WO2014050633A1 - 樹脂組成物、感光性樹脂組成物、及びカラーフィルター - Google Patents

樹脂組成物、感光性樹脂組成物、及びカラーフィルター Download PDF

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WO2014050633A1
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meth
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acrylate
copolymer
photosensitive resin
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正義 柳
健宏 木下
恭章 川口
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昭和電工株式会社
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    • C08F220/26Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
    • C08F220/32Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing epoxy radicals
    • C08F220/325Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing epoxy radicals containing glycidyl radical, e.g. glycidyl (meth)acrylate

Definitions

  • the present invention relates to an alkali developable resin composition and a photosensitive resin composition containing a copolymer, and a color filter.
  • the present invention relates to a resin composition and a photosensitive resin composition containing a copolymer as a material used for producing an organic EL display, a liquid crystal display device, a color filter incorporated in a solid-state imaging device, and the photosensitive property.
  • the present invention relates to a color filter produced using a resin composition.
  • photosensitive resin compositions curable with active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams have been widely used in the fields of various coatings, printing, paints, adhesives and the like from the viewpoint of resource saving and energy saving.
  • photosensitive resin compositions that can be cured by active energy rays are used for solder resists, color filter resists, and the like.
  • the color filter generally includes a transparent substrate such as a glass substrate, red (R), green (G) and blue (B) pixels formed on the transparent substrate, a black matrix formed at the pixel boundary, It is comprised from the protective film formed on a pixel and a black matrix.
  • a color filter having such a configuration is usually manufactured by sequentially forming a black matrix, a pixel, and a protective film on a transparent substrate.
  • Various manufacturing methods have been proposed as a method for forming a pixel and a black matrix (hereinafter, the pixel and the black matrix are referred to as a “colored pattern”).
  • the pigment / dye dispersion method created by a photolithographic method that repeats exposure, development and baking is superior in durability such as light resistance and heat resistance, and gives a colored pattern with few defects such as pinholes. It has become.
  • the photosensitive resin composition used in the photolithography method contains an alkali-soluble resin, a reactive diluent, a photopolymerization initiator, a colorant, and a solvent. While the pigment / dye dispersion method has the above-mentioned advantages, the pattern of black matrix, R, G, and B is repeatedly formed, so that the alkali-soluble resin that is the binder of the coating film has high thermal decomposition resistance and heat resistance. Yellowing and solvent resistance are required. As a method for improving the thermal decomposition resistance, a resin composition (for example, Patent Document 1) using a monomer containing maleimide as a copolymerization component has been proposed.
  • a resin composition having a monomer containing maleimide as a copolymerization component has a yellow to tan coloration caused by nitrogen atoms contained in the molecule, and deteriorates the transparency of the coating film. . Furthermore, there has been a problem that coloring progresses during post-curing after heat treatment.
  • those using acrylic copolymers containing methacrylic acid and benzyl methacrylate, hydroxyethyl methacrylate, butyl methacrylate, etc. are known, but the thermal decomposition is not sufficient and the thermal decomposition products in the heating process at the time of pattern fixation Is generated as an outgas, which contaminates the substrate and the device.
  • Patent Document 2 a copolymer having an epoxy group or oxetanyl group and a carboxyl group or a phenolic hydroxyl group
  • Patent Literature 3 a method for improving solvent resistance using a copolymer having an epoxy group or oxetanyl group and a carboxyl group or a phenolic hydroxyl group
  • Patent Literature 3 a method for improving solvent resistance using a copolymer having an epoxy group or oxetanyl group and a carboxyl group or a phenolic hydroxyl group
  • Patent Literature 3 a method for improving solvent resistance using a copolymer having an epoxy group or oxetanyl group and a carboxyl group or a phenolic hydroxyl group
  • Patent Literature 3 a polymerization initiator
  • the conventional photosensitive resin composition may not have sufficient sensitivity and developability, or a colored pattern having excellent heat decomposition resistance, heat yellowing resistance, and solvent resistance may not be obtained. Accordingly, the present invention has been made to solve the above-described problems, and has a good sensitivity and developability, and has a coloring pattern excellent in heat decomposition resistance, heat yellowing resistance, and solvent resistance. It aims at providing the resin composition containing the copolymer for forming the photosensitive resin to give, and the photosensitive resin composition. It is another object of the present invention to provide a color filter having a coloring pattern excellent in heat decomposition resistance, heat yellowing resistance and solvent resistance.
  • the present invention has been reached. That is, the present invention (1) A copolymer (A) that is synthesized using glycidyl (meth) acrylate, has no acid group, and has a polystyrene-equivalent weight average molecular weight of 1,000 to 50,000, and has an acid group and has an polystyrene equivalent An alkali-developable resin composition comprising a copolymer (B) having a weight average molecular weight of 1,000 to 50,000, (2) The resin composition according to (1), wherein the copolymer (B) is 50 to 600 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the copolymer (A).
  • the copolymer (A) comprises styrene, vinyltoluene, benzyl ( Synthesized using one or more monomers selected from the group consisting of (meth) acrylate, N-isopropyl (meth) acrylamide, (meth) acryloylmorpholine and diacetone (meth) acrylamide, (1) -The resin composition according to any one of (5), (7)
  • the copolymer (B) is benzyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, styrene, vinyl toluene, isobornyl (meth) acrylate, adamantyl (meth) acrylate, norbornene, N-isopropyl ( Any one of (1) to (6) synthesized using one or more monomers selected from the group consisting of (meth) acrylamide, (meth) acryloylmorpholine and diacetone (meth) acrylamide
  • the present invention includes a resin composition capable of forming a cured coating film having good sensitivity and developability and having excellent heat decomposition resistance, heat yellowing resistance and solvent resistance, or a resin composition thereof.
  • a photosensitive resin composition can be provided.
  • the cured coating film formed from the photosensitive resin composition of the present invention is excellent in heat resistance and sensitivity, and has developability, so it has extremely high utility value in various resist fields. It is possible to provide a color filter having a coloring pattern excellent in heat yellowing resistance and solvent resistance.
  • the copolymer (A) is a copolymer synthesized using glycidyl (meth) acrylate and having a polystyrene-equivalent weight average molecular weight of 1,000 to 50,000.
  • the copolymer (A) is synthesized using glycidyl (meth) acrylate and other monomers.
  • Examples of other monomers include dienes such as butadiene; methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, iso-propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, sec- Butyl (meth) acrylate, iso-butyl (meth) acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, neopentyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, hexyl (meth) Acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, cyclopentyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth)
  • styrene, vinyltoluene, benzyl (meth) acrylate, N-isopropyl (meth) acrylamide, (meth) acryloylmorpholine, and diacetone (meth) acrylamide are preferable from the viewpoint of thermal decomposition resistance.
  • benzyl (meth) acrylate, N-isopropyl (meth) acrylamide, and diacetone (meth) acrylamide are more preferable.
  • a monomer having an epoxy group may be used.
  • 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate having an alicyclic epoxy group and its lactone adduct eg, Cyclomer A200, M100 manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.
  • 3,4-epoxycyclohexylmethyl- Examples thereof include mono (meth) acrylic acid ester of 3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate, epoxidized product of dicyclopentenyl (meth) acrylate, epoxidized product of dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, and the like.
  • a monomer for inducing an acid group such as (meth) acrylic acid or crotonic acid is not used.
  • the glycidyl (meth) acrylate is usually 5 mol% to 90 mol%, preferably 20 mol% to 100 mol% when the total amount with other monomers is 100 mol%. It is used in a proportion of 80 mol%, more preferably 40 mol% to 70 mol%.
  • the copolymer (A) may have a nitrogen atom.
  • This nitrogen atom is derived from a monomer having a nitrogen atom among the other polymerizable monomers described above. By using a polymerizable monomer having a nitrogen atom, the dispersibility of the dye or pigment is improved.
  • a monomer having a nitrogen atom when using a monomer having a nitrogen atom, usually 0.1 mol% to 40 mol%, preferably 100 mol% when the total amount of polymerizable monomers in the synthesis of the copolymer (A) is 100 mol%. Is used in a proportion of 1 mol% to 30 mol%, more preferably 5 mol% to 20 mol%.
  • the copolymer (B) is a copolymer having an acid group and having a polystyrene equivalent weight average molecular weight of 1,000 to 50,000.
  • the acid group is not particularly limited, and usually includes a carboxyl group, a phosphoric acid group, a sulfonic acid group, and the like, and a carboxyl group is particularly preferable.
  • the above acid group is generally derived from a polymerizable monomer used for synthesizing a copolymer, such as (meth) acrylic acid, crotonic acid, cinnamic acid, vinyl sulfonic acid, 2-methacryloyloxyethyl acid phosphate, etc. Is mentioned. Among these, (meth) acrylic acid is preferable from the viewpoint of easy availability and reactivity.
  • other polymerizable monomers can be used to synthesize the copolymer (B).
  • examples of other polymerizable monomers include dienes such as butadiene; methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, sec-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, neopentyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, hexyl (meth) ) Acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, benzyl (meth)
  • benzyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, styrene, vinyltoluene, isobornyl (meth) acrylate, adamantyl (meth) acrylate, norbornene, N- Isopropyl (meth) acrylamide, (meth) acryloylmorpholine, and diacetone (meth) acrylamide are preferable.
  • a monomer for introducing an epoxy group is not used, and in particular, glycidyl (meth) acrylate is not used.
  • the acid value (JIS K6901 5.3) of the copolymer (B) obtained as described above is not limited as long as the desired effect of the present invention is exhibited, but usually 20 to 300 KOHmg when used for a photosensitive resin. / G, preferably 30 to 200 KOH mg / g. If the acid value is less than 20 KOHmg / g, the developability as a photosensitive resin may be lowered. On the other hand, when the acid value exceeds 300 KOHmg / g, the exposed portion (photocured portion) may be easily dissolved in the alkali developer.
  • the blending ratio of the monomer for inducing the acid group and the other monomer for synthesizing the copolymer (B) is not particularly limited as long as the desired effect of the present invention is exhibited. And within a range satisfying the following weight average molecular weight.
  • the molecular weight (weight average molecular weight in terms of polystyrene) of the copolymers (A) and (B) is usually 1000 to 50000, preferably 2000 to 40000, and more preferably 3000 to 30000. If the molecular weight is less than 1000, a lack of a colored pattern may easily occur after development. On the other hand, if the molecular weight exceeds 50,000, the development time becomes too long, and the practicality may be lacking.
  • the solid content of the copolymer (B) is usually 50 to 600 parts by weight, preferably 100 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the solid content of the copolymer (A). 500 parts by mass, more preferably 200 to 400 parts by mass.
  • the copolymer (B) is less than 50 parts by mass relative to 100 parts by mass of the copolymer (A), the developability is low, and when it exceeds 500 parts by mass, the solvent resistance after development is low. There is a case.
  • the copolymerization reaction for producing the copolymers (A) and (B) can be performed according to a radical polymerization method known in the art. For example, after the monomers for synthesizing each copolymer are dissolved in a solvent, a polymerization initiator is added to the solution and reacted at 50 to 130 ° C. for 1 to 20 hours.
  • Solvents that can be used for this copolymerization reaction are not particularly limited.
  • glycol ether solvents such as propylene glycol monomethyl ether and propylene glycol monomethyl ether acetate
  • hydrocarbon solvents such as toluene and xylene
  • ethyl acetate examples thereof include a solvent having no reactive functional group. These can be used alone or in combination of two or more. Of these, glycol ether solvents are preferred.
