WO2011016266A1 - パルス変調高周波電力制御方法およびパルス変調高周波電源装置 - Google Patents

パルス変調高周波電力制御方法およびパルス変調高周波電源装置 Download PDF

Info

Publication number
WO2011016266A1
WO2011016266A1 PCT/JP2010/053610 JP2010053610W WO2011016266A1 WO 2011016266 A1 WO2011016266 A1 WO 2011016266A1 JP 2010053610 W JP2010053610 W JP 2010053610W WO 2011016266 A1 WO2011016266 A1 WO 2011016266A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
power
control
output
pulse
wave power
Prior art date
Application number
PCT/JP2010/053610
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
譲原 逸男
佳久 秦
Original Assignee
株式会社京三製作所
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 株式会社京三製作所 filed Critical 株式会社京三製作所
Priority to KR1020117023384A priority Critical patent/KR101322539B1/ko
Priority to PL10806266T priority patent/PL2416629T3/pl
Priority to EP10806266.2A priority patent/EP2416629B1/en
Priority to CN201080026414.1A priority patent/CN102474971B/zh
Priority to SG2011061983A priority patent/SG175695A1/en
Priority to JP2010533770A priority patent/JP4932942B2/ja
Publication of WO2011016266A1 publication Critical patent/WO2011016266A1/ja

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32082Radio frequency generated discharge
    • H01J37/32174Circuits specially adapted for controlling the RF discharge
    • H01J37/32183Matching circuits
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32082Radio frequency generated discharge
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03FAMPLIFIERS
    • H03F3/00Amplifiers with only discharge tubes or only semiconductor devices as amplifying elements
    • H03F3/189High-frequency amplifiers, e.g. radio frequency amplifiers
    • H03F3/19High-frequency amplifiers, e.g. radio frequency amplifiers with semiconductor devices only
    • H03F3/191Tuned amplifiers
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03FAMPLIFIERS
    • H03F3/00Amplifiers with only discharge tubes or only semiconductor devices as amplifying elements
    • H03F3/20Power amplifiers, e.g. Class B amplifiers, Class C amplifiers
    • H03F3/21Power amplifiers, e.g. Class B amplifiers, Class C amplifiers with semiconductor devices only
    • H03F3/217Class D power amplifiers; Switching amplifiers
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K7/00Modulating pulses with a continuously-variable modulating signal
    • H03K7/08Duration or width modulation ; Duty cycle modulation
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K7/00Modulating pulses with a continuously-variable modulating signal
    • H03K7/10Combined modulation, e.g. rate modulation and amplitude modulation
    • HELECTRICITY
    • H02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02MAPPARATUS FOR CONVERSION BETWEEN AC AND AC, BETWEEN AC AND DC, OR BETWEEN DC AND DC, AND FOR USE WITH MAINS OR SIMILAR POWER SUPPLY SYSTEMS; CONVERSION OF DC OR AC INPUT POWER INTO SURGE OUTPUT POWER; CONTROL OR REGULATION THEREOF
    • H02M1/00Details of apparatus for conversion
    • H02M1/0067Converter structures employing plural converter units, other than for parallel operation of the units on a single load
    • H02M1/007Plural converter units in cascade
    • HELECTRICITY
    • H02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02MAPPARATUS FOR CONVERSION BETWEEN AC AND AC, BETWEEN AC AND DC, OR BETWEEN DC AND DC, AND FOR USE WITH MAINS OR SIMILAR POWER SUPPLY SYSTEMS; CONVERSION OF DC OR AC INPUT POWER INTO SURGE OUTPUT POWER; CONTROL OR REGULATION THEREOF
    • H02M7/00Conversion of ac power input into dc power output; Conversion of dc power input into ac power output
    • H02M7/42Conversion of dc power input into ac power output without possibility of reversal
    • H02M7/44Conversion of dc power input into ac power output without possibility of reversal by static converters
    • H02M7/48Conversion of dc power input into ac power output without possibility of reversal by static converters using discharge tubes with control electrode or semiconductor devices with control electrode

