WO2011105576A1 - ジアミン化合物、液晶配向剤及び液晶表示素子 - Google Patents

ジアミン化合物、液晶配向剤及び液晶表示素子 Download PDF

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diamine compound
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crystal aligning
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正人 森内
貴裕 須賀
尚宏 野田
皇晶 筒井
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日産化学工業株式会社
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    • G02F1/1337Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G02F1/133711Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by organic films, e.g. polymeric films

Definitions

  • the present invention relates to a novel diamine compound useful as a raw material for a polymer used for a liquid crystal alignment film and the like, a polyamic acid and a polyimide obtained using the same, and a liquid crystal aligning agent. Furthermore, it is related with the liquid crystal display element which has a liquid crystal aligning film obtained from the said liquid crystal aligning agent.
  • a polyimide precursor such as polyamic acid or a liquid crystal alignment agent mainly composed of a soluble polyimide is applied and baked to form a coating film, and then this coating film is rubbed.
  • the obtained liquid crystal alignment film is mainly used. Since this rubbing process is performed by rubbing the surface of the coating film with a cloth, there is a problem that the liquid crystal alignment film is scraped or scratched. However, in some applications of the liquid crystal display element, the rubbing process is a stronger condition. Tend to do. This is due to the aim of making the alignment state of the liquid crystal more uniform and stronger by performing a strong rubbing treatment. For this reason, the demand for the rubbing resistance of the liquid crystal alignment film has increased.
  • Patent Document 1 and Patent Document 2 As a method for obtaining a liquid crystal alignment film that is less prone to scraping and scratching due to rubbing treatment, a method of adding various additives to polyimide or polyimide precursor is known (for example, Patent Document 1 and Patent Document 2). reference). In addition, polyimide structures with good rubbing resistance have also been proposed (see, for example, Patent Document 3 and Patent Document 4).
  • the liquid crystal display element drives the liquid crystal by voltage
  • electrical characteristics are also required for the liquid crystal alignment film.
  • One of the typical electrical characteristics required for the liquid crystal alignment film is a voltage holding ratio.
  • the voltage holding ratio represents how much the voltage applied to the liquid crystal cell is held after a lapse of a certain time. Generally, the higher the voltage holding ratio, the more reliable the liquid crystal display element. It is supposed to be higher.
  • An object of the present invention is to provide a liquid crystal alignment film that hardly causes peeling or scratches during rubbing, has good liquid crystal alignment, and has a high voltage holding ratio, and obtains this liquid crystal alignment film.
  • An object of the present invention is to provide a liquid crystal aligning agent capable of producing a liquid crystal aligning agent, to provide a polymer capable of obtaining the liquid crystal aligning agent, and to provide a novel diamine compound as a raw material for the polymer. It is another object of the present invention to provide a highly reliable liquid crystal display element with few display defects due to shaving or scratching of the liquid crystal alignment film.
  • the gist of the present invention is as follows. [1] Diamine compound represented by the following formula (1)
  • R 1 represents —CH 2 —, —O—, —CONH—, —NHCO—, —COO—, —OCO— or —NH—.
  • R 2 represents a linear or branched carbon number of 1 To an alkylene having 20 carbon atoms, wherein —CH 2 — in the alkylene is —CF 2 — or —CH ⁇ CH—, or any of the following substituents (these groups are not adjacent to each other).
  • [5] A polymer synthesized using the diamine compound according to any one of [1] to [4] as a part of a raw material.
  • [6] A polyamic acid obtained by reacting a diamine component containing the diamine compound according to any one of [1] to [4] above with a tetracarboxylic dianhydride component.
  • [8] A polyimide obtained by imidizing the polyamic acid according to [6] or [7].
  • a liquid crystal aligning agent comprising at least one of the polyamic acid according to [6] or [7] and the polyimide according to [8].
  • a liquid crystal alignment film obtained using the liquid crystal aligning agent according to [9].
  • a liquid crystal display device comprising the liquid crystal alignment film of [10].
  • a liquid crystal alignment film having improved rubbing resistance and voltage holding characteristics can be obtained without impairing the liquid crystal alignment.
  • a component of the liquid crystal aligning agent by using a polymer using the diamine compound of the present invention as a raw material, film peeling and scratches are less likely to occur during rubbing, and liquid crystal alignment is good. Furthermore, a liquid crystal alignment film having a high voltage holding ratio can be obtained.
  • a liquid crystal display device comprising a liquid crystal alignment film obtained from the liquid crystal alignment agent of the present invention is a highly reliable liquid crystal display device with few display defects due to shaving or scratching of the liquid crystal alignment film.
  • the diamine compound of the present invention is a compound represented by the following general formula (1), and has a side chain composed of a spacer site and a terminal vinyl group.
  • R 1 -R 2 -R 3 is a spacer site in the side chain (group connecting the terminal vinyl group and the diaminobenzene skeleton), and R 1 is a bond to the diaminobenzene skeleton in this spacer site.
  • R 1 is —CH 2 — (methylene), —O— (ether), —CONH— (amide), —NHCO— (reverse amide), —COO— (ester), —OCO— (reverse ester) and — Selected from NH- (amino).
  • R 1 can be formed by an ordinary organic synthetic method, but from the viewpoint of ease of synthesis, —CH 2 —, —O—, —COO—, —NHCO— or —NH— is preferred, O- or -COO- is more preferable.
  • R 2 in the formula (1) is a central part of the spacer moiety, and is a linear or branched alkylene having 1 to 20 carbon atoms.
  • any —CH 2 — in the alkylene may be replaced with —CF 2 — or —CH ⁇ CH—.
  • —CH 2 — to be replaced may be one place or a plurality of places.
  • any —CH 2 — in the alkylene is replaced by a substituent of —O—, —NHCO—, —CONH—, —COO—, —OCO—, —NH—, —NHCONH— or —NHCSNH—. It may be done. However, these substituents are not adjacent to each other.
  • R 2 may include a configuration of alkylene-substituent-alkylene.
  • R 1 when R 1 is —CH 2 —, it means that the terminal on the R 1 side in R 2 may be the substituent.
  • R 3 when R 3 is —CH 2 — or a phenylene group as described below, it means that the terminal on the R 3 side in R 2 may be the above substituent.
  • R 1 when R 1 is —CH 2 — and R 3 is —CH 2 — or a phenylene group, R 2 is a substituent-alkylene-substituent, or any of the above substituents. Means good.
  • R 2 is preferably an alkylene having 2 to 10 carbon atoms, more preferably 2 to 6 carbon atoms, from the viewpoint of ease of synthesis.
  • R 3 in the formula (1) represents a bonding group with the terminal vinyl group at the spacer site.
  • R 3 is selected from —CH 2 —, —O—, —NH—, and a phenylene group. Among these, —CH 2 — or —O— is preferable from the viewpoint of ease of synthesis.
  • the bonding position of the two amino groups (—NH 2 ) in the formula (1) is not limited. As specific positions of the two amino groups, 2, 3 positions, 2, 4 positions, 2, 5 positions, 2, 6 positions, 3 with respect to the R 1 bonding position on the benzene ring. , 4 and 3 and 5 positions.
  • the 2,4 position, the 2,5 position, or the 3,5 position is preferred from the viewpoint of amino group reactivity. Considering the ease in synthesizing the diamine compound, the positions 2, 4 or 3, 5 are more preferable.
  • X 1 represents —CH 2 —, —O—, —CONH—, —NHCO—, —COO—, —OCO— or —NH—
  • X 2 represents —CH 2 —.
  • X 3 represents —O—, —NHCO—, —CONH—, —COO—, —OCO— or —NH—
  • X 4 represents —CH 2 —, —O—, —CONH—, —NHCO—, —COO—, —OCO— or —NH— is represented.
  • n represents an integer of 1 to 20, and n1 and n2 each independently represents an integer of 1 to 18, but the total of n1 and n2 is 2 to 19.
  • n3, n4 and n5 each independently represents an integer of 1 to 19, but the total of n3, n4 and n5 is 3 to 21.
  • n6 represents an integer of 1 to 19.
  • the method for synthesizing the diamine compound represented by the formula (1) is not particularly limited. For example, it can be obtained by reducing the nitro group of the dinitro compound represented by the following formula (2) and converting it to an amino group. it can.
  • catalysts such as palladium-carbon, platinum oxide, Raney nickel, platinum black, rhodium-alumina, platinum carbon sulfide, tin, iron, etc. are used to prevent the terminal double bond from reacting.
  • a reduction method performed with hydrogen gas, hydrazine, hydrogen chloride or the like in a solvent such as ethyl acetate, toluene, tetrahydrofuran, dioxane, or alcohol.
  • the dinitro compound represented by the above formula (2) can be obtained by a method in which —R 2 —R 3 is bonded to dinitrobenzene via R 1 .
  • R 1 is an amide bond (—CONH—)
  • a method of reacting an acid chloride of dinitrobenzene with an amino compound having R 2 and R 3 in the presence of an alkali can be mentioned.
  • R 1 is a reverse amide bond (—HNCO—)
  • a method of reacting an amino group-containing dinitrobenzene with an acid chloride having R 2 and R 3 in the presence of an alkali can be mentioned.
