WO2010095325A1 - 低反射部材、反射防止フィルム、偏光板及び画像表示装置 - Google Patents

低反射部材、反射防止フィルム、偏光板及び画像表示装置 Download PDF

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Definitions

  • the present invention relates to a low reflection member, an antireflection film, a polarizing plate, and an image display device. More specifically, for example, a binder resin containing silica fine particles is fixed on a support substrate such as a glass plate, a plastic film, and a plastic plate.
  • the present invention relates to a low reflection member having excellent scratch resistance and adhesion.
  • a thin film that imparts functions such as antireflection by coating an optical material composition containing silica fine particles on a supporting substrate such as a glass plate, a plastic film, and a plastic plate.
  • a supporting substrate such as a glass plate, a plastic film, and a plastic plate.
  • a low reflection member is formed.
  • the silica fine particles are often fixed on the surface of the supporting substrate by a binder component.
  • a binder resin such as an acrylic resin, an epoxy resin, and a silane resin is used as the binder component, so that it is fixed on the surface of the support substrate.
  • Patent Document 1 describes an image display face plate (low reflection member) in which silica fine particles are fixed on a translucent substrate (support base material) using tetraethoxysilane as a binder component. And it is disclosed that an external light antireflection film (low refractive index layer) can be formed by fixing silica fine particles on a translucent substrate using tetraethoxysilane as a binder component. .
  • silica fine particles are arranged as a single particle layer on at least one surface of a supporting substrate, and the silica fine particles are fixed with a binder component mainly composed of a cationic polymerizable monomer.
  • a binder component mainly composed of a cationic polymerizable monomer A low reflection member is described.
  • the low reflection member in which silica fine particles are fixed on a support substrate suppresses the occurrence of silica fine particles falling off from the low refractive index layer containing the silica fine particles formed on the support substrate, and further has low refraction. It is required to improve the scratch resistance of the refractive index layer and the adhesion of the low refractive index layer to the supporting substrate.
  • the initial adhesion with the supporting substrate is excellent, but when the light resistance test is performed, the adhesion tends to decrease.
  • the present invention has been made in view of such circumstances, and is a low-reflective member that is excellent in scratch resistance and adhesion and that can suppress the occurrence of silica fine particles falling off, an anti-reflection film comprising this low-reflective member, and this anti-reflection It is an object to provide a polarizing plate and an image display device using a film.
  • the low reflection member according to the present invention has (a) a cationic polymerizable binder resin, (b) a sulfonium salt-based acid generator, and (c) an outer shell layer on at least one surface of a support substrate, and the inside is porous.
  • the low reflection member which can suppress generation
  • the antireflection film which consists of this low reflection member, a polarizing plate using this antireflection film, an image A display device can be provided.
  • the low reflection member has (a) a cationic polymerizable binder resin, (b) a sulfonium salt-based acid generator, and (c) an outer shell layer on at least one surface of a support substrate.
  • the binder resin is a cationic polymerizable binder resin that has excellent adhesiveness with the support substrate and causes UV curing with high reactivity and high productivity. Since the cationic polymerizable binder resin has low reactivity, the use of a specific sulfonium acid generator having high reactivity makes it easy to obtain hardness.
  • the silica fine particles those having a specific gravity lower than that of ordinary silica fine particles were used in order to lower the reflectance.
  • the thickness of the low refractive index layer is more than 1 and less than 3 times the average particle diameter of the silica fine particles. This is because the hardness of the silica fine particles has a greater influence than the inherent strength of the binder resin, and the scratch resistance tends to be inferior. It was also found that the scratch resistance can be improved by making Ra less than 5 nm.
  • a cationically polymerizable binder resin generally has a low reactivity, but by using a sulfonium salt-based acid generator having a high performance to increase the reactivity as an initiator, a polymerization reaction can proceed suitably. It is thought that. Therefore, it is considered that the low refractive index layer containing such a cationically polymerizable binder resin is not only easily obtained with high hardness but also has high adhesion to the lower layer.
  • the silica fine particles have an outer shell layer and are porous or hollow inside, and thus have a specific gravity lower than that of solid silica fine particles. Therefore, it is considered that by using such silica fine particles having a low specific gravity, the refractive index of the formed low refractive index layer can be adjusted to a suitable one, and the reflectance can be lowered.
  • the low refractive index layer is more than 1 and less than 3 times the average particle diameter of the silica fine particles, and the surface roughness Ra of the low refractive index layer is less than 5 nm, the low refractive index layer It is thought that there are few silica fine particles fixed in the state exposed on the surface of the rate layer, and it is possible to suppress the occurrence of silica fine particles falling off.
  • the silica fine particles have an outer shell layer, and the inside is porous or hollow, when such silica fine particles are contained, the silica fine particles easily form a cushion-like layer, specifically, the hardness of the layer.
  • the pencil hardness tends to be low, which tends to result in a fragile layer. Therefore, by setting the thickness of the low refractive index layer to be more than 1 and less than 3 times the average particle diameter of the silica fine particles, it is possible to suppress a decrease in hardness of the low refractive index layer, It is thought that the deterioration of scratch resistance can be suppressed.
  • the adhesion level of the low reflection member according to an embodiment of the present invention is such that the affected area is 5% or less in the cross-cut method adhesion test described in JIS K 5600-5-6 after the light resistance test. Reach the level.
  • cross-cut adhesion test for example, a film having been subjected to a light resistance test is used to make 11 1 mm squares by putting 11 scratches each having a width of 1 mm in length and width (cross cut), and the cross cut is commercially available.
  • the adhesive tape is pressed and subjected to a peeling test about 3 to 5 times, and the average area of the number of peeled squares is obtained. It shows that adhesiveness is so favorable and preferable that the ratio of this area is small.
  • the pencil hardness is 5 times by repeating the surface of the low refractive index layer with a pencil of each hardness using a 500 g weight according to the pencil hardness evaluation method specified by JIS-K5400 using a test pencil specified by JIS-S6006. The hardness of scratches and scratches was measured. The higher the number, the higher the hardness.
  • the shape of the low reflection member according to the embodiment of the present invention is not particularly limited.
  • the low reflection member may be, for example, an antireflection film using a transparent film substrate as a support substrate. That is, the antireflection film according to another embodiment of the present invention is composed of the low reflection member.
  • the support substrate contains a cellulose ester resin, or a cellulose ester resin and an acrylic resin, and further contains a cellulose ester resin, an acrylic resin, and acrylic particles.
  • a reflecting member can be provided.
  • the low refractive index layer in the present embodiment includes at least (a) a cationic polymerizable binder resin, (b) a sulfonium salt acid generator, and (c) an outer shell layer, and a silica fine particle having a porous or hollow inside. And the thickness of the low refractive index layer is more than 1 and less than 3 times the average particle diameter of the silica fine particles, and the surface roughness Ra of the low refractive index layer is less than 5 nm.
  • the low refractive index layer may contain (d) an ionizing radiation curable resin, (e) a photo radical initiator, and the like.
  • the low refractive index layer refers to a layer lower than the refractive index of the supporting substrate.
  • the specific refractive index is preferably in the range of 1.20 to 1.45 at 23 ° C. and wavelength of 550 nm, more preferably in the range of 1.25 to 1.40, and 1.30 to 1.37. The thing of the range of is especially preferable.
  • the film thickness of the low refractive index layer is preferably 5 nm to 0.5 ⁇ m, more preferably 10 nm to 0.3 ⁇ m, and even more preferably 30 nm to 0.2 ⁇ m, from the characteristics as an optical interference layer.
  • the low refractive index layer contains a cationic polymerizable binder resin.
  • the cationic polymerizable binder resin is not particularly limited, but preferably has at least one of an epoxy group and a vinyl ether group. Further, the cationic polymerizable binder resin is preferably one obtained by curing a cationic polymerizable monomer by ultraviolet irradiation.
  • the cationic polymerizable binder resin having an epoxy group is not particularly limited, but an alkoxysilane compound having an epoxy group is preferable, and specifically, for example, an organosilicon compound represented by the following general formula (5) or The hydrolyzate or polycondensate thereof is preferably contained.
  • R 18 m SiX 2 4-m (5)
  • R 18 is a substituent having an epoxy group
  • X 2 is a hydroxyl group or a hydrolyzable substituent
  • m is an integer of 0 to 3.
  • R 18 of the cationically polymerizable binder resin represented by the general formula (5) is not particularly limited.
  • glycidoxy such as 2-glycidoxyethyl group, 3-glycidoxypropyl group, 3-glycidoxybutyl group, etc.
  • C1-C4 alkyl group preferably glycidoxy C1-C3 alkyl group, glycidyl group, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl group, 3- (3,4-epoxycyclohexyl) propyl group, 2- (3,4 Oxirane groups such as -epoxycycloheptyl) ethyl group, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) propyl group, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) butyl group, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) pentyl group And a C1-C5 alkyl group substituted with a C5-C8 cycloalkyl group having a.
  • 2-glycidoxyethyl group, 3-glycidoxypropyl group, and 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl group are preferable.
  • Preferred specific examples of the compound that can be used as the compound of the general formula (5) having these substituents R2 include 2-glycidoxyethyltrimethoxysilane, 2-glycidoxyethyltriethoxysilane, 3-glycidide.
  • X 2 of the cationically polymerizable binder resin represented by the general formula (5) is not particularly limited, and examples thereof include alkoxy groups such as a methoxy group, an ethoxy group, and a propoxy group. Among these, a methoxy group and an ethoxy group are preferable.
  • the alkoxysilane compound used in the present embodiment can be obtained, for example, by (co) condensing the alkoxysilane compound of the general formula (5) under a base catalyst.
  • water can be added as needed to promote (co) condensation.
  • the amount of water added is usually 0.05 to 1.5 mol, preferably 0.1 to 1.2 mol, per 1 mol of alkoxy groups in the entire reaction mixture.
  • the catalyst used for the condensation reaction is not particularly limited as long as it is basic, but an inorganic base such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, cesium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, etc.
  • Organic bases such as ammonia, triethylamine, diethylenetriamine, n-butylamine, dimethylaminoethanol, triethanolamine, and tetramethylammonium hydroxide can be used.
  • an inorganic base or ammonia is preferable because the catalyst can be easily removed from the product.
  • the addition amount of the catalyst is usually 5 ⁇ 10 ⁇ 4 to 7.5 mass%, preferably 1 ⁇ 10 ⁇ 3 to 5 mass%, based on the amount of the alkoxysilane compound.
  • the condensation reaction can be carried out without a solvent or in a solvent. There is no restriction
  • solvents examples include nonpolar solvents such as dimethylformamide, dimethylacetamide, tetrahydrofuran, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone, and aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, preferably methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone.
  • nonpolar solvents such as dimethylformamide, dimethylacetamide, tetrahydrofuran, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone
  • aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, preferably methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone.
  • the alkoxysilane compound used in this embodiment can be produced by a known method.
  • JP-A-10-324749, JP-A-6-298940, JP-A-2006- It can be produced by the method described in Japanese Patent No. 3
  • the cationic polymerizable binder resin having a vinyl ether group is not particularly limited, but a resin obtained by curing a cationic polymerizable monomer having a vinyl ether group by ultraviolet irradiation is preferable.
  • Specific examples of the cationically polymerizable monomer having a vinyl ether group include polyalkylene glycols such as diethylene glycol divinyl ether and polyethylene glycol divinyl ether, and cycloalkane dimers such as 1,4-cyclohexanedimethanol divinyl ether. Examples include alcohol divinyl ether.
  • triarylsulfonium salt type photoinitiators are preferably sulfonium salts represented by any one of the following general formulas (1) to (4).
  • R 1 to R 3 each represents a hydrogen atom or a substituent, and at least one of R 1 to R 3 represents a substituent
  • R 4 to R 7 represents a hydrogen atom or a substituent
  • at least one of R 4 to R 7 represents a substituent
  • R 8 to R 11 each represents a hydrogen atom or a substituent.
  • R 8 to R 11 represent a substituent
  • R 12 to R 17 each represents a hydrogen atom or a substituent, and at least one of R 12 to R 17 or a substituted group
  • X - each represents a non-nucleophilic anion residue.
  • the substituent represented by R 1 to R 17 is preferably an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a t-butyl group, a pentyl group, or a hexyl group, Alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group, propyl group, butoxy group, hexyloxy group, decyloxy group, dodecyloxy group, acetoxy group, propionyloxy group, decylcarbonyloxy group, dodecylcarbonyloxy group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl Group, carbonyl group such as benzoyloxy group, phenylthio group, halogen atom such as fluorine, chlorine, bromine and iodine, cyano group, nitro group and hydroxy group.
  • Alkoxy groups
  • X ⁇ represents an anion, for example, a halogen atom such as F ⁇ , Cl ⁇ , Br ⁇ , I ⁇ , B (C 6 F 5 ) 4 ⁇ , R 19 COO ⁇ , R 20 SO 3 ⁇ , SbF 6 ⁇ , AsF 6 ⁇ , PF 6 ⁇ , BF 4 ⁇ and the like.
  • a halogen atom such as F ⁇ , Cl ⁇ , Br ⁇ , I ⁇ , B (C 6 F 5 ) 4 ⁇ , R 19 COO ⁇ , R 20 SO 3 ⁇ , SbF 6 ⁇ , AsF 6 ⁇ , PF 6 ⁇ , BF 4 ⁇ and the like.
  • R 19 and R 20 are each an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group or a butyl group, a halogen atom such as fluorine, chlorine, bromine or iodine, a nitro group, a cyano group, a methoxy group or an ethoxy group.
  • a halogen atom such as fluorine, chlorine, bromine or iodine
  • a nitro group such as a cyano group
  • methoxy group or an ethoxy group Represents an alkyl group or a phenyl group which may be substituted with an alkoxy group.
  • B (C 6 F 5 ) 4 ⁇ and PF 6 ⁇ are preferable from the viewpoint of safety.
  • an example of a particularly preferable sulfonium salt in terms of curability is to use a sulfonium salt that does not generate benzene after light irradiation as the photopolymerization initiator. “No benzene is generated by light irradiation” means that benzene is not substantially generated.
  • the sulfonium salt satisfies the above conditions as long as it has a substituent on the benzene ring bonded to S +, and examples thereof include those listed in the general formulas (1) to (4).
  • the above compound can be easily synthesized by a known method.
  • the photoinitiator can be manufactured by the same method as that described in 11, 1998, edited by Organic Electronics Materials Research Group, “Organic Materials for Imaging”, Bunshin Publishing (1993).
  • hollow silica fine particles having an outer shell layer and having a porous or hollow interior include (1) composite particles comprising porous particles and a coating layer provided on the surface of the porous particles, or (2 ) Cavity particles that have cavities inside and whose contents are filled with a solvent, gas or porous material.
  • the cavity particles are particles having a cavity inside, and the cavity is surrounded by a particle wall.
  • the cavity is filled with contents such as a solvent, a gas, or a porous material used at the time of preparation.
  • the average particle diameter of such hollow silica fine particles is 5 to 200 nm, preferably 10 to 70 nm.
  • the particle diameter of the hollow silica fine particles is preferably monodispersed with a coefficient of variation of 1 to 40%.
  • These hollow silica fine particles are preferably used in a state of being dispersed in a suitable medium in order to form a low refractive index layer.
  • the average particle diameter of the hollow silica fine particle used can be measured from an electron micrograph by a scanning electron microscope (SEM) or the like. You may measure by the particle size distribution meter etc. which utilize a dynamic light scattering method, a static light scattering method, etc.
  • water for example, methanol, ethanol, isopropyl alcohol
  • ketone for example, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone
  • ketone alcohol for example, diacetone alcohol
  • propylene monomethyl ether propylene glycol monomethyl ether acetate and the like
  • the thickness of the coating layer of the composite particles or the thickness of the particle walls of the hollow particles is 1 to 40 nm, preferably 1 to 20 nm, more preferably 2 to 15 nm.
  • the thickness of the coating layer is less than 1 nm, the particles may not be completely covered, and the coating liquid component can easily enter the composite particles to reduce the internal porosity. However, the effect of lowering the refractive index may not be obtained sufficiently.
  • the coating liquid component does not enter the inside, but the porosity (pore volume) of the composite particles is lowered and the effect of lowering the refractive index cannot be sufficiently obtained.
  • the particle wall thickness is less than 1 nm, the particle shape may not be maintained, and even when the thickness exceeds 20 nm, the effect of lowering the refractive index may not be sufficiently exhibited. is there.
  • the coating layer of the composite particles or the particle wall of the hollow particles is preferably composed mainly of silica.
  • components other than silica may be contained, specifically, Al 2 O 3 , B 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2 , CeO 2 , P 2 O 3 , Sb 2 O 3 , sb 2 O 5, SbO 2, MoO 3, ZnO 2, WO 3 and the like.
  • the porous particles constituting the composite particles include those made of silica, those made of silica and an inorganic compound other than silica, and those made of CaF 2 , NaF, NaAlF 6 , MgF, and the like.
  • porous particles made of a composite oxide of silica and an inorganic compound other than silica are particularly preferable.
  • inorganic compounds other than silica Al 2 O 3 , B 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2 , CeO 2 , P 2 O 3 , Sb 2 O 3 , Sb 2 O 5 , SbO 2 , MoO 3 , ZnO 2 , or WO 3 and two or more.
  • a porous particle having a molar ratio of MOx / SiO 2 of less than 0.0001 is difficult to obtain, and even if obtained, a pore volume is small and particles having a low refractive index cannot be obtained. Further, when the molar ratio of the porous particles: MOx / SiO 2 exceeds 1.0, the ratio of silica decreases, so that the pore volume increases and it may be difficult to obtain a material having a lower refractive index.
  • the pore volume of such porous particles is desirably in the range of 0.1 to 1.5 ml / g, preferably 0.2 to 1.5 ml / g.
  • the pore volume is less than 0.1 ml / g, particles having a sufficiently reduced refractive index cannot be obtained, and when the pore volume exceeds 1.5 ml / g, the strength of the particles is lowered and the strength of the resulting coating may be lowered. is there.
  • the pore volume of such porous particles can be determined by a mercury intrusion method.
  • contents of the hollow particles include a solvent, a gas, and a porous substance used at the time of preparing the particles.
  • the solvent may contain an unreacted particle precursor used when preparing the hollow particles, the catalyst used, and the like.
  • porous substance examples include those composed of the compounds exemplified for the porous particles. These contents may be composed of a single component or may be a mixture of a plurality of components.
  • the following first to third steps are carried out to produce the hollow particles. can do.
  • the method for preparing composite oxide colloidal particles disclosed in paragraphs [0010] to [0033] of JP-A-7-133105 is suitably employed.
  • First step Preparation of porous particle precursor
  • an alkali aqueous solution of a silica raw material and an inorganic compound raw material other than silica is separately prepared in advance, or a mixed aqueous solution of a silica raw material and an inorganic compound raw material other than silica is prepared in advance.
  • a porous particle precursor is prepared by gradually adding it to an alkaline aqueous solution having a pH of 10 or more while stirring.
  • alkali metal, ammonium or organic base silicate is used as the silica raw material.
  • Sodium silicate (water glass) or potassium silicate is used as the alkali metal silicate.
  • the organic base include quaternary ammonium salts such as tetraethylammonium salt, and amines such as monoethanolamine, diethanolamine, and triethanolamine.
  • the ammonium silicate or the organic base silicate includes an alkaline solution obtained by adding ammonia, a quaternary ammonium hydroxide, an amine compound or the like to a silicic acid solution.
  • alkali-soluble inorganic compounds are used as raw materials for inorganic compounds other than silica.
  • an oxo acid of an element selected from Al, B, Ti, Zr, Sn, Ce, P, Sb, Mo, Zn, W, etc. an alkali metal salt or alkaline earth metal salt of the oxo acid, ammonium And salts and quaternary ammonium salts. More specifically, sodium aluminate, sodium tetraborate, zirconyl ammonium carbonate, potassium antimonate, potassium stannate, sodium aluminosilicate, sodium molybdate, cerium ammonium nitrate, and sodium phosphate are suitable.
  • the aqueous solution finally has a pH value determined by the type of inorganic oxide and the mixing ratio thereof. There is no restriction
  • the seed particles are not particularly limited, but inorganic oxides such as SiO 2 , Al 2 O 3 , TiO 2 , or ZrO 2 or fine particles of these composite oxides are used, and usually these sols are used. be able to. Furthermore, the porous particle precursor dispersion obtained by the above production method may be used as a seed particle dispersion.
  • the pH of the seed particle dispersion is adjusted to 10 or more, and then an aqueous solution of the above compound is added to the aqueous alkali solution while stirring. Also in this case, it is not always necessary to control the pH of the dispersion.
  • seed particles are used in this manner, it is easy to control the particle size of the porous particles to be prepared, and particles with uniform particle sizes can be obtained.
  • silica raw material and the inorganic compound raw material described above have high solubility on the alkali side.
  • solubility of oxo acid ions such as silicate ions and aluminate ions decreases, and these composites precipitate and grow into particles, or seed particles. It grows on the top and particle growth occurs. Therefore, it is not always necessary to perform pH control as in the conventional method for precipitation and growth of particles.
  • the composite ratio of silica and an inorganic compound other than silica in the first step is that the inorganic compound relative to silica is converted to oxide (MOx), and the molar ratio of MOx / SiO 2 is 0.05 to 2.0, preferably It is desirable to be within the range of 0.2 to 2.0. Within this range, the pore volume of the porous particles increases as the proportion of silica decreases. However, even when the molar ratio exceeds 2.0, the pore volume of the porous particles hardly increases. On the other hand, when the molar ratio is less than 0.05, the pore volume becomes small.
  • the molar ratio of MOx / SiO 2 is preferably in the range of 0.25 to 2.0.
  • inorganic compound in the porous particle precursor is dissolved and removed using a mineral acid or an organic acid, or is contacted with a cation exchange resin for ion exchange removal.
  • the porous particle precursor obtained in the first step is a particle having a network structure in which silicon and an inorganic compound constituent element are bonded through oxygen.
  • fluorine-substituted obtained by dealkalizing an alkali metal salt of silica into the porous particle precursor dispersion obtained in the first step. It is preferable to add a silicic acid solution containing an alkyl group-containing silane compound or a hydrolyzable organosilicon compound to form a silica protective film.
  • the thickness of the silica protective film may be 0.5 to 40 nm, preferably 0.5 to 15 nm. Even if a silica protective film is formed, the protective film in this step is porous and thin, so that it is possible to remove inorganic compounds other than silica from the porous particle precursor. is there.
  • silica protective film By forming such a silica protective film, inorganic compounds other than silica described above can be removed from the porous particle precursor while maintaining the particle shape. Further, when forming the silica coating layer described later, the pores of the porous particles are not blocked by the coating layer, and therefore the silica coating layer described later is formed without reducing the pore volume. be able to. Note that when the amount of the inorganic compound to be removed is small, the particles are not broken, and thus it is not always necessary to form a protective film.
  • the inorganic compound is removed to obtain a hollow particle precursor composed of a silica protective film, a solvent in the silica protective film, and an undissolved porous solid content.
  • a coating layer to be described later is formed on the body, the formed coating layer becomes a particle wall to form hollow particles.
  • the amount of silica source added for forming the silica protective film is preferably small as long as the particle shape can be maintained. If the amount of the silica source is too large, the silica protective film becomes too thick, and it may be difficult to remove inorganic compounds other than silica from the porous particle precursor.
  • an alkoxysilane represented by the following general formula (15) can be used as the hydrolyzable organosilicon compound used for forming the silica protective film.
  • an alkoxysilane represented by the following general formula (15) can be used as the hydrolyzable organosilicon compound used for forming the silica protective film.
  • tetraalkoxysilanes such as fluorine-substituted tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, and tetraisopropoxysilane are preferably used.
  • R 21 m Si (OR 22 ) 4-m (15)
  • R 21 and R 22 represent a hydrocarbon group such as an alkyl group, an aryl group, a vinyl group, and an acrylic group, and m represents 0, 1, 2, or 3.
  • a solution obtained by adding a small amount of alkali or acid as a catalyst to a mixed solution of these alkoxysilane, pure water, and alcohol is added to the dispersion of porous particles, and then alkoxysilane, pure water, and alcohol are added.
  • a solution obtained by adding a small amount of alkali or acid as a catalyst to a mixed solution of the above is added to a dispersion of porous particles, and a silicic acid polymer produced by hydrolyzing alkoxysilane is deposited on the surface of inorganic oxide particles. .
  • alkoxysilane, alcohol, and catalyst may be simultaneously added to the dispersion.
  • alkali catalyst ammonia, an alkali metal hydroxide, or an amine can be used.
  • acid catalyst various inorganic acids and organic acids can be used.
  • the dispersion medium of the porous particle precursor is water alone or when the ratio of water to the organic solvent is high, it is also possible to form a silica protective film using a silicic acid solution.
  • a silicic acid solution is used, a predetermined amount of the silicic acid solution is added to the dispersion, and at the same time an alkali is added to deposit the silicic acid solution on the surface of the porous particles.
  • a hydrolyzable organosilicon compound or silica containing a fluorine-substituted alkyl group-containing silane compound is added to the porous particle dispersion (in the case of hollow particles, a hollow particle precursor dispersion) prepared in the second step.
  • the porous particle dispersion in the case of hollow particles, a hollow particle precursor dispersion
  • an acid solution or the like the surface of the particles is coated with a hydrolyzable organosilicon compound or a polymer such as a silicic acid solution to form a silica coating layer.
  • the silicic acid solution is an aqueous solution of a low polymer of silicic acid obtained by dealkalizing an aqueous solution of an alkali metal silicate such as water glass by ion exchange treatment.
  • the amount of the organosilicon compound or silicic acid solution used for forming the coating layer may be such that the surface of the colloidal particles can be sufficiently covered, and the finally obtained silica coating layer has a thickness of 1 to 40 nm, Preferably, it is added in an amount of 1 to 20 nm in the dispersion of porous particles (in the case of hollow particles, hollow particle precursor).
  • the organosilicon compound or the silicate solution is added in such an amount that the total thickness of the silica protective film and the silica coating layer is in the range of 1 to 40 nm, preferably 1 to 20 nm.
  • the particle dispersion with the coating layer formed thereon is heat-treated.
  • the heat treatment in the case of porous particles, the silica coating layer covering the surface of the porous particles is densified, and a dispersion of composite particles in which the porous particles are coated with the silica coating layer is obtained.
  • the formed coating layer is densified to form hollow particle walls, and a dispersion of hollow particles having cavities filled with a solvent, gas, or porous solid content is obtained.
  • the heat treatment temperature at this time is not particularly limited as long as it can close the fine pores of the silica coating layer, and is preferably in the range of 80 to 300 ° C.
  • the heat treatment temperature is less than 80 ° C.
  • the fine pores of the silica coating layer may not be completely closed and densified, and the treatment time may take a long time.
  • the heat treatment temperature exceeds 300 ° C. for a long time, dense particles may be formed, and the effect of lowering the refractive index may not be obtained.
  • the refractive index of the hollow silica fine particles thus obtained is as low as less than 1.42.
  • Such hollow silica fine particles are presumed to have a low refractive index because the porosity inside the porous particles is maintained or the inside is hollow.
  • the hollow particles are preferably hollow particles in which a polymer having a hydrocarbon main chain is covalently bonded to the surface.
  • hollow particles in which a polymer having a hydrocarbon main chain is covalently bonded will be described.
  • the polymer having a hydrocarbon main chain is a direct covalent bond, or a binder is interposed between the silica on the surface of the hollow silica fine particle and the polymer having a hydrocarbon main chain, and the silica and the binder are covalently bonded. It also refers to a covalent bond between a binder and a polymer.
  • a coupling agent is preferably used as the binder.
  • Hollow particles in which a polymer having a hydrocarbon main chain is covalently bonded can be (1) capable of forming a covalent bond with the hollow silica fine particle surface in a state where the hollow silica fine particle surface is untreated or treated with a coupling agent or the like.
  • the polymer can be produced by polymerizing the body to grow a polymer chain and surface grafting. As an example of this manufacturing method, the method described in JP-A-2006-257308 can be used.
  • a method of polymerizing a monomer from the surface of the hollow silica fine particles to grow a polymer chain and grafting the surface is preferable. More preferred is a method in which the hollow silica fine particles are surface-treated with a coupling agent containing a functional group having a polymerization initiating ability or a chain transfer ability, the monomers are polymerized therefrom, and the polymer chains are grown to carry out surface grafting.
  • an alkoxy metal compound for example, a titanium coupling agent, an alkoxysilane compound (silane coupling agent) )
  • a surface treatment agent for introducing a functional group having a polymerization initiating ability or a chain transfer ability into the hollow silica fine particles
  • an alkoxy metal compound for example, a titanium coupling agent, an alkoxysilane compound (silane coupling agent)
  • a titanium coupling agent for example, a titanium coupling agent, an alkoxysilane compound (silane coupling agent)
  • the hollow silica fine particles may contain two or more types of hollow silica fine particles having different average particle diameters.
  • hollow silica fine particles having a conductive metal oxide coating layer for the low refractive index layer because the conductivity can be further increased.
  • the metal oxide for forming the conductive metal oxide coating layer is not particularly limited.
  • hollow silica fine particles coated with antimony oxide are particularly preferable.
  • the average thickness of the conductive metal oxide coating layer is in the range of 1 to 40 nm, more preferably 1 to 20 nm, and the hollow silica fine particles can be sufficiently coated.
  • the thickness of the coating layer is preferably 1 nm or more from the viewpoint of sufficient conductivity.
  • the thickness of the coating layer is preferably 40 nm or less because the effect of improving the conductivity is sufficient and the refractive index is sufficient even when the average particle size of the conductive metal oxide-coated hollow silica fine particles is small.
  • hollow silica fine particles having a particularly preferable antimony oxide coating layer will be described.
  • the antimony oxide may be any of Sb 2 O 3 , Sb 2 O 5 , SbO 2, etc., and the antimony oxide coating layer may contain tin oxide or the like. The total content of these antimony oxides in the antimony oxide coating layer is preferably 10% or more.
  • the antimony oxide coating layer may be further coated with silica or the like.
  • the volume resistance value of the antimony oxide-coated hollow silica particles is preferably 10 to 5000 ⁇ / cm, and more preferably 10 to 2000 ⁇ / cm. By setting the volume resistance value within this range, the surface resistance of the low refractive index coating film can be lowered while keeping the refractive index of the particles low.
  • the volume resistance value can be controlled by adjusting the particle size of the core particles, the film thickness of the surface-coated metal oxide layer, and the composition.
  • the volume resistance value was measured by the following method.
  • a dispersion of porous silica-based particles or silica-based particles having cavities inside is prepared by the method described above.
  • the solid concentration of the dispersion is preferably in the range of 0.1 to 40% by mass, more preferably 0.5 to 20% by mass.
  • the solid content concentration is less than 0.1% by mass, the production efficiency is low, and when the solid content concentration exceeds 40% by mass, the resulting antimony oxide-coated hollow silica fine particles may aggregate, and the transparency of the coating is low. It may decrease or haze may deteriorate.
  • a dispersion (aqueous solution) of antimonic acid is prepared.
  • the antimonic acid preparation method is not particularly limited as long as the antimony oxide coating layer can be formed on the particle surface without filling the pores and cavities of the porous silica particles or the silica particles having cavities inside. However, the following method is preferable because a uniform and thin antimony oxide coating layer can be formed.
  • an antimonic acid (gel) dispersion is prepared by treating an alkali antimonate aqueous solution with a cation exchange resin, and then treated with an anion exchange resin.
  • a known alkali antimonate aqueous solution can be used.
  • antimony oxide used in the method for producing an antimony oxide sol described in JP-A-2-180717 is disclosed.
  • An acid-alkali aqueous solution is preferred.
  • the alkali antimonate aqueous solution is preferably obtained by reacting antimony trioxide (Sb 2 O 3 ), an alkali substance and hydrogen peroxide, and the molar ratio of antimony oxide, alkali substance and hydrogen peroxide is 1: 2.0 to 2.5: 0.8 to 1.5, preferably 1: 2.1 to 2.3: 0.9 to 1.2, and the system containing antimony trioxide and an alkaline substance is peroxidized. It is obtained by adding hydrogen at a rate of 0.2 mol / hr or less per mol of antimony trioxide.
  • the antimony trioxide used at this time is preferably a powder, particularly a fine powder having an average particle size of 10 ⁇ m or less, and examples of the alkaline substance include LiOH, KOH, NaOH, Mg (OH) 2 , and Ca (OH). 2, etc. Among them, alkali metal hydroxides such as KOH and NaOH are preferable. These alkaline substances have the effect of stabilizing the resulting antimonic acid solution.
  • an antimony trioxide suspension a predetermined amount of an alkaline substance and antimony trioxide are added to water to prepare an antimony trioxide suspension.
  • the antimony trioxide concentration of the antimony trioxide suspension is preferably in the range of 3 to 15% by mass as Sb 2 O 3 .
  • this suspension was heated to 50 ° C. or higher, preferably 80 ° C. or higher, and hydrogen peroxide having a concentration of 5 to 35% by mass was added to 0.2 mol / hr or less of antimony trioxide. Add at a rate.
  • the hydrogen peroxide solution is added at a rate higher than 0.2 mol / hr, the particle size of the obtained antimony oxide particles is increased, and the particle size distribution is widened, which is not preferable.
  • a preferable addition rate range is 0.04 to 0.2 mol / hr.
  • the alkali antimonate aqueous solution (when MHSbO 3 : M is an alkali metal) obtained by the above reaction is separated from an undissolved residue as necessary, and further diluted as necessary, and treated with a cation exchange resin. Then, an antimonic acid gel (HSbO 3 ⁇ ) n dispersion is prepared by removing alkali ions.
  • the alkali antimonate aqueous solution may contain an aqueous solution containing a doping agent such as an alkali stannate aqueous solution or a sodium phosphate aqueous solution.
  • a doping agent such as an alkali stannate aqueous solution or a sodium phosphate aqueous solution.
  • the concentration of the alkali antimonate aqueous solution in the treatment with the cation exchange resin is preferably in the range of 0.01 to 5% by mass, more preferably 0.1 to 3% by mass as the solid content Sb 2 O 5 .
  • the solid content is less than 0.01% by mass, the production efficiency is low, and when it exceeds 5% by mass, a large aggregate of antimonic acid may be formed, and it is difficult to coat the hollow silica fine particles with antimonic acid. May be non-uniform.
  • the amount of the cation exchange resin used is preferably such that the resulting antimonic acid dispersion has a pH of 1 to 4, more preferably 1.5 to 3.5.
  • the pH is less than 1, there is a tendency that aggregated particles are generated instead of chain particles, and when the pH exceeds 4, monodispersed particles tend to be generated.
  • the pH is less than 1, it is difficult to coat a predetermined amount of antimony oxide because the solubility of antimony oxide is high.
  • the pH exceeds 4 the resulting antimony oxide-coated hollow silica fine particles may be aggregated, The dispersibility in the film may be lowered, and the antistatic effect may be insufficient.
  • the antimonic acid dispersion and porous silica particles or a dispersion of silica particles having cavities inside are mixed and aged at a temperature of 50 to 250 ° C., preferably 70 to 120 ° C., usually for 1 to 24 hours.
  • a temperature of 50 to 250 ° C. preferably 70 to 120 ° C., usually for 1 to 24 hours.
  • the mixing ratio of the antimonic acid dispersion to the silica-based particle dispersion is 100 parts by mass with the silica-based particles as solids and 1 to 200 parts by mass, preferably 5 to 100 parts by mass with antimonic acid as Sb 2 O 5.
  • the mixing ratio of antimonic acid exceeds 200 parts by mass, the antimony oxide not contributing to the coating does not increase, and the conductivity of the resulting antimony oxide-coated hollow silica fine particles is not further improved, and the refractive index is 1.60. May be higher than
  • the concentration of the mixed dispersion is preferably in the range of 1 to 40% by mass, more preferably 2 to 30% by mass as the solid content.
  • concentration of the mixed dispersion is less than 1% by mass, the coating efficiency of antimony oxide is insufficient or the production efficiency is lowered.
  • concentration of the mixed dispersion is less than 1% by mass, the coating efficiency of antimony oxide is insufficient or the production efficiency is lowered.
  • it exceeds 40 mass% when the amount of antimonic acid used is large, the obtained antimony oxide-coated hollow silica fine particles may aggregate.
  • the low refractive index layer of the present embodiment may contain an ionizing radiation curable resin.
  • the ionizing radiation curable resin refers to a resin that is cured through a crosslinking reaction or the like by irradiation with active rays (hereinafter also referred to as active energy rays) such as ultraviolet rays and electron beams.
  • active energy rays active rays
  • a component containing a monomer having an ethylenically unsaturated double bond is preferably used, and an ionizing radiation curable resin layer is formed by curing by irradiating active rays such as ultraviolet rays and electron beams. Is done.
  • Typical examples of ionizing radiation curable resins include ultraviolet curable resins and electron beam curable resins, but resins cured by ultraviolet irradiation have excellent mechanical film strength (abrasion resistance, pencil hardness). To preferred.
  • the ionizing radiation curable resin is preferably an acrylic compound having two or more unsaturated bonds capable of polymerization in the molecule.
  • a polyfunctional acrylate is preferable.
  • the polyfunctional acrylate is preferably selected from the group consisting of pentaerythritol polyfunctional acrylate, dipentaerythritol polyfunctional acrylate, pentaerythritol polyfunctional methacrylate, and dipentaerythritol polyfunctional methacrylate.
  • the polyfunctional acrylate is a compound having two or more acryloyloxy groups and / or methacryloyloxy groups in the molecule.
  • polyfunctional acrylate monomer examples include ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolethane triacrylate, and tetramethylolmethane triacrylate.
  • photo radical initiator when the ionizing radiation curable resin is contained, it is preferable to contain a photo radical initiator.
  • photo radical initiators acetophenones, benzoins, benzophenones, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-dialkyldione compounds, disulfide compounds, thiuram compounds, fluoro Amine compounds, oxime esters and the like are used.
  • photopolymerization initiator examples include 2,2′-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 1-hydroxydimethylphenyl ketone, 2-methyl-4′-methylthio-2-mori.
  • photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more or may be a eutectic mixture.
  • acetophenones and oxime esters such as ⁇ -hydroxyacetophenone and ⁇ -aminoacetophenone are preferably used in view of stability of the curable composition and polymerization reactivity.
  • the low refractive index layer of the present embodiment may contain colloidal silica or magnesium fluoride.
  • colloidal silica examples are those in which silicon dioxide is colloidally dispersed in water or an organic solvent, and are not particularly limited, and are spherical, acicular or beaded.
  • the average particle diameter of colloidal silica is preferably in the range of 50 to 300 nm, and is preferably monodispersed with a coefficient of variation of 1 to 40%.
  • the average particle diameter can be measured from an electron micrograph taken with a scanning electron microscope (SEM) or the like. You may measure by the particle size distribution meter etc. which utilize a dynamic light scattering method, a static light scattering method, etc.
  • Colloidal silica is commercially available, and examples include the Snowtex series from Nissan Chemical Industries, the Cataloid-S series from Catalytic Chemical Industries, and the Lebasil series from Bayer. Further, bead-like colloidal silica in which primary particles of colloidal silica or silica cation-modified with alumina sol or aluminum hydroxide are bonded to each other with metal ions having a valence of 2 or more and connected in a bead shape is also preferably used. There are beaded colloidal silicas such as SNOWTEX-AK series, SNOWTEX-PS series, SNOWTEX-UP series of Nissan Chemical Industries, Ltd.
  • IPS-ST-L isopropanol dispersion, particle size 40-50 nm, Solid content 30%
  • MEK-ST-MS methyl ethyl ketone dispersion, particle diameter 17-23 nm, solid content 35%) and the like.
  • magnesium fluoride examples include isopropanol-dispersed magnesium fluoride sol manufactured by Nissan Chemical Industries, Nanotech series manufactured by CI Kasei Co., Ltd.
  • the low refractive index layer preferably contains a catalyst.
  • Catalysts include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and nitric acid, organic acids such as oxalic acid, acetic acid, formic acid and methanesulfonic acid, inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide and ammonia, and organic acids such as triethylamine and pyridine. Examples include bases, metal alkoxides such as triisopropoxyaluminum and tetrabutoxyzirconium, metal chelate compounds described later, and the like. Among them, acid catalysts and metal chelate compounds are preferably used.
  • hydrochloric acid sulfuric acid, oxalic acid, acetic acid, phthalic acid and the like are preferably used.
  • a metal chelate compound containing at least one selected from the group consisting of Zr, Ti, and Al is preferably used. Such a metal chelate compound is considered to have an effect of accelerating each polymerization reaction.
  • the metal chelate compound specifically, at least one selected from the group consisting of Zr, Ti, and Al with the compound represented by the general formula (16) and the general formula (17) as a ligand. Examples include metal chelate compounds having a seed as a central metal.
  • R 23 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.
  • R 24 COCH 2 COR 25 (17)
  • R 24 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms
  • R 25 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms.
  • the metal chelate compound for example, the above compounds may be used alone, or two or more kinds may be used in combination.
  • metal chelate compound examples include compounds represented by general formulas (18) to (20). These compounds are preferable from the viewpoint of further promoting the above polymerization reactions.
  • R 26 and R 27 independently represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or a phenyl group
  • R 28 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a group having 1 to 10 carbon atoms.
  • An alkoxy group or a phenyl group is shown, and p1 and p2 are integers determined to be tetracoordinate or hexadentate.
  • R 29 and R 30 independently represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or a phenyl group
  • R 31 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a carbon group having 1 to 10 carbon atoms.
  • An alkoxy group or a phenyl group is shown, and q1 and q2 are integers determined to be tetracoordinate or hexadentate.
  • R 32 and R 33 independently represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or a phenyl group
  • R 34 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a carbon group having 1 to 10 carbon atoms.
  • An alkoxy group or a phenyl group is shown, and r1 and r2 are integers determined to be tetracoordinate or hexadentate.
  • Examples of the alkyl group in the general formulas (18) to (20) include an ethyl group, an n-propyl group, an i-propyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, a t-butyl group, and an n-pentyl group.
  • Examples of the alkoxy group in the general formulas (18) to (20) include a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an i-propoxy group, an n-butoxy group, a sec-butoxy group, and a t-butoxy group. Can be mentioned.
  • examples of the metal chelate compound include tri-n-butoxyethyl acetoacetate zirconium, di-n-butoxybis (ethyl acetate) zirconium, n-butoxy tris (ethyl acetoacetate) zirconium, tetrakis (n Zirconium chelate compounds such as propylacetoacetate) zirconium, tetrakis (acetylacetoacetate) zirconium, tetrakis (ethylacetoacetate) zirconium; diisopropoxy bis (ethylacetoacetate) titanium, diisopropoxy bis (acetylacetone) titanium, etc.
  • Titanium chelate compounds diisopropoxyethyl acetoacetate aluminum, diisopropoxyacetylacetate aluminum, isopropoxy
  • Aluminum chelates such as bis (ethylacetoacetate) aluminum, isopropoxybis (acetylacetonate) aluminum, tris (ethylacetoacetate) aluminum, tris (acetylacetonate) aluminum, monoacetylacetonate-bis (ethylacetoacetate) aluminum Compounds and the like.
  • tri-n-butoxyethyl acetoacetate zirconium, diisopropoxybis (acetylacetonato) titanium, diisopropoxyethyl acetoacetate aluminum, tris (ethyl acetoacetate) aluminum and the like are preferable.
  • these metal chelate compounds may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.
  • the partial hydrolyzate of these metal chelate compounds can also be used as (b) component.
  • the low refractive index layer preferably contains conductive fine particles.
  • the conductive fine particles include those similar to the conductive fine particles contained in the antistatic layer described later. Specific examples include metal oxide particles and ⁇ -conjugated conductive polymer particles. Examples of the conductive fine particles include fine particles made of a carbon material.
  • the carbon material is not particularly limited as long as it can improve the antistatic property of the low refractive index layer.
  • a structure having a shape such as a spherical shape, a cylindrical shape, or a columnar shape made of carbon atoms and having a diameter of nano-order is exemplified. More specifically, for example, fullerene, carbon nanotube, amorphous carbon, carbon nanofiber, vapor-grown carbon fiber, and nanoparticle, nanocapsule, carbon nanohorn, nanowhisker and the like containing carbon as constituent components can be given.
  • the diameter of the carbon material is preferably in the nano order as described above.
  • the coating composition for forming the low refractive index layer preferably contains an organic solvent.
  • organic solvents include alcohols (eg, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, benzyl alcohol), ketones (eg, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone), esters (eg, methyl acetate, ethyl acetate).
  • aliphatic hydrocarbons eg, hexane, cyclohexane
  • halogenated hydrocarbons
  • toluene methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, ethanol, isopropanol, and propylene glycol monomethyl ether are particularly preferable.
  • the solid content concentration in the coating composition for forming the low refractive index layer is preferably 1 to 4% by mass.
  • the solid content concentration is 4% by mass or less, coating unevenness is less likely to occur, and 1% by mass. By setting it as% or more, the drying load is reduced.
  • the coating composition for forming the low refractive index layer preferably contains a fluorine-based or silicone-based surfactant. Inclusion of the surfactant is effective for reducing coating unevenness and improving the antifouling property of the film surface.
  • Fluorosurfactants include perfluoroalkyl group-containing monomers, oligomers, and polymers as the core, and include derivatives such as polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkyl allyl ether, and polyoxyethylene. It is done. Commercially available fluorosurfactants can also be used.
  • Surflon S-381, S-382, SC-101, SC-102, SC-103, SC-104 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.
  • FLORARD FC-430, FC-431, FC-173 Fluorochemical-manufactured by Sumitomo 3M
  • F-top EF352, EF301, EF303 manufactured by Shin-Akita Kasei Co., Ltd.
  • Schwegau Fluer 8035, 8036 Manufactured by Schwegman
  • BM1000, BM1100 manufactured by BM Himmy
  • MegaFuck F-171, F-470 both manufactured by DIC Corporation
  • the fluorine content of the fluorosurfactant is 0.05 to 2% by mass, preferably 0.1 to 1% by mass.
  • One or two or more of the above fluorosurfactants can be used in combination.
  • Silicone surfactants can be broadly classified into straight silicone oil and modified silicone oil depending on the type of organic group bonded to the silicon atom.
  • the straight silicone oil refers to one in which a methyl group, a phenyl group, or a hydrogen atom is bonded as a substituent.
  • a modified silicone oil is one having a component that is secondarily derived from a straight silicone oil. On the other hand, it can be classified from the reactivity of silicone oil.
  • Silicone oil 1. Straight silicone oil 1-1.
  • Non-reactive silicone oil dimethyl, methylphenyl substitution, etc.
  • Reactive silicone oil methyl hydrogen substitution and the like.
  • Modified silicone oil Modified silicone oil is born by introducing various organic groups into dimethyl silicone oil.
  • Non-reactive modified silicone oil alkyl, alkyl / aralkyl, alkyl / polyether, polyether, higher fatty acid ester substitution, etc.
  • the alkyl / aralkyl-modified silicone oil is a silicone oil in which a part of the methyl group of dimethyl silicone oil is substituted with a long-chain alkyl group or a phenylalkyl group.
  • Polyether-modified silicone oil is a surfactant in which hydrophilic polyoxyalkylene is introduced with hydrophobic dimethyl silicone.
  • Higher fatty acid-modified silicone oil is a silicone oil in which a part of methyl group of dimethylsilicone oil is replaced with higher fatty acid ester.
  • Amino-modified silicone oil is a silicone oil having a structure in which a part of methyl group of silicone oil is substituted with aminoalkyl group.
  • the epoxy-modified silicone oil is a silicone oil having a structure in which a part of the methyl group of the silicone oil is substituted with an epoxy group-containing alkyl group.
  • the carboxyl-modified or alcohol-modified silicone oil is a silicone oil having a structure in which a part of the methyl group of the silicone oil is substituted with a carboxyl group or a hydroxyl group-containing alkyl group.
  • polyether-modified silicone oil is preferably added.
  • the number average molecular weight of the polyether-modified silicone oil is, for example, 1,000 to 100,000, preferably 2,000 to 50,000. When the number average molecular weight is less than 1,000, the drying property of the coating film decreases, and conversely, the number average molecular weight is When it exceeds 100,000, it becomes difficult to bleed out to the coating film surface.
  • Specific products include L-45, L-9300, FZ-3704, FZ-3703, FZ-3720, FZ-3786, FZ-3501, FZ-3504, FZ-3508, FZ- from Toray Dow Corning. 3705, FZ-3707, FZ-3710, FZ-3750, FZ-3760, FZ-3785, FZ-3785, Y-7499, Shin-Etsu Chemical KF96L, KF96, KF96H, KF99, KF54, KF965, KF968, KF56, KF995, KF351, KF351A, KF352, KF353, KF354, KF355, KF615, KF618, KF945, KF6004, FL100, BYK series surfactants BYK series, BYK-300 / 302, BYK-306, BYK-307, B K-310, BYK-315, BYK-320, BYK-322, BYK-323, BYK
  • the silicone surfactant is a surfactant obtained by substituting a part of the methyl group of the silicone oil with a hydrophilic group.
  • the position of substitution includes a side chain of silicone oil, both ends, one end, both end side chains, and the like.
  • the hydrophilic group include polyether, polyglycerin, pyrrolidone, betaine, sulfate, phosphate, and quaternary salt.
  • silicone surfactant a nonionic surfactant having a hydrophobic group composed of dimethylpolysiloxane and a hydrophilic group composed of polyoxyalkylene is preferable.
  • a nonionic surfactant is a generic term for surfactants that do not have a group capable of dissociating into ions in an aqueous solution.
  • a hydrophilic group includes a hydroxyl group of a polyhydric alcohol, a polyoxyalkylene chain (poly Oxyethylene) or the like as a hydrophilic group. The hydrophilicity becomes stronger as the number of alcoholic hydroxyl groups increases and as the polyoxyalkylene chain (polyoxyethylene chain) becomes longer.
  • nonionic surfactant examples include silicone surfactants SILWET L-77, L-720, L-7001, L-7002, L-7604, Y-7006, FZ-2101, Toray Dow Corning, FZ-2104, FZ-2105, FZ-2110, FZ-2118, FZ-2120, FZ-2122, FZ-2123, FZ-2130, FZ-2154, FZ-2161, FZ-2162, FZ-2163, FZ- 2164, FZ-2166, FZ-2191, SUPERSILWET SS-2801, SS-2802, SS-2803, SS-2804, SS-2805, and the like.
  • Preferred structures of these nonionic surfactants comprising a hydrophobic group of dimethylpolysiloxane and a hydrophilic group of polyoxyalkylene include linear structures in which dimethylpolysiloxane structural portions and polyoxyalkylene chains are alternately and repeatedly bonded.
  • a block copolymer is preferred. It is preferable from unevenness suppression and leveling properties when a coating composition for forming a low refractive index layer is applied.
  • Specific examples thereof include silicone surfactants ABN SILWET FZ-2203, FZ-2207, FZ-2208, FZ-2222, etc., manufactured by Toray Dow Corning.
  • the coating composition for forming the low refractive index layer has a reactive modified silicone resin (also referred to as a reactive modified silicone oil) described below from the viewpoint of easily exhibiting desirable performance after a durability test under more severe conditions. It is preferable to contain. 2-2. Reactive modified silicone oil: amino, epoxy, carboxyl, alcohol substitution, etc.
  • the reactive modified silicone resin is a reactive type modified silicone resin substituted with amino, epoxy, carboxyl, hydroxyl group, methacryl, mercapto, phenol or the like at the side chain, one end or both ends of polysiloxane.
  • amino-modified silicone resins include KF-860, KF-861, X-22-161A, X-22-161B (above, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), FM-3311, FM-3325 (above, Manufactured by Chisso Corporation), epoxy-modified silicone resins such as KF-105, X-22-163A, X-22-163B, KF-101, KF-1001 (above, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), polyether-modified X-22-4272 and X-22-4952 as silicone resins, X-22-3701E and X-22-3710 (above, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) as carboxyl-mod
  • hydroxyl group-modified silicone resin examples include FM-4411, FM-4421, FM-DA21, FM-DA26 (manufactured by Chisso Corporation).
  • X-22-170DX, X-22-2426, X-22-176F manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
  • the above-mentioned surfactants may be used in combination with other surfactants.
  • anionic surfactants such as sulfonate-based, sulfate-based, phosphate-based, etc.
  • You may use together with nonionic surfactants, such as an ether type
  • the addition amount of the above-mentioned surfactant is 0.05 to 3.0% by mass in the low refractive index layer coating composition, not only improving the water repellency, oil repellency and antifouling property of the coating film. From the viewpoint of exerting an effect also on the scratch resistance of the surface.
  • the surfactant described above can also be contained in the antistatic layer for the purpose of reducing coating unevenness.
  • the low refractive index layer is a gravure coater, a dip coater, a reverse coater, a wire bar coater, a die coater, a known method such as an inkjet method, and the above coating composition for forming the low refractive index layer is applied, and after coating, It is formed by heat drying and curing treatment.
  • the coating amount is suitably 0.05 to 100 ⁇ m, preferably 0.1 to 50 ⁇ m, as the wet film thickness. Further, the solid content concentration of the coating composition is adjusted so that the dry film thickness becomes the above film thickness.
  • the curing method examples include a method of thermosetting by heating and a method of curing by irradiation with light such as ultraviolet rays.
  • the heating temperature is preferably 50 to 300 ° C, preferably 60 to 250 ° C, more preferably 80 to 150 ° C.
  • the exposure amount of the irradiation light is preferably 10 mJ / cm 2 to 10 J / cm 2 , and more preferably 100 mJ / cm 2 to 500 mJ / cm 2 .
  • the wavelength range of the irradiated light is not particularly limited, but light having a wavelength in the ultraviolet region is preferably used.
  • a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used.
  • a step of performing heat treatment at a temperature of 50 to 160 ° C. after forming the low refractive index layer may be included.
  • the period of the heat treatment may be appropriately determined depending on the set temperature. For example, if it is 50 ° C., it is preferably a period of 3 days or more and less than 30 days, and if it is 160 ° C., a range of 10 minutes or more and 1 day or less is preferable. .
  • the antireflection film according to another embodiment of the present invention can be produced, for example, as described later, using a transparent film substrate as the support substrate.
  • the low refractive index layer in the antireflection film can be formed by, for example, an optical film manufacturing apparatus shown in FIG.
  • FIG. 1 is a schematic view showing an optical film manufacturing apparatus.
  • the optical film manufacturing apparatus includes a feeding roller 1, a transport roller 2, a coating device 3, a first drying device 5, an active ray irradiation device 6, a second drying device 7, a winding device 8, and the like.
  • the feeding roller 1 is provided with a long film Y for forming the low refractive index layer on the surface, for example, the transparent film base material or the transparent film base material provided with the intermediate layer. Sequentially feed out.
  • the transport roller 2 sequentially transports the fed film Y to the coating device 3, the first drying device 5, the active ray irradiation device 6, the second drying device 7, the winding device 8, and the like.
  • the coating device 3 applies the above to the surface of the film Y whose running position is held by the facing roller 4 at a position facing the coating device 3.
  • Examples of the coating device 3 include an extrusion coater.
  • the first drying device 5 includes a plurality of rollers, and dries the coating solution for forming a low refractive index layer while the film Y is conveyed by the rollers.
  • the drying temperature may be appropriately selected and determined depending on the suitable amount of solvent to be left, but is preferably 50 to 120 ° C. Further, it may be dried at a constant temperature, or may be divided into three to four stages of temperature and may be divided into several stages of temperature.
  • the active ray irradiation apparatus 6 includes an active ray irradiation lamp 6a, a cooling medium supply unit 6b, and an atmospheric gas supply unit 6c.
  • the active ray irradiation lamp 6a irradiates the low refractive index layer forming coating solution with active rays.
  • a low-pressure mercury lamp, a medium-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultrahigh-pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, and a xenon lamp as described above can be used.
  • the cooling medium supply unit 6b supplies a medium for cooling the active ray irradiation lamp 6a. Examples of the medium include air.
  • the atmosphere gas supply unit 6c supplies an atmosphere gas suitable for curing the coating solution for forming a low refractive index layer around the film Y coated with the coating solution for forming a low refractive index layer.
  • the atmospheric gas include nitrogen gas and inert gas such as argon.
  • the second drying device 7 includes a plurality of rollers, and dries the coating liquid for forming a low refractive index layer while the film Y is conveyed by the rollers. That is, it is an apparatus for performing the heat treatment after forming the low refractive index layer described above.
  • the winding device 8 includes a winding core 15, a hot air outlet 10, and the like, and winds the film including the low refractive index layer around the winding core 15. At that time, warm air may be blown onto the film Y from the warm air outlet 10.
  • the optical film manufacturing apparatus shown in FIG. 1 uses an application liquid for forming an intermediate layer such as an antistatic layer or a hard coat layer in place of the application liquid for forming a low refractive index layer. Can be used to form.
  • an application liquid for forming an intermediate layer such as an antistatic layer or a hard coat layer in place of the application liquid for forming a low refractive index layer. Can be used to form.
  • the transparent film substrate is unwound in a roll form with a width of 1.4 to 4 m, applied, dried and cured, and then rolled. It is preferable to be wound into a shape.
  • the antireflection film can be manufactured by a manufacturing method in which an antireflection layer is laminated and then wound in a roll shape, and heat treatment is performed at a temperature of 50 to 160 ° C. This is preferable from the viewpoint of efficiency and stability. The heat treatment period may be appropriately determined depending on the set temperature.
  • the temperature is 50 ° C., it is preferably 3 days or more, less than 30 days, if the temperature is 160 ° C., 10 minutes or more, 1 day
  • the temperature is preferably set at a relatively low temperature so that the heat treatment effect on the outside of the winding, the center of the winding, and the core is not biased, and it is preferably performed at a temperature of about 50 to 60 ° C. for about 7 days.
  • the winding core for winding the antireflection film into a roll is not particularly limited as long as it is a cylindrical core, but is preferably a hollow plastic core, and the plastic material is a heat-resistant plastic that can withstand the heat treatment temperature.
  • the plastic material is a heat-resistant plastic that can withstand the heat treatment temperature.
  • Preferable examples include resins such as phenol resin, xylene resin, melamine resin, polyester resin, and epoxy resin.
  • a thermosetting resin reinforced with a filler such as glass fiber is preferable.
  • the number of windings on these winding cores is preferably 100 windings or more, more preferably 500 windings or more, and the winding thickness is preferably 5 cm or more.
  • the thickness of the low refractive index layer in the low reflective member according to this embodiment is more than 1 and less than 3 times the average particle diameter of the silica fine particles, and is 1.2 to 2.5 times. preferable. Further, the thickness of the low refractive index layer only needs to satisfy the above range. Specifically, for example, it is preferably 0.05 to 0.15 ⁇ m, and preferably 0.08 to 0.12 ⁇ m. It is more preferable.
  • the low refractive index layer is too thin, the amount of silica fine particles fixed in a state exposed from the surface of the low refractive index layer increases, and there is a tendency that the occurrence of silica fine particles cannot be sufficiently suppressed.
  • the said low-refractive-index layer is too thick, there exists a tendency for a reflectance to increase or the color of an interference fringe to become large.
  • the thickness of the low refractive index layer in the low reflective member according to this embodiment can be measured from a cross-sectional photograph obtained by photographing the low refractive index layer of the low reflective member with a TEM (transmission electron microscope). Then, from the measured thickness of the low refractive index layer and the average particle diameter of the silica fine particles, the ratio of the thickness of the low refractive index layer to the average particle diameter of the silica fine particles (the thickness of the low refractive index layer / the silica The average particle diameter of the fine particles can be calculated.
  • the surface roughness Ra of the low refractive index layer is less than 5 nm, preferably 4 nm or less, and more preferably 3 nm or less. Further, the surface roughness Ra of the low refractive index layer is preferably as small as possible, but is actually about 1 nm or more. If the surface roughness Ra of the low refractive index layer is too large, the amount of silica fine particles fixed in a state exposed from the surface of the low refractive index layer is increased, and the occurrence of silica fine particles falling off cannot be sufficiently suppressed. Tend.
  • the surface roughness Ra here is based on JIS B0601 2001. Specifically, for example, the surface of the low refractive index layer of the low reflection member is measured with an AFM (atomic force microscope). Is obtained by
  • Layer structure The example of the preferable layer structure of the antireflection film which concerns on other embodiment of this invention is shown below. Here, “/” indicates that they are stacked. However, the present invention is not limited to the following layer structure.
  • Film substrate / low refractive index layer Film substrate / antistatic layer / low refractive index layer Backcoat layer / film substrate / low refractive index layer Backcoat layer / film substrate / antistatic layer / low refractive index layer Backcoat Layer / film substrate / hard coat layer / antistatic layer / low refractive index layer back coat layer / film substrate / stringproof layer / antistatic layer / low refractive index layer
  • the antistatic layer and the hard coat layer may be provided as separate layers, or the antistatic layer may also serve as a hard coat layer for preventing scratches.
  • the hard coat layer is generally a layer made of an ionizing radiation curable resin such as a thermosetting resin or an ultraviolet curable resin, and requires a certain film thickness from the viewpoint of mechanical strength (pencil hardness, scratch resistance).
  • the pencil hardness is preferably 2H or more, preferably 3H or more, particularly preferably 4H or more.
  • the antistatic layer is preferably a layer mainly containing conductive fine particles and a binder resin.
  • the refractive index of the antistatic layer is preferably in the range of 1.45 to 1.60 when measured at a wavelength of 550 nm.
  • the antistatic layer is preferably a layer having a surface specific resistance adjusted to 10 13 ⁇ / cm 2 (25 ° C., 55% RH) or less. More preferably, it is 10 10 ⁇ / cm 2 (25 ° C., 55% RH) or less, and particularly preferably 10 9 ⁇ / cm 2 (25 ° C., 55% RH) or less.
  • the measurement of the surface specific resistance is a value measured using a resistivity meter after conditioning the sample for 24 hours under the conditions of 25 ° C. and 55% RH.
  • a resistivity meter device for example, Hiresta UP MCP-HT450 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation can be used.
  • the binder resin is preferably an ionizing radiation curable resin as described above.
  • an acrylic compound used for the low refractive index layer is preferably used.
  • the addition amount of the ionizing radiation curable resin is 15% by mass or more and less than 80% by mass in the solid content in the antistatic layer and hard coat layer forming composition (hereinafter also referred to as antistatic layer coating solution). Is preferred.
  • the antistatic layer and the hard coat layer contain a photopolymerization initiator in order to accelerate the curing of the ionizing radiation curable resin.
  • photopolymerization initiator examples include acetophenone, benzophenone, hydroxybenzophenone, Michler ketone, ⁇ -amyloxime ester, thioxanthone, and derivatives thereof, but are not particularly limited thereto.
  • the conductive fine particles in the antistatic layer according to this embodiment are preferably metal oxide particles or ⁇ -conjugated conductive polymers.
  • the type of metal oxide particles is not particularly limited, and Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, Fe, Mn, Pb, Cd, As, Cr, Hg, Zn, Al, Mg, Si, P, and S
  • a metal oxide having at least one element selected from can be used. Further, these metal oxide particles may be doped with a trace amount of atoms such as Al, In, Sn, Sb, Nb, a halogen element, and Ta. A mixture of these may also be used.
  • the average particle diameter of the primary particles of these metal oxide particles is in the range of 10 nm to 200 nm, more preferably 20 to 150 nm, and particularly preferably 30 to 100 nm.
  • the average particle diameter of the metal oxide particles can be measured from an electron micrograph using a scanning electron microscope (SEM) or the like. Further, it may be measured by a particle size distribution meter using a dynamic light scattering method or a static light scattering method. If the particle size is too small, aggregation tends to occur and the dispersibility deteriorates. If the particle size is too large, the haze is remarkably increased.
  • the shape of the metal oxide particles is preferably a rice grain shape, a spherical shape, a cubic shape, a spindle shape, a needle shape, or an indefinite shape.
  • the metal oxide particles may be surface treated with an organic compound.
  • an organic compound By modifying the surface of the metal oxide particles with an organic compound, the dispersion stability in an organic solvent is improved, the dispersion particle diameter can be easily controlled, and aggregation and sedimentation over time can be suppressed. .
  • the surface modification amount with a preferable organic compound is 0.1 to 5% by mass, more preferably 0.5 to 3% by mass with respect to the metal oxide particles.
  • the organic compound used for the surface treatment include polyols, alkanolamines, stearic acid, silane coupling agents, and titanate coupling agents. Among these, the silane coupling agent mentioned later is preferable. Two or more surface treatments may be combined.
  • the metal oxide particles are supplied to a coating solution for forming an antistatic layer in a dispersion state dispersed in a medium.
  • a dispersion medium for metal oxide particles a liquid having a boiling point of 60 to 170 ° C. is preferably used.
  • the dispersion solvent include water, alcohol (eg, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, benzyl alcohol), ketone (eg, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone), ketone alcohol (eg, diacetone alcohol).
  • Esters eg, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate
  • aliphatic hydrocarbons eg, hexane, cyclohexane
  • halogenated hydrocarbons eg, methylene) Chloride, chloroform, carbon tetrachloride
  • aromatic hydrocarbons eg, benzene, toluene, xylene
  • amides eg, dimethylformamide, dimethylacetamide, n-methylpyrrolidone
  • ethers eg, diethyl ether, dioxane, Tiger hydrofuran
  • ether alcohols e.g., 1-methoxy-2-propanol
  • propylene glycol monomethyl ether propylene glycol monomethyl ether
  • the metal oxide particles can be dispersed in the medium using a disperser.
  • the disperser include a sand grinder mill (eg, a bead mill with pins), a high-speed impeller mill, a pebble mill, a roller mill, an attritor, and a colloid mill.
  • a sand grinder mill and a high-speed impeller mill are particularly preferred.
  • preliminary dispersion processing may be performed.
  • the disperser used for the preliminary dispersion treatment include a ball mill, a three-roll mill, a kneader, and an extruder. It is also preferable to contain a dispersant.
  • metal oxide particles having a core / shell structure may be included. One layer of the shell may be formed around the core, or a plurality of layers may be formed in order to further improve the light resistance.
  • the core is preferably completely covered by the shell.
  • the ⁇ -conjugated conductive polymer used in this embodiment can be any organic polymer whose main chain is composed of a ⁇ -conjugated system.
  • examples thereof include polythiophenes, polypyrroles, polyanilines, polyphenylenes, polyacetylenes, polyphenylene vinylenes, polyacenes, polythiophene vinylenes, and copolymers thereof. From the viewpoint of ease of polymerization and stability, polythiophenes, polypyrroles, and polyanilines are preferred.
  • the ⁇ -conjugated conductive polymer can provide sufficient conductivity and solubility in a binder resin even if it is not substituted, but in order to further improve conductivity and solubility, an alkyl group, a carboxy group, a sulfo group, an alkoxy group.
  • a functional group such as a group, a hydroxy group, or a cyano group may be introduced.
  • ⁇ -conjugated conductive polymers include polythiophene, poly (3-methylthiophene), poly (3-ethylthiophene), poly (3-propylthiophene), poly (3-butylthiophene), poly (3-hexylthiophene), poly (3-octylthiophene), poly (3-decylthiophene), poly (3-dodecylthiophene), poly (3-bromothiophene), poly (3-chlorothiophene), poly (3 -Cyanothiophene), poly (3-phenylthiophene), poly (3,4-dimethylthiophene), poly (3,4-dibutylthiophene), poly (3-hydroxythiophene), poly (3-methoxythiophene), poly (3-ethoxythiophene), poly (3-butoxythiophene), poly (3-hexyloxythio) Phen), poly (3-octyloxythi
  • a dopant component may be added to these ⁇ -conjugated conductive polymers.
  • the dopant component include low molecular weight dopants such as halogens, Lewis acids, proton acids, transition metal halides, and polymers such as polyanions.
  • a polyanion is a polymer having an anionic group that functions as a dopant for a ⁇ -conjugated conductive polymer, and is a substituted or unsubstituted polyalkylene, a substituted or unsubstituted polyalkenylene, a substituted or unsubstituted polyimide, a substituted or unsubstituted Substituted polyamides, substituted or unsubstituted polyesters, and copolymers thereof, comprising a structural unit having an anionic group and a structural unit having no anionic group.
  • Polyalkylene is a polymer whose main chain is composed of repeating methylene, and examples thereof include polyethylene, polypropylene, polybutene, polypentene, polyhexene, polyvinyl alcohol, polyvinylphenol, polyacrylonitrile, polyacrylate, polystyrene, and the like.
  • Polyalkenylene is a polymer composed of structural units containing one or more unsaturated bonds in the main chain.
  • propenylene 1-methylpropenylene, 1-butylpropenylene, 1-decylpropenylene, 1-cyanopropene Nylene, 1-phenylpropenylene, 1-hydroxypropenylene, 1-butenylene, 1-methyl-1-butenylene, 1-ethyl-1-butenylene, 1-octyl-1-butenylene, 2-methyl-1-butenylene, 2-ethyl-1-butenylene, 2-butyl-1-butenylene, 2-hexyl-1-butenylene, 2-octyl-1-butenylene, 2-decyl-1-butenylene, 2-phenyl-1-butenylene, 2- Butenylene, 1-methyl-2-butenylene, 1-ethyl-2-butenylene, 1-octyl-2-butenylene, -Methyl-2-
  • polyimides examples include pyromellitic dianhydride, biphenyltetracarboxylic dianhydride, benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2 ', 3,3'-tetracarboxydiphenyl ether dianhydride, 2,2'-[4 , 4′-di (dicarboxyphenyloxy) phenyl] propane dianhydride and the like, and a polyimide comprising diamine such as oxydiamine, paraphenylenediamine, metaphenylenediamine, and benzophenonediamine.
  • diamine such as oxydiamine, paraphenylenediamine, metaphenylenediamine, and benzophenonediamine.
  • Polyamide includes polyamide 6, polyamide 6,6, polyamide 6,10 and the like.
  • polyester examples include polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate.
  • the anion group of the polyanion may be a functional group that can undergo chemical oxidation doping to the ⁇ -conjugated conductive polymer, but from the viewpoint of ease of production and stability, a monosubstituted sulfate group and a monosubstituted phosphate ester Group, phosphoric acid group, carboxy group, sulfo group and the like are preferable. Furthermore, from the viewpoint of the doping effect of the functional group on the ⁇ -conjugated conductive polymer, a sulfo group, a monosubstituted sulfate group, and a carboxy group are more preferable.
  • polyanion examples include polyvinyl sulfonic acid, polystyrene sulfonic acid, polyallyl sulfonic acid, polyacrylic acid ethyl sulfonic acid, polyacrylic acid butyl sulfonic acid, poly (2-acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid), polyisoprene.
  • These homopolymers may be used, or two or more types of copolymers may be used.
  • polystyrene sulfonic acid, polyisoprene sulfonic acid, polyacrylic acid ethyl sulfonic acid, and polyacrylic acid butyl sulfonic acid are preferable.
  • These polyanions have high compatibility with the binder resin, and can further increase the conductivity of the obtained conductive layer.
  • the following donor or acceptor dopant can be used as long as the ⁇ -conjugated conductive polymer can be oxidized and reduced.
  • Donor dopants include alkali metals such as sodium and potassium, alkaline earth metals such as calcium and magnesium, quaternary compounds such as tetramethylammonium, tetraethylammonium, tetrapropylammonium, tetrabutylammonium, methyltriethylammonium and dimethyldiethylammonium. An amine compound etc. are mentioned.
  • acceptor dopant examples include halogen compounds such as Cl 2 , Br 2 , I 2 , ICl, IBr, and IF, Lewis acids such as PF 5 , AsF 5 , SbF 5 , BF 5 , BCl 5 , BBr 5 , and SO 3 , Tetracyanoethylene, tetracyanoethylene oxide, tetracyanobenzene, dichlorodicyanobenzoquinone, tetracyanoquinodimethane, tetracyanoazanaphthalene and other organic cyano compounds, proton acids, organometallic compounds, fullerenes, hydrogenated fullerenes, hydroxylated fullerenes, Carboxy oxide fullerene, sulfonated fullerene and the like can be used.
  • halogen compounds such as Cl 2 , Br 2 , I 2 , ICl, IBr, and IF
  • Lewis acids such as PF 5 , AsF 5
  • Examples of proton acids include inorganic acids and organic acids.
  • Examples of the inorganic acid include hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, hydrofluoric acid, perchloric acid and the like.
  • organic carboxylic acid, organic sulfonic acid, etc. are mentioned as an organic acid.
  • organic carboxylic acid aliphatic, aromatic, cycloaliphatic or the like containing one or more carboxy groups
  • organic sulfonic acid aliphatic, aromatic, cycloaliphatic or the like containing one or more sulfo groups or a polymer containing sulfo groups can be used.
  • Examples of those containing one sulfo group include methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, 1-propanesulfonic acid, 1-butanesulfonic acid, 1-hexanesulfonic acid, 1-heptanesulfonic acid, 1-octanesulfonic acid, 1-nonanesulfonic acid, 1-decanesulfonic acid, 1-pentadecanesulfonic acid, 2-bromoethanesulfonic acid, 3-chloro-2-hydroxypropanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, trifluoroethanesulfonic acid, colistin methanesulfone Acid, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid, aminomethanesulfonic acid, 1-amino-2-naphthol-4-sulfonic acid, 2-amino-5-naphthol-7-sulfonic acid, 3-aminopropanesulf
  • Examples of those containing two or more sulfo groups include ethanedisulfonic acid, butanedisulfonic acid, pentanedisulfonic acid, decanedisulfonic acid, o-benzenedisulfonic acid, m-benzenedisulfonic acid, p-benzenedisulfonic acid, and toluenedisulfonic acid.
  • Xylene disulfonic acid chlorobenzene disulfonic acid, fluorobenzene disulfonic acid, dimethylbenzene disulfonic acid, diethylbenzene disulfonic acid, aniline-2,4-disulfonic acid, aniline-2,5-disulfonic acid, 3,4-dihydroxy-1,3 Benzenedisulfonic acid, naphthalene disulfonic acid, methyl naphthalene disulfonic acid, ethyl naphthalene disulfonic acid, pentadecyl naphthalene disulfonic acid, 3-amino-5-hydroxy-2,7-naphthalene disulfonic acid, 1 Acetamide-8-hydroxy-3,6-naphthalenedisulfonic acid, 2-amino-1,4-benzenedisulfonic acid, 1-amino-3,8-naphthalenedisulfonic acid, 3-amino-1,5-naphthalenedisulf
  • the ionic compound include imidazolium-based, pyridium-based, alicyclic amine-based, aliphatic amine-based, aliphatic phosphonium-based cations and inorganic ion-based compounds such as BF 4 ⁇ and PF 6 ⁇ , CF 3 SO 2 ⁇ , and the like. , (CF 3 SO 2 ) 2 N ⁇ , CF 3 CO 2 —, etc.
  • the conductive fine particles are preferably 0.01 parts by weight to 300 parts by weight, more preferably 0.1 parts by weight to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the ionizing radiation curable resin used as the binder.
  • a binder such as a thermoplastic resin, a thermosetting resin, or a hydrophilic resin such as gelatin can be used.
  • the antistatic layer and the hard coat layer may contain particles of an inorganic compound or an organic compound in order to adjust slipperiness and refractive index.
  • Inorganic fine particles include silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, tin oxide, indium oxide, ITO, zinc oxide, zirconium oxide, magnesium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, water Mention may be made of Japanese calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate and calcium phosphate.
  • silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, magnesium oxide and the like are preferably used.
  • Organic particles include polymethacrylic acid methyl acrylate resin powder, acrylic styrene resin powder, polymethyl methacrylate resin powder, silicon resin powder, polystyrene resin powder, polycarbonate resin powder, benzoguanamine resin powder, and melamine resin. Powder, polyolefin resin powder, polyester resin powder, polyamide resin powder, polyimide resin powder, polyfluoroethylene resin powder, or the like can be added.
  • Preferred fine particles include crosslinked polystyrene particles (for example, SX-130H, SX-200H, SX-350H manufactured by Soken Chemical), polymethyl methacrylate-based particles (for example, MX150 and MX300 manufactured by Soken Chemical), and fluorine-containing acrylic resin fine particles. .
  • fluorine-containing acrylic resin fine particles examples include commercially available products such as FS-701 manufactured by Nippon Paint.
  • examples of the acrylic particles include Nippon Paint: S-4000, and examples of the acrylic-styrene particles include Nippon Paint: S-1200, MG-251.
  • the average particle diameter of these fine particle powders is not particularly limited, but is preferably 0.5 ⁇ m or less, more preferably 0.1 ⁇ m or less, particularly preferably 0. 001 to 0.1 ⁇ m.
  • the average particle diameter of the fine particles can be measured by, for example, a laser diffraction particle size distribution measuring apparatus.
  • two or more kinds of fine particles having different particle diameters may be contained. It is desirable that the proportion of the ultraviolet curable resin and the fine particles is 0.1 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin.
  • the antistatic layer and the hard coat layer are formed of a coating composition for forming the antistatic layer and the hard coat layer using a known method such as a gravure coater, a dip coater, a reverse coater, a wire bar coater, a die coater, and an ink jet method. It can be formed by coating, drying after application, and UV curing.
  • the coating amount is suitably 0.1 to 40 ⁇ m as wet film thickness, and preferably 0.5 to 30 ⁇ m.
  • the dry film thickness is from 0.1 to 30 ⁇ m, preferably from 1 to 20 ⁇ m, particularly preferably from 6 to 15 ⁇ m.
  • any light source that generates ultraviolet rays can be used without limitation.
  • a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used.
  • Irradiation conditions vary depending on each lamp, but the irradiation amount of active rays is usually 5 to 500 mJ / cm 2 , preferably 5 to 200 mJ / cm 2 .
  • irradiating active rays it is preferably performed while applying tension in the film transport direction, more preferably while applying tension in the width direction.
