WO2012008318A1 - 有機色素安定化剤、該有機色素安定化剤と有機色素を含有する光吸収部材用組成物、およびこれを用いた光吸収部材 - Google Patents

有機色素安定化剤、該有機色素安定化剤と有機色素を含有する光吸収部材用組成物、およびこれを用いた光吸収部材 Download PDF

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WO2012008318A1
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WO
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group
organic dye
carbon atoms
light
absorbing member
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Application number
PCT/JP2011/065162
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Inventor
悠策 増原
山本　勝政
幸司 藤本
Original Assignee
住友精化株式会社
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B55/00—Azomethine dyes
    • C09B55/009—Azomethine dyes, the C-atom of the group -C=N- being part of a ring (Image)
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B23/00—Methine or polymethine dyes, e.g. cyanine dyes
    • C09B23/02—Methine or polymethine dyes, e.g. cyanine dyes the polymethine chain containing an odd number of >CH- or >C[alkyl]- groups
    • C09B23/04—Methine or polymethine dyes, e.g. cyanine dyes the polymethine chain containing an odd number of >CH- or >C[alkyl]- groups one >CH- group, e.g. cyanines, isocyanines, pseudocyanines
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B55/00—Azomethine dyes
    • C09B55/001—Azomethine dyes forming a 1,2 complex metal compound, e.g. with Co or Cr, with an other dye, e.g. with an azo or azomethine dye

