WO2013170494A1 - 液晶面板的制造方法以及液晶玻璃 - Google Patents

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Definitions

  • the present invention relates to the field of liquid crystal display, and more particularly to a method of fabricating a liquid crystal panel and a liquid crystal glass.
  • a light-sensitive monomer molecule (monomer)
  • LC liquid crystal
  • PI alignment layer
  • an auxiliary alignment polymer (polymer) is formed.
  • UV ultraviolet light
  • a UV mask to block the irradiation of ultraviolet light to prevent the liquid crystal molecules 8 in the visible area (Active area/AA area) from being exposed to ultraviolet light before the PSVA process ( This is the so-called pre-cured effect).
  • the visible area of the design area (Active area/AA area)
  • the boundary must be at a distance from the boundary of the UV Mask 7, otherwise the pre-tilt of the liquid crystal will be caused by the monomer molecules reacting in advance around the visible area.
  • Most of the visible region has different liquid crystal molecules, and there is a phenomenon of uneven mura around the visible region.
  • the liquid crystal molecules in the dotted frame are dumped in advance due to the action of ultraviolet light, resulting in In the subsequent PSVA process, the vertical alignment cannot be formed, resulting in unevenness of the picture at the periphery of the liquid crystal panel, which also affects the narrow frame of the liquid crystal display device.
  • the technical problem to be solved by the present invention is to provide a liquid crystal panel manufacturing method and liquid crystal glass which improve the display effect of the liquid crystal display device, increase the visible area of the liquid crystal panel.
  • a method for manufacturing a liquid crystal panel comprising: A: forming a embossing layer on the color film substrate by forming a stacked red color resist material layer, a green color resist material layer, and a blue color resist material layer at a position corresponding to the array substrate pad on the color filter substrate A step of;
  • a method for manufacturing a liquid crystal panel comprising:
  • A a step of forming a bump at a position corresponding to the array substrate pad on the color filter substrate;
  • forming the protrusion on the color filter substrate is to form a stacked color resist material layer at the position corresponding to the pad in the step of forming color resistance of the color filter substrate.
  • the stacked color resist material layer is formed by the step of forming a color resist on the color filter substrate to form a bump, so that it is not necessary to additionally add a new process step for forming the bump.
  • forming a stacked color resist material layer on the color filter substrate is formed by forming two layers of color resist material on the color film substrate corresponding to the position of the array substrate pad.
  • a stack of two layers of color resist material may be used to form the bumps.
  • the two layers of the color resist material are respectively a red color resist material layer and a blue color resist material layer; or the two layer color resist material layers are a green color resist material layer and a blue color resist material layer, respectively.
  • a corresponding combination of color resist material layers can be selected to facilitate the formation of color resist and the formation of bumps.
  • forming a stacked color resist material layer on the color filter substrate is formed by forming three layers of color resist material on the color film substrate corresponding to the position of the array substrate pad.
  • the three layers of color resist material layers are a red color resist material layer, a green color resist material layer and a blue color resist material layer, respectively.
  • the stacked bumps are formed using a layer of three primary color resist materials, thereby eliminating the need for additional processing steps.
  • the conductive layer is an ITO material layer.
  • the ITO material is transparent and does not affect the light transmittance of the liquid crystal panel.
  • forming the protrusion on the color filter substrate is to form a stacked black at the position corresponding to the pad in the step of forming the color resistance and the black matrix of the color filter substrate. Formed by a matrix material layer and a color resist material layer. According to the material layer fabrication process on the liquid crystal panel, it is also possible to use a stack of three layers of color resist material to form a bump.
  • a liquid crystal glass comprising an upper substrate and a lower substrate, wherein the lower substrate comprises a plurality of array substrate units, the upper substrate comprises a plurality of color film substrate units corresponding to the array substrate unit; and the lower substrate a pad is disposed at an edge of each of the array substrate units; the color filter substrate unit is provided with a protrusion corresponding to a position of the pad, and the color filter substrate unit is provided with a conductive layer, and the conductive layer is covered The protrusion, the conductive layer on the protrusion is in contact with the pad.
  • a protrusion is formed on a color filter substrate at a position corresponding to the array substrate pad, and a conductive layer is disposed on the protrusion, so that in the step of ultraviolet curing the sealant, the color film
  • the substrate and the array substrate are electrically connected to have the same electric potential, so that the pre-tilt angle of the liquid crystal molecules to be irradiated is prevented from being prematurely tilted due to ultraviolet light irradiation, thereby avoiding the pretilt angle of the liquid crystal molecules at the edge of the liquid crystal panel.
