WO2008062537A1 - Système de support de stockage de feuilles et boîtier à réticule utilisant celui-ci - Google Patents

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WO2008062537A1
WO2008062537A1 PCT/JP2006/323484 JP2006323484W WO2008062537A1 WO 2008062537 A1 WO2008062537 A1 WO 2008062537A1 JP 2006323484 W JP2006323484 W JP 2006323484W WO 2008062537 A1 WO2008062537 A1 WO 2008062537A1
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WO
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pressure
thin plate
plate storage
reticle case
container
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PCT/JP2006/323484
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English (en)
French (fr)
Inventor
Tadao Iwaki
Toshiya Umeda
Original Assignee
Miraial Co., Ltd.
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Publication date
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Priority to JP2008545295A priority patent/JP4829978B2/ja
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Priority to EP06833288A priority patent/EP2085325A4/en
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    • H01L21/67393Closed carriers characterised by atmosphere control characterised by the presence of atmosphere modifying elements inside or attached to the closed carrierl

Definitions

  • the present invention relates to a thin plate storage and conveyance system improved so that an internal clean state can be maintained for a long time, and a reticle case using the same.
  • Containers for storing a reticle are generally known.
  • a reticle transport container as in Patent Document 1.
  • This reticle transport container is a transport container provided with a pod for storing a reticle, a door and a seal for sealing the pod in an airtight manner.
  • the reticle transport container can transport the reticle while keeping the inside clean.
  • Patent Document 1 Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2006-146079
  • the above-mentioned reticle-carrying container has no problem with conventional reticles! /. It was possible to keep the cleanliness to a certain degree and transport the reticle safely.
  • the present invention has been made in response to such a request, and an object of the present invention is to provide a thin plate storage and conveyance system capable of maintaining the interior with a high cleanliness for a long time and a reticle case using the same.
  • the present invention has been made in view of the above points, and the thin plate storage and conveyance system of the present invention includes a container main body that houses one or a plurality of thin plates, and a lid that covers and attaches to the container main body.
  • a pressure container for storing a thin plate provided with a seal that isolates a storage space formed inside when the container main body is covered with the lid and closed, and external environmental force, and the thin plate
  • a pressure supply device configured to supply pressure into the storage space of the storage pressure vessel so that the pressure in the storage space is higher than the external pressure and set to a set pressure.
  • the storage space of the thin plate storage pressure vessel for storing the reticle and the like is kept clean, and the pressure in the storage space is set to a set pressure higher than the external pressure by the pressure supply device.
  • the storage space can be kept clean for a long time.
  • the reticle case of the present invention is formed inside when a receptacle for storing the reticle, a lid attached to cover the receptacle, and closed when the receptacle is covered with the lid.
  • a reticle case comprising an inner container provided with a seal for airtightly isolating the storage space from an external environmental force, and an outer container in which the inner container is stored, wherein pressure is applied to the storage space of the inner container.
  • a pressure supply device that makes the pressure in the storage space higher than the pressure in the outer container.
  • the storage space of the inner container for storing the reticle is kept clean, and the pressure in the storage space is made higher than the external pressure by the pressure supply device to be a set pressure.
  • the storage space can be kept clean for a long time.
  • the thin plate container of the present invention has the following effects.
  • FIG. 1 is a plan sectional view showing a thin plate storage and conveyance system according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a side sectional view showing a thin plate storage and conveyance system according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 is a plan view showing a thin plate storage and conveyance system according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 4 is a side view showing a thin plate storage and conveyance system according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing parts of a pressure feeder and a pressure regulator.
  • FIG. 6 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing parts of a pressure feeder and a pressure regulator.
  • FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing parts of a pressure feeder and a pressure regulator.
  • FIG. 8 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing parts of a pressure feeder and a pressure regulator.
  • FIG. 9 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing parts of a pressure feeder and a pressure regulator.
  • FIG. 10 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing parts of a pressure feeder and a pressure regulator.
  • FIG. 11 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing a seal between a base and a cover.
  • FIG. 12 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing a seal between a base and a cover.
  • FIG. 13 is an enlarged sectional view of a main part showing a modified example of the seal.
  • FIG. 14 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing a modified example of the seal.
  • FIG. 15 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing a modification of the seal.
  • FIG. 16 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing a modified example of the seal.
  • FIG. 17 is a schematic diagram showing the operation of the open / close pressure regulating valve.
  • FIG. 18 is a schematic diagram showing the operation of the open / close pressure regulating valve.
  • FIG. 19 is a perspective view showing a reticle case.
  • FIG. 20 is a perspective view showing the reticle case with the inner container removed from the outer container.
  • FIG. 21 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing a respiratory valve.
  • FIG. 22 is a graph showing an example of changes in VOC concentration when no chemical absorber is used.
  • FIG. 23 This is a graph showing the difference between the case where the chemical absorber is used and the case where it is used.
  • the thin plate storage and transfer system 1 includes a thin plate storage pressure vessel 3 that stores and transports a reticle 2 while keeping the interior clean.
  • the pressure supply device 4 supplies pressure into the thin plate storage pressure vessel 3 so that the pressure in the thin plate storage pressure vessel 3 becomes a set pressure higher than the external pressure.
  • the thin plate storage pressure vessel 3 is a container for storing and transporting one or more thin plates such as a reticle 2 and a semiconductor wafer (not shown).
  • a description will be given of an example of a container that stores one reticle 2 as the thin plate.
  • the thin plate storage pressure vessel 3 is composed of a base 6, a canopy 7, a stuno 8, a pressure feeder 9, a pressure regulator 10, and a paper tray 11.
  • a pellicle for preventing surface contamination may be attached to the pattern forming surface side of the reticle 2.
  • the base 6 is a receiver (container body) for storing one or more thin plates.
  • one reticle 2 is stored in the base 6.
  • the base 6 is composed of a substantially flat plate material.
  • An upper surface of the base 6 is provided with a mounting table portion 13 on which the reticle 2 is mounted and a seal receiver 14 that supports the seal 11.
  • the mounting table 13 is formed in a rectangular pedestal shape that is slightly larger than the dimension of the reticle 2.
  • a support 15 is provided on the mounting table 13.
  • the support 15 is a member for supporting the reticle 2.
  • a plurality of supports 15 are provided on the mounting table 13 and support the peripheral edge of the reticle 2 at a plurality of locations on its lower side.
  • four support bodies 15 are provided to support the peripheral edge of the reticle 2 at four locations.
  • the support 15 has an inclined surface at the tip, and the inclined surface abuts on the corner of the periphery of the reticle 2 to support the reticle 2 with a minimum area.
  • the support 15 is composed of a plate-panel-like support portion made of an elastic polymer material such as polyethylene elastomer or polyester elastomer, and a holding portion for holding and fixing the support portion.
  • the seal receiver 14 is an annular groove into which the seal 11 is fitted.
  • the seal receiver 14 is formed in an annular shape around the mounting table 13 of the base 6.
  • the seal receiver 14 is formed in a groove shape having a quadrangular cross section, and is fitted with an annular base portion of the seal 11 described later.
  • the cover 7 is a lid body that is attached to cover the base 6.
  • the cover 7 is formed in a shallow dish shape turned upside down.
  • a support 18 similar to the support 15 of the mounting table 13 is provided on the inner surface of the top plate of the cover 7.
  • This support Four holding bodies 18 are provided at positions opposed to the respective support bodies 15 of the mounting table 13 described above, and the upper support body 18 and the lower support body 15 cooperate with each other to form the reticle 2. Is now sandwiched from above and below!
  • the stopper 8 is a member for fixing the base 6 and the cover 7. With the cover 7 covered on the base 6, both ends of the stopper 8 are hooked on the edges of the base 6 and the cover 7, and are fixed to each other.
  • This stopper 8 may be configured as a single member, and may be rotatably attached to the base 6 or the cover 7.
  • Materials of members constituting the thin plate storage pressure vessel 3 such as the base 6, the cover 7, and the stagger 8 are polycarbonate, PBT, PEEK, PBN, thermoplastic resin, copper, aluminum, Stainless steel or the like can be used.
  • the surface may be anodized and an acid film may be used.
  • it may be composed of a composite material of metal and plastic.
  • the lid is made of metal and the container body is made of synthetic resin.
  • the pressure supply device 9 is connected to the pressure supply device 4 and is a device for supplying a gas having a set pressure to the storage space 17. As shown in FIGS. 5 to 10, the pressure feeder 9 is also configured with a vent hole 20, a check valve 21, a filter 22, and a force.
  • the vent hole 20 is a hole that is provided in the cover 7 and communicates the inside of the storage space 17 with the outside.
  • the vent hole 20 is provided with a check valve storage chamber 23 and a filter storage chamber 24.
  • the check valve storage chamber 23 is formed by expanding the vent hole 20 to the same shape as the planar shape of the check valve 21.
  • the check valve storage chamber 23 is formed by expanding the vent hole 20 to the same shape as the flat shape of the check valve 21.
  • the check valve 21 can be freely moved in the check valve chamber 23. It can be moved in the central axis direction, and the air hole 20 can be closed in a secret manner or the flow path from the air hole 20 can be secured. Not to mention.
  • the check valve storage chamber 23 supports the check valve 21 accommodated therein so as to be movable in the center axis direction of the vent hole 20.
  • the check valve storage chamber 23 has a valve seat 26 on the outer surface (left side in FIG. 5). When the check valve 21 comes into contact with the valve seat 26, the vent hole 20 is sealed.
  • This interface fitting part 27 is a pipe part into which a gas introduction interface and a gas outlet interface of the pressure supply device 4 described later are fitted. As the interface fitting portion 27, the gas introduction interface, and the gas lead-out interface, a known connector can be used.
  • the check valve 21 has a planar shape similar to the inner shape of the check valve storage chamber 23, and has a slightly smaller size. As a result, the check valve 21 can freely move in the check valve storage chamber 23 while being stored in the check valve storage chamber 23. Accordingly, the check valve 21 moves to the storage space 17 side in the check valve storage chamber 23 with respect to the gas flow into the storage space 17 from the outside, and allows the gas flow. Further, with respect to the flow of gas from the inside of the storage space 17 to the outside, which is the reverse flow, the check valve 21 moves to the outside in the check valve storage chamber 23 and moves to the valve seat 26. This prevents the flow of this gas.
