WO2007097302A1 - 感光性平版印刷版材料及びその製造方法 - Google Patents

感光性平版印刷版材料及びその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2007097302A1
WO2007097302A1 PCT/JP2007/053039 JP2007053039W WO2007097302A1 WO 2007097302 A1 WO2007097302 A1 WO 2007097302A1 JP 2007053039 W JP2007053039 W JP 2007053039W WO 2007097302 A1 WO2007097302 A1 WO 2007097302A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
acid
printing plate
lithographic printing
photosensitive
compound
Prior art date
Application number
PCT/JP2007/053039
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Yasuhiko Takamuki
Original Assignee
Konica Minolta Medical & Graphic, Inc.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. filed Critical Konica Minolta Medical & Graphic, Inc.
Priority to JP2008501713A priority Critical patent/JPWO2007097302A1/ja
Publication of WO2007097302A1 publication Critical patent/WO2007097302A1/ja

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/092Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers characterised by backside coating or layers, by lubricating-slip layers or means, by oxygen barrier layers or by stripping-release layers or means
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0048Photosensitive materials characterised by the solvents or agents facilitating spreading, e.g. tensio-active agents
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/075Silicon-containing compounds
    • G03F7/0757Macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/11Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers

Definitions

  • the present invention relates to a photosensitive lithographic printing plate and a method for producing the same, and more particularly to a photosensitive lithographic printing plate for a computer tow plate system (hereinafter CTP) and a method for producing the same.
  • CTP computer tow plate system
  • CTP computer-to-plate system
  • the protective layer is desired to have an oxygen blocking ability, and polyvinyl alcohol is preferably used.
  • the high oxygen blocking ability provides high sensitivity and improved latent image regression, but the adhesion to the photosensitive layer deteriorates.
  • a technique for controlling the contact angle of the light-sensitive layer is known for improving the adhesion, but it is described after printing (for example, see Patent Document 5) or during development (for example, Patent Document 6).
  • protective layer coating 'relating to the photosensitive layer before drying see, for example, Patent Document 7
  • the adhesiveness was improved by using these measures, the dependency on environmental humidity sensitivity was poor.
  • Patent Document 1 JP-A-11-125897 (Claims, Examples)
  • Patent Document 2 JP-A-11-268413 (Claims and Examples)
  • Patent Document 3 JP-A-11-348446 (Claims, Examples)
  • Patent Document 4 Japanese Patent Laid-Open No. 2000-131828 (Claims, Examples)
  • Patent Document 5 JP-A-8-286379 (Claims and Examples)
  • Patent Document 6 Japanese Patent Laid-Open No. 2005-148196 (Claims, Examples)
  • Patent Document 7 Japanese Patent Laid-Open No. 10-10742 (Claims, Examples)
  • An object of the present invention is to provide a photosensitive lithographic printing plate having good coatability and adhesiveness of the protective layer, improved latent image regression, and good dependence on environmental humidity sensitivity, and a method for producing the same. Is to provide.
  • the photosensitive layer contains a siloxane-based surfactant.
  • a water contact angle of 65 ° to 85 ° at a liquid temperature of 25 ° C. with respect to the photosensitive layer, and at least one of the water-soluble polymers, the degree of saponification measured with IS K 6726 A photosensitive lithographic printing plate material, characterized in that it is a polybulal alcohol having a water content of 94% or more.
  • siloxane-based surfactant power according to any one of 1 to 3, which is a polyether modified with at least one selected from polyethylene oxide, polypropylene oxide and polypropylene oxide.
  • Photosensitive lithographic printing plate material is any one of 1 to 3, which is a polyether modified with at least one selected from polyethylene oxide, polypropylene oxide and polypropylene oxide.
  • the photopolymerizable photosensitive layer contains a polymerizable binder having an acid value of 30 to 120, a polymerizable ethylenically unsaturated bond-containing compound, and a photopolymerization initiator 1
  • the photosensitive lithographic printing plate material according to any one of -6.
  • the polymerizable ethylenically unsaturated bond-containing compound comprises (a) a polyhydric alcohol containing a tertiary amino group in the molecule, (b) a diisocyanate compound, (c) a hydroxy group and It is a reaction product with a compound having an ethylenic double bond capable of addition polymerization, and a photopolymerization initiator power.
  • Titanocene compound, iron arene complex compound, torino, oral alkyl compound, and monoalkyl triaryl borate compound 8.
  • Forming a photopolymerizable photosensitive layer containing a siloxane-based surfactant on a support comprising one or more water-soluble polymers, and at least one of the water-soluble polymers has a
  • the step of preparing a protective layer coating solution that is 94% or more of polybulal alcohol, the step of applying the protective layer coating solution on the formed photopolymerizable photosensitive layer, and the applied protective layer coating solution A method for producing a photosensitive lithographic printing plate material, comprising a step of forming a protective layer by drying at ° C.
  • a photosensitive lithographic printing plate and a method for producing the same, in which the coating property and adhesiveness of the protective layer are good, the latent image regression is improved, and the sensitivity to environmental humidity is high! It was possible to provide.
  • the photosensitive lithographic printing plate of the present invention has a sensitivity in which a photopolymerizable photosensitive layer containing a siloxane-based surfactant and a protective layer containing a water-soluble polymer are sequentially provided on a support.
  • the photolithographic printing plate has a contact angle of water of 65 ° to 85 ° at a liquid temperature of 25 ° C. with respect to the photosensitive layer, and at least one of the water-soluble polymers has a Ken degree of 94. % Of polyvinyl alcohol.
  • the contact angle of water at a liquid temperature of 25 ° C. with respect to the photosensitive layer before coating of the protective layer is 65 ° to 85 °.
  • the contact angle is 25 ° C and 50% RH.
  • a tangent line is drawn between the tangent and the photosensitive layer surface at the point where the periphery of the water droplet intersects with the photosensitive layer surface. The angle on the photosensitive layer surface side.
  • the contact angle can be adjusted by changing the type and amount of surfactant in the photosensitive layer.
  • siloxane-based surfactant polyether-modified polydimethylsiloxane is preferable.
  • Specific examples of the polyether-modified polydimethylsiloxane include polydimethylsiloxane modified with polyethylene oxide, polypropylene, polybutylene oxide, or a mixture thereof. These polyether-modified polydimethylsiloxanes can be obtained by appropriately changing the amount, mixing ratio, etc. of polyethylene oxide, polypropylene oxide or polybutylene oxide.
  • siloxane-based surfactants can be obtained as commercial products.
  • BYK-302, BYK-306, BYK-307, BYK-320, BYK-323, BYK-330 from BYK-Chemical Co., Ltd. BYK- 331, BYK- 333, BYK- 337, BYK- 340, BYK- 344, BYK- 370, BYK- 375, BYK- 377, BYK- UV 3500, Shinetsu Yakakusha KF
  • the addition amount of the siloxane-based surfactant is preferably 0.01 to 10 mass%, more preferably 0.05 to 2.0 mass%, based on the solid content of the photosensitive layer.
  • the protective layer according to the present invention contains polyvinyl alcohol (hereinafter, also referred to as polyvinyl alcohol according to the present invention) having a chain strength of 94 mol% or more.
  • the polyvinyl alcohol according to the present invention preferably has a degree of polymerization of 300-2400.
  • the polyhydric alcohol according to the present invention may be modified with a group having ionic properties, cationic properties, and reactivity.
  • two or more types of polybulal alcohols having different key degrees are used for the protective layer.
  • the two or more polybulal alcohols are mixed and used so that the degree of keniness is 94 mol% or more.
  • the saponification degree is less than 94 mol%, the latent image regression resistance deteriorates.
  • the key degree is a term generally used in polymer chemistry, and is defined as follows in the present invention.
  • m and n represent the number of moles in polybulal alcohol having the following chemical structure.
  • R represents a substituent.
  • a typical example of the substituent is a acetyl group.
  • the solubility in water (the number of g dissolved in water 100 at 25 ° C) is 0.1 or more.
  • water-soluble polymer compounds include polymers of hydroxystyrene and copolymers thereof, polyamide resin, polypyrrole pyrrolidone and butyl pyrrolidone copolymers, polyethylene oxide, polyethyleneimine, and polyacrylic acid.
  • examples include amide, corn starch, mannan, pectin, agar, dextran, pullulan, hydroxymethylcellulose, alginic acid, carboxymethylcellulose, sodium polyacrylate, and the like. Of these, polybulurpyrrolidone and a copolymer of bullpyrrolidone are preferable.
  • the drying temperature is 95 ° C or higher and 120 ° C or lower, more preferably 100 ° C or higher and 110 ° C or lower. If it is lower than this, the adhesion tends to deteriorate, and if it is higher, the non-image area stain tends to occur.
  • the drying time may be from 10 seconds to 300 seconds, but is preferably from 30 seconds to 90 seconds.
  • the mixed solution is applied to the surface of the adherend (photosensitive layer) in a state where it is added to the organic polymer solution used for the protective layer, dried, and then solidified.
  • a compound adheresiveness-imparting agent
  • This is an organic high molecular polymer that is soluble in water or a mixed solvent of water and a water-miscible organic solvent, such as polyvinyl acetal and polyacrylic acid, and polyacrylic acid as another adhesion-imparting agent.
  • the adhesion-imparting agent is preferably a water-soluble polymer containing a nitrogen atom, more preferably polyvinyl pyrrolidone such as ISP Japan, BASF, etc. Pyrrolidone derivatives are listed.
  • the protective layer may further contain a surfactant, a matting agent, and the like as necessary.
  • the protective layer composition is dissolved in a suitable solvent, applied onto the photosensitive layer and dried to form a protective layer.
  • the main component of the coating solvent is particularly preferably water or alcohols such as methanol, ethanol, i-propanol, and the like.
  • OmgZm 2 is preferably tool is particularly preferably 1. 3 ⁇ 2.
  • the photosensitive lithographic printing plate material used in the present invention contains a polymer binder, an ethylenically unsaturated compound, a photopolymerization initiator, a siloxane surfactant, preferably a sensitizer, in the photosensitive layer.
  • Polymer binders include acrylic polymers, polyvinyl propylar resin, polyurethane resin, polyamide resin, polyester resin, epoxy resin, phenol resin, polycarbonate resin, and polybutyral resin. Polybur formal oil, Sierrac, other natural oils, etc. can be used. In addition, using two or more of these in combination does not work.
  • the copolymer composition of the polymer binder is preferably a copolymer of (a) a carboxyl group-containing monomer, (b) a methacrylic acid alkyl ester, or an acrylic acid alkyl ester.
  • carboxyl group-containing monomer examples include ⁇ , j8-unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, maleic anhydride, itaconic acid, and itaconic anhydride. An acid etc. are mentioned.
  • carboxylic acids such as phthalic acid and 2-hydroxymetatalylate half ester are also preferred.
  • alkyl methacrylate and the alkyl acrylate include methyl methacrylate, ethyl acetate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, heptyl methacrylate, To octyl methacrylate, nonyl methacrylate, decyl methacrylate, undecyl methacrylate, dodecyl methacrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, acrylic acid
  • cyclic alkyl ethers such as cyclic alkyl ethers
  • monomers described in the following (1) to (14) can be used as other copolymerization monomers.
  • a monomer having an aminosulfol group such as m- (or p) aminosulfol methanolate, m- (or p-) aminosulfurphenol acrylate, N- (p- Aminosulfurphenyl) methacrylamide, N— (p-aminosulfurphe) atari Luamide etc.
  • Acrylamide or methacrylamides such as acrylamide, methacrylamide, N-ethylacrylamide, N-hexylacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, N-phenylacrylamide, N- (4--trophenyl) Acrylamide, N-ethyl N-phenylacrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide and the like.
  • Monomer containing an alkyl fluoride group such as trifluoroethyl acrylate, trifluoroethyl methacrylate, tetrafluoropropyl methacrylate, hexafluoropropyl methacrylate, octa Fluoropentyl acrylate, Octafluoropentyl methacrylate, Heptadecafluorodecyl methacrylate, N-Butyl-N— (2-Atari mouth quichetil) heptadecafluorooctylsulfonamide, etc.
  • an alkyl fluoride group such as trifluoroethyl acrylate, trifluoroethyl methacrylate, tetrafluoropropyl methacrylate, hexafluoropropyl methacrylate, octa Fluoropentyl acrylate, Octafluoropentyl methacrylate, Heptadeca
  • Butyl ethers for example, ethyl vinyl ether, 2 chloroethyl vinyl ethereole, propinorevininoreatenore, butinorevininoreethenore, otachinorevininoreethenore
  • Bull esters for example, bull acetate, bull black mouth acetate, bull butyrate, vinyl benzoate and the like.
  • Styrenes such as styrene, methyl styrene, chloromethylol styrene and the like.
  • Bir ketones such as methyl bee ketone, ethyl beer ketone, propyl beer ketone, and ferr beer ketone.
  • Olefins such as ethylene, propylene, i-butylene, butadiene, and isoprene.
  • a monomer having an amino group for example, N, N jetylaminoethyl methacrylate.
  • an unsaturated bond-containing bulle obtained by addition-reacting a compound having a (meth) attalyloyl group and an epoxy group in the molecule to a carboxyl group present in the molecule of the vinyl copolymer.
  • Copolymers are also preferred as polymer binders.
  • Specific examples of the compound containing both an unsaturated bond and an epoxy group in the molecule include glycidinoaretalylate, glycidylmetatalylate, and epoxy group-containing unsaturated compounds described in JP-A-11 271969. Compounds and the like.
  • copolymers preferably have a mass average molecular weight of 1 to 200,000 as measured by gel permeation chromatography (GPC), but are not limited to this range.
  • the content of the polymer binder in the photosensitive layer is preferably in the range of 10 to 90% by mass, more preferably in the range of 5 to 70% by mass, and in the range of 20 to 50% by mass. It is particularly preferable for sensitivity.
  • the acid value of rosin is preferably used in the range of 10 to 150, more preferably in the range of 30 to 120, and more preferably in the range of 50 to 90. This is particularly preferable because it can prevent pigment aggregation in the photosensitive layer coating solution.
  • These polymerizable ethylenically unsaturated compounds include a class of general radical polymerizable monomers and an ethylenic double bond capable of addition polymerization in a molecule generally used for UV curable resins.
  • Plural polyfunctional monomers and polyfunctional oligomers can be used.
  • the compound is not limited, but preferred examples thereof include 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, glycerol acrylate, tetrahydrofurfuryl. Ruatalylate, fenoxetyl attalylate, nourfenoxychetyl acrylate, tetrahydrofurfuroxyxetyl acrylate, tetrahydrofurfuryloxyhexanolide acrylate, 1,3-dioxane alcohol ⁇ Monolithic acrylates such as categorized products with prolatatone, 1,3-dioxolan acrylate, or methacrylic acid in which these acrylates are replaced with metatalate, itaconate, crotonate, maleate, Titaconic acid, crotonic acid, maleic acid esters such as ethylene glycol diatalate, triethylene alcohol diatalate, pentaerythritol diatalylate, hydroquinon
  • Polyfunctional acrylic acid ester acids such as propane tri Tarireto, some, may be mentioned those Atari rate Metakurire bets, itaconate, crotonate, methacrylate was replaced with maleate, Itakon acid, crotonic acid, maleic acid esters and the like.
  • a prepolymer can also be used similarly to the above.
  • the prebolimer is described later
  • a prepolymer obtained by introducing acrylic acid or methacrylic acid into an oligomer having an appropriate molecular weight and imparting photopolymerizability can be suitably used.
  • prepolymers may be used alone or in combination of two or more, and may be used in combination with the above-mentioned monomer and Z or oligomer!
  • Examples of the prepolymer include adipic acid, trimellitic acid, maleic acid, phthalic acid, terephthalic acid, hymic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, itaconic acid, pyromellitic acid, fumaric acid, and glutaric acid.
  • the photosensitive layer of the present invention includes a phosphazene monomer, triethylene glycol, isocyanuric acid EO (ethylene oxide) -modified diatalylate, isocyanuric acid EO-modified triatalylate, dimethyloltricyclodecane diatalylate, trimethylol.
  • Propane acrylate A monomer such as a benzoic acid ester, an alkylene glycol type acrylic acid-modified, a urethane-modified atollate, and the like, and an addition-polymerizable oligomer and prepolymer having a structural unit formed from the monomer can be contained.
  • examples of the ethylenic monomer that can be used in combination with the present invention include a phosphate ester compound containing at least one (meth) atalyloyl group.
  • the compound is not particularly limited as long as it is a compound obtained by esterifying at least a part of the hydroxyl group of phosphoric acid, and further has a (meth) ataryloyl group.
  • JP-A 58-212994, 61-6649, 62-46688, 62-48589, 62-173295, 62-187092 The compounds described in JP-A-63-67189, JP-A-1-244891 and the like can be mentioned, and further described in “Chemical products of 11290”, Gakugaku Kogyo Nippo, p. 286-p. 294.
  • the compounds described in “UV'EB Curing Handbook (raw material)”, Kobunshi Shuppankai, p. 11-65, etc. can also be suitably used in the present invention.
  • compounds having two or more acryl or methacryl groups in the molecule are preferred in the present invention, and those having a molecular weight of 10,000 or less, more preferably 5,000 or less are preferred.
  • an addition-polymerizable ethylenic double bond-containing monomer containing a tertiary amino group in the molecule it is preferable to use an addition-polymerizable ethylenic double bond-containing monomer containing a tertiary amino group in the molecule.
  • a tertiary amine compound having a hydroxyl group modified with glycidyl metatalylate, methacrylic acid chloride, acrylic acid chloride or the like is preferably used.
  • polymerizable compounds described in JP-A-1-165613, JP-A-1-203413, and JP-A-1-197213 are preferably used.
  • a reaction product of a polyhydric alcohol containing a tertiary amino group in the molecule, a diisocyanate compound, and a compound containing an ethylenic double bond capable of addition polymerization with a hydroxyl group in the molecule is prefer to use things ⁇ .
  • the polyhydric alcohols containing a tertiary amino group in the molecule include triethanolamine, ⁇ -methyljetanolamine, ⁇ -ethyljetanolamine, and ⁇ - ⁇ -butyldiethanol. N, tert.
  • Diisocyanate compounds include butane 1,4-diisocyanate, hexane 1,6-diisocyanate, 2-methylpentane-1,5-diisocyanate, octane 1,8-diisocyanate, 1,3 Diisocyanatomethyl monocyclohexanone, 2, 2, 4 Trimethylol hexane-1,6 Diisocyanate, Isophorone diisocyanate, 1,2 Phylene-diisocyanate, 1,3 Phylene diisocyanate Cyanate, 1,4 phenolic diisocyanate, tolylene 2,4 diisocyanate, tolylene 2,5 diisocyanate, tolylene —2, 6 diisocyanate, 1,3 di (isocyanatomethyl) benzene, 1,3 bis (1 isocyanate) Forces including 1-methylethyl) benzene, but not limited thereto. Compounds containing an ethylenic double bond capable
  • Reaction product of M-5 N-methyljetanolamine (1 mol), tolylene 1,2,4 diisocyanate (2 mol), 2 hydroxypropylene 1,3 dimetatalylate (2 mol)
  • Atalylates or alkyl acrylates described in Kaihei 1 105238 and JP-A-2-127404 can be used.
  • the content of the ethylenically unsaturated bond-containing compound in the photosensitive layer is preferably from 1.0 to 80.0% by mass, particularly preferably from 3.0 to 70.0.
  • the photopolymerizable photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention contains a photopolymerization initiator.
  • the photopolymerization initiator include titanocene compounds, iron arene complex compounds, torino, oral alkyl compounds, and monoalkyltriarylborate compounds.
  • titanocene compound examples include compounds described in JP-A-63-41483 and JP-A-2-291. More preferable specific examples include bis (cyclopentagenyl) Ti-dimonochloride. Bis (cyclopentagel) Ti-bis monophenol, bis (cyclopentagel) mono Ti-bis 1, 3, 4, 5, 6 pentafunolerophenol, bis (cyclo Pentagenyl) 1 Ti-Bis 1, 2, 5, 5, 6-tetrafluorophenyl, bis (cyclopentagel) Ti-Bis 2, 4, 6 trifluorophenol, bis (cyclopentagel) — Ti-bis-1,6-difluorophenol, bis (cyclopentagel) Ti-bis-1,2,4-difluorophenol, bis (methylcyclopentagel) -Ti-bis 2, 3, 4, 5, 6 Pentafluorophenol, bis (methylcyclopentagel) Ti— Scan one 2, 3, 5, 6-tetrafluoro Fe - le, bis (methylcyclopentadienyl Jefferie
  • iron arene complex compound examples include the compounds described in JP-A-59-219307. More preferable specific examples include 7 ⁇ -benzene mono (7 ⁇ -cyclopentagel) iron ' Xafluorophosphate, ⁇ -cumene ( ⁇ -cyclopentagel) iron 'hexafluorophosphate, —fluorene mono (—cyclopentagel-iron) iron' hexafluorophosphate, —naphthalene mono ( 7?
  • monoalkyltriarylborate compounds include compounds described in JP-A-62-150242 and JP-A-62-143044. More preferable specific examples include Tetra ⁇ -butylammonium ⁇ -Butyl-trinaphthalene 1-rubolate, Tetra ⁇ -Butylammo-um ⁇ ⁇ -Butyl-triphenyl-rubolate, Tetra ⁇ Butyl-ammo-um ⁇ ⁇ -Butyltree (4-tert-butylphenol) -borate, Tetra n-butylammo- Um- ⁇ -hexyl root (3-chloro-4-methylphenol) borate, tetra- ⁇ -butylammonium ⁇ -hexyl root (3-fluorophenol) borate and the like.
  • torino-oral alkyl compound a compound containing chlorine and bromine as halogen is particularly suitable.
  • the torino-or alkyl group is preferably bonded to the aromatic carbocyclic or heterocyclic ring directly or via a chain continuously conjugated with the torino-romethyl group.
  • a triazine ring having two trihalomethyl groups as a mother nucleus especially described in EP-A-137, 452, DE-A-2, 118, 259 and 2243621.
