WO2010143548A1 - 色素増感光電変換素子およびその製造方法ならびに電子機器 - Google Patents

色素増感光電変換素子およびその製造方法ならびに電子機器 Download PDF

Info

Publication number
WO2010143548A1
WO2010143548A1 PCT/JP2010/059176 JP2010059176W WO2010143548A1 WO 2010143548 A1 WO2010143548 A1 WO 2010143548A1 JP 2010059176 W JP2010059176 W JP 2010059176W WO 2010143548 A1 WO2010143548 A1 WO 2010143548A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
dye
photoelectric conversion
semiconductor layer
conversion element
sensitized photoelectric
Prior art date
Application number
PCT/JP2010/059176
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
正樹 折橋
麗子 米屋
正浩 諸岡
裕介 一色
祐輔 鈴木
Original Assignee
ソニー株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ソニー株式会社 filed Critical ソニー株式会社
Priority to CN2010800022551A priority Critical patent/CN102113167A/zh
Priority to BRPI1004341A priority patent/BRPI1004341A2/pt
Priority to EP10786079A priority patent/EP2442401A1/en
Priority to US13/056,998 priority patent/US20110132461A1/en
Publication of WO2010143548A1 publication Critical patent/WO2010143548A1/ja

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES OR LIGHT-SENSITIVE DEVICES, OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G9/00Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
    • H01G9/20Light-sensitive devices
    • H01G9/2059Light-sensitive devices comprising an organic dye as the active light absorbing material, e.g. adsorbed on an electrode or dissolved in solution
    • H01G9/2063Light-sensitive devices comprising an organic dye as the active light absorbing material, e.g. adsorbed on an electrode or dissolved in solution comprising a mixture of two or more dyes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01MPROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
    • H01M14/00Electrochemical current or voltage generators not provided for in groups H01M6/00 - H01M12/00; Manufacture thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES OR LIGHT-SENSITIVE DEVICES, OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G9/00Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
    • H01G9/20Light-sensitive devices
    • H01G9/2004Light-sensitive devices characterised by the electrolyte, e.g. comprising an organic electrolyte
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES OR LIGHT-SENSITIVE DEVICES, OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G9/00Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
    • H01G9/20Light-sensitive devices
    • H01G9/2027Light-sensitive devices comprising an oxide semiconductor electrode
    • H01G9/2031Light-sensitive devices comprising an oxide semiconductor electrode comprising titanium oxide, e.g. TiO2
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K85/00Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/30Coordination compounds
    • H10K85/341Transition metal complexes, e.g. Ru(II)polypyridine complexes
    • H10K85/344Transition metal complexes, e.g. Ru(II)polypyridine complexes comprising ruthenium
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/542Dye sensitized solar cells

Definitions

  • the dye A is adsorbed to the semiconductor layer 3 by a carboxy group and a cyano group bonded to the same carbon, and adsorbed to the semiconductor layer 3 in a configuration different from Z907 adsorbed to the semiconductor layer 3 only by the carboxy group.
  • the configuration of the dye A adsorbed on the semiconductor layer 3 is The degree of freedom is reduced, and the effect of the presence of a plurality of functional groups bonded to the same carbon is hardly exhibited.
  • the excited electrons of the dye A are drawn out to the conduction band of the semiconductor layer 3.
  • One is a direct path 11 drawn directly from the excited state of the dye A to the conduction band of the semiconductor layer 3.
  • the other is an indirect path 12 in which electrons in the excited state of the dye A are first drawn to the excited state of Z907 having a low energy level, and then drawn to the conduction band of the semiconductor layer 3 from the excited state of Z907. .
  • the contribution of the indirect path 12 improves the photoelectric conversion efficiency of the dye A in a system in which Z907 coexists in addition to the dye A.
  • a photosensitizing dye As a photosensitizing dye, a mixed solvent obtained by mixing 23.8 mg of sufficiently purified Z907 and 2.5 mg of dye A in a volume ratio of 1: 1 with acetonitrile and tert-butanol (hereinafter referred to as acetonitrile and tert-butanol). The solution was dissolved in 50 ml to prepare a photosensitizing dye solution.

Abstract

 本発明は、光電変換効率が時間の経過とともに低下する問題を解消することができ、耐久性の大幅な向上を図ることができる色素増感光電変換素子およびその製造方法を提供する色素増感光電変換素子およびその製造方法ならびに電子機器に関する。 色素増感光電変換素子は、半導体層3と対極6との間に電解質層7が充填された構造を有する。半導体層3には光増感色素としてZ907および色素Aが互いに異なる立体配置で結合している。電解質層7には溶媒として3-メトキシプロピオニトリルが含まれている。

