WO2007114199A1

WO2007114199A1 - 光学活性（ｓ）－７－ヒドロキシ－６－メチルヘプタン－２－オンおよびその前駆体の製造方法

Info

Publication number: WO2007114199A1
Application number: PCT/JP2007/056742
Authority: WO
Inventors: Nobushige Itaya; Hiroshi Maeda; Yuki Sato
Original assignee: Sumitomo Chemical Company, Limited
Priority date: 2006-03-28
Filing date: 2007-03-22
Publication date: 2007-10-11
Also published as: US20090118534A1; EP2003211A4; EP2003211A2; US8026081B2; EP2003211A9

Abstract

光学活性（Ｓ）−７−ヒドロキシ−６−メチルヘプタン−２−オンおよびその前駆体を簡便に効率よく工業的に製造することができる方法を提供する。２−メチル−６−オキソヘプタン酸エステル（ＩＩ）に、Ｒ体を優先的に加水分解し得る、アスペルギルス（Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ）属の微生物由来のエステラーゼを作用させることにより光学分割する、光学活性（Ｓ）−２−メチル−６−オキソヘプタン酸エステル（ＩＩＩ）の製造方法。

Description

明細書光学活性（S) — 7—ヒドロキシ— 6—メチルヘプタン一 2—オンおよびその前駆体の製造方法技術分野

本発明は、光学活性（S) —7—ヒドロキシ一 6—メチルヘプタン— 2—オンおよびその前駆体の製造方法に関する。背景技術

下式で表されるェポチ口誘導体は、抗癌剤として有用である。

R=H:EpothiloneA

R=Me:Epo1hilone B

ェポチロン誘導体の合成において、 Cy Ci ₂のビルディングブロックとしては、光学活性（S) —7—ヒドロキシー 6—メチルヘプタン一 2—オンが有用であり、当該化合物は光学活性（S) —2—メチル一6—ォキソヘプタン酸からそのエステルを経て誘導することができる（特許文献 1および 2、非特許文献 1および 2を参照）。 2—メチル—6—ォキソヘプタン酸については、種々の製法が提案されている（非特許文献 3〜 8を参照）。しかしながら、非特許文献 3〜 6に記載の製法は、対応する天然物を抽出 ·単離し、それを酸化する方法であるため、原料入手に問題があった。また、非特許文献 6に記載の製法は、（R) 体の製法である。さらに、非特許文献 7および 8に記載の製法は、過マンガン酸カリウムを用いて 2， 6—ジメチルシクロへキサノンを酸化する方法であるが、得られる生成物は 2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸のラセミ体であり、光学的に不活性であつた。

[特許文献 1] DE 19751200

[特許文献 2] W02005 003071

[非特許文献 1] J. A. C. S. , 119， 7974 (1997)

[非特許文献 2] C em. Eu r. J. , 2, 1477 (1996)

[非特許文献 3] Na t u r a l P r oduc t Le t t e r s, 3, 189 ( 1993)

[非特許文献 4] J. Na t. P r od. , 66， 251 (2003)

[非特許文献 5] Na t u r a l P r odu c t Le t t e r s, 4, 51 (1 994)

[非特許文献 6] He 1 v. Ch im. Ac t a, 73, 733 (1990) [非特許文献 7] J. Med. Chem. , 26， 426 (1983) [非特許文献 8] Co l l e c t. Cz e ch. Chem. Commun. ， 30， 1214 (1965) 発明の開示

本発明の目的は、光学活性（S) 一 7—ヒドロキシー 6—メチルヘプタン一 2—オンおよびその前駆体である光学活性（S) —2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸エステル等を簡便に効率よく工業的に製造することができる方法を提供することにある。本発明者らは、 2—メチル—6—ォキソヘプタン酸エステル（RS混合物）を、特定のエステラーゼを作用させることにより光学分割すると、高い光学純度で（S) 体が得られるという知見を得、この光学分割を利用すれば、光学活性（S) — 7—ヒドロキシー 6— メチルヘプ夕ンー 2—オンを簡便に効率よく工業的に製造することができることを見出した。即ち本発明は、以下の [1] [11] を提供するものである。

[13 式（I I) ：

(式中、 R¹は炭素数 1一 5のアルキル基を表す）

で表される 2—メチル— 6—ォキソヘプタン酸エステルに、 R体を優先的に加水分解し得る、ァスペルギルス（As pe r g i 1 l us) 属の微生物由来のエステラーゼを作用させることにより光学分割する、式（I I I) ：

(式中、 R¹は前記と同じ意味を表す）

で表される光学活性（S) — 2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸エステルの製造方法。

[2] . 式（I I I) ：

(式中、 R ¹は炭素数 1一 5のアルキル基を表す）

で表される光学活性（S) — 2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸エステルの力ルポニル基を保護して、式（I V) ：

(式中、 Aは酸素原子または硫黄原子を表し、 R¹は前記と同じ意味を表し、 R²および R³ は、それぞれ独立して炭素数 1一 5のアルキル基を表すか、または互いに結合して炭素数 2— 5のアルキレン基を表す）

で表される光学活性（S) —ケタールエステルを得る工程をさらに含む [1] 記載の製造方法。

[3] . 式（I V) ：

(式中、 A、 R¹, R²および R³は、前記と同じ意味を表す）

で表される光学活性（S) —ケタールエステルを還元して、式（V)

M

(式中、 A、 R²および R³は、前記と同じ意味を表す）

で表される光学活性（S) —ケタールアルコールを得る工程をさらに含む [2] 記載の製造方法。

[4] . 式（I I) ：

(式中、 R¹は、前記と同じ意味を表す）

で表される 2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸エステルに、 R体を優先的に加水分解し得る、ァスペルギルス属の微生物由来のエステラーゼを作用させることにより光学分割して、式（I I I) ：

(Hi)

(式中、 R¹は、前記と同じ意味を表す）

で表される光学活性（S) — 2—メチル- 6一ォキソヘプタン酸エステルを得る工程；式（I I I) で表される光学活性（S) 一 2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸エステルの力ルポ二ル基を保護して、式（I V) ：

R² R³

(式中、 A、 R¹, R²および R³は、前記と同じ意味を表す）

で表される光学活性（S) —ケタールエステルを得る工程；

式（IV) で表される光学活性（S) —ケタールエステルを還元して、式（V)

(式中、 A、 R²および R³は、前記と同じ意味を表す）

で表される光学活性（S) —ケタールアルコールを得る工程；および

式（V) で表される光学活性（S) —ケタールアルコールを脱保護して、式（I) ：

で表される光学活性（S)— 7—ヒドロキシ一 6—メチルヘプタン一 2—オンを得る工程；を含む、式（I) で表される光学活性（S) — 7—ヒドロキシ— 6—メチルヘプタン— 2 —オンの製造方法。

[5] . 式（I I I) で表される光学活性（S) — 2—メチル—6—ォキソヘプタン酸エステルの光学純度が 95~100%e eである [1] 〜 [4] のいずれかに記載の製造方法。

[6] . R¹がメチル基である [1] ~ [5] のいずれかに記載の製造方法。

[7] . R²および R³が、共にメチル基であるか、または互いに結合してエチレン基またはプロピレン基を表す [2] 〜 [6] のいずれかに記載の製造方法。

[8] . ァスペルギルス属の微生物がァスペルギルス ·フラバス（As p e r g i 1 1 us f 1 a v u s ) である [ 1 ] ~ [ 7 ] のいずれかに記載の製造方法。

[9] . ァスペルギルス属の微生物がァスペルギルス ·フラバス ATCC 11492ft である [1] 〜 [8] のいずれかに記載の製造方法。

[10] . 式（ I V') ：

(式中、 Aは酸素原子または硫黄原子であり、 R¹'はメチル基、ェチル基、プロピル基、またはブチル基であり、かつ R ² 'および R³'は共にメチル基であるか、あるいは、 Aは酸素原子または硫黄原子であり、 R はメチル基であり、かつ R²'および R³'は互いに結合してェチレン基またはプロピレン基を表す）

