WO2012150644A1 - 自動倉庫 - Google Patents

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WO2012150644A1
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transfer device
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Inventor
政彦 雁部
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村田機械株式会社
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    • H01L21/67775—Docking arrangements

Definitions

  • the present invention relates to an automatic warehouse, and more particularly to an automatic warehouse that holds luggage in a clean space.
  • reticles used for manufacturing electronic components and the like are stored in a clean stocker installed in a clean room (see, for example, Patent Document 1).
  • a clean stocker since the reticle is stored in a state where it is taken out from the pod, it is necessary to keep the inside of the housing in an atmosphere from which volatile impurities are removed.
  • the clean stocker disclosed in Patent Document 1 supplies clean gas from a clean gas supply unit installed at the top of the housing in order to prevent the intrusion of volatile impurities into the housing. Yes.
  • a space for holding or transporting the reticle taken out from the pod that is, a space inside the pod opener, inside the rotating shelf, and a space between the pod opener and the rotating shelf (reticle transport path). It is necessary to supply clean gas to all of the above.
  • the chemical filter used in the above-described clean gas supply unit is a very expensive consumable product, and its life is shortened as the amount of blown air increases. That is, if it is going to supply clean gas to all the said space, a chemical filter must be replaced
  • the present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide an automatic warehouse capable of efficiently storing luggage in a clean space.
  • the automatic warehouse stores and loads luggage in a case.
  • a storage shelf that stores a plurality of the luggage, a load port that holds the case, and has a loading / unloading space for taking the luggage in and out of the held case, and the luggage
  • a transfer device that has a holding space that is maintained in a clean state and that transfers the load between the holding space and the case that is held in the storage shelf and the storage space.
  • a first shield that closes the holding space and moves together with the transfer device.
  • the first shield may seal the opening of the holding space to prevent impurities from entering.
  • the first shield may be arranged with a slight gap from the opening of the holding space, and the clean gas in the holding space is always allowed to flow out from the gap, thereby preventing impurities from entering. .
  • the load port may move integrally with the transfer device so that the holding space of the transfer device communicates with the loading / unloading space.
  • the first shield may keep the communicating holding space and the in / out space in a clean state by closing the communicating holding space and the in / out space.
  • the first shield includes a cylindrical portion that accommodates the transfer device in a rotatable state therein, and a first opening at a position facing the load port on a side surface of the cylindrical portion.
  • a second opening may be provided at a position facing the storage shelf on the side surface of the cylindrical portion. Then, the transfer device transfers the load between the holding space and the load port in a state where the opening of the holding space and the first opening are turned to a position where they face each other.
  • the load is transferred between the holding space and the storage shelf, and the opening of the holding space and the It turns to the position which the inner wall surface of a cylindrical part faces, and it moves integrally with the 1st shield in the state where the holding space was closed.
  • the opening of the holding space can be exposed only at the time of transfer, and the holding space can be closed at the time of movement.
  • the cleaning volume can be reduced, and the contamination of the luggage can be effectively prevented.
  • the transfer device is movable in the vertical direction inside the cylindrical portion, and prior to turning inside the cylindrical portion, the opening portion of the holding space and the first and second openings. You may raise or descend to a position where the part does not face. Thereby, it is possible to prevent the opening from being exposed while the transfer device is being turned.
  • the second shield includes a communication hole that selectively communicates the second opening of the first shield with only the portion of the storage shelf in which the load is transferred. May be.
  • the present invention it is only necessary to keep the holding space in a clean state, not the entire baggage transport path, so that the cleaning volume can be reduced and the contamination of the baggage can be prevented.
  • FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a clean stocker according to Embodiment 1 of the present invention.
  • FIG. 2 is a diagram illustrating an example of a reticle chamber.
  • FIG. 3 is a diagram showing a state in which a pod containing a reticle is carried into a load port.
  • FIG. 4 is a diagram illustrating a state in which the pod is vertically separated.
  • FIG. 5 is a diagram showing a state immediately after the reticle is taken out from the pod.
  • FIG. 6 is a diagram illustrating a state in which the pods are coupled again.
  • FIG. 7 is a diagram illustrating a schematic configuration of the transfer apparatus.
  • FIG. 8A is a diagram illustrating an operation example of the transfer device inside the shield.
  • FIG. 8A is a diagram illustrating an operation example of the transfer device inside the shield.
  • FIG. 8B is a diagram illustrating an operation example of the transfer device inside the shield.
  • FIG. 8C is a diagram illustrating an operation example of the transfer device inside the shield.
  • FIG. 8D is a diagram illustrating an operation example of the transfer device inside the shield.
  • FIG. 9 is a diagram illustrating a state where the transfer device and the load port face each other.
  • FIG. 10 is a diagram illustrating a state where the transfer device and the reticle chamber face each other.
  • FIG. 11 is a diagram showing a state in which the entrance / exit of the reticle chamber is opened from the state of FIG.
  • FIG. 12 is a schematic configuration diagram of a clean stocker according to Embodiment 2 of the present invention.
  • FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a clean stocker 100 which is an example of an automatic warehouse according to Embodiment 1 of the present invention.
  • the clean stocker 100 includes a storage shelf 110, a load port 120, a transfer device 130, first and second shields 140 and 150, a lifting guide 160, a cleaning processing unit ( A fan filter unit (FFU) 170.