  • the filter 22 is mounted in the filter storage chamber 24.
  • the filter 22 includes a membrane filter 28 located on both sides, and a chemical filter 29 filled between the membrane filters 28.
  • the membrane filter 28 prevents intrusion of particles and the like.
  • the chemical filter 29 removes volatile organic compounds.
  • One or two pressure feeders 9 having the above configuration are provided. Specifically, when the pressure supply device 4 is always connected to the thin plate storage pressure vessel 3, the two vent holes 20 etc. are not attached to the thin plate storage pressure vessel 3, In the case of being connected only when pressure is supplied into the storage pressure vessel 3, one vent hole 20 is provided. In this embodiment, two vent holes 20 are provided. The vent hole 20 can be provided on one or both of the base 6 side and the cover 7 side. Provide only the position and number according to the required function.
  • the pressure regulator 10 is a device for reducing the pressure by causing the gas in the storage space 17 to flow out to the outside as necessary.
  • This pressure regulator 10 has the same configuration as the pressure regulator 9.
  • the pressure regulator 10 includes a vent hole 20, a check valve 21, a filter 22, and a force.
  • the seal 11 is a member for isolating the storage space 17 formed inside when the base 6 is covered with the cover 7 and closed, in an airtight environment.
  • seal 11 Shaped ones can be used.
  • the seal 11 includes an annular base portion 31 that fits into the annular seal receiver 14 and a lip portion 32 that comes into close contact with the inner surface of the side wall of the cover 7.
  • the annular base 31 is formed in a quadrangular cross section and is in close contact with the seal receiver 14.
  • the lip portion 32 is formed so as to extend from the annular base portion 31 to the inner surface of the side wall of the cover 7, and the distal end side thereof is in close contact with the inner surface of the side wall of the cover 7 to seal the storage space 17.
  • the lip portion 32 is tightly adhered to the inner surface of the side wall of the cover 7 by its own elasticity f and the pressure P in the storage space 17 to seal the storage space 17.
  • the seal 11 may have the configuration shown in FIGS. 13 to 15.
  • an annular base 33 that fits into the annular seal receiver 14, an upper lip 34 that is in close contact with the inner surface of the side wall of the cover 7, and a lower lip 35 that is in close contact with the upper side of the base 6. It is composed of The annular base portion 33 is formed in a quadrangular cross section, and ridges 36 that improve the adhesion are formed on the three surfaces in contact with the seal receiver 14. Thus, when the annular base portion is fitted to the seal receiver 14, the three ridges 36 come into contact with the seal receiver 14 and are closely fitted.
  • the upper lip portion 34 is formed to extend from the annular base portion 33 to the inner surface of the side wall of the cover 7, and the tip end side thereof is in close contact with the inner surface of the side wall of the cover 7 to seal the storage space 17.
  • the lower lip portion 35 is formed to extend from the annular base portion 33 to the upper side surface of the base 6, and the tip end side thereof is pressed by the pressure P in the storage space 17 to be tightly attached to the upper side surface of the base 6 to store the storage portion. The space 17 is now sealed.
  • the seal 11 may have the configuration shown in FIG.
  • the seal 11 includes an annular base portion 37 that fits into the annular seal receiver 14 and an upper lip portion 38 that is in close contact with the inner surface of the side wall of the cover 7.
  • the annular base portion is formed in a quadrangular cross section, and the ridges 39 that improve the adhesion are formed on the two surfaces that contact the opposing wall surfaces of the seal receiver 14.
  • the upper lip portion 38 is formed to extend from the annular base portion 37 to the inner surface of the side wall of the cover 7, and the front end side thereof is in close contact with the inner surface of the side wall of the cover 7 to seal the storage space 17.
  • the pressure supply device 4 of Fig. 1 includes the storage space 17 of the thin plate storage pressure vessel 3 configured as described above. This is a device for supplying pressure inside to make the pressure in the storage space 17 higher than the external pressure.
  • the pressure supply device 4 keeps the inside of the thin plate storage pressure vessel 3 at a set pressure to prevent the flow of external force gas.
  • the set pressure is 1.1 to 2 atmospheres, preferably 1.1 to 1.5 atmospheres. Specifically, the pressure is set slightly higher than the external pressure. If the pressure in the storage space 17 is slightly higher than the outside air pressure, it is possible to prevent intrusion of particles and the like that prevent outside air from entering the storage space 17. If the transport route is only on land, it is 1 atm for almost the entire stroke.
  • the pressure When using a submarine tunnel, set the pressure to 1.1 to 1.5 atm, depending on the depth, specifically a pressure slightly higher than the highest pressure in the submarine tunnel.
  • the atmospheric pressure drops during the flight, and the highest atmospheric pressure is 1 atmospheric pressure.
  • the pressure is set to 2 atmospheres or more.
  • the pressure is set to be slightly higher than the highest atmospheric pressure during the transfer. If the strength of the thin plate storage pressure vessel 3 allows, the pressure may be sufficiently high. Also, it is easier to maintain a constant atmospheric pressure for a longer time if the internal pressure is closer to 1 atmosphere. By setting the internal pressure to about 1 to 1.2 atm, it is possible to omit the pressure cylinder for a short time.
  • the pressure supply device 4 includes a pressure supply unit 41, an on-off pressure regulating valve 42, a pressurizing chamber 43, a gas introduction interface 44 (see Fig. 5), a gas It consists of a derivation interface (not shown).
  • the pressure supply device 4 is formed in a long cylindrical shape and is fixed to the inside of the cover 7. May be fixed to base 6.
  • the pressure supply unit 41 is a device for supplying a somewhat high pressure (2 atm or higher, usually 5 to 15 atm).
  • the pressure supply unit 41 is constituted by a pressure cylinder in this embodiment.
  • the pressure supply device 4 can be incorporated into the pressure vessel 3 for storing the thin plate, the pressure supply device 4 can be transported together with the pressure vessel 3 for storing the thin plate, and the pressure vessel 3 for storing the thin plate is being transferred.
  • the inside of the storage space 17 can always be kept at the set pressure.
  • the open / close pressure regulating valve 42 is a valve that is provided on the connection pipe 45 that connects the pressure supply unit 41 and the thin plate storage pressure vessel 3, and that opens and closes the connection pipe 45 and adjusts the pressure.
  • the open / close pressure regulating valve 42 is composed of a rotary valve 46.
  • the rotary valve 46 When the rotary valve 46 is turned to the side (the state shown in FIG. 17), the passage is blocked and the rotary valve 46 is closed.
  • the mouth tally valve When the mouth tally valve is set vertically (when it is in the state shown in FIG. 18), it is opened, and orifices are formed before and after the rotary valve, respectively, and the pressure is reduced in two stages. Thereby, the gas of 5 to 15 atm is depressurized to the set atmospheric pressure (about 1.1 to 2 atm).
  • the pressurizing chamber 43 is an accumulator for buffering an impact caused by pressure fluctuation or the like.
  • pressure fluctuation or flow velocity turbulence occurs due to switching of the open / close pressure regulating valve 42, etc.
  • the pressure fluctuation and flow velocity turbulence are absorbed in the pressurizing chamber 43 and the pressure vessel 3 for storing the thin plate is kept stable.
  • Pressure is supplied to the storage space 17.
  • the pressurizing chamber 43 is provided when pressure fluctuations and flow velocity disturbances are large. In FIG. 5, the pressurizing chamber 43 is not provided.
  • the gas introduction interface 44 is a connector for fitting into the interface fitting portion 27 of the vent hole 20.
  • the gas introduction interface 44 is provided at the downstream end of the pressurizing chamber 43.
  • a gas introduction interface 44 can be provided at the downstream end of the open / close pressure regulating valve 42.
  • the gas outlet interface is a connector for fitting into the interface fitting portion 27 of the vent hole 20 on the pressure regulator 10 side.
  • the gas introduction interface 44 has the same configuration as the gas introduction interface 44, and a known connector can be used together with the interface fitting portion 27.
  • the gas outlet interface is provided with a valve opening pin 49 (see FIGS. 9 and 10).
  • the valve release pin 49 is fitted to the gas outlet interface force S interface fitting portion 27, thereby pushing the check valve 21 in the vent hole 20 open to open the vent hole 20 and the gas outlet interface force. By pulling out from the interface fitting portion 27, the check valve 21 in the vent hole 20 is returned to the original position to close the vent hole 20.
  • the valve opening pin 49 may be provided in the gas introduction interface 44 in some cases.
  • the thin plate storage and conveyance system 1 configured as described above includes a case in which the pressure supply device 4 is attached to the thin plate storage pressure vessel 3 for conveyance, and a case in which the pressure supply device 4 is not attached to the thin plate storage pressure vessel 3 for conveyance. There is.
  • the pressure of 5 to 15 atm is reduced to the set pressure (eg, 1.1 atm) by the on-off pressure regulating valve 42, and the pressurizing chamber 43, the gas introduction interface 44, and the interface fitting unit 27
  • the set pressure reaches the inside of the storage space 17 through the pressure supply unit 9 connected to the inside of the storage space 17, and the inside of the storage space 17 is kept at the set pressure.
  • the reticle 2 in the thin plate storage pressure vessel 3 is always kept clean and transported to the destination. Even if the air pressure fluctuates during transfer, the set pressure is set to a value that takes into account the air pressure fluctuation range, so the reticle 2 in the thin plate storage pressure vessel 3 is always clean. Keep on.
  • the check valve 21 of the pressure supply 9 to which the pressure supply device 4 is connected opens, as shown in FIG.
  • the set pressure reaches the storage space 17 and increases the internal pressure of the storage space 17 to the set pressure.
  • the other check valve 21 of the pressure regulator 9 and the check valve 21 of the pressure regulator 10 seal the inside of the storage space 17 that never opens.
  • the inside of the storage space 17 can always be maintained higher than the external pressure, and the reticle 2 in the thin plate storage pressure vessel 3 is always kept clean and transported to the destination.
  • the reticle 2 is set on the support 15 of the base 6, the cover 7 is closed, and the base 6 and the cover 7 are joined by the stopper 8.