で表される光学活性（S) —ケタールエステル。

[11] . Aが酸素原子であり、かつ尺¹'、 R²'および R³'が共にメチル基である [10] 記載の光学活性（S) —ケタールエステル。発明を実施するための形態

以下に、本発明を詳細に説明する。

まず、本明細書において使用する基の定義を以下に説明する。「炭素数 1一 5のアルキル基」とは、炭素数 1〜 5個の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基であり、例えば、メチル基、ェチル基、 n—プロピル基、イソプロピル基、 n—プチル基、イソブチル基、 s e c一ブチル基、 t e r t—ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、 t e r t—ペンチル基、 1, 2—ジメチルプロピル基等が挙げられる。中でも、好ましくは、メチル基、ェチル基、 n—プロピル基であり、より好ましくはメチル基である。

「炭素数 2— 5のアルキレン基」とは、炭素数 2 ~ 5個の直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基であり、例えば、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基等が挙げられる。好ましくは、エチレン基、プロピレン基である。

R¹は、好ましくは、メチル基、ェチル基、 n—プロピル基であり、より好ましくはメチル基である。

R²および R³は、好ましくは、共にメチル基であるか、あるいは互いに結合してェチレン基またはプロピレン基を形成する。本発明では、まず、上記式（I I) で示される 2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸エステル（以下、 2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸エステル（I I) ともいう）に、 R体を優先的に加水分解し得る、ァスペルギルス属の微生物由来のエステラーゼを作用させることにより光学分割して、上記式（I I I) で示される光学活性（S) — 2—メチルー 6— ォキソヘプタン酸エステル（以下、光学活性（S) — 2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸エステル（I I I) ともいう）を製造する（工程 a) 。

2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸エステル（I I) には、 — CC^R¹基の α位の炭素原子を不斉中心とする 2種の光学異性体（S体と R体）が存在するが、本発明の製造方法に用いられる 2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸エステル（I I) は、これらの光学異性体を等量含むラセミ体であっても、一方の光学異性体を過剰に（任意の割合で）含む混合物であってもよい。好ましくはラセミ体である。なお、式（I I) における波線は、メチル基との単結合を表し、該メチル基が結合する炭素原子を不斉中心として、 2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸エステル（I I) が、上記のラセミ体または上記の一方の光学異性体を過剰に（任意の割合で）含む混合物であることを表す。

2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸エステル（I I) は、例えば、上記特許文献 1、 2、 7、非特許文献 1、 2等の記載を参照して、 2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸をエステル化することによって得ることができる。また、この 2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸は、例えば、非特許文献 7、 8等を参照して、工業的に容易に入手可能な 2, 6—ジメチルシクロへキサノンを、過マンガン酸カリウムを用いて酸化することによって得ることができる。工程 aで使用されるエステラーゼは、 R体を優先的に加水分解し得るものである。本発明では、 R体を優先的に加水分解し得る、ァスペルギルス属（A s p e r g i 1 1 u s ) の微生物由来のエステラーゼ（以下、単にエステラーゼともいう）が使用され、好ましくは、 R体を優先的に加水分解し得る、ァスペルギルス ·フラバス（A s p e r g i 1 1 u s f 1 a v u s ) 由来のエステラーゼ、より好ましくは、ァスペルギルス 'フラパス A T C C 1 1 4 9 2株由来のエステラーゼが使用される。また、これらのエステラーゼは、これらの微生物が有する酵素遺伝子が導入されることによって形質転換された組換え微生物が産生するエステラーゼであっても、これら微生物から突然変異剤もしくは紫外線等の処理により誘導された突然変異体由来のエステラーゼであっても、あるいは遺伝子工学的手法によりこれらエステラーゼのアミノ酸配列中の特定アミノ酸が 1個ないし数個、欠如、付加あるいは置換されてなる変異型エステラーゼ等であってもよい。これらのエステラーゼを産生する微生物は、通常の方法によって液体培養することがでさる。

培地としては、通常、微生物培養に使用される炭素源、窒素源や無機物等を適宜含む各種の培地を使用することができる。

例えば、炭素源としては、グルコース、グリセロール、有機酸や糖蜜等を挙げることができる。窒素源としては、ペプトン、酵母エキス、麦芽エキス、大豆粉、コーンスティ一プリカ一、綿実粉、乾燥酵母、カザミノ酸、アミノ酸類、塩化アンモニゥム、硝酸アンモ二ゥム、硫酸アンモニゥムゃ尿素等を挙げることができる。

無機物としては、カリウム、ナトリウム、マグネシウム、鉄、マンガン、コバルトや亜鉛等の金属の塩酸塩、上記金属の硫酸塩及び前記金属のリン酸塩等が挙げられる。より具体的には、塩ィ匕カリウム、塩化ナトリウム、硫酸マグネシウム、硫酸第一鉄、硫酸マンガン、塩化コバルト、塩化カルシウム、硫酸亜鉛、リン酸カリウムやリン酸ナトリウム等が挙げられる。

また、上記微生物の不斉水解能を高めるために、適宜、オリ一ブ油若しくはトリブチリン等のトリグリセリド、又は上述した基質を培地に添加してもよい。

培養は、通常、好気的雰囲気で行うのがよく、振とう培養又は通気撹拌培養が好ましい。培養温度は、通常、約 2 0〜約 4 0 °Cの範囲、好ましくは 2 5〜 3 5での範囲である。 p Hは 6〜8の範囲が好ましい。培養時間は、条件によって異なるが、 1〜7日間の範囲が好ましい。

また、上記基質の不斉加水分解能を有する微生物菌体が得られる方法であれば、固体培養法を採用することもできる。

上述した酵素を、上記のようにして培養された微生物培養物から精製する方法としては、酵素の精製において一般に採用されている方法を採用することができる。

例えば、先ず、超音波処理、ダイノミル処理又はフレンチプレス処理等の方法により、微生物培養物中の菌体を破碎する。次に、得られた破碎液から遠心分離等により不溶物を除去した後、通常酵素の精製に使用される陽イオン交換カラムクロマトグラフィー、陰ィォン交換力ラムクロマトグラフィー、疎水力ラムクロマトグラフィー及ぴゲル濾過力ラムクロマトグラフィ一等の一つ又は二つ以上の手段を適宜組合せることによって、目的とする酵素を精製することができる。