Description

色素増感光電変換素子およびその製造方法ならびに電子機器
 この発明は、色素増感光電変換素子およびその製造方法ならびに電子機器に関する。より詳細には、この発明は、耐久性が要求される色素増感太陽電池などに用いて好適な色素増感光電変換素子およびその製造方法ならびにこの色素増感光電変換素子を用いる電子機器に関するものである。
 太陽光を電気エネルギーに変換する光電変換素子である太陽電池は太陽光をエネルギー源としているため、地球環境に対する影響が極めて少なく、より一層の普及が期待されている。
 従来より、太陽電池としては、単結晶または多結晶のシリコンを用いた結晶シリコン系太陽電池および非晶質(アモルファス)シリコン系太陽電池が主に用いられている。
 一方、1991年にグレッツェルらが提案した色素増感太陽電池は、高い光電変換効率を得ることができ、しかも従来のシリコン系太陽電池とは異なり製造の際に大掛かりな装置を必要とせず、低コストで製造することができることなどにより注目されている(例えば、非特許文献1参照。)。
 この色素増感太陽電池の一般的な構造は、透明導電性基板上に形成した酸化チタンなどの多孔質半導体層に光増感色素を担持させた色素増感多孔質半導体層と、白金層などを基板上に形成して得られる対極とを対向させ、これらの外周部を封止材で封止し、両極間にヨウ素やヨウ化物イオンなどの酸化・還元種を含む電解質を充填したものである。
 近年、複数種の光増感色素を半導体層に保持させることにより光電変換効率の向上を図った色素増感光電変換素子が提案されている(例えば、特許文献1参照。)。そして、半導体層に保持させる複数種の光増感色素の具体例としては、N719および色素A、ブラックダイ(N749)および色素A、色素Bおよび色素Aなどの組み合わせが挙げられている。ここで、N719はビピリジン錯体の1種のシス-ビス(イソチオシアナト)ビス(2,2’-ビピリジル-4,4’-ジカルボン酸) ルテニウム(II)二テトラブチルアンモニウム錯体である。ブラックダイはターピリジン錯体の1種のトリス(イソチオシアナト)(2,2’:6’,2”-テルピリジル-4,4’,4”-トリカルボン酸)ルテニウム(II)三テトラブチルアンモニウム錯体である。色素Bは5-[[4-[4-(2,2-diphenylethenyl)phenyl]-1,2,3,3a,4,8b-hexahydrocyclopent[b]indol-7-yl]methylene]-2-(3-ethyl-4-oxo-2-thioxo-5-thiazolidinylidene)-4-oxo-3-Thiazolidineacetic acidである。色素Aは2-Cyano-3-[4-[4-(2,2-diphenylethenyl)phenyl]-1,2,3,3a,4,8b-hexahydrocyclopent[b]indol-7-yl]-2-propenoic acidである。特許文献1によれば、N719および色素Aを半導体層に保持させた場合には、N719だけを半導体層に保持させた場合に比べて高い光電変換効率が得られる。また、ブラックダイおよび色素Aを半導体層に担持させた場合には、ブラックダイだけを半導体層に保持させた場合に比べて高い光電変換効率が得られる。また、色素Bおよび色素Aを半導体層に保持させた場合には、色素Bだけを半導体層に保持させた場合に比べて高い光電変換効率が得られる。
Nature,353,p.737-740,1991
特開2007-234580号公報
 しかしながら、本発明者らの研究によれば、半導体層に保持させる複数種の光増感色素として、N719および色素A、ブラックダイおよび色素A、色素Bおよび色素Aの組み合わせなどを用いた色素増感光電変換素子は、耐久性が不十分である。より詳細には、この色素増感光電変換素子では、初期の光電変換効率は、それぞれN719だけ、ブラックダイだけ、色素Bだけを半導体層に保持させた場合に比べて高い光電変換効率が得られるものの、時間の経過とともに光電変換効率が低下してしまう。
 そこで、この発明が解決しようとする課題は、光電変換効率が時間の経過とともに低下する問題を解消することができ、耐久性の大幅な向上を図ることができる色素増感光電変換素子およびその製造方法を提供することである。
 この発明が解決しようとする他の課題は、上記のような色素増感光電変換素子を用いた優れた電子機器を提供することである。
 本発明者らは、複数種の色素を保持させた半導体層を用いた色素増感光電変換素子の耐久性の向上を図るべく鋭意研究を行った。その中で、本発明者らは、全く偶然に、光電変換効率が時間の経過とともにほとんど低下しない耐久性に優れた色素増感光電変換素子を得ることができる光増感色素の組み合わせ、および、この光増感色素の組み合わせに用いて最適な電解質層用溶媒を見出した。
 すなわち、上記課題を解決するために、この発明は、
 半導体層と対極との間に電解質層が充填された構造を有し、
 上記半導体層に光増感色素としてZ907および色素Aが結合しており、
 上記電解質層に溶媒として3-メトキシプロピオニトリルが含まれている色素増感光電変換素子である。
 また、この発明は、
 半導体層に光増感色素としてZ907および色素Aを結合させる工程と、
 上記半導体層と対極との間に電解質層が充填された構造を形成し、この際、上記電解質層に溶媒として3-メトキシプロピオニトリルを含ませる工程と
 を有する色素増感光電変換素子の製造方法である。
 また、この発明は、
 少なくとも一つの色素増感光電変換素子を有し、
 上記色素増感光電変換素子が、
 半導体層と対極との間に電解質層が充填された構造を有し、
 上記半導体層に光増感色素としてZ907および色素Aが結合しており、
 上記電解質層に溶媒として3-メトキシプロピオニトリルが含まれている色素増感光電変換素子である電子機器である。
 光増感色素であるZ907および色素Aは、典型的には、互いに異なる立体配置で半導体層に吸着により結合している。典型的には、Z907は半導体層に結合する官能基としてカルボキシ基(-COOH)を有し、色素Aは半導体層に結合する官能基として同一炭素に結合したカルボキシ基(-COOH)およびシアノ基(-CN)を有する。
 半導体層と対極との間に充填される電解質層は、典型的には、電解液またはゲル状もしくは固体状の電解質である。好適には、電解質層は、電解液とナノ粒子とからなるナノコンポジットゲルからなり、ナノ粒子は典型的にはTiO2またはSiO2からなるものが用いられるが、これに限定されるものではない。
 色素増感光電変換素子は、最も典型的には、色素増感太陽電池として構成される。ただし、色素増感光電変換素子は、色素増感太陽電池以外のもの、例えば色素増感光センサーなどであってもよい。
 電子機器は、基本的にはどのようなものであってもよく、携帯型のものと据え置き型のものとの双方を含むが、具体例を挙げると、携帯電話、モバイル機器、ロボット、パーソナルコンピュータ、車載機器、各種家庭電気製品などである。この場合、色素増感光電変換素子は、例えばこれらの電子機器の電源として用いられる色素増感太陽電池である。
 上述のように構成されたこの発明においては、半導体層に結合させる光増感色素としてZ907および色素Aを用い、電解質層に含ませる溶媒、言い換えれば電解質層の調製時に用いる溶媒として3-メトキシプロピオニトリルを用いることにより、色素増感光電変換素子の光電変換効率が時間の経過とともに低下するのを抑えることができる。
 この発明によれば、光電変換効率が時間の経過とともに低下するのを防止することができることにより、耐久性が高い色素増感光電変換素子を得ることができる。そして、この優れた色素増感光電変換素子を用いることにより、高性能の電子機器を実現することができる。
この発明の第1の実施の形態による色素増感光電変換素子を示す断面図である。 この発明の第1の実施の形態による色素増感光電変換素子において半導体層に光増感色素として結合させるZ907の構造式を示す略線図である。 Z907を単独で半導体層に結合させた色素増感光電変換素子のIPCEスペクトルの測定結果を示す略線図である。 この発明の第1の実施の形態による色素増感光電変換素子において半導体層に光増感色素として結合させる色素Aの構造式を示す略線図である。 色素Aを単独で半導体層に結合させた色素増感光電変換素子のIPCEスペクトルの測定結果を示す略線図である。 この発明の第1の実施の形態による色素増感光電変換素子の動作原理を説明するための略線図である。 この発明の第1の実施の形態による色素増感光電変換素子のIPCEスペクトルを測定した結果を比較例の測定結果とともに示す略線図である。 この発明の第1の実施の形態による色素増感光電変換素子の光電変換効率の経過時間による変化を測定した結果を比較例の測定結果とともに示す略線図である。
 以下、発明を実施するための形態(以下「実施の形態」とする)について説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
1.第1の実施の形態(色素増感光電変換素子およびその製造方法)
2.第2の実施の形態(色素増感光電変換素子およびその製造方法)
〈1.第1の実施の形態〉
[色素増感光電変換素子]
 図1は第1の実施の形態による色素増感光電変換素子を示す要部断面図である。