  • the blending amount of the solvent is not particularly limited, but is generally 30 to 1000 parts by mass, preferably 50 to 800 parts by mass when the total amount of each copolymerizable monomer is 100 parts by mass.
  • the blending amount of the solvent is set to 1000 parts by mass or less, it is possible to suppress a decrease in the molecular weight of the copolymer by a chain transfer action and to control the viscosity of the copolymer within an appropriate range.
  • setting the blending amount of the solvent to 30 parts by mass or more, an abnormal polymerization reaction can be prevented, the polymerization reaction can be stably performed, and the coloring and gelation of the copolymer can also be prevented. .
  • the polymerization initiator that can be used for the copolymerization reaction is not particularly limited, and examples thereof include azobisisobutyronitrile, azobisisovaleronitrile, benzoyl peroxide, t-butylperoxy-2- Examples include ethyl hexanoate. These can be used alone or in combination of two or more.
  • the blending amount of the polymerization initiator is generally 0.5 to 20 parts by mass, preferably 1.0 to 10 parts by mass when the total of the respective monomers is 100 parts by mass. In addition, you may perform bulk polymerization using arbitrary monomers and a polymerization initiator, without using an organic solvent.
  • a double bond can be further introduced into the copolymers (A) and (B) obtained by the above copolymerization reaction.
  • the reaction of adding a double bond to the epoxy group in the copolymer (A) and the carboxyl group or acid anhydride group in the copolymer (B) is carried out by adding an epoxy group-containing monomer and a carboxyl group-containing monomer to the copolymer, respectively.
  • a hydroxyl group-containing monomer, a polymerization inhibitor and a catalyst are added, and the reaction is carried out at 50 to 150 ° C., preferably 80 to 130 ° C. In this addition reaction, there is no particular problem even if the solvent used in the copolymerization reaction is included.
  • the addition reaction can be carried out without removing the solvent after the completion of the copolymerization reaction.
  • the polymerization inhibitor is added to prevent gelation due to polymerization of the copolymer.
  • a polymerization inhibitor For example, hydroquinone, methyl hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, etc. are mentioned.
  • the catalyst is not particularly limited, and examples thereof include tertiary amines such as triethylamine, quaternary ammonium salts such as triethylbenzylammonium chloride, phosphorus compounds such as triphenylphosphine, and chelate compounds of chromium. Can be mentioned.
  • the unsaturated group equivalent is not limited, but is usually 100 to 4000 g / mol, preferably 200 to 3000 g / mol.
  • the unsaturated group equivalent is 100 g / mol or more, it is more effective to further improve the heat decomposition resistance and heat yellowing.
  • the unsaturated group equivalent is less than 4000 g / mol, it is effective to further increase the sensitivity.
  • the present invention relates to a resin composition containing copolymers (A) and (B) and optionally a solvent (C) and / or a reactive diluent (D).
  • the photosensitive resin composition of the present invention comprises the copolymers (A), (B), and the photopolymerization initiator (E), and optionally a solvent (C), a reactive diluent (D) and / or coloring.
  • Agent (F) is included.
  • the solvent (C) is not particularly limited as long as it is an inert solvent that does not react with the copolymers (A) and (B).
  • the same solvent as used in the production of the copolymers (A) and (B) (copolymerization reaction) can be used, and the solvent contained after the copolymerization reaction is used as it is. It can also be used, and can also be added. Further, when other components are added, they may coexist there.
  • the solvent (C) examples include propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol monomethyl ether acetate, ethyl acetate, butyl acetate, isopropyl acetate, propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether , Tripropylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol ethyl ether acetate and the like.
  • glycol ether solvents such as propylene glycol monomethyl ether and propylene glycol monomethyl ether acetate used in the production of the copolymers (A) and (B) (copolymerization reaction) are preferable.
  • the blending amount of the solvent (C) in the resin composition or photosensitive resin composition of the present embodiment is generally 30 to 1000 masses when the total sum of the components excluding the solvent (C) in the composition is 100 mass parts. Part, preferably 50 to 800 parts by weight, more preferably 100 to 700 parts by weight. If it is the compounding quantity of this range, it will become the resin composition or photosensitive resin composition which has a suitable viscosity.
  • the compounding amount of the reactive diluent (D) in the resin composition or photosensitive resin composition of the present embodiment is generally 10 when the total sum of the components excluding the solvent (C) in the composition is 100 parts by mass. It is ⁇ 90 parts by mass, preferably 20 to 80 parts by mass, and more preferably 25 to 70 parts by mass. If it is the compounding quantity of this range, it will become the resin composition or photosensitive resin composition which has an appropriate viscosity, and the photosensitive resin composition has appropriate photocurability.
  • the photopolymerization initiator (E) is not particularly limited, but examples thereof include benzoin such as benzoin, benzoin methyl ether, and benzoin ethyl ether and alkyl ethers thereof; acetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 1, Acetophenones such as 1-dichloroacetophenone and 4- (1-t-butyldioxy-1-methylethyl) acetophenone; anthraquinones such as 2-methylanthraquinone, 2-amylanthraquinone, 2-t-butylanthraquinone and 1-chloroanthraquinone Thioxanthones such as 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone and 2-chlorothioxanthone; ketals such as acetophenone dimethyl ketal and benzyl dimethyl ketal; Benzophen
  • the blending amount of the photopolymerization initiator (E) in the photosensitive resin composition of the present embodiment is generally 0.1 when the sum of the components excluding the solvent (C) in the photosensitive resin composition is 100 parts by mass. -30 parts by mass, preferably 0.5-20 parts by mass, more preferably 1-15 parts by mass. If it is the compounding quantity of this range, it will become the photosensitive resin composition which has appropriate photocurability.
  • the colorant (F) is not particularly limited as long as it dissolves or disperses in the solvent (C), and examples thereof include dyes and pigments.
  • examples thereof include dyes and pigments.
  • the conventional photosensitive resin composition when a dye is used, a colored pattern having high luminance can be obtained, but there is a problem that the heat resistance of the colored pattern is lower than that when a pigment is used.
  • the photosensitive resin composition of this Embodiment even if it uses dye, the coloring pattern excellent in heat resistance can be obtained.
  • the dye examples include acidic dyes having an acidic group such as carboxylic acid, acidic acids from the viewpoints of solubility in a solvent (C) and an alkaline developer, interaction with other components in the photosensitive resin composition, and heat resistance. It is preferable to use a salt of a dye with a nitrogen compound, a sulfonamide of an acidic dye, or the like.
  • dyes examples include: acid alizarin violet N; acid black 1, 2, 24, 48; acid blue 1, 7, 9, 25, 29, 40, 45, 62, 70, 74, 80, 83, 90, 92, 112, 113, 120, 129, 147; acid chrome violet K; acid Fuchsin; acid green 1, 3, 5, 25, 27, 50; acid orange 6, 7, 8, 10, 12, 50, 51, 52, 56, 63, 74, 95; acid red1, 4, 8, 14, 17, 18, 26, 27, 29, 31, 34, 35, 37, 42, 44, 50, 51, 52, 57, 69, 73 80, 87, 88, 91, 92, 94, 97, 103, 111, 114, 129, 33, 134, 138, 143, 145, 150, 151, 158, 176, 183, 198, 211, 215, 216, 217, 249, 252, 257, 260, 266, 274; acid violet 6B, 7, 9, 17, 19; acid yellow 1, 3, 9, 11, 17, 23, 25, 29, 34, 36
  • pigments examples include C.I. I. Pigment Yellow 1, 3, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 128, 137, 138, 139, Yellow pigments such as 147, 148, 150, 153, 154, 166, 173, 194, 214; I. CI orange pigments such as CI Pigment Orange 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65, 71, 73; I.
  • Red pigments such as CI Pigment Red 9, 97, 105, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 176, 177, 180, 192, 209, 215, 216, 224, 242, 254, 255, 264, 265; C. I. Blue pigments such as CI Pigment Blue 15, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 60; I. Violet color pigments such as CI Pigment Violet 1, 19, 23, 29, 32, 36, 38; I. Green pigments such as C.I. Pigment Green 7, 36, 58; I. Brown pigments such as C.I. Pigment Brown 23 and 25; I. And black pigments such as CI pigment blacks 1 and 7, carbon black, titanium black, and iron oxide. These can be used alone or in combination of two or more depending on the color of the target pixel. Note that the above dyes and pigments may be used in combination depending on the target pixel color.
  • the blending amount when the colorant (F) is blended is the sum of the components excluding the solvent (C) in the resin composition or the photosensitive resin composition.
  • it is 100 parts by mass, it is generally 5 to 80 parts by mass, preferably 5 to 70 parts by mass, more preferably 10 to 60 parts by mass.
  • a known dispersant may be blended in the photosensitive resin composition from the viewpoint of improving the dispersibility of the pigment.
  • the dispersant it is preferable to use a polymer dispersant excellent in dispersion stability over time.
  • polymer dispersants include urethane dispersants, polyethyleneimine dispersants, polyoxyethylene alkyl ether dispersants, polyoxyethylene glycol diester dispersants, sorbitan aliphatic ester dispersants, and aliphatic modified esters. System dispersants and the like.
  • EFKA EFKA Chemicals Beebuy
  • Disperbyk manufactured by Big Chemie
  • Disparon manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd.
  • SOLPERSE manufactured by GENEKA
  • the photosensitive resin composition of the present embodiment contains a colorant (F), the copolymer (A), (B) solvent (C), reactive diluent (D), photopolymerization initiator (E)
  • the blending amount of the colorant (F) is generally from 5 to 5 when the total of the components excluding the solvent (C) in the photosensitive resin composition is 100 parts by mass.
  • the total of the copolymers (A) and (B) is 8 to 70 parts by mass, the solvent (C) is 50 to 800 parts by mass, and the reactive diluent (D) is 20 to 80 parts by mass, 0.5 to 20 parts by mass of the photopolymerization initiator (E), and 5 to 70 parts by mass of the colorant (F), and more preferably the copolymer (A) and
  • the total of (B) is 10 to 60 parts by mass
  • the solvent (C) is 100 to 700 parts by mass
  • the reactive diluent (D) is 25 to 70 parts by mass
  • the photopolymerization initiator (E) is 1 to 15 parts by mass.
  • the colorant (F) is 10 to 60 parts by mass.
  • the photosensitive resin composition of the present embodiment does not contain the colorant (F), the copolymer (A), (B), the solvent (C), the reactive diluent (D), and the photopolymerization initiator.
  • the above numerical values can be applied to the blending amount of (E).
  • the blending amount of the copolymers (A), (B), and the solvent (C) is 100 parts by mass of the sum of the components excluding the solvent (C) in the resin composition.
  • the total of the copolymers (A) and (B) is 50 to 100 parts by mass, and the solvent (C) is 30 to 1000 parts by mass, preferably 50 to 800 parts by mass, more preferably 100 to 700 parts by mass. It is.
  • the resin composition of this Embodiment contains a reactive diluent (D), the compounding quantity of a copolymer (A), (B) solvent (C), and a reactive diluent (D) is resin composition.
