WO2019021896A1

WO2019021896A1 - 液晶表示装置

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Publication number: WO2019021896A1
Application number: PCT/JP2018/026798
Authority: WO
Inventors: 淳也鈴木; 小山　健二; 亮輔高橋; 誉章深山
Original assignee: シャープ株式会社
Priority date: 2017-07-25
Filing date: 2018-07-18
Publication date: 2019-01-31

Abstract

本発明は、配向膜の形成位置及びセル厚が適切に制御された液晶表示装置を提供する。本発明の液晶表示装置は、第１基板と、上記第１基板に対向して配置された第２基板と、上記第１基板及び上記第２基板の間に挟持された液晶層と、を備え、上記第１基板は、絶縁基板と、上記絶縁基板の上記液晶層側に配置された配向膜と、上記絶縁基板の上記液晶層側に配置され、かつ、平面視において、表示領域の周囲を取り囲むように延設された堰き止め部と、を有し、上記堰き止め部は、互いに積層された複数の堰き止め層を有し、上記複数の堰き止め層は、各々、隣り合う堰き止め層に接する。

Description

液晶表示装置

本発明は、液晶表示装置に関する。より詳しくは、配向膜を有する液晶表示装置に関する。

液晶表示装置は、液晶表示パネルを備え、複屈折性を有する液晶分子の配向を制御することにより光の透過／遮断（表示のオン／オフ）を制御する機器である。液晶表示装置において、電圧が印加されていない状態における液晶分子の配向は、配向膜によって制御されるのが一般的である。

配向膜を備えた液晶表示装置として、例えば、特許文献１には、第１面を有する第１基板、上記第１基板の上記第１面と対向する第２面を有する第２基板、上記第１基板と上記第２基板との間に配置される液晶層、及び、上記液晶層の周囲に配置され、上記第１基板と上記第２基板との間に設けられたシール部を有し、上記シール部は、平面視において、上記液晶層の周囲に配置され、上記液晶層の外縁に沿って延びる第１部材と、平面視において、上記第１部材の両隣に配置され、上記液晶層の周囲を連続的に囲むシール材と、を備え、上記第１基板は、上記液晶層と接する界面である上記第１面に形成される配向膜を有し、上記シール材の一部は、上記第１部材の上記液晶層側において、上記配向膜の周縁部と厚さ方向に重なる、液晶表示装置が開示されている。

特開２０１６－９１８１号公報

液晶表示装置では、液晶分子を有する液晶層が一対の基板の間に形成され、液晶層の周囲において一対の基板がシール材により接着されることにより、液晶層が保持されている。

また、液晶表示装置において、液晶分子の配向を制御する配向膜は、例えばポリイミド樹脂等の樹脂材料を溶剤に溶かした流動性の高い液体状の液晶配向剤（ワニス）を基板上にインクジェット法等により塗布した後、加熱して溶剤の除去と樹脂材料の焼成を行って形成されることが多い。このため、液晶表示装置の一対の基板上の表示領域に配向膜を形成する場合、基板上で液晶配向剤が広がるため、配向膜が表示領域の周囲（外側）まで広がり易い。

表示領域の周囲、すなわち非表示領域（額縁領域ともいう）に広いスペースを確保することができる場合には、表示領域とシール材との距離を充分に大きくすることで、配向膜とシール材とが重ならないようにすることができる。しかしながら、額縁領域の狭い狭額縁の液晶表示装置では、表示領域とシール材との距離を充分に大きくすることが困難となる。このため、配向膜が広がり過ぎると、基板とシール材との間に配向膜が挟まる構造となり、一対の基板の接着力が低下し、液晶表示装置の信頼性が低下する場合がある。一般的にシール材は、基板に比べて配向膜に対する接着力が劣るためである。

このような配向膜の広がりを抑制するために、配向膜の広がりを堰き止める部材を額縁領域に設ける方法がある。上記特許文献１の液晶表示装置は、配向膜が周縁部に広がってしまうことを抑制する機能を備える堰き止め用部材ＦＳを有する。この堰き止め用部材ＦＳは、一対の基板間の離間距離を保つスペーサ部材（メインスペーサともいう）と同じ材料から形成されており、スペーサ部材を形成する際に、堰き止め用部材ＦＳも一括して形成することができる。

ここで、比較形態１の液晶表示装置を用いて、メインスペーサの高さと、液晶配向剤の広がりを堰き止める機能を有する堰き止め部と、の関係を検討する。通常、液晶表示装置は、液晶配向剤を塗布して配向膜を形成した一対の基板の一方にシール材を塗布し、上記シール材に囲まれた領域内に液晶層を形成した後、上記一対の基板を上記シール材により貼り合わせることにより製造される。ここでは、基板上に液晶配向剤を塗布する工程について検討する。

図１４は、比較形態１の液晶表示装置の第１基板製造工程における、液晶配向剤塗布時の堰き止め部周辺の断面模式図である。図１４に示すように、比較形態１の液晶表示装置の第１基板１０Ｒはカラーフィルタ層が設けられたカラーフィルタ基板であり、絶縁基板１１Ｒに積層されたブラックマトリクス層１３Ｒ上に、堰き止め部４０Ｒが形成されている。堰き止め部４０Ｒは、液晶配向剤１５ＰＲを塗布する際に、液晶配向剤１５ＰＲが所定の位置に収まるよう液晶配向剤１５ＰＲを堰き止める機能を有する。

また、比較形態１の液晶表示装置の第２基板は、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Ｔｈｉｎ　Ｆｉｌｍ　Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）を有するＴＦＴ基板であり、第２基板側にはバンプが設置されており、平面視において、上記バンプはメインスペーサと同じ位置に設けられ、メインスペーサと同様にセル厚を適切に保つ役割を果たすものである。そのため、比較形態１の液晶表示装置が備えるメインスペーサの高さは、バンプが設置されていない液晶表示装置におけるメインスペーサの高さよりも低い。

