WO2010007956A1 - 撥水性基体およびその製造方法 - Google Patents

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洋平 河合
貴重 米田
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旭硝子株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to a water-repellent substrate and a method for producing the same.
  • Patent Document 1 describes that a low-reflective film composed of silica fine particles and a binder is formed on a glass substrate, and the surface thereof is covered with a water-repellent film.
  • the water-repellent glass substrate described in Patent Document 1 had an initial water contact angle of 125 ° on the surface, which was insufficient to exhibit super water repellency.
  • super water repellency means that the initial water contact angle is 135 ° or more.
  • the present invention is an invention made to solve the above-mentioned problems, and provides the following inventions.
  • At least one surface of the substrate contains the following aggregate (A) of metal oxide fine particles and a metal oxide binder (provided that the metal oxide binder is a metal oxide by hydrolysis condensation reaction or thermal decomposition). And a base layer having a concavo-convex shape on the surface, and then a water repellent layer is formed on the base layer.
  • a method for producing a water repellent substrate Aggregates of metal oxide fine particles (A): Aggregates having an average primary particle size of 10 to 80 nm and an average aggregate particle size of 100 to 1200 nm.
  • At least one surface of the substrate contains the following aggregate (A) of metal oxide fine particles and a metal oxide binder (provided that the metal oxide binder is a metal oxide by hydrolysis condensation reaction or thermal decomposition).
  • a water-repellent layer comprising a base layer having an uneven surface and a water-repellent layer on the base layer.
  • a binder material containing an aggregate (A) of the following metal oxide fine particles and a metal compound (B) that becomes a metal oxide by hydrolytic condensation reaction or thermal decomposition on at least one surface of the substrate, and a dispersion medium By applying the coating liquid containing the dispersion and drying, a base layer having an uneven surface is formed, and then a hydrophobic material is applied onto the base layer and dried.
  • Aqueous substrate Aggregates of metal oxide fine particles (A): Aggregates having an average primary particle size of 10 to 80 nm and an average aggregate particle size of 100 to 1200 nm.
  • the water-repellent substrate of the present invention has a high surface water contact angle and can maintain a high contact angle against wear.
  • the compound represented by the following formula (1) is also referred to as the compound (1).
  • the water-repellent substrate of the present invention contains the following aggregate (A) of metal oxide fine particles and a metal oxide binder on at least one surface of the substrate (provided that the metal oxide binder is hydrolytic condensation reaction or heat Is a component formed from a binder material containing a metal compound (B) that becomes a metal oxide by decomposition), and a base layer having a concavo-convex shape on the surface is formed, and then a water repellent layer is formed on the base layer A substrate formed.
  • A aggregate of metal oxide fine particles and a metal oxide binder on at least one surface of the substrate (provided that the metal oxide binder is hydrolytic condensation reaction or heat Is a component formed from a binder material containing a metal compound (B) that becomes a metal oxide by decomposition), and a base layer having a concavo-convex shape on the surface is formed, and then a water repellent layer is formed on the base layer A substrate formed.
  • Metal oxide fine particle aggregate (A) an aggregate having an average primary particle diameter of 10 to 80 nm and an average aggregate particle diameter of 100 to 1200 nm.
  • the substrate in the present invention is preferably a substrate made of glass, metal, ceramics, resin, or a combination thereof (composite material, laminated material, etc.).
  • the material for the resin substrate include one or more selected from polyethylene terephthalate, polycarbonate, polymethyl methacrylate, triacetyl cellulose, and the like.
  • the substrate may be transparent or opaque and may be appropriately selected depending on the application. For example, when the water-repellent substrate of the present invention is used for window glass for transportation equipment such as automobiles, window glass for construction, and cover for solar cell, a transparent glass plate is preferable.
  • the surface of the substrate is polished with an abrasive such as cerium oxide or degreased by washing with alcohol or the like. Further, oxygen plasma treatment, corona discharge treatment, ozone treatment, or the like may be performed.
  • the shape of the substrate may be a flat plate or may have a curvature on the entire surface or a part thereof. The surface of the substrate may be flat or have an uneven shape.
  • the thickness of the substrate is appropriately selected depending on the application, and generally 1 to 10 mm is preferable. Further, a resin film having a thickness of approximately 25 to 500 ⁇ m may be used as the substrate.
  • a coating made of an inorganic substance and / or an organic substance is formed on the substrate in advance, so that a hard coat, an alkali barrier, coloring, conduction, antistatic, light scattering, antireflection, condensing, polarization, ultraviolet shielding, infrared shielding
  • a hard coat an alkali barrier, coloring, conduction, antistatic, light scattering, antireflection, condensing, polarization, ultraviolet shielding, infrared shielding
  • One or more functions selected from antifouling, antifogging, photocatalyst, antibacterial, fluorescence, phosphorescence, wavelength conversion, refractive index control, water repellency, oil repellency, fingerprint removal, slipperiness and the like may be provided.
  • the water-repellent substrate of the present invention may have a base layer and a water-repellent layer on both sides of the substrate, or may have a base layer and a water-repellent layer on one side of the substrate, and is appropriately selected depending on the application. it can.
  • the water-repellent substrate of the present invention when used for a window glass for a transportation device such as an automobile or an architectural window glass, it is preferably a glass plate having a base layer and a water-repellent layer on one side of the substrate. .
  • the aggregate (A) of metal oxide fine particles (hereinafter also simply referred to as aggregate (A)) used for forming the underlayer is aggregated with metal oxide fine particles having an average primary particle size of 10 to 80 nm.
  • the metal oxide fine particles having an average primary particle diameter of 10 to 80 nm constituting the aggregate (A) are also referred to as metal oxide fine particles (C).
  • the average primary particle diameter of the metal oxide fine particles (C) is 10 to 80 nm, preferably 15 to 60 nm.
  • the average primary particle diameter of the metal oxide fine particles (C) is in the above range, there is an advantage that the surface area of the film is increased due to the uneven shape derived from the particles and the water repellency is improved.
  • the average aggregate particle diameter of the aggregate (A) is 100 to 1200 nm, and preferably 150 to 500 nm. If the average aggregated particle diameter is 100 nm or more, an appropriate void is formed between the aggregated particles when applied on the substrate, and therefore air is easily involved when water droplets adhere to the surface, so that super-water repellency is easily developed. If the average aggregate particle diameter is 1200 nm or less, the uneven shape can be maintained even after wear.
  • the average primary particle diameter of the metal oxide fine particles (C) is determined by observing the metal oxide fine particles (C) with a transmission electron microscope, and randomly selecting 100 particles. It is a value obtained by measuring the particle diameter of each metal oxide fine particle (C) and averaging the particle diameters of 100 metal oxide fine particles (C).
  • the metal oxide fine particles (C) constituting the aggregate (A) are substantially fine particles having no voids (solid fine particles) and fine particles having voids inside (hollow fine particles).
  • solid fine particles or hollow fine particles may be appropriately selected depending on the application.
  • the water-repellent substrate of the present invention is used as a window for a vehicle such as an automobile or a cover for a solar cell, the water-repellent substrate is required to have transparency. Therefore, it is preferable to use hollow fine particles. It is also possible to use solid fine particles and hollow fine particles in combination.
  • the aggregate (A) of metal oxide fine particles is an aggregate of fine particles containing one or more metal oxides selected from the group consisting of SiO 2 , Al 2 O 3 , TiO 2 , SnO 2 , ZrO 2 , and CeO 2. Aggregates are preferable, and aggregates of fine particles containing SiO 2 are particularly preferable. That is, the metal oxide fine particles (C) are fine particles containing one or more metal oxides selected from the group consisting of SiO 2 , Al 2 O 3 , TiO 2 , SnO 2 , ZrO 2 , and CeO 2. An aggregate of fine particles containing SiO 2 is particularly preferable.
  • inorganic fine particles other than organic fine particles and metal oxide fine particles can be used, but inorganic fine particles are preferred from the viewpoint of weather resistance.
  • inorganic fine particles other than metal oxide fine particles include metal fluorides such as MgF 2 , metal sulfides such as ZnS, metal selenides such as ZnSe, and metal nitrides such as Si 3 N 4. In view of adhesion to the material and chemical stability, metal oxides are still preferable.
  • fine particles containing a metal oxide will be described by taking fine particles containing SiO 2 as an example.
  • Examples of the fine particles containing SiO 2 include the following (i) to (iv).
  • the metal oxide fine particles are substantially fine particles having substantially no voids therein and substantially comprising only SiO 2 (ie, solid fine particles comprising substantially only SiO 2). ), (Ii) In the case where the metal oxide fine particle is a fine particle which does not substantially have a void inside and contains SiO 2 as a main component and further contains a metal oxide other than SiO 2 (that is, SiO 2 is mainly used).
  • examples of the metal oxide other than SiO 2 include Al 2 O 3 , TiO 2 , SnO 2 , ZrO 2 , CeO 2 , CuO, Cr 2 O 3 , CoO, and Fe 2 O. 3 , MnO 2 , NiO, ZnO and the like.
  • SiO 2 and metal oxides other than SiO 2 may be simply mixed or may exist as a composite oxide.
  • core-shell type fine particles in which the core is made of a metal oxide other than SiO 2 (eg, ZnO) and the shell is made of SiO 2 may be used.
  • the amount of the metal oxide other than SiO 2 contained in the hollow fine particles is 0.2 to 8.0 parts by mass with respect to 100 parts by mass of SiO 2 contained in the hollow fine particles. 0.5 to 5.0 parts by mass is preferable.
  • the amount of other metal (as oxide) is 0.2 parts by mass or more, the strength of the hollow fine particles is sufficiently high. If the amount of metal oxide other than SiO 2 is 8.0 parts by mass or less, the refractive index of the hollow fine particles can be kept low.
  • the amount of metal oxide other than SiO 2 is the amount converted to Al 2 O 3 in the case of Al, the amount converted to CuO in the case of Cu, the amount converted to CeO 2 in the case of Ce, and Sn when an amount as calculated as SnO 2, an amount converted to TiO 2 cases Ti, a amount converted case Cr 2 O 3 of Cr, an amount converted in the case of Co CoO, the Fe In this case, the amount is converted to Fe 2 O 3.
  • Mn the amount is converted to MnO 2.
  • Ni the amount is converted to NiO.
  • Zn the amount is converted to ZnO.
  • the metal oxide fine particles (C) may be any of the above (i) to (iv), and may be appropriately selected according to the application.
  • the shape of the metal oxide particles (C) may be any of spherical shape, spindle shape, rod shape, amorphous shape, columnar shape, needle shape, flat shape, scale shape, leaf shape, tube shape, sheet shape, chain shape, and plate shape. It may be a spherical shape or a rod shape.
  • spherical refers to an aspect ratio of 1 to 2.
  • the thickness of the shell is preferably 1 to 10 nm, particularly preferably 2 to 5 nm. If the thickness of the shell is 1 nm or more, an underlayer having sufficient strength can be obtained. If the thickness of the shell is 10 nm or less, the refractive index of the particles can be kept low, and a highly transparent underlayer can be formed.
  • the metal oxide fine particles (C) are observed with a transmission electron microscope, 100 particles are randomly selected, and the thickness of each metal oxide fine particle (C) is measured. This is an average value of the shell thicknesses of 100 metal oxide fine particles (C).
  • the manufacturing method of the aggregate (A) in this invention is not specifically limited, The following methods are employable.
  • Method (1) A method in which metal oxide fine particles having a desired average primary particle size are aggregated to obtain an aggregate (A) having a desired aggregated particle size.
  • Method (2) A method of obtaining an aggregate (A) having a desired aggregate particle diameter by concealing an aggregate obtained from metal oxide fine particles having a desired average primary particle diameter. Method (1) and method (2) can be employed regardless of whether they are solid fine particles or hollow fine particles.
  • a substance capable of reducing surface charge or bonding particles is added to a dispersion in which metal oxide fine particles having a desired average primary particle size are dispersed. It can be carried out by heating and aging. And the aggregate particle diameter of an aggregate can be adjusted by adjusting the quantity of additive, heating temperature, and heating time. Usually, the heating temperature is 30 to 500 ° C., and the heating time is 1 minute to 12 hours.
  • additives ion exchange resins, surface charge control agents such as calcium nitrate and sodium polyaluminate, and particle binders such as sodium silicate and tetraethoxysilane can be used.
  • the amount of the additive is preferably 10% by mass or less based on the solid content of the metal oxide fine particles.
  • Method (2-1) preparing a dispersion liquid in which a metal oxide fine particle having a desired average primary particle size and / or an aggregate obtained by agglomerating the metal oxide fine particles are dispersed in a dispersion medium, and the dispersion medium A method in which the solid content obtained by removing water is crushed with a ball mill, bead mill, sand mill, homomixer, paint shaker or the like.
  • Method (2-2) A method in which a core-shell type fine particle aggregate (cluster) having a shell made of a metal oxide such as SiO 2 is produced and then sprinkled.
  • the aggregate (A) is an aggregate formed by agglomerating hollow fine particles
  • a step of further removing the core fine particles is performed.
  • the core fine particle removal step may be performed either before or after the dredging step.
  • it can be carried out with reference to JP-A-2006-3355881, JP-A-2006-335605 and the like by the present applicant.
  • the dispersion medium can be removed by the following method.
  • A A method of volatilizing a dispersion medium by heating a dispersion of metal oxide fine particles.
  • B A method of obtaining a solid content by solid-liquid separation of a dispersion of metal oxide fine particles.
  • C A method of spraying a dispersion of metal oxide fine particles in a heated gas using a spray dryer to volatilize the dispersion medium or the like (spray drying method).
  • D A method of sublimating the dispersion medium or the like by cooling the metal oxide fine particle dispersion and reducing the pressure (freeze-drying method).
  • the shape of the core fine particles is not particularly limited.
  • spherical particles, spindle shapes, rod shapes, amorphous shapes, columnar shapes, needle shapes, flat shapes, scale shapes, leaf shapes, tube shapes, sheet shapes, chain shapes, or plate shapes can be used. Particles having different shapes may be used in combination.
  • the core fine particles are monodispersed, it may be difficult to obtain aggregate particles. Therefore, it is preferable to use an aggregate in which 2 to 10 core fine particles are aggregated.
  • the core fine particles are not particularly limited, and may be fine particles made of a material usually used for preparing core-shell type fine particles.
  • core fine particles that are dissolved (or decomposed or sublimated) by heat, acid, or light are preferably used.
  • thermally decomposable organic polymer fine particles such as surfactant micelles, water-soluble organic polymers, styrene resins and acrylic resins
  • acid-soluble inorganic fine particles such as sodium aluminate, calcium carbonate, basic zinc carbonate and zinc oxide
  • At least one selected from metal chalcogenide semiconductors such as zinc sulfide and cadmium sulfide and light-soluble inorganic fine particles such as zinc oxide can be used.
  • the core fine particles are preferably particles made of a material having a dielectric constant of 10 or more (preferably 10 to 200). If the dielectric constant of the material of the core fine particles is 10 or more, it becomes easy to absorb microwaves, so that the core particles can be selectively heated to a high temperature (100 ° C. or higher) by the microwaves.
  • the dielectric constant can be calculated from a value obtained by applying an electric field to a sample by a bridge circuit using a network analyzer and measuring a reflection coefficient and a phase.
  • Examples of materials having a dielectric constant of 10 or more include zinc oxide, titanium oxide, ITO (Indium tin oxide), aluminum oxide, zirconium oxide, zinc sulfide, gallium arsenide, iron oxide, cadmium oxide, copper oxide, bismuth oxide, tungsten oxide, Examples thereof include cerium oxide, tin oxide, gold, silver, copper, platinum, palladium, ruthenium, iron platinum, and carbon.
  • zinc oxide, titanium oxide, ITO, aluminum oxide, zirconium oxide, zinc sulfide, cerium oxide, or tin oxide because a highly transparent film can be obtained.
  • the average primary particle diameter of the core fine particles is preferably 5 to 75 nm, and particularly preferably 5 to 70 nm. If the average primary particle diameter of the core fine particles is 5 nm or more, the substrate with an underlayer using the obtained core-shell type fine particle aggregate has a surface area of the film due to irregularities derived from the particles as compared with a flat substrate. Increases water repellency. When the average primary particle diameter of the core fine particles is 75 nm or less, the surface area of the underlayer using the obtained core-shell type fine particle aggregate is sufficiently large and easily exhibits super water repellency.
  • the average aggregate particle diameter of the core particle aggregate is preferably from 100 to 1200 nm, particularly preferably from 150 to 500 nm.
  • the average aggregated particle size is 100 nm or more, voids are formed between the aggregated particles when coated on the substrate, and air is easily re-applied by dropping water droplets, so that super-water repellency is easily developed. If the average aggregate particle diameter is 1200 nm or less, the uneven shape can be maintained even after wear.
  • Various methods can be adopted to disperse the core fine particles in the dispersion medium.
  • a method of preparing core fine particles in a medium a method of adding a dispersion medium and a dispersant as described later to core fine particle powder, and peptizing with a dispersing machine such as a ball mill, a bead mill, a sand mill, a homomixer, or a paint shaker; Is mentioned.
  • the solid content concentration of the core fine particle dispersion thus obtained is preferably 50% by mass or less. When the solid content concentration exceeds 50% by mass, the stability of the dispersion may be lowered.
  • the core fine particle aggregate is covered with a metal oxide such as SiO 2 to obtain an aggregate of core-shell type fine particles.
  • a metal oxide such as SiO 2
  • metal oxides in the presence of the core fine particle aggregates by reacting a precursor of (SiO 2, etc.), to deposit a metal oxide (SiO 2 or the like) on the surface of the core fine particle aggregates It is obtained by forming a shell.
  • the method for producing the core-shell type fine particles may be a gas phase method or a liquid phase method.
  • core-shell type fine particles can be produced by irradiating the raw material of the core fine particles and a SiO 2 raw material such as metal Si with plasma.
  • a dispersion of core fine particle aggregates dispersed in a dispersion medium is mixed with a precursor of a metal oxide such as SiO 2 , water, organic solvent, acid, alkali,
  • a raw material liquid is prepared by adding a curing catalyst or the like.
  • the precursor of the metal oxide such as SiO 2 is hydrolyzed to deposit the metal oxide such as SiO 2 on the surface of the core fine particle aggregate to form a shell, and the core -Obtain shell fine particle aggregates.
  • the concentration of the core fine particles in the dispersion in which the core fine particle aggregate is dispersed in a dispersion medium is preferably 0.1 to 40% by mass, and more preferably 0.5 to 20% by mass with respect to the dispersion.
  • concentration of the core fine particles is within the above range, the dispersion is stable and the production efficiency of the core-shell particles is good.
