WO2012096358A1

WO2012096358A1 - 芳香族ポリカーボネート樹脂組成物およびその成形品

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Publication number: WO2012096358A1
Application number: PCT/JP2012/050532
Authority: WO
Inventors: 充史林田
Original assignee: 帝人化成株式会社
Priority date: 2011-01-14
Filing date: 2012-01-05
Publication date: 2012-07-19
Also published as: TW201235409A; KR20140040084A; US9646736B2; TWI513757B; EP2664652A1; JP5723892B2; CN103314055A; JPWO2012096358A1; US20140014884A1; CN103314055B

Abstract

本発明は、導電性、剛性、温度上昇によって発生するアウトガス発生を抑制し、さらに製造工程における溶融成形時の熱安定性等にも優れる、樹脂組成物およびその成形品を提供する。　本発明は、（Ａ）芳香族ポリカーボネート樹脂（Ａ成分）６５～８５重量部、（Ｂ）平均粒径が５～６０μｍである黒鉛（Ｂ成分）１５～３５重量部、並びに（Ｃ）スルホン酸塩基を有するポリエステル（Ｃ−１成分）およびスルホン酸塩基を有するポリエーテルエステル（Ｃ−２成分）からなる群より選択される少なくとも１種の化合物（Ｃ成分）を、Ａ成分とＢ成分との合計１００重量部に対し０．１～５重量部、含有する樹脂組成物である。

Description

芳香族ポリカーボネート樹脂組成物およびその成形品

　本発明は、黒鉛および芳香族ポリカーボネート樹脂を含有する樹脂組成物に関する。詳しくは、導電性および剛性に優れるだけでなく、温度上昇によって発生するアウトガスの発生を抑制し、且つ、製造工程における溶融成形時の熱安定性等にも優れる、樹脂組成物および該樹脂組成物を成形してなる樹脂成形品に関する。

　熱可塑性樹脂は、その製造、成形の容易さのため、あらゆる産業において広く用いられている。特に芳香族ポリカーボネート樹脂は、一般に優れた電気絶縁性、耐熱性や耐衝撃性を示すことから、半導体および電子回路基板等の電子部品、各種エレクトロニクス機器、並びに精密機器等の収納や搬送に用いられる容器等に用いられることも多い。近年電子部品の小型化および高機能化により、熱可塑性樹脂成形品の導電性と剛性を併せ持つ特性が熱可塑性樹脂に求められている。また、電子部品の小型化および高機能化が、電子部品の発熱につながり、特にストレージＡＶ機器の内部部品においては、温度上昇によって樹脂成形品から発生するガスがヘッド汚れやディスク浮上による不安定化の原因となり、使用される熱可塑性樹脂に対して低アウトガス性の要求がある。しかしながら、今までに導電性、剛性とともに低アウトガス性を併せ持つ樹脂組成物を得たものは無かった。
　カーボンブラックの添加は熱可塑性樹脂に対する導電性付与の一つの代表的な方法であり、例えば芳香族ポリカーボネート、ポリアルキレンテレフタレート、および特定ＤＢＰ吸油量のカーボンブラックの特定割合からなり、該カーボンブラックの分散性を改良した樹脂組成物は公知である（特許文献１、非特許文献１参照）。確かにカーボンブラックの添加によっても容易に導電性を付与することはできるが、剛性が低く、ストレージＡＶ機器の内部部材としては適していないという問題があった。
　黒鉛の添加もまた、熱可塑性樹脂に対する剛性および導電性能付与の手法として知られており、リン系安定剤を使用して熱安定性を改良した樹脂組成物は公知である（特許文献２参照）。また、熱可塑性樹脂に主として炭素繊維を配合し、異方性の改善された樹脂組成物は公知である（特許文献３参照）。かかる炭素繊維、金属繊維あるいは金属フレーク、導電性酸化チタンの如き金属コート繊維あるいは導電性マイカの如き金属コートフレーク等の導電性フィラーは、従来から機械的物性向上を考慮して使用されてきた。さらに、炭素繊維と導電フィラーである黒鉛を併用することで寸法精度に優れ、高い剛性・導電性を持つことは公知である（特許文献４参照）。しかしながらこれらの文献は、低アウトガス化に関して十分な知見を開示しているとはいい難く、優れた低アウトガス性を得るための有効な知見を開示するものではなかった。
特開２００１−３２３１５０号公報特開２００１−２００１５３号公報特開２０００−１１９４０５号公報特開平１０−２３７３１６号公報日本接着協会誌Ｖｏｌ．２３，Ｎｏ．３，１０３~１１１ページ（１９８７）

　本発明の目的は、上述の如く、高い導電性、剛性、低アウトガス性および良好な溶融熱安定性を有する、生産性の高い、芳香族ポリカーボネート樹脂組成物および樹脂成形品を提供することにある。
　本発明者は、特定形状を有する黒鉛を使用し、同時にスルホン酸塩基を有するポリエーテルエステルおよびスルホン酸塩基を有するポリエステルからなる群より選択される少なくとも１種の化合物を含有させることにより、良好な低アウトガス性および溶融熱安定性を達成しかつ高い導電性および剛性を得られることを見出した。この効果は特定形状を有する黒鉛により適度な補強効果と寸法安定性が樹脂に与えられ、スルホン酸塩基を有するポリエーテルエステルおよびスルホン酸塩基を有するポリエステルからなる群より選択される少なくとも１種の化合物による黒鉛の表面官能基および不純物の不活性化が、低アウトガス性および溶融熱安定性の向上として有効に作用する結果であると予想される。
　本発明によれば上記課題は、以下の発明により達成される。
１．　（Ａ）芳香族ポリカーボネート樹脂（Ａ成分）６５~８５重量部、
（Ｂ）平均粒径が５~６０μｍである黒鉛（Ｂ成分）１５~３５重量部、並びに
（Ｃ）スルホン酸塩基を有するポリエステル（Ｃ−１成分）およびスルホン酸塩基を有するポリエーテルエステル（Ｃ−２成分）からなる群より選択される少なくとも１種の化合物（Ｃ成分）を、Ａ成分とＢ成分との合計１００重量部に対し０．１~５重量部、
含有する樹脂組成物。
２．　Ｂ成分が、長軸方向長さ／厚さの平均が３０以上の黒鉛である前項１記載の樹脂組成物。
３．　Ｃ−１成分が、（Ｃ１−１）スルホン酸塩基を持たない芳香族ジカルボン酸成分から誘導される繰り返し単位、（Ｃ１−２）下記一般式〔１〕で表されるスルホン酸塩基で置換された芳香族ジカルボン酸成分から誘導される繰り返し単位、および（Ｃ１−３）炭素数２~１０のグリコール成分から誘導される繰返し単位からなるポリエステルである前項１記載の樹脂組成物。

（式中、Ａｒは炭素数６~２０の３価の芳香族基、Ｍ^＋は金属イオンまたは有機オニウムイオンを表す。）
４．　Ｃ−２成分が、（Ｃ２−１）スルホン酸塩基を持たない芳香族ジカルボン酸成分から誘導される繰り返し単位、（Ｃ２−２）下記一般式〔１〕で表されるスルホン酸塩基で置換された芳香族ジカルボン酸成分から誘導される繰り返し単位、（Ｃ２−３）炭素数２~１０のグリコール成分から誘導される繰り返し単位、および（Ｃ２−４）数平均分子量２００~５０，０００のポリ（アルキレンオキシド）グリコール成分から誘導される繰返し単位からなるポリエーテルエステルである前項１記載の樹脂組成物。

（式中、Ａｒは炭素数６~２０の３価の芳香族基、Ｍ^＋は金属イオンまたは有機オニウムイオンを表す。）
５．　前項１~４のいずれか１項に記載の樹脂組成物からなる成形品。
６．　ストレージＡＶ機器部品である前項５に記載の成形品。
７．　ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）またはデジタル多用途ディスク（ＤＶＤ）ドライブの空気整流板である前項６に記載の成形品。
８．　（Ａ）芳香族ポリカーボネート樹脂（Ａ成分）６５~８５重量部、および
（Ｂ）平均粒径が５~６０μｍである黒鉛（Ｂ成分）１５~３５重量部を含有する樹脂組成物に、
（Ｃ）スルホン酸塩基を有するポリエステル（Ｃ−１成分）およびスルホン酸塩基を有するポリエーテルエステル（Ｃ−２成分）からなる群より選択される少なくとも１種の化合物（Ｃ成分）を、Ａ成分とＢ成分との合計１００重量部に対し０．１~５重量部添加することを特徴とする、
樹脂組成物の加熱による重量減少を防止する方法。

実施例において使用した空気整流板の概略図である。

　１　空気整流板縦長さ（３５ｍｍ）
　２　空気整流板横長さ（１５ｍｍ）
　３　空気整流板厚み（２ｍｍ）

　以下、本発明の詳細について説明する。
（Ａ成分：芳香族ポリカーボネート樹脂）
　芳香族ポリカーボネート樹脂（Ａ成分）は、２価フェノールとカーボネート前駆体とを反応させて得られるものである。反応方法の一例として界面重合法、溶融エステル交換法、カーボネートプレポリマーの固相エステル交換法、および環状カーボネート化合物の開環重合法などを挙げることができる。
　ここで使用される２価フェノールの代表的な例としては、ハイドロキノン、レゾルシノール、４，４’−ビフェノール、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（通称ビスフェノールＡ）、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、４，４’−（ｐ−フェニレンジイソプロピリデン）ジフェノール、４，４’−（ｍ−フェニレンジイソプロピリデン）ジフェノール、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−４−イソプロピルシクロヘキサン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）オキシド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホキシド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ケトン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エステル、ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）スルフィド、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンおよび９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレンなどが挙げられる。好ましい２価フェノールは、ビス（４−ヒドロキシフェニル）アルカンであり、なかでも耐衝撃性の点からビスフェノールＡが特に好ましく、汎用されている。
　カーボネート前駆体としてはカルボニルハライド、炭酸ジエステルまたはハロホルメートなどが使用される。具体的にはホスゲン、ジフェニルカーボネートまたは２価フェノールのジハロホルメートなどが挙げられる。
　前記２価フェノールとカーボネート前駆体を界面重合法によって芳香族ポリカーボネート樹脂を製造するに当っては、必要に応じて触媒、末端停止剤、２価フェノールが酸化するのを防止するための酸化防止剤などを使用してもよい。また芳香族ポリカーボネート樹脂は、三官能以上の多官能性芳香族化合物を共重合した分岐ポリカーボネート樹脂、芳香族または脂肪族（脂環式を含む）の二官能性カルボン酸を共重合したポリエステルカーボネート樹脂、二官能性アルコール（脂環式を含む）を共重合した共重合ポリカーボネート樹脂、並びにかかる二官能性カルボン酸および二官能性アルコールを共に共重合したポリエステルカーボネート樹脂を含む。また、得られた芳香族ポリカーボネート樹脂の２種以上を混合した混合物であってもよい。
　分岐ポリカーボネート樹脂は、本発明の樹脂組成物に、ドリップ防止性能などを付与できる。かかる分岐ポリカーボネート樹脂に使用される三官能以上の多官能性芳香族化合物としては、フロログルシン、フロログルシド、または４，６−ジメチル−２，４，６−トリス（４−ヒドロキジフェニル）ヘプテン−２、２，４，６−トリメチル−２，４，６−トリス（４−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、１，３，５−トリス（４−ヒドロキシフェニル）ベンゼン、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，１−トリス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，６−ビス（２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェノール、４−｛４−［１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エチル］ベンゼン｝−α，α−ジメチルベンジルフェノール等のトリスフェノール、テトラ（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）ケトン、１，４−ビス（４，４−ジヒドロキシトリフェニルメチル）ベンゼン、またはトリメリット酸、ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸およびこれらの酸クロライド等が挙げられる。中でも１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，１−トリス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）エタンが好ましく、特に１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタンが好ましい。
　分岐ポリカーボネートにおける多官能性芳香族化合物から誘導される構成単位は、２価フェノールから誘導される構成単位とかかる多官能性芳香族化合物から誘導される構成単位との合計１００モル％中、好ましくは０．０１~１モル％、より好ましくは０．０５~０．９モル％、特に好ましくは０．０５~０．８モル％である。
　また、特に溶融エステル交換法の場合、副反応として分岐構造単位が生ずる場合があるが、かかる分岐構造単位量についても、２価フェノールから誘導される構成単位との合計１００モル％中、好ましくは０．００１~１モル％、より好ましくは０．００５~０．９モル％、特に好ましくは０．０１~０．８モル％であるものが好ましい。なお、かかる分岐構造の割合については^１Ｈ−ＮＭＲ測定により算出することが可能である。
　脂肪族の二官能性のカルボン酸は、α，ω−ジカルボン酸が好ましい。脂肪族の二官能性のカルボン酸としては例えば、セバシン酸（デカン二酸）、ドデカン二酸、テトラデカン二酸、オクタデカン二酸、イコサン二酸などの直鎖飽和脂肪族ジカルボン酸、並びにシクロヘキサンジカルボン酸などの脂環族ジカルボン酸が好ましく挙げられる。二官能性アルコールとしては脂環族ジオールがより好適であり、例えばシクロヘキサンジメタノール、シクロヘキサンジオール、およびトリシクロデカンジメタノールなどが例示される。
　さらに下記式［２］で表されるポリカーボネートブロックと、下記式［４］で表されるポリジオルガノシロキサンブロックとからなるポリカーボネート−ポリジオルガノシロキサン共重合体の使用も可能である。

