WO2014050271A1 - 骨成長の促進を図る磁場発生装置と、これを用いたインプラント装置及びインプラント保護用義歯 - Google Patents

Abstract

　磁場発生装置３は、顎骨６１内に埋設されるよう構成された非磁性体からなるインプラント本体２に配されるものである。磁場発生装置３は、磁気を発生する磁石体３０を備えている。また、磁場発生装置３は、インプラント本体２と着脱可能に構成されると共に、装着状態において、インプラント本体２の周囲に磁場を形成するよう構成されている。

Description

骨成長の促進を図る磁場発生装置と、これを用いたインプラント装置及びインプラント保護用義歯

　本発明は、顎骨における骨成長を促進しオッセオインテグレーションの期間短縮が期待される磁場発生装置と、これを用いたインプラント装置及びインプラント保護用義歯に関する。

　歯科の分野において、口腔内に義歯を固定するための構造としては、インプラント固定構造が知られている（特許文献１）。インプラント固定構造は、顎堤に埋設されたインプラントに義歯を固定することで、口腔内に義歯を安定して固定することができる。
　このようなインプラントの一例としては、チタン合金からなり、その外周側面に顎骨と螺合するネジ部が形成されたものがある。このチタン合金からなるインプラントの表面は、微小な凹凸が形成された粗面をなしている。

　インプラントを顎骨に埋設する施術順序としては、顎堤の歯肉を切開し、顎骨に下穴を形成した後、下穴の内周面にタップ加工を施してネジ穴を形成する。そして、外周側面にネジ部が形成された有底円筒形状のインプラントを、顎骨のネジ穴に螺合し植立した後、３～６カ月間を経ることで顎骨とインプラントとが結合する。

　顎骨とインプラントとの間における結合は、オッセオインテグレーションによって生じる。オッセオインテグレーションとは、インプラントの材料であるチタンと顎骨が拒否反応を起こさず結合する現象である。インプラントが埋設された顎骨は、インプラント表面との隙間を埋めながら、インプラント表面の微小な凹凸に入りこむように成長する。これにより、顎骨とインプラントとが強固に結合される。
　このように、顎骨とインプラントとを強固に結合した後、義歯をインプラントに固定することができるようになる。

特開平７－１３６１９０号公報

　ところで、上記のインプラント装置には以下の課題がある。
　上述のごとく、顎堤に埋設されたインプラントは、顎骨との間においてオッセオインテグレーションを完了するまでに３～６カ月間と長い保持期間が必要となる。この期間中は、インプラントと顎骨とが強固に結合していないため、義歯の固定手段として使用することができない。そのため、オッセオインテグレーションの期間中は、顎堤に義歯を直接配置することとなり、義歯の外れが生じやすい。このように、オッセオインテグレーションの期間中は、患者にとって不便な状況が続くことから、オッセオインテグレーションにかかる期間の短縮が望まれている。

　本発明は、上記の背景に鑑みてなされたものであり、顎骨における骨成長を促進しオッセオインテグレーションの期間短縮が期待される磁場発生装置と、これを用いたインプラント装置及びインプラント保護用義歯を提供しようとするものである。

　本発明の一態様は、顎骨内に埋設されるよう構成された非磁性体からなるインプラント本体に取り付け可能な磁場発生装置であって、
　磁気を発生する磁石体を少なくとも１つ備えており、
　上記インプラント本体と着脱可能に構成されると共に、装着状態において、上記インプラント本体の周囲に磁場を形成するよう構成されていることを特徴とする磁場発生装置にある。

　本発明の他の態様は、上記磁場発生装置と、
　顎骨内に埋設されるよう構成された非磁性体からなるインプラント本体とを有しており、
　上記磁場発生装置は、上記インプラント本体と着脱可能に構成されていることを特徴とするインプラント装置にある。

　本発明のさらに他の態様は、上記インプラント装置を装着した顎堤に装着するインプラント保護用義歯であって、
　顎堤を覆う義歯床と、該義歯床に植設された人工歯とを有しており、
　上記義歯床は、上記インプラント装置の顎骨から突出する部位を非接触状態で収容する保護凹部を有し、上記義歯床内には、上記磁場発生装置からの磁場を誘導する磁性部材が配置されていることを特徴とするインプラント保護用義歯にある。

　上記磁場発生装置は、上記のごとく、インプラント本体の周囲に磁場を形成するよう構成されている。これにより、オッセオインテグレーションにかかる期間の短縮が可能と考えられる。

　すなわち、整形外科分野においては、磁場によって骨の骨芽細胞に磁気刺激を加えることにより、磁気刺激を受けた骨芽細胞が、成長を促され、骨成長の促進効果を得られるといわれている。上記磁場発生装置を用いることにより、これと同様の効果が得られることが期待される。つまり、上記インプラント本体が埋設された部位の周囲の顎骨は、上記磁場発生装置が形成する磁場において磁気刺激を受けることとなる。磁気刺激を受けた顎骨の骨芽細胞は、成長を促され、顎骨の成長が促進されることが見込まれる。これにより、上記磁場発生装置を用いることで、オッセオインテグレーションにかかる期間の短縮が期待される。