  • the amount of the metal oxide precursor is preferably such that the shell thickness is 1 to 10 nm, and more preferably the shell thickness is 2 to 5 nm. Specifically, the amount of metal oxide precursor (in terms of metal oxide) is preferably 3 to 1000 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the core fine particles.
  • alkali examples include potassium hydroxide, sodium hydroxide, ammonia, ammonium carbonate, ammonium hydrogen carbonate, dimethylamine, triethylamine, aniline and the like. Ammonia is preferable because it can be removed by heating.
  • the amount of the alkali is preferably such that the pH of the raw material liquid is 8.5 to 10.5 from the viewpoint that the metal oxide precursor is three-dimensionally polymerized to form a dense shell. An amount of 10.0 is preferred.
  • Examples of the acid include hydrochloric acid and nitric acid. Since zinc oxide particles are dissolved in an acid, when using zinc oxide particles as core particles, it is preferable to hydrolyze the metal oxide precursor with an alkali.
  • the amount of the acid is preferably such that the pH of the raw material solution is 3.5 to 5.5.
  • the curing catalyst examples include metal chelate compounds, organotin compounds, metal alcoholates, metal fatty acid salts, and the like. From the viewpoint of shell strength, metal chelate compounds or organotin compounds are preferred, and metal chelate compounds are particularly preferred.
  • metal chelate compounds or organotin compounds are preferred, and metal chelate compounds are particularly preferred.
  • Metal chelates include aluminum chelate compounds (aluminum acetylacetonate, aluminum bisethylacetoacetate monoacetylacetonate, aluminum-di-n-butoxide-monoethylacetoacetate, aluminum-di-isopropoxide-monomethylacetoacetate, di Isopropoxyaluminum ethyl acetate, etc.), titanium chelate compounds (titanium acetylacetonate, titanium tetraacetylacetonate, etc.), copper chelate compounds (copper acetylacetonate, etc.), cerium chelate compounds (cerium acetylacetonate, etc.) , Chromium chelate compounds (chromium acetylacetonate, etc.), cobalt chelate compounds (cobalt acetylacetonate, etc.), tin chelate compounds (tin Tylacetonate, etc.), iron chelate compounds (iron
  • the amount of the curing catalyst (in terms of metal oxide) is preferably 0.1 to 20.0 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the amount of metal oxide precursor (in terms of metal oxide), and preferably 0.2 to 8. 0 parts by mass is more preferable.
  • examples of the precursor of SiO 2 include one or more compounds selected from silicic acid, silicate, and silicate alkoxide. These compounds are compounds in which one or more hydroxyl groups or hydrolyzable groups (halogen atoms, alkoxy groups, etc.) are bonded to silicon atoms. These precursors may be used in combination with different types of compounds. These precursors may be partially hydrolyzed condensates.
  • the alkali metal silicate is decomposed with acid and then dialyzed; the alkali metal silicate is peptized; the alkali metal silicate is contacted with an acid type cation exchange resin, etc.
  • the resulting silicic acid is mentioned.
  • silicates examples include alkali silicates such as sodium silicate and potassium silicate; ammonium silicate salts such as tetraethylammonium silicate; amines of silicic acid (such as ethanolamine) and the like.
  • silicate alkoxide examples include compounds in which four alkoxy groups are bonded to a silicon atom, such as ethyl silicate.
  • a silicate alkoxide in which 1 to 3 organic groups are bonded to a silicon atom may be used.
  • organic group examples include a monovalent organic group containing a functional group such as a vinyl group, an epoxy group, and an amino group; a fluorine-containing monovalent organic group such as a perfluoroalkyl group or a perfluoroalkyl group containing an etheric oxygen atom; It is done.
  • Silicic acid alkoxides having silicon atoms to which these organic groups are bonded include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxy. Examples thereof include silane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, and perfluoroethyltriethoxysilane.
  • the following media can be used. Can be mentioned.
  • the dispersion medium for the core fine particles, it is not essential to contain water, but when used as it is in the subsequent hydrolytic condensation step of the metal oxide precursor, the dispersion medium may be water alone or water and the organic solvent. And a mixed medium.
  • the organic solvent is an organic solvent that can be at least partially dissolved in water, preferably can partially dissolve water, and most preferably is an organic solvent that is miscible with water.
  • the dispersion medium is a mixed medium of water and the organic solvent
  • the mixed medium preferably contains at least 5% by mass of water based on the total medium. If the water content is less than 5% by mass, the reaction may not proceed sufficiently.
  • it is necessary to present at least a stoichiometric or more water in the system.
  • the solid content concentration of the reaction liquid (total of core particles and shell precursor (converted to metal oxide)) when producing the core-shell type fine particle dispersion is 0.1% by mass or more and 30% by mass or less. It is preferable that it is the range of 1 mass% or more, and it is especially preferable that it is the range of 20 mass% or less.
  • the solid content concentration exceeds 30% by mass, the stability of the fine particle dispersion is lowered, which is not preferable.
  • the solid content concentration is less than 0.1% by mass, the productivity of the resulting hollow SiO 2 aggregate is extremely low, which is not preferable. .
  • sodium chloride, potassium chloride, magnesium chloride, sodium nitrate are used to increase the ionic strength of the reaction solution and to make it easier to form a shell from a precursor such as SiO 2 when producing a core-shell type fine particle dispersion.
  • Electrolytes such as potassium nitrate, sodium sulfate, potassium sulfate, ammonia, sodium hydroxide may be added.
  • pH of a reaction liquid can be adjusted using these electrolytes.
  • the raw material liquid can be heated not only by normal heating but also by microwave irradiation.
  • the microwave usually refers to an electromagnetic wave having a frequency of 300 MHz to 300 GHz. Usually, a microwave having a frequency of 2.45 GHz is used, but a frequency at which the non-heated material is effectively heated may be selected, and the present invention is not limited to this. According to the Radio Law, frequency bands are defined for uses that use radio waves for purposes other than communication called ISM bands.
  • the output of the microwave is preferably an output in which the raw material liquid is heated to 30 to 500 ° C., and an output in which the raw material liquid is heated to 50 to 300 ° C. is more preferable. If the temperature of the raw material liquid is 30 ° C. or higher, a dense shell can be formed in a short time. When the temperature of the raw material liquid is 500 ° C. or lower, the amount of metal oxide deposited on the surface other than the surface of the core fine particles can be suppressed.
  • the microwave irradiation time may be adjusted to a time for forming a shell having a desired thickness in accordance with the microwave output (temperature of the raw material liquid), for example, 10 seconds to 60 minutes.
  • the core fine particles are selectively and at a high temperature (for example, 100 ° C. or more ). Therefore, even if the entire raw material liquid becomes high temperature (for example, 100 ° C. or higher), the core fine particles are heated to a higher temperature, so that the hydrolysis of the metal oxide precursor proceeds preferentially on the surface of the core particles. Then, the metal oxide is selectively deposited on the surface of the core fine particles. Therefore, the amount of particles made of a shell-forming material (metal oxide) that precipitates independently other than the surface of the core fine particles can be suppressed. Moreover, since a shell can be formed on high temperature conditions, a shell is formed in a short time. Furthermore, it is preferable because the shell becomes denser and the abrasion resistance of the resulting water-repellent substrate is improved.
  • a high temperature for example, 100 ° C. or more
  • the obtained aggregate of core-shell type fine particles is filtered to obtain an aggregate (A) having a desired aggregate particle diameter.
  • the same method as the above method (2) can be adopted as the method for wrinkles.
  • the aggregate (A) is an aggregate of hollow fine particles
  • a step of further dissolving the core particles is performed.
  • the step of dissolving the core particles may be performed either before or after the dredging step.
  • the removal of the core particle can be performed by dissolving or decomposing the core fine particles of the core-shell type fine particles.
  • Examples of the method for dissolving or decomposing the core fine particles of the core-shell type fine particles include one or more methods selected from heat decomposition, acid decomposition, and light decomposition.
  • the core fine particle When the core fine particle is a thermally decomposable organic resin, the core fine particle can be removed by heating in a gas phase or a liquid phase.
  • the heating temperature is preferably in the range of 200 to 1000 ° C. If it is less than 200 ° C., core fine particles may remain, and if it exceeds 1000 ° C., SiO 2 may be melted, which is not preferable.
  • the core fine particle is an acid-soluble inorganic compound
  • the core fine particle can be removed by adding an acid or an acidic cation exchange resin in a gas phase or a liquid phase.
  • the acid may be an inorganic acid or an organic acid.
  • inorganic acids include hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid and the like.
  • organic acid include formic acid, acetic acid, propionic acid, oxalic acid and the like.
  • the ions generated by dissolving the core particles may be removed by ultrafiltration.
  • the acidic cation exchange resin is preferably a polyacrylic resin-based or polymethacrylic resin-based one having a carboxylic acid group, and particularly preferably a polystyrene-based one having a more strongly sulfonic acid group.
  • the cation exchange resin is separated by solid-liquid separation operation such as filtration to obtain a hollow SiO 2 fine particle dispersion.
  • the core fine particle when the core fine particle is a photo-soluble inorganic compound, the core fine particle can be removed by irradiating light in a gas phase or a liquid phase.
  • light ultraviolet rays having a wavelength of 380 nm or less are preferable.
  • the aggregate (A) is preferably an aggregate (A) obtained by agglomerating hollow fine particles obtained by the method (2-2). Furthermore, the aggregate (A) is particularly preferably an aggregate (A) obtained by irradiating with microwaves when preparing the core-shell fine particle aggregate. Moreover, it is preferable to use zinc oxide as the core particles. When zinc oxide is used as the core particles and heated with microwaves, the core particles are selectively heated, so that a dense shell can be formed.
  • the refractive index of the aggregate (A) is preferably 1.4 or less, particularly preferably 1.05 to 1.35.
  • the refractive index of the aggregate is 1.05 or more, the strength of the underlayer is sufficiently ensured. If the refractive index of the aggregate is 1.35 or less, an underlayer having high transparency can be obtained.
  • the aggregate (A) formed by agglomerating hollow fine particles has a refractive index of about 1.1 to 1.3. Therefore, the water-repellent substrate obtained using this aggregate (A) is preferable because it exhibits good transparency, can secure a sufficient field of view, and exhibits excellent antireflection performance. Therefore, it is particularly suitable for a vehicle window such as an automobile or a cover for solar cells.
  • the refractive index of the aggregate (A) does not indicate the refractive index of each material constituting the aggregate, but the refractive index of the aggregate as a whole.
  • the refractive index of the aggregate as a whole was calculated from the minimum reflectance measured with a spectrophotometer.
  • the underlayer contains a binder, it is calculated by calculating the refractive index of the film from the minimum reflectance measured with a spectrophotometer in the state of a film together with the binder, and converting it from the weight ratio of the aggregate and the binder.
  • the underlayer contains a metal oxide binder in addition to the aggregate (A).
  • the metal oxide binder is a component formed from a binder material containing a metal compound (B) (hereinafter also simply referred to as “metal compound (B)”) that becomes a metal oxide by hydrolysis condensation reaction or thermal decomposition. .
  • the metal compound (B) may be a hydrolyzable metal compound to which a hydrolyzable group is bonded, a partial hydrolysis condensate of the hydrolyzable metal compound, or a metal coordination compound coordinated with a ligand. preferable.
  • the hydrolyzable metal compound becomes a metal oxide by a hydrolysis condensation reaction, and the metal coordination compound is thermally decomposed to become a metal oxide.
  • the metal atom is preferably one or more metal atoms selected from the group consisting of silicon atoms, aluminum atoms, titanium atoms, tin atoms, and cerium atoms, and particularly preferably silicon atoms.
  • hydrolyzable group examples include an alkoxy group, an isocyanate group, and a halogen atom, and an alkoxy group is preferable. In the alkoxy group, the hydrolysis reaction and the condensation reaction proceed slowly. Further, the hydrolytic condensable metal compound (B) having an alkoxy group as a hydrolyzable group has an advantage that it can be dispersed without agglomeration and function sufficiently as a binder for the aggregate (A). Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, and an isopropoxy group. Examples of the ligand include acetyl acetate, acetyl acetonate, ethyl acetoacetate, lactate, and octylene glycolate.
  • the metal compound (B) it is preferable that at least two hydrolyzable groups are bonded to the metal atom, or at least two ligands are coordinated to the metal atom.
  • the metal compound (B) becomes a strong binder when converted into a metal oxide binder.
  • Groups other than hydrolyzable groups may be bonded to the metal atom in the hydrolyzable condensable metal compound (B).
  • Examples of the group other than the hydrolyzable group include a monovalent organic group.
  • Examples of the monovalent organic group include an alkyl group; an alkyl group having a functional group such as a fluorine atom, a chlorine atom, an epoxy group, an amino group, an acyloxy group, and a mercapto group; an alkenyl group; The same group as R f , R a , R b and R described later is preferable.
  • the hydrolytic condensable metal compound (B) is preferably a hydrolyzable silicon compound having a silicon atom to which a hydrolyzable group is bonded, or a partial hydrolyzed condensate of the silicon compound. At least one hydrolyzable silicon compound selected from the group consisting of the following compound (B-1), the following compound (B-2), the following compound (B-3) and the following compound (B-4), or A partial hydrolysis condensate of a hydrolyzable silicon compound is preferred.
  • R a an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms.
  • R f a polyfluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms.
  • R b an organic group having 10 or less carbon atoms having a functional group selected from the group consisting of an epoxy group, an amino group, an acyloxy group, a mercapto group, and a chlorine atom.
  • R an alkyl group having 6 or less carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms.
  • X 1 , X 2 , X 3 , X 4 each independently a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an acyloxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an isocyanate group.
  • k, m, n 0 or 1 independently.
  • R a is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, methyl group, ethyl group, isopropyl group, t-butyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, and An n-decyl group is exemplified, and a methyl group, an ethyl group, or an isopropyl group is preferable.
  • R a is an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, it is preferably a linear alkenyl group, and preferably having 2 to 4 carbon atoms. Specific examples include a vinyl group, an allyl group, and a butenyl group, and a vinyl group or an allyl group is preferable.
  • R f is a group in which two or more of the hydrogen atoms bonded to the carbon atoms in the corresponding alkyl group having 1 to 20 carbon atoms are substituted with fluorine atoms, and all the hydrogen atoms are substituted with fluorine atoms. Particularly preferred are perfluoroalkyl groups. As R f , a group represented by the following formula (3) is also preferable. These groups preferably have 1 to 10 carbon atoms.
  • p in the formula is an integer of 1 to 8
  • q is an integer of 2 to 4
  • p + q is 2 to 12
  • 6 to 11 are preferable.
  • p is preferably an integer of 4 to 8.
  • q is preferably 2 or 3.
  • the perfluoroalkyl group is preferably CF 3 —, F (CF 2 ) 2 —, F (CF 2 ) 3 —, or F (CF 2 ) 4 —.
  • Examples of the group represented by the formula (3) include F (CF 2 ) 8 (CH 2 ) 2 —, F (CF 2 ) 8 (CH 2 ) 3 —, and F (CF 2 ) 6 (CH 2 ) 2 —.
  • F (CF 2 ) 6 (CH 2 ) 3 —, F (CF 2 ) 4 (CH 2 ) 2 —, or F (CF 2 ) 4 (CH 2 ) 3 — is preferred.
  • X 1 , X 2 , X 3 , and X 4 are halogen atoms, it is preferably a chlorine atom.
  • the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms is preferably a methoxy group, an ethoxy group, or an isopropoxy group.
  • an acyloxy group having 1 to 6 carbon atoms an acetyloxy group or a propionyloxy group is preferable.
  • X 1 and X 2 are each independently preferably a chlorine atom, the alkoxy group, or an isocyanate group.
  • R b is an organic group having 10 or less carbon atoms having a functional group selected from the group consisting of an epoxy group, an amino group, an acyloxy group, a mercapto group, and a chlorine atom.
  • the functional group is preferably an epoxy group, an amino group, or an acyloxy group. Further, when the functional group is an acyloxy group, an acetoxy group, a propionyloxy group, or a butyryloxy group is preferable.
  • “the number of carbon atoms of 10 or less” does not include the number of carbon atoms contained in the functional group.
  • K, m, and n are each independently 0 or 1.
  • k, m and n are each preferably 0.
  • the hydrolyzable metal compounds (B-1) to (B-4) have three hydrolyzable groups. It is preferable because the inner layer surface can be firmly bonded.
  • Examples of the compound (B-1) include methyltriethoxysilane, methyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, ethenyldimethoxysilane, propenyldimethoxysilane, n-heptyltrimethoxysilane, n -Heptyltriethoxysilane, n-octyltrimethoxysilane, n-octyltriethoxysilane, and the like.
  • Examples of the compound (B-4) include tetraethoxysilane, tetramethoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetraisocyanate silane, and tetrachlorosilane.
  • the compound (B-4) or a partial hydrolysis-condensation product of the compound (B-4) is preferable, and more specifically, tetraethoxysilane, tetra A partially hydrolyzed condensate of ethoxysilane, tetramethoxysilane, or a partially hydrolyzed condensate of tetramethoxysilane is preferred.
  • tetraisopropoxytitanium, tetrabutoxytitanium, triisopropoxyaluminum, tetrabutoxyzirconium, or tetrapropoxyzirconium can also be suitably used as the metal compound (B) having a hydrolyzable group.
  • examples of the compound include aluminum tris (acetyl acetate), aluminum (ethyl acetoacetate) diisopropoxide, aluminum tris (ethyl acetoacetate), titanium bis (acetyl acetate) ) Diisopropoxide, Titanium tetra (acetyl acetate), Titanium bis (octylene glycolate) dibutoxide, Titanium bis (lactate) dihydroxide, Titanium bis (triethanolaminolate), Titanium bis (ethylacetoacetate) diisopropoxy , Polyhydroxy titanium stearate, zirconium (tetraacetylacetate), zirconium (acetylacetate) tributoxide, zirconium bis (acetylacetate) Over G) Jibutokishido, zirconium (acetylacetonate) (ethylacetoacetate) Jibutokishido and the like, aluminum tris (acetyl acetate), aluminum (ethy
  • the metal compound (B) is a compound containing a fluorine atom, there is an advantage of high durability such as chemical resistance and wear resistance.
  • the underlayer is formed by applying a dispersion liquid (hereinafter also referred to as dispersion liquid (1)) containing the aggregate (A) of the metal oxide fine particles, the binder material, and a dispersion medium to at least one surface of the substrate and drying. It is preferable to form by doing.
  • a dispersion liquid hereinafter also referred to as dispersion liquid (1)
  • the dispersion medium in the dispersion liquid (1) it is preferable to use the medium used in the production of the aggregate (A) as it is.
