WO2007086557A1

WO2007086557A1 - 光学部材保持装置、光学部材の位置調整方法、及び露光装置

Info

Publication number: WO2007086557A1
Application number: PCT/JP2007/051377
Authority: WO
Inventors: Jin Nishikawa
Original assignee: Nikon Corporation
Priority date: 2006-01-30
Filing date: 2007-01-29
Publication date: 2007-08-02
Also published as: TWI589942B; EP1981066B1; JPWO2007086557A1; KR20080098399A; US20080291416A1; EP1981066A1; EP1981066A4; US8576375B2; TW200728793A; KR101470650B1

Abstract

　異なる２つの光学系の光学部材が共通の鏡筒内に混在するような場合にも、複数の光学部材をそれらの相対位置が容易に調整できるように保持できる光学部材保持装置である。投影光学系中のミラー（Ｍ４）と照明光学系中のミラー（Ｍ）とを保持する光学部材保持装置であって、鏡筒ユニット（１２Ｃ）と、ミラー（Ｍ４）を保持するインナーリング（２１）と、ミラー（Ｍ）を保持する保持部材（３２）と、鏡筒ユニット（１２Ｃ）に取り付けられた支持板（２５Ｃ，３１）と、支持板（２５Ｃ，３１）に取り付けられ、ミラー（Ｍ４）とミラー（Ｍ）との相対位置を調整する保持調整機構（１３Ｄ，１３Ｍ）とを有する。

Description

明細書

光学部材保持装置、光学部材の位置調整方法、及び露光装置

技術分野

[0001] 本発明は、複数の光学部材を保持する光学部材保持装置、複数の光学部材の位置を調整する位置調整方法、その光学部材保持装置で照明光学系及び投影光学系中の複数の光学部材を保持する露光装置、並びに露光装置を用いたデバイスの製造方法に関する。

背景技術

[0002] 従来より、半導体素子、液晶表示素子等を製造するためのリソグラフイエ程では、マスクとしてのレチクルに形成されたパターンを、投影光学系を介してレジスト等が塗布されたウェハ又はガラスプレート等の基板上に転写する露光装置が用いられて、る。この種の露光装置としては、近年では、ステツパ等の一括露光方式及びスキャニングステツパ等の走査露光型の投影露光装置が主に用いられて、る。

[0003] 露光装置では、従来、露光ビーム (露光用の照明光）として水銀ランプ力の輝線（例えば i線)や KrFエキシマレーザ光（波長 248nm)のような紫外光が使用されて!ヽた。最近ではより高い解像度を得るために、露光ビームとして ArFエキシマレーザ光（波長 193nm)などの遠紫外光や F レーザ光 (波長 157nm)のような真空紫外光を

2

使用する露光装置の開発も行われて!/ヽる。

[0004] さらに、より微細な半導体素子等を製造するために、最近では、露光ビームとして波長が lOOnm程度以下の軟 X線領域の光、すなわち極端紫外光（以下、 EUV(Extre me Ultraviolet)光と呼ぶ。）を使用する EUV露光装置の開発も行われている。この E UV露光装置では、 EUV光が透過する光学材料が現時点では存在しないため、照明光学系及び投影光学系は全て反射光学素子 (ミラー）によって構成され、レチクルもまた反射型レチクルが使用される。

[0005] 投影光学系として、屈折系、反射屈折系、及び反射系のいずれを用いる場合であつても、レチクルパターンの像を高解像度でウェハ上に転写するためには投影光学系の結像特性 (諸収差)を調整することが必要であり、そのための手段として、投影光学系を構成する少なくとも一部の光学部材の位置 ·姿勢を調整する調整機構が一般的に採用される。この位置'姿勢の調整機構としては、レバーと、このレバーの動きを機械的に縮小する機構とを用いる機構が知られている (例えば、特許文献 1参照)。その他の位置'姿勢の調整機構として、パラレルリンクメカニズムを採用したパラレルリンク式調整機構も知られて!/ヽる。

特許文献 1 :特開 2002— 131605号公報

発明の開示

発明が解決しょうとする課題

[0006] 従来のように、紫外光、遠紫外光、あるいは真空紫外光を露光ビームとして用いる場合には、レチクルは透過照明が可能であり、照明光学系と投影光学系とは完全に分離できる。そのため、一方の光学系の光学部材の保持機構を設計する際に、他方の光学系を考慮する必要はな力つた。しかしながら、 EUV露光装置においては、レチクルも含めて全部の光学部材が反射部材であるため、一方の光学系（例えば、投影光学系）の鏡筒中に、他方の光学系（例えば、照明光学系）を構成する一部の光学部材 (ミラー）を配置する必要がある。例えば、一部の光学部材としては、照明光学系を構成する複数のミラーのうち、最もレチクル側に配置されるミラーがある。このように一方の光学系の鏡筒中に、他方の光学系を構成する一部の光学部材を配置する際、各光学系の光学部材が露光ビームとしての EUV光を遮光しないように、かつ複数の光学部材間の相対位置を容易に調整できるように保持機構を設計する必要がある。

[0007] 本発明は斯力る点に鑑み、異なる 2つの光学系の光学部材が共通の鏡筒内に混在するような場合にも、複数の光学部材をそれらの相対位置が容易に調整できるように保持できる光学部材保持技術を提供することを目的とする。さらに本発明は、そのような光学部材保持技術を用いた露光技術を提供することをも目的とする。

課題を解決するための手段

[0008] 本発明による第 1の光学部材保持装置は、複数の光学部材 (M4, M)を鏡筒（12 C, 12D)内に保持する光学部材保持装置であって、その複数の光学部材のうち、第 1の光学部材 (M)を保持する第 1保持部 (32)と、その複数の光学部材のうち、第 2 の光学部材 (M4)を保持する第 2保持部（21)と、その鏡筒に取り付けられ、その第 1 保持部及びその第 2保持部を支持する支持台（25C, 31)と、その支持台に取り付けられ、その第 1保持部とその第 2保持部との相対位置を調整する調整機構（13D, 13 M)とを備えたものである。

本発明による第 2の光学部材保持装置は、第 1光学系を構成する複数の光学部材のうち、第 1光学部材 (M)を保持する第 1保持部 (32)と、その第 1光学系とは異なる第 2光学系を構成する複数の光学部材のうち、第 2光学部材 (M4)を保持する第 2保持部（21)と、その第 1保持部を介してその第 1光学部材を収容すると共に、その第 2 保持部を介してその第 2光学部材を収容する鏡筒（12C, 12D)と、その第 1保持部とその第 2保持部との相対位置を調整する調整機構（13D, 13M)とを備えたものである。