Definitions

  • the present invention provides an organic dye stabilizer represented by the formula (1), a composition for a light absorbing member containing at least one organic dye and at least one organic dye among the organic dye stabilizers, and the same.
  • the present invention relates to a light absorbing member.
  • Organic dyes have long been widely used for fibers, plastic coloring, analytical indicators, photographic photosensitizers, and the like.
  • functional dyes that absorb light in a specific wavelength range have been used in a wide range of fields such as dye lasers, optical recording media, liquid crystal display devices, plasma display panels, photoelectric conversion elements, and ultraviolet / heat ray shielding films.
  • organic dyes have a serious drawback that fading is promoted by the influence of the external environment such as light and heat, and it is difficult to maintain the function for a long time. Therefore, various light stabilizers are used in order to suppress the fading deterioration of the organic dye over time.
  • Patent Document 1 proposes stabilization of organic dyes with nitrosodiphenylamines and Patent Document 2 with nitrosophenols and nitrosonaphthols. These nitroso compounds are highly toxic or are photodegradable products. In addition to problems such as high toxicity, the stabilization effect was not always satisfactory.
  • Patent Documents 4 to 7 show a method using a metal complex such as a nickel compound having a thio ligand as a light stabilizer, but the use of these nickel compounds is accompanied by coloration. There is a limit to the applications that can be performed, and the light stabilization effect is not always satisfactory.
  • JP-A-2-300288 Japanese Patent Laid-Open No. 2-300289 Japanese Unexamined Patent Publication No. 2-304055 JP 62-193891 A JP-A-62-207688 JP 63-19293 A JP 63-199248
  • the present invention is intended to solve the problems associated with the prior art as described above, and as a means for effectively preventing long-term deterioration of organic dye fading promoted by light, heat, etc.
  • An object of the present invention is to provide an organic dye stabilizer exhibiting an excellent stabilizing effect, a composition for a light absorbing member containing the organic dye stabilizer and an organic dye, and a light absorbing member produced using the same. Yes.
  • the present inventors have found that the metal complex represented by the formula (1) has a very excellent fading deterioration suppressing effect with respect to organic dyes.
  • the complex As an organic dye stabilizer, the above problems were solved and the present invention was completed. That is, this invention relates to the organic dye stabilizer shown below, the composition for light absorption members containing at least 1 type and at least 1 type of organic dye among these organic dye stabilizers, and a light absorption member using the same. .
  • Y 1 , Y 2 , Y 3 and Y 4 are each independently NH, NR 5 , an oxygen atom or a sulfur atom
  • R 5 of NR 5 assigned to Y 1 , Y 2 , Y 3 or Y 4 is an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or an aryl group having 6 to 15 carbon atoms which may have a substituent.
  • Y 1, Y 2 when Y 3 and at least two of Y 4 is represented by NR 5, the R 5 of NR 5 represent a substituent independent of each other, respectively.
  • Z 1 and Z 2 are each independently a nitrogen atom, CH or CR 6 ;
  • R 6 of CR 6 assigned to Z 1 or Z 2 is an optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or optionally substituted aryl having 6 to 15 carbon atoms.
  • a heteroaryl group having 4 to 12 carbon atoms which may have a substituent a heteroaralkyl group having 5 to 12 carbon atoms or an aralkyl group having 7 to 15 carbon atoms which may have a substituent.
  • R 6 of CR 6 is that each independently of one another that Z 1 and Z 2 are both represented by CR 6.
  • Each of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 is absent or, if present, represents two carbon atoms shared with a 5-membered ring of the six carbon atoms of one benzene ring. 1 to 4 of the 4 hydrogen atoms bonded to the removed 4 carbon atoms can be substituted, and all of the substituents substituted with 4 hydrogen atoms of the benzene ring are independent of each other.
  • An alkylaminosulfonyl group, a morpholinosulfonyl group which may have a substituent, a piperidinosulfonyl group which may have a substituent, a pyrrolidinosulfonyl group which may have a substituent, a substituent May have An O morpholinosulfonyl group or substituent having unprotected piperazino sulfonyl group, M represents a metal atom.
  • Item 2. The organic dye stabilizer according to Item 1, wherein the metal atom M in the formula (1) is a cobalt atom, a nickel atom, or a copper atom.
  • Item 3. Item 3.
  • Item 4. Item 4. A light absorbing member produced using the composition for light absorbing member according to Item 3.
  • an organic dye stabilizer that exhibits a very excellent stabilizing effect on the organic dye can be obtained. Therefore, by using the organic dye stabilizer and the organic dye of the present invention, a composition for a light absorbing member capable of maintaining excellent light resistance and heat resistance over a long period of time, and light absorption using the same A member can be provided.
  • Y 1 , Y 2 , Y 3 and Y 4 are each independently NH, NR 5 , an oxygen atom or a sulfur atom, and belong to Y 1 , Y 2 , Y 3 or Y 4.
  • R 5 in NR 5 is an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or an aryl group having 6 to 15 carbon atoms which may have a substituent, wherein Y 1 , Y 2 , Y 3 and Y 4 If out at least two represented by NR 5, showing the respective R 5 of NR 5 substituents independently of one another.
  • each Z 1 and Z 2 are nitrogen atoms, CH or CR 6 Yes, R 6 of CR 6 belonging to Z 1 or Z 2 is an optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and optionally having 6 to 15 carbon atoms.
  • Aryl groups and optionally substituted 4 to 12 carbon atoms Aryl group, a heteroaralkyl group or an aralkyl group having 7 to 15 carbon atoms in the optionally-carbon atoms 5 be 12 substituted.
  • R 6 of CR 6 each represents an independent substituent, and each of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 is absent or, if present, 6 carbons in one benzene ring.
  • 1 to 4 of the 4 hydrogen atoms bonded to the 4 carbon atoms, excluding the 2 carbon atoms shared with the 5-membered ring among the atoms, can be substituted.
  • All of the substituents substituted with a hydrogen atom are each independently of each other an optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, hydroxyl group, carboxyl group, alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, halogeno Group, have a substituent May have an alkylaminosulfonyl group having 1 to 16 carbon atoms, a morpholinosulfonyl group which may have a substituent, a piperidinosulfonyl group which may have a substituent, or a substituent.
  • dye, and a light absorption member using the same are provided. Is.
  • Z 1 and Z 2 , R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and M in the formula (1) are exemplified below.
  • R 5 of the NR 5 attributed to Y 1 , Y 2 , Y 3 or Y 4 is, for example, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, alkyl groups such as sec-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, cyclopentyl group, n-hexyl group, isohexyl group, cyclohexyl, n-heptyl group, n-octyl group
  • aryl groups such as phenyl group, 2-methylphenyl group, 3-methylphenyl group, 4-methylphenyl group, 3-chlorophenyl group, 4-bromophenyl group, 3,4-dichlorophenyl group, naphthyl group, etc.
  • an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is preferable.
  • Y 1 , Y 2 , Y 3 and Y 4 in Formula (1) are particularly preferably an oxygen atom or a sulfur atom from the viewpoint of simplicity of the synthesis method.
  • R 6 of CR 6 attributed to Z 1 or Z 2 is, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, isobutyl.
  • R 6 of CR 6 is that each independently of one another that Z 1 and Z 2 are both represented by CR 6.
  • Z 1 and Z 2 in Formula (1) are preferably a nitrogen atom or CH, and particularly preferably a nitrogen atom, from the viewpoint of simplicity of the synthesis method.
  • examples of the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms which may have the above-mentioned substituents belonging to R 1 , R 2 , R 3 or R 4 include, for example, methyl group, ethyl group, 2 -Methoxyethyl group, n-propyl group, isopropyl group, 3-chloro-n-propyl group, n-butyl group, sec-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, 4-hydroxy-n-butyl group, n -Pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, cyclopentyl group, n-hexyl group, isohexyl group, cyclohexyl, 6-phenyl-n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group and the like.
  • examples of the alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms belonging to R 1 , R 2 , R 3 or R 4 include a methoxy group, an ethoxy group, and a tert-butoxy group.
  • examples of the halogeno group belonging to R 1 , R 2 , R 3 or R 4 include a fluoro group, a chloro group, a bromo group, and an iodo group.
  • examples of the alkylaminosulfonyl group having 1 to 16 carbon atoms which may have the above-mentioned substituents belonging to R 1 , R 2 , R 3 or R 4 include, for example, N-methylaminosulfonyl Group, N-ethylaminosulfonyl group, N-isopropylaminosulfonyl group, Nn-propylaminosulfonyl group, Nn-butylaminosulfonyl group, N, N-dimethylaminosulfonyl group, N, N-methylethylamino Sulfonyl group, N, N-diethylaminosulfonyl group, N, N-ethylisopropylaminosulfonyl group, N, N-diisopropylaminosulfonyl group, N, N-di-n-propylaminosulfonyl group, N, N-di-n-n-
  • examples of the morpholinosulfonyl group optionally having a substituent belonging to R 1 , R 2 , R 3 or R 4 include morpholinosulfonyl group, 2-methylmorpholinosulfonyl group, 3-methyl Morpholinosulfonyl group, 2-ethylmorpholinosulfonyl group, 3-n-propylmorpholinosulfonyl group, 3-n-butylmorpholinosulfonyl group, 2,3-dimethylmorpholinosulfonyl group, 2,6-dimethylmorpholinosulfonyl group, 3-phenyl Examples thereof include a morpholinosulfonyl group.
  • examples of the piperidinosulfonyl group optionally having a substituent belonging to R 1 , R 2 , R 3 or R 4 include a piperidinosulfonyl group, 2-methylpiperidino Sulfonyl group, 3-methylpiperidinosulfonyl group, 4-methylpiperidinosulfonyl group, 2-ethylpiperidinosulfonyl group, 4-n-propylpiperidinosulfonyl group, 3-n-butylpiperidinosulfonyl Group, 2,4-dimethylpiperidinosulfonyl group, 2,6-dimethylpiperidinosulfonyl group, 4-phenylpiperidinosulfonyl group and the like.
  • examples of the pyrrolidinosulfonyl group optionally having a substituent belonging to R 1 , R 2 , R 3 or R 4 include a pyrrolidinosulfonyl group, a 2-methylpyrrolidinosulfonyl group, 3-methylpyrrolidinosulfonyl group, 2-ethylpyrrolidinosulfonyl group, 3-n-propylpyrrolidinosulfonyl group, 3-n-butylpyrrolidinosulfonyl group, 2,4-dimethylpyrrolidinosulfonyl group, 2,5- Examples thereof include a dimethylpyrrolidinosulfonyl group and a 3-phenylpyrrolidinosulfonyl group.
  • examples of the optionally substituted thiomorpholinosulfonyl group belonging to R 1 , R 2 , R 3 or R 4 include a thiomorpholinosulfonyl group and a 2-methylthiomorpholinosulfonyl group.
  • 3-methylthiomorpholinosulfonyl group 2-ethylthiomorpholinosulfonyl group, 3-n-propylthiomorpholinosulfonyl group, 3-n-butylthiomorpholinosulfonyl group, 2,3-dimethylthiomorpholinosulfonyl group, 2,6- Examples thereof include a dimethylthiomorpholinosulfonyl group and a 3-phenylthiomorpholinosulfonyl group.
  • examples of the piperazinosulfonyl group optionally having a substituent belonging to R 1 , R 2 , R 3 or R 4 include a piperazinosulfonyl group, 2-methylpiperazino Sulfonyl group, 3-methylpiperazinosulfonyl group, 2-ethylpiperazinosulfonyl group, 3-n-propylpiperazinosulfonyl group, 3-n-butylpiperazinosulfonyl group, 2,5-dimethylpiperazi Nosulfonyl group, 2,6-dimethylpiperazinosulfonyl group, 3-phenylpiperazinosulfonyl group, 2-pyrimidylpiperazinosulfonyl group and the like.
  • Each of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 is absent or, if present, two carbons shared with a 5-membered ring of the six carbon atoms of one benzene ring.
  • Substituent in which 1 to 4, preferably 1 or 2 of 4 hydrogen atoms bonded to 4 carbon atoms excluding atoms can be substituted, and hydrogen atoms of 4 benzene rings are substituted All independently have an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a hydroxyl group, a carboxyl group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a halogeno group, and a substituent which may have a substituent.
  • alkylaminosulfonyl group having 1 to 16 carbon atoms a morpholinosulfonyl group which may have a substituent, a piperidinosulfonyl group which may have a substituent, and a substituent.
  • Pyrrolidinosulfoni Group an optionally substituted thiomorpholinosulfonyl group or an optionally substituted piperazinosulfonyl group, which is economical, that is, the availability of raw materials, the number of reaction steps, and the yield From the viewpoint, it is preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a halogeno group, or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms which may not be present or have a substituent. It is more preferably an alkyl group having 1 to 8 or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and further preferably not present.
  • an alkylaminosulfonyl group having 1 to 16 carbon atoms which may have a substituent a morpholinosulfonyl group which may have a substituent, a piperidinosulfonyl group which may have a substituent
  • a pyrrolidinosulfonyl group that may have a substituent a thiomorpholinosulfonyl group that may have a substituent
  • a piperazinosulfonyl group that may have a substituent Particularly advantageous in terms of solubility.
  • an alkylaminosulfonyl group having 1 to 16 carbon atoms a morpholinosulfonyl group which may have a substituent, a piperidinosulfonyl group which may have a substituent, It is more preferably a thiomorpholinosulfonyl group which may have a substituent or a piperazinosulfonyl group which may have a substituent, and has 1 to 16 carbon atoms.
  • examples of the metal atom represented by M include a cobalt atom, a nickel atom, or a copper atom.
  • the metal complex represented by the formula (1) is obtained by reacting a ligand represented by the following formula (2) with a metal salt such as a metal halide, metal sulfate, metal acetate, or metal nitrate. Can be synthesized.
  • a metal salt such as a metal halide, metal sulfate, metal acetate, or metal nitrate.
  • Y 1 , Y 2 , Z 1 , R 1 , R 2 are Y 1 (and / or Y 3 ), Y 2 (and / or Y 4 ), Z in the formula (1), respectively. 1 (and / or Z 2 ), R 1 (and / or R 3 ), R 2 (and / or R 4 ).
  • Examples of the ligand represented by the formula (2) include “JP-A-56-87575”, “Synthesis 1987, 368”, “Synthesis 1982, 590”, “Synthesis 1982, 1066-1067”, “J. "Org. Chem. 2002, 67, 5753- 5772", “J. Org. Chem. 2002, 67, 5753- 5772", “J. Org. Chem. 1961, 26, 3434-3445", "Gazz. Chim. Ital. 1996, 126, 329-337, “Gazz. Chim. Ital. 1994, 124, 301-308”, and “Special Table 2007-535421”.
  • a part of manufacturing method of the ligand represented by Formula (2) is demonstrated.
  • 2-aminobenzothiazole when R 1 and R 2 are not present
  • 2-amino-substituted benzothiazole wherein R 1 and R 2 may have a substituent, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms) , Hydroxyl group, carboxyl group, alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or halogeno group
  • an acid catalyst such as phenol
  • R 1 is An optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, hydroxyl group, carboxyl group, alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or halogeno 2- (2-benzothiazolylamino) benzoxazole or 2- [2- (substituted benzothiazolyl) amino] -substituted benzoxazole is synthesized by dropping a DMF solution in the case of a group and refluxing under a nitrogen atmosphere. be able to.
  • S, S′-dimethyl-N- (2-benzothiazolyl) carbonimidodithioate or S, S′-dimethyl-N- [2- (substituted benzothiazolyl)] carbonimidodithioate is described in, for example, Synthesis 1982,590. Can be synthesized according to the methods described.
  • 2-aminobenzothiazole when R 1 is not present or 2-amino-substituted benzothiazole (wherein R 1 may have a substituent, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a hydroxyl group, a carboxyl group)
  • R 1 may have a substituent, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a hydroxyl group, a carboxyl group
  • an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or a halogeno group an aqueous sodium hydroxide solution is added dropwise to this solution in a water bath or ice bath, carbon disulfide is then added dropwise, and water is added.
  • J. et al. Org. Chem. It can be synthesized according to the method described in 2002, 67, 5753-5772. That is, o-phenylenediamine (when R 2 is not present) or o- (substituted phenylene) diamine (wherein R 2 may have a substituent, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a hydroxyl group, a carboxyl group, An alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or a halogeno group) and ethyl-2-benzothiazolyl acetate (when R 1 is not present) or ethyl-2- (substituted benzothiazolyl) acetate (where R 1 is a substituent).
  • Examples of the ethyl-2-benzothiazolylacetate or ethyl-2- (substituted benzothiazolyl) acetate include those described in J. Org. Org. Chem. It can be synthesized according to the method described in 2002, 67, 5753-5772. That is, ethyl 2-benzothiazolyl acetate or ethyl-2- (substituted benzothiazolyl) acetate is prepared by mixing ethyl cyanoacetate and 2-amino-substituted thiophenol and reacting at 120 ° C. for 2 hours in a nitrogen atmosphere. Can be synthesized.
  • J. et al. Org. Chem. It can be synthesized according to the method described in 1961, 26, 3434-3445. That is, 2-aminothiophenol (when R 1 and R 2 are not present) or 2-amino-substituted thiophenol (wherein R 1 and R 2 may have a substituent, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms) , A hydroxyl group, a carboxyl group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or a halogeno group) and malonic acid are mixed, and this mixed solution is added to polyphosphoric acid under stirring while keeping the temperature at 70 ° C. Next, this reaction solution is reacted at 125-150 ° C. for 2 hours to synthesize bis (2-benzothiazolyl) methane or bis [2- (substituted benzothiazolyl)] methane.
  • Gazz. Chim. Ital. It can be synthesized according to the method described in 1996, 126, 329-337. That is, (N-substituted-) o-phenylenediamine (when R 1 and R 2 are not present) or (N-substituted-) [o- (substituted phenylene)] diamine (R 1 and R 2 have a substituent)
  • An alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a hydroxyl group, a carboxyl group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or a halogeno group) and diethyl malonate are mixed, and the mixture is mixed under a nitrogen atmosphere. By refluxing at 155 ° C.
  • R 6 of CR 6 attributed to Z 1 or Z 2 in formula (1) is particularly preferably an aralkyl group.
  • the aralkyl group is, for example, a 4-pyridylmethyl group will be taken up, and the synthesis method will be described below. Even when it is a substituent other than the 4-pyridylmethyl group, it can be synthesized according to the same synthesis method by selecting the corresponding substrate (aldehyde body corresponding to the substituent).
  • each of at least one substituent of R 1 and R 2 may have a substituent, an alkylaminosulfonyl group having 1 to 16 carbon atoms, or a substituent.
  • piperazinosulfonyl group which may have
  • each of R 1 and R 2 is absent, or When present, 1 to 3 of 4 hydrogen atoms bonded to 4 carbon atoms except 6 carbon atoms shared with a 5-membered ring among 6 carbon atoms of one benzene ring.
  • Piperidinosulfonyl group which may have, pyrrolidinosulfonyl group which may have a substituent, thiomorpholinosulfonyl group which may have a substituent or piperazinosulfonyl which may have a substituent Introduce group Can.
  • 2,2′-iminobisbenzothiazole or 2,2′-iminobis (substituted benzothiazole) obtained in i) as an example, the synthesis method will be described below.
  • 2,2'-Iminobisbenzothiazole or 2,2'-iminobis (substituted benzothiazole) obtained in i) is added to chlorosulfonic acid and the mixture is stirred overnight. Further, thionyl chloride is added and stirred at 50 ° C. for 1 hour, and then cooled to room temperature.
  • the corresponding 2,2'-iminobis (substituted benzothiazole) can be synthesized by pouring the mixture onto ice and stirring with a primary or secondary amine along with the suction-filtered ice.
  • composition for light absorbing member containing at least one organic dye stabilizer represented by formula (1) and at least one organic dye is characterized by containing at least one organic dye stabilizer represented by the formula (1) and at least one organic dye.
  • present invention includes those containing at least one matrix material and / or a polymerizable monomer as a precursor of the matrix material and / or at least one solvent.
  • the organic dye stabilizer represented by the formula (1) in the present invention is preferably contained in a dissolved state at the molecular level, but the organic dye is in a dissolved state. Or in a dispersed state.
  • the organic dye is not particularly limited, for example, phthalocyanine, naphthalocyanine, porphyrin, nitroso, indamine, quinophthalone, xanthene, quinacridone, quinacridone quinone, benzimidazolone , Quinone, quinoline, anthrone, dioxazine, dioxime, pyrrolopyrrole, ansanthrone, indanthrone, flavanthrone, perinone, perylene, indoline, isoindoline, isoindolinone , Azo, cyanine, merocyanine, squarylium, triarylmethane, pyranthrone, indigoid, indanthrene, imonium, aminium, coumarin, rubrene, acridine, fluorane, styryl Organic dyes and the like.
  • the amount of each organic dye stabilizer added is not particularly limited as long as a sufficient organic dye stabilizing effect can be obtained, but it is preferably 0.1 to 15 mol, preferably 0.1 mol relative to 1 mol of the organic dye.
  • the amount is 0.3 to 10 mol, more preferably 0.5 to 5 mol. If the amount is less than 0.1 mol, a sufficient stabilizing effect may not be obtained, and even if added in an amount of 15 mol or more, a stabilizing effect commensurate with the amount added cannot be obtained, which is not economical.
  • any organic or inorganic binder can be used.
  • the inorganic binder means a polymer main chain that does not contain a carbon atom.
  • the expression “matrix material” used in the present invention includes not only a matrix component (solid content) called an organic or inorganic binder but also a solution containing the matrix component (for example, a commercially available binder solution). .
  • organic binder examples include poly (meth) methyl acrylate, poly (meth) ethyl acrylate, poly (meth) acrylate propyl, poly (meth) acrylate butyl, poly (meth) acrylate cyclohexyl and the like.
  • (Meth) acrylic acid such as (meth) acrylic ester resin, (meth) methyl acrylate- (meth) ethyl acrylate copolymer, (meth) methyl acrylate- (meth) butyl acrylate copolymer Ester copolymers, polystyrene resins such as polystyrene and poly ( ⁇ -methylstyrene), styrene-butadiene copolymers, styrene-isoprene copolymers, styrene-acrylic acid copolymers, styrene-acrylic acid ester copolymers Polymer, styrene-maleic acid copolymer, styrene-maleic acid ester copolymer, etc.
  • polyester resins such as polyethylene succinate, polybutylene adipate, polylactic acid, polyglycolic acid, polycaprolactone, polyethylene terephthalate, polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene, polyoxymethylene, polyethylene oxide
  • Polyether resins such as silicone resins, polysulfone resins, polyamide resins, polyimide resins, polyurethane resins, polycarbonate resins, epoxy resins, phenol resins, melamine resins
  • synthetic resins such as urea resins, thermoplastic resins such as polyvinyl resins, ethylene-propylene copolymer rubber, polybutadiene rubber, styrene-butadiene rubber, acrylonitrile-butadiene rubber, etc. Or a natural rubber etc. are mentioned.
  • (meth) acryl shows methacryl and acryl.
  • a polysiloxane binder As the inorganic binder, a polysiloxane binder can be suitably used.
  • a sol solution (siloxane oligomer solution) obtained by hydrolysis / polycondensation reaction of silicon alkoxide can be suitably used as the polysiloxane binder precursor.
  • a silicon alkoxide sol solution can be prepared by adding water to a silicon alkoxide in the presence of an acid catalyst in an organic solvent, followed by hydrolysis and polycondensation. Also good.
  • a method for preparing a sol solution of silicon alkoxide will be described in detail.
  • silicon alkoxide examples include tetrafunctional silanes such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, and tetrabutoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, Methyl-tris (2-methoxyethoxy) silane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltripropoxysilane, ethyltributoxysilane, ethyl-tris (2-methoxyethoxy) silane, hexyltrimethoxysilane, hexyltriethoxy Silane, hexyltripropoxysilane, hexyltributoxysilane, phenyltrimeth
  • silicon alkoxides may be used alone or in combination of two or more.
  • the mixing ratio when two or more types are used in combination can be appropriately selected as desired.
  • a metal alkoxide such as titanium alkoxide, cerium alkoxide, zirconium alkoxide, tin alkoxide, aluminum alkoxide, nickel alkoxide, zinc alkoxide is added as necessary. -You may use together.
  • titanium alkoxide or zinc alkoxide is added to increase reflectivity
  • zirconium alkoxide is added to increase mechanical strength and alkali resistance
  • nickel alkoxide is added to improve weather resistance. It is effective.
  • the acid catalyst is not particularly limited, and examples thereof include inorganic acids such as nitric acid, hydrochloric acid and sulfuric acid, and organic acids such as formic acid, acetic acid and oxalic acid. If acid remains after completion of the hydrolysis / polycondensation reaction, the condensation stability deteriorates. Formic acid having a low boiling point and high volatility and a small PKa is preferably used.
  • the addition amount of the acid catalyst is not particularly limited as long as sufficient catalytic action is exhibited, but usually 0.01 mol or more, more preferably 0.3 mol or more is added per 1 mol of silicon alkoxide. It is preferable to do. If the amount is less than 0.01 mol, sufficient catalytic action may not be obtained, and if added excessively, the finally obtained silicon alkoxide sol solution may deteriorate over time due to the remaining acid. is there. Therefore, it is preferable to mix
  • water Although it is not particularly limited as long as it can cause hydrolysis of the silicon alkoxide, it is preferable to add water at a ratio of 2 to 6 moles with respect to 1 mole of silicon alkoxide. If the amount is less than 2 moles, the hydrolysis may not proceed sufficiently. If the amount exceeds 6 moles, the hydrolysis proceeds too quickly, hindering the progress of the subsequent polycondensation reaction, and the amount of water removed after the reaction. Increased and not efficient.
  • reaction solvent By using a reaction solvent in addition to silicon alkoxide, water, and an acid catalyst, the hydrolysis rate can be moderately reduced, and hydrolysis and polycondensation can proceed reliably. Further, it also serves as a diluent for adjusting the viscosity of the finally obtained silicon alkoxide sol solution (siloxane oligomer solution) to a level that is easy to handle.
  • the reaction solvent is not particularly limited as long as it can dissolve the silicon alkoxide, and can be appropriately selected and used.
  • alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol (IPA), butanol and tetrafluoropropanol, halogenated hydrocarbons such as chloroform and dichloromethane, ethylene glycol, 1,2-propanediol and 1,3-propanediol Glycols such as 1,4-butanediol and diethylene glycol, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone (MEK), methyl isobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone, 3-octanone, and acetic acid Ethyl, ethyl 2-hydroxypropionate, n-butyl 3-methyl-3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-
  • alcohols such as methanol, ethanol, IPA, butanol and tetrafluoropropanol, ethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol and 1,4-butane are preferable.
  • glycols such as diethylene glycol, ethyl acetate, ethyl 2-hydroxypropionate, n-butyl 3-methyl-3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, 3-ethoxypropion Ethyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, n-amyl formate, isoamyl acetate, propionate n-butyl, ethyl butyrate, isopropyl butyrate, butyrate n-butyl, ethyl pyruvate, ⁇ -butyrolactone, ethyl lactate Esters such as Ethers such as ether, cyclopentyl methyl ether and tetrahydrofuran, glycol ethers such as ethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol
  • the solubility of the organic dye stabilizer is good in advance.
  • a simple solvent as a reaction solvent it is possible to reduce labor when dissolving and mixing the organic dye stabilizer.
  • the organic dye stabilizer is dissolved before mixing and mixing. Replace the solvent of the silicon alkoxide sol solution (siloxane oligomer solution) with the good solvent of the organic dye stabilizer or add the good solvent of the organic dye stabilizer to the silicon alkoxide sol solution (siloxane oligomer solution) By doing so, it can be dissolved and mixed without any problem.
  • the amount of the reaction solvent used is desirably 50 to 1000 parts by weight, preferably 100 to 500 parts by weight, based on 100 parts by weight of silicon alkoxide. If the amount is less than 50 parts by weight, it may be difficult to cause the hydrolysis / polycondensation reaction to proceed at an appropriate reaction rate. If the amount exceeds 1000 parts by weight, the rate of the hydrolysis / polycondensation reaction decreases, which is efficient. In addition to this, there is a possibility that a long time is required for the pressure reduction / distillation step described later.
  • one or more silicon alkoxides are mixed with an acid catalyst, water and a solvent.
  • this solution By maintaining this solution at a temperature of 0 to 150 ° C., preferably 50 to 100 ° C., the hydrolysis / polycondensation reaction proceeds. If it is less than 0 degreeC, there exists a possibility that a hydrolysis and a polycondensation reaction may become difficult to advance. On the other hand, when the temperature exceeds 150 ° C., the hydrolysis / polycondensation reaction proceeds rapidly, so that an unreacted alkoxy group may remain or cause gelation or coloring.
  • the time for the hydrolysis / polycondensation reaction is usually 1 to 24 hours, more preferably 2 to 8 hours, although it depends on temperature conditions. If it is less than 1 hour, there is a possibility that the hydrolysis / polycondensation reaction does not proceed sufficiently, and even if it exceeds 24 hours, the reaction does not proceed any further, which is not economical.
  • sol solution siloxane oligomer solution
  • silicon alkoxide as an inorganic binder: polysiloxane binder precursor
  • matrix materials may be used alone or in combination of two or more.
  • two or more different types selected from organic binders may be combined, two or more different types selected from inorganic binders may be combined, and from each of organic binders and inorganic binders Two or more different types selected may be combined.
  • the solvent can be appropriately selected and used as long as the organic dye stabilizer has good solubility.
  • organic dye stabilizers and organic dyes having good solubility can be appropriately selected and used, and a matrix material and / or a precursor of the matrix material can be used.
  • an organic dye stabilizer, an organic dye and a matrix material and / or a precursor of a matrix material having good solubility (compatibility) can be selected and used.
  • alcohols such as methanol, ethanol, IPA, butanol, tetrafluoropropanol, glycols such as ethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, diethylene glycol, Halogenated hydrocarbons such as chloroform and dichloromethane, ketones such as acetone, MEK, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-octanone, ethyl acetate, ethyl 2-hydroxypropionate, 3 -Methyl-3-methoxypropionate-n-butyl, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, n-amyl formate,
  • organic dye stabilizer more preferable from the viewpoint of solubility of the organic dye stabilizer are alcohols such as methanol, ethanol, IPA, butanol and tetrafluoropropanol, and halogenated hydrocarbons such as chloroform and dichloromethane.
  • alcohols such as methanol, ethanol, IPA, butanol and tetrafluoropropanol
  • halogenated hydrocarbons such as chloroform and dichloromethane.
  • Ketones such as acetone, MEK, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-octanone, ethyl acetate, ethyl 2-hydroxypropionate, 3-methyl-3-methoxypropionic acid n-butyl, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, n-amyl formate, isoamyl acetate, n-butyl propionate, butyric acid Ethyl, isopropyl butyrate , Esters such as butyric acid-n-butyl, ethyl pyruvate, ⁇ -butyrolactone, ethyl lactate, ethers such as diethyl ether, cyclopentyl
  • the alcohols are tetrafluoropropanol
  • the halogenated hydrocarbons are chloroform, dichloromethane, etc.
  • the ketones are MEK, cyclopentanone, cyclohexanone, etc.
  • the esters are ⁇ -butyrolactone, lactic acid.
  • ethers such as cyclopentyl methyl ether, tetrahydrofuran etc., aromatics such as toluene, xylene, monochlorobenzene, dichlorobenzene, lactams as 2-pyrrolidone, N-methyl-2-pyrrolidone, ⁇ - Examples include caprolactam, glycol ethers such as PGMEA, and other sulfolanes, dimethyl sulfoxide, and DMF.
  • the polymerizable monomer can be used as a precursor of a matrix material, and can also be used as the solvent.
  • the polymerizable monomer include styrene, ⁇ -methyl styrene, ⁇ -methyl styrene, 2,4-dimethyl styrene, ⁇ -ethyl styrene, ⁇ -butyl styrene, ⁇ -hexyl styrene, 4 -Styrene monomers such as chlorostyrene, 3-chlorostyrene, 4-bromostyrene, 4-nitrostyrene, 4-methoxystyrene, vinyltoluene, (meth) acrylic acid, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) Acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, sec-
  • inorganic polymerizable monomers examples include tetrafunctional alkoxysilanes such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, and tetrabutoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, and methyl.
  • Tributoxysilane methyl-tris (2-methoxyethoxy) silane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltripropoxysilane, ethyltributoxysilane, ethyl-tris (2-methoxyethoxy) silane, hexyltrimethoxysilane , Hexyltriethoxysilane, hexyltripropoxysilane, hexyltributoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltripropoxysilane, Trifunctional alkoxysilanes such as phenyltributoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, ⁇ -methacryloxypropyltrimethoxysilane, methyldimethoxy (ethoxy) silane, ethy
  • the inorganic polymerizable monomer refers to a polymer main chain formed by a polymerization reaction that does not contain a carbon atom.
  • These solvents may be used alone or in combination of two or more.
  • the mixing ratio in the case of using a mixed solvent in which two or more types are combined can be appropriately selected.
  • the organic dye stabilizer, and the organic dye, and the matrix material used in combination as necessary and / or the polymerizable monomer as the precursor of the matrix material, and / or the method of mixing the solvent are particularly limited.
  • a known stirring device can be used without any problem.
  • the mixing procedure is particularly limited.
  • the components may be mixed in any order.
  • it can mix similarly.
  • the mixing procedure is as follows.
  • a dispersion in which an organic dye is dispersed in a solvent is prepared in advance, and this dispersion is added or mixed, or after all components are added and mixed, a known disperser Can be used to disperse the organic dye.
  • a known disperser can be used to disperse the organic dye.
  • a polymerizable monomer as a solvent it can mix similarly.
  • a known dispersant may be used in combination as necessary.
  • Dispersers include, for example, media-type dispersers such as paint shakers, ball mills, nano mills, attritors, basket mills, sand mills, sand grinders, dyno mills, disperse mats, SC mills, spike mills, agitator mills, ultrasonic homogenizers, Medialess type dispersers such as a high-pressure homogenizer, nanomizer, dissolver, disper, and high-speed impeller disperser are listed. Among these, it is preferable to use a media type disperser from the viewpoint of cost and processing capability. One of these may be used alone, or two or more devices may be used in combination.
  • media-type dispersers such as paint shakers, ball mills, nano mills, attritors, basket mills, sand mills, sand grinders, dyno mills, disperse mats, SC mills, spike mills, agitator mills, ultrasonic homogenizers
  • steel ball beads such as stainless steel and steel
  • ceramic beads such as alumina, steatite, zirconia, zircon, silica, silicon carbide, and silicon nitride
  • glass beads such as soda glass and high bee, and carbide beads such as WC can be appropriately selected and used.
  • the bead diameter is preferably in the range of 0.03 to 1.5 mm ⁇ .
  • dispersant examples include cationic dispersants such as alkylamine salts, dialkylamine salts, tetraalkylammonium salts, benzalkonium salts, alkylpyridinium salts, imidazolium salts, fatty acid salts, alkyl sulfate salts, and alkylaryls.
  • cationic dispersants such as alkylamine salts, dialkylamine salts, tetraalkylammonium salts, benzalkonium salts, alkylpyridinium salts, imidazolium salts, fatty acid salts, alkyl sulfate salts, and alkylaryls.
  • Anionic dispersants such as sulfonate, alkylnaphthalene sulfonate, dialkyl sulfonate, dialkyl sulfosuccinate, alkyl diaryl disulfonate, alkyl phosphate, amphoteric dispersants such as alkyl betaine and amide betaine, Nonionic dispersants, fluorine-based dispersants, silicon-based dispersants, polymer-based dispersants, and the like can be used. Among these, nonionic dispersants and polymer dispersants as exemplified below are particularly preferable.
  • Nonionic dispersants include, for example, polyoxyethylene alkyl ethers such as polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene cetyl ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octylphenyl ether, polyoxyethylene Polyoxyethylene alkylphenyl ethers such as oxyethylene nonylphenyl ether, polyethylene glycol diesters such as polyethylene glycol dilaurate and polyethylene glycol distearate, and sorbitan fatty acid esters are preferably used. From the viewpoint of dispersibility and economy, more preferred are polyoxyethylene alkyl ethers and polyoxyethylene alkylphenyl ethers.
  • polymeric dispersant examples include polyurethane, polycarboxylic acid ester, unsaturated polyamide, polycarboxylic acid and its salt, styrene-acrylic acid copolymer, acrylic acid-acrylic acid ester copolymer, styrene-maleic acid Copolymers, water-soluble resins such as polyvinyl alcohol and polyvinyl pyrrolidone, water-soluble polymer compounds, polyesters, modified polyacrylates, ethylene oxide / propylene oxide adducts, and the like are preferably used.
  • a composition for a light-absorbing member as a molding material can be obtained by melt-kneading using a short screw extruder, extruding into a stride shape, and cutting into a pellet shape.
  • the temperature at the time of melt kneading can be appropriately set in consideration of both the organic dye stabilizer used and the decomposition temperature of the organic dye and the melting point or glass transition point of the matrix material used, and the pressure at the time of kneading. About can be suitably set according to the physical property of the matrix material to be used.
  • the matrix material used at the time of melt-kneading the same thing as what is illustrated as an organic type base material by the term of the below-mentioned base material is mentioned.
  • a curing agent a curing catalyst, a crosslinking agent, a coupling agent, a leveling agent, a lubricant, an antistatic agent, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a heat stabilizer, Flame retardants, fillers, colorants, photocatalyst materials, rust inhibitors, water repellents, conductive materials, anti-blocking materials, softeners, plasticizers, mold release agents, fluorescent whitening agents, inorganic light shielding agents, etc. It may be added.
  • a polymerization initiator may be used in combination when a polymerization step is provided when producing a light absorbing member described later. It does not specifically limit as a polymerization initiator, According to the kind of polymerizable monomer to be used, it can select suitably. Further, the amount used can be appropriately selected according to the activities of the polymerizable monomer and the polymerization initiator.
  • radical polymerization initiator used in the case of thermosetting examples include 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobis (2-methylbutyronitrile), and 2,2′-azo.
  • Azo compounds such as bisisovaleronitrile, 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 1,1′-azobis (cyclohexanone-1-carbonitrile), methyl ethyl ketone peroxide, methyl isobutyl ketone per Examples thereof include ketone peroxides such as oxide and cyclohexanone peroxide, and diacyl peroxides such as benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, and 2,4-dichlorobenzoyl peroxide.
  • radical polymerization initiator used in the case of photocuring examples include p-isopropyl- ⁇ -hydroxyisobutylphenone, ⁇ -hydroxyisobutylphenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 4′-methylthio-2, Examples include 2-dimethyl-2-morpholinoacetophenone, benzoin isobutyl ether, 2-chlorothioxanthone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, and the like. it can.
  • Examples of the cationic polymerization initiator used in the case of heat curing include boron trifluoride / diethyl ether complex, boron trifluoride / amine complex, aluminum chloride, titanium tetrachloride, tin tetrachloride, iron (III) chloride. And Lewis acids such as zinc chloride, ammonium salts, sulfonium salts, oxonium salts, phosphonium salts, and the like.
  • Examples of the cationic polymerization initiator used in the case of photocuring include aromatic sulfonium salts, aromatic iodonium salts, aromatic diazonium salts, aromatic phosphonium salts, and the like.
  • an epoxy monomer for example, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, Acid anhydrides such as chlorendic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, dodecenyl succinic anhydride, methylendomethylenetetrahydrophthalic anhydride, diethylenetriamine, triethylenediamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, Aliphatic amines such as diethylaminopropylamine, N-aminoethylpiperazine, isophoronediamine, mensendiamine, piperidine, N, N-dimethylpiperazine, m-phenylenediamine, 4,4′-dia Aromatic amines such as nodip
  • acid anhydrides are preferable in terms of improving the mechanical properties of the epoxy resin after polymerization, and in terms of operability, those which are liquid at normal temperature are preferable.
  • acid anhydrides include methyltetrahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, dodecenyl succinic anhydride, methylendomethylenetetrahydrophthalic anhydride, and the like.
  • acid anhydrides that are solid at room temperature such as phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, etc., dissolve in liquid acid anhydrides at room temperature And is preferably used as a liquid mixture at room temperature.
  • a curing accelerator can be further used.
  • a hardening accelerator can be used individually or in mixture of 2 or more types.
  • a light absorbing member can be produced using the composition for a light absorbing member thus obtained.
  • the light absorbing member in the present invention mainly has the following two types.
  • the light absorbing member composition obtained above is applied to the base material and dried.
  • a light-absorbing member as a laminate having a light-absorbing film containing the organic dye-stabilizing agent and organic dye on the substrate can be produced.
  • the method for applying the composition for a light absorbing member to a substrate is not particularly limited. For example, dip coating, spin coating, flow coating, roll coating, gravure coating, flexographic printing, screen printing And known coating methods such as inkjet printing, bar coating, spraying, and reverse coating.
  • the substrate may be a film or a board as desired, and the shape is not limited.
  • the material is not particularly limited, and can be appropriately selected and used according to the application.