  • the solvent used in the hydrolysis condensation step of the metal oxide precursor or the like it is preferable to use. That is, in addition to water, organic solvents such as alcohols, ketones, esters, ethers, glycol ethers, nitrogen-containing compounds, and sulfur-containing compounds can be used.
  • organic solvents such as alcohols, ketones, esters, ethers, glycol ethers, nitrogen-containing compounds, and sulfur-containing compounds can be used.
  • water can be removed from the solvent by means such as azeotropic distillation to make it substantially only an organic solvent, or conversely, the organic solvent can be removed to make water or an aqueous solvent.
  • the concentration of the aggregate (A) contained in the dispersion (1) is preferably 0.1 to 5% by mass, particularly preferably 0.5 to 3% by mass with respect to the dispersion. The reason for this is that super-water-repellent properties are easily exhibited when the obtained underlayer has an appropriate uneven shape.
  • the total amount of the aggregate (A) and the metal compound (B) contained in the dispersion is preferably 0.1 to 10% by mass, and preferably 0.5 to 10% by mass with respect to the dispersion (1). Particularly preferred is 1 to 5% by mass.
  • the solid content concentration is 0.5% by mass or more, it is possible to form a base layer having a thickness sufficient to develop super water repellency.
  • the thickness of the base layer does not become too large, and transparency can be secured.
  • the aggregate (A) / metal compound (B) is 4/6 or more, the film has sufficient unevenness and can exhibit super water repellency.
  • the aggregate (A) / metal compound (B) is 9/1 or less, the strength of the film is sufficiently secured.
  • Dispersion (1) may contain additives such as a dispersant, a leveling agent, an ultraviolet absorber, a viscosity modifier, an antioxidant, and a surfactant.
  • the dispersant include acetylacetone and polyvinyl alcohol, and acetylacetone is preferred.
  • various pigments such as titania, zirconia, lead white, bengara and the like can be blended. The amount of these additives is preferably 10% by mass or less based on the total solid content contained in the dispersion (1).
  • the dispersion (1) can be applied to the substrate surface by roller coating, flexo coating, bar coating, die coating, gravure coating, roll coating, flow coating, spray coating, online spray coating, ultrasonic spray coating, inkjet, dip.
  • the on-line spray coating is a method of spray coating as it is on a line for molding a base material, and since the process of reheating the substrate can be omitted, the article can be manufactured at low cost and is useful.
  • the dispersion liquid (1) is applied so as to have a thickness of 500 to 20000 nm (preferably a thickness of 1000 to 10,000 nm) when the dispersion medium is contained (wet state) depending on the solid content concentration. It is preferable.
  • the removal of the dispersion medium is preferably carried out by applying the dispersion (1) to the substrate and then drying at room temperature (about 20 ° C.) to 700 ° C.
  • room temperature about 20 ° C.
  • a layer containing the aggregate (A) of metal oxide fine particles and the metal compound (B) is formed on the substrate surface.
  • the metal compound (B) is converted into a metal-based binder, and an underlayer is formed.
  • it is sufficient to dry at a temperature of room temperature to 700 ° C.
  • the thickness of the base layer thus formed is about 100 to 1500 nm, preferably 120 to 1000 nm, particularly preferably 150 to 800 nm.
  • the thickness of the underlayer is defined as the average value of the distance between the surface of the base and the vertex of the convex portion farthest from the base when the cross section of the base with the base layer is observed with a scanning electron microscope.
  • the surface of the underlayer has an uneven shape.
  • the shape has an average surface roughness (Ra) of 60 to 300 nm.
  • a water repellent layer is formed on the base layer of the substrate with the base layer. Reflecting the uneven shape of the surface of the underlayer, the surface of the water repellent layer also has an uneven shape.
  • the water repellent for forming the water repellent layer is not particularly limited, and various water repellents can be used.
  • a water repellent composed of a silicone-based water repellent or a hydrophobic organic silicon compound can be preferably used.
  • a linear silicone resin is preferable.
  • linear dialkylpolysiloxanes and alkylpolysiloxanes can be used. These may have a hydroxyl group at the terminal, and the terminal may be sealed with an alkyl group or an alkenyl group.
  • dimethylpolysiloxane having a hydroxyl group at both ends dimethylpolysiloxane having both ends sealed with vinyl groups, methylhydrogenpolysiloxane, alkoxy-modified dimethylpoxisan, fluoroalkyl-modified dimethylsilicone, etc. Of these, alkoxy-modified dimethylposiloxysan is preferable.
  • the hydrophobic organic silicon compound is preferably a compound having a silicon atom in which a hydrophobic organic group (however, bonded to a silicon atom and a carbon-silicon bond) and a hydrolyzable group are bonded.
  • a monovalent hydrophobic organic group is preferable.
  • a monovalent hydrocarbon group and a monovalent fluorine-containing hydrocarbon group are preferable.
  • the monovalent hydrocarbon group an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable, and a linear alkyl group having 4 to 10 carbon atoms is particularly preferable. Specific examples include an n-butyl group, an n-pentyl group, an n-hexyl group, an n-heptyl group, and an n-octyl group, and an n-heptyl group or an n-octyl group is preferable.
  • a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms is also preferable, and specifically, a cyclohexyl group is preferable.
  • the monovalent fluorine-containing hydrocarbon group is a group in which one or more hydrogen atoms contained in the monovalent hydrocarbon group are substituted with fluorine atoms, and a polyfluoroalkyl group is preferable.
  • Examples of the hydrolyzable group include an alkoxy group, an isocyanate group, an acyloxy group, and a halogen atom.
  • the alkoxy group a methoxy group, an ethoxy group, or an isopropoxy group is preferable.
  • the acyloxy group an acetyloxy group or a propionyloxy group is preferable.
  • the halogen atom a chlorine atom is preferable.
  • a compound represented by the following formula (1) and a compound represented by the following formula (2) are preferable, and a compound represented by the following formula (1) is particularly preferable.
  • R f a polyfluoroalkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
  • R a an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms.
  • R an alkyl group having 6 or less carbon atoms or an alkenyl group having 6 or less carbon atoms.
  • X 1 and X 2 are each independently a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an acyloxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an isocyanate group.
  • k, m 0 or 1 independently.
  • R f is a polyfluoroalkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
  • the polyfluoroalkyl group is preferably a group in which two or more of the hydrogen atoms bonded to the carbon atoms in the corresponding alkyl group are substituted with fluorine atoms, and is a perfluoro group in which all of the hydrogen atoms are substituted with fluorine atoms.
  • An alkyl group or a group represented by the following formula (3) is particularly preferable.
  • p in the formula is an integer of 1 to 8, preferably 4 to 10.
  • q is an integer of 2 to 4, preferably 2 or 3.
  • p + q is 2 to 12, and preferably 6 to 11.
  • the perfluoroalkyl group is preferably CF 3 —, F (CF 2 ) 2 —, F (CF 2 ) 3 —, or F (CF 2 ) 4 —.
  • Examples of the group represented by the formula (3) include F (CF 2 ) 8 (CH 2 ) 2 —, F (CF 2 ) 8 (CH 2 ) 3 —, and F (CF 2 ) 6 (CH 2 ) 2 —.
  • F (CF 2 ) 6 (CH 2 ) 3 —, F (CF 2 ) 4 (CH 2 ) 2 —, or F (CF 2 ) 4 (CH 2 ) 3 — is preferred.
  • R a is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms.
  • R a is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, the group preferably has a linear structure.
  • the carbon number is preferably 4 to 10. Specific examples include an n-butyl group, an n-pentyl group, an n-hexyl group, an n-heptyl group, and an n-octyl group, and an n-heptyl group or an n-octyl group is preferable.
  • R a is a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a cyclohexyl group is preferred.
  • R is an alkyl group having 6 or less carbon atoms or an alkenyl group having 6 or less carbon atoms. These groups preferably have a linear structure.
  • the alkyl group having 6 or less carbon atoms a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an n-pentyl group, or an n-hexyl group is preferable.
  • Examples of the alkenyl group having 6 or less carbon atoms include a propenyl group and a butenyl group.
  • X 1 and X 2 are each independently a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an acyloxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an isocyanate group.
  • a halogen atom a chlorine atom is preferable.
  • the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms preferably has a linear structure, and preferably has 1 to 3 carbon atoms.
  • X 1 and X 2 are an acyloxy group having 1 to 6 carbon atoms, examples thereof include an acetyloxy group and a propionyloxy group, and an acetyloxy group is preferable.
  • k and m are each independently 0 or 1.
  • Compound (1) includes the following compounds.
  • F (CF 2 ) 8 (CH 2 ) 2 Si (NCO) 3 , F (CF 2 ) 8 (CH 2 ) 2 Si (Cl) 3 , or F (CF 2 ) 8 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 3 is preferred.
  • the compound (1) and the compound (2) can be used alone, or may be a partial hydrolysis condensate of one or more compounds selected from the compound group.
  • the water repellent layer may be formed of a water repellent containing the following compound (4) in addition to the compound (1) and compound (2) as long as the water repellency is not affected.
  • X 4 in the formula represents a hydrolyzable group, and is the same group as X 1 and X 2 , and the preferred embodiment is also the same.
  • tetraisocyanate silane or tetraalkoxysilane is preferable.
  • the water repellent layer is preferably formed by applying a water repellent solution containing a water repellent and a solvent to the surface of the inner layer of the substrate on which the inner layer is formed, and removing the solvent.
  • the solvent may be removed and then heated as necessary.
  • Examples of the solvent in the water repellent solution include hydrocarbons, esters, alcohols, and ethers, and esters are preferable. Specifically, acetate solvents such as ethyl acetate, n-propyl acetate, and n-butyl acetate are preferable, and n-butyl acetate is particularly preferable. Moreover, you may add another component to a water repellent solution as needed. Examples of the other components include catalysts (acids such as hydrochloric acid and nitric acid) for hydrolytic condensation reaction of a water repellent.
  • Examples of the method of applying the water repellent solution to the surface of the underlayer include the same method as the method of applying the dispersion (1) to the surface of the substrate, and the preferable method is also the same.
  • the removal of the solvent can be carried out by holding the article after application of the water repellent at room temperature to 200 ° C. for 10 to 60 minutes.
  • the water repellent is a reactive water repellent such as the compound (1), the compound (2), etc.
  • the hydrolysis reaction and condensation reaction of these compounds proceed on the surface of the underlayer, and the surface of the underlayer A water repellent layer is formed to cover almost the entire surface.
  • the formation of the water repellent layer may proceed simultaneously with the removal of the solvent, and heating may be necessary. When heating is required, it is preferable to heat at 60 to 200 ° C. for 10 to 60 minutes.
  • the thickness of the water repellent layer thus formed is approximately 0.5 to 10 nm.
  • the surface of the water-repellent substrate of the present invention obtained as described above has irregularities.
  • the average surface roughness (Ra) of the surface is approximately 60 to 300 nm, preferably 60 to 200 nm. Since the water-repellent layer formed on the surface of the base inner layer is a very thin layer, the three-dimensional shape of the surface of the water-repellent layer has a similar value reflecting the three-dimensional shape of the surface of the inner layer.
  • the pitch of the irregularities on the water-repellent surface of the water-repellent substrate of the present invention is preferably about 50 to 300 nm.
  • the pitch here is a value calculated from a cross-sectional photograph of a water-repellent article taken by a scanning electron microscope.
  • the water repellent agent is bonded to at least the upper surface of the underlayer, and is bonded to a portion (a portion other than the upper surface) such as a recess or a gap of the underlayer formed due to the shape of the aggregate (A). It may be. If the water-repellent agent is attached not only to the upper surface of the base layer but also to the recesses and gaps of the base layer, even if the water repellency of the surface of the water-repellent article is reduced due to wear during use, It is preferable because the water-repellent performance can be maintained by the water-repellent agent present in the recesses and gaps.
  • the water-repellent substrate of the present invention may have another layer between the base layer and the water-repellent layer.
  • the other layer is a layer that increases the hardness of the underlying layer by covering the surface of the underlying layer or penetrating into the gaps of the underlying layer to improve the overall wear resistance (wear resistance) Improvement layer), a layer for improving adhesion between the underlayer and the water-repellent layer (adhesion improving layer), and the like.
  • the wear resistance improving layer is preferably a layer made of silicon oxide formed from polysilazanes.
  • Polysilazanes are represented by —SiR 1 2 —NR 2 —SiR 1 2 — (R 1 and R 2 each independently represent hydrogen or a hydrocarbon group, and a plurality of R 1 may be different).
  • R 1 and R 2 each independently represent hydrogen or a hydrocarbon group, and a plurality of R 1 may be different).
  • Polysilazanes decompose into Si—NR 2 —Si bonds by reaction with moisture in the atmosphere to form a Si—O—Si network, and become silicon oxide. This hydrolysis-condensation reaction is accelerated by heat, and usually polysilazanes are heated and converted to silicon oxide.
  • a catalyst such as a metal complex catalyst or an amine catalyst can be used.
  • silicon oxide formed from polysilazanes Compared to silicon oxide formed from alkoxysilanes, silicon oxide formed from polysilazanes has a dense structure and high mechanical durability and gas barrier properties. Note that the reaction in which silicon oxide is generated from polysilazanes usually does not proceed completely when heated to about 300 ° C., and nitrogen remains in the silicon oxide in the form of Si—N—Si bonds or other bonds, at least It is considered that silicon oxynitride is partially generated.
  • the number average molecular weight of the polysilazanes is preferably about 500 to 5,000. The reason is that when the number average molecular weight is 500 or more, the silicon oxide formation reaction easily proceeds effectively. On the other hand, when the number average molecular weight is 5000 or less, the number of cross-linking points of the silicon oxide network can be kept moderate, and cracks and pinholes can be prevented from occurring in the matrix.
  • R 1 and R 2 are hydrocarbon groups, alkyl groups having 4 or less carbon atoms such as methyl groups and ethyl groups and phenyl groups are preferable.
  • R 1 is a hydrocarbon group
  • the hydrocarbon group remains on the silicon atom of the silicon oxide to be produced.
  • the amount of hydrocarbon groups bonded to silicon atoms in polysilazanes is small because the wear resistance and other properties may decrease when the amount of hydrocarbon groups bonded to silicon atoms in silicon oxide increases.
  • a polysilazane having a hydrocarbon group bonded to a silicon atom is used, it is preferably used in combination with a polysilazane having no hydrocarbon group bonded to a silicon atom.
  • the ratio of the number of silicon atoms bonded to hydrocarbon groups is preferably 30% or less, particularly 10% or less, based on all silicon atoms.
  • a silicon oxide layer formed using these polysilazanes is very suitable because of its high mechanical strength.
  • Particularly preferred polysilazanes are perhydropolysilazanes.
  • wear resistance can be improved by promoting the curing of polysilazanes.
  • amines it is preferable to apply amines after applying polysilazanes to the upper surface of the underlayer.
  • amines aqueous ammonia, methylamine, triethylamine, and the like can be used.
  • amines it is not preferable that amines finally remain on the water-repellent substrate. Therefore, methylamine which has a low boiling point and easily volatilizes is preferable.
  • the adhesion improving layer is preferably a silicon compound other than polysilazanes (such as a silicon compound in which a hydrolyzable group such as an alkoxy group, an isocyanate group, or a halogen atom is bonded to a silicon atom).
  • a silicon compound other than polysilazanes such as a silicon compound in which a hydrolyzable group such as an alkoxy group, an isocyanate group, or a halogen atom is bonded to a silicon atom.
  • the wear resistance improving layer and the adhesion improving layer may be used alone or in combination. When both are used together, it is preferable that the layers are formed in the order of the base layer, the wear resistance improving layer, the adhesion improving layer, and the water repellent layer in order from the substrate surface.
  • the water repellent layer, the wear resistance improving layer, and the adhesion improving layer do not necessarily need to cover the entire surface of the layer located under each of them. That is, as long as the function of each layer is sufficiently expressed, there may be a portion where these layers are not partially formed.
  • the water-repellent substrate of the present invention is formed by forming an underlayer using an aggregate having an average aggregated particle size of 100 to 1200 nm formed by aggregation of metal oxide fine particles having an average primary particle size of 10 to 80 nm.
  • the water contact angle on the surface is large, and a state where the contact angle is high against wear can be maintained.
  • the water-repellent substrate of the present invention has a large water contact angle on the surface and can maintain a high contact angle even when worn. Therefore, it is suitable for window glass for transportation equipment (automobiles, railways, ships, airplanes, etc.), and is particularly suitable for window glass for automobiles.
  • the window glass for automobiles may be a single plate glass or a laminated glass.
  • the water-repellent substrate of the present invention is used for laminated glass, it is preferable to use a method in which a water-repellent substrate manufactured by the method described above, an intermediate film, and another substrate are superposed in this order and pressure bonded.
  • the water-repellent substrate of the present invention exhibits excellent antireflection performance in a wide wavelength region because the refractive index decreases from the substrate surface to the film surface due to surface irregularities. Therefore, more light can be taken into the interior, and dirt can be prevented from adhering to the substrate due to water repellency, so that a high light transmittance can be maintained. Therefore, it is suitable for the cover glass for solar cells.
  • the cover glass for a solar cell may be any of single plate glass, laminated glass, template glass, and condensing lens glass, and preferably has a high transmission composition with little iron content and an alkali-free composition with little alkali content.
  • the substrate is preferably transparent.
  • the haze value is preferably 10% or less, more preferably 5% or less, and further preferably 2% or less.
  • Examples 1 to 11 are examples, and Examples 12 to 15 are comparative examples.
  • the solid content concentration of the aggregate dispersion 1 was 2% by mass.
  • the average primary particle diameter of the silica particles of the aggregate dispersion 1 was 15 nm, and the average aggregate particle diameter of the aggregate was 130 nm.
  • the raw material liquid was irradiated with microwaves having a frequency of 2.45 GHz for 3 minutes at an output at which the raw material liquid was heated to 180 ° C. using a microwave heating apparatus with a maximum output of 1000 W.
  • a dispersion of core-shell particles (100 g) having a core made of zinc oxide and a shell made of silicon oxide was obtained.
  • the core-shell particles are obtained by hydrolyzing tetraethoxylane by microwave irradiation and causing the condensation reaction of the hydrolyzate to proceed on the surface of the zinc oxide particles.
  • the solid content concentration of zinc oxide was 1.4% by mass
  • the solid content concentration of silicon oxide was 2% by mass.
  • the shell thickness was 10 nm.
  • This core-shell particle dispersion 100 g was added and stirred for 2 hours to give a pH of 4. After that, the strongly acidic cation exchange resin was removed by filtration to obtain an aggregate dispersion 5 of core-shell particles.
  • This core-shell particle dispersion had an average primary particle size of 30 nm and an average aggregated particle size of 530 nm.
