WO2007049333A1

WO2007049333A1 - 背景地紋画像生成方法

Info

Publication number: WO2007049333A1
Application number: PCT/JP2005/019566
Authority: WO
Inventors: Motoo Masui; Taizo Anan
Original assignee: Fujitsu Limited
Priority date: 2005-10-25
Filing date: 2005-10-25
Publication date: 2007-05-03
Also published as: EP1942652A1; CN101297544A; JPWO2007049333A1; US20080198216A1

Abstract

　印刷された地紋パターンから埋め込み情報を安定して読み取ることができるように、地紋パターンの基本単位を縦横に複数個ずつ並べたブロックを形成する。このブロックに２値あるいは多値の数値を割り当て、情報を表現する。２×２の地紋パターンからなるブロックに、２値の数値（ビット）を割り当てた場合には、ブロックの読み取りの際に、ブロック内の地紋パターンの読み取りが間違えても、間違えが１つの地紋パターンだけである場合には、誤り訂正を行うことができる。また、各地紋パターンは、対角方向に、中央が削除された斜線を引き、斜線とは別の対角方向に孤立ドットを配置する構成とする。これにより、スキャナによる読み取り後の埋め込み情報の読み取りの安定性を確保しながら、印刷物の見た目の一様性を確保することができる。

Description

明細書

背景地紋画像生成方法

技術分野

[0001] 本発明は、印刷用文書に対し、潜像領域を含む背景地紋画像を付与することにより、文書の不正複写の防止、抑制を行う技術に関し、特には、背景地紋領域に埋め込まれた透力し情報のスキャナ装置による検出に適した潜像および地紋パターンの生成方法に関する。

背景技術

[0002] 印刷文書の背景領域に、見た目がー様の地紋パターンを埋め込み、この中の一部領域に、コピー機における複写の際に白く抜ける潜像パターンを指定することによつて、不正複写を抑制する潜像印刷技術がある。

[0003] このような潜像印刷技術として、特許文献 1に示すようなものがある。この特許文献 1 では、特定解像度での孤立ドットと隣接ドットに対する、複写機の処理方法が異なることを利用し、潜像領域の描画パターンについては孤立ドットで構成し、背景地紋領域 (非潜像領域）については隣接ドットで構成した地紋パターンを用いている。各々の平均濃度をほぼ同様に調整することによって、印刷時の複写機での複写時に潜像領域のみが白く変化する潜像印刷 (または、桜紙印刷)を実現して、る。

[0004] また、類似の潜像印刷技術として、特許文献 2のような、潜像領域と、背景地紋領域を異なるサイズのドットで表現する方法もある。潜像領域については、前記孤立ドットによる小ドットを使用し、背景地紋領域については、隣接ドットで構成された大ドットを利用する。各々の領域のドット間隔を調整し、平均濃度がほぼ同様になるよう制御して、印刷時の一様さを確保している。

[0005] 潜像印刷に対する複写時の効果は、潜像パターンと地紋パターンの双方を、例えば、 600dpiの解像度で印刷用ビットマップに描画し、これを指定解像度で印刷し、複写機で複写した場合に、潜像部分の孤立ドットが複写処理にお!、て欠落することによって得られる。この潜像印刷の原理は、複写機内部での微細ドットに対する処理方法に依存するものであり、コピー機の種類によって効果は異なる。この原理は、特許文献 6におヽて提示され、特許文献 1や特許文献 2などで利用されて、る。

[0006] 次に、前記の潜像印刷技術とは別に、複数の背景地紋パターンを組み合わせて、文書の背景地紋画像を構成することにより、地紋画像内に透力データを埋め込む

、地紋透力技術がある。

[0007] このような地紋透力しの実現方式として、特許文献 3では、一定サイズのドットパターンを利用し、各ドットが均等配置されたパターンを元に、透力情報の各ビットに応じた設定された伝播方向を持つ波を、パターン内に埋め込むように、パターン内の一部のドットの位置をずらすことによって、均一濃度の背景地紋画像に対する、透かし情報の埋め込みを実現している。なお、特許文献 3の方式は、一定サイズのドットパターンを利用することが前提であり、潜像印刷を伴うものではな、。

[0008] 潜像印刷に加えて、透かレ f青報の埋め込みを実現した方式として、前述の特許文献 1では、「0」「1」に相当する 2種類の地紋パターンを利用し、透かし情報を表現することを示している。これを利用して、特許文献 4では、複写機における複製禁止コードを、同じく潜像印刷における地紋領域内に埋め込んでいる。さらに、特許文献 5では、地紋パターンをブロック単位で構成することにより、複写機における複製禁止コードに加えて、地紋パターンの組合せにより、複写機での複製を可能とするための条件コードをカ卩えている。

[0009] 潜像印刷に加えて、透かレ f青報の埋め込みを実現した別方式として、前述の特許文献 2では、潜像領域と背景領域に各々おける、小ドットと大ドットの描画位置を、対応する透力し情報のビット値を参照して決定する方法がある。ただし、複写物からの検出を行う場合は、大ドットの描画位置に透力し情報を埋め込む必要がある。大ドットへ情報を埋め込む場合は、位置のずれが比較的めだちやすぐ印刷物としての一様感に欠けるという問題点がある。

[0010] まず、第 1に、上記特許文献 5の方法においては、複数の地紋パターンに透かレ f青報のビット値を割り当て、背景地紋画像上の一定の領域に対して、 2次元状に透かし情報のビットパターンを埋め込み、埋め込まれた透かし情報の検出をする場合、スキャナ装置による読み込み時のノイズや紙の汚れによって、透力し情報のビットパターンに対する地紋パターンの検出精度が低下することが課題となる。 [0011] 上記特許文献 5においては、背景地紋領域に対して、ビットパターンを繰り返して埋め込み、検出時に、これを繰り返して検出することにより、精度の向上を図っている。この方法により安定した検出を行うには、ビットパターンで構成された透かし埋め込み用ブロックを、印刷文書の文字領域や、潜像領域と重ならない位置に、繰り返して配置することが必要である。しかし、印刷文書上に余白領域が少ない場合には、透かし情報の埋め込み '検出がうまく行えない。このため、より狭い領域に透力し情報を埋め込めることが望ましい。

[0012] 第 2に、上記特許文献 1、 4、 5における、潜像つき地紋透力画像の生成方式においては、複写機の機能を利用した潜像印刷を行うために、潜像パターンと地紋バターンを通常印刷よりも高ヽ解像度で構成し、高精細な地紋透かし画像を生成する必要がある。具体的には、潜像印刷が可能な解像度として 600dpiで背景地紋画像を構成すれば、同じ解像度で潜像印刷が可能である。

