WO2012098817A1 - Ｆｅ基非晶質合金粉末、及び前記Ｆｅ基非晶質合金粉末を用いた圧粉コア、ならびにコイル封入圧粉コア - Google Patents

Ｆｅ基非晶質合金粉末、及び前記Ｆｅ基非晶質合金粉末を用いた圧粉コア、ならびにコイル封入圧粉コア Download PDF

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powder
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景子 土屋
岡本　淳
寿人 小柴
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アルプス・グリーンデバイス株式会社
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    • H01F2017/048—Fixed inductances of the signal type  with magnetic core with encapsulating core, e.g. made of resin and magnetic powder

Definitions

  • the present invention relates to an Fe-based amorphous alloy powder applied to a dust core such as a transformer or a power choke coil and a coil-embedded dust core, for example.
  • the stress strain at the time of powder formation of the Fe-based amorphous alloy powder and the stress strain at the time of compacting the core are compared with the powder core in which the Fe-based amorphous alloy powder is formed into the target shape by the binder.
  • heat treatment is performed after the core molding.
  • the heat treatment temperature actually applied to the core compact cannot be set to a very high temperature in consideration of the heat resistance of the coated conductor or the binder, so the glass transition temperature of the Fe-based amorphous alloy powder ( It was necessary to keep Tg) low. At the same time, it was necessary to improve corrosion resistance and to have excellent magnetic properties.
  • JP 2007-231415 A Japanese Patent Laid-Open No. 2008-520832 JP 2009-174034 A JP 2005-307291 A JP 2009-54615 A JP 2009-293099 A JP 63-117406 A US Patent Application Publication No. 2007/0258842
  • the present invention is to solve the above-described conventional problems, and in particular, a dust core or a coil-enclosed dust core having a low glass transition temperature (Tg) and excellent corrosion resistance and high magnetic permeability and low core loss.
  • An object of the present invention is to provide an Fe-based amorphous alloy powder for use.
  • the Fe-based amorphous alloy powder in the present invention is Composition formula, represented by (Fe 100-abcxyzt Ni a Sn b Cr c P x C y B z Si t) 100- ⁇ M ⁇ , 0at% ⁇ a ⁇ 10at%, 0at% ⁇ b ⁇ 3at%, 0at% ⁇ c ⁇ 6 at%, 6.8 at% ⁇ x ⁇ 10.8 at%, 2.2 at% ⁇ y ⁇ 9.8 at%, 0 at% ⁇ z ⁇ 4.2 at%, 0 at% ⁇ t ⁇ 3.9 at%
  • the metal element M is selected from at least one of Ti, Al, Mn, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Mo, and W, and the addition amount ⁇ of the metal element M is 0.04 wt% ⁇ ⁇ ⁇ 0.6 wt%.
  • the additive amount z of B is 0 at% ⁇ z ⁇ 2 at%
  • the additive amount t of Si is 0 at% ⁇ t ⁇ 1 at%
  • the additive amount z of B and the additive amount t of Si are
  • the added z + t is preferably 0 at% ⁇ z + t ⁇ 2 at%.
  • the addition amount z of B is larger than the addition amount t of Si.
  • Tg glass transition temperature
  • the addition amount ⁇ of the metal element M is preferably 0.1 wt% ⁇ ⁇ ⁇ 0.6 wt%. Thereby, it is possible to stably obtain a high magnetic permeability ⁇ .
  • the metal element M preferably contains at least Ti. Thereby, an effective thin passive layer can be stably formed on the powder surface, and excellent magnetic properties can be obtained.
  • the metal element M can also be made into the form containing Ti, Al, and Mn.
  • the addition amount a of Ni is preferably in the range of 0 at% ⁇ a ⁇ 6 at%.
  • the Sn addition amount b is preferably in the range of 0 at% ⁇ b ⁇ 2 at%. Increasing the amount of Sn increases the O 2 concentration of the powder and causes a decrease in corrosion resistance. Therefore, in order to suppress the decrease in corrosion resistance and increase the ability to form amorphous, the additive amount b of Sn is 2 at% or less It is preferable that
  • the addition amount c of Cr is preferably in the range of 0 at% ⁇ c ⁇ 2 at%.
  • Tg glass transition temperature
  • the addition amount x of P is preferably in the range of 8.8 at% ⁇ x ⁇ 10.8 at%.
  • the aspect ratio of the powder is greater than 1 and 1.4 or less. Thereby, the magnetic permeability ⁇ of the core can be increased.
  • the powder aspect ratio is preferably 1.2 or more and 1.4 or less.
  • the magnetic permeability ⁇ of the core can be stably increased.
  • the concentration of the metal element M is preferably higher in the powder surface layer than in the powder.
  • the metal element M can aggregate on the powder surface layer to form a passive layer.
  • the concentration of the metal element M in the powder surface layer is higher than the concentration of Si.
  • the addition amount ⁇ of the metal element M is zero or the addition amount ⁇ is less than that of the present invention, the Si concentration is increased on the powder surface. At this time, the thickness of the passive layer tends to be thicker than that of the present invention.
  • the amount of Si added is reduced to 3.9 at% or less (addition amount in Fe—Ni—Cr—PC—Si), and the highly active metal element M is alloyed with the alloy powder.
  • the metal element M can be agglomerated on the powder surface to form a thin passive layer together with Si and O, and has excellent magnetic properties. It becomes possible to obtain.
  • the powder core in the present invention is characterized in that the powder of the Fe-based amorphous alloy powder described above is solidified and formed with a binder.
  • the stress strain can be appropriately mitigated at a heat treatment temperature lower than the heat resistance temperature of the binder, Since the magnetic permeability ⁇ of the core can be increased and the core loss can be reduced at the same time, a desired high inductance can be obtained with a small number of turns, and heat generation and copper loss of the exothermic dust core can be suppressed.
  • the coil-embedded dust core in the present invention has a dust core formed by solidifying and molding the powder of the Fe-based amorphous alloy powder described above with a binder, and a coil covered with the dust core. It is characterized by being formed.
  • the optimum heat treatment temperature of the core can be lowered, and the core loss can be reduced.
  • an edgewise coil an edgewise coil having a large cross-sectional area of the coil conductor can be used, so that the DC resistance RDc can be reduced, and heat generation and copper loss can be suppressed.
  • the Fe-based amorphous alloy powder of the present invention has high magnetic properties with excellent corrosion resistance as well as low glass transition temperature (Tg).
  • the optimum heat treatment temperature of the core can be lowered, the magnetic permeability ⁇ is improved, and the core loss is reduced. Reduction can be achieved.
  • FIG. 2A is a longitudinal sectional view of the coil-embedded dust core cut along the line AA shown in FIG.
  • An image diagram of a cross section of the Fe-based amorphous alloy powder in the present embodiment XPS analysis result of Fe-based amorphous alloy powder of comparative example (Ti amount is 0.035 wt%), XPS analysis result of Fe-based amorphous alloy powder of Example (Ti amount is 0.25 wt%), Depth profile of AES in Fe-based amorphous alloy powder of comparative example (Ti amount is 0.035 wt%), Depth profile of AES in Fe-based amorphous alloy powder of Example (Ti content is 0.25 wt%), A graph showing the relationship between the amount of Ti added to the Fe-based amorphous alloy powder and the aspect ratio of the powder, A graph showing the relationship between the addition amount of Ti in the Fe-based amorphous alloy powder and the
  • the composition formula is represented by (Fe 100-abcxyzt Ni a Sn b Cr c P x C y B z Si t) 100- ⁇ M ⁇ , 0at% ⁇ a ⁇ 10at %, 0 at% ⁇ b ⁇ 3 at%, 0 at% ⁇ c ⁇ 6 at%, 6.8 at% ⁇ x ⁇ 10.8 at%, 2.2 at% ⁇ y ⁇ 9.8 at%, 0 at% ⁇ z ⁇ 4.2 at %, 0 at% ⁇ t ⁇ 3.9 at%, and the metal element M is made of at least one selected from Ti, Al, Mn, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Mo, W, The addition amount ⁇ of the element M is 0.04 wt% ⁇ ⁇ ⁇ 0.6 wt%.
  • the Fe-based amorphous alloy powder of the present embodiment includes Fe as a main component and Ni, Sn, Cr, P, C, B, Si (however, Ni, Sn, Cr, B, Si Is a soft magnetic alloy formed by adding the metal element M.
  • the Fe-based amorphous alloy powder of the present embodiment has a main phase amorphous phase and ⁇ -Fe by heat treatment during core forming in order to increase the saturation magnetic flux density and adjust the magnetostriction.
  • a mixed phase structure with a crystal phase may be formed.
  • the ⁇ -Fe crystal phase has a bcc structure.
  • the addition amount of B and the addition amount of Si are reduced as much as possible to reduce Tg, and the corrosion resistance that deteriorates due to the decrease in the addition amount of Si is improved by the addition of a small amount of highly active metal element M. Is.
  • the addition amount of Fe contained in the Fe-based amorphous alloy powder of the present embodiment is (100-ab-) in the Fe-Ni-Sn-Cr-PCB-Si in the above composition formula.
  • in the range of about 65.9 at% to 77.4 at% in Fe—Ni—Sn—Cr—P—C—B—Si. is there.
  • high magnetization can be obtained by the addition amount of Fe being high.
  • the addition amount a of Ni contained in Fe—Ni—Sn—Cr—PCB—Si is defined within a range of 0 at% ⁇ a ⁇ 10 at%.
  • the glass transition temperature (Tg) can be lowered, and the converted vitrification temperature (Tg / Tm) and Tx / Tm can be maintained at high values.
  • Tm is a melting point
  • Tx is a crystallization start temperature.
  • Amorphous can be obtained even if the Ni addition amount a is increased to about 10 at%.
  • the addition amount a of Ni exceeds 6 at%, the converted vitrification temperature (Tg / Tm) and Tx / Tm decrease, and the amorphous forming ability decreases.
  • the amount a is preferably in the range of 0 at% ⁇ a ⁇ 6 at%. Furthermore, if the amount a is in the range of 4 at% ⁇ a ⁇ 6 at%, the glass transition temperature (Tg) is stably reduced and high conversion is achieved. It is possible to obtain the vitrification temperature (Tg / Tm) and Tx / Tm.
  • the addition amount b of Sn contained in Fe—Ni—Sn—Cr—PCB—Si is defined within a range of 0 at% ⁇ b ⁇ 3 at%. Even when the Sn addition amount b is increased to about 3 at%, an amorphous state can be obtained. However, the addition of Sn increases the oxygen concentration in the alloy powder, and the addition of Sn tends to lower the corrosion resistance. Therefore, the amount of Sn added is minimized. Further, when the Sn added amount b is about 3 at%, Tx / Tm is greatly reduced and the amorphous forming ability is lowered. Therefore, the preferable range of the Sn added amount b is set to 0 ⁇ b ⁇ 2 at%. Alternatively, the addition amount b of Sn is more preferably in the range of 1 at% ⁇ b ⁇ 2 at%, since it is possible to secure high Tx / Tm.
  • Ni and Sn it is preferable not to add both Ni and Sn to the Fe-based amorphous alloy powder, or to add only one of Ni or Sn.
  • Tg low glass transition temperature
  • Tg / Tm high conversion vitrification temperature
  • the addition amount c of Cr contained in Fe—Ni—Sn—Cr—PCB—Si is defined within a range of 0 at% ⁇ c ⁇ 6 at%.
  • Cr can promote the formation of a passive layer on the powder surface and can improve the corrosion resistance of the Fe-based amorphous alloy powder.
  • the glass transition temperature (Tg) is increased by addition of Cr and the saturation magnetization Is is lowered.
  • the addition amount c of Cr is effective to keep the addition amount c of Cr to the minimum necessary.
  • the addition amount c of Cr within a range of 1 at% ⁇ c ⁇ 2 at%.
  • the glass transition temperature (Tg) can be kept low, and high magnetization can be maintained.
  • the addition amount x of P contained in Fe—Ni—Sn—Cr—PCB—Si is defined within a range of 6.8 at% ⁇ x ⁇ 10.8 at%.
  • the addition amount y of C contained in Fe—Ni—Sn—Cr—P—C—B—Si is defined within the range of 2.2 at% ⁇ y ⁇ 9.8 at%. Amorphous can be obtained by defining the addition amount of P and C within the above range.