比較形態１の液晶表示装置は、メインスペーサの高さが低いため、メインスペーサと共に一括して形成される堰き止め部４０Ｒの高さも低い。その結果、図１４に示すように、液晶配向剤１５ＰＲの膜厚（例えば、～３μｍ）が、堰き止め部４０Ｒの膜厚（例えば、２μｍ）より大きくなり、液晶配向剤１５ＰＲの広がりを堰き止め部４０Ｒで止めきれず、配向膜が形成される位置を制御することができない場合がある。この場合、液晶配向剤１５ＰＲ、堰き止め部４０Ｒの表示領域と反対側に配置されたシール部まで広がり、上述のように液晶表示装置の信頼性が低下するおそれがある。また、この点に鑑みて堰き止め部４０Ｒをシール部から離す、すなわち表示領域に近づけると、堰き止め部４０Ｒでの液晶配向剤１５ＰＲの跳ね返りによる配向膜の膜厚ムラが表示領域内で発生するおそれがある。したがって、配向膜の形成位置を適切に制御することが重要となってくる。

また、上記特許文献１では、堰き止め用部材ＦＳにより、配向膜が周縁部に広がってしまうことを抑制しており、堰き止め用部材ＦＳと厚さ方向に重なる位置に、更に、カラーフィルタと同じ材料から部材ＬＡを形成することにより、堰き止め用部材ＦＳを形成する位置における樹脂層ＯＣ１の高さを調整している。しかしながら、堰き止め用部材ＦＳと部材ＬＡとの間には樹脂層ＯＣ１が存在するため、樹脂層ＯＣ１の平坦化作用により、堰き止め用部材ＦＳを充分には高くすることができず、配向膜を堰き止めきれないおそれがある。

ここで、複数色のカラーフィルタ材料を用いて部材ＬＡを積層構造とし、堰き止め用部材ＦＳを更に高くすることも考えられる。このようにして堰き止め用部材ＦＳを高くすればするほど、配向膜を堰き止め易くはなるが、あまりに高すぎると周縁部にセル厚ムラが発生するおそれがある。

本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、配向膜の形成位置及びセル厚が適切に制御された液晶表示装置を提供することを目的とするものである。

本発明者らは、配向膜の形成位置及びセル厚が適切に制御された液晶表示装置について種々検討したところ、上記特許文献１では、部材ＬＡが平坦化作用を有する樹脂層ＯＣ１により覆われているため、例え部材ＬＡを積層構造としたとしても、液晶配向剤は部材ＬＡの形成領域において樹脂層ＯＣ１上を容易に広がることができるため、配向膜の堰き止め効果は、堰き止め用部材ＦＳの高さのみに依存することを見いだした。そして、更に検討した結果、互いに積層された複数の堰き止め層を有する堰き止め部を用い、各堰き止め層が隣り合う堰き止め層に接することにより、各堰き止め層の段差部に急峻な壁を形成することができるため、堰き止め部全体の高さによる液晶配向剤の堰き止め効果に加えて、各堰き止め層の段差部において表面張力により液晶配向剤を堰き止めることができ、堰き止め部全体の高さを、液晶配向剤の堰き止めに必要なある程度の高さに抑えつつ、堰き止め部全体の高さと各堰き止め層の段差部での表面張力とにより液晶配向剤をより効果的に堰き止めることができることを見出した。これにより、上記課題をみごとに解決することができることに想到し、本発明に到達した。

すなわち、本発明の一態様は、第１基板と、上記第１基板に対向して配置された第２基板と、上記第１基板及び上記第２基板の間に挟持された液晶層と、を備え、上記第１基板は、絶縁基板と、上記絶縁基板の上記液晶層側に配置された配向膜と、上記絶縁基板の上記液晶層側に配置され、かつ、平面視において、表示領域の周囲を取り囲むように延設された堰き止め部と、を有し、上記堰き止め部は、互いに積層された複数の堰き止め層を有し、上記複数の堰き止め層は、各々、隣り合う堰き止め層に接する液晶表示装置であってもよい。

上記第１基板は、上記絶縁基板と上記配向膜との間に配置されたオーバーコート層を更に有し、上記オーバーコート層は、平面視において、上記堰き止め部が設けられる領域以外の領域に設けられてもよい。

上記堰き止め部は、上記表示領域側に、上記複数の堰き止め層によって構成された階段構造を有してもよい。

上記複数の堰き止め層のうちの少なくとも１層は、カラーフィルタ材料から構成されてもよい。

上記複数の堰き止め層のうちの１層は、スペーサ材料から構成されてもよい。

上記第１基板は、上記堰き止め部を複数有し、上記複数の堰き止め部は、各々、隣り合う堰き止め部に沿って配置されてもよい。

上記第１基板及び上記第２基板に接し、かつ、平面視において、上記表示領域の周囲を取り囲むように延設されたシール部を更に備え、平面視において、上記堰き止め部は、上記シール部の上記表示領域側に配置されてもよい。

本発明によれば、配向膜の形成位置及びセル厚が適切に制御された液晶表示装置を提供することができる。

実施形態１の液晶表示装置に関する図であり、（ａ）は全体の平面模式図であり、（ｂ）は角部の平面模式図である。実施形態１の液晶表示装置の断面模式図である。実施形態１の液晶表示装置の表示領域における断面模式図である。実施形態１の液晶表示装置の額縁領域における断面模式図である。実施形態１の液晶表示装置の第１基板製造工程における、液晶配向剤塗布時の堰き止め部周辺の断面模式図である。実施形態１の液晶表示装置の角部の平面模式図である。実施形態２の液晶表示装置の堰き止め部周辺の平面模式図である。実施形態２の液晶表示装置の第１基板製造工程における、液晶配向剤塗布時の堰き止め部周辺の断面模式図であり、（ａ）は堰き止め部の両側に切り欠き部が１つずつ形成される場合の断面模式図であり、（ｂ）は堰き止め部の両側に切り欠き部が２つずつ形成される場合の断面模式図である。実施形態３の液晶表示装置全体の平面模式図である。実施形態３の液晶表示装置の堰き止め部周辺の断面模式図である。実施形態３の変形例１の液晶表示装置における、堰き止め部の断面模式図である。実施形態３の変形例２の液晶表示装置における、堰き止め部の断面模式図である。実施形態３の変形例３の液晶表示装置における、堰き止め部の断面模式図である。比較形態１の液晶表示装置の第１基板製造工程における、液晶配向剤塗布時の堰き止め部周辺の断面模式図である。比較形態２の液晶表示装置における、堰き止め部周辺の断面模式図である。

以下に実施形態を掲げ、本発明について図面を参照して更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施形態のみに限定されるものではない。また、各実施形態の構成は、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜組み合わされてもよいし、変更されてもよい。

