WO2007069593A1 - カラーフィルタ用隔壁の製造方法、カラーフィルタ用隔壁付基板、表示素子用カラーフィルタ、及び表示装置 - Google Patents

カラーフィルタ用隔壁の製造方法、カラーフィルタ用隔壁付基板、表示素子用カラーフィルタ、及び表示装置 Download PDF

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WO2007069593A1
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WO
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color filter
partition wall
photosensitive resin
substrate
resin layer
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Daisuke Kashiwagi
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Fujifilm Corporation
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    • G02F1/133514—Colour filters
    • G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography

Definitions

  • Color filter partition wall manufacturing method color filter partition wall substrate, display element color filter, and display device
  • the present invention relates to a method for producing color filter partition walls, a substrate with color filter partition walls, a color filter for display elements, and a display device, and more specifically, manufacture of color filter partition walls that perform pattern formation by exposure.
  • the present invention relates to a method, a substrate with a partition wall for a color filter, a color filter for a liquid crystal display element, and a liquid crystal display device obtained by using the method.
  • a color filter for a display device is provided in a dot shape, for example, by arranging dot images such as red (R), green (G), and blue (B) in a matrix on a substrate such as glass. It has a structure in which images are separated from each other by a separating partition such as a black matrix.
  • methods for producing a color filter include (1) a dyeing method, (2) a printing method, and (3) a colored pattern obtained by applying, exposing, and developing a colored photosensitive resin solution.
  • a method of forming an image (colored resist method; see, for example, Patent Document 1), (4) a method of sequentially transferring a pattern image formed on a temporary support onto a final or temporary substrate, and (5) coloring
  • the photosensitive resin liquid is applied on a temporary support in advance to form a photosensitive colored layer, and the photosensitive colored layer is directly transferred onto the final or temporary substrate, exposed, and developed.
  • a method for forming a colored pattern image is known (for example, see Patent Document 2).
  • a method using an inkjet method (for example, see Patent Document 3) is also known.
  • the colored resist method is not advantageous in terms of cost because it has a large loss in application of the photosensitive layer resin solution, which can produce a color filter with high positional accuracy.
  • the ink jet method alone is advantageous in terms of cost with little loss of resin liquid, but tends to make it difficult to obtain pixels with good positional accuracy.
  • a method has been proposed in which a black matrix is formed by a colored resist method, and then a colored pattern (pixel) such as RGB is formed by using an inkjet method.
  • pixel a colored pattern
  • the cross-sectional shape of the formed black matrix from the substrate surface above the base material The distant upper edge and its edge change to a round and gentle shape in the manufacturing process after development, and immediately after the ink of each color is ejected between the black matrix, the black matrix formed in advance is applied. If the color mixture occurs, the display quality deteriorates.
  • Patent Document 1 JP-A-1 152449
  • Patent Document 2 JP-A-61-99102
  • Patent Document 3 Japanese Patent Laid-Open No. 8-227012
  • Patent Document 4 Japanese Patent Laid-Open No. 6-347637
  • Patent Document 5 JP-A-7-35915
  • Patent Document 6 Japanese Patent Laid-Open No. 10-142418
  • the conventional method described above requires a special material or requires a surface modification treatment for increasing the surface energy of the region surrounded by the black matrix, which is costly.
  • the display quality is deteriorated separately from the color mixture, especially when the display is white or black, the display becomes reddish.
  • Color filter partition wall manufacturing method capable of forming partition walls with sharp corners (edges) that are not in contact with the substrate surface, and substrate with color filter partition walls obtained thereby, and no hue and good hue
  • a color filter for liquid crystal display elements and a liquid crystal display device with high display quality.
  • the present invention includes (1) a step of forming a photosensitive resin layer containing at least a radical polymerizable monomer, a photopolymerization initiator, a binder, and a color material on at least one of the substrates; and droplets
  • the photosensitive resin layer is exposed to a pattern with an illuminance of 50 mW / cm 2 or more and developed.
  • the manufacturing method of the partition for color filters including the process is provided.
  • the manufacturing method is characterized in that a light source used for the exposure is laser light.
  • the production methods (1) and (2) further comprise an ink repellent treatment step for imparting ink repellency to at least a part of the partition wall pattern.
  • the production methods (1) to (3) are the ink repellent treatment process plasma treatment.
  • the present invention provides (5) a substrate with a partition wall for a color filter, which is manufactured by forming a partition pattern by the manufacturing methods of (1) to (4).
  • the present invention also provides: (6) Colored pixels formed by applying droplets to the recesses between the partition walls of the color filter partition wall substrate according to (5) and the color filter partition wall substrate by an inkjet method.
  • a color filter for a display element is provided.
  • the present invention provides (7) a display device provided with the color filter for display element of (6).
  • a method for producing a color filter partition wall capable of forming a partition wall having sharp corners (edges) that are not in contact with the substrate surface, a substrate with a color filter partition wall obtained by the method, and It is possible to provide a color filter for a display element and a display device having a high display quality with no color mixture and good hue.
  • FIG. 1 is a conceptual diagram for explaining a cross-sectional shape of a partition wall.
  • FIG. 2A is a diagram showing a delta arrangement as a color filter pattern.
  • FIG. 2B is a diagram showing a grid or stripe structure arrangement as a color filter pattern.
  • the method for producing a color filter partition wall (hereinafter, simply referred to as “separation partition wall”) of the present invention comprises at least one of a substrate and at least a radical polymerizable monomer, a photopolymerization initiator, a binder, and a coloring material.
  • Forming a photosensitive resin layer including the photosensitive resin layer (hereinafter sometimes referred to as a “layer forming step”), and exposing the developed photosensitive resin layer to a pattern with an illuminance of 50 mW / cm 2 or more and developing the photosensitive resin layer.
  • at least a step of forming a partition pattern (hereinafter sometimes referred to as a “pattern formation step”) that separates the colored pixel portions formed by applying the liquid droplets.
  • Other processes such as processing can be provided and configured.
  • Illuminance is the illuminance of light on the object to be exposed. Specifically, it is a general illuminometer (for example, UV-M10-S, UV-350 (both trade names, manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.). )) Can be measured by placing it at the exposure focal point and performing exposure.
  • a general illuminometer for example, UV-M10-S, UV-350 (both trade names, manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.).
  • a photosensitive resin layer containing at least a radical polymerizable monomer, a photopolymerization initiator, a binder, and a color material is formed on at least one of the substrates.
  • the photosensitive resin layer formed in this step is a layer that finally constitutes the partition wall.
  • the photosensitive resin layer includes at least a radical polymerizable monomer, a photopolymerization initiator, a binder, and a color material, and can be configured using other components as necessary.
  • This photosensitive resin layer is formed by, for example, a method of applying a photosensitive resin composition containing at least a radical polymerizable monomer, a photopolymerization initiator, a binder, and a coloring material on a substrate (preferably, a photosensitive resin composition). And a method of transferring a photosensitive resin layer onto a substrate using a photosensitive transfer material described later (transfer method).
  • the coating is preferably performed using a slit-shaped nozzle or slit coater having a slit-shaped hole in the portion for discharging the liquid.
  • Nore and slit coater can be preferably used.
  • Other examples include Spinner 1, Wheeler 1 ⁇ , Mouth 1 ⁇ La 1 ⁇ Co ⁇ Ta' ⁇ , Force ' ⁇ Ten; ⁇ Ta' ⁇ , Knife: ⁇ Ta 1 ⁇ , Wire 1 ⁇ No ' ⁇ Ko' ⁇ Even if you use a coating machine such as
  • a photosensitive transfer material described later is used, and the photosensitive resin layer formed in a film shape on the temporary support is pressed or pressed with a roller or flat plate heated and / or pressed on the substrate surface. Can be applied by thermocompression bonding, and the photosensitive resin layer can be transferred by peeling off the temporary support and transferring the photosensitive resin layer.
  • JP-A-7-110575, JP-A-11 77942, JP-A-2000 334836, and JP-A-2002-148794 can be used. Details regarding the photosensitive transfer material and transfer by the transfer method will be described later.
  • the thickness of the photosensitive resin layer depends on the solid content of the photosensitive resin composition and the height of the partition wall to be formed, and is not particularly limited, but generally 1 to 12 xm is preferable. Mashi 1.5-5: 12 ⁇ force S is more preferable, 1. 8-8 / 1 111 is more preferable, 2.0-6.0 111 is particularly preferable.
  • the photosensitive resin layer and the photosensitive resin composition in the present invention are preferably dark colored layers or compositions having a high optical density, and the preferred optical density is 2.0 to 10.0. A more preferable optical density is 2.5 to 6.0, and particularly preferably 3.0 to 5.0. Further, since the photosensitive resin layer and the photosensitive resin composition are preferably cured by a photoinitiating system as described later, the optical density with respect to the exposure wavelength (generally the ultraviolet region) is also important. 0 to 10.0 is preferable, more preferably ⁇ to 2.5 to 6.0, and most preferably ⁇ to 3.0 to 5.0. When it is within the above range, polymerization and curing are improved, and a partition wall having a desired shape can be formed.
  • the dark color property can be imparted by using various color materials such as dyes and pigments described later, or materials of various forms of carbon or combinations thereof, and black is the most common.
  • the photosensitive resin layer or photosensitive resin composition in the present invention contains at least one radically polymerizable monomer. It can be cured by the action of an active species from the photopolymerization initiator described later to form a pattern.
  • the radical polymerizable monomer the polyfunctional monomer, which is preferably a polyfunctional monomer, can be used alone or in combination with other monomers.
  • polyfunctional monomers include t_butyl (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane.
  • a compound having a hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, hexamethylene diisocyanate, toluene di-
  • a reaction product with a diisocyanate such as isocyanate or xylene diisocyanate is also included.
  • pentaerythritol tetraatarylate dipentaerythritol hexaatalylate
  • dipentaerythritol pentaatarylate dipentaerythritol pentaatarylate
  • tris (2-acryloyloxychetyl) isocyanurate are particularly preferred.
  • the content of the radical polymerizable monomer in the photosensitive resin layer or photosensitive resin composition is preferably 5 to 80% by mass with respect to the total solid content (mass) of the layer or composition. 0 to 70% by mass is particularly preferable. When the content is within the above range, it is effective to secure the resistance against the photo-curing developer.
  • Photopolymerization initiator The photosensitive resin layer or photosensitive resin composition in the present invention contains at least one photopolymerization initiator.
  • the photopolymerization initiator is a compound that generates an active species that initiates polymerization of the radical polymerizable monomer upon irradiation with radiation such as visible light, ultraviolet light, far ultraviolet light, electron beam, and X-ray. Can be appropriately selected.
  • trino, romethyl group-containing compound for example, trino, romethyl group-containing compound, atalidine compound, acetophenone compound, bisimidazole compound, triazine compound, benzoin compound, benzophenone compound, hidiketone compound, polynuclear quinone compound, xanthone Compounds, diazo compounds and the like.
  • Trihalomethyl-substituted trino, romethyloxazole derivative or s-triazine derivative described in JP-A-2001-117230 and a trihalo described in US Pat. No. 4,239,850 are described.
  • Trihalomethyl group-containing compounds such as methyl-s-triazine compounds and trihalomethyloxadiazole compounds described in US Pat. No. 4,212,976;
  • trihalomethyl group-containing compounds atalidine compounds, and acetophenone compounds
  • At least one selected from a compound containing at least one selected from a compound, a bisimidazole-based compound, and a triazine-based compound is preferred, and at least one selected from a compound containing a romethyl group and an atalidine-based compound is particularly preferable.
  • Torino, romethyl group-containing compounds, and atalidine compounds are useful because they are versatile and inexpensive.
  • trihalomethyl group-containing compound is 2_trichloromethylolene.
  • the benzophenone compound is Michler's ketone
  • the biimidazole compound is 2,2′-bis (2,4-dichlorocyclophenyl) —4, 4 ′, 5, 5′-tetraphenyl 1 , 2'-bisimidazole.
  • the photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.
  • the total amount of the photopolymerization initiator in the photosensitive resin layer or photosensitive resin composition is preferably 0.:! To 20% by mass with respect to the total solid content (mass) of the layer or composition. 5-10% by weight is particularly preferred.
  • the photocuring efficiency is high and the composition can be cured in a short time, and the image pattern formed at the time of development may be lost or the pattern surface may be roughened.
  • the photopolymerization initiator may be composed of a hydrogen donor.
  • the hydrogen donor is preferably a mercabtan compound or an amine compound as defined below from the viewpoint that sensitivity can be further improved.
  • the “hydrogen donor” refers to a compound that can donate a hydrogen atom to a radical generated from the photopolymerization initiator by exposure.
  • the mercabtan compound has a benzene ring or a heterocyclic ring as a mother nucleus, and has one or more mercapto groups directly bonded to the mother nucleus, preferably 1 to 3, more preferably:! To 2 (Hereinafter referred to as “mercabbutane-based hydrogen donor”).
  • the amine compound has a benzene ring or a heterocyclic ring as a mother nucleus, and has one or more amino groups bonded directly to the mother nucleus, preferably:! To 3, more preferably 1 to 2.
  • Compound hereinafter referred to as “aminic hydrogen donor”).
  • the hydrogen donor may have a mercapto group and an amino group at the same time.
  • mercaptan-based hydrogen donor examples include 2_mercaptobenzothiazole, 2_mercaptobenzoxazole, 2_mercaptobenzoimidazole, 2,5-dimenolecapto 1, 3, 4— And thiadiazole, 2-menolecapto-1,5-dimethylaminopyridine, and the like.
  • 2_mercaptobenzothiazole and 2_mercaptobenzoxazole are preferred, and 2_mercaptobenzothiazole is particularly preferred.
  • amine-based hydrogen donor examples include 4, 4'_bis (dimethylamino) benzophenone, 4, 4'-bis (jetylamino) benzophenone, 4-jetylaminoacetophenone, 4 -Dimethylaminopropionofenone, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, 4-dimethylaminobenzoic acid, 4-dimethylaminobenzonitrile and the like.
  • 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone and 4,4'-bis (jetylamino) benzophenone are preferred, especially 4,4'bis (jetylamino) benzophenone.
  • the hydrogen donor can be used singly or in combination of two or more, and the formed image is difficult to drop off from the substrate during development, and the strength and sensitivity can be improved. It is preferable to use a combination of one or more mercaptan hydrogen donors and one or more amine hydrogen donors.
  • Specific examples of the combination of the mercabtan-based hydrogen donor and the amine-based hydrogen donor include 2-mercaptobenzothiazole, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 2-mercaptobenzothiazole / 4, 4 '.
  • the mass ratio (M: A) of the mercabtan hydrogen donor (M) to the amine hydrogen donor (A) is as follows: Usually, 1: 1 to 1: 4 is preferable, and 1: 1 to 1: 3 is more preferable.
  • the total amount of the hydrogen donor in the photosensitive resin layer or photosensitive resin composition is 1: 1 to 1: 4 or 3 .
  • the photosensitive resin layer or photosensitive resin composition in the present invention contains at least one binder.
  • a preferred polymer is a polymer having a polar group such as a carboxylic acid group or a carboxylic acid group in the side chain.
  • a polar group such as a carboxylic acid group or a carboxylic acid group in the side chain.
  • examples thereof include JP-A-59-44615, JP-B-54-34327, JP-B-58-12577, JP-B-54-25957, JP-A-59-53836, and As described in JP-A-59-71048, methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer, itaconic acid copolymer, crotonic acid copolymer, maleic acid copolymer, and partially esterified maleic acid copolymer.
  • a polymer etc. can be mentioned.
  • cellulose derivatives having a carboxylic acid group in the side chain are also included.
  • cyclic acid anhydride to the polymer which has a hydroxyl group can also be used preferably.
  • Particularly preferred examples include copolymers of benzyl (meth) acrylate and (meth) acrylic acid described in US Pat. No. 4,139,391, benzyl (meth) acrylate, (meth) acrylate, and other Mention may be made of multicomponent copolymers with monomers.
  • These binders having a polar group may be used alone or in the form of a composition used in combination with a normal film-forming polymer.
  • the content of the binder in the photosensitive resin layer or photosensitive resin composition is preferably 10 to 50% by mass with respect to the total solid content (mass) of the layer or composition. % Is more preferable.
  • the photosensitive resin layer or the photosensitive resin composition in the present invention contains at least one coloring material. By containing a color material, a visible image having a desired color can be formed.
  • Examples of the color material include pigments and dyes described in paragraphs [0038] to [0054] of JP-A-2005-17716, and paragraphs [0068] to [0072] of JP-A-2004-361447.
  • the described pigments and the colorants described in paragraph numbers [0080] to [0088] of JP-A-2005-17521 can be suitably used.
  • organic pigments, inorganic pigments, dyes, and the like are suitable.
  • a light-shielding agent such as metal oxide powder such as iron oxide, metal sulfide powder, and metal powder, and a mixture of pigments such as red, blue, and green can be used.
  • Known colorants can be used.
  • the black color material include carbon black, titanium carbon, iron oxide, titanium oxide, and graphite. Carbon black is particularly preferable.
  • a pigment is selected as the color material, it is preferable that the pigment is uniformly dispersed in the photosensitive resin layer or the photosensitive resin composition.
  • the content of the coloring material in the photosensitive resin layer or photosensitive resin composition is 30 to 70% by mass in terms of shortening the development time with respect to the solid content (mass) of the layer or composition. 40 to 60% by mass is more preferable, and 50 to 55% by mass is more preferable.
  • the pigment is desirably used as a dispersion.
  • This dispersion can be prepared by adding and dispersing a composition obtained by previously mixing the pigment and the pigment dispersant in an organic solvent (or vehicle) described later.
  • the vehicle refers to a portion of the medium in which the pigment is dispersed when the paint is in a liquid state. The portion is a liquid that binds to the pigment and hardens the coating film (binder), and dissolves it. Ingredient (organic solvent) to be diluted.
  • disperser used when dispersing the pigment examples include, but are not particularly limited to, a kneader described in “Encyclopedia of Pigments” (Asakura Kunizo, 1st edition, page 438, Asakura Shoten (2000)).
  • Well-known dispersers such as Ronole Reminole, Atridor, Super Minore, Dizonoleva, Homomixer, Sand Mill and the like can be mentioned.
  • it may be finely pulverized using frictional force by mechanical grinding as described on page 310 of “Encyclopedia of Pigments”.
  • the number average particle diameter is preferably 0.001 to 0.1 xm, more preferably 0.01 to 0.08 zm, from the viewpoint of dispersion stability.
  • the “particle diameter” refers to the diameter when the particle is represented by a circle having the same area as the area of the particle in the electron micrograph.
  • the “number average particle diameter” refers to the particle diameter of a plurality of particles. The average value of 100 pieces.
  • the photosensitive resin composition used for producing the separation partition wall in the present invention can be constituted using an organic solvent in addition to the above components.
  • organic solvents include methinoretinoleketone, propyleneglycolmonomethinoleethenole, propyleneglycololemonomethyl ether acetate, cyclohexanone, cyclohexanol, methyl isobutyl ketone, lactyl ethyl, methyl lactate, strength prolatatum Etc.
  • the photosensitive resin composition or photosensitive resin layer in the present invention the following components, for example, surfactants, ultraviolet absorbers, and known additives such as plasticizers, fillers, stabilizers, heat A polymerization inhibitor, a solvent, an adhesion promoter, and the like can be contained. Furthermore, it is preferable that the photosensitive resin composition has thermoplasticity that is preferably softened or tacky at a temperature of at least 150 ° C. or less. From this point of view, it can be modified by adding a compatible plasticizer.
  • a uniform film thickness can be controlled by including a surfactant in the photosensitive resin composition. And uneven application can be effectively prevented.
  • Preferred examples of the surfactant include surfactants described in JP-A No. 2003-337424 and JP-A No. 11-133600.
  • the content of the surfactant in the photosensitive resin composition is generally 0.001 to 1% with respect to the total solid content (mass) of the composition. 5% preferred 0. 03 to 0.3. / 0 is particularly preferred.
  • the photosensitive resin composition can contain an ultraviolet absorber as necessary.
  • the ultraviolet absorber include compounds described in JP-A-5-72724, and compounds such as salicylate, benzophenone, benzotriazole, cyanoacrylate, nickel chelate, and hindered amine.
  • phenyl salicylate 4_t_butylphenyl salicylate, 2,4-di-t_butylphenyl_3 ', 5'_di-t_4'-hydroxybenzoate, 4_t_butylphenyl salicylate, 2,4-dihydroxy Benzophenone, 2-hydroxy-1-4-methoxybenzo Phenone, 2-hydroxy-1-4-n-otatoxybenzophenone, 2- (2'-hydroxy-1,5-methylpheninole) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-1-3 '_t_butyl _5' —Methylphenyl) 1-5-clobenzotriazole, ethyl 2-cyano-1,3-diphenyl acrylate, 2, 2'-hydroxy _4-methoxybenzophenone, nickel dibutyldithiocarbamate, bis ( 2, 2, 6, 6-tetramethyl mono 4_pyridine) mono sebacate, 4 _t
  • the content of the ultraviolet absorber relative to the total solid content of the photosensitive resin composition is generally 0.5 to 15%, and preferably 1 to 12%. 2-10% is particularly preferred.
  • the photosensitive resin composition preferably contains a thermal polymerization inhibitor.
  • thermal polymerization inhibitors include hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, ⁇ -methoxyphenol, di-t-butyl- ⁇ -cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl _ 6 _t_butyl Phenol), 2,2′-methylenebis (4-methyl-6_t_butylphenol), 2_mercaptobenzimidazole, phenothiazine, and the like.
  • a 1 0/0 force generally white ladle, from 0.02 to 0 7 0 / 0 force S preferably, from 0.05 to 0. preferred 5 0/0 Ca JP.
  • the photosensitive resin composition can also contain “adhesion aid” described in JP-A No. 11-133600, other additives, and the like.
  • the photosensitive transfer material is composed of at least the photosensitive resin composition on a temporary support. It has a formed layer (photosensitive resin layer), and can be constituted by further providing an intermediate layer, a thermoplastic resin layer, and a protective film as necessary.
  • the exposure in the pattern formation process is performed at a high illuminance of 50 mWZ cm 2 or more so as to be cured before the polymerization is inhibited by oxygen. It may be provided if necessary.
  • the temporary support can be appropriately selected from those that are chemically and thermally stable and made of a flexible material.
  • a thin sheet or film such as Teflon (registered trademark), polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene, polypropylene, polyester, or a laminate thereof is preferable.
  • Teflon registered trademark
  • polyethylene terephthalate polycarbonate
  • polyethylene polypropylene
  • polyester or a laminate thereof
  • biaxially stretched polyethylene terephthalate film is particularly preferred.
