WO2008143228A1 - ウエハ端面検査装置 - Google Patents

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Takashi Watanabe
Naoshi Sakaguchi
Kazumasa Endo
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Abstract

　ウエハを照明する照明光学系は２種類設けられている。１つは照明光学系６で発生した照明光を、ハーフミラーで反射させて偏向させ、結像光学系４の一部を通してウエハ１を照明する落射照明系で周知のものである。他方はウエハ１の端面に正対して配置され、ウエハ１を斜めから拡散照明する拡散照明光学系７である。拡散照明光学系７は例えば基板上にＬＥＤ１１を多数並べたものの表面に拡散板１２を配置した面光源で、広い領域から様々な角度でベベル部３を照明できる構成となっている。２種類の照明系を同時に使用することでウエハ表面外周部２と表面ベベル部３を同時に照明することができ、ウエハ表面外周部２と表面ベベル部３の双方に存在する欠陥を同時に検出することが可能となる。
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