  • a check valve 21 and a filter 22 are attached to the pressure regulator 9 and the pressure regulator 10 in advance.
  • the gas fitting interface 44 of the external gas supply device is connected to the interface fitting portion 27 of the pressure supply 9, and the valve release pin 49 is inserted into the vent hole 20 to push the check valve 21 open.
  • the pressure supply device 4 and the storage space 17 are communicated with each other.
  • the gas introduction interface 44 is connected to the interface fitting portion 27 of the pressure regulator 10, the valve release pin 49 is inserted into the vent hole 20, and the check valve 21 is pushed open to open the storage space 17. Open to the outside.
  • valve opening pin 49 of the gas outlet interface is removed, and the check valve 21 is operated.
  • the pressure in the storage space 17 of the thin plate storage pressure vessel 3 increases until the set pressure is reached.
  • the opening / closing pressure regulating valve 42 of the pressure supply device 4 is opened, and the inside of the storage space 17 is maintained at the set pressure.
  • the thin plate storage pressure vessel 3 is transported to the destination while keeping the inside of the thin plate storage pressure vessel 3 clean.
  • the pressure inside the thin plate storage pressure vessel 3 can be kept higher than the external pressure while the thin plate storage pressure vessel 3 containing the reticle 2 inside is being transported.
  • the storage space 17 in which the reticle 2 is stored can be kept at a high level of cleanliness for a long time, and the safety during transport of the reticle 2 can be improved.
  • the storage space 17 can be supported at the set pressure for a longer time, and the reticle 2 can be transported. The safety at the time of sending and storing can be improved.
  • This reticle case is a case configured using the thin plate storage and conveyance system 1 as it is.
  • the reticle case 51 includes an inner container 52 and an outer container 53, as shown in FIGS.
  • the pressure container 3 for storing a thin plate of the thin plate storage and conveyance system 1 is used as it is. For this reason, the inner container 52 is closed when the receiver (base 6) for storing the reticle 2, the cover (cover 7) attached to cover the receiver, and the cover covered with the cover are closed.
  • the storage space 17 formed inside is provided with a seal 11 for airtightly isolating external environmental forces.
  • a pressure supply device 4 is provided outside the inner container 52. In the thin plate storage pressure vessel 3 of the thin plate storage and conveyance system 1, the pressure supply device 4 is stored inside, but here, the pressure supply device 4 is provided outside the inner container 52.
  • the reticle 2 may be provided with nothing on its surface or may have a pellicle.
  • the outer container 53 is a container that houses the inner container 52 therein.
  • the outer container 53 is composed of a receiving body 55 and an outer lid body 56.
  • the outer receptacle 55 is formed in a shallow dish shape. At least the wall plate around this outer shell 55 The upper part is formed in an enlarged size so that the seal receiver 14 of the thin plate storage pressure vessel 3 can be formed, and a seal receiver (not shown) similar to the seal receiver 14 of the thin plate storage pressure vessel 3 is formed. Is provided.
  • a chemical absorber 57 is provided on the inner surface of the wall plate of the outer receptacle 55. This chemical absorber 57 is a volatile organic compound that can be generated from the inner container 52 and the outer container 53 (a general term for organic compounds that are volatile and become gaseous in the atmosphere (VOC)).
  • FIG. 23 shows an experimental example using a chemical absorber 57.
  • the VOC concentration becomes nearly 10 times the initial value after 200 hours.
  • the initial value is reduced to around 2Z3. In this way, chemical absorber 57 is highly effective in reducing VOC concentration, so it is used for the reticle case.
  • the chemical absorber 57 is formed into a rectangular thin plate in order to increase the adsorption area and increase the adsorption efficiency.
  • the dimension is set to cover almost the entire inner surface of the wall plate on one side of the outer casing 55.
  • the chemical absorber 57 may be provided in a part other than the case where the chemical absorber 57 is provided on almost the entire inner surface of the wall plate on one side of the outer receiver 55. Further, the chemical absorber 57 may be provided only in the inner container 52. It may be provided in both the outer container 53 and the storage space 17 of the inner container 52 so as to adsorb volatile organic compounds from both sides of the space in the outer container 53 and the space in the inner container 52.
  • an inner container fixing portion (not shown) for supporting and fixing the inner container 52 is provided.
  • the inner container fixing portion is configured by mounting an elastic member (such as a synthetic resin having elasticity and charging properties) provided with a recess in accordance with the outer shape of the inner container 52 on the outer receiver 55.
  • a fixing means such as a hook may be provided and fixed.
  • This fixing means is made of a conductive material or an uncharged material.
  • the outer lid 56 has a shape similar to that of the outer receiver 55. Specifically, it is formed in a shallow dish shape that is turned over and attached to the upper side of the outer receptacle 55.
  • a breathing valve 59 is provided on the wall plate of the outer lid 56. As shown in FIG. 21, the breathing valve 59 is fitted and attached to the fitting pipe 62 of the valve housing recess 61. Specifically, the breathing valve 59 includes a fitting tube portion 65, a filter storage portion 66, and an open tube portion 67.
  • the fitting tube portion 65 is a portion that fits into the fitting tube 62 of the valve housing recess 61.
  • the filter housing portion 66 is a portion that houses and supports the membrane filter 68.
  • the filter storage section 66 is formed in a thin disk shape, and a thin disk-shaped membrane filter 68 is received therein.
  • the open pipe portion 67 is a portion that forms a communication path that communicates from the fitting pipe 62 of the valve housing recess 61 to the outside through the membrane filter 68.
  • the internal pressure of the outer container 53 is adjusted by the breathing valve 59 so as to be equal to the external pressure, thereby suppressing an abnormal increase in the internal pressure of the outer container 53.
  • Two or more breathing valves 59 may be provided if necessary to achieve this adjustment function.
  • the outer receptacle 55 and the outer lid 56 constituting the outer container 53 are formed of an antistatic polymer material, and prevent adsorption of particles or the like due to static electricity. Further, the inner container 52 and the outer container 53 are electrically connected by the inner container fixing portion to prevent adsorption of particles or the like due to static electricity.
  • the outer receptacle 55 and the outer lid 56 are fixed to each other by fixing means (not shown).
  • this fixing means a member similar to the stagger 8 of the thin plate storage and conveyance system 1 can be used. Moreover, you may use the fixing means of another structure.
  • the inner container 52 is the same as the usage mode of the thin plate storage and conveyance system 1.
  • the inner container 52 is attached and fixed to the inner container fixing portion of the outer receptacle 55 of the outer container 53, and the outer lid body 56 is attached to fix the outer receptacle body 55 and the outer lid body 56 to each other. To do.
  • This operation is performed in a clean atmosphere, and the inside of the outer container 53 is kept clean.
  • the pressure feeder 9 and the pressure regulator 10 of the thin plate storage and conveyance system 1 are also provided in the outer container 53, and an external pressure supply device (not shown) is used in the outer container 53 with clean gas from a force. Replace.
  • the inner container 52 is processed in the same manner as in the thin plate storage and conveyance system 1.
  • the inner container 52 can be kept clean, and the outer container 53 can keep the atmosphere of the inner container 52 clean. Safety at the time can be improved.
  • the pressure supply device 4 is described as an example of a device provided with a pressure cylinder.
  • the pressure supply device 4 may be configured as a large apparatus such as an apparatus provided with a pressure pump.
  • this pressure supply device 4 may be provided in the thin plate storage pressure vessel rack.
  • the thin plate storage pressure vessel rack is a shelf member that stores and stores a plurality of thin plate storage pressure vessels 3 side by side.
  • the gas inlet interface and the gas outlet are located at the positions of the thin plate storage pressure vessel racks in which the respective thin plate storage pressure vessels 3 are stored and facing the interface fitting portion 27 of the vent hole 20.
  • the pressure supply so that the interface is located. Arrange. Accordingly, by storing the thin plate storage pressure vessel in the thin plate storage pressure vessel rack, the pressure in the thin plate storage pressure vessel can be automatically adjusted to the set pressure.
  • only one pressure supply device 4 is provided in the thin plate storage pressure vessel 3, but two or more pressure supply devices 4 may be provided.
  • the number of pressure supply devices 4 is set in consideration of the size of the pressure vessel 3 for storing thin plates and the capacity of the pressure supply device 4.
  • the thin plate storage and transfer system 1 and the reticle case 51 that can store only one reticle 2 have been described as an example.
  • the present invention is also applied to a thin plate storage container that stores a large number of semiconductor wafers. be able to. Also in this case, the same operations and effects as in the above embodiment can be achieved.

