガラス基板の内周側端面を研磨するとともに、各ガラス基板の外周側端面を研磨する。すなわち、塊２０，５２，５４，５６が形成された外装部材１８を、接着剤で主表面を接合して束になったガラス基板１１，４４，４６，４８の中心に設けられた円形状の貫通孔に貫通させ、磁性スラリの塊２０，５２，５４，５６とガラス基板１１，４４，４６，４８の内周側端面とを接触させる。
　同時に、積層体の各ガラス基板の外周側に設けられた外装部材１８と同様の構成の外装部材６０の表面に、磁性スラリの塊６２，６４，６６，６８を形成させる。外装部材６０は、塊６２，６４，６６，６８がガラス基板１１，４４，４６，４８と接触するように位置決めされている。外装部材６０は、外装部材１８と同様に図示されない駆動モータと機械的に接続されており、回転可能になっている。したがって、外装部材１８、外装部材６０を、磁気ディスク１１，４４，４６，４８と異なる方向に回転させることにより、ガラス基板１１，４４，４６，４８の内周側端面及び外周側端面を同時に研磨することができ、効率のよい端面研磨を実現する。
　すなわち、端面研磨を行う工程では、磁気発生手段として、積層体を構成するガラス基板１１，４４，４６，４８の円形状の貫通孔内に設けられた磁力線を形成する内周側手段と、積層体を構成するガラス基板１１，４４，４６，４８の外周側に設けられた磁力線を形成する外周側手段とを用いる。内周側手段は、ガラス基板１１，４４，４６，４８の円形状の貫通孔を取り巻くガラス基板の内周側端面の周りで、ガラス基板１１，４４，４６，４８の厚さ方向に進む内周側磁力線を形成する。外周側手段は、ガラス基板１１，４４，４６，４８の外周側端面の周りで、ガラス基板１１，４４，４６，４８の厚さ方向に進む外周側磁力線を形成する。そして、ガラス基板１１，４４，４６，４８の内周側端面及び外周側端面を、内周側手段及び外周側手段のそれぞれによって複数の位置に形成される磁性スラリの塊２０，５２，５４，５６，６２，６４，６６，６８と接触させた状態で相対移動させることにより、内周側端面及び外周側端面を同時に研磨する。したがって、複数のガラス基板の内周側端面を同時に研磨することができるので、効率のよい端面研磨を実現する。すなわち、加工レートを従来よりも高くすることができ、効率よく研磨をすることができる。
（変形例４）
　図７は、端面研磨の変形例４を示す図である。変形例４では、図３（ａ）～（ｃ），図４に示すような永久磁石である磁石１２，１４を用いる代わりに電磁石を用いる。すなわち、外装部材１８内に、２つの電磁石７０，７２と、電磁石７０と電磁石７２との間の離間距離を維持するようにスペーサ７４とが内蔵され、電磁石７０，７２の対向する端面がＳ極及びＮ極になるように、電流源７６，７８に接続されている。したがって、電磁石７０，７２に電流が流れることにより、電磁石７０，７２との間に磁力線８２が形成される。したがって、図３（ａ）～（ｃ），図４に示す場合と同様に、磁性スラリを磁力線に沿って保持させることにより、磁力線に沿って磁性スラリの塊が形成される。従って、この塊とガラス基板とを接触させて相対移動させることにより、ガラス基板を研磨することができる。すなわち、実施形態及び変形例１～３と同様に、加工レートを従来よりも高くすることができ、効率よく研磨をすることができる。
　電流源７６，７８から電磁石７０，７２に流れる電流のオン、オフ及び、電流の量は、電流制御部８０により制御される。例えば、研磨スラリの塊を外装部材１８から除去するには、電磁石７０，７２に流れる電流をオフにすればよい。また、塊中の研磨スラリの研磨能力が低下した場合、研磨能力を維持するために、研磨スラリの塊の剛性を高くして、塊がガラス基板の端面を押圧する圧力を高くすることもできる。このように、電磁石７０，７２を用いる変形例４は、永久磁石を用いる実施形態及び変形例１～３では発揮しない効果を有する。
　なお、本実施形態及び変形例１～４はいずれも、磁力線が外装部材の外側方向に向かって盛り上がり、それによって磁性スラリの塊が外装部材から隆起した形態であるが、必ずしも塊は隆起する必要はない。磁力線に沿って磁性スラリを保持させることにより形成される磁性スラリの塊であれば、どのようなものであってもよい。
[実験例]
　本発明の効果を確かめるために、作製したガラス基板の端面研磨を行った。