  • the clean stocker 100 is installed in a clean room such as a semiconductor factory or a liquid crystal factory, and separately stores a reticle (baggage) for exposing a semiconductor or a liquid crystal substrate and a pod (case) for storing the reticle. Is done.
  • the storage shelf 110 stores the reticle taken out from the pod.
  • the storage shelf 110 in the example of FIG. 1 includes a plurality of reticle chambers 110a. More specifically, a first row (left side in FIG. 1) and a second row (right side in FIG. 1) configured by arranging a plurality (four in FIG. 1) of reticle chambers 110a in the vertical direction are transferred. It is arranged so as to surround the device 130.
  • FIG. 2 is a view showing an example of the reticle chamber 110a.
  • the reticle chamber 110 a includes a cylindrical inner cover 111 and a cylindrical outer cover 112 that is slightly larger than the inner cover 111. Openings 111a and 112a are formed on the side surfaces of the inner cover 111 and the outer cover 112, respectively.
  • the inner cover 111 includes a shelf for storing a plurality of reticles therein, and is fixed with the opening 111a facing the transfer device 130.
  • the inside of the inner cover 111 is kept in a clean state by the cleaning processing unit 170.
  • the outer cover 112 is disposed so as to cover the inner cover 111 and rotates around the inner cover 111.
  • the reticle cannot be taken in and out (closed state).
  • the outer cover 112 is rotated so that the openings 111a and 112a coincide (the state on the right side in FIG. 2), the reticle can be put in and out (open state). That is, the opening / closing port 113 of the reticle chamber 110a is formed by matching the openings 111a and 112a.
  • the load port 120 functions as an interface for loading and unloading the reticle stored in the pod, and also functions as a pod opener (loading and unloading device) for loading and unloading the reticle with respect to the pod.
  • FIGS. 3 to 6 are diagrams for explaining the operation of the load port 120 functioning as a loading / unloading apparatus.
  • the configuration of the load port 120 and the operation of taking out the reticle from the pod will be described with reference to FIGS. If the following procedure is executed in reverse, the reticle can be stored in the pod, and the description thereof will be omitted.
  • a loading / unloading space 121 is formed in which processing for taking out the reticle from the pod and processing for storing the reticle in the pod are performed.
  • the access space 121 is kept in a clean state by the cleaning processing unit 170.
  • the pod 200 includes a cover 210 and a door 220 that are separable up and down.
  • a plurality of protrusions 221 for supporting the reticle 230 are provided on the upper surface of the door 220.
  • the load port 120 is provided with a locking portion 122 for locking the cover 210 and a mounting portion 123 for mounting the door 220.
  • the placement unit 123 functions as a lifting device that moves up and down while the door 220 is placed.
  • An opening is provided on the upper surface of the load port 120.
  • locking part 122 is provided in the peripheral part of opening.
  • the placement unit 123 is provided inside the load port 120 (that is, the insertion / extraction space 121) and at a position facing the opening provided on the upper surface.
  • the upper surface of the load port 120 and the mounting surface (upper surface) of the mounting portion 123 are positioned on the same plane when the mounting portion 123 is raised most.
  • the pod 200 is placed on the placing portion 123 in the most elevated state. Thereby, the opening of the load port 120 is closed by the pod 200. That is, the entry / exit space 121 strictly refers to a space defined by the load port 120 and the cover 210 of the pod 200.
  • the opening of the load port 120 is slightly larger than the door 220 and smaller than the cover 210. Therefore, when the placement portion 123 with the pod 200 placed is lowered, the door 220 is lowered together with the placement portion 123, and the cover 210 is locked to the locking portion 122, as shown in FIG. The cover 210 and the door 220 are separated vertically.
  • the reticle 230 placed on the door 220 is taken out by the transfer device 130, and the state shown in FIG. 5 is obtained. Then, when the mounting portion 123 moves up with the door 220 mounted, the cover 210 and the door 220 are coupled again as shown in FIG.
  • the empty pod 200 shown in FIG. 6 is unloaded from the load port 120 by a pod transfer device (not shown) and stored in a pod storage shelf (not shown).
  • FIG. 7 is a diagram illustrating an example of the configuration of the transfer device 130.
  • the transfer device 130 includes a holding space 131 for holding the reticle 230 therein, and a slide fork 133 that moves out of the holding space 131 through the opening 132, and the storage shelf 110.
  • the reticle 230 is transferred between the holding space 131 and between the pod 200 and the holding space 131 held in the loading / unloading space 121 of the load port 120.
  • the holding space 131 is kept in a clean state by the cleaning processing unit 170.
  • the transfer device 130 is accommodated in the first shield 140 as shown in FIGS. 8A to 8D.
  • the first shield 140 includes a cylindrical portion 141 that accommodates the transfer device 130, and first to third openings 142, 143, and 144 provided on the side surfaces of the cylindrical portion 141.
  • the first opening 142 is provided at a position facing the load port 120.
  • the second opening 143 is provided at a position facing each reticle chamber 110 a belonging to the first row of the storage shelf 110.
  • the third opening 144 is provided at a position facing each reticle chamber 110 a belonging to the second row of the storage shelf 110.
  • the second opening 143 is at a position of 90 ° clockwise with respect to the first opening 142
  • the third opening 144 is at the first opening 142.
  • it is provided at a position of 180 ° clockwise.