（上記一般式〔２〕において、Ｒ^１およびＲ^２は夫々独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１~１８のアルキル基、炭素原子数１~１８のアルコキシ基、炭素原子数６~２０のシクロアルキル基、炭素原子数６~２０のシクロアルコキシ基、炭素原子数２~１０のアルケニル基、炭素原子数３~１４のアリール基、炭素原子数３~１４のアリールオキシ基、炭素原子数７~２０のアラルキル基、炭素原子数７~２０のアラルキルオキシ基、ニトロ基、アルデヒド基、シアノ基およびカルボキシル基からなる群から選ばれる基を表す。それぞれ複数ある場合はそれらは同一でも異なっていても良い。ｅおよびｆは夫々独立して１~４の整数であり、Ｗは単結合もしくは下記一般式〔３〕で表される基からなる群より選ばれる少なくとも一つの基である。）

（上記一般式〔３〕においてＲ^１１，Ｒ^１２，Ｒ^１３，Ｒ^１４，Ｒ^１５，Ｒ^１６，Ｒ^１７およびＲ^１８は夫々独立して水素原子、炭素原子数１~１８のアルキル基、炭素原子数３~１４のアリール基および炭素原子数７~２０のアラルキル基からなる群から選ばれる基を表す。Ｒ^１９およびＲ^２０は夫々独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１~１８のアルキル基、炭素原子数１~１０のアルコキシ基、炭素原子数６~２０のシクロアルキル基、炭素原子数６~２０のシクロアルコキシ基、炭素原子数２~１０のアルケニル基、炭素原子数３~１４のアリール基、炭素原子数６~１０のアリールオキシ基、炭素原子数７~２０のアラルキル基、炭素原子数７~２０のアラルキルオキシ基、ニトロ基、アルデヒド基、シアノ基およびカルボキシル基からなる群から選ばれる基を表す。複数ある場合はそれらは同一でも異なっていても良く、ｇは１~１０の整数、ｈは４~７の整数である。）］

（上記一般式〔４〕において、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７およびＲ^８は、各々独立に水素原子、炭素数１~１２のアルキル基または炭素数６~１２の置換若しくは無置換のアリール基である。Ｒ^９およびＲ^１０は夫々独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１~１０のアルキル基、炭素原子数１~１０のアルコキシ基である。ｐは自然数であり、ｑは０または自然数であり、ｐ＋ｑ（ジオルガノシロキサン重合度）は３００未満の自然数である。Ｘは炭素数２~８の二価脂肪族基である。）
　ポリカーボネート−ポリジオルガノシロキサン共重合体は、２価フェノールとカーボネート前駆体とを反応させて得られるものである。ポリカーボネート−ポリジオルガノシロキサン共重合体の製造方法で用いられる２価フェノールは下記一般式［５］で表される。

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、ｅ、ｆおよびＷは前記と同じである。）
　上記一般式［５］で表される２価フェノールとしては、例えば、４，４’−ジヒドロキシビフェニル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，３’−ビフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−イソプロピルフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン、２，２−ビス（３−ブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエ−テル、４，４’−スルホニルジフェノール、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、２，２’−ジメチル−４，４’−スルホニルジフェノール、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルホキシド、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルフィド、２，２’−ジフェニル−４，４’−スルホニルジフェノール、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジフェニルジフェニルスルホキシド、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジフェニルジフェニルスルフィド、１，３−ビス｛２−（４−ヒドロキシフェニル）プロピル｝ベンゼン、１，４−ビス｛２−（４−ヒドロキシフェニル）プロピル｝ベンゼン、１，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、４，８−ビス（４−ヒドロキシフェニル）トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン、４，４’−（１，３−アダマンタンジイル）ジフェノール、および１，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−５，７−ジメチルアダマンタン等が挙げられる。
　なかでも、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、４，４’−スルホニルジフェノール、２，２’−ジメチル−４，４’−スルホニルジフェノール、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、１，３−ビス｛２−（４−ヒドロキシフェニル）プロピル｝ベンゼン、および１，４−ビス｛２−（４−ヒドロキシフェニル）プロピル｝ベンゼンが挙げられる。２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン（ＢＰＺ）、４，４’−スルホニルジフェノールおよび９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレンが好ましい。中でも強度に優れ、良好な耐久性を有する２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンが最も好適である。また、これらは単独または二種以上組み合わせて用いてもよい。
　ポリカーボネート−ポリジオルガノシロキサン共重合体の製造方法で用いられるカーボネート前駆体は下記一般式［６］で表されるヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンである。

（式中、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０、ｐ、ｑおよびＸは前記と同じである。）
　ここで、ｐ＋ｑ（ジオルガノシロキサン重合度）は好ましくは２~２９０、より好ましくは５~１００である。かかる好適な範囲の下限以上では、耐衝撃性や難燃性に優れ、かかる好適な範囲の上限以下では、成形品の表面外観に優れる。上記下限以上の共重合体は、凝集力の低いポリジオルガノシロキサン部位の導入によるレオロジー特性の改質効果が高く、構造粘性指数を高くしやすい。その結果、剪断流動時の高い流動性を保持しつつ燃焼時のドリップが抑制された難燃性の高い樹脂成型品を得ることができる。かかる上限以下の共重合体は、ポリジオルガノシロキサンドメインの平均サイズと規格化分散を小さくしやすい。その結果優れた表面外観を有する樹脂成形品を得ることができる。上記上限以下のポリジオルガノシロキサン単位は、その単位重量あたりのモル数が増加し、ポリカーボネート中に該単位が均等に組み込まれやすくなる。ジオルガノシロキサン重合度が大きいと、ポリジオルガノシロキサン単位のポリカーボネート中への組み込みが不均等になるとともに、ポリマー分子中のポリジオルガノシロキサン単位の割合が増加するため、該単位を含むポリカーボネートと、含まないポリカーボネートとが生じやすく、かつ相互の相溶性が低下しやすくなる。その結果として大きなポリジオルガノシロキサンドメインが生じやすくなる。一方で、流動性、耐衝撃性、および難燃性の観点からは、ポリジオルガノシロキサンドメインがある程度大きい方が有利であることから、上記の如く好ましい重合度の範囲が存在する。
　このヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンとしては、例えば次に示すような化合物が好適に用いられる。