液晶表示装置の表示（液晶配向）モードとしては、正の誘電率異方性を有する液晶分子を基板法線方向から見たときに９０°捩れた状態で配向させるＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ　Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、負の誘電率異方性を有する液晶分子を基板面に対して垂直配向させる垂直配向（ＶＡ：Ｖｅｒｔｉｃａｌ　Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モードの他、広視野角特性を得やすい等の理由から、正又は負の誘電率異方性を有する液晶分子を基板面に対して水平配向させて液晶層に対し横電界を印加する面内スイッチング（ＩＰＳ：Ｉｎ－Ｐｌａｎｅ　Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード及びフリンジ電界スイッチング（ＦＦＳ：Ｆｒｉｎｇｅ　Ｆｉｅｌｄ　Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード等が挙げられる。本実施形態では、表示モードは特に限定されないが、一例として、ＦＦＳモードの液晶表示装置を取り上げて説明を行う。

（実施形態１）
図１は、実施形態１の液晶表示装置に関する図であり、（ａ）は全体の平面模式図であり、（ｂ）は角部の平面模式図である。図２は、実施形態１の液晶表示装置の断面模式図である。図２は、図１におけるａ－ｂ線に沿った断面模式図である。

図１及び図２に示すように、本実施形態の液晶表示装置１は、表示領域Ａと、表示領域Ａの周囲に枠状に設けられた額縁領域Ｂとを有する。額縁領域Ｂには、表示領域Ａと所定の間隔をおいて、表示領域Ａの周囲を取り囲むように途切れることなく環状に延設された堰き止め部４０と、表示領域Ａの周囲を取り囲むように途切れることなく環状に延設されたシール部５０とが配置され、堰き止め部４０は、シール部５０の表示領域Ａ側に配置される。

表示領域Ａは、画像を表示する機能を有し、表示領域Ａには複数の画素がマトリクス状に配列されている。額縁領域Ｂは、表示領域Ａの周囲に形成された、表示に寄与しない非表示領域であり、ブラックマトリクス層が配置される。

本実施形態の液晶表示装置１は、第１基板１０と、第１基板１０に対向して配置された第２基板２０と、第１基板１０及び第２基板２０の間に挟持された液晶層３０と、を備える。

第１基板１０が有する柱状のメインスペーサ１４（単に、スペーサともいう）は、液晶層３０が形成される空間のギャップを確保する機能を有し、大気圧下において、第２基板２０に端部が接している。また、第１基板１０は、メインスペーサ１４よりも高さの低い柱状のサブスペーサを有する。サブスペーサは、大気圧下では第２基板２０には接しておらず、液晶パネルを押した際に押圧等による基板の変形量を小さくする機能を有する。メインスペーサ１４及びサブスペーサは、例えば、感光性樹脂組成物を第１基板１０上に塗布し、フォトリソグラフィ法等でパターニングを行うことにより形成することができる。なお、図１（ｂ）では、表示領域Ａ内のメインスペーサ１４の図示を省略している。

第１基板１０の液晶層３０と反対側の面には第１偏光板６１が設けられ、第２基板２０の液晶層３０と反対側の面には第２偏光板６２が設けられている。第１偏光板６１及び第２偏光板６２は、互いの偏光軸が直交したクロスニコルの配置関係にある。また、第２基板２０の外側（液晶層３０と反対側）にはバックライト（図示省略）が配置されている。

図３は、実施形態１の液晶表示装置の表示領域における断面模式図である。図３は、図２において破線で囲んだ領域Ｘ１の断面模式図である。図３に示すように、第１基板１０は、絶縁基板１１と、カラーフィルタ層１２及びブラックマトリクス層１３と、配向膜１５と、を液晶層３０側に向かって順に有する。また、第１基板１０は、メインスペーサ１４及びサブスペーサ１６をブラックマトリクス層１３上に備える。第１基板１０は、カラーフィルタ基板ともいう。

第２基板２０は、絶縁基板２１と、走査線と、データ線と、上記走査線及び上記データ線に接続されたＴＦＴと、面状の共通電極２２と、絶縁膜２３と、スリットが形成された画素電極２４と、配向膜２５と、を液晶層３０側に向かって順に有する。また、第２基板２０には、メインスペーサ１４と同じ位置に柱状のバンプ２６が形成されている。第２基板２０はＴＦＴ基板ともいう。なお、共通電極２２と画素電極２４との配置を入れ替え、面状の画素電極２４の液晶層３０側に、スリットが形成された共通電極２２を形成してもよい。

バンプ２６は、メインスペーサ１４と同様にセル厚を適切に保つ役割を果たすものであり、配向膜２５を除いて第２基板２０の最も液晶層３０側に位置し、大気圧下において、メインスペーサ１４と接している。バンプ２６は、感光性樹脂組成物を第２基板２０上に塗布し、フォトリソグラフィ法等でパターニングを行うことにより形成することができる。バンプ２６の高さは、通常、０．５μｍ以上であり、好ましくは１μｍ以上、３μｍ以下である。バンプ２６及びメインスペーサ１４の径は、それぞれ、任意に設定することができる。

絶縁基板１１、２１の材料としては、例えばガラス、プラスチック等の透明基材が挙げられ、透明なものであれば特に限定されない。

カラーフィルタ層１２は、液晶表示装置の分野で一般的に用いられるカラーフィルタ層であり、複数色のカラーフィルタを有する。本実施形態におけるカラーフィルタ層１２は、赤色カラーフィルタ、緑色カラーフィルタ及び青色カラーフィルタから構成されるが、これらのカラーフィルタに加えて、黄色カラーフィルタ等を用いることもできる。

ブラックマトリクス層１３は、液晶表示装置の分野で一般的に用いられるブラックマトリクス層であり、液晶表示装置１に配置されたバックライトからの光や外光を遮る機能を有する。

配向膜１５及び２５は、電圧が印加されていない状態における液晶分子の配向を制御する機能を有する。本実施形態では、配向膜１５及び２５として、電圧が印加されていない状態における液晶分子の配向を第１基板１０及び第２基板２０に対して平行となるように制御する水平配向膜を用いたが、液晶分子の配向を第１基板１０及び第２基板２０に対して垂直となるように制御する垂直配向膜を用いることもできる。配向膜１５及び２５は、それぞれ、例えばポリイミド樹脂等の樹脂材料を溶剤に溶かした流動性の高い液体状の液晶配向剤（ワニス）を第１基板１０及び第２基板２０上にインクジェット法等により塗布した後、加熱して溶剤の除去と樹脂材料の焼成を行って形成される。