Definitions

  • Patent Documents 1 and 2 As a method for controlling the high frequency power supplied to the load, a method for controlling the traveling wave power output from the high frequency power supply device to be constant (PF control), and a method for controlling the load power obtained by subtracting the reflected wave power from the traveling wave power to be constant. (PL control) is known (Patent Documents 1 and 2).
  • Patent Document 3 As a method for controlling the power amplitude of output power, a continuous power control method for controlling the power amplitude of continuous power and a pulse power control method for changing a pulse width or a duty ratio of a pulse are known (Patent Document 3). ).
  • JP 2007-87908 A (see paragraphs 0002 to 0009, 0026, 0027) JP 2009-111940 (see paragraphs 0002 and 0011) Japanese Patent No. 4065820 (see paragraphs 0014 and 0015)
  • a matching circuit provided between the high-frequency power source and the load matches the impedance deviation due to the increase or decrease of the peak traveling wave power by the matching operation.
  • the matching point varies depending on the matching operation of the matching circuit. Due to the fluctuation of the matching point, the impedance in the plasma processing chamber (chamber) for processing the plasma on the load side becomes unstable, and the reflected wave power further fluctuates. As a result, the output power becomes unstable. Further, when the peak traveling wave power fluctuates, the plasma density and the plasma atmosphere in the chamber also change at the same time, which adversely affects the uniformity and yield of processes performed in the chamber.
  • the reflected wave power generally tends to increase when the plasma is not ignited. It has been pointed out that the plasma ignition becomes more difficult if the output of the traveling wave power is reduced in order to protect the high frequency power supply from the increase of the reflected wave power.
  • Patent Document 1 it is pointed out that there is the following problem when the reflected wave power increases when the traveling wave power is controlled to be constant.
  • traveling wave power When traveling wave power is controlled to be constant, the peak value of traveling wave power is controlled to be constant. Therefore, if the reflected wave power increases, the amount of power supplied to the load decreases. Changes and the load impedance fluctuates. As a result, the alignment state is lost, the plasma cannot be maintained, and the plasma disappears.
  • variable impedance element causes the hunting phenomenon. It may happen.
  • a hunting phenomenon in the matching process means that only a part of the variable impedance element of the matching device operates, and the life of the variable impedance element is shortened.
  • the output power control such as traveling wave power and load power
  • the output power is increased or decreased according to the fluctuation of the reflected wave power.
  • problems such as fluctuations in the plasma state.
  • the present invention solves the above-mentioned conventional problems, and by controlling the power amplitude (peak power) of the output power to be constant with respect to the power fluctuation in the pulse power control, it is possible to control the power amplitude of the output power.
  • the purpose is to avoid the impact on the load.
  • Another object of the present invention is to stabilize the plasma density and the plasma atmosphere on the load side by stably controlling the power amplitude of the output power, thereby improving the uniformity of the process by the plasma treatment and the quality of the product by the process. To do.
  • the present invention suppresses the average reflected wave power against the increase in reflected wave power, protects the power supply device, and maintains the power amplitude (peak traveling wave power) of the traveling wave power, thereby matching the matching circuit. It is an object of the present invention to eliminate the unnecessary matching operation and stabilize the plasma load.
  • Another object of the present invention is to facilitate the generation of plasma in a chamber at the time of starting a process with a load.
  • the output amplitude control for performing constant power control so that the power amplitude of the output power becomes a set value, and the pulse power of the pulse power so that the amount corresponding to the power amount of the output power becomes the set value.
  • the present invention includes an aspect of a pulse modulation high-frequency power control method and an aspect of a pulse modulation high-frequency power supply apparatus, and each aspect and each aspect includes an output amplitude control that performs constant power control on the power amplitude of output power, By performing duty control that controls the amount of power corresponding to the amount of output power with the duty ratio of pulse power, it is possible to achieve stable control of the power amplitude of the output power and protection of the power supply device against an increase in reflected wave power Is provided in common.
  • the pulse modulation high frequency power control method of the present invention is a high frequency power control method for controlling high frequency power supplied to a load.
  • the high frequency output outputted to the load by the control method of the present invention is a pulse output.
  • the continuous output outputs high-frequency power continuously in time, while the pulse output outputs high-frequency power intermittently.
  • the period during which peak power is supplied to the load (on period) and the period during which power less than peak power is supplied to the load (off period) alternate Prepare for.
  • a period in which peak power is supplied to the load is referred to as an on period
  • a period in which power smaller than the peak power is supplied to the load is referred to as an off period.
  • Electric power is supplied with a period including the on period and the off period as one cycle.
  • FIG. 27 is a diagram for explaining the pulse output of the high frequency power supplied to the load in the pulse modulation high frequency power control of the present invention.
  • high-frequency power is supplied to a load intermittently with Tcyc as one cycle.
  • One cycle (Tcyc) includes an on period (Ton) and an off period (Toff).
  • Ton on period
  • Toff off period
  • pulse modulation high-frequency power control high-frequency power is supplied in the on period, supply is limited in the off period, and the ratio of the on period to the off period (duty ratio) is controlled to control the power supplied to the load.
  • FIG. 27A and 27B show the output state of the same high-frequency power
  • FIG. 27B shows a simplified change of the high-frequency power during the ON period of FIG. 27A.
  • the output state of the high frequency power is shown in a simplified manner as in FIG.
  • the off period of the present invention includes a period in which power smaller than the peak power is supplied in addition to a period in which peak power is not supplied to the load.
  • the “peak” of the peak power represents the maximum amplitude of the power.
  • the peak traveling wave power represents traveling wave power whose amplitude value is the maximum amplitude in traveling wave power traveling from the high-frequency power source to the load, and those whose amplitude value does not reach the maximum amplitude are simply expressed as traveling wave power.
  • the pulse modulation high-frequency power control method of the present invention includes an output amplitude control step for controlling the amplitude of the pulse output and a duty control step for controlling the duty ratio of the pulse output.
  • the amplitude value of the pulse output is controlled, and constant amplitude control is performed so that the amplitude value becomes the set amplitude value.
  • the constant amplitude control by the output amplitude control for example, feeds back the amplitude value of the pulse output output by the power control, obtains a difference value between this feedback value and a preset amplitude value set in advance.
  • the amplitude value of the pulse output is controlled so as to be zero.
  • This output amplitude control can be performed by PWM control. For example, a pulse control signal is formed by adjusting the on-time width based on the difference value, and the input DC power is switched by the formed pulse control signal. Controls the amplitude value of the output.
  • the duty ratio of the pulse output is controlled, and constant power control is performed so that the amount of power determined by this duty ratio becomes the set power value.
  • the average power value of the peak traveling wave power and the average power value of the peak load power obtained from the peak traveling wave power and the peak reflected wave power may be used. it can.
  • the peak reflected wave power is the maximum amplitude of the reflected wave power returning from the load to the high frequency power supply side
  • the peak load power is the maximum amplitude of the load power supplied to the load.
  • the average power value of peak traveling wave power and the average power value of peak load power are average power values of power supplied from the high frequency power supply side to the load side.
  • the constant power control in the duty control process is to control the electric power supplied from the high frequency power supply side to the load side so that the electric energy is constantly set to the set power value regardless of temporal fluctuations. Not only the average power value of the peak traveling wave power and the peak load power shown as above, but also a value that regularly represents the amount of power, such as the media value or the maximum frequency value of the peak traveling wave power or the peak load power, may be used.
  • the pulse-modulated high-frequency power control method of the present invention performs both controls without interfering with each other by performing pulse modulation on the high-frequency power by independently performing the output amplitude control step and the duty control step.
  • the peak traveling wave power can be controlled to be constant
  • the average traveling wave power can be controlled to be constant.
  • the voltage or current supplied to the load can be controlled as a pulse output control target.
  • the duty control step may include a step of setting the off time during which high frequency power is not output by controlling the duty ratio to zero and switching the pulse output to a continuous output. By this control, the power amount of the pulse output becomes equal to the amplitude value of the pulse output.
  • the pulse modulation high-frequency power control method of the present invention can be configured to control peak traveling wave power as a control target and control average load power as a control target.
  • the pulse output control object is the peak traveling wave power
  • the output amplitude control process is such that the amplitude value of the peak traveling wave power becomes the set amplitude value.
  • constant power control is performed so that the average power value of the peak traveling wave power determined by the duty ratio becomes the set power value, thereby controlling the peak traveling wave power.
  • this duty control process includes pulse output control for discontinuous output and continuous output control for continuous output of pulse output.
  • the ON time is less than 100% in the duty ratio determined by the ON time and OFF time in one cycle of the pulse output, and the average power value of the peak traveling wave power is larger than the amplitude value of the peak traveling wave power.
  • the pulse output is made discontinuous by controlling the output to be small.
  • the continuous output control is a control in which the off time is set to 0%, the on time is set to 100%, and the pulse output is continuously output in the duty ratio determined by the on time and the off time within one cycle of the pulse output.
  • the control object of the pulse output in the output amplitude control process is the peak traveling wave power
  • the control target of the pulse output in the duty control process is the average load power
  • the amplitude control step performs constant amplitude control so that the amplitude value of the peak traveling wave power is constant
  • the duty control step averages the peak load power obtained from the peak traveling wave power and the peak reflected wave power determined by the duty ratio. Constant power control is performed so that the power value becomes the set power value, thereby controlling the average load power.
  • the duty ratio of the pulse output is increased or decreased based on the feedback value obtained by the constant power control in the output amplitude control process.
  • the duty control process feeds back the peak reflected wave power value, and when the peak reflected wave power increases, the on-time ratio of the duty ratio is reduced to suppress the increase in the average reflected wave power. To do.
  • the duty control process feeds back the peak reflected wave power value, and when the peak reflected wave power increases, the duty time ON time ratio is increased to keep the average load power constant. Control.
  • the peak traveling wave power fluctuates and the plasma density on the load side fluctuates. May become stable.
  • the peak traveling wave power output can be stabilized by controlling the average load power to be constant by adjusting the on-time ratio of the duty ratio.
  • a control mode that applies pulse-modulated high-frequency power control instead of continuous output control
  • a control mode that supplies peak traveling-wave power in a steady state in a steady state, and a plasma load process using a high-frequency power source
  • a control mode process start control mode
  • starts plasma starts plasma and ignites plasma.
  • the continuous traveling wave power control mode in a steady state where a constant peak traveling wave power is continuously output, if the peak reflected wave power amplitude value becomes excessive during this continuous output, the continuous output control is changed to the pulse output control. By switching and applying, the increase in average reflected wave power is suppressed by controlling the duty ratio.
  • an increase step for increasing the peak traveling wave power is performed by pulse output control, and after the peak traveling wave power reaches a predetermined value, the control is switched to continuous output control.
  • the switching from the continuous output control to the pulse output control is applied and the duty ratio is controlled to suppress the increase in the average reflected wave power.
  • the impedance in the chamber changes due to changes in gas pressure or ion reaction during the process, and reflected wave power May increase temporarily.
  • the reflected power is increased and the output power is reduced as in the prior art, the plasma in the chamber becomes unstable due to the matching operation of the matching circuit.
  • the on-duty ratio of the duty ratio of the pulse is set to 100%, the average traveling wave power and the peak traveling wave power are made to coincide with each other to enter the continuous traveling wave power control mode, and the amplitude value of the peak reflected wave power is excessive.
  • the ratio of the on-time of the duty ratio is reduced from 100%, and switching from continuous output control to pulse output control is performed, thereby suppressing an increase in average reflected wave power.
  • This control makes it possible to avoid changes in peak traveling wave power and stabilize power supply to the load.
  • the peak reflected wave power tends to increase before the plasma is ignited.
  • the output power is reduced as in the prior art, the output voltage becomes lower than the plasma ignition voltage in the chamber, and it becomes difficult to ignite plasma.
  • the peak traveling wave power is supplied while increasing the peak traveling wave power by continuous output control, and the peak reflected wave power amplitude value is excessively increased while the peak traveling wave power is increased.
  • the duty ratio on-time ratio is reduced from 100%, switching from continuous output control to pulse output control, and the peak reflected wave power increased to the allowable range due to plasma ignition, and then the peak traveling wave power increased. Thereafter, the on-time ratio of the duty ratio is returned to 100%, and the pulse output control is switched to the continuous output control, thereby suppressing the increase in the average reflected wave power during the period in which the peak traveling wave power is increased.
  • the plasma can be easily ignited in order to maintain the supply of the peak traveling wave power while suppressing the average reflected wave power.
  • the plasma atmosphere is normal and the peak reflected wave power is reduced. Therefore, the duty ratio ON time ratio is returned to 100% by duty control, and the pulse output control is switched to the continuous output control.
  • the determination of whether or not the amplitude value of the peak reflected wave power is excessive is performed by, for example, comparing the feedback value of the peak reflected wave power with a preset setting value, and the feedback value of the peak reflected wave power. This can be done by comparing the rate of increase with a preset value.
  • process start control mode can be performed by duty control instead of the continuous output control described above.
  • the plasma can be ignited in order to maintain the supply of the peak traveling wave power while suppressing the average reflected wave power. After the plasma is ignited, the plasma atmosphere becomes normal and the peak reflected wave power is reduced. Therefore, the duty ratio is switched from the duty control to the continuous output control by setting the on-time ratio of the duty ratio to 100%.
  • one cycle of the pulse power includes an on period and an off period, and two power control modes are provided depending on the power level in each period.
  • One power control is a control mode (ON / OFF power control) in which the power value of the pulse output is set to zero in the off period and the power value of the pulse output is set to the set power value in the on period in the duty control.
  • the power value of the pulse output is set to a predetermined power value between zero and the set power value in the off period, and the power value of the pulse output is set to the set power value in the on period. This is a control mode (high / low power control).
  • the high / low power control can avoid a state where the plasma during the off period disappears by setting the power level in the off period of the pulse to a predetermined value or more.
  • a plurality of control forms can be applied to the duty control.
  • duty control in which the frequency is constant, and the frequency is constant and the ratio between the time width of the on period and the time width of the off period is controlled.
  • Another control mode of the duty is PFM control in which the ON width or the OFF width is constant, and the time width of the OFF period is changed while the time width of the ON period is constant, or the time width of the OFF period
  • the frequency of the pulse output is controlled by changing the time width of the ON period while keeping the constant.
  • the PWM control performed by output amplitude control controls the amplitude value of the pulse output by switching the input DC power.
  • the PWM control performed by duty control maintains the amplitude value controlled by the output amplitude control. In this state, the average traveling wave power is controlled, and the controlled object is different, and does not interfere with each other, but can be controlled independently. Thereby, even if the peak reflected wave power is increased, the average traveling wave power can be controlled without reducing the amplitude width of the peak traveling wave power.
  • a pulse modulation high frequency power supply device of the present invention is a high frequency power supply device that supplies high frequency power to a load, a high frequency output unit that outputs a high frequency output of a pulse output, an output amplitude control unit that controls the amplitude of the pulse output, and a pulse A duty control unit that controls the duty ratio of the output.
  • the output amplitude control unit controls the amplitude value of the pulse output and performs constant amplitude control so that the amplitude value becomes the set amplitude value.
  • the duty control unit controls the duty ratio of the pulse output and performs constant power control so that the amount of power determined by the duty ratio becomes a set power value.
  • the output amplitude control unit and the duty control unit can pulse-modulate the high frequency power by independently controlling the high frequency output unit.
  • the pulse modulation high frequency power supply apparatus of the present invention performs each control of the pulse modulation high frequency power control described above by the configuration of the output amplitude control unit and the duty control unit described above.
  • the output amplitude control unit and the duty control unit can be configured by hardware that performs each control of the pulse modulation high frequency power control, and can be configured by a CPU, a program that performs each control, a memory that stores the operation result, and the like. .
  • the output amplitude control unit detects, for example, an error detector for obtaining a difference between the set amplitude value (amplitude command value) and the amplitude value of the pulse output fed back from the high frequency output unit, and the pulse signal from the oscillator is detected by the error detector. It can comprise with the PWM controller which performs PWM control based on a difference value.
  • the duty control unit is, for example, an error detector for obtaining a difference value between a set power value (average power command value) and an average value of feedback from the high frequency output unit, and a difference value obtained by detecting a pulse signal from the oscillator with the error detector. And a duty ratio changer that changes the duty ratio of the pulse signal.
  • the high-frequency output unit pulse-modulates DC power and outputs high-frequency power.
  • the high frequency output unit performs constant amplitude control on the DC power based on a control signal from the output amplitude control unit, and performs pulse modulation so that the amplitude value becomes the set amplitude value.
  • the duty ratio of the pulse output subjected to constant amplitude control by the output amplitude control unit is controlled based on a control signal from the duty control unit, and constant power control is performed so that the power amount of the pulse output becomes a set power value. .
  • the high frequency output unit includes an amplifier that outputs a pulse output by performing constant amplitude control on DC power based on a control signal from the output amplitude control unit, and a pulse output of the output amplitude control unit based on a control signal from the duty control unit. And a switching circuit that performs constant power control.
  • the high-frequency output unit includes a detector that detects the pulse output pulse-modulated by the duty control unit and feeds it back to the output amplitude control unit and the duty control unit. The detector included in the high-frequency output unit can detect voltage and current in addition to detecting the power of the pulse output, and use these detected values as feedback values.
  • the high frequency output unit supplies pulse output to the load.
  • a matching device can be arranged between the high-frequency output unit and the load to perform impedance matching.
  • the aspect of the present invention by stably controlling the power amplitude of the output power, it is possible to stabilize the plasma density and the plasma atmosphere on the load side, and to improve the uniformity of the process by the plasma treatment and the quality of the product by the process. it can.
  • the average reflected wave power is suppressed to protect the power supply device, and the power amplitude (peak traveling wave power) of the traveling wave power is maintained.
  • the power amplitude (peak traveling wave power) of the traveling wave power is maintained.
  • plasma generation in the chamber can be facilitated at the time of starting the process with a load.
  • the power amplitude (peak power) of the output power is controlled to be constant with respect to the power fluctuation in the pulse power control. Therefore, it is possible to avoid the influence on the load due to the fluctuation of the power amplitude of the output power.
  • the 3rd aspect of this invention it is a figure for demonstrating the structural example of load electric power control.
  • the 3rd mode of the present invention it is a flow chart for explaining the example of operation of load power control.
  • it is a signal diagram for demonstrating the operation example of load power control.
  • it is a signal diagram for demonstrating the example of a conventional operation
  • it is a figure for demonstrating the structural example which applies duty control to continuous traveling wave electric power control mode.
  • the 5th aspect of this invention it is a signal diagram for demonstrating the example of control operation in the case of applying duty control to continuous traveling wave power control mode and increasing peak traveling wave power.
  • it is a signal diagram for demonstrating the example of the conventional control operation in the case of making peak traveling wave electric power increase in continuous traveling wave electric power control mode.
  • it is a flow chart for explaining the example of control operation which increases peak traveling wave electric power at the time of a process start etc. in duty control.
  • it is a signal diagram for demonstrating the example of control operation which increases peak traveling wave electric power at the time of a process start etc. in duty control. It is a figure for demonstrating the pulse output of the high frequency electric power in pulse modulation high frequency electric power control.
  • the basic configuration of the pulse modulation high frequency power supply apparatus of the present invention and the pulse modulation high frequency power control method of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 5, and the case of traveling wave power as a control target will be described with reference to FIGS. A description will be given, and an example of processing when the peak reflected wave power is increased will be described with reference to FIGS. 9 to 12, and a case in which the pulse output load is controlled by the pulse peak load power control will be described with reference to FIGS.
  • the case where the duty control is applied to the continuous traveling wave power control mode will be described with reference to FIGS. 17 to 20, and the duty control is applied to the continuous traveling wave power control mode so that the peak traveling wave power at the time of starting the process is calculated.
  • the case of increasing will be described with reference to FIGS. 21 to 24. In the duty control, the peak traveling wave power at the start of the process is increased.
  • Figure 25 will be described with reference to FIG. 26 for the case that.
  • the pulse modulation high frequency power supply device 1 includes an output amplitude control unit 2 that controls the amplitude of the pulse output, a duty control unit 3 that controls the duty ratio of the pulse output, and a high frequency output unit 4 that outputs the high frequency output of the pulse output.
  • the high-frequency output unit 4 outputs a high-frequency output to the load 6.
  • the load 6 can be, for example, a plasma load generated in the chamber.
  • a matching circuit 5 that matches the impedance between the two can be connected.
  • the high frequency output unit 4 generates a high frequency output by pulse-modulating DC power.
  • the direct current power can be obtained from a direct current power supply or AC / DC converted from alternating current power. Power is transferred between the high frequency output unit 4 and the load 6, traveling wave power is supplied from the high frequency output unit 4 toward the load 6, and reflected wave power is transmitted from the load 6 toward the high frequency output unit 4. Is returned. By subtracting the traveling wave power and the reflected wave power, load power from the high frequency output unit 4 toward the load 6 is supplied.
  • the maximum amplitude of traveling wave power is called peak traveling wave power
  • the maximum amplitude of reflected wave power is called peak reflected wave power.
  • the output amplitude control unit 2 inputs a set amplitude value as a command value, inputs an amplitude value of a pulse output as a feedback value, and performs constant amplitude control so that the amplitude value becomes the set amplitude value.
  • the amplitude value of the pulse output can be a power value, a voltage value, or a current value, and is detected by a detector provided in the high-frequency output unit 4 or a detector provided between the high-frequency output unit 4 and the load 6. Can be detected.
  • the constant amplitude control of the output amplitude controller 2 the amplitude value (peak value) of the pulse output is controlled to a set value.
  • the duty control unit 3 inputs a set value as a command value, inputs a pulse output value as a feedback value, controls the duty ratio of the pulse output so that the pulse output value becomes the set value, and uses this duty ratio. Constant value control is performed so that the fixed value becomes the set value.
  • the pulse output value can be a power value, a voltage value, or a current value.
  • the amount corresponding to the power value of the pulse output can be, for example, the average traveling wave power, and the set value at this time uses the average output power command value.
  • the constant power control by the duty control unit 3 controls the power supplied from the high frequency power source side to the load side so that the power amount becomes the average output power command value steadily regardless of temporal fluctuations.
  • the average power value of the peak traveling wave power and the peak load power but also a value that regularly represents the amount of power, such as the media value or the maximum frequency value of the peak traveling wave power or the peak load power, may be used.
  • the output amplitude control unit 2 and the duty control unit 3 of the present invention control the high frequency output unit 4 independently to pulse modulate the high frequency power.
  • the output amplitude control unit 2 and the duty control unit 3 are shown as separate components for convenience of explanation, but may be configured by one control unit. Further, although the high-frequency output unit 4 is also shown as an individual configuration, it may be configured by a single circuit together with the output amplitude control unit 2 and the control unit of the duty control unit 3.
  • each control unit and high-frequency output unit can be configured by hardware, or can be configured by software including a CPU and a program for causing the CPU to execute each signal, a memory for storing calculation processing results, and the like.
  • the output power value is pulse-modulated by changing the duty ratio of the pulse output.
  • traveling wave power will be described as an example.
  • the maximum amplitude value of the peak forward power P F peak value
  • the output amplitude control section 2 maintaining the peak forward power to the setpoint
  • the duty ratio is controlled so that the average traveling wave power PFAV becomes the set power value.
  • One cycle of the pulse power includes an on period and an off period, and two power control modes are provided depending on the power level in each period.
  • One power control is a control mode (ON / OFF power control) in which the power value of the pulse output is set to zero in the off period and the power value of the pulse output is set to the set power value in the on period in the duty control.
  • FIG. 2 shows this ON / OFF power control.
  • one cycle Tcyc has an ON width Ton during a period in which peak traveling wave power is output and an OFF width Toff in a period during which no power output is performed, and the duty ratio is determined based on Ton and Toff.
  • the average traveling wave power P FAV can be expressed by the following equation using the ON duty Don.
  • P FAV P F ⁇ Don
  • the average forward power P FAV is able to control the average forward power P FAV to a predetermined power value by changing the ON duty Don.
  • the average traveling wave power P FAV when the duty ratio is controlled so that the average traveling wave power P FAV becomes the set power value, the average traveling wave power P FAV may be drooped.
  • Factors that cause the average traveling wave power PFAV to sag include, for example, an increase in reflected wave power (FIG. 2B), and an increase in reflected voltage and current.
  • control for lowering the average traveling wave power P FAV is performed by lowering the ON duty Don as a factor to cause the average traveling wave power P FAV to hang down.
  • the power value of the pulse output in the off period is set to a predetermined power value defined between the width of zero and the set power value, and the power value of the pulse output in the on period is set to the set power value.
  • This is a control mode (high / low power control).
  • FIG. 3 shows this high / low power control.
  • one cycle Tcyc has a high width Thigh during a period in which peak traveling wave power is output, and a low width Tlow in a period in which the power output is a traveling wave power low level Plow lower than the peak traveling wave power.
  • the duty ratio is determined based on Thigh and Tlow.
  • the duty ratio can be expressed, for example, as a ratio of the high width Thigh to one cycle Tcyc.
  • the average forward power P FAV includes the duty ratio determined by the peak forward power P F and forward power low Plow.
  • the high / low power control can avoid a state in which the plasma during the low period is extinguished by setting the power level in the low period of the pulse to a predetermined value or more.
  • FIG. 4A is a diagram for explaining PWM control.
  • the frequency is constant.
  • the period Tcyc is constant.
  • the ratio (ON duty Don) of the time width of the time width Ton of the on period and the time width Toff of the off period is controlled.
  • 4A to 4C show in order of increasing ratio of the time width Ton.
  • PFM control in which the on width or the off width is constant.
  • 4 (g) to 4 (i) are examples of PFM control in which the time width of the on period is changed while the time width of the off period is constant, and the time width Ton of the on period is shown in order of increasing.
  • the high frequency output unit 4 is a circuit unit that performs PWM control of the amplitude value of the DC input power based on the control signal of the output amplitude control unit 2 and a circuit that controls the duty ratio of the pulse output based on the control signal of the duty control unit 3 A part.
  • the DC input power can be DC input power obtained from a DC power supply or can be obtained by converting AC power obtained from an AC power supply into DC power using an AC / DC converter.
  • the circuit unit for controlling the duty ratio uses the DC power whose amplitude is controlled by the circuit unit as a pulse output, and also controls the duty ratio of the pulse output so as to control the power amount to a set power value. Is provided.
  • the high-frequency output unit 4 can include a detection circuit that detects a feedback value fed back to the output amplitude control unit 2 and the duty control unit 3. This detection circuit can also be provided outside the high-frequency output unit 4.
  • FIG. 5 shows a power detector 4d that detects peak traveling wave power as a detector.
  • the power detector 4d can select and detect the peak traveling wave power with a directional coupler (not shown).
  • the detected peak traveling wave power is fed back to the output amplitude control unit 2 and the average traveling wave power averaged by the average processing circuit 7 is fed back to the duty control unit 3.