（式中、ｐおよびｑは前記と同じである。）
　ヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンは、オレフィン性の不飽和炭素−炭素結合を有するフェノール類、好適にはビニルフェノール、２−アリルフェノール、イソプロペニルフェノール、２−メトキシ−４−アリルフェノールを所定の重合度を有するポリシロキサン鎖の末端に、ハイドロシリレーション反応させることにより容易に製造される。なかでも、（２−アリルフェノール）末端ポリジオルガノシロキサン、（２−メトキシ−４−アリルフェノール）末端ポリジオルガノシロキサンが好ましく、殊に（２−アリルフェノール）末端ポリジメチルシロキサン、および（２−メトキシ−４−アリルフェノール）末端ポリジメチルシロキサンが好ましい。
　共重合体全重量に占めるポリジオルガノシロキサン含有量は０．１~５０重量％が好ましく、より好ましくは０．１~１０重量％、さらに好ましくは０．５~８重量％、特に好ましくは１~５重量％である。かかる好適な範囲の下限以上では、耐衝撃性や難燃性に優れ、かかる好適な範囲の上限以下では、成形条件の影響を受けにくい安定した透明性が得られやすい。かかるジオルガノシロキサン重合度、ポリジオルガノシロキサン含有量は、^１Ｈ−ＮＭＲ測定により算出することが可能である。
　上記共重合体の製造方法において、ヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンは１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。
　また、上記製造方法の妨げにならない範囲で、上記２価フェノール、ヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサン以外の他のコモノマーを共重合体の全重量に対して１０重量％以下の範囲で併用することもできる。
　上記製造方法においては、あらかじめ水に不溶性の有機溶媒とアルカリ水溶液との混合液中において、２価フェノールと、ホスゲンや２価フェノールのクロロホルメート等のクロロホルメート形成性化合物との反応により、２価フェノールのクロロホルメートおよび／または末端クロロホルメート基を有する２価フェノールのカーボネートオリゴマーを含むクロロホルメート化合物の混合溶液を調製する。クロロホルメート形成性化合物としてはホスゲンが好適である。
　２価フェノールからのクロロホルメート化合物を生成するにあたり、用いられる２価フェノールの全量を一度にクロロホルメート化合物としてもよく、または、その一部を後添加モノマーとして後段の界面重縮合反応に反応原料として添加してもよい。後添加モノマーとは、後段の重縮合反応を速やかに進行させるために加えるものであり、必要のない場合には敢えて加える必要はない。
　このクロロホルメート化合物生成反応の方法は特に限定はされないが、通常、酸結合剤の存在下、溶媒中で行う方式が好適である。更に、所望に応じ、亜硫酸ナトリウム、およびハイドロサルファイドなどの酸化防止剤を少量添加してもよく、添加することが好ましい。
　クロロホルメート形成性化合物の使用割合は、反応の化学量論比（当量）を考慮して適宜調整すればよい。また、好適なクロロホルメート形成性化合物であるホスゲンを使用する場合、ガス化したホスゲンを反応系に吹き込む方法が好適に採用できる。
　前記酸結合剤としては、例えば、水酸化ナトリウム、および水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、および炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、並びにピリジンの如き有機塩基、あるいはこれらの混合物などが用いられる。
　酸結合剤の使用割合も、上記同様に、反応の化学量論比（当量）を考慮して適宜定めればよい。具体的には、２価フェノールのクロロホルメート化合物の形成に使用する２価フェノール１モルあたり（通常１モルは２当量に相当）、２当量若しくはこれより若干過剰量の酸結合剤を用いることが好ましい。
　前記溶媒としては、公知のポリカーボネートの製造に使用されるものなど各種の反応に不活性な溶媒を１種単独であるいは混合溶媒として使用すればよい。代表的な例としては、例えば、キシレンの如き炭化水素溶媒、並びに、塩化メチレンおよびクロロベンゼンをはじめとするハロゲン化炭化水素溶媒などが挙げられる。特に塩化メチレンの如きハロゲン化炭化水素溶媒が好適に用いられる。
　クロロホルメート化合物の生成反応における圧力は特に制限はなく、常圧、加圧、もしくは減圧のいずれでもよいが、通常常圧下で反応を行うことが有利である。反応温度は−２０~５０℃の範囲から選ばれ、多くの場合、反応に伴い発熱するので、水冷または氷冷することが望ましい。反応時間は他の条件に左右され一概に規定できないが、通常、０．２~１０時間で行われる。
　クロロホルメート化合物の生成反応におけるｐＨ範囲は、公知の界面反応条件が利用でき、ｐＨは通常１０以上に調整される。
　本発明においては、このようにして２価フェノールのクロロホルメートおよび末端クロロホルメート基を有する２価フェノールのカーボネートオリゴマーを含むクロロホルメート化合物の混合溶液を調製した後、該混合溶液を攪拌しながら式［６］で表わされるヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンを、該混合溶液の調製にあたり仕込まれた２価フェノールの量１モルあたり、０．０１モル／ｍｉｎ以下の速度で加え、該ヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンと該クロロホーメート化合物とを界面重縮合させることにより、ポリカーボネート−ポリジオルガノシロキサン共重合体を得る。
　界面重縮合反応を行うにあたり、酸結合剤を反応の化学量論比（当量）を考慮して適宜追加してもよい。酸結合剤としては、例えば、水酸化ナトリウム、および水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、および炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、並びにピリジンの如き有機塩基、あるいはこれらの混合物などが用いられる。具体的には、使用するヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサン、または上記の如く２価フェノールの一部を後添加モノマーとしてこの反応段階に添加する場合には、後添加分の２価フェノールとヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンとの合計モル数（通常１モルは２当量に相当）に対して２当量若しくはこれより過剰量のアルカリを用いることが好ましい。
　２価フェノールのオリゴマーとヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンとの界面重縮合反応は、上記混合液を激しく攪拌することにより行われる。
　かかる重縮合反応においては、末端停止剤或いは分子量調節剤が通常使用される。末端停止剤としては一価のフェノール性水酸基を有する化合物が挙げられ、通常のフェノール、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、ｐ−クミルフェノール、トリブロモフェノールなどの他に、長鎖アルキルフェノール、脂肪族カルボン酸クロライド、脂肪族カルボン酸、ヒドロキシ安息香酸アルキルエステル、ヒドロキシフェニルアルキル酸エステル、アルキルエーテルフェノールなどが例示される。その使用量は用いる全ての２価フェノール系化合物１００モルに対して、好ましくは１００~０．５モル、より好ましくは５０~２モルの範囲であり、二種以上の化合物を併用することも当然に可能である。
　重縮合反応を促進するために、トリエチルアミンのような第三級アミンまたは第四級アンモニウム塩などの触媒を添加することができ、添加することが好ましい。特に好適にはトリエチルミンが利用される。
　かかる重合反応の反応時間は、透明性を向上させるためには比較的長くする必要がある。好ましくは３０分以上、更に好ましくは５０分以上であり、製造効率の点からその上限は好ましくは２時間以下、より好ましくは１．５時間以下である。
　界面重合法による反応は、通常２価フェノールとホスゲンとの反応であり、酸結合剤および有機溶媒の存在下に反応させる。酸結合剤としては例えば水酸化ナトリウムや水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物、ピリジンなどが用いられる。
　有機溶媒としては例えば塩化メチレン、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素が用いられる。
　また、反応促進のために例えば第二級アミンや第四級アンモニウム塩などの触媒を用いることができ、分子量調節剤として例えばフェノール、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、ｐ−クミルフェノールなどの単官能フェノール類を用いるのが好ましい。さらに単官能フェノール類としては、デシルフェノール、ドデシルフェノール、テトラデシルフェノール、ヘキサデシルフェノール、オクタデシルフェノール、エイコシルフェノール、ドコシルフェノールおよびトリアコンチルフェノールなどを挙げることができる。これらの比較的長鎖のアルキル基を有する単官能フェノール類は、流動性や耐加水分解性の向上が求められる場合に有効である。
　反応温度は通常０~４０℃、反応時間は数分~５時間、反応中のｐＨは通常１０以上に保つのが好ましい。
　溶融エステル交換法による反応は、通常２価フェノールと炭酸ジエステルとのエステル交換反応であり、不活性ガスの存在下に２価フェノールと炭酸ジエステルを混合し、減圧下通常１２０~３５０℃で反応させる。減圧度は段階的に変化させ、最終的には１３３Ｐａ以下にして生成したフェノール類を系外に除去させる。反応時間は通常１~４時間程度である。
　炭酸ジエステルとしては、例えばジフェニルカーボネート、ジナフチルカーボネート、ビス（ジフェニル）カーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネートおよびジブチルカーボネートなどが挙げられ、なかでもジフェニルカーボネートが好ましい。
　重合速度を速めるために重合触媒を使用することができ、重合触媒としては、例えば水酸化ナトリウムや水酸化カリウムなどのアルカリ金属やアルカリ土類金属の水酸化物、ホウ素やアルミニウムの水酸化物、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、第４級アンモニウム塩、アルカリ金属やアルカリ土類金属のアルコキシド、アルカリ金属やアルカリ土類金属の有機酸塩、亜鉛化合物、ホウ素化合物、ケイ素化合物、ゲルマニウム化合物、有機錫化合物、鉛化合物、アンチモン化合物、マンガン化合物、チタン化合物、ジルコニウム化合物などの通常エステル化反応やエステル交換反応に使用される触媒があげられる。触媒は単独で使用してもよいし、二種類以上を併用して使用してもよい。これらの重合触媒の使用量は、原料の２価フェノール１モルに対し、好ましくは１×１０^−９~１×１０^−５当量、より好ましくは１×１０^−８~５×１０^−６当量の範囲で選ばれる。
　また、重合反応において、フェノール性の末端基を減少するために、重縮反応の後期あるいは終了後に、例えば２−クロロフェニルフェニルカーボネート、２−メトキシカルボニルフェニルフェニルカーボネートおよび２−エトキシカルボニルフェニルフェニルカーボネートなどの化合物を加えることができる。
　さらに溶融エステル交換法では触媒の活性を中和する失活剤を用いることが好ましい。かかる失活剤の量としては、残存する触媒１モルに対して０．５~５０モルの割合で用いるのが好ましい。また重合後の芳香族ポリカーボネート樹脂に対し、０．０１~５００ｐｐｍの割合、より好ましくは０．０１~３００ｐｐｍ、特に好ましくは０．０１~１００ｐｐｍの割合で使用する。失活剤としては、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩などのホスホニウム塩、テトラエチルアンモニウムドデシルベンジルサルフェートなどのアンモニウム塩などが好ましく挙げられる。
　前記以外の反応形式の詳細についても、各種の文献および特許公報などで良く知られている。
　芳香族ポリカーボネート樹脂（Ａ成分）の粘度平均分子量（Ｍ）は、特に限定されないが、好ましくは１０，０００~５０，０００であり、より好ましくは１４，０００~３０，０００であり、さらに好ましくは１４，０００~２４，０００である。
　粘度平均分子量が１０，０００未満の芳香族ポリカーボネート樹脂では、良好な機械的特性が得られない。一方、粘度平均分子量が５０，０００を超える芳香族ポリカーボネート樹脂から得られる樹脂組成物は、射出成形時の流動性に劣る点で汎用性に劣る。
　なお、芳香族ポリカーボネート樹脂（Ａ成分）は、その粘度平均分子量が前記範囲外のものを混合して得られたものであってもよい。殊に、前記範囲（５０，０００）を超える粘度平均分子量を有する芳香族ポリカーボネート樹脂は、樹脂のエントロピー弾性が向上する。その結果、強化樹脂材料を構造部材に成形する際に使用されることのあるガスアシスト成形、および発泡成形において、良好な成形加工性を発現する。かかる成形加工性の改善は前記分岐ポリカーボネートよりもさらに良好である。より好適な態様としては、Ａ成分が粘度平均分子量７０，０００~３００，０００の芳香族ポリカーボネート樹脂（Ａ−１−１成分）、および粘度平均分子量１０，０００~３０，０００の芳香族ポリカーボネート樹脂（Ａ−１−２成分）からなり、その粘度平均分子量が１６，０００~３５，０００である芳香族ポリカーボネート樹脂（Ａ−１成分）（以下、“高分子量成分含有芳香族ポリカーボネート樹脂”と称することがある）も使用できる。
　かかる高分子量成分含有芳香族ポリカーボネート樹脂（Ａ−１成分）において、Ａ−１−１成分の粘度平均分子量は７０，０００~２００，０００が好ましく、より好ましくは８０，０００~２００，０００、さらに好ましくは１００，０００~２００，０００、特に好ましくは１００，０００~１６０，０００である。またＡ−１−２成分の粘度平均分子量は１０，０００~２５，０００が好ましく、より好ましくは１１，０００~２４，０００、さらに好ましくは１２，０００~２４，０００、特に好ましくは１２，０００~２３，０００である。
　高分子量成分含有芳香族ポリカーボネート樹脂（Ａ−１成分）は前記Ａ−１−１成分とＡ−１−２成分を種々の割合で混合し、所定の粘度平均分子量範囲を満足するよう調整して得ることができる。好ましくは、Ａ−１成分１００重量％中、Ａ−１−１成分が２~４０重量％の場合であり、より好ましくはＡ−１−１成分が３~３０重量％であり、さらに好ましくはＡ−１−１成分が４~２０重量％であり、特に好ましくはＡ−１−１成分が５~２０重量％である。
　また、Ａ−１成分の調製方法としては、（１）Ａ−１−１成分とＡ−１−２成分とを、それぞれ独立に重合しこれらを混合する方法、（２）特開平５−３０６３３６号公報に示される方法に代表される、ＧＰＣ法による分子量分布チャートにおいて複数のポリマーピークを示す芳香族ポリカーボネート樹脂を同一系内において製造する方法を用い、かかる芳香族ポリカーボネート樹脂を本発明のＡ−１成分の条件を満足するよう製造する方法、および（３）かかる製造方法（（２）の製造法）により得られた芳香族ポリカーボネート樹脂と、別途製造されたＡ−１−１成分および／またはＡ−１−２成分とを、混合する方法などを挙げることができる。
　本発明でいう粘度平均分子量は、まず、次式にて算出される比粘度（η_ＳＰ）を２０℃で塩化メチレン１００ｍｌに芳香族ポリカーボネート０．７ｇを溶解した溶液からオストワルド粘度計を用いて求め、
　比粘度（η_ＳＰ）＝（ｔ−ｔ_０）／ｔ_０
　［ｔ_０は塩化メチレンの落下秒数、ｔは試料溶液の落下秒数］
求められた比粘度（η_ＳＰ）から次の数式により粘度平均分子量Ｍを算出する。
　η_ＳＰ／ｃ＝［η］＋０．４５×［η］^２ｃ（但し［η］は極限粘度）
　［η］＝１．２３×１０^−４Ｍ^０．８３
　ｃ＝０．７
　尚、本発明の樹脂組成物における芳香族ポリカーボネート樹脂（Ａ成分）の粘度平均分子量の算出は次の要領で行なわれる。すなわち、該樹脂組成物を、その２０~３０倍重量の塩化メチレンと混合し、組成物中の可溶分を溶解させる。かかる可溶分をセライト濾過により採取する。その後得られた溶液中の溶媒を除去する。溶媒除去後の固体を十分に乾燥し、塩化メチレンに溶解する成分の固体を得る。かかる固体０．７ｇを塩化メチレン１００ｍｌに溶解した溶液から、上記と同様にして２０℃における比粘度を求め、該比粘度から上記と同様にして粘度平均分子量Ｍを算出する。
（Ｂ成分：黒鉛）
　黒鉛（Ｂ成分）としては、鉱物名で石墨とされる天然黒鉛、または各種の人造黒鉛のいずれも利用することができる。天然黒鉛としては、土状黒鉛、鱗状黒鉛（塊状黒鉛とも称されるＶｅｉｎ　Ｇｒａｐｈｉｔｅ）および鱗片状黒鉛（Ｆｌａｋｅ　Ｇｒａｐｈｉｔｅ）のいずれを利用することもできる。また人造黒鉛は、無定形炭素を熱処理し不規則な配列の微小黒鉛結晶の配向を人工的に行わせたものであり、一般炭素材料に使用される人造黒鉛の他、キッシュ黒鉛、分解黒鉛、および熱分解黒鉛などを含む。一般炭素材料に使用される人造黒鉛は、通常石油コークスや石炭系ピッチコークスを主原料として黒鉛化処理により製造される。
　これらの中でも、本発明の好適な黒鉛は、鱗片状黒鉛である。かかる鱗片状黒鉛を配合した樹脂組成物は良好な導電性および剛性を有すると共に、良好な熱安定性に起因して良好な難燃性を有する。熱安定性が不良であると、燃焼時に樹脂の分解が顕著となり良好な難燃性が得られにくい。鱗片状黒鉛の割合はＢ成分１００重量％中好ましくは８０重量％以上、より好ましくは９０重量％以上であり、特に好ましくは実質的にＢ成分の全量が鱗片状黒鉛である。
　黒鉛（Ｂ成分）は、鱗片状黒鉛を酸処理に代表される処理をすることで、熱膨張可能とした膨張黒鉛、または該膨張処理済みの黒鉛を含んでもよい。しかしながら、かかる膨張黒鉛は熱安定性の点で不十分な場合があり、膨張済みの黒鉛は良好な難燃性が得られない場合が多いことから、膨張黒鉛および膨張処理済みの黒鉛は、Ｂ成分１００重量％中、２０重量％以下、より好ましくは１０重量％以下とすることが好ましい。
　黒鉛（Ｂ成分）の平均粒径は、５~６０μｍの範囲であり、好ましくは５~５０μｍ、より好ましくは７~４０μｍ、更に好ましくは７~３５μｍである。かかる範囲を満足することにより、高い剛性が達成されると共に、良好な導電性を有する。一方、平均粒径が５μｍ未満であると寸法精度の改良効果が低下しやすく、平均粒径が６０μｍを超えると、耐衝撃性も若干低下すると共に、成形品表面にいわゆる黒鉛の浮きが目立つようになり好ましくない。かかる表面の浮きは成形品表面から黒鉛が脱落し、電子部品と導通して部品を損傷する可能性を有するためである。また上記の好ましい平均粒径では、成形品の外観が良好になると共に、良好な摺動性も得られやすい利点がある。
　黒鉛（Ｂ成分）の平均粒径は、組成物となる以前のＢ成分自体の粒径であり、走査型電子顕微鏡写真を撮影し、この写真からランダムに４０~５０個の画像を選び出し、求められた粒径の平均値である。
　黒鉛（Ｂ成分）は、長軸方向長さ／厚さの平均が３０以上の黒鉛であることが好ましく、６０以上であることがより好ましい。長軸方向長さ／厚さの平均が３０以上の黒鉛を用いることによって、高い剛性が達成されると共に、良好な導電性を有する。一方、長軸方向長さ／厚さの平均が３０未満であると導電性の改良効果が低下しやすく好ましくない。ここで長軸方向長さ／厚さの平均は、黒鉛粒子の長軸の長さと厚さの比の平均である。
　黒鉛（Ｂ成分）の長軸方向長さ／厚さの平均は、試料ステージに黒鉛を設置させた後、走査型電子顕微鏡写真を撮影し、この写真からランダムに４０~５０個の画像を選び出し、各々の粒子における長軸の長さと厚さの比を求め、その平均値を長軸方向長さ／厚さの平均とした。
　黒鉛（Ｂ成分）は、粒子の平均厚さが０．１~１０μｍであることが好ましく、０．１~１μｍ、であることがより好ましい。
　黒鉛（Ｂ成分）の粒子の厚さは、試料ステージに黒鉛を設置させた後、走査型電子顕微鏡写真を撮影し、この写真からランダムに４０~５０個の画像を選び出し、各々の粒子厚さを求め、その平均値を平均厚さとした。
　黒鉛（Ｂ成分）の固定炭素量は９５％以上であることが好ましく、９７％以上がより好ましく、９９％以上であることが特に好ましい。固定炭素量が９５％以上の黒鉛を用いることによって、本発明の樹脂組成物から得られる厚さ１．６ｍｍの樹脂成形品で、燃焼性がＵＬ規格燃焼試験方法（ＵＬ９４）による評価で、難燃性の高いＶ−１またはＶ−０を示す、優れたものとなるため好ましい。固定炭素量が９５％未満では、本発明の樹脂組成物における難燃性が低下してしまうので好ましくない。
　また黒鉛の表面は、本発明の樹脂組成物の特性を損なわない限りにおいて熱可塑性樹脂との親和性を増すために、表面処理、例えばエポキシ処理、ウレタン処理、シランカップリング処理、および酸化処理等が施されていてもよい。
　黒鉛（Ｂ成分）の含有量は、Ａ成分とＢ成分の合計１００重量部を基準として１５~３５重量部、好ましくは２０~３５重量部、より好ましくは２５~３５重量部である。１５重量部未満では良好な導電性や剛性が得られにくく、３５重量部を超えると低アウトガス性および溶融熱安定性が低下するようになる。
（Ｃ成分：スルホン酸塩基を有するポリエステルおよび／またはスルホン酸塩基を有するポリエーテルエステル）
　本発明の樹脂組成物は、スルホン酸塩基を有するポリエステル（Ｃ−１成分）およびスルホン酸塩基を有するポリエーテルエステル（Ｃ−２成分）からなる群より選択される少なくとも１重の化合物（Ｃ成分）を含有することにより優れた特性を発揮する。両者を併用することがさらに好ましい。
　ここでポリエーテルエステルとは、３量体以上のポリ（アルキレンオキサイド）グリコール成分をその繰り返し単位に有するポリマーをいい、ポリエステルとは、３量体以上のポリ（アルキレンオキサイド）グリコール成分を含有しないポリエステルである。尚、ポリエステル中にはジエチレングリコール成分を含むことができる。該Ｃ成分はスルホン酸塩基が置換された単量体を重合反応させることによりポリマー化合物とすること、またはスルホン酸塩基で置換されていないポリマーをスルホン酸塩基で変性することにより製造することもできる。
　ここでＣ成分に含まれるスルホン酸塩基（−ＳＯ^３−Ｍ^＋）の具体例は次のとおりである。かかるＭ^＋（以下単に対イオンと称する場合がある）における金属イオンは、例えば、ナトリウム、カリウム、リチウム、ルビジウム、およびセシウムなどのアルカリ金属のイオン、カルシウムおよびマグネシウムなどのアルカリ土類金属のイオン、亜鉛イオン、並びに銅イオンなどを含む。かかる対イオンにおける有機オニウムイオンは、例えばアンモニウムイオン、ホスホニウムイオン、スルホニウムイオン、および複素芳香環由来のオニウムイオン等を含む。また該有機オニウムイオンとしては１級、２級、３級、および４級のいずれも使用できるが、４級オニウムイオンが好ましい。かかる対イオンにおける有機オニウムイオンは、より好適には有機ホスホニウムイオン（例えばテトラブチルホスホニウムイオンおよびテトラメチルホスホニウムイオンなど）、並びに有機アンモニウムイオン（例えばテトラブチルアンモニウムイオンおよびテトラメチルアンモニウムイオンなど）であり、特に好適には有機ホスホニウムイオンである。更にＣ成分に含まれるスルホン酸塩基おける対イオンはより好ましくは金属イオンであり、更に好ましくはアルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオンおよび亜鉛イオンであり、特に好ましくはアルカリ金属イオンである。但し２価の金属イオンの場合にはスルホン酸基２モルに対して金属イオン１モルが対応するものとする。
　Ｃ成分は、ポリマー１分子中にスルホン酸塩基が少なくとも２以上含まれるものが好ましく、より好ましくは３以上、更に好ましくは４以上含まれるものである。またその数平均分子量は１，０００以上が好ましく、２，０００以上が更に好ましい。更にＣ成分中に含有されるスルホン酸塩基の濃度としては、好ましくは５×１０^−７モル／ｇ~５×１０^−２モル／ｇの範囲であり、より好ましくは５×１０^−６~５×１０^−３モル／ｇの範囲である。
（ポリエステル：Ｃ−１成分）
　ポリエステル（Ｃ−１成分）としては、（Ｃ１−１）スルホン酸塩基を持たない芳香族ジカルボン酸成分から誘導される繰り返し単位、（Ｃ１−２）下記一般式〔１〕で表されるスルホン酸塩基で置換された芳香族ジカルボン酸成分から誘導される繰り返し単位、および（Ｃ１−３）炭素数２~１０のグリコール成分から誘導される繰返し単位からなるポリエステルが好適である。