[0009] 斯かる本発明によれば、その第 1及び第 2の光学部材が異なる光学系に属するような場合にも、その 2つの光学部材を共通の鏡筒内に配置して、かつその調整機構によってそれらの相対位置を容易に調整できる。

また、本発明による第 1の光学部材の位置調整方法は、複数の光学部材のうち、第 1の光学部材 (M)及び第 2の光学部材 (M4)の位置を調整する調整方法であって、その第 1の光学部材及びその第 2の光学部材は、鏡筒 (12C, 12D)に取り付けられた支持台（25C, 31)に対して相対位置が調整可能に設けられ、その支持台に対するその第 1の光学部材の位置に応じて、その第 2の光学部材の位置を調整するものである。

本発明による第 2の光学部材の位置調整方法は、光学部材の位置を調整する調整方法であって、第 1光学系を構成する複数の光学部材のうち、第 1光学部材 (M)と、その第 1光学系とは異なる第 2光学系を構成する複数の光学部材のうち、第 2光学部材 (M4)とを鏡筒 (12C, 12D)に収容し、その第 1光学部材の位置を調整した後、第 2光学部材の位置を調整するものである。

[0010] 本発明によれば、その第 1及び第 2の光学部材が異なる光学系に属するような場合にも、その 2つの光学部材を共通の鏡筒内に配置して、かつそれらの相対位置を容易に調整できる。また、本発明による第 1の露光装置は、露光ビームで光学部材 (M)を介してマスク (R)を照明し、その露光ビームでそのマスク及び投影光学系（PO)を介して物体 (W) を露光する露光装置であって、その光学部材とその投影光学系を構成する複数の光学部材とのうち、第 1の光学部材 (M)と第 2の光学部材 (M4)とを本発明の光学部材保持装置で保持するものである。

本発明による第 2の露光装置は、露光ビームで第 1の光学系を介してマスク (R)を照明し、その露光ビームでそのマスク及び第 2の光学系（PO)を介して物体 (W)を露光する露光装置であって、その第 1の光学系を構成する複数の光学部材のうち、第 1 光学部材 (M)と、その第 2の光学系を構成する複数の光学部材のうち、第 2光学部材 (M4)とを本発明の光学部材保持装置で保持するものである。

なお、以上の本発明の所定要素に付した括弧付き符号は、本発明の一実施形態を示す図面中の部材に対応しているが、各符号は本発明を分力り易くするために本発明の要素を例示したに過ぎず、本発明をその実施形態の構成に限定するものではない。

発明の効果

[0011] 本発明によれば、第 1及び第 2の光学部材が異なる光学系に属するような場合にも、それらの光学部材を共通の鏡筒内に配置し、かつそれらの相対位置を容易に調整できる。特に、本発明を EUV露光装置に適用した場合には、例えば同じ鏡筒内に照明光学系の光学部材と投影光学系の光学部材とを容易に相対位置が調整できる状態で配置できる。

図面の簡単な説明

[0012] [図 1]本発明の実施形態の一例の露光装置の概略構成を示す一部を切り欠いた図である。

[図 2]図 1の投影光学系 PO内の照明光の光路を示す断面図である。

[図 3] (A)は投影光学系 POを構成する複数のミラーを斜め上方力も見た斜視図、 (B

)はその複数のミラーを斜め下方力も見た斜視図である。

圆 4]図 1の投影光学系 POの鏡筒及びミラーの保持調整機構を示す断面図である。

[図 5]図 4中の鏡筒ユニット 12C及び 12Dを示す斜視図である。 [図 6]図 5の構成力も上方の鏡筒ユニット 12D及び支持板 25Cを取り外した状態を示す斜視図である。

[図 7]図 6を照明光学系側（一 Y方向）から見た側面図である。

[図 8]図 6のスライド部材 35及び駆動板 34を— X方向から見た側面図である。

符号の説明

[0013] 10· ··露光装置、 R…レチクル (マスク）、 PO…投影光学系、 Μ4· ··ミラー、 M…ミラ一、 W…ウエノ、（物体）、 11· ··フランジ、 12Α〜12Ε· ··鏡筒ユニット、 13D…保持調整機構、 13M…保持調整機構、 35· ··スライド部材、 36Α, 36Β Υ軸駆動機構、 40 A〜40C…駆動機構、 48A〜48E…センサ

発明を実施するための最良の形態

[0014] 以下、本発明の実施形態の一例につき図面を参照して説明する。本例は、露光ビームとして極端紫外光、即ち EUV (Extreme Ultraviolet)光を使用する EUV露光装置に本発明を適用したものである。

図 1には、本例の露光装置 10の全体構成が概略的に示されている。この露光装置 10では、後述するように、投影光学系 POが使用されているので、以下では、投影光学系 POの光軸に平行に Z軸を取り、 Z軸に垂直な平面内で図 1における紙面内左右方向に Y軸を取り、紙面に直交する方向に X軸を取って説明する。露光装置 10は、マスクとしてのレチクル Rに形成された回路パターンの一部の像を投影光学系 POを介して物体としてのウェハ W上に投影しつつ、レチクル Rとウェハ Wとを投影光学系 POに対して 1次元方向（ここでは Y方向）に相対走査する。この相対走査によって、レチクル Rの回路パターンの全体をウェハ W上の複数のショット領域の各々にステツプ ·アンド'スキャン方式で転写するものである。

[0015] 露光装置 10は、軟 X線領域の光、即ち波長 lOOnm程度以下の極端紫外光 (EUV 光)を露光用の照明光 EL (露光ビーム)として射出する光源装置 1、この光源装置 1 力もの照明光 ELを反射して所定の入射角、例えば約 50mradでレチクル Rのパターン面（下面）に入射させる光路折り曲げ用のミラー Mを含む照明光学系、レチクル Rを保持するレチクルステージ RST、レチクル Rのパターン面で反射された照明光 ELをウェハ Wの被露光面（上面）に対して垂直に投射する投影光学系 PO、及びウェハ W を保持するウェハステージ WST等を備えている。なお、ミラー Mは、平面ミラーで形成され、投影光学系 POの鏡筒 2の内部に配置されているが、実際には照明光学系を構成する複数の光学部材のうちの一つである。光源装置 1としては、一例として、レ一ザ励起プラズマ光源が用いられている。また、照明光 ELとしては、一例として、主に波長 5〜20nm、例えば波長 l lnmの EUV光が用いられる。 EUV光は、空気中を通過できない（空気中では、 EUV光のエネルギが減衰されてしまう）ため、露光装置 10は不図示の真空チャンバ内に収容されている。

