WO2007013230A1

WO2007013230A1 - 樹脂組成物およびこれを用いた膜状光学部材

Info

Publication number: WO2007013230A1
Application number: PCT/JP2006/311820
Authority: WO
Inventors: Kaoru Okaniwa; Takuya Sugishita; Tetsuo Yamanaka
Original assignee: Hitachi Chemical Co., Ltd.
Priority date: 2005-07-29
Filing date: 2006-06-13
Publication date: 2007-02-01
Also published as: TW200706589A; TWI326293B; JP2008255124A

Abstract

　本発明は、透明、高屈折率でかつ膜状の光学部材を形成することが可能な樹脂組成物、およびこれを用いた光学部材を提供することを目的とし、これを達成するために、（A）金属アルコキシドと、（B）ポリマもしくはオリゴマおよび／または（C）反応性モノマと、を含有する樹脂組成物であって、前記（Ａ）成分以外の少なくとも１つの成分が窒素原子を有し、該樹脂組成物中の窒素原子のモル数をｎN、窒素原子の質量をWN、金属アルコキシドのモル数をｎM、該樹脂組成物全体の質量をWtotalとしたとき、ｎN／ｎM≧０．０１であり、かつWN／Wtotal≧０．０００１であり、系全体の水分が１重量％以下である樹脂組成物を提供する。

Description

明細書

樹脂組成物およびこれを用いた膜状光学部材

技術分野

[0001] 本発明は、プラスチックレンズ、プリズム、光ファイバ一、情報記録基板、フィルター

、液晶ディスプレー用部材、プラズマディスプレー用部材、プリズムシート、ディフューザ一、光散乱フィルム、視野角向上フィルム、輝度向上フィルム、偏光子、太陽電池用集光フィルム等に代表される膜状光学部材、およびその樹脂材料に関し、特に、高い屈折率を有する薄膜状光学部材、およびその樹脂材料に関する。

背景技術

[0002] 近年、軽量でかつ加工性に富み、各種の光学部材として好適な樹脂材料として、 1 . 8〜2. 2程度の高い屈折率を有する透明樹脂材料が要求されている。

[0003] 従来技術における高屈折率樹脂材料は、ポリチオール化合物とポリイソシァネート化合物から得られるチォウレタン（日本国特公 4— 58489号公報）、エポキシ樹脂またはェピスルフイド樹脂から得られる重合体（日本国特開 3— 81320号公報)などが挙げられるが、これらィォゥ系の高屈折樹脂は、屈折率の限界が 1. 72程度であるのに加え、硬化前の臭気が激しぐ工程上の制約を受ける。また、ベンゼン環に臭素を導入したポリマが既に市販化されているが、その屈折率は 1. 6程度である。

[0004] また、樹脂中に酸化チタンや酸化亜鉛などの高屈折率金属酸化物微粒子を分散させる技術が提案されているが（例えば、日本国特開 2002— 277609号公報）、光散乱を引き起こさないようにこれらの微粒子を分散させるのは極めて難しい。

[0005] また、チタンアルコキシドのゾルゲル反応を樹脂マトリクス中で行う有機—無機ハイブリツド系も多々報告されてレ、るが（例えば、日本国特開 6 _ 107461号公報や日本国特開 2001— 89196号公報参照）、光学用途としては、光散乱を引き起こしてしまうため実用化には至っていない。

[0006] また、本発明と比較的近いものとして、日本国特公 7— 14834号公報や日本国特開 6— 322136号公報が挙げられるが、日本国特公 7— 14834号公報の発明では、粘度が低すぎて 1〜： 1000 μ πι程度の厚膜を形成することはできない。また、日本国特開 6— 322136号公報にある有機 ·無機ポリマー複合体およびその製造方法では、反応性の高い金属アルコキシドを用いる場合、その反応性制御と均一分散が困難である。例えば、チタンアルコキシドのゾルゲル反応は、非常に反応性が高いため、酸化チタン粒子が光を散乱させる程度以上の粒子サイズ（> 100nm)になり易い。発明の開示

発明が解決しょうとする課題

[0007] 本発明は、透明、高屈折率でかつ膜状の光学部材を形成することが可能な樹脂組成物、およびこれを用いた膜状光学部材を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段

[0008] 本発明者らは、樹脂組成物中の金属アルコキシドの反応性を抑制し、その粒子成長を抑えることで、透明、高屈折率かつ所望膜厚の膜状光学部材を得ることが可能であることを見出し、本発明を完成するに至った。

[0009] すなわち、本発明は、下記（1)〜（10)に記載の事項をその特徴とするものである。

[0010] (1) (A)金属アルコキシドと、（B)ポリマもしくはオリゴマおよび/または（C)反応性モノマと、を含有する樹脂組成物であって、前記 (A)成分以外の少なくとも 1つの成分が窒素原子を有し、該樹脂組成物中の窒素原子のモル数を n、窒素原子の質量