（式中、Ａｒは炭素数６~２０の３価の芳香族基、Ｍ^＋は金属イオンまたは有機オニウムイオンを表す。）
　Ｃ１−１を誘導するためのスルホン酸塩基を持たない芳香族ジカルボン酸およびそのエステル形成性誘導体としては、例えばテレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸、ビフェニルジカルボン酸、およびそれらのエステル形成性の誘導体を挙げることができる。中でも、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸、ビフェニルジカルボン酸、およびそれらのエステル形成性の誘導体が好ましい。ナフタレンジカルボン酸およびそのエステル形成性誘導体の具体例としては、２，６−ナフタレンジカルボン酸、２，７−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸ジメチル、２，６−ナフタレンジカルボン酸ジエチル、２，７−ナフタレンジカルボン酸ジメチル、および２，７−ナフタレンジカルボン酸ジエチルなどが挙げられる。これらの化合物の芳香環の水素原子はアルキル基およびハロゲン原子などで置換されていてもよい。Ｃ１−１を誘導するためのスルホン酸塩基を持たない芳香族ジカルボン酸成分は単独でも２種以上を組み合わせてポリエステル中に含有されることができる。
　Ｃ１−２のスルホン酸塩基で置換された芳香族ジカルボン酸から誘導される繰り返し単位は上記式〔１〕で表される。
　上記式〔１〕中のＡｒは、炭素数６~２０の３価の芳香族基であり、具体的には３価のベンゼン環、ナフタレン環が挙げられ、これらの環がアルキル基、フェニル基、ハロゲン、およびアルコキシ基などの置換基を有していてもよい。かかるＣ１−２を誘導するためのスルホン酸塩基で置換された芳香族ジカルボン酸およびそのエステル形成性誘導体としては、４−ナトリウムスルホ−イソフタル酸、５−ナトリウムスルホ−イソフタル酸、４−カリウムスルホ−イソフタル酸、５−カリウムスルホ−イソフタル酸、２−ナトリウムスルホ−テレフタル酸、２−カリウムスルホ−テレフタル酸、４−スルホ−イソフタル酸亜鉛塩、５−スルホ−イソフタル酸亜鉛塩、２−スルホ−テレフタル酸亜鉛塩、４−スルホ−イソフタル酸テトラアルキルホスホニウム塩、５−スルホ−イソフタル酸テトラアルキルホスホニウム塩、４−スルホ−イソフタル酸テトラアルキルアンモニウム塩、５−スルホ−イソフタル酸テトラアルキルアンモニウム塩、２−スルホ−テレフタル酸テトラアルキルホスホニウム塩、２−スルホ−テレフタル酸テトラアルキルアンモニウム塩、４−ナトリウムスルホ−２，６−ナフタレンジカルボン酸、４−ナトリウムスルホ−２，７−ナフタレンジカルボン酸、４−カリウムスルホ−２，６−ナフタレンジカルボン酸、４−カリウムスルホ−２，７−ナフタレンジカルボン酸、４−スルホ−２，６−ナフタレンジカルボン酸亜鉛塩、４−スルホ−２，７−ナフタレンジカルボン酸亜鉛塩、４−スルホ−２，６−ナフタレンジカルボン酸テトラアルキルアンモニウム塩、４−スルホ−２，７−ナフタレンジカルボン酸テトラアルキルアンモニウム塩、４−スルホ−２，６−ナフタレンジカルボン酸テトラアルキルホスホニウム塩、４−スルホ−２，７−ナフタレンジカルボン酸テトラアルキルホスホニウム塩、またはこれらのジメチルエステル、ジエチルエステル等を挙げることができる。
　これらの中でＡｒがベンゼン環であり、Ｍ^＋がナトリウムおよびカリウム等のアルカリ金属イオンである芳香族ジカルボン酸のジメチルエステルまたはジエチルエステルが、重合性、帯電防止性、機械物性、および色相の面でより好ましい。具体的には、例えば、４−ナトリウムスルホ−イソフタル酸ジメチル、５−ナトリウムスルホ−イソフタル酸ジメチル、４−カリウムスルホ−イソフタル酸ジメチル、５−カリウムスルホ−イソフタル酸ジメチル、２−ナトリウムスルホ−テレフタル酸ジメチル、および２−カリウムスルホ−テレフタル酸ジメチル等が挙げられる。Ｃ１−２を誘導するためのスルホン酸塩基で置換された芳香族ジカルボン酸成分は単独でも２種以上を組み合わせてポリエステル中に含有されることができる。
　Ｃ−１成分のポリエステルを構成するＣ１−１およびＣ１−２の二種の酸成分は、全酸成分を１００モル％として、（Ｃ１−１）スルホン酸塩基を持たない芳香族ジカルボン酸成分から誘導される繰り返し単位が９９．９~５０．０モル％および（Ｃ１−２）上記式〔１〕で示されるスルホン酸塩基で置換された芳香族ジカルボン酸成分から誘導される繰り返し単位が０．１~５０．０モル％の割合であることが好ましい。かかるＣ１−２の割合が０．１モル％未満では、導電性が十分でない場合がある。また、Ｃ１−２が５０．０モル％を超えると重合反応が困難になるなどの問題が生ずる。上記Ｃ１−１およびＣ１−２のより好ましい割合は、Ｃ１−１が６０．０~９０．０モル％およびＣ１−２が１０．０~４０．０モル％であり、さらに好ましい割合はＣ１−１が７０．０~９０．０モル％およびＣ１−２が１０．０~３０．０モル％である。
　また、Ｃ１−３を誘導するための炭素数２~１０のグリコールとしては、具体的にはエチレングリコール、１，４−ブタンジオール、プロピレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、および３−メチル−１，５−ペンタンジオールなどを例示することができる。かかるグリコールは、ジエチレングリコールのようにエーテル結合、チオジエタノールのようにチオエーテル結合を含んでいてもよい。
　かかるグリコールは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。この中で主として１，６−ヘキサンジオール、エチレングリコール、およびネオペンチルグリコールを用いることが導電性確保の点で好ましく、ネオペンチルグリコールとエチレングリコールとを併用することが更に好ましい。Ｃ−１成分のポリエステル中におけるネオペンチルグリコール成分とエチレングリコール成分との好ましい割合は、グリコール成分１００モル％中、ネオペンチルグリコール成分９０~１０モル％およびエチレングリコール成分１０~９０モル％であり、更に好ましくはネオペンチルグリコール成分８０~２０モル％およびエチレングリコール成分２０~８０モル％である。
　ポリエステル（Ｃ−１成分）は、平均分子量が５，０００以上であることが好ましい。平均分子量が５，０００より小さいと耐熱性や、機械物性低下の原因となることがある。平均分子量に対する上限は、かかるポリマーが実質的に線状の重合体であるので、機械物性の点で高い方が好ましいが、実際的な平均分子量の上限は１００，０００程度である。
　ポリエステル（Ｃ−１成分）は、上記Ｃ１−１を誘導するためのスルホン酸塩基を持たない芳香族ジカルボン酸成分およびそのエステル形成性誘導体、Ｃ１−２を誘導するためのスルホン酸塩基で置換された芳香族ジカルボン酸およびそのエステル形成性誘導体、Ｃ１−３を誘導するための炭素数２~１０のグリコール、およびＣ１−４を誘導するためのポリ（アルキレンオキシド）グリコールをエステル交換触媒存在下、１５０~３００℃で加熱溶融し、重縮合反応せしめることによって得ることができる。
　エステル交換触媒としては通常のエステル交換反応に使用できるものならば特に制限はない。かかるエステル交換触媒としては、三酸化アンチモンの如きアンチモン化合物、酢酸第一錫、ジブチル錫オキサイド、およびジブチル錫ジアセテート等の錫化合物、テトラブチルチタネートの如きチタン化合物、酢酸亜鉛の如き亜鉛化合物、酢酸カルシウムの如きカルシウム化合物、並びに炭酸ナトリウムおよび炭酸カリウムなどのアルカリ金属塩などを例示することができる。これらのうちテトラブチルチタネートが好ましく用いられる。
　また上記触媒の使用量としては、通常のエステル交換反応における使用量で良く、概ね使用する酸成分１モルに対し、０．０１~０．５モル％が好ましく、０．０３~０．３モル％がより好ましい。
　また、反応時には酸化防止剤を併用することも好ましい。かかる酸化防止剤としては、例えばペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）、グリセロール−３−ステアリルチオプロピオネート、トリエチレングリコール−ビス［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，６−ヘキサンジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ペンタエリスリトール−テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、Ｎ，Ｎ−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマイド）、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンジルホスホネート−ジエチルエステル、トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、および３，９−ビス｛１，１−ジメチル−２−［β−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］エチル｝−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ（５，５）ウンデカンなどが挙げられる。これら酸化防止剤の使用量は、Ｃ−１成分のポリエステル１００重量部に対して０．００１~０．５重量部が好ましい。
　上記成分を加熱溶融して重縮合する温度としては、初期反応として１５０~２００℃で数十分から十数時間エステル化反応および／またはエステル交換反応を留出物を留去しながら行った後、反応物を高分子量化する重合反応を１８０~３００℃で行う。１８０℃より温度が低いと反応が進み難く、３００℃より温度が高いと分解の如き副反応が起こりやすくなるため上記温度範囲が好ましい。重合反応温度は２００~２８０℃がさらに好ましく、２２０~２６０℃が特に好ましい。この重合反応の反応時間は反応温度や重合触媒にもよるが、通常数十分から数十時間程度である。
（ポリエーテルエステル：Ｃ−２成分）
　ポリエーテルエステル（Ｃ−２成分）としては、（Ｃ２−１）スルホン酸塩基を持たない芳香族ジカルボン酸成分から誘導される繰り返し単位、（Ｃ２−２）下記一般式〔１〕で表されるスルホン酸塩基で置換された芳香族ジカルボン酸成分から誘導される繰り返し単位、（Ｃ２−３）炭素数２~１０のグリコール成分から誘導される繰り返し単位、および（Ｃ２−４）数平均分子量２００~５０，０００のポリ（アルキレンオキシド）グリコール成分から誘導される繰返し単位からなるポリエーテルエステルが好適である。