  • These compounds show strong light absorption in the near ultraviolet region, for example, 350 to 400 nm.
  • Concomitant initiators that do not absorb themselves or absorb very little light in the spectral region of the copying light, for example trihalomethyltriazines containing substituents with short electronic systems or aliphatic substituents that allow mesomeries, Is also appropriate.
  • trihalomethyltriazines containing substituents with short electronic systems or aliphatic substituents that allow mesomeries Is also appropriate.
  • compounds having different basic skeletons and absorbing light in the short-wave ultraviolet region such as felt trihalomethyl sulfone or ferritrihalomethyl ketone, such as felt rib mouth momethyl sulfone.
  • any photopolymerization initiator can be used in combination.
  • Examples include diazo compounds, halogen compounds, and photoreducible dyes. More specific compounds are disclosed in British Patent 1,459,563.
  • Benzoin derivatives such as benzoin methyl ether, benzoin-i propyl ether, ⁇ , ⁇ -dimethoxy-a-ferulacetophenone; benzophenone, 2,4 dichlorobenzophenone, o methyl benzoylbenzoate, 4, 4 'bis (dimethylamino) benzophenone
  • Benzophenone derivatives such as 2-cyclodithioxanthone, 2-i propylthioxanthone derivatives such as propylthioxanthone; anthraquinone derivatives such as 2-cyclodianthraquinone and 2-methylanthraquinone; attaridone derivatives such as N-methylataridon and N-butylatalidone ⁇ , a — Jetoxyacetophenone, benzyl, fluorenone, xanthone, ura nin
  • transition metal complexes containing transition metals such as luteum described in JP-A-2-182701; JP-A-3-209477 2, 4, 5-triarylimidazole dimer as described; carbon tetrabromide, JP-A 59-1 And organic halogen compounds described in No. 07344.
  • the content of the photopolymerization initiator in the photosensitive layer is preferably 0.1 to 20% by mass based on the amount of the ethylenically unsaturated bond-containing compound in the photosensitive layer, particularly 0.5. ⁇ 15% by mass is preferred.
  • a sensitizing dye is preferably added to the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate material of the invention.
  • a sensitizing dye having an absorption maximum wavelength near the wavelength of the light source.
  • Visible light power As a sensitizing dye that sensitizes the wavelength to the near infrared, that is, a sensitizing dye having an absorption maximum between 350 nm and 1300 ⁇ m, for example, cyanine, phthalocyanine, melocyanin, porphyrin, spiro compound, Hue mouth sen, fluorene, fulgide, imidazole, perylene, phenazine, phenothiazine, polyene, xanthene, azo compound, diphenyl methane, triphenylmethane, polymethine atridine, coumarin, coumarin derivative, ketocoumarin, quinacridone, indigo, styryl, pyrylium compound , Pyromethene compounds, pyrazolotriazole compounds, benzothiazole compounds, barbituric acid derivatives, thiobarbituric acid derivatives, and the like, and ketoalcohol borate complex
  • the combination of the photopolymerization initiator and the sensitizing dye include combinations described in JP-A Nos. 2001-125255 and 11-271969. Furthermore, when performing recording using a semiconductor laser having a light emission wavelength in the range of 380 nm to 430 nm as a laser light source, so-called violet laser, a sensitizing dye having an absorption maximum between 350 nm and 450 nm is included. It is desirable.
  • the sensitizing dye having an absorption maximum between 350 nm and 450 nm is not particularly limited in structure, but any of the dye groups described above can be used as long as the absorption maximum satisfies the requirements.
  • the content of the sensitizing dye in the photosensitive layer is preferably from 0.1 to 20.0% by mass, particularly preferably from 0.1 to 10.0% by mass.
  • the support that can be used in the photosensitive lithographic printing plate of the present invention is preferably an aluminum plate, and in this case, it may be a pure aluminum plate, an aluminum alloy plate, or the like.
  • Various aluminum alloys can be used as the support, such as silicon, copper, mangan, magnesium, chromium, zinc, lead, bismuth, nickel, titanium, sodium, iron, and other metals and aluminum. Alloys are used, and aluminum plates produced by various rolling methods can be used. In addition, recycled aluminum plates obtained by rolling recycled aluminum bullion such as scrap materials and recycled materials, which are becoming popular in recent years, can also be used.
  • the support that can be used in the photosensitive lithographic printing plate of the present invention is preferably subjected to a degreasing treatment in order to remove rolling oil on the surface prior to roughening (graining treatment).
  • a degreasing treatment a degreasing treatment using a solvent such as trichlene or thinner, an emulsion degreasing treatment using an emulsion such as kesilon or triethanol, and the like are used.
  • An alkaline aqueous solution such as caustic soda can also be used for the degreasing treatment.
  • an alkaline aqueous solution such as caustic soda
  • dirt and acid film can be removed, which cannot be removed only by the above degreasing treatment.
  • an alkaline aqueous solution such as caustic soda
  • smut is generated on the surface of the support.
  • phosphoric acid, nitric acid It is preferable to perform a desmut treatment by immersing in an acid such as sulfuric acid or chromic acid or a mixed acid thereof.
  • Examples of the roughening method include a mechanical method and a method of etching by electrolysis.
  • the mechanical surface roughening method used is not particularly limited, but a brush polishing method and a Houng polishing method are preferable.
  • the roughening by the brush polishing method is, for example, rotating a rotating brush using a bristle having a diameter of 0.2 to 0.8 mm, and, for example, volcanic ash having a particle size of 10 to: LO 0 m on the support surface. While supplying a slurry in which particles are uniformly dispersed in water, the brush can be pressed.
  • For roughing by Houng polishing for example, volcanic ash particles with a particle size of 10 ⁇ : LOO m are uniformly dispersed in water, injected with pressure from the nozzle, and collided with the surface of the support at an angle.
  • the surface of the support, the particle size 10 to: the abrasive particles LOO / zm, at intervals of 100 ⁇ 200 / ⁇ ⁇ , 2. 5 ⁇ 10 3 ⁇ 10 ⁇ 1 0 of 3 / cm 2 Roughening can also be performed by laminating sheets coated so as to exist at a density and transferring a rough surface pattern by applying pressure.
  • the surface of the support is soaked and immersed in an aqueous solution of acid or alkali to remove abrasives, formed aluminum scraps, etc.
  • the acid include sulfuric acid, persulfuric acid, hydrofluoric acid, phosphoric acid, nitric acid, hydrochloric acid, and the like.
  • the base include sodium hydroxide, potassium hydroxide, and the like. Among these, it is preferable to use an alkaline aqueous solution such as sodium hydroxide.
  • the amount of aluminum dissolved on the surface is preferably 0.5 to 5 g / m 2 .
  • the electrochemical surface roughening method is not particularly limited, but a method of electrochemical surface roughening in an acidic electrolyte is preferable.
  • the acidic electrolytic solution an acidic electrolytic solution that is usually used in an electrochemical roughening method can be used, but a hydrochloric acid-based or nitric acid-based electrolytic solution is preferably used.
  • the electrochemical surface roughening method for example, methods described in Japanese Patent Publication No. 48-28123, British Patent No. 896, 563 and Japanese Patent Laid-Open No. 53-67507 can be used. In this roughening method, a voltage in the range of 1 to 50 volts is generally applied.
  • the current density is preferably selected from the range of forces 50 to 150 AZdm 2 where a range of 10 to 200 A / dm 2 can be used.
  • the quantity of electricity may be in the range of 5000 C / dm 2, preferably selected from the range of 100 ⁇ 2000cZdm 2.
  • As the temperature at which this roughening method is performed it is preferable to select a force that can use a range of 10 to 50 ° C and a range force of 15 to 45 ° C.
  • a force that can be applied by applying a voltage in the range of 1 to 50 volts is in the range of 10 to 30 volts. It is preferable to select the force.
  • Current density the force 20 may be in the range of 10 to 200 A / dm 2: Range force LOOA / dm 2 also preferably selected.
  • Quantity of electricity is preferably selected from the range of the force 100 ⁇ 2000c / dm 2 which may be in the range of 100-500 Oc / dm 2.
  • the temperature for the electrochemical surface roughening method can be in the range of 10 to 50 ° C, but is preferably selected from the range of 15 to 45 ° C.
  • the concentration of nitric acid in the electrolytic solution is preferably 0.1 to 5% by mass. In the electrolyte, nitrates, chlorides, amines, aldehydes, phosphoric acid, chromic acid, boric acid, acetic acid, oxalic acid, and the like can be added as necessary.
  • a hydrochloric acid-based electrolyte When a hydrochloric acid-based electrolyte is used as the electrolyte, it is generally preferable to select a force that can be applied by applying a voltage in the range of 1 to 50 volts and a force in the range of 2 to 30 volts.
  • the current density is preferably selected from the range of forces 50-150 AZdm 2 which can use the range of 10-200 A / dm 2 .
  • the amount of electricity can be in the range of 100 to 5000 c / dm 2 , preferably 100 to 2000 cZdm 2 , and more preferably in the range of 200 to 1000 cZdm 2 .
  • the temperature at which the electrochemical surface roughening method is performed can be in the range of 10 to 50 ° C, but it is preferable to select a range force of 15 to 45 ° C.
  • the hydrochloric acid concentration in the electrolytic solution is preferably 0.1 to 5% by mass.
  • the electrolyte can contain nitrates, chlorides, amines, aldehydes, phosphoric acid, chromic acid, boric acid, acetic acid, oxalic acid, etc., as required.
  • the surface is roughened by the electrochemical surface roughening method, it is preferably immersed in an acid or alkali aqueous solution in order to remove aluminum scraps on the surface.
  • the acid include sulfuric acid, persulfuric acid, hydrofluoric acid, phosphoric acid, nitric acid, hydrochloric acid, and the like.
  • the base include sodium hydroxide, potassium hydroxide, and the like. Of these, the use of an aqueous alkali solution preferable.
  • the amount of aluminum dissolved on the surface is preferably 0.5 to 5 g / m 2 . It is also preferable to carry out a neutralization treatment by dipping in an aqueous solution of alkali followed by dipping in an acid such as phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid or a mixed acid thereof.
  • the mechanical surface roughening method and the electrochemical surface roughening method may each be used alone to roughen the surface, or the mechanical surface roughening treatment method followed by the electrochemical surface roughening method. You may go and roughen.
  • an anodizing treatment can be performed.
  • a known method with no particular limitation can be used for the anodizing treatment method that can be used.
  • an oxide film is formed on the support.
  • anodic oxidation treatment a method in which an aqueous solution containing sulfuric acid and Z or phosphoric acid or the like at a concentration of 10 to 50% is used as an electrolytic solution and electrolysis is performed at a current density of 1 to 10 AZdm 2 is also used.
  • chromic acid examples thereof include a method using a solution containing one or more of oxalic acid, malonic acid and the like.
  • Anode Sani spoon coated amount of the formed, L ⁇ 50mgZdm 2 are suitable, preferably 10 ⁇ 40mgZ dm 2.
  • the amount of anodic oxidation coating is, for example, by immersing an aluminum plate in a chromic phosphate solution (85% phosphoric acid solution: 35 ml, prepared by dissolving 20 g of acid-chromium (IV) in 1 L of water) to dissolve the oxide film.
  • a chromic phosphate solution 85% phosphoric acid solution: 35 ml, prepared by dissolving 20 g of acid-chromium (IV) in 1 L of water
  • the anodized support may be subjected to a sealing treatment if necessary.
  • These sealing treatments can be carried out using known methods such as hot water treatment, boiling water treatment, steam treatment, sodium silicate treatment, dichromate aqueous solution treatment, nitrite treatment, and acetic acid ammonium treatment.
  • covers a support surface with polybuluphosphonic acid can be performed.
  • the surface treatment is not limited to a coating method, a spray method, a dip method, or the like, but a dip method is suitable for making the equipment inexpensive.
  • the dip method it is preferable to treat polybuluphosphonic acid with a 0.01 to 35% aqueous solution.
  • a 0.1 to 5% aqueous solution is particularly preferable.
  • the treatment temperature is preferably 20 ° C or higher and 90 ° C or lower, more preferably 40 ° C or higher and 80 ° C or lower.
  • the processing time is preferably 10 to 180 seconds. After treatment, excessively laminated polyvinylphosphonic acid In order to remove water, it is preferable to perform a squeegee treatment or a water washing treatment. Further, it is preferable to perform a drying treatment.
  • the drying temperature is preferably 20 to 95 ° C.
  • the amount of the polybuluphosphonic acid on the surface of the aluminum support of the present invention is preferably 3 to 20 mgZm2. In particular, 4 to 15 mg / m 2 is preferable. If it is less than 3 mg / m 2 , non-image areas will be smudged, and if it exceeds 20 mg, the printing durability will deteriorate.
  • a desired amount of coating can be obtained by various combinations of the concentration of the aqueous polyvinylphosphonic acid solution, the treatment temperature, and the treatment time.
  • the surface phosphorus atom concentration (atm%) is preferably 3 to 15 atm%. Particularly preferred is 5 to 9 atm%.
  • sodium hydroxide, potassium and lithium are preferably used as the inorganic alkaline agent contained in the developer used in the present invention. These alkaline agents can be used alone or in combination of two or more.
  • An alkaline aqueous solution having a pH in the range of 8.5 to 13.0 is preferred. More preferably, ⁇ .5 to 12.5.
  • the pH of the developer is less than 8.5, the image area of the printing plate obtained from a photosensitive lithographic printing plate that can be developed with such a developer is physically fragile and wears quickly during printing. Printing durability cannot be obtained.
  • the image portion is chemically weak, and the image of the portion wiped with an ink washing solvent or a plate cleaner is damaged during printing, and as a result, sufficient chemical resistance cannot be obtained. Developers with a high pH exceeding 13.0 are highly irritating when adhering to the skin and mucous membranes, and should be handled with great care.
  • the following buffering agent is preferably contained in order to have plate surface cleaning properties and developer pH buffering properties.
  • potassium silicate and sodium silicate are preferred.
  • the silicate concentration is preferably 0.5 to 3.5 mass% in terms of SiO concentration.
  • SiO and alkali metals are particularly preferred.
  • the molar ratio of M (SiO 2 ZM) is in the range of 0.25-2.
  • Organic alkali agents such as luamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine, and pyridine are also used in combination.
  • the electric conductivity of the developer in the present invention is 10 to 30 mSZcm. If the electrical conductivity is less than 10, the alkali strength is weak and the development is insufficient and the processing is not stable. If the conductivity is higher than 30, the alkali strength becomes too high, the damage to the photopolymerized image area becomes large and sufficient printing durability cannot be obtained, and the salt concentration in the developer becomes too high, so The sludge reattaches to the non-image area due to the deposition, and the printing plate becomes dirty.
  • the developer used in the present invention is not only an unused solution used at the start of development.
  • a replenisher is replenished to correct the activity of the liquid that is lowered by the processing of the photosensitive lithographic printing plate, and a liquid that maintains the activity (so-called running liquid) is included.
  • the replenisher therefore needs to have a higher activity (alkali concentration) than the developer, so the pH of the replenisher may be greater than 13.0.
  • the surfactant used in the developer of the present invention it is essential to contain a surfactant having a polyoxyethylene group, and a non-ionic surfactant or a cationic surfactant is used.
  • Any one of the polymer surfactants or a mixture thereof is preferably used.
  • nonionic surfactant containing a polyoxyethylene group a compound having the structure of the following general formula (1) is preferably used.
  • R 1 may have a substituent, an alkyl group having 3 to 15 carbon atoms, or a substituent.
  • 0 represents an alkylene group (the substituent includes an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and an aromatic hydrocarbon group having 6 to 15 carbon atoms), and n represents an integer of 1 to: LOO. Also, (R — O
  • ) May be two or three groups within the above range. Specific examples include random or block combinations of ethyleneoxy group and propyleneoxy group, ethyleneoxy group and isopropyloxy group, ethyleneoxy group and butyleneoxy group, ethyleneoxy group and isobutylene group, and the like.
  • ionic surfactant having a polyoxyethylene group a compound having the structure of the following general formula (2) is preferably used.
  • R 2 is an alkyl group having 3 to 15 carbon atoms which may have a substituent, and a substituent.
  • an alkylene group having a prime number of 1 to 100 (the substituent includes an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and an aromatic hydrocarbon group having 6 to 15 carbon atoms), and m is an integer of 1 to L00.
  • the (R—O) moiety may be two or three groups within the above range.
  • the surfactant having a polyoxyalkylene ether group is used alone or in a composite system, and it is effective to add 1 to 30% by mass, preferably 2 to 20% by mass in the developer. It is. If the amount added is too small, the developing ability is reduced. Strengthens and reduces the printing durability of the printing plate.
  • the polymer activator is not defined as long as it is a polymer activator containing a polyoxyalkylene group having 2 to 4 carbon atoms.
  • polymer surfactants such as polyoxyethylene ′ polyoxypropylene block copolymer and polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ether are preferred.
  • Polyoxyethylene 'Polyoxypropylene block copolymer is represented by the following structural formula.
  • a, b and c are integers from 1 to L0000.
  • the range of suitable polymers in the present invention Echirenokishido 10-90 mass 0/0 in the total molecule, preferably 40 to 80 weight 0/0.
  • the molecular weight of polyoxypropylene is 1000 to 4000, and a range force S of 2000 to 3500 is particularly preferable.
  • the developer used in the present invention includes development acceleration, development residue dispersion, and a printing plate, in addition to the nonionic surfactant, the anionic surfactant, and the polymeric surfactant.
  • Various surfactants may be added for the purpose of improving the ink affinity of the image area.
  • surfactants include ionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants.
  • examples include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene aryl ethers, polyoxyethylene naphthyl. Ethers, polyoxyethylene polystyryl phenyl ethers, glycerin fatty acid partial esters, sorbitan fatty acid partial esters, pentaerythritol fatty acid partial esters, propylene glycol mono fatty acid esters, sucrose fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitan fat Acid partial esters, Polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial esters, Polyethylene glycol fatty acid esters, Polyglycerin fatty acid partial esters, Polyoxyethylene coconut oil, Polyoxyethylene N-glycerin fatty acid partial ester, polyoxyethylene polyoxypropylene block copolymer, polyoxyethylene polyoxypropylene block copolymer adduct of ethylenediamine, fatty acid di
  • -Cationic surfactants such as um salts, polyoxyethylene alkylamine salts, polyethylene polyamine derivatives, and amphoteric surfactants such as carboxybetaines, aminocarboxylic acids, sulfobetaines, aminosulfuric acid esters, imidazolines Can be mentioned.
  • polyoxyethylene is polyoxymethylene.
  • Polyoxyalkylene such as polyoxypropylene and polyoxybutylene, and their surfactants are also included.
  • the above surfactants can be used alone or in combination of two or more thereof, and are added to the developer in the range of 0.05 to 10% by mass, more preferably 0.1 to 5% by mass. Is done.
  • the developer used in the present invention may use additives such as a hard water softener.
  • water softeners include polyphosphoric acid and its sodium salt, potassium salt and Molybdenum salt, ethylenediaminetetraacetic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid, ethylenediaminedisuccinic acid, methyliminodiacetic acid, ⁇ -alanine diacetic acid, triethylenetetraminehexaacetic acid, hydroxyethylethylenediamintriacetic acid, ditrimethyl triacetic acid, 1 Aminopolycarboxylic acids such as 1,2-diaminocyclohexanetetraacetic acid and 1,3 diamino-2-propanoltetraacetic acid and their sodium, potassium and ammonium salts, aminotri (methylenephosphonic acid), ethylenediaminetetra (methylenephosphonic) Acid), diethylenetriaminepenta (methylenephosphonic acid), triethylenetetraminehexa (methylenephosphonic acid), hydroxyethylethylenediaminetri (methylenephosphonic acid) and 1-
  • the optimum value of such a water softener varies depending on its chelating power, the hardness of the hard water used, and the amount of hard water used. It is 5 mass%, More preferably, it is the range of 0.01-0.5 mass%. If the addition amount is less than this range, the intended purpose will not be sufficiently achieved, and if the addition amount is greater than this range, the image area will be adversely affected, such as color loss.
  • the photosensitive lithographic printing plate of the present invention is preferably processed by an automatic processor.
  • the automatic processor that can be used in the present invention is preferably provided with a mechanism for automatically replenishing the replenisher with a necessary amount in the developing bath, and preferably provided with a mechanism for discharging the developer exceeding a certain amount.
  • a mechanism for automatically replenishing the required amount of water to the developing bath is provided, and preferably a mechanism for detecting plate passing is provided, preferably based on detection of plate passing.