これらのカラムクロマトグラフィーに使用する担体の一例としては、 DEAE— Sep ha r o s e f a s t f 1 ow (アマシャム ·フアルマシア ·バイオテク社製）や、 B u ty l -Toyope a r l 650S (東ソ一株式会社製）等を挙げることができる。エステラーゼの形態は、特に限定されるものではなく、精製エステラーゼ、粗エステラ —ゼ、エステラーゼ含有物、微生物培養液、微生物培養物、菌体、菌体培養液、およびそれらを処理したもの等の種々の形態で用いることができるが、工業的な製造方法を提供する観点から、上記のような種々の形態のエステラーゼを固定化したものを用いることが好ましい。固定化の方法としては、該エステラーゼを、例えば、シリカゲル、セラミックス等の無機担体、セルロース等の天然樹脂、スチレン—ジピニルベンゼン共重合体等の合成樹脂等へ、吸着法、ポリアクリルアミド法、含硫多糖類ゲル法、アルギン酸ゲル法、寒天ゲル法等の公知の方法を用いて固定化する方法が挙げられる。これらの中で、吸着法によつて固定化されたエステラーゼが好ましく用いられる。エステラーゼの使用量は、加水分解が立体選択性よく良好に進行するよう、エステラーゼの形態、酵素活性等に応じて適宜選択すればよい。例えば、エステラーゼが精製エステラーゼまたは粗エステラーゼの形態である場合、その使用量は、 2—メチル—6—ォキソヘプタン酸エステル（I I) 1重量部に対して、通常 0. 001~ 2重量部の範囲であり、好ましくは 0. 002〜0. 5重量部の範囲である。また、微生物培養物、菌体及びそれらの処理物の形態である場合の使用量は、 2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸エステル（ I I) 1重量部に対して、通常 0. 01〜200重量部の範囲であり、好ましくは 0. 1〜 50重量部の範囲である。エステラーゼによる加水分解は、水、或いは水と有機溶媒の混合溶媒中で行われる。水の使用量は、 2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸エステル（I I) 1重量部に対して、通常 0. 5〜200重量部、好ましくは 0. 5~20重量部である。有機溶媒としては、疎水性有機溶媒と親水性有機溶媒が挙げられ、疎水性有機溶媒としては、例えば、メチル t一プチルェ一テル、イソプロピルエーテル等のェ一テル類；メチルイソブチルケトン、メチルェチルケトン等のケトン類；トルエン、へキサン、シクロへキサン、ヘプタン等の炭化水素類等が挙げられる。親水性有機溶媒としては、例えば、 t —プタノ一ル、メタノール、エタノール、イソプロパノール、 n—ブ夕ノール等のアルコール類；テトラヒドロフラン等のエーテル類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類；アセトン等のケトン類； N, N—ジメチルホルムアミド等のアミド類；ァセトニトリル等の二トリル類等が挙げられる。これらの疎水性有機溶媒および親水性有機溶媒はそれぞれ、単独でまたは 2種以上を組み合わせて用いてもよく、あるいは、疎水性有機溶媒と親水性有機溶媒とを組み合わせて用いてもよい。有機溶媒の使用量は、 2—メチル—6—ォキソヘプタン酸エステル（I I) 1重量部に対して、通常は 200重量部以下であり、好ましくは 0. 1〜100重量部である。また、エステラーゼによる加水分解は、エステラーゼの種類にもよるが、加水分解の立体選択性が低下しないような値、通常は pH4~10、好ましくは pH6~8に維持して行われる。

PHを上記範囲とするには、緩衝水溶液が用いられ、緩衝水溶液としては、例えば、リン酸アルカリ金属塩水溶液（リン酸ナトリウム水溶液、リン酸カリウム水溶液等）等の無機酸塩の緩衝水溶液、酢酸アルカリ金属塩水溶液（酢酸ナトリウム水溶液、酢酸カリウム水溶液等）等の有機酸塩の緩衝水溶液等が挙げられる。この緩衝液の濃度は、好ましくは

0. 01〜0. 3M、より好ましくは 0. 05〜0. 1Mである。なお、この緩衝液は溶媒も兼ねる。また、上記の範囲に PHを維持するために、必要に応じて、反応系に塩基を添加して調整してもよい。かかる塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のァルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸カルシゥム等のアル力リ土類金属炭酸塩；炭酸水素ナトリゥム、炭酸水素力リゥム等のアル力リ金属重炭酸塩、リン酸二水素ナトリウム、リン酸水素ニナトリウム、リン酸二水素カリゥム、リン酸水素二力リゥム等のリン酸塩；トリェチルァミン、ピリジン等の有機塩基；アンモニア等が挙げられる。これらの塩基は、単独で用いてもよく、 2種以上を混合して用いてもよい。塩基は、通常は水溶液として添加されるが、有機溶媒と水との混合溶媒の溶液として添加してもよい。この有機溶媒としては、上記と同様のものが挙げられる。また、塩基は、固体として添加してもよく、懸濁液として添加してもよい。加水分解を行う方法は、特に限定されるものではなく、例えば、水（例えば、緩衝水溶液）、 2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸エステル（I I) およびエステラーゼ（例えば、樹脂等に固定化したもの）を混合する方法が挙げられる。有機溶媒を用いる場合には、該有機溶媒中で水、 2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸エステル（I I) およびエステラーゼを混合すればよい。反応温度は、好ましくは 5°C〜65で程度の範囲であり、より好ましくは 10°C〜50°C 程度の範囲である。反応時間は、反応温度によっても異なるが、通常 1〜100時間である。反応温度は、 65 °Cを超えるとエステラーゼの安定性が低下する傾向にあり、 5°C未満では反応速度が低下する傾向にある。上記加水分解によって、 2—メチル—6—ォキソヘプタン酸エステル（I I) 中の R体が立体選択的に、その立体配置を保持したままカルボン酸に加水分解される（即ち、光学活性（R) — 2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸が生成する）。かくして、未反応の光学活性（S) — 2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸エステル（I I I ) および加水分解生成物である光学活性（R) — 2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸を含む反応混合物が得られる。

反応混合物中のこれらの化合物を分離するために、又は反応で使用したエステラーゼ、緩衝剤（緩衝水溶液の構成成分）等とこれらの化合物とを分離するために、さらに後処理操作を行ってもよい。後処理操作としては、例えば、反応混合物中の溶媒を留去した後にシリカゲルクロマトグラフィーを用いて分離精製する方法、分液操作により分離精製する方法等が挙げられる。具体的には、加水分解後の反応混合物を、例えば、次のような処理に供することによって、光学活性（S ) — 2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸エステル（I I I ) を単離することができる。まず、反応混合物中に不溶のエステラーゼ、固定化担体等が存在する場合は、反応混合物を必要に応じて濾過助剤を通して濾過し、これらの不溶物を除去する。ここで、濾過性を改善するために、エステラーゼに加熱変性または酸変性の処理を施してもよく、あるいは、ボディーフィード濾過（反応混合物に濾過助剤を混合して濾過する）を行ってもよい。次いで、必要により、濾液の p Hを 6〜9に調整した後、水層と有機層とに分液し、有機層として光学活性（S ) —2—メチル一 6—ォキソヘプ夕ン酸エステル（I I I ) の溶液を得る。ここで、分液性を改善するために、濾液にメタノール、エタノール、 n—ブタノール等のアルコール類を添加してもよい。加水分解において疎水性有機溶媒を用いた場合等には、得られた反応混合物をそのまま分液してもよいが、加水分解において疎水性有機溶媒を用いなかった場合、その使用量が少ないために容易には分液できない場合、あるいは水の使用量が少ないために容易には分液できない場合等には、疎水性有機溶媒または水等を適宜加えた後に分液すればよい。疎水性有機溶媒としては、例えば、メチル t—プチルェ一テル、イソプロピルエーテル等のエーテル類、トルェン、へキサン、シクロへキサン、ヘプタン等の炭化水素類、ジクロロメタン、ジクロロェタン、クロ口ホルム、クロ口ベンゼン、オルトジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、メチルエヂルケトン、メチルイソプチルケトン等のケトン類、酢酸エヂル、酢酸メチル、酢酸プチル等のエステル類等が挙げられる。次いで、得られた光学活性（S ) —2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸エステル（I I I ) の有機溶媒溶液から有機溶媒を留去することによって、目的の光学活性（S ) — 2— メチル一 6—ォキソヘプタン酸エステル（I I I ) を取り出すことができる。得られた光学活性（S ) — 2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸エステル（I I I ) はさらに、蒸留、カラムクロマトグラフィー処理等によって精製してもよい。なお、加水分解生成物である光学活性 (R) 一 2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸は、分液後の水層に含まれており、これは、水を留去すること、あるいは中和処理後に有機溶媒を用いて抽出すること等によって、容易に水層から取り出すことができる。得られた光学活性（R) — 2—メチル—6—ォキソヘプタン酸は、エステル化およびラセミ化の処理に供することによって、 2—メチル一6—ォキソヘプタン酸エステル（I I) として再利用することができる。このようにして得られた光学活性（S) —2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸エステル (I I I) の光学純度は、好ましくは 90〜100%e eであり、より好ましくは 95〜 100%e eであり、最も好ましくは 98〜； 100%e eである。この光学活性（S) —2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸エステル（I I I) は、以下の工程 b〜dにより、目的とする光学活性（S) —7—ヒドロキシー 6—メチルヘプタン —2—オン（I) へと導くことができる。