  • the glass transition temperature (Tg) of the Fe-based amorphous alloy powder is lowered, and at the same time, the converted vitrification temperature (Tg / Tm) serving as an index of the amorphous forming ability is increased.
  • the converted vitrification temperature (Tg / Tm) serving as an index of the amorphous forming ability is increased.
  • Tg transition temperature
  • Tm melting point
  • the melting point (Tm) can be effectively lowered by adjusting the addition amount x of P in the range of 8.8 at% ⁇ x ⁇ 10.8 at%, and the converted vitrification temperature (Tg / Tm) can be increased.
  • P is known as an element that tends to lower the magnetization in the semimetal, and the addition amount needs to be reduced to some extent in order to obtain high magnetization.
  • the addition amount x of P is 10.8 at%, it is in the vicinity of the eutectic composition (Fe 79.4 P 10.8 C 9.8 ) of the Fe—PC—ternary alloy, so P exceeds 10.8 at%. Addition of this causes an increase in melting point (Tm). Therefore, it is desirable that the upper limit of the addition amount of P is 10.8 at%.
  • Tm melting point
  • Tg / Tm converted vitrification temperature
  • the addition amount y of C within a range of 5.8 at% ⁇ y ⁇ 8.8 at%.
  • the melting point (Tm) can be effectively lowered, the conversion vitrification temperature (Tg / Tm) can be increased, and the magnetization can be maintained at a high value.
  • the addition amount z of B contained in Fe—Ni—Sn—Cr—PCB—Si is defined within the range of 0 at% ⁇ z ⁇ 4.2 at%. Further, the addition amount t of Si contained in Fe—Ni—Sn—Cr—PCB—Si is defined within a range of 0 at% ⁇ t ⁇ 3.9 at%.
  • the addition of Si and B helps improve the amorphous forming ability, but the glass transition temperature (Tg) is likely to rise. Therefore, in this embodiment, in order to make the glass transition temperature (Tg) as low as possible, Si, The amount of addition of B and Si + B is to be minimized. Specifically, the glass transition temperature (Tg) of the Fe-based amorphous alloy powder is set to 740 K (Kelvin) or less.
  • the additive amount z of B is set in a range of 0 at% ⁇ z ⁇ 2 at%
  • the additive amount t of Si is set in a range of 0 at% ⁇ t ⁇ 1 at%
  • the glass transition temperature (Tg) can be suppressed to 710 K or less.
  • the addition amount z of B is larger than the addition amount t of Si within the above composition range.
  • Tg glass transition temperature
  • the amount of Si added is kept as low as possible in order to promote the lowering of Tg, but the corrosion resistance deteriorated by this is improved by adding a small amount of the metal element M.
  • metal element M at least one selected from Ti, Al, Mn, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Mo, and W is selected.
  • the addition amount ⁇ of the metal element M is represented by (Fe—Ni—Sn—Cr—P—C—B—Si) 100- ⁇ M ⁇ in the composition formula, and the addition amount ⁇ is 0.04 wt% or more and 0.6 wt%. The following is preferable.
  • the aspect ratio of the powder can be set larger than 1 and 1.4 or less, preferably 1.1 or more and 1.4 or less.
  • the aspect ratio is indicated by the ratio (d / e) of the major axis d to the minor axis e in the powder shown in FIG.
  • the aspect ratio (d / e) is obtained from a two-dimensional projection view of the powder.
  • the major axis d is the longest part
  • the minor axis e is the shortest part in the direction perpendicular to the major axis d.
  • the aspect ratio is reduced to 0 based on the experimental results described later. It was set larger (preferably 1.1 or more) and 1.4 or less. Thereby, the magnetic permeability ⁇ at 100 MHz of the core can be set to 60 or more, for example.
  • the addition amount ⁇ of the metal element M is preferably in the range of 0.1 wt% to 0.6 wt%.
  • the aspect ratio of the powder can be set to 1.2 or more and 1.4 or less, whereby a magnetic permeability ⁇ of 60 or more can be stably obtained at 100 MHz.
  • the metal element M preferably contains at least Ti.
  • An effective thin passive layer can be stably formed on the powder surface, the aspect ratio of the powder can be appropriately adjusted within the range of more than 1 and 1.4 or less, and excellent magnetic properties can be obtained.
  • the metal element M can include Ti, Al, and Mn.
  • the concentration of the metal element M is higher in the powder surface layer 6 than in the powder interior 5 shown in FIG.
  • the metal element M aggregates in the powder surface layer 6 and can form a passive layer together with Si and O.
  • the metal element M is set in a range of 0.04 wt% or more and 0.6 wt% or less, but the addition amount of the metal element M is zero or the addition amount of the metal element M is less than 0.04 wt%. Then, it is known from experiments described later that the Si concentration is higher than that of the metal element M in the powder surface layer 6. At this time, the thickness of the passive layer is likely to be thicker than in the present embodiment. On the other hand, in this embodiment, the amount of Si added (in Fe—Ni—Sn—Cr—P—C—B—Si) is 3.9 at% or less, and the highly active metal element M is 0.04 wt% or more.
  • the metal element M can be aggregated in the powder surface layer 6 more than Si.
  • the metal element M forms a passive layer on the powder surface layer 6 together with Si and O, but in this embodiment, the passive layer can be formed thinner than when the metal element M is less than 0.04 wt%, It becomes possible to obtain excellent magnetic properties.
  • composition of the Fe-based amorphous alloy powder in this embodiment can be measured by an ICP-MS (high frequency inductively coupled mass spectrometer) or the like.
  • the Fe-based amorphous alloy having the above composition formula is weighed and dissolved, and the molten metal is dispersed and rapidly solidified by a water atomization method or the like to obtain an Fe-based amorphous alloy powder.
  • a thin passive layer can be formed on the powder surface layer 6 of the Fe-based amorphous alloy powder, a part of the metal component is corroded in the powder manufacturing process, and the powder and this are compacted. Thus, it is possible to suppress the deterioration of the characteristics of the dust core.
  • the Fe-based amorphous alloy powder in the present embodiment is applied to, for example, the annular dust core 1 shown in FIG. 1 and the coil-enclosed dust core 2 shown in FIG.
  • a coil-encapsulated core (inductor element) 2 shown in FIGS. 2A and 2B includes a dust core 3 and a coil 4 covered with the dust core 3.
  • binder examples include epoxy resins, silicone resins, silicone rubbers, phenol resins, urea resins, melamine resins, PVA (polyvinyl alcohol), acrylic resins, and other liquid or powder resins, rubbers, water glass ( Na 2 O—SiO 2 ), oxide glass powder (Na 2 O—B 2 O 3 —SiO 2 , PbO—B 2 O 3 —SiO 2 , PbO—BaO—SiO 2 , Na 2 O—B 2 O 3 —ZnO, CaO—BaO—SiO 2 , Al 2 O 3 —B 2 O 3 —SiO 2 , B 2 O 3 —SiO 2 ), glassy substances produced by the sol-gel method (SiO 2 , Al 2 O 3 , ZrO 2 and TiO 2 as main components).
  • the lubricant zinc stearate, aluminum stearate, or the like can be used.
  • the mixing ratio of the binder is 5% by mass or less, and the addition amount of the lubricant is about 0.1% by mass to 1% by mass.
  • the glass transition temperature (Tg) of the Fe-based amorphous alloy powder can be lowered. Therefore, the optimum heat treatment temperature of the core can be lowered as compared with the conventional case.
  • the “optimal heat treatment temperature” is a heat treatment temperature for the core molded body that can effectively relieve stress strain on the Fe-based amorphous alloy powder and minimize the core loss. For example, in an inert gas atmosphere such as N 2 gas or Ar gas, the rate of temperature rise is 40 ° C./min, and when the predetermined heat treatment temperature is reached, the heat treatment temperature is maintained for 1 hour, and the core loss W is minimized. The heat treatment temperature is recognized as the optimum heat treatment temperature.
  • the heat treatment temperature T1 to be applied after the compacting core molding is set to a low temperature below the optimum heat treatment temperature T2 in consideration of the heat resistance of the resin and the like.
  • the heat treatment temperature T1 can be adjusted to about 300 ° C. to 400 ° C.
  • the optimum heat treatment temperature T2 can be made lower than before, so that (optimum heat treatment temperature T2—heat treatment temperature T1 after core molding) can be made smaller than before.
  • the stress strain of the Fe-based amorphous alloy powder can be effectively reduced by the heat treatment at the heat treatment temperature T1 applied after the core forming as compared with the conventional case, and the Fe-based amorphous in the present embodiment. Since the alloy powder maintains high magnetization, it can secure desired inductance, reduce core loss (W), and obtain high power efficiency ( ⁇ ) when mounted on a power source. .
  • the glass transition temperature (Tg) can be set to 740 K or less, and preferably 710 K or less.
  • conversion vitrification temperature (Tg / Tm) can be set to 0.52 or more, Preferably it can set to 0.54 or more, More preferably, it can set to 0.56 or more.
  • the saturation magnetization Is can be set to 1.0 T or more.
  • the optimum heat treatment temperature can be set to 693.15 K (420 ° C.) or less, preferably 673.15 K (400 ° C.) or less.
  • the core loss W can be set to 90 (kW / m 3 ) or less, preferably 60 (kW / m 3 ) or less.
  • the coil 4 can be an edgewise coil.
  • An edgewise coil refers to a coil wound vertically with the short side of a rectangular wire as the inner diameter surface.
  • the stress strain can be appropriately relaxed at a heat treatment temperature lower than the heat resistant temperature of the binder, and the powder core 3 Since the magnetic permeability ⁇ can be increased and the core loss can be reduced, a desired high inductance L can be obtained with a small number of turns.
  • the edgewise coil with a large cross-sectional area of the conductor in each turn can be used for the coil 4, the direct current resistance Rdc can be reduced, and heat generation and copper loss can be suppressed.
  • Fe-based amorphous alloy powder made of 100- ⁇ Ti ⁇ was produced by a water atomization method. Note that the addition amount of each element in Fe—Cr—P—C—B—Si is at%.
  • the molten metal temperature (temperature of the melted alloy) at the time of obtaining the powder was 1500 ° C., and the water ejection pressure was 80 MPa. The above atomizing conditions were the same in the experiments described later other than this experiment.
  • FIGS. 4 shows the experimental results for the comparative Fe-based amorphous alloy powder
  • FIG. 5 shows the experimental results for the Fe-based amorphous alloy powder of the example.
  • FIG. 6 is a depth profile by Auger electron analysis optical method (AES) performed using the Fe-based amorphous alloy powder of the above comparative example
  • FIG. 7 is the Fe-based amorphous alloy powder of the above-described example. It is a depth profile by the Auger electron analysis optical method (AES) performed using this.
  • the leftmost of the horizontal axis in each figure is the analysis result on the powder surface, and the analysis result at the position where the powder enters the powder (toward the center of the powder) toward the right side.
  • the Ti concentration did not change much from the powder surface to the inside of the powder and was low overall.
  • the Si concentration was higher than the Ti concentration on the surface side of the powder. It was found that the Si concentration gradually decreased toward the inside of the powder, and the difference from the Ti concentration was reduced. It was found that O aggregated on the powder surface side, and the concentration inside the powder was very small. It was also found that the concentration of Fe gradually increased from the powder surface toward the inside of the powder, and the concentration was almost constant from a certain depth. It was found that the Cr concentration did not change much from the powder surface to the inside of the powder.
  • the Ti concentration was high on the powder surface side and gradually decreased toward the inside of the powder.
  • the Ti concentration was higher than the Si concentration, resulting in a concentration distribution result different from the comparative example of FIG.
  • O agglomerates on the powder surface side, and this is the same in FIGS. 6 and 7, but in the embodiment of FIG. 7, the depth position until the maximum concentration of O is halved as compared with the comparative example of FIG. 7 is closer to the powder surface, that is, it was found that the film thickness of the passive layer can be formed thinner in the example of FIG. 7 than in the comparative example of FIG.
  • the Fe concentration change in the example of FIG. 7 gradually increases from the powder surface toward the inside of the powder as compared with the comparative example of FIG. It was found that the Cr concentration in the example of FIG. 7 is not much different from that of the comparative example of FIG.