  • the range of the viewing zone is further expanded, that is, the effective display area of the liquid crystal panel is enlarged, so that the narrow frame of the liquid crystal display device can be more easily realized.
  • FIG. 1 is a schematic view showing a process step of curing a frame seal of a conventional liquid crystal panel
  • 2 is a schematic view showing the pre-tilt angle of peripheral liquid crystal molecules after the frame curing process of the conventional liquid crystal panel
  • FIG. 3 is a structural tube diagram of the edge of the liquid crystal panel in the frame curing step of the conventional liquid crystal panel
  • FIG. 4 is a circuit before the PSVA process.
  • FIG. 5 is a schematic view showing the pad exposed around the liquid crystal panel
  • FIG. 6 is a structural view of the structure of the edge of the liquid crystal panel in the frame curing step in the embodiment of the present invention
  • FIG. 7 is a schematic view of the curing step of the sealant in the embodiment of the present invention.
  • FIG. 8 is a schematic view showing the arrangement of liquid crystal molecules after the curing step of the sealant in the embodiment of the present invention.
  • FIG. 10 is another embodiment of forming a bump on a color filter substrate in an embodiment of the present invention
  • FIG. 11 is a flow chart showing the sequence of process steps included in the embodiment of the present invention.
  • UV mask 8 liquid crystal molecules, 30, bumps, 31, first color resist material layer, 32, second color resist material layer, 33, third color resist material layer.
  • FIG. 11 shows several steps included in the method for manufacturing a liquid crystal panel according to the present invention:
  • A a step of forming a protrusion at a position corresponding to the array substrate pad on the color filter substrate; B: a step of forming a conductive layer on the color filter substrate and covering the protrusion with the conductive layer; C: using the color filter substrate The step of pressing the array substrate to bring the conductive layer into contact with the pad; D: the step of curing the sealant with ultraviolet light; and the subsequent PSVA process step.
  • a pad 21 is disposed outside the sealant 15 at the edge of the array substrate 20.
  • the edge of the color filter substrate 10 needs to be cut to make the array substrate 20
  • the pads 21 are exposed so that voltage can be applied for line testing.
  • the color film substrate 10 is manufactured.
  • the step A and the step B described in the present invention are included, that is, a protrusion 30 is formed at a position of the edge of the color filter substrate to be cut corresponding to the array substrate pad 21, and is electrically conductive on the color filter substrate 10.
  • the layer 11 is formed in a step such that the conductive layer covers the bumps 30.
  • the step of contacting the conductive layer 11 with the pad 21 according to the present invention is included, thereby making the conductive layer on the pressed color filter substrate 10.
  • the liquid crystal panel edge is not present because the potential difference between the upper and lower color film substrates 10 and the array substrate 20 is not present.
  • the liquid crystal molecules 8 do not tilt to form a pretilt angle when exposed to ultraviolet light, but are naturally perpendicular to the surface of the alignment layer, so that even if visible
  • the mura can be greatly improved by directly irradiating the ultraviolet light to the area (AA area), and the distance between the visible area boundary and the ultraviolet boundary can be greatly shortened.
  • the PSVA mode liquid crystal display can be greatly shortened.
  • a narrow framed design will also be easier to achieve.
  • the process of forming the bumps 30 on the color filter substrate 10 can be performed in the color resist formation step of the color filter substrate, using successive steps of different color resist formation processes.
  • a stacked color resist material layer is formed on the color filter substrate to form the bumps 30.
  • the specific embodiment of the present invention may be that a first color resist material layer 31 is formed on the color filter substrate 10, and a second color resist material layer is formed when the second color resist material layer 32 is formed.
  • the formation region of 32 coincides with the first color resist material layer 31 at a position where a bump is to be formed, so that a bump is formed.
  • the present invention can also provide another specific implementation manner, in which a first color resist material layer 31 is formed on the color filter substrate 10, and a second color resist is formed when the second color resist material layer 32 is formed.
  • the formation region of the material layer 32 coincides with the first color resist material layer 31 at a position where the protrusion is to be formed, and at the same time, the third color resist material layer 33 is further formed at the overlap to finally form the bump 30; the first color resist material layer 31.
  • the second color resist material layer 32 and the third color resist material layer 33 may be a red color resist material layer and a green color resist material, respectively. Layer and blue color resist material layer.