液晶層３０は、液晶分子を含む。本実施形態の液晶表示装置１は、液晶層３０に対して電圧を印加し、印加した電圧に応じて液晶分子の配向状態を変化させることにより、光の透過量を制御するものである。

図４は、実施形態１の液晶表示装置の額縁領域における断面模式図である。図５は、実施形態１の液晶表示装置の第１基板製造工程における、液晶配向剤塗布時の堰き止め部周辺の断面模式図である。図４は、図２において破線で囲んだ領域Ｘ２の断面模式図である。

図４に示すように、本実施形態の液晶表示装置１は、第１基板１０が有する堰き止め部４０により、配向膜１５の形成位置が適切に制御されている。図４及び図５を用いて、堰き止め部４０の機能を詳細に説明する。

図４及び図５に示すように、堰き止め部４０は、絶縁基板１１側から順に、第１の堰き止め層４１及び第２の堰き止め層４２が積層された構造を有し、第１の堰き止め層４１及び第２の堰き止め層４２は互いに接する、すなわち各堰き止め層４１、４２は、積層方向において隣り合う堰き止め層と接している。そのため、堰き止め部４０の表示領域Ａ側に、複数の堰き止め層４１、４２により、急峻な壁４１Ａ、４２Ａを有する複数の段差部を備えた階段構造４０Ａを形成することができる。したがって、堰き止め部４０全体の高さによる液晶配向剤１５Ｐの堰き止め効果に加えて、各堰き止め層４１、４２の段差部において表面張力により液晶配向剤１５Ｐを堰き止めることが可能となる。そのため、堰き止め部４０全体の高さを、液晶配向剤１５Ｐの堰き止めに必要なある程度の高さに抑えつつ、堰き止め部４０全体の高さと各堰き止め層４１、４２の段差部での表面張力とにより液晶配向剤１５Ｐをより効果的に堰き止めることができる。その結果、配向膜１５の形成位置及びセル厚を適切に制御することができる。

各段差部の壁４１Ａ、４２Ａ、すなわち各堰き止め層４１、４２の側面の傾斜角度４１Ｂ、４２Ｂは、特に限定されないが、好ましくは４５°以上、１３５°以下であり、より好ましくは６０°以上、１２０°以下である。

なお、図４及び図５では、堰き止め部４０が表示領域Ａとは反対側にも階段構造４０Ａと同様の階段構造を有する場合を示したが、この階段構造は、設けられても設けられなくてもよい。

ここで、堰き止め部を構成する各堰き止め層が直接積層されない場合について検討する。図１５は、比較形態２の液晶表示装置における、堰き止め部周辺の断面模式図である。比較形態２の液晶表示装置は、第１の堰き止め層及び第２の堰き止め層の間にオーバーコート層を備えること以外は、本実施形態と同様の構成を有する。

比較形態２の液晶表示装置における堰き止め部４０Ｒは、第１の堰き止め層４１Ｒ及び第２の堰き止め層４２Ｒから構成され、第１の堰き止め層４１Ｒ及び第２の堰き止め層４２Ｒの間にはオーバーコート層７０Ｒが配置されている。比較形態２では、オーバーコート層７０Ｒの平坦化作用により、堰き止め部４０Ｒの段差はなだらかとなるため、段差部の表面張力による液晶配向剤の堰き止め効果が小さい。したがって、堰き止め部４０Ｒの高さ４０ＨＲのみで液晶配向剤を堰き止める必要がある。堰き止め層の層数を増やして堰き止め部４０Ｒを高くすればするほど、液晶配向剤は堰き止め易くなるが、あまりに高すぎると、周辺部にセル厚ムラが発生するおそれがある。また、比較形態２の液晶表示装置におけるオーバーコート層７０Ｒが堰き止め部４０Ｒの上層に形成される場合も、堰き止め部４０Ｒの高さが無くなるわけではないので液晶配向剤を堰き止めることは可能であるが、堰き止め部４０Ｒの段差はなだらかとなるため、段差部の表面張力による液晶配向剤の堰き止め効果は小さい。そのため、液晶配向剤を堰き止めるためには、堰き止め部４０Ｒを高くする必要があり、この場合も、周辺部にセル厚ムラが発生するおそれがある。

一方、本実施形態のように堰き止め部４０を構成する堰き止め層４１、４２を直接積層すれば、堰き止め部４０全体の高さをある程度の高さに抑えつつ、堰き止め部４０全体の高さと各堰き止め層４１、４２の段差部での表面張力とにより液晶配向剤１５Ｐをより効果的に堰き止めることができる。

また、基板上に配向膜を形成する際に、ポリイミド樹脂等の樹脂材料を溶剤に溶かした流動性の高い液晶配向剤を用いる場合、液晶配向剤が額縁領域の周縁部まで広がり、額縁領域において、シール部と配向膜との接触面積が増えることがある。ここで、シール部と配向膜との接着強度は、例えば、シール部とブラックマトリクス層との接着強度より弱いため、液晶配向剤が額縁領域の周縁部まで広がり、シール部と配向膜と接触面積が増えると、基板とシール部との接着強度が弱まり、その結果、一対の基板間の接着性が低下してしまう。

しかしながら、本実施形態では、堰き止め部４０がシール部５０の表示領域Ａ側に配置されており、かつ、堰き止め部４０により配向膜１５の形成位置を適切に制御することが可能であるため、シール部５０と配向膜１５との接触を抑制することが可能となり、第１基板１０と第２基板２０との接着性が低下するのを抑制することができる。

図４及び図５に示すように、堰き止め部４０は、表示領域Ａ側に、複数の堰き止め層４１、４２によって構成された階段構造４０Ａを有することが好ましい。このような態様とすることにより、上述のように、階段構造４０Ａの段差部における表面張力による液晶配向剤の堰き止め効果を確実に奏することが可能となる。

ここで、堰き止め部４０が表示領域Ａ側に複数の堰き止め層４１、４２によって構成された階段構造４０Ａを有するとは、絶縁基板１１により近い堰き止め層（より下層の堰き止め層）ほど、その表示領域Ａ側の端部がより表示領域Ａに近いことを言う。なお、本明細書において、「下」とは、絶縁基板側を指し、「上」とは、絶縁基板と反対側を指す。