  • Fe-based amorphous alloy powder made of 100- ⁇ Ti ⁇ was produced by a water atomization method. Note that the addition amount of each element in Fe—Cr—P—C—B—Si is at%. In addition, each Fe-based amorphous material having an addition amount ⁇ of Ti of 0.035 wt%, 0.049 wt%, 0.094 wt%, 0.268 wt%, 0.442 wt%, 0.595 wt%, and 0.805 wt% Alloy powder was used.
  • the aspect ratio of the powder gradually increased as the additive amount ⁇ of Ti was increased.
  • a ratio (d / e) between the major axis d and the minor axis e in the two-dimensional projection diagram of the powder shown in FIG.
  • the film can be formed in an irregular shape having an aspect ratio larger than that of 1).
  • the specific numerical values of the aspect ratio obtained in FIG. 8 are 1.08, 1.13, 1.16, 1.24, 1.27, 1.39, 1.39 in order of increasing Ti addition amount ⁇ . 47.
  • each Fe-based amorphous alloy powder having a different additive amount ⁇ of Ti was mixed with resin (acrylic resin); 3% by mass, lubricant (zinc stearate); 0.3% by mass, at a press pressure of 600 MPa, an outer diameter of 20 mm, an inner diameter of 12 mm, with the toroidal 6.5mm angle of height 6.8 mm, height to form the core molding of 3.3 mm, further N 2 gas atmosphere, the temperature
  • the dust core was molded at a temperature rate of 0.67 K / sec (40 ° C./min), a heat treatment temperature within a range of 300 ° C. to 400 ° C. and a holding time of 1 hour.
  • the above-mentioned core manufacturing conditions were the same in the experiments described later other than this experiment.
  • the magnetic permeability ⁇ was measured at a frequency of 100 KHz using an impedance analyzer. As shown in FIG. 9, a high magnetic permeability ⁇ of about 60 or more can be secured until the Ti addition amount ⁇ is about 0.6 wt%, but the magnetic permeability ⁇ is less than 60 when the Ti addition amount ⁇ is further increased. I understood it.
  • the magnetic permeability ⁇ can be gradually increased until the aspect ratio of the powder is larger than 1 to about 1.3. However, when the aspect ratio exceeds about 1.3, the magnetic permeability ⁇ is gradually increased. It was found that when the aspect ratio exceeded 1.4 and the aspect ratio exceeded 1.4, the permeability ⁇ started to decrease rapidly due to the decrease in the core density and was below 60.
  • the additive amount ⁇ of Ti was set to 0.04 wt% or more and 0.6 wt% or less.
  • the aspect ratio of the powder was set to be larger than 1 and 1.4 or less, preferably 1.1 or more and 1.4 or less. Thereby, a magnetic permeability ⁇ of 60 or more can be obtained.
  • the preferable range of the addition amount ⁇ of Ti is 0.1 wt% or more and 0.6 wt% or less.
  • the aspect ratio of the preferable powder was 1.2 or more and 1.4 or less.
  • the "optimum heat treatment temperature” shown in Table 1 is the core loss of the dust core when the temperature rise rate is 0.67 K / sec (40 ° C / min) and the holding time is 1 hour with respect to the dust core. It refers to an ideal heat treatment temperature at which W) can be reduced most.
  • the evaluation of the core loss (W) of the dust core shown in Table 1 was performed using a SY-8217 BH analyzer manufactured by Iwadori Measurement Co., Ltd. with a frequency of 100 kHz and a maximum magnetic flux density of 25 mT. As shown in Table 1, 0.25 wt% Ti was added to each sample.
  • FIG. 12 is a graph showing the relationship between the optimum heat treatment temperature and the core loss (W) of the dust core shown in Table 1. As shown in FIG. 12, in order to set the core loss (W) to 90 kW / m 3 or less, it was found that the optimum heat treatment temperature must be set to 693.15 K (420 ° C.) or less.
  • FIG. 13 is a graph showing the relationship between the glass transition temperature (Tg) of the Fe-based amorphous alloy powder and the optimum heat treatment temperature of the dust core shown in Table 1. As shown in FIG. 13, it was found that the glass transition temperature (Tg) needs to be set to 740 K (466.85 ° C.) or lower in order to set the optimum heat treatment temperature to 693.15 K (420 ° C.) or lower.
  • the application range of the glass transition temperature (Tg) of this example was set to 740 K (466.85 ° C.) or less.
  • a glass transition temperature (Tg) of 710 K (436.85 ° C.) or less was set as a preferable application range.
  • Fe-based amorphous alloy powders having the respective compositions shown in Table 2 below were produced. Each sample is formed in a ribbon shape by a liquid quenching method.
  • the glass transition temperature (Tg) can be set to 740 K (466.85 ° C.) or lower.
  • the glass transition temperature (Tg) can be more effectively reduced by setting the additive amount z of B within the range of 0 at% to 2 at%. It was also found that the glass transition temperature (Tg) can be more effectively reduced by setting the addition amount t of Si within the range of 0 at% to 1 at%.
  • the addition amount z of B is set within a range of 0 at% to 2 at%
  • the addition amount t of Si is set to 0 at% to 1 at%
  • (addition amount of B z + addition amount t of Si) is It was found that the glass transition temperature (Tg) can be set to 710 K (436.85 ° C.) or lower by setting it within the range of 0 at% to 2 at%.
  • sample No. which is a comparative example shown in Table 2. 16 and 17, the glass transition temperature (Tg) was higher than 740 K (466.85 ° C.).
  • Fe-based amorphous alloy powders having the respective compositions shown in Table 3 below were produced. Each sample is formed in a ribbon shape by a liquid quenching method.
  • FIG. 14 is a graph showing the relationship between the Ni addition amount of Fe-based amorphous alloy and glass transition temperature (Tg), and FIG. 15 is the Ni addition amount of Fe-based amorphous alloy and crystallization start temperature (Tx).
  • FIG. 16 is a graph showing the relationship between the amount of Ni added to the Fe-based amorphous alloy and the converted vitrification temperature (Tg / Tm), and
  • FIG. 17 is a graph showing the relationship between Ni in the Fe-based amorphous alloy. It is a graph which shows the relationship between addition amount and Tx / Tm.
  • the range of the Ni addition amount a is set to 0 at. % To 10 at%, and a preferable range was set to 0 at% to 6 at%.
  • the Ni addition amount a is set within the range of 4 at to 6 at%, the glass transition temperature (Tg) can be lowered, and a high converted vitrification temperature (Tg / Tm) and Tx / Tm can be obtained stably. I understood.
  • FIG. 18 is a graph showing the relationship between the Sn addition amount of the Fe-based amorphous alloy and the glass transition temperature (Tg), and FIG. 19 shows the Sn addition amount of the Fe-based amorphous alloy and the crystallization start temperature (Tx).
  • FIG. 20 is a graph showing the relationship between the amount of Sn added to the Fe-based amorphous alloy and the converted vitrification temperature (Tg / Tm), and
  • FIG. 21 is a graph showing the relationship between the Sn-based Fe alloy and Sn. It is a graph which shows the relationship between addition amount and Tx / Tm.
  • the addition amount b of Sn is in the range of 0 at% to 3 at%, and 0 at% to 2 at% is a preferable range. did.
  • Tx / Tm decreases as described above, but the converted vitrification temperature (Tg / Tm) can be increased.
  • the glass transition temperature (Tg) could be 740K (466.85 degreeC) or less, and the conversion vitrification temperature (Tg / Tm) could be 0.52 or more.
  • FIG. 22 is a graph showing the relationship between the addition amount x of P and the melting point (Tm) of the Fe-based amorphous alloy
  • FIG. 23 shows the addition amount C and melting point (Tm) of C in the Fe-based amorphous alloy. It is a graph which shows the relationship.
  • a glass transition temperature (Tg) of 740 K (466.85 ° C.) or less, preferably 710 K (436.85 ° C.) or less can be obtained.
  • Tg glass transition temperature
  • the additive amount x of P is set within the range of 8.8 at% to 10.8 at%, the melting point (Tm) can be effectively reduced, and thus the conversion vitrification temperature (Tg / Tm) can be increased. I knew it was possible.
  • Each Fe-based amorphous alloy powder was produced from each sample having the composition shown in Table 6 below. Each sample is formed in a ribbon shape by a liquid quenching method.
  • FIG. 24 is a graph showing the relationship between the Cr addition amount of the Fe-based amorphous alloy and the glass transition temperature (Tg), and FIG. 25 shows the Cr addition amount of the Fe-based amorphous alloy and the crystallization temperature (Tx).
  • FIG. 26 is a graph showing the relationship between the amount of Cr added to the Fe-based amorphous alloy and the saturation magnetization Is.
  • the Cr addition amount c is in the range of 0 at% to 6 at% so that the glass transition temperature (Tg) is low and the saturation magnetization Is is 1.0 T or more.
  • the preferable addition amount c of Cr was set in the range of 0 at% to 2 at%.
  • the glass transition temperature (Tg) can be set to a low value regardless of the Cr amount by setting the addition amount c of Cr within the range of 0 at% to 2 at%.
  • the corrosion resistance can be improved, a low glass transition temperature (Tg) can be stably obtained, and a higher magnetization is maintained. It turns out that it is possible.
  • the metal element M As shown in Table 7, Ti, Al, and Mn were added as the metal element M.
  • the amount of Al added is in a range greater than 0 wt% and less than 0.005 wt%.
  • all the constituent elements other than the M element in the table are all represented by the composition formula Fe 71.4 Ni 6 Cr 2 P 10.8 C 7.8 B 2 , so these elements are omitted.
  • the addition amount of the metal element M is defined as being in the range of 0.04 wt% or more and 0.6 wt% or less, but all the examples in Table 7 are within this range.
  • the metal element M can be agglomerated on the powder surface to form a thin passive layer.
  • Si and B it becomes possible to obtain low corrosion resistance, high magnetic permeability and low core loss by addition of the metal element M, as well as low Tg.