 図1に示すように、この色素増感光電変換素子においては、透明基板1の一主面に透明電極2が設けられ、この透明電極2上に半導体層(半導体電極)3が設けられている。この半導体層3には、後述のように、光増感色素としてZ907および色素Aが、互いに異なる立体配置で吸着している。一方、対向基板4の一主面に透明導電層5が設けられ、この透明導電層5上に対極6が設けられている。そして、透明基板1上の半導体層3と対向基板4上の対極6との間に電解質層7が充填され、これらの透明基板1および対向基板4の外周部が封止材(図示せず)で封止されている。
 半導体層3としては、典型的には、半導体微粒子を焼結させた多孔質膜が用いられ、光増感色素としてのZ907および色素Aはこの半導体微粒子の表面に吸着している。半導体微粒子の材料としては、シリコンに代表される元素半導体、化合物半導体、ペロブスカイト構造を有する半導体などを用いることができる。これらの半導体は、光励起下で伝導帯電子がキャリアとなり、アノード電流を生じるn型半導体であることが好ましい。具体的には、例えば、酸化チタン(TiO2)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化タングステン(WO3)、酸化ニオブ(Nb25)、チタン酸ストロンチウム(SrTiO3)、酸化スズ(SnO2)などの半導体が用いられる。これらの半導体の中でも、TiO2、取り分けアナターゼ型のTiO2を用いることが好ましい。ただし、半導体の種類はこれらに限定されるものではなく、必要に応じて、2種類以上の半導体を混合または複合化して用いることができる。また、半導体微粒子の形態は粒状、チューブ状、棒状などのいずれであってもよい。
 上記の半導体微粒子の粒径に特に制限はないが、一次粒子の平均粒径で1~200nmが好ましく、特に好ましくは5~100nmである。また、半導体微粒子よりも大きいサイズの粒子を混合し、この粒子で入射光を散乱させ、量子収率を向上させることも可能である。この場合、別途混合する粒子の平均サイズは20~500nmであることが好ましいが、これに限定されるものではない。
 半導体層3は、できるだけ多くの光増感色素を吸着することができるように、多孔質膜内部の空孔に面する微粒子表面も含めた実表面積の大きいものが好ましい。このため、半導体層3を透明電極2の上に形成した状態での実表面積は、半導体層3の外側表面の面積(投影面積)に対して10倍以上であることが好ましく、100倍以上であることがさらに好ましい。この比に特に上限はないが、通常1000倍程度である。
 一般に、半導体層3の厚さが増し、単位投影面積当たりに含まれる半導体微粒子の数が増加するほど、実表面積が増加し、単位投影面積に保持することができる光増感色素の量が増加するため、光吸収率が高くなる。一方、半導体層3の厚さが増加すると、光増感色素から半導体層3に移行した電子が透明電極2に達するまでに拡散する距離が増加するため、半導体層3内での電荷再結合による電子のロスも大きくなる。従って、半導体層3には好ましい厚さが存在するが、一般的には0.1~100μmであり、1~50μmであることがより好ましく、3~30μmであることが特に好ましい。
 半導体層3の表面には、光増感色素としてZ907および色素Aが、互いに異なる立体配置で吸着し、結合している。図2にZ907の構造式を示し、図3にZ907を単独で半導体層3の表面に吸着させたときのIPCE(Incident Photon-to-current Conversion Efficiency)スペクトルの測定結果を示す。また、図4に色素Aの構造式を示し、図5に色素Aを単独で半導体層3の表面に吸着させたときのIPCEスペクトルの測定結果を示す。図3および図5に示すように、Z907は広範囲の波長の光を吸収することができるが、短波長領域に吸光度が不足する領域があり、この短波長領域では、この短波長領域で大きな吸光度を有する色素Aが光吸収を補助する関係にある。すなわち、色素Aは、短波長領域では大きな吸光度を有する光増感色素として働いている。
 図2に示すように、Z907は、半導体層3と強く結合する官能基としてカルボキシ基(-COOH)を有し、このカルボキシ基が半導体層3と結合している。これに対し、図4に示すように、色素Aは、半導体層3と強く結合する官能基であるカルボキシ基(-COOH)と半導体層3と弱く結合する官能基であるシアノ基(-CN)とが同一炭素に結合している。そして、色素Aは、同一炭素に結合したこれらのカルボキシ基およびシアノ基が半導体層3と結合している。すなわち、色素Aは、同一炭素に結合しているカルボキシ基とシアノ基とによって半導体層3に吸着し、カルボキシ基のみによって半導体層3に吸着するZ907とは異なる立体配置で半導体層3に吸着する。ここで、もし仮に、色素Aの同一炭素に結合した複数個の官能基が、いずれも半導体層3に強く結合する官能基であると、半導体層3に吸着されたこの色素Aの立体配置は自由度が少なくなり、同一炭素に結合した複数個の官能基が存在する効果が発現しにくくなる。これに対し、色素Aでは、半導体層3に弱く結合するシアノ基が補助的に機能し、しかも、強く結合するカルボキシ基の、半導体層3への結合を妨げることがない。この結果、色素Aでは、カルボキシ基およびシアノ基が同一炭素に結合している効果が効果的に発現する。すなわち、色素AとZ907とは、半導体層3の表面上で互いに隣接していても、強い相互作用を及ぼし合うことなく共存することができるため、互いの光電変換性能を損なうことがない。一方、色素Aは、同じ半導体層3の表面に結合したZ907間に効果的に介在し、Z907の会合を抑制して、Z907間での無駄な電子移動を防止する。このため、光を吸収したZ907からは、励起された電子が無駄にZ907間で移動することなく、効率よく半導体層3に取り出されるため、Z907の光電変換効率が向上する。また、光を吸収した色素Aの励起電子は、強く結合するカルボキシ基から半導体層3へ取り出されるため、半導体層3への電荷移動が効率よく行われる。
 電解質層7を構成する電解質としては、電解液またはゲル状もしくは固体状の電解質を用いることができる。電解液としては、酸化還元系(レドックス対)を含む溶液が挙げられ、具体的には、ヨウ素I2と金属または有機物のヨウ化物塩との組み合わせや、臭素Br2と金属または有機物の臭化物塩との組み合わせなどが用いられる。金属塩を構成するカチオンは、リチウムLi+、ナトリウムNa+、カリウムK+、セシウムCs+、マグネシウムMg2+、カルシウムCa2+などである。また、有機物塩を構成するカチオンとしては、テトラアルキルアンモニウムイオン類、ピリジニウムイオン類、イミダゾリウムイオン類、第4級アンモニウムイオン類などが好適なものであり、これらを単独に、あるいは2種類以上を混合して用いることができる。
 電解質層7を構成する電解質としては、上記のほかに、フェロシアン酸塩とフェリシアン酸塩との組み合わせや、フェロセンとフェリシニウムイオンとの組み合わせなどの金属錯体、ポリ硫化ナトリウム、アルキルチオールとアルキルジスルフィドとの組み合わせなどのイオウ化合物、ビオロゲン色素、ヒドロキノンとキノンとの組み合わせなどを用いることもできる。
 電解質層7を構成する電解質としては、上記の中でも特に、ヨウ素I2と、ヨウ化リチウムLiI、ヨウ化ナトリウムNaI、イミダゾリウムヨーダイドなどの第4級アンモニウム化合物とを組み合わせた電解質が好適なものである。電解質塩の濃度は溶媒に対して0.05M~10Mが好ましく、さらに好ましくは0.2M~3Mである。ヨウ素I2または臭素Br2の濃度は0.0005M~1Mが好ましく、さらに好ましくは0.001~0.5Mである。また、開放電圧や短絡電流を向上させる目的で4-tert-ブチルピリジンやベンズイミダゾリウム類などの各種添加剤を加えることもできる。
 電解液を構成する溶媒としては、一般的には、水、アルコール類、エーテル類、エステル類、炭酸エステル類、ラクトン類、カルボン酸エステル類、リン酸トリエステル類、複素環化合物類、ニトリル類、ケトン類、アミド類、ニトロメタン、ハロゲン化炭化水素、ジメチルスルホキシド、スルフォラン、N-メチルピロリドン、1,3-ジメチルイミダゾリジノン、3-メチルオキサゾリジノン、炭化水素などが用いられるのに対し、この色素増感光電変換素子においては、特に、3-メトキシプロピオニトリル(MPN)が用いられる。後述のように、この電解液を構成する溶媒として3-メトキシプロピオニトリルを用いることにより、半導体層3に光増感色素としてZ907および色素Aを結合させたこの色素増感光電変換素子の耐久性の向上を図ることができる。
 色素増感光電変換素子からの電解液の漏液や、電解液を構成する溶媒の揮発を減少させる目的で、電解質構成物にゲル化剤、ポリマー、または架橋モノマーなどを溶解または分散させて混合し、ゲル状電解質として用いることも可能である。ゲル化材料と電解質構成物の比率は、電解質構成物が多ければイオン導電率は高くなるが、機械的強度は低下し、逆に、電解質構成物が少なすぎると機械的強度は大きいが、イオン導電率は低下するため、電解質構成物はゲル状電解質の50wt%~99wt%であるのが好ましく、80wt%~97wt%であるのがより好ましい。また、電解質と可塑剤とをポリマーと混合した後、可塑剤を揮発させて除去することで、全固体型の光増感型光電変換素子を実現することも可能である。
