TWI584789B - A magnetic field generating device, and an artificial plant device using the same, and an artificial implant protection denture - Google Patents

Description

磁場產生裝置、及使用該裝置的人工植體裝置、以及人工植體保護用義齒

本發明，是關於促進顎骨中的成骨並期待能縮短骨整合(Osseointegration)期間的磁場產生裝置、及使用該裝置的人工植體裝置、以及人工植體保護用義齒。

在齒科領域中，作為用以在口腔內固定義齒之構造者，周知有人工植體固定構造(專利文獻1)。人工植體固定構造，是將義齒固定於埋設在顎堤的人工植體，使義齒能夠穩定地固定在口腔內。

作為此種人工植體的一例，有由鈦合金所成，且在其外周側面形成有與顎骨螺合之螺紋部者。此由鈦合金所成之人工植體的表面，有著以微小的凹凸所形成之粗糙面。

將人工植體埋設至顎骨的手術順序如下：切開顎堤的齒肉，於顎骨形成導孔之後，對導孔的內周面實施攻牙形成螺孔。然後將於外周側面形成有螺紋部之有底圓筒狀之人工植體，與顎骨的螺孔螺合植入之後，經過3~6個月的時間使顎骨與人工植體結合。

顎骨與人工植體之間的結合，是藉由骨整合來產生。所謂的骨整合，是使人工植體材料的鈦不與顎骨產生拒絕反應而結合的現象。埋設有人工植體的顎骨，是以一邊填補與人工植體表面之間的縫隙，一邊埋入人工植體表面的微小凹凸的方式成長。藉此，顎骨與人工植體會牢固地結合。

如此般，使顎骨與人工植體牢固地結合之後，可將義齒固定於人工植體上。

〔先前技術文獻〕 〔專利文獻〕

〔專利文獻1〕日本特開平7-136190號公報

然而，上述之人工植體裝置存在以下的問題。

如上述般，埋設於顎堤的人工植體，與顎骨之間的骨整合直到結束為止需要3~6個月長的保持期間。於該期間中，人工植體與顎骨並沒有牢固地結合，故無法使用為義齒的固定手段。因此，於骨整合的期間中，義齒是直接配置於顎堤，且義齒容易發生脫落。如此般，在骨整合的期間中，對患者而言是持續著不便的狀況，故期望能夠縮短骨整合所需的期間。

本發明，是有鑑於上述背景而發明，其目的在 於提供一種促進顎骨中的成骨並期待能縮短骨整合期間的磁場產生裝置、及使用該裝置的人工植體裝置、以及人工植體保護用義齒。

本發明的第一態樣係磁場產生裝置，能夠裝卸於人工植體本體，其在骨整合(Osseointegration)期間中使用，且該人工植體本體是由以埋設在顎骨內之方式構成的非磁性體所成，其特徵為：將沿著上述人工植體本體的軸方向將朝向顎骨之內方側的方向作為前方、將其反方向作為後方，上述磁場產生裝置，具有：插入於設置在上述人工植體本體之凹部的插入部、以及配置在該插入部後方所設之上述凹部外面的頭部，上述插入部，具有：磁石體、從前方及後方夾住該磁石體地配置之由軟磁性體所成的前端側插入構件及基端側插入構件、以及覆蓋上述磁石體側面的外殼構件。

本發明之第二態樣，為一種人工植體裝置，其特徵為，具有：上述磁場產生裝置、以及由以埋設在顎骨內的方式構成的非磁性體所成的人工植體本體；上述磁場產生裝置，構成為能夠與上述人工植體本體進行裝卸。

本發明之第三態樣，為一種人工植體保護用義 齒，係安裝在：已安裝有上述人工植體裝置的顎堤，其特徵為：具有覆蓋顎堤的義齒齒床、以及植入於該義齒齒床的人工齒，上述義齒齒床，具有以非接觸狀態收容上述人工植體裝置之從顎骨突出之部位的保護凹部，且於上述義齒齒床內，配置有感應來自上述磁場產生裝置之磁場的磁性構件。

上述磁場產生裝置，是藉由上述插入部所具有的磁石體、以及從前方及後方夾住該磁石體之由軟磁性體所成的前端側插入構件及基端側插入構件，構成為可於人工植體本體周圍形成磁場。藉此，推測可縮短骨整合所需的期間。