  • R 1 is an ester bond (—COO—)
  • R 1 is an inverted ester bond (—OCO—)
  • R 1 is an ether bond (—O—)
  • R 1 is an ether bond (—O—)
  • a method of reacting a halogen group-containing dinitrobenzene with an alcohol compound having R 2 and R 3 in the presence of an alkali can be mentioned.
  • R 1 is an amino bond (—NH—)
  • a method of reacting a halogen group-containing dinitrobenzene with an amino compound having R 2 and R 3 in the presence of an alkali can be mentioned.
  • R 1 is a carbon-carbon bond (—CH 2 —)
  • a Heck reaction or Sonogashira cross-coupling reaction between a halogen group-containing dinitrobenzene and a compound having an unsaturated bond having R 2 and R 3 is carried out. The method of utilizing and reacting is mentioned.
  • Examples of the acid chloride of dinitrobenzene include 3,5-dinitrobenzoic acid chloride, 2,4-dinitrobenzoic acid chloride, 3,5-dinitrobenzyl chloride, 2,4-dinitrobenzyl chloride, and the like.
  • Examples of the amino group-containing dinitrobenzene include 2,4-dinitroaniline, 3,5-dinitroaniline, 2,6-dinitroaniline and the like.
  • Examples of the hydroxy group-containing dinitrobenzene include 2,4-dinitrophenol, 3,5-dinitrophenol, and 2,6-dinitrophenol.
  • Examples of the halogen group-containing dinitrobenzene include 2,4-dinitrofluorobenzene, 3,5-fluorobenzene, 2,6-fluorobenzene, 2,4-dinitroiodobenzene, 3,5-dinitroiodobenzene, 2,6- And dinitroiodobenzene.
  • Examples of the alkali used in the above reaction include triethylamine, pyridine, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate and the like.
  • the polymer of the present invention is synthesized using a diamine compound represented by the formula (1) (hereinafter also referred to as a specific diamine compound) as a part of the raw material.
  • a diamine compound represented by the formula (1) hereinafter also referred to as a specific diamine compound
  • a polyamic acid and a polyamic acid ester obtained by polymerizing a diamine component containing a specific diamine compound and a tetracarboxylic dianhydride component or a diester component thereof, a polyimide obtained by dehydrating and ring-closing this polyamic acid
  • Examples thereof include polyamides and polyamic acids obtained by polymerizing a diamine component with a dicarboxylic acid chloride component or a tetracarboxylic acid chloride component.
  • the specific diamine compound may be all of the diamine components used in the above polymerization reaction, or may be used in combination with other diamine compounds. Further, the specific diamine compound to be used may be one type or two or more types. In the case where the specific diamine compound is used in combination with other diamine compounds, the use ratio of the specific diamine compound is not particularly limited, but the effect of using the specific diamine is more significantly exhibited as the ratio of the specific diamine compound increases. If a preferred ratio of the specific diamine compound is intentionally shown, it is preferable that 10 mol% or more of the diamine component used in the polymerization reaction is the specific diamine compound.
  • a diamine component is a specific diamine compound, More preferably, it is 50 mol% or more.
  • Other diamine compounds used in combination with the specific diamine compound are not particularly limited, and examples thereof include compounds in which B in the following formula (3) is a divalent organic group shown in Tables 1 to 4 below.
  • the tetracarboxylic dianhydride component to be polymerized with the diamine component as described above is not particularly limited.
  • the tetracarboxylic dianhydride contained in the tetracarboxylic dianhydride component may be one or two or more. If the specific example of the tetracarboxylic dianhydride which can be used for said polymerization reaction is mentioned intentionally, the compound whose A in following formula (4) is a tetravalent organic group shown in following Table 5 and Table 6 will be mentioned. Can do.
  • a known synthesis method can be used.
  • a typical example is a method of mixing a diamine component and a tetracarboxylic dianhydride component in an organic solvent. This method is advantageous in that the reaction between the diamine compound and tetracarboxylic dianhydride proceeds relatively easily in an organic solvent, and no by-product is generated.
  • the organic solvent used in the above reaction is not particularly limited as long as the generated polyamic acid dissolves. Furthermore, even if it is an organic solvent which does not dissolve a polyamic acid, it may be mixed with the said solvent and used as long as the produced polyamic acid does not precipitate. In addition, since the water
  • the solution in which the diamine component is dispersed or dissolved in the organic solvent is stirred, and the tetracarboxylic dianhydride component is used as it is or in an organic solvent.
  • a method of adding by dispersing or dissolving in a solvent a method of adding a diamine component to a solution in which a tetracarboxylic dianhydride component is dispersed or dissolved in an organic solvent, and a tetracarboxylic dianhydride component and a diamine component. And a method of alternately adding and. Any of these methods may be used.
  • the diamine component or tetracarboxylic dianhydride component when they are composed of a plurality of types of compounds, they may be reacted in a premixed state, may be individually reacted sequentially, or may be further reacted individually.
  • the body may be mixed and reacted to form a high molecular weight body.
  • the temperature at the time of reacting the diamine component and the tetracarboxylic dianhydride component can be selected arbitrarily, and is, for example, in the range of ⁇ 20 ° C. to 150 ° C., preferably ⁇ 5 ° C. to 100 ° C.
  • the reaction can be carried out at any concentration, for example 1 to 50% by mass, preferably 5 to 30% by mass.
  • the molar ratio represented by (total number of moles of tetracarboxylic dianhydride component / total number of moles of diamine component) is selected according to the molecular weight of the polyamic acid to be obtained. be able to. Similar to the normal polycondensation reaction, the molecular weight of the polyamic acid produced increases as the molar ratio approaches 1.0. A preferred range of the molar ratio is 0.8 to 1.2.
  • a polyimide can be obtained by dehydrating and ring-closing (imidizing) the above polyamic acid.
  • Examples of the method for imidizing the polyamic acid include thermal imidization in which the polyamic acid solution is heated as it is, and catalytic imidization in which a catalyst is added to the polyamic acid solution.
  • the temperature at which the polyamic acid is thermally imidized in the solution is 100 ° C. to 400 ° C., preferably 120 ° C. to 250 ° C., and the method is preferably carried out while removing water generated by the imidization reaction from the system.
  • Catalytic imidation of polyamic acid can be carried out by adding a basic catalyst and an acid anhydride to a polyamic acid solution and stirring at -20 to 250 ° C, preferably 0 to 180 ° C.
  • the amount of the basic catalyst is 0.5 to 30 mol times, preferably 2 to 20 mol times of the amic acid group, and the amount of the acid anhydride is 1 to 50 mol times, preferably 3 to 30 mol of the amido acid group. Is double.
  • Examples of the basic catalyst include pyridine, triethylamine, trimethylamine, tributylamine, trioctylamine and the like. Among them, pyridine is preferable because it has an appropriate basicity for proceeding with the reaction.
  • Examples of the acid anhydride include acetic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, and the like. Among them, use of acetic anhydride is preferable because purification after completion of the reaction is facilitated.
  • the imidization rate by catalytic imidation can be controlled by adjusting the amount of catalyst, reaction temperature, reaction time, and the like. In the polyimide of the present invention, the dehydration ring closure rate (imidation rate) from the polyamic acid is not necessarily 100%.
  • the reaction solution may be poured into a poor solvent and precipitated.
  • the poor solvent used for precipitation include methanol, acetone, hexane, butyl cellosolve, heptane, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ethanol, toluene, benzene, and water.
  • the polymer precipitated in a poor solvent and collected by filtration can be dried at normal temperature or under reduced pressure at room temperature or by heating.
  • the polymer collected by precipitation is redissolved in an organic solvent and reprecipitation and collection is repeated 2 to 10 times, impurities in the polymer can be reduced.
  • the poor solvent at this time include alcohols, ketones, hydrocarbons, and the like. When three or more kinds of poor solvents selected from these are used, the purification efficiency can be further improved.
  • the liquid crystal aligning agent of this invention is a coating liquid for forming a liquid crystal aligning film, and is a solution which the resin component for forming a liquid crystal aligning film melt
  • the resin component contains at least one polymer selected from the polymers of the present invention described above.
  • the content of the resin component in the liquid crystal aligning agent is preferably 1% by mass to 20% by mass, more preferably 3% by mass to 15% by mass, and particularly preferably 3% by mass to 10% by mass.
  • all of the resin components may be the polymer of the present invention, and other polymers may be mixed with the polymer of the present invention.
  • the content of the other polymer is preferably 0.5% by mass to 15% by mass, more preferably 1% by mass to 10% by mass with respect to the entire resin component.
  • examples of such other polymers include polyamic acid or polyimide obtained from a diamine component not containing a specific diamine and a tetracarboxylic dianhydride component.
  • the molecular weight of the polymer contained in the liquid crystal aligning agent of the present invention is GPC (Gel Permeation) in consideration of the strength of the coating film obtained therefrom, workability during coating film formation, coating film uniformity, and the like.
  • the weight average molecular weight measured by the Chromatography method is preferably 5,000 to 1,000,000, more preferably 10,000 to 150,000.