　また、上記インプラント装置は、上記のごとく、上記磁場発生装置と上記インプラント本体を備え、両者は、着脱可能に構成されている。そのため、オッセオインテグレーション終了後は、上記インプラント本体から上記磁場発生装置を取り外し、上記インプラント本体に上部構造を形成するアバットメント等を連結することができる。すなわち、上記インプラント本体を通常のインプラントとして使用することができる。

　また、上記インプラント保護用義歯の上記義歯床は、上記保護凹部と上記磁性部材とを有している。
　上記保護凹部は、上記のごとく、上記インプラント装置の顎骨から突出する部位を非接触状態で収容することができる。そのため、上記インプラント保護用義歯から上記インプラント装置に力が加わることを防止できる。これにより、上記インプラント装置の姿勢を安定させ、上記インプラント本体と顎骨との間におけるオッセオインテグレーションを効率よく行うことができる。

　また、上記磁性部材は、上記磁場発生装置と磁気的に接続され、その周囲には磁場が形成される。したがって、磁性部材を介して、より広範囲に磁場を形成することができ、上記インプラント本体の周囲に配された顎骨のより広い範囲に対して、磁気刺激を加えることができる。これにより、効率よくかつ効果的に顎骨の成長を促進し、オッセオインテグレーションにかかる期間をより短縮することが期待される。

　以上のごとく、上記磁場発生装置と、これを用いた上記インプラント装置及び上記インプラント保護用義歯によれば、顎骨の成長を促進しオッセオインテグレーションにかかる期間の短縮が期待される。

実施例１における、インプラント装置及びインプラント保護用義歯を示す断面図。 実施例１における、インプラント本体を示す断面図。 実施例１における、磁場発生装置を示す断面図。 実施例１における、磁場発生装置の磁場分布図。 実施例２における、インプラント装置及びインプラント保護用義歯を示す断面図。 実施例２における、磁場発生装置を示す断面図。 実施例３における、インプラント装置及びインプラント保護用義歯を示す断面図。 実施例３における、インプラント本体を示す断面図。 実施例３における、磁場発生装置を示す断面図。 実施例４における、インプラント装置及びインプラント保護用義歯を示す断面図。 実施例４における、磁場発生装置を構成する（ａ）磁石体を示す断面図、（ｂ）キーパを示す断面図。

　上記磁場発生装置は、上記インプラント本体に上記磁場発生装置を取り付けた状態において、上記インプラント本体に設けられた凹部内に挿入される挿入部を有し、該挿入部は１つ以上の磁性体からなり、上記磁石体によって上記挿入部に磁気回路が形成されていてもよい。この場合、上記挿入部は、上記インプラント本体の上記凹部内に挿入されるため、上記磁石体によって該挿入部に磁極を形成し、上記インプラント本体の周囲に磁場が形成される。この磁場により、顎骨に磁気刺激を加え、顎骨の成長促進を図ることができる。

　尚、上記凹部は、上記インプラント本体における先端により近い位置まで形成されており、上記凹部のより先端側の位置まで上記挿入部が配されていることが好ましい。この場合には、より広い範囲に磁場を形成することができる。
　また、磁性体とは、磁性を帯びることが可能な物質であり、保磁力の小さい軟磁性体や、保磁力の大きい硬磁性体等を含むものである。例えば、軟磁性体としては軟磁性ステンレス鋼等が挙げられ、硬磁性体としては永久磁石等が挙げられる。

　また、少なくとも１つの上記磁石体は、上記インプラント本体の軸方向において、上記凹部の開口部が形成された端部よりも外側の位置に配されていてもよい。この場合には、上記磁石体を上記インプラント本体の外側に配することができる。これにより、上記インプラント本体の内側に配する場合より、上記磁石体の大きさを大きくすることができる。それゆえ、上記磁場発生装置によって広範囲に強い磁場を形成することができる。尚、上記インプラントの軸方向とは、上記インプラントの長手方向を指すものである。

　また、上記挿入部と上記磁石体とは、該磁石体の磁力によって、互いに着脱可能に接続されていてもよい。この場合には、上記磁石体が、磁気吸引力によって上記挿入部に吸着するため、工具等を用いることなく、上記磁石体における所定の位置への配置、及び取り外しを容易に行うことができる。

　また、オッセオインテグレーションが完了した後には、上記挿入部及び上記インプラント本体を、義歯の固定としてそのまま利用することができる。この義歯は、磁気吸引力を発生する義歯内磁石構造体を備えており、該義歯内磁石構造体を上記挿入部に吸着することで固定可能に構成されるものである。