  • the output amplitude control unit 2 can be composed of, for example, an error detector 2a, an oscillator 2b, and a PWM control circuit 2c.
  • the error detector 2a inputs the set amplitude value as a command value, and also inputs the peak traveling wave power fed back from the high frequency output unit 4 as a pulse output amplitude value of the feedback value, and outputs the pulse output amplitude value and the set amplitude value. The difference value of is detected.
  • the PWM control circuit 2c performs PWM control on the pulse signal from the oscillator 2b using the difference value detected by the error detector 2a as a control signal.
  • a control signal for controlling the amplitude value to be the set amplitude value is formed from the PWM circuit 2c.
  • the switching circuit 4a of the high-frequency output unit 4 controls the amplitude value of the DC power based on the control signal of the PWM circuit 2c.
  • the duty control unit 3 can be configured by, for example, an error detector 3a, an oscillator 3b, and a duty ratio changing circuit 3c.
  • the error detector 3a inputs the set power value as a command value, and also feeds back the average traveling wave power fed back from the high frequency output unit 4 and averaged by the average processing circuit 7 as the power value of the feedback value. The difference value between the measured power value and the set power value is detected.
  • Duty ratio changing circuit. 3c the difference value detected by the error detector 3a as a control signal to change the duty ratio of the pulse signal from the oscillator 3b.
  • a control signal for controlling the power value to be the set power value is formed from the duty ratio changing circuit 3c.
  • the switching circuit 4c of the high frequency output unit 4 controls the duty ratio of the pulse output based on the control signal of the duty ratio changing circuit 3c.
  • FIG. 6 is a diagram for explaining a configuration example when traveling wave power is a control target.
  • the configuration of the pulse modulation high frequency power supply 1A is substantially the same as the configuration shown in FIG. 1, and includes a peak traveling wave power control unit 2A as an output amplitude control unit 2 for controlling the amplitude of the pulse output.
  • An average traveling wave power control unit 3A is provided as the duty control unit 3 that controls the duty ratio of the output, and a high frequency output unit 4A is provided as the high frequency output unit 4 that outputs the high frequency output of the pulse output.
  • the high frequency output unit 4A outputs a high frequency output to the load.
  • the peak traveling wave power control unit 2A inputs the peak traveling wave power command value as the amplitude command value, inputs the peak traveling wave feedback value as the amplitude value of the pulse output, and the amplitude value of the peak traveling wave power is the peak traveling wave power
  • the high-frequency output circuit 4d0 of the high-frequency output unit 4A is subjected to constant amplitude control so that the command value is obtained.
  • the average traveling wave power control unit 3A inputs the average traveling wave power command value as the power command value, inputs the average traveling wave feedback value as the power value of the pulse output, and the power value of the average traveling wave power is the average traveling wave power
  • the high-frequency output circuit 4d0 of the high-frequency output unit 4A is duty controlled so that the command value is obtained. Further, in this duty control, when controlling the duty ratio so that the average traveling wave power feedback value becomes the average traveling wave power command value, a droop factor (for example, reflected wave power, reflected voltage, When an increase in current or the like occurs, control is performed to reduce the average traveling wave power by decreasing the ON duty Don.
  • Peak traveling wave feedback value separates the forward power at directional coupler 4d1 provided in the high frequency output section 4A, it can be detected by the forward power detector 4d2.
  • the peak traveling wave power control unit 2A inputs this peak traveling wave feedback value.
  • the average processing unit 7A averages the peak traveling wave feedback value to obtain the average traveling wave power.
  • the average traveling wave power control unit 3A inputs this average traveling wave power as a feedback value.
  • 7 and 8 are a flowchart and a signal diagram for explaining an example of duty control operation in which traveling wave power is controlled.
  • the traveling wave power detection unit 4d2 detects the peak traveling wave power (S1), the average value of the detected peak traveling wave power is obtained by the average processing unit 7A, and the obtained average traveling wave power is supplied to the average traveling wave power control unit 3A. Enter (S2).
  • the average traveling wave power control unit 3A obtains a difference between the input average traveling wave power and the average traveling wave power command value (S3). For the obtained difference, if the average traveling wave power is smaller than the average traveling wave power command value (S4), the ON duty Don is set larger (S5), and the average traveling wave power is greater than the average traveling wave power command value. If it is larger, the ON duty Don is set smaller (S6).
  • 8 (a) shows a peak forward power P F
  • FIG. 8 (b) shows the average forward power P FAV
  • FIG. 8 (c) the duty ratio (ON duty Don ).
  • the ON duty Don is increased (time A in FIG. 8C).
  • the ratio of the ON period of the peak forward power P F is increased (point A in FIG. 8 (a))
  • the average forward power is increased.
  • the ON duty Don is decreased (time C in FIG. 8C).
  • the ratio of the ON period of the peak forward power P F is reduced (time point in FIG. 8 (a) C), the average forward power is reduced.
  • the configuration of the pulse modulation high-frequency power supply apparatus 1B is substantially the same as the configuration shown in FIG. 6, and the peak traveling wave power control unit 2B that controls the amplitude of the pulse output and the duty ratio of the pulse output are controlled.
  • An average traveling wave power control unit 3B, a high frequency output unit 4B that outputs a high frequency output of a pulse output, and an average processing unit 7B are provided.
  • the high frequency output unit 4B includes a high frequency output circuit 4d0, a traveling wave power detection unit 4d2 that detects peak traveling wave power, a reflected wave power detection unit 4d3 that detects peak reflected wave power, a peak traveling wave power, and a peak reflected wave.
  • a directional coupler 4d1 for separating and extracting electric power is provided.
  • the components other than the reflected wave power detection unit 4d3 are the same as the configuration of the pulse modulation high frequency power supply apparatus 1A shown in FIG. 6, the reflected wave power detection unit 4d3 will be mainly described here.
  • the directional coupler 4d1 separates the peak traveling wave power and the peak reflected wave power, inputs the peak traveling wave power to the traveling wave power detection unit 4d2, and inputs the peak reflected wave power to the reflected wave power detection unit 4d3.
  • the reflected wave power detection unit 4d3 sends the detected peak reflected wave power value to the average traveling wave power control unit 3B, and the average traveling wave power control unit 3B adjusts the duty control using the transmitted peak reflected wave power value.
  • the adjustment of the duty control is performed, for example, in order to protect the power source by suppressing the average reflected wave power when the peak reflected wave power increases.
  • the peak is forward power P F is controlled to be constant, the matching operation of the matching circuit becomes stable, the power injected into the chamber is stabilized.
  • FIGS. 10, 11 and 12 are a flowchart and a signal diagram for explaining an operation example when the reflected wave power is increased in the duty control.
  • the signal diagram shown in FIG. 11 shows a state where the average reflected wave power is suppressed when the peak reflected wave power increases from the state where the duty control is performed.
  • FIG. 11 (a) shows a peak reflected power P R and the average reflected power P RAV
  • FIG. 11 (b) shows the duty ratio (ON duty Don)
  • the ON duty Don is restored (time F in FIG. 11B).
  • the ON duty Don return to the original ratio of the ON period of the peak forward power P F (point F in FIG. 11 (b))
  • the average forward power P FAV returns to its original (FIG. 11 (c) at time F)
  • the average reflected wave power PRAV is restored (time F in FIG. 11 (a)).
  • FIG. 12 is a signal diagram for explaining the relationship between the increase / decrease in the duty ratio (ON duty Don) and the increase / decrease in the average traveling wave power PFAV .
  • ON duty Don is decreased by making the cycle (Tcyc) constant, reducing the ON width Ton, and increasing the OFF width Toff.
  • the load power is the power obtained by subtracting the reflected wave power from the traveling wave power, and the load power control is performed by controlling the average load power (average load power) substantially supplied to the load from the pulse modulation high frequency power supply device. , Stabilize the peak traveling wave power output.
  • the pulse output control target of the output amplitude control is the peak traveling wave power
  • the pulse output control target of the duty control process is the average load power
  • the amplitude value of the peak traveling wave power is constant by the output amplitude control.
  • the constant amplitude control is performed so that the average power value of the peak load power obtained from the peak traveling wave power and the peak reflected wave power determined by the duty ratio becomes the set power value by the duty control. Control average load power.
  • the configuration of the pulse modulation high frequency power supply apparatus 1C is substantially the same as the configuration shown in FIG. 9, and the peak traveling wave power control unit 2C for controlling the amplitude of the peak traveling wave power and the duty ratio of the pulse output are set.
  • An average load power control unit 3C to be controlled, a high frequency output unit 4C that outputs a high frequency output of a pulse output, and average processing units 7c1 and 7c2 are provided.
  • the high frequency output unit 4C includes a high frequency output circuit 4d0, a traveling wave power detection unit 4d2 that detects peak traveling wave power, a reflected wave power detection unit 4d3 that detects peak reflected wave power, a peak traveling wave power, and a peak reflected wave.
  • a directional coupler 4d1 for separating and extracting electric power is provided.
  • the average processing unit 7c1 obtains the average traveling wave power from the peak traveling wave power detected by the traveling wave power detection unit 4d2, and the average processing unit 7c2 calculates the average reflected wave power from the reflected wave power detected by the reflected wave power detection unit 4d3. Ask for.
  • the components other than the average load power control unit 3C for duty controlling the average load power and the average processing unit 7c2 for obtaining the average reflected wave power from the reflected wave power are the same as those of the pulse modulation high frequency power supply apparatus 1B shown in FIG. Therefore, here, the duty control operation of the average load power will be mainly described.
  • the directional coupler 4d1 separates the peak traveling wave power and the peak reflected wave power, inputs the peak traveling wave power to the traveling wave power detection unit 4d2, and inputs the peak reflected wave power to the reflected wave power detection unit 4d3.
  • the traveling wave power detection unit 4d2 sends the detected peak traveling wave power value to the peak traveling wave power control unit 2C, and sends the detected peak traveling wave power value to the average processing unit 7c1.
  • the average processing unit 7c1 sends the obtained average traveling wave power to the average load power control unit 3C.
  • the reflected wave power detection unit 4d3 sends the detected peak reflected wave power value to the average processing unit 7c2, and the average processing unit 7c2 sends the obtained average reflected wave power to the average load power control unit 3C.
  • the average load power control unit 3C includes an average load power detection unit (not shown) that calculates an average load power value by subtracting the average reflected wave power value from the average traveling wave power value, and calculates the calculated average load power value. Compared with the average load power command value as a feedback value, the duty control is performed so that the average load power value becomes the average load power command value.
  • the average load power detection unit is not limited to the configuration provided in the average load power control unit 3C, but may be configured as a single circuit in addition to the configuration in the circuits such as the average processing units 7c1 and 7c2.
  • the average load power control unit 3C adjusts the duty control using the peak reflected wave power value sent from the reflected wave power detection unit 4d3. For example, when the peak reflected wave power increases, the duty control adjustment is performed to suppress the average load power and suppress the peak traveling wave power by suppressing the average load power to protect the power source. .
  • the peak is forward power P F is controlled to be constant, the matching operation of the matching circuit becomes stable, the power injected into the chamber is stabilized.
  • 14, 15, and 16 are a flowchart and a signal diagram for explaining an example of load power control operation when the peak reflected wave power is increased in the duty control.
  • the load power is controlled so that the average load power becomes the average load power command value.
  • the average load power detection unit calculates the difference between the calculated average traveling wave power P FAV and the average reflected wave power PRAV by the following formula to determine the average load power P LAV (S23).
  • P LAV P FAV -P RAV
  • the average load power control unit 3C obtains a difference between the obtained average load power P LAV and the average load power command value P LAVO (S24), changes the duty value based on the difference value, and the difference becomes zero. (S26).
  • the average load power P LAV is set to the set value without changing the amplitude value of the peak traveling wave power. It can be controlled (S25).
  • the reflected wave power detected by the reflected wave power detector 4d3 is detected, and the increase in the reflected wave power is monitored.
  • the duty ratio (on-duty Don) obtained by the duty control of the average load power control unit 3C is increased (S28), and the average traveling wave power PFAV is increased. by (S29), and held constant by suppressing the average load power P LAV (S30), to stabilize the output of the peak forward power P F.
  • the signal diagram shown in FIG. 15 shows a state where the average load power is suppressed when the peak reflected wave power increases from the state where the duty control is performed.
  • FIG. 15 (a) shows the peak reflected power P R and the average reflected power P RAV
  • FIG. 15 (b) shows the duty ratio (ON duty Don)
  • FIG. 15 (c) is the peak forward power P F
  • the average traveling wave power P FAV is shown
  • FIG. 15D shows the peak load power P L and the average load power P LAV .
  • Average reflected power P RAV peak reflected power P R in the duty control increases also increases (between point G-H in FIG. 15 (a)), peak The load power P L and the average load power P LAV decrease (between time points GH in FIG. 15D).
  • the average load power control unit 3C raises the ON duty Don detects an increase in the peak reflected power P R (point H in FIG. 15 (b)). By increasing the ON duty Don, the average traveling wave power P FAV increases (time point H in FIG. 15C), and the average load power P LAV increases and can be restored (FIG. 15D). Medium time point H).
  • the average load power control unit 3C is undone by lowering the ON duty Don detects the return of the peak reflected power P R (point I in FIG. 15 (b)). By reducing the ON duty Don, the average traveling wave power P FAV decreases and returns to the original state (time point I in FIG. 15C). By returning the average traveling wave power P FAV to the original value, the peak load power P L and the average load power P LAV can be maintained in the original state in the normal duty control (time point I in FIG. 15D). ).
  • FIG. 16 shows an operation example of conventional pulse peak load control.
  • this pulse peak load control when the peak reflected wave power fluctuates, the peak load power is controlled by controlling the peak traveling wave power.
  • the peak reflected power P R is increased (FIG. 16 (a) when J in) performs control for increasing the peak forward power P F (point J in FIG. 16 (b)), peak traveling wave by increasing the power P F, and controls so that the peak load power P L is constant (the time J in Fig. 16 (c)).
  • the average load power can be controlled while the peak traveling wave power is kept constant, and unstable operation due to fluctuations in the peak traveling wave power is avoided. Can do.
  • the duty control process of the present invention can include pulse output control for discontinuous output and continuous output control for continuous pulse output.
  • the ON time is set to less than 100% at the duty ratio determined by the ON time and OFF time in one cycle of the pulse output, and the average power value of the peak traveling wave power is made smaller than the peak traveling wave power.
  • the pulse output is a discontinuous output.
  • Continuous output control is a duty ratio determined by the ON time and OFF time within one cycle of the pulse output.
  • the OFF time is 0% and the ON time is 100%, and the average power value of the peak traveling wave power is the peak traveling wave.
  • the pulse output is controlled to be equal to the electric power and the pulse output is continuously output.
  • the continuous traveling wave power control mode is a mode in which traveling wave power is continuously output controlled.
  • this continuous traveling wave power control mode when traveling wave power is supplied to the load in a steady state such as during the process, the impedance in the chamber is caused by factors such as changes in gas pressure in the chamber and ion reactions.
  • the impedance of the load changes, such as when the voltage changes, the reflected wave power may temporarily increase.
  • the present invention provides an average without changing the peak traveling wave power as in the conventional control even when the peak reflected wave power increases.
  • the reflected wave power is suppressed and power is stably supplied to the load.
  • FIG. 17 is a diagram illustrating a configuration example when duty control is applied to the continuous traveling wave power control mode.
  • the configuration of the pulse modulation high frequency power supply 1D is almost the same as the configuration shown in FIG. 9, and the peak traveling wave power control unit 2D that controls the amplitude of the peak traveling wave power and the duty ratio of the pulse output
  • An average traveling wave power control unit 3D for controlling, a high frequency output unit 4D for outputting a high frequency output of a pulse output, and an average processing unit 7D, and further, a duty ratio of duty control performed by the average traveling wave power control unit 3D is set.
  • a duty control unit 8D for controlling is provided.
  • the high-frequency output unit 4D includes a high-frequency output circuit 4d0, a traveling wave power detection unit 4d2 that detects peak traveling wave power, a reflected wave power detection unit 4d3 that detects peak reflected wave power, a peak traveling wave power and a peak
  • a directional coupler 4d1 for separating and extracting reflected wave power is provided.
  • the average processing unit 7D obtains the average traveling wave power from the peak traveling wave power detected by the traveling wave power detection unit 4d2, and feeds back the obtained average traveling wave power to the average traveling wave power control unit 3D.
  • the components other than the average traveling wave power control unit 3D and the duty control unit 8D for duty controlling the average traveling wave power are substantially the same as the configuration of the pulse modulation high frequency power supply device 1B shown in FIG.
  • the continuous output control and duty control of the average traveling wave power control unit 3D will be described.
  • the directional coupler 4d1 separates the peak traveling wave power and the peak reflected wave power, inputs the peak traveling wave power to the traveling wave power detection unit 4d2, and inputs the peak reflected wave power to the reflected wave power detection unit 4d3.
  • forward power detector 4d2 sends the peak forward power value detected in the peak traveling wave power controller 2D, sends the detected peak forward power value to the averaging processor 7D.
  • the average processing unit 7D sends the obtained average traveling wave power to the average traveling wave power control unit 3D.
  • the reflected wave power detection unit 4d3 sends the detected peak reflected wave power value to the duty control unit 8D, and the duty control unit 8D performs duty control performed by the average traveling wave power control unit 3D according to the fluctuation of the reflected wave power. Change the duty ratio.
  • the average traveling wave power control unit 3D compares the average traveling wave power value from the average processing unit 7D with the average traveling wave power command value as a feedback value so that the average traveling wave power value becomes the average traveling wave power command value. Duty control is performed.
  • the average traveling wave power control unit 3D performs continuous output control with the duty ratio (ON duty Don) set to 100%, and adjusts the duty control according to the control signal sent from the duty control unit 8D to continuously output.
  • the continuous output control is a control mode in which the duty ratio (ON duty Don) is set to 100% in the duty control, and the pulse output control is a value smaller than 100% in the duty ratio (ON duty Don) in the duty control. This is the control mode to be performed.
  • the duty control is switched from continuous output control to pulse output control by switching the duty ratio (ON duty Don) from 100% to a predetermined value smaller than 100%.
  • the average reflected wave power is suppressed to protect the power supply.
  • the peak is forward power P F is controlled to be constant, the matching operation of the matching circuit becomes stable, the power injected into the chamber is stabilized.
  • Figure 18, 19, 20 in a continuous forward power control mode a flow chart and signal diagram for explaining a control operation example of the traveling wave power at the time of increase in peak reflected power.
  • the average traveling wave power control unit 3D performs control so that the average traveling wave power becomes the average traveling wave power command value by continuous output control.
  • the duty control unit 8D monitors the peak reflected wave power detected by the reflected wave power detection unit 4d3.
  • the duty control unit 8D detects an increase in peak reflected wave power (S43)
  • the duty ratio (ON duty Don) is switched from a continuous output of 100% to a pulse output having a duty ratio (ON duty Don) smaller than 100%.
  • the output of the peak forward power P F in a state of being stabilized it is possible to suppress the average reflected power (S44).
  • the duty control unit 8D detects a decrease in peak reflected wave power (S45)
  • the duty ratio (ON duty Don) is returned to 100% to switch from pulse output to continuous output, and continuous traveling wave power control mode by continuous output. Return to (S46).
  • the signal diagram shown in FIG. 19 shows switching between continuous output and pulse output.
  • FIG. 19 (a) shows the peak reflected power P R and the average reflected power P RAV
  • FIG. 19 (b) shows the duty ratio (ON duty Don)
  • FIG. 19 (c) is the peak forward power P F And mean traveling wave power P FAV .
  • Duty control section 8D lowers the ON duty Don 100% when detecting an increase of the peak reflected power P R (point in Fig. 19 (b) L). By reducing the ON duty Don, the average traveling wave power P FAV decreases (time point L in FIG. 19C).
  • the duty control section 8D returns the ON duty Don to 100% by detecting the reduction in peak reflected power P R (FIG. 19 (b ) Middle time M).
  • the ON duty Don set at 100%, the average traveling wave power P FAV is restored to the original state (time point M in FIG. 19C).
  • the ON duty Don in the normal state, is set to 100% and the continuous output control is performed, and when the peak reflected wave power increases, the ON duty Don is set to be smaller than 100% and the pulse output control is performed.
  • the average traveling wave power is reduced to suppress the average reflected wave power.
  • FIG. 20 shows an operation example of conventional continuous output control.
  • this continuous output control when the peak reflected wave power fluctuates, the average traveling wave power is controlled by controlling the peak traveling wave power.
  • the peak reflected power P R is increased (point O in FIG. 20 (b)), performs control to decrease the peak forward power P F (point O in FIG. 20 (a)), peak traveling wave by reducing the power P F, suppress average forward power.
  • the average traveling wave power can be controlled while the peak traveling wave power is kept constant, and unstable operation due to fluctuation of the peak traveling wave power is avoided. Can do.
  • the reflected wave power tends to increase before the plasma ignites.
  • the influence on the high-frequency output power source side is reduced by dropping the traveling wave power with respect to the increase in the reflected wave power.
  • the voltage state of the chamber becomes lower than the plasma ignition voltage, there is a problem that the plasma is not ignited.
  • this aspect applies the duty control in the continuous traveling wave power control mode, so that the peak traveling wave power is reduced as in the conventional control even when the peak reflected wave power is increased.
  • the average reflected wave power is suppressed without change, and power is stably supplied to the load.
  • this mode relates to power supply in a normal state in which constant peak traveling wave power is supplied, whereas this mode is the peak traveling wave power at the start of the process. This is related to power supply that gradually increases.
  • FIG. 21 is a diagram illustrating a configuration example in the case of increasing the peak traveling wave power by applying duty control to the continuous traveling wave power control mode, and may be the same as the configuration example of the above-described aspect illustrated in FIG. it can.
  • the configuration of the pulse modulation high-frequency power supply device 1E includes a peak traveling wave power control unit 2E that controls the amplitude of peak traveling wave power, an average traveling wave power control unit 3E that controls the duty ratio of the pulse output, and a pulse A high-frequency output unit 4E that outputs an output high-frequency output and an average processing unit 7E are provided, and further, a duty control unit 8E that controls the duty ratio of the duty control performed by the average traveling wave power control unit 3E is provided.
  • the high frequency output unit 4E includes a high frequency output circuit 4d0, a traveling wave power detection unit 4d2 that detects peak traveling wave power, a reflected wave power detection unit 4d3 that detects peak reflected wave power, a peak traveling wave power and a peak.
  • a directional coupler 4d1 for separating and extracting reflected wave power is provided.
  • the average processing unit 7E obtains the average traveling wave power from the peak traveling wave power detected by the traveling wave power detection unit 4d2, and feeds back the obtained average traveling wave power to the average traveling wave power control unit 3E.
  • the traveling wave power detection unit 4d2 sends the detected peak traveling wave power value to the peak traveling wave power control unit 2E and sends the detected peak traveling wave power value to the average processing unit 7E.
  • the average processing unit 7E sends the obtained average traveling wave power to the average traveling wave power control unit 3E.
  • the reflected wave power detection unit 4d3 sends the detected peak reflected wave power value to the duty control unit 8E, and the duty control unit 8E responds to the fluctuation of the reflected wave power when the process starts, and the average traveling wave power control unit 3E. Change the duty ratio of the duty control performed in.
  • the average traveling wave power control unit 3E compares the average traveling wave power value from the average processing unit 7E with the average traveling wave power command value as a feedback value so that the average traveling wave power value becomes the average traveling wave power command value. Duty control is performed.
  • the average traveling wave power control unit 3E starts continuous output control with the duty ratio (ON duty Don) set to 100% at the start of the process and in a normal state, and adjusts the duty control by the control signal sent from the duty control unit 8E. Then, the continuous output control and the pulse output control are switched.
  • the continuous output control is a control mode in which the duty ratio (ON duty Don) is set to 100% in the duty control, and the pulse output control is a value smaller than 100% in the duty ratio (ON duty Don) in the duty control. This is the control mode to be performed.
  • the duty control is switched from continuous output control to pulse output control by switching the duty ratio (ON duty Don) from 100% to a predetermined value smaller than 100%.
  • the average reflected wave power is suppressed to protect the power supply.
  • the peak is forward power P F is controlled to be constant, the matching operation of the matching circuit becomes stable, the power injected into the chamber is stabilized.
  • Figure 22, 23 and 24 in a continuous forward power control mode a flow chart and signal diagram for when the process starts explaining a control operation example of the traveling wave power due to an increase in the peak reflected power.
  • the average traveling wave power control unit 3E controls the average traveling wave power to be the average traveling wave power command value by continuous output control at the start of the process and in a normal state.
  • the peak traveling wave power control unit 2E starts the process based on a peak traveling wave power command that increases from zero to a steady power value at a predetermined increase rate at the start of the process and becomes a steady power value in a normal state ( S51).
  • the duty controller 8E monitors the peak reflected wave power detected by the reflected wave power detector 4d3.
  • the duty control unit 8E detects an increase in peak reflected wave power (S53)
  • the duty ratio (ON duty Don) is switched from a continuous output of 100% to a pulse output having a duty ratio (ON duty Don) smaller than 100%.
  • the output of the peak forward power P F in a state of being stabilized it is possible to suppress the average reflected power (S54).
  • the duty control unit 8D detects ignition or allowable peak reflected wave power (S55), the duty ratio (ON duty Don) is returned to 100% and switched from pulse output to continuous output, and continuous traveling wave power control by continuous output is performed. Return to the mode (S56).
  • the detection of ignition can be performed, for example, by detecting fluctuations in reflected wave power.
  • Figure 23 (a) shows the peak reflected power P R and the average reflected power P RAV
  • FIG. 23 (b) shows the duty ratio (ON duty Don)
  • FIG. 23 (c) is the peak forward power P F And mean traveling wave power P FAV .
  • Duty control section 8E the lower the ON duty Don 100% when detecting an increase of the peak reflected power P R (point in Fig. 23 (b) R).
  • an increase in the average traveling wave power P FAV is suppressed (period RS in FIG. 23C ), and an increase in the average reflected wave power PRAV is suppressed (FIG. 23A).
  • Middle period RS Middle period RS).
  • the duty control section 8E returns the ON duty Don to 100% by detecting the reduction in peak reflected power P R (FIG. 23 (b ) During time S).
  • the average traveling wave power P FAV becomes the normal state (time S in FIG. 23C ).
  • the continuous output control is performed with the duty Don set to 100% at the start of the process, and the pulse output control is performed with the ON duty Don set smaller than 100% when the peak reflected wave power increases.
  • the average traveling wave power is reduced to suppress the average reflected wave power.
  • FIG. 24 shows an operation example of conventional continuous output control.
  • this continuous output control when the peak reflected wave power fluctuates at the start of the process, the average traveling wave power is controlled by controlling the peak traveling wave power.
  • the peak reflected power P R is increased (FIG. 24 (b) the time T in), the control for reducing the peak forward power P F (point T in FIG. 24 (a)), peak traveling wave by reducing the power P F, suppress average forward power.
  • the average traveling wave power can be controlled while the peak traveling wave power is kept constant, and unstable operation due to fluctuation of the peak traveling wave power is avoided. Can do.
  • the mode shown here is the control mode at the start of the process, similar to the mode described above.
  • the mode described above is a control mode in which duty control is applied in the continuous traveling wave power control mode, and when the peak reflected wave power increases, switching from continuous output to pulse output by duty control is shown here.
  • the traveling wave power control the amplitude value of the peak traveling wave power is controlled to be constant, and the process start is started with a pulse output to increase the duty ratio (ON duty Don).
  • This is a control mode in which the ratio (ON duty Don) is set to 100% to switch to continuous output.
  • 25 and 26 are a flowchart and a signal diagram for explaining an example of a traveling wave power control operation for increasing the peak traveling wave power in the duty control at the start of the process in the continuous traveling wave power control mode.
  • the amplitude value of the peak traveling wave power is controlled by the peak traveling wave power control unit based on the peak traveling wave power command value having a predetermined magnitude.
  • the average traveling wave power control unit increases the average traveling wave power by increasing the duty ratio (ON duty Don) from 100 to 100% in order (S62, S63). Plasma is ignited during this process.
  • the average traveling wave power supplied to the load is suppressed by performing the duty control until the average traveling wave power reaches the steady-state power amount, the reflected wave power is also suppressed.
  • FIG. 26 shows the duty control at the start of the process.
  • Figure 26 (a) shows the duty ratio (ON duty Don)
  • FIG. 26 (b) shows a peak forward power P F and the average forward power P FAV
  • FIG 26 (c) is the peak reflected power P R And the average reflected wave power PRAV .
  • the duty ratio (ON duty Don) is increased from 0% to 100% in order (FIG. 26A), and the average traveling wave power is increased from zero toward a predetermined set average traveling wave power value ( FIG. 26 (c)).
  • the pulse-modulated high-frequency power control method and pulse-modulated high-frequency power supply apparatus of the present invention can be applied to supply high-frequency power to a load such as a plasma processing apparatus that performs plasma etching and plasma CVD.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)
  • Dc-Dc Converters (AREA)