N

を W、金属アルコキシドのモル数を n 、該榭脂組成物全体の質量を W としたとき、

N M total

n /n ≥0. 01であり、かつ W /W ≥0. 0001であり、系全体の水分が 1重量％

N M N total

以下である樹脂組成物。

[0011] (2)前記（A)金属アルコキシドカチタンアルコキシドまたはジルコニウムアルコキシドである上記（1)記載の樹脂組成物。

[0012] (3)前記（B)ポリマもしくはオリゴマおよび Zまたは前記（C)反応性モノマ力窒素原子を有する上記（1)または（2)記載の樹脂組成物。

[0013] (4)前記（B)ポリマもしくはオリゴマ力水酸基もしくはカルボキシノレ基を有しないもの、または、水酸基もしくはカルボキシノレ基を有し、かつ窒素原子を有するものである上記（1)〜（3)のレ、ずれかに記載の樹脂組成物。

[0014] (5)前記（B)ポリマもしくはオリゴマおよび Zまたは前記（C)反応性モノマ力下記式 [化 1]

[0015] (式中、 Rは、水素もしくは C〜Cアルキル基を示す）

で示される構造を有する上記（1 )〜（4)のいずれかに記載の樹脂組成物。

[0016] (6) (D)溶媒をさらに含有する上記（1)〜（5)のいずれかに記載の樹脂組成物。

[0017] (7)前記 (D)溶媒が窒素原子を有する溶媒を含有する上記 (6)記載の樹脂組成物

[0018] (8)上記（1)〜（7)のいずれかに記載の樹脂組成物を用いてなる膜状光学部材。

[0019] (9)膜厚が 1〜： 1000 z mの範囲である上記（8)に記載の膜状光学部材。

[0020] ( 10)屈折率が 1. 8以上である上記（8)または（9)に記載の膜状光学部材。

[0021] 以上のような本発明によれば、従来よりも透明、高屈折率でかつ所望する膜厚の光学部材を形成することが可能な樹脂組成物、およびこれを用いた光学部材を提供することが可能である。

[0022] なお、本出願は、同出願人により先にされた日本国特許出願、すなわち、 2005— 221910号（出願日 2005年 7月 29日）に基づく優先権主張を伴うものであって、これらの明細書を参照のためにここに組み込むものとする。

発明を実施するための最良の形態

[0023] 本発明の樹脂組成物は、（A)金属アルコキシドと、（B)ポリマもしくはオリゴマおよび /または (C)反応性モノマと、を含有する樹脂組成物であって、前記 (A)成分以外の少なくとも 1つの成分が窒素原子を有し、該樹脂組成物中の窒素原子のモル数を n、窒素原子の質量を W、金属アルコキシドのモル数を n 、該樹脂組成物全体の質量を W としたとき、 n /n ≥0. 01であり、かつ W /W ≥0. 0001であり、系全体の水分力 S ;L重量％以下であることをその特徴とするものである。さらに、（D)溶媒や (E)添加剤を含んでレ、てもよレ、。 [0024] 上記窒素原子は、本発明の樹脂組成物中において、金属アルコキシドに配位し、加水分解反応の進行を制御し、金属酸化物粒子の成長を抑制する役割を有する。上記のように樹脂組成物中の窒素原子の配合量を規定することにより、特に、加水分解反応が急激に進行し易いチタンアルコキシドに対しても、酸化チタン粒子の成長を抑制し、硬化物の光散乱を弓 Iき起こさなレ、ようにすることが可能となる。

[0025] 樹脂組成物中の窒素原子は、（A)成分以外の少なくとも 1つの成分、すなわち、 (B )ポリマもしくはオリゴマ、（C)反応性モノマ、（D)溶剤および（E)添加剤のいずれかの成分により供給されればよい。組成物の安定性、膜や硬化物の形成工程でのゾルゲル反応の制御性を考慮すると、窒素原子は、（B)成分や (C)成分のように、樹脂の膜、硬化物を得る工程で揮発しにくぐ系に最後まで残るものにより供給されることが望ましい。

[0026] 上記 (A)金属アルコキシドの金属としては、特に限定されないが、好ましくは、 Ti、 Z n、 Zr、 La、 Th、 Taから選ばれる金属であり、より好ましくは、 Ti、 Zn、 Zrから選ばれる金属であり、特に好ましくは Tiである。

[0027] 上記 (A)金属アルコキシドの加水分解性アルコキシ基としては、特に限定されない力例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、ィソブトキシ基、ペンチルォキシ基、へキシノレォキシ基などが挙げられる。炭素数が少な過ぎると、ゾルゲル反応の制御が困難になり、炭素数が多過ぎるとゾルゲル反応が進みに《なることから、好ましくはプロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基であり、特に好ましくはイソプロポキシ基である。金属上のこれらアルコキシ基の種類はすべて同一であっても、違っていても構わない。