  • inorganic substrates such as glass, metal plates and ceramics, poly (cyclo) olefin resins, polycarbonate resins, (meth) acrylic resins, polyester resins, polystyrene resins, epoxy resins, polyvinyl chloride Resin, polyvinylidene chloride resin, polyacetal resin, polyamide resin, polyimide resin, fluorine resin, silicone resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyetherketone resin, polyetheretherketone resin Examples thereof include organic base materials such as resins and polyphenylene sulfide resins.
  • a resin based on polyacetal, a resin based on polyacetal, a polyamide based resin, a polyimide based resin, a polysulfone based resin, a polyether sulfone based resin, a polyether ketone based resin, a polyether ether ketone based resin and a polyphenylene sulfide resin are preferred.
  • the surface of the base material may be washed before coating for the purpose of preventing delamination and coating unevenness. It does not specifically limit as a washing
  • the thickness of the light absorption film formed by coating is not particularly limited and can be appropriately adjusted according to the application, but is usually 0.01 to 1000 ⁇ m, preferably 0.05 to 700 ⁇ m, more preferably. 0.1 to 500 ⁇ m. If it is less than 0.01 ⁇ m, there is a risk that it is difficult to achieve both film properties and light absorption ability. If it exceeds 1000 ⁇ m, the volatile components in the composition for a light absorbing member evaporate from the inside of the film in the drying step described later, and the film The surface may be uneven or cracks may occur.
  • a drying step may be provided.
  • the drying temperature and drying time can be appropriately set depending on the type of solvent used.
  • the composition for a light absorbing member contains a matrix material and / or a polymerizable monomer as a precursor of the matrix material, in order to control the physical properties such as the mechanical strength of the matrix film to meet the purpose.
  • a curing process and a baking process may be provided.
  • the mechanical strength of the film itself can be improved by providing a baking step at 100 to 500 ° C., preferably 130 to 400 ° C. after the drying step. .
  • the sol siloxane oligomer
  • the siloxane network further expands.
  • the mechanical strength of the resulting matrix film can be controlled by the size of the siloxane network (polysiloxane molecular weight).
  • the mechanical strength When the temperature is lower than 100 ° C., the mechanical strength may not be sufficiently improved, and when the temperature is higher than 500 ° C., the metal complex and / or the organic dye contained in the matrix film may be thermally decomposed.
  • the firing time can be appropriately adjusted according to the desired physical properties of the matrix film, but is usually 10 minutes to 5 hours, preferably 30 minutes to 3 hours. If it is shorter than 10 minutes, the mechanical strength may not be sufficiently improved, and if it is longer than 5 hours, an effect commensurate with the time cannot be obtained and it is not economical.
  • a process such as heat treatment or UV irradiation can be provided. Heating conditions and UV irradiation conditions can be appropriately selected according to the type of polymerization initiator and polymerizable monomer to be used.
  • a laminate obtained by using a peelable substrate, which will be described later, is coated on this, and then transferring the coating layer to another desired substrate is also included in the form of (I).
  • the above-mentioned base material is illustrated as another base material.
  • a composition for a light absorbing member is applied on a peelable substrate (for example, a polyethylene terephthalate film), and a drying step is provided as necessary.
  • a peelable substrate for example, a polyethylene terephthalate film
  • Light absorption as a laminate having a light-absorbing film containing an organic dye stabilizer and an organic dye on another substrate by laminating with a material (for example, a glass substrate) and then peeling the peelable substrate.
  • a member can be produced.
  • the curing step, the firing step, the polymerization treatment, and the like may be provided as necessary. For example, it is effective to use such a transfer method in the case of producing a laminate in which matrix films made of different components are multilayered on a desired substrate.
  • the composition for a light absorbing member when a multilayer film is formed by applying the composition for a light absorbing member directly on a substrate as described above and forming a light absorbing layer, for example, the n + 1th layer (n represents a natural number)
  • the composition for a light-absorbing member used in forming the n-th layer must not dissolve or swell the constituent components of the n-th layer. Although the components are limited, these limitations can be avoided by using such a transfer method.
  • the peelable substrate may be a film or a board as desired, and the shape is not limited.
  • the releasable substrate may be a substrate alone as long as the material constituting the substrate has releasability, or when the material constituting the substrate does not have releasability, or when the releasability is poor. What laminated
  • stacked the peelable layer on the base material may be used.
  • a polyolefin resin such as a polyethylene resin or a polypropylene resin, a polyester resin such as a polyethylene terephthalate resin, or the like can be used.
  • the base material as exemplified in the above (I) can be used as the base material.
  • the surface of these base materials has adhesiveness to the base material, and a film layer containing the metal complex prepared from the composition for ultraviolet absorbing members is laminated with a peelable layer having peelability. Can be used.
  • the peelable layer is composed of a fluorine resin, a silicone resin, or a material in which a peelable substance is dissolved or dispersed in a binder resin.
  • the releasable substance is not particularly limited, and examples thereof include long-chain alkyl compounds, synthetic waxes such as carnauba wax, montan wax, oxidized polyethylene, and non-oxidized polyethylene.
  • a peelable layer can be formed on the substrate.
  • the thickness of the peelable layer is preferably about 0.5 ⁇ m to 10 ⁇ m.
  • the film thickness of the film containing the organic dye stabilizer and the organic dye formed by applying the composition for light absorbing member on the peelable substrate is not particularly limited, depending on the use Although it can be appropriately adjusted, it is usually 0.01 to 1000 ⁇ m, preferably 0.05 to 700 ⁇ m, and more preferably 0.1 to 500 ⁇ m. If it is less than 0.01 ⁇ m, there is a risk that it is difficult to achieve both film properties and light absorption ability. The surface may be uneven or cracks may occur.
  • composition for light absorbing members contains a solvent
  • a drying step may be provided, and the drying temperature and drying time can be appropriately set depending on the type of the solvent used.
  • the composition for a light absorbing member contains a matrix material and / or a polymerizable monomer as a precursor of the matrix material, in order to control the physical properties such as the mechanical strength of the matrix film to meet the purpose.
  • a curing process and a baking process may be provided.
  • the mechanical strength of the film itself can be improved by providing a baking step at 100 to 500 ° C., preferably 130 to 400 ° C. after the drying step. . That is, in the drying step, the sol (siloxane oligomer) undergoes a polycondensation reaction to expand the siloxane network and form a skeleton structure of a gel body. By baking this gel body, the siloxane network further expands.
  • the mechanical strength of the resulting matrix film can be controlled by the size of the siloxane network (polysiloxane molecular weight). When the temperature is lower than 100 ° C., the mechanical strength may not be sufficiently improved, and when the temperature is higher than 500 ° C., the metal complex and / or the organic dye contained in the matrix film may be thermally decomposed.
  • the firing time can be appropriately adjusted according to the desired physical properties of the matrix film, but is usually 10 minutes to 5 hours, preferably 30 minutes to 3 hours. If it is shorter than 10 minutes, the mechanical strength may not be sufficiently improved, and if it is longer than 5 hours, an effect commensurate with the time cannot be obtained and it is not economical.
  • a process such as heat treatment or UV irradiation can be provided. Heating conditions and UV irradiation conditions can be appropriately selected according to the type of polymerization initiator and polymerizable monomer to be used.
  • the organic dye stabilizer and the matrix material provided with fluidity by melting the organic dye by heating or the like (the matrix component itself containing no solvent)
  • the obtained pellet-shaped composition for light absorbing members can be obtained using a sheet extruder.
  • a sheet-like light absorbing member can be obtained by molding.
  • Production Example 2 In Production Example 1, except that 53.5 g (0.3 mol) of 2-amino-5,6-dimethylbenzothiazole was used instead of 45.1 g (0.3 mol) of 2-aminobenzothiazole, Similarly, 42.1 g of white 2,2′-iminobis (5,6-dimethylbenzothiazole) (L2: see Table 1 below) was obtained as a ligand. The yield was 82.7% based on 2-amino-5,6-dimethylbenzothiazole.
  • Production Example 3 In the same manner as in Production Example 1, except that 55.4 g (0.3 mol) of 2-amino-6-chlorobenzothiazole was used instead of 45.1 g (0.3 mol) of 2-aminobenzothiazole in Production Example 1. As a ligand, 37.2 g of white 2,2′-iminobis (6-chlorobenzothiazole) (L3: see Table 1 below) was obtained. The yield was 70.4% based on 2-amino-6-chlorobenzothiazole.
  • Production Example 4 In the same manner as in Production Example 1, except that 54.1 g (0.3 mol) of 2-amino-6-methoxybenzothiazole was used instead of 45.1 g (0.3 mol) of 2-aminobenzothiazole in Production Example 1. As a ligand, 41.7 g of white 2,2′-iminobis (6-methoxybenzothiazole) (L4: see Table 1 below) was obtained. The yield was 81.0% based on 2-amino-6-methoxybenzothiazole.
  • Production Example 6 In the same manner as in Production Example 5, except that 98.5 g (0.60 mol) of 2-amino-6-methylbenzothiazole was used instead of 90.1 g (0.60 mol) of 2-aminobenzothiazole in Production Example 5. As a result, 114.2 g of S, S′-dimethyl-N- [2- (6-methylbenzothiazolyl)] carbonimide dithioate was obtained. The yield was 70.9% based on 2-amino-6-methylbenzothiazole.
  • Production Example 7 In the same manner as in Production Example 5, except that 28.7 g (0.20 mol) of 2-amino-4-chlorophenol was used instead of 21.8 g (0.20 mol) of 2-aminophenol in Production Example 5. Thus, 32.4 g of 5-chloro-2- (2-benzothiazolylamino) benzoxazole (L7: see Table 1 below) was obtained. The yield was 53.7% based on 2-amino-4-chlorophenol.
  • Production Example 8 21.6 g (0.2 mol) of o-phenylenediamine was dissolved in 944 g of DMF, and 50.9 g (0.20 mol) of S, S′-dimethyl-N- (2-benzothiazolyl) -carbonimidodithioate was added thereto. A solution dissolved in 1258 g of DMF was added dropwise. Next, the temperature was raised to 153 ° C., refluxed for 13 hours in a nitrogen atmosphere, and then cooled to 0 ° C.
  • N-methyl-o-phenylenediamine (73.3 g, 0.60 mol) and the ethyl-2-benzothiazolylacetate (132.8 g, 0.60 mol) obtained above were mixed and mixed under a nitrogen atmosphere.
  • the mixture was refluxed at 160 ° C. for 6 hours. At this time, the ethanol by-produced was refluxed while being distilled off.
  • the reaction solution was cooled to room temperature, 900 g of diethyl ether was added, and the precipitated yellow solid was separated by filtration. To the yellow solid separated by filtration, 1500 g of 20% hydrochloric acid was added and dissolved. Activated charcoal was added thereto, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes, followed by filtration.
  • Production Example 11 In the same manner as in Production Example 10 except that 37.6 g (0.30 mol) of 2-aminothiophenol was used instead of 32.7 g (0.30 mol) of 2-aminophenol in Production Example 10, bis ( 28.2 g of 2-benzothiazolyl) methane (L11: see Table 1 below) was obtained. The yield was 90.2% based on 2-aminothiophenol.
  • the gray solid was purified by recrystallization from IPA and dried to obtain 38.1 g of white bis [2- (N-methylbenzimidazolyl)] methane (L12: see Table 1 below). The yield was 30.6% based on N-methyl-o-phenylenediamine.
  • Production Example 13 10 g (0.035 mol) of 2,2′-iminobisbenzothiazole (L1: see Table 1 below) obtained in Production Example 1 was added to 70.1 g (0.602 mol) of chlorosulfonic acid, and the mixture was added. Stir at room temperature for 18 hours. Further, 10 g (0.084 mol) of thionyl chloride was added and stirred at 50 ° C. for 1 hour, and then cooled to room temperature. The mixture was poured onto 400 g of ice and stirred immediately with 13.1 g (0.101 mol) of diisobutylamine together with the ice which had been suction filtered.
  • Production Example 14 In the same manner as in Production Example 13 except that 8.8 g (0.101 mol) of morpholine was used instead of 13.1 g (0.101 mol) of diisobutylamine in Production Example 13, 2,2′-iminobis (6 -Morpholinosulfonylbenzothiazole) (L14: see Table 1 below) 15.4 g was obtained. The yield was 75.5% based on 2,2′-iminobisbenzothiazole.
  • Production Example 15 In the same manner as in Production Example 13 except that 8.8 g (0.101 mol) of morpholine was used instead of 13.1 g (0.101 mol) of diisobutylamine in Production Example 13, 2,2′-iminobis (6 -Morpholinosulfonylbenzothiazole) (L14: see Table 1 below) 15.4 g was obtained. The yield was 75.5% based on 2,2′-iminobisbenzothiazole.
  • Table 1 shows the structural formulas of the obtained ligands.
  • Production Example 15 28.3 g (0.1 mol) of the ligand (L1) obtained in Production Example 1 was dissolved in 250 g (70 ° C.) of warm DMF, and 12.5 g (0.05 mol) of cobalt acetate tetrahydrate was dissolved therein. ) Was added. The reaction solution was stirred at 70 ° C. for 1 hour, cooled to room temperature, and then 300 g of methanol was added dropwise. The resulting precipitate was filtered off, washed with methanol, and dried to obtain 28.5 g of an orange cobalt complex (C1-Co). The yield was 91.4% based on the ligand (L1).
  • Production Example 16 In the same manner as in Production Example 15, except that 33.9 g (0.1 mol) of ligand (L2) was used instead of 28.3 g (0.1 mol) of ligand (L1) in Production Example 15. As a result, 32.3 g of an orange cobalt complex (C2-Co) was obtained. The yield was 87.8% based on the ligand (L2).
  • Production Example 17 In Production Example 15, 35.2 g (0.1 mol) of ligand (L3) was used instead of 28.3 g (0.1 mol) of ligand (L1), and further cobalt acetate tetrahydrate 12 In the same manner as in Production Example 15 except that nickel acetate tetrahydrate 12.4 g (0.05 mol) was used instead of 0.5 g (0.05 mol), a red-purple nickel complex (C3-Ni ) 28.0 g was obtained. The yield was 73.6% based on the ligand (L3).
  • Production Example 18 In Production Example 15, 34.3 g (0.1 mol) of ligand (L4) was used instead of 28.3 g (0.1 mol) of ligand (L1), and further cobalt acetate tetrahydrate 12 In the same manner as in Production Example 15 except that 10.0 g (0.05 mol) of copper acetate monohydrate was used instead of 0.5 g (0.05 mol), a gray-green copper complex (C4-Cu ) 26.2 g was obtained. The yield was 70.0% based on the ligand (L4).
  • Production Example 19 In the same manner as in Production Example 19, except that 26.7 g (0.1 mol) of the ligand (L5) was used instead of 35.2 g (0.1 mol) of the ligand (L3) in Production Example 17. As a result, 21.7 g of a reddish brown nickel complex (C5-Ni) was obtained. The yield was 73.5% based on the ligand (L5).
  • Production Example 20 In the same manner as in Production Example 15, except that 28.1 g (0.1 mol) of ligand (L6) was used instead of 28.3 g (0.1 mol) of ligand (L1) in Production Example 15. 16.3 g of a yellow cobalt complex (C6-Co) was obtained. The yield was 52.6% based on the ligand (L6).
  • Production Example 21 In the same manner as in Production Example 17, except that 30.2 g (0.1 mol) of ligand (L7) was used instead of 35.2 g (0.1 mol) of ligand (L3) in Production Example 17. As a result, 22.5 g of a reddish purple nickel complex (C7-Ni) was obtained. The yield was 68.2% based on the ligand (L7).
  • Production Example 22 In the same manner as in Production Example 18, except that 26.6 g (0.1 mol) of ligand (L8) was used instead of 34.3 g (0.1 mol) of ligand (L4) in Production Example 18. As a result, 16.6 g of a green copper complex (C8-Cu) was obtained. The yield was 55.9% based on the ligand (L8).
  • Production Example 23 In the same manner as in Production Example 15, except that 27.9 g (0.1 mol) of the ligand (L9) was used instead of 28.3 g (0.1 mol) of the ligand (L1) in Production Example 15. 21.3 g of a yellow cobalt complex (C9-Co) was obtained. The yield was 69.1% based on the ligand (L9).
  • Production Example 24 In the same manner as in Production Example 15, except that 25.0 g (0.1 mol) of ligand (L10) was used instead of 28.3 g (0.1 mol) of ligand (L1) in Production Example 15. As a result, 20.3 g of a red cobalt complex (C10-Co) was obtained. The yield was 72.8% based on the ligand (L10).
  • Production Example 25 In the same manner as in Production Example 15, except that 28.2 g (0.1 mol) of ligand (L11) was used instead of 28.3 g (0.1 mol) of ligand (L1) in Production Example 15. To obtain 22.1 g of a purple cobalt complex (C11-Co). The yield was 71.1% based on the ligand (L11).
  • Production Example 26 In the same manner as in Production Example 17, except that 27.6 g (0.1 mol) of ligand (L12) was used instead of 35.2 g (0.1 mol) of ligand (L3) in Production Example 17. 20.8 g of a gray nickel complex (C12-Ni) was obtained. The yield was 68.3% based on the ligand (L12).
  • Production Example 27 4.00 g (0.006 mol) of the ligand (L13) obtained in Production Example 13 was dissolved in 24 g (70 ° C.) of warm DMF, and 0.75 g (0.003 mol) of nickel acetate tetrahydrate was dissolved therein. ) was added. The mixture was stirred at 70 ° C. for 1 hour, cooled to room temperature, and 20 g of methanol was added dropwise. The resulting precipitate was filtered off, washed with methanol, and dried to obtain 3.58 g of a yellowish green nickel complex (C13-Ni). The yield was 85.9% based on the ligand (L13).
  • Production Example 28 In the same manner as in Production Example 27 except that 0.75 g (0.003 mol) of cobalt acetate tetrahydrate was used instead of 0.75 g (0.003 mol) of nickel acetate tetrahydrate in Production Example 27 As a result, 3.71 g of a yellow cobalt complex (C13-Co) was obtained. The yield was 89.0% based on the ligand (L13).
  • Production Example 29 In the same manner as in Production Example 27, except that 0.60 g (0.003 mol) of copper acetate monohydrate was used instead of 0.75 g (0.003 mol) of nickel acetate tetrahydrate in Production Example 27 As a result, 3.55 g of a green copper complex (C13-Cu) was obtained. The yield was 84.9% based on the ligand (L13).
  • Production Example 30 In the same manner as in Production Example 27 except that 3.49 g (0.006 mol) of ligand (L14) was used instead of 4.00 g (0.006 mol) of ligand (L13) in Production Example 27, 3.14 g of a yellow cobalt complex (C14-Co) was obtained. The yield was 85.8% based on the ligand (L14).
  • Table 2 shows the structural formulas of the obtained metal complexes.
  • the heating residue of the silicon alkoxide sol solution described below is the weight of the solid content remaining on the glass substrate when the sol solution droplet is placed on the glass substrate and heated at 200 ° C. for 30 minutes. Is divided by the weight of the droplet of the sol solution placed on the glass substrate. Each sample was measured three times and the average value obtained was shown.
  • Example 1 As an organic binder, 0.79 g of a methyl acrylate-ethyl methacrylate copolymer (trade name; Paraloid B-72 manufactured by Rohm and Haas Co., Ltd.) is dissolved in 8.8 g of MEK, and cyanine dye D1 (described below) is dissolved therein. Referring to Table 3, 7.9 mg (0.0173 mmol) of S0330 manufactured by FEW Chemicals and 10.8 mg (0.0173 mmol) of the metal complex (C1-Co) obtained in Production Example 15 were added and dissolved. The composition A for light absorption members of the solution form was obtained.
  • a methyl acrylate-ethyl methacrylate copolymer trade name; Paraloid B-72 manufactured by Rohm and Haas Co., Ltd.
  • cyanine dye D1 described below
  • This composition A for light absorbing members was applied onto a polyethylene terephthalate film substrate using a bar coater (100 ⁇ m), and then pre-dried in a nitrogen atmosphere at room temperature for 5 minutes. Then, it dried at 80 degreeC for 3 minute (s), and the light absorption member A was obtained.
  • the coating film thickness was 7 ⁇ m.
  • Example 2 In Example 1, instead of 7.9 mg (0.0173 mmol) of cyanine dye D1 (see Table 3 below, S0330 manufactured by FEW Chemicals), cyanine dye D2 (see Table 3 below, S0230 manufactured by FEW Chemicals) 7.0 mg (0.0119 mmol) was used, and the metal complex (C2-Co) obtained in Production Example 16 was replaced with 10.8 mg (0.0173 mmol) of the metal complex (C1-Co) obtained in Production Example 15. ) Except having used 8.7 mg (0.0119 mmol), it carried out similarly to Example 1, and obtained the composition B for light absorption members of the solution form, and the light absorption member B. The thickness of the coating film was 8 ⁇ m.
  • Example 3 In Example 1, instead of 7.9 mg (0.0173 mmol) of cyanine dye D1 (see Table 3 below, S0330 manufactured by FEW Chemicals), cyanine dye D3 (see Table 3 below, ADS817BI manufactured by American DyeSource) 6.9 mg (0.00868 mmol) was used, and the metal complex (C3-Ni) obtained in Production Example 17 was replaced with 10.8 mg (0.0173 mmol) of the metal complex (C1-Co) obtained in Production Example 15. ) Except having used 6.6 mg (0.00868 mmol), it carried out similarly to Example 1, and obtained the composition C for light absorption members of the solution form, and the light absorption member C. The thickness of the coating film was 8 ⁇ m.
  • Example 4 In Example 1, 16.2 g of chloroform was used instead of 8.8 g of MEK, and cyanine dye was used instead of 7.9 mg (0.0173 mmol) of cyanine dye D1 (see Table 3 below, S0330 manufactured by FEW Chemicals). 13.0 mg (0.0169 mmol) of D4 (see Table 3 below, S0946 manufactured by FEW Chemicals) was used and further replaced with 10.8 mg (0.0173 mmol) of the metal complex (C1-Co) obtained in Production Example 15.
  • Example 18 In the same manner as in Example 1 except that 12.7 mg (0.0169 mmol) of the metal complex (C4-Cu) obtained in Production Example 18 was used, a composition D for a light absorbing member in the form of a solution, and light absorption Member D was obtained.
  • the coating film thickness was 9 ⁇ m.
  • Example 5 In Example 1, instead of 7.9 mg (0.0173 mmol) of cyanine dye D1 (see Table 3 below, S0330 manufactured by FEW Chemicals), squarylium dye D5 (see Table 3 below, ST345 manufactured by Sensitive Imaging Technologies) ) 5.7 mg (0.0176 mmol), and in place of 10.8 mg (0.0173 mmol) of the metal complex (C1-Co) obtained in Production Example 15, the metal complex (C5- A composition E for a light-absorbing member and a light-absorbing member E were obtained in the same manner as in Example 1 except that 10.4 mg (0.0176 mmol) of Ni) was used. The coating film thickness was 7 ⁇ m.
  • Example 6 In Example 1, instead of 7.9 mg (0.0173 mmol) of cyanine dye D1 (see Table 3 below, S0330 manufactured by FEW Chemicals), diimonium dye D6 (see Table 3 below, ST1210 manufactured by Sensitive Imaging Technologies) ) 25.0 mg (0.0223 mmol) was used, and in place of 10.8 mg (0.0173 mmol) of the metal complex (C1-Co) obtained in Production Example 15, the metal complex (C6- Co) A composition F for a light absorbing member and a light absorbing member F were obtained in the same manner as in Example 1 except that 13.8 mg (0.0223 mmol) was used. The thickness of the coating film was 8 ⁇ m.
  • Example 7 8.7 mg (0.0190 mmol) of cyanine dye D1 (see Table 3 below, S0330 manufactured by FEW Chemicals) and 12.6 mg (0.0190 mmol) of the metal complex (C7-Ni) obtained in Production Example 21 were added to MEK0. Then, the siloxane oligomer / MEK solution obtained in Production Example 31 was added thereto and dissolved and mixed to obtain a composition G for a light-absorbing member in a solution form. This composition for light absorbing members G was applied onto a soda lime glass substrate using a spin coater (manufactured by Active Co., Ltd., model number: ACT-300A), and then pre-dried at room temperature in a nitrogen atmosphere for 5 minutes. . Then, the light absorption member G was obtained by baking at 200 ° C. for 30 minutes. The coating film thickness was 7 ⁇ m.
  • Example 8 In Example 7, instead of 8.7 mg (0.0190 mmol) of the cyanine dye D1 (see Table 3 below, S0330 manufactured by FEW Chemicals), the cyanine dye D2 (see Table 3 below, S0230 manufactured by FEW Chemicals)
  • the metal complex (C8-Cu) obtained in Production Example 22 was replaced with 12.6 mg (0.0190 mmol) of the metal complex (C7-Ni) obtained in Production Example 21 using 7.8 mg (0.0132 mmol).
  • 7.8 mg (0.0132 mmol) Except having used 7.8 mg (0.0132 mmol), it carried out similarly to Example 7, and obtained the composition H for light absorption members of the solution form, and the light absorption member H.
  • the coating film thickness was 7 ⁇ m.
  • Example 9 In Example 7, instead of 8.7 mg (0.0190 mmol) of the cyanine dye D1 (see Table 3 below, S0330 manufactured by FEW Chemicals), the cyanine dye D3 (see Table 3 below, ADS817BI manufactured by American DyeSource) Using 7.6 mg (0.0095556 mmol), the metal complex (C9-Co) obtained in Production Example 23 was replaced with 12.6 mg (0.0190 mmol) of the metal complex (C7-Ni) obtained in Production Example 21. Except having used 5.9 mg (0.009556 mmol), it carried out similarly to Example 7, and obtained the composition I for light absorption members of the solution form, and the light absorption member I. The coating film thickness was 7 ⁇ m.
  • Example 10 In Example 7, instead of 8.7 mg (0.0190 mmol) of the cyanine dye D1 (see Table 3 below, S0330 manufactured by FEW Chemicals), the squarylium dye D5 (see Table 3 below, ST345 manufactured by Sensitive Imaging Technologies) was used. ) 6.5 mg (0.0200 mmol), and in place of 12.6 mg (0.0190 mmol) of the metal complex (C7-Ni) obtained in Production Example 21, the metal complex (C10- Co) A light-absorbing member composition J and a light-absorbing member J were obtained in the same manner as in Example 7, except that 11.2 mg (0.0200 mmol) was used. The coating film thickness was 7 ⁇ m.
  • Example 11 In Example 7, instead of 8.7 mg (0.0190 mmol) of cyanine dye D1 (see Table 3 below, S0330 manufactured by FEW Chemicals), diimonium dye D6 (see Table 3 below, ST1210 manufactured by Sensitive Imaging Technologies) ) 27.2 mg (0.0243 mmol), and in place of 12.6 mg (0.0190 mmol) of the metal complex (C7-Ni) obtained in Production Example 21, the metal complex (C11- Co) A composition K for a light-absorbing member and a light-absorbing member K were obtained in the same manner as in Example 7, except that 15.1 mg (0.0243 mmol) was used. The coating film thickness was 7 ⁇ m.
  • Example 12 14.0 mg (0.0182 mmol) of cyanine dye D4 (see Table 3 below, S0946 made by FEW Chemicals) and 11.1 mg (0.0182 mmol) of the metal complex (C12-Ni) obtained in Production Example 26 Dissolve in 1.9 g of pentanone, add 0.7 g of dipentaerythritol hexaacrylate as a polymerizable monomer, and 130 mg of a photopolymerization initiator (trade name: Irgacure 819, manufactured by Ciba Specialty Chemicals), dissolve and mix By doing this, the composition L for light absorption members of the solution form was obtained.
  • a photopolymerization initiator trade name: Irgacure 819, manufactured by Ciba Specialty Chemicals
  • This composition L for light absorbing member was applied on a soda lime glass substrate using a spin coater (manufactured by Active Co., Ltd., model number: ACT-300A), and then pre-dried at room temperature in a nitrogen atmosphere for 10 minutes. . Thereafter, drying is performed at 140 ° C. for 3 minutes, and exposure is performed using an exposure apparatus (trade name manufactured by Nanotech Co., Ltd .: mask aligner LA410s, product name manufactured by Mitsunaga Electric Co., Ltd .: ultrahigh pressure mercury lamp L2501L) (no monochromization). And ultraviolet ray absorbing member L was obtained by curing by irradiation with light intensity of 40 mW / cm 2 at a wavelength of 365 nm for 2.5 seconds. The coating film thickness was 9 ⁇ m.
  • Example 13 In Example 3, instead of 6.6 mg (0.00868 mmol) of the metal complex (C3-Ni) obtained in Production Example 17, 12.0 mg (0. 0. 0) of the metal complex (C13-Ni) obtained in Production Example 27 was obtained. [00868] A composition M for a light absorbing member and a light absorbing member M in the form of a solution were obtained in the same manner as in Example 3 except for using 0.808 mmol). The thickness of the coating film was 8 ⁇ m.
  • Example 14 In Example 1, in place of 10.8 mg (0.0173 mmol) of the metal complex (C1-Co) obtained in Production Example 15, 24.0 mg (0.03 mmol) of the metal complex (C13-Co) obtained in Production Example 28 was used. In the same manner as in Example 1 except that 0173 mmol) was used, a composition N for a light absorbing member in the form of a solution and a light absorbing member N were obtained. The thickness of the coating film was 8 ⁇ m.
  • Example 15 In Example 2, instead of 8.7 mg (0.0119 mmol) of the metal complex (C2-Co) obtained in Production Example 16, 16.5 mg (0. 01 mmol) of the metal complex (C13-Co) obtained in Production Example 28 was used. In the same manner as in Example 2 except that 0119 mmol) was used, a solution-form composition O for a light-absorbing member and a light-absorbing member O were obtained. The coating film thickness was 7 ⁇ m.
  • Example 16 In Example 3, in place of 6.6 mg (0.00868 mmol) of the metal complex (C3-Ni) obtained in Production Example 17, 12.0 mg (0. 0. 0) of the metal complex (C13-Co) obtained in Production Example 28 was used.
  • the composition P for light-absorbing members in the form of a solution and the light-absorbing member P were obtained in the same manner as in Example 3 except that [00868 mmol) was used.
  • the thickness of the coating film was 8 ⁇ m.
  • Example 17 In Example 4, in place of 12.7 mg (0.0169 mmol) of the metal complex (C4-Cu) obtained in Production Example 18, 23.5 mg (0. 0. 0) of the metal complex (C13-Co) obtained in Production Example 28 was used. In the same manner as in Example 4 except that 0169 mmol) was used, a composition Q for a light absorbing member in the form of a solution and a light absorbing member Q were obtained. The coating film thickness was 9 ⁇ m.
  • Example 18 In Example 5, in place of 10.4 mg (0.0176 mmol) of the metal complex (C5-Ni) obtained in Production Example 19, 24.4 mg (0. 16 mmol) of the metal complex (C13-Co) obtained in Production Example 28 was used.
  • the composition R for the light absorbing member and the light absorbing member R in the form of a solution were obtained in the same manner as in Example 5 except that 0176 mmol) was used.
  • the thickness of the coating film was 8 ⁇ m.
  • Example 19 In Example 6, 10.0 mg (0.0223 mmol) of the metal complex (C6-Co) obtained in Production Example 20 was used instead of 40.0 mg (0. 23 mg) of the metal complex (C13-Co) obtained in Production Example 28. In the same manner as in Example 6 except that 0223 mmol) was used, a composition S for a light absorbing member in the form of a solution and a light absorbing member S were obtained. The coating film thickness was 7 ⁇ m.
  • Example 20 In Example 1, in place of 10.8 mg (0.0173 mmol) of the metal complex (C1-Co) obtained in Production Example 15, 24.1 mg (0. 1) of the metal complex (C13-Cu) obtained in Production Example 29 was used. In the same manner as in Example 1 except that 0173 mmol) was used, a composition T for a light-absorbing member in the form of a solution and a light-absorbing member T were obtained. The coating film thickness was 7 ⁇ m.
  • Example 21 In Example 10, in place of 11.2 mg (0.0200 mmol) of the metal complex (C10-Co) obtained in Production Example 24, 24.5 mg (0. .0) of the metal complex (C14-Co) obtained in Production Example 30 was used. Except for using 0200 mmol), a composition U for a light-absorbing member in the form of a solution and a light-absorbing member U were obtained in the same manner as in Example 10. The coating film thickness was 9 ⁇ m.
  • Example 14 is the same as Example 14 except that the amount of the metal complex (C13-Co) obtained in Production Example 28 was changed to 48.0 mg (0.0346 mmol) instead of 24.0 mg (0.0173 mmol). Similarly, the composition V for light absorption members of the solution form, and the light absorption member V were obtained. The thickness of the coating film was 8 ⁇ m.
  • Example 14 is the same as Example 14 except that the addition amount of the metal complex (C13-Co) obtained in Production Example 28 was changed to 12.0 mg (0.00864 mmol) instead of 24.0 mg (0.0173 mmol). Similarly, the composition W for light absorption members of the solution form, and the light absorption member W were obtained. The thickness of the coating film was 8 ⁇ m.
  • Example 1 In Example 1, in place of 10.8 mg (0.0173 mmol) of the metal complex (C1-Co) obtained in Production Example 15, 9.4 mg (0.0. 0) of bis (dithiobenzyl) nickel (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) In the same manner as in Example 1 except that 0173 mmol) was used, a composition X1 for a light absorbing member in the form of a solution and a light absorbing member X1 were obtained. The thickness of the coating film was 8 ⁇ m.
  • Example 2 In Example 1, instead of 10.8 mg (0.0173 mmol) of the metal complex (C1-Co) obtained in Production Example 15, 8.1 mg of nickel di-n-butyldithiocarbamate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) Except for using 0.0173 mmol), a composition X2 for a light-absorbing member in the form of a solution and a light-absorbing member X2 were obtained in the same manner as in Example 1. The thickness of the coating film was 8 ⁇ m.
  • Example 2 In place of 8.7 mg (0.0119 mmol) of the metal complex (C2-Co) obtained in Production Example 16, 6.4 mg (0. 0.1%) of bis (dithiobenzyl) nickel (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) In the same manner as in Example 2 except that 0119 mmol) was used, a composition X3 for a light absorbing member in the form of a solution and a light absorbing member X3 were obtained. The thickness of the coating film was 8 ⁇ m.
  • Example 3 in place of 6.6 mg (0.00868 mmol) of the metal complex (C3-Ni) obtained in Production Example 17, 4.7 mg (0.002 mmol) of bis (dithiobenzyl) nickel (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) [00868] A solution-form composition for light-absorbing member X4 and a light-absorbing member X4 were obtained in the same manner as in Example 3 except for using 8808 mmol). The coating film thickness was 9 ⁇ m.
  • Example 4 instead of 12.7 mg (0.0169 mmol) of the metal complex (C4-Cu) obtained in Production Example 18, 7.9 mg of nickel di-n-butyldithiocarbamate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) Except using 0.0169 mmol), it carried out similarly to Example 4, and obtained the composition X5 for light absorption members of the solution form, and the light absorption member X5.
  • the thickness of the coating film was 8 ⁇ m.
  • Example 5 instead of 10.4 mg (0.0176 mmol) of the metal complex (C5-Ni) obtained in Production Example 19, 8.2 mg of nickel di-n-butyldithiocarbamate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) Except for using 0.0176 mmol), a solution-type composition for light absorbing member X6 and a light absorbing member X6 were obtained in the same manner as in Example 5. The thickness of the coating film was 8 ⁇ m.
  • Example 6 instead of 13.8 mg (0.0223 mmol) of the metal complex (C6-Co) obtained in Production Example 20, 10.4 mg of nickel di-n-butyldithiocarbamate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) Except for using 0.0223 mmol), a solution-form composition for light absorbing member X7 and a light absorbing member X7 were obtained in the same manner as in Example 6.
  • the coating film thickness was 9 ⁇ m.
  • composition X8 for a light absorbing member in the form of a solution was used in the same manner as in Example 1 except that 10.8 mg (0.0173 mmol) of the metal complex (C1-Co) obtained in Production Example 15 was not used. And the light absorption member X8 was obtained. The thickness of the coating film was 8 ⁇ m.
  • Example 9 a composition X9 for a light-absorbing member in the form of a solution was used in the same manner as in Example 2 except that 8.7 mg (0.0119 mmol) of the metal complex (C2-Co) obtained in Production Example 16 was not used. And the light absorption member X9 was obtained. The thickness of the coating film was 8 ⁇ m.
  • Example 3 the composition X10 for a light-absorbing member in the form of a solution was used in the same manner as in Example 3 except that 6.6 mg (0.00868 mmol) of the metal complex (C3-Ni) obtained in Production Example 17 was not used. And the light absorption member X10 was obtained. The thickness of the coating film was 8 ⁇ m.
  • Example 4 a composition X11 for a light absorbing member in the form of a solution was used in the same manner as in Example 4 except that 12.7 mg (0.0169 mmol) of the metal complex (C4-Cu) obtained in Production Example 18 was not used. And the light absorption member X11 was obtained. The thickness of the coating film was 8 ⁇ m.
  • Example 5 a composition X12 for a light absorbing member in the form of a solution was used in the same manner as in Example 5 except that 10.4 mg (0.0176 mmol) of the metal complex (C5-Ni) obtained in Production Example 19 was not used. And the light absorption member X12 was obtained. The thickness of the coating film was 8 ⁇ m.
  • Example 6 Comparative Example 13 In Example 6, the composition X13 for a light-absorbing member in the form of a solution was used in the same manner as in Example 6 except that 13.8 mg (0.0223 mmol) of the metal complex (C6-Co) obtained in Production Example 20 was not used. And the light absorption member X13 was obtained. The thickness of the coating film was 8 ⁇ m.
  • the absorbance of the absorption peak of the organic dye (hereinafter referred to as the absorbance of the dye peak) is measured over time, so The state of deterioration of the dye over time was evaluated. Details will be described below. (1-1) Immediately after preparation of the light absorbing member (before the light resistance test), the absorbance of the dye peak was measured.
  • the time was plotted on a graph with the horizontal axis and the residual ratio on the vertical axis, and the time (T1) at which the residual ratio was 50% was read for each of the light absorbing members A to W and X1 to X7. (1-5) Similarly to (1-4), the time (T2) at which the residual ratio of the light absorbing members X8 to X13 (system not containing a stabilizer) obtained in Comparative Examples 8 to 13 is 50% is read, and the following The stabilization rate was calculated by the formula.
  • the stabilization rate calculated here is an index indicating how much deterioration of the organic dye is suppressed when the stabilizer is used in combination as compared with the case where the organic dye is used alone. It shows that the capability as a stabilizer is so high that the numerical value of this stabilization rate is large.
  • the time was plotted on a graph with the horizontal axis and the residual ratio on the vertical axis, and the time (T3) at which the residual ratio was 80% for each of the light absorbing members A to W and X1 to X7 was read. (2-5) Similarly to (2-4), the time (T4) at which the residual ratio of the light absorbing members X8 to X13 (systems not containing a stabilizer) obtained in Comparative Examples 8 to 13 is 80% is read, and the following The stabilization rate was calculated by the formula.
  • the stabilization rate calculated here is an index indicating how much deterioration of the organic dye is suppressed when the stabilizer is used in combination as compared with the case where the organic dye is used alone. It shows that the capability as a stabilizer is so high that the numerical value of this stabilization rate is large.
  • Examples 1 to 6 organic dyes D1 to D6 and an organic dye stabilizer in the present invention (obtained in Production Examples 15 to 20) are mixed in an equimolar amount, and an organic binder is used as a matrix material ( Light absorbers A to F).
  • Comparative Examples 8 to 13 are systems (light absorbing materials X8 to X13) using only organic dyes D1 to D6 and using an organic binder as a matrix material. From a comparison between Examples 1 to 6 and Comparative Examples 8 to 13, it was confirmed that the organic dye stabilizer in the present invention has an excellent long-term light resistance improvement effect for all of the organic dyes D1 to D6. .
  • organic dyes D1 to D3 and D5 to D6 are mixed with an equimolar amount of the organic dye stabilizer in the present invention (obtained in Production Examples 21 to 25), and an inorganic binder is used as a matrix material.
  • the system used (light absorbers G to K). From the comparison between Examples 7 to 11, Comparative Examples 8 to 10, and Comparative Examples 12 to 13, the use of the organic dye stabilizer in the present invention allowed light resistance for all of the organic dyes D1 to D3 and D5 to D6. Has been confirmed to improve dramatically.
  • the organic dye stabilizing effect of the organic dye stabilizer in the present invention is a matrix material. It can be said that it is not influenced by the kind of.
  • Example 12 is a system (light-absorbing member L) in which a composition for a light-absorbing member containing a polymerizable monomer as a precursor of a matrix material is coated on a substrate and this is photocured. Since the light fastness of the organic dye is greatly improved as compared with Comparative Example 11, it can be seen that the organic dye stabilizer in the present invention functions without problems even in such a usage form.
  • Examples 13 to 21 were prepared by mixing equimolar amounts of the organic dyes D1 to D6 and the organic dye stabilizers of the present invention obtained in Production Examples 27 to 30 that are particularly advantageous in terms of solubility in organic solvents.
  • Examples 13 to 21 are systems using an organic binder as a matrix material (light absorbers M to T), and Example 21 is a system using an inorganic binder as a matrix material (light absorber U). It is. From comparison between Examples 13 to 21 and Comparative Examples 8 to 13, the organic dye stabilizer in the present invention exhibits an excellent stabilizing effect regardless of the type of organic dye and its absorption wavelength.
  • Example 22 is a system (light-absorbing member V) in which the addition amount of the organic dye stabilizer (C13-Co) in the present invention is twice the molar amount with respect to the organic dye (D1).
  • This is a system (light absorbing member W) in which the addition amount of the organic dye stabilizer (C13-Co) in the present invention is 0.5 times the molar amount with respect to the dye (D1).
  • the system in which a double amount is added is organic.
  • Examples 1, 7, 14, and 20 (light absorbing members A, G, N, and T) and Comparative Examples 1 and 2 (light absorbing members X1 and X2), Examples 2, 8, and 15 (light absorbing members B and H) O) and Comparative Example 3 (light absorbing member X3), Examples 3, 9, 13, and 16 (light absorbing members C, I, M, and P) and Comparative Example 4 (light absorbing member X4), Example 4, 12, 17 (light absorbing members D, L, Q) and Comparative Example 5 (light absorbing member X5), Examples 5, 10, 18, 21 (light absorbing members E, J, R, U) and Comparative Example 6 ( From comparison of each of the light absorbing member X6), Examples 6, 11, 19 (light absorbing members F, K, S) and Comparative Example 7 (light absorbing member X7), the organic dye stabilizer in the present invention is conventionally known. It has been confirmed that the organic dye has an excellent organic dye stabilizing effect for a long period of time compared to the stabilizers.
  • an organic dye stabilizer that exhibits a very excellent stabilization effect with respect to an organic dye, thereby maintaining excellent light resistance and heat resistance over a long period of time.
  • the composition for light absorption members and the light absorption member using the same can be provided.