[0013] し力し、文書スキャナ装置における、 600dpiでの画像読込は、 300dpiでの読み込みに比べて、 4倍程度の読み込み時間を要するため、大量の文書スキャンが必要な場合では、現実的とは言えない。また、透力し情報の安定した検出のためには、印刷後または複写後の文書のスキャンを多値で行う必要があり、特に、 600dpiでの画像読込の場合、透力しの読込のために、スキャン画像を蓄積保存しておくことは、格納容量消費の増大要因となる。

[0014] このため、現実的には、透かし検出時の文書スキャナ装置の解像度を、印刷時と異なるより低!、解像度と設定することが望ま、。

第 3に、上記特許文献 1における潜像入り画像は、潜像用の孤立ドットパターンについて、地紋部分の平均濃度とほぼ同様の濃度を設定するという制約から、地紋用のドットパターンとほぼ同数のドットをパターン内にランダムに配置したものを用いるよう想定している。

[0015] しカゝしながら、上記特許文献 1に基づき孤立ドットを構成する場合、手作業によっては、所要のドット数で、孤立ドットを均等に配置した潜像パターンを構成することは困難である。よって、印刷時あるいは複写時における潜像の色ムラの発生を避けるには、あらかじめ、潜像パターンを含む潜像入り地紋画像を生成した上で、試し印刷を行うことによって潜像の印刷色を確認し、必要に応じて再調整を行う必要がある。

[0016] また、上記特許文献 2に示される、小ドットと大ドットの組合せによって潜像効果を得る潜像入り地紋透力し方式において、複写後の透かし検出を行うためには、複写によつてドットが消えない大ドットに対して、透かしを埋め込まなければならない。

[0017] 大ドットは、潜像用の小ドットに比べて、印刷時に目立ちやすぐ透力しを埋め込むことによる大ドットの位置の変化量も、低解像度でのスキャンを考慮し、大きめに設定しておく必要がある。よって、特許文献 2については、透かしを埋め込んだ場合に、大ドットで構成される領域についてムラが発生しやすぐ見た目の一様性が妨げられるという欠点がある。

特許文献 1：特開 2001— 346032号公報

特許文献 2：特開 2004 - 223854号公報

特許文献 3 :特開 2003— 101762号公報 (特許第 3628312号）

特許文献 4：特開 2002— 305646号公報

特許文献 5：特開 2003 - 283790号公報

特許文献 6：特開平 7 - 231384号公報

発明の開示

[0018] 本発明の課題は、複写機で複写した後にも情報の読み取りを安定して行うことができる背景地紋画像の生成方法を提供することである。

本発明の地紋画像生成方法は、印刷文書の背景領域に対して、ドットパターンを印刷することにより、背景地紋を付与する背景地紋画像生成方法において、 2種類の地紋パターンを用意し、該 2種類の地紋パターンを複数個結合したブロックに、該 2種類の地紋パターンの組み合わせにより、情報を表示する 2値あるヽは多値の数値を対応させ、該 2値あるいは多値の数値が対応付けられたブロックを、背景地紋に含ませる透かレ f青報に従って配列することによって、背景地紋画像を生成することを特徴とする。

[0019] 本発明の地紋パターンは、印刷文書の背景領域に付与する背景地紋の基本単位となる地紋パターンであって、背景地紋に埋め込まれる透力し情報を検出するための、隣接ドットで構成される線分と、複写時に白色に変化する孤立ドットとからなることを特徴とする。

図面の簡単な説明

[0020] [図 1]潜像パターンを含む文書の印刷イメージを示す図である。

[図 2]本発明の実施形態における地紋パターンの構成例を示す図である。

[図 3]本発明の実施形態における潜像用パターンの構成例を示す図である。

[図 4]本発明の実施形態に従った透力情報の埋め込み方法を示す図である。

[図 5]誤り訂正の行い方を示す図（その 1)である。

[図 6]誤り訂正の行、方を示す図（その 2)である。

[図 7]透力しの埋め込み例を示す図である。

[図 8]印刷用背景画像の生成手順を示す図である。

[図 9]ブロック区切りパターンの例を示す図である。

[図 10]スキャナ読込み時のパターン変化を示す図である。

[図 11]潜像用ドットパターンの作成方法を説明する図 (その 1)である。

[図 12]潜像用ドットパターンの作成方法を説明する図 (その 2)である。

[図 13]本発明の実施形態で提案する地紋パターンのドットパターンの設計手順を説明する図である。

発明を実施するための最良の形態

[0021] 本発明の実施形態では、上記特許文献 1、 4、 5の画像生成方式に見られる上記の問題点を解決するために、

(1)透力しの埋め込みについては、効率性の向上と検出の安定性を確保する、

(2)地紋については、印刷時の見た目の一様性の向上とともに、複写処理とスキャン処理を行った状態での透かし検出に適した地紋パターンを設定する、

(3)潜像については、印刷時と複写時で、各々、濃淡が一様となるような潜像パターンを設定可能とする、

の 3つの観点から、新たに考案した潜像入り地紋透カゝし画像の生成方法を示す。

[0022] 第 1の観点に対して、透力し情報の埋め込みに際し、 2値に相当する地紋パターンを，縦横に計 n X m個単位で配置した、定数倍サイズの地紋パターン (以下、縦横数倍サイズの地紋パターンと呼ぶ）を単位とし、透力し情報のビット値に、冗長性を加えた多値ビット情報として、パターンを埋め込む。これにより、誤り訂正が可能になり、透力しの埋め込みの効率性と検出時の安定性を両立させつつ、地紋パターンに透かし情報の埋め込みが可能になる。

[0023] また、第 1の観点に対し、潜像入り地紋画像領域への透かし情報の埋め込みの際に、透力し情報の埋め込み部分の先頭となる地紋パターンについて、透かし情報が埋め込まれた領域を特定するための、専用の領域特定用地紋パターンを使用する。 n X m個単位で構成された縦横数倍サイズの地紋パターンを単位とする、透かレ f青報の埋め込み領域の先頭に、特定の地紋パターンを埋め込むことにより、透かし検出領域の開始位置 ·終了位置を正しく検出することができる。

[0024] 第 2の観点に対して、例えば、 600dpiで印刷された潜像入り文書に対し、スキャナ装置によって、より低い解像度でのスキャンを行っても、透かし検出が安定して行えるように、透力し画像の生成時において、地紋パターンの生成と同時に、より低解像度でのスキャン時における、適切な透かし検出ルールの作成をあらかじめ行う。この検出性能を事前に予測検証するプロセスを経ることにより、統計的なパターン検出をべースとし、安定した透かし検出が可能となる。