  • a mechanism is provided to estimate the processing area of the plate, preferably detecting the plate and
  • a replenisher to be replenished based on estimation of drought or processing area and a mechanism for controlling the replenishment amount of drought or water and drought or replenishment timing are provided, preferably a mechanism for controlling the temperature of the developer is provided.
  • a mechanism for detecting the ⁇ and ⁇ or conductivity of the developer is provided, and preferably a replenisher and ⁇ ⁇ ⁇ that are to be replenished based on the developer ⁇ ⁇ and ⁇ or conductivity.
  • a mechanism to control the amount of water replenishment and dredging or replenishment timing is provided.
  • the washing water after use can be used as dilution water for the concentrate of the developer concentrate and the developer replenisher.
  • the automatic processor used in the present invention may have a pre-processing unit that immerses the plate in the pre-processing solution before the developing step.
  • the pretreatment section is preferably provided with a mechanism for spraying the pretreatment liquid onto the plate surface, and preferably provided with a mechanism for controlling the temperature of the pretreatment liquid to an arbitrary temperature of 25 ° C to 55 ° C.
  • a mechanism for rubbing the plate surface with a roller-like brush is provided.
  • water etc. are used as this pretreatment liquid.
  • a plate developed with a developing solution having a lucid composition is washed with washing water, a rinsing solution containing a surfactant, a finish or a protective gum solution mainly composed of gum arabic or starch derivatives. Processed.
  • these treatments can be used in various combinations, for example, after development ⁇ washing ⁇ rinsing solution containing a surfactant or development ⁇ water washing ⁇ physical treatment.
  • the treatment with an escher liquid is preferred because the rinsing liquid has less fatigue of the Fischer liquid.
  • a counter-current multi-stage treatment using a rinse liquid or a ash liquid is also a preferred embodiment.
  • post-treatments are generally performed using an automatic developing machine comprising a developing section and a post-processing section.
  • the post-treatment liquid a method of spraying from a spray nozzle or a method of immersing and conveying in a treatment tank filled with the treatment liquid is used.
  • a method is also known in which a small amount of washing water after development is supplied to the plate surface and washed, and the waste liquid is reused as dilution water for the developer stock solution.
  • each processing solution can be processed while being replenished with each replenishing solution according to the processing amount, operating time, and the like.
  • a so-called disposable treatment method in which treatment is performed with a substantially unused post-treatment liquid can also be applied.
  • the lithographic printing plate obtained by such processing is loaded on an offset printing machine and used for printing a large number of sheets.
  • an acid or buffer to the gum solution to remove alkali components from the developer.
  • hydrophilic polymer compounds, chelating agents, lubricants, preservatives, solubilizers, etc. are added. can do.
  • the gum solution contains a hydrophilic polymer, it also has a function as a protective agent to prevent scratches and stains on the developed plate.
  • surfactants that can be used include anionic surfactants and Z or nonionic surfactants.
  • cation-type surfactants include fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkane sulfonic acid salts, alkane sulfonic acid salts, Alkylsulfosuccinates, linear alkylbenzene sulfonates, branched alkylbenzene sulfonates, alkylnaphthalene sulfonates, alkylphenolic polyoxyethylenepropyl sulfonates, polyoxyethylene alkylsulfoether ether salts, Polyoxyethylene aryl ether sulfonate, polyoxyethylene naphthyl ether sulfonate, N-methyl-N-oleyl taurine sodium, N-alkylsulfosuccinic acid
  • Nonionic surfactants include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene aryl ethers, polyoxyethylene naphthyl ether, polyoxyethylene polystyryl phenyl ether, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ether, Glycerin fatty acid partial ester, sorbitan fatty acid partial ester, pentaerythritol fatty acid partial ester, propylene glycol mono fatty acid ester, sucrose fatty acid partial ester, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial ester, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial ester , Polyethylene glycol fatty acid esters, polyglycerin fatty acid partial esters, polyoxyethylene coconut oil, polyoxyethylene glycerin fat Acid partial esters, fatty acid diethanolamides, N, N-bis - 2-hydroxyalkylamines, polyoxyethylene alkyl Amin, triethanolamine ⁇ Min fatty acid esters, Ru include trialkylamines O sulfox
  • polyoxyethylene alkylphenol ethers polyoxyethylene Polyoxypropylene block polymers are preferably used.
  • Fluorine-based and silicon-based ionic and non-ionic surfactants can also be used. Two or more of these surfactants can be used in combination. For example, two or more different types can be used in combination.
  • a combination of two or more different anionic surfactants is preferably a combined use of an anionic surfactant and a nonionic surfactant.
  • the amount of the surfactant used is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 20% by mass of the post-treatment liquid.
  • a polyhydric alcohol, an alcohol and an aliphatic hydrocarbon can be used as a lubricant in addition to the above components as required.
  • polyhydric alcohols preferred specific examples include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, tetraethylenedaricol, polyethylene glycol, glycerin, sorbitol, and the like. Fragrances such as oral pinoleanolenoconole, butinoreanoreconole, pentanolenole, hexanolenole, heptanolenole, octanol and other alkyl alcohols, pendyl alcohol, phenoxyethanol and phenolaminoethanol Examples include alcohols having a ring.
  • Examples of the aliphatic hydrocarbon include n-hexanol, methylamyl alcohol, 2-ethylbutanol, n- heptanol, 3 heptanol, 2-octanol, 2-ethylhexanol, nonanol, 3 , 5, 5-trimethylhexanol, n-decanol, undecanol, n dodecanol, trimethylanol alcohol, tetradecanol, heptadenorol, 2 ethyl 1,3 hexanediol, 1,6 hexanediol 2,5 hexanediol, 2,4 hexanediol, 1,8 octanediol, 1,9-nonanediol, 1,10-decanediol and the like.
  • the content of these lubricants is suitably 0.1 to 50% by mass, more preferably 0.5 to
  • ethylene glycol, propylene glycol, triethylene glycol, butylene glycol, as well as hexylene glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, glycerin, trimethylolpropane, diglycerin and the like are suitably used as a lubricant.
  • These wetting agents may be used alone or in combination of two or more. In general, the wetting agent is preferably used in an amount of 1 to 25% by mass.
  • Various hydrophilic polymers can be contained for the purpose of improving the film-forming property.
  • any hydrophilic polymer that can be conventionally used in a gum solution can be preferably used.
  • gum arabic fiber derivatives (for example, carboxymethyl cellulose, carboxyethyl cellulose, methyl cellulose, etc.) and modified products thereof, polybutyl alcohol and derivatives thereof, polybutyropyrrolidone, polyacrylamide and copolymers thereof, vinyl Examples thereof include methyl ether Z maleic anhydride copolymer, vinyl acetate Z maleic anhydride copolymer, and styrene Z maleic anhydride copolymer.
  • the gum solution used in the present invention is generally more advantageously used in the acidic range of pH 3 to 6.
  • it is generally adjusted by adding a mineral acid, organic acid or inorganic salt to the post-treatment liquid.
  • the addition amount is preferably 0.01 to 2% by mass.
  • mineral acids include nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid and metaphosphoric acid.
  • organic acids include citrate, acetic acid, oxalic acid, malonic acid, p-toluenesulfonic acid, tartaric acid, malic acid, lactic acid, levulinic acid, phytic acid, and organic phosphonic acid.
  • inorganic salts include magnesium nitrate, monobasic sodium phosphate, dibasic sodium phosphate, nickel sulfate, sodium hexamethanoate, sodium tripolyphosphate, and the like. Use at least one or more of mineral acids, organic acids or inorganic salts.
  • An antiseptic, an antifoaming agent and the like can be added to the gum solution used in the present invention.
  • phenol or a derivative thereof formalin, imidazole derivative, sodium dehydroacetate, 4-isothiazoline-3-one derivative, benzisothiazoline-3-one, benztriazole derivative, amidingazine derivative, quaternary ammonia -Derivatives such as humic salts, pyridine, quinoline, guanidine, diazine, triazole derivatives, oxazole, oxazine derivatives and the like.
  • the preferred addition amount is an amount that stably exerts an effect on bacteria, mold, yeast, etc., and varies depending on the type of bacteria, mold, yeast, etc.
  • the range of 0.01 to 4% by mass is preferable, and it is preferable to use two or more preservatives in combination so as to be effective against various molds and sterilization.
  • a silicon antifoaming agent is preferable.
  • emulsified dispersion type and solubilized type can be used.
  • the range of 0.01 to 1.0% by mass with respect to the gum solution at the time of use is optimal.
  • a chelate compound may be added.
  • Preferred chelating compounds include, for example, ethylenediaminetetraacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; diethylenetriaminepentaacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; triethylenetetraminehexaacetic acid, its sodium salt; ethylenediamine disuccinic acid , Its potassium salt, its sodium salt; triethylenetetramine hexaacetic acid, its potassium salt, its sodium salt, hydroxyethylethylenediamine triacetic acid, its potassium salt, its sodium salt: Utrillotriacetic acid, its sodium salt; 1-hydroxy Ethane 1,1-diphosphonic acid, its potassium salt, its sodium salt; organic phosphonic acids such as aminotri (methylenephosphonic acid), its potassium salt, its sodium salt, or phosphonoalkanetricarboxylic acid It can be mentioned.
  • Organic amine salts are also effective in place of the sodium and potassium salts of the chelating agents. These chelating agents are selected so that they are stably present in the gum solution composition and do not impair the printability. Appropriate amount of addition is 0.0001-1. 0% by mass with respect to the gum solution used.
  • a sensitizer may be added as necessary.
  • hydrocarbons such as turpentine oil, xylene, toluene, low heptane, solvent naphtha, kerosene, mineral spirits, petroleum fractions with a boiling point of about 120 ° C to about 250 ° C, such as dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, di-n —Phthalic acid diester agents such as octyl phthalate, di (2-ethylhexyl) phthalate, di-northyl phthalate, didecyl phthalate, dilauryl phthalate, butyl benzyl phthalate, for example, dioctyl adipate, butyl dallicol dipate, Aliphatic dibasic esters such as dioctylazelate, dibutyl sebacate, di (2-ethylhexyl) sebac
  • caproic acid enanthic acid, strong prillic acid, helargonic acid, strong purine acid, undecyl acid, lauric acid, tridecyl acid, myristic acid, pentadecylic acid, palmitic acid, heptadecylic acid, stearic acid, nonadecanoic acid, araquine Saturated fatty acids such as acid, behenic acid, lignoceric acid, serotic acid, heptacosanoic acid, montanic acid, mellicic acid, rataceric acid and isovaleric acid Acrylic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, undecylenic acid, oleic acid, elaidic acid, celetic acid, dilucaic acid, buteticic acid, sorbic acid, linoleic acid, linolenic acid, arachidonic acid, propiolic acid, stearolic acid, iw
  • fatty acid that is liquid at 50 ° C., more preferably 5 to 25 carbon atoms, and most preferably 8 to 21 carbon atoms.
  • sensitizers can be used alone or in combination of two or more.
  • a preferable range for the amount used is 0.01 to 10% by mass of the gum, and a more preferable range is 0.05 to 5% by mass.
  • the oil-sensitizing agent as described above may be used in the form of an emulsified and dispersed gum and may be contained as an oil phase, or may be solubilized with the aid of a solubilizer.
  • the solid concentration of the gum solution is preferably 5 to 30 gZl.
  • the film thickness of the gum can be controlled by the conditions of the squeeze means of the actual machine.
  • the gum application amount is preferably 1 to: LOgZ m 2 .
  • the amount of gum application exceeds 10
  • the plate surface needs to be very hot in order to dry in a short time, which is disadvantageous in terms of cost and safety, and the effects of the present invention cannot be sufficiently obtained. Below lgZm 2 , uniform coating becomes difficult and stable processability cannot be obtained.
  • the time from the end of the application of the gum solution to the start of drying is preferably 3 seconds or less. More preferably, it is 2 seconds or less, and the shorter the time is, the better the ink deposition property is.
  • the drying time is preferably 1 to 5 seconds. When the drying time is 5 seconds or more, the effect of the present invention cannot be obtained. If the drying time is 1 second or less, it is necessary to make the plate surface very hot in order to sufficiently dry the photosensitive lithographic printing plate, which is not preferable for safety and cost.
  • a drying method such as a warm air heater or a far infrared heater can be used.
  • the solvent in the gum solution needs to be dried. Therefore, it is necessary to ensure sufficient drying temperature and heater capacity.
  • the temperature required for drying varies depending on the components of the gum solution, but in the case of a gum solution in which the solvent is water, the drying temperature is preferably 55 ° C or higher.
  • the heater capacity is often more important than the drying temperature. In the case of the hot air drying method, 2.6 kW or more is preferable. Larger capacity is better, but 2.6-7kW is preferable in terms of cost.
  • washing solution used in the washing step is usually water, but additives such as chelating agents, preservatives, and surfactants can be freed if necessary.
  • a compound that forms a chelate compound by coordination with a metal ion is used.
  • Those chelating agents having an organic amine salt instead of the potassium salt and sodium instead of the potassium salt and sodium
  • any of ionic, nonionic, cationic and amphoteric surfactants can be used, and ionic or nonionic surfactants are preferred.
  • the type of the preferred surfactant varies depending on the composition of the overcoat layer and the photosensitive layer, and generally serves as a dissolution accelerator for the overcoat layer material, and preferably has a low solubility for the photosensitive layer components.
  • the cation surfactants include fatty acid salts, abichenates, hydroxyalkane sulfonates, alkane sulfonates, dialkyl sulfosuccinates, alkyl benzene sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates, alkyl phthalates.
  • Nonionic surfactants include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene polystyryl phenyl ethers, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ethers, glycerin fatty acid esters, sorbitan fatty acid partial esters, penta Erythritol fatty acid partial ester, propylene glycol mono fatty acid ester, sucrose fatty acid partial ester, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial ester, iethylene glycol fatty acid ester, polyiglycerin fatty acid partial ester, polyoxyethylene Castor oils, polyoxyethylene glycerin fatty acid partial esters, fatty acid diethanolamides, N, N-bis-hydroxyalkylamines, polyoxyethylene alkylamines, Re ethanol ⁇ Min fatty acid esters, Toriaruki Ruaminokishido and the like.
  • the surfactant is preferably added in an amount of 0 to 10% by mass. Further, an antifoaming agent and a preservative can be used in combination with the surfactant.
  • Preservatives include phenol or its derivatives, formalin, imidazole derivatives, sodium dehydroacetate, 4 isothiazoline-3-one derivatives, benzoisothiazolin-3-one, benzotriazole derivatives, amidingazine derivatives, quaternary Ammonium salts, derivatives such as pyrrolidine, quinoline, guanidine, diazine, triazole derivatives, oxazole, oxazine derivatives, and the like.
  • the washing solution used for washing before development is preferably used by adjusting the temperature, and the temperature is preferably in the range of 10 to 60 ° C.
  • a known processing liquid supply technique such as spraying, dipping, or coating can be used, and processing promoting means such as a brush, a squeeze roll, or a submerged shower in dip processing can be used as appropriate.
  • development may be performed immediately after completion of the pre-development cleaning step, or after the pre-image cleaning step, drying may be performed.
  • water Known post-treatments such as washing, rinsing and gumming can be performed.
  • the pre-development wash water that has been used once or more can be reused in post-development wash water, rinse solution, or gum solution.
  • a desmut treatment was performed by spraying with a 1% by mass aqueous solution of nitric acid at a temperature of 30 ° C. (including 0.5% by mass of aluminum ions), and then washed with water by spraying.
  • a current having a power source flows to the first power supply electrode provided in the first power supply section, and flows to the plate-like aluminum via the electrolytic solution.
  • An oxide film is formed on the surface of the aluminum, returns to the power source through the electrolytic electrode provided in the first power feeding section.
  • the current of the power supply power flows to the second power supply electrode provided in the second power supply section, similarly flows to the plate-like aluminum via the electrolytic solution, and on the surface of the plate-like aluminum by the second electrolysis section.
  • the amount of electricity supplied to the first power supply unit and the amount of power supplied to the second power supply unit are the same, and the amount of electricity supplied to the second power supply unit is the same.
  • feed current density of was about 25AZdm 2.
  • power was fed from the 1.35 g / m 2 surface of the oxide film.
  • the final oxide film amount was 2. 7gZm 2. Further, after washing with water for spraying, it was immersed in a 0.4% by mass polybuluphosphonic acid solution for 30 seconds to be hydrophilized. The temperature was 75 ° C. Thereafter, it was washed with spray water and dried with an infrared heater.
  • a photosensitive layer coating solution having the following composition was coated with a wire bar so as to be 1.8 gZm 2 when dried, dried at 90 ° C for 1.5 minutes, and 25 ° of the photosensitive layer.
  • the contact angle of C to water (hereinafter simply referred to as the contact angle) was adjusted as shown in Table 1.
  • the contact angle was measured using a Kyowa contact angle meter CA-D (manufactured by Kyowa Science Co., Ltd.).
  • a protective layer coating solution having the following composition was applied to the photosensitive layer-coated sample with a wire bar so that the dried coating solution was 1.9 g / m 2 and dried at the temperature shown in Table 1 for 1.5 minutes.
  • a sample of a photosensitive lithographic printing plate having a protective layer on the photosensitive layer was prepared.
  • Compound B (Compound containing ethylenic double bond that can be added as described below) 44 parts Polyethylene glycol dimetatalylate (NK ester 3G: manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
  • Hinder Domin Stabilizer (LS 770: Sankyo Life Tech Co., Ltd.) 0.5 part
  • Polymer binder A is a methacrylic acid-methyl methacrylate-hydroxyethyl methacrylate (15Z75Z10) copolymer (mass average molecular weight 50,000, acid value 90, glass transition temperature 120 ° C)
  • Polymer dispersant (Solsperse 24000GR) 1. 5 parts
  • Polybulurpyrrolidone acetic acid copolymer (VA64W: manufactured by BASF) 14 parts Surfactant (Surfinol 465: manufactured by Nisshin Chemical Co., Ltd.) 1. 0 parts Water 900 ⁇
  • a load at which peeling of the protective film starts by a scratch test is used as an index of adhesiveness of the protective layer.
  • the obtained photosensitive lithographic printing plate 50mm X 20 Omm
  • a scratch tester HIDON-18 type: Shinto Kagaku Co., Ltd.
  • a continuous load from 0 to L00 g was applied at a speed lOOmmZmin with a sapphire needle of l ⁇ , and the load at which peeling of the protective film began was measured.
  • Load value is 50g or more Above is preferred.
  • Exposure energy Image exposure with a resolution of 50 jZcm 2 , 2400dpi (dpi means 1 inch, that is, 2.dots per 54cm) (exposure pattern is 100% image area and 175LPI (LPI is 1 inch) In other words, 2.5% represents the number of lines per 54 cm) (using 50% squire dots), and the following development processing was performed 1 hour after blocking the light. The rest was subjected to the following development process immediately after the image exposure.
  • a pre-water washing part for removing the protective layer After image exposure, before washing, a pre-water washing part for removing the protective layer, a pre-heating part for heating the plate, a developing part filled with a developer having the following composition, a water washing part for removing the developer adhering to the plate surface, and the image area protection Developed with a CTP automatic processor (Raptor Polymer8 5: G & J) equipped with a gum solution (GW-3: manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) to obtain a lithographic printing plate It was.
  • the time required for the photosensitive lithographic printing plate to come into contact with the developer is the development time, and the development time using the automatic processor is 18 seconds.
  • the halftone dot area of the obtained 50% square was measured with ccDot (manufactured by Centerflux), and the difference I A Dotl
  • I A Dotll is preferably 2% or less.
  • a potassium silicate (SiO: 26. 0 wt%, K 0: 13. 5 wt%) 7. 7 mass 0/0
  • the prepared photosensitive lithographic printing plate material was divided into four, and the latent image regression was evaluated for samples that were left for 2 hours in a 23 ° C, 20% RH, 40% RH, 60% RH, and 80% RH environment.
  • the image exposure and development processing adopted at the time of the above were performed.
  • the halftone dot area of 50% square obtained was measured with ccDot (Centerflux), and the sample was left for 2 hours in a 23 ° C, 20% RH, 40% RH, 60% RH, 80% RH environment.
  • Table 2 shows the values.
  • the photosensitive lithographic printing plate material of the present invention has good coatability and adhesiveness of the protective layer, improved latent image retraction, and is also sensitive to environmental humidity sensitivity. It can be seen that this is a sex lithographic printing plate.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