  • the organic solvent used for the liquid crystal aligning agent of this invention will not be specifically limited if it is an organic solvent in which the resin component mentioned above is dissolved.
  • This organic solvent may be one type of solvent or a mixed solvent of two or more types. If the specific example of an organic solvent is given dare, the organic solvent illustrated by the said polyamic acid synthesis can be mentioned.
  • N-methyl-2-pyrrolidone, ⁇ -butyrolactone, N-ethyl-2-pyrrolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone and 3-methoxy-N, N-dimethylpropanamide dissolve resin components. From the viewpoint of sex.
  • the solvent as shown below improves the uniformity and smoothness of the coating film, it is preferable to use the solvent by mixing it with a solvent having high solubility of the resin component.
  • a solvent having high solubility of the resin component For example, isopropyl alcohol, methoxymethylpentanol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, butyl carbitol, ethyl carbitol, ethyl carbitol acetate, ethylene glycol, ethylene glycol monoacetate, Ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol, propylene glycol monoacetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, propylene glycol-tert-buty
  • the liquid crystal aligning agent of the present invention may contain components other than those described above. Examples thereof include compounds that improve the film thickness uniformity and surface smoothness when a liquid crystal aligning agent is applied, and compounds that improve the adhesion between the liquid crystal aligning film and the substrate.
  • Examples of compounds that improve the thickness uniformity and surface smoothness of the liquid crystal alignment film include fluorine-based surfactants, silicone-based surfactants, and nonionic surfactants. More specifically, for example, F-top EF301, EF303, EF352 (manufactured by Tochem Products), MegaFuck F171, F173, R-30 (manufactured by Dainippon Ink), Florard FC430, FC431 (manufactured by Sumitomo 3M) Asahi Guard AG710, Surflon S-382, SC101, SC102, SC103, SC104, SC105, SC106 (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.).
  • the proportions used are preferably 0.01 to 2 parts by mass, more preferably 0.01 to 1 part per 100 parts by mass of the resin component contained in the liquid crystal aligning agent. Part by mass.
  • compounds that improve the adhesion between the liquid crystal alignment film and the substrate include functional silane-containing compounds and epoxy group-containing compounds.
  • the liquid crystal aligning agent of the present invention contains a dielectric or conductive material for the purpose of changing the electrical properties such as the dielectric constant and conductivity of the liquid crystal aligning film as long as the effects of the present invention are not impaired. It may be added.
  • the liquid crystal aligning agent of the present invention obtained as described above can be applied to a substrate, dried and fired to form a film. By subjecting the coating surface to an alignment treatment such as rubbing, it can be used as a liquid crystal alignment film.
  • the substrate on which the liquid crystal aligning agent is applied is not particularly limited as long as it has high transparency, and for example, a glass substrate can be used.
  • an opaque object such as a silicon wafer can be used as long as only one substrate is used. In this case, a material that reflects light such as aluminum is used for the electrode.
  • Examples of the method for applying the liquid crystal aligning agent include a spin coating method, a printing method, and an ink jet method.
  • the liquid crystal aligning agent is preferably applied after being filtered through a membrane filter having a pore size of 0.1 ⁇ m to 1 ⁇ m.
  • the drying process after applying the liquid crystal aligning agent is not necessarily required, but if the time from application to baking is not constant for each substrate, or if baking is not performed immediately after application, a drying process is included. Is preferred.
  • the drying is not particularly limited as long as the solvent is evaporated to such an extent that the shape of the coating film is not deformed by the conveyance of the substrate or the like. Specific examples include a method of drying on a hot plate at 50 to 150 ° C., preferably 80 to 120 ° C. for 0.5 to 30 minutes, preferably 1 to 5 minutes.
  • Firing after applying the liquid crystal aligning agent can be performed at any temperature of 100 to 350 ° C., preferably 120 to 300 ° C., more preferably 150 to 250 ° C.
  • This baking can be performed with a hot plate, a hot-air circulating furnace, an infrared furnace, or the like.
  • the thickness of the film after firing is not particularly limited, but is preferably 5 to 300 nm, more preferably 10 to 100 nm.
  • Examples of the material of the rubbing cloth used for the rubbing treatment include cotton, nylon, and rayon.
  • the liquid crystal display element of the present invention is a liquid crystal display element obtained by obtaining a substrate with a liquid crystal alignment film from the liquid crystal aligning agent of the present invention by the method described above, and then producing a liquid crystal cell by a known method.
  • liquid crystal cell fabrication prepare a pair of substrates on which a liquid crystal alignment film is formed, spread spacers on the liquid crystal alignment film of one substrate, and make the liquid crystal alignment film surface inside.
  • Examples include a method in which the other substrate is bonded and liquid crystal is injected under reduced pressure, or a method in which liquid crystal is dropped on the liquid crystal alignment film surface on which spacers are dispersed, and then the substrate is bonded to perform sealing.
  • the thickness of the spacer at this time is preferably 1 to 30 ⁇ m, more preferably 2 to 10 ⁇ m.
  • DAC-1 4- (4- (vinyloxy) butoxy) benzene-1,3-diamine
  • DAC-2 Undec-10-enyl-3,5-diaminobenzoate
  • DA-1 2- (methacryloyloxy) ethyl- 3,5-diaminobenzoate
  • DA-2 1,3-diaminobenzene
  • Example 3 Using 7.68 g (0.039 mol) of CBDA as the tetracarboxylic dianhydride component and 8.89 g (0.040 mol) of DAC-1 as the diamine component, the reaction was conducted in NMP 93.94 g for 16 hours at room temperature. A solution having an acid (PAA-1) concentration of 15% by mass was obtained. 10.0 g of this solution was diluted with 10.0 g of NMP and 5.0 g of BC to obtain a liquid crystal aligning agent having 6% by mass of polyamic acid (PAA-1), 74% by mass of NMP, and 20% by mass of BC. It was.
  • PAA-1 polyamic acid
  • Example 4 Using 7.68 g (0.039 mol) of CBDA as the tetracarboxylic dianhydride component and 12.17 g (0.040 mol) of DAC-2 as the diamine component, the reaction was carried out in NMP 112.48 g at room temperature for 16 hours. A solution having an acid (PAA-2) concentration of 15% by mass was obtained. 10.0 g of this solution was diluted with 10.0 g of NMP and 5.0 g of BC to obtain a liquid crystal aligning agent having 6% by mass of polyamic acid (PAA-2), 74% by mass of NMP, and 20% by mass of BC. It was.
  • PAA-2 polyamic acid
  • GPC device manufactured by Shodex (GPC-101) Column: manufactured by Shodex (series of KD803 and KD805) Column temperature: 50 ° C Eluent: N, N-dimethylformamide (as additives, lithium bromide-hydrate (LiBr.H2O) is 30 mmol / L, phosphoric acid / anhydrous crystal (o-phosphoric acid) is 30 mmol / L, and tetrahydrofuran ( THF) is 10 ml / L.) Flow rate: 1.0 ml / min Standard sample for preparing calibration curve: TSK standard polyethylene oxide (molecular weight: about 900,000, 150,000, 100,000, 30,000) manufactured by Tosoh Corporation, and polyethylene glycol (molecular weight: about 12,000, 4,000, 1,000) manufactured by Polymer Laboratory.
  • Table 7 shows the calculation results of the number average molecular weight (Mn), the weight average molecular weight (Mw), and the Z average molecular weight (Mz).
  • liquid crystal aligning agent prepared in Examples 3 and 4 and Comparative Examples 1 and 2
  • a liquid crystal cell was produced as follows.
  • a liquid crystal aligning agent is spin-coated on a glass substrate with a transparent electrode, dried on a hot plate at 70 ° C. for 70 seconds, and then baked on a hot plate at 230 ° C. for 10 minutes to form a coating film having a thickness of 100 nm. It was.
  • the surface of the coating film was rubbed using a rayon cloth with a rubbing apparatus having a roll diameter of 120 mm under the conditions of a roll rotation speed of 1000 rpm, a roll traveling speed of 50 mm / sec, and an indentation amount of 0.3 mm to obtain a substrate with a liquid crystal alignment film .
  • Prepare two substrates with a liquid crystal alignment film spray a 6 ⁇ m spacer on the surface of one liquid crystal alignment film, print a sealant on it, and face the other substrate with the liquid crystal alignment film surface
  • the sealing agent was cured to produce an empty cell.
  • Liquid crystal MLC-2003 manufactured by Merck & Co., Inc.
  • a substrate with a liquid crystal alignment film was produced by the same method as the production of the liquid crystal cell described above. At that time, the pressing amount of rubbing conditions was changed to 0.5 mm. The obtained liquid crystal alignment film surface was observed with the confocal laser microscope, and the following evaluation was performed. ⁇ : Scraping and rubbing scratches are not observed. ⁇ : Scraping and rubbing scratches are observed. X: A film
  • Table 8 shows the evaluation results of voltage holding ratio and rubbing resistance.
  • the diamine compound of the present invention can be used as a raw material for various polymers such as polyamic acid, polyamic acid ester, polyimide, and polyamide. Further, the synthesized polymer can be used as a material constituting the liquid crystal alignment film.