 透明基板1は、光が透過しやすい材質と形状のものであれば特に限定されるものではなく、種々の基板材料を用いることができるが、特に可視光の透過率が高い基板材料を用いることが好ましい。また、色素増感光電変換素子に外部から侵入しようとする水分やガスを阻止する遮断性能が高く、また、耐溶剤性や耐候性に優れている材料が好ましい。具体的には、透明基板1の材料としては、石英やガラスなどの透明無機材料や、ポリエチレンテレフタラート、ポリエチレンナフタラート、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリフェニレンスルフィド、ポリフッ化ビニリデン、アセチルセルロース、ブロム化フェノキシ、アラミド類、ポリイミド類、ポリスチレン類、ポリアリレート類、ポリスルホン類、ポリオレフィン類などの透明プラスチックが挙げられる。透明基板1の厚さは特に制限されず、光の透過率や、光電変換素子内外を遮断する性能を勘案して、適宜選択することができる。
 この透明基板1上に設けられる透明電極2としては透明導電層が用いられる。この透明導電層は、シート抵抗が小さいほど好ましく、具体的には500Ω/□以下であることが好ましく、100Ω/□以下であることがさらに好ましい。透明導電層を形成する材料としては公知の材料を用いることができ、必要に応じて選択される。この透明導電層を形成する材料は、具体的には、インジウム-スズ複合酸化物(ITO)、フッ素がドープされた酸化スズ(IV)SnO2(FTO)、酸化スズ(IV)SnO2、酸化亜鉛(II)ZnO、インジウム-亜鉛複合酸化物(IZO)などが挙げられる。ただし、透明導電層を形成する材料は、これらに限定されるものではなく、2種類以上を組み合わせて用いることもできる。
 対向基板4の材料としては、不透明なガラス、プラスチック、セラミック、金属などを用いてもよいし、透明材料、例えば透明なガラスやプラスチックなどを用いてもよい。
 透明導電層5としては、透明電極2に用いた透明導電層と同様なものを用いることができる。
 対極6の材料としては、導電性物質であれば任意のものを用いることができるが、絶縁性材料の電解質層5に面している側に導電層が形成されていれば、これも用いることが可能である。対極6の材料としては、電気化学的に安定な材料を用いることが好ましく、具体的には、白金、金、カーボン、および導電性ポリマーなどを用いることが望ましい。
 また、対極6での還元反応に対する触媒作用を向上させるために、電解質層7に接している対極6の表面には、微細構造が形成され、実表面積が増大するように形成されていることが好ましく、例えば、白金であれば白金黒の状態に、カーボンであれば多孔質カーボンの状態に形成されていることが好ましい。白金黒は、白金の陽極酸化法や塩化白金酸処理などによって、また多孔質カーボンは、カーボン微粒子の焼結や有機ポリマーの焼成などの方法によって形成することができる。
[色素増感光電変換素子の製造方法]
 次に、この色素増感光電変換素子の製造方法について説明する。
 まず、透明基板1の一主面にスパッタリング法などにより透明導電層を形成して透明電極2を形成する。
 次に、透明電極2上に半導体層3を形成する。この半導体層3の形成方法に特に制限はないが、物性、利便性、製造コストなどを考慮した場合、湿式製膜法を用いるのが好ましい。湿式製膜法では、半導体微粒子の粉末あるいはゾルを水などの溶媒に均一に分散させたペースト状の分散液を調製し、この分散液を透明基板1の透明電極2上に塗布または印刷する方法が好ましい。分散液の塗布方法または印刷方法に特に制限はなく、公知の方法を用いることができる。具体的には、塗布方法としては、例えば、ディップ法、スプレー法、ワイヤーバー法、スピンコート法、ローラーコート法、ブレードコート法、グラビアコート法などを用いることができる。また、印刷方法としては、凸版印刷法、オフセット印刷法、グラビア印刷法、凹版印刷法、ゴム版印刷法、スクリーン印刷法などを用いることができる。
 半導体微粒子の材料としてアナターゼ型TiO2を用いる場合、このアナターゼ型TiO2は、粉末状、ゾル状、またはスラリー状の市販品を用いてもよいし、酸化チタンアルコキシドを加水分解するなどの公知の方法によって所定の粒径のものを形成してもよい。市販の粉末を使用する際には粒子の二次凝集を解消することが好ましく、ペースト状分散液の調製時に、乳鉢やボールミルなどを使用して粒子の粉砕を行うことが好ましい。このとき、二次凝集が解消された粒子が再度凝集するのを防ぐために、アセチルアセトン、塩酸、硝酸、界面活性剤、およびキレート剤などをペースト状分散液に添加することができる。また、ペースト状分散液の粘性を増すために、ポリエチレンオキシドやポリビニルアルコールなどの高分子、あるいはセルロース系の増粘剤などの各種増粘剤をペースト状分散液に添加することもできる。
 半導体層3は、半導体微粒子を透明電極2上に塗布または印刷した後に、半導体微粒子同士を電気的に接続し、半導体層3の機械的強度を向上させ、透明電極2との密着性を向上させるために、焼成することが好ましい。焼成温度の範囲に特に制限はないが、温度を上げ過ぎると、透明電極2の電気抵抗が高くなり、さらには透明電極2が溶融することもあるため、通常は40~700℃が好ましく、40~650℃がより好ましい。また、焼成時間にも特に制限はないが、通常は10分~10時間程度である。
 焼成後、半導体微粒子の表面積を増加させたり、半導体微粒子間のネッキングを高めたりする目的で、例えば、四塩化チタン水溶液や直径10nm以下の酸化チタン超微粒子ゾルによるディップ処理を行ってもよい。透明電極2を支持する透明基板1としてプラスチック基板を用いる場合には、結着剤を含むペースト状分散液を用いて透明電極2上に半導体層3を製膜し、加熱プレスによって透明電極2に圧着することも可能である。
 次に、半導体層3が形成された透明基板1を、Z907および色素Aを所定の溶媒に溶解した光増感色素溶液中に浸漬することにより、半導体層3にZ907および色素Aを吸着させる。この場合、Z907のカルボキシ基が半導体層3に結合し、色素Aの同一炭素に結合したカルボキシ基およびシアノ基が半導体層3に結合する。
 一方、対向基板4上にスパッタリング法などにより透明導電層5および対極6を順次成する。
 次に、透明基板1と対向基板4とを半導体層3と対極6とが所定の間隔、例えば1~100μm、好ましくは1~50μmの間隔をおいて互いに対向するように配置する。そして、透明基板1および対向基板4の外周部に封止材(図示せず)を形成して電解質層7が封入される空間を作り、この空間に例えば透明基板1に予め形成された注液口(図示せず)から電解質層7を注入する。その後、この注液口を塞ぐ。
 以上により、目的とする色素増感光電変換素子が製造される。
[色素増感光電変換素子の動作]
 次に、この色素増感光電変換素子の動作について説明する。
 図6は、この色素増感光電変換素子の動作原理を説明するためのエネルギー図である。この色素増感光電変換素子は、光が入射すると、対極6を正極、透明電極2を負極とする電池として動作する。その原理は次の通りである。なお、ここでは、透明電極2の材料としてFTOを用い、半導体層3の材料としてTiO2を用い、レドックス対としてI-/I3 -の酸化還元種を用いることを想定しているが、これに限定されるものではない。
 透明基板1、透明電極2および半導体層3を透過してきた光子を半導体層3に結合した光増感色素、すなわちZ907および色素Aが吸収すると、これらのZ907および色素A中の電子が基底状態(HOMO)から励起状態(LUMO)へ励起される。この際、光増感色素がZ907および色素Aからなるため、光増感色素が単一の色素からなる従来の色素増感光電変換素子に比べて、より広い波長領域の光をより高い光吸収率で吸収することができる。
 励起状態の電子は、光増感色素、すなわちZ907および色素Aと半導体層3との間の電気的結合を介して、半導体層3の伝導帯に引き出され、半導体層3を通って透明電極2に到達する。この際、Z907および色素Aの最小励起エネルギー、言い換えるとHOMO-LUMOギャップが互いに十分異なり、しかもこれらのZ907および色素Aは半導体層3に異なる立体配置で結合するため、これらのZ907および色素Aの間で無駄な電子移動が起こりにくい。このため、これらのZ907および色素Aは互いの量子収率を低下させることがなく、これらのZ907および色素Aによる光電変換機能が発現し、電流の発生量が大きく向上する。また、この系では、色素Aの励起状態の電子が半導体層3の伝導帯に引き出される経路が二種類存在する。一つは、色素Aの励起状態から直接、半導体層3の伝導帯に引き出される直接経路11である。もう一つは、色素Aの励起状態の電子が、まず、エネルギー準位の低いZ907の励起状態へ引き出され、その後、Z907の励起状態から半導体層3の伝導帯に引き出される間接経路12である。この間接経路12の寄与によって、色素Aに加えてZ907が共存する系では色素Aの光電変換効率が向上する。
 一方、電子を失ったZ907および色素Aは、電解質層7中の還元剤、例えばI-から下記の反応によって電子を受け取り、電解質層7中に酸化剤、例えばI3 -(I2とI-との結合体)を生成する。
  2I-→ I2+ 2e-
  I2+ I-→ I3 -
 こうして生成された酸化剤は拡散によって対極6に到達し、上記の反応の逆反応によって対極6から電子を受け取り、もとの還元剤に還元される。