 本発明は、支持体上に、光重合性感光層及び1つ以上の水溶性高分子を含む保護層を該支持体側からこの順に有する感光性平版印刷版であって、該感光層がシロキサン系界面活性剤を含有し、該感光層に対する液温25°Cにおける水の接触角が65°~85°であり、かつ、前記水溶性高分子の少なくとも1種はJIS K 6726で測定したケン化度が94%以上であるポリビニルアルコールであることを特徴とし、保護層の塗布性、接着性が良好で、かつ、潜像退行性が改良され、しかも、環境湿度感度依存性のよい感光性平版印刷版及びその製造方法を提供する。

Description

感光性平版印刷版材料及びその製造方法
技術分野
[0001] 本発明は、感光性平版印刷版及びその製造方法に関し、さらに詳しくは、コンビュ 一ター ·トウ ·プレートシステム (以下 CTP)用の感光性平版印刷版及びその製造方法 に関する。
背景技術
[0002] 近年、オフセット印刷用の印刷版の作製技術にぉ 、て、画像のデジタルデータをレ 一ザ一光源で直接感光性印刷版に記録するコンピューター ·トウ ·プレートシステム( 以下 CTP)が開発され、実用化が進んでいる。
[0003] これらのうち、比較的高い耐刷カを要求される印刷の分野においては、アルミ-ゥ ム板を支持体としてその上に画像記録層を有する感光性平版印刷版を用いることが 知られて (例えば、特許文献 1〜4参照。)いる。
[0004] CTP用の感光性平版印刷版は、保護層には酸素遮断能が望まれポリビニルアル コールが好ましく用いられる。その結果、高い酸素遮断能により、高感度で、かつ潜 像退行性が良化できるが、感光層との接着性が劣化する。接着性の改良のため、感 光層の接触角を制御する技術が知られているが、現像後印刷時 (例えば、特許文献 参 5照。)、または現像時 (例えば、特許文献 6参照。)のもの、保護層塗布'乾燥前の 感光層(例えば、特許文献 7参照。 )に関するものがあり、手段として保護層の界面活 性剤種.量をコントロールすることが知られている力 S、感光層側をコントロールすること は知られていない。更に、これらの方策を用いて、接着性を改良しても、環境湿度感 度依存性が悪かった。
特許文献 1 :特開平 11— 125897号公報 (特許請求の範囲、実施例)
特許文献 2 :特開平 11— 268413号公報 (特許請求の範囲、実施例)
特許文献 3:特開平 11― 348446号公報 (特許請求の範囲、実施例)
特許文献 4:特開 2000— 131828号公報 (特許請求の範囲、実施例)
特許文献 5 :特開平 8— 286379号公報 (特許請求の範囲、実施例) 特許文献 6 :特開 2005— 148196号公報 (特許請求の範囲、実施例) 特許文献 7 :特開平 10— 10742号公報 (特許請求の範囲、実施例)
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0005] 本発明の目的は、保護層の塗布性、接着性が良好で、かつ、潜像退行性が改良さ れ、しかも、環境湿度感度依存性のよい感光性平版印刷版及びその製造方法を提 供することにある。
課題を解決するための手段
[0006] 本発明の上記目的は、以下の構成により達成することができる。
1.支持体上に、光重合性感光層及び 1つ以上の水溶性高分子を含む保護層を該 支持体側からこの順に有する感光性平版印刷版において、該感光層がシロキサン系 界面活性剤を含有し、該感光層に対する液温 25°Cにおける水の接触角が 65° 〜8 5° であり、かつ、前記水溶性高分子の少なくとも 1種 ίお IS K 6726で測定したケ ン化度が 94%以上であるポリビュルアルコールであることを特徴とする感光性平版 印刷版材料。
2.前記保護層がさらにポリビニルピロリドンまたはビュルピロリドン共重合体を含有す ることを特徴とする 1に記載の感光性平版印刷版材料。
3.前記シロキサン系界面活性剤力 ジメチルポリシロキサン変成ポリエーテルである ことを特徴とする 1または 2に記載の感光性平版印刷版材料。
4.前記シロキサン系界面活性剤力 ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンォキサイ ドおよびポリプチレンオキサイドから選ばれる少なくとも 1つので変性されたポリエーテ ルであることを特徴とする 1〜3のいずれか 1項に記載の感光性平版印刷版材料。
5.前記シロキサン系界面活性剤の、感光層に対する含有量が 0. 01〜10質量%で あることを特徴とする 1〜4のいずれか 1項に記載の感光性平版印刷版材料。
6.前記ポリビニルアルコールの保護層に対する含有量力 65〜85質量%であるこ とを特徴とする 1〜5のいずれ力 1項に記載の感光性平版印刷版材料。
7.前記光重合性感光層が、酸価 30〜 120である重合性バインダー、重合可能なェ チレン性不飽和結合含有化合物および光重合開始剤を含有することを特徴とする 1 〜6のいずれか 1項に記載の感光性平版印刷版材料。
8.前記重合可能なエチレン性不飽和結合含有化合物が、(a)分子内に三級アミノ 基を含有する多価アルコールと、(b)ジイソシァネート化合物と、(c)分子内にヒドロキ シル基および付加重合可能なエチレン性二重結合を有する化合物、との反応生成 物であり、光重合開始剤力 チタノセン化合物、鉄アレーン錯体化合物、トリノ、口アル キル化合物およびモノアルキルトリアリールボレートイ匕合物力 選ばれる少なくとも 1 つであることを特徴とする 7に記載の感光性平版印刷版材料。
9.前記光重合性感光層が、増感色素を含むことを特徴とする 1〜8のいずれか 1項 に記載の感光性平版印刷版材料。
10.支持体上に、シロキサン系界面活性剤を含有する光重合性感光層を形成する 工程、 1種以上の水溶性高分子を含み、該水溶性高分子の少なくとも 1種が、ケンィ匕 度 94%以上のポリビュルアルコールである保護層塗布液を調製する工程、形成され た光重合性感光層上に該保護層塗布液を塗布する工程、および塗布された保護層 塗布液を 95〜120°Cで乾燥して保護層を形成する工程を有することを特徴とする感 光性平版印刷版材料の製造方法。
発明の効果
[0007] 本発明により、保護層の塗布性、接着性が良好で、かつ、潜像退行性が改良され、 しかも、環境湿度感度依存性のよ!、感光性平版印刷版及びその製造方法を提供す ることがでさた。
発明を実施するための最良の形態
[0008] 本発明を更に詳しく説明する。
[0009] 本発明の感光性平版印刷版は、支持体上に、シロキサン系界面活性剤を含む光 重合性感光層及び該感光層上に水溶性高分子を含む保護層を順次設けてなる感 光性平版印刷版であって、該感光層に対する液温 25° Cにおける水の接触角が 65 ° 〜85° であり、かつ、該水溶性高分子の少なくとも 1種は、ケンィ匕度が 94%以上 であるポリビニルアルコールである。
[0010] 本発明にお 、ては保護層塗布前の感光層に対する液温 25°Cにおける水の接触 角が 65° 〜85° である。本発明において、接触角は 25°C、 50%RHの条件下にお いて、水を感光層表面に滴下し 30秒後に形成される水滴において、水滴の周囲と感 光層表面が交わる点で、水滴に接線を引き、該接線と感光層表面との間に形成され る感光層表面側の角度を言う。接触角が 85° より高いと保護層塗布性、保護層の接 着性、耐潜像退行性、環境湿度感度依存性が劣化する。 上記接触角は、感光層 の界面活性剤の種類、添加量を変化させることで調整することができる。 シロキサン 系界面活性剤としては、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサンが好ましい。 ポリ エーテル変性ポリジメチルシロキサンの具体例としては、ポリエチレンォキシド、ポリプ ロピレンォキシド、ポリブチレンォキシドまたはそれらの混合物で変性されたポリジメ チルシロキサンが挙げられる。 これらのポリエーテル変性ポリジメチルシロキサンは 、ポリエチレンォキシド、ポリプロピレンォキシドまたはポリブチレンォキシドの量や混 合比率等を適宜、変化させて得られる。
[0011] これらシロキサン系界面活性剤は、市販品として入手することができ、例えば、 ビックケミ一社の BYK— 302、 BYK— 306、 BYK— 307、 BYK— 320、 BYK— 3 23、 BYK— 330、 BYK— 331、 BYK— 333、 BYK— 337、 BYK— 340、 BYK— 3 44、 BYK— 370、 BYK— 375、 BYK— 377、 BYK— UV3500、信越ィ匕学社の KF
— 945、 KF- 352A, KF— 640、 KF— 351A、 KF- 354L, X— 22— 4272、 X— 22— 6266、 EFKA社の EFKA— 3030、 EFKA— 3031、 EFKA— 3034、 EFKA
— 3299、 EFKA— 3232、 EFKA— 3288、 EFKA— 3033、 EFKA— 3035、 EF KA— 3580、 EFKA— 3883、 EFKA— 3239、 EFKA— 3236、 EFKA— 3522な どを挙げることができる。
[0012] シロキサン系界面活性剤の添加量は、感光層固形分に対して、好ましくは 0. 01〜 10質量%、更に好ましくは 0. 05-2. 0質量%である。
[0013] 本発明に係わる保護層は、ケンィ匕度が 94モル%以上のポリビニルアルコール(以下 、本発明に係わるポリビニルアルコールとも 、う)を含む。 本発明に係わるポリビニル アルコールは、好ましくは、 300〜2400の重合度を有する。また、本発明に係わるポ リビュルアルコールは、ァ-オン性、カチオン性、反応性を有する基で修飾されてい てもよい。
[0014] 本発明にお 、て、ケンィ匕度が異なる 2種以上のポリビュルアルコールが保護層に使 用される場合は、該 2種以上のポリビュルアルコールは、ケンィ匕度が 94モル%以上に なるように混合されて用いられる。 本発明においては、ケンィ匕度が 94モル %以上の 単一のポリビュルアルコールを用いることが好まし 、。 なおケン化度が 94モル %未 満になると耐潜像退行性が劣化する。
[0015] 本発明におけるケンィ匕度は、高分子化学で一般的に用いられる用語であり、本発 明では以下のように定義される。
[0016] ケン化度 = m X 1 OO/m + n
ここで mおよび nは、下記の化学構造を有するポリビュルアルコールにおけるモル数 を表す。
[0017] [化 1]
Figure imgf000006_0001
[0018] 上記式において Rは、置換基を表す。置換基の典型例はァセチル基である。
[0019] 具体的には株式会社クラレ製 PVA— 102、 PVA- 103、 PVA— 104A、 PVA— 1 05、 PVA— 110、 PVA— 117、 PVA— 117H、 PVA— 120、 PVA— 124、 PVA— 124H、 PVA— CS、 PVA— CSTゝ PVA— HC、 PVA— 203、 PVA— 204、 PVA
— 205、 PVA— 210、 PVA— 217、 PVA— 220、 PVA— 224、 PVA— 217E、 PV A— 217EE、 PVA— 220E、 PVA— 224E、 PVA— 405、 PVA— 420、 PVA— 61 3、 PVA— 617、 PVA— 624、 L— 8、 L— 9、 L— 10、 KL— 118、 KM— 118、 R— 1130、 R— 2105、 R— 2130、 M— 115、 MP— 102、 HP— H105、 HP— F117等 クラレスぺシャリテイーズヨーロッパ社製 Mowioll 5— 79、 Mowioll3— 85、 Mowi ol4— 88、 Mowiol5— 88、 Mowiol8— 88、 Mowioll8— 88、 Mowiol23— 88、 M owiol26— 88、 Mowiol40— 88、 Mowiol47— 88、 Mowiol56— 88、 Mowiol30
— 92、 Mowiol3— 96、 Mowioll5— 96、 Mowiol3— 98、 Mowiol4— 98、 Mowio 16— 98、 MowiollO— 98、 Mowiol20— 98、 Mowiol56— 98、 Mowioll5— 99、 Mowiol28— 99等、
セラニーズ社製 Celvoll25、 Celvoll65、 Celvoll03、 Celvol305、 Celvoll07、 Celvol310、 Celvol325、 Celvol350、 Celvol418、 Celvol425、 Celvol502、 Cel vol203、 Celvol205、 Celvol513、 Celvol523、 Celvol540等力挙げられる。
[0020] ポリビュルアルコールの添カ卩量は、全保護層固形分に対して、 60〜100質量0 /0、 更に好ましくは 65〜85質量%である。
[0021] 本発明の保護層に用いることのできる水溶性高分子化合物として、上述したポリビ -ルアルコール以外に、水に対する溶解度(25°Cの水 100に溶解する g数)が 0. 1 以上であり、分子量 (質量平均)が 500以上の化合物を挙げることができる。
[0022] これら水溶性高分子化合物としては、例えばヒドロキシスチレンの重合体やその共 重合体、ポリアミド榭脂、ポリビュルピロリドンやビュルピロリドンの共重合体、ポリェチ レンオキサイド、ポリエチレンィミン、ポリアクリル酸アミド、コーンスターチ、マンナン、 ぺクチン、寒天、デキストラン、プルラン、に力わ、ヒドロキシメチルセルロース、アルギ ン酸、カルボキシメチルセルロース、ポリアクリル酸ナトリウム、等が挙げられる。これら の中で、ポリビュルピロリドンやビュルピロリドンの共重合体力 好ましい。
[0023] 上記感光性平版印刷版材料の製造方法における保護層の乾燥においてその乾燥 温度は 95°C以上 120°C以下、より好ましくは 100°C以上 110°C以下で行う。これより 低いと接着性が劣化する傾向があり、高いと非画像部汚れが発生する傾向がある。 乾燥時間は 10秒以上 300秒以下であればよいが、好ましくは 30秒以上 90秒以下で ある。
[0024] 本発明では保護層に用いられる有機高分子重合体溶液中に添加されて!ヽる状態 で、該混合溶液を被着体 (感光層)表面上に塗布,乾燥後、固化した混合溶液が被 着体に対して凝集力を発現でき、被着体の界面との相互作用力が大きぐ破壊に対 して抵抗力を有するようになる化合物 (接着性付与剤)を用いることが望ま 、。これ は水又は水と水混和性有機溶剤との混合溶媒に可溶な有機高分子重合体であり、 例えば、ポリビニルァセタール、ポリアクリル酸であり、又その他の接着性付与剤とし てポリアクリル酸エステル、ポリアクリル酸ナトリウムの架橋分岐型化合物、イソブチレ ンと無水マレイン酸との共重合体、変性ポリエステル榭脂水分散物、飽和ポリエステ ル榭脂水分散物、変性ポリアミド及びポリビニルピロリドン、ポリビュルピロリドン誘導 体等が挙げられる。これら化合物の具体的な製品としては、日本純薬 (株)製 ATシリ ーズ (AT— 613等)、レオジックシリーズ(レオジック 830L等)、クラレ(株)製イソバン シリーズ (イソバン 110、 104等)、高松油脂 (株)製ぺスレジンシリーズ (A—115S等 )、ぺスレジンシリーズ(ぺスレジン A— 810等)、東レ(株)製 AQナイロンシリーズ(P —70等)、 ISPジャパン(株)製 Kシリーズ (K— 30、 K— 60、 K— 90、 E— 3375、 I— 3375、 E— 5355、 I— 5355等)、 BASF (株)製ルビテックシリーズ (K— 30、 K— 60 、 K— 90、 VA64、 VA64W等)等が挙げられる。この内、接着性付与剤としては、特 に窒素原子を含有する水溶性高分子であることが好ましぐ更に好ましくは ISPジャ パン (株)製 BASF (株)製等のポリビニルピロリドン、ポリビュルピロリドン誘導体が挙 げられる。
[0025] 保護層には、更に必要に応じて界面活性剤、マット剤等を含有することができる。
上記保護層組成物を適当な溶剤に溶解し感光層上に塗布 ·乾燥して保護層を形成 する。塗布溶剤の主成分は水、あるいはメタノール、エタノール、 i—プロパノール等 のアルコール類であることが特に好まし 、。
[0026] 保護層の乾燥質量で 0. 7〜2. OmgZm2が好ましぐ特に好ましくは 1. 3〜2. Om gZ m (?める。
[0027] 本発明に用いる感光性平版印刷版材料は、感光層に高分子結合材、エチレン性 不飽和化合物、光重合開始剤、シロキサン系界面活性剤、好ましくは、増感剤を含 有する。高分子結合材としては、アクリル系重合体、ポリビニルプチラール榭脂、ポリ ウレタン榭旨、ポリアミド榭脂、ポリエステル榭脂、エポキシ榭脂、フエノール榭脂、ポ リカーボネート榭脂、ポリビュルブチラール榭脂、ポリビュルホルマール榭脂、シエラ ック、その他の天然榭脂等が使用出来る。また、これらを 2種以上併用しても力まわな い。
[0028] 好ましくはアクリル系のモノマーの共重合によって得られるビュル系共重合が好まし い。さら〖こ、高分子結合材の共重合組成として、(a)カルボキシル基含有モノマー、 ( b)メタクリル酸アルキルエステル、またはアクリル酸アルキルエステルの共重合体で あることが好ましい。
[0029] カルボキシル基含有モノマーの具体例としては、 α , j8—不飽和カルボン酸類、例 えばアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、ィタコン酸、無水ィタコン 酸等が挙げられる。その他、フタル酸と 2—ヒドロキシメタタリレートのハーフエステル 等のカルボン酸も好まし 、。
[0030] メタクリル酸アルキルエステル、アクリル酸アルキルエステルの具体例としては、メタ クリル酸メチル、メタクリル酸ェチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタク リル酸ァミル、メタクリル酸へキシル、メタクリル酸へプチル、メタクリル酸ォクチル、メタ クリル酸ノニル、メタクリル酸デシル、メタクリル酸ゥンデシル、メタクリル酸ドデシル、ァ クリル酸メチル、アクリル酸ェチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸 ァミル、アクリル酸へキシル、アクリル酸へプチル、アクリル酸ォクチル、アクリル酸ノ- ル、アクリル酸デシル、アクリル酸ゥンデシル、アクリル酸ドデシル等の無置換アルキ ルエステルの他、メタクリル酸シクロへキシル、アクリル酸シクロへキシル等の環状ァ ルキルエステルや、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸 2—クロロェチル、 N, N ジ メチルアミノエチルメタタリレート、グリシジルメタタリレート、アクリル酸ベンジル、アタリ ル酸ー2—クロロェチル、 N, N ジメチルアミノエチルアタリレート、グリシジルアタリ レート等の置換アルキルエステルも挙げられる。
[0031] さらに、本発明の高分子結合材は、他の共重合モノマーとして、下記(1)〜(14)に 記載のモノマー等を用いる事が出来る。
[0032] 1)芳香族水酸基を有するモノマー、例えば o— (又は p—, m—)ヒドロキシスチレン
、 0 - (又は p— , m—)ヒドロキシフエ-ルアタリレート、 o— (又は p— , m—)ヒドロキシ
(メタ)アクリルアミド等。
[0033] 2)脂肪族水酸基を有するモノマー、例えば 2 ヒドロキシェチルアタリレート、 2 ヒ ドロキシェチルメタタリレート、 N—メチロールアクリルアミド、 N—メチロールメタクリル アミド、 4—ヒドロキシブチルメタタリレート、 5—ヒドロキシペンチルアタリレート、 5—ヒド ロキシペンチノレメタタリレート、 6—ヒドロキシへキシノレアタリレート、 6—ヒドロキシへキ シルメタタリレート、 N— (2—ヒドロキシェチル)アクリルアミド、 N— (2—ヒドロキシェチ ル)メタクリルアミド、ヒドロキシェチルビ-ルエーテル等。
[0034] 3)アミノスルホ-ル基を有するモノマー、例えば m— (又は p )アミノスルホ -ルフ ェ-ルメタタリレート、 m- (又は p—)アミノスルホユルフェ-ルアタリレート、 N— (p— アミノスルホユルフェ-ル)メタクリルアミド、 N— (p—アミノスルホユルフェ-ル)アタリ ルアミド等。
[0035] 4)スルホンアミド基を有するモノマー、例えば N— (p—トルエンスルホ -ル)アクリル アミド、 N— (p トルエンスルホ -ル)メタクリルアミド等。
[0036] 5)アクリルアミド又はメタクリルアミド類、例えばアクリルアミド、メタクリルアミド、 N- ェチルアクリルアミド、 N へキシルアクリルアミド、 N シクロへキシルアクリルアミド、 N フエ-ルアクリルアミド、 N— (4— -トロフエ-ル)アクリルアミド、 N ェチル N —フエ-ルアクリルアミド、 N— (4—ヒドロキシフエ-ル)アクリルアミド、 N— (4—ヒドロ キシフエ-ル)メタクリルアミド等。
[0037] 6)弗化アルキル基を含有するモノマー、例えばトリフルォロェチルアタリレート、トリ フルォロェチルメタタリレート、テトラフルォロプロピルメタタリレート、へキサフルォロプ 口ピルメタタリレート、ォクタフルォロペンチルアタリレート、ォクタフルォロペンチルメタ タリレート、ヘプタデカフルォロデシルメタタリレート、 N ブチルー N— (2—アタリ口 キシェチル)ヘプタデカフルォロォクチルスルホンアミド等。
[0038] 7)ビュルエーテル類、例えば、ェチルビ-ルエーテル、 2 クロロェチルビ-ルェ ーテノレ、プロピノレビニノレエーテノレ、ブチノレビニノレエーテノレ、オタチノレビニノレエーテノレ
、フエ-ルビ-ルエーテル等。
[0039] 8)ビュルエステル類、例えばビュルアセテート、ビュルクロ口アセテート、ビュルブ チレート、安息香酸ビニル等。
[0040] 9)スチレン類、例えばスチレン、メチルスチレン、クロロメチノレスチレン等。
[0041] 10)ビ-ルケトン類、例えばメチルビ-ルケトン、ェチルビ-ルケトン、プロピルビ- ルケトン、フエ-ルビ-ルケトン等。
[0042] 11)ォレフィン類、例えばエチレン、プロピレン、 iーブチレン、ブタジエン、イソプレ ン等。
[0043] 12) N ビュルピロリドン、 N ビュルカルバゾール、 4 ビニルピリジン等。
[0044] 13)シァノ基を有するモノマー、例えばアクリロニトリル、メタタリ口-トリル、 2 ペン テン-トリル、 2—メチル 3 ブテン-トリル、 2 シァノエチルアタリレート、 o— (又 は m—, p )シァノスチレン等。
[0045] 14)アミノ基を有するモノマー、例えば N, N ジェチルアミノエチルメタタリレート、 N, N ジメチルアミノエチルアタリレート、 N, N ジメチルアミノエチルメタタリレート 、ポリブタジエンウレタンアタリレート、 N, N ジメチルァミノプロピルアクリルアミド、 N , N—ジメチルアクリルアミド、アタリロイルモルホリン、 N—i—プロピルアクリルアミド、 N, N ジェチルアクリルアミド等。
[0046] さらにこれらのモノマーと共重合し得る他のモノマーを共重合してもよい。
[0047] さらに、上記ビニル系共重合体の分子内に存在するカルボキシル基に、分子内に( メタ)アタリロイル基とエポキシ基を有する化合物を付加反応させる事によって得られ る、不飽和結合含有ビュル系共重合体も高分子結合材として好まし ヽ。
[0048] 分子内に不飽和結合とエポキシ基を共に含有する化合物としては、具体的にはグ リシジノレアタリレート、グリシジルメタタリレート、特開平 11 271969号に記載のある エポキシ基含有不飽和化合物等が挙げられる。
[0049] これらの共重合体は、ゲルパーミエーシヨンクロマトグラフィー(GPC)によって測定 された質量平均分子量が 1〜20万であるものが好ましいが、この範囲に限定されるも のではない。
[0050] 感光層中における高分子結合材の含有量は、 10〜90質量%の範囲が好ましぐ 1 5〜70質量%の範囲が更に好ましぐ 20〜50質量%の範囲で使用することが感度 の面力 特に好ましい。
[0051] 更に榭脂の酸価については 10〜150の範囲で使用するのが好ましぐ 30〜120 の範囲がより好ましぐ 50〜90の範囲で使用すること力 感光層全体の極性のバラ ンスをとる観点力 特に好ましぐこれにより感光層塗布液での顔料の凝集を防ぐこと ができる。
次に、重合可能なエチレン性不飽和化合物について説明する。
[0052] これらの重合可能なエチレン性不飽和化合物には、一般的なラジカル重合性のモ ノマ一類、紫外線硬化樹脂に一般的に用いられる分子内に付加重合可能なェチレ ン性二重結合を複数有する多官能モノマー類や、多官能オリゴマー類を用いること ができる。
該化合物に限定は無いが、好ましいものとして、例えば、 2—ェチルへキシルアタリレ ート、 2—ヒドロキシプロピルアタリレート、グリセロールアタリレート、テトラヒドロフルフリ ルアタリレート、フエノキシェチルアタリレート、ノユルフェノキシェチルアタリレート、テ トラヒドロフルフリルォキシェチルアタリレート、テトラヒドロフルフリルォキシへキサノリド アタリレート、 1, 3—ジォキサンアルコールの ε一力プロラタトン付カ卩物のアタリレート 、 1, 3—ジォキソランアタリレート等の単官能アクリル酸エステル類、或いはこれらの アタリレートをメタタリレート、イタコネート、クロトネート、マレエートに代えたメタクリル 酸、ィタコン酸、クロトン酸、マレイン酸エステル、例えば、エチレングリコールジアタリ レート、トリエチレンダルコールジアタリレート、ペンタエリスリトールジアタリレート、ハイ ドロキノンジアタリレート、レゾルシンジアタリレート、へキサンジオールジアタリレート、 ネオペンチルグリコールジアタリレート、トリプロピレングリコールジアタリレート、ヒドロ キシピバリン酸ネオペンチルグリコールのジアタリレート、ネオペンチルグリコールアジ ペートのジアタリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールの ε一力プロラ タトン付カ卩物のジアタリレート、 2— (2—ヒドロキシ一 1, 1—ジメチルェチル)一 5—ヒド ロキシメチルー 5—ェチルー 1, 3—ジォキサンジアタリレート、トリシクロデカンジメチ ロールアタリレート、トリシクロデカンジメチロールアタリレートの ε—力プロラタトン付カロ 物、 1, 6—へキサンジオールのジグリシジルエーテルのジアタリレート等の 2官能ァク リル酸エステル類、或いはこれらのアタリレートをメタタリレート、イタコネート、クロトネ ート、マレエートに代えたメタクリル酸、ィタコン酸、クロトン酸、マレイン酸エステル、 例えばトリメチロールプロパントリアタリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアタリレ ート、トリメチロールェタントリアタリレート、ペンタエリスリトールトリアタリレート、ペンタ エリスリトールテトラアタリレート、ジペンタエリスリトールテトラアタリレート、ジペンタエリ スリトールペンタアタリレート、ジペンタエリスリトールへキサアタリレート、ジペンタエリ スリトールへキサアタリレートの ε一力プロラタトン付カ卩物、ピロガロールトリアタリレート 、プロピオン酸.ジペンタエリスリトールトリアタリレート、プロピオン酸.ジペンタエリスリ トールテトラアタリレート、ヒドロキシピノくリルアルデヒド変性ジメチロールプロパントリア タリレート等の多官能アクリル酸エステル酸、或 、はこれらのアタリレートをメタクリレー ト、イタコネート、クロトネート、マレエートに代えたメタクリル酸、ィタコン酸、クロトン酸 、マレイン酸エステル等を挙げることができる。