  • the thickness of the temporary support is suitably 5 to 300 / im, preferably 20 to 150 ⁇ m. When the thickness is within the above range, it is possible to avoid tearing at the time of peeling of the temporary support, and it is possible to avoid a decrease in resolution when exposed through the temporary support.
  • the photosensitive resin layer is composed of the above-described photosensitive resin composition, and the characteristics such as shape and the forming method are the same as those applied and formed by the above-described coating method, and the preferred embodiments are also the same. is there.
  • thermoplastic resin layer can be provided between the temporary support and the photosensitive resin layer as necessary. Providing a thermoplastic resin layer is effective in improving the adhesion to the substrate on which the separation wall is formed.
  • the thermoplastic resin layer preferably includes at least a resin component and is configured to be alkali-soluble.
  • the resin component is alkali-soluble and has a substantial softening point of 8
  • Thermoplastic resins that are below 0 ° C are preferred.
  • alkali-soluble thermoplastic resins having a soft spot of 80 ° C or lower examples include saponified products of ethylene and acrylate copolymers, saponified products of styrene and (meth) acrylate copolymers, Saponification of vinyltoluene and (meth) acrylic acid ester copolymer And saponified products of poly (meth) acrylic acid esters, (meth) acrylic acid ester copolymers such as butyl (meth) acrylate and butyl acetate, and the like.
  • the “Plastic Performance Handbook” (edited by the Japan Plastics Industry Federation, edited by the All Japan Plastics Molding Industry Association, published by the Industrial Research Council, published on October 25, 1968) has a softening point of approximately 80.
  • organic polymers having a temperature of ⁇ C those soluble in an alkaline aqueous solution can be used.
  • an organic polymer substance having a soft spot of 80 ° C or higher can be substantially added by adding various plasticizers compatible with the polymer substance to the organic polymer substance.
  • the softening point can be lowered to 80 ° C or less.
  • organic polymer substances have various polymers, supercooling substances, adhesion improvers, or adhesion improvers within the range where the substantial softening point does not exceed 80 ° C for the purpose of adjusting the adhesive force with the temporary support.
  • Surfactants, mold release agents, etc. can also be added.
  • Specific examples of preferred plasticizers include polypropylene glycol, polyethylene glycol, dioctyl phthalate, diheptyl phthalate, dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, biphenylenoresphene phosphate. be able to.
  • the intermediate layer is not necessarily required, but if necessary, an intermediate layer is provided between the temporary support and the photosensitive resin layer or between the thermoplastic resin layer and the photosensitive resin layer. Further, it may be provided.
  • a layer mainly composed of polyethylene, polyvinylidene chloride, polybulualcohol (PVA), etc. (especially PVA as the main component) is preferred.
  • a polymer such as polybulurpyrrolidone or polyacrylamide can be added. Don't hesitate.
  • PVA having a hatching degree of 80% or more is preferable.
  • the content of PVA is preferably 25 to 99% by mass.
  • a protective film is preferably provided on the surface of the photosensitive resin layer formed on the temporary support to protect it from contamination and damage during storage. It is important that the protective film is capable of easily separating the photosensitive resin layer force from the viewpoint of good transfer even if it is composed of the same or similar material as the temporary support.
  • a material constituting the protective film for example, silicone paper, polyolefin, or polytetrafluoroethylene sheet is suitable.
  • the thickness of the protective film is generally 4 to 40 zm, preferably 5 to 30/111, and particularly preferably 10 to 25 zm.
  • the photosensitive transfer material is obtained, for example, by applying a coating solution (a coating solution for a thermoplastic resin layer) in which the constituent components of the thermoplastic resin layer are dissolved on a temporary support, and drying the thermoplastic resin layer.
  • a coating solution a coating solution for a thermoplastic resin layer
  • a solution made of a solvent that does not dissolve the thermoplastic resin layer is applied onto the thermoplastic resin layer, dried to laminate the intermediate layer, and then the intermediate layer is further dissolved on the intermediate layer. It can be produced by applying the photosensitive resin composition prepared as described above using a solvent and drying and laminating the photosensitive resin layer.
  • a coating apparatus slit coater
  • a slit-shaped nosole that can be applied by the known coating method described above.
  • the photosensitive transfer material is prepared by preparing a sheet provided with a thermoplastic resin layer and an intermediate layer on a temporary support, and a sheet provided with a photosensitive resin layer on a protective film, A sheet having a thermoplastic resin layer on a temporary support, and a sheet having a photosensitive resin layer and an intermediate layer on a protective film by bonding so that the oxygen blocking layer and the photosensitive resin layer are in contact with each other. It can also be carried out by preparing and bonding so that the thermoplastic resin layer and the intermediate layer are in contact with each other.
  • the substrate examples include a metal base material, a base material bonded with a metal, glass, ceramic, and a synthetic resin film.
  • a metal base material a base material bonded with a metal, glass, ceramic, and a synthetic resin film.
  • it is transparent and has good dimensional stability, especially a glass synthetic resin film.
  • the photosensitive pixel layer formed in the layer forming step is exposed to a pattern with a high illuminance of 50 mW / cm 2 or more, developed, and a colored pixel portion formed by applying droplets is formed.
  • Separated barrier rib patterns are formed.
  • the separation barrier separates the colored pixel portions and is generally not black but is not limited to black.
  • organic substances are preferable for coloring.
  • the pattern exposure to the photosensitive resin layer is performed with an illuminance of 50 mWZ cm 2 or more, even in the presence of oxygen, it is possible to cause a polymerization reaction before causing a polymerization inhibition due to oxygen. A high degree of cure can be achieved in time. As a result, it is not necessary to form a nitrogen atmosphere environment while controlling the oxygen partial pressure by purging with nitrogen, for example, during exposure, and it is possible to produce a photosensitive transfer material without providing an oxygen-blocking film. Therefore, a highly cured pattern image can be easily formed in a short time by a simpler process.
  • the exposure can be performed by using a mask provided with a desired pattern and irradiating the photosensitive resin layer with light through the mask.
  • the illuminance is set to 50 mW / cm 2 or more.
  • the illuminance can be adjusted to the above range by increasing the output of the light source, increasing the number of light sources, or reducing the distance between the light source and the object to be exposed.
  • the illumination for obtaining the effects of the present invention preferably the 300 mW / cm 2 or less, particularly preferably 2000 mW / cm 2 or more.
  • the shape of the partition wall is a desired shape, specifically, the upper end surface not contacting the substrate surface of the partition wall provided on the substrate is flat.
  • the corners (edges) that do not contact the partition wall substrate surface cannot be formed into sharp shapes.
  • the upper limit of illuminance can be increased to a desired illuminance unless there is a problem with the apparatus and equipment.
  • a specific cross-sectional shape of the partition wall a preferred embodiment will be described later with reference to FIG.
  • a proximity type exposure machine for example, manufactured by Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co., Ltd.
  • an ultra high pressure mercury lamp can be used.
  • the light source include medium to ultra high pressure mercury lamps, xenon lamps, metal halide lamps, and various lasers. Among these, an embodiment using a laser as a light source is preferable.
  • alkaline substance examples include alkali metal hydroxides (for example, sodium hydroxide, potassium hydroxide), alkali metal carbonates (for example, sodium carbonate, potassium carbonate), alkali metal bicarbonates (for example, Sodium bicarbonate, potassium bicarbonate), alkali metal silicates (eg, sodium silicate, potassium silicate), alkali metal metasilicates (eg, sodium metasilicate, potassium metasilicate), triethanolamine, Examples include jetanolamine, monoethanolamine, morpholine, tetraalkylammonium hydroxides (for example, tetramethylammonium hydroxide), trisodium phosphate, and the like.
  • the concentration of alkaline substance is preferably 0.01 to 30% by mass.
  • the pH is preferably 8 to 14%.
  • water-miscible organic solvent examples include methanol, ethanol, 2-propanol, 1-propanol, butanol, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monomer.
  • Non-butyl ether, benzyl alcohol, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, ⁇ -force prolatatone, ⁇ butyrolatatane, dimethylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphosphoramide, lactate ethyl, methyl lactate, ⁇ And methylpyrrolidone and the like are preferable.
  • the concentration of the water-miscible organic solvent is preferably 0.:! To 30% by mass.
  • the concentration of the surfactant to which a known surfactant may be added is preferably from 0.01 to 10% by mass.
  • the developer may be used as a bath solution or a spray solution.
  • the temperature of the developer is usually preferably from about room temperature to 40 ° C.
  • the development time is usually about 10 seconds to 2 minutes, depending on the composition of the photosensitive resin layer, the alkalinity and temperature of the developer, and the type and concentration when an organic solvent is added. Within this range, a suitably separated partition wall can be obtained. In other words, if the development time is too short, the development of the region to be developed and removed may be insufficient, and at the same time the UV absorbance may be insufficient. is there.
  • the cross-sectional shape of the separation partition (partition pattern) formed on the substrate is as shown in FIG. 1 from the substrate at the highest height of the separation partition 1 from the surface of the substrate 2.
  • the height of h and the line parallel to the substrate at a position 0.8 h from the substrate are the points where L and L are in contact with the separation wall.
  • L is the partition wall from the intersection with L, where L is the tangent line and L is the line parallel to the substrate at the h position.
  • the photosensitive resin layer is polymerized by pattern exposure on the substrate, the amount of exposure attenuates from the surface of the layer toward the substrate due to absorption of the photosensitive resin layer itself, so that a curing reaction occurs on the layer surface.
  • the illuminance at the time of pattern exposure to 5 OmW / cm 2 or more as described above, it is possible to cure before causing polymerization inhibition by oxygen.
  • the curing reaction in the layer can be effectively accelerated. As a result, a partition wall having sharp corners (edges) that are not in contact with the substrate surface can be formed.
  • the height from the substrate at the point where the height of the separation wall from the substrate is the highest is h
  • the height of the separation plate is 0.8 h from the substrate.
  • L is the distance from the intersection as L to the separation wall (distance on the line perpendicular to the tangent L)
  • the value (d / h) obtained by dividing the value d specified by h by h is 0.04 or less. These values can be measured by actually observing the separation wall formed on the substrate by cutting the substrate vertically and exposing the cross section directly with a microscope or the like. In the partition wall formed in this way, the ink droplets applied to the recesses surrounded by the partition wall (the gap for forming the colored pixel portion between the partition walls) are difficult to get over the partition wall. By preventing bleeding and protrusion, color mixing between adjacent pixel patterns, and white spots in the pixel patterns, a hue and a high-quality display and a color filter can be obtained.
  • the d / h value is preferably 0.038 or less, particularly preferably 0.035 or less.
  • the substrate After cleaning the substrate, the substrate is heat treated to stabilize the surface state. Then adjust the board
  • the photosensitive resin composition is applied onto a heated and temperature-controlled substrate. After coating, a part of the solvent in the coating layer is dried to remove the fluidity of the layer, and then pre-betated to obtain a photosensitive resin layer (layer forming step). Before pre-beta, unnecessary coating solution around the substrate may be removed by EBR (edge 'bead' remover).
  • the coating can be performed using a known glass substrate coater (for example, MH-1600 (trade name, manufactured by FSA Asia Co., Ltd.)) having a slit-shaped nozzle.
  • drying can be performed using a known drying apparatus (for example, VCD (vacuum drying apparatus), manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) and the like, and the prebeta should be heated at 120 ° C for 3 minutes, for example. Can do.
  • VCD vacuum drying apparatus
  • the layer thickness of the photosensitive resin layer is as described above.
  • the distance between the mask surface and the photosensitive resin layer is appropriately set.
  • Set for example, 200 xm
  • expose with an illuminance of 50 mW / cm 2 or more in the presence of oxygen.
  • development is performed with a developer to obtain a pattern image, and washing is performed as necessary to obtain a separation wall (pattern formation step).
  • the oxygen partial pressure during exposure can be measured using an oxygen meter (for example, G-102 type (trade name, manufactured by Iijima Electronics Co., Ltd.)).
  • the protective film of the photosensitive transfer material is peeled and removed, the exposed surface of the photosensitive resin layer is superimposed on the substrate surface, passed through a laminator or the like, and heated and / or pressurized to obtain a laminate.
  • the laminator can be appropriately selected from conventionally known laminators, vacuum laminators, and the like, and an auto-cut laminator can also be used from the viewpoint of increasing productivity.
  • the temporary support is peeled off from the laminate.
  • a desired photomask for example, a quartz exposure mask
  • development processing is performed using a predetermined processing solution to obtain a separation wall. At this time, washing is performed as necessary.
  • the developing solution used for the development processing and the light source used for the exposure are the same as the developing solution and the light source used in the coating method.
  • the formed partition wall pattern is further heated (beta) to be cured and the layer forming process and the pattern forming element described above.
  • Other steps such as a step of performing an ink repellent treatment on the partition wall pattern on the substrate (hereinafter referred to as an ink repellent treatment step) may be provided after the coloring pixel portion is formed.
  • the droplets are placed in the recesses between the partition walls. It is preferable to apply and form a plurality of pixels.
  • the ink-repellent treatment is effective when the liquid droplets (ink droplets) of the colored liquid composition protrude over the separation partition or mix with the ink forming the adjacent pixels when applying droplets by the inkjet method or the like. Can be eliminated.
  • the ink repellent treatment is a treatment for repelling the droplets of the colored liquid composition to be applied, and the means is not particularly limited.
  • the means is not particularly limited.
  • an ink repellent treatment (1) a method of kneading an ink repellent substance into a separation wall, (2) a method of newly providing an ink repellent layer, (3) a method of imparting ink repellency by plasma treatment (4) A method of applying an ink repellent material to the upper surface of the wall of the separation wall.
  • an ink repellent treatment it is not limited to this.
  • each ink repellent treatment will be described in detail.
  • the fluororesin (A) has an R f group (a) and an acidic group (b) having a polyfluoroether structure represented by the following formula 1, and has an acid value of 1 to 300 mgK0H / g I prefer something that is.
  • X represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or a fluoro divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms
  • n The contained units (X_ ⁇ ) each represent the same group or different groups.
  • Y is a hydrogen atom (only when a fluorine atom is not bonded to a carbon atom adjacent to the oxygen atom adjacent to Y), a monovalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or 1 to 20 carbon atoms. Represents a fluorinated monovalent saturated hydrocarbon group.
  • n represents an integer of 2 to 50. However, the total number of fluorine atoms in Formula 1 is 2 or more.
  • the X force is a fluoro group except for one hydrogen atom having carbon number:! To 10 or a perfluoro group having 1 to 10 carbon atoms.
  • n units (X_O) each represent the same group or different groups
  • Y is a fluoro group except for one hydrogen atom having 1 to 20 carbon atoms, or It represents a perfluorinated alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.
  • X is a perfluoroalkylene group having 1 to 10 carbon atoms
  • n units (X_O) are Each represents the same or different group
  • Y represents a perfluorinated alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.
  • ⁇ represents an integer of 2 to 50. ⁇ 2 to 30 force S, preferably 2 to 15 force.
  • ⁇ represents an integer of 2 to 50.
  • ⁇ 2 to 30 force S preferably 2 to 15 force.
  • the fluororesin ( ⁇ ) is composed of a monomer having an Rf group (a), a monomer having an acidic group (b), and, if necessary, other monomers.
  • the compatibility of the monomer is improved.
  • the total number of carbon atoms in the Rf group (a) having the polyfluoroether structure represented by the formula 1 is preferably 2 to 50, more preferably 2 to 30.
  • the fluororesin (A) has good ink repellency, particularly organic repellency.
  • the fluororesin (A) is synthesized by copolymerization with a monomer having an Rf group (a), a monomer having an acidic group (b), and, if necessary, other monomers. In some cases, the compatibility of the monomer is good.
  • X examples include -CF-, _CF CF_, -CF CF CF-, _CF CF (
  • Y include -CF, -CF CF, -CF CHF,-(CF) CF,-(C
  • Rf group (a) having a polyfluoroether structure represented by the formula 1 an Rf group (a) represented by the following formula 2 can be mentioned. -CF -O- (CF -O) -CF ... Formula 2
  • p represents an integer of 2 or 3
  • n_l units (C F _ ⁇ ) are the same.
  • Rf group (a) represented by the formula 2 specifically, _CF ⁇ (CFCFO) CF is
  • _CF (CF) 0 (CF CF (CF) 0) C F (n is 2 to 6)
  • Rf groups (a) in the fluororesin (A) may all be the same or different.
  • the fluorine atom content in the fluororesin (A) is preferably 1 to 60%, more preferably 5 to 40%. Within this range, the fluororesin (A) has good ink repellency and good developability when developing the photosensitive resin composition.
  • the fluororesin (A) has an acidic group (b), and the acidic group (b) is at least one acidic group selected from the group consisting of a carboxyl group, a phenolic hydroxyl group, and a sulfonic acid group. A group or a salt thereof is preferred.
  • the acid value of the fluororesin (A) is preferably:! To 300 mg KH / g, more preferably 5 to 200 mg KOH / g, more preferably 10 to 150 mg KH / g. . Within the above range, the developability when developing the photosensitive resin composition becomes good.
  • the acid value is the mass (unit: mg) of potassium hydroxide required to neutralize the resin lg. In this specification, the unit is “mg KOH / gj”.
  • the number average molecular weight of the fluororesin (A) is preferably 500 or more and less than 20000, more preferably 2000 or more and less than 15000. Within this range, the developability when developing the photosensitive resin composition is good.
  • the number average molecular weight is measured using polystyrene as a standard substance by gel permeation chromatography.
  • the fluororesin (A) comprises a structural unit derived from a monomer having an ethylenic double bond and the Rf group (a), an ethylenic double bond and the acidic group (b).
  • Examples of the ethylenic double bond include a (meth) ataryloyl group, a bur group, and a allyl group.
  • CH 0 ⁇ 0
  • R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • Q 1 represents a single bond or a divalent organic group having 16 carbon atoms
  • Q 2 represents a divalent organic group having 16 carbon atoms.
  • Q 1 and Q 2 may have a cyclic structure.
  • Q 1 and Q 2 are as follows: -CH- -CH CH- -CH (CH
  • H 2 —CH 2 CH ( ⁇ H) CH— is preferred.
  • the proportion of the structural unit derived from the monomer having the ethylenic double bond and the Rf group (a) in the fluororesin (A) is preferably:! To 95 mol%. 80 mol% is more preferred 20 60 mol% is more preferred. Within such a range, the fluorine-containing resin has good ink repellency and good developability when developing the photosensitive resin composition.
  • Examples of the monomer having an acidic group (b) include a monomer having a carboxyl group. , A monomer having a phenolic hydroxyl group, and a monomer having a sulfonic acid group.
  • Examples of the monomer having a carboxynole group include acrylic acid, methacryloleic acid, vinyl acetate, crotonic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, quinamic acid, and salts thereof. It is done. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
  • Examples of the monomer having a phenolic hydroxyl group include o-hydroxystyrene, m-hydroxystyrene, and p-hydroxystyrene.
  • one or more hydrogen atoms of these benzene rings are an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group or an n_butyl group, an alkoxy group such as a methoxy group, an ethoxy group or an n-butoxy group, a halogen atom or an alkyl group.
  • Examples of the monomer having a sulfonic acid group include vinyl sulfonic acid, styrene sulfonic acid, (meth) aryl sulfonic acid, 2 hydroxy-3- (meth) aryloxy propane sulfonic acid, (meta ) Acrylic acid 2-sulfoethyl, (meth) acrylic acid 2-sulfopropyl, 2-hydroxy-1-3- (meth) talyloxypropane sulfonic acid, 2- (meth) acrylamido 2-methylpropanesulfonic acid, or salts thereof Etc. These may be used alone or in combination of two or more.
  • the amount of the structural unit derived from a monomer having an acidic group (b) is 0:.! ⁇ 40 Monore 0/0, etc. force preferably, 0.5 to 30 Monore 0/0 preferably than the force,:! ⁇ 20 Monore 0/0 force S further preferred.
  • the fluorinated resin has good ink repellency and good developability when developing the photosensitive resin composition.
  • the fluorine-containing resin is derived from a structural unit derived from a monomer having an ethylenic double bond and an Rf group (a) and from a monomer having an ethylenic double bond and an acidic group (b).
  • a structural unit derived from a monomer having no Rf group (a) and an acidic group (b) hereinafter referred to as “other monomer”. You may have.
  • Other monomers include, for example, hydrocarbon-based olefins, butyl ethers, isopropenyl ethers, allylic ethers, butyl esters, allylic esters, (meth) acrylic acid esters, (meth) acrylamides.
  • Aromatic vinyl compounds, chloroformes, fluoro Examples include olefins and conjugated gens. These compounds contain a functional group, and examples of the functional group include a hydroxyl group, a carbonyl group, an alkoxy group, and an amide group. Moreover, you may have group which has a polysiloxane structure. However, the structural units derived from other monomers do not have Rf group (a) and acidic group (b). Other monomers may be used alone or in combination of two or more.
  • (meth) acrylic acid esters and (meth) acrylamides are preferred in terms of improving the heat resistance of the film formed using the photosensitive resin composition.
  • the proportion of the structural unit derived from the other monomer in the fluororesin is preferably 80% mol or less, more preferably 70 mol% or less. Within this range, the developability when developing the photosensitive resin composition will be good.
  • the fluorine-containing resin includes a structural unit derived from the monomer having the ethylenic double bond and Rf group (a) and a monomer having the ethylenic double bond and acidic group (b).
  • various types of reacting a compound having a reactive site with a compound having an Rf group (a) and / or a compound having an acidic group (b) It can also be obtained by a denaturing method.
  • Specific examples of the monomer having an epoxy group include glycidyl (meth) acrylate, 3
  • Examples of the compound having an Rf group (a) and a carboxyleno group include compounds represented by the following formula 3.
  • p is an integer of 2 or 3
  • q is an integer of:! -20
  • n is an integer of 2-50.
  • Examples of the compound having the Rf group (a) and the hydroxyl group include compounds represented by the following formula 4. HOCH -CF -0- (CF -O) One CF... Formula 4
  • p is an integer of 2 or 3
  • q is an integer of! -20
  • n is an integer of 2-50.
  • Examples of various modification methods for reacting a polymer having a reactive site with a compound having an acidic group (b) include a method in which a monomer having a hydroxyl group is copolymerized in advance and then an acid anhydride is reacted. Can be mentioned. In addition, there may be mentioned a method in which an acid anhydride having an ethylenic double bond is copolymerized in advance and a compound having a hydroxyl group is reacted later.
  • the monomer having a hydroxyl group examples include butylphenol, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 5-hydroxypentyl (meth) acrylate, 6-hydroxy hexyl (meth) acrylate, 4-hydroxy cyclohexyl (meth) acrylate, neopentyl glycol mono (meta ) Atalylate, 3—Black mouth 2 Shetyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, Cyclohexanediol monovinyl ether, 2-hydroxyethylaryl ether, N-hydroxymethyl (meth) acrylamide, N, N-bis (Hydroxymethyl) and the like.