　作製したガラス基板の外径は６５ｍｍであり、厚さは０．８ｍｍであり、形状加工工程で、ガラス基板の厚さ方向で０．２５ｍｍの面取りを主表面に対して４５度の傾斜角度で施した。
（実施例）
　図５（ｂ）に示すように、複数の磁石を内臓した円柱形状の外装部材を配置した研磨用装置に、２．５インチ型磁気ディスク用のガラス基板を接着剤により積層して一体化した積層体を挿入した。内蔵された磁石の寸法は直径１９ｍｍ、厚さ１５ｍｍとした。また、磁石間にはステンレス製のスペーサが挿入された。これにより、磁石間の吸引が制限された状態となっている。そして、外装部材の表面に沿う様に磁性スラリを与え、外装部材の表面から隆起した磁性スラリの塊を複数の位置に形成させた。また磁性スラリ中の研磨砥粒は磁気浮揚効果により磁力勾配の低い箇所に押し出されるため，塊の表面近傍に偏って存在する。積層体の各ガラス基板の端面と外装部材の回転数はそれぞれ７００ｒｐｍ（周速度の相対速度８７ｍ／分）として、回転方向は互いに逆向きで研磨を行った．加工時間は３分間とした。実施例における積層体のガラス基板間の間隔と磁性スラリの塊の形成される間隔との間では、相違があるため、２００ｍｍ／分のストローク速度で２０ｍｍのストーク長で揺動させた。
　ガラス基板の端面の研磨のために用いる研磨スラリは、２μｍの平均粒子サイズのＦｅの微粒子を、非磁性オイル（シリコンオイル）に、３［ｇ／ｃｍ3］分散させた磁気粘性流体に、平均粒子径が２μｍの酸化セリウムを分散させたものを用いた。磁性スラリ中の酸化セリウムの濃度は５ｖｏｌ％となるように含ませた。実施例で用いた磁石は、いずれも０．５[テスラ]の磁束密度を有する永久磁石を用いた。
（従来例１，２）
　また、従来より行われているブラシを用いた内周側端面研磨を行った（従来例１）。ブラシを用いた内周側端面研磨は、特開平１１－２８６４９号公報に記載されている方法を用いた。さらに、特開２００５－５０５０１号公報の図４に示されている磁性スラリを用いた磁気研磨を行った（従来例２）。従来例２で用いた磁石は、いずれも０．５[テスラ]の磁束密度を有する永久磁石を用いた。
　研磨開始から所定の間隔毎にガラス基板を取り出して、研磨した端面の表面粗さを測定した。表面粗さの測定はレーザー顕微鏡を用いた。具体的には、従来例と実施例のガラス基板の端面を含む端部を、上記レーザー顕微鏡を用いて１５０倍に拡大し、その内の５０μｍ角の領域について表面粗さを計測した。そして、測定領域における最も高い点と最も低い点の距離である最大高さ粗さＲｚ（ＪＩＳ　Ｂ０６０１：２００１規定）を求めた。
　実施例では、加工時間３分で、研磨した表面の最大高さ粗さＲｚは、０．１５μｍであった。従来例１では、加工時間３０分で、研磨した表面の最大高さ粗さＲｚは、０．２０μｍであった。従来例２では、加工時間６０分で、研磨した表面の最大高さ粗さＲｚは、０．３０μｍであった。これに加えて、従来例１のようなブラシ研磨では、端面を所望の表面状態とするための研磨の取り代が２０μｍ以上必要であった。これに対して、実施例では、端面を所望の表面状態とするための研磨の取り代が１０μｍ以下で十分であることが確認された。これより、実施例は、短時間の端面研磨で、従来例１，２と同等またはそれより良好な表面粗さを有することがわかる。特に実施例は、従来例１と比較した場合、約１０分の１の研磨時間で同等以上の良好な研磨ができることがわかった。すなわち、本発明の製造方法では、ガラス基板の端面を研磨する際、研磨の加工レートを従来よりも高くすることができ、効率よく研磨をすることができることがわかる。
　以上、本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態及び変形例に限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良や変更をしてもよいのはもちろんである。
　例えば、実施の形態における外装部材１８，６０を省略し、磁石及びスペーサに磁性スラリを接触させてもよい。また、例えば、実施の形態におけるスペーサ１６，３８，４０，４２，７４の径を磁石１２，１４，３２，３４，３６の径と一致させてもよい。
１　磁気ディスク
２，１１　，４４，４６，４８　ガラス基板
３Ａ，３Ｂ　磁性層
１０，３０　装置
１２，１４，３２，３４，３６　磁石
１６，３８，４０，４２，７４　スペーサ
１８，６０　外装部材
２０，５２，５４，５６，６２，６４，６６，６８　塊
３０　装置