[0016] 前記照明光学系は、複数の光学部材、すなわち、照明用ミラー、波長選択窓等 (いずれも図示省略)、及びミラー M等を含んで構成されている。また、光源装置 1内には、集光ミラーとしての放物面鏡が配置されており、この放物面鏡も照明光学系を構成する一部の光学部材としてもよい。ミラー Mは、照明光学系を複数の照明用ミラーのうち、最もレチクル R側に配置される。このミラー Mは、光源装置 1から射出され、かつ照明光学系内の照明ミラーを介した照明光 ELをレチクル Rに向けて反射し、レチクル Rのパターンの一部の領域を円弧スリット状で照明する。

前記レチクルステージ RSTは、 XY平面に沿って配置されたレチクルベース 3上に配置され、駆動装置 4を構成する例えば磁気浮上型 2次元リニアァクチユエ一タが発生する磁気浮上力によってレチクルベース 3上に非接触状態で支持されて、る。レチクルステージ RSTは、駆動装置 4が発生する駆動力によって Y方向に所定ストロークで駆動されるとともに、 X方向及び Θ z方向（Z軸回りの回転方向）にも微小量駆動される。また、レチクルステージ RSTは、駆動装置 4が複数箇所で発生する磁気浮上力の調整によって Z方向、 X軸回りの回転方向（ 0 X方向）、及び Y軸回りの回転方向 ( Θ y方向）にも微小量だけ駆動可能である。

[0017] レチクルステージ RSTの下面側に不図示の静電チャック方式（又はメカチャック方式）のレチクルホルダが設けられ、該レチクルホルダによってレチクル Rが吸引によつて保持されている。このレチクル Rとしては、照明光 ELが EUV光であること力も反射型レチクルが用いられている。レチクル Rは、シリコンウエノ、、石英、低膨張ガラスなどの薄い板状の部材力成り、そのパターン面には、 EUV光を反射する反射膜が形成されている。この反射膜は、モリブデン Moとベリリウム Beとの膜が交互に約 5. 5nm の周期で、約 50ペア積層された多層膜である。この多層膜は波長 l lnmの EUV光に対して約 70%の反射率を有する。なお、ミラー M、その他の照明光学系及び投影光学系 PO内の各ミラーの反射面にも同様の構成の多層膜が形成されている。レチクル Rのパターン面に形成された多層膜上には、吸収層として例えばニッケル Ni又はアルミニウム A1がー面に塗布され、その吸収層にパターンユングが施されて反射部としての回路パターンが形成されて、る。その回路パターンで反射された EUV光（照明光 EL)が投影光学系 POに向かう。

[0018] レチクルステージ RST (レチクル R)の XY面内の位置（X, Υ, θ z)は、レチクルステージ RSTに設けられた (又は形成された)反射面にレーザビームを投射するレーザ干渉計 (以下、「レチクル干渉計」という） 5Rによって、例えば 0. 5〜lnm程度の分解能で常時検出される。また、レチクル Rの Z方向の位置及び XY面に対する傾斜角（ θ χ, θ γ)は、そのパターン面に対し斜め方向力検出ビームを照射する送光系 6R aと、そのパターン面で反射された検出ビームを受光する受光系 6Rbとから構成されるフォーカスセンサによって計測されている。このフォーカスセンサとしては、例えば特開平 6— 283403号公報 (対応米国特許第 5, 448, 332号)等に開示される多点焦点位置検出系が用いられて、る。レチクル干渉計 5R及びフォーカスセンサ（6Ra , 6Rb)の計測値は、主制御装置 (不図示）に供給され、この主制御装置がその計測値に基づいて駆動部 4を介してレチクルステージ RST (レチクル R)を 6自由度で駆動する。

[0019] 投影光学系 POは、開口数 NAが例えば 0. 1で、反射光学素子 (ミラー）のみ力成る反射光学系が使用されており、本例の投影倍率は 1Z4倍である。投影光学系 PO の鏡筒 2には、ミラー Mに入射する照明光 EL及びレチクル Rに入射して反射される照明光 ELをそれぞれ通過させるための開口 2a及び 2bが形成され、投影光学系 PO 力ウェハ Wに入射する照明光 ELを通過させるための開口（不図示)も形成されている。レチクル Rによって反射された照明光 ELは、投影光学系 POを介してウェハ W 上に投射され、これによりレチクル R上のパターンは 1Z4に縮小されてウェハ Wに転写される。

[0020] 前記ウェハステージ WSTは、 XY平面に沿って配置されたウェハベース 7上に配置され、例えば磁気浮上型 2次元リニアァクチユエ一タカ成る駆動装置 8によってゥェハベース 7上に非接触状態で支持されている。このウェハステージ WSTは、駆動装置 8によって X方向及び Y方向に例えば 300〜400mmの所定ストロークで駆動され、 Θ z方向にも微小量駆動される。また、ウェハステージ WSTは、駆動装置 8によつて Z方向及び XY面に対する傾斜方向にも微小量だけ駆動可能である。

[0021] ウェハステージ WSTの上面には、静電チャック方式の不図示のウェハホルダが載置され、該ウェハホルダによってウェハ Wが吸引によって保持されている。ウェハステージ WSTの X方向、 Y方向の位置、及び X軸、 Y軸、 Z軸の周りの回転角 0 X, 0 y , 0 zは、外部に配置されたレーザ干渉計 (以下、「ウェハ干渉計」という） 5Wにより、例えば 0. 5〜： Lnm程度の分解能で常時検出されている。また、投影光学系 POの鏡筒 2を基準とするウェハ Wの Z方向の位置及び XY面に対する傾斜角（ θ X, θ γ)は、その被露光面に対し斜め方向から検出ビームを照射する送光系 6Waと、その被露光面で反射された検出ビームを受光する受光系 6Wbとから構成されるフォーカスセンサによって計測されている。このフォーカスセンサは、レチクル R用のフォーカスセンサ（6Ra, 6Rb)と同様の多点焦点位置検出系である。ウェハ干渉計 5W及びフォ一カスセンサ（6Wa, 6Wb)の計測値は、不図示の主制御装置に供給され、主制御装置はその計測値及びレチクルステージ RSTの位置の計測値に基づ、て、駆動装置 8を介してウェハステージ WST (ウェハ W)を 6自由度で駆動する。