第１の堰き止め層４１及び第２の堰き止め層４２の材料は特に限定されないが、製造工程の簡略化の観点からは、各堰き止め層４１、４２は、第１基板１０の絶縁基板１１の液晶層３０側に形成された他の部材と同じ材料から形成されることが好ましい。本実施形態では、第１の堰き止め層４１は、カラーフィルタ層１２の材料と同じカラーフィルタ材料（例えば、青色カラーフィルタ材料）から構成される。このような態様とすることにより、カラーフィルタ層１２を形成するのと同時に第１の堰き止め層４１を形成することができるため、堰き止め部４０を容易に形成することが可能となる。また、本実施形態では、第２の堰き止め層４２は、メインスペーサ１４及びサブスペーサ１６の材料と同じスペーサ材料から構成される。このような態様とすることにより、メインスペーサ１４及びサブスペーサ１６を形成するのと同時に第２の堰き止め層４２を形成することができるため、堰き止め部４０を容易に形成することが可能となる。

堰き止め部４０は、２つの堰き止め層４１、４２から構成されるが、堰き止め部４０を構成する堰き止め層は、２層以上であればよく、例えば、３層であってもよいし、４層以上であってもよい。堰き止め部４０を構成する複数の堰き止め層のうち、最も上層の堰き止め層は、スペーサ材料又はカラーフィルタ材料から構成され、それ以外の堰き止め層はカラーフィルタ材料から構成されることが好ましい。

堰き止め部４０の高さは、特に限定されず、塗布された液晶配向剤１５Ｐの厚み（例えば１μｍ以上、５μｍ以下）や粘度、表面張力等に応じて適宜設定可能であるが、好ましくは２μｍ以上、４．５μｍ以下であり、より好ましくは３μｍ以上、４μｍ以下である。堰き止め部４０の各堰き止め層の膜厚、すなわち、積層方向における高さは特に限定されないが、上述のように第１基板１０の他の部材と同じ材料から形成する場合は、通常、その部材と同程度の膜厚を有することになる。スペーサ材料から構成される堰き止め層を用いる場合は、その膜厚は、１μｍ以上、２μｍ以下（例えば２μｍ）であってもよい。このような場合、スペーサ材料から構成される堰き止め層のみから堰き止め部を形成すると、液晶配向剤を堰き止めることが困難となることから、上述のように、スペーサ材料から構成される堰き止め層に加えて、他の堰き止め層も用い、複数の堰き止め層４１、４２を含む堰き止め部４０を設けることが特に好ましい。なお、スペーサ材料から構成される堰き止め層は、メインスペーサ１４又はサブスペーサ１６のいずれのスペーサと同程度の膜厚を有してもよい。カラーフィルタ材料から構成される堰き止め層の膜厚は、通常、１μｍ以上、４μｍ以下であり、好ましくは１．５μｍ以上、３μｍ以下である。

階段構造４０Ａにおいて、最も上層の堰き止め層以外の堰き止め層の突出幅は特に限定されないが、階段構造４０Ａを構成する積層方向において隣り合う（上下で隣接する）２つの堰き止め層において、上層の堰き止め層から下層の堰き止め層が突出する幅（詳細には、堰き止め部４０の延設方向に直交する方向に突出する幅）は、通常、５μｍ以上、３０μｍ以下であり、好ましくは１０μｍ以上、２０μｍ以下である。

堰き止め部４０の各堰き止め層の幅（詳細には、堰き止め部４０の延設方向に直交する方向における底部の幅）も特に限定されないが、最も下層の堰き止め層の幅は、通常、１０μｍ以上、４０μｍ以下であり、好ましくは２０μｍ以上、３０μｍ以下である。最も上層の堰き止め層の幅は、通常、５μｍ以上、３５μｍ以下であり、好ましくは１５μｍ以上、２５μｍ以下である。これらの堰き止め層の間に配置される堰き止め層の幅は、通常、最も下層の堰き止め層の幅よりも小さく、かつ、最も上層の堰き止め層の幅よりも大きく設定される。

表示領域Ａから堰き止め部４０までの距離は特に限定されない。図６は、実施形態１の液晶表示装置の角部の平面模式図である。本実施形態の堰き止め部４０は、図６に示すように、シール部５０に接触しない範囲に配置される。堰き止め部４０の配置は、シール部５０の配置を考慮して適宜設定することができる。堰き止め部４０は、例えば、表示領域Ａから５５０μｍ離れた位置に配置される。堰き止め部４０と表示領域Ａとの間の距離は、３００μｍ以上であることが好ましく、５００μｍ以上、１０００μｍ以下であることがより好ましい。このような態様とすることにより、堰き止め部４０の周辺で配向膜１５の膜厚ムラが生じたとしても、表示領域Ａの視認性に与える影響を抑えることができる。なお、後述のように、堰き止め部４０が複数本存在する場合は、最も表示領域Ａに近い堰き止め部４０と表示領域Ａとの間の距離が、上記範囲となるように設定することが好ましい。

図４に示すように、シール部５０は、第１基板１０及び第２基板２０の間に設けられ、液晶層３０を囲んで封止する機能を有する。シール部５０は、第１基板１０の液晶層３０側の面及び第２基板２０の液晶層３０側の面のそれぞれに密着しており、第１基板１０と第２基板２０とは、シール部５０を介して互いに接着固定されている。

シール部５０は、平面視において、表示領域Ａの周囲を取り囲むように環状に延設されている。シール部５０は、第１基板１０と第２基板２０とを接着する機能を有するものであれば、その材料は特に限定されず、例えば、アクリル又はエポキシ系樹脂等の紫外線熱併用硬化型樹脂によって構成されている。

本実施形態のシール部５０の線幅は、図６に示すように、１３００μｍであるが、シール部５０の線幅はこれに限定されない。

本実施形態で説明した液晶表示装置１は、一般的な製造方法により作製可能であるが、ここで、第１基板１０の製造方法について説明する。第１基板１０は、例えば、ガラス基材等の絶縁基板１１の一方の面に、赤色カラーフィルタ、青色カラーフィルタ及び緑色カラーフィルタからなるカラーフィルタ層１２、及び、ブラックマトリクス層１３を形成することにより作製することができる。この際、少なくとも一色のカラーフィルタ材料から少なくとも一層の堰き止め層を同時に形成することが好ましい。例えば、青色カラーフィルタを形成する際に、第１の堰き止め層４１を同時に形成することができる。このような態様とすることにより、製造工程を複雑なものとすることなく、本実施形態の堰き止め部４０を形成することが可能となる。