  • the transfer device 130 is accommodated in the cylindrical portion 141 in a state where the transfer device 130 can turn inside the cylindrical portion 141 and can move up and down inside the cylindrical portion 141. Further, the first shield 140 can move up and down along the lifting guide 160 shown in FIG. 1 together with the transfer device 130.
  • the second shield 150 is attached to the outer wall surface of the cylindrical portion 141 of the first shield 140 and moves together with the transfer device 130 and the first shield 140. As shown in FIG. 11, when the second shield 150 moves to a position facing the reticle chamber 110a, it closes the entrance / exit 113 of the reticle and the second and third of the first shield 140. , And a communication hole 151 for selectively communicating only the portion of the loading / unloading port 113 of the reticle chamber 110a where the reticle is transferred.
  • the cleaning processing unit 170 is, for example, a fan filter unit (FFU).
  • the cleaning processing unit 170 supplies CDA purified by a CDA (Clean Dry Air) refining machine installed outside to the inside of the storage shelf 110, the loading / unloading space 121 of the load port 120, and the like through a tube or the like.
  • CDA Compact Dry Air
  • the CDA is not directly supplied from the cleaning processing unit 170 to the holding space of the transfer device 130, but when communicating with the storage shelf 110 or the loading / unloading space 121, the CDA is supplied from these to the clean state.
  • “cleaned by the cleaning processing unit 170” according to the present embodiment means that CDA supplied from the outside is directly or indirectly supplied to each unit through the cleaning processing unit 170 that is FFU. To be done.
  • FIGS. 8A to 8D are diagrams illustrating an example of the operation of the transfer device 130 inside the first shield 140.
  • FIG. 9 to 11 are views showing the positional relationship between the first and second shields 140 and 150 and the reticle chamber 110a. If the following procedure is executed in reverse, the reticle of the storage shelf 110 can be transferred to the load port 120, and the description thereof will be omitted.
  • transfer device 130 and the first and second shields 140 and 150 are connected to the first shield 140.
  • the first opening 142 and the load port 120 are moved along the lifting guide 160 to a position where they face each other.
  • the transfer device 130 is swung inside the cylindrical portion 141 to a position where the opening portion 132 of the holding space 131 and the first opening portion 142 of the first shield 140 face each other.
  • the loading / unloading space 121 of the load port 120 and the holding space 131 of the transfer device 130 communicate with each other through the first opening 142.
  • the transfer device 130 acquires the reticle in the load port 120 with the slide fork 133 and stores it in the holding space 131.
  • the transfer device 130 is moved inside the cylindrical portion 141 until the opening 132 of the holding space 131 and the first to third openings 142, 143, 144 do not face each other. Move upward. As a result, the opening 132 of the holding space 131 is closed by the inner wall surface of the first shield 140.
  • the transfer device 130 is turned inside the cylindrical portion 141 by 90 ° clockwise from the state of FIG. 8B.
  • the opening 132 of the holding space 131 can be turned while being closed by the inner wall surface of the cylindrical portion 141.
  • the transfer device 130 and the like are moved along the lifting guide 160 to a position where the second opening 143 of the first shield 140 and the reticle chamber 110a face each other. More specifically, the communication hole 151 of the second shield 150 and the position of the shelf of the reticle chamber 110a from which the reticle is to be placed face each other.
  • the outer cover 112 of the reticle chamber 110a is rotated so that the openings 111a and 112a coincide with each other, thereby forming an access port 113.
  • the inlet / outlet port 113 of the reticle chamber 110a is closed by the second shield 150 except for the position of the communication hole 151, the amount of CDA flowing out from the reticle chamber 110a can be reduced.
  • the transfer device 130 is moved downward in the cylindrical portion 141 to a position where the opening 132 of the holding space 131 and the second opening 143 of the first shield 140 face each other. Move to. Accordingly, the reticle chamber 110a and the holding space 131 of the transfer device 130 communicate with each other through the first opening 142 and the communication hole 151. Then, the transfer device 130 transfers the reticle in the holding space 131 to the storage shelf 110 by the slide fork 133.
  • the space maintained in the clean state by the cleaning processing unit 170 can be limited to the inside of the reticle chamber 110a, the loading / unloading space 121 of the load port 120, and the holding space 131 of the transfer device 130. That is, unlike the conventional clean stocker, it is not necessary to keep the entire reticle transport path in a clean state, so that the cleaning volume can be reduced. As a result, storage cost can be reduced and reticle contamination can be efficiently prevented.
  • the order of each of the above processes may be partially exchanged. Specifically, after the transfer device 130 or the like is raised to the position of the reticle chamber 110a, the transfer device 130 in the first shield 140 may be swung from the state of FIG. 8B to the state of FIG. 8C. . 8B shows an example in which the transfer device 130 is raised inside the cylindrical portion 141, and FIG. 8D shows an example in which the transfer device 130 is lowered inside the cylindrical portion 141. However, before the transfer device 130 is turned, FIG. It may be lowered and then raised after turning.
  • FIG. 12 is a schematic configuration diagram of a clean stocker 100 that is an example of the automatic warehouse according to the first embodiment of the present invention.
  • description of a common point with Embodiment 1 is abbreviate
  • the load port 120 and the transfer device 130 move together.
  • the loading / unloading space 121 of the load port 120 and the holding space 131 of the transfer device 130 are in communication with each other.
