WO2012002146A1 - 保護膜形成用薬液及びウェハ表面の洗浄方法 - Google Patents
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Abstract
Description
(式中、γは凹部に保持されている液体の表面張力、θは凹部表面と凹部に保持されている液体のなす接触角、Sは凹部の幅である。)
HLB値=20×親水部の式量の総和/分子量
HLB値が0.001未満では保護膜の形成に長時間を要したり、該保護膜の形成が不十分となったりする傾向がある。HLB値が10超では、前記金属系ウェハ表面への撥水性付与効果が不十分となる傾向がある。より好ましいHLB値は0.005~7である。
洗浄液を用いて前記ウェハ表面を洗浄する工程、
前記撥水性保護膜形成用薬液を用いて該凹凸パターンの少なくとも凹部表面に撥水性保護膜を形成する工程、
該凹凸パターンの表面に保持された前記洗浄液及び/または薬液からなる液体を該凹凸パターンの表面から除去する工程、及び、
前記液体を除去する工程の後で前記撥水性保護膜を除去する工程
を有することを特徴とする。
(工程1)ウェハ表面を凹凸パターンを有する面とする工程、
(工程2)水系洗浄液を前記ウェハの凹凸表面に供し、凹凸パターンの少なくとも凹部表面に水系洗浄液を保持する工程、
(工程3)前記水系洗浄液を該水系洗浄液とは異なる洗浄液A(以下、単に「洗浄液A」と記載する場合がある)で置換し、該洗浄液Aを凹凸パターンの少なくとも凹部表面に保持する工程、
(工程4)前記洗浄液Aを保護膜形成用薬液で置換し、該薬液を凹凸パターンの少なくとも凹部表面に保持する工程、
(工程5)乾燥により凹凸パターン表面から洗浄液及び/または薬液からなる液体を除去する工程、
(工程6)撥水性保護膜を除去する工程
を有する。
P=2×γ×cosθ/S
(式中、γは凹部に保持されている液体の表面張力、θは凹部表面と凹部に保持されている液体のなす接触角、Sは凹部の幅である。)
から明らかなように、パターン倒れは、洗浄液のウェハ表面への接触角、すなわち液滴の接触角と、洗浄液の表面張力に大きく依存する。凹凸パターン2の凹部4に保持された洗浄液の場合、液滴の接触角と、パターン倒れと等価なものとして考えてよい該凹部に働く毛細管力とは相関性があるので、前記式と保護膜10の液滴の接触角の評価から毛細管力を導き出してもよい。なお、実施例において、前記洗浄液として、水系洗浄液の代表的なものである水を用いた。上記の式より、接触角が90°に近いほど該凹部に働く毛細管力が小さくなり、パターン倒れが発生し難くなるため、前記保護膜表面に水が保持されたと仮定したときの接触角は50~130°が好ましく、70~110°が特に好ましい。
調製した保護膜形成用薬液の外観を目視にて確認した。液が均一で無色透明のものを合格(表1中で○と表記)、不溶物が見られるなど、不均一であるものを不合格(表1中で×と表記)とした。
保護膜形成用薬液が供されたウェハの評価方法として、以下の(1)~(3)の評価を行った。
保護膜が形成されたウェハ表面上に純水約2μlを置き、水滴とウェハ表面とのなす角(接触角)を接触角計(協和界面科学製:CA-X型)で測定した。ここでは保護膜の接触角が50~130°の範囲であったものを合格とした。
以下の条件でメタルハライドランプのUV光をサンプルに2時間照射し、膜除去工程における保護膜の除去性を評価した。照射後に水滴の接触角が30°以下となったものを合格とした。
・ランプ:アイグラフィックス製M015-L312(強度:1.5kW)
・照度:下記条件における測定値が128mW/cm2
・測定装置:紫外線強度計(コニカミノルタセンシング製、UM-10)
・受光部:UM-360
(受光波長:310~400nm、ピーク波長:365nm)
・測定モード:放射照度測定
原子間力電子顕微鏡(セイコ-電子製:SPI3700、2.5μm四方スキャン)によって表面観察し、ウェハ洗浄前後の表面の中心線平均面粗さ:Ra(nm)の差ΔRa(nm)を求めた。なお、Raは、JIS B 0601で定義されている中心線平均粗さを測定面に対し適用して三次元に拡張したものであり、「基準面から指定面までの偏差の絶対値を平均した値」として次式で算出した。
(I-1)保護膜形成用薬液の調製
界面活性剤として、HLB値が2.5であるオクチルアミン〔C8H17NH2〕;0.02g、溶媒として純水;99.98gを用いてこれらを混合し、約5分間撹拌して、保護膜形成用薬液の総量に対する前記界面活性剤の濃度(以降「界面活性剤濃度」と記載する)が0.02質量%の均一で無色透明な保護膜形成用薬液を得た。
平滑な窒化チタン膜付きウェハ(表面に厚さ50nmの窒化チタン層を有するシリコンウェハ)を1質量%の過酸化水素水に1分間浸漬し、次いで純水に1分間浸漬した後、イソプロピルアルコール(iPA)に1分間浸漬し、次いで純水に1分間浸漬させた。