Description

明 細 書
薄板保管搬送システムおよびそれを用いたレチクルケース
技術分野
[0001] この発明は、内部の清浄状態を長時間保持できるように改良した薄板保管搬送シ ステムおよびそれを用 、たレチクルケースに関するものである。
背景技術
[0002] レクチルを収納する容器は一般に知られている。例えば、特許文献 1のようなレチク ル搬送容器がある。このレチクル搬送容器は、レクチルを収納するポッドと、このポッ ドを塞 、で気密にシールする扉およびシールとを備えた搬送容器である。
[0003] このレチクル搬送容器によって、内部を清浄な状態に保って、レクチルを搬送する ことができる。
特許文献 1 :特開 2006— 146079号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0004] ところで、前記レクチル搬送容器では、従前のレクチルに対しては何ら問題な!/、程 度の十分な清浄度を保つことができ、レクチルを安全に搬送することができた。
[0005] ところが、要求されるレクチル搬送容器内の清浄度は年々高くなり、外部からのパ ーチクルなどの侵入を高度に隔離して、内部の清浄度を高度に保つ必要が生じてき た。これは、半導体ウェハ等の薄板を収納する収納容器においても同様である。
[0006] 本発明は、係る要請に応じてなされたもので、内部を高い清浄度に長時間保つこと ができる薄板保管搬送システムおよびそれを用いたレチクルケースを提供することを 目的とする。
課題を解決するための手段
[0007] 本発明は、上述の点に鑑みてなされたもので、本発明の薄板保管搬送システムは 、 1又は複数の薄板を収納する容器本体と、当該容器本体を覆って取り付けられる蓋 体と、前記容器本体を当該蓋体で覆って閉じたときに内部に形成される収納空間を 外部環境力 気密に隔離するシールとを備えた薄板収納用圧力容器と、当該薄板 収納用圧力容器の前記収納空間内に圧力を供給して当該収納空間内の圧力を外 部の圧力よりも高 、設定圧力にする圧力供給装置とを備えたことを特徴とする。
[0008] 前記構成により、レチクル等を収納する、前記薄板収納用圧力容器の収納空間を 清浄に保ち、圧力供給装置で前記収納空間内の圧力を外部の圧力よりも高い設定 圧力にすることで、収納空間内を高 ヽ清浄度に長時間保つことができる。
[0009] また、本発明のレチクルケースは、レチクルを収納する受体と、当該受体を覆って 取り付けられる蓋体と、前記受体を当該蓋体で覆って閉じたときに内部に形成される 収納空間を外部環境力 気密に隔離するシールとを備えてなる内側容器と、当該内 側容器が収納される外側容器とからなるレチクルケースであって、前記内側容器の 前記収納空間内に圧力を供給して当該収納空間内の圧力を前記外側容器内の圧 力よりも高!ヽ設定圧力にする圧力供給装置を備えたことを特徴とする。
[0010] 前記構成により、レチクルを収納する、前記内側容器の収納空間を清浄に保ち、圧 力供給装置で前記収納空間内の圧力を外部の圧力よりも高!、設定圧力にすること で、収納空間内を高い清浄度に長時間保つことができる。
発明の効果
[0011] 以上詳述したように、本発明の薄板収納容器によれば、次のような効果を奏する。
[0012] 長時間に亘つて外部環境よりも揚圧の一定圧力を保持することによって、外部から のパーチクルなどの侵入を高度に隔離することが可能になり、レチクル等の汚染を防 止して、搬送時の安全性が向上する。
[0013] また、容器内部の圧力を高くすることによって、容器材質から発生するガス成分を 低いレベルに押えることが可能であるため、収納物の物質汚染を少なくすることが可 能となる。
[0014] さらにまた、容器内にケミカルフィルタを配することによって、容器から発生したり収 納物によって持ち込まれたりした汚染物質を吸着して低いレベルに押えることが可能 であるため、収納物の物質汚染をなくすることが可能となった。さらにまた、レチクル ケースを二重にすることによって、より清浄な収納環境を実現することが可能となると 同時に、例え外側容器が破損したとしても内側容器内部は清浄な状態に保つことが 可能となり、収納物搬送時の信頼性と安全性を向上させることが可能となった。 図面の簡単な説明
[0015] [図 1]本発明の実施形態に係る薄板保管搬送システムを示す平面断面図である。
[図 2]本発明の実施形態に係る薄板保管搬送システムを示す側面断面図である。
[図 3]本発明の実施形態に係る薄板保管搬送システムを示す平面図である。
[図 4]本発明の実施形態に係る薄板保管搬送システムを示す側面図である。
[図 5]給圧器及び調圧器の部分を示す要部拡大断面図である。
[図 6]給圧器及び調圧器の部分を示す要部拡大断面図である。
[図 7]給圧器及び調圧器の部分を示す要部拡大断面図である。
[図 8]給圧器及び調圧器の部分を示す要部拡大断面図である。
[図 9]給圧器及び調圧器の部分を示す要部拡大断面図である。
[図 10]給圧器及び調圧器の部分を示す要部拡大断面図である。
[図 11]ベースとカバーとの間のシールを示す要部拡大断面図である。
[図 12]ベースとカバーとの間のシールを示す要部拡大断面図である。
[図 13]シールの変形例を示す要部拡大断面図である。
[図 14]シールの変形例を示す要部拡大断面図である。
[図 15]シールの変形例を示す要部拡大断面図である。
[図 16]シールの変形例を示す要部拡大断面図である。
[図 17]開閉調圧弁での作動を示す模式図である。
[図 18]開閉調圧弁での作動を示す模式図である。
[図 19]レチクルケースを示す斜視図である。
[図 20]内側容器を外側容器から取り出し状態でレチクルケースを示す斜視図である。
[図 21]呼吸弁を示す要部拡大断面図である。
[図 22]ケミカルァブゾーバーを使用しない状態での VOC濃度の変化の一例を示す グラフである。
[図 23]ケミカルァブゾーバーを使用した場合としな 、場合とでの違 、を示すグラフで ある。
符号の説明
[0016] 1 薄板保管搬送システム レチクノレ
薄板収納用圧力容器 圧力供給装置
ベース
カバー
ストッノ
給圧器
調圧器
シール
載置台部
シーノレ受
支持体
収納空間
通気孔
逆止弁
フィノレタ
逆止弁収納室 フィルタ収納室 弁座
インターフェイス嵌合咅 ^ 環状基部
リップ部
環状基部
上側リップ部
下側リップ部
凸条
環状基部
上側リップ部 39 凸条
41 圧力供給部
42 開閉調圧弁
43 与圧室
44 ガス導入インターフェイス
45
46 ロータリーノ ノレブ
49 弁開放ピン
51 レチクノレケース
52 内側容器
53外側容器
55 外受体
56 外蓋体
57 ケミカルァブゾーバー
59 呼吸弁
61 弁収納凹部
62 被嵌合管
65 嵌合管部
66 フィルタ収納部
67 開放管部
68 メンブレンフィルタ
発明を実施するための最良の形態
[0017] 以下、本発明の実施形態を添付図面に基づいて説明する。ここでは、まず薄板保 管搬送システムを説明し、次いで、薄板保管搬送システムを用いたレチクルケースを 説明する。
[0018] [第 1実施形態]
本実施形態に係る薄板保管搬送システム 1は、図 1〜4に示すように、内部を清浄 に保った状態でレチクル 2を内部に収納して搬送する薄板収納用圧力容器 3と、この 薄板収納用圧力容器 3内の圧力が外部の圧力よりも高い設定圧力になるように薄板 収納用圧力容器 3内へ圧力を供給する圧力供給装置 4とから構成されている。
[0019] 薄板収納用圧力容器 3は、レチクル 2や半導体ウェハ (図示せず)等の薄板を 1又は 複数、内部に収納して搬送するための容器である。本実施形態においては、前記薄 板として 1枚のレチクル 2を収納する容器を例に説明する。この薄板収納用圧力容器 3は、ベース 6と、カノく一 7と、ストッノ 8と、給圧器 9と、調圧器 10と、シーノレ 11と力ら 構成されている。なお、このときレチクル 2のパターン形成面側には、表面の汚染を防 止するためのペリクルが取り付けられて 、ても良 、。
[0020] ベース 6は、 1又は複数の薄板を収納するための受体 (容器本体)である。ここでは 、ベース 6に 1枚のレチクル 2を収納する。ベース 6は、ほぼ平板状の板材で構成され ている。このベース 6の上面に、レチクル 2を載置する載置台部 13と、シール 11を支 持するシール受 14とを備えて構成されて 、る。
[0021] 載置台部 13は、レチクル 2の寸法よりも少し大きい程度の四角形の台座状に形成さ れている。この載置台部 13上には支持体 15が設けられている。この支持体 15は、レ チクル 2を支持するための部材である。支持体 15は載置台部 13上に複数個設けら れて、レチクル 2の周縁部をその下側力も複数箇所で支持する。ここでは、 4個の支 持体 15が設けられて、レチクル 2の周縁部を 4箇所で支持している。支持体 15は、そ の先端部に傾斜面を備え、この傾斜面がレチクル 2の周縁の角部に当接して、最小 の面積でレチクル 2を支持する。上記支持体 15としては、ポリエチレンエラストマ や ポリエステルエラストマ一などの弾性高分子材料で形成された板パネ状の支持部と、 この支持部を保持固定する保持部とから構成する。
[0022] シール受 14は、シール 11が嵌合される環状溝である。このシール受 14は、前記べ ース 6の載置台部 13の周囲に環状に形成されている。シール受 14は、断面四角形 溝状に形成され、後述するシール 11の環状基部が嵌合される。
[0023] カバー 7は、前記ベース 6を覆って取り付けられる蓋体である。カバー 7は、裏返し た浅い皿状に形成されている。このカバー 7を前記ベース 6に取り付けられることで、 これらカバー 7とベース 6との間に収納空間 17が形成される。カバー 7の天板の内側 面には、前記載置台部 13の支持体 15と同様の支持体 18が設けられている。この支 持体 18は、前記載置台部 13の各支持体 15にそれぞれ対向する位置に 4個設けら れ、これら上側の支持体 18と下側の支持体 15とが互いに協働し合ってレチクル 2を その上下から挟み持つようになって!/、る。
[0024] ストッパ 8は、ベース 6とカバー 7を固定するための部材である。ベース 6にカバー 7 が被せられた状態で、ストッパ 8の両端部がベース 6とカバー 7の縁部にそれぞれ引 つ掛かって互いに固定する。このストッパ 8は、単体の部材として構成してもよぐベー ス 6又はカバー 7に回動可能に取り付けても良い。
[0025] 前記ベース 6、カバー 7、ストツバ 8等の、薄板収納用圧力容器 3を構成する部材の 材料としては、ポリカーボネート、 PBT、 PEEK, PBN、熱可塑性榭脂、銅、アルミ- ゥム、ステンレス鋼等を用いることができる。特にアルミニウムの場合は、表面を陽極 酸化処理して、酸ィ匕膜をつけたものを用いてもよい。また、金属とプラスチックの複合 材料で構成する場合もある。例えば、蓋体は金属、容器本体は合成樹脂を用いる場 合等である。
[0026] 給圧器 9は、圧力供給装置 4と接続されて設定圧力の気体を収納空間 17に供給す るための装置である。この給圧器 9は、図 5〜図 10に示すように、通気孔 20と、逆止 弁 21と、フィルタ 22と力も構成されている。