  • the tension to be applied is preferably 30 to 300 N / m.
  • the method for applying tension is not particularly limited, and tension may be applied in the conveying direction on the back roll, or tension may be applied in the width direction or biaxial direction by a tenter. This makes it possible to obtain a film with further excellent flatness.
  • a solvent may be contained in the coating composition for forming the antistatic layer and the hard coat layer.
  • the organic solvent contained in the coating composition include hydrocarbons (toluene, xylene), alcohols (methanol, ethanol, isopropanol, butanol, cyclohexanol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone), These may be appropriately selected from esters (methyl acetate, ethyl acetate, methyl lactate), glycol ethers, and other organic solvents, or may be used by mixing them.
  • organic solvent propylene glycol monoalkyl ether (1 to 4 carbon atoms of the alkyl group) or propylene glycol monoalkyl ether acetate (1 to 4 carbon atoms of the alkyl group) is preferable.
  • the content of the organic solvent is preferably 5 to 80% by mass in the coating composition.
  • the antistatic layer and the hard coat layer contain the following silicone surfactant or polyoxyether compound described in the low refractive index layer. These enhance the applicability. Further, these components are preferably added in a range of 0.01 to 3% by mass with respect to the solid component in the coating solution.
  • polyoxyether compound examples include polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene cetyl ether, polyoxyethylene alkyl ether compounds such as polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene nonylphenyl ether, polyoxyethylene Polyoxyalkyl phenyl ether compounds such as ethylene octyl phenyl ether, polyoxyalkylene alkyl ether, polyoxyethylene higher alcohol ether, polyoxyethylene octyldodecyl ether and the like can be mentioned.
  • polyoxyethylene alkyl ether Commercially available products of polyoxyethylene alkyl ether include Emulgen 1108, Emulgen 1118S-70 (above, manufactured by Kao Corporation), and commercially available products of polyoxyethylene lauryl ether include Emulgen 103, Emulgen 104P, Emulgen 105, Emulgen 106, Emulgen 108, Emulgen 109P, Emulgen 120, Emulgen 123P, Emulgen 147, Emulgen 150, Emulgen 130K (above, manufactured by Kao Corporation), and polyoxyethylene cetyl ether are commercially available products of Emulgen 210P, Emulgen 220 (above, Kao Corporation) As commercially available products of polyoxyethylene stearyl ether, Emulgen 220, Emulgen 306P (above, manufactured by Kao Corporation), and commercially available products of polyoxyalkylene alkyl ether include Examples of commercially available products of Rugen LS-106, Emulgen LS-110, Emulgen LS-
  • polyoxyethylene oleyl ether compounds are preferable, and are compounds represented by the following general formula (21).
  • n 2 to 40.
  • the average number (n) of ethylene oxide added to the oleyl moiety is 2 to 40, preferably 2 to 10.
  • the compound of the said General formula (1) is obtained by making ethylene oxide and oleyl alcohol react.
  • Emulgen 404 [polyoxyethylene (4) oleyl ether], Emulgen 408 [polyoxyethylene (8) oleyl ether], Emulgen 409P [polyoxyethylene (9) oleyl ether], Emulgen 420 [polyoxy Ethylene (13) oleyl ether], Emulgen 430 [polyoxyethylene (30) oleyl ether] (above, manufactured by Kao Corporation), NOFBLEEAO-9905 (polyoxyethylene (5) oleyl ether) manufactured by NOF Corporation.
  • () represents the number of n.
  • Polyoxyether compounds may be used alone or in combination of two or more.
  • the preferable content of the polyoxyether compound and the silicone surfactant in the antistatic layer and the hard coat layer is preferably 0.1 to 8.0% by mass, more preferably 0.2 to It is 4.0 mass%, and it exists stably in an antistatic layer by adding in this range.
  • a fluorine surfactant an acrylic copolymer, an acetylene glycol compound or a nonionic surfactant, a radical polymerizable nonionic surfactant, or the like may be used in combination.
  • Nonionic surfactants include polyoxyethylene monolaurate, polyoxyethylene monostearate, polyoxyalkyl ester compounds such as polyoxyethylene monooleate, sorbitan monolaurate, sorbitan monostearate, sorbitan monooleate, etc. Sorbitan ester compounds, and the like.
  • acetylene glycol compounds examples include Surfinol 104E, Surfinol 104PA, Surfinol 420, Surfinol 440, Dinol 604 (manufactured by Nissin Chemical Industry Co., Ltd.) and the like.
  • radical polymerizable nonionic surfactant examples include polyoxyalkylene alkylphenyl ether (meth) acrylates such as RMA-564, RMA-568, and RMA-1114 (above, trade name, manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd.). Examples thereof include system polymerizable surfactants.
  • the antistatic layer and the hard coat layer may contain a polyfunctional thiol compound as a curing aid, such as 1,4-bis (3-mercaptobutyryloxy) butane, pentaerythritol tetrakis (3-mercaptobutyrate). Rate), 1,3,5-tris (3-mercaptobutyloxyethyl) -1,3,5-triazine-2,4,6- (1H, 3H, 5H) -trione and the like.
  • a polyfunctional thiol compound such as 1,4-bis (3-mercaptobutyryloxy) butane, pentaerythritol tetrakis (3-mercaptobutyrate). Rate), 1,3,5-tris (3-mercaptobutyloxyethyl) -1,3,5-triazine-2,4,6- (1H, 3H, 5H) -trione and the like.
  • a polyfunctional thiol compound such as 1,4-bis (3-mer
  • the polyfunctional thiol compound is preferably added in the range of 0.01 to 50 parts by mass, more preferably 0.05 to 30 parts by mass, with respect to 100 parts by mass of the ultraviolet curable resin. By adding in this range, it acts suitably as a curing aid, and also exists stably in the antistatic layer and the hard coat layer.
  • the antistatic layer may have a multilayer structure of two or more layers.
  • One of the layers may be, for example, a so-called clear hard coat layer that does not contain metal oxide particles, and a color tone adjusting agent (dye or pigment, etc.) having a color tone adjusting function as a color correction filter for various display elements. ), Or may contain an electromagnetic wave blocking agent or an infrared absorber so as to have each function.
  • a backcoat layer may be provided on the surface of the transparent film substrate opposite to the side on which the antistatic layer, the hard coat layer, and the antireflection layer are provided.
  • the back coat layer is provided in order to correct curling caused by providing an antistatic layer, a hard coat layer, and an antireflection layer. That is, the degree of curling can be balanced by imparting the property of being rounded with the surface on which the backcoat layer is provided facing inward.
  • the backcoat layer is preferably applied also as an antiblocking layer, and in this case, particles of an inorganic compound or an organic compound are added to the backcoat layer coating composition in order to provide an antiblocking function. Is preferred.
  • examples of inorganic compounds include silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, tin oxide, and oxidation. Mention may be made of indium, zinc oxide, ITO, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate and calcium phosphate.
  • These particles include, for example, Aerosil R972, R972V, R974, R812, 200, 200V, 300, R202, OX50, TT600 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.), Seahoster KE-P10, KE-P30, KE- P50, KE-P100, KE-P150, KE-P250 (above, manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) are commercially available and can be used.
  • organic compounds examples include silicone resin, fluororesin and acrylic resin. Silicone resins are preferable, and those having a three-dimensional network structure are particularly preferable. For example, Tospearl 103, 105, 108, 120, 145, 3120 and 240 (manufactured by GE Toshiba Silicone Co., Ltd.) It is marketed by name and can be used.
  • Aerosil 200V, Aerosil R972V, Seahoster KE-P30, KE-P50, and KE-P100 are particularly preferred because they have a large anti-blocking effect while keeping haze low.
  • the particles contained in the backcoat layer are 0.1 to 50% by mass, preferably 0.1 to 10% by mass with respect to the binder.
  • the increase in haze is preferably 1.5% or less, more preferably 0.5% or less, and particularly preferably 0.1% or less.
  • the coating composition used for coating the backcoat layer contains a solvent.
  • the solvent include dioxane, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, N, N-dimethylformamide, methyl acetate, ethyl acetate, trichloroethylene, methylene chloride, ethylene chloride, tetrachloroethane, trichloroethane, chloroform, water, methanol, ethanol, Examples include n-propyl alcohol, i-propyl alcohol, n-butanol, cyclohexanone, cyclohexanol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, or hydrocarbons (toluene, xylene). .
  • Examples of the resin used as the binder for the backcoat layer include vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, vinyl acetate-vinyl alcohol copolymer, partially hydrolyzed vinyl chloride-vinyl acetate copolymer.
  • Vinyl-based polymers or copolymers nitrocellulose, cellulose acetate propionate (preferably acetyl group substitution degree 1.8-2.3, propionyl group substitution degree 0.1-1.0), diacetylcellulose, cellulose Cellulose derivatives such as acetate butyrate resin, maleic acid and Or acrylic acid copolymer, acrylic ester copolymer, acrylonitrile-styrene copolymer, chlorinated polyethylene, acrylonitrile-chlorinated polyethylene-styrene copolymer, methyl methacrylate-butadiene-styrene copolymer, acrylic resin, Polyvinyl alcohol resin, polyvinyl acetal resin, polyvinyl butyral resin, urethane resin, polyester polyurethane resin, polyether polyurethane resin, polycarbonate polyurethane resin, polyester resin, polyether resin, polyamide resin, amino resin, styrene-butadiene resin, butadiene-acrylonitrile
  • acrylic resin Acrypet MD, VH, MF, V (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), Hyperl M-4003, M-4005, M-4006, M-4202, M-5000, M-5001, M -4501 (manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.), Dialnal BR-50, BR-52, BR-53, BR-60, BR-64, BR-73, BR-75, BR-77, BR-79, BR- 80, BR-82, BR-83, BR-85, BR-87, BR-88, BR-90, BR-93, BR-95, BR-100, BR-101, BR-102, BR-105, BR-106, BR-107, BR-108, BR-112, BR-113, BR-115, BR-116, BR-117, BR-118, etc. (made by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) And
  • a resin used as a binder it is preferable to use a blend of cellulose ester such as cellulose diacetate and cellulose acetate prothionate and an acrylic resin, and the refractive index of the particles and the binder using particles made of an acrylic resin. By setting the difference to 0 to less than 0.02, a highly transparent back coat layer can be obtained.
  • the dynamic coefficient of friction of the backcoat layer is preferably 0.9 or less, particularly preferably 0.1 to 0.9.
  • the above-described coating composition for forming the backcoat layer is formed using a gravure coater, a dip coater, a reverse coater, a wire bar coater, a die coater, or spray coating, inkjet coating, or the like. It is preferable to apply a wet film thickness of 1 to 100 ⁇ m on the surface of the transparent resin film, but it is particularly preferable that the thickness is 5 to 30 ⁇ m.
  • a backcoat layer is formed by heat-drying after application
  • the content described in the low refractive index layer can be used for the curing treatment.
  • the backcoat layer can be applied in two or more steps. Further, the backcoat layer may also serve as an easy adhesion layer for improving the adhesion with the polarizer.
  • the support substrate is not particularly limited as long as it is used as a support substrate for a low reflection member, and a known support substrate can be used. And as a transparent film base material which is a support base material at the time of an antireflection film, the following are mentioned.
  • the transparent film substrate is easy to manufacture, easily adheres to the low refractive index layer, etc., and is optically isotropic. Any of these may be used, for example, cellulose ester films such as triacetyl cellulose film, cellulose acetate propionate ionate film, cellulose diacetate film, cellulose acetate butyrate film, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, etc.
  • cellulose ester films such as triacetyl cellulose film, cellulose acetate propionate ionate film, cellulose diacetate film, cellulose acetate butyrate film, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, etc.
  • Polyester film such as phthalate, polycarbonate film, polyarylate film, polysulfone (including polyethersulfone) film, polyethylene film, polypropylene film, cellophane, polyvinylidene chloride film, polyvinyl alcohol film, ethylene vinyl alcohol film, Shinji Otectic polystyrene film, norbornene resin film, polymethylpentene
  • examples include, but are not limited to, film, polyether ketone film, polyether ketone imide film, polyamide film, fluororesin film, nylon film, cycloolefin polymer film, polymethyl methacrylate film or acrylic film. Absent.
  • cellulose ester films for example, Konica Minoltac KC8UX, KC4UX, KC5UX, KC8UCR3, KC8UCR4, KC8UCR5, KC8UY, KC4UE, KC4UE, and KC12UR (above, manufactured by Konica Minolta Opto, Polycarbonate Film)
  • An olefin polymer film and a polyester film are preferable, and in the present embodiment, a cellulose ester film is particularly preferable because production, cost, isotropy, adhesiveness, and the object effect of the present invention are suitably obtained.
  • a cellulose ester film (hereinafter also referred to as a cellulose ester film) preferable as a transparent film substrate will be described.
  • the cellulose ester resin (hereinafter also referred to as cellulose ester) is preferably a lower fatty acid ester of cellulose.
  • the lower fatty acid in the lower fatty acid ester of cellulose means a fatty acid having 6 or less carbon atoms.
  • a mixed fatty acid such as cellulose acetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate, etc. Esters can be used.
  • the mixed fatty acid ester may be a known cellulose acetate propionate or cellulose acetate butyrate.
  • JP-A-10-45804, JP-A-08-231761, and US Mixed fatty acid esters such as cellulose acetate propionate and cellulose acetate butyrate described in Japanese Patent No. 2,319,052 can be used.
  • the lower fatty acid esters of cellulose particularly preferably used are cellulose triacetate and cellulose acetate propionate. These cellulose esters can be used alone or in combination.
  • cellulose triacetate those having an average degree of acetylation (bound acetic acid amount) of 54.0 to 62.5% are preferably used, and more preferably an average degree of acetylation of 58.0 to 62.5%.
  • Cellulose triacetate When the average degree of acetylation is small, the dimensional change is large, and the polarization degree of the polarizing plate is lowered. When the average degree of acetylation is large, the solubility in a solvent is lowered and the productivity is lowered.
  • Preferred cellulose esters other than cellulose triacetate have an acyl group having 2 to 4 carbon atoms as a substituent, and when the substitution degree of acetyl group is X and the substitution degree of propionyl group or butyryl group is Y, the following formula ( It is a cellulose ester containing the cellulose ester which satisfy
  • cellulose acetate propionate is preferably used, and it is particularly preferable that 1.9 ⁇ X ⁇ 2.5 and 0.1 ⁇ Y ⁇ 0.9.
  • the portion that is not substituted with an acyl group usually exists as a hydroxyl group. These can be synthesized by known methods. The method for measuring the substitution degree of the acyl group can be measured according to ASTM-D817-96.
  • the molecular weight of the cellulose ester is preferably a number average molecular weight (Mn) of 60,000 to 300,000, more preferably 70,000 to 200,000, particularly preferably 100,000 to 200,000.
  • the cellulose ester used in this embodiment preferably has a weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn) ratio of 4.0 or less, more preferably 1.4 to 2.3.
  • the average molecular weight and molecular weight distribution of the cellulose ester can be measured using high performance liquid chromatography, the number average molecular weight (Mn) and the weight average molecular weight (Mw) can be calculated using this, and the ratio can be calculated.
  • the measurement conditions are as follows.
  • a cellulose ester synthesized using cotton linter, wood pulp, kenaf or the like as a raw material can be used alone or in combination.
  • a cellulose ester synthesized from cotton linter hereinafter sometimes simply referred to as linter
  • linter a cellulose ester synthesized from cotton linter
  • the cellulose ester film preferably contains an acrylic resin from the viewpoint that the objective effect of the present invention is better exhibited.
  • Acrylic resin includes methacrylic resin.
  • the resin is not particularly limited, but a resin comprising 50 to 99% by mass of methyl methacrylate units and 1 to 50% by mass of other monomer units copolymerizable therewith is preferable.
  • Examples of other copolymerizable monomers include alkyl methacrylates having 2 to 18 alkyl carbon atoms, alkyl acrylates having 1 to 18 carbon atoms, alkyl acrylates such as acrylic acid and methacrylic acid.
  • Examples thereof include unsaturated nitrile, maleic anhydride, maleimide, N-substituted maleimide, glutaric anhydride, and the like. These can be used alone or in combination of two or more.
  • methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, n-butyl acrylate, s-butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, and the like are preferable from the viewpoint of thermal decomposition resistance and fluidity of the copolymer.
  • n-Butyl acrylate is particularly preferably used.
  • the acrylic resin preferably has a weight average molecular weight (Mw) of 80,000 to 1,000,000 from the viewpoint of mechanical strength as a film and fluidity when the film is produced.
  • Mw weight average molecular weight
  • a weight average molecular weight (Mw) can be measured using said high performance liquid chromatography.
  • the production method of the acrylic resin is not particularly limited, and any known method such as suspension polymerization, emulsion polymerization, bulk polymerization, or solution polymerization may be used.
  • a polymerization initiator a normal peroxide type and an azo type can be used, and a redox type can also be used.
  • the polymerization temperature may be 30 to 100 ° C. for suspension or emulsion polymerization, and 80 to 160 ° C. for bulk or solution polymerization.
  • polymerization can be carried out using alkyl mercaptan or the like as a chain transfer agent. With this molecular weight, both heat resistance and brittleness can be achieved.
  • a commercially available thing can also be used as an acrylic resin.
  • Delpet 60N, 80N (Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd.), Dialal BR52, BR80, BR83, BR85, BR88 (Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), KT75 (Electrochemical Industry Co., Ltd.) and the like can be mentioned. .
  • the cellulose ester film preferably contains an acrylic resin and further acrylic particles because the objective effect of the present invention is exhibited well and the pencil hardness is excellent.
  • Acrylic particles for example, a PTFE membrane having a pore diameter less than the average particle diameter of acrylic particles when a predetermined amount of the prepared acrylic resin-containing film is collected, dissolved in a solvent, stirred, and sufficiently dissolved and dispersed. It is preferable that the weight of the insoluble matter filtered and collected using a filter is 90% by mass or more of the acrylic particles added to the acrylic resin-containing film.
  • the acrylic particles are not particularly limited, but are preferably acrylic particles having a layer structure of two or more layers, and more preferably the following multilayer structure acrylic granular composite.
  • the multilayer structure acrylic granular composite is formed by laminating the innermost hard layer polymer, the cross-linked soft layer polymer exhibiting rubber elasticity, and the outermost hard layer polymer from the central portion toward the outer peripheral portion.
  • Preferred embodiments of the multilayer structure acrylic granular composite used in the acrylic resin composition include the following.
  • (c) the innermost hard In the presence of a polymer comprising a layer and a crosslinked soft layer, a monomer mixture comprising 80 to 99% by mass of methyl methacrylate and 1 to 20% by mass of alkyl
  • Outermost hard layer polymer obtained by And the obtained three-layer structure polymer has an innermost hard layer polymer (a) of 5 to 40% by mass, a soft layer polymer (b) of 30 to 60% by mass, and an outermost layer polymer.
  • a hard layer polymer (c) comprising 20 to 50% by mass, having an insoluble part when fractionated with acetone, and an acrylic granular composite having a methyl ethyl ketone swelling degree of 1.5 to 4.0 in the insoluble part, Can be mentioned.
  • composition and particle size of each layer of the multilayer structure acrylic granular composite In addition to defining the composition and particle size of each layer of the multilayer structure acrylic granular composite, set the tensile modulus of the multilayer structure acrylic granular composite and the methyl ethyl ketone swelling degree of the acetone insoluble part within a specific range. This makes it possible to achieve a further balance between impact resistance and stress whitening resistance. Further, if an example in which the composition and particle size of each layer of the multilayer structure acrylic granular composite is only specified is mentioned, for example, it is disclosed in Japanese Patent Publication No. 60-17406 or Japanese Patent Publication No. 3-39095. Things.
  • the innermost hard layer polymer (a) constituting the multilayer structure acrylic granular composite is 80 to 98.9% by mass of methyl methacrylate and 1 to 20 mass of alkyl acrylate having 1 to 8 carbon atoms in the alkyl group. % And a monomer mixture consisting of 0.01 to 0.3% by mass of a polyfunctional grafting agent is preferred.
  • examples of the alkyl acrylate having 1 to 8 carbon atoms in the alkyl group include methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, n-butyl acrylate, s-butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, and the like. And n-butyl acrylate are preferably used.
  • the proportion of the alkyl acrylate unit in the innermost hard layer polymer (a) is 1 to 20% by mass.
  • the thermal decomposability of the polymer is increased, while the unit is 20% by mass. If it exceeds 50%, the glass transition temperature of the innermost hard layer polymer (c) is lowered, and the impact resistance imparting effect of the three-layer structure acrylic granular composite is lowered.
  • polyfunctional grafting agent examples include polyfunctional monomers having different polymerizable functional groups, such as allyl esters of acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, and fumaric acid, and allyl methacrylate is preferably used.
  • the polyfunctional grafting agent is used to chemically bond the innermost hard layer polymer and the soft layer polymer, and the ratio used during the innermost hard layer polymerization is 0.01 to 0.3% by mass. .
  • the crosslinked soft layer polymer (b) constituting the acrylic granular composite is an alkyl acrylate having from 9 to 8 carbon atoms having an alkyl group of 1 to 8 in the presence of the innermost hard layer polymer (a). What is obtained by polymerizing a monomer mixture consisting of 10% by mass, 0.01 to 5% by mass of a polyfunctional crosslinking agent and 0.5 to 5% by mass of a polyfunctional grafting agent is preferred.
  • n-butyl acrylate or 2-ethylhexyl acrylate is preferably used as the alkyl acrylate having 4 to 8 carbon atoms in the alkyl group.
  • Examples of other monofunctional monomers that can be copolymerized include styrene and substituted styrene derivatives. As the ratio of the alkyl acrylate having 4 to 8 carbon atoms in the alkyl group and styrene increases, the glass transition temperature of the produced polymer (b) decreases as the former increases, that is, it can be softened.
  • the refractive index of the soft layer polymer (b) at room temperature is set to the innermost hard layer polymer (a), the outermost hard layer polymer (c), and the hard heat. It is more advantageous to make it closer to the plastic acrylic resin, and the ratio between them is selected in consideration of these.
  • polyfunctional grafting agent those mentioned in the section of the innermost layer hard polymer (a) can be used.
  • the polyfunctional grafting agent used here is used to chemically bond the soft layer polymer (b) and the outermost hard layer polymer (c), and the proportion used during the innermost hard layer polymerization is impact resistance. From the viewpoint of the effect of imparting properties, 0.5 to 5% by mass is preferable.
  • polyfunctional crosslinking agent generally known crosslinking agents such as divinyl compounds, diallyl compounds, diacrylic compounds, dimethacrylic compounds and the like can be used, but polyethylene glycol diacrylate (molecular weight 200 to 600) is preferably used.
  • the polyfunctional cross-linking agent used here is used to generate a cross-linked structure during the polymerization of the soft layer (b) and to exhibit the effect of imparting impact resistance.
  • the polyfunctional crosslinking agent is not an essential component because the crosslinked structure of the soft layer (b) is generated to some extent. Is preferably 0.01 to 5% by weight from the viewpoint of imparting impact resistance.
  • the outermost hard layer polymer (c) constituting the multilayer structure acrylic granular composite is 80 to 99 mass% of methyl methacrylate in the presence of the innermost hard layer polymer (a) and the soft layer polymer (b). % And a monomer mixture comprising 1 to 20% by mass of an alkyl acrylate having 1 to 8 carbon atoms in the alkyl group is preferred.
  • the acrylic alkylate those described above are used, but methyl acrylate and ethyl acrylate are preferably used.
  • the proportion of the alkyl acrylate unit in the outermost hard layer (c) is preferably 1 to 20% by mass.
  • an alkyl mercaptan or the like can be used as a chain transfer agent to adjust the molecular weight for the purpose of improving compatibility with the acrylic resin.
  • the outermost hard layer with a gradient such that the molecular weight gradually decreases from the inside toward the outside in order to improve the balance between elongation and impact resistance.
  • the monomer mixture for forming the outermost hard layer is divided into two or more, and the molecular weight is increased from the inside by a method of sequentially increasing the amount of chain transfer agent added each time. It is possible to make it smaller toward the outside.
  • the molecular weight formed at this time can also be examined by polymerizing the monomer mixture used each time under the same conditions, and measuring the molecular weight of the obtained polymer.
  • the particle diameter of the acrylic granular composite that is a multilayer structure polymer is not particularly limited, but is preferably 10 nm or more and 1000 nm or less, and more preferably 20 nm or more and 500 nm or less. In particular, the thickness is most preferably from 50 nm to 400 nm.
  • the mass ratio of the core and the shell is not particularly limited, but when the total multilayer structure polymer is 100 parts by mass, the core layer is 50 parts by mass.
  • the content is preferably 90 parts by mass or less, and more preferably 60 parts by mass or more and 80 parts by mass or less.
  • Examples of such commercially available multilayered acrylic granular composites include, for example, “Metablene” manufactured by Mitsubishi Rayon Co., “Kane Ace” manufactured by Kaneka Chemical Co., Ltd., “Paralloid” manufactured by Kureha Chemical Co., Ltd., Rohm and Haas “Acryloid” manufactured by KK, “Staffyroid” manufactured by Gantz Kasei Kogyo Co., Ltd., “Parapet SA” manufactured by Kuraray Co., Ltd. and the like can be used, and these can be used alone or in combination of two or more.
  • acrylic particles (c-1) which are graft copolymers suitably used as the acrylic particles include an unsaturated carboxylic acid ester monomer, an unsaturated carboxylic acid in the presence of a rubbery polymer.
  • examples thereof include a graft copolymer obtained by copolymerizing a monomer mixture comprising a monomer, an aromatic vinyl monomer, and, if necessary, other vinyl monomers copolymerizable therewith.
  • the rubbery polymer used for the acrylic particles as the graft copolymer but diene rubber, acrylic rubber, ethylene rubber, and the like can be used.
  • Specific examples include polybutadiene, styrene-butadiene copolymer, block copolymer of styrene-butadiene, acrylonitrile-butadiene copolymer, butyl acrylate-butadiene copolymer, polyisoprene, butadiene-methyl methacrylate copolymer.
  • the refractive indexes of the acrylic resin and the acrylic particles are approximate because the transparency of the transparent film substrate can be obtained.
  • the refractive index difference between the acrylic particles and the acrylic resin is preferably 0.05 or less, more preferably 0.02 or less, and particularly preferably 0.01 or less.
  • a method for adjusting the composition ratio of each monomer unit of the acrylic resin and / or a composition ratio of the rubbery polymer or monomer used for the acrylic particles is prepared. Depending on the method, the difference in refractive index can be reduced, and an acrylic resin-containing film excellent in transparency can be obtained.
  • the difference in refractive index referred to here means that the acrylic resin-containing film is sufficiently dissolved in a solvent in which the acrylic resin is soluble to obtain a cloudy solution, which is then subjected to an operation such as centrifugation, to obtain a solvent-soluble portion. And the soluble part (acrylic resin) and the insoluble part (acrylic particles) are purified respectively, and the difference in the measured refractive index (23 ° C., measurement wavelength: 550 nm) is shown.
  • the method of blending acrylic particles with acrylic resin is not particularly limited, and after blending acrylic resin and other optional components in advance, usually at 200 to 350 ° C., a single or twin screw extruder while adding acrylic particles Thus, a method of uniformly melting and kneading is preferably used.
  • acrylic particles can also be used.
  • metabrene W-341 (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.)
  • Chemisnow MR-2G (C3)
  • MS-300X (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) and the like can be mentioned.
  • the acrylic particles preferably contain 0.5 to 45% by mass of acrylic particles based on the total mass of the cellulose ester resin and the acrylic resin.
  • a film made of cellulose ester resin and acrylic resin is preferably a film having a tension softening point of 105 to 145 ° C. and not causing ductile fracture.
  • Ductile fracture is caused by the application of a greater stress than the strength of a certain material, and is defined as a fracture that involves significant elongation or drawing of the material before final fracture.
  • the tension softening point temperature for example, using a Tensilon tester (ORIENTEC, RTC-1225A), an acrylic resin-containing film is cut out at 120 mm (length) ⁇ 10 mm (width), and 10N The temperature can be raised at a rate of 30 ° C./min while pulling with tension, and the temperature at 9 N is measured three times, and the average value can be obtained.
  • ORIENTEC Tensilon tester
  • RTC-1225A Tensilon tester
  • the film made of cellulose ester resin and acrylic resin preferably has a glass transition temperature (Tg) of 110 ° C. or higher. More preferably, it is 120 ° C. or higher. Especially preferably, it is 150 degreeC or more.
  • Tg glass transition temperature
  • the glass transition temperature is determined by using a differential scanning calorimeter (DSC-7, manufactured by Perkin Elmer) at a heating rate of 20 ° C./min, and determined in accordance with JIS K7121 (1987). Tmg).
  • the film composed of a cellulose ester resin and an acrylic resin preferably has a breaking elongation of at least one direction of 10% or more, more preferably 20% or more, as measured in accordance with JIS-K7127-1999.
  • the upper limit of the elongation at break is not particularly limited, but is practically about 250%. In order to increase the elongation at break, it is effective to suppress defects in the film caused by foreign matter and foaming.
  • the thickness of the film made of cellulose ester resin and acrylic resin is preferably 20 ⁇ m or more.
  • the upper limit of the thickness is not particularly limited, but in the case of forming a film by a solution casting method, the upper limit is about 250 ⁇ m from the viewpoint of applicability, foaming, solvent drying, and the like.
  • the thickness of the film can be appropriately selected depending on the application.
  • the film comprising a cellulose ester resin and an acrylic resin preferably contains an acrylic resin and a cellulose ester resin in a mass ratio of 95: 5 to 30:70 from the viewpoint of both workability and heat resistance.
  • the acyl group has a total substitution degree (T) of 2.00 to 3.00, an acetyl group substitution degree (ac) of 0 to 1.89, and an acyl group other than the acetyl group has 3 to 7 carbon atoms, and the weight
  • the average molecular weight (Mw) is preferably 75,000 to 280000.
  • the total mass of the acrylic resin and the cellulose ester resin is 55 to 100% by mass, preferably 60 to 99% by mass of the acrylic resin-containing film.
  • the film made of a cellulose ester resin and an acrylic resin may contain other acrylic resins.
  • a cellulose ester film or a film made of a cellulose ester resin and an acrylic resin may be produced by a solution casting method or a melt casting method, but preferably at least stretched in the width direction.
  • the film is stretched by 1.01 to 1.5 times in the width direction when the amount of residual solution after peeling is 3 to 40% by mass in the solution casting step. More preferably, it is biaxially stretched in the width direction and the longitudinal direction, and when the residual dissolution amount is 3 to 40% by mass, it is stretched by 1.01 to 1.5 times in the width direction and the longitudinal direction, respectively.
  • the draw ratio at this time is particularly preferably 1.03 to 1.45.
  • the length of the transparent film substrate is preferably 100 m to 5000 m, and the width is preferably 1.2 m or more, more preferably 1.4 to 4 m.
  • the cellulose ester film is preferably a transparent support having a light transmittance of 90% or more, more preferably 93% or more.
  • the cellulose ester film or cellulose ester resin / acrylic resin film preferably contains the following plasticizer.
  • plasticizers include phosphate ester plasticizers, phthalate ester plasticizers, trimellitic acid ester plasticizers, pyromellitic acid plasticizers, glycolate plasticizers, citrate ester plasticizers, and polyesters.
  • a plasticizer, a polyhydric alcohol ester plasticizer, and the like can be preferably used.
  • phosphate plasticizers triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, octyl diphenyl phosphate, diphenylbiphenyl phosphate, trioctyl phosphate, tributyl phosphate, etc.
  • phthalate ester plasticizers diethyl phthalate, dimethoxy Ethyl phthalate, dimethyl phthalate, dioctyl phthalate, dibutyl phthalate, di-2-ethylhexyl phthalate, butyl benzyl phthalate, diphenyl phthalate, dicyclohexyl phthalate, and other trimellitic plasticizers such as tributyl trimellitate, triphenyl trimellitate, triethyl
  • trimellitate such as trimellitate, tetrabutyl pyromellitate, tetrafluoro
  • glycolate plasticizers such as nilpyromellitate and tetraethylpyromellitate, triacetin, tributyrin, ethylphthalylethyl glycolate, methylphthalylethyl glycolate, butylphthalylbutyl glycolate, etc., citrate plasticizer
  • polyester plasticizer a copolymer of a dibasic acid and a glycol such as an aliphatic dibasic acid, an alicyclic dibasic acid, or an aromatic dibasic acid can be used.
  • the aliphatic dibasic acid is not particularly limited, and adipic acid, sebacic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 1,4-cyclohexyl dicarboxylic acid and the like can be used.
  • glycol ethylene glycol, diethylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,4-butylene glycol, 1,3-butylene glycol, 1,2-butylene glycol and the like can be used. These dibasic acids and glycols may be used alone or in combination of two or more.
  • the polyhydric alcohol ester plasticizer is composed of an ester of a dihydric or higher aliphatic polyhydric alcohol and a monocarboxylic acid.
  • preferred polyhydric alcohols include, but are not limited to, the following. Adonitol, arabitol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol 1,4-butanediol, dibutylene glycol, 1,2,4-butanetriol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, hexanetriol, 2-n-butyl-2-ethyl-1,3- Examples thereof include propanediol, galactitol, mannitol, 3-methylpentane-1,3,5-
  • triethylene glycol, tetraethylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, sorbitol, trimethylolpropane, and xylitol are preferable.
  • monocarboxylic acid used for polyhydric alcohol ester Well-known aliphatic monocarboxylic acid, alicyclic monocarboxylic acid, aromatic monocarboxylic acid, etc. can be used. Use of an alicyclic monocarboxylic acid or aromatic monocarboxylic acid is preferred in terms of improving moisture permeability and retention. Examples of preferred monocarboxylic acids include the following, but are not limited thereto.
  • aliphatic monocarboxylic acid a fatty acid having a straight chain or a side chain having 1 to 32 carbon atoms can be preferably used. More preferably, it has 1 to 20 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 10 carbon atoms.
  • acetic acid is contained, the compatibility with the cellulose ester is increased, and it is also preferable to use a mixture of acetic acid and another monocarboxylic acid.
  • Preferred aliphatic monocarboxylic acids include acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, caproic acid, enanthic acid, caprylic acid, pelargonic acid, capric acid, 2-ethyl-hexanecarboxylic acid, undecylic acid, lauric acid, tridecylic acid, Saturated fatty acids such as myristic acid, pentadecylic acid, palmitic acid, heptadecylic acid, stearic acid, nonadecanoic acid, arachidic acid, behenic acid, lignoceric acid, serotic acid, heptacosanoic acid, montanic acid, melicic acid, and laccelic acid, undecylenic acid, olein Examples thereof include unsaturated fatty acids such as acid, sorbic acid, linoleic acid, linolenic acid, and arachidonic acid.
  • Examples of preferred alicyclic monocarboxylic acids include cyclopentane carboxylic acid, cyclohexane carboxylic acid, cyclooctane carboxylic acid, or derivatives thereof.
  • Examples of preferred aromatic monocarboxylic acids include those in which an alkyl group is introduced into the benzene ring of benzoic acid such as benzoic acid and toluic acid, and two or more benzene rings such as biphenyl carboxylic acid, naphthalene carboxylic acid, and tetralin carboxylic acid. And aromatic monocarboxylic acids possessed by them, or derivatives thereof. Particularly preferred is benzoic acid.
  • the molecular weight of the polyhydric alcohol ester is not particularly limited, but is preferably in the range of 300 to 1500, and more preferably in the range of 350 to 750.
  • the larger one is preferable in terms of improving the retention, and the smaller one is preferable in terms of moisture permeability and compatibility with the cellulose ester.
  • the carboxylic acid used in the polyhydric alcohol ester may be one kind or a mixture of two or more kinds. Moreover, all the OH groups in the polyhydric alcohol may be esterified with carboxylic acid, or a part of the OH groups may be left as they are.
  • These plasticizers are preferably used alone or in combination. The amount of these plasticizers used is preferably from 1 to 20% by weight, particularly preferably from 3 to 13% by weight, based on the cellulose ester, from the viewpoints of film performance and processability.
  • the transparent film substrate may contain an ultraviolet absorber. Next, the ultraviolet absorber will be described.
  • the ultraviolet absorber those which are excellent in the ability to absorb ultraviolet rays having a wavelength of 370 nm or less and have little absorption of visible light having a wavelength of 400 nm or more are preferably used from the viewpoint of good liquid crystal display properties.
  • Specific examples include, but are not limited to, oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, triazine compounds, nickel complex compounds, and the like.
  • benzotriazole-based ultraviolet absorber examples include the following specific examples, but are not limited thereto.
  • UV-1 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole
  • UV-2 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) benzotriazole
  • UV-3 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) benzotriazole
  • UV-4 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl)- 5-Chlorobenzotriazole
  • UV-5 2- (2′-hydroxy-3 ′-(3 ′′, 4 ′′, 5 ′′, 6 ′′ -tetrahydrophthalimidomethyl) -5′-methylphenyl) benzotriazole
  • UV-6 2,2-methylenebis (4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol)
  • UV-7 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) -5-ch
  • UV-8 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -6- (linear and side chain dodecyl) -4-methylphenol (TINUVIN171, manufactured by Ciba Japan)
  • UV-9 Octyl-3- [3-tert-butyl-4-hydroxy-5- (chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate and 2-ethylhexyl-3- [3-tert-butyl- Mixture of 4-hydroxy-5- (5-chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate (TINUVIN109, manufactured by Ciba Japan)
  • UV-10 2,4-dihydroxybenzophenone
  • UV-11 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone
  • UV-12 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone
  • UV-13 Bis (2-methoxy -4-hydroxy-5-benzoylphenylmethane)
  • UV absorber a benzotriazole UV absorber and a benzophenone UV absorber, which are highly transparent and excellent in preventing the deterioration of polarizing plates and liquid crystals, are preferable, and benzotriazole UV absorption with less unnecessary coloring is preferable.
  • An agent is particularly preferably used.
  • an ultraviolet absorber having a distribution coefficient of 9.2 or more can be used, and an ultraviolet absorber having a distribution coefficient of 10.1 or more is particularly preferable because the surface quality of the transparent film substrate can be maintained well.
  • the ultraviolet absorber having a distribution coefficient of 9.2 or more known ones can be used. For example, those described in JP-A No. 2001-187825 can be mentioned.
  • a polymer ultraviolet absorber (or an ultraviolet absorbing polymer) is preferably used.
  • PUVA-30M manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd.
  • the polymeric ultraviolet absorber known ones can be used.
  • the general formula (1) or the general formula (2) of Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-148430, Japanese Patent Application No. 2000 can be cited.
  • the compounds described in general formulas (3), (6) and (7) of No. 156039 are mentioned.
  • the internal haze is adjusted by, for example, adding a particle having a refractive index different from that of the transparent film substrate to the transparent film substrate, and controlling the addition amount, the particle diameter of the particle, and the like to generate haze due to internal scattering. Can be achieved.
  • the particles are classified into inorganic particles and organic particles.
  • the inorganic particles are not particularly limited, and examples thereof include silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, zinc oxide, tin oxide, calcium carbonate, barium sulfate, talc, kaolin, and calcium sulfate.
  • the organic particles are not particularly limited.
  • fluorinated acrylic resin powder for example, fluorinated acrylic resin powder, polystyrene resin powder, polymethacrylic acid methyl acrylate resin powder, silicone resin powder, polycarbonate resin powder, acrylic styrene resin powder, benzoguanamine resin
  • examples thereof include powder, melamine resin powder, polyolefin resin powder, polyester resin powder, polyamide resin powder, polyimide resin powder, and polyfluoroethylene resin powder.
  • These inorganic particles and organic particles may be used in combination of two or more different types and average particle diameters, and those obtained by surface-treating the surface of the particles with an organic substance are also preferably used.
  • Particularly preferred inorganic particles are silicon dioxide among these.
  • silicon dioxide include Aerosil 200V, Aerosil R972V, Aerosil R972, R974, R812, 200, 300, R202, OX50, TT600 (above Nippon Aerosil Co., Ltd.), Seahoster KE-P10, Seahoster KE-P30, Commercial products with trade names such as Seahoster KE-P50 (above, made by Nippon Shokubai Co., Ltd.), Silo Hovic 100 (made by Fuji Silysia), Nip Seal E220A (made by Nippon Silica Kogyo), Admafine SO (made by Admatechs), etc. Can be preferably used.
  • the shape of the particles can be used without any particular limitation, such as indefinite shape, needle shape, flat shape, and spherical shape. However, the use of spherical particles is particularly preferable because it is easy to adjust the haze.
  • Fluorine-containing acrylic resin particles are particularly suitable as the organic particles.
  • Fluorine-containing acrylic resin particles are, for example, particles formed from a fluorine-containing acrylic ester or methacrylic ester monomer or polymer.
  • fluorine-containing acrylic acid ester or methacrylic acid ester include 1H, 1H, 3H-tetrafluoropropyl (meth) acrylate, 1H, 1H, 5H-octafluoropentyl (meth) acrylate, 1H, 1H, 7H- Dodecafluoroheptyl (meth) acrylate, 1H, 1H, 9H-hexadecafluorononyl (meth) acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl (Meth) acrylate, 2- (perfluorobutyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorohexyl) ethyl (meth) acryl
  • the vinyl monomer copolymerizable with fluorine-containing (meth) acrylic acid is not particularly limited as long as it has a vinyl group.
  • alkyl methacrylates such as methyl methacrylate and butyl methacrylate, and methyl acrylate.
  • Alkyl acrylates such as ethyl acrylate, and styrenes such as styrene and ⁇ -methylstyrene. These may be used alone or in combination.
  • the crosslinking agent used in the polymerization reaction is not particularly limited, but those having two or more unsaturated groups are preferably used.
  • bifunctional dimethacrylates such as ethylene glycol dimethacrylate and polyethylene glycol dimethacrylate are used. And trimethylolpropane trimethacrylate, divinylbenzene and the like.
  • the polymerization reaction for producing the fluorine-containing polymethyl methacrylate particles may be either random copolymerization or block copolymerization.
  • this polymerization method the method described in JP-A No. 2000-169658 can be cited as an example.
  • these fluorine-containing acrylic resin particles may be used alone or in combination of two or more.
  • the state of these fluorine-containing acrylic resin particles may be added in any state such as powder or emulsion.
  • Fluorine-containing crosslinked particles may also be used.
  • known particles can be used. For example, those described in paragraphs 0028 to 0055 of JP-A-2004-83707 can be mentioned.
  • polystyrene particles examples include commercially available products such as those manufactured by Soken Kagaku; SX-130H, SX-200H, SX-350H), Sekisui Plastics, SBX series (SBX-6, SBX-8).
  • melamine-based particles examples include a product made by Nippon Shokubai: benzoguanamine / melamine / formaldehyde condensate (trade name: eposter, grade; M30, product name: eposter GP, grade: H40 to H110), and made by Nippon Shokubai: melamine / formaldehyde condensation.
  • Commercial products such as products (trade name: eposter, grade; S12, S6, S, SC4) can be mentioned.
  • core-shell type spherical composite cured melamine resin particles in which the core is made of melamine resin and the shell is filled with silica are also exemplified.
  • spherical composite cured melamine resin particles examples include commercially available products such as melamine resin / silica composite particles (trade name: Optobeads) manufactured by Nissan Chemical Industries, and a further example is disclosed in JP-A-2006-171033. The thing which can be produced by the method described in the publication number.
  • poly ((meth) acrylate) particles and cross-linked poly ((meth) acrylate) particles include: Sokenken; MX150, MX300, Nippon Shokubai; Eposta MA, Grade; MA1002, MA1004, MA1006, MA1010, Eposter MX (Emulsion), grade: MX020W, MX030W, MX050W, MX100W, manufactured by Sekisui Plastics: MBX series (MBX-8, MBX12) and the like.
  • crosslinked poly (acryl-styrene) particles include commercially available products such as FS-201 and MG-351 manufactured by Nippon Paint.
  • benzoguanamine-based particles include a product manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd .: benzoguanamine / formaldehyde condensate (trade name: eposter, grade; L15, M05, MS, SC25).
  • the average particle diameter of the particles added to the support is preferably 0.3 to 1 ⁇ m, more preferably 0.4 to 0.7 ⁇ m.
  • the average particle size can be determined by visual observation from an image photograph of secondary electron emission obtained by scanning electron microscope (SEM) or the like of 500 particles or by image processing, or by dynamic light scattering, static It can be measured by a particle size distribution meter using an automatic light scattering method or the like.
  • the average particle diameter here refers to the number average particle diameter.
  • an average particle diameter means the average particle diameter of an aggregate, when particle
  • a particle is not spherical, it means the diameter of a circle corresponding to the projected area.
  • the refractive index of the particles is preferably 1.45 to 1.70, more preferably 1.45 to 1.65.
  • the refractive index of the particles is measured by measuring the turbidity by dispersing the same amount of particles in the solvent in which the refractive index is changed by changing the mixing ratio of two kinds of solvents having different refractive indexes.
  • the refractive index of the solvent can be measured by measuring with an Abbe refractometer.
  • the refractive index difference between the resin used for the support and the particles is preferably 0.02 or more and 0.20 or less in order to increase the internal haze using the light scattering effect.
  • a more preferable range of the refractive index difference is 0.05 or more and 0.15 or less.
  • the content of the inorganic or organic particles is preferably 1 part by mass to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin for producing the film base material, and more preferably 5 parts by mass to 25 parts by mass for obtaining internal haze. Part.
  • the particles may be contained and dispersed together with cellulose ester, other additives and an organic solvent at the time of preparing a composition (dope) for producing a transparent film substrate, or may be dispersed alone in a solution. Good.
  • a method for dispersing the particles it is preferable that the particles are preliminarily dispersed in an organic solvent and then finely dispersed by a disperser (high pressure disperser) having a high shearing force.
  • a dope preparation method it is preferable to disperse particles in a large amount of organic solvent, merge with a cellulose ester solution, and mix with an in-line mixer to form a dope.
  • an ultraviolet absorbent may be added to the particle dispersion to form an ultraviolet absorbent liquid.
  • the above-mentioned deterioration inhibitor and ultraviolet absorber may be added together with a solvent, cellulose ester, cellulose ester resin and acrylic resin, It may be added during or after solution preparation.
  • the dope preferably contains an organic solvent from the viewpoint of film forming properties and productivity.
  • Any organic solvent can be used without limitation as long as it dissolves cellulose ester and other additives simultaneously.
  • methylene chloride methyl acetate,
  • the dope preferably contains 1 to 40% by mass of an alcohol having 1 to 4 carbon atoms in addition to the organic solvent.
  • an alcohol having 1 to 4 carbon atoms include methanol, ethanol, n-propanol, iso-propanol, n-butanol, sec-butanol, and tert-butanol. Ethanol is preferred because of the stability, boiling point of these inner dopes, relatively good drying, and no toxicity.
  • the concentration of cellulose ester in the dope is preferably adjusted to 15 to 40% by mass, and the dope viscosity is preferably adjusted to a range of 100 to 500 poise (P) in order to obtain good film surface quality.
  • Cellulose ester film, and cellulose ester resin / acrylic resin film are produced by a solution casting method.
  • a step of preparing a dope by dissolving cellulose ester or cellulose ester resin / acrylic resin and an additive in a solvent, and belting the dope A step of casting on a metal support in the form of a drum or a drum, a step of drying the cast dope as a web, a step of peeling from the metal support, a step of stretching or maintaining the width, a step of further drying, and a finished film It is performed by a winding process.
  • the concentration of cellulose ester in the dope, and the concentration of cellulose ester resin / acrylic resin is preferably higher because the drying load after casting on a metal support can be reduced. The load increases, and the filtration accuracy deteriorates.
  • the concentration that achieves both of these is preferably 10 to 35% by mass, and more preferably 15 to 25% by mass.
  • the metal support in the casting process is preferably a mirror-finished surface, and a stainless steel belt or a drum whose surface is plated with a casting is preferably used as the metal support.
  • the cast width can be 1 to 4 m.
  • the surface temperature of the metal support in the casting step is set to ⁇ 50 ° C. to below the temperature at which the solvent boils and does not foam. A higher temperature is preferred because the web can be dried faster, but if it is too high, the web may foam or the flatness may deteriorate.
  • a preferable support temperature is appropriately determined at 0 to 100 ° C., and more preferably 5 to 30 ° C.
  • the web is gelled by cooling and peeled from the drum in a state containing a large amount of residual solvent.
  • the method for controlling the temperature of the metal support is not particularly limited, and there are a method of blowing hot air or cold air, and a method of contacting hot water with the back side of the metal support. It is preferable to use warm water because heat transfer is performed efficiently, so that the time until the temperature of the metal support becomes constant is short.
  • warm air considering the temperature drop of the web due to the latent heat of vaporization of the solvent, while using warm air above the boiling point of the solvent, there may be cases where wind at a temperature higher than the target temperature is used while preventing foaming. .
  • the amount of residual solvent when peeling the web from the metal support is preferably 10 to 150% by mass, more preferably 20 to 40% by mass or 60 to 130% by mass. Particularly preferred is 20 to 30% by mass or 70 to 120% by mass.
  • the amount of residual solvent is defined by the following formula.
  • Residual solvent amount (% by mass) ⁇ (MN) / N ⁇ ⁇ 100 M is the mass of a sample collected during or after the production of the web or film, and N is the mass after heating M at 115 ° C. for 1 hour.
  • the web is peeled off from the metal support and further dried to make the residual solvent amount 1% by mass or less.
  • the content is preferably 0.1% by mass or less, particularly preferably 0 to 0.01% by mass.
  • a roll drying method (a method in which a plurality of rolls arranged at the top and bottom are alternately passed through the web for drying) or a tenter method for drying while transporting the web is employed.
  • the cellulose ester film and the cellulose ester resin / acrylic resin film are also preferably formed by a melt film forming method.
  • a melt film-forming method a composition containing a cellulose ester, a cellulose ester resin / acrylic resin, and an additive such as a plasticizer is heated and melted to a temperature showing fluidity, and then a melt containing a fluid cellulose ester. It means to cast.
  • the molding method for heating and melting can be further classified into a melt extrusion molding method, a press molding method, an inflation method, an injection molding method, a blow molding method, a stretch molding method, and the like.
  • a melt extrusion molding method in order to obtain a cellulose ester film excellent in mechanical strength and surface accuracy, and a cellulose ester resin / acrylic resin film, the melt extrusion method is excellent.
  • a plurality of raw materials used for melt extrusion are usually kneaded and pelletized in advance.
  • Pelletization may be performed by a known method. For example, dry cellulose ester, plasticizer, and other additives are fed to an extruder with a feeder and kneaded using a single-screw or twin-screw extruder, and formed into a strand from a die. It can be done by extrusion, water cooling or air cooling and cutting.
  • Additives may be mixed before being supplied to the extruder, or may be supplied by individual feeders. A small amount of additives such as particles and antioxidants are preferably mixed in advance in order to mix uniformly.
  • the extruder is preferably processed at as low a temperature as possible so that it can be pelletized so as to suppress the shearing force and prevent the resin from deteriorating (molecular weight reduction, coloring, gel formation, etc.).
  • a twin screw extruder it is preferable to rotate in the same direction using a deep groove type screw. From the uniformity of kneading, the meshing type is preferable.
  • Film formation is performed using the pellets obtained as described above.
  • the raw material powder can be directly fed to the extruder by a feeder without being pelletized to form a film as it is.
  • the melting temperature at the time of extrusion is about 200 to 300 ° C, filtered through a leaf disk type filter, etc. to remove foreign matter, and then formed into a film from the T die. And solidified on a cooling roll.
  • the extrusion flow rate is preferably carried out stably by introducing a gear pump.
  • a stainless fiber sintered filter is preferably used as a filter used for removing foreign substances.
  • the stainless steel fiber sintered filter is a united stainless steel fiber body that is intricately intertwined and compressed, and the contact points are sintered and integrated. The density of the fiber is changed depending on the thickness of the fiber and the amount of compression, and the filtration accuracy is improved. Can be adjusted.
  • Additives such as plasticizers and particles may be mixed with the resin in advance, or may be kneaded in the middle of the extruder. In order to add uniformly, it is preferable to use a mixing apparatus such as a static mixer.
  • the film temperature on the touch roll side when the film is nipped by the cooling roll and the elastic touch roll is preferably Tg or more and Tg + 110 ° C. or less of the film.
  • a well-known roll can be used for the roll which has the elastic body surface used for such a purpose.
  • the elastic touch roll is also called a pinching rotator.
  • a known elastic touch roll that is, a commercially available one can also be used.
  • the touch roll disclosed in Japanese Patent No. 3194904, Japanese Patent No. 3422798, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-36332, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-36333, or the like can be preferably used.
  • the film obtained as described above is stretched by the stretching operation after passing through the step of contacting the cooling roll.
  • a known roll stretching machine or tenter can be preferably used.
  • the stretching temperature is usually preferably in the temperature range of Tg to Tg + 60 ° C. of the resin constituting the film.
  • the ends Prior to winding, the ends may be slit and cut to the width of the product, and knurling (embossing) may be applied to both ends to prevent sticking or scratching during winding.
  • the knurling method can process a metal ring having an uneven pattern on its side surface by heating or pressing.
  • grip part of the clip of both ends of a film is cut out and reused.
  • the thickness of the protective film is preferably 10 to 500 ⁇ m. In particular, it is preferably 20 ⁇ m or more, and more preferably 35 ⁇ m or more. Moreover, 150 micrometers or less, Furthermore 120 micrometers or less are preferable. Particularly preferred is 25 to 90 ⁇ m. If the antireflection film is thicker than the above region, the polarizing plate after polarizing plate processing becomes too thick, and is not suitable for the purpose of thin and light in liquid crystal displays used for notebook personal computers and mobile electronic devices. On the other hand, if it is thinner than the above region, the film has high moisture permeability, and the ability to protect the polarizer from humidity decreases, which is not preferable.
  • the polarizing plate can be produced by a general method.
  • the back surface side of the antireflection film according to this embodiment is subjected to alkali saponification treatment, and a completely saponified polyvinyl alcohol aqueous solution is applied to at least one surface of a polarizing film prepared by immersing and stretching the treated antireflection film in an iodine solution. It is preferable to use and bond together.
  • the antireflection film may be used on the other surface, or another polarizing plate protective film may be used.
  • the polarizing plate protective film used on the other surface of the antireflection film according to this embodiment has an in-plane retardation Ro of 590 nm, an optical compensation film having a phase difference of 20 to 70 nm and Rt of 70 to 400 nm. It is preferable to use (retardation film). These can be produced by a known method. For example, the methods described in JP-A-2002-71957 and JP-A-2003-170492 can be mentioned. Alternatively, it is preferable to use a polarizing plate protective film that also serves as an optical compensation film having an optically anisotropic layer formed by aligning a liquid crystal compound such as a discotic liquid crystal.
  • the optical anisotropic layer can be formed by aligning a liquid crystal compound by a known method.
  • the optical anisotropic layer can be formed by the method described in JP-A-2003-98348.
  • a layer can be formed.
  • an unoriented film having retardation Ro of 590 nm and 0 to 5 nm and Rt of ⁇ 20 to +20 nm is also preferably used.
  • the non-oriented film a known film can be used.
  • the retardation Ro described in JP-A-2003-12859 is 0 to 5 nm at 590 nm, and Rt is ⁇ 20 to +20 nm.
  • Non-oriented film is 0 to 5 nm at 590 nm, and Rt is ⁇ 20 to +20 nm.
  • a polarizing plate having excellent flatness and a stable viewing angle expansion effect can be obtained.
  • KC8UX2MW, KC4UX, KC5UX, KC4UY, KC8UY, KC12UR, KC4UEW, KC8UCR-3, KC8UCR-4, KC8UCR-5, KC4FR-1, KC4FR-1, -2, KC8UE, KC4UE (manufactured by Konica Minolta Opto Co., Ltd.) and the like are preferably used.
  • the polarizing film which is the main component of the polarizing plate, is an element that transmits only light having a polarization plane in a certain direction.
  • a typical polarizing film known at present is a polyvinyl alcohol polarizing film, which is a polyvinyl alcohol film.
  • iodine is dyed on a system film
  • a dichroic dye is dyed, but it is not limited to this.
  • As the polarizing film a polyvinyl alcohol aqueous solution is formed and dyed by uniaxially stretching or dyed, or uniaxially stretched after dyeing, and then preferably subjected to a durability treatment with a boron compound.
  • a polarizing film having a thickness of 5 to 30 ⁇ m, preferably 8 to 15 ⁇ m is preferably used.
  • Image display device By incorporating a polarizing plate produced using the antireflection film according to the present embodiment into a display device, various image display devices with excellent visibility can be produced.
  • the antireflection film according to this embodiment is incorporated in the polarizing plate, and is a reflective type, transmissive type, transflective liquid crystal display device or TN type, STN type, OCB type, HAN type, VA type (PVA type, MVA type). , IPS type, OCB type and the like for various drive systems.
  • the antireflection film according to the present embodiment is also preferably used for various image display devices such as a plasma display, a field emission display, an organic EL display, an inorganic EL display, and electronic paper.
  • Example A ⁇ Transparent film substrate; production of cellulose ester film 1> (Dope composition)
  • the following materials were sequentially put into a sealed container, the temperature in the container was raised from 20 ° C. to 80 ° C., and the mixture was stirred for 3 hours while maintaining the temperature at 80 ° C. to completely dissolve the cellulose ester. .
  • the silicon oxide fine particles were added dispersed in a solution of a solvent to be added in advance and a small amount of cellulose ester.
  • This dope was filtered using a filter paper (Azumi filter paper No. 244 manufactured by Azumi Filter Paper Co., Ltd.) to obtain a dope composition.
  • Cellulose triacetate 100 parts by weight Trimethylolpropane tribenzoate 5 parts by weight Ethylphthalylethyl glycolate 5 parts by weight Fine particles of silicon oxide 0.2 parts by weight (Aerosil R972V, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) Tinuvin 109 (manufactured by Ciba Japan) 1 part by weight Tinuvin 171 (manufactured by Ciba Japan) 1 part by weight Methylene chloride 300 parts by weight Ethanol 40 parts by weight Butanol 5 parts by weight
  • the obtained dope composition was cast on a support having a temperature of 35 ° C. made of a stainless steel endless belt through a casting die kept at a temperature of 35 ° C. to form a web.
  • the web was dried on the support, and the web was peeled from the support with a peeling roll when the residual solvent amount of the web reached 80% by mass.
  • the web after peeling is transported while being dried with 90 ° C drying air in a transport drying process using a plurality of rolls arranged on the top and bottom, and then grips both ends of the web with a tenter and then stretches in the width direction at a temperature of 130 ° C.
  • the film was stretched to 1.1 times the previous size.
  • After stretching with a tenter the web was dried with a drying air at a temperature of 135 ° C. in a transport drying process using a plurality of rolls arranged vertically.
  • the film After heat-treating for 15 minutes in an atmosphere with an atmosphere substitution rate of 15 (times / hour) in the drying process, the film was cooled to room temperature and wound up, with a width of 1.5 m, a film thickness of 80 ⁇ m, a length of 4000 m, and a refractive index of 1.49. A long cellulose ester film 1 was produced. Further, the film was wound by applying a knurling process with a width of 1 cm and an average height of 10 ⁇ m at both ends. The draw ratio in the web conveyance direction immediately after peeling calculated from the rotational speed of the stainless steel band support and the operating speed of the tenter was 1.1 times.
  • the atmosphere substitution rate in the drying process is a unit time determined by the following equation when the atmosphere capacity of the drying process (heat treatment chamber) is V (m 3 ) and the fresh air flow rate is FA (m 3 / hr). This is the number of times the atmosphere in the heat treatment chamber is replaced with Fresh-air. “Fresh-air” means that the air blown into the heat treatment chamber is not a wind that is recirculated and does not contain volatilized solvent or plasticizer, or means fresh air from which they are removed. Yes.
  • Atmosphere replacement rate FA / V (times / hour) ⁇ Preparation of antireflection film 1>
  • a hard coat layer and an antireflection layer were provided by the following procedure to produce an antireflection film 1.
  • a hard coat layer was provided by the following procedure using the cellulose ester film 1 described above.
  • the following hard coat layer-forming resin composition (referred to as the HC layer-forming resin composition in the table) is filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 ⁇ m to apply a hard coat layer.
  • a liquid was prepared, applied with an extrusion coater using the apparatus shown in FIG. 1, dried at 80 ° C. for 1 minute, and then irradiated with an ultraviolet lamp at an irradiation intensity of 100 mW / cm 2 and an irradiation dose of 0.2 J / cm. 2 and cured to form a hard coat layer having a dry film thickness of 10 ⁇ m.
  • the back coat layer coating composition described below was applied to the surface opposite to the surface coated with the hard coat layer by an extrusion coater so as to have a wet film thickness of 10 ⁇ m, and dried at 50 ° C. to prepare a hard coat film. And wound into a roll.
  • ⁇ Backcoat layer coating composition Diacetylcellulose 0.6 parts by weight Acetone 35 parts by weight Methyl ethyl ketone 35 parts by weight Methanol 35 parts by weight 2% methanol dispersion of silica particles (KE-P30, manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) 16 parts by weight
  • the resin composition 1 for forming a low refractive index layer was applied as follows to produce an antireflection film 1.
  • composition 1 for forming a low refractive index layer 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane
  • A-1 55 parts by mass Sulphonium salt-based acid generator
  • Illustrative compound S-1 5 parts by mass Silica fine particles
  • C-1 Isopropyl alcohol-dispersed hollow silica fine particles
  • a compound other than isopropyl alcohol-dispersed hollow silica fine particles C-1 was added to isopropyl alcohol and methyl ethyl ketone at the above blending ratio and dissolved, followed by isopropyl alcohol dispersion. Hollow silica fine particles C-1 were added at the above-mentioned blending ratio.
  • a mixture of 150 g of the silica-based fine particle aqueous dispersion, 500 g of pure water, 1750 g of ethanol, and 626 g of 28% ammonia water is heated to 35 ° C., and then 140 g of ethyl silicate (SiO 2 28 mass%) is added.
  • a silica coating layer was formed and washed with an ultrafiltration membrane while adding 5 L of pure water to obtain an aqueous dispersion of silica-based fine particles having a silica coating layer with a solid content concentration of 20% by mass.
  • ammonia water is added to the silica-based fine particle dispersion with the silica coating layer formed thereon to adjust the pH to 10.5, aged at 150 ° C. for 11 hours, cooled to room temperature, and ionized by a cation exchange resin. Exchange and ion exchange with an anion exchange resin were repeated, and then a hollow silica fine particle dispersion 1 having a solid content concentration of 20% by mass was prepared by replacing the solvent with ethanol using an ultrafiltration membrane.
  • the thickness of the outer shell layer of the hollow silica fine particles was 10 nm, the average particle diameter was 55 nm, MO X / SiO 2 (molar ratio) was 0.0019, and the refractive index was 1.24.
  • the average particle diameter was measured by a dynamic light scattering method.
  • the resin composition 1 for forming a low refractive index layer is applied to the surface of the hard coat layer prepared above by an extrusion coater using the apparatus shown in FIG. 1 so that the film thickness after drying is 85 nm, and the temperature is 80 ° C.
  • the film was dried for 1 minute, and then cured using an ultraviolet lamp under the conditions of an illuminance of the irradiated portion of 200 mW / cm 2 and an irradiation amount of 0.35 J / cm 2 to form a low refractive index layer, thereby producing an antireflection film 1.
  • Example 2 instead of forming a hard coat layer, the following low refractive index layer forming resin composition 2 is used instead of the low refractive index layer forming resin composition 1 on the transparent film substrate.
  • An antireflection film 2 was produced in the same manner as in Example 1 except that a layer was formed.
  • Silica fine particles C-2 were made by Nittetsu Mining Co., Ltd., and have a primary particle diameter of 80 to 130 nm and a silica shell thickness of 5 to 15 nm.
  • Example 3 When forming the low refractive index layer, instead of using the resin composition 2 for forming a low refractive index layer instead of the resin composition 3 for forming a low refractive index layer, the same as in Example 2, An antireflection film 3 was produced.
  • a compound other than isopropyl alcohol-dispersed hollow silica fine particles C-1 was added to isopropyl alcohol and methyl ethyl ketone at the above blending ratio and dissolved, followed by isopropyl alcohol dispersion.
  • Hollow silica fine particles C-1 were added at the above-mentioned blending ratio to obtain a resin composition 3 for forming a low refractive index layer having a solid content of 10%.
  • Example 4 When forming the low refractive index layer, in the same manner as in Example 1 except that the following low refractive index layer forming resin composition 4 is used instead of the low refractive index layer forming resin composition 1, An antireflection film 4 was produced.
  • composition 4 for forming a low refractive index layer 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane
  • A-1 45 parts by mass Sulfonium salt acid generator
  • Illustrative compound S-1 5 parts by mass Silica fine particles
  • C-1 isopropyl alcohol-dispersed hollow silica fine particles
  • a compound other than isopropyl alcohol-dispersed hollow silica fine particles C-1 was added to isopropyl alcohol and methyl ethyl ketone in the above blending ratio and dissolved, followed by isopropyl alcohol dispersion.
  • Hollow silica fine particles C-1 were added at the above-mentioned blending ratio to obtain a resin composition 4 for forming a low refractive index layer having a solid content of 10%.
  • Example 5 When forming a low refractive index layer, instead of using the low refractive index layer forming resin composition 1, the following low refractive index layer forming resin composition 5 was used, in the same manner as in Example 1, An antireflection film 5 was produced.
  • the compound other than silica fine particles C-2 is added to isopropyl alcohol and methyl ethyl ketone at the above blending ratio and dissolved, and then the silica fine particles are dissolved.
  • Silica fine particles C-2 were made by Nittetsu Mining Co., Ltd., and have a primary particle diameter of 80 to 130 nm and a silica shell thickness of 5 to 15 nm.
  • Example 6 When forming the low refractive index layer, instead of using the low refractive index layer forming resin composition 1, the following low refractive index layer forming resin composition 6 was used in the same manner as in Example 1, An antireflection film 6 was produced.
  • Example 7 When forming the low refractive index layer, instead of using the low refractive index layer forming resin composition 1 described below, in the same manner as in Example 1, An antireflection film 7 was produced.
  • Example 8 When forming the low refractive index layer, instead of using the low refractive index layer forming resin composition 1, the following low refractive index layer forming resin composition 8 was used in the same manner as in Example 1, An antireflection film 8 was produced.
  • Resin composition 8 for forming a low refractive index layer 1,4-cyclohexanedimethanol divinyl ether
  • A-1 54 parts by mass Sulphonium salt-based acid generator
  • Exemplified Compound S-1 4 parts by mass Silica fine particles C-1 (isopropyl alcohol-dispersed hollow silica fine particles) 42 parts by mass Isopropyl alcohol 450 parts by mass Methyl ethyl ketone 450 parts by mass
  • a compound other than isopropyl alcohol-dispersed hollow silica fine particles C-1 is added to isopropyl alcohol and methyl ethyl ketone. After being added and dissolved in a mixing ratio, isopropyl alcohol-dispersed hollow silica fine particles C-1 were added in the above mixing ratio to obtain a resin composition 8 for forming a low refractive index layer having a solid content of 10%.
  • a compound other than isopropyl alcohol-dispersed hollow silica fine particles C-1 was added to isopropyl alcohol and methyl ethyl ketone at the above blending ratio and dissolved, followed by isopropyl alcohol dispersion.
  • Hollow silica fine particles C-1 were added at the above-mentioned blending ratio to obtain a resin composition 10 for forming a low refractive index layer having a solid content of 10%.
  • a compound other than silica fine particles D-1 is added and dissolved in isopropyl alcohol and methyl ethyl ketone in the above blending ratio, and then silica fine particles D-1 are mixed with the above-mentioned components. It added by the mixture ratio and obtained the resin composition 11 for low refractive index layer formation of 10% of solid content.
  • Silica fine particles D-1 are IPA-ST-UP manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., and are solid silica fine particles.
  • silica fine particles D-2 was added at the above blending ratio to obtain a resin composition 12 for forming a low refractive index layer having a solid content of 10%.
  • the silica fine particles D-2 are OX50 manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., and are solid silica fine particles.
  • the compound other than the silica fine particles C-2 is added and dissolved in isopropyl alcohol and methyl ethyl ketone in the above blending ratio.
  • a low refractive index layer-forming resin composition 14 having a solid content of 10% was obtained.
  • the low refractive index layer-forming resin composition 15 after adding a compound other than the silica fine particles C-2 to isopropyl alcohol and methyl ethyl ketone in the above blending ratio and dissolving the silica fine particles C-2, thus, a low refractive index layer-forming resin composition 15 having a solid content of 10% was obtained.
  • a compound other than isopropyl alcohol-dispersed hollow silica fine particles C-1 was added to isopropyl alcohol and methyl ethyl ketone in the above-described mixing ratio, and then dissolved. Hollow silica fine particles C-1 were added at the above-mentioned blending ratio to obtain a resin composition 16 for forming a low refractive index layer having a solid content of 10%.
  • a compound other than isopropyl alcohol-dispersed hollow silica fine particles C-1 was added to isopropyl alcohol and methyl ethyl ketone in the above blending ratio and dissolved, followed by isopropyl alcohol dispersion.
  • Hollow silica fine particles C-1 were added at the above-mentioned blending ratio to obtain a resin composition 17 for forming a low refractive index layer having a solid content of 10%.
  • Table 1 summarizes the above conditions. In Table 1, those not contained are indicated as "-".
  • the thickness of the low refractive index layer and the ratio of the thickness of the low refractive index layer to the average particle diameter of the silica fine particles were measured by the following methods. The obtained results are shown in Table 1.
  • the ratio of the thickness of the low refractive index layer to the average particle diameter of the silica fine particles was calculated by dividing the thickness of the low refractive index layer measured as described above by the average particle diameter of the silica fine particles used.
  • the surface roughness Ra (nm) of the low refractive index layer is measured by measuring the surface of the obtained antireflective film on the low refractive index layer side with an AFM (Atomic Force Microscope) (Dimension 3100 manufactured by Biko Japan). did.
  • AFM Atomic Force Microscope
  • each antireflection film was roughened, and then light absorption processing was performed using a black spray.
  • the antireflection film subjected to the light absorption treatment is irradiated with light in the visible light region (400 to 700 nm), and the reflectance is measured using a spectrophotometer (U-4100 manufactured by Hitachi High-Tech). It was measured.
  • Peeling is not confirmed at all ⁇ : Peeling is hardly confirmed, but it is possible to confirm that some end portions are missing in some squares ⁇ : Although not all surfaces, peeling can be confirmed ⁇ : Peeling can be confirmed on the entire surface.
  • the number of scratches is 0 to 3 / cm ⁇ : Number of scratches 4-7 / cm ⁇ ': The number of scratches is 8-10 / cm ⁇ : The number of scratches is 11-20 / cm X: The number of scratches is 21 / cm or more.
  • the antireflection film according to this embodiment has low reflectance and is excellent not only in the sample immediately after film production but also in adhesion and scratch resistance after the light resistance test. It is.
  • Example B [Examples 9 to 16 and Comparative Examples 10 to 18] According to the following method, each of the antireflection films 1 to 17 and a cellulose ester optical compensation film KC8UCR5 (manufactured by Konica Minolta Opto) was used as a polarizing plate protective film to prepare polarizing plates.
  • a cellulose ester optical compensation film KC8UCR5 manufactured by Konica Minolta Opto
  • PVA polyvinyl alcohol
  • a saponification degree of 99.95 mol% and a polymerization degree of 2400 impregnated with 10 parts by mass of glycerin and 170 parts by mass of water was melt-kneaded, defoamed, melt-extruded from a T-die onto a metal roll, and formed into a film. Then, it dried and heat-processed and obtained the PVA film.
  • the obtained PVA film had an average thickness of 40 ⁇ m, a moisture content of 4.4%, and a film width of 3 m.
  • the obtained PVA film was continuously processed in the order of pre-swelling, dyeing, uniaxial stretching by a wet method, fixing treatment, drying, and heat treatment to produce a polarizing film. That is, the PVA film was pre-swelled by immersing in water at a temperature of 30 ° C. for 30 seconds, and immersed in an aqueous solution having an iodine concentration of 0.4 g / liter and a potassium iodide concentration of 40 g / liter at a temperature of 35 ° C. for 3 minutes.
  • the film was uniaxially stretched 6 times in a 50% aqueous solution with a boric acid concentration of 4% under the condition that the tension applied to the film was 700 N / m, and the potassium iodide concentration was 40 g / liter and the boric acid concentration was 40 g / liter. Then, it was immersed in an aqueous solution having a zinc chloride concentration of 10 g / liter and a temperature of 30 ° C. for 5 minutes for fixing. Thereafter, the PVA film was taken out, dried with hot air at a temperature of 40 ° C., and further heat-treated at a temperature of 100 ° C. for 5 minutes.
  • the obtained polarizing film had an average thickness of 13 ⁇ m, a polarizing performance of a transmittance of 43.0%, a polarization degree of 99.5%, and a dichroic ratio of 40.1.
  • Step 1 An optical compensation film (Konica Minolta Op KONICA Minoltakt KCUCR-5 manufactured by Konica Minolta Opto Co., Ltd.) and an antireflection film were immersed in a 2 mol / L sodium hydroxide solution at a temperature of 60 ° C. for 90 seconds, then washed with water. Dried. A surface of each antireflection film provided with a low refractive index layer was previously protected with a peelable protective film (PET). Similarly, the above-described optical compensation film was immersed in a 2 mol / L sodium hydroxide solution at a temperature of 60 ° C. for 90 seconds, then washed with water and dried.
  • PTT peelable protective film
  • Step 2 The polarizing film described above was immersed in a storage tank of a polyvinyl alcohol adhesive solution having a solid content of 2% by mass for 1 to 2 seconds.
  • Step 3 Excess adhesive adhered to the polarizing film in Step 2 was lightly removed, and this polarizing film was sandwiched between the optical compensation film and antireflection film subjected to alkali treatment in Step 1 and laminated.
  • Step 4 The laminate was laminated with two rotating rollers at a pressure of 20 to 30 N / cm 2 and a speed of about 2 m / min. At this time, it was carried out with care to prevent bubbles from entering.
  • Step 5 The sample prepared in Step 4 was dried in a dryer at a temperature of 80 ° C. for 2 minutes to prepare polarizing plates 101 to 133.
  • the polarizing plate on the outermost surface of a commercially available liquid crystal display panel (VA type) was carefully peeled off, and the polarizing plates 101 to 117 having the same polarization direction were attached thereto.
  • the liquid crystal panels 101 to 117 according to Examples 9 to 16 and Comparative Examples 10 to 18 having the respective polarizing plates 101 to 117 were evaluated as follows.
  • Each of the liquid crystal panels 101 to 117 is placed on a desk 80 cm high from the floor, and a daylight direct fluorescent lamp (FLR40S ⁇ D / MX Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.) is placed on the ceiling 3 m high from the floor.
  • a daylight direct fluorescent lamp FLR40S ⁇ D / MX Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.
  • 40W ⁇ 2 was placed in 10 sets at 1.5 m intervals.
  • the fluorescent lamp is arranged so that the fluorescent lamp comes to the ceiling portion from the evaluator's overhead to the rear.
  • Each liquid crystal panel was tilted by 25 ° from the vertical direction with respect to the desk, and the visibility of the screen (visibility) was evaluated by dividing it into the following ranks so that a fluorescent lamp was reflected.
  • A There is no interference unevenness, and the reflection of the nearest fluorescent lamp is not worrisome, and characters with a font size of 8 or less can be read clearly.
  • B There is no interference unevenness, and the reflection of a nearby fluorescent lamp is somewhat worrying However, I do not care about the distance and can read characters with a font size of 8 or less.
  • C Interference unevenness is observed slightly, and I am interested in the reflection of a distant fluorescent light, and the font size is 8 or less. It is difficult to read
  • D Interference unevenness is clearly recognized, the reflection of the fluorescent lamp is quite worrisome, and the portion of the reflection cannot read characters with a font size of 8 or less
  • the liquid crystal panels 109 to 117 according to Comparative Examples 10 to 18 using the polarizing plates corresponding to the antireflection films 9 to 17 were all evaluated as C or lower, whereas
  • Each of the liquid crystal panels 101 to 108 according to Examples 9 to 16 using the polarizing plate corresponding to each of the antireflection films 1 to 8 has an evaluation result of B or more, and has good visibility with no interference unevenness. Was confirmed.
  • the low reflective member has (a) a cationic polymerizable binder resin, (b) a sulfonium salt-based acid generator, and (c) an outer shell layer on at least one surface of the support base.
  • the surface layer has a surface roughness Ra of less than 5 nm.
  • the low reflection member having excellent scratch resistance and adhesion, particularly excellent scratch resistance and adhesion even after the light resistance test, and capable of suppressing the occurrence of silica fine particles falling out.
  • An antireflection film made of a member, a polarizing plate using the antireflection film, and an image display device can be provided.
  • the sulfonium salt-based acid generator is preferably a sulfonium salt represented by any one of the following general formulas (1) to (4).
  • R 1 to R 3 each represents a hydrogen atom or a substituent, and at least one of R 1 to R 3 represents a substituent
  • R 4 to R 7 represents a hydrogen atom or a substituent
  • at least one of R 4 to R 7 represents a substituent
  • R 8 to R 11 each represents a hydrogen atom or a substituent.
  • R 8 to R 11 represent a substituent
  • R 12 to R 17 each represents a hydrogen atom or a substituent, and at least one of R 12 to R 17 or a substituted group
  • X - each represents a non-nucleophilic anion residue.
  • the silica fine particles preferably have an average particle diameter of 10 nm to 1 ⁇ m.
  • the cationic polymerizable binder resin has at least one of an epoxy group and a vinyl ether group.
  • the cationic polymerizable binder resin is obtained by curing a cationic polymerizable monomer by ultraviolet irradiation.
  • the low refractive index layer further contains conductive fine particles.
  • an antistatic layer containing conductive fine particles and a binder resin is further provided between the support member and the low refractive index layer.
  • an antireflection film according to another embodiment of the present invention is characterized by being composed of the low reflection member.
  • the polarizing plate according to another embodiment of the present invention is a polarizing plate using the antireflection film on at least one surface.
  • An image display device uses the antireflection film or the polarizing plate.

