WO2009130922A1 - アクティブマトリクス基板、液晶パネル、液晶表示装置、液晶表示ユニット、テレビジョン受像機 - Google Patents

アクティブマトリクス基板、液晶パネル、液晶表示装置、液晶表示ユニット、テレビジョン受像機 Download PDF

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WO2009130922A1
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俊英 津幡
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シャープ株式会社
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/12Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
    • H01L27/1214Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs
    • H01L27/1259Multistep manufacturing methods
    • H01L27/1296Multistep manufacturing methods adapted to increase the uniformity of device parameters
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362Active matrix addressed cells
    • G02F1/13624Active matrix addressed cells having more than one switching element per pixel
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/66Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/68Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
    • H01L29/76Unipolar devices, e.g. field effect transistors
    • H01L29/772Field effect transistors
    • H01L29/78Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
    • H01L29/786Thin film transistors, i.e. transistors with a channel being at least partly a thin film
    • H01L29/78696Thin film transistors, i.e. transistors with a channel being at least partly a thin film characterised by the structure of the channel, e.g. multichannel, transverse or longitudinal shape, length or width, doping structure, or the overlap or alignment between the channel and the gate, the source or the drain, or the contacting structure of the channel

Definitions

  • the present invention relates to an active matrix substrate in which a plurality of pixel electrodes are provided in one pixel region, and a liquid crystal display device (pixel division method) using the same.
  • a plurality of subpixels provided in one pixel are controlled to have different luminances, and the area levels of these subpixels are controlled.
  • a liquid crystal display device pixel division method, for example, see Patent Document 1 that displays a halftone by a tone.
  • a pixel region is provided between two adjacent gate bus lines 112, and at the upper end of the pixel region (a portion adjacent to the gate bus line).
  • the pixel electrode 121a is disposed, the pixel electrode 121b is disposed in the middle stage, the pixel electrode 121c is disposed at the lower end (portion adjacent to the adjacent gate bus line), and the pixel electrode 121a and the pixel electrode 121c are the source electrodes of the transistor 116.
  • each of the sub-pixels corresponding to the pixel electrodes 121a and 121c can be a bright sub-pixel, and the sub-pixel corresponding to the pixel electrode 121b can be a dark sub-pixel.
  • Halftone can be displayed by area gradation of dark sub-pixel (1).
  • the transistor 56 is turned on every frame, so that the pixel electrode 61b and the source line 55 are turned on.
  • the charge accumulated in the pixel electrode 61b while the transistor 56 is off flows to the source line 55 during the on period. Therefore, almost no direct-current voltage component remains on the pixel electrode 61b, and image sticking hardly occurs.
  • the pixel electrode 61a that is capacitively coupled to the pixel electrode 61b even if the transistor 56 is turned on, the charge accumulated in the pixel electrode 61a is held as it is. Therefore, a DC voltage component remains in the pixel electrode 61a, and the sub-pixel including the pixel electrode 61a is burned due to this.
  • the pixel electrode 121b capacitively coupled to the pixel electrode 121a is separated from the gate bus line 112. Arranged. That is, by disposing the pixel electrode 121b between the pixel electrode 121a and the pixel electrode 121c, it is possible to suppress the inflow of electric charge to the pixel electrode 121b due to the DC voltage component of the signal flowing through the gate bus line 112. Thereby, the occurrence of image sticking can be suppressed.
  • Non-Patent Document 1 describes a configuration in which the pixel electrode in the floating state as described above is directly connected to a source line via a transistor.
  • FIG. 46 is an equivalent circuit diagram showing a part of the liquid crystal panel described in Non-Patent Document 1. As shown in the figure, this liquid crystal panel is provided with a pixel region (main pixel region (Main region), sub-pixel region (Sub region)) between two adjacent gate bus lines. The corresponding main pixel electrode is connected to the source line (Data line) via the first transistor (Main-TFT), and the sub-pixel electrode corresponding to the sub-pixel region is connected to the second transistor (Sub-TFT). Connected to the source line. The first and second transistors are connected to the same gate bus line (Gate line).
  • Non-Patent Document 1 the main pixel electrode and the subpixel electrode are connected to the same gate bus line and the same source line via the first and second transistors, respectively.
  • the ON times (gate ON times) of the first and second transistors are equal to each other.
  • the potential supplied to the pixel electrode is defined by the transistor characteristic ratio, that is, the W / L ratio of the channel of the transistor (the ratio of the channel width W to the channel length L).
  • the transistor characteristic ratio that is, the W / L ratio of the channel of the transistor (the ratio of the channel width W to the channel length L).
  • the present invention proposes a configuration in which there is little risk of deterioration of display quality due to sub-pixel burn-in in a capacitively coupled pixel division type liquid crystal display device.
  • the active matrix substrate includes a data signal line, first and second scanning signal lines, a first transistor connected to the data signal line and the first scanning signal line, the data signal line and the second scanning signal line.
  • a second transistor connected to the scanning signal line, and first and second pixel electrodes formed in one pixel region, wherein the first pixel electrode is interposed via the first transistor.
  • W / L ratio of the channel of the first transistor ratio of channel width W to channel length L
  • W / L ratio of the channel of the second transistor Characterized in that equal to each other.
  • each pixel electrode in one pixel region is connected to a data signal line through a transistor connected to a different scanning signal line.
  • the supply timing can be made different for each pixel electrode. Therefore, for example, before supplying a normal writing signal potential to one pixel electrode, the other pixel electrode capacitively coupled to the pixel electrode is electrically connected to the data signal line through a transistor.
  • a signal potential eg, Vcom
  • the data signal line is not connected to the pixel electrode (capacitive coupling electrode) that is capacitively coupled to the pixel electrode connected to the data signal line through the transistor without passing through the capacitor. Since the signal potential can be supplied from the capacitor, charges accumulated in the capacitive coupling electrode can be discharged (refreshed). Therefore, it is possible to suppress the occurrence of burn-in of the sub-pixel including the pixel electrode. Further, according to the above configuration, it is not necessary to adjust the channel W / L ratio of the transistor as in the conventional case, and the active matrix substrate can be configured with the same channel size. Thus, deterioration in display quality due to variations in transistor characteristics can be suppressed.
  • the active matrix substrate may further include a third pixel electrode formed in the pixel region, and the third pixel electrode may be electrically connected to the first pixel electrode. it can.
  • the active matrix substrate further includes a third pixel electrode formed in the pixel region, and the third pixel electrode is connected to the first pixel electrode via a capacitor, and the second pixel electrode is connected to the second pixel electrode.
  • the pixel electrode may be electrically connected.
  • the data signal line, the first and second scanning signal lines, the first transistor connected to the data signal line and the first scanning signal line, the data signal line and the second scanning signal line.
  • a second transistor connected to the scanning signal line, and first and second pixel electrodes formed in one pixel region, wherein the first pixel electrode passes through the first transistor.
  • the second pixel electrode is connected to the first pixel electrode via a capacitor and to the data signal line via the second transistor, and the second pixel electrode is connected to the data signal line via the second transistor.
  • a storage capacitor may be formed between one pixel electrode and the second scanning signal line.
  • the active matrix substrate may further include a third pixel electrode formed in the pixel region, and the third pixel electrode may be electrically connected to the first pixel electrode. it can.
  • the active matrix substrate further includes a third pixel electrode formed in the pixel region, and the third pixel electrode is connected to the first pixel electrode via a capacitor, and the second pixel electrode is connected to the second pixel electrode.
  • the pixel electrode may be electrically connected.
  • the pixel region is divided into two parts by the first scanning signal line crossing the pixel region, and the first pixel electrode is disposed on one of the pixel regions, and the second pixel is disposed on the other.
  • the pixel electrode may be arranged.
  • a storage capacitor may be formed between the second pixel electrode and the second scanning signal line.
  • the active matrix substrate may further include a storage capacitor line, and the storage capacitor line may form a storage capacitor with the first pixel electrode.
  • the storage capacitor wiring may further form a storage capacitor with the second pixel electrode.
  • the active matrix substrate includes a storage capacitor electrode formed in the same layer as the conductive electrodes of the first and second transistors, and the storage capacitor electrode is electrically connected to one of the first and second pixel electrodes.
  • the storage capacitor wiring may be overlapped with the storage capacitor wiring through a gate insulating film.
  • the active matrix substrate includes a coupling capacitor electrode formed in the same layer as the conductive electrodes of the first and second transistors, and the coupling capacitor electrode is electrically connected to one of the first and second pixel electrodes.
  • the coupling capacitor electrode may be configured to overlap with the other through the interlayer insulating film and overlap with the storage capacitor wiring through the gate insulating film.
  • the active matrix substrate further includes a storage capacitor wiring, and the pixel region is divided into two parts by the storage capacitor wiring crossing the storage region, the first pixel electrode is disposed on one of the storage regions, and the first pixel electrode is disposed on the other. 3 pixel electrodes may be arranged, and the second pixel electrode may be arranged between the first and third pixel electrodes.
  • the active matrix substrate further includes a storage capacitor wiring, and the pixel region is divided into two parts by the storage capacitor wiring crossing the storage region, the second pixel electrode is disposed on one of the pixel regions, and the second pixel electrode is disposed on the other. 3 pixel electrodes may be arranged, and the first pixel electrode may be arranged between the second and third pixel electrodes.
  • the active matrix substrate includes a coupling capacitor electrode formed in the same layer as the conductive electrodes of the first and second transistors, and the coupling capacitor electrode is electrically connected to one of the first and second pixel electrodes. In addition, it may be configured to overlap with the other through an interlayer insulating film.
  • the active matrix substrate includes a storage capacitor electrode formed in the same layer as the conductive electrodes of the first and second transistors, and the storage capacitor electrode is electrically connected to one of the first and second pixel electrodes.
  • the second scanning signal line may be overlapped with a gate insulating film.
  • the active matrix substrate includes a coupling capacitor electrode and a storage capacitor electrode formed in the same layer as the conductive electrodes of the first and second transistors, and the coupling capacitor electrode is electrically connected to the first pixel electrode. And connected to the second pixel electrode through an interlayer insulating film, and the storage capacitor electrode is electrically connected to the first pixel electrode and through the gate insulating film.
  • the second scanning signal line may be overlapped.
  • the active matrix substrate includes a coupling capacitor electrode and a storage capacitor electrode formed in the same layer as the conductive electrodes of the first and second transistors, and the coupling capacitor electrode is electrically connected to the first pixel electrode. And connected to the second pixel electrode through an interlayer insulating film, and the storage capacitor electrode is electrically connected to the first pixel electrode and through the gate insulating film.
  • the second scanning signal line may be overlapped.
  • the active matrix substrate includes a coupling capacitor electrode that overlaps the second pixel electrode through an interlayer insulating film, and the first lead-out wiring led out from the conduction electrode of the first transistor and the coupling capacitance electrode are connected to each other.
  • a second lead-out line that is connected in the same layer, the first lead-out line and the first pixel electrode are connected via a contact hole, and is led out from the conductive electrode of the second transistor;
  • the second pixel electrode may be connected via a contact hole.
  • the active matrix substrate includes a coupling capacitor electrode that overlaps the second pixel electrode through an interlayer insulating film, and the first lead-out wiring led out from the conduction electrode of the first transistor and the coupling capacitance electrode are connected to each other.
  • a second lead-out line that is connected in the same layer, the first lead-out line and the first pixel electrode are connected via a contact hole, and is led out from the conductive electrode of the second transistor;
  • the second pixel electrode is connected through a contact hole, and the coupling capacitor electrode extending portion connected to the coupling capacitor electrode and the third pixel electrode are connected through a contact hole. You can also.
  • the active matrix substrate includes a coupling capacitor electrode that overlaps the second pixel electrode through an interlayer insulating film, and the first lead-out wiring led out from the conduction electrode of the first transistor and the coupling capacitance electrode are connected to each other.
  • a second lead-out line that is connected in the same layer, the first lead-out line and the first pixel electrode are connected via a contact hole, and is led out from the conductive electrode of the second transistor;
  • the second pixel electrode may be connected via a contact hole, and the second lead-out wiring and the third pixel electrode may be connected via a contact hole.
  • the active matrix substrate includes a coupling capacitor electrode that overlaps the second pixel electrode via an interlayer insulating film, and a storage capacitor electrode that overlaps the second scanning signal line via a gate insulating film,
  • the first lead-out wiring led out from the conductive electrode of the transistor and the coupling capacitor electrode are connected in the same layer, and the first lead-out wiring and the first pixel electrode are connected via a contact hole.
  • the third pixel electrode are connected through a contact hole, and the third pixel electrode and the storage capacitor electrode are connected through a contact hole. It can also be configured.
  • the active matrix substrate includes a coupling capacitor electrode that overlaps the second pixel electrode via an interlayer insulating film, and a storage capacitor electrode that overlaps the second scanning signal line via a gate insulating film,
  • the first lead-out wiring led out from the conductive electrode of the transistor and the coupling capacitor electrode are connected in the same layer, and the first lead-out wiring and the first pixel electrode are connected via a contact hole.
  • the second lead-out wiring connected to the second transistor and led out from the conductive electrode of the second transistor and the second pixel electrode are connected through a contact hole, and the second lead-out wiring and the third lead-out wiring are connected to each other.
  • the pixel electrode is connected through a contact hole, and the third pixel electrode and the storage capacitor electrode are connected through a contact hole. It can be.
  • the active matrix substrate includes a coupling capacitor electrode that overlaps the second pixel electrode via an interlayer insulating film, and a storage capacitor electrode that overlaps the second scanning signal line via a gate insulating film,
  • the first lead-out wiring led out from the conductive electrode of the transistor and the coupling capacitor electrode are connected in the same layer, and the first lead-out wiring and the first pixel electrode are connected via a contact hole.
  • a second lead-out wiring connected to the second transistor and connected to the second pixel electrode through the contact hole is connected to the first pixel electrode and the storage capacitor electrode. It is also possible to adopt a configuration in which they are connected via contact holes.
  • the interlayer insulating film may be configured such that at least a part of a portion overlapping the coupling capacitor electrode is thin.
  • the gate insulating film may be configured such that at least a part of the portion overlapping the storage capacitor electrode is thin.
  • the interlayer insulating film is composed of an inorganic insulating film and an organic insulating film, but the organic insulating film is removed from at least a part of the portion overlapping with the coupling capacitor electrode. You can also.
  • the gate insulating film is composed of an inorganic insulating film and an organic insulating film, but the organic insulating film is removed from at least a part of the portion overlapping with the storage capacitor electrode. You can also.
  • the organic insulating film may include at least one of acrylic resin, epoxy resin, polyimide resin, polyurethane resin, novolac resin, and siloxane resin.
  • the first to third pixel electrodes in the first to third pixel electrodes, at least a part of the first pixel electrode is close to the first scanning signal line, and at least a part of the third pixel electrode. Is close to the second scanning signal line, one end of the second pixel electrode is close to the first scanning signal line, and the other end is close to the second scanning signal line. It can also be set as the structure arranged so that it may adjoin.
  • the present active matrix substrate in the first to third pixel electrodes, at least a part of the second pixel electrode is close to the first scanning signal line, and at least a part of the third pixel electrode. Is close to the second scanning signal line, one end of the first pixel electrode is close to the first scanning signal line, and the other end is close to the second scanning signal line. It can also be set as the structure arranged so that it may adjoin.
  • the sub-pixel including the first pixel electrode when applied to a liquid crystal display device, is a bright sub-pixel, and the sub-pixel including the second pixel electrode is a dark sub-pixel.
  • the sub-pixel including the first and third pixel electrodes when applied to a liquid crystal display device, is a bright sub-pixel, and the sub-pixel including the second pixel electrode is a dark sub-pixel. It can also be set as the structure which becomes.
  • the sub-pixel including the first pixel electrode when applied to a liquid crystal display device, is a bright sub-pixel, and the sub-pixel including the second and third pixel electrodes is a dark sub-pixel. It can also be set as the structure which becomes.
  • a first data signal line, first to fourth scanning signal lines a first transistor connected to the first data signal line and the first scanning signal line, A second transistor connected to the first data signal line and the second scanning signal line; a third transistor connected to the first data signal line and the third scanning signal line; And a fourth transistor connected to the first data signal line and the fourth scanning signal line, and if the extending direction of the first data signal line is a column direction,
  • the first and second pixel electrodes are provided, and a third pixel electrode and a fourth pixel electrode are provided in a second pixel region adjacent to the first pixel region in the column direction, and the first and second pixel electrodes are provided.
  • the third and fourth pixel electrodes are connected via a capacitor, the first transistor is connected to the first pixel electrode, and the second transistor is connected to the second pixel electrode.
  • the third transistor may be connected to the third pixel electrode, and the fourth transistor may be connected to the fourth pixel electrode.
  • This liquid crystal display device is a liquid crystal display device in which one pixel includes a first subpixel and a second subpixel controlled to be equal to or lower than the luminance of the first subpixel, and includes a data signal line, First and second scanning signal lines; a first transistor connected to the data signal line and the first scanning signal line; and a second transistor connected to the data signal line and the second scanning signal line.
  • the first pixel electrode includes the first pixel electrode
  • the second pixel electrode is connected to the first pixel electrode via a capacitor and is connected to the data signal line via the second transistor.
  • the second scanning signal line is at least connected during display. Characterized in that it is round selection.
  • the present liquid crystal display device includes any one of the active matrix substrates described above, and the second scanning signal line is selected at least once during display.
  • the second pixel electrode capacitively coupled to the first pixel electrode connected to the data signal line via the first transistor is transferred to the data via the second transistor. Since it can be electrically connected to the signal line, the charge accumulated in the second pixel electrode can be discharged (refreshed). Therefore, it is possible to suppress the occurrence of burn-in of the sub-pixel including the second pixel electrode, and it is possible to suppress the display quality from being deteriorated.
  • a common electrode potential may be supplied to the data signal line when the second transistor is turned off.
  • the first transistor is turned on when the second transistor is turned off, or the first transistor is turned off simultaneously when the second transistor is turned off. It can also be.
  • the potentials of the first and second pixel electrodes can be substantially set to the common electrode potential.
  • the first gate on-pulse signal supplied to the first scanning signal line and the second gate on-pulse signal supplied to the second scanning signal line are the same horizontal. While being active within the scanning period, the second gate-on pulse signal has a pulse width less than the pulse width of the first gate-on pulse signal, and the first gate-on pulse signal is non-active. It can also be configured to become inactive before becoming active.
  • the first gate on-pulse signal supplied to the first scanning signal line and the second gate on-pulse signal supplied to the second scanning signal line should be displayed.
  • the signal potential of the data signal becomes active one horizontal scanning period before the period during which the first pixel electrode is supplied to the first pixel electrode, and the second gate on pulse signal is activated by the first gate on pulse signal. It may be configured to become inactive during the period.
  • a common electrode potential may be supplied at least twice to all the pixel electrodes in one pixel region in each frame.
  • the signal potential of the data signal to be displayed is supplied to the first pixel electrode, and after a lapse of 2/3 frame period, to all the pixel electrodes in one pixel region, A common electrode potential may be supplied at least twice.
  • the polarity of the signal potential of the data signal supplied to each data signal line is inverted every horizontal scanning period, and the polarity of the signal potential of the data signal is inverted for each predetermined period.
  • the supply of the data signal to the data signal line is cut off, the data signal lines are short-circuited to each other, and the first and second transistors can be in an on state within the predetermined period.
  • the present liquid crystal display device includes a scanning signal line driving circuit that drives each scanning signal line, and the first and second gate-on pulse signals supplied to the first and second scanning signal lines are the above-described scanning signals.
  • a configuration may also be adopted in which the output from the same stage of one shift register included in the signal line driver circuit is used.
  • the scanning signal line drive circuit includes the shift register, a plurality of logic circuits arranged in a column direction, and an output circuit, and the output of the shift register and the input to the logic circuit
  • the pulse widths of the first and second gate-on pulse signals output from the output circuit may be determined based on an output control signal that controls the output of the scanning signal line driving circuit.
  • the polarity of the signal potential supplied to the first pixel electrode can be reversed in units of one frame.
  • the polarity of the signal potential supplied to the first data signal line can be reversed every horizontal scanning period.
  • a signal potential having a reverse polarity may be supplied to each of the first data signal line and the adjacent data signal line in the same horizontal scanning period.
  • This liquid crystal panel includes the above active matrix substrate.
  • the present liquid crystal display unit includes the liquid crystal panel and a driver.
  • the liquid crystal display device includes the liquid crystal display unit and a light source device.
  • the present television receiver includes the above-described liquid crystal display device and a tuner unit that receives a television broadcast.
  • FIG. 4 is a plan view showing a configuration (specific example 1-1) of a liquid crystal panel 5a. It is a top view which shows the other structure of the liquid crystal panel 5a.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view showing a specific example of a cross section AB in FIG. 2.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view showing another specific example of the cross section AB in FIG. 2.
  • FIG. 7 is a cross-sectional view showing a specific example of a cross section AB in FIG. 6.
  • FIG. 7 is a cross-sectional view showing a specific example of a CD cross section of FIG.
  • FIG. 7 is a cross-sectional view showing another specific example of the cross section AB in FIG. 6. It is a top view which shows the other structure of the liquid crystal panel 5a. It is a top view which shows the other structure (specific example 1-3) of the liquid crystal panel 5a. It is a circuit diagram which shows the structure of the liquid crystal panel 5a of FIG. It is a timing chart which shows the drive method of the liquid crystal display device provided with liquid crystal panel 5a * 5b * 5c. It is a circuit diagram which shows the structure of the gate driver which drives liquid crystal panel 5a * 5b * 5c. 15 is a timing chart showing a method for driving the gate driver of FIG.
  • FIG. 7 is a plan view showing a configuration (specific example 2-1) of a liquid crystal panel 5b. It is a top view which shows the other structure of the liquid crystal panel 5b.
  • FIG. 11 is a plan view showing another configuration (specific example 2-2) of the liquid crystal panel 5b. It is a top view which shows the other structure of the liquid crystal panel 5b.
  • FIG. 11 is a plan view showing another configuration (specific example 2-3) of the liquid crystal panel 5b.
  • FIG. 29 is a cross-sectional view showing a specific example of a cross section AB in FIG. 28.
  • FIG. 29 is a cross-sectional view showing a specific example of the CD cross section of FIG. 28.
  • FIG. 29 is a cross-sectional view showing a specific example of the CD cross section of FIG. 28.
  • FIG. 11 is a plan view showing another configuration (specific example 2-4) of the liquid crystal panel 5b.
  • FIG. 32 is a circuit diagram showing a configuration of a liquid crystal panel 5b of FIG. 31. It is a circuit diagram which shows the structure of the liquid crystal panel 5c.
  • FIG. 7 is a plan view showing a configuration (specific example 3-1) of a liquid crystal panel 5c. It is a top view which shows the structure of the liquid crystal panel 5a of a MVA structure. It is the top view to which a part of liquid crystal panel 5a of FIG. 35 was expanded. It is a schematic diagram which shows the structure of this liquid crystal display unit and this liquid crystal display device, (a) shows the structure of this liquid crystal display unit, (b) shows the structure of this liquid crystal display device.
  • FIG. 10 is a circuit diagram showing still another configuration of a source driver. It is a block diagram explaining the whole structure of this liquid crystal display device. It is a block diagram explaining the function of this liquid crystal display device.
  • FIG. 26 is a block diagram illustrating functions of the present television receiver. It is a disassembled perspective view which shows the structure of this television receiver. It is a top view which shows the structure of the conventional liquid crystal panel. It is a top view which shows the structure of the conventional liquid crystal panel. It is a circuit diagram which shows the structure of the conventional liquid crystal panel. It is a top view which shows the other structure of the liquid crystal panel 5a of this invention.
  • the extending direction of the scanning signal lines is hereinafter referred to as the row direction.
  • the scanning signal line may extend in the horizontal direction or in the vertical direction. Needless to say.
  • the channel characteristics (n-type and p-type) of the transistor described in this embodiment are not particularly limited.
  • the configuration example of the liquid crystal panel of the present invention can be broadly divided into (1) a case having a storage capacitor wiring and (2) a case having no storage capacitor wiring (Cs on-gate structure). . Therefore, in the first embodiment, (1) a configuration example having a storage capacitor wiring will be described, and (2) a configuration example (Cs on-gate structure) having no storage capacitor wiring will be described in a second embodiment.
  • a configuration example of a liquid crystal panel having a Cs on-gate structure having a storage capacitor wiring and having both configurations will be described in Embodiment 3.
  • members having the same functions in the respective embodiments are denoted by the same reference numerals, and the terms defined in the first embodiment are the same as those in the second and third embodiments unless otherwise specified. Shall be used according to the definition.
  • FIG. 1 is an equivalent circuit diagram showing a part of the liquid crystal panel according to the first embodiment.
  • the liquid crystal panel 5a includes data signal lines (15x and 15X) extending in the column direction (up and down direction in the figure) and scanning signal lines (16a to 16f) extending in the row direction (left and right direction in the figure). ), Pixels (100 to 105) arranged in the row and column directions, storage capacitor lines (18x to 18z), and common electrode (counter electrode) com, and the structure of each pixel is the same. Note that a pixel column including the pixels 100 to 102 and a pixel column including the pixels 103 to 105 are adjacent to each other.
  • one data signal line and two scanning signal lines are provided corresponding to one pixel, and two pixel electrodes 17 c and 17 d provided in the pixel 100 and a pixel 101 are provided.
  • the two pixel electrodes 17 a and 17 b provided in the pixel 102 and the two pixel electrodes 17 e and 17 f provided in the pixel 102 are arranged in a line, and the two pixel electrodes 17 C and 17 D provided in the pixel 103 are provided in the pixel 104.
  • the two pixel electrodes 17A and 17B and the two pixel electrodes 17E and 17F provided in the pixel 105 are arranged in a line, the pixel electrodes 17c and 17C, the pixel electrodes 17d and 17D, the pixel electrodes 17a and 17A, and the pixel electrode 17b and 17B, pixel electrodes 17e and 17E, and pixel electrodes 17f and 17F are adjacent to each other in the row direction.
  • each pixel Since the structure of each pixel is the same, the following description will be given mainly using the pixel 101 as an example.
  • pixel electrodes 17a and 17b are connected via a coupling capacitor C101, and the pixel electrode 17a is connected to a scanning signal line 16a (first scanning signal line).
  • the transistor 12a (first transistor) is connected to the data signal line 15x, and the pixel electrode 17b is connected to the scanning signal line 16b (second scanning signal line) via the transistor 12b (second transistor).
  • a storage capacitor Cha is formed between the pixel electrode 17a and the storage capacitor line 18x
  • a storage capacitor Chb is formed between the pixel electrode 17b and the storage capacitor line 18x
  • the pixel electrode 17a and the common electrode com A liquid crystal capacitor Cla is formed between them
  • a liquid crystal capacitor C1b is formed between the pixel electrode 17b and the common electrode com.
  • the transistors 12a and 12b are formed so that the W / L ratio of the channel (the ratio of the channel width W to the channel length L; hereinafter referred to as “W / L ratio”) is substantially equal to each other. That is, since the sizes of the transistors of the liquid crystal panel 5a are substantially equal to each other, the characteristics of the transistors are substantially the same.
  • the potential of the pixel electrode 17b after the transistor 12a is turned off is Va ⁇ (C ⁇ / (C ⁇ + Co)).
  • the sub-pixel including the pixel electrode 17a is a bright sub-pixel (hereinafter “bright”), and the sub-pixel including the pixel electrode 17b is a dark sub-pixel (hereinafter “dark”).
  • a pixel division type liquid crystal display device can be realized.
  • the pixel electrodes 17a and 17b in one pixel 101 area are respectively connected to different scanning signal lines 16a and 16b. And connected to the data signal line 15x. Therefore, the same or different signal potential can be directly supplied to the pixel electrodes 17a and 17b via the transistors 12a and 12b. That is, for the pixel electrode 17b (hereinafter also referred to as “capacitive coupling electrode”) that is capacitively coupled to the pixel electrode 17a that is connected to the data signal line 15x via the transistor 12a, the data signal line 15x does not pass through the capacitance. The signal potential can be supplied from.
  • the supply timing of the signal potential supplied to the pixel electrodes 17a and 17b is arbitrary. Can also be set.
  • the capacitive coupling electrode (pixel electrode 17b) can be electrically connected to the data signal line (15x) by turning on the transistor 12b. Therefore, a signal potential can be supplied from the data signal line 15x to the pixel electrode 17b via the transistor 12b.
  • a signal potential for example, a Vcom signal
  • the signal potential (Vcom) may be supplied by a charge sharing method, or may be supplied to all data signal lines by turning on all transistors. Accordingly, since the signal potential (Vcom) is written to the pixel electrode 17b that is capacitively coupled, the charge accumulated in the pixel electrode can be discharged (refreshed). Therefore, it is possible to suppress the occurrence of burn-in of the sub-pixel including the pixel electrode.
  • the active matrix substrate can be configured with the same channel size.
  • deterioration in display quality due to variations in transistor characteristics can be suppressed.
  • the liquid crystal display device of the present invention mainly exhibits the above-described configuration and unique effects.
  • the specific example of the liquid crystal panel 5a which comprises the liquid crystal display device of this embodiment, and its drive method are demonstrated.
  • FIG. 1 A specific example 1-1 of the liquid crystal panel 5a is shown in FIG.
  • the data signal line 15x is provided along the pixel 100 and the pixel 101
  • the data signal line 15X is provided along the pixel 103 and the pixel 104
  • the storage capacitor wiring 18y is connected to the pixel 100.
  • the storage capacitor wiring 18x crosses the pixels 101 and 104, respectively.
  • the scanning signal line 16c is disposed so as to overlap with one of the two edge portions along the row direction of the pixel 100, and the scanning signal line 16d is disposed so as to overlap with the other.
  • Pixel electrodes 17c and 17d are arranged in the column direction between 16c and 16d.
  • the scanning signal line 16c overlaps one of the two edge portions along the row direction of the pixel 103, and the scanning signal line 16d overlaps the other, and the pixel between the scanning signal lines 16c and 16d is seen in plan view.
  • Electrodes 17C and 17D are arranged in the column direction.
  • the scanning signal line 16a is formed so as to overlap with one of the two edge portions along the row direction of the pixel 101, and the scanning signal line 16b is formed so as to overlap with the other, and the scanning signal line 16a is viewed in plan view.
  • pixel electrodes 17a and 17b are arranged in the column direction. Further, the scanning signal line 16a overlaps one of the two edge portions along the row direction of the pixel 104, and the scanning signal line 16b overlaps the other, and the pixel between the scanning signal lines 16a and 16b is seen in plan view. Electrodes 17A and 17B are arranged in the column direction.
  • the source electrode 8a and the drain electrode 9a of the transistor 12a are formed on the scanning signal line 16a, and the source electrode 8b and the drain electrode 9b of the transistor 12b are formed on the scanning signal line 16b.
  • the source electrode 8a is connected to the data signal line 15x.
  • the drain electrode 9a is connected to the drain lead wiring 27a, the drain lead wiring 27a is connected to the contact electrode 77a and the coupling capacitance electrode 37a, and the contact electrode 77a is connected to the pixel electrode 17a through the contact hole 11a and has a coupling capacitance.
  • the electrode 37a overlaps with the pixel electrode 17b via an interlayer insulating film, thereby forming a coupling capacitor C101 (see FIG. 1) between the pixel electrodes 17a and 17b.
  • the source electrode 8b of the transistor 12b is connected to the data signal line 15x.
  • the drain electrode 9b is connected to the drain lead wiring 27b, the drain lead wiring 27b is connected to the contact electrode 77b, and the contact electrode 77b is connected to the pixel electrode 17b through the contact hole 11b.
  • the coupling capacitor electrode 37a overlaps the storage capacitor line 18x through the gate insulating film, thereby forming a storage capacitor Cha (see FIG. 1), and holding between the pixel electrode 17b and the storage capacitor line 18x.
  • a capacitor Chb (see FIG. 1) is formed. Note that the configuration of other pixels (the shape, arrangement, and connection relationship of each member) is the same as that of the pixel 101.
  • the holding capacitor Chb may be formed with the configuration shown in FIG. That is, as shown in FIG. 3, the storage capacitor electrode 67b formed in the same layer as the coupling capacitor electrode 37a overlaps with the storage capacitor line 18x through the gate insulating film, and the pixel electrode 17b through the contact hole 11b ′. As a result, the storage capacitor Chb is formed.
  • the liquid crystal panel 5a includes an active matrix substrate 3, a color filter substrate 30 facing the active matrix substrate 3, and a liquid crystal layer 40 disposed between the substrates (3, 30).
  • the scanning signal lines 16a and 16b and the storage capacitor wiring 18x are formed on the glass substrate 31, and the inorganic gate insulating film 22 is formed so as to cover them.
  • the inorganic gate insulating film 22 there are a semiconductor layer 24 (i layer and n + layer), a source electrode 8a in contact with the n + layer, a drain electrode 9a, drain lead wires 27a and 27b, contact electrodes 77a and 77b, and a coupling capacitor electrode 37a.
  • An inorganic interlayer insulating film 25 is formed so as to cover them.
  • Pixel electrodes 17a and 17b are formed on the inorganic interlayer insulating film 25, and an alignment film (not shown) is formed so as to cover these (pixel electrodes 17a and 17b).
  • the contact holes 11a and 11b the inorganic interlayer insulating film 25 is penetrated, whereby the pixel electrode 17a and the contact electrode 77a are connected, and the pixel electrode 17b and the contact electrode 77b are connected.
  • the coupling capacitor electrode 37a connected to the drain lead wiring 27a overlaps the pixel electrode 17b through the inorganic interlayer insulating film 25, thereby forming the coupling capacitor C101 (see FIG. 1).
  • the coupling capacitor electrode 37a overlaps the storage capacitor line 18x with the inorganic gate insulating film 22 interposed therebetween, whereby a storage capacitor Cha (see FIG. 1) is formed, and between the pixel electrode 17b and the storage capacitor line 18x.
  • the storage capacitor Chb (see FIG. 1) is formed.
  • the black matrix 13 and the colored layer 14 are formed on the glass substrate 32, the common electrode (com) 28 is formed thereon, and an alignment film (not shown) is formed so as to cover this. Is formed.
  • a transparent insulating substrate such as glass or plastic
  • a metal film such as titanium, chromium, aluminum, molybdenum, tantalum, tungsten, copper, or an alloy film thereof or a laminated film thereof.
  • a method such as a sputtering method with a film thickness of 1000 to 3000 mm, and this is patterned into a necessary shape by a photo-etching method, so that a scanning signal line (functioning as a gate electrode of each transistor) is retained.
  • Capacitance wiring or the like is formed.
  • a silicon nitride film (SiNx) serving as a gate insulating film, a high resistance semiconductor layer made of amorphous silicon, polysilicon, or the like, and a low resistance semiconductor layer such as n + amorphous silicon are formed by a plasma CVD (chemical vapor deposition) method or the like.
  • a plasma CVD chemical vapor deposition
  • the silicon nitride film as the gate insulating film has a thickness of about 3000 to 5000 mm, for example, and the amorphous silicon film as the high resistance semiconductor layer has a film thickness of about 1000 to 3000 mm, for example, and n + as the low resistance semiconductor layer.
  • the amorphous silicon film has a thickness of about 400 to 700 mm, for example.
  • a metal film such as titanium, chromium, aluminum, molybdenum, tantalum, tungsten, copper, or an alloy film thereof, or a laminated film thereof is formed with a film thickness of 1000 to 3000 mm by a method such as sputtering, and photoetching is performed.
  • Data signal lines, source electrodes, drain electrodes, and the like are formed by patterning into a necessary shape by a method or the like.
  • a high resistance semiconductor layer such as an amorphous silicon film and a low resistance semiconductor layer (n + layer) such as an n + amorphous silicon film
  • patterns such as data signal lines, source electrodes, and drain electrodes are used as masks.
  • channel etching is performed by dry etching.
  • the film thickness of the i layer is optimized, and each transistor (channel region) is formed.
  • the semiconductor layer not covered with the mask is removed by etching, leaving the i-layer thickness necessary for the capability of each transistor.