窒化チタン膜付きウェハを20℃にて、上記「(I-1)保護膜形成用薬液の調製」で調製した保護膜形成用薬液に、10秒間浸漬させた。その後、該窒化チタン膜付きウェハを取出し、エアーを吹き付けて、表面の保護膜形成用薬液を除去した。
実施例1で用いた界面活性剤、界面活性剤濃度、保護膜形成用薬液への浸漬時間を適宜変更して、ウェハの表面処理を行い、さらにその評価を行った。結果を表1に示す。
(II-1)保護膜形成用薬液の調製
界面活性剤として、HLB値が2.5であるオクチルアミン〔C8H17NH2〕;0.02g、溶媒として純水;99.98gを用いてこれらを混合し、約5分間撹拌して、界面活性剤濃度が0.02質量%の保護膜形成用薬液を得た。
平滑なタングステン膜付きウェハ(表面に厚さ50nmのタングステン層を有するシリコンウェハ)を1質量%のアンモニア水に1分間浸漬し、次いで純水に1分間浸漬した後、iPAに1分間浸漬し、次いで純水に1分間浸漬させた。
タングステン膜付きウェハを20℃にて、上記「(II-1)保護膜形成用薬液の調製」で調製した保護膜形成用薬液に、10秒間浸漬させた。その後、該タングステン膜付きウェハを取出し、エアーを吹き付けて、表面の保護膜形成用薬液を除去した。
実施例7で用いた界面活性剤、界面活性剤濃度、保護膜形成用薬液への浸漬時間を適宜変更して、ウェハの表面処理を行い、さらにその評価を行った。結果を表1に示す。
(III-1)保護膜形成用薬液の調製
界面活性剤として、HLB値が2.5であるオクチルアミン〔C8H17NH2〕;0.02g、溶媒として純水;99.98gを用いてこれらを混合し、約5分間撹拌して、界面活性剤濃度が0.02質量%の保護膜形成用薬液を得た。
平滑なルテニウム膜付きウェハ(表面に厚さ300nmのルテニウム層を有するシリコンウェハ)を1質量%のアンモニア水に1分間浸漬し、次いで純水に1分間浸漬した後、iPAに1分間浸漬し、次いで純水に1分間浸漬させた。
ルテニウム膜付きウェハを20℃にて、上記「(III-1)保護膜形成用薬液の調製」で調製した保護膜形成用薬液に、10秒間浸漬させた。その後、該ルテニウム膜付きウェハを取出し、エアーを吹き付けて、表面の保護膜形成用薬液を除去した。
実施例11で用いた界面活性剤、界面活性剤濃度、保護膜形成用薬液への浸漬時間を適宜変更して、ウェハの表面処理を行い、さらにその評価を行った。結果を表1に示す。
タングステン膜付きウェハに保護膜形成用薬液を供さなかった以外は、実施例6と同じとした。すなわち、本比較例では、撥水性保護膜が形成されていないウェハ表面を評価した。評価結果は表1に示すとおり、ウェハの接触角は14°となり、撥水性付与効果は見られなかった。
先ず、シランカップリング剤であるトリメチルシリルクロリド〔(CH3)3SiCl〕;0.02g、及び、溶媒として、水;99.98gを混合し、約5分間撹拌して、該混合溶液の総量に対するシランカップリング剤の濃度が0.02質量%の保護膜形成用薬液を得た。続いて、実施例6と同様の方法で、タングステン膜付きウェハの洗浄、及び表面処理を行った。評価結果は表1に示すとおり、表面処理後の接触角は13°となり、撥水性付与効果は見られなかった。
界面活性剤として、炭素数が4の炭化水素基を含む疎水部を有するブチルアミン〔C4H9NH2〕(HLB値:4.4)を用いた以外は実施例6と同様の方法で、タングステン膜付きウェハの洗浄、及び表面処理を行った。評価結果は表1に示すとおり、表面処理後の接触角は42°となり、撥水性付与効果は見られなかった。
窒化チタン膜付きウェハに保護膜形成用薬液を供さなかった以外は、実施例1と同じとした。すなわち、本比較例では、撥水性保護膜が形成されていないウェハ表面を評価した。評価結果は表1に示すとおり、ウェハの接触角は14°となり、撥水性付与効果は見られなかった。
先ず、シランカップリング剤であるトリメチルシリルクロリド〔(CH3)3SiCl〕;0.02g、及び、溶媒として、水;99.98gを混合し、約5分間撹拌して、該混合溶液の総量に対するシランカップリング剤の濃度が0.02質量%の保護膜形成用薬液を得た。続いて、実施例1と同様の方法で、窒化チタン膜付きウェハの洗浄、及び表面処理を行った。評価結果は表1に示すとおり、表面処理後の接触角は18°となり、撥水性付与効果は見られなかった。
界面活性剤として、炭素数が4の炭化水素基を含む疎水部を有するブチルアミン〔C4H9NH2〕(HLB値:4.4)を用いた以外は実施例1と同様の方法で、窒化チタン膜付きウェハの洗浄、及び表面処理を行った。評価結果は表1に示すとおり、表面処理後の接触角は38°となり、撥水性付与効果は見られなかった。