  • the monomer having a hydroxyl group may be a monomer having a polyoxyalkylene chain having a terminal hydroxyl group.
  • CH CH ⁇ CH C H CH 0 (C H ⁇ )
  • acid anhydride examples include phthalic anhydride, 3-methylphthalic anhydride, trimellitic anhydride, and the like.
  • acid anhydride having an ethylenic double bond examples include maleic anhydride, anhydrous itaconic acid, citraconic anhydride, anhydrous methyl _ 5_norbornene _ 2,3-dicarboxylic acid, anhydrous 3, 4, 5, 6-tetrahydrophthalic anhydride, cis- 1, 2, 3, 6-tetrahydrophthalic anhydride Acid, 2-butene and 1-yl succinic anhydride.
  • the compound having a hydroxyl group a compound having one or more hydroxyl groups, specific examples of the above-mentioned monomer having a hydroxyl group, ethanol, 1-propanol, 2-propanol 1-butanol, ethylene glycol and other alcohols, 2-methoxyethanol, 2_ethoxyethanol, 2_butoxyethanol and other cellsolves, 2_ (2-methoxyethoxy) ethanol, 2_ (2-ethoxyethoxy) Examples thereof include carbitols such as ethanol and 2- (2-butoxyethoxy) ethanol.
  • a compound having; L hydroxyl groups in the molecule is preferred. These may be used alone or in combination of two or more.
  • the polymer having the above-mentioned reaction site serving as a fluorine-containing resin or a precursor of the fluorine-containing resin is dissolved in a solvent together with a chain transfer agent as necessary and heated, and a polymerization initiator is added. Can be synthesized by the reaction method.
  • the amount of the fluorine-containing resin (A) in the photosensitive resin composition is preferably from 0.01 to 50% by mass based on the solid content of the composition. More preferable 0.2 to 10% by mass is particularly preferable. Within such a range, the photosensitive resin composition exhibits good ink repellency and ink tumbling properties and good developability during development.
  • a partition wall (hereinafter referred to as “ink-repellent layer”) having ink repellency is formed on at least an upper part of a separation partition formed on the substrate.
  • a silicone rubber layer is preferably used as the partition wall having ink repellency.
  • the silicone rubber layer is provided on the surface layer of the separating partition and needs to have a repulsive effect on the solution and ink used for coloring.
  • the silicone rubber layer is not particularly limited.
  • a layer composed mainly of a linear organic polysiloxane having a molecular weight of several thousands to several hundreds of thousands having the following repeating units is preferable.
  • n represents an integer of 2 or more
  • R represents an alkyl group, an alkenyl group, or a phenol group having 1 to 10 carbon atoms.
  • Silicone rubber is obtained by sparsely cross-linking such a linear organic polysiloxane.
  • the crosslinking agent responsible for crosslinking include acetoxysilane, ketoxime silane, alkoxysilane, aminosilane, amidosilane, alkenoxysilane, and the like, which are used in so-called room temperature (low temperature) curable silicone rubber.
  • room temperature (low temperature) curable silicone rubber In combination with a siloxane having a terminal hydroxyl group, it becomes a deacetic acid type, a deoxime type, a dealcohol type, a deamine type, a deamid type, or a deketone type silicone rubber.
  • a small amount of an organic tin compound is generally added to the silicone rubber as a catalyst.
  • various types of adhesive layers may be used at the interface portion for adhesion between the partition wall and the silicone rubber layer, and in particular, aminosilane compounds and organic titanate H compounds are preferably used. be able to.
  • an adhesive component can be added to the silicone rubber layer.
  • an aminosilane compound or an organic titanate compound can be used.
  • the exposure for producing the partition wall is performed from the substrate separation surface non-forming surface side (back side) of the substrate using the separation partition as a mask, and further, the irradiated UV light is scattered to transmit the incident light to the transmission portion.
  • the size of the resin is made to act on the photosensitive resin so that the portion of the resin that is solubilized by photoreaction becomes larger on the silicone rubber layer side.
  • an ink repellency treatment using plasma is performed on a separation wall formed on a substrate.
  • Gases containing at least fluorine atoms introduced during plasma treatment include CF, C
  • halogen gas selected from HF, C F, SF, C F, and C F
  • C F octafluorocyclopentene
  • the atmospheric lifetime is 0.9 compared to the conventional gas (CF: 50,000 years, ⁇ ?: 3200 years).
  • a gas such as oxygen, argon, or helium may be used in combination as necessary.
  • CF, CHF, C F, SF, C F, and C F are selected.
  • the mixing ratio of 0 within the range of 30% or less when using the mixed gas.
  • a method of applying a material having ink repellency (hereinafter also referred to as an ink repellent material) to the surface of a substrate and a partition wall formed on the substrate.
  • Examples of the material having ink repellency include fluororesins such as polytetrafluoroethylene, silicone rubber, perfluoroalkyl acrylate, hydrocarbon acrylate, and methylsiloxane.
  • fluororesins such as polytetrafluoroethylene, silicone rubber, perfluoroalkyl acrylate, hydrocarbon acrylate, and methylsiloxane.
  • those generally considered as ink repellent materials those having a contact angle of 60 ° or more with respect to the colored liquid composition can be suitably used without particular limitation.
  • the ink repellent material can be applied by dissolving or dispersing the ink repellent material as it is in a solvent.
  • a coating method any method that does not affect the substrate, the separation wall, etc. may be used.
  • the optimum method for each material can be selected from slit coating, spin coating, dip coating, roll coating, etc. .
  • the UV repellent material other than the separation wall is removed by performing UV'O treatment through the separation wall from the separation wall non-formation surface side (back side) of the substrate on which the separation wall is formed.
  • the ink-repellent treatment can be carried out by removing or hydrophilizing treatment (so that the contact angle with the colorant has a difference of 30 ° or more before and after the treatment).
  • the patterning method is optimal depending on the material, such as dry treatment such as laser abrasion, plasma ashing, corona discharge treatment, and alkali wet or wet treatment. It is possible to select the method.
  • ink repellent treatments (1) to (4) from the viewpoint that the process is simple, (3) a method of imparting ink repellency by plasma treatment is particularly preferred.
  • the color filter partition wall-attached substrate of the present invention is produced by the above-described method for manufacturing a color filter partition wall of the present invention, and a photosensitive resin layer configured as described above is applied to the substrate at 50 mW / It has a partition wall formed by pattern exposure with illuminance of cm 2 or more.
  • a colored pixel portion was formed by applying droplets of ink (for example, by an ink jet method). This is effective in constructing a color filter capable of effectively suppressing the protrusion of the ink from the separation wall and the color mixture between adjacent patterns and displaying a display quality image with good hue.
  • the color filter partition walls are formed as described above, and more preferably by a transfer method.
  • each component which comprises the photosensitive resin layer is as above-mentioned, A preferable aspect is also the same.
  • the height and optical density of the color filter partition walls are as described above.
  • the color filter for a display element of the present invention is configured by providing the above-described substrate with a partition wall for a color filter according to the present invention and a colored pixel portion, and the colored pixel portion is a partition wall of the substrate with a partition wall for a color filter. It was formed by applying droplets to the recesses between them by an ink jet method. Since the color filter partition wall according to the present invention is provided, the hue of ink-ink-applied ink protrusion and color mixture is good, and display quality image display is possible.
  • the colored pixel portion is formed as described above in order to form two or more color pixels (for example, RGB three-color pixel pattern) in the recesses surrounded by the separation walls formed on the substrate as described above.
  • the liquid composition can be infiltrated by applying droplets to form a plurality of pixels of two or more colors.
  • a known method such as an ink jet method or a stripe geese coating method can be used, and an inkjet method is preferred in terms of cost. .
  • the means for fixing the shape of the partition wall before forming each pixel but 1) development and re-exposure 2) after development, heating at a relatively low temperature
  • the heat treatment can be performed by heating the substrate having the separation wall in an electric furnace, a dryer, or irradiating an infrared lamp.
  • the heating temperature in the case of 2) is 50 to 250 ° C., preferably about 70 to 200 ° C., and the heating time is about 10 to 150 minutes.
  • the partition wall can be cured well, and it is effective for forming the partition wall having a desired shape.
  • a method of thermally curing the ink, a method of photocuring, or a method of ejecting after forming a transparent image receiving layer on the substrate in advance For example, a known method can be used.
  • a heating step of performing heat treatment is provided after the colored pixel portion is formed. That is, the substrate on which the colored pixel portion is formed is heated using an electric furnace, a dryer or the like, or is irradiated with light using an infrared lamp or the like.
  • the heating temperature and time depend on the composition of the photosensitive resin composition and the thickness of the formed colored pixel portion, but are generally about 120 from the viewpoint of obtaining sufficient solvent resistance, alkali resistance, and ultraviolet absorbance. It is preferred to heat at about ° C to about 250 ° C for about 10 minutes to about 120 minutes.
  • the shape of the color filter pattern is not particularly limited, as shown in Fig. 2, regardless of whether it is a general black matrix shape such as a stripe shape, a lattice shape, or a delta arrangement. It may be a shape.
  • an inkjet method a method in which charged ink is continuously ejected and controlled by an electric field, a method in which ink is ejected intermittently using a piezoelectric element, and a method in which ink is heated and ejected intermittently using its foaming Various methods can be employed.
  • the ink used may be either oily or aqueous.
  • a coloring material in the ink both a dye and a pigment can be used, and a pigment is preferable from the viewpoint of durability.
  • a coating-type colored ink for example, the colored resin composition described in paragraph Nos. [0034] to [0063] of JP-A-2005-3861, which is used for producing a known color filter,
  • the inkjet composition described in paragraph Nos. [0009] to [0026] of JP-A No. 10-195358 can also be used.
  • a component that is cured by heating or cured by an energy line such as ultraviolet rays can be added to the ink.
  • the component that is cured by heating include various thermosetting resins, and examples of the component that is cured by energy rays include those obtained by adding a photoinitiator to an attalylate derivative or a metatalylate derivative.
  • a photoinitiator to an attalylate derivative or a metatalylate derivative.
  • those having a plurality of attalyloyl groups and methacryloyl groups in the molecule are more preferable.
  • These attalylate derivatives and metatalylate derivatives are water-soluble. Even those that are sparingly soluble in water can be used by emulsifying them.
  • the photosensitive resin composition comprised using coloring materials, such as an already described pigment, can be used conveniently.
  • thermosetting ink for forming a color filter containing at least a binder and a bifunctional or trifunctional epoxy group-containing monomer is also suitable.
  • the color filter according to the present invention preferably has a configuration constituted by a group of three color pixel portions by spraying RGB three colors of ink.
  • an overcoat layer can be provided on the entire surface of the colored pixel portion and the separation partition wall for the purpose of improving the durability.
  • the overcoat layer can protect the colored pixel parts such as R, G, and B and the separating partition and can flatten the surface. However, it is preferable not to provide it from the viewpoint of increasing the number of processes.
  • the overcoat layer can be formed using a resin (oc si
  • the overcoat layer include those described in paragraphs [0018] to [0028] of JP-A-2003-28718, and OPTOMA 1 SS6699G (trade name) manufactured by JSR as a commercially available overcoat agent. ).
  • the color filter for display element of the present invention can be suitably applied without particular limitation to applications such as televisions, personal computers, liquid crystal projectors, portable terminals such as game machines and mobile phones, digital cameras, and car navigation systems.
  • the display device of the present invention is provided with the color filter for display elements of the present invention, and has a color filter partition wall produced by the method for manufacturing a color filter partition wall of the present invention described above. . Since it has a partition wall for color filters, it can display images with good hue and display quality.
  • the display device of the present invention includes a display device such as a liquid crystal display device, a plasma display device, an EL display device, a CRT display device, and the like.
  • a display device such as a liquid crystal display device, a plasma display device, an EL display device, a CRT display device, and the like.
  • the above liquid crystal display device is described in, for example, “Next Generation Liquid Crystal Display Technology” (edited by Tatsuo Uchida, Kogyo Kenkyukai, 1994). There are no particular restrictions on the form of the liquid crystal display device.
  • the liquid crystal display device can be configured in various types of liquid crystal display devices described in the “next-generation liquid crystal display technology”.
  • color TFT liquid crystal display devices are described in, for example, “Color TFT Liquid Crystal Display” (Kyoritsu Publishing Co., Ltd., issued in 1996).
  • the liquid crystal display element of the present invention can also be configured in a liquid crystal display device with a wide viewing angle, such as a horizontal electric field driving method such as IPS and a pixel division method such as MVA. These methods are described, for example, on page 43 of “EL, PDP, LCD display technology and the latest trends in the market” (Toray Research Center, Research Division, 2001).
  • the liquid crystal display device can be configured using various known members such as an electrode substrate, a polarizing film, a retardation film, a knocklight, a spacer, and a viewing angle compensation film.
  • the above-described substrate with a partition wall for color filter and the color filter for liquid crystal display element of the present invention can be applied to a liquid crystal display device composed of these known members.
  • K pigment dispersion 1 and propylene glycol monomethyl ether acetate in the amounts shown in Table 1 below are weighed, mixed at a temperature of 24 ° C ( ⁇ 2 ° C), and stirred at 150 rpm for 10 minutes.
  • methylethyl ketone, binder 2, hydroquinone monomethyl ether, DPHA solution, 2,4-bis (trichloromethyl) 6- [4- (N, N-diethoxycarbonylmethyl) amino in the amounts shown in Table 1 ⁇ 3-Bromophenyl] -s-triazine and surfactant 1 are weighed out and added in this order at a temperature of 25 ° C ( ⁇ 2.C), and a temperature of 40 is reached.
  • By stirring for 30 minutes at 1 50 r .pm with C ( ⁇ 2.C) was prepared dark composition K1.
  • composition of the binder 2 is shown below.
  • composition of surfactant 1 is shown below.
  • glass substrate An alkali-free glass substrate (hereinafter simply referred to as “glass substrate”) was cleaned with a UV cleaning device, then brush-cleaned with a cleaning agent, and further ultrasonically cleaned with ultrapure water. Thereafter, the glass substrate was heat treated at 120 ° C for 3 minutes to stabilize the surface state.
  • the temperature was adjusted to 23 ° C, and the glass substrate coater with a slit-like nozzle (trade name: MH-1600, manufactured by FS Asia Co., Ltd.)
  • the deep color composition K1 obtained was applied.
  • a vacuum dryer (VCD) manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
  • part of the solvent was dried for 30 seconds to eliminate the fluidity of the coating layer, and then pre-betaged at 120 ° C for 3 minutes to form a membrane.
  • a dark photosensitive layer K1 having a thickness of 1.8 zm was formed.
  • KOH developer trade name: CDK-l (KOH, nonionic interface) (Activator-containing), Fuji Film Electronics Materials Co., Ltd.
  • KOH developer trade name: CDK-l (KOH, nonionic interface) (Activator-containing), Fuji Film Electronics Materials Co., Ltd.
  • 100-fold diluted solution was shower-developed at 23 ° C for 80 seconds with a flat nozzle pressure of 0.04 MPa to obtain a pattern image.
  • ultrapure water was sprayed at a pressure of 9.8 MPa with an ultra-high pressure cleaning nozzle and the residue was removed.
  • post-exposure was performed at an exposure amount of 2,000 mj / cm 2 to form a separation wall having an optical density of 3.5.
  • a pigment C.I. Pigment 'Red 254
  • a polymer dispersant trade name: Sonores Perth 24000, manufactured by AVECIA
  • a solvent ethyl ethoxypropionate
  • a pigment dispersion was prepared using a three roll and bead mill. While sufficiently stirring this pigment dispersion with a dissolver, etc., add glycidyl metallate Z styrene copolymer, first epoxy resin, second epoxy resin, and trimellitic acid little by little.
  • a colored ink for pixels was prepared.
  • Second epoxy resin neopentyldaricol diglycidyl ether
  • the obtained color filter substrate was evaluated by an optical microscope for the protruding, mixed color, and presence / absence of white spots in each pixel pattern applied by ink jet. It fits perfectly in the recess, and no protrusion or bleeding, color mixing between adjacent pixel patterns, or white spots in the pattern were not observed.
  • the R pixel, the G pixel, and the B pixel that form the obtained color filter substrate and the separation were formed on the partition wall by sputtering to form a transparent electrode.
  • an ITO (Indium Tin Oxide) film was formed on the partition wall by sputtering to form a transparent electrode.
  • a glass substrate was prepared as a counter substrate, and was patterned using an etching resist for the PVA mode on the transparent electrode and the counter substrate of the color filter substrate, respectively.
  • a photo spacer was provided on the transparent electrode (coating) of the color filter substrate above the separation wall, and a alignment film made of polyimide was further provided thereon.
  • an epoxy resin sealant is printed on the outer frame so as to surround the entire RGB 3 color pixel pattern on the color filter substrate, and a PVA mode liquid crystal is dropped and bonded to the counter substrate, and then bonded. Both substrates were heat treated to cure the sealant, and a liquid crystal cell was produced.
  • a polarizing plate (trade name: HLC2-2518, manufactured by Sanritz Co., Ltd.) was attached to the substrate surfaces on both sides of the produced liquid crystal cell.
  • a backlight was constructed using a cold cathode tube, and the backlight was placed on the side of the liquid crystal cell provided with the polarizing plate, whereby a liquid crystal display device was obtained.
  • Example 1 except that the exposure illuminance was changed to 300 mWZcm 2 , a separation wall was formed, a color filter substrate was produced, and a liquid crystal display element was produced in the same manner as in Example 1.
  • Example 1 a partition wall with high flatness on the upper end surface could be formed.
  • the obtained color filter substrate was evaluated in the same manner as in Example 1 for the protrusion, color mixture, and presence or absence of white spots in each pixel pattern applied by inkjet, and the color ink of each color was separated. It fits perfectly in the recesses between the barrier ribs, and no protrusion or bleeding, color mixing between adjacent pixel patterns, or occurrence of white spots in the pattern is observed. I got it.
  • the resistance value of the transparent electrode (ITO film) measured in the same manner as in Example 1 was 11 ⁇ well, indicating a low value. This is thought to be due to the improved flatness of the top surface of the separation wall.
  • Example 1 except that the proximity type exposure machine equipped with an ultra-high pressure mercury lamp was replaced with a scanning type exposure machine equipped with a laser light source, a separation barrier was formed and a color filter was formed. A substrate was produced to produce a liquid crystal display element. The exposure illuminance at this time was 2200 mW / cm 2 when the illuminometer was installed at the exposure focal point and measured in advance.
  • Example 1 a partition wall with high flatness on the upper end surface could be formed.
  • the obtained color filter substrate was evaluated in the same manner as in Example 1 for the protrusion, color mixture, and presence or absence of white spots in each pixel pattern applied by inkjet, and the color ink of each color was separated. It fits exactly in the recesses between the barrier ribs, and no protrusion or bleeding, color mixing between adjacent pixel patterns, or white spots in the patterns were not observed.
  • the resistance value of the transparent electrode (ITO film) measured in the same manner as in Example 1 was 8 ⁇ / port, indicating a low value. This is considered to be due to the improved flatness of the upper end surface of the partition wall.
  • thermoplastic resin layer having the following formulation HI is applied and dried to make a thermoplastic resin.
  • a layer was formed.
  • an intermediate layer coating solution having the following formulation P1 was further applied onto the thermoplastic resin layer and dried to laminate the intermediate layer.
  • the dark color composition K1 prepared in Example 1 was applied on the intermediate layer and dried to further laminate a black dark color light-sensitive layer.
  • thermoplastic resin layer having a dry film thickness of 14.6 ⁇ m on the PET temporary support An intermediate layer with a dry film thickness of 1 and a dark photosensitive layer with a dry film thickness of 2 xm are provided, and a protective film (polypropylene film with a thickness of 12 xm) is pressure-bonded to the surface of the dark color photosensitive layer to provide a temporary support.
  • a protective film polypropylene film with a thickness of 12 xm
  • a non-alkali glass substrate (hereinafter simply referred to as “glass substrate”) is washed with a rotating brush with nylon hair while spraying a glass cleaning solution adjusted to 25 ° C. for 20 seconds with a shower.
  • Silane coupling solution N- ⁇ (aminoethyl) ⁇ -aminopropyltrimethoxysilane 0.3 mass% aqueous solution, trade name: ⁇ 603, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. ) was sprayed for 20 seconds in a shower and washed with pure water. Thereafter, this substrate was heated at 100 ° C. for 2 minutes with a substrate preheating device.
  • the protective film is peeled off from the dark photosensitive transfer material K1 obtained above from the glass substrate after the silane coupling treatment, and the surface of the dark photosensitive layer exposed after the removal and the surface of the glass substrate are removed.
  • a laminator (trade name: Lamidl type, manufactured by Hitachi Industries, Ltd.)
  • the rubber roller temperature is 130 ° C
  • the linear pressure is 100 N / cm
  • the conveyance speed is 2.2 mZ. And laminated.
  • the PET temporary support was peeled off at the interface with the thermoplastic resin layer, and the temporary support was removed.
  • peeling off the temporary support use a proximity-type exposure machine equipped with an ultra-high pressure mercury lamp. With the substrate and mask (quartz exposure mask with image pattern) standing vertically, the mask surface and dark color The distance to the photosensitive layer was set to 200 ⁇ m, and pattern exposure was performed with an exposure dose of 70 mj / cm 2 .
  • the illuminance meter was installed at the exposure focal point and the exposure illuminance was measured in advance, it was measured at 6 OmW / cm.
  • KOH-based developer trade name: CDK-1 (KOH, containing nonionic surfactant), manufactured by Fuji Film Electronics Materials Co., Ltd.
  • CDK-1 KOH, containing nonionic surfactant
  • the unexposed portion, the intermediate layer, and the thermoplastic resin layer of the dark photosensitive layer were developed and removed to obtain a black pattern on the glass substrate.
  • the entire surface of the glass substrate was post-exposed at 2 OOOmj / cm 2 from the side of the glass substrate where the separation wall was formed in the air to form a separation wall with an optical density of 3.6.
  • Fluorosurfactant (trade name: Florard FC_430, manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.) 0.5% by mass (solid content of the following photosensitive resin)
  • an alkali-soluble photosensitive resin (positive photoresist, trade name: AZP4210, manufactured by Hoechst Syapan Co., Ltd.) with a slit-shaped nozzle so that the film thickness is 2 zm is added.
  • spaced walls of the glass substrate is formed les, a record, through the separation wall at the exposure amount of the side (back surface side) from 110mj / cm 2 (38mW / cm 2 X 2. 9 seconds) exposure.