  • an inorganic insulating film such as silicon nitride or silicon oxide is formed as an interlayer insulating film so as to cover the data signal line, the source electrode, the drain electrode, and the like.
  • a silicon nitride film (passivation film) having a thickness of about 2000 to 5000 mm is formed by plasma CVD or the like.
  • the interlayer insulating film is etched to form a hole.
  • the photosensitive resist is patterned by photolithography (exposure and development), and etching is performed.
  • a transparent conductive film such as ITO (Indium Tin Oxide), IZO, zinc oxide, tin oxide or the like is formed on the interlayer insulating film with a film thickness of about 1000 to 2000 mm by sputtering or the like.
  • the first and second pixel electrodes are formed in each pixel region by patterning this into a necessary shape by a photoetching method or the like.
  • an alignment film is applied by an inkjet method or the like so as to cover each pixel electrode.
  • the cross section AB in FIG. 4 may be configured as shown in FIG. That is, the thick organic gate insulating film 21 and the thin inorganic gate insulating film 22 are formed on the glass substrate 31, and the thin inorganic interlayer insulating film 25 and the thick organic interlayer insulating film 26 are formed below the pixel electrode. By doing so, the effects of reducing various parasitic capacitances and preventing short-circuiting between wirings can be obtained.
  • the portion of the organic gate insulating film 21 located below the coupling capacitance electrode 37a is penetrated, and the organic interlayer insulating film 26 is positioned on the coupling capacitance electrode 37a. It is preferable to pierce the part. In this way, the capacitance value of the coupling capacitor C101 and the capacitance values of the holding capacitors Cha and Chb can be increased.
  • the inorganic interlayer insulating film 25, the organic interlayer insulating film 26, and the contact holes 11a and 11b in FIG. 5 can be formed as follows. That is, after forming a transistor (TFT), an inorganic interlayer insulating film 25 (passivation film) made of SiNx having a thickness of about 3000 mm so as to cover the entire surface of the substrate using a mixed gas of SiH4 gas, NH3 gas, and N2 gas. Is formed by CVD. Thereafter, an organic interlayer insulating film 26 made of a positive photosensitive acrylic resin having a thickness of about 3 ⁇ m is formed by spin coating or die coating.
  • TFT transistor
  • an inorganic interlayer insulating film 25 (passivation film) made of SiNx having a thickness of about 3000 mm so as to cover the entire surface of the substrate using a mixed gas of SiH4 gas, NH3 gas, and N2 gas. Is formed by CVD.
  • a mixed gas of CF 4 gas and O 2 gas Is used to dry-etch the inorganic interlayer insulating film 25.
  • the penetration portion of the organic interlayer insulating film is half-exposed in the photolithography process so that the organic interlayer insulating film remains thin when development is completed, while the contact hole portion is By performing full exposure in the photolithography process, an organic interlayer insulating film is not left when development is completed.
  • the organic gate insulating film 21 and the organic interlayer insulating film 26 may be, for example, an insulating film made of a SOG (spin-on glass) material, and the organic gate insulating film 21 and the organic interlayer insulating film 26 are made of acrylic resin. , At least one of an epoxy resin, a polyimide resin, a polyurethane resin, a novolac resin, and a siloxane resin may be contained.
  • FIG. 6 A specific example 1-2 of the liquid crystal panel 5a is shown in FIG.
  • the data signal line 15x is provided along the pixel 100 and the pixel 101
  • the data signal line 15X is provided along the pixel 103 and the pixel 104, as in the liquid crystal panel of FIG.
  • the storage capacitor line 18y crosses the pixels 100 and 103
  • the storage capacitor line 18x crosses the pixels 101 and 104, respectively.
  • the scanning signal line 16c is disposed so as to overlap with one of the two edge portions along the row direction of the pixel 100, and the scanning signal line 16d is disposed so as to overlap with the other.
  • Pixel electrodes 17c, 17d, and 17c ′ (shown in FIG. 1 that the pixel electrodes 17c and 17c ′ are electrically connected to each other) are arranged in the column direction between 16c and 16d.
  • the scanning signal line 16c overlaps one of the two edge portions along the row direction of the pixel 103, and the scanning signal line 16d overlaps the other, and the pixel between the scanning signal lines 16c and 16d is seen in plan view.
  • Electrodes 17C, 17D, and 17C ′ are arranged in the column direction.
  • the scanning signal line 16a is formed so as to overlap with one of the two edge portions along the row direction of the pixel 101, and the scanning signal line 16b is formed so as to overlap with the other, and the scanning signal line 16a is viewed in plan view.
  • the scanning signal line 16a overlaps one of the two edge portions along the row direction of the pixel 104, and the scanning signal line 16b overlaps the other, and the pixel between the scanning signal lines 16a and 16b is seen in plan view. Electrodes 17A, 17B, and 17A 'are arranged in the column direction.
  • the source electrode 8a and the drain electrode 9a of the transistor 12a are formed on the scanning signal line 16a, and the source electrode 8b and the drain electrode 9b of the transistor 12b are formed on the scanning signal line 16b.
  • the source electrode 8a is connected to the data signal line 15x.
  • the drain electrode 9a is connected to the drain lead wiring 27a, the drain lead wiring 27a is connected to the contact electrode 77a and the coupling capacitance electrode 37a, and the contact electrode 77a is connected to the pixel electrode 17a through the contact hole 11a.
  • the coupling capacitor electrode 37a overlaps the pixel electrode 17b with an interlayer insulating film interposed therebetween, whereby a coupling capacitor C101 (see FIG. 1) between the pixel electrodes 17a and 17b is formed.
  • the source electrode 8b of the transistor 12b is connected to the data signal line 15x.
  • the drain electrode 9b is connected to the drain lead wiring 27b, the drain lead wiring 27b is connected to the contact electrode 77b, and the contact electrode 77b is connected to the pixel electrode 17b through the contact hole 11b.
  • the coupling capacitor electrode 37a overlaps the storage capacitor line 18x through the gate insulating film, thereby forming a storage capacitor Cha (see FIG. 1), and holding between the pixel electrode 17b and the storage capacitor line 18x.
  • a capacitor Chb (see FIG. 1) is formed.
  • a coupling capacitor electrode extending portion 27a ′ connected to the coupling capacitor electrode 37a is connected to the contact electrode 77a ′, and the contact electrode 77a ′ is connected to the pixel electrode 17a ′ (third pixel electrode) through the contact hole 11a ′. Connected. Note that the configuration of other pixels (the shape, arrangement, and connection relationship of each member) is the same as that of the pixel 101.
  • the subpixel including the pixel electrodes 17a and 17a ′ is “bright”, and the subpixel including the pixel electrode 17b is “dark”.
  • the liquid crystal panel 5a includes an active matrix substrate 3, a color filter substrate 30 facing the active matrix substrate 3, and a liquid crystal layer 40 disposed between the substrates (3, 30).
  • scanning signal lines 16a and 16b and a storage capacitor wiring 18x are formed on a glass substrate 31, and an inorganic gate insulating film 22 is formed so as to cover them.
  • an inorganic gate insulating film 22 On the inorganic gate insulating film 22, there are a semiconductor layer 24 (i layer and n + layer), a source electrode 8a in contact with the n + layer, a drain electrode 9a, drain lead wires 27a and 27b, contact electrodes 77a and 77b, and a coupling capacitor electrode 37a.
  • An inorganic interlayer insulating film 25 is formed so as to cover them.
  • Pixel electrodes 17a, 17b and 17a ' are formed on the inorganic interlayer insulating film 25, and an alignment film (not shown) is formed so as to cover these (pixel electrodes 17a, 17b and 17a').
  • the inorganic interlayer insulating film 25 is penetrated, whereby the pixel electrode 17a and the contact electrode 77a are connected, and the pixel electrode 17b and the contact electrode 77b are connected.
  • the coupling capacitor electrode 37a connected to the drain lead wiring 27a overlaps the pixel electrode 17b through the inorganic interlayer insulating film 25, thereby forming the coupling capacitor C101 (see FIG. 1).
  • the coupling capacitor electrode 37a overlaps the storage capacitor line 18x with the inorganic gate insulating film 22 interposed therebetween, whereby a storage capacitor Cha (see FIG. 1) is formed, and between the pixel electrode 17b and the storage capacitor line 18x.
  • the storage capacitor Chb (see FIG. 1) is formed.
  • the black matrix 13 and the colored layer 14 are formed on the glass substrate 32, the common electrode (com) 28 is formed thereon, and an alignment film (not shown) is formed so as to cover this. Is formed.
  • the coupling capacitance electrode extending portion 27a ′ drawn from the coupling capacitance electrode 37a is connected to the contact electrode 77a ′, and the contact electrode 77a ′ is connected to the pixel electrode 17a ′ via the contact hole 11a ′. Connected.
  • the cross section AB in FIG. 7 can be configured as shown in FIG. That is, the thick organic gate insulating film 21 and the thin inorganic gate insulating film 22 are formed on the glass substrate 31, and the thin inorganic interlayer insulating film 25 and the thick organic interlayer insulating film 26 are formed below the pixel electrode. By doing so, the effects of reducing various parasitic capacitances and preventing short-circuiting between wirings can be obtained.
  • the organic gate insulating film 21 is pierced through the portion located below the coupling capacitance electrode 37a, and the organic interlayer insulating film 26 is located on the coupling capacitance electrode 37a. It is preferable to pierce the part. In this way, the capacitance value of the coupling capacitor C101 and the capacitance values of the holding capacitors Cha and Chb can be increased.
  • the method for forming the inorganic interlayer insulating film 25, the organic interlayer insulating film 26 and the contact holes 11a and 11b in FIG. 9 is the same as the method shown in FIG.
  • the liquid crystal panel 5a is configured as shown in FIG.
  • the pixel electrode 17 a ′ is formed so as to overlap the scanning signal line 16 b through the inorganic interlayer insulating film 25 and the thick organic interlayer insulating film 26.
  • the parasitic capacitance between the pixel electrode 17a ′ and the scanning signal line 16b can be reduced, and in particular, the aperture ratio can be improved while suppressing an increase in the load on the scanning signal line 16b.
  • FIG. 1 Specific example of liquid crystal panel 1-3
  • FIG. 11 Specific example of liquid crystal panel 1-3
  • the liquid crystal panel 5a of FIG. 11 three pixel electrodes are formed in each pixel region.
  • the data signal line 15x is provided along the pixel 100 and the pixel 101
  • the data signal line 15X is provided along the pixel 103 and the pixel 104, as in the liquid crystal panel of FIG.
  • the storage capacitor line 18y crosses the pixels 100 and 103
  • the storage capacitor line 18x crosses the pixels 101 and 104, respectively.
  • the scanning signal line 16c is disposed so as to overlap with one of the two edge portions along the row direction of the pixel 100
  • the scanning signal line 16d is disposed so as to overlap with the other.
  • Pixel electrodes 17d, 17c, and 17d ′ are arranged in the column direction between 16c and 16d.
  • the scanning signal line 16c overlaps one of the two edge portions along the row direction of the pixel 103, and the scanning signal line 16d overlaps the other, and the pixel between the scanning signal lines 16c and 16d is seen in plan view.
  • Electrodes 17D, 17C, and 17D ′ are arranged in the column direction.
  • the scanning signal line 16a is formed so as to overlap with one of the two edge portions along the row direction of the pixel 101, and the scanning signal line 16b is formed so as to overlap with the other, and the scanning signal line 16a is viewed in plan view.
  • the scanning signal line 16a overlaps one of the two edge portions along the row direction of the pixel 104, and the scanning signal line 16b overlaps the other, and the pixel between the scanning signal lines 16a and 16b is seen in plan view. Electrodes 17B, 17A, and 17B 'are arranged in the column direction.
  • the source electrode 8a and the drain electrode 9a of the transistor 12a are formed on the scanning signal line 16a, and the source electrode 8b and the drain electrode 9b of the transistor 12b are formed on the scanning signal line 16b.
  • the source electrode 8a is connected to the data signal line 15x.
  • the drain electrode 9a is connected to the drain lead wiring 27a, the drain lead wiring 27a is connected to the coupling capacitor electrode 37a and the contact electrode 77a, and the contact electrode 77a is connected to the pixel electrode 17a through the contact hole 11a.
  • the coupling capacitor electrode 37a overlaps the pixel electrode 17b with an interlayer insulating film interposed therebetween, thereby forming a coupling capacitor C101 (see FIG. 12 described later) between the pixel electrodes 17a and 17b.
  • the source electrode 8b of the transistor 12b is connected to the data signal line 15x.
  • the drain electrode 9b is connected to the drain lead wiring 27b, the drain lead wiring 27b is connected to the contact electrode 77b ', and the contact electrode 77b' is connected to the pixel electrode 17b '(third pixel electrode) through the contact hole 11b'. Is done.
  • the drain lead wiring 27b is further connected to the contact electrode 77b, and the contact electrode 77b is connected to the pixel electrode 17b through the contact hole 11b.
  • the coupling capacitor electrode 37a overlaps the storage capacitor line 18x through the gate insulating film, thereby forming a storage capacitor Cha (see FIG. 12 described later), and between the pixel electrode 17b and the storage capacitor line 18x.
  • a storage capacitor Chb (see FIG. 12 described later) is formed. Note that the configuration of other pixels (the shape, arrangement, and connection relationship of each member) is the same as that of the pixel 101.
  • the sub-pixel including the pixel electrode 17a is “bright”, and the sub-pixel including the pixel electrodes 17b and 17b ′ is “dark”.
  • the equivalent circuit of the liquid crystal panel shown in FIG. 11 is as shown in FIG.
  • the structure of each pixel is the same, and one data signal line and two scanning signal lines are provided corresponding to one pixel, and the three pixel electrodes 17d, 17c,. 17d ′ (shown in FIG. 12 that the pixel electrodes 17d and 17d ′ are electrically connected to each other), the three pixel electrodes 17b, 17a, and 17b ′ provided in the pixel 101, and the pixel 102.
  • the three pixel electrodes 17f, 17e, and 17f ' are arranged in a line, and the three pixel electrodes 17D, 17C, and 17D' provided in the pixel 103 and the three pixel electrodes 17B, 17A, and 17 provided in the pixel 104 are arranged.
  • 17B 'and three pixel electrodes 17F, 17E, and 17F' provided in the pixel 105 are arranged in a line, and the pixel electrodes 17c and 17C and the pixel electrodes 17d (17d ') and 17D (17 '), Pixel electrodes 17a and 17A, pixel electrodes 17b (17b') and 17B (17B '), pixel electrodes 17e and 17E, and pixel electrodes 17f (17f') and 17F (17F ') are adjacent to each other in the row direction. ing.
  • the pixel electrodes 17a and 17b are connected via the coupling capacitor C101, and the pixel electrode 17a is connected to the data signal line 15x via the transistor 12a connected to the scanning signal line 16a.
  • the pixel electrodes 17b and 17b 'that are connected and electrically connected to each other are connected to the data signal line 15x via the transistor 12b connected to the scanning signal line 16b, and are held between the pixel electrode 17a and the storage capacitor line 18x.
  • a capacitor Cha is formed, a storage capacitor Chb is formed between the pixel electrode 17b and the storage capacitor wiring 18x, a liquid crystal capacitor Cla is formed between the pixel electrode 17a and the common electrode com, and between the pixel electrodes 17b and 17b ′ and the common electrode com A liquid crystal capacitor Clb is formed.
  • the liquid crystal panel of the present invention is not limited to the configuration in which the rectangular pixel electrodes are arranged in the column direction as described above, and may have a configuration as shown in FIG. .
  • FIG. 47 is a plan view showing a modification of the specific example 1-2 shown in FIG.
  • a transistor 12a is arranged in the vicinity of the intersection of the data signal line 15x and the scanning signal line 16a, and a pixel region defined by both signal lines (15x16a) and the scanning signal line 16b
  • the pixel electrodes 17b are arranged so as to correspond to (engage with) the shape of the pixel electrodes 17a and 17a ′.
  • the storage capacitor line 18x extends in the row direction across the pixel electrodes 17b and 17a '.
  • each of the pixel electrodes 17a, 17b, and 17a ′ has a part of the pixel electrode 17a close to the scanning signal line 16a and a part of the pixel electrode 17a ′ close to the scanning signal line 16b.
  • One end of the pixel electrode 17b is arranged close to the scanning signal line 16a, and the other end is arranged close to the scanning signal line 16b.
  • at least a part of each of the pixel electrodes 17a and 17a ' is disposed in proximity to each of the scanning signal lines 16a and 16b, and the pixel electrode 17b connects the scanning signal lines 16a and 16b to each other. It extends in the row direction. 47, since members having the same reference numerals as those shown in FIG. 6 have the same functions, description thereof is omitted here.
  • the subpixel including the pixel electrodes 17a and 17a ′ is “bright”, and the subpixel including the pixel electrode 17b is “dark”.
  • the lead lines from the transistors 12a and 12b can be reduced from the configuration shown in FIG.
  • the pixel electrodes 17a and 17a ' can be connected to each other through the coupling capacitor electrode 37a at positions close to each other, each lead-out wiring in the coupling capacitor electrode 37a can be reduced from the configuration shown in FIG. Therefore, in addition to the effect that the occurrence of burn-in of the sub-pixel including the pixel electrode 17b can be suppressed, the possibility of disconnection of the lead wiring can be reduced and the aperture ratio can be increased.
  • the liquid crystal panel of the present invention may have the configuration shown in FIG. FIG. 48 shows a modification of the specific example 1-3 shown in FIG.
  • the liquid crystal panel 5a of FIG. 48 at least a part of each of the trapezoidal pixel electrodes 17b and 17b ′ is disposed in proximity to the scanning signal lines 16a and 16b, and the shape of the pixel electrodes 17b and 17b ′.
  • the pixel electrodes 17a arranged so as to correspond to (mesh) are arranged extending in the column direction so as to connect the scanning signal lines 16a and 16b.
  • the sub-pixel including the pixel electrode 17a is “bright”, and the sub-pixel including the pixel electrodes 17b and 17b ′ is “dark”. And the effect that an aperture ratio can be raised like the liquid crystal panel 5a shown in FIG. 47 is acquired.
  • the first feature is that the transistor 12b connected to the capacitive coupling electrode is turned on at least once while the liquid crystal display device is in the on state.
  • the capacitive coupling electrode pixel electrode 17b
  • the capacitive coupling electrode can be electrically connected to the data signal line 15x, so that the accumulated charge can be discharged (refreshed).
  • the occurrence of burn-in of the subpixel including the electrode can be suppressed.
  • the transistor 12b is turned on at least once while the liquid crystal display device is on, and the transistor 12b is turned off while Vcom is supplied to the data signal line 15x. is there.
  • the potential of the pixel electrode 17b can be set to Vcom, it is possible to prevent the display quality from being deteriorated in addition to the above-described discharge effect.
  • the transistor 12b connected to the pixel electrode 17b is turned off. That is, when the transistor 12b is turned off, the transistor 12a is in an on state, and Vcom is supplied to the pixel electrode 17a.
  • the potential of the pixel electrode in one pixel region can be reset before writing a normal signal potential to the pixel electrode 17a. That is, the potential of the capacitively coupled pixel electrode 17b can be fixed to Vcom.
  • the charges accumulated in the pixel electrode 17b can be reliably discharged, and the display quality can be prevented from deteriorating.
  • FIG. 13 is a timing chart showing a driving method of the present liquid crystal display device including the liquid crystal panel 5a described above.
  • Sv and SV indicate signal potentials supplied to two adjacent data signal lines (for example, 15x and 15X), and Ga to Gf are gate-on pulse signals supplied to the scanning signal lines 16a to 16f.
  • Vc, Vd, Va, Vb, VC, and VD represent the potentials of the pixel electrodes 17c, 17d, 17a, 17b, 17C, and 17D, respectively, and sh represents a charge share signal. Note that during a period in which the charge share signal is active (“H”), all the data signal lines are short-circuited to each other, or the same potential is supplied to all the data signal lines from the outside, whereby charge sharing is performed.
  • H charge share signal
  • the polarity of the signal potential supplied to the data signal line is inverted every horizontal scanning period (1H) and supplied during the same horizontal scanning period in each frame.
  • the polarity of the signal potential is inverted in units of one frame, and signal potentials having opposite polarities are supplied to two adjacent data signal lines in the same horizontal scanning period, and charge sharing is performed at the beginning of each horizontal scanning period. .
  • the upper and lower scanning signal lines corresponding to one pixel are sequentially selected (for example, scanning signal lines 16c and 16d ⁇ scanning signal lines 16a and 16b ⁇ Scanning signal lines 16e and 16f (see FIG. 1)) and one of the two adjacent data signal lines (for example, the data signal line 15x) has a first horizontal scanning period (for example, the pixel electrodes 17c and 17d).
  • a positive polarity signal potential is supplied during the second horizontal scanning period (for example, a writing period for the pixel electrodes 17a and 17b), and a negative polarity signal potential is supplied during the third horizontal scanning period (including the writing period).
  • a positive signal potential is supplied to the pixel electrodes 17e and 17f), and the other of the two data signal lines (for example, the data signal line 15X) is supplied to the other.
  • a negative-polarity signal potential is supplied in the first horizontal scanning period (for example, including the writing period of the pixel electrodes 17C and 17D), and positive in the second horizontal scanning period (for example, including the writing period of the pixel electrodes 17A and 17B).
  • a signal potential having a polarity is supplied, and a signal potential having a negative polarity is supplied in a third horizontal scanning period (for example, including a writing period of the pixel electrodes 17E and 17F). Note that at the beginning of each horizontal scanning period, a charge share potential (Vcom) is supplied.
  • Vcom charge share potential
  • the writing period to each pixel electrode connected to each of the two scanning signal lines corresponding to one pixel is set to be different from each other. Specifically, in FIG. 1, a period during which a positive signal potential is written to the pixel electrode 17c when the scanning signal line 16c is selected, and Vcom is applied to the pixel electrode 17d when the scanning signal line 16d is selected.
  • the period in which the signal potential is written is longer than the period in which the signal potential of negative polarity is written to the pixel electrode 17a by selecting the scanning signal line 16a, and the pixel electrode is selected by selecting the scanning signal line 16b. It is longer than the period during which the signal potential Vcom is written to 17b.
  • the writing operation to each pixel electrode in one pixel is performed within the same horizontal scanning period, and the timing at which the writing operation (active period) to each pixel electrode ends is shorter when the writing period is shorter. Is set to end before the longer one.
  • the writing operation to the pixel electrode 17d ends before the timing at which the writing operation to the pixel electrode 17c ends, and the writing operation to the pixel electrode 17D ends the writing operation to the pixel electrode 17C.
  • the write operation to the pixel electrode 17b ends before the timing at which the write operation to the pixel electrode 17a ends.
  • the gate-on pulse signal (second gate-on pulse signal) supplied to the scanning signal line connected to the pixel electrode to be capacitively coupled has a pulse width that is applied to the pixel electrode to which a normal signal potential is written. It is less than the pulse width of the gate on pulse signal (first gate on pulse signal) supplied to the connected scanning signal line, and the first gate on pulse signal is inactive as the second gate on pulse signal.
  • the pulse width is set so that it becomes inactive before becoming. Accordingly, the subpixel including the pixel electrode 17c (positive polarity) is “bright”, the subpixel including the pixel electrode 17d (positive polarity) is “dark”, and the subpixel including the pixel electrode 17C (negative polarity) is “bright”.
  • the sub-pixel including the pixel electrode 17D (minus polarity) is “dark”, the sub-pixel including the pixel electrode 17a (minus polarity) is “bright”, and the sub-pixel including the pixel electrode 17b (minus polarity) is “dark”. .
  • the subpixel including the pixel electrode 17c (minus polarity) is “bright”
  • the subpixel including the pixel electrode 17d (minus polarity) is “dark”
  • the subpixel including the pixel electrode 17C (plus polarity) is “bright”.
  • the subpixel including the pixel electrode 17D (plus polarity) is “dark”
  • the subpixel including the pixel electrode 17a (plus polarity) is “bright”
  • the subpixel including the pixel electrode 17b (plus polarity) is “dark”.
  • subsequent frames F3 and F4 the operations of F1 and F2 are repeated.
  • the pixel electrodes (15x, 15X) connected to the data signal lines (15x, 15X) via the transistors (12c, 12a, 12C, 12A in FIGS. 1 and 2). 17c, 17a, 17C, and 17A) to the pixel electrodes (pixel electrodes 17d, 17b, 17D, and 17B) that are capacitively coupled to the pixel electrodes (17c, 17a, 17C, and 17A) to which normal writing is performed. Since the signal potential can be individually supplied at a timing different from the supply, a pixel division type liquid crystal display device can be realized.
  • the pixel electrode potential is reset to Vcom before writing the normal signal potential. can do.
  • the charge accumulated in the capacitively coupled pixel electrode can be discharged (refreshed), so that the occurrence of burn-in of the subpixel including the capacitively coupled pixel electrode can be suppressed, and the display quality can be improved. Decline can be prevented.
  • the driving method shown in FIG. 13 may be the driving method shown in FIG. That is, the second gate-on pulse signal (Gd, Gb, Gf) is set so that its pulse width is wider than the charge share period (sh pulse width).
  • the signal potential of Vcom is written to the pixel electrodes (17d, 17b, 17f) that are capacitively coupled to the pixel electrodes (17c, 17a, 17e) where normal writing is performed during the charge sharing period.
  • a normal signal potential written to the pixel electrodes (17c, 17a, 17e) is supplied for a predetermined period. Thereby, the effect that the brightness
  • the liquid crystal display device can be set to an arbitrary display luminance.
  • FIG. 14 is a circuit diagram showing a configuration of a gate driver of the present liquid crystal display device for realizing the driving shown in FIG.
  • the gate driver GD includes a shift register 45, a plurality of AND circuits (66a to 66f) arranged in the column direction, and an output circuit 46.
  • the shift register 45 receives the gate start pulse signal GSP and the gate clock signal GCK.
  • the output of each stage of the shift register 45 is divided into two systems, one of which is input to the odd-numbered AND circuit, and the other is input to the even-numbered AND circuit adjacent thereto.
  • the gate driver output control signal GOE is composed of two systems of signals (OEx ⁇ OEy).
  • An inverted signal of the signal OEx is input to the odd-numbered AND circuit, and an inverted signal of the signal OEy is input to the even-numbered AND circuit.
  • the output of one AND circuit becomes a gate-on pulse signal through the output circuit 46 and is supplied to one scanning signal line.
  • the output from a certain stage of the shift register 45 is divided into two systems, one Qc of which is input to the AND circuit 66c, and the other Qd is input to the AND circuit 66d. Further, an inverted signal of the signal OEx is input to the AND circuit 66c, and an inverted signal of the signal OEy is input to the AND circuit 66d.
  • the output of the AND circuit 66c passes through the output circuit 46 to become a gate-on pulse signal Gc and is supplied to the scanning signal line 16c. Further, the output of the AND circuit 66d becomes a gate-on pulse signal Gd through the output circuit 46, and is supplied to the scanning signal line 16d.
  • the output from the other stage of the shift register 45 is divided into two systems, one of which is input to the AND circuit 66a, and the other Qb is input to the AND circuit 66b. Further, an inverted signal of the signal OEx is input to the AND circuit 66a, and an inverted signal of the signal OEy is input to the AND circuit 66b.
  • the output of the AND circuit 66a passes through the output circuit 46 and becomes a gate-on pulse signal Ga, which is supplied to the scanning signal line 16a. Further, the output of the AND circuit 66b becomes a gate-on pulse signal Gb through the output circuit 46, and is supplied to the scanning signal line 16b.
  • FIG. 15 is a timing chart showing the operation of the gate driver of FIG.
  • the signal OEx is always “L” in each frame, while the signal OEy is “L” at the front end of each horizontal scanning period. Note that the signal OEx does not always have to be “L”. For example, when the fall of the waveform of the gate-on pulse is dull and overlaps with the next horizontal scanning period, “ H ”may be used.
  • the gate-on pulse signals Gc, Ga, and Ge can be sequentially set to “H” (active), and at the same time, the gate-on pulse signals Gd, Gb, and Gf can be sequentially set to “H” (active).
  • the gate on pulse signals Gc, Ga, and Ge and the gate on pulse signals Gd, Gb, and Gf have different gate on pulse (write pulse) widths (“H” period (active period)). be able to. As a result, driving as shown in FIG. 13 is realized.
  • one gate on pulse signal supplied to each of the two scanning signal lines corresponding to one pixel is provided. It can be generated using the output from the same stage of the shift register, and the effect that the driver configuration can be simplified can be obtained.
  • FIG. 16 is a timing chart showing another driving method of the present liquid crystal display device.
  • Each symbol shown in this figure is the same as the symbol shown in FIG.
  • the polarity of the signal potential supplied to the data signal line is inverted every horizontal scanning period (1H), and at the same horizontal scanning period in each frame.
  • the polarity of the supplied signal potential is inverted in units of one frame, and in the same horizontal scanning period, a signal potential of opposite polarity is supplied to two adjacent data signal lines, and charge sharing is performed at the beginning of each horizontal scanning period. Is going.
  • the upper and lower scanning signal lines corresponding to one pixel are sequentially selected (for example, scanning signal lines 16c and 16d ⁇ scanning signal lines 16a and 16b ( 1)) and a positive signal potential is supplied to one of the two adjacent data signal lines (for example, the data signal line 15x) during the n-th horizontal scanning period, and at the beginning, Vcom A signal is supplied, a negative-polarity signal potential is supplied during the (n + 1) th horizontal scanning period (for example, including the writing period of the pixel electrode 17c), and at the beginning, a Vcom signal is supplied, and the (n + 2) th In the horizontal scanning period (for example, including the writing period of the pixel electrode 17a), a positive signal potential is supplied, and at the beginning, the Vcom signal Supplies.
  • the other of the two data signal lines (for example, the data signal line 15X) is supplied with a negative-polarity signal potential during the nth horizontal scanning period, and at the beginning thereof is supplied with a Vcom signal, and (n + 1) A positive polarity signal potential is supplied in the first horizontal scanning period (for example, including the writing period of the pixel electrode 17C), and at the beginning, the Vcom signal is supplied, and the (n + 2) th horizontal scanning period (for example, the pixel electrode) A negative-polarity signal potential is supplied during the 17A writing period), and the Vcom signal is supplied at the beginning.
  • the subpixel including the pixel electrode 17c (minus polarity) is “bright”
  • the subpixel including the pixel electrode 17d (minus polarity) is “dark”
  • the subpixel including the pixel electrode 17C (plus polarity) is “bright”.
  • the sub-pixel including the pixel electrode 17D (plus polarity) is “dark”
  • the sub-pixel including the pixel electrode 17a (plus polarity) is “bright”
  • the sub-pixel including the pixel electrode 17b (plus polarity) is “dark”.
  • the transistors 12a and 12b are both turned on and written in the normal signal potential one horizontal scanning period (n + 1) before the horizontal scanning period (n + 2) in which the normal writing is performed.
  • Vcom is supplied to the pixel electrode 17a and the pixel electrode 17b that is capacitively coupled to the pixel electrode 17a.
  • the transistors 12a and 12b are both turned off during the period in which Vcom is supplied.
  • the negative polarity signal potential supplied to the data signal line 15x in the (n + 1) th horizontal scanning period is supplied as a normal write signal to the previous pixel electrode 17c, while the pixel electrode in the pixel 101 is supplied. 17a is not supplied.
  • the transistor 12a is turned on, and Vcom is supplied to the pixel electrode 17a at the beginning, and then a positive polarity signal potential as a normal writing signal is supplied.
  • the subpixel including the pixel electrode 17c (minus polarity) is “bright”
  • the subpixel including the pixel electrode 17d (minus polarity) is “dark”
  • the subpixel is “bright”
  • the subpixel including the pixel electrode 17D (plus polarity) is “dark”
  • the subpixel including the pixel electrode 17a (plus polarity) is “bright”
  • the subpixel including the pixel electrode 17b (plus polarity) Becomes “dark”.
  • the subpixel including the pixel electrode 17c positive polarity
  • the subpixel including the pixel electrode 17d positive polarity
  • the subpixel including the pixel electrode 17C negative polarity
  • the subpixel including the pixel electrode 17D minus polarity
  • the subpixel including the pixel electrode 17a is “bright”
  • the subpixel including the pixel electrode 17b is “dark”.
  • Vcom is supplied from the data signal line 15x to the pixel electrodes 17a and 17b when the transistor 12b is turned off. That is, the potential of the pixel electrodes 17a and 17b can be fixed (reset) to Vcom at the time when the normal signal potential is written to the pixel electrode 17a. As a result, the charge accumulated in the capacitive coupling electrode (pixel electrode 17b) can be reliably discharged, and the display quality can be prevented from deteriorating.
  • the reset operation is performed before one horizontal scanning period (1H) of the horizontal scanning period in which normal writing is performed.
  • the timing of performing the reset operation is particularly limited. It may be before 2H or before that.
  • the number of reset operations is not limited to one, and may be a plurality of times.
  • the driving method shown in FIG. 16 may be the driving method shown in FIG. That is, in the horizontal scanning period in which normal writing is performed, the second gate-on pulse signals (Gd, Gb, Gf) are set to be at a high level (H level) for a predetermined period. Specifically, in FIG. 52, the second gate-on pulse signal rises in synchronization with the timing when the charge share signal (sh) becomes low level (L level), and maintains the high level state for a predetermined period.
  • the first gate on pulse signal (Gc, Ga, Ge) falls before falling.
  • the pixel electrodes (17d, 17b, and 17f) that are capacitively coupled to the pixel electrodes (17c, 17a, and 17e) to which normal writing is performed are applied in the horizontal scanning period in which normal writing is performed.
  • a normal signal potential written to the pixel electrodes (17c, 17a, 17e) is supplied for a predetermined period.
  • the high-level period of the second gate-on pulse signal is adjusted, so that the pixel electrode (17c, 17a, 17e) connected to the data signal line is connected via the transistor.
  • the liquid crystal display device can be set to an arbitrary display brightness.
  • the high level period of the second gate-on pulse signal is not limited to the example shown in FIG. 52, and at least in the low level period of the charge share signal, the pixel electrode (17c, 17a, 17e) is normal. It is sufficient that the signal potential is set to be shorter than the period during which the signal potential is written.
  • FIG. 17 is a circuit diagram showing a configuration of a gate driver of the present liquid crystal display device for realizing the driving shown in FIG.
  • the gate driver GD includes a shift register 45, a plurality of AND circuits (66a to 66f) arranged in the column direction, and an output circuit 46.
  • the shift register 45 receives the gate start pulse signal GSP and the gate clock signal GCK.
  • the output of each stage of the shift register 45 is divided into two systems, one of which is input to the odd-numbered AND circuit, and the other is input to the even-numbered AND circuit adjacent thereto.
  • the gate driver output control signal GOE is composed of four signals (OEx1, OEx2, OEy1, and OEy2).
  • Inverted signals of the signals OEx1 and OEx2 are sequentially input to odd-numbered AND circuits, and even-numbered AND circuits. Inverted signals of the signals OEy1 and OEy2 are alternately input. The output of one AND circuit becomes a gate-on pulse signal through the output circuit 46 and is supplied to one scanning signal line.
  • the output from a certain stage of the shift register 45 is divided into two systems, one Qc of which is input to the AND circuit 66c, and the other Qd is input to the AND circuit 66d. Further, an inverted signal of the signal OEx1 is input to the AND circuit 66c, and an inverted signal of the signal OEy1 is input to the AND circuit 66d.
  • the output of the AND circuit 66c passes through the output circuit 46 to become a gate-on pulse signal Gc and is supplied to the scanning signal line 16c. Further, the output of the AND circuit 66d becomes a gate-on pulse signal Gd through the output circuit 46, and is supplied to the scanning signal line 16d.
  • the output from the other stage of the shift register 45 is divided into two systems, one of which is input to the AND circuit 66a, and the other Qb is input to the AND circuit 66b. Further, an inverted signal of the signal OEx2 is input to the AND circuit 66a, and an inverted signal of the signal OEy2 is input to the AND circuit 66b.
  • the output of the AND circuit 66a passes through the output circuit 46 and becomes a gate-on pulse signal Ga, which is supplied to the scanning signal line 16a. Further, the output of the AND circuit 66b becomes a gate-on pulse signal Gb through the output circuit 46, and is supplied to the scanning signal line 16b.