  • the liquid crystal aligning agent of this invention can be utilized as a liquid crystal aligning film of a liquid crystal display element.
  • the liquid crystal display element of the present invention is suitably used for various types of display elements such as TN liquid crystal display elements, STN liquid crystal display elements, TFT liquid crystal display elements, VA liquid crystal display elements, IPS liquid crystal display elements, and OCB liquid crystal display elements. .
  • the entire contents of the specification, claims, and abstract of Japanese Patent Application No. 2010-043373 filed on Feb. 26, 2010 are incorporated herein as the disclosure of the specification of the present invention. Is.

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Abstract

 ラビング耐性が高く、液晶配向性が良好であり、更に電圧保持率が高い液晶配向膜を得られる液晶配向剤、この液晶配向剤の重合体、及びこの重合体の原料となる新規なジアミン化合物を提供する。 下記式(1)で表されるジアミン化合物、このジアミン化合物を原料として合成されるポリアミック酸、ポリイミドなどの重合体、この重合体を含有する液晶配向剤、液晶配向膜、及び液晶表示素子。上記式(1)中のRは、-O-、-COO-など、Rは直鎖状または分岐状の炭素数1から20のアルキレン、Rは、-CH-、-O-などを表す。

Description

ジアミン化合物、液晶配向剤及び液晶表示素子
 本発明は、液晶配向膜などに使用する重合体の原料として有用である新規なジアミン化合物、それを用いて得られるポリアミック酸及びポリイミド、並びに液晶配向剤に関する。さらには、前記液晶配向剤から得られる液晶配向膜を有する液晶表示素子に関する。
 現在、液晶表示素子の液晶配向膜としては、ポリアミック酸などのポリイミド前駆体や可溶性ポリイミドを主成分とする液晶配向剤を塗布し、焼成して塗膜とし、ついでこの塗膜をラビング処理して得られる液晶配向膜が主として用いられている。このラビング処理は、塗膜の表面を布で擦る方法で行われるため、液晶配向膜が削れたり傷が付いたりといった問題があるが、液晶表示素子の一部の用途ではラビング処理をより強い条件で行う傾向がある。これは、強いラビング処理を行うことで、液晶の配向状態をより均一に、かつより強固なものにしようという狙いによるものである。そのため、液晶配向膜のラビング耐性に関する要求は高くなってきた。
 ラビング処理による膜の削れや傷の発生が起こりにくい液晶配向膜を得る方法としては、ポリイミドやポリイミド前駆体に種々の添加剤を加える方法が知られている(例えば、特許文献1及び特許文献2参照)。そのほか、ラビング耐性の良好なポリイミド構造も提案されている(例えば、特許文献3及び特許文献4参照)。
 また、液晶表示素子は電圧によって液晶を駆動させているため、液晶配向膜に対しても電気的な特性が求められる。そして、液晶配向膜に求められる代表的な電気特性の一つに電圧保持率がある。電圧保持率とは、液晶セルに印加された電圧が一定時間経過後にどれだけ保持されているかを表したものであり、一般的にはこの電圧保持率が高い方が液晶表示素子の信頼性が高くなるとされている。
特開平7-120769号公報 特開平9-146100号公報 特開2008-90297号公報 特開平9-258229号公報
 本発明の目的は、ラビング時に膜の剥がれや傷が発生しにくく、かつ液晶の配向性が良好であり、さらには電圧保持率が高い液晶配向膜を提供すること、この液晶配向膜を得ることができる液晶配向剤を提供すること、この液晶配向剤を得ることができる重合体を提供すること、及びこの重合体の原料となる新規なジアミン化合物を提供することにある。更には、液晶配向膜の削れや傷による表示欠陥が少なく、かつ信頼性の高い液晶表示素子を提供することにある。
 本発明は、以下を要旨とする。
[1]下記式(1)で表されるジアミン化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
(Rは、-CH-、-O-、-CONH-、-NHCO-、-COO-、-OCO-又は-NH-を表す。Rは、直鎖状または分岐状の炭素数1から炭素数20のアルキレンを表し、このアルキレンの任意の-CH-は、-CF-若しくは-CH=CH-、又は下記のいずれかの置換基(これらの基は互いに隣り合わない。)で置き換えられていてもよい。置換基:-O-、-NHCO-、-CONH-、-COO-、-OCO-、-NH-、-NHCONH-、-NHCSNH-。Rは、-CH-、-O-、-NH-、又はフェニレン基を表す。)
[2]式(1)のRが直鎖状または分岐状の炭素数2から炭素数10のアルキレンである上記[1]に記載のジアミン化合物。
[3]式(1)のRが-O-又は-COO-である、上記[1]又は[2]のいずれかに記載のジアミン化合物。
[4]式(1)で表されるジアミン化合物が、下記のいずれかの化合物である上記[1]~[3]のいずれかに記載のジアミン化合物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
[5]上記[1]から[4]のいずれかに記載のジアミン化合物を原料の一部として使用し合成される重合体。
[6]上記[1]から[4]のいずれかに記載のジアミン化合物を含むジアミン成分とテトラカルボン酸二無水物成分とを反応させて得られるポリアミック酸。
[7]上記ジアミン成分が、上記[1]から[4]のいずれかに記載のジアミン化合物を10モル%以上含む上記[5]に記載のポリアミック酸。
[8]上記[6]又は[7]に記載のポリアミック酸をイミド化して得られるポリイミド。
[9]上記[6]又は[7]に記載のポリアミック酸及び上記[8]に記載のポリイミドのうち少なくとも一種類を含有することを特徴とする液晶配向剤。
[10]上記[9]に記載の液晶配向剤を用いて得られる液晶配向膜。
[11]上記[10]の液晶配向膜を具備する液晶表示素子。
 本発明の新規なジアミン化合物を、液晶配向膜を構成する重合体の原料に使用することで、液晶の配向性を損なうことなく、ラビング耐性と電圧保持特性を向上させた液晶配向膜が得られる。換言すると、液晶配向剤の成分として、本発明のジアミン化合物を原料に用いた重合体を使用することで、ラビング時に膜の剥がれや傷が発生しにくく、かつ液晶の配向性が良好であり、さらには電圧保持率が高い液晶配向膜を得ることができる。本発明の液晶配向剤から得られた液晶配向膜を具備する液晶表示素子は、液晶配向膜の削れや傷による表示欠陥が少なく、かつ信頼性の高い液晶表示素子となる。
 以下に本発明を詳細に説明する。
<ジアミン化合物>
 本発明のジアミン化合物は、下記一般式(1)で表される化合物であり、スペーサー部位と末端ビニル基とからなる側鎖を有していることを特徴とする。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
 式(1)中のR-R-Rは、側鎖におけるスペーサー部位(末端のビニル基とジアミノベンゼン骨格をつなぐ基)であり、Rはこのスペーサー部位におけるジアミノベンゼン骨格との結合基を表す。Rは、-CH-(メチレン)、-O-(エーテル)、-CONH-(アミド)、-NHCO-(逆アミド)、-COO-(エステル)、-OCO-(逆エステル)及び-NH-(アミノ)の中から選ばれる。Rは、通常の有機合成的手法で形成させることができるが、合成の容易性の観点から、-CH-、-O-、-COO-、-NHCO-又は-NH-が好ましく、-O-又は-COO-がより好ましい。
 式(1)中のRは、スペーサー部位の中心となる部分であり、直鎖状または分岐状の炭素数1から炭素数20のアルキレンである。ただし、アルキレンの任意の-CH-は、-CF-又は-CH=CH-で置き換えられていてもよい。また、置き換えられる-CH-は、1箇所であっても複数の箇所であってもよい。
 更には、このアルキレンの任意の-CH-は、-O-、-NHCO-、-CONH-、-COO-、-OCO-、-NH-、-NHCONH-又は-NHCSNH-の置換基により置き換えられていてもよい。但し、これらの置換基は互いに隣り合わない。これは、Rが、アルキレン-置換基-アルキレンという構成を含んでいてもよいことを意味している。加えて、Rが-CH-の場合、RにおけるR側の末端は該置換基であってもよいことを意味している。
 同様に、Rが、下記する-CH-又はフェニレン基の場合、RにおけるR側の末端は上記置換基であってもよいことを意味している。よって、Rが-CH-であり、かつ、Rが-CH-又はフェニレン基の場合、Rは置換基-アルキレン-置換基、という構成や、上記置換基のいずれであってもよいことを意味している。なお、上記置換基で置き換えられる-CH-は1箇所でも、複数の箇所であってもよい。
 上記Rは、中でも合成の容易性の観点からは、炭素数2から炭素数10、より好ましくは、炭素数2から炭素数6のアルキレンが好ましい。
 式(1)中のRは、スペーサー部位における末端ビニル基との結合基を表す。Rは、-CH-、-O-、-NH-及びフェニレン基の中から選ばれる。その中でも合成の容易性の観点から-CH-、又は-O-であることが好ましい。
 式(1)中における二つのアミノ基(-NH)の結合位置は限定されない。二つのアミノ基の具体的な位置としては、ベンゼン環上のRの結合位置に対して、2,3の位置、2,4の位置、2,5の位置、2,6の位置、3,4の位置、3,5の位置が挙げられる。本発明のジアミン化合物を重合体の原料として用いる場合、アミノ基の反応性の観点からは、2,4の位置、2,5の位置、又は3,5の位置が好ましい。ジアミン化合物を合成する際の容易性も加味すると、2,4の位置、又は3,5の位置がより好ましい。