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Abstract

　本発明の一態様に係る低反射部材は、支持基材の少なくとも片面上に、（ａ）カチオン重合性バインダー樹脂、（ｂ）スルホニウム塩系酸発生剤、（ｃ）外殻層を有し、内部が多孔質または空洞であるシリカ微粒子を含有する低屈折率層を備え、前記低屈折率層の厚みが、前記シリカ微粒子の平均粒子径の１倍を超え３倍未満であり、前記低屈折率層の表面粗さＲａが５ｎｍ未満であることを特徴とする。

Description

低反射部材、反射防止フィルム、偏光板及び画像表示装置
　本発明は、低反射部材、反射防止フィルム、偏光板及び画像表示装置に関し、より詳しくは、例えば、ガラス板、プラスチックフィルム、及びプラスチック板等の支持基板上にシリカ微粒子を含むバインダー樹脂が固定されてなり、耐擦傷性、密着性に優れた低反射部材に関する。
　従来、ガラス板、プラスチックフィルム、及びプラスチック板等の支持基材上に、シリカ微粒子等を含有する光学材料用組成物をコーティングして、反射防止等の機能を付与する薄膜（低屈折率層）を形成することによって、低反射部材を形成している。そして、この低屈折率層は、バインダー成分によって、シリカ微粒子を支持基材の表面上に固定されていることが多い。具体的には、例えば、バインダー成分として、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、及びシラン系樹脂等のバインダー樹脂を用いることによって、支持基材の表面上に固定されている。
　このようなシリカ微粒子が固定された低反射部材としては、例えば、下記特許文献１や下記特許文献２に記載のものが挙げられる。特許文献１には、バインダー成分として、テトラエトキシシランを用いて、シリカ微粒子を透光性基板（支持基材）上に固定した画像表示面板（低反射部材）が記載されている。そして、バインダー成分として、テトラエトキシシランを用いて、シリカ微粒子を透光性基板上に固定することによって、外光反射防止膜（低屈折率層）を形成することができる旨が開示されている。
　また、特許文献２には、支持基材の少なくとも片面に、シリカ微粒子が単粒子層として配列され、該シリカ微粒子がカチオン重合性の単量体を主成分とするバインダー成分にて固定されてなる低反射部材が記載されている。
　支持基材上にシリカ微粒子を固定されてなる低反射部材は、支持基材上に形成されるシリカ微粒子を含有する低屈折率層からのシリカ微粒子の脱落の発生を抑制し、さらに、低屈折率層の耐擦傷性や、低屈折率層の支持基材に対する密着性等を高めることが求められている。
　特許文献１に記載されているような、バインダー成分として、テトラエトキシシランを用いた場合、支持基材との密着性を高めるためには、高温処理により、テトラエトキシシランをシラン系樹脂にする必要がある。すなわち、テトラエトキシシランを用いた場合、高温処理が長時間必要であり、特に、支持基材として、耐熱性が比較的低いプラスチック板を用いた場合には、充分な密着性が得られないだけではなく、熱変形が発生するおそれがあるという問題があった。つまり、バインダー樹脂として、シラン系樹脂を用いた場合、密着性を高めるために長時間の高温処理が必要である。さらに、耐光性試験後の密着性も、エポキシ系樹脂等のカチオン重合性バインダー樹脂よりも劣る傾向があった。
　また、バインダー成分として、アクリル系樹脂を用いた場合、支持基材との初期の密着性は優れているが、耐光性試験を行うと、密着性が低下する傾向があった。
　そこで、バインダー樹脂として、エポキシ系樹脂等のカチオン重合性バインダー樹脂を用いた場合、初期の密着性だけでなく、耐光性試験後での密着性にも優れている傾向があった。しかしながら、特許文献２のように、エポキシ樹脂等のカチオン重合性バインダー樹脂を用いて、シリカ粒子を単粒子層として配列しただけでは、シリカ粒子の脱落が生じやすく、また、耐擦傷性が弱いという問題が生じていた。
特開平１－１５４４４４号公報 特許第３１２０９１６号公報
　本発明は、かかる事情に鑑みてなされたものであり、耐擦傷性や密着性に優れ、シリカ微粒子の脱落の発生を抑制できる低反射部材、この低反射部材からなる反射防止フィルム、この反射防止フィルムを用いた偏光板、画像表示装置を提供することを目的とする。
　本発明に係る低反射部材は、支持基材の少なくとも片面上に、（ａ）カチオン重合性バインダー樹脂、（ｂ）スルホニウム塩系酸発生剤、（ｃ）外殻層を有し、内部が多孔質または空洞であるシリカ微粒子を含有する低屈折率層を備え、前記低屈折率層の厚みが、前記シリカ微粒子の平均粒子径の１倍を超え３倍未満であり、前記低屈折率層の表面粗さＲａが５ｎｍ未満である。
　上記の構成によれば、耐擦傷性や密着性に優れ、シリカ微粒子の脱落の発生を抑制できる低反射部材、この低反射部材からなる反射防止フィルム、この反射防止フィルムを用いた偏光板、画像表示装置を提供することができる。
　上記並びにその他の本発明の目的、特徴及び利点は、以下の詳細な記載と添付図面から明らかになるであろう。
本発明の一実施形態における光学フィルムの製造装置を示す概略図である。
　以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
　本発明の一実施形態に係る低反射部材は、支持基材の少なくとも片面上に、（ａ）カチオン重合性バインダー樹脂、（ｂ）スルホニウム塩系酸発生剤、（ｃ）外殻層を有し、内部が多孔質または空洞であるシリカ微粒子を含有する低屈折率層を備え、前記低屈折率層の厚みが、前記シリカ微粒子の平均粒子径の１倍を超え３倍未満であり、前記低屈折率層の表面粗さＲａが５ｎｍ未満であることを特徴とする。
　かかる構成において、バインダー樹脂としては、支持基材との密着性に優れ、反応性や生産性の高い紫外線硬化を起こすカチオン重合性バインダー樹脂とした。カチオン重合性バインダー樹脂は、反応性が低いために、反応性の高い特定のスルホニウム系酸発生剤を用いることで、硬度が出やすくなった。シリカ微粒子としては、反射率を下げるために、通常のシリカ微粒子よりも比重の低いものを使用した。低屈折率層の厚みとしては、シリカ微粒子の平均粒子径の１倍を超え３倍未満である。それ以上になってしまうと、バインダー樹脂本来の強度よりもシリカ微粒子の硬度が大きく影響を与えて耐擦傷性が劣る傾向があるためである。また、Ｒａを５ｎｍ未満にすることで耐擦傷性の向上を図ることを見出した。
　このことは、以下のことによると推察される。
　まず、カチオン重合性バインダー樹脂は、一般的に、反応性が低いが、反応性を高める性能が高いスルホニウム塩系酸発生剤を開始剤として用いることによって、重合反応が好適に進んだものが得られると考えられる。よって、このようなカチオン重合性バインダー樹脂を含有する低屈折率層は、硬度の高いものが得られやすいだけではなく、その下層との密着性が高いものとなると考えられる。
　また、前記シリカ微粒子は、外殻層を有し、内部が多孔質または空洞であるので、中実のシリカ微粒子よりも比重が低い。よって、このような比重の低いシリカ微粒子を用いることによって、形成された低屈折率層の屈折率を好適なものに調整することができ、反射率を低下させることができると考えられる。
　さらに、前記低屈折率層の厚さが前記シリカ微粒子の平均粒子径の１倍を超え３倍未満であり、前記低屈折率層の表面粗さＲａが５ｎｍ未満とすることによって、前記低屈折率層の表面に露出した状態で固定されているシリカ微粒子が少なく、シリカ微粒子の脱落の発生を抑制できると考えられる。
　また、前記シリカ微粒子は、外殻層を有し、内部が多孔質または空洞であるので、このようなシリカ微粒子を含有すると、クッションのような層となりやすく、層の硬さ、具体的には、例えば、鉛筆硬度が低くなり、そのことにより、傷つきやすい層となる傾向がある。そこで、前記低屈折率層の厚さが前記シリカ微粒子の平均粒子径の１倍を超え３倍未満となるように設定することによって、前記低屈折率層の硬さの低下を抑制し、耐擦傷性の低下を抑制できると考えられる。
　したがって、耐擦傷性や密着性に優れ、特に耐光性試験後も優れた耐擦傷性や密着性を有し、シリカ微粒子の脱落の発生を抑制できる低反射部材、この低反射部材からなる反射防止フィルム、この反射防止フィルムを用いた偏光板、画像表示装置を提供することができると考えられる。
　本発明の一実施形態に係る低反射部材の密着性のレベルは、耐光性試験後のＪＩＳ　Ｋ　５６００－５－６に記載のクロスカット法密着試験において、影響を受ける面積が５％以下であるレベルに到達する。
　上記クロスカット法密着試験は、例えば、耐光性試験後のフィルムにカッターを用いて縦横１ｍｍ幅の傷を１１本ずつ入れて１ｍｍ四方の正方形を１００個作り（クロスカット）、そのクロスカットに市販の接着テープを圧着して３～５回程度の剥離試験を行い、剥離したマス目個数の平均面積を求める。この面積の比率が小さいほど、密着性が良好で好ましいことを示す。
　上記鉛筆硬度は、ＪＩＳ－Ｓ６００６が規定する試験用鉛筆を用いて、ＪＩＳ－Ｋ５４００が規定する鉛筆硬度評価法に従い、５００ｇのおもりを用いて各硬度の鉛筆で低屈折率層表面を５回繰り返し引っ掻き、傷が１本までの硬度を測定した。数字か高いほど、高硬度を示す。
　また、本発明の一実施形態に係る低反射部材は、特に形状が限定されるものではない。前記低反射部材としては、例えば、支持基材として透明フィルム基材を用いた、反射防止フィルムであってもよい。すなわち、本発明の他の一実施形態に係る反射防止フィルムは、前記低反射部材から構成される。
　また、前記支持基材は、セルロースエステル樹脂、またはセルロースエステル樹脂とアクリル樹脂、更にセルロースエステル樹脂とアクリル樹脂とアクリル粒子を含有することで、帯電防止層に対して更に優れた密着性を有する低反射部材を提供することが可能となる。
　以下、本発明の一実施形態に係る低反射部材の各要素毎に詳細に説明する。
　＜低屈折率層＞
　最初に、本実施形態の低屈折率層について説明する。本実施形態における低屈折率層は、少なくとも（ａ）カチオン重合性バインダー樹脂、（ｂ）スルホニウム塩系酸発生剤、（ｃ）外殻層を有し、内部が多孔質または空洞であるシリカ微粒子を含有し、前記低屈折率層の厚みが、前記シリカ微粒子の平均粒子径の１倍を超え３倍未満であり、前記低屈折率層の表面粗さＲａが５ｎｍ未満である。また、低屈折率層には、（ｄ）電離放射線硬化型樹脂、（ｅ）光ラジカル開始剤等を含有してもよい。
　低屈折率層とは、支持基材の屈折率よりも低い層をいう。具体的な屈折率としては、２３℃、波長５５０ｎｍで１．２０～１．４５の範囲のものが好ましく、１．２５～１．４０の範囲のものが更に好ましく、１．３０～１．３７の範囲のものが特に好ましい。また、低屈折率層の膜厚は、光学干渉層としての特性から、５ｎｍ～０．５μｍが好ましく、１０ｎｍ～０．３μｍがより好ましく、３０ｎｍ～０．２μｍであることが更に好ましい。
　（カチオン重合性バインダー樹脂）
　本実施形態において、少なくとも低屈折率層には、カチオン重合性バインダー樹脂を含有する。前記カチオン重合性バインダー樹脂としては、特に限定されないが、少なくともエポキシ基及びビニルエーテル基のいずれか一方を有することが好ましい。また、前記カチオン重合性バインダー樹脂としては、紫外線照射によって、カチオン重合性の単量体を硬化させてなるものが好ましい。
　また、エポキシ基を有するカチオン重合性バインダー樹脂としては、特に限定されないが、エポキシ基を有するアルコキシシラン化合物が好ましく、具体的には、例えば、下記一般式（５）で表される有機珪素化合物もしくはその加水分解物或いはその重縮合物を含有することが好ましい。
　　　Ｒ１８ ｍＳｉＸ２ ４－ｍ　　　（５）
　式（５）中、Ｒ１８は、エポキシ基を有する置換基、Ｘ２は水酸基または加水分解可能な置換基であり、ｍは０～３の整数である。
　一般式（５）で示されるカチオン重合性バインダー樹脂のＲ１８は特に制限はないが、例えば２－グリシドキシエチル基、３－グリシドキシプロピル基、３－グリシドキシブチル基等のグリシドキシＣ１～Ｃ４アルキル基、好ましくはグリシドキシＣ１～Ｃ３アルキル基、グリシジル基、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチル基、３－（３，４－エポキシシクロヘキシル）プロピル基、２－（３，４－エポキシシクロヘプチル）エチル基、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）プロピル基、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）ブチル基、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）ペンチル基等のオキシラン基を持ったＣ５～Ｃ８のシクロアルキル基で置換されたＣ１～Ｃ５アルキル基が挙げられる。これらの中で２－グリシドキシエチル基、３－グリシドキシプロピル基、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチル基が好ましい。これらの置換基Ｒ２を有する一般式（５）の化合物として用いることのできる化合物の好ましい具体例として、２－グリシドキシエチルトリメトキシシラン、２－グリシドキシエチルトリエトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、２－（３，４）－エポキシシクロヘキシルエチルトリエトキシシラン等が挙げられる。これらは単独でも２種以上使用してもよい。
　一般式（５）で示されるカチオン重合性バインダー樹脂のＸ２は特に制限はないが、例えばメトキシ基、エトキシ基及びプロポキシ基等のアルコキシ基が挙げられる。この中でも、メトキシ基及びエトキシ基が好ましい。
　本実施形態で使用されるアルコキシシラン化合物は、例えば、塩基触媒下で、一般式（５）のアルコキシシラン化合物を（共）縮合させて得る事が出来る。その場合、（共）縮合を促進するため、必要に応じ水を添加することができる。水の添加量は、反応混合物全体のアルコキシ基１モルに対し、通常０．０５～１．５モル、好ましくは０．１～１．２モルである。縮合反応に使用する触媒は塩基性であれば特に限定されないが、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化セシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムなどの無機塩基、アンモニア、トリエチルアミン、ジエチレントリアミン、ｎ－ブチルアミン、ジメチルアミノエタノール、トリエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドなどの有機塩基を使用する事が出来る。これらの中でも、特に生成物からの触媒除去が容易である点で無機塩基又はアンモニアが好ましい。触媒の添加量としては、アルコキシシラン化合物の量に対し、通常５×１０－４～７．５質量％、好ましくは１×１０－３～５質量％である。上記縮合反応は、無溶剤または溶剤中で行うことができる。溶剤を用いる場合の溶剤としては、アルコキシシラン化合物を溶解する溶剤であれば特に制限はない。このような溶剤としては、例えばジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、テトラヒドロフラン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどの非極性溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素等が挙げられ、好ましくはメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンである。本実施形態で使用されるアルコキシシラン化合物は、公知の方法で製造する事が出来、あえて一例を挙げるとすれば、特開平１０－３２４７４９号公報、特開平６－２９８９４０号公報、特開２００６－３４８０６１号公報に記載の方法で製造する事が出来る。
　また、ビニルエーテル基を有するカチオン重合性バインダー樹脂としては、特に限定されないが、ビニルエーテル基を有するカチオン重合性の単量体を紫外線照射により硬化させてなるものが好ましい。ビニルエーテル基を有するカチオン重合性の単量体としては、具体的には、例えば、ジエチレングリコールジビニルエーテル、ポリエチレングリコールジビニルエーテル等のポリアルキレングリコール、及び１，４－シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル等のシクロアルカンジアルコールジビニルエーテル等が挙げられる。
　（スルホニウム塩系酸発生剤）
　本実施形態に用いられるスルホニウム塩系酸発生剤としては、「ＵＶ・ＥＢ硬化技術の応用と市場」（シーエムシー出版、田畑米穂監修／ラドテック研究会編集）などに掲載されているあらゆる公知のものを用いることができるが、中でもトリアリールスルホニウム塩が保存安定性が良好であり、かつ、重合性化合物への溶解性が良好であるため、その添加量を容易に増やすことができ、重合性化合物の残留を抑えることができるため好ましい。
　これらトリアリールスルホニウム塩タイプの光開始剤としては、下記一般式(１)～(４)のいずれかで表されるスルホニウム塩であることが好ましい。

Figure JPOXMLDOC01-appb-I000002
 
［一般式（１）中、Ｒ１～Ｒ３はそれぞれ水素原子または置換基を表し、Ｒ１～Ｒ３のうち少なくとも１つ以上が置換基を表し、一般式（２）中、Ｒ４～Ｒ７はそれぞれ水素原子または置換基を表し、Ｒ４～Ｒ７のうち少なくとも１つ以上が置換基を表し、一般式（３）中、Ｒ８～Ｒ１１はそれぞれ水素原子または置換基を表し、Ｒ８～Ｒ１１のうち少なくとも１つ以上が置換基を表し、一般式（４）中、Ｒ１２～Ｒ１７はそれぞれ水素原子または置換基を表し、Ｒ１２～Ｒ１７のうち少なくとも１つ以上が置換基を表し、Ｘ－は、各々非求核性のアニオン残基を表す。］
　Ｒ１～Ｒ１７で表される置換基としては、好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロピル基、ブトキシ基、ヘキシルオキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ基等のアルコキシ基、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、デシルカルボニルオキシ基、ドデシルカルボニルオキシ基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンゾイルオキシ基等のカルボニル基、フェニルチオ基、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基等を挙げることができる。
　Ｘ－は、アニオンを表し、例えば、Ｆ－、Ｃｌ－、Ｂｒ－、Ｉ－等のハロゲン原子、Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４ －、Ｒ１９ＣＯＯ－、Ｒ２０ＳＯ３ －、ＳｂＦ６ －、ＡｓＦ６ －、ＰＦ６ －、ＢＦ４ －等のアニオンを挙げることができる。ただし、Ｒ１９及びＲ２０は、それぞれメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基等で置換されていてもよいアルキル基もしくはフェニル基を表す。この中でも、安全性の観点から、Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４ －、ＰＦ６ －が好ましい。
　本実施形態において、硬化性の面で特に好ましいスルホニウム塩の例としては、光重合開始剤としては光照射後にベンゼンを発生しないスルホニウム塩を用いることである。「光照射によりベンゼンを発生しない」とは、実質的にベンゼンを発生しないことを指す。該スルホニウム塩としては、Ｓ＋と結合するベンゼン環に置換基をもつものであれば上記条件を満たし、例えば前記一般式（１）～（４）に挙げられるものがある。
　一般式（１）～（４）で表される化合物の具体例としては、例えば、下記式（６）～（１４）で表されるもの（Ｓ－１～Ｓ－９）が挙げられるが、この限りでない。

Figure JPOXMLDOC01-appb-I000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000004
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000005
 