亦即，於整型外科領域中，據說可藉由磁場來對骨的成骨細胞施加磁性刺激，藉此可使受到磁性刺激之成骨細胞促進成長，得到成骨促進效果。期待著藉由使用上述磁場產生裝置，來得到與此同樣的效果。即，埋設有上述人工植體本體的部位周圍的顎骨，會因上述磁場產生裝置所形成之磁場而受到磁性刺激。受到磁性刺激的顎骨之成骨細胞，應可促進成長，並促進顎骨的成長。藉此，使用上述磁場產生裝置，期待可縮短骨整合所需的期間。

且，上述人工植體裝置，如上所述般，具備上 述磁場產生裝置以及上述人工植體本體，雙方構成為可互相裝卸。因此，骨整合結束後，可將上述磁場產生裝置從上述人工植體本體卸除，將形成上部構造之支台齒(Abutment)等連結於上述人工植體本體。亦即，可將上述人工植體本體作為一般人工植體來使用。

且，上述人工植體保護用義齒之上述義齒床，具有上述保護凹部以及上述磁性構件。

上述保護凹部，如上所述般，可以非接觸狀態收容上述人工植體裝置之從顎骨突出之部位。因此，可防止上述人工植體保護用義齒對上述人工植體裝置施加力。藉此，可穩定上述人工植體裝置的姿勢，使上述人工植體本體與顎骨之間的骨整合能夠更有效率地進行。

且，上述磁性構件，與上述磁場產生裝置磁性連接，並在周圍形成磁場。因此，透過磁性構件可使磁場更廣範圍地形成，並可對配置在上述人工植體本體周圍的顎骨施加更廣範圍的磁性刺激。藉此，期待著可有效率且有效果地促進顎骨的成長，並更加縮短骨整合所需的期間。

如上所述般，根據上述磁場產生裝置、及使用該裝置的上述人工植體裝置、以及上述人工植體保護用義齒，期待能促進顎骨成長並縮短骨整合所需的期間。

1‧‧‧人工植體裝置

2‧‧‧人工植體本體

3‧‧‧磁場產生裝置

6‧‧‧顎堤

26‧‧‧凹部

261‧‧‧母螺紋部

30‧‧‧磁石體

31‧‧‧插入部

333‧‧‧公螺紋部

35‧‧‧頭部

50‧‧‧人工植體保護用義齒

51‧‧‧義齒齒床

511‧‧‧頂部

512‧‧‧側壁部

513‧‧‧保護凹部

53‧‧‧人工齒

61‧‧‧顎骨

62‧‧‧齒肉

第1圖表示實施例1中之人工植體裝置以及人工植體保護用義齒的剖面圖。

第2圖表示實施例1中之人工植體本體的剖面圖。

第3圖表示實施例1中之磁場產生裝置的剖面圖。

第4圖表示實施例1中之磁場產生裝置的磁場分佈圖。

第5圖表示實施例2中之人工植體裝置以及人工植體保護用義齒的剖面圖。

第6圖表示實施例2中之磁場產生裝置的剖面圖。

第7圖表示參考例1中之人工植體裝置以及人工植體保護用義齒的剖面圖。

第8圖表示參考例1中之人工植體本體的剖面圖。

第9圖表示參考例1中之磁場產生裝置的剖面圖。

第10圖表示參考例2中之人工植體裝置以及人工植體保護用義齒的剖面圖。

第11圖表示參考例2中之構成磁場產生裝置之(a)磁石體的剖面圖、(b)保持件的剖面圖。

上述磁場產生裝置，亦可在上述磁場產生裝置安裝於上述人工植體本體的狀態下，形成為：具有插入於設置在上述人工植體本體之凹部內的插入部，藉由該插入部所具有的上述磁石體使磁迴路形成於上述插入部。此時，上述插入部是插入上述人工植體本體之上述凹部內， 故藉由上述磁石體於該插入部形成磁極，在上述人工植體本體的周圍形成磁場。藉由該磁場，對顎骨施加磁性刺激，可謀求顎骨的成長促進。

且，上述凹部，形成於上述人工植體本體之較為接近前端的位置為止，上述插入部較佳為配設在上述凹部之更靠前端側的位置為止。此時，可以形成更廣範圍的磁場。

且，所謂的磁性體，係可帶有磁性的物質，包含保磁力較小的軟磁性體，或是保磁力較大的硬磁性體等。例如，作為軟磁性體，可舉出軟磁性不鏽鋼等，作為硬磁性體，可舉出永久磁石等。