[0028] 上記 (A)金属アルコキシドの金属がチタンである場合のアルコキシドとしては、例えば、チタニウムテトラメトキシド、チタニウムテトラエトキシド、チタニウムテトラ一 n—プロポキシド、チタニウムテトラ一 iso_プロポキシド、チタニウムテトラ _n—ブトキシド、チタニゥムテトラ一 _sec—ブトキシド、チタニウムテトラ一tert—ブトキシド、チタニウムテトラフエノキシ等のテトラアルコキシド、チタニウムトリメトキシド、チタニウムトリエトキシド、チタニウムトリプロポキシド、チタニウムフルォロトリメトキシド、チタニウムフルォロトリエトキシド、チタニウムメチルトリメトキシド、チタニウムメチルトリエトキシド、チタニウムメチルトリー n—プロポキシド、チタニウムメチルトリー iso プロポキシド、チタニウムメチルトリー n—ブトキシド、チタニウムメチルトリー iso ブトキシド、チタニウムメチルトリ — tert ブトキシド、チタニウムメチルトリフエノキシド、チタニウムェチルトリメトキシド、チタニウムェチルトリエトキシド、チタニウムェチルトリ _n—プロポキシド、チタニウムェチルトリ _iso _プロポキシド、チタニウムェチルトリ _n_ブトキシド、チタニウムェチルトリ— iso—ブトキシド、チタニウムェチルトリ— tert—ブトキシド、チタニウムェチノレトリフヱノキシド、チタニウム一 n—プロピルトリメトキシド、チタニウム n—プロピルトリェトキシド、チタニウム n—プロピルトリ _n—プロポキシド、チタニウム一 n—プロビルトリ _iso_プロポキシド、チタニウム一 n—プロピルトリ _n—ブトキシド、チタニウム一 n —プロピルトリ— iso—ブトキシド、チタニウム— n—プロピルトリ— tert—ブトキシド、チタニゥム _n—プロピルトリフエノキシド、チタニウム _iso_プロビルトリメトキシド、チタ二ゥム一 iso プロピルトリエトキシド、チタニウム _iso_プロピルトリ _n—プロポキシド、チタニウム iso プロピルトリー iso プロポキシド、チタニウム iso プロビルトリー n—ブトキシド、チタニウム iso プロピルトリー iso ブトキシド、チタニウム is o プロピルトリー tert ブトキシド、チタニウム iso プロピルトリフエノキシド、チタニゥム n—ブチルトリメトキシド、チタニウム n ブチルトリエトキシド、チタニウム n ブチルトリー n プロポキシド、チタニウム n ブチルトリー iso プロポキシド、チタニウムブチルトリー _n ブトキシド、チタニウム n ブチルトリー iso ブトキシド、チタニウム n—ブチルトリー tert ブトキシド、チタニウム n—ブチルトリフエノキシド、チタニウム sec ブチルトリメトキシド、チタニウム sec ブチルトリエトキシド、チタニウム sec ブチルトリー n プロポキシド、チタニウム sec ブチルトリ— iso プロポキシド、チタニウム see ブチルトリ _n—ブトキシド、チタニウム— s ec _ブチルトリ— iso—ブトキシド、チタニウム _ sec _ブチルトリ— tert—ブトキシド、チタニウム一 _sec_ブチルトリフエノキシド、チタニウム一 t—ブチルトリメトキシド、チタ二ゥム— _ブチルトリエトキシド、チタニウム _t_ブチルトリ _n—プロポキシド、チタ二ゥム— _ブチルトリ _iso _プロポキシド、チタニウム _t_ブチルトリ— n—ブトキシド、チタニウム _t_ブチルトリ— iso—ブトキシド、チタニウム _t_ブチルトリ— tert —ブトキシド、チタニウム _t_ブチルトリフエノキシド、チタニウムフエニルトリメトキシド、チタニウムフエニルトリエトキシド、チタニウムフエニルトリー _n—プロポキシド、チタ二ゥムフエニルトリー iso プロポキシド、チタニウムフエニルトリー n—ブトキシド、チタ二ゥムフエニルトリー iso ブトキシド、チタニウムフエニルトリー tert ブトキシド、チタ二ゥムフエニルトリフエノキシド、チタニウムトリフルォロメチルトリメトキシド、チタニウムぺンタフルォロェチルトリメトキシド、チタニウム一 3, 3， 3 _トリフルォロプロピルトリメトキシド、チタニウム一 3， 3, 3 _トリフルォロプロピルトリエトキシド等のトリアルコキシド、チタニウムジメチルジメトキシド、チタニウムジメチルジェトキシド、チタニウムジメチルジ一 n—プロポキシド、チタニウムジメチルジー iso_プロポキシド、チタニウムジメチルジー n—ブトキシド、チタニウムジメチルジー sec—ブトキシド、チタニウムジメチルジ — tert—ブトキシド、チタニウムジメチルジフエノキシド、チタニウムジェチルジメトキシド、チタニウムジェチルジェトキシド、チタニウムジェチルジー n—プロポキシド、チタニゥムジェチルジー i_so _プロポキシド、チタニウムジェチルジー n_ブトキシド、チタニゥムジェチルジー _sec—ブトキシド、チタニウムジェチルジー tert ブトキシド、チタニゥムジェチルジフエノキシド、チタニウムジー _n—プロピルジメトキシド、チタニウムジ n プロピルジェトキシド、チタニウムジー n プロピルジー n プロポキシド、チタ二ゥムジプロピルジ iso プロポキシド、チタニウムジ n—プロピルジ n— ブトキシド、チタニウムジー n プロピルジー sec ブトキシド、チタニウムジー n プロピルジー tert ブトキシド、チタニウムジ n—プロピルジフエノキシド、チタニウムジ iso プロピルジメトキシド、チタニウムジー iso プロピルジェトキシド、チタニウムジー iso プロピ /レジ n プロポキシド、チタニウムジー iso プロピノレジ iso プロポキシド、チタニウムジー iso プロピルジー n ブトキシド、チタニウムジー iso プ口ピルジ— sec—ブトキシド、チタニウムジ _iso _プロピルジ— tert—ブトキシド、チタニゥムジー iso—プロピルジフエノキシド、チタニウムジ __n—ブチルジメトキシド、チタニゥムジー _n—ブチノレジェトキシド、チタニウムジ— _n—ブチノレジ __n_プロボキシド、チタニウムジ一 n—ブチルジー iso—プロポキシド、チタニウムジ一 n—ブチルジー n —ブトキシド、チタニウムジ一 n—ブチルジー sec—ブトキシド、チタニウムジ一 n—ブチルジ一tert—ブトキシド、チタニウムジ一 n—ブチルジフエノキシド、チタニウムジ一 sec—ブチルジメトキシド、チタニウムジ一 sec—ブチルジェトキシド、チタニウムジ一 s ec ブチノレジ n プロポキシド、チタニウムジ sec ブチノレジ iso プロポキシド、チタニウムジー sec ブチルジー n ブトキシド、チタニウムジー sec ブチルジー sec ブトキシド、チタニウムジー sec ブチルジー tert ブトキシド、チタニウムジー sec—ブチルジフエノキシド、チタニウムジ一 tert—ブチルジメトキシド、チタニウムジ — tert—ブチルジェトキシド、チタニウムジ— tert—ブチルジー n_プロポキシド、チタニゥムジ _tert_ブチルジー iso_プロポキシド、チタニウムジ _tert_ブチルジー n—ブトキシド、チタニウムジ一 tert—ブチルジー sec—ブトキシド、チタニウムジ一 ter t—ブチルジー tert—ブトキシド、チタニウムジ一 tert—ブチルジフヱノキシド、チタ二ゥムジフエニノレジメトキシド、チタニウムジフエニノレジェトキシド、チタニウムジフエ二ノレジ _n_プロポキシド、チタニウムジフヱニノレジ _iso _プロポキシド、チタニウムジフェニルジ一 _n—ブトキシド、チタニウムジフエニルジ一sec—ブトキシド、チタニウムジフヱ二ルジー tert—ブトキシド、チタニウムジフヱ二ルジフヱノキシド、チタニウムビス（3 , 3, 3—トリフルォロプロピル）ジメトキシド、チタニウムメチル（3, 3, 3—トリフルォロプロピル）ジメトキシド等のジオルガノジアルコキシド等が挙げられる。