Abstract

パルス変調高周波電力制御方法は、パルス出力の振幅を制御する出力振幅制御工程と、パルス出力のデューティー比を制御するデューティー制御工程とを備える。出力振幅制御工程は、パルス出力の振幅値を制御して、振幅値が設定振幅値となるように定振幅制御を行う。出力振幅制御による定振幅制御は、例えば、電力制御によって出力されるパルス出力の振幅値をフィードバックし、このフィードバック値と予め設定しておいた設定振幅値との差分値を求め、この差分値が零となるように、パルス出力の振幅値を制御する。

Description

パルス変調高周波電力制御方法およびパルス変調高周波電源装置
 負荷に供給する高周波電力を制御する方法として、高周波電源装置が出力する進行波電力を一定に制御する方法(PF制御)、進行波電力から反射波電力を減じた負荷電力を一定に制御する方法(PL制御)が知られている(特許文献1、2)。
 また、出力電力の電力振幅を制御する方法として、連続電力の電力振幅を制御する連続電力制御方法と、パルス幅あるいはパルスのデューティー比を変更するパルス電力制御方法が知られている(特許文献3)。
 パルス電力制御や連続電力制御において、反射波電力が増加した場合には高周波電源を保護するために出力電力を低下することが知られている。また、負荷電力のピーク値を制御するピークロード電力制御では、ピーク反射波電力が変動した場合に、ピーク進行波電力を可変とする制御を行っている。
特開2007-87908号公報(段落0002~0009、0026,0027参照) 特開2009-111940号公報(段落0002、0011参照) 特許第4065820号公報(段落0014,0015参照)
 従来の電力制御では、反射波電力の変動に応じてピーク進行波電力を変化させると、ピーク進行波電力が増減する。このピーク進行波電力の変動は、出力電力の不安定、および負荷側のチャンバーで行われるプロセスに及ぼす影響等の問題がある。
 例えば、高周波電源と負荷との間に設けた整合回路は、整合動作によってピーク進行波電力の増減によるインピーダンスのずれを整合する。このとき、整合回路の整合動作によって整合ポイントは変動する。この整合ポイントの変動によって、負荷側のプラズマを処理するプラズマ処理室(チャンバー)内のインピーダンスが不安定になってさらに反射波電力が変動し、その結果、出力電力が不安定となる。また、ピーク進行波電力が変動すると、チャンバー内のプラズマ密度やプラズマ雰囲気も同時に変化し、チャンバーで行われるプロセスの均一性や歩留まりに悪影響を与える。
 負荷側のプラズマによるプロセスの動作中において、チャンバー内にインピーダンスが変化してピーク反射波電力が増加した場合に、高周波電源を保護するために進行波電力の出力を低下させると、進行波電力の低下によってプラズマの活性化が失われて、プロセスの進行が中断され、製品の品質に影響するという問題がある。
 また、負荷側のプロセスの立ち上がり時には、プラズマが着火していない状態では、反射波電力が一般的に大きくなる傾向がある。反射波電力の増加から高周波電源を保護するために進行波電力の出力を低下させると、プラズマの着火がさらに難しくなるという問題が指摘されている。
 また、特許文献1では、進行波電力を一定に制御した際に反射波電力が増加した場合には、以下のような問題があると指摘している。
 進行波電力を一定に制御する場合には、進行波電力のピーク値は一定に制御されているため、反射波電力が増加すると、負荷への供給電力量が低下するため、チャンバー内のプラズマ状態が変化し、負荷インピーダンスが変動する。その結果、整合状態から外れ、プラズマを維持できなくなってプラズマが消滅する。
 また、負荷への供給電力量が不安定となって負荷側インピーダンスが変動すると、整合目標点が不安定となり、整合器の可変インピーダンス素子の目標位置も不安定となり、可変インピーダンス素子がハンチング現象を起こす場合がある。このような整合過程でのハンチング現象は、整合器の可変インピーダンス素子の一部のみが動作することになり、可変インピーダンス素子の寿命が短くなる。
 したがって、従来行われている電力制御では、進行波電力や負荷電力等の出力電力制御において、反射波電力の変動に応じて出力電力を増減させるため、出力電力の電力振幅が不安定となり、チャンバー内のプラズマ状態が変動する等の問題がある。
 そこで、本発明は前記した従来の問題点を解決し、パルス電力制御において電力変動に対して、出力電力の電力振幅(ピーク電力)を一定に制御することによって、出力電力の電力振幅の変動による負荷に対する影響を回避することを目的とする。
 また、本発明は、出力電力の電力振幅を安定制御することによって、負荷側のプラズマ密度およびプラズマ雰囲気を安定させ、プラズマ処理によるプロセスの均一性およびプロセスによる製品の品質を向上させることを目的とする。
 また、本発明は、反射波電力の増加に対して、平均反射波電力を抑制して電源装置を保護すると共に、進行波電力の電力振幅(ピーク進行波電力)を維持することによって、整合回路の不要な整合動作を不要とし、プラズマ負荷を安定化させることを目的とする。
 また、本発明は、負荷でのプロセス起動時において、チャンバー内のプラズマの発生を容易とすることを目的とする。
 本発明は、電力制御において、出力電力の電力振幅が設定値となるように定電力制御を行う出力振幅制御と、出力電力の電力量に相当する量が設定値となるように、パルス電力のデューティー比を制御するデューティー制御とを行うことによって、出力電力の電力振幅を安定制御すると共に、反射波電力の増加に対して電源装置を保護する。
 本発明は、パルス変調高周波電力制御方法の態様とパルス変調高周波電源装置の態様とを含み、何れの態様および各態様が備える形態は、出力電力の電力振幅を定電力制御する出力振幅制御と、出力電力の電力量に相当する量をパルス電力のデューティー比で制御するデューティー制御とを行うことによって、出力電力の電力振幅の安定制御と反射波電力の増加に対する電源装置の保護とを実現することを共通に備えるものである。
 本発明のパルス変調高周波電力制御方法は、負荷に供給する高周波電力を制御する高周波電力の制御方法である。本発明の制御方法によって負荷に出力される高周波出力はパルス出力である。連続出力は高周波電力を時間的に連続して出力されるのに対して、パルス出力は高周波電力を時間的に断続して出力される。時間的に断続するパルス出力の内で、負荷に対してピーク電力が供給される期間(オン期間)と、負荷に対してピーク電力よりも小さな電力が供給される期間(オフ期間)とを交互に備える。ここで、負荷に対してピーク電力が供給される期間をオン期間とし、負荷に対してピーク電力よりも小さな電力が供給される期間をオフ期間とする。オン期間とオフ期間を併せた期間を一周期として、電力が供給される。
 図27は、本発明のパルス変調高周波電力制御において、負荷に供給する高周波電力のパルス出力を説明するための図である。図27(a)において、高周波電力はTcycを一周期として断続して負荷に供給される。一周期(Tcyc)はオン期間(Ton)とオフ期間(Toff)とを備える。パルス変調高周波電力制御では、オン期間において高周波電力を供給し、オフ期間では供給を制限し、オン期間とオフ期間の比率(デューティー比)を制御することによって、負荷に供給する電力を制御する。
 図27(a)と図27(b)は、同じ高周波電力の出力状態を示しており、図27(b)は図27(a)のオン期間の高周波電力の変化を簡略化して示している。以下の各図面では、図27(b)と同様に、高周波電力の出力状態を簡略化して示す。
 本発明のオフ期間は、負荷に対してピーク電力を供給しない期間の他に、ピーク電力よりも小さな電力を供給する期間を含むものとする。また、本発明において、ピーク電力の“ピーク”は電力の最大振幅を表している。例えば、ピーク進行波電力は、高周波電源から負荷に進む進行波電力において、振幅値が最大振幅である進行波電力を表し、振幅値が最大振幅に至らないものについては単に進行波電力と表記するものとする。
 本発明のパルス変調高周波電力制御方法は、パルス出力の振幅を制御する出力振幅制御工程と、パルス出力のデューティー比を制御するデューティー制御工程とを備える。
 出力振幅制御工程は、パルス出力の振幅値を制御して、振幅値が設定振幅値となるように定振幅制御を行う。出力振幅制御による定振幅制御は、例えば、電力制御によって出力されるパルス出力の振幅値をフィードバックし、このフィードバック値と予め設定しておいた設定振幅値との差分値を求め、この差分値が零となるように、パルス出力の振幅値を制御する。この出力振幅制御はPWM制御により行うことができ、例えば、差分値に基づいてオン時間幅を調整してパルス制御信号を形成し、形成したパルス制御信号によって入力直流電力をスイッチングすることによって、パルス出力の振幅値を制御する。
 デューティー制御工程は、パルス出力のデューティー比を制御して、このデューティー比で定まる電力量が設定電力値となるように定電力制御を行う。
 ここで、デューティー制御工程によって定電力制御を行う電力量としては、例えばピーク進行波電力の平均電力値、ピーク進行波電力とピーク反射波電力から求められるピークロード電力の平均電力値とすることができる。また、ピーク反射波電力は、負荷から高周波電源側に戻る反射波電力の最大振幅であり、ピークロード電力は、負荷に供給されるロード電力の最大振幅である。
 ピーク進行波電力の平均電力値およびピークロード電力の平均電力値は、高周波電源側から負荷側に供給される電力の平均電力値である。
 デューティー制御工程の定電力制御は、高周波電源側から負荷側に供給される電力において、時間的変動に因らずに定常的に電力量を設定電力値となるように制御するものであり、例として示したピーク進行波電力やピークロード電力の平均電力値に限らず、ピーク進行波電力やピークロード電力のメディア値や最頻度値など定常的に電力量を表す値を用いてもよい。
 本発明のパルス変調高周波電力制御方法は、出力振幅制御工程とデューティー制御工程とをそれぞれ独立に行って高周波電力をパルス変調することによって、両制御を互いに干渉することなく行う。これによって、例えば、ピーク進行波電力が一定となるように制御すると共に、平均進行波電力が一定となるように制御することができる。
 出力振幅制御工程およびデューティー制御工程は、負荷に供給する電力の他に、負荷に供給する電圧や電流をパルス出力の制御対象として制御を行うことができる。
 本発明のパルス変調高周波電力制御方法において、デューティー制御工程は、デューティー比の制御によって高周波電力を出力しないオフ時間を零とし、パルス出力を連続出力に切り換える工程を含むことができる。この制御によって、パルス出力の電力量は、そのパルス出力の振幅値と等しくなる。
 本発明のパルス変調高周波電力制御方法は、制御対象としてピーク進行波電力を制御する形態、制御対象として平均ロード電力を制御する形態とすることができる。
 デューティー制御工程において、制御対象としてピーク進行波電力を制御する形態では、パルス出力の制御対象をピーク進行波電力とし、出力振幅制御工程は、ピーク進行波電力の振幅値が設定振幅値となるように定振幅制御を行い、デューティー制御工程は、デューティー比で定まるピーク進行波電力の平均電力値が設定電力値となるように定電力制御を行い、これによってピーク進行波電力を制御する。
 また、このデューティー制御工程は、不連続出力とするパルス出力制御と、パルス出力を連続出力とする連続出力制御とを含む。
 パルス出力制御は、パルス出力の一周期内におけるオン時間とオフ時間とで定まるデューティー比においてオン時間を100%未満とし、ピーク進行波電力の平均電力値が当該ピーク進行波電力の振幅値よりも小さくなるように制御して、パルス出力を不連続出力とする制御である。
 また、連続出力制御は、パルス出力の一周期内におけるオン時間とオフ時間とで定まるデューティー比においてオフ時間を0%としオン時間を100%とし、パルス出力を連続出力とする制御である。この制御によって、ピーク進行波電力の平均電力値は、ピーク進行波電力の振幅値と等しくなる。
 デューティー制御工程において、制御対象として平均ロード電力を制御する形態では、出力振幅制御工程におけるパルス出力の制御対象をピーク進行波電力とし、デューティー制御工程におけるパルス出力の制御対象を平均ロード電力とし、出力振幅制御工程は、ピーク進行波電力の振幅値が一定となるように定振幅制御を行い、デューティー制御工程は、デューティー比で定まるピーク進行波電力とピーク反射波電力から求められるピークロード電力の平均電力値が設定電力値となるように定電力制御を行って平均ロード電力を制御する。
 本発明のデューティー制御において、出力振幅制御工程の定電力制御で得られたフィードバック値に基づいて、パルス出力のデューティー比を増減する。
 このデューティー比を増減する制御において、デューティー制御工程は、ピーク反射波電力値をフィードバックし、ピーク反射波電力が増加する際にデューティー比のオン時間比率を小さくして平均反射波電力の増加を抑制する。
 また、デューティー比を増減する制御において、デューティー制御工程は、ピーク反射波電力値をフィードバックし、ピーク反射波電力が増加する際に、デューティー比のオン時間比率を大きくして平均ロード電力を一定に制御する。
 ロード電力制御において、ピーク反射波電力が変動した際にピーク進行波電力を制御してピークロード電力制御を行うと、ピーク進行波電力が変動することによって、負荷側のプラズマ密度が変動して不安定となるおそれがある。これに対して、デューティー比のオン時間比率を加減して平均ロード電力を一定に制御することによって、ピーク進行波電力の出力を安定させることができる。
 連続出力制御によって高周波電力を制御する場合、ピーク反射波電力の振幅値が過大であるときに、本発明のパルス変調高周波電力制御方法を適用することによって平均反射波電力の増加を抑制することができる。
 連続出力制御に代えてパルス変調高周波電力制御を適用する制御モードとして、定常状態でピーク進行波電力を連続出力で供給する制御モード(連続進行波電力制御モード)と、高周波電源によってプラズマ負荷のプロセスを開始してプラズマを着火させる制御モード(プロセススタート制御モード)がある。
 連続進行波電力制御モードでは、一定のピーク進行波電力を連続出力する定常状態において、この連続出力中にピーク反射波電力の振幅値が過大となったときに、連続出力制御からパルス出力制御に切り換えて適用して、デューティー比を制御することで平均反射波電力の増加を抑制する。
 一方、プロセススタート制御モードでは、ピーク進行波電力を増加させる増加段階をパルス出力制御で行い、ピーク進行波電力が所定値に達した後は連続出力制御に切り換える制御であり、このピーク進行波電力の増加中にピーク反射波電力の振幅値が過大となったときに、連続出力制御からパルス出力制御に切り換えて適用して、デューティー比を制御することで平均反射波電力の増加を抑制する。
 ピーク進行波電力を定常状態で供給する制御モード(連続進行波電力制御モード)において、プロセス過程中で、ガス圧の変化やイオン反応などの要因で、チャンバー内のインピーダンスが変化し、反射波電力が一時的に増加する場合がある。このように反射波電力が増加した際に、従来のように出力電力を低下させると、整合回路の整合動作の連動によってチャンバー内のプラズマが不安定となる。
 これに対して、パルスのデューティー比のオン時間の比率を100パーセントとして、平均進行波電力とピーク進行波電力とを一致させて連続進行波電力制御モードとし、ピーク反射波電力の振幅値が過大であるとき、デューティー比のオン時間の比率を100パーセントから小さくして、連続出力制御からパルス出力制御に切り換えることにより、平均反射波電力の増加を抑制する。
 この制御によれば、ピーク進行波電力の変化を回避することができるため、負荷への電力供給を安定化させることができる。
 また、プロセススタート制御モードにおいて、プラズマが着火する前に、ピーク反射波電力が増加する傾向がある。このとき、従来のように出力電力を低下させると、出力電圧がチャンバー内のプラズマ着火電圧よりも低くなってプラズマの着火が困難となる。
 これに対して、本発明では、プロセススタート制御モードにおいて、連続出力制御でピーク進行波電力を増加させながら供給し、そのピーク進行波電力を増加させる途中でピーク反射波電力の振幅値が過大であるとき、デューティー比のオン時間比率を100パーセントから小さくして、連続出力制御からパルス出力制御に切り換え、プラズマ着火によりピーク反射波電力が許容範囲に低下してから、ピーク進行波電力が増加した後、デューティー比のオン時間比率を100パーセントに戻して、パルス出力制御から連続出力制御に切り換えることにより、ピーク進行波電力を増加させる期間での平均反射波電力の増加を抑制する。
 上記制御によって、ピーク反射波電力が増加した場合であっても、平均反射波電力を抑制しながらピーク進行波電力の供給を維持するため、プラズマを容易に着火させることが可能になり、チャンバー内のプラズマが着火した後は、プラズマ雰囲気が正常となってピーク反射波電力が減るため、デューティー制御によってデューティー比のオン時間比率を100パーセントに戻して、パルス出力制御から連続出力制御に切り換える。
 なお、ピーク反射波電力の振幅値が過大であるか否かの判定は、例えばピーク反射波電力のフィードバック値と予め設定した設定値とを比較することで行う他、ピーク反射波電力のフィードバック値の増加率と予め設定した設定値とを比較することで行うことができる。
 また、プロセススタート制御モードは、前記した連続出力制御に代えて、デューティー制御によって行うことができる。
 このプロセススタート制御モードにおけるデューティー制御において、ピーク反射波電力の振幅値が過大であるとき、デューティー比のオン時間比率を漸次増加させることによって、平均反射波電力の増加を抑制する。
 この制御によって、ピーク反射波電力が増加した場合であっても、平均反射波電力を抑制しながらピーク進行波電力の供給を維持するため、プラズマの着火を可能とすることができ、チャンバー内のプラズマが着火した後は、プラズマ雰囲気が正常となってピーク反射波電力が減るため、デューティー制御によってデューティー比のオン時間比率を100パーセントとしてデューティー制御から連続出力制御に切り換える。
 本発明のパルス変調高周波電力制御のデューティー制御において、パルス電力の一周期はオン期間とオフ期間とを備え、各期間での電力レベルによって二つの電力制御の形態を備える。
 一つの電力制御は、デューティー制御において、オフ期間においてパルス出力の電力値を零とし、オン期間においてパルス出力の電力値を設定電力値とする制御形態(ON/OFF電力制御)である。また、別の電力制御は、デューティー制御において、オフ期間においてパルス出力の電力値を零と設定電力値との幅間で定める所定電力値とし、オン期間においてパルス出力の電力値を設定電力値とする制御形態(ハイ/ロウ電力制御)である。
 ハイ/ロウ電力制御は、パルスのオフ期間での電力レベルを所定値以上に設定することによって、オフ期間中のプラズマが消えるという状態を回避することができる。
 また、本発明のパルス変調高周波電力制御において、デューティー制御は複数の制御形態を適用することができる。
 デューティー制御の一制御形態は、周波数を一定とするPWM制御であって、周波数を一定としオン期間の時間幅とオフ期間の時間幅の時間幅の比率を制御する。また、デューティーの他の一制御形態は、オン幅あるいはオフ幅を一定とするPFM制御であって、オン期間の時間幅を一定としオフ期間の時間幅を変化させる、又は、オフ期間の時間幅を一定としオン期間の時間幅を変化させることによってパルス出力の周波数を制御する。
 なお、出力振幅制御で行うPWM制御は、入力直流電力をスイッチングすることによってパルス出力の振幅値を制御するものであり、デューティー制御で行うPWM制御は、出力振幅制御で制御された振幅値を維持した状態で、平均進行波電力を制御するものであり、制御対象を別にするものであって互いに干渉するものではなく、それぞれ独立して制御することができる。これによって、ピーク反射波電力が増加した場合であっても、ピーク進行波電力の振幅幅を低下させることなく、平均進行波電力を制御することができる。
 次に、本発明のパルス変調高周波電源装置の態様について説明する。
 本発明のパルス変調高周波電源装置は、負荷に高周波電力を供給する高周波電源装置であり、パルス出力の高周波出力を出力する高周波出力部と、パルス出力の振幅を制御する出力振幅制御部と、パルス出力のデューティー比を制御するデューティー制御部とを備える。
 出力振幅制御部は、パルス出力の振幅値を制御して、振幅値が設定振幅値となるように定振幅制御を行う。デューティー制御部は、パルス出力のデューティー比を制御して、デューティー比で定まる電力量が設定電力値となるように定電力制御を行う。出力振幅制御部とデューティー制御部は、高周波出力部をそれぞれ独立に制御して高周波電力をパルス変調することができる。
 本発明のパルス変調高周波電源装置は上記した出力振幅制御部およびデューティー制御部の構成によって、上記したパルス変調高周波電力制御の各制御を行う。
 なお、パルス変調高周波電源装置が行うパルス変調高周波電力制御の各制御については、上記説明と重複するためここでの説明は省略する。
 出力振幅制御部およびデューティー制御部は、パルス変調高周波電力制御の各制御を実施するハードウエアで構成する他、CPUと各制御を実施するプログラムや演算結果を格納するメモリ等によって構成することができる。
 出力振幅制御部は、例えば、設定振幅値(振幅指令値)と高周波出力部からのフィードバックしたパルス出力の振幅値との差分を求める誤差検出器、発振器からのパルス信号を誤差検出器で検出した差分値に基づいてPWM制御を行うPWM制御器とによって構成することができる。
 デューティー制御部は、例えば、設定電力値(平均電力指令値)と高周波出力部からのフィードバックの平均値との差分値を求める誤差検出器、発振器からのパルス信号を誤差検出器で検出した差分値に基づいて、パルス信号のデューティー比を変更するデューティー比変更器とによって構成することができる。
 高周波出力部は、直流電力をパルス変調して高周波電力を出力する。高周波出力部は、出力振幅制御部からの制御信号に基づいて直流電力を定振幅制御し、振幅値が設定振幅値となるようにパルス変調する。次に、出力振幅制御部で定振幅制御したパルス出力のデューティー比を、デューティー制御部からの制御信号に基づいて制御し、パルス出力の電力量が設定電力値となるように定電力制御を行う。
 高周波出力部は、出力振幅制御部からの制御信号に基づいて直流電力を定振幅制御してパルス出力を出力する増幅器と、デューティー制御部からの制御信号に基づいて、出力振幅制御部のパルス出力を定電力制御するスイッチング回路とを備える。また、高周波出力部は、デューティー制御部でパルス変調したパルス出力を検出して、出力振幅制御部およびデューティー制御部にフィードバックする検出器を備える。高周波出力部が備える検出器は、パルス出力の電力を検出する他、電圧や電流を検出し、これらの検出値をフィードバック値とすることができる。
 高周波出力部は、負荷にパルス出力を供給する。パルス出力の供給において、高周波出力部と負荷との間に整合器を配置し、インピーダンス整合を行うことができる。
 本発明の態様によれば、出力電力の電力振幅を安定制御することによって、負荷側のプラズマ密度およびプラズマ雰囲気を安定させ、プラズマ処理によるプロセスの均一性およびプロセスによる製品の品質を向上させることができる。
 また、本発明の態様によれば、反射波電力の増加に対して、平均反射波電力を抑制して電源装置を保護すると共に、進行波電力の電力振幅(ピーク進行波電力)を維持することによって、整合回路の不要な整合動作を不要とし、プラズマ負荷を安定化させることができる。
 また、本発明の態様によれば、負荷でのプロセス起動時において、チャンバー内のプラズマの発生を容易とすることができる。
 以上説明したように、本発明のパルス変調高周波電力制御方法およびパルス変調高周波電源装置によれば、パルス電力制御において電力変動に対して、出力電力の電力振幅(ピーク電力)を一定に制御することによって、出力電力の電力振幅の変動による負荷に対する影響を回避することができる。
本発明のパルス変調高周波電源装置の概略構成を説明するための図である。 本発明のデューティー制御を説明するための図である。 本発明のデューティー制御を説明するための図である。 本発明のデューティー制御の制御形態を説明するための図である。 本発明のパルス変調高周波電源装置の詳細な構成例を説明するための図である。 本発明の第1の態様において、進行波電力を制御対象とする場合の構成例を説明するための図である。 本発明の第1の態様において、進行波電力を制御対象とするデューティー制御の動作例を説明するためのフローチャートである。 本発明の第1の態様において、進行波電力を制御対象とするデューティー制御の動作例を説明するための信号図である。 本発明の第2の態様において、反射波電力による制御の構成例を説明するための図である。 本発明の第2の態様において、反射波電力の増加時の動作例を説明するためのフローチャートである。 本発明の第2の態様において、反射波電力の増加時の動作例を説明するための信号図である。 本発明の第2の態様において、反射波電力の増加時の動作例を説明するための信号図である。 本発明の第3の態様において、ロード電力制御の構成例を説明するための図である。 本発明の第3の態様において、ロード電力制御の動作例を説明するためのフローチャートである。 本発明の第3の態様において、ロード電力制御の動作例を説明するための信号図である。 本発明の第3の態様において、ロード電力制御の従来動作例を説明するための信号図である。 本発明の第4の態様において、連続進行波電力制御モードにデューティー制御を適用する構成例を説明するための図である。 本発明の第4の態様において、連続進行波電力制御モードにデューティー制御を適用する制御動作例を説明するためのフローチャートである。 本発明の第4の態様において、連続進行波電力制御モードにデューティー制御を適用する制御動作例を説明するための信号図である。 本発明の第4の態様において、連続進行波電力制御モードの従来の制御動作例を説明するための信号図である。 本発明の第5の態様において、連続進行波電力制御モードにデューティー制御を適用してピーク進行波電力を増加させる場合の構成例を説明するための図である。 本発明の第5の態様において、連続進行波電力制御モードにデューティー制御を適用してピーク進行波電力を増加させる場合の制御動作例を説明するためのフローチャートである。 本発明の第5の態様において、連続進行波電力制御モードにデューティー制御を適用してピーク進行波電力を増加させる場合の制御動作例を説明するための信号図である。 本発明の第5の態様において、連続進行波電力制御モードでピーク進行波電力を増加させる場合の従来の制御動作例を説明するための信号図である。 本発明の第6の態様において、デューティー制御においてプロセススタート時等のピーク進行波電力を増加させる制御動作例を説明するためのフローチャートである。 本発明の第6の態様において、デューティー制御においてプロセススタート時等のピーク進行波電力を増加させる制御動作例を説明するための信号図である。 パルス変調高周波電力制御における高周波電力のパルス出力を説明するための図である。