  • the total of the components excluding the solvent (C) is 100 parts by mass
  • the total of the copolymers (A) and (B) is 10 to 90 parts by mass
  • the solvent (C) is 30 to 1000 parts by mass
  • the reaction 10 to 90 parts by mass of the diluent (D) preferably the total of the copolymers (A) and (B) is 20 to 80 parts by mass
  • the solvent (C) is 50 to 800 parts by mass
  • the diluent (D) is 20 to 80 parts by mass, more preferably the total of the copolymers (A) and (B) is 30 to 75 parts by mass
  • the solvent (C) is 100 to 700 parts by mass
  • the reactive diluent (D) is 25 to 70 parts by mass.
  • the photosensitive resin composition of the present embodiment contains known additives such as known coupling agents, leveling agents, thermal polymerization inhibitors, etc., in order to impart predetermined characteristics. May be.
  • the amount of these additives is not particularly limited as long as it does not impair the effects of the present invention.
  • the photosensitive resin composition of this Embodiment can be manufactured by mixing said component using a well-known mixing apparatus.
  • the photosensitive resin composition of this Embodiment prepared the reactive diluent (D), light after preparing the resin composition containing a copolymer (A), (B) and a solvent (C) previously. It is also possible to produce by mixing the polymerization initiator (E) and an optional colorant (F).
  • the said resin composition can be used for preparing the photosensitive resin composition of this Embodiment, and can also be used for another use.
  • the photosensitive resin composition of the present embodiment obtained as described above has alkali developability, it can be developed by using an alkaline aqueous solution.
  • the photosensitive resin composition of the present embodiment is excellent in sensitivity and developability, and can give a colored pattern excellent in heat decomposition resistance, heat yellowing resistance, and solvent resistance. Therefore, the photosensitive resin composition of the present embodiment is suitable for use as various resists, particularly as resists used for manufacturing color filters incorporated in organic EL displays, liquid crystal display devices, and solid-state imaging devices. .
  • the photosensitive resin composition of the present embodiment gives a cured film excellent in various properties such as heat decomposability, heat yellowing resistance and solvent resistance, various coatings, adhesives, binders for printing ink, etc. It can also be used.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view of the color filter of the present embodiment.
  • the color filter includes a substrate 1, a black matrix 3 formed on the boundary between the RGB pixels 2 and the pixels 2 formed on the substrate 1, and a protection formed on the pixels 2 and the black matrix 3.
  • the membrane 4 In this configuration, known configurations can be adopted as the other configurations except that the pixels 2 and the black matrix 3 (colored pattern) are formed using the above-described photosensitive resin composition.
  • the color filter shown in FIG. 1 is an example, and the present invention is not limited to this configuration.
  • the manufacturing method of the color filter of one Embodiment of this invention is demonstrated.
  • a colored pattern is formed on the substrate 1.
  • the black matrix 3 and the pixels 2 are sequentially formed on the substrate 1.
  • the substrate 1 is not particularly limited, but a glass substrate, a silicon substrate, a polycarbonate substrate, a polyester substrate, a polyamide substrate, a polyamideimide substrate, a polyimide substrate, an aluminum substrate, a printed wiring substrate, an array substrate, or the like may be used. it can.
  • the colored pattern can be formed by a photolithography method. Specifically, after the photosensitive resin composition is applied onto the substrate 1 to form a coating film, the coating film is exposed through a photomask having a predetermined pattern, and the exposed portion is photocured. And a predetermined pattern can be formed by developing after baking an unexposed part with aqueous alkali solution, and baking.
  • a coating method of the photosensitive resin composition A screen printing method, a roll coat method, a curtain coat method, a spray coat method, a spin coat method, etc. can be used.
  • heating by heating using heating means, such as a circulation type oven, an infrared heater, a hotplate, as needed.
  • the heating conditions are not particularly limited, and may be set as appropriate according to the type of photosensitive resin composition to be used. In general, heating may be performed at a temperature of 50 ° C. to 120 ° C. for 30 seconds to 30 minutes.
  • the light source used for exposure is not particularly limited, and a low-pressure mercury lamp, a medium-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, or the like can be used. Further, the exposure amount is not particularly limited, and may be appropriately adjusted according to the type of the photosensitive resin composition to be used.
  • the aqueous alkali solution used for development is not particularly limited, but an aqueous solution of sodium carbonate, potassium carbonate, calcium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc .; an aqueous solution of an amine compound such as ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine; 3 -Methyl-4-amino-N, N-diethylaniline, 3-methyl-4-amino-N-ethyl-N- ⁇ -hydroxyethylaniline, 3-methyl-4-amino-N-ethyl-N- ⁇ - Aqueous solutions of methanesulfonamidoethylaniline, 3-methyl-4-amino-N-ethyl-N- ⁇ -methoxyethylaniline and p-phenylenediamine compounds such as sulfate, hydrochloride or p-toluenesulfonate Etc.
  • an amine compound such as ethy
  • the baking conditions are not particularly limited, and heat treatment may be performed according to the type of the photosensitive resin composition to be used. In general, it may be heated at 130 to 250 ° C. for 10 to 60 minutes.
  • Forming a desired coloring pattern by sequentially repeating the coating, exposure, development and baking as described above using the photosensitive resin composition for the black matrix 3 and the photosensitive resin composition for the pixel 2. Can do.
  • the formation method of the coloring pattern by photocuring was demonstrated above, if the photosensitive resin composition which mix
  • a desired coloring pattern can also be formed by heating after coating by the method.
  • the protective film 4 is formed on the colored pattern (pixel 2 and black matrix 3).
  • the protective film 4 is not particularly limited, and may be formed using a known film.
  • the color filter manufactured in this way is manufactured using a photosensitive resin composition that gives a colored pattern that is excellent in sensitivity and developability, and also has excellent thermal decomposition resistance, heat yellowing resistance, and solvent resistance. It has a coloring pattern excellent in heat decomposability, heat yellowing resistance and solvent resistance.
  • the acid value is the acid value of the copolymer (B) measured according to JIS K6901 5.3, and is the water required to neutralize the acidic component contained in 1 g of the copolymer (B). It means the number of mg of potassium oxide.
  • molecular weight (Mw) means the standard polystyrene conversion weight average molecular weight measured on condition of the following using gel permeation chromatography (GPC).
  • ⁇ Pattern formation with transparent resist> The prepared transparent resist is spin-coated on a 5 cm square glass substrate (non-alkali glass substrate) so that the final cured coating thickness is 2.5 ⁇ m, and then heated at 90 ° C. for 3 minutes. The solvent was volatilized. Next, the entire surface of the coating film was exposed (exposure amount 50 mJ / cm 2 ), photocured, and then baked at 230 ° C. for 30 minutes to obtain a cured coating film.
  • the transparent resists of Examples 1 to 14 gave excellent patterns in all of the heat decomposition resistance, heat yellowing resistance and transparency, whereas the transparent resists of Comparative Examples 1 and 2 The heat resistant yellowing was not sufficient, and the transparent resists of Comparative Examples 3 and 4 were not sufficiently transparent.
  • a color resist (pigment type) was prepared using this (Examples 15 to 28).
  • a photosensitive resin composition was prepared by mixing 9 to 12 and other components, and a color resist (pigment type) was prepared using this composition (Comparative Examples 5 to 8).
  • Table 2 shows the blending components and blending amounts.
  • ⁇ Pattern formation with color resist (pigment type)>
  • the prepared color resist (pigment type) is spin-coated on a 5 cm square glass substrate (non-alkali glass substrate) so that the thickness after exposure is 1.5 ⁇ m, and then heated at 90 ° C. for 3 minutes. The solvent was volatilized and dried.
  • a photomask having a predetermined pattern was disposed at a distance of 100 ⁇ m from the coating film, and the coating film was exposed through this photomask (exposure amount 150 mJ / cm 2 ), and the exposed portion was photocured.
  • an unexposed part was dissolved and developed by spraying an aqueous solution containing 0.1% by mass of sodium carbonate at a temperature of 23 ° C. and a pressure of 0.3 MPa, and then baked at 230 ° C. for 30 minutes.
  • a predetermined pattern was formed.
  • the part to be detached is mainly large.
  • the former peeling type is not preferred because the lump becomes a foreign substance and remains in the system and easily contaminates other color pixels. That is, the latter dissolution type is preferable.
  • ⁇ : Peeling type Sensitivity is evaluated by performing film development for 30 seconds using a 0.1% sodium carbonate aqueous solution at 23 ° C., and measuring the amount of film loss before and after alkali development. did. The smaller the film loss, the better the sensitivity.
  • the color resists (pigment types) of Examples 15 to 28 had good alkali developability and sensitivity, and gave a pattern excellent in heat yellowing and solvent resistance.
  • the color resists (pigment types) of Comparative Examples 5 to 8 gave a pattern with poor alkali developability and sensitivity and insufficient heat yellowing or solvent resistance.
  • a photosensitive resin composition is prepared by mixing a mixture of 1 to 6 and 7 to 8 mixed 1: 3 or a sample No. 1 and 7 mixed 1: 2, 1: 4, and other components.
  • a color resist (dye type) was prepared using this composition (Examples 29 to 42).
  • a photosensitive resin composition was prepared by mixing 9 to 12 and other components, and a color resist (dye type) was prepared using this composition (Comparative Examples 9 to 12).
  • This color resist (dye type) Table 4 shows the blending components and the blending amounts thereof.
  • a photosensitive resin composition that has a good sensitivity and developability and gives a colored pattern excellent in heat decomposition resistance, heat yellowing resistance and solvent resistance. be able to.
  • the color filter which has a coloring pattern excellent in heat-resistant decomposability and heat-resistant yellowing can be provided.