  • the average aggregated particle size was controlled by the stirring time with the strongly acidic cation exchange resin.
  • the shell thickness was 10 nm, the zinc oxide core particles did not dissolve even when the pH was 4.
  • Aqueous dispersion of zinc oxide (dielectric constant is 18) particles having an average primary particle diameter of 20 nm (solid content concentration: 20%) (25 g), tetraethoxy Silane (concentration of solid content in terms of silicon oxide is 28.8% by mass) (6.9 g), ethanol (67.5 g), 28% by mass aqueous ammonia solution (0.6 g) are added to prepare a raw material solution having a pH of 10. Except for the above, a dispersion of core-shell particles was obtained in the same manner as in [2-5].
  • a hollow particle aggregate dispersion liquid 8 was obtained in the same manner as in [2-6] except that was prepared.
  • the average primary particle diameter of the hollow particles was 45 nm, the average aggregate particle diameter was 560 nm, and the shell thickness was 4 nm.
  • the average primary particle diameter of the hollow particles was 40 nm in short axis and 200 nm in long axis, the average aggregate particle diameter was 530 nm, and the shell thickness was 4 nm.
  • each of the agglomerate dispersions (60 g) prepared in [2] was added to the silicic acid oligomer solution (16 g) prepared in [1], ethanol (24 g). The mixture was stirred for 10 minutes to obtain various undercoat layer coating solutions. The solid content concentration of the coating liquid was 2% by mass.
  • the undercoat coating solution obtained from the aggregate dispersion 1 prepared in [2] is referred to as the undercoat coating solution 1.
  • the base layer coating solutions obtained from the aggregate dispersions 2 to 15 are referred to as base layer coating solutions 2 to 15, respectively.
  • Undercoat layer coating solution 1 is dropped on the surface of a glass substrate (100 mm ⁇ 100 mm, thickness 3.5 mm) wiped with ethanol, spin-coated (rotation speed 300 rpm, 60 seconds), and the underlayer coating solution 1 is applied to the surface of the substrate.
  • a substrate with an underlayer was obtained by heating at 200 ° C. for 30 minutes.
  • the water repellent solution prepared in [4] was dropped on the surface of the base layer of the base layer-coated substrate, spin-coated (rotation speed: 300 rpm, 60 seconds), and then dried at room temperature to prepare Sample 1.
  • Sample 1 was measured for mean square roughness, water contact angle (initial and after wear test), initial haze ratio, aggregate refractive index, and average reflectance. The results are shown in the table.
  • the abrasion test was conducted using a reciprocating traverse tester (manufactured by KK Corporation), using a flannel cloth (cotton No. 300) and applying a load of 9.8 N / 4 cm 2 to the surface of the water-repellent substrate. Was reciprocated 100 times.
  • samples 2 to 15 were prepared and evaluated in the same procedure as in Example 1 by changing the type of the undercoat layer coating solution.
  • Examples 12 and 13 are considered to correspond to examples in which the difference between the average primary particle diameter and the average aggregate particle diameter is small, and the underlayer is formed using primary fine particles.
  • Average primary particle diameter The particles were observed with a transmission electron microscope (H-9000, manufactured by Hitachi, Ltd.), 100 particles were randomly selected, the particle diameter of each particle was measured, and the average value was The average primary particle size was used.
  • Average Aggregated Particle Diameter The average aggregated particle diameter of the particles was measured using a dynamic light scattering particle size analyzer (manufactured by Nikkiso Co., Ltd., Microtrac UPA).
  • Thickness of the underlayer The cross section of the substrate on which the underlayer was formed was photographed with a scanning electron microscope (S-4500, manufactured by Hitachi, Ltd.), and in the image, the vertex of the convex portion of the underlayer was perpendicular to the surface of the substrate Knotted and measured its length. A photograph was taken under the measurement conditions of an acceleration voltage of 1 kV, an emission current of 5 ⁇ A, an inclination angle of 0 and 60 degrees, and an observation magnification of 50000 times.
  • S-4500 scanning electron microscope
  • the surface shape of the water-repellent article was measured using a probe microscope (Nanopics 1000, manufactured by Seiko Instruments Inc.).
  • the observation mode of the probe microscope was a dumping mode, the scan area was 40 ⁇ m, and the scan speed was 65 sec / frame.
  • the mean square roughness was calculated using dedicated software.
  • Haze value (haze ratio)
  • S-SM-K224 model number: S-SM-K224
  • Refractive index of the aggregate The refractive index of the aggregate is determined by measuring the reflectance at 300 nm to 1200 nm of the film on the substrate with a spectrophotometer (manufactured by Hitachi, Ltd., model: U-4100). The refractive index of the film on the substrate was calculated and converted from the weight ratio of the particles to the binder. 9. Average reflectance The reflectance at 300 to 1200 nm of the film on the water-repellent substrate was measured with a spectrophotometer (manufactured by Hitachi, Ltd., model: U-4100), and the average value was taken as the average reflectance.
  • the water-repellent substrate of the present invention has a large water contact angle on the surface, and is excellent in wear resistance and antireflection performance, it is used as a window glass and a solar cell cover for transportation equipment (automobile, railway, ship, airplane, etc.). It can be used suitably.
  • transportation equipment automobile, railway, ship, airplane, etc.

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Abstract

 表面の水接触角が大きく、摩耗に対しても接触角が維持できる撥水性基体を提供する。  基体の少なくとも片側表面に、下記金属酸化物微粒子の凝集体(A)および金属酸化物系バインダーとを含み(ただし、金属酸化物系バインダーは加水分解縮合反応または熱分解により金属酸化物となる金属化合物(B)を含むバインダー材料より形成された成分である)、かつ表面が凹凸形状を示す下地層を形成し、つぎに前記下地層の上に撥水層を形成することを特徴とする撥水性基体の製造方法。金属酸化物微粒子の凝集体(A):平均1次粒子径が10~80nmの金属酸化物微粒子が凝集してなる、平均凝集粒子径が100~1200nmの凝集体。

Description

撥水性基体およびその製造方法
 本発明は、撥水性基体およびその製造方法に関する。
 輸送機器用の窓ガラスは、降雨時に雨水が付着すると、運転者の視界を遮り、運転の支障になることがある。そこで、ガラス板の表面に撥水性を付与し、雨水が付着した場合に容易に除去されるようにすることが行われている。そして、近年は、撥水性をより高め、視認性を向上させる試みが種々提案されている。たとえば、特許文献1には、ガラス基体上にシリカ微粒子およびバインダーからなる低反射膜を形成し、さらにその表面に撥水性被膜を被覆することが記載されている。
特開2001-278637号公報
 しかし、特許文献1に記載された撥水性のガラス基体は、表面の初期の水接触角が125°であり、超撥水性を示すには不充分であった。なお、本願において超撥水性とは、初期の水接触角が135°以上であることをいう。
 本発明は、前記の課題を解決するためになされた発明であり、以下の発明を提供する。
 [1]基体の少なくとも片側表面に、下記金属酸化物微粒子の凝集体(A)および金属酸化物系バインダーとを含み(ただし、金属酸化物系バインダーは加水分解縮合反応または熱分解により金属酸化物となる金属化合物(B)を含むバインダー材料より形成された成分である)、かつ表面が凹凸形状を示す下地層を形成し、つぎに前記下地層の上に撥水層を形成することを特徴とする撥水性基体の製造方法。
 金属酸化物微粒子の凝集体(A):平均1次粒子径が10~80nmの金属酸化物微粒子が凝集してなる、平均凝集粒子径が100~1200nmの凝集体。
 [2]基体の少なくとも片側表面に、下記金属酸化物微粒子の凝集体(A)および金属酸化物系バインダーとを含み(ただし、金属酸化物系バインダーは加水分解縮合反応または熱分解により金属酸化物となる金属化合物(B)を含むバインダー材料より形成された成分である)、かつ表面が凹凸形状を示す下地層を備え、前記下地層の上に撥水層を備えることを特徴とする撥水性基体。金属酸化物微粒子の凝集体(A):平均1次粒子径が10~80nmの金属酸化物微粒子が凝集してなる、平均凝集粒径が100~1200nmの凝集体。
 [3]基体の少なくとも片側表面に、下記金属酸化物微粒子の凝集体(A)および加水分解縮合反応または熱分解により金属酸化物となる金属化合物(B)を含むバインダー材料と、分散媒とを含む分散液を塗布し乾燥することにより、凹凸形状の表面を有する下地層を形成し、つぎに前記下地層の上に疎水性材料を塗布して乾燥させることによって得られることを特徴とする撥水性基体。金属酸化物微粒子の凝集体(A):平均1次粒子径が10~80nmの金属酸化物微粒子が凝集してなる、平均凝集粒径が100~1200nmの凝集体。
 本発明の撥水性基体は、表面の水接触角が高く、かつ摩耗に対して接触角が高い状態を維持できる。
 本発明においては、下式(1)で表される化合物を化合物(1)とも記載する。他の式で表される化合物についても同様である。
 本発明の撥水性基体は、基体の少なくとも片側表面に、下記金属酸化物微粒子の凝集体(A)および金属酸化物系バインダーとを含み(ただし、金属酸化物系バインダーは加水分解縮合反応または熱分解により金属酸化物となる金属化合物(B)を含むバインダー材料より形成された成分である)、かつ表面が凹凸形状を示す下地層が形成され、つぎに前記下地層の上に撥水層が形成されてなる基体である。
 金属酸化物微粒子の凝集体(A):平均1次粒子径が10~80nmの金属酸化物微粒子が凝集してなる、平均凝集粒径が100~1200nmの凝集体。
 本発明における基体としては、ガラス、金属、セラミックス、樹脂またはこれらの組み合わせ(複合材料、積層材料等)からなる基体であることが好ましい。樹脂製基体の材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、トリアセチルセルロース等より選ばれる1種以上が挙げられる。基体は透明であっても不透明であってもよく、用途によって適宜選択すればよい。たとえば、本発明の撥水性基体を自動車等の輸送機器用の窓ガラスや建築用の窓ガラス、太陽電池用カバーに用いる場合は、透明なガラス板であることが好ましい。
 基体はその表面を酸化セリウム等の研磨剤で研磨したり、アルコール洗浄等により脱脂したりすることが好ましい。また、酸素プラズマ処理、コロナ放電処理、オゾン処理等を施してもよい。基体の形状は平板でもよく、全面または一部に曲率を有していてもよい。基体の表面は平坦でも凹凸形状を有していてもよい。基体の厚さは用途により適宜選択され、一般には1~10mmが好ましい。また、基体として、厚さがおおよそ25~500μmの樹脂製フィルムを用いてもよい。基体には、あらかじめ無機物及び/又は有機物からなる塗膜が形成されることで、ハードコート、アルカリバリア、着色、導電、帯電防止、光散乱、反射防止、集光、偏光、紫外線遮蔽、赤外線遮蔽、防汚、防曇、光触媒、抗菌、蛍光、蓄光、波長変換、屈折率制御、撥水、撥油、指紋除去、滑り性等より選ばれる1種以上の機能が付与されていてもよい。
 本発明の撥水性基体は、基体の両面に下地層と撥水層とを有していてもよく、基体の片面に下地層と撥水層とを有していてもよく、用途により適宜選択できる。たとえば、本発明の撥水性基体を自動車等の輸送機器用の窓ガラスや、建築用窓ガラスに使用する場合は、基体の片面に下地層と撥水層とを有するガラス板であることが好ましい。
 下地層を形成するために用いられる金属酸化物微粒子の凝集体(A)(以下、単に凝集体(A)とも記載する)は、平均1次粒子径が10~80nmの金属酸化物微粒子が凝集してなる、平均凝集粒子径が100~1200nmの凝集体である。なお、以下、凝集体(A)を構成する平均1次粒子径が10~80nmの金属酸化物微粒子を、金属酸化物微粒子(C)とも記載する。
 金属酸化物微粒子(C)の平均1次粒子径は10~80nmであり、15~60nmであることが好ましい。金属酸化物微粒子(C)の平均1次粒子径が前記の範囲であれば、粒子に由来する凹凸形状により膜の表面積が大きくなり撥水性が向上する利点がある。
 また、凝集体(A)の平均凝集粒子径は、100~1200nmであり、150~500nmであることが好ましい。平均凝集粒子径が100nm以上であれば、基体上に塗布された際に凝集粒子間に適切な空隙が形成されるため、水滴が付着した際に空気を巻き込み超撥水性が発現しやすい。平均凝集粒子径が1200nm以下であれば、磨耗後も凹凸形状が維持できる。
 なお、本発明における、金属酸化物微粒子(C)の平均1次粒子径の値は、金属酸化物微粒子(C)を透過型電子顕微鏡にて観察し、100個の粒子を無作為に選び出し、各金属酸化物微粒子(C)の粒子径を測定し、100個の金属酸化物微粒子(C)の粒子径を平均した値である。