 1  パルス変調高周波電源装置
 1A  パルス変調高周波電源装置
 1B  パルス変調高周波電源装置
 1C  パルス変調高周波電源装置
 1D  パルス変調高周波電源装置
 1E  パルス変調高周波電源装置
 2  出力振幅制御部
 2A  ピーク進行波電力制御部
 2B  ピーク進行波電力制御部
 2C  ピーク進行波電力制御部
 2D  ピーク進行波電力制御部
 2E  ピーク進行波電力制御部
 2a  誤差検出器
 2b  発振器
 2c  制御回路
 3  デューティー制御部
 3A  平均進行波電力制御部
 3B  平均進行波電力制御部
 3C  平均ロード電力制御部
 3D  平均進行波電力制御部
 3E  平均進行波電力制御部
 3a  誤差検出器
 3b  発振器
 3c  デューティー比変更回路
 4  高周波出力部
 4A  高周波出力部
 4B  高周波出力部
 4C  高周波出力部
 4D  高周波出力部
 4E  高周波出力部
 4a  スイッチング回路
 4b  平滑回路
 4c  スイッチング回路
 4d  電力検出器
 4d0 高周波出力回路
 4d1  方向性結合器
 4d2  進行波電力検出部
 4d3  反射波電力検出部
 5  整合回路
 6  負荷
 7  平均処理回路
 7A  平均処理部
 7B  平均処理部
 7D  平均処理部
 7E  平均処理部
 7c1,7c2  平均処理部
 8D  デューティー制御部
 8E  デューティー制御部
 PF  ピーク進行波電力
 PFAV  平均進行波電力
 Plow  進行波電力ロウレベル
 P  ピークロード電力
 PLAV  平均ロード電力
 PLAVO  平均ロード電力指令値
 P  ピーク反射波電力
 PRAV  平均反射波電力
 Tcyc  周期
 Thigh ハイ幅
 Tlow  ロウ幅
 Toff  オフ幅
 Ton  オン幅
 以下、本発明の実施の形態について、図を参照しながら詳細に説明する。
 本発明のパルス変調高周波電源装置の基本構成および本発明のパルス変調高周波電力制御方法について図1~図5を用いて説明し、制御対象として進行波電力の場合について図6~図8を用いて説明し、ピーク反射波電力の増加時の処理例について図9~図12を用いて説明し、パルスピークロード電力制御によってパルス出力の負荷を制御する場合について図13~図16を用いて説明し、連続進行波電力制御モードにデューティー制御を適用する場合について図17~図20を用いて説明し、連続進行波電力制御モードにデューティー制御を適用して、プロセススタート時等のピーク進行波電力を増加させる場合について図21~図24を用いて説明し、デューティー制御において、プロセススタート時等のピーク進行波電力を増加させる場合について図25,図26を用いて説明する。
 [パルス変調高周波電力制御の基本構成] 
 はじめに、本発明のパルス変調高周波電源装置の概略構成について図1について説明する。
 パルス変調高周波電源装置1は、パルス出力の振幅を制御する出力振幅制御部2と、パルス出力のデューティー比を制御するデューティー制御部3とパルス出力の高周波出力を出力する高周波出力部4とを備え、高周波出力部4は負荷6に高周波出力を出力する。負荷6は、例えば、チャンバー内で生成されるプラズマ負荷とすることができる。
 高周波出力部4と負荷6との間には、両者間のインピーダンスを整合する整合回路5を接続することができる。
 高周波出力部4は、直流電力をパルス変調して高周波出力を生成する。直流電力は、直流電源から得る他、交流電力をAC/DC変換して得ることができる。高周波出力部4と負荷6との間の電力の移動は双方で行われ、高周波出力部4から負荷6に向かって進行波電力が供給され、負荷6から高周波出力部4に向かって反射波電力が戻される。この進行波電力と反射波電力との差し引きによって、高周波出力部4から負荷6に向かった負荷電力が供給される。ここで、進行波電力の最大振幅をピーク進行波電力と呼び、反射波電力の最大振幅をピーク反射波電力と呼ぶ。
 パルス変調は、出力振幅制御部2によるパルス出力の振幅制御と、デューティー制御部3による電力量制御とによって行う。
 出力振幅制御部2は、指令値として設定振幅値を入力し、フィードバック値としてパルス出力の振幅値を入力して、振幅値が設定振幅値となるように定振幅制御を行う。パルス出力の振幅値は、電力値、電圧値、あるいは電流値とすることができ、高周波出力部4内に設けた検出器、あるいは高周波出力部4と負荷6との間に設けた検出器によって検出することができる。この出力振幅制御部2の定振幅制御において、パルス出力の振幅値(ピーク値)は設定値に制御される。
 デューティー制御部3は、指令値として設定値を入力し、フィードバック値としてパルス出力値を入力して、パルス出力値が設定値となるようにパルス出力のデューティー比を制御して、このデューティー比で定まる値が設定値となるように定値制御を行う。パルス出力値は、電力値、電圧値、あるいは電流値とすることができる。
 パルス出力の電力値に相当する量は、例えば、平均進行波電力とすることができる、このときの設定値は平均出力電力指令値を用いる。デューティー制御部3による定電力制御は、高周波電源側から負荷側に供給される電力において、時間的変動に因らずに定常的に電力量が平均出力電力指令値となるように制御するものであり、ピーク進行波電力やピークロード電力の平均電力値に限らず、ピーク進行波電力やピークロード電力のメディア値や最頻度値など定常的に電力量を表す値を用いてもよい。
 本発明の出力振幅制御部2とデューティー制御部3は、高周波出力部4をそれぞれ独立に制御して高周波電力をパルス変調する。
 なお、図1では、説明の便宜上から出力振幅制御部2とデューティー制御部3を個別の構成で示しているが、一つの制御部によって構成しても良い。また、高周波出力部4についても個別の構成で示しているが、出力振幅制御部2およびデューティー制御部3の制御部と共に一つの回路で構成しても良い。
 また、各制御部および高周波出力部は、ハードウエアによる構成、あるいはCPUと各信号をCPUに実行させるプログラムや演算処理結果を記憶するメモリ等を含むソフトウエアによる構成とすることができる。
  [デューティー制御] 
 デューティー制御部3によるデューティー制御について図2,図3を用いて説明する。
 デューティー制御は、パルス出力のデューティー比を変えることによって、出力電力値をパルス変調する。ここでは、進行波電力を例として説明する。本発明のパルス変調高周波電力制御では、出力振幅制御部2によってピーク進行波電力PFの最大振幅値(ピーク値)が設定値となるように制御され、このピーク進行波電力を設定値に維持した状態で、平均進行波電力PFAVが設定電力値となるように、デューティー比を制御する。
パルス電力の一周期はオン期間とオフ期間とを備え、各期間での電力レベルによって二つの電力制御の形態を備える。
 一つの電力制御は、デューティー制御において、オフ期間においてパルス出力の電力値を零とし、オン期間においてパルス出力の電力値を設定電力値とする制御形態(ON/OFF電力制御)である。図2はこのON/OFF電力制御を示している。図2において、1周期Tcycは、ピーク進行波電力を出力する期間のオン幅Tonと、電力出力を行わない期間のオフ幅Toffとを有し、このTonとToffに基づいてデューティー比が定められる。デューティー比は、例えば、1周期Tcycに対するオン幅Tonの比率で表すONデューティーDonで表すことができる。
 Don=Ton/(Ton+Toff)
 Tcyc=Ton+Toff
 平均進行波電力PFAVはONデューティーDonを用いて以下の式で表すことができる。
 PFAV=P×Don
 したがって、平均進行波電力PFAVはONデューティーDonを変えることによって平均進行波電力PFAVを所定の電力値に制御することができる。
 また、このデューティー制御において、平均進行波電力PFAVが設定電力値となるようにデューティー比を制御する際、平均進行波電力PFAVを垂下させる場合がある。この平均進行波電力PFAVを垂下させる要因としては、例えば反射波電力の増加(図2(b))、反射電圧や電流の増加がある。
 このような平均進行波電力PFAVを垂下させる要因に対して、図2(a)で示すように、ONデューティーDonを下げることによって平均進行波電力PFAVを低下させる制御を行う。
 また、別の電力制御は、デューティー制御において、オフ期間においてパルス出力の電力値を零と設定電力値との幅間で定める所定電力値とし、オン期間においてパルス出力の電力値を設定電力値とする制御形態(ハイ/ロウ電力制御)である。
 図3は、このハイ/ロウ電力制御を示している。図3において、1周期Tcycは、ピーク進行波電力を出力する期間のハイ幅Thighと、電力出力がピーク進行波電力よりも低い進行波電力ロウレベルPlowとする期間のロウ幅Tlowとを有し、このThighとTlowに基づいてデューティー比が定められる。デューティー比は、例えば、1周期Tcycに対するハイ幅Thighの比率で表すことができる。平均進行波電力PFAVは、このデューティー比と、ピーク進行波電力Pおよび進行波電力ロウレベルPlowによって定まる。
 ハイ/ロウ電力制御は、パルスのロウ期間での電力レベルを所定値以上に設定することによって、ロウ期間中のプラズマが消えるという状態を回避することができる。
 次に、図4を用いてデューティー制御の制御形態について説明する。
 デューティー制御の一制御形態は、周波数を一定とするPWM制御である。図4(a)はPWM制御を説明するための図である。
 周波数を一定とする。図4(a)~(c)では周期Tcycを一定としている。オン期間の時間幅Tonとオフ期間の時間幅Toffの時間幅の比率(ONデューティーDon)を制御する。図4(a)~(c)は、時間幅Tonの比率が大きくなる順で示している。
 デューティーの他の一制御形態は、オン幅あるいはオフ幅を一定とするPFM制御である。
 図4(d)~(f)はオン期間の時間幅を一定としオフ期間の時間幅を変化させるPFM制御の例であり、オフ期間の時間幅Toffが大きくなる順で示している。
 図4(g)~(i)はオフ期間の時間幅を一定としオン期間の時間幅を変化させるPFM制御の例であり、オン期間の時間幅Tonが大きくなる順で示している。
 [パルス変調高周波電源装置の構成例]
 次に、パルス変調高周波電源装置1についてより詳細な構成例について図5を用いて説明する。
 高周波出力部4は、出力振幅制御部2の制御信号に基づいて直流入力電力の振幅値をPWM制御する回路部と、デューティー制御部3の制御信号に基づいてパルス出力のデューティー比を制御する回路部とを備える。
 PWM制御を行う回路部は、例えば、直流入力電力の振幅値をPWM制御によって変更するスイッチング回路4a、スイッチング回路4aで振幅値が制御された直流電力からノイズ分を除去する平滑回路4bによって構成することができる。
 直流入力電力は、直流電源が得られる直流入力電力を用いる他、交流電源から得られる交流電力をAC/DC変換器で直流電力に変換したものを用いることができる。
 デューティー比を制御する回路部は、前記回路部で振幅制御した直流電力をパルス出力とすると共に、このパルス出力のデューティー比を制御して電力量を設定電力値となるように制御するスイッチング回路4cを備える。
 また、高周波出力部4は、出力振幅制御部2およびデューティー制御部3にフィードバックするフィードバック値を検出する検出回路を備えることができる。なお、この検出回路は高周波出力部4の外部に設けることもできる。
 図5では、検出器としてピーク進行波電力を検出する電力検出器4dを示している。電力検出器4dは、図示していない方向性結合器によってピーク進行波電力を選択して検出することができる。検出されたピーク進行波電力を、出力振幅制御部2にフィードバックすると共に、平均処理回路7で平均処理した平均進行波電力をデューティー制御部3にフィードバックする。
 出力振幅制御部2は、例えば、誤差検出器2a、発振器2b、およびPWM制御回路2cで構成することができる。誤差検出器2aは、設定振幅値を指令値として入力すると共に、高周波出力部4からフィードバックされたピーク進行波電力をフィードバック値のパルス出力振幅値として入力し、パルス出力振幅値と設定振幅値との差分値を検出する。
 PWM制御回路2cは、誤差検出器2aで検出した差分値を制御信号として、発振器2bからのパルス信号をPWM制御する。PWM制御によって、PWM回路2cからは振幅値が設定振幅値となるように制御する制御信号が形成される。
 高周波出力部4のスイッチング回路4aは、このPWM回路2cの制御信号に基づいて直流電力の振幅値を制御する。
 デューティー制御部3は、例えば、誤差検出器3a、発振器3b、およびデューティー比変更回路3cで構成することができる。
 誤差検出器3aは、設定電力値を指令値として入力すると共に、高周波出力部4からフィードバックされ、平均処理回路7で平均処理された平均進行波電力をフィードバック値の電力値として入力し、フィードバックされた電力値と設定電力値との差分値を検出する。
 デューティー比変更回路3cは、誤差検出器3aで検出した差分値を制御信号として、発振器3bからのパルス信号のデューティー比を変更する。デューティー比の変更によって、デューティー比変更回路3cからは、電力値が設定電力値となるように制御する制御信号が形成される。
 高周波出力部4のスイッチング回路4cは、このデューティー比変更回路3cの制御信号に基づいてパルス出力のデューティー比を制御する。
  [第1の態様:制御対象が進行波電力の場合の構成および制御]
 次に、本発明の第1の態様として、制御対象が進行波電力の場合の構成および制御動作について図6~図8を用いて説明する。
 図6は進行波電力を制御対象とする場合の構成例を説明するための図である。図6において、パルス変調高周波電源装置1Aの構成は、図1で示した構成とほぼ同様であり、パルス出力の振幅を制御する出力振幅制御部2としてピーク進行波電力制御部2Aを備え、パルス出力のデューティー比を制御するデューティー制御部3として平均進行波電力制御部3Aを備え、パルス出力の高周波出力を出力する高周波出力部4として高周波出力部4Aを備える。高周波出力部4Aは負荷に高周波出力を出力する。
 ピーク進行波電力制御部2Aは、ピーク進行波電力指令値を振幅指令値として入力し、ピーク進行波フィードバック値をパルス出力の振幅値として入力し、ピーク進行波電力の振幅値がピーク進行波電力指令値となるように、高周波出力部4Aの高周波出力回路4d0を定振幅制御する。
 平均進行波電力制御部3Aは、平均進行波電力指令値を電力指令値として入力し、平均進行波フィードバック値をパルス出力の電力値として入力し、平均進行波電力の電力値が平均進行波電力指令値となるように、高周波出力部4Aの高周波出力回路4d0をデューティー制御する。また、このデューティー制御において、平均進行波電力フィードバック値が平均進行波電力指令値となるようにデューティー比を制御する際、平均進行波電力を垂下させる垂下要因(例えば、反射波電力、反射電圧、電流等の増加等)が発生した場合には、ONデューティーDonを下げることによって平均進行波電力を低下させる制御を行う。
 ピーク進行波フィードバック値は、高周波出力部4Aが備える方向性結合器4d1で進行波電力を分離し、進行波電力検出器4d2によって検出することができる。ピーク進行波電力制御部2Aは、このピーク進行波フィードバック値を入力する。
 平均処理部7Aは、ピーク進行波フィードバック値を平均処理して平均進行波電力とする。平均進行波電力制御部3Aは、この平均進行波電力をフィードバック値として入力する。
 図7、8は、進行波電力を制御対象とするデューティー制御の動作例を説明するためのフローチャートおよび信号図である。
 進行波電力検出部4d2によってピーク進行波電力を検出し(S1)、検出したピーク進行波電力の平均値を平均処理部7Aで求め、求めた平均進行波電力を平均進行波電力制御部3Aに入力する(S2)。
 平均進行波電力制御部3Aは、入力した平均進行波電力と平均進行波電力指令値との差分を求める(S3)。求めた差分について、平均進行波電力が平均進行波電力指令値よりも小さい場合には(S4)、ONデューティーDonを大きく設定し(S5)、平均進行波電力が平均進行波電力指令値よりも大きい場合には、ONデューティーDonを小さく設定する(S6)。
 平均進行波電力が平均進行波電力指令値に一致する場合には、ONデューティーDonは変更することなくその値を維持する(S7)。
 図8に示す信号図において、図8(a)はピーク進行波電力Pを示し、図8(b)は平均進行波電力PFAVを示し、図8(c)はデューティー比(ONデューティーDon)を示している。
 平均進行波電力のフィードバック値(図8(b)中の実線で示す)が平均進行波電力指令値(図8(b)中の破線で示す)よりも低下した場合(図8(b)中の時点A)には、ONデューティーDonを大きくする(図8(c)中の時点A)。ONデューティーDonを大きくすることにより、ピーク進行波電力Pのオン期間の比率が大きくなり(図8(a)中の時点A)、平均進行波電力が増加する。
 平均進行波電力のフィードバック値(図8(b)中の実線で示す)が増加して平均進行波電力指令値(図8(b)中の破線で示す)に達した場合(図8(b)中の時点B)には、ONデューティーDonを元に戻す(図8(c)中の時点B)。ONデューティーDonを元に戻すことにより、ピーク進行波電力Pのオン期間の比率が元に戻る(図8(a)中の時点B)。
 平均進行波電力のフィードバック値(図8(b)中の実線で示す)が平均進行波電力指令値(図8(b)中の破線で示す)よりも上昇した場合(図8(b)中の時点C)には、ONデューティーDonを小さくする(図8(c)中の時点C)。ONデューティーDonを小さくすることにより、ピーク進行波電力Pのオン期間の比率が小さくなり(図8(a)中の時点C)、平均進行波電力が減少する。
 平均進行波電力のフィードバック値(図8(b)中の実線で示す)が減少して平均進行波電力指令値(図8(b)中の破線で示す)に達した場合(図8(b)中の時点D)には、ONデューティーDonを元に戻す(図8(c)中の時点D)。ONデューティーDonを元に戻すことにより、ピーク進行波電力Pのオン期間の比率が元に戻る(図8(a)中の時点D)。
  [第2の態様:ピーク反射波電力の増加時の制御例]
 次に、本発明の第2の態様として、前記した進行波電力の制御において、ピーク反射波電力が増加したときの制御について、図9~図12を用いて説明する。
 図9において、パルス変調高周波電源装置1Bの構成は、図6で示した構成とほぼ同様であり、パルス出力の振幅を制御するピーク進行波電力制御部2Bと、パルス出力のデューティー比を制御する平均進行波電力制御部3Bと、パルス出力の高周波出力を出力する高周波出力部4Bと、平均処理部7Bとを備える。高周波出力部4Bは、高周波出力回路4d0と、ピーク進行波電力を検出する進行波電力検出部4d2と、ピーク反射波電力を検出する反射波電力検出部4d3と、ピーク進行波電力とピーク反射波電力とを分離して取り出す方向性結合器4d1を備える。
 反射波電力検出部4d3を除く構成部分は、図6で示したパルス変調高周波電源装置1Aの構成と同様であるため、ここでは主に反射波電力検出部4d3について説明する。
 方向性結合器4d1はピーク進行波電力とピーク反射波電力とを分離し、ピーク進行波電力を進行波電力検出部4d2に入力し、ピーク反射波電力を反射波電力検出部4d3に入力する。
 反射波電力検出部4d3は、検出したピーク反射波電力値を平均進行波電力制御部3Bに送り、平均進行波電力制御部3Bは送られたピーク反射波電力値を用いて、デューティー制御を調整する。このデューティー制御の調整は、例えば、ピーク反射波電力が増加した場合に、平均反射波電力を抑制することによって電源保護を行うために行う。このデューティー制御の調整において、ピーク進行波電力Pは一定に制御されているため、整合回路の整合動作は安定となり、チャンバーへの電力注入は安定する。
 図10,11,12は、デューティー制御において、反射波電力の増加時の動作例を説明するためのフローチャートおよび信号図である。
 デューティー制御において(S11)、反射波電力検出部4d3によって反射波電力を検出し、反射波電力が増加した場合には(S12)、平均進行波電力制御部3Bのデューティー制御で求めたデューティー比を下げ(S13)、平均反射波電力PRAVを抑制する(S14)。
 平均反射波電力PRAVの抑制が不十分である場合には(S15)、S13の工程でデューティー比をさらに下げる。平均反射波電力PRAVが抑制された場合には(S15)、下げたデューティー比を元に戻す(S16)。
 図11に示す信号図は、デューティー制御を行っている状態からピーク反射波電力が増加する場合に平均反射波電力を抑制する状態を示している。
 図11(a)はピーク反射波電力Pおよび平均反射波電力PRAVを示し、図11(b)はデューティー比(ONデューティーDon)を示し、図11(c)はピーク進行波電力Pおよび平均進行波電力PFAVを示している。
 ピーク反射波電力P(図11(a)中の実線で示す)が増加した場合(図11(a)中の時点E)には、ONデューティーDonを下げる(図11(b)中の時点E)。ONデューティーDonを下げることにより、ピーク進行波電力Pのオン期間の比率が小さくなり(図11(b)中の時点E)、平均進行波電力PFAVが減少し(図11(c)中の時点E)、平均反射波電力PRAVが減少する(図11(a)中の時点E)。
 ピーク反射波電力のフィードバック値が減少した場合(図11(a)中の時点F)には、ONデューティーDonを元に戻す(図11(b)中の時点F)。ONデューティーDonを元に戻すことにより、ピーク進行波電力Pのオン期間の比率が元に戻って(図11(b)中の時点F)、平均進行波電力PFAVが元に戻り(図11(c)中の時点F)、平均反射波電力PRAVが元に戻る(図11(a)中の時点F)。
 図12は、デューティー比(ONデューティーDon)の増減と平均進行波電力PFAVの増減との関係を説明するための信号図である。ここでは、周期(Tcyc)を一定とし、オン幅Tonを縮め、オフ幅Toffを広げることによってONデューティーDonを減少させる場合を示している。オン幅Tonの期間を短くし、オフ幅Toffの期間を長くすることによって、一周期内で負荷方向に供給される進行波電力の電力量は減るため、平均進行波電力PFAVは減少する。
  [第3の態様:ロード電力制御の構成および制御] 
 次に、本発明の第3の態様として、ロード電力制御の構成および制御動作について図13~図16を用いて説明する。
 ロード電力は、進行波電力から反射波電力を差し引いた電力であり、ロード電力制御は、パルス変調高周波電源装置から負荷に実質的に供給される平均ロード電力(平均負荷電力)を制御することによって、ピーク進行波電力の出力を安定させる。
 ロード電力制御は、出力振幅制御のパルス出力の制御対象をピーク進行波電力とし、デューティー制御工程のパルス出力の制御対象を平均ロード電力とし、出力振幅制御によってピーク進行波電力の振幅値が一定となるように定振幅制御を行い、デューティー制御によって、デューティー比で定まるピーク進行波電力とピーク反射波電力から求められるピークロード電力の平均電力値が設定電力値となるように定電力制御を行って平均ロード電力を制御する。
 図13において、パルス変調高周波電源装置1Cの構成は、図9で示した構成とほぼ同様であり、ピーク進行波電力の振幅を制御するピーク進行波電力制御部2Cと、パルス出力のデューティー比を制御する平均ロード電力制御部3Cと、パルス出力の高周波出力を出力する高周波出力部4Cと、平均処理部7c1,7c2とを備える。高周波出力部4Cは、高周波出力回路4d0と、ピーク進行波電力を検出する進行波電力検出部4d2と、ピーク反射波電力を検出する反射波電力検出部4d3と、ピーク進行波電力とピーク反射波電力とを分離して取り出す方向性結合器4d1を備える。
 平均処理部7c1は、進行波電力検出部4d2で検出したピーク進行波電力から平均進行波電力を求め、平均処理部7c2は、反射波電力検出部4d3で検出した反射波電力から平均反射波電力を求める。
 平均ロード電力をデューティー制御する平均ロード電力制御部3C、反射波電力から平均反射波電力を求める平均処理部7c2を除く構成部分は、図9で示したパルス変調高周波電源装置1Bの構成と同様であるため、ここでは主に平均ロード電力のデューティー制御動作について説明する。
 方向性結合器4d1はピーク進行波電力とピーク反射波電力とを分離し、ピーク進行波電力を進行波電力検出部4d2に入力し、ピーク反射波電力を反射波電力検出部4d3に入力する。
 進行波電力検出部4d2は検出したピーク進行波電力値をピーク進行波電力制御部2Cに送ると共に、検出したピーク進行波電力値を平均処理部7c1に送る。平均処理部7c1は求めた平均進行波電力を平均ロード電力制御部3Cに送る。また、反射波電力検出部4d3は検出したピーク反射波電力値を平均処理部7c2に送り、平均処理部7c2は求めた平均反射波電力を平均ロード電力制御部3Cに送る。
 平均ロード電力制御部3Cは、平均進行波電力値から平均反射波電力値を減算して平均ロード電力値を求める平均ロード電力検出部(図示していない)を備え、求めた平均ロード電力値をフィードバック値として平均ロード電力指令値と比較し、平均ロード電力値が平均ロード電力指令値となるようにデューティー制御を行う。
 なお、平均ロード電力検出部は、平均ロード電力制御部3Cに設ける構成に限らず、平均処理部7c1,7c2等の回路内の構成する他、単独回路として構成してもよい。