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Abstract

 本発明は、感度や現像性が良好であると共に、耐熱分解性、耐熱黄変性および耐溶剤性に優れた硬化塗膜を形成することのできる共重合体組成物を提供することを目的とする。 上記目的を達成するため、本発明は、グリシジル(メタ)アクリレートを用いて合成され、酸基を有さず、ポリスチレン換算の重量平均分子量が1000~50000である共重合体(A)、および酸基を有し、ポリスチレン換算の重量平均分子量が1000~50000である共重合体(B)を含む、アルカリ現像可能な樹脂組成物、その共重合体組成物を含む樹脂組成物、感光性樹脂組成物等を提供する。

Description

樹脂組成物、感光性樹脂組成物、及びカラーフィルター
 本発明は、共重合体を含むアルカリ現像可能な樹脂組成物及び感光性樹脂組成物、並びにカラーフィルターに関する。特に、本発明は有機ELディスプレイ、液晶表示装置、固体撮像素子に組み込まれるカラーフィルターを製造するために用いられる材料としての共重合体を含む樹脂組成物及び感光性樹脂組成物、並びにこの感光性樹脂組成物を用いて製造されるカラーフィルターに関する。
 近年、省資源や省エネルギーの観点から、各種コーティング、印刷、塗料、接着剤などの分野において、紫外線や電子線などの活性エネルギー線により硬化可能な感光性樹脂組成物が広く使用されている。また、プリント配線基板などの電子材料の分野においても、活性エネルギー線により硬化可能な感光性樹脂組成物がソルダーレジストやカラーフィルター用レジストなどに使用されている。
 カラーフィルターは、一般に、ガラス基板などの透明基板と、透明基板上に形成された赤(R)、緑(G)及び青(B)の画素と、画素の境界に形成されるブラックマトリックスと、画素及びブラックマトリックス上に形成される保護膜とから構成される。このような構成を有するカラーフィルターは、通常、透明基板上にブラックマトリックス、画素及び保護膜を順次形成することによって製造される。画素及びブラックマトリックス(以下、画素及びブラックマトリックスのことを「着色パターン」という。)の形成方法としては、様々な製造方法が提案されているが、感光性樹脂組成物をレジストとして用い、塗布、露光、現像及びベーキングを繰り返すフォトリソグラフィ工法で作成される顔料/染料分散法は、耐光性や耐熱性などの耐久性に優れ、ピンホールなどの欠陥が少ない着色パターンを与えるため、現在の主流となっている。
 一般に、フォトリソグラフィ工法に用いられる感光性樹脂組成物は、アルカリ可溶性樹脂、反応性希釈剤、光重合開始剤、着色剤及び溶剤を含有する。顔料/染料分散法では、上記の利点を有している反面、ブラックマトリックス、R、G、Bのパターンを繰り返し形成することから、塗膜のバインダーとなるアルカリ可溶性樹脂に高い耐熱分解性と耐熱黄変性、耐溶剤性が要求される。耐熱分解性を向上させる方法として、従来から、マレイミドを含む単量体を共重合成分とする樹脂組成物(例えば、特許文献1)等が提案されている。しかし、マレイミドを含む単量体を共重合成分とする樹脂組成物では、分子中に含まれる窒素原子を原因とした黄色から黄褐色の着色を有しており、塗膜の透明性を悪化させる。さらに、加熱処理を行う後硬化時に着色が進行するという問題があった。また、メタクリル酸とベンジルメタクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、ブチルメタクリレート等を含むアクリル系共重合体を用いたものが知られているが、耐熱分解性が十分でなくパターン固着時の加熱工程で熱分解物がアウトガスとなって発生し、基板や装置を汚染することが問題となっている。
 また、耐溶剤性向上のためにエポキシ基またはオキセタニル基とカルボキシル基またはフェノール性水酸基を有する共重合体を用いて耐溶剤性を向上させる方法(例えば特許文献2)や重合開始剤を検討する(例えば特許文献3)などが提案されているが、これらは耐溶剤性が十分ではない。
特開2003-29018号公報 特開2012-22048号公報 特開2003-330184号公報
 上述のように、従来の感光性樹脂組成物は、感度や現像性が十分でない場合や、耐熱分解性、耐熱黄変性及び耐溶剤性に優れた着色パターンが得られない場合がある。
 従って、本発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、感度や現像性が良好であると共に、耐熱分解性、耐熱黄変性、及び耐溶剤性に優れた着色パターンを与える感光性樹脂を形成するための共重合体を含む樹脂組成物、及び感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。また、耐熱分解性、耐熱黄変性及び耐溶剤性に優れた着色パターンを有するカラーフィルターを提供することを目的とする。
 本発明者らは、上記のような課題を解決すべく鋭意検討した結果、特定の共重合体を含む樹脂組成物を感光性樹脂組成物に用いることで、上記課題を解決し得ることを見出し、本発明に至った。
 すなわち、本発明は、
(1)グリシジル(メタ)アクリレートを用いて合成され、酸基を有さず、ポリスチレン換算の重量平均分子量が1000~50000である共重合体(A)、および酸基を有し、ポリスチレン換算の重量平均分子量が1000~50000である共重合体(B)を含む、アルカリ現像可能な樹脂組成物、
(2)前記共重合体(A)100質量部に対して前記共重合体(B)が50~600質量部である(1)に記載の樹脂組成物。
(3)前記共重合体(B)の酸基がカルボキシル基である、(1)又は(2)に記載の樹脂組成物、
(4)前記共重合体(B)の酸価が20~300KOHmg/gである、(1)~(3)のいずれかに記載の樹脂組成物、
(5)前記共重合体(A)が窒素原子を有する(1)~(4)のいずれかに記載の樹脂組成物
(6)前記共重合体(A)が、スチレン、ビニルトルエン、ベンジル(メタ)アクリレート、N-イソプロピル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリロイルモルフォリン及びダイアセトン(メタ)アクリルアミドからなる群から選択される1種又は2種以上のモノマーを用いて合成される、(1)~(5)のいずれかに記載の樹脂組成物、
(7)前記共重合体(B)が、ベンジル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、スチレン、ビニルトルエン、イソボルニル(メタ)アクリレート、アダマンチル(メタ)アクリレート、ノルボルネン、N-イソプロピル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリロイルモルフォリン及びダイアセトン(メタ)アクリルアミドからなる群から選択される1種又は2種以上のモノマーを用いて合成される、(1)~(6)のいずれかに記載の樹脂組成物、
(8)更に溶剤(C)を含む、(1)~(7)のいずれかに記載の樹脂組成物、
(9)更に反応性希釈剤(D)を含む(1)~(8)のいずれかに記載の樹脂組成物、
(10)更に染料および/または顔料からなる着色剤(F)を含む、(1)~(9)のいずれかに記載の樹脂組成物、
(11)(1)~(10)のいずれかに記載の樹脂組成物及び光重合開始剤(E)を含有するアルカリ現像可能な感光性樹脂組成物、
(12)カラーフィルター用感光性樹脂組成物である、(11)に記載の感光性樹脂組成物、及び
(13)(12)に記載の感光性樹脂組成物を含有するレジスト塗膜を硬化させてなるカラーフィルターである。
 本発明によれば、感度や現像性が良好であると共に、耐熱分解性、耐熱黄変性および耐溶剤性に優れた硬化塗膜を形成することのできる樹脂組成物、またはその樹脂組成物を含む感光性樹脂組成物を提供することができる。また、本発明の感光性樹脂組成物から形成される硬化塗膜は、耐熱性と感度に優れており、現像性を有することから各種レジスト分野での利用価値が極めて高く、その中でも耐熱分解性、耐熱黄変性及び耐溶剤性に優れた着色パターンを有するカラーフィルターを提供することができる。
本発明の実施の一形態であるカラーフィルターの断面図である。
 まず、共重合体(A)について説明する。
 共重合体(A)は、グリシジル(メタ)アクリレートを用いて合成され、ポリスチレン換算の重量平均分子量が1000~50000である共重合体である。
 共重合体(A)は、グリシジル(メタ)アクリレートとその他のモノマーを用いて合成される。
 その他のモノマー例として、ブタジエンなどのジエン類;メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n-プロピル(メタ)アクリレート、イソ-プロピル(メタ)アクリレート、n-ブチル(メタ)アクリレート、sec-ブチル(メタ)アクリレート、イソ-ブチル(メタ)アクリレート、tert-ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、ネオペンチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、シクロペンチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、メチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、エチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、1,4-シクロヘキサンジメタノールモノ(メタ)アクリレート、ロジン(メタ)アクリレート、ノルボルニル(メタ)アクリレート、5-メチルノルボルニル(メタ)アクリレート、5-エチルノルボルニル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、1,1,1-トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、パーフルオロエチル(メタ)アクリレート、パーフルオロ-n-プロピル(メタ)アクリレート、パーフルオロ-イソ-プロピル(メタ)アクリレート、トリフェニルメチル(メタ)アクリレート、クミル(メタ)アクリレート、3-(N,N-ジメチルアミノ)プロピル(メタ)アクリレート、グリセリロールモノ(メタ)アクリレート、ブタントリオールモノ(メタ)アクリレート、ペンタントリオールモノ(メタ)アクリレート、ナフタレン(メタ)アクリレート、アントラセン(メタ)アクリレートなどの(メタ)アクリル酸エステル類;(メタ)アクリル酸アミド、(メタ)アクリル酸N,N-ジメチルアミド、(メタ)アクリル酸N,N-ジエチルアミド、(メタ)アクリル酸N,N-ジプロピルアミド、(メタ)アクリル酸N,N-ジ-イソ-プロピルアミド、(メタ)アクリル酸アントラセニルアミド、N-イソプロピル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリロイルモルフォリン、ダイアセトン(メタ)アクリルアミドなどの(メタ)アクリル酸アミド、;(メタ)アクリル酸アニリド、(メタ)アクリロイルニトリル、アクロレイン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン、N-ビニルピロリドン、ビニルピリジン、酢酸ビニル、ビニルトルエンなどのビニル化合物;スチレン、スチレンのα-、o-、m-、p-アルキル、ニトロ、シアノ、アミド誘導体;シトラコン酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチルなどの不飽和ジカルボン酸ジエステル;N-フェニルマレイミド、N-シクロヘキシルマレイミド、N-ラウリルマレイミド、N-(4-ヒドロキシフェニル)マレイミドなどのモノマレイミド類が挙げられる。これらは、単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。また、この中で耐熱分解性の観点からスチレン、ビニルトルエン、ベンジル(メタ)アクリレート、N-イソプロピル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリロイルモルフォリン、ダイアセトン(メタ)アクリルアミドが好ましく、更にスチレン、ビニルトルエン、ベンジル(メタ)アクリレート、N-イソプロピル(メタ)アクリルアミド、ダイアセトン(メタ)アクリルアミドがより好ましい。
 さらに、上記モノマーに加えて、エポキシ基を有するモノマーを用いてもよい。例えば、脂環式エポキシ基を有する3,4-エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレートおよびそのラクトン付加物[例えば、ダイセル化学工業(株)製サイクロマーA200、M100]、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3´,4´-エポキシシクロヘキサンカルボキシレートのモノ(メタ)アクリル酸エステル、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレートのエポキシ化物、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレートのエポキシ化物などが挙げられる。
 なお、共重合体(A)を合成する際に、(メタ)アクリル酸、クロトン酸などの酸基を誘導するモノマーは使用しない。
 共重合体(A)を合成する際、グリシジル(メタ)アクリレートは、他のモノマーとの合計を100モル%としたときに、通常、5モル%~90モル%、好ましくは、20モル%~80モル%、更に好ましくは、40モル%~70モル%の割合で使用する。
 さらに、共重合体(A)は、窒素原子を有してもよい。この窒素原子は、上述のその他の重合性モノマーのうちで窒素原子を有するモノマーに由来する。窒素原子を有する重合性モノマーを用いることで、染料または顔料分散性が向上する。
 また、窒素原子を有するモノマーを使用するときは、共重合体(A)を合成する際の重合性モノマーの合計を100モル%としたとき、通常、0.1モル%~40モル%、好ましくは、1モル%~30モル%、更に好ましくは、5モル%~20モル%の割合で使用する。
 共重合体(B)は、酸基を有し、ポリスチレン換算の重量平均分子量が1000~50000である共重合体である。