 凝集体(A)を構成する金属酸化物微粒子(C)は、実質的に内部に空隙を持たない微粒子(中実微粒子)である場合と、内部に空隙を有する微粒子(中空微粒子)である場合がある。中実微粒子と中空微粒子のどちらを使用するかは、用途によって適宜選択すればよい。たとえば、本発明の撥水性基体を自動車等の車両用の窓または太陽電池用カバーとして使用する場合は、撥水性基体に透明性が求められる。よって、中空微粒子を使用することが好ましい。また、中実微粒子と中空微粒子とを併用することも可能である。
 金属酸化物微粒子の凝集体(A)は、SiO、Al、TiO、SnO、ZrO、およびCeOからなる群から選ばれる1種以上の金属酸化物を含む微粒子の凝集体であることが好ましく、SiOを含む微粒子の凝集体であることが特に好ましい。すなわち、金属酸化物微粒子(C)としては、SiO、Al、TiO、SnO、ZrO、およびCeOからなる群から選ばれる1種以上の金属酸化物を含む微粒子であることが好ましく、SiOを含む微粒子の凝集体であることが特に好ましい。
 なお、微粒子としては、有機物微粒子や金属酸化物微粒子以外の無機物微粒子を使用することもできるが、耐候性の点からは無機物の微粒子が好ましい。金属酸化物微粒子以外の無機物の微粒子としては、MgF等の金属フッ化物、ZnS等の金属硫化物、ZnSe等の金属セレン化物、Si等の金属窒化物等が挙げられるが、基材との密着性および化学的安定性を考慮するとやはり金属酸化物が好ましい。
 ここで、「金属酸化物を含む微粒子」について、SiOを含む微粒子を例にして説明する。SiOを含む微粒子としては、下記(i)~(iv)の場合がある。
 (i)金属酸化物微粒子が、実質的に内部に空隙を有さず、かつ実質的にSiOのみからなる微粒子である場合(すなわち、実質的にSiOのみからなる中実微粒子である場合)、
 (ii)金属酸化物微粒子が、実質的に内部に空隙を有さず、かつ、SiOを主成分とし、さらにSiO以外の金属酸化物を含む微粒子である場合(すなわち、SiOを主成分とし、さらにSiO以外の金属酸化物を含む中実微粒子である場合)、
 (iii)金属酸化物微粒子が、内部に空隙を有し、外殻(シェル)部分が実質的にSiOのみからなる微粒子である場合(すなわち、実質的にSiOからなる外殻を有する中空微粒子である場合)、
 (iv)金属酸化物微粒子が、内部に空隙を有し、外殻(シェル)部分がSiOを主成分とし、さらにSiO以外の金属酸化物を含む微粒子である場合(すなわち、外殻(シェル)部がSiOを主成分とし、さらにSiO以外の金属酸化物を含む中空微粒子である場合)。
 前記(ii)、(iv)の場合、SiO以外の金属酸化物としては、Al、TiO、SnO、ZrO、CeO、CuO、Cr、CoO、Fe、MnO、NiO、およびZnO等が挙げられる。SiOとSiO以外の金属酸化物とは、単に混合されている状態であってもよく、複合酸化物として存在してもよい。また、コアがSiO以外の金属酸化物(たとえばZnO)からなり、シェルがSiOからなるコア-シェル型の微粒子であってもよい。
 前記(iv)の場合において、中空微粒子に含まれるSiO以外の金属酸化物の量は、中空微粒子に含まれるSiOの100質量部に対して0.2~8.0質量部であり、0.5~5.0質量部が好ましい。他の金属の量(酸化物換算)が0.2質量部以上であれば、中空微粒子の強度が充分に高くなる。SiO以外の金属酸化物の量が8.0質量部以下であれば、中空微粒子の屈折率が低く抑えられる。
 SiO以外の金属酸化物の量とは、Alの場合Alに換算した量であり、Cuの場合CuOに換算した量であり、Ceの場合CeOに換算した量であり、Snの場合SnOに換算した量であり、Tiの場合TiOに換算した量であり、Crの場合Crに換算した量であり、Coの場合CoOに換算した量であり、Feの場合Feに換算した量であり、Mnの場合MnOに換算した量であり、Niの場合NiOに換算した量であり、Znの場合ZnOに換算した量である。
 本発明においては、金属酸化物微粒子(C)は、前記(i)~(iv)のいずれであってもよく、用途に応じて適宜選択すればよい。
 金属酸化物粒子(C)の形状は、球状、紡錐形状、棒状、無定型、円柱状、針状、扁平状、鱗片状、葉状、チューブ状、シート状、鎖状、および板状のいずれであってもよく、球状または棒状であることが好ましい。ここで、「球状」とは、アスペクト比が1~2のことを指す。
 また、金属酸化物微粒子(C)として中空微粒子を用いる場合、シェルの厚さは1~10nmが好ましく、2~5nmが特に好ましい。シェルの厚さが1nm以上であれば、充分な強度を有する下地層が得られる。シェルの厚さが10nm以下であれば、粒子の屈折率が低く抑えられ、透明性の高い下地層を形成できる。
 シェルの厚さは、金属酸化物微粒子(C)を透過型電子顕微鏡にて観察し、100個の粒子を無作為に選び出し、各金属酸化物微粒子(C)のシェルの厚さを測定し、100個の金属酸化物微粒子(C)のシェルの厚さを平均した値である。
 本発明における凝集体(A)の製造方法は特に限定されず、以下の方法を採用できる。
 方法(1):所望の平均1次粒子径を有する金属酸化物微粒子を凝集させ、所望の凝集粒子径を有する凝集体(A)を得る方法。
 方法(2):所望の平均1次粒子径を有する金属酸化物微粒子から得られる凝集体を邂逅して、所望の凝集粒子径を有する凝集体(A)を得る方法。
 方法(1)および方法(2)は、中実微粒子、中空微粒子の別なく採用できる。
 方法(1)は、所望の平均1次粒子径を有する金属酸化物微粒子が分散した分散液に、表面電荷を低下させる、または粒子同士を結合させることが可能な物質を添加し、場合によっては加熱熟成することによって実施できる。そして、添加剤の量、加熱温度、加熱時間を調整することによって、凝集体の凝集粒子径を調節できる。通常、加熱温度は30~500℃であり、加熱時間は1分間~12時間である。添加剤としては、イオン交換樹脂、硝酸カルシウム、ポリアルミン酸ナトリウム等の表面電荷制御剤、珪酸ナトリウム、テトラエトキシシラン等の粒子結合剤が使用できる。添加剤の量は、金属酸化物微粒子の固形分に対して10質量%以下とすることが好ましい。
 方法(2)としては、以下の方法が好ましい。
 方法(2-1):所望の平均1次粒子径を有する金属酸化物微粒子および/または前記金属酸化物微粒子が凝集してなる凝集体が分散媒に分散した分散液を準備し、前記分散媒を除去して得られる固形分を、ボールミル、ビーズミル、サンドミル、ホモミキサー、ペイントシェーカー等によって邂逅する手法。
 方法(2-2):SiO等の金属酸化物からなるシェルを有するコア-シェル型微粒子凝集体(クラスタ)を製造し、ついで邂逅する方法。
 凝集体(A)が中空微粒子が凝集してなる凝集体である場合は、さらにコア微粒子を除去する工程を行う。コア微粒子の除去工程は、邂逅工程の前後のいずれで行ってもよい。なお、コア-シェル型微粒子を用い中空微粒子が凝集してなる凝集体(A)を得る場合は、本出願人による特開2006-335881号、特開2006-335605号等を参考に実施できる。
 方法(2-1)において、分散媒の除去は、以下の手法によることができる。
 (a)金属酸化物微粒子の分散液を加熱して、分散媒を揮発させる方法。
 (b)金属酸化物微粒子の分散液を固液分離して、固形分を得る方法。
 (c)スプレードライヤーを用い、加熱されたガス中に金属酸化物微粒子の分散液を噴霧して分散媒等を揮発させる方法(スプレードライ法)。
 (d)金属酸化物微粒子の分散液を冷却し減圧することで、分散媒等を昇華させる方法(凍結乾燥法)。
 方法(2-2)において、コア微粒子の形状は特に限定されない。たとえば、球状、紡錐形状、棒状、無定型、円柱状、針状、扁平状、鱗片状、葉状、チューブ状、シート状、鎖状、または板状の粒子を使用できる。形状の異なる粒子を併用してもよい。また、コア微粒子が単分散であると、凝集体粒子が得られにくいことがあるため、コア微粒子が2~10個集合した集合体を用いることが好ましい。
 コア微粒子としては、特に限定されず、通常コア-シェル型微粒子の調製に用いられる材料からなる微粒子であればよい。たとえば中空微粒子の凝集体を得る場合は、コア微粒子として、熱、酸、または光によって溶解(または分解、昇華)するものが好ましく使用される。たとえば、界面活性剤ミセル、水溶性有機重合体、スチレン樹脂、アクリル樹脂等の熱分解性有機重合体微粒子;アルミン酸ナトリウム、炭酸カルシウム、塩基性炭酸亜鉛、酸化亜鉛等の酸溶解性無機微粒子;硫化亜鉛、硫化カドミウム等の金属カルコゲナイド半導体および酸化亜鉛等の光溶解性無機微粒子等より選ばれる少なくとも1種を使用できる。
 さらに、後述するようなマイクロ波を照射することによりシェルを形成する手法においては、コア微粒子は誘電率が10以上(好ましくは10~200)の材料からなる粒子であることが好ましい。コア微粒子の材料の誘電率が10以上であれば、マイクロ波を吸収しやすくなるため、マイクロ波によってコア粒子を選択的に、かつ高温(100℃以上)に加熱できる。誘電率は、ネットワークアナライザを用いて、ブリッジ回路によって試料に電場を印加し、反射係数と位相を測定した値から算出することができる。
 誘電率が10以上の材料としては、酸化亜鉛、酸化チタン、ITO(Indium tin oxide)、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、硫化亜鉛、ガリウム砒素、酸化鉄、酸化カドミウム、酸化銅、酸化ビスマス、酸化タングステン、酸化セリウム、酸化スズ、金、銀、銅、白金、パラジウム、ルテニウム、鉄白金、カーボン等が挙げられる。これらのうち、コア粒子としては、酸化亜鉛、酸化チタン、ITO、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、硫化亜鉛、酸化セリウム、または酸化スズを用いた場合、透明性の高い膜が得られるため好ましい。
 コア微粒子の平均1次粒子径は5~75nmであることが好ましく、5~70nmであることが特に好ましい。コア微粒子の平均1次粒子径が5nm以上であれば、得られるコア-シェル型微粒子凝集体を用いた下地層付き基体は、平坦な基材と比較して粒子由来の凹凸により膜の表面積が大きくなり撥水性が向上する。コア微粒子の平均1次粒子径が75nm以下であれば、得られるコア-シェル型微粒子凝集体を用いた下地層の表面積が十分大きく超撥水性を発現し易い。また、コア粒子凝集体の平均凝集粒子径は100~1200nmが好ましく、150~500nmが特に好ましい。平均凝集粒子径が100nm以上であれば、基材上に塗布された際に凝集粒子間に空隙が形成されるため、水滴を落とした再に空気を巻き込み超撥水性が発現し易い。平均凝集粒子径が1200nm以下であれば、磨耗後も凹凸形状が維持できる。
 コア微粒子を分散媒体に分散させるには、種々の方法を採用できる。たとえば、媒体中でコア微粒子を調製する方法;コア微粒子粉末に、後述するような分散媒体および分散剤を加えてボールミル、ビーズミル、サンドミル、ホモミキサー、ペイントシェーカー等の分散機で解膠する方法;が挙げられる。かくして得られたコア微粒子分散液の固形分濃度は、50質量%以下であることが好ましい。固形分濃度が50質量%を超えると分散液の安定性が低下するおそれがある。
 つぎに、前記コア微粒子の集合体の周囲をSiO等の金属酸化物で被覆し、コア-シェル型微粒子の凝集体を得る。具体的には、コア微粒子集合体の存在下に金属酸化物(SiO2等)の前駆物質を反応させて、該コア微粒子集合体の表面に金属酸化物(SiO2等)を析出させて外殻を形成することにより得られる。
 コア-シェル型微粒子を製造する方法は、気相法であっても液相法であってもよい。気相法による方法では、コア微粒子の原料と、たとえば金属Si等のSiO2原料とにプラズマを照射することによってコア-シェル型微粒子を製造できる。
 一方、液相法による方法では、まず、コア微粒子集合体を分散媒に分散させた分散液に、SiO等の金属酸化物の前駆物質、必要に応じて水、有機溶媒、酸、アルカリ、硬化触媒等を添加して原料液を調製する。つぎに、原料液を加熱するとともに、SiO2等の金属酸化物の前駆物質を加水分解して、コア微粒子集合体の表面にSiO等の金属酸化物を析出させ、シェルを形成し、コア-シェル微粒子凝集体を得る。
 前記コア微粒子集合体を分散媒に分散させた分散液中のコア微粒子の濃度は、分散液に対して、0.1~40質量%が好ましく、0.5~20質量%がより好ましい。コア微粒子の濃度が前記の範囲であれば、分散液の安定性が良好であり、コア-シェル粒子の製造効率が良好となる。
 金属酸化物前駆体の量は、シェルの厚さが1~10nmとなる量が好ましく、シェルの厚さが2~5nmとなる量がより好ましい。金属酸化物前駆体の量(金属酸化物換算)は、具体的には、コア微粒子100質量部に対して、3~1000質量部が好ましい。
 アルカリとしては、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、アンモニア、炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウム、ジメチルアミン、トリエチルアミン、アニリン等が挙げられ、加温により除去可能な点から、アンモニアが好ましい。アルカリの量は、金属酸化物前駆体が三次元的に重合して緻密なシェルを形成しやすい点から、原料液のpHが8.5~10.5となる量が好ましく、9.0~10.0となる量が好ましい。
 酸としては、塩酸、硝酸等が挙げられる。なお、酸化亜鉛粒子は酸に溶解するため、コア粒子として酸化亜鉛粒子を用いる場合、金属酸化物前駆体の加水分解はアルカリによって行うことが好ましい。酸の量は、原料液のpHが3.5~5.5となる量が好ましい。
 硬化触媒としては、金属キレート化合物、有機スズ化合物、金属アルコレート、金属脂肪酸塩等が挙げられ、シェルの強度の点から、金属キレート化合物、または有機スズ化合物が好ましく、金属キレート化合物が特に好ましい。金属キレート化合物を添加すると、鎖状中実微粒子が副生し、中空微粒子同士が鎖状中実微粒子で連結した構造を形成しやすい。
 金属キレートとしては、アルミニウムキレート化合物(アルミニウムアセチルアセトナート、アルミニウムビスエチルアセトアセテートモノアセチルアセトナート、アルミニウム-ジ-n-ブトキシド-モノエチルアセトアセテート、アルミニウム-ジ-イソプロポキシド-モノメチルアセトアセテート、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート等。)、チタンキレート化合物(チタンアセチルアセトナート、チタンテトラアセチルアセトナート等。)、銅キレート化合物(銅アセチルアセトナート等。)、セリウムキレート化合物(セリウムアセチルアセトナート等。)、クロムキレート化合物(クロムアセチルアセトナート等。)、コバルトキレート化合物(コバルトアセチルアセトナート等。)、スズキレート化合物(スズアセチルアセトナート等。)、鉄キレート化合物(鉄(III)アセチルアセトナート等。)、マンガンキレート化合物(マンガンアセチルアセトナート等。)、ニッケルキレート化合物(ニッケルアセチルアセトナート等。)、亜鉛キレート化合物(亜鉛アセチルアセトナート等。)、ジルコニウムキレート化合物(ジルコニウムアセチルアセトナート等。)等が挙げられる。中空微粒子の強度の点から、金属アセチルアセトナートが好ましい。
 硬化触媒の量(金属酸化物換算)は、金属酸化物前駆体の量(金属酸化物換算)の100質量部に対して0.1~20.0質量部が好ましく、0.2~8.0質量部がより好ましい。
 金属酸化物がSiO2である場合、SiO2の前駆物質としては、ケイ酸、ケイ酸塩、およびケイ酸アルコキシドより選ばれる1種以上の化合物が挙げられる。これらの化合物は、1個以上の水酸基または加水分解性基(ハロゲン原子、アルコキシ基等)がケイ素原子に結合した化合物である。これらの前駆物質は異なる種類の化合物を併用してもよい。また、これらの前駆物質は部分加水分解縮合物であってもよい。
 ケイ酸としては、アルカリ金属ケイ酸塩を酸で分解した後、透析する方法;アルカリ金属ケイ酸塩を解膠する方法;アルカリ金属ケイ酸塩を酸型のカチオン交換樹脂と接触させる方法等によって得られるケイ酸が挙げられる。
 ケイ酸塩としては、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム等のアルカリケイ酸塩;ケイ酸テトラエチルアンモニウム塩等のケイ酸アンモニウム塩;ケイ酸のアミン類(エタノールアミン等)の塩等が挙げられる。
 ケイ酸アルコキシドとしては、ケイ酸エチル等の、ケイ素原子に4個のアルコキシ基が結合した化合物が挙げられる。この他、ケイ素原子に1~3個の有機基が結合したケイ酸アルコキシドであってもよい。該有機基としては、ビニル基、エポキシ基、アミノ基等の官能基を含む1価有機基;ペルフルオロアルキル基やエーテル性酸素原子を含むペルフルオロアルキル基等の含フッ素1価有機基等;が挙げられる。
 これらの有機基が結合したケイ素原子を有するケイ酸アルコキシドとしては、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、ペルフルオロエチルトリエトキシシラン等が挙げられる。
 コア-シェル型微粒子分散液を製造する際、コア微粒子凝集体を分散させ、かつ、SiO2等の金属酸化物の前駆物質の加水分解反応が行われる分散媒体としては、たとえば以下に示す媒体が挙げられる。
 水、アルコール類(メタノール、エタノール、イソプロパノール等)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン等)、エーテル類(テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン等)、エステル類(酢酸エチル、酢酸メチル等)、グリコールエーテル類(エチレングリコールモノアルキルエーテル等)、含窒素化合物類(N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジメチルホルムアミド等)、含硫黄化合物類(ジメチルスルホキシド等。)等。
 コア微粒子の分散媒体としては、水を含有することは必須ではないが、つぎの金属酸化物前駆物質の加水分解縮合工程にそのまま使用する場合は、分散媒体は、水単独または水と前記有機溶媒との混合媒体が好ましい。前記有機溶媒としては、少なくとも水に部分的に溶解しうるか、好ましくは水を部分的に溶解しうる有機溶媒であり、もっとも好ましくは水に混和しうる有機溶媒である。
 分散媒が水と前記有機溶媒との混合媒体である場合、該混合媒体は全媒体に対して少なくとも5質量%以上の水を含むことが好ましい。水の含有量が5質量%未満であると反応が充分進行しないおそれがある。なお、分散媒体中のSiO2前駆物質中のケイ素原子に結合した水酸基または加水分解性基に対して、少なくとも化学量論以上の水を系内に存在させることが必要である。
 また、コア-シェル型微粒子分散液を製造する際の、反応液の固形分濃度(コア粒子とシェル前駆物質(金属酸化物換算)の合計)は、0.1質量%以上、30質量%以下の範囲であることが好ましく、1質量%以上、20質量%以下の範囲であることが特に好ましい。固形分濃度が30質量%を超えると微粒子分散液の安定性が低下するため、好ましくなく、0.1質量%未満では、得られる中空SiO2凝集体の生産性が非常に低くなり、好ましくない。
 また、コア-シェル型微粒子分散液を製造する際に、反応液のイオン強度を高めてSiO2等の前駆物質からシェルを形成しやすくするために、塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化マグネシウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム、硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、アンモニア、水酸化ナトリウム等の電解質を添加してもよい。また、これらの電解質を用いて反応液のpHを調整することができる。
 原料液の加熱は、通常の加熱によるほか、マイクロ波の照射によることもできる。マイクロ波とは、通常、周波数が300MHz~300GHzの電磁波を指す。通常は、周波数が2.45GHzのマイクロ波が用いられるが非加熱物が有効に加熱される周波数を選択すればよく、これに限定されるものではない。電波法により、ISMバンドと呼ばれる通信以外の目的で電波を利用する用途のために周波数帯が定められており、例えば433.92(±0.87)MHz、896(±10)MHz、915(±13)MHz、2375(±50)MHz、2450(±50)MHz、5800(±75)MHz、24125(±125)MHz等のマイクロ波を用いることができる。
 マイクロ波の出力は、原料液が30~500℃に加熱される出力が好ましく、原料液が50~300℃に加熱される出力がより好ましい。原料液の温度が30℃以上であれば、緻密なシェルを短時間で形成できる。原料液の温度が500℃以下であれば、コア微粒子表面以外で析出する金属酸化物の量が抑えられる。
 マイクロ波の照射時間は、マイクロ波の出力(原料液の温度)に応じて、所望の厚さのシェルが形成される時間に調整すればよく、たとえば、10秒間~60分間である。