  • the first shield 140 covers the load port 120 and the entire transfer device 130 so as to close the loading / unloading space 121 and the holding space 131 that communicate with each other.
  • the cleaning process part 170 (illustration omitted in FIG. 12) keeps these spaces in a clean state by supplying CDA to the communicating space 121 and the holding space 131.
  • the reticle taken out from the case at the load port 120 can be transported to the storage shelf 110 without being taken out from the clean space.
  • the structure of each component can be simplified as compared with the first embodiment. That is, the first shield 140 has a cylindrical shape, and there is no need to turn the transfer device 130 inside.
  • the storage shelf 110 may be a rotating shelf as in the prior art.
  • the present invention can be applied to an automatic warehouse for storing any luggage that needs to be stored in a clean space.
  • the present invention is advantageously used in an automatic warehouse that holds luggage in a clean space.

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Abstract

　自動倉庫の一例であるクリーンストッカ（１００）は、複数の荷物を保管する保管棚（１１０）と、ケースを保持し、保持されたケースに対して荷物を出し入れするための出し入れ空間を有するロードポート（１２０）と、荷物を保持するための空間であって、清浄状態に保たれている保持空間を有し、保持空間と保管棚（１１０）及び出し入れ空間に保持されたケースとの間で荷物を移載する移載装置（１３０）と、保持空間を閉鎖し、移載装置（１３０）と一体となって移動する第１のシールド（１４０）とを備える。

Description

自動倉庫
　本発明は、自動倉庫に関し、特に、清浄空間内で荷物を保持する自動倉庫に関するものである。
　従来から電子部品の製造等に用いられるレチクルは、クリーンルーム内に設置されたクリーンストッカに保管されている（例えば、特許文献１参照）。このようなクリーンストッカでは、レチクルをポッドから取り出した状態で保管するので、筐体の内部を揮発性不純物を除去した雰囲気に保っておく必要がある。
　そこで、特許文献１に開示されているクリーンストッカは、筐体の内部への揮発性不純物の侵入を防止するために、筐体の上部に設置されたクリーンガス供給部からクリーンガスを供給している。
特開２００８－３０９１４号公報
　しかしながら、上記従来の構成では、ポッドから取り出されたレチクルを保持又は搬送するための空間、すなわち、ポッドオープナー内部、回転棚内部、及びポッドオープナーと回転棚との間の空間（レチクルの搬送経路）の全てにクリーンガスを供給する必要が生じる。
　ここで、上記のクリーンガス供給部に用いられるケミカルフィルタは、非常に高額な消耗品であり、その寿命は、送風量が多い程短くなる。すなわち、上記の全ての空間にクリーンガスを供給しようとすると、短期間でケミカルフィルタを交換せねばならず、結果として、保管コストが増大する。また、筐体の内部を、揮発性不純物に加えてさらに水分をも除去した雰囲気（以下、「清浄空間」と標記する）に保とうとすると、さらに保管コストが増大する。
　本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、荷物を清浄空間内で効率よく保管することのできる自動倉庫を提供することを目的とする。
　本発明の一形態に係る自動倉庫は、荷物をケースに収納して入出庫する。具体的には、複数の前記荷物を保管する保管棚と、前記ケースを保持し、保持された前記ケースに対して前記荷物を出し入れするための出し入れ空間を有するロードポートと、前記荷物を保持するための空間であって、清浄状態に保たれている保持空間を有し、前記保持空間と前記保管棚及び前記出し入れ空間に保持された前記ケースとの間で前記荷物を移載する移載装置と、前記保持空間を閉鎖し、前記移載装置と一体となって移動する第１のシールドとを備える。
　上記構成によれば、荷物の搬送経路全体ではなく、保持空間のみを清浄状態に保っておけばよい。その結果、清浄化容積を小さくすることができるので、保管コストを抑制し、効率良く荷物を保管することができる。