且，上述人工植體保護用義齒中，上述磁性構件，亦可為分散配置在上述義齒齒床內的磁性體粒子。此時，可將上述磁性體粒子廣範圍地分散配置在上述義齒齒床內。藉此，使上述磁場產生裝置與上述磁性體粒子磁性連接，於上述磁性體粒子周圍形成磁場。藉此，可對配置在上述人工植體本體周圍的顎骨施加更廣範圍的磁性刺激，可謀求更有效果的成骨促進。

〔實施例〕 (實施例1)

對於磁場產生裝置以及人工植體裝置的實施例，參考第1圖~第3圖予以說明。

如第1圖所示，磁場產生裝置3，是配置在人工植體本體2上，該人工植體本體2是由以埋設在顎骨61內之方式構成的非磁性體所成。磁場產生裝置3，具備產生磁性的磁石體30。且，磁場產生裝置3，構成為：能夠與人工植體本體2進行裝卸，並且在安裝狀態下，可在人工植體本體2的周圍形成磁場。

以下，更加詳細地予以說明。

如第1圖所示，本例之人工植體裝置1，係使用於：將用以使義齒(圖示省略)固定於顎堤6的人工植體本體2，埋設於顎骨61之後，使顎骨61與人工植體本體2藉由骨整合來結合的期間中。

如第1圖所示，人工植體裝置1，具有：人工植體本體2、以及配置成可與人工植體本體2進行裝卸的磁場產生裝置3。

如第2圖所示，人工植體本體2，是由鈦合金所成，該表面，是以微小的凹凸所形成之粗糙面所成。藉此，人工植體本體2與顎骨61可更牢固地結合。且，粗糙面可藉由珠粒噴擊或強酸蝕刻等各種方法來形成。且，亦可將羥基磷灰塗層施於人工植體本體2的外周表面。此時，可更加縮短骨整合所需之期間。人工植體本體2，呈有底圓筒形狀，該形狀具有：圓筒狀之人工植體筒部21、以及將人工植體筒部21之前端側開口部給封閉之人工植體底部22。

如第2圖所示，人工植體本體2的外周面，形 成有：具有螺紋峰之埋設螺紋部24、以及配置於埋設螺紋部24之基端側的人工植體鍔部25。

埋設螺紋部24，是從人工植體本體2之前端形成至基端部附近為止，人工植體鍔部25，是從埋設螺紋部24之基端側部位延伸設置至外周側。

如第2圖所示，人工植體本體2之人工植體筒部21的內周，形成有凹部26。凹部26，具有：具有螺紋峰之母螺紋部261、以及配置在比母螺紋部261更靠人工植體底部22側的插入配置部262。

母螺紋部261，是從人工植體筒部21之基端側開口部附近，在軸向上形成至人工植體筒部21的大致中央的位置為止。

插入配置部262，是呈內徑相同的圓筒面，形成於母螺紋部261與人工植體底部22之間。

如第1圖以及第3圖所示，配置成能夠與人工植體本體2的凹部26進行裝卸之磁場產生裝置3，具有：配置在凹部26內的插入部31、以及形成於插入部31之基端部的頭部35。

插入部31，具有：磁石體30、及配置成在軸向上夾住磁石體30的插入構件321和322、以及覆蓋磁石體30之側面的外殼構件301。

如第3圖所示，磁石體30，是由呈圓柱狀之永久磁石所成，並具有：配置在與磁石體30之軸向正交之方向，用以覆蓋側面的外殼構件301。且，磁石體30， 是在軸向上磁化，於磁石體30的軸向兩端，分別形成磁極。且，磁石體30的磁化方向，雖然亦可成為軸向以外的方向，但為軸向時，可形成更廣範圍的磁場。

外殼構件301，是成為內徑與磁石體30之外徑對應的圓筒狀，將磁石體30插入配置於該內周。

如第3圖所示，插入構件321、322，具有：配置在比磁石體30更靠前端側之前端側插入構件321、以及配置在比磁石體30更靠基端側之基端側插入構件322。

前端側插入構件321，是由軟磁性不鏽鋼所成，成為可插入配置於人工植體本體2之凹部26內的圓柱狀。

如第3圖所示，基端側插入構件322，是成為由軟磁性不鏽鋼所成之圓柱狀，並且其外周側面，構成為：形成有螺紋峰之基端側插入構件322，並能夠與凹部26之母螺紋部261螺合。