[0027] 通気孔 20は、カバー 7に設けられて前記収納空間 17内と外部とを連通する孔であ る。この通気孔 20には、逆止弁収納室 23と、フィルタ収納室 24とが設けられている。 逆止弁収納室 23は、通気孔 20を逆止弁 21の平面形状と同じ形状に拡大して形成 されている。なお、本実施形態では、逆止弁収納室 23は通気孔 20を逆止弁 21の平 面形状と同じ形状に拡大して形成したが、逆止弁 21が逆止弁室 23内で自在に中心 軸方向に移動可能であり、かつ通気孔 20を機密に閉じたり、通気孔 20からの流路を 確保することができたりすればどのような平面形状であっても構わないことは言うまで もない。
[0028] この逆止弁収納室 23により、その内部に収納された逆止弁 21が、通気孔 20の中 心軸方向に移動可能に支持される。逆止弁収納室 23は、その外側(図 5中の左側) の面が弁座 26となっている。この弁座 26に逆止弁 21が当接することで、通気孔 20 が封止されるようになつている。通気孔 20の外側端部には、インターフェイス嵌合部 2 7が形成されている。このインターフェイス嵌合部 27は、後述する圧力供給装置 4の ガス導入インターフェイス及びガス導出インターフェイスが嵌合する管部である。イン ターフェイス嵌合部 27とガス導入インターフェイス及びガス導出インターフェイスとし ては、公知の連結具を利用することができる。
[0029] 逆止弁 21は、その平面形状が逆止弁収納室 23の内側形状と相似形で僅かに小さ い寸法に形成されている。これにより、逆止弁 21は、逆止弁収納室 23に収納された 状態で、この逆止弁収納室 23内を自由に移動できるようになつている。これにより、 逆止弁 21は、外部から前記収納空間 17内への気体の流れに対して前記逆止弁収 納室 23で前記収納空間 17側へ移動してこの気体の流れを許容する。また、その逆 の流れである、前記収納空間 17内から外部への気体の流れに対しては、前記逆止 弁 21は前記逆止弁収納室 23で外部側へ移動して前記弁座 26に当接して、この気 体の流れを阻止する。
[0030] フィルタ 22は、前記フィルタ収納室 24に装着されている。このフィルタ 22は、両側 に位置するメンブレンフィルタ 28と、各メンブレンフィルタ 28の間に充填されるケミカ ルフィルタ 29とから構成されている。メンブレンフィルタ 28は、パーチクルなどの侵入 を阻止する。ケミカルフィルタ 29は、揮発性有機化合物を除去する。
[0031] 以上の構成の給圧器 9は 1個又は 2個設けられる。具体的には、圧力供給装置 4が 薄板収納用圧力容器 3に常時接続される場合は 2個の通気孔 20等が、圧力供給装 置 4を薄板収納用圧力容器 3に取り付けずに、薄板収納用圧力容器 3内に圧力を供 給するときだけ接続される場合は 1個の通気孔 20が設けられる。本実施形態では 2 個の通気孔 20等が設けられている。また、通気孔 20は、ベース 6側又はカバー 7側 のいずれか一方又は両方に設けることができる。要求される機能に応じた位置及び 個数だけ設ける。
[0032] 調圧器 10は、必要に応じて前記収納空間 17内の気体を外部に流出させて圧力を 下げるための装置である。この調圧器 10は前記給圧器 9と同じ構成になっている。即 ち、調圧器 10は、通気孔 20と、逆止弁 21と、フィルタ 22と力も構成されている。
[0033] シール 11は、ベース 6をカバー 7で覆って閉じたときに内部に形成される収納空間 17を外部環境力 気密に隔離するための部材である。このシール 11としては種々の 形状のものを使用することができる。このシール 11は、例えば図 11及び図 12に示す ように、環状のシール受 14に嵌合する環状基部 31と、カバー 7の側壁の内面に密着 するリップ部 32とから構成されている。環状基部 31は断面四角形状に形成され、シ ール受 14に密着するようになっている。リップ部 32は、この環状基部 31からカバー 7 の側壁の内面に延出して形成され、その先端側がカバー 7の側壁の内面に密着して 前記収納空間 17を密封するようになっている。このリップ部 32は、自己の持つ弾力 f と、前記収納空間 17内の圧力 Pとで、カバー 7の側壁の内面に強く密着されて、前記 収納空間 17内を密封する。
[0034] また、シール 11としては図 13から図 15に示す構成でもよい。このシール 11の場合 は、環状のシール受 14に嵌合する環状基部 33と、カバー 7の側壁の内面に密着す る上側リップ部 34と、ベース 6の上側面に密着する下側リップ部 35とから構成されて いる。環状基部 33は断面四角形状に形成され、シール受 14に接する 3面に密着性 をよくする凸条 36が形成されている。これにより、環状基部をシール受 14に嵌合する と、 3つの凸条 36がシール受 14にそれぞれ接触して密に嵌合するようになつている。 上側リップ部 34は、環状基部 33からカバー 7の側壁の内面に延出して形成され、そ の先端側がカバー 7の側壁の内面に密着して前記収納空間 17を密封するようになつ ている。下側リップ部 35は、環状基部 33からベース 6の上側面に延出して形成され、 その先端側が前記収納空間 17内の圧力 Pによって押されてベース 6の上側面に密 着して前記収納空間 17を密封するようになって 、る。
[0035] また、シール 11として図 16に示す構成でもよい。このシール 11の場合は、環状の シール受 14に嵌合する環状基部 37と、カバー 7の側壁の内面に密着する上側リップ 部 38とから構成されている。環状基部は断面四角形状に形成され、シール受 14の 対向する壁面に接する 2面に密着性をよくする凸条 39が形成されている。これにより 、環状基部 37をシール受 14に嵌合すると、 2つの凸条 39がシール受 14にそれぞれ 接触して密に嵌合するようになつている。上側リップ部 38は、環状基部 37からカバー 7の側壁の内面に延出して形成され、その先端側がカバー 7の側壁の内面に密着し て前記収納空間 17を密封するようになって 、る。
[0036] 図 1の圧力供給装置 4は、上記構成の薄板収納用圧力容器 3の前記収納空間 17 内に圧力を供給して当該収納空間 17内の圧力を外部の圧力よりも高い設定圧力に するための装置である。この圧力供給装置 4によって前記薄板収納用圧力容器 3内 が設定圧力に保たれて、外部力 気体の流入を防止している。この設定圧力として は、 1. 1〜2気圧、望ましくは 1. 1〜1. 5気圧である。具体的には、外気圧よりも僅か に高い圧力に設定する。前記収納空間 17内の圧力が外気圧よりも僅かでも高けれ ば、収納空間 17内に外気が進入することはなぐパーチクルなどの侵入も防止できる 。搬送経路が陸上だけの場合は、ほぼ全行程で 1気圧であるため、 1. 1気圧程度に 設定する。海底トンネルを使用する場合は、その深さに応じて 1. 1〜1. 5気圧程度、 具体的には海底トンネル中で最も気圧が高くなる値よりも僅かに高い気圧に設定す る。飛行機を利用する場合、飛行中は気圧が低下するため、最も高い気圧は陸上の 1気圧となるため、 1. 1気圧に設定する。本来は外気圧よりも十分に高い圧力に設定 することが望ましい。このため、 2気圧以上に設定することも考えられるが、薄板収納 用圧力容器 3の強度との関係で、搬送中の外気圧で、最も高くなる気圧よりも僅かに 高い圧力に設定する。薄板収納用圧力容器 3の強度が許す場合は、十分に高い気 圧にしても良い。また、 1気圧により近い内部圧力で保持する方が、より長時間一定 気圧を維持することが容易になる。内部気圧が 1〜1. 2気圧程度にすることによって 、短時間であれば圧力ボンべを省略することが可能となる。
[0037] この圧力供給装置 4は図 17及び図 18に示すように、圧力供給部 41と、開閉調圧 弁 42と、与圧室 43と、ガス導入インターフェイス 44(図 5参照)と、ガス導出インターフ イス (図示せず)とから構成されている。圧力供給装置 4は外見上は図 1、 2に示すよ うに、長尺の円筒状に形成され、カバー 7の内側に固定されている。ベース 6に固定 される場合ちある。
[0038] 圧力供給部 41は、ある程度高い圧力(2気圧以上、通常は 5〜15気圧)を供給する ための装置である。この圧力供給部 41は、本実施形態では圧力ボンベによって構成 されている。これにより、圧力供給装置 4を薄板収納用圧力容器 3に組み込むことが でき、圧力供給装置 4を薄板収納用圧力容器 3と共に搬送に供することができ、薄板 収納用圧力容器 3をその搬送中、収納空間 17内を常時設定圧力に保つことができ る。 [0039] 開閉調圧弁 42は、圧力供給部 41と薄板収納用圧力容器 3とを接続する接続管 45 に設けられて、この接続管 45を開閉すると共に圧力を調整するための弁である。この 開閉調圧弁 42は、ロータリーバルブ 46で構成されている。このロータリーバルブ 46 を横にすると(図 17の状態にすると)、通路が塞がってしまい、閉状態になる。また、口 一タリーバルブを縦にすると(図 18の状態にすると)、開状態になって、このロータリ 一バルブの前後にそれぞれオリフィスができて、 2段階で減圧する。これにより、前記 5〜15気圧の気体を前記設定気圧(1. 1〜2気圧程度)に減圧する。
[0040] 与圧室 43は、圧力変動等による衝撃を緩衝するためのアキュムレータである。開閉 調圧弁 42の切り換え等によって圧力変動や流速の乱れ等が生じた場合に、与圧室 43でその圧力変動や流速の乱れが吸収されて安定した状態で前記薄板収納用圧 力容器 3の収納空間 17に圧力が供給される。この与圧室 43は、圧力変動や流速の 乱れが大きい場合に設ける。図 5においては、与圧室 43は設けられていない。
[0041] ガス導入インターフェイス 44は、前記通気孔 20のインターフェイス嵌合部 27に嵌 合するための連結具である。ガス導入インターフェイス 44は、与圧室 43の下流側端 部に設けられる。図 5に示すように、開閉調圧弁 42の下流側端部にガス導入インタ 一フェイス 44を設けることもできる。
[0042] 設けられる。このガス導入インターフェイス 44は、前記インターフェイス嵌合部 27と共 に公知の連結具を利用することができる。
[0043] ガス導出インターフェイスは、前記調圧器 10側の通気孔 20のインターフェイス嵌合 部 27に嵌合するための連結具である。このガス導入インターフェイス 44は、ガス導入 インターフェイス 44と同じ構成を有し、前記インターフェイス嵌合部 27と共に公知の 連結具を利用することができる。さらに、ガス導出インターフェイスには、その内部に 弁開放ピン 49 (図 9、 10参照)が設けられている。この弁開放ピン 49は、ガス導出ィ ンターフェイス力 Sインターフェイス嵌合部 27に嵌合することで、通気孔 20内の逆止弁 21を押し開いて通気孔 20を開放し、ガス導出インターフェイス力インターフェイス嵌 合部 27から抜き取られることで、通気孔 20内の逆止弁 21を元に戻して通気孔 20を 閉じるようになつている。この弁開放ピン 49は、ガス導入インターフェイス 44に設けら れる場合もある。 [0044] [使用方法]