 以下に、本発明のジアミン化合物の好ましい例を示すが、これらに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
 上記で示した式において、Xは、-CH-、-O-、-CONH-、-NHCO-、-COO-、-OCO-又は-NH-を表し、Xは、-CH-、-O-又は-NH-を表し、Xは、-O-、-NHCO-、-CONH-、-COO-、-OCO-又は-NH-を表し、Xは、-CH-、-O-、-CONH-、-NHCO-、-COO-、-OCO-又は-NH-を表す。nは1~20の整数を表し、n1及びn2は、それぞれ独立して1~18の整数を表すが、n1とn2の合計は2~19である。n3、n4及びn5は、それぞれ独立して1~19の整数を表すが、n3とn4とn5の合計は3~21である。n6は1~19の整数を表す。
<ジアミン化合物の合成方法>
 前記式(1)で表されるジアミン化合物を合成する方法は特に限定されないが、例えば下記式(2)で表されるジニトロ化合物のニトロ基を還元してアミノ基に変換することで得ることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
(式(2)中のR、R、及びRは、式(1)の定義と同義である)
 上記のジニトロ化合物を還元する方法としては、末端の二重結合が反応しないようにするため、パラジウム-炭素、酸化白金、ラネーニッケル、白金黒、ロジウム-アルミナ、硫化白金炭素、スズ、鉄などを触媒として用い、酢酸エチル、トルエン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アルコール系などの溶媒中、水素ガス、ヒドラジン、塩化水素などによって行う還元方法が挙げられる。
 上記式(2)で表されるジニトロ化合物は、ジニトロベンゼンに対してRを介して-R-Rを結合させる方法などで得ることができる。例えば、Rがアミド結合(-CONH-)の場合には、ジニトロベンゼンの酸クロリドと、R及びRを有するアミノ化合物とをアルカリ存在下で反応させる方法が挙げられる。また、Rが逆アミド結合(-HNCO-)の場合には、アミノ基含有ジニトロベンゼンと、R及びRを有する酸クロリドとをアルカリ存在下で反応させる方法が挙げられる。
 Rがエステル結合(-COO-)の場合には、ジニトロベンゼンの酸クロリドと、R及びRを有するアルコール化合物とをアルカリ存在下で反応させる方法が挙げられる。また、Rが逆エステル結合(-OCO-)の場合には、ヒドロキシ基含有ジニトロベンゼンと、R及びRを有する酸クロリドとをアルカリ存在下で反応させる方法が挙げられる。
 Rがエーテル結合(-O-)の場合には、ハロゲン基含有ジニトロベンゼンと、R及びRを有するアルコール化合物とをアルカリ存在下で反応させる方法が挙げられる。
 Rがアミノ結合(-NH-)の場合には、ハロゲン基含有ジニトロベンゼンと、R及びRを有するアミノ化合物とをアルカリ存在下で反応させる方法が挙げられる。
 Rが炭素-炭素結合(-CH-)の場合には、ハロゲン基含有ジニトロベンゼンと、R及びRを有する不飽和結合を有する化合物とをヘック反応や薗頭クロスカップリング反応を利用し、反応させる方法が挙げられる。
 上記のジニトロベンゼンの酸クロリドとしては、3,5-ジニトロ安息香酸クロリド、2,4-ジニトロ安息香酸クロリド、3,5-ジニトロベンジルクロリド、2,4-ジニトロベンジルクロリドなどが挙げられる。また、アミノ基含有ジニトロベンゼンとしては、2,4-ジニトロアニリン、3,5-ジニトロアニリン、2,6-ジニトロアニリンなどが挙げられる。
 ヒドロキシ基含有ジニトロベンゼンとしては、2,4-ジニトロフェノール、3,5-ジニトロフェノール、2,6-ジニトロフェノールなどが挙げられる。
 ハロゲン基含有ジニトロベンゼンとしては、2,4-ジニトロフルオロベンゼン、3,5-フルオロベンゼン、2,6-フルオロベンゼン、2,4-ジニトロヨードベンゼン、3,5-ジニトロヨードベンゼン、2,6-ジニトロヨードベンゼンなどが挙げられる。
 上記反応で用いられるアルカリとしては、トリエチルアミン、ピリジン、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等が挙げられる。
<重合体>
 本発明の重合体は、前記式(1)で表されるジアミン化合物(以下、特定ジアミン化合物ともいう)を原料の一部として合成されるものである。例えば、特定ジアミン化合物を含むジアミン成分とテトラカルボン酸二無水物成分やそのジエステル体成分とを重合反応させることにより得られるポリアミック酸及びポリアミック酸エステル、このポリアミック酸を脱水閉環して得られるポリイミド、ジアミン成分とジカルボン酸クロリド成分やテトラカルボン酸クロリド成分とを重合反応させることにより得られるポリアミドやポリアミック酸などを挙げることができる。
<ポリアミック酸>
 本発明のポリアミック酸において、特定ジアミン化合物は、上記の重合反応に用いるジアミン成分の全てであってもよく、その他のジアミン化合物を併用してもよい。また、使用する特定ジアミン化合物は1種類であってもよく、2種類以上であってもよい。
 特定ジアミン化合物をその他のジアミン化合物と併用する場合において、特定ジアミン化合物の使用割合に特に制限は無いが、特定ジアミン化合物の割合が多いほど、特定ジアミンを使用する効果はより顕著に発揮される。特定ジアミン化合物の好ましい割合をあえて示すならば、重合反応に用いるジアミン成分の10モル%以上が特定ジアミン化合物であることが好ましい。更には、ジアミン成分の30モル%以上が特定ジアミン化合物であることが好ましく、より好ましくは50モル%以上である。
 特定ジアミン化合物と併用するその他のジアミン化合物は特に限定されないが、例えば下記式(3)中のBが下記の表1~表4に示す2価の有機基である化合物を挙げることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000009
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000010
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000011
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000012
 前記ポリアミック酸の合成において、以上のようなジアミン成分と重合反応させるテトラカルボン酸二無水物成分は特に限定されない。また、テトラカルボン酸二無水物成分に含まれるテトラカルボン酸二無水物は1種類であってもよく、2種類以上であってもよい。上記の重合反応に使用できるテトラカルボン酸二無水物の具体例をあえて挙げるならば、下記式(4)中のAが下記表5及び表6に示す4価の有機基である化合物を挙げることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000014
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000015
 ジアミン成分とテトラカルボン酸二無水物成分との反応によりポリアミック酸を得るにあたっては、公知の合成手法を用いることができる。代表的なものとしては、ジアミン成分とテトラカルボン酸二無水物成分とを有機溶媒中で混合する方法がある。この方法によれば、ジアミン化合物とテトラカルボン酸二無水物との反応が有機溶媒中で比較的容易に進行し、かつ副生成物が発生しない点で有利である。
 上記反応に用いる有機溶媒としては、生成したポリアミック酸が溶解するものであれば特に限定されない。さらに、ポリアミック酸を溶解させない有機溶媒であっても、生成したポリアミック酸が析出しない範囲で、上記溶媒に混合して使用してもよい。なお、有機溶媒中の水分は重合反応を阻害し、さらには生成したポリアミック酸を加水分解させる原因となるので、有機溶媒は脱水乾燥させたものを用いることが好ましい。
 以下に、有機溶媒の具体例を挙げる。
 N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジエチルホルムアミド、N-メチルホルムアミド、N-メチル-2-ピロリドン、N-エチル-2-ピロリドン、2-ピロリドン、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、3-メトキシ-N,N-ジメチルプロパンアミド、N-メチルカプロラクタム、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素、ピリジン、ジメチルスルホン、ヘキサメチルスルホキシド、γ-ブチロラクトン、イソプロピルアルコール、メトキシメチルペンタノール、ジペンテン、エチルアミルケトン、メチルノニルケトン、メチルエチルケトン、メチルイソアミルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、メチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルカルビトール、エチルカルビトール、エチレングリコール、エチレングリコールモノアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコール-tert-ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノプロピルエーテル、3-メチル-3-メトキシブチルアセテート、トリプロピレングリコールメチルエーテル、3-メチル-3-メトキシブタノール、ジイソプロピルエーテル、エチルイソブチルエーテル、ジイソブチレン、アミルアセテート、ブチルブチレート、ブチルエーテル、ジイソブチルケトン、メチルシクロへキセン、プロピルエーテル、ジヘキシルエーテル、ジオキサン、n-へキサン、n-ペンタン、n-オクタン、ジエチルエーテル、シクロヘキサノン、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n-ブチル、酢酸プロピレングリコールモノエチルエーテル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸メチルエチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸、3-メトキシプロピオン酸、3-メトキシプロピオン酸プロピル、3-メトキシプロピオン酸ブチル、ジグライム、4-ヒドロキシ-4-メチル-2-ペンタノン、2-エチル-1-ヘキサノール。これらの有機溶媒は単独で使用しても、混合して使用してもよい。