７０，７２　電磁石
７６，７８　電流源
８０　電流制御部

Claims (18)

  1. 　磁気ディスク用ガラス基板を製造する方法であって、
    　ガラス基板の端面研磨を行う工程、を含み、
    　前記端面研磨を行う工程では、
    　磁気発生手段を用いて前記ガラス基板の厚さ方向に進む磁力線を形成し、
    　前記磁力線に研磨砥粒と磁気機能性流体を含む磁性スラリを配することにより、前記磁性スラリを前記磁力線に沿って保持させ、
    　前記ガラス基板の端面を、前記磁力線によって保持された前記磁性スラリと接触させた状態で相対移動させることにより、前記ガラス基板の端面を研磨する、ことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
  2. 　前記磁性スラリは、前記磁力線に沿った塊を形成し、
    　前記ガラス基板の端面は前記塊の内部に前記磁力線と直交する方向に押し付けられて前記ガラス基板の端面は研磨される、請求項１に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
  3. 　前記ガラス基板の端面は、前記ガラス基板の両側の主表面に直交する方向に延びる側壁面と、前記側壁面と前記両側の主表面とを接続する、前記主表面に対して傾斜した面取り面とを、を有し、
    　前記ガラス基板の端面を研磨するとき、前記側壁面と前記面取り面が同時に研磨される、請求項１または２に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
  4. 　前記磁気発生手段は、前記ガラス基板の厚さ方向に、Ｎ極の面とＳ極の面が互いに対向するように離間した状態で配置された磁石の対を含む、請求項１～３のいずれか１項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
  5. 　前記磁気発生手段は、前記ガラス基板の厚さ方向に、Ｎ極の面とＳ極の面が互いに対向するように離間した状態で配置された磁石の対を含み、
    　前記ガラス基板の端面は、前記磁性スラリ内部の、前記Ｎ極と前記Ｓ極とを接続する磁力線に保持される部分と接触するように、前記磁性スラリの内部に押し付けられる、請求項１～３のいずれか１項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
  6. 　前記磁石の対の前記Ｎ極の面と前記Ｓ極の面との間には、非磁性体からなるスペーサが設けられている、請求項１～５のいずれか１項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
  7. 　前記ガラス基板は、前記ガラス基板の中心に中心点を持つ円形状の貫通孔を有する円板形状であり、
    　前記磁気発生手段は、前記ガラス基板の前記貫通孔内に設けられて、前記貫通孔の側壁面である内周側端面の周りで、前記ガラス基板の厚さ方向に進む内周側磁力線を形成する内周側手段を有し、
    　前記ガラス基板の前記内周側端面を、前記内周側手段によって形成される前記内周側磁力線によって保持された前記磁性スラリと接触させた状態で相対移動させることにより、前記内周側端面を研磨する、請求項１～６のいずれか１項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
  8. 　前記磁性スラリは、中心軸を持ち前記中心軸の周りに回転可能な回転体の表面に円環形状に形成され、
    　前記ガラス基板の前記内周側端面を研磨するとき、前記回転体の回転によって前記磁性スラリは回転し、かつ前記ガラス基板の前記内周側端面の全周と前記磁性スラリの全周とを接触させて、前記ガラス基板を、前記ガラス基板と逆回転方向に回転させる、請求項７に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
  9. 　前記磁気発生手段は、さらに、前記ガラス基板の外周側に設けられて、前記ガラス基板の外周側端面の周りで、前記ガラス基板の厚さ方向に進む外周側磁力線を形成する外周側手段、を有し、
    　前記ガラス基板の前記外周側端面を、前記外周側手段によって形成される前記外周側磁力線によって保持された前記磁性スラリと接触させた状態で相対移動させることにより、前記内周側端面及び前記外周側端面の両方を研磨する、請求項７または８に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