以上の構成の薄板保管搬送システム 1は、圧力供給装置 4を薄板収納用圧力容器 3に取り付けて搬送する場合と、圧力供給装置 4を薄板収納用圧力容器 3に取り付け な 、で搬送する場合とがある。
[0045] 圧力供給装置 4を薄板収納用圧力容器 3に取り付けて搬送する場合は、図 1に示 すように、圧力供給装置 4を薄板収納用圧力容器 3のカバー 7の内側に取り付けた状 態で、給圧器 9をから収納空間 17内へ設定圧力の気体を供給して、収納空間 17内 を常時設定圧力になるように保つ。
[0046] 圧力供給部 41内で 5〜15気圧の圧力が開閉調圧弁 42で設定圧力(例えば 1. 1 気圧)に減圧されて、与圧室 43及びガス導入インターフェイス 44とインターフェイス 嵌合部 27で連結された給圧器 9を介して、設定圧力が収納空間 17内に及び、この 収納空間 17内を設定圧力に保つ。
[0047] これにより、薄板収納用圧力容器 3内のレチクル 2を常に清浄な状態に保って目的 地まで搬送する。搬送途中で、気圧の変動があっても、前記設定圧力を、気圧の変 動の幅を考慮した値に設定しているため、薄板収納用圧力容器 3内のレチクル 2を常 に清浄な状態に保つ。
[0048] このとき、給圧器 9及び調圧器 10は次のように動作する。
[0049] 薄板収納用圧力容器 3の内部の圧力が外部の圧力よりも高い場合は、図 6に示す ように、給圧器 9の 2つの逆止弁 21と、調圧器 10の 1つの逆止弁 21が全て弁座 26に 押し付けられて閉じ、収納空間 17内を密封する。
[0050] 収納空間 17内が圧力供給装置 4の圧力よりも低くなると、図 7に示すように、圧力供 給装置 4が接続された給圧器 9の逆止弁 21は開き、圧力供給装置 4の設定圧力が 収納空間 17に及んで収納空間 17の内圧を設定圧力まで高める。このとき、給圧器 9 のもう一方の逆止弁 21と調圧器 10の逆止弁 21は開くことはなぐ収納空間 17内を 密封している。
[0051] これにより、収納空間 17内を常に外部の圧力よりも高く維持することができ、薄板収 納用圧力容器 3内のレチクル 2を常に清浄な状態に保って目的地まで搬送する。
[0052] 一方、圧力供給装置 4を薄板収納用圧力容器 3に取り付けて搬送しない場合は、 予め収納空間 17内を設定圧力して、その圧力を保った状態で薄板収納用圧力容器
3を目的まで搬送する。
[0053] また、新たなレチクル 2を収納して搬送する場合は、次のように行う。
[0054] ベース 6の支持体 15にレチクル 2を設置してカバー 7を閉じ、ベース 6とカバー 7を ストッパ 8で結合する。
[0055] 給圧器 9及び調圧器 10には予め逆止弁 21とフィルタ 22とを取り付けておく。
[0056] 給圧器 9のインターフェイス嵌合部 27に外部のガス供給装置のガス導入インターフ ェイス 44を接続して、弁開放ピン 49を通気孔 20内へ挿入して逆止弁 21を押し開き、 圧力供給装置 4と収納空間 17とを連通させる。
[0057] 同時に、調圧器 10のインターフェイス嵌合部 27にガス導入インターフェイス 44を接 続して、弁開放ピン 49を通気孔 20内へ挿入して逆止弁 21を押し開き、収納空間 17 を外部に開放する。
[0058] この状態でガス (乾燥空気、乾燥窒素、乾燥アルゴンなど)を導入しながら、調圧器 10から収納空間 17内のガスを排気して、収納空間 17内のガスを置換する。
[0059] 所定の時間置換したら、ガス導出インターフェイスの弁開放ピン 49を抜いて逆止弁 21を作用させる。これにより、薄板収納用圧力容器 3の収納空間 17内の圧力が設定 圧力になるまで上昇する。収納空間 17内の圧力が設定圧力になったら、ガス導入ィ ンターフェイス 44の弁開放ピン 49を抜 、て、ガス導入インターフェイス 44を取り外す
[0060] 次いで、圧力供給装置 4の開閉調圧弁 42を開けて、収納空間 17内を設定圧力に 維持する。この状態で、薄板収納用圧力容器 3の内部を清浄に保ったまま薄板収納 用圧力容器 3を目的地に搬送する。
[0061] 圧力供給装置 4を薄板収納用圧力容器 3に取り付けない場合は、前記ガス導入ィ ンターフェイス 44から薄板収納用圧力容器 3内にガスを供給することで薄板収納用 圧力容器 3内を設定圧力にした状態でガス導入インターフェイス 44を取り外す。これ により、薄板収納用圧力容器 3内は設定圧力になり、徐々に圧力が下がっていく。し 力しこの場合、ベース 6とカバー 7との隙間は、設定圧力で押圧されたシール 11のリ ップ部 32で密封されるため、輸送に必要な時間(数日程度)を遙かに超える数百時 間というレベルで、薄板収納用圧力容器 3内の圧力を外部の圧力よりも高く維持する ことができる。
[0062] [効果]
以上のように、内部にレチクル 2を収納した薄板収納用圧力容器 3をその搬送中、 薄板収納用圧力容器 3内の圧力を外部の圧力よりも、常に高い状態に維持すること ができるため、レチクル 2の収納された収納空間 17内を高い清浄度に長時間保つこ とができ、レチクル 2の搬送時の安全性を向上させることができる。
[0063] また、圧力供給装置 4を薄板収納用圧力容器 3に連結した状態で、搬送や保管す ると、さらに長時間収納空間 17内を設定圧力に支持することができ、レチクル 2の搬 送、保管時の安全性を向上させることができる。
[0064] [レチクルケース]
次に、レチクルケースについて説明する。
[0065] このレチクルケースは、前記薄板保管搬送システム 1をそのまま使用して構成される ケースである。レチクルケース 51は、図 19及び図 20に示すように、内側容器 52と、 外側容器 53とから構成されている。
[0066] 内側容器 52は、上記薄板保管搬送システム 1の薄板収納用圧力容器 3をそのまま 用いる。このため、内側容器 52は、レチクル 2を収納する受体 (ベース 6)と、当該受 体を覆って取り付けられる蓋体 (カバー 7)と、前記受体を当該蓋体で覆って閉じたと きに内部に形成される収納空間 17を外部環境力も気密に隔離するシール 11とを備 えて構成されている。内側容器 52の外側には圧力供給装置 4が設けられている。上 記薄板保管搬送システム 1の薄板収納用圧力容器 3では、圧力供給装置 4を内部に 収納したが、ここでは、圧力供給装置 4を内側容器 52の外側に設けた。この圧力供 給装置 4によって、内側容器 52の収納空間 17内に圧力が供給されて、収納空間 17 内の圧力を前記外側容器 53内の圧力よりも高い設定圧力に保たれる。なお、レチク ル 2としては、その表面に何も設けない場合と、ペリクルを有する場合がある。
[0067] 外側容器 53は、前記内側容器 52を内部に収納する容器である。外側容器 53は、 外受体 55と外蓋体 56とから構成さて ヽる。
[0068] 外受体 55は、浅い皿状に形成されている。この外受体 55の周囲の壁板の少なくと も上部は、前記薄板収納用圧力容器 3のシール受 14が形成できる広さに拡大して形 成され、前記薄板収納用圧力容器 3のシール受 14と同様のシール受 (図示せず)が 設けられている。外受体 55の壁板の内側面には、ケミカルァブゾーバー 57が設けら れている。このケミカルァブゾーバー 57は、内側容器 52や、外側容器 53から発生す ることがある揮発性有機化合物 (揮発性を有し、大気中で気体状となる有機化合物の 総称 (VOC)であり、トルエン、キシレン、酢酸ェチルなど多種多様な物質)を吸収し て除去する吸収剤である。このケミカルァブゾーバー 57による VOC濃度の変化の一 例を図 22及び図 23のグラフに示す。図 22は、ケミカルァブゾーバーを使用せずに 同一のレチクルケースを 3回実験した例である。 200時間後の VOC濃度の変化を見 ると、初期値の 10倍近い値になっている。これに対して図 23はケミカルァブゾーバー 57を使用した実験例である。この実験結果力 分力るように、ケミカルァブゾーバー 5 7を使用しない場合には 200時間後に VOC濃度が初期値の 10倍近い値になってい るのに対して、ケミカルァブゾーバー 57を使用した場合は、初期値の 2Z3程度に減 少している。このように、ケミカルァブゾーバー 57は VOC濃度の低減に効果が高い ため、レチクルケースに使用する。
[0069] ケミカルァブゾーバー 57は、吸着面積を大きくして吸着効率を高くするために長方 形の薄板状に形成されている。外受体 55の一辺の壁板の内側面のほぼ全面を覆う 寸法に設定されている。なお、このケミカルァブゾーバー 57は、外受体 55の一辺の 壁板の内側面のほぼ全面に設ける場合以外に、一部に設けてもよい。また、ケミカル ァブゾーバー 57は、内側容器 52にだけ設けても良い。外側容器 53と内側容器 52の 収納空間 17内との両方に設けて、外側容器 53内の空間と内側容器 52内の空間の 両側から揮発性有機化合物を吸着するようにしても良 ヽ。
[0070] 外受体 55の底面には、内側容器 52を支持固定するための内側容器固定部 (図示 せず)が設けられている。この内側容器固定部としては、内側容器 52の外形に合わ せた凹みを設けた弾性部材 (弾性及び帯電性を有する合成樹脂等)を外受体 55に 装着する等によって構成されている。フック等の固定手段を設けて、固定してもよい。 公知の固定手段を用いることができる。この固定手段は、導電性を有する材料または 非帯電性の材料で構成される。 [0071] 外蓋体 56は、前記外受体 55と同様の形状を有している。具体的には、裏返した浅 い皿状に形成され、外受体 55の上側に取り付けられる。外蓋体 56の周囲の壁板の 下部は、前記シール受 14の外周に嵌り合って、その内側面にシールが密着される。 外蓋体 56の壁板には呼吸弁 59が設けられている。この呼吸弁 59は、図 21に示すよ うに、弁収納凹部 61の被嵌合管 62に嵌合して取り付けられる。呼吸弁 59は具体的 には、嵌合管部 65と、フィルタ収納部 66と、開放管部 67とから構成されている。嵌合 管部 65は、前記弁収納凹部 61の被嵌合管 62に嵌合する部分である。この嵌合管 部 65が前記被嵌合管 62に嵌合することで、外側容器 53の内側と外側とが後述する メンブレンフィルタ 68を介して連通される。フィルタ収納部 66は、メンブレンフィルタ 6 8を収納して支持する部分である。フィルタ収納部 66は、薄い円盤状に形成され、そ の内部に薄い円盤状のメンブレンフィルタ 68が受納されている。開放管部 67は、前 記弁収納凹部 61の被嵌合管 62から、メンブレンフィルタ 68を介して外部まで連通す る連通路を形成する部分である。以上のように構成された呼吸弁 59によって、内圧 が高くなつたら内部の気体の通過を許容し、外圧が高くなつたら外部の気体の通過 を許容して、外側容器 53の内圧と外圧との差を解消している。特に、内側容器 52の 内圧がこの内側容器 52の外側の圧力(外側容器 53の内圧)よりも低くなつてパーチ クルなどが内側容器 52の内部に侵入するのを防止するため、外側容器 53の内圧の 異常上昇を抑える必要がある。このために、呼吸弁 59によって外側容器 53の内圧を 外圧と同じになるように調整して外側容器 53の内圧の異常上昇を抑える。呼吸弁 59 は、この調整機能を図るために必要な場合は、 2個以上設けられる場合もある。