　上記化合物は、公知の方法にて容易に合成することができる。あえて一例を挙げるとすれば、Ｂｕｌｌｅｔｉｎ　ｏｆ　ｔｈｅ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｓｏｃｉｅｔｙ　ｏｆ　Ｊａｐａｎ　Ｖｏｌ．７１　Ｎｏ．１１，１９９８年、有機エレクトロニクス材料研究会編、「イメージング用有機材料」、ぶんしん出版（１９９３年）に記載の光開始剤の製造方法と同様の方法で製造できる。
　（中空シリカ微粒子）
　次に、外殻層を有しかつ内部が多孔質または空洞である中空シリカ微粒子について説明する。
　外殻層を有しかつ内部が多孔質または空洞である中空シリカ微粒子の具体例としては、（１）多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層からなる複合粒子、または（２）内部に空洞を有し、かつ内容物が溶媒、気体または多孔質物質で充填された空洞粒子である。
　なお、空洞粒子は、内部に空洞を有する粒子であり、空洞は粒子壁で囲まれている。空洞内には、調製時に使用した溶媒、気体または多孔質物質等の内容物で充填されている。このような中空シリカ微粒子の平均粒子径は５～２００ｎｍ、好ましくは１０～７０ｎｍが望ましい。中空シリカ微粒子の粒子径は変動係数が１～４０％の単分散であることが好ましい。これらの中空シリカ微粒子は、低屈折率層の形成のため、適当な媒体に分散した状態で使用することが好ましい。
　なお、本実施形態において、用いられる中空シリカ微粒子の平均粒子径は、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）等による電子顕微鏡写真から計測することができる。動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等によって計測してもよい。
　分散媒としては、水、アルコール（例えばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール）、及びケトン（例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン）、ケトンアルコール（例えばジアセトンアルコール）、プロピレンモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等が好ましい。
　複合粒子の被覆層の厚さまたは空洞粒子の粒子壁の厚さは、１～４０ｎｍ、好ましくは１～２０ｎｍ、更に好ましくは２～１５ｎｍが望ましい。複合粒子の場合、被覆層の厚さが１ｎｍ未満の場合は、粒子を完全に被覆することができないことがあり、塗布液成分が容易に複合粒子の内部に進入して内部の多孔性が減少し、低屈折率化の効果が十分得られないことがある。また、被覆層の厚さが２０ｎｍを越えると、塗布液成分が内部に進入することはないが、複合粒子の多孔性（細孔容積）が低下し低屈折率化の効果が十分得られなくなることがある。また空洞粒子の場合、粒子壁の厚さが１ｎｍ未満の場合は、粒子形状を維持できないことがあり、また厚さが２０ｎｍを越えても、低屈折率化の効果が十分に現れないことがある。
　複合粒子の被覆層または空洞粒子の粒子壁は、シリカを主成分とすることが好ましい。また、シリカ以外の成分が含まれていてもよく、具体的にはＡｌ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＳｎＯ２、ＣｅＯ２、Ｐ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ５、ＳｂＯ２、ＭｏＯ３、ＺｎＯ２、ＷＯ３等が挙げられる。複合粒子を構成する多孔質粒子としては、シリカからなるもの、シリカとシリカ以外の無機化合物とからなるもの、ＣａＦ２、ＮａＦ、ＮａＡｌＦ６、ＭｇＦ等からなるものが挙げられる。このうち特にシリカとシリカ以外の無機化合物との複合酸化物からなる多孔質粒子が好適である。
　シリカ以外の無機化合物としては、Ａｌ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＳｎＯ２、ＣｅＯ２、Ｐ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ５、ＳｂＯ２、ＭｏＯ３、ＺｎＯ２、ＷＯ３との１種または２種以上を挙げることができる。このような多孔質粒子では、シリカをＳｉＯ２で表し、シリカ以外の無機化合物を酸化物換算（ＭＯｘ）で表したときのモル比：ＭＯｘ／ＳｉＯ２が、０．０００１～１．０、好ましくは０．００１～０．３の範囲にあることが望ましい。
　多孔質粒子のモル比：ＭＯｘ／ＳｉＯ２が、０．０００１未満のものは、得ることが困難であり、得られたとしても細孔容積が小さく、屈折率の低い粒子が得られない。また多孔質粒子のモル比：ＭＯｘ／ＳｉＯ２が１．０を越えると、シリカの比率が少なくなるので、細孔容積が大きくなり、更に屈折率が低いものを得ることが難しいことがある。
　このような多孔質粒子の細孔容積は、０．１～１．５ｍｌ／ｇ、好ましくは０．２～１．５ｍｌ／ｇの範囲であることが望ましい。細孔容積が０．１ｍｌ／ｇ未満では、十分に屈折率の低下した粒子が得られず、１．５ｍｌ／ｇを越えると粒子の強度が低下し、得られる被膜の強度が低下することがある。
　なお、このような多孔質粒子の細孔容積は水銀圧入法によって求めることができる。また、空洞粒子の内容物としては、粒子調製時に使用した溶媒、気体、多孔質物質等が挙げられる。溶媒中には空洞粒子調製する際に使用される粒子前駆体の未反応物、使用した触媒等が含まれていてもよい。
　また多孔質物質としては、多孔質粒子で例示した化合物からなるものが挙げられる。これらの内容物は、単一の成分からなるものであってもよいが、複数成分の混合物であってもよい。
　このような中空粒子の製造方法としては、具体的には、複合粒子が、シリカ、シリカ以外の無機化合物とからなる場合、以下の第１工程～第３工程を実施するこれによって中空粒子を製造することができる。あえて一例を挙げるとすれば、例えば特開平７－１３３１０５号公報の段落番号［００１０］～［００３３］に開示された複合酸化物コロイド粒子の調製方法が好適に採用される。
　（第１工程：多孔質粒子前駆体の調製）
　第１工程では、予め、シリカ原料とシリカ以外の無機化合物原料のアルカリ水溶液を個別に調製するか、または、シリカ原料とシリカ以外の無機化合物原料との混合水溶液を調製しておき、この水溶液を目的とする複合酸化物の複合割合に応じて、ｐＨ１０以上のアルカリ水溶液中に攪拌しながら徐々に添加して多孔質粒子前駆体を調製する。
　シリカ原料としては、アルカリ金属、アンモニウムまたは有機塩基のケイ酸塩を用いる。アルカリ金属のケイ酸塩としては、ケイ酸ナトリウム（水ガラス）やケイ酸カリウムが用いられる。有機塩基としては、テトラエチルアンモニウム塩等の第４級アンモニウム塩、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアミン類を挙げることができる。なお、アンモニウムのケイ酸塩または有機塩基のケイ酸塩には、ケイ酸液にアンモニア、第４級アンモニウム水酸化物、アミン化合物等を添加したアルカリ性溶液も含まれる。
　また、シリカ以外の無機化合物の原料としては、アルカリ可溶の無機化合物が用いられる。具体的には、Ａｌ、Ｂ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｃｅ、Ｐ、Ｓｂ、Ｍｏ、Ｚｎ、Ｗ等から選ばれる元素のオキソ酸、該オキソ酸のアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、第４級アンモニウム塩を挙げることができる。より具体的には、アルミン酸ナトリウム、四硼酸ナトリウム、炭酸ジルコニルアンモニウム、アンチモン酸カリウム、錫酸カリウム、アルミノケイ酸ナトリウム、モリブデン酸ナトリウム、硝酸セリウムアンモニウム、燐酸ナトリウムが適当である。
　これら水溶液の添加と同時に混合水溶液のｐＨ値は変化するが、このｐＨ値を所定の範囲に制御するような操作は特に必要ない。水溶液は、最終的に、無機酸化物の種類、及びその混合割合によって定まるｐＨ値となる。このときの水溶液の添加速度には特に制限はない。また、複合酸化物粒子の製造に際して、シード粒子の分散液を出発原料と使用することも可能である。
　当該シード粒子としては、特に制限はないが、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、またはＺｒＯ２等の無機酸化物またはこれらの複合酸化物の微粒子が用いられ、通常、これらのゾルを用いることができる。更に上記の製造方法によって得られた多孔質粒子前駆体分散液をシード粒子分散液としてもよい。
　シード粒子分散液を使用する場合、シード粒子分散液のｐＨを１０以上に調整した後、該シード粒子分散液中に上記化合物の水溶液を、アルカリ水溶液中に攪拌しながら添加する。この場合も、必ずしも分散液のｐＨ制御を行う必要はない。このようにしてシード粒子を用いると、調製する多孔質粒子の粒子径コントロールが容易であり、粒度の揃ったものを得ることができる。
　上記したシリカ原料、及び無機化合物原料は、アルカリ側で高い溶解度を有する。しかしながら、この溶解度の大きいｐＨ領域で両者を混合すると、ケイ酸イオン、及びアルミン酸イオン等のオキソ酸イオンの溶解度が低下し、これらの複合物が析出して粒子に成長したり、またはシード粒子上に析出して粒子成長が起る。従って、粒子の析出、成長に際して、従来法のようなｐＨ制御は必ずしも行う必要がない。
　第１工程におけるシリカとシリカ以外の無機化合物との複合割合は、シリカに対する無機化合物を酸化物（ＭＯｘ）に換算し、ＭＯｘ／ＳｉＯ２のモル比が、０．０５～２．０、好ましくは０．２～２．０の範囲内にあることが望ましい。この範囲内において、シリカの割合が少なくなる程、多孔質粒子の細孔容積が増大する。しかしながら、モル比が２．０を越えても、多孔質粒子の細孔の容積はほとんど増加しない。他方、モル比が０．０５未満の場合は、細孔容積が小さくなる。
　空洞粒子を調製する場合、ＭＯｘ／ＳｉＯ２のモル比は、０．２５～２．０の範囲内にあることが望ましい。
　（第２工程：多孔質粒子からのシリカ以外の無機化合物の除去）
　第２工程では、第１工程で得られた多孔質粒子前駆体から、シリカ以外の無機化合物（珪素と酸素以外の元素）の少なくとも一部を選択的に除去する。具体的な除去方法としては、多孔質粒子前駆体中の無機化合物を鉱酸や有機酸を用いて溶解除去したり、または、陽イオン交換樹脂と接触させてイオン交換除去する。
　なお、第１工程で得られる多孔質粒子前駆体は、珪素と無機化合物構成元素が酸素を介して結合した網目構造の粒子である。このように多孔質粒子前駆体から無機化合物（珪素と酸素以外の元素）を除去することにより、一層多孔質で細孔容積の大きい多孔質粒子が得られる。また、多孔質粒子前駆体から無機酸化物（珪素と酸素以外の元素）を除去する量を多くすれば、空洞粒子を調製することができる。
　また、多孔質粒子前駆体からシリカ以外の無機化合物を除去するに先立って、第１工程で得られる多孔質粒子前駆体分散液に、シリカのアルカリ金属塩を脱アルカリして得られる、フッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含有するケイ酸液または加水分解性の有機珪素化合物を添加して、シリカ保護膜を形成することが好ましい。シリカ保護膜の厚さは０．５～４０ｎｍ、好ましくは０．５～１５ｎｍの厚さであればよい。なお、シリカ保護膜を形成しても、この工程での保護膜は多孔質であり、厚さが薄いので、上記したシリカ以外の無機化合物を、多孔質粒子前駆体から除去することは可能である。
　このようなシリカ保護膜を形成することによって、粒子形状を保持したまま、上記したシリカ以外の無機化合物を、多孔質粒子前駆体から除去することができる。また、後述するシリカ被覆層を形成する際に、多孔質粒子の細孔が被覆層によって閉塞されてしまうことがなく、このため細孔容積を低下させることなく、後述するシリカ被覆層を形成することができる。なお、除去する無機化合物の量が少ない場合は、粒子が壊れることがないので、必ずしも保護膜を形成する必要はない。
　また、空洞粒子を調製する場合は、このシリカ保護膜を形成しておくことが望ましい。空洞粒子を調製する際には、無機化合物を除去すると、シリカ保護膜と、シリカ保護膜内の溶媒、未溶解の多孔質固形分とからなる空洞粒子の前駆体が得られ、空洞粒子の前駆体に後述の被覆層を形成すると、形成された被覆層が、粒子壁となり空洞粒子が形成される。
　上記シリカ保護膜形成のために添加するシリカ源の量は、粒子形状を保持できる範囲で少ないことが好ましい。シリカ源の量が多すぎると、シリカ保護膜が厚くなりすぎるので、多孔質粒子前駆体からシリカ以外の無機化合物を除去することが困難となることがある。
　シリカ保護膜形成用に使用される加水分解性の有機珪素化合物としては、下記の一般式（１５）で表されるアルコキシシランを用いることができる。特に、フッ素置換したテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等のテトラアルコキシシランが好ましく用いられる。
　　　Ｒ２１ ｍＳｉ（ＯＲ２２）４－ｍ　　　（１５）
　式（１５）中、Ｒ２１とＲ２２は、アルキル基、アリール基、ビニル基、アクリル基等の炭化水素基、ｍは０、１、２または３を表す。
　添加方法としては、これらのアルコキシシラン、純水、及びアルコールの混合溶液に触媒としての少量のアルカリまたは酸を添加した溶液を、多孔質粒子の分散液に加え、アルコキシシラン、純水、及びアルコールの混合溶液に触媒としての少量のアルカリまたは酸を添加した溶液を、多孔質粒子の分散液に加え、アルコキシシランを加水分解して生成したケイ酸重合物を無機酸化物粒子の表面に沈着させる。
　このとき、アルコキシシラン、アルコール、触媒を同時に分散液中に添加してもよい。アルカリ触媒としては、アンモニア、アルカリ金属の水酸化物、アミン類を用いることができる。また、酸触媒としては、各種の無機酸と有機酸を用いることができる。
　多孔質粒子前駆体の分散媒が、水単独、または有機溶媒に対する水の比率が高い場合には、ケイ酸液を用いてシリカ保護膜を形成することも可能である。ケイ酸液を用いる場合には、分散液中にケイ酸液を所定量添加し、同時にアルカリを加えてケイ酸液を多孔質粒子表面に沈着させる。なお、ケイ酸液と上記アルコキシシランを併用してシリカ保護膜を作製してもよい。
　（第３工程：シリカ被覆層の形成）
　第３工程では、第２工程で調製した多孔質粒子分散液（空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体分散液）に、フッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含有する加水分解性の有機珪素化合物またはケイ酸液等を加えることにより、粒子の表面を加水分解性有機珪素化合物またはケイ酸液等の重合物で被覆してシリカ被覆層を形成する。
　なお、ケイ酸液とは、水ガラス等のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液をイオン交換処理して脱アルカリしたケイ酸の低重合物の水溶液である。
　被覆層形成用に使用される有機珪素化合物またはケイ酸液の添加量は、コロイド粒子の表面を十分被覆できる程度であればよく、最終的に得られるシリカ被覆層の厚さが１～４０ｎｍ、好ましくは１～２０ｎｍとなるような量で、多孔質粒子（空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体）分散液中で添加される。またシリカ保護膜を形成した場合はシリカ保護膜とシリカ被覆層の合計の厚さが１～４０ｎｍ、好ましくは１～２０ｎｍの範囲となるような量で、有機珪素化合物またはケイ酸液は添加される。
　ついで、被覆層が形成された粒子の分散液を加熱処理する。加熱処理によって、多孔質粒子の場合は、多孔質粒子表面を被覆したシリカ被覆層が緻密化し、多孔質粒子がシリカ被覆層によって被覆された複合粒子の分散液が得られる。また空洞粒子前駆体の場合、形成された被覆層が緻密化して空洞粒子壁となり、内部が溶媒、気体または多孔質固形分で充填された空洞を有する空洞粒子の分散液が得られる。
　このときの加熱処理温度は、シリカ被覆層の微細孔を閉塞できる程度であれば特に制限はなく、８０～３００℃の範囲が好ましい。加熱処理温度が８０℃未満では、シリカ被覆層の微細孔を完全に閉塞して緻密化できないことがあり、また処理時間に長時間を要してしまうことがある。また加熱処理温度が３００℃を越えて長時間処理すると、緻密な粒子となることがあり、低屈折率化の効果が得られないことがある。
　このようにして得られた中空シリカ微粒子の屈折率は、１．４２未満と低い。このような中空シリカ微粒子は、多孔質粒子内部の多孔性が保持されているか、内部が空洞であるので、屈折率が低くなるものと推察される。
　また、塗布組成物に添加したときの安定性の点から中空粒子としては、表面に炭化水素主鎖を有するポリマーが共有結合している中空粒子が好ましい。
　次に、炭化水素主鎖を有するポリマーが共有結合している中空粒子について説明する。炭化水素主鎖を有するポリマーとは、直接共有結合、または中空シリカ微粒子の表面のシリカと炭化水素主鎖を有するポリマーとの間に結合剤を介在させ、シリカと結合剤とを共有結合し、結合剤とポリマーとが共有結合しているものも言う。結合剤としては、カップリング剤が好ましく用いられる。
　炭化水素主鎖を有するポリマーが共有結合している中空粒子は、（１）中空シリカ微粒子表面を未処理、もしくはカップリング剤などで処理した状態で、中空シリカ微粒子表面と共有結合を形成可能な官能基を有するポリマーを反応させ、中空シリカ微粒子表面にポリマーをグラフトさせる方法、或いは（２）中空シリカ微粒子表面を未処理、もしくはカップリング剤などで処理した状態で、中空シリカ微粒子表面から単量体を重合することでポリマー鎖を生長させ、表面グラフトさせる方法等により製造することができる。この製造方法として、あえて一例を挙げるとすれば、特開２００６－２５７３０８号公報に記載の方法を用いることができる。
　上記製造方法では、表面修飾率向上の観点から、中空シリカ微粒子表面から単量体を重合することでポリマー鎖を生長させ、表面グラフトさせる方法が好ましい。重合開始能、もしくは連鎖移動能を有する官能基を含むカップリング剤で中空シリカ微粒子を表面処理し、そこから単量体を重合し、ポリマー鎖を生長させて表面グラフトさせる方法が更に好ましい。重合開始能もしくは連鎖移動能を有する官能基を、中空シリカ微粒子に導入するための表面処理剤（カップリング剤）としては、アルコキシ金属化合物（例えばチタンカップリング剤、アルコキシシラン化合物（シランカップリング剤））が好ましく用いられる。
　中空シリカ微粒子は平均粒子径の異なる２種以上の中空シリカ微粒子を含有していてもよい。
　本実施形態において、低屈折率層には、導電性金属酸化物被覆層を有する中空シリカ微粒子を用いることも、導電性を更に高めることができ好ましい。導電性金属酸化物被覆層を形成する金属酸化物としては特に制限はないが、例えば、酸化スズ、アンチモンスズ酸化物、インジウムスズ酸化物、酸化アンチモン、アルミニウム亜鉛酸化物、ガリウム亜鉛酸化物及びこれらの混合物から選ばれるものが挙げられる。この中でも、酸化アンチモンにより被覆されている中空シリカ微粒子が特に好ましい。
　導電性金属酸化物被覆層の平均厚さとしては、１～４０ｎｍ、より好ましくは１～２０ｎｍの範囲であり、中空シリカ微粒子を十分に被覆でき、得られる導電性金属酸化物被覆中空シリカ微粒子の導電性が十分となる点で、被覆層の厚さは１ｎｍ以上が好ましい。導電性の向上効果が十分で、導電性金属酸化物被覆中空シリカ微粒子の平均粒子径が小さい場合にも屈折率が十分である点で、被覆層の厚さは４０ｎｍ以下が好ましい。
　本実施形態において、特に好ましい酸化アンチモン被覆層を有する中空シリカ微粒子について説明する。
　酸化アンチモンは、Ｓｂ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ５、ＳｂＯ２等いずれでも良く、酸化アンチモン被覆層中には酸化スズなどを含有していても良い。酸化アンチモン被覆層中のこれらの酸化アンチモンの合計含有率は１０％以上が好ましい。また、酸化アンチモン被覆層は、更にシリカ等で被覆されていても良い。
　酸化アンチモン被覆中空シリカ粒子の体積抵抗値は、１０～５０００Ω／ｃｍが好ましく、１０～２０００Ω／ｃｍの範囲にあることがより好ましい。体積抵抗値をこの範囲にすることで、粒子の屈折率を低く保ちつつ、低屈折率塗膜の表面抵抗を低下せしめることが可能となる。体積抵抗値は、核粒子の粒子サイズ、表面被覆金属酸化物層の膜厚、組成を調整することにより制御できる。
　体積抵抗値については、以下の方法で測定した。
　内部に円柱状のくりぬき（断面積０．５ｃｍ２）を有するセラミック製セルを用い、架台電極上にセルを置き、内部に試料粉体（シリカ微粒子）０．６ｇを充填し、円柱状突起を有する上部電極の突起を挿入し、油圧機にて上下電極を加圧し、１００ｋｇ／ｃｍ２加圧時の抵抗値（Ω）と試料の高さ（ｃｍ）を測定し、抵抗値に高さを乗ずることによって求めた。
　酸化アンチモン被覆中空シリカ微粒子の製造方法について説明する。
　まず、多孔質シリカ系粒子、または内部に空洞を有するシリカ系粒子の分散液を前述の方法等により調製する。分散液の固形分濃度として０．１～４０質量％、更に０．５～２０質量％の範囲にあることが好ましい。固形分濃度が０．１質量％未満の場合は、生産効率が低く、固形分濃度が４０質量％を超えると、得られる酸化アンチモン被覆中空シリカ微粒子が凝集することがあり、被膜の透明性が低下したり、ヘイズが悪化することがある。
　また、アンチモン酸の分散液（水溶液）を調製する。アンチモン酸の調製方法としては、多孔質シリカ系粒子または内部に空洞を有するシリカ系粒子の細孔や空洞を埋めることなく、粒子表面に酸化アンチモンの被覆層を形成することができれば特に制限はないが、以下に示す方法は均一で薄い酸化アンチモン被覆層を形成することができるので好ましい。
　具体的には、アンチモン酸アルカリ水溶液を陽イオン交換樹脂で処理してアンチモン酸（ゲル）分散液を調製し、ついで、陰イオン交換樹脂で処理する。アンチモン酸アルカリ水溶液としては、公知のアンチモン酸アルカリ水溶液を用いることができ、あえて一例を挙げるとすれば、例えば特開平２－１８０７１７号公報に記載されている、酸化アンチモンゾルの製造方法に用いるアンチモン酸アルカリ水溶液は好適である。
　アンチモン酸アルカリ水溶液は、三酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ３）、アルカリ物質及び過酸化水素を反応させて得たものであることが好ましく、酸化アンチモンとアルカリ物質と過酸化水素のモル比を１：２．０～２．５：０．８～１．５、好ましくは１：２．１～２．３：０．９～１．２とし、三酸化アンチモンとアルカリ物質を含む系に、過酸化水素を三酸化アンチモン１モルあたり、０．２モル／ｈｒ以下の速度で添加して得られる。
　この時使用される三酸化アンチモンは、粉末、特に平均粒子径が１０μｍ以下の微粉末のものが好ましく、また、アルカリ物質としては、ＬｉＯＨ、ＫＯＨ、ＮａＯＨ、Ｍｇ（ＯＨ）２、Ｃａ（ＯＨ）２等を挙げることができ、中でもＫＯＨ、ＮａＯＨなどのアルカリ金属水酸化物が好ましい。これらのアルカリ物質は、得られるアンチモン酸溶液を安定化させる効果を有する。
　まず、水に所定量のアルカリ物質と三酸化アンチモンを加えて三酸化アンチモン懸濁液を調製する。この三酸化アンチモン懸濁液の三酸化アンチモン濃度は、Ｓｂ２Ｏ３として３～１５質量％の範囲とすることが望ましい。ついで、この懸濁液を５０℃以上、好ましくは８０℃以上に加温し、これに濃度が５～３５質量％の過酸化水素水を三酸化アンチモン１モルあたり０．２モル／ｈｒ以下の速度で添加する。過酸化水素水の添加速度が０．２モル／ｈｒより速い場合は、得られる酸化アンチモン粒子の粒子径が大きくなり、粒子径分布が広がるので好ましくない。また、過酸化水素水の添加速度が非常に遅い場合は生産性が悪いので、好ましい添加速度範囲としては、０．０４～０．２モル／ｈｒの範囲である。
　上記反応で得られたアンチモン酸アルカリ（ＭＨＳｂＯ３：Ｍがアルカリ金属の場合）水溶液を、必要に応じて未溶解の残渣を分離した後、更に必要に応じて希釈し、陽イオン交換樹脂で処理し、アルカリイオンを除去することによってアンチモン酸ゲル（ＨＳｂＯ３ －）ｎ分散液を調製する。
　また、アンチモン酸アルカリ水溶液には、スズ酸アルカリ水溶液、リン酸ナトリウム水溶液等のドーピング剤を含む水溶液が含まれていても良い。このようなドーピング剤が含まれていると更に導電性の高い酸化アンチモン被覆中空シリカ微粒子が得られる。
　ここで、アンチモン酸は、（ＨＳｂＯ３ －）ｎ（ｎ＝２以上の重合体）で表すことができ、粒子径が１～５ｎｍ程度のアンチモン酸（ＨＳｂＯ３ －）の重合物からなり、微粒子が凝集し、ゲル状態を呈している。
　陽イオン交換樹脂で処理する際のアンチモン酸アルカリ水溶液の濃度は、固形分Ｓｂ２Ｏ５として０．０１～５質量％、更に０．１～３質量％の範囲にあることが好ましい。固形分として０．０１質量％未満の場合は生産効率が低く、５質量％を超えるとアンチモン酸の大きな凝集体が生成することがあり、アンチモン酸による中空シリカ微粒子の被覆ができにくく、できたとしても不均一になることがある。
　陽イオン交換樹脂の使用量は、得られるアンチモン酸分散液のｐＨが１～４、更に１．５～３．５の範囲とすることが好ましい。ｐＨ１未満の場合は鎖状粒子にならず凝集粒子が生成する傾向にあり、ｐＨ４を超えると単分散粒子が生成する傾向がある。また、ｐＨ１未満の場合は、酸化アンチモンの溶解度が高いために所定量の酸化アンチモンの被覆が困難になり、ｐＨ４を超えると、得られる酸化アンチモン被覆中空シリカ微粒子が凝集体となることがあり、被膜中での分散性が低下したり、帯電防止効果が不十分となることがある。
　ついで、アンチモン酸分散液と多孔質シリカ系粒子、または内部に空洞を有するシリカ系粒子の分散液とを混合し、温度５０～２５０℃、好ましくは７０～１２０℃で、通常１～２４時間熟成を行うことによって酸化アンチモン被覆中空シリカ微粒子分散液を得ることができる。
　アンチモン酸分散液とシリカ系粒子分散液との混合比率は、シリカ系粒子を固形分として１００質量部に、アンチモン酸をＳｂ２Ｏ５として１～２００質量部、好ましくは５～１００質量部となるように添加する。アンチモン酸の混合比率が１質量部未満の場合は、被覆が不均一であったり被覆層の厚さが不十分となり、酸化アンチモンで被覆する効果、即ち、導電性を付与、向上する効果が十分に得られないことがある。アンチモン酸の混合比率が２００質量部を超えても、被覆に寄与しない酸化アンチモンが増加したり、得られる酸化アンチモン被覆中空シリカ微粒子の導電性が更に向上することも無く、屈折率が１．６０を超えて高くなることがある。
　混合した分散液の濃度は、固形分として１～４０質量％、更に２～３０質量％の範囲にあることが好ましい。混合分散液の濃度が１質量％未満の場合は、酸化アンチモンの被覆効率が不十分であったり、生産効率が低下する。一方、４０質量％を超えると、アンチモン酸の使用量が多い場合に、得られる酸化アンチモン被覆中空シリカ微粒子が凝集することがある。
　（電離放射線硬化型樹脂）
　本実施形態の低屈折率層には、上述したように、電離放射線硬化型樹脂を含有していてもよい。電離放射線硬化型樹脂とは、紫外線や電子線のような活性線（以下、活性エネルギー線ともいう。）照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂をいう。電離放射線硬化型樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性線を照射することによって硬化させて電離放射線硬化樹脂層が形成される。電離放射線硬化型樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線照射によって硬化する樹脂が機械的膜強度（耐擦傷性、鉛筆硬度）に優れる点から好ましい。
　本実施形態では、前記電離放射線硬化型樹脂が分子中に重合可能な不飽和結合を２個以上有するアクリル系化合物であることが好ましい。
　紫外線硬化性樹脂としては、多官能アクリレートが好ましい。該多官能アクリレートとしては、ペンタエリスリトール多官能アクリレート、ジペンタエリスリトール多官能アクリレート、ペンタエリスリトール多官能メタクリレート、及びジペンタエリスリトール多官能メタクリレートよりなる群から選ばれることが好ましい。ここで、多官能アクリレートとは、分子中に２個以上のアクリロイルオキシ基及び／またはメタクロイルオキシ基を有する化合物である。
　多官能アクリレートのモノマーとしては、例えばエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、グリセリントリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、１，６－ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、テトラメチロールメタントリメタクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタクリレート、ペンタグリセロールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、グリセリントリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、イソボロニルアクリレート等が好ましく挙げられる。これらの化合物は、それぞれ単独または２種以上を混合して用いられる。また、上記モノマーの２量体、３量体等のオリゴマーであってもよい。
　（光ラジカル開始剤）
　また、前記電離放射線硬化型樹脂を含有させる場合、光ラジカル開始剤を含有することが好ましい。光ラジカル開始剤として、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３－ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、チウラム化合物類、フルオロアミン化合物類、オキシムエステル類などが用いられる。光重合開始剤の具体例としては、２，２´－ジエトキシアセトフェノン、ｐ－ジメチルアセトフェノン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、１－ヒドロキシジメチルフェニルケトン、２－メチル－４´－メチルチオ－２－モリホリノプロピオフェノン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モリホリノフェニル）－ブタノン１、２－メチル－１［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モリフォリノプロパン－１－オン、α－ヒドロキシアセトフェノン、α－アミノアセトフェノンなどのアセトフェノン類、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルレタールなどのベンゾイン類、ベンゾフェノン、２，４´－ジクロロベンゾフェノン、４，４´－ジクロロベンゾフェノン、ｐ－クロロベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類、１，２－オクタンジオン－１－［４－（フェニルチオ）－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）］、エタノン－１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－１－（０－アセチルオキシム）等のオキシムエステル類などがある。これらの光重合開始剤は単独で用いてもよいし、２種以上組み合わせたり、共融混合物であってもよい。特に、硬化性組成物の安定性や重合反応性等から、α－ヒドロキシアセトフェノン、α－アミノアセトフェノンなどのアセトフェノン類及びオキシムエステル類を用いることが好ましい。
　（コロイダルシリカ、フッ化マグネシウム）
　その他、本実施形態の低屈折率層には、コロイダルシリカまたはフッ化マグネシウムを含有しても良い。
　コロイダルシリカの具体例としては、二酸化ケイ素をコロイド状に水または有機溶媒に分散させたものであり、特に限定はされないが球状、針状または数珠状である。
　コロイダルシリカの平均粒子径は５０～３００ｎｍの範囲が好ましく、変動係数が１～４０％の単分散であることが好ましい。平均粒子径は、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）等による電子顕微鏡写真から計測することができる。動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等によって計測してもよい。
　コロイダルシリカは、市販されており、例えば日産化学工業社のスノーテックスシリーズ、触媒化成工業社のカタロイド－Ｓシリーズ、バイエル社のレバシルシリーズ等が挙げられる。また、アルミナゾルや水酸化アルミニウムでカチオン変性したコロイダルシリカやシリカの一次粒子を２価以上の金属イオンで粒子間を結合し、数珠状に連結した数珠状コロイダルシリカも好ましく用いられる。数珠状コロイダルシリカは日産化学工業社のスノーテックス－ＡＫシリーズ、スノーテックス－ＰＳシリーズ、スノーテックス－ＵＰシリーズ等があり、具体的にはＩＰＳ－ＳＴ－Ｌ（イソプロパノール分散、粒子径４０～５０ｎｍ、固形分３０％）、ＭＥＫ－ＳＴ－ＭＳ（メチルエチルケトン分散、粒子径１７～２３ｎｍ、固形分３５％）等が挙げられる。
　フッ化マグネシウムとしては、例えば日産化学工業社のイソプロパノール分散フッ化マグネシウムゾルや、シーアイ化成社のナノテックシリーズ等が挙げられる。
　（触媒）
　本実施形態において、低屈折率層には、触媒を含有することが好ましい。触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸類、シュウ酸、酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸等の有機酸類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基類、トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類、トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム等の金属アルコキシド類、後述する金属キレート化合物等が挙げられるが、中でも酸触媒及び金属キレート化合物が好ましく用いられる。
　酸触媒では、塩酸、硫酸、シュウ酸、酢酸、フタル酸等が好ましく用いられる。
　前記金属キレート化合物としては、Ｚｒ、Ｔｉ、及びＡｌからなる群から選ばれる少なくとも１種を含有する金属キレート化合物等が好ましく用いられる。このような金属キレート化合物は、上記各重合反応を促進させる効果を有すると考えられる。また、前記金属キレート化合物としては、具体的には、一般式（１６）及び一般式（１７）で表される化合物を配位子とし、Ｚｒ、Ｔｉ、及びＡｌからなる群から選ばれる少なくとも１種を中心金属とする金属キレート化合物等が挙げられる。
　　Ｒ２３ＯＨ　　（１６）
（式（１６）中、Ｒ２３は、炭素数１～１０のアルキル基を示す。）
　　Ｒ２４ＣＯＣＨ２ＣＯＲ２５　　（１７）
（式（１７）中、Ｒ２４は、炭素数１～１０のアルキル基を示し、Ｒ２５は、炭素数１～１０のアルキル基又は炭素数１～１０のアルコキシ基を示す。）
　また、前記金属キレート化合物としては、例えば、上記化合物を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　また、前記金属キレート化合物の具体的な例示としては、例えば、一般式（１８）～（２０）で表される化合物が挙げられる。これらの化合物が、上記各重合反応をより促進させる点から好ましい。
　　Ｚｒ（ＯＲ２６）ｐ１（Ｒ２７ＣＯＣＨＣＯＲ２８）ｐ２　　（１８）
（式（１８）中、Ｒ２６およびＲ２７は、独立して炭素数１～１０のアルキル基又はフェニル基を示し、Ｒ２８は、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、又はフェニル基を示し、ｐ１及びｐ２は、４配位又は６座配位となるように決定される整数を示す。）
　　Ｔｉ（ＯＲ２９）ｑ１（Ｒ３０ＣＯＣＨＣＯＲ３１）ｑ２　　（１９）
（式（１９）中、Ｒ２９およびＲ３０は、独立して炭素数１～１０のアルキル基又はフェニル基を示し、Ｒ３１は、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、又はフェニル基を示し、ｑ１及びｑ２は、４配位又は６座配位となるように決定される整数を示す。）
　　Ｔｉ（ＯＲ３２）ｒ１（Ｒ３３ＣＯＣＨＣＯＲ３４）ｒ２　　（２０）
（式（２０）中、Ｒ３２およびＲ３３は、独立して炭素数１～１０のアルキル基又はフェニル基を示し、Ｒ３４は、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、又はフェニル基を示し、ｒ１及びｒ２は、４配位又は６座配位となるように決定される整数を示す。）
　前記一般式（１８）～（２０）における前記アルキル基は、例えば、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基等が挙げられる。前記一般式（１８）～（２０）における前記アルコキシ基は、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｉ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓｅｃ－ブトキシ基、ｔ－ブトキシ基等が挙げられる。
　前記金属キレート化合物としては、より具体的には、例えば、トリ－ｎ－ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジ－ｎ－ブトキシビス（エチルアセテート）ジルコニウム、ｎ－ブトキシトリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（ｎ－プロピルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（アセチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム等のジルコニウムキレート化合物；ジイソプロポキシ・ビス（エチルアセトアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス（アセチルアセトン）チタニウム等のチタニウムキレート化合物；ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、ジイソプロポキシアセチルアセテートアルミニウム、イソプロポキシビス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、イソプロポキシビス（アセチルアセトナート）アルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、トリス（アセチルアセトナート）アルミニウム、モノアセチルアセトナート・ビス（エチルアセトアセテート）アルミニウム等のアルミニウムキレート化合物等が挙げられる。
　これらの中でも、トリ－ｎ－ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジイソプロポキシビス（アセチルアセトナート）チタニウム、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム等が好ましい。また、これらの金属キレート化合物は、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。また、（ｂ）成分としては、これらの金属キレート化合物の部分加水分解物を使用することもできる。
　（導電性微粒子）
　本実施形態において、低屈折率層には、導電性微粒子を含有することが好ましい。導電性微粒子としては、後述する帯電防止層に含有される導電性微粒子と同様のもの等が挙げられる。具体的には、例えば、金属酸化物粒子及びπ共役系導電性ポリマー粒子等が挙げられる。また、導電性微粒子としては、カーボン材料からなる微粒子等も挙げられる。
　前記カーボン材料としては、低屈折率層の帯電防止性を高めることができるものであれば、特に限定されない。具体的には、炭素原子からなり、直径がナノオーダーの球状、円筒状、円柱状等の形状を有する構造体等が挙げられる。より具体的には、例えば、フラーレン、カーボンナノチューブ、アモルファスカーボン、カーボンナノファイバ、気相成長炭素繊維、及びカーボンを構成成分とする、ナノパーティクル、ナノカプセル、カーボンナノホーン、ナノウィスカ等が挙げられる。また、前記カーボン材料の直径は、上述したように、ナノオーダーであることが好ましい。
　（有機溶媒）
　低屈折率層を形成する塗布組成物には、有機溶媒を含有することが好ましい。具体的な有機溶媒の例としては、アルコール（例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ－メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン）、エーテルアルコール（例、１－メトキシ－２－プロパノール）、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが挙げられる。中でも、トルエン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、エタノール、イソプロパノール及びプロピレングリコールモノメチルエーテルが特に好ましい。
　低屈折率層を形成する塗布組成物中の固形分濃度は、１～４質量％であることが好ましく、固形分濃度を４質量％以下とすることによって、塗布ムラが生じにくくなり、１質量％以上とすることによって、乾燥負荷が軽減される。
　（界面活性剤）
　低屈折率層を形成する塗布組成物には、フッ素系またはシリコーン系の界面活性剤を含有することが好ましい。上記界面活性剤を含有させることで、塗布ムラを低減したり膜表面の防汚性を向上させるのに有効である。
　フッ素系界面活性剤としては、パーフルオロアルキル基を含有するモノマー、オリゴマー、ポリマーを母核としたもので、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル、ポリオキシエチレン等の誘導体等が挙げられる。フッ素系界面活性剤は市販品を用いることもでき、例えばサーフロンＳ－３８１、同Ｓ－３８２、同ＳＣ－１０１、同ＳＣ－１０２、同ＳＣ－１０３、同ＳＣ－１０４（旭硝子株式会社製）、フロラードＦＣ－４３０、同ＦＣ－４３１、同ＦＣ－１７３（フロロケミカル－住友スリーエム製）、エフトップＥＦ３５２、同ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３（新秋田化成株式会社製）、シュベゴーフルアー８０３５、同８０３６（シュベグマン社製）、ＢＭ１０００、ＢＭ１１００（ビーエム・ヒミー社製）、メガファックＦ－１７１、同Ｆ－４７０（いずれもＤＩＣ株式会社製）等を挙げることができる。
　フッ素系界面活性剤のフッ素含有割合は、０．０５～２質量％、好ましくは０．１～１質量％である。上記のフッ素系界面活性剤は、１種または２種以上を併用することができる。
　次に、シリコーン界面活性剤について説明する。
　シリコーン界面活性剤は、ケイ素原子に結合した有機基の種類により、ストレートシリコーンオイルと変性シリコーンオイルに大別できる。
　ここで、ストレートシリコーンオイルとは、メチル基、フェニル基、水素原子を置換基として結合したものをいう。変性シリコーンオイルとは、ストレートシリコーンオイルから二次的に誘導された構成部分をもつものである。一方、シリコーンオイルの反応性からも分類することができる。これらをまとめると、以下のようになる。
　（シリコーンオイル）
１．ストレートシリコーンオイル
　１－１．非反応性シリコーンオイル：ジメチル、メチルフェニル置換等。
　１－２．反応性シリコーンオイル：メチル水素置換等。
２．変性シリコーンオイル
　ジメチルシリコーンオイルに、さまざまな有機基を導入することで生まれたものが変性シリコーンオイルである。
　２－１．非反応性変性シリコーンオイル：アルキル、アルキル／アラルキル、アルキル／ポリエーテル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル置換等。
アルキル／アラルキル変性シリコーンオイルは、ジメチルシリコーンオイルのメチル基の一部を長鎖アルキル基或いはフェニルアルキル基が置換したシリコーンオイルである。
　ポリエーテル変性シリコーンオイルは、親水性のポリオキシアルキレンを疎水性のジメチルシリコーンを導入した界面活性剤である。
　高級脂肪酸変性シリコーンオイルは、ジメチルシリコーンオイルのメチル基の一部を高級脂肪酸エステルに置換えたシリコーンオイルである。
　アミノ変性シリコーンオイルは、シリコーンオイルのメチル基の一部をアミノアルキル基に置換えた構造をもつシリコーンオイルである。
　エポキシ変性シリコーンオイルは、シリコーンオイルのメチル基の一部をエポキシ基含有アルキル基に置換えた構造をもつシリコーンオイルである。
　カルボキシル変性或いはアルコール変性シリコーンオイルは、シリコーンオイルのメチル基の一部をカルボキシル基或いは水酸基含有アルキル基に置換えた構造をもつシリコーンオイルである。
　これらのうち、ポリエーテル変性シリコーンオイルが好ましく添加される。ポリエーテル変性シリコーンオイルの数平均分子量は、例えば１０００～１０００００、好ましくは２０００～５００００が適当であり、数平均分子量が１０００未満では、塗膜の乾燥性が低下し、逆に、数平均分子量が１０００００を越えると、塗膜表面にブリードアウトしにくくなる。
　具体的な商品としては、東レダウコーニング社のＬ－４５、Ｌ－９３００、ＦＺ－３７０４、ＦＺ－３７０３、ＦＺ－３７２０、ＦＺ－３７８６、ＦＺ－３５０１、ＦＺ－３５０４、ＦＺ－３５０８、ＦＺ－３７０５、ＦＺ－３７０７、ＦＺ－３７１０、ＦＺ－３７５０、ＦＺ－３７６０、ＦＺ－３７８５、ＦＺ－３７８５、Ｙ－７４９９、信越化学社のＫＦ９６Ｌ、ＫＦ９６、ＫＦ９６Ｈ、ＫＦ９９、ＫＦ５４、ＫＦ９６５、ＫＦ９６８、ＫＦ５６、ＫＦ９９５、ＫＦ３５１、ＫＦ３５１Ａ、ＫＦ３５２、ＫＦ３５３、ＫＦ３５４、ＫＦ３５５、ＫＦ６１５、ＫＦ６１８、ＫＦ９４５、ＫＦ６００４、ＦＬ１００、ビックケミージャパン社製の界面活性剤ＢＹＫシリーズ、ＢＹＫ－３００／３０２、ＢＹＫ－３０６、ＢＹＫ－３０７、ＢＹＫ－３１０、ＢＹＫ－３１５、ＢＹＫ－３２０、ＢＹＫ－３２２、ＢＹＫ－３２３、ＢＹＫ－３２５、ＢＹＫ－３３０、ＢＹＫ－３３１、ＢＹＫ－３３３、ＢＹＫ－３３７、ＢＹＫ－３４０、ＢＹＫ－３４４、ＢＹＫ－３７０、ＢＹＫ－３７５、ＢＹＫ－３７７、ＢＹＫ－３５２、ＢＹＫ－３５４、ＢＹＫ－３５５／３５６、ＢＹＫ－３５８Ｎ／３６１Ｎ、ＢＹＫ－３５７、ＢＹＫ－３９０、ＢＹＫ－３９２、ＢＹＫ－ＵＶ３５００、ＢＹＫ－ＵＶ３５１０、ＢＹＫ－ＵＶ３５７０、ＢＹＫ－Ｓｉｌｃｌｅａｎ３７００、ＧＥ東芝シリコーン社製のジメチルシリコーンシリーズ、ＸＣ９６－７２３、ＹＦ３８００、ＸＦ３９０５、ＹＦ３０５７、ＹＦ３８０７、ＹＦ３８０２、ＹＦ３８９７等が挙げられる。
　また、シリコーン界面活性剤は、シリコーンオイルのメチル基の一部を親水性基に置換した界面活性剤である。置換の位置は、シリコーンオイルの側鎖、両末端、片末端、両末端側鎖等がある。親水性基としては、ポリエーテル、ポリグリセリン、ピロリドン、ベタイン、硫酸塩、リン酸塩、４級塩等がある。
　シリコーン界面活性剤としては、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤が好ましい。
　非イオン界面活性剤は、水溶液中でイオンに解離する基を有しない界面活性剤を総称していうが、疎水基のほか親水性基として多価アルコール類の水酸基、また、ポリオキシアルキレン鎖（ポリオキシエチレン）等を親水基として有するものである。親水性はアルコール性水酸基の数が多くなるに従って、またポリオキシアルキレン鎖（ポリオキシエチレン鎖）が長くなるに従って強くなる。疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤を用いると、低屈折率層のムラや膜表面の防汚性が向上する。ポリメチルシロキサンからなる疎水基が表面に配向し汚れにくい膜表面を形成するものと考えられる。
　非イオン界面活性剤の具体例としては、例えば東レダウコーニング社のシリコーン界面活性剤ＳＩＬＷＥＴ　Ｌ－７７、Ｌ－７２０、Ｌ－７００１、Ｌ－７００２、Ｌ－７６０４、Ｙ－７００６、ＦＺ－２１０１、ＦＺ－２１０４、ＦＺ－２１０５、ＦＺ－２１１０、ＦＺ－２１１８、ＦＺ－２１２０、ＦＺ－２１２２、ＦＺ－２１２３、ＦＺ－２１３０、ＦＺ－２１５４、ＦＺ－２１６１、ＦＺ－２１６２、ＦＺ－２１６３、ＦＺ－２１６４、ＦＺ－２１６６、ＦＺ－２１９１、ＳＵＰＥＲＳＩＬＷＥＴ　ＳＳ－２８０１、ＳＳ－２８０２、ＳＳ－２８０３、ＳＳ－２８０４、ＳＳ－２８０５等が挙げられる。
　これら、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤の好ましい構造としては、ジメチルポリシロキサン構造部分とポリオキシアルキレン鎖が交互に繰り返し結合した直鎖状のブロックコポリマーであることが好ましい。低屈折率層を形成する塗布組成物を塗布した際のムラ抑制やレベリング性から好ましい。これらの具体例としては、例えば東レダウコーニング社のシリコーン界面活性剤ＡＢＮ　ＳＩＬＷＥＴ　ＦＺ－２２０３、ＦＺ－２２０７、ＦＺ－２２０８、ＦＺ－２２２２等が挙げられる。
　低屈折率層を形成する塗布組成物には、より過酷な条件下での耐久試験後に好ましい性能を発揮しやすい点から、以下に説明する反応性変性シリコーン樹脂（反応性変性シリコーンオイルともいう）を含有することが好ましい。
２－２．反応性変性シリコーンオイル：アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコール置換等。
　反応性変性シリコーン樹脂としては、ポリシロキサンの側鎖、片末端または両末端にアミノ、エポキシ、カルボキシル、水酸基、メタクリル、メルカプト、フェノール等で置換された反応性タイプの変性シリコーン樹脂である。アミノ変性シリコーン樹脂として、具体的にはＫＦ－８６０，ＫＦ－８６１，Ｘ－２２―１６１Ａ、Ｘ－２２―１６１Ｂ（以上、信越化学工業株式会社製）、ＦＭ－３３１１，ＦＭ－３３２５（以上、チッソ株式会社製）、エポキシ変性シリコーン樹脂としては、ＫＦ―１０５、Ｘ－２２－１６３Ａ、Ｘ－２２－１６３Ｂ、ＫＦ－１０１、ＫＦ－１００１（以上、信越化学工業株式会社製）、ポリエーテル変性シリコーン樹脂としてはＸ－２２－４２７２、Ｘ－２２－４９５２、カルボキシル変性シリコーン樹脂としてはＸ－２２－３７０１Ｅ、Ｘ－２２－３７１０（以上、信越化学工業株式会社製）、カルビノール変性シリコーン樹脂としてはＫＦ－６００１、ＫＦ－６００３（以上、信越化学工業株式会社製）、メタクリル変性シリコーン樹脂としてはＸ－２２－１６４Ｃ（以上、信越化学工業株式会社製）、メルカプト変性シリコーン樹脂としてはＫＦ－２００１（以上、信越化学工業株式会社製）、フェノール変性シリコーン樹脂としてはＸ－２２－１８２１（以上、信越化学工業株式会社製）等が挙げられる。水酸基変性シリコーン樹脂としては、ＦＭ－４４１１、ＦＭ－４４２１、ＦＭ－ＤＡ２１，ＦＭ－ＤＡ２６（以上、チッソ株式会社製）等が挙げられる。その他、片末端反応性シリコーン樹脂のＸ－２２－１７０ＤＸ、Ｘ－２２－２４２６、Ｘ－２２－１７６Ｆ（信越化学工業株式会社製）等も含まれる。
　上記した界面活性剤は、他の界面活性剤と併用して用いてもよく、また適宜、例えばスルホン酸塩系、硫酸エステル塩系、リン酸エステル塩系等のアニオン界面活性剤、また、ポリオキシエチレン鎖親水基として有するエーテル型、エーテルエステル型等の非イオン界面活性剤等と併用しても良い。上記した界面活性剤の添加量は、低屈折率層塗布組成物中、０．０５～３．０質量％であることが、塗膜の撥水、撥油性、防汚性を高めるばかりでなく、表面の耐擦り傷性にも効果を発揮する点から好ましい。
また、上記した界面活性剤は、塗布ムラを低減させる目的で、帯電防止層にも含有させることができる。
　低屈折率層は、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、インクジェット法等公知の方法を用いて、低屈折率層を形成する上記塗布組成物を塗布し、塗布後、加熱乾燥し、硬化処理することで形成される。
　塗布量は、ウェット膜厚として０．０５～１００μｍが適当で、好ましくは、０．１～５０μｍである。また、ドライ膜厚が上記膜厚となるように塗布組成物の固形分濃度は調整される。
　硬化方法としては、加熱することによって熱硬化させる方法、紫外線等の光照射によって硬化させる方法などが挙げられる。熱硬化させる場合は、加熱温度は５０～３００℃が好ましく、好ましくは６０～２５０℃、更に好ましくは８０～１５０℃である。光照射によって硬化させる場合は、照射光の露光量は１０ｍＪ／ｃｍ２～１０Ｊ／ｃｍ２であることが好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ２～５００ｍＪ／ｃｍ２がより好ましい。
　ここで、照射される光の波長域としては特に限定されないが、紫外線領域の波長を有する光が好ましく用いられる。具体的には、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。
　また、低屈折率層を形成後、温度５０～１６０℃で加熱処理を行う工程を含んでも良い。加熱処理の期間は、設定される温度によって適宜決定すればよく、例えば５０℃であれば、好ましくは３日間以上３０日未満の期間、１６０℃であれば１０分以上１日以下の範囲が好ましい。
　また、本発明の他の実施形態に係る反射防止フィルムは、前記支持基材として透明フィルム基材を用いて、例えば、後述するように製造することができる。前記反射防止フィルムにおける低屈折率層は、例えば、図１に示す光学フィルムの製造装置によって、形成することができる。なお、図１は、光学フィルムの製造装置を示す概略図である。
　前記光学フィルムの製造装置は、繰り出しローラ１、搬送ローラ２、塗布装置３、第１乾燥装置５、活性線照射装置６、第２乾燥装置７、巻取装置８等を備えている。
　前記繰り出しローラ１は、前記低屈折率層を表面に形成させるための、長尺フィルムＹ、例えば、前記透明フィルム基材や前記中間層を備えた透明フィルム基材等を、前記搬送ローラ２に順次、繰り出す。
　前記搬送ローラ２は、繰り出されたフィルムＹを、前記塗布装置３、前記第１乾燥装置５、前記活性線照射装置６、前記第２乾燥装置７、前記巻取装置８等に順次搬送する。
　前記塗布装置３は、前記塗布装置３と対向する位置にある対向ローラ４で走行位置が保持されたフィルムＹ表面に、前記を塗布する。前記塗布装置３としては、例えば、押出しコータ等が挙げられる。
　前記第１乾燥装置５は、複数のローラを備え、そのローラでフィルムＹを搬送させる間に塗布された低屈折率層形成用塗布液を乾燥させる。その際、加熱空気、赤外線等を単独で用いて乾燥してもよいし、加熱空気と赤外線とを併用して乾燥してもよい。簡便さの点から加熱空気を用いることが好ましい。乾燥温度としては、残留させる好適な溶媒量により適宜選択して決めればよいが、５０～１２０℃が好ましい。また、一定の温度で乾燥してもよいし、３～４段階の温度に分けて、数段階の温度に分けて乾燥してもよい。
　前記活性線照射装置６は、活性線照射ランプ６ａ、冷却用媒体供給部６ｂ、及び雰囲気ガス供給部６ｃを備える。前記活性線照射ランプ６ａは、前記低屈折率層形成用塗布液に活性線を照射する。具体的には、例えば、上述のような、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等が挙げられる。前記冷却用媒体供給部６ｂは、前記活性線照射ランプ６ａを冷却するための媒体を供給する。前記媒体としては、例えば、空気等が挙げられる。前記雰囲気ガス供給部６ｃは、前記低屈折率層形成用塗布液が塗布されたフィルムＹの周囲に、前記低屈折率層形成用塗布液の硬化に適した雰囲気ガスを供給する。前記雰囲気ガスとしては、例えば、窒素ガスや、アルゴン等の不活性ガス等が挙げられる。
　前記第２乾燥装置７は、複数のローラを備え、そのローラでフィルムＹを搬送させる間に塗布された低屈折率層形成用塗布液を乾燥させる。すなわち、上述した、前記低屈折率層を形成した後の加熱処理を施すための装置である。
　前記巻取装置８は、巻取コア１５及び温風吹き出し口１０等を備え、前記低屈折率層を備えたフィルムを前記巻取コア１５に巻き取る。その際、前記温風吹き出し口１０から、フィルムＹに温風を吹きかけてもよい。
　なお、図１に示す光学フィルムの製造装置は、低屈折率層形成用塗布液の代わりに、帯電防止層やハードコート層等の中間層を形成するための塗布液を用いることによって、中間層を形成させるために用いることができる。
　上記のように各層を塗布により形成するに際して、透明フィルム基材の幅が１．４～４ｍでロール状に巻き取られた状態から繰り出して、上記塗布を行い、乾燥・硬化処理した後、ロール状に巻き取られることが好ましい。また、反射防止フィルムにおいては反射防止層を積層した後、ロール状に巻き取った状態で、温度５０～１６０℃で加熱処理を行う製造方法によって製造されることが、反射防止フィルムを長尺塗布した際の効率性や安定性から好ましい。加熱処理期間は、設定される温度によって適宜決定すればよく、例えば、温度５０℃であれば、好ましくは３日間以上、３０日未満の期間、温度１６０℃であれば、１０分以上、１日以下の範囲が好ましい。通常は、巻外部、巻中央部、巻き芯部の加熱処理効果が偏らないように、比較的低温に設定することが好ましく、温度５０～６０℃付近で、７日間程度行うことが好ましい。
　加熱処理を安定して行うためには、温湿度が調整可能な場所で行うことが必要であり、塵のないクリーンルーム等の加熱処理室で行うことが好ましい。
　反射防止フィルムをロール状に巻き取る際の、巻きコアとしては、円筒上のコアであれば特に限定されないが、好ましくは中空プラスチックコアであり、プラスチック材料としては加熱処理温度に耐える耐熱性プラスチックが好ましく、例えばフェノール樹脂、キシレン樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂などの樹脂が挙げられる。またガラス繊維などの充填材により強化した熱硬化性樹脂が好ましい。これらの巻きコアへの巻き数は、１００巻き以上であることが好ましく、５００巻き以上であることが更に好ましく、巻き厚は５ｃｍ以上であることが好ましい。
　また、本実施形態に係る低反射部材における低屈折率層は、厚みが、前記シリカ微粒子の平均粒子径の１倍を超え３倍未満であり、１．２～２．５倍であることが好ましい。また、前記低屈折率層の厚みは、上記範囲を満たしていればよいが、具体的には、例えば、０．０５～０．１５μｍであることが好ましく、０．０８～０．１２μｍであることがより好ましい。前記低屈折率層が薄すぎる場合、前記低屈折率層の表面から露出した状態で固定されたシリカ微粒子の量が多くなり、シリカ微粒子の脱落の発生を充分に抑制できない傾向がある。また、前記低屈折率層が厚すぎる場合、反射率が増加したり、干渉縞の色味が大きくなる傾向がある。
　なお、本実施形態に係る低反射部材における低屈折率層の厚みは、低反射部材の低屈折率層をＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）で撮影した断面写真から測定することができる。そして、測定された低屈折率層の厚みと前記シリカ微粒子の平均粒子径とから、前記シリカ微粒子の平均粒子径に対する前記低屈折率層の厚みの比率（前記低屈折率層の厚み／前記シリカ微粒子の平均粒子径）を算出することができる。
　前記低屈折率層の表面粗さＲａは、５ｎｍ未満であり、４ｎｍ以下であることが好ましく、３ｎｍ以下であることがより好ましい。また、前記低屈折率層の表面粗さＲａは、小さければ、小さいほどよいが、実際には、およそ１ｎｍ以上である。前記低屈折率層の表面粗さＲａが大きすぎる場合、前記低屈折率層の表面から露出した状態で固定されたシリカ微粒子の量が多くなり、シリカ微粒子の脱落の発生を充分に抑制できない、傾向がある。
　なお、ここでの表面粗さＲａは、ＪＩＳ　Ｂ０６０１　２００１に準拠したものであり、具体的には、例えば、低反射部材の低屈折率層の表面をＡＦＭ（原子間力顕微鏡）で測定することによって、得られる。
　（層構成）
　本発明の他の実施形態に係る反射防止フィルムの好ましい層構成の例を下記に示す。なお、ここでは「／」は積層配置されていることを示している。但し、本発明は下記の層構成に限定されるものではない。
　フィルム基材／低屈折率層
　フィルム基材／帯電防止層／低屈折率層
　バックコート層／フィルム基材／低屈折率層
　バックコート層／フィルム基材／帯電防止層／低屈折率層
　バックコート層／フィルム基材／ハードコート層／帯電防止層／低屈折率層
　バックコート層／フィルム基材／防弦層／帯電防止層／低屈折率層
　＜帯電防止層及びハードコート層＞
　次に、帯電防止層及びハードコート層について説明する。
　本実施形態では帯電防止層、ハードコート層は別々の層として設けてもよいし、帯電防止層が傷付き防止のためのハードコート層を兼ねていてもよい。
　ハードコート層は、一般に熱硬化性樹脂、或いは紫外線硬化性樹脂等の電離放射線硬化型樹脂からなる層であり、機械的強度（鉛筆硬度、擦傷性）の点から、ある程度の膜厚が必要であり、鉛筆硬度として２Ｈ以上、好ましくは３Ｈ以上、特に好ましくは４Ｈ以上であることが好ましい。
　帯電防止層は、主に導電性微粒子とバインダー樹脂とを含有する層であることが好ましい。また、帯電防止層の屈折率としては、波長５５０ｎｍ測定で、１．４５～１．６０の範囲であることが好ましい。更に、帯電防止層は、表面比抵抗が１０１３Ω／ｃｍ２（２５℃、５５％ＲＨ）以下に調整された層であることが好ましい。更に好ましくは、１０１０Ω／ｃｍ２（２５℃、５５％ＲＨ）以下であり、特に好ましくは、１０９Ω／ｃｍ２（２５℃、５５％ＲＨ）以下である。
　ここで、表面比抵抗の測定は、試料を２５℃、５５％ＲＨの条件にて２４時間調湿し、抵抗率計を用いて測定した値である。また、抵抗率計装置としては、例えば三菱化学株式会社製ハイレスタＵＰ　ＭＣＰ－ＨＴ４５０を用いることができる。
　また、本実施形態による帯電防止層における導電性微粒子としては、金属酸化物粒子またはπ共役系導電性ポリマーが好ましい。また、前記バインダー樹脂としては、上述したような電離放射線硬化型樹脂が好ましい。
　帯電防止層及びハードコート層に用いられる電離放射線硬化型樹脂は、前記低屈折率層に用いられるアクリル系化合物が好適に用いられる。
　電離放射線硬化型樹脂の添加量は、帯電防止層及びハードコート層形成組成物中（以下、帯電防止層塗布液とも言う。）では、固形分中の１５質量％以上８０質量％未満であることが好ましい。
　また、帯電防止層及びハードコート層には電離放射線硬化型樹脂の硬化促進のため、光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤量としては、質量比で、光重合開始剤：電離放射線硬化型樹脂＝２０：１００～０．０１：１００で含有することが好ましい。
　光重合開始剤としては、具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α－アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができるが、特にこれらに限定されるものではない。
　次に、導電性微粒子について説明する。本実施形態による帯電防止層における導電性微粒子としては、金属酸化物粒子またはπ共役系導電性ポリマーが好ましい。
　まず、金属酸化物粒子について説明する。
　金属酸化物粒子の種類は特に限定されるものではなく、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐ及びＳから選択される少なくとも一種の元素を有する金属酸化物を用いることができる。また、これらの金属酸化物粒子はＡｌ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｎｂ、ハロゲン元素、Ｔａなどの微量の原子をドープしてあっても良い。また、これらの混合物でもよい。本実施形態においては、酸化アンチモン、酸化スズ、酸化亜鉛、スズ含有酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモン含有酸化スズ（ＡＴＯ）、リン含有酸化スズ（ＰＴＯ）及びアンチモン酸亜鉛から選ばれる少なくとも１種の金属酸化物粒子を主成分として用いることが好ましい。特に、リン含有酸化スズ（ＰＴＯ）或いはアンチモン酸亜鉛粒子のいずれかを含有することが好ましい。
　これら金属酸化物粒子の一次粒子の平均粒子径は１０ｎｍ～２００ｎｍの範囲であり、２０～１５０ｎｍであることがより好ましく、３０～１００ｎｍであることが特に好ましい。金属酸化物粒子の平均粒子径は、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）等による電子顕微鏡写真から計測することができる。また、動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等によって計測してもよい。粒子径が小さ過ぎると凝集しやすくなり、分散性が劣化する。粒子径が大き過ぎるとヘイズが著しく上昇し好ましくない。金属酸化物粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、針状或いは不定形状であることが好ましい。
　金属酸化物粒子は有機化合物により表面処理してもよい。金属酸化物粒子の表面を有機化合物で表面修飾することによって、有機溶媒中での分散安定性が向上し、分散粒子径の制御が容易になるとともに、経時での凝集、沈降を抑えることもできる。このため、好ましい有機化合物での表面修飾量は金属酸化物粒子に対して０．１～５質量％、より好ましくは０．５～３質量％である。表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が含まれる。この中でも後述するシランカップリング剤が好ましい。２種以上の表面処理を組み合わせてもよい。
　金属酸化物粒子は、媒体に分散した分散体の状態で、帯電防止層を形成するための塗布液に供される。金属酸化物粒子の分散媒体としては、沸点が６０～１７０℃の液体を用いることが好ましい。分散溶媒の具体例としては、水、アルコール（例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、ケトンアルコール（例、ジアセトンアルコール）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ－メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン）、エーテルアルコール（例、１－メトキシ－２－プロパノール）、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メタノール及びイソプロパノールが特に好ましい。
　また金属酸化物粒子は、分散機を用いて媒体中に分散することができる。分散機の例としては、サンドグラインダーミル（例、ピン付きビーズミル）、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライター及びコロイドミルが挙げられる。サンドグラインダーミル及び高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例としては、ボールミル、三本ロールミル、ニーダー及びエクストルーダーが挙げられる。分散剤を含有させることも好ましい。
更にコア／シェル構造を有する金属酸化物粒子を含有させてもよい。シェルはコアの周りに１層形成させてもよいし、耐光性を更に向上させるために複数層形成させてもよい。コアは、シェルにより完全に被覆されていることが好ましい。
　次に、π共役系導電性ポリマーについて説明する。
　本実施形態において使用するπ共役系導電性ポリマーは、主鎖がπ共役系で構成されている有機高分子であれば使用することができる。例えば、ポリチオフェン類、ポリピロール類、ポリアニリン類、ポリフェニレン類、ポリアセチレン類、ポリフェニレンビニレン類、ポリアセン類、ポリチオフェンビニレン類、及びこれらの共重合体が挙げられる。重合の容易さや安定性の点からは、ポリチオフェン類、ポリピロール類、ポリアニリン類が好ましい。
　π共役系導電性ポリマーは、無置換のままでも十分な導電性やバインダー樹脂への溶解性が得られるが、導電性や溶解性をより高めるために、アルキル基、カルボキシ基、スルホ基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、シアノ基等の官能基を導入してもよい。
　このようなπ共役系導電性ポリマーの具体例としては、ポリチオフェン、ポリ（３－メチルチオフェン）、ポリ（３－エチルチオフェン）、ポリ（３－プロピルチオフェン）、ポリ（３－ブチルチオフェン）、ポリ（３－ヘキシルチオフェン）、ポリ（３－オクチルチオフェン）、ポリ（３－デシルチオフェン）、ポリ（３－ドデシルチオフェン）、ポリ（３－ブロモチオフェン）、ポリ（３－クロロチオフェン）、ポリ（３－シアノチオフェン）、ポリ（３－フェニルチオフェン）、ポリ（３，４－ジメチルチオフェン）、ポリ（３，４－ジブチルチオフェン）、ポリ（３－ヒドロキシチオフェン）、ポリ（３－メトキシチオフェン）、ポリ（３－エトキシチオフェン）、ポリ（３－ブトキシチオフェン）、ポリ（３－ヘキシルオキシチオフェン）、ポリ（３－オクチルオキシチオフェン）、ポリ（３－デシルオキシチオフェン）、ポリ（３－ドデシルオキシチオフェン）、ポリ（３，４－ジヒドロキシチオフェン）、ポリ（３，４－ジメトキシチオフェン）、ポリ（３，４－ジエトキシチオフェン）、ポリ（３，４－ジプロポキシチオフェン）、ポリ（３，４－ジブトキシチオフェン）、ポリ（３，４－ジヘキシルオキシチオフェン）、ポリ（３，４－ジオクチルオキシチオフェン）、ポリ（３，４－ジデシルオキシチオフェン）、ポリ（３，４－ジドデシルオキシチオフェン）、ポリ（３，４－エチレンジオキシチオフェン）、ポリ（３，４－プロピレンジオキシチオフェン）、ポリ（３，４－ブテンジオキシチオフェン）、ポリ（３－メチル－４－メトキシチオフェン）、ポリ（３－メチル－４－エトキシチオフェン）、ポリ（３－カルボキシチオフェン）、ポリ（３－メチル－４－カルボキシチオフェン）、ポリ（３－メチル－４－カルボキシエチルチオフェン）、ポリ（３－メチル－４－カルボキシブチルチオフェン）、ポリピロール、ポリ（Ｎ－メチルピロール）、ポリ（３－メチルピロール）、ポリ（３－エチルピロール）、ポリ（３－Ｎ－プロピルピロール）、ポリ（３－ブチルピロール）、ポリ（３－オクチルピロール）、ポリ（３－デシルピロール）、ポリ（３－ドデシルピロール）、ポリ（３，４－ジメチルピロール）、ポリ（３，４－ジブチルピロール）、ポリ（３－カルボキシピロール）、ポリ（３－メチル－４－カルボキシピロール）、ポリ（３－メチル－４－カルボキシエチルピロール）、ポリ（３－メチル－４－カルボキシブチルピロール）、ポリ（３－ヒドロキシピロール）、ポリ（３－メトキシピロール）、ポリ（３－エトキシピロール）、ポリ（３－ブトキシピロール）、ポリ（３－ヘキシルオキシピロール）、ポリ（３－メチル－４－ヘキシルオキシピロール）、ポリアニリン、ポリ（２－メチルアニリン）、ポリ（３－イソブチルアニリン）、ポリ（２－アニリンスルホン酸）、ポリ（３－アニリンスルホン酸）等が挙げられる。これらはそれぞれ単独でも良いし、２種からなる共重合体でも好適に用いることができる。
　これらのπ共役系導電性ポリマーには、ドーパント成分が添加されていても良い。ドーパント成分としては、例えば、ハロゲン類、ルイス酸、プロトン酸、遷移金属ハライドなどの低分子量ドーパントや、ポリアニオンのようなポリマー等が挙げられる。
　ポリアニオンとは、π共役系導電性ポリマーに対するドーパントとして機能するアニオン基を有する高分子であり、置換もしくは未置換のポリアルキレン、置換もしくは未置換のポリアルケニレン、置換もしくは未置換のポリイミド、置換もしくは未置換のポリアミド、置換もしくは未置換のポリエステル及びこれらの共重合体であって、アニオン基を有する構成単位とアニオン基を有さない構成単位からなるものである。
　ポリアルキレンとは主鎖がメチレンの繰り返しで構成されているポリマーであり、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリペンテン、ポリヘキセン、ポリビニルアルコール、ポリビニルフェノール、ポリアクリロニトリル、ポリアクリレート、ポリスチレン等が挙げられる。
　ポリアルケニレンとは主鎖に不飽和結合が１個以上含まれる構成単位からなるポリマーであり、例えば、プロペニレン、１－メチルプロペニレン、１－ブチルプロペニレン、１－デシルプロペニレン、１－シアノプロペニレン、１－フェニルプロペニレン、１－ヒドロキシプロペニレン、１－ブテニレン、１－メチル－１－ブテニレン、１－エチル－１－ブテニレン、１－オクチル－１－ブテニレン、２－メチル－１－ブテニレン、２－エチル－１－ブテニレン、２－ブチル－１－ブテニレン、２－ヘキシル－１－ブテニレン、２－オクチル－１－ブテニレン、２－デシル－１－ブテニレン、２－フェニル－１－ブテニレン、２－ブテニレン、１－メチル－２－ブテニレン、１－エチル－２－ブテニレン、１－オクチル－２－ブテニレン、２－メチル－２－ブテニレン、２－エチル－２－ブテニレン、２－ブチル－２－ブテニレン、２－ヘキシル－２－ブテニレン、２－オクチル－２－ブテニレン、２－デシル－２－ブテニレン、２－フェニル－２－ブテニレン、２－プロピレンフェニル－２－ブテニレン、２－ペンテニレン、４－エチル－２－ペンテニレン、４－プロピル－２－ペンテニレン、４－ブチル－２－ペンテニレン、４－ヘキシル－２－ペンテニレン、４－シアノ－２－ペンテニレン、３－メチル－２－ペンテニレン、３－フェニル－２－ペンテニレン、４－ヒドロキシ－２－ペンテニレン、ヘキセニレン等から選ばれる１種以上の構成単位を含む重合体が挙げられる。
　ポリイミドとしてはピロメリット酸二無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’－テトラカルボキシジフェニルエーテル二無水物、２，２’－［４，４’－ジ（ジカルボキシフェニルオキシ）フェニル］プロパン二無水物等の無水物と、オキシジアミン、パラフェニレンジアミン、メタフェニレンジアミン、ベンゾフェノンジアミン等のジアミンとからなるポリイミドが挙げられる。
　ポリアミドとしてはポリアミド６、ポリアミド６，６、ポリアミド６，１０等が挙げられる。
　ポリエステルとしてはポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等が挙げられる。
　ポリアニオンのアニオン基としては、π共役系導電性ポリマーへの化学酸化ドープが起こりうる官能基であれば良いが、製造の容易さや安定性の観点から、一置換硫酸エステル基、一置換リン酸エステル基、リン酸基、カルボキシ基、スルホ基等が好ましい。更に、官能基のπ共役系導電性ポリマーへのドープ効果の観点から、スルホ基、一置換硫酸エステル基、カルボキシ基がより好ましい。
　ポリアニオンの具体例としては、ポリビニルスルホン酸、ポリスチレンスルホン酸、ポリアリルスルホン酸、ポリアクリル酸エチルスルホン酸、ポリアクリル酸ブチルスルホン酸、ポリ（２－アクリルアミド－２－メチルプロパンスルホン酸）、ポリイソプレンスルホン酸、ポリビニルカルボン酸、ポリスチレンカルボン酸、ポリアリルカルボン酸、ポリアクリルカルボン酸、ポリメタクリルカルボン酸、ポリ（２－アクリルアミド－２－メチルプロパンカルボン酸）、ポリイソプレンカルボン酸、ポリアクリル酸等が挙げられる。これらの単独重合体でも良く、２種以上の共重合体でも良い。これらのうち、ポリスチレンスルホン酸、ポリイソプレンスルホン酸、ポリアクリル酸エチルスルホン酸、ポリアクリル酸ブチルスルホン酸が好ましい。これらのポリアニオンは、バインダー樹脂との相溶性が高く、得られる導電層の導電性をより高めることができる。
　本実施形態においては、ポリアニオンの他にも、π共役系導電性ポリマーを酸化還元することができれば、以下のようなドナー性或いはアクセプタ性のドーパントを用いることができる。
　ドナー性ドーパントとしては、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、カルシウム、マグネシウム等のアルカリ土類金属、テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、テトラプロピルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム、メチルトリエチルアンモニウム、ジメチルジエチルアンモニウム等の４級アミン化合物等が挙げられる。
　アクセプタ性ドーパントとしては、Ｃｌ２、Ｂｒ２、Ｉ２、ＩＣｌ、ＩＢｒ、ＩＦ等のハロゲン化合物、ＰＦ５、ＡｓＦ５、ＳｂＦ５、ＢＦ５、ＢＣｌ５、ＢＢｒ５、ＳＯ３等のルイス酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノエチレンオキサイド、テトラシアノベンゼン、ジクロロジシアノベンゾキノン、テトラシアノキノジメタン、テトラシアノアザナフタレン等の有機シアノ化合物、プロトン酸、有機金属化合物、フラーレン、水素化フラーレン、水酸化フラーレン、カルボン酸化フラーレン、スルホン酸化フラーレン等を使用できる。
　プロトン酸としては無機酸、有機酸が挙げられる。無機酸としては、例えば塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、フッ化水素酸、過塩素酸等が挙げられる。また、有機酸としては、有機カルボン酸、有機スルホン酸等が挙げられる。
　有機カルボン酸としては、脂肪族、芳香族、環状脂肪族等にカルボキシ基を１つまたは２つ以上を含むものを使用できる。例えば、ギ酸、酢酸、シュウ酸、安息香酸、フタル酸、マレイン酸、フマル酸、マロン酸、酒石酸、クエン酸、乳酸、コハク酸、モノクロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、ニトロ酢酸、トリフェニル酢酸等が挙げられる。
　有機スルホン酸としては、脂肪族、芳香族、環状脂肪族等にスルホ基を１つまたは２つ以上含むもの、またはスルホ基を含む高分子を使用できる。
　スルホ基を１つ含むものとしては、例えば、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、１－プロパンスルホン酸、１－ブタンスルホン酸、１－ヘキサンスルホン酸、１－ヘプタンスルホン酸、１－オクタンスルホン酸、１－ノナンスルホン酸、１－デカンスルホン酸、１－ペンタデカンスルホン酸、２－ブロモエタンスルホン酸、３－クロロ－２－ヒドロキシプロパンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、トリフルオロエタンスルホン酸、コリスチンメタンスルホン酸、２－アクリルアミド－２－メチルプロパンスルホン酸、アミノメタンスルホン酸、１－アミノ－２－ナフトール－４－スルホン酸、２－アミノ－５－ナフトール－７－スルホン酸、３－アミノプロパンスルホン酸、Ｎ－シクロヘキシル－３－アミノプロパンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、アルキルベンゼンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸、キシレンスルホン酸、エチルベンゼンスルホン酸、プロピルベンゼンスルホン酸、ブチルベンゼンスルホン酸、ペンチルベンゼンスルホン酸、ヘキシルベンゼンスルホン酸、ヘプチルベンゼンスルホン酸、オクチルベンゼンスルホン酸、ノニルベンゼンスルホン酸、デシルベンゼンスルホン酸、ヘキサデシルベンゼンスルホン酸、２，４－ジメチルベンゼンスルホン酸、ジプロピルベンゼンスルホン酸、４－アミノベンゼンスルホン酸、ｏ－アミノベンゼンスルホン酸、ｍ－アミノベンゼンスルホン酸、４－アミノ－２－クロロトルエン－５－スルホン酸、４－アミノ－３－メチルベンゼン－１－スルホン酸、４－アミノ－５－メトキシ－２－メチルベンゼンスルホン酸、２－アミノ－５－メチルベンゼン－１－スルホン酸、４－アミノ－２－メチルベンゼン－１－スルホン酸、５－アミノ－２－メチルベンゼン－１－スルホン酸、４－アミノ－３－メチルベンゼン－１－スルホン酸、４－アセトアミド－３－クロロベンゼンスルホン酸、４－クロロ－３－ニトロベンゼンスルホン酸、ｐ－クロロベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、メチルナフタレンスルホン酸、プロピルナフタレンスルホン酸、ブチルナフタレンスルホン酸、ペンチルナフタレンスルホン酸、４－アミノ－１－ナフタレンスルホン酸、８－クロロナフタレン－１－スルホン酸、ナフタレンスルホン酸ホルマリン重縮合物、メラミンスルホン酸ホルマリン重縮合物、アントラキノンスルホン酸、ピレンスルホン酸等が挙げられる。また、これらの金属塩も使用できる。
　スルホ基を２つ以上含むものとしては、例えば、エタンジスルホン酸、ブタンジスルホン酸、ペンタンジスルホン酸、デカンジスルホン酸、ｏ－ベンゼンジスルホン酸、ｍ－ベンゼンジスルホン酸、ｐ－ベンゼンジスルホン酸、トルエンジスルホン酸、キシレンジスルホン酸、クロロベンゼンジスルホン酸、フルオロベンゼンジスルホン酸、ジメチルベンゼンジスルホン酸、ジエチルベンゼンジスルホン酸、アニリン－２，４－ジスルホン酸、アニリン－２，５－ジスルホン酸、３，４－ジヒドロキシ－１，３－ベンゼンジスルホン酸、ナフタレンジスルホン酸、メチルナフタレンジスルホン酸、エチルナフタレンジスルホン酸、ペンタデシルナフタレンジスルホン酸、３－アミノ－５－ヒドロキシ－２，７－ナフタレンジスルホン酸、１－アセトアミド－８－ヒドロキシ－３，６－ナフタレンジスルホン酸、２－アミノ－１，４－ベンゼンジスルホン酸、１－アミノ－３，８－ナフタレンジスルホン酸、３－アミノ－１，５－ナフタレンジスルホン酸、８－アミノ－１－ナフトール－３，６－ジスルホン酸、４－アミノ－５－ナフトール－２，７－ジスルホン酸、４－アセトアミド－４’－イソチオシアノトスチルベン－２，２’－ジスルホン酸、４－アセトアミド－４’－マレイミジルスチルベン－２，２’－ジスルホン酸、ナフタレントリスルホン酸、ジナフチルメタンジスルホン酸、アントラキノンジスルホン酸、アントラセンスルホン酸等が挙げられる。また、これらの金属塩も使用できる。
　また、導電性微粒子として、イオン性化合物を含有しても良い。イオン性化合物としては、イミダゾリウム系、ピリジウム系、脂環式アミン系、脂肪族アミン系、脂肪族ホスホニウム系の陽イオンとＢＦ４ －、ＰＦ６ －等の無機イオン系、ＣＦ３ＳＯ２ －、（ＣＦ３ＳＯ２）２Ｎ－、ＣＦ３ＣＯ２ －等のフッ素系の陰イオンとからなる化合物等が挙げられる。
　導電性微粒子は、バインダーとして用いられる電離放射線硬化型樹脂１００質量部に対して、０．０１質量部～３００質量部が好ましく、更に好ましくは０．１質量部～１００質量部である。
　帯電防止層及びハードコート層には、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂またはゼラチン等の親水性樹脂等のバインダーを用いることもできる。また、帯電防止層及びハードコート層には滑り性や屈折率を調整するために無機化合物または有機化合物の粒子を含んでもよい。
　無機微粒子としては、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム、ＩＴＯ、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。特に、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム等が好ましく用いられる。
　また、有機粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、シリコン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、またはポリ弗化エチレン系樹脂粉末等を添加することができる。好ましい微粒子は、架橋ポリスチレン粒子（例えば、綜研化学製ＳＸ－１３０Ｈ、ＳＸ－２００Ｈ、ＳＸ－３５０Ｈ）、ポリメチルメタクリレート系粒子（例えば、綜研化学製ＭＸ１５０、ＭＸ３００）、フッ素含有アクリル樹脂微粒子が挙げられる。フッ素含有アクリル樹脂微粒子としては、例えば日本ペイント製：ＦＳ－７０１等の市販品が挙げられる。また、アクリル粒子として、例えば日本ペイント製：Ｓ－４０００、アクリル－スチレン粒子として、例えば日本ペイント製：Ｓ－１２００、ＭＧ－２５１等が挙げられる。