  • the surface energy between the pixel formation region and the separation partition after the formation of the water repellent resin layer is 10 to 15 dyne / cm at the separation partition (on the water repellent resin layer), and 55 dyne / cm at the pixel formation region (on the glass substrate). cm later.
  • the obtained color filter substrate was evaluated in the same manner as in Example 1 for the protruding, mixed color, and presence or absence of white spots in each pixel pattern applied by inkjet, and the colored ink of each color was separated. It fits exactly in the recesses between the barrier ribs, and no protrusion or bleeding, color mixing between adjacent pixel patterns, or white spots in the patterns were not observed. Furthermore, the resistance value of the transparent electrode (ITO film) measured in the same manner as in Example 1 was 9 ⁇ / port, indicating a low value. This is thought to be due to the improved flatness of the upper end surface of the separation wall.
  • Example 4 a separation wall was formed in the same manner as in Example 4 except that the dark color photosensitive transfer material prepared in the same manner except that no intermediate layer was provided, and a power filter substrate was formed. And a liquid crystal display element was produced.
  • Example 1 except that the exposure illuminance was changed to 40 mWZ cm 2 , a separation wall was formed, a color filter substrate was produced, and a liquid crystal display device was produced in the same manner as in Example 1. At this time, the optical density of the formed partition wall was 3.6.
  • the formed partition wall was observed in the same manner as in Example 1.
  • h l. 7 ⁇
  • d 0.14 xm
  • dZh 0.082. It was.
  • the results are shown in Table 2 below.
  • the obtained color filter substrate was evaluated in the same manner as in Example 1 for the protrusion, color mixture, and presence or absence of white spots in each pixel pattern applied to each ink-jet ink. As a result, color mixture occurred between adjacent pixel patterns.
  • the resistance value of the transparent electrode (ITO film) measured in the same manner as in Example 1 was 22 ⁇ / port, and the flatness of the upper end surface of the separation wall was not so high.
  • the partition wall formed in a rectangular cross section does not contact the substrate. This prevents ink that has been smudged and smudged with sharp corners (edges) and high flatness at the top surface, color mixing between P-contact pixel patterns, and white spots in the pattern. did it.
  • the corners (edges) that do not come into contact with the substrate in the separation wall are rounded, the ink sticks out, bleeds, and is mixed, and white spots in the pattern also occur. Oops.

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Abstract

　本発明は、基板の少なくとも一方に、少なくともラジカル重合性モノマーと光重合開始剤とバインダーと色材とを含む感光性樹脂層を形成する工程、及び　液滴を付与して形成される着色画素部を離隔する隔壁パターンを形成するために、該感光性樹脂層を５０ｍＷ／ｃｍ2以上の照度でパターン状に露光し、現像する工程を有する、カラーフィルタ用隔壁の製造方法を提供する。また本発明は、該カラーフィルタ用隔壁を備える基板、該基板及び着色画素部を備える表示素子用カラーフィルタとその製造方法、及び、該表示素子用カラーフィルタを備える表示装置とその製造方法を提供する。

Description

明 細 書
カラーフィルタ用隔壁の製造方法、カラーフィルタ用隔壁付基板、表示素 子用カラーフィルタ、及び表示装置
技術分野
[0001] 本発明は、カラーフィルタ用隔壁の製造方法、カラーフィルタ用隔壁付基板、表示 素子用カラーフィルタ、及び表示装置に関し、詳しくは、露光によりパターン形成を行 なうカラーフィルタ用隔壁の製造方法、並びにこれを用いて得られたカラーフィルタ 用隔壁付基板、液晶表示素子用カラーフィルタ、及び液晶表示装置に関する。 背景技術
[0002] 表示装置用カラーフィルタは、例えば、ガラス等の基板上に赤色 (R)、緑色（G)、 青色（B)等のドット状画像をマトリックス状に配置し、ドット状に設けられた画像と画像 との間をブラックマトリックス等の離隔壁で隔離した構造を有している。
[0003] カラーフィルタを作製する方法には、従来から、（1)染色法、 （2)印刷法、（3)着色し た感光性樹脂液の塗布、露光、及び現像して着色されたパターン像を形成する方法 (着色レジスト法;例えば、特許文献 1参照）、 （4)仮支持体上に形成されたパターン 画像を順次、最終もしくは仮の基材上に転写する方法、（5)着色した感光性樹脂液 を予め仮支持体上に塗布等して感光性着色層を形成しておき、この感光性着色層 を最終もしくは仮の基材上に直接転写し、露光し、現像して着色されたパターン像を 形成する方法 (転写法）が知られている (例えば、特許文献 2参照）。また、インクジェ ット法を用いる方法 (例えば、特許文献 3参照)も知られている。
[0004] これらの方法のうち、前記着色レジスト法は、位置精度高くカラーフィルタを作製で きる力 感光層樹脂液の塗布にロスが多ぐコスト的には有利とはいえない。また、前 記インクジェット法によるのみでは、樹脂液のロスが少なくコスト的に有利であるものの 、位置精度のよい画素が得られにくい傾向がある。
[0005] 上記に対応して、ブラックマトリックスを着色レジスト法で形成し、その後に RGB等 の着色パターン (画素）をインクジェット法を利用して形成する方法が提案されている 。ところが、形成されたブラックマトリックスの断面形状のうち、基材上方の基板面から 離れた上端やそのエッジ部が、現像後の製造過程で丸くなだらかな形状に変化しや すぐ後に各色のインクがブラックマトリックス間に打滴された場合に先行して形成さ れたブラックマトリックスをのり越え、隣接する画素間で混色を起こしてしまい、混色を 起したときには表示品位は低下する。
[0006] このような現象に関連して、ブラックマトリックスと付与されたインクとの間で互いに弾 き合う性質を持たせる方法、及び、ブラックマトリックスで取り囲まれた領域のインク濡 れ性を高める方法に関する開示がある（例えば、特許文献 4〜6参照）。
特許文献 1：特開平 1 152449号公報
特許文献 2 :特開昭 61— 99102号公報
特許文献 3：特開平 8— 227012号公報
特許文献 4：特開平 6— 347637号公報
特許文献 5 :特開平 7— 35915号公報
特許文献 6：特開平 10— 142418号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0007] し力しながら、上記した従来の方法では、特殊な素材が必要であり、あるいはブラッ クマトリックスで囲まれた領域の表面エネルギーを高めるための表面改質処理が必要 であり、コスト的に課題があるほか、混色とは別に生じる表示品位の低下、特に白表 示、黒表示のときに赤みがかかった表示となってしまう不具合もある。
[0008] 本発明は、上記に鑑みなされたものである。基板面と非接触な角部（エッジ）が鮮鋭 な隔壁を形成することができるカラーフィルタ用隔壁の製造方法及びこれにより得ら れたカラーフィルタ用隔壁付基板、並びに混色がなく色相が良好で高い表示品位の 液晶表示素子用カラーフィルタ及び液晶表示装置を提供する。
課題を解決するための手段
[0009] すなわち、本発明は、（1 )基板の少なくとも一方に、少なくともラジカル重合性モノ マーと光重合開始剤とバインダーと色材とを含む感光性樹脂層を形成する工程;及 び 液滴を付与して形成される着色画素部を離隔する隔壁パターンを形成するため に、該感光性樹脂層を 50mW/cm2以上の照度でパターン状に露光し、現像するェ 程を含む、カラーフィルタ用隔壁の製造方法を提供する。
ある好適な態様（2)において、前記製造方法は、前記露光に用いる光源が、レー ザ一光であることを特徴とする。
さらに好適な態様（3)において、前記製造方法（1)及び（2)は、前記隔壁パターン の少なくとも一部に撥インク性を付与する撥インク処理工程を更に含む。
さらに好適な態様 (4)において、前記製造方法（1)〜（3)は、前記撥インク処理工 程力 プラズマ処理であることを特徴とする。
また、本発明は、 （5)前記（1)〜（4)の製造方法により隔壁パターンを形成して作 製されたカラーフィルタ用隔壁付基板を提供する。
また、本発明は、 （6)前記（5)のカラーフィルタ用隔壁付基板と、前記カラーフィル タ用隔壁付基板の隔壁間の凹部にインクジェット法により液滴を付与して形成された 着色画素部と、を有する表示素子用カラーフィルタを提供する。
さらに、本発明は、（7)前記（6)の表示素子用カラーフィルタを備えた表示装置を 提供する。
発明の効果
[0010] 本発明によれば、基板面と非接触な角部（エッジ）が鮮鋭な隔壁を形成しうるカラー フィルタ用隔壁の製造方法及びこれにより得られたカラーフィルタ用隔壁付基板、並 びに混色がなく色相が良好で高い表示品位の表示素子用カラーフィルタ及び表示 装置を提供することができる。
図面の簡単な説明
[0011] [図 1]離隔壁の断面形状を説明するための概念図である。
[図 2A]カラーフィルタのパターンとしてデルタ配列を示す図である。
[図 2B]カラーフィルタのパターンとして格子もしくはストライプ構造配列を示す図であ る。
発明を実施するための最良の形態
[0012] 以下、本発明のカラーフィルタ用隔壁の製造方法について詳細に説明すると共に 、該製造方法により得られたカラーフィルタ用隔壁並びにこれを用いた表示素子用力 ラーフィルタ及び表示装置にっレ、ても詳述する。 [0013] カラーフィルタ用隔壁の製造方法
本発明のカラーフィルタ用隔壁（以下、単に「離隔壁」ということがある。）の製造方 法は、基板の少なくとも一方に、少なくともラジカル重合性モノマーと光重合開始剤と バインダーと色材とを含む感光性樹脂層を形成する工程 (以下、「層形成工程」という ことがある）及び、形成された感光性樹脂層を 50mW/cm2以上の照度でパターン 状に露光し、現像することにより、液滴を付与して形成される着色画素部を離隔する 隔壁パターンを形成する工程 (以下、「パターン形成工程」とレ、うことがある）を少なく とも有し、必要に応じて、ベータ処理する等の他の工程を設けて構成することができ る。
照度とは、被露光体上における光の照度のことであり、具体的には、一般的な照度 計 (例えば UV— M10— S、 UV— 350 (いずれも商品名、（株)オーク製作所製））を 露光焦点部に設置して露光を行なうことにより計測できる。
[0014] 層形成工程
層形成工程では、基板の少なくとも一方に、少なくともラジカル重合性モノマーと光 重合開始剤とバインダーと色材とを含む感光性樹脂層を形成する。本工程で形成さ れる感光性樹脂層は、最終的に離隔壁を構成する層である。
[0015] 感光性樹脂層は、少なくともラジカル重合性モノマーと光重合開始剤とバインダー と色材とを含んでなり、必要に応じて他の成分を用いて構成できる。この感光性樹脂 層は、例えば、ラジカル重合性モノマーと光重合開始剤とバインダーと色材とを少な くとも含む感光性樹脂組成物を基板上に付与する方法 (好ましくは、感光性樹脂組 成物を塗布する塗布法)や、後述の感光性転写材料を用いて感光性樹脂層を基板 上に転写する方法 (転写法）により形成することができる。
[0016] 感光性樹脂層を塗布形成する方法 (塗布法）による場合、塗布は、液を吐出する部 分にスリット状の穴を有するスリット状ノズノレ又はスリットコーターを用いて行なうことが 好ましい。
具体的には、特開 2004— 89851号公報、特開 2004— 17043号公報、特開 200 3— 170098号公報、特開 2003— 164787号公報、特開 2003— 10767号公報、 特開 2002— 79163号公報、特開 2001— 310147号公報等に記載のスリット状ノズ ノレ、及びスリットコーターが好適に用いることができる。その他の例として、スピナ一、 ホヮイラ1 ~、口1 ~ラ1 ~コ' ~タ' ~、力' ~テン; ~タ' ~、ナイフ: ~タ1 ~、ワイヤ1 ~ノ ' ~コ' ~ ター、エタストルーダー等の塗布機を用いて行なうようにしてもょレ、。
[0017] 転写法による場合、後述する感光性転写材料を用い、仮支持体上に膜状に形成さ れた感光性樹脂層を基板面に加熱及び/又は加圧したローラー又は平板で圧着又 は加熱圧着することによって貼り付け、更に仮支持体を剥離して感光性樹脂層を転 写することにより、感光性樹脂層を形成することができる。
具体的には、特開平 7— 110575号公報、特開平 11 77942号公報、特開 2000 334836号公報、特開 2002— 148794号公報に記載のラミネーター及びラミネー ト方法により行なえる。なお、感光性転写材料及び転写法による転写に関する詳細 については後述する。
[0018] 感光性樹脂層の層厚としては、感光性樹脂組成物の固形分及び形成する離隔壁 の高さに依存し、特に限定されるものではないが、一般に 1〜： 12 x mが好ましぐ 1. 5〜： 12 μ ΐη力 Sより好ましく、 1. 8〜8 /1 111カ更に好ましく、 2. 0〜6. 0 111カ特に好ま しい。
[0019] 本発明における感光性樹脂層及び感光性樹脂組成物は、好ましくは光学濃度の 高い濃色の層又は組成物であり、好ましい光学濃度は 2. 0〜： 10. 0である。より好ま しい光学濃度は 2. 5〜6. 0であり、特に好ましくは 3. 0〜5. 0である。また、感光性 樹脂層及び感光性樹脂組成物は、後述のように好ましくは光開始系で硬化させるこ とから、露光波長（一般には紫外域）に対する光学濃度も重要であり、値としては 2. 0 〜10. 0カ好ましく、より好ましく ίま 2. 5〜6. 0であり、最も好ましく ίま 3. 0〜5. 0であ る。前記範囲内であると、重合硬化が良好になり、所望形状の離隔壁を形成すること ができる。濃色の性質は、後述する染料、顔料などの各種色材又は各形態の炭素あ るいはこれらの組合せからなる材料を用いて付与することができ、黒色が最も多い。
[0020] 感光性樹脂組成物、感光性樹脂層
以下、感光性樹脂組成物、及びこれを用いてなる感光性樹脂層の構成成分につ いて詳述する。
[0021] ラジカル重合性モノマー 本発明における感光性樹脂層又は感光性樹脂組成物は、ラジカル重合性モノマ 一の少なくとも一種を含有する。後述の光重合開始剤からの活性種の作用を受けて 硬化し、パターンを形成することができる。
[0022] ラジカル重合性モノマーとしては、多官能性モノマーが好ましぐ該多官能性モノマ 一は、一種単独で又は他のモノマーと組み合わせて用いることができる。
多官能性モノマーの具体的な例としては、 t _ブチル (メタ）アタリレート、エチレング リコールジ（メタ）アタリレート、 2—ヒドロキシプロピル（メタ）アタリレート、トリエチレング リコールジ（メタ）アタリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アタリレート、 2—ェチル —2—ブチル一プロパンジオールジ（メタ）アタリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ） アタリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アタリレート、ジペンタエリスリトールへキ サ（メタ）アタリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アタリレート、ポリオキシェチ ルイ匕トリメチロールプロパントリ（メタ）アタリレート、トリス（2— (メタ）アタリロイルォキシ ェチル）イソシァヌレート、 1 , 4ージイソプロぺニルベンゼン、 1 , 4ージヒドロキシベン ゼンジ（メタ）アタリレート、デカメチレングリコールジ（メタ）アタリレート、スチレン、ジァ リルフマレート、トリメリット酸トリアリル、ラウリル (メタ）アタリレート、 （メタ）アクリルアミド 、キシリレンビス（メタ）アクリルアミド、等が挙げられる。
また、 2—ヒドロキシェチル（メタ）アタリレート、 2—ヒドロキシプロピル（メタ）アタリレー ト、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アタリレート等のヒドロキシル基を有する化合物と 、へキサメチレンジイソシァネート、トルエンジイソシァネート、キシレンジイソシァネー ト等のジイソシァネートとの反応物も挙げられる。
[0023] 上記のうち、特に好ましいのは、ペンタエリスリトールテトラアタリレート、ジペンタエリ スリトールへキサアタリレート、ジペンタエリスリトールペンタアタリレート、トリス（2—ァ クリロイルォキシェチル）イソシァヌレートである。
[0024] ラジカル重合性モノマーの感光性樹脂層又は感光性樹脂組成物中における含有 量としては、層又は組成物の全固形分 (質量）に対して、 5〜80質量％が好ましぐ 1 0〜70質量％が特に好ましい。該含有量が前記範囲内であると、光硬化後のアル力 リ現像液に対する耐性を確保するのに有効である。
[0025] 光重合開始剤 本発明における感光性樹脂層又は感光性樹脂組成物は、光重合開始剤の少なく とも一種を含有する。光重合開始剤は、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、 X線 等の放射線の照射により、前記ラジカル重合性モノマーの重合を開始する活性種を 発生する化合物であり、公知の化合物の中から適宜選択することができる。
[0026] 例えば、トリノ、ロメチル基含有化合物、アタリジン系化合物、ァセトフエノン系化合物 、ビスイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフエノ ン系化合物、 ひージケトン系化合物、多核キノン系化合物、キサントン系化合物、ジ ァゾ系化合物、等を挙げることができる。
[0027] 具体的には、特開 2001— 117230公報に記載の、トリハロメチル基が置換したトリ ノ、ロメチルォキサゾール誘導体又は s—トリアジン誘導体、米国特許第 4239850号 明細書に記載のトリハロメチル— s—トリァジン化合物、米国特許第 4212976号明細 書に記載のトリハロメチルォキサジァゾール化合物などのトリハロメチル基含有化合 物；
[0028] 9—フエ二ルァクリジン、 9—ピリジルアタリジン、 9—ピラジ二ルァクリジン、 1 , 2—ビス
(9—アタリジニル）ェタン、 1 , 3—ビス（9—アタリジニル）プロパン、 1 , 4—ビス（9— アタリジニル）ブタン、 1 , 5—ビス（9—アタリジニル）ペンタン、 1 , 6—ビス（9—アタリ ジニノレ）へキサン、 1 , 7—ビス（9—アタリジニノレ）ヘプタン、 1 , 8—ビス（9—アタリジニ ノレ）オクタン、 1， 9—ビス（9—アタリジニル）ノナン、 1 , 10—ビス（9—アタリジニル）デ カン、 1， 11—ビス（9—アタリジニル）ゥンデカン、 1 , 12—ビス（9—アタリジニル）ドデ カン等のビス（9—アタリジニル）アルカン、などのアタリジン系化合物；
[0029] 6— (p—メトキシフエ二ル）一 2， 4—ビス（トリクロロメチル）一s—トリァジン、 6—〔p—( N, N—ビス（エトキシカルボニルメチル）ァミノ）フエ二ル〕一 2， 4_ビス（トリクロロメチ ノレ） _ s—トリァジンなどのトリアジン系化合物；その他、 9， 10—ジメチルベンズフエナ ジン、ミヒラーズケトン、ベンゾフエノン Zミヒラーズケトン、へキサァリールビスイミダゾ ール Zメルカプトべンズイミダゾール、ベンジルジメチルケタール、チォキサントン Z ァミン、 2， 2' _ビス（2, 4—ジクロ口フエ二ル）一 4, 4'， 5, 5 '—テトラフエニル _ 1， 2' —ビスイミダゾール、などが挙げられる。
[0030] 上記のうち、トリハロメチル基含有化合物、アタリジン系化合物、ァセトフヱノン系ィ匕 合物、ビスイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物から選択される少なくとも一種 が好ましぐトリノ、ロメチル基含有化合物及びアタリジン系化合物から選択される少な くとも一種が特に好ましい。トリノ、ロメチル基含有化合物、アタリジン系化合物は、汎 用性でかつ安価である点でも有用である。
[0031] 特に好ましいのは、前記トリハロメチル基含有化合物としては、 2_トリクロロメチノレ