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Abstract

　本願は、光や熱等によって促進される有機色素の退色劣化を長期間有効に防止する手段としての、有機色素に対して優れた安定化効果を発揮する有機色素安定化剤、該有機色素安定化剤と有機色素を含む光吸収部材用組成物、およびこれを用いて作製される光吸収部材を提供する。 より詳しくは、式（１）：（式中、記号は明細書に定義されるとおりである。）で表される有機色素安定化剤、該有機色素安定化剤と有機色素を含む光吸収部材用組成物、およびこれを用いて作製される光吸収部材を提供する。

Description

有機色素安定化剤、該有機色素安定化剤と有機色素を含有する光吸収部材用組成物、およびこれを用いた光吸収部材
　本発明は、式（１）で表される有機色素安定化剤、該有機色素安定化剤のうち少なくとも１種類と少なくとも１種類の有機色素を含む光吸収部材用組成物、およびこれを用いた光吸収部材に関する。
　有機色素は古くから、繊維、プラスチックの着色、分析用指示薬、写真用感光剤等に広く用いられてきた。近年では、特定の波長域の光を吸収する機能性色素として、色素レーザー、光記録媒体、液晶表示装置、プラズマディスプレイパネル、光電変換素子、紫外線/熱線遮蔽フィルム等、幅広い分野で利用されている。
　しかしながら、有機色素は、光や熱等の外部環境の影響によって退色が促進され、その機能を長期間持続することが困難であるといった重大な欠点を有する。そのため、有機色素の経時的な退色劣化を抑制するために、種々の光安定化剤が使用されている。
　例えば、特許文献１ではニトロソジフェニルアミン類、特許文献２ではニトロソフェノール類、ニトロソナフトール類による有機色素の安定化が提案されているが、これらニトロソ化合物はそれ自体の毒性が強いか、あるいは光分解物の毒性が強い等の問題があることに加え、その安定化効果についても必ずしも満足のいくものではなかった。
　また、トリニトロフェニルヒドラジン基を有する化合物を用いた方法が特許文献３に示されているが、これらのトリニトロフェニルヒドラジン基を有する化合物は、爆発性を有しており、取り扱い上、大きな問題がある。
　さらに、特許文献４～７には、光安定化剤としてチオ配位子を有するニッケル化合物等の金属錯体を用いる方法が示されているが、これらニッケル化合物の使用には着色を伴うため、使用できる用途に制限があり、またその光安定化効果も必ずしも満足のいくものではなかった。
特開平２－３００２８８号公報 特開平２－３００２８９号公報 特開平２－３０４０５５号公報 特開昭６２－１９３８９１号 特開昭６２－２０７６８８号 特開昭６３－１９２９３号 特開昭６３－１９９２４８号
　本発明は、前記のような従来技術に伴う問題を解決しようとするものであり、光や熱等によって促進される有機色素の退色劣化を長期間有効に防止する手段として、有機色素に対して優れた安定化効果を発揮する有機色素安定化剤、該有機色素安定化剤と有機色素を含む光吸収部材用組成物、およびこれを用いて作製される光吸収部材を提供することを目的としている。
　本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意検討を行った結果、式（１）で表される金属錯体が有機色素に対して非常に優れた退色劣化抑制効果を有することを見出し、該金属錯体を有機色素安定化剤として使用することによって上記課題を解決に導き、本発明の完成に至った。すなわち、本発明は以下に示す有機色素安定化剤、該有機色素安定化剤のうち少なくとも１種類と少なくとも１種類の有機色素を含む光吸収部材用組成物、およびこれを用いた光吸収部材に関する。
項１．式（１）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
（式中、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４はそれぞれ互いに独立して、ＮＨ、ＮＲ５、酸素原子または硫黄原子であり、
　Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３またはＹ４に帰属されるＮＲ５のＲ５は、炭素数１～８のアルキル基または置換基を有していてもよい炭素数６～１５のアリール基である。尚、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４のうち少なくとも２つがＮＲ５で表される場合、これらＮＲ５のＲ５はそれぞれ互いに独立した置換基を示す。
　また、Ｚ１およびＺ２はそれぞれ互いに独立して、窒素原子、ＣＨまたはＣＲ６であり、
　Ｚ１またはＺ２に帰属されるＣＲ６のＲ６は、置換基を有していてもよい炭素数１～８のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６～１５のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数４～１２のヘテロアリール基、置換基を有していてもよい炭素数５～１２のヘテロアラルキル基または炭素数７～１５のアラルキル基を示す。尚、Ｚ１およびＺ２がともにＣＲ６で表される場合、これらＣＲ６のＲ６はそれぞれ互いに独立した置換基を示す。
　Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の各々は、存在しないか、あるいは存在する場合は、１つのベンゼン環の６個の炭素原子のうち５員環と共有された２個の炭素原子を除いた４個の炭素原子に結合する４個の水素原子のうち１ないし４個を置換することができ、４個のベンゼン環の水素原子を置換した置換基の全てはそれぞれ互いに独立して、置換基を有していてもよい炭素数１～８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１～４のアルコキシ基、ハロゲノ基、置換基を有していてもよい炭素数１～１６のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基であり、Ｍは金属原子を示す。）
で表される有機色素安定化剤。
項２．式（１）における金属原子Ｍが、コバルト原子、ニッケル原子、または銅原子である項１に記載の有機色素安定化剤。
項３．項１または２に記載の有機色素安定化剤のうち少なくとも１種類と、少なくとも１種類の有機色素を含有することを特徴とする光吸収部材用組成物。
項４．項３に記載の光吸収部材用組成物を用いて作製される光吸収部材。
　本発明によると、有機色素に対して非常に優れた安定化効果を発揮する有機色素安定化剤が得られる。従って、本発明の有機色素安定化剤と有機色素を用いることで、長期間に渡って優れた耐光性、耐熱性を持続することができる光吸収部材用組成物、およびこれを用いた光吸収部材を提供することができる。
　以下、本発明を詳細に説明する。
　本発明は、式（１）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
（式中、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４はそれぞれ互いに独立して、ＮＨ、ＮＲ５、酸素原子または硫黄原子であり、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３またはＹ４に帰属されるＮＲ５のＲ５は、炭素数１～８のアルキル基または置換基を有していてもよい炭素数６～１５のアリール基である。尚、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４のうち少なくとも２つがＮＲ５で表される場合、これらＮＲ５のＲ５はそれぞれ互いに独立した置換基を示す。また、Ｚ１およびＺ２はそれぞれ互いに独立して、窒素原子、ＣＨまたはＣＲ６であり、Ｚ１またはＺ２に帰属されるＣＲ６のＲ６は、置換基を有していてもよい炭素数１～８のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６～１５のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数４～１２のヘテロアリール基、置換基を有していてもよい炭素数５～１２のヘテロアラルキル基または炭素数７～１５のアラルキル基を示す。尚、Ｚ１およびＺ２がともにＣＲ６で表される場合、これらＣＲ６のＲ６はそれぞれ互いに独立した置換基を示す。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の各々は、存在しないか、あるいは存在する場合は、１つのベンゼン環の６個の炭素原子のうち５員環と共有された２個の炭素原子を除いた４個の炭素原子に結合する４個の水素原子のうち１ないし４個を置換することができ、４個のベンゼン環の水素原子を置換した置換基の全てはそれぞれ互いに独立して、置換基を有していてもよい炭素数１～８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１～４のアルコキシ基、ハロゲノ基、置換基を有していてもよい炭素数１～１６のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基であり、Ｍは金属原子を示す。）
で表される有機色素安定化剤と、該有機色素安定化剤のうち少なくとも１種類と少なくとも１種類の有機色素とを含む光収部材用組成物、およびこれを用いた光吸収部材を提供するものである。
　また、式（１）におけるＺ１およびＺ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６およびＭについて以下に例示する。
　式中、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３またはＹ４に帰属される、前記のＮＲ５のＲ５としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、ｎ－ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロヘキシル、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基等のアルキル基や、フェニル基、２－メチルフェニル基、３－メチルフェニル基、４－メチルフェニル基、３－クロロフェニル基、４－ブロモフェニル基、３，４－ジクロロフェニル基、ナフチル基等のアリール基が挙げられる。合成方法の簡便さから炭素数１～８のアルキル基であることが好ましい。
　尚、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４のうち少なくとも２つがＮＲ５で表される場合、これらＮＲ５のＲ５はそれぞれ互いに独立した置換基を示す。
　ここで、式（１）におけるＹ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４は、合成方法の簡便さの観点から、酸素原子または硫黄原子であることが特に好ましい。
　式中、Ｚ１またはＺ２に帰属される、前記のＣＲ６のＲ６としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、ｎ－ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロヘキシル、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基等のアルキル基や、フェニル基、２－メチルフェニル基、３－メチルフェニル基、４－メチルフェニル基、３－クロロフェニル基、４－ブロモフェニル基、３，４－ジクロロフェニル基、ナフチル基等のアリール基や、２－フリル基、２－チエニル基、５－クロロ－２－チエニル基、２－ピロリル基、２－オキサゾリル基、５－メチル－２－オキサゾリル基、２－チアゾリル基等のヘテロアリール基や、４－ピリジルメチル基、４－キノリルメチル基、２－チエニルメチル基等のヘテロアラルキル基や、
　４－アセトアミドベンジル基、３－アミノベンジル基、４－アミノベンジル基、３－メトキシベンジル基、２－メトキシフェネチル基、４－（ｎ－ペンチルオキシ）ベンジル基、２－アリルオキシフェネチル基、５－アリル－２－ヒドロキシ－３－メトキシベンジル基、４－フェニルベンジル基、２－ブロモベンジル基、３－フェネチル基、４－ブロモベンジル基、２－クロロベンジル基、３－クロロベンジル基、４－クロロベンジル基、６－ブロモ－２－ヒドロキシベンジル基、５－ブロモ－３－ニトロ－２－ヒドロキシフェネチル基、４－（ｎ－ブチル）ベンジル基、３－ブロモ－５－メトキシ－４－ヒドロキシベンジル基、４－ベンジルオキシベンジル基、６－ブロモ－３－メトキシ－２－ヒドロキシベンジル基、（１－ブロモ－２－ナフチル）－ｎ－プロピル基、２－ベンジルオキシベンジル基、３,５－ビストリフルオロメチルフェネチル基、４－ｔｅｒｔ－ブチルベンジル基、５－ブロモ－２－フルオロベンジル基、３－ブロモ－４－メトキシベンジル基、５－ブロモ－２－メトキシベンジル基、３－ブロモ－５－クロロ－２－ヒドロキシベンジル基、４－ブロモ－２－フルオロベンジル基、２－ブロモ－４,５－ジメトキシフェネチル基、３,４－エチレンジオキシベンジル基、３－ブロモ－４－フルオロフェネチル基、６－ブロモ－３,４－メチレンジオキシベンジル基、３－ブロモ－４－ヒドロキシベンジル基、２－ブロモ－５－フルオロフェネチル基、４－シアノベンジル基、４－トリフルオロベンジル基、４－（４－クロロフェノキシ）フェネチル基、４－（Ｎ,Ｎ－ジエチルアミノ）ベンジル基、３,４－ジアセトキシベンジル基、４－（Ｎ,Ｎ－ジフェニルアミノ）ベンジル基、４－［Ｎ－（４,４－ジオキソチオモルホリノ）］ベンジル基、４－（Ｎ－ピロリジノ）ベンジル基、３－（２－ヒドロキシエトキシ）ベンジル基、４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェネチル基、４－ヒドロキシ－３,５－ジメチルベンジル基、（６－ヒドロキシ－２－ナフチル）－ｎ－プロピル基、４－イソプロピルベンジル基、４－イソブチルベンジル基等のアラルキル基が挙げられる。
　尚、Ｚ１およびＺ２がともにＣＲ６で表される場合、これらＣＲ６のＲ６はそれぞれ互いに独立した置換基を示す。
　さらに、式（１）におけるＺ１およびＺ２は、合成方法の簡便さの観点から、窒素原子、ＣＨであることが好ましく、窒素原子であることが特に好ましい。
　式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３またはＲ４に帰属される、前記の置換基を有していてもよい炭素数１～８のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、２－メトキシエチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、３－クロロ－ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、４－ヒドロキシ－ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、ｎ－ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロヘキシル、６－フェニル－ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基等が挙げられる。
　式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３またはＲ４に帰属される、前記の炭素数１～４のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基等が挙げられる。
　式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３またはＲ４に帰属される、前記のハロゲノ基としては、例えば、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基等が挙げられる。
　式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３またはＲ４に帰属される、前記の置換基を有していてもよい炭素数１～１６のアルキルアミノスルホニル基としては、例えば、Ｎ－メチルアミノスルホニル基、Ｎ－エチルアミノスルホニル基、Ｎ－イソプロピルアミノスルホニル基、Ｎ－ｎ－プロピルアミノスルホニル基、Ｎ－ｎ－ブチルアミノスルホニル基、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノスルホニル基、Ｎ，Ｎ－メチルエチルアミノスルホニル基、Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノスルホニル基、Ｎ，Ｎ－エチルイソプロピルアミノスルホニル基、Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルアミノスルホニル基、Ｎ，Ｎ－ジ－ｎ－プロピルアミノスルホニル基、Ｎ，Ｎ－ジ－ｎ－ブチルアミノスルホニル基、Ｎ，Ｎ－ジイソブチルアミノスルホニル基、Ｎ，Ｎ－ジ－２－エチルヘキシルアミノスルホニル基等が挙げられる。
　式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３またはＲ４に帰属される、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基としては、例えば、モルホリノスルホニル基、２－メチルモルホリノスルホニル基、３－メチルモルホリノスルホニル基、２－エチルモルホリノスルホニル基、３－ｎ－プロピルモルホリノスルホニル基、３－ｎ－ブチルモルホリノスルホニル基、２，３－ジメチルモルホリノスルホニル基、２，６－ジメチルモルホリノスルホニル基、３－フェニルモルホリノスルホニル基等が挙げられる。
　式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３またはＲ４に帰属される、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基としては、例えば、ピペリジノスルホニル基、２－メチルピペリジノスルホニル基、３－メチルピペリジノスルホニル基、４－メチルピペリジノスルホニル基、２－エチルピペリジノスルホニル基、４－ｎ－プロピルピペリジノスルホニル基、３－ｎ－ブチルピペリジノスルホニル基、２，４－ジメチルピペリジノスルホニル基、２，６－ジメチルピペリジノスルホニル基、４－フェニルピペリジノスルホニル基等が挙げられる。
　式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３またはＲ４に帰属される、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基としては、例えば、ピロリジノスルホニル基、２－メチルピロリジノスルホニル基、３－メチルピロリジノスルホニル基、２－エチルピロリジノスルホニル基、３－ｎ－プロピルピロリジノスルホニル基、３－ｎ－ブチルピロリジノスルホニル基、２，４－ジメチルピロリジノスルホニル基、２，５－ジメチルピロリジノスルホニル基、３－フェニルピロリジノスルホニル基等が挙げられる。
　式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３またはＲ４に帰属される、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基としては、例えば、チオモルホルノスルホニル基、２－メチルチオモルホリノスルホニル基、３－メチルチオモルホリノスルホニル基、２－エチルチオモルホリノスルホニル基、３－ｎ－プロピルチオモルホリノスルホニル基、３－ｎ－ブチルチオモルホリノスルホニル基、２，３－ジメチルチオモルホリノスルホニル基、２，６－ジメチルチオモルホリノスルホニル基、３－フェニルチオモルホリノスルホニル基等が挙げられる。
　式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３またはＲ４に帰属される、置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基としては、例えば、ピペラジノスルホニル基、２－メチルピペラジノスルホニル基、３－メチルピペラジノスルホニル基、２－エチルピペラジノスルホニル基、３－ｎ－プロピルピペラジノスルホニル基、３－ｎ－ブチルピペラジノスルホニル基、２，５－ジメチルピペラジノスルホニル基、２，６－ジメチルピペラジノスルホニル基、３－フェニルピペラジノスルホニル基、２－ピリミジルピペラジノスルホニル基等が挙げられる。
　前記のＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の各々は、存在しないか、あるいは存在する場合は、１つのベンゼン環の６個の炭素原子のうち５員環と共有された２個の炭素原子を除いた４個の炭素原子に結合する４個の水素原子のうち１ないし４個、好ましくは１または２個を置換することができ、４個のベンゼン環の水素原子を置換した置換基の全てはそれぞれ互いに独立して、置換基を有していてもよい炭素数１～８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１～４のアルコキシ基、ハロゲノ基、置換基を有していてもよい炭素数１～１６のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基であり、経済性すなわち原料の入手の簡便さや、反応工程数、収率の観点からみれば、存在しないか、置換基を有していてもよい炭素数１～８のアルキル基、ハロゲノ基、炭素数１～４のアルコキシ基であることが好ましく、存在しないか、炭素数１～８のアルキル基、炭素数１～４のアルコキシ基であることがより好ましく、存在しないことがさらに好ましい。
　また、置換基を有していてもよい炭素数１～１６のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基である場合には、溶媒に対する溶解性の面で特に有利であり、中でも炭素数１～１６のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基であることがより好ましく、炭素数１～１６のアルキルアミノスルホニル基、モルホリノスルホニル基であることがさらに好ましい。
　Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４、Ｚ１およびＺ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ互いに独立したものであるが、合成方法の簡便さおよび取得する該金属錯体の品質（純度）管理の観点から、好ましくはＹ１＝Ｙ２且つＹ３＝Ｙ４且つＺ１＝Ｚ２且つＲ１＝Ｒ２＝Ｒ３＝Ｒ４である。また、該金属錯体の各種溶媒に対する溶解性の観点から言えば、Ｙ１＝Ｙ３≠Ｙ２＝Ｙ４且つＺ１＝Ｚ２且つＲ１＝Ｒ３＝Ｒ２＝Ｒ４、またはＹ１＝Ｙ３＝Ｙ２＝Ｙ４且つＺ１＝Ｚ２且つＲ１＝Ｒ３≠Ｒ２＝Ｒ４であることが好ましい。
　式中、Ｍで表される金属原子は、例えば、コバルト原子、ニッケル原子、または銅原子等が挙げられる。
　式（１）で表される金属錯体は、下記式（２）で表される配位子と、金属ハロゲン化物、金属硫酸塩、金属酢酸塩、金属硝酸塩等の金属塩とを反応させることで合成することができる。
　式（２）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
　式（２）において、Ｙ１、Ｙ２、Ｚ１、Ｒ１、Ｒ２は、それぞれ式（１）中のＹ１（および/またはＹ３）、Ｙ２（および/またはＹ４）、Ｚ１（および/またはＺ２）、Ｒ１（および/またはＲ３）、Ｒ２（および/またはＲ４）に対応している。
　式（２）で表される配位子は、例えば、「特開昭５６－８７５７５」、「Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ　１９８７，３６８」、「Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ　１９８２，５９０」、「Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ　１９８２，１０６６－１０６７」、「Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．２００２，６７，５７５３－５７７２」、「Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．２００２，６７，５７５３－５７７２」、「Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９６１，２６，３４３４－３４４５」、「Ｇａｚｚ．Ｃｈｉｍ．Ｉｔａｌ．１９９６，１２６，３２９－３３７」、「Ｇａｚｚ．Ｃｈｉｍ．Ｉｔａｌ．１９９４，１２４，３０１－３０８」、「特表２００７－５３５４２１」において開示されている方法で合成することができる。
　以下、式（２）で表される配位子の製造方法を一部説明する。
≪配位子の製造方法≫
i) 下記式（３）：式（２）においてＹ１＝Ｙ２＝Ｓ，Ｚ１＝Ｎの場合
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
　例えば、特開昭５６－８７５７５に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、２－アミノベンゾチアゾール（Ｒ１およびＲ２が存在しない場合）または２－アミノ－置換ベンゾチアゾール（Ｒ１およびＲ２が置換基を有していてもよい炭素数１～８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１～４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）をフェノール等の酸触媒存在下において、１５０～１８５℃に加熱し、反応させることによって２，２’－イミノビスベンゾチアゾールまたは２，２’－イミノビス（置換ベンゾチアゾール）を合成することができる。
ii) 下記式（４）：式（２）においてＹ１＝Ｓ，Ｙ２＝Ｏ，Ｚ１＝Ｎの場合
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
　例えば、Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ　１９８７，３６８に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、２－アミノフェノール（Ｒ２が存在しない場合）または２－アミノ－置換フェノール（Ｒ２が置換基を有していてもよい炭素数１～８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１～４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）をＮ，Ｎ’－ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）に溶解させ、塩基として水酸化ナトリウム水溶液を加え、室温で３０分間攪拌し、ここにＳ，Ｓ’－ジメチル－Ｎ－（２－ベンゾチアゾリル）－カルボンイミドジチオエート（Ｒ１が存在しない場合）またはＳ，Ｓ’－ジメチル－Ｎ－［２－（置換ベンゾチアゾリル）］－カルボンイミドジチオエート（Ｒ１が置換基を有していてもよい炭素数１～８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１～４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）のＤＭＦ溶液を滴下し、窒素雰囲気下で還流させることで２－（２－ベンゾチアゾリルアミノ）ベンゾオキサゾールまたは２－［２－（置換ベンゾチアゾリル）アミノ］置換ベンゾオキサゾールを合成することができる。
　前記Ｓ，Ｓ’－ジメチル－Ｎ－（２－ベンゾチアゾリル）カルボンイミドジチオエートまたはＳ，Ｓ’－ジメチル－Ｎ－［２－（置換ベンゾチアゾリル）］カルボンイミドジチオエートは、例えば、Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ　１９８２，５９０に記載されている方法に従って合成することができる。
　すなわち、２－アミノベンゾチアゾール（Ｒ１が存在しない場合）または２－アミノ－置換ベンゾチアゾール（Ｒ１が置換基を有していてもよい炭素数１～８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１～４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）をＤＭＦに溶解させ、水浴または氷浴下でこの溶液に、水酸化ナトリウム水溶液を滴下し、次に二硫化炭素を滴下し、さらに水酸化ナトリウム水溶液を滴下した後、ヨウ化メチルを滴下することで、Ｓ，Ｓ’－ジメチル－Ｎ－（２－ベンゾチアゾリル）カルボンイミドジチオエート（Ｒ１が存在しない場合）またはＳ，Ｓ’－ジメチル－Ｎ－（２－置換ベンゾチアゾリル）カルボンイミドジチオエート（Ｒ１が置換基を有していてもよい炭素数１～８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１～４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）を合成することができる。
iii) 下記式（５）：式（２）においてＹ１＝Ｓ，Ｙ２＝ＮＨ，Ｚ１＝Ｎの場合
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
　例えば、Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ　１９８２，１０６６－１０６７に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、ｏ－フェニレンジアミン（Ｒ２が存在しない場合）またはｏ－（置換フェニレン）ジアミン（Ｒ２が置換基を有していてもよい炭素数１～８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１～４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）をＤＭＦに溶解させ、ここにＳ，Ｓ’－ジメチル－Ｎ－（２－ベンゾチアゾリル）－カルボンイミドジチオエート（Ｒ１が存在しない場合）またはＳ，Ｓ’－ジメチル－Ｎ－［２－（置換ベンゾチアゾリル）］－カルボンイミドジチオエート（Ｒ１が置換基を有していてもよい炭素数１～８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１～４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）のＤＭＦ溶液を滴下した後に、１０～１６時間還流させることで２－（２－ベンゾチアゾリルアミノ）ベンゾイミダゾールまたは２－［２－（置換ベンゾチアゾリルアミノ）］置換ベンゾイミダゾールを合成することができる。
iv) 下記式（６）：式（２）においてＹ１＝Ｓ，Ｙ２＝ＮＨ，Ｚ１＝ＣＨの場合
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
　例えば、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．２００２，６７，５７５３－５７７２に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、ｏ－フェニレンジアミン（Ｒ２が存在しない場合）またはｏ－（置換フェニレン）ジアミン（Ｒ２が置換基を有していてもよい炭素数１～８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１～４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）と、エチル－２－ベンゾチアゾリルアセテート（Ｒ１が存在しない場合）またはエチル－２－（置換ベンゾチアゾリル）アセテート（Ｒ１が置換基を有していてもよい炭素数１～８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１～４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）を窒素雰囲気下において１６０℃で６時間還流することによって（２－ベンゾチアゾリル）（２－ベンゾイミダゾリル）メタンまたは［２－（置換ベンゾチアゾリル）］［２－（置換ベンゾイミダゾリル）］メタンを合成することができる。
　前記エチル－２－ベンゾチアゾリルアセテートまたはエチル－２－（置換ベンゾチアゾリル）アセテートは、例えば、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．２００２，６７，５７５３－５７７２に記載されている方法に従って合成することができる。
　すなわち、エチルシアノアセテートと２－アミノ－置換チオフェノールを混合し、窒素雰囲気下において１２０℃で２時間反応させることで、エチル－２－ベンゾチアゾリルアセテートまたはエチル－２－（置換ベンゾチアゾリル）アセテートを合成することができる。
v) 下記式（７）：式（２）においてＹ１＝Ｙ２＝Ｏ，Ｚ１＝ＣＨの場合
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
　例えば、ＵＳ３２５０７８０に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、２－アミノフェノール（Ｒ１およびＲ２が存在しない場合）または２－アミノ－置換フェノール（Ｒ１およびＲ２が置換基を有していてもよい炭素数１～８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１～４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）とマロン酸を混合し、この混合液を攪拌下のポリリン酸中に７０℃に保温しながら加える。次にこの反応液を１７５℃まで昇温し、反応させることで、ビス（２－ベンゾオキサゾリル）メタンまたはビス［２－（置換ベンゾオキサゾリル）］メタンを合成することができる。
vi) 下記式（８）：式（２）においてＹ１＝Ｙ２＝Ｓ，Ｚ１＝ＣＨの場合
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
　例えば、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９６１，２６，３４３４－３４４５に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、２－アミノチオフェノール（Ｒ１およびＲ２が存在しない場合）または２－アミノ－置換チオフェノール（Ｒ１およびＲ２が置換基を有していてもよい炭素数１～８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１～４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）とマロン酸を混合し、この混合液を攪拌下のポリリン酸中に７０℃に保温しながら加える。次にこの反応液を１２５－１５０℃で２時間反応させることで、ビス（２－ベンゾチアゾリル）メタンまたはビス［２－（置換ベンゾチアゾリル）］メタンを合成することができる。
 vii) 下記式（９）：式（２）においてＹ１＝ＮＲ５、Ｙ２＝ＮＲ５，Ｚ１＝ＣＨの場合
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