カラーフィルタ層１２及びブラックマトリクス層１３は、例えば、感光性樹脂組成物を絶縁基板１１上に塗布した後、フォトリソグラフィ法等を用いてパターニングすることにより形成することができる。

次に、メインスペーサ１４及びサブスペーサ１６を形成する。このメインスペーサ１４及びサブスペーサ１６を形成する際に、第２の堰き止め層４２を同時に形成することができる。このような態様とすることにより、製造工程を複雑なものとすることなく、本実施形態の堰き止め部４０を形成することが可能となる。

メインスペーサ１４及びサブスペーサ１６は、カラーフィルタ層１２やブラックマトリクス層１３と同様に、露光工程と、不要部分を除去する除去工程とを有するフォトリソグラフィ法により形成することができる。複数回露光することによりメインスペーサ１４及びサブスペーサ１６に対応する部分の露光量を変化させる方法、又は、メインスペーサ１４及びサブスペーサ１６が形成される領域上に光の透過率の異なる複数のマスクを積層して露光量を変化させる方法等により、メインスペーサ１４及びサブスペーサ１６を一括して形成することができる。

次にカラーフィルタ層１２、ブラックマトリクス層１３、メインスペーサ１４及びサブスペーサ１６上に配向膜１５を形成する。配向膜１５は、以下の方法により形成することができる。まず、ポリイミド樹脂等の樹脂材料を溶剤に溶かした液体状の液晶配向剤１５Ｐを第１基板１０上に塗布する。次に、液晶配向剤１５Ｐが塗布された絶縁基板１１を加熱処理することによって溶剤の除去と樹脂材料の焼成を行う。その後、必要に応じて配向処理を施すことにより配向膜１５を形成することができる。以上のようにして、本実施形態の第１基板１０を作製することができる。

本実施形態では、液晶配向剤１５Ｐの特性に応じて堰き止め部４０の高さ、堰き止め層の層数等の設定を調整可能であり、本実施形態は液晶配向剤１５Ｐの特性によらず使用することができる。そのため、液晶配向剤１５Ｐの特性、例えば溶剤の種類や液晶配向剤１５Ｐの粘度、表面張力等は特に限定されない。

また、液晶配向剤１５Ｐの塗布方法も特に限定されず、例えば、インクジェット法やロールコーター法が挙げられるが、インクジェット法は、ロールコーター法に比べて液晶配向剤の粘度を低くする必要があり、液晶配向剤が流れ易いため、配向膜の形成位置を制御することが困難である。したがって、インクジェット法を用いる場合に本実施形態は好適であり、本実施形態の液晶表示装置１における第１基板１０は、階段構造４０Ａを有する堰き止め部４０を備えるため、インクジェット法により液晶配向剤１５Ｐを塗布する場合であっても、配向膜１５の形成位置を適切に制御することができる。

上記のようにして第１基板１０作製した後、シール材塗布工程、基板貼り合せ工程、偏光板貼り付け工程、バックライト取り付け工程等の工程を順次行うことによって、本実施形態の液晶表示装置１を製造することができる。

（実施形態２）
本実施形態では、本実施形態に特有の特徴について主に説明し、上記実施形態と重複する内容については説明を省略する。本実施形態の液晶表示装置は、第１基板における絶縁基板と配向膜との間にオーバーコート層が配置され、かつ、堰き止め部が２層以上（例えば、３層）の堰き止め層から構成されること以外は、実施形態１の液晶表示装置１と同様の構成を有する。

図７は、実施形態２の液晶表示装置の堰き止め部周辺の平面模式図である。図８は、実施形態２の液晶表示装置の第１基板製造工程における、液晶配向剤塗布時の堰き止め部周辺の断面模式図であり、（ａ）は堰き止め部の両側に切り欠き部が１つずつ形成される場合の断面模式図であり、（ｂ）は堰き止め部の両側に切り欠き部が２つずつ形成される場合の断面模式図である。本実施形態の液晶表示装置１の第１基板１０は、絶縁基板１１上に、ブラックマトリクス層１３及びオーバーコート層７０が順に積層された構造を有する。オーバーコート層７０は、カラーフィルタ層１２、及び、ブラックマトリクス層１３を覆うように形成されており、これにより、第１基板１０の特に表示領域Ａでの表面を平坦にしている。オーバーコート層７０は、額縁領域Ｂにも形成されているが、平面視において、堰き止め部４０が設けられる領域以外の領域に設けられる。また、堰き止め部４０は、２層以上の堰き止め層、例えば、絶縁基板１１側から順に、第１の堰き止め層４１と、第２の堰き止め層４２と、第３の堰き止め層４３と、が積層された構造を有する。そして、堰き止め部４０の表示領域Ａ側に、複数の堰き止め層４１、４２、４３により、急峻な壁４１Ａ、４２Ａ、４３Ａを有する複数の段差部を備えた階段構造４０Ａが形成されている。

このような態様とすることにより、オーバーコート層７０を有する場合であっても、各堰き止め層４１、４２、４３の段差部を形成することが可能となり、段差部の表面張力により液晶配向剤１５Ｐを堰き止めることができる。その結果、配向膜１５の形成位置を適切に制御することが可能となる。また、このような態様とすることにより、比較形態２で説明したように、オーバーコート層７０が２つの堰き止め層間に設けられる場合や、オーバーコート層７０の下に堰き止め部４０が設けられる場合に比べて、堰き止め部４０の高さを低くすることができる。その結果、液晶層３０の周辺部に発生するセル厚ムラを抑制することが可能となる。

オーバーコート層７０と、堰き止め部４０とは互いに接しないことが好ましい。すなわち、堰き止め部４０は、オーバーコート層７０から隙間７１を空けて、例えば、オーバーコート層７０に切り欠き部７２を設けて、又は、オーバーコート層７０の額縁領域Ｂ側の端部から距離を空けて、配置されることが好ましい。このような態様とすることにより、堰き止め部４０が有する段差部がより確実に配向膜１５と接し得るよう配置することが可能となる。その結果、配向膜１５の形成位置をより適切に制御することが可能となる。