[0029] 上記（B)ポリマもしくはオリゴマとしては、特に限定されないが、その主鎖や側鎖に窒素原子を有するものであることが好ましい。また、水酸基もしくはカルボキシル基を有しないもの、または、水酸基もしくはカルボキシル基を有し、かつ窒素原子を有するものであることが好ましい。（B)ポリマもしくはオリゴマとして、水酸基もしくはカルボキシノレ基を有し、なおかつ窒素原子を有しないものを用いると、ゾルゲル反応が急速に進行し、ポリマ組成液がゲル化したり、粒子が光を散乱する程度の大きさまで成長してしまう可能性がある。特にカルボン酸の存在は、ゾルゲル反応の第 2段階 (第 1段階は、加水分解、第 2段階は、脱水縮合)を過度に抑制し、金属酸化物を生成させず、目的の高屈折率を得られなくしてしまう。

[0030] 主鎖に窒素原子を有するものとしては、例えば、ポリアミド、ポリウレタン、ポリ尿素、ポリイミン、ポリイミド、ポリアミドイミドなどが挙げられる。側鎖に窒素原子を有する場合には、例えば、ポリビュル、ポリアクリノレ、ポリエーテル、ポリスルフイド、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリケトンなどの側鎖としてアミド基ゃァミノ基が置換されていればよい。もちろん、主鎖と側鎖に窒素原子を有するものでも構わない。また、（C)反応性モノマ、（D)溶媒、（E)添加剤など他の成分により、樹脂組成物に窒素原子が供給される場合には、（B)のポリマもしくはオリゴマが必ずしも窒素原子を有する必要はなレ、。

[0031] 上記ポリウレタンやポリ尿素の原料になりうるものとして、例えばトリレンジイソシァネ —ト（TDI)、フエ二レンジイソシァネ一ト（PDI)、キシリレンジイソシァネ一ト（XDI) 1， 6—へキサメチレンジイソシァネート（HMDI)、 4, 4 '—ジフエニルメタンジイソシァネ —ト（MDI)、イソホロンジイソシァネート（IPDI)、テトラメチルキシリレンジイソシァネ —ト（TMXDI)、シクロへキサンジイソシァネ一ト（CHDI)、 4， 4，一ジシクロへキシノレメタンジイソシァネ一HDCHMDI)等のジイソシァネ一ト、 4, A' —ジフエ二ノレメタンジイソシァネート、トリレンジイソシァネート、キシリレンジイソシァネート、 4, —ジフェニルエーテルジイソシァネート、 4， - [2, 2 _ビス（4—フエノキシフエ二ノレ）プロパン〕ジイソシァネート等の芳香族ジイソシァネートなどを挙げることができ、これらは単独でまたは 2種以上を組み合わせて使用することができる。また、あらかじめ合成しておいたポリイソシァネートを用いてもよぐ経日変化を避けるために適当なブロック剤で安定化したものを使用してもよい。