  • FIG. 18 is a timing chart showing the operation of the gate driver of FIG.
  • the signals OEx1 and OEx2 are configured in units of two horizontal scanning periods (2H), and become “L” in 1H of 2H, while the front end portion is in other 1H. “L” and the remaining portion become “H” (active).
  • the signals OEx1 and OEx2 are shifted from each other by 1H.
  • the signals OEy1 and OEy2 are each configured in units of two horizontal scanning periods (2H). In 1H of 2H, the front end portion is “L” and the remaining portion is “H” (active), while the other 1H Then, it becomes “H”.
  • the signals OEy1 and OEy2 are shifted from each other by 1H.
  • As the output Q of the shift register 45 a signal which becomes “H” for two horizontal scanning periods is sequentially output from each stage. Thereby, driving as shown in FIG. 16 is realized.
  • FIG. 19 is a timing chart showing another driving method of the present liquid crystal display device.
  • the driving method-2 after Vcom is supplied to the pixel electrodes 17a and 17b one horizontal scanning period before normal writing, both the transistors 12a and 12b are turned off until normal writing to the pixel electrode 17a is performed. It is in a state.
  • this driving method after supplying Vcom to the pixel electrodes 17a and 17b before one horizontal scanning period of normal writing, only the transistor 12b is turned off, and the transistor 12a remains turned on. A signal potential is supplied to the electrode 17a.
  • description of the contents overlapping with those of the driving method -2 will be omitted, and will be specifically described by taking the pixel 101 as an example, focusing on the differences.
  • the transistors 12a and 12b are both turned on one pixel before the horizontal scanning period (n + 2) in which normal writing is performed (n + 1), and the pixel electrode 17a to which the normal signal potential is written. Then, Vcom is supplied to the pixel electrode 17b that is capacitively coupled to the pixel electrode 17a. Then, only the transistor 12b is turned off during the period in which Vcom is supplied.
  • the negative polarity signal potential supplied to the data signal line 15x in the (n + 1) th horizontal scanning period is supplied as a normal write signal to the previous pixel electrode 17c, while the pixel electrode in the pixel 101 is supplied. The same signal potential is also supplied to 17a.
  • the data signal (signal potential) for the pixel electrode 17c in the previous stage is written to the pixel electrode 17a 1H before normal writing. Since the transistor 12a remains on, in the next (n + 2) th horizontal scanning period, after Vcom is supplied to the pixel electrode 17a at the beginning, a positive polarity signal potential is supplied as a normal writing signal. Is done.
  • Vcom is supplied from the data signal line 15x to the pixel electrodes 17a and 17b when the transistor 12b is turned off, as in the driving method-2. That is, the potential of the pixel electrodes 17a and 17b can be fixed (reset) to Vcom at the time when the normal signal potential is written to the pixel electrode 17a. Therefore, even if the signal potential that is not a regular signal potential is supplied to the pixel electrode 17a after the potentials of the pixel electrodes 17a and 17b once become Vcom, the sum of the respective capacitances in the pixel electrodes 17a and 17b does not change. . As a result, the charge accumulated in the capacitive coupling electrode (pixel electrode 17b) can be reliably discharged, and the display quality can be prevented from deteriorating.
  • FIG. 20 is a circuit diagram showing a configuration of a gate driver of the present liquid crystal display device for realizing the driving shown in FIG.
  • the gate driver GD includes a shift register 45, a plurality of AND circuits (66a to 66f) arranged in the column direction, and an output circuit 46.
  • the shift register 45 receives the gate start pulse signal GSP and the gate clock signal GCK.
  • the output of each stage of the shift register 45 is divided into two systems, one of which is input to the odd-numbered AND circuit, and the other is input to the even-numbered AND circuit adjacent thereto.
  • the gate driver output control signal GOE is composed of three systems of signals (OEx, OEy1, and OEy2).
  • An inverted signal of the signal OEx is input to the odd-numbered AND circuit, and the signals OEy1 and OEy2 are sequentially input to the even-numbered AND circuit. Inverted signals are alternately input.
  • the output of one AND circuit becomes a gate-on pulse signal through the output circuit 46 and is supplied to one scanning signal line.
  • the output from a certain stage of the shift register 45 is divided into two systems, one Qc of which is input to the AND circuit 66c, and the other Qd is input to the AND circuit 66d. Further, an inverted signal of the signal OEx is input to the AND circuit 66c, and an inverted signal of the signal OEy1 is input to the AND circuit 66d.
  • the output of the AND circuit 66c passes through the output circuit 46 to become a gate-on pulse signal Gc and is supplied to the scanning signal line 16c. Further, the output of the AND circuit 66d becomes a gate-on pulse signal Gd through the output circuit 46, and is supplied to the scanning signal line 16d.
  • the output from the other stage of the shift register 45 is divided into two systems, one of which is input to the AND circuit 66a, and the other Qb is input to the AND circuit 66b. Further, an inverted signal of the signal OEx is input to the AND circuit 66a, and an inverted signal of the signal OEy2 is input to the AND circuit 66b.
  • the output of the AND circuit 66a passes through the output circuit 46 and becomes a gate-on pulse signal Ga, which is supplied to the scanning signal line 16a. Further, the output of the AND circuit 66b becomes a gate-on pulse signal Gb through the output circuit 46, and is supplied to the scanning signal line 16b.
  • FIG. 21 is a timing chart showing the operation of the gate driver of FIG.
  • the signal OEx is always “L” in each frame.
  • the signal OEx does not always have to be “L”.
  • L may be used.
  • the signals OEy1 and OEy2 are each configured in units of two horizontal scanning periods (2H). In 1H of 2H, the front end portion is “L” and the remaining portion is “H” (active), while the other 1H Then, it becomes “H” (active).
  • the signals OEy1 and OEy2 are shifted from each other by 1H.
  • As the output Q of the shift register 45 a signal which becomes “H” for two horizontal scanning periods is sequentially output from each stage. Thereby, driving as shown in FIG. 19 is realized.
  • FIG. 22 is a timing chart showing another driving method of the present liquid crystal display device.
  • Each symbol shown in this figure is the same as the symbol shown in FIG.
  • the polarity of the signal potential supplied to the data signal line is inverted every horizontal scanning period (1H), and at the same horizontal scanning period in each frame.
  • the polarity of the supplied signal potential is inverted in units of one frame, and in the same horizontal scanning period, a signal potential of opposite polarity is supplied to two adjacent data signal lines, and charge sharing is performed at the beginning of each horizontal scanning period. Is going.
  • a normal signal potential is written to the pixel electrodes (pixel electrodes 17a, 17c, 17e, 17A, 17C, and 17E in FIG. 1) for a predetermined period (for example, one vertical scan).
  • a predetermined period for example, one vertical scan.
  • the pixel electrodes (17a, 17c, 17e, 17A, 17C, and 17E), and capacitive coupling electrodes A signal potential (Vcom) for charge discharge (refresh) is supplied to the pixel electrodes 17b, 17d, 17f, 17B, 17D, and 17F in FIG.
  • one of the upper and lower scanning signal lines corresponding to one pixel is sequentially selected (for example, scanning signal line 16c ⁇ scanning signal line 16a ⁇ scanning signal line). 16e (see FIG. 1)), and one of the two adjacent data signal lines (for example, the data signal line 15x) is included in the first horizontal scanning period (for example, including the writing period of the pixel electrodes 17c and 17d).
  • a positive-polarity signal potential is supplied, a negative-polarity signal potential is supplied during the second horizontal scanning period (for example, including the writing period of the pixel electrodes 17a and 17b), and a third horizontal scanning period (for example, the pixel electrode 17e).
  • a signal potential having a positive polarity is supplied.
  • the other of the two data signal lines (for example, the data signal line 15X) is supplied with a negative polarity signal potential in the first horizontal scanning period (for example, including the writing period of the pixel electrodes 17C and 17D).
  • a signal potential having a positive polarity is supplied in the third horizontal scanning period (for example, including the writing period of the pixel electrodes 17A and 17B), and a negative polarity is supplied in the third horizontal scanning period (for example, including the writing period of the pixel electrodes 17E and 17F).
  • the signal potential is supplied. Note that at the beginning of each horizontal scanning period, a charge share potential (Vcom) is supplied.
  • the upper and lower scanning signal lines corresponding to one pixel are sequentially selected (for example, scanning signal lines 16c and 16d ⁇ scanning signal lines 16a and 16b ⁇ scanning).
  • Signal lines 16e and 16f (see FIG. 1)), and Vcom is supplied to corresponding data signal lines (for example, data signal lines 15x and 15X).
  • the data signal line 15 x connected to the source terminal of the transistor 12 a while the transistor 12 a is turned on by the pixel data write pulse Pw included in the gate-on pulse signal Ga.
  • the potential is supplied to the pixel electrode 17a through the transistor 12a.
  • the data signal Sv as the voltage of the data signal line 15x is written to the pixel electrode 17a.
  • the black voltage application pulse Pb is supplied to the gate terminals of the transistor 12a and the transistor 12b, respectively, so that the pixel electrode 17a is connected to the transistor 12a while the transistors 12a and 12b are on.
  • the pixel electrode 17b is connected to the data signal line 15x via the transistor 12b. As a result, the accumulated charge in the pixel capacitance of the pixel electrode 17b is discharged, and the pixel capacitance of the pixel electrodes 17a and 17b is applied with a black voltage (Vcom).
  • Vcom black voltage
  • the pixel 101 during the image display period Tdp, the voltage corresponding to the potential of the data signal line 15x supplied to the pixel electrode 17a via the transistor 12a is held in the pixel capacitor, so that the pixel 101 is based on the digital image signal. Display pixels are formed.
  • the black voltage application pulse Pb appears in the gate-on pulse signals Ga and Gb respectively applied to the gate terminals of the transistors 12a and 12b, until the next pixel data write pulse Pw appears in the gate-on pulse signal Ga.
  • Tbk In the period (remaining period excluding the image display period Tdp from one frame (1V) period) Tbk, a black pixel is formed by holding the black voltage (Vcom) in the pixel capacitance.
  • the pulse width of the black voltage application pulse Pb is short, at least two, preferably 3 at intervals of one horizontal scanning period (1H) in each frame period in order to ensure that the holding voltage in the pixel capacitor is a black voltage.
  • One or more black voltage application pulses Pb are continuously applied to the scanning signal line. In FIG. 22, three black voltage application pulses Pb appear continuously at intervals of one horizontal scanning period (1H) in one frame period (1V).
  • a black display period is inserted for each display line, so that the display is impulsed while suppressing the complexity of the driving circuit and the increase of the operating frequency.
  • the liquid crystal panel in the case where two pixel electrodes (for example, the pixel electrodes 17a and 17b) are formed in one pixel (for example, the pixel 101) is taken as an example.
  • the pixel electrode 17a ′ is electrically connected to the pixel electrode 17a, and the potential fluctuation of the pixel electrode 17a ′ is the same as the potential fluctuation of the pixel electrode 17a. Therefore, not only the number of pixel electrodes formed in one pixel but also the above driving method can be applied.
  • Each drive method employs a charge sharing method, but is not limited to this.
  • Other methods include, for example, a period in which all transistors are turned on in one frame period, and this on period.
  • Vcom may be supplied to all data signal lines.
  • FIG. 23 is an equivalent circuit diagram showing a part of the present liquid crystal panel according to the second embodiment.
  • the liquid crystal panel 5b includes data signal lines (15x and 15X) extending in the column direction (up and down direction in the drawing) and scanning signal lines (16a to 16f) extending in the row direction (left and right direction in the drawing). ), Pixels (100 to 105) arranged in the row and column directions, and a common electrode (counter electrode) com, and the structure of each pixel is the same. Note that a pixel column including the pixels 100 to 102 and a pixel column including the pixels 103 to 105 are adjacent to each other. Since the liquid crystal panel 5b has a Cs on-gate structure, there is an advantage that the storage capacitor wiring (18x to 18z) as provided in the liquid crystal panel 5a of FIG.
  • one data signal line and two scanning signal lines are provided corresponding to one pixel, and two pixel electrodes 17 c and 17 d provided in the pixel 100 and a pixel 101 are provided.
  • the two pixel electrodes 17 a and 17 b provided in the pixel 102 and the two pixel electrodes 17 e and 17 f provided in the pixel 102 are arranged in a line, and the two pixel electrodes 17 C and 17 D provided in the pixel 103 are provided in the pixel 104.
  • the two pixel electrodes 17A and 17B and the two pixel electrodes 17E and 17F provided in the pixel 105 are arranged in a line, the pixel electrodes 17c and 17C, the pixel electrodes 17d and 17D, the pixel electrodes 17a and 17A, and the pixel electrode 17b and 17B, pixel electrodes 17e and 17E, and pixel electrodes 17f and 17F are adjacent to each other in the row direction.
  • each pixel Since the structure of each pixel is the same, the following description will be given mainly using the pixel 101 as an example.
  • the pixel electrodes 17a and 17b are connected via the coupling capacitor C101, the pixel electrode 17a is connected to the data signal line 15x via the transistor 12a connected to the scanning signal line 16a, and the pixel electrode 17b is Connected to the data signal line 15x via the transistor 12b connected to the scanning signal line 16b, a storage capacitor Cha is formed between the pixel electrode 17a and the scanning signal line 16d, and a storage capacitor is connected between the pixel electrode 17b and the scanning signal line 16b.
  • Chb is formed, a liquid crystal capacitor Cla is formed between the pixel electrode 17a and the common electrode com, and a liquid crystal capacitor Clb is formed between the pixel electrode 17b and the common electrode com.
  • FIG. 1 A specific example 2-1 of the liquid crystal panel 5b is shown in FIG.
  • the data signal line 15x is provided along the pixel 100 and the pixel 101
  • the data signal line 15X is provided along the pixel 103 and the pixel 104.
  • the scanning signal line 16c is disposed so as to overlap with one of the two edge portions along the row direction of the pixel 100, and the scanning signal line 16d is disposed so as to overlap with the other.
  • Pixel electrodes 17c and 17d are arranged in the column direction between 16c and 16d.
  • the scanning signal line 16c overlaps one of the two edge portions along the row direction of the pixel 103, and the scanning signal line 16d overlaps the other, and the pixel between the scanning signal lines 16c and 16d is seen in plan view.
  • Electrodes 17C and 17D are arranged in the column direction.
  • the scanning signal line 16a is formed so as to overlap with one of the two edge portions along the row direction of the pixel 101, and the scanning signal line 16b is formed so as to overlap with the other, and the scanning signal line 16a is viewed in plan view.
  • pixel electrodes 17a and 17b are arranged in the column direction. Further, the scanning signal line 16a overlaps one of the two edge portions along the row direction of the pixel 104, and the scanning signal line 16b overlaps the other, and the pixel between the scanning signal lines 16a and 16b is seen in plan view. Electrodes 17A and 17B are arranged in the column direction.
  • the source electrode 8a and the drain electrode 9a of the transistor 12a are formed on the scanning signal line 16a, and the source electrode 8b and the drain electrode 9b of the transistor 12b are formed on the scanning signal line 16b.
  • the source electrode 8a is connected to the data signal line 15x.
  • the drain electrode 9a is connected to the drain lead wire 27a, the drain lead wire 27a is connected to the contact electrode 77a and the coupling capacitor electrode 37a, the contact electrode 77a is connected to the pixel electrode 17a through the contact hole 11a, and the coupling capacitor electrode 37a. Is overlapped with the pixel electrode 17b through an interlayer insulating film, whereby a coupling capacitor C101 (see FIG.
  • the drain electrode 9a electrically connected to the pixel electrode 17a is connected to the storage capacitor electrode 67a through the drain lead wiring 19a, and the storage capacitor electrode 67a is adjacent to the scanning signal line 16a through the gate insulating film. This overlaps with the signal line 16d, whereby a storage capacitor Cha (see FIG. 23) is formed.
  • the source electrode 8b of the transistor 12b is connected to the data signal line 15x.
  • the drain electrode 9b is connected to the drain lead wiring 27b, the drain lead wiring 27b is connected to the contact electrode 77b, and the contact electrode 77b is connected to the pixel electrode 17b through the contact hole 11b.
  • the drain electrode 9b electrically connected to the pixel electrode 17b is connected to the storage capacitor electrode 67b through the drain lead-out wiring 19b, and the storage capacitor electrode 67b overlaps the scanning signal line 16b through the gate insulating film.
  • the holding capacitor Chb (see FIG. 23) is formed. Note that the configuration of other pixels (the shape, arrangement, and connection relationship of each member) is the same as that of the pixel 101.
  • the sub-pixel including the pixel electrode 17a is “bright”, and the sub-pixel including the pixel electrode 17b is “dark”.
  • the holding capacitors Cha and Chb may be formed with the configuration shown in FIG. That is, as shown in FIG. 25, the drain electrode 9a is connected to the storage capacitor electrode 67a through the drain lead-out wiring 27a, and the storage capacitor electrode 67a overlaps the scanning signal line 16b through the gate insulating film. Cha is formed, the drain electrode 9b is connected to the storage capacitor electrode 67b through the drain lead-out wiring 27b, and the storage capacitor electrode 67b overlaps the scanning signal line 16b through the gate insulating film, whereby the storage capacitor Chb is formed.
  • FIG. 26 A specific example 2-2 of the liquid crystal panel 5b is shown in FIG. In the liquid crystal panel 5b of FIG. 26, three pixel electrodes are formed in each pixel region. 26, similarly to the liquid crystal panel of FIG. 24, the data signal line 15x is provided along the pixel 100 and the pixel 101, and the data signal line 15X is provided along the pixel 103 and the pixel 104. It has been.
  • the scanning signal line 16c is disposed so as to overlap with one of the two edge portions along the row direction of the pixel 100
  • the scanning signal line 16d is disposed so as to overlap with the other.
  • Pixel electrodes 17d, 17c, and 17d ′ are arranged in the column direction between 16c and 16d.
  • the scanning signal line 16c overlaps one of the two edge portions along the row direction of the pixel 103, and the scanning signal line 16d overlaps the other, and the pixel between the scanning signal lines 16c and 16d is seen in plan view.
  • Electrodes 17D, 17C, and 17D ′ are arranged in the column direction.
  • the scanning signal line 16a is formed so as to overlap with one of the two edge portions along the row direction of the pixel 101, and the scanning signal line 16b is formed so as to overlap with the other, and the scanning signal line 16a is viewed in plan view.
  • the scanning signal line 16a overlaps one of the two edge portions along the row direction of the pixel 104, and the scanning signal line 16b overlaps the other, and the pixel between the scanning signal lines 16a and 16b is seen in plan view. Electrodes 17B, 17A, and 17B 'are arranged in the column direction.
  • the source electrode 8a and the drain electrode 9a of the transistor 12a are formed on the scanning signal line 16a, and the source electrode 8b and the drain electrode 9b of the transistor 12b are formed on the scanning signal line 16b.
  • the source electrode 8a is connected to the data signal line 15x.
  • the drain electrode 9a is connected to the drain lead wiring 27a, the drain lead wiring 27a is connected to the coupling capacitor electrode 37a and the contact electrode 77a, and the contact electrode 77a is connected to the pixel electrode 17a through the contact hole 11a.
  • the coupling capacitor electrode 37a overlaps the pixel electrode 17b with an interlayer insulating film interposed therebetween, whereby a coupling capacitor C101 (see FIG.
  • the drain electrode 9a electrically connected to the pixel electrode 17a is connected to the storage capacitor electrode 67a through the drain lead wiring 19a, and the storage capacitor electrode 67a is adjacent to the scanning signal line 16a through the gate insulating film. This overlaps with the signal line 16d, whereby a storage capacitor Cha (see FIG. 23) is formed.
  • the source electrode 8b of the transistor 12b is connected to the data signal line 15x.
  • the drain electrode 9b is connected to the drain lead wiring 27b, the drain lead wiring 27b is connected to the contact electrodes 77b and 77b ', the contact electrode 77b is connected to the pixel electrode 17b through the contact hole 11b, and the contact electrode 77b' is a contact. It is connected to the pixel electrode 17b ′ through the hole 11b ′.
  • the drain electrode 9a electrically connected to the pixel electrodes 17b and 17b ' is connected to the storage capacitor electrode 67b through the drain lead wire 19b, and the storage capacitor electrode 67b is connected to the scanning signal line 16b through the gate insulating film. As a result, a holding capacitor Chb (see FIG. 23) is formed. Note that the configuration of other pixels (the shape, arrangement, and connection relationship of each member) is the same as that of the pixel 101.
  • the sub-pixel including the pixel electrode 17a is “bright”, and the sub-pixel including the pixel electrodes 17b and 17b ′ is “dark”.
  • the holding capacitors Cha and Chb may be formed by the configuration shown in FIG. That is, as shown in FIG. 27, the drain electrode 9a is connected to the storage capacitor electrode 67a through the drain lead-out wiring 27a, and the storage capacitor electrode 67a overlaps the scanning signal line 16b through the gate insulating film. Cha is formed, the drain electrode 9b is connected to the storage capacitor electrode 67b through the drain lead-out wiring 27b, and the storage capacitor electrode 67b overlaps the scanning signal line 16b through the gate insulating film, whereby the storage capacitor Chb is formed.
  • the (Specific example of liquid crystal panel 2-3) A specific example 2-3 of the liquid crystal panel 5b is shown in FIG. In the liquid crystal panel 5b of FIG. 28, three pixel electrodes are formed in each pixel region.
  • the data signal line 15x is provided along the pixel 100 and the pixel 101, and the data signal line 15X is provided along the pixel 103 and the pixel 104, as in the liquid crystal panel of FIG. It has been.
  • the scanning signal line 16c is disposed so as to overlap with one of the two edge portions along the row direction of the pixel 100, and the scanning signal line 16d is disposed so as to overlap with the other.
  • Pixel electrodes 17c, 17d, and 17c ′ are arranged in the column direction between 16c and 16d.
  • the scanning signal line 16c overlaps one of the two edge portions along the row direction of the pixel 103, and the scanning signal line 16d overlaps the other, and the pixel between the scanning signal lines 16c and 16d is seen in plan view.
  • Electrodes 17C, 17D, and 17C ′ are arranged in the column direction.
  • the scanning signal line 16a is formed so as to overlap with one of the two edge portions along the row direction of the pixel 101, and the scanning signal line 16b is formed so as to overlap with the other, and the scanning signal line 16a is viewed in plan view.
  • the scanning signal line 16a overlaps one of the two edge portions along the row direction of the pixel 104, and the scanning signal line 16b overlaps the other, and the pixel between the scanning signal lines 16a and 16b is seen in plan view. Electrodes 17A, 17B, and 17A 'are arranged in the column direction.
  • the source electrode 8a and the drain electrode 9a of the transistor 12a are formed on the scanning signal line 16a, and the source electrode 8b and the drain electrode 9b of the transistor 12b are formed on the scanning signal line 16b.
  • the source electrode 8a is connected to the data signal line 15x.
  • the drain electrode 9a is connected to the drain lead wiring 27a, the drain lead wiring 27a is connected to the contact electrode 77a and the coupling capacitance electrode 37a, and the contact electrode 77a is connected to the pixel electrode 17a through the contact hole 11a.
  • the coupling capacitor electrode 37a overlaps the pixel electrode 17b with an interlayer insulating film interposed therebetween, whereby a coupling capacitor C101 (see FIG.
  • the coupling capacitor electrode extending portion 27a ′ connected to the coupling capacitor electrode 37a is connected to the contact electrode 77a ′, and the contact electrode 77a ′ is connected to the pixel electrode 17a ′ via the contact hole 11a ′.
  • the pixel electrode 17a ′ is connected to the storage capacitor electrode 67a through the contact hole 11a ′′. Further, the storage capacitor electrode 67a overlaps the scanning signal line 16b through the gate insulating film, thereby the pixel electrode.
  • a storage capacitor (corresponding to Cha in FIG. 23) is formed between 17a and the scanning signal line 16b.
  • the source electrode 8b of the transistor 12b is connected to the data signal line 15x.
  • the drain electrode 9b is connected to the drain lead wiring 27b, the drain lead wiring 27b is connected to the contact electrode 77b, and the contact electrode 77b is connected to the pixel electrode 17b through the contact hole 11b.
  • the storage capacitor electrode 67b overlaps with the scanning signal line 16b through the gate insulating film, thereby forming a storage capacitor (corresponding to Chb in FIG. 23) between the pixel electrode 17b and the scanning signal line 16b.
  • the configuration of other pixels is the same as that of the pixel 101.
  • the subpixel including the pixel electrodes 17a and 17a ′ is “bright”, and the subpixel including the pixel electrode 17b is “dark”.
  • the liquid crystal panel 5b shown in FIGS. 24 to 28 is characterized in that a storage capacitor is formed on the scanning signal line 16b (Cs on-gate structure), which eliminates the need for a storage capacitor wiring.
  • a storage capacitor is formed on the scanning signal line 16b (Cs on-gate structure), which eliminates the need for a storage capacitor wiring.
  • the storage capacitors Cha and Chb in the liquid crystal panel 5b having the Cs on-gate structure are configured such that the storage capacitor electrodes 67a and 67b have the (second) scanning signal line 16d of the preceding stage or the (second) It is preferably formed by overlapping the scanning signal line 16b. This is because, in the case where the storage capacitors Cha and Chb are formed by overlapping the storage capacitor electrodes 67a and 67b with the (first) scanning signal line 16a of the own stage, the (first) scanning signal line is formed.
  • the storage capacitor Cha is between the first pixel electrode 17a and the second scanning signal line (the scanning signal line 16b at the previous stage or the scanning signal line 16d at the previous stage).
  • the formed storage capacitor Chb is preferably formed between the second pixel electrode 17b and the second scanning signal line (the own scanning signal line 16b or the preceding scanning signal line 16d).
  • the liquid crystal panel 5b of FIG. 28 is taken as an example.
  • 29 is a cross-sectional view taken along the line AB in FIG. 28
  • FIG. 30 is a cross-sectional view taken along the line CD in FIG.
  • the liquid crystal panel 5b includes an active matrix substrate 3, a color filter substrate 30 facing the active matrix substrate 3, and a liquid crystal layer 40 disposed between both substrates (3, 30).
  • scanning signal lines 16a and 16b are formed on a glass substrate 31, and an inorganic gate insulating film 22 is formed so as to cover them.
  • an inorganic gate insulating film 22 On the inorganic gate insulating film 22, there are a semiconductor layer 24 (i layer and n + layer), a source electrode 8a in contact with the n + layer, a drain electrode 9a, drain lead wires 27a and 27b, contact electrodes 77a and 77b, and a coupling capacitor electrode 37a.
  • An inorganic interlayer insulating film 25 and an organic interlayer insulating film 26 are formed in this order so as to cover them.
  • Pixel electrodes 17a, 17b and 17a ' are formed on the organic interlayer insulating film 26, and an alignment film (not shown) is formed so as to cover these (pixel electrodes 17a, 17b and 17a').
  • the contact holes 11a and 11b the inorganic interlayer insulating film 25 and the organic interlayer insulating film 26 are penetrated, whereby the pixel electrode 17a and the contact electrode 77a are connected, and the pixel electrode 17b is in contact with the contact holes 11a and 11b.
  • the electrode 77b is connected. Further, the coupling capacitor electrode 37a connected to the drain lead wiring 27a overlaps the pixel electrode 17b through the inorganic interlayer insulating film 25, thereby forming the coupling capacitor C101 (see FIG. 23).
  • the organic interlayer insulating film 26 has a portion located on the coupling capacitance electrode 37a.
  • the source electrode 8b of the transistor 12b is connected to the data signal line 15x.
  • the drain electrode 9b is connected to the drain lead wiring 27b
  • the drain lead wiring 27b is connected to the storage capacitor electrode 67b and the contact electrode 77b
  • the contact electrode 77b is connected to the pixel electrode 17b through the contact hole 11b.
  • the storage capacitor electrode 67b overlaps with the scanning signal line 16b through the gate insulating film, thereby forming a storage capacitor (corresponding to Chb in FIG. 23) between the pixel electrode 17b and the scanning signal line 16b. Is done. Note that the configuration of other pixels (the shape, arrangement, and connection relationship of each member) is the same as that of the pixel 101.
  • the black matrix 13 and the colored layer 14 are formed on the glass substrate 32, the common electrode (com) 28 is formed thereon, and an alignment film (not shown) is formed so as to cover this. Is formed.
  • the coupling capacitor electrode extending portion 27a ′ connected to the coupling capacitor electrode 37a is connected to the contact electrode 77a ′, and the contact electrode 77a ′ is connected to the pixel electrode 17a ′ via the contact hole 11a ′.
  • the pixel electrode 17a ′ is connected to the storage capacitor electrode 67a through the contact hole 11a ′′.
  • the storage capacitor electrode 67a overlaps the scanning signal line 16b through the inorganic gate insulating film 22, thereby holding the storage electrode.
  • a capacitor (corresponding to Cha in FIG. 23) is formed.
  • the gate insulating film is shown as the inorganic gate insulating film 22.
  • the thick organic gate insulating film 21 and the thin inorganic gate insulating film 22 are formed on the substrate. And may be formed.
  • the pixel electrodes 17c and 17d are arranged in the column direction across the scanning signal line 16c, and in the pixel 101, the pixel electrodes 17a and 17b are arranged in the column direction across the scanning signal line 16a.
  • the pixel electrodes 17C and 17D are arranged in the column direction across the scanning signal line 16c.
  • the pixel electrodes 17A and 17B are arranged in the column direction across the scanning signal line 16a.
  • the source electrode 8a and the drain electrode 9a of the transistor 12a are formed on the scanning signal line 16a, and the source electrode 8b and the drain electrode 9b of the transistor 12b are formed on the scanning signal line 16b.
  • the source electrode 8a is connected to the data signal line 15x.
  • the drain electrode 9a is connected to the drain lead wire 19a, the drain lead wire 19a is connected to the contact electrode 77a, and the contact electrode 77a is connected to the pixel electrode 17a through the contact hole 11a.
  • drain electrode 9a is connected to the drain lead wiring 27a
  • drain lead wiring 27a is connected to the coupling capacitance electrode 37a
  • the coupling capacitance electrode 37a overlaps the pixel electrode 17b via the interlayer insulating film, thereby the pixel.
  • a coupling capacitor C101 (see FIG. 32 described later) between the electrodes 17a and 17b is formed.
  • the coupling capacitor electrode extending portion 27a ′ connected to the coupling capacitor electrode 37a is connected to the storage capacitor electrode 67a, and the storage capacitor electrode 67a overlaps the scanning signal line 16b through the gate insulating film.
  • a storage capacitor Cha (see FIG. 32 described later) is formed.
  • the source electrode 8b of the transistor 12b is connected to the data signal line 15x.
  • the drain electrode 9b is connected to the drain lead wiring 27b, the drain lead wiring 27b is connected to the contact electrode 77b, and the contact electrode 77b is connected to the pixel electrode 17b through the contact hole 11b.
  • the drain electrode 9b electrically connected to the pixel electrode 17b is connected to the storage capacitor electrode 67b through the drain lead-out wiring 27b, and the storage capacitor electrode 67b overlaps with the scanning signal line 16b through the gate insulating film. As a result, a storage capacitor Chb (see FIG. 32 described later) is formed. Note that the configuration of other pixels (the shape, arrangement, and connection relationship of each member) is the same as that of the pixel 101.
  • the sub-pixel including the pixel electrode 17a is “bright”, and the sub-pixel including the pixel electrode 17b is “dark”.
  • the equivalent circuit of the liquid crystal panel shown in FIG. 31 is as shown in FIG.
  • Each pixel has the same structure, and one data signal line and two scanning signal lines are provided corresponding to one pixel, and two pixel electrodes 17c and 17d provided in the pixel 100 are provided.
  • the two pixel electrodes 17a and 17b provided in the pixel 101 and the two pixel electrodes 17e and 17f provided in the pixel 102 are arranged in a row with one scanning signal line (16c, 16a, and 16e) interposed therebetween, respectively.
  • the two pixel electrodes 17C and 17D provided in the pixel 103, the two pixel electrodes 17A and 17B provided in the pixel 104, and the two pixel electrodes 17E and 17F provided in the pixel 105 are respectively
  • the scanning signal lines (16c, 16a, 16e) are arranged in a row, and the pixel electrodes 17c and 17C, the pixel electrodes 17d and 17D, the pixel electrodes 17a and 17A, and the pixel electrode 17 are arranged.
  • 17B, and the pixel electrode 17e and 17E, the pixel electrodes 17f and 17F are adjacent in the row direction respectively.
  • the pixel electrodes 17a and 17b are connected via the coupling capacitor C101, and the pixel electrode 17a is connected to the data signal line 15x via the transistor 12a connected to the scanning signal line 16a.
  • the pixel electrode 17b is connected to the data signal line 15x via the transistor 12b connected to the scanning signal line 16b
  • a storage capacitor Cha is formed between the pixel electrode 17a and the scanning signal line 16b
  • the pixel electrode 17b and A storage capacitor Chb is formed between the scanning signal lines 16b
  • a liquid crystal capacitor Cla is formed between the pixel electrode 17a and the common electrode com
  • a liquid crystal capacitor Clb is formed between the pixel electrode 17b and the common electrode com.
  • FIG. 49 is a plan view showing a modification of the specific example 2-2 shown in FIG.
  • a transistor 12a is arranged in the vicinity of the intersection of the data signal line 15x and the scanning signal line 16a, and a pixel region defined by both signal lines (15x16a) and the scanning signal line 16b A trapezoidal pixel electrode 17b, and a trapezoidal pixel electrode 17b ′ that substantially matches the shape of the pixel electrode 17b rotated by 180 ° at a position of approximately 315 ° with respect to the row direction of the scanning signal line 16b;
  • the pixel electrodes 17a are arranged so as to correspond to (engage with) the shape of the pixel electrodes 17b and 17b'.
  • each of the pixel electrodes 17b, 17a, and 17b ′ has a part of the pixel electrode 17b close to the scanning signal line 16a and a part of the pixel electrode 17b ′ close to the scanning signal line 16b.
  • One end of the pixel electrode 17a is disposed close to the scanning signal line 16a, and the other end is disposed close to the scanning signal line 16b.
  • at least a part of each of the pixel electrodes 17b and 17b ' is disposed in proximity to each of the scanning signal lines 16a and 16b, and the pixel electrode 17a connects the scanning signal lines 16a and 16b to each other. It extends in the row direction. 49, since members having the same reference numerals as those shown in FIG. 26 have the same functions, description thereof is omitted here.
  • the sub-pixel including the pixel electrode 17a is “bright”, and the sub-pixel including the pixel electrodes 17b and 17b ′ is “dark”.
  • the lead lines from the transistors 12a and 12b can be reduced as compared with the configuration shown in FIG.
  • the pixel electrodes 17b and 17b ′ can be connected to each other through the coupling capacitor electrode 37a at positions close to each other, each lead-out wiring in the coupling capacitor electrode 37a can be reduced from the configuration shown in FIG. Therefore, in addition to the effect of suppressing the occurrence of burn-in of the sub-pixel including the pixel electrodes 17b and 17b ', the possibility of disconnection of the lead-out wiring can be reduced and the aperture ratio can be increased. It is done.
  • the liquid crystal panel of the present invention may have the configuration shown in FIG.
  • the trapezoidal pixel electrodes 17a and 17a ′ is disposed in proximity to the scanning signal lines 16a and 16b, and the shape of the pixel electrodes 17a and 17a ′.
  • the pixel electrodes 17b arranged so as to correspond to (mesh) are arranged extending in the column direction so as to connect the scanning signal lines 16a and 16b.
  • the subpixel including the pixel electrodes 17a and 17a ′ is “bright”, and the subpixel including the pixel electrode 17b is “dark”. And the effect that an aperture ratio can be raised like the liquid crystal panel 5b shown in FIG. 49 is acquired.
  • the driving methods described in the first embodiment can be applied. That is, even in a liquid crystal display device including a liquid crystal panel having a Cs on-gate structure, the effects of the above driving methods can be obtained.
  • the liquid crystal panel 5c according to the third embodiment has a structure in which the configurations of the first and second embodiments are combined, and is a Cs on-gate liquid crystal panel including a storage capacitor wiring (18x to 18z).
  • a configuration example of the liquid crystal panel 5c a combination of the configurations described in the first and second embodiments can be realized.
  • the liquid crystal panel 5b illustrated in FIG. A configuration example in which capacitive wiring is added will be described.
  • FIG. 33 is an equivalent circuit diagram showing a part of the liquid crystal panel 5c in the third embodiment.
  • the liquid crystal panel 5c includes data signal lines (15x and 15X) extending in the column direction (vertical direction in the drawing) and scanning signal lines (16a to 16f) extending in the row direction (horizontal direction in the drawing). ), Pixels (100 to 105) arranged in the row and column directions, and a common electrode (counter electrode) com, and each pixel has the same structure. Note that a pixel column including the pixels 100 to 102 and a pixel column including the pixels 103 to 105 are adjacent to each other.
  • one data signal line and two scanning signal lines are provided corresponding to one pixel, two pixel electrodes 17c, 17d, and 17c ′ provided in the pixel 100, pixels Two pixel electrodes 17 a, 17 b, and 17 a ′ provided in 101, and two pixel electrodes 17 e, 17 f, and 17 e ′ provided in the pixel 102 are arranged in a line, and two pixels provided in the pixel 103
  • the electrodes 17C, 17D, and 17C ′, the two pixel electrodes 17A, 17B, and 17A ′ provided in the pixel 104, and the two pixel electrodes 17E, 17F, and 17E ′ provided in the pixel 105 are arranged in a row, and the pixel electrode 17c and 17C, pixel electrodes 17d and 17D, pixel electrodes 17c 'and 17C', pixel electrodes 17a and 17A, pixel electrodes 17b and 17B, pixel electrodes 17a 'and 17
  • each pixel Since the structure of each pixel is the same, the following description will be given mainly using the pixel 101 as an example.
  • the pixel electrodes 17a and 17b are connected via the coupling capacitor C101, the pixel electrode 17a is connected to the data signal line 15x via the transistor 12a connected to the scanning signal line 16a, and the pixel electrode 17b is Connected to the data signal line 15x via the transistor 12b connected to the scanning signal line 16b, the storage capacitor Cha1 is formed between the pixel electrode 17a and the storage capacitor line 18x, and the storage capacitor is connected between the pixel electrode 17a and the scanning signal line 16b.
  • Cha2 is formed, a storage capacitor Chb1 is formed between the pixel electrode 17b and the storage capacitor line 18x, a storage capacitor Chb2 is formed between the pixel electrode 17b and the scanning signal line 16b, and a liquid crystal capacitor is formed between the pixel electrode 17a and the common electrode com.
  • Cla is formed, and a liquid crystal is formed between the pixel electrode 17b and the common electrode com. The amount Clb is formed.
  • FIG. 34 A specific example 3-1 of the liquid crystal panel 5c is shown in FIG. 34, similarly to the liquid crystal panel of FIG. 28, the data signal line 15x is provided along the pixel 100 and the pixel 101, and the data signal line 15X is provided along the pixel 103 and the pixel 104.
  • the storage capacitor line 18y crosses the pixels 100 and 103, and the storage capacitor line 18x crosses the pixels 101 and 104, respectively. ing.
  • the scanning signal line 16c is disposed so as to overlap with one of the two edge portions along the row direction of the pixel 100, and the scanning signal line 16d is disposed so as to overlap with the other.
  • Pixel electrodes 17c, 17d, and 17c ′ are arranged in the column direction between 16c and 16d.
  • the scanning signal line 16c overlaps one of the two edge portions along the row direction of the pixel 103, and the scanning signal line 16d overlaps the other, and the pixel between the scanning signal lines 16c and 16d is seen in plan view.
  • Electrodes 17C, 17D, and 17C ′ are arranged in the column direction.
  • the scanning signal line 16a is formed so as to overlap with one of the two edge portions along the row direction of the pixel 101, and the scanning signal line 16b is formed so as to overlap with the other, and the scanning signal line 16a is viewed in plan view.
  • the scanning signal line 16a overlaps one of the two edge portions along the row direction of the pixel 104, and the scanning signal line 16b overlaps the other, and the pixel between the scanning signal lines 16a and 16b is seen in plan view. Electrodes 17A, 17B, and 17A 'are arranged in the column direction.
  • the source electrode 8a and the drain electrode 9a of the transistor 12a are formed on the scanning signal line 16a, and the source electrode 8b and the drain electrode 9b of the transistor 12b are formed on the scanning signal line 16b.
  • the source electrode 8a is connected to the data signal line 15x.
  • the drain electrode 9a is connected to the drain lead wiring 27a, the drain lead wiring 27a is connected to the contact electrode 77a and the coupling capacitance electrode 37a, and the contact electrode 77a is connected to the pixel electrode 17a through the contact hole 11a.
  • the coupling capacitor electrode 37a overlaps the pixel electrode 17b with an interlayer insulating film interposed therebetween, whereby a coupling capacitor C101 (see FIG.
  • the coupling capacitor electrode extending portion 27a ′ connected to the coupling capacitor electrode 37a is connected to the contact electrode 77a ′, and the contact electrode 77a ′ is connected to the pixel electrode 17a ′ via the contact hole 11a ′.
  • the pixel electrode 17a ′ is connected to the storage capacitor electrode 67a through the contact hole 11a ′′. Further, the storage capacitor electrode 67a overlaps the scanning signal line 16b through the gate insulating film, thereby the pixel electrode.
  • a storage capacitor (corresponding to Cha2 in FIG. 33) is formed between 17a and the scanning signal line 16b.
  • the source electrode 8b of the transistor 12b is connected to the data signal line 15x.
  • the drain electrode 9b is connected to the drain lead wiring 27b, the drain lead wiring 27b is connected to the contact electrode 77b, and the contact electrode 77b is connected to the pixel electrode 17b through the contact hole 11b.
  • the storage capacitor electrode 67b overlaps the scanning signal line 16b through the gate insulating film, thereby forming a storage capacitor (corresponding to Chb2 in FIG. 33) between the pixel electrode 17b and the scanning signal line 16b. Has been.
  • the coupling capacitor electrode 37a overlaps with the storage capacitor line 18x through the gate insulating film, thereby forming the storage capacitor Cha1 (see FIG. 33) and holding between the pixel electrode 17b and the storage capacitor line 18x.
  • a capacitor Chb1 (see FIG. 33) is formed. Note that the configuration of other pixels (the shape, arrangement, and connection relationship of each member) is the same as that of the pixel 101.
  • the subpixel including the pixel electrodes 17a and 17a ′ is “bright”, and the subpixel including the pixel electrode 17b is “dark”.
  • the configuration of the third embodiment can be realized by combining the configurations shown in the first and second embodiments.
  • the storage capacitor line 18x may be provided below the coupling capacitor electrode 37a.
  • the driving method in the liquid crystal display device including the liquid crystal panel 5c according to the third embodiment is the same as each driving method described in the first embodiment (the driving method-1, the driving method-2, and the driving method-3). Needless to say, the driving method-4) can be applied.
  • FIG. 35 shows a configuration in which the liquid crystal panel 5a shown in FIG. 2 has an MVA structure.
  • the liquid crystal panel 5a includes an active matrix substrate, a liquid crystal layer, and a color filter substrate.
  • the liquid crystal layer is not illustrated, and only the rib is illustrated for the color filter substrate.
  • FIG. 36 is an enlarged plan view of a part of FIG.
  • the pixel 101 will be described as an example.
  • the pixel 101 includes a sub-pixel including the pixel electrode 17a (hereinafter referred to as “first sub-pixel”) and a sub-pixel including the pixel electrode 17b (hereinafter referred to as “second sub-pixel”). Is done.
  • the first subpixel is provided with a first alignment regulating structure including a first rib L1 and slits (pixel electrode slits) S1 to S4, and the second subpixel has a second rib L2 and a slit (pixel).
  • a second alignment regulating structure comprising electrode slits S5 to S8 is provided.
  • the first sub-pixel located on the scanning signal line 16a side has an end E1 along the scanning signal line 16a and an end E2 facing the second sub-pixel, and is located on the scanning signal line 16b side.
  • the subpixel has an end E1 along the scanning signal line 16b and an end E2 facing the end E1.
  • a first rib L1 having a V shape when viewed in the row direction (left to right in the figure) is provided, and a start end T is provided at the end E1.
  • the end M is located at the end E2, and the portion corresponding to the second subpixel of the color filter substrate also has a V-shape when viewed in the row direction (left to right in the figure).
  • the second rib L2 formed is provided such that the start end T is located at the end E1 and the end M is located at the end E2. That is, the direction of the first rib L1 and the direction of the second rib L2 are the same direction.
  • the pixel electrode 17a is provided with a plurality of slits S1 to S4 corresponding to the first rib L1
  • the pixel electrode 17b is provided with a plurality of slits S5 to S8 corresponding to the second rib L2.
  • the slits S1 and S3 are provided on both sides of the slits S1 and S3 so as to be substantially parallel to a portion from the start end T to the refracting portion K of the first rib L1
  • the slits S2 and S4 are provided on the refracting portion K of the first rib L1.
  • the slits S6 and S8 are provided on both sides of the second rib L2 so as to be substantially parallel to the portion from the start end T to the refracting portion K.
  • the slits S5 and S7 are provided on both sides of the second rib L2 so as to be substantially parallel to a portion from the refracting portion K to the terminal end M of the second rib L2.
  • the shape of the slits S5 to S8 and the second rib L2 The arrangement position is the same as the shape of the slits S1 to S4 and the arrangement position with respect to the first rib L1.
  • the angle ( ⁇ TKM) formed by the start end T, the refracting portion K, and the end M is approximately 90 °.
  • the slit S1, the one side (TK portion) of the first rib L1, and the slit S3 are parallel to each other and extend obliquely (at about ⁇ 135 °) with respect to the scanning signal line 16a.
  • the one side (KM portion) of the first rib L1 and the slit S4 are parallel to each other and extend obliquely (at about ⁇ 45 °) with respect to the scanning signal line 16a, and one side of the first rib L1.
  • a part of (TK part) and a part of the slit S3 are located at the end E1 (part along the scanning signal line 16a) of the first subpixel.
  • the slit S6, one side (TK portion) of the second rib L2, and the slit S8 are parallel to each other and extend obliquely (about 135 °) with respect to the scanning signal line 16b.
  • One side (KM portion) of the rib L2 and the slit S7 are parallel to each other and extend obliquely (at about 45 °) with respect to the scanning signal line 16b, and one side (TK portion) of the second rib L2.
  • a part of the slit S8 are located at the end E1 (part along the scanning signal line 16b) of the second subpixel.
  • the liquid crystal display device using the present liquid crystal panel 5a an effect that a wide viewing angle can be realized can be obtained. Further, in the present liquid crystal panel 5a, as shown in FIG. 35, the orientations of the ribs L1 and L2 are reversed between two adjacent pixels (for example, the pixel 101 and the pixel 104) in the column direction. It is not affected by the disorder of orientation biased to the region. As a result, a liquid crystal display device having excellent viewing angle characteristics can be realized.
  • the color filter substrate is provided with ribs.
  • the present invention is not limited to this, and slits may be provided in place of the ribs provided on the color filter substrate.
  • the present liquid crystal display unit and the liquid crystal display device are configured as follows. That is, the two polarizing plates A and B are attached to both surfaces of the liquid crystal panels (5a to 5e) so that the polarizing axes of the polarizing plates A and B are orthogonal to each other. In addition, you may laminate
  • drivers gate driver 202, source driver 201 are connected.
  • connection of a driver by a TCP (Tape Career Package) method will be described.
  • an ACF Anisotropic Conductive Film
  • the TCP on which the driver is placed is punched out of the carrier tape, aligned with the panel terminal electrode, and heated and pressed.
  • a circuit board 203 PWB: Printed Wiring Board
  • the display control circuit 209 is connected to each driver (201, 202) of the liquid crystal display unit 200 via the circuit board 203, and integrated with the lighting device (backlight unit) 204.
  • the liquid crystal display device 210 is obtained.
  • FIG. 38A shows the configuration of the source driver when a refresh period is provided in the present liquid crystal display device.
  • the source driver in this case is provided with a buffer 31, a data output switch SWa, and a refresh switch SWb corresponding to each data signal line.
  • the corresponding data d is input to the buffer 31, and the output of the buffer 31 is connected to the output terminal to the data signal line via the data output switch SWa.
  • the output terminals corresponding to the two adjacent data signal lines are connected to each other via the refresh switch SWb. That is, each refresh switch SWb is connected in series, and one end thereof is connected to the refresh potential supply source 35 (Vcom).
  • the charge share signal sh is input to the gate terminal of the data output switch SWa via the inverter 33, and the charge share signal sh is input to the gate terminal of the refresh switch SWb.
  • the source driver shown in FIG. 38A may be configured as shown in FIG. That is, the refresh switch SWc is connected only to the corresponding data signal line and the refresh potential supply source 35 (Vcom), and the refresh switches SWc are not connected in series. In this way, it is possible to quickly supply a refresh potential to each data signal line.
  • the refresh potential is Vcom, but the present invention is not limited to this.
  • an appropriate refresh potential is calculated based on the level of the signal potential supplied to the same data signal line before one horizontal scanning period and the signal potential to be supplied during the current horizontal scanning period. You may supply to a data signal line.
  • the configuration of the source driver in this case is shown in FIG. In this configuration, a data output buffer 110, a refresh buffer 111, a data output switch SWa, and a refresh switch SWe are provided corresponding to each data signal line.
  • the corresponding data d is input to the data output buffer 110, and the output of the data output buffer 110 is connected to the output terminal to the data signal line via the data output switch SWa.
  • the corresponding non-image data N (the optimum refresh potential determined based on the level of the signal potential supplied before one horizontal scanning period and the signal potential to be supplied during the current horizontal scanning period is set. Corresponding data) is input, and the output of the refresh buffer 111 is connected to the output terminal to the data signal line via the refresh switch SWe.
  • potential polarity means high (plus) or low (minus) relative to a reference potential.
  • the reference potential may be Vcom (common potential) which is the potential of the common electrode (counter electrode) or any other potential.
  • FIG. 40 is a block diagram showing a configuration of the present liquid crystal display device.
  • the liquid crystal display device includes a display unit (liquid crystal panel), a source driver (SD), a gate driver (GD), and a display control circuit.
  • the source driver drives the data signal line
  • the gate driver drives the scanning signal line
  • the display control circuit controls the source driver and the gate driver.
  • the display control circuit controls a display operation from a digital video signal Dv representing an image to be displayed, a horizontal synchronization signal HSY and a vertical synchronization signal VSY corresponding to the digital video signal Dv from an external signal source (for example, a tuner). For receiving the control signal Dc. Further, the display control circuit, based on the received signals Dv, HSY, VSY, and Dc, uses a data start pulse signal SSP and a data clock as signals for displaying an image represented by the digital video signal Dv on the display unit.
  • GOE scanning signal output control signal
  • the video signal Dv is output as a digital image signal DA from the display control circuit, and a pulse corresponding to each pixel of the image represented by the digital image signal DA.
  • a data clock signal SCK is generated as a signal consisting of the above, a data start pulse signal SSP is generated as a signal that becomes high level (H level) for a predetermined period every horizontal scanning period based on the horizontal synchronization signal HSY, and the vertical synchronization signal VSY
  • the gate start pulse signal GSP is generated as a signal that becomes H level only for a predetermined period every one frame period (one vertical scanning period)
  • the gate clock signal GCK is generated based on the horizontal synchronization signal HSY, and the horizontal synchronization signal HSY and Based on the control signal Dc, the charge share signal sh and the gate dry Generating an output control signal GOE.
  • the digital image signal DA the charge share signal sh, the signal POL for controlling the polarity of the signal potential (data signal potential), the data start pulse signal SSP, and the data clock
  • the signal SCK is input to the source driver, and the gate start pulse signal GSP, the gate clock signal GCK, and the gate driver output control signal GOE are input to the gate driver.
  • the source driver corresponds to the pixel value in each scanning signal line of the image represented by the digital image signal DA based on the digital image signal DA, the data clock signal SCK, the charge share signal sh, the data start pulse signal SSP, and the polarity inversion signal POL.
  • the analog potential (signal potential) to be generated is sequentially generated every horizontal scanning period, and these data signals are output to the data signal lines (for example, 15x and 15X).
  • the gate driver generates a gate-on pulse signal based on the gate start pulse signal GSP, the gate clock signal GCK, and the gate driver output control signal GOE, and outputs them to the scanning signal line, thereby selecting the scanning signal line. Drive.
  • the data signal line and the scanning signal line of the display unit are driven by the source driver and the gate driver, so that the data is transmitted through the transistor (TFT) connected to the selected scanning signal line.
  • TFT transistor
  • a signal potential is written from the signal line to the pixel electrode.
  • a voltage is applied to the liquid crystal layer of each subpixel, whereby the amount of light transmitted from the backlight is controlled, and an image indicated by the digital video signal Dv is displayed on each subpixel.
  • FIG. 41 is a block diagram showing a configuration of a liquid crystal display device 800 for a television receiver.
  • the liquid crystal display device 800 includes a liquid crystal display unit 84, a Y / C separation circuit 80, a video chroma circuit 81, an A / D converter 82, a liquid crystal controller 83, a backlight drive circuit 85, a backlight 86, A microcomputer 87 and a gradation circuit 88 are provided.
  • the liquid crystal display unit 84 includes a liquid crystal panel and a source driver and a gate driver for driving the liquid crystal panel.
  • a composite color video signal Scv as a television signal is input from the outside to the Y / C separation circuit 80, where it is separated into a luminance signal and a color signal.
  • These luminance signals and color signals are converted into analog RGB signals corresponding to the three primary colors of light by the video chroma circuit 81, and the analog RGB signals are further converted into digital RGB signals by the A / D converter 82. .
  • This digital RGB signal is input to the liquid crystal controller 83.
  • the Y / C separation circuit 80 also extracts horizontal and vertical synchronization signals from the composite color video signal Scv input from the outside, and these synchronization signals are also input to the liquid crystal controller 83 via the microcomputer 87.
  • the liquid crystal display unit 84 receives a digital RGB signal from the liquid crystal controller 83 at a predetermined timing together with a timing signal based on the synchronization signal.
  • the gradation circuit 88 generates gradation potentials for the three primary colors R, G, and B for color display, and these gradation potentials are also supplied to the liquid crystal display unit 84.
  • the backlight drive is performed under the control of the microcomputer 87.
  • the circuit 85 drives the backlight 86, so that light is irradiated to the back surface of the liquid crystal panel.
  • the microcomputer 87 controls the entire system including the above processing.
  • the video signal (composite color video signal) input from the outside includes not only a video signal based on television broadcasting but also a video signal captured by a camera, a video signal supplied via an Internet line, and the like.
  • the liquid crystal display device 800 can display images based on various video signals.
  • a tuner unit 90 is connected to the liquid crystal display device 800, whereby the present television receiver 601 is configured.
  • the tuner unit 90 extracts a signal of a channel to be received from a received wave (high frequency signal) received by an antenna (not shown), converts the signal to an intermediate frequency signal, and detects the intermediate frequency signal, thereby detecting the television.
  • a composite color video signal Scv as a signal is taken out.
  • the composite color video signal Scv is input to the liquid crystal display device 800 as described above, and an image based on the composite color video signal Scv is displayed by the liquid crystal display device 800.
  • FIG. 43 is an exploded perspective view showing a configuration example of the present television receiver.
  • the present television receiver 601 includes a first casing 801 and a second casing 806 in addition to the liquid crystal display device 800 as its constituent elements. It is configured to be sandwiched between one housing 801 and a second housing 806.
  • the first housing 801 is formed with an opening 801a through which an image displayed on the liquid crystal display device 800 is transmitted.
  • the second housing 806 covers the back side of the liquid crystal display device 800, is provided with an operation circuit 805 for operating the display device 800, and a support member 808 is attached below. Yes.
  • the present invention is not limited to the above-described embodiments, and those obtained by appropriately modifying the above-described embodiments based on common general technical knowledge and those obtained by combining them are also included in the embodiments of the present invention.
  • the charge accumulated in the pixel electrode capacitively coupled to the pixel electrode connected to the data signal line through the transistor can be discharged (refreshed). Therefore, it is possible to suppress the occurrence of burn-in of the sub-pixel including the pixel electrode, and it is possible to suppress the display quality from being deteriorated.
  • the liquid crystal panel and the liquid crystal display device of the present invention are suitable for a liquid crystal television, for example.

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Abstract

 本発明は、1画素領域に複数の画素電極を設けるアクティブマトリクス基板およびこれを用いた液晶表示装置(画素分割方式)に関する。 本発明では、容量結合型画素分割方式の液晶表示装置において、副画素の焼き付きに起因する表示品位の低下のおそれが少ない構成を提案する。 本発明のアクティブマトリクス基板は、データ信号線(15x)と、走査信号線(16a・16b)と、データ信号線(15x)および走査信号線(16a)に接続されたトランジスタ(12a)と、データ信号線(15x)および走査信号線(16b)に接続されたトランジスタ(12b)と、画素(101)領域内に形成された画素電極(17a・17b)とを備え、画素電極 (17a)は、トランジスタ(12a)を介してデータ信号線(15x)に接続され、画素電極(17b)は、画素電極(17a)に容量を介して接続 されるとともに、トランジスタ(12b)を介してデータ信号線(15x)に接続され、トランジスタ(12a・12b)のチャネルのW/L比(チャネル幅Wのチャネル長Lに対する比)が互いに等しい構成である。 本発明によると、従来のようにトランジスタのチャネルのW/L比を調整する必要がなく、同一のチャネルサイズでアクティブマトリクス基板を構成することができる。 よって、トランジスタの特性のばらつきによる表示品位の低下を抑えることができる。

Description

アクティブマトリクス基板、液晶パネル、液晶表示装置、液晶表示ユニット、テレビジョン受像機
 本発明は、1画素領域に複数の画素電極を設けるアクティブマトリクス基板およびこれを用いた液晶表示装置(画素分割方式)に関する。
 液晶表示装置のγ特性の視野角依存性を向上させる(例えば、画面の白浮き等を抑制する)ため、1画素に設けた複数の副画素を異なる輝度に制御し、これら副画素の面積階調によって中間調を表示する液晶表示装置(画素分割方式、例えば特許文献1参照)が提案されている。
 特許文献1に記載のアクティブマトリクス基板では、図44に示すように、隣り合う2本のゲートバスライン112の間に画素領域が設けられ、画素領域の上端(ゲートバスラインに隣接する部分)に画素電極121aが配され、中段に画素電極121bが配され、下端(隣のゲートバスラインに隣接する部分)に画素電極121cが配され、画素電極121aおよび画素電極121cが、トランジスタ116のソース電極116sから引き出されたソース引き出し配線119に接続され、ソース引き出し配線119に接続する制御電極118が絶縁層を介して画素電極112bと重なっており、中段の画素電極121bは、画素電極121a・121cそれぞれに対して容量結合されている(容量結合型画素分割方式)。このアクティブマトリクス基板を用いた液晶表示装置では、画素電極121a・121cに対応する副画素それぞれを明副画素、画素電極121bに対応する副画素を暗副画素とすることができ、これら明副画素(2個)・暗副画素(1個)の面積階調によって中間調を表示することができる。
 このような容量結合型画素分割方式の液晶表示装置では、容量結合される画素電極121bに蓄積する電荷の影響により、画素電極121bを含む副画素において、焼き付きが生じることが知られている。
 具体的には、図45に示すように、トランジスタ56を介してソースライン55に直接接続される画素電極61bでは、1フレームごとにトランジスタ56がオンになることにより、画素電極61bとソースライン55とが電気的に接続されるため、画素電極61bではトランジスタ56がオフの期間に蓄積された電荷がオンの期間にソースライン55に流れる。そのため、画素電極61bには直流電圧成分はほとんど残留せず、焼き付きが生じ難い。一方、画素電極61bに容量結合される画素電極61aでは、トランジスタ56がオンになっても、画素電極61aに蓄積された電荷がそのまま保持される。そのため、画素電極61aには直流電圧成分が残留し、これに起因して画素電極61aを含む副画素が焼き付くことになる。
 この焼き付きの問題を解決する方法の一例として、特許文献1に記載のアクティブマトリクス基板では、図44に示すように、画素電極121aに容量結合される画素電極121bを、ゲートバスライン112から離間して配置している。つまり、画素電極121bを、画素電極121aと画素電極121cとの間に配することにより、ゲートバスライン112に流れる信号の直流電圧成分による画素電極121bへの電荷の流入を抑えることができる。これにより、焼き付きの発生を抑えることができる。
 ところが、この構成では、画素電極121bが、依然としてフローティング状態であるため、電荷の流入を完全に防ぐことはできず、高品位の表示を得ることは困難である。
 また、非特許文献1には、上記のようなフローティング状態の画素電極を、トランジスタを介してソースラインに直接接続する構成が記載されている。図46は、非特許文献1に記載の液晶パネルの一部を示す等価回路図である。この液晶パネルは、同図に示すように、隣り合う2本のゲートバスラインの間に画素領域(主画素領域(Main region)、副画素領域(Sub region))が設けられ、主画素領域に対応する主画素電極は、第1のトランジスタ(Main-TFT)を介してソースライン(Data line)に接続され、副画素領域に対応する副画素電極は、第2のトランジスタ(Sub-TFT)を介してソースラインに接続されている。そして、第1および第2のトランジスタは、それぞれ同一のゲートバスライン(Gate line)に接続されている。
 この構成によれば、第1および第2のトランジスタがオンすると、ソースラインと副画素電極とが電気的に接続されるため、副画素電極に蓄積された電荷が放電(リフレッシュ)される。これにより、フローティング状態の画素電極を含む副画素の焼き付きの発生を抑えることができる。
日本国公開特許公報「特開2006-39290号公報(公開日:2006年2月9日) SID 07 DIGEST p1010~p1013
 ところが、非特許文献1の構成では、主画素電極および副画素電極が、それぞれ、第1および第2のトランジスタを介して、同一のゲートバスラインおよび同一のソースラインに接続されているため、第1および第2のトランジスタのオン時間(ゲートオン時間)が互いに等しくなる。
 画素分割方式において、ゲートオン時間が等しい場合には、画素電極へ供給される電位は、トランジスタ特性の比率、すなわち、トランジスタのチャネルのW/L比(チャネル幅Wのチャネル長Lに対する比)で規定されることになる。つまり、上記の構成では、明副画素および暗副画素を形成するために、主画素電極に接続される第1のトランジスタのチャネルのW/L比(チャネル幅Wのチャネル長Lに対する比)と、第2のトランジスタのチャネルのW/L比(チャネル幅Wのチャネル長Lに対する比)とを、互いに異ならせることが必要となる。
 そのため、このような液晶パネルを製造する場合には、チャネルサイズの異なるトランジスタを予め設計する必要があり、設計が複雑化する可能性がある。また、液晶パネルの完成後に、例えば各画素電極への書き込み時間を変更するといった調整が困難となり、製品の自由度が低下する。さらに、ソースラインおよびゲートバスラインの線幅のシフトによりトランジスタのチャネルのW/L比が変化するため、表示面内において第1および第2のトランジスタの特性が互いに異なり、表示品位の低下を招くおそれもある。
 本発明では、容量結合型画素分割方式の液晶表示装置において、副画素の焼き付きに起因する表示品位の低下のおそれが少ない構成を提案する。
 本アクティブマトリクス基板は、データ信号線と、第1および第2の走査信号線と、上記データ信号線および第1の走査信号線に接続された第1のトランジスタと、上記データ信号線および第2の走査信号線に接続された第2のトランジスタと、1つの画素領域内に形成された第1および第2の画素電極とを備え、上記第1の画素電極は、上記第1のトランジスタを介して上記データ信号線に接続され、上記第2の画素電極は、上記第1の画素電極に容量を介して接続されるとともに、上記第2のトランジスタを介して上記データ信号線に接続され、上記第1のトランジスタのチャネルのW/L比(チャネル幅Wのチャネル長Lに対する比)と、上記第2のトランジスタのチャネルのW/L比(チャネル幅Wのチャネル長Lに対する比)とが互いに等しいことを特徴とする。
 本アクティブマトリクス基板を用いた液晶表示装置では、1つの画素領域内の各画素電極それぞれが、異なる走査信号線に接続されたそれぞれのトランジスタを介してデータ信号線に接続されるため、信号電位を供給するタイミングを画素電極ごとに異ならせることができる。そのため、例えば、一方の画素電極へ正規の書き込み用の信号電位を供給する前に、この画素電極に容量結合される他方の画素電極へ、トランジスタを介してデータ信号線に電気的に接続して、信号電位(例えば、Vcom)を供給することができる。
 このように、正規の書き込みが行われる前に、トランジスタを介してデータ信号線に接続される画素電極に容量結合される画素電極(容量結合電極)に対して、容量を介することなくデータ信号線から信号電位を供給することができるため、この容量結合電極に蓄積された電荷を放電(リフレッシュ)させることができる。そのため、この画素電極を含む副画素の焼き付きの発生を抑えることができる。また、上記の構成によれば、従来のように、トランジスタのチャネルW/L比を調整する必要がなく、同一のチャネルサイズでアクティブマトリクス基板を構成することができる。よって、トランジスタの特性のばらつきによる表示品位の低下を抑えることができる。
 本アクティブマトリクス基板では、上記画素領域内に形成された第3の画素電極をさらに備え、上記第3の画素電極は、上記第1の画素電極と電気的に接続されている構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、上記画素領域内に形成された第3の画素電極をさらに備え、上記第3の画素電極は、上記第1の画素電極に容量を介して接続されるとともに、上記第2の画素電極と電気的に接続されている構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、データ信号線と、第1および第2の走査信号線と、上記データ信号線および第1の走査信号線に接続された第1のトランジスタと、上記データ信号線および第2の走査信号線に接続された第2のトランジスタと、1つの画素領域内に形成された第1および第2の画素電極とを備え、上記第1の画素電極は、上記第1のトランジスタを介して上記データ信号線に接続され、上記第2の画素電極は、上記第1の画素電極に容量を介して接続されるとともに上記第2のトランジスタを介して上記データ信号線に接続され、上記第1の画素電極と上記第2の走査信号線との間には保持容量が形成されている構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、上記画素領域内に形成された第3の画素電極をさらに備え、上記第3の画素電極は、上記第1の画素電極と電気的に接続されている構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、上記画素領域内に形成された第3の画素電極をさらに備え、上記第3の画素電極は、上記第1の画素電極に容量を介して接続されるとともに、上記第2の画素電極と電気的に接続されている構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、上記画素領域は、これを横切る上記第1の走査信号線によって2つの部分に分けられ、その一方に上記第1の画素電極が配されているとともに、他方に上記第2の画素電極が配されている構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、さらに、上記第2の画素電極と上記第2の走査信号線との間に、保持容量が形成されている構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、保持容量配線をさらに備え、該保持容量配線が上記第1の画素電極と保持容量を形成している構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、上記保持容量配線が、さらに、上記第2の画素電極と保持容量を形成している構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、上記第1および第2のトランジスタの導通電極と同層に形成された保持容量電極を備え、該保持容量電極が、上記第1および第2の画素電極の一方と電気的に接続されているとともに、ゲート絶縁膜を介して上記保持容量配線と重なっている構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、上記第1および第2のトランジスタの導通電極と同層に形成された結合容量電極を備え、該結合容量電極が、上記第1および第2の画素電極の一方と電気的に接続されているとともに、層間絶縁膜を介して他方と重なり、かつ、ゲート絶縁膜を介して上記保持容量配線と重なっている構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、保持容量配線をさらに備え、上記画素領域は、これを横切る上記保持容量配線によって2つの部分に分けられ、その一方に上記第1の画素電極が配され、他方に上記第3の画素電極が配されるとともに、上記第1および第3の画素電極の間に上記第2の画素電極が配されている構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、保持容量配線をさらに備え、上記画素領域は、これを横切る上記保持容量配線によって2つの部分に分けられ、その一方に上記第2の画素電極が配され、他方に上記第3の画素電極が配されるとともに、上記第2および第3の画素電極の間に上記第1の画素電極が配されている構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、上記第1および第2のトランジスタの導通電極と同層に形成された結合容量電極を備え、該結合容量電極が、上記第1および第2の画素電極の一方と電気的に接続されているとともに、層間絶縁膜を介して他方と重なっている構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、上記第1および第2のトランジスタの導通電極と同層に形成された保持容量電極を備え、該保持容量電極が、上記第1および第2の画素電極の一方と電気的に接続されているとともに、ゲート絶縁膜を介して上記第2の走査信号線と重なっている構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、上記第1および第2のトランジスタの導通電極と同層に形成された結合容量電極および保持容量電極を備え、上記結合容量電極は、上記第1の画素電極と電気的に接続されているとともに、層間絶縁膜を介して上記第2の画素電極と重なっており、上記保持容量電極は、上記第1の画素電極と電気的に接続されているとともに、ゲート絶縁膜を介して上記第2の走査信号線と重なっている構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、上記第1および第2のトランジスタの導通電極と同層に形成された結合容量電極および保持容量電極を備え、上記結合容量電極は、上記第1の画素電極と電気的に接続されているとともに、層間絶縁膜を介して上記第2の画素電極と重なっており、上記保持容量電極は、上記第1の画素電極と電気的に接続されているとともに、ゲート絶縁膜を介して上記第2の走査信号線と重なっている構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、層間絶縁膜を介して上記第2の画素電極と重なる結合容量電極を備え、上記第1のトランジスタの導通電極から引き出された第1の引き出し配線と上記結合容量電極とが同層で接続されているとともに、上記第1の引き出し配線と上記第1の画素電極とがコンタクトホールを介して接続され、上記第2のトランジスタの導通電極から引き出された第2の引き出し配線と上記第2の画素電極とがコンタクトホールを介して接続されている構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、層間絶縁膜を介して上記第2の画素電極と重なる結合容量電極を備え、上記第1のトランジスタの導通電極から引き出された第1の引き出し配線と上記結合容量電極とが同層で接続されているとともに、上記第1の引き出し配線と上記第1の画素電極とがコンタクトホールを介して接続され、上記第2のトランジスタの導通電極から引き出された第2の引き出し配線と上記第2の画素電極とがコンタクトホールを介して接続され、上記結合容量電極に接続された結合容量電極延伸部と上記第3の画素電極とがコンタクトホールを介して接続されている構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、層間絶縁膜を介して上記第2の画素電極と重なる結合容量電極を備え、上記第1のトランジスタの導通電極から引き出された第1の引き出し配線と上記結合容量電極とが同層で接続されているとともに、上記第1の引き出し配線と上記第1の画素電極とがコンタクトホールを介して接続され、上記第2のトランジスタの導通電極から引き出された第2の引き出し配線と上記第2の画素電極とがコンタクトホールを介して接続されるとともに、該第2の引き出し配線と上記第3の画素電極とがコンタクトホールを介して接続されている構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、層間絶縁膜を介して上記第2の画素電極と重なる結合容量電極と、ゲート絶縁膜を介して上記第2の走査信号線と重なる保持容量電極とを備え、上記第1のトランジスタの導通電極から引き出された第1の引き出し配線と上記結合容量電極とが同層で接続されているとともに、上記第1の引き出し配線と上記第1の画素電極とがコンタクトホールを介して接続され、上記第2のトランジスタの導通電極から引き出された第2の引き出し配線と上記第2の画素電極とがコンタクトホールを介して接続され、上記結合容量電極に接続された結合容量電極延伸部と上記第3の画素電極とがコンタクトホールを介して接続され、上記第3の画素電極と上記保持容量電極とがコンタクトホールを介して接続されている構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、層間絶縁膜を介して上記第2の画素電極と重なる結合容量電極と、ゲート絶縁膜を介して上記第2の走査信号線と重なる保持容量電極とを備え、上記第1のトランジスタの導通電極から引き出された第1の引き出し配線と上記結合容量電極とが同層で接続されているとともに、上記第1の引き出し配線と上記第1の画素電極とがコンタクトホールを介して接続され、上記第2のトランジスタの導通電極から引き出された第2の引き出し配線と上記第2の画素電極とがコンタクトホールを介して接続されるとともに、該第2の引き出し配線と上記第3の画素電極とがコンタクトホールを介して接続され、上記第3の画素電極と上記保持容量電極とがコンタクトホールを介して接続されている構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、層間絶縁膜を介して上記第2の画素電極と重なる結合容量電極と、ゲート絶縁膜を介して上記第2の走査信号線と重なる保持容量電極とを備え、上記第1のトランジスタの導通電極から引き出された第1の引き出し配線と上記結合容量電極とが同層で接続されているとともに、上記第1の引き出し配線と上記第1の画素電極とがコンタクトホールを介して接続され、上記第2のトランジスタの導通電極から引き出された第2の引き出し配線と上記第2の画素電極とがコンタクトホールを介して接続され、上記第1の画素電極と上記保持容量電極とがコンタクトホールを介して接続されている構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、上記層間絶縁膜は、上記結合容量電極と重なる部分の少なくとも一部が薄くなっている構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、上記ゲート絶縁膜は、上記保持容量電極と重なる部分の少なくとも一部が薄くなっている構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、上記層間絶縁膜は、無機絶縁膜と有機絶縁膜とからなるが、上記結合容量電極と重なる部分の少なくとも一部については、有機絶縁膜が除去されている構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、上記ゲート絶縁膜は、無機絶縁膜と有機絶縁膜とからなるが、上記保持容量電極と重なる部分の少なくとも一部については、有機絶縁膜が除去されている構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、上記有機絶縁膜には、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ノボラック樹脂、およびシロキサン樹脂の少なくとも1つが含まれている構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、上記第1~第3の画素電極は、上記第1の画素電極の少なくとも一部が、上記第1の走査信号線に近接し、上記第3の画素電極の少なくとも一部が、上記第2の走査信号線に近接し、上記第2の画素電極の一方の端部が上記第1の走査信号線に近接するとともに、他方の端部が上記第2の走査信号線に近接するように、配されている構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、上記第1~第3の画素電極は、上記第2の画素電極の少なくとも一部が、上記第1の走査信号線に近接し、上記第3の画素電極の少なくとも一部が、上記第2の走査信号線に近接し、上記第1の画素電極の一方の端部が上記第1の走査信号線に近接するとともに、他方の端部が上記第2の走査信号線に近接するように、配されている構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、液晶表示装置に適用された場合に、上記第1の画素電極を含む副画素が明副画素となり、上記第2の画素電極を含む副画素が暗副画素となる構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、液晶表示装置に適用された場合に、上記第1および第3の画素電極を含む副画素が明副画素となり、上記第2の画素電極を含む副画素が暗副画素となる構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、液晶表示装置に適用された場合に、上記第1の画素電極を含む副画素が明副画素となり、上記第2および第3の画素電極を含む副画素が暗副画素となる構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、第1のデータ信号線と、第1~第4の走査信号線と、上記第1のデータ信号線および上記第1の走査信号線に接続された第1のトランジスタと、上記第1のデータ信号線および上記第2の走査信号線に接続された第2のトランジスタと、上記第1のデータ信号線および上記第3の走査信号線に接続された第3のトランジスタと、上記第1のデータ信号線および上記第4の走査信号線に接続された第4のトランジスタとを備え、上記第1のデータ信号線の延伸方向を列方向とすれば、第1の画素領域に上記第1および第2の画素電極が設けられ、上記第1の画素領域と列方向に隣接する第2の画素領域に、第3および第4の画素電極が設けられ、上記第1および第2の画素電極が容量を介して接続されるとともに、上記第3および第4の画素電極が容量を介して接続され、上記第1のトランジスタが上記第1の画素電極に接続されるとともに上記第2のトランジスタが上記第2の画素電極に接続され、上記第3のトランジスタが上記第3の画素電極に接続されるとともに上記第4のトランジスタが上記第4の画素電極に接続されている構成とすることもできる。
 本液晶表示装置は、1画素に、第1の副画素と該第1の副画素の輝度以下に制御される第2の副画素とが含まれる液晶表示装置であって、データ信号線と、第1および第2の走査信号線と、上記データ信号線および第1の走査信号線に接続された第1のトランジスタと、上記データ信号線および第2の走査信号線に接続された第2のトランジスタと、上記第1の副画素に形成された第1の画素電極と、上記第2の副画素に形成された第2の画素電極とを備え、上記第1の画素電極は、上記第1のトランジスタを介して上記データ信号線に接続され、上記第2の画素電極は、上記第1の画素電極に容量を介して接続されるとともに、上記第2のトランジスタを介して上記データ信号線に接続され、表示中に上記第2の走査信号線が少なくとも1回選択されることを特徴とする。
 また、本液晶表示装置は、上記いずれかに記載のアクティブマトリクス基板を備え、表示中に上記第2の走査信号線が少なくとも1回選択されることを特徴とする。
 これにより、表示中に少なくとも1回は、第1のトランジスタを介してデータ信号線に接続される第1の画素電極に容量結合される第2の画素電極を、第2のトランジスタを介してデータ信号線に電気的に接続することができるため、第2の画素電極に蓄積された電荷を放電(リフレッシュ)させることができる。そのため、第2の画素電極を含む副画素の焼き付きの発生を抑えることができるとともに、表示品位の低下を抑えることができる。
 本液晶表示装置では、上記第2のトランジスタがオフするときに、上記データ信号線に共通電極電位が供給されている構成とすることもできる。
 本液晶表示装置では、上記第2のトランジスタがオフするときに上記第1のトランジスタがオン状態であるか、あるいは、上記第2のトランジスタがオフするときに上記第1のトランジスタが同時にオフする構成とすることもできる。
 本液晶表示装置では、上記第2のトランジスタがオフするときに、第1および第2の画素電極の電位を実質的に共通電極電位にする構成とすることもできる。
 本液晶表示装置では、上記第1の走査信号線に供給される第1のゲートオンパルス信号と、上記第2の走査信号線に供給される第2のゲートオンパルス信号とは、同一の水平走査期間内でアクティブになるとともに、上記第2のゲートオンパルス信号は、そのパルス幅が上記第1のゲートオンパルス信号のパルス幅未満であり、かつ、上記第1のゲートオンパルス信号が非アクティブになる前に非アクティブになる構成とすることもできる。
 本液晶表示装置では、上記第1の走査信号線に供給される第1のゲートオンパルス信号、および、上記第2の走査信号線に供給される第2のゲートオンパルス信号は、表示すべきデータ信号の信号電位が上記第1の画素電極へ供給される期間よりも一水平走査期間前にアクティブになるとともに、上記第2のゲートオンパルス信号は、上記第1のゲートオンパルス信号がアクティブの間に非アクティブになる構成とすることもできる。
 本液晶表示装置では、各フレームにおいて、1画素領域内の全ての画素電極へ、少なくとも2回、共通電極電位を供給する構成とすることもできる。
 本液晶表示装置では、各フレームにおいて、表示すべきデータ信号の信号電位が上記第1の画素電極へ供給されてから、2/3フレーム期間経過後に、1画素領域内の全ての画素電極へ、少なくとも2回、共通電極電位を供給する構成とすることもできる。
 本液晶表示装置では、各データ信号線に供給されるデータ信号の信号電位の極性は、一水平走査期間ごとに反転し、上記データ信号の信号電位の極性が反転するときに、所定期間だけ各データ信号線へのデータ信号の供給が遮断されるとともに、各データ信号線が互いに短絡され、上記第1および第2のトランジスタは、上記所定期間内でオン状態である構成とすることもできる。
 本液晶表示装置では、各走査信号線を駆動する走査信号線駆動回路を備え、上記第1および第2の走査信号線それぞれに供給される第1および第2のゲートオンパルス信号は、上記走査信号線駆動回路が有する1つのシフトレジスタの同一段からの出力を用いて生成されている構成とすることもできる。
 本液晶表示装置では、上記走査信号線駆動回路は、上記シフトレジスタと、列方向に並ぶ複数の論理回路と、出力回路とを備え、上記論理回路に入力される、上記シフトレジスタの出力と上記走査信号線駆動回路の出力を制御する出力制御信号とに基づいて、上記出力回路から出力される上記第1および第2のゲートオンパルス信号のパルス幅が決定される構成とすることもできる。
 本液晶表示装置では、上記第1の画素電極に供給される信号電位の極性は、1フレーム単位で反転する構成とすることもできる。
 本液晶表示装置では、第1のデータ信号線に供給される信号電位の極性が一水平走査期間ごとに反転する構成とすることもできる。
 本液晶表示装置では、同一水平走査期間においては、第1のデータ信号線およびこれに隣接するデータ信号線それぞれに、逆極性の信号電位が供給される構成とすることもできる。
 本液晶パネルは、上記アクティブマトリクス基板を備えることを特徴とする。本液晶表示ユニットは、上記液晶パネルとドライバとを備えることを特徴とする。本液晶表示装置は、上記液晶表示ユニットと光源装置とを備えることを特徴とする。本テレビジョン受像機は、上記液晶表示装置と、テレビジョン放送を受信するチューナー部とを備えることを特徴とする。
 本発明の他の目的、特徴、および優れた点は、以下に示す記載によって十分分かるであろう。また、本発明の利点は、添付図面を参照した次の説明によって明白になるであろう。
液晶パネル5aの構成を示す回路図である。 液晶パネル5aの構成(具体例1-1)を示す平面図である。 液晶パネル5aの他の構成を示す平面図である。 図2のA-B断面の具体例を示す断面図である。 図2のA-B断面の他の具体例を示す断面図である。 液晶パネル5aの他の構成(具体例1-2)を示す平面図である。 図6のA-B断面の具体例を示す断面図である。 図6のC-D断面の具体例を示す断面図である。 図6のA-B断面の他の具体例を示す断面図である。 液晶パネル5aの他の構成を示す平面図である。 液晶パネル5aの他の構成(具体例1-3)を示す平面図である。 図11の液晶パネル5aの構成を示す回路図である。 液晶パネル5a・5b・5cを備えた液晶表示装置の駆動方法を示すタイミングチャートである。 液晶パネル5a・5b・5cを駆動するゲートドライバの構成を示す回路図である。 図14のゲートドライバの駆動方法を示すタイミングチャートである。 液晶パネル5a・5b・5cを備えた液晶表示装置の他の駆動方法を示すタイミングチャートである。 液晶パネル5a・5b・5cを駆動するゲートドライバ他の構成を示す回路図である。 図17のゲートドライバの駆動方法を示すタイミングチャートである。 液晶パネル5a・5b・5cを備えた液晶表示装置の他の駆動方法を示すタイミングチャートである。 液晶パネル5a・5b・5cを駆動するゲートドライバ他の構成を示す回路図である。 図20のゲートドライバの駆動方法を示すタイミングチャートである。 液晶パネル5a・5b・5cを備えた液晶表示装置の他の駆動方法を示すタイミングチャートである。 液晶パネル5bの構成を示す回路図である。 液晶パネル5bの構成(具体例2-1)を示す平面図である。 液晶パネル5bの他の構成を示す平面図である。 液晶パネル5bの他の構成(具体例2-2)を示す平面図である。 液晶パネル5bの他の構成を示す平面図である。 液晶パネル5bの他の構成(具体例2-3)を示す平面図である。 図28のA-B断面の具体例を示す断面図である。 図28のC-D断面の具体例を示す断面図である。 液晶パネル5bの他の構成(具体例2-4)を示す平面図である。 図31の液晶パネル5bの構成を示す回路図である。 液晶パネル5cの構成を示す回路図である。 液晶パネル5cの構成(具体例3-1)を示す平面図である。 MVA構造の液晶パネル5aの構成を示す平面図である。 図35の液晶パネル5aの一部を拡大した平面図である。 本液晶表示ユニットおよび本液晶表示装置の構成を示す模式図であり、(a)は本液晶表示ユニットの構成を示し、(b)は本液晶表示装置の構成を示す。 ソースドライバの他の構成を示す回路図である。 ソースドライバのさらに他の構成を示す回路図である。 本液晶表示装置の全体構成を説明するブロック図である。 本液晶表示装置の機能を説明するブロック図である。 本テレビジョン受像機の機能を説明するブロック図である。 本テレビジョン受像機の構成を示す分解斜視図である。 従来の液晶パネルの構成を示す平面図である。 従来の液晶パネルの構成を示す平面図である。 従来の液晶パネルの構成を示す回路図である。 本発明の液晶パネル5aの他の構成を示す平面図である。 本発明の液晶パネル5aの他の構成を示す平面図である。 本発明の液晶パネル5bの他の構成を示す平面図である。 本発明の液晶パネル5bの他の構成を示す平面図である。 図13に示す駆動方法の他の駆動方法を示すタイミングチャートである。 図16に示す駆動方法の他の駆動方法を示すタイミングチャートである。
符号の説明
 5a・5b 液晶パネル
 11a・11a′・11a″・11b・11b′ コンタクトホール
 12a~12f・12A~12F トランジスタ
 15x 15X データ信号線
 16a~16f 走査信号線
 17a~17f 画素電極
 17A~17F 画素電極
 17a′~17f′ 画素電極
 17A′~17F′ 画素電極
 18x~18z 保持容量配線
 21 有機ゲート絶縁膜
 22 無機ゲート絶縁膜
 24 半導体層
 25 無機層間絶縁膜
 26 有機層間絶縁膜
 37a 結合容量電極
 67a・67b 保持容量電極
 77a・77a′・77b・77b′ コンタクト電極
 84 液晶表示ユニット
 100~105 画素
 601 テレビジョン受像機
 800 液晶表示装置
 C100~C105 結合容量
 本発明にかかる実施の形態の例を、図1~43を用いて説明すれば、以下のとおりである。なお、説明の便宜のため、以下では走査信号線の延伸方向を行方向とする。ただし、本液晶表示装置(あるいはこれに用いられる液晶パネルやアクティブマトリクス基板)の利用(視聴)状態において、その走査信号線が横方向に延伸していても縦方向に延伸していてもよいことはいうまでもない。また、本実施の形態で示すトランジスタのチャネル特性(n型・p型)は特に限定されるものではない。
 ここで、本発明の液晶パネルの構成例としては、大別すると、(1)保持容量配線を有する場合と、(2)保持容量配線を有しない場合(Csオンゲート構造)とに分けることができる。そこで、実施の形態1では、(1)保持容量配線を有する構成例について説明し、(2)保持容量配線を有しない構成例(Csオンゲート構造)については実施の形態2で説明する。また、両構成を兼ね備えた、保持容量配線を有するCsオンゲート構造の液晶パネルの構成例について、実施の形態3で説明する。なお、説明の便宜上、各実施の形態において同一の機能を有する部材には同一の符号を付し、また、実施の形態1において定義した用語については、特に断らない限り実施の形態2および3においてもその定義に則って用いるものとする。
 〔実施の形態1〕
 図1は本実施の形態1における本液晶パネルの一部を示す等価回路図である。図1に示すように、液晶パネル5aは、列方向(図中上下方向)に延伸するデータ信号線(15x・15X)、行方向(図中左右方向)に延伸する走査信号線(16a~16f)、行および列方向に並べられた画素(100~105)、保持容量配線(18x~18z)、および共通電極(対向電極)comを備え、各画素の構造は同一の構成である。なお、画素100~102が含まれる画素列と、画素103~105が含まれる画素列とが隣接している。
 液晶パネル5aでは、1つの画素に対応して1本のデータ信号線と2本の走査信号線とが設けられており、画素100に設けられた2つの画素電極17c・17d、画素101に設けられた2つの画素電極17a・17b、および画素102に設けられた2つの画素電極17e・17fが一列に配されるともに、画素103に設けられた2つの画素電極17C・17D、画素104に設けられた2つの画素電極17A・17B、および画素105に設けられた2つの画素電極17E・17Fが一列に配され、画素電極17cと17C、画素電極17dと17D、画素電極17aと17A、画素電極17bと17B、および画素電極17eと17E、画素電極17fと17Fがそれぞれ行方向に隣接している。
 各画素の構造は同一であるため、以下では、主に画素101を例に挙げて説明する。
 画素101では、画素電極17aおよび17b(第1および第2の画素電極)が結合容量C101を介して接続され、画素電極17aが、走査信号線16a(第1の走査信号線)に接続されたトランジスタ12a(第1のトランジスタ)を介してデータ信号線15xに接続され、画素電極17bが、走査信号線16b(第2の走査信号線)に接続されたトランジスタ12b(第2のトランジスタ)を介してデータ信号線15xに接続され、画素電極17aおよび保持容量配線18x間に保持容量Chaが形成され、画素電極17bおよび保持容量配線18x間に保持容量Chbが形成され、画素電極17aおよび共通電極com間に液晶容量Claが形成され、画素電極17bおよび共通電極com間に液晶容量Clbが形成されている。トランジスタ12a・12bは、チャネルのW/L比(チャネル幅Wのチャネル長Lに対する比;以下、「W/L比」)が互いにほぼ等しくなるように形成されている。すなわち、液晶パネル5aの各トランジスタのサイズは互いにほぼ等しいため、各トランジスタの特性は実質的に同一となっている。
 上記の構成によれば、画素電極17bは、正規の信号電位が書き込まれる画素電極17aに容量結合されるため、それぞれの容量値を、Cla=Clb=Cl,Cha=Chb=Ch,Co=Cl+Ch,C101の容量値をCα,トランジスタ12aがOFFした後の画素電極17aの電位をVaとすると、トランジスタ12aがOFFした後の画素電極17bの電位は、Va×(Cα/(Cα+Co))となり、画素電極17aを含む副画素は明副画素(以下、「明」)、画素電極17bを含む副画素は暗副画素(以下、「暗」)となる。これにより、画素分割方式の液晶表示装置を実現できる。
 また、上記液晶パネル5aを備えた画素分割方式の液晶表示装置では、1つの画素101領域内の画素電極17a・17bそれぞれが、異なる走査信号線16a・16bに接続されたそれぞれのトランジスタ12a・12bを介して、データ信号線15xに接続されている。そのため、それぞれの画素電極17a・17bに対して、同一または異なる信号電位を、トランジスタ12a・12bを介して直接供給することができる。すなわち、トランジスタ12aを介してデータ信号線15xに接続される画素電極17aに容量結合される画素電極17b(以下、「容量結合電極」ともいう)に対して、容量を介することなくデータ信号線15xから信号電位を供給することができる。また、画素電極17a・17bそれぞれに接続されるトランジスタ12a・12bそれぞれは、互いに異なる走査信号線16a・16bに接続されているため、各画素電極17a・17bに供給する信号電位の供給タイミングを任意に設定することもできる。
 このように、本発明の構成によれば、トランジスタ12bをオンすることにより、容量結合電極(画素電極17b)をデータ信号線(15x)に電気的に接続することが可能となる。そのため、画素電極17bへ、トランジスタ12bを介してデータ信号線15xから信号電位を供給することが可能となる。
 ここで、例えば、画素電極17aに正規の信号電位を書き込む場合、この書き込み前に、トランジスタ12bを介してデータ信号線15xから画素電極17bへ信号電位(例えば、Vcom信号)を供給する。この信号電位(Vcom)は、チャージシェア方式により供給してもよいし、全てのトランジスタをオンして、全てのデータ信号線に供給してもよい。これにより、容量結合される画素電極17bに信号電位(Vcom)が書き込まれるため、画素電極に蓄積された電荷を放電(リフレッシュ)させることができる。そのため、この画素電極を含む副画素の焼き付きの発生を抑えることができる。
 また、上記の構成によれば、従来のように、トランジスタのチャネルのW/L比を調整する必要がなく、同一のチャネルサイズでアクティブマトリクス基板を構成することができる。よって、トランジスタの特性のばらつきによる表示品位の低下を抑えることができる。
 本発明の液晶表示装置は、主として、上述の構成およびそれによる特有の効果を奏するものである。以下では、本実施形態の液晶表示装置を構成する液晶パネル5aの具体例およびその駆動方法について説明する。
 (液晶パネルの具体例1-1)
 液晶パネル5aの具体例1-1を図2に示す。図2の液晶パネル5aでは、画素100および画素101に沿うようにデータ信号線15xが設けられ、画素103および画素104に沿うようにデータ信号線15Xが設けられ、保持容量配線18yが画素100・103それぞれを横切り、保持容量配線18xが画素101・104それぞれを横切っている。
 ここで、画素100の行方向に沿う2つのエッジ部の一方と重なるように走査信号線16cが配され、他方と重なるように走査信号線16dが配され、平面的に視て、走査信号線16cおよび16d間に画素電極17c・17dが列方向に並べられている。また、走査信号線16cは画素103の行方向に沿う2つのエッジ部の一方と重なるとともに、走査信号線16dは他方と重なっており、平面的に視て、走査信号線16cおよび16d間に画素電極17C・17Dが列方向に並べられている。
 また、画素101の行方向に沿う2つのエッジ部の一方と重なるように走査信号線16aが形成され、他方と重なるように走査信号線16bが形成され、平面的に視て、走査信号線16aおよび16b間に画素電極17a・17bが列方向に並べられている。また、走査信号線16aは画素104の行方向に沿う2つのエッジ部の一方と重なるとともに、走査信号線16bは他方と重なっており、平面的に視て、走査信号線16aおよび16b間に画素電極17A・17Bが列方向に並べられている。
 画素101では、走査信号線16a上に、トランジスタ12aのソース電極8aおよびドレイン電極9aが形成され、走査信号線16b上に、トランジスタ12bのソース電極8bおよびドレイン電極9bが形成されている。ソース電極8aはデータ信号線15xに接続される。ドレイン電極9aはドレイン引き出し配線27aに接続され、ドレイン引き出し配線27aはコンタクト電極77aおよび結合容量電極37aに接続され、コンタクト電極77aはコンタクトホール11aを介して画素電極17aに接続されるとともに、結合容量電極37aは層間絶縁膜を介して画素電極17bと重なっており、これによって画素電極17a・17b間の結合容量C101(図1参照)が形成される。
 また、トランジスタ12bのソース電極8bはデータ信号線15xに接続される。ドレイン電極9bはドレイン引き出し配線27bに接続され、ドレイン引き出し配線27bはコンタクト電極77bに接続され、コンタクト電極77bはコンタクトホール11bを介して画素電極17bに接続される。さらに、結合容量電極37aがゲート絶縁膜を介して保持容量配線18xと重なっており、これによって、保持容量Cha(図1参照)が形成され、画素電極17bと保持容量配線18xとの間で保持容量Chb(図1参照)が形成される。なお、他の画素の構成(各部材の形状および配置並びに接続関係)は画素101のそれと同じである。
 なお、上記保持容量Chbは、図3に示す構成により形成されていてもよい。すなわち、図3に示すように、結合容量電極37aと同層に形成された保持容量電極67bが、ゲート絶縁膜を介して保持容量配線18xと重なるとともに、コンタクトホール11b′を介して画素電極17bに接続されることによって、保持容量Chbが形成される。
 図4は図2のA-B断面図である。同図に示すように、液晶パネル5aは、アクティブマトリクス基板3と、これに対向するカラーフィルタ基板30と、両基板(3・30)間に配される液晶層40とを備える。
 アクティブマトリクス基板3では、ガラス基板31上に走査信号線16a・16bおよび保持容量配線18xが形成され、これらを覆うように無機ゲート絶縁膜22が形成されている。無機ゲート絶縁膜22上には、半導体層24(i層およびn+層)、n+層に接するソース電極8a、ドレイン電極9a、ドレイン引き出し配線27a・27b、コンタクト電極77a・77bおよび結合容量電極37aが形成され、これらを覆うように無機層間絶縁膜25が形成されている。なお、ソース電極8aおよびドレイン電極9aと重ならない半導体層24(典型的にはトランジスタのチャネル部)は、n+層がエッチング等により除去され、i層のみとなっている。無機層間絶縁膜25上には画素電極17a・17bが形成され、さらに、これら(画素電極17a・17b)を覆うように配向膜(図示せず)が形成されている。ここで、コンタクトホール11a・11bでは、それぞれ、無機層間絶縁膜25が刳り貫かれており、これによって、画素電極17aとコンタクト電極77aとが接続され、画素電極17bとコンタクト電極77bとが接続される。また、ドレイン引き出し配線27aに繋がる結合容量電極37aは無機層間絶縁膜25を介して画素電極17bと重なっており、これによって、結合容量C101(図1参照)が形成される。また、結合容量電極37aは無機ゲート絶縁膜22を介して保持容量配線18xと重なっており、これによって、保持容量Cha(図1参照)が形成され、画素電極17bと保持容量配線18xとの間で保持容量Chb(図1参照)が形成される。
 一方、カラーフィルタ基板30では、ガラス基板32上にブラックマトリクス13および着色層14が形成され、その上層に共通電極(com)28が形成され、さらにこれを覆うように配向膜(図示せず)が形成されている。
 ここで、本アクティブマトリクス基板3の製造方法の一例を説明する。
 まず、ガラス、プラスチック等の透明絶縁性基板(図4ではガラス基板31)上に、例えばチタン、クロム、アルミニウム、モリブデン、タンタル、タングステン、銅等の金属膜あるいはそれらの合金膜またはそれらの積層膜を1000Å~3000Åの膜厚でスパッタリング法等の方法にて成膜し、これをフォトエッチング法にて必要な形状にパターニングすることによって、(各トランジスタのゲート電極として機能する)走査信号線、保持容量配線等を形成する。
 ついで、ゲート絶縁膜となる窒化シリコン膜(SiNx)、アモルファスシリコンやポリシリコン等からなる高抵抗半導体層、およびn+アモルファスシリコン等の低抵抗半導体層を、プラズマCVD(化学的気相成長)法等により連続して成膜し、フォトエッチング法によりパターニングする。なお、ゲート絶縁膜としての窒化シリコン膜は、例えば3000Å~5000Å程度の膜厚とし、高抵抗半導体層としてのアモルファスシリコン膜は、例えば1000Å~3000Å程度の膜厚とし、低抵抗半導体層としてのn+アモルファスシリコン膜は、例えば400Å~700Å程度の膜厚とする。
 次いで、チタン、クロム、アルミニウム、モリブデン、タンタル、タングステン、銅等の金属膜あるいはそれらの合金膜、またはそれらの積層膜を1000Å~3000Åの膜厚でスパッタリング法等の方法にて形成し、フォトエッチング法等にて必要な形状にパターニングすることによって、データ信号線、ソース電極、およびドレイン電極等を形成する。
 次いで、アモルファスシリコン膜等の高抵抗半導体層(i層)、n+アモルファスシリコン膜等の低抵抗半導体層(n+層)に対して、データ信号線、ソース電極、およびドレイン電極等のパターンをマスクにし、ドライエッチングにてチャネルエッチングを行う。このプロセスにてi層の膜厚が最適化され、各トランジスタ(チャネル領域)が形成される。ここでは、マスクで覆われていない半導体層がエッチング除去され、各トランジスタの能力に必要なi層膜厚が残される。
 ついで、層間絶縁膜として、窒化シリコンや酸化シリコン等の無機絶縁膜を、データ信号線、ソース電極、およびドレイン電極等を覆うように形成する。ここでは、プラズマCVD法等によって2000Å~5000Å程度の膜厚の窒化シリコン膜(パッシベーション膜)を形成している。
 ついで、コンタクトホールの位置に基づいて、層間絶縁膜をエッチングしてホールを形成する。ここでは、例えば、感光性レジストをフォトリソグラフィー法(露光および現像)によりパターニングし、エッチングを行う。
 ついで、層間絶縁膜上に、例えば、ITO(インジウム錫酸化物)、IZO、酸化亜鉛、酸化スズ等の透明性を有する導電膜を、スパッタリング法等により1000Å~2000Å程度の膜厚で成膜し、これをフォトエッチング法等にて必要な形状にパターニングすることによって各画素領域に第1および第2の画素電極を形成する。
 ついで、各画素電極を覆うように、インクジェット法等により配向膜を塗布する。
 上述したアクティブマトリクス基板の製造方法は、後述する各液晶パネルにおいても適用可能である。以下では、説明の便宜上、その説明を省略する。
 ところで、図4のA-B断面を図5のように構成することもできる。すなわち、ガラス基板31上に厚い有機ゲート絶縁膜21と薄い無機ゲート絶縁膜22とを形成し、画素電極の下層に薄い無機層間絶縁膜25と厚い有機層間絶縁膜26とを形成する。こうすれば、各種寄生容量の低減や配線同士の短絡防止の効果が得られる。なおこの場合には、図5に示すように、有機ゲート絶縁膜21については結合容量電極37a下に位置する部分を刳り貫いておき、有機層間絶縁膜26については結合容量電極37a上に位置する部分を刳り貫いておくことが好ましい。こうすれば、結合容量C101の容量値および保持容量Cha・Chbの容量値を大きくすることができる。
 図5の無機層間絶縁膜25、有機層間絶縁膜26およびコンタクトホール11a・11bは例えば、以下のようにして形成することができる。すなわち、トランジスタ(TFT)を形成した後、SiH4ガスとNH3ガスとN2ガスとの混合ガスを用い、基板全面を覆うように、厚さ約3000ÅのSiNxからなる無機層間絶縁膜25(パッシベーション膜)をCVDにて形成する。その後、厚さ約3μmのポジ型感光性アクリル樹脂からなる有機層間絶縁膜26をスピンコートやダイコートにて形成する。続いて、フォトリソグラフィーを行って有機層間絶縁膜26の刳り貫き部分および各種のコンタクト用パターンを形成し、さらに、パターニングされた有機層間絶縁膜26をマスクとし、CF4ガスとO2ガスとの混合ガスを用いて、無機層間絶縁膜25をドライエッチングする。具体的には、例えば、有機層間絶縁膜の刳り貫き部分についてはフォトリソグラフィー工程でハーフ露光とすることで現像完了時に有機層間絶縁膜が薄く残膜するようにしておく一方、コンタクトホール部分については上記フォトリソグラフィー工程でフル露光することで現像完了時に有機層間絶縁膜が残らないようにしておく。ここで、CF4ガスとO2ガスとの混合ガスでドライエッチングを行えば、有機層間絶縁膜の刳り貫き部分については(有機層間絶縁膜の)残膜が除去され、コンタクトホール部分については有機層間絶縁膜下の無機層間絶縁膜が除去されることになる。なお、有機ゲート絶縁膜21や有機層間絶縁膜26は、例えば、SOG(スピンオンガラス)材料からなる絶縁膜であってもよく、また、有機ゲート絶縁膜21や有機層間絶縁膜26に、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ノボラック樹脂、およびシロキサン樹脂の少なくとも1つが含まれていてもよい。
 (液晶パネルの具体例1-2)
 液晶パネル5aの具体例1-2を図6に示す。図6の液晶パネル5aでは、各画素領域内に画素電極が3つ形成されている。また、図6の液晶パネル5aでは、図2の液晶パネルと同様、画素100および画素101に沿うようにデータ信号線15xが設けられ、画素103および画素104に沿うようにデータ信号線15Xが設けられ、保持容量配線18yが画素100・103それぞれを横切り、保持容量配線18xが画素101・104それぞれを横切っている。
 ここで、画素100の行方向に沿う2つのエッジ部の一方と重なるように走査信号線16cが配され、他方と重なるように走査信号線16dが配され、平面的に視て、走査信号線16cおよび16d間に画素電極17c・17d・17c′(図1では、画素電極17c・17c′は互いに電気的に接続されている様子を示す)が列方向に並べられている。また、走査信号線16cは画素103の行方向に沿う2つのエッジ部の一方と重なるとともに、走査信号線16dは他方と重なっており、平面的に視て、走査信号線16cおよび16d間に画素電極17C・17D・17C′が列方向に並べられている。
 また、画素101の行方向に沿う2つのエッジ部の一方と重なるように走査信号線16aが形成され、他方と重なるように走査信号線16bが形成され、平面的に視て、走査信号線16aおよび16b間に画素電極17a・17b・17a′が列方向に並べられている。また、走査信号線16aは画素104の行方向に沿う2つのエッジ部の一方と重なるとともに、走査信号線16bは他方と重なっており、平面的に視て、走査信号線16aおよび16b間に画素電極17A・17B・17A′が列方向に並べられている。
 画素101では、走査信号線16a上に、トランジスタ12aのソース電極8aおよびドレイン電極9aが形成され、走査信号線16b上に、トランジスタ12bのソース電極8bおよびドレイン電極9bが形成されている。ソース電極8aはデータ信号線15xに接続される。ドレイン電極9aはドレイン引き出し配線27aに接続され、ドレイン引き出し配線27aは、コンタクト電極77aおよび結合容量電極37aに接続され、コンタクト電極77aは、コンタクトホール11aを介して画素電極17aに接続される。結合容量電極37aは、層間絶縁膜を介して画素電極17bと重なっており、これによって画素電極17a・17b間の結合容量C101(図1参照)が形成される。
 また、トランジスタ12bのソース電極8bはデータ信号線15xに接続される。ドレイン電極9bはドレイン引き出し配線27bに接続され、ドレイン引き出し配線27bはコンタクト電極77bに接続され、コンタクト電極77bはコンタクトホール11bを介して画素電極17bに接続される。
 また、結合容量電極37aがゲート絶縁膜を介して保持容量配線18xと重なっており、これによって、保持容量Cha(図1参照)が形成され、画素電極17bと保持容量配線18xとの間で保持容量Chb(図1参照)が形成される。さらに、結合容量電極37aに接続された結合容量電極延伸部27a′がコンタクト電極77a′に接続され、コンタクト電極77a′はコンタクトホール11a′を介して画素電極17a′(第3の画素電極)に接続される。なお、他の画素の構成(各部材の形状および配置並びに接続関係)は画素101のそれと同じである。
 この構成によれば、画素電極17a・17a′を含む副画素は「明」、画素電極17bを含む副画素は「暗」となる。
 図7は図6のA-B断面図であり、図8は、図6のC-D断面図である。図7および図8に示すように、液晶パネル5aは、アクティブマトリクス基板3と、これに対向するカラーフィルタ基板30と、両基板(3・30)間に配される液晶層40とを備える。
 図7に示すように、アクティブマトリクス基板3では、ガラス基板31上に走査信号線16a・16bおよび保持容量配線18xが形成され、これらを覆うように無機ゲート絶縁膜22が形成されている。無機ゲート絶縁膜22上には、半導体層24(i層およびn+層)、n+層に接するソース電極8a、ドレイン電極9a、ドレイン引き出し配線27a・27b、コンタクト電極77a・77bおよび結合容量電極37aが形成され、これらを覆うように無機層間絶縁膜25が形成されている。なお、ソース電極8aおよびドレイン電極9aと重ならない半導体層24(典型的にはトランジスタのチャネル部)は、n+層がエッチング等により除去され、i層のみとなっている。無機層間絶縁膜25上には画素電極17a・17b・17a′が形成され、さらに、これら(画素電極17a・17b・17a′)を覆うように配向膜(図示せず)が形成されている。ここで、コンタクトホール11a・11bでは、それぞれ、無機層間絶縁膜25が刳り貫かれており、これによって、画素電極17aとコンタクト電極77aとが接続され、画素電極17bとコンタクト電極77bとが接続される。また、ドレイン引き出し配線27aに繋がる結合容量電極37aは無機層間絶縁膜25を介して画素電極17bと重なっており、これによって、結合容量C101(図1参照)が形成される。また、結合容量電極37aは無機ゲート絶縁膜22を介して保持容量配線18xと重なっており、これによって、保持容量Cha(図1参照)が形成され、画素電極17bと保持容量配線18xとの間で保持容量Chb(図1参照)が形成される。
 一方、カラーフィルタ基板30では、ガラス基板32上にブラックマトリクス13および着色層14が形成され、その上層に共通電極(com)28が形成され、さらにこれを覆うように配向膜(図示せず)が形成されている。
 また、図8に示すように、結合容量電極37aから引き出される結合容量電極延伸部27a′は、コンタクト電極77a′に接続され、コンタクト電極77a′はコンタクトホール11a′を介して画素電極17a′に接続される。
 ここで、図7のA-B断面を図9のように構成することもできる。すなわち、ガラス基板31上に厚い有機ゲート絶縁膜21と薄い無機ゲート絶縁膜22とを形成し、画素電極の下層に薄い無機層間絶縁膜25と厚い有機層間絶縁膜26とを形成する。こうすれば、各種寄生容量の低減や配線同士の短絡防止の効果が得られる。なおこの場合には、図9に示すように、有機ゲート絶縁膜21については結合容量電極37a下に位置する部分を刳り貫いておき、有機層間絶縁膜26については結合容量電極37a上に位置する部分を刳り貫いておくことが好ましい。こうすれば、結合容量C101の容量値および保持容量Cha・Chbの容量値を大きくすることができる。
 なお、図9の無機層間絶縁膜25、有機層間絶縁膜26およびコンタクトホール11a・11bの形成方法は、図5で示した方法と同一である。また、図9に示すように、画素電極の下層に、薄い無機層間絶縁膜25と厚い有機層間絶縁膜26とを形成する構成の場合には、液晶パネル5aを図10に示すような構成とすることもできる。すなわち、画素電極17a′が、無機層間絶縁膜25と厚い有機層間絶縁膜26とを介して走査信号線16bと重なるように形成する。これにより、画素電極17a′と走査信号線16bとの間の寄生容量を低減することができるため、特に、走査信号線16bの負荷の増加を抑制しつつ、開口率を向上させることができる。
 (液晶パネルの具体例1-3)
 液晶パネル5aの具体例1-3を図11に示す。図11の液晶パネル5aでは、各画素領域内に画素電極が3つ形成されている。また、図11の液晶パネル5aでは、図2の液晶パネルと同様、画素100および画素101に沿うようにデータ信号線15xが設けられ、画素103および画素104に沿うようにデータ信号線15Xが設けられ、保持容量配線18yが画素100・103それぞれを横切り、保持容量配線18xが画素101・104それぞれを横切っている。
 ここで、画素100の行方向に沿う2つのエッジ部の一方と重なるように走査信号線16cが配され、他方と重なるように走査信号線16dが配され、平面的に視て、走査信号線16cおよび16d間に画素電極17d・17c・17d′が列方向に並べられている。また、走査信号線16cは画素103の行方向に沿う2つのエッジ部の一方と重なるとともに、走査信号線16dは他方と重なっており、平面的に視て、走査信号線16cおよび16d間に画素電極17D・17C・17D′が列方向に並べられている。
 また、画素101の行方向に沿う2つのエッジ部の一方と重なるように走査信号線16aが形成され、他方と重なるように走査信号線16bが形成され、平面的に視て、走査信号線16aおよび16b間に画素電極17b・17a・17b′が列方向に並べられている。また、走査信号線16aは画素104の行方向に沿う2つのエッジ部の一方と重なるとともに、走査信号線16bは他方と重なっており、平面的に視て、走査信号線16aおよび16b間に画素電極17B・17A・17B′が列方向に並べられている。
 画素101では、走査信号線16a上に、トランジスタ12aのソース電極8aおよびドレイン電極9aが形成され、走査信号線16b上に、トランジスタ12bのソース電極8bおよびドレイン電極9bが形成されている。ソース電極8aはデータ信号線15xに接続される。ドレイン電極9aはドレイン引き出し配線27aに接続され、ドレイン引き出し配線27aは、結合容量電極37aおよびコンタクト電極77aに接続され、コンタクト電極77aは、コンタクトホール11aを介して画素電極17aに接続される。結合容量電極37aは、層間絶縁膜を介して画素電極17bと重なっており、これによって画素電極17a・17b間の結合容量C101(後述の図12参照)が形成される。
 また、トランジスタ12bのソース電極8bはデータ信号線15xに接続される。ドレイン電極9bはドレイン引き出し配線27bに接続され、ドレイン引き出し配線27bはコンタクト電極77b′に接続され、コンタクト電極77b′はコンタクトホール11b′を介して画素電極17b′(第3の画素電極)に接続される。ドレイン引き出し配線27bは、さらにコンタクト電極77bに接続され、コンタクト電極77bはコンタクトホール11bを介して画素電極17bに接続される。また、結合容量電極37aがゲート絶縁膜を介して保持容量配線18xと重なっており、これによって、保持容量Cha(後述の図12参照)が形成され、画素電極17bと保持容量配線18xとの間で保持容量Chb(後述の図12参照)が形成される。なお、他の画素の構成(各部材の形状および配置並びに接続関係)は画素101のそれと同じである。
 この構成によれば、画素電極17aを含む副画素は「明」、画素電極17b・17b′を含む副画素は「暗」となる。
 図11に示す液晶パネルの等価回路は、図12に示すとおりである。各画素の構造は同一であり、1つの画素に対応して1本のデータ信号線と2本の走査信号線とが設けられており、画素100に設けられた3つの画素電極17d・17c・17d′(図12では、画素電極17d・17d′は互いに電気的に接続されている様子を示す)、画素101に設けられた3つの画素電極17b・17a・17b′、および画素102に設けられた3つの画素電極17f・17e・17f′が一列に配されるともに、画素103に設けられた3つの画素電極17D・17C・17D′、画素104に設けられた3つの画素電極17B・17A・17B′、および画素105に設けられた3つの画素電極17F・17E・17F′が一列に配され、画素電極17cと17C、画素電極17d(17d′)と17D(17D′)、画素電極17aと17A、画素電極17b(17b′)と17B(17B′)、および画素電極17eと17E、画素電極17f(17f′)と17F(17F′)がそれぞれ行方向に隣接している。
 画素101を例に挙げると、画素101では、画素電極17aおよび17bが結合容量C101を介して接続され、画素電極17aが、走査信号線16aに接続されたトランジスタ12aを介してデータ信号線15xに接続され、互いに電気的に接続された画素電極17b・17b′が、走査信号線16bに接続されたトランジスタ12bを介してデータ信号線15xに接続され、画素電極17aおよび保持容量配線18x間に保持容量Chaが形成され、画素電極17bおよび保持容量配線18x間に保持容量Chbが形成され、画素電極17aおよび共通電極com間に液晶容量Claが形成され、画素電極17b・17b′および共通電極com間に液晶容量Clbが形成されている。
 ここで、本発明の液晶パネルは、上述したような、矩形状の画素電極が列方向に並んで配される構成に限定されるものではなく、図47に示すような構成であってもよい。図47は、図6に示す本具体例1-2の変形例を示す平面図である。画素101を例に挙げると、データ信号線15xおよび走査信号線16aの交差部近傍にトランジスタ12aが配され、両信号線(15x・16a)と走査信号線16bとで画される画素領域に、台形形状をなす画素電極17aと、保持容量配線18xの行方向に対して略315°の位置に、画素電極17aを180°回転した状態の形状と略一致する台形形状をなす画素電極17a′と、これら画素電極17a・17a′を除いた画素領域において、画素電極17a・17a′の形状に対応する(かみ合う)ように配される画素電極17bとを有する。また、保持容量配線18xは、画素電極17b・17a′を横切って行方向に延伸している。
 このような構成により、画素電極17a・17b・17a′は、それぞれ、画素電極17aの一部が走査信号線16aに近接し、画素電極17a′の一部が、走査信号線16bに近接し、画素電極17bの一方の端部が走査信号線16aに近接するとともに、他方の端部が走査信号線16bに近接するように配されている。換言すると、画素電極17a・17a′それぞれの少なくとも一部が、走査信号線16a・16bのそれぞれに近接して配されるとともに、画素電極17bは、走査信号線16a・16b同士を繋ぐように、列方向に延びて配されている。なお、図47において図6に示す符号と同一の符号を付した部材は、同一の機能を有するものであるため、ここではその説明を省略する。
 この構成によれば、画素電極17a・17a′を含む副画素は「明」、画素電極17bを含む副画素は「暗」となる。そして、この構成によれば、トランジスタ12a・12bからの各引き出し配線を、図6に示す構成よりも削減することができる。また、画素電極17a・17a′を、互いに近接した位置で結合容量電極37aを介して接続できるため、結合容量電極37aにおける各引き出し配線を図6に示す構成よりも削減することができる。よって、画素電極17bを含む副画素の焼き付きの発生を抑えることができるという効果に加えて、引き出し配線の断線の可能性を低減できるとともに、開口率を高めることができるという効果も得られる。
 本発明の液晶パネルは、図48に示す構成であってもよい。図48は、図11に示す本具体例1-3の変形例を示している。図48の液晶パネル5aでは、台形形状をなす画素電極17b・17b′それぞれの少なくとも一部が、走査信号線16a・16bのそれぞれに近接して配されるとともに、画素電極17b・17b′の形状に対応する(かみ合う)ように配される画素電極17aが、走査信号線16a・16b同士を繋ぐように、列方向に延びて配されている。
 この構成によれば、画素電極17aを含む副画素が「明」、画素電極17b・17b′を含む副画素が「暗」となる。そして、図47に示す液晶パネル5aと同様、開口率を高めることができるという効果が得られる。
 (液晶表示装置の駆動方法について)
 次に、上述した液晶パネル5aを備えた本液晶表示装置の駆動方法について説明する。本駆動方法の特徴点としては、概略的には、以下の点が挙げられる。
 第1の特徴点は、液晶表示装置がオン状態である間に、少なくとも1回、容量結合電極に接続されるトランジスタ12bをオン状態にすることである。これにより、上述したように、容量結合電極(画素電極17b)を、データ信号線15xに電気的に接続することができるため、蓄積された電荷を放電(リフレッシュ)させることができ、この容量結合電極を含む副画素の焼き付きの発生を抑えることができる。
 第2の特徴点としては、液晶表示装置がオン状態である間に、少なくとも1回、トランジスタ12bをオンするとともに、データ信号線15xにVcomを供給している間にトランジスタ12bをオフすることである。これにより、画素電極17bの電位をVcomに設定することができるため、上記の放電効果に加えて、表示品位の低下を防ぐことができる。
 第3の特徴点としては、上記第1または第2の特徴点に加えて、画素電極17a・17bにそれぞれ、トランジスタ12a・12bを介してデータ信号線15xからVcomを供給している間に、画素電極17bに接続されるトランジスタ12bをオフすることである。すなわち、トランジスタ12bがオフする時点では、トランジスタ12aはオン状態であり、画素電極17aにVcomが供給されている。これにより、画素電極17aに、正規の信号電位を書き込む前に、1画素領域内の画素電極の電位をリセットすることができる。すなわち、容量結合された画素電極17bの電位をVcomに固定することができる。これにより、画素電極17bに蓄積した電荷を確実に放電できるとともに、表示品位の低下を防ぐことができる。
 以下では、上述した各特徴点を備える、具体的な駆動方法およびそれを実現するゲートドライバの構成について詳細に説明する。なお、以下の駆動方法では、チャージシェア方式を採用しているが、これに限定されるものではない。
 (駆動方法-1)
 図13は上述した液晶パネル5aを備えた本液晶表示装置の駆動方法を示すタイミングチャートである。なお、SvおよびSVは、隣接する2本のデータ信号線(例えば、15x・15X)それぞれに供給される信号電位を示し、Ga~Gfは走査信号線16a~16fに供給されるゲートオンパルス信号、Vc・Vd・Va・Vb・VC・VDはそれぞれ、画素電極17c・17d・17a・17b・17C・17Dの電位を示し、shはチャージシェア信号を示している。なお、チャージシェア信号がアクティブ(「H」)の期間は、全データ信号線が互いに短絡されたり、外部から全データ信号線に同一電位が供給されたりすることによってチャージシェアが行われる。
 この駆動方法では、図13に示されるように、データ信号線に供給する信号電位の極性を1水平走査期間(1H)ごとに反転させるとともに、各フレームにおける同一番目の水平走査期間に供給される信号電位の極性を1フレーム単位で反転させ、かつ同一水平走査期間においては隣接する2本のデータ信号線に逆極性の信号電位を供給し、各水平走査期間の冒頭においてチャージシェアを行っている。
 具体的には、連続するフレームF1~フレームF4において、F1では、1画素に対応する上下2本の走査信号線ごとに順次選択(例えば、走査信号線16c・16d→走査信号線16a・16b→走査信号線16e・16f(図1参照))し、隣接する2本のデータ信号線の一方(例えば、データ信号線15x)には、1番目の水平走査期間(例えば、画素電極17c・17dの書き込み期間含む)にプラス極性の信号電位を供給し、2番目の水平走査期間(例えば、画素電極17a・17bの書き込み期間含む)にマイナス極性の信号電位を供給し、3番目の水平走査期間(例えば、画素電極17e・17fの書き込み期間含む)にプラス極性の信号電位を供給し、上記2本のデータ信号線の他方(例えば、データ信号線15X)には、1番目の水平走査期間(例えば、画素電極17C・17Dの書き込み期間含む)にマイナス極性の信号電位を供給し、2番目の水平走査期間(例えば、画素電極17A・17Bの書き込み期間含む)にプラス極性の信号電位を供給し、3番目の水平走査期間(例えば、画素電極17E・17Fの書き込み期間含む)にマイナス極性の信号電位を供給する。なお、各水平走査期間の冒頭では、チャージシェア電位(Vcom)が供給される。
 ここで、1画素に対応する2本の走査信号線それぞれに接続される各画素電極への書き込み期間は、互いに異なるように設定されている。具体的には、図1において、走査信号線16cが選択されることによって画素電極17cにプラス極性の信号電位が書き込まれる期間が、走査信号線16dが選択されることによって画素電極17dにVcomの信号電位が書き込まれる期間よりも長くなっており、走査信号線16aが選択されることによって画素電極17aにマイナス極性の信号電位が書き込まれる期間が、走査信号線16bが選択されることによって画素電極17bにVcomの信号電位が書き込まれる期間よりも長くなっている。また、1画素において各画素電極への書き込み動作は、同一水平走査期間内に行われるとともに、各画素電極への書き込み動作(アクティブ期間)が終了するタイミングは、書き込み期間が短い方が、書き込み期間が長い方よりも先に終了するように設定されている。具体的には、画素電極17dへの書き込み動作は、画素電極17cへの書き込み動作が終了するタイミングよりも先に終了し、画素電極17Dへの書き込み動作は、画素電極17Cへの書き込み動作が終了するタイミングよりも先に終了し、画素電極17bへの書き込み動作は、画素電極17aへの書き込み動作が終了するタイミングよりも先に終了する。
 このように、容量結合される画素電極に接続する走査信号線に供給されるゲートオンパルス信号(第2のゲートオンパルス信号)は、そのパルス幅が、正規の信号電位が書き込まれる画素電極に接続する走査信号線に供給されるゲートオンパルス信号(第1のゲートオンパルス信号)のパルス幅未満であり、かつ、第2のゲートオンパルス信号は、第1のゲートオンパルス信号が非アクティブになる前に非アクティブになるように、そのパルス幅が設定されている。これにより、画素電極17c(プラス極性)を含む副画素は「明」、画素電極17d(プラス極性)を含む副画素は「暗」、画素電極17C(マイナス極性)を含む副画素は「明」、画素電極17D(マイナス極性)を含む副画素は「暗」、画素電極17a(マイナス極性)を含む副画素は「明」、画素電極17b(マイナス極性)を含む副画素は「暗」となる。
 また、F2では、F1に対して、プラス極性とマイナス極性とが反転することになる。よって、画素電極17c(マイナス極性)を含む副画素は「明」、画素電極17d(マイナス極性)を含む副画素は「暗」、画素電極17C(プラス極性)を含む副画素は「明」、画素電極17D(プラス極性)を含む副画素は「暗」、画素電極17a(プラス極性)を含む副画素は「明」、画素電極17b(プラス極性)を含む副画素は「暗」となる。以降のフレームF3・F4では、F1・F2の動作が繰り返される。
 このように、本駆動方法によれば、各フレームにおいて、トランジスタ(図1および図2では、12c・12a・12C・12A)を介してデータ信号線(15x・15X)に接続される画素電極(17c・17a・17C・17A)に容量結合される画素電極(画素電極17d・17b・17D・17B)に、正規の書き込みが行われる画素電極(17c・17a・17C・17A)への信号電位の供給とは異なるタイミングで個別に信号電位を供給することができるため、画素分割方式の液晶表示装置を実現できる。
 そして、本駆動方法では、各水平走査期間の冒頭でVcom信号を1画素領域内の全ての画素電極に供給しているため、正規の信号電位を書き込む前に、画素電極の電位をVcomにリセットすることができる。これにより、上記容量結合される画素電極に蓄積された電荷を放電(リフレッシュ)させることができるため、容量結合される画素電極を含む副画素の焼き付きの発生を抑えることができるとともに、表示品位の低下を防ぐことができる。また、本駆動方法によれば、従来のように、トランジスタのチャネルのW/L比を調整する必要がなく、実質的に同一のチャネルサイズでアクティブマトリクス基板を構成することができる。よって、トランジスタの特性のばらつきによる表示品位の低下を抑えることができる。
 ここで、図13に示す駆動方法を、図51に示す駆動方法としてもよい。すなわち、第2のゲートオンパルス信号(Gd,Gb,Gf)を、そのパルス幅が、チャージシェア期間(shのパルス幅)より広くなるように設定する。この駆動方法によれば、正規の書き込みが行われる画素電極(17c,17a,17e)に容量結合される画素電極(17d,17b,17f)には、チャージシェア期間にVcomの信号電位が書き込まれた後、所定の期間だけ画素電極(17c,17a,17e)に書き込まれる正規の信号電位が供給される。これにより、特に白表示の際の輝度を調整(向上)することができるという効果が得られる。このように、本構成によれば、第2のゲートオンパルス信号のパルス幅を調整することで、トランジスタを介してデータ信号線に接続される画素電極(17c,17a,17e)に接続される画素電極(17d,17b,17f;容量結合電極)の輝度を独立して調整することができるため、液晶表示装置として、任意の表示輝度に設定することが可能となる。
 (ゲートドライバの構成-1)
 図14は、図13に示す駆動を実現するための、本液晶表示装置のゲートドライバの構成を示す回路図である。図14に示されるように、ゲートドライバGDはシフトレジスタ45、列方向に並ぶ複数のAND回路(66a~66f)、および出力回路46を備える。シフトレジスタ45には、ゲートスタートパルス信号GSPとゲートクロック信号GCKとが入力される。シフトレジスタ45の各段の出力は2系統に分かれ、その一方が奇数番目のAND回路に入力され、これと隣り合う偶数番目のAND回路に他方が入力される。また、ゲートドライバ出力制御信号GOEは2系統の信号(OEx・OEy)からなり、奇数番目のAND回路に信号OExの反転信号が入力され、偶数番目のAND回路に信号OEyの反転信号が入力される。そして、1つのAND回路の出力は出力回路46を経てゲートオンパルス信号となり、1本の走査信号線に供給される。
 例えば、シフトレジスタ45のある段からの出力が2系統に分かれており、その一方QcがAND回路66cに入力され、他方QdがAND回路66dに入力される。また、AND回路66cには信号OExの反転信号が入力され、AND回路66dには信号OEyの反転信号が入力される。そして、AND回路66cの出力は出力回路46を経てゲートオンパルス信号Gcとなり、走査信号線16cに供給される。また、AND回路66dの出力は出力回路46を経てゲートオンパルス信号Gdとなり、走査信号線16dに供給される。
 同様に、シフトレジスタ45の他段からの出力が2系統に分かれており、その一方QaがAND回路66aに入力され、他方QbがAND回路66bに入力される。また、AND回路66aには信号OExの反転信号が入力され、AND回路66bには信号OEyの反転信号が入力される。そして、AND回路66aの出力は出力回路46を経てゲートオンパルス信号Gaとなり、走査信号線16aに供給される。また、AND回路66bの出力は出力回路46を経てゲートオンパルス信号Gbとなり、走査信号線16bに供給される。
 図15は図14のゲートドライバの動作を示すタイミングチャートである。同図に示されるように、例えば、信号OExは、各フレームで常に「L」となる一方、信号OEyは、各水平走査期間の前端部で「L」となる。なお、信号OExは常に「L」でなくてもよく、例えばゲートオンパルスの波形の立下りが鈍り、次の水平走査期間と重なるような場合には、各水平走査期間の後端部で「H」とすればよい。
 これにより、ゲートオンパルス信号Gc、Ga、およびGeを、順次「H」(アクティブ)とし、同時に、ゲートオンパルス信号Gd、Gb、およびGfを、順次「H」(アクティブ)とすることができる。また、ゲートオンパルス信号Gc、Ga、およびGeと、ゲートオンパルス信号Gd、Gb、およびGfとのそれぞれのゲートオンパルス(書き込みパルス)の幅(「H」期間(アクティブ期間))を異ならせることができる。これにより、図13に示すような駆動が実現される。
 なお、図15の構成によれば、ゲートオンパルス(書き込みパルス)の幅を適宜設定できるという効果に加えて、1画素に対応する2つの走査信号線それぞれに供給するゲートオンパルス信号を1つのシフトレジスタの同一段からの出力を用いて生成することができ、ドライバ構成を簡略化することができるという効果を得ることができる。
 (駆動方法-2)
 図16は本液晶表示装置の他の駆動方法を示すタイミングチャートである。この図に示す各記号は、図13に示す記号と同様である。また、この駆動方法においても、図13に示されるように、データ信号線に供給する信号電位の極性を1水平走査期間(1H)ごとに反転させるとともに、各フレームにおける同一番目の水平走査期間に供給される信号電位の極性を1フレーム単位で反転させ、かつ同一水平走査期間においては隣接する2本のデータ信号線に逆極性の信号電位を供給し、各水平走査期間の冒頭においてチャージシェアを行っている。
 本駆動方法は、正規の書き込みの1水平走査期間前に、1画素に対応する上下2本の走査信号線を同時に選択し、1画素領域内の全ての画素電極にVcomを供給するものである。
 具体的には、連続するフレームF1~フレームF4において、F1では、1画素に対応する上下2本の走査信号線ごとに順次選択(例えば、走査信号線16c・16d→走査信号線16a・16b(図1参照))し、隣接する2本のデータ信号線の一方(例えば、データ信号線15x)には、n番目の水平走査期間にプラス極性の信号電位を供給するとともに、その冒頭において、Vcom信号を供給し、(n+1)番目の水平走査期間(例えば、画素電極17cの書き込み期間含む)にマイナス極性の信号電位を供給するとともに、その冒頭において、Vcom信号を供給し、(n+2)番目の水平走査期間(例えば、画素電極17aの書き込み期間含む)にプラス極性の信号電位を供給するとともに、その冒頭において、Vcom信号を供給する。上記2本のデータ信号線の他方(例えば、データ信号線15X)には、n番目の水平走査期間にマイナス極性の信号電位を供給するとともに、その冒頭において、Vcom信号を供給し、(n+1)番目の水平走査期間(例えば、画素電極17Cの書き込み期間含む)にプラス極性の信号電位を供給するとともに、その冒頭において、Vcom信号を供給し、(n+2)番目の水平走査期間(例えば、画素電極17Aの書き込み期間含む)にマイナス極性の信号電位を供給するとともに、その冒頭において、Vcom信号を供給する。
 これにより、画素電極17c(マイナス極性)を含む副画素は「明」、画素電極17d(マイナス極性)を含む副画素は「暗」、画素電極17C(プラス極性)を含む副画素は「明」、画素電極17D(プラス極性)を含む副画素は「暗」、画素電極17a(プラス極性)を含む副画素は「明」、画素電極17b(プラス極性)を含む副画素は「暗」となる。
 ここで、画素101に注目すると、正規の書き込みが行われる水平走査期間(n+2)よりも1水平走査期間前(n+1)に、トランジスタ12a・12bがともにオン状態となり、正規の信号電位が書き込まれる画素電極17aと、この画素電極17aに容量結合される画素電極17bに、Vcomが供給される。そして、Vcomが供給されている期間内に、トランジスタ12a・12bがともにオフ状態となる。これにより、(n+1)番目の水平走査期間においてデータ信号線15xに供給されるマイナス極性の信号電位は、前段の画素電極17cへ、正規の書き込み信号として供給される一方、画素101内の画素電極17aへは、供給されない。次の(n+2)番目の水平走査期間では、トランジスタ12aのみがオン状態となり、画素電極17aへ、冒頭にVcomが供給された後、正規の書き込み信号としてのプラス極性の信号電位が供給される。
 この駆動方法により、F1においては、画素電極17c(マイナス極性)を含む副画素は「明」、画素電極17d(マイナス極性)を含む副画素は「暗」、画素電極17C(プラス極性)を含む副画素は「明」、画素電極17D(プラス極性)を含む副画素は「暗」、画素電極17a(プラス極性)を含む副画素は「明」、画素電極17b(プラス極性)を含む副画素は「暗」となる。
 また、F2では、F1に対して、プラス極性とマイナス極性とが反転することになる。よって、画素電極17c(プラス極性)を含む副画素は「明」、画素電極17d(プラス極性)を含む副画素は「暗」、画素電極17C(マイナス極性)を含む副画素は「明」、画素電極17D(マイナス極性)を含む副画素は「暗」、画素電極17a(マイナス極性)を含む副画素は「明」、画素電極17b(マイナス極性)を含む副画素は「暗」となる。以降のフレームF3・F4では、F1・F2の動作が繰り返される。
 このように、本駆動方法によれば、トランジスタ12bをオフする時点において、画素電極17a・17bにはデータ信号線15xからVcomが供給されている。すなわち、正規の信号電位が画素電極17aに書き込まれる時点で、画素電極17a・17bの電位をVcomに固定(リセット)することができる。これにより、容量結合電極(画素電極17b)に蓄積した電荷を確実に放電できるとともに、表示品位の低下を防ぐことができる。
 なお、本駆動方法では、正規の書き込みが行われる水平走査期間の一水平走査期間(1H)前に、上記リセット動作が行われる構成であるが、このリセット動作を行うタイミングは、特に限定されるものではなく、2H前もしくはそれよりも前であってもよい。さらに、上記リセット動作の回数は、1回に限定されるものではなく、複数回であってもよい。
 ここで、図16に示す駆動方法を、図52に示す駆動方法としてもよい。すなわち、正規の書き込みが行われる水平走査期間において、第2のゲートオンパルス信号(Gd,Gb,Gf)を、所定の期間だけハイレベル(Hレベル)となるように設定する。具体的には、図52では、第2のゲートオンパルス信号は、チャージシェア信号(sh)がローレベル(Lレベル)になるタイミングに同期して立ち上がり、所定の期間だけハイレベル状態を維持し、第1のゲートオンパルス信号(Gc,Ga,Ge)が立ち下がる前に立ち下がる。この駆動方法によれば、正規の書き込みが行われる画素電極(17c,17a,17e)に容量結合される画素電極(17d,17b,17f)には、正規の書き込みが行われる水平走査期間において、所定の期間だけ画素電極(17c,17a,17e)に書き込まれる正規の信号電位が供給される。これにより、特に白表示の際の輝度を調整(向上)させることができるという効果が得られる。このように、本構成によれば、第2のゲートオンパルス信号のハイレベル期間を調整することで、トランジスタを介してデータ信号線に接続される画素電極(17c,17a,17e)に接続される画素電極(17d,17b,17f;容量結合電極)の輝度を独立して調整することができるため、液晶表示装置として、任意の表示輝度に設定することが可能となる。なお、第2のゲートオンパルス信号のハイレベル期間は、図52に示す例に限定されるものではなく、少なくともチャージシェア信号のローレベル期間において、画素電極(17c,17a,17e)に正規の信号電位が書き込まれる期間よりも短くなるように設定されていればよい。
 (ゲートドライバの構成-2)
 図17は、図16に示す駆動を実現するための、本液晶表示装置のゲートドライバの構成を示す回路図である。図17に示されるように、ゲートドライバGDはシフトレジスタ45、列方向に並ぶ複数のAND回路(66a~66f)、および出力回路46を備える。シフトレジスタ45には、ゲートスタートパルス信号GSPとゲートクロック信号GCKとが入力される。シフトレジスタ45の各段の出力は2系統に分かれ、その一方が奇数番目のAND回路に入力され、これと隣り合う偶数番目のAND回路に他方が入力される。また、ゲートドライバ出力制御信号GOEは4系統の信号(OEx1・OEx2・OEy1・OEy2)からなり、奇数番目のAND回路に順に信号OEx1・OEx2の反転信号が交互に入力され、偶数番目のAND回路に順に信号OEy1・OEy2の反転信号が交互に入力される。そして、1つのAND回路の出力は出力回路46を経てゲートオンパルス信号となり、1本の走査信号線に供給される。
 例えば、シフトレジスタ45のある段からの出力が2系統に分かれており、その一方QcがAND回路66cに入力され、他方QdがAND回路66dに入力される。また、AND回路66cには信号OEx1の反転信号が入力され、AND回路66dには信号OEy1の反転信号が入力される。そして、AND回路66cの出力は出力回路46を経てゲートオンパルス信号Gcとなり、走査信号線16cに供給される。また、AND回路66dの出力は出力回路46を経てゲートオンパルス信号Gdとなり、走査信号線16dに供給される。
 同様に、シフトレジスタ45の他段からの出力が2系統に分かれており、その一方QaがAND回路66aに入力され、他方QbがAND回路66bに入力される。また、AND回路66aには信号OEx2の反転信号が入力され、AND回路66bには信号OEy2の反転信号が入力される。そして、AND回路66aの出力は出力回路46を経てゲートオンパルス信号Gaとなり、走査信号線16aに供給される。また、AND回路66bの出力は出力回路46を経てゲートオンパルス信号Gbとなり、走査信号線16bに供給される。
 図18は図17のゲートドライバの動作を示すタイミングチャートである。同図に示されるように、例えば、信号OEx1・OEx2は、それぞれ、2水平走査期間(2H)単位で構成され、2Hのうちの1Hでは「L」となる一方、他の1Hでは前端部が「L」、残りの部分が「H」(アクティブ)となる。そして、信号OEx1・OEx2は、互いに1H分ずれている。信号OEy1・OEy2は、それぞれ、2水平走査期間(2H)単位で構成され、2Hのうちの1Hでは前端部が「L」、残りの部分が「H」(アクティブ)となる一方、他の1Hでは「H」となる。そして、信号OEy1・OEy2は、互いに1H分ずれている。シフトレジスタ45の出力Qは、2水平走査期間分「H」となる信号が、各段から順次出力される。これにより、図16に示すような駆動が実現される。
 (駆動方法-3)
 図19は本液晶表示装置の他の駆動方法を示すタイミングチャートである。上記駆動方法-2では、正規の書き込みの1水平走査期間前に、画素電極17a・17bにVcomを供給した後、画素電極17aへの正規の書き込みが行われるまで、トランジスタ12a・12bをともにオフ状態にしている。これに対して、本駆動方法では、正規の書き込みの1水平走査期間前に、画素電極17a・17bにVcomを供給した後、トランジスタ12bのみをオフ状態にし、トランジスタ12aはオン状態のまま、画素電極17aに信号電位を供給する。以下では、駆動方法-2と重複する内容については説明を省略し、相違点を中心に、画素101を例に挙げて具体的に説明する。
 画素101に注目すると、正規の書き込みが行われる水平走査期間(n+2)よりも1水平走査期間前(n+1)に、トランジスタ12a・12bがともにオン状態となり、正規の信号電位が書き込まれる画素電極17aと、この画素電極17aに容量結合される画素電極17bに、Vcomが供給される。そして、Vcomが供給されている期間内に、トランジスタ12bのみがオフ状態となる。これにより、(n+1)番目の水平走査期間においてデータ信号線15xに供給されるマイナス極性の信号電位は、前段の画素電極17cへ、正規の書き込み信号として供給される一方、画素101内の画素電極17aへも、同一の信号電位が供給される。すなわち、画素電極17aには、正規の書き込みの1H前に、前段の画素電極17c用のデータ信号(信号電位)が書き込まれる。トランジスタ12aはオン状態のままであるため、次の(n+2)番目の水平走査期間では、画素電極17aへ、冒頭にVcomが供給された後、正規の書き込み信号としてのプラス極性の信号電位が供給される。
 このように、本駆動方法においても、上記駆動方法-2と同様、トランジスタ12bをオフする時点において、画素電極17a・17bにはデータ信号線15xからVcomが供給されている。すなわち、正規の信号電位が画素電極17aに書き込まれる時点で、画素電極17a・17bの電位をVcomに固定(リセット)することができる。そのため、画素電極17a・17bの電位がともに一旦Vcomになった後に、画素電極17aに正規の信号電位ではない信号電位が供給されたとしても、画素電極17a・17bにおける各容量の総和は変化しない。これにより、容量結合電極(画素電極17b)に蓄積した電荷を確実に放電できるとともに、表示品位の低下を防ぐことができる。
 (ゲートドライバの構成-3)
 図20は、図21に示す駆動を実現するための、本液晶表示装置のゲートドライバの構成を示す回路図である。図20に示されるように、ゲートドライバGDはシフトレジスタ45、列方向に並ぶ複数のAND回路(66a~66f)、および出力回路46を備える。シフトレジスタ45には、ゲートスタートパルス信号GSPとゲートクロック信号GCKとが入力される。シフトレジスタ45の各段の出力は2系統に分かれ、その一方が奇数番目のAND回路に入力され、これと隣り合う偶数番目のAND回路に他方が入力される。また、ゲートドライバ出力制御信号GOEは3系統の信号(OEx・OEy1・OEy2)からなり、奇数番目のAND回路に信号OExの反転信号が入力され、偶数番目のAND回路に順に信号OEy1・OEy2の反転信号が交互に入力される。そして、1つのAND回路の出力は出力回路46を経てゲートオンパルス信号となり、1本の走査信号線に供給される。
 例えば、シフトレジスタ45のある段からの出力が2系統に分かれており、その一方QcがAND回路66cに入力され、他方QdがAND回路66dに入力される。また、AND回路66cには信号OExの反転信号が入力され、AND回路66dには信号OEy1の反転信号が入力される。そして、AND回路66cの出力は出力回路46を経てゲートオンパルス信号Gcとなり、走査信号線16cに供給される。また、AND回路66dの出力は出力回路46を経てゲートオンパルス信号Gdとなり、走査信号線16dに供給される。
 同様に、シフトレジスタ45の他段からの出力が2系統に分かれており、その一方QaがAND回路66aに入力され、他方QbがAND回路66bに入力される。また、AND回路66aには信号OExの反転信号が入力され、AND回路66bには信号OEy2の反転信号が入力される。そして、AND回路66aの出力は出力回路46を経てゲートオンパルス信号Gaとなり、走査信号線16aに供給される。また、AND回路66bの出力は出力回路46を経てゲートオンパルス信号Gbとなり、走査信号線16bに供給される。
 図21は図20のゲートドライバの動作を示すタイミングチャートである。同図に示されるように、例えば、信号OExは、各フレームで常に「L」となる。なお、信号OExは常に「L」でなくてもよく、例えばゲートオンパルスの波形の立下りが鈍り、次の水平走査期間と重なるような場合には、各水平走査期間の後端部で「L」とすればよい。信号OEy1・OEy2は、それぞれ、2水平走査期間(2H)単位で構成され、2Hのうちの1Hでは前端部が「L」、残りの部分が「H」(アクティブ)となる一方、他の1Hでは「H」(アクティブ)となる。そして、信号OEy1・OEy2は、互いに1H分ずれている。シフトレジスタ45の出力Qは、2水平走査期間分「H」となる信号が、各段から順次出力される。これにより、図19に示すような駆動が実現される。
 (駆動方法-4)
 図22は本液晶表示装置の他の駆動方法を示すタイミングチャートである。この図に示す各記号は、図13に示す記号と同様である。また、この駆動方法においても、図13に示されるように、データ信号線に供給する信号電位の極性を1水平走査期間(1H)ごとに反転させるとともに、各フレームにおける同一番目の水平走査期間に供給される信号電位の極性を1フレーム単位で反転させ、かつ同一水平走査期間においては隣接する2本のデータ信号線に逆極性の信号電位を供給し、各水平走査期間の冒頭においてチャージシェアを行っている。
 本駆動方法では、概略的には、画素電極(図1の画素電極17a・17c・17e・17A・17C・17E)に正規の信号電位の書き込みが行われてから所定期間(例えば、1垂直走査期間(1V)のほぼ3分の2(2/3V)の期間)経過後、該画素電極(17a・17c・17e・17A・17C・17E)、および、それらに容量結合される容量結合電極(図1の画素電極17b・17d・17f・17B・17D・17F)に対して、電荷放電(リフレッシュ)用の信号電位(Vcom)を供給する。これにより、表示ライン毎に黒表示の期間を挿入することが可能となるため、容量結合電極における蓄積電荷の放電効果に加えて、表示のインパルス化による尾引残像の低減を図ることができるという効果が得られる。
 具体的には、F1において、2/3V期間では、1画素に対応する上下2本の走査信号線のうちの一方ごとに順次選択(例えば、走査信号線16c→走査信号線16a→走査信号線16e(図1参照))し、隣接する2本のデータ信号線の一方(例えば、データ信号線15x)には、1番目の水平走査期間(例えば、画素電極17c・17dの書き込み期間含む)にプラス極性の信号電位を供給し、2番目の水平走査期間(例えば、画素電極17a・17bの書き込み期間含む)にマイナス極性の信号電位を供給し、3番目の水平走査期間(例えば、画素電極17e・17fの書き込み期間含む)にプラス極性の信号電位を供給する。上記2本のデータ信号線の他方(例えば、データ信号線15X)には、1番目の水平走査期間(例えば、画素電極17C・17Dの書き込み期間含む)にマイナス極性の信号電位を供給し、2番目の水平走査期間(例えば、画素電極17A・17Bの書き込み期間含む)にプラス極性の信号電位を供給し、3番目の水平走査期間(例えば、画素電極17E・17Fの書き込み期間含む)にマイナス極性の信号電位を供給する。なお、各水平走査期間の冒頭では、チャージシェア電位(Vcom)が供給される。
 残りの1/3V期間では、各水平走査期間の冒頭において、1画素に対応する上下2本の走査信号線ごとに順次選択(例えば、走査信号線16c・16d→走査信号線16a・16b→走査信号線16e・16f(図1参照))し、対応するデータ信号線(例えば、データ信号線15x・15X)には、Vcomを供給する。
 画素101に注目すると、例えば、画素電極17aでは、ゲートオンパルス信号Gaに含まれる画素データ書き込みパルスPwによってトランジスタ12aがオン状態である間、トランジスタ12aのソース端子に接続されたデータ信号線15xの電位がトランジスタ12aを介して画素電極17aに供給される。これにより、データ信号線15xの電圧としてのデータ信号Svが画素電極17aに書き込まれる。その後、画像表示期間Tdpが経過すると、トランジスタ12aおよびトランジスタ12bのゲート端子に、それぞれ黒電圧印加パルスPbが供給され、これによりトランジスタ12a・12bがオン状態である間、画素電極17aはトランジスタ12aを介してデータ信号線15xに接続され、画素電極17bはトランジスタ12bを介してデータ信号線15xに接続される。その結果、画素電極17bの画素容量の蓄積電荷が放電されるとともに、画素電極17a・17bの画素容量は黒電圧(Vcom)を印加された状態となる。
 したがって、画素101では、画像表示期間Tdpの間は、トランジスタ12aを介して画素電極17aに供給されるデータ信号線15xの電位に対応する電圧を画素容量に保持することで、デジタル画像信号に基づく表示画素を形成する。一方、トランジスタ12a・12bのゲート端子にそれぞれ与えられるゲートオンパルス信号Ga・Gbに、黒電圧印加パルスPbが現れてから、ゲートオンパルス信号Gaに次の画素データ書込パルスPwが現れるまでの期間(1フレーム(1V)期間から画像表示期間Tdpを除いた残りの期間)Tbkは、画素容量に黒電圧(Vcom)を保持することで黒の画素を形成する。
 なお、黒電圧印加パルスPbのパルス幅は短いため、画素容量における保持電圧を確実に黒電圧にするため、各フレーム期間において1水平走査期間(1H)の間隔で、少なくとも2個、好ましくは3個以上の黒電圧印加パルスPbが続けて当該走査信号線に印加される。図22では、黒電圧印加パルスPbは、1フレーム期間(1V)において1水平走査期間(1H)の間隔で、連続して3個現れている。
 本駆動方法によれば、表示ライン毎に黒表示の期間が挿入されることで、駆動回路等の複雑化や動作周波数の増大を抑えつつ表示がインパルス化される。これにより、電荷の放電効果に加えて、動画における尾引残像が抑制され、動画表示の性能が改善される。
 なお、上記各駆動方法の説明では、1つの画素(例えば、画素101)内に画素電極が2つ(例えば、画素電極17a・17b)形成されている場合の液晶パネルを例に挙げたが、画素電極が3つ形成されている場合にも同様に適用可能である。例えば、図6の液晶パネルでは、画素電極17a′が画素電極17aに電気的に接続される構成であり、画素電極17a′の電位変動が、画素電極17aの電位変動と同一となる。そのため、1つの画素内に形成される画素電極の数量に限らず、上記駆動方法を適用することができる。
 また、各駆動方法ではチャージシェア方式を採用した構成であるが、これに限定されるものではなく、他の方法として、例えば、1フレーム期間において全てのトランジスタをオンする期間を設け、このオン期間に全てのデータ信号線にVcomを供給する構成としてもよい。
 本駆動方法におけるチャージシェア方式を実現するソースドライバの具体的な構成については、「液晶表示ユニットおよび液晶表示装置」の構成とともに後述する。
 〔実施の形態2〕
 図23は本実施の形態2における本液晶パネルの一部を示す等価回路図である。図23に示すように、液晶パネル5bは、列方向(図中上下方向)に延伸するデータ信号線(15x・15X)、行方向(図中左右方向)に延伸する走査信号線(16a~16f)、行および列方向に並べられた画素(100~105)、および共通電極(対向電極)comを備え、各画素の構造は同一の構成である。なお、画素100~102が含まれる画素列と、画素103~105が含まれる画素列とが隣接している。液晶パネル5bは、Csオンゲート構造であるため、図1の液晶パネル5aに設けられるような保持容量配線(18x~18z)が不要になるというメリットがある。
 液晶パネル5bでは、1つの画素に対応して1本のデータ信号線と2本の走査信号線とが設けられており、画素100に設けられた2つの画素電極17c・17d、画素101に設けられた2つの画素電極17a・17b、および画素102に設けられた2つの画素電極17e・17fが一列に配されるともに、画素103に設けられた2つの画素電極17C・17D、画素104に設けられた2つの画素電極17A・17B、および画素105に設けられた2つの画素電極17E・17Fが一列に配され、画素電極17cと17C、画素電極17dと17D、画素電極17aと17A、画素電極17bと17B、および画素電極17eと17E、画素電極17fと17Fがそれぞれ行方向に隣接している。
 各画素の構造は同一であるため、以下では、主に画素101を例に挙げて説明する。
 画素101では、画素電極17aおよび17bが結合容量C101を介して接続され、画素電極17aが、走査信号線16aに接続されたトランジスタ12aを介してデータ信号線15xに接続され、画素電極17bが、走査信号線16bに接続されたトランジスタ12bを介してデータ信号線15xに接続され、画素電極17aおよび走査信号線16d間に保持容量Chaが形成され、画素電極17bおよび走査信号線16b間に保持容量Chbが形成され、画素電極17aおよび共通電極com間に液晶容量Claが形成され、画素電極17bおよび共通電極com間に液晶容量Clbが形成されている。
 (液晶パネルの具体例2-1)
 液晶パネル5bの具体例2-1を図24に示す。図24の液晶パネル5bでは、画素100および画素101に沿うようにデータ信号線15xが設けられ、画素103および画素104に沿うようにデータ信号線15Xが設けられている。
 ここで、画素100の行方向に沿う2つのエッジ部の一方と重なるように走査信号線16cが配され、他方と重なるように走査信号線16dが配され、平面的に視て、走査信号線16cおよび16d間に画素電極17c・17dが列方向に並べられている。また、走査信号線16cは画素103の行方向に沿う2つのエッジ部の一方と重なるとともに、走査信号線16dは他方と重なっており、平面的に視て、走査信号線16cおよび16d間に画素電極17C・17Dが列方向に並べられている。
 また、画素101の行方向に沿う2つのエッジ部の一方と重なるように走査信号線16aが形成され、他方と重なるように走査信号線16bが形成され、平面的に視て、走査信号線16aおよび16b間に画素電極17a・17bが列方向に並べられている。また、走査信号線16aは画素104の行方向に沿う2つのエッジ部の一方と重なるとともに、走査信号線16bは他方と重なっており、平面的に視て、走査信号線16aおよび16b間に画素電極17A・17Bが列方向に並べられている。
 画素101では、走査信号線16a上に、トランジスタ12aのソース電極8aおよびドレイン電極9aが形成され、走査信号線16b上に、トランジスタ12bのソース電極8bおよびドレイン電極9bが形成されている。ソース電極8aはデータ信号線15xに接続される。ドレイン電極9aはドレイン引き出し配線27aに接続され、ドレイン引き出し配線27aはコンタクト電極77aおよび結合容量電極37aに接続され、コンタクト電極77aはコンタクトホール11aを介して画素電極17aに接続され、結合容量電極37aは層間絶縁膜を介して画素電極17bと重なっており、これによって画素電極17a・17b間の結合容量C101(図23参照)が形成される。また、画素電極17aと電気的に接続するドレイン電極9aがドレイン引き出し配線19aを介して保持容量電極67aに接続され、保持容量電極67aが、ゲート絶縁膜を介して走査信号線16aに隣接する走査信号線16dと重なっており、これによって、保持容量Cha(図23参照)が形成される。
 また、トランジスタ12bのソース電極8bはデータ信号線15xに接続される。ドレイン電極9bはドレイン引き出し配線27bに接続され、ドレイン引き出し配線27bはコンタクト電極77bに接続され、コンタクト電極77bはコンタクトホール11bを介して画素電極17bに接続されている。また、画素電極17bと電気的に接続するドレイン電極9bがドレイン引き出し配線19bを介して保持容量電極67bに接続され、保持容量電極67bが、ゲート絶縁膜を介して走査信号線16bと重なっており、これによって、保持容量Chb(図23参照)が形成される。なお、他の画素の構成(各部材の形状および配置並びに接続関係)は画素101のそれと同じである。
 本具体例の構成によれば、画素電極17aを含む副画素は「明」、画素電極17bを含む副画素は「暗」となる。
 なお、上記保持容量Cha・Chbは、図25に示す構成により形成されていてもよい。すなわち、図25に示すように、ドレイン電極9aがドレイン引き出し配線27aを介して保持容量電極67aに接続され、保持容量電極67aがゲート絶縁膜を介して走査信号線16bと重なることによって、保持容量Chaが形成され、ドレイン電極9bがドレイン引き出し配線27bを介して保持容量電極67bに接続され、保持容量電極67bがゲート絶縁膜を介して走査信号線16bと重なることによって、保持容量Chbが形成される。
 (液晶パネルの具体例2-2)
 液晶パネル5bの具体例2-2を図26に示す。図26の液晶パネル5bでは、各画素領域内に画素電極が3つ形成されている。また、図26の液晶パネル5bでは、図24の液晶パネルと同様、画素100および画素101に沿うようにデータ信号線15xが設けられ、画素103および画素104に沿うようにデータ信号線15Xが設けられている。
 ここで、画素100の行方向に沿う2つのエッジ部の一方と重なるように走査信号線16cが配され、他方と重なるように走査信号線16dが配され、平面的に視て、走査信号線16cおよび16d間に画素電極17d・17c・17d′が列方向に並べられている。また、走査信号線16cは画素103の行方向に沿う2つのエッジ部の一方と重なるとともに、走査信号線16dは他方と重なっており、平面的に視て、走査信号線16cおよび16d間に画素電極17D・17C・17D′が列方向に並べられている。
 また、画素101の行方向に沿う2つのエッジ部の一方と重なるように走査信号線16aが形成され、他方と重なるように走査信号線16bが形成され、平面的に視て、走査信号線16aおよび16b間に画素電極17b・17a・17b′が列方向に並べられている。また、走査信号線16aは画素104の行方向に沿う2つのエッジ部の一方と重なるとともに、走査信号線16bは他方と重なっており、平面的に視て、走査信号線16aおよび16b間に画素電極17B・17A・17B′が列方向に並べられている。
 画素101では、走査信号線16a上に、トランジスタ12aのソース電極8aおよびドレイン電極9aが形成され、走査信号線16b上に、トランジスタ12bのソース電極8bおよびドレイン電極9bが形成されている。ソース電極8aはデータ信号線15xに接続される。ドレイン電極9aはドレイン引き出し配線27aに接続され、ドレイン引き出し配線27aは、結合容量電極37aおよびコンタクト電極77aに接続され、コンタクト電極77aは、コンタクトホール11aを介して画素電極17aに接続される。結合容量電極37aは、層間絶縁膜を介して画素電極17bと重なっており、これによって画素電極17a・17b間の結合容量C101(図23参照)が形成される。また、画素電極17aと電気的に接続するドレイン電極9aがドレイン引き出し配線19aを介して保持容量電極67aに接続され、保持容量電極67aが、ゲート絶縁膜を介して走査信号線16aに隣接する走査信号線16dと重なっており、これによって、保持容量Cha(図23参照)が形成される。
 また、トランジスタ12bのソース電極8bはデータ信号線15xに接続される。ドレイン電極9bはドレイン引き出し配線27bに接続され、ドレイン引き出し配線27bはコンタクト電極77b・77b′に接続され、コンタクト電極77bはコンタクトホール11bを介して画素電極17bに接続され、コンタクト電極77b′はコンタクトホール11b′を介して画素電極17b′に接続される。また、画素電極17b・17b′と電気的に接続するドレイン電極9aがドレイン引き出し配線19bを介して保持容量電極67bに接続され、保持容量電極67bは、ゲート絶縁膜を介して走査信号線16bと重なっており、これによって、保持容量Chb(図23参照)が形成される。なお、他の画素の構成(各部材の形状および配置並びに接続関係)は画素101のそれと同じである。
 本具体例の構成によれば、画素電極17aを含む副画素は「明」、画素電極17b・17b′を含む副画素は「暗」となる。
 なお、上記保持容量Cha・Chbは、図27に示す構成により形成されていてもよい。すなわち、図27に示すように、ドレイン電極9aがドレイン引き出し配線27aを介して保持容量電極67aに接続され、保持容量電極67aがゲート絶縁膜を介して走査信号線16bと重なることによって、保持容量Chaが形成され、ドレイン電極9bがドレイン引き出し配線27bを介して保持容量電極67bに接続され、保持容量電極67bがゲート絶縁膜を介して走査信号線16bと重なることによって、保持容量Chbが形成される。
(液晶パネルの具体例2-3)
 液晶パネル5bの具体例2-3を図28に示す。図28の液晶パネル5bでは、各画素領域内に画素電極が3つ形成されている。また、図28の液晶パネル5bでは、図24の液晶パネルと同様、画素100および画素101に沿うようにデータ信号線15xが設けられ、画素103および画素104に沿うようにデータ信号線15Xが設けられている。
 ここで、画素100の行方向に沿う2つのエッジ部の一方と重なるように走査信号線16cが配され、他方と重なるように走査信号線16dが配され、平面的に視て、走査信号線16cおよび16d間に画素電極17c・17d・17c′が列方向に並べられている。また、走査信号線16cは画素103の行方向に沿う2つのエッジ部の一方と重なるとともに、走査信号線16dは他方と重なっており、平面的に視て、走査信号線16cおよび16d間に画素電極17C・17D・17C′が列方向に並べられている。
 また、画素101の行方向に沿う2つのエッジ部の一方と重なるように走査信号線16aが形成され、他方と重なるように走査信号線16bが形成され、平面的に視て、走査信号線16aおよび16b間に画素電極17a・17b・17a′が列方向に並べられている。また、走査信号線16aは画素104の行方向に沿う2つのエッジ部の一方と重なるとともに、走査信号線16bは他方と重なっており、平面的に視て、走査信号線16aおよび16b間に画素電極17A・17B・17A′が列方向に並べられている。
 画素101では、走査信号線16a上に、トランジスタ12aのソース電極8aおよびドレイン電極9aが形成され、走査信号線16b上に、トランジスタ12bのソース電極8bおよびドレイン電極9bが形成されている。ソース電極8aはデータ信号線15xに接続される。ドレイン電極9aはドレイン引き出し配線27aに接続され、ドレイン引き出し配線27aは、コンタクト電極77aおよび結合容量電極37aに接続され、コンタクト電極77aは、コンタクトホール11aを介して画素電極17aに接続される。結合容量電極37aは、層間絶縁膜を介して画素電極17bと重なっており、これによって画素電極17a・17b間の結合容量C101(図23参照)が形成される。また、結合容量電極37aに接続された結合容量電極延伸部27a′がコンタクト電極77a′に接続され、コンタクト電極77a′はコンタクトホール11a′を介して画素電極17a′に接続される。画素電極17a′は、コンタクトホール11a″を介して保持容量電極67aに接続される。さらに、保持容量電極67aは、ゲート絶縁膜を介して走査信号線16bと重なっており、これによって、画素電極17aと走査信号線16bとの間で保持容量(図23のChaに相当)が形成されている。
 また、トランジスタ12bのソース電極8bはデータ信号線15xに接続される。ドレイン電極9bはドレイン引き出し配線27bに接続され、ドレイン引き出し配線27bはコンタクト電極77bに接続され、コンタクト電極77bはコンタクトホール11bを介して画素電極17bに接続される。また、保持容量電極67bは、ゲート絶縁膜を介して走査信号線16bと重なっており、これによって、画素電極17bと走査信号線16bとの間で保持容量(図23のChbに相当)が形成されている。なお、他の画素の構成(各部材の形状および配置並びに接続関係)は画素101のそれと同じである。
 本具体例の構成によれば、画素電極17a・17a′を含む副画素は「明」、画素電極17bを含む副画素は「暗」となる。
 以上のように、図24~図28の液晶パネル5bでは、走査信号線16b上で保持容量を形成(Csオンゲート構造)することを特徴としており、これによって保持容量配線が不要になるため、構成の簡略化に加えて、開口率を向上させることができるという効果も得られる。
 ここで、Csオンゲート構造の液晶パネル5bにおける保持容量Cha・Chbは、上述のように、保持容量電極67a・67bが、前段の(第2の)走査信号線16dあるいは自段の(第2の)走査信号線16bと重なることにより形成されていることが好ましい。これは、保持容量電極67a・67bが自段の(第1の)走査信号線16aと重なることにより保持容量Cha・Chbが形成される構成とした場合には、(第1の)走査信号線16aに接続されたトランジスタ12aがオフした後に、(第1の)走査信号線16aに供給されるゲートオンパルス信号の電位変動により、画素電極17a・17bの電位が変動し、表示品位の低下を招くおそれがあるためである。よって、本形態の液晶パネル5bでは、保持容量Chaは、第1の画素電極17aと第2の走査信号線(自段の走査信号線16b、あるいは、前段の走査信号線16d)との間に形成され、保持容量Chbは、第2の画素電極17bと第2の走査信号線(自段の走査信号線16b、あるいは、前段の走査信号線16d)との間に形成されていることが好ましい。
 次に、上述した液晶パネル5bの断面の具体的な構成として、図28の液晶パネル5bを例に挙げる。図29は、図28のA-B断面図であり、図30は、図28のC-D断面図である。図29および図30に示すように、液晶パネル5bは、アクティブマトリクス基板3と、これに対向するカラーフィルタ基板30と、両基板(3・30)間に配される液晶層40とを備える。
 図29に示すように、アクティブマトリクス基板3では、ガラス基板31上に走査信号線16a・16bが形成され、これらを覆うように無機ゲート絶縁膜22が形成されている。無機ゲート絶縁膜22上には、半導体層24(i層およびn+層)、n+層に接するソース電極8a、ドレイン電極9a、ドレイン引き出し配線27a・27b、コンタクト電極77a・77bおよび結合容量電極37aが形成され、これらを覆うように無機層間絶縁膜25と有機層間絶縁膜26とがこの順に形成されている。なお、ソース電極8aおよびドレイン電極9aと重ならない半導体層24(典型的にはトランジスタのチャネル部)は、n+層がエッチング等により除去され、i層のみとなっている。有機層間絶縁膜26上には画素電極17a・17b・17a′が形成され、さらに、これら(画素電極17a・17b・17a′)を覆うように配向膜(図示せず)が形成されている。ここで、コンタクトホール11a・11bでは、それぞれ、無機層間絶縁膜25と有機層間絶縁膜26が刳り貫かれており、これによって、画素電極17aとコンタクト電極77aとが接続され、画素電極17bとコンタクト電極77bとが接続される。また、ドレイン引き出し配線27aに繋がる結合容量電極37aは、無機層間絶縁膜25を介して画素電極17bと重なっており、これによって、結合容量C101(図23参照)が形成される。なお、有機層間絶縁膜26は、結合容量電極37a上に位置する部分が刳り貫かれている。
 また、トランジスタ12bのソース電極8bはデータ信号線15xに接続される。ドレイン電極9bはドレイン引き出し配線27bに接続され、ドレイン引き出し配線27bは、保持容量電極67bおよびコンタクト電極77bに接続され、コンタクト電極77bはコンタクトホール11bを介して画素電極17bに接続される。また、保持容量電極67bは、ゲート絶縁膜を介して走査信号線16bと重なっており、これによって、画素電極17bと走査信号線16bとの間で保持容量(図23のChbに相当)が形成される。なお、他の画素の構成(各部材の形状および配置並びに接続関係)は画素101のそれと同じである。
 一方、カラーフィルタ基板30では、ガラス基板32上にブラックマトリクス13および着色層14が形成され、その上層に共通電極(com)28が形成され、さらにこれを覆うように配向膜(図示せず)が形成されている。
 また、図30に示すように、結合容量電極37aに接続される結合容量電極延伸部27a′は、コンタクト電極77a′に接続され、コンタクト電極77a′はコンタクトホール11a′を介して画素電極17a′に接続される。画素電極17a′は、コンタクトホール11a″を介して保持容量電極67aに接続される。また、保持容量電極67aは無機ゲート絶縁膜22を介して走査信号線16bと重なっており、これによって、保持容量(図23のChaに相当)が形成される。
 なお、図29および図30では、ゲート絶縁膜を無機ゲート絶縁膜22として示しているが、上述した他の具体例のように、基板上に厚い有機ゲート絶縁膜21と薄い無機ゲート絶縁膜22とを形成してよい。
 (液晶パネルの具体例2-4)
 液晶パネル5bの具体例2-4を図31に示す。図31の液晶パネル5bでは、各画素領域内に画素電極が2つ形成されている。また、図31の液晶パネル5bでは、画素100および画素101に沿うようにデータ信号線15xが設けられ、画素103および画素104に沿うようにデータ信号線15Xが設けられている。画素100・103の列方向の中央部分には、画素100・103それぞれを横切るように走査信号線16cが配され、画素101・104の列方向の中央部分には、画素101・104それぞれを横切る走査信号線16aが配されている。画素100では、走査信号線16cを挟んで列方向に画素電極17c・17dが列方向に並べられ、画素101では、走査信号線16aを挟んで列方向に画素電極17a・17bが列方向に並べられ、画素103では、走査信号線16cを挟んで列方向に画素電極17C・17Dが列方向に並べられ、画素104では、走査信号線16aを挟んで列方向に画素電極17A・17Bが列方向に並べられている。
 画素101では、走査信号線16a上に、トランジスタ12aのソース電極8aおよびドレイン電極9aが形成され、走査信号線16b上に、トランジスタ12bのソース電極8bおよびドレイン電極9bが形成されている。ソース電極8aはデータ信号線15xに接続される。ドレイン電極9aはドレイン引き出し配線19aに接続され、ドレイン引き出し配線19aはコンタクト電極77aに接続され、コンタクト電極77aはコンタクトホール11aを介して画素電極17aに接続される。さらに、ドレイン電極9aはドレイン引き出し配線27aに接続され、ドレイン引き出し配線27aは結合容量電極37aに接続され、結合容量電極37aは、層間絶縁膜を介して画素電極17bと重なっており、これによって画素電極17a・17b間の結合容量C101(後述の図32参照)が形成される。また、結合容量電極37aに接続された結合容量電極延伸部27a′が保持容量電極67aに接続されるとともに、保持容量電極67aは、ゲート絶縁膜を介して走査信号線16bと重なっており、これによって、保持容量Cha(後述の図32参照)が形成されている。
 また、トランジスタ12bのソース電極8bはデータ信号線15xに接続される。ドレイン電極9bはドレイン引き出し配線27bに接続され、ドレイン引き出し配線27bはコンタクト電極77bに接続され、コンタクト電極77bはコンタクトホール11bを介して画素電極17bに接続される。また、画素電極17bと電気的に接続するドレイン電極9bがドレイン引き出し配線27bを介して保持容量電極67bに接続され、保持容量電極67bが、ゲート絶縁膜を介して走査信号線16bと重なっており、これによって、保持容量Chb(後述の図32参照)が形成される。なお、他の画素の構成(各部材の形状および配置並びに接続関係)は画素101のそれと同じである。
 本具体例の構成によれば、画素電極17aを含む副画素は「明」、画素電極17bを含む副画素は「暗」となる。
 図31に示す液晶パネルの等価回路は、図32に示すとおりである。各画素の構造は同一であり、1つの画素に対応して1本のデータ信号線と2本の走査信号線とが設けられており、画素100に設けられた2つの画素電極17c・17d、画素101に設けられた2つの画素電極17a・17b、および画素102に設けられた2つの画素電極17e・17fが、それぞれ一方の走査信号線(16c・16a・16e)を挟んで一列に配されるともに、画素103に設けられた2つの画素電極17C・17D、画素104に設けられた2つの画素電極17A・17B、および画素105に設けられた2つの画素電極17E・17Fが、それぞれ一方の走査信号線(16c・16a・16e)を挟んで一列に配され、画素電極17cと17C、画素電極17dと17D、画素電極17aと17A、画素電極17bと17B、および画素電極17eと17E、画素電極17fと17Fがそれぞれ行方向に隣接している。
 画素101を例に挙げると、画素101では、画素電極17aおよび17bが結合容量C101を介して接続され、画素電極17aが、走査信号線16aに接続されたトランジスタ12aを介してデータ信号線15xに接続され、画素電極17bが、走査信号線16bに接続されたトランジスタ12bを介してデータ信号線15xに接続され、画素電極17aおよび走査信号線16b間に保持容量Chaが形成され、画素電極17bおよび走査信号線16b間に保持容量Chbが形成され、画素電極17aおよび共通電極com間に液晶容量Claが形成され、画素電極17bおよび共通電極com間に液晶容量Clbが形成されている。
 ここで、本発明の液晶パネルは、上述したような、矩形状の画素電極が列方向に並んで配される構成に限定されるものではなく、図49に示すような構成であってもよい。図49は、図26に示す本具体例2-2の変形例を示す平面図である。画素101を例に挙げると、データ信号線15xおよび走査信号線16aの交差部近傍にトランジスタ12aが配され、両信号線(15x・16a)と走査信号線16bとで画される画素領域に、台形形状をなす画素電極17bと、走査信号線16bの行方向に対して略315°の位置に、画素電極17bを180°回転した状態の形状と略一致する台形形状をなす画素電極17b′と、これら画素電極17b・17b′を除いた画素領域において、画素電極17b・17b′の形状に対応する(かみ合う)ように配される画素電極17aとを有する。
 このような構成により、画素電極17b・17a・17b′は、それぞれ、画素電極17bの一部が走査信号線16aに近接し、画素電極17b′の一部が、走査信号線16bに近接し、画素電極17aの一方の端部が走査信号線16aに近接するとともに、他方の端部が走査信号線16bに近接するように配されている。換言すると、画素電極17b・17b′それぞれの少なくとも一部が、走査信号線16a・16bのそれぞれに近接して配されるとともに、画素電極17aは、走査信号線16a・16b同士を繋ぐように、列方向に延びて配されている。なお、図49において図26に示す符号と同一の符号を付した部材は、同一の機能を有するものであるため、ここではその説明を省略する。
 この構成によれば、画素電極17aを含む副画素は「明」、画素電極17b・17b′を含む副画素は「暗」となる。そして、この構成によれば、トランジスタ12a・12bからの各引き出し配線を、図26に示す構成よりも削減することができる。また、画素電極17b・17b′を、互いに近接した位置で結合容量電極37aを介して接続できるため、結合容量電極37aにおける各引き出し配線を図26に示す構成よりも削減することができる。よって、画素電極17b・17b′を含む副画素の焼き付きの発生を抑えることができるという効果に加えて、引き出し配線の断線の可能性を低減できるとともに、開口率を高めることができるという効果も得られる。
 本発明の液晶パネルは、図50に示す構成であってもよい。図50の液晶パネル5bでは、台形形状をなす画素電極17a・17a′それぞれの少なくとも一部が、走査信号線16a・16bのそれぞれに近接して配されるとともに、画素電極17a・17a′の形状に対応する(かみ合う)ように配される画素電極17bが、走査信号線16a・16b同士を繋ぐように、列方向に延びて配されている。
 この構成によれば、画素電極17a・17a′を含む副画素は「明」、画素電極17bを含む副画素は「暗」となる。そして、図49に示す液晶パネル5bと同様、開口率を高めることができるという効果が得られる。
 ここで、本実施の形態2に係る液晶パネル5bを備えた液晶表示装置における駆動方法としては、上記実施の形態1で説明した各駆動方法(駆動方法-1、駆動方法-2、駆動方法-3、駆動方法-4)を適用することができる。すなわち、Csオンゲート構造の液晶パネルを備えた液晶表示装置においても、上記各駆動方法による効果を得ることができる。
 〔実施の形態3〕
 本実施の形態3の液晶パネル5cは、上記実施の形態1および2の構成を組み合わせた構造であり、保持容量配線(18x~18z)を備えたCsオンゲート構造の液晶パネルである。液晶パネル5cの構成例としては、上記実施の形態1および2で示した各構成を組み合わせたものが実現可能であるが、以下では、その一例として、図28に示した液晶パネル5bに、保持容量配線を加えた構成例について説明する。
 図33は本実施の形態3における本液晶パネル5cの一部を示す等価回路図である。図33に示すように、液晶パネル5cは、列方向(図中上下方向)に延伸するデータ信号線(15x・15X)、行方向(図中左右方向)に延伸する走査信号線(16a~16f)、行および列方向に並べられた画素(100~105)、および共通電極(対向電極)comを備え、各画素の構造は同一の構成である。なお、画素100~102が含まれる画素列と、画素103~105が含まれる画素列とが隣接している。
 液晶パネル5cでは、1つの画素に対応して1本のデータ信号線と2本の走査信号線とが設けられており、画素100に設けられた2つの画素電極17c・17d・17c′、画素101に設けられた2つの画素電極17a・17b・17a′、および画素102に設けられた2つの画素電極17e・17f・17e′が一列に配されるともに、画素103に設けられた2つの画素電極17C・17D・17C′、画素104に設けられた2つの画素電極17A・17B・17A′、および画素105に設けられた2つの画素電極17E・17F・17E′が一列に配され、画素電極17cと17C、画素電極17dと17D、画素電極17c′と17C′、画素電極17aと17A、画素電極17bと17B、画素電極17a′と17A′、および画素電極17eと17E、画素電極17fと17F、画素電極17e′と17E′がそれぞれ行方向に隣接している。
 各画素の構造は同一であるため、以下では、主に画素101を例に挙げて説明する。
 画素101では、画素電極17aおよび17bが結合容量C101を介して接続され、画素電極17aが、走査信号線16aに接続されたトランジスタ12aを介してデータ信号線15xに接続され、画素電極17bが、走査信号線16bに接続されたトランジスタ12bを介してデータ信号線15xに接続され、画素電極17aおよび保持容量配線18x間に保持容量Cha1が形成され、画素電極17aおよび走査信号線16b間に保持容量Cha2が形成され、画素電極17bおよび保持容量配線18x間に保持容量Chb1が形成され、画素電極17bおよび走査信号線16b間に保持容量Chb2が形成され、画素電極17aおよび共通電極com間に液晶容量Claが形成され、画素電極17bおよび共通電極com間に液晶容量Clbが形成されている。
 (液晶パネルの具体例3-1)
 液晶パネル5cの具体例3-1を図34に示す。図34の液晶パネル5cでは、図28の液晶パネルと同様、画素100および画素101に沿うようにデータ信号線15xが設けられ、画素103および画素104に沿うようにデータ信号線15Xが設けられ、保持容量配線18yが画素100・103それぞれを横切り、保持容量配線18xが画素101・104それぞれを横切っている。
ている。
 ここで、画素100の行方向に沿う2つのエッジ部の一方と重なるように走査信号線16cが配され、他方と重なるように走査信号線16dが配され、平面的に視て、走査信号線16cおよび16d間に画素電極17c・17d・17c′が列方向に並べられている。また、走査信号線16cは画素103の行方向に沿う2つのエッジ部の一方と重なるとともに、走査信号線16dは他方と重なっており、平面的に視て、走査信号線16cおよび16d間に画素電極17C・17D・17C′が列方向に並べられている。
 また、画素101の行方向に沿う2つのエッジ部の一方と重なるように走査信号線16aが形成され、他方と重なるように走査信号線16bが形成され、平面的に視て、走査信号線16aおよび16b間に画素電極17a・17b・17a′が列方向に並べられている。また、走査信号線16aは画素104の行方向に沿う2つのエッジ部の一方と重なるとともに、走査信号線16bは他方と重なっており、平面的に視て、走査信号線16aおよび16b間に画素電極17A・17B・17A′が列方向に並べられている。
 画素101では、走査信号線16a上に、トランジスタ12aのソース電極8aおよびドレイン電極9aが形成され、走査信号線16b上に、トランジスタ12bのソース電極8bおよびドレイン電極9bが形成されている。ソース電極8aはデータ信号線15xに接続される。ドレイン電極9aはドレイン引き出し配線27aに接続され、ドレイン引き出し配線27aは、コンタクト電極77aおよび結合容量電極37aに接続され、コンタクト電極77aは、コンタクトホール11aを介して画素電極17aに接続される。結合容量電極37aは、層間絶縁膜を介して画素電極17bと重なっており、これによって画素電極17a・17b間の結合容量C101(図33参照)が形成される。また、結合容量電極37aに接続された結合容量電極延伸部27a′がコンタクト電極77a′に接続され、コンタクト電極77a′はコンタクトホール11a′を介して画素電極17a′に接続される。画素電極17a′は、コンタクトホール11a″を介して保持容量電極67aに接続される。さらに、保持容量電極67aは、ゲート絶縁膜を介して走査信号線16bと重なっており、これによって、画素電極17aと走査信号線16bとの間で保持容量(図33のCha2に相当)が形成されている。
 また、トランジスタ12bのソース電極8bはデータ信号線15xに接続される。ドレイン電極9bはドレイン引き出し配線27bに接続され、ドレイン引き出し配線27bはコンタクト電極77bに接続され、コンタクト電極77bはコンタクトホール11bを介して画素電極17bに接続される。また、保持容量電極67bは、ゲート絶縁膜を介して走査信号線16bと重なっており、これによって、画素電極17bと走査信号線16bとの間で保持容量(図33のChb2に相当)が形成されている。
 また、結合容量電極37aがゲート絶縁膜を介して保持容量配線18xと重なっており、これによって、保持容量Cha1(図33参照)が形成され、画素電極17bと保持容量配線18xとの間で保持容量Chb1(図33参照)が形成される。なお、他の画素の構成(各部材の形状および配置並びに接続関係)は画素101のそれと同じである。
 本具体例の構成によれば、画素電極17a・17a′を含む副画素は「明」、画素電極17bを含む副画素は「暗」となる。
 本実施の形態3の構成は、上述したように、上記実施の形態1および2で示した各構成を組み合わせることで実現可能であり、具体的には、実施の形態2のCsオンゲート構造において、結合容量電極37aの下層に保持容量配線18xを設ければよい。
 なお、本実施の形態3に係る液晶パネル5cを備えた液晶表示装置における駆動方法についても、上記実施の形態1で説明した各駆動方法(駆動方法-1、駆動方法-2、駆動方法-3、駆動方法-4)を適用することができることはいうまでもない。
 また、上記実施の形態1から3に示した各液晶パネル5a・5b・5cは、周知の構成と組み合わせることも可能であり、例えば図35に示すようにMVA(Multidomain Vertical Alignment)構造とすることもできる。図35では、図2に示した液晶パネル5aをMVA構造とした場合を構成を示している。なお、本液晶パネル5aは、アクティブマトリクス基板と液晶層とカラーフィルタ基板とを備えるが、図35では、液晶層は図示せず、カラーフィルタ基板についてはリブのみを図示している。図36は、図35の一部を拡大した平面図である。以下では、画素101を例に挙げて説明する。
 図36に示すように、画素101は、画素電極17aを含む副画素(以下、「第1副画素」)、および、画素電極17bを含む副画素(以下、「第2副画素」)から構成される。第1副画素には、第1リブL1とスリット(画素電極スリット)S1~S4とからなる第1配向規制用構造物が設けられ、第2副画素には、第2リブL2とスリット(画素電極スリット)S5~S8とからなる第2配向規制用構造物が設けられる。
 画素101においては、走査信号線16a側に位置する第1副画素が、走査信号線16aに沿う端部E1とこれと向き合う端部E2とを有し、走査信号線16b側に位置する第2副画素が、走査信号線16bに沿う端部E1とこれに向き合う端部E2とを有する。ここで、カラーフィルタ基板の第1副画素に対応する部分には、行方向(図中左→右方向)に視てV字形状をなす第1リブL1が、端部E1に始端部Tが位置するとともに端部E2に終端部Mが位置するように設けられ、カラーフィルタ基板の第2副画素に対応する部分にも、行方向(図中左→右方向)に視てV字形状をなす第2リブL2が、端部E1に始端部Tが位置するとともに端部E2に終端部Mが位置するように設けられる。すなわち、第1リブL1の向きと第2リブL2の向きは同方向である。
 さらに、画素電極17aには第1リブL1に対応して複数のスリットS1~S4が設けられるとともに、画素電極17bには第2リブL2に対応して複数のスリットS5~S8が設けられている。ここで、スリットS1・S3は、第1リブL1の始端部Tから屈折部Kまでの部分とほぼ平行となるようにその両側に設けられ、スリットS2・S4は第1リブL1の屈折部Kから終端部Mまでの部分とほぼ平行となるようにその両側に設けられ、スリットS6・S8は第2リブL2の始端部Tから屈折部Kまでの部分とほぼ平行となるようにその両側に設けられ、スリットS5・S7は第2リブL2の屈折部Kから終端部Mまでの部分とほぼ平行となるようにその両側に設けられており、スリットS5~S8の形状および第2リブL2に対する配置位置は、スリットS1~S4の形状および第1リブL1に対する配置位置と同様である。なお、第1および第2リブL1・L2それぞれにおいて、始端部T、屈折部K、および終端部Mがなす角(∠TKM)はおよそ90°である。
 このように、スリットS1、第1リブL1の一辺(TK部分)、およびスリットS3はそれぞれ平行で、かつ走査信号線16aに対して斜めに(約-135°をなして)延伸し、スリットS2、第1リブL1の一辺(KM部分)、およびスリットS4はそれぞれ平行で、かつ走査信号線16aに対して斜めに(約-45°をなして)延伸しており、第1リブL1の一辺(TK部分)の一部とスリットS3の一部とが第1副画素の端部E1(走査信号線16aに沿う部分)に位置している。一方、スリットS6、第2リブL2の一辺(TK部分)、およびスリットS8はそれぞれ平行で、かつ走査信号線16bに対して斜めに(約135°をなして)延伸し、スリットS5、第2リブL2の一辺(KM部分)、およびスリットS7はそれぞれ平行で、かつ走査信号線16bに対して斜め(約45°をなして)に延伸しており、上記第2リブL2の一辺(TK部分)の一部とスリットS8の一部とが第2副画素の端部E1(走査信号線16bに沿う部分)に位置している。
 本液晶パネル5aを用いた液晶表示装置によれば、広視野角化を実現することができるという効果を得ることができる。また、本液晶パネル5aでは、図35に示すように、リブL1・L2の向きを、列方向に隣接する2つの画素(例えば画素101と画素104)どうしで逆にしているため、特定の配向領域に偏って配向乱れの影響を受けることがなくなる。これにより、視野角特性の優れた液晶表示装置を実現することができる。
 なお、本液晶パネルではカラーフィルタ基板にリブが設けられている形態を示したがこれにかぎることはなく、カラーフィルタ基板に設けられたリブの代わりにスリットを設けてもよい。
 (液晶表示ユニット、液晶表示装置の構成)
 最後に、本発明の液晶表示ユニットおよび液晶表示装置の構成例について説明する。上記各実施の形態では、以下のようにして、本液晶表示ユニットおよび液晶表示装置を構成する。すなわち、液晶パネル(5a~5e)の両面に、2枚の偏光板A・Bを、偏光板Aの偏光軸と偏光板Bの偏光軸とが互いに直交するように貼り付ける。なお、偏光板には必要に応じて、光学補償シート等を積層してもよい。次に、図37(a)に示すように、ドライバ(ゲートドライバ202、ソースドライバ201)を接続する。ここでは、一例として、ドライバをTCP(Tape Career Package)方式による接続について説明する。まず、液晶パネルの端子部にACF(Anisotoropi Conduktive Film)を仮圧着する。ついで、ドライバが乗せられたTCPをキャリアテープから打ち抜き、パネル端子電極に位置合わせし、加熱、本圧着を行う。その後、ドライバTCP同士を連結するための回路基板203(PWB:Printed Wiring Board)とTCPの入力端子とをACFで接続する。これにより、液晶表示ユニット200が完成する。その後、図37(b)に示すように、液晶表示ユニット200の各ドライバ(201・202)に、回路基板203を介して表示制御回路209を接続し、照明装置(バックライトユニット)204と一体化することで、液晶表示装置210となる。
 図38(a)に、本液晶表示装置において、リフレッシュ期間を設ける場合のソースドライバの構成を示す。図38(a)に示すように、この場合のソースドライバには、各データ信号線に対応してバッファ31と、データ出力用スイッチSWaと、リフレッシュ用スイッチSWbとが設けられる。バッファ31には対応するデータdが入力され、バッファ31の出力は、データ出力用スイッチSWaを介してデータ信号線への出力端に接続されている。また、隣り合う2本のデータ信号線それぞれに対応する出力端は、リフレッシュ用スイッチSWbを介して互いに接続されている。すなわち、各リフレッシュ用スイッチSWbは直列に接続され、その一端がリフレッシュ電位供給源35(Vcom)に接続されている。ここで、データ出力用スイッチSWaのゲート端子には、チャージシェア信号shがインバータ33を介して入力され、リフレッシュ用スイッチSWbのゲート端子には、チャージシェア信号shが入力される。
 なお、図38(a)に示すソースドライバを図38(b)のように構成してもよい。すなわち、リフレッシュ用スイッチSWcを、対応するデータ信号線とリフレッシュ電位供給源35(Vcom)にのみに接続し、各リフレッシュ用スイッチSWcを直列に接続しない構成とする。こうすれば、各データ信号線に速やかにリフレッシュ電位を供給することができる。
 ここで、上記したソースドライバの構成ではリフレッシュ電位をVcomとしているがこれに限定されない。例えば、同一データ信号線に1水平走査期間前に供給された信号電位のレベルと現水平走査期間に供給すべき信号電位とに基づいて適切なリフレッシュ電位を算出しておき、このリフレッシュ電位を該データ信号線に供給してもよい。この場合のソースドライバの構成を図39に示す。該構成では、各データ信号線に対応して、データ出力用バッファ110と、リフレッシュ用バッファ111と、データ出力用スイッチSWaと、リフレッシュ用スイッチSWeとが設けられる。データ出力用バッファ110には対応するデータdが入力され、データ出力用バッファ110の出力は、データ出力用スイッチSWaを介してデータ信号線への出力端に接続されている。リフレッシュ用バッファ111には、対応する非画像データN(1水平走査期間前に供給された信号電位のレベルと現水平走査期間に供給すべき信号電位とに基づいて決定された最適なリフレッシュ電位に対応するデータ)が入力され、リフレッシュ用バッファ111の出力は、リフレッシュ用スイッチSWeを介してデータ信号線への出力端に接続されている。
 本願でいう「電位の極性」とは、基準となる電位に対する高(プラス)・低(マイナス)を意味する。ここで、基準となる電位は、共通電極(対向電極)の電位であるVcom(コモン電位)であってもその他任意の電位であってもよい。
 図40は、本液晶表示装置の構成を示すブロック図である。同図に示されるように、本液晶表示装置は、表示部(液晶パネル)と、ソースドライバ(SD)と、ゲートドライバ(GD)と、表示制御回路とを備えている。ソースドライバはデータ信号線を駆動し、ゲートドライバは走査信号線を駆動し、表示制御回路は、ソースドライバおよびゲートドライバを制御する。
 表示制御回路は、外部の信号源(例えばチューナー)から、表示すべき画像を表すデジタルビデオ信号Dvと、当該デジタルビデオ信号Dvに対応する水平同期信号HSYおよび垂直同期信号VSYと、表示動作を制御するための制御信号Dcとを受け取る。また、表示制御回路は、受け取ったこれらの信号Dv,HSY,VSY,Dcに基づき、そのデジタルビデオ信号Dvの表す画像を表示部に表示させるための信号として、データスタートパルス信号SSPと、データクロック信号SCKと、チャージシェア信号shと、表示すべき画像を表すデジタル画像信号DA(ビデオ信号Dvに対応する信号)と、ゲートスタートパルス信号GSPと、ゲートクロック信号GCKと、ゲートドライバ出力制御信号(走査信号出力制御信号)GOEとを生成し、これらを出力する。
 より詳しくは、ビデオ信号Dvを内部メモリで必要に応じてタイミング調整等を行った後に、デジタル画像信号DAとして表示制御回路から出力し、そのデジタル画像信号DAの表す画像の各画素に対応するパルスからなる信号としてデータクロック信号SCKを生成し、水平同期信号HSYに基づき1水平走査期間毎に所定期間だけハイレベル(Hレベル)となる信号としてデータスタートパルス信号SSPを生成し、垂直同期信号VSYに基づき1フレーム期間(1垂直走査期間)毎に所定期間だけHレベルとなる信号としてゲートスタートパルス信号GSPを生成し、水平同期信号HSYに基づきゲートクロック信号GCKを生成し、水平同期信号HSYおよび制御信号Dcに基づきチャージシェア信号sh、ならびにゲートドライバ出力制御信号GOEを生成する。
 上記のようにして表示制御回路において生成された信号のうち、デジタル画像信号DA、チャージシェア信号sh、信号電位(データ信号電位)の極性を制御する信号POL、データスタートパルス信号SSP、およびデータクロック信号SCKは、ソースドライバに入力され、ゲートスタートパルス信号GSPとゲートクロック信号GCKとゲートドライバ出力制御信号GOEとは、ゲートドライバに入力される。
 ソースドライバは、デジタル画像信号DA、データクロック信号SCK、チャージシェア信号sh、データスタートパルス信号SSP、および極性反転信号POLに基づき、デジタル画像信号DAの表す画像の各走査信号線における画素値に相当するアナログ電位(信号電位)を1水平走査期間毎に順次生成し、これらのデータ信号をデータ信号線(例えば、15x・15X)に出力する。
 ゲートドライバは、ゲートスタートパルス信号GSPおよびゲートクロック信号GCKと、ゲートドライバ出力制御信号GOEとに基づき、ゲートオンパルス信号を生成し、これらを走査信号線に出力し、これによって走査信号線を選択的に駆動する。
 上記のようにソースドライバおよびゲートドライバにより表示部(液晶パネル)のデータ信号線および走査信号線が駆動されることで、選択された走査信号線に接続されたトランジスタ(TFT)を介して、データ信号線から画素電極に信号電位が書き込まれる。これにより各副画素の液晶層に電圧が印加され、これによってバックライトからの光の透過量が制御され、デジタルビデオ信号Dvの示す画像が各副画素に表示される。
 次に、本液晶表示装置をテレビジョン受信機に適用するときの一構成例について説明する。図41は、テレビジョン受信機用の液晶表示装置800の構成を示すブロック図である。液晶表示装置800は、液晶表示ユニット84と、Y/C分離回路80と、ビデオクロマ回路81と、A/Dコンバータ82と、液晶コントローラ83と、バックライト駆動回路85と、バックライト86と、マイコン(マイクロコンピュータ)87と、階調回路88とを備えている。なお、液晶表示ユニット84は、液晶パネルと、これを駆動するためのソースドライバおよびゲートドライバとで構成される。
 上記構成の液晶表示装置800では、まず、テレビジョン信号としての複合カラー映像信号Scvが外部からY/C分離回路80に入力され、そこで輝度信号と色信号に分離される。これらの輝度信号と色信号は、ビデオクロマ回路81にて光の3原色に対応するアナログRGB信号に変換され、さらに、このアナログRGB信号はA/Dコンバータ82により、デジタルRGB信号に変換される。このデジタルRGB信号は液晶コントローラ83に入力される。また、Y/C分離回路80では、外部から入力された複合カラー映像信号Scvから水平および垂直同期信号も取り出され、これらの同期信号もマイコン87を介して液晶コントローラ83に入力される。
 液晶表示ユニット84には、液晶コントローラ83からデジタルRGB信号が、上記同期信号に基づくタイミング信号と共に所定のタイミングで入力される。また、階調回路88では、カラー表示の3原色R,G,Bそれぞれの階調電位が生成され、それらの階調電位も液晶表示ユニット84に供給される。液晶表示ユニット84では、これらのRGB信号、タイミング信号および階調電位に基づき内部のソースドライバやゲートドライバ等により駆動用信号(データ信号=信号電位、走査信号等)が生成され、それらの駆動用信号に基づき、内部の液晶パネルにカラー画像が表示される。なお、この液晶表示ユニット84によって画像を表示するには、液晶表示ユニット内の液晶パネルの後方から光を照射する必要があり、この液晶表示装置800では、マイコン87の制御の下にバックライト駆動回路85がバックライト86を駆動することにより、液晶パネルの裏面に光が照射される。上記の処理を含め、システム全体の制御はマイコン87が行う。なお、外部から入力される映像信号(複合カラー映像信号)としては、テレビジョン放送に基づく映像信号のみならず、カメラにより撮像された映像信号や、インターネット回線を介して供給される映像信号なども使用可能であり、この液晶表示装置800では、様々な映像信号に基づいた画像表示が可能である。
 液晶表示装置800でテレビジョン放送に基づく画像を表示する場合には、図42に示すように、液晶表示装置800にチューナー部90が接続され、これによって本テレビジョン受像機601が構成される。このチューナー部90は、アンテナ(不図示)で受信した受信波(高周波信号)の中から受信すべきチャンネルの信号を抜き出して中間周波信号に変換し、この中間周波数信号を検波することによってテレビジョン信号としての複合カラー映像信号Scvを取り出す。この複合カラー映像信号Scvは、既述のように液晶表示装置800に入力され、この複合カラー映像信号Scvに基づく画像が該液晶表示装置800によって表示される。
 図43は、本テレビジョン受像機の一構成例を示す分解斜視図である。同図に示すように、本テレビジョン受像機601は、その構成要素として、液晶表示装置800の他に第1筐体801および第2筐体806を有しており、液晶表示装置800を第1筐体801と第2筐体806とで包み込むようにして挟持した構成となっている。第1筐体801には、液晶表示装置800で表示される画像を透過させる開口部801aが形成されている。また、第2筐体806は、液晶表示装置800の背面側を覆うものであり、当該表示装置800を操作するための操作用回路805が設けられると共に、下方に支持用部材808が取り付けられている。
 本発明は上記の実施の形態に限定されるものではなく、上記実施の形態を技術常識に基づいて適宜変更したものやそれらを組み合わせて得られるものも本発明の実施の形態に含まれる。
 以上のように、本アクティブマトリクス基板を用いた液晶表示装置では、トランジスタを介してデータ信号線に接続される画素電極に容量結合される画素電極に蓄積された電荷を放電(リフレッシュ)させることができるため、この画素電極を含む副画素の焼き付きの発生を抑えることができるとともに、表示品位の低下を抑えることができる。
 発明の詳細な説明の項においてなされた具体的な実施形態または実施例は、あくまでも、本発明の技術内容を明らかにするものであって、そのような具体例にのみ限定して狭義に解釈されるべきものではなく、本発明の精神と次に記載する請求の範囲内において、いろいろと変更して実施することができるものである。
 本発明の液晶パネルおよび液晶表示装置は、例えば液晶テレビに好適である。

Claims (54)

  1.  データ信号線と、第1および第2の走査信号線と、上記データ信号線および第1の走査信号線に接続された第1のトランジスタと、上記データ信号線および第2の走査信号線に接続された第2のトランジスタと、1つの画素領域内に形成された第1および第2の画素電極とを備え、
     上記第1の画素電極は、上記第1のトランジスタを介して上記データ信号線に接続され、上記第2の画素電極は、上記第1の画素電極に容量を介して接続されるとともに、上記第2のトランジスタを介して上記データ信号線に接続され、
     上記第1のトランジスタのチャネルのW/L比(チャネル幅Wのチャネル長Lに対する比)と、上記第2のトランジスタのチャネルのW/L比(チャネル幅Wのチャネル長Lに対する比)とが互いに等しいことを特徴とするアクティブマトリクス基板。
  2.  上記画素領域内に形成された第3の画素電極をさらに備え、
     上記第3の画素電極は、上記第1の画素電極と電気的に接続されていることを特徴とする請求の範囲第1項に記載のアクティブマトリクス基板。
  3.  上記画素領域内に形成された第3の画素電極をさらに備え、
     上記第3の画素電極は、上記第1の画素電極に容量を介して接続されるとともに、上記第2の画素電極と電気的に接続されていることを特徴とする請求の範囲第1項に記載のアクティブマトリクス基板。
  4.  データ信号線と、第1および第2の走査信号線と、上記データ信号線および第1の走査信号線に接続された第1のトランジスタと、上記データ信号線および第2の走査信号線に接続された第2のトランジスタと、1つの画素領域内に形成された第1および第2の画素電極とを備え、
     上記第1の画素電極は、上記第1のトランジスタを介して上記データ信号線に接続され、上記第2の画素電極は、上記第1の画素電極に容量を介して接続されるとともに上記第2のトランジスタを介して上記データ信号線に接続され、
     上記第1の画素電極と上記第2の走査信号線との間には保持容量が形成されていることを特徴とするアクティブマトリクス基板。
  5.  上記画素領域内に形成された第3の画素電極をさらに備え、
     上記第3の画素電極は、上記第1の画素電極と電気的に接続されていることを特徴とする請求の範囲第4項に記載のアクティブマトリクス基板。
  6.  上記画素領域内に形成された第3の画素電極をさらに備え、
     上記第3の画素電極は、上記第1の画素電極に容量を介して接続されるとともに、上記第2の画素電極と電気的に接続されていることを特徴とする請求の範囲第4項に記載のアクティブマトリクス基板。
  7.  上記画素領域は、これを横切る上記第1の走査信号線によって2つの部分に分けられ、その一方に上記第1の画素電極が配されているとともに、他方に上記第2の画素電極が配されていることを特徴とする請求の範囲第4項に記載のアクティブマトリクス基板。
  8.  さらに、上記第2の画素電極と上記第2の走査信号線との間に、保持容量が形成されていることを特徴とする請求の範囲第4項~第7項のいずれか1項に記載のアクティブマトリクス基板。
  9.  保持容量配線をさらに備え、該保持容量配線が上記第1の画素電極と保持容量を形成していることを特徴とする請求の範囲第1項~第3項のいずれか1項に記載のアクティブマトリクス基板。
  10.  上記保持容量配線が、さらに、上記第2の画素電極と保持容量を形成していることを特徴とする請求の範囲第9項に記載のアクティブマトリクス基板。
  11.  上記第1および第2のトランジスタの導通電極と同層に形成された保持容量電極を備え、該保持容量電極が、上記第1および第2の画素電極の一方と電気的に接続されているとともに、ゲート絶縁膜を介して上記保持容量配線と重なっていることを特徴とする請求の範囲第10項に記載のアクティブマトリクス基板。
  12.  上記第1および第2のトランジスタの導通電極と同層に形成された結合容量電極を備え、該結合容量電極が、上記第1および第2の画素電極の一方と電気的に接続されているとともに、層間絶縁膜を介して他方と重なり、かつ、ゲート絶縁膜を介して上記保持容量配線と重なっていることを特徴とする請求の範囲第10項に記載のアクティブマトリクス基板。
  13.  保持容量配線をさらに備え、
     上記画素領域は、これを横切る上記保持容量配線によって2つの部分に分けられ、その一方に上記第1の画素電極が配され、他方に上記第3の画素電極が配されるとともに、上記第1および第3の画素電極の間に上記第2の画素電極が配されていることを特徴とする請求の範囲第2項または第5項に記載のアクティブマトリクス基板。
  14.  保持容量配線をさらに備え、
     上記画素領域は、これを横切る上記保持容量配線によって2つの部分に分けられ、その一方に上記第2の画素電極が配され、他方に上記第3の画素電極が配されるとともに、上記第2および第3の画素電極の間に上記第1の画素電極が配されていることを特徴とする請求の範囲第3項または第6項に記載のアクティブマトリクス基板。
  15.  上記第1および第2のトランジスタの導通電極と同層に形成された結合容量電極を備え、該結合容量電極が、上記第1および第2の画素電極の一方と電気的に接続されているとともに、層間絶縁膜を介して他方と重なっていることを特徴とする請求の範囲第4項に記載のアクティブマトリクス基板。
  16.  上記第1および第2のトランジスタの導通電極と同層に形成された保持容量電極を備え、該保持容量電極が、上記第1および第2の画素電極の一方と電気的に接続されているとともに、ゲート絶縁膜を介して上記第2の走査信号線と重なっていることを特徴とする請求の範囲第15項に記載のアクティブマトリクス基板。
  17.  上記第1および第2のトランジスタの導通電極と同層に形成された結合容量電極および保持容量電極を備え、
     上記結合容量電極は、上記第1の画素電極と電気的に接続されているとともに、層間絶縁膜を介して上記第2の画素電極と重なっており、
     上記保持容量電極は、上記第1の画素電極と電気的に接続されているとともに、ゲート絶縁膜を介して上記第2の走査信号線と重なっていることを特徴とする請求の範囲第5項または第6項に記載のアクティブマトリクス基板。
  18.  上記第1および第2のトランジスタの導通電極と同層に形成された結合容量電極および保持容量電極を備え、
     上記結合容量電極は、上記第1の画素電極と電気的に接続されているとともに、層間絶縁膜を介して上記第2の画素電極と重なっており、
     上記保持容量電極は、上記第1の画素電極と電気的に接続されているとともに、ゲート絶縁膜を介して上記第2の走査信号線と重なっていることを特徴とする請求の範囲第7項に記載のアクティブマトリクス基板。
  19.  層間絶縁膜を介して上記第2の画素電極と重なる結合容量電極を備え、
     上記第1のトランジスタの導通電極から引き出された第1の引き出し配線と上記結合容量電極とが同層で接続されているとともに、上記第1の引き出し配線と上記第1の画素電極とがコンタクトホールを介して接続され、
     上記第2のトランジスタの導通電極から引き出された第2の引き出し配線と上記第2の画素電極とがコンタクトホールを介して接続されていることを特徴とする請求の範囲第1項または第4項に記載のアクティブマトリクス基板。
  20.  層間絶縁膜を介して上記第2の画素電極と重なる結合容量電極を備え、
     上記第1のトランジスタの導通電極から引き出された第1の引き出し配線と上記結合容量電極とが同層で接続されているとともに、上記第1の引き出し配線と上記第1の画素電極とがコンタクトホールを介して接続され、
     上記第2のトランジスタの導通電極から引き出された第2の引き出し配線と上記第2の画素電極とがコンタクトホールを介して接続され、
     上記結合容量電極に接続された結合容量電極延伸部と上記第3の画素電極とがコンタクトホールを介して接続されていることを特徴とする請求の範囲第2項に記載のアクティブマトリクス基板。
  21.  層間絶縁膜を介して上記第2の画素電極と重なる結合容量電極を備え、
     上記第1のトランジスタの導通電極から引き出された第1の引き出し配線と上記結合容量電極とが同層で接続されているとともに、上記第1の引き出し配線と上記第1の画素電極とがコンタクトホールを介して接続され、
     上記第2のトランジスタの導通電極から引き出された第2の引き出し配線と上記第2の画素電極とがコンタクトホールを介して接続されるとともに、該第2の引き出し配線と上記第3の画素電極とがコンタクトホールを介して接続されていることを特徴とする請求の範囲第3項に記載のアクティブマトリクス基板。
  22.  層間絶縁膜を介して上記第2の画素電極と重なる結合容量電極と、ゲート絶縁膜を介して上記第2の走査信号線と重なる保持容量電極とを備え、
     上記第1のトランジスタの導通電極から引き出された第1の引き出し配線と上記結合容量電極とが同層で接続されているとともに、上記第1の引き出し配線と上記第1の画素電極とがコンタクトホールを介して接続され、
     上記第2のトランジスタの導通電極から引き出された第2の引き出し配線と上記第2の画素電極とがコンタクトホールを介して接続され、
     上記結合容量電極に接続された結合容量電極延伸部と上記第3の画素電極とがコンタクトホールを介して接続され、
     上記第3の画素電極と上記保持容量電極とがコンタクトホールを介して接続されていることを特徴とする請求の範囲第5項に記載のアクティブマトリクス基板。
  23.  層間絶縁膜を介して上記第2の画素電極と重なる結合容量電極と、ゲート絶縁膜を介して上記第2の走査信号線と重なる保持容量電極とを備え、
     上記第1のトランジスタの導通電極から引き出された第1の引き出し配線と上記結合容量電極とが同層で接続されているとともに、上記第1の引き出し配線と上記第1の画素電極とがコンタクトホールを介して接続され、
     上記第2のトランジスタの導通電極から引き出された第2の引き出し配線と上記第2の画素電極とがコンタクトホールを介して接続されるとともに、該第2の引き出し配線と上記第3の画素電極とがコンタクトホールを介して接続され、
     上記第3の画素電極と上記保持容量電極とがコンタクトホールを介して接続されていることを特徴とする請求の範囲第6項に記載のアクティブマトリクス基板。
  24.  層間絶縁膜を介して上記第2の画素電極と重なる結合容量電極と、ゲート絶縁膜を介して上記第2の走査信号線と重なる保持容量電極とを備え、
     上記第1のトランジスタの導通電極から引き出された第1の引き出し配線と上記結合容量電極とが同層で接続されているとともに、上記第1の引き出し配線と上記第1の画素電極とがコンタクトホールを介して接続され、
     上記第2のトランジスタの導通電極から引き出された第2の引き出し配線と上記第2の画素電極とがコンタクトホールを介して接続され、
     上記第1の画素電極と上記保持容量電極とがコンタクトホールを介して接続されていることを特徴とする請求の範囲第7項に記載のアクティブマトリクス基板。
  25.  上記層間絶縁膜は、上記結合容量電極と重なる部分の少なくとも一部が薄くなっていることを特徴とする請求の範囲第12項または第15項に記載のアクティブマトリクス基板。
  26.  上記ゲート絶縁膜は、上記保持容量電極と重なる部分の少なくとも一部が薄くなっていることを特徴とする請求の範囲第11項または第16項に記載のアクティブマトリクス基板。
  27.  上記層間絶縁膜は、無機絶縁膜と有機絶縁膜とからなるが、上記結合容量電極と重なる部分の少なくとも一部については、有機絶縁膜が除去されていることを特徴とする請求の範囲第25項に記載のアクティブマトリクス基板。
  28.  上記ゲート絶縁膜は、無機絶縁膜と有機絶縁膜とからなるが、上記保持容量電極と重なる部分の少なくとも一部については、有機絶縁膜が除去されていることを特徴とする請求の範囲第26項に記載のアクティブマトリクス基板。
  29.  上記有機絶縁膜には、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ノボラック樹脂、およびシロキサン樹脂の少なくとも1つが含まれていることを特徴とする請求の範囲第27項または第28項に記載のアクティブマトリクス基板。
  30.  上記第1~第3の画素電極は、
     上記第1の画素電極の少なくとも一部が、上記第1の走査信号線に近接し、
     上記第3の画素電極の少なくとも一部が、上記第2の走査信号線に近接し、
     上記第2の画素電極の一方の端部が上記第1の走査信号線に近接するとともに、他方の端部が上記第2の走査信号線に近接するように、配されていることを特徴とする請求の範囲第2項に記載のアクティブマトリクス基板。
  31.  上記第1~第3の画素電極は、
     上記第2の画素電極の少なくとも一部が、上記第1の走査信号線に近接し、
     上記第3の画素電極の少なくとも一部が、上記第2の走査信号線に近接し、
     上記第1の画素電極の一方の端部が上記第1の走査信号線に近接するとともに、他方の端部が上記第2の走査信号線に近接するように、配されていることを特徴とする請求の範囲第3項に記載のアクティブマトリクス基板。
  32.  液晶表示装置に適用された場合に、上記第1の画素電極を含む副画素が明副画素となり、上記第2の画素電極を含む副画素が暗副画素となることを特徴とする請求の範囲第1項~第31項のいずれか1項に記載のアクティブマトリクス基板。
  33.  液晶表示装置に適用された場合に、上記第1および第3の画素電極を含む副画素が明副画素となり、上記第2の画素電極を含む副画素が暗副画素となることを特徴とする請求の範囲第2項,第5項および第13項のいずれか1項に記載のアクティブマトリクス基板。
  34.  液晶表示装置に適用された場合に、上記第1の画素電極を含む副画素が明副画素となり、上記第2および第3の画素電極を含む副画素が暗副画素となることを特徴とする請求の範囲第3項,第6項および第14項のいずれか1項に記載のアクティブマトリクス基板。
  35.  第1のデータ信号線と、第1~第4の走査信号線と、上記第1のデータ信号線および上記第1の走査信号線に接続された第1のトランジスタと、上記第1のデータ信号線および上記第2の走査信号線に接続された第2のトランジスタと、上記第1のデータ信号線および上記第3の走査信号線に接続された第3のトランジスタと、上記第1のデータ信号線および上記第4の走査信号線に接続された第4のトランジスタとを備え、
     上記第1のデータ信号線の延伸方向を列方向とすれば、第1の画素領域に上記第1および第2の画素電極が設けられ、上記第1の画素領域と列方向に隣接する第2の画素領域に、第3および第4の画素電極が設けられ、
     上記第1および第2の画素電極が容量を介して接続されるとともに、上記第3および第4の画素電極が容量を介して接続され、上記第1のトランジスタが上記第1の画素電極に接続されるとともに上記第2のトランジスタが上記第2の画素電極に接続され、上記第3のトランジスタが上記第3の画素電極に接続されるとともに上記第4のトランジスタが上記第4の画素電極に接続されていることを特徴とする請求の範囲第1項または第4項に記載のアクティブマトリクス基板。
  36.  1画素に、第1の副画素と該第1の副画素の輝度以下に制御される第2の副画素とが含まれる液晶表示装置であって、
     データ信号線と、第1および第2の走査信号線と、上記データ信号線および第1の走査信号線に接続された第1のトランジスタと、上記データ信号線および第2の走査信号線に接続された第2のトランジスタと、上記第1の副画素に形成された第1の画素電極と、上記第2の副画素に形成された第2の画素電極とを備え、
     上記第1の画素電極は、上記第1のトランジスタを介して上記データ信号線に接続され、上記第2の画素電極は、上記第1の画素電極に容量を介して接続されるとともに、上記第2のトランジスタを介して上記データ信号線に接続され、
     表示中に上記第2の走査信号線が少なくとも1回選択されることを特徴とする液晶表示装置。
  37.  請求の範囲第1項~第35項のいずれか1項に記載のアクティブマトリクス基板を備え、
     表示中に上記第2の走査信号線が少なくとも1回選択されることを特徴とする液晶表示装置。
  38.  上記第2のトランジスタがオフするときに、上記データ信号線に共通電極電位が供給されていることを特徴とする請求の範囲第36項または第37項に記載の液晶表示装置。
  39.  上記第2のトランジスタがオフするときに上記第1のトランジスタがオン状態であるか、あるいは、上記第2のトランジスタがオフするときに上記第1のトランジスタが同時にオフすることを特徴とする請求の範囲第38項に記載の液晶表示装置。
  40.  上記第2のトランジスタがオフするときに、第1および第2の画素電極の電位を実質的に共通電極電位にすることを特徴とする請求の範囲第36項~第39項のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
  41.  上記第1の走査信号線に供給される第1のゲートオンパルス信号と、上記第2の走査信号線に供給される第2のゲートオンパルス信号とは、同一の水平走査期間内でアクティブになるとともに、
     上記第2のゲートオンパルス信号は、そのパルス幅が上記第1のゲートオンパルス信号のパルス幅未満であり、かつ、上記第1のゲートオンパルス信号が非アクティブになる前に非アクティブになることを特徴とする請求の範囲第36項~第40項のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
  42.  上記第1の走査信号線に供給される第1のゲートオンパルス信号、および、上記第2の走査信号線に供給される第2のゲートオンパルス信号は、表示すべきデータ信号の信号電位が上記第1の画素電極へ供給される期間よりも一水平走査期間前にアクティブになるとともに、
     上記第2のゲートオンパルス信号は、上記第1のゲートオンパルス信号がアクティブの間に非アクティブになることを特徴とする請求の範囲第36項~第40項のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
  43.  各フレームにおいて、1画素領域内の全ての画素電極へ、少なくとも2回、共通電極電位を供給することを特徴とする請求の範囲第36項~第40項のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
  44.  各フレームにおいて、表示すべきデータ信号の信号電位が上記第1の画素電極へ供給されてから、2/3フレーム期間経過後に、1画素領域内の全ての画素電極へ、少なくとも2回、共通電極電位を供給することを特徴とする請求の範囲第43項に記載の液晶表示装置。
  45.  各データ信号線に供給されるデータ信号の信号電位の極性は、一水平走査期間ごとに反転し、
     上記データ信号の信号電位の極性が反転するときに、所定期間だけ各データ信号線へのデータ信号の供給が遮断されるとともに、各データ信号線が互いに短絡され、
     上記第1および第2のトランジスタは、上記所定期間内でオン状態であることを特徴とする請求の範囲第36項~第44項のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
  46.  各走査信号線を駆動する走査信号線駆動回路を備え、上記第1および第2の走査信号線それぞれに供給される第1および第2のゲートオンパルス信号は、上記走査信号線駆動回路が有する1つのシフトレジスタの同一段からの出力を用いて生成されていることを特徴とする請求の範囲第36項または第37項に記載の液晶表示装置。
  47.  上記走査信号線駆動回路は、上記シフトレジスタと、列方向に並ぶ複数の論理回路と、出力回路とを備え、
     上記論理回路に入力される、上記シフトレジスタの出力と上記走査信号線駆動回路の出力を制御する出力制御信号とに基づいて、上記出力回路から出力される上記第1および第2のゲートオンパルス信号のパルス幅が決定されることを特徴とする請求の範囲第46項に記載の液晶表示装置。
  48.  上記第1の画素電極に供給される信号電位の極性は、1フレーム単位で反転することを特徴とする請求の範囲第36項~第47項に記載の液晶表示装置。
  49.  第1のデータ信号線に供給される信号電位の極性が一水平走査期間ごとに反転することを特徴とする請求の範囲第36項~第48項のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
  50.  同一水平走査期間においては、第1のデータ信号線およびこれに隣接するデータ信号線それぞれに、逆極性の信号電位が供給されることを特徴とする請求の範囲第36項~第49項のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
  51.  請求の範囲第1項~第35項のいずれか1項に記載のアクティブマトリクス基板を備えることを特徴とする液晶パネル。
  52.  請求の範囲第51項に記載の液晶パネルとドライバとを備えることを特徴とする液晶表示ユニット。
  53.  請求の範囲第52項に記載の液晶表示ユニットと光源装置とを備えることを特徴とする液晶表示装置。
  54.  請求の範囲第36項~第50項および第53項のいずれか1項に記載の液晶表示装置と、テレビジョン放送を受信するチューナー部とを備えることを特徴とするテレビジョン受像機。
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