　また、上記挿入部の少なくとも一部は、上記磁石体からなっていてもよい。この場合には、上記インプラント本体と顎骨との間における結合部位に、より近い位置に永久磁石を配することができる。これによって、顎骨における上記インプラント本体と結合する部位に確実に磁場を形成し、より効果的に顎骨の成長促進を図ることができる。

　また、上記インプラント保護用義歯において、上記磁性部材は、上記義歯床内に分散配置された磁性体粒子であってもよい。この場合には、上記磁性体粒子を上記義歯床内の広い範囲に分散配置することができる。これにより、上記磁場発生装置と上記磁性体粒子とが磁気的に接続され、上記磁性体粒子は周囲に磁場を形成する。これにより、上記インプラント本体の周囲に配された顎骨のより広い範囲に磁気刺激を加えることができ、より効果的に骨成長の促進を図ることができる。

（実施例１）
　磁場発生装置及びインプラント装置にかかる実施例について、図１～図３を参照して説明する。
　図１に示すごとく、磁場発生装置３は、顎骨６１内に埋設されるよう構成された非磁性体からなるインプラント本体２に配されるものである。磁場発生装置３は、磁気を発生する磁石体３０を備えている。また、磁場発生装置３は、インプラント本体２と着脱可能に構成されると共に、装着状態において、インプラント本体２の周囲に磁場を形成するよう構成されている。

　以下、さらに詳細に説明する。
　図１に示すごとく、本例のインプラント装置１は、顎堤６に義歯（図示略）を固定するためのインプラント本体２を、顎骨６１に埋設した後、顎骨６１とインプラント本体２とがオッセオインテグレーションによって結合する期間中に用いられるものである。
　図１に示すごとく、インプラント装置１は、インプラント本体２と、インプラント本体２に着脱可能に配される磁場発生装置３とを有している。

　図２に示すごとく、インプラント本体２は、チタン合金からなり、その表面は、微小な凹凸が形成された粗面からなる。これにより、インプラント本体２と顎骨６１とをより強固に結合することができる。また、粗面は、ショットブラストや強酸によるエッチング等、種々の方法により形成することができる。尚、インプラント本体２の外周表面には、ハイドロキシアパタイトコーティングを施してあってもよい。この場合には、オッセオインテグレーションにかかる期間をより短縮することができる。インプラント本体２は、円筒状のインプラント筒部２１と、インプラント筒部２１の先端側開口部を閉塞するインプラント底部２２とを有する有底円筒形状をなしている。

　図２に示すごとく、インプラント本体２の外周面には、ネジ山を有する埋設ネジ部２４と、埋設ネジ部２４の基端側に配されたインプラント鍔部２５とが形成されている。
　埋設ネジ部２４は、インプラント本体２の先端から基端部近傍まで形成されており、インプラント鍔部２５は、埋設ネジ部２４の基端側の部位から外周側に延設されている。

　図２に示すごとく、インプラント本体２においてインプラント筒部２１の内周は、凹部２６を形成している。凹部２６は、ネジ山を有する雌ネジ部２６１と、雌ネジ部２６１よりもインプラント底部２２側に配された挿入配置部２６２とを有している。
　雌ネジ部２６１は、インプラント筒部２１における基端側開口部近傍から、軸方向においてインプラント筒部２１の略中央の位置まで形成されている。
　挿入配置部２６２は、内径が一様な円筒面をなしており、雌ネジ部２６１とインプラント底部２２との間に形成されている。

　図１及び図３に示すごとく、インプラント本体２の凹部２６に着脱可能に配される磁場発生装置３は、凹部２６内に配置される挿入部３１と、挿入部３１の基端部に形成されたヘッド部３５とを有している。
　挿入部３１は、磁石体３０と、軸方向において磁石体３０を挟み込むように配された挿入部材３２１、３２２と、磁石体３０の側面を覆うケース部材３０１とを有している。

　図３に示すごとく、磁石体３０は、円柱状をなす永久磁石からなり、磁石体３０における軸方向と直交する方向に配された側面を覆うケース部材３０１を有している。また、磁石体３０は、軸方向に着磁されており、磁石体３０の軸方向両端には、それぞれ磁極が形成されている。尚、磁石体３０の着磁方向は、軸方向以外の方向とすることもできるが、軸方向とした場合、より広範囲に磁場を形成することができる。
　ケース部材３０１は、内径が磁石体３０の外径と対応した円筒状をなしており、その内周に磁石体３０を挿入配置してある。

　図３に示すごとく、挿入部材３２１、３２２は、磁石体３０よりも先端側に配される先端側挿入部材３２１と、磁石体３０よりも基端側に配される基端側挿入部材３２２とを有している。
　先端側挿入部材３２１は、軟磁性ステンレス鋼からなり、インプラント本体２の凹部２６内に挿入配置可能な円柱状をなしている。

　図３に示すごとく、基端側挿入部材３２２は、軟磁性ステンレス鋼からなる円柱状をなすと共に、その外周側面は、ネジ山が形成された基端側挿入部材３２２をなしており、凹部２６の雌ネジ部２６１と螺合可能に構成されている。