[0025] 第 3の観点に対して、潜像パターンについて、印刷時と、複写時の双方で、色ムラを発生させな、条件を満たしつつ、孤立ドットをどのように均等配置するかを決定する方法を提供する。この手法により、透力し埋め込みに利用したい地紋パターンに対し、適切な濃度の潜像パターンを生成することができる。

[0026] 本発明の実施形態では、上記特許文献 1、 4、 5と同様の方式で、潜像パターンと地紋パターンの組合せに基づ！/、て、潜像印刷を実現する。

図 1は、潜像パターンを含む文書の印刷イメージを示す図である。

[0027] 文書には、背景地紋領域 11が所定の地紋パターンで周囲に印刷され、この中に、文書テキストを描画する領域 10が設けられる。また、文書テキストを描画する領域 10 は、潜像を埋め込む領域 12でもあり、地紋パターンを所定の方法で変えることにより潜像パターンが形成される。

[0028] 例えば、孤立ドットによる潜像パターンと、隣接ドットによって構成した地紋パターンを使用する。文書の背景領域における潜像領域 12には、孤立ドットにより形成された潜像パターンを描画する。また、背景地紋領域 11には、隣接ドットから構成された地紋パターンの組み合わせによって描画する。

[0029] 図 2に、本発明の実施形態における地紋パターンの構成例を、また、図 3に、本発明の実施形態における潜像用パターンの構成例を示す。

いずれも画素サイズを 12 X 12画素とし、地紋パターンを構成するドット数を 10ドットとして構成したものである。図 2 (a)と図 2 (b)の地紋パターンは、いずれかにビットの「 0」を対応させ、他方にビットの「1」を対応させることによって、情報を表現させるようにする。図 2 (a)、（b)では、対角線方向の斜め線を真ん中で分離した模様と、斜め線と反対の対角線方向に、孤立ドットを設けている。

[0030] なお、地紋パターンと潜像パターンがうまく適合するよう、地紋パターンと潜像パターンは、本実施形態では、縦横が同一サイズのビットマップとして構成するものとして説明を行う。なお、潜像描画を行った場合に、地紋領域 11と潜像領域 12の境界部で、地紋パターンの一部が潜像パターンに上書きされることを許容するなら、地紋パターンと潜像パターンを特に同一サイズに制限する必要はない。

[0031] 次に、本発明の本実施形態における透かしの埋め込み領域 (潜像領域 12)について説明する。

本発明の実施形態では、印刷物と複写物の双方を、スキャナ装置で読み込んだものから、透カゝし情報の検出を行うことを想定している。複写時に潜像領域 12が白く変化するように孤立ドットパターン（図 3の潜像パターン)を用いる場合は、複写時にバターンが消えない背景領域 11に、透かし情報を割り当てればよい。逆に、複写時に背景領域 11を白く変化させ、潜像文字 12をそのまま残したい場合は、背景領域 11に孤立ドットパターン (図 3の潜像パターン)を割り当て、潜像文字領域 12には、隣接ドットパターンで構成した地紋パターン（図 2 (a)、（b)の地紋パターン）を割り当てる。本実施形態では、背景領域 11の地紋パターンに対して、規則的に透力情報を埋め込む場合について説明を行う。

[0032] 上記特許文献 1では、 2種類の地紋パターンとして、たとえば、「\」、「Z」の 2つの斜め線を、各々「0」、「1」に対応させ、この 2つのパターンを既定サイズのブロック内に繰り返し並べることにより、透かレ f青報のビットパターンをブロック内の既定領域に 2 次元配置によって表現する方法を採用している。

[0033] これに対し、本発明の実施形態では、印刷時の見易さ、および、複写機における複写処理によって、地紋パターン力より低解像度のスキャナによる読込に適した形状となるよう、独自に孤立ドットパターン（図 3)と、複数の隣接ドットパターン（図 2 (a)、 ( b) )を生成し、使用している。

[0034] 以下、上記特許文献 1に対する、本発明の実施形態の地紋パターンの優位性を述ベる。

本発明の実施形態で構成した地紋パターン（図 2 (_a)、（b) )では、上記特許文献 1 の「\」、「/」に比べて、 2つのパターン同士の見た目の一様性が増しており、遠目には同一のパターンを配置して、るように感じられるため、これらのパターンの中に描画した潜像文字も比較的発見し難いというメリットがある。すなわち、対角方向への孤立ドットの付与により、遠目に見たとき、正方状の格子模様に見えるという効果が得られるため、見た目の一様性が増しているとともに、透かし情報の検出に必要な地紋パターンの位置検出の精度向上にも適している。

[0035] また、地紋パターン（図 2 (a)、 (b) )を複写機で複写した場合は、孤立ドットパターンが削除され「\」、「Z」の単純なパターンと変化するため、特許文献 1と同程度に透力しの検出は容易である。なお、「―」と「 I」の縦横パターンに対して小ドットを付与し、「÷」と「*|*」の地紋パターンを構成した場合も、同様の効果を得ることができる。

[0036] また、孤立ドットを付与した地紋パターン (図 2 (a)、（b) )を用いた印刷物を、直接スキヤナで読み込む場合は、孤立ドット部分の変化パターンを確認すれば、印刷時の解像度を推測できる。例えば、孤立ドット部分が 600dpiにおける 1ドットである場合は、スキャナ装置での読み込みではドットが消去されるとは限らない。しかし、 300dpiにおける 1ドット印刷に比べて、 600dpiにおける 1ドット印刷では単位面積あたりの濃度が低いため、スキャン装置の処理方式によらず該当領域の平均濃度は低くなる。よつて、本来 2値の画像を入力として、スキャン装置で読み込むことにより、画素平均などの縮小処理で現れな!/、ような低濃度の領域が出現した場合には、スキャナの解像度よりも印刷時の解像度の方が高いと判断できる。

[0037] 潜像部分 12を複写によって残したい場合には、背景部分 11に孤立ドットパターン（図 3)を使用し、潜像文字領域 12に隣接ドットで構成された地紋パターン (図 2 (a)、 ( b) )を用いて、透力情報を埋め込むことが可能である。ただし、潜像文字領域 12に透力し情報を埋め込むには、潜像文字が、透力し情報を埋め込むブロックサイズを十分に含むよう、大きなフォントサイズで潜像文字を描画する必要がある。一般的には、背景領域 11に、地紋とともに透力情報を埋め込むことが妥当と思われるため、以下、背景領域への地紋透かし情報の埋め込み方法にっ、て説明する。