(工程 b)

この工程は、光学活性（S) —2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸エステル（I I I) のカルボ二ル基を保護して、上記式（IV) で示される光学活性（S) —ケタールエステル（以下、光学活性（S) —ケ夕一ルエステル（IV) ともいう）を得る工程である。なお、本発明においては、光学活性（S) —ケタールエステル（IV) は、光学活性（S)

—チオケ夕一ルエステルを含むものとする。カルボニル基の保護方法は、特に限定されるものではなく、カルボニル基をケタール基 (A =〇）またはチオケタール基 (A=S) に変換する（即ち、力ルポ二ル基を保護する) ために当該分野で通常用いられている任意の方法を採用することができる。例えば、光学活性（S) — 2—メチル ^6—ォキソヘプタン酸エステル（I I I) を、有機溶媒中、酸触媒存在下、 R ²および R ³に対応するアルコール類またはオルトギ酸エステル或いはチォ —ル類と反応させる方法が挙げられる。有機溶媒としては、反応の進行を妨げない限り特に限定されるものではなく、例えば、 t e r t一プチルメチルエーテル、イソプロピルェ一テル等のエーテル類；トルエン、へキサン、シクロへキサン、ヘプタン、オクタン、イソオクタン等の炭化水素類；ジクロロ' メタン、ジクロロェタン、クロ口ホルム、クロ口ベンゼン、オルトジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類等が挙げられる。有機溶媒の使用量は、光学活性（S) — 2—メチル—6—ォキソヘプタン酸エステル（I I I) の種類等に応じて適宜調整すればよく、通常、光学活性 (S) 一 2—メチル—6—ォキソヘプタン酸エステル（I I I) 1重量部に対して 0. 5~50重量部である。酸触媒としては、特に限定されるものではなく、例えば、塩酸、塩化アンモニゥム等の無機酸；カンファースルホン酸、一トルエンスルホン酸一水和物等の有機酸；アンバーリスト等の強酸性イオン交換樹脂類等が挙げられる。酸触媒の使用量は、光学活性 (S) 一 2—メチル一6—ォキソヘプタン酸エステル（I I I) 1当量に対して、好ましくは 0. 001〜0. 5当量であり、より好ましくは 0. 005〜0. 2当量である。 R ²および R ³に対応するアルコール類としては、特に限定されるものではなく、例えば、メタノール、エタノール、エチレングリコール、 1， 3—プロパンジオール、 2， 2—ジメチル— 1， 3—プロパンジオール等が挙げられる。アルコール類の使用量は、光学活性 (S) 一 2—メチル—6—ォキソヘプタン酸エステル（I I I) 1当量に対して、好ましくは 1~50当量であり、より好ましくは 2〜10当量であり、場合によっては溶媒量であってもよい。

R²および R³に対応するオルトギ酸エステルとしては、特に限定されるものではなく、例えば、オルトギ酸メチル、オルトギ酸ェチル、オルトギ酸プロピル等が挙げられる。ォルトギ酸エステルの使用量は、光学活性（S) — 2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸エステル（I I I) 1当量に対して、好ましくは 1〜50当量であり、より好ましくは 2〜1 0当量である。 R ²および R ³に対応するチオール類としては、特に限定されるものではなく、例えば、メタンチオール、エタンチオール、プロパンチオール、イソプロパンチオール、ブタンチオール、 1， 2—エタンジチオール、 1, 3—プロパンジチオール等が挙げられる。チォ —ル類の使用量は、光学活性（S) —2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸エステル（I I I) 1当量に対して、好ましくは 1〜50当量であり、より好ましくは 2〜10当量であり、場合によっては溶媒量であってもよい。反応温度は、好ましくは 10〜120°Cであり、より好ましくは 20~60°Cである。反応時間は、反応温度によっても異なるが、通常、 10分〜 50時間である。上記反応で得られた反応混合物を、例えば、分液操作等に供することによって、光学活性（S) —ケタールエステル（I V) を単離することができる。単離した光学活性（S) —ケタールエステル（I V) は、必要に応じて蒸留、クロマトグラフィー等の慣用の手段により精製することができる。 (工程 c )

この工程は、光学活性（S) —ケタールエステル（I V) を還元して、上記式（V) で示される光学活性 (S) —ケタールアルコール (以下、光学活性 (S) ーケ夕一ルアルコ —ル（V) ともいう）を得る工程である。なお、本発明においては、光学活性（S) —ケタールアルコール（V) は、光学活性（S) —チオケタールアルコールを含むものとする。還元方法は、特に限定されるものではなく、カルボン酸エステルをアルコールに還元するために当該分野で通常用いられている任意の方法を採用することができる。例えば、光学活性（S) —ケタールエステル（I V) を、有機溶媒中、還元剤と反応させる方法が挙げられる。有機溶媒としては、反応の進行を妨げない限り特に限定されるものではなく、例えば、ジェチルェ一テル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン（TH F) 、 1， 4一ジォキサン、 t e r t—ブチルメチルエーテル等のェ一テル類；へキサン、ヘプタン、トルェン等の炭化水素類；ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロ口ベンゼン、オルトジクロロベンゼン等のハロゲン化炭ィヒ水素類等が挙げられる。有機溶媒の使用量は、光学活性 (S ) ーケタールエステル（I V) の種類等に応じて適宜調整すればよく、通常、光学活性（S ) —ケタールエステル（I V) 1重量部に対して 1〜1 0 0重量部である。還元剤としては、通常、エステルを還元してアルコールを与えるものが用いられる。例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素ィヒホウ素リチウム等の水素化ホウ素アルカリ金属塩；水素化トリェチルホウ素リチウム等の水素化トリアルキルホウ素アル力リ金属塩；水素化アルミニウムリチウム等の水素化アルミニウムアルカリ金属塩；水素化ジイソブチルアルミニゥム等の水素化ジアルキルアルミニウム；等が挙げられる。還元剤の使用量は、光学活性（S ) —ケタールエステル（I V) 1当量に対して、好ましくは 0 . 5〜2 0当量であり、より好ましくは:！〜 1 0当量である。反応温度は、好ましくは— 7 8 - 6 0 °Cであり、より好ましくは一 4 0〜3 0でである。反応時間は、反応温度によっても異なるが、通常、 1〜7 0時間である。

(工程 d )

この工程は、光学活性（S ) —ケタールアルコール（V) を脱保護して、上記式（I ) で示される光学活性（S ) — 7—ヒドロキシ— 6—メチルヘプタン— 2—オン（以下、光学活性（S ) —7—ヒドロキシー 6—メチルヘプタン一 2—オン（I ) ともいう）を得る工程である。