また、プレボリマーも上記同様に使用することができる。プレボリマーとしては、後述 する様な化合物等が挙げることができ、また、適当な分子量のオリゴマーにアクリル 酸、又はメタクリル酸を導入し、光重合性を付与したプレボリマーも好適に使用できる
。これらプレボリマーは、 1種又は 2種以上を併用してもよいし、上述の単量体及び Z 又はオリゴマーと混合して用いてもよ!、。
[0054] プレポリマーとしては、例えばアジピン酸、トリメリット酸、マレイン酸、フタル酸、テレ フタル酸、ハイミック酸、マロン酸、こはく酸、グルタール酸、ィタコン酸、ピロメリット酸 、フマル酸、グルタール酸、ピメリン酸、セバシン酸、ドデカン酸、テトラヒドロフタル酸 等の多塩基酸と、エチレングリコール、プロピレンダルコール、ジエチレングリコール、 プロピレンオキサイド、 1, 4 ブタンジオール、トリエチレングリコール、テトラエチレン グリコール、ポリエチレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリス リトール、ソルビトール、 1, 6 へキサンジオール、 1, 2, 6 へキサントリオール等の 多価のアルコールの結合で得られるポリエステルに (メタ)アクリル酸を導入したポリエ ステルアタリレート類、例えば、ビスフエノール A ·ェピクロルヒドリン'(メタ)アクリル酸、 フエノールノボラック ·ェピクロルヒドリン ·(メタ)アクリル酸のようにエポキシ榭脂に (メタ )アクリル酸を導入したエポキシアタリレート類、例えば、エチレングリコール 'アジピン 酸'トリレンジイソシァネート · 2—ヒドロキシェチルアタリレート、ポリエチレングリコール 'トリレンジイソシァネート · 2—ヒドロキシェチルアタリレート、ヒドロキシェチルフタリル メタタリレート ·キシレンジイソシァネート、 l t 2—ポリブタジエングリコール 'トリレンジィ ソシァネート · 2—ヒドロキシェチルアタリレート、トリメチロールプロパン 'プロピレングリ コール'トリレンジイソシァネート · 2—ヒドロキシェチルアタリレートのように、ウレタン榭 脂に (メタ)アクリル酸を導入したウレタンアタリレート、例えば、ポリシロキサンアタリレ ート、ポリシロキサン'ジイソシァネート · 2—ヒドロキシェチルアタリレート等のシリコー ン榭脂アタリレート類、その他、油変性アルキッド榭脂に (メタ)アタリロイル基を導入し たアルキッド変性アタリレート類、スピラン榭脂アタリレート類等のプレボリマーが挙げ られる。
[0055] 本発明の感光層には、ホスファゼンモノマー、トリエチレングリコール、イソシァヌ一 ル酸 EO (エチレンォキシド)変性ジアタリレート、イソシァヌール酸 EO変性トリアタリレ ート、ジメチロールトリシクロデカンジアタリレート、トリメチロールプロパンアクリル酸安 息香酸エステル、アルキレングリコールタイプアクリル酸変性、ウレタン変性アタリレー ト等の単量体及び該単量体から形成される構成単位を有する付加重合性のオリゴマ 一及びプレボリマーを含有することができる。
[0056] 更に、本発明に併用可能なエチレン性単量体として、少なくとも一つの (メタ)アタリ ロイル基を含有するリン酸エステルイ匕合物が挙げられる。該化合物は、リン酸の水酸 基の少なくとも一部がエステルイ匕されたィ匕合物であり、しかも、(メタ)アタリロイル基を 有する限り特に限定はされない。
[0057] その他に、特開昭 58— 212994号公報、同 61— 6649号公報、同 62— 46688号 公報、同 62— 48589号公報、同 62— 173295号公報、同 62— 187092号公報、同 63— 67189号公報、特開平 1— 244891号公報等に記載の化合物などを挙げるこ とができ、更に「11290の化学商品」ィ匕学工業日報社、 p. 286〜p. 294に記載の化 合物、「UV'EB硬化ハンドブック (原料編)」高分子刊行会、 p. 11〜65に記載の化 合物なども本発明においては好適に用いることができる。これらの中で、分子内に 2 以上のアクリル基又はメタクリル基を有する化合物が本発明においては好ましぐ更 に分子量が 10, 000以下、より好ましくは 5, 000以下のものが好ましい。
[0058] また本発明では、分子内に三級アミノ基を含有する付加重合可能なエチレン性二 重結合含有単量体を使用することが好ましい。構造上の限定は特に無いが、水酸基 を有する三級アミン化合物を、グリシジルメタタリレート、メタクリル酸クロリド、アクリル 酸クロリド等で変性したものが好ましく用いられる。具体的には、特開平 1— 165613 、公開平 1— 203413、公開平 1— 197213記載の重合可能な化合物等が好ましく 用いられる。
[0059] さらに本発明では、分子内に三級アミノ基を含有する多価アルコール、ジイソシァネ ート化合物、および分子内にヒドロキシル基と付加重合可能なエチレン性二重結合 を含有する化合物の反応生成物を使用することが好まし ヽ。
[0060] ここで言う、分子内に三級アミノ基を含有する多価アルコールとしては、トリエタノー ルァミン、 Ν—メチルジェタノールァミン、 Ν—ェチルジェタノールァミン、 Ν—η—ブ チルジエタノールァミン、 N— tert. —ブチルジェタノールァミン、 N, N—ジ(ヒドロキ シェチル)ァニリン、 N, N, N' , N' —テトラ一 2—ヒドロキシプロピルエチレンジアミ ン、 p—トリルジエタノールアミン、 N, N, N' , N' —テトラー 2—ヒドロキシェチルェ チレンジァミン、 N, N ビス(2—ヒドロキシプロピル)ァ-リン、ァリルジエタノールアミ ン、 3 (ジメチルァミノ) 1, 2 プロパンジオール、 3 ジェチルアミノー 1, 2 プ 口パンジオール、 N, N ジ(n—プロピル)アミノー 2, 3 プロパンジオール、 N, N ージ(iso プロピル)アミノー 2, 3 プロパンジオール、 3—(?^ーメチルー?^ーべン ジルァミノ) 1, 2—プロパンジオール等が挙げられる力 これに限定されない。
[0061] ジイソシァネートイ匕合物としては、ブタン 1, 4ージイソシァネート、へキサン 1, 6 —ジイソシァネート、 2—メチルペンタン一 1, 5 ジイソシァネート、オクタン一 1, 8- ジイソシァネート、 1, 3 ジイソシアナ一トメチル一シクロへキサノン、 2, 2, 4 トリメ チノレへキサン— 1, 6 ジイソシァネート、イソホロンジイソシァネート、 1, 2 フエ-レ ンジイソシァネート、 1, 3 フエ-レンジイソシァネート、 1, 4 フエ-レンジイソシァ ネート、トリレン 2, 4 ジイソシァネート、トリレン 2, 5 ジイソシァネート、トリレン —2, 6 ジイソシァネート、 1, 3 ジ (イソシアナ一トメチル)ベンゼン、 1, 3 ビス(1 イソシアナ一トー 1ーメチルェチル)ベンゼン等が挙げられる力 これに限定されな い。分子内にヒドロキシル基と付加重合可能なエチレン性二重結合を含有する化合 物としては、 2—ヒドロキシェチノレメタタリレート、 2
ーヒドロキシェチルアタリレート、 4ーヒドロキシブチルアタリレート、 2 ヒドロキシプロ ピレン一 1, 3 ジメタタリレート、 2 ヒドロキシプロピレンー1ーメタクリレートー 3 ァ タリレート等が挙げられる。
[0062] これらの反応は、通常のジオール化合物、ジイソシァネートイ匕合物、ヒドロキシル基 含有アタリレート化合物の反応で、ウレタンアタリレートを合成する方法と同様に行うこ とが出来る。
[0063] また、これらの分子内に三級アミノ基を含有する多価アルコール、ジイソシァネート 化合物、および分子内にヒドロキシル基と付加重合可能なエチレン性二重結合を含 有する化合物の反応生成物において具体例を以下に示す。
M—1 :トリエタノールァミン(1モル)、へキサン一 1, 6 ジイソシァネート(3モル)、 2 ーヒドロキシェチルメタタリレート(3モル)の反応生成物
M— 2 :トリエタノールァミン(1モル)、イソホロンジイソシァネート(3モル)、 2 ヒドロキ シェチルアタリレート(3モル)の反応生成物
M— 3 :N— n—ブチルジェタノールァミン(1モル)、 1, 3 ビス(1—イソシアナ一トー 1—メチノレエチノレ)ベンゼン(2モノレ)、 2 ヒドロキシプロピレン一 1—メタタリレート一 3 アタリレート(2モル)の反応生成物
M— 4 :N— n—ブチルジェタノールァミン(1モル)、 1, 3 ジ (イソシアナ一トメチル) ベンゼン(2モノレ)、 2 ヒドロキシプロピレン一 1—メタタリレート一 3—アタリレート(2モ ル)の反応生成物
M— 5 :N—メチルジェタノールァミン(1モル)、トリレン一 2, 4 ジイソシァネート(2 モル)、 2 ヒドロキシプロピレン 1, 3 ジメタタリレート(2モル)の反応生成物 この他にも、特開平 1 105238号、特開平 2— 127404号記載の、アタリレートま たはアルキルアタリレートが用いることが出来る。
[0064] エチレン性不飽和結合含有化合物の感光層に対する含有量は、 1. 0〜80. 0質 量%が好ましぐ 3. 0〜70. 0が特に好ましい。
[0065] 本発明の感光性平版印刷版の光重合性感光層は光重合開始剤を含有する。光重 合開始剤としては、チタノセンィ匕合物、鉄アレーン錯体化合物、トリノ、口アルキル化合 物、モノアルキルトリアリールボレートイ匕合物が挙げられる。
[0066] (チタノセンィ匕合物)
チタノセンィ匕合物としては、特開昭 63— 41483、特開平 2— 291に記載される化合 物等が挙げられる力 更に好ましい具体例としては、ビス(シクロペンタジェニル) T i—ジ一クロライド、ビス(シクロペンタジェ -ル) Ti—ビス一フエ-ノレ、ビス(シクロぺ ンタジェ-ル)一 Ti—ビス一 2, 3, 4, 5, 6 ペンタフノレオロフェ-ル、ビス(シクロぺ ンタジェニル)一 Ti—ビス一 2, 3, 5, 6—テトラフルオロフェニル、ビス(シクロペンタ ジェ -ル) Ti—ビス 2, 4, 6 トリフルオロフェ -ル、ビス(シクロペンタジェ -ル) — Ti—ビス一 2, 6 ジフルオロフェ -ル、ビス(シクロペンタジェ -ル) Ti—ビス一 2, 4ージフルオロフェ -ル、ビス(メチルシクロペンタジェ -ル)—Ti—ビス 2, 3, 4 , 5, 6 ペンタフルオロフェ-ル、ビス(メチルシクロペンタジェ -ル) Ti—ビス一 2 , 3, 5, 6—テトラフルオロフェ-ル、ビス(メチルシクロペンタジェ -ル)—Ti—ビス— 2, 6 ジフルオロフェ-ル(IRUGACURE727L:チバスべシャリティーケミカルズ社 製)、ビス(シクロペンタジェ -ル) ビス(2, 6 ジフルォロ 3 (ピリ一 1—ィル)フ ェニル)チタニウム (IRUGACURE784:チバスべシャリティーケミカルズ社製)、ビス (シクロペンタジェ -ル)一ビス(2, 4, 6 トリフルォロ一 3— (ピリ一 1—ィル)フエ-ル )チタニウムビス(シクロペンタジェ -ル)一ビス(2, 4, 6 トリフルオロー 3— (2— 5— ジメチルピリ 1 ィル)フエ-ル)チタニウム等が挙げられる。
[0067] (鉄アレーン錯体化合物)
鉄アレーン錯体ィ匕合物としては、特開昭 59— 219307に記載される化合物等挙げ られる力 更に好ましい具体例としては、 7}—ベンゼン一( 7}—シクロペンタジェ-ル )鉄'へキサフルォロホスフェート、 η—クメンー(ηーシクロペンタジェ -ル)鉄 'へキ サフルォロホスフェート、 —フルオレン一( —シクロペンタジェ -ル)鉄'へキサフ ルォロホスフェート、 —ナフタレン一(7?—シクロペンタジェ -ル)鉄'へキサフルォ 口ホスフェート、 7}—キシレン一(7}—シクロペンタジェ -ル)鉄'へキサフルォロホス フェート、 7} ベンゼン一(7}—シクロペンタジェ -ル)鉄 'テトラフルォロボレート等 が挙げられる。
[0068] (モノアルキルァリールボレート化合物)
モノアルキルトリアリールボレートイ匕合物としては、特開昭 62— 150242、特開昭 62 — 143044に記載される化合物等挙げられる力 更に好ましい具体例としては、テト ラー η—ブチルアンモ -ゥム ·η—ブチルートリナフタレン 1ーィルーボレート、テトラ η—ブチルアンモ -ゥム ·η—ブチルートリフエ-ルーボレート、テトラー η ブチル アンモ-ゥム ·η—ブチルートリー(4—tert ブチルフエ-ル)ーボレート、テトラー n ーブチルアンモ -ゥム ·η—へキシルートリー(3—クロロー 4 メチルフエ-ル)ーボレ ート、テトラー η—ブチルアンモ -ゥム ·η—へキシルートリー(3—フルオロフェ -ル) ーボレート等が挙げられる。
[0069] (トリハロアルキル化合物)
トリノ、口アルキルィ匕合物としては、ハロゲンとして、塩素および臭素を含有した化合 物が特に適当である。
トリノ、口アルキル基は、トリノ、ロメチル基が好ましぐ直接に、あるいは連続的に共役し た鎖を経由して、芳香族炭素環または複素環に結合していることが好ましい。好まし くはふたつのトリハロメチル基を持つトリアジン環、を母核としてもつもの、特に EP—A - 137, 452号、 DE-A- 2, 118, 259号および同 2243621号各明細書に記載さ れた化合物、が好ましい。これらの化合物は、近紫外領域、たとえば 350〜400nm、 に強い光吸収を示す。複写光のスペクトル領域において、それ自身光吸収しないか 、ごくわずかだけ光吸収する併用開始剤、例えば、メソメリーを可能にする短い電子 系を伴った置換基または脂肪族置換基を含むトリハロメチルトリアジン、も適当である 。同様に適当なのは、異なった基本骨格をもち、短波紫外領域で光吸収する化合物 であり、例えばフエ-ルトリハロメチルスルフォンまたはフエ-ルトリハロメチルケトン、 例えばフエ-ルトリブ口モメチルスルフォン、である。
[0070] その他に任意の光重合開始剤の併用が可能である。例え «J.コーサ一 (J. Kosar )著「ライト ·センシティブ ·システムズ」第 5章に記載されるようなカルボ-ルイ匕合物、 有機硫黄化合物、過硫化物、レドックス系化合物、ァゾ並びにジァゾィ匕合物、ハロゲ ン化合物、光還元性色素などが挙げられる。更に具体的な化合物は英国特許 1, 45 9, 563号【こ開示されて!ヽる。
[0071] 即ち、併用が可能な光重合開始剤としては、次のようなものを使用することができる 。ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン— i プロピルエーテル、 α , α—ジメトキシ - a—フエ-ルァセトフエノン等のベンゾイン誘導体;ベンゾフエノン、 2, 4 ジクロロ ベンゾフエノン、 o ベンゾィル安息香酸メチル、 4, 4' ビス(ジメチルァミノ)ベンゾ フエノン等のベンゾフエノン誘導体; 2—クロ口チォキサントン、 2— i プロピルチォキ サントン等のチォキサントン誘導体; 2—クロ口アントラキノン、 2—メチルアントラキノン 等のアントラキノン誘導体; N メチルアタリドン、 N -ブチルアタリドン等のアタリドン 誘導体; α , a—ジェトキシァセトフェノン、ベンジル、フルォレノン、キサントン、ゥラ ニノレイ匕合物の他、特公日召 59— 1281号、同 61— 9621号ならびに特開日召 60— 601 04号記載のトリァジン誘導体;特開昭 59— 1504号、同 61— 243807号記載の有機 過酸ィ匕物;特公昭 43— 23684号、同 44— 6413号、同 44— 6413号、同 47— 160 4号ならびに米国特許 3, 567, 453号記載のジァゾ -ゥム化合物;米国特許 2, 848 , 328号、同 2, 852, 379号ならびに同 2, 940, 853号記載の有機アジドィ匕合物; 特公昭 36— 22062b号、同 37— 13109号、同 38— 18015号ならびに同 45— 961 0号記載の o -キノンジアジド類;特公昭 55— 39162号、特開昭 59— 14023号なら びに「マクロモレキュルス (Macromolecules)」 10卷, 1307頁(1977年)記載の各 種ォ -ゥム化合物;特開昭 59— 142205号記載のァゾィ匕合物;特開平 1— 54440号 、ヨーロッパ特許 109, 851号、同 126, 712号ならびに「ジャーナル'ォブ 'イメージ ング.サイエンス (J. Imag. Sci. )」30卷, 174頁(1986年)記載の金属アレン錯体; 特開平 5— 213861号及び同 5— 255347号記載の(ォキソ)スルホ -ゥム有機硼素 錯体;「コーディネーション ·ケミストリー ·レビュー(Coordination Chemistry Revi ew)」84卷, 85〜277頁(1988年)ならびに特開平 2— 182701号記載のルテ-ゥ ム等の遷移金属を含有する遷移金属錯体;特開平 3— 209477号記載の 2, 4, 5— トリアリールイミダゾールニ量体;四臭化炭素、特開昭 59— 107344号記載の有機ハ ロゲン化合物、等を挙げることができる。
[0072] 光重合開始剤の感光層に対する含有量は、感光層中のエチレン性不飽和結合含 有ィ匕合物の量に基づき、 0. 1〜20質量%が好ましぐ特に 0. 5〜15質量%が好ま しい。
[0073] 本発明の感光性平版印刷版材料の感光層には、好ましくは増感色素を添加する。
光源の波長付近に吸収極大波長を有する増感色素を用いることが好まし 、。
[0074] 可視光力 近赤外までの波長増感させる増感色素、すなわち、 350nmから 1300η mの間に吸収極大有する増感色素としては、例えばシァニン、フタロシアニン、メロシ ァニン、ポルフィリン、スピロ化合物、フエ口セン、フルオレン、フルギド、イミダゾール、 ペリレン、フエナジン、フエノチアジン、ポリェン、キサンテン、ァゾ化合物、ジフエニル メタン、トリフエ-ルメタン、ポリメチンアタリジン、クマリン、クマリン誘導体、ケトクマリン 、キナクリドン、インジゴ、スチリル、ピリリウム化合物、ピロメテン化合物、ピラゾロトリア ゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、バルビツール酸誘導体、チォバルビツー ル酸誘導体等、ケトアルコールボレート錯体が挙げられ、更に欧州特許 568, 993号 、米国特許 4, 508, 811号、同 5, 227, 227号、特開 2001— 125255号、特開平 1 1 - 271969号等に記載の化合物も用いられる。
[0075] 上記の光重合開始剤と増感色素の組合せの具体例としては、特開 2001— 12525 5号、特開平 11― 271969号に記載のある組合せが挙げられる。 さらに、光源のレーザー光として、 380nmから 430nmの範囲に発光波長を有する半 導体レーザー、いわゆるバイオレットレーザーを用いた記録を行う場合は、 350nmか ら 450nmの間に吸収極大有する増感色素を含有せしめることが望ましい。 350nm 力 450nmの間に吸収極大有する増感色素としては、構造上特に制約は無いが、 上記で述べた色素群は、吸収極大がその要件を充たす限り、いずれも使用可能であ る。具体的には、 #^2002- 296764, #^2002- 268239, ^2002- 2682 38、特開 2002— 268204、特開 2002— 221790、特開 2002— 202598、特開 20 01—042524、特開 2000— 309724、特開 2000— 258910、特開 2000— 2066 90、特開 2000— 147763、特開 2000— 098605等に記載のある色素を用!/、ること が出来るが、これに限定されない。
[0076] 増感色素の感光層に対する含有量としては、 0. 1〜20. 0質量%が好ましぐ 0. 1 〜10. 0質量%が特に好ましい。
[0077] 本発明の感光性平版印刷版に用いることができる支持体は、アルミニウム板が好ま しく使用され、この場合、純アルミニウム板及びアルミニウム合金板等であってもかま わない。
[0078] 支持体のアルミニウム合金としては、種々のものが使用でき、例えば、珪素、銅、マ ンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル、チタン、ナトリウム、鉄等 の金属とアルミニウムの合金が用いられ、各種圧延方法により製造されたアルミ-ゥ ム板が使用できる。また、近年普及しつつあるスクラップ材およびリサイクル材などの 再生アルミニウム地金を圧延した再生アルミニウム板も使用できる。
[0079] 本発明の感光性平版印刷版に用いることができる支持体は、粗面化 (砂目立て処 理)するに先立って表面の圧延油を除去するために脱脂処理を施すことが好ま 、。 脱脂処理としては、トリクレン、シンナー等の溶剤を用いる脱脂処理、ケシロン、トリエ タノール等のェマルジヨンを用いたェマルジヨン脱脂処理等が用いられる。又、脱脂 処理には、苛性ソーダ等のアルカリの水溶液を用いることもできる。脱脂処理に苛性 ソーダ等のアルカリ水溶液を用いた場合、上記脱脂処理のみでは除去できな 、汚れ や酸ィ匕皮膜も除去することができる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶液を用 いた場合、支持体の表面にはスマットが生成するので、この場合には、燐酸、硝酸、 硫酸、クロム酸等の酸、或いはそれらの混酸に浸漬しデスマット処理を施すことが好 ましい。
[0080] 粗面化の方法としては、例えば、機械的方法、電解によりエッチングする方法が挙 げられる。
[0081] 用いられる機械的粗面化法は特に限定されるものではないが、ブラシ研磨法、ホー ユング研磨法が好ましい。ブラシ研磨法による粗面化は、例えば、直径 0. 2〜0. 8m mのブラシ毛を使用した回転ブラシを回転し、支持体表面に、例えば、粒径 10〜: LO 0 mの火山灰の粒子を水に均一に分散させたスラリーを供給しながら、ブラシを押 し付けて行うことができる。ホーユング研磨による粗面化は、例えば、粒径 10〜: LOO mの火山灰の粒子を水に均一に分散させ、ノズルより圧力をかけ射出し、支持体 表面に斜めから衝突させて粗面化を行うことができる。又、例えば、支持体表面に、 粒径 10〜: LOO /z mの研磨剤粒子を、 100〜200 /ζ πιの間隔で、 2. 5 Χ 103〜10 Χ 1 03個/ cm2の密度で存在するように塗布したシートを張り合わせ、圧力をかけてシー トの粗面パターンを転写することにより粗面化を行うこともできる。
[0082] 上記の機械的粗面化法で粗面化した後、支持体の表面に食!、込んだ研磨剤、形 成されたアルミニウム屑等を取り除くため、酸又はアルカリの水溶液に浸漬することが 好ましい。酸としては、例えば、硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が用いられ 、塩基としては、例えば水酸ィ匕ナトリウム、水酸ィ匕カリウム等が用いられる。これらの中 でも、水酸ィ匕ナトリウム等のアルカリ水溶液を用いるのが好ましい。表面のアルミ-ゥ ムの溶解量としては、 0. 5〜5g/m2が好ましい。アルカリ水溶液で浸漬処理を行つ た後、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸或いはそれらの混酸に浸漬し中和処理を 施すことが好ましい。
[0083] 電気化学的粗面化法も特に限定されるものではないが、酸性電解液中で電気化学 的に粗面化を行う方法が好ましい。酸性電解液は、電気化学的粗面化法に通常用 いられる酸性電解液を使用することができるが、塩酸系または硝酸系電解液を用い るのが好ましい。電気化学的粗面化方法については、例えば、特公昭 48— 28123 号、英国特許第 896, 563号、特開昭 53— 67507号に記載されている方法を用い ることができる。この粗面化法は、一般には、 1〜50ボルトの範囲の電圧を印加するこ とによって行うことができる力 10〜30ボルトの範囲力 選ぶのが好ましい。電流密 度は、 10〜200A/dm2の範囲を用いることができる力 50〜150AZdm2の範囲か ら選ぶのが好ましい。電気量は、 100〜5000c/dm2の範囲を用いることができるが 、 100〜2000cZdm2の範囲から選ぶのが好ましい。この粗面化法を行う温度は、 1 0〜50°Cの範囲を用いることができる力 15〜45°Cの範囲力も選ぶのが好ましい。
[0084] 電解液として硝酸系電解液を用いて電気化学的粗面化を行う場合、一般には、 1 〜50ボルトの範囲の電圧を印加することによって行うことができる力 10〜30ボルト の範囲力も選ぶのが好ましい。電流密度は、 10〜200A/dm2の範囲を用いること ができる力 20〜: LOOA/dm2の範囲力も選ぶのが好ましい。電気量は、 100-500 Oc/dm2の範囲を用いることができる力 100〜2000c/dm2の範囲から選ぶのが 好ましい。電気化学的粗面化法を行う温度は、 10〜50°Cの範囲を用いることができ るが、 15〜45°Cの範囲から選ぶのが好ましい。電解液における硝酸濃度は 0. 1〜5 質量%が好ましい。電解液には、必要に応じて、硝酸塩、塩化物、アミン類、アルデヒ ド類、燐酸、クロム酸、ホウ酸、酢酸、しゅう酸等をカ卩えることができる。
[0085] 電解液として塩酸系電解液を用いる場合、一般には、 1〜50ボルトの範囲の電圧 を印加することによって行うことができる力 2〜30ボルトの範囲力 選ぶのが好まし い。電流密度は、 10〜200A/dm2の範囲を用いることができる力 50〜150AZd m2の範囲から選ぶのが好ましい。電気量は、 100〜5000c/dm2の範囲を用いるこ とができるが、好ましくは 100〜2000cZdm2、更には 200〜1000cZdm2の範囲力 ら選ぶのがより好ましい。電気化学的粗面化法を行う温度は、 10〜50°Cの範囲を用 いることができるが、 15〜45°Cの範囲力も選ぶのが好ましい。電解液における塩酸 濃度は 0. 1〜5質量%が好ましい。電解液には、必要に応じて、硝酸塩、塩化物、ァ ミン類、アルデヒド類、燐酸、クロム酸、ホウ酸、酢酸、しゅう酸等をカ卩えることができる