[0038] 図 4に、本発明の実施形態に従った透かレ f青報の埋め込み方法を示す。

本発明の実施形態における、透かし情報の埋め込みの実施形態では、「0」、「1」の 2値に割り当てた 2種類の地紋パターンを、縦横 2 X 2の計 4個並べた、 2倍サイズの地紋パターン（図 4 (a)、（b) )を、透力しの埋め込みに用いる。より一般的には、横に m個、縦に n個、計 m X n個を配置することで得られる、縦横数倍サイズの地紋パターンを用いればよい。このような中間的なサイズの地紋パターンについて、例えば、 2 X 2個の場合には、便宜上「2倍サイズの地紋パターン」などと呼ぶことにする。

[0039] 透力し情報のビット埋め込みを、例えば、上述のように、 4個の地紋パターンを正方形状に配置した、 2倍サイズの地紋パターン (T14, T15)を単位として行うことにより。ビット埋め込みにおける冗長度を、自由に制御できるようになる。例えば、

上段：下段の各 2個の並びについて、図 2 (a)を「0」、図 2 (b)を「1」とした場合、「00 ; 00」→0 (図 4 (a) )

「11 ; 11」→1 (図 4 (b) )

と並べた場合には、地紋パターンを 4個につき透力し情報の 1ビットを割り当て、残りの 3ビットを読み込み字の安定性向上に用いることができる。すなわち、 4つの「0」と「 1」の組み合わせで、「0」と「1」のみを表現すればよいので、誤り訂正を行うことができる。

[0040] 例えば、このように生成されたパターンの読込時には、 2倍サイズの地紋パターン（図 4 (a)、（b) )の 4個全てが同一の値を示すはずである力スキャン時に発生するノィズによって一部のビットが不明瞭となる可能性があるため、この 2倍サイズの地紋パターンを構成する地紋パターン 4個全部の検出結果について、例えば多数決を取ることにより、ロバストな透かし検出が容易に実現できる。 [0041] また、このような 2倍サイズの地紋パターンを用いる場合には、

上段：下段の各 2個の並びにつ、て、

「00;00」→0

「11;11」→1

「01;01」→2

「10;10」→3

「00;11」→4

「11;00」→5

「10;01」→6

「01;10」→7

と、上記の 2個に加えて、 0と 1の個数が等しいパターンを追加し、透力し情報を 8値で割り当てることも可能である。例えば、この場合は、透力し情報 3ビットに対して、ェラー検出用ビットを 1ビット割り当てることになる。具体的には、埋め込みを行いたい透力し情報を 8進数に変換し、透力し情報を 8値（3ビット）単位で与えることによって、 2 値の場合に比べ、より狭い地紋領域に、透力し情報を埋め込みつつ、微細なノイズに対しても比較的ロバストな検出が可能である。

[0042] 例えば、 0を「\」（図 2 (a)の地紋パターン）、 1を「Z」（図 2(b)の地紋パターン）と表現した場合には、 8値の埋め込みパターンは、

0:\\ \:// 2:\/ 3:/\ 4:\\ 5:// 6:/\ 7:\/ という形状の、計 8種類の 2倍サイズの地紋パターンとして表現される。

[0043] このように、例えば、地紋パターン 4個からなる 2倍サイズの地紋パターン（図 4 (a)、

(b))を透力しの埋め込み単位とすることによって、検出の安定性と、埋め込みの効率性のバランスをとりつつ、透かレ隋報の埋め込みを行うことができる。

[0044] 本実施例では、地紋パターン（図 2 (a)、 (b) )を 4個、正方状に並べたものを使用する場合について説明した力透力し情報の埋め込みにおいては、透かレ f青報の埋め込み単位に用いる、地紋パターンの個数には制約はない。例えば、地紋パターンを縦横 4X2の計 8個、あるいは、縦横 4X4の計 16個並べたものを用いて、透かし情報を埋め込んでもよい。このように、地紋パターンを複数個並べた中間的なパターンを透力埋め込み単位とすれば、透かし検出時における多数決の精度を上げたり、あるいは、誤り訂正ビット数を増加させることができる。

[0045] 図 5及び図 6に、誤り訂正の行い方を示す。

図 5に示されるように、透かしパターンを m X n個（例として 2 x 2個)並べたもので、透力しの 1ビットを表現する。透力しビットを構成する m X n個のうち、半数以下（ = (m X n)/2-l )個まで）の透かしパターンが反転したものも、検出時に 0, 1ビットとして許容する。これにより、微細な紙汚れなど局所ノイズに対処することができる。

[0046] また、図 6のように、パターンがすべて同一力 2種のパターンが同数のものを用いて、透かし情報を多値で表現する。図 6の 2〜7のパターンが、一定以上存在すれば、多値埋込と判断する。これにより、多値埋込の場合において、左記の誤検出判断用パターンが (前頁における誤り訂正用パターンが）一定以上出現した場合には、検出精度が不十分と判断する。すなわち、図 6 (b)のパターンを誤り訂正用パターンとして用いる。

[0047] 次に、このようなパターンを一定の 2次元空間領域に、配置して並べることを考える図 7は、透かしの埋め込み例を示す図である。

例えば、透かしの埋め込み単位として、単位ブロックあたりに、 2値で 400ビットの情報を埋め込む場合には、「0」「1」に相当する 2倍サイズの地紋パターン（図 4 (a)、 (b ；) )を用いて、ビット値の内容に応じて、これを 20 X 20個の正方ブロック内に並べればよい。一例として、 25 X 16のブロックの構成例を図 7に示している。

[0048] また、単位ブロックあたりに、 8値（3ビット）で 400ビットの情報を埋め込むためには、 2倍サイズの地紋パターン力少なくとも 134個必要である。この場合は、透かしを埋め込むブロックの大きさを、 2値の場合の 25 X 16に比べて、 8値では 15 X 9程度まで削減できる。

[0049] 仮に、地紋パターンが 12 X 12画素の場合は、 2倍サイズの地紋パターンが 24 X 2 4画素となる。よって、 400ビットを 2値で埋め込む場合は、 1ブロックあたり 600x384 画素が必要である（図 7)。一方、 400ビットを 8値により埋め込む場合は、 1ブロックあたり 360 X 216画素が必要である。

[0050] なお、上記は、 600dpiの印刷時の画素サイズであり、同じ地紋画像データを、スキャナによって 300dpiで読込みを行った場合は、地紋パターンは 6 X 6画素、 2倍サイズの地紋パターンは 12 X 12画素へ縮小される。また、透かしの埋め込みサイズについては、 2値での埋め込みの場合には、 300 X 162画素、 8値での埋め込みの場合は 180 X 108画素となる。