[0022] さらに、本実施形態では、図 1に示されるように、投影光学系 POの鏡筒 2に、ウェハ W上のァライメントマークの位置を計測するためのァライメント系 ALGが固定されて!ヽる。このァライメント系 ALGとしては、いわゆる FIA (Field Image Alignment)方式のような画像処理方式のセンサや AFM (原子間力顕微鏡)のような走査型プローブ顕微鏡等を用いることができる。ウエノ、ステージ WST上面の一端部には、レチクル Rに形成されたパターンの投影像の位置とァライメント系 ALGとの相対位置関係の計測 ( ヽわゆるベースライン計測)等を行うための空間像計測部 FMが設けられて、る。

[0023] 次に、投影光学系 PO及び照明光学系中の光路折り曲げ用のミラー Mについて詳細に説明する。図 2は、投影光学系 POを構成する複数の光学部材としての 6枚のミラー M1〜M6及びミラー Mの配置を示し、この図 2において、レチクル Rからウェハ Wに向力つて、反射面を下方（一 Z方向）に向けたミラー M2、反射面を下方に向けたミラー M4、反射面を上方（+ Z方向）に向けたミラー M3、反射面を上方に向けたミラ一 Ml、反射面を下方に向けたミラー M6、及び反射面を上方に向けたミラー M5が配置され、照明光学系の一部であるミラー Mは、ほぼミラー M3及び M4の反射面を延長した 2つの面 Ca及び Cbの間に配置されている。ミラー M1〜M6の反射面は、それぞれ球面又は非球面を有する。さらに、ミラー M1〜M6の反射面を延長した面は、回転対称な面であり、その回転対称軸が投影光学系 POの光軸 AXにほぼ一致するように位置調整されている。また、ミラー Ml, M2, M4, M6は凹面鏡であり、他のミラー M3, M5は凸面鏡である。ミラー M1〜M6それぞれの反射面は、設計値に対して露光波長の約 50分の 1から 60分の 1以下の凹凸となる加工精度でカ卩ェされ、 R MS値 (標準偏差)で 0. 2nm力 0. 3nm以下の平坦度誤差のみが残存している。各ミラーの反射面の形状は、計測と加工とを交互に繰り返しながら形成されている。

[0024] 図 2の構成において、ミラー Mで上方に反射された照明光 ELは、レチクル Rで下方に反射された後にミラー Mlで上方に反射され、続いてミラー M2で下方に反射された後、ミラー M3で上方に反射され、ミラー M4で下方に反射される。そして、ミラー M 5で上方に反射された照明光 ELは、ミラー M6で下方に反射されて、ウェハ W上にレチクル Rのパターンの像を形成する。

[0025] 図 3 (A)は、その 6枚のミラー M1〜M6を斜め上方から見た斜視図を示し、図 3 (B) は、その 6枚のミラー M1〜M6を斜め下方から見た斜視図を示している。なお、図 3 ( A)、（B)では、各ミラーの反射面に、ノ、ツチングが付されている。これらの図から分かるように、ミラー M1〜M6は、それぞれ照明光 ELを遮光しないような形状に加工されている。

[0026] 図 4は、投影光学系 POの鏡筒及びミラー M1〜M6, Mの保持調整機構を示す。

投影光学系 POは、ミラー M1〜M6を保持する鏡筒を有し、この鏡筒は、各ミラー M 1, M2, M3, M4, M5, M6を保持する円筒状の複数の鏡筒ユニット 12A, 12B, 1 2C, 12D, 12E, 12Fを有する。この図 4【こお!/ヽて、ミラー Ml, M2, M3, M4, M5 , Μ6ίまそれぞれま ίま、鏡筒ユニット 12A, 12B, 12C, 12D, 12E, 12F内【こ保持調整機構 13A, 13B, 13C, 13D, 13E, 13Fによって、不図示のコラム等に対して X 方向、 Y方向、 Ζ方向の位置、及び X軸、 Υ軸、 Ζ軸の周りの回転角の 6自由度で移動 (駆動）可能に保持されている。なお、鏡筒ユニット 12Dのみは、ミラー Μ4を配置するために +Υ方向の側面が切り欠かれており、その Υ方向の内部に照明光学系のミラー Μが配置されている。また、鏡筒ユニット 12A, 12B, 12E, 12F内にそれぞれリング状の支持板 25Α, 25Β, 25Ε, 25Fが固定され、保持調整機構 13A, 13B, 1 3Fは、それぞれ支持板 25Α, 25Β, 25F上に固定され、保持調整機構 13Eは支持板 25Εの底面に固定されて、る。

[0027] 図 5は、図 4中の鏡筒ユニット 12C及び 12D (鏡筒）を示し、この図 5において、鏡筒ユニット 12Cの上面の Υ方向側及び + Υ方向側にそれぞれ照明光 ELを通過させる開口が形成された半円板状の支持板 31及び 25C (支持台）が固定され、支持板 2 5C上に保持調整機構 13D (第 2調整機構)を介してミラー Μ4 (第 2の光学部材)を保持するインナーリング 21 (第 2保持部)が支持され、支持板 31上に保持調整機構 13 Μ (第 1調整機構)を介して保持部材 32 (第 1保持部）中に収納されたミラー Μ (第 1 の光学部材)が支持されている。保持調整機構 13D及び 13Mは全体として、ミラー Μ4とミラー Μとの相対位置を調整する調整機構として使用される。鏡筒ユニット 12C 及び 12Dの Υ方向の側面、即ちミラー Μの反射面に対向する部分には照明光 EL を通過させるための開口 12Ca及び 12Daが形成されている。開口 12Ca及び 12Da を通して保持調整機構 13Mの調整を行うことも可能である。

[0028] 図 4に戻り、支持板 25Cの底面に保持調整機構 13Cが固定されている。また、不図示のコラムに大型のリング状のフランジ 11が固定され、フランジ 11の底面にヮッシャ 1 4Aを介してボルト 15によって鏡筒ユニット 12Aが固定され、鏡筒ユニット 12Aの底面にヮッシャ 14Fを介してボルト 16及びナツト 17によって鏡筒ユニット 12Fが固定され、鏡筒ユニット 12Fの底面にヮッシャ 14Eを介してボルト（不図示）によって鏡筒ユニット 12Eが固定されている。さらに、鏡筒ユニット 12Eの下面には、鏡筒ユニット 12E内のミラー M5を覆うように、照明光を通過させる開口が形成された鏡筒ユニット 12Hが固定されている。