  • the material layer forming process and the order on the color film substrate are: a black matrix, a color resist material (ie, a red, green, and blue color resist material layer) and an ITO layer. Therefore, the material layer on the color filter substrate is not limited to the color resist material, and thus may be formed in other material layer forming steps, or may be formed in various types of material layer forming steps, such as in a black matrix material layer and Forming protrusions in the forming step of the color resist material layer, or forming the black matrix, the color resist, and the PI layer at positions corresponding to the pads in the step of forming the material layers together with the PI layer, thereby forming bumps .

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Abstract

一种液晶面板的制造方法以及液晶玻璃，包括：A：在彩膜基板（10）对应于阵列基板（20）焊盘（21）的位置形成凸起（30）的步骤；B：在彩膜基板（10）上形成导电层（11），并使导电层（11）覆盖所述凸起（30）的步骤；C：将彩膜基板（10）与阵列基板（20）压合使所述导电层（11）与所述焊盘（21）接触的步骤；D：使用紫外光固化框胶（15）的步骤。由于在液晶面板的制造方法中在彩膜基板（10）上对应于阵列基板（20）焊盘（21）的位置处形成凸起（30），并在凸起（30）上设置导电层（11），使得彩膜基板（10）与阵列基板（20）导通而具有相同的电位，液晶面板边缘的液晶分子紫外光照射时液晶面板的边缘处不会发生液晶分子提前倾倒，从而使得液晶面板边缘处的显示效果均匀，扩大了液晶面板的有效显示区域，使得液晶显示装置的窄边框化更容易实现。

Description

液晶面板的制造方法以及液晶玻璃
【技术领域】
本发明涉及液晶显示领域， 更具体的说， 涉及一种液晶面板的制造方法以 及液晶玻璃。
【背景技术】
在液晶显示装置的 PSVA ( Polymer Stabilized Vertical Aligment, 聚合物稳 定型垂直配向技术）制程需要在液晶 （LC ) 中或是配向层（PI )表面加入对光 线敏感的单体分子（ monomer )以在后续的 PS VA制程中反应形成辅助配向的聚 合物 （polymer ), 如图 1所示， 在 PSVA制程前的 SUV (框胶紫外光固化）制 程中， 使用紫外光（UV ) 照射框胶 15 ( sealant ) 时， 需要使用一个紫外光掩膜 7 ( UV Mask )去阻挡紫外光的照射以避免可视区 (Active area/AA区）的液晶分子 8在 PSVA制程之前受到紫外光的照射而提前作用 （此即所谓的 pre-cured作用）， 由于还必须要考虑斜向光的作用以及紫外光掩膜 7 ( UV Mask )的制作或对位精 度等，因此设计时可视区 (Active area/AA区）的边界必须要距离紫外光掩膜 7( UV Mask ) 的边界一段距离， 否则在可视区周围会因单体分子提前反应而使得液晶 预倾角（pre-tilt)与大部分可视区的液晶分子不同， 可视区周边有画面不均匀 ( around mura ) 的现象发生， 即如图 2所示， 虚线框中的液晶分子由于受到紫 外光的作用而提前倾倒， 致使在后续的 PSVA制程中不能形成垂直配向， 从而 造成液晶面板周边处的画面不均匀， 这样也影响到液晶显示装置的窄边框化。