[0051] このように、例えば、 400ビットの透力し情報を埋め込む場合に、 2倍サイズの地紋パターンを 400個並べて、 400ビットの透かレ f青報を埋め込んだ領域を、以下、透かし埋め込みブロックと呼ぶことにする。

[0052] このような透力し埋め込みブロックを、文書の印刷用ビットマップに配置する方法として、例えば、情報が埋め込まれた透力埋め込みブロックを背景領域に敷き詰めればよい。例えば、 2倍サイズ地紋パターンを 25 X 16個並べた、透かし埋め込みブロックでは、 A4紙上では縦 10 X横 10の計 100個のブロックを並べることができる。

[0053] 背景地紋画像への透かし埋め込みに加えて、潜像文字の描画を同時に実現する方法については、例えば、特許文献 1に記載の方法に従えばよい。

図 8は、印刷用背景画像の生成手順を示す図である。

[0054] 具体的には、地紋パターン（1)を生成した上に、これをコピーして 2倍サイズの地紋ノターン (2)を生成し、以下の手順で、潜像パターンを上書きする（3)。

(1)潜像の文字内容を、指定フォントを用いて、 2値ビットマップ上に黒文字で描画する。

(2)上記の 2値ビットマップ上の各ピクセルを参照し、あるピクセルが潜像文字の黒ドットである場合は、あらかじめ前記の方法で準備した潜像パターンが、潜像用の 2値ビットマップを地紋画像ビットマップの解像度に拡大したと見なし、対応する位置に描画する。

[0055] この（2)の操作は、ビットマップのブロック転送処理を、上書きモードで行うことにより、容易に実現できる。たとえば、 Microsoft (登録商標）の Win32APIの GDI関数を使う場合は、

BitBlt (コピー先，コピー先の X座標，コピー先の Y座標，転送範囲の横幅，転送範囲の縦幅，

コピー元，コピー元の X座標，コピー元の Y座標，転送モード)；

を呼ぶ際に、転送モードを SRCCOPYと設定すればよヽ（3)。

[0056] このように生成した、潜像入りの背景地紋画像を、実際の印刷文書の背景画像として利用することによって、潜像と地紋透力を埋め込んだ印刷が行える。

この操作も、やはり Win32APIの GDI関数を用いることで実現できる。ただし、この場合は、上書きモードではなぐ 2値画像の各画素を OR演算モードで重ね合わせればよい。具体的には、印刷文書を出力画面に描画した上で、さらに前述の BitBlt関数を使用して、潜像入りの背景地紋画像を合成する。あるいは、印刷対象文書を 2値ビットマップに描画した上で、潜像入りの背景地紋画像をあら力じめ出力画面に描画し、この上に、改めて印刷文書から生成した 2値ビットマップを重ねてもよい。このように、転送モードを SRCPAINTと設定すれば、背景地紋画像と印刷文書画像の対応する位置の画素にっ、て OR演算を施したものが得られる（4)。

[0057] 以上の手順により、潜像入りの背景地紋透かし入り文書の出力画像を 2値ビットマツプで生成できる。このビットマップ画像を、 600dpiなどの特定解像度で印刷した場合にのみ、複写時の潜像効果 (潜像部分が白く変化）が得られるため、ビットマップ画像の付随情報には、印刷時の解像度をあらかじめ設定しておくことが好ましい。また、プリンタは、ビットマップ画像に付随する解像度指定を参照し、拡大'縮小を行わずに印刷を行うことが、潜像印刷では必要である。

[0058] 次に、上記のように生成された、潜像入り地紋透カゝし文書に対する透カゝしの検出手順について説明する。

本発明の実施形態における透かし検出処理は、複写機や複合機などにおける不正複写の防止を目的とするものではなぐ PC端末に接続した比較的低解像度のスキャナから、潜像入り地紋透かし文書を読み込み、 PC上で文書の印刷実行者などの個人 IDなど、文書の出元を追跡するための情報を、高速に取得することを目的とする。この目的のためには、目に見えず (簡単には識別できず）、し力も、複写機での複写や、スキャナでの縮小読込み過程で、地紋パターンの変形により埋め込んだ情報が消失することなぐ透力し情報を確実に検出できる必要がある。 [0059] まず、前述のように、本本発明の実施形態では、 2種類の地紋パターン（図 2 (a)、 ( b) )を、例えば、 4個単位で組み合わせた、 2倍サイズの地紋パターン（図 4 (a)、 (b) ) を、透力し情報埋め込みの最低単位として用いる。なお、本発明の実施形態では、 2 倍サイズの地紋パターンを用いて説明をしている力一般に、図 2 (a)、（b)の地紋パターンを m X n個配列したパターンを使用することができる。

[0060] 地紋パターンが肉眼で識別しづらいように、地紋パターン（図 2 (a)、（b) )の画素サィズについて、本発明の実施形態では、 12 X 12画素サイズとし、 600dpiの解像度を想定して、背景地紋入り画像を用意する。これを 300dpiで読み込んだスキャン文書データにおいては、地紋パターンは 6 X 6画素のサイズとなる。

[0061] 図 9は、ブロック区切りパターンの例を示す図である。

本発明の実施形態では、前述のように透力しの埋め込み単位を 2倍サイズの地紋パターン（図 4 (a)、（b) )としている。このため、透力しの検出時に、検出位置のずれにより、地紋透かしの埋め込み単位である 2倍サイズの地紋パターンの区切り位置を誤検出した場合は、透かレ f青報を得ることはできなくなる。

[0062] この問題を解決するため、本発明の実施形態では、 2倍サイズの地紋パターン（図 4 (a) , (b) )と同サイズの特殊な区切り記号パターン（図 9)を用意し、透かし埋め込み単位である透かし埋め込みブロックの先頭位置（図 7の左上）に描画しておく。

[0063] このパターンとしては、地紋パターンの組合せとして、 2倍サイズの地紋パターンの形状として想定しているものと一見類似しつつ、機械的な検出によって、明らかにパターンの差異を特定できる形状が好ましい。例えば、地紋ブロックが「Z」「\」の 2種類である場合には、これを組み合わせて構成される「X」マークと似た形状として、 2 倍地紋パターンサイズの「 X」パターン（図 9)を用いることが考えられる。具体的には、「X」の中央のドットの連続性などの形状の特徴を判断することで、例えば 64ビットの透力し情報を埋め込んだ、透力しブロックの位置を特定できる。