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Abstract

組成式が、（Fe100-a-b-c-x-y-z-tNiaSnbCrcPxCyBzSit）100-α Mαで示され、0at%≦a≦10at%、0at%≦b≦3at%、0at%≦c≦6at%、6.8at%≦x≦10.8at%、2.2at%≦y≦9.8at%、0at%≦z≦4.2at%、0at%≦t≦3.9at%であり、金属元素M は、Ti、Al、Mn、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Mo、W のうち少なくとも1 種が選択されてなり、金属元素M の添加量αが、0.04wt%≦α≦0.6wt%であることにより、低Tg 化とともに、優れた耐食性及び高い磁気特性を有する圧粉コアやコイル封入圧粉コア用としてのFe 基非晶質合金粉末を提供する。

Description

Ｆｅ基非晶質合金粉末、及び前記Ｆｅ基非晶質合金粉末を用いた圧粉コア、ならびにコイル封入圧粉コア
　本発明は、例えば、トランスや電源用チョークコイル等の圧粉コア及びコイル封入圧粉コアに適用するＦｅ基非晶質合金粉末に関する。
　電子部品等に適用される圧粉コアやコイル封入圧粉コアには、近年の高周波化や大電流化に伴い、優れた直流重畳特性や低いコアロスが要求される。
　ところで、Ｆｅ基非晶質合金粉末が結着材により目的の形状に成形された圧粉コアに対し、Ｆｅ基非晶質合金粉末の粉末形成時の応力歪みや圧粉コア成形時の応力歪みを緩和すべく、コア成形後に熱処理が施される。
　コア成形体に対して実際に施される熱処理温度は、被覆導線や結着材等の耐熱性を考慮して、それほど高い温度に設定できないため、Ｆｅ基非晶質合金粉末のガラス遷移温度（Ｔｇ）を低く抑えることが必要であった。それとともに、耐食性を向上させて優れた磁気特性を備えることが必要であった。
特開２００７－２３１４１５号公報 特開２００８－５２０８３２号公報 特開２００９－１７４０３４号公報 特開２００５－３０７２９１号公報 特開２００９－５４６１５号公報 特開２００９－２９３０９９号公報 特開昭６３－１１７４０６号公報 米国特許出願公開第２００７／０２５８８４２号明細書
　そこで本発明は、上記の従来課題を解決するためのものであり、特に、低いガラス遷移温度（Ｔｇ）及び優れた耐食性を備え高い透磁率と低いコアロスを有する圧粉コアやコイル封入圧粉コア用としてのＦｅ基非晶質合金粉末を提供することを目的とする。
　本発明におけるＦｅ基非晶質合金粉末は、
　組成式が、（Ｆｅ100-a-b-c-x-y-z-tＮｉaＳｎbＣｒcＰxＣyＢzＳｉt）100-αＭαで示され、０ａｔ％≦ａ≦１０ａｔ％、０ａｔ％≦ｂ≦３ａｔ％、０ａｔ％≦ｃ≦６ａｔ％、６．８ａｔ％≦ｘ≦１０．８ａｔ％、２．２ａｔ％≦ｙ≦９．８ａｔ％、０ａｔ％≦ｚ≦４．２ａｔ％、０ａｔ％≦ｔ≦３．９ａｔ％であり、金属元素Ｍは、Ｔｉ，Ａｌ，Ｍｎ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｖ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｍｏ，Ｗのうち少なくとも１種が選択されてなり、金属元素Ｍの添加量αは、０．０４ｗｔ％≦α≦０．６ｗｔ％であることを特徴とするものである。
　低いガラス遷移温度（Ｔｇ）を得るためには、ＳｉやＢの添加量を低く抑えることが必要である。その一方でＳｉ量の低下により耐食性が低下しやすくなるため、本発明では、活性の高い金属元素Ｍを少量、添加することで、粉末表面に薄い不動態層を安定して形成でき、耐食性を向上させ、優れた磁気特性を得ることができる。本発明では、金属元素Ｍ量を添加することにより粉末の粒子形状を球状（アスペクト比＝１）よりアスペクト比を大きくすることができ、コアの透磁率μを効果的に向上させることができる。以上により本発明では、低いガラス遷移温度（Ｔｇ）とともに、優れた耐食性を備え高い透磁率と低いコアロスを有するＦｅ基非晶質合金粉末にできる。
　本発明では、Ｂの添加量ｚは、０ａｔ％≦ｚ≦２ａｔ％であり、Ｓｉの添加量ｔは、０ａｔ％≦ｔ≦１ａｔ％であり、Ｂの添加量ｚとＳｉの添加量ｔを足したｚ＋ｔは、０ａｔ％≦ｚ＋ｔ≦２ａｔ％であることが好ましい。これにより、より効果的に、ガラス遷移温度（Ｔｇ）の低下を図ることが可能である。
　また本発明では、ＢとＳｉの双方が添加されている場合においては、Ｂの添加量ｚのほうがＳｉの添加量ｔより大きいことが好ましい。これにより、効果的に、ガラス遷移温度（Ｔｇ）の低下を図ることができる。
　また本発明では、金属元素Ｍの添加量αは、０．１ｗｔ％≦α≦０．６ｗｔ％であることが好ましい。これにより、安定して高い透磁率μを得ることが出来る。
　また本発明では、金属元素Ｍは少なくともＴｉを含むことが好ましい。これにより、粉末表面に効果的に薄い不動態層を安定して形成でき、優れた磁気特性を得ることができる。
　あるいは本発明では、金属元素Ｍは、Ｔｉ、Ａｌ及びＭｎを含む形態にすることも出来る。
　また本発明では、ＮｉとＳｎのうち、どちらか一方のみが添加されることが好ましい。
　また本発明では、Ｎｉの添加量ａは、０ａｔ％≦ａ≦６ａｔ％の範囲内であることが好ましい。これにより、安定して高い換算ガラス化温度（Ｔｇ／Ｔｍ）及びＴｘ／Ｔｍを得ることができ、非晶質形成能を高めることができる。
　また本発明では、Ｓｎの添加量ｂは、０ａｔ％≦ｂ≦２ａｔ％の範囲内であることが好ましい。Ｓｎ量を増やすと、粉末のＯ2濃度を増加させ耐食性の低下を招くため、耐食性の低下を抑制し、且つ非晶質性形成能を高めるために、Ｓｎの添加量ｂは、２ａｔ％以下とすることが好ましい。
　また本発明では、Ｃｒの添加量ｃは、０ａｔ％≦ｃ≦２ａｔ％の範囲内であることが好ましい。これにより効果的にガラス遷移温度（Ｔｇ）を安定して低く出来る。
　また本発明では、Ｐの添加量ｘは、８．８ａｔ％≦ｘ≦１０．８ａｔ％の範囲内であることが好ましい。これにより、融点（Ｔｍ）を低くすることができ、低Ｔｇ化によっても、換算ガラス化温度（Ｔｇ／Ｔｍ）を高くでき、非晶質性形成能を高めることができる。
　また本発明では、０ａｔ％≦ａ≦６ａｔ％、０ａｔ％≦ｂ≦２ａｔ％、０ａｔ％≦ｃ≦２ａｔ％、８．８ａｔ％≦ｘ≦１０．８ａｔ％、２．２ａｔ％≦ｙ≦９．８ａｔ％、０ａｔ％≦ｚ≦２ａｔ％、０ａｔ％≦ｔ≦１ａｔ％、０ａｔ％≦ｚ＋ｔ≦２ａｔ％、０．１ｗｔ％≦α≦０．６ｗｔ％を満たすことが好ましい。
　また本発明では、粉末のアスペクト比が、１より大きく１．４以下であることが好ましい。これにより、コアの透磁率μを高めることが出来る。
　また本発明では、粉末のアスペクト比が、１．２以上で１．４以下であることが好ましい。これにより、コアの透磁率μを安定して高くすることが出来る。
　また本発明では、金属元素Ｍの濃度は、粉末内部より粉末表面層にて高くなっていることが好ましい。本発明では、活性の高い金属元素Ｍを少量添加したことで、金属元素Ｍは粉末表面層に凝集して不動態層を形成することができる。
　また本発明では、組成元素にＳｉを含む場合は、前記粉末表面層での金属元素Ｍの濃度は、Ｓｉの濃度よりも高くなっていることが好適である。金属元素Ｍの添加量αがゼロ、あるいは添加量αが本発明より少ない形態であると、Ｓｉ濃度が粉末表面で高くなる。このとき、不動態層の厚さは本発明より厚くなりやすい。これに対して本発明では、Ｓｉの添加量を３．９ａｔ％以下（Ｆｅ－Ｎｉ－Ｃｒ－Ｐ－Ｃ－Ｓｉ中での添加量）に抑えたうえで活性の高い金属元素Ｍを合金粉末中、０．０４ｗｔ％以上０．６ｗｔ％以下の範囲内で添加することで、金属元素Ｍを粉末表面に凝集させＳｉやＯとともに薄い不動態層を形成することができ、優れた磁気特性を得ることが可能になる。
　また本発明における圧粉コアは、上記に記載のＦｅ基非晶質合金粉末の粉末が結着材によって固化成形されてなることを特徴とするものである。
　本発明では、前記圧粉コアにおいて、Ｆｅ基非晶質合金粉末の最適熱処理温度を低くすることができるため、結着材の耐熱温度未満の熱処理温度で応力歪が適切に緩和でき、圧粉コアの透磁率μを高くでき、併せてコアロスも低くできるため、少ないターン数にて所望の高いインダクタンスを得ることができ、発熱圧粉コアの発熱や銅損も抑制することが可能である。
　また本発明におけるコイル封入圧粉コアは、上記に記載のＦｅ基非晶質合金粉末の粉末が結着材によって固化成形されてなる圧粉コアと、前記圧粉コアに覆われるコイルとを有してなることを特徴とするものである。本発明では、コアの最適熱処理温度を低くでき、コアロスの低減を図ることが可能である。この場合、コイルはエッジワイズコイルを使用すると好ましい。エッジワイズコイルを使用すると、コイル導体の断面積の大きいエッジワイズコイルを用いることができるため、直流抵抗ＲＤｃを小さくでき、発熱及び銅損を抑制することが可能となる。
　本発明のＦｅ基非晶質合金粉末によれば、低いガラス遷移温度（Ｔｇ）とともに、優れた耐食性を備え高い磁気特性を有する。
　また本発明の前記Ｆｅ基非晶質合金粉末の粉末を用いた圧粉コアやコイル封入圧粉コアによれば、コアの最適熱処理温度を低くでき、また、透磁率μを向上させ、コアロスの低減を図ることができる。