 前記酸基は、特に限定されないが、通常、カルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基などが挙げられ、特にカルボキシル基が好ましい。
 上記の酸基は、一般に共重合体を合成するときに用いる重合性モノマーに由来し、例えば、(メタ)アクリル酸、クロトン酸、桂皮酸、ビニルスルホン酸、2-メタクリロイロキシエチルアシッドホスフェート等が挙げられる。この中でも特に入手のし易さ、反応性の観点から(メタ)アクリル酸が好ましい。
 上述の酸基を誘導できるモノマーに加えて、共重合体(B)を合成するためにその他の重合性モノマーを使用することができる。
 その他の重合性モノマーの例として、ブタジエンなどのジエン類;メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n-プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、n-ブチル(メタ)アクリルレート、sec-ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、tert-ブチル(メタ)アクリルレート、ペンチル(メタ)アクリレート、ネオペンチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、シクロペンチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、メチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、エチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、1,4-シクロヘキサンジメタノールモノ(メタ)アクリレート、ロジン(メタ)アクリレート、ノルボルニル(メタ)アクリレート、5-メチルノルボルニル(メタ)アクリレート、5-エチルノルボルニル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、1,1,1-トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、パーフルオロエチル(メタ)アクリレート、パーフルオロ-n-プロピル(メタ)アクリレート、パーフルオロ-イソプロピル(メタ)アクリレート、トリフェニルメチル(メタ)アクリレート、クミル(メタ)アクリレート、3-(N,N-ジメチルアミノ)プロピル(メタ)アクリレート、グリセリロールモノ(メタ)アクリレート、ブタントリオールモノ(メタ)アクリレート、ペンタントリオールモノ(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、アダマンチル(メタ)アクリレート、ナフタレン(メタ)アクリレート、アントラセン(メタ)アクリレートなどの(メタ)アクリル酸エステル類;、ノルボルネン(ビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン)、5-メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、5-エチルビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン、テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ-3-エン、8-メチルテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ-3-エン、8-エチルテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ-3-エン、ジシクロペンタジエン、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカ-8-エン、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカ-3-エン、トリシクロ[4.4.0.12,5]ウンデカ-3-エン、トリシクロ[6.2.1.01,8]ウンデカ-9-エン、トリシクロ[6.2.1.01,8]ウンデカ-4-エン、テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10.01,6]ドデカ-3-エン、8-メチルテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10.01,6]ドデカ-3-エン、8-エチリデンテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,12]ドデカ-3-エン、8-エチリデンテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10.01,6]ドデカ-3-エン、ペンタシクロ[6.5.1.13,6.02,7.09,13]ペンタデカ-4-エン、ペンタシクロ[7.4.0.12,5.19,12.08,13]ペンタデカ-3-エン、5-ノルボルネン-2-カルボン酸、5-ノルボルネン-2,3-ジカルボン酸、5-ノルボルネン-2,3-ジカルボン酸無水物、(メタ)アクリル酸アミド、(メタ)アクリル酸N,N-ジメチルアミド、(メタ)アクリル酸N,N-ジエチルアミド、(メタ)アクリル酸N,N-ジプロピルアミド、(メタ)アクリル酸N,N-ジ-イソプロピルアミド、(メタ)アクリル酸アントラセニルアミド、N-イソプロピル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリロイルモルフォリン、ダイアセトン(メタ)アクリルアミドなどの(メタ)アクリル酸アミド、;(メタ)アクリル酸アニリド、(メタ)アクリロイルニトリル、アクロレイン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン、N-ビニルピロリドン、ビニルピリジン、酢酸ビニル、ビニルトルエンなどのビニル化合物;スチレン、スチレンのα-、o-、m-、p-アルキル、ニトロ、シアノ、アミド誘導体;シトラコン酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチルなどの不飽和ジカルボン酸ジエステル;N-フェニルマレイミド、N-シクロヘキシルマレイミド、N-ラウリルマレイミド、N-(4-ヒドロキシフェニル)マレイミドなどのモノマレイミド類;無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸などの不飽和多塩基酸無水物が挙げられる。これらは、単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。また、この中で耐熱性や透明性の観点から、ベンジル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、スチレン、ビニルトルエン、イソボルニル(メタ)アクリレート、アダマンチル(メタ)アクリレート、ノルボルネン、N-イソプロピル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリロイルモルフォリン、ダイアセトン(メタ)アクリルアミドが好ましく、ベンジル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、スチレン、ビニルトルエン、イソボルニル(メタ)アクリレート、アダマンチル(メタ)アクリレート、ノルボルネンがより好ましい。
 なお、共重合体(B)では、好ましくは、エポキシ基を導入するモノマーを使用せず、特にグリシジル(メタ)アクリレートは使用しない。
 上記のようにして得られる共重合体(B)の酸価(JIS K6901 5.3)は、本発明の所望の効果を奏する限り制限されないが、感光性樹脂に使用する場合、通常20~300KOHmg/g、好ましくは30~200KOHmg/gである。この酸価が20KOHmg/g未満であると、感光性樹脂としての現像性が低下してしまうことがある。一方、この酸価が300KOHmg/gを超えると、アルカリ現像液に対して露光部分(光硬化部分)が溶解し易くなることがある。
 共重合体(B)を合成するための、酸基を誘導するためのモノマーおよびその他のモノマーの配合割合は、本発明の所望の効果を奏する限り、特に制限されないが、上述の酸価の値および下記の重量平均分子量を満たす範囲内で規定される。
 また、共重合体(A)、(B)の分子量(ポリスチレン換算の重量平均分子量)は、通常1000~50000、好ましくは2000~40000である、さらに好ましくは3000~30000である。この分子量が1000未満であると、現像後に着色パターンの欠けが発生し易くなることがある。一方、この分子量が50000を超えると、現像時間が長くなり過ぎてしまい、実用性に欠けることがある。
 本発明のアルカリ現像可能な樹脂組成物において、共重合体(A)の固形分100質量部に対して、共重合体(B)の固形分は、通常50~600質量部、好ましくは100~500質量部、さらに好ましくは200~400質量部である。共重合体(A)100質量部に対して、共重合体(B)が50質量部未満であると、現像性が低くなり、500質量部を超えて存在すると現像後の耐溶剤性が低くなる場合がある。
 共重合体(A)、(B)を作製する共重合反応は、当該技術分野において公知のラジカル重合方法に従って行うことができる。例えば、各々の共重合体を合成するためのモノマーを溶剤に溶解した後、その溶液に重合開始剤を添加し、50~130℃で1~20時間反応させればよい。
 この共重合反応に用いることが可能な溶剤としては、特に限定されないが、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどのグリコールエーテル系溶剤;トルエン、キシレンなどの炭化水素系溶剤、酢酸エチルなどの反応性官能基を有していない溶剤が挙げられる。これらは、単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。また、これらの中でも、グリコールエーテル系溶剤が好ましい。
 溶剤の配合量は、特に限定されないが、各共重合性モノマーの合計を100質量部とした場合に、一般に30~1000質量部、好ましくは50~800質量部である。特に、溶剤の配合量を1000質量部以下とすることで、連鎖移動作用によって共重合体の分子量の低下を抑制し、且つ共重合体の粘度を適切な範囲に制御することができる。また、溶剤の配合量を30質量部以上とすることで、異常な重合反応を防止し、重合反応を安定して行うことができると共に、共重合体の着色やゲル化を防止することもできる。
 また、この共重合反応に用いることが可能な重合開始剤としては、特に限定されないが、例えば、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスイソバレロニトリル、過酸化ベンゾイル、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエートなどが挙げられる。これらは、単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
 重合開始剤の配合量は、各モノマーの合計を100質量部とした場合に、一般に0.5~20質量部、好ましくは1.0~10質量部である。
 なお、有機溶剤を使用せずに、任意のモノマーと重合開始剤とを使用して塊状重合を行ってもよい。
 上記の共重合反応で得られた共重合体(A)、(B)にさらに二重結合を導入することが可能である。
 共重合体(A)中のエポキシ基、共重合体(B)中のカルボキシル基もしくは酸無水物基に二重結合を付加する反応は、共重合体にそれぞれエポキシ基含有モノマー、カルボキシル基含有モノマー、水酸基含有モノマーと重合禁止剤及び触媒を添加し、50~150℃、好ましくは80~130℃で反応を行えばよい。なお、この付加反応では、共重合反応に用いた溶剤が含まれていても特に問題はないため、共重合反応が終了した後に溶剤を除去することなく付加反応を行うことができる。
 ここで、重合禁止剤は、共重合体の重合によるゲル化を防ぐために添加される。重合禁止剤としては、特に限定されないが、例えば、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテルなどが挙げられる。また、触媒としては、特に限定されないが、例えば、トリエチルアミンのような第3級アミン、トリエチルベンジルアンモニウムクロライドのような第4級アンモニウム塩、トリフェニルホスフィンのようなリン化合物、クロムのキレート化合物などが挙げられる。
 また、共重合体(A)、(B)が不飽和基を有する場合、その不飽和基当量に制限はないが、通常100~4000g/mol、好ましくは200~3000g/molである。この不飽和基当量が100g/mol以上の方が耐熱分解性、耐熱黄変性をより高めるには効果的である。一方、この不飽和基当量が4000g/mol未満の方が感度をより高めるには効果的である。
 さらに、本発明は共重合体(A)および(B)並びに、任意に溶剤(C)及び/又は反応性希釈剤(D)を含む樹脂組成物に関する。また本発明の感光性樹脂組成物は、共重合体(A)、(B)、及び光重合開始剤(E)並びに、任意に溶剤(C)、反応性希釈剤(D)及び/又は着色剤(F)を含む。
 溶剤(C)は、共重合体(A)および(B)と反応しない不活性な溶剤であれば特に限定されない。
 溶剤(C)としては、共重合体(A)、(B)を製造する際(共重合反応)に用いた溶剤と同じものを用いることができ、共重合反応後に含まれている溶剤をそのまま用いることもでき、更に加えることもできる。また、その他の成分を加える際に、そこに共存しているものでも良い。具体的には、溶剤(C)の例として、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールエチルエーテルアセテートなどが挙げられる。これらは、単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。また、これらの中でも、共重合体(A)、(B)を製造する際(共重合反応)において使用されるプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどのグリコールエーテル系溶剤が好ましい。