[0064] 透力し埋め込みブロック（図 7)を連続して配置する場合は、各々の透力し埋め込みブロック（図 7)の開始位置（図 7の左上）のみに、この区切り記号パターン（図 9)を与えれば、上下左右に配置されたブロックの先頭位置にある同じ区切り記号パターン（図 9)を特定し、隣接するブロックの区切り記号パターンの距離 (画素数)を求めることで、透力し埋め込みブロック（図 7)が可変長である場合も対応できる。

[0065] 同様に、地紋パターンの一部にのみ、透力し情報を埋め込む場合であっても、該当透かしブロックの先頭位置（図 7左上）のほ力この区切り起動の下（図 7左下）、図 7 の右、図 7の右下にある区切り記号パターン（図 9)を同定することで、背景地紋画像中の任意の位置に埋め込まれた、任意サイズの透力し情報の検出が可能である。

[0066] また、本発明の実施形態では、スキャナによる読込を想定している力個々のスキヤナの読込方式により事態は異なり、フラットヘッド型に比べて、ローラー型のスキャナは、読込時に、ラインの歪みが発生しやすい。上記のように、本実施形態における、 2 倍サイズの地紋パターン（図 4 (a)、（b) )による埋め込みの場合、地紋パターン（図 2 ( a)、（b) )の各辺の半分以上について、スキャナによる読込時に歪みが生じた場合には、致命的な検出ミスが発生する。

[0067] このような問題に対して、本発明の実施形態では、上記のように、明示的に透かし埋め込みブロック（図 7)の埋め込み位置を示す区切り記号（図 9)を与えておき、これを手掛力りとして、透力しブロックを構成する全ての 2倍サイズの地紋パターン（図 4 (a )、（b) )の位置を仮定する。地紋パターンの検出時においては、この 2倍サイズの地紋パターン（図 4 (a)、（b) )を中心に、数ピクセルのずれの範囲を探索する。この結果、微細な検出位置のずれを補正しながら、同時に透力し情報のビット値を検出できる。以上のように、 2倍サイズの地紋パターン（図 4 (a)、（b) )で透かし情報を埋め込んだ場合も、安定した透かし情報検出が可能となる。

[0068] 続いて、本発明の実施形態における地紋パターン（図 2 (a)、（b) )の、ドットパターンの配置の特徴にっ、て説明する。

このパターンは、本発明の実施形態として、 600dpiで印刷された潜像入り文書に対し、複写機による複写に加えて、より低い解像度でのスキャンを行っても、透かし検出が安定して行えるように、構成されたものである。

[0069] まず、地紋パターンの基本的な制約として、潜像印刷のような微細ドットの印刷紙を複写機で複写した場合に、読込み方向と、読込み方向に対する垂直方向とで、処理結果が異なることが挙げられる。

[0070] 例えば、「一」マークと「 |」マークは、本体が同じパターンを 90度回転したものである。しかし、複写機の読込み ·印刷方向によって、複写後の両者は必ずしも同一となる保証はない。このような理由から、本発明の実施形態では、複写時の方向が 90度回転した場合の影響を抑えるために、「Z」や「\」に似た、斜め線をベースとする地紋パターンを使用している。し力しながら、複写機での複写の際の「-」と「 |」の各々の変化を考慮した検出ルールを用いることを前提とすれば、地紋パターンに「-」や「

I」のような縦横の直線をベースとするものを用いることも可能である。

[0071] ここで、単なる「Z」や「\」は、印刷時結果を見た場合に、斜線の方向がパターンとしてわ力りやすぐ潜像部分との違いが比較的わかりやすい。このため、本発明の実施形態では、プリンタ出力について、見た目の一様性を向上するように、斜め線パターンに対して、これと直交する位置に、複写時には消失する程度の小ドットを配置したものを用いる（図 2 (a)、（b) )。あるいは、「一」「 I」をベースとして、「÷」や「φ」（「 ÷」を左回転したもの）を地紋パターンとして用いてもょ、。

[0072] 本実施形態で示した地紋パターン（図 2 (a)、（b) )は、プリンタへの印刷時には、地紋パターンの斜め成分とともに、地紋パターンごとに正方形状の濃淡を付したような効果が得られる。この濃淡により、地紋パターン（図 2 (a)、（b) )は、特許文献 1の単純な「\」「Z」パターンに比べ、視覚上の一様性を向上させている。さらに、印刷出力を直接スキャンし、透かし検出を行う場合も、黒地に対する白色の格子状成分を検知することによって、 2倍サイズの各地紋パターン（図 4 (a)、（b) )の位置合わせが可能となるため、小ドットを付与した地紋パターン（図 2 (a)、（b) )は、単純な斜線パターン「\」「Z」に比べて有効である。

[0073] 以下、このような地紋パターンを生成する方法について説明する。

潜像入り透カゝし画像の生成時において、低解像度での読込に適した独自の地紋パターンを生成する場合には、

地紋パターン→複写による形状変化→低解像度でのスキャンによる縮小という手順で、パターンの変化が生じると考えられる。よって、このような変化の過程を予測する画像を生成すればよい。例えば、微細な孤立ドットを削除するノイズ除去処理を施し、さらに、スキャナの解像度に応じた縮小処理を、読込時のドットすれを考慮しつつ、条件を変えて行ったものを生成する。 [0074] 図 10は、スキャナ読込み時のパターン変化を示す図である。

例えば、図 10には、本実施形態の地紋パターン（図 10 (a) )を素材として、縮小処理を適用した結果と（図 10 (b)は、間引き処理、図 10 (c)は、平均処理)、実際のスキヤン結果（図 10 (d) )との比較を示す。

[0075] この画像を目視確認することにより、地紋生成したパターンが、想定解像度での読み込みに適している力、印刷 '複写'スキャンという手順を踏まずに、確認できる。検出時には、上記のように生成した縮小画像を、照合用のテンプレートとして用いることが妥当である。また、本発明の実施形態における照合対象は、微細なドットであるため、統計的ルールによってパターン検出方法を決定することも可能である。統計的ルールによるパターン検出方法の決定とは、例えば、前記の方法で、一方の地紋パターン (たとえば、図 2 (b) )からシミュレーション生成した縮小画像に対し、適切な形状のマスクパターンを複数個設定し、個々のマスクに存在するピクセルの画素について、例えば、輝度平均を求めることで、どのマスクパターンが有効かを判断するものである。

[0076] 次に、潜像パターン（図 3)のドットパターンの作成法について説明する。潜像パターンは、地紋パターンと見かけ上同じ濃度であり、さらに、複写処理によって除去されるようにドットパターンを互ヽの距離を一定以上離した孤立ドットで構成される。