  I3 -→ I2 + I-
  I2+ 2e-→ 2I-
 透明電極2から外部回路へ送り出された電子は、外部回路で電気的仕事をした後、対極6に戻る。このようにして、光増感色素、すなわちZ907および色素Aにも電解質層7にも何の変化も残さず、光エネルギーが電気エネルギーに変換される。
〈実施例1〉
 半導体層3を形成する際の原料であるTiO2のペースト状分散液は、「色素増感太陽電池の最新技術」(荒川裕則監修,2001年,(株)シーエムシー)を参考にして作製した。すなわち、まず、室温で撹拌しながらチタンイソプロポキシド125mlを0.1Mの硝酸水溶液750mlに徐々に滴下した。滴下後、80℃の恒温槽に移し、8時間撹拌を続けたところ、白濁した半透明のゾル溶液が得られた。このゾル溶液を室温になるまで放冷し、ガラスフィルタでろ過した後、溶媒を加えて溶液の体積を700mlにした。得られたゾル溶液をオートクレーブへ移し、220℃で12時間水熱反応を行わせた後、1時間超音波処理して分散化処理を行った。次に、この溶液をエバポレータを用いて40℃で濃縮し、TiO2の含有量が20wt%になるように調製した。この濃縮ゾル溶液に、TiO2の質量の20%分のポリエチレングリコール(分子量50万)と、TiO2の質量の30%分の粒子直径200nmのアナターゼ型TiO2とを添加し、撹拌脱泡機で均一に混合し、粘性を増加させたTiO2のペースト状分散液を得た。
 上記のTiO2のペースト状分散液を、透明電極2であるFTO層の上にブレードコーティング法によって塗布し、大きさ5mm×5mm、厚さ200μmの微粒子層を形成した。その後、500℃に30分間保持して、TiO2微粒子をFTO層上に焼結した。焼結されたTiO2膜へ0.1Mの塩化チタン(IV)TiCl4水溶液を滴下し、室温下で15時間保持した後、洗浄し、再び500℃で30分間焼成を行った。この後、紫外光照射装置を用いてTiO2焼結体に紫外光を30分間照射し、このTiO2焼結体に含まれる有機物などの不純物をTiO2の光触媒作用によって酸化分解して除去し、TiO2焼結体の活性を高める処理を行い、半導体層3を得た。
 光増感色素として、十分に精製したZ907 23.8mgと、色素A 2.5mgとを、アセトニトリルとtert-ブタノールとを1:1の体積比で混合した混合溶媒(以下、アセトニトリルとtert-ブタノールとの混合溶媒と略称する。)50mlに溶解させ、光増感色素溶液を調製した。
 次に、半導体層3をこの光増感色素溶液に室温下で24時間浸漬し、TiO2微粒子表面に光増感色素を保持させた。次に、4-tert-ブチルピリジンのアセトニトリル溶液およびアセトニトリルを順に用いて半導体層3を洗浄した後、暗所で溶媒を蒸発させ、乾燥させた。
 対極6は、予め直径0.5mmの注液口が形成されたFTO層の上に厚さ50nmのクロム層および厚さ100nmの白金層を順次スパッタリング法によって積層し、その上に塩化白金酸のイソプロピルアルコール(2-プロパノール)溶液をスプレーコートし、385℃、15分間加熱することにより形成した。
 次に、透明基板1と対極基板4とをそれらの半導体層3と対極6とが対向するように配置し、外周を厚さ30μmのアイオノマー樹脂フィルムとアクリル系紫外線硬化樹脂とによって封止した。
 一方、3-メトキシプロピオニトリル(溶媒)2.0gに、ヨウ化ナトリウムNaI0.030g、1-プロピル-2,3-ジメチルイミダゾリウムヨーダイド 1.0g、ヨウ素I2 0.10g、そして4-tert-ブチルピリジン(TBP) 0.054gを溶解させ、電解液を調製した。
 この電解液を予め準備した色素増感光電変換素子の注液口から送液ポンプを用いて注入し、減圧することで素子内部の気泡を追い出した。こうして電解質層7が形成される。次に、注液口をアイオノマー樹脂フィルム、アクリル樹脂およびガラス基板で封止し、色素増感光電変換素子を完成した。
〈比較例1〉
 溶媒として3-メトキシプロピオニトリルの代わりにアセトニトリルを用いて電解液を調製した。その他は実施例1と同様にして色素増感光電変換素子を製造した。
〈比較例2〉
 半導体層3に結合する光増感色素として、Z907および色素Aの代わりにブラックダイ(BDと略記)および色素Aを用いた。その他は実施例1と同様にして色素増感光電変換素子を製造した。
〈比較例3〉
 半導体層3に結合する光増感色素として、Z907および色素Aの代わりにブラックダイ(BDと略記)および色素Aを用い、溶媒として3-メトキシプロピオニトリルの代わりにアセトニトリルを用いて電解液を調製した。その他は実施例1と同様にして色素増感光電変換素子を製造した。
〈色素増感光電変換素子の性能評価〉
 以上のようにして作製した実施例1の色素増感光電変換素子について、擬似太陽光(AM1.5、100mW/cm2)照射時における電流-電圧曲線における光電変換効率を測定した。その結果、半導体層3にZ907および色素Aを結合したこの色素増感光電変換素子の光電変換効率は7.3%であった。この光電変換効率の値は、半導体層3に単独で色素Aを結合した場合の光電変換効率4.3%、半導体層3に単独でZ907を結合した場合の光電変換効率6.6%に比べて高い。
 この色素増感光電変換素子の長期信頼性を短時間で確認するために、この色素増感光電変換素子を60℃の環境に長時間(960時間)保管し、加速劣化試験を行った。その結果を図7に示す。図7には比較例の色素増感光電変換素子について加速劣化試験を行った結果も示す。図7に示すように、電解質層7の溶媒としてアセトニトリルを用いた比較例の色素増感光電変換素子では、加速劣化試験後にIPCEが大幅に減少し、光電変換性能が大幅に低下している。これに対し、電解質層7の溶媒として3-メトキシプロピオニトリルを用いた実施例の色素増感光電変換素子では、加速劣化試験後でもIPCEはほとんど減少しておらず、光電変換性能はほとんど変化していない。
 実施例1および比較例1~3の色素増感光電変換素子を60℃の環境に保管して光電変換効率の経時変化を測定した。その結果を図8に示す。図8の縦軸は色素増感光電変換素子の電流-電圧測定から求めた光電変換効率を正規化したもの(正規化効率)である。図8に示すように、比較例1~3の色素増感光電変換素子では光電変換効率は時間の経過とともに大幅に減少するのに対し、実施例1の色素増感光電変換素子では光電変換効率は960時間経過後でもほとんど減少していない。これにより、実施例1の色素増感光電変換素子は耐久性が高く、長期信頼性に優れていることが分かる。
 以上のように、この第1の実施の形態によれば、半導体層3に結合する光増感色素としてZ907および色素Aを用い、電解質層7を調製する際の溶媒として3-メトキシプロピオニトリルを用いている。このため、時間の経過とともに光電変換効率がほとんど減少せず、耐久性が高く、長期信頼性に優れた色素増感光電変換素子を得ることができる。
〈2.第2の実施の形態〉
[色素増感光電変換素子]
 第2の実施の形態による色素増感光電変換素子においては、電解質層7として、3-メトキシプロピオニトリルを溶媒に用いた電解液とTiO2またはSiO2からなるナノ粒子とからなるナノコンポジットゲルを用いる。この色素増感光電変換素子のその他の構成は第1の実施の形態による色素増感光電変換素子と同様である。
[色素増感光電変換素子の製造方法]
 この色素増感光電変換素子の製造方法は、電解質層7を、3-メトキシプロピオニトリルを溶媒に用いた電解液とTiO2またはSiO2からなるナノ粒子とからなるナノコンポジットゲルにより形成することを除いて、第1の実施の形態による色素増感光電変換素子と同様である。
〈実施例2〉
 溶媒として3-メトキシプロピオニトリルを用い、実施例1と同様な電解質を添加して調製した電解液にSiO2からなるナノ粒子を約10%添加して混合することによりゲル化し、ナノコンポジットゲルを調製し、これを電解質層7に用いた。その他は実施例1と同様にして色素増感光電変換素子を製造した。
〈色素増感光電変換素子の性能評価〉
 以上のようにして作製した実施例2の色素増感光電変換素子について、擬似太陽光(AM1.5、100mW/cm2)照射時における電流-電圧曲線における光電変換効率を測定した。その結果、半導体層3にZ907および色素Aを結合したこの色素増感光電変換素子の光電変換効率は8.5%であった。この光電変換効率の値は、半導体層3に単独で色素Aを結合した場合の光電変換効率5.1%、半導体層3に単独でZ907を結合した場合の光電変換効率7.5%に比べて高い。
 第2の実施の形態によれば、第1の実施の形態と同様な利点を得ることができる。
 以上、この発明の実施の形態および実施例について具体的に説明したが、この発明は、上述の実施の形態および実施例に限定されるものではなく、この発明の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。
 例えば、上述の実施の形態および実施例において挙げた数値、構造、構成、形状、材料などはあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれらと異なる数値、構造、構成、形状、材料などを用いてもよい。
 1…透明基板、2…透明電極、3…半導体層、4…対極基板、5…透明導電層、6…対極、7…電解質層