[0072] 外側容器 53を構成する上記外受体 55及び外蓋体 56は、帯電防止高分子材料で 形成され、静電気によるパーチクルなどの吸着を防止している。さらに、これら内側容 器 52と外側容器 53とは上記内側容器固定部によって導通して、静電気によるパー チクルなどの吸着を防止して 、る。
[0073] 外受体 55と外蓋体 56とは固定手段 (図示せず)で互いに固定される。この固定手段 としては、前記薄板保管搬送システム 1のストツバ 8と同様の部材を用いることができ る。また、他の構造の固定手段を用いてもよい。
[0074] [動作] 以上のように構成されたレチクルケースは、次のようにして使用される。
[0075] 内側容器 52については、上記薄板保管搬送システム 1の使用態様と同様である。
内部にレチクル 2を収納して収納空間 17内を設定圧力に調整する等の処置を施す。
[0076] 次いで、外側容器 53の外蓋体 56を外受体 55から取り外して外側容器 53の内部を 開放する。
[0077] 次いで、内側容器 52を外側容器 53の外受体 55の内側容器固定部に装着して固 定し、外蓋体 56を取り付けて外受体 55と外蓋体 56とを互いに固定する。
[0078] この作業は、清浄な雰囲気中で行われて、外側容器 53内が清浄状態に保たれる。
[0079] または、前記薄板保管搬送システム 1の給圧器 9と調圧器 10を外側容器 53にも設 けて、外部の圧力供給装置 (図示せず)力ゝらの清浄ガスで外側容器 53内を入れ替え る。
[0080] この状態で目的地まで搬送し、外側容器 53の外蓋体 56を外受体 55から取り外し て、内側容器 52を外側容器 53から取り出す。
[0081] そして、内側容器 52を上記薄板保管搬送システム 1の場合と同様に処理する。
[0082] [効果]
以上のように、レチクル 2の搬送に際して、内側容器 52で清浄な状態を確保すると 共に、さらに外側容器 53で内側容器 52の雰囲気をも清浄な状態に確保することが できるため、レチクル 2の搬送時の安全性を向上させることができる。
産業上の利用可能性
[0083] 前記実施形態では、圧力供給装置 4として、圧力ボンべを備えた装置を例に説明し たが、圧力供給装置 4が薄板収納用圧力容器 3と共に搬送されない場合は、圧力供 給装置 4を圧力ポンプを備えた装置等の大型の装置として構成しても良い。
[0084] また、圧力供給装置 4が薄板収納用圧力容器 3と共に搬送されな 、場合は、この圧 力供給装置を、薄板収納用圧力容器用ラックに設けてもよい。薄板収納用圧力容器 用ラックは、薄板収納用圧力容器 3を複数枚並べて収納して保管する棚部材である 。この場合は、各薄板収納用圧力容器 3が収納される薄板収納用圧力容器用ラック の位置であって、通気孔 20のインターフェイス嵌合部 27に対向する位置に、ガス導 入インターフェイス及びガス導出インターフェイスが位置するように、圧力供給装置を 配設する。これにより、薄板収納用圧力容器を薄板収納用圧力容器用ラックに収納 することで、自動的に薄板収納用圧力容器内の圧力が設定圧力に調整されることが できる。
[0085] 前記実施形態では、圧力供給装置 4を薄板収納用圧力容器 3に 1個だけ設けたが 、 2個以上設けてもよい。薄板収納用圧力容器 3の大きさ、圧力供給装置 4の能力等 を考慮して圧力供給装置 4の個数を設定する。
[0086] 前記実施形態では、レチクル 2を 1枚だけ収納できる薄板保管搬送システム 1及び レチクルケース 51を例に説明したが、多数の半導体ウェハを収納する薄板収納容器 の場合でも本発明を適用することができる。この場合も、前記実施形態同様の作用、 効果を奏することができる。

Claims

請求の範囲
[1] 1又は複数の薄板を収納する容器本体と、当該容器本体を覆って取り付けられる蓋 体と、前記容器本体を当該蓋体で覆って閉じたときに内部に形成される収納空間を 外部環境力 気密に隔離するシールとを備えた薄板収納用圧力容器と、
当該薄板収納用圧力容器の前記収納空間内に圧力を供給して当該収納空間内 の圧力を外部の圧力よりも高 、設定圧力にする圧力供給装置と
を備えたことを特徴とする薄板保管搬送システム。
[2] 請求項 1に記載の薄板保管搬送システムにお 、て、
前記圧力供給装置が、圧力ボンべを備えて構成され、前記薄板収納用圧力容器 に組み込まれたことを特徴とする薄板保管搬送システム。
[3] 請求項 1に記載の薄板保管搬送システムにお 、て、
前記薄板収納用圧力容器を保管する圧力容器用ラックと、
当該圧力容器用ラックに前記薄板収納用圧力容器を装着することで当該薄板収納 用圧力容器と前記圧力容器用ラック側に設けられた前記圧力供給装置とを互いに連 結される連結器と
を備えたことを特徴とする薄板保管搬送システム。
[4] 請求項 1に記載の薄板保管搬送システムにお 、て、
前記容器本体または蓋体の一方又は両方に設けられて前記収納空間内と外部と を連通する通気孔と、
当該通気孔に設けられ、外部から前記収納空間内への気体の流れを許容すると同 時にその逆の流れを阻止する逆止弁とをさらに備えたことを特徴とする薄板保管搬 送システム。
[5] 請求項 4に記載の薄板保管搬送システムにお 、て、
前記通気孔にケミカルフィルタを備えたことを特徴とする薄板保管搬送システム。
[6] 請求項 4に記載の薄板保管搬送システムにお 、て、
前記逆止弁が、外部からの操作による開放できる機構を備えたことを特徴とする薄 板保管搬送システム。
[7] 請求項 6に記載の薄板保管搬送システムにお 、て、 前記通気孔が 2つ以上設けられると共に、当該複数の通気孔のうち少なくとも 2つ は、前記圧力供給装置に設けられたガス導入インターフェイス及びガス導出インター フェイスに接続可能に設けられ、
前記圧力供給装置が前記通気孔の逆止弁を開閉制御する開閉機構を備えたこと を特徴とする薄板保管搬送システム。
[8] 請求項 1に記載の薄板保管搬送システムにお 、て、
上記シールは、少なくとも 1つのリップを有すると共に、前記容器本体または蓋体に 形成されているシール受に面する部分に、少なくとも 1つの凸条を有することを特徴と する薄板保管搬送システム。
[9] 請求項 1に記載の薄板保管搬送システムにお 、て、
圧力供給装置による設定圧力が 1. 1気圧以上で 2気圧未満であることを特徴とす る薄板保管搬送システム。
[10] 請求項 1に記載の薄板収納用圧力容器にお!、て、
前記収納空間内に、ケミカルァブゾーバーを設けたことを特徴とする薄板収納用圧 力容器。
[11] レチクルを収納する受体と、当該受体を覆って取り付けられる蓋体と、前記受体を 当該蓋体で覆って閉じたときに内部に形成される収納空間を外部環境力 気密に隔 離するシールとを備えてなる内側容器と、
当該内側容器が収納される外側容器とからなるレチクルケースであって、 前記内側容器の前記収納空間内に圧力を供給して当該収納空間内の圧力を前記 外側容器内の圧力よりも高!ヽ設定圧力にする圧力供給装置を備えたことを特徴とす るレチクルケース。
[12] 請求項 11に記載のレチクルケースにぉ ヽて、
前記内側容器の前記受体および前記蓋体の各々の内面に、前記収納空間内に収 納される前記レチクルを挟持するための複数の支持体を備えたことを特徴とするレチ クノレケース。
[13] 請求項 11に記載のレチクルケースにぉ ヽて、
前記外側容器が、外受体と外蓋体とからなり、当該外受体を前記外蓋体で閉じたと きに、この外側容器内を環境力も気密に隔離するシールと、
前記内側容器を支持固定するための内側容器固定部と、
内部にメンブレンフィルタを備えて当該メンブレンフィルタを介して外部環境と連通 する少なくとも 1つの呼吸弁と、
前記外受体を前記外蓋体で閉じたときにこれらを結合する外結合部とを備えたこと を特徴とするレチクルケース。
[14] 請求項 11に記載のレチクルケースにお!ヽて、
前記圧力供給装置が、前記外側容器内に取り付けられたことを特徴とするレチクル ケース。
[15] 請求項 11に記載のレチクルケースにぉ ヽて、
前記内側容器と外側容器とが帯電防止高分子材料で形成され、これら内側容器と 外側容器との間が導通されていることを特徴とするレチクルケース。
[16] 請求項 11に記載のレチクルケースにお!ヽて、
前記圧力供給装置が、圧力ボンべを備えて構成され、前記薄板収納用圧力容器 に組み込まれたことを特徴とするレチクルケース。
[17] 請求項 11に記載のレチクルケースにぉ ヽて、
前記薄板収納用圧力容器を保管する圧力容器用ラックと、
当該圧力容器用ラックに前記薄板収納用圧力容器を装着することで当該薄板収納 用圧力容器と前記圧力容器用ラック側に設けられた前記圧力供給装置とを互いに連 結される連結器と
を備えたことを特徴とするレチクノレケース。
[18] 請求項 11に記載のレチクルケースにお!ヽて、
前記容器本体または蓋体の一方又は両方に設けられて前記収納空間内と外部と を連通する通気孔と、
当該通気孔に設けられ、外部から前記収納空間内への気体の流れを許容すると同 時にその逆の流れを阻止する逆止弁とをさらに備えたことを特徴とするレチクルケ一 ス。
[19] 請求項 18に記載のレチクルケースにおいて、 前記通気孔にケミカルフィルタを備えたことを特徴とするレチクルケース。
[20] 請求項 18に記載のレチクルケースにおいて、
前記逆止弁が、外部からの操作による開放できる機構を備えたことを特徴とするレ チタノレケース。
[21] 請求項 20に記載のレチクルケースにおいて、
前記通気孔が 2つ以上設けられると共に、当該複数の通気孔のうち少なくとも 2つ は、前記圧力供給装置に設けられたガス導入インターフェイス及びガス導出インター フェイスに接続可能に設けられ、
前記圧力供給装置が前記通気孔の逆止弁を開閉制御する開閉機構を備えたこと を特徴とするレチクルケース。
[22] 請求項 11に記載のレチクルケースにぉ ヽて、
上記シールは、少なくとも 1つのリップを有すると共に、前記容器本体または蓋体に 形成されているシール受に面する部分に、少なくとも 1つの凸条を有することを特徴と するレチクルケース。
[23] 請求項 11に記載のレチクルケースにぉ ヽて、
圧力供給装置による設定圧力が 1. 1気圧以上で 2気圧未満であることを特徴とす るレチクルケース。
[24] 請求項 11に記載のレチクルケースにお!ヽて、
前記収納空間内に、ケミカルァブゾーバーを設けたことを特徴とするレチクルケ一 ス。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012013528A1 (fr) * 2010-07-27 2012-02-02 L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude Dispositif de stockage d'articles sous atmosphere controlee
JP2014116490A (ja) * 2012-12-11 2014-06-26 Shin Etsu Polymer Co Ltd 基板収納容器