　これらの微粒子粉末の平均粒子径は特に制限されないが、以下に記載する防眩性を示さない点から、０．５μｍ以下が好ましく、更に好ましくは０．１μｍ以下であって、特に好ましくは０．００１～０．１μｍである。
　微粒子の平均粒子径は、例えばレーザー回折式粒度分布測定装置により測定することができる。
　また、粒子径の異なる２種以上の微粒子を含有しても良い。紫外線硬化性樹脂と微粒子の割合は、樹脂１００質量部に対して、０．１～３０質量部となるように配合することが望ましい。
　また、帯電防止層及びハードコート層はグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、インクジェット法等公知の方法を用いて、帯電防止層及びハードコート層を形成する塗布組成物を塗布し、塗布後、加熱乾燥し、ＵＶ硬化処理することで形成できる。塗布量はウェット膜厚として０．１～４０μｍが適当で、好ましくは、０．５～３０μｍである。また、ドライ膜厚としては平均膜厚０．１～３０μｍ、好ましくは１～２０μｍ、特に好ましくは６～１５μｍである。
　ＵＶ硬化処理の光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は、通常５～５００ｍＪ／ｃｍ２、好ましくは５～２００ｍＪ／ｃｍ２である。
　また、活性線を照射する際には、フィルムの搬送方向に張力を付与しながら行うことが好ましく、更に好ましくは幅方向にも張力を付与しながら行うことである。付与する張力は３０～３００Ｎ／ｍが好ましい。張力を付与する方法は特に限定されず、バックロール上で搬送方向に張力を付与してもよく、テンターにて幅方向、または２軸方向に張力を付与してもよい。これによって更に平面性優れたフィルムを得ることができる。
　帯電防止層及びハードコート層を形成する塗布組成物には溶媒が含まれていてもよい。塗布組成物に含有される有機溶媒としては、例えば、炭化水素類（トルエン、キシレン）、アルコール類（メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル）、グリコールエーテル類、その他の有機溶媒からも適宜選択し、またはこれらを混合し利用できる。
　有機溶媒としては、プロピレングリコールモノアルキルエーテル（アルキル基の炭素原子数として１～４）またはプロピレングリコールモノアルキルエーテル酢酸エステル（アルキル基の炭素原子数として１～４）等が好ましい。また、有機溶媒の含有量としては塗布組成物中、５～８０質量％が好ましい。
　更に帯電防止層及びハードコート層には、前述の低屈折率層で記載した下記のシリコーン系界面活性剤或いはポリオキシエーテル化合物を含有させることが好ましい。これらは塗布性を高める。また、これら成分は、塗布液中の固形分成分に対し、０．０１～３質量％の範囲で添加することが好ましい。
　ポリオキシエーテル化合物としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル化合物、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル等のポリオキシアルキルフェニルエーテル化合物、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレン高級アルコールエーテル、ポリオキシエチレンオクチルドデシルエーテル等が挙げられる。ポリオキシエチレンアルキルエーテルの市販品としては、エマルゲン１１０８、エマルゲン１１１８Ｓ－７０（以上、花王社製）、ポリオキシエチレンラウリルエーテルの市販品としては、エマルゲン１０３、エマルゲン１０４Ｐ、エマルゲン１０５、エマルゲン１０６、エマルゲン１０８、エマルゲン１０９Ｐ、エマルゲン１２０、エマルゲン１２３Ｐ、エマルゲン１４７、エマルゲン１５０、エマルゲン１３０Ｋ（以上、花王社製）、ポリオキシエチレンセチルエーテルの市販品としては、エマルゲン２１０Ｐ、エマルゲン２２０（以上、花王社製）、ポリオキシエチレンステアリルエーテルの市販品としては、エマルゲン２２０、エマルゲン３０６Ｐ（以上、花王社製）、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルの市販品としては、エマルゲンＬＳ－１０６、エマルゲンＬＳ－１１０、エマルゲンＬＳ－１１４、エマルゲンＭＳ－１１０（以上、花王社製）ポリオキシエチレン高級アルコールエーテルの市販品としては、エマルゲン７０５，エマルゲン７０７、エマルゲン７０９等が挙げられる。
　これら非イオン性のポリオキシエーテル化合物の中でも好ましくは、ポリオキシエチレンオレイルエーテル化合物であり、下記の一般式（２１）で表される化合物である。
　Ｃ１８Ｈ３５－Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｎＨ　　　（２１）
　式（２１）中、ｎは２～４０を表す。
　オレイル部分に対するエチレンオキシドの平均付加個数（ｎ）は、２～４０であり、好ましくは２～１０である。また、上記一般式（１）の化合物はエチレンオキシドとオレイルアルコールとを反応させて得られる。
　具体的商品としては、エマルゲン４０４〔ポリオキシエチレン（４）オレイルエーテル〕、エマルゲン４０８〔ポリオキシエチレン（８）オレイルエーテル〕、エマルゲン４０９Ｐ〔ポリオキシエチレン（９）オレイルエーテル〕、エマルゲン４２０〔ポリオキシエチレン（１３）オレイルエーテル〕、エマルゲン４３０〔ポリオキシエチレン（３０）オレイルエーテル〕（以上、花王社製）、日本油脂社製ＮＯＦＡＢＬＥＥＡＯ－９９０５（ポリオキシエチレン（５）オレイルエーテル）等が挙げられる。なお、（　）がｎの数字を表す。
　ポリオキシエーテル化合物は単独或いは２種以上を併用しても良い。
　帯電防止層及びハードコート層中のポリオキシエーテル化合物やシリコーン界面活性剤の好ましい含有量は、両者の総含有量で０．１～８．０質量％が好ましく、更に好ましくは、０．２～４．０質量％であり、該範囲で添加することで帯電防止層の中で安定に存在する。
　また、フッ素界面活性剤、アクリル系共重合物、アセチレングリコール系化合物または非イオン性界面活性剤、ラジカル重合性の非イオン性界面活性剤等を併用しても良い。
　非イオン性界面活性剤としては、ポリオキシエチレンモノラウレート、ポリオキシエチレンモノステアレート、ポリオキシエチレンモノオレート等のポリオキシアルキルエステル化合物、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンモノオレート等のソルビタンエステル化合物、等が挙げられる。
　アセチレングリコール系化合物としてはサーフィノール１０４Ｅ、サーフィノール１０４ＰＡ、サーフィノール４２０、サーフィノール４４０、ダイノール６０４（以上、日信化学工業株式会社製）などが挙げられる。
　ラジカル重合性の非イオン性界面活性剤としては、例えば、ＲＭＡ－５６４、ＲＭＡ－５６８、ＲＭＡ－１１１４（以上、商品名、日本乳化剤株式会社製）等のポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテル（メタ）アクリレート系重合性界面活性剤などを挙げることができる。
　また、帯電防止層及びハードコート層は、硬化助剤として多官能チオール化合物を含有しても良く、例えば１，４－ビス（３－メルカプトブチリルオキシ）ブタン、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトブチレート）、１，３，５－トリス（３－メルカプトブチルオキシエチル）－１，３，５－トリアジン－２，４，６－（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）－トリオン等が挙げられる。また、市販品としては昭和電工社製商品名カレンズＭＴシリーズ等が挙げられる。多官能チオール化合物は、紫外線硬化性樹脂１００質量部に対して、０．０１～５０質量部の範囲で添加されることが好ましく、更に好ましくは０．０５～３０質量部である。この範囲で添加することで、硬化助剤として好適に作用し、また、帯電防止層及びハードコート層の中でも安定に存在する。
　帯電防止層は、２層以上の重層構造を有していてもよい。その中の１層は例えば金属酸化物粒子を含有しない、いわゆるクリアハードコート層としてもよいし、また、種々の表示素子に対する色補正用フィルターとして色調調整機能を有する色調調整剤（染料もしくは顔料等）を含有させてもよいし、また電磁波遮断剤または赤外線吸収剤等を含有させそれぞれの機能を有するようにしてもよい。
　〈バックコート層〉
　本実施形態に係る反射防止フィルムは、透明フィルム基材の帯電防止層及びハードコート層や反射防止層を設けた側と反対側の面にバックコート層を設けてもよい。バックコート層は、帯電防止層及びハードコート層や反射防止層を設けることで生じるカールを矯正するために設けられる。即ち、バックコート層を設けた面を内側にして丸まろうとする性質を持たせることにより、カールの度合いをバランスさせることができる。なお、バックコート層は好ましくはブロッキング防止層を兼ねて塗設され、その場合、バックコート層塗布組成物には、ブロッキング防止機能を持たせるために無機化合物または有機化合物の粒子が添加されることが好ましい。
　バックコート層に添加される粒子としては無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、ＩＴＯ、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。
　これらの粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上、日本アエロジル株式会社製）、シーホスターＫＥ－Ｐ１０、同ＫＥ－Ｐ３０、同ＫＥ－Ｐ５０、同ＫＥ－Ｐ１００、同ＫＥ－Ｐ１５０、同ＫＥ－Ｐ２５０（以上、日本触媒株式会社製）の商品名で市販されており、使用することができる。
　有機化合物の例として、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることができる。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１２０及び同２４０（以上ＧＥ東芝シリコーン株式会社製）の商品名で市販されており、使用することができる。
　これらの中でもアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖ、シーホスターＫＥ－Ｐ３０、同ＫＥ－Ｐ５０、及び同ＫＥ－Ｐ１００がヘイズを低く保ちながら、ブロッキング防止効果が大きいため特に好ましく用いられる。
　バックコート層に含まれる粒子は、バインダーに対して０．１～５０質量％、好ましくは０．１～１０質量％である。バックコート層を設けた場合のヘイズの増加は１．５％以下であることが好ましく、０．５％以下であることが更に好ましく、特に０．１％以下であることが好ましい。
　バックコート層の塗布に用いられる塗布組成物には溶媒が含まれることが好ましい。溶媒としては、例えば、ジオキサン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、酢酸メチル、酢酸エチル、トリクロロエチレン、メチレンクロライド、エチレンクロライド、テトラクロロエタン、トリクロロエタン、クロロホルム、水、メタノール、エタノール、ｎ－プロピルアルコール、ｉ－プロピルアルコール、ｎ－ブタノール、シクロヘキサノン、シクロヘキサノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、または炭化水素類（トルエン、キシレン）等が挙げられ、適宜組み合わされて用いられる。
　バックコート層のバインダーとして用いられる樹脂としては、例えば塩化ビニル－酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、酢酸ビニルとビニルアルコールの共重合体、部分加水分解した塩化ビニル－酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル－塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル－アクリロニトリル共重合体、エチレン－ビニルアルコール共重合体、塩素化ポリ塩化ビニル、エチレン－塩化ビニル共重合体、エチレン－酢酸ビニル共重合体等のビニル系重合体または共重合体、ニトロセルロース、セルロースアセテートプロピオネート（好ましくはアセチル基置換度１．８～２．３、プロピオニル基置換度０．１～１．０）、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートブチレート樹脂等のセルロース誘導体、マレイン酸及び／またはアクリル酸の共重合体、アクリル酸エステル共重合体、アクリロニトリル－スチレン共重合体、塩素化ポリエチレン、アクリロニトリル－塩素化ポリエチレン－スチレン共重合体、メチルメタクリレート－ブタジエン－スチレン共重合体、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステルポリウレタン樹脂、ポリエーテルポリウレタン樹脂、ポリカーボネートポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、アミノ樹脂、スチレン－ブタジエン樹脂、ブタジエン－アクリロニトリル樹脂等のゴム系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
　例えば、アクリル樹脂としては、アクリペットＭＤ、ＶＨ、ＭＦ、Ｖ（三菱レイヨン株式会社製）、ハイパールＭ－４００３、Ｍ－４００５、Ｍ－４００６、Ｍ－４２０２、Ｍ－５０００、Ｍ－５００１、Ｍ－４５０１（根上工業株式会社製）、ダイヤナールＢＲ－５０、ＢＲ－５２、ＢＲ－５３、ＢＲ－６０、ＢＲ－６４、ＢＲ－７３、ＢＲ－７５、ＢＲ－７７、ＢＲ－７９、ＢＲ－８０、ＢＲ－８２、ＢＲ－８３、ＢＲ－８５、ＢＲ－８７、ＢＲ－８８、ＢＲ－９０、ＢＲ－９３、ＢＲ－９５、ＢＲ－１００、ＢＲ－１０１、ＢＲ－１０２、ＢＲ－１０５、ＢＲ－１０６、ＢＲ－１０７、ＢＲ－１０８、ＢＲ－１１２、ＢＲ－１１３、ＢＲ－１１５、ＢＲ－１１６、ＢＲ－１１７、ＢＲ－１１８等（三菱レイヨン株式会社製）のアクリル及びメタクリル系モノマーを原料として製造した各種ホモポリマー並びにコポリマー等が市販されており、この中から好ましいものを適宜選択することもできる。
　例えば、バインダーとして用いられる樹脂としてはセルロースジアセテート、セルロースアセテートプロヒオネートなどのセルロースエステルとアクリル樹脂のブレンド物を用いることが好ましく、アクリル樹脂からなる粒子を用いて、粒子とバインダーとの屈折率差を０～０．０２未満とすることで透明性の高いバックコート層とすることができる。
　また、バックコート層の動摩擦係数は０．９以下、特に０．１～０．９であることが好ましい。
　バックコート層を形成する方法としては、上述したバックコート層を形成するための塗布組成物をグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、またはスプレー塗布、インクジェット塗布等を用いて透明樹脂フィルムの表面にウェット膜厚１～１００μｍで塗布するのが好ましいが、特に５～３０μｍであることが好ましい。
　また、塗布後、加熱乾燥し、必要に応じて硬化処理することで、バックコート層は形成される。硬化処理は低屈折率層で記載した内容を用いることができる。
バックコート層は２回以上に分けて塗布することもできる。また、バックコート層は偏光子との接着性を改善するための易接着層を兼ねても良い。
　＜支持基材＞
　前記支持基材としては、低反射部材の支持基材として用いられるものであれば、特に限定されず、公知の支持基材を用いることができる。そして、反射防止フィルムのときの支持基材である透明フィルム基材としては、以下のようなものが挙げられる。
　＜透明フィルム基材＞
　透明フィルム基材は製造が容易であること、低屈折率層等と接着し易いこと、光学的に等方性であることが好ましい。これらの性質を有していれば何れでもよく、例えば、トリアセチルセルロースフィルム、セルロースアセテートプロピオネートオネートフィルム、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム等のセルロースエステル系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ノルボルネン樹脂系フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルムまたはアクリルフィルム等を挙げることができるが、これらに限定されるわけではない。これらの内、セルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタックＫＣ８ＵＸ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ８ＵＣＲ４、ＫＣ８ＵＣＲ５、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ４ＵＥ、及びＫＣ１２ＵＲ（以上、コニカミノルタオプト（株）製））、ポリカーボネートフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリエステルフィルムが好ましく、本実施形態においては、特にセルロースエステル系フィルムが、製造上、コスト面、等方性、接着性、及び本発明の目的効果が好適に得られることから好ましい。
　（セルロースエステル系フィルム）
　次に透明フィルム基材として好ましいセルロースエステル系フィルム（以下、セルロースエステルフィルムともいう）について説明する。
　セルロースエステル樹脂（以下セルロースエステルともいう）は、セルロースの低級脂肪酸エステルであることが好ましい。セルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味し、例えば、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等の混合脂肪酸エステルを用いることができる。前記混合脂肪酸エステルとしては、公知の、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートであればよく、あえて一例を挙げるとすれば、特開平１０－４５８０４号公報、特開平０８－２３１７６１号公報、米国特許第２，３１９，０５２号公報等に記載されているようなセルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等の混合脂肪酸エステルを用いることができる。上記記載の中でも、特に好ましく用いられるセルロースの低級脂肪酸エステルはセルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネートである。これらのセルロースエステルは単独或いは混合して用いることができる。
　セルローストリアセテートの場合には、平均酢化度（結合酢酸量）５４．０～６２．５％のものが好ましく用いられ、更に好ましいのは、平均酢化度が５８．０～６２．５％のセルローストリアセテートである。平均酢化度が小さいと寸法変化が大きく、また偏光板の偏光度が低下する。平均酢化度が大きいと溶剤に対する溶解度が低下し生産性が下がる。
　セルローストリアセテート以外で好ましいセルロースエステルは炭素原子数２～４のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をＸとし、プロピオニル基又はブチリル基の置換度をＹとした時、下記式（Ｉ）及び（ＩＩ）を同時に満たすセルロースエステルを含むセルロースエステルである。
　　　２．６≦Ｘ＋Ｙ≦３．０　　（Ｉ）
　　　０≦Ｘ≦２．５　　　　　　（ＩＩ）
　この内特にセルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられ、中でも１．９≦Ｘ≦２．５、０．１≦Ｙ≦０．９であることが好ましい。アシル基で置換されていない部分は通常水酸基として存在しているものである。これらは公知の方法で合成することができる。アシル基の置換度の測定方法はＡＳＴＭ－Ｄ８１７－９６に準じて測定することができる。
　セルロースエステルの分子量は数平均分子量（Ｍｎ）で６００００～３０００００のものが好ましく、７００００～２０００００のものが更に好ましく、１０００００～２０００００のものが特に好ましい。本実施形態で用いられるセルロースエステルは重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）比が４．０以下であることが好ましく、更に好ましくは１．４～２．３である。
　セルロースエステルの平均分子量及び分子量分布は、高速液体クロマトグラフィーを用い測定できるので、これを用いて数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）を算出し、その比を計算することができる。
　測定条件は以下の通りである。
　溶媒：メチレンクロライド
　カラム：Ｓｈｏｄｅｘ　Ｋ８０６，Ｋ８０５，Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
　カラム温度：２５℃
　試料濃度：０．１質量％
　検出器：ＲＩ　Ｍｏｄｅｌ　５０４（ＧＬサイエンス社製）
　ポンプ：Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
　流量：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
　校正曲線：標準ポリスチレンＳＴＫ　ｓｔａｎｄａｒｄ　ポリスチレン（東ソー（株）製）
　Ｍｗ＝１００００００～５００迄の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。
　セルロースエステルは綿花リンター、木材パルプ、ケナフ等を原料として合成されたセルロースエステルを単独或いは混合して用いることができる。特に綿花リンター（以下、単にリンターとすることがある）から合成されたセルロースエステルを単独或いは混合して用いることが好ましい。
　また、セルロースエステルフィルムは、本発明の目的効果がより良く発揮される点から、アクリル樹脂を含有することが好ましい。
　（アクリル樹脂、アクリル粒子）
　次にアクリル樹脂について説明する。
　アクリル樹脂としては、メタクリル樹脂も含まれる。樹脂としては特に制限されるものではないが、メチルメタクリレート単位５０～９９質量％、及びこれと共重合可能な他の単量体単位１～５０質量％からなるものが好ましい。
　共重合可能な他の単量体としては、アルキル数の炭素数が２～１８のアルキルメタクリレート、アルキル数の炭素数が１～１８のアルキルアクリレート、アクリル酸、メタクリル酸等のα，β－不飽和酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和基含有二価カルボン酸、スチレン、α－メチルスチレン、核置換スチレン等の芳香族ビニル化合物、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のα，β－不飽和ニトリル、無水マレイン酸、マレイミド、Ｎ－置換マレイミド、グルタル酸無水物等が挙げられ、これらは単独で、或いは２種以上を併用して用いることができる。
　これらの中でも、共重合体の耐熱分解性や流動性の観点から、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ－プロピルアクリレート、ｎ－ブチルアクリレート、ｓ－ブチルアクリレート、２－エチルヘキシルアクリレート等が好ましく、メチルアクリレートやｎ－ブチルアクリレートが特に好ましく用いられる。
　アクリル樹脂は、フィルムとしての機械的強度、フィルムを生産する際の流動性の点から重量平均分子量（Ｍｗ）が８００００～１００００００であることが好ましい。重量平均分子量（Ｍｗ）は上記の高速液体クロマトグラフィーを用い測定できる。
　アクリル樹脂の製造方法としては、特に制限は無く、懸濁重合、乳化重合、塊状重合、或いは溶液重合等の公知の方法のいずれを用いても良い。ここで、重合開始剤としては、通常のパーオキサイド系及びアゾ系のものを用いることができ、また、レドックス系とすることもできる。重合温度については、懸濁または乳化重合では３０～１００℃、塊状または溶液重合では８０～１６０℃で実施しうる。更に、生成共重合体の還元粘度を制御するために、アルキルメルカプタン等を連鎖移動剤として用いて重合を実施することもできる。この分子量とすることで、耐熱性と脆性の両立を図ることができる。アクリル樹脂としては、市販のものも使用することができる。例えば、デルペット６０Ｎ、８０Ｎ（旭化成ケミカルズ（株）製）、ダイヤナールＢＲ５２、ＢＲ８０，ＢＲ８３，ＢＲ８５，ＢＲ８８（三菱レイヨン（株）製）、ＫＴ７５（電気化学工業（株）製）等が挙げられる。
　次に、セルロースエステルフィルムは、本発明の目的効果が良好に発揮されるほか、鉛筆硬度にも優れることから、アクリル樹脂と更にアクリル粒子を含有することが好ましい。
　アクリル粒子について、説明する。アクリル粒子は、例えば、作製したアクリル樹脂含有フィルムを所定量採取し、溶媒に溶解させて攪拌し、充分に溶解・分散させたところで、アクリル粒子の平均粒子径未満の孔径を有するＰＴＦＥ製のメンブレンフィルターを用いて濾過し、濾過捕集された不溶物の重さが、アクリル樹脂含有フィルムに添加したアクリル粒子の９０質量％以上あることが好ましい。
　アクリル粒子は特に限定されるものではないが、２層以上の層構造を有するアクリル粒子であることが好ましく、特に下記多層構造アクリル系粒状複合体であることが好ましい。
　多層構造アクリル系粒状複合体とは、中心部から外周部に向かって最内硬質層重合体、ゴム弾性を示す架橋軟質層重合体、及び最外硬質層重合体が、層状に重ね合わされてなる構造を有する粒子状のアクリル系重合体を言う。
　アクリル系樹脂組成物に用いられる多層構造アクリル系粒状複合体の好ましい態様としては、以下の様なものが挙げられる。（ａ）メチルメタクリレート８０～９８．９質量％、アルキル基の炭素数が１～８のアルキルアクリレート１～２０質量％、及び多官能性グラフト剤０．０１～０．３質量％からなる単量体混合物を重合して得られる最内硬質層重合体、（ｂ）上記最内硬質層重合体の存在下に、アルキル基の炭素数が４～８のアルキルアクリレート７５～９８．５質量％、多官能性架橋剤０．０１～５質量％及び多官能性グラフト剤０．５～５質量％からなる単量体混合物を重合して得られる架橋軟質層重合体、（ｃ）上記最内硬質層及び架橋軟質層からなる重合体の存在下に、メチルメタクリレート８０～９９質量％とアルキル基の炭素数が１～８であるアルキルアクリレート１～２０質量％とからなる単量体混合物を重合して得られる最外硬層重合体、よりなる３層構造を有し、かつ得られた３層構造重合体が最内硬質層重合体（ａ）５～４０質量％、軟質層重合体（ｂ）３０～６０質量％、及び最外硬質層重合体（ｃ）２０～５０質量％からなり、アセトンで分別したときに不溶部があり、その不溶部のメチルエチルケトン膨潤度が１．５～４．０であるアクリル系粒状複合体、が挙げられる。
　なお、多層構造アクリル系粒状複合体の各層の組成や粒子径を規定しただけでなく、多層構造アクリル系粒状複合体の引張り弾性率やアセトン不溶部のメチルエチルケトン膨潤度を特定範囲内に設定することにより、更に充分な耐衝撃性と耐応力白化性のバランスを実現することが可能となる。また、多層構造アクリル系粒状複合体の各層の組成や粒子径を規定しただけのものの一例をあえて挙げるとすれば、例えば、特公昭６０－１７４０６号公報或いは特公平３－３９０９５号公報において開示のものが挙げられる。
　ここで、多層構造アクリル系粒状複合体を構成する最内硬質層重合体（ａ）は、メチルメタクリレート８０～９８．９質量％、アルキル基の炭素数が１～８のアルキルアクリレート１～２０質量％及び多官能性グラフト剤０．０１～０．３質量％からなる単量体混合物を重合して得られるものが好ましい。
　ここで、アルキル基の炭素数が１～８のアルキルアクリレートとしては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ－プロピルアクリレート、ｎ－ブチルアクリレート、ｓ－ブチルアクリレート、２－エチルヘキシルアクリレート等が挙げられ、メチルアクリレートやｎ－ブチルアクリレートが好ましく用いられる。
　最内硬質層重合体（ａ）におけるアルキルアクリレート単位の割合は１～２０質量％であり、該単位が１質量％未満では、重合体の熱分解性が大きくなり、一方、該単位が２０質量％を越えると、最内硬質層重合体（ｃ）のガラス転移温度が低くなり、３層構造アクリル系粒状複合体の耐衝撃性付与効果が低下するので、いずれも好ましくない。
　多官能性グラフト剤としては、異なる重合可能な官能基を有する多官能性単量体、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸のアリルエステル等が挙げられ、アリルメタクリレートが好ましく用いられる。多官能性グラフト剤は、最内硬質層重合体と軟質層重合体を化学的に結合するために用いられ、その最内硬質層重合時に用いる割合は０．０１～０．３質量％である。
　アクリル系粒状複合体を構成する架橋軟質層重合体（ｂ）は、上記最内硬質層重合体（ａ）の存在下に、アルキル基の炭素数が１～８のアルキルアクリレート７５～９８．５質量％、多官能性架橋剤０．０１～５質量％及び多官能性グラフト剤０．５～５質量％からなる単量体混合物を重合して得られるものが好ましい。
　ここで、アルキル基の炭素数が４～８のアルキルアクリレートとしては、ｎ－ブチルアクリレートや２－エチルヘキシルアクリレートが好ましく用いられる。
また、これらの重合性単量体と共に、２５質量％以下の共重合可能な他の単官能性単量体を共重合させることも可能である。
　共重合可能な他の単官能性単量体としては、スチレン及び置換スチレン誘導体が挙げられる。アルキル基の炭素数が４～８のアルキルアクリレートとスチレンとの比率は、前者が多いほど生成重合体（ｂ）のガラス転移温度が低下し、即ち軟質化できるのである。
　一方、樹脂組生物の透明性の観点からは、軟質層重合体（ｂ）の常温での屈折率を最内硬質層重合体（ａ）、最外硬質層重合体（ｃ）、及び硬質熱可塑性アクリル樹脂に近づけるほうが有利であり、これらを勘案して両者の比率を選定する。
　例えば、被覆層厚みの小さな用途においては、必ずしもスチレンを共重合しなくとも良い。
　多官能性グラフト剤としては、前記の最内層硬質重合体（ａ）の項で挙げたものを用いることができる。ここで用いる多官能性グラフト剤は、軟質層重合体（ｂ）と最外硬質層重合体（ｃ）を化学的に結合するために用いられ、その最内硬質層重合時に用いる割合は耐衝撃性付与効果の観点から０．５～５質量％が好ましい。
　多官能性架橋剤としては、ジビニル化合物、ジアリル化合物、ジアクリル化合物、ジメタクリル化合物などの一般に知られている架橋剤が使用できるが、ポリエチレングリコールジアクリレート（分子量２００～６００）が好ましく用いられる。
　ここで用いる多官能性架橋剤は、軟質層（ｂ）の重合時に架橋構造を生成し、耐衝撃性付与の効果を発現させるために用いられる。ただし、先の多官能性グラフト剤を軟質層の重合時に用いれば、ある程度は軟質層（ｂ）の架橋構造を生成するので、多官能性架橋剤は必須成分ではないが、多官能性架橋剤を軟質層重合時に用いる割合は耐衝撃性付与効果の観点から０．０１～５質量％が好ましい。
　多層構造アクリル系粒状複合体を構成する最外硬質層重合体（ｃ）は、上記最内硬質層重合体（ａ）及び軟質層重合体（ｂ）の存在下に、メチルメタクリレート８０～９９質量％及びアルキル基の炭素数が１～８であるアルキルアクリレート１～２０質量％からなる単量体混合物を重合して得られるものが好ましい。
　ここで、アクリルアルキレートとしては、前述したものが用いられるが、メチルアクリレートやエチルアクリレートが好ましく用いられる。最外硬質層（ｃ）におけるアルキルアクリレート単位の割合は、１～２０質量％が好ましい。
　また、最外硬質層（ｃ）の重合時に、アクリル樹脂との相溶性向上を目的として、分子量を調節するためアルキルメルカプタン等を連鎖移動剤として用い、実施することも可能である。
　とりわけ、最外硬質層に、分子量が内側から外側へ向かって次第に小さくなるような勾配を設けることは、伸びと耐衝撃性のバランスを改良するうえで好ましい。具体的な方法としては、最外硬質層を形成するための単量体混合物を２つ以上に分割し、各回ごとに添加する連鎖移動剤量を順次増加するような手法によって、分子量を内側から外側へ向かって小さくすることが可能である。この際に形成される分子量は、各回に用いられる単量体混合物をそれ単独で同条件にて重合し、得られた重合体の分子量を測定することによって調べることもできる。多層構造重合体であるアクリル系粒状複合体の粒子径については、特に限定されるものではないが、１０ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下であることが好ましく、更に、２０ｎｍ以上、５００ｎｍ以下であることがより好ましく、特に５０ｎｍ以上、４００ｎｍ以下であることが最も好ましい。
　多層構造重合体であるアクリル系粒状複合体において、コアとシェルの質量比は、特に限定されるものではないが、多層構造重合体全体を１００質量部としたときに、コア層が５０質量部以上、９０質量部以下であることが好ましく、更に、６０質量部以上、８０質量部以下であることがより好ましい。
　このような多層構造アクリル系粒状複合体の市販品の例としては、例えば、三菱レイヨン社製”メタブレン”、鐘淵化学工業社製”カネエース”、呉羽化学工業社製”パラロイド”、ロームアンドハース社製”アクリロイド”、ガンツ化成工業社製”スタフィロイド”及びクラレ社製”パラペットＳＡ”などが挙げられ、これらは、単独ないし２種以上を用いることができる。
　アクリル粒子として好適に使用されるグラフト共重合体であるアクリル粒子（ｃ－１）の具体例としては、ゴム質重合体の存在下に、不飽和カルボン酸エステル系単量体、不飽和カルボン酸系単量体、芳香族ビニル系単量体、及び必要に応じてこれらと共重合可能な他のビニル系単量体からなる単量体混合物を共重合せしめたグラフト共重合体が挙げられる。
　グラフト共重合体であるアクリル粒子に用いられるゴム質重合体には特に制限はないが、ジエン系ゴム、アクリル系ゴム及びエチレン系ゴムなどが使用できる。具体例としては、ポリブタジエン、スチレン－ブタジエン共重合体、スチレン－ブタジエンのブロック共重合体、アクリロニトリル－ブタジエン共重合体、アクリル酸ブチル－ブタジエン共重合体、ポリイソプレン、ブタジエン－メタクリル酸メチル共重合体、アクリル酸ブチル－メタクリル酸メチル共重合体、ブタジエン－アクリル酸エチル共重合体、エチレン－プロピレン共重合体、エチレン－プロピレン－ジエン系共重合体、エチレン－イソプレン共重合体、及びエチレン－アクリル酸メチル共重合体などが挙げられる。これらのゴム質重合体は、１種または２種以上の混合物で使用することが可能である。
　また、アクリル樹脂及びアクリル粒子のそれぞれの屈折率が近似している場合、透明フィルム基材の透明性を得ることができるため、好ましい。具体的には、アクリル粒子とアクリル樹脂の屈折率差が０．０５以下であることが好ましく、より好ましくは０．０２以下、とりわけ０．０１以下であることが好ましい。
　このような屈折率条件を満たすためには、アクリル樹脂の各単量体単位組成比を調整する方法、及び／またはアクリル粒子に使用されるゴム質重合体或いは単量体の組成比を調製する方法などにより、屈折率差を小さくすることができ、透明性に優れたアクリル樹脂含有フィルムを得ることができる。
　尚、ここで言う屈折率差とは、アクリル樹脂が可溶な溶媒に、アクリル樹脂含有フィルムを適当な条件で十分に溶解させ白濁溶液とし、これを遠心分離等の操作により、溶媒可溶部分と不溶部分に分離し、この可溶部分（アクリル樹脂）と不溶部分（アクリル粒子）をそれぞれ精製した後、測定した屈折率（２３℃、測定波長：５５０ｎｍ）の差を示す。
　アクリル樹脂に、アクリル粒子を配合する方法には、特に制限はなく、アクリル樹脂とその他の任意成分を予めブレンドした後、通常２００～３５０℃において、アクリル粒子を添加しながら一軸または二軸押出し機により均一に溶融混練する方法が好ましく用いられる。
　アクリル粒子としては、市販のものも使用することができる。例えば、メタブレンＷ－３４１（Ｃ２）（三菱レイヨン（株）製）を、ケミスノーＭＲ－２Ｇ（Ｃ３）、ＭＳ－３００Ｘ（Ｃ４）（綜研化学（株）製）等を挙げることができる。
　アクリル粒子はセルロースエステル樹脂とアクリル樹脂の総質量に対して、０．５～４５質量％のアクリル粒子を含有することが好ましい。
　また、セルロースエステル樹脂とアクリル樹脂からなるフィルム（以下、セルロースエステル樹脂・アクリル樹脂フィルムとも言う）は、張力軟化点が１０５～１４５℃で、かつ延性破壊が起こらないフィルムが好ましい。延性破壊とは、ある材料が有する強度よりも、大きな応力が作用することで生じるものであり、最終破断までに材料の著しい伸びや絞りを伴う破壊と定義される。張力軟化点温度の具体的な測定方法としては、例えば、テンシロン試験機（ＯＲＩＥＮＴＥＣ社製、ＲＴＣ－１２２５Ａ）を用いて、アクリル樹脂含有フィルムを１２０ｍｍ（縦）×１０ｍｍ（幅）で切り出し、１０Ｎの張力で引っ張りながら３０℃／ｍｉｎの昇温速度で昇温を続け、９Ｎになった時点での温度を３回測定し、その平均値により求めることができる。
　また、セルロースエステル樹脂とアクリル樹脂からなるフィルムは、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１１０℃以上であることが好ましい。より好ましくは１２０℃以上である。特に好ましくは１５０℃以上である。
　ガラス転移温度とは、示差走査熱量測定器（Ｐｅｒｋｉｎ　Ｅｌｍｅｒ社製ＤＳＣ－７型）を用いて、昇温速度２０℃／分で測定し、ＪＩＳ　Ｋ７１２１（１９８７）に従い求めた中間点ガラス転移温度（Ｔｍｇ）である。
　セルロースエステル樹脂とアクリル樹脂からなるフィルムは、ＪＩＳ－Ｋ７１２７－１９９９に準拠した測定において、少なくとも一方向の破断伸度が、１０％以上であることが好ましく、より好ましくは２０％以上である。破断伸度の上限は特に限定されるものではないが、現実的には２５０％程度である。破断伸度を大きくするには異物や発泡に起因するフィルム中の欠点を抑制することが有効である。セルロースエステル樹脂とアクリル樹脂からなるフィルムの厚みは、２０μｍ以上であることが好ましい。
　より好ましくは３０μｍ以上である。厚みの上限は特に限定される物ではないが、溶液製膜法でフィルム化する場合は、塗布性、発泡、溶媒乾燥などの観点から、上限は２５０μｍ程度である。なお、フィルムの厚みは用途により適宜選定することができる。
　セルロースエステル樹脂とアクリル樹脂からなるフィルムは、加工性及び耐熱性の両立の点から、アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂を９５：５～３０：７０の質量比で含有することが好ましく、またセルロースエステル樹脂のアシル基の総置換度（Ｔ）が２．００～３．００、アセチル基置換度（ａｃ）が０～１．８９、アセチル基以外のアシル基の炭素数が３～７であり、重量平均分子量（Ｍｗ）が７５０００～２８００００であることが好ましい。また、アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂の総質量は、アクリル樹脂含有フィルムの５５～１００質量％であり、好ましくは６０～９９質量％である。
　セルロースエステル樹脂とアクリル樹脂からなるフィルムは、その他のアクリル樹脂を含有して構成されていても良い。
　セルロースエステルフィルムやセルロースエステル樹脂とアクリル樹脂からなるフィルムは、溶液流延法で製造されたものでも、溶融流延法で製造されたものでもよいが、少なくとも幅手方向に延伸されたものが好ましく、特に溶液流延工程で剥離残溶量が３～４０質量％である時に幅手方向に１．０１～１．５倍に延伸されたものであることが好ましい。より好ましくは幅手方向と長手方向に２軸延伸することであり、剥離残溶量が３～４０質量％である時に幅手方向及び長手方向に、各々１．０１～１．５倍に延伸されることが望ましい。このときの延伸倍率としては特に好ましくは、１．０３～１．４５倍である。また、透明フィルム基材の長さは１００ｍ～５０００ｍ、幅は１．２ｍ以上が好ましく、更に好ましくは１．４～４ｍである。透明フィルム基材の長さ及び幅を前記範囲とすることで、取り扱い性や生産性に優れる。
　セルロースエステルフィルムは、光透過率が９０％以上、より好ましくは９３％以上の透明支持体であることが好ましい。
　（可塑剤）
　セルロースエステルフィルムやセルロースエステル樹脂・アクリル樹脂フィルムには、下記のような可塑剤を含有することが好ましい。可塑剤としては、例えば、リン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、トリメリット酸エステル系可塑剤、ピロメリット酸系可塑剤、グリコレート系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤、多価アルコールエステル系可塑剤等を好ましく用いることができる。
　リン酸エステル系可塑剤では、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等、フタル酸エステル系可塑剤では、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ－２－エチルヘキシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジフェニルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート等、トリメリット酸系可塑剤では、トリブチルトリメリテート、トリフェニルトリメリテート、トリエチルトリメリテート等、ピロメリット酸エステル系可塑剤では、テトラブチルピロメリテート、テトラフェニルピロメリテート、テトラエチルピロメリテート等、グリコレート系可塑剤では、トリアセチン、トリブチリン、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等、クエン酸エステル系可塑剤では、トリエチルシトレート、トリ－ｎ－ブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート、アセチルトリ－ｎ－ブチルシトレート、アセチルトリ－ｎ－（２－エチルヘキシル）シトレート等を好ましく用いることができる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。
　ポリエステル系可塑剤として脂肪族二塩基酸、脂環式二塩基酸、芳香族二塩基酸等の二塩基酸とグリコールの共重合ポリマーを用いることができる。脂肪族二塩基酸としては特に限定されないが、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、テレフタル酸、１，４－シクロヘキシルジカルボン酸等を用いることができる。グリコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，３－プロピレングリコール、１，２－プロピレングリコール、１，４－ブチレングリコール、１，３－ブチレングリコール、１，２－ブチレングリコール等を用いることができる。これらの二塩基酸及びグリコールはそれぞれ単独で用いてもよいし、２種以上混合して用いてもよい。
　多価アルコールエステル系可塑剤は２価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなる。好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２ープロパンジオール、１，３ープロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２ーブタンジオール、１，３－ブタンジオール、１，４ーブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４－ブタントリオール、１，５ーペンタンジオール、１，６ーヘキサンジオール、ヘキサントリオール、２－ｎ－ブチル－２－エチル－１，３－プロパンジオール、ガラクチトール、マンニトール、３－メチルペンタン－１，３，５－トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール、等を挙げることができる。特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトール、であることが好ましい。多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては特に制限はなく公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸などを用いることができる。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを挙げることができるが、これに限定されるものではない。脂肪族モノカルボン酸としては炭素数１～３２の直鎖または側鎖を持った脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数１～２０であることが更に好ましく、炭素数１～１０であることが特に好ましい。酢酸を含有させるとセルロースエステルとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。好ましい脂肪族モノカルボン酸としては酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２－エチル－ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸などの飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸などの不飽和脂肪酸などを挙げることができる。好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸などの安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸などのベンゼン環を２個以上もつ芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。特に安息香酸であることが好ましい。多価アルコールエステルの分子量は特に制限はないが、分子量３００～１５００の範囲であることが好ましく、３５０～７５０の範囲であることが更に好ましい。保留性向上の点では大きい方が好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。
　多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は一種類でもよいし、２種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のＯＨ基はカルボン酸で全てエステル化してもよいし、一部をＯＨ基のままで残してもよい。これらの可塑剤は単独または併用するのが好ましい。これらの可塑剤の使用量は、フィルム性能、加工性等の点で、セルロースエステルに対して１～２０質量％が好ましく、特に好ましくは、３～１３質量％である。
　（紫外線吸収剤）
　透明フィルム基材には紫外線吸収剤を含有させても良い。次に紫外線吸収剤について説明する。
　紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、且つ良好な液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。具体例としては、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物等が挙げられるが、これらに限定されない。
　ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては以下の具体例を挙げるが、これらに限定されない。
　ＵＶ－１：２－（２′－ヒドロキシ－５′－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
　ＵＶ－２：２－（２′－ヒドロキシ－３′，５′－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール
　ＵＶ－３：２－（２′－ヒドロキシ－３′－ｔｅｒｔ－ブチル－５′－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
　ＵＶ－４：２－（２′－ヒドロキシ－３′，５′－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール
　ＵＶ－５：２－（２′－ヒドロキシ－３′－（３″，４″，５″，６″－テトラヒドロフタルイミドメチル）－５′－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
　ＵＶ－６：２，２－メチレンビス（４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）－６－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）フェノール）
　ＵＶ－７：２－（２′－ヒドロキシ－３′－ｔｅｒｔ－ブチル－５′－メチルフェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール
　ＵＶ－８：２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－６－（直鎖及び側鎖ドデシル）－４－メチルフェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ１７１、チバ・ジャパン社製）
　ＵＶ－９：オクチル－３－〔３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－（クロロ－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）フェニル〕プロピオネートと２－エチルヘキシル－３－〔３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－（５－クロロ－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）フェニル〕プロピオネートの混合物（ＴＩＮＵＶＩＮ１０９、チバ・ジャパン社製）
　また、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては以下の具体例を示すが、これらに限定されない。
　ＵＶ－１０：２，４－ジヒドロキシベンゾフェノン
　ＵＶ－１１：２，２′－ジヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン
　ＵＶ－１２：２－ヒドロキシ－４－メトキシ－５－スルホベンゾフェノン
　ＵＶ－１３：ビス（２－メトキシ－４－ヒドロキシ－５－ベンゾイルフェニルメタン）
　上記紫外線吸収剤としては、透明性が高く、偏光板や液晶の劣化を防ぐ効果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好ましく用いられる。
　また、分配係数が９．２以上の紫外線吸収剤を用いることができ、特に分配係数が１０．１以上の紫外線吸収剤が透明フィルム基材の面品質を良好に維持できる点から好ましい。また、分配係数が９．２以上の紫外線吸収剤としては、公知のものを用いることができ、あえて一例を挙げるとすれば、特開２００１－１８７８２５号公報に記載されているものが挙げられる。
　また、高分子紫外線吸収剤（または紫外線吸収性ポリマー）も好ましく用いられる。高分子紫外線吸収剤としては、ＰＵＶＡ－３０Ｍ（大塚化学（株）製）等が市販されている。また、高分子紫外線吸収剤としては、公知のものを用いることができ、あえて一例を挙げるとすれば、特開平６－１４８４３０号公報の一般式（１）または一般式（２）、特願２０００－１５６０３９号の一般式（３）、（６）、（７）記載のものが挙げられる。
　また、透明フィルム基材には、内部ヘイズを付与させても良い。
　（粒子）
　内部ヘイズは、例えば透明フィルム基材に透明フィルム基材と屈折率の異なる粒子を添加し、添加量や粒子の粒子径等をコントロールすることで、内部散乱によるヘイズを発生させ、これを調整することで達成できる。粒子としては、無機粒子と有機粒子に区別される。無機粒子としては特に限定されず、例えば、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化錫、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、カオリン、硫酸カルシウム等が挙げられる。また、有機粒子としては特に限定されず、例えば、フッ素化アクリル樹脂粉末、ポリスチレン樹脂粉末、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、シリコーン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、更にポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリ弗化エチレン樹脂粉末等が挙げられる。これらの無機粒子及び有機粒子は、種類、平均粒子径が異なる２種以上を併用してもよく、粒子の表面を有機物により表面処理したものも好ましく用いられる。
　特に好ましい無機粒子は、これらの中でも二酸化珪素である。二酸化珪素の具体例としては、アエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖ、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）、シーホスターＫＥ－Ｐ１０、シーホスターＫＥ－Ｐ３０、シーホスターＫＥ－Ｐ５０（以上、株式会社日本触媒製）、サイロホービック１００（富士シリシア製）、ニップシールＥ２２０Ａ（日本シリカ工業製）、アドマファインＳＯ（アドマテックス製）等の商品名を有する市販品などが好ましく使用できる。粒子の形状としては、不定形、針状、扁平、球状等特に制限なく使用できるが、特に球状の粒子を用いるとヘイズを調整するのが容易であり好ましい。
　有機粒子としては、フッ素含有アクリル樹脂粒子が特に好適である。
　フッ素含有アクリル樹脂粒子としては、例えばフッ素含有のアクリル酸エステル或いはメタクリル酸エステルのモノマーまたはポリマーから形成された粒子である。フッ素含有のアクリル酸エステル或いはメタクリル酸エステルの具体例としては、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ－テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ－オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ－ドデカフルオロヘプチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，９Ｈ－ヘキサデカフルオロノニル（メタ）アクリレート、２，２，２－トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２－パーフルオロデシルエチル（メタ）アクリレート、３－パーフルオロブチル－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３－パーフルオロヘキシル－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３－パーフルオロオクチル－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロ－３－メチルブチル）エチル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロ－５－メチルヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロ－７－メチルオクチル）エチル（メタ）アクリレート、３－（パーフルオロ－３－メチルブチル－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３－（パーフルオロ－５－メチルヘキシル）－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３－（パーフルオロ－７－メチルオクチル）－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、１Ｈ－１－（トリフルオロメチル）トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ－ヘキサフルオロブチル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、パーフルオロオクチルエチルアクリレート、２－（パーフルオロブチル）エチル－α－フルオロアクリレートが挙げられる。また、フッ素含有アクリル樹脂粒子の中でも、２－（パーフルオロブチル）エチル－α－フルオロアクリレートからなる粒子、フッ素含有ポリメチルメタクリレート粒子、フッ素含有メタアクリル酸を架橋剤の存在下にビニル単量体と共重合させた粒子が好ましく、更に好ましくはフッ素含有ポリメチルメタクリレート粒子である。
　フッ素含有（メタ）アクリル酸と共重合可能なビニル単量体としては、ビニル基を有するものであればよく、具体的にはメタクリル酸メチル、メタクリル酸ブチル等のメタクリル酸アルキルエステル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル等のアクリル酸アルキルエステル、及びスチレン、α－メチルスチレン等のスチレン類等が挙げられ、これらは単独でまたは混合して用いることができる。重合反応の際に用いられる架橋剤としては、特に限定されないが、２個以上の不飽和基を有するものを用いることが好ましく、例えばエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート等の２官能性ジメタクリレートや、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ジビニルベンゼン等が挙げられる。
　尚、フッ素含有ポリメチルメタクリレート粒子を製造するための重合反応は、ランダム共重合及びブロック共重合のいずれでもよい。この重合方法として、あえて一例を挙げるとすれば、特開２０００－１６９６５８号公報に記載の方法が挙げられる。
　市販品としては、根上工業製：ＭＦ－００４３等の市販品が挙げられる。尚、これらのフッ素含有アクリル樹脂粒子は、単独で用いてもよいが、２種以上を組み合わせて用いてもよい。また、これらのフッ素含有アクリル樹脂粒子の状態は、粉体或いはエマルジョン等、どのような状態で加えられても良い。
　また、フッ素含有架橋粒子を用いても良い。また、フッ素含有架橋粒子としては、公知のものを用いることができ、あえて一例を挙げるとすれば、特開２００４－８３７０７号公報の段落００２８～００５５に記載のものが挙げられる。
　ポリスチレン粒子としては、例えば綜研化学製；ＳＸ－１３０Ｈ、ＳＸ－２００Ｈ、ＳＸ－３５０Ｈ）、積水化成品工業製、ＳＢＸシリーズ（ＳＢＸ－６、ＳＢＸ－８）等の市販品を挙げられる。
　メラミン系粒子としては、例えば、日本触媒製：ベンゾグアナミン・メラミン・ホルムアルデヒド縮合物（商品名：エポスター、グレード；Ｍ３０、商品名：エポスターＧＰ、グレード；Ｈ４０～Ｈ１１０）、日本触媒製：メラミン・ホルムアルデヒド縮合物（商品名：エポスター、グレード；Ｓ１２、Ｓ６、Ｓ、ＳＣ４）等の市販品を挙げられる。また、コアがメラミン系樹脂からなり、シェルがシリカで充填されたコア－シェル型の球状複合硬化メラミン樹脂粒子等も挙げられる。前記球状複合硬化メラミン樹脂粒子としては、日産化学工業製：メラミン樹脂・シリカ複合粒子（商品名；オプトビーズ）等の市販品を挙げられ、あえてさらに一例を挙げるとすれば、特開２００６－１７１０３３号公報に記載の方法で作製することができるものが挙げられる。
　ポリ（（メタ）アクリレート）粒子、架橋ポリ（（メタ）アクリレート）粒子としては、例えば、綜研化学製；ＭＸ１５０、ＭＸ３００、日本触媒製；エポスターＭＡ、グレード；ＭＡ１００２、ＭＡ１００４、ＭＡ１００６、ＭＡ１０１０、エポスターＭＸ（エマルジョン）、グレード；ＭＸ０２０Ｗ、ＭＸ０３０Ｗ、ＭＸ０５０Ｗ、ＭＸ１００Ｗ、積水化成品工業製：ＭＢＸシリーズ（ＭＢＸ－８、ＭＢＸ１２）等の市販品を挙げられる。
　架橋ポリ（アクリル－スチレン）粒子の具体例としては、例えば日本ペイント製：ＦＳ－２０１、ＭＧ－３５１等の市販品が挙げられる。ベンゾグアナミン系粒子としては、例えば日本触媒製：ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド縮合物（商品名：エポスター、グレード；Ｌ１５、Ｍ０５、ＭＳ、ＳＣ２５）等が挙げられる。
　支持体に添加する粒子の平均粒子径は０．３～１μｍが好ましく、０．４～０．７μｍが更に好ましい。
　上記平均粒子径は、５００個の粒子を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）等により得られる二次電子放出のイメージ写真からの目視やイメージ写真を画像処理することにより、または動的光散乱法、静的光散乱法等を利用する粒度分布計等により計測することができる。ここでいう平均粒子径は、個数平均粒子径をさす。尚、平均粒子径は、粒子が１次粒子の凝集体の場合は凝集体の平均粒子径を意味する。また、粒子が球状でない場合は、その投影面積に相当する円の直径を意味する。
　また、粒子の屈折率は、１．４５～１．７０であることが好ましく、より好ましくは１．４５～１．６５である。尚、粒子の屈折率は、屈折率の異なる２種類の溶媒の混合比を変化させて屈折率を変化させた溶媒中に粒子を等量分散して濁度を測定し、濁度が極小になった時の溶媒の屈折率をアッベ屈折計で測定することで測定できる。
　また、支持体に用いる樹脂と該粒子の屈折率差は、０．０２以上０．２０以下であることが光散乱効果を利用して内部ヘイズを高める上で好ましい。屈折率差のより好ましい範囲は、０．０５以上０．１５以下である。
　上記無機または有機粒子の含有量は、フィルム基材の作製用の樹脂１００質量部に対して、１質量部～３０質量部が好ましく、内部ヘイズを得る上でより好ましくは５質量部～２５質量部である。
　前記粒子は、透明フィルム基材を作製する組成物（ドープ）の調製時にセルロースエステル、他の添加剤及び有機溶媒とともに含有させて分散させてもよく、また、単独で溶液中に分散させてもよい。粒子の分散方法としては、前もって有機溶媒に浸してから高剪断力を有する分散機（高圧分散装置）で細分散させておくのが好ましい。
　ドープ調製方法としては、多量の有機溶媒に粒子を分散しておき、セルロースエステル溶液と合流させ、インラインミキサーで混合してドープにすることが好ましい。この場合、粒子分散液に紫外線吸収剤を加え紫外線吸収剤液としてもよい。
　また、上記の劣化防止剤、紫外線吸収剤は、セルロースエステルやセルロースエステル樹脂とアクリル樹脂からなる溶液の調製の際に、セルロースエステル、セルロースエステル樹脂とアクリル樹脂は溶媒と共に添加してもよいし、溶液調製中や調製後に添加してもよい。
　（有機溶媒）
　ドープには、製膜性や生産性の点から、有機溶媒を含有することが好ましい。有機溶媒としては、セルロースエステル、その他の添加剤を同時に溶解するものであれば制限なく用いることができる。例えば、塩化メチレン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３－ジオキソラン、１，４－ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，２－トリフルオロエタノール、２，２，３，３－ヘキサフルオロ－１－プロパノール、１，３－ジフルオロ－２－プロパノール、１，１，１，３，３，３－ヘキサフルオロ－２－メチル－２－プロパノール、１，１，１，３，３，３－ヘキサフルオロ－２－プロパノール、２，２，３，３，３－ペンタフルオロ－１－プロパノール、ニトロエタン等を挙げることができる。これら有機溶媒の中でも塩化メチレン、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトンが好ましく用いられる。
　ドープには、上記有機溶媒の他に、１～４０質量％の炭素原子数１～４のアルコールを含有させることが好ましい。ドープ中のアルコールの比率が高くなるとウェブがゲル化し、金属支持体からの剥離が容易になり、また、アルコールの割合が少ない時は非塩素系有機溶媒系でのセルロースエステルの溶解を促進する役割もある。炭素原子数１～４のアルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｎ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノールを挙げることができる。これらの内ドープの安定性、沸点も比較的低く、乾燥性もよく、且つ毒性がないこと等からエタノールが好ましい。
　ドープ中のセルロースエステルの濃度は１５～４０質量％、ドープ粘度は１００～５００ポアズ（Ｐ）の範囲に調整されることが良好なフィルム面品質を得る上で好ましい。
　（溶液流延法）
　セルロースエステルフィルム、及びセルロースエステル樹脂・アクリル樹脂フィルムは、溶液流延法による製造では、セルロースエステル或いはセルロースエステル樹脂・アクリル樹脂、及び添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープをベルト状もしくはドラム状の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、延伸または幅保持する工程、更に乾燥する工程、仕上がったフィルムを巻き取る工程により行われる。
　ドープ中のセルロースエステル、及びセルロースエステル樹脂・アクリル樹脂の濃度は、濃度が高い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷が低減できて好ましいが、セルロースエステルの濃度が高過ぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、１０～３５質量％が好ましく、更に好ましくは、１５～２５質量％である。
　流延（キャスト）工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルト若しくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。キャストの幅は１～４ｍとすることができる。流延工程の金属支持体の表面温度は－５０℃～溶剤が沸騰して発泡しない温度以下に設定される。温度が高い方がウェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが、余り高すぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。好ましい支持体温度としては０～１００℃で適宜決定され、５～３０℃が更に好ましい。または、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風または冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。温風を用いる場合は溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。特に、流延から剥離するまでの間で支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。
　セルロースエステルフィルムが良好な平面性を示すためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量は１０～１５０質量％が好ましく、更に好ましくは２０～４０質量％または６０～１３０質量％であり、特に好ましくは、２０～３０質量％または７０～１２０質量％である。
　残留溶媒量は下記式で定義される。
　残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ－Ｎ）／Ｎ｝×１００
　尚、Ｍはウェブまたはフィルムを製造中または製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、ＮはＭを１１５℃で１時間の加熱後の質量である。
　また、セルロースエステルフィルム或いはセルロースエステル樹脂・アクリル樹脂のからなるフィルムの乾燥工程においては、ウェブを金属支持体より剥離し、更に乾燥し、残留溶媒量を１質量％以下にすることが好ましく、更に好ましくは０．１質量％以下であり、特に好ましくは０～０．０１質量％以下である。
　フィルム乾燥工程では一般にロール乾燥方式（上下に配置した多数のロールをウェブを交互に通し乾燥させる方式）やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。
　（溶融製膜法）
　セルロースエステルフィルム、及びセルロースエステル樹脂・アクリル樹脂フィルムは、溶融製膜法によって製膜されることも好ましい。溶融製膜法は、セルロースエステル及びセルロースエステル樹脂・アクリル樹脂、及び可塑剤などの添加剤を含む組成物を、流動性を示す温度まで加熱溶融し、その後、流動性のセルロースエステルを含む溶融物を流延することをいう。
　加熱溶融する成形法は、更に詳細には、溶融押出成形法、プレス成形法、インフレーション法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法などに分類できる。これらの中で、機械的強度及び表面精度などに優れるセルロースエステルフィルム、及びセルロースエステル樹脂・アクリル樹脂フィルムを得るためには、溶融押出し法が優れている。
　溶融押出しに用いる複数の原材料は、通常予め混錬してペレット化しておくことが好ましい。
　ペレット化は、公知の方法でよく、例えば、乾燥セルロースエステルや可塑剤、その他添加剤をフィーダーで押出し機に供給し１軸や２軸の押出し機を用いて混錬し、ダイからストランド状に押出し、水冷または空冷し、カッティングすることでできる。
　添加剤は、押出し機に供給する前に混合しておいてもよいし、それぞれ個別のフィーダーで供給してもよい。粒子や酸化防止剤等少量の添加剤は、均一に混合するため、事前に混合しておくことが好ましい。
　押出し機は、剪断力を抑え、樹脂が劣化（分子量低下、着色、ゲル生成等）しないようにペレット化可能でなるべく低温で加工することが好ましい。例えば、２軸押出し機の場合、深溝タイプのスクリューを用いて、同方向に回転させることが好ましい。混錬の均一性から、噛み合いタイプが好ましい。
　以上のようにして得られたペレットを用いてフィルム製膜を行う。もちろんペレット化せず、原材料の粉末をそのままフィーダーで押出し機に供給し、そのままフィルム製膜することも可能である。
　上記ペレットを１軸や２軸タイプの押出し機を用いて、押出す際の溶融温度を２００～３００℃程度とし、リーフディスクタイプのフィルターなどで濾過し異物を除去した後、Ｔダイからフィルム状に流延し、冷却ロール上で固化させる。
　供給ホッパーから押出し機へ導入する際は真空下または減圧下や不活性ガス雰囲気下にして酸化分解等を防止することが好ましい。
　押出し流量は、ギヤポンプを導入するなどして安定に行うことが好ましい。また、異物の除去に用いるフィルターは、ステンレス繊維焼結フィルターが好ましく用いられる。ステンレス繊維焼結フィルターは、ステンレス繊維体を複雑に絡み合った状態を作り出した上で圧縮し接触箇所を焼結し一体化したもので、その繊維の太さと圧縮量により密度を変え、濾過精度を調整できる。
　可塑剤や粒子などの添加剤は、予め樹脂と混合しておいてもよいし、押出し機の途中で練り込んでもよい。均一に添加するために、スタチックミキサーなどの混合装置を用いることが好ましい。
　冷却ロールと弾性タッチロールでフィルムをニップする際のタッチロール側のフィルム温度はフィルムのＴｇ以上Ｔｇ＋１１０℃以下にすることが好ましい。このような目的で使用する弾性体表面を有するロールは、公知のロールが使用できる。
　弾性タッチロールは挟圧回転体ともいう。弾性タッチロールとしては、公知の弾性タッチロール、すなわち、市販されているものを用いることもできる。あえて一例を挙げるとすれば、特許３１９４９０４号公報、特許３４２２７９８号公報、特開２００２－３６３３２号公報、特開２００２－３６３３３号公報などで開示されているタッチロールを好ましく用いることができる。　冷却ロールからフィルムを剥離する際は、張力を制御してフィルムの変形を防止することが好ましい。
　また、上記のようにして得られたフィルムは、冷却ロールに接する工程を通過後、前記延伸操作により延伸することが好ましい。
　延伸する方法は、公知のロール延伸機やテンターなどを好ましく用いることができる。延伸温度は、通常フィルムを構成する樹脂のＴｇ～Ｔｇ＋６０℃の温度範囲で行われることが好ましい。巻き取る前に、製品となる幅に端部をスリットして裁ち落とし、巻き中の貼り付きやすり傷防止のために、ナール加工（エンボッシング加工）を両端に施してもよい。ナール加工の方法は凸凹のパターンを側面に有する金属リングを加熱や加圧により加工することができる。尚、フィルム両端部のクリップの把持部分は通常、フィルムが変形しており製品として使用できないので切除されて、再利用される。
　（偏光板保護フィルム）
　本実施形態に係る反射防止フィルムを偏光板保護フィルムとした場合、該保護フィルムの厚さは１０～５００μｍが好ましい。特に２０μｍ以上、更に３５μｍ以上が好ましい。また、１５０μｍ以下、更に１２０μｍ以下が好ましい。特に好ましくは２５以上～９０μｍが好ましい。上記領域よりも反射防止フィルムが厚いと偏光板加工後の偏光板が厚くなり過ぎ、ノート型パソコンやモバイル型電子機器に用いる液晶表示においては、特に薄型軽量の目的には適さない。一方、上記領域よりも薄いと、フィルムの透湿性が高くなり偏光子に対して湿度から保護する能力が低下してしまうために好ましくない。
　（偏光板）
　本実施形態に係る反射防止フィルムを用いた偏光板について述べる。偏光板は一般的な方法で作製することができる。本実施形態に係る反射防止フィルムの裏面側をアルカリ鹸化処理し、処理した反射防止フィルムを、ヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。もう一方の面に該反射防止フィルムを用いても、別の偏光板保護フィルムを用いてもよい。本実施形態に係る反射防止フィルムに対して、もう一方の面に用いられる偏光板保護フィルムは面内リターデーションＲｏが５９０ｎｍで、２０～７０ｎｍ、Ｒｔが７０～４００ｎｍの位相差を有する光学補償フィルム（位相差フィルム）を用いることが好ましい。これらは、公知の方法で作製することができる。あえて一例を挙げるとすれば、特開２００２－７１９５７号公報、特開２００３－１７０４９２号公報に記載の方法が挙げられる。または、更にディスコチック液晶等の液晶化合物を配向させて形成した光学異方層を有している光学補償フィルムを兼ねる偏光板保護フィルムを用いることが好ましい。光学異方層の形成方法としては、液晶化合物を公知の方法で配向させて形成させることができ、あえて一例を挙げるとすれば、特開２００３－９８３４８号公報に記載の方法で光学異方性層を形成することができる。或いは、リターデーションＲｏが５９０ｎｍで０～５ｎｍ、Ｒｔが－２０～＋２０ｎｍの無配向フィルムも好ましく用いられる。前記無配向フィルムとしては、公知のものを用いることができ、あえて一例を挙げるとすれば、特開２００３－１２８５９号公報に記載のリターデーションＲｏが５９０ｎｍで０～５ｎｍ、Ｒｔが－２０～＋２０ｎｍの無配向フィルムが挙げられる。
　本実施形態に係る反射防止フィルムと組み合わせて使用することによって、平面性に優れ、安定した視野角拡大効果を有する偏光板を得ることができる。
　裏面側に用いられる偏光板保護フィルムとしては、市販のセルロースエステルフィルムとして、ＫＣ８ＵＸ２ＭＷ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ４ＵＥＷ、ＫＣ８ＵＣＲ－３、ＫＣ８ＵＣＲ－４、ＫＣ８ＵＣＲ－５、ＫＣ４ＦＲ－１、ＫＣ４ＦＲ－２、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ４ＵＥ（コニカミノルタオプト（株）製）等が好ましく用いられる。
　偏光板の主たる構成要素である偏光膜とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがあるがこれのみに限定されるものではない。偏光膜は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。偏光膜の膜厚は５～３０μｍ、好ましくは８～１５μｍの偏光膜が好ましく用いられる。該偏光膜の面上に、本実施形態に係る反射防止フィルムの片面を貼り合わせて偏光板を形成する。好ましくは完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤によって貼り合わせる。
　（画像表示装置）
　本実施形態に係る反射防止フィルムを用いて作製した偏光板を表示装置に組み込むことによって、種々の視認性に優れた画像表示装置を作製することができる。
　本実施形態に係る反射防止フィルムは前記偏光板に組み込まれ、反射型、透過型、半透過型液晶表示装置またはＴＮ型、ＳＴＮ型、ＯＣＢ型、ＨＡＮ型、ＶＡ型（ＰＶＡ型、ＭＶＡ型）、ＩＰＳ型、ＯＣＢ型等の各種駆動方式の液晶表示装置で好ましく用いられる。また、本実施形態に係る反射防止フィルムは、プラズマディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機ＥＬディスプレイ、電子ペーパー等の各種画像表示装置にも好ましく用いられる。
　以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
　実施例Ａ
　［実施例１］
　＜透明フィルム基材；セルロースエステルフィルム１の製造＞
　（ドープ組成物）
　下記の材料を、順次密閉容器中に投入し、容器内温度を２０℃から８０℃まで昇温した後、温度を８０℃に保ったままで３時間攪拌を行って、セルロースエステルを完全に溶解した。酸化ケイ素微粒子は予め添加する溶媒と少量のセルロースエステルの溶液中に分散して添加した。このドープを濾紙（安積濾紙株式会社製、安積濾紙Ｎｏ．２４４）を使用して濾過し、ドープ組成物を得た。
　セルローストリアセテート（アセチル基置換度２．９５）　１００質量部
　トリメチロールプロパントリベンゾエート　　　　　　　　　　５質量部
　エチルフタリルエチルグリコレート　　　　　　　　　　　　　５質量部
　酸化ケイ素微粒子　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．２質量部
　（アエロジルＲ９７２Ｖ、日本アエロジル株式会社製）
　チヌビン１０９（チバ・ジャパン社製）　　　　　　　　　　　１質量部
　チヌビン１７１（チバ・ジャパン社製）　　　　　　　　　　　１質量部
　メチレンクロライド　　　　　　　　　　　　　　　　　　３００質量部
　エタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４０質量部
　ブタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５質量部
　次に、得られたドープ組成物を、温度３５℃に保温した流延ダイを通じてステンレス鋼製エンドレスベルトよりなる温度３５℃の支持体上に流延して、ウェブを形成した。次いで、ウェブを支持体上で乾燥させ、ウェブの残留溶媒量が８０質量％になった段階で、剥離ロールによりウェブを支持体から剥離した。
　剥離後のウェブを、上下に複数配置したロールによる搬送乾燥工程で９０℃の乾燥風にて乾燥させながら搬送し、続いてテンターでウェブ両端部を把持した後、温度１３０℃で幅方向に延伸前の１．１倍となるように延伸した。テンターでの延伸の後、ウェブを上下に複数配置したロールによる搬送乾燥工程で、温度１３５℃の乾燥風にて乾燥させた。乾燥工程の雰囲気置換率１５（回／時間）とした雰囲気内で１５分間熱処理した後、室温まで冷却して巻き取り、幅１．５ｍ、膜厚８０μｍ、長さ４０００ｍ、屈折率１．４９の長尺のセルロースエステルフィルム１を作製した。またフィルムは、両端部に幅１ｃｍ、平均高さ１０μｍのナーリング加工を施して巻き取った。ステンレスバンド支持体の回転速度とテンターの運転速度から算出される剥離直後のウェブ搬送方向の延伸倍率は、１．１倍であった。
　乾燥工程の雰囲気置換率とは、乾燥工程（加熱処理室）の雰囲気容量をＶ（ｍ３）、Ｆｒｅｓｈ－ａｉｒ送風量をＦＡ（ｍ３／ｈｒ）とした場合、下式によって求められる単位時間あたり熱処理室の雰囲気をＦｒｅｓｈ－ａｉｒで置換する回数である。Ｆｒｅｓｈ－ａｉｒは熱処理室に送風される風のうち、循環再利用している風ではなく、揮発した溶媒若しくは可塑剤などを含まない、若しくはそれらが除去された新鮮な風のことを意味している。
　雰囲気置換率＝ＦＡ／Ｖ（回／時間）
　＜反射防止フィルム１の作製＞
　上記作製したセルロースエステルフィルム１上に、下記手順によりハードコート層、反射防止層を設け、反射防止フィルム１を作製した。
　〈ハードコート層の作製〉
　上記のセルロースエステルフィルム１を用いて、下記手順によりハードコート層を設けた。
　上記のセルロースエステルフィルム１上に、下記のハードコート層形成用樹脂組成物（表中、ＨＣ層形成用樹脂組成物とした）を孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液を調製し、図１に示す装置で、押出しコータを用いて塗布し、８０℃で１分間乾燥後、紫外線ランプを用い照射部の照度が１００ｍＷ／ｃｍ２、照射量を０．２Ｊ／ｃｍ２と条件で硬化させ、ドライ膜厚１０μｍのハードコート層を形成した。次いで、下記バックコート層塗布組成物をウェット膜厚１０μｍとなるように、ハードコート層を塗布した面とは反対の面に押出しコータで塗布し、５０℃で乾燥させ、ハードコートフィルムを作製し、ロール状に巻き取った。
　〈ハードコート層形成用樹脂組成物〉
　ペンタエリスリトールトリアクリレート　　　　　　　　　　２０質量部
　ペンタエリスリトールテトラアクリレート　　　　　　　　　５０質量部
　ウレタンアクリレート（Ｕ－４ＨＡ：新中村化学工業社製）　５０質量部
　ラジカル重合開始剤（イルガキュア１８４：チバ・ジャパン社製）　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５質量部
　上記組成物に、酢酸エチル／プロピレングリコールモノメチルエーテル＝５０質量部／５０質量部の混合溶媒を添加して、固形分５０重量％とし、ハードコート層形成用樹脂組成物を得た。
　〈バックコート層塗布組成物〉
　ジアセチルセルロース　　　　　　　　　　　　　　　　　０．６質量部
　アセトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３５質量部
　メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３５質量部
　メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３５質量部
　シリカ粒子の２％メタノール分散液
　（ＫＥ－Ｐ３０、日本触媒株式会社製）　　　　　　　　　　１６質量部
　〈低屈折率層の作製〉
　上記作製したハードコート層上に、下記のようにして低屈折率層形成用樹脂組成物１を塗布し、反射防止フィルム１を作製した。
　（低屈折率層形成用樹脂組成物１）
　２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン
　Ａ－１　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５５質量部
　スルホニウム塩系酸発生剤例示化合物Ｓ－１　　　　　　　　　５質量部
 