　磁石体３０及び挿入部材３２１、３２２は、一体に接合されており、磁場発生装置３をインプラント本体２に組付けた際に、磁石体３０がインプラント筒部２１の軸方向における略中央位置に配されるよう構成されている。磁石体３０と一体に接合された挿入部材３２１、３２２は、磁石体３０によって磁化され、挿入部材３２１、３２２にそれぞれ磁極が形成される。これにより、図４に示すごとく、基端側挿入部材３２２の側面部から、先端側挿入部材３２１の側面部に向けて挿入部の周囲に存在するインプラント本体２及び顎骨６１などを磁力線が通過する開磁路が形成される。尚、開磁路を形成する磁力線の向きは、上述した向きと反対の向きであってもよい。

　本例において、挿入部３１は、磁石体３０及び挿入部材３２１、３２２を一体に接合して構成されているが、磁石体３０及び挿入部材３２１、３２２の間において磁気的に接続されていればよい。また、挿入部３１の磁極は、本例に示すごとく、挿入部材３２１、３２２で構成してもよいし、挿入部３１の全体を磁石体３０とし、磁石体３０によって磁極を構成してもよい。

　図３に示すごとく、挿入部３１の基端側挿入部材３２２の基端側にはヘッド部３５が配されている。ヘッド部３５は非磁性体からなるヘッド本体部３５１と、ヘッド本体部３５１の周囲に配された歯肉当接部３７とを有している。

　図３に示すごとく、ヘッド本体部３５１は、略円柱状をなしており、基端部から外周側に向かって延設されたヘッド鍔部３５２と、先端側端面から突出して形成された円柱状のヘッド連結部３５３とを有している。また、ヘッド本体部３５１の基端側端面には、軸方向から見たとき六角形をなし六角レンチと係合可能な係合穴３６が形成されている。
　ヘッド連結部３５３の先端面には、上記の挿入部３１の基端側挿入部材３２２が接合されている。

　図３に示すごとく、歯肉当接部３７は、チタン合金によって形成された略円筒状をなしており、略円筒状の当接本体部３７１と、当接本体部３７１の内周面から内側に向かって延設された円環状をなす内周鍔部３７２とを有している。

　図３に示すごとく、当接本体部３７１における基端側の開口部の内側には、ヘッド本体部３５１におけるヘッド鍔部３５２から先端側を挿入配置してある。また、図１に示すごとく、当接本体部３７１における先端側の開口部の内側には、インプラント本体２を連結した際に、インプラント本体２の基端部が挿入配置される。このとき、当接本体部３７１とインプラント本体２とは互いに密着する。
　内周鍔部３７２は、ヘッド本体部３５１に歯肉当接部３７を配した際に、ヘッド本体部３５１の先端側端面と対応した位置となるように形成されている。

　本例のインプラント装置１を顎堤６に埋設する施術順序としては、顎堤６の歯肉６２に穴部を形成すると共に、顎骨６１にネジ穴を形成する。そして、インプラント本体２を、顎骨のネジ穴に螺合し植立した後、インプラント本体２の凹部２６に磁場発生装置３の挿入部３１を配設する。インプラント本体２と磁場発生装置３とは、雌ネジ部２６１と雄ネジ部３３３とを螺合することにより、着脱可能に固定される。このとき、インプラント本体２と磁場発生装置３とは、両者の間に隙間が生じないように密閉して結合される。

　この後、インプラント本体２の表面に形成された微小な凹凸内に入り込むように、顎骨６１が成長することにより、顎骨６１とインプラント本体２とが強固に結合される。このとき、磁場発生装置３のヘッド部３５がヒーリングアバットメントの役割を果たし、歯肉６２の穴部が塞がることなく形成される。

　図１に示すごとく、インプラント装置１を埋設した顎堤６には、オッセオインテグレーションが完了するまでの間、インプラント保護用義歯５０が配される。
　インプラント保護用義歯５０は、顎堤６を覆う義歯床５１と、義歯床５１に植設された人工歯５３とを有している。

　図１に示すごとく、義歯床５１は、顎堤６の上部に配される頂部５１１と頂部５１１の両端からそれぞれ延設された側壁部５１２とを有している。義歯床５１の頂部５１１の裏面側には、顎堤６から突出して配されたインプラント装置１のヘッド部３５を非接触状態で収容する保護凹部５１３を有している。

　顎骨６１とインプラント本体２との間におけるオッセオインテグレーションが完了し、両者が強固に結合した後、インプラント本体２に義歯固定部材（図示略）を設けることで義歯側固定部材を有する義歯（図示略）を顎堤６に固定することができるようになる。

　次に、本例の作用効果について説明する。
　本例において、磁場発生装置３は、上記のごとく、インプラント本体２の周囲に磁場を形成するよう構成されている。これにより、オッセオインテグレーションにかかる期間の短縮が可能と考えられる。