（式中、Ａｒは炭素数６~２０の３価の芳香族基、Ｍ^＋は金属イオンまたは有機オニウムイオンを表す。）
　Ｃ２−１を誘導するためのスルホン酸塩基を持たない芳香族ジカルボン酸およびそのエステル形成性誘導体としては、例えばテレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸、ビフェニルジカルボン酸、およびそれらのエステル形成性の誘導体を挙げることができる。ナフタレンジカルボン酸およびそのエステル形成性の誘導体としては、具体的には、２，６−ナフタレンジカルボン酸、２，７−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸ジメチル、２，６−ナフタレンジカルボン酸ジエチル、２，７−ナフタレンジカルボン酸ジメチル、および２，７−ナフタレンジカルボン酸ジエチルなどが例示される。これらの化合物の芳香環の水素原子はアルキル基およびハロゲン原子などで置換されていてもよい。Ｃ２−１を誘導するためのスルホン酸塩基を持たない芳香族ジカルボン酸成分は単独でも２種以上を組み合わせてポリエーテルエステル中に含有されることができる。
　（Ｃ２−２）スルホン酸塩基で置換された芳香族ジカルボン酸から誘導される繰り返し単位は、上記式〔１〕で表される。
　上記式〔１〕中のＡｒは、炭素数６~２０の３価の芳香族基であり、具体的には３価のベンゼン環、ナフタレン環が挙げられ、これらの環がアルキル基、フェニル基、ハロゲン、およびアルコキシ基などの置換基を有していてもよい。
　かかるＣ２−２を誘導するためのスルホン酸塩基で置換された芳香族ジカルボン酸およびそのエステル形成性誘導体としては、４−ナトリウムスルホ−イソフタル酸、５−ナトリウムスルホ−イソフタル酸、４−カリウムスルホ−イソフタル酸、５−カリウムスルホ−イソフタル酸、２−ナトリウムスルホ−テレフタル酸、２−カリウムスルホ−テレフタル酸、４−スルホ−イソフタル酸亜鉛塩、５−スルホ−イソフタル酸亜鉛塩、２−スルホ−テレフタル酸亜鉛塩、４−スルホ−イソフタル酸テトラアルキルホスホニウム塩、５−スルホ−イソフタル酸テトラアルキルホスホニウム塩、４−スルホ−イソフタル酸テトラアルキルアンモニウム塩、５−スルホ−イソフタル酸テトラアルキルアンモニウム塩、２−スルホ−テレフタル酸テトラアルキルホスホニウム塩、２−スルホ−テレフタル酸テトラアルキルアンモニウム塩、４−ナトリウムスルホ−２，６−ナフタレンジカルボン酸、４−ナトリウムスルホ−２，７−ナフタレンジカルボン酸、４−カリウムスルホ−２，６−ナフタレンジカルボン酸、４−カリウムスルホ−２，７−ナフタレンジカルボン酸、４−スルホ−２，６−ナフタレンジカルボン酸亜鉛塩、４−スルホ−２，７−ナフタレンジカルボン酸亜鉛塩、４−スルホ−２，６−ナフタレンジカルボン酸テトラアルキルアンモニウム塩、４−スルホ−２，７−ナフタレンジカルボン酸テトラアルキルアンモニウム塩、４−スルホ−２，６−ナフタレンジカルボン酸テトラアルキルホスホニウム塩、４−スルホ−２，７−ナフタレンジカルボン酸テトラアルキルホスホニウム塩、またはこれらのジメチルエステル、ジエチルエステル等を挙げることができる。
　これらの中でＡｒがベンゼン環であり、Ｍ^＋がナトリウムおよびカリウム等のアルカリ金属イオンである芳香族ジカルボン酸のジメチルエステルまたはジエチルエステルが、重合性、導電性および機械物性の面でより好ましい。具体的には、例えば、４−ナトリウムスルホ−イソフタル酸ジメチル、５−ナトリウムスルホ−イソフタル酸ジメチル、４−カリウムスルホ−イソフタル酸ジメチル、５−カリウムスルホ−イソフタル酸ジメチル、２−ナトリウムスルホ−テレフタル酸ジメチル、および２−カリウムスルホ−テレフタル酸ジメチル等が挙げられる。Ｃ２−２を誘導するためのスルホン酸塩基で置換された芳香族ジカルボン酸成分は単独でも２種以上を組み合わせてポリエーテルエステル中に含有されることができる。
　ポリエーテルエステル（Ｃ−２成分）を構成するＣ２−１およびＣ２−２の二種の酸成分は、全酸成分を１００モル％として、（Ｃ２−１）スルホン酸塩基を持たない芳香族ジカルボン酸成分から誘導される繰り返し単位が９５~５０モル％および（Ｃ２−２）上記式〔１〕で示されるスルホン酸塩基で置換された芳香族ジカルボン酸成分から誘導される繰り返し単位が５~５０モル％の割合であることが好ましい。かかるＣ２−２の割合が５モル％未満では、導電性が十分でない場合がある。また、Ｃ２−２が５０モル％を越えると重合反応が困難になり、十分な重合度のポリエーテルエステルを得難くなったり、取り扱い性が悪化することがある。上記Ｃ２−１およびＣ２−２のより好ましい割合は、Ｃ２−１が９２~６５モル％およびＣ２−２が８~３５モル％であり、さらに好ましい割合はＣ２−１が９０~７０モル％およびＣ２−２が１０~３０モル％である。
　また、Ｃ２−３を誘導するための炭素数２~１０のグリコールとしては、具体的にはエチレングリコール、１，４−ブタンジオール、プロピレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、および３−メチル−１，５−ペンタンジオールなどを例示することができる。かかるグリコールは、ジエチレングリコールのようにエーテル結合、チオジエタノールのようにチオエーテル結合を含んでいてもよい。
　かかるグリコールは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。この中で主として１，６−ヘキサンジオールを用いることが帯電防止効果の点で好ましく、１，６−ヘキサンジオールとエチレングリコールを併用することが更に好ましい。１，６−ヘキサンジオール成分とエチレングリコール成分との好ましい割合は、グリコール成分１００モル％中、１，６−ヘキサンジオール成分９５~５０モル％およびエチレングリコール成分５~５０モル％であり、更に好ましくは１，６−ヘキサンジオール成分９０~７０モル％およびエチレングリコール成分１０~３０モル％である。
　ポリエーテルエステル（Ｃ−２成分）の構成成分の一つであるＣ２−４を誘導するためのポリ（アルキレンオキシド）グリコールとしては、ポリ（エチレンオキシド）グリコールから主として成るポリ（アルキレンオキシド）グリコールが好適に例示される。該ポリ（アルキレンオキシド）グリコールは、ポリ（プロピレンオキシド）グリコールの如き他のポリ（アルキレンオキシド）グリコールを含んでいてもよい。
　Ｃ２−４の数平均分子量は２００~５０，０００の範囲が好ましく、より好ましくは５００~３０，０００であり、さらに好ましくは１，０００~２０，０００である。かかる分子量が２００に満たない場合には、より良好な溶融熱安定性が得られないのと、ポリエーテルエステルを利用する利点が十分に発揮されないことがある。また、実用性の点から、かかる分子量は５０，０００程度であれば十分である。ポリ（アルキレンオキシド）グリコール成分は単独でも２種以上を組み合わせてポリエーテルエステル中に含有されることができる。
　Ｃ２−４の含有量は、Ｃ−２成分のポリエーテルエステル１００重量％中、好ましくは１０~５０重量％、より好ましくは１５~４５重量％、更に好ましくは２０~４０重量％の範囲内である。１０重量％より少ないとＣ−２成分のポリエーテルエステルの導電性が十分でない場合があり、５０重量％を超えると良好な溶融熱安定性が得られないことがある。
　ポリエーテルエステル（Ｃ−２成分）は、フェノール／テトラクロロエタン（重量比４０／６０）の混合溶媒中３０℃で測定した還元粘度（濃度１．２ｇ／ｄｌ）が０．３以上であることが好ましい。還元粘度が０．３より小さいと耐熱性や、機械物性低下の原因となることがある。還元粘度に対する上限は、かかるポリマーが実質的に線状の重合体であるので、導電性の点でも、機械物性の点でも高い方が好ましいが、実際的な上限は４．０程度である。還元粘度はより好ましくは０．４以上であり、さらに好ましくは０．５以上である。
　ポリエーテルエステル（Ｃ−２成分）は、上記Ｃ２−１を誘導するためのスルホン酸塩基を持たない芳香族ジカルボン酸成分およびそのエステル形成性誘導体、Ｃ２−２を誘導するためのスルホン酸塩基で置換された芳香族ジカルボン酸およびそのエステル形成性誘導体、Ｃ２−３を誘導するための炭素数２~１０のグリコール、およびＣ２−４を誘導するためのポリ（アルキレンオキシド）グリコールを使用して上記Ｃ−１成分のポリエステルと同様にエステル交換反応によって製造でき、更にかかる製造時には上記の酸化防止剤を含むことができる。
　上記の好適なＣ成分であるポリエーテルエステル（Ｃ−２成分）とポリエステル（Ｃ−１成分）はそれぞれ単独でも２種以上を混合して使用することもできる。
　Ｃ成分を含有することで樹脂組成物の加熱による重量減少で評価するアウトガス性が良好となる。
　ポリエーテルエステル（Ｃ−２成分）は帯電防止性に優れるものの耐熱性にやや劣る点があり、一方ポリエステル（Ｃ−１成分）は耐熱性に優れるが芳香族ポリカーボネート樹脂（Ａ成分）と相溶化し易く帯電防止能力にやや劣る点があるものの、併用によってそれぞれの欠点を補うことができる。したがって、かかる特性の中からいかなる特性を重視するかによって、適宜適切なＣ成分を選択することが可能である。本発明においては導電性や剛性に比重が置かれる用途に特に適した樹脂組成物を提供することから、Ｃ成分としてはスルホン酸塩基を有するポリエステル（Ｃ−１成分）が特に好適である。
　Ｃ成分の含有量は、Ａ成分とＢ成分の合計１００重量部に対し、０．１~５重量部であり、好ましくは０．１~４重量部、より好ましくは１~３重量部である。０．１重量部未満では低アウトガス性が十分でない場合があり、５重量部を超えると溶融熱安定性が悪化することがある。
（その他の添加剤）
　（ｉ）リン系安定剤
　本発明の樹脂組成物には、本発明の目的が損なわれない量のリン系安定剤を使用することができる。かかるリン系安定剤は製造時または成形加工時の芳香族ポリカーボネート樹脂の熱安定性を大きく向上させる。その結果、機械的特性、導電性、難燃性および成形安定性を向上させる。
　かかるリン系安定剤としては、亜リン酸、リン酸、亜ホスホン酸、ホスホン酸およびこれらのエステル、並びに第３級ホスフィンなどが例示される。これらの中でも特に、亜リン酸、リン酸、亜ホスホン酸、およびホスホン酸、トリオルガノホスフェート化合物、およびアシッドホスフェート化合物が好ましい。尚、アシッドホスフェート化合物における有機基は、一置換、二置換、およびこれらの混合物のいずれも含む。該化合物に対応する下記の例示化合物においても同様にいずれをも含むものとする。
　トリオルガノホスフェート化合物としては、トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリブチルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリデシルホスフェート、トリドデシルホスフェート、トリラウリルホスフェート、トリステアリルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリクロルフェニルホスフェート、ジフェニルクレジルホスフェート、ジフェニルモノオルソキセニルホスフェート、およびトリブトキシエチルホスフェートなどが例示される。これらの中でもトリアルキルホスフェートが好ましい。かかるトリアルキルホスフェートの炭素数は、好ましくは１~２２、より好ましくは１~４である。特に好ましいトリアルキルホスフェートはトリメチルホスフェートである。
　アシッドホスフェート化合物としては、メチルアシッドホスフェート、エチルアシッドホスフェート、ブチルアシッドホスフェート、ブトキシエチルアシッドホスフェート、オクチルアシッドホスフェート、デシルアシッドホスフェート、ラウリルアシッドホスフェート、ステアリルアシッドホスフェート、オレイルアシッドホスフェート、ベヘニルアシッドホスフェート、フェニルアシッドホスフェート、ノニルフェニルアシッドホスフェート、シクロヘキシルアシッドホスフェート、フェノキシエチルアシッドホスフェート、アルコキシポリエチレングリコールアシッドホスフェート、およびビスフェノールＡアシッドホスフェートなどが例示される。これらの中でも炭素数１０以上の長鎖ジアルキルアシッドホスフェートが熱安定性の向上に有効であり、該アシッドホスフェート自体の安定性が高いことから好ましい。
　その他ホスファイト化合物としては、例えば、トリデシルホスファイトの如きトリアルキルホスファイト、ジデシルモノフェニルホスファイトの如きジアルキルモノアリールホスファイト、モノブチルジフェニルホスファイトの如きモノアルキルジアリールホスファイト、トリフェニルホスファイトおよびトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイトの如きトリアリールホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジクミルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、およびビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイトなどのペンタエリスリトールホスファイト、並びに２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイトおよび２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイトなどの環状ホスファイトが例示される。
　ホスホナイト化合物としては、テトラキス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ビフェニレンジホスホナイト、およびビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−フェニル−フェニルホスホナイトが好ましく例示される。テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ビフェニレンジホスホナイト、およびビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−フェニル−フェニルホスホナイトがより好ましい。かかるホスホナイト化合物は上記アルキル基が２以上置換したアリール基を有するホスファイト化合物との併用可能であり好ましい。
　ホスホネイト化合物としては、ベンゼンホスホン酸ジメチル、ベンゼンホスホン酸ジエチル、およびベンゼンホスホン酸ジプロピル等が挙げられる。第３級ホスフィンとしては、例えばトリフェニルホスフィンが例示される。
　リン系安定剤の含有量は、１００重量部のＡ成分を基準として好ましくは０．０００１~２重量部、より好ましくは０．０１~１重量部、更に好ましくは０．０５~０．５重量部である。またリン系安定剤は、その１００重量％中５０重量％以上がトリアルキルホスフェートおよび／またはアシッドホスフェート化合物であることが好ましく、特にその１００重量％中５０重量％以上がトリアルキルホスフェートであることが好ましい。
　（ｉｉ）ヒンダードフェノール系安定剤
　本発明の樹脂組成物は、更にヒンダードフェノール系安定剤を含有することにより、例えば成形加工時の色相悪化や長期間の使用における色相の悪化などの効果が更に発揮される。ヒンダードフェノール系安定剤としては、例えば、α−トコフェロール、ブチルヒドロキシトルエン、シナピルアルコール、ビタミンＥ、ｎ−オクタデシル−β−（４’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェル）プロピオネート、２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチル−２’−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル）フェノール、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネートジエチルエステル、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−ジメチレン−ビス（６−α−メチル−ベンジル−ｐ−クレゾール）２，２’−エチリデン−ビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−ブチリデン−ビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、トリエチレングリコール−Ｎ−ビス−３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート、１，６−ヘキサンジオールビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ビス［２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチル６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）フェニル］テレフタレート、３，９−ビス｛２−［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］−１，１，−ジメチルエチル｝−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン、４，４’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−ｍ−クレゾール）、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、４，４’−ジ−チオビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−トリ−チオビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２−チオジエチレンビス−［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２，４−ビス（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナミド）、Ｎ，Ｎ’−ビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル］ヒドラジン、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）イソシアヌレート、トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス２［３（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］エチルイソシアヌレート、およびテトラキス［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタンなどが例示される。これらはいずれも入手容易である。上記ヒンダードフェノール系安定剤は、単独でまたは２種以上を組合せて使用することができる。
　またヒンダードフェノール系安定剤以外の他の酸化防止剤を使用することもできる。かかる他の酸化防止剤としては、例えば３−ヒドロキシ−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フラン−２−オンとｏ−キシレンとの反応生成物に代表されるラクトン系安定剤（かかる安定剤の詳細は特開平７−２３３１６０号公報に記載されている）、並びにペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）、およびグリセロール−３−ステアリルチオプロピオネートなどのイオウ含有系安定剤が挙げられる。上記ヒンダードフェノール系安定剤は、単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
　ヒンダードフェノール系安定剤および他の酸化防止剤の含有量は、１００重量部のＡ成分を基準として０．０００１~１重量部、好ましくは０．００１~０．５重量部である。かかる安定剤が上記範囲よりも少なすぎる場合には良好な安定化効果を得ることが難しく、上記範囲を超えて多すぎる場合は、組成物の物性低下を起こす場合がある。
　（ｉｉｉ）離型剤
　本発明の樹脂組成物は離型剤を含有することができる。離型剤としては、例えば、飽和脂肪酸エステル、不飽和脂肪酸エステル、ポリオレフィン系ワックス（ポリエチレンワックス、１−アルケン重合体など。酸変性などの官能基含有化合物で変性されているものも使用できる）、シリコーン化合物、フッ素化合物（ポリフルオロアルキルエーテルに代表されるフッ素オイルなど）、パラフィンワックス、蜜蝋などが例示される。かかる離型剤の配合量は１００重量部のＡ成分を基準として好ましくは０．００５~２重量部、より好ましくは０．０１~０．８重量部である。
　かかる離型剤の中でも、飽和脂肪酸エステル、特に高級脂肪酸と多価アルコールとの部分エステルおよび／またはフルエステルが好ましい。特にフルエステルが好適である。ここで高級脂肪酸とは、炭素原子数１０~３２の脂肪族カルボン酸を指し、その具体例としては、デカン酸、ウンデカン酸、ドデカン酸、トリデカン酸、テトラデカン酸、ペンタデカン酸、ヘキサデカン酸（パルミチン酸）、ヘプタデカン酸、オクタデカン酸（ステアリン酸）、ノナデカン酸、イコサン酸、ドコサン酸、ヘキサコサン酸等の飽和脂肪族カルボン酸、並びに、パルミトレイン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、エイコセン酸、エイコサペンタエン酸、セトレイン酸等の不飽和脂肪族カルボン酸を挙げることができる。これらのなかでも脂肪族カルボン酸としては炭素数１０~２２のものが好ましく、炭素数１４~２０であるものがより好ましい。特に炭素数１４~２０の飽和脂肪族カルボン酸、特にステアリン酸およびパルミチン酸が好ましい。ステアリン酸の如き脂肪族カルボン酸は、通常、炭素原子数の異なる他のカルボン酸成分を含む混合物であることが多い。前記飽和脂肪酸エステルにおいても、かかる天然油脂類から製造され他のカルボン酸成分を含む混合物の形態からなるステアリン酸やパルミチン酸から得られたエステル化合物が好ましく使用される。
　一方、飽和脂肪酸エステルの構成単位たる多価アルコールとしては、炭素原子数３~３２のものがより好ましい。かかる多価アルコールの具体例としては、グリセリン、ジグリセリン、ポリグリセリン（例えばデカグリセリン等）、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、ジエチレングリコールおよびプロピレングリコール等が挙げられる。
　飽和脂肪酸エステルにおける酸価は、２０以下（実質的に０を取り得る）であることが好ましく、より好ましくは２~１５、更に好ましくは４~１５である。水酸基価は２０~５００（より好ましくは５０~４００）の範囲がより好ましい。更にヨウ素価は、１０以下（実質的に０を取り得る）が好ましい。これらの特性はＪＩＳ　Ｋ　００７０に規定された方法により求めることができる。
　（ｉｖ）紫外線吸収剤
　本発明の樹脂組成物は、良好な耐光性を要求される場合があり、かかる場合に紫外線吸収剤の配合が効果的である。
　ベンゾフェノン系では、例えば、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ベンジロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホキシトリハイドライドレイトベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ−５−ソジウムスルホキシベンゾフェノン、ビス（５−ベンゾイル−４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）メタン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−ドデシルオキシベンソフェノン、および２−ヒドロキシ−４−メトキシ−２’−カルボキシベンゾフェノンなどが例示される。
　ベンゾトリアゾール系では、例えば、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジクミルフェニル）フェニルベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２−ヒドロキシ−４−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２，２’−メチレンビス（４−クミル−６−ベンゾトリアゾールフェニル）、２，２’−ｐ−フェニレンビス（１，３−ベンゾオキサジン−４−オン）、および２−［２−ヒドロキシ−３−（３，４，５，６−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５−メチルフェニル］ベンゾトリアゾ−ル、並びに２−（２’−ヒドロキシ−５−メタクリロキシエチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールと該モノマーと共重合可能なビニル系モノマーとの共重合体や２−（２’—ヒドロキシ−５−アクリロキシエチルフェニル）—２Ｈ—ベンゾトリアゾールと該モノマーと共重合可能なビニル系モノマーとの共重合体などの２−ヒドロキシフェニル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール骨格を有する重合体などが例示される。
　ヒドロキシフェニルトリアジン系では、例えば、２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−ヘキシルオキシフェノール、２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−メチルオキシフェノール、２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−エチルオキシフェノール、２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−プロピルオキシフェノール、および２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−ブチルオキシフェノールなどが例示される。さらに２−（４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−ヘキシルオキシフェノールなど、上記例示化合物のフェニル基が２，４−ジメチルフェニル基となった化合物が例示される。
　環状イミノエステル系では、例えば２，２’−ｐ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−ｍ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、および２，２’−ｐ，ｐ’−ジフェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）などが例示される。
　また紫外線吸収剤としては、具体的にシアノアクリレート系では、例えば１，３−ビス−［（２’−シアノ−３’，３’−ジフェニルアクリロイル）オキシ］−２，２−ビス［（２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリロイル）オキシ］メチル）プロパン、および１，３−ビス−［（２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリロイル）オキシ］ベンゼンなどが例示される。
　さらに上記紫外線吸収剤は、ラジカル重合が可能な単量体化合物の構造をとることにより、かかる紫外線吸収性単量体および／または光安定性単量体と、アルキル（メタ）アクリレートなどの単量体とを共重合したポリマー型の紫外線吸収剤であってもよい。前記紫外線吸収性単量体としては、（メタ）アクリル酸エステルのエステル置換基中にベンゾトリアゾール骨格、ベンゾフェノン骨格、トリアジン骨格、環状イミノエステル骨格、およびシアノアクリレート骨格を含有する化合物が好適に例示される。
　さらにビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート等に代表されるヒンダードアミン系の光安定剤も使用することが可能である。かかる紫外線吸収剤、光安定剤の含有量は、１００重量部のＡ成分を基準として好ましくは０．０１~２重量部、より好ましくは０．０２~１重量部、更に好ましくは０．０５~０．５重量部である。
　（ｖ）難燃剤
　本発明の樹脂組成物には、本発明の目的が損なわれない量の難燃剤を使用することができる。難燃剤としては、例えば、臭素化エポキシ樹脂、臭素化ポリスチレン、臭素化ポリカーボネート、臭素化ポリアクリレート、モノホスフェート化合物、ホスフェートオリゴマー化合物、ホスホネートオリゴマー化合物、ホスホニトリルオリゴマー化合物、ホスホン酸アミド化合物、有機スルホン酸金属塩（例えばパーフルオロアルカンスルホン酸カリウム塩やジフェニルスルホンスルホン酸カリウム塩など）、並びにシリコーン系難燃剤などが挙げられる。かかる難燃剤はそれぞれ熱可塑性樹脂に対する公知の量を配合することができる。
　モノホスフェート化合物およびホスフェートオリゴマー化合物としては下記一般式〔７〕で示される１種または２種以上のリン化合物が好適に例示される。