　シリカ微粒子Ｃ－１（イソプロピルアルコール分散中空シリカ微粒子）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４５質量部
　イソプロピルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　４５０質量部
　メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　４５０質量部
　上記の低屈折率層形成用樹脂組成物１のうち、イソプロピルアルコール及びメチルエチルケトンに対して、イソプロピルアルコール分散中空シリカ微粒子Ｃ－１を除く化合物を、上記配合割合で加えて溶解した後に、イソプロピルアルコール分散中空シリカ微粒子Ｃ－１を上記の配合割合で添加した。
　（中空シリカ微粒子分散液Ｃ－１の調製）
　平均粒子径２５ｎｍ、ＳｉＯ２・Ａｌ２Ｏ３濃度２０質量％のシリカアルミナゾル１００ｇと、純水３９００ｇとの混合物を９８℃に加温した。この温度を保持しながらＳｉＯ２として１．５質量％のケイ酸ナトリウム水溶液１７５０ｇとＡｌ２Ｏ３として０．５質量％のアルミン酸ナトリウム水溶液１７５０ｇを添加して、ＳｉＯ２・Ａｌ２Ｏ３一次粒子分散液を得た。反応液のｐＨは１２．０であった。（工程ａ）
　次いで、濃度１．５質量％の硫酸ナトリウム３３００ｇを添加し、ＳｉＯ２として１．５質量％のケイ酸ナトリウム水溶液６３００ｇとＡｌ２Ｏ３として０．５質量％のアルミン酸ナトリウム水溶液２１００ｇを添加して複合酸化物微粒子分散液を得た。反応液のｐＨは１２．０であった。（工程ｂ）
　次いで、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度１３質量％になった複合酸化物微粒子分散液５００ｇに純水１１２５ｇ、濃度０．５質量％の硫酸ナトリウム１００ｇを加え、更に濃塩酸（濃度３５．５質量％）を滴下してｐＨ１．０とし、脱アルミニウム処理を行った。
　次いで、ｐＨ３の塩酸水溶液１０Ｌと純水５Ｌを加えながら、限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離し、固形分濃度２０質量％のシリカ系微粒子の水分散液を得た。（工程ｃ）
　上記シリカ系微粒子の水分散液１５０ｇと、純水５００ｇ、エタノール１７５０ｇ、及び２８％アンモニア水６２６ｇとの混合液を３５℃に加温した後、エチルシリケート（ＳｉＯ２２８質量％）１４０ｇを添加し、シリカ被覆層を形成し、純水５Ｌを加えながら限外濾過膜で洗浄して、固形分濃度２０質量％のシリカ被覆層を形成したシリカ系微粒子の水分散液を得た。（工程ｄ）
　次に、上記シリカ被覆層を形成したシリカ系微粒子分散液にアンモニア水を添加してｐＨを１０．５に調整し、１５０℃で１１時間熟成した後常温に冷却し、陽イオン交換樹脂によるイオン交換と、陰イオン交換樹脂によるイオン交換を繰り返し行い、次いで、限外濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換した固形分濃度２０質量％の中空シリカ微粒子分散液１を調製した。
　この中空シリカ微粒子の外殻層の厚さは１０ｎｍ、平均粒子径は５５ｎｍ、ＭＯＸ／ＳｉＯ２（モル比）は０．００１９、屈折率は１．２４であった。ここで、平均粒子径は動的光散乱法により測定した。
　（低屈折率層の作製）
　上記作製したハードコート層表面に低屈折率層形成用樹脂組成物１を、乾燥後の膜厚が８５ｎｍとなるように、図１で示す装置を用いて押出しコータで塗布し、温度８０℃で１分間乾燥させ、次いで紫外線ランプを用い照射部の照度が２００ｍＷ／ｃｍ２、照射量を０．３５Ｊ／ｃｍ２条件で硬化させて低屈折率層を形成し、反射防止フィルム１を作製した。
　［実施例２］
　ハードコート層を形成させずに、透明性フィルム基材上に、前記低屈折率層形成用樹脂組成物１の代わりに、下記低屈折率層形成用樹脂組成物２を使用して低屈折率層を形成すること以外、実施例１と同様にして、反射防止フィルム２を作製した。
　（低屈折率層形成用樹脂組成物２）
　２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン
　Ａ－１　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４７質量部
　スルホニウム塩系酸発生剤例示化合物Ｓ－１　　　　　　　　１０質量部
　シリカ微粒子Ｃ－２（シリナックス）　　　　　　　　　　　４３質量部
　イソプロピルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　４５０質量部
　メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　４５０質量部
　上記の低屈折率層形成用樹脂組成物２のうち、イソプロピルアルコール及びメチルエチルケトンに対して、シリカ微粒子Ｃ－２を除く化合物を、上記配合割合で加えて溶解した後に、シリカ微粒子Ｃ－２を上記の配合割合で添加し、固形分１０％の低屈折率層形成用樹脂組成物２を得た。なお、シリカ微粒子Ｃ－２は、日鉄鉱業株式会社製のシリナックスであり、一次粒子径が８０～１３０ｎｍ、シリカ殻厚が５～１５ｎｍである。
　［実施例３］
　低屈折率層を形成する際に、前記低屈折率層形成用樹脂組成物２の代わりに、下記低屈折率層形成用樹脂組成物３を使用すること以外、実施例２と同様にして、反射防止フィルム３を作製した。
　（低屈折率層形成用樹脂組成物３）
　２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン
　Ａ－１　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５４質量部
　スルホニウム塩系酸発生剤例示化合物Ｓ－６　　　　　　　　　６質量部
　シリカ微粒子Ｃ－１（イソプロピルアルコール分散中空シリカ微粒子）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５０質量部
　イソプロピルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　４５０質量部
　メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　４５０質量部
　上記の低屈折率層形成用樹脂組成物３のうち、イソプロピルアルコール及びメチルエチルケトンに対して、イソプロピルアルコール分散中空シリカ微粒子Ｃ－１を除く化合物を、上記配合割合で加えて溶解した後に、イソプロピルアルコール分散中空シリカ微粒子Ｃ－１を上記の配合割合で添加し、固形分１０％の低屈折率層形成用樹脂組成物３を得た。
　［実施例４］
　低屈折率層を形成する際に、前記低屈折率層形成用樹脂組成物１の代わりに、下記低屈折率層形成用樹脂組成物４を使用すること以外、実施例１と同様にして、反射防止フィルム４を作製した。
　（低屈折率層形成用樹脂組成物４）
　２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン
　Ａ－１　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４５質量部
　スルホニウム塩系酸発生剤例示化合物Ｓ－１　　　　　　　　　５質量部
　シリカ微粒子Ｃ－１（イソプロピルアルコール分散中空シリカ微粒子）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５０質量部
　イソプロピルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　４５０質量部
　メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　４５０質量部
　上記の低屈折率層形成用樹脂組成物４のうち、イソプロピルアルコール及びメチルエチルケトンに対して、イソプロピルアルコール分散中空シリカ微粒子Ｃ－１を除く化合物を、上記配合割合で加えて溶解した後に、イソプロピルアルコール分散中空シリカ微粒子Ｃ－１を上記の配合割合で添加し、固形分１０％の低屈折率層形成用樹脂組成物４を得た。
　［実施例５］
　低屈折率層を形成する際に、前記低屈折率層形成用樹脂組成物１の代わりに、下記低屈折率層形成用樹脂組成物５を使用すること以外、実施例１と同様にして、反射防止フィルム５を作製した。
　（低屈折率層形成用樹脂組成物５）
　２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン
　Ａ－１　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５２質量部
　スルホニウム塩系酸発生剤例示化合物Ｓ－１　　　　　　　　１０質量部
　シリカ微粒子Ｃ－２（シリナックス）　　　　　　　　　　　３８質量部
　イソプロピルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　４５０質量部
　メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　４５０質量部
　上記の低屈折率層形成用樹脂組成物５のうち、イソプロピルアルコール及びメチルエチルケトンに対して、シリカ微粒子Ｃ－２を除く化合物を、上記配合割合で加えて溶解した後に、シリカ微粒子Ｃ－２を上記の配合割合で添加し、固形分１０％の低屈折率層形成用樹脂組成物５を得た。なお、シリカ微粒子Ｃ－２は、日鉄鉱業株式会社製のシリナックスであり、一次粒子径が８０～１３０ｎｍ、シリカ殻厚が５～１５ｎｍである。
　［実施例６］
　低屈折率層を形成する際に、前記低屈折率層形成用樹脂組成物１の代わりに、下記低屈折率層形成用樹脂組成物６を使用すること以外、実施例１と同様にして、反射防止フィルム６を作製した。
　（低屈折率層形成用樹脂組成物６）
　２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン
　Ａ－１　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３６質量部
　スルホニウム塩系酸発生剤例示化合物Ｓ－１　　　　　　　　　７質量部
　シリカ微粒子Ｃ－１（イソプロピルアルコール分散中空シリカ微粒子）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５７質量部
　イソプロピルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　４５０質量部
　メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　４５０質量部
　上記の低屈折率層形成用樹脂組成物６のうち、イソプロピルアルコール及びメチルエチルケトンに対して、イソプロピルアルコール分散中空シリカ微粒子Ｃ－１を除く化合物を、上記配合割合で加えて溶解した後に、イソプロピルアルコール分散中空シリカ微粒子Ｃ－１を上記の配合割合で添加し、固形分１０％の低屈折率層形成用樹脂組成物６を得た。
　［実施例７］
　低屈折率層を形成する際に、前記低屈折率層形成用樹脂組成物１の代わりに、下記低屈折率層形成用樹脂組成物７を使用すること以外、実施例１と同様にして、反射防止フィルム７を作製した。
　（低屈折率層形成用樹脂組成物７）
　２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン
　Ａ－１　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４３質量部
　スルホニウム塩系酸発生剤例示化合物Ｓ－１　　　　　　　　　５質量部
 