 本実施の形態の樹脂組成物又は感光性樹脂組成物における溶剤(C)の配合量は、当該組成物中の溶剤(C)を除く成分の総和を100質量部とすると、一般に30~1000質量部、好ましくは50~800質量部であり、より好ましくは100~700質量部である。この範囲の配合量であれば、適切な粘度を有する樹脂組成物又は感光性樹脂組成物となる。
 反応性希釈剤(D)としては特に限定されないが、C=Cを有する低分子化合物が挙げられ、例えば、スチレン、α-メチルスチレン、α-クロロメチルスチレン、ビニルトルエン、ジビニルベンゼン、ジアリルフタレート、ジアリルベンゼンホスホネートなどの芳香族ビニル系モノマー類;酢酸ビニル、アジピン酸ビニルなどのポリカルボン酸モノマー類;メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、β-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレートのトリ(メタ)アクリレートなどの(メタ)アクリル系モノマー;トリアリルシアヌレートなどが挙げられる。これらは、単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
 本実施の形態の樹脂組成物又は感光性樹脂組成物における反応性希釈剤(D)の配合量は、当該組成物中の溶剤(C)を除く成分の総和を100質量部とすると、一般に10~90質量部、好ましくは20~80質量部であり、より好ましくは25~70質量部である。この範囲の配合量であれば、適切な粘度を有する樹脂組成物又は感光性樹脂組成物となり、感光性樹脂組成物は適切な光硬化性を有する。
 光重合開始剤(E)としては、特に限定されないが、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルなどのベンゾインとそのアルキルエーテル類;アセトフェノン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、1,1-ジクロロアセトフェノン、4-(1-t-ブチルジオキシ-1-メチルエチル)アセトフェノンなどのアセトフェノン類;2-メチルアントラキノン、2-アミルアントラキノン、2-t-ブチルアントラキノン、1-クロロアントラキノンなどのアントラキノン類;2,4-ジメチルチオキサントン、2,4-ジイソプロピルチオキサントン、2-クロロチオキサントンなどのチオキサントン類;アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタールなどのケタール類;ベンゾフェノン、4-(1-t-ブチルジオキシ-1-メチルエチル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’-テトラキス(t-ブチルジオキシカルボニル)ベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類;2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルホリノ-プロパン-1-オン;2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルホリノフェニル)ブタノン-1;アシルホスフィンオキサイド類;及びキサントン類などが挙げられる。これらは、単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
 本実施の形態の感光性樹脂組成物における光重合開始剤(E)の配合量は、感光性樹脂組成物中の溶剤(C)を除く成分の総和を100質量部とすると、一般に0.1~30質量部、好ましくは0.5~20質量部、より好ましくは1~15質量部である。この範囲の配合量であれば、適切な光硬化性を有する感光性樹脂組成物となる。
 着色剤(F)は、溶剤(C)に溶解又は分散するものであれば特に限定されず、例えば、染料や顔料などが挙げられる。
 特に、従来の感光性樹脂組成物では、染料を用いると輝度が高い着色パターンを得ることができたが、顔料を用いた場合に比べて着色パターンの耐熱性が低くなるという問題があった。これに対して、本実施の形態の感光性樹脂組成物では、染料を用いても耐熱性に優れた着色パターンを得ることができる。
 染料としては、溶剤(C)やアルカリ現像液に対する溶解性、感光性樹脂組成物中の他の成分との相互作用、耐熱性などの観点から、カルボン酸などの酸性基を有する酸性染料、酸性染料の窒素化合物との塩、酸性染料のスルホンアミド体などを用いることが好ましい。このような染料の例としては、acid alizarin violet N;acid black1、2、24、48;acid blue1、7、9、25、29、40、45、62、70、74、80、83、90、92、112、113、120、129、147;acid chrome violet K;acid Fuchsin;acid green1、3、5、25、27、50;acid orange6、7、8、10、12、50、51、52、56、63、74、95;acid red1、4、8、14、17、18、26、27、29、31、34、35、37、42、44、50、51、52、57、69、73、80、87、88、91、92、94、97、103、111、114、129、133、134、138、143、145、150、151、158、176、183、198、211、215、216、217、249、252、257、260、266、274;acid violet 6B、7、9、17、19;acid yellow1、3、9、11、17、23、25、29、34、36、42、54、72、73、76、79、98、99、111、112、114、116; food yellow3及びこれらの誘導体などが挙げられる。これらの中でも、アゾ系、キサンテン系、アンスラキノン系もしくはフタロシアニン系の酸性染料が好ましい。これらは、目的とする画素の色に応じて、単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
 顔料の例としては、C.I.ピグメントイエロー1、3、12、13、14、15、16、17、20、24、31、53、83、86、93、94、109、110、117、125、128、137、138、139、147、148、150、153、154、166、173、194、214などの黄色顔料;C.I.ピグメントオレンジ13、31、36、38、40、42、43、51、55、59、61、64、65、71、73などの橙色顔料;C.I.ピグメントレッド9、97、105、122、123、144、149、166、168、176、177、180、192、209、215、216、224、242、254、255、264、265などの赤色顔料;C.I.ピグメントブルー15、15:3、15:4、15:6、60などの青色顔料;C.I.ピグメントバイオレット1、19、23、29、32、36、38などのバイオレット色顔料;C.I.ピグメントグリーン7、36、58などの緑色顔料;C.I.ピグメントブラウン23、25などの茶色顔料;C.I.ピグメントブラック1、7、カーボンブラック、チタンブラック、酸化鉄などの黒色顔料などが挙げられる。これらは、目的とする画素の色に応じて、単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
 なお、目的とする画素の色に応じて、上記の染料及び顔料を組み合わせて用いることもできる。
 本実施の形態の樹脂組成物又は感光性樹脂組成物において着色剤(F)を配合する場合の配合量は、樹脂組成物又は感光性樹脂組成物中の溶剤(C)を除く成分の総和を100質量部とすると、一般に5~80質量部、好ましくは5~70質量部、より好ましくは10~60質量部である。
 着色剤(F)として顔料を用いる場合、顔料の分散性を向上させる観点から、公知の分散剤を感光性樹脂組成物に配合してもよい。分散剤としては、経時の分散安定性に優れる高分子分散剤を用いることが好ましい。高分子分散剤の例としては、ウレタン系分散剤、ポリエチレンイミン系分散剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル系分散剤、ポリオキシエチレングリコールジエステル系分散剤、ソルビタン脂肪族エステル系分散剤、脂肪族変性エステル系分散剤などが挙げられる。このような高分子分散剤として、EFKA(エフカーケミカルズビーブイ(EFKA)社製)、Disperbyk(ビックケミー社製)、ディスパロン(楠本化成株式会社製)、SOLSPERSE(ゼネカ社製)などの商品名で市販されているものを用いてもよい。
 本実施の形態の感光性樹脂組成物における分散剤の配合量は、使用する顔料などの種類に応じて適宜設定すればよい。
 本実施の形態の感光性樹脂組成物が着色剤(F)を含む場合、共重合体(A)、(B)溶剤(C)、反応性希釈剤(D)、光重合開始剤(E)、着色剤(F)の配合量は一般に、感光性樹脂組成物中の溶剤(C)を除く成分の総和を100質量部とすると、共重合体(A)及び(B)の合計が5~80質量部、溶剤(C)が30~1000質量部、反応性希釈剤(D)が10~90質量部、光重合開始剤(E)が0.1~30質量部、着色剤(F)が5~80質量部であり、好ましくは、共重合体(A)及び(B)の合計が8~70質量部、溶剤(C)が50~800質量部、反応性希釈剤(D)が20~80質量部、光重合開始剤(E)が0.5~20質量部、着色剤(F)が5~70質量部であり、更に好ましくは、共重合体(A)及び(B)の合計が10~60質量部、溶剤(C)が100~700質量部、反応性希釈剤(D)が25~70質量部、光重合開始剤(E)が1~15質量部、着色剤(F)が10~60質量部である。
 本実施の形態の感光性樹脂組成物が着色剤(F)を含まない場合でも、共重合体(A)、(B)、溶剤(C)、反応性希釈剤(D)、光重合開始剤(E)の配合量は、上記の数値が適用可能である。
 本実施の形態の樹脂組成物における、共重合体(A)、(B)、溶剤(C)の配合量は、樹脂組成物中の溶剤(C)を除く成分の総和を100質量部とすると、共重合体(A)及び(B)の合計が、50~100質量部であり、溶剤(C)が30~1000質量部、好ましくは50~800質量部、より好ましくは100~700質量部である。
 本実施の形態の樹脂組成物が反応性希釈剤(D)を含む場合、共重合体(A)、(B)溶剤(C)、反応性希釈剤(D)の配合量は、樹脂組成物中の溶剤(C)を除く成分の総和を100質量部とすると、共重合体(A)及び(B)の合計は、10~90質量部、溶剤(C)が30~1000質量部、反応性希釈剤(D)が10~90質量部であり、好ましくは、共重合体(A)及び(B)の合計は、20~80質量部、溶剤(C)が50~800質量部、反応性希釈剤(D)が20~80質量部であり、より好ましくは、共重合体(A)及び(B)の合計は、30~75質量部、溶剤(C)が100~700質量部、反応性希釈剤(D)が25~70質量部である。
 本実施の形態の感光性樹脂組成物は、上記の成分に加えて、所定の特性を付与するために、公知のカップリング剤、レベリング剤、熱重合禁止剤などの公知の添加剤を配合してもよい。これらの添加剤の配合量は、本発明の効果を阻害しない範囲であれば特に限定されない。
 本実施の形態の感光性樹脂組成物は、公知の混合装置を用い、上記の成分を混合することによって製造することができる。
 なお、本実施の形態の感光性樹脂組成物は、先に共重合体(A)、(B)および溶剤(C)を含む樹脂組成物を調製した後、反応性希釈剤(D)、光重合開始剤(E)、および任意の着色剤(F)を混合して製造することも可能である。なお、当該樹脂組成物は、本実施の形態の感光性樹脂組成物を調製するために用いることが出来るほか、他の用途で使用することも可能である。
 上記のようにして得られる本実施の形態の感光性樹脂組成物は、アルカリ現像性を有しているので、アルカリ水溶液を用いることによって現像を行うことができる。特に、本実施の形態の感光性樹脂組成物は、感度や現像性に優れると共に、耐熱分解性、耐熱黄変性及び耐溶剤性に優れた着色パターンを与えることができる。そのため、本実施の形態の感光性樹脂組成物は、各種レジスト、特に、有機ELディスプレイ、液晶表示装置、固体撮像素子に組み込まれるカラーフィルターを製造するために用いられるレジストとして用いるのに適している。また、本実施の形態の感光性樹脂組成物は、耐熱分解性、耐熱黄変性及び耐溶剤性などの様々な特性に優れた硬化膜を与えるので、各種コーティング、接着剤、印刷インキ用バインダーなどに用いることもできる。
 次に、本発明の感光性樹脂組成物を用いて調製したカラーフィルターについて説明する。本発明のカラーフィルターは、上記の感光性樹脂組成物から得られる着色パターンを有する。
 以下、本発明の一実施形態のカラーフィルターについて、図面を用いて説明する。
 図1は、本実施のカラーフィルターの断面図である。図1において、カラーフィルターは、基板1と、基板1上に形成される、RGBの画素2及び画素2の境界に形成されるブラックマトリックス3と、画素2及びブラックマトリックス3上に形成される保護膜4とから構成される。この構成において、画素2及びブラックマトリックス3(着色パターン)が上記の感光性樹脂組成物を用いて形成されることを除けば、その他の構成は公知のものを採用することができる。なお、図1に示したカラーフィルターは一例であり、この構成のみに限定されない。
 次に、本発明の一実施形態のカラーフィルターの製造方法について説明する。
 まず、基材1上に着色パターンを形成する。具体的には、基材1上に、ブラックマトリックス3及び画素2を順次形成する。ここで、基材1としては、特に限定されないが、ガラス基板、シリコン基板、ポリカーボネート基板、ポリエステル基板、ポリアミド基板、ポリアミドイミド基板、ポリイミド基板、アルミニウム基板、プリント配線基板、アレイ基板などを用いることができる。
 着色パターンは、フォトリソグラフィ法により形成することができる。具体的には、上記の感光性樹脂組成物を基板1上に塗布して塗布膜を形成した後、所定のパターンのフォトマスクを介して塗布膜を露光して露光部分を光硬化させる。そして、未露光部分をアルカリ水溶液で現像した後、ベーキングすることにより、所定のパターンを形成することができる。