_ 5 _ (p—スチリルスチリル）_ 1， 3， 4_ォキサジァゾール、 2_ (p—ブトキシスチリ ノレ） _ 5 _トリクロロメチル一1 , 3， 4—ォキサジァゾールであり、前記アタリジン系化 合物としては 9—フエ二ルァクリジンであり、前記トリアジン系化合物としては、 6—〔p — (N, N ビス（エトキシカルボニルメチル）ァミノ）フエ二ル〕一 2, 4—ビス（トリクロ口 メチル） s トリァジンであり、前記べンゾフエノン系化合物としては、ミヒラーズケトン であり、前記ビイミダゾール系化合物としては、 2, 2 '—ビス（2, 4—ジクロ口フエニル） —4, 4', 5, 5'—テトラフエニル一 1 , 2'—ビスイミダゾールである。
[0032] 前記光重合開始剤は、一種単独で用いてもよいし 2種以上を併用してもよい。
光重合開始剤の感光性樹脂層又は感光性樹脂組成物中における総量としては、 層又は組成物の全固形分 (質量）に対して、 0.：!〜 20質量％が好ましぐ 0. 5〜10 質量％が特に好ましい。該総量が前記範囲内であると、光硬化効率が高く短時間で 硬化でき、現像時に形成された画像パターンが欠落したり、パターン表面の荒れが 生じることもなレ、。
[0033] 光重合開始剤は、水素供与体を併用して構成されてもよい。水素供与体としては、 感度をより良化することができる点で、以下に定義するメルカブタン系化合物、ァミン 系化合物等が好ましい。ここで、「水素供与体」とは、露光により前記光重合開始剤か ら発生したラジカルに対して、水素原子を供与することができる化合物をレ、う。
[0034] 前記メルカブタン系化合物は、ベンゼン環あるいは複素環を母核とし、該母核に直 接結合したメルカプト基を 1個以上、好ましくは 1〜3個、更に好ましくは:!〜 2個有す る化合物（以下、「メルカブタン系水素供与体」という。）である。
また、前記アミン系化合物は、ベンゼン環あるいは複素環を母核とし、該母核に直 接結合したアミノ基を 1個以上、好ましくは:!〜 3個、更に好ましくは 1〜2個有するィ匕 合物（以下、「ァミン系水素供与体」という。）である。 なお、水素供与体はメルカプト基とアミノ基とを同時に有していてもよい。
[0035] 上記のメルカプタン系水素供与体の具体例としては、 2 _メルカプトべンゾチアゾー ノレ、 2 _メルカプトべンゾォキサゾール、 2 _メルカプトべンゾイミダゾール、 2, 5—ジ メノレカプト一 1 , 3, 4—チアジアゾール、 2—メノレカプト一 2, 5—ジメチルァミノピリジン 、等が挙げられる。これらのうち、 2 _メルカプトべンゾチアゾール、 2 _メルカプトベン ゾォキサゾールが好ましぐ特に 2 _メルカプトべンゾチアゾールが好ましい。
[0036] 上記のアミン系水素供与体の具体例としては、 4、 4' _ビス（ジメチルァミノ）ベンゾ フエノン、 4、 4 '—ビス（ジェチルァミノ）ベンゾフエノン、 4ージェチルアミノアセトフエノ ン、 4ージメチルァミノプロピオフエノン、ェチルー 4ージメチルァミノべンゾエート、 4 ージメチルァミノ安息香酸、 4ージメチルァミノべンゾニトリル等が挙げられる。これら のうち、 4, 4 '—ビス（ジメチルァミノ）ベンゾフエノン、 4, 4 '—ビス（ジェチルァミノ）ベ ンゾフエノンが好ましぐ特に 4, 4' ビス（ジェチルァミノ）ベンゾフエノンが好ましレ、。
[0037] 前記水素供与体は、一種単独で又は 2種以上を混合して使用することができ、形成 された画像が現像時に基板上から脱落し難ぐかつ強度及び感度も向上させ得る点 で、 1種以上のメルカプタン系水素供与体と 1種以上のアミン系水素供与体とを組合 せて使用することが好ましレ、。
[0038] 前記メルカブタン系水素供与体とアミン系水素供与体との組合せの具体例としては 、 2—メルカプトべンゾチアゾール Ζ4， 4'—ビス（ジメチルァミノ）ベンゾフエノン、 2- メルカプトべンゾチアゾール /4, 4' _ビス（ジェチルァミノ）ベンゾフエノン、 2—メノレ カプトべンゾォキサゾール Ζ4， 4' _ビス（ジメチルァミノ）ベンゾフエノン、 2—メノレ力 ブトべンゾォキサゾール Z4, 4' _ビス（ジェチルァミノ）ベンゾフヱノン等が挙げられ る。より好ましい組合せは、 2 _メルカプトべンゾチアゾール Ζ4， 4' _ビス（ジェチル ァミノ）ベンゾフエノン、 2 _メルカプトべンゾォキサゾール /4, 4' _ビス（ジェチルァ ミノ）ベンゾフヱノンであり、特に好ましい組合せは、 2 _メルカプトべンゾチアゾール /4， 4' _ビス（ジェチルァミノ）ベンゾフエノンである。
[0039] 前記メルカブタン系水素供与体とアミン系水素供与体とを組合せた場合の、メルカ ブタン系水素供与体 (M)とァミン系水素供与体 (A)との質量比（M： A)は、通常 1： 1 〜： 1 : 4が好ましく、 1 : 1〜： 1 : 3がより好ましい。 前記水素供与体の感光性樹脂層又は感光性樹脂組成物中における総量としては
、層又は組成物の全固形分（質量）に対して、 0. ：!〜 20質量％が好ましぐ 0. 5〜1 0質量％が特に好ましい。
[0040] バインダー
本発明における感光性樹脂層又は感光性樹脂組成物は、バインダーの少なくとも 一種を含有する。
ノ インダーとしては、側鎖にカルボン酸基やカルボン酸塩基などの極性基を有する ポリマーが好ましレ、。その例としては、特開昭 59— 44615号公報、特公昭 54— 343 27号公報、特公昭 58— 12577号公報、特公昭 54— 25957号公報、特開昭 59— 5 3836号公報、及び特開昭 59— 71048号公報に記載の、メタクリル酸共重合体、ァ クリル酸共重合体、ィタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、 部分エステルィヒマレイン酸共重合体、等を挙げることができる。
[0041] また、側鎖にカルボン酸基を有するセルロース誘導体も挙げられる。さらに、水酸基 を有するポリマーに環状酸無水物を付加したものも好ましく使用できる。
特に好ましい例として、米国特許第 4139391号明細書に記載のベンジル (メタ）ァ タリレートと（メタ）アクリル酸との共重合体や、ベンジル (メタ）アタリレートと（メタ）アタリ ル酸と他のモノマーとの多元共重合体を挙げることができる。これらの極性基を有す るバインダーは、一種単独で用いてもよいし、通常の膜形成性のポリマーと併用する 組成物の状態で使用するようにしてもょレ、。
[0042] バインダーの感光性樹脂層又は感光性樹脂組成物中における含有量としては、層 又は組成物の全固形分（質量）に対して、 10〜50質量％が好ましぐ 20〜40質量 %がより好ましい。
[0043] 色材
本発明における感光性樹脂層又は感光性樹脂組成物は、色材の少なくとも一種を 含有する。色材を含有することにより、所望色よりなる可視画像を形成することができ る。
[0044] 色材としては、特開 2005— 17716号公報の段落番号 [0038]〜[0054]に記載 の顔料及び染料や、特開 2004— 361447号公報の段落番号 [0068]〜 [0072]に 記載の顔料や、特開 2005— 17521号公報の段落番号 [0080]〜[0088]に記載 の着色剤を好適に用いることができる。
[0045] 中でも、有機顔料、無機顔料、染料等を好適であり、感光性樹脂層又は感光性樹 脂組成物に遮光性が要求される場合は、カーボンブラック、チタンカーボン、酸化チ タン、 4酸化鉄等の金属酸化物粉、金属硫化物粉、金属粉などの遮光剤、並びに赤 、青、緑色等の顔料の混合物等を用いることができる。公知の着色剤 (染料、顔料)を 使用することができる。黒色の色材の例としては、カーボンブラック、チタンカーボン、 酸化鉄、酸化チタン、黒鉛などが好適に挙げられ、特にカーボンブラックが好ましい。 また、色材として顔料を選択する場合は、感光性樹脂層又は感光性樹脂組成物中 に均一に分散されることが好ましい。
[0046] 色材の感光性樹脂層又は感光性樹脂組成物中における含有量としては、層又は 組成物の固形分 (質量）に対して、現像時間を短縮する点で、 30〜70質量％が好ま しぐ 40〜60質量％がより好ましぐ 50〜55質量％が更に好ましい。
[0047] 前記顔料は、分散液として使用することが望ましい。この分散液は、前記顔料と顔 料分散剤とを予め混合して得られる組成物を、後述する有機溶媒 (又はビヒクル）に 添加して分散させることによって調製することができる。前記ビヒクルとは、塗料が液 体状態にあるときに顔料を分散させている媒質の部分をいい、液状であって前記顔 料と結合して塗膜を固める部分 (バインダー）と、これを溶解希釈する成分 (有機溶媒 )とを含む。前記顔料を分散させる際に用いる分散機としては、特に制限はなぐ例え ば、「顔料の事典」〔朝倉邦造著、第一版、 438頁、朝倉書店 (2000年)〕に記載の、 ニーダー、ローノレミノレ、アトライダー、スーパーミノレ、ディゾノレバ、ホモミキサー、サンド ミル等の公知の分散機が挙げられる。さらに、「顔料の事典」の 310頁に記載の機械 的摩砕により摩擦力を利用し、微粉砕するようにしてもょレ、。
[0048] 色材（特に顔料）の粒子径としては、分散安定性の観点から、数平均粒径で 0. 00 1 ~0. 1 x mカ好ましく、 0. 01〜0. 08 z mカより好ましレヽ。なお、「粒子径」とは、粒 子を電子顕微鏡写真における該粒子の面積と同面積の円で表したときの直径をいい 、「数平均粒径」とは、複数の粒子の粒子径の 100個の平均値をいう。
[0049] 溶剤 本発明における離隔壁を作製する際に用いる感光性樹脂組成物は、一般に前記 成分以外に、有機溶剤を用いて構成することができる。有機溶剤の例としては、メチ ノレエチノレケトン、プロピレングリコーノレモノメチノレエーテノレ、プロピレングリコーノレモノ メチルエーテルアセテート、シクロへキサノン、シクロへキサノール、メチルイソブチル ケトン、乳酸ェチル、乳酸メチル、力プロラタタム等が挙げられる。
[0050] 他の成分
本発明における感光性樹脂組成物又は感光性樹脂層には、さらに下記成分、例え ば界面活性剤、紫外線吸収剤、並びに公知の添加剤、例えば、可塑剤、充填剤、安 定化剤、熱重合防止剤、溶剤、密着促進剤等を含有させることができる。さらに、感 光性樹脂組成物は少なくとも 150 °C以下の温度で軟化もしくは粘着性になることが 好ましぐ熱可塑性であることが好ましい。かかる観点からは、相溶性の可塑剤を添 加することで改質することができる。
[0051] 界面活性剤
感光性樹脂組成物を基板上又は後述の感光性転写材料の仮支持体上に塗布す る場合には、感光性樹脂組成物中に界面活性剤を含有させることで、均一な膜厚に 制御でき、塗布ムラを効果的に防止することができる。界面活性剤としては、特開 20 03 - 337424号公報、特開平 11— 133600号公報に記載の界面活性剤が好適に 挙げられる。なお、界面活性剤の感光性樹脂組成物中における含有量としては、該 組成物の全固形分（質量）に対して、 0. 001〜： 1 %が一般的であり、 0. 01-0. 5% が好ましぐ 0. 03〜0. 3。/0が特に好ましい。
[0052] 紫外線吸収剤
感光性樹脂組成物には、必要に応じて紫外線吸収剤を含有することができる。 紫外線吸収剤としては、特開平 5— 72724号公報に記載の化合物、並びにサリシ レート系、ベンゾフヱノン系、ベンゾトリアゾール系、シァノアクリレート系、ニッケルキ レート系、ヒンダードアミン系等の化合物が挙げられる。
[0053] 例えば、フエニルサリシレート、 4_t_ブチルフエニルサリシレート、 2, 4—ジ _t_ ブチルフエニル _ 3', 5' _ジ一 t_4 '—ヒドロキシベンゾエート、 4_t_ブチルフエ二 ルサリシレート、 2, 4—ジヒドロキシベンゾフエノン、 2—ヒドロキシ一 4—メトキシベンゾ フエノン、 2—ヒドロキシ一 4— n—オタトキシベンゾフエノン、 2— (2'—ヒドロキシ一 5， —メチルフエ二ノレ）ベンゾトリアゾール、 2— (2 '—ヒドロキシ一 3' _t_ブチル _ 5 '—メ チルフエニル）一5—クロ口べンゾトリァゾール、ェチル一2—シァノ一3， 3—ジ一フエ ニルアタリレート、 2, 2 '—ヒドロキシ _4—メトキシベンゾフエノン、ニッケルジブチルジ チォカーバメート、ビス（2， 2, 6, 6—テトラメチル一 4_ピリジン）一セバケート、 4 _t —ブチルフエニルサリシレート、サルチル酸フエニル、 4—ヒドロキシ—2, 2, 6， 6 - テトラメチルピペリジン縮合物、コハク酸一ビス（2， 2, 6, 6—テトラメチル _4—ピペリ デニル）一エステル、 2— [2 ヒドロキシ一 3, 5 ビス（α , α—ジメチルベンジル）フ ェニル] - 2Η—ベンゾトリァゾール、 7— { [4 クロ口一 6 (ジェチルァミノ） 5 ト リアジン 2 ィル]アミノ} 3 フエニルクマリン等が挙げられる。
紫外線吸収剤を用いる場合の、感光性樹脂組成物の全固形分に対する紫外線吸 収剤の含有量としては 0. 5〜： 15%が一般的であり、 1〜： 12%が好ましぐ 1. 2〜10 %が特に好ましい。
[0054] 熱重合防止剤
感光性樹脂組成物には、熱重合防止剤を含むことが好ましい。熱重合防止剤の例 としては、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、 ρ—メトキシフエノール、 ジ tーブチルー ρ クレゾール、ピロガロール、 tーブチルカテコール、ベンゾキノン 、4， 4'—チォビス（3—メチル _ 6 _t_ブチルフエノール）、 2, 2 '—メチレンビス（4— メチル _ 6 _t_ブチルフエノール）、 2 _メルカプトべンズイミダゾール、フエノチアジ ン等が挙げられる。
熱重合防止剤を用いる場合の、感光性樹脂組成物の全固形分に対する含有量と して ίま 0. 01〜： 10/0力一般白勺であり、 0. 02〜0. 70/0力 S好ましく、 0. 05〜0. 50/0カ特 に好ましい。
[0055] また、感光性樹脂組成物には、前記成分以外に、特開平 11— 133600号公報に 記載の「接着助剤」やその他の添加剤等を含有させることもできる。
[0056] 感光性転写材料
次に、前記転写法に用いる感光性転写材料について詳述する。
感光性転写材料は、仮支持体上に少なくとも前記感光性樹脂組成物を用いて構 成された層 (感光性樹脂層）を有してなり、必要に応じて更に中間層や熱可塑性樹脂 層、保護フィルムを設けて構成することができる。なお、本発明は、後述するようにパ ターン形成工程での露光を 50mWZ cm2以上の高照度で行なって酸素による重合 阻害を起こす前に硬化させるようにするものであり、中間層については必ずしも設け る必要はなぐ場合により設けてもよい。
[0057] 仮支持体
仮支持体としては、化学的及び熱的に安定であって可撓性の物質で構成されるも のから適宜選択することができる。具体的には、テフロン (登録商標）、ポリエチレンテ レフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル等、薄い シートもしくはフィルム又はこれらの積層体が好ましい。中でも、 2軸延伸ポリエチレン テレフタレートフィルムが特に好ましレ、。
[0058] 仮支持体の厚みとしては、 5〜300 /i mが適当であり、好ましくは 20〜： 150 μ mで ある。厚みが前記範囲内であると、仮支持体の剥離時における破れを回避でき、仮 支持体を介して露光したときの解像度の低下を回避することができる。
[0059] 感光性樹脂層
感光性樹脂層は、既述の感光性樹脂組成物を用いてなり、形状等の特性や形成 方法等については既述の塗布法で塗布形成される層と同様であり、好ましい態様も 同様である。
[0060] 熱可塑性樹脂層
仮支持体と感光性樹脂層との間には、必要に応じて熱可塑性樹脂層を設けること ができる。熱可塑性樹脂層を設けることで、離隔壁が形成される基板との密着性を向 上させるのに有効である。
[0061] 熱可塑性樹脂層は、少なくとも樹脂成分を含んでなり、アルカリ可溶性に構成され ることが好ましい。樹脂成分としては、アルカリ可溶性であって、実質的な軟化点が 8
0°C以下である熱可塑性樹脂が好ましレ、。
軟ィ匕点が 80°C以下のアルカリ可溶性の熱可塑性樹脂としては、例えば、エチレン とアクリル酸エステル共重合体とのケン化物、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル共 重合体とのケン化物、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体とのケン化 物、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビュル等の（メタ）ァ クリル酸エステル共重合体などとのケン化物、等が挙げられる。
[0062] 上記以外に更に、「プラスチック性能便覧」（日本プラスチック工業連盟、全日本プ ラスチック成形工業連合会編著、工業調査会発行、 1968年 10月 25日発行）におけ る、軟化点が約 80°C以下の有機高分子のうち、アルカリ水溶液に可溶なものも使用 できる。
[0063] また、軟ィ匕点が 80°C以上の有機高分子物質も、その有機高分子物質中に該高分 子物質と相溶性のある各種可塑剤を添加することで、実質的な軟化点を 80°C以下 に下げて用いることもできる。
これらの有機高分子物質には、仮支持体との接着力を調節する目的で、実質的な 軟化点が 80°Cを越えない範囲で、各種ポリマーや過冷却物質、密着改良剤あるい は界面活性剤、離型剤、等を加えることもできる。好ましい可塑剤の具体例としては、 ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ジォクチルフタレート、ジヘプチル フタレート、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、クレジルジフエニルフォス フェート、ビフエニノレジフエ二ノレフォスフェートを挙げることができる。
[0064] 中間層
本発明では、既述のように中間層は必ずしも必要ではないが、必要に応じて、仮支 持体と感光性樹脂層の間あるいは熱可塑性樹脂層と感光性樹脂層の間に中間層を 更に設けてもよい。
具体的には、ポリエチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリビュルアルコール（PVA)など を主成分（特に PVAを主成分）とした層が好まし 必要に応じてポリビュルピロリドン 、ポリアクリルアミド等のポリマーを添カ卩してもよレ、。 PVAとしては、鹼化度が 80%以 上のものが好ましい。 PVAの含有量は、 25〜99質量％が好ましい。
[0065] 保護フィルム
仮支持体上に形成された感光性樹脂層の表面には、貯蔵の際の汚染や損傷から 保護するために、保護フィルムを設けることが好ましい。保護フィルムは、仮支持体と 同一もしくは類似の材料で構成されてもよぐ転写を良好に行なう点で感光性樹脂層 力 の分離が容易に行なえるものであることが重要である。 保護フィルムを構成する材料としては、例えば、シリコーン紙、ポリオレフインもしくは ポリテトラフルォロエチレンシートが適当である。保護フィルムの厚みは、 4〜40 z m が一般的であり、 5〜30 / 111カ好ましく、 10〜25 z mが特に好ましい。
[0066] 感光性転写材料は、例えば、仮支持体上に熱可塑性樹脂層の構成成分を溶解し た塗布液 (熱可塑性樹脂層用塗布液)を塗布し、乾燥させることにより熱可塑性樹脂 層を設け、この熱可塑性樹脂層上に熱可塑性樹脂層を溶解しない溶剤を用いてな る溶液を塗布し、乾燥させて中間層を積層し、その後更に中間層上に、中間層を溶 解しなレ、溶剤を用いて既述のように調製された感光性樹脂組成物を塗布し、乾燥さ せて感光性樹脂層を積層することにより作製することができる。
なお、塗布は、既述の公知の塗布方法により行なえる力 スリット状ノズノレを用いた 塗布装置 (スリットコータ）を用いて行なうことが好ましレ、。
[0067] 感光性転写材料の作製は、上記以外に、仮支持体上に熱可塑性樹脂層及び中間 層を設けたシートと、保護フィルム上に感光性樹脂層を設けたシートとを用意し、酸 素遮断層と感光性樹脂層とが接するように貼り合わせることにより、また、仮支持体上 に熱可塑性樹脂層を有するシートと、保護フィルム上に感光性樹脂層及び中間層を 有するシートとを用意し、熱可塑性樹脂層と中間層とが接するように貼り合わせること により、行なうこともできる。
[0068] 基板
基板としては、金属の基材、金属を貼り合わせた基材、ガラス、セラミック、合成樹脂 フィルム等が挙げられる。好ましくは、透明性で寸度安定性の良好なもの、特にガラ スゃ合成樹脂フィルムである。
[0069] パターン形成工程
パターン形成工程では、前記層形成工程で形成された感光性樹脂層を 50mW/c m2以上の高照度でパターン状に露光し、現像して、液滴を付与して形成される着色 画素部を離隔する隔壁パターン (離隔壁)を形成する。
離隔壁は、各着色画素部間を離画するものであり、一般には黒色であることが多い 力 黒色に限定されるものではない。着色は、既述のように有機物 (染料、顔料など の各種色材）が好ましい。 [0070] 本発明においては、感光性樹脂層へのパターン露光を 50mWZ cm2以上の照度 にして行なうので、酸素存在下でも酸素による重合阻害を起こす前に重合反応させ ること力 Sでき、短時間で高度の硬化を行なうことができる。これにより、露光時に例え ば窒素パージして酸素分圧を制御しながら窒素雰囲気の環境下を形成する必要が なぐまた、感光性転写材料を酸素遮断性の膜を設けずに作製することが可能であり 、より簡易な工程にて高度に硬化されたパターン像を短時間に簡便に形成すること ができる。
[0071] 露光は、所望のパターンが設けられたマスクを用レ、、マスクを通して感光性樹脂層 に光を照射することにより行なえる。このとき、照度を 50mW/cm2以上に設定する。 この照度は、光源の出力を高める、光源の数を増やす、また、光源と被露光体との距 離を狭くする、等の方法により前記範囲に調整することができる。
本発明の効果を得るための照度としては、上記のうち好ましくは 300mW/cm2以 上であり、特に好ましくは 2000mW/cm2以上である。
前記照度が 50mW/cm2未満であると、離隔壁（隔壁パターン)の形状が所望形状 、具体的には 基板上に設けられた離隔壁の基板面から接しない上端面が平坦で、 換言すると隔壁の基板面と接しない角部（エッジ）が鮮鋭な形状に成形することがで きない。本発明の効果を得る観点では、照度の上限値は特になぐ装置、設備上支 障がなければ所望の照度に上げることができる。具体的な離隔壁の断面形状につい ては、好ましい形態を図 1を参照して後述する。
[0072] 露光には、例えば、超高圧水銀灯を備えたプロキシミティー型露光機 (例えば、 日 立ハイテク電子エンジニアリング (株)製)等を用いることができる。また、光源としては 、中圧〜超高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ等、並びに各種レーザ 一が挙げられる。中でも、レーザーを光源とする態様が好ましい。
[0073] 露光後は、現像液を用いて現像処理を行ない、感光性樹脂層にパターン像を形成 する。その後は、必要に応じて、水洗処理が行なわれる。
[0074] 現像前には、感光性樹脂層上に純水をシャワーノズル等にて噴霧し、感光性樹脂 層の表面を均一に湿らせておくことが好ましい。現像処理に用いる現像液には、アル カリ性物質の希薄水溶液が好適に用いられるが、更に水と混和性の有機溶剤を少量 添加したものでもよい。
[0075] 前記アルカリ性物質としては、アルカリ金属水酸化物類（例えば、水酸化ナトリウム、 水酸化カリウム）、アルカリ金属炭酸塩類 (例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム）、ァ ルカリ金属重炭酸塩類 (例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム）、アルカリ金 属ケィ酸塩類 (例えば、ケィ酸ナトリウム、ケィ酸カリウム）、アルカリ金属メタケイ酸塩 類 (例えば、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム）、トリエタノールァミン、ジェタノ ールァミン、モノエタノールァミン、モルホリン、テトラアルキルアンモン二ゥムヒドロキ シド類 (例えば、テトラメチルアンモニゥムヒドロキシド）、燐酸三ナトリウム、等が挙げら れる。アルカリ性物質の濃度は 0. 01〜30質量％が好ましぐ pHは 8〜： 14が好まし い。