　すなわち、整形外科分野においては、磁場によって骨の骨芽細胞に磁気刺激を加えることにより、磁気刺激を受けた骨芽細胞が、成長を促され、骨成長の促進効果を得られるといわれている。磁場発生装置３を用いることにより、これと同様の効果が得られることが期待される。つまり、インプラント本体２が埋設された部位の周囲の顎骨６１は、磁場発生装置３が形成する磁場において磁気刺激を受けることとなる。磁気刺激を受けた顎骨６１の骨芽細胞は、成長を促され、顎骨６１の成長が促進されることが見込まれる。これにより、磁場発生装置３を用いることで、オッセオインテグレーションにかかる期間の短縮が期待される。

　また、インプラント装置１は、上記のごとく、磁場発生装置３とインプラント本体２を備え、両者は、着脱可能に構成されている。そのため、オッセオインテグレーション終了後は、インプラント本体２から磁場発生装置３を取り外し、インプラント本体２に上部構造を形成するアバットメント等を連結することができる。すなわち、インプラント本体２を通常のインプラントとして使用することができる。

　インプラント装置１において、インプラント本体２の凹部２６内に挿入される挿入部３１は、軟磁性体からなる挿入部材３２１、３２２と、挿入部材３２１、３２２に接続された磁石体３０とを有している。そのため、磁石体３０と、軟磁性体からなる挿入部材３２１、３２２とが磁気的に接続されることにより、挿入部３１の周囲に磁場を形成することができる。挿入部３１は、インプラント本体２の凹部２６内に挿入されるため、挿入部３１によって、インプラント本体２の周囲に磁場が形成され、顎骨６１の成長促進を図ることができる。

　また、磁石体３０は、挿入部３１に内蔵されている。そのため、インプラント本体２と顎骨６１との間における結合部位に、より近い位置に永久磁石を配することができる。これによって、顎骨６１におけるインプラント本体２と結合する部位に確実に磁場を形成し、より効果的に顎骨６１の成長促進を図ることができる。

　以上のごとく、磁場発生装置３と、これを用いたインプラント装置１によれば、顎骨６１の成長を促進しオッセオインテグレーションにかかる期間の短縮が期待される。

（実施例２）
　本例は実施例１における磁場発生装置の構成を変更した例である。
　図５及び図６に示すごとく、磁場発生装置３０２は、インプラント本体２の凹部２６内に配される挿入部３１を有している。

　図６に示すごとく、挿入部３１は、永久磁石からなる磁石体３０と、磁石体３０の外周に配されたケース部材３０１と、磁石体３０の先端側に配された先端側挿入部材３２１と、磁石体３０の基端側に配された基端側挿入部材３２２とを有している。尚、磁石体３０、ケース部材３０１及び先端側挿入部材３２１は実施例１に示したものと同様のものである。

　図６に示すごとく、基端側挿入部材３２２は、円柱状をなしており、インプラント本体２の凹部２６内に配される。基端側挿入部材３２２の基端部には、円板状の蓋部３３１が形成されており、蓋部３３１の外周縁部には、基端側挿入部材３２２の先端側に向かって外周筒部３３２が形成されている。
　基端側挿入部材３２２は、外周側面にネジ山が形成された雄ネジ部３３３を形成しており、インプラント本体２の凹部２６に形成された雌ネジ部２６１と螺合可能に構成されている。

　蓋部３３１の基端側端面における略中央位置には、係合穴３６が形成されている。
　蓋部３３１の軸方向寸法は、約１ｍｍであり、実施例１におけるヘッド部３５の軸方向寸法に比べて小さく形成されている。
　その他の構成は実施例１と同様である。

　本例のインプラント装置１は、上記のごとく、基端側挿入部材３２２における蓋部３３１の軸方向寸法を小さく設定してある。そのため、インプラント装置１における顎骨６１からの突出量を小さくすることができ、インプラント装置１を埋設した後、歯肉６２を縫合し、インプラント装置１を顎堤６の内部に埋入することができる。

　この場合は、オッセオインテグレーションの後期又は終了後に、歯肉６２に穴部を形成し、実施例１に示した磁場発生装置３又はヒーリングアバットメントを、インプラント本体２に配することで歯肉６２の穴部が塞がることなく形成される。
　その他、実施例１と同様の作用効果を得ることができる。

（実施例３）
　本例は、実施例１の磁場発生装置、インプラント装置及びインプラント保護用義歯の構成を変更した例である。
　図７及び図８に示すごとく、インプラント本体２０は、円筒状のインプラント筒部２１と、インプラント筒部２１の先端側開口部を閉塞するように配された円柱状のインプラント中実部２３とを有している。インプラント本体２０は、その軸方向において、基端側略半分をインプラント筒部２１によって構成されており、残る略半分をインプラント中実部２３によって構成されている。
　インプラント筒部２１の内周からなる凹部２６は、その内周面にネジ山が形成された雌ネジ部２６１をなしている。