 ジアミン成分とテトラカルボン酸二無水物成分とを有機溶媒中で反応させる際には、ジアミン成分を有機溶媒に分散あるいは溶解させた溶液を攪拌させ、テトラカルボン酸二無水物成分をそのまま、または有機溶媒に分散あるいは溶解させて添加する方法、逆にテトラカルボン酸二無水物成分を有機溶媒に分散あるいは溶解させた溶液にジアミン成分を添加する方法、さらにはテトラカルボン酸二無水物成分とジアミン成分とを交互に添加する方法などが挙げられる。これらは、いずれの方法を用いてもよい。また、ジアミン成分又はテトラカルボン酸二無水物成分が複数種の化合物からなる場合は、あらかじめ混合した状態で反応させてもよく、個別に順次反応させてもよく、さらに個別に反応させた低分子量体を混合反応させ高分子量体としてもよい。
 ジアミン成分とテトラカルボン酸二無水物成分とを反応させる際の温度は、任意の温度を選択することができ、例えば-20℃~150℃、好ましくは-5℃~100℃の範囲である。また、反応は任意の濃度で行うことができ、例えば1~50質量%、好ましくは5~30質量%である。
 上記の重合反応における、(テトラカルボン酸二無水物成分の合計モル数/ジアミン成分の合計モル数)で表わされるモル比率は、得ようとするポリアミック酸の分子量に応じて任意の値を選択することができる。通常の重縮合反応と同様に、このモル比率が1.0に近いほど生成するポリアミック酸の分子量は大きくなる。モル比率の好ましい範囲を示すならば0.8~1.2である。
<ポリイミド>
 ポリイミドは、上記のポリアミック酸を脱水閉環(イミド化)して得ることができる。 ポリアミック酸をイミド化させる方法としては、ポリアミック酸の溶液をそのまま加熱する熱イミド化、ポリアミック酸の溶液に触媒を添加する触媒イミド化が挙げられる。
 ポリアミック酸を溶液中で熱イミド化させる場合の温度は、100℃~400℃、好ましくは120℃~250℃であり、イミド化反応により生成する水を系外に除きながら行う方法が好ましい。
 ポリアミック酸の触媒イミド化は、ポリアミック酸の溶液に、塩基性触媒と酸無水物とを添加し、-20~250℃、好ましくは0~180℃で攪拌することにより行うことができる。塩基性触媒の量はアミド酸基の0.5~30モル倍、好ましくは2~20モル倍であり、酸無水物の量はアミド酸基の1~50モル倍、好ましくは3~30モル倍である。塩基性触媒としてはピリジン、トリエチルアミン、トリメチルアミン、トリブチルアミン、トリオクチルアミンなどを挙げることができ、中でもピリジンは反応を進行させるのに適度な塩基性を持つので好ましい。酸無水物としては、無水酢酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸などを挙げることができ、中でも無水酢酸を用いると反応終了後の精製が容易となるので好ましい。触媒イミド化によるイミド化率は、触媒量、反応温度、反応時間などを調節することにより制御することができる。
 本発明のポリイミドにおいて、ポリアミック酸からの脱水閉環率(イミド化率)は、必ずしも100%である必要はない。
 ポリアミック酸又はポリイミドの反応溶液から、生成したポリアミック酸又はポリイミドを回収する場合には、反応溶液を貧溶媒に投入して沈殿させればよい。沈殿に用いる貧溶媒としてはメタノール、アセトン、ヘキサン、ブチルセルソルブ、ヘプタン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、エタノール、トルエン、ベンゼン、水などを挙げることができる。貧溶媒に投入して沈殿させたポリマーは、濾過して回収した後、常圧あるいは減圧下で、常温あるいは加熱して乾燥することができる。また、沈殿回収した重合体を、有機溶媒に再溶解させ、再沈殿回収する操作を2~10回繰り返すと、重合体中の不純物を少なくすることができる。この際の貧溶媒として、例えば、アルコール類、ケトン類、炭化水素などが挙げられ、これらの内から選ばれる3種類以上の貧溶媒を用いると、より一層精製の効率が上げることができる。
 <液晶配向剤>
 本発明の液晶配向剤は、液晶配向膜を形成するための塗布液であり、液晶配向膜を形成するための樹脂成分が有機溶媒に溶解した溶液である。ここで樹脂成分は、前記した本発明の重合体から選ばれる少なくとも一種類の重合体を含む。液晶配向剤における樹脂成分の含有量は、1質量%~20質量%が好ましく、より好ましくは3質量%~15質量%、特に好ましくは3~10質量%である。
 本発明の液晶配向剤において、前記の樹脂成分は全てが本発明の重合体であってもよく、本発明の重合体に他の重合体が混合されていてもよい。他の重合体を混合する場合、かかる他の重合体の含有量は樹脂成分全体の0.5質量%~15質量%とすることが好ましく、より好ましくは1質量%~10質量%である。かかる他の重合体は、例えば、特定ジアミンを含まないジアミン成分とテトラカルボン酸二無水物成分とから得られるポリアミック酸又はポリイミドなどが挙げられる。
 本発明の液晶配向剤に含有される重合体の分子量は、そこから得られる塗膜の強度、及び、塗膜形成時の作業性、塗膜の均一性などを考慮した場合、GPC(Gel Permeation Chromatography)法で測定した重量平均分子量で5,000~1,000,000とするのが好ましく、より好ましくは、10,000~150,000である。
 本発明の液晶配向剤に用いる有機溶媒は、上述した樹脂成分を溶解させる有機溶媒であれば特に限定されない。この有機溶媒は1種類の溶媒であっても2種類以上の混合溶媒であってもよい。あえて有機溶媒の具体例を挙げるならば、前記のポリアミック酸合成で例示した有機溶媒を挙げることができる。中でもN-メチル-2-ピロリドン、γ-ブチロラクトン、N-エチル-2-ピロリドン、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン及び3-メトキシ-N,N-ジメチルプロパンアミドは、樹脂成分の溶解性の観点から好ましい。
 また、以下に示すような溶媒は、塗膜の均一性や平滑性を向上させるので、樹脂成分の溶解性が高い溶媒に混合して使用すると好ましい。例えば、イソプロピルアルコール、メトキシメチルペンタノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルカルビトール、エチルカルビトール、エチルカルビトールアセテート、エチレングリコール、エチレングリコールモノアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコール-tert-ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノプロピルエーテル、3-メチル-3-メトキシブチルアセテート、トリプロピレングリコールメチルエーテル、3-メチル-3-メトキシブタノール、ジイソプロピルエーテル、エチルイソブチルエーテル、ジイソブチレン、アミルアセテート、ブチルブチレート、ブチルエーテル、ジイソブチルケトン、メチルシクロへキセン、プロピルエーテル、ジヘキシルエーテル、n-へキサン、n-ペンタン、n-オクタン、ジエチルエーテル、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n-ブチル、酢酸プロピレングリコールモノエチルエーテル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸メチルエチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸、3-メトキシプロピオン酸、3-メトキシプロピオン酸プロピル、3-メトキシプロピオン酸ブチル、1-メトキシ-2-プロパノール、1-エトキシ-2-プロパノール、1-ブトキシ-2-プロパノール、1-フェノキシ-2-プロパノール、プロピレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコール-1-モノメチルエーテル-2-アセテート、プロピレングリコール-1-モノエチルエーテル-2-アセテート、ジプロピレングリコール、2-(2-エトキシプロポキシ)プロパノール、乳酸メチルエステル、乳酸エチルエステル、乳酸n-プロピルエステル、乳酸n-ブチルエステル、乳酸イソアミルエステル、2-エチル-1-ヘキサノールなどが挙げられる。これらの溶媒は複数種類を混合してもよい。これらの溶媒を用いる場合は、液晶配向剤に含まれる溶媒全体の5~80質量%であることが好ましく、より好ましくは20~60質量%である。
 本発明の液晶配向剤は、上記以外の成分を含有してもよい。その例としては、液晶配向剤を塗布した際の膜厚均一性や表面平滑性を向上させる化合物、液晶配向膜と基板との密着性を向上させる化合物などが挙げられる。
 液晶配向膜の厚みの均一性や表面平滑性を向上させる化合物としては、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、ノ二オン系界面活性剤などが挙げられる。より具体的には、例えば、エフトップEF301、EF303、EF352(トーケムプロダクツ社製))、メガファックF171、F173、R-30(大日本インキ社製)、フロラードFC430、FC431(住友スリーエム社製)、アサヒガードAG710、サーフロンS-382、SC101、SC102、SC103、SC104、SC105、SC106(旭硝子社製)などが挙げられる。これらの界面活性剤を使用する場合、その使用割合は、液晶配向剤に含有される樹脂成分の100質量部に対して、好ましくは0.01~2質量部、より好ましくは0.01~1質量部である。