 また、平均ロード電力制御部3Cは、反射波電力検出部4d3から送られたピーク反射波電力値を用いて、デューティー制御を調整する。このデューティー制御の調整は、例えば、ピーク反射波電力が増加した場合に、平均ロード電力を抑制し、この平均ロード電力を抑制することによってピーク進行波電力を抑制して電源を保護するために行う。このデューティー制御の調整において、ピーク進行波電力Pは一定に制御されているため、整合回路の整合動作は安定となり、チャンバーへの電力注入は安定する。
 図14,15,16は、デューティー制御において、ピーク反射波電力の増加時におけるロード電力の制御動作例を説明するためのフローチャートおよび信号図である。
 ロード電力の制御は、平均ロード電力が平均ロード電力指令値となるようにデューティー制御を行う。
 平均処理部7c1によって平均進行波電力PFAVを求め(S21)、平均処理部7c2によって平均反射波電力PRAVを求める(S22)。平均ロード電力検出部は、求めた平均進行波電力PFAVと平均反射波電力PRAVとの差分を以下の式により算出して平均ロード電力PLAVを求める(S23)。
 PLAV=PFAV-PRAV
 平均ロード電力制御部3Cは、求めた平均ロード電力PLAVと平均ロード電力指令値PLAVOとの差分を求め(S24)、この差分値に基づいてデューティー値を変更し、差分が零となるように制御する(S26)。
 平均ロード電力PLAVと平均ロード電力指令値PLAVOとの差分が零となるようにデューティー制御を行うことによって、ピーク進行波電力の振幅値を変えることなく、平均ロード電力PLAVを設定値に制御することができる(S25)。
 上記デューティー制御の動作中において、反射波電力検出部4d3で検出した反射波電力を検出し、反射波電力の増加をモニタする。このとき、反射波電力が増加した場合には(S27)、平均ロード電力制御部3Cのデューティー制御で求めたデューティー比(オンデューティーDon)を上げて(S28)、平均進行波電力PFAVを上げることによって(S29)、平均ロード電力PLAVを抑制して一定に保持し(S30)、ピーク進行波電力Pの出力を安定させる。
 ピーク反射波電力が減少した場合には(S31)、上げたデューティー比を元に戻し(S32)、通常のデューティー制御を行う。
 図15に示す信号図は、デューティー制御を行っている状態からピーク反射波電力が増加する場合に平均ロード電力を抑制する状態を示している。
 図15(a)はピーク反射波電力Pおよび平均反射波電力PRAVを示し、図15(b)はデューティー比(ONデューティーDon)を示し、図15(c)はピーク進行波電力Pおよび平均進行波電力PFAVを示し、図15(d)はピークロード電力Pおよび平均ロード電力PLAVを示している。
 デューティー制御中にピーク反射波電力P(図15(a)中の実線で示す)が増加すると平均反射波電力PRAVも増加し(図15(a)中の時点G-H間)、ピークロード電力Pおよび平均ロード電力PLAVが減少する(図15(d)中の時点G-H間)。
 平均ロード電力制御部3Cは、ピーク反射波電力Pの増加を検出するとONデューティーDonを上げる(図15(b)中の時点H)。ONデューティーDonを上げることにより、平均進行波電力PFAVが増加し(図15(c)中の時点H)、平均ロード電力PLAVが増加して元に戻ることができる(図15(d)中の時点H)。
 その後、ピーク反射波電力Pの増加が解消されて元に戻ると、平均反射波電力PRAVも低下して元に戻る(図15(a)中の時点I)。
 平均ロード電力制御部3Cは、ピーク反射波電力Pの復帰を検出するとONデューティーDonを下げて元に戻す(図15(b)中の時点I)。ONデューティーDonを下げることにより、平均進行波電力PFAVが減少して元に戻る(図15(c)中の時点I)。平均進行波電力PFAVが元に戻ることによって、通常のデューティー制御において、ピークロード電力Pおよび平均ロード電力PLAVを元の状態に維持することができる(図15(d)中の時点I)。
 図16は、従来のパルスピークロード制御の動作例を示している。このパルスピークロード制御では、ピーク反射波電力が変動すると、ピーク進行波電力を制御することでピークロード電力を制御している。
 例えば、ピーク反射波電力Pが増加すると(図16(a)中の時点J)、ピーク進行波電力Pを増加させる制御を行い(図16(b)中の時点J)、ピーク進行波電力Pを増加させることによって、ピークロード電力Pが一定となるように制御する(図16(c)中の時点J)。
 また、ピーク反射波電力Pの増加が解消されると(図16(a)中の時点K)、ピーク進行波電力Pを低減させて元に戻す制御を行う(図16(b)中の時点K)。
 このパルスピークロード制御では、ピーク進行波電力が変動するため、ピーク進行波電力の負荷への供給が変動し、負荷でのプラズマ密度が変動して不安定となるおそれがある。
 これに対して、本発明のデューティー制御によれば、ピーク進行波電力を一定の維持したまま平均ロード電力を制御することができ、ピーク進行波電力が変動することによる不安定動作を回避することができる。
 [第4の態様:連続進行波電力制御モードにデューティー制御を適用する場合の構成および制御] 
 次に、本発明の第4の態様として、連続進行波電力制御モードにデューティー制御を適用する場合の構成および制御動作について図17~図20を用いて説明する。
 本発明のデューティー制御工程は、不連続出力とするパルス出力制御と、パルス出力を連続出力とする連続出力制御とを含むことができる。
 パルス出力制御は、パルス出力の一周期内におけるオン時間とオフ時間とで定まるデューティー比においてオン時間を100%未満とし、ピーク進行波電力の平均電力値がそのピーク進行波電力よりも小さくなるように制御して、パルス出力を不連続出力とする制御である。
 また、連続出力制御は、パルス出力の一周期内におけるオン時間とオフ時間とで定まるデューティー比においてオフ時間を0%としオン時間を100%とし、ピーク進行波電力の平均電力値がピーク進行波電力と等しくなるように制御して、パルス出力を連続出力とする制御である。
 連続進行波電力制御モードは、進行波電力を連続出力制御するモードである。この連続進行波電力制御モードにおいて、プロセスの過程中など負荷に対して定常状態で進行波電力を供給する際に、例えばチャンバー内でのガス圧の変化やイオン反応などの要因によってチャンバー内のインピーダンスが変化する場合など、負荷のインピーダンスが変化した場合には反射波電力が一時的に増加することがある。
 本発明は、このような連続進行波電力制御モードにおいてデューティー制御を適用することによって、ピーク反射波電力が増加した場合であっても、従来の制御のようにピーク進行波電力を変えることなく平均反射波電力を抑制して、安定して電力を負荷に供給する。
 図17は、連続進行波電力制御モードにデューティー制御を適用する場合の構成例を示す図である。
 図17において、パルス変調高周波電源装置1Dの構成は、図9で示した構成とほぼ同様であり、ピーク進行波電力の振幅を制御するピーク進行波電力制御部2Dと、パルス出力のデューティー比を制御する平均進行波電力制御部3Dと、パルス出力の高周波出力を出力する高周波出力部4Dと、平均処理部7Dとを備え、さらに、平均進行波電力制御部3Dが行うデューティー制御のデューティー比を制御するデューティー制御部8Dを備える。
 また、高周波出力部4Dは、高周波出力回路4d0と、ピーク進行波電力を検出する進行波電力検出部4d2と、ピーク反射波電力を検出する反射波電力検出部4d3と、ピーク進行波電力とピーク反射波電力とを分離して取り出す方向性結合器4d1を備える。
 平均処理部7Dは、進行波電力検出部4d2で検出したピーク進行波電力から平均進行波電力を求め、求めた平均進行波電力を平均進行波電力制御部3Dにフィードバックする。
 平均進行波電力をデューティー制御する平均進行波電力制御部3D、デューティー制御部8Dを除く構成部分は、図9で示したパルス変調高周波電源装置1Bの構成とほぼ同様であるため、ここでは主に平均進行波電力制御部3Dの連続出力制御およびデューティー制御について説明する。
 方向性結合器4d1はピーク進行波電力とピーク反射波電力とを分離し、ピーク進行波電力を進行波電力検出部4d2に入力し、ピーク反射波電力を反射波電力検出部4d3に入力する。
 進行波電力検出部4d2は検出したピーク進行波電力値をピーク進行波電力制御部2Dに送ると共に、検出したピーク進行波電力値を平均処理部7Dに送る。平均処理部7Dは求めた平均進行波電力を平均進行波電力制御部3Dに送る。また、反射波電力検出部4d3は検出したピーク反射波電力値をデューティー制御部8Dに送り、デューティー制御部8Dは、反射波電力の変動に応じて平均進行波電力制御部3Dで行うデューティー制御のデューティー比を変更する。
 平均進行波電力制御部3Dは、平均処理部7Dからの平均進行波電力値をフィードバック値として平均進行波電力指令値と比較し、平均進行波電力値が平均進行波電力指令値となるようにデューティー制御を行う。
 平均進行波電力制御部3Dは、通常状態では、デューティー比(ONデューティーDon)を100%として連続出力制御を行い、デューティー制御部8Dから送られた制御信号によってデューティー制御を調整して、連続出力制御とパルス出力制御とを切り換える。ここで、連続出力制御は、デューティー制御においてデューティー比(ONデューティーDon)を100%とする制御形態であり、パルス出力制御は、デューティー制御においてデューティー比(ONデューティーDon)を100%より小さな値で行う制御形態である。
 このデューティー制御の調整は、例えば、ピーク反射波電力が増加した場合に、デューティー比(ONデューティーDon)を100%から100%よりも小さな所定値に切り換えることによって連続出力制御からパルス出力制御に切り換えることによって、平均反射波電力を抑制して電源を保護する。このデューティー制御の調整において、ピーク進行波電力Pは一定に制御されているため、整合回路の整合動作は安定となり、チャンバーへの電力注入は安定する。
 図18,19,20は、連続進行波電力制御モードにおいて、ピーク反射波電力の増加時における進行波電力の制御動作例を説明するためのフローチャートおよび信号図である。
 平均進行波電力制御部3Dは、通常状態では、連続出力制御によって平均進行波電力が平均進行波電力指令値となるように制御する。
 この制御状態では、デューティー比(ONデューティーDon)を100%とし(S41)、ピーク進行波電力を連続進行波電力制御モードで制御する(S42)。
 この連続進行波電力制御モードにおいて、デューティー制御部8Dは反射波電力検出部4d3で検出したピーク反射波電力をモニタする。デューティー制御部8Dは、ピーク反射波電力の増加を検出すると(S43)、デューティー比(ONデューティーDon)を100%の連続出力からデューティー比(ONデューティーDon)が100%よりも小さいパルス出力に切り換える。これによって、ピーク進行波電力Pの出力を安定させた状態で、平均反射波電力を抑制することができる(S44)。
 デューティー制御部8Dは、ピーク反射波電力の減少を検出すると(S45)、デューティー比(ONデューティーDon)を100%に戻してパルス出力から連続出力に切り換えて、連続出力による連続進行波電力制御モードに戻す(S46)。
 図19に示す信号図は、連続出力とパルス出力との切換を示している。
 図19(a)はピーク反射波電力Pおよび平均反射波電力PRAVを示し、図19(b)はデューティー比(ONデューティーDon)を示し、図19(c)はピーク進行波電力Pおよび平均進行波電力PFAVを示している。
 連続進行波電力制御モードにおいて、デューティー比(ONデューティーDon)を100%として連続出力を行っている間に、ピーク反射波電力P(図19(a)中の実線で示す)が増加すると平均反射波電力PRAV(図19(a)中の破線で示す)も増加する(図19(a)中の時点L-M間)。
 デューティー制御部8Dは、ピーク反射波電力Pの増加を検出するとONデューティーDonを100%から下げる(図19(b)中の時点L)。ONデューティーDonを下げることにより、平均進行波電力PFAVが減少する(図19(c)中の時点L)。
 その後、ピーク反射波電力Pの増加が解消されて元に戻ると、デューティー制御部8Dは、ピーク反射波電力Pの減少を検出してONデューティーDonを100%に戻す(図19(b)中の時点M)。ONデューティーDonを100%として連続制御を再開することにより、平均進行波電力PFAVは元に状態に戻す(図19(c)中の時点M)。
 本発明の制御態様によれば、通常状態ではONデューティーDonを100%として連続出力制御を行い、ピーク反射波電力が増加したときにONデューティーDonを100%よりも小さくてパルス出力制御を行うことによって、平均進行波電力を低下させて平均反射波電力を抑制する。
 図20は、従来の連続出力制御の動作例を示している。この連続出力制御では、ピーク反射波電力が変動すると、ピーク進行波電力を制御することで平均進行波電力を制御している。
 例えば、ピーク反射波電力Pが増加すると(図20(b)中の時点O)、ピーク進行波電力Pを減少させる制御を行い(図20(a)中の時点O)、ピーク進行波電力Pを減少させることによって、平均進行波電力を抑制する。
 また、ピーク反射波電力Pの増加が解消されると(図20(b)中の時点P)、ピーク進行波電力Pを増加させて元に戻す制御を行う(図20(a)中の時点P)。
 この連続出力制御では、ピーク進行波電力が変動するため、ピーク進行波電力の負荷への供給が変動し、負荷でのプラズマ密度が変動して不安定となるおそれがある。
 これに対して、本発明の制御によれば、ピーク進行波電力を一定の維持したまま平均進行波電力を制御することができ、ピーク進行波電力が変動することによる不安定動作を回避することができる。
  [第5の態様:連続進行波電力制御モードにデューティー制御を適用してピーク進行波電力を増加させる場合の構成および制御](図21~図24)
 次に、本発明の第5の態様として、連続進行波電力制御モードにデューティー制御を適用してピーク進行波電力を増加させる場合の構成および制御動作について図21~図24を用いて説明する。
 負荷側のチャンバーでプラズマを生成する際、プラズマ生成のプロセスを開始するときに、プラズマが着火する前に反射波電力が増加する傾向がある。従来の制御方法では、この反射波電力の増加に対して進行波電力を垂下させることによって、高周波出力電源側への影響を低減している。しかしながら、このように進行波電力を垂下させる制御では、チャンバー内の電圧状態がプラズマ着火電圧よりも低下すると、プラズマが着火しなくなるという問題がある。
 本態様は、前記した態様と同様に、連続進行波電力制御モードにおいてデューティー制御を適用することによって、ピーク反射波電力が増加した場合であっても、従来の制御のようにピーク進行波電力を変えることなく平均反射波電力を抑制して、安定して電力を負荷に供給する。
 この態様と前記態様との相違は、前記態様が一定のピーク進行波電力を供給する通常状態での電力供給に係わるものであるのに対して、本態様はプロセス開始時等のピーク進行波電力を漸次増加させる電力供給に係わるものである。
 図21は、連続進行波電力制御モードにデューティー制御を適用してピーク進行波電力を増加させる場合の構成例を示す図であり、図17に示した前記態様の構成例と同様とすることができる。
 図21において、パルス変調高周波電源装置1Eの構成は、ピーク進行波電力の振幅を制御するピーク進行波電力制御部2Eと、パルス出力のデューティー比を制御する平均進行波電力制御部3Eと、パルス出力の高周波出力を出力する高周波出力部4Eと、平均処理部7Eとを備え、さらに、平均進行波電力制御部3Eが行うデューティー制御のデューティー比を制御するデューティー制御部8Eを備える。
 また、高周波出力部4Eは、高周波出力回路4d0と、ピーク進行波電力を検出する進行波電力検出部4d2と、ピーク反射波電力を検出する反射波電力検出部4d3と、ピーク進行波電力とピーク反射波電力とを分離して取り出す方向性結合器4d1を備える。
 平均処理部7Eは、進行波電力検出部4d2で検出したピーク進行波電力から平均進行波電力を求め、求めた平均進行波電力を平均進行波電力制御部3Eにフィードバックする。
 方向性結合器4d1はピーク進行波電力とピーク反射波電力とを分離し、ピーク進行波電力を進行波電力検出部4d2に入力し、ピーク反射波電力を反射波電力検出部4d3に入力する。
 進行波電力検出部4d2は、検出したピーク進行波電力値をピーク進行波電力制御部2Eに送ると共に、検出したピーク進行波電力値を平均処理部7Eに送る。平均処理部7Eは求めた平均進行波電力を平均進行波電力制御部3Eに送る。また、反射波電力検出部4d3は検出したピーク反射波電力値をデューティー制御部8Eに送り、デューティー制御部8Eは、プロセススタート時において、反射波電力の変動に応じて平均進行波電力制御部3Eで行うデューティー制御のデューティー比を変更する。
 平均進行波電力制御部3Eは、平均処理部7Eからの平均進行波電力値をフィードバック値として平均進行波電力指令値と比較し、平均進行波電力値が平均進行波電力指令値となるようにデューティー制御を行う。
 平均進行波電力制御部3Eは、プロセススタート時および通常状態において、デューティー比(ONデューティーDon)を100%として連続出力制御を開始し、デューティー制御部8Eから送られた制御信号によってデューティー制御を調整して、連続出力制御とパルス出力制御とを切り換える。ここで、連続出力制御は、デューティー制御においてデューティー比(ONデューティーDon)を100%とする制御形態であり、パルス出力制御は、デューティー制御においてデューティー比(ONデューティーDon)を100%より小さな値で行う制御形態である。
 このデューティー制御の調整は、例えば、ピーク反射波電力が増加した場合に、デューティー比(ONデューティーDon)を100%から100%よりも小さな所定値に切り換えることによって連続出力制御からパルス出力制御に切り換えることによって、平均反射波電力を抑制して電源を保護する。このデューティー制御の調整において、ピーク進行波電力Pは一定に制御されているため、整合回路の整合動作は安定となり、チャンバーへの電力注入は安定する。
 図22,23,24は、連続進行波電力制御モードにおいて、プロセススタート時にピーク反射波電力の増加による進行波電力の制御動作例を説明するためのフローチャートおよび信号図である。
 平均進行波電力制御部3Eは、プロセス開始時および通常状態において、連続出力制御によって平均進行波電力が平均進行波電力指令値となるように制御する。また、ピーク進行波電力制御部2Eにおいて、プロセス開始時では零から定常電力値まで所定の増加率で増加させ、通常状態では定常電力値となるピーク進行波電力指令に基づいてプロセスを開始させる(S51)。
 このプロセス開始時において、平均進行波電力制御部3Eは、デューティー比(ONデューティーDon)を100%とし、連続進行波電力制御モードで制御する(S52)。
 この連続進行波電力制御モードにおいて、デューティー制御部8Eは反射波電力検出部4d3で検出したピーク反射波電力をモニタする。デューティー制御部8Eは、ピーク反射波電力の増加を検出すると(S53)、デューティー比(ONデューティーDon)を100%の連続出力からデューティー比(ONデューティーDon)が100%よりも小さいパルス出力に切り換える。これによって、ピーク進行波電力Pの出力を安定させた状態で、平均反射波電力を抑制することができる(S54)。
 デューティー制御部8Dは、着火または許容ピーク反射波電力を検出すると(S55)、デューティー比(ONデューティーDon)を100%に戻してパルス出力から連続出力に切り換えて、連続出力による連続進行波電力制御モードに戻す(S56)。着火の検出は、例えば、反射波電力の変動を検出することで行うことができる。
 図23に示す信号図は、プロセススタート時における連続出力とパルス出力との切換を示している。
 図23(a)はピーク反射波電力Pおよび平均反射波電力PRAVを示し、図23(b)はデューティー比(ONデューティーDon)を示し、図23(c)はピーク進行波電力Pおよび平均進行波電力PFAVを示している。
 連続進行波電力制御モードにおいて、デューティー比(ONデューティーDon)を100%として連続出力を行い、プロセススタート時にピーク進行波電力を零から所定の設定ピーク進行波電力値に向かって増加させる(図23(c)のQ)。このプロセススタート時に、ピーク反射波電力P(図23(a)中の実線で示す)が増加すると平均反射波電力PRAV(図23(a)中の破線で示す)も増加する(図23(a)中の時点R)。
 デューティー制御部8Eは、ピーク反射波電力Pの増加を検出するとONデューティーDonを100%から下げる(図23(b)中の時点R)。ONデューティーDonを下げることにより、平均進行波電力PFAVの増加を抑制し(図23(c)中の期間R-S)、平均反射波電力PRAVの増加を抑制する(図23(a)中の期間R-S)。
 その後、ピーク反射波電力Pの増加が解消されて元に戻ると、デューティー制御部8Eは、ピーク反射波電力Pの減少を検出してONデューティーDonを100%に戻す(図23(b)中の時点S)。ONデューティーDonを100%として連続制御を再開することにより、平均進行波電力PFAVは通常状態となる(図23(c)中の時点S)。
 本発明の制御態様によれば、プロセススタート時においてデューティーDonを100%として連続出力制御を行い、ピーク反射波電力が増加したときにONデューティーDonを100%よりも小さくしてパルス出力制御を行うことによって、平均進行波電力を低下させて平均反射波電力を抑制する。
 図24は、従来の連続出力制御の動作例を示している。この連続出力制御では、プロセススタート時にピーク反射波電力が変動すると、ピーク進行波電力を制御することで平均進行波電力を制御している。
 例えば、ピーク反射波電力Pが増加すると(図24(b)中の時点T)、ピーク進行波電力Pを減少させる制御を行い(図24(a)中の時点T)、ピーク進行波電力Pを減少させることによって、平均進行波電力を抑制する。
 この連続出力制御では、ピーク進行波電力が変動するため、ピーク進行波電力の負荷への供給が変動し、負荷でのプラズマ密度が変動して不安定となるおそれがある。
 これに対して、本発明の制御によれば、ピーク進行波電力を一定の維持したまま平均進行波電力を制御することができ、ピーク進行波電力が変動することによる不安定動作を回避することができる。
  [第6の態様:のデューティー制御においてピーク進行波電力を増加させる場合の構成および制御] 
 次に、本発明の第6の態様として、デューティー制御においてピーク進行波電力を増加させる場合の構成および制御動作について図25、図26を用いて説明する。
 ここで示す態様は、前記した態様と同様にプロセススタート時の制御態様である。前記した態様は、連続進行波電力制御モードにおいてデューティー制御を適用し、ピーク反射波電力が増加したときにデューティー制御によって連続出力からパルス出力に切り換える制御態様であるのに対して、ここで示す態様は、進行波電力の制御において、ピーク進行波電力の振幅値を一定となるように制御すると共に、プロセススタートをパルス出力で開始してデューティー比(ONデューティーDon)を増加させ、定常状態ではデューティー比(ONデューティーDon)を100%として連続出力に切り換える制御態様である。
 この制御態様によれば、プロセススタート時にピーク反射波電力が増加した場合であっても、デューティー比(ONデューティーDon)が100%よりも小さい状態にあるため、従来の制御のようにピーク進行波電力を変えることなく平均反射波電力を抑制して、安定して電力を負荷に供給する。
 この形態の構成は、図21に示す第5の構成例と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
 図25,26は、連続進行波電力制御モードにおいて、プロセススタート時にデューティー制御においてピーク進行波電力を増加させる進行波電力の制御動作例を説明するためのフローチャートおよび信号図である。
 平均進行波電力制御部は、プロセススタート時においてデューティー制御によって平均進行波電力を増加させ、定常時においてデューティー制御によって所定の平均進行波電力となるように制御する。この制御は、平均進行波電力指令値とフィードバック値との比較に基づく制御で行うことができる。
 また、ピーク進行波電力の振幅値は、ピーク進行波電力制御部によって所定の大きさのピーク進行波電力指令値に基づいて定振幅制御される。
 プロセススタート時には(S61)、平均進行波電力制御部はデューティー比(ONデューティーDon)を零から順に100%まで増加させることによって平均進行波電力を増加させる(S62,S63)。この工程の間にプラズマの着火が行われる。この態様では、平均進行波電力が定常時の電力量に達するまでは、デューティー制御を行うことによって負荷に供給される平均進行波電力は抑制されているため、反射波電力も抑制される。
 図26に示す信号図は、プロセススタート時におけるデューティー制御を示している。図26(a)はデューティー比(ONデューティーDon)を示し、図26(b)はピーク進行波電力Pおよび平均進行波電力PFAVを示し、図26(c)はピーク反射波電力Pおよび平均反射波電力PRAVを示している。
 プロセススタート時に、デューティー比(ONデューティーDon)を0%から順に100%に増加させ(図26(a))、平均進行波電力を零から所定の設定平均進行波電力値に向かって増加させる(図26(c))。
 このプロセススタート時に、ピーク反射波電力P(図26(b)中の実線で示す)が増加すると平均反射波電力PRAV(図26(b)中の破線で示す)も増加する。
 プロセススタート時には、平均進行波電力PFAVが抑制されているため、反射波が発生した場合であっても、その平均反射波電力PRAVは抑制されているため、高周波出力電源に対する影響を抑制することができる。
 なお、本発明は前記各実施の形態に限定されるものではない。本発明の趣旨に基づいて種々変形することが可能であり、これらを本発明の範囲から排除するものではない。
 本発明のパルス変調高周波電力制御方法およびパルス変調高周波電源装置は、プラズマエッチング、プラズマCVDを行うプラズマ処理装置等の負荷に対する高周波電力の供給に適用することができる。