　シリカ微粒子Ｃ－１（イソプロピルアルコール分散中空シリカ微粒子）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５２質量部
　イソプロピルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　４５０質量部
　メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　４５０質量部
　上記の低屈折率層形成用樹脂組成物７のうち、イソプロピルアルコール及びメチルエチルケトンに対して、イソプロピルアルコール分散中空シリカ微粒子Ｃ－１を除く化合物を、上記配合割合で加えて溶解した後に、イソプロピルアルコール分散中空シリカ微粒子Ｃ－１を上記の配合割合で添加し、固形分１０％の低屈折率層形成用樹脂組成物７を得た。
　［実施例８］
　低屈折率層を形成する際に、前記低屈折率層形成用樹脂組成物１の代わりに、下記低屈折率層形成用樹脂組成物８を使用すること以外、実施例１と同様にして、反射防止フィルム８を作製した。
　（低屈折率層形成用樹脂組成物８）
１，４－シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテルＡ－１
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５４質量部
　スルホニウム塩系酸発生剤例示化合物Ｓ－１　　　　　　　　　４質量部
　シリカ微粒子Ｃ－１（イソプロピルアルコール分散中空シリカ微粒子）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４２質量部
　イソプロピルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　４５０質量部
　メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　４５０質量部
　上記の低屈折率層形成用樹脂組成物８のうち、イソプロピルアルコール及びメチルエチルケトンに対して、イソプロピルアルコール分散中空シリカ微粒子Ｃ－１を除く化合物を、上記配合割合で加えて溶解した後に、イソプロピルアルコール分散中空シリカ微粒子Ｃ－１を上記の配合割合で添加し、固形分１０％の低屈折率層形成用樹脂組成物８を得た。
　［比較例１］
　低屈折率層を形成する際に、前記低屈折率層形成用樹脂組成物１の代わりに、下記低屈折率層形成用樹脂組成物９を使用すること以外、実施例１と同様にして、反射防止フィルム９を作製した。
　（低屈折率層形成用樹脂組成物９）
　ペンタエリスリトールアクリレートＢ－１　　　　　　　　　４９質量部
　イルガキュア２５０（チバ・ジャパン社製）　　　　　　　　　５質量部
　シリカ微粒子Ｃ－２（シリナックス）　　　　　　　　　　　４６質量部
　イソプロピルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　４５０質量部
　メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　４５０質量部
　上記の低屈折率層形成用樹脂組成物９のうち、イソプロピルアルコール及びメチルエチルケトンに対して、シリカ微粒子Ｃ－２を除く化合物を、上記配合割合で加えて溶解した後に、シリカ微粒子Ｃ－２を上記の配合割合で添加し、固形分１０％の低屈折率層形成用樹脂組成物９を得た。
　［比較例２］
　低屈折率層を形成する際に、前記低屈折率層形成用樹脂組成物２の代わりに、下記低屈折率層形成用樹脂組成物１０を使用すること以外、実施例２と同様にして、反射防止フィルム１０を作製した。
　（低屈折率層形成用樹脂組成物１０）
　ペンタエリスリトールアクリレートＢ－１　　　　　　　　　５１質量部
　イルガキュア２５０（チバ・ジャパン社製）　　　　　　　　　５質量部
　シリカ微粒子Ｃ－１（イソプロピルアルコール分散中空シリカ微粒子）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４４質量部
　イソプロピルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　４５０質量部
　メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　４５０質量部
　上記の低屈折率層形成用樹脂組成物１０のうち、イソプロピルアルコール及びメチルエチルケトンに対して、イソプロピルアルコール分散中空シリカ微粒子Ｃ－１を除く化合物を、上記配合割合で加えて溶解した後に、イソプロピルアルコール分散中空シリカ微粒子Ｃ－１を上記の配合割合で添加し、固形分１０％の低屈折率層形成用樹脂組成物１０を得た。
　［比較例３］
　低屈折率層を形成する際に、前記低屈折率層形成用樹脂組成物２の代わりに、下記低屈折率層形成用樹脂組成物１１を使用すること以外、実施例２と同様にして、反射防止フィルム１１を作製した。
　（低屈折率層形成用樹脂組成物１１）
　２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン
　Ａ－１　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４８質量部
　スルホニウム塩系酸発生剤例示化合物Ｓ－６　　　　　　　　　３質量部
　シリカ微粒子Ｄ－１（ＩＰＡ－ＳＴ－ＵＰ）　　　　　　　　４９質量部
　イソプロピルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　４５０質量部
　メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　４５０質量部
　上記の低屈折率層形成用樹脂組成物１１うち、イソプロピルアルコール及びメチルエチルケトンに対して、シリカ微粒子Ｄ－１を除く化合物を、上記配合割合で加えて溶解した後に、シリカ微粒子Ｄ－１を上記の配合割合で添加し、固形分１０％の低屈折率層形成用樹脂組成物１１を得た。なお、シリカ微粒子Ｄ－１は、日産化学工業株式会社製のＩＰＡ－ＳＴ－ＵＰであって、中実のシリカ微粒子である。
　［比較例４］
　低屈折率層を形成する際に、前記低屈折率層形成用樹脂組成物２の代わりに、下記低屈折率層形成用樹脂組成物１２を使用すること以外、実施例２と同様にして、反射防止フィルム１２を作製した。
　（低屈折率層形成用樹脂組成物１２）
　２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン
　Ａ－１　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４５質量部
　スルホニウム塩系酸発生剤例示化合物Ｓ－１　　　　　　　　　５質量部
　シリカ微粒子Ｄ－２（ＯＸ５０）　　　　　　　　　　　　　５０質量部
　イソプロピルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　４５０質量部
　メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　４５０質量部
　上記の低屈折率層形成用樹脂組成物１２のうち、イソプロピルアルコール及びメチルエチルケトンに対して、シリカ微粒子Ｄ－２を除く化合物を、上記配合割合で加えて溶解した後に、シリカ微粒子Ｄ－２を上記の配合割合で添加し、固形分１０％の低屈折率層形成用樹脂組成物１２を得た。なお、シリカ微粒子Ｄ－２は、日本アエロジル株式会社製のＯＸ５０であって、中実のシリカ微粒子である。
　［比較例５］
　低屈折率層を形成する際に、前記低屈折率層形成用樹脂組成物２の代わりに、下記低屈折率層形成用樹脂組成物１３を使用すること以外、実施例２と同様にして、反射防止フィルム１３を作製した。
　（低屈折率層形成用樹脂組成物１３）
　２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン
　Ａ－１　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　８１質量部
　スルホニウム塩系酸発生剤例示化合物Ｓ－１　　　　　　　　　４質量部
　シリカ微粒子Ｃ－１（イソプロピルアルコール分散中空シリカ微粒子）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１５質量部
　イソプロピルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　４５０質量部
　メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　４５０質量部
　上記の低屈折率層形成用樹脂組成物１３のうち、イソプロピルアルコール及びメチルエチルケトンに対して、シリカ微粒子Ｃ－１を除く化合物を、上記配合割合で加えて溶解した後に、シリカ微粒子Ｃ－１を上記の配合割合で添加し、固形分１０％の低屈折率層形成用樹脂組成物１３を得た。
　［比較例６］
　低屈折率層を形成する際に、前記低屈折率層形成用樹脂組成物２の代わりに、下記低屈折率層形成用樹脂組成物１４を使用すること以外、実施例２と同様にして、反射防止フィルム１４を作製した。
　（低屈折率層形成用樹脂組成物１４）
　２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン
　Ａ－１　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　７４質量部
　スルホニウム塩系酸発生剤例示化合物Ｓ－１　　　　　　　　　６質量部
　シリカ微粒子Ｃ－２（シリナックス）　　　　　　　　　　　２０質量部
　イソプロピルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　４５０質量部
　メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　４５０質量部
　上記の低屈折率層形成用樹脂組成物１４のうち、イソプロピルアルコール及びメチルエチルケトンに対して、シリカ微粒子Ｃ－２を除く化合物を、上記配合割合で加えて溶解した後に、シリカ微粒子Ｃ－２を上記の配合割合で添加し、固形分１０％の低屈折率層形成用樹脂組成物１４を得た。
　［比較例７］
　低屈折率層を形成する際に、前記低屈折率層形成用樹脂組成物２の代わりに、下記低屈折率層形成用樹脂組成物１５を使用すること以外、実施例２と同様にして、反射防止フィルム１５を作製した。
　（低屈折率層形成用樹脂組成物１５）
　２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン
　Ａ－１　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４３質量部
　スルホニウム塩系酸発生剤例示化合物Ｓ－６　　　　　　　　　５質量部
　シリカ微粒子Ｃ－２（シリナックス）　　　　　　　　　　　５２質量部
　イソプロピルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　４５０質量部
　メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　４５０質量部
　上記の低屈折率層形成用樹脂組成物１５のうち、イソプロピルアルコール及びメチルエチルケトンに対して、シリカ微粒子Ｃ－２を除く化合物を、上記配合割合で加えて溶解した後に、シリカ微粒子Ｃ－２を上記の配合割合で添加し、固形分１０％の低屈折率層形成用樹脂組成物１５を得た。
　［比較例８］
　低屈折率層を形成する際に、前記低屈折率層形成用樹脂組成物１の代わりに、下記低屈折率層形成用樹脂組成物１６を使用すること以外、実施例１と同様にして、反射防止フィルム１６を作製した。
　（低屈折率層形成用樹脂組成物１６）
　２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン
　Ａ－１　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４０質量部
　スルホニウム塩系酸発生剤例示化合物Ｓ－１　　　　　　　　　５質量部
　シリカ微粒子Ｃ－１（イソプロピルアルコール分散中空シリカ微粒子）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５５質量部
　イソプロピルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　４５０質量部
　メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　４５０質量部
　上記の低屈折率層形成用樹脂組成物１６のうち、イソプロピルアルコール及びメチルエチルケトンに対して、イソプロピルアルコール分散中空シリカ微粒子Ｃ－１を除く化合物を、上記配合割合で加えて溶解した後に、イソプロピルアルコール分散中空シリカ微粒子Ｃ－１を上記の配合割合で添加し、固形分１０％の低屈折率層形成用樹脂組成物１６を得た。
　［比較例９］
　低屈折率層を形成する際に、前記低屈折率層形成用樹脂組成物１の代わりに、下記低屈折率層形成用樹脂組成物１７を使用すること以外、実施例１と同様にして、反射防止フィルム１７を作製した。
　（低屈折率層形成用樹脂組成物１７）
　２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン
　Ａ－１　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３４質量部
　スルホニウム塩系酸発生剤例示化合物Ｓ－６　　　　　　　　　６質量部
　シリカ微粒子Ｃ－１（イソプロピルアルコール分散中空シリカ微粒子）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６０質量部
　イソプロピルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　４５０質量部
　メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　４５０質量部
　上記の低屈折率層形成用樹脂組成物１７のうち、イソプロピルアルコール及びメチルエチルケトンに対して、イソプロピルアルコール分散中空シリカ微粒子Ｃ－１を除く化合物を、上記配合割合で加えて溶解した後に、イソプロピルアルコール分散中空シリカ微粒子Ｃ－１を上記の配合割合で添加し、固形分１０％の低屈折率層形成用樹脂組成物１７を得た。
　上記各条件をまとめたものを表１に示した。表１中、含有していないものを「－」と示した。
　そして、上記作製した実施例１～８および比較例１～９に係る反射防止フィルム１～１７について、低屈折率層の厚み、シリカ微粒子の平均粒子径に対する低屈折率層の厚みの比率（低屈折率層の厚み／シリカ微粒子の平均粒子径）、低屈折率層の表面粗さＲａを下記方法により測定した。得られた結果を表１にあわせて示した。
　（低屈折率層の厚み）
　得られた反射防止フィルムをエポキシ樹脂で包埋後、ウルトラミクロトームにより約１０ｎｍ厚の超薄切片を作製し、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）（日立製作所製のＨＦ－３３００）により、８０００００倍のＴＥＭ画像を撮影した。反射防止フィルムの低屈折率層の厚み（μｍ）を測定した。
　（シリカ微粒子の平均粒子径に対する低屈折率層の厚みの比率）
　シリカ微粒子の平均粒子径に対する低屈折率層の厚みの比率は、上記のように測定された低屈折率層の厚みを、使用したシリカ微粒子の平均粒子径で除することによって、算出した。
　（低屈折率層の表面粗さＲａ）
　得られた反射防止フィルムの低屈折率層側の表面を、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）（日本ビーコ製のＤｉｍｅｎｓｉｏｎ３１００）で測定することによって、低屈折率層の表面粗さＲａ（ｎｍ）を測定した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
　《評価》
　上記作製した実施例１～８および比較例１～９に係る反射防止フィルム１～１７について、下記方法により評価した。得られた結果を表２に示した。
　（反射率）
　各反射防止フィルムの反射率は、以下のようにして測定した。
　まず、各反射防止フィルムの裏面（低屈折率層を形成させた側とは反対の面）を粗面化処理した後、黒色のスプレーを用いて光吸収処理を行った。そして、その光吸収処理を行った反射防止フィルムに、可視光領域（４００～７００ｎｍ）の光を照射して、その反射率を、分光光度計（日立ハイテク社製のＵ－４１００）を用いて測定した。
　（耐光性試験）
　各反射防止フィルムの表面に、スーパーキセノンウェザーメーター（ＳＸ１２０、スガ試験機（株）製）を用いて、光量１００Ｗ／ｍ２；３００～４００ｎｍ、ブラックパネル温度５０℃、湿度６５％、試験時間２０００時間の条件にてＵＶ照射試験（耐光性試験）を行った。その後、下記記載の方法で、耐光性試験前後の密着性試験、耐擦傷性試験を行った。
　（密着性試験）
　耐光性試験前後の各反射防止フィルムを１０ｃｍ角の大きさに切り出し、エタノール、メチルエチルケトン、ｐＨ４緩衝液、ｐＨ９緩衝液に１時間浸し、その後純水で洗浄した。
　次いで、ＪＩＳ　Ｋ　５６００に準拠して、碁盤目テープ剥離試験を行った。各反射防止フィルムの表面にカッターで切り込みを入れて１００個のマス目をつくり、粘着テープ（日東電工製Ｎｏ．３１Ｂ）を圧着してから剥離することを同じ場所で３回繰り返して行った。その後、テープ剥離後の試料表面を目視観察し、以下の基準で評価を行った。
　密着性評価基準
　　　◎：剥離が全く確認できない
　　　○：剥離がほとんど確認できないが、一部のマスで端部が欠けているのが確認できる
　　　△：全ての面ではないが、剥離が確認できる
　　　×：剥離が全面で確認できる。
　なお、評点が○～◎であれば実用上問題はない。
　（耐擦傷性試験）
　耐光性試験前後の各反射防止フィルムを５ｃｍ×１０ｃｍの大きさに切り出し、エタノール、メチルエチルケトン、ｐＨ４緩衝液、ｐＨ９緩衝液に１時間浸し、その後純水で洗浄した。
　次いで、日本スチールウール株式会社製ボンスター＃００００のスチールウール（ＳＷ）に３００ｇ／ｃｍ２の荷重をかけ、１０往復したときの１ｃｍ幅当たりの傷の本数を目視にて数え、以下の基準で評価した。尚、傷の本数は荷重をかけた部分の中で最も傷の本数の多い所で測定した。
　◎：傷の本数が０～３本／ｃｍ
　○：傷の本数が４～７本／ｃｍ
　○´：傷の本数が８～１０本／ｃｍ
　△：傷の本数が１１～２０本／ｃｍ
　×：傷の本数が２１本／ｃｍ以上。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
　表２の結果より、本実施形態に係る反射防止フィルムは、反射率が低く、フィルム作製後即の試料のみならず、耐光性試験後の密着性、耐擦傷性にも優れていることが明らかである。
　実施例Ｂ
　［実施例９～１６及び比較例１０～１８］
　下記の方法に従って、前記各反射防止フィルム１～１７とセルロースエステル系光学補償フィルムであるＫＣ８ＵＣＲ５（コニカミノルタオプト株式会社製）各々１枚を偏光板保護フィルムとして用いて、偏光板をそれぞれ作製した。
　（ａ）偏光膜の作製
　ケン化度９９．９５モル％、重合度２４００のポリビニルアルコール（以下、ＰＶＡと略記する）１００質量部に、グリセリン１０質量部、及び水１７０質量部を含浸させたものを溶融混練し、脱泡後、Ｔダイから金属ロール上に溶融押出し、製膜した。その後、乾燥・熱処理して、ＰＶＡフィルムを得た。得られたＰＶＡフィルムは、平均厚みが４０μｍ、水分率が４．４％、フィルム幅が３ｍであった。
　次に、得られたＰＶＡフィルムを、予備膨潤、染色、湿式法による一軸延伸、固定処理、乾燥、熱処理の順番で、連続的に処理して、偏光膜を作製した。即ち、ＰＶＡフィルムを温度３０℃の水中に３０秒間浸して予備膨潤し、ヨウ素濃度０．４ｇ／リットル、ヨウ化カリウム濃度４０ｇ／リットルの温度３５℃の水溶液中に３分間浸した。続いて、ホウ酸濃度４％の５０℃の水溶液中でフィルムにかかる張力が７００Ｎ／ｍの条件下で、６倍に一軸延伸を行い、ヨウ化カリウム濃度４０ｇ／リットル、ホウ酸濃度４０ｇ／リットル、塩化亜鉛濃度１０ｇ／リットルの温度３０℃の水溶液中に５分間浸漬して固定処理を行った。その後、ＰＶＡフィルムを取り出し、温度４０℃で熱風乾燥し、更に温度１００℃で５分間熱処理を行った。得られた偏光膜は、平均厚みが１３μｍ、偏光性能については透過率が４３．０％、偏光度が９９．５％、２色性比が４０．１であった。
　（ｂ）偏光板の作製
　次いで、下記工程１～５に従って、偏光膜と、偏光板用保護フィルムとを貼り合わせて実施例１～８及び比較例１～９に係る各反射防止フィルム１～１７に対応する各偏光板１０１～１１７を作製した。
　工程１：光学補償フィルム（コニカミノルタオプト（株）製コニカミノルタタック　ＫＣＵＣＲ－５）と反射防止フィルムを、２ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム溶液に、温度６０℃で、９０秒間浸漬し、次いで水洗、乾燥させた。各反射防止フィルムの低屈折率層を設けた面には、予め剥離性の保護フィルム（ＰＥＴ製）を貼り付けて保護した。同様にして、前述した光学補償フィルムを２ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム溶液に、温度６０℃で、９０秒間浸漬し、次いで水洗、乾燥させた。
　工程２：前述の偏光膜を、固形分２質量％のポリビニルアルコール接着剤溶液の貯留槽中に１～２秒間浸漬した。
　工程３：工程２で偏光膜に付着した過剰の接着剤を軽く取り除き、この偏光膜を、工程１でアルカリ処理した光学補償フィルムと反射防止フィルムとで挟み込んで、積層配置した。
　工程４：積層物を、２つの回転するローラにて２０～３０Ｎ／ｃｍ２の圧力で約２ｍ／ｍｉｎの速度で貼り合わせた。このとき、気泡が入らないように注意して実施した。
　工程５：工程４で作製した試料を、温度８０℃の乾燥機中にて２分間乾燥処理し、偏光板１０１～１３３を作製した。
　次に、市販の液晶表示パネル（ＶＡ型）の最表面の偏光板を注意深く剥離し、ここに偏光方向を合わせた各偏光板１０１～１１７を貼り付けた。そうすることによって、各偏光板１０１～１１７を備えた、実施例９～１６及び比較例１０～１８に係る液晶パネル１０１～１１７を、下記のように評価した。
　［視認性］
　各液晶パネル１０１～１１７の視認性を以下のように評価した。
　各液晶パネル１０１～１１７を、床から８０ｃｍの高さの机上に配置し、床から３ｍの高さの天井部に、昼色光直管蛍光灯（ＦＬＲ４０Ｓ・Ｄ／Ｍ－Ｘ　松下電器産業株式会社製）４０Ｗ×２本を１セットとして、１．５ｍ間隔で１０セット配置した。この場合、評価者が液晶表示パネルの表示面の正面にいるときに、評価者の頭上より後方に向けて天井部に蛍光灯がくるように配置した。各液晶パネルは机に対する垂直方向から２５°傾けて、蛍光灯が写り込むようにして画面の見易さ（視認性）を、下記のランクに分けて評価した。
　　　Ａ：干渉むらもなく、最も近い蛍光灯の映り込みが気にならず、フォントの大きさ８以下の文字もはっきりと読める
　　　Ｂ：干渉むらもなく、近くの蛍光灯の映り込みはやや気になるが、遠くは気にならず、フォントの大きさ８以下の文字もなんとか読める
　　　Ｃ：干渉むらがやや観察され、遠くの蛍光灯の映り込みも気になり、フォントの大きさ８以下の文字を読むのは困難である
　　　Ｄ：干渉むらが明らかに認められ、蛍光灯の映り込みがかなり気になり、映り込みの部分はフォントの大きさ８以下の文字を読むことはできない
　この評価の結果、前記各反射防止フィルム９～１７に対応する偏光板を用いた、比較例１０～１８に係る各液晶パネル１０９～１１７は、全てＣ以下の評価だったのに対して、前記各反射防止フィルム１～８に対応する偏光板を用いた実施例９～１６に係る各液晶パネル１０１～１０８は、全てＢ以上の評価結果であり、干渉むらもなく視認性が良好であることが確認された。
　本明細書は、上記のように様々な態様の技術を開示しているが、そのうち主な技術を以下に纏める。
　本発明の一態様に係る低反射部材は、支持基材の少なくとも片面上に、（ａ）カチオン重合性バインダー樹脂、（ｂ）スルホニウム塩系酸発生剤、（ｃ）外殻層を有し、内部が多孔質または空洞であるシリカ微粒子を含有する低屈折率層を備え、前記低屈折率層の厚みが、前記シリカ微粒子の平均粒子径の１倍を超え３倍未満であり、前記低屈折率層の表面粗さＲａが５ｎｍ未満であることを特徴とする。
　上記の構成によれば、耐擦傷性や密着性に優れ、特に耐光性試験後も優れた耐擦傷性や密着性を有し、シリカ微粒子の脱落の発生を抑制できる低反射部材、この低反射部材からなる反射防止フィルム、この反射防止フィルムを用いた偏光板、画像表示装置を提供することができる。
　また、上述の低反射部材において、前記スルホニウム塩系酸発生剤が、下記一般式（１）～（４）のいずれかで示されるスルホニウム塩であることが好ましい。