 前記のように、誘電率が10以上の材料からなるコア微粒子と金属酸化物前駆体とを含む原料液にマイクロ波を照射する方法では、コア微粒子を選択的に、かつ高温(たとえば100℃以上)に加熱できる。そのため、原料液全体が高温(たとえば100℃以上)になったとしても、コア微粒子がさらに高温に加熱されているため、金属酸化物前駆体の加水分解がコア粒子の表面にて優先的に進行し、コア微粒子の表面に金属酸化物が選択的に析出する。よって、コア微粒子の表面以外に単独で析出するシェル形成材料(金属酸化物)からなる粒子の量が抑えられる。また、シェルを高温条件にて形成できるため、シェルが短時間で形成される。さらに、シェルがより緻密になり、得られる撥水性基体の耐磨耗性が向上するため好ましい。
 つぎに、得られたコア-シェル型微粒子の凝集体を邂逅し、所望の凝集粒子径を有する凝集体(A)を得る。邂逅の方法は、前記方法(2)と同様の方法を採用できる。
 凝集体(A)が中空微粒子の凝集体である場合は、さらにコア粒子を溶解させる工程を行う。コア粒子溶解の工程は、邂逅工程の前後いずれで行ってもよい。
 コア粒子の除去は、コア-シェル型微粒子のコア微粒子を溶解または分解させることによって行うことができる。コア-シェル型微粒子のコア微粒子を溶解、または分解させる方法としては、熱による分解、酸による分解、光による分解から選ばれる1種または2種以上の方法が挙げられる。
 コア微粒子が熱分解性有機樹脂の場合、気相もしくは液相中で加熱することによってコア微粒子を除去できる。加熱温度は200~1000℃の範囲とすることが好ましい。200℃未満ではコア微粒子が残存するおそれがあり、1000℃を超えるとSiO2が溶融するおそれがあるため好ましくない。
 コア微粒子が酸溶解性無機化合物の場合、気相もしくは液相中で酸もしくは酸性カチオン交換樹脂を加えることによってコア微粒子を除去できる。
 酸によってコア粒子を溶解して除去する場合、酸としては、無機酸であっても、有機酸であってもよい。無機酸としては、塩酸、硫酸、硝酸等があげられる。有機酸としては、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、シュウ酸等が挙げられる。この場合、コア粒子が溶解して発生したイオンを限外ろ過によって除去すればよい。
 また、液状の酸または酸溶液の代わりに、酸性カチオン交換樹脂を用いることも好ましい。酸性カチオン交換樹脂としては、カルボン酸基を有するポリアクリル樹脂系またはポリメタクリル樹脂系のものが好ましく、より強酸性であるスルホン酸基を有するポリスチレン系のものが特に好ましい。この場合、コア粒子が溶解した後に、ろ過等の固液分離操作によりカチオン交換樹脂を分離し、中空状SiO2微粒子分散液を得る。酸を加えてコア微粒子を溶解する方法では、コアが溶解して発生したイオンの限外ろ過による除去に長時間を要するため、酸性カチオン交換樹脂を用いて、コア微粒子を溶解することが好ましい。
 また、コア微粒子が光溶解性無機化合物の場合、気相もしくは液相中で光を照射することによってコア微粒子を除去することもできる。光としては、波長380nm以下の紫外線が好ましい。
 凝集体(A)としては、前記方法(2-2)によって得られる、中空状微粒子が凝集してなる凝集体(A)が好ましい。さらに、該凝集体(A)は、コア-シェル微粒子凝集体を調製する際、マイクロ波を照射することによって得られる凝集体(A)であることが特に好ましい。また、コア粒子としては酸化亜鉛を用いることが好ましい。酸化亜鉛をコア粒子として用いてマイクロ波で加熱した場合、コア粒子が選択的に加熱されることで緻密なシェルが形成できるため、得られる下地層の強度が高まり好ましい。
 超撥水性を発現させるには比較的大きな凹凸が必要であるため、凝集粒子を用いることが好ましい。しかし、光の散乱強度は粒子径が大きいほど大きくなるため、透明性が損なわれやすくなる。一方で、光の散乱強度は粒子の屈折率にも依存し、空気(屈折率は1)との屈折率差が小さいほど小さくなる。従って、凝集体(A)の屈折率は1.4以下であることが好ましく、1.05~1.35であることが特に好ましい。凝集体の屈折率が1.05以上であれば、下地層の強度が十分に確保される。凝集体の屈折率が1.35以下であれば、高い透明性を有する下地層が得られる。このように、凝集体(A)の屈折率を調整することによって、撥水性および透明性にも優れる撥水性基体を得ることができる。
 本発明においては、中空状微粒子が凝集してなる凝集体(A)は、その屈折率が1.1~1.3程度である。よって、この凝集体(A)を用いて得られる撥水性基体は、良好な透明性を示し、充分な視野を確保でき、さらには優れた反射防止性能を示すので好ましい。よって、自動車等の車両窓または太陽電池用カバーに特に好適である。
 なお、本発明において、凝集体(A)の屈折率とは、凝集体を構成している個々の材料の屈折率を指すのではなく、凝集体全体としての屈折率を指す。凝集体全体としての屈折率は、分光光度計により測定した最低反射率から算出した。下地層がバインダーを含む場合には、バインダーとともに膜とした状態で分光光度計により測定した最低反射率より膜の屈折率を算出し、凝集体とバインダーとの重量比率より換算することにより算出される。
 下地層は、前記凝集体(A)の他に、金属酸化物系バインダーを含む。金属酸化物系バインダーは加水分解縮合反応または熱分解により金属酸化物となる金属化合物(B)(以下、単に「金属化合物(B)」とも記載する)を含むバインダー材料より形成された成分である。金属化合物(B)としては、加水分解性基が結合した加水分解性金属化合物、該加水分解性金属化合物の部分加水分解縮合物、または配位子が配位した金属配位化合物であることが好ましい。加水分解性金属化合物は加水分解縮合反応により金属酸化物となり、金属配位化合物は熱分解して金属酸化物となる。金属原子としては、ケイ素原子、アルミニウム原子、チタン原子、スズ原子、およびセリウム原子からなる群から選ばれる1種以上の金属原子であることが好ましく、ケイ素原子であることが特に好ましい。
 加水分解性基としては、アルコキシ基、イソシアネート基、およびハロゲン原子等が挙げられ、アルコキシ基が好ましい。アルコキシ基は、加水分解反応および縮合反応の進行が緩やかである。また、加水分解性基としてアルコキシ基を有する加水分解縮合性の金属化合物(B)は、凝集することなく分散し、凝集体(A)のバインダーとして充分に機能できる利点がある。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、およびイソプロポキシ基が挙げられる。配位子としては、アセチルアセテート、アセチルアセトナート、エチルアセトアセテート、ラクテート、およびオクチレングリコレート等が挙げられる。
 金属化合物(B)においては、金属原子に少なくとも2個の加水分解性基が結合していること、または、金属原子に少なくとも2個の配位子が配位していることが好ましい。少なくとも2個の加水分解性基が結合(または配位)していると、該金属化合物(B)が金属酸化物系バインダーに変換される際に、強固なバインダーとなる。
 加水分解縮合性の金属化合物(B)における金属原子には、加水分解性基以外の基が結合していてもよい。加水分解性基以外の基としては、1価有機基が挙げられる。1価有機基としては、アルキル基;フッ素原子、塩素原子、エポキシ基、アミノ基、アシルオキシ基、およびメルカプト基等の官能基を有するアルキル基;アルケニル基;等が挙げられ、具体的には、後述するR、R、R、Rと同様の基が好ましい。
 加水分解縮合性の金属化合物(B)としては、加水分解性基が結合したケイ素原子を有する加水分解性ケイ素化合物または該ケイ素化合物の部分加水分解縮合物であることが好ましく、具体的には、下記化合物(B-1)、下記化合物(B-2)、下記化合物(B-3)および下記化合物(B-4)からなる群から選ばれる少なくとも1種の加水分解性ケイ素化合物、または、該加水分解性ケイ素化合物の部分加水分解縮合物であることが好ましい。
  R-Si(R)(X(3-m)・・・(B-1)
  R-Si(R)(X(3-k)・・・(B-2)
  R-Si(R)(X(3-n)・・・(B-3)
  Si(X・・・(B-4)
 ただし、式中の記号は以下の意味を示す。
  R:炭素数1~20のアルキル基、または、炭素数2~6のアルケニル基。
  R:炭素数1~20のポリフルオロアルキル基。
  R:エポキシ基、アミノ基、アシルオキシ基、メルカプト基および塩素原子からなる群から選ばれた官能基を有する炭素数10以下の有機基。
  R:炭素数6以下のアルキル基または炭素数2~6のアルケニル基。
  X、X、X、X:それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数1~6のアシルオキシ基、またはイソシアネート基。
  k、m、n:それぞれ独立に0または1。
 Rが炭素数1~20のアルキル基である場合、メチル基、エチル基、イソプロピル基、t-ブチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、n-ノニル基、およびn-デシル基が挙げられ、メチル基、エチル基、またはイソプロピル基が好ましい。Rが炭素数2~6のアルケニル基である場合、直鎖アルケニル基であることが好ましく、炭素数は2~4であることが好ましい。具体的には、ビニル基、アリル基、ブテニル基等が挙げられ、ビニル基またはアリル基が好ましい。
 Rは、対応する炭素数1~20のアルキル基中の炭素原子に結合する水素原子のうちの2個以上がフッ素原子に置換された基であり、全部の水素原子がフッ素原子に置換されたペルフルオロアルキル基が特に好ましい。Rとしては、さらに、下式(3)で表される基も好ましい。また、これらの基の炭素数は1~10が好ましい。
 F(CF(CH-   (3)
  ただし式中のpは1~8の整数、qは2~4の整数であり、p+qは2~12であり、6~11が好ましい。pとしては4~8の整数が好ましい。qとしては2または3が好ましい。
 ペルフルオロアルキル基としては、CF-、F(CF-、F(CF-、またはF(CF-が好ましい。式(3)で表される基としては、F(CF(CH-、F(CF(CH-、F(CF(CH-、F(CF(CH-、F(CF(CH-、またはF(CF(CH-が好ましい。
 加水分解性基であるX、X、X、Xがハロゲン原子である場合は、塩素原子であることが好ましい。また炭素数1~6のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、またはイソプロポキシ基であることが好ましく、炭素数1~6のアシルオキシ基である場合は、アセチルオキシ基、またはプロピオニルオキシ基が好ましい。X、Xとしては、それぞれ独立に塩素原子、前記アルコキシ基、または、イソシアネート基が好ましい。
 Rは、エポキシ基、アミノ基、アシルオキシ基、メルカプト基および塩素原子からなる群から選ばれた官能基を有する炭素数10以下の有機基である。前記官能基としては、エポキシ基、アミノ基、またはアシルオキシ基が好ましい。また、官能基がアシルオキシ基である場合、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、またはブチリルオキシ基が好ましい。なお、ここでの「炭素数10以下」とは、前記官能基に含まれる炭素原子の数は含まない。
 k、m、nはそれぞれ独立に0または1である。k、m、nはそれぞれ、0であることが好ましい。k、m、nがそれぞれ0であると、加水分解性の金属化合物(B-1)~(B-4)は加水分解性基を3個有することとなり、金属化合物同士が、または金属化合物と内部層表面とが強固に結合できて好ましい。
 化合物(B-1)としては、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、エテニルジメトキシシラン、プロペニルジメトキシシラン、n-ヘプチルトリメトキシシラン、n-ヘプチルトリエトキシシラン、n-オクチルトリメトキシシラン、およびn-オクチルトリエトキシシラン等が挙げられる。
 化合物(B-2)としては、(3,3,3-トリフルオロプロピル)トリメトキシシラン、(3,3,3-トリフルオロプロピル)メチルジメトキシシラン、(3,3,3-トリフルオロメチル)トリメトキシシラン、(3,3,3-トリフルオロメチル)メチルジメトキシシラン、3-(ヘプタフルオロエチル)プロピルトリメトキシシラン、3-(ノナフルオロヘキシル)プロピルトリメトキシシラン、3-(ノナフルオロヘキシル)プロピルトリエトキシシラン、3-(トリデカフルオロオクチル)プロピルトリメトキシシラン、3-(トリデカフルオロオクチル)プロピルトリエトキシシラン、および3-(ヘプタデカフルオロデシル)プロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
 化合物(B-3)としては、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-(2-アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、およびアセトキシメチルトリメトキシシラン等が挙げられる。
 化合物(B-4)としては、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトライソシアネートシラン、およびテトラクロロシラン等が挙げられる。
 前記化合物(B-1)~(B-4)のうち、化合物(B-4)または該化合物(B-4)の部分加水分解縮合物が好ましく、より具体的には、テトラエトキシシラン、テトラエトキシシランの部分加水分解縮合物、テトラメトキシシラン、またはテトラメトキシシランの部分加水分解縮合物が好ましい。
 その他に、加水分解性基を有する金属化合物(B)としては、テトライソプロポキシチタニウム、テトラブトキシチタニウム、トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム、またはテトラプロポキシジルコニウムも好適に使用できる。
 金属化合物(B)が金属配位化合物である場合、該化合物としては、アルミニウムトリス(アセチルアセテート)、アルミニウム(エチルアセトアセテート)ジイソプロポキシド、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、チタニウムビス(アセチルアセテート)ジイソプロポキシド、チタニウムテトラ(アセチルアセテート)、チタニウムビス(オクチレングリコレート)ジブトキシド、チタニウムビス(ラクテート)ジヒドロキシド、チタニウムビス(トリエタノールアミノレート)、チタニウムビス(エチルアセトアセテート)ジイソプロポキシド、ポリヒドロキシチタンステアレート、ジルコニウム(テトラアセチルアセテート)、ジルコニウム(アセチルアセテート)トリブトキシド、ジルコニウムビス(アセチルアセテート)ジブトキシド、ジルコニウム(アセチルアセテート)(エチルアセトアセテート)ジブトキシド等が挙げられ、アルミニウムトリス(アセチルアセテート)が好ましい。
 また、金属化合物(B)がフッ素原子を含む化合物であると、耐薬品性や対摩耗性などの耐久性が高い利点がある。
 下地層は、前記金属酸化物微粒子の凝集体(A)と前記バインダー材料と分散媒とを含む分散液(以下、分散液(1)とも記載する)を基体の少なくとも片側表面に塗布し、乾燥することにより形成されることが好ましい。
 分散液(1)における分散媒は、前記凝集体(A)の製造において使用した媒体をそのまま使用することが好ましい。たとえば、方法(2-2)においては、金属酸化物前駆体等の加水分解縮合工程において使用した溶媒をそのまま使用することが好ましい。すなわち、水のほか、アルコール類、ケトン類、エステル類、エーテル類、グリコールエーテル類、含窒素化合物類、含硫黄化合物類等の有機溶媒を用いることができる。ただし、所望により、当該溶媒から例えば水を共沸蒸留等の手段で除去して実質的に有機溶媒のみとしたり、逆に、有機溶媒を除き、水または水系溶媒とすることもできる。
 分散液(1)に含まれる凝集体(A)の濃度は、分散液に対して0.1~5質量%であることが好ましく、0.5~3質量%であることが特に好ましい。この理由は、得られる下地層が適切な凹凸形状を有することにより超撥水性が発現しやすくなるためである。
 分散液に含まれる凝集体(A)と金属化合物(B)との総量は、分散液(1)に対して0.1~10質量%が好ましく、0.5~10質量%であることが特に好ましく、1~5質量%が特に好ましい。固形分濃度が0.5質量%以上の場合、超撥水性を発現するのに十分な厚さの下地層を形成できる。固形分濃度が10質量%以下の場合、下地層の厚さが大きくなりすぎず透明性を確保できる。
 また、分散液(1)に含まれる凝集体(A)と金属化合物(B)との割合は、酸化物換算の質量比で、凝集体(A)/金属化合物(B)=4/6~9/1であることが好ましい。凝集体(A)/金属化合物(B)が4/6以上の場合、膜の凹凸が十分であり超撥水性を発現することができる。凝集体(A)/金属化合物(B)が9/1以下の場合、膜の強度が十分に確保される。
 分散液(1)は、分散剤、レベリング剤、紫外線吸収剤、粘度調整剤、酸化防止剤、界面活性剤等の添加剤を含んでいてもよい。分散剤としては、アセチルアセトンおよびポリビニルアルコール等が挙げられ、アセチルアセトンが好ましい。また、種々の顔料、例えばチタニア、ジルコニア、鉛白、ベンガラ等を配合することも可能である。これら添加剤の量は、分散液(1)に含まれる固形分の合計に対して10質量%以下であることが好ましい。
 分散液(1)を基体表面に塗布する方法としては、ローラーコート、フレキソコート、バーコート、ダイコート、グラビアコート、ロールコート、フローコート、スプレーコート、オンラインスプレーコート、超音波スプレーコート、インクジェット、ディップコート等の公知の方法が挙げられる。オンラインスプレーコートとは、基材を成型するライン上でそのままスプレー塗布する方法であり、基板を再加熱する工程が省けるため、物品を低コストで製造でき、有用である。分散液(1)は、固形分濃度にもよるが、分散媒を含んだ時点(ウェットの状態)で500~20000nmの厚さ(好ましくは1000~10000nmの厚さ)になるように塗布されることが好ましい。
 分散媒の除去は、分散液(1)を基体に塗布した後、室温(20℃程度)~700℃で乾燥することによって実施することが好ましい。分散媒を除去することにより、金属酸化物微粒子の凝集体(A)と金属化合物(B)とを含む層が基体表面に形成される。そして、分散媒の乾燥の過程において、金属化合物(B)が金属系バインダーに変換され、下地層が形成される。下地層の形成に際しては、室温~700℃の温度で乾燥することで充分であるが、塗膜の機械的強度を高める等の目的で、必要に応じてさらに加熱してもよい。
 このようにして形成される下地層の厚さ(乾燥後の厚さ)は、おおよそ100~1500nmであり、120~1000nmが好ましく、150~800nmが特に好ましい。膜厚が100nm以上の場合、膜の上に水滴を垂らした際に下地層表面と水滴の間に部分的に空気の層が生成して超撥水性を発現する。膜厚が1500nm以下の場合、十分な透明性を確保できる。なお、下地層の厚さは、下地層付き基体の断面を走査型電子顕微鏡によって観察した際の、基体表面と基体から最も遠い凸部頂点までの距離の平均値と定義する。また、下地層の表面は凹凸形状を有している。その形状は、おおよそ平均面粗さ(Ra)が60~300nmである。
 つぎに、下地層付き基体の下地層の上に撥水層を形成する。下地層の表面の凹凸形状を反映して、撥水層の表面も凹凸形状を有する。
 撥水層を形成するための撥水剤は特に制限されず、種々の撥水剤が利用でき、シリコーン系撥水剤や疎水性有機ケイ素化合物からなる撥水剤が好ましく使用できる。
 シリコーン系撥水剤としては、線状のシリコーン樹脂が好ましい。具体的には、線状のジアルキルポリシロキサン類およびアルキルポリシロキサン類が使用できる。これらは末端に水酸基を有していてもよく、末端がアルキル基やアルケニル基で封止されていてもよい。具体的には、両末端に水酸基を有するジメチルポリシロキサン、両末端がビニル基等で封止されたジメチルポリシロキサン、メチルハイドロジェンポリシロキサン、アルコキシ変性ジメチルポシロキシサン、およびフルオロアルキル変性ジメチルシリコーン等が挙げられ、アルコキシ変性ジメチルポシロキシサンが好ましい。
 これらのシリコーン系撥水剤を使うと、撥水性物品の表面の摩擦が小さくなり、凹凸の形状保持に有効である。
 疎水性有機ケイ素化合物としては、疎水性有機基(ただし、ケイ素原子と炭素-ケイ素結合で結合)と加水分解性基が結合したケイ素原子を有する化合物であることが好ましい。
 疎水性有機基としては、1価の疎水性有機基が好ましい。具体的には1価炭化水素基および1価含フッ素炭化水素基が好ましい。1価炭化水素基としては炭素数1~20のアルキル基が好ましく、炭素数4~10の直鎖アルキル基が特に好ましい。具体的にはn-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、およびn-オクチル基が挙げられ、n-ヘプチル基、またはn-オクチル基が好ましい。その他に、炭素数3~10のシクロアルキル基も好ましく、具体的にはシクロヘキシル基が好ましい。