磁石體30以及插入構件321、322，是接合成為一體，在將磁場產生裝置3安裝於人工植體本體2時，構成為將磁石體30配置在人工植體筒部21之軸向上的大致中央位置。與磁石體30接合成為一體的插入構件321、322，藉由磁石體30磁化，分別於插入構件321、322形成磁極。藉此，如第4圖所示，從基端側插入構件322之側面部，朝向前端側插入構件321之側面部，將磁力線通過存在於插入部周圍的人工植體本體2以及顎骨61等，形成開口磁路。且，形成開口磁路之磁力線的方 向，亦可與上述之方向相反。

在本例中，插入部31，雖構成將磁石體30以及插入構件321、322接合成為一體，但磁石體30以及插入構件321、322之間只要有磁性連接即可。且，插入部31之磁極，如本例所示，可構成為插入構件321、322，亦可將插入部31之整體作成磁石體30，並藉由磁石體30構成磁極。

如第3圖所示，插入部31之基端側插入構件322的基端側，配置有頭部35。頭部35具有：由非磁性體所成之頭本體部351、以及配置在頭本體部351之周圍的齒肉抵接部37。

如第3圖所示，頭本體部351，大致呈圓柱狀，並具有：從基端部朝外周側延伸設置的頭鍔部352、以及從前端側端面突出形成之圓柱狀的頭連結部353。且，頭本體部351的基端側端面，是形成有從軸向上看時呈六角形，且可與六角扳手嵌合之嵌合孔36。

在頭連結部353的前端面，接合有上述插入部31之基端側插入構件322。

如第3圖所示，齒肉抵接部37，成為藉由鈦合金所形成之大致圓筒狀，且具有：大致圓筒狀之抵接本體部371、以及從抵接本體部371之內周面朝向內側延伸設置之圓環狀的內周鍔部372。

如第3圖所示，於抵接本體部371之基端側之開口部的內側中，從頭本體部351之頭鍔部352插入配置 前端側。且，如第1圖所示，抵接本體部371之前端側之開口部的內側，在與人工植體本體2連結時，插入配置有人工植體本體2的基端部。此時，抵接本體部371與人工植體本體2互相密接。

內周鍔部372，形成為：當齒肉抵接部37配置於頭本體部351時，成為與頭本體部351之前端側端面對應之位置。

將本例之人工植體裝置1埋設至顎堤6之手術順序如下：切開顎堤6的齒肉62形成孔部，並於顎骨61形成螺孔。然後，將人工植體本體2螺合植入顎骨的螺孔之後，將磁場產生裝置3的插入部31配設於人工植體本體2的凹部26。人工植體本體2與磁場產生裝置3，是藉由母螺紋部261與公螺紋部333螺合，可裝卸地固定。此時，人工植體本體2與磁場產生裝置3，兩者之間以無縫隙的方式密閉結合。

之後，使顎骨61成長為埋入於人工植體本體2表面上所形成的微小凹凸，藉此使顎骨61與人工植體本體2牢固地結合。此時，磁場產生裝置3的頭部35發揮癒合支台(Healing abutment)的作用，形成為不會堵塞齒肉62的孔部。

如第1圖所示，埋設了人工植體裝置1的顎堤6，在骨整合結束為止的期間，配置有人工植體保護用義齒50。

人工植體保護用義齒50，具有：覆蓋顎堤6的義齒 齒床51、以及植設於義齒齒床51的人工齒53。

如第1圖所示，義齒齒床51，具有：配置在顎堤6之上部的頂部511、以及從頂部511的兩端分別延伸設置出來的側壁部512。於義齒齒床51之頂部511的內面側，具有以非接觸狀態收容從顎骨6突出之人工植體裝置1之頭部35的保護凹部513。

顎骨61與人工植體本體2之間的骨整合結束，且雙方牢固地結合之後，將義齒固定構件(圖示省略)設置於人工植體本體2，藉此可將具有義齒側固定構件的義齒(圖示省略)固定於顎堤6。