（但し上記式中のＸは、ハイドロキノン、レゾルシノール、ビス（４−ヒドロキシジフェニル）メタン、ビスフェノールＡ、ジヒドロキシジフェニル、ジヒドロキシナフタレン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ケトン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）サルファイドから誘導されるものが挙げられる。ｊ、ｋ、ｌ、ｍはそれぞれ独立して０または１であり、ｎは０~５の整数であり、またはｎ数の異なるホスフェートの混合物の場合は０~５の平均値である。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、およびＲ^４はそれぞれ独立してフェノール、クレゾール、キシレノール、イソプロピルフェノール、ブチルフェノール、ｐ−クミルフェノールから誘導されるものである。）
　特に好ましくは、Ｘはレゾルシノール、ビスフェノールＡから誘導されるものであり、ｊ、ｋ、ｌ、ｍはそれぞれ１であり、ｎは０または１、好ましくは限りなく１に近い数であり、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、およびＲ^４はそれぞれ独立してフェノールまたはキシレノール（特に２，６−キシレノール）から誘導されるものである。
　一般式〔７〕におけるモノホスフェート化合物としてはトリフェニルホスフェート、ホスフェートオリゴマー化合物としてはレゾルシノールビス（ジキシレニルホスフェート）を主成分とするもの、およびビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）を主成分とするものが、難燃性が良好で、かつ成形時の流動性が良好であり、さらに加水分解性が良好で長期の分解が少ないなどの理由により好ましく使用できる。
　かかる難燃剤の含有量は、１００重量部のＡ成分を基準として好ましくは０．０１~２０重量部、より好ましくは２~１０重量部、更に好ましくは２~７重量部である。
　更に本発明の樹脂組成物には、フィブリル形成能を有するポリテトラフルオロエチレンに代表される滴下防止剤を配合することもできる。かかる滴下防止剤の含有量は、Ａ成分１００重量部に対して０．０００１~３重量部が好ましく、０．００１~０．１重量部がより好ましい。
　（ｖｉ）充填材
　本発明の樹脂組成物には、本発明の効果を発揮する範囲において、強化フィラーとして各種充填材を配合することができる。例えば、炭酸カルシウム、ガラス繊維、ガラスビーズ、ガラスバルーン、ガラスミルドファイバー、ガラスフレーク、フラーレン、金属フレーク、金属繊維、金属コートガラス繊維、金属コート炭素繊維、金属コートガラスフレーク、シリカ、金属酸化物粒子、金属酸化物繊維、金属酸化物バルーン、並びに各種ウイスカー（チタン酸カリウムウイスカー、ホウ酸アルミニウムウイスカー、および塩基性硫酸マグネシウムなど）などが例示される。これらの強化フィラーは１種もしくは２種以上を併用して含むものであってもよい。
　その他、本発明の樹脂組成物には、成形品に種々の機能の付与や特性改善のために、それ自体知られた添加物を少割合配合することができる。これら添加物は本発明の目的を損なわない限り、通常の配合量である。
　かかる添加剤としては、摺動剤（例えばＥ成分以外のＰＴＦＥ粒子）、着色剤（例えばカーボンブラック、酸化チタンなどの顔料、染料）、蛍光染料、無機系蛍光体（例えばアルミン酸塩を母結晶とする蛍光体）、無機および有機の抗菌剤、光触媒系防汚剤（例えば微粒子酸化チタン、微粒子酸化亜鉛）、ラジカル発生剤、赤外線吸収剤（熱線吸収剤）、およびフォトクロミック剤などが挙げられる。
　（樹脂組成物の製造）
　本発明の樹脂組成物を製造するには、任意の方法が採用される。例えばＡ~Ｃ成分および任意に他の添加剤を、Ｖ型ブレンダー、ヘンシェルミキサー、メカノケミカル装置、押出混合機などの予備混合手段を用いて充分に混合した後、必要に応じて押出造粒器やブリケッティングマシーンなどによりかかる予備混合物の造粒を行い、その後ベント式二軸押出機に代表される溶融混練機で溶融混練し、その後ペレタイザーによりペレット化する方法が挙げられる。
　他に、各成分をそれぞれ独立にベント式二軸押出機に代表される溶融混練機に供給する方法や、各成分の一部を予備混合した後、残りの成分と独立に溶融混練機に供給する方法なども挙げられる。各成分の一部を予備混合する方法としては例えば、Ａ成分以外の成分を予め予備混合した後、Ａ成分に混合または押出機に直接供給する方法が挙げられる。
　予備混合する方法としては例えば、Ａ成分としてパウダーの形態を有するものを含む場合、かかるパウダーの一部と配合する添加剤とをブレンドしてパウダーで希釈した添加剤のマスターバッチを製造し、かかるマスターバッチを利用する方法が挙げられる。更に一成分を独立に溶融押出機の途中から供給する方法なども挙げられる。尚、配合する成分に液状のものがある場合には、溶融押出機への供給にいわゆる液注装置、または液添装置を使用することができる。
　押出機としては、原料中の水分や、溶融混練樹脂から発生する揮発ガスを脱気できるベントを有するものが好ましく使用できる。ベントからは発生水分や揮発ガスを効率よく押出機外部へ排出するための真空ポンプが好ましく設置される。また押出原料中に混入した異物などを除去するためのスクリーンを押出機ダイス部前のゾーンに設置し、異物を樹脂組成物から取り除くことも可能である。かかるスクリーンとしては金網、スクリーンチェンジャー、焼結金属プレート（ディスクフィルターなど）などを挙げることができる。溶融混練機としては二軸押出機の他にバンバリーミキサー、混練ロール、単軸押出機、３軸以上の多軸押出機などを挙げることができる。
　上記の如く押出された樹脂は、直接切断してペレット化するか、またはストランドを形成した後かかるストランドをペレタイザーで切断してペレット化される。ペレット化に際して外部の埃などの影響を低減する必要がある場合には、押出機周囲の雰囲気を清浄化することが好ましい。得られたペレットの形状は、円柱、角柱、および球状など一般的な形状を取り得るが、より好適には円柱である。かかる円柱の直径は好ましくは１~５ｍｍ、より好ましくは１．５~４ｍｍ、さらに好ましくは２~３．３ｍｍである。一方、円柱の長さは好ましくは１~３０ｍｍ、より好ましくは２~５ｍｍ、さらに好ましくは２．５~３．５ｍｍである。
　（成形品）
　本発明の樹脂組成物からなる成形品は、通常そのペレットを射出成形して得ることができる。かかる射出成形においては、通常の成形方法だけでなく、射出圧縮成形、射出プレス成形、ガスアシスト射出成形、発泡成形（超臨界流体を注入する方法を含む）、インサート成形、インモールドコーティング成形、断熱金型成形、急速加熱冷却金型成形、二色成形、サンドイッチ成形、および超高速射出成形などを挙げることができる。また成形はコールドランナー方式およびホットランナー方式のいずれも選択することができる。
　また本発明によれば、樹脂組成物を押出成形し、各種異形押出成形品、シート、フィルムなどの形とすることもできる。またシート、フィルムの成形にはインフレーション法や、カレンダー法、キャスティング法なども使用可能である。さらに特定の延伸操作をかけることにより熱収縮チューブとして成形することも可能である。また本発明の樹脂組成物を回転成形やブロー成形などにより成形品とすることも可能である。
　（表面処理）
　さらに本発明の成形品には、各種の表面処理を行うことが可能である。表面処理としては、ハードコート、撥水・撥油コート、親水性コート、帯電防止コート、紫外線吸収コート、赤外線吸収コート、並びにメタライジング（蒸着など）などの各種の表面処理を行うことができる。表面処理方法としては、液剤のコーティングの他、蒸着法、溶射法、およびメッキ法が挙げられる。蒸着法としては物理蒸着法および化学蒸着法のいずれも使用できる。物理蒸着法としては真空蒸着法、スパッタリング、およびイオンプレーティングが例示される。化学蒸着（ＣＶＤ）法としては、熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法、および光ＣＶＤ法などが例示される。
　以下に、本発明を実施するための形態を説明するが、この実施の形態は例示的に示されるもので、本発明の技術思想から逸脱しない限り種々の変形が可能である。