　例えば、Ｇａｚｚ．Ｃｈｉｍ．Ｉｔａｌ．１９９６，１２６，３２９－３３７に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、（Ｎ－置換－）ｏ－フェニレンジアミン（Ｒ１およびＲ２が存在しない場合）または（Ｎ－置換－）［ｏ－（置換フェニレン）］ジアミン（Ｒ１およびＲ２が置換基を有していてもよい炭素数１～８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１～４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）とマロン酸ジエチルを混合し、この混合液を窒素雰囲気下において１５５℃で１１時間還流することで、ビス［２－（Ｎ－置換）ベンゾイミダゾリル］メタンまたはビス［２－（Ｎ－置換）（置換ベンゾイミダゾリル）］メタンを合成することができる。
viii) 下記式（１０）：式（２）においてＺ１＝ＣＲ６の場合
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
　例えば、Ｇａｚｚ．Ｃｈｉｍ．Ｉｔａｌ．１９９４，１２４，３０１－３０８に記載されている方法に従って合成することができる。前記の通り、式（１）中のＺ１またはＺ２に帰属されるＣＲ６のＲ６としてはアラルキル基であることが特に好ましい。ここでは、このアラルキル基が、例えば、４－ピリジルメチル基である場合を取り上げ、以下、合成方法を説明する。４－ピリジルメチル基以外の置換基である場合にも対応する基質（置換基に対応するアルデヒド体）を選択することで、同様の合成方法に従って合成することが可能である。
　iv)で得られた（２－ベンゾチアゾリル）（２－ベンゾイミダゾリル）メタンまたは［２－（置換ベンゾチアゾリル）］［２－（置換ベンゾイミダゾリル）］メタン、または
　v)で得られたビス（２－ベンゾオキサゾリル）メタンまたはビス［２－（置換ベンゾオキサゾリル）］メタン、または
　vi)で得られたビス（２－ベンゾチアゾリル）メタンまたはビス［２－（置換ベンゾチアゾリル）］メタン、または
　vii)で得られたビス［２－（Ｎ－置換）ベンゾイミダゾリル］メタンまたはビス［２－（Ｎ－置換）（置換ベンゾイミダゾリル）］メタンと、
　酢酸および酢酸ナトリウムを混合し、ここに４－ピリジンカルボキシアルデヒドを添加し反応させた後に、パラジウムカーボン等を用いて還元することで、
　iv)で得られた化合物からは、対応する４－［β，β－（２－ベンゾチアゾリル）（２－ベンゾイミダゾリル）エチル］ピリジンまたは４－［β，β－｛２－（置換ベンゾチアゾリル）｝｛２－（置換ベンゾイミダゾリル）｝エチル］ピリジンを、
　v)で得られた化合物からは、対応する４－［β，β－ビス（２－ベンゾオキサゾリル）エチル］ピリジンまたは４－［β，β－ビス｛２－（置換ベンゾオキサゾリル）｝エチル］ピリジンを、
　vi)で得られた化合物からは、対応する４－［β，β－ビス（２－ベンゾチアゾリル）エチル］ピリジンまたは４－［β，β－ビス｛２－（置換ベンゾチアゾリル）｝エチル］ピリジンを、
　vii)で得られた化合物からは、対応する４－［β，β－ビス｛２－（Ｎ－置換）ベンゾイミダゾリル｝エチル］ピリジンまたは４－［β，β－ビス｛２－（Ｎ－置換）（置換ベンゾイミダゾリル）エチル］ピリジンを合成することができる。
ix) 式（２）においてＲ１およびＲ２のそれぞれ少なくとも一つの置換基が、置換基を有していてもよい炭素数１～１６のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基の場合
　例えば、特表２００７－５３５４２１に記載されている方法に従って、前記i)～viii)の方法で得られた配位子（式（２）においてＲ１およびＲ２の各々は、存在しないか、あるいは存在する場合は、１つのベンゼン環の６個の炭素原子のうち５員環と共有された２個の炭素原子を除いた４個の炭素原子に結合する４個の水素原子のうち１ないし３個が置換されたものに限る）に、置換基を有していてもよい炭素数１～１６のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基を導入することができる。
　ここでは、i)で得られた２，２’－イミノビスベンゾチアゾールまたは２，２’－イミノビス（置換ベンゾチアゾール）を例に取り上げ、以下、合成方法を説明する。
　i)で得られた２，２’－イミノビスベンゾチアゾールまたは２，２’－イミノビス（置換ベンゾチアゾール）をクロロスルホン酸に添加し、混合物を一晩攪拌する。さらに塩化チオニルを添加し５０℃で１時間攪拌した後室温まで冷却する。混合物を氷の上に注ぎ、吸引ろ過し残った氷と一緒に一級または二級アミンと攪拌することで対応する２，２’－イミノビス（置換ベンゾチアゾール）を合成することができる。
≪式（１）で表される金属錯体の製造方法≫
　例えば、Ｐｏｌｙｈｅｄｒｏｎ　２００６，２５，２３６３－２３７４やＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．２００２，６７，５７５３－５７７２等に記載されている方法に従って、前記のi) ～ix）の製造方法に基づいて得られた配位子と、金属ハロゲン化物、金属硫酸塩、金属酢酸塩、金属硝酸塩等の金属塩とを反応させることによって対応する金属錯体を合成することができる。すなわち前記のi) ～ix)の製造方法に基づいて得られた配位子と、式（１）中のＭに対応する金属の酢酸塩を、メタノール、エタノール、水、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）等の溶媒中で反応させることにより合成することができる。
≪式（１）で表される有機色素安定化剤のうち少なくとも１種類と、少なくとも１種類の有機色素を含む光吸収部材用組成物≫
　本発明における光吸収部材用組成物は、式（１）で表される少なくとも１種類の有機色素安定化剤と少なくとも１種類の有機色素を含有することを特徴とする。
　さらに、少なくとも１種類のマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーおよび/または少なくとも１種類の溶媒を含有するものも本発明に含まれる。
　有機色素に対する安定化効果の観点からは、本発明における式（１）で表される有機色素安定化剤は分子レベルで溶解した状態で含有されることが好ましいが、有機色素は溶解状態であっても分散状態であってもよい。
　前記の有機色素としては、特に限定されるものではなく、例えば、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、ポルフィリン系、ニトロソ系、インダミン系、キノフタロン系、キサンテン系、キナクリドン系、キナクリドンキノン系、ベンズイミダゾロン系、キノン系、キノリン系、アントアントロン系、ジオキサジン系、ジオキシム系、ピロロピロール系、アンサンスロン系、インダンスロン系、フラバンスロン系、ペリノン系、ペリレン系、インドリン系、イソインドリン系、イソインドリノン系、アゾ系、シアニン系、メロシアニン系、スクアリリウム系、トリアリールメタン系、ピランスロン系、インジゴイド系、インダンスレン系、イモニウム系、アミニウム系、クマリン系、ルブレン系、アクリジン系、フルオラン系、スチリル系等の有機色素が挙げられる。
　前記有機色素安定化剤の各々の添加量としては、十分な有機色素安定化効果を得られる限り特に限定されることはないが、有機色素１モルに対して０．１～１５モル、好ましくは０．３～１０モル、より好ましくは０．５～５モルである。０．１モル未満では、十分な安定化効果が得られないおそれがあり、１５モル以上添加しても添加量に見合う安定化効果が得られず経済的でない。
　前記のマトリックス材料としては、有機系または無機系バインダーのいずれであっても使用することができる。ここで、無機系バインダーとはポリマー主鎖に炭素原子を含まないものを示す。
　尚、本発明において使用する「マトリックス材料」という表現は、有機系または無機系バインダーと呼ばれるマトリックス成分（固形分）そのものだけでなく、該マトリックス成分を含む溶液（例えば、市販のバインダー溶液）も含む。
　有機系バインダーとしては、例えば、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチル、ポリ（メタ）アクリル酸プロピル、ポリ（メタ）アクリル酸ブチル、ポリ（メタ）アクリル酸シクロヘキシル等のポリ（メタ）アクリル酸エステル系樹脂や、（メタ）アクリル酸メチル－（メタ）アクリル酸エチル共重合体、（メタ）アクリル酸メチル－（メタ）アクリル酸ブチル共重合体等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体や、ポリスチレン、ポリ（α－メチルスチレン）等のポリスチレン系樹脂や、スチレン－ブタジエン共重合体、スチレン－イソプレン共重合体、スチレン－アクリル酸共重合体、スチレン－アクリル酸エステル共重合体、スチレン－マレイン酸共重合体、スチレン－マレイン酸エステル系共重合体等のスチレン系共重合体や、ポリエチレンサクシネート、ポリブチレンアジペート、ポリ乳酸、ポリグリコール酸、ポリカプロラクトン、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂や、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂や、ポリオキシメチレン、ポリエチレンオキシド等のポリエーテル系樹脂や、シリコーン系樹脂や、ポリスルホン系樹脂や、ポリアミド系樹脂や、ポリイミド系樹脂や、ポリウレタン系樹脂や、ポリカーボネート系樹脂や、エポキシ系樹脂や、フェノール系樹脂や、メラミン樹脂や、ユリア樹脂や、ポリビニル系樹脂等の熱可塑性もしくは熱硬化性合成樹脂や、エチレン－プロピレン共重合ゴム、ポリブタジエンゴム、スチレン－ブタジエンゴム、アクリロニトリル－ブタジエンゴム等の合成ゴムもしくは天然ゴム等が挙げられる。
　基材への密着性や透明性の観点から、好ましくは、ポリ（メタ）アクリル酸エステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、スチレン系共重合体、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリエーテル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、ポリビニル系樹脂等の熱可塑性もしくは熱硬化性合成樹脂であり、より好ましくは、ポリ（メタ）アクリル酸エステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、スチレン系共重合体、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリエーテル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、ポリビニル系樹脂である。
　尚、（メタ）アクリルは、メタクリルおよびアクリルを示す。
　無機系バインダーとしては、ポリシロキサン系バインダーを好適に用いることができる。この場合、ポリシロキサン系バインダー前駆体としてシリコンアルコキシドの加水分解・重縮合反応により得られるゾル溶液（シロキサンオリゴマー溶液）を好適に用いることができる。
　シリコンアルコキシドのゾル溶液は、通常、有機溶媒中で酸触媒存在下、シリコンアルコキシドに水を添加し、加水分解・重縮合させることにより、調製することができるが、市販のゾル溶液を使用しても良い。以下、シリコンアルコキシドのゾル溶液の調製方法を具体的に説明する。
（シリコンアルコキシド）
　シリコンアルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等の４官能アルコキシシランや、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、メチル－トリス（２－メトキシエトキシ）シラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキシシラン、エチルトリブトキシシラン、エチル－トリス（２－メトキシエトキシ）シラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、ヘキシルトリプロポキシシラン、ヘキシルトリブトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリプロポキシシラン、フェニルトリブトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メチルジメトキシ（エトキシ）シラン、エチルジエトキシ（メトキシ）シラン等の３官能アルコキシシランや、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ビス（２－メトキシエトキシ）ジメチルシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン等の２官能アルコキシシランが挙げられる。
　これらの中でも、得られる膜の状態や強度、経済性の観点から、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシランであることが好ましい。
　これらのシリコンアルコキシドは、単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。２種類以上を組み合わせて使用する場合の混合比率は所望に応じて適宜選択することができる。
　また、最終的に得られるコーティング膜に所望の物性を付与するために、必要に応じて、チタンアルコキシド、セリウムアルコキシド、ジルコニウムアルコキシド、スズアルコキシド、アルミニウムアルコキシド、ニッケルアルコキシド、亜鉛アルコキシド等の金属アルコキシドを添加・併用してもよい。
　例えば、反射率を高くしたい場合にはチタンアルコキシドや亜鉛アルコキシドを、また機械的強度、耐アルカリ性を高くしたい場合にはジルコニウムアルコキシドを、耐候性を向上させたい場合にはニッケルアルコキシドを添加・併用することが効果的である。
（酸触媒）
　酸触媒としては、特に限定されないが、例えば、硝酸、塩酸、硫酸等の無機酸や、蟻酸、酢酸、蓚酸等の有機酸が挙げられる。加水分解・重縮合反応終了後に酸が残存すると、縮合安定性が悪化するため、低沸点で揮発性が高く、ＰＫａの小さな蟻酸を用いることが好ましい。
　酸触媒の添加量としては、十分な触媒作用を発揮する限り、特に限定されるものではないが、通常シリコンアルコキシド１モルに対して０．０１モル以上、より好ましくは０．３モル以上を配合することが好ましい。０．０１モル未満では十分な触媒作用が得られないおそれがあり、また過剰に添加した場合には、最終的に得られるシリコンアルコキシドのゾル溶液が、残存する酸により経時的に劣化するおそれがある。よってシリコンアルコキシド１モルに対して１モル以下の割合で配合することが好ましい。
　（水）
　上記シリコンアルコキシドの加水分解を引き起こし得る限り、特に限定されないが、シリコンアルコキシド１モルに対し、２～６モルの割合で水を添加することが好ましい。２モル未満では十分に加水分解が進行しないおそれがあり、６モルを超えると加水分解が速く進行しすぎてしまい、続く重縮合反応の進行を妨げることに加え、反応後に除去する水の量が多くなり効率的でない。
　（反応溶媒）
　シリコンアルコキシド、水、酸触媒に加えて反応溶媒を使用することにより、加水分解速度を適度に低め、確実に加水分解・重縮合を進行させることができる。さらに、最終的に得られるシリコンアルコキシドのゾル溶液（シロキサンオリゴマー溶液）の粘度をハンドリングしやすいレベルにまで調整するための希釈剤としての役割も兼ねる。
　反応溶媒としては、前記シリコンアルコキシドが溶解するものであれば特に限定されることなく、適宜選択し使用することができる。例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール（ＩＰＡ）、ブタノール、テトラフルオロプロパノール等のアルコール類や、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類や、エチレングリコールや１，２－プロパンジオール、１，３－プロパンジオール、１，４－ブタンジオール、ジエチレングリコール等のグリコール類や、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２－ヘプタノン、３－ヘプタノン、３ － オクタノン等のケトン類や、酢酸エチル、２－ヒドロキシプロピオン酸エチル、３－メチル－３－メトキシプロピオン酸－ｎ－ブチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、酢酸－ｎ－ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸－ｎ－アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸－ｎ－ブチル、酪酸エチル、酪酸イソプロピル、酪酸－ｎ－ブチル、ピルビン酸エチル、γ－ブチロラクトン、乳酸エチル等のエステル類や、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類や、トルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族類や、ｎ－ペンタン、シクロペンタン、ｎ－ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ－ヘプタン、シクロヘプタン等の炭化水素類や、２－ピロリドン、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、ε－カプロラクタム等のラクタム類や、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル類や、その他アセトニトリル、スルホラン、ジメチルスルホキシド、ＤＭＦ等が挙げられる。
　反応性や経済性の観点から、好ましくは、メタノール、エタノール、ＩＰＡ、ブタノール、テトラフルオロプロパノール等のアルコール類、エチレングリコールや１，２－プロパンジオール、１，３－プロパンジオール、１，４－ブタンジオール、ジエチレングリコール等のグリコール類、酢酸エチル、２－ヒドロキシプロピオン酸エチル、３－メチル－３－メトキシプロピオン酸－ｎ－ブチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、酢酸－ｎ－ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸－ｎ－アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸－ｎ－ブチル、酪酸エチル、酪酸イソプロピル、酪酸－ｎ－ブチル、ピルビン酸エチル、γ－ブチロラクトン、乳酸エチル等のエステル類、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテルアセテート、ＰＧＭＥＡ、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル類等である。
　後工程において、該シリコンアルコキシドのゾル溶液（シロキサンオリゴマー溶液）に式（１）で表される有機色素安定化剤を溶解・混合する場合には、あらかじめ該有機色素安定化剤の溶解性が良好な溶媒を本工程における反応溶媒として使用することで、該有機色素安定化剤を溶解・混合する際の労力を軽減することができる。
　ただし、該有機色素安定化剤の貧溶媒を用いて本工程におけるシリコンアルコキシドのゾル溶液（シロキサンオリゴマー溶液）を調製した場合であっても、該有機色素安定化剤を溶解・混合する前に該シリコンアルコキシドのゾル溶液（シロキサンオリゴマー溶液）の溶媒を該有機色素安定化剤の良溶媒に置換する、あるいは該シリコンアルコキシドのゾル溶液（シロキサンオリゴマー溶液）に該有機色素安定化剤の良溶媒を添加することによって、問題なく溶解・混合することもできる。
　前記反応溶媒の使用量は、シリコンアルコキシド１００重量部に対し、５０～１０００重量部、好ましくは１００～５００重量部の範囲とすることが望ましい。５０重量部未満では、加水分解・重縮合反応を適度な反応速度で進行させることが困難になるおそれがあり、１０００重量部を超えると、加水分解・重縮合反応の速度が低下するため効率的でないことに加えて、後述の減圧・留去工程に長時間を必要とするおそれがある。
　まず、１種類または２種類以上のシリコンアルコキシドを、酸触媒、水及び溶媒と混合する。この溶液を０～１５０℃、好ましくは５０～１００℃ の温度に維持することにより、加水分解・重縮合反応を進行させる。０℃未満では、加水分解・重縮合反応が進行しにくくなるおそれがある。また１５０℃を超えると加水分解・重縮合反応が急速に進行するため、未反応のアルコキシ基が残存したり、ゲル化や着色を招くおそれがある。加水分解・重縮合反応の時間は、温度条件にもよるが、通常１～２４時間、より好ましくは２～８時間である。１時間未満では、十分に加水分解・重縮合反応が進行しないおそれがあり、２４時間を超えてもそれ以上反応が進まないことから経済的でない。
　加水分解・重縮合反応により副生するアルコールと水を系外に除去するために、反応終了後、あるいは反応中に、反応液を減圧留去することが好ましい。減圧留去しながら反応を進行させれば、重縮合反応の反応速度を向上させる効果も見込めるためより好ましい。この工程において、前記酸触媒として蟻酸等の低沸点で揮発性の高い触媒を用いれば、溶媒とともに酸触媒も系外に除去でき、反応終了後のゾル溶液の安定性を確保することができる。
　このようにして加水分解・重縮合反応の進行により、無機系バインダー：ポリシロキサン系バインダー前駆体としての、シリコンアルコキシドのゾル溶液（シロキサンオリゴマー溶液）を得ることができる。
　これらのマトリックス材料は単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。組み合わせて使用する場合、有機系バインダーから選ばれる異なる２種類以上を組み合わせてもよいし、無機系バインダーから選ばれる異なる２種類以上を組み合わせてもよいし、有機系バインダーと無機系バインダーのそれぞれから選択される異なる２種類以上を組み合わせてもよい。
　前記の溶媒としては、該有機色素安定化剤の溶解性が良好であるものであれば適宜選択し、使用することができる。有機色素を溶解させて使用する場合には、有機色素安定化剤および有機色素の溶解性が良好なものを適宜選択し使用することができ、さらにマトリックス材料および/またはマトリックスの材料の前駆体を含む場合には、有機色素安定化剤、有機色素およびマトリックス材料および/またはマトリックスの材料の前駆体の溶解性（相溶性）が良好なものを選択し、使用することができる。
　例えば、メタノール、エタノール、ＩＰＡ、ブタノール、テトラフルオロプロパノール等のアルコール類や、エチレングリコール、１，２－プロパンジオール、１，３－プロパンジオール、１，４－ブタンジオール、ジエチレングリコール等のグリコール類や、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類や、アセトン、ＭＥＫ、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２ － ヘプタノン、３ － オクタノン等のケトン類や、酢酸エチル、２－ヒドロキシプロピオン酸エチル、３－メチル－３－メトキシプロピオン酸－ｎ－ブチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、酢酸－ｎ－ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸ｎ－アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸－ｎ－ブチル、酪酸エチル、酪酸イソプロピル、酪酸－ｎ－ブチル、ピルビン酸エチル、γ－ブチロラクトン、乳酸エチル等のエステル類や、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類や、トルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族類や、ｎ－ペンタン、シクロペンタン、ｎ－ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ－ヘプタン、シクロヘプタン等の炭化水素類や、２－ピロリドン、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、ε－カプロラクタム等のラクタム類や、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテルアセテート、ＰＧＭＥＡ、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル類や、その他アセトニトリル、スルホラン、ジメチルスルホキシド、ＤＭＦ等が挙げられる。
　これらの中で、該有機色素安定化剤の溶解性の観点からより好ましいものを挙げると、メタノール、エタノール、ＩＰＡ、ブタノール、テトラフルオロプロパノール等のアルコール類や、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類や、アセトン、ＭＥＫ、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２ － ヘプタノン、３ － オクタノン等のケトン類や、酢酸エチル、２－ヒドロキシプロピオン酸エチル、３－メチル－３－メトキシプロピオン酸－ｎ－ブチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、酢酸－ｎ－ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸ｎ－アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸－ｎ－ブチル、酪酸エチル、酪酸イソプロピル、酪酸－ｎ－ブチル、ピルビン酸エチル、γ－ブチロラクトン、乳酸エチル等のエステル類や、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類や、トルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族類や、２－ピロリドン、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、ε－カプロラクタム等のラクタム類や、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテルアセテート、ＰＧＭＥＡ、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル類や、その他アセトニトリル、スルホラン、ジメチルスルホキシド、ＤＭＦ等である。
　さらに好ましくは、アルコール類としてはテトラフルオロプロパノール等が、ハロゲン化炭化水素類としてはクロロホルム、ジクロロメタン等が、ケトン類としてはＭＥＫ、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等が、エステル類としてはγ－ブチロラクトン、乳酸エチル等が、エーテル類としてはシクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等が、芳香族類としてはトルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼンが、ラクタム類としては２－ピロリドン、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、ε－カプロラクタム等が、グリコールエーテル類としてはＰＧＭＥＡ等が、その他スルホラン、ジメチルスルホキシド、ＤＭＦ等が挙げられる。
　また、前記の重合性モノマーは、マトリックス材料の前駆体としても使用できるし、前記溶媒としても使用することができる。重合性モノマーとしては、例えば、有機系重合性モノマーとして、スチレン、α－メチルスチレン、β－メチルスチレン、２，４－ジメチルスチレン、α－エチルスチレン、α－ブチルスチレン、α－ヘキシルスチレン、４－クロロスチレン、３－クロロスチレン、４－ブロモスチレン、４－ニトロスチレン、４－メトキシスチレン、ビニルトルエン等のスチレン系モノマーや、（メタ）アクリル酸や、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ－ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ－ブチル（メタ）アクリレート、２－メチルブチル（メタ）アクリレート、２－エチルブチル（メタ）アクリレート、３－メチルブチル（メタ）アクリレート、１，３－ジメチルブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、２－エトキシエチル（メタ）アクリレート、３－エトキシプロピル（メタ）アクリレート、２－エトキシブチル（メタ）アクリレート、３－エトキシブチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、エチル－α－（ヒドロキシメチル）（メタ）アクリレート、メチル－α－（ヒドロキシメチル）（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニルエチル（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステルや、３，４－エポキシシクロヘキシルメチル－３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４－エポキシシクロヘキシルエチル－３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビニルシクロヘキセンジオキシド、アリルシクロヘキセンジオキシド、３，４－エポキシ－４－メチルシクロヘキシル－２－プロピレンオキシドおよびビス（３，４－エポキシシクロヘキシル）エーテル等の脂環式エポキシ化合物や、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ブロモ化ビスフェノールＡ、ビフェノール、レゾルシン等をグリシジルエーテル化した化合物や、トリメチレンオキシド、３－エチル－３－ヒドロキシメチルオキセタン、３，３－ジメチルオキセタン、３，３－ジクロルメチルオキセタン、３－エチル－３－フェノキシメチルオキセタン、３－エチル－３－［｛（３－エチルオキセタニル）メトキシ｝メチル］オキセタン、ビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、１，４－ビス［｛（３－エチル－３－オキセタニル）メトキシ｝メチル］ベンゼン、トリ［（３－エチル－３－オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、ビス［（３－エチル－３－オキセタニルメトキシ）メチルフェニル］エーテル、（３－エチル－３－オキセタニルメトキシ）オリゴジメチルシロキサン等のオキセタン化合物等が挙げられる。
　また、無機系重合性モノマーとして、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等の４官能アルコキシシランや、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、メチル－トリス（２－メトキシエトキシ）シラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキシシラン、エチルトリブトキシシラン、エチル－トリス（２－メトキシエトキシ）シラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、ヘキシルトリプロポキシシラン、ヘキシルトリブトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリプロポキシシラン、フェニルトリブトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メチルジメトキシ（エトキシ）シラン、エチルジエトキシ（メトキシ）シラン等の３官能アルコキシシランや、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ビス（２－メトキシエトキシ）ジメチルシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン等の２官能アルコキシシランや、チタンアルコキシド、セリウムアルコキシド、ジルコニウムアルコキシド、スズアルコキシド、アルミニウムアルコキシド、ニッケルアルコキシド、亜鉛アルコキシド等の金属アルコキシド等を使用することができる。
　ここで、無機系重合性モノマーとは、重合反応により形成されるポリマー主鎖に炭素原子を含まないものを示す。
　これらの溶媒は、単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。２種類以上を組み合わせた混合溶媒を使用する場合の混合比率は適宜選択することができる。
　
　これら有機色素安定化剤、および有機色素、さらに必要に応じて併用されるマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマー、および/または溶媒を混合する方法としては、特に制限されることなく公知の攪拌装置を使用することができる。
　例えば、有機色素安定化剤、および有機色素（、およびマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマー）を溶媒に溶解させて使用する場合には、特に混合の手順に関して制限を受けることはなく、いかなる順番で各成分を混合してもよい。尚、溶媒として重合性モノマーを使用する場合にも同様にして混合することができる。
　また、有機色素安定化剤（、およびマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマー）を溶媒に溶解させ、且つ有機色素は分散状態で使用したい場合には、混合の手順に関しては特に制限を受けることはないが、あらかじめ有機色素を溶媒に分散させた分散液を調整しておき、この分散液を添加・混合するか、あるいは全成分を添加・混合した後、公知の分散機を用いて、該有機色素を分散させることができる。尚、溶媒として重合性モノマーを使用する場合にも同様にして混合することができる。また、有機色素微粒子の分散状態を安定に保つために、必要に応じて公知の分散剤を併用してもよい。
　分散機としては、例えば、ペイントシェーカー、ボールミル、ナノミル、アトライター、バスケットミル、サンドミル、サンドグラインダー、ダイノーミル、ディスパーマット、ＳＣミル、スパイクミル、アジテーターミル等のメディア型分散機や、超音波ホモジナイザー、高圧ホモジナイザー、ナノマイザー、デゾルバー、ディスパー、高速インペラー分散機等のメディアレス型分散機が挙げられる。
　中でも、コスト、処理能力の面から、メディア型分散機を使用するのが好ましい。また、これらのうちの一つを単独で用いても良く、２種類以上の装置を組み合わせて使用しても良い。
　分散メディアとしては、用いる分散機の分散室内部の材質に応じて、ステンレス鋼、スチール等の鋼球ビーズや、アルミナ、ステアタイト、ジルコニア、ジルコン、シリカ、炭化ケイ素、窒化ケイ素等のセラミックスビーズや、ソーダガラス、ハイビー等のガラスビーズや、ＷＣ等の超硬ビーズ等の中から適宜選択し使用することができ、そのビーズ径は０．０３～１．５ｍｍφの範囲が好ましい。