[0029] また、フランジ 11の上面にヮッシャ 14Cを介してボルト（不図示）によって鏡筒ュ-ット 12Cが固定され、鏡筒ユニット 12Cの上面にボルト（不図示）によって鏡筒ユニット 1 2Dが固定され、鏡筒ユニット 12Dの上面にヮッシャ 14Bを介してボルト及びナット（不図示）によって鏡筒ユニット 12Bが固定されている。鏡筒ユニット 12Bの上面には、鏡筒ユニット 12B内のミラー M2を覆うように、照明光を通過させる開口が形成された鏡筒ユニット 12Gが固定されている。本例では、フランジ 11、鏡筒ユニット 12A〜12H 、ヮッシャ 14A〜14F、及びこれらを固定するためのボルトやナット等から図 1の投影光学系 POの鏡筒 2が構成されている。鏡筒ユニット 12A〜12H及びフランジ 11は、ステンレス等の脱ガスの少な、材料にて形成されて、る。

[0030] 上記の保持調整機構 13A〜13Fのうち、保持調整機構 13A〜13Eの構成は、大きさは異なるが基本的に同一であるため、そのうちの保持調整機構 13Aの構成につき説明する。即ち、フランジ 11の底面にヮッシャ 14Aを介して鏡筒ユニット 12Aが固定され、鏡筒ユニット 12A内の支持板 25A上に、保持調整機構 13Aを介してミラー Mlが保持されている。保持調整機構 13Aは、ミラー Mlを保持するインナーリング 2 1 (保持部）と、これに対して Z方向に離れて配置されたアウターリング 23と、アウターリング 23に対してインナーリング 21の X方向、 Y方向、 Z方向の位置、及び X軸、 Y軸、 Z軸の周りの角度力なる 6自由度の相対位置をアクティブに微調整するパラレルリンク機構 22と、支持板 25Aに対してアウターリング 23の X方向、 Y方向、 Z方向の位置、及び X軸、 Y軸、 Z軸の周りの角度力なる 6自由度の相対位置を調整する半固定式のレバー方式調整機構 24とを備えている。ノラレルリンク機構 22は、例えばピェゾ素子のような駆動素子によって独立に伸縮量が制御可能な 6個のロッド状のリンク 47A, 47B, 47C, 47D, 47E, 47Fを備え、レバー方式調整機構 24は、例えば特開 2002— 131605号公報に開示されているように、それぞれ保持対象の光学部材の光軸方向及び円周方向の 2自由度の変位を制御できる 3個のテコの原理を用いた駆動部 41A, 41B, 41Cを備えている。

[0031] また、ヮッシャ 14Aの厚さを調整することで不図示のコラムに対する鏡筒ユニット 12 A、ひいてはミラー Mlを保持するインナーリング 21の Z方向（ミラー Mlの光軸方向）の位置を制御できる。また、ボルト 15の径に比べて鏡筒ユニット 12Aに設けられたボルト用の孔の径が或る程度大きいことを利用して、不図示の調整治具を用いて、不図示のコラムに対する鏡筒ユニット 12Aの X方向、 Y方向の位置を調整することも可能である。これは、ミラー M4の保持調整機構 13Dを含む他の保持調整機構 13B〜13 Eにおいても同様である。ただし、保持調整機構 13C及び 13Dにおいては、ヮッシャ 14Cは兼用されている。

[0032] これに対して、保持調整機構 13Fは、ミラー M6を保持する円筒状の保持部材 21F と、支持板 25Fに対して保持部材 21F (ミラー M6)を駆動するレバー方式調整機構 2 4とから構成されている。即ち、保持調整機構 13Fにおいては、保持調整機構 13Aと比べてパラレルリンク機構 22が省略されている。なお、ミラー M6についても、保持調整機構 13Aと同様に 2種類の調整機構を設けてもよいことは言うまでもない。また、ミラー M1〜M6のうちの少なくとも 1枚のミラーについては、保持調整機構 13Aと同様の保持調整機構で保持し、他のミラーについては、保持調整機構 13Fと同様の保持調整機構で保持してもよい。

[0033] 次に、図 5中のミラー M用の保持調整機構 13Mの構成につき図 6〜図 8を参照して詳細に説明する。

図 6は、図 5の構成力も上側の鏡筒ユニット 12D及び支持板 25Cを取り外した状態を示す斜視図、図 7は図 6を照明光学系側（一 Y方向）から見た側面図である。図 6に示すように、鏡筒ユニット 12Cの上面には、支持板 31が固定されており、この支持板 31の上面はほぼ XY平面に平行である。支持板 31の上面には、 X方向の両側面が三角形の枠状に形成されたスライド部材 35が、ガイド部材 36 (図 8参照）に沿って Y 方向に移動可能に載置されている。スライド部材 35の Y方向の斜面に所定の可変間隔を隔てて平板状の駆動板 34が配置され、駆動板 34の— Y方向の上面にミラー Mを収納した保持部材 32が X方向の 2箇所の固定部 33 A, 33B (図 7参照）、及び— Z方向の固定部（不図示)で固定されている。

[0034] なお、本例のミラー Mの上部には、レチクルで反射された照明光 ELを下方のミラー Ml側（図 2参照）に通過させるための半円状の切り欠き部 Maが形成され、駆動板 3 4、スライド部材 35、及び支持板 31にもそれぞれその照明光 ELを通過させる開口が形成されている。

図 6において、駆動板 34は、上方の 1箇所の駆動機構 40Aと、下方において X方向に所定間隔で 2箇所に配置された駆動機構 40B及び 40C (図 7参照）とにおいてそれぞれスライド部材 35のその斜面に対して法線方向に駆動される。この場合、下方の 2箇所の駆動機構 40B, 40C (第 2調整部）の駆動量を異ならしめることによって、保持部材 32 (ミラー M)をこのミラー Mの反射面 (光学表面）に平行で YZ平面内にある第 1軸の周りに角度 θ YZだけ傾斜させることができる。また、駆動機構 40A〜40 C (第 3調整部）を用いて、下方の 2箇所の駆動機構 40B, 40Cの駆動量を等しくし、かっこの駆動量に対して上方の 1箇所の駆動機構 40Aの駆動量を異ならしめることによって、保持部材 32 (ミラー M)をこのミラー Mの反射面に平行で X軸に平行な第 2 軸（上記の第 1軸に直交する軸）の周りに角度 Θ Xだけ傾斜させることができる。