【发明内容】
本发明所要解决的技术问题是提供一种提高液晶显示装置的显示效果， 增 大液晶面板可视区的液晶面板的制造方法以及液晶玻璃。
本发明的目的是通过以下技术方案来实现的： 1、一种液晶面板的制造方法， 包括： A: 在彩膜基板上形色阻材料层时， 在彩膜基板对应于阵列基板焊盘的位置 通过形成堆叠的红色色阻材料层、 绿色色阻材料层以及蓝色色阻材料层形成凸 起的步骤；
B: 在彩膜基板上形成导电层， 并使导电层覆盖所述凸起的步骤；
C: 将彩膜基板与阵列基板压合使所述导电层与所述焊盘接触的步骤；
D: 使用紫外光固化框胶的步骤。
本发明的目的还可以通过以下技术方案来实现： 一种液晶面板的制造方法， 包括：
A: 在彩膜基板对应于阵列基板焊盘的位置形成凸起的步骤；
B: 在彩膜基板上形成导电层， 并使导电层覆盖所述凸起的步骤；
C: 将彩膜基板与阵列基板压合使所述导电层与所述焊盘接触的步骤；
D: 使用紫外光固化框胶的步骤。
优选的， 所述步骤 A中， 在彩膜基板上形成所述凸起是在所述彩膜基板形 成色阻的步骤中通过在所述与焊盘对应的位置上形成堆叠的色阻材料层形成 的。 利用在彩膜基板上形成色阻的步骤形成堆叠的色阻材料层形成凸起， 从而 不需要另外为了形成凸起而增加新的工艺步骤。
优选的， 所述步骤 A中， 在彩膜基板上形成堆叠的色阻材料层是通过在所 述彩膜基板上对应所述阵列基板焊盘的位置形成两层色阻材料层形成的。 根据 色阻材料的厚度， 加上导电层的厚度， 可以使用两层色阻材料层堆叠形成凸起。 或两层色阻材料层分别为红色色阻材料层与蓝色色阻材料层； 或两层色阻材料 层分别为绿色色阻材料层与蓝色色阻材料层。 根据色阻材料层的形成先后工艺， 可以选择相应的色阻材料层组合， 以方便色阻的形成以及凸起的形成。
优选的， 所述步骤 A中， 在彩膜基板上形成堆叠的色阻材料层是通过在彩 膜基板上对应所述阵列基板焊盘的位置形成三层色阻材料层形成的。 根据不同 液晶面板的厚度， 也可以利用三层色阻材料层堆叠形成凸起。 优选的， 所述三层色阻材料层分别为红色色阻材料层、 绿色色阻材料层以 及蓝色色阻材料层。 利用三原色色阻材料层形成堆叠的凸起， 从而不需要增加 额外的工艺步骤。
优选的， 所述步骤 B中， 所述导电层为 ITO材料层。 ITO材料透明， 不影 响液晶面板的透光性。
优选的， 所述步骤 A中， 在彩膜基板上形成所述凸起是在所述彩膜基板形 成色阻以及黑矩阵的步骤中通过在所述与焊盘对应的位置上形成堆叠的黑矩阵 材料层以及色阻材料层形成的。 根据液晶面板上的材料层制作工艺， 也可以利 用三层色阻材料层堆叠写成凸起。
一种液晶玻璃， 包括上层基板以及下层基板， 所述下层基板包括有多个阵 列基板单元， 所述上层基板包括有多个与所述阵列基板单元对应的彩膜基板单 元； 所述下层基板上的每个阵列基板单元的边缘处设置有焊盘； 所述彩膜基板 单元对应于所述焊盘的位置设置有凸起， 所述彩膜基板单元上设置有导电层， 所述导电层覆盖所述凸起， 所述凸起上的导电层与所述焊盘接触。
本发明由于在液晶面板的制造方法中在彩膜基板上对应于阵列基板焊盘的 位置处形成凸起， 并在凸起上设置导电层， 使得在紫外光固化框胶的步骤中， 彩膜基板与阵列基板导通而具有相同的电位， 这样就避免了由于紫外光照射下 使得被照射的液晶分子发生提前倾倒形成预倾角， 也就避免了在液晶面板的边 缘处由于液晶分子具有预倾角而造成边缘处画面不均勾的现象； 也就是说， 液 晶面板边缘的液晶分子紫外光照射时液晶面板的边缘处不会发生液晶分子提前 倾倒， 从而使得液晶面板边缘处的显示效果均匀， 可视区的范围进一步扩大， 也就是扩大了液晶面板的有效显示区域， 使得液晶显示装置的窄边框化可以更 容易实现。
【附图说明】
图 1是现有液晶面板的框胶固化工艺步骤示意图， 图 2是现有液晶面板的框架固化工艺后周边液晶分子形成预倾角示意图， 图 3是现有液晶面板在框架固化步骤中液晶面板边缘处的结构筒图， 图 4是在 PSVA制程前的电路测试中切割彩膜基板边缘厚棵露出焊盘的结 构示意图，