　以下、実施例により本発明を詳述する。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。
［実施例１~１２、比較例１~８］
１．ポリエーテルエステル（Ｃ−２成分）の作成
　１５０．８部の２，６−ナフタレンジカルボン酸ジメチルエステル（Ｃ２−１成分）、２４．９部の５−ナトリウムスルホイソフタル酸ジメチル（Ｃ２−２成分）、４７．９部のエチレングリコール（Ｃ２−３−１成分）、７４．６部の１，６−ヘキサンジオール（Ｃ２−３−２成分）、８９．８部のポリエチレングリコール（数平均分子量２，０００；Ｃ２−４成分）、および０．１４部のテトラブチルチタネートを精留塔および攪拌装置を備えた反応器に入れ、容器内を窒素置換した後、攪拌しながら常圧下２００℃まで昇温した。反応により生成するメタノールを留去しながら６時間で２００℃から２３０℃まで徐々に昇温していき、反応を完結させた。その後、反応物を攪拌装置を備えた真空留出系を有する反応器に移送し、温度２３０℃にて攪拌しながら、６０分後に６．７×１０^２Ｐａ、１００分後に１．３×１０^２Ｐａ、１２０分後には０．６７×１０^２Ｐａと系内を徐々に減圧にしていき、反応留出物を留去しながら重合反応せしめることにより、ポリエーテルエステル共重合体を得た。得られたポリエーテルエステル共重合体の還元粘度は１．３５であった（フェノール／テトラクロロエタン（重量比４０／６０）の混合溶媒中において、濃度１．２（ｇ／ｄｌ）、３０℃にて測定した値である。）。また、得られたポリエーテルエステル共重合体は、Ｃ２−１成分とＣ２−２成分との割合が８５：１５（モル比）であり、Ｃ２−３−１成分とＣ２−３−２成分との割合が１９：８１（モル比）であり、Ｃ２−４成分の含有量は２６重量％であった。
２．組成物ペレットの製造
　下記の方法により、組成物ペレットの製造を行った。
　表１および表２に記載の各成分を、表１および表２に示す割合にてドライブレンドした後、ベント式二軸押出機（株）日本製鋼所製：ＴＥＸ−３０ＸＳＳＴ（完全かみ合い、同方向回転、２条ネジスクリュー）を使用した。押出条件は吐出量１５ｋｇ／ｈ、スクリュー回転数１５０ｒｐｍ、ベントの真空度３ｋＰａであり、また押出温度は２８０℃にて溶融混練し、押出し、ストランドカットすることで、各組成物のペレットを得た。
３．成形品の作成
　得られたペレットを１２０℃で５時間、熱風循環式乾燥機にて乾燥した。乾燥後のペレットを用いてシリンダー内径４０ｍｍφの射出成形機（ファナック（株）製　ＦＡＳ−Ｔ１５０Ｄ）を使用し、幅５０ｍｍ×長さ９０ｍｍ×厚み２ｍｍの角板成形品および空気整流板を、シリンダー温度３００℃、金型温度１００℃にて成形した。この成形品を用いて、下記の導電性、溶融熱安定性およびアウトガス性を測定した。それらの測定結果を表１および表２に示す。
４．評価方法
　実施例中における各値は下記の方法で求めた。
（１）導電性（表面抵抗率）
（角板成形品の表面抵抗率）
　上記の方法で得た成形品をそれぞれの抵抗値に合った抵抗率計を使用して測定した。すなわち、１０^７~１０^１５Ω／ｓｑの場合は、三菱化学（株）製　ハイレスターＵＰ　ＭＣＰ−ＨＴ４００（印加電圧１００Ｖ、ＵＲ−ＳＳプローブ（ＪＩＳＫ６９１１準拠））、１０^７Ω／ｓｑ未満の場合には、三菱化学（株）製　ロレスターＧＰ　ＭＣＰ−Ｔ６００（印加電圧９０Ｖ、ＥＳＰプローブ（ＪＩＳＫ７１９４準拠））を使用した。具体的な測定方法としては、成形品から試験片（縦×横×厚み＝４５ｍｍ×５０ｍｍ×２ｍｍｔ）を切削し、温度２３℃、湿度５０％ＲＨの条件下において前記の抵抗率計を使用して試験片面内の中央部の表面抵抗率を測定し１０個の試験片から得られた値の平均値を成形品の表面抵抗率とした。表面抵抗率は１．０×１０^１１Ω・ｍ未満であることが必要である。
（空気整流板の表面抵抗率）
　上記の方法で得た図１に示すディスクドライブの空気整流板（縦×横×厚み＝３５ｍｍ×１５ｍｍ×２ｍｍｔ）を用いて、角板成形品と同様の方法で表面抵抗率を測定した。
（２）剛性（曲げ弾性率）
　ＩＳＯ　１７８（測定条件２３℃）に準拠して測定した。なお、試験片は、射出成形機（ファナック（株）製　ＦＡＳ−Ｔ１５０Ｄ）によりシリンダー温度３００℃、金型温度１００℃で成形した。曲げ弾性率は４０００ＭＰａ以上が必要である。
（３）溶融熱安定性（溶融成形時の熱安定性）
　Ａ成分として使用される芳香族ポリカーボネート樹脂の粘度平均分子量を、本文記載の方法により測定した。一方、上記の方法において成形サイクル６００秒とする条件で射出成形により成形品を成形した。その成形品を粉砕し、粘度平均分子量を同様に測定した。かかるＡ成分として使用される芳香族ポリカーボネート樹脂の分子量を１００％とした時の上記成形品の分子量を百分率であらわし、分子量保持率とした。かかる分子量保持率が高いほど溶融熱安定性が良好といえる。上記分子量保持率が９０％より大きいものを◎、８０~９０％であるものを○、８０％未満であるものを×として評価した。
（４）アウトガス性（アウトガス量）
　上記の方法で得た成形品から０．１ｇを削り取り、熱重量解析装置（ＴＡ　Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製ＴＧＡ２９５０型Ｔｈｅｒｍｏｇｒａｖｉｍｅｔｒｉｃ　Ａｎａｌｙｚｅｒ）により、窒素ガス雰囲気中、昇温速度２０℃／ｍｉｎで室温（２３℃）から３２０℃まで昇温後、３２０℃にて３０分間加熱し、試験前後の重量減少量（％）をアウトガス量として算出した。上記アウトガス量が０．１％未満であるものを◎、０．１~０．２％であるものを○、０．２％より大きいものを×として評価した。
　各実施例および比較例の各評価結果を表１~表２に示した。
　なお、実施例および比較例で使用した原材料は、下記の通りである。
（Ａ成分：芳香族ポリカーボネート）
Ａ：粘度平均分子量２２，４００の直鎖状ポリカーボネート樹脂パウダー［帝人化成（株）製：パンライトＬ−１２２５ＷＰ］
（Ｂ成分：導電性フィラー）
Ｂ−１：黒鉛（平均粒径２５μｍ、平均厚さ０．４μｍ、長軸方向長さ／厚さの平均６８、固定炭素量９９．６％、揮発分０．２％、灰分０．２％）［日本黒鉛工業（株）製：ＵＰ−２０］
Ｂ−２：黒鉛（平均粒径３３μｍ、平均厚さ１．０μｍ、長軸方向長さ／厚さの平均３３、固定炭素量９９．６％、揮発分０．２％、灰分０．２％）［日本黒鉛工業（株）製：ＳＰ−１０］
Ｂ−３：黒鉛（平均粒径８μｍ、平均厚さ０．５μｍ、長軸方向長さ／厚さの平均１６、固定炭素量９８．９％、揮発分０．４％、灰分０．７％）［西村黒鉛（株）製：ＰＳ−９９］
Ｂ−４：黒鉛（平均粒径５７μｍ、平均厚さ３．３μｍ、長軸方向長さ／厚さの平均１７、固定炭素量９８．５％、揮発分０．６％、灰分１．０％）［西村黒鉛（株）製：１００９９Ｍ］
Ｂ−５：黒鉛（平均粒径５７μｍ、平均厚さ１．６μｍ、長軸方向長さ／厚さの平均３３、固定炭素量８５．０％、揮発分２．５％、灰分１２．５％）［西村黒鉛（株）製：ＦＭ−２］
Ｂ−６：黒鉛（平均粒径８μｍ、平均厚さ０．３μｍ、長軸方向長さ／厚さの平均３３、固定炭素量９０．０％、揮発分２．０％、灰分８．０％）［西村黒鉛（株）製：ＰＳ−９０］
Ｂ−７：黒鉛（平均粒径４μｍ、平均厚さ０．４μｍ、長軸方向長さ／厚さの平均１１、固定炭素量９９．６％、揮発分０．４％、灰分０．０％）［日本黒鉛工業（株）製：ＵＰ−５ＮＨ］
Ｂ−８：黒鉛（平均粒径６２μｍ、平均厚さ７．０μｍ、長軸方向長さ／厚さの平均９、固定炭素量９９．６％、揮発分０．４％、灰分０．０％）［オリエンタル産業（株）製：ＡＴ−Ｎｏ．５Ｓ］
Ｂ−９：炭素繊維（直径７．５μｍ、カット長６ｍｍ）［東邦レーヨン（株）製：ベスファイト　ＨＴＡ−Ｃ６−Ｕ］
（Ｃ成分：ポリエーテルエステル化合物、ポリエステル化合物）
Ｃ−１：スルホン酸ナトリウム変性ポリエステル（５−ナトリウムスルホイソフタル酸単位を繰り返し単位として含有するポリエチレンテレフタレート／イソフタレート共重合、還元粘度０．５４ｄｌ／ｇ、スルホン酸ナトリウム塩基は約５．９×１０^−４モル／ｇ）［東洋紡績（株）製：バイロン２８０］
Ｃ−２：上記方法で作成したポリエーテルエステル共重合体（還元粘度１．３５ｄｌ／ｇ、スルホン酸ナトリウム塩基は約１．５×１０^−４モル／ｇ）
Ｃ−３：ポリエチレンテレフタレート樹脂［帝人化成（株）製：ＴＲ−４５５０ＢＨ］