其次，對本例中之作用效果進行說明。

於本例中，磁場產生裝置3如上所述，構成為可在人工植體本體2的周圍形成磁場。藉此，認為可縮短骨整合所需的期間。

亦即，於整型外科領域中，據說可藉由磁場來對骨的成骨細胞施加磁性刺激，藉此可使受到磁性刺激之成骨細胞促進成長，得到成骨促進效果。期待著藉由使用磁場產生裝置3，來得到與此同樣的效果。即，埋設有人工植體本體2的部位周圍的顎骨61，會因磁場產生裝置3所形成之磁場而受到磁性刺激。受到磁性刺激的顎骨61之成骨細胞，應可促進成長，並促進顎骨61的成長。藉此，使用磁場產生裝置3，期待可縮短骨整合所需的期間。

此外，人工植體裝置1，如上所述般，具備磁 場產生裝置3與人工植體本體2，雙方構成為可裝卸。因此，在骨整合結束之後，將磁場產生裝置3從人工植體本體2卸下，可將形成上部構造之支台齒等連結於人工植體本體2。亦即，人工植體本體2可作為一般人工植體來使用。

人工植體裝置1中，插入人工植體本體2之凹部26內的插入部31，具有：由軟磁性體所成之插入構件321和322、以及連接於插入構件321和322之磁石體30。因此，藉由磁石體30、以及由軟磁性體所成之插入構件321、322之磁性連接，可在插入部31的周圍形成磁場。插入部31，因插入人工植體本體2之凹部26內，故藉由插入部31，在人工植體本體2的周圍形成磁場，可謀求顎骨61的成長促進。

且，磁石體30內藏於插入部31。因此，可將永久磁石配置在更接近人工植體本體2與顎骨61之間的結合部位。藉此，確實地在顎骨61與人工植體本體2結合的部位形成磁場，可更有效果地謀求顎骨61的成長促進。

如上所述般，根據磁場產生裝置3、以及使用其之人工植體裝置1，期待能促進顎骨61的成長並縮短骨整合所需的期間。

(實施例2)

本例是將實施例1中之磁場產生裝置的構成予以變更 的例子。

如第5圖及第6圖所示，磁場產生裝置302，具有配置在人工植體本體2之凹部26內的插入部31。

如第6圖所示，插入部31，具有：由永久磁石所成之磁石體30、配置於磁石體30之外周的外殼構件301、配置於磁石體30之前端側的前端側插入構件321、以及配置在磁石體30之基端側的基端側插入構件322。並且，磁石體30、外殼構件301、以及前端側插入構件321為與實施例1所示者相同。

如第6圖所示，基端側插入構件322呈圓柱狀，配置在人工植體本體2的凹部26內。於基端側插入構件322的基端部，形成有圓板狀的蓋部331，於蓋部331的外周緣部，形成有朝向基端側插入構件322之前端側的外周筒部332。

基端側插入構件322，形成為：於外周側面形成有螺紋峰之公螺紋部333，並構成為可與在人工植體本體2之凹部26所形成的母螺紋部261進行螺合。

於蓋部331的基端側端面之大致中央位置，形成有嵌合孔36。

蓋部331的軸向尺寸，約為1mm，相較於實施例1的頭部35之軸向尺寸形成為較小。

其他構成與實施例1相同。

本例之人工植體裝置1，如上所述般，將基端側插入構件322之蓋部331的軸向尺寸設定成較小。因 此，可將人工植體裝置1之從顎骨61的突出量變小，且在埋設人工植體裝置1之後，可縫合齒肉62，將人工植體裝置1埋入顎堤6之內部。

此時，於骨整合之後期或結束後，於齒肉62形成孔部，將如實施例1所示之磁場產生裝置3或癒合基台配置在人工植體本體2，使其形成為不會堵塞齒肉62的孔部。

其他，可以取得與實施例1相同的作用效果。

(參考例1)

本例是將實施例1中之磁場產生裝置、人工植體裝置、以及人工植體保護用義齒的構成予以變更的例子。

如第7圖及第8圖所示，人工植體本體20，具有：圓筒狀的人工植體筒部21、以及配置成堵塞人工植體筒部21前端開口之圓柱狀的人工植體實心部23。人工植體本體20在其軸向上，基端側大約一半為藉由人工植體筒部21所構成，剩下的大約一半為藉由人工植體實心部23所構成。

由人工植體筒部21的內周所成之凹部26，在其內周面形成有螺紋峰成為母螺紋部261。

如第7圖及第9圖所示，磁場產生裝置303，具有：由軟磁性不鏽鋼所成之插入部31、以及與插入部31配置成一體的磁石構造體300。

插入部31，在成為由軟磁性不鏽鋼所成之圓柱狀之 同時，形成為：於其外周側面形成有螺紋峰之公螺紋部333，並構成為可與在人工植體本體20之凹部26所形成的母螺紋部261進行螺合。