 感光性樹脂組成物の塗布方法としては、特に限定されないが、スクリーン印刷法、ロールコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、スピンコート法などを用いることができる。また、感光性樹脂組成物の塗布後、必要に応じて、循環式オーブン、赤外線ヒーター、ホットプレートなどの加熱手段を用いて加熱することにより溶剤(C)を揮発させてもよい。加熱条件は、特に限定されず、使用する感光性樹脂組成物の種類に応じて適宜設定すればよい。一般には、50℃~120℃の温度で30秒~30分加熱すればよい。
 露光に用いられる光源としては、特に限定されないが、低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプなどを用いることができる。また、露光量も、特に限定されず、使用する感光性樹脂組成物の種類に応じて適宜調整すればよい。
 現像に用いられるアルカリ水溶液としては、特に限定されないが、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの水溶液;エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミンなどのアミン系化合物の水溶液;3-メチル-4-アミノ-N,N-ジエチルアニリン、3-メチル-4-アミノ-N-エチル-N-β-ヒドロキシエチルアニリン、3-メチル-4-アミノ-N-エチル-N-β-メタンスルホンアミドエチルアニリン、3-メチル-4-アミノ-N-エチル-N-β-メトキシエチルアニリン及びこれらの硫酸塩、塩酸塩又はp-トルエンスルホン酸塩などのp-フェニレンジアミン系化合物の水溶液などを用いることができる。これらの中でも、p-フェニレンジアミン系化合物の水溶液を用いることが好ましい。なお、これらの水溶液には、必要に応じて消泡剤や界面活性剤を添加してもよい。また、上記のアルカリ水溶液による現像の後、水洗して乾燥させることが好ましい。
 ベーキングの条件は、特に限定されず、使用する感光性樹脂組成物の種類に応じて加熱処理を行えばよい。一般には、130~250℃で10~60分間加熱すればよい。
 上記のような塗布、露光、現像及びベーキングを、ブラックマトリックス3用の感光性樹脂組成物、及び画素2用の感光性樹脂組成物を用いて順次繰り返すことにより、所望の着色パターンを形成することができる。
 なお、上記では、光硬化による着色パターンの形成方法を説明したが、光重合開始剤(E)の代わりに、硬化促進剤及び公知のエポキシ樹脂を配合した感光性樹脂組成物を用いれば、インクジェット法により塗布した後、加熱することにより、所望の着色パターンを形成することもできる。
 次に、着色パターン(画素2及びブラックマトリックス3)上に保護膜4を形成する。保護膜4としては、特に限定されず、公知のものを用いて形成すればよい。
 このようにして製造されるカラーフィルターは、感度や現像性に優れると共に、耐熱分解性、耐熱黄変性及び耐溶剤性に優れた着色パターンを与える感光性樹脂組成物を用いて製造しているため、耐熱分解性、耐熱黄変性及び耐溶剤性に優れた着色パターンを有する。
 以下、実施例を参照して本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されない。なお、この実施例において、部及びパーセントとあるのは特に断らない限り、全て質量基準である。また、酸価とは、JIS K6901 5.3に従って測定された共重合体(B)の酸価であって、共重合体(B)1g中に含まれる酸性成分を中和するのに要する水酸化カリウムのmg数を意味する。また、分子量(Mw)とは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を用いて、下記条件にて測定した標準ポリスチレン換算重量平均分子量を意味する。
 カラム:ショウデックス(登録商標) LF-804+LF-804(昭和電工株式会社製)
 カラム温度:40℃
 試料:共重合体の0.2%テトラヒドロフラン溶液
 展開溶媒:テトラヒドロフラン
 検出器:示差屈折計(ショウデックス RI-71S)(昭和電工株式会社製)
 流速: 1mL/min
 本発明の共重合体(A)の製造例を以下に示す。
<製造実施例1>
 攪拌装置、滴下ロート、コンデンサー、温度計及びガス導入管を備えたフラスコに、115.3gのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを入れ窒素置換しながら攪拌し、108℃に昇温した。次に、ビニルトルエン64.0g(0.54モル)及びグリシジルメタクリレート65.2g(0.46モル)からなるモノマー混合物に、16.8gのt-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート(重合開始剤)を添加したものを滴下ロートから前記フラスコ中に滴下した。滴下終了後、130℃で2時間攪拌して共重合反応を行い、共重合体A-1を生成させた。
 次に、この共重合体に、37.0gのプロピレングリコールモノメチルエーテルを加え、試料No.1(重量平均分子量6000)を得た。
<製造実施例2>
 攪拌装置、滴下ロート、コンデンサー、温度計及びガス導入管を備えたフラスコに、161.3gのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを入れ窒素置換しながら攪拌し、108℃に昇温した。次に、ビニルトルエン118.8g(1.0モル)及びN-イソプロピルアクリルアミド37.9g(0.34モル)、グリシジルメタクリレート285.8g(2.0モル)からなるモノマー混合物に、57.5gのt-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート(重合開始剤)を添加したものを滴下ロートから前記フラスコ中に滴下した。滴下終了後、130℃で2時間攪拌して共重合反応を行い、共重合体A-2を生成させた。
 次に、この共重合体に、74.1gのプロピレングリコールモノメチルエーテルを加え、試料No.2(重量平均分子量6000)を得た。
<製造実施例3>
 攪拌装置、滴下ロート、コンデンサー、温度計及びガス導入管を備えたフラスコに、115.3gのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを入れ窒素置換しながら攪拌し、108℃に昇温した。次に、ビニルトルエン49.5g(0.42モル)及びダイアセトンアクリルアミド27.3g(0.16モル)、グリシジルメタクリレート44.6g(0.31モル)からなるモノマー混合物に、16.8gのt-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート(重合開始剤)を添加したものを滴下ロートから前記フラスコ中に滴下した。滴下終了後、130℃で2時間攪拌して共重合反応を行い、共重合体A-3を生成させた。
 次に、この共重合体に、37.0gのプロピレングリコールモノメチルエーテルを加え、試料No.3(重量平均分子量6000)を得た。
<製造実施例4>
 攪拌装置、滴下ロート、コンデンサー、温度計及びガス導入管を備えたフラスコに、161.3gのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを入れ窒素置換しながら攪拌し、108℃に昇温した。次に、スチレン104.7g(1.0モル)及びN-イソプロピルアクリルアミド37.9g(0.33モル)、グリシジルメタクリレート285.8g(2.0モル)からなるモノマー混合物に、57.5gのt-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート(重合開始剤)を添加したものを滴下ロートから前記フラスコ中に滴下した。滴下終了後、130℃で2時間攪拌して共重合反応を行い、共重合体A-4を生成させた。
 次に、この共重合体に、71.7gのプロピレングリコールモノメチルエーテルを加え、試料No.4(重量平均分子量6000)を得た。
<製造実施例5>
 攪拌装置、滴下ロート、コンデンサー、温度計及びガス導入管を備えたフラスコに、161.3gのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを入れ窒素置換しながら攪拌し、108℃に昇温した。次に、ベンジルメタクリレート177.1g(1.0モル)及びN-イソプロピルアクリルアミド37.9g(0.33モル)、グリシジルメタクリレート285.8g(2.0モル)からなるモノマー混合物に、57.5gのt-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート(重合開始剤)を添加したものを滴下ロートから前記フラスコ中に滴下した。滴下終了後、130℃で2時間攪拌して共重合反応を行い、共重合体A-5を生成させた。
 次に、この共重合体に、83.8gのプロピレングリコールモノメチルエーテルを加え、試料No.5(重量平均分子量6000)を得た。
<製造実施例6>
 攪拌装置、滴下ロート、コンデンサー、温度計及びガス導入管を備えたフラスコに、161.3gのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを入れ窒素置換しながら攪拌し、108℃に昇温した。次に、ジシクロペンタニルメタクリレート221.4g(1.0モル)及びN-イソプロピルアクリルアミド37.9g(0.33モル)、グリシジルメタクリレート285.8g(2.0モル)からなるモノマー混合物に、57.5gのt-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート(重合開始剤)を添加したものを滴下ロートから前記フラスコ中に滴下した。滴下終了後、130℃で2時間攪拌して共重合反応を行い、共重合体A-6を生成させた。
 次に、この共重合体に、91.2gのプロピレングリコールモノメチルエーテルを加え、試料No.6(重量平均分子量6000)を得た。
 本発明の共重合体(B)の製造例を以下に示す。
<製造実施例7>
 同様にフラスコに、400.0gのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを入れた後、窒素置換しながら攪拌し、120℃に昇温した。次に、ジシクロペンタニルメタクリレート56.7g(0.26モル)及びメタクリル酸70.6g(0.82モル)、ベンジルメタクリレート265.0g(1.5モル)からなるモノマー混合物に、8.2gのt-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエートを添加したものを滴下ロートから前記フラスコ中に滴下した。滴下終了後、120℃で2時間攪拌して共重合反応を行い、共重合体B-1を生成させた。
 次に、この共重合体に、192.0gのプロピレングリコールモノメチルエーテルを加え、試料No.7(固形分酸価120mgKOH/g、重量平均分子量15000)を得た。
<製造実施例8>
 同様にフラスコに、400.0gのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを入れた後、窒素置換しながら攪拌し、120℃に昇温した。次に、ジシクロペンタニルメタクリレート78.4g(0.36モル)及びメタクリル酸96.9g(1.2モル)、スチレン216.5g(2.0モル)からなるモノマー混合物に、8.2gのt-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエートを添加したものを滴下ロートから前記フラスコ中に滴下した。滴下終了後、120℃で2時間攪拌して共重合反応を行い、共重合体B-2を生成させた。
 次に、この共重合体に、192.0gのプロピレングリコールモノメチルエーテルを加え、試料No.8(固形分酸価167mgKOH/g、重量平均分子量15000)を得た。
 <製造比較例1>
 同様にフラスコに、400.0gのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを入れた後、窒素置換しながら攪拌し、100℃に昇温した。次に、グリシジルメタクリレート70.5g(0.5モル)、メタクリル酸50.9g(0.61モル)及びビニルトルエン100.5g(0.87モル)からなるモノマー混合物に、8.2gのt-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエートを添加したものを滴下ロートから前記フラスコ中に滴下した。滴下終了後、100℃で2時間攪拌して共重合反応を行い、共重合体を生成させた。
 次に、この共重合体に、192.0gのプロピレングリコールモノメチルエーテルを加え、試料No.9(固形分酸価148mgKOH/g、重量平均分子量8000)を得た。
 <製造比較例2>
 同様にフラスコに、400.0gのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを入れた後、窒素置換しながら攪拌し、120℃に昇温した。次に、メタクリル酸50.9g(0.61モル)、ベンジルメタクリレート100.5g(0.57モル)からなるモノマー混合物に、6.2gのt-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエートを添加したものを滴下ロートから前記フラスコ中に滴下した。滴下終了後、120℃で2時間攪拌して共重合反応を行い、共重合体を生成させた。
 次に、この共重合体に、192.0gのプロピレングリコールモノメチルエーテルを加え、試料No.10(固形分酸価200mgKOH/g、重量平均分子量6000)を得た。
 <製造比較例3>
 フラスコに、218.1gのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをいれ、窒素置換しながら攪拌し、120℃に昇温した。次に、グリシジルメタクリレート50.5g(0.35モル)、スチレン50.5g(0.49モル)に、5.0gのt-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエートを添加したものを滴下ロートから前記フラスコ中に滴下した。滴下終了後、120℃で2時間攪拌して共重合反応を行い、共重合体を生成させた。