発明の効果
　本発明の樹脂組成物は、特定形状を有する黒鉛を含有することで、高い剛性、導電性、低異方性および良好な寸法安定性を有する。また本発明の樹脂組成物は、スルホン酸塩基を有するポリエステル（Ｃ−１成分）およびスルホン酸塩基を有するポリエーテルエステル（Ｃ−２成分）からなる群より選択される少なくとも１種の化合物（Ｃ成分）を含有するので、良好な低アウトガス性および溶融熱安定性を有する。かつ本発明の樹脂組成物は、高い剛性および導電性を有する。
　本発明の樹脂組成物は、ＯＡ機器分野、電気電子機器分野などの各種工業用途に極めて有用であり、特に電気電子機器の埃等を嫌い成形品に帯電防止性能を要求する用途および機器から発生する熱によって発生するアウトガス低減が要求される用途に対応した良好な特性を満足するものである。本発明の樹脂組成物は、ストレージＡＶ機器の内部部品に好適である。
　かかる用途としては、例えばパソコン、ノートパソコン、ゲーム機（家庭用ゲーム機、業務用ゲーム機、パチンコ、およびスロットマシーンなど）、ディスプレー装置（ＬＣＤ、有機ＥＬ、電子ペーパー、プラズマディスプレー、およびプロジェクタなど）、送電部品（誘電コイル式送電装置のハウジングに代表される）が例示される。かかる用途としては、例えばプリンター、コピー機、スキャナーおよびファックス（これらの複合機を含む）が例示される。かかる用途としては、ＶＴＲカメラ、光学フィルム式カメラ、デジタルスチルカメラ、カメラ用レンズユニット、防犯装置、および携帯電話などの精密機器が例示される。特に本発明の樹脂組成物は、ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）やデジタル多用途ディスク（ＤＶＤ）ドライブの空気整流板に好適に利用される。
　その他更に本発明の樹脂組成物は、マッサージ機や高酸素治療器などの医療機器；画像録画機（いわゆるＤＶＤレコーダーなど）、オーディオ機器、および電子楽器などの家庭電器製品；パチンコやスロットマシーンなどの遊技装置；並びに精密なセンサーを搭載する家庭用ロボットなどの部品にも好適なものである。
　また本発明の樹脂組成物は、各種の車両部品、電池、発電装置、回路基板、集積回路のモールド、光学ディスク基板、ディスクカートリッジ、光カード、ＩＣメモリーカード、コネクター、ケーブルカプラー、電子部品の搬送用容器（ＩＣマガジンケース、シリコンウエハー容器、ガラス基板収納容器、およびキャリアテープなど）、帯電防止用または帯電除去部品（電子写真感光装置の帯電ロールなど）、並びに各種機構部品（ギア、ターンテーブル、ローター、およびネジなど。マイクロマシン用機構部品を含む）に利用可能である。
　したがって本発明の樹脂組成物は、ＯＡ機器分野、電気電子機器分野などの各種工業用途に極めて有用であり、その奏する工業的効果は極めて大である。

Claims

　（Ａ）芳香族ポリカーボネート樹脂（Ａ成分）６５~８５重量部、
（Ｂ）平均粒径が５~６０μｍである黒鉛（Ｂ成分）１５~３５重量部、並びに
（Ｃ）スルホン酸塩基を有するポリエステル（Ｃ−１成分）およびスルホン酸塩基を有するポリエーテルエステル（Ｃ−２成分）からなる群より選択される少なくとも１種の化合物（Ｃ成分）を、Ａ成分とＢ成分との合計１００重量部に対し０．１~５重量部、
含有する樹脂組成物。
　Ｂ成分が、長軸方向長さ／厚さの平均が３０以上の黒鉛である請求項１記載の樹脂組成物。
　Ｃ−１成分が、（Ｃ１−１）スルホン酸塩基を持たない芳香族ジカルボン酸成分から誘導される繰り返し単位、（Ｃ１−２）下記一般式〔１〕で表されるスルホン酸塩基で置換された芳香族ジカルボン酸成分から誘導される繰り返し単位、および（Ｃ１−３）炭素数２~１０のグリコール成分から誘導される繰返し単位からなるポリエステルである請求項１記載の樹脂組成物。

（式中、Ａｒは炭素数６~２０の３価の芳香族基、Ｍ^＋は金属イオンまたは有機オニウムイオンを表す。）
　Ｃ−２成分が、（Ｃ２−１）スルホン酸塩基を持たない芳香族ジカルボン酸成分から誘導される繰り返し単位、（Ｃ２−２）下記一般式〔１〕で表されるスルホン酸塩基で置換された芳香族ジカルボン酸成分から誘導される繰り返し単位、（Ｃ２−３）炭素数２~１０のグリコール成分から誘導される繰り返し単位、および（Ｃ２−４）数平均分子量２００~５０，０００のポリ（アルキレンオキシド）グリコール成分から誘導される繰返し単位からなるポリエーテルエステルである請求項１記載の樹脂組成物。

（式中、Ａｒは炭素数６~２０の３価の芳香族基、Ｍ^＋は金属イオンまたは有機オニウムイオンを表す。）
　請求項１~４のいずれか１項に記載の樹脂組成物からなる成形品。
　ストレージＡＶ機器部品である請求項５に記載の成形品。
　ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）またはデジタル多用途ディスク（ＤＶＤ）ドライブの空気整流板である請求項６に記載の成形品。
　（Ａ）芳香族ポリカーボネート樹脂（Ａ成分）６５~８５重量部、および
（Ｂ）平均粒径が５~６０μｍである黒鉛（Ｂ成分）１５~３５重量部を含有する樹脂組成物に、
（Ｃ）スルホン酸塩基を有するポリエステル（Ｃ−１成分）およびスルホン酸塩基を有するポリエーテルエステル（Ｃ−２成分）からなる群より選択される少なくとも１種の化合物（Ｃ成分）を、Ａ成分とＢ成分との合計１００重量部に対し０．１~５重量部添加することを特徴とする、
樹脂組成物の加熱による重量減少を防止する方法。