圧粉コアの斜視図、 コイル封入圧粉コアの平面図、 図２（ａ）に示すＡ－Ａ線に沿って切断し矢印方向から見たコイル封入圧粉コアの縦断面図、 本実施形態におけるＦｅ基非晶質合金粉末の断面のイメージ図、 比較例（Ｔｉ量が０．０３５ｗｔ％）のＦｅ基非晶質合金粉末のＸＰＳ分析結果、 実施例（Ｔｉ量が０．２５ｗｔ％）のＦｅ基非晶質合金粉末のＸＰＳ分析結果、 比較例（Ｔｉ量が０．０３５ｗｔ％）のＦｅ基非晶質合金粉末におけるＡＥＳのデプスプロファイル、 実施例（Ｔｉ量が０．２５ｗｔ％）のＦｅ基非晶質合金粉末におけるＡＥＳのデプスプロファイル、 Ｆｅ基非晶質合金粉末中に占めるＴｉの添加量と粉末のアスペクト比との関係を示すグラフ、 Ｆｅ基非晶質合金粉末中に占めるＴｉの添加量とコアの透磁率μとの関係を示すグラフ、 図８に示すＦｅ基軟磁性合金粉末のアスペクト比と図９に示すコアの透磁率μとの関係を示すグラフ、 Ｆｅ基非晶質合金粉末に占めるＴｉの添加量と合金の飽和磁化（Ｉｓ）との関係を示すグラフ、 圧粉コアの最適熱処理温度とコアロスＷとの関係を示すグラフ、 Ｆｅ基非晶質合金のガラス遷移温度（Ｔｇ）と圧粉コアの最適熱処理温度との関係を示すグラフ、 Ｆｅ基非晶質合金のＮｉ添加量とガラス遷移温度（Ｔｇ）との関係を示すグラフ、 Ｆｅ基非晶質合金のＮｉ添加量と結晶化開始温度（Ｔｘ）との関係を示すグラフ、 Ｆｅ基非晶質合金のＮｉ添加量と換算ガラス化温度（Ｔｇ／Ｔｍ）との関係を示すグラフ、 Ｆｅ基非晶質合金のＮｉ添加量とＴｘ／Ｔｍとの関係を示すグラフ、 Ｆｅ基非晶質合金のＳｎ添加量とガラス遷移温度（Ｔｇ）との関係を示すグラフ、 Ｆｅ基非晶質合金のＳｎ添加量と結晶化開始温度（Ｔｘ）との関係を示すグラフ、 Ｆｅ基非晶質合金のＳｎ添加量と換算ガラス化温度（Ｔｇ／Ｔｍ）との関係を示すグラフ、 Ｆｅ基非晶質合金のＳｎ添加量とＴｘ／Ｔｍとの関係を示すグラフ、 Ｆｅ基非晶質合金のＰ添加量と融点（Ｔｍ）との関係を示すグラフ、 Ｆｅ基非晶質合金のＣ添加量と融点（Ｔｍ）との関係を示すグラフ、 Ｆｅ基非晶質合金のＣｒ添加量とガラス遷移温度（Ｔｇ）との関係を示すグラフ、 Ｆｅ基非晶質合金のＣｒ添加量と結晶化開始温度（Ｔｘ）との関係を示すグラフ、 Ｆｅ基非晶質合金のＣｒ添加量と飽和磁化Ｉｓとの関係を示すグラフ。
　本実施形態におけるＦｅ基非晶質合金粉末は、組成式が、（Ｆｅ100-a-b-c-x-y-z-tＮｉaＳｎbＣｒcＰxＣyＢzＳｉt）100-αＭαで示され、０ａｔ％≦ａ≦１０ａｔ％、０ａｔ％≦ｂ≦３ａｔ％、０ａｔ％≦ｃ≦６ａｔ％、６．８ａｔ％≦ｘ≦１０．８ａｔ％、２．２ａｔ％≦ｙ≦９．８ａｔ％、０ａｔ％≦ｚ≦４．２ａｔ％、０ａｔ％≦ｔ≦３．９ａｔ％であり、金属元素Ｍは、Ｔｉ，Ａｌ，Ｍｎ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｖ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｍｏ，Ｗのうち少なくとも１種が選択されてなり、金属元素Ｍの添加量αは、０．０４ｗｔ％≦α≦０．６ｗｔ％である。
　上記のように、本実施形態のＦｅ基非晶質合金粉末は、主成分としてのＦｅと、Ｎｉ、Ｓｎ、Ｃｒ、Ｐ、Ｃ、Ｂ、Ｓｉ（ただし、Ｎｉ、Ｓｎ、Ｃｒ、Ｂ、Ｓｉの添加は任意）及び金属元素Ｍとを添加してなる軟磁性合金である。
　また、本実施形態のＦｅ基非晶質合金粉末は、飽和磁束密度をより高くしたり、磁歪を調整するために、コア成形時の熱処理により、主相の非晶質相と、α－Ｆｅ結晶相との混相組織が形成されていても良い。α－Ｆｅ結晶相はｂｃｃ構造である。
　本実施形態では、Ｂの添加量及びＳｉの添加量をできる限り少なくして低Ｔｇ化を図るとともに、Ｓｉの添加量の低下により劣化する耐食性を活性の高い金属元素Ｍの少量添加により向上させるものである。
　以下では、まずＦｅ－Ｎｉ－Ｓｎ－Ｃｒ－Ｐ－Ｃ－Ｂ－Ｓｉ中に占める各組成元素の添加量について説明する。
　本実施形態のＦｅ基非晶質合金粉末に含まれるＦｅの添加量は、上記した組成式では、Ｆｅ－Ｎｉ－Ｓｎ－Ｃｒ－Ｐ－Ｃ－Ｂ－Ｓｉ中、（１００－ａ－ｂ－ｃ－ｘ－ｙ－ｚ－ｔ）で示され、後述の実験では、Ｆｅ－Ｎｉ－Ｓｎ－Ｃｒ－Ｐ－Ｃ－Ｂ－Ｓｉ中、６５．９ａｔ％～７７．４ａｔ％程度の範囲内である。このようにＦｅの添加量が高いことで高い磁化を得ることができる。
　Ｆｅ－Ｎｉ－Ｓｎ－Ｃｒ－Ｐ－Ｃ－Ｂ－Ｓｉ中に含まれるＮｉの添加量ａは、０ａｔ％≦ａ≦１０ａｔ％の範囲内で規定される。Ｎｉの添加によりガラス遷移温度（Ｔｇ）を低く、且つ換算ガラス化温度（Ｔｇ／Ｔｍ）、Ｔｘ／Ｔｍを高い値に維持できる。ここでＴｍは融点、Ｔｘは、結晶化開始温度である。Ｎｉの添加量ａを１０ａｔ％程度まで大きくしても非晶質を得ることができる。ただし、Ｎｉの添加量ａが６ａｔ％を超えると、換算ガラス化温度（Ｔｇ／Ｔｍ）及び、Ｔｘ／Ｔｍが低下し、非晶質形成能が低下するので、本実施形態では、Ｎｉの添加量ａは、０ａｔ％≦ａ≦６ａｔ％の範囲内であることが好ましく、さらに、４ａｔ％≦ａ≦６ａｔ％の範囲内とすれば、安定して低いガラス遷移温度（Ｔｇ）と、高い換算ガラス化温度（Ｔｇ／Ｔｍ）及びＴｘ／Ｔｍを得ることが可能である。
　Ｆｅ－Ｎｉ－Ｓｎ－Ｃｒ－Ｐ－Ｃ－Ｂ－Ｓｉ中に含まれるＳｎの添加量ｂは、０ａｔ％≦ｂ≦３ａｔ％の範囲内で規定される。Ｓｎの添加量ｂを３ａｔ％程度まで大きくしても非晶質を得ることができる。ただし、Ｓｎの添加により合金粉末中の酸素濃度が増加し、Ｓｎの添加により耐食性が低下しやすい。そのためＳｎの添加量は必要最小限に抑える。またＳｎの添加量ｂを３ａｔ％程度とするとＴｘ／Ｔｍが大きく低下し、非晶質形成能が低下することからＳｎの添加量ｂの好ましい範囲を０≦ｂ≦２ａｔ％に設定した。あるいは、Ｓｎの添加量ｂは１ａｔ％≦ｂ≦２ａｔ％の範囲内であることが高いＴｘ／Ｔｍを確保できてより好ましい。
　ところで本実施形態では、Ｆｅ基非晶質合金粉末に、ＮｉとＳｎの双方を添加しないか、あるいはＮｉあるいはＳｎのどちらか一方のみを添加することが好適である。これにより低いガラス遷移温度（Ｔｇ）、及び高い換算ガラス化温度（Ｔｇ／Ｔｍ）のみならず、より効果的に、磁化を高くし且つ耐食性を向上させることが可能になる。
　Ｆｅ－Ｎｉ－Ｓｎ－Ｃｒ－Ｐ－Ｃ－Ｂ－Ｓｉ中に含まれるＣｒの添加量ｃは、０ａｔ％≦ｃ≦６ａｔ％の範囲内で規定される。Ｃｒは、粉末表面に不動態層の形成を促進でき、Ｆｅ基非晶質合金粉末の耐食性を向上できる。例えば、水アトマイズ法を用いてＦｅ基非晶質合金粉末を作製する際において、合金溶湯が直接水に触れたとき、更には水アトマイズ後のＦｅ基非晶質合金粉末の乾燥工程において生じる腐食部分の発生を防ぐことができる。一方、Ｃｒの添加によりガラス遷移温度（Ｔｇ）が高くなり、また飽和磁化Ｉｓが低下するので、Ｃｒの添加量ｃは必要最小限に抑えることが効果的である。特に、Ｃｒの添加量ｃを０ａｔ％≦ｃ≦２ａｔ％の範囲内に設定すると、ガラス遷移温度（Ｔｇ）を低く維持できるので好適である。
　さらにＣｒの添加量ｃを１ａｔ％≦ｃ≦２ａｔ％の範囲内で調整することがより好ましい。良好な耐食性とともに、ガラス遷移温度（Ｔｇ）を低く維持でき、且つ高い磁化を維持することができる。
　Ｆｅ－Ｎｉ－Ｓｎ－Ｃｒ－Ｐ－Ｃ－Ｂ－Ｓｉ中に含まれるＰの添加量ｘは、６．８ａｔ％≦ｘ≦１０．８ａｔ％の範囲内で規定される。また、Ｆｅ－Ｎｉ－Ｓｎ－Ｃｒ－Ｐ－Ｃ－Ｂ－Ｓｉ中に含まれるＣの添加量ｙは、２．２ａｔ％≦ｙ≦９．８ａｔ％の範囲内で規定される。Ｐ及びＣの添加量を上記範囲内に規定したことで非晶質を得ることが出来る。
　また本実施形態では、Ｆｅ基非晶質合金粉末のガラス遷移温度（Ｔｇ）を低くし、同時に、非晶質形成能の指標となる換算ガラス化温度（Ｔｇ／Ｔｍ）を高くするが、ガラス遷移温度（Ｔｇ）の低下により、換算ガラス化温度（Ｔｇ／Ｔｍ）を高くするためには融点（Ｔｍ）を低くすることが必要である。
　本実施形態では、特に、Ｐの添加量ｘを８．８ａｔ％≦ｘ≦１０．８ａｔ％の範囲内に調整することで融点（Ｔｍ）を効果的に低くすることができ、換算ガラス化温度（Ｔｇ／Ｔｍ）を高くすることが出来る。
　一般に、Ｐは半金属の中で磁化を低下させやすい元素として知られており、高い磁化を得るためには添加量はある程度少なくする必要がある。加えて、Ｐの添加量ｘを１０．８ａｔ％とすると、Ｆｅ－Ｐ－Ｃの三元合金の共晶組成（Ｆｅ79.4Ｐ10.8Ｃ9.8）付近となるため、Ｐを１０．８ａｔ％を超えて添加することは融点（Ｔｍ）の上昇を招く。従って、Ｐの添加量の上限は１０．８ａｔ％とすることが望ましい。一方、上記のように融点（Ｔｍ）を効果的に低下させ、換算ガラス化温度（Ｔｇ／Ｔｍ）を高くするためには、Ｐを８．８ａｔ％以上添加することが好ましい。
　また、Ｃの添加量ｙを５．８ａｔ％≦ｙ≦８．８ａｔ％の範囲内に調整することが好適である。これにより、効果的に、融点（Ｔｍ）を低くでき、換算ガラス化温度（Ｔｇ／Ｔｍ）を高くすることが出来、磁化を高い値で維持出来る。
　Ｆｅ－Ｎｉ－Ｓｎ－Ｃｒ－Ｐ－Ｃ－Ｂ－Ｓｉ中に含まれるＢの添加量ｚは、０ａｔ％≦ｚ≦４．２ａｔ％の範囲内で規定される。また、Ｆｅ－Ｎｉ－Ｓｎ－Ｃｒ－Ｐ－Ｃ－Ｂ－Ｓｉ中に含まれるＳｉの添加量ｔは、０ａｔ％≦ｔ≦３．９ａｔ％の範囲内で規定される。
　Ｓｉ及びＢの添加は非晶質形成能の向上に役立つが、ガラス遷移温度（Ｔｇ）が上昇しやすくなるため、本実施形態では、ガラス遷移温度（Ｔｇ）をできる限り低くすべく、Ｓｉ、Ｂ及びＳｉ＋Ｂの添加量を必要最小限に抑えることとしている。具体的には、Ｆｅ基非晶質合金粉末のガラス遷移温度（Ｔｇ）を７４０Ｋ（ケルビン）以下に設定する。
　また本実施形態では、Ｂの添加量ｚを０ａｔ％≦ｚ≦２ａｔ％の範囲内に設定し、また、Ｓｉの添加量ｔを０ａｔ％≦ｔ≦１ａｔ％の範囲内に設定し、さらに、（Ｂの添加量ｚ＋Ｓｉの添加量ｔ）を、０ａｔ％≦ｚ＋ｔ≦２ａｔ％の範囲内とすることで、ガラス遷移温度（Ｔｇ）を７１０Ｋ以下に抑えることが出来る。
　Ｆｅ基非晶質合金粉末にＢとＳｉの双方が添加されている実施形態では、上記した組成範囲内において、Ｂの添加量ｚのほうがＳｉの添加量ｔより大きいことが好ましい。これより、安定して低いガラス遷移温度（Ｔｇ）を得ることができる。
　このように本実施形態では、低Ｔｇ化を促進すべく、Ｓｉの添加量をできる限り低く抑えるが、これにより劣化する耐食性を、金属元素Ｍを少量添加することで向上させている。
　金属元素Ｍは、Ｔｉ，Ａｌ，Ｍｎ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｖ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｍｏ，Ｗのうち少なくとも１種が選択されてなる。
　金属元素Ｍの添加量αは、組成式中、（Ｆｅ－Ｎｉ－Ｓｎ－Ｃｒ－Ｐ－Ｃ－Ｂ－Ｓｉ）100-αＭαで示され、添加量αは０．０４ｗｔ％以上０．６ｗｔ％以下であることが好ましい。
　活性の高い金属元素Ｍを少量添加することで、水アトマイズ法での作製の際、粉末が球状になる前に、粉末表面に不動態層が形成され、球状（アスペクト比＝１）よりもアスペクト比の大きい状態で固まる。このように粉末を球状とは異なるアスペクト比の若干大きい形状で形成することができるため、コアの透磁率μを高くすることが可能になる。具体的には本実施形態では、粉末のアスペクト比を１より大きく１．４以下、好ましくは１．１以上で１．４以下に設定できる。