於插入部31的基端部，磁石構造體300之覆蓋開口部的圓板狀之磁場產生裝置303為一體形成。

如第9圖所示，插入部31的基端側面，磁石構造體300被配置成一體。

磁石構造體300，具有：由永久磁石所成之磁石體30、配置在磁石體30之周圍的外殼39、以及配置在外殼39之開口端部的環構件6。

磁石體30大致呈圓柱狀，其外徑設定成與蓋部311相同。且，磁石體30，是在軸向上磁化，於磁石體30的軸向兩端，分別形成磁極。且，磁石體30的磁化方向，雖然亦可成為軸向以外的方向，但為軸向時，可形成更廣範圍的磁場。

如第9圖所示，外殼39是由非磁性不鏽鋼所成，具有：配置在磁石體30之上部的外殼上面部392、以及形成於磁石體30之外周的外殼圓筒部393。

外殼圓筒部393呈圓筒狀，從圓板狀的外殼上面部392之外周緣部朝向磁石體30側形成。外殼圓筒部393的軸向長度尺寸，設定成與磁石體30的軸向尺寸及蓋部311的尺寸之加總的長度尺寸大致相同。

如第9圖所示，環構件6大致呈圓環狀，配置在內包有磁石體30及蓋部311的外殼圓筒部393的開口 端部。環構件6在磁場產生裝置303及人工植體本體2之間，發揮有埋入兩者縫隙間的隔板效果。在本例中，環構件6與外殼39固定成一體，但兩者可不予以固定，各自分開亦可。

如第9圖所示。外殼39、磁石體30、以及插入部31，於外殼39之內側配置有磁石體30及蓋部311的狀態下，是將外殼39與蓋部311固定後配置。且，外殼39與蓋部311之固定，例如可以熔接或壓接來進行。

與磁石體30磁性連接的插入部31，藉由磁石體30磁化，於插入部31的軸向形成磁極。藉此，使磁力線，例如從磁石構造體300的基端側端面，朝向插入部31，並通過存在於插入部31周圍的人工植體本體2以及顎骨61等而形成開口磁路。

如第7圖所示，將磁場產生裝置303配置於人工植體本體2時，磁石體30，被配置在人工植體本體2的軸向上，比凹部26的開口部所形成之端部還要外側的位置，亦即與前端部相反側的位置。

如第7圖所示，配置於已埋設有人工植體裝置1的顎堤6的人工植體保護用義齒5，具有配置在義齒齒床51內部的磁性構件52，並以覆蓋配置人工植體裝置1之部位的顎堤6的方式形成。

義齒齒床51的頂部511的內面側，具有以非接觸狀態收容從顎骨6突出配置之人工植體裝置1之磁石構造體300的保護凹部513。

又，配置於義齒齒床51內的磁性構件52，具有：由彎曲形成的軟磁性不鏽鋼鋼板所成，且配置於人工植體裝置1之磁石構造體300的周圍，並且具有沿著保護凹部513的內周面形成為大致ㄈ字型剖面形狀的上方傳達部521、以及從上方傳達部521兩端沿著顎堤6延伸設置的側方傳達部522。

其他構成與實施例1相同。

在本例之磁場產生裝置303中，磁石構造體300之磁石體30，是被配置在人工植體本體2的軸向上，比凹部26的開口部所形成之端部還要外側的位置。因此，可將磁石體30配置在人工植體本體2的外側。藉此，磁石體30的大小，可比配置在人工植體本體2的內側時還要大。因此，可藉由磁場產生裝置303於廣範圍形成強力的磁場。另外本例中之磁場產生裝置303，因可使該構件之構成單純化，故可提高其生產性。

又，人工植體保護用義齒5的義齒齒床51，具有保護凹部513以及磁性構件52。

保護凹部513，如上所述般，可以非接觸狀態收容人工植體裝置1之從顎骨6突出之部位。因此，可防止人工植體保護用義齒5對人工植體裝置1施加力。藉此，可穩定人工植體裝置1的姿勢，使人工植體本體202與顎骨61之間的骨整合能夠更有效率地進行。

又，磁性構件52，與磁場產生裝置303磁性連接，在其周圍形成磁場。因此，透過磁性構件52，可 使磁場更廣範圍地形成，並可對配置在人工植體本體202之周圍的顎骨61施加更廣範圍的磁性刺激。藉此，期待著可有效率且有效果地促進顎骨61的成長，並更加縮短骨整合所需的期間。