[0035] また、図 7に示すように、スライド部材 35、ひいては保持部材 32 (ミラー M)は、支持板 31上に X方向に所定間隔で設けられた 2箇所の Y軸駆動機構 36A及び 36B (第 1 調整部）によって Y方向、即ち鏡筒ユニット 12Cの中心から半径方向に沿って駆動される。さらに、 3箇所の駆動機構 40A〜40Cの駆動量を等しくして、この際の保持部材 32 (ミラー M)の Y方向への変位を相殺するように Y軸駆動機構 36A, 36Bでスライド部材 35、ひいては保持部材 32 (ミラー M)を Y方向に駆動することで、ミラー Mを Z方向にのみ駆動することもできる。このようにスライド部材 35、駆動板 34、 Y軸駆動機構 36A, 36B、及び駆動機構 40A〜40Cを含んで、保持部材 32及びミラー Mの Y方向、 Z方向の位置と、角度 θ YZ及び θ Xとを調整するための保持調整機構 13 Mが構成されている。なお、ミラー Mの反射面に平行な面内でのミラー Mの変位、即ちミラー Mの X方向及びその反射面の法線の周りの回転方向の変位は、その反射面で反射される照明光 ELの光路に影響しない。そこで、本例ではミラー Mを X方向及びその反射面の法線の周りの回転方向に駆動する機構は備えて、な、。

[0036] この構成では、 2箇所の Y軸駆動機構 36A, 36Bを取り外して、スライド部材 35を— Y方向に移動させることで、保持調整機構 13Mと保持部材 32 (ミラー M)とを一体的に鏡筒ユニット 12C力も容易に取り外すことが可能である。また、逆の動作を行うことによって、外部で組み立てた保持調整機構 13Mと保持部材 32 (ミラー M)とを一体的に容易に鏡筒ュ-ット 12Cの支持板 31上に組み込むことが可能である。この際に、鏡筒ユニット 12Cには開口 12Caが設けてあるため、保持部材 32と鏡筒ユニット 12 Cとが機械的に干渉することがない。 [0037] 本例の 2つの Y軸駆動機構 36A, 36Βの構成は同じであり、 3つの駆動機構 40Α 〜40Cの構成は同様であるため、一方の Y軸駆動機構 36A及び 1つの駆動機構 40 Aの構成につき図 8を参照して説明する。

図 8は、図 6のスライド部材 35及び駆動板 34を— X方向力も見た側面図であり、この図 8において、 Y軸駆動機構 36Aは、支持板 31上に固定された固定部材 37と、この固定部材 37の貫通孔を通して Y軸に沿ってスライド部材 35の端部に設けられたねじ部 35aに螺合するボルト 38と、このボルト 38を固定部材 37に対して相対的に固定するための 1対の Eリング 39A, 39Bとから構成されている。 Eリング 39A, 39Bは、固定部材 37を挟むようにボルト 38の軸に設けられた溝に装着されている。この構成でボルト 38を回転することによって、固定部材 37に対してスライド部材 35及び保持部材 32 (ミラー M)を +Y方向又は一 Y方向に駆動することができる。なお、ボルト 38は作業者がマニュアルで操作してもよヽし、モータで自動的に操作してもよ!/、。

[0038] 一方、駆動機構 40Aは、駆動板 34の上側の端部に固定された固定部材 42と、この固定部材 42の貫通孔を通して配置されたボルト 43と、このボルト 43を固定部材 42 に対して相対的に固定するための 1対の Eリング 45A, 45Bと、スライド部材 35の上部に固定された取付部材 46と、この取付部材 46の固定部材 42に対向する面に固定されるとともに、ボルト 43に螺合するねじ部 44cが形成されたフレキシャ部材 44 (弹性部材）と力も構成されている。 Eリング 45A, 45Bは、固定部材 42の先端部を挟むようにボルト 43の軸に設けられた溝に装着されている。また、フレキシャ部材 44には、互いに直交する方向に 2箇所の溝部 44a及び 44bが形成されているため、駆動機構 40Aを駆動する際に駆動板 34に不要な応力が作用しな、。この構成でボルト 43 を操作することによって、スライド部材 35に対して固定部材 42を介して駆動板 34 (ひいてはミラー M)を、スライド部材 35の斜面に垂直な方向に駆動することができる。他の下方の駆動機構 40B, 40Cも駆動機構 40Aと同様に構成されているが、駆動機構 40B, 40Cのフレキシャ部材 44はスライド部材 35の斜面に設けられた凹部に設置されている点が異なっている。なお、ボルト 43は、ボルト 38と同様、作業者がマ-ユアルで操作してもよいし、モータで自動的に操作するようにしてもよい。この際に、本例の Y軸駆動機構 36A, 36Bのボルト 38、及び駆動機構 40A〜40Cのボルト 43の回転部は鏡筒ユニット 12Cの半径方向の外側を向いているため、開口 12Ca等を通して外部から容易に調整すること可能である。

[0039] また、ミラー Mの駆動量を検出する静電容量型のセンサが設けられている。図 7及び図 8に示すように、静電容量センサは、駆動板 34に固定された被検出部 49A, 49 B, 49C, 49D, 49Eと、この被検出部のそれぞれに対向して配置される検出部 48A , 48B, 48C, 48D, 48Eとを備える。検出咅48A〜48Eは一 f列として図 5の上方の鏡筒ユニット 12Dに固定されるが、投影光学系 POの組立調整中には不図示の調整用のコラム等に固定してもよい。そして、図 7の左側に配置された 1対のセンサ 48A, 48Bの検出結果の差分から図 6のミラー Mの角度 θ Xが求められ、図 7の X軸に沿つて配列された 1対のセンサ 48A, 48Cの検出結果の差分から図 6のミラー Mの角度 θ YZが求められ、図 7の駆動板 34の上端に X軸に沿って配列された 1対のセンサ 4 8D, 48Eの検出結果力ミラー Mの Z方向の駆動量と Y軸の周りの回転角とが求められる。さらに、例えば 3つのセンサ 48A〜48Cの検出結果の平均値からミラー Mの Y方向の駆動量が求められる。なお、ミラー Mの駆動量とは、図 5のミラー M4に対するミラー Mの相対位置の変化量とみなすことも可能である。また、ミラー Mの駆動量は、静電容量型のセンサの他に、磁気式や光学式等のセンサも使用してもよい。