　なお、本明細書中の「閉鎖」とは、不純物が空間内に侵入するのを防止できる状態であれば、必ずしも空間を密閉していなくてもよい。例えば、上記の例では、第１のシールドが保持空間の開口部を密閉して、不純物の侵入を防止してもよい。又は、第１のシールドが保持空間の開口部と僅かな隙間を隔てて配置され、その隙間から保持空間内のクリーンガスを常時流出させることによって、不純物の侵入を防止するものであってもよい。
　一形態として、前記ロードポートは、前記移載装置の前記保持空間と前記出し入れ空間とが連通するように、前記移載装置と一体となって移動してもよい。前記第１のシールドは、連通する前記保持空間及び前記出し入れ空間を閉鎖することによって、連通する前記保持空間及び前記出し入れ空間を清浄状態に保ってもよい。
　上記構成によれば、ロードポートでケースから取り出された荷物を、清浄空間から取り出すことなく保管棚まで搬送することが可能となる。その結果、清浄化容積を小さくすることができると共に、荷物の汚染を有効に防止することができる。
　他の形態として、前記第１のシールドは、内部に前記移載装置を旋回可能な状態で収容する円筒部と、前記円筒部の側面の前記ロードポートに対面する位置に第１の開口部と、前記円筒部の側面の前記保管棚に対面する位置に第２の開口部とを備えてもよい。そして、前記移載装置は、前記保持空間の開口部と前記第１の開口部とが対面する位置まで旋回した状態で、前記保持空間と前記ロードポートとの間で前記荷物を移載し、前記保持空間の開口部と前記第２の開口部とが対面する位置まで旋回した状態で、前記保持空間と前記保管棚との間で前記荷物を移載し、前記保持空間の開口部と前記円筒部の内側壁面とが対面する位置まで旋回し、前記保持空間が閉鎖された状態で前記第１のシールドと一体となって移動してもよい。
　上記構成によれば、移載装置を第１のシールドの内部で旋回させることにより、移載時のみ保持空間の開口部を露出させ、移動時には保持空間を閉鎖することができる。その結果、清浄化容積を小さくすることができると共に、荷物の汚染を有効に防止することができる。
　さらに、前記移載装置は、前記円筒部の内部で上下方向に移動可能であり、前記円筒部の内部で旋回するのに先立って、前記保持空間の開口部と前記第１及び第２の開口部とが対面しない位置まで上昇又は降下してもよい。これにより、移載装置を旋回させている最中に、開口部が露出するのを防止できる。
　さらに、該自動倉庫は、前記円筒部の外側壁面に取り付けられて、前記移載装置及び前記第１のシールドと一体となって移動すると共に、前記保管棚に対面する位置に移動したときに、前記保管棚の前記荷物の出し入れ口を閉鎖する第２のシールドを備えてもよい。そして、前記第２のシールドは、前記第１のシールドの前記第２の開口部と、前記保管棚の出し入れ口のうち前記荷物を移載する部分のみとを選択的に連通させる連通孔を備えてもよい。これにより、保管棚の出し入れ口の開口面積を必要最小限に留めることができるので、荷物の汚染をさらに有効に防止することができる。
　本発明によれば、荷物の搬送経路全体ではなく、保持空間のみを清浄状態に保てばよいので、清浄化容積を小さくすることができると共に、荷物の汚染を防止することができる。
図１は、本発明の実施の形態１に係るクリーンストッカの概略構成図である。 図２は、レチクルチャンバーの一例を示す図である。 図３は、ロードポートにレチクル入りのポッドが搬入された状態を示す図である。 図４は、ポッドが上下に分離した状態を示す図である。 図５は、ポッドからレチクルが取り出された直後の状態を示す図である。 図６は、ポッドが再度結合された状態を示す図である。 図７は、移載装置の概略構成を示す図である。 図８Ａは、シールド内部における移載装置の動作例を示す図である。 図８Ｂは、シールド内部における移載装置の動作例を示す図である。 図８Ｃは、シールド内部における移載装置の動作例を示す図である。 図８Ｄは、シールド内部における移載装置の動作例を示す図である。 図９は、移載装置とロードポートとが対面した状態を示す図である。 図１０は、移載装置とレチクルチャンバーとが対面した状態を示す図である。 図１１は、図１０の状態からレチクルチャンバーの出し入れ口が開放された状態を示す図である。 図１２は、本発明の実施の形態２に係るクリーンストッカの概略構成図である。
　以下、図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。
　（実施の形態１）
　図１は、本発明の実施の形態１に係る自動倉庫の一例であるクリーンストッカ１００の概略構成図である。クリーンストッカ１００は、図１に示されるように、保管棚１１０と、ロードポート１２０と、移載装置１３０と、第１及び第２のシールド１４０、１５０と、昇降ガイド１６０と、清浄処理部（ファンフィルタユニット：ＦＦＵ）１７０とを主に備える。このクリーンストッカ１００は、半導体工場又は液晶工場などのクリーンルーム内に設置されるものであり、半導体又は液晶基板の露光用のレチクル（荷物）と、レチクルを収納するポッド（ケース）とが別々に保管される。
　保管棚１１０は、ポッドから取り出されたレチクルを保管する。保管棚１１０の具体的な構成は特に限定されないが、図１の例における保管棚１１０は、複数のレチクルチャンバー１１０ａによって構成されている。より具体的には、複数（図１では４個）のレチクルチャンバー１１０ａを縦方向に並べて構成される第１列（図１の左側）と第２列（図１の右側）とが、移載装置１３０を囲むように配置されている。