　図７及び図９に示すごとく、磁場発生装置３０３は、軟磁性ステンレス鋼からなる挿入部３１と、挿入部３１と一体に配された磁石構造体３００とを有している。
　挿入部３１は、軟磁性ステンレス鋼からなる円柱状をなすと共に、その外周側面にネジ山が形成された雄ネジ部３３３を形成しており、インプラント本体２０の凹部２６に形成された雌ネジ部２６１と螺合可能に構成されている。
　挿入部３１の基端部には、磁石構造体３００において開口部を覆う円板状の磁場発生装置３０３磁場発生装置３０３が一体に形成されている。

　図９に示すごとく、挿入部３１の基端側面には、磁石構造体３００が一体に配されている。
　磁石構造体３００は、永久磁石からなる磁石体３０と、磁石体３０の周囲に配されたケース３９と、ケース３９の開口端部に配されたケース３９とを有している。

　磁石体３０は、略円柱状をなしており、その外径は蓋部３１１の外径と同一に設定してある。また、磁石体３０は、軸方向に着磁されており、磁石体３０の軸方向両端には、それぞれ磁極が形成されている。尚、磁石体３０の着磁方向は、軸方向以外の方向とすることもできるが、軸方向とした場合、より広範囲に磁場を形成することができる。

　図９に示すごとく、ケース３９は、非磁性ステンレス鋼からなり、磁石体３０の上部に配されたケース上面部３９２と、磁石体３０の外周に形成されたケース円筒部３９３とを有している。
　ケース円筒部３９３は、円筒状をなしており、円板状のケース上面部３９２の外周縁部から磁石体３０側に向かって形成されている。ケース円筒部３９３の軸方向における長さ寸法は、磁石体３０の軸方向における寸法と蓋部３１１の寸法とを合わせた長さ寸法と略同一に設定してある。

　図９に示すごとく、リング部材６は、略円環状をなしており、磁石体３０と蓋部３１１を内包したケース円筒部３９３の開口端部に配されている。リング部材６は、磁場発生装置３０３とインプラント本体２との間において、両者の隙間を埋めるスペーサの役割を果たすものである。本例においては、リング部材６を、ケース３９と一体に固定しているが、両者は、固定することなく、別体であってもよい。

　図９に示すごとく、ケース３９、磁石体３０及び挿入部３１は、ケース３９の内側に磁石体３０と蓋部３１１とを配した状態で、ケース３９と蓋部３１１とを固定して配されている。尚、ケース３９と蓋部３１１との固定は、例えば、溶接や圧入によって行うことができる。

　磁石体３０と磁気的に接続された挿入部３１は、磁石体３０によって磁化され、挿入部３１の軸方向に磁極が形成される。これにより、たとえば、磁石構造体３００の基端側端面から、挿入部３１に向けて、挿入部３１の周囲に存在するインプラント本体２及び顎骨６１などを磁力線が通過する開磁路が形成される。
　図７に示すごとく、磁場発生装置３０３をインプラント本体２に配した際に、磁石体３０は、インプラント本体２の軸方向において、凹部２６の開口部が形成された端部よりも外側の位置、つまり先端部と反対側の位置に配される。

　図７に示すごとく、インプラント装置１を埋設した顎堤６に配されるインプラント保護用義歯５は、義歯床５１の内部に配された磁性部材５２を有しており、インプラント装置１を配した部位の顎堤６を覆うように形成されている。
　義歯床５１の頂部５１１の裏面側には、顎堤６から突出して配されたインプラント装置１の磁石構造体３００を非接触状態で収容する保護凹部５１３を有している。

　また、義歯床５１内に配された磁性部材５２は、曲げ形成された軟磁性ステンレス鋼板からなり、インプラント装置１における磁石構造体３００の周囲に配されると共に保護凹部５１３の内周面に沿って形成された略コの字断面形状を有する上方伝達部５２１と、上方伝達部５２１の両端から顎堤６に沿って延設された側方伝達部５２２とを有している。
　その他の構成は実施例１と同様である。

　本例の磁場発生装置３０３において、磁石構造体３００における磁石体３０は、インプラント本体２の軸方向において、凹部２６の開口部が形成された端部よりも外側の位置に配されている。そのため、磁石体３０をインプラント本体２の外側に配することができる。これにより、インプラント本体２の内側に配する場合より、磁石体３０の大きさを大きくすることができる。それゆえ、磁場発生装置３０３によって広範囲に強い磁場を形成することができる。また本例の磁場発生装置３０３においては、その部品構成を単純化することができ、その生産性を向上することができる。

　また、インプラント保護用義歯５の義歯床５１は、保護凹部５１３と磁性部材５２とを有している。
　保護凹部５１３は、上記のごとく、インプラント装置１の顎骨６１から突出する部位を非接触状態で収容することができる。そのため、インプラント保護用義歯５からインプラント装置１に力が加わることを防止できる。これにより、インプラント装置１の姿勢を安定させ、インプラント本体２０２と顎骨６１との間におけるオッセオインテグレーションを効率よく行うことができる。