　ここでアスペクト比とは、図３に示す粉末にて長径ｄと短径ｅとの比（ｄ／ｅ）で示される。例えば粉末の二次元投影図によりアスペクト比（ｄ／ｅ）を求める。長径ｄは最も長い部分、短径ｅは、長径ｄに直交する方向であって、最も短い部分である。
　アスペクト比はあまり大きくなりすぎても、コアに占めるＦｅ基非晶質合金粉末の密度が小さくなり、その結果、透磁率μが低下するため、本実施形態では後述する実験結果によりアスペクト比を０より大きく（好ましくは１．１以上で）１．４以下に設定した。これにより、コアの１００ＭＨｚにおける透磁率μを例えば６０以上にできる。
　また金属元素Ｍの添加量αは０．１ｗｔ％以上で０．６ｗｔ％以下の範囲内であることが好ましい。粉末のアスペクト比を１．２以上で１．４以下に設定でき、これにより、１００ＭＨｚにおいて６０以上の透磁率μを安定して得ることができる。
　金属元素Ｍは少なくともＴｉを含むことが好適である。粉末表面に効果的に薄い不動態層を安定して形成でき、粉末のアスペクト比を１より大きく１．４以下の範囲内に適切に調整でき、優れた磁気特性を得ることができる。
　あるいは金属元素Ｍは、Ｔｉ，Ａｌ及びＭｎを含む構成にすることも出来る。
　本実施形態では金属元素Ｍの濃度は、図３に示す粉末内部５よりも粉末表面層６にて高くなっている。本実施形態では、活性の高い金属元素Ｍを少量添加したことで、金属元素Ｍは粉末表面層６に凝集し、ＳｉやＯとともに不動態層を形成することができる。
　本実施形態では、金属元素Ｍを０．０４ｗｔ％以上０．６ｗｔ％以下の範囲内に設定したが、金属元素Ｍの添加量をゼロ、あるいは金属元素Ｍの添加量を０．０４ｗｔ％未満にすると、Ｓｉ濃度が粉末表面層６で金属元素Ｍより高くなることが後述する実験によりわかっている。このとき不動態層の膜厚は、本実施形態よりも厚くなりやすい。これに対し本実施形態では、Ｓｉの添加量（Ｆｅ－Ｎｉ－Ｓｎ－Ｃｒ－Ｐ－Ｃ－Ｂ－Ｓｉ中）を３．９ａｔ％以下とし、活性の高い金属元素Ｍを０．０４ｗｔ％以上０．６ｗｔ％以下の範囲内で添加することで、金属元素ＭをＳｉよりも多く粉末表面層６に凝集させることができる。金属元素Ｍは、Ｓｉ，Ｏとともに粉末表面層６に不動態層を形成するが、本実施形態では、金属元素Ｍを０．０４ｗｔ％未満とした場合に比べて不動態層を薄く形成でき、優れた磁気特性を得ることが可能になる。
　なお本実施形態におけるＦｅ基非晶質合金粉末の組成は、ＩＣＰ－ＭＳ（高周波誘導結合質量分析装置）等で測定することが可能である。
　本実施形態では、上記の組成式から成るＦｅ基非晶質合金を秤量、溶解し、水アトマイズ法等で溶湯を分散、急冷凝固させてＦｅ基非晶質合金粉末を得る。本実施形態では、Ｆｅ基非晶質合金粉末の粉末表面層６に薄い不動態層を形成することができるため、粉末製造工程で金属成分の一部が腐食し、粉末及びこれを圧粉成形してなる圧粉磁心の特性劣化を抑制することができる。
　そして本実施形態におけるＦｅ基非晶質合金粉末は、例えば結着材により固化成形された図１に示す円環状の圧粉コア１や図２に示すコイル封入圧粉コア２に適用される。
　図２（ａ）（ｂ）に示すコイル封入コア（インダクタ素子）２は、圧粉コア３と、前記圧粉コア３に覆われるコイル４とを有して構成される。Ｆｅ基非晶質合金粉末は、コア中に多数個存在し、各Ｆｅ基非晶質合金粉末間が前記結着材にて絶縁された状態となっている。
　また、前記結着材としては、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、シリコーンゴム、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、ＰＶＡ（ポリビニルアルコール）、アクリル樹脂等の液状又は粉末状の樹脂あるいはゴムや、水ガラス（Ｎａ2Ｏ－ＳｉＯ2）、酸化物ガラス粉末（Ｎａ2Ｏ－Ｂ2Ｏ3－ＳｉＯ2、ＰｂＯ－Ｂ2Ｏ3－ＳｉＯ2、ＰｂＯ－ＢａＯ－ＳｉＯ2、Ｎａ2Ｏ－Ｂ2Ｏ3－ＺｎＯ、ＣａＯ－ＢａＯ－ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3－Ｂ2Ｏ3－ＳｉＯ2、Ｂ2Ｏ3－ＳｉＯ2）、ゾルゲル法により生成するガラス状物質（ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＴｉＯ2等を主成分とするもの）等を挙げることができる。
　また潤滑剤としては、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸アルミニウム等を用いることが出来る。結着材の混合比は５質量％以下、潤滑剤の添加量は０．１質量％～１質量％程度である。
　圧粉コアをプレス成形した後、Ｆｅ基非晶質合金粉末の応力歪みを緩和すべく熱処理を施すが、本実施形態では、Ｆｅ基非晶質合金粉末のガラス遷移温度（Ｔｇ）を低くでき、したがってコアの最適熱処理温度を従来に比べて低くできる。ここで「最適熱処理温度」とは、Ｆｅ基非晶質合金粉末に対して効果的に応力歪みを緩和でき、コアロスを最小限に小さくできるコア成形体に対する熱処理温度である。例えば、Ｎ2ガス、Ａｒガス等不活性ガス雰囲気において、昇温速度を４０℃／ｍｉｎとし、所定の熱処理温度に到達したらその熱処理温度に１時間保持し、そしてコアロスＷが最も小さくなるときの前記熱処理温度を最適熱処理温度と認定する。
　圧粉コア成形後に施す熱処理温度Ｔ１は樹脂の耐熱性等を考慮して、最適熱処理温度Ｔ２以下の低い温度に設定される。本実施形態では、熱処理温度Ｔ１を３００℃～４００℃程度に調整することができる。そして本実施形態では、最適熱処理温度Ｔ２を従来よりも低くすることができるから、（最適熱処理温度Ｔ２－コア成形後の熱処理温度Ｔ１）を従来に比べて小さくすることができる。このため、本実施形態では、コア成形後に施す熱処理温度Ｔ１の熱処理によっても従来に比べてＦｅ基非晶質合金粉末の応力歪みを効果的に緩和でき、また本実施形態におけるＦｅ基非晶質合金粉末は高い磁化を維持しているために、所望のインダクタンスを確保できるとともに、コアロス（Ｗ）の低減を図ることができ、電源に実装した際に高い電源効率（η）を得ることが出来る。
　具体的には本実施形態では、Ｆｅ基非晶質合金粉末において、ガラス遷移温度（Ｔｇ）を７４０Ｋ以下に設定でき、好ましくは７１０Ｋ以下に設定できる。また換算ガラス化温度（Ｔｇ／Ｔｍ）を０．５２以上に設定でき、好ましくは０．５４以上に設定でき、より好ましくは０．５６以上に設定できる。また飽和磁化Ｉｓを１．０Ｔ以上に設定できる。
　またコア特性としては、最適熱処理温度を６９３．１５Ｋ（４２０℃）以下、好ましくは６７３．１５Ｋ（４００℃）以下に設定できる。また、コアロスＷを９０（ｋＷ／ｍ3）以下、好ましくは６０（ｋＷ／ｍ3）以下に設定できる。
　本実施形態では、図２（ｂ）のコイル封入圧粉コア２に示すように、コイル４には、エッジワイズコイルを用いることが出来る。エッジワイズコイルとは平角線の短辺を内径面として縦に巻いたコイルを示す。
　本実施形態によれば、Ｆｅ基非晶質合金粉末の最適熱処理温度を低くすることができるため、結着材の耐熱温度未満の熱処理温度で応力歪が適切に緩和でき、圧粉コア３の透磁率μを高く、コアロスを小さくすることができるため、少ないターン数にて所望の高いインダクタンスＬを得ることが可能になる。このように本実施形態では、コイル４に各ターンにおける導体の断面積が大きいエッジワイズコイルを用いることができるため、直流抵抗Ｒｄｃを小さくでき、発熱及び銅損を抑制することが可能である。
　（粉末表面分析の実験）
　（Ｆｅ77.4Ｃｒ2Ｐ8.8Ｃ8.8Ｂ2Ｓｉ1）100-αＴｉαからなるＦｅ基非晶質合金粉末を水アトマイズ法により製造した。なお、Ｆｅ－Ｃｒ－Ｐ－Ｃ－Ｂ－Ｓｉ中における各元素の添加量はａｔ％である。粉末を得る際の溶湯温度（溶解された合金の温度）１５００℃、水の噴出圧は８０ＭＰａであった。
　なお、上記のアトマイズ条件は、この実験以外の後述する実験においても同じとした。
　実験では、Ｔｉの添加量αを０．０３５ｗｔ％（比較例）としたＦｅ基非晶質合金粉末と、Ｔｉの添加量αを０．２５ｗｔ％（実施例）としたＦｅ基非晶質合金粉末とを製造した。
　Ｘ線光電子分析装置（ＸＰＳ）による表面分析結果が図４及び図５に示されている。図４は比較例のＦｅ基非晶質合金粉末に対する実験結果、図５は、実施例のＦｅ基非晶質合金粉末に対する実験結果を示す。
　図４（ａ）～（ｃ），図５（ａ）～（ｃ）に示すように、粉末表面にはＦｅ、Ｐ、Ｓｉの酸化物が形成されていることがわかった。
　また図４の比較例ではＴｉの添加量αが少なすぎて、粉末表面におけるＴｉの状態を分析することが出来なかったが、図５（ｄ）に示すように実施例では、粉末表面にＴｉの酸化物が形成されることがわかった。
　次に、図６が上記の比較例のＦｅ基非晶質合金粉末を用いて行ったオージェ電子分析光法（ＡＥＳ）によるデプスプロファイル、図７が上記の実施例のＦｅ基非晶質合金粉末を用いて行ったオージェ電子分析光法（ＡＥＳ）によるデプスプロファイルである。各図の横軸の最も左が粉末表面での分析結果であり、右側に向うほど粉末内部（粉末の中心方向）に進入した位置での分析結果である。
　図６の比較例に示すように、Ｔｉの濃度は粉末表面から粉末内部に向けてあまり変化がなく且つ全体的に低いことがわかった。これに対してＳｉの濃度は粉末の表面側でＴｉ濃度よりも高くなっていることがわかった。そしてＳｉの濃度は、粉末内部に向けて徐々に小さくなり、Ｔｉ濃度との差が小さくなることがわかった。Ｏは粉末表面側に凝集し、粉末内部での濃度は非常に小さくなっていることがわかった。またＦｅは、粉末表面から粉末内部に向けて濃度が徐々に大きくなり、ある程度の深さ位置から濃度がほぼ一定の状態になっていることがわかった。Ｃｒの濃度は、粉末表面から粉末内部に向けてあまり変化がないことがわかった。
　これに対して図７の実施例では、Ｔｉの濃度が粉末表面側で高く、粉末内部に向けて徐々に小さくなっていることがわかった。粉末表面側で見ると、Ｔｉの濃度がＳｉの濃度よりも大きくなっており、図６の比較例と異なる濃度分布結果になった。また、Ｏは粉末表面側に凝集し、この点、図６，図７も同様であるが、図７の実施例では図６の比較例よりＯの最大濃度が半分になるまでの深さ位置が粉末表面により近く、すなわち不動態層の膜厚を図７の実施例のほうが図７の比較例より薄く形成できることがわかった。また図７の実施例でのＦｅの濃度変化は図６の比較例に比べて粉末表面から粉末内部に向けて緩やかに上昇することがわかった。図７の実施例でのＣｒの濃度は、図６の比較例とあまり変わらないことがわかった。