Claims (14)

  1.  半導体層と対極との間に電解質層が充填された構造を有し、
     上記半導体層に光増感色素としてZ907および色素Aが結合しており、
     上記電解質層に溶媒として3-メトキシプロピオニトリルが含まれている色素増感光電変換素子。
  2.  上記Z907と上記色素Aとは互いに異なる立体配置で上記半導体層に結合している請求項1記載の色素増感光電変換素子。
  3.  上記Z907は上記半導体層に結合する官能基としてカルボキシ基を有する請求項2記載の色素増感光電変換素子。
  4.  上記色素Aは上記半導体層に結合する官能基として同一炭素に結合したカルボキシ基およびシアノ基を有する請求項3記載の色素増感光電変換素子。
  5.  上記半導体層はTiO2を含む請求項1記載の色素増感光電変換素子。
  6.  上記TiO2はアナターゼ型である請求項5記載の色素増感光電変換素子。
  7.  上記電解質層は電解液またはゲル状もしくは固体状の電解質からなる請求項1記載の色素増感光電変換素子。
  8.  上記電解質層は電解液とナノ粒子とからなるナノコンポジットゲルからなる請求項1記載の色素増感光電変換素子。
  9.  上記ナノ粒子はTiO2またはSiO2からなる請求項8記載の色素増感光電変換素子。
  10.  半導体層に光増感色素としてZ907および色素Aを結合させる工程と、
     上記半導体層と対極との間に電解質層が充填された構造を形成し、この際、上記電解質層に溶媒として3-メトキシプロピオニトリルを含ませる工程と
     を有する色素増感光電変換素子の製造方法。
  11.  上記Z907は上記半導体層に結合する官能基としてカルボキシ基を有する請求項10記載の色素増感光電変換素子の製造方法。
  12.  上記色素Aは上記半導体層に結合する官能基として同一炭素に結合したカルボキシ基およびシアノ基を有する請求項11記載の色素増感光電変換素子の製造方法。
  13.  上記半導体層はTiO2を含む請求項10記載の色素増感光電変換素子の製造方法。
  14.  少なくとも一つの色素増感光電変換素子を有し、
     上記色素増感光電変換素子が、
     半導体層と対極との間に電解質層が充填された構造を有し、
     上記半導体層に光増感色素としてZ907および色素Aが結合しており、
     上記電解質層に溶媒として3-メトキシプロピオニトリルが含まれている色素増感光電変換素子である電子機器。
PCT/JP2010/059176 2009-06-08 2010-05-31 色素増感光電変換素子およびその製造方法ならびに電子機器 WO2010143548A1 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2010800022551A CN102113167A (zh) 2009-06-08 2010-05-31 染料增感型光电转换器件及其制造方法以及电子设备
BRPI1004341A BRPI1004341A2 (pt) 2009-06-08 2010-05-31 elemento de conversão fotolétrica sensibilizado por corante, método para fabricar um elemento de conversão fotolétrica sensibilizado por corante, e, aparelho eletrônico
EP10786079A EP2442401A1 (en) 2009-06-08 2010-05-31 Dye-sensitized photoelectric converter, manufacturing method thereof, and electronic device
US13/056,998 US20110132461A1 (en) 2009-06-08 2010-05-31 Dye-sensitized photoelectric conversion element and method for manufacturing the same and electronic apparatus