　また、磁性部材５２は、磁場発生装置３０３と磁気的に接続され、その周囲には磁場が形成される。したがって、磁性部材５２を介して、より広範囲に磁場を形成することができ、インプラント本体２０２の周囲に配された顎骨６１のより広い範囲に対して、磁気刺激を加えることができる。これにより、効率よくかつ効果的に顎骨６１の成長を促進し、オッセオインテグレーションにかかる期間をより短縮することが期待される。
　その他、実施例１と同様の作用効果を得ることができる。

（実施例４）
　本例は、実施例３におけるインプラント装置及びインプラント保護用義歯の構成を変更した例を示すものである。
　図１０に示すごとく、インプラント装置１は、実施例３に示したものと同様のインプラント本体２０と、インプラント本体２０の凹部２６に配される磁場発生装置３０４とを有している。
　図１０及び図１１に示すごとく、磁場発生装置３０４は、磁石体３０を内蔵する磁石構造体３００と、磁石体３０の磁力により吸引固定されるキーパ４とを備えている。

　図１１（ａ）に示すごとく、磁石構造体３００は、円柱状の永久磁石からなる磁石体３０と、磁石体３０を内包するケース３９と、ケース３９の外周側に配されたスリーブ３８とを有している。
　ケース３９は、有底円筒形状を有するケース本体部３９１と、ケース本体部３９１の開口端部を覆う蓋体３９４とを有している。

　図１１（ａ）に示すごとく、ケース本体部３９１は、非磁性ステンレス鋼からなり、磁石体３０の上部に配されるケース上面部３９２と、ケース上面部３９２の外周縁部に形成されたケース円筒部３９３とを有している。ケース円筒部３９３の軸方向長さは、磁石体３０及び蓋体３９４を重ね合せた際の軸方向長さと略同一に設定してある。
　蓋体３９４は、軟磁性ステンレス鋼からなる円板形状を有しており、その外径は、ケース円筒部３９３の内径と対応している。

　磁石構造体３００は、ケース本体部３９１の内側に磁石体３０を配置し、蓋体３９４をケース本体部３９１の開口端部の内側に圧入配置することで、ケース３９の内側に磁石体３０を封入して構成されている。尚、ケース３９において、蓋体３９４を配した側の端面は、磁石体３０の磁力によってキーパ４を吸着する吸着面をなしている。

　図１１（ａ）に示すごとく、スリーブ３８は、全体形状が略円筒状をなしており、一方の開口端部はケース本体部３９１における開口端部側の外周面を覆うように配されている。スリーブ３８における他方の開口端部は、ケース本体部３９１の開口端部よりも突出して形成されており、磁石体３０をキーパ４に配した際に、その内側にキーパ４を配置可能なキーパ配置凹部３８１を形成している。

　図１１（ｂ）に示すごとく、キーパ４は、磁性体からなるキーパ本体部４１と、キーパ本体部４１の外周側に配される歯肉当接部４３とを有している。
　キーパ本体部４１は、インプラント本体２０の凹部２６に挿入される挿入部４５と、顎堤６から突出して配されるヘッド部４２とを有している。

　図１１（ｂ）に示すごとく、挿入部４５は、円柱状をなしており、外周側面にネジ山が形成された雄ネジ部４５１を形成しており、凹部２６の雌ネジ部２６１と螺合可能に構成されている。
　ヘッド部４２は、挿入部４５の基端側に形成されており、挿入部４５と一体に形成されたヘッド本体部４２１と、ヘッド本体部４２１の外周に配された歯肉当接部４３とを有している。

　図１１（ｂ）に示すごとく、ヘッド本体部４２１は、略円柱状をなしており、基端部から外周側に向かって延設されたヘッド鍔部４２２を有している。また、ヘッド本体部４２１の基端側端面には、軸方向から見たとき六角形をなし、六角レンチを挿通係合可能な係合穴４４が形成されている。尚、ヘッド本体部４２１の基端側端面は、磁石体３０に吸着される被吸着面をなしている。

　図１０に示すごとく、磁石構造体３００とキーパ４とは、磁石構造体３００のキーパ配置凹部３８１の内側にキーパ４のヘッド部４２を挿入配置し、磁石体３０から生じる磁力によって、被吸着面に吸着面を吸着させることによって互いに固定される。

　図１０に示すごとく、インプラント装置１を埋設した顎堤６に配されるインプラント保護用義歯５の義歯床５１には、磁性部材５２として磁性体粒子５２３が分散配置されている。磁性体粒子５２３としては、例えば、粉末状の永久磁石やプラスチックマグネット等を用いることができる。
　その他の構成は実施例１と同様である。

　本例のインプラント装置１においては、磁石構造体３００が、磁気吸引力によってキーパ４に吸着するため、工具等を用いることなく、磁石体３０における所定の位置への配置、及び取り外しを容易に行うことができる。