[0076] 前記「水と混和性の有機溶剤」としては、例えば、メタノーノレ、エタノール、 2 プロ パノール、 1 プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコール モノメチルエーテル、エチレングリコールモノェチルエーテル、エチレングリコールモ ノ n—ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルェチルケトン、シクロへ キサノン、 ε—力プロラタトン、 γ ブチロラタトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルァ セトアミド、へキサメチルホスホルアミド、乳酸ェチル、乳酸メチル、 ε一力プロラタタム 、 Ν メチルピロリドン等が好適に挙げられる。水と混和性の有機溶剤の濃度は、 0. ：!〜 30質量％が好ましい。
さらに、公知の界面活性剤を添加してもよぐ界面活性剤の濃度は 0. 01〜： 10質量 %が好ましい。
[0077] 前記現像液は、浴液としても、あるいは噴霧液としても用いることができる。
感光性樹脂層の未硬化部を除去する場合、現像液中で回転ブラシや湿潤スポン ジで擦るなどの方法を組合わせることができる。現像液の温度は通常、室温付近から 40°Cが好ましい。現像時間は、感光性樹脂層の組成、現像液のアルカリ性や温度、 有機溶剤を添加する場合にはその種類と濃度などによるが、通常 10秒〜 2分程度で ある。この範囲内では、形状の好適な離隔壁が得られる。換言すれば、現像時間が 短すぎると現像除去しょうとする領域の現像が不充分となると同時に紫外線の吸光度 も不充分となることがあり、逆に長すぎると、硬化部までエッチングされることがある。 [0078] 本発明において、基板上に形成された離隔壁（隔壁パターン）の断面形状は、図 1 に示すように、離隔壁 1の基板 2の表面からの高さが最も高い点における基板からの 高さを h、基板から 0. 8hの位置に基板と平行な線を L、 Lと離隔壁が接する点にお
1 1
ける接線を L、 hの位置に基板と平行な線を Lとしたとき、 Lとしの交点からの離隔壁
2 3 2 3 までの距離 (接線 Lと直交する線上の距離）で規定される値 dを hで除した値が 0. 04
2
以下である場合が好ましレ、。
[0079] 基板上において、感光性樹脂層をパターン露光により重合させた場合、感光性樹 脂層自体の吸収により層表面から基板方向に向かって露光量は減衰するため、層 表面では硬化反応がより進み、これに加え、既述のようにパターン露光時の照度を 5 OmW/cm2以上とすることで、酸素による重合阻害を起こす前に硬化させることが可 能であり、したがって、層表面の硬化をより進行させると共に、層中の硬化反応も効 果的に促進させることができる。これにより、基板面と非接触な角部（エッジ)が鮮鋭な 隔壁を形成することができる。
具体的には、基板上に形成された離隔壁の断面形状において、離隔壁の基板から の高さが最も高い点における基板からの高さを h、基板から 0. 8hの位置に基板と平 行な線を L、 Lと離隔壁が接する点における接線を L、 hの位置に基板と平行な線を
1 1 2
Lとしたとき、 Lとしの交点からの離隔壁までの距離 (接線 Lと直交する線上の距離）
3 2 3 2
で規定される値 dを hで除した値 (d/h)が 0. 04以下となる。これらの値は、実際には 基板上に形成された離隔壁を、基板ごと垂直にカットして断面を露出させ、顕微鏡等 で直接観察することで測定できる。このように形成された離隔壁では、離隔壁で取り 囲まれた凹部（離隔壁間の着色画素部を形成するための空隙）に打滴付与されたィ ンクは離隔壁を乗り越えにくぐインクの滲みやはみ出し、隣接する画素パターン間 での混色及び画素パターン中の白抜けなどを防いで、色相が良好で表示品位の高 レ、カラーフィルタを得ることができる。前記 d/hの値は、 0. 038以下が好ましぐ特に 0. 035以下が好ましい。
[0080] 以下、カラーフィルタ用隔壁を形成する例を具体的に説明する。
1)感光性樹脂組成物を用いた塗布による離隔壁の形成
基板を洗浄後、該基板を熱処理して表面状態を安定化させる。その後、基板を調 温し、調温された基板上に感光性樹脂組成物を塗布する。塗布後、塗布層中の溶媒 の一部を乾燥させて層の流動性をなくした後、プリベータして感光性樹脂層を得る（ 層形成工程)。プリベータ前に、 EBR (エッジ'ビード 'リムーバー）等にて基板周囲の 不要な塗布液を除去してもよい。塗布は、公知のスリット状ノズノレを備えたガラス基板 用コーター（例えば MH— 1600 (商品名、エフ'エー 'エス'アジア社製））等を用いて 行なえる。また、乾燥は、公知の乾燥装置 (例えば、 VCD (真空乾燥装置）、東京応 化工業社製)等）を用いて行なえ、プリベータは、例えば 120°Cで 3分間加熱して行 なうことができる。感光性樹脂層の層厚については、既述の通りである。
[0081] 続いて、感光性樹脂層が形成された基板とパターンを有するマスク（例えば石英露 光マスク）とを垂直に立てた状態で、マスク面と感光性樹脂層との間の距離を適宜（ 例えば 200 x m)設定し、酸素存在下で 50mW/cm2以上の照度で露光する。露光 後、現像液で現像処理を行ない、パターン像を得、必要に応じて水洗処理して離隔 壁を得る (パターン形成工程)。なお、露光時の酸素分圧を測定する場合は、酸素計 (例えば G— 102型 (商品名、飯島電子工業 (株)製)）を用いて行なえる。
[0082] 2)感光性転写材料を用いた転写法による離隔壁の形成
まず、感光性転写材料の保護フィルムを剥離除去し、露出した感光性樹脂層の表 面を基板面に重ね合わせてラミネータ等を通過させ、加熱及び/又は加圧して積層 体とする。ラミネータには、従来公知のラミネーター、真空ラミネーター等の中から適 宜選択することができ、より生産性を高める観点からはオートカットラミネーターも使用 可能である。次いで、積層体から仮支持体を剥離して除去する。続いて、仮支持体を 除去して露出した露出面の上方に所望のフォトマスク（例えば石英露光マスク）を配 置し、酸素存在下でマスクを介して紫外線をパターン状に照射し、照射後所定の処 理液を用いて現像処理して離隔壁を得る。このとき、必要に応じて水洗処理が施され る。現像処理に用いる現像液及び露光に用いる光源は、前記塗布法による場合の現 像液及び光源と同様である。
[0083] 他の工程
本発明のカラーフィルタ用隔壁の製造方法には、形成された隔壁パターンを更に 加熱 (ベータ）して硬化させるベータ工程や、既述の層形成工程及びパターン形成ェ 程後であって着色画素部の形成前に基板上の隔壁パターンに撥インク処理を施す 工程（以下、撥インク処理工程と称する）などの他の工程を設けてもよい。
[0084] 以下、撥インク処理工程について詳述する。
本発明においては、離隔壁に撥インク処理を施した後、すなわち離隔壁（隔壁バタ ーン)の少なくとも一部が撥インク性を有する状態とした後に、液滴を離隔壁間の凹 部に付与して複数の画素を形成する工程を施すようにすることが好ましい。撥インク 処理は、インクジェット法などによる液滴付与の際に、着色液体組成物の液滴 (インク 滴）が離隔壁を乗り越えてはみ出したり、隣接する画素をなすインクと混色するなどの 不都合を効果的に解消することができる。
[0085] なお、撥インク処理とは、付与する着色液体組成物の液滴を弾くようにする処理で あり、その手段には特に限定はない。例えば、以下に示す方法により離隔壁の少なく とも一部にフッ素化合物やケィ素化合物などを付与する方法がある。
具体的には、撥インク処理として、 （1)撥インク性物質を離隔壁に練りこむ方法、（2 )撥インク層を新たに設ける方法、（3)プラズマ処理により撥インク性を付与する方法 、（4)離隔壁の壁上面に撥インク材料を塗布する方法、などが挙げられる。但し、これ に限られるものではない。以下、各撥インク処理について詳細に説明する。
[0086] (1)撥インク性物質を離隔壁に練りこむ方法
混色を防ぐ手段として、感光性樹脂組成物を用いたフォトレジストに含フッ素樹脂（ A)を含有して離隔壁を作製する方法がある。
前記含フッ素樹脂 (A)は、下記式 1で表されるポリフルォロエーテル構造からなる R f基（a)と酸性基（b)とを有し、酸価が 1〜300mgK〇H/gであるものが好ましレ、。
- (X-O) -Y …式 1
n
[0087] 前記式 1中、 Xは、炭素数 1〜： 10の 2価の飽和炭化水素基又は炭素数 1〜： 10のフ ルォロ化された 2価の飽和炭化水素基を表し、 n個含まれる単位 (X_〇）は各々同一 の基又は異なる基を表す。 Yは、水素原子 (Yに隣接する酸素原子に隣接する炭素 原子にフッ素原子が結合していない場合に限る。）、炭素数 1〜20の 1価の飽和炭化 水素基又は炭素数 1〜20のフルォロ化された 1価の飽和炭化水素基を表す。 nは、 2 〜50の整数を表す。ただし、式 1におけるフッ素原子の総数は 2以上である。 [0088] 前記式 1における X、 Yの態様として、好ましくは、 X力 炭素数:!〜 10の水素原子 1 個を除いてフルォロ化されたアルキレン基又は炭素数 1〜： 10のパーフルォロ化され たアルキレン基であって、 n個含まれる単位 (X_〇）は各々同一の基又は異なる基を 表し、 Yが炭素数 1〜20の水素原子 1個を除いてフルォロ化されたアルキル基又は 炭素数 1〜20のパーフルォロ化されたアルキル基を表すものである。
[0089] 前記式 1における X、 Yの態様として、より好ましくは、 Xが、炭素数 1〜： 10のパーフ ルォロ化されたアルキレン基であって、 n個含まれる単位（X_〇）は各々同一の基又 は異なる基を表し、 Yが炭素数 1〜20のパーフルォロ化されたアルキル基を表すも のである。
[0090] X、 Yが上記のような態様であると、含フッ素樹脂 (A)は良好な撥インク性を表す。
また、前記式 1におレヽて、 ηίま 2〜50の整数を表す。 ηίま 2〜30力 S好ましく、 2〜： 15 力 り好ましい。 ηが 2以上であると、インク転落性が良好である。 ηが 50以下であると 、含フッ素樹脂 (Α)が、 Rf基 (a)を有する単量体と、酸性基 (b)を有する単量体及び 必要に応じてその他の単量体との共重合によって合成する場合に、単量体の相溶性 が良好となる。
[0091] また、前記式 1で表されるポリフルォロエーテル構造からなる Rf基（a)における炭素 原子の総数は 2〜50が好ましぐ 2〜30がより好ましい。該範囲では、含フッ素樹脂（ A)は良好な撥インク性、特に撥有機溶剤性を有する。また、 Rf基 (a)を有する単量 体、酸性基 (b)を有する単量体及び必要に応じてその他の単量体との共重合によつ て含フッ素樹脂 (A)を合成する場合に、単量体の相溶性が良好となる。
[0092] 前記 Xの具体例としては、—CF―、 _ CF CF _、― CF CF CF ―、 _ CF CF (
CF )—、 - CF CF CF CF一、 - CF CF CF (CF ) _、及び CF CF (CF ) CF - が挙げられる。
[0093] 前記 Yの具体例としては、—CF、― CF CF、― CF CHF、―（CF ) CF、―（C
F ) CF、一（CF ) CF、一（CF ) CF、一（CF ) CF、一 (CF ) CF、一（CF ) C
F、一（CF ) CF、及び（CF ) CF、一（CF ) CFが挙げられる。
[0094] 前記式 1で表されるポリフルォロエーテル構造からなる Rf基（a)の好ましい態様とし ては、下記式 2で表される Rf基（a)が挙げられる。 -C F -O- (C F -O) -C F …式 2
p-1 (p-l) p 2p n-1 q 2q+l
前記式 2中、 pは 2又は 3の整数を表し、 n_ l個含まれる単位（C F _〇）は同一の
P 2p
基を表し、 qは:!〜 20の整数、 nは 2〜50の整数を表す。
[0095] 前記式 2で表される Rf基（a)として、具体的には、 _ CF〇 (CF CF O) CF は
2 2 2 n-1 3
2〜9)、 _CF (CF )〇（CF CF (CF ) 0) C F (nは 2〜6)、 _CF (CF ) O (CF C
3 2 3 n-1 6 13 3 2
F (CF )〇） C F (nは 2〜6)が、合成の容易さの点で好ましく挙げられる。
3 n-1 3 7
[0096] 含フッ素樹脂（A)内の Rf基（a)は、全て同一でもよいし異なっていてもよい。
また、含フッ素樹脂 (A)におけるフッ素原子の含有量は 1〜60%が好ましぐ 5〜4 0%がより好ましい。該範囲であると、含フッ素樹脂 (A)は良好な撥インク性を有する と共に、感光性樹脂組成物を現像する際の現像性が良好となる。
[0097] 含フッ素樹脂 (A)は酸性基 (b)を有し、該酸性基 (b)としては、カルボキシル基、フ ェノール性水酸基、及びスルホン酸基からなる群から選ばれる少なくとも 1つの酸性 基又はその塩が好ましい。
[0098] 含フッ素樹脂（A)の酸価は、：!〜 300mgK〇H/gが好ましぐ 5〜200mgKOH/ gがより好ましぐ 10〜： 150mgK〇H/gが特に好ましレ、。前記範囲内であると、感光 性樹脂組成物を現像する際の現像性が良好となる。なお、酸価は樹脂 lgを中和す るのに必要な水酸化カリウムの質量（単位 mg)であり、本明細書において単位は「mg KOH/gjである。
[0099] 含フッ素樹脂 (A)の数平均分子量は、 500以上 20000未満が好ましぐ 2000以上 15000未満がより好ましい。該範囲内であると、感光性樹脂組成物を現像する際の 現像性が良好である。数平均分子量は、ゲルパーミエーシヨンクロマトグラフィー法に よりポリスチレンを標準物質として測定されるものである。
[0100] 含フッ素樹脂 (A)は、エチレン性二重結合と前記 Rf基 (a)とを有する単量体に由来 の構成単位と、エチレン性二重結合と前記酸性基 (b)とを有する単量体に由来の構 成単位とを含む共重合体であって、酸価が l〜300mgKOHZgであるのが好ましい
[0101] 前記エチレン性二重結合としては、（メタ）アタリロイル基、ビュル基、ァリル基が挙 げられる。 [0102] 前記エチレン性二重結合と前記 Rf基（a)とを有する単量体としては、 CH =0^0
2
〇〇Q2Rf CH =CR1〇C〇Q1Rf CH =CR1〇Q1Rf CH ^CR'CH OQ'Rf, CH
= CR1C〇〇Q2NR1S〇 Rf CH =CR1C〇〇Q2NR1C〇Rf CH =CR1C〇〇Q2N
R'COOQ'Rf, CHニ。!^。。。 ^ 1!^等が挙げられる。ただし、 R1は、水素原子 又はメチル基を、 Q1は単結合又は炭素数 1 6の 2価有機基を、 Q2は炭素数 1 6の 2価有機基をそれぞれ表す。 Q1, Q2は、環状構造を有していてもよい。
[0103] Q1, Q2の具体例としては、それぞれ独立に、 -CH― -CH CH― -CH(CH
CH CH CH -C(CH ) CH(CHCH ) CH CH CH CH CH(CH CH CH ) CH (CH ) CH CH(CH CH(CH ) ) CH CH(OH)CH CH CH NHCOOCH CH CH(OH)CH OCH 一等が挙げられる。これらの中でも、合成の容易さの観点から、 -CH -CH C
H -CH CH(〇H)CH—が好ましい。
[0104] 前記エチレン性二重結合と前記 Rf基（a)とを有する単量体の具体的な例としては、 CH =CHCO〇CH CF O (CF CF〇） CF (nは 3 9) CH =CHC〇OCH C
F(CF )〇（CF CF(CF )〇） C F (nは 2 6) CH =CHCO〇CH CF (CF )〇
(CF CF(CF )〇） C F (nは 2 6)、 CH =C(CH )COOCH CH NHCOOCH
CF O (CF CF〇） CF (nは 3 9) CH =C (CH ) COOCH CH NHCOOCH
CF(CF )〇（CF CF(CF )〇） C F (nは 2 6) CH =C(CH ) COOCH CH
NHCOOCH CF (CF ) O (CF CF (CF ) O) CF (nは 2 6) CH =C (CH ) C
OOCH CH (OH) CH OCH CF〇 (CF CF O) CF (nは 3 9) CH =C(CH
) COOCH CH (OH) CH OCH CF (CF ) O (CF CF (CF ) O) C F (nは 2 6) CH =C(CH ) COOCH CH(OH)CH OCH CF(CF )0(CF CF(CF )θ)
C F (nは 2 6)、等が挙げられる。
[0105] 含フッ素樹脂 (A)における前記エチレン性二重結合と前記 Rf基 (a)とを有する単 量体に由来の構成単位の割合は、：!〜 95モル％等が好ましぐ 5 80モル％がより 好ましぐ 20 60モル％がさらに好ましい。該範囲内であると、含フッ素樹脂は良好 な撥インク性を有し、感光性樹脂組成物を現像する際の現像性が良好となる。
[0106] 前記酸性基 (b)を有する単量体としては、例えば、カルボキシル基を有する単量体 、フエノール性水酸基を有する単量体、スルホン酸基を有する単量体が挙げられる。
[0107] 前記カルボキシノレ基を有する単量体としては、例えば、アクリル酸、メタクリノレ酸、ビ ニル酢酸、クロトン酸、ィタコン酸、マレイン酸、フマル酸、ケィ皮酸、又はこれらの塩 等が挙げられる。これらは、一種単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。
[0108] 前記フエノール性水酸基を有する単量体としては、例えば、 o—ヒドロキシスチレン、 m—ヒドロキシスチレン、 p—ヒドロキシスチレン等が挙げられる。また、これらのベンゼ ン環の 1個以上の水素原子が、メチル基、ェチル基、 n_ブチル基等のアルキル基、 メトキシ基、エトキシ基、 n ブトキシ基等のアルコキシ基、ハロゲン原子、アルキル基 の 1個以上の水素原子がハロゲン原子に置換されたハロアルキル基、ニトロ基、シァ ノ基、アミド基で置換された化合物等も挙げられる。これらは、一種単独で用いてもよ いし、二種以上を併用してもよい。
[0109] 前記スルホン酸基を有する単量体としては、例えば、ビニルスルホン酸、スチレンス ルホン酸、 （メタ）ァリルスルホン酸、 2 ヒドロキシ— 3— (メタ）ァリルォキシプロパンス ルホン酸、 （メタ）アクリル酸 2—スルホェチル、 （メタ）アクリル酸 2—スルホプロピ ル、 2 ヒドロキシ一 3— (メタ）アタリロキシプロパンスルホン酸、 2— (メタ）アクリルアミ ドー 2—メチルプロパンスルホン酸、又はこれらの塩等が挙げられる。これらは一種単 独で用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。
[0110] 含フッ素樹脂における、酸性基 (b)を有する単量体に由来の構成単位の割合は、 0 .：!〜 40モノレ0 /0等力好ましく、 0. 5〜30モノレ0 /0力より好ましく、：!〜 20モノレ0 /0力 Sさらに 好ましい。該範囲で内あると、含フッ素樹脂は良好な撥インク性を有し、感光性樹脂 組成物を現像する際の現像性が良好となる。
[0111] 含フッ素樹脂が、エチレン性二重結合及び Rf基 (a)を有する単量体に由来の構成 単位と、エチレン性二重結合及び酸性基 (b)を有する単量体に由来の構成単位とを 有する共重合体である場合、 Rf基（a)及び酸性基 (b)を有しない単量体 (以下、「そ の他の単量体」という。）に由来の構成単位を有していてもよい。その他の単量体とし ては、例えば、炭化水素系ォレフイン類、ビュルエーテル類、イソプロぺニルエーテ ル類、ァリルエーテル類、ビュルエステル類、ァリルエステル類、 （メタ）アクリル酸エス テル類、（メタ）アクリルアミド類、芳香族ビニル化合物、クロロォレフイン類、フルォロ ォレフィン類、共役ジェン類が挙げられる。これらの化合物には、官能基が含まれて レ、てもよぐ該官能基としては例えば、水酸基、カルボニル基、アルコキシ基、アミド基 等が挙げられる。また、ポリシロキサン構造を有する基を有していてもよい。ただし、そ の他の単量体に由来の構成単位は、 Rf基（a)及び酸性基（b)を有しなレ、。その他の 単量体は、一種単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。
特に (メタ）アクリル酸エステル類、（メタ）アクリルアミド類が、感光性樹脂組成物を 用いて形成された膜の耐熱性向上の点で好ましレ、。
[0112] 含フッ素樹脂における、前記その他の単量体に由来の構成単位の割合は 80%モ ル以下が好ましぐ 70モル％以下がより好ましい。該範囲内であると、感光性樹脂組 成物を現像する際の現像性が良好となる。
[0113] 含フッ素樹脂は、上記のエチレン性二重結合及び Rf基（a)を有する単量体に由来 の構成単位と、エチレン性二重結合及び酸性基 (b)を有する単量体に由来の構成 単位とを含む共重合体を合成することによって得られるほか、反応部位を有する重合 体に Rf基（a)を有する化合物及び/又は酸性基 (b)を有する化合物を反応させる各 種変性方法によっても得られる。
[0114] 反応部位を有する重合体に Rf基（a)を有する化合物を反応させる各種変性方法と しては、例えば、エポキシ基を有する単量体をあらかじめ共重合させ、後に Rf基（a) とカルボキシノレ基を有する化合物を反応させる方法、エポキシ基を有する単量体を あらかじめ共重合させ、後に Rf基（a)とヒドロキシノレ基を有する化合物を反応させる 方法が挙げられる。
[0115] 前記エポキシ基を有する単量体の具体例としては、グリシジル (メタ）アタリレート、 3
， 4 _エポキシシクロへキシルメチルアタリレートが挙げられる。
[0116] 前記 Rf基（a)とカルボキシノレ基を有する化合物としては、下記式 3で表される化合 物が挙げられる。
HOOC-C F -0- (C F -0) -C F · · ·式 3
p- 1 (p-l) p 2p n-1 q 2q+l
前記式 3中、 pは 2又は 3の整数、 qは:!〜 20の整数、 nは 2〜50の整数を表す。
[0117] また、前記 Rf基（a)とヒドロキシル基を有する化合物としては、下記式 4で表される 化合物が挙げられる。 HOCH -C F -0- (C F -O) 一 C F …式 4
2 p-1 (p-l) p 2p n-1 q 2q+l
前記式 4中、 pは 2又は 3の整数、 qは：!〜 20の整数、 nは 2〜50の整数を表す。
[0118] 反応部位を有する重合体に酸性基 (b)を有する化合物を反応させる各種変性方法 としては、例えば、水酸基を有する単量体をあらかじめ共重合させ、後に酸無水物を 反応させる方法が挙げられる。また、エチレン性二重結合を有する酸無水物をあらか じめ共重合させ、後に水酸基を有する化合物を反応させる方法が挙げられる。
[0119] 前記水酸基を有する単量体の具体例としては、ビュルフヱノール、 2_ヒドロキシェ チル（メタ）アタリレート、 2—ヒドロキシプロピル（メタ）アタリレート、 3—ヒドロキシプロピ ル（メタ）アタリレート、 4ーヒドロキシブチル（メタ）アタリレート、 5—ヒドロキシペンチル（ メタ）アタリレート、 6—ヒドロキシへキシル（メタ）アタリレート、 4ーヒドロキシシクロへキ シル（メタ）アタリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アタリレート、 3—クロ口一 2 シェチルビニルエーテル、 4ーヒドロキシブチルビニルエーテル、シクロへキサンジォ ールモノビニルエーテル、 2—ヒドロキシェチルァリルエーテル、 N—ヒドロキシメチル (メタ）アクリルアミド、 N, N—ビス（ヒドロキシメチル）等が挙げられる。