　（Ｔｉの添加量とアスペクト比、透磁率との関係の実験）
　（Ｆｅ71.4Ｎｉ6Ｃｒ2Ｐ10.8Ｃ7.8Ｂ2）100-αＴｉαからなるＦｅ基非晶質合金粉末を水アトマイズ法により製造した。なお、Ｆｅ－Ｃｒ－Ｐ－Ｃ－Ｂ－Ｓｉ中における各元素の添加量はａｔ％である。また、Ｔｉの添加量αは０．０３５ｗｔ％、０．０４９ｗｔ％、０．０９４ｗｔ％、０．２６８ｗｔ％、０．４４２ｗｔ％、０．５９５ｗｔ％、０．８０５ｗｔ％とした各Ｆｅ基非晶質合金粉末とした。
　図８に示すようにＴｉの添加量αを大きくすると、徐々に粉末のアスペクト比が大きくなることがわかった。ここでアスペクト比とは、図３に示す粉末の二次元投影図にて長径ｄと短径ｅとの比（ｄ／ｅ）で示される。アスペクト比＝１は球状である。このように、活性の高いＴｉの添加により、水アトマイズ法での作製の際、粉末が球状になる前に、図７に示すように粉末表面に薄い不動態層を形成でき、球状（アスペクト比＝１）よりもアスペクト比の大きい異形状で形成できることがわかった。なお、図８において得られたアスペクト比の具体的な数値はＴｉの添加量αが低い順に１．０８、１．１３、１．１６、１．２４、１．２７、１．３９、１．４７であった。
　次に実験では、Ｔｉの添加量αが異なる各Ｆｅ基非晶質合金粉末に、樹脂（アクリル樹脂）；３質量％、潤滑剤（ステアリン酸亜鉛）；０．３質量％を夫々混合し、プレス圧６００ＭＰａにて、外径２０ｍｍ、内径１２ｍｍ、高さ６．８ｍｍのトロイダル状６．５ｍｍ角で、高さが３．３ｍｍのコア成形体を形成し、さらにＮ2ガス雰囲気下で、昇温速度を０．６７Ｋ／ｓｅｃ（４０℃／ｍｉｎ）、熱処理温度を３００℃～４００℃以下の範囲内で保持時間を１時間として圧粉コアを成形した。
　なお、上記のコア作製条件は、この実験以外の後述する実験においても同じとした。
　そして、各Ｔｉの添加量αと、コアの透磁率μ及び飽和磁束密度Ｂｓとの関係を調べた。透磁率μは、インピーダンスアナライザを用いて周波数１００ＫＨｚで測定した。図９に示すように、Ｔｉの添加量αが０．６ｗｔ％程度までは、約６０以上の高い透磁率μを確保できるが、Ｔｉの添加量αが更に大きくなると透磁率μは６０を下回ることがわかった。
　図１０に示すように、粉末のアスペクト比が１より大きく１．３程度までは徐々に透磁率μを大きくすることが出来るが、アスペクト比が約１．３を越えると透磁率μは徐々に低下し始め、アスペクト比が１．４を越えると、コア密度の低下により透磁率μが急激に減少し始め、６０を下回ることがわかった。
　なお図１１に示すように、Ｔｉの添加量による飽和磁化（Ｉｓ）の低下は見られなかった。
　図４ないし図１１に示す実験により、Ｔｉの添加量αを０．０４ｗｔ％以上０．６ｗｔ％以下に設定した。また粉末のアスペクト比を１より大きく１．４以下、好ましくは１．１以上で１．４以下に設定した。これにより６０以上の透磁率μを得ることができる。
　またＴｉの添加量αの好ましい範囲を０．１ｗｔ％以上で０．６ｗｔ％以下とした。また好ましい粉末のアスペクト比を１．２以上で１．４以下とした。これにより、安定して高いコアの透磁率μを得ることが出来る。
（ガラス遷移温度（Ｔｇ）の適用範囲に関する実験）
　以下の表１に示すＮｏ．１～Ｎｏ．８のＦｅ基軟磁性合金を液体急冷法によりリボン状で製造し、更に各Ｆｅ非晶質合金の粉末を用いて圧粉コアを作製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　表１の各試料が非晶質であることは、ＸＲＤ（Ｘ線回折装置）により確認した。また、キュリー温度（Ｔｃ）、ガラス遷移温度（Ｔｇ）、結晶化開始温度（Ｔｘ）、融点（Ｔｍ）を、ＤＳＣ（示差走査熱量計）により測定した（昇温速度はＴｃ、Ｔｇ、Ｔｘが０．６７Ｋ／ｓｅｃ、Ｔｍは０．３３Ｋ／ｓｅｃ）。
　表１に示す「最適熱処理温度」は圧粉コアに対して昇温速度を０．６７Ｋ／ｓｅｃ（４０℃／ｍｉｎ）、保持時間１時間にて熱処理を施すときに、圧粉コアのコアロス（Ｗ）を最も低減できる理想的な熱処理温度を指す。
　表１に示す圧粉コアのコアロス（Ｗ）の評価は、岩通計測（株）製ＳＹ－８２１７　ＢＨアナライザを用いて周波数１００ｋＨｚ、最大磁束密度２５ｍＴとして求めた。
　表１に示すように各試料ともにＴｉを０．２５ｗｔ％添加した。
　図１２は、表１の圧粉コアの最適熱処理温度とコアロス（Ｗ）との関係を示すグラフである。図１２に示すように、コアロス（Ｗ）を９０ｋＷ／ｍ3以下に設定するには最適熱処理温度を６９３．１５Ｋ（４２０℃）以下に設定することが必要であるとわかった。
　また図１３は、Ｆｅ基非晶質合金粉末のガラス遷移温度（Ｔｇ）と表１の圧粉コアの最適熱処理温度との関係を示すグラフである。図１３に示すように、最適熱処理温度を６９３．１５Ｋ（４２０℃）以下に設定するにはガラス遷移温度（Ｔｇ）を７４０Ｋ（４６６．８５℃）以下に設定することが必要とわかった。
　また、図１２から、コアロス（Ｗ）を６０ｋＷ／ｍ3以下に設定するには最適熱処理温度を６７３．１５Ｋ（４００℃）以下に設定することが必要であるとわかった。また図１３から、最適熱処理温度を６７３．１５Ｋ（４００℃）以下に設定するにはガラス遷移温度（Ｔｇ）を７１０Ｋ（４３６．８５℃）以下に設定することが必要とわかった。
　以上のように表１、図１２及び図１３の実験結果から、本実施例のガラス遷移温度（Ｔｇ）の適用範囲を７４０Ｋ（４６６．８５℃）以下に設定した。また本実施例において、７１０Ｋ（４３６．８５℃）以下のガラス遷移温度（Ｔｇ）を好ましい適用範囲とした。
（Ｂ添加量及びＳｉ添加量の実験）
　以下の表２に示す各組成から成る各Ｆｅ基非晶質合金粉末を製造した。各試料は、液体急冷法によりリボン状で形成されたものである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　表２に示すように各試料ともにＴｉを０．２５ｗｔ％添加した。
　表２に示す試料Ｎｏ．３、４、９～Ｎｏ．１５（いずれも実施例）では、Ｆｅ－Ｃｒ－Ｐ－Ｃ－Ｂ－Ｓｉ中に占めるＦｅの添加量、Ｃｒの添加量及びＰの添加量を固定し、Ｃの添加量、Ｂの添加量及びＳｉの添加量を夫々変化させた。また試料Ｎｏ．２（実施例）では、Ｆｅ量を、試料Ｎｏ．９～Ｎｏ．１５のＦｅ量よりもやや小さくした。試料Ｎｏ．１６，１７（比較例）では、試料Ｎｏ．２と組成が近いが、試料Ｎｏ．２に比べてＳｉが多く添加されている。
　表２に示すように、Ｂの添加量ｚを０ａｔ％～４．２ａｔ％の範囲内、及びＳｉの添加量ｔを０ａｔ％～３．９ａｔ％の範囲内に設定することで、非晶質を形成できるとともに、ガラス遷移温度（Ｔｇ）を７４０Ｋ（４６６．８５℃）以下に設定できることがわかった。
　また表２に示すようにＢの添加量ｚを、０ａｔ％～２ａｔ％の範囲内に設定することで、ガラス遷移温度（Ｔｇ）をより効果的に低減できることがわかった。また、Ｓｉの添加量ｔを０ａｔ％～１ａｔ％の範囲内に設定することで、ガラス遷移温度（Ｔｇ）をより効果的に低減できることがわかった。
　また、Ｂの添加量ｚを、０ａｔ％～２ａｔ％の範囲内に設定し、Ｓｉの添加量ｔを０ａｔ％～１ａｔ％に設定し、さらに（Ｂの添加量ｚ＋Ｓｉの添加量ｔ）を、０ａｔ％～２ａｔ％の範囲内に設定することで、ガラス遷移温度（Ｔｇ）を７１０Ｋ（４３６．８５℃）以下に設定できることがわかった。
　一方、表２に示す比較例である試料Ｎｏ．１６，１７では、ガラス遷移温度（Ｔｇ）が７４０Ｋ（４６６．８５℃）よりも大きくなった。
（Ｎｉの添加量の実験）
　以下の表３に示す各組成から成る各Ｆｅ基非晶質合金粉末を製造した。各試料は、液体急冷法によりリボン状で形成されたものである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
　表３に示すように各試料ともにＴｉを０．２５ｗｔ％添加した。
　表３に示す試料Ｎｏ．１８～Ｎｏ．２５（いずれも実施例）では、Ｆｅ－Ｃｒ－Ｐ－Ｃ－Ｂ－Ｓｉ中に占めるＣｒ，Ｐ，Ｃ，Ｂ，Ｓｉの添加量を固定し、Ｆｅの添加量、Ｎｉの添加量を変化させた。表３に示すように、Ｎｉの添加量ａを１０ａｔ％まで大きくしても、非晶質が得られることがわかった。また、いずれの試料も、ガラス遷移温度（Ｔｇ）が７２０Ｋ（４４６．８５℃）以下、換算ガラス化温度（Ｔｇ／Ｔｍ）が０．５４以上であった。
　図１４は、Ｆｅ基非晶質合金のＮｉ添加量とガラス遷移温度（Ｔｇ）との関係を示すグラフ、図１５は、Ｆｅ基非晶質合金のＮｉ添加量と結晶化開始温度（Ｔｘ）との関係を示すグラフ、図１６は、Ｆｅ基非晶質合金のＮｉ添加量と換算ガラス化温度（Ｔｇ／Ｔｍ）との関係を示すグラフ、図１７は、Ｆｅ基非晶質合金のＮｉ添加量とＴｘ／Ｔｍとの関係を示すグラフである。
　図１４，図１５に示すようにＮｉの添加量ａを増やすと、徐々に、ガラス遷移温度（Ｔｇ）及び結晶化開始温度（Ｔｘ）が低下することがわかった。
　また図１６，図１７に示すように、Ｎｉ添加量ａを６ａｔ％程度まで大きくしても、高い換算ガラス化温度（Ｔｇ／Ｔｍ）及びＴｘ／Ｔｍを維持できるが、Ｎｉ添加量ａが６ａｔ％を越えると、急激に、換算ガラス化温度（Ｔｇ／Ｔｍ）及びＴｘ／Ｔｍが低下することがわかった。
　本実施例では、ガラス遷移温度（Ｔｇ）の低下とともに、換算ガラス化温度（Ｔｇ／Ｔｍ）を大きくして非晶質形成能を高めることが必要であるため、Ｎｉ添加量ａの範囲を０ａｔ％～１０ａｔ％とし、好ましい範囲を０ａｔ％～６ａｔ％に設定した。
　またＮｉ添加量ａを４ａｔ～６ａｔ％の範囲内に設定すれば、ガラス遷移温度（Ｔｇ）を低くできるとともに、安定して高い換算ガラス化温度（Ｔｇ／Ｔｍ）及びＴｘ／Ｔｍが得られることがわかった。
（Ｓｎの添加量の実験）
　以下の表４に示す各組成から成る各Ｆｅ基非晶質合金粉末を製造した。各試料は、液体急冷法によりリボン状で形成されたものである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
　表４に示すように各試料ともにＴｉを０．２５ｗｔ％添加した。
　表４に示す試料Ｎｏ．２６～Ｎｏ．２９では、Ｆｅ－Ｃｒ－Ｐ－Ｃ－Ｂ－Ｓｉ中に占めるＣｒ，Ｐ，Ｃ，Ｂ，Ｓｉの添加量を固定し、Ｆｅの添加量及びＳｎの添加量を変化させた。Ｓｎの添加量を３ａｔ％まで大きくしても非晶質が得られることがわかった。