[0040] 図 5に戻り、本例の投影光学系 POのミラー M4及びミラー Mの位置の調整時には、一例として先ず保持調整機構 13Mを用いて照明光学系の一部であるミラー Mの位置及び角度を図 1のレチクル R、あるいは照明光学系 1の他のミラー等の目標位置及び目標角度に対して調整する。例えば、照明光学系を構成する他のミラーの光軸に対して、ミラー Mの光軸を調整する。本例の照明光学系及び投影光学系 POは反射系であるため、調整時には可視光等を使用することも可能である。次に、投影光学系 PO中の光学部材であるミラー M4の位置調整を行う際に、図 4のヮッシャ 14Cの厚さ等を調整して鏡筒ユニット 12Cの位置そのものを調整することがある。この場合には、照明光学系の一部であるミラー Mの位置や角度が、目標位置や目標角度からずれてしまう。そこで、鏡筒ユニット 12Cの位置の調整量に基づぐミラー Mのずれ量を相殺するように、保持調整機構 13Mでミラー Mの位置及び角度を調整する。即ちミラー M4に対するミラー Mの相対位置を調整することによって、ミラー Mの位置及び角度をミラー Mの位置を変えることなぐ目標位置及び目標角度になるように再調整する。その後、必要があれば、保持調整機構 13Dでミラー M4の位置及び角度の微調整を行うことで、ミラー M4及びミラー Mをそれぞれ目標位置に容易にかつ迅速に調整することがでさる。

[0041] その後、図 1の露光装置 10を用いた露光開始前又は定期的に、オペレータによつてテストプリント等によって投影光学系 POの結像特性が計測され、その結像特性の計測結果に基づいて不図示のミラー制御装置により図 4の保持調整機構 13A〜13 E内のパラレルリンク機構 22を駆動して、投影光学系 POの波面収差、又は所定の結像特性 (例えば像面湾曲、非点収差、コマ収差、球面収差及び歪曲収差など)を補正することもできる。これによつて、常に高精度に露光を行うことができる。

[0042] この際に、露光装置 10では、極めて波長の短い EUV光を照明光 ELとして用い、色収差のない反射系の投影光学系 POを介してレチクル Rのパターンがウェハ W上に転写されるので、レチクル R上の微細パターンをウェハ W上の各ショット領域に高精度に転写することができる。具体的には、最小線幅 70nm程度以下の微細パターンの高精度な転写が可能である。

[0043] なお、上記実施形態では、図 5の鏡筒ユニット 12Cの支持板 25C, 31上には投影光学系 PO中のミラー M4と照明光学系中のミラー Mとが配置されている力支持板 2 5C, 31上に投影光学系 PO中の複数のミラーと照明光学系中の複数のミラーとが配置されているような場合にも本発明を適用できる。また、上記実施形態では、ミラー M 4とミラー Mとを支持板 25C、 31上に配置する構成について説明した力それぞれ、別々に保持される構成についても本発明を適用することができる。その照明光学系中の複数のミラーは複数の鏡筒ユニットに亘つて配置されていてもよい。さらに、本例の投影光学系 POは鏡筒ユニット方式であるが、鏡筒ユニット方式でない場合にも本発明を適用することができる。

[0044] なお、上記の実施形態の露光装置を用いて半導体デバイスを製造する場合、この半導体デバイスは、デバイスの機能'性能設計を行うステップ、このステップに基づいてレチクルを製造するステップ、シリコン材料力もウェハを形成するステップ、上記の実施形態の露光装置によりァライメントを行ってレチクルのパターンをウェハに露光するステップ、エッチング等の回路パターンを形成するステップ、デバイス組み立てステツプ (ダイシング工程、ボンディング工程、ノッケージ工程を含む）、及び検査ステツプ等を経て製造される。

[0045] また、上記実施形態では、光学部材がミラーの場合にっ、て説明した力本発明がこれに限られるものではなぐ光学部材がレンズであっても良い。また、上記実施形態では、露光ビームとして EUV光を用い、 6枚のミラーのみ力も成るオール反射の投影光学系を用いる場合について説明したが、これは一例であって、本発明がこれに限定されないことは勿論である。すなわち、例えば、特開平 11— 345761号公報に開示されるような 4枚のミラーのみ力成る投影光学系を備えた露光装置は勿論、光源に波長 100〜160nmの VUV光源、例えば Ar レーザ（波長 126nm)を用い、 4〜8

2

枚のミラーを有する投影光学系などにも好適に適用することができる。また、レンズのみ力成る屈折系の投影光学系、レンズを一部に含む反射屈折系の投影光学系のいずれにも、本発明は好適に適用することができる。

[0046] なお、上記実施形態では、露光光として波長 l lnmの EUV光を用いる場合について説明したが、これに限らず、露光光として波長 13nmの EUV光を用いても良い。この場合には、波長 13nmの EUV光に対して約 70%の反射率を確保するため、各ミラ一の反射膜としてモリブデン Moとケィ素 Siとを交互に積層した多層膜を用いる必要がある。また、上記実施形態では、露光光源としてレーザ励起プラズマ光源を用いるものとしたが、これに限らず、 SOR (Synchrotron Orbital Radiation)リング、ベータトロン光源、デイスチャージド光源、 X線レーザなどのいずれを用いても良い。

[0047] このように、本発明は上述の実施の形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り得る。また、明細書、特許請求の範囲、図面、及び要約を含む 2006年 1月 30日付け提出の日本国特願 2006— 020576号の全ての開示内容は、そっくりそのまま引用して本願に組み込まれている。

なお、法令で許容される限りにおいて、露光装置などに関する全ての引例の開示を援用して本文の記載の一部とする。

産業上の利用可能性

[0048] 本発明を EUV露光装置に適用した場合には、例えば同じ鏡筒内に照明光学系の光学部材と投影光学系の光学部材とを容易に相対位置が調整できる状態で配置できるため、 EUV露光装置の組立調整が容易になる。

Claims

請求の範囲

[1] 複数の光学部材を鏡筒内に保持する光学部材保持装置であって、

前記複数の光学部材のうち、第 1の光学部材を保持する第 1保持部と、前記複数の光学部材のうち、第 2の光学部材を保持する第 2保持部と、前記鏡筒に取り付けられ、前記第 1保持部及び前記第 2保持部を支持する支持台と、

前記支持台に取り付けられ、前記第 1保持部と前記第 2保持部との相対位置を調整する調整機構とを備えたことを特徴とする光学部材保持装置。

[2] 前記調整機構は、前記支持台に対して前記第 1保持部の相対位置を調整する第 1 調整機構と、前記支持台に対して前記第 2保持部の相対位置を調整する第 2調整機構とを有することを特徴とする請求項 1に記載の光学部材保持装置。

[3] 前記第 2の光学部材の光学表面は、入射した光を反射する反射面を有し、

前記鏡筒は、前記反射面に対向する部分に開口が設けられたことを特徴とする請求項 2に記載の光学部材保持装置。

[4] 前記第 2調整機構は、前記第 2保持部を前記鏡筒の中心に対して半径方向に移動させる第 1調整部と、前記第 2保持部を前記第 2の光学部材の反射面に平行な軸の周りに回転させる第 2調整部と、前記第 2保持部を前記第 2の光学部材の光軸の周りに回転させる第 3調整部とを有することを特徴とする請求項 2に記載の光学部材保持装置。