脱保護方法は、特に限定されるものではなく、工程 bで保護された力ルポ二ル基を脱保護する（即ち、ケタール基 (A = 0) またはチオケタール基（A= S ) をカルポニル基に変換する）ために当該分野で通常用いられている任意の方法を採用することができる。例えば、 7R或いは有機溶媒中、酸処理する方法が挙げられる。有機溶媒としては、反応の進行を妨げない限り特に限定されるものではなく、例えば、メタノール、エタノール等のアルコール類；ジェチルエーテル、ジイソプロピルェ一テル、テトラヒドロフラン（TH F) 、 1 , 4一ジォキサン、 t e r t—ブチルメチルエーテル等のエーテル類；ジクロロメタン、ジクロロェタン、クロ口ホルム、クロ口ベンゼン、ォルトジクロ口ベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；アセトン等のケトン類；トルエン、へキサン、シクロへキサン、ヘプタン、オクタン、イソオクタン等の炭化水素類；およびこれらの混合溶媒等が挙げられる。有機溶媒の使用量は、光学活性（S ) —ケタールアルコ —ル（V) の種類等に応じて適宜調整すればよく、通常、光学活性（S ) —ケタールアルコール（V) 1重量部に対して 2〜 50重量部である。これらの有機溶媒は、それぞれ単独で用いてもよく、また、水と混合して用いてもよい。酸としては、特に限定されるものではなく、例えば、塩酸、硫酸、燐酸等の無機酸；トリフルォロ酢酸、 p—トルエンスルホン酸、ギ酸、酢酸、ォキザリル酸等の有機酸；アンパーリスト等の強酸性イオン交換樹脂類等が挙げられる。酸の使用量は、光学活性（S) —ケタールアルコール (V) 1当量に対して、好ましくは 0. 001〜50当量であり、より好ましくは 0. 1〜10当量である。反応温度は、好ましくは 0〜100°Cであり、より好ましくは 20~80°Cである。反応時間は、反応温度によっても異なるが、通常 30分〜 24時間である。なお、チオケタール基（A=S) の場合には、上記の酸処理以外に、金属塩、酸化剤、ハロゲン化剤等の反応試剤を用いる方法もあり、反応性の点から、当該方法が好ましい。金属塩としては、過塩素酸銀（I) 、酸化銀、硝酸銀等の銀塩；塩化水銀、酸化水銀等の水銀塩；硝酸タリウム（1 1 1) 、トリフルォロ酢酸タリウム（I I I) 等のタリウム塩；塩化銅（I) 、酸化銅（I) 等の銅塩が挙げられる。酸化剤としては、 2, 3—ジクロロ一 5， 6—ジシァノ一 p—べンゾキノン（DDQ) 、 m—クロ口過安息香酸 (mCP BA) 、セリウムアンモニゥムニトリル、過ヨウ素酸ナトリウム、過酸化水素、分子状酸素等が挙げられる。ハロゲン化剤としては、ヨウ素、 N—プロモスクシンイミド、 N—クロロスクシンイミド等が挙げられる。これら反応試剤の使用量は、光学活性（S) —ケタ —ルアルコール（V) 1当量に対して、好ましくは 1〜20当量であり、より好ましくは：！〜 10当量である。反応溶媒としては、有機溶媒、或いは有機溶媒と水の混合溶媒が用いられる。有機溶媒としては、反応の進行を妨げない限り特に限定されるものではなく、例えば、メタノール、エタノール等のアルコール類；ジェチルエーテル、ジイソプロピルェ一テル、テトラヒド口フラン（THF) 、 1， 4一ジォキサン、 t e r t—ブチルメチルエーテル等のェ一テル類；ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロ口ホルム、クロ口ベンゼン、オルトジクロ口ベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；アセトン等のケトン類；トルエン、へキサン、シクロへキサン、ヘプタン、オクタン、イソオクタン等の炭化水素類；およびこれらの混合溶媒等が挙げられる。有機溶媒の使用量は、光学活性（S) —ケタールアルコール（V) の種類等に応じて適宜調整すればよく、通常、光学活性（S) —ケタールアルコール（V) 1重量部に対して：!〜 100重量部である。これらの有機溶媒は、それぞれ単独で用いてもよい。反応温度は、好ましくは— 45〜： 160°Cであり、より好ましくは 0~80でである。反応時間は、反応温度によっても異なるが、通常、 5分〜 20時間である。このようにして得られた光学活性（S) — 7—ヒドロキシー 6—メチルヘプタン一 2— オン（I) は、必要に応じて、蒸留、クロマトグラフィー等の慣用の手段により精製することができる。なお、工程 b〜dは、別個の工程として独立して行ってもよく、あるいは連続した単一の工程として行ってもよい。あるいは、工程 aおよび工程 bの代わりに、以下の工程 Aおよび Bを行ってもよい。工程 A： 2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸エステル（I I) の力ルポ二ル基を保護して、式（V I) ：

(式中、 A、 R¹, R ²および R ³は前記で定義した通りである）

で表されるケタールエステル（以下、ケタールエステル (VI) ともいう）を得る工程、および

工程 B：ケ夕一ルエステル（VI) に、 R体を優先的に加水分解し得る、ァスペルギルス属の微生物由来のエステラーゼを作用させることにより光学分割して、光学活性 (S) ーケタールエステル（IV) を得る工程。なお、工程 Aは工程 bと同様の方法により行うことができる。また、工程 Bは工程 aと同様の方法により行うことができる。光学活性 (S) ーケ夕一ルエステル (IV) のうち、式（I ) ：

(式中、 Aは酸素原子または硫黄原子であり、 R¹'はメチル基、ェチル基、プロピル基、またはブチル基であり、かつ R²'および R³'は共にメチル基であるか、あるいは、 Aは酸素原子または硫黄原子であり、 R はメチル基であり、かつ R ² 'および R³'は互いに結合してェチレン基またはプロピレン基を形成する）

である化合物は新規化合物である。また、光学活性（S) —ケ夕一ルアルコール（V) も新規化合物である。本発明の製造方法によれば、光学活性（S) —7—ヒドロキシー 6—メチルヘプタン一 2—オン（I) およびその前駆体である光学活性（S) — 2—メチルー 6—ォキソヘプ夕ン酸エステル（I I I) を簡便に効率よく工業的に製造することができる。実施例以下、本発明を実施例に基いてより具体的に説明するが、本発明がこれらの実施例に限定されるものではないことは言うまでもない。参考例 1

2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸のラセミ体の合成（その 1 )

2, 6—ジメチルシクロへキサノン（120. 0 g、 0. 95mo 1 ) と水（600m 1) との混合物を激しく攪拌しながら、過マンガン酸カリウム（195. 7g、 1. 24 mo 1) の水（1390ml) の懸濁液を 3 Ot以下で約 1時間かけて注意深く添加し、一晩室温で攪拌した。生成した二酸化マンガンを濾過し、濾過ケーキをメチル t e r t— ブチルエーテル（250ml) および水 (250ml) で洗浄した。濾液の有機層を分離し、水層を 35%濃塩酸（約 150ml) で pH 1. 0とし、塩化ナトリウム（400 g) を加え、酢酸ェチル（300m 1x5) で抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣のオイルを真空ポンプで減圧蒸留した。沸点 13 0〜144°C/267 P aの留分を採集し、 79. 92 g (収率 53. 2%) の 2—メチル—6—ォキソヘプタン酸のラセミ体を得た。参考例 2

2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸のラセミ体の合成（その 2 )

2， 6—ジメチルシクロへキサノン（93. 0 g、 0. 737mo 1) 、水（1057 ml) およびアセトン（333ml) を 2 Lのコルベンに仕込み、温水パスにて、内温 5 0°Cまで昇温した。攪拌下、 45〜55°Cにて、約 9時間半かけて過マンガン酸カリウム (326 g、 2. 06mo 1) を 9分割して添加した。同温度にて約 2時間攪拌した。同温度にて、生成した二酸化マンガンを直径 12 cmのヌッチェを用いて濾過し、水（30 Oml) およびアセトン（100ml) で濾上物を洗いこんだ。濾液をパス温 40°C、 1 4. 7〜： 17. 3 kP aで減圧下攪拌し、アセトンを留去した。

こうして得られた水溶液に食塩（330 g) を添加して溶解し、酢酸ェチル（20 Om 1) で洗浄した。さらに THF (200ml) で洗浄後、 THF (500ml) を加え、

35%合成塩酸 (107ml) を滴下し、水溶液の pHを 8. 7から 0. 81まで酸性にした。 THF層と水層とに分液した後、水層をさらに THF (15 Oml) で抽出し、最初の THF層と合わせた。 .