 液晶配向膜と基板との密着性を向上させる化合物の具体例としては、官能性シラン含有化合物、エポキシ基含有化合物などが挙げられる。例えば、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、2-アミノプロピルトリメトキシシラン、2-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-(2-アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-(2-アミノエチル)-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3-ウレイドプロピルトリメトキシシラン、3-ウレイドプロピルトリエトキシシラン、N-エトキシカルボニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-エトキシカルボニル-3-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-トリエトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、N-トリメトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、10-トリメトキシシリル-1,4,7-トリアザデカン、10-トリエトキシシリル-1,4,7-トリアザデカン、9-トリメトキシシリル-3,6-ジアザノニルアセテート、9-トリエトキシシリル-3,6-ジアザノニルアセテート、N-ベンジル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-ベンジル-3-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-フェニル-3-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-ビス(オキシエチレン)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-ビス(オキシエチレン)-3-アミノプロピルトリエトキシシラン、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、2,2-ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,3,5,6-テトラグリシジル-2,4-ヘキサンジオール、N,N,N’,N’,-テトラグリシジル-m-キシレンジアミン、1,3-ビス(N,N-ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、N,N,N’,N’,-テトラグリシジル-4、4’-ジアミノジフェニルメタン、3-(N-アリル-N-グリシジル)アミノプロピルトリメトキシシラン、3-(N,N-ジグリシジル)アミノプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。
 また、本発明の液晶配向剤を用いて得られる液晶配向膜のラビング耐性をさらに上げるために、2,2'-ビス(4-ヒドロキシ-3,5-ジヒドロキシメチルフェニル)プロパン、テトラ(メトキシメチル)ビスフェノール等のフェノール化合物を添加してもよい。これらの化合物を使用する場合は、液晶配向剤に含有される樹脂成分の100質量部に対して0.1~30質量部であることが好ましく、より好ましくは1~20質量部である。
 本発明の液晶配向剤には、上記の他、本発明の効果が損なわれない範囲であれば、液晶配向膜の誘電率や導電性などの電気特性を変化させる目的の誘電体や導電物質を添加してもよい。
<液晶配向膜・液晶表示素子>
 以上のようにして得られた本発明の液晶配向剤は、基板に塗布し、乾燥し、焼成して被膜とすることができる。この被膜面をラビングなどによる配向処理をすることにより、液晶配向膜として使用することができる。
 液晶配向剤を塗布する基板としては、透明性の高いものであれば特に限定されず、例えばガラス基板などを用いることができる。また、反射型の液晶表示素子では、片側の基板のみにならばシリコンウエハー等の不透明な物でも使用でき、この場合は、電極にアルミニウム等の光を反射する材料が使用される。
 液晶配向剤の塗布方法としては、スピンコート法、印刷法、インクジェット法などが挙げられる。また、液晶配向剤は、細孔径0.1μm~1μmのメンブランフィルタで濾過してから塗布することが好ましい。
 液晶配向剤を塗布した後の乾燥の工程は、必ずしも必要とされないが、塗布後から焼成までの時間が基板ごとに一定していない場合や、塗布後ただちに焼成されない場合には、乾燥工程を含めるのが好ましい。この乾燥は、基板の搬送等により塗膜形状が変形しない程度に溶媒が蒸発していれば良く、その乾燥手段については特に限定されない。具体例を挙げるならば、50~150℃、好ましくは80~120℃のホットプレート上で、0.5~30分、好ましくは1~5分乾燥させる方法が挙げられる。
 液晶配向剤を塗布した後の焼成は、100~350℃の任意の温度で行うことができるが、好ましくは120℃~300℃であり、さらに好ましくは150℃~250℃である。この焼成はホットプレート、熱風循環炉、赤外線炉などで行うことができる。
 焼成後の被膜の厚みは特に限定されないが、好ましくは5~300nm、より好ましくは10~100nmである。
 ラビング処理に使用されるラビング布の材質としては、綿、ナイロン、レーヨン等を挙げることができる。
 本発明の液晶表示素子は、上記した手法により本発明の液晶配向剤から液晶配向膜付き基板を得た後、公知の方法で液晶セルを作製し、液晶表示素子としたものである。
 液晶セル作製の一例を挙げるならば、液晶配向膜が形成された1対の基板を用意し、片方の基板の液晶配向膜上にスペーサーを散布し、液晶配向膜面が内側になるようにしてもう片方の基板を貼り合わせ、液晶を減圧注入して封止する方法、または、スペーサーを散布した液晶配向膜面に液晶を滴下した後に、基板を貼り合わせて封止を行う方法などが例示できる。このときのスペーサーの厚みは、好ましくは1~30μm、より好ましくは2~10μmである。
 以下に実施例を挙げ、本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
(実施例1)
 2,4-ジニトロ-1-(4-ビニルオキシ)ブトキシベンゼンの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
 500mL(ミリリットル)三口フラスコに、テトラメチレングリコールモノビニルエーテル5.94g、トリエチルアミン5.70g、及びトルエン30mLを加えた。次いで、系内を100℃に加熱し、20mLのトルエンに溶解させた2,4-ジニトロフルオロベンゼン10gを滴下し、100℃で6時間攪拌した。反応終了後、純水50mLを加え、攪拌した後、酢酸エチルを加えて有機層を抽出した。有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて脱水乾燥し、濾過した後に、ロータリーエバポレーターを用いて溶媒留去を行った。残渣を酢酸エチル/ヘキサン=7/3(容積比、以下同様である。)の混合溶媒を用いて再結晶を行い、13.2gの目的物を得た(収率90%)。目的物のH-NMRの測定結果を以下に示す。この結果から、得られた固体が、目的のジニトロ化合物であることを確認した。なお、H-NMRとは、分子内水素原子の核磁気共鳴スペクトルを意味する。
H NMR (400 MHz,CDCl):δ=8.75 (s,1H), 8.40-8.45 (d,1H), 7.18-7.21 (d,1H), 6.43-6.45 (m,1H), 4.27-4.31 (t,2H), 4.16-4.22 (d,1H), 4.00-4.03 (d,1H),3.75-3.79 (t,2H),1.98-2.07 (m,1H),1.88-1.94 (m,1H)
 4-(4-(ビニルオキシ)ブトキシ)ベンゼン-1,3-ジアミンの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
 500mL三口フラスコに、上記のジニトロ化合物2.12g、トルエン20mL、及び10質量%塩化アンモニウム水溶液80mLを加えた。次いで、系内を70℃に加熱し、鉄(電解鉄)を4.2g加え、70℃で2.5時間攪拌した。反応終了後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を30mL加え、沈殿物をろ過し、トルエンで洗浄した。ろ液を酢酸エチルで抽出し、有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて脱水乾燥し、濾過した後に、ロータリーエバポレーターを用いて溶媒留去を行った。残渣を酢酸エチル/ヘキサン=7/3の混合溶媒を用いて再結晶を行い、0.59gの目的物を得た(収率38%)。目的物のH-NMRの測定結果を以下に示す。この結果から、得られた固体が、目的のジアミン化合物であることを確認した。
H NMR (400 MHz,CDCl):δ=6.60-6.62 (d,1H), 6.44-6.51 (m,1H), 6.13-6.14 (d,1H), 6.03-6.07 (m,1H), 4.14-4.21 (d,1H), 3.96-4.00 (d,1H),3.92-3.96 (t,2H),3.73-3.73 (m,4H),3.34 (s,2H)1.85-1.87 (m,4H)
(実施例2)
 ウンデセ-10-エニル-3,5-ジニトロベンゾエートの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
 300mL三口フラスコに、10-ウンデセン-1-オール5.11g、ピリジン2.37g、及びテトラヒドロフラン100mLを加えた。次いで、系内を氷冷により0℃にし、3,5-ジニトロベンゾイルクロリドを8.3g加え、室温で2時間攪拌した。反応終了後、純水20mLを加え、攪拌した後、酢酸エチルを加えて有機層を抽出した。有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて脱水乾燥し、濾過した後に、ロータリーエバポレーターを用いて溶媒留去を行った。残渣を酢酸エチル/ヘキサン=7/3の混合溶媒を用いて再結晶を行い、6.9gの目的物を得た(収率63%)。目的物のH-NMRの測定結果を以下に示す。この結果から、得られた固体が、目的のジニトロ化合物であることを確認した。
H NMR (400 MHz,[D6]-DMSO):δ=9.04 (s,1H), 8.90 (s,2H), 5.73-5.83 (m,1H), 4.90-5.00 (m,2H), 4.38-4.41 (t,2H), 1.97-2.03 (m,2H), 1.73-1.80 (t,2H), 1.28-1.45 (m,12H)
 ウンデセ-10-エニル-3,5-ジアミノベンゾエートの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