[0032] また、上記ポリエステルとポリウレタンの原料になりうるものとして、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、ジブロムネォペンチルグリコール、 1 , 3 プロパンジオール、 1 , 2 ブタンジオール、 1 , 3 ブタンジオール、 1 , 4 ブタンジオール、 1 , 2 ペンタンジオール、 1 , 3 ペンタンジオール、 1 , 2—へキサンジオール、 1 , 4一へキサンジオール、 1 , 6—へキサンジォール、 2, 3—へキサンジオール等の脂肪族グリコール、シクロペンタンジオール、シクロへキサンジオール、水素化ビスフエノーノレ A等の脂環式ジオール、ビスフエノール Aプロピレンォキシド付加物、 p—キシレン一ひ，ひ ' 一ジオール等の芳香族基含有ジオール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等の三価以上の多価アルコールなどが挙げられる。

[0033] また、上記ポリアミドとポリエステルの原料になりうるものとして、例えば、フタル酸、ィソフタル酸、テレフタル酸、テトラヒドロフタル酸、メチルテトラヒドロフタル酸、エンドメチレンテトラヒドロフタル酸、へキサヒドロフタル酸、アジピン酸、セバシン酸、グルタル酸、へット酸、テトラブロムフタル酸、トリメリト酸、ピロメリット酸、ダイマー酸、こはく酸、ァゼライン酸、ロジンマレイン酸付加物等の芳香族カルボン酸、飽和酸及びこれらの無水物等の誘導体などが挙げられる。

また、上記ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミドの原料になりうるものとして、例えば、ピぺラジン、へキサメチレンジァミン、ヘプタメチレンジァミン、テトラメチレンジァミン、 p _キシリレンジァミン、 m_キシリレンジァミン、 3 _メチルヘプタメチレンジァミン等の脂肪族ジァミン、 1 , 3—ビス（3—アミノフエノキシ）ベンゼン、 1 , 3—ビス（4—ァミノフエノキシ）ベンゼン、 1， 4—ビス（4—アミノフエノキシ）ベンゼン、 4, 一[1 , 3— フエ二レンビス（1—メチルェチリデン）]ビスァニリン、 4, A' —[ 1， 4—フエ二レンビス (1—メチルェチリデン）]ビスァニリン、 3, 3' —[ 1， 3—フエ二レンビス（1—メチルェチリデン）]ビスァニリン、 4, 4' —ジアミノジフエニルエーテル、 4，一ジアミノジフェニルメタン、 4, A' —ジァミノ一 3, 3^; , 5, 5' —テトラメチルジフエニルエーテル、4, A' —ジァミノ一 3, 3^; , 5, 5' —テトラメチルジフエニルメタン、 4, A' —ジアミノー 3, 3' , 5, 5^; —テトラエチルジフエニルエーテル、 2, 2— [4, A' —ジァミノ一 3, 3' , 5, 5' —テトラメチルジフエ二ノレ]プロパン、メタフエ二レンジァミン、パラフエ二レンジァミン、 3, 3' —ジアミノジフエニルスルホン、 2, 2 ビス [4— (4 ァミノフエノキシ）フエニル]プロパン、 2, 2 ビス [3—メチル 4— (4 アミノフエノキシ）フエ二ノレ]プロパン、 2, 2 ビス [4— (4 アミノフエノキシ）フエニル]ブタン、 2, 2 ビス [3 —メチルー 4— (4 アミノフエノキシ）フエニル]ブタン、 2, 2 ビス [3, 5 ジメチル —4— (4—アミノフエノキシ）フエニル]ブタン、 2, 2 ビス [3, 5 ジブ口モー 4— (4 —アミノフエノキシ）フエニル]ブタン、 1 , 1， 1， 3, 3, 3—へキサフルォロ一 2, 2—ビス [3—メチル _4_ (4—アミノフエノキシ）フエニル]プロパン、 1 , 1 _ビス[4_ (4_ アミノフエノキシ）フエニル]シクロへキサン、 1， 1—ビス [4— (4—アミノフエノキシ）フヱニル]シクロペンタン、ビス [4— (4—アミノフエノキシ）フエニル]スルホン、ビス [4— (4—アミノフエノキシ）フエニル]エーテル、ビス [4— (3—アミノフエノキシ）フエニル] スノレホン、 4， 4' —カルボニルビス（p—フエ二レンォキシ）ジァニリン、 4, 4' —ビス（ 4 _アミノフエノキシ）ビフエニル等が挙げられる。 [0035] また、上記ポリアミドイミドの原料になりうるものとして、例えば、トリメリット酸、 3 , 3, 4 ' 一ベンゾフヱノントリカルボン酸、 2, 3, ' ージフヱニルトリカルボン酸、 2, 3, 6— ピリジントリカルボン酸、 3, 4, A' 一べンズァニリドトリカルボン酸、 1 , 4, 5—ナフタレントリカノレボン酸、 1， 5， 6 _ナフタレントリカルボン酸、 2' —クロ口べンズァニリド _ 3 , 4, 4' —トリカルボン酸などが挙げることができる。また、上記芳香族トリカルボン酸の反応性誘導体として、前記芳香族トリカルボン酸の酸無水物、ハライド、エステル、アミド、アンモニゥム塩等を挙げることができ、例えば、トリメリット酸無水物、トリメリット酸無水物モノクロライド、 1 , 4—ジカルボキシ— 3 _ N， N _ジメチルカルバモイルべンゼン、 1 , 4—ジカルボメトキシ _ 3 _カルボキシベンゼン、 1 , 4 _ジカボキシ一 3 _ カルボフエノキシベンゼン、 2， 6—ジカルボキシ一 3 _カルボメトキシピリジン、 1 , 6— ジカルボキシ一 5 _力ルバモイルナフタレン、などが挙げられる。