得られた THF溶液に塩化マグネシウム（4. 0 g) を添加し、 30分間攪拌した。 T HF層から分離してくる水層を分液して除去した。この後 THFをバス温 40口にて減圧留去し、さらにバス温 50°Cにて、マグネティックスターラーで攪拌しつつ真空ポンプ（1 33 P a) にて 60分掃引し、 106. 27 g (含量 93. 9% (ガスクロマトグラフィ ― (GC) ；対蒸留品）、純度換算収率 85. 7%) の 2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸のラセミ体を得た。参考例 3

2ーメチルー 6—ォキソヘプタン酸メチルエステルのラセミ体の合成 2—メチル一6—ォキソヘプタン酸のラセミ体 43 g (純度 99· 65%、 0. 27m mo 1) をメタノール 214. 25 gに溶解させた後、濃硫酸 2. 14gを加えて混合した。次いで、混合物を 65でに昇温後、同温度で 5時間反応させた。反応終了後、反応混合物を室温まで冷却した。次いで、反応混合物を元の重量の 4分の 1程度になるまで減圧下で濃縮した後、水 30 gを加えた。さらにメチル t一ブチルエーテル（MTBE) 12 8. 55 gを加えた後、攪拌下、室温にて 5 %炭酸水素ナトリゥム水溶液 55. 06 gを滴下した。得られた混合物を室温にて充分に攪拌した後、分液し、水層をさらに MTBE 64. 27 gで分液した。得られた有機層を合わせ、減圧下で濃縮し、 2—メチル一6— ォキソヘプタン酸メチルエステルのラセミ体の粗生成物 45. 4 g (含量 94. 3%、収率 92 %) を無色油状物として得た。得られた粗生成物をそのまま次の反応に使用した（なお、得られた粗生成物は、必要に応じて蒸留（沸点 107°C/1333 P a) 後、次の反応に使用してもよい）。実施例 1

2—メチル—6—ォキソヘプタン酸メチルエステルのラセミ体のァスペルギルス ·フラパス ATCC11492株由来のエステラーゼを用いた加水分解による光学分割（その 1) 0. 1Mリン酸緩衝液（pH7. 0) 5. 0 gに 2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸メチルエステルのラセミ体 1. Og (5. 75mmo 1 ) を懸濁させた。懸濁液を 10°Cに冷却後、固定化されたァスペルギルス ·フラバス ATCC 11492株由来のエステラ一ゼ（公開特許公報 2003 -70471記載の方法により調製した） 0. 7 g (水分率 5 6%、酵素活性 4028KUZKg、ドライ換算）を加え、 4%NaOH水溶液を適宜加えて pHを 6〜7に維持しながら、 10°Cにて 23時間撹拌した。その後、反応液の一部を取って、 HPLC CCh i r a 1 a k AS—H、 4. 6mmx25 cm (ダイセル社製）〕にて分析し、光学活性（S) — 2—メチル—6—ォキソヘプタン酸メチルエステルの光学純度及び反応収率を求めた。その結果、光学純度は 100 % e e、反応収率は 47 % (光学純度より算出した値）であった。

参考として、加水分解生成物である光学活性 (R) 一 2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸の光学純度は 90. 4%e e、反応収率は 52. 5% (光学純度より算出した値）であ' つた。実施例 2

2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸メチルエステルのラセミ体のァスペルギルス ·フラバス ATCC 11492株由来のエステラーゼを用いた加水分解による光学分割（その 2)

0. 1Mリン酸緩衝液（pH7. 0) 5. 0 gに 2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸メチルエステルのラセミ体 1. Og (5. 75mmo 1 ) とメチル t一ブチルエーテル（M

TBE) 2. Ogとを懸濁させた。懸濁液を 10°Cに冷却後、固定化されたァスペルギルス ·フラバス ATCC 11492株由来のエステラーゼ（公開特許公報 2003 - 704

71記載の方法により調製した） 0. 7g (水分率 56%、酵素活性 4028KUノ Kg、ドライ換算）を加え、 4%NaOH水溶液を適宜加えて pHを 6〜8に維持しながら、 1 0°Cにて 23時間撹拌した。その後、反応液の一部を取って、 HPLC CCh i r a 1 ak AS— H、 4. 6mmx25 cm (ダイセル社製）〕にて分析し、光学活性（S) — 2ーメチルー 6—ォキソヘプタン酸メチルエステルの光学純度及び反応収率を求めた。その結果、光学純度は 100%ee、反応収率は 47% (光学純度より算出した値）であつた。

参考として、加水分解生成物である光学活性（R) —2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸の光学純度は 88. 2%e e、反応収率は 53% (光学純度より算出した値）であった。実施例 3

2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸メチルエステルのラセミ体のァスペルギルス ·フラバス ATCC11492株由来のエステラーゼを用いた加水分解による光学分割（その 3) 0. 1Mリン酸緩衝液（pH7. 0) 5. 0 gに 2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸メチルエステルのラセミ体 1 · 0g (5. 75mmo 1 ) と MTBE2. 0gとを懸濁させた。懸濁液を 10でに冷却後、固定化されたァスペルギルス ·フラバス ATCC 1149 2株由来のエステラーゼ（公開特許公報 2003-70471記載の方法により調製した) 0. 1 (水分率 56%、酵素活性 4028KUZKg、ドライ換算）を加え、 4%Na OH水溶液を適宜加えて pHを 6〜8に維持しながら、 10°Cにて 99時間撹拌した。その後、反応液の一部を取って、 HPLC 〔Ch i r a 1 p a k AS-H> 4. 6mmx2 5 cm (ダイセル社製) 〕にて分析し、光学活性 (S) 一 2—メチルー 6—ォキソヘプ夕ン酸メチルエステルの光学純度及ぴ反応収率を求めた。その結果、光学純度は 99. 8% e e、反応収率は 48. 5% (光学純度より算出した値）であった。

参考として、加水分解生成物である光学活性（R) — 2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸の光学純度は 94. 2%e e、反応収率は 51. 5% (光学純度より算出した値）であつた。実施例 4

2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸メチルエステルのラセミ体のァスペルギルス ·フラパス ATCC 11492株由来のエステラーゼを用いた加水分解による光学分割（その 4) - 0. 1Mリン酸緩衝液（pH7. 0) 50. 0 gに 2—メチル一6—ォキソヘプタン酸メチルエステルのラセミ体 10. 6g (含量 94. 3%、 5. 75 mm o 1 ) と MTBE 20. 0gとを懸濁させた。懸濁液を 10°Cに冷却後、固定化されたァスペルギルス -フラバス ATCC 11492株由来のエステラーゼ（公開特許公報 2003— 70471記載の方法により調製した） 2. 0 g (水分率 56%、酵素活性 402 SKUZKg, ドラィ換算）を加え、 4%NaOH水溶液を適宜加ぇてpHを7. 0〜7. 5に維持しながら、 10°Cにて 51時間撹拌した。その後、反応液をラヂォライト（濾過助剤、商品名：昭和化学工業製）を用いて濾過し、エステラーゼを除去した。得られた濾液を、メチルイソブチルケトン（MI BK) 25 gおよび 12. 5 gで 2回抽出した後、得られた有機層を合わせ、 15%食塩水で洗浄することにより、光学活性（S) —2—メチル—6 -ォキソへプ夕ン酸メチルエステルの MI BK溶液（光学純度 98. 9%ee、収率 41. 5%) を得た。なお、光学純度は、実施例 1と同様に、 HPLC CCh i r a l p ak AS—H、 4. 6mmx25 cm (ダイセル社製）〕にて分析した。実施例 5

2—メチル一6—ォキソヘプタン酸メチルエステルのラセミ体のァスペルギルス ·フラノ、' ス ATCC 1 1 92株由来のエステラーゼを用いた加水分解による光学分割（その 5)