[0086] 上記の電気化学的粗面化法で粗面化した後、表面のアルミニウム屑等を取り除くた め、酸又はアルカリの水溶液に浸漬することが好ましい。酸としては、例えば、硫酸、 過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が用いられ、塩基としては、例えば、水酸化ナトリ ゥム、水酸ィ匕カリウム等が用いられる。これらの中でもアルカリの水溶液を用いるのが 好ましい。表面のアルミニウムの溶解量としては、 0. 5〜5g/m2が好ましい。又、ァ ルカリの水溶液で浸漬処理を行った後、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸或いはそ れらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。
[0087] 機械的粗面化法、電気化学的粗面化法はそれぞれ単独で用いて粗面化してもよ いし、又、機械的粗面化処理法に次いで電気化学的粗面化法を行って粗面化しても よい。
[0088] 粗面化処理の次には、陽極酸ィ匕処理を行うことができる。本発明にお 、て用いるこ とができる陽極酸ィ匕処理の方法には特に制限はなぐ公知の方法を用いることができ る。陽極酸ィ匕処理を行うことにより、支持体上には酸化皮膜が形成される。該陽極酸 化処理には、硫酸及び Z又は燐酸等を 10〜50%の濃度で含む水溶液を電解液と して、電流密度 l〜10AZdm2で電解する方法が好ましく用いられる力 他に、米国 特許第 1, 412, 768号に記載されている硫酸中で高電流密度で電解する方法や、 同 3, 511, 661号公報に記載されている燐酸を用いて電解する方法、クロム酸、シュ ゥ酸、マロン酸等を一種又は二種以上含む溶液を用いる方法等が挙げられる。形成 された陽極酸ィ匕被覆量は、 l〜50mgZdm2が適当であり、好ましくは 10〜40mgZ dm2である。陽極酸化被覆量は、例えばアルミニウム板を燐酸クロム酸溶液 (燐酸 85 %液:35ml、酸ィ匕クロム (IV) : 20gを 1Lの水に溶解して作製)に浸積し、酸化被膜を 溶解し、板の被覆溶解前後の質量変化測定等カゝら求められる。
[0089] 陽極酸化処理された支持体は、必要に応じ封孔処理を施してもよい。これら封孔処 理は、熱水処理、沸騰水処理、水蒸気処理、珪酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液 処理、亜硝酸塩処理、酢酸アンモ-ゥム処理等公知の方法を用いて行うことができる 。更に、本発明では、これらの処理を行った後に、ポリビュルホスホン酸で支持体表 面を被覆する処理を行うことができる。表面処理としては、塗布式、スプレー式、ディ ップ式等限定されないが、設備を安価にするにはディップ式が好適である。
[0090] ディップ式の場合には、ポリビュルホスホン酸を 0. 01〜35%の水溶液で処理する ことが好ましぐ 0. 1〜5%水溶液が特に好ましい。処理温度は 20°C以上 90°C以下 が好ましぐ 40°C以上 80°C以下がより好ましい。
[0091] 処理時間は 10〜180秒が好まし 、。処理後、過剰に積層したポリビニルホスホン酸 を除去するため、スキージ処理または水洗処理を行うことが好ましい。更に乾燥処理 を行うことが好ましい。乾燥温度としては、 20〜95°Cが好ましい。
[0092] 本発明のアルミニウム支持体表面のポリビュルホスホン酸の付量は 3〜20mgZm2 が好ましい。特に、 4〜15mg/m2が好ましい。 3mg/m2未満だと非画像部の印刷 汚れが発生し、 20mgより多 、と耐刷性が劣化する。
[0093] ポリビニルホスホン酸水溶液濃度、処理温度、処理時間を種々組み合わせ、所望 の被覆量を得ることが出来る。
[0094] 本発明のアルミニウム支持体表面にポリビュルスルホン酸が被覆した状態における
、表面のリン原子濃度(atm%)は、 3〜15atm%が好ましい。特に好ましくは、 5〜9 atm%である。
[0095] 次に、本発明の感光性平版印刷版に用いることのできる、処理剤について述べる。
本発明に用いられる現像液に含まれる無機のアルカリ剤としては、水酸化ナトリウム、 同カリウムおよび同リチウムが好適に用いられる。これらのアルカリ剤は単独もしくは 二種以上を組み合わせて用いられる。 pHは 8. 5以上、 13. 0以下の範囲であるアル カリ性水溶液であることが好ましい。さらに好ましくは ρΗΙΟ. 5〜12. 5である。現像 液の pHが 8. 5未満の場合、このような現像液で現像可能な感光性平版印刷版から 得られる印刷版の画像部は物理的に脆弱であり、印刷中の摩耗が早く十分な耐刷 力が得られない。また、その画像部は化学的にも弱ぐ印刷中にインキ洗浄溶剤ゃプ レートクリーナー等で拭いた部分の画像がダメージを受け、その結果、十分な耐薬品 性が得られない。 pHが 13. 0を越える様な高 pHの現像液は皮膚や粘膜へ付着した 場合の刺激性が強く、取扱 、には十分な注意を必要とし好ましくな 、。
[0096] 上記アルカリ剤の他に、版面洗浄性および現像液 pH緩衝性を有するために、以下 の緩衝剤を含有することが好ましい。例えば、珪酸カリウム、珪酸ナトリウム、珪酸リチ ゥム、珪酸アンモ-ゥム、メタ珪酸カリウム、メタ珪酸ナトリウム、メタ珪酸リチウム、メタ 珪酸アンモ-ゥム、燐酸三カリウム、燐酸三ナトリウム、燐酸三リチウム、燐酸三アンモ 二ゥム、燐酸二カリウム、燐酸ニナトリウム、燐酸二リチウム、燐酸二アンモニゥム、炭 酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸リチウム、炭酸アンモニゥム、炭酸水素カリウム、炭酸 水素ナトリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素アンモ-ゥム、硼酸カリウム、硼酸ナトリ ゥム、硼酸リチウム、硼酸アンモ-ゥムが挙げられ、前記力 選ばれる、少なくとも 1種 の化合物を含有して 、ることが好まし 、。
[0097] もっとも好ましいものとして珪酸カリウム及び珪酸ナトリウムがあげられる。珪酸塩の 濃度は、 SiO濃度換算で 0. 5〜3. 5質量%が好ましい。また、 SiOとアルカリ金属
2 2
Mの mol比(SiO ZM)が、 0. 25〜2の範囲であればなお好ましい。
2
[0098] また、モノメチルァミン、ジメチルァミン、トリメチルァミン、モノェチルァミン、ジェチ ルァミン、トリエチルァミン、モノイソプロピルァミン、ジイソプロピルァミン、トリイソプロ ピルァミン、 n—ブチルァミン、モノエタノールァミン、ジエタノールァミン、トリエタノー ルァミン、モノイソプロパノールァミン、ジイソプロパノールァミン、エチレンィミン、ェチ レンジァミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も組み合わせて用いられる。
[0099] 本発明における現像液の電導度は 10〜30mSZcmで使用される。電導度が 10よ り小さくなるとアルカリ強度が弱ぐ現像が不十分になり処理が安定しない。電導度が 30より高くなるとアルカリ強度が高くなりすぎ、光重合した画像部へのダメージが大き くなり十分な耐刷性が得られない、また、現像液中の塩濃度が高くなりすぎるため塩 析によって非画像部にスラッジが再付着し印刷版の汚れになる。
[0100] 尚、本発明で言う現像液とは現像のスタート時に使用される未使用の液だけでなく
、感光性平板印刷版の処理によって低下する液の活性度を補正するために補充液 が補充され、活性度が保たれた液 (いわゆるランニング液)を含む。補充液は従って、 現像液より活性度 (アルカリ濃度)が高い必要があるので補充液の pHは 13. 0を超え ていてもよい。
[0101] 本発明の現像液で使用する界面活性剤としては、ポリオキシエチレン基を有する界 面活性剤を含有することは必須であり、ノ-オン界面活性剤、ァ-オン性界面活性剤
、高分子界面活性剤のいずれか 1種、あるいは混合して使用することが好ましい。
[0102] ポリオキシエチレン基を含有するノ-オン性界面活性剤としては、下記一般式(1) の構造を有する化合物が好適に使用される。
[0103] 一般式(1) R -0- (R -0) -H
11 12 n
式中、 R は置換基を有しても良い炭素数 3〜 15のアルキル基、置換基を有しても
11
良い炭素数 6〜 15の芳香族炭化水素基、または置換基を有しても良い炭素数 4〜1 5の複素芳香族環基 (該置換基としては炭素数 1〜20のアルキル基、 Br、 Cl、 I等の ハロゲン原子、炭素数 6〜 15の芳香族炭化水素基、炭素数 7〜 17のァラルキル基、 炭素数 1〜20のアルコキシ基、炭素数 2〜20のアルコキシ カルボニル基、炭素数 2〜 15のァシル基が挙げられる。)を示し、 R は置換基を有しても良い炭素数 1〜10
12
0のアルキレン基 (該置換基としては、炭素数 1〜20のアルキル基、炭素数 6〜15の 芳香族炭化水素基が挙げられる)を示し、 nは 1〜: LOOの整数を表す。また、 (R — O
12
)の部分は、上記範囲であれば、 2種、または 3種の基であっても良い。具体的には エチレンォキシ基とプロピレンォキシ基、エチレンォキシ基とイソプロピルォキシ基、 エチレンォキシ基とブチレンォキシ基、エチレンォキシ基とイソブチレン基等の組み 合わせのランダムまたはブロック状に連なったものが挙げられる。
[0104] ポリオキシエチレン基を有するァ-オン性界面活性剤としては、下記一般式(2)の 構造を有する化合物が好適に使用される。
[0105] 一般式(2) R -0- (R -0) -SO X
13 14 m 3
式中、一般式 (2)R は、置換基を有しても良い炭素数 3〜 15のアルキル基、置換基
13
を有しても良い炭素数 6〜 15の芳香族炭化水素基、または置換基を有しても良い炭 素数 4〜15の複素芳香族環基 (該置換基としては炭素数 1〜20のアルキル基、 Br、 Cl、 I等のハロゲン原子、炭素数 6〜15の芳香族炭化水素基、炭素数 7〜17のァラ ルキル基、炭素数 1〜20のアルコキシ基、炭素数 2〜20のアルコキシ カルボ-ル 基、炭素数 2〜15のァシル基が挙げられる。)を示し、 R は置換基を有しても良い炭
14
素数 1〜100のアルキレン基 (該置換基としては、炭素数 1〜20のアルキル基、炭素 数 6〜 15の芳香族炭化水素基が挙げられる)を示し、 mは 1〜: L00の整数を表す。ま た、(R —O) の部分は、上記範囲であれば、 2種、または 3種の基であっても良い。
14 m
具体的にはエチレンォキシ基とプロピレンォキシ基、エチレンォキシ基とイソプロピル ォキシ基、エチレンォキシ基とブチレンォキシ基、エチレンォキシ基とイソブチレン基 等の組み合わせのランダムまたはブロック状に連なったものが挙げられる。本発明に おいて、ポリオキシアルキレンエーテル基を有する界面活性剤は、単独または複合 系で使用され、現像液中、 1〜30質量%、好ましくは 2〜20質量%添加することが効 果的である。添加量が少ないと現像性の低下力 逆に多すぎると現像のダメージが 強くなり、印刷版の耐刷性を低下させてしまう。
[0106] 高分子活性剤としては、炭素数が 2〜4のポリオキシアルキレン基を含有する高分 子活性剤ならば規定はない。特にポリオキシエチレン 'ポリオキシプロピレンブロック 共重合体、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル等の高分子界 面活性剤が好ましい。
[0107] ポリオキシエチレン 'ポリオキシプロピレンブロック共重合体は次式の構造式によつ て表される。
[0108] HO (C H O) (C H O) (C H O) H
2 4 a 3 6 b 2 4 c
式中 a、 b、 cは 1〜: L0000の整数を示す。本発明に好適な重合体の範囲としては、 総分子中のエチレンォキシド 10〜90質量0 /0、好ましくは 40〜80質量0 /0。且つ、ポリ ォキシプロピレンの分子量としては 1000〜4000であり、 2000〜3500の範囲力 S特 に好ましい。
[0109] また、本発明に用いられる現像液には、前記ノニオン性界面活性剤、ァニオン性界 面活性剤、高分子界面活性剤の他に、現像性の促進や現像カスの分散および印刷 版画像部の親インキ性を高める目的で種々の界面活性剤を加えても良い。
[0110] 界面活性剤としては、ァ-オン性、カチオン性、ノ-オン性および両性界面活性剤 が挙げられ、例としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシェチレ ンァリールエーテル、ポリオキシエチレンナフチルエーテル、ポリオキシエチレンポリ スチリルフ ニルエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部 分エステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコールモ ノ脂肪酸エステル類、しょ糖脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂 肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリ エチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオ キシエチレンィ匕ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル類、ポ リオキシエチレン ポリオキシプロピレンブロック共重合体、エチレンジァミンのポリオ キシエチレン ポリオキシプロピレンブロック共重合体付加物、脂肪酸ジエタノール アミド類、 N, N ビス— 2—ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキル ァミン、トリエタノールァミン脂肪酸エステル、トリアルキルアミンォキシドなどのノ-ォ ン性界面活性剤、脂肪酸塩類、ァビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩 類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖アルキル ベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタ レンスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンァリールエーテルカルボン酸、ポリオキシェ チレンナフチルエーテル硫酸エステル塩、アルキルジフエ-ルエーテルスルホン酸 塩類、アルキルフエノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシェ チレンアルキルスルホフエ-ルエーテル塩類、ポリオキシエチレンァリールルエーテ ル硫酸エステル塩、 N—メチルー N—ォレイルタウリンナトリウム塩、 N—アルキルス ルホ琥珀酸モノアミドニナトリウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂肪酸 アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシェチ レンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、 ポリオキシエチレンアルキルフエ-ルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシェチレ ンスチリルフヱ-ルエーテル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩類、ポリオ キシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフ ェ-ルエーテルリン酸エステル塩類、スチレン Z無水マレイン酸共重合物の部分鹼 化物類、ォレフィン Z無水マレイン酸共重合物の部分鹼化物類、ナフタレンスルホン 酸塩ホルマリン縮合物類などのァ-オン界面活性剤、アルキルアミン塩類、テトラブ チルアンモ-ゥムブロミド等の第四級アンモ-ゥム塩類、ポリオキシエチレンアルキル ァミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体などのカチオン性界面活性剤、カルボキシ ベタイン類、アミノカルボン酸類、スルホベタイン類、ァミノ硫酸エステル類、イミダゾリ ン類などの両性界面活性剤が挙げられる。
[0111] 以上挙げた界面活'性剤の中でポリオキシエチレンとあるものは、ポリオキシメチレン
、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレンなどのポリオキシアルキレンに読み替える こともでき、それらの界面活性剤もまた包含される。
[0112] 上記の界面活性剤は、単独もしくは 2種以上を組み合わせて使用することができ、 現像液中に 0. 05〜10質量%、より好ましくは 0. 1〜5質量%の範囲で添加される。
[0113] 本発明に使用される現像液は、硬水軟化剤等の添加剤を使用することができる。
硬水軟化剤としては例えば、ポリ燐酸およびそのナトリウム塩、カリウム塩およびアン モ -ゥム塩、エチレンジアミンテトラ酢酸、ジエチレントリアミンペンタ酢酸、エチレンジ アミンジコハク酸、メチルイミノジ酢酸、 βァラニンジ酢酸、トリエチレンテトラミンへキ サ酢酸、ヒドロキシェチルエチレンジァミントリ酢酸、二トリ口トリ酢酸、 1, 2—ジアミノシ クロへキサンテトラ酢酸および 1 , 3 ジァミノ 2 プロパノールテトラ酢酸などのアミ ノポリカルボン酸およびそれらのナトリウム塩、カリウム塩およびアンモ-ゥム塩、ァミノ トリ(メチレンホスホン酸)、エチレンジアミンテトラ(メチレンホスホン酸)、ジエチレントリ ァミンペンタ(メチレンホスホン酸)、トリエチレンテトラミンへキサ(メチレンホスホン酸) 、ヒドロキシェチルエチレンジァミントリ(メチレンホスホン酸)および 1—ヒドロキシエタ ン 1, 1ージホスホン酸やそれらのナトリウム塩、カリウム塩およびアンモ-ゥム塩を 挙げることができる。このような硬水軟化剤はそのキレート化力と使用される硬水の硬 度および硬水の量によって最適値が変化するが、一般的な使用量を示せば、使用 時の現像液に 0. 01〜5質量%、より好ましくは 0. 01-0. 5質量%の範囲である。こ の範囲より少ない添加量では所期の目的が十分に達成されず、添加量力 Sこの範囲よ り多い場合は、色抜けなど、画像部への悪影響がでてくる。
本発明の感光性平版印刷版の処理は自動現像機で行うことが好ま ヽ。本発明に 用いることのできる自動現像機は、好ましくは現像浴に自動的に補充液を必要量補 充する機構が付与されており、好ましくは一定量を超える現像液は、排出する機構が 付与されており、好ましくは現像浴に自動的に水を必要量補充する機構が付与され ており、好ましくは、通版を検知する機構が付与されており、好ましくは通版の検知を もとに版の処理面積を推定する機構が付与されており、好ましくは通版の検知および
Ζまたは処理面積の推定をもとに補充しょうとする補充液および Ζまたは水の補充 量および Ζまたは補充タイミングを制御する機構が付与されており、好ましくは現像 液の温度を制御する機構が付与されており、好ましくは現像液の ρΗおよび Ζまたは 電導度を検知する機構が付与されており、好ましくは現像液の ΡΗおよび Ζまたは電 導度をもとに補充しょうとする補充液および Ζまたは水の補充量および Ζまたは補充 タイミングを制御する機構が付与されている。また、現像工程後に水洗工程がある場 合、使用後の水洗水を現像濃縮液、現像補充液の濃縮液の希釈水として用いること ができる。 [0115] 本発明に用いる自動現像機は、現像工程の前に前処理液に版を浸漬させる前処 理部を有してもよい。この前処理部は、好ましくは版面に前処理液をスプレーする機 構が付与されており、好ましくは前処理液の温度を 25°C〜55°Cの任意の温度に制 御する機構が付与されており、好ましくは版面をローラー状のブラシにより擦る機構 が付与されている。またこの前処理液としては、水などが用いられる。
[0116] カゝかる組成の現像液で現像処理された版は水洗水、界面活性剤等を含有するリン ス液、アラビアガムや澱粉誘導体等を主成分とするフィニッシヤーや保護ガム液で後 処理を施される。本発明の感光性平版印刷版の後処理には、これらの処理を種々組 み合わせて用いることができ、例えば、現像後→水洗→界面活性剤を含有するリンス 液処理や現像→水洗→フィエッシャー液による処理がリンス液ゃフィエッシャー液の 疲労が少なく好ま 、。更にリンス液ゃフィ -ッシヤー液を用いた向流多段処理も好 ましい態様である。これらの後処理は、一般に現像部と後処理部とからなる自動現像 機を用いて行われる。後処理液は、スプレーノズルから吹き付ける方法、処理液が満 たされた処理槽中を浸漬搬送する方法が用いられる。また、現像後一定量の少量の 水洗水を版面に供給して水洗し、その廃液を現像液原液の希釈水として再利用する 方法も知られている。このような自動処理においては、各処理液に処理量や稼働時 間等に応じてそれぞれの補充液を補充しながら処理することができる。また、実質的 に未使用の後処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。このよう な処理によって得られた平版印刷版は、オフセット印刷機に掛けられ、多数枚の印刷 に用いられる。
[0117] ガム液は現像液のアルカリ成分除去のため酸や緩衝剤を添加することが好ましぐ その他に親水性高分子化合物、キレート剤、潤滑剤、防腐剤及び可溶化剤等を添 加することができる。ガム液に親水性高分子化合物を含む場合は現像後の版の傷や 汚れを防ぐ保護剤としての機能も付加される。
[0118] 本発明に用いられるガム液中に界面活性剤を添加することにより塗布層の面状等 が良化する。使用できる界面活性剤としてはァニオン界面活性剤及び Z又はノニォ ン界面活性剤が挙げられる。例えば、ァ-オン型界面活性剤としては、脂肪酸塩類、 ァビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジ アルキルスルホコハク酸塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アル キルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフエノキ シポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフ ェ-ルエーテル塩類、ポリオキシエチレンァリールエーテルスルホン酸塩、ポリオキシ エチレンナフチルエーテルスルホン酸塩、 N—メチルー N ォレイルタウリンナトリウ ム類、 N—アルキルスルホコハク酸モノアミドニナトリウム塩類、石油スルホン酸塩類、 硝酸化ヒマシ油、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、ァ ルキル硝酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、 脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフエ-ルエーテ ル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフエ-ルエーテル硫酸エステル塩 類、アルキル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル燐酸エステル 塩類、ポリオキシエチレンアルキルフエ-ルエーテル燐酸エステル塩類、スチレン 無水マレイン酸共重合物の部分ケン化物類、ォレフィン 無水マレイン酸共重合物 の部分ケンィ匕物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類等が挙げられる。こ れらの中でもジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキル硫酸エステル塩類及びアル キルナフタレンスルホン酸塩類が特に好ましく用いられる。
又、ノ-オン界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオ キシエチレンァリールエーテル類、ポリオキシエチレンナフチルエーテル、ポリオキシ エチレンポリスチリルフエニルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアル キルエーテル、グリセリン脂肪酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類 、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコールモノ脂肪酸エス テル、ショ糖脂肪酸部分エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステ ル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリエチレングリコー ル脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンィ匕ひ まし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノール アミド類、 N, N ビス— 2—ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキル ァミン、トリエタノールァミン脂肪酸エステル、トリアルキルアミンォキシド等が挙げられ る。その中でもポリオキシエチレンアルキルフエ-ルエーテル類、ポリオキシエチレン ポリオキシプロピレンブロックポリマー類等が好ましく用いられる。又、弗素系、シリ コン系のァ-オン、ノ-オン界面活性剤も同様に使用することができる。これら界面活 性剤は 2種以上併用することもできる。例えば互いに異なる 2種以上を併用することも できる。例えば互 ヽに異なる 2種以上のァニオン界面活性剤の併用ゃァニオン界面 活性剤とノニオン界面活性剤の併用が好ましい。上記界面活性剤の使用量は特に 限定する必要はないが、好ましくは後処理液の 0. 01〜20質量%である。
[0120] 本発明に用いられるガム液には、上記成分の他必要により潤滑剤として多価アルコ ール、アルコール及び脂肪族炭化水素を用いることができる。
[0121] 多価アルコールの内、好ましい具体例としては、エチレングリコール、ジエチレング リコーノレ、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、テトラエチレンダリコール、ポ リエチレングリコール、グリセリン、ソルビトール等が挙げられ、アルコールとしては、プ 口ピノレアノレコーノレ、ブチノレアノレコーノレ、ペンタノ一ノレ、へキサノーノレ、ヘプタノ一ノレ、 ォクタノール等のアルキルアルコール、ペンジルアルコール、フエノキシエタノール及 びフヱ-ルァミノエチルアルコール等の芳香環を有するアルコールが挙げられる。