[0036] また、上記ポリビュル、ポリアクリルの原料になりうるものとして、例えば、ビュル化合物、アクリル化合物、メタタリルイ匕合物を挙げることができる。

[0037] 上記ビエル化合物としては、例えば、スチレン、 m—メチルスチレン、 p—メチルスチレン、 o—メチルスチレン、 2, 4—ジメチルスチレン、 2, 5—ジメチルスチレン、 3, 4— ジメチルスチレン、 3, 5—ジメチルスチレン、 p— tert—ブチルスチレン等のアルキルスチレン類、 p—クロロスチレン、 m—クロロスチレン、 o—クロロスチレン、 p—ブロモスチレン、 m—ブロモスチレン、 o—ブロモスチレン、 p—フルォロスチレン、 m—フルォロスチレン、 o—フルォロスチレン、 o—メチルー p—フルォロスチレン等のハロゲンィ匕スチレン類、 4—ビニルビフエニル、 3—ビニルビフエニル、 2—ビニルビフエニル等のビニルビフエニル類、 1— (4—ビニルフエニル）ナフタレン、 2— (4—ビニルフエニル）ナフタレン、 1— (3—ビュルフエニル）ナフタレン、 2— (3—ビュルフエニル）ナフタレン、 2— (3—ビュルフエニル）ナフタレン、 1— (2—ビュルフエニル）ナフタレン、 2— ( 2—ビュルフエニル）ナフタレン等のビュルフエ二ルナフタレン類、 1 _ (4—ビュルフェニル）アントラセン、 2— (4—ビュルフエニル）アントラセン、 9— (4—ビュルフエニル )アントラセン、 1 _ (3—ビュルフエニル）アントラセン、 1 _ (3—ビュルフエニル）アントラセン、 2— (3—ビュルフエニル）アントラセン、 9— (3—ビュルフエニル）アントラセン、 1— (2—ビュルフエニル）アントラセン、 2— (2—ビュルフエニル）アントラセン、 9 一（2—ビエルフエ二ノレ）アントラセン等のビエルフエ二ルアントラセン類、 1 （4ービニルフエ二ノレ）フエナントレン、 2— (4—ビュルフエニル）フエナントレン、 3— (4 ビニルフエニル）フエナントレン、 4— (4—ビニルフエ二ノレ）フエナントレン、 9— (4—ビュルフエニル）フエナントレン、 1— (3—ビュルフエニル）フエナントレン、 2— (3—ビュルフェニル）フエナントレン、 3— (3—ビュルフエニル）フエナントレン、 4— (3—ビュルフエ二ノレ）フエナントレン、 9— (3—ビュルフエ二ノレ）フエナントレン、 1— (2—ビュルフエ二ノレ）フエナントレン、 2— (2—ビュルフエ二ノレ）フエナントレン、 3— (2—ビュルフエニル )フエナントレン、 4— (2—ビュルフエニル）フエナントレン、 9— (2—ビュルフエニル）フエナントレン等のビュルフエユルフェナントレン類、 1 _ (4—ビュルフエニル）ピレン、 2 - (4—ビュルフエ二ノレ）ピレン、 1 _ (3—ビュルフエ二ノレ）ピレン、 2 _ (3—ビュルフヱニノレ）ピレン、 1 _ (2—ビュルフヱニノレ）ピレン、 2 _ (2—ビュルフヱニノレ）ピレン等のビュルフエニルピレン類、 4—ビュル _p—ターフェニル、 4—ビュル _m—ターフエニル、 4—ビュル一 o ターフェニル、 3—ビュル一 p ターフェニル、 3—ビニノレ —m—ターフェ二ノレ、 3 ビニノレ一 o ターフェ二ノレ、 2 ビニノレ一 p ターフェ二ノレ、 2 -ビエル一 m—ターフェニル、 2 -ビエル一 o—ターフェニル等のビニルターフエ二ル類、 4— (4—ビエルフエニル） p ターフェニル等のビニルフエ二ルターフエ二ノレ類、 4—ビエル一 4'—メチルビフエニル、 4—ビエル一 3 '—メチルビフエニル、 4—ビ二ルー 2 '—メチルビフエニル、 2—メチル 4 ビニルビフエニル、 3—メチル 4— ビニルビフエニル等のビエルアルキルビフエ二ル類、 4ービニルー 4，一フルォロビフェニル、 4—ビュル一 3 '—フルォロビフエニル、 4—ビュル一 2 '—フルォロビフエ二ノレ、 4—ビュル一 2 フルォロビフエニル、 4—ビュル一 3 フルォロビフエニル、 4 ビ二ノレ一4 '—クロロビフエ二ノレ、 4—ビニノレ _ 3，一クロロビフエ二ノレ、 4—ビニノレ一2 '― クロロビフエ二ノレ、 4—ビニノレ一 2 _クロロビフエ二ノレ、 4—ビニノレ一 3 _クロロビフエ二ノレ、 4—ビニノレ _4，一ブロモビフエ二ノレ、 4—ビニノレ一3 '—ブロモビフエ二ノレ、 4—ビ二ノレ一2 '—ブロモビフエ二ノレ、 4—ビニノレ _ 2—ブロモビフエ二ノレ、 4—ビニノレ一 3 _ ブロモビフエニル等のハロゲン化ビニルビフエニル類、 4—ビニノレ _4，一メトキシビフェニル、 4—ビュル一 3 '—メトキシビフエニル、 4—ビュル一 2 '—メトキシビフエニル、 4—ビュル一 2—メトキシビフエニル- 4—ビュル一 3—メトキシビフエニル、 4—ビュル -4' エトキシビフエニル、 4ービニルー 3 ' エトキシビフエニル、 4—ビュル 2'— エトキシビフエニル、 4—ビニル 2—エトキシビフエニル、 4—ビエル一 3—エトキシビフエニル等のアルコキシビフエニル類、 4—ビニル 4'—メトキシカルボ二ルビフエ二ノレ、 4_ビュル一 4'—エトキシカルボ二ルビフエニル等のアルコキシカルボ二ルビフェニル類、 4_ビュル— 4，—メトキシメチルビフヱニル等のアルコキシアルキルビフエニル類、 4_ビュル— 4'—トリメチルスタン二ルビフエニル、 4—ビュル _4， _トリブチルスタン二ルビフヱニル等のトリアルキルスタン二ルビフヱニル類、 4_ビュル— 4， -