[0077] パターン内で偏りがあると、印刷時あるいは複写時の双方において、色ムラが発生することになる。潜像用ドットパターンについて、ドット配置が均一でないと潜像領域について、印刷時に微細なムラが生じる。この結果、複写の際の濃淡の変化が一定でなくなり、マダラ模様となる。このため、制約条件としては、潜像パターン中のドットの距離計算において、上下および左右がつながつたものと仮定して、ドット間の距離の中で、各ドット間の距離を算出した場合に、 2つのドット間の距離が一定の閾値値以上になるように、ドットを構成する格子上で調整すればょ、。

[0078] この孤立ドットの配置については、例えば、パネモデルを用いてドットパターンを均一に配置した上で、各ドットをもっとも近い格子点に割り当てる方法が適用できる。あるいは、各ドットが格子上にあるという前提のもとで、以下の手順で格子上のドット配置を修正して、くことも考えられる。 [0079] アルゴリズムの概略は、以下の通りである。

(1)全ドット間の距離の中で最短のものを求める。

(2)この最短の距離を伸ばす方向に、ドットの移動先を探索する。

[0080] 該当ドットの移動先について、近隣ドットとの距離を一定以下であると、潜像用の孤立ドットとして不適切であるため、移動先候補力も除外する。

(3)該当ドットについて、近隣ドットとの距離を広げる方向に移動を行う。

(4)移動結果について、上記の操作を繰り返すことにより、あるドットと他のドットの最短距離の差がほぼ一定になれば、完了する。

という手順で、孤立ドットを、ほぼ均等に配置することが可能となる。

[0081] 図 11及び図 12は、潜像用ドットパターンの作成方法を説明する図である。

ドット配置を手作業で行おうとすると、配置が均一であるかどうかを印刷して確認する必要があり、手間がかかる。ドット数が増えてくると、手作業で均等に配置を決定するのは難しい。そこで、以下の制約条件下で、指定ドット数でのドット配置を自動決定するアルゴリズムが必要となる。

，配置決定上の制約条件

1)近隣ドットとの距離について、一定以上であること

2)上下左右の隣接パターン（同一パターンを繰り返す)上のドットとの距離も考慮して、潜像ドットを配置すること

以下、図 11及び図 12を参照して、 m X nドットサイズの潜像パターンに p個のドットを配置する場合の潜像パターンの作成アルゴリズムを説明する。

Stepl： m x nの潜像パターン用配列を用意し、任意の位置に 1個目のドットを置く。 Step2 :既に配置された点力縦'横の合計力 ¾以上となる任意の位置に n (く p)個目のドットを置く。

[0082] 図 11の中央ドットの周辺の X印については距離が 2以下と判断し、ドットを配置しない。

Step3： n = pとなるまで、 Step2を繰り返す。

Step4: p個中の q番目のドットと r番目のドットの距離 d(q,r)を、隣接領域への繰り返しを考慮して算出する。すなわち、今作成している潜像パターンが隣にもある場合を想定して、隣の潜像パターン内のドットまでの距離も求める。

[0083] Step4は、以下の、 Step4.1〜Step4.3からなる。

Step 4.1 :ドットパターン領域内の qと rの距離を算出する。

qの座標が（Xq, Yq)、 rの座標が（Xr, Yr)のとき、

d(q,r)= ((Xq- Xr)²+(Yq- Yr)²)

Step4.2 :ドットパターンを 4分割した領域 (A,B,C,D :図 12 (a)参照)において、点 q の属する領域が例えば Cの場合は、下方の 5つの隣接領域において、点 rに対応する点の位置を求め、 qと最も近いものを r'とし、 qと r'の距離を求める（図 12 (b)参照

) o

[0084] d(q,r')=^((Xq- Xr')²+(Yq- Yr')²)、ここで、（Xr，， Yr')は、 r'の座標。

Step4.3 : qと rの距離を、 Step4.1と Step4.2の小さい方とする。

d(q, V) = mm (d(q,r), d(q,r ))

そして、以下の処理に続く。

Step5： p個中の全ての qと rの組合せについて、 Step4の手順で距離 min (d(q,r), d(q ,r') )を算出する。

Step6 :全ての q, r,の組合せに対する d(q, r)の値の中で近隣の位置にあるもの（所定の閾値 d0以下のもの）すべてを、移動対象として取り上げる。この 2点を例えば s と tとする。

Step7 :選択した全ての sと tについて、斥力 frを求める。

[0085] すなわち、 2点の実距離を d(s, t) 、上記 Step6の閾値距離を d0とするとき

fr(d(s,t))=K((dO-d(s,t))/d(s,t))² (Kは定数）（d(s,t)≤d0の場合）

fr(d(s,t))=0 (d(s,t)〉d0の場合）

Step8 : s, tの組み合わせにおいて、上記の斥力が最大なものを選び、その斥力が消失する方向に（具体的には s,tが存在する軸上に沿って sと tを同時に反対方向へ)移動する。閾値を超え、斥力が消失すれば停止する。