オーバーコート層７０の切り欠き部７２の配置は特に限定されず、例えば、図８（ａ）に示すように堰き止め部４０の両側に１つずつ設けられてもよく、図８（ｂ）に示すように堰き止め部４０の両側に２つずつ設けられてもよい。また、図８では、堰き止め部４０の両側にオーバーコート層７０が配置されているが、堰き止め部４０の表示領域Ａと反対側にはオーバーコート層７０は配置されなくてもよい。

オーバーコート層７０の材料は特に限定されず、例えば、感光性の樹脂材料を用いることができる。オーバーコート層７０は、例えば、感光性の樹脂材料を塗布し、フォトリソグラフィ法等でパターニングを行うことにより形成することができる。

なお、本実施形態では、オーバーコート層７０に設けた切り欠き部７２に堰き止め部４０を配置するが、堰き止め部４０はオーバーコート層７０上に配置されてもよい。

（実施形態３）
本実施形態では、本実施形態に特有の特徴について主に説明し、上記実施形態と重複する内容については説明を省略する。本実施形態の液晶表示装置は、堰き止め部４０を複数有すること以外は、実施形態１の液晶表示装置１と同様の構成を有する。

図９は、実施形態３の液晶表示装置全体の平面模式図である。図１０は、実施形態３の液晶表示装置の堰き止め部周辺の断面模式図である。図９及び図１０に示すように、本実施形態の液晶表示装置１は、堰き止め部４０を複数、例えば３本有し、複数の堰き止め部４０は、各々、堰き止め部４０の延設方向に直交する方向において隣り合う堰き止め部４０に沿って配置されている。また、複数の堰き止め部４０は、同じ（例えば青色、赤色又は緑色の）カラーフィルタ材料から構成される第１の堰き止め層４１及びスペーサ材料から構成される第２の堰き止め層４２を有する。

このような態様とすることにより、多段階で液晶配向剤を堰き止めることができるため、配向膜１５の形成位置をより適切に制御することが可能となる。

第１基板１０が有する堰き止め部４０の数は特に限定されないが、第１基板１０は、堰き止め部４０を１本～４本有することが好ましく、２本～３本有することがより好ましい。

第１基板１０が堰き止め部４０を複数有する場合、隣り合う堰き止め部４０間の距離は、１０μｍ以上、４０μｍ以下であることが好ましく、１５μｍ以上、２５μｍ以下であることがより好ましい。

（実施形態３の変形例１）
上記では堰き止め部４０は、２層の堰き止め層４１、４２から構成されるが、各堰き止め部４０は、３層以上の堰き止め層から構成されてもよい。図１１は、実施形態３の変形例１の液晶表示装置における、堰き止め部の断面模式図である。本変形例の液晶表示装置における堰き止め部４０は、第一（例えば緑色）のカラーフィルタ材料から構成される第１の堰き止め層４１と、第二（例えば赤色）のカラーフィルタ材料から構成される第２の堰き止め層４２と、スペーサ材料から構成される第３の堰き止め層４３と、が絶縁基板１１側から順に積層された構造を有する。

（実施形態３の変形例２）
上記では堰き止め部４０は、スペーサ材料及びカラーフィルタ材料を用いて形成するが、各堰き止め部４０は、カラーフィルタ材料のみを用いて形成してもよい。図１２は、実施形態３の変形例２の液晶表示装置における、堰き止め部の断面模式図である。本変形例の液晶表示装置における堰き止め部４０は、第一（例えば青色）のカラーフィルタ材料から構成される第１の堰き止め層４１と、第二（例えば緑色）のカラーフィルタ材料から構成される第２の堰き止め層４２と、第三（例えば赤色）のカラーフィルタ材料から構成される第３の堰き止め層４３と、が絶縁基板１１側から順に積層された構造を有する。

（実施形態３の変形例３）
上記では複数本の堰き止め部４０は、互いに同一の構成を有するが、複数本の堰き止め部４０は、それらの構成が互いに異なっていてもよい。図１３は、実施形態３の変形例３の液晶表示装置における、堰き止め部の断面模式図である。図１３に示すように、本変形例の液晶表示装置は、配向膜１５を堰き止める機能を有する複数、例えば３本のパターンを備える。本変形例の液晶表示装置は、表示領域Ａ側から順に、第一（例えば緑色）のカラーフィルタ材料から構成される第１の堰き止め層４１を有するパターン１と、第一（例えば緑色）のカラーフィルタ材料から構成される第１の堰き止め層４１及び第二（例えば赤色）のカラーフィルタ材料から構成される第２の堰き止め層４２を有するパターン２と、第一（例えば緑色）のカラーフィルタ材料から構成される第１の堰き止め層４１、第二（例えば赤色）のカラーフィルタ材料から構成される第２の堰き止め層４２及びスペーサ材料から構成される第３の堰き止め層４３を有するパターン３と、を備える。パターン２及びパターン３は、それぞれ堰き止め部４０に相当する。

（実施形態４）
本実施形態では、本実施形態に特有の特徴について主に説明し、上記実施形態と重複する内容については説明を省略する。上記実施形態では、カラーフィルタ基板である第１基板１０側に堰き止め部４０を設けるが、堰き止め部４０はＴＦＴ基板である第２基板２０側に設けられてもよい。この場合、配向膜２５の形成位置及びセル厚を適切に制御することができる。第１基板１０に堰き止め部４０を設ける場合、各堰き止め層は、例えば、バンプ２６の材料、第１基板１０の膜面保護に用いる有機絶縁膜材料、等の有機絶縁材料から構成される。本実施形態における各堰き止め層は、フォトリソグラフィ法等を用いて上記有機材料をパターニングすることにより形成することができる。

［付記］
本発明の一態様は、第１基板１０と、第１基板１０に対向して配置された第２基板２０と、第１基板１０及び第２基板２０の間に挟持された液晶層３０と、を備え、第１基板１０は、絶縁基板１１と、絶縁基板１１の液晶層３０側に配置された配向膜１５と、絶縁基板１１の液晶層３０側に配置され、かつ、平面視において、表示領域Ａの周囲を取り囲むように延設された堰き止め部４０と、を有し、堰き止め部４０は、互いに積層された複数の堰き止め層４１、４２、４３を有し、複数の堰き止め層４１、４２、４３は、各々、隣り合う堰き止め層４１、４２、４３に接する液晶表示装置１であってもよい。