Claims (32)

  1.  負荷に供給する高周波電力を制御する高周波電力の制御方法において、
     前記高周波電力を時間的に断続出力させてパルス出力を高周波出力として出力し、
     前記パルス出力の振幅を制御する出力振幅制御工程と、
     前記パルス出力のデューティー比を制御するデューティー制御工程とを備え、
     前記出力振幅制御工程は、前記パルス出力の振幅値を制御して、振幅値が設定振幅値となるように定振幅制御を行い、
     前記デューティー制御工程は、前記パルス出力のデューティー比を制御して、当該デューティー比で定まる電力量が設定電力値となるように定電力制御を行い、
     前記出力振幅制御工程と前記デューティー制御工程とをそれぞれ独立に行って高周波電力をパルス変調することを特徴とする、パルス変調高周波電力制御方法。
  2.  前記出力振幅制御工程および前記デューティー制御工程は、負荷に供給する電力、電圧、および電流の何れか一つをパルス出力の制御対象とすることを特徴とする、請求項1に記載のパルス変調高周波電力制御方法。
  3.  前記デューティー制御工程は、デューティー比の制御によってオフ時間を零とし、パルス出力を連続出力とする工程を含むことを特徴とする、請求項1又は2に記載のパルス変調高周波電力制御方法。
  4.  前記パルス出力の制御対象をピーク進行波電力とし、
     前記出力振幅制御工程は、ピーク進行波電力の振幅値が設定振幅値となるように定振幅制御を行い、
     前記デューティー制御工程は、デューティー比で定まるピーク進行波電力の平均電力値が設定電力値となるように定電力制御を行い、
     ピーク進行波電力を制御することを特徴とする、請求項1から3の何れか一つに記載のパルス変調高周波電力制御方法。
  5.  前記デューティー制御工程は、
     パルス出力の一周期内におけるオン時間とオフ時間とで定まるデューティー比においてオン時間を100%未満とし、前記ピーク進行波電力の平均電力値が当該ピーク進行波電力の振幅値よりも小さくなるように制御して、パルス出力を不連続出力とするパルス出力制御と、
     パルス出力の一周期内におけるオン時間とオフ時間とで定まるデューティー比においてオフ時間を0%としオン時間を100%とし、パルス出力を連続出力とする連続出力制御とを含むことを特徴とする、請求項4に記載のパルス変調高周波電力制御方法。
  6.  前記出力振幅制御工程におけるパルス出力の制御対象をピーク進行波電力とし、
     前記デューティー制御工程におけるパルス出力の制御対象を平均ロード電力とし、
     前記出力振幅制御工程は、前記ピーク進行波電力の振幅値が一定となるように定振幅制御を行い、
     前記デューティー制御工程は、デューティー比で定まるピーク進行波電力とピーク反射波電力から求められるピークロード電力の平均電力値が設定電力値となるように定電力制御を行って平均ロード電力を制御することを特徴とする、請求項1から3の何れか一つに記載のパルス変調高周波電力制御方法。
  7.  前記デューティー制御工程は、
     前記出力振幅制御工程の定電力制御で得られたフィードバック値に基づいて、パルス出力のデューティー比を増減することを特徴とする、請求項1から6の何れか一つに記載のパルス変調高周波電力制御方法。
  8.  前記パルス出力の制御対象をピーク進行波電力とするピーク進行波電力制御において
     前記デューティー制御工程は、ピーク反射波電力値をフィードバックし、当該ピーク反射波電力の増加時に前記デューティー比のオン時間比率を小さくして平均反射波電力の増加を抑制することを特徴とする、請求項4に記載のパルス変調高周波電力制御方法。
  9.  前記パルス出力の制御対象をピーク進行波電力および平均ロード電力とするロード電力制御において、
     前記デューティー制御工程は、
     ピーク反射波電力値をフィードバックし、
     当該ピーク反射波電力の増加時に、前記デューティー比のオン時間比率を大きくして平均ロード電力を一定に制御することを特徴とする、請求項6に記載のパルス変調高周波電力制御方法。
  10.  前記連続出力制御において、ピーク反射波電力の振幅値が過大であるとき、前記デューティー比のオン時間の比率を100パーセントから小さくして、連続出力制御からパルス出力制御に切り換えることにより、平均反射波電力の増加を抑制することを特徴とする、請求項3又は5に記載のパルス変調高周波電力制御方法。
  11.  前記連続出力制御によってピーク進行波電力を増加させる期間において、
     ピーク反射波電力の振幅値が過大であるとき、前記デューティー比のオン時間比率を100パーセントから小さくして、連続出力制御からパルス出力制御に切り換え、
     ピーク進行波電力が増加した後、前記デューティー比のオン時間比率を100パーセントに戻して、パルス出力制御から連続出力制御に切り換えることにより、ピーク進行波電力を増加させる期間での平均反射波電力の増加を抑制することを特徴とする、請求項3又は5に記載のパルス変調高周波電力制御方法。
  12.  前記デューティー制御によってピーク進行波電力を増加させる期間において、
     前記デューティー比のオン時間比率を漸次増加させることによって、平均反射波電力の増加を抑制することを特徴とする、請求項4に記載のパルス変調高周波電力制御方法。
  13.  前記デューティー制御において、オフ期間はパルス出力の電力値を零とし、オン期間はパルス出力の電力値を設定電力値とすることを特徴とする、請求項1から12の何れか一つに記載のパルス変調高周波電力制御方法。
  14.  前記デューティー制御において、オフ期間はパルス出力の電力値を零と設定電力値との幅間で定める所定電力値とし、オン期間はパルス出力の電力値を設定電力値とすることを特徴とする、請求項1から12の何れか一つに記載のパルス変調高周波電力制御方法。
  15.  前記デューティー制御において、周波数を一定とし、オン期間の時間幅とオフ期間の時間幅の時間幅の比率を制御することを特徴とする、請求項1から12の何れか一つに記載のパルス変調高周波電力制御方法。
  16.  前記デューティー制御において、オン期間の時間幅を一定としオフ期間の時間幅を変化させる、又は、オフ期間の時間幅を一定としオン期間の時間幅を変化させることによってパルス出力の周波数を制御することを特徴とする、請求項1から12の何れか一つに記載のパルス変調高周波電力制御方法。
  17.  負荷に高周波電力を供給する高周波電源装置において、
     パルス出力の高周波出力を出力する高周波出力部と、
     前記パルス出力の振幅を制御する出力振幅制御部と、
     前記パルス出力のデューティー比を制御するデューティー制御部とを備え、
     前記出力振幅制御部は、前記パルス出力の振幅値を制御して、振幅値が設定振幅値となるように定振幅制御を行い、
     前記デューティー制御部は、前記パルス出力のデューティー比を制御して、当該デューティー比で定まる電力量が設定電力値となるように定電力制御を行い、
     前記出力振幅制御部と前記デューティー制御部は、高周波出力部をそれぞれ独立に制御して高周波電力をパルス変調することを特徴とする、パルス変調高周波電源装置。
  18.  前記出力振幅制御部および前記デューティー制御部は、負荷に供給する電力、電圧、および電流の何れか一つをパルス出力の制御対象とすることを特徴とする、請求項17に記載のパルス変調高周波電源装置。
  19.  前記デューティー制御部は、デューティー比の制御によってオフ時間を零とし、パルス出力を連続出力とすることを特徴とする、請求項17又は18に記載のパルス変調高周波電源装置。
  20.  前記パルス出力の制御対象をピーク進行波電力とし、
     前記出力振幅制御部は、ピーク進行波電力の振幅値が設定振幅値となるように定振幅制御を行い、
     前記デューティー制御部は、デューティー比で定まるピーク進行波電力の平均電力値が設定電力値となるように定電力制御を行い、ピーク進行波電力を制御することを特徴とする、請求項17から19の何れか一つに記載のパルス変調高周波電源装置。
  21.  前記デューティー制御部は、
     パルス出力の一周期内におけるオン時間とオフ時間とで定まるデューティー比においてオン時間を100%未満とし、前記ピーク進行波電力の平均電力値が当該ピーク進行波電力の振幅値よりも小さくなるように制御して、パルス出力を不連続出力とするパルス出力制御と、
     パルス出力の一周期内におけるオン時間とオフ時間とで定まるデューティー比においてオフ時間を0%としオン時間を100%とし、パルス出力を連続出力とする連続出力制御の制御を切換可能であることを特徴とする、請求項20に記載のパルス変調高周波電源装置。
  22.  前記出力振幅制御部におけるパルス出力の制御対象をピーク進行波電力とし、
     前記デューティー制御部におけるパルス出力の制御対象を平均ロード電力とし、
     前記出力振幅制御部は、前記ピーク進行波電力の振幅値が一定となるように定振幅制御を行い、
     前記デューティー制御部は、デューティー比で定まるピーク進行波電力とピーク反射波電力から求められるピークロード電力の平均電力値が設定電力値となるように定電力制御を行って平均ロード電力を制御することを特徴とする、請求項17から19の何れか一つに記載のパルス変調高周波電源装置。
  23.  前記デューティー制御部は、
     パルス出力のフィードバック値に基づいて、前記定電力制御で得られたデューティー比を増減することを特徴とする、請求項17から22の何れか一つに記載のパルス変調高周波電源装置。
  24.  前記パルス出力の制御対象をピーク進行波電力とするピーク進行波電力制御において
     前記デューティー制御は、反射波電力値をフィードバックし、当該反射波電力の増加時に前記デューティー比のオン時間比率を小さくして平均反射波電力の増加を抑制することを特徴とする、請求項20に記載のパルス変調高周波電源装置。
  25.  前記パルス出力の制御対象をピーク進行波電力および平均ロード電力とするロード電力制御において、
     前記デューティー制御は、
     ピーク反射波電力値をフィードバックし、
     当該ピーク反射波電力の増加時に、前記デューティー比のオン時間比率を大きくして平均ロード電力を一定に制御することを特徴とする、請求項22に記載のパルス変調高周波電源装置。
  26.  前記デューティー制御は、
     前記連続出力制御において、反射波電力の振幅値が過大であるとき、前記デューティー比のオン時間の比率を100パーセントから小さくして、連続出力制御からパルス出力制御に切り換えることにより、平均反射波電力の増加を抑制することを特徴とする、請求項19又は21に記載のパルス変調高周波電源装置。
  27.  前記デューティー制御は、
     前記連続出力制御によってピーク進行波電力を増加させる期間において、
     反射波電力の振幅値が過大であるとき、前記デューティー比のオン時間比率を100パーセントから小さくして、連続出力制御からパルス出力制御に切り換え、
     ピーク進行波電力が増加した後、前記デューティー比のオン時間比率を100パーセントに戻して、パルス出力制御から連続出力制御に切り換えることにより、ピーク進行波電力を増加させる期間での平均反射波電力の増加を抑制することを特徴とする、請求項19又は21に記載のパルス変調高周波電源装置。
  28.  前記デューティー制御は、
     ピーク進行波電力を増加させる期間において、
     前記デューティー比のオン時間比率を漸次増加させることによって、平均反射波電力の増加を抑制することを特徴とする、請求項20に記載のパルス変調高周波電源装置。
  29.  前記デューティー制御は、
     オフ期間はパルス出力の電力値を零とし、オン期間はパルス出力の電力値を設定電力値とすることを特徴とする、請求項17から28の何れか一つに記載のパルス変調高周波電源装置。
  30.  前記デューティー制御は、
     オフ期間はパルス出力の電力値を零と設定電力値との幅間で定める所定電力値とし、オン期間はパルス出力の電力値を設定電力値とすることを特徴とする、請求項17から28の何れか一つに記載のパルス変調高周波電源装置。
  31.  前記デューティー制御は、
     周波数を一定とし、オン期間の時間幅とオフ期間の時間幅の時間幅の比率を制御することを特徴とする、請求項17から28の何れか一つに記載のパルス変調高周波電源装置。
  32.  前記デューティー制御は、
     オン期間の時間幅を一定としオフ期間の時間幅を変化させる、又は、オフ期間の時間幅を一定としオン期間の時間幅を変化させることによってパルス出力の周波数を制御することを特徴とする、請求項17から28の何れか一つに記載のパルス変調高周波電源装置。
PCT/JP2010/053610 2009-08-07 2010-03-05 パルス変調高周波電力制御方法およびパルス変調高周波電源装置 WO2011016266A1 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020117023384A KR101322539B1 (ko) 2009-08-07 2010-03-05 펄스 변조 고주파 전력 제어 방법 및 펄스 변조 고주파 전원 장치
PL10806266T PL2416629T3 (pl) 2009-08-07 2010-03-05 Sposób sterowania impulsowego mocą o wysokiej częstotliwości oraz urządzenie w postaci zasilacza impulsowego o wysokiej częstotliwości
EP10806266.2A EP2416629B1 (en) 2009-08-07 2010-03-05 Pulse-modulated high-frequency power control method and pulse-modulated high-frequency power source device
CN201080026414.1A CN102474971B (zh) 2009-08-07 2010-03-05 脉冲调制高频功率控制方法以及脉冲调制高频电源装置
SG2011061983A SG175695A1 (en) 2009-08-07 2010-03-05 Pulse-modulated high-frequency power control method and pulse-modulated high-frequency power source device
JP2010533770A JP4932942B2 (ja) 2009-08-07 2010-03-05 パルス変調高周波電力制御方法およびパルス変調高周波電源装置