[5] 前記第 1調整部、第 2調整部、第 3調整部による前記第 2保持部の変位を検出する複数のセンサを備えたことを特徴とする請求項 4に記載の光学部材保持装置。

[6] 前記第 1調整機構は、前記支持台に対して前記第 1の光学部材を当該光学部材の光軸方向に移動させると共に、前記支持台に対して前記第 1の光学部材を当該光学部材の光軸に対して傾斜させることを特徴とする請求項 2から 5のいずれか一項に記載の光学部材保持装置。

[7] 前記調整機構は、前記支持台に対する前記第 1の光学部材の相対位置を調整した際、前記第 1の光学部材の位置に応じて、前記第 2の光学部材の位置を調整することを特徴とする請求項 1から 6のいずれか一項に記載の光学部材保持装置。

[8] 前記第 1の光学部材は、第 1光学系を構成する複数の光学部材の一つであり、前記第 2の光学部材は、前記第 1光学系とは異なる第 2光学系を構成する複数の光学部材の一つであることを特徴とする請求項 1から 7のいずれか一項に記載の光学部材保持装置。

[9] 前記第 1光学系は、パターンが形成されたマスクを照明する照明光学系を含み、前記第 2光学系は、前記パターンを基板上に形成する投影光学系を含むことを特徴とする請求項 8に記載の光学部材保持装置。

[10] 光学部材保持装置であって、

第 1光学系を構成する複数の光学部材のうち、第 1光学部材を保持する第 1保持部と、

前記第 1光学系とは異なる第 2光学系を構成する複数の光学部材のうち、第 2光学部材を保持する第 2保持部と、

前記第 1保持部を介して前記第 1光学部材を収容すると共に、前記第 2保持部を介して前記第 2光学部材を収容する鏡筒と、

前記第 1保持部と前記第 2保持部との相対位置を調整する調整機構とを備えたことを特徴とする光学部材保持装置。

[11] 前記鏡筒は、前記第 1保持部及び前記第 2保持部を支持する支持台を有し、前記調整機構は、前記支持台に取り付けられることを特徴とする請求項 10に記載の光学部材保持装置。

[12] 前記調整機構は、前記支持台に対して前記第 1保持部の相対位置を調整する第 1 調整機構と、前記支持台に対して前記第 2保持部の相対位置を調整する第 2調整機構とを有することを特徴とする請求項 11に記載の光学部材保持装置。

[13] 前記第 2調整機構は、前記第 2保持部を前記鏡筒の中心に対して半径方向に移動させる第 1調整部と、前記第 2保持部を前記第 2の光学部材の反射面に平行な軸の周りに回転させる第 2調整部と、前記第 2保持部を前記第 2の光学部材の光軸の周りに回転させる第 3調整部とを有することを特徴とする請求項 12に記載の光学部材保持装置。

[14] 前記第 1調整部、第 2調整部、第 3調整部による前記第 2保持部の変位を検出する複数のセンサを備えたことを特徴とする請求項 13に記載の光学部材保持装置。

[15] 前記第 1調整機構は、前記支持台に対して前記第 1の光学部材を当該光学部材の光軸方向に移動させると共に、前記支持台に対して前記第 1の光学部材を当該光学部材の光軸に対して傾斜させることを特徴とする請求項 11から 14のいずれか一項に記載の光学部材保持装置。

[16] 前記調整機構は、前記鏡筒に対する前記第 1の光学部材の相対位置を調整した際、前記第 1の光学部材の位置に応じて、前記第 2の光学部材の位置を調整することを特徴とする請求項 10から 15のいずれか一項に記載の光学部材保持装置。

[17] 複数の光学部材のうち、第 1の光学部材及び第 2の光学部材の位置を調整する調整方法であって、

前記第 1の光学部材及び前記第 2の光学部材は、鏡筒に取り付けられた支持台に対して相対位置が調整可能に設けられ、

前記支持台に対する前記第 1の光学部材の位置に応じて、前記第 2の光学部材の位置を調整することを特徴とする光学部材の位置調整方法。

[18] 前記第 1の光学部材は、第 1光学系を構成する複数の光学部材の一つであり、前記第 2の光学部材は、前記第 1光学系とは異なる第 2光学系を構成する複数の光学部材の一つであることを特徴とする請求項 17に記載の光学部材の位置調整方法。

[19] 前記第 1光学系は、パターンが形成されたマスクを照明する照明光学系を含み、前記第 2光学系は、前記パターンを基板上に形成する投影光学系を含むことを特徴とする請求項 18に記載の光学部材の位置調整方法。

[20] 光学部材の位置を調整する調整方法であって、

第 1光学系を構成する複数の光学部材のうち、第 1光学部材と、前記第 1光学系とは異なる第 2光学系を構成する複数の光学部材のうち、第 2光学部材とを鏡筒に収容し、

前記第 1光学部材の位置を調整した後、第 2光学部材の位置を調整することを特徴とする光学部材の位置調整方法。

[21] 前記第 1光学系は、パターンが形成されたマスクを照明する照明光学系を含み、前記第 2光学系は、前記パターンを基板上に形成する投影光学系を含むことを特徴とする請求項 20に記載の光学部材の位置調整方法。

[22] 露光ビームで光学部材を介してマスクを照明し、前記露光ビームで前記マスク及び投影光学系を介して物体を露光する露光装置であって、

前記光学部材と前記投影光学系を構成する複数の光学部材とのうち、第 1の光学部材と第 2の光学部材とを請求項 1から 7のいずれか一項に記載の光学部材保持装置で保持することを特徴とする露光装置。

[23] 前記マスクとして反射型マスクが用いられ、

前記マスクを照明するための光学部材及び前記投影光学系を構成する複数の光学部材はすべてミラーであり、

前記各ミラーの反射面には極端紫外光を反射させるための多層膜が設けられていることを特徴とする請求項 22に記載の露光装置。

[24] 露光ビームで第 1の光学系を介してマスクを照明し、前記露光ビームで前記マスク及び第 2の光学系を介して物体を露光する露光装置であって、

前記第 1の光学系を構成する複数の光学部材のうち、第 1光学部材と、前記第 2の光学系を構成する複数の光学部材のうち、第 2光学部材とを請求項 1から 16のいずれか一項に記載の光学部材保持装置で保持することを特徴とする露光装置。

[25] リソグラフイエ程を用いてデバイスを製造する方法において、

前記リソグラフイエ程で請求項 22又は 24に記載の露光装置を用いることを特徴とするデバイス製造方法。