图 5是液晶面板周边的焊盘棵露示意图，
图 6是本发明实施例中在框架固化步骤中液晶面板边缘处的结构筒图， 图 7是本发明实施例中框胶固化步骤的示意图，
图 8是本发明实施例中框胶固化步骤后液晶分子的排布示意图，
图 9是本发明实施例中在彩膜基板上形成凸起的一种实施方式，
图 10是本发明实施例中在彩膜基板上形成凸起的另一种实施方式， 图 11是本发明实施例中所包含的工艺步骤的先后顺序流程图。
其中： 10、 彩膜基板， 20、 阵列基板， 21、 焊盘， 11、 导电层， 15、 框胶，
7、 紫外光掩膜， 8、 液晶分子， 30、 凸起， 31、 第一色阻材料层， 32、 第二色 阻材料层， 33、 第三色阻材料层。
【具体实施方式】
下面结合附图和较佳的实施例对本发明作进一步说明。
如图 11所示为本发明所述的液晶面板的制造方法所包含的几个步骤：
A: 在彩膜基板对应于阵列基板焊盘的位置形成凸起的步骤； B: 在彩膜基 板上形成导电层， 并使导电层覆盖所述凸起的步骤； C: 将彩膜基板与阵列基板 压合使所述导电层与所述焊盘接触的步骤； D: 使用紫外光固化框胶的步骤； 以 及后续的 PSVA制程步骤。
如图 3-5所示， 在框胶 15外、 阵列基板 20的边缘处设置有焊盘 21 , 在液 晶面板的 PSVA制程之前，需要对彩膜基板 10的边缘进行切割以使阵列基板 20 上的焊盘 21棵露出来， 从而可以施加电压进行线路测试。
如图 6所示， 在对彩膜基板 10的边缘进行切割之前， 在彩膜基板 10的制 造工艺中， 包括本发明所述的步骤 A以及步骤 B, 即在彩膜基板的待切割边缘 对应于阵列基板焊盘 21的位置处形成一凸起 30, 并在该彩膜基板 10的导电层 11形成步骤中使导电层覆盖凸起 30。 在之后的将彩膜基板 10与阵列基板 20压 合的步骤中， 包括本发明所述的使导电层 11与焊盘 21接触的步骤， 从而使压 合后的彩膜基板 10上的导电层 11与阵列基板 20上的焊盘 21之间具有相同的 电位， 而焊盘 21与阵列基板 20上的线路是连接的， 从而使上下对置的彩膜基 板 10与阵列基板 20间不存在电位差。 如图 7及图 8所示， 在本发明所述的步 骤 D即紫外光固化框胶的步骤中， 由于上下对置的彩膜基板 10与阵列基板 20 间不存在电位差，则液晶面板边缘处的液晶分子 8 (图中虚线框内的液晶分子 8 ) 在受到紫外光照射时就不会发生倾倒形成预倾角， 而是会自然的相对于配向层 表面垂直， 这样一来， 即使可视区（AA区）周边直接照射到紫外光其所造成之 画面不均匀的现象 (mura)也可以大幅改善，可视区边界与紫外边界之距离也可以 大幅缩短， 此外， PSVA模式的液晶显示器之窄边框化设计亦会更容易达成。
如图 9所示， 在本发明所述的步骤 A中， 在彩膜基板基板 10上形成凸起 30的工艺可以在彩膜基板的色阻形成步骤中， 利用不同色阻形成工艺的先后步 骤在彩膜基板上形成堆叠的色阻材料层， 从而形成凸起 30。 如图 9所示， 本发 明可提供的具体实施方式可以是在彩膜基板 10上形成第一色阻材料层 31 ,并在 形成第二色阻材料层 32的时候使第二色阻材料层 32的形成区域在要形成凸起 的位置与第一色阻材料层 31重合， 故而形成凸起。 第一色阻材料层 31以及第 材料层与蓝色色阻材料层； 或是绿色色阻材料层与蓝色色阻材料层。
如图 10所示， 本发明还可以提供另一种具体实施方式， 在彩膜基板 10上 形成第一色阻材料层 31 ,并在形成第二色阻材料层 32的时候使第二色阻材料层 32的形成区域在要形成凸起的位置与第一色阻材料层 31重合，同时再在重合处 再形成第三色阻材料层 33而最终形成凸起 30; 第一色阻材料层 31、 第二色阻 材料层 32以及第三色阻材料层 33分别可以是红色色阻材料层、 绿色色阻材料 层以及蓝色色阻材料层。
另外， 彩膜基板上的材料层形成制程及顺序分别是： 黑矩阵， 色阻材料（即 红色、 绿色以及蓝色色阻材料层） 以及 ITO层。 因此， 彩膜基板上的材料层并 不限于色阻材料， 因此也可以在其他材料层形成步骤中形成， 也可以在多种类 型的材料层形成步骤中形成， 如可以在黑矩阵材料层以及色阻材料层的形成步 骤中形成凸起， 或是这些材料层与 PI层共同形成的步骤中使黑矩阵、 色阻以及 PI层在对应于焊盘的位置处重合， 从而也可以形成凸起。