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009184411 2009-08-07
JP2009-184411 2009-08-07

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2011016266A1 true WO2011016266A1 (ja) 2011-02-10

Family

ID=43525307

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2010/053610 WO2011016266A1 (ja) 2009-08-07 2010-03-05 パルス変調高周波電力制御方法およびパルス変調高周波電源装置

Country Status (10)

Country Link
US (1) US8704607B2 (ja)
EP (1) EP2416629B1 (ja)
JP (1) JP4932942B2 (ja)
KR (1) KR101322539B1 (ja)
CN (1) CN102474971B (ja)
DE (1) DE102010015071B4 (ja)
PL (2) PL2416629T3 (ja)
SG (1) SG175695A1 (ja)
TW (1) TWI475802B (ja)
WO (1) WO2011016266A1 (ja)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013176040A (ja) * 2012-02-23 2013-09-05 Mks Instruments Inc 薄膜処理におけるパルスモードスキームのための高周波電力供給システム中の複数電源のフィードバック制御およびコヒーレンス性
JP2013214583A (ja) * 2012-04-02 2013-10-17 Hitachi High-Technologies Corp プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
WO2013190987A1 (ja) * 2012-06-18 2013-12-27 株式会社京三製作所 高周波電力供給装置、及び反射波電力制御方法
JP2015012686A (ja) * 2013-06-28 2015-01-19 株式会社ダイヘン 高周波電源装置
WO2015029937A1 (ja) * 2013-08-26 2015-03-05 株式会社日立国際電気 プラズマ生成用電源装置
JP2015090770A (ja) * 2013-11-05 2015-05-11 東京エレクトロン株式会社 プラズマ処理装置
KR20160046918A (ko) 2014-02-04 2016-04-29 가부시끼가이샤교산세이사꾸쇼 고주파 전원장치 및 플라즈마 착화방법
JP2017069542A (ja) * 2015-09-29 2017-04-06 株式会社日立ハイテクノロジーズ プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
JP2021057929A (ja) * 2019-09-26 2021-04-08 株式会社ダイヘン 高周波電源装置及び高周波電力の出力方法
US20210193438A1 (en) * 2019-12-18 2021-06-24 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for processing a substrate
US11417501B2 (en) 2015-09-29 2022-08-16 Hitachi High-Tech Corporation Plasma processing apparatus and plasma processing method

Families Citing this family (47)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8659335B2 (en) * 2009-06-25 2014-02-25 Mks Instruments, Inc. Method and system for controlling radio frequency power
RU2544867C2 (ru) * 2009-09-17 2015-03-20 Конинклейке Филипс Электроникс Н.В. Многоэлементная передающая радиочастотная цепь с локальным устройством автоматической настройки и согласования
TWI500066B (zh) * 2011-07-27 2015-09-11 Hitachi High Tech Corp Plasma processing device
WO2013028618A1 (en) * 2011-08-22 2013-02-28 Franklin Electric Company, Inc. Power conversion system
US9408288B2 (en) * 2012-09-14 2016-08-02 Lam Research Corporation Edge ramping
CN103730316B (zh) * 2012-10-16 2016-04-06 中微半导体设备(上海)有限公司 一种等离子处理方法及等离子处理装置
US8736377B2 (en) * 2012-10-30 2014-05-27 Mks Instruments, Inc. RF pulse edge shaping
EP2928270A4 (en) * 2012-11-30 2016-06-22 Imagineering Inc PLASMA GENERATION DEVICE
CN103943448B (zh) * 2013-01-17 2016-06-08 中微半导体设备(上海)有限公司 一种等离子处理装置的等离子处理方法
KR102168064B1 (ko) * 2013-02-20 2020-10-20 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 플라즈마 처리 장치 및 플라즈마 처리 방법
DE102013205936B4 (de) * 2013-04-04 2016-07-14 TRUMPF Hüttinger GmbH + Co. KG Verfahren zur Regelung einer Regelstrecke mit normierter Auswahlgröße
CN103281278B (zh) * 2013-04-24 2017-03-22 东莞宇龙通信科技有限公司 Lte通信发射系统、接收系统及通信终端
US9401263B2 (en) * 2013-09-19 2016-07-26 Globalfoundries Inc. Feature etching using varying supply of power pulses
JP5850581B2 (ja) 2013-11-29 2016-02-03 株式会社京三製作所 プラズマ未着火状態判別装置およびプラズマ未着火判別方法
DE102014212439A1 (de) * 2014-06-27 2015-12-31 TRUMPF Hüttinger GmbH + Co. KG Verfahren zum Betrieb eines Leistungsgenerators und Leistungsgenerator
JP6512962B2 (ja) * 2014-09-17 2019-05-15 東京エレクトロン株式会社 プラズマ処理装置
US9386680B2 (en) * 2014-09-25 2016-07-05 Applied Materials, Inc. Detecting plasma arcs by monitoring RF reflected power in a plasma processing chamber
JP6316735B2 (ja) * 2014-12-04 2018-04-25 東京エレクトロン株式会社 プラズマエッチング方法
JP6491888B2 (ja) * 2015-01-19 2019-03-27 株式会社日立ハイテクノロジーズ プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置
TWI559123B (zh) * 2015-04-15 2016-11-21 群光電能科技股份有限公司 脈衝間歇模式電源供應方法及脈衝間歇模式電源供應裝置
US9925888B2 (en) * 2016-03-02 2018-03-27 Ford Global Technologies, Llc Battery cell state of charge initialization in a presence of voltage measurement uncertainty
JP6157036B1 (ja) * 2016-07-08 2017-07-05 株式会社京三製作所 高周波電源装置、及び高周波電源装置の制御方法
WO2018061617A1 (ja) * 2016-09-28 2018-04-05 株式会社日立国際電気 高周波電源装置
WO2018105733A1 (ja) * 2016-12-09 2018-06-14 古河電気工業株式会社 パルスレーザ装置、加工装置及びパルスレーザ装置の制御方法
JP6858095B2 (ja) * 2017-08-18 2021-04-14 東京エレクトロン株式会社 マイクロ波出力装置及びプラズマ処理装置
KR20190037740A (ko) * 2017-09-29 2019-04-08 엘지전자 주식회사 해충 퇴치 장치 및 이동 단말기
US10555412B2 (en) 2018-05-10 2020-02-04 Applied Materials, Inc. Method of controlling ion energy distribution using a pulse generator with a current-return output stage
US11476145B2 (en) 2018-11-20 2022-10-18 Applied Materials, Inc. Automatic ESC bias compensation when using pulsed DC bias
US20200185196A1 (en) * 2018-12-07 2020-06-11 Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc. China Method and device for matching impedance of pulse radio frequency plasma
JP7451540B2 (ja) 2019-01-22 2024-03-18 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド パルス状電圧波形を制御するためのフィードバックループ
US11508554B2 (en) 2019-01-24 2022-11-22 Applied Materials, Inc. High voltage filter assembly
CN111327211B (zh) * 2020-02-14 2024-03-19 中国电子科技集团公司第十四研究所 一种用于脉冲负载的电源功率波动控制方法和系统
US11848176B2 (en) 2020-07-31 2023-12-19 Applied Materials, Inc. Plasma processing using pulsed-voltage and radio-frequency power
US11798790B2 (en) 2020-11-16 2023-10-24 Applied Materials, Inc. Apparatus and methods for controlling ion energy distribution
US11901157B2 (en) 2020-11-16 2024-02-13 Applied Materials, Inc. Apparatus and methods for controlling ion energy distribution
US11495470B1 (en) 2021-04-16 2022-11-08 Applied Materials, Inc. Method of enhancing etching selectivity using a pulsed plasma
US11791138B2 (en) 2021-05-12 2023-10-17 Applied Materials, Inc. Automatic electrostatic chuck bias compensation during plasma processing
US11948780B2 (en) 2021-05-12 2024-04-02 Applied Materials, Inc. Automatic electrostatic chuck bias compensation during plasma processing
US11967483B2 (en) 2021-06-02 2024-04-23 Applied Materials, Inc. Plasma excitation with ion energy control
US11984306B2 (en) 2021-06-09 2024-05-14 Applied Materials, Inc. Plasma chamber and chamber component cleaning methods
US11328902B1 (en) 2021-06-09 2022-05-10 XP Power Limited Radio frequency generator providing complex RF pulse pattern
US11810760B2 (en) 2021-06-16 2023-11-07 Applied Materials, Inc. Apparatus and method of ion current compensation
US11569066B2 (en) 2021-06-23 2023-01-31 Applied Materials, Inc. Pulsed voltage source for plasma processing applications
US11476090B1 (en) 2021-08-24 2022-10-18 Applied Materials, Inc. Voltage pulse time-domain multiplexing
US11694876B2 (en) 2021-12-08 2023-07-04 Applied Materials, Inc. Apparatus and method for delivering a plurality of waveform signals during plasma processing
CN114384962B (zh) * 2022-01-21 2023-06-30 长沙锐逸微电子有限公司 一种恒功率输出算法和控制芯片
US11972924B2 (en) 2022-06-08 2024-04-30 Applied Materials, Inc. Pulsed voltage source for plasma processing applications

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0465820B2 (ja) 1983-05-25 1992-10-21 Sumitomo Chemical Co
JPH07335560A (ja) * 1994-06-07 1995-12-22 Nec Corp アモルファスシリコン膜の形成方法及び薄膜トランジスタ素子
JP2001160549A (ja) * 1999-12-03 2001-06-12 Matsushita Electronics Industry Corp ドライエッチング方法
JP2002324698A (ja) * 2001-04-06 2002-11-08 Eni Technologies Inc パルス化インテリジェントrf変調コントローラ
JP2004006571A (ja) * 2002-04-26 2004-01-08 Hitachi High-Technologies Corp プラズマ処理方法及び装置
JP2007087908A (ja) 2005-09-26 2007-04-05 Daihen Corp 高周波電源装置および高周波電源の制御方法
JP2009111940A (ja) 2007-11-01 2009-05-21 Daihen Corp 高周波電源装置およびその制御方法

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4500563A (en) * 1982-12-15 1985-02-19 Pacific Western Systems, Inc. Independently variably controlled pulsed R.F. plasma chemical vapor processing
KR890004881B1 (ko) * 1983-10-19 1989-11-30 가부시기가이샤 히다찌세이사꾸쇼 플라즈마 처리 방법 및 그 장치
JP2931641B2 (ja) 1990-07-06 1999-08-09 東京エレクトロン株式会社 熱処理装置
JP3444013B2 (ja) * 1994-08-10 2003-09-08 日新電機株式会社 強誘電体膜形成方法及び装置
US5855745A (en) * 1997-04-23 1999-01-05 Sierra Applied Sciences, Inc. Plasma processing system utilizing combined anode/ ion source
US6280563B1 (en) * 1997-12-31 2001-08-28 Lam Research Corporation Plasma device including a powered non-magnetic metal member between a plasma AC excitation source and the plasma
US6255635B1 (en) * 1998-07-10 2001-07-03 Ameritherm, Inc. System and method for providing RF power to a load
US6589437B1 (en) * 1999-03-05 2003-07-08 Applied Materials, Inc. Active species control with time-modulated plasma
JP2001032077A (ja) * 1999-07-19 2001-02-06 Mitsubishi Heavy Ind Ltd プラズマcvd製膜方法
US6472822B1 (en) * 2000-04-28 2002-10-29 Applied Materials, Inc. Pulsed RF power delivery for plasma processing
JP2003173757A (ja) * 2001-12-04 2003-06-20 Nissin Electric Co Ltd イオンビーム照射装置
US6570777B1 (en) * 2001-12-06 2003-05-27 Eni Technology, Inc. Half sine wave resonant drive circuit
US6586887B1 (en) * 2002-03-06 2003-07-01 Hitachi High-Technologies Corporation High-frequency power supply apparatus for plasma generation apparatus
TW521541B (en) * 2002-03-07 2003-02-21 Hitachi High Tech Corp High-frequency power device for plasma generating apparatus
US6700090B2 (en) * 2002-04-26 2004-03-02 Hitachi High-Technologies Corporation Plasma processing method and plasma processing apparatus
JP4065820B2 (ja) 2003-08-28 2008-03-26 オリジン電気株式会社 スパッタリング装置
US7115185B1 (en) * 2003-09-16 2006-10-03 Advanced Energy Industries, Inc. Pulsed excitation of inductively coupled plasma sources
JP2007185845A (ja) * 2006-01-12 2007-07-26 Sumitomo Heavy Ind Ltd 可塑化装置及びその制御方法
KR100710509B1 (ko) * 2006-04-11 2007-04-25 남상욱 펄스면적변조를 이용한 고효율 선형 전력증폭기 시스템
JP5514413B2 (ja) * 2007-08-17 2014-06-04 東京エレクトロン株式会社 プラズマエッチング方法
JP4454037B2 (ja) * 2007-12-28 2010-04-21 富士夫 堀 造粒装置
JP2009301820A (ja) * 2008-06-12 2009-12-24 Nagano Japan Radio Co プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0465820B2 (ja) 1983-05-25 1992-10-21 Sumitomo Chemical Co
JPH07335560A (ja) * 1994-06-07 1995-12-22 Nec Corp アモルファスシリコン膜の形成方法及び薄膜トランジスタ素子
JP2001160549A (ja) * 1999-12-03 2001-06-12 Matsushita Electronics Industry Corp ドライエッチング方法
JP2002324698A (ja) * 2001-04-06 2002-11-08 Eni Technologies Inc パルス化インテリジェントrf変調コントローラ
JP2004006571A (ja) * 2002-04-26 2004-01-08 Hitachi High-Technologies Corp プラズマ処理方法及び装置
JP2007087908A (ja) 2005-09-26 2007-04-05 Daihen Corp 高周波電源装置および高周波電源の制御方法
JP2009111940A (ja) 2007-11-01 2009-05-21 Daihen Corp 高周波電源装置およびその制御方法

Cited By (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9509266B2 (en) 2012-02-23 2016-11-29 Mks Instruments, Inc. Feedback control and coherency of multiple power supplies in radio frequency power delivery systems for pulsed mode schemes in thin film processing
JP2013176040A (ja) * 2012-02-23 2013-09-05 Mks Instruments Inc 薄膜処理におけるパルスモードスキームのための高周波電力供給システム中の複数電源のフィードバック制御およびコヒーレンス性
KR102115424B1 (ko) * 2012-02-23 2020-05-26 엠케이에스 인스트루먼츠, 인코포레이티드 박막 공정에서의 펄스된 모드 방법들을 위한 무선 주파수 전력 전달 시스템들에서의 다중 전력 공급장치의 피드백 제어 및 간섭성
KR20180081682A (ko) * 2012-02-23 2018-07-17 엠케이에스 인스트루먼츠, 인코포레이티드 박막 공정에서의 펄스된 모드 방법들을 위한 무선 주파수 전력 전달 시스템들에서의 다중 전력 공급장치의 피드백 제어 및 간섭성
JP2013214583A (ja) * 2012-04-02 2013-10-17 Hitachi High-Technologies Corp プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
WO2013190987A1 (ja) * 2012-06-18 2013-12-27 株式会社京三製作所 高周波電力供給装置、及び反射波電力制御方法
JP2014002898A (ja) * 2012-06-18 2014-01-09 Kyosan Electric Mfg Co Ltd 高周波電力供給装置、及び反射波電力制御方法
KR101523484B1 (ko) * 2012-06-18 2015-05-27 가부시끼가이샤교산세이사꾸쇼 고주파 전력 공급 장치, 및 반사파 전력 제어방법
US9070537B2 (en) 2012-06-18 2015-06-30 Kyosan Electric Mfg. Co., Ltd. High-frequency power supply device and reflected wave power control method
JP2015012686A (ja) * 2013-06-28 2015-01-19 株式会社ダイヘン 高周波電源装置
WO2015029937A1 (ja) * 2013-08-26 2015-03-05 株式会社日立国際電気 プラズマ生成用電源装置
US9974154B2 (en) 2013-08-26 2018-05-15 Hitachi Kokusai Electric Inc. Power supply device and method for plasma generation
JP2015090770A (ja) * 2013-11-05 2015-05-11 東京エレクトロン株式会社 プラズマ処理装置
US9451687B2 (en) 2014-02-04 2016-09-20 Kyosan Electric Mfg. Co., Ltd. High-frequency power supply device, and plasma ignition method
KR20160046918A (ko) 2014-02-04 2016-04-29 가부시끼가이샤교산세이사꾸쇼 고주파 전원장치 및 플라즈마 착화방법
JP2017069542A (ja) * 2015-09-29 2017-04-06 株式会社日立ハイテクノロジーズ プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
US11417501B2 (en) 2015-09-29 2022-08-16 Hitachi High-Tech Corporation Plasma processing apparatus and plasma processing method
JP2021057929A (ja) * 2019-09-26 2021-04-08 株式会社ダイヘン 高周波電源装置及び高周波電力の出力方法
US11769651B2 (en) 2019-09-26 2023-09-26 Daihen Corporation High-frequency power supply device and output method of high-frequency power
JP7423233B2 (ja) 2019-09-26 2024-01-29 株式会社ダイヘン 高周波電源装置及び高周波電力の出力方法
US20210193438A1 (en) * 2019-12-18 2021-06-24 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for processing a substrate
US11482402B2 (en) * 2019-12-18 2022-10-25 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for processing a substrate

Also Published As

Publication number Publication date
EP2416629A4 (en) 2014-03-05
KR101322539B1 (ko) 2013-10-28
TWI475802B (zh) 2015-03-01
SG175695A1 (en) 2011-12-29
TW201114174A (en) 2011-04-16
US8704607B2 (en) 2014-04-22
EP2416629B1 (en) 2021-04-21
JP4932942B2 (ja) 2012-05-16
US20110032047A1 (en) 2011-02-10
PL2416629T3 (pl) 2021-11-02
DE102010015071B4 (de) 2020-04-30
DE102010015071A1 (de) 2011-03-03
CN102474971A (zh) 2012-05-23
CN102474971B (zh) 2015-03-04
PL391792A1 (pl) 2011-02-14
KR20120023603A (ko) 2012-03-13
JPWO2011016266A1 (ja) 2013-01-10
EP2416629A1 (en) 2012-02-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4932942B2 (ja) パルス変調高周波電力制御方法およびパルス変調高周波電源装置
WO2011013305A1 (ja) アーク溶接方法およびアーク溶接装置
JP5704772B1 (ja) 高周波電源装置およびプラズマ着火方法
JP4135417B2 (ja) レーザ電源装置及びレーザ装置
US9506958B2 (en) Waveform compensation systems and methods for secondary weld component response
US9531266B2 (en) Power supply circuitry and adaptive transient control
US10276351B1 (en) High-frequency power generator with enhanced pulse function
US20220254609A1 (en) Plasma generator, plasma treatment device, and method for providing electric power in a pulsed manner
JP2010255061A (ja) スパッタリング装置及びスパッタリング処理方法
CN108136530A (zh) 用于脉冲焊接的方法和设备
JP2006271089A (ja) 昇圧チョッパ装置及び昇圧チョッパ装置のスイッチング周波数制御方法
US10856373B2 (en) Power supply for electric arc gas heater
JP7189674B2 (ja) レーザ加工機およびその電源装置
US20230073768A1 (en) Method for controlling high-frequency power supply device, and high-frequency power supply device
WO2015166793A1 (ja) アーク溶接制御方法
JP2005185045A (ja) デジタル制御電源装置およびその制御方法
JP2008187795A (ja) 電力変換装置
KR102422520B1 (ko) 상압 플라즈마 발생용 전원장치의 고전력밀도 출력 제어장치와 방법
JP5824221B2 (ja) 消耗電極アーク溶接制御方法
JP6641806B2 (ja) 蓄電池用pcsの制御装置
JPS61168280A (ja) 出力安定化回路
JP2015115399A (ja) レーザ電源装置およびレーザ電源装置の制御方法
JP2023040450A (ja) アーク溶接方法
CN112735935A (zh) 多重电压控制方法及多重电压控制方式的高频电源装置
JP2009261052A (ja) 瞬低補償装置

Legal Events

Date Code Title Description
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 201080026414.1

Country of ref document: CN

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2010533770

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 10806266

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 3459/KOLNP/2011

Country of ref document: IN

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20117023384

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2010806266

Country of ref document: EP

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE