WO2009125497A1 - 均熱装置および有機膜成膜装置 - Google Patents

均熱装置および有機膜成膜装置 Download PDF

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WO2009125497A1
WO2009125497A1 PCT/JP2008/057205 JP2008057205W WO2009125497A1 WO 2009125497 A1 WO2009125497 A1 WO 2009125497A1 JP 2008057205 W JP2008057205 W JP 2008057205W WO 2009125497 A1 WO2009125497 A1 WO 2009125497A1
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heated
flow path
heating
condensation
hole
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PCT/JP2008/057205
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忠弘 大見
真史 北野
久明 山蔭
義人 山田
Original Assignee
国立大学法人東北大学
東芝三菱電機産業システム株式会社
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    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/243Crucibles for source material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C23C14/12Organic material
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    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/228Gas flow assisted PVD deposition

Definitions

  • the present invention relates to a heat equalizing apparatus used in an organic film forming apparatus, a heat equalizing apparatus for heating a raw material of a predetermined material accommodated in a container, and an organic film forming apparatus using the heat equalizing apparatus.
  • a heat equalizing apparatus used in an organic film forming apparatus
  • an organic film forming apparatus using the heat equalizing apparatus about.
  • an evaporation device for the organic EL raw material is an evaporation pan by heating the outside of the evaporation pan with a heater.
  • a heating method in which the internal organic EL material is sublimated or melted and evaporated is generally used.
  • a conventional apparatus used for such heat treatment is disclosed, for example, in International Publication No. 2007/034790 (Patent Document 1).
  • FIG. 19 is a side view of an evaporation container used for conventional heat treatment.
  • FIG. 20 is a plan view of an evaporation container used in a conventional heat treatment.
  • the evaporation container includes a bottom surface and a side surface standing from the bottom surface, and includes an evaporation dish 50 that defines a material storage space opened inside the side surface, and the material storage space.
  • the partition plate 52 is divided into a plurality of partial spaces.
  • the partition plate 52 is provided with a locking piece 54 having such a height that a plurality of partial spaces communicate with each other on the bottom surface side of the evaporating dish.
  • FIG. 21 is a schematic diagram showing a modification of the conventional partition plate.
  • FIG. 21 as a means for heating the bottom and side portions of the evaporating dish and the inside of the partition plate, one including heat pipes 741 and 761 is described.
  • International Publication No. 2007/034790 Pamphlet is described.
  • a raw material of a predetermined material is supplied to a communicating part on the bottom side of the evaporating dish, and is heated and evaporated on the bottom face, side face and partition plate part of the evaporating dish. Since the supplied raw material is stored and heated in the communication part on the bottom side of the evaporating dish, raw material stagnation occurs at a part of the bottom communication part, particularly at a corner part formed by the side surface and the partition plate. When stagnation occurs, it is not possible to sufficiently replace the raw material continuously with new raw material while heating and evaporating the raw material in each part of the evaporating dish. For this reason, it was difficult to heat and evaporate each part of the raw material in the evaporating dish under a uniform temperature history, and there was a problem that the amount of evaporation of the raw material varied.
  • the bottom part and the side part of the evaporating dish have a double structure, and the heat pipe provided inside the partition plate and the double structure part are communicated with each other.
  • the vapor pressure of the working fluid of the heat pipe corresponding to the operating temperature is generated as an internal pressure in this double structure portion.
  • a steam pressure of about 1.6 MPa is generated when the operation is performed at 200 ° C. using water as a working fluid
  • a steam pressure of about 1.9 MPa is generated when the operation is performed at 400 ° C. using naphthalene as a working fluid.
  • this double structure portion does not have such a structure that maintains the internal pressure strength during high-temperature heating, there is a problem that the evaporating dish may be deformed or broken at high temperatures.
  • the present invention has been made to solve the above-described problems, and continuously heats the material to be heated in each part inside the apparatus to make the temperature of the material to be heated uniform and perform stable vaporization. It is another object of the present invention to provide a soaking device that can sufficiently withstand the vapor pressure of a working fluid even at high temperatures.
  • the heat equalizing apparatus includes a container structure, a heating means, and a material supply pipe.
  • a sealed space filled with a working fluid is formed inside the container structure.
  • the heating means is disposed at the bottom of the container structure.
  • the material supply pipe communicates the outside and the inside of the container structure.
  • the container structure includes a heating block that heats and vaporizes the material to be heated, and a housing portion that surrounds the heating block. In the heating block, a flow path through which the material to be heated flows is formed.
  • the flow path includes a first flow path that is connected to the material supply pipe and extends in the horizontal direction, a second flow path that branches from the first flow path and extends in the up-down direction, and an opening in which the second flow path opens on the upper surface of the container structure Part.
  • a condensation path is formed in the heating block. In the condensation path, the working fluid heated and evaporated by the heating means is cooled and condensed.
  • the condensation path includes an upper condensation hole formed on both sides of the second flow path and extending in the horizontal direction, and a lower condensation hole formed on the lower side of the first flow path.
  • a first flow path is disposed between the upper condensation hole and the lower condensation hole.
  • the heating block is heated by the action of cooling and condensing the gaseous working fluid on the inner wall surface of the condensation path provided in the heating block, and the temperature of the heated heating block is made uniform. . Therefore, the temperature of the material to be heated that is heated while passing through the flow path in the heating block can be made uniform and heated.
  • the flow path is configured so that the material to be heated flows continuously from the inlet to the outlet of the flow path, and a part of the material to be heated does not stay in a part of the flow path. The uniformity of the heating history can be improved.
  • the convection of the melt of the to-be-heated material which passes the inside of a flow path can be suppressed by making the flow path of to-be-heated material a small diameter. Accordingly, since the temperature uniformity of the heated and vaporized material to be heated can be improved, a heat equalizing apparatus that can be applied to a vapor deposition apparatus that performs a highly accurate film forming process is obtained.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view of the heat equalizing device according to Embodiment 1.
  • FIG. It is sectional drawing of a heat equalizing apparatus orthogonal to the cross section shown in FIG.
  • FIG. 3 is a top plan view of the heat equalizer shown in FIGS. 1 and 2. It is sectional drawing of the heat equalization apparatus of Embodiment 2.
  • FIG. FIG. 5 is a cross-sectional view of a heat equalizer that is orthogonal to the cross section shown in FIG. 4. It is sectional drawing of the heat equalization apparatus of Embodiment 3.
  • FIG. 10 is a cross-sectional view of a modification of the heat equalizing device according to the third embodiment.
  • FIG. 13 is a cross-sectional view of the heat equalizer that is orthogonal to the cross section shown in FIG. 12. It is sectional drawing of the heat equalizing apparatus of Embodiment 6.
  • FIG. 15 is a cross-sectional view of the heat equalizer that is orthogonal to the cross section shown in FIG. 14. 6 is a graph showing the temperature measurement results of each part of the apparatus in the temperature raising process of the heat equalizing apparatus according to the first embodiment.
  • Heating block 1 Heating block, 2 Housing part, 3 Flange, 4 Hollow part, 5 Working fluid, 6 Heating means, 7 Steam bubble, 8, 9, 17, 20 arrow, 10, 10a, 10b Condensation hole, 11 Material supply pipe, 12 Main header pipe, 13 branch header pipe, 14 riser pipe, 15 opening, 16 condensation hole, 18 column, 21 piping system, 22 condensation hole, 23 evaporator, 24 steam pipe, 25 liquid pipe, 26 second hydraulic fluid 27 Second heating means.
  • each component is not necessarily essential for the present invention unless otherwise specified.
  • the above number is an example, and the scope of the present invention is not necessarily limited to the number, amount, etc.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view of the heat equalizing device according to the first embodiment.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view of the heat equalizer that is orthogonal to the cross section shown in FIG. 1.
  • FIG. 3 is a top plan view of the heat equalizer shown in FIGS. 1 and 2.
  • the horizontal direction refers to the left-right direction in the sectional views of the heat equalizer, and the up-down direction refers to the up-down direction in these drawings.
  • the heat equalizing device includes a heating block 1 and a housing portion 2 arranged so as to surround the periphery of the heating block 1.
  • the soaking device includes a flange 3.
  • the heating block 1 and the housing part 2 are joined to the flange 3 at their respective upper ends, and their lower parts are joined to form a container structure in which a hollow part 4 that is a sealed space is formed inside. Yes.
  • the container structure has a heating block 1 and a housing part 2.
  • Condensation holes 10a and 10b extending in the horizontal direction through the heating block 1 are formed in the upper part of the heating block 1.
  • the condensation holes 10a and 10b are circular holes whose cross-sectional shape along the radial direction of the hole is a circular shape, and straight holes whose depth direction is along a straight line.
  • the depth direction of the condensation holes 10a and 10b is along the horizontal direction.
  • a plurality of condensing holes 10a and 10b are formed. Both ends of the condensation holes 10 a and 10 b are open toward the hollow portion 4.
  • the condensing holes 10a and 10b are formed so as to communicate the right and left hollow portions 4 and 4 inside the container structure shown in FIG.
  • the inside of the hollow portion 4 is filled with a working fluid 5 that is a liquid working fluid.
  • the working fluid is a heat medium used for transferring heat between the heating means 6 serving as a heat source and the heating block 1 and heating the heating block 1 to control the target temperature.
  • the hydraulic fluid 5 is selected in consideration of the thermal characteristics at the operating temperature and the operating pressure (vapor pressure). Water is used in the region of about 200 ° C. or lower, and water is used in the region of higher than 200 ° C. and about 400 ° C. or lower.
  • a high boiling point organic heat medium such as Dowsum (registered trademark) A or naphthalene is generally used.
  • the working fluid 5 is filled in the hollow portion 4 after the inside of the hollow portion 4 is evacuated. Therefore, a gaseous working fluid in which the working fluid 5 is vaporized exists inside the hollow portion 4. Since the hollow portion 4 is formed so as to separate the heating block 1 and the housing portion 2, the structure is such that heat is not easily dissipated from the heating block 1 to the outside of the apparatus.
  • a heating means 6 for heating the hydraulic fluid 5 is disposed at the bottom of the container structure.
  • the heating means 6 is attached to the lower surface of the heating block 1 in thermal contact. That is, the heat generated in the heating means 6 can be transmitted to the hydraulic fluid 5 sufficiently efficiently through the bottom of the heating block 1.
  • the soaking apparatus also includes a material supply pipe 11 that communicates the outside and inside of the container structure.
  • the material supply pipe 11 is introduced from the outside of the container structure and is joined to one side surface of the heating block 1.
  • a material to be heated which is a material heated and vaporized by the heat equalizing device, is supplied into the heat equalizing device via the material supply pipe 11.
  • the material to be heated needs to be a fluid.
  • the material to be vaporized is a solid material at room temperature
  • the material is flowed by using a method such as heating and melting the material, or crushing and pulverizing the material into a liquid to form a slurry. By improving the property, the material supply pipe 11 can be passed.
  • a main header pipe 12 that is connected to the material supply pipe 11 and extends in the horizontal direction, a plurality of branch header pipes 13 that branch from the main header pipe 12 and extend in the horizontal direction, and branch from the branch header pipe 13.
  • a plurality of risers 14 extending in the vertical direction are formed.
  • the main header pipe 12, the branch header pipe 13 and the riser pipe 14 are tubular members.
  • the upper end of the riser 14 opens to the upper surface of the heating block 1 to form an opening 15.
  • the main header pipe 12, the branch header pipe 13, the rising pipe 14 and the opening 15 are included in a flow path through which the material to be heated flows.
  • a plurality of condensing holes 16 are formed inside the heating block 1 below the portion where the flow path of the material to be heated is formed.
  • the plurality of condensation holes 16 extend in the vertical direction.
  • the depth direction of the condensation hole 16 is along the vertical direction.
  • the condensation hole 16 is formed below the main header pipe 12, the branch header pipe 13 and the riser pipe 14.
  • the condensation hole 16 and the hollow portion 4 are formed so as to communicate with each other, and the hydraulic fluid 5 can freely flow inside the hollow portion 4 and inside the condensation hole 16.
  • the planar shape of the condensation hole 16 may be any shape, for example, a rectangular shape or a circular shape.
  • the condensation holes 16 may be arranged in any manner, have a function of storing the hydraulic fluid 5, and heat from the heating means 6 is transferred to the flow path of the material to be heated provided in the upper part of the heating block 1. Anything designed to minimize the influence is sufficient.
  • a part of the gaseous working fluid heated and evaporated by the heating means 6 moves from the liquid level of the working fluid 5 to the inside of the condensation hole 16 as indicated by an arrow 8.
  • the gaseous working fluid that has moved to the inside of the condensing hole 16 is cooled by transferring heat to the inner wall surface of the condensing hole 16 to be condensed and liquefied.
  • the condensed liquid working fluid is returned to the working liquid retaining portion at the bottom of the container structure as indicated by an arrow 9.
  • the condensing holes 10 a and 10 b are formed by sewing between the rising pipes 14 so as not to interfere with the rising pipes 14.
  • the condensation holes 10a and 10b are formed between the riser pipes 14 and separated from the flow path of the material to be heated. As shown in FIG. 2, adjacent condensing holes 10 a are formed on both sides of the rising pipe 14 so as to sandwich the rising pipe 14, and adjacent condensing holes 10 b are formed on both sides of the rising pipe 14 so as to sandwich the rising pipe 14. ing.
  • the main header pipe 12 and the branch header pipe 13 are arranged so as to be sandwiched between the condensation hole 10 b and the condensation hole 16 between the condensation hole 10 b and the condensation hole 16.
  • the heating block 1 is heated by the heat generated by the heating means 6 installed at the lower part of the heating block 1.
  • the heating block 1 is heated, it is formed at the bottom of the hollow portion 4 formed between the heating block 1 and the housing portion 2 and at the bottom of the heating block 1.
  • the hydraulic fluid 5 staying in the lower part of the condensation hole 16 is heated.
  • gaseous working fluid moves from the liquid level of the working fluid 5 to the inside of the condensation hole 16 as indicated by an arrow 8.
  • the gaseous working fluid that has moved to the inside of the condensation hole 16 is cooled by heating the inner wall surface of the condensation hole 16, particularly the uppermost surface of the condensation hole 16, and is condensed and liquefied.
  • the condensed liquid working fluid naturally recirculates to the working liquid retention part at the bottom of the container structure as indicated by an arrow 9.
  • the inner surfaces of the condensation holes 10a and 10b and the condensation hole 16 provided in the heating block 1 are heated by the evaporation and condensation action of the working fluid.
  • the material to be heated of the predetermined material reaches the heating block 1 from the outside of the container structure via the material supply pipe 11 as indicated by the white arrow 17, and the main header pipe 12 formed in the heating block 1.
  • the material to be heated is heated from the wall surfaces of the condensation holes 10 a and 10 b and the condensation hole 16 provided inside the heating block 1 while passing through the inside of the heating block 1. That is, the material to be heated supplied to the inside of the heating block 1 via the material supply pipe 11 is heated by exchanging heat with the gaseous working fluid in which the working fluid 5 is heated and evaporated by the heating means 6.
  • the main header pipe 12 and the branch header pipe 13 are disposed between the condensing hole 10 b and the condensing hole 16.
  • the material to be heated flows through the main header pipe 12 and the branch header pipe 13
  • heat is transferred from the condensation hole 10b formed on the upper side.
  • the material to be heated is formed under the main header pipe 12 and the branch header pipe 13, and is transferred from the condensation holes 16 provided over the entire length of the main header pipe 12 and the branch header pipe 13.
  • the riser 14 is formed between two adjacent condensation holes 10a and two adjacent condensation holes 10b. When the material to be heated flows through the riser 14, heat is transferred from the condensation holes 10a and 10b formed on the left and right sides.
  • the material to be heated that flows through the flow path formed in the heating block 1 is transferred from two condensing paths that are formed so as to sandwich the flow path.
  • the material to be heated flowing in the flow path is heated from two opposite directions. Since the material to be heated receives heat from a plurality of directions, the occurrence of a temperature difference in the material to be heated flowing inside the flow path is suppressed. That is, the temperature uniformity of the material to be heated can be improved.
  • the flow rate of the heated material in the main header pipe 12 is sufficiently smaller than the flow rate of the heated material in the branch header pipe 13, and the flow rate of the heated material in the branch header pipe 13 is set in the riser pipe 14.
  • the inner diameters of the main header pipe 12, the branch header pipe 13 and the riser pipe 14 are selected so as to be sufficiently small with respect to the flow rate of the material to be heated. Therefore, the material to be heated that branches off from the main header pipe 12 flows equally into the plurality of branch header pipes 13 and equally flows into the plurality of rising pipes 14.
  • the material to be heated since the material to be heated moves in a predetermined flow path in a predetermined flow state, the material to be heated stays in a specific part in the flow path, and the phenomenon that the temperature history differs at each position in the flow path. Without occurrence, the temperature history of the heated material can be made uniform, and the uniformity of the temperature of the heated material after heating can be improved.
  • the riser pipe 14 is formed of a pipe having a small diameter hole having an inner diameter of about 2 to 3 mm, convection does not occur in the melt of the material to be heated inside the riser pipe 14 and the material to be heated inside the riser pipe 14. Therefore, the temperature of the material to be heated can be made more uniform.
  • the material to be heated In the inside of the heating block 1, when the material to be heated is heated to a temperature close to the boiling point, the material to be heated is evaporated and vaporized.
  • the gaseous material to be heated flows out of the heating block 1 through the opening 15. In this way, it is possible to obtain a gaseous material to be heated in which the temperature distribution is suppressed and the temperature is equalized.
  • a column 18 is formed in the lower part of the heating block 1 by a condensation hole 16 formed in the lower part of the heating block 1, and the structure is sufficiently resistant to generation of vapor pressure inside the container structure due to evaporation of the working fluid 5. It is possible to do.
  • This column 18 causes heat conduction from the heating means 6 to the upper part of the heating block 1, but the heat applied to the heating means 6 is also caused by the condensation holes 16 around the column 18 formed in the lower part of the heating block 1.
  • the hydraulic fluid 5 is transmitted to the upper part of the heating block 1 while evaporating.
  • the condensing hole 16 and the column 18 are designed so that the upper temperature of the column 18, that is, the temperature of the flow path of the material to be heated is lowered to a temperature substantially equal to the temperature of the working fluid on the upper surface of the condensing hole 16. .
  • the heat equalizing apparatus includes the container structure, the heating means 6, and the material supply pipe 11.
  • a hollow portion 4 filled with a working fluid is formed inside the container structure.
  • the container structure includes a heating block 1 that heats and vaporizes a material to be heated, and a housing portion 2 that surrounds the heating block 1.
  • the heating means 6 is disposed at the bottom of the heating block 1.
  • the material supply pipe 11 communicates the outside and the inside of the container structure.
  • the flow path includes a main header pipe 12 as a first flow path connected to the material supply pipe 11 and extending in the horizontal direction, a rising pipe 14 as a second flow path branched from the first flow path and extending in the vertical direction, and a second flow
  • the path includes an opening 15 opening in the upper surface of the heating block 1.
  • a condensation path is formed.
  • the condensing path includes condensing holes 10a and 10b as upper condensing holes formed on both sides of the rising pipe 14 and extending in the horizontal direction, and a condensing hole 16 as a lower condensing hole formed below the rising pipe 14.
  • the main header pipe 12 is disposed between the condensation hole 10 b and the condensation hole 16.
  • the heating block 1 is heated by the action of the working fluid condensing on the inner wall surfaces of the condensation holes 10a and 10b and the condensation hole 16 provided in the heating block 1, and the temperature of the heated heating block 1 is increased.
  • the uniformity is improved. Therefore, the temperature after heating of the material to be heated that is heated while passing through the flow path in the heating block 1 can be made uniform.
  • the flow path is configured so that the material to be heated flows continuously from the connection portion between the material supply pipe 11 and the main header pipe 12 to the opening 15, and a part of the material to be heated is part of the flow path. It is possible to improve the uniformity of the heating history of the material to be heated. Further, by making the riser 14 small in diameter, it is possible to suppress the convection of the melt of the material to be heated that passes through the riser 14 and to further improve the temperature uniformity of the heated and vaporized material to be heated. Can be made.
  • the condensing hole 16 as the lower condensing hole is provided over the entire longitudinal direction of the main header pipe 12 and the branch header pipe 13. If it does in this way, in the whole longitudinal direction of the main header pipe
  • tube 13 in addition to the heat transfer from the upper condensation holes 10a and 10b, heat is also supplied to the material to be heated from the lower condensation holes 16. Since it can be transmitted, the uniformity of the temperature of the material to be heated can be further improved.
  • the temperature of the inner wall surface of the flow path for heating the material to be heated can be managed in a temperature distribution within ⁇ 1 ° C., and the amount of vaporization of the material to be heated can be highly accurate. Therefore, it is possible to obtain an evaporation source that can be applied to a vapor deposition apparatus that performs a highly accurate film forming process.
  • the area of the heat transfer surface increases.
  • the material to be heated can be heated with a large surface area.
  • the heating efficiency is increased, the thermal response at the time of temperature rise is greatly improved, and the heat energy at the time of temperature rise can be minimized, so the heat equalizing device that improves heat transfer efficiency and is suitable for energy saving. Is obtained.
  • FIG. 16 is a graph showing a temperature measurement result of each part of the apparatus in the temperature rising process of the heat equalizing apparatus according to the first embodiment.
  • the horizontal axis represents the elapsed time (unit: minutes) from the start of temperature rise
  • the vertical axis represents the temperature (unit: ° C.).
  • FIG. 16 shows temperature rise curves in the vicinity of the heating means 6, the vicinity of the branch header pipe 13, and the opening 15 when water is used as the working fluid 5 in the first embodiment.
  • the temperature in the vicinity of the heating means 6 (heater vicinity temperature) is higher than the others.
  • the temperature of the opening 15 on the upper surface of the heating block 1 corresponding to the outlet of the material to be heated (heating hole surface temperature) and the temperature in the vicinity of the branch header pipe 13 that is the flow path of the material to be heated Is rising at about the same temperature. In other words, it can be seen that the temperature of the heated material rises while keeping the temperature extremely uniform.
  • the temperature controllability until the temperature stabilizes is good, and the effectiveness of the configuration of the heat equalizing device in the first embodiment has been confirmed.
  • the steady-state temperature distribution in the opening 15 was ⁇ 0.5 ° C. or less.
  • the time required for the temperature rise from room temperature to about 200 ° C. is about 0.5 hours, and has a temperature rise characteristic in a short time.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view of the heat equalizer of the second embodiment.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view of the heat equalizer that is orthogonal to the cross section shown in FIG. 4.
  • the heat equalizing device of the second embodiment is different from the heat equalizing device of the first embodiment in that the upper condensing holes are configured as shown in FIGS. 4 and 5.
  • the cross-sectional shape of the condensation hole 10 may be a vertically long rectangle (that is, a long side is formed in the vertical direction).
  • the liquid working fluid cooled and condensed into the condensation hole 10 is collected by a capillary force at a corner portion near the apex of the rectangle of the cross section of the condensation hole 10. Therefore, the inside of the condensation hole 10 can be prevented from being blocked by the liquid working fluid, and the vapor space of the working fluid is reliably ensured.
  • the film thickness of the liquid working fluid adhering to the flat part of the condensation hole 10 can be reduced, the surface temperature distribution of the condensation hole 10 is improved.
  • the condensing hole 10 extends along the rising pipe 14.
  • the condensation hole 10 extends along the extending direction of the riser 14. In this way, the heat transfer distance from the surface of the condensation hole 10 to the riser pipe 14 through which the material to be heated flows can be made uniform in the direction in which the riser pipe 14 extends. Therefore, the material to be heated flowing inside the riser 14 can be heated from the lower end of the riser 14 to the opening 15 so that the temperature becomes more uniform.
  • interval of the riser pipe 14 can be shortened by making the condensing hole 10 into a vertically long rectangular shape. Therefore, as shown in FIG. 5, the number of risers 14 can be increased compared to the case where the condensing holes shown in FIG. 2 are round holes, and the opening area of the riser 14 can be increased. The efficiency of evaporation can be improved.
  • the cross-sectional shape of the condensing hole 10 is changed from a round shape to a rectangular shape, so that the size of the heating block 1 in the width direction can be reduced and the apparatus can be downsized. Therefore, it is possible to obtain a heat equalizing device having an energy saving structure in which the thermal responsiveness can be improved and the heat radiation surface area is reduced.
  • the diameter of the condensing hole 10 in the round hole needs to be about 7 to 8 mm.
  • the cross section of the condensing hole is a vertically long rectangular shape, ) Can be reduced to about 3 to 4 mm, so that the arrangement pitch of the risers 14 can be reduced by about 30%.
  • FIG. 6 is a cross-sectional view of the heat equalizer of the third embodiment.
  • FIG. 7 is a cross-sectional view of the heat equalizer that is orthogonal to the cross section shown in FIG. 6.
  • the heat equalizing device according to the third embodiment is different from the heat equalizing device according to the first embodiment in that the upper condensing holes are configured as shown in FIGS. 6 and 7.
  • the example in which the condensing holes 10a and 10b in the upper part of the heating block 1 extend in the horizontal direction has been described.
  • One side in the depth direction of 10a and 10b may be relatively high and the other side may be relatively low to form an inclined hole inclined in the depth direction with respect to the horizontal direction.
  • the liquid working fluid cooled and condensed by exchanging heat with the material to be heated flows along the inclined bottom surfaces of the condensation holes 10a and 10b. Therefore, the liquid working fluid can be naturally refluxed quickly from the condensation holes 10a and 10b to the working liquid retention portion at the bottom of the container structure. Therefore, the film thickness of the liquid working fluid staying on the inner surfaces of the condensation holes 10a and 10b can be further reduced, and the temperature equalization over the entire surfaces of the condensation holes 10a and 10b can be further improved.
  • the temperature of the heating material can be made more uniform.
  • FIG. 8 is a cross-sectional view of a modification of the heat equalizing apparatus according to the third embodiment.
  • FIG. 9 is a cross-sectional view of the heat equalizer that is orthogonal to the cross section shown in FIG. 8.
  • the condensing hole 10 whose cross-sectional shape is a vertical rectangle is arranged such that one side in the depth direction is relatively high and the other side is relatively low, Even if the inclined hole is inclined in the depth direction, the same effect as described above can be obtained.
  • FIG. 10 is a cross-sectional view of the heat equalizing device according to the fourth embodiment.
  • 11 is a cross-sectional view of the heat equalizer that is orthogonal to the cross section shown in FIG.
  • the heat equalizing device according to the fourth embodiment is different from the heat equalizing device according to the third embodiment in that the upper condensing holes are configured as shown in FIGS. 10 and 11.
  • the condensing hole in the upper part of the heating block 1 is shown with a constant and inclined cross-sectional shape.
  • the upper surface of the condensing hole 10 is horizontal.
  • the bottom surface may be inclined. That is, the upper edge of the condensation hole 10 extends in the horizontal direction, and the lower edge of the condensation hole 10 is inclined in the depth direction.
  • the bottom surface of the condensing hole 10 is inclined, and the liquid working fluid condensed and liquefied inside the condensing hole 10 is returned to the working liquid retaining portion at the bottom of the container structure.
  • the liquid working fluid that collects at the bottom of the condensing hole 10 can be efficiently removed to the outside of the condensing hole 10, and the liquid working fluid film can be thinned.
  • the material to be heated can be heated up to the vicinity of the opening 15 in each of the plurality of risers 14. Therefore, the soaking effect of the material to be heated can be further improved.
  • FIG. 12 is a cross-sectional view of the heat equalizer of the fifth embodiment.
  • 13 is a cross-sectional view of the heat equalizer that is orthogonal to the cross section shown in FIG.
  • the soaking device of the fifth embodiment is different from the soaking device of the fourth embodiment in that the upper condensing holes are configured as shown in FIGS. 12 and 13.
  • the inclination direction of the bottom surface of the condensing hole is shown for each hole in one direction.
  • the inclination direction of the condensing holes 10a and 10b is changed. You may make it arrange
  • the positions of the bottom surfaces of the condensing holes 10a and 10b can be averaged with respect to each riser 14, and the material to be heated flowing inside the riser 14 is opened from the lower end of the riser 14. Since it can heat uniformly in each riser pipe 14 until it reaches the section 15, the material to be heated can be heated more uniformly.
  • FIG. 14 is a cross-sectional view of the heat equalizing apparatus according to the sixth embodiment.
  • 15 is a cross-sectional view of the heat equalizer that is orthogonal to the cross section shown in FIG. 14 and 15 show a heat equalizing device in which a piping system 21 is provided for supplying a material to be heated vaporized by evaporation to a process vessel. A part of the lower part of the piping system 21 is opened so as to be connected to the opening 15 opened on the upper surface of the container structure. The carrier gas flows in the piping system 21 as indicated by the white arrow 20.
  • the piping system 21 is also intended to be heated uniformly. That is, the heat equalizing apparatus according to the sixth embodiment further includes a piping system 21 connected to the opening 15 and a heating facility for heating the piping system 21.
  • Condensation holes 22 are arranged on the wall surface of the piping system 21.
  • An evaporator 23 is installed below the piping system 21 separately from the piping system 21.
  • the piping system 21 and the evaporator 23 are communicated with each other by a steam pipe 24 and a liquid pipe 25 to form a hollow circuit.
  • the hollow circuit is filled with a predetermined amount of the second hydraulic fluid 26 after evacuation.
  • a second heating means 27 is provided below the evaporator 23, a second heating means 27 is provided below the evaporator 23, a second heating means 27 is provided below the evaporator 23, a second heating means 27 is provided below the evaporator 23, a second heating means 27 is provided below the evaporator 23, a second heating means 27 is provided below the evaporator 23, a second heating means 27 is provided below the evaporator 23, a second heating means 27 is provided below the evaporator 23, a second heating means 27 is provided below the evaporator 23, a second heating means 27 is provided below the e
  • the second heating means 27 is provided separately from the heating means 6 described in the first embodiment, the temperature of the piping system 21 and the temperature of the container structure are individually controlled.
  • the method of heating the inner surface of the condensation hole 22 by the second heating means 27 is such that the wall surface of the piping system 21 is uniformly heated by the evaporation and condensation action of the working fluid 26 as in the heating means 6. .
  • the inner wall surface of the piping system 21 can be held by the second heating means 27 so as to be slightly higher than the temperature of the flow path through which the heated material inside the heating block 1 flows. If it does in this way, it can prevent that the to-be-heated material evaporated and vaporized is condensed and liquefied (or condensed and solidified) by the inner surface of the piping system 21.
  • the condensing hole 22 provided in the wall surface of the piping system 21 is shown as a plurality of round holes processed.
  • the condensing hole 22 includes the evaporator 23 and the working fluid.
  • the cross-sectional shape of the condensation hole 22 may be round, square, or polygonal.
  • the passive treatment film containing a metal oxide is formed on the inner surface of the path through which the working fluid flows. Therefore, decomposition and dissociation of the working fluid is prevented from occurring due to the catalytic effect of the metal material constituting the heat equalizing device, for example, stainless steel.
  • An atmospheric pressure ionization mass spectrometer (APIMS, Atmospheric Pressure Ionization Mass Spectroscopy) was used as the analyzer.
  • a sample gas naphthalene vapor diluted and adjusted to a concentration of 300 ppb with Ar gas was supplied at a flow rate of 10 sccm to a stainless steel pipe subjected to various passive treatments.
  • the shape of the stainless steel pipe was 6.35 mm in outer diameter, 4.35 mm in inner diameter, and 1 m in length.
  • stainless steel piping (SUS316L-EP) obtained by electropolishing JIS (Japanese Industrial Standards) SUS316L piping, and stainless steel piping (Cr 2 O 3 -SUS) obtained by subjecting SUS316L piping to Cr 2 O 3 passivation treatment.
  • stainless steel pipe subjected to the Y 2 O 3 coating passivation process piping SUS316L (Y 2 O 3 -SUS ) was prepared as a sample. Samples of these various stainless steel pipes were respectively installed immediately before the APIMS analyzer, and the temperature was raised to 750 ° C. at a rate of 4 ° C./min while supplying naphthalene gas.
  • FIG. 17 is a graph showing the thermal decomposition characteristics of naphthalene due to the catalytic effect of stainless steel.
  • the horizontal axis of FIG. 17 indicates the temperature of the sample surface (unit: ° C.), and the vertical axis indicates the concentration of naphthalene (unit: ppb).
  • FIG. 17 shows the relationship between temperature and naphthalene concentration on the surface of the passivation film of each sample.
  • the decomposition of naphthalene started at 588 ° C. on the Cr 2 O 3 passivated surface and 608 ° C. on the Al 2 O 3 passivated surface. However, in the high temperature region, the decomposition inhibitory effect was observed on the Cr 2 O 3 passivated surface.
  • an example of investigating the decomposition behavior of the material to be heated will be shown.
  • an atmospheric pressure ionization mass spectrometer (APIMS) was used as the analyzer.
  • a sample gas decahydronaphthalene (C 10 H 18 ) vapor diluted with Ar gas to a concentration of 5 ppm was supplied at a flow rate of 5 sccm to a stainless steel pipe subjected to various passive treatments.
  • the shape of the stainless steel pipe was 6.35 mm in outer diameter, 4.35 mm in inner diameter, and 1 m in length.
  • stainless steel piping (SUS316L-EP) obtained by electropolishing JIS (Japanese Industrial Standards) SUS316L piping, and stainless steel piping (Al 2 O 3 -SUS) obtained by subjecting SUS316L piping to Al 2 O 3 passivation treatment.
  • Ni piping were prepared as samples.
  • These various stainless steel pipe samples were installed immediately before the FTIR (Fourier Transform Infrared) analyzer, and while supplying decahydronaphthalene gas, the various metal pipes were raised to 800 ° C at a rate of 2 ° C / min. Warm up.
  • FTIR Fastier Transform Infrared
  • FIG. 18 is a graph showing thermal decomposition characteristics of decahydronaphthalene due to the catalytic effect of stainless steel.
  • the horizontal axis in FIG. 18 indicates the temperature of the sample surface (unit: ° C.), and the vertical axis indicates the concentration of decahydronaphthalene (unit: ppm).
  • FIG. 18 shows the thermal decomposition characteristics of each sample of decahydronaphthalene on the surface of the passive treatment film, measured for the purpose of confirming general thermal decomposition behavior on the metal surface of the organic material. As a result, on the Ni surface, it was confirmed that a concentration decrease accompanying decomposition and dissociation of decahydronaphthalene gas occurred from 150 ° C.
  • decomposition of decahydronaphthalene also started at 200 ° C. on the SUS316L-EP surface.
  • decahydronaphthalene can be supplied stably without being decomposed and dissociated to 550 ° C. on the Al 2 O 3 passive surface.
  • the Al 2 O 3 passive state is taken as an example, but other metal oxides such as Cr 2 O 3 and Y 2 O 3 may be used.
  • the substantially square shape in which the housing portion 2 surrounds the periphery of the heating block 1 has been described.
  • the shapes of the heating block 1 and the housing portion 2 are not limited to a square shape. It may be square or round.
  • the housing part 2 may be separated for each side surface of the heating block 1, and the respective upper ends and lower parts may be joined to the respective side walls of the heating block 1 to form a container structure.
  • heating means 6 and the heating means 27 an electric heater type, an induction heating type, a hot water heating type or a steam heating type may be used, and the heating method is not limited.
  • tube 11 penetrated the side part of the housing part 2 and was joined to the side part of the heating block 1, the material supply pipe
  • FIG. Even if it is a thing, it may reach to the main header pipe 12 via the inside of the flange 3. As long as the material to be heated is supplied to the main header pipe 12 formed inside the heating block 1, any route may be taken.
  • the horizontal direction or the vertical direction Although defined and described, the direction in which the flow path and the condensation path extend may not be strictly parallel to the horizontal direction or the vertical direction but may be inclined. Further, the flow path and the condensing path are not limited to a straight pipe or a straight hole, and may include a pipe or a hole having a bent shape or a curved shape.
  • the present invention can be applied particularly advantageously to a heating apparatus for heating a raw material of a predetermined material accommodated in a container to melt and evaporate the film to form a film of the predetermined material on the substrate surface.

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Abstract

 この均熱装置は、内部に作動流体が充填され、被加熱材料を加熱して気化させる加熱ブロック(1)を有する容器構造体と、容器構造体の底部に配置されている加熱手段(6)と、容器構造体の外側と内側とを連通する材料供給管(11)とを備える。加熱ブロック(1)には、被加熱材料が流動する流路としての、材料供給管(11)に接続され水平方向に延びる主ヘッダ管(12)と、主ヘッダ管(12)から分岐し上下方向へ延びる立上り管(14)とが形成されており、また、作動流体が冷却されて凝縮する凝縮路としての、立上り管(14)の両側に形成され水平方向に延びる凝縮孔(10)と、立上り管(14)の下側に形成された凝縮穴(16)とが形成されている。凝縮孔(10)と凝縮穴(16)との間に主ヘッダ管(12)が配置されている。

Description

均熱装置および有機膜成膜装置
 この発明は、特に有機膜の成膜装置に用いられる均熱装置に関し、容器内に収容した所定材料の原料を加熱するための均熱装置、およびその均熱装置を用いた有機膜成膜装置に関する。
 たとえば従来の有機EL(Electro-Luminescence)の製作において、粉体状の有機EL材料を基板に成膜する際、有機EL原料の蒸発装置としては、蒸発皿の外部をヒータで加熱して蒸発皿内部の有機EL原料を昇華あるいは溶融蒸発させる加熱方式が、一般に使用されている。このような加熱処理に用いられる従来の装置は、たとえば、国際公開第2007/034790号パンフレット(特許文献1)に開示されている。
 図19は、従来の加熱処理に用いられる蒸発容器の側面図である。図20は、従来の加熱処理に用いられる蒸発容器の平面図である。図19および図20に示すように、蒸発容器は、底面と当該底面から立設する側面とを備え、側面の内部に開口された原料収容空間を規定する蒸発皿50と、当該原料収容空間を複数の部分空間に分割する仕切り板52とによって構成されている。また、仕切り板52には、複数の部分空間が蒸発皿の底面側で連通するような高さを有する係止片54が設けられている。
 図21は、従来の仕切り板の変形例を示す模式図である。図21では、この蒸発皿の底面および側面部ならびに仕切り板の内部を加熱する手段として、ヒートパイプ741,761を含むものについて記載されている。
国際公開第2007/034790号パンフレット
 特許文献1に示す従来の加熱装置において、所定材料の原料は蒸発皿底面側の連通部に供給され、蒸発皿の底面、側面ならびに仕切り板部で加熱されて蒸発する。供給される原料が蒸発皿底面側の連通部に貯留されて加熱されるため、底部連通部の一部、特に側面および仕切り板で形成されるコーナ部において、原料の淀みが発生する。淀みが発生すると、蒸発皿の各部において原料を加熱して蒸発させながら新しい原料に連続的に入れ替えることが十分に行なえない。このため、蒸発皿内の原料の各部にわたり均一温度履歴下で加熱・蒸発させることが難しく、原料の蒸発量にばらつきが発生するという問題点があった。
 また、特許文献1に示す従来の加熱装置で仕切り板の内部にヒートパイプが設けられたものについては、ヒートパイプを収容するための仕切り板の厚みを確保する必要がある。ヒートパイプの内部作動液の循環を円滑に行なうためには、このヒートパイプの直径をある程度以上、例えば水を作動液とする場合は7~8mm以上確保することが必要である。これにより仕切り板の厚みが増加し、蒸発皿のサイズが増加して大形化すると共に、加熱装置の熱応答遅れを生じるという問題点があった。
 また、特許文献1に示す従来の加熱装置で、蒸発皿の底面部ならびに側面部を二重構造として、仕切り板の内部に設けられたヒートパイプとこの二重構造部とを連通させた構造のものにおいては、蒸発皿が所要温度に加熱された場合、この二重構造部分には動作温度に応じたヒートパイプの作動液の蒸気圧が内圧として生じる。例えば、水を作動液として200℃で動作を行わせた場合は約1.6MPa、ナフタレンを作動液として400℃で動作を行わせた場合は約1.9MPaの蒸気圧力が発生する。しかしながら、この二重構造部分は、このような高温加熱時の内圧強度を保つ構造となっていないため、高温時に蒸発皿が変形あるいは破損する危険性が生じるという問題点があった。
 この発明は上記のような課題を解決するためになされたものであり、被加熱材料を装置内部の各部において連続的に加熱して、被加熱材料の温度を均一化させて安定した気化を行なわせるとともに、高温においても作動流体の蒸気圧に十分に耐えうる、均熱装置を提供することを目的とする。
 この発明に係る均熱装置は、容器構造体と、加熱手段と、材料供給管とを備える。容器構造体の内部には、作動流体が充填される密閉空間が形成されている。加熱手段は、容器構造体の底部に配置されている。材料供給管は、容器構造体の外側と内側とを連通する。容器構造体は、被加熱材料を加熱して気化させる加熱ブロックと、加熱ブロックを取り囲むハウジング部とを有する。加熱ブロックには、被加熱材料が流動する流路が形成されている。流路は、材料供給管に接続され水平方向に延びる第一流路と、第一流路から分岐し上下方向へ延びる第二流路と、第二流路が容器構造体の上部表面に開口した開口部とを含む。また加熱ブロックには、凝縮路が形成されている。凝縮路において、加熱手段により加熱され蒸発した作動流体は、冷却されて凝縮する。凝縮路は、第二流路の両側に形成され水平方向に延びる上側凝縮孔と、第一流路の下側に形成された下側凝縮穴とを含む。上側凝縮孔と下側凝縮穴との間に、第一流路が配置されている。
 この発明によれば、加熱ブロックに設けられた凝縮路の内壁面において気体状の作動流体が冷却され凝縮する作用により、加熱ブロックが加熱され、加熱された加熱ブロックの温度が均一化されている。そのため、加熱ブロック内の流路を通過する間に加熱される、被加熱材料の温度を均一化させて加熱することができる。また、被加熱材料が流路の入口から出口まで連続して流れるように流路を構成しており、被加熱材料の一部が流路の一部で滞留することがなく、被加熱材料の加熱履歴の均一性を向上できる。また、被加熱材料の流路を小径とすることで、流路の内部を通過する被加熱材料の溶融物の対流を抑制できる。したがって、加熱され気化された被加熱材料の温度の均一性を向上させることができるため、高精度の成膜処理を行なう蒸着装置に適用できる均熱装置が得られる。
実施の形態1の均熱装置の断面図である。 図1に示す断面と直交する、均熱装置の断面図である。 図1および図2に示す均熱装置の上部平面図である。 実施の形態2の均熱装置の断面図である。 図4に示す断面と直交する、均熱装置の断面図である。 実施の形態3の均熱装置の断面図である。 図6に示す断面と直交する、均熱装置の断面図である。 実施の形態3の均熱装置の変形例の断面図である。 図8に示す断面と直交する、均熱装置の断面図である。 実施の形態4の均熱装置の断面図である。 図10に示す断面と直交する、均熱装置の断面図である。 実施の形態5の均熱装置の断面図である。 図12に示す断面と直交する、均熱装置の断面図である。 実施の形態6の均熱装置の断面図である。 図14に示す断面と直交する、均熱装置の断面図である。 実施の形態1の均熱装置の昇温過程における装置各部の温度計測結果を示すグラフである。 ステンレスの触媒効果によるナフタレンの熱分解特性を示すグラフである。 ステンレスの触媒効果によるデカヒドロナフタレンの熱分解特性を示すグラフである。 従来の加熱処理に用いられる蒸発容器の側面図である。 従来の加熱処理に用いられる蒸発容器の平面図である。 従来の仕切り板の変形例を示す模式図である。
符号の説明
 1 加熱ブロック、2 ハウジング部、3 フランジ、4 中空部、5 作動液、6 加熱手段、7 蒸気泡、8,9,17,20 矢印、10,10a,10b 凝縮孔、11 材料供給管、12 主ヘッダ管、13 枝ヘッダ管、14 立上り管、15 開口部、16 凝縮穴、18 カラム、21 配管系、22 凝縮穴、23 蒸発器、24 蒸気管、25 液管、26 第二の作動液、27 第二の加熱手段。
 以下、図面に基づいてこの発明の実施の形態を説明する。なお、以下の図面において同一または相当する部分には同一の参照番号を付し、その説明は繰返さない。
 なお、以下に説明する実施の形態において、各々の構成要素は、特に記載がある場合を除き、本発明にとって必ずしも必須のものではない。また、以下の実施の形態において、個数、量などに言及する場合、特に記載がある場合を除き、上記個数などは例示であり、本発明の範囲は必ずしもその個数、量などに限定されない。
 (実施の形態1)
 図1は、実施の形態1の均熱装置の断面図である。図2は、図1に示す断面と直交する、均熱装置の断面図である。図3は、図1および図2に示す均熱装置の上部平面図である。以下の実施の形態において、水平方向とは、均熱装置の断面図における左右方向をいい、上下方向とはこれらの図における上下方向をいうものとする。
 図1~図3に示すように、均熱装置は、加熱ブロック1と、加熱ブロック1の周囲を取り囲むように配置されたハウジング部2とを備える。また均熱装置は、フランジ3を備える。加熱ブロック1およびハウジング部2は、それぞれの上端部でフランジ3と接合され、またそれぞれの下部が接合されて、密閉空間である中空部4が内部に形成されている容器構造体を形成している。容器構造体は、加熱ブロック1とハウジング部2とを有する。
 加熱ブロック1の上部には、加熱ブロック1を貫通して水平方向に延びる、凝縮孔10a,10bが形成されている。凝縮孔10a,10bは、孔の径方向に沿う断面の形状が円形状の丸穴であり、深さ方向が直線に沿う直穴である。凝縮孔10a,10bの深さ方向は、水平方向に沿っている。図2に示すように、凝縮孔10a,10bは、それぞれ複数形成されている。凝縮孔10a,10bの両端は、中空部4に向かって開口している。凝縮孔10a,10bは、図1に示す容器構造体内部右側および左側の中空部4,4を連通するように、形成されている。
 中空部4の内部には、液体状の作動流体である作動液5が充填されている。作動流体は、熱源である加熱手段6と加熱ブロック1との間で熱を移動させ、加熱ブロック1を加熱して目的の温度に制御するために使用される熱媒体である。作動液5は、使用温度における熱特性および動作圧力(蒸気圧)を考慮の上で選定されるが、200℃以下程度の領域では水が、さらに高温の200℃超400℃以下程度の領域ではダウサム(登録商標)A、ナフタレンなどの高沸点の有機熱媒体が一般に使用される。
 作動液5は、中空部4の内部を真空排気した後に、中空部4に充填される。そのため、中空部4の内部には、作動液5が気化した気体状の作動流体が存在する。加熱ブロック1とハウジング部2とを隔てるように中空部4が形成されているために、加熱ブロック1から装置外部へ熱が放散されにくい構造となっている。
 容器構造体の底部には、作動液5を加熱する加熱手段6が配置されている。加熱手段6は、加熱ブロック1の下部表面に、熱的に接触して取り付けられている。つまり、加熱手段6において発生する熱を、加熱ブロック1の底部を介在させて作動液5に十分効率的に伝えることが可能である。
 加熱手段6の加熱により、作動液5の内部には蒸気泡7が発生する。加熱手段6により加熱され蒸発した気体状の作動流体の一部は、矢印8に示すように、作動液5の液面から凝縮孔10a,10bの内部へ移動する。凝縮孔10a,10bの内部へ移動した気体状の作動流体は、凝縮孔10a,10bの内壁面に熱を伝えることにより冷却されて、凝縮液化する。凝縮した液体状の作動流体は、矢印9に示すように、容器構造体の底部の作動液滞留部に戻される。図1に示す破線矢印8は気体状の作動流体の流れを示し、実線矢印9は液体状の作動流体の流れを示す。
 均熱装置はまた、容器構造体の外側と内側とを連通する、材料供給管11を備える。材料供給管11は、容器構造体の外部から導入されており、加熱ブロック1の一側面に接合されている。この均熱装置によって加熱され気化される材料である被加熱材料は、材料供給管11を経由して、均熱装置内に供給される。被加熱材料が管状の材料供給管11を通過するためには、被加熱材料は流動体である必要がある。気化されるべき材料が常温で固体の材料である場合には、材料を加熱溶融させる、または破砕して粉末化した材料を液体に混ぜ合わせスラリーとする、などの方法を用いて、材料の流動性を向上させることにより、材料供給管11内を通過させることができる。
 加熱ブロック1の内部には、材料供給管11に接続され水平方向に延びる主ヘッダ管12と、主ヘッダ管12から分岐し水平方向に延びる複数の枝ヘッダ管13と、枝ヘッダ管13から分岐し上下方向へ延びる複数の立上り管14とが形成されている。主ヘッダ管12、枝ヘッダ管13および立上り管14は、管状の部材である。立上り管14の上端部は、加熱ブロック1の上部表面へ開口し、開口部15を形成する。主ヘッダ管12、枝ヘッダ管13、立上り管14および開口部15は、被加熱材料が流動する流路に含まれる。
 加熱ブロック1の内部の、被加熱材料の流路が形成されている部分の下側には、複数の凝縮穴16が形成されている。複数の凝縮穴16は、上下方向に延びている。凝縮穴16の深さ方向は、上下方向に沿っている。凝縮穴16は、主ヘッダ管12、枝ヘッダ管13および立上り管14の下側に形成されている。凝縮穴16と中空部4とは連通するように形成されており、作動液5は中空部4の内部と凝縮穴16の内部とを自由に流動可能である。
 凝縮穴16の平面形状はどのような形状でもよく、たとえば矩形状や円形状とすることができる。凝縮穴16はどのように配置されていてもよく、作動液5の貯留機能を有するとともに、加熱手段6からの熱が加熱ブロック1の上部に設けられた被加熱材料の流路に伝熱する影響を最小にするように、設計されたものであればよい。
 加熱手段6により加熱され蒸発した気体状の作動流体の一部は、矢印8に示すように、作動液5の液面から凝縮穴16の内部へ移動する。凝縮穴16の内部へ移動した気体状の作動流体は、凝縮穴16の内壁面に熱を伝えることにより冷却されて、凝縮液化する。凝縮した液体状の作動流体は、矢印9に示すように、容器構造体の底部の作動液滞留部に戻される。
 凝縮孔10a,10bは、立上り管14に干渉しないように、立上り管14の間を縫って形成されている。凝縮孔10a,10bは、立上り管14の間に、被加熱材料の流路から隔てられて形成されている。図2に示すように、隣接する凝縮孔10aが立上り管14を挟むように立上り管14の両側に形成され、隣接する凝縮孔10bが立上り管14を挟むように立上り管14の両側に形成されている。また、主ヘッダ管12および枝ヘッダ管13は、凝縮孔10bと凝縮穴16との間に、凝縮孔10bおよび凝縮穴16によって挟まれるように、配置されている。
 以下、均熱装置の動作について説明する。上記のように構成された実施の形態1の均熱装置において、加熱ブロック1の下部に設置された加熱手段6の発熱により、加熱ブロック1が加熱される。加熱ブロック1が加熱されると、容器構造体の底部の作動液滞留部、すなわち、加熱ブロック1とハウジング部2との間に形成される中空部4の底部および加熱ブロック1の下部に形成された凝縮穴16の下部に滞留する、作動液5が加熱される。
 作動液5が加熱されて蒸発すると、作動液5の内部に蒸気泡7が発生する。加熱手段6により加熱され蒸発して気体状となった作動流体の一部は、破線矢印8に示すように、作動液5の液面から凝縮孔10a,10bの内部へ移動する。凝縮孔10a,10bの内部へ移動した気体状の作動流体は、凝縮孔10a,10bの内壁面に熱を伝えることにより冷却されて、凝縮液化する。凝縮して液体状となった作動流体は、実線矢印9に示すように、容器構造体の底部の作動液滞留部に自然還流する。
 また、気体状の作動流体の一部は、矢印8に示すように、作動液5の液面から凝縮穴16の内部へ移動する。凝縮穴16の内部へ移動した気体状の作動流体は、凝縮穴16の内壁面、特に凝縮穴16の最深部である上面を加熱することにより冷却されて、凝縮液化する。凝縮した液体状の作動流体は、矢印9に示すように、同様に容器構造体の底部の作動液滞留部に自然還流する。
 このようにして、加熱ブロック1に設けられた凝縮孔10a,10bおよび凝縮穴16の内側表面は、作動流体の蒸発、凝縮作用により加熱される。
 一方、所定材料の被加熱材料は、白抜き矢印17に示すように、容器構造体の外部から材料供給管11を経由して加熱ブロック1に至り、加熱ブロック1に形成された主ヘッダ管12から枝ヘッダ管13を経由して立上り管14に順次圧送される。被加熱材料は、加熱ブロック1の内部を通過するうちに、加熱ブロック1の内部に設けられた凝縮孔10a、10bおよび凝縮穴16の壁面から加熱される。つまり、材料供給管11を経由して加熱ブロック1の内部へ供給される被加熱材料は、加熱手段6により作動液5が加熱され蒸発した気体状の作動流体と、熱交換することにより加熱される。
 このとき、主ヘッダ管12および枝ヘッダ管13は、凝縮孔10bと凝縮穴16との間に配置されている。被加熱材料は、主ヘッダ管12および枝ヘッダ管13の内部を流れるとき、上側に形成されている凝縮孔10bから伝熱される。被加熱材料は同時に、主ヘッダ管12および枝ヘッダ管13の下側に形成され、主ヘッダ管12および枝ヘッダ管13の長手方向全体に渡って設けられている、凝縮穴16から伝熱される。また、立上り管14は、隣接する2つの凝縮孔10aと、隣接する2つの凝縮孔10bとの間に形成されている。被加熱材料は、立上り管14の内部を流れるとき、左右両側に形成されている凝縮孔10a,10bから伝熱される。
 加熱ブロック1に形成された流路を流動する被加熱材料は、流路を挟むように形成されている、2つの凝縮路から伝熱される。流路を流動する被加熱材料は、逆向きの2方向から加熱される。被加熱材料が複数の方向から熱を受けるので、流路の内部を流動する被加熱材料に温度差が発生することが抑制される。つまり、被加熱材料の温度の均一性を向上させることができる。
 主ヘッダ管12内の被加熱材料の流速が枝ヘッダ管13内の被加熱材料の流速に対して十分小さくなるように、かつ、枝ヘッダ管13内の被加熱材料の流速が立上り管14内の被加熱材料の流速に対して十分小さくなるように、主ヘッダ管12、枝ヘッダ管13および立上り管14の内径が選定されている。そのため、主ヘッダ管12から分岐して流れる被加熱材料は、複数の枝ヘッダ管13へ均等に流入し、同様に複数の立上り管14へ均等に流入する。つまり、被加熱材料は所定の流路を一定の流れ状態で移動するので、被加熱材料が流路内の特定の一部分に滞留して温度履歴が流路内の各位置で異なるような現象を生じることなく、被加熱材料の温度履歴を均一化し、加熱後の被加熱材料の温度の均一性を向上させることができる。
 また、立上り管14を内径2~3mm程度の小径孔を有する管で構成すれば、立上り管14の内部で被加熱材料の溶融物に対流が発生せず、立上り管14の内部で被加熱材料の温度むらが発生しないので、被加熱材料の温度をより均一化することができる。
 加熱ブロック1の内部において、被加熱材料が沸点に近い温度に加熱されると、被加熱材料は蒸発して気化される。気体状の被加熱材料は、開口部15を経由して加熱ブロック1の外部へ流出する。このようにして、温度分布が抑制され均熱化された、気体状の被加熱材料を得ることができる。
 なお、加熱ブロック1の下部に形成される凝縮穴16により、加熱ブロック1の下部にはカラム18が形成されており、作動液5の蒸発による容器構造体内部の蒸気圧発生に十分耐える構造とすることが可能となっている。このカラム18により、加熱手段6から加熱ブロック1の上部への熱伝導が生じるが、加熱手段6に加えられた熱はまた、加熱ブロック1の下部に形成したカラム18の周囲の凝縮穴16で作動液5を蒸発させながら加熱ブロック1の上部に伝達される。そして、カラム18の上部温度すなわち被加熱材料の流路の温度を、凝縮穴16の上面における作動流体の温度とほぼ同しい温度まで低下させるように、凝縮穴16およびカラム18が設計されている。
 以上説明したように、実施の形態1の均熱装置は、容器構造体と、加熱手段6と、材料供給管11とを備える。容器構造体の内部には、作動流体が充填される中空部4が形成されている。容器構造体は、被加熱材料を加熱して気化させる加熱ブロック1と、加熱ブロック1を取り囲むハウジング部2とを有する。加熱手段6は、加熱ブロック1の底部に配置されている。材料供給管11は、容器構造体の外側と内側とを連通する。
 加熱ブロック1には、被加熱材料が流動する流路が形成されている。流路は、材料供給管11に接続され水平方向に延びる第一流路としての主ヘッダ管12と、第一流路から分岐し上下方向へ延びる第二流路としての立上り管14と、第二流路が加熱ブロック1の上部表面に開口した開口部15とを含む。
 また加熱ブロック1には、凝縮路が形成されている。凝縮路において、加熱手段6により加熱され蒸発した作動流体は、冷却されて凝縮する。凝縮路は、立上り管14の両側に形成され水平方向に延びる上側凝縮孔としての凝縮孔10a,10bと、立上り管14の下側に形成された下側凝縮穴としての凝縮穴16とを含む。凝縮孔10bと凝縮穴16との間に、主ヘッダ管12が配置されている。
 このようにすれば、加熱ブロック1に設けられた凝縮孔10a,10bおよび凝縮穴16の内壁面において作動流体が凝縮する作用により、加熱ブロック1が加熱され、加熱された加熱ブロック1の温度の均一性が向上されている。そのため、加熱ブロック1内の流路を通過する間に加熱される被加熱材料の、加熱後の温度を均一化させることができる。また、材料供給管11と主ヘッダ管12との接続部から開口部15まで、被加熱材料が連続して流れるように流路が構成されており、被加熱材料の一部が流路の一部で滞留することがなく、被加熱材料の加熱履歴の均一性を向上できる。また、立上り管14を小径のものとすることで、立上り管14の内部を通過する被加熱材料の溶融物の対流を抑制でき、加熱され気化された被加熱材料の温度の均一性をより向上させることができる。
 また、下側凝縮穴としての凝縮穴16は、主ヘッダ管12および枝ヘッダ管13の長手方向全体に渡って、設けられている。このようにすれば、主ヘッダ管12および枝ヘッダ管13の長手方向全体において、上側の凝縮孔10a,10bからの熱伝達に加えて、下側の凝縮穴16からも被加熱材料へ熱を伝えることができるので、被加熱材料の温度の均一性を一層向上させることができる。
 したがって、実施の形態1の均熱装置によると、被加熱材料を加熱する流路の内壁面の温度を±1℃以内の温度分布に管理することができ、被加熱材料の気化量を高精度に制御できるので、高精度の成膜処理を行なう蒸着装置に適用できる蒸発源が得られる。
 さらに、加熱ブロック1に形成された多数の小径孔である主ヘッダ管12、枝ヘッダ管13および立上り管14に被加熱材料を分散させて加熱することにより、伝熱面の面積が増大し、被加熱材料を大きな表面積で加熱することができる。そのため、加熱効率が高くなり、昇温時の熱応答性が大きく改善されるとともに、昇温時の熱エネルギーを最小にすることができるので、熱伝達効率を向上させ省エネルギーに適した均熱装置が得られる。
 以上説明した実施の形態1の均熱装置の均熱加熱効果は、均熱装置の昇温過程における温度測定により確認されている。図16は、実施の形態1の均熱装置の昇温過程における装置各部の温度計測結果を示すグラフである。図16において、横軸は昇温開始時点からの経過時間(単位:分)、縦軸は温度(単位:℃)を示す。図16は、実施の形態1において、水を作動液5とした場合の、加熱手段6の近傍、枝ヘッダ管13の近傍および開口部15における、温度上昇曲線を示したものである。
 図16に示すように、加熱手段6の近傍の温度(ヒータ近傍温度)は、他よりも高くなっている。一方、被加熱材料の出口部にあたる加熱ブロック1の上部表面の開口部15の温度(加熱孔表面温度)と、被加熱材料の流路である枝ヘッダ管13近傍の温度(原料回路近傍温度)とは、ほぼ同じ温度で上昇している。つまり被加熱材料は、温度がきわめて均一化された状態を保ちながら、温度上昇していることがわかる。
 また、温度安定時に至る温度制御性も良好で、実施の形態1における均熱装置の構成の有効性が確認できている。この例では、開口部15における定常時の温度分布は±0.5℃以下であった。また、図16に示す例では、常温から約200℃への温度上昇に要する時間は0.5時間程度であり、短時間での温度立ち上がり特性を有している。
 (実施の形態2)
 図4は、実施の形態2の均熱装置の断面図である。図5は、図4に示す断面と直交する、均熱装置の断面図である。実施の形態2の均熱装置は、実施の形態1の均熱装置と比較して、上側凝縮孔が図4および図5に示すような構成となっている点で異なっている。
 具体的には、実施の形態1では、加熱ブロック1の上部の凝縮孔10a,10bとして丸穴が形成された例を述べたが、図4および図5に示すように、上側凝縮孔としての凝縮孔10の断面形状を縦長の(すなわち上下方向に長辺が形成されている)矩形としてもよい。このようにすると、凝縮孔10の内部で冷却されて凝縮液化した液体状の作動流体は、凝縮孔10の断面の長方形における頂点付近のコーナ部に、毛管力により集合する。そのため、凝縮孔10の内部が液体状の作動流体で閉塞することを抑制でき、作動液の蒸気の空間が確実に確保される。また、凝縮孔10の平面部に付着する液体状の作動流体の膜厚を減少させることができるので、凝縮孔10の表面温度分布が改善される。
 また、図5に示すように、凝縮孔10を立上り管14に沿って延在させた構成となっている。凝縮孔10は、立上り管14の延在方向に沿って延びている。このようにすれば、凝縮孔10の表面から被加熱材料が流れる立上り管14までの伝熱距離を、立上り管14の延びる方向に一様化することができる。したがって、立上り管14の内部を流れる被加熱材料を、立上り管14の下端部から開口部15にわたって、温度がより均一化するように加熱することが出来る。
 また、凝縮孔10を縦長の長方形形状とすることで、立上り管14の配置間隔を縮小できる。そのため、図5に示すように立上り管14の本数を図2に示す凝縮孔が丸穴の場合に比べて増加させて、立上り管14の開口面積を増加させることができるので、被加熱材料の蒸発の効率を向上させることができる。また、立上り管14の全表面積を一定とする場合は、凝縮孔10の断面形状を丸形から長方形とすることで、加熱ブロック1の幅方向のサイズを小さくすることができ、装置を小形化できるので、熱応答性を向上できるとともに、放熱表面積を低減させた省エネルギー構造の均熱装置が得られる。
 例えば、作動流体を水とした場合、丸穴の凝縮孔10の直径は7~8mm程度必要であるが、凝縮孔の断面を縦長の長方形状とすると、凝縮孔10の幅寸法(すなわち短辺の長さ)を3~4mm程度に低減することが可能であるので、立上り管14の配置ピッチを約30%低減することが可能となる。
 (実施の形態3)
 図6は、実施の形態3の均熱装置の断面図である。図7は、図6に示す断面と直交する、均熱装置の断面図である。実施の形態3の均熱装置は、実施の形態1の均熱装置と比較して、上側凝縮孔が図6および図7に示すような構成となっている点で異なっている。
 具体的には、実施の形態1では、加熱ブロック1の上部の凝縮孔10a,10bが水平方向に延びる例を述べたが、図6および図7に示すように、上側凝縮孔としての凝縮孔10a,10bの深さ方向の一方側を相対的に高く、他方側を相対的に低く配置して、水平方向に対して深さ方向に傾斜している傾斜孔とするようにしてもよい。
 このようにすれば、被加熱材料と熱交換して冷却され凝縮した液体状の作動流体は、凝縮孔10a,10bの傾斜した底面に沿って流れる。そのため、液体状の作動流体を、凝縮孔10a,10bから速やかに、容器構造体底部の作動液滞留部に自然還流させることができる。したがって、凝縮孔10a,10bの内面に滞留する液体状の作動流体の膜厚をさらに薄くでき、凝縮孔10a,10bの全面にわたる均温化をさらに向上できるので、立上り管14の内部を流れる被加熱材料の温度を、より均一化させることができる。
 図8は、実施の形態3の均熱装置の変形例の断面図である。図9は、図8に示す断面と直交する、均熱装置の断面図である。図8および図9に示すように、断面形状が縦型の矩形である凝縮孔10の深さ方向の一方側を相対的に高く、他方側を相対的に低く配置して、水平方向に対して深さ方向に傾斜している傾斜孔としても、上記と同様の効果を得ることができる。
 (実施の形態4)
 図10は、実施の形態4の均熱装置の断面図である。図11は、図10に示す断面と直交する、均熱装置の断面図である。実施の形態4の均熱装置は、実施の形態3の均熱装置と比較して、上側凝縮孔が図10および図11に示すような構成となっている点で異なっている。
 具体的には、実施の形態3では、加熱ブロック1の上部の凝縮孔の断面形状が一定で傾斜したものについて示したが、図10および図11に示すように、凝縮孔10の上面が水平で、底面が傾斜したものとしてもよい。つまり、凝縮孔10の上縁は水平方向に延びており、凝縮孔10の下縁は深さ方向に傾斜している。凝縮孔10の底面は傾斜しており、凝縮孔10の内部で凝縮液化した液体状の作動流体は、容器構造体の底部の作動液滞留部に戻される構成とされている。
 このようにすれば、凝縮孔10の底部に集合する液体状の作動流体を、凝縮孔10の外部へ効率よく排除して、液体状の作動流体の液膜を薄膜化させることができる。また、被加熱材料を、複数の立上り管14のそれぞれの内部において、開口部15付近に至るまで加熱することができる。したがって、被加熱材料の均熱加熱効果をさらに向上させることができる。
 (実施の形態5)
 図12は、実施の形態5の均熱装置の断面図である。図13は、図12に示す断面と直交する、均熱装置の断面図である。実施の形態5の均熱装置は、実施の形態4の均熱装置と比較して、上側凝縮孔が図12および図13に示すような構成となっている点で異なっている。
 具体的には、実施の形態4では、凝縮孔の底面の傾斜方向が各穴とも一方向のものについて示したが、図12および図13に示すように、凝縮孔10a,10bの傾斜方向を互いに異なる方向に配置するようにしてもよい。つまり、凝縮孔10aの底面が深さ方向に傾斜する角度と、凝縮孔10bの底面が深さ方向に傾斜する角度とは、水平方向に対する角度の正負が逆になっている。その結果、凝縮孔10a,10bの、立上り管14の両側に位置する部分は、上下方向にずれている。
 このようにすれば、凝縮孔10a,10bの底面側の位置を各立上り管14に対して平均化することができ、立上り管14の内部を流れる被加熱材料を立上り管14の下端部から開口部15に至るまで、それぞれの立上り管14内で一様に加熱することができるので、被加熱材料をより均熱に加熱することができる。
 (実施の形態6)
 図14は、実施の形態6の均熱装置の断面図である。図15は、図14に示す断面と直交する、均熱装置の断面図である。図14および図15では、蒸発により気化した被加熱材料をプロセス容器に供給するための、配管系21が配置された均熱装置を示す。配管系21の下部の一部は、容器構造体の上部表面に開口した開口部15に連結されるように、開口している。キャリアガスは、白抜き矢印20に示すように、配管系21の内部を流れる。
 配管系21の内壁面の表面温度が、加熱ブロック1の温度よりも低い場合、加熱ブロック1で加熱された被加熱材料が配管系21の内表面に凝縮付着するという現象が生じる。そこで、実施の形態6では、配管系21についても均熱に加熱することを目的としたものである。つまり、実施の形態6の均熱装置は、開口部15に連結された配管系21と、配管系21を加熱する加熱設備とをさらに備えている。
 図14および図15を参照して、加熱設備の例について説明する。配管系21の壁面に、凝縮穴22が配置されている。配管系21の外部下方に、配管系21とは別置きで、蒸発器23が設置されている。配管系21と蒸発器23との間は蒸気管24および液管25により連通されて、中空回路が形成されている。この中空回路の内部には、真空排気後に所定量の第二の作動液26が充填されている。蒸発器23の下部には、第二の加熱手段27が設けられている。
 実施の形態1で説明した加熱手段6とは別に、第二の加熱手段27が設けられているために、配管系21の温度と容器構造体の温度とは、個別に制御される。第二の加熱手段27により凝縮穴22の内面を加熱する方法は、加熱手段6と同様に、作動液26の蒸発および凝縮作用により配管系21の壁面を均一に加熱するようにしたものである。
 この場合、第二の加熱手段27により、加熱ブロック1の内部の被加熱材料が流通する流路の温度よりも若干高温となるように、配管系21の内壁面を保持することができる。このようにすると、蒸発、気化した被加熱材料が配管系21の内面で凝縮し液化する(または凝結し固化する)ことを防止できる。なお、図14および図15に示す例では、配管系21の壁面内に設けた凝縮穴22として複数個の丸穴を加工したものについて示したが、この凝縮穴22は蒸発器23と作動液が連通する中空回路として形成されるものであればよく、凝縮穴22の断面形状は丸形あるいは角形もしくは多角形であってもよい。
 (実施の形態7)
 上記の一連の実施例においては、容器構造体内部での作動流体の蒸発および凝縮により、加熱手段6から加熱ブロック1への熱輸送が行なわれて、被加熱材料が加熱される。たとえばナフタレン(C10)を作動流体として使用することができる。この場合、ナフタレンが接触している面のステンレスの触媒効果により、ナフタレンが分解解離すると、水素が発生する。この水素ガスが、気体状の作動流体が凝縮する面に不凝縮ガスとなって存在すると、ナフタレンの蒸気が凝縮する際の熱伝達を阻害して均熱性の維持が困難となる。
 実施の形態7では、作動流体の流れる経路の内表面に、金属酸化物を含む不働態処理皮膜が形成されている。そのため、均熱装置を構成している金属材料、例えばステンレスの触媒効果により、作動流体の分解解離が発生しないようにされている。
 以下、このような作動流体の分解挙動を調査した一例を示す。分析装置には大気圧イオン化質量分析装置(APIMS、Atmospheric Pressure Ionization Mass Spectroscopy)を用いた。試料ガスとして、Arガスで300ppbの濃度に希釈調整したナフタレン蒸気を、10sccmの流量で、各種不働態処理を施したステンレス配管に供給した。
 またステンレス配管の形状は、外径6.35mm、内径4.35mm、長さ1mとした。材質に関しては、JIS(日本工業規格)SUS316Lの配管を電界研磨処理したステンレス配管(SUS316L-EP)、SUS316Lの配管にCr不働態処理を施したステンレス配管(Cr-SUS)、SUS316Lの配管にAl不働態処理を施したステンレス配管(Al-SUS)、SUS316Lの配管にYコート不働態処理を施したステンレス配管(Y-SUS)を、試料として準備した。これらの各種ステンレス配管の試料を、それぞれAPIMS分析装置直前に設置して、ナフタレンガスを供給しながら、4℃/minの昇温速度で750℃まで昇温した。
 図17は、ステンレスの触媒効果によるナフタレンの熱分解特性を示すグラフである。図17の横軸は試料表面の温度(単位:℃)、縦軸はナフタレンの濃度(単位:ppb)を示す。図17は各試料の不働態処理皮膜の表面における、温度とナフタレン濃度との関係を示したものである。その結果、SUS316L-EP表面においては、312℃からナフタレンガスの分解解離に伴う濃度減少が発生することが確認された。続いてYコート不働態表面では、500℃からナフタレンの分解が始まった。Cr不働態表面では588℃、Al不働態表面では608℃でナフタレンの分解が始まったが、さらに高温領域ではCr不働態表面に分解抑制効果が認められた。
 図17から明らかなように、350~450℃の温度域でナフタレンを作動流体とした均熱装置を動作させる場合、作動流体と接する装置の表面がステンレスの無処理表面であると、ステンレス表面の触媒効果により作動流体の熱分解が生じることになる。そこで、作動流体と接する装置の表面に、金属酸化物からなる表面不働態処理を施すことが、安定に均熱装置を動作させるために必須の条件となる。このような不働態処理方法としては、たとえばYコート不働態処理、さらにはAl不働態処理、Cr不働態処理が好適と考えられる。
 (実施の形態8)
 上記の一連の実施例において、所定の被加熱材料が、加熱ブロック1の内部に形成された流路を流通するときに、流路の内壁面から伝熱されて加熱される。加熱された被加熱材料が分解解離してしまうと、目的の有機原料を所定の濃度で供給することが困難となり、要求している性能を持たせることができなくなる。実施の形態8では、これらの流路を構成する金属材料の触媒効果により被加熱材料が分解されないように、被加熱材料の流れる経路の表面に金属酸化物を含む不働態処理皮膜を形成していることを特徴としている。
 以下、被加熱材料の分解挙動を調査した一例を示す。分析装置は実施の形態7と同様に大気圧イオン化質量分析装置(APIMS)を用いた。試料ガスとしては、Arガスで5ppmの濃度に希釈調整したデカヒドロナフタレン(C1018)蒸気を、5sccmの流量で、各種不働態処理を施したステンレス配管に供給した。
 またステンレス配管の形状は、外径6.35mm、内径4.35mm、長さ1mとした。材質に関しては、JIS(日本工業規格)SUS316Lの配管を電界研磨処理したステンレス配管(SUS316L-EP)、SUS316Lの配管にAl不働態処理を施したステンレス配管(Al-SUS)、およびNi配管を、試料として準備した。これらの各種ステンレス配管の試料を、それぞれFTIR(Fourier Transform Infrared)分析装置直前に設置して、デカヒドロナフタレンガスを供給しながら、各種金属配管を2℃/minの昇温速度で800℃まで昇温した。
 図18は、ステンレスの触媒効果によるデカヒドロナフタレンの熱分解特性を示すグラフである。図18の横軸は試料表面の温度(単位:℃)、縦軸はデカヒドロナフタレンの濃度(単位:ppm)を示す。図18には、有機物材料の金属表面での一般的な熱分解挙動の確認の目的で測定した、デカヒドロナフタレンの各試料の不働態処理皮膜表面での熱分解特性を示す。その結果、Ni表面に於いては、150℃からデカヒドロナフタレンガスの分解解離に伴う濃度減少が発生することが確認された。さらにSUS316L-EP表面も200℃からデカヒドロナフタレンの分解が始まった。これに対して、Al不働態表面では550℃まで分解解離させることなく安定にデカヒドロナフタレンを供給可能なことが確認された。
 所定の濃度の有機原料を供給するために、気化容器の温度を上げる必要があるが、図18から明らかなように、通常のステンレス表面やNiといった表面では、金属特有の触媒効果により、有機原料自身が分解してしまう。また、気化容器内での反応生成物の堆積やそれに伴う流路の目詰まりといったトラブルの原因ともなる。
 そのため、金属酸化物からなる表面不働態処理を有機原料の充填ライン内表面に施すことが、安定に有機原料を気化供給するために、非常に重要な技術となる。なおここではAl不働態を例に挙げたが、CrやYなどのその他の金属酸化物であってもかまわない。
 上記の一連の実施の形態では、ハウジング部2が加熱ブロック1の周囲を囲む略四角形状のものについて説明したが、加熱ブロック1およびハウジング部2の形状は四角形に限定されるものではなく、多角形であっても丸形であってもよい。また、ハウジング部2を加熱ブロック1の各側面毎に分離して、それぞれの上端部および下部を加熱ブロック1の各側壁に接合して、容器構造としたものであってもかまわない。
 また、加熱手段6および加熱手段27としては、電気ヒータ式、誘導加熱式、温水加熱式または蒸気加熱式などを用いてもよく、加熱方式を限定するものでは無い。
 また、材料供給管11がハウジング部2の側面部を貫通して加熱ブロック1の側面部に接合される例を示したが、材料供給管11は加熱ブロック1の下面から主ヘッダ管12に至るものであっても、フランジ3の中を経由して主ヘッダ管12に至るものであってもよい。被加熱材料が加熱ブロック1の内部に形成される主ヘッダ管12に供給されるものであれば、どのような経路をとってもよい。
 また、被加熱材料の流路に含まれる主ヘッダ管12、枝ヘッダ管13および立上り管14、ならびに、凝縮路に含まれる凝縮孔10および凝縮穴16の延びる方向に関し、水平方向または上下方向と規定して説明したが、流路および凝縮路の延びる方向が水平方向または上下方向に対して厳密に平行でなく、傾斜していてもかまわない。また、流路および凝縮路は、直管または直穴に限られず、屈曲形状や曲線形状を有する管または穴を含んでいてもよい。
 以上のように本発明の実施の形態について説明を行なったが、各実施の形態の構成を適宜組合せてもよい。また、今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。この発明の範囲は上記した説明ではなくて請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味、および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
 この発明は、容器内に収容した所定材料の原料を加熱し、溶融蒸発させて、基板表面に所定材料の成膜処理をおこなうための加熱装置に、特に有利に適用され得る。

Claims (9)

  1.  作動流体が充填される密閉空間が内部に形成されている容器構造体と、
     前記容器構造体の底部に配置された加熱手段(6)と、
     前記容器構造体の外側と内側とを連通する材料供給管(11)とを備え、
     前記容器構造体は、被加熱材料を加熱して気化させる加熱ブロック(1)と、前記加熱ブロック(1)を取り囲むハウジング部(2)とを有し、
     前記加熱ブロック(1)には、被加熱材料が流動する流路と、前記加熱手段(6)により加熱され蒸発した作動流体が冷却されて凝縮する凝縮路とが形成されており、
     前記流路は、前記材料供給管(11)に接続され水平方向に延びる第一流路(12,13)と、前記第一流路(12,13)から分岐し上下方向へ延びる第二流路(14)と、前記第二流路(14)が前記容器構造体の上部表面に開口した開口部(15)とを含み、
     前記凝縮路は、前記第二流路(14)の両側に形成され水平方向に延びる上側凝縮孔(10)と、前記第一流路(12,13)の下側に形成された下側凝縮穴(16)とを含み、
     前記上側凝縮孔(10)と前記下側凝縮穴(16)との間に前記第一流路(12,13)を配置した、均熱装置。
  2.  前記下側凝縮穴(16)を、前記第一流路(12,13)の全体に渡って設ける、請求の範囲第1項に記載の均熱装置。
  3.  前記上側凝縮孔(10)を前記第二流路(14)に沿って延在させた、請求の範囲第1項または第2項に記載の均熱装置。
  4.  前記上側凝縮孔(10)の底面を傾斜させ、前記作動流体を前記容器構造体の底部に戻すようにした、請求の範囲第1項に記載の均熱装置。
  5.  前記上側凝縮孔(10)の天井面を水平にした、請求の範囲第4項に記載の均熱装置。
  6.  前記第二流路(14)の両側に位置する隣り合う前記上側凝縮孔(10)の底面を、互いに異なる傾斜方向に傾斜させた、請求の範囲第4項または第5項に記載の均熱装置。
  7.  前記開口部(15)に連結された配管系(21)と、
     前記配管系(21)を加熱する加熱設備とをさらに備え、
     前記配管系(21)の温度と前記容器構造体の温度とは、個別に制御される、請求の範囲第1項または第2項に記載の均熱装置。
  8.  前記作動流体の流れる経路、および、前記被加熱材料の流れる経路の、少なくともいずれか一方に、金属酸化物を含む不働態処理皮膜が形成されている、請求の範囲第1項または第2項に記載の均熱装置。
  9.  請求の範囲第1項または第2項に記載の均熱装置を用いた有機膜成膜装置。
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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101196564B1 (ko) * 2008-04-11 2012-11-01 도시바 미쓰비시덴키 산교시스템 가부시키가이샤 균열 장치
GB2504731B (en) * 2012-08-08 2015-03-25 Reckitt & Colman Overseas Device for evaporating a volatile fluid
GB2504733B (en) * 2012-08-08 2015-05-20 Reckitt & Colman Overseas Device for evaporating a volatile material
KR102077803B1 (ko) * 2013-05-21 2020-02-17 삼성디스플레이 주식회사 증착원 및 유기층 증착 장치
US9857027B2 (en) * 2014-07-03 2018-01-02 Applied Materials, Inc. Apparatus and method for self-regulating fluid chemical delivery
EP3441757A1 (en) * 2017-08-10 2019-02-13 Mettler-Toledo GmbH Oven insulation arrangement
CN111170388A (zh) * 2018-11-13 2020-05-19 上海景峰制药有限公司 一种水中有机溶剂蒸发装置
KR20210134226A (ko) * 2020-04-29 2021-11-09 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 고체 소스 전구체 용기

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02164401A (ja) * 1988-12-16 1990-06-25 Ulvac Corp 有機化合物用蒸発源
JPH0949072A (ja) * 1995-08-10 1997-02-18 Ulvac Japan Ltd 有機化合物用蒸発源
JPH10168560A (ja) * 1996-12-06 1998-06-23 Ulvac Japan Ltd 有機材料用蒸発源
JP2001234335A (ja) * 2000-02-17 2001-08-31 Matsushita Electric Works Ltd 蒸着装置
JP2002184571A (ja) * 2000-12-15 2002-06-28 Denso Corp 有機el素子の製造方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4090039B2 (ja) 2003-04-16 2008-05-28 トッキ株式会社 蒸着装置における蒸発源
JP4321213B2 (ja) * 2003-10-24 2009-08-26 ウシオ電機株式会社 加熱ユニット
JP5358778B2 (ja) 2005-09-20 2013-12-04 国立大学法人東北大学 成膜装置、蒸発治具、及び、測定方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02164401A (ja) * 1988-12-16 1990-06-25 Ulvac Corp 有機化合物用蒸発源
JPH0949072A (ja) * 1995-08-10 1997-02-18 Ulvac Japan Ltd 有機化合物用蒸発源
JPH10168560A (ja) * 1996-12-06 1998-06-23 Ulvac Japan Ltd 有機材料用蒸発源
JP2001234335A (ja) * 2000-02-17 2001-08-31 Matsushita Electric Works Ltd 蒸着装置
JP2002184571A (ja) * 2000-12-15 2002-06-28 Denso Corp 有機el素子の製造方法

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