ルテニウム膜付きウェハに保護膜形成用薬液を供さなかった以外は、実施例11と同じとした。すなわち、本比較例では、撥水性保護膜が形成されていないウェハ表面を評価した。評価結果は表1に示すとおり、ウェハの接触角は14°となり、撥水性付与効果は見られなかった。
先ず、シランカップリング剤であるトリメチルシリルクロリド〔(CH3)3SiCl〕;0.02g、及び、溶媒として、水;99.98gを混合し、約5分間撹拌して、該混合溶液の総量に対するシランカップリング剤の濃度が0.02質量%の保護膜形成用薬液を得た。続いて、実施例11と同様の方法で、ルテニウム膜付きウェハの洗浄、及び表面処理を行った。評価結果は表1に示すとおり、表面処理後の接触角は16°となり、撥水性付与効果は見られなかった。
界面活性剤として、炭素数が4の炭化水素基を含む疎水部を有するブチルアミン〔C4H9NH2〕(HLB値:4.4)を用いた以外は実施例11と同様の方法で、ルテニウム膜付きウェハの洗浄、及び表面処理を行った。評価結果は表1に示すとおり、表面処理後の接触角は36°となり、撥水性付与効果は見られなかった。
保護膜形成用薬液中の界面活性剤として、推定HLB値が10超であるポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウム(東邦化学工業株式会社、アルスコープTH-330)を用いたこと以外はすべて実施例1と同じとした。評価結果は表1に示すとおり、表面処理後の接触角は13°となり、撥水性付与効果は見られなかった。
保護膜形成用薬液中の界面活性剤濃度(配合量)を、飽和濃度を超える1.0質量%とした以外はすべて実施例1と同じとした。調製後の保護膜形成用薬液の外観を確認したところ、白濁した不均一な薬液が得られ、良好な保護膜形成用薬液は得られなかった。
2 ウェハ表面の凹凸パターン
3 パターンの凸部
4 パターンの凹部
5 凹部の幅
6 凸部の高さ
7 凸部の幅
8 凹部4に保持された保護膜形成用薬液
9 凹部4に保持された液体
10 撥水性保護膜
Claims (10)
- 表面に凹凸パターンを有し該凹凸パターンの凹部表面にチタン、タングステン、アルミニウム、銅、スズ、タンタル、及び、ルテニウムからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素を有するウェハの、少なくとも凹部表面に撥水性保護膜を形成するための薬液であり、
Griffin法によるHLB値が0.001~10であり炭素数が6~18の炭化水素基を含む疎水部を有する界面活性剤と、水を含み、
薬液中の前記界面活性剤の濃度が、該薬液の総量100質量%に対して0.00001質量%以上、飽和濃度以下であることを特徴とする、撥水性保護膜形成用薬液。 - 前記界面活性剤が、炭素数が8~18の炭化水素基を含む疎水部を有する、請求項1に記載の撥水性保護膜形成用薬液。
- 前記界面活性剤が、前記元素に対して親和性を持つ官能部を有する、請求項1または請求項2に記載の撥水性保護膜形成用薬液。
- 前記界面活性剤が、前記元素に対して親和性を持つ官能部を構造中に1個有する、請求項1~請求項3のいずれか1つに記載の撥水性保護膜形成用薬液。
- 前記界面活性剤が、炭素数が6~18の直鎖状の炭化水素基を含む疎水部を有する、請求項1~請求項4のいずれか1つに記載の撥水性保護膜形成用薬液。
- 前記界面活性剤が、炭素原子と水素原子からなる炭素数が6~18の直鎖状の炭化水素基を含む疎水部を有する、請求項1~請求項5のいずれか1つに記載の撥水性保護膜形成用薬液。
- 前記薬液中にさらに溶媒を含み、該溶媒の総量に対する水の濃度が、50質量%以上であることを特徴とする、請求項1~請求項6のいずれか1つに記載の撥水性保護膜形成用薬液。
- 前記薬液が、前記界面活性剤と水からなることを特徴とする、請求項1~請求項7のいずれか1つに記載の撥水性保護膜形成用薬液。
- 請求項1~請求項8のいずれか1つに記載の撥水性保護膜形成用薬液を用いる、表面に凹凸パターンを有し該凹凸パターンの凹部表面にチタン、タングステン、アルミニウム、銅、スズ、タンタル、及び、ルテニウムからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素を有するウェハ表面の洗浄方法であり、該方法は、
洗浄液を用いて前記ウェハ表面を洗浄する工程、
前記撥水性保護膜形成用薬液を用いて該凹凸パターンの少なくとも凹部表面に撥水性保護膜を形成する工程、
該凹凸パターンの表面に保持された洗浄液及び/または薬液からなる液体を該凹凸パターンの表面から除去する工程、及び、
前記液体を除去する工程の後で前記撥水性保護膜を除去する工程
を有することを特徴とする、前記ウェハ表面の洗浄方法。 - 前記洗浄液が水系の洗浄液である、請求項9に記載の前記ウェハ表面の洗浄方法。
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