 1価含フッ素炭化水素基としては、前記1価炭化水素基に含まれる水素原子の1個以上がフッ素原子に置換された基であり、ポリフルオロアルキル基が好ましい。
 加水分解性基としては、アルコキシ基、イソシアネート基、アシルオキシ基およびハロゲン原子等が挙げられる。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、またはイソプロポキシ基が好ましい。アシルオキシ基としては、アセチルオキシ基またはプロピオニルオキシ基が好ましい。ハロゲン原子としては塩素原子が好ましい。
 疎水性有機ケイ素化合物としては、下式(1)で表される化合物および下式(2)で表される化合物が好ましく、下式(1)で表される化合物が特に好ましい。
  R-Si(R)(X(3-k)・・・(1)
 R-Si(R)(X(3-m)・・・(2)
  ただし、式中の記号は以下の意味を示す。
 R:炭素数1~12のポリフルオロアルキル基。
 R:炭素数1~20のアルキル基または炭素数3~10のシクロアルキル基。
 R:炭素数6以下のアルキル基または炭素数6以下のアルケニル基。
 X、X:それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数1~6のアシルオキシ基、またはイソシアネート基。
 k、m:それぞれ独立に0または1。
 Rは、炭素数1~12のポリフルオロアルキル基である。該ポリフルオロアルキル基としては、対応するアルキル基中の炭素原子に結合する水素原子のうちの2個以上がフッ素原子に置換された基が好ましく、全部の水素原子がフッ素原子に置換されたペルフルオロアルキル基または下式(3)で表される基が特に好ましい。
 F(CF(CH-   (3)
 ただし式中のpは1~8の整数であり、4~10が好ましい。qは2~4の整数であり、2または3が好ましい。p+qは2~12であり、6~11が好ましい。
 ペルフルオロアルキル基としては、CF-、F(CF-、F(CF-、またはF(CF-が好ましい。式(3)で表される基としては、F(CF(CH-、F(CF(CH-、F(CF(CH-、F(CF(CH-、F(CF(CH-、またはF(CF(CH-が好ましい。
 Rは炭素数1~20のアルキル基または炭素数3~10のシクロアルキル基である。Rが炭素数1~20のアルキル基である場合、該基は直鎖構造であることが好ましい。また、炭素数は4~10であることが好ましい。具体的には、n-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、およびn-オクチル基等が挙げられ、n-ヘプチル基またはn-オクチル基が好ましい。Rが炭素数3~10のシクロアルキル基である場合、シクロヘキシル基が好ましい。
 Rは炭素数6以下のアルキル基または炭素数6以下のアルケニル基である。これらの基は直鎖構造であることが好ましい。炭素数6以下のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ペンチル基、またはn-ヘキシル基が好ましい。炭素数6以下のアルケニル基としては、プロペニル基、ブテニル基等が挙げられる。
 X、Xはそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数1~6のアシロキシ基、またはイソシアネート基である。ハロゲン原子としては、塩素原子が好ましい。炭素数1~6のアルコキシ基としては、直鎖構造であることが好ましく、炭素数が1~3であることが好ましい。X、Xが炭素数1~6のアシルオキシ基である場合、アセチルオキシ基およびプロピオニルオキシ基等が挙げられ、アセチルオキシ基が好ましい。
 k、mはそれぞれ独立に0または1である。
 化合物(1)としては下記化合物が挙げられる。
 F(CFSi(NCO)、F(CFSi(Cl)、F(CFSi(OCH(ただし、e、f、gはそれぞれ独立に1~4の整数を表す。)。
  より具体的には下記化合物が挙げられる。
 F(CF(CHSi(NCO)、F(CF(CHSi(Cl)、F(CF(CHSi(OCH、F(CF(CHSi(NCO)、F(CF(CHSi(Cl)、F(CF(CHSi(OCH、F(CF(CHSi(NCO)、F(CF(CHSi(Cl)、F(CF(CHSi(OCH
  これらのうち、F(CF(CHSi(NCO)、F(CF(CHSi(Cl)、またはF(CF(CHSi(OCHが好ましい。
 化合物(2)としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリエチルメトキシシラン、トリエチルエトキシシラン、n-デシルトリメトキシシラン、n-デシルトリエトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、およびシクロヘキシルトリエトキシシラン等が挙げられる。これらのうち、ジメチルジメトキシシラン、n-デシルトリメトキシシラン、またはシクロヘキシルトリメトキシシランが好ましい。
 なお、前記化合物(1)、化合物(2)は単独で使用できるほか、前記化合物群から選ばれる1種以上の化合物の部分加水分解縮合物であってもよい。
 また、撥水層は、撥水性に影響がない限り、前記化合物(1)、化合物(2)以外に、下記化合物(4)を含む撥水剤から形成されてもよい。
 Si(X   (4)
 式中のXは加水分解性基を表し、前記X、Xと同様の基であり、好ましい態様も同様である。式(4)で表される化合物としては、テトライソシアネートシランまたはテトラアルコキシシランが好ましい。
 撥水層は、撥水剤および溶媒を含む撥水剤溶液を、内部層が形成された基体の内部層の表面に塗布し、溶媒を除去することによって形成されることが好ましい。撥水剤の種類等によっては、溶媒を除去した後、必要に応じて加熱してもよい。
 撥水剤溶液における溶媒としては、炭化水素類、エステル類、アルコール類、エーテル類が挙げられ、エステル類が好ましい。具体的には、酢酸エチル、酢酸n-プロピル、酢酸n-ブチル等の酢酸エステル系の溶媒が好ましく、酢酸n-ブチルが特に好ましい。また、撥水剤溶液には必要に応じて他の成分を加えてもよい。他の成分としては、たとえば撥水剤の加水分解縮合反応のため触媒(塩酸、硝酸等の酸等)が挙げられる。
 撥水剤溶液を下地層の表面に塗布する方法としては、前記分散液(1)を基体の表面に塗布する方法と同様の方法が挙げられ、好ましい方法も同様である。溶媒の除去は、撥水剤を塗布した後の物品を、室温~200℃で10~60分間保持することによって実施できる。
 撥水剤が前記化合物(1)、前記化合物(2)等の反応性を有する撥水剤である場合、下地層の表面においてこれら化合物の加水分解反応および縮合反応等が進行し、下地層表面のほぼ全体を覆う撥水層が形成される。撥水剤の種類によっては、撥水層の形成が溶媒の除去と同時に進行する場合もあり、加熱が必要な場合もある。加熱が必要な場合は、60~200℃で10~60分間加熱することが好ましい。
 このようにして形成される撥水層の厚さはおおよそ0.5~10nmである。また、前記のようにして得られる本発明の撥水性基体は、その表面が凹凸を有する。表面の平均面粗さ(Ra)は、おおよそ60~300nmであり、60~200nmであることが好ましい。下地内部層の表面に形成される撥水層は非常に薄い層であるため、撥水層表面の三次元形状は、内部層表面の三次元形状を反映して類似の値となる。
 また、本発明の撥水性基体の撥水性表面の凹凸のピッチは、50~300nm程度であることが好ましい。ここでのピッチは、走査型電子顕微鏡によって撮影された撥水性物品の断面写真から算出した値である。
 撥水剤は、少なくとも下地層上面に結合しているのであって、凝集体(A)の形状に由来して形成される下地層の凹部や間隙等の箇所(上面以外の箇所)に結合していてもよい。撥水剤が下地層上面のみならず、下地層の凹部や間隙等の箇所にも付着している場合は、使用中の摩耗によって撥水性物品表面の撥水性が低下したとしても、下地層の凹部や間隙等の箇所に存在する撥水剤によって撥水性能を維持できるため好ましい。
 本発明の撥水性基体は、下地層と撥水層との間に、他の層を有していてもよい。他の層としては、下地層の表面を被覆したり、下地層の間隙に侵入したりすることによって下地層の硬度を大きくし、全体としての耐摩耗性を向上させるための層(耐摩耗性改善層)、下地層と撥水層との密着性を向上させるための層(密着力改善層)などが挙げられる。
 耐摩耗性改善層としては、ポリシラザン類から形成される酸化ケイ素からなる層であることが好ましい。
 ポリシラザン類とは、-SiR -NR-SiR -(R、Rは、それぞれ独立に水素もしくは炭化水素基を表し、複数のRは異なっていてもよい)で表される構造を有する線状または環状の化合物をいう。ポリシラザン類は雰囲気中の水分との反応によってSi-NR-Si結合が分解してSi-O-Siネットワークを形成し、酸化ケイ素となる。この加水分解縮合反応は熱により促進され、通常ポリシラザン類を加熱して酸化ケイ素に変換する。反応を促進するために、金属錯体触媒やアミン系触媒などの触媒を使用することができる。アルコキシシラン類から形成される酸化ケイ素に比較して、ポリシラザン類から形成される酸化ケイ素は緻密な構造を有し、高い機械的耐久性やガスバリヤ性を有する。なお、ポリシラザン類から酸化ケイ素が生成する反応は通常300℃程度までの加熱では完全に進行するわけではなく、酸化ケイ素中にSi-N-Si結合、もしくは他の結合形態で窒素が残り、少なくとも一部に酸窒化ケイ素が生成していると考えられる。ポリシラザン類の数平均分子量は、500~5000程度が好ましい。その理由は、数平均分子量が500以上であることで、酸化ケイ素の形成反応が有効に進行しやすくなる。一方、数平均分子量が5000以下であることで、酸化ケイ素ネットワークの架橋点の数が適度に保たれ、マトリックス中にクラックやピンホールが発生することを防止できる。
 前記R、Rが炭化水素基の場合、メチル基やエチル基などの炭素数4以下のアルキル基およびフェニル基が好ましい。Rが炭化水素基の場合、生成する酸化ケイ素のケイ素原子にその炭化水素基が残存する。酸化ケイ素中にこのケイ素原子に結合した炭化水素基の量が多くなると耐摩耗性などの特性が低下することが考えられることより、ポリシラザン類中のケイ素原子に結合した炭化水素基の量は少ないことが好ましく、また、ケイ素原子に結合した炭化水素基を有するポリシラザン類を使用する場合はケイ素原子に結合した炭化水素基を有しないポリシラザン類と併用することが好ましい。より好ましいポリシラザン類は、前記式でR=R=Hであるペルヒドロポリシラザン、R=炭化水素基、R=Hである部分有機化ポリシラザン、またはこれらの混合物が好ましく用いられる。ポリシラザン類としては、炭化水素基が結合したケイ素原子の数の割合が、全ケイ素原子に対して30%以下、特に10%以下であることが好ましい。これらのポリシラザン類を用いて形成される酸化ケイ素の層は、機械的強度が高いため非常に好適である。特に好ましいポリシラザン類はペルヒドロポリシラザンである。
 さらに、ポリシラザン類の硬化を促進させることにより、耐摩耗性を向上させることができる。このためには、下地層の上面にポリシラザン類を塗布した後に、アミン類を塗布することが好ましい。アミン類としては、アンモニア水、メチルアミン、トリエチルアミン等が使用できる。しかし、アミン類が最終的に撥水性基体に残存することは好ましくない。よって、沸点が低く揮発しやすいメチルアミンが好ましい。
 密着力改善層としては、ポリシラザン類以外のケイ素化合物(アルコキシ基、イソシアネート基、ハロゲン原子等の加水分解性基がケイ素原子に結合したケイ素化合物等)が好ましい。具体的には、テトラアルコキシシランやそのオリゴマー、オルガノトリアルコキシシランやそのオリゴマーなどのアルコキシシラン類;オルガノトリクロロシランやそのオリゴマーなどのクロロシラン類;イソシアネートシランからなる群から選ばれる少なくとも1種のケイ素化合物から形成される酸化ケイ素の層であることが好ましい。
 耐摩耗性改善層や密着性改善層は、単独で使用してもよく、両者を併用してもよい。両者を併用する場合は、基体表面から順に、下地層、耐摩耗性改善層、密着性改善層、撥水層の順にそれぞれの層が形成されることが好ましい。
 また、撥水層、耐摩耗性改善層、密着性改善層は、必ずしもそれぞれの下部に位置する層の表面の全体を覆っている必要はない。すなわち、各層の機能が充分に発現される限りにおいて部分的にこれらの層が形成されていない箇所があってもよい。
 本発明の撥水性基体は、平均1次粒子径が10~80nmの金属酸化物微粒子が凝集してなる、平均凝集粒子径が100~1200nmの凝集体を用いて下地層を形成することにより、表面の水接触角が大きく、かつ、摩耗に対して接触角が高い状態を維持できる。
 本発明の撥水性基体は、表面の水接触角が大きく、摩耗によっても接触角が高い状態を維持できる。よって、輸送機器(自動車、鉄道、船舶、飛行機等)用窓ガラスに好適であり、自動車用の窓ガラスに特に好適である。自動車用窓ガラスとしては、単板ガラスであっても、合わせガラスであってもよい。本発明の撥水性基体を合わせガラスに用いる場合は、すでに述べた方法によって製造された撥水性基体と、中間膜と、別の基体とを、この順に重ね合わせ、圧着する方法によることが好ましい。
 本発明の撥水性基体は、表面の凹凸によって基体表面から膜表面に向かって屈折率が低くなるため、広い波長領域において優れた反射防止性能を示す。したがって、より多くの光を内部に取り込むことができ、かつ、撥水性によって基体上に汚れが付着することを防ぐことができるため、光の透過率が高い状態を維持できる。よって、太陽電池用カバーガラスに好適である。太陽電池用カバーガラスとしては、単板ガラス、合わせガラス、型板ガラス、集光レンズガラスのいずれであってもよく、鉄分の少ない高透過組成、アルカリ分の少ない無アルカリ組成が好ましい。
 本発明の撥水性基体を輸送機器用の窓ガラスまたは太陽電池用カバーに使用するにあたっては、該基体は透明であることが好ましい。具体的には、ヘイズ値が10%以下であることが好ましく、より好ましくは5%以下であり、さらに好ましくは2%以下である。
 以下に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されない。ただし、例1~11は実施例であり、例12~15は比較例である。
 [1]ケイ酸オリゴマー溶液の調製
 テトラエトキシシランのエタノール溶液(SiO換算の固形分濃度が5質量%;95g)に60質量%硝酸水溶液(5g)を加え1時間撹拌し、テトラエトキシシランを加水分解縮合反応させてケイ酸オリゴマー溶液(固形分濃度が5質量%)を得た。
 [2]凝集体分散液の調製
 [2-1]凝集体分散液(1)の調製
 ロータリーエバポレータを用い、60℃にてシリカ粒子の分散液(日産化学社製、ST-20、シリカ粒子の平均1次粒子径が15nm)から分散媒を除去し、粉末状のシリカ粒子(シリカ粒子の凝集体)を得た。つぎに、200mLのアルミナ製容器に、前記シリカ粒子の凝集体(2g)、エタノール(98g)、アルミナ製のボール(直径0.5mm、10g)を加えて1時間撹拌して、凝集体分散液1(100g)を得た。凝集体分散液1の固形分濃度は2質量%であった。凝集体分散液1のシリカ粒子の平均1次粒子径は15nmであり、凝集体の平均凝集粒子径は130nmであった。
  原料のシリカ粒子の分散液から分散媒を除去することによって、シリカ粒子は凝集体を形成し、この凝集体をアルミナ製のボールとともに撹拌することによって、所望の平均凝集粒子径を有する凝集体が得られる。
 [2-2]凝集体分散液(2)の調製
 平均1次粒子径25nmのシリカ粒子が分散した分散液(日産化学社製、ST-50)を用いて、平均凝集粒子径が550nmの凝集体を作製する以外は、[2-1]と同様にして凝集体分散液2を調製した。
 [2-3]凝集体分散液(3)の調製
 平均1次粒子径が45nmのシリカ粒子が分散した分散液(日産化学社製、ST-20L)を用いて、平均凝集粒子径が920nmのシリカ微粒子の凝集体を作製する以外は、[2-1]と同様にして凝集体分散液3を調製した。
 [2-4]凝集体分散液(4)の調製
 平均1次粒子径が50nmのシリカ粒子が分散した分散液(日産化学社製、ST-XL)を用いて、平均凝集粒子径が220nmの凝集体を作製する以外は、[2-1]と同様にして凝集体分散液4を調製した。
 [2-5]凝集体分散液(5)の調製
 200mLの石英製耐圧容器に、エタノール(85.3g)、酸化亜鉛(誘電率が18)粒子の水分散液(固形分濃度が20%)(7.1g)、テトラエトキシシラン(酸化ケイ素換算の固形分濃度が28.8質量%、6.9g)、28質量%アンモニア水溶液(0.6g)を入れ、pHが10の原料液を調製した。酸化亜鉛の平均1次粒子径は20nm、平均凝集粒子径は1000nmであり、酸化亜鉛粒子分散液の固形分濃度は20質量%であった。
 耐圧容器を密封した後、最大出力が1000Wのマイクロ波加熱装置を用い、原料液が180℃に加熱される出力にて、周波数2.45GHzのマイクロ波を原料液に3分間照射した。この操作により、コアが酸化亜鉛からなりシェルが酸化ケイ素からなる、コア-シェル粒子の分散液(100g)を得た。
 このコア-シェル粒子は、マイクロ波の照射によってテトラエトキシランが加水分解し、酸化亜鉛粒子の表面で該加水分解物の縮合反応が進行することによって得られるものである。このコア-シェル粒子分散液における酸化亜鉛の固形分濃度は1.4質量%、酸化ケイ素の固形分濃度は2質量%であった。シェルの厚さは10nmであった。
 このコア-シェル粒子の分散液(100g)に、強酸性カチオン交換樹脂(三菱化学社製、ダイヤイオン、総交換容量2.0meq/mL以上)を100g加え、2時間撹拌してpHが4となった後、ろ過により強酸性カチオン交換樹脂を除去し、コア-シェル粒子の凝集体分散液5を得た。このコア-シェル粒子分散液の平均一次粒子径は30nm、平均凝集粒子径は530nmであった。
 平均凝集粒子径は強酸性カチオン交換樹脂との撹拌時間によって制御した。シェルの厚みが10nmの場合はpHが4となっても酸化亜鉛コア粒子は溶解しなかった。
 [2-6]凝集体分散液(6)の調製
 平均1次粒子径が20nmである酸化亜鉛(誘電率が18)粒子の水分散液(固形分濃度が20%)(25g)、テトラエトキシシラン(酸化ケイ素換算の固形分濃度が28.8質量%)(6.9g)、エタノール(67.5g)、28質量%アンモニア水溶液(0.6g)を入れ、pHが10の原料液を調製した以外は、[2-5]と同様にしてコア-シェル粒子の分散液を得た。
 このコア-シェル粒子の分散液(100g)に、強酸性カチオン交換樹脂(三菱化学社製、ダイヤイオン、総交換容量2.0meq/mL以上)を100g加え、6時間撹拌してpHが4となった後、ろ過により強酸性カチオン交換樹脂を除去し、中空粒子の凝集体分散液6を得た。この中空粒子分散液の平均一次粒子径は30nm、平均凝集粒子径は400nmであった。シェルの厚みが4nmの場合はpHが4になると酸化亜鉛コア粒子は溶解して中空粒子を得た。
 [2-7]凝集体分散液(7)の調製
 強酸性カチオン交換樹脂を加えた後、1時間撹拌する以外は[2-6]と同様にして中空粒子の凝集体分散液7を得た。中空粒子の平均1次粒子径は30nmであり、平均凝集粒子径は810nm、シェルの厚さは4nmであった。
 [2-8]凝集体分散液(8)の調製
 平均1次粒子径が35nmである酸化亜鉛(誘電率が18)粒子の水分散液(固形分濃度が20%)(41.7g)、テトラエトキシシラン(酸化ケイ素換算の固形分濃度が28.8質量%)(6.9g)、エタノール(50.8g)、28質量%アンモニア水溶液(0.6g)を入れ、pHが10の原料液を調製した以外は[2-6]と同様にして中空粒子の凝集体分散液8を得た。中空粒子の平均1次粒子径は45nmであり、平均凝集粒子径は560nm、シェルの厚さは4nmであった。
 [2-9]凝集体分散液(9)の調製
 平均1次粒子径が20nmである酸化亜鉛(誘電率が18)粒子の水分散液(固形分濃度が20%)(10g)、テトラエトキシシラン(酸化ケイ素換算の固形分濃度が28.8質量%)(6.9g)、エタノール(82.5g)、28質量%アンモニア水溶液(0.6g)を入れ、pHが10の原料液を調製した以外は、[2-6]と同様にして中空粒子の分散液を得た。中空粒子の平均1次粒子径は45nmであり、平均凝集粒子径は570nm、シェルの厚さは8nmであった。
 [2-10]凝集体分散液(10)の調製
 平均1次粒子径が短径30nm、長径190nmである棒状酸化亜鉛(誘電率が18)粒子の水分散液(固形分濃度が20%)(83.3g)、テトラエトキシシラン(酸化ケイ素換算の固形分濃度が28.8質量%)(6.9g)、エタノール(9.1g)、28質量%アンモニア水溶液(0.6g)を入れ、pHが10の原料液を調製した以外は[2-6]と同様にして中空粒子の凝集体分散液10を得た。中空粒子の平均1次粒子径は短径40nm、長径200nmであり、平均凝集粒子径は530nm、シェルの厚さは4nmであった。