　また、オッセオインテグレーションが完了した後には、キーパ４及びインプラント本体２を、義歯の固定として、そのまま利用することができる。この義歯は、磁気吸引力を発生する義歯内磁石構造体を備えており、該義歯内磁石構造体をキーパ４に吸着することで固定可能に構成されるものである。

　また、インプラント保護用義歯５において、磁性部材５２は、義歯床５１内に分散配置された磁性体粒子５２３からなる。そのため、磁性体粒子５２３を義歯床５１内の広い範囲に分散配置することができる。これにより、磁場発生装置３０４が形成する磁場は、磁性体粒子５２３を介して広範囲に形成される。これにより、顎骨６１のより広い範囲に磁気刺激を加えることができる。

　また、本例に示した磁性体粒子には、粉末状の永久磁石やプラスチックマグネット等を用いることもできる。この場合には、インプラント保護用義歯単体で使用した場合にも、インプラント本体の周囲に磁場を形成することが可能となり、オッセオインテグレーションにかかる期間の短縮効果が期待される。また、磁場発生装置と併用することがで、永久磁石粉と磁石体との両方によって磁場が形成されるため、より広範囲に確実に磁場を形成することができる。これにより、さらなるオッセオインテグレーションの期間短縮効果が期待される。
　その他、実施例１と同様の作用効果を得ることができる。

　上記実施例１～実施例４においては、磁石体として永久磁石を用いたがこれに限るものではなく、電磁石等の磁気発生装置を用いてもよい。
　また、挿入部は、その一部が、磁性体によって形成されていてもよいが、挿入部の全体が磁性体によって構成されていることが好ましい。つまり、実施例１及び実施例２に示したように軟磁性体と磁石体とによって構成されるか、実施例３～実施例４に示したように軟磁性体によって構成されているか、挿入部の全体が磁石体によって構成されていることが好ましい。また、挿入部の少なくとも一部が磁石体で構成されている場合には、実施例１及び実施例２に示した挿入部と同様の構成とすることが好ましい。この場合には、より広い範囲に磁場を発生させることができ、オッセオインテグレーションにかかる期間の更なる短縮が期待される。

　また、磁場発生装置は、磁石体を複数有していてもよい。例えば、実施例１及び実施例２に示した挿入部に内蔵された磁石体と、実施例３～実施例４のいずれかに示したインプラント本体における凹部の開口部が形成された端部よりも外側の位置に配された磁石体との両方を有していてもよい。この場合には、より広い範囲に強い磁場を発生させることができ、オッセオインテグレーションにかかる期間の更なる短縮が期待される。

Claims (8)

1. 　顎骨内に埋設されるよう構成された非磁性体からなるインプラント本体に取り付け可能な磁場発生装置であって、
   　磁気を発生する磁石体を少なくとも１つ備えており、
   　上記インプラント本体と着脱可能に構成されると共に、装着状態において、上記インプラント本体の周囲に磁場を形成するよう構成されていることを特徴とする磁場発生装置。
2. 　請求項１に記載の磁場発生装置において、上記インプラント本体に上記磁場発生装置を取り付けた状態において、上記インプラント本体に設けられた凹部内に挿入される挿入部を有し、該挿入部は１つ以上の磁性体からなり、上記磁石体によって上記挿入部に磁気回路が形成されるよう構成されていることを特徴とする磁場発生装置。
3. 　請求項２に記載の磁場発生装置において、少なくとも１つの上記磁石体は、上記インプラント本体の軸方向において、上記凹部の開口部が形成された端部よりも外側の位置に配されていることを特徴とする磁場発生装置。
4. 　請求項３に記載の磁場発生装置において、上記挿入部は、軟磁性体からなり、該挿入部と上記磁石体とは、互いに着脱可能に接続されていることを特徴とする磁場発生装置。
5. 　請求項２又は３に記載の磁場発生装置において、上記挿入部の少なくとも一部は、上記磁石体からなることを特徴とする磁場発生装置。
6. 　請求項１～５のいずれか一項に記載の磁場発生装置と、
   　顎骨内に埋設されるよう構成された非磁性体からなるインプラント本体とを有しており、
   　上記磁場発生装置は、上記インプラント本体と着脱可能に構成されていることを特徴とするインプラント装置。
7. 　請求項６に記載のインプラント装置を装着した顎堤に装着するインプラント保護用義歯であって、
   　顎堤を覆う義歯床と、該義歯床に植設された人工歯とを有しており、
   　上記義歯床は、上記インプラント装置の顎骨から突出する部位を非接触状態で収容する保護凹部を有し、上記義歯床内には、上記磁場発生装置からの磁場を誘導する磁性部材が配置されていることを特徴とするインプラント保護用義歯。
8. 　請求項７に記載のインプラント保護用義歯であって、上記磁性部材は、上記義歯床内に分散配置された磁性体粒子からなることを特徴とするインプラント保護用義歯。

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