 300mL三口フラスコに、上記のジニトロ化合物6.55g、テトラヒドロフラン50mL、及び純水50mlを加えて、系内を攪拌し、塩化すずを17.06g加え、60℃で2時間攪拌した。反応終了後、5質量%炭酸水素ナトリウムを400ml加え、pHを7-8にした。その後、酢酸エチルを160ml加え、白色沈殿物を濾過により取り除き、有機層を酢酸エチルで抽出した。有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて脱水乾燥し、濾過した後に、ロータリーエバポレーターを用いて溶媒留去を行った。残渣を酢酸エチル/ヘキサン=7/3の混合溶媒を用いて再結晶を行い、4.5gの目的物を得た(収率82%)。目的物のH-NMRの測定結果を以下に示す。この結果から、得られた固体が、目的のジアミン化合物であることを確認した。
H NMR (400 MHz,[D6]-DMSO):δ=6.41 (s,2H), 6.01 (s,1H), 5.73-5.84 (m,1H), 4.91-5.01 (m,6H), 4.13-4.16 (t,2H), 1.98-2.02 (m,2H), 1.60-1.67 (m,2H), 1.27-1.37 (m,12H)
 以下の実施例及び比較例における化合物の略号は、以下のとおりである。
<テトラカルボン酸二無水物>
CBDA:1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
<ジアミン>
DAC-1:4-(4-(ビニルオキシ)ブトキシ)ベンゼン-1,3-ジアミン
DAC-2:ウンデセ-10-エニル-3,5-ジアミノベンゾエート
DA-1:2-(メタクリロイロキシ)エチル-3,5-ジアミノベンゾエート
DA-2:1,3-ジアミノベンゼン
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
<有機溶媒>
NMP:N-メチル-2-ピロリドン
BC:ブチルセロソルブ
(実施例3)
 テトラカルボン酸二無水物成分として、CBDAを7.68g(0.039mol)、ジアミン成分として、DAC-1を8.89g(0.040mol)用い、NMP93.94g中、室温で16時間反応させポリアミック酸(PAA-1)の濃度が15質量%の溶液を得た。この溶液10.0gをNMP10.0g、及びBC5.0gを用いて希釈し、ポリアミック酸(PAA-1)が6質量%、NMPが74質量%、及びBCが20質量%の液晶配向剤を得た。
(実施例4)
 テトラカルボン酸二無水物成分として、CBDAを7.68g(0.039mol)、ジアミン成分として、DAC-2を12.17g(0.040mol)用い、NMP112.48g中、室温で16時間反応させポリアミック酸(PAA-2)の濃度が15質量%の溶液を得た。この溶液10.0gをNMP10.0g、及びBC5.0gを用いて希釈し、ポリアミック酸(PAA-2)が6質量%、NMPが74質量%、及びBCが20質量%の液晶配向剤を得た。
(比較例1)
 テトラカルボン酸二無水物成分として、CBDAを7.68g(0.039mol)、ジアミン成分として、DA-1を10.57g(0.040mol)用い、NMP103.41g中、室温で16時間反応させポリアミック酸(PAA-3)の濃度が15質量%の溶液を得た。この溶液10.0gをNMP10.0g、及びBC5.0gを用いて希釈し、ポリアミック酸(PAA-3)が6質量%、NMPが74質量%、及びBCが20質量%の比較対象とする液晶配向剤を得た。
(比較例2)
 テトラカルボン酸二無水物成分として、CBDAを7.68g(0.039mol)、ジアミン成分として、DA-2を4.32g(0.040mol)用い、NMP103.41g中、室温で16時間反応させポリアミック酸(PAA-3)の濃度が15質量%の溶液を得た。この溶液10.0gをNMP10.0g、及びBC5.0gを用いて希釈し、ポリアミック酸(PAA-4)が6質量%、NMPが74質量%、及びBCが20質量%の比較対象とする液晶配向処理剤を得た。
<ポリアミック酸の分子量>
 上記の実施例及び比較例で得られたポリアミック酸の分子量は、GPC(常温ゲル浸透クロマトグラフィー)装置によって測定し、その結果をポリエチレングリコール及びポリエチレンオキシドを用いた検量線により平均分子量として算出した。
 GPC装置:Shodex社製 (GPC-101)
 カラム:Shodex社製 (KD803及びKD805の直列)
 カラム温度:50℃
 溶離液:N,N-ジメチルホルムアミド(添加剤として、臭化リチウム-水和物(LiBr・H2O)が30mmol/L、リン酸・無水結晶(o-リン酸)が30mmol/L、及びテトラヒドロフラン(THF)が10ml/L。)
 流速:1.0ml/分
 検量線作成用標準サンプル:東ソー社製 TSK 標準ポリエチレンオキサイド(分子量 約900,000、150,000、100,000、30,000)、及びポリマーラボラトリー社製 ポリエチレングリコール(分子量 約12,000、4,000、1,000)。
 表7に、数平均分子量(Mn)、重量平均分子量(Mw)、及びZ平均分子量(Mz)の算出結果を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000022
<液晶セルの作製>
 実施例3、4及び比較例1、2で調製した液晶配向剤について、以下のようにして液晶セルを作製した。
 液晶配向剤を透明電極付きガラス基板にスピンコートし、70℃のホットプレート上で70秒間乾燥させた後、230℃のホットプレート上で10分間焼成を行い、膜厚100nmの塗膜を形成させた。この塗膜面をロール径120mmのラビング装置でレーヨン布を用いて、ロール回転数1000rpm、ロール進行速度50mm/sec、及び押し込み量0.3mmの条件でラビングし、液晶配向膜付き基板を得た。液晶配向膜付き基板を2枚用意し、その1枚の液晶配向膜面上に6μmのスペーサーを散布した後、その上からシール剤を印刷し、もう1枚の基板を液晶配向膜面が向き合いラビング方向が直行するようにして張り合わせた後、シール剤を硬化させて空セルを作製した。この空セルに減圧注入法によって、液晶MLC-2003(メルク社製)を注入し、注入口を封止して、ツイストネマティック液晶セルを得た。
<電圧保持率の評価>
 上記に記載の方法で作製したツイストネマティック液晶セルは、90℃の温度下で4Vの電圧を60μs間印加し、167ms後の電圧を測定し、電圧がどのくらい保持できているかを電圧保持率(%)として下記の式により算出した。なお、電圧保持率の測定には、東陽テクニカ社製のVHR-1電圧保持率測定装置を使用した。なお、V:印加電圧(V),V:極性反転電圧(V)である。

    電圧保持率(%)= (V/V )×100
<ラビング耐性の評価>
 上記した液晶セルの作製と同様の方法で液晶配向膜付き基板を作製した。その際、ラビング条件の押し込み量を0.5mmに変更して行った。得られた液晶配向膜表面を共焦点レーザー顕微鏡にて観察し、下記の評価を行った。
 ○:削れカスやラビング傷が観察されない。
 △:削れカスやラビング傷が観察される。
 ×:膜が剥離する又は目視でラビング傷が観察される。
 表8に、電圧保持率とラビング耐性の評価結果を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000023
 本発明のジアミン化合物は、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル、ポリイミド、ポリアミドなどの種々の重合体の原料として利用することができる。また、合成された重合体は、液晶配向膜を構成する材料として利用することができる。
 本発明の液晶配向剤は、液晶表示素子の液晶配向膜として利用することができる。本発明の液晶表示素子は、TN液晶表示素子、STN液晶表示素子、TFT液晶表示素子、VA液晶表示素子、IPS液晶表示素子、OCB液晶表示素子など、種々の方式による表示素子に好適に用いられる。
 なお、2010年2月26日に出願された日本特許出願2010-043373号の明細書、特許請求の範囲、及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。

Claims (11)

  1.  下記式(1)で表されるジアミン化合物
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    (Rは、-CH-、-O-、-CONH-、-NHCO-、-COO-、-OCO-又は-NH-を表す。Rは、直鎖状または分岐状の炭素数1から炭素数20のアルキレンを表し、このアルキレンの任意の-CH-は、-CF-若しくは-CH=CH-、又は下記のいずれかの置換基(これらの基は互いに隣り合わない。)で置き換えられていてもよい。置換基:-O-、-NHCO-、-CONH-、-COO-、-OCO-、-NH-、-NHCONH-、-NHCSNH-。Rは、-CH-、-O-、-NH-、又はフェニレン基を表す。)
  2.  式(1)のRが直鎖状または分岐状の炭素数2から炭素数10のアルキレンである請求項1に記載のジアミン化合物。
  3.  式(1)のRが-O-又は-COO-である、請求項1又は2のいずれかに記載のジアミン化合物。
  4.  式(1)で表されるジアミン化合物が、下記のいずれかの化合物である上記[1]~[3]のいずれかに記載のジアミン化合物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
  5.  請求項1から4のいずれかに記載のジアミン化合物を原料の一部として使用し合成される重合体。
  6.  請求項1から4のいずれかに記載のジアミン化合物を含むジアミン成分とテトラカルボン酸二無水物成分とを反応させて得られるポリアミック酸。
  7.  上記ジアミン成分が、請求項1から4のいずれかに記載のジアミン化合物を10モル%以上含む上記[5]に記載のポリアミック酸。
  8.  請求項6又は7に記載のポリアミック酸をイミド化して得られるポリイミド。
  9.  請求項6又は7に記載のポリアミック酸及び請求項8に記載のポリイミドのうち少なくとも一種類を含有することを特徴とする液晶配向剤。
  10.  請求項9に記載の液晶配向剤を用いて得られる液晶配向膜。
  11.  請求項10の液晶配向膜を具備する液晶表示素子。
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