—ビュル一4' _トリメチルスタン二ルメチルビフヱニル、 4_ビュル一 4'—トリブチルスタンニルメチルビフヱニル等のトリアルキルスタンニルメチルビフエニル類、 p—クロロェチノレスチレン、 m—クロロェチノレスチレン、 o_クロロェチノレスチレン等のハロゲン置換アルキルスチレン類、 p_メトキシスチレン、 m_メトキシスチレン、 o—メトキシスチレン、 p ェトキシスチレン、 m—ェトキシスチレン、 o ェトキシスチレン等のアルコキシスチレン類、 p—メトキシカルボニルスチレン、 m—メトキシカルボニルスチレン等のアルコキシカルボニルスチレン類、ァセチルォキシスチレン、エタノィルォキシスチレン、ベンゾィルォキシスチレン等のァシルォキシスチレン類、 p ビニルベンジルプ口ピルエーテル等のアルキルエーテルスチレン類、 p トリメチルシリルスチレン等のアルキルシリルスチレン類、 p トリメチルスタンニルスチレン、 p トリブチルスタン二ノレスチレン、 p トリフエニルスタンニルスチレン等のアルキルスタンニルスチレン類、ビエルベンゼンスルフォン酸ェチル、ビエルべンジルジメトキシフォスファイド、 p ビニル等のビニルスチレン類、ひーメチルスチレン、 _α—ェチルスチレン等の _α—アルキルスチレン類等の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。但し、ここに示した化合物は一例であり、これらに制限されるものではない。

また、ビュル化合物として、得られる膜の透明性、強度、耐熱などの観点から Ν—置換マレイミド重合体であってもよぐ例えば、 Ν—メチルマレイミド、 Ν—ェチルマレイミド、 Ν—プロピルマレイミド、 N_i—プロピルマレイミド、 N—ブチルマレイミド、 N-i- ブチルマレイミド、 N_t_ブチルマレイミド、 N—ラウリルマレイミド、 N—シクロへキシノレマレイミド、 N—ベンジルマレイミド、 N—フエニルマレイミド、 N— (2—クロ口フエ二ノレ）マレイミド、 N— (4—クロ口フエ二ノレ）マレイミド、 N— (4—ブロモフエ二ノレ）フエ二ノレマレイミド、 N— (2—メチルフエニル）マレイミド、 N— (2—ェチルフエエルマレイミド、 N— (2—メトキシフエニル）マレイミド、 N— (2, 4, 6—トリメチルフエニル）マレイミド、N— (4—ベンジルフエニル）マレイミド、 N— (2， 4, 6—トリブロモフエニル）マレイミド等があげられる。但し、ここに示した化合物は一例であり、これらに制限されるものではない。