Step9 : Step4〜Step8の手順を繰り返し、全ての 2点間で、斥力を消失させる。

[0086] 以上のアルゴリズムにより、潜像パターンのドットパターンを自動で設計できる。

図 13は、本発明の実施形態で提案する地紋パターンのドットパターンの設計手順を説明する図である。

まず、ステップ S 10において、ユーザが任意の地紋パターンを作成する。このとき、 GUIのツールを使う。ステップ S 11において、ユーザがスキャナの解像度を指定する。ステップ S12において、地紋パターンの構成解像度（上記実施形態では、 600dpi) と、スキャナの読み込み解像度（上記実施形態では、 300dpi)から、縮小率 (倍率)を算出する。この計算は、コンピュータに自動で行わせることが可能である。ステップ S1 3において、算出した縮小率で、地紋パターンを縮小する。縮小法は、平均法（図 10 (c)参照）などであり、この処理もコンピュータに自動で行わせる。この縮小画像がパターン変化の予測画像である。ステップ S 14において、縮小した地紋パターンを用いて、地紋パターンを構成し、コンピュータに描画させる。ステップ S15において、ユーザ力縮小パターンの検出ルール (枠線の大きさや升目マスクの種類等）を選択する。ステップ S16において、枠線や升目マスクを、ユーザが縮小地紋パターンに重ねることにより、重なり具合を算出する。これは、マスクと重なるドットの輝度の総和をコンビユータに計算させる。ステップ S17において、重なり具合 (総和の値）が閾値以上か否かを判断する。ステップ S17の判断が Yesなら、検出ルールが有効と判断する。ステップ S18において、検出ルールが有効と判断された場合には、ユーザが、その地紋ノターンを採用する。そして、ステップ S 19において、選択したマスクを指定解像度向け検出ルールとして採用する。ステップ S20において、他の解像度で当該地紋パターンが読み取られる可能性がある力否かを判断する。ステップ S20で、他解像度での読み取りがない場合には、作成を終了する。ステップ S20で、他解像度での読み取りがあると判断された場合には、ステップ S11に進んで、それ以下のステップを繰り返す。ステップ S17の判断が Noで、検出ルールが有効でないと判断された場合には、ステップ S21において、検出ルールを変更するか否かの判断をユーザにさせる。ステツプ S21において、検出ルールを変更するとされた場合には、ステップ S15に戻つて処理を行う。ステップ S21において、検出ルールを変更しないとされた場合には、ステップ S22において、地紋パターンを修正する力否かをユーザに判断させる。ステップ S22において、地紋パターンを修正しないとされた場合には、処理を終了する。ステップ S22において、地紋パターンを修正するとされた場合には、ステップ S10に戻って、地紋パターンを作成しなおす。

[0088] 以上、本発明の実施形態によれば、透力し情報の埋め込みに際し、 2値に相当する地紋パターンを縦横に各々数個ずつ並べた縦横数倍サイズの地紋パターンを単位とし、透力し情報のビット値に、冗長性を加えた多値ビット情報を埋め込む。これにより、地紋透かしを埋め込む場合、埋め込み領域の削減と検出時の安定性が得られる。また、地紋画像への透力し情報の埋め込みの際に、透力し埋め込みブロックの先頭部分について、埋め込み領域を特定するための地紋パターンを使用する。これにより、透かし検出領域の開始位置 ·終了位置の正確な検出を行うことができ、透かしの検出精度が向上する。

[0089] 地紋パターンに関しては、透力し画像の生成時に、低解像度でスキャンすることを想定し、適切な透かし検出ルールの作成をあら力じめ行う。統計的なパターン検出、あるいはテンプレートマッチング用に、パターン変化の予測画像を用いることで、検出の安定性が図れる。

[0090] 潜像パターンにつ、ては、印刷時と、複写時の双方で、色ムラを発生させな、条件を満たしつつ、孤立ドットの均等配置を決定する。この手法により、地紋パターンに対し、適切な潜像パターンが得られるため、潜像入り地紋透力文書の出力品質が向上できる。

Claims

請求の範囲

[1] 印刷文書の背景領域に対して、ドットパターンを印刷することにより、背景地紋を付与する背景地紋画像生成方法にぉ、て、

少なくとも 2種類の地紋パターンを用意し、

該少なくとも 2種類の地紋パターンを複数個結合したブロックに、該少なくとも 2種類の地紋パターンの組み合わせにより、情報を表示する 2値あるいは多値の数値を対応させ、

該 2値あるいは多値の数値が対応付けられたブロックを、背景地紋に含ませる透かし情報に従って配列することによって、背景地紋画像を生成する

ことを特徴とする背景地紋画像生成方法。

[2] 前記ブロックの前記地紋パターンの組み合わせを、前記情報を表示する 2値あるいは多値の各数値に対応させ、該対応関係を調べることにより、誤り訂正を可能とすることを特徴とする請求項 1に記載の背景地紋画像生成方法。

[3] 前記誤り訂正は、前記ブロックに含まれる前記地紋パターンの種類について多数決をとることにより行うことを特徴とする請求項 2に記載の背景地紋画像生成方法。

[4] 前記透かし情報に従って行われる前記ブロックの配列の先頭位置に、前記少なくとも 2種類の地紋パターンとは異なる情報領域検出専用パターンを付加することを特徴とする請求項 1に記載の背景地紋画像生成方法。

[5] ドットが所定の制約条件の下に配置された潜像用パターンを用いて、前記少なくとも 2種類の地紋パターンの配列力なる背景地紋に潜像を埋め込むことを特徴とする請求項 1に記載の背景地紋画像生成方法。

[6] 前記制約条件の下の配置は、均等配置であることを特徴とする請求項 5に記載の背景地紋画像生成方法。

[7] 前記地紋パターンは、

透かし情報を検出するための、隣接ドットで構成される線分と、

複写時に白色に変化する孤立ドットと、

力なることを特徴とする請求項 1に記載の背景地紋画像生成方法。

[8] 印刷文書の背景領域に付与する背景地紋の基本単位となる地紋パターンであって背景地紋に埋め込まれる透かし情報を検出するための、隣接ドットで構成される線分と、

複写時に白色に変化する孤立ドットと、

力もなることを特徴とする地紋パターン。

[9] 前記線分は、中央部分が削除された、地紋パターンの対角方向の線分であり、前記孤立ドットは、該線分とは別の対角方向に、該線分に対して対称な位置に配置されることを特徴とする請求項 8に記載の地紋パターン。

[10] 前記線分が生成される対角線方向を異ならせることにより生成される 2種類の地紋ノターンを組み合わせて、背景地紋に埋め込む透力情報を表現することを特徴とする請求項 9に記載の地紋パターン。

[11] 印刷文書の背景領域に付与する、透力情報が埋め込まれた背景地紋を構成する地紋パターンの設計方法であって、

(a)与えられた地紋パターンを、印刷時とは異なる解像度の画像に変換し、

(b)該変換された画像に対し、地紋パターンの所定の検出ルールを適用し、

(c)該検出ルールの適用の結果、地紋パターンが検出できるか否かを判断し、

(d)該検出ルールを適用して、地紋パターンが検出できない場合には、該検出ルールを変更するか、地紋パターンを変更し、

(e)上記ステップ (a)〜ステップ (d)を繰り返すことにより、適切な地紋パターンと検出ルールを決定する

ことを特徴とする地紋パターンの設計方法。

[12] 印刷文書の背景領域に対して、ドットパターンを印刷することにより、背景地紋を付与する背景地紋画像生成装置において、

2種類の地紋パターンを入力する入力手段と、

該 2種類の地紋パターンを複数個結合したブロックに、該 2種類の地紋パターンの組み合わせにより、情報を表示する 2値あるいは多値の数値を対応させ、該 2値あるいは多値の数値が対応付けられたブロックを、背景地紋に含ませる透力し情報に従つて配列することによって、背景地紋画像を生成する背景地紋画像生成手段と、を備えることを特徴とする背景地紋画像生成装置。