0. 1Mリン酸緩衝液（pH7. 0) 50. 0 gに 2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸メチルエステルのラセミ体 10. 6 g (含量 94. 3%、 5. 75mmo 1 ) と MTBE 20. 0 gとを懸濁させた。懸濁液を 10でに冷却後、固定化されたァスペルギルス ·フラバス ATCC 1 1492株由来のエステラーゼ（公開特許公報 2003— 70471記載の方法により調製した） 2. 0 g (水分率 56%、酵素活性 4028KUZKg、ド'ラィ換算）を加え、 4%NaOH水溶液を適宜加ぇてpHを7. 5-8. 0に維持しながら、 1 Ot:にて 48時間撹拌した。その後、反応液をラヂォライト（濾過助剤、商品名：昭和ィ匕学工業製）を用いて濾過し、エステラ一ゼを除去した。得られた濾液を、 MI BK25 gおよび 12. 5 gで 2回抽出した後、得られた有機層を合わせ、 15%食塩水で洗浄することにより、光学活性（S) —2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸メチルエステルの M I BK溶液（光学純度 98. 8%e e、収率 40. 3%) を得た。なお、光学純度は、実施例 1と同様に、 HPLC CCh i r a 1 a k AS— H、 4. 6mmx25 cm (ダイセル社製）〕にて分析した。参考例 4

6, 6—ジメトキシー 2—メチルヘプタン酸メチルエステルの合成

2—メチル—6—ォキソヘプタン酸メチルエステル 15. 4 g (含量 84. 4%、 75. 5mmo 1) をメタノール 24. 2 g (0. 75mo 1 ) に溶解させた後、オルトギ酸メチル 40. 1 g (0. 38 mo 1)および p—トルエンスルホン酸一水和物 0. 14g (0. 75mmo 1 ) を加えて混合した。次いで、混合物を 65でまで昇温し、同温度で 1. 5 時間反応させた。反応終了後、反応混合物を室温まで冷却した。次に、反応混合物にトルェン 39 gおよび 3%炭酸水素ナトリウム水溶液 26 gを加え、充分に撹拌した。反応混合物を分液後、得られた有機層を減圧濃縮することにより、 6， 6—ジメトキシー 2—メチルヘプタン酸メチルエステルの粗生成物 22. 8 g (含量 69. 5%、反応収率 95%) を得た。得られた 6, 6—ジメトキシー 2—メチルヘプタン酸メチルエステルの粗生成物は、そのまま次の反応へ用いた。

また、得られた 6， 6—ジメトキシー 2—メチルヘプタン酸メチルエステルの粗生成物の一部をカラムクロマトグラフィーで精製し、無色油状の 6， 6—ジメトキシ— 2—メチルヘプタン酸メチルエステルを得た。

^XH-NMR (CDC 1 a, 300 MHz) :81. 15 (3H， d， J = 7. 0Hz) ， 1. 24 (2H, s) , 1. 27— 1. 47 (3H, m) , 1. 56- 1. 74 (3H， m) , 2. 45 (1H, d t, J = 7. 0， 14. 0Hz) ， 3. 1 5 (6H, s) ， 3. 67 (3H, s) . 参考例 5

7—ヒドロキシー 6—メチルヘプタン一 2—オンの合成（その 1 )

6， 6—ジメトキシー 2—メチルヘプタン酸メチルエステルのラセミ体 1. 90 g (含量 84. 4%、 7. 3 mm o 1 ) を THF4. 8 gに溶解させ、塩化リチウム 0. 93 g (21. 9mmo 1) と水素ィ匕ホウ素ナトリウム 1. 66 g (含量 90%、 39. 5mm o 1) とを順次加えて混合した。次いで、反応混合物にメタノール 8. 80 gを室温で 4 時間かけて滴下した後、同温にて一晩撹拌した。次に、反応混合物に 5 %塩酸 32. 07 gを室温にて滴下し、 7—ヒドロキシー 6—メチルヘプタン一 2—オン 0. 96 g (収率 90. 7%) を含む均一溶液 45. 3 gを得た。参考例 6

7—ヒド口キシー 6—メチルヘプタン一 2—オンの合成（その 2 )

水素ィ匕アルミニウムリチウム 0. 74g (含量 80%、 15. 61111110 1) を丁^^ 7. 0 gに懸濁させ、得られた懸濁液を Otまで冷却した。次いで、 6， 6—ジメトキシ— 2 —メチルヘプタン酸メチルエステル 2. 37 g (含量 84. 4%、 9. 2mmo 1 ) を T HF 3. 0 gに溶解させた溶液を、懸濁液に 0 °Cにて 1. 5時間かけて滴下した。次いで、同温にて反応混合物を 3時間撹拌した後、メタノール 1. 47 g (45. 9mmo 1) を滴下して未反応の水素化アルミニウムリチウムをクェンチした。次に、反応混合物に 2% 水酸化ナトリウム水溶液 2. 74 gを室温にて滴下した後、生じた水酸化アルミニウムをラヂォライト（濾過助剤、商品名：昭和化学工業製）を用いる濾過によって除去し、続いて酸処理をすることにより、 7—ヒドロキシー 6—メチルヘプタン一 2—オン 1. 07 g (収率 80. 9%) を含む均一溶液を得た。実施例 6

(S) -6, 6—ジメトキシ— 2—メチルヘプタン酸メチルエステルの合成

(S) 一 2—メチル一6—ォキソヘプタン酸メチルエステル 21. 52 g (含量 94. 0%、 0. 1 17mo 1 ) をメタノール 37. 2 g (1. 16mo 1 ) に溶解させた後、 ' オルトギ酸メチル 62. 4 g (0. 59mo 1) , ρ—トルエンスルホン酸一水和物 0. 22 g (1. 2mmo 1) を加え混合した。次いで反応混合物を 65 X：まで昇温し、同温度で 3時間反応させた。反応終了後、反応混合物を室温まで冷却した。次に反応混合物にトルエン 61 g、 3%炭酸水素ナトリウム水溶液 40. 4 gを加え、充分に撹拌した。分液後、得られた有機層を減圧濃縮することにより、（S) —6, 6—ジメトキシ一 2—メチルヘプタン酸メチルエステルの粗生成物 25. 14^ (含量96. 2%、反応収率 94. 4%) を得た。上記（S) -6, 6—ジメトキシー 2—メチルヘプタン酸メチルエステルの粗生成物は、そのまま次の反応へ用いた。このとき、得られた（S) —6, 6—ジメトキシー 2—メチルヘプタン酸メチルエステルの粗生成物の一部をカラムクロマトグラフィ一で精製し、無色油状（S) — 6, 6—ジメトキシー 2—メチルヘプタン酸メチルエステルを得た。 42

[a] D²⁷ =22. 6° (5. 0 1 % i n E t OH) 実施例 7

(S) 一 7—ヒドロキシー 6—メチルヘプ夕ン— 2—オンの合成

水素化ホウ素リチウム 0. 65 g (含量 90%、 26. 6 mm o 1 ) に THF 1 5 gを加えた懸濁液に、（S) — 6， 6—ジメトキシ一 2—メチルヘプタン酸メチルエステル 5. 1 3 （含量96. 2%、 22. 6mmo 1) を THF 1 0 gに溶解させたものを、室温にて滴下した。次いで反応混合物を 55 °Cまで昇温し、同温度で 9時間反応させることにより、（S) -6, 6—ジメトキシー 2—メチルヘプタノ一ルとした。次いで、この反応混合物にメタノール 7. 32 gを室温でおよそ 1時間かけて滴下した後、同温にて 4時間撹拌した。次いで、この反応混合物に 5%塩酸 2 5. 08 gを室温にて滴下し、同温にて更に 30分撹拌した。この溶液をメチルイソプチルケトン 1 5 gおよび 12. 5 gで 2回抽出した後、得られた有機層を合わせ、 1 5 %炭酸ナトリゥム水溶液 1 0 gで 2回洗浄することにより、（S) — 7—ヒドロキシー 6—メチルヘプタン一 2—オン 2.. 95 g (収率 89. 5%) を含む MI BK溶液 5 1. 7 gを得た。これを減圧下で溶媒を留去することにより（S) —7—ヒドロキシ— 6—メチルヘプタン一 2—オンの粗生成物 3. 68 g を淡黄色油状物として得た。このものは精製することなく次の反応に使用しても良いし、必要に応じて減圧蒸留により精製しても良い。なお、得られた（S) — 7—ヒドロキシー 6—メチルヘプタン一 2—オンの粗生成物の一部を蒸留精製し、無色油状（S) — 7—ヒドロキシ一 6—メチルヘプタン一 2—オンを得た。