其他，可以取得與實施例1相同的作用效果。

(參考例2)

本例是揭示將參考例1中之人工植體裝置以及人工植體保護用義齒的構成予以變更的例子。

如第10圖所示，人工植體裝置1，具有：與如參考例1所示者相同的人工植體本體20、以及配置在人工植體本體20之凹部26的磁場產生裝置304。

如第10圖及第11圖所示，磁場產生裝置304，具備：內藏有磁石體30的磁石構造體300、以及藉由磁石體30之磁力而吸附固定的保持件4。

如第11圖(a)所示，磁石構造體300，具有：由圓柱狀之永久磁石所成之磁石體30、將磁石體30內包之外殼39、以及配置在外殼39之外周側的套筒38。

外殼39，具有：有著有底圓筒狀之外殼本體部391、以及覆蓋外殼本體部391之開口端部的蓋體394。

如第11圖(a)所示，外殼本體部391，具有：由非磁性不鏽鋼所成且配置在磁石體30之上部的外殼上面部392、以及形成於外殼上面部392之外周緣部的外殼圓筒部393。外殼圓筒部393的軸向長度，設定成與 將磁石體30以及蓋部394重疊時的軸向長度大致相同。

蓋體394，具有由軟磁性不鏽鋼所成之圓板形狀，其外徑與外殼圓筒部393之內徑相對應。

磁石構造體300，是將磁石體30配置在外殼本體部391之內側，藉由將蓋體394壓設配置在外殼本體部391之開口端部之內側，構成為使磁石體30封入外殼39的內側。且，外殼39之配置有蓋體394之側的端面，成為藉由磁石體30之磁力吸附保持件4的吸附面。

如第11圖(a)所示，套筒38的整體形狀大致呈圓筒狀，且一方之開口端部是配置成覆蓋外殼本體部391之開口端部側之外周面。套筒38之另一方開口端部，形成為比外殼本體部391之開口端部還要突出，將磁石體30配置於保持件4時，於套筒內側形成可配置保持件4的保持件配置凹部381。

如第11圖(b)所示，保持件4，具有：由磁性體所成之保持件本體部41、以及配置於保持件本體部41之外周側的齒肉抵接部43。

保持件本體部41，具有：插入於人工植體本體20之凹部26內的插入部45、以及從顎堤6突出配置之頭部42。

如第11圖(b)所示，插入部45呈圓柱狀，且形成為：於外周側面形成有螺紋峰之公螺紋部451，並構成為可與凹部26之母螺紋部261進行螺合。

頭部42，具有：形成於插入部45的基端側，且與插 入部45形成為一體的頭本體部421、以及配置在頭本體部421外周的齒肉抵接部43。

如第11圖(b)所示，頭本體部421大致呈圓柱狀，且具有從基端部朝向外周側延伸設置的頭鍔部422。且，頭本體部421的基端側端面，是形成有從軸向上看時呈六角形，且可以六角扳手插入嵌合之嵌合孔44。且，頭本體部421的基端側端面，成為吸附磁石體30的被吸附面。

如第10圖所示，磁石構造體300與保持件4，是將保持件4的頭部42插入配置於磁石構造體300之保持件配置凹部381的內側，並藉由磁石體30所產生的磁力，使吸附面吸附於被吸附面，藉此互相固定。

如第10圖所示，配置於已埋設有人工植體裝置1的顎堤6的人工植體保護用義齒5的義齒齒床51，分散配置有磁性體粒子523作為磁性構件52。作為磁性體粒子523，例如可使用粉末狀之永久磁石或塑膠磁鐵等。

其他構成與實施例1相同。

本例之人工植體裝置1中，因磁石構造體300是藉由磁性吸附力吸附保持件4，故不需使用工具等即可容易地將磁石體30配置在指定的位置以及卸除。

且，骨整合結束之後，保持件4以及人工植體本體2，可直接作為義齒之固定來利用。該義齒具備產生磁性吸附力的義齒內磁石構造體，將該義齒內磁石構造體 吸附於保持件4來構成為可固定。