[0120] さらに、水酸基を有する単量体としては、末端が水酸基であるポリオキシアルキレン 鎖を有する単量体であってもよい。例えば、 CH =CH〇CH C H CH 0 (C H〇）
2 2 6 10 2 2 4 g
H (ここで、 gは:!〜 100の整数を表す。以下同様。）、 CH =CHOC H〇（C H〇）
2 4 8 2 4 g
H、 CH =CHCOOC H〇（C H CO H、 CH =C (CH ) COOC H O (C H O) H
2 2 4 2 4 g 2 3 2 4 2 4 g
、 CH =CHCOOC H〇（C H〇） (C H O) H (ここで、 hは 0又は:!〜 100の整数
2 2 4 2 4 3 6 k
であり、 kは 1〜100の整数であり、 h + kは 1〜101である。以下同様。）、 CH =C (C
2
H ) COOC H 0 (C H O) (C H O) H、等が挙げられる。これらは、一種単独で用
3 2 4 2 4 h 3 6 k
いてもよいし、二種以上を併用してもよい。
[0121] 前記酸無水物の具体例としては、無水フタル酸、無水 3—メチルフタル酸、無水トリ メリット酸等が挙げられる。
[0122] 前記エチレン性二重結合を有する酸無水物の具体例としては、無水マレイン酸、無 水ィタコン酸、無水シトラコン酸、無水メチル _ 5_ノルボルネン _ 2， 3—ジカルボン 酸、無水 3, 4, 5, 6—テトラヒドロフタル酸、無水 cis— 1 , 2, 3, 6—テトラヒドロフタル 酸、 2—ブテン一 1—ィルスシニックアンハイドライド等が挙げられる。
[0123] 前記水酸基を有する化合物としては、 1つ以上の水酸基を有している化合物であ ればよぐ上記の水酸基を有する単量体の具体例や、エタノール、 1一プロパノール 、 2_プロパノール、 1—ブタノール、エチレングリコール等のアルコール類、 2—メトキ シエタノール、 2 _エトキシエタノール、 2 _ブトキシエタノール等のセルソルブ類、 2 _ (2—メトキシェトキシ）エタノール、 2_ (2—エトキシエトキシ）エタノール、 2- (2- ブトキシエトキシ)エタノール等のカルビトール類等が挙げられる。分子内に ;L個の水 酸基を有する化合物が好ましい。これらは、一種単独で用いてもよいし、二種以上を 併用してもよい。
[0124] 含フッ素樹脂あるいは含フッ素樹脂の前駆体となる前記反応部位を有する重合体 は、単量体を必要に応じて連鎖移動剤と共に、溶媒に溶解して加熱し、重合開始剤 を加えて反応させる方法によって合成できる。
[0125] 含フッ素樹脂 (A)の感光性樹脂組成物中における量は、該組成物の固形分に対し て、 0· 01〜50質量％が好ましぐ 0. ：!〜 30質量％がより好ましぐ 0. 2〜： 10質量％ が特に好ましい。該範囲内であると、感光性樹脂組成物は良好な撥インク性、インク 転落性を奏し、現像時における現像性が良好となる。
[0126] (2)撥インク層を設ける方法
混色を防ぐ手段として、基板上に形成された離隔壁の少なくとも基板から離れた例 えば上部にインク反発性を有する仕切り壁（以下、「撥インク層」という）を形成する方 法である。
[0127] インク反発性を有する仕切り壁として、シリコーンゴム層を用いることが好ましい。シ リコーンゴム層は離隔壁の表層に設けられ、着色に用いる溶液及びインクに対して反 発効果を有することが必要である。シリコーンゴム層は、特に限定されるものではない 力 下記の繰り返し単位を有する分子量数千〜数十万の線状有機ポリシロキサンを 主成分とするもので構成された層が好ましい。
[0128] [化 1]
Figure imgf000030_0001
[0129] ここで、 nは 2以上の整数、 Rは炭素数 1〜： 10のアルキル基、アルケニル基あるいは フエ二ノレ基を表す。
このような線状有機ポリシロキサンをまばらに架橋することにより、シリコーンゴムが 得られる。架橋を担う架橋剤には、いわゆる室温 (低温)硬化型のシリコーンゴムに使 われるァセトキシシラン、ケトォキシムシラン、アルコキシシラン、アミノシラン、アミドシ ラン、アルケニォキシシランなどが挙げられ、通常線状の有機ポリシロキサンとして末 端が水酸基であるものと組み合わせて、それぞれ脱酢酸型、脱ォキシム型、脱アルコ ール型、脱ァミン型、脱アミド型、脱ケトン型のシリコーンゴムとなる。また、シリコーン ゴムには、触媒として少量の有機スズィ匕合物などが一般に添加される。
[0130] また、離隔壁とシリコーンゴム層との接着のために、界面部に接着層として種々のも のを用いることがあり、特にアミノシラン化合物や有機チタネー H匕合物が好ましく用 レ、ることができる。離隔壁とシリコーンゴム層との間に接着層を設ける代わりに、シリコ ーンゴム層に接着成分を添加しておくこともできる。この添加接着成分としても、ァミノ シラン化合物や有機チタネート化合物が使用できる。 [0131] 仕切り壁を作製するには、まず離隔壁が形成された基板上にシリコーンゴム層を形 成する。このとき、仕切り壁を作製するための露光は、基板の離隔壁非形成面側（裏 側）から離隔壁をマスクとして行なレ、、さらに照射 UV光を散乱させて入射光を透過部 位の大きさより拡大して感光性樹脂に作用させ、光反応して可溶化する樹脂の部分 をシリコーンゴム層側の方が大きくなるようにする。このように露光した後、 n—ヘプタ ン Zエタノール混合液で現像することにより、シリコーンゴム層を有する仕切り壁を作 製できる。
[0132] (3)プラズマ処理により撥インク性を付与する方法
混色を防ぐ手段として、基板上に形成された離隔壁にプラズマによる撥インク化処 理を施す方法である。
[0133] プラズマ処理時に導入する、少なくともフッ素原子を含有するガスとしては、 CF、 C
4
HF、 C F、 SF、 C F、及び C Fより選択される少なくとも一種のハロゲンガスを用
3 2 6 6 3 8 5 8
レ、ることが好ましい。特に、 C F (ォクタフルォロシクロペンテン）は、オゾン破壊能が 0
5 8
であると同時に、大気寿命が従来のガス（CF : 5万年、〇？：3200年）に比べて 0. 9
4 4 8
8年と非常に短い。したがって、地球温暖化係数が 90 (CO = 2とした 100年積算値）
2
と、従来のガス（CF : 6500、 C F : 8700)に比べて非常に小さぐオゾン層や地球
4 4 8
環境保護に極めて有効であり、本発明で使用する上で望ましい。
[0134] さらに、導入ガスとしては、必要に応じて酸素、アルゴン、ヘリウム等のガスを併用し てもよレヽ。本工程においては、前記 CF 、 CHF、 C F、 SF、 C F、及び C Fより選
4 3 2 6 6 3 8 5 8 択される少なくとも一種のハロゲンガスと oとの混合ガスを用いると、プラズマ処理さ
2
れる離隔壁表面の撥インク性の程度を制御することが可能である。但し、該混合ガス において、 Oの混合比率が 30%を超えると〇による酸化反応が支配的になり、撥ィ
2 2
ンク性の向上効果が妨げられるため、また、樹脂に対するダメージが顕著になるため 、該混合ガスを用いる場合には〇の混合比率を 30%以下の範囲とすることが好まし
2
レ、。
[0135] また、プラズマの発生方法としては、低周波放電、高周波放電、マイクロ波放電等 の方式を適用でき、プラズマ処理の際の圧力、ガス流量、放電周波数、処理時間等 の条件は任意に設定することができる。 [0136] (4)離隔壁の壁表面に撥インク材料を塗布する方法
混色を防ぐ手段として、基板及び該基板上に形成された離隔壁の表面に撥インク 性を有する材料 (以下、撥インク材料ともいう）を塗布する方法である。
[0137] 撥インク性を有する材料 (撥インク材料）としては、例えば、ポリテトラフルォロェチレ ン等のフッ素樹脂、シリコーンゴム、パーフルォロアルキルアタリレート、ハイドロカ一 ボンアタリレート、メチルシロキサン等、一般に撥インク材料と考えられるもののうち、 着色液体組成物に対する接触角が 60° 以上のものを特に限定なく好適に用いるこ とがでさる。
[0138] 撥インク材料の塗布には、撥インク性を有する材料をそのまま溶媒に溶解又は分散 させて用レ、ること力 Sできる。塗布の方法としては、基板、離隔壁などに影響を及ぼさな い方法であればよぐ例えば、スリットコート、スピンコート、ディップコート、ロールコー ト等から各材料に最適の方法を選択することができる。
[0139] 本方法では、離隔壁が形成された基板の離隔壁非形成面側 (裏面側)から離隔壁 を介して UV' O処理を行なうことで、離隔壁以外の部分の撥インク材料を選択的に
3
除去又は親水化処理 (着色剤に対する接触角が処理前後で 30° 以上の差を有する ように）することによって、撥インク処理を行なうことができる。
[0140] 撥インク材料を除去又は親水化処理する場合、パターニングの方法はレーザーァ ブレーシヨン、プラズマアツシング、コロナ放電処理等のドライ処理、及びアルカリを用 レ、たウエット処理等、材料に応じて最適の方法を選択することが可能である。
また、離隔壁上に撥インク材料をパターン形成する場合、リフトオフ法等も有効であ る。
[0141] 前記（1)〜（4)の撥インク処理の中でも、工程が簡便である観点から、 （3)プラズマ 処理により撥インク性を付与する方法が特に好ましい。
[0142] カラーフィルタ用隔壁付基板
本発明のカラーフィルタ用隔壁付基板は、既述の本発明のカラーフィルタ用隔壁の 製造方法により作製されたものであり、基板上に既述のように構成された感光性樹脂 層を 50mW/cm2以上の照度でパターン露光してなる隔壁を有するものである。した 力 Sつて、インクを (例えばインクジェット法により）液滴付与して着色画素部を形成した 際のインクの離隔壁からのはみ出しや、隣接するパターン間での混色が効果的に抑 制され、色相が良好で表示品位の画像表示が可能なカラーフィルタを構成するのに 有効である。
[0143] カラーフィルタ用隔壁の形成は、既述の通りであり、転写法によるのがより好ましい。
なお、感光性樹脂層を構成する各成分は、既述の通りであり、好ましい態様も同様 である。また、カラーフィルタ用隔壁の高さ、光学濃度についても既述の通りである。
[0144] 表示素子用カラーフィルタ
本発明の表示素子用カラーフィルタは、既述の本発明のカラーフィルタ用隔壁付 基板と着色画素部とを設けて構成されたものであり、着色画素部は、カラーフィルタ 用隔壁付基板の隔壁間の凹部にインクジェット法により液滴を付与して形成されたも のである。本発明のカラーフィルタ用隔壁を有するので、インクジェット付与されたィ ンクのはみ出しや混色がなぐ色相が良好で表示品位の画像表示が可能である。
[0145] 着色画素部の形成は、既述のようにして基板上に形成された離隔壁で取り囲まれ た凹部に、 2色以上の画素（例えば RGB3色の画素パターン)を形成するための着色 液体組成物を液滴付与することにより侵入させて、 2色以上の複数の画素で構成さ れるように形成すること力 Sできる。
[0146] 着色液体組成物を液滴付与して離隔壁間に侵入させる方法としては、インクジエツ ト法、ストライプギーサ一塗布法などの公知の方法を利用でき、インクジェット法がコス ト的に好ましい。
また、各画素を形成する前に、離隔壁の形状を固定化してもよぐその手段は特に 限定されないが、 1)現像後、再露光を行なう、 2)現像後、比較的低い温度で加熱処 理を行なう等である。加熱処理は、離隔壁を有する基板を電気炉、乾燥器等の中で 加熱する、あるいは赤外線ランプを照射する等により行なえる。
[0147] 前記 1)による場合の露光量は、大気下であれば 500〜3000mjZcm2、好ましくは 1000〜2000mjZcm2である。また、前記 2)による場合の加熱温度は、 50〜250°C 、好ましくは 70〜200°C程度であり、その加熱時間は 10〜150分程度である。温度 が前記範囲内であると、離隔壁の硬化が良好に行なえ、所望形状の離隔壁を形成 するのに有効である。 [0148] 各色の着色画素部を形成するためのインクジェット法については、インクを熱硬化さ せる方法、光硬化させる方法、予め基板上に透明な受像層を形成しておいてから打 滴する方法など、公知の方法を用いることができる。
[0149] 好ましくは、着色画素部の形成後に加熱処理（いわゆるベータ処理）する加熱工程 を設ける。すなわち、着色画素部が形成された基板に対し、電気炉、乾燥器等を用 レ、て加熱する、あるいは赤外線ランプ等で光照射する。加熱の温度及び時間は、感 光性樹脂組成物の組成や形成された着色画素部の厚みに依存するが、一般に充分 な耐溶剤性、耐アルカリ性、及び紫外線吸光度を獲得する観点から、約 120°C〜約 250°Cで約 10分〜約 120分間加熱することが好ましい。
[0150] カラーフィルタパターンの形状については、特に限定はなぐ図 2に示すように、一 般的なブラックマトリックス形状であるストライプ状であっても、格子状であっても、さら にはデルタ配列状であってもよい。
[0151] インクジェット法
インクジェット法としては、帯電したインクを連続的に噴射し電場によって制御する 方法、圧電素子を用いて間欠的にインクを噴射する方法、インクを加熱しその発泡を 利用して間欠的に噴射する方法等、各種の方法を採用できる。
用いるインクは、油性、水性のいずれであってもよい。また、インク中の色材としては 、染料、顔料ともに使用することができ、耐久性の面からは顔料が好ましい。また、公 知のカラーフィルタ作製に用いられる、塗布方式の着色インク（例えば特開 2005— 3 861号公報の段落番号 [0034]〜[0063]に記載の着色樹脂組成物、）や、特開平 10— 195358号公報の段落番号 [0009]〜 [0026]に記載のインクジェット用組成 物を使用することもできる。
[0152] インクには、液滴付与後の工程を考慮し、加熱により硬化する又は紫外線などのェ ネルギ一線により硬化する成分を添加することもできる。加熱により硬化する成分とし ては各種の熱硬化性樹脂が挙げられ、エネルギー線により硬化する成分としては例 えばアタリレート誘導体又はメタタリレート誘導体に光開始剤を添加したもの等が挙げ られる。特に、耐熱性を考慮して、アタリロイル基、メタクリロイル基を分子内に複数有 するものがより好ましい。これらのアタリレート誘導体、メタタリレート誘導体は、水溶性 のものが好まし 水に難溶性のものでもエマルシヨンィ匕するなどして使用することが 可能である。この場合、既述した顔料などの色材を用いて構成された感光性樹脂組 成物を好適に用いることができる。
また、好適なインクとして、少なくともバインダー及び 2官能ないし 3官能のエポキシ 基含有モノマーを含むカラーフィルタ形成用の熱硬化性インクも好適である。
[0153] 本発明におけるカラーフィルタは、 RGB3色のインクを吹き付けて 3色の着色画素 部からなる群で構成された形態が好ましレ、。
[0154] オーバーコート層
カラーフィルタの作製後には、耐性向上の目的で、着色画素部及び離隔壁の全面 にオーバーコート層を設けることができる。
オーバーコート層は、 R， G， B等の着色画素部及び離隔壁を保護すると共に表面 を平坦にすることができる。ただし、工程数が増える観点からは設けないことが好まし い。
オーバーコート層は樹脂（oc斉 |J)を用いて構成することができ、樹脂（〇C斉 IJ)として は、アクリル系樹脂組成物、エポキシ樹脂組成物、ポリイミド樹脂組成物などが挙げら れる。中でも、可視光領域での透明性で優れており、カラーフィルタ用光硬化性組成 物の樹脂成分が通常アクリル系樹脂を主成分としており、密着性に優れることから、 アクリル系樹脂組成物が望ましい。オーバーコート層の例として、特開 2003— 2876 18号公報の段落番号 [0018]〜 [0028]に記載のものや、オーバーコート剤の巿販 品として、 JSR社製のォプトマ一 SS6699G (商品名）が挙げられる。
[0155] 本発明の表示素子用カラーフィルタは、テレビ、パーソナルコンピュータ、液晶プロ ジェクタ一、ゲーム機、携帯電話などの携帯端末、デジタルカメラ、カーナビなどの用 途に特に制限なく好適に適用できる。
[0156] 表示装置
本発明の表示装置は、前記本発明の表示素子用カラーフィルタを設けてなるもの であり、既述の本発明のカラーフィルタ用隔壁の製造方法により作製されたカラーフ ィルタ用隔壁を有している。カラーフィルタ用隔壁を有するので、色相が良好で表示 品位の画像表示が可能である。 [0157] 本発明の表示装置としては、液晶表示装置、プラズマディスプレイ表示装置、 EL表 示装置、 CRT表示装置などの表示装置などを含む。表示装置の定義や各表示装置 の説明については、例えば、「電子ディスプレイデバイス」佐々木昭夫著、（株）工業 調査会（1990年発行)、「ディスプレイデバイス」伊吹順章著、産業図書 (株）（平成元 年発行)などに記載されている。
[0158] 上記の液晶表示装置については、例えば、「次世代液晶ディスプレイ技術」（内田 龍男編集、（株)工業調査会、 1994年発行）に記載されている。液晶表示装置の形 態に特に制限はなぐ例えば、前記「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載の色々な 方式の液晶表示装置に構成することができる。
中でも特に、カラー TFT方式の液晶表示装置に構成されると効果的である。カラー TFT方式の液晶表示装置については、例えば、「カラー TFT液晶ディスプレイ」（共 立出版 (株）、 1996年発行）に記載がある。さらに、本発明の液晶表示素子は、 IPS 等の横電界駆動方式、 MVA等の画素分割方式などの視野角が拡大された液晶表 示装置に構成することも可能である。これらの方式については、例えば、「EL、 PDP 、 LCDディスプレイ 技術と市場の最新動向一」（東レ'リサーチセンター調査研究 部門、 2001年発行）の 43頁に記載されている。
[0159] 液晶表示装置は、カラーフィルタ以外に、電極基板、偏光フィルム、位相差フィルム 、ノ ックライト、スぺーサ、視野角補償フィルムなど、様々な公知の部材を用いて構成 することができる。上記した本発明のカラーフィルタ用隔壁付基板、液晶表示素子用 カラーフィルタは、これら公知の部材で構成された液晶表示装置に適用することがで きる。これらの部材については、例えば、「'94液晶ディスプレイ周辺材料 ·ケミカルズ の市場」（島健太郎、（株）シーエムシー、 1994年発行）、「2003液晶関連市場の現 状と将来展望 (下巻)」（表良吉、（株)富士キメラ総研、 2003年発行）に記載されてい る。
[0160] 実施例
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越え ない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部 」は質量基準である。 [0161] 濃色組成物 Klの調製
まず下記表 1に記載の量の K顔料分散物 1、及びプロピレングリコールモノメチルェ 一テルアセテートをはかり取り、温度 24°C (± 2°C)で混合して 150r.p.m.で 10分間 攪拌し、次いで、表 1に記載の量のメチルェチルケトン、バインダー 2、ハイドロキノン モノメチルエーテル、 DPHA液、 2, 4—ビス（トリクロロメチル）一6— [4— (N, N—ジ エトキシカルボニルメチル）ァミノ― 3—ブロモフヱニル] - s -トリアジン、及び界面活 性剤 1をはかり取り、温度 25°C ( ± 2。C)でこの順に添加して、温度 40。C ( ± 2。C)で 1 50r.p.m.で 30分間攪拌することにより、濃色組成物 K1を調製した。
[0162] [表 1]
Figure imgf000037_0001
質量部
[0163] K顔料分散物 1の組成を下記に示す。
'プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート… 79. 53%
'カーボンブラック（Nipex35、デグッサ社製）… 13. 1 %
'下記分散剤… 0. 65%
'ポリマー（ベンジルメタタリレート/メタクリル酸 = 72Z28モル比のランダム共重合 物、分子量 3. 7万）… 6. 72%
[0164] [化 2]
Figure imgf000038_0001
[0165] バインダー 2の組成を下記に示す。
'ポリマー（ベンジルメタタリレート/メタクリル酸（ = 78/22 [モル比])のランダム共重 合物、分子量 3. 8万）… 27%
'プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート… 73%
[0166] DPHA液の組成を下記に示す。
.ジペンタエリスリトールへキサアタリレート… 76%
(重合禁止斉 IJ、商品名： KAYARAD DPHA、 MEHQ500ppm含有、 日本化薬（ 株)製）
'プロピレングリコールモノメチルエーテルァセテード "24%
[0167] 界面活性剤 1の組成を下記に示す。
•下記構造物：!… 30%
'メチルェチルケトン'■ · 70%
[0168] [化 3] 構造物 1
Figure imgf000039_0001
( n = 6、 x = 5 5 » y = 5、
M w= 3 3 9 4 0 , w/ n = 2 . 5 5
P O：プロピレンオキサイド， E O：エチレンオキサイド） 実施例 1
[0169] 離隔壁の形成
無アルカリガラス基板 (以下、単に「ガラス基板」という）を UV洗浄装置で洗浄後、 洗浄剤を用いてブラシ洗浄し、さらに超純水で超音波洗浄した。その後、ガラス基板 を 120°Cで 3分間熱処理して表面状態を安定化させた。
[0170] ガラス基板を冷却後、 23°Cに温調し、スリット状ノズルを備えたガラス基板用コータ 一（商品名： MH— 1600、エフ'エー 'エス'アジア社製）にて、上記より得た濃色組 成物 K1を塗布した。引き続き、真空乾燥装置 (VCD) (東京応化工業社製)を用いて 30秒間溶媒の一部を乾燥させ、塗布層の流動性を無くした後、 120°Cで 3分間プリ ベータして、膜厚 1. 8 z mの濃色感光層 K1を形成した。
[0171] 超高圧水銀灯を備えたプロキシミティー型露光機を用い、濃色感光層 K1が形成さ れたガラス基板とマスク（画像パターンを有す石英露光マスク）とを垂直に立てた状態 で、マスク面と濃色感光層 K1との間の距離を 200 x mに設定し、露光量 300mj/c m2でパターン露光した。このとき、照度計（商品名： UV_M10_S、（株）オーク製作 所製)を露光焦点部に設置して予め露光照度を計測したところ、 70mW/cm2であつ た。
[0172] 次に、純水をシャワーノズノレにて噴霧し、濃色感光層 K1の表面を均一に湿らせた 後、 KOH系現像液（商品名： CDK—l (K〇H、ノニオン界面活性剤含有）、富士フ イルムエレクトロニクスマテリアルズ (株）製）の 100倍希釈液にて 23°Cで 80秒間、フ ラットノズル圧力 0. 04MPaにてシャワー現像し、パターン像を得た。引き続き、超純 水を超高圧洗浄ノズノレにて 9. 8MPaの圧力で噴射して残渣除去を行なレ、、大気下 にて露光量 2 , 000mj/cm2にてポスト露光を行なって、光学濃度 3. 5の離隔壁を 形成した。
以上のようにして、ガラス基板に離隔壁が形成された離隔壁付基板を作製した。
[0173] 上記のようにして作製した離隔壁付基板を、ガラス基板ごと基板面に垂直に切断し 、露出した切断面を光学顕微鏡で直接観察すると共に、走査型電子顕微鏡 (SEM) で写真撮影した。結果を下記表 2に示す。上記のように観察した結果、図 1に示すよ うに、離隔壁の基板面からの高さが最も高い点での離隔壁高さ h、 0. 8hの位置に基 板と平行な線 L、 Lと離隔壁の接点における接線 L、 hの位置に基板と平行な線 Lと
1 1 2 3 したとき、 Lとしの交点から離隔壁までの距離 dと定義したとき、 h = l . 6 / m, d = 0.