JP2014157190A (ja) * 2013-02-14 2014-08-28 Toshiba Corp 基板収納容器及び露光装置
JP2016200277A (ja) * 2015-04-13 2016-12-01 ズス・マイクロテック・リソグラフィ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツングSuss MicroTec Lithography GmbH ウエハ処理装置およびウエハ処理装置用のシーリングリング
JP2019528486A (ja) * 2016-08-30 2019-10-10 ブルックス オートメーション (ジャーマニー) ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングBrooks Automation (Germany) Gmbh レチクル容器及び拡散板
US11869787B2 (en) 2014-12-01 2024-01-09 Entegris, Inc. Substrate container valve assemblies

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8215510B2 (en) * 2008-03-24 2012-07-10 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Photomask storage apparatus
DE102013004481A1 (de) * 2013-03-12 2014-08-28 Carl Zeiss Sms Gmbh Vorrichtung und Verfahren zum Öffnen von Retikelhüllen
TWD211778S (zh) * 2020-09-22 2021-05-21 家登精密工業股份有限公司 光罩盒
WO2023078589A1 (en) * 2021-11-08 2023-05-11 Brooks Automation (Germany) Gmbh Stocker system
EP4258330A1 (en) * 2022-04-08 2023-10-11 Brooks Automation (Germany) GmbH Stocker pod, method and stocker for storing a semiconductor fabrication article

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10184915A (ja) * 1996-12-18 1998-07-14 Shin Etsu Polymer Co Ltd 精密部品輸送用密封容器とその使用方法
JP2003264225A (ja) * 2002-03-12 2003-09-19 Shin Etsu Polymer Co Ltd ガラス基板収納容器
JP2004260087A (ja) * 2003-02-27 2004-09-16 Shin Etsu Polymer Co Ltd 収納容器
JP2004531064A (ja) * 2001-05-17 2004-10-07 株式会社荏原製作所 基板搬送容器
JP2005225545A (ja) * 2004-02-16 2005-08-25 Miraial Kk シール部材
JP2005340243A (ja) * 2004-05-24 2005-12-08 Miraial Kk 収納容器のガス置換装置およびそれを用いたガス置換方法
JP2006146079A (ja) 2004-11-24 2006-06-08 Miraial Kk レチクル搬送容器

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3776118D1 (de) * 1986-12-22 1992-02-27 Siemens Ag Transportbehaelter mit austauschbarem, zweiteiligem innenbehaelter.
JPH02278746A (ja) * 1989-04-19 1990-11-15 Nec Corp ウェハー保管箱
DE4130562A1 (de) * 1991-09-13 1993-04-01 Agfa Gevaert Ag Magazin fuer blattfilme und entnahme von filmen
JP3191392B2 (ja) * 1992-04-07 2001-07-23 神鋼電機株式会社 クリーンルーム用密閉式コンテナ
US5469963A (en) * 1992-04-08 1995-11-28 Asyst Technologies, Inc. Sealable transportable container having improved liner
US6216873B1 (en) * 1999-03-19 2001-04-17 Asyst Technologies, Inc. SMIF container including a reticle support structure
JP3939101B2 (ja) * 2000-12-04 2007-07-04 株式会社荏原製作所 基板搬送方法および基板搬送容器
WO2004038789A1 (ja) * 2002-10-25 2004-05-06 Shin-Etsu Polymer Co., Ltd. 基板収納容器
JP4027214B2 (ja) * 2002-11-28 2007-12-26 キヤノン株式会社 搬送装置、デバイス製造装置、搬送方法およびデバイス製造方法
KR100490594B1 (ko) * 2003-02-18 2005-05-19 삼성전자주식회사 피 보관체의 안정적인 보관을 위한 보관 방법 및 보관함및 스토커를 포함하는 보관 장치
KR100729699B1 (ko) * 2003-05-15 2007-06-19 티디케이가부시기가이샤 클린 박스 개폐 장치를 구비하는 클린 장치
JP2006103795A (ja) * 2004-09-10 2006-04-20 Nippon Valqua Ind Ltd ガラス基板収納ケース、ガラス基板入替装置、ガラス基板管理装置、ガラス基板流通方法、シール部材及びこのシール部材を用いたシール構造
US7528936B2 (en) * 2005-02-27 2009-05-05 Entegris, Inc. Substrate container with pressure equalization
US7400383B2 (en) * 2005-04-04 2008-07-15 Entegris, Inc. Environmental control in a reticle SMIF pod

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10184915A (ja) * 1996-12-18 1998-07-14 Shin Etsu Polymer Co Ltd 精密部品輸送用密封容器とその使用方法
JP2004531064A (ja) * 2001-05-17 2004-10-07 株式会社荏原製作所 基板搬送容器
JP2003264225A (ja) * 2002-03-12 2003-09-19 Shin Etsu Polymer Co Ltd ガラス基板収納容器
JP2004260087A (ja) * 2003-02-27 2004-09-16 Shin Etsu Polymer Co Ltd 収納容器
JP2005225545A (ja) * 2004-02-16 2005-08-25 Miraial Kk シール部材
JP2005340243A (ja) * 2004-05-24 2005-12-08 Miraial Kk 収納容器のガス置換装置およびそれを用いたガス置換方法
JP2006146079A (ja) 2004-11-24 2006-06-08 Miraial Kk レチクル搬送容器

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP2085325A4 *

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012013528A1 (fr) * 2010-07-27 2012-02-02 L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude Dispositif de stockage d'articles sous atmosphere controlee
FR2963327A1 (fr) * 2010-07-27 2012-02-03 Air Liquide Dispositif de stockage d'articles sous atmosphere controlee
CN103026481A (zh) * 2010-07-27 2013-04-03 乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司 用于在受控气氛中储存物品的设备
US9863655B2 (en) 2010-07-27 2018-01-09 L'Air Liquide, Société Anonyme l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude Device for storing articles in controlled atmosphere
JP2014116490A (ja) * 2012-12-11 2014-06-26 Shin Etsu Polymer Co Ltd 基板収納容器
JP2014157190A (ja) * 2013-02-14 2014-08-28 Toshiba Corp 基板収納容器及び露光装置
US11869787B2 (en) 2014-12-01 2024-01-09 Entegris, Inc. Substrate container valve assemblies
JP2016200277A (ja) * 2015-04-13 2016-12-01 ズス・マイクロテック・リソグラフィ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツングSuss MicroTec Lithography GmbH ウエハ処理装置およびウエハ処理装置用のシーリングリング
JP2019528486A (ja) * 2016-08-30 2019-10-10 ブルックス オートメーション (ジャーマニー) ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングBrooks Automation (Germany) Gmbh レチクル容器及び拡散板
US11171024B2 (en) 2016-08-30 2021-11-09 Brooks Automation Gmbh Reticle compartment and diffusor plate

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