  10. 　複数の磁気ディスク用ガラス基板を製造する方法であって、
    　複数のガラス基板を積層してガラス基板の積層体とし、前記積層体の状態で、それぞれのガラス基板の端面研磨を行う工程、を含み、
    　前記端面研磨を行う工程では、
    　磁気発生手段を用いて、前記積層体の積層方向に進む磁力線を複数の位置に形成させ、
    　研磨砥粒と磁気機能性流体を含む磁性スラリを前記複数の位置に配することにより、前記磁力線によって前記磁性スラリを保持させ、
    　前記複数の位置のそれぞれの位置で、前記積層体のそれぞれのガラス基板の端面を前記磁力線によって保持された前記磁性スラリと接触させた状態で相対移動させることにより、前記積層体のそれぞれのガラス基板の端面を研磨する、ことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
  11. 　前記磁気発生手段は、前記積層体の積層方向に、Ｎ極の面とＳ極の面が互いに対向するように離間した状態で配置された複数の磁石の対を含み、前記複数の磁石は、前記積層体の積層方向の複数の位置に設けられている、請求項１０に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
  12. 　前記磁石の対のそれぞれのＮ極の面と前記Ｓ極の面との間には、非磁性体からなるスペーサが設けられている、請求項１０または１１に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
  13. 　前記磁気発生手段と前記積層体とは、研磨中、前記積層方向に対して相対的に揺動する、請求項１０～１２のいずれか１項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
  14. 　前記ガラス基板は、円形状の貫通孔を有する円板形状であり、
    　前記磁気発生手段は、前記積層体の前記ガラス基板の前記貫通孔内に設けられて、前記ガラス基板の前記貫通孔の側壁面である内周側端面の周りで、前記ガラス基板の厚さ方向に進む内周側磁力線を形成する内周側手段を有し、
    　前記ガラス基板の前記内側内周側端面を、前記内周側手段によって形成される前記内周側磁力線によって保持された前記磁性スラリと接触させた状態で相対移動させることにより、前記内周側端面を研磨する、請求項１０～１３のいずれか１項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
  15. 　磁気ディスク用ガラス基板を製造する方法であって、
    　ガラス基板の端面研磨を行う工程、を含み、
    　前記端面研磨を行う工程では、
    　前記ガラス基板の厚さ方向に、Ｎ極の面とＳ極の面が互いに対向するように離間した状態で配置された磁石の対を含む磁気発生手段により形成される磁力線によって研磨砥粒と磁気機能性流体を含む磁性スラリを保持させ、
    　前記ガラス基板の端面を、前記磁力線によって保持された前記磁性スラリと接触させた状態で相対移動させることにより、前記ガラス基板の端面を研磨する、ことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
  16. 　前記磁性スラリの粘度は、温度２０℃で１０００～２０００[ｍＰａ・秒]である、請求項１～１５のいずれか１項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
  17. 　前記磁気発生手段は、０．３～０．８[テスラ]の磁束密度を有する、請求項１～１６のいずれか１項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
  18. 　前記磁性スラリの降伏応力は、０．４[テスラ]の磁場を印加した状態で３０～６０ｋＰａである、請求項１～１７のいずれか１項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
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