Figure JPOXMLDOC01-appb-I000008
［一般式（１）中、Ｒ１～Ｒ３はそれぞれ水素原子または置換基を表し、Ｒ１～Ｒ３のうち少なくとも１つ以上が置換基を表し、一般式（２）中、Ｒ４～Ｒ７はそれぞれ水素原子または置換基を表し、Ｒ４～Ｒ７のうち少なくとも１つ以上が置換基を表し、一般式（３）中、Ｒ８～Ｒ１１はそれぞれ水素原子または置換基を表し、Ｒ８～Ｒ１１のうち少なくとも１つ以上が置換基を表し、一般式（４）中、Ｒ１２～Ｒ１７はそれぞれ水素原子または置換基を表し、Ｒ１２～Ｒ１７のうち少なくとも１つ以上が置換基を表し、Ｘ－は、各々非求核性のアニオン残基を表す。］
　また、上述の低反射部材において、前記シリカ微粒子の平均粒子径が、１０ｎｍ～１μｍであることが好ましい。
　また、上述の低反射部材において、前記カチオン重合性バインダー樹脂が、少なくともエポキシ基及びビニルエーテル基のいずれか一方を有することが好ましい。
　また、上述の低反射部材において、前記カチオン重合性バインダー樹脂が、カチオン重合性の単量体を紫外線照射によって硬化させてなるものであることが好ましい。
　また、上述の低反射部材において、前記低屈折率層が、導電性微粒子をさらに含有することが好ましい。
　また、上述の低反射部材において、導電性微粒子とバインダー樹脂とを含有する帯電防止層を、前記支持部材と前記低屈折率層との間にさらに備えることが好ましい。
　また、本発明の他の一態様に係る反射防止フィルムは、前記低反射部材から構成されることを特徴とする。
　また、本発明の他の一態様に係る偏光板は、前記反射防止フィルムを少なくとも一方の面に用いることを特徴とする偏光板。
　また、本発明の他の一態様に係る画像表示装置は、前記反射防止フィルム、または前記偏光板を用いることを特徴とする画像表示装置。
　この出願は、２００９年２月１７日に出願された日本国特許出願特願２００９－３３４２２号を基礎とするものであり、その内容は、本願に含まれるものである。
　本発明を表現するために、上述において図面を参照しながら実施形態を通して本発明を適切かつ充分に説明したが、当業者であれば上述の実施形態を変更および／または改良することは容易に為し得ることであると認識すべきである。したがって、当業者が実施する変更形態または改良形態が、請求の範囲に記載された請求項の権利範囲を離脱するレベルのものでない限り、当該変更形態または当該改良形態は、当該請求項の権利範囲に包括されると解釈される。

Claims (10)

  1. 　支持基材の少なくとも片面上に、（ａ）カチオン重合性バインダー樹脂、（ｂ）スルホニウム塩系酸発生剤、（ｃ）外殻層を有し、内部が多孔質または空洞であるシリカ微粒子を含有する低屈折率層を備え、
    　前記低屈折率層の厚みが、前記シリカ微粒子の平均粒子径の１倍を超え３倍未満であり、
    　前記低屈折率層の表面粗さＲａが５ｎｍ未満であることを特徴とする低反射部材。
  2. 　前記スルホニウム塩系酸発生剤が、下記一般式（１）～（４）のいずれかで示されるスルホニウム塩であることを特徴とする請求項１に記載の低反射部材。

    Figure JPOXMLDOC01-appb-I000001
    ［一般式（１）中、Ｒ１～Ｒ３はそれぞれ水素原子または置換基を表し、Ｒ１～Ｒ３のうち少なくとも１つ以上が置換基を表し、一般式（２）中、Ｒ４～Ｒ７はそれぞれ水素原子または置換基を表し、Ｒ４～Ｒ７のうち少なくとも１つ以上が置換基を表し、一般式（３）中、Ｒ８～Ｒ１１はそれぞれ水素原子または置換基を表し、Ｒ８～Ｒ１１のうち少なくとも１つ以上が置換基を表し、一般式（４）中、Ｒ１２～Ｒ１７はそれぞれ水素原子または置換基を表し、Ｒ１２～Ｒ１７のうち少なくとも１つ以上が置換基を表し、Ｘ－は、各々非求核性のアニオン残基を表す。］
  3. 　前記シリカ微粒子の平均粒子径が、１０ｎｍ～１μｍであることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の低反射部材。
  4. 　前記カチオン重合性バインダー樹脂が、少なくともエポキシ基及びビニルエーテル基のいずれか一方を有することを特徴とする請求項１～３のいずれか１項に記載の低反射部材。
  5. 　前記カチオン重合性バインダー樹脂が、カチオン重合性の単量体を紫外線照射によって硬化させてなるものであることを特徴とする請求項１～４のいずれか１項に記載の低反射部材。
  6. 　前記低屈折率層が、導電性微粒子をさらに含有することを特徴とする請求項１～５のいずれか１項に記載の低反射部材。
  7. 　導電性微粒子とバインダー樹脂とを含有する帯電防止層を、前記支持部材と前記低屈折率層との間にさらに備えることを特徴とする請求項１～６のいずれか１項に記載の低反射部材。
  8. 　請求項１～７のいずれか１項に記載の低反射部材から構成されることを特徴とする反射防止フィルム。
  9. 　請求項８に記載の反射防止フィルムを少なくとも一方の面に用いることを特徴とする偏光板。
  10. 　請求項８に記載の反射防止フィルム、または請求項９に記載の偏光板を用いることを特徴とする画像表示装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012030489A (ja) * 2010-07-30 2012-02-16 Jgc Catalysts & Chemicals Ltd 透明被膜付基材および透明被膜形成用塗料

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI455873B (zh) * 2012-12-28 2014-10-11 Univ Chienkuo Technology 具有多孔性中空奈米球體之塗漆製作方法
CN113518802A (zh) * 2019-03-01 2021-10-19 日产化学株式会社 防眩性覆膜形成用涂布液、防眩性覆膜以及具有该防眩性覆膜的层叠体

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0762082A (ja) * 1993-08-09 1995-03-07 Rensselaer Polytechnic Inst 活性エネルギー線硬化型組成物
JP2006047477A (ja) * 2004-08-02 2006-02-16 Fuji Photo Film Co Ltd 反射防止フィルム、偏光板、画像表示装置、および反射防止フィルムの製造方法
JP2006178276A (ja) * 2004-12-24 2006-07-06 Toppan Printing Co Ltd 反射防止積層フィルム
JP2006293334A (ja) * 2005-03-14 2006-10-26 Fuji Photo Film Co Ltd 反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置
JP2007025077A (ja) * 2005-07-13 2007-02-01 Asahi Kasei Corp 反射防止構造及びその製造方法並びに低屈折率層用塗布組成物
JP2007217471A (ja) * 2006-02-14 2007-08-30 Fujifilm Corp カチオン重合性組成物、並びにこれを用いた画像形成方法および記録物

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0762082A (ja) * 1993-08-09 1995-03-07 Rensselaer Polytechnic Inst 活性エネルギー線硬化型組成物
JP2006047477A (ja) * 2004-08-02 2006-02-16 Fuji Photo Film Co Ltd 反射防止フィルム、偏光板、画像表示装置、および反射防止フィルムの製造方法
JP2006178276A (ja) * 2004-12-24 2006-07-06 Toppan Printing Co Ltd 反射防止積層フィルム
JP2006293334A (ja) * 2005-03-14 2006-10-26 Fuji Photo Film Co Ltd 反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置
JP2007025077A (ja) * 2005-07-13 2007-02-01 Asahi Kasei Corp 反射防止構造及びその製造方法並びに低屈折率層用塗布組成物
JP2007217471A (ja) * 2006-02-14 2007-08-30 Fujifilm Corp カチオン重合性組成物、並びにこれを用いた画像形成方法および記録物

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012030489A (ja) * 2010-07-30 2012-02-16 Jgc Catalysts & Chemicals Ltd 透明被膜付基材および透明被膜形成用塗料

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