　分散剤としては、例えば、アルキルアミン塩、ジアルキルアミン塩、テトラアルキルアンモニウム塩、ベンザルコニウム塩、アルキルピリジニウム塩、イミダゾリウム塩等のカチオン性分散剤や、脂肪酸塩、アルキル硫酸エステル塩、アルキルアリールスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、ジアルキルスルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、アルキルジアリールジスルホン酸塩、アルキルリン酸塩等のアニオン性分散剤や、アルキルベタインやアミドベタイン等の両性分散剤や、ノニオン性分散剤や、フッ素系分散剤や、シリコン系分散剤や、高分子系分散剤等を使用することができる。中でも、次に例示するようなノニオン性分散剤や高分子系分散剤が特に好ましい。
　ノニオン性分散剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類や、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類や、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート等のポリエチレングリコールジエステル類や、ソルビタン脂肪酸エステル類が好ましく用いられる。分散性や経済性の観点から、より好ましくは、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類およびポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類である。
　高分子系分散剤としては、例えば、ポリウレタン、ポリカルボン酸エステル、不飽和ポリアミド、ポリカルボン酸及びその塩、スチレン－アクリル酸共重合体、アクリル酸－アクリル酸エステル共重合体、スチレン－マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドンなどの水溶性樹脂や水溶性高分子化合物、ポリエステル系、変性ポリアクリレート、エチレンオキサイド／プロピレンオキサイド付加物等が好ましく用いられる。
　溶媒を使用することなく、該有機色素安定化剤、有機色素を、加熱により溶融させる等して流動性をもたせたマトリックス材料（溶媒を含まないマトリックス成分そのもの）中に練りこむ方法を採用してもよい。この場合には公知の溶融混練機を使用することが好ましい。一例を挙げると、短軸押出機を用いて溶融混練した後にストライド状に押し出し、ペレット状にカットすることで、成形材料としての光吸収部材用組成物を得ることができる。溶融混練時の温度は使用する有機色素安定化剤および有機色素の分解温度と、使用するマトリックス材料の融点またはガラス転移点の双方を考慮した上で適宜設定することができ、また混練時の圧力については、使用するマトリックス材料の物性に応じて適宜設定することができる。
　尚、溶融混練時に使用するマトリックス材料の好ましい例示としては、後述の基材の項で有機系基材として例示するものと同じものが挙げられる。
　また、本発明の効果を損なわない範囲内であれば、硬化剤、硬化触媒、架橋剤、カップリング剤、レベリング剤、潤滑剤、帯電防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、熱安定剤、難燃剤、フィラー、着色剤、光触媒材料、防錆剤、撥水剤、導電性材料、アンチブロッキング材、軟化剤、可塑剤、離型剤、蛍光増白剤、無機系光遮蔽剤等を適宜添加してもよい。
　また、重合性モノマーを用いる場合において、後述の光吸収部材を作製する際に重合工程を設ける場合には、別途重合開始剤を併用してもよい。重合開始剤としては特に限定されるものではなく、使用する重合性モノマーの種類に応じて適宜選択することができる。また、その使用量は、重合性モノマーおよび重合開始剤の活性に応じて適宜選択することができる。
　熱硬化の場合に使用されるラジカル重合開始剤としては、例えば、２，２’－アゾビスイソブチロニトリル、２，２’－アゾビス（２－メチルブチロニトリル）、２，２’－アゾビスイソバレロニトリル、２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）、１，１’－アゾビス（シクロヘキサノン－１－カルボニトリル）等のアゾ系化合物や、メチルエチルケトンパーオキシド、メチルイソブチルケトンパーオキシド、シクロヘキサノンパーオキサイド等のケトンパーオキシド類や、ベンゾイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、２，４－ジクロロベンゾイルパーオキシド等のジアシルパーオキシド等を挙げることができる。
　光硬化の場合に用いられるラジカル重合開始剤としては、例えば、ｐ－イソプロピル－α－ヒドロキシイソブチルフェノン、α－ヒドロキシイソブチルフェノン、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン、４’－メチルチオ－２，２－ジメチル－２－モルホリノアセトフェノン、ベンゾインイソブチルエーテル、２－クロロチオキサントン、２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルホスフィンオキサイド等を挙げることができる。
　熱硬化の場合に使用されるカチオン重合開始剤としては、例えば、三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯体、三フッ化ホウ素・アミン錯体、塩化アルミニウム、四塩化チタン、四塩化スズ、塩化鉄（ＩＩＩ）、塩化亜鉛等のルイス酸類や、アンモニウム塩、スルホニウム塩、オキソニウム塩、ホスホニウム塩等を挙げることができる。
　光硬化の場合に使用されるカチオン重合開始剤としては、例えば、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ホスホニウム塩等を挙げることができる。
　硬化剤としては、上記重合性モノマーとしてエポキシ系モノマーを使用する際に使用されるものとして、例えば、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水クロレンド酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ドデセニル無水コハク酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸などの酸無水物や、ジエチレントリアミン、トリエチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ジエチルアミノプロピルアミン、Ｎ－アミノエチルピペラジン、イソホロンジアミン、メンセンジアミン、ピペリジン、Ｎ，Ｎ－ジメチルピペラジンなどの脂肪族アミンや、ｍ－フェニレンジアミン、４，４’－ジアミノジフェニルメタン、４,４-ジアミノジフェニルスルホンなどの芳香族アミンや、２－メチルイミダゾール、２－エチル－４－メチルイミダゾールなどのイミダゾール類や、三フッ化ホウ素・アミン錯体、塩化アルミニウム、四塩化チタン、四塩化スズ、塩化鉄（ＩＩＩ）、塩化亜鉛等のルイス酸類や、アンモニウム塩、スルホニウム塩、オキソニウム塩、ホスホニウム塩や、ポリメルカプタン、ポリサルファイドなどを挙げることができる。
　中でも、酸無水物類が重合後のエポキシ樹脂の機械特性を向上する点で好ましく、操作性において常温で液状のものが好ましい。具体的には、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ドデセニル無水コハク酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸等を挙げることができる。
　常温で固体の酸無水物、例えば、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸等の酸無水物を使用する場合には、常温で液状の酸無水物に溶解させ、常温で液状の混合物として使用することが操作上好ましい。
　エポキシ系モノマーの上記硬化反応を促進するために、さらに硬化促進剤を使用することもできる。硬化促進剤は、単独または２種以上を混合して使用することができる。　例えば、２－エチル－４－メチルイミダゾール、２－メチルイミダゾール、１－シアノエチル－２－エチル－４－メチルイミダゾール、ベンジルジメチルアミン、２，４，６－トリス（ジアミノメチル）フェノール、１，８－ジアザビスシクロ（５，４，０）ウンデセン－７とそのオクチル酸塩などの第三級アミン類やイミダゾール類及び／ 又はそれらの有機カルボン酸塩や、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン、ベンジルトリフェニルホスホニウム臭素塩、ベンジルトリブチルホスホニウム臭素塩などのホスフィン類及び／ 又はそれらの第四級塩や、オクチル酸亜鉛、ラウリン酸亜鉛、ステアリン酸亜鉛、オクチル酸錫などの有機カルボン酸金属塩や、亜鉛とβ－ジケトンよりなるアセチルアセトン亜鉛キレート、ベンゾイルアセトン亜鉛キレート、ジベンゾイルメタン亜鉛キレート、アセト酢酸エチル亜鉛キレートなどの金属－ 有機キレート化合物や、芳香族スルホニウム塩などが挙げられる。
《光吸収部材用組成物を用いて作製される光吸収部材》
　かくして得られた光吸収部材用組成物を用いて光吸収部材を作製することができる。本発明における光吸収部材は主に以下の２種類の形態を示す。
（Ｉ）基材上に該有機色素安定化剤および有機色素を含有する光吸収膜を有する積層体としての光吸収部材
　前記で得られた光吸収部材用組成物を基材に塗布し、乾燥および/または硬化することにより、基材上に該有機色素安定化剤および有機色素を含有する光吸収膜を有する積層体としての光吸収部材を作製することができる。
　前記光吸収部材用組成物を基材に塗布する方法としては、特に限定されないが、例えばディップコート法、スピンコート法、フローコート法、ロールコート法、グラビアコート法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法、バーコート法、スプレー法、リバースコート法等の公知の塗布方法が挙げられる。
　基材は、所望によりフィルムでもボードでも良く、形状は限定されない。材質についても特に限定されるものではなく、用途に応じて適宜選択し、使用することができる。例えば、ガラス、金属板、セラミックス等の無機系基材や、ポリ（シクロ）オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリエーテルケトン系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂等の有機系基材が挙げられる。中でも、透明性の観点から、ガラス、ポリ（シクロ）オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリエーテルケトン系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂等が好ましい。
　また、層間剥離、コートムラを防ぐ目的で、塗布前に基材表面を洗浄してもよい。洗浄方法としては特に限定されず、基材の種類に応じて適宜選択し、実施することができる。通常、超音波洗浄、ＵＶ洗浄、セリ粉洗浄、酸洗浄、アルカリ洗浄、界面活性剤洗浄、有機溶剤洗浄等を単独で、または組み合わせて実施することができる。洗浄終了後は、洗浄剤が残留しないように濯ぎ及び乾燥を行う。
　塗布により形成される光吸収膜の膜厚は特に限定されるものではなく、用途に応じて適宜調整することができるが、通常０．０１～１０００μｍ、好ましくは０．０５～７００μｍ、さらに好ましくは０．１～５００μｍである。０．０１μｍ未満では、膜特性と光吸収能の両立が困難となるおそれがあり、１０００μｍを超えると、後述の乾燥工程において光吸収部材用組成物中の揮発成分が膜内部から蒸発し、膜表面に凹凸を生じたり、クラックを生じる可能性がある。
　前記光吸収部材用組成物が溶媒を含有する場合には、乾燥工程を設けてもよい。乾燥温度、乾燥時間は、用いる溶媒の種類によって適宜設定することができる。
　また、前記光吸収部材用組成物がマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーを含有する場合には、マトリックス膜の機械的強度等の物性を目的に見合うようにコントロールするため、養生工程や焼成工程を設けてもよい。
　例えば、マトリックス材料としてポリシロキサン系バインダーを用いた場合、前記乾燥工程の後に１００～５００℃、好ましくは１３０～４００℃での焼成工程を設けることによって膜自体の機械的強度を向上させることができる。
　すなわち、前記乾燥工程において、ゾル（シロキサンオリゴマー）同士が重縮合反応を起こすことでシロキサンネットワークを拡大し、ゲル体の骨格構造を形成する。このゲル体を焼成することでさらにシロキサンネットワークが拡大する。このシロキサンネットワーク（ポリシロキサンの分子量）の大きさにより、得られるマトリックス膜の機械的強度をコントロールすることができる。
　１００℃より低温では、機械的強度が十分向上しないおそれがあり、５００℃より高温では、マトリックス膜中に含有される該金属錯体および/または有機色素が熱分解してしまうおそれがある。
　焼成時間は、所望のマトリックス膜の物性に応じて適宜調整可能であるが、通常、１０分間～５時間、好ましくは３０分間～３時間である。１０分間より短いと機械的強度が十分向上しないおそれがあり、５時間より長いと、時間に見合う効果が得られず経済的でない。
　また、重合処理を設ける場合、加熱処理やＵＶ照射等の処理を設けることができる。加熱条件やＵＶ照射条件は、使用する重合開始剤や重合性モノマーの種類に応じて適宜選択することができる。
　尚、後述の剥離性基材を用い、この上にコーティングを施した後、所望の別基材に該コーティング層を転写して得られた積層体も（Ｉ）の形態に含まれる。別基材としては前記の基材が例示される。
　具体的な方法としては、例えば、光吸収部材用組成物を剥離性基材（例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム）上に塗布し、必要に応じて乾燥工程を設けた後、ラミネーター等を用いて別基材（例えば、ガラス基材）と貼り合わせ、その後剥離性基材を剥離することで、別基材上に有機色素安定化剤および有機色素を含有する光吸収膜を有する積層体としての光吸収部材を作製することができる。この場合にも必要に応じて、前記養生工程、焼成工程や重合処理等を設けてもよい。
　例えば、所望の基材上に異なる成分からなるマトリックス膜を多層化させた積層体を作製する場合に、このような転写法を用いることが有効である。すなわち、前記のように基材上に直接光吸収部材用組成物を塗布し、光吸収層を形成する方法で多層膜を形成しようとする場合、例えば、ｎ＋１層目（ｎは自然数を表す）を形成する際に使用する光吸収部材用組成物は、ｎ層目の構成成分が溶解したり膨潤したりしないものでなければならず、ｎ＋１層目を構成する光吸収部材用組成物の構成成分が制限されてしまうが、かかる転写法を用いることにより、これらの制限を回避することができる。
（II）該有機色素安定化剤および有機色素が含有された膜形態の光吸収部材
　前記で得られた光吸収部材用組成物を、剥離性基材上に塗布し、乾燥または硬化した後に、剥離性基材から該光吸収膜を剥離することによって得られる、該有機色素安定化剤および有機色素が含有された膜形態の光吸収部材を作製することができる。
　光吸収部材用組成物を剥離性基材に塗布する方法としては、特に限定されず、前記（Ｉ）で例示したものが挙げられる。
　前記剥離性基材は、所望によりフィルムでもボードでも良く、形状は限定されない。剥離性基材は、基材を構成する素材が剥離性を有するものであれば基材単独でもよいし、基材を構成する素材が剥離性を有しない場合、または剥離性が乏しい場合には基材に剥離性層を積層したものであってもよい。前者の基材を構成する素材が剥離性を有するものである場合には、ポリエチレン樹脂やポリプロピレン樹脂等のポリオレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂等のポリエステル系樹脂等を用いることができる。
　後者の、基材に剥離性層を積層したものである場合、基材としては前記（Ｉ）で例示したような基材を用いることができる。これら基材の表面に基材とは接着性を有し、紫外線吸収部材用組成物から作製される該金属錯体を含有する膜層に対しては剥離性を有する剥離性層を積層したものを使用することができる。
　剥離性層は、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂、剥離性物質をバインダー樹脂中に溶解または分散させたもの等で構成される。
　剥離性物質としては、特に制限されるものではなく、例えば、長鎖アルキル化合物、カルナバワックスやモンタンワックスや酸化ポリエチレンや非酸化ポリエチレン等の合成ワックス等が挙げられる。
　これらから選択される少なくとも１種以上を溶媒（分散媒）中に溶解、分散、希釈し、得られた組成物を基材上に公知の方法で塗布または印刷した後、乾燥または硬化することによって基材上に剥離性層を形成することができる。剥離性層の膜厚は、０．５μｍ～１０μｍ程度であることが好ましい。
　光吸収部材用組成物を剥離性基材上に塗布することによって形成される該有機色素安定化剤および有機色素が含有された膜の膜厚は特に限定されるものではなく、用途に応じて適宜調整することができるが、通常０．０１～１０００μｍ、好ましくは０．０５～７００μｍ、さらに好ましくは０．１～５００μｍである。０．０１μｍ未満では、膜特性と光吸収能の両立が困難となるおそれがあり、１０００μｍを超えると、後述の乾燥工程において光吸収部材用組成物中の揮発成分が膜内部から蒸発し、膜表面に凹凸を生じたり、クラックを生じる可能性がある。
　（Ｉ）と同じく、前記光吸収部材用組成物が溶媒を含有する場合には、乾燥工程を設けてもよく、乾燥温度、乾燥時間は、用いる溶媒の種類によって適宜設定することができる。
　また、前記光吸収部材用組成物がマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーを含有する場合には、マトリックス膜の機械的強度等の物性を目的に見合うようにコントロールするため、養生工程や焼成工程を設けてもよい。
　例えば、マトリックス材料としてポリシロキサン系バインダーを用いた場合、前記乾燥工程の後に１００～５００℃、好ましくは１３０～４００℃での焼成工程を設けることによって膜自体の機械的強度を向上させることができる。
　すなわち、前記乾燥工程において、ゾル（シロキサンオリゴマー）同士が重縮合反応を起こすことでシロキサンネットワークを拡大し、ゲル体の骨格構造を形成する。このゲル体を焼成することでさらにシロキサンネットワークが拡大する。このシロキサンネットワーク（ポリシロキサンの分子量）の大きさにより、得られるマトリックス膜の機械的強度をコントロールすることができる。
　１００℃より低温では、機械的強度が十分向上しないおそれがあり、５００℃より高温では、マトリックス膜中に含有される該金属錯体および/または有機色素が熱分解してしまうおそれがある。
　焼成時間は、所望のマトリックス膜の物性に応じて適宜調整可能であるが、通常、１０分間～５時間、好ましくは３０分間～３時間である。１０分間より短いと機械的強度が十分向上しないおそれがあり、５時間より長いと、時間に見合う効果が得られず経済的でない。
　また、重合処理を設ける場合、加熱処理やＵＶ照射等の処理を設けることができる。加熱条件やＵＶ照射条件は、使用する重合開始剤や重合性モノマーの種類に応じて適宜選択することができる。
　また、前記光吸収部材用組成物の項で述べたように、該有機色素安定化剤、有機色素を、加熱により溶融させる等して流動性をもたせたマトリックス材料（溶媒を含まないマトリックス成分そのもの）中に練りこむ方法を採用する場合には、前記光吸収部材用組成物の項で挙げた一例に倣えば、得られたペレット状の光吸収部材用組成物を、シート押出機を用いて成形することでシート状の光吸収部材を得ることができる。
　以下に実施例および比較例を挙げ、本発明を具体的に説明するが、本発明は、これら実施例によって何ら限定されるものではない。
製造例１
　フェノール１８．８ｇ（０．２モル）を５０℃まで加熱し溶融させ、ここに２－アミノベンゾチアゾール４５．１ｇ（０．３モル）を加えた後、さらに１８０℃まで加熱し、２０時間保温した。その後、反応液を８０℃まで冷却し、エタノール６０ｇを滴下し、さらに１時間保温した。その後、室温まで冷却し、析出物を濾別し、エタノールで洗浄後、乾燥し、配位子として白色の２，２’－イミノビスベンゾチアゾール（Ｌ１：下記表１参照）３２．１ｇを得た。収率は２－アミノベンゾチアゾールに対して７５．５％であった。
製造例２
　製造例１において２－アミノベンゾチアゾール４５．１ｇ（０．３モル）に代えて２－アミノ－５，６－ジメチルベンゾチアゾール５３．５ｇ（０．３モル）を用いた以外は製造例１と同様にして、配位子として、白色の２，２’－イミノビス（５，６－ジメチルベンゾチアゾール）（Ｌ２：下記表１参照）４２．１ｇを得た。収率は２－アミノ－５，６－ジメチルベンゾチアゾールに対して８２．７％であった。
製造例３
　製造例１において２－アミノベンゾチアゾール４５．１ｇ（０．３モル）に代えて２－アミノ－６－クロロベンゾチアゾール５５．４ｇ（０．３モル）を用いた以外は製造例１と同様にして、配位子として、白色の２，２’－イミノビス（６－クロロベンゾチアゾール）（Ｌ３：下記表１参照）３７．２ｇを得た。収率は２－アミノ－６－クロロベンゾチアゾールに対して７０．４％であった。
製造例４
　製造例１において２－アミノベンゾチアゾール４５．１ｇ（０．３モル）に代えて２－アミノ－６－メトキシベンゾチアゾール５４．１ｇ（０．３モル）を用いた以外は製造例１と同様にして、配位子として、白色の２，２’－イミノビス（６－メトキシベンゾチアゾール）（Ｌ４：下記表１参照）４１．７ｇを得た。収率は２－アミノ－６－メトキシベンゾチアゾールに対して８１．０％であった。
製造例５
　２－アミノベンゾチアゾール９０．１ｇ（０．６０モル）をＤＭＦ５６６ｇに溶解させ、氷浴下で２０モル/Ｌの水酸化ナトリウム水溶液３６ｍＬ（水酸化ナトリウム０．７２モル相当）を滴下し、次いで二硫化炭素９１．４ｇ（１．２モル）を滴下し、さらに２０モル/Ｌの水酸化ナトリウム水溶液３６ｍＬ（水酸化ナトリウム０．７２モル相当）を滴下した後に、ヨウ化メチル１７８．８ｇ（１．２６モル）を滴下した。室温で２時間攪拌した後に、この反応液を水３０００ｇの中に滴下した。析出物を濾別し、水で洗浄後、乾燥し、Ｓ，Ｓ’－ジメチル－Ｎ－（２－ベンゾチアゾリル）カルボンイミドジチオエート１０７．２ｇを得た。収率は２－アミノベンゾチアゾールに対して７０．２％であった。
　２－アミノフェノール２１．８ｇ（０．２０モル）をＤＭＦ９４４ｇに溶解させ、ここに５モル/Ｌの水酸化ナトリウム水溶液４０ｍＬ（水酸化ナトリウム０．２０モル相当）を加え、室温で３０分間攪拌し、次いでここに前記の得られたＳ，Ｓ’－ジメチル－Ｎ－（２－ベンゾチアゾリル）カルボンイミドジチオエート５０．９ｇ（０．２０モル）をＤＭＦ１４１６ｇに溶解させた溶液を滴下した。次いで１５３℃まで昇温し、窒素雰囲気下で６時間還流させた後、室温まで冷却し、この反応液を水２０００ｇ中に滴下した。析出物を濾別し、水で洗浄後、乾燥し、２－（２－ベンゾチアゾリルアミノ）ベンゾオキサゾール（Ｌ５：下記表１参照）３０．０ｇを得た。収率は２－アミノフェノールに対して５６．１％であった。
製造例６
　製造例５において２－アミノベンゾチアゾール９０．１ｇ（０．６０モル）に代えて、２－アミノ－６－メチルベンゾチアゾール９８．５ｇ（０．６０モル）を用いた以外は製造例５と同様にして、Ｓ，Ｓ’－ジメチル－Ｎ－［２－（６－メチルベンゾチアゾリル）］カルボンイミドジチオエート１１４．２ｇを得た。収率は２－アミノ－６－メチルベンゾチアゾールに対して７０．９％であった。
　製造例５においてＳ，Ｓ’－ジメチル－Ｎ－（２－ベンゾチアゾリル）カルボンイミドジチオエート５０．９ｇ（０．２０モル）に代えて、ここで得られたＳ，Ｓ’－ジメチル－Ｎ－［２－（６－メチルベンゾチアゾリル）］カルボンイミドジチオエート５３．７ｇ（０．２０モル）を用いた以外は製造例５と同様にして、２－［２－（６－メチルベンゾチアゾリル）アミノ］ベンゾオキサゾール（Ｌ６：下記表１参照）２９．４ｇを得た。収率はＳ，Ｓ’－ジメチル－Ｎ－［２－（６－メチルベンゾチアゾリル）］カルボンイミドジチオエートに対して５２．３％であった。
製造例７
　製造例５において２－アミノフェノール２１．８ｇ（０．２０モル）に代えて、２－アミノ－４－クロロフェノール２８．７ｇ（０．２０モル）を用いた以外は製造例５と同様にして、５－クロロ－２－（２－ベンゾチアゾリルアミノ）ベンゾオキサゾール（Ｌ７：下記表１参照）３２．４ｇを得た。収率は２－アミノ－４－クロロフェノールに対して５３．７％であった。
製造例８
　ｏ－フェニレンジアミン２１．６ｇ（０．２モル）をＤＭＦ９４４ｇに溶解させ、ここにＳ，Ｓ’－ジメチル－Ｎ－（２－ベンゾチアゾリル）－カルボンイミドジチオエート５０．９ｇ（０．２０モル）をＤＭＦ１２５８ｇに溶解させた溶液を滴下した。次いで１５３℃まで昇温し、窒素雰囲気下で１３時間還流させた後、０℃まで冷却した。ここに水２０００ｇを滴下し、析出物を濾別し、水で洗浄後、乾燥し、２－（２－ベンゾチアゾリルアミノ）ベンゾイミダゾール（Ｌ８：下記表１参照）３２．０ｇを得た。収率はｏ－フェニレンジアミンに対して６０．１％であった。
製造例９
　エチルシアノアセテート１０１．８ｇ（０．９０モル）と２－アミノチオフェノール１１２．７ｇ（０．９０モル）を混合し、窒素雰囲気下において１２０℃で２時間保温した。この反応液を室温まで冷却した後、黄色のオイルとしてエチル－２－ベンゾチアゾリルアセテート１８５．７ｇを得た。収率は２－アミノチオフェノールに対して９３．２％であった。
　Ｎ－メチル－ｏ－フェニレンジアミン７３．３ｇ（０．６０モル）と、前で得られたエチル－２－ベンゾチアゾリルアセテート１３２．８ｇ（０．６０モル）を混合し、窒素雰囲気下において１６０℃で６時間還流した。このとき副生するエタノールを留去しながら還流した。反応液を室温まで冷却し、ジエチルエーテル９００ｇを加え、析出した黄色の固体を濾別した。濾別した黄色固体に２０％塩酸１５００ｇを加え溶解させた。ここに活性炭を加え、室温で３０分間攪拌後、濾過し、得られた濾液がｐＨ８になるまで炭酸水素ナトリウム水溶液を滴下し中和したところ、沈殿物が得られた。これを濾別し、水６００ｇ、クロロホルム６００ｇを加え、攪拌し、分液処理によりクロロホルム層を取り出した。クロロホルムを留去し、さらに乾燥することで、微黄色の（２－ベンゾチアゾリル）（２－（Ｎ－メチルベンゾイミダゾリル））メタン（Ｌ９：下記表１参照）３６．９ｇを得た。収率はＮ－メチル－ｏ－フェニレンジアミンに対して２２．０％であった。
製造例１０
　２－アミノフェノール３２．７ｇ（０．３０モル）とマロン酸１５．６ｇ（０．１５モル）を混合し、この混合液を攪拌下のポリリン酸３９０ｇ中に７０℃に保温しながら加える。次にこの反応液を１５０℃まで昇温し、３時間保温した後、室温まで冷却した後に水を滴下した。析出物を濾別し、水で洗浄後、乾燥し、ビス（２－ベンゾオキサゾリル）メタン（Ｌ１０：下記表１参照）２５．３ｇを得た。収率は２－アミノフェノールに対して６７．４％であった。
製造例１１
　製造例１０において２－アミノフェノール３２．７ｇ（０．３０モル）に代えて、２－アミノチオフェノール３７．６ｇ（０．３０モル）を用いた以外は製造例１０と同様にして、ビス（２－ベンゾチアゾリル）メタン（Ｌ１１：下記表１参照）３８．２ｇを得た。収率は２－アミノチオフェノールに対して９０．２％であった。
製造例１２
　Ｎ－メチル－ｏ－フェニレンジアミン１１０．０ｇ（０．９０モル）とマロン酸ジエチル７２．１ｇ（０．４５モル）を混合し、この混合液を窒素雰囲気下において１５５℃で１１時間還流した。析出物を濾別し、ジエチルエーテルで洗浄後、２０％塩酸９００ｍＬを加え溶解させた。ここに活性炭を加え、室温で３０分間攪拌後、濾過し、得られた濾液がｐＨ８になるまで炭酸水素ナトリウム水溶液を滴下したところ、沈殿を生じた。これを濾別し灰色固体を得た。この灰色固体をＩＰＡから再結晶することにより精製し、乾燥することで、白色のビス［２－（Ｎ－メチルベンゾイミダゾリル）］メタン（Ｌ１２：下記表１参照）３８．１ｇを得た。収率はＮ－メチル－ｏ－フェニレンジアミンに対して３０．６％であった。
製造例１３
　製造例１で得られた２，２’－イミノビスベンゾチアゾール（Ｌ１：下記表１参照）１０ｇ（０．０３５モル）をクロロスルホン酸７０．１ｇ(０．６０２モル)に添加し、混合物を室温で１８時間攪拌した。さらに塩化チオニル１０ｇ（０．０８４モル）を添加し５０℃で１時間攪拌した後室温まで冷却した。この混合物を４００ｇの氷の上に注ぎ、吸引ろ過し残った氷と一緒にジイソブチルアミン１３．１ｇ（０．１０１モル）と即座に攪拌した。室温まで暖めた後、約１ｍＬの５０重量％の水酸化ナトリウム溶液によって混合物をアルカリ性にした。固体を吸引ろ過し、水で洗浄後、乾燥することで薄黄色の２，２’－イミノビス［６－（Ｎ，Ｎ－ジイソブチルアミノスルホニル）ベンゾチアゾール］（Ｌ１３：下記表１参照）１８．６ｇを得た。収率は２，２’－イミノビスベンゾチアゾールに対して８０．０％であった。
製造例１４
　製造例１３においてジイソブチルアミン１３．１ｇ（０．１０１モル）に代えて、モルホリン８．８ｇ（０．１０１モル）を用いた以外は製造例１３と同様にして、２，２’－イミノビス（６－モルホリノスルホニルベンゾチアゾール）（Ｌ１４：下記表１参照）１５．４ｇを得た。収率は２，２’－イミノビスベンゾチアゾールに対して７５．５％であった。
　
製造例１５
　製造例１３においてジイソブチルアミン１３．１ｇ（０．１０１モル）に代えて、モルホリン８．８ｇ（０．１０１モル）を用いた以外は製造例１３と同様にして、２，２’－イミノビス（６－モルホリノスルホニルベンゾチアゾール）（Ｌ１４：下記表１参照）１５．４ｇを得た。収率は２，２’－イミノビスベンゾチアゾールに対して７５．５％であった。
　得られた各配位子の構造式を表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000013
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000014
製造例１５
　製造例１で得られた配位子（Ｌ１）２８．３ｇ（０．１モル）を温ＤＭＦ２５０ｇ（７０℃）に溶解させ、ここに酢酸コバルト・４水和物１２．５ｇ（０．０５モル）を添加した。この反応液を７０℃で１時間攪拌し、室温まで冷却した後メタノール３００ｇを滴下した。生じた析出物を濾別し、メタノールで洗浄後、乾燥し、橙色のコバルト錯体（Ｃ１－Ｃｏ）２８．５ｇを得た。収率は配位子（Ｌ１）に対して９１．４％であった。
製造例１６
　製造例１５において配位子（Ｌ１）２８．３ｇ（０．１モル）に代えて、配位子（Ｌ２）３３．９ｇ（０．１モル）を用いた以外は製造例１５と同様にして、橙色のコバルト錯体（Ｃ２－Ｃｏ）３２．３ｇを得た。収率は配位子（Ｌ２）に対して８７．８％であった。
製造例１７
　製造例１５において配位子（Ｌ１）２８．３ｇ（０．１モル）に代えて、配位子（Ｌ３）３５．２ｇ（０．１モル）を用い、さらに酢酸コバルト・４水和物１２．５ｇ（０．０５モル）に代えて、酢酸ニッケル・４水和物１２．４ｇ（０．０５モル）を用いた以外は製造例１５と同様にして、赤紫色のニッケル錯体（Ｃ３－Ｎｉ）２８．０ｇを得た。収率は配位子（Ｌ３）に対して７３．６％であった。
製造例１８
　製造例１５において配位子（Ｌ１）２８．３ｇ（０．１モル）に代えて、配位子（Ｌ４）３４．３ｇ（０．１モル）を用い、さらに酢酸コバルト・４水和物１２．５ｇ（０．０５モル）に代えて、酢酸銅・１水和物１０．０ｇ（０．０５モル）を用いた以外は製造例１５と同様にして、灰緑色の銅錯体（Ｃ４－Ｃｕ）２６．２ｇを得た。収率は配位子（Ｌ４）に対して７０．０％であった。
製造例１９
　製造例１７において配位子（Ｌ３）３５．２ｇ（０．１モル）に代えて、配位子（Ｌ５）２６．７ｇ（０．１モル）を用いた以外は製造例１９と同様にして、赤褐色のニッケル錯体（Ｃ５－Ｎｉ）２１．７ｇを得た。収率は配位子（Ｌ５）に対して７３．５％であった。
製造例２０
　製造例１５において配位子（Ｌ１）２８．３ｇ（０．１モル）に代えて、配位子（Ｌ６）２８．１ｇ（０．１モル）を用いた以外は製造例１５と同様にして、黄色のコバルト錯体（Ｃ６－Ｃｏ）１６．３ｇを得た。収率は配位子（Ｌ６）に対して５２．６％であった。
製造例２１
　製造例１７において配位子（Ｌ３）３５．２ｇ（０．１モル）に代えて、配位子（Ｌ７）３０．２ｇ（０．１モル）を用いた以外は製造例１７と同様にして、赤紫色のニッケル錯体（Ｃ７－Ｎｉ）２２．５ｇを得た。収率は配位子（Ｌ７）に対して６８．２％であった。
製造例２２
　製造例１８において配位子（Ｌ４）３４．３ｇ（０．１モル）に代えて、配位子（Ｌ８）２６．６ｇ（０．１モル）を用いた以外は製造例１８と同様にして、緑色の銅錯体（Ｃ８－Ｃｕ）１６．６ｇを得た。収率は配位子（Ｌ８）に対して５５．９％であった。
製造例２３
　製造例１５において配位子（Ｌ１）２８．３ｇ（０．１モル）に代えて、配位子（Ｌ９）２７．９ｇ（０．１モル）を用いた以外は製造例１５と同様にして、黄色のコバルト錯体（Ｃ９－Ｃｏ）２１．３ｇを得た。収率は配位子（Ｌ９）に対して６９．１％であった。
製造例２４
　製造例１５において配位子（Ｌ１）２８．３ｇ（０．１モル）に代えて、配位子（Ｌ１０）２５．０ｇ（０．１モル）を用いた以外は製造例１５と同様にして、赤色のコバルト錯体（Ｃ１０－Ｃｏ）２０．３ｇを得た。収率は配位子（Ｌ１０）に対して７２．８％であった。
製造例２５
　製造例１５において配位子（Ｌ１）２８．３ｇ（０．１モル）に代えて、配位子（Ｌ１１）２８．２ｇ（０．１モル）を用いた以外は製造例１５と同様にして、紫色のコバルト錯体（Ｃ１１－Ｃｏ）２２．１ｇを得た。収率は配位子（Ｌ１１）に対して７１．１％であった。
製造例２６
　製造例１７において配位子（Ｌ３）３５．２ｇ（０．１モル）に代えて、配位子（Ｌ１２）２７．６ｇ（０．１モル）を用いた以外は製造例１７と同様にして、灰色のニッケル錯体（Ｃ１２－Ｎｉ）２０．８ｇを得た。収率は配位子（Ｌ１２）に対して６８．３％であった。
製造例２７
　製造例１３で得られた配位子（Ｌ１３）４．００ｇ（０．００６モル）を温ＤＭＦ２４ｇ（７０℃）に溶解させ、ここに酢酸ニッケル・４水和物０．７５ｇ（０．００３モル）を添加した。この混合物を７０℃で１時間攪拌し、室温まで冷却した後メタノール２０ｇを滴下した。生じた析出物を濾別し、メタノールで洗浄後、乾燥し、黄緑色のニッケル錯体（Ｃ１３－Ｎｉ）３．５８ｇを得た。収率は配位子（Ｌ１３）に対して８５．９％であった。　
製造例２８
　製造例２７において酢酸ニッケル・４水和物０．７５ｇ（０．００３モル）に代えて酢酸コバルト・４水和物０．７５ｇ（０．００３モル）を用いた以外は製造例２７と同様にして、黄色のコバルト錯体（Ｃ１３－Ｃｏ）３．７１ｇを得た。収率は配位子（Ｌ１３）に対して８９．０％であった。
製造例２９
　製造例２７において酢酸ニッケル・４水和物０．７５ｇ（０．００３モル）に代えて酢酸銅・１水和物０．６０ｇ（０．００３モル）を用いた以外は製造例２７と同様にして、緑色の銅錯体（Ｃ１３－Ｃｕ）３．５５ｇを得た。収率は配位子（Ｌ１３）に対して８４．９％であった。
製造例３０
　製造例２７において配位子（Ｌ１３）４．００ｇ（０．００６モル）に代えて配位子（Ｌ１４）３．４９ｇ（０．００６モル）を用いた以外は製造例２７と同様にして、黄色のコバルト錯体（Ｃ１４－Ｃｏ）３．１４ｇを得た。収率は配位子（Ｌ１４）に対して８５．８％であった。
　得られた各金属錯体の構造式を表２に示す。
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（無機系バインダー：シリコンアルコキシドのゾル溶液の調製）
　尚、以下に記載のシリコンアルコキシドのゾル溶液の加熱残分とは、ガラス基材上にゾル溶液の液滴をのせ２００℃で３０分間加熱した際にガラス基材上に残った固形分の重量を、前記のガラス基材上にのせたゾル溶液の液滴の重量で除した値である。それぞれの試料について３回ずつ測定し、得られた値の平均値を示した。