 [2-11]凝集体分散液(11)の調製
 平均1次粒子径が20nmである酸化亜鉛(誘電率が18)粒子の水分散液(固形分濃度が20%)(4.7g)、テトラエトキシシラン(酸化ケイ素換算の固形分濃度が28.8質量%)(6.9g)、エタノール(87.8g)、28質量%アンモニア水溶液(0.6g)を入れ、pHが10の原料液を調製した以外は、[2-6]と同様にして中空粒子の分散液を得た。中空粒子の平均1次粒子径は50nmであり、平均凝集粒子径は580nm、シェルの厚さは12nmであった。
 [2-12]凝集体分散液(12)の調製
 200mLのビーカーに平均1次粒子径25nmのシリカ粒子の水分散液(固形分濃度50%、日産化学社製、ST-50)(4g)、エタノール(96g)を混合し、平均凝集粒子径が30nmの凝集体分散液12を得た。凝集体分散液12の固形分濃度は2質量%であった。
 [2-13]凝集体分散液(13)の調製
 平均1次粒子径が20nm、平均凝集粒子径30nmである酸化亜鉛を用いる以外は[2-6]と同様にして中空粒子の凝集体分散液13を得た。中空粒子の平均1次粒子径は30nmであり、平均凝集粒子径は40nm、シェルの厚さは4nmであった。
 [2-14]凝集体分散液(14)の調製
 平均1次粒子径が70nmである酸化亜鉛を用いる以外は[2-10]と同様にして中空粒子の凝集体分散液14を得た。中空粒子の平均1次粒子径は90nmであり、平均凝集粒子径は560nm、シェルの厚さは4nmであった。
 [2-15]凝集体分散液(15)の調製
 強酸性カチオン交換樹脂を加えた後、撹拌せずに6時間静置する以外は[2-6]と同様にして中空粒子の凝集体分散液15を得た。中空粒子の平均1次粒子径は30nmであり、平均凝集粒子径は1300nm、シェルの厚さは4nmであった。
 [3]下地層コート液の調製
 200mLのガラス製容器に、[1]で調製したケイ酸オリゴマー溶液(16g)、エタノール(24g)、[2]で調製した各凝集体分散液(60g)を入れ、10分間撹拌して、種々の下地層コート液を得た。コート液の固形分濃度は2質量%であった。
 [2]で調製した凝集体分散液1から得られた下地層コート液を下地層コート液1という。同様に、凝集体分散液2~15から得られた下地層コート液を、それぞれ下地層コート液2~15という。
 [4]撥水剤溶液の調製
 F(CF(CHSi(NCO)(0.8g)を酢酸n-ブチル(160g)に溶かし、撥水剤溶液を調製した。
 [例1]
 エタノールで拭いたガラス基体(100mm×100mm、厚さ3.5mm)の表面に下地層コート液1を滴下し、スピンコート(回転数300rpm、60秒間)して基体の表面に下地層コート液1を塗布した。200℃で30分間加熱することにより、下地層付き基体を得た。ついで、下地層付き基体の下地層の表面に[4]で調製した撥水剤溶液を滴下し、スピンコート(回転数300rpm、60秒間)したのち室温で乾燥させ、サンプル1を作製した。
 このサンプル1について平均2乗粗さ、水接触角(初期および摩耗試験後)、初期ヘイズ率、凝集体の屈折率、平均反射率を測定した。結果を表に示す。なお、摩耗試験は、往復トラバース試験機(ケイエヌテー社製)を用いて、ネル布(綿300番)を用い、撥水性基体面に9.8N/4cmの荷重をかけて、撥水性基体表面を100回往復させた。
 [例2]~[例15]
 以下、表に示すように、下地層コート液の種類を変化させ、例1と同様の手順にてサンプル2~15を作製し、評価した。なお、例12、13は、平均1次粒子径と平均凝集粒子径との差が小さく、1次微粒子を用いて下地層を形成した例に相当すると考えられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
 1.平均1次粒子径
 粒子を透過型電子顕微鏡(日立製作所社製、H-9000)にて観察し、100個の粒子を無作為に選び出し、各粒子の粒子径を測定し、平均した値を、平均一次粒子径とした。
 2.平均凝集粒子径
 粒子の平均凝集粒子径は、動的光散乱法粒度分析計(日機装社製、マイクロトラックUPA)を用いて測定した。
 3.シェルの厚さ
 粒子を透過型電子顕微鏡(日立製作所社製、H-9000)にて観察し、粒子のシェルの厚さを測定した。
 4.下地層の厚さ
 下地層が形成された基体の断面を走査型電子顕微鏡(日立製作所製、S-4500型)で撮影し、画像において、基体表面から下地層の凸部の頂点とを垂直に結び、その長さを計測した。加速電圧1kV、エミッション電流5μA、傾斜角度0度および60度、観察倍率50000倍、の測定条件で写真を撮影した。
 5.水接触角
 撥水性基体の表面に2μLの水滴を滴下し、接触角計(協和界面科学社製、CA-X150型)を用いて、水滴の接触角を測定した。
 6.平均2乗粗さ
 プローブ顕微鏡(セイコーインスツルメンツ社製、Nanopics1000)を用いて、撥水性物品の表面形状を測定した。プローブ顕微鏡の観察モードはダンピングモードで、スキャンエリアは40μm、スキャンスピードは65sec/frameで測定した。平均2乗粗さは、専用ソフトを用いて算出した。
 7.曇価(ヘイズ率)
 JIS K-7105の規格に則り、撥水性物品の曇価をヘイズコンピューター(スガ試験機社製、型番:S-SM-K224)を用いて測定した。
 8.凝集体の屈折率
 凝集体の屈折率は、基体上の膜の300nm~1200nmにおける反射率を分光光度計(日立製作所社製、型式:U-4100)で測定し、得られた最低反射率より基体上の膜の屈折率を算出し、粒子とバインダーとの重量比率より換算した。
 9.平均反射率
 撥水性基体上の膜の300~1200nmにおける反射率を分光光度計(日立製作所社製、型式:U-4100)で測定し、その平均値を平均反射率とした。
 本発明の撥水性基体は、表面の水接触角が大きく、かつ、耐摩耗性、反射防止性能に優れるので、輸送機器(自動車、鉄道、船舶、飛行機等)用窓ガラスおよび太陽電池用カバーとして好適に用いることができる。
 なお、2008年7月17日に出願された日本特許出願2008-186148号の明細書、特許請求の範囲、及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。

Claims (15)

  1.  基体の少なくとも片側表面に、下記金属酸化物微粒子の凝集体(A)および金属酸化物系バインダーとを含み(ただし、金属酸化物系バインダーは加水分解縮合反応または熱分解により金属酸化物となる金属化合物(B)を含むバインダー材料より形成された成分である)、かつ表面が凹凸形状を示す下地層を形成し、つぎに前記下地層の上に撥水層を形成することを特徴とする撥水性基体の製造方法。
     金属酸化物微粒子の凝集体(A):平均1次粒子径が10~80nmの金属酸化物微粒子が凝集してなる、平均凝集粒子径が100~1200nmの凝集体。
  2.  前記下地層を、前記金属酸化物微粒子の凝集体(A)と前記バインダー材料と分散媒とを含む分散液を基体の少なくとも片側表面に塗布し、乾燥することにより形成する請求項1に記載の撥水性基体の製造方法。
  3.  前記下地層の膜厚が100~1500nmである請求項1または2に記載の撥水性基体の製造方法。
  4.  前記分散液に含まれる前記金属酸化物微粒子の凝集体(A)の濃度が、分散液に対して0.1~5質量%である請求項2または3に記載の撥水性基体の製造方法。
  5.  前記金属酸化物微粒子の凝集体(A)が、SiO、Al、TiO、SnO、ZrO、およびCeOからなる群から選ばれる1種以上の金属酸化物を含む微粒子の凝集体である請求項1~4のいずれかに記載の撥水性基体の製造方法。
  6.  前記金属酸化物微粒子の凝集体(A)が、屈折率が1.4以下の金属酸化物微粒子の凝集体である請求項1~5のいずれかに記載の撥水性基体の製造方法。
  7.  初期水接触角が135°以上である請求項1~6のいずれかに記載の撥水性基体の製造方法。
  8.  前記金属酸化物微粒子の凝集体(A)が、中空状の金属酸化物微粒子の凝集体である請求項1~7のいずれかに記載の撥水性基体の製造方法。
  9.  前記中空状の金属酸化物微粒子の凝集体が中空状のSiO微粒子の凝集体である請求項8に記載の撥水性基体の製造方法。
  10.  前記中空状の金属酸化物微粒子のシェルの厚さが1~10nmである請求項8または9に記載の撥水性基体の製造方法。
  11.  前記中空状のSiO微粒子の凝集体が、少なくとも下記の工程(a)~(c)を行うことにより、分散媒に中空状のSiO微粒子の凝集体が分散した分散液として得られる請求項9または10に記載の撥水性基体の製造方法。
     (a)分散媒体中でコアを構成するZnO微粒子の存在下、SiO2の前駆物質をpH>8で反応させて、SiO2を生成せしめ、当該ZnO微粒子を、生成したSiO2で被覆した微粒子の分散液を得る工程、
     (b)(a)で得られた前記微粒子分散液と酸性カチオン交換樹脂を混合接触させ、pH=2~8の範囲でコアのZnO微粒子を溶解させる工程、および
     (c)前記ZnO微粒子が完全に溶解した後に前記イオン交換樹脂を固液分離操作により分離し、前記中空状のSiO2微粒子分散液を得る工程。
  12.  前記工程(a)において、マイクロ波を照射しながら、SiO2の前駆物質をpH>8で反応させて、SiO2を生成せしめ、生成したSiOによってZnO微粒子を被覆する請求項11に記載の撥水性基体の製造方法。
  13.  基体の少なくとも片側表面に、下記金属酸化物微粒子の凝集体(A)および金属酸化物系バインダーとを含み(ただし、金属酸化物系バインダーは加水分解縮合反応または熱分解により金属酸化物となる金属化合物(B)を含むバインダー材料より形成された成分である)、かつ表面が凹凸形状を示す下地層を備え、前記下地層の上に撥水層を備えることを特徴とする撥水性基体。
     金属酸化物微粒子の凝集体(A):平均1次粒子径が10~80nmの金属酸化物微粒子が凝集してなる、平均凝集粒径が100~1200nmの凝集体。
  14.  基体の少なくとも片側表面に、下記金属酸化物微粒子の凝集体(A)と、加水分解縮合反応または熱分解により金属酸化物となる金属化合物(B)を含むバインダー材料と、分散媒とを含む分散液を塗布し乾燥することにより、凹凸形状の表面を有する下地層を形成し、つぎに前記下地層の上に疎水性材料を塗布して乾燥させることによって得られることを特徴とする撥水性基体。
     金属酸化物微粒子の凝集体(A):平均1次粒子径が10~80nmの金属酸化物微粒子が凝集してなる、平均凝集粒径が100~1200nmの凝集体。
  15.  前記撥水性基体が、車両窓用ガラス板または太陽電池用カバーである請求項13または14に記載の撥水性基体。
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Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012007119A (ja) * 2010-06-28 2012-01-12 Oike Ind Co Ltd ハードコート層形成用組成物およびハードコートフィルム
WO2012026150A1 (ja) * 2010-08-27 2012-03-01 コニカミノルタエムジー株式会社 半導体ナノ粒子集積体及び半導体ナノ粒子集積体の製造方法
JP2015117147A (ja) * 2013-12-18 2015-06-25 国立大学法人 東京大学 ガラス部材の製造方法及びガラス部材
CN106057660A (zh) * 2015-04-03 2016-10-26 东京应化工业株式会社 半导体衬底的制造方法
CN106067416A (zh) * 2015-04-21 2016-11-02 东京应化工业株式会社 扩散剂组合物
JP2016208013A (ja) * 2015-04-21 2016-12-08 東京応化工業株式会社 拡散剤組成物
JP2017001363A (ja) * 2015-06-16 2017-01-05 日産自動車株式会社 防汚構造体及びその製造方法
WO2017038635A1 (ja) * 2015-08-28 2017-03-09 住友大阪セメント株式会社 酸化亜鉛粉体、分散液、組成物、及び化粧料
KR20190012165A (ko) 2016-06-02 2019-02-08 엠. 테크닉 가부시키가이샤 규소 화합물 피복 산화물 입자의 제조 방법, 규소 화합물 피복 산화물 입자 및 그것을 포함하는 규소 화합물 피복 산화물 조성물
US10266666B2 (en) 2015-10-30 2019-04-23 Konica Minolta, Inc. Porous resin particle and method for producing the same, and structure
WO2022014607A1 (ja) * 2020-07-14 2022-01-20 日本板硝子株式会社 撥水膜付きガラス物品及びその製造方法
WO2023135997A1 (ja) * 2022-01-13 2023-07-20 日本板硝子株式会社 ガラス物品

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE1020749A3 (fr) * 2012-06-13 2014-04-01 Detandt Simon Ets Revetement superhydrophobe.
JP6016548B2 (ja) * 2012-09-19 2016-10-26 日揮触媒化成株式会社 透明被膜形成用塗布液および透明被膜付基材
LU92082B1 (en) * 2012-10-10 2014-04-11 Ct De Rech Public Gabriel Lippmann Method for manufacturing a superhydrophobic surface
DE102012020094B3 (de) * 2012-10-12 2013-10-31 Technische Universität Bergakademie Freiberg Verwendung von Sauerstoffverbindungen des Aluminiums oder Partikelstaub, der Sauerstoffverbindungen des Aluminiums enthält als Korrosionsschutzmittel für Glas
US10227160B2 (en) * 2013-09-04 2019-03-12 Owens-Brockway Glass Container Inc. Polysilazane-derived coating for glass containers
CN104497645B (zh) * 2014-11-29 2017-02-22 浙江大学自贡创新中心 氧化铝溶胶复合料浆
CN104497646B (zh) * 2014-11-29 2017-02-22 浙江大学自贡创新中心 氧化铝溶胶复合料浆的制备方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003236977A (ja) * 2002-02-19 2003-08-26 Matsushita Electric Works Ltd 防汚性部材
JP2006335605A (ja) * 2005-06-02 2006-12-14 Asahi Glass Co Ltd 中空状SiO2微粒子分散液の製造方法、塗料組成物及び反射防止塗膜付き基材

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002121286A (ja) * 2000-10-12 2002-04-23 Asahi Glass Co Ltd 含フッ素有機ケイ素化合物、それを含む撥水性組成物、ならびに表面処理基材およびその製造方法
US20050154086A1 (en) * 2003-12-26 2005-07-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Fine inorganic oxide dispersion, coating composition, optical film, antireflection film, polarizing plate, and image display device
WO2008072707A1 (ja) * 2006-12-15 2008-06-19 Asahi Glass Company, Limited 撥水性表面を有する物品
WO2011090035A1 (ja) * 2010-01-19 2011-07-28 旭硝子株式会社 撥水性基体およびその製造方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003236977A (ja) * 2002-02-19 2003-08-26 Matsushita Electric Works Ltd 防汚性部材
JP2006335605A (ja) * 2005-06-02 2006-12-14 Asahi Glass Co Ltd 中空状SiO2微粒子分散液の製造方法、塗料組成物及び反射防止塗膜付き基材

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012007119A (ja) * 2010-06-28 2012-01-12 Oike Ind Co Ltd ハードコート層形成用組成物およびハードコートフィルム
WO2012026150A1 (ja) * 2010-08-27 2012-03-01 コニカミノルタエムジー株式会社 半導体ナノ粒子集積体及び半導体ナノ粒子集積体の製造方法
JP2015117147A (ja) * 2013-12-18 2015-06-25 国立大学法人 東京大学 ガラス部材の製造方法及びガラス部材
WO2015093082A1 (ja) * 2013-12-18 2015-06-25 国立大学法人東京大学 ガラス部材の製造方法及びガラス部材
CN106057660A (zh) * 2015-04-03 2016-10-26 东京应化工业株式会社 半导体衬底的制造方法
JP2016197714A (ja) * 2015-04-03 2016-11-24 東京応化工業株式会社 半導体基板の製造方法
CN106067416A (zh) * 2015-04-21 2016-11-02 东京应化工业株式会社 扩散剂组合物
JP2016208013A (ja) * 2015-04-21 2016-12-08 東京応化工業株式会社 拡散剤組成物
JP2017001363A (ja) * 2015-06-16 2017-01-05 日産自動車株式会社 防汚構造体及びその製造方法
WO2017038635A1 (ja) * 2015-08-28 2017-03-09 住友大阪セメント株式会社 酸化亜鉛粉体、分散液、組成物、及び化粧料
CN107922209A (zh) * 2015-08-28 2018-04-17 住友大阪水泥股份有限公司 氧化锌粉体、分散液、组合物以及化妆材料
JPWO2017038635A1 (ja) * 2015-08-28 2018-06-14 住友大阪セメント株式会社 酸化亜鉛粉体、分散液、組成物、及び化粧料
US10266666B2 (en) 2015-10-30 2019-04-23 Konica Minolta, Inc. Porous resin particle and method for producing the same, and structure
KR20190012165A (ko) 2016-06-02 2019-02-08 엠. 테크닉 가부시키가이샤 규소 화합물 피복 산화물 입자의 제조 방법, 규소 화합물 피복 산화물 입자 및 그것을 포함하는 규소 화합물 피복 산화물 조성물
US11052461B2 (en) 2016-06-02 2021-07-06 M. Technique Co., Ltd. Method of producing silicon compound coated oxide particles, silicon compound coated oxide particles, and silicon compound coated oxide composition containing the same
WO2022014607A1 (ja) * 2020-07-14 2022-01-20 日本板硝子株式会社 撥水膜付きガラス物品及びその製造方法
WO2023135997A1 (ja) * 2022-01-13 2023-07-20 日本板硝子株式会社 ガラス物品

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