[0122] 脂肪族炭化水素としては、例えば、 n—へキサノール、メチルァミルアルコール、 2 ーェチルブタノール、 n—へプタノール、 3 へプタノール、 2—ォクタノール、 2 ェ チルへキサノール、ノナノール、 3, 5, 5—トリメチルへキサノール、 n—デカノール、 ゥンデ力ノール、 n ドデカノール、トリメチルノ-ルアルコール、テトラデカノール、へ プタデ力ノール、 2 ェチルー 1, 3 へキサンジオール、 1, 6 へキサンジオール、 2, 5 へキサンジオール、 2, 4 へキサンジオール、 1, 8 オクタンジオール、 1, 9 ーノナンジオール、 1, 10—デカンジオール等が挙げられる。これらの潤滑剤の含有 量は、組成物中に 0. 1〜50質量%、より好ましくは 0. 5〜3. 0質量%が適当である
[0123] 上記成分の他必要により潤滑剤としてエチレングリコール、プロピレングリコール、ト リエチレングリコール、ブチレングリコーノレ、へキシレングリコール、ジエチレングリコー ル、ジプロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ジグリセリン等が好適 に用いられる。これらの湿潤剤は単独で用いてもよいが、 2種以上併用してもよい。一 般に、上記湿潤剤は 1〜25質量%の量で使用するのが好ましい。 [0124] 皮膜形成性を向上させる目的で種々の親水性高分子を含有することができる。
[0125] この様な親水性高分子としては従来よりガム液に使用し得るとされるものであれば 好適に使用できる。例えば、アラビアガム、繊維素誘導体 (例えば、カルボキシメチル セルロース、カルボキシェチルセルロース、メチルセルロース等)及びその変性体、ポ リビュルアルコール及びその誘導体、ポリビュルピロリドン、ポリアクリルアミド及びそ の共重合体、ビニルメチルエーテル Z無水マレイン酸共重合体、酢酸ビニル Z無水 マレイン酸共重合体、スチレン Z無水マレイン酸共重合体等が挙げられる。
[0126] 本発明に用いられるガム液は、一般的には酸性領域 pH3〜6の範囲で使用する方 が有利である。 pHを 3〜6にするためには一般的には後処理液中に鉱酸、有機酸又 は無機塩等を添加して調節する。その添加量は 0. 01〜2質量%が好ましい。例え ば鉱酸としては硝酸、硫酸、リン酸及びメタリン酸等が挙げられる。
[0127] 又有機酸としては、クェン酸、酢酸、蓚酸、マロン酸、 p—トルエンスルホン酸、酒石 酸、リンゴ酸、乳酸、レブリン酸、フィチン酸及び有機ホスホン酸等が挙げられる。更 に無機塩としては、硝酸マグネシウム、第 1リン酸ナトリウム、第 2リン酸ナトリウム、硫 酸ニッケル、へキサメタン酸ナトリウム、トリポリリン酸ナトリウム等が挙げられる。鉱酸、 有機酸又は無機塩等の少なくとも 1種もしくは 2種以上を併用してもょ ヽ。
[0128] 本発明に用いられるガム液には、防腐剤、消泡剤等を添加することができる。
[0129] 例えば防腐剤としてはフエノール又はその誘導体、ホルマリン、イミダゾール誘導体 、デヒドロ酢酸ナトリウム、 4—イソチアゾリン— 3—オン誘導体、ベンゾイソチアゾリン —3—オン、ベンズトリアゾール誘導体、アミジングァ-ジン誘導体、四級アンモ-ゥ ム塩類、ピリジン、キノリン、グァ-ジン等の誘導体、ダイァジン、トリァゾール誘導体、 ォキサゾール、ォキサジン誘導体等が挙げられる。好ましい添加量は、細菌、カビ、 酵母等に対して、安定に効力を発揮する量であって、細菌、カビ、酵母の種類によつ ても異なるが、使用時の版面保護剤に対して 0. 01〜4質量%の範囲が好ましぐ又 種々のカビ、殺菌に対して効力のある様に 2種以上の防腐剤を併用することが好まし い。又、消泡剤としてはシリコン消泡剤が好ましい。その中で乳化分散型及び可溶化 等が何れも使用できる。好ましくは使用時のガム液に対して 0. 01〜1. 0質量%の範 囲が最適である。 [0130] 更にキレートイ匕合物を添加してもよい。好ましいキレートイ匕合物としては、例えば、 エチレンジアミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ジエチレントリアミンぺ ンタ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;トリエチレンテトラミンへキサ酢酸、その ナトリウム塩;エチレンジアミンジコハク酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;トリェチ レンテトラミンへキサ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩、ヒドロキシェチルェチレ ンジァミントリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩:ユトリロトリ酢酸、そのナトリウム 塩; 1—ヒドロキシェタン一 1, 1—ジホスホン酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;アミ ノトリ(メチレンホスホン酸)、そのカリウム塩、そのナトリウム塩等の様な有機ホスホン 酸類或いはホスホノアルカントリカルボン酸類を挙げることが出来る。上記キレート剤 のナトリウム塩、カリウム塩の代わりに有機ァミンの塩も有効である。これらキレート剤 はガム液組成中に安定に存在し、印刷性を阻害しないものが選ばれる。添加量とし ては使用時のガム液に対して 0. 001-1. 0質量%が適当である。
[0131] 上記成分の他、必要により感脂化剤も添加することができる。例えばテレビン油、キ シレン、トルエン、ローヘプタン、ソルベントナフサ、ケロシン、ミネラルスピリット、沸点 が約 120°C〜約 250°Cの石油留分等の炭化水素類、例えばジブチルフタレート、ジ へブチルフタレート、ジ n—ォクチルフタレート、ジ(2—ェチルへキシル)フタレート 、ジノ-ルフタレート、ジデシルフタレート、ジラウリルフタレート、ブチルベンジルフタ レート等のフタル酸ジエステル剤、例えばジォクチルアジペート、ブチルダリコールァ ジペート、ジォクチルァゼレート、ジブチルセバケート、ジ(2—ェチルへキシル)セバ ケート、ジォクチルセバケート等の脂肪族二塩基酸エステル類、例えばエポキシ化大 豆油等のエポキシ化トリグリセリド類、例えばトリクレジルフォスフェート、トリオクチルフ ォスフェート、トリスクロルェチルフォスフェート等のリン酸エステル類、例えば安息香 酸べンジル等の安息香酸エステル類等の凝固点が 15°C以下で、 1気圧下での沸点 力 S300°C以上の可塑剤が含まれる。
[0132] 更にカプロン酸、ェナント酸、力プリル酸、ヘラルゴン酸、力プリン酸、ゥンデシル酸 、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシ ル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、ァラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸 、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラタセル酸、イソ吉草酸等の飽和脂肪酸と アクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、ゥンデシレン酸、ォレイン酸、エライジン酸、セ トレイン酸、二ルカ酸、ブテシジン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、ァラキドン 酸、プロピオール酸、ステアロール酸、イワシ酸、タリリン酸、リカン酸等の不飽和脂肪 酸も挙げられる。より好ましくは 50°Cにおいて液体である脂肪酸であり、更に好ましく は炭素数が 5〜25であり、最も好ましくは炭素数が 8〜21である。これらの感脂化剤 は 1種もしくは 2種以上併用することもできる。使用量として好ましい範囲はガムの 0. 01〜10質量%、より好ましい範囲は 0. 05〜5質量%である。
[0133] 上記の様な感脂化剤は、ガムを乳化分散型としておき、その油相として含有させて もよぐ又可溶化剤の助けを借りて可溶ィ匕してもよい。
[0134] 本発明において、ガム液の固型分濃度は 5〜30gZlが好ましい。ガム膜厚量は自 現機のスクイズ手段の条件で制御できる。本発明において、ガム塗布量は 1〜: LOgZ m2が好ましい。ガム塗布量は 10を越えると、短時間で乾燥するためには、版面を非 常に高温にする必要があり、コスト上、安全上不利であり、また本発明の効果が十分 に得られない。 lgZm2を下回ると、均一塗布が難しくなり、安定した処理性が得られ ない。
[0135] 本発明にお 、て、ガム液の塗布終了から乾燥開始までの時間は 3秒以下であること が好ましい。更に好ましくは 2秒以下であり、この時間が短いほどインキ着肉性が向上 する。
[0136] 本発明にお 、て、乾燥時間は 1〜5秒が好まし 、。乾燥時間が 5秒以上の時は本 発明の効果が得られない。乾燥時間が 1秒以下の場合には、感光性平版印刷版を 十分に乾燥するために、版面を非常に高温にする必要があり、安全上、コスト上好ま しくない。
[0137] 本発明にお 、て、乾燥方式としては、温風ヒーター、遠赤外線ヒーターなど公知の 乾燥方式を用いることができる。
[0138] 乾燥工程では、ガム液中の溶媒が乾燥される必要がある。そのために十分な、乾 燥温度とヒーター容量を確保する必要がある。乾燥に必要な温度は、ガム液の成分 によって異なるが、溶媒が水であるガム液の場合は、通常乾燥温度は 55°C以上であ ることが好ましい。ヒーター容量は乾燥温度よりも重要で有る場合が多ぐその容量は 温風乾燥方式の場合は 2. 6kW以上が好ましい。容量は大きい程よいが、コストとの バランスで 2. 6〜7kWが好ましい。
[0139] 本発明において、現像前に洗浄工程を含むことが好ましい。洗浄工程で用いる洗 浄液は通常水であるが、必要に応じてキレート剤、防腐剤、界面活性剤等の添加剤 をカロ免ることができる。
[0140] キレート剤としては、金属イオンと配位結合してキレート化合物を形成する化合物を 用いる。エチレンジアミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩、エチレンジァ ミンジコハク酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩、トリエチレンテトラミンへキサ酢酸、 そのカリウム塩、そのナトリウム塩、ジエチレントリァミンペンタ酢酸、そのカリウム塩、 そのナトリウム塩、ヒドロキシェチルエチレンジァミントリ酢酸、そのカリウム塩、そのナ トリウム塩、二トリオトリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩、 1—ヒドロキシェタン一 1, 1—ジホスホン酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩、アミノトリ(メチレンホスホン酸 )、そのカリウム塩、そのナトリウム塩、ホスホノアルカントリカルボン酸、エチレンジアミ ンジコハク酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩等が挙げられる。これらのキレート剤 はカリウム塩及びナトリウム塩の代わりに有機アミン塩を有するものも有効である。キレ ート剤の添力卩量は 0〜3. 0質量%の範囲が適当である。
[0141] 界面活性剤としては、ァ-オン、ノ-オン、カチオン及び両性の何れの界面活性剤 も用いることができるが、ァ-オン又はノ-オン界面活性剤が好ましい。好ましい界面 活性剤の種類はオーバーコート層や感光層の組成によって異なり、一般にオーバー コート層素材の溶解促進剤となり、感光層成分の溶解性が小さいものが好ましい。
[0142] ァ-オン界面活性剤としては、脂肪酸塩類、アビチェン酸塩類、ヒドロキシアルカン スルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキ ルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフエノキ シポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフ ェ-ルエーテル塩類、 N—メチルー N—ォレイルタウリンナトリウム類、 N—アルキルス ルホコハク酸モノアミドニナトリウム塩類、石油スルホン酸塩類、硫酸ィ匕ヒマシ油、硫 酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル 塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド 硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフエ-ルエーテル硫酸エステル塩類 、アルキル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル燐酸エステル塩 類、ポリオキシエチレンアルキルフエ-ルエーテル燐酸エステル塩類、スチレン 無 水マレイン酸共重合物の部分ケン化物類、ォレフィン 無水マレイン酸共重合物の 部分ケン化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類等が挙げられる。
[0143] ノ-オン界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシ エチレンポリスチリルフエニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリオキエイプロピレン アルキルエーテル類、グリセリン脂肪酸エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル 類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコールモノ脂肪酸ェ ステル、ショ糖脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分ェ ステル類、イエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリイグリセリン脂肪酸部分エス テル類、ポリオキシエチレンィ匕ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分 エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、 N, N—ビスーヒドロキシアルキルアミン類 、ポリオキシエチレンアルキルァミン、トリエタノールァミン脂肪酸エステル、トリアルキ ルアミンォキシド等が挙げられる。
[0144] 界面活性剤の好ま 、添加量は 0〜 10質量%である。また、界面活性剤に消泡剤 、防腐剤を併用することもできる。
[0145] 防腐剤としては、フエノール又はその誘導体、ホルマリン、イミダゾール誘導体、デヒ ドロ酢酸ナトリウム、 4 イソチアゾリンー3—オン誘導体、ベンゾイソチアゾリンー 3— オン、ベンゾトリアゾール誘導体、アミジングァ-ジン誘導体、四級アンモ-ゥム塩類 、ピロジン,キノリン,グァ-ジン等の誘導体、ダイァジン、トリァゾール誘導体、ォキサ ゾール,ォキサジン誘導体等が挙げられる。
[0146] 洗浄工程では、現像前洗浄に用いる洗浄液は温度を調節して用いることが好ましく 、該温度は 10〜60°Cの範囲が好ましい。洗浄の方法は、スプレー、ディップ、塗布 等公知の処理液供給技術を用いることができ、適宜ブラシや絞りロール、ディップ処 理における液中シャワーなどの処理促進手段を用いることができる。
[0147] 本発明において、現像前洗浄工程終了後直ちに現像処理を行ってもよぐまた、現 像前洗浄工程の後に乾燥させてカゝら現像処理を行ってもよい。現像工程の後は、水 洗、リンス、ガム引き等公知の後処理を行うことができる。一度以上使用した現像前水 洗水は、現像後の水洗水やリンス液、ガム液に再使用することができる。
実施例
[0148] 以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明の態様はこれに限定さ れない。尚、実施例における「部」は、特に断りない限り「質量部」を表す。
[0149] 実施例 1
[支持体の作製]
厚さ 0. 30mm、幅 1030mmの JIS A1050アルミニウム板を用いて以下のように連 続的に処理を行った。
[0150] (a)アルミニウム板を苛性ソーダ濃度 2. 6質量%、アルミニウムイオン濃度 6. 5質量 %、温度 70°Cでスプレーによるエッチング処理を行い、アルミニウム板を 0. 3g/m2 溶解した。その後スプレーによる水洗を行った。
[0151] (b)温度 30°Cの硝酸濃度 1質量%水溶液 (アルミニウムイオン 0. 5質量%含む)で 、スプレーによるデスマット処理を行い、その後スプレーで水洗した。
[0152] (c) 60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。この 時の電解液は、塩酸 1. 1質量%、アルミニウムイオン 0. 5質量%、酢酸 0. 5質量% 含む。温度 21°Cであった。交流電源は電流値がゼロ力もピークに達するまでの時間 TPが 2msecの正弦波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面 化処理を行った。電流密度は実効値で、 50AZdm2で、通電量は 900CZdm2であ つた。その後、スプレーによる水洗を行った。
[0153] (d)温度 60°Cの燐酸濃度 20質量%水溶液 (アルミニウムイオンを 0. 5質量%含む )で、 10秒間デスマット処理を行い、その後スプレーによる水洗を行った。
[0154] (e)既存の二段給電電解処理法の陽極酸化装置 (第一および第二電解部長各 6m 、第一給電部長 3m、第二給電部長 3m、第一及び第二給電電極長各 2. 4m)を使 つて電解部の硫酸濃度 170g/リットル (アルミニウムイオンを 0. 5質量%含む)、温 度 38°Cで陽極酸化処理を行った。その後スプレーによる水洗を行った。
[0155] この時、陽極酸ィ匕装置においては、電源力もの電流は、第一給電部に設けられた 第一給電電極に流れ、電解液を介して板状アルミニウムに流れ、第一電解部で板状 アルミニウムの表面に酸化皮膜を生成させ、第一給電部に設けられた電解電極を通 り、電源に戻る。
[0156] 一方、電源力 の電流は、第二給電部に設けられた第二給電電極に流れ、同様に 電解液を介して板状アルミニウムに流れ、第二電解部で板状アルミニウムの表面に 酸ィ匕皮膜を生成させるが、電源力 第一給電部に給電される電気量と電源力 第二 給電部に給電される電気量は同じであり、第二給電部における酸ィヒ皮膜面での給電 電流密度は、約 25AZdm2であった。第二給電部では、 1. 35g/m2の酸ィ匕皮膜面 から給電することになつた。
[0157] 最終的な酸化皮膜量は 2. 7gZm2であった。更に、スプレー水洗後、 0. 4質量% のポリビュルホスホン酸溶液中に 30秒浸漬し、親水化処理した。温度は 75°Cであつ た。その後スプレー水洗し、赤外線ヒーターで乾燥した。
[0158] この時、表面の中心線平均粗さ(Ra)は 0. 65 mであった。
[0159] 上記支持体上に、下記組成の感光層塗工液を乾燥時 1. 8gZm2になるようワイヤ 一バーで塗布し、 90°Cで 1. 5分間乾燥し、感光層の 25° Cの水に対する接触角( 以下単に接触角と言う)を表 1記載のように調整した。 接触角は、協和接触角計 CA -D (協和科学 (株)製)を用いて、測定した。
[0160] さらに、上記感光層塗布試料上に、下記組成の保護層塗工液を乾燥時 1. 9g/m2 になるようワイヤーバーで塗布し、表 1記載の温度で 1. 5分間乾燥して、感光層上に 保護層を有する感光性平版印刷版の試料を作製した。
[0161] このようにして、本発明の感光性平版印刷版材料試料 (実施例 1〜10)および比較 試料 (比較例 1〜4)を作製した。
[0162] (感光層塗工液)
*高分子バインダー A (下記) 40部
化合物 B (下記の付加重合可能なエチレン性二重結合含有化合物) 44部 ポリエチレングリコールジメタタリレート(NKエステル 3G :新中村ィ匕学工業社製)
4. 0咅
分光増感剤 (D) (下記) 4. 0部
重合開始剤 (I) (下記) 1. 5部 トリノ、口アルキルィ匕合物(C) (下記) 0. 5部
下記化合物 (T) (下記) 1. 5部
ヒンダードァミン安定化剤 (LS 770 :三共ライフテック社製) 0. 5部
* *金属無置換フタロシアニン顔料分散液(下記)(平均粒子径 150nm、粗大粒 子(平均粒子径 500nm以上)比率 5%以下) 30部
界面活性剤 (表 1記載)(固形分含量) 0. 3部
メチルェチルケトン 30部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 80部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 830部
*高分子バインダー Aは、メタクリル酸ーメタクリル酸メチルーメタクリル酸ヒドロキシ ェチル(15Z75Z10)共重合体(質量平均分子量 50, 000、酸価 90、ガラス転 移温度 120°C)
* *金属無置換フタロシアニン顔料分散液組成
金属無置換フタロシアニン顔料 (PB16) 10. 0部
流動化剤(ソルスパース 5000) 0. 5部
高分子分散剤(ソルスパース 24000GR) 1. 5部
メチルェチルケトン 88. 0部 (保護層塗工液
)
ポリビュルアルコール (表 1記載) 85部
ポリビュルピロリドン 酢酸ビュル共重合体 (VA64W: BASF社製) 14部 界面活性剤(サーフィノール 465:日新化学社製) 1. 0部 水 900咅
[化 2]
Figure imgf000041_0001
Figure imgf000041_0002
感光層 保護層
試料 乾燥温度
ポリビニルアルコール
No. 接触角
界面活性剤 (°c)
(° ) (ゲン化度(%))
比較例 1 BYK-337 85 Celvol203(88) 100 比較例 2 BYK-337 85 Celvoll03/Celvol203(93) 100 実施例 1 BYK-337 85 Celvoll03/Celvol203(94) 100 実施例 2 BYK-337 85 Celvoll03/Celvol203(96) 100 実施例 3 BYK-337 85 Celvoll03(98) 100 実施例 4 BYK-337 85 Celvoll03(98) 75 実施例 5 BYK-307 80 Celvoll03(98) 100 実施例 6 BYK-375 70 Celvoll03(98) 100 比較例 3 A 91 Celvoll03(98) 100 比較例 4 なし 60 Celvoll03(98) 100 実施例 7 BYK-337 85 PVA105(98) 100 実施例 8 BYK-337 85 PVA105/PVA205(96) 100 実施例 9 BYK-337 85 Mowiol6-98(98) 100 実施例 10 BYK-337 85 Mowiol3-96(96) 100
A: F-178K 大日本ィンキ社製
[0165] (評価)
一保護層塗布性
保護層塗布 ·乾燥後、そのまま室温にて放置した際の保護層の塗布状態を目視に て以下の基準で評価した。
3:塗布液のはじき、筋等はなぐ平滑に表面が固化している
2:塗布液のはじき、筋等はないが、塗布幅手方向で端部に液ヨリがわずかに発生し て固化
1:塗布液が感光層上ではじいてしまい、ムラ状になって固ィ匕
2以上が実用上の許容レベルである。
[0166] 接着性
本発明においては、保護層の接着性の指標としてスクラッチ試験により、保護膜の 剥離がはじまる荷重を用いる。すなわち、得られた感光性平版印刷版 (50mm X 20 Omm)を 23°C50%RHの環境下でスクラッチ試験機(HEIDON— 18型:新東科学 社 (製))に力 4ナ、直径 0. ΙπιπιΦのサフアイャ針にて速度 lOOmmZminで 0〜: L00 gまでの連続荷重をかけ、保護膜の剥離がはじまる荷重を測定した。荷重値は 50g以 上が好ましい。
[0167] 潜像退行性一
作製した感光性平板印刷版料を二つに折半し、 23°C50%RHの環境下で一方を 出力 60mWの 405nmLDレーザー光源を搭載した CTP露光装置(NewsCTP :EC RM社製)を用いて、露光エネルギー: 50 jZcm2、 2400dpi (dpiとは 1インチ、即 ち 2. 54cm当たりのドット数を表す)の解像度で画像露光 (露光パターンは、 100% 画像部と、 175LPI (LPIとは 1インチ、即ち 2. 54cm当たりの線数を表す) 50%のス クエアードットを使用した)を行い、光を遮断して 1時間後に下記現像処理を行った。 残りは上記画像露光直後に下記現像処理を行った。画像露光後、現像前に保護層 を除去する前水洗部、版を加熱する前加熱部、下記組成の現像液を充填した現像 部、版面に付着した現像液を取り除く水洗部、画線部保護のためのガム液 (GW— 3 :三菱ィ匕学社製を 2倍希釈したもの)を備えた CTP自動現像機 (Raptor Polymer8 5 : G&J社製)で現像処理を行い、平版印刷版を得た。感光性平版印刷版が現像液 に接触して 、る時間を現像時間とし、上記自動現像機を用いた現像時間は 18秒で めつに。
得られた 50%のスクェアの網点面積を ccDot (Centerflux社製)にて測定し、画像 露光直後と画像露光 1時間後の差 I A Dotl|(%)を求めた。 I A Dotllは 2%以下であるこ とが望ましい。
[0168] 現像液組成
現像液 1 (1L水溶液処方)
ρΗ緩衝剤:
A珪酸カリ(SiO: 26. 0質量%、 K 0 : 13. 5質量%) 7. 7質量0 /0
2 2
界面活性剤:
ポリオキシエチレン(13)ナフチルエーテルスルホン酸塩 4. 0質量% キレート剤:
エチレンジアミンテトラ酢酸 2ナトリウム塩 0. 058質量0 /0 pH調整剤:
水酸化カリ 下記 pHとなる添加量 残余の成分は水。
pH : 12. 5
—環境湿度感度依存性—
作製した感光性平板印刷版材料を 4つに折半し、それぞれ 23°C20%RH、 40%R H、 60%RH、 80%RHの環境に 2時間遮光放置した試料について、潜像退行性の 評価の時採用した画像露光、現像処理した。得られた 50%のスクェアの網点面積を ccDot (Centerflux社製)にて測定し、それぞれ 23°C20%RH、 40%RH、 60%R H、 80%RHの環境に 2時間遮光放置した試料の値を表 2に示す。 4点の最高値と最 低値の差 I A Dot2|(%)を求めた。 I A Dot2|は 2%以下であることが望ましい。
上記評価結果を表 2に示す。
[表 2]
Figure imgf000044_0001
表 2から、本発明の感光性平版印刷版材料は、保護層の塗布性、接着性が良好で 、かつ、潜像退行性が改良され、しカゝも、環境湿度感度依存性のよい感光性平版印 刷版であることがわかる。