製造例３１
　メチルトリエトキシシラン４９．９ｇ（０．２８モル）と、フェニルトリエトキシシラン２４．０ｇ（０．１０モル）と、ＭＥＫ８０ｇとを混合し、室温で攪拌し、溶液を得た。この溶液に、触媒としてギ酸６．９ｇ （０．１５モル）および水２５．０ｇを添加し、室温で３０分間攪拌することにより、加水分解を行った。次に加水分解後の溶液を７０ ℃まで昇温し、４時間保温し、加水分解・重縮合反応を進行させ、さらに減圧下で、副生したアルコールと水を留去しつつ、さらに１時間加水分解・重縮合反応を進行させることで、無機系バインダー：ポリシロキサン系バインダー前駆体としての、シリコンアルコキシドのゾル/ＭＥＫ溶液（シロキサンオリゴマー/ＭＥＫ溶液，加熱残分４２．５％）を得た。
（光吸収部材用組成物およびこれを用いた光吸収部材）
実施例１
　有機系バインダーとしてアクリル酸メチル－メタクリル酸エチル共重合体（ローム・アンド・ハース社製の商品名；パラロイド Ｂ－７２）０．７９ｇをＭＥＫ８．８ｇに溶解させ、これにシアニン系色素Ｄ１（下記表３参照、ＦＥＷ　Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製のＳ０３３０）７．９ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）と、製造例１５で得られた金属錯体（Ｃ１－Ｃｏ）１０．８ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）を加え、溶解させることにより、溶液形態の光吸収部材用組成物Ａを得た。
　この光吸収部材用組成物Ａを、バーコーター（１００μｍ）を用いてポリエチレンテレフタレートフィルム基材上に塗布した後、室温下、窒素雰囲気において５分間予備乾燥させた。その後８０℃で３分間乾燥し、光吸収部材Ａを得た。コーティング膜の膜厚は７μｍであった。
実施例２
　実施例１において、シアニン系色素Ｄ１（下記表３参照、ＦＥＷ　Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製のＳ０３３０）７．９ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）に代えてシアニン系色素Ｄ２（下記表３参照、ＦＥＷ　Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製のＳ０２３０）７．０ｍｇ（０．０１１９ｍｍｏｌ）を用い、さらに製造例１５で得られた金属錯体（Ｃ１－Ｃｏ）１０．８ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）に代えて製造例１６で得られた金属錯体（Ｃ２－Ｃｏ）８．７ｍｇ（０．０１１９ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｂ、および光吸収部材Ｂを得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。
実施例３
　実施例１において、シアニン系色素Ｄ１（下記表３参照、ＦＥＷ　Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製のＳ０３３０）７．９ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）に代えてシアニン系色素Ｄ３（下記表３参照、Ａｍｅｒｉｃａｎ　ＤｙｅＳｏｕｒｃｅ社製のＡＤＳ８１７ＢＩ）６．９ｍｇ（０．００８６８ｍｍｏｌ）を用い、さらに製造例１５で得られた金属錯体（Ｃ１－Ｃｏ）１０．８ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）に代えて製造例１７で得られた金属錯体（Ｃ３－Ｎｉ）６．６ｍｇ（０．００８６８ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｃ、および光吸収部材Ｃを得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。
実施例４
　実施例１において、ＭＥＫ８．８ｇに代えてクロロホルム１６，２ｇを用い、またシアニン系色素Ｄ１（下記表３参照、ＦＥＷ　Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製のＳ０３３０）７．９ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）に代えてシアニン系色素Ｄ４（下記表３参照、ＦＥＷ　Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製のＳ０９４６）１３．０ｍｇ（０．０１６９ｍｍｏｌ）を用い、さらに製造例１５で得られた金属錯体（Ｃ１－Ｃｏ）１０．８ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）に代えて製造例１８で得られた金属錯体（Ｃ４－Ｃｕ）１２．７ｍｇ（０．０１６９ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｄ、および光吸収部材Ｄを得た。コーティング膜の膜厚は９μｍであった。
実施例５
　実施例１において、シアニン系色素Ｄ１（下記表３参照、ＦＥＷ　Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製のＳ０３３０）７．９ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）に代えてスクアリリウム系色素Ｄ５（下記表３参照、Ｓｅｎｓｉｅｎｔ Ｉｍａｇｉｎｇ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製のＳＴ３４５）５．７ｍｇ（０．０１７６ｍｍｏｌ）を用い、さらに製造例１５で得られた金属錯体（Ｃ１－Ｃｏ）１０．８ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）に代えて製造例１９で得られた金属錯体（Ｃ５－Ｎｉ）１０．４ｍｇ（０．０１７６ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｅ、および光吸収部材Ｅを得た。コーティング膜の膜厚は７μｍであった。
実施例６
　実施例１において、シアニン系色素Ｄ１（下記表３参照、ＦＥＷ　Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製のＳ０３３０）７．９ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）に代えてジイモニウム系色素Ｄ６（下記表３参照、Ｓｅｎｓｉｅｎｔ Ｉｍａｇｉｎｇ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製のＳＴ１２１０）２５．０ｍｇ（０．０２２３ｍｍｏｌ）を用い、さらに製造例１５で得られた金属錯体（Ｃ１－Ｃｏ）１０．８ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）に代えて製造例２０で得られた金属錯体（Ｃ６－Ｃｏ）１３．８ｍｇ（０．０２２３ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｆ、および光吸収部材Ｆを得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。
実施例７
　シアニン系色素Ｄ１（下記表３参照、ＦＥＷ　Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製のＳ０３３０）８．７ｍｇ（０．０１９０ｍｍｏｌ）と製造例２１で得られた金属錯体（Ｃ７－Ｎｉ）１２．６ｍｇ（０．０１９０ｍｍｏｌ）をＭＥＫ０．７ｇに溶解させ、これに製造例３１で得られたシロキサンオリゴマー/ＭＥＫ溶液を加え、溶解・混合することにより、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｇを得た。
　この光吸収部材用組成物Ｇを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ－３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布した後、室温下、窒素雰囲気において５分間予備乾燥させた。その後、２００℃で３０分間焼成し、光吸収部材Ｇを得た。コーティング膜の膜厚は７μｍであった。
実施例８
　実施例７において、シアニン系色素Ｄ１（下記表３参照、ＦＥＷ　Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製のＳ０３３０）８．７ｍｇ（０．０１９０ｍｍｏｌ）に代えてシアニン系色素Ｄ２（下記表３参照、ＦＥＷ　Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製のＳ０２３０）７．８ｍｇ（０．０１３２ｍｍｏｌ）を用い、さらに製造例２１で得られた金属錯体（Ｃ７－Ｎｉ）１２．６ｍｇ（０．０１９０ｍｍｏｌ）に代えて製造例２２で得られた金属錯体（Ｃ８－Ｃｕ）７．８ｍｇ（０．０１３２ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例７と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｈ、および光吸収部材Ｈを得た。コーティング膜の膜厚は７μｍであった。
実施例９
　実施例７において、シアニン系色素Ｄ１（下記表３参照、ＦＥＷ　Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製のＳ０３３０）８．７ｍｇ（０．０１９０ｍｍｏｌ）に代えてシアニン系色素Ｄ３（下記表３参照、Ａｍｅｒｉｃａｎ　ＤｙｅＳｏｕｒｃｅ社製のＡＤＳ８１７ＢＩ）７．６ｍｇ（０．００９５５６ｍｍｏｌ）を用い、製造例２１で得られた金属錯体（Ｃ７－Ｎｉ）１２．６ｍｇ（０．０１９０ｍｍｏｌ）に代えて製造例２３で得られた金属錯体（Ｃ９－Ｃｏ）５．９ｍｇ（０．００９５５６ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例７と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｉ、および光吸収部材Ｉを得た。コーティング膜の膜厚は７μｍであった。
実施例１０
　実施例７において、シアニン系色素Ｄ１（下記表３参照、ＦＥＷ　Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製のＳ０３３０）８．７ｍｇ（０．０１９０ｍｍｏｌ）に代えてスクアリリウム系色素Ｄ５（下記表３参照、Ｓｅｎｓｉｅｎｔ Ｉｍａｇｉｎｇ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製のＳＴ３４５）６．５ｍｇ（０．０２００ｍｍｏｌ）を用い、さらに製造例２１で得られた金属錯体（Ｃ７－Ｎｉ）１２．６ｍｇ（０．０１９０ｍｍｏｌ）に代えて製造例２４で得られた金属錯体（Ｃ１０－Ｃｏ）１１．２ｍｇ（０．０２００ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例７と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｊ、および光吸収部材Ｊを得た。コーティング膜の膜厚は７μｍであった。
実施例１１
　実施例７において、シアニン系色素Ｄ１（下記表３参照、ＦＥＷ　Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製のＳ０３３０）８．７ｍｇ（０．０１９０ｍｍｏｌ）に代えてジイモニウム系色素Ｄ６（下記表３参照、Ｓｅｎｓｉｅｎｔ Ｉｍａｇｉｎｇ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製のＳＴ１２１０）２７．２ｍｇ（０．０２４３ｍｍｏｌ）を用い、さらに製造例２１で得られた金属錯体（Ｃ７－Ｎｉ）１２．６ｍｇ（０．０１９０ｍｍｏｌ）に代えて製造例２５で得られた金属錯体（Ｃ１１－Ｃｏ）１５．１ｍｇ（０．０２４３ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例７と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｋ、および光吸収部材Ｋを得た。コーティング膜の膜厚は７μｍであった。
実施例１２
　シアニン系色素Ｄ４（下記表３参照、ＦＥＷ　Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製のＳ０９４６）１４．０ｍｇ（０．０１８２ｍｍｏｌ）と製造例２６で得られた金属錯体（Ｃ１２－Ｎｉ）１１．１ｍｇ（０．０１８２ｍｍｏｌ）をシクロペンタノン１．９ｇに溶解させ、これに重合性モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート０．７ｇ、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の商品名：イルガキュア８１９）１３０ｍｇを加え、溶解・混合することにより、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｌを得た。
　この光吸収部材用組成物Ｌを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ－３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布した後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた。その後１４０℃で３分間乾燥し、さらに露光装置（ナノテック株式会社製の商品名：マスクアライナーＬＡ４１０ｓ、株式会社三永電機製作所製の商品名：超高圧水銀ランプＬ２５０１Ｌ）を用いて露光（単色化なし、波長３６５ｎｍにおける光強度４０ｍＷ/ｃｍ２、２．５秒間照射）することによって硬化させ、紫外線吸収部材Ｌを得た。コーティング膜の膜厚は９μｍであった。
実施例１３
　実施例３において、製造例１７で得られた金属錯体（Ｃ３－Ｎｉ）６．６ｍｇ（０．００８６８ｍｍｏｌ）に代えて製造例２７で得られた金属錯体（Ｃ１３－Ｎｉ）１２．０ｍｇ（０．００８６８ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例３と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｍ、および光吸収部材Ｍを得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。
実施例１４
　実施例１において、製造例１５で得られた金属錯体（Ｃ１－Ｃｏ）１０．８ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）に代えて製造例２８で得られた金属錯体（Ｃ１３－Ｃｏ）２４．０ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｎ、および光吸収部材Ｎを得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。
実施例１５
　実施例２において、製造例１６で得られた金属錯体（Ｃ２－Ｃｏ）８．７ｍｇ（０．０１１９ｍｍｏｌ）に代えて製造例２８で得られた金属錯体（Ｃ１３－Ｃｏ）１６．５ｍｇ（０．０１１９ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例２と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｏ、および光吸収部材Ｏを得た。コーティング膜の膜厚は７μｍであった。
実施例１６
　実施例３において、製造例１７で得られた金属錯体（Ｃ３－Ｎｉ）６．６ｍｇ（０．００８６８ｍｍｏｌ）に代えて製造例２８で得られた金属錯体（Ｃ１３－Ｃｏ）１２．０ｍｇ（０．００８６８ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例３と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｐ、および光吸収部材Ｐを得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。
実施例１７
　実施例４において、製造例１８で得られた金属錯体（Ｃ４－Ｃｕ）１２．７ｍｇ（０．０１６９ｍｍｏｌ）に代えて製造例２８で得られた金属錯体（Ｃ１３－Ｃｏ）２３．５ｍｇ（０．０１６９ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例４と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｑ、および光吸収部材Ｑを得た。コーティング膜の膜厚は９μｍであった。
実施例１８
　実施例５において、製造例１９で得られた金属錯体（Ｃ５－Ｎｉ）１０．４ｍｇ（０．０１７６ｍｍｏｌ）に代えて製造例２８で得られた金属錯体（Ｃ１３－Ｃｏ）２４．４ｍｇ（０．０１７６ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例５と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｒ、および光吸収部材Ｒを得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。
実施例１９
　実施例６において、製造例２０で得られた金属錯体（Ｃ６－Ｃｏ）１３．８ｍｇ（０．０２２３ｍｍｏｌ）に代えて製造例２８で得られた金属錯体（Ｃ１３－Ｃｏ）４０．０ｍｇ（０．０２２３ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例６と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｓ、および光吸収部材Ｓを得た。コーティング膜の膜厚は７μｍであった。
実施例２０
　実施例１において、製造例１５で得られた金属錯体（Ｃ１－Ｃｏ）１０．８ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）に代えて製造例２９で得られた金属錯体（Ｃ１３－Ｃｕ）２４．１ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｔ、および光吸収部材Ｔを得た。コーティング膜の膜厚は７μｍであった。
実施例２１
　実施例１０において、製造例２４で得られた金属錯体（Ｃ１０－Ｃｏ）１１．２ｍｇ（０．０２００ｍｍｏｌ）に代えて製造例３０で得られた金属錯体（Ｃ１４－Ｃｏ）２４．５ｍｇ（０．０２００ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１０と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｕ、および光吸収部材Ｕを得た。コーティング膜の膜厚は９μｍであった。
実施例２２
　実施例１４において、製造例２８で得られた金属錯体（Ｃ１３－Ｃｏ）の添加量を２４．０ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）に代えて４８．０ｍｇ（０．０３４６ｍｍｏｌ）とした以外は実施例１４と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｖ、および光吸収部材Ｖを得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。
実施例２３
　実施例１４において、製造例２８で得られた金属錯体（Ｃ１３－Ｃｏ）の添加量を２４．０ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）に代えて１２．０ｍｇ（０．００８６４ｍｍｏｌ）とした以外は実施例１４と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｗ、および光吸収部材Ｗを得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。
比較例１
　実施例１において、製造例１５で得られた金属錯体（Ｃ１－Ｃｏ）１０．８ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）に代えてビス（ジチオベンジル）ニッケル（東京化成工業株式会社製）９．４ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｘ１、および光吸収部材Ｘ１を得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。
比較例２
　実施例１において、製造例１５で得られた金属錯体（Ｃ１－Ｃｏ）１０．８ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）に代えてジ－ｎ－ブチルジチオカルバミン酸ニッケル（東京化成工業株式会社製）８．１ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｘ２、および光吸収部材Ｘ２を得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。
比較例３
　実施例２において、製造例１６で得られた金属錯体（Ｃ２－Ｃｏ）８．７ｍｇ（０．０１１９ｍｍｏｌ）に代えてビス（ジチオベンジル）ニッケル（東京化成工業株式会社製）６．４ｍｇ（０．０１１９ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例２と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｘ３、および光吸収部材Ｘ３を得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。
比較例４
　実施例３において、製造例１７で得られた金属錯体（Ｃ３－Ｎｉ）６．６ｍｇ（０．００８６８ｍｍｏｌ）に代えてビス（ジチオベンジル）ニッケル（東京化成工業株式会社製）４．７ｍｇ（０．００８６８ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例３と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｘ４、および光吸収部材Ｘ４を得た。コーティング膜の膜厚は９μｍであった。
比較例５
　実施例４において、製造例１８で得られた金属錯体（Ｃ４－Ｃｕ）１２．７ｍｇ（０．０１６９ｍｍｏｌ）に代えてジ－ｎ－ブチルジチオカルバミン酸ニッケル（東京化成工業株式会社製）７．９ｍｇ（０．０１６９ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例４と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｘ５、および光吸収部材Ｘ５を得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。
比較例６
　実施例５において、製造例１９で得られた金属錯体（Ｃ５－Ｎｉ）１０．４ｍｇ（０．０１７６ｍｍｏｌ）に代えてジ－ｎ－ブチルジチオカルバミン酸ニッケル（東京化成工業株式会社製）８．２ｍｇ（０．０１７６ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例５と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｘ６、および光吸収部材Ｘ６を得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。
比較例７
　実施例６において、製造例２０で得られた金属錯体（Ｃ６－Ｃｏ）１３．８ｍｇ（０．０２２３ｍｍｏｌ）に代えてジ－ｎ－ブチルジチオカルバミン酸ニッケル（東京化成工業株式会社製）１０．４ｍｇ（０．０２２３ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例６と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｘ７、および光吸収部材Ｘ７を得た。コーティング膜の膜厚は９μｍであった。
比較例８
　実施例１において、製造例１５で得られた金属錯体（Ｃ１－Ｃｏ）１０．８ｍｇ（０．０１７３ｍｍｏｌ）を使用しない以外は実施例１と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｘ８、および光吸収部材Ｘ８を得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。
比較例９
　実施例２において、製造例１６で得られた金属錯体（Ｃ２－Ｃｏ）８．７ｍｇ（０．０１１９ｍｍｏｌ）を使用しない以外は実施例２と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｘ９、および光吸収部材Ｘ９を得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。
比較例１０
　実施例３において、製造例１７で得られた金属錯体（Ｃ３－Ｎｉ）６．６ｍｇ（０．００８６８ｍｍｏｌ）を使用しない以外は実施例３と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｘ１０、および光吸収部材Ｘ１０を得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。
比較例１１
　実施例４において、製造例１８で得られた金属錯体（Ｃ４－Ｃｕ）１２．７ｍｇ（０．０１６９ｍｍｏｌ）を使用しない以外は実施例４と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｘ１１、および光吸収部材Ｘ１１を得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。
比較例１２
　実施例５において、製造例１９で得られた金属錯体（Ｃ５－Ｎｉ）１０．４ｍｇ（０．０１７６ｍｍｏｌ）を使用しない以外は実施例５と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｘ１２、および光吸収部材Ｘ１２を得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。
比較例１３
　実施例６において、製造例２０で得られた金属錯体（Ｃ６－Ｃｏ）１３．８ｍｇ（０．０２２３ｍｍｏｌ）を使用しない以外は実施例６と同様にして、溶液形態の光吸収部材用組成物Ｘ１３、および光吸収部材Ｘ１３を得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000016
[光吸収部材の評価]
　実施例１～２３および比較例１～１３で得られた光吸収部材Ａ～ＷおよびＸ１～Ｘ１３について、以下の手順により実施した。
（１）耐光性試験
　実施例１～２３および比較例１～１３で得られた光吸収部材Ａ～ＷおよびＸ１～Ｘ１３について、分光光度計（株式会社日立製作所製、型番：Ｕ－４１００）を用いて吸収スペクトルを測定した。光吸収部材Ａ～ＷおよびＸ１～Ｘ１３にはそれぞれ有機色素Ｄ１～Ｄ６のいずれかが含有されており、これらＤ１～Ｄ６の有機色素はそれぞれ特定の波長域に吸収を有している（上記表３参照）。光吸収部材Ａ～ＷおよびＸ１～Ｘ１３に一定の光を照射しながら、有機色素の吸収ピークの吸光度（以下色素ピークの吸光度）を時間別に測定することで、加速条件であるこの光照射による有機色素の経時劣化の様子を評価した。以下、詳細に説明する。
（１－１）
　光吸収部材作製直後（耐光性試験実施前）に色素ピークの吸光度を測定した。
（１－２）
　キセノンウェザーメーター（スガ試験機株式会社製、型番：Ｘ２５）を用いてこれら光吸収部材Ａ～ＷおよびＸ１～Ｘ１３に放射強度６０Ｗ／ｍ２（３００～４００ｎｍ域における積算）の光を照射した。
（１－３）
　経時的にこれら光吸収部材Ａ～ＷおよびＸ１～Ｘ１３をキセノンウェザーメーターから取り出し、色素ピークの吸光度を測定し、色素残存率を算出した。吸光度から残存率を算出する方法は下記の式による。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000017
（１－４）
　時間を横軸、残存率を縦軸としたグラフにプロットし、光吸収部材Ａ～ＷおよびＸ１～Ｘ７についてそれぞれ残存率が５０％となる時間（Ｔ１）を読み取った。
（１－５）
　（１－４）と同様に、比較例８～１３で得られた光吸収部材Ｘ８～Ｘ１３（安定化剤を含まない系）の残存率が５０％となる時間（Ｔ２）を読み取り、下記の式により安定化率を算出した。ここで算出される安定化率は、有機色素を単独で用いた場合に比べて、安定化剤を併用した場合に有機色素の劣化がどの程度抑制されるかを示す指標である。この安定化率の数値が大きい程、安定化剤としての能力がより高いことを示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000018
（２）耐熱性試験
　（１）と同様に、実施例１～２３および比較例１～１３で得られた光吸収部材Ａ～ＷおよびＸ１～Ｘ１３について、分光光度計（株式会社日立製作所製、型番：Ｕ－４１００）を用いて、吸収スペクトルを測定した。光吸収部材Ａ～ＷおよびＸ１～Ｘ１３を加速条件である８０℃環境下に静置し耐熱性試験を実施しながら、有機色素の吸収ピークの吸光度（以下色素ピークの吸光度）を時間別に測定することで、熱による有機色素の経時劣化の様子を評価した。以下、詳細に説明する。
（２－１）
　光吸収部材作製直後（耐熱性試験実施前）に色素ピークの吸光度を測定した。
（２－２）
　小型環境試験器（エスペック株式会社製の商品名；ＳＨ－２２０）を用いてこれら光吸収部材Ａ～ＷおよびＸ１～Ｘ１３を８０℃の環境下で静置した。
（２－３）
　経時的にこれら光吸収部材Ａ～ＷおよびＸ１～Ｘ１３を小型環境試験器から取り出し、色素ピークの吸光度を測定し、色素残存率を算出した。吸光度から残存率を算出する方法は下記の式による。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000019
（２－４）
　時間を横軸、残存率を縦軸としたグラフにプロットし、光吸収部材Ａ～ＷおよびＸ１～Ｘ７についてそれぞれ残存率が８０％となる時間（Ｔ３）を読み取った。
（２－５）
　（２－４）と同様に、比較例８～１３で得られた光吸収部材Ｘ８～Ｘ１３（安定化剤を含まない系）の残存率が８０％となる時間（Ｔ４）を読み取り、下記の式により安定化率を算出した。ここで算出される安定化率は、有機色素を単独で用いた場合に比べて、安定化剤を併用した場合に有機色素の劣化がどの程度抑制されるかを示す指標である。この安定化率の数値が大きい程、安定化剤としての能力がより高いことを示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000020
　結果を以下の表４に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000021
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000022
（耐光性試験結果）
　実施例１～６は、有機色素Ｄ１～Ｄ６と本発明における有機色素安定化剤（製造例１５～２０で得られたもの）等モル量混合し、マトリックス材料として有機系バインダーを使用した系（光吸収材Ａ～Ｆ）である。一方、比較例８～１３はそれぞれ有機色素Ｄ１～Ｄ６のみを使用し、マトリックス材料として有機系バインダーを使用した系（光吸収材Ｘ８～Ｘ１３）である。これら実施例１～６と比較例８～１３との比較から、本発明における有機色素安定化剤は、有機色素Ｄ１～Ｄ６すべてに対する長期間の優れた耐光性向上効果を有することが確認された。
　実施例７～１１は、有機色素Ｄ１～Ｄ３およびＤ５～Ｄ６と本発明における有機色素安定化剤（製造例２１～２５で得られたもの）等モル量混合し、マトリックス材料として無機系バインダーを使用した系（光吸収材Ｇ～Ｋ）である。これら実施例７～１１と比較例８～１０および比較例１２～１３との比較より、本発明における有機色素安定化剤を使用することで、有機色素Ｄ１～Ｄ３およびＤ５～Ｄ６すべてについて耐光性が飛躍的に向上することが確認された。また、実施例１～３および実施例５～６と比べてもその安定化効果の度合いにほとんど差異は認められないことから、本発明における有機色素安定化剤の有機色素安定化効果はマトリックス材料の種類には影響を受けないと言える。
　実施例１２はマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーを含む光吸収部材用組成物を基材上にコーティングし、これを光硬化した系（光吸収部材Ｌ）である。比較例１１と比べて大幅に有機色素の耐光性が向上していることから、このような使用形態においても本発明における有機色素安定化剤は問題なく機能することが分かる。
　実施例１３～２１は、有機色素Ｄ１～Ｄ６と本発明における有機色素安定化剤のうち有機溶剤に対する溶解性面で特に有利な製造例２７～３０で得られたものとを等モル量混合した系で、実施例１３～２１はマトリックス材料として有機系バインダーを使用した系（光吸収材Ｍ～Ｔ）であり、実施例２１はマトリックス材料として無機系バインダーを使用した系（光吸収材Ｕ）である。これら実施例１３～２１と比較例８～１３の比較から、本発明における有機色素安定化剤は、有機色素の種類およびその吸収波長によらず、優れた安定化効果を発揮する。
　実施例２２は有機色素（Ｄ１）に対して本発明における有機色素安定化剤（Ｃ１３－Ｃｏ）の添加量を２倍モル量とした系（光吸収部材Ｖ）であり、実施例２３は有機色素（Ｄ１）に対して本発明における有機色素安定化剤（Ｃ１３－Ｃｏ）の添加量を０．５倍モル量とした系（光吸収部材Ｗ）である。有機色素（Ｄ１）と本発明における有機色素安定化剤（Ｃ１３－Ｃｏ）を等モル量混合した系である実施例１４（光吸収部材Ｎ）と比べると、２倍モル量添加した系では有機色素安定化効果が増大し、また０．５倍モル量添加した系ではやや有機色素安定化効果は低下しているものの、比較例１、２および８と比べると大幅に耐光性が向上していることが分かる。
　実施例１、７、１４、２０（光吸収部材Ａ、Ｇ、Ｎ、Ｔ）と比較例１～２（光吸収部材Ｘ１、Ｘ２）、実施例２、８、１５（光吸収部材Ｂ、Ｈ、Ｏ）と比較例３（光吸収部材Ｘ３）、実施例３，９，１３，１６（光吸収部材Ｃ、Ｉ、Ｍ、Ｐ）と比較例４（光吸収部材Ｘ４）、実施例４，１２，１７（光吸収部材Ｄ、Ｌ、Ｑ）と比較例５（光吸収部材Ｘ５）、実施例５、１０、１８、２１（光吸収部材Ｅ、Ｊ、Ｒ、Ｕ）と比較例６（光吸収部材Ｘ６）、実施例６，１１，１９（光吸収部材Ｆ、Ｋ、Ｓ）と比較例７（光吸収部材Ｘ７）のそれぞれの比較より、本発明における有機色素安定化剤が従来公知の安定化剤よりも長期間の優れた有機色素安定化効果を有することが確認された。
（耐熱性試験結果）
　実施例および比較例の各々の結果を比較した場合、いずれの実施例についても、上記耐光性試験の結果に比べるとその安定化効果の度合いはやや小さいものの、本発明における有機色素安定化剤を有機色素と併用することで有機色素の耐熱性が数倍向上し、長期間に渡る安定化効果は公知の安定化剤よりも優れていることが確認された。
　本発明によれば、有機色素に対して非常に優れた安定化効果を発揮する有機色素安定化剤を提供でき、これにより長期間に渡って優れた耐光性、耐熱性を持続することができる光吸収部材用組成物、およびこれを用いた光吸収部材を提供することができる。