 次に、前記フラスコ内を空気に置換した後、アクリル酸24.9g(0.3モル)、0.6gのトリフェニルホスフィン、及び0.6gのハイドロキノンを加え、120℃で6時間付加反応を行い、その後、無水テトラヒドロフタル酸50.5g(0.33モル)を付加させ共重合体を生成させた。次に、この共重合体に、130.4gのプロピレングリコールモノメチルエーテルを加え、試料No.11(固形分酸価104mgKOH/g、重量平均分子量22000)を得た。
 <製造比較例4>
 フラスコに、218.1gのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをいれ、窒素置換しながら攪拌し、120℃に昇温した。次に、メタクリル酸24.1g(0.29モル)、ベンジルメタクリレート50.5g(0.29モル)に、3.0gのt-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエートを添加したものを滴下ロートから前記フラスコ中に滴下した。滴下終了後、120℃で2時間攪拌して共重合反応を行い、共重合体を生成させた。
 次に、前記フラスコ内を空気に置換した後、グリシジルメタクリレート14.2g(0.1モル)、0.6gのトリフェニルホスフィン、及び0.6gのハイドロキノンを加え、120℃で6時間付加反応を行い、共重合体を生成させた。
 次に、この共重合体に、130.4gのプロピレングリコールモノメチルエーテルを加え、試料No.12(固形分酸価112mgKOH/g、重量平均分子量22000)を得た。
 試料No.1~12を用いて、透明レジスト、カラーレジスト(顔料タイプ)及びカラーレジスト(染料タイプ)を調製した。
 <透明レジストの調製>
 試料No.1~6と7~8を1:3(固形分質量比)混合した混合物の固形分または試料No.1と7を1:2、1:4で混合した混合物の固形分100質量部に対して、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(反応性希釈剤)30質量部、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン(光重合開始剤)4質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(溶剤)を300質量部添加して感光性樹脂組成物を調製し、これを用いて透明レジストを調製した(実施例1~14)。試料No.9~12の固形分100質量部に対して、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(反応性希釈剤)30質量部、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン(光重合開始剤)4質量部を添加して感光性樹脂組成物を調製し、これを用いて透明レジストを調製した(比較例1~4)。
 <透明レジストによるパターン形成>
 調製された透明レジストを、5cm角ガラス基板(無アルカリガラス基板)上に、最終の硬化塗膜の厚さが2.5μmとなるようにスピンコートした後、90℃で3分間加熱することで溶剤を揮発させた。次に塗膜の全面を露光(露光量50mJ/cm2)し、光硬化させた後、さらに230℃で30分間ベーキングすることで硬化塗膜を得た。
 <透明レジストから形成された塗膜の評価>
 透明レジストから形成された塗膜について、耐熱分解性、耐熱黄変性及び透明性を評価した。
 (1)耐熱分解性の評価
 ガラス基板上に製膜した塗膜を切り出したサンプルを用い、熱重量分析(TGA)を行うことによって評価した。この分析では、このサンプルと、サンプルを220℃まで加熱して2時間保持したサンプルとの間の重量変化率を求めた。この評価の基準は以下の通りである。
  ○:-2.0%未満
  ×:-2.0%以上
 (2)耐熱黄変性の評価
 ガラス基板上に製膜した塗膜を230℃の乾燥機中に1時間放置し、加熱処理前後の塗膜の着色を日本電色工業(株)製 色差計SE2000にて比較した。この評価の基準は以下の通りである。
  ○:ΔE*abが0.3未満
  ×:ΔE*abが0.3以上
 (3)透明性の評価
 ガラス基板上に製膜した塗膜を230℃の乾燥機中に1時間放置し、加熱処理前後の塗膜の400nmの光線透過率を(株)島津製作所製 分光光度計UV-1650PCにて測定し、その透過率の変化率を調べることによって評価した。この評価の基準は以下の通りである。
  ○:透過率の変化率が1%未満
  ×:透過率の変化率が1%以上
 上記の耐熱分解性、耐熱黄変性、透明性の評価結果を表1に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 表1の結果からわかるように、実施例1~14の透明レジストは、耐熱分解性、耐熱黄変性、透明性の全てに優れたパターンを与えたのに対し、比較例1、2の透明レジストは、耐熱黄変性が十分ではなく、比較例3,4の透明レジストは透明性が十分ではなかった。
 <カラーレジスト(顔料タイプ)の調製>
 直径0.5mmのジルコニアビーズ180質量部を充填したSUS容器に、10.00質量部のC.Iピグメントグリーン36、33.75質量部のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(溶剤)、及び6.25質量部の分散剤(ビックケミー・ジャパン株式会社製Disperbyk-161)を加え、ペイントシェーカーで3時間混合して分散させることにより、緑色顔料分散液を得た。
 次に、調製した緑色顔料分散液、試料No.1~6と7~8を1:3で混合した混合物または試料No.1と7を1:2、1:4で混合した混合物、及びその他の成分を混合することによって感光性樹脂組成物を調製し、これを用いてカラーレジスト(顔料タイプ)を調製した(実施例15~28)また試料No.9~12、及びその他の成分を混合することによって感光性樹脂組成物を調製し、これを用いてカラーレジスト(顔料タイプ)を調製した(比較例5~8)このカラーレジスト(顔料タイプ)の配合成分及びその配合量を表2に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
 <カラーレジスト(顔料タイプ)によるパターン形成>
 調製されたカラーレジスト(顔料タイプ)を、5cm角ガラス基板(無アルカリガラス基板)上に、露光後の厚さが1.5μmとなるようにスピンコートした後、90℃で3分間加熱することで溶剤を揮発させ、乾燥させた。次に、塗布膜から100μmの距離に所定のパターンのフォトマスクを配置し、このフォトマスクを介して塗布膜を露光(露光量150mJ/cm2)し、露光部分を光硬化させた。次に、0.1質量%の炭酸ナトリウムを含む水溶液を23℃の温度及び0.3MPaの圧力でスプレーすることによって未露光部分を溶解して現像した後、230℃で30分間ベーキングすることで所定のパターンを形成した。
 <カラーレジスト(顔料タイプ)及びパターンの確認>
 カラーレジスト(顔料タイプ)及びパターンについて、アルカリ現像性、耐熱黄変性、耐溶剤性および感度を確認した。
 (4)アルカリ現像性の評価
 アルカリ現像性は、アルカリ現像後の残渣、及び現像形態により確認した。
 アルカリ現像後の残渣は、アルカリ現像後のパターンを、(株)日立ハイテクノロジーズ製電子顕微鏡S-3400を用いて観察することにより確認した。この評価の基準は以下の通りである。
  ○:残渣なし
  ×:残渣あり
 現像形態は、アルカリ現像による未露光部分の除去形態を目視にて評価した。ここで、ネガ型レジストの現像工程においては、未硬化の未露光部分がアルカリ現像液により溶解して基板上から離脱していくが、その現像形態としては、離脱していく部分が主に大きな塊となって剥がれる剥離型と、徐々に溶解及び拡散する溶解型とがある。前者の剥離型は、塊が異物となって系内に残留し、他の色の画素を汚染し易いので好まれない。つまり、後者の溶解型が好ましい。
  ○:溶解型
  ×:剥離型
 感度の評価はマスクを通して露光した硬化塗膜を23℃で0.1%の炭酸ナトリウム水溶液を用いてスプレー現像を30秒間行い、アルカリ現像前後の膜減り量を測定した。膜減り量が少ないほど感度が良好として評価した。
  ○:0.20μm未満
  ×:0.20μm以上
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
 表3の結果からわかるように、実施例15~28のカラーレジスト(顔料タイプ)は、アルカリ現像性及び感度が良好であり、耐熱黄変性及び耐溶剤性に優れるパターンを与えたのに対し、比較例5~8のカラーレジスト(顔料タイプ)は、アルカリ現像性と感度が良好でなく、耐熱黄変性又は耐溶剤性が十分でないパターンを与えた。
 <カラーレジスト(染料タイプ)の調製>
 染料(VALIFAST BLUE 2620)の20%プロピレングリコールモノメチルエーテル溶液、試料No.1~6と7~8を1:3で混合した混合物または試料No.1と7を1:2、1:4で混合した混合物、及びその他の成分を混合することによって感光性樹脂組成物を調製し、この組成物を用いてカラーレジスト(染料タイプ)を調製した(実施例29~42)また試料No.9~12及びその他の成分を混合することによって感光性樹脂組成物を調製し、この組成物を用いてカラーレジスト(染料タイプ)を調製した(比較例9~12)このカラーレジスト(染料タイプ)の配合成分及びその配合量を表4に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
 <カラーレジスト(染料タイプ)によるパターン形成>
 カラーレジスト(染料タイプ)を用いたこと以外は、カラーレジスト(顔料タイプ)によるパターン形成と同様にして所定のパターンを形成した。
 <カラーレジスト(染料タイプ)及びパターンの評価>
 カラーレジスト(顔料タイプ)と同様の方法にて、アルカリ現像性、感度、耐熱黄変性及び耐溶剤性を評価した。
 上記のアルカリ現像性、耐熱黄変性、耐溶剤性及び感度の評価結果を表5に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
 表5の結果からわかるように、実施例29~42のカラーレジスト(染料タイプ)は、アルカリ現像性及び感度が良好であり、耐溶剤性に優れるパターンを与えたのに対し、比較例9~12のカラーレジスト(染料タイプ)は、耐溶剤性が悪い結果となった。
 以上の結果からわかるように、本発明によれば、感度や現像性が良好であると共に、耐熱分解性、耐熱黄変性及び耐溶剤性に優れた着色パターンを与える感光性樹脂組成物を提供することができる。また、本発明によれば、耐熱分解性及び耐熱黄変性に優れた着色パターンを有するカラーフィルターを提供することができる。
 1 基板、2 画素、3 ブラックマトリックス、4 保護膜

Claims (13)

  1.  グリシジル(メタ)アクリレートを用いて合成され、酸基を有さず、ポリスチレン換算の重量平均分子量が1000~50000である共重合体(A)、および酸基を有し、ポリスチレン換算の重量平均分子量が1000~50000である共重合体(B)を含む、アルカリ現像可能な樹脂組成物。
  2.  前記共重合体(A)100質量部に対して前記共重合体(B)が50~600質量部である請求項1に記載の樹脂組成物。
  3.  前記共重合体(B)の酸基がカルボキシル基である、請求項1又は2に記載の樹脂組成物。
  4.  前記共重合体(B)の酸価が20~300KOHmg/gである、請求項1~3のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
  5.  前記共重合体(A)が窒素原子を有する請求項1~4のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
  6.  前記共重合体(A)が、スチレン、ビニルトルエン、ベンジル(メタ)アクリレート、N-イソプロピル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリロイルモルフォリン及びダイアセトン(メタ)アクリルアミドからなる群から選択される1種又は2種以上のモノマーを用いて合成される、請求項1~5のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
  7.  前記共重合体(B)が、ベンジル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、スチレン、ビニルトルエン、イソボルニル(メタ)アクリレート、アダマンチル(メタ)アクリレート、ノルボルネン、N-イソプロピル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリロイルモルフォリン又はダイアセトン(メタ)アクリルアミドからなる群から選択される1種又は2種以上のモノマーを用いて合成される、請求項1~6のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
  8.  更に溶剤(C)を含む、請求項1~7のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
  9.  更に反応性希釈剤(D)を含む、請求項1~8のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
  10.  更に染料および/または顔料からなる着色剤(F)を含む、請求項1~9のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
  11.  請求項1~10のいずれか1項に記載の樹脂組成物及び光重合開始剤(E)を含有するアルカリ現像可能な感光性樹脂組成物。
  12.  カラーフィルター用感光性樹脂組成物である、請求項11に記載の感光性樹脂組成物。
  13.  請求項12に記載の感光性樹脂組成物を含有するレジスト塗膜を硬化させてなるカラーフィルター。
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