堰き止め部４０は、互いに積層された複数の堰き止め層４１、４２、４３を有し、複数の堰き止め層４１、４２、４３は、各々、隣り合う堰き止め層４１、４２、４３に接する、すなわち各堰き止め層４１、４２、４３は、積層方向において隣り合う堰き止め層４１、４２、４３と接している。そのため、堰き止め部４０の表示領域Ａ側に、複数の堰き止め層４１、４２、４３により、急峻な壁４１Ａ、４２Ａ、４３Ａを有する複数の段差部を備えた階段構造４０Ａを形成することができる。したがって、堰き止め部４０全体の高さによる液晶配向剤１５Ｐの堰き止め効果に加えて、各堰き止め層４１、４２、４３の段差部において表面張力により液晶配向剤１５Ｐを堰き止めることが可能となる。そのため、堰き止め部４０全体の高さを、液晶配向剤１５Ｐの堰き止めに必要なある程度の高さに抑えつつ、堰き止め部４０全体の高さと各堰き止め層４１、４２、４３の段差部での表面張力とにより液晶配向剤１５Ｐをより効果的に堰き止めることができる。その結果、配向膜１５の形成位置及びセル厚を適切に制御することができる。

第１基板１０は、絶縁基板１１と配向膜１５との間に配置されたオーバーコート層７０を更に有し、オーバーコート層７０は、平面視において、堰き止め部４０が設けられる領域以外の領域に設けられてもよい。このような態様とすることにより、オーバーコート層７０を有する場合であっても、各堰き止め層４１、４２、４３の段差部を形成することが可能となり、段差部の表面張力により液晶配向剤１５Ｐを堰き止めることができる。その結果、オーバーコート層７０を有する場合であっても、配向膜１５の形成位置を適切に制御することが可能となる。

堰き止め部４０は、表示領域Ａ側に、複数の堰き止め層４１、４２、４３によって構成された階段構造４０Ａを有してもよい。このような態様とすることにより、階段構造４０Ａの段差部における表面張力による液晶配向剤１５Ｐの堰き止め効果を確実に奏することが可能となる。

複数の堰き止め層４１、４２、４３のうちの少なくとも１層は、カラーフィルタ材料から構成されてもよい。第１基板１０がカラーフィルタ層１２を有するカラーフィルタ基板である場合、このような態様とすることにより、カラーフィルタ層１２を形成するのと同時に堰き止め層４１、４２、４３を形成することができるため、堰き止め部４０を容易に形成することが可能となる。

複数の堰き止め層４１、４２、４３のうちの１層は、スペーサ材料から構成されてもよい。第１基板１０がスペーサ（メインスペーサ１４、サブスペーサ１６）を有する場合、このような態様とすることにより、スペーサを形成するのと同時に堰き止め層４１、４２、４３を形成することができるため、堰き止め部４０を容易に形成することが可能となる。

第１基板１０は、堰き止め部４０を複数有し、複数の堰き止め部４０は、各々、隣り合う堰き止め部４０に沿って配置されてもよい。このような態様とすることにより、多段階で液晶配向剤１５Ｐを堰き止めることができるため、配向膜１５の形成位置をより適切に制御することが可能となる。

第１基板１０及び第２基板２０に接し、かつ、平面視において、表示領域Ａの周囲を取り囲むように延設されたシール部５０を更に備え、平面視において、堰き止め部４０は、シール部５０の表示領域Ａ側に配置されてもよい。このような態様とすることにより、シール部５０と配向膜１５との接触をより抑制することが可能となり、第１基板１０と第２基板２０との接着性が低下するのをより抑制することができる。

１：液晶表示装置
１０、１０Ｒ：第１基板
１１、１１Ｒ、２１：絶縁基板
１２：カラーフィルタ層
１３、１３Ｒ：ブラックマトリクス層
１４：メインスペーサ
１５、２５：配向膜
１５Ｐ、１５ＰＲ：液晶配向剤
１６：サブスペーサ
２０：第２基板
２２：共通電極
２３：絶縁膜
２４：画素電極
２６：バンプ
３０：液晶層
４０、４０Ｒ：堰き止め部
４０Ａ：階段構造
４０ＨＲ：高さ
４１、４１Ｒ、４２、４２Ｒ、４３：堰き止め層
４１Ａ、４２Ａ、４３Ａ：壁
４１Ｂ、４２Ｂ：傾斜角度
５０：シール部
６１：第１偏光板
６２：第２偏光板
７０、７０Ｒ：オーバーコート層
７１：隙間
７２：切り欠き部
Ａ：表示領域
Ｂ：額縁領域
Ｘ１、Ｘ２：領域

Claims

第１基板と、
前記第１基板に対向して配置された第２基板と、
前記第１基板及び前記第２基板の間に挟持された液晶層と、を備え、
前記第１基板は、絶縁基板と、
前記絶縁基板の前記液晶層側に配置された配向膜と、
前記絶縁基板の前記液晶層側に配置され、かつ、平面視において、表示領域の周囲を取り囲むように延設された堰き止め部と、を有し、
前記堰き止め部は、互いに積層された複数の堰き止め層を有し、
前記複数の堰き止め層は、各々、隣り合う堰き止め層に接することを特徴とする液晶表示装置。
前記第１基板は、前記絶縁基板と前記配向膜との間に配置されたオーバーコート層を更に有し、
前記オーバーコート層は、平面視において、前記堰き止め部が設けられる領域以外の領域に設けられることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
前記堰き止め部は、前記表示領域側に、前記複数の堰き止め層によって構成された階段構造を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶表示装置。
前記複数の堰き止め層のうちの少なくとも１層は、カラーフィルタ材料から構成されることを特徴とする請求項１～３のいずれかに記載の液晶表示装置。
前記複数の堰き止め層のうちの１層は、スペーサ材料から構成されることを特徴とする請求項１～４のいずれかに記載の液晶表示装置。
前記第１基板は、前記堰き止め部を複数有し、
前記複数の堰き止め部は、各々、隣り合う堰き止め部に沿って配置されることを特徴とする請求項１～５のいずれかに記載の液晶表示装置。
前記第１基板及び前記第２基板に接し、かつ、平面視において、前記表示領域の周囲を取り囲むように延設されたシール部を更に備え、
平面視において、前記堰き止め部は、前記シール部の前記表示領域側に配置されることを特徴とする請求項１～６のいずれかに記載の液晶表示装置。