WO2008143228A1 - Appareil d'examen de surface d'extrémité de tranche - Google Patents
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Abstract
Des systèmes optiques d'éclairage de deux types sont disposés pour éclairer une tranche. Le système optique d'un type est un système d'épi-éclairage bien connu, qui éclaire une tranche (1) par réflexion de la lumière d'éclairage générée par un système optique d'éclairage (6) par un demi-miroir, polarisation de la lumière réfléchie et passage de la lumière polarisée à travers une partie d'un système optique d'imagerie (4). Le système optique de l'autre type est un système optique d'éclairage diffusé (7), qui est disposé pour être tourné vers une surface d'extrémité de la tranche (1) et réalise un éclairage diffusé vers la tranche (1) dans une direction diagonale. Le système optique d'éclairage diffusé (7) est, par exemple, une source de lumière de surface dans laquelle une plaque de diffusion (12) est disposée sur la surface d'un substrat sur lequel de nombreuses DEL (11) sont disposées, et est configuré pour éclairer une section en biseau (3) à partir d'une région large à divers angles. Une section périphérique externe de surface de tranche (2) et la section en biseau de surface (3) peuvent être éclairées en même temps à l'aide des deux types de systèmes d'éclairage en même temps, et des défauts qui sont présents sur la section périphérique externe de surface de tranche (2) et sur la section de biseau de tranche (3) peuvent être détectés en même temps.
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007-134492 | 2007-05-21 | ||
JP2007134492 | 2007-05-21 | ||
JP2008098250 | 2008-04-04 | ||
JP2008-098250 | 2008-04-04 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2008143228A1 true WO2008143228A1 (fr) | 2008-11-27 |
Family
ID=40031925
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/JP2008/059168 WO2008143228A1 (fr) | 2007-05-21 | 2008-05-20 | Appareil d'examen de surface d'extrémité de tranche |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
TW (1) | TW200907335A (fr) |
WO (1) | WO2008143228A1 (fr) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104198501A (zh) * | 2014-09-18 | 2014-12-10 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种定位反射表面存在缺陷的反射镜的方法 |
JP2017521653A (ja) * | 2014-06-20 | 2017-08-03 | ケーエルエー−テンカー コーポレイション | インライン型のウェハエッジ検査、ウェハプレアラインメント、及びウェハ洗浄 |
JP2018163072A (ja) * | 2017-03-27 | 2018-10-18 | アンリツ株式会社 | 光コネクタ端面検査装置とその合焦画像データ取得方法 |
CN112272766A (zh) * | 2018-05-01 | 2021-01-26 | 纳米系统解决方案株式会社 | 检查装置 |
JP2021131331A (ja) * | 2020-02-20 | 2021-09-09 | 東レエンジニアリング株式会社 | 基板エッジ検査装置 |
JP2021167812A (ja) * | 2020-04-10 | 2021-10-21 | コグネックス・コーポレイション | 可変拡散板を利用した光学システム |
JP7441469B2 (ja) | 2019-05-31 | 2024-03-01 | 株式会社昭和電気研究所 | 外観検査装置 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SG10202110739PA (en) | 2014-12-05 | 2021-11-29 | Kla Tencor Corp | Apparatus, method and computer program product for defect detection in work pieces |
CN107026096A (zh) * | 2016-02-01 | 2017-08-08 | 易发精机股份有限公司 | 晶圆边缘量测模组 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003139523A (ja) * | 2001-11-02 | 2003-05-14 | Nippon Electro Sensari Device Kk | 表面欠陥検出方法および表面欠陥検出装置 |
JP2006138830A (ja) * | 2004-11-10 | 2006-06-01 | Nippon Electro Sensari Device Kk | 表面欠陥検査装置 |
JP2006184019A (ja) * | 2004-12-24 | 2006-07-13 | Saki Corp:Kk | 外観検査装置 |
JP2007047010A (ja) * | 2005-08-10 | 2007-02-22 | Nano System Solutions:Kk | ウェーハ外周検査方法 |
JP2007256272A (ja) * | 2006-02-24 | 2007-10-04 | Hitachi High-Technologies Corp | 表面検査装置 |
-
2008
- 2008-05-20 WO PCT/JP2008/059168 patent/WO2008143228A1/fr active Application Filing
- 2008-05-20 TW TW097118444A patent/TW200907335A/zh unknown
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003139523A (ja) * | 2001-11-02 | 2003-05-14 | Nippon Electro Sensari Device Kk | 表面欠陥検出方法および表面欠陥検出装置 |
JP2006138830A (ja) * | 2004-11-10 | 2006-06-01 | Nippon Electro Sensari Device Kk | 表面欠陥検査装置 |
JP2006184019A (ja) * | 2004-12-24 | 2006-07-13 | Saki Corp:Kk | 外観検査装置 |
JP2007047010A (ja) * | 2005-08-10 | 2007-02-22 | Nano System Solutions:Kk | ウェーハ外周検査方法 |
JP2007256272A (ja) * | 2006-02-24 | 2007-10-04 | Hitachi High-Technologies Corp | 表面検査装置 |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017521653A (ja) * | 2014-06-20 | 2017-08-03 | ケーエルエー−テンカー コーポレイション | インライン型のウェハエッジ検査、ウェハプレアラインメント、及びウェハ洗浄 |
CN104198501A (zh) * | 2014-09-18 | 2014-12-10 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种定位反射表面存在缺陷的反射镜的方法 |
JP2018163072A (ja) * | 2017-03-27 | 2018-10-18 | アンリツ株式会社 | 光コネクタ端面検査装置とその合焦画像データ取得方法 |
CN112272766A (zh) * | 2018-05-01 | 2021-01-26 | 纳米系统解决方案株式会社 | 检查装置 |
JP7441469B2 (ja) | 2019-05-31 | 2024-03-01 | 株式会社昭和電気研究所 | 外観検査装置 |
JP2021131331A (ja) * | 2020-02-20 | 2021-09-09 | 東レエンジニアリング株式会社 | 基板エッジ検査装置 |
JP7372173B2 (ja) | 2020-02-20 | 2023-10-31 | 東レエンジニアリング株式会社 | 基板エッジ検査装置 |
JP2021167812A (ja) * | 2020-04-10 | 2021-10-21 | コグネックス・コーポレイション | 可変拡散板を利用した光学システム |
JP7399906B2 (ja) | 2020-04-10 | 2023-12-18 | コグネックス・コーポレイション | 可変拡散板を利用した光学システム |
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Publication number | Publication date |
---|---|
TW200907335A (en) | 2009-02-16 |
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Legal Events
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121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
Ref document number: 08752964 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
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NENP | Non-entry into the national phase |
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122 | Ep: pct application non-entry in european phase |
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