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009137279A JP5428555B2 (ja) 2009-06-08 2009-06-08 色素増感光電変換素子の製造方法
JP2009-137279 2009-06-08

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2010143548A1 true WO2010143548A1 (ja) 2010-12-16

Family

ID=43308803

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2010/059176 WO2010143548A1 (ja) 2009-06-08 2010-05-31 色素増感光電変換素子およびその製造方法ならびに電子機器

Country Status (8)

Country Link
US (1) US20110132461A1 (ja)
EP (1) EP2442401A1 (ja)
JP (1) JP5428555B2 (ja)
KR (1) KR20120034586A (ja)
CN (1) CN102113167A (ja)
BR (1) BRPI1004341A2 (ja)
TW (1) TW201117455A (ja)
WO (1) WO2010143548A1 (ja)

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5007784B2 (ja) * 2006-01-30 2012-08-22 ソニー株式会社 光電変換装置
JP2007234580A (ja) * 2006-02-02 2007-09-13 Sony Corp 色素増感型光電変換装置
JP2007280906A (ja) * 2006-04-12 2007-10-25 Sony Corp 機能デバイス及びその製造方法
JP5023866B2 (ja) * 2007-07-27 2012-09-12 ソニー株式会社 色素増感光電変換素子およびその製造方法ならびに電子機器
JP2009099476A (ja) * 2007-10-19 2009-05-07 Sony Corp 色素増感光電変換素子およびその製造方法
JP2009110796A (ja) * 2007-10-30 2009-05-21 Sony Corp 色素増感光電変換素子モジュールおよびその製造方法ならびに電子機器
JP2009146625A (ja) * 2007-12-12 2009-07-02 Sony Corp 色素増感光電変換素子モジュールおよびその製造方法ならびに光電変換素子モジュールおよびその製造方法ならびに電子機器
JP2010003468A (ja) * 2008-06-19 2010-01-07 Sony Corp 色素増感太陽電池およびその製造方法
JP2010009769A (ja) * 2008-06-24 2010-01-14 Sony Corp 光電変換素子の製造方法
JP2010010191A (ja) * 2008-06-24 2010-01-14 Sony Corp 電子装置
JP2010092762A (ja) * 2008-10-09 2010-04-22 Sony Corp 機能性デバイス及びその製造方法
US20110048525A1 (en) * 2008-11-26 2011-03-03 Sony Corporation Functional device and method for producing the same
JP2011204662A (ja) * 2010-03-05 2011-10-13 Sony Corp 光電変換素子およびその製造方法ならびに電子機器
JP5621488B2 (ja) * 2010-03-17 2014-11-12 ソニー株式会社 光電変換装置
JP5655591B2 (ja) * 2011-01-26 2015-01-21 日本精工株式会社 光電変換素子
TWI450009B (zh) * 2011-05-30 2014-08-21 Asiatree Technology Co Ltd 電致變色裝置及其製程方法
US10944018B2 (en) * 2012-07-20 2021-03-09 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Semiconductor film and semiconductor element
WO2014165830A2 (en) * 2013-04-04 2014-10-09 The Regents Of The University Of California Electrochemical solar cells

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001141851A (ja) * 1999-11-18 2001-05-25 Minolta Co Ltd 透光性太陽電池付き電子機器
JP2007066704A (ja) * 2005-08-31 2007-03-15 Kyushu Institute Of Technology 電解質組成物および色素増感太陽電池
JP2007134273A (ja) * 2005-11-14 2007-05-31 Fujikura Ltd 対極及びその製造方法並びに光電変換素子及びその製造方法
JP2007234580A (ja) 2006-02-02 2007-09-13 Sony Corp 色素増感型光電変換装置

