WO2008129762A1 - 移動体装置、パターン形成装置及びパターン形成方法、デバイス製造方法、移動体装置の製造方法、並びに移動体駆動方法 - Google Patents

移動体装置、パターン形成装置及びパターン形成方法、デバイス製造方法、移動体装置の製造方法、並びに移動体駆動方法 Download PDF

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Abstract

　基板ステージ（２１）と、基板ステージ（２１）の自重を支持する自重キャンセル機構（２７）とを別体で構成する。これにより、基板ステージと自重キャンセル機構とを一体的に構成する場合と比べて基板ステージ（基板ステージを含む構造体）を小型・軽量化することができる。また、Ｘ駆動機構（９７Ｘ），Ｙ駆動機構（９７Ｙ）によるＸ粗動ステージ（２３Ｘ）、Ｙ粗動ステージ（２３Ｙ）の移動により、基板ステージがＸＹ平面内で駆動されるとともに、基板ステージの自重を支持する自重キャンセル機構も駆動される。これにより、基板ステージと自重キャンセル機構とを別体で構成しても支障なく、基板ステージを駆動できる。
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