且，人工植體保護用義齒5中，磁性構件52是由分散配置在義齒齒床51內的磁性體粒子523所成。因此，可將磁性體粒子523廣範圍地分散配置在義齒齒床51內。藉此，磁場產生裝置304所形成之磁場，透過磁性體粒子523廣範圍地形成。藉此，可對顎骨61之更廣的範圍施加磁性刺激。

此外，本例所示之磁性體粒子，亦可使用粉末狀之永久磁石或塑膠磁鐵等。此時，在單獨使用人工植體保護用義齒的情況時，亦可於人工植體本體的周圍形成磁場，期待能夠有縮短骨整合所需期間的效果。且，與磁場產生裝置併用的話，可藉由永久磁石粉以及磁石體雙方來形成磁場，故可更廣範圍且確實地形成磁場。藉此，可更進一步期待縮短骨整合所需期間的效果。

其他，可以取得與實施例1相同的作用效果。

上述實施例1、2、參考例1、2中，作為磁石體，並不限制於使用永久磁石，亦可使用電磁石等磁性產生裝置。

且，插入部之一部分，是可由磁性體所形成，但以插入部之全體皆由磁性體所構成為佳。即，如實施例1以及實施例2所示般由軟磁性體以及磁石體所構成、或是如參考例1~參考例2所示般由軟磁性體所構成，以插入部之全體由磁石體所構成為佳。且，插入部之至少一部分以磁石體構成時，以如實施例1以及實施例2所示之插入部為 相同的構成為佳。此時，可更廣範圍地產生磁場，可進一步期待縮短骨整合所需的期間。

且，磁場產生裝置，亦可具有複數磁石體。例如亦可具有以下兩者：如實施例1以及實施例2所示之插入部所內藏的磁石體、以及如參考例1~參考例2之任一者所示之人工植體本體中，配置在比凹部的開口部所形成之端部還要外側的位置的磁石體。此時，可更廣範圍地產生強力磁場，進一步期待縮短骨整合所需的期間。

1‧‧‧人工植體裝置

2‧‧‧人工植體本體

3‧‧‧磁場產生裝置

6‧‧‧顎堤

26‧‧‧凹部

261‧‧‧母螺紋部

30‧‧‧磁石體

31‧‧‧插入部

333‧‧‧公螺紋部

35‧‧‧頭部

50‧‧‧人工植體保護用義齒

51‧‧‧義齒齒床

511‧‧‧頂部

512‧‧‧側壁部

513‧‧‧保護凹部

53‧‧‧人工齒

61‧‧‧顎骨

62‧‧‧齒肉

Claims (5)

1. 一種磁場產生裝置，係能夠裝卸於人工植體本體，其在骨整合(Osseointegration)期間中使用，且該人工植體本體是由以埋設在顎骨內之方式構成的非磁性體所成，其特徵為：以沿著上述人工植體本體的軸方向將朝向顎骨之內方側的方向作為前方、以其相反側作為後方，上述磁場產生裝置，具有：插入於設置在上述人工植體本體之凹部的插入部、以及配置在該插入部後方所設之上述凹部外面的頭部，上述插入部，具有：磁石體、從前方及後方夾住該磁石體地配置之由軟磁性體所成的前端側插入構件及基端側插入構件、以及覆蓋上述磁石體側面的外殼構件，在上述插入部插入上述凹部的狀態下，藉由上述磁石體與上述前端側插入構件及上述基端側插入構件，在上述人工植體本體的周圍形成磁場。
2. 如申請專利範圍第1項所述之磁場產生裝置，其中，上述前端側插入構件及上述基端側插入構件，是由軟磁性不鏽鋼所成。
3. 一種人工植體裝置，其特徵為，具有：申請專利範圍第1或2項中之任一項所述之磁場產生裝置、以及由以埋設在顎骨內之方式構成的非磁性體所成之人工植體本體；上述磁場產生裝置，構成為能夠與上述人工植體本體 進行裝卸。
4. 一種人工植體保護用義齒，係安裝在：已安裝有申請專利範圍第3項所述之人工植體裝置的顎堤，其特徵為：具有覆蓋顎堤的義齒齒床、以及植入於該義齒齒床的人工齒，上述義齒齒床，具有以非接觸狀態收容上述人工植體裝置之從顎骨突出之部位的保護凹部，且於上述義齒齒床內，配置有感應來自上述磁場產生裝置之磁場的磁性構件。
5. 如申請專利範圍第4項所述之人工植體保護用義齒，其中，上述磁性構件是由分散配置在上述義齒齒床內的磁性體粒子所成。