2 3
061 μ ηιであり、 d/h = 0. 038であった。
[0174] プラズマ撥インク処理
次いで、離隔壁が形成された離隔壁付基板に対し、力ソードカップリング方式平行 平板型プラズマ処理装置を用いて、下記条件で離隔壁にプラズマ撥インク処理を行 なった。
'使用ガス ： CF
4
'ガス流量 : 80sccm
'圧力 ：40Pa
•RFパワー： 50W
•処理時間 ：30sec
[0175] 画素用着色インクの調製
下記の成分のうち、まず顔料 (C . I.ピグメント 'レッド 254)と高分子分散剤（商品名 ：ソノレスパース 24000、 AVECIA社製）とを溶剤（3—エトキシプロピオン酸ェチル）と 共に混合し、 3本ロールとビーズミルを用いて顔料分散液を調製した。この顔料分散 液をディソルバー等で充分に攪拌しながら、更にグリシジルメタタリレート Zスチレン 共重合体、第一エポキシ樹脂、第二エポキシ樹脂、及びトリメリット酸を少量ずつ添加 し、赤色 (R)画素用着色インクを調製した。
[0176] R画素用着色インクの組成
'顔料 (C . I.ビグメント 'レッド 254) … 5部 •高分子分散剤（商品名：ソルスパース 24000、 AVECIA社製）
… 1部
-ベンジルメタタリレート Zメタクリル酸 = 72Z28モル比の
ランダム共重合物、分子量 3. 7万 (バインダー） … 3部
'第一エポキシ樹脂
(商品名：ェピコート 154、油化シェル社製；ノボラック型エポキシ樹脂）
·■· 2部
•第二エポキシ樹脂（ネオペンチルダリコールジグリシジルエーテル）
· · · 5部
•トリメリット酸 (硬化剤） … 4部
• 3—エトキシプロピオン酸ェチル (溶剤） · ' ·80部
[0177] さらに、前記組成中の C. I.ビグメント 'レッド 254を C. I.ビグメント 'グリーン 36に代 えて同量用いた以外は、前記 R画素用着色インクの調製と同様にして、緑色（G)画 素用着色インクを調製した。また更に、前記 R画素用着色インクの組成中の C. I.ピ グメント'レッド 254を C. I.ビグメント 'ブルー 15 : 6に代えて同量用いた以外は、前記 R画素用着色インクの調製と同様にして、青色 (Β)画素用着色インクを調製した。
[0178] 次に、上記より得た R、 G又は B画素用着色インクを順次用いて、離隔壁付基板の、 プラズマ撥インク処理された離隔壁で離隔された凹状の領域に、各色の着色インクを 所望濃度となるように順次インクジェットヘッドから吐出し、 RGB3色の画素パターン で構成されたカラーフィルタを作製した（以下、カラーフィルタ基板と称する）。続いて 、このカラーフィルタを 230°Cのオーブンに入れて 30分間ベータ処理を行なレ、、離隔 壁及び画素パターンをともに硬化させた。
[0179] 得られたカラーフィルタ基板について、インクジェット付与された各色の着色インク のはみ出し、混色、各画素パターン中の白抜けの有無を光学顕微鏡により評価した ところ、各色の着色インクは離隔壁間の凹部にぴったり収まり、はみ出しや滲み、隣 接する画素パターン間での混色、及びパターン中の白抜けの発生は認められなかつ た。
[0180] 次に、得られたカラーフィルタ基板を構成する R画素、 G画素及び B画素並びに離 隔壁の上にさらに、スパッタリングにより ITO (Indium Tin Oxide)膜を設け、透明 電極を形成した。別途、対向基板としてガラス基板を用意し、カラーフィルタ基板の透 明電極上及び対向基板上にそれぞれ、 PVAモード用にエッチングレジストを用いて パターユングした。
[0181] ここで、カラーフィルタ基板の透明電極 (IT〇膜）の抵抗値を、抵抗率計（商品名：口 レスタ、三菱化学 (株)製)を用い四端針法にて測定したところ、 12 Ω /口であり、低 い値を示した。これは、ガラス基板上に設けられた離隔壁の上端面の平坦性が向上 したことによるものと考えられる。
[0182] 次に、上記のカラーフィルタ基板の透明電極 (ΙΤΟ膜)上における、離隔壁の上方 に位置する部分にフォトスぺーサを設けると共に、その上に更にポリイミドよりなる配 向膜を設けた。その後、カラーフィルタ基板の RGB3色の画素パターンの全体を取り 囲むように外枠位置にエポキシ樹脂のシール剤を印刷すると共に PVAモード用液 晶を滴下し、対向基板と貼り合わせた後、貼り合わされた両基板を熱処理してシール 剤を硬化させ、液晶セルを作製した。
さらに、作製した液晶セルの両側の基板面に偏光板（商品名： HLC2— 2518、（株 )サンリッツ製）のを貼り付けた。次いで、冷陰極管を用いてバックライトを構成し、前 記偏光板が設けられた液晶セルの背面となる側に配置し、液晶表示装置とした。
[0183] 実施例 2
実施例 1において、露光照度を 300mWZcm2に変更したこと以外、実施例 1と同 様にして、離隔壁を形成すると共に、カラーフィルタ基板を作製し、液晶表示素子を 作製した。
[0184] 上記において、実施例 1と同様にして、形成された離隔壁の観察を行なったところ、 h= l . 8 x m、 d = 0. 064 x mであり、 d/h = 0. 035であった。結果を下記表 2に示 す。なお、実施例 1と同様に、上端面の平坦性の高い離隔壁を形成することができた 。また、得られたカラーフィルタ基板について、インクジェット付与された各色の着色ィ ンクのはみ出し、混色、各画素パターン中の白抜けの有無を実施例 1と同様に評価 したところ、各色の着色インクは離隔壁間の凹部にぴったり収まり、はみ出しや滲み、 隣接する画素パターン間での混色、及びパターン中の白抜けの発生は認められなか つた。さらに、実施例 1と同様にして測定した透明電極 (ITO膜）の抵抗値は 11 Ω Ζ 口であり、低い値を示した。これは、離隔壁の上端面の平坦性が向上したことによるも のと考えられる。
[0185] 実施例 3
実施例 1において、超高圧水銀灯を備えたプロキシミティー型露光機をレーザー光 源を備えた走査型露光機に代えたこと以外、実施例 1と同様にして、離隔壁を形成 すると共に、カラーフィルタ基板を作製し、液晶表示素子を作製した。このときの露光 照度を、照度計を露光焦点部に設置して予め計測したところ、 2200mW/cm2であ つた。
[0186] 上記において、実施例 1と同様にして、形成された離隔壁の観察を行なったところ、 h= l . 8 x m、 d=0. 045 x mであり、 d/h=0. 025であった。結果を下記表 2に示 す。なお、実施例 1と同様に、上端面の平坦性の高い離隔壁を形成することができた 。また、得られたカラーフィルタ基板について、インクジェット付与された各色の着色ィ ンクのはみ出し、混色、各画素パターン中の白抜けの有無を実施例 1と同様に評価 したところ、各色の着色インクは離隔壁間の凹部にぴったり収まり、はみ出しや滲み、 隣接する画素パターン間での混色、及びパターン中の白抜けの発生は認められなか つた。さらに、実施例 1と同様にして測定した透明電極 (ITO膜）の抵抗値は 8 Ω /口 であり、低い値を示した。これは、離隔壁の上端面の平坦性が向上したことによるもの と考免られる。
[0187] 実施例 4
濃色感光性転写材料 K1の作製
厚さ 75 μ mのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体（PET仮支持体）の上に 、スリット状ノズノレを用いて、下記処方 HIからなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布、 乾燥させて熱可塑性樹脂層を形成した。次に、この熱可塑性樹脂層上に更に、下記 処方 P1からなる中間層用塗布液を塗布し、乾燥させて中間層を積層した。続いて、 中間層上に実施例 1で調製した濃色組成物 K1を塗布し、乾燥させて黒色の濃色感 光層を更に積層した。
[0188] 以上のようにして、 PET仮支持体上に乾燥膜厚 14. 6 μ mの熱可塑性樹脂層と、 乾燥膜厚 1. の中間層と、乾燥膜厚 2 x mの濃色感光層とを設け、濃色感光層 の表面に保護フィルム（厚さ 12 x mのポリプロピレンフィルム）を圧着して、仮支持体 Ζ熱可塑性樹脂層 Ζ中間層 Ζ濃色感光層の積層構造に構成された濃色感光性転 写材料を作製した。以下、これを濃色感光性転写材料 K1とする。
[0189] 熱可塑性樹脂層用塗布液の処方 HI
'メタノーノレ 1部
'プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート… 6. 36部
'メチルェチノレケトン · ' ·52. 4部
'メチルメタタリレート /2—ェチルへキシルアタリレート/ベンジルメタタリレート/メ タクリル酸共重合体 … 5. 83部
(共重合比 [モル比] = 55/11. 7/4. 5/28. 8、分子量 = 10万、 Tg 70°C)
'スチレン/アクリル酸共重合体 · ' · 13. 6部
(共重合比 [モル比] = 63/37、平均分子量 = 1万、 Tg 100°C)
•2, 2 ビス [4 （メタクリロキシポリエトキシ)フエニル]プロパン (新中村ィ匕学工業（ 株)製） … 9. 1部
•前記界面活性剤 1 … 0. 54部
[0190] 中間層用塗布液の処方 P1
•PVA- 205 ·■· 32. 2部
〔（株）クラレ製、鹼化度 = 88%、重合度 550 ;ポリビュルアルコール〕
'ポリビニノレピロリドン ·■· 14. 9部
(アイエスピ一.ジャパン社製、 K—30)
•蒸留水 · 524部
•メタノーノレ · ' ·429咅 Β
[0191] 離隔壁の形成
無アルカリガラス基板（以下、単に「ガラス基板」という）を、 25°Cに調整したガラス洗 浄剤液をシャワーにより 20秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄 し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液（N— β (アミノエチル） γ—ァミノプロ ピルトリメトキシシラン 0. 3質量％水溶液、商品名： ΚΒΜ603、信越化学工業 (株)製 )をシャワーにより 20秒間吹き付け、純水シャワー洗浄した。その後、この基板を基板 予備加熱装置で 100°Cで 2分間加熱した。
[0192] シランカップリング処理後のガラス基板に、上記より得た濃色感光性転写材料 K1か ら保護フィルムを剥離除去し、除去後に露出した濃色感光層の表面と前記ガラス基 板の表面とが接するように重ね合わせ、ラミネータ（商品名： Lamidl型、（株）日立ィ ンダストリイズ製）を用いて、ゴムローラー温度 130°C、線圧 100N/cm、搬送速度 2 . 2mZ分の条件にてラミネートした。
続いて、 PET仮支持体を熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、仮支持体を除去した 。仮支持体を剥離後、超高圧水銀灯を備えたプロキシミティー型露光機を用いて、基 板とマスク（画像パターンを有す石英露光マスク）とを垂直に立てた状態で、マスク面 と濃色感光層との間の距離を 200 μ mに設定し、露光量 70mj/cm2でパターン露 光した。このとき、照度計を露光焦点部に設置して予め露光照度を計測したところ、 6 OmW/ cmでめった。
[0193] 次レ、で、 KOH系現像液（商品名： CDK— 1 (K〇H、ノニオン界面活性剤含有）、富 士フィルムエレクトロニクスマテリアルズ (株)製）の 100倍希釈液を用レ、、濃色感光層 の未露光部と中間層及び熱可塑性樹脂層とを現像除去し、ガラス基板上に黒色パタ ーンを得た。続いて、大気下でァライナーでガラス基板の全面を、ガラス基板の離隔 壁が形成されている側から 2， OOOmj/cm2にてポスト露光し、光学濃度 3. 6の離隔 壁を形成した。
[0194] このようにして得られた離隔壁の形状を、実施例 1と同様にして観察したところ、 h = 1. 7 x m、 d = 0. 045 x mであり、 dZh = 0. 026であった。結果を下記表 2に示す。 なお、実施例 1と同様に、上端面の平坦性の高い離隔壁を形成することができた。
[0195] 撥インク材料を塗布する方法による撥インク処理
離隔壁の形成されたガラス基板の離隔壁形成面側に、予めフッ素系界面活性剤（ 商品名：フロラード FC_430、住友 3M (株)製) 0. 5質量％ (下記感光性樹脂の固 形分に対して）が内添してあるアルカリ可溶の感光性樹脂（ポジ型フォトレジスト、商 品名： AZP4210、 へキストシヤパン (株）製）を、膜厚 2 z mとなるようにスリット状ノズ ルを用いて塗布し、温風循環乾燥機中で 90°C、 30分間の熱処理を行なった。次い で、ガラス基板の離隔壁が形成されてレ、なレ、側 (裏面側）から 110mj/cm2 (38mW /cm2 X 2. 9秒）の露光量にて離隔壁を介して露光した。続いて、無機アルカリ現像 液（商品名： AZ400Kデベロッパー、へキストジャパン社製、 1 : 4)中に 80秒間浸漬 揺動した後、純水中で 30〜60秒間リンス処理を行なレ、、ガラス基板上の離隔壁の上 部に撥インク性樹脂層を形成した (既述した (4)の撥インク処理)。このとき、離隔壁 で取り囲まれた凹部の内外において表面エネルギー差が形成された。
撥水性樹脂層形成後の画素形成領域と離隔壁との表面エネルギーは、離隔壁 (撥 水性樹脂層上）で 10〜： 15dyne/cmであり、画素形成領域 (ガラス基板上）で 55dy ne/ cm刖後であった。
[0196] 次いで、実施例 1と同様にして、カラーフィルタ基板を作製し、液晶表示素子を作製 した。
[0197] 得られたカラーフィルタ基板について、インクジェット付与された各色の着色インク のはみ出し、混色、各画素パターン中の白抜けの有無を実施例 1と同様に評価した ところ、各色の着色インクは離隔壁間の凹部にぴったり収まり、はみ出しや滲み、隣 接する画素パターン間での混色、及びパターン中の白抜けの発生は認められなかつ た。さらに、実施例 1と同様にして測定した透明電極 (ITO膜）の抵抗値は 9 Ω /口で あり、低い値を示した。これは、離隔壁の上端面の平坦性が向上したことによるものと 考えられる。
[0198] 実施例 5
実施例 4において、中間層を設けなかったこと以外は同様にして作製した濃色感光 性転写材料を用いたこと以外、実施例 4と同様にして、離隔壁を形成すると共に、力 ラーフィルタ基板を作製し、液晶表示素子を作製した。
[0199] 上記において、実施例 1と同様にして、形成された離隔壁の観察を行なったところ、 h= l . 5 x m、 d = 0. 053 x mであり、 d/h = 0. 036であった。結果を下記表 2(こ示 す。なお、実施例 1と同様に、上端面の平坦性の高い離隔壁を形成することができた 。また、得られたカラーフィルタ基板について、インクジェット付与された各色の着色ィ ンクのはみ出し、混色、各画素パターン中の白抜けの有無を実施例 1と同様に評価 したところ、各色の着色インクは離隔壁間の凹部にぴったり収まり、はみ出しや滲み、 隣接する画素パターン間での混色、及びパターン中の白抜けの発生は認められなか つた。さらに、実施例 1と同様にして測定した透明電極 (ITO膜）の抵抗値は 10 Ω Ζ 口であり、低い値を示した。これは、離隔壁の上端面の平坦性が向上したことによるも のと考えられる。
[0200] 比較例 1
実施例 1において、露光照度を 40mWZ cm2に変更したこと以外、実施例 1と同様 にして、離隔壁を形成すると共に、カラーフィルタ基板を作製し、液晶表示素子を作 製した。このとき、形成された離隔壁の光学濃度は、 3. 6であった。
[0201] 上記において、実施例 1と同様にして、形成された離隔壁の観察を行なったところ、 h= l. 7 μ ηι、 d=0. 14 x mであり、 dZh=0. 082であった。結果を下記表 2に示 す。また、得られたカラーフィルタ基板について、インクジェット付与された各色の着 色インクのはみ出し、混色、各画素パターン中の白抜けの有無を実施例 1と同様に 評価したところ、インクは離隔壁を乗り越えてしまい、隣接する画素パターン間で混色 が起こってしまっていた。さらに、実施例 1と同様にして測定した透明電極 (ITO膜） の抵抗値は 22 Ω /口であり、離隔壁の上端面の平坦性はあまり高いものではなかつ た。
[0202] [表 2]
Figure imgf000047_0001
[0203] 前記表 2に示すように、実施例では、断面矩形に形成された離隔壁は基板と接しな い角部（エッジ）が鮮鋭で上端面の平坦性が高ぐ打滴付与されたインクのはみ出し や滲み、 P 接する画素パターン間での混色、及びパターン中の白抜けの発生を防止 することができた。これに対し、比較例では、離隔壁における基板と接しない角部（ェ ッジ）が丸くなってしまレ、、インクのはみ出しや滲み、混色が生じ、パターン中の白抜 けも発生してしまった。
符号の説明
1 離隔壁
2 基板

Claims

請求の範囲
[1] 下記工程を含む、カラーフィルタ用隔壁の製造方法：
基板の少なくとも一方に、少なくともラジカル重合性モノマーと光重合開始剤とバイ ンダ一と色材とを含む感光性樹脂層を形成する工程；及び
液滴を付与して形成される着色画素部を離隔する隔壁パターンを形成するために 、該感光性樹脂層を 50mW/cm2以上の照度でパターン状に露光し、現像するェ 程。
[2] 前記露光に用いる光源が、レーザー光であることを特徴とする請求項 1に記載の力 ラーフィルタ用隔壁の製造方法。
[3] 前記隔壁パターンの少なくとも一部に撥インク性を付与する撥インク処理工程を更 に含む請求項 1に記載のカラーフィルタ用隔壁の製造方法。
[4] 前記隔壁パターンの少なくとも一部に撥インク性を付与する撥インク処理工程を更 に含む請求項 2に記載のカラーフィルタ用隔壁の製造方法。
[5] 前記撥インク処理工程が、プラズマ処理であることを特徴とする請求項 3に記載の カラーフィルタ用隔壁の製造方法。
[6] 前記撥インク処理工程が、プラズマ処理であることを特徴とする請求項 4に記載の カラーフィルタ用隔壁の製造方法。
[7] 下記工程を含む方法により作製されたカラーフィルタ用隔壁付基板：
基板の少なくとも一方に、少なくともラジカル重合性モノマーと光重合開始剤とバイ ンダ一と色材とを含む感光性樹脂層を形成する工程;及び
液滴を付与して形成される着色画素部を離隔する隔壁パターンを形成するために
、該感光性樹脂層を 50mW/cm2以上の照度でパターン状に露光し、現像するェ 程。
[8] 下記工程を含む、カラーフィルタ用隔壁付基板及び着色画素部を含む表示素子用 カラーフィルタの製造方法：
基板の少なくとも一方に、少なくともラジカル重合性モノマーと光重合開始剤とバイ ンダ一と色材とを含む感光性樹脂層を形成する工程；
該着色画素部を離隔する隔壁パターンを形成するために、該感光性樹脂層を 50 mW/cm2以上の照度でパターン状に露光し、現像する工程;及び 該着色画素部を形成するために、該カラーフィルタ用隔壁付基板の隔壁間の凹部 にインクジェット法により液滴を付与する工程。
[9] カラーフィルタ用隔壁付基板及び着色画素部を含む表示素子用カラーフィルタで あって：
該カラーフィルタ用隔壁付基板が
基板の少なくとも一方に、少なくともラジカル重合性モノマーと光重合開始剤とバ インダ一と色材とを含む感光性樹脂層を形成する工程；及び
該着色画素部を離隔する隔壁パターンを形成するために、該感光性樹脂層を 50 mW/cm2以上の照度でパターン状に露光し、現像する工程；
を含む方法により製造されること;及び
該着色画素部が
該カラーフィルタ用隔壁付基板の隔壁間の凹部にインクジェット法により液滴を付 与する工程
を含む方法により製造されること
を特徴とする、該表示素子用カラーフィルタ。
[10] 表示素子用カラーフィルタを備えた表示装置であって：
該表示素子用カラーフィルタが カラーフィルタ用隔壁付基板及び着色画素部を 含むこと；
該カラーフィルタ用隔壁付基板が
基板の少なくとも一方に、少なくともラジカル重合性モノマーと光重合開始剤とバ インダ一と色材とを含む感光性樹脂層を形成する工程；及び
該着色画素部を離隔する隔壁パターンを形成するために、該感光性樹脂層を 50 mW/cm2以上の照度でパターン状に露光し、現像する工程；
を含む方法により製造されること；及び
該着色画素部が
該カラーフィルタ用隔壁付基板の隔壁間の凹部にインクジェット法により液滴を付 与する工程 を含む方法により製造されること を特徴とする、該表示装置。
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