以上内容是结合具体的优选实施方式对本发明所作的进一步详细说明， 不 能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。 对于本发明所属技术领域的普通 技术人员来说， 在不脱离本发明构思的前提下， 还可以做出若干筒单推演或替 换， 都应当视为属于本发明的保护范围。

Claims

权利要求
1、 一种液晶面板的制造方法， 包括：
A: 在彩膜基板上形色阻材料层时， 在彩膜基板对应于阵列基板焊盘的位置 通过形成堆叠的红色色阻材料层、 绿色色阻材料层以及蓝色色阻材料层形成凸 起的步骤；
B: 在彩膜基板上形成导电层， 并使导电层覆盖所述凸起的步骤；
C: 将彩膜基板与阵列基板压合使所述导电层与所述焊盘接触的步骤；
D: 使用紫外光固化框胶的步骤。
2、 一种液晶面板的制造方法， 包括：
A: 在彩膜基板对应于阵列基板焊盘的位置形成凸起的步骤；
B: 在彩膜基板上形成导电层， 并使导电层覆盖所述凸起的步骤；
C: 将彩膜基板与阵列基板压合使所述导电层与所述焊盘接触的步骤；
D: 使用紫外光固化框胶的步骤。
3、 如权利要求 2所述的一种液晶面板的制造方法， 其中， 所述步骤 A中， 在彩膜基板上形成所述凸起是在所述彩膜基板形成色阻的步骤中通过在所述与 焊盘对应的位置上形成堆叠的色阻材料层形成的。
4、 如权利要求 3所述的一种液晶面板的制造方法， 其中， 所述步骤 A中， 在彩膜基板上形成堆叠的色阻材料层是通过在所述彩膜基板上对应所述阵列基 板焊盘的位置形成两层色阻材料层形成的。
5、 如权利要求 4所述的一种液晶面板的制造方法， 其中， 所述两层色阻材 料层分别为红色色阻材料层与绿色色阻材料层； 或两层色阻材料层分别为红色 色阻材料层与蓝色色阻材料层； 或两层色阻材料层分别为绿色色阻材料层与蓝 色色阻材料层。
6、 如权利要求 3所述的一种液晶面板的制造方法， 其中， 所述步骤 A中， 在彩膜基板上形成堆叠的色阻材料层是通过在彩膜基板上对应所述阵列基板焊 盘的位置形成三层色阻材料层形成的。
7、 如权利要求 6所述的一种液晶面板的制造方法， 其中， 所述三层色阻材 料层分别为红色色阻材料层、 绿色色阻材料层以及蓝色色阻材料层。
8、 如权利要求 2所述的一种液晶面板的制造方法， 其中， 所述步骤 B中， 所述导电层为 ITO材料层。
9、 如权利要求 2所述的一种液晶面板的制造方法， 其中， 所述步骤 A中， 在彩膜基板上形成所述凸起是在所述彩膜基板形成色阻以及黑矩阵的步骤中通 过在所述与焊盘对应的位置上形成堆叠的黑矩阵材料层以及色阻材料层形成 的。
10、 一种液晶玻璃， 包括上层基板以及下层基板， 所述下层基板包括有多 个阵列基板单元， 所述上层基板包括有多个与所述阵列基板单元对应的彩膜基 板单元； 所述下层基板上的每个阵列基板单元的边缘处设置有焊盘； 其中， 所 述彩膜基板单元对应于所述焊盘的位置设置有凸起， 所述彩膜基板单元上设置 有导电层， 所述导电层覆盖所述凸起， 所述凸起上的导电层与所述焊盘接触。
11、 如权利要求 10所述的一种液晶玻璃， 其中， 所述凸起是由堆叠的色阻 材料层形成的。
12、 如权利要求 11所述的一种液晶玻璃， 其中， 所述凸起是由两层色阻材 料层堆叠形成的。
13、 如权利要求 12所述的一种液晶玻璃， 其中， 所述两层色阻材料层分别 为红色色阻材料层与绿色色阻材料层； 或两层色阻材料层分别为红色色阻材料 层与蓝色色阻材料层； 或两层色阻材料层分别为绿色色阻材料层与蓝色色阻材 料层。
14、 如权利要求 11所述的一种液晶玻璃， 其中， 所述凸起是由三层色阻材 料层堆叠形成的。
15、 如权利要求 14所述的一种液晶玻璃， 其中， 所述三层色阻材料层分别 为红色色阻材料层、 绿色色阻材料层以及蓝色色阻材料层。 、如权利要求 10所述的一种液晶玻璃，其中，所述导电层为 ΉΟ材料层 (
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