　図２は、レチクルチャンバー１１０ａの一例を示す図である。レチクルチャンバー１１０ａは、図２に示されるように、円筒形状の内側カバー１１１と、内側カバー１１１より僅かに大きい円筒形状の外側カバー１１２とで構成される。内側カバー１１１及び外側カバー１１２の側面には、それぞれ開口部１１１ａ、１１２ａが形成されている。
　内側カバー１１１は、複数のレチクルを収納する棚を内部に備え、開口部１１１ａを移載装置１３０の方向に向けて固定されている。そして、内側カバー１１１の内部は、清浄処理部１７０によって清浄状態に保たれている。外側カバー１１２は、内側カバー１１１を覆うように配置され、内側カバー１１１の周りを回転する。
　そして、開口部１１１ａ、１１２ａがずれた位置関係となるように外側カバー１１２を回転させると（図２の左側の状態）、レチクルの出し入れが不可能な状態（閉鎖状態）となる。一方、開口部１１１ａ、１１２ａが一致するように外側カバー１１２を回転させると（図２の右側の状態）、レチクルの出し入れが可能な状態（開放状態）となる。つまり、開口部１１１ａ、１１２ａを一致させることによって、レチクルチャンバー１１０ａの出し入れ口１１３が形成される。
　ロードポート１２０は、ポッドに収納された状態のレチクルを入出庫するインタフェースとして機能すると共に、ポッドに対してレチクルを出し入れするポッドオープナー（出し入れ装置）としても機能する。
　図３～図６は、出し入れ装置として機能するロードポート１２０の動作を説明するための図である。図３～図６を参照して、ロードポート１２０の構成、及びポッドからレチクルを取り出す動作を説明する。なお、下記の手順を反対に実行すれば、レチクルをポッドに収納することができるので、説明は省略する。
　まず、ロードポート１２０の内部には、ポッドからレチクルを取り出す処理、及びポッドにレチクルを収納する処理が行われる出し入れ空間１２１が形成されている。また、この出し入れ空間１２１は、清浄処理部１７０によって清浄状態に保たれている。
　ポッド２００は、図３に示されるように、上下に分離可能なカバー２１０及びドア２２０で構成される。また、ドア２２０の上面には、レチクル２３０を支持するための複数の突起２２１が設けられている。
　一方、ロードポート１２０には、カバー２１０を係止する係止部１２２と、ドア２２０を載置する載置部１２３とが設置されている。なお、載置部１２３は、ドア２２０が載置されている状態で上下に昇降する昇降装置として機能する。
　ロードポート１２０の上面には、開口が設けられている。そして、係止部１２２は、開口の周縁部に設けられる。また、載置部１２３は、ロードポート１２０の内部（すなわち、出し入れ空間１２１）で、且つ上面に設けられた開口に対面する位置に設けられている。ロードポート１２０の上面と載置部１２３の載置面（上面）とは、載置部１２３が最も上昇したときに、同一平面上に位置するようになる。
　そして、ポッド２００は、最も上昇した状態の載置部１２３に載置される。これにより、ロードポート１２０の開口がポッド２００によって閉鎖される。すなわち、出し入れ空間１２１とは、厳密には、ロードポート１２０とポッド２００のカバー２１０とで区画される空間を指す。
　そして、ロードポート１２０の開口は、ドア２２０より僅かに大きく、且つカバー２１０より小さい。そのため、ポッド２００を載置した状態の載置部１２３が降下すると、ドア２２０は載置部１２３と共に降下し、カバー２１０は係止部１２２に係止されて、図４に示されるように、カバー２１０とドア２２０とが上下に分離する。
　次に、ドア２２０に載置されたレチクル２３０が移載装置１３０によって取り出され、図５の状態となる。そして、載置部１２３がドア２２０を載置した状態で上昇することにより、図６に示されるように、カバー２１０とドア２２０とが再び結合される。図６に示される空のポッド２００は、ポッド搬送装置（図示省略）によってロードポート１２０から搬出され、ポッド保管棚（図示省略）に保管される。
　移載装置１３０は、保管棚１１０とロードポート１２０との間でレチクルを移載する。図７は、移載装置１３０の構成の一例を示す図である。移載装置１３０は、図７に示されるように、内部にレチクル２３０を保持するための保持空間１３１を有し、開口部１３２を通じて保持空間１３１から出退するスライドフォーク１３３によって、保管棚１１０と保持空間１３１との間、及びロードポート１２０の出し入れ空間１２１に保持されているポッド２００と保持空間１３１との間でレチクル２３０を移載する。また、保持空間１３１は、清浄処理部１７０によって清浄状態に保たれている。
　そして、この移載装置１３０は、図８Ａ～図８Ｄに示されるように、第１のシールド１４０の内部に収容されている。第１のシールド１４０は、移載装置１３０を収容する円筒部１４１と、円筒部１４１の側面に設けられた第１～第３の開口部１４２、１４３、１４４とで構成される。
　第１の開口部１４２は、ロードポート１２０に対面する位置に設けられている。第２の開口部１４３は、保管棚１１０の第１列に属する各レチクルチャンバー１１０ａに対面する位置に設けられている。第３の開口部１４４は、保管棚１１０の第２列に属する各レチクルチャンバー１１０ａに対面する位置に設けられている。なお、図８Ａ～図８Ｄの例では、第２の開口部１４３は第１の開口部１４２に対して時計回りに９０°の位置に、第３の開口部１４４は第１の開口部１４２に対して時計回りに１８０°の位置に、それぞれ設けられている。
　移載装置１３０は、円筒部１４１の内部で旋回することができる共に、円筒部１４１の内部で上下に移動することができる状態で、円筒部１４１に収容されている。また、第１のシールド１４０は、移載装置１３０と一体となって、図１に示される昇降ガイド１６０に沿って上下に移動することができる。