　ただし表４に示すように，Ｓｎの添加量ｂを増やすとＦｅ基非晶質合金中に含まれる酸素濃度が増加し耐食性が低下することが分かる。そのため、添加量ｂは必要最小限に抑えることが必要であるとわかった。
　図１８は、Ｆｅ基非晶質合金のＳｎ添加量とガラス遷移温度（Ｔｇ）との関係を示すグラフ、図１９は、Ｆｅ基非晶質合金のＳｎ添加量と結晶化開始温度（Ｔｘ）との関係を示すグラフ、図２０は、Ｆｅ基非晶質合金のＳｎ添加量と換算ガラス化温度（Ｔｇ／Ｔｍ）との関係を示すグラフ、図２１は、Ｆｅ基非晶質合金のＳｎ添加量とＴｘ／Ｔｍとの関係を示すグラフである。
　図１８に示すようにＳｎの添加量ｂを増やすと、ガラス遷移温度（Ｔｇ）が低下する傾向が見られた。
　また図２１に示すように、Ｓｎの添加量ｂを３ａｔ％にすると、Ｔｘ／Ｔｍが低下し、非晶質形成能が悪化することがわかった。
　したがって本実施例では、耐食性の低下を抑制し、且つ高い非晶質形成能を維持するため、Ｓｎの添加量ｂを０ａｔ％～３ａｔ％の範囲内とし、０ａｔ％～２ａｔ％を好ましい範囲とした。
　なおＳｎの添加量ｂを２ａｔ％～３ａｔ％とすると、上記のようにＴｘ／Ｔｍは小さくなるが、換算ガラス化温度（Ｔｇ／Ｔｍ）は高くできる。
（Ｐの添加量及びＣの添加量の実験）
　以下の表５に示す各組成から成る各Ｆｅ基非晶質合金粉末を製造した。各試料は、液体急冷法によりリボン状で形成されたものである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
　表５に示すように各試料ともにＴｉを０．２５ｗｔ％添加した。
　表５の試料Ｎｏ９，１０，１２，１４，１５，３１～３５（いずれも実施例）では、Ｆｅ－Ｃｒ－Ｐ－Ｃ－Ｂ－Ｓｉ中に占めるＦｅ，Ｃｒの添加量を固定し、Ｐ，Ｃ，Ｂ，Ｓｉの添加量を変化させた。
　表５に示すように、Ｐの添加量ｘを、６．８ａｔ％～１０．８ａｔ％の範囲内、Ｃの添加量ｙを２．２ａｔ％～９．８ａｔ％の範囲内で調整すれば、非晶質を得ることができるとわかった。またいずれの実施例でもガラス遷移温度（Ｔｇ）を７４０Ｋ（４６６．８５℃）以下にでき、換算ガラス化温度（Ｔｇ／Ｔｍ）を０．５２以上にできた。
　図２２は、Ｆｅ基非晶質合金のＰの添加量ｘと融点（Ｔｍ）との関係を示すグラフ、図２３は、Ｆｅ基非晶質合金のＣの添加量ｙと融点（Ｔｍ）との関係を示すグラフである。
　本実施例では、７４０Ｋ（４６６．８５℃）以下、好ましくは７１０Ｋ（４３６．８５℃）以下のガラス遷移温度（Ｔｇ）を得ることができるが、ガラス遷移温度（Ｔｇ）の低下により、Ｔｇ／Ｔｍで示される非晶質形成能を高めるには融点（Ｔｍ）を低くすることが必要である。なお、図２２，図２３に示すように融点（Ｔｍ）は、Ｃ量よりＰ量に対する依存性が高いと考えられる。
　特に、Ｐの添加量ｘを８．８ａｔ％～１０．８ａｔ％の範囲内に設定すれば、融点（Ｔｍ）を効果的に低減でき、したがって換算ガラス化温度（Ｔｇ／Ｔｍ）を高めることができるとわかった。
（Ｃｒの添加量の実験）
　以下の表６に示す組成の各試料から各Ｆｅ基非晶質合金粉末を製造した。各試料は、液体急冷法によりリボン状で形成されたものである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
　表６に示すように各試料ともにＴｉを０．２５ｗｔ％添加した。
　表６の各試料では、Ｆｅ－Ｃｒ－Ｐ－Ｃ－Ｂ－Ｓｉ中に占めるＮｉ，Ｐ，Ｃ，Ｂ，Ｓｉの添加量を固定し、Ｆｅ，Ｃｒの添加量を変化させた。表６に示すように、Ｃｒの添加量を増やすと、Ｆｅ基非晶質合金の酸素濃度が徐々に低下し、耐食性が向上することがわかった。
　図２４は、Ｆｅ基非晶質合金のＣｒの添加量とガラス遷移温度（Ｔｇ）との関係を示すグラフ、図２５は、Ｆｅ基非晶質合金のＣｒの添加量と結晶化温度（Ｔｘ）との関係を示すグラフ、図２６は、Ｆｅ基非晶質合金のＣｒの添加量と飽和磁化Ｉｓとの関係を示すグラフである。
　図２４に示すように、Ｃｒの添加量を増やすと、ガラス遷移温度（Ｔｇ）が徐々に大きくなることがわかった。また表６及び図２６に示すように、Ｃｒの添加量を増やすことにより飽和磁化Ｉｓが徐々に低下することがわかった。なお、飽和磁化ＩｓはＶＳＭ（振動試料型磁力計）で測定した。
　図２４、図２６及び表６に示すようにガラス遷移温度（Ｔｇ）が低く、且つ、飽和磁化Ｉｓが１．０Ｔ以上得られるようにＣｒの添加量ｃを０ａｔ％～６ａｔ％の範囲内に設定した。また、Ｃｒの好ましい添加量ｃを、０ａｔ％～２ａｔ％の範囲内に設定した。図２４に示すように、Ｃｒの添加量ｃを０ａｔ％～２ａｔ％の範囲内に設定することで、ガラス遷移温度（Ｔｇ）を、Ｃｒ量に関わらず低い値に設定できる。
　さらにＣｒの添加量ｃを、１ａｔ％～２ａｔ％の範囲内とすることで、耐食性を向上でき、且つ、安定して低いガラス遷移温度（Ｔｇ）を得ることができ、さらに高い磁化を維持することが可能であることがわかった。
（金属元素ＭとしてＴｉ、Ａｌ、Ｍｎを添加したＦｅ基非晶質合金粉末の作製）
　（Ｆｅ71.4Ｎｉ6Ｃｒ2Ｐ10.8Ｃ7.8Ｂ2）100-αＭαからなる複数のＦｅ基非晶質合金粉末を水アトマイズ法により製造した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
　なお表１～表６では、Ｆｅ－Ｃｒ－Ｐ－Ｃ－Ｂ－Ｓｉ中における各元素の添加量をａｔ％で示しているが、表７では各元素を全てｗｔ％で示した。
　表７に示すように、金属元素ＭとしてＴｉ、Ａｌ及びＭｎを添加した。Ａｌの添加量は０ｗｔ％より大きく０．００５ｗｔ％よりも小さい範囲内である。また、表中Ｍ元素以外の他の構成元素は全て組成式Ｆｅ71.4Ｎｉ6Ｃｒ2Ｐ10.8Ｃ7.8Ｂ2で表されるものであるので、これらの元素は記載を省いている。本実施形態では金属元素Ｍの添加量を０．０４ｗｔ％以上０．６ｗｔ％以下の範囲内と規定したが、表７の各実施例は全てこの範囲内に収まっている。
　Ａｌ及びＭｎはＴｉと同様に活性の高い元素であることから、Ｔｉ、Ａｌ及びＭｎを夫々少量添加することで、金属元素Ｍを粉末表面に凝集させて薄い不動態層を形成することができ、Ｓｉ，Ｂの添加量の低減により低Ｔｇ化とともに、金属元素Ｍの添加により優れた耐食性及び高い透磁率と低いコアロスを得ることが可能になる。
　１，３　圧粉コア
　２　コイル封入圧粉コア
　４　コイル（エッジワイズコイル）
　５　粉末内部
　６　粉末表面層

Claims (19)

  1. 　組成式が、（Ｆｅ100-a-b-c-x-y-z-tＮｉaＳｎbＣｒcＰxＣyＢzＳｉt）100-αＭαで示され、０ａｔ％≦ａ≦１０ａｔ％、０ａｔ％≦ｂ≦３ａｔ％、０ａｔ％≦ｃ≦６ａｔ％、６．８ａｔ％≦ｘ≦１０．８ａｔ％、２．２ａｔ％≦ｙ≦９．８ａｔ％、０ａｔ％≦ｚ≦４．２ａｔ％、０ａｔ％≦ｔ≦３．９ａｔ％であり、金属元素Ｍは、Ｔｉ，Ａｌ，Ｍｎ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｖ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｍｏ，Ｗのうち少なくとも１種が選択されてなり、金属元素Ｍの添加量αは、０．０４ｗｔ％≦α≦０．６ｗｔ％であることを特徴とするＦｅ基非晶質合金粉末。
  2. 　Ｂの添加量ｚは、０ａｔ％≦ｚ≦２ａｔ％であり、Ｓｉの添加量ｔは、０ａｔ％≦ｔ≦１ａｔ％であり、Ｂの添加量ｚとＳｉの添加量ｔを足したｚ＋ｔは、０ａｔ％≦ｚ＋ｔ≦２ａｔ％である請求項１記載のＦｅ基非晶質合金粉末。
  3. 　ＢとＳｉの双方が添加されており、Ｂの添加量ｚのほうがＳｉの添加量ｔより大きい請求項１又は２に記載のＦｅ基非晶質合金粉末。
  4. 　金属元素Ｍの添加量αは、０．１ｗｔ％≦α≦０．６ｗｔ％である請求項１ないし３のいずれか１項に記載のＦｅ基非晶質合金粉末。
  5. 　金属元素Ｍは少なくともＴｉを含む請求項１ないし４のいずれか１項に記載のＦｅ基非晶質合金粉末。
  6. 　金属元素Ｍは、Ｔｉ、Ａｌ及びＭｎを含む請求項１ないし４のいずれか１項に記載のＦｅ基非晶質合金粉末。
  7. 　ＮｉとＳｎのうち、どちらか一方のみが添加される請求項１ないし６のいずれか１項に記載のＦｅ基非晶質合金粉末。
  8. 　Ｎｉの添加量ａは、０ａｔ％≦ａ≦６ａｔ％の範囲内である請求項１ないし７のいずれか１項に記載のＦｅ基非晶質合金粉末。
  9. 　Ｓｎの添加量ｂは、０ａｔ％≦ｂ≦２ａｔ％の範囲内である請求項１ないし８のいずれか１項に記載のＦｅ基非晶質合金粉末。
  10. 　Ｃｒの添加量ｃは、０ａｔ％≦ｃ≦２ａｔ％の範囲内である請求項１ないし９のいずれか１項に記載のＦｅ基非晶質合金粉末。
  11. 　Ｐの添加量ｘは、８．８ａｔ％≦ｘ≦１０．８ａｔ％の範囲内である請求項１ないし１０のいずれか１項に記載のＦｅ基非晶質合金粉末。
  12. 　０ａｔ％≦ａ≦６ａｔ％、０ａｔ％≦ｂ≦２ａｔ％、０ａｔ％≦ｃ≦２ａｔ％、８．８ａｔ％≦ｘ≦１０．８ａｔ％、２．２ａｔ％≦ｙ≦９．８ａｔ％、０ａｔ％≦ｚ≦２ａｔ％、０ａｔ％≦ｔ≦１ａｔ％、０ａｔ％≦ｚ＋ｔ≦２ａｔ％、０．１ｗｔ％≦α≦０．６ｗｔ％を満たす請求項１記載のＦｅ基非晶質合金粉末。
  13. 　粉末のアスペクト比が、１より大きく１．４以下である請求項１ないし１２のいずれか１項に記載のＦｅ基非晶質合金粉末。
  14. 　粉末のアスペクト比が、１．２以上で１．４以下である請求項１３記載のＦｅ基非晶質合金粉末。
  15. 　金属元素Ｍの濃度は、粉末内部より粉末表面層にて高くなっている請求項１ないし１４のいずれか１項に記載のＦｅ基非晶質合金粉末。
  16. 　組成元素にＳｉを含み、前記粉末表面層での金属元素Ｍの濃度は、Ｓｉの濃度よりも高くなっている請求項１５記載のＦｅ基非晶質合金粉末。
  17. 　請求項１ないし１６のいずれか１項に記載のＦｅ基非晶質合金粉末の粉末が結着材によって固化成形されてなることを特徴とする圧粉コア。
  18. 　請求項１ないし１６のいずれか１項に記載のＦｅ基非晶質合金粉末の粉末が結着材によって固化成形されてなる圧粉コアと、前記圧粉コアに覆われるコイルとを有してなることを特徴とするコイル封入圧粉コア。
  19. 　前記コイルは、エッジワイズコイルである請求項１８記載のコイル封入圧粉コイル。
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