Claims (4)

  1. 　式（１）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     （式中、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４はそれぞれ互いに独立して、ＮＨ、ＮＲ５、酸素原子または硫黄原子であり、
    　Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３またはＹ４に帰属されるＮＲ５のＲ５は、炭素数１～８のアルキル基または置換基を有していてもよい炭素数６～１５のアリール基である。尚、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４のうち少なくとも２つがＮＲ５で表される場合、これらＮＲ５のＲ５はそれぞれ互いに独立した置換基を示す。
    　また、Ｚ１およびＺ２はそれぞれ互いに独立して、窒素原子、ＣＨまたはＣＲ６であり、
    　Ｚ１またはＺ２に帰属されるＣＲ６のＲ６は、置換基を有していてもよい炭素数１～８のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６～１５のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数４～１２のヘテロアリール基、置換基を有していてもよい炭素数５～１２のヘテロアラルキル基または炭素数７～１５のアラルキル基を示す。尚、Ｚ１およびＺ２がともにＣＲ６で表される場合、これらＣＲ６のＲ６はそれぞれ互いに独立した置換基を示す。
    　Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の各々は、存在しないか、あるいは存在する場合は、１つのベンゼン環の６個の炭素原子のうち５員環と共有された２個の炭素原子を除いた４個の炭素原子に結合する４個の水素原子のうち１ないし４個を置換することができ、４個のベンゼン環の水素原子を置換した置換基の全てはそれぞれ互いに独立して、置換基を有していてもよい炭素数１～８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１～４のアルコキシ基、ハロゲノ基、置換基を有していてもよい炭素数１～１６のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基であり、Ｍは金属原子を示す。）
    で表される有機色素安定化剤。
  2. 　式（１）における金属原子Ｍが、コバルト原子、ニッケル原子、または銅原子である請求項１に記載の有機色素安定化剤。
  3. 　請求項１または２に記載の有機色素安定化剤のうち少なくとも１種類と、少なくとも１種類の有機色素を含有することを特徴とする光吸収部材用組成物。
  4. 　請求項３に記載の光吸収部材用組成物を用いて作製される光吸収部材。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013194037A (ja) * 2012-03-22 2013-09-30 Sumitomo Seika Chem Co Ltd 銅錯体、これを含有する紫外線吸収部材用組成物およびこれを用いた紫外線吸収部材
JP2018172624A (ja) * 2017-03-23 2018-11-08 三菱ケミカル株式会社 着色組成物、ディスプレイ用フィルター及びディスプレイ
CN108886148A (zh) * 2016-03-30 2018-11-23 住友精化株式会社 非水电解质二次电池电极用黏结剂、非水电解质二次电池用电极合剂、非水电解质二次电池用电极、非水电解质二次电池、以及电气设备
WO2019198656A1 (ja) * 2018-04-11 2019-10-17 富士フイルム株式会社 色素フィルター、バックライトユニット及び液晶表示装置
JP2019210411A (ja) * 2018-06-07 2019-12-12 三井化学株式会社 眼鏡用レンズ

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002034841A1 (fr) * 2000-10-27 2002-05-02 Kabushiki Kaisha Hayashibara Seibutsu Kagaku Kenkyujo Substance permettant d"ameliorer les caracteristiques de resistance a la lumiere

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5400717B2 (ja) * 2010-06-30 2014-01-29 住友精化株式会社 合成樹脂用安定化剤、該安定化剤を含有する合成樹脂組成物および樹脂部材

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002034841A1 (fr) * 2000-10-27 2002-05-02 Kabushiki Kaisha Hayashibara Seibutsu Kagaku Kenkyujo Substance permettant d"ameliorer les caracteristiques de resistance a la lumiere

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013194037A (ja) * 2012-03-22 2013-09-30 Sumitomo Seika Chem Co Ltd 銅錯体、これを含有する紫外線吸収部材用組成物およびこれを用いた紫外線吸収部材
CN108886148A (zh) * 2016-03-30 2018-11-23 住友精化株式会社 非水电解质二次电池电极用黏结剂、非水电解质二次电池用电极合剂、非水电解质二次电池用电极、非水电解质二次电池、以及电气设备
JP2018172624A (ja) * 2017-03-23 2018-11-08 三菱ケミカル株式会社 着色組成物、ディスプレイ用フィルター及びディスプレイ
WO2019198656A1 (ja) * 2018-04-11 2019-10-17 富士フイルム株式会社 色素フィルター、バックライトユニット及び液晶表示装置
JPWO2019198656A1 (ja) * 2018-04-11 2021-03-18 富士フイルム株式会社 色素フィルター、バックライトユニット及び液晶表示装置
JP7011708B2 (ja) 2018-04-11 2022-02-10 富士フイルム株式会社 色素フィルター、バックライトユニット及び液晶表示装置
US11789307B2 (en) 2018-04-11 2023-10-17 Fujifilm Corporation Colorant filter, backlight unit, and liquid crystal display device
JP2019210411A (ja) * 2018-06-07 2019-12-12 三井化学株式会社 眼鏡用レンズ
JP7126383B2 (ja) 2018-06-07 2022-08-26 三井化学株式会社 眼鏡用レンズ

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