[a] D²⁷ =- 13. 9° (5. 03% i n E t OH) 参考例 7

エステラーゼの取得

滅菌した液体培地（水 1000mlにグリセロール 5 g、酵母エキス 6 g、リン酸 1力リウム 4 g、リン酸 2カリウム 9. 3 gを溶解したもの） 10m 1に 5 OmgZm Iのァンピシリン水溶液 1 0 1と E. c o l i JM1 0 5/pYHNK2株のグリセロールストック（特開 200 1— 46084号公報参照） 0. 1 m 1とを加え 30 で 9時間振盪した（得られた培養液を培養液 Aと記す。）。

滅菌した液体培地（水 1 3000m 1にグリセロール 225 g、酵母エキス 1 50 g、総合アミノ酸 F225 g、リン酸 1カリウム 60 g、硫酸マグネシウム 36 g、硫酸第 1 鉄 7水和物 0. 6 g及び塩化カルシウム 2水和物を溶解し、さらに水を加えて全量を 1 5 0000mlにしたもの） 1 500 Omlに 4Mリン酸水溶液と 14% (W/W) アンモ二ァ水を加え pH 7. 0とした。ここに、上記の培養液 A 7. 5m 1を加え 30でで通気攪拌培養した。培養開始から 14時間経過後に滅菌した液体培地（水 1 1 00 gとグリセロール 1 500 gの混合物に酵母エキス 280 g及び総合アミノ酸 F 420 gを溶解したもの）を徐々に加えた。また、培養開始から 18時間後に i_SOp_r0pylthio-/3-D-galactoside を 50 Mとなるように加えた。 07056742 培養開始から 40時間後に、培養液にエタノール 1950 m 1を加え、さらに 30 で 24時間攪拌した。その後、この混合物を 6000gとり、水 6200 _gと混合した。この溶液を連続遠心処理（20000 r pm、流速 130g/mi n) して、遠心上清液 1 1200 gを得た。この遠心上清液にラジオライト # 200 (昭和化学工業株式会社商品名） 220 gを加えて攪拌し、さらにラジオライト # 200を通して濾過することにより、タンパク質の清澄液を得た。参考例 8

エステラーゼの固定化

水洗したダイヤイオン HP 20 S S (三菱化学株式会社商品名）（ダイヤイオン HP 2 OSS 12 gと水 300m 1とを混合して 30分間攪拌し、濾過し、さらに水 400m 1で洗浄したもの）と参考例 7により製造したタンパク質の清澄液 600 gとを混合し、 10°Cで 18時間攪拌した。その後、濾過し、水 400 gで洗浄して、固定化酵素 12· 5 gを得た。産業上の利用可能性

本発明の製造方法によれば、光学活性（S) — 7—ヒドロキシー 6—メチルヘプタン一 2—オン（I) およびその前駆体である光学活性（S) — 2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸エステル（I I I) を簡便に効率よく工業的に製造することができる。この光学活性 (S) 一 7—ヒドロキシー 6—メチルヘプタン一 2—オン（I) は、抗癌剤として使用されるェポチロン誘導体の合成において、 C ₇~C i ₂のビルディングブ口ックとして有用である。

Claims

請求の範囲

(式中、 R¹は炭素数 1一 5のアルキル基を表す）

で表される 2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸エステルに、 R体を優先的に加水分解し得る、ァスペルギルス（As pe r g i 1 1 u s) 属の微生物由来のエステラーゼを作用させることにより光学分割する、式（I I I) ：

(式中、 R¹は前記と同じ意味を表す）

で表される光学活性（S) — 2—メチル—6—ォキソヘプタン酸エステルの製造方法。

2. 式（I I I) ：

(式中、 R¹は炭素数 1一 5のアルキル基を表す）

で表される光学活性（S) — 2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸エステルの力ルポニル基を保護して、式（IV) ：

(式中、 Aは酸素原子または硫黄原子を表し、 R¹は前記と同じ意味を表し、 R²および R³ は、それぞれ独立して炭素数 1一 5のアルキル基を表すか、または互いに結合して炭素数 2-5のアルキレン基を表す）

で表される光学活性（S) —ケタールエステルを得る工程をさらに含むクレーム 1記載の製造方法。

3. 式（I V)

(式中、 A、 R¹, R ²および R ³は、前記と同じ意味を表す）

(式中、 A、 R ²および R ³は、前記と同じ意味を表す）

で表される光学活性（S) —ケタールアルコールを得る工程をさらに含むクレーム 2記載の製造方法。

(式中、 R¹は、前記と同じ意味を表す）

O

(S)、C0₂R¹ (Hi)

(式中、 R¹は、前記と同じ意味を表す）

で表される光学活性（S) —2—メチルー 6—ォキソヘプタン酸エステルを得る工程；式（I I I) で表される光学活性（S) — 2—メチル—6—ォキソヘプタン酸エステルのカルボ二ル基を保護して、式（IV) ：

(式中、 A、 R¹, R²および R³は、前記と同じ意味を表す）

で表される光学活性（S) —ケタールエステルを得る工程；

式（IV) で表される光学活性（S) —ケタールエステルを還元して、式（V) ：

(式中、 A、 R ²および R ³は、前記と同じ意味を表す）

式（V) で表される光学活性（S) —ケタールアルコールを脱保護して、式（I)

GH₂OH (I)

で表される光学活性（S)— 7—ヒドロキシ— 6—メチルヘプタン一 2—オンを得る工程を含む、式（I) で表される光学活性（S) — 7—ヒドロキシ— 6—メチルヘプタン一 2 -オンの製造方法。

5. 式（I I I) で表される光学活性（S) — 2—メチル—6—ォキソヘプタン酸エステルの光学純度が 95~100%e eであるクレーム 1〜4のいずれかに記載の製造方法。

6. R ¹がメチル基であるクレーム 1〜 5のいずれかに記載の製造方法。

7. R ²および R ³が、共にメチル基であるか、または互いに結合してエチレン基またはプロピレン基を表すクレーム 2〜 6のいずれかに記載の製造方法。

8. ァスペルギルス属の微生物がァスペルギルス ·フラバス（As p e r g i 1 1 u s f 1 a vu s) であるクレーム 1〜7のいずれかに記載の製造方法。 9. ァスペルギルス属の微生物がァスペルギルス ·フラバス ATCC 11492株であるクレーム 1〜8のいずれかに記載の製造方法。

10. 式（ I V') ：

(式中、 Aは酸素原子または硫黄原子であり、 R はメチル基、ェチル基、プロピル基、またはブチル基であり、かつ R²'および R³'は共にメチル基であるか、あるいは、 Aは酸素原子または硫黄原子であり、 R はメチル基であり、かつ R²'および R³'は互いに結合してェチレン基またはプロピレン基を表す）

で表される光学活性（S) —ケタールエステル。

11. Aが酸素原子であり、かつ R¹', R²'および R³'が共にメチル基であるクレーム 1 0記載の光学活性（S) ーケタールエステル。