　第２のシールド１５０は、図９に示されるように、第１のシールド１４０の円筒部１４１の外側壁面に取り付けられて、移載装置１３０及び第１のシールド１４０と一体となって移動する。この第２のシールド１５０は、図１１に示されるように、レチクルチャンバー１１０ａに対面する位置に移動したときに、レチクルの出し入れ口１１３を閉鎖すると共に、第１のシールド１４０の第２及び第３の開口部１４３、１４４と、レチクルチャンバー１１０ａの出し入れ口１１３のうちレチクルを移載する部分のみとを選択的に連通させる連通孔１５１を備える。
　清浄処理部１７０は、例えば、ファンフィルタユニット（ＦＦＵ）である。この清浄処理部１７０は、外部に設置されたＣＤＡ（Ｃｌｅａｎ　Ｄｒｙ　Ａｉｒ）精製機で精製されたＣＤＡをチューブ等を介して保管棚１１０の内部、及びロードポート１２０の出し入れ空間１２１等に供給する。これによって、保管棚１１０の内部及出し入れ空間１２１が清浄状態に保たれる。また、移載装置１３０の保持空間には、清浄処理部１７０から直接ＣＤＡが供給されるわけではないが、保管棚１１０又は出し入れ空間１２１と連通する際に、これらからＣＤＡが供給されて清浄状態に保たれる。すなわち、本実施の形態に係る「清浄処理部１７０によって清浄状態に保たれている」とは、外部から供給されるＣＤＡが、ＦＦＵである清浄処理部１７０を通じて、直接又は間接的に各部に供給されることを指す。
　ここで、図８Ａ～図８Ｄ、及び図９～図１１を参照して、ロードポート１２０のレチクルを保管棚１１０に移載する際の移載装置１３０の動作の一例を説明する。図８Ａ～図８Ｄは、第１のシールド１４０の内部における移載装置１３０の動作例を示す図である。図９～図１１は、第１及び第２のシールド１４０、１５０とレチクルチャンバー１１０ａとの位置関係を示す図である。なお、下記の手順を反対に実行すれば、保管棚１１０のレチクルをロードポート１２０に移載することができるので、説明は省略する。
　まず、図９に示されるように、移載装置１３０と第１及び第２のシールド１４０、１５０（以下、「移載装置１３０等」と表記する。）とを、第１のシールド１４０の第１の開口部１４２とロードポート１２０（図９では図示省略）とが対面する位置まで昇降ガイド１６０に沿って移動させる。
　次に、図８Ａに示されるように、保持空間１３１の開口部１３２と第１のシールド１４０の第１の開口部１４２とが対面する位置まで、円筒部１４１の内部で移載装置１３０を旋回させる。これにより、第１の開口部１４２を通じて、ロードポート１２０の出し入れ空間１２１と移載装置１３０の保持空間１３１とが連通する。そして、移載装置１３０は、スライドフォーク１３３によってロードポート１２０内のレチクルを取得し、保持空間１３１内に収納する。
　次に、図８Ｂに示されるように、保持空間１３１の開口部１３２と第１～第３の開口部１４２、１４３、１４４とが対面しない位置まで、円筒部１４１の内部で移載装置１３０を上方向に移動させる。これにより、保持空間１３１の開口部１３２は、第１のシールド１４０の内側壁面によって閉鎖された状態となる。
　次に、図８Ｃに示されるように、図８Ｂの状態から時計回りに９０°だけ、円筒部１４１の内部で移載装置１３０を旋回させる。なお、旋回に先立って移載装置１３０を上昇させておくことにより、保持空間１３１の開口部１３２を円筒部１４１の内側壁面で閉鎖したまま旋回させることができる。その結果、清浄処理部１７０から供給されているＣＤＡが保持空間１３１から流出するのを防止することができる。
　次に、図１０に示されるように、第１のシールド１４０の第２の開口部１４３とレチクルチャンバー１１０ａとが対面する位置まで、移載装置１３０等を昇降ガイド１６０に沿って移動させる。より具体的には、第２のシールド１５０の連通孔１５１と、これからレチクルを載置しようとしているレチクルチャンバー１１０ａの棚の位置とが対面するようにする。
　また、図１１に示されるように、開口部１１１ａ、１１２ａを一致させるようにレチクルチャンバー１１０ａの外側カバー１１２を回転させて、出し入れ口１１３を形成する。ここで、レチクルチャンバー１１０ａの出し入れ口１１３は、連通孔１５１の位置を除いて第２のシールド１５０によって閉鎖されているので、レチクルチャンバー１１０ａから流出するＣＤＡの量を少なくすることができる。
　そして、図８Ｄに示されるように、保持空間１３１の開口部１３２と第１のシールド１４０の第２の開口部１４３とが対面する位置まで、円筒部１４１の内部で移載装置１３０を下方向に移動させる。これにより、第１の開口部１４２及び連通孔１５１を通じて、レチクルチャンバー１１０ａと移載装置１３０の保持空間１３１とが連通する。そして、移載装置１３０は、スライドフォーク１３３によって、保持空間１３１内のレチクルを保管棚１１０に移載する。
　上記構成によれば、清浄処理部１７０によって清浄状態に保たれる空間を、レチクルチャンバー１１０ａの内部、ロードポート１２０の出し入れ空間１２１、及び移載装置１３０の保持空間１３１に限定することができる。つまり、従来のクリーンストッカのように、レチクルの搬送経路全体を清浄状態に保っておく必要がなくなるので、清浄化容積を小さくすることができる。その結果、保管コストを低減し、レチクルの汚染を効率良く防止することができる。
　なお、上記の説明は一例であり、これに限定されるものではない。例えば、上記の各処理の順序を一部入れ替えてもよい。具体的には、移載装置１３０等をレチクルチャンバー１１０ａの位置まで上昇させてから、第１のシールド１４０内の移載装置１３０を、図８Ｂの状態から図８Ｃの状態まで旋回させてもよい。また、図８Ｂでは移載装置１３０を円筒部１４１の内部で上昇させ、図８Ｄでは移載装置１３０を円筒部１４１の内部で降下させる例を示したが、移載装置１３０を旋回させる前に降下させ、旋回させた後に上昇させてもよい。