Family Cites Families (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4010170B2 (ja) * 2002-04-11 2007-11-21 ソニー株式会社 光電変換素子の製造方法
JP4221643B2 (ja) * 2002-05-27 2009-02-12 ソニー株式会社 光電変換装置
WO2005006482A1 (ja) * 2003-07-14 2005-01-20 Fujikura Ltd. 電解質組成物、これを用いた光電変換素子および色素増感太陽電池
ATE416488T1 (de) * 2003-08-08 2008-12-15 Max Planck Gesellschaft Nicht-wässriger elektrolyt und eine batterie, ein superkondensator, eine elektrochromische vorrichtung und eine solarzelle enthaltend einen solchen elektrolyt
JP4635473B2 (ja) * 2004-05-13 2011-02-23 ソニー株式会社 光電変換素子の製造方法及び半導体電極の製造方法
JP4635474B2 (ja) * 2004-05-14 2011-02-23 ソニー株式会社 光電変換素子、及びこれに用いる透明導電性基板
WO2006080384A1 (ja) * 2005-01-27 2006-08-03 Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha 修飾酸化チタン微粒子及びそれを用いた光電変換素子
JP5007784B2 (ja) * 2006-01-30 2012-08-22 ソニー株式会社 光電変換装置
JP2007280906A (ja) * 2006-04-12 2007-10-25 Sony Corp 機能デバイス及びその製造方法
JP5023866B2 (ja) * 2007-07-27 2012-09-12 ソニー株式会社 色素増感光電変換素子およびその製造方法ならびに電子機器
KR100929812B1 (ko) * 2007-08-02 2009-12-08 한국전자통신연구원 증가된 에너지 변환 효율을 갖는 태양전지 및 그 제조 방법
JP2009099476A (ja) * 2007-10-19 2009-05-07 Sony Corp 色素増感光電変換素子およびその製造方法
JP2009110796A (ja) * 2007-10-30 2009-05-21 Sony Corp 色素増感光電変換素子モジュールおよびその製造方法ならびに電子機器
JP2009146625A (ja) * 2007-12-12 2009-07-02 Sony Corp 色素増感光電変換素子モジュールおよびその製造方法ならびに光電変換素子モジュールおよびその製造方法ならびに電子機器
JP2010003468A (ja) * 2008-06-19 2010-01-07 Sony Corp 色素増感太陽電池およびその製造方法
JP2010009769A (ja) * 2008-06-24 2010-01-14 Sony Corp 光電変換素子の製造方法
JP2010010191A (ja) * 2008-06-24 2010-01-14 Sony Corp 電子装置
JP2010092762A (ja) * 2008-10-09 2010-04-22 Sony Corp 機能性デバイス及びその製造方法
US20110048525A1 (en) * 2008-11-26 2011-03-03 Sony Corporation Functional device and method for producing the same
JP2011204662A (ja) * 2010-03-05 2011-10-13 Sony Corp 光電変換素子およびその製造方法ならびに電子機器
JP5621488B2 (ja) * 2010-03-17 2014-11-12 ソニー株式会社 光電変換装置
JP2011216190A (ja) * 2010-03-31 2011-10-27 Sony Corp 光電変換装置及びその製造方法
JP2011216189A (ja) * 2010-03-31 2011-10-27 Sony Corp 光電変換装置及び光電変換装置モジュール
JP2011238472A (ja) * 2010-05-11 2011-11-24 Sony Corp 光電変換装置
JP2012004010A (ja) * 2010-06-18 2012-01-05 Sony Corp 光電変換素子およびその製造方法ならびに電子機器
JP2012014849A (ja) * 2010-06-29 2012-01-19 Sony Corp 光電変換素子およびその製造方法ならびに光電変換素子モジュールおよびその製造方法
JP2012084374A (ja) * 2010-10-12 2012-04-26 Sony Corp 光電変換素子、光電変換素子の製造方法、光電変換素子用電解質層および電子機器

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001141851A (ja) * 1999-11-18 2001-05-25 Minolta Co Ltd 透光性太陽電池付き電子機器
JP2007066704A (ja) * 2005-08-31 2007-03-15 Kyushu Institute Of Technology 電解質組成物および色素増感太陽電池
JP2007134273A (ja) * 2005-11-14 2007-05-31 Fujikura Ltd 対極及びその製造方法並びに光電変換素子及びその製造方法
JP2007234580A (ja) 2006-02-02 2007-09-13 Sony Corp 色素増感型光電変換装置

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
"Latest Technology of Dye-Sensitized Solar Cell", 2001, CMC CO., LTD.
DAIBIN KUANG ET AL.: "A new ion-coordinating ruthenium sensitizer for mesoscopic dye- sensitized solar cells", INORGANICA CHIMICA ACTA, vol. 361, 15 February 2008 (2008-02-15), pages 699 - 706, XP022397488 *
NATURE, vol. 353, 1991, pages 737 - 740

Also Published As

Publication number Publication date
US20110132461A1 (en) 2011-06-09
EP2442401A1 (en) 2012-04-18
KR20120034586A (ko) 2012-04-12
TW201117455A (en) 2011-05-16
JP5428555B2 (ja) 2014-02-26
CN102113167A (zh) 2011-06-29
BRPI1004341A2 (pt) 2016-03-15
JP2010282927A (ja) 2010-12-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5428555B2 (ja) 色素増感光電変換素子の製造方法
JP5023866B2 (ja) 色素増感光電変換素子およびその製造方法ならびに電子機器
JP5070704B2 (ja) 光電変換装置
US8415558B2 (en) Dye sensitization photoelectric converter
JP5007784B2 (ja) 光電変換装置
JP4591131B2 (ja) 色素増感光電変換素子およびその製造方法ならびに電子装置およびその製造方法ならびに電子機器
WO2011002073A1 (ja) 光電変換素子およびその製造方法ならびに電子機器
JP4635473B2 (ja) 光電変換素子の製造方法及び半導体電極の製造方法
JP4380779B2 (ja) 色素増感型光電変換装置
JP2011204662A (ja) 光電変換素子およびその製造方法ならびに電子機器
JP2012004010A (ja) 光電変換素子およびその製造方法ならびに電子機器
JP6011443B2 (ja) 色素増感太陽電池用半導体層、および色素増感太陽電池用電極部材
JP2004234988A (ja) 光電変換素子およびその製造方法ならびに電子装置およびその製造方法ならびに半導体層およびその製造方法
JP2012064485A (ja) 色素増感光電変換装置
JP5644588B2 (ja) 色素増感光電変換装置およびその製造方法ならびに電子機器
JP2005158380A (ja) 光電変換素子およびその製造方法ならびに電子装置およびその製造方法
JP2007200714A (ja) 色素増感型太陽電池及びその製造方法
JP2015115110A (ja) 色素増感太陽電池の製造方法および色素増感太陽電池
JP2013058424A (ja) 光増感色素、色素増感光電変換素子、電子機器および建築物
JP2011187426A (ja) 色素増感型光電変換装置
JP2009081074A (ja) 色素増感光電変換素子、電解質組成物、電解質用添加剤および電子機器
JP2011187425A (ja) 色素増感型光電変換装置及びその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 201080002255.1

Country of ref document: CN

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 13056998

Country of ref document: US

Ref document number: 767/DELNP/2011

Country of ref document: IN

Ref document number: 2010786079

Country of ref document: EP

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20117002818

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 10786079

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

ENP Entry into the national phase

Ref document number: PI1004341

Country of ref document: BR

Kind code of ref document: A2

Effective date: 20110201