Claims

請求の範囲
[1] 支持体上に、光重合性感光層及び 1つ以上の水溶性高分子を含む保護層を該支持 体側からこの順に有する感光性平版印刷版において、該感光層がシロキサン系界面 活性剤を含有し、該感光層に対する液温 25°Cにおける水の接触角が 65° 〜85° であり、かつ、前記水溶性高分子の少なくとも 1種 ίお IS K 6726で測定したケンィ匕 度が 94%以上であるポリビュルアルコールであることを特徴とする感光性平版印刷 版材料。
[2] 前記保護層がさらにポリビュルピロリドンまたはビニルピロリドン共重合体を含有する ことを特徴とする請求の範囲第 1項に記載の感光性平版印刷版材料。
[3] 前記シロキサン系界面活性剤力 ジメチルポリシロキサン変成ポリエーテルであること を特徴とする請求の範囲第 1または 2項に記載の感光性平版印刷版材料。
[4] 前記シロキサン系界面活性剤力 ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイド およびポリプチレンオキサイド力も選ばれる少なくとも 1つので変性されたポリエーテ ルであることを特徴とする請求の範囲第 1〜3項のいずれ力 1項に記載の感光性平版 印刷版材料。
[5] 前記シロキサン系界面活性剤の、感光層に対する含有量が 0. 01〜10質量%であ ることを特徴とする請求の範囲第 1〜4項のいずれか 1項に記載の感光性平版印刷 版材料。
[6] 前記ポリビニルアルコールの保護層に対する含有量力 65〜85質量%であることを 特徴とする請求の範囲第 1〜5項のいずれか 1項に記載の感光性平版印刷版材料。
[7] 前記光重合性感光層が、酸価 30〜 120である重合性バインダー、重合可能なェチ レン性不飽和結合含有化合物および光重合開始剤を含有することを特徴とする請求 の範囲第 1〜6項のいずれか 1項に記載の感光性平版印刷版材料。
[8] 前記重合可能なエチレン性不飽和結合含有化合物が、(a)分子内に三級アミノ基を 含有する多価アルコールと、(b)ジイソシァネートイ匕合物と、(c)分子内にヒドロキシル 基と付加重合可能なエチレン性二重結合とを有する化合物、との反応生成物であり 、光重合開始剤力 チタノセンィ匕合物、鉄アレーン錯体化合物、トリハロアルキルイ匕 合物およびモノアルキルトリアリールボレートイ匕合物力 選ばれる少なくとも 1つである ことを特徴とする請求の範囲第 7項に記載の感光性平版印刷版材料。
[9] 前記光重合性感光層が、増感色素を含むことを特徴とする請求の範囲第 1〜8項の
V、ずれか 1項に記載の感光性平版印刷版材料。
[10] 支持体上に、シロキサン系界面活性剤を含有する光重合性感光層を形成する工程、 1種以上の水溶性高分子を含み、該水溶性高分子の少なくとも 1種が、ケン化度 94 %以上のポリビュルアルコールである保護層塗布液を調製する工程、形成された光 重合性感光層上に該保護層塗布液を塗布する工程、および塗布された保護層塗布 液を 95〜120°Cで乾燥して保護層を形成する工程を有することを特徴とする感光性 平版印刷版材料の製造方法。
PCT/JP2007/053039 2006-02-24 2007-02-20 感光性平版印刷版材料及びその製造方法 WO2007097302A1 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008501713A JPWO2007097302A1 (ja) 2006-02-24 2007-02-20 感光性平版印刷版材料及びその製造方法

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006-048117 2006-02-24
JP2006048117 2006-02-24

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2007097302A1 true WO2007097302A1 (ja) 2007-08-30

Family

ID=38437342

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2007/053039 WO2007097302A1 (ja) 2006-02-24 2007-02-20 感光性平版印刷版材料及びその製造方法

Country Status (3)

Country Link
US (1) US20070202438A1 (ja)
JP (1) JPWO2007097302A1 (ja)
WO (1) WO2007097302A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20220041000A (ko) * 2020-09-24 2022-03-31 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 감광성 수지 조성물, 패턴 형성 방법, 경화 피막 형성 방법, 층간 절연막, 표면 보호막 및 전자 부품

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2186637B1 (en) * 2008-10-23 2012-05-02 Agfa Graphics N.V. A lithographic printing plate
EP2329951B1 (en) 2009-12-04 2012-06-20 AGFA Graphics NV A lithographic printing plate precursor

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5740248A (en) * 1980-06-14 1982-03-05 Hoechst Ag Photographic copying material and method of coating photosensitive copying layer on support
JPH1010742A (ja) * 1996-06-21 1998-01-16 Konica Corp 光重合性感光材料及び感光性平版印刷版
JP2002072462A (ja) * 2000-08-25 2002-03-12 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版及びその製版方法
JP2002090990A (ja) * 2000-09-12 2002-03-27 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合型平版印刷版
JP2003103949A (ja) * 2001-09-28 2003-04-09 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用支持体及びそれを用いた平版印刷版原版
JP2003215800A (ja) * 2002-01-24 2003-07-30 Kodak Polychrome Graphics Japan Ltd 感光性組成物および感光性平版印刷版
JP2004086174A (ja) * 2002-06-26 2004-03-18 Konica Minolta Holdings Inc 感光性平版印刷版及びその処理方法
JP2005202274A (ja) * 2004-01-19 2005-07-28 Konica Minolta Medical & Graphic Inc 光重合組成物とそれを用いた光重合性平版印刷版材料及び光重合性平版印刷版の製造方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE60313262T2 (de) * 2002-09-17 2007-12-27 Dainippon Ink And Chemicals, Inc. Wärmeempfindliche Flachdruckplatte und Bebilderungsverfahren
US7297462B2 (en) * 2003-11-17 2007-11-20 Agfa Graphics Nv Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
EP1584485B1 (en) * 2004-04-09 2007-12-05 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
JP2005300908A (ja) * 2004-04-12 2005-10-27 Konica Minolta Medical & Graphic Inc 感光性組成物及び感光性平版印刷版材料

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5740248A (en) * 1980-06-14 1982-03-05 Hoechst Ag Photographic copying material and method of coating photosensitive copying layer on support
JPH1010742A (ja) * 1996-06-21 1998-01-16 Konica Corp 光重合性感光材料及び感光性平版印刷版
JP2002072462A (ja) * 2000-08-25 2002-03-12 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版及びその製版方法
JP2002090990A (ja) * 2000-09-12 2002-03-27 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合型平版印刷版
JP2003103949A (ja) * 2001-09-28 2003-04-09 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用支持体及びそれを用いた平版印刷版原版
JP2003215800A (ja) * 2002-01-24 2003-07-30 Kodak Polychrome Graphics Japan Ltd 感光性組成物および感光性平版印刷版
JP2004086174A (ja) * 2002-06-26 2004-03-18 Konica Minolta Holdings Inc 感光性平版印刷版及びその処理方法
JP2005202274A (ja) * 2004-01-19 2005-07-28 Konica Minolta Medical & Graphic Inc 光重合組成物とそれを用いた光重合性平版印刷版材料及び光重合性平版印刷版の製造方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20220041000A (ko) * 2020-09-24 2022-03-31 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 감광성 수지 조성물, 패턴 형성 방법, 경화 피막 형성 방법, 층간 절연막, 표면 보호막 및 전자 부품
KR102623748B1 (ko) * 2020-09-24 2024-01-10 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 감광성 수지 조성물, 패턴 형성 방법, 경화 피막 형성 방법, 층간 절연막, 표면 보호막 및 전자 부품
US11892773B2 (en) 2020-09-24 2024-02-06 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Photosensitive resin composition, patterning process, method for forming cured film, interlayer insulation film, surface protective film, and electronic component

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2007097302A1 (ja) 2009-07-16
US20070202438A1 (en) 2007-08-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2007026528A1 (ja) 感光性平版印刷版の現像液及び処理方法
JP4085735B2 (ja) 感光性平版印刷版の処理方法及びそれに用いる洗浄液
WO2007097302A1 (ja) 感光性平版印刷版材料及びその製造方法
JP2006259319A (ja) 感光性組成物、感光性平版印刷版材料、画像形成方法及び感光性平版印刷版の製版方法
JP2004295024A (ja) 画像形成方法及び感光性平版印刷版
JP4225072B2 (ja) 平版印刷版材料用現像液及び平版印刷版材料の処理方法
JP2006330670A (ja) 感光性平版印刷版及びその画像形成方法
JP2006011413A (ja) 感光性平版印刷版の処理方法
JP2005275222A (ja) 平版印刷版の製版用の現像液、および該現像液を用いた平版印刷版の製版方法
JP4333312B2 (ja) 感光性平版印刷版の処理方法及び版面保護剤
JP2007218951A (ja) 平版印刷版用現像液の廃棄方法
JP2006350076A (ja) 自動現像処理装置および平版印刷版
JP2005017697A (ja) 感光性平版印刷版及びその処理方法
JP4380347B2 (ja) 感光性平版印刷版の処理方法、版面保護剤及び平版印刷版
JP2007322618A (ja) 感光性平版印刷版材料の現像液及び製版方法
JP2007168268A (ja) 感光性平版印刷版の処理方法及び版面保護剤
JP4259152B2 (ja) 感光性平版印刷版の処理方法
JP2004233516A (ja) 平版印刷版材料の処理方法及び平版印刷版材料用現像液
JP2003228175A (ja) 感光性平版印刷版の処理方法と感光性平版印刷版の現像液
JP2006250994A (ja) 現像処理装置、感光性平版印刷版の製版方法及び感光性平版印刷版
JP2006201660A (ja) 感光性平版印刷版材料とその梱包方法および平版印刷版の製版方法
JP2004145075A (ja) 平版印刷版の処理方法と平版印刷版用現像液
JP2004240368A (ja) 感光性平版印刷版の画像形成方法
JP2004230650A (ja) 感光性平版印刷版の処理方法および版面保護剤
JP2004317835A (ja) アルカリ性現像液及び現像方法

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2008501713

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 07737298

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1