　（実施の形態２）
　図１２は、本発明の実施の形態１に係る自動倉庫の一例であるクリーンストッカ１００の概略構成図である。なお、実施の形態１との共通点の説明は省略し、相違点を中心に説明する。
　図１２に示されるクリーンストッカ１００においては、ロードポート１２０と移載装置１３０とが一体として移動する。また、ロードポート１２０の出し入れ空間１２１と、移載装置１３０の保持空間１３１とは、互いに連通している。また、第１のシールド１４０は、互いに連通する出し入れ空間１２１及び保持空間１３１を閉鎖するように、ロードポート１２０及び移載装置１３０全体を覆っている。そして、清浄処理部１７０（図１２では図示省略）は、連通する出し入れ空間１２１及び保持空間１３１にＣＤＡを供給することにより、これらの空間を清浄状態に保つ。
　上記構成によれば、ロードポート１２０でケースから取り出されたレチクルを、清浄空間から取り出すことなく保管棚１１０まで搬送することが可能となる。また、実施の形態１と比較して、各構成要素の構造を簡略化することができる。つまり、第１のシールド１４０を円筒形状とし、その内部で移載装置１３０を旋回させる必要もない。また、保管棚１１０は、従来と同様に回転棚であってもよい。
　なお、上記の各実施の形態１、２では、レチクルを保管するクリーンストッカ１００の例を示したが、本発明はこれに限定されない。つまり、本発明は、清浄空間内で保管する必要のあるあらゆる荷物を保管する自動倉庫に適用することができる。
　以上、図面を参照してこの発明の実施形態を説明したが、この発明は、図示した実施形態のものに限定されない。図示した実施形態に対して、この発明と同一の範囲内において、あるいは均等の範囲内において、種々の修正や変形を加えることが可能である。
　本発明は、清浄空間内で荷物を保持する自動倉庫に有利に利用される。
　１００　クリーンストッカ
　１１０　保管棚
　１１０ａ　レチクルチャンバー
　１１１　内側カバー
　１１１ａ，１１２ａ，１３２　開口部
　１１２　外側カバー
　１１３　出し入れ口
　１２０　ロードポート
　１２１　出し入れ空間
　１２２　係止部
　１２３　載置部
　１３０　移載装置
　１３１　保持空間
　１３３　スライドフォーク
　１４０　第１のシールド
　１４１　円筒部
　１４２　第１の開口部
　１４３　第２の開口部
　１４４　第３の開口部
　１５０　第２のシールド
　１５１　連通孔
　１６０　昇降ガイド
　１７０　清浄処理部
　２００　ポッド
　２１０　カバー
　２２０　ドア
　２２１　突起
　２３０　レチクル

Claims (5)

  1. 　荷物をケースに収納して入出庫する自動倉庫であって、
    　複数の前記荷物を保管する保管棚と、
    　前記ケースを保持し、保持された前記ケースに対して前記荷物を出し入れするための出し入れ空間を有するロードポートと、
    　前記荷物を保持するための空間であって、清浄状態に保たれている保持空間を有し、前記保持空間と前記保管棚及び前記出し入れ空間に保持された前記ケースとの間で前記荷物を移載する移載装置と、
    　前記保持空間を閉鎖し、前記移載装置と一体となって移動する第１のシールドとを備える
    　自動倉庫。
  2. 　前記ロードポートは、前記移載装置の前記保持空間と前記出し入れ空間とが連通するように、前記移載装置と一体となって移動し、
    　前記第１のシールドは、連通する前記保持空間及び前記出し入れ空間を閉鎖することによって、連通する前記保持空間及び前記出し入れ空間を清浄状態に保つ
    　請求項１に記載の自動倉庫。
  3. 　前記第１のシールドは、内部に前記移載装置を旋回可能な状態で収容する円筒部と、前記円筒部の側面の前記ロードポートに対面する位置に第１の開口部と、前記円筒部の側面の前記保管棚に対面する位置に第２の開口部とを備え、
    　前記移載装置は、
    　前記保持空間の開口部と前記第１の開口部とが対面する位置まで旋回した状態で、前記保持空間と前記ロードポートとの間で前記荷物を移載し、
    　前記保持空間の開口部と前記第２の開口部とが対面する位置まで旋回した状態で、前記保持空間と前記保管棚との間で前記荷物を移載し、
    　前記保持空間の開口部と前記円筒部の内側壁面とが対面する位置まで旋回し、前記保持空間が閉鎖された状態で前記第１のシールドと一体となって移動する
    　請求項１に記載の自動倉庫。
  4. 　前記移載装置は、さらに、前記円筒部の内部で上下方向に移動可能であり、
    　前記円筒部の内部で旋回するのに先立って、前記保持空間の開口部と前記第１及び第２の開口部とが対面しない位置まで上昇又は降下する
    　請求項３に記載の自動倉庫。
  5. 　該自動倉庫は、さらに、前記円筒部の外側壁面に取り付けられて、前記移載装置及び前記第１のシールドと一体となって移動すると共に、前記保管棚に対面する位置に移動したときに、前記保管棚の前記荷物の出し入れ口を閉鎖する第２のシールドを備え、
    　前記第２のシールドは、前記第１のシールドの前記第２の開口部と、前記保管棚の出し入れ口のうち前記荷物を移載する部分のみとを選択的に連通させる連通孔を備える
    　請求項３又は４に記載の自動倉庫。
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