上記アクリル化合物、メタクリル化合物としては、例えば、アクリル酸シクロペンチル、アクリル酸シクロへキシル、アクリル酸メチルシクロへキシル、アクリル酸トリメチルシクロへキシル、アクリル酸ノルボルニル、アクリル酸ノルボルニルメチル、アクリル酸シァノノルボルニル、アクリル酸イソボルニル、アクリル酸ボルニル、アクリル酸メンチル、アクリル酸フェンチル、アクリル酸ァダマンチル、アクリル酸ジメチルァダマンチル、アタリノレ酸トリシクロ [5. 2. 1. 0²'⁶コデカ _8—ィノレ、アタリノレ酸トリシクロ [5. 2. 1. 0²'⁶ ]デカー 4ーメチル、アクリル酸シクロデシル、メタクリル酸シクロペンチル、メタクリノレ酸シクロへキシル、メタクリル酸メチルシクロへキシル、メタクリル酸トリメチルシクロへキシル、メタクリル酸ノルボルニル、メタクリル酸ノルボルニルメチル、メタクリル酸シァノノルボルニル、メタクリル酸フエニルノルボルニル、メタクリル酸イソボルニル、メタタリル酸ボルニル、メタクリル酸メンチル、メタクリル酸フェンチル、メタクリル酸ァダマンチノレ、メタクリル酸ジメチルァダマンチル、メタクリル酸トリシクロ [5· 2. 1. 0²'⁶ ]デカ一 8 —ィル、メタクリル酸トリシクロ [5· 2. 1. 0²'⁶ ]デカ一 4—メチル、メタクリル酸シクロデシル等が挙げられる。このうち、低吸湿性の点で、メタクリル酸シクロペンチル、メタクリル酸シクロへキシル、メタクリル酸メチルシクロへキシル、メタクリル酸トリメチルシクロへキシル、メタクリル酸ノルボルニル、メタクリル酸ノルボルニルメチル、メタクリル酸ィソボルニル、メタクリル酸ボルニル、メタクリル酸メンチル、メタクリル酸フェンチル、メタクリル酸ァダマンチル、メタクリル酸ジメチルァダマンチル、メタクリル酸トリシクロ [5. 2 . 1. 0²'⁶ ]デカ一 8—ィル、メタクリル酸トリシクロ [5. 2. 1. 0²'⁶ ]デカ一 4—メチル、メタクリル酸シクロデシル等が好ましい。さらに、耐熱性、低吸湿性の点でより好ましレヽものとしては、メタクリル酸シクロへキシル、メタクリル酸イソボルニル、メタクリル酸ノルボルニル、メタクリル酸ノルボルニルメチル、メタクリル酸トリシクロ [5. 2. 1. 0²'⁶ ]デカ 8—ィル及びメタクリル酸トリシクロ [5· 2. 1. 0²'⁶ ]デカー 4 メチルが挙げられる。また、ジエチレングリコールアタリレート、ポリエチレングリコールアタリレート、ポリプロピレングリコールアタリレート、 2—メトキシェチルアタリレート、 2—ェトキシェチルァクリレート、 2_ブトキシェチルアタリレート、メトキシジエチレングリコールアタリレート、メトキシポリエチレングリコールアタリレート、ジシクロペンテ二ルォキシェチルァクリレート、 2_フエノキシェチルアタリレート、フエノキシジエチレングリコールアタリレート、フエノキシポリエチレングリコールアタリレート、 2 -ベンゾィルォキシェチルアタリレ一ト、 2—ヒドロキシ _ 3—フエノキシプロピルアタリレート等のアタリレート化合物、ジェチレングリコールメタタリレート、ポリエチレングリコールメタタリレート、ポリプロピレングリコールメタタリレート、 2—メトキシェチルメタタリレート、 2_エトキシェチルメタクリレート、 2_ブトキシェチルメタタリレート、メトキシジエチレングリコールメタタリレート、メトキシポリエチレングリコールメタタリレート、ジシクロペンテニルォキシェチルメタクリレート、 2—フエノキシェチルメタタリレート、フエノキシジエチレングリコールメタタリレート、フエノキシポリエチレングリコールメタタリレート、 2—ベンゾィルォキシェチルメタクリレート、 2 ヒドロキシー3 フエノキシプロピルメタタリレート等のメタタリレート化合物、ベンジルアタリレート、 2—シァノエチルアタリレート、 γ—アタリロキシプロピルトリメトキシシラン、グリシジルアタリレート、テトラヒドロフルフリルアタリレート、テトラヒドロビラニルアタリレート、ジメチルアミノエチルアタリレート、ジェチルアミノエチルアタリレート、 1 , 2, 2, 6, 6 ペンタメチノレビペリジニノレアタリレート、 2, 2, 6, 6 テ卜ラメチノレビペリジニルアタリレート、アタリロキシェチルホスフェート、アタリロキシェチルフエニルアシッドホスフェート、 β—アタリロイルォキシェチルハイドロジェンフタレート、 βーァクリロイルォキシェチルハイドロジヱンサクシネート等のアタリレート化合物、ベンジノレメタタリレート、 2—シァノエチルメタタリレート、 γ—メタクリロキシプロビルトリメトキシシラン、グリシジルメタタリレート、テトラヒドロフルフリルメタタリレート、テトラヒドロビラニルメタタリレート、ジメチルアミノエチルメタタリレート、ジェチルアミノエチルメタタリレート、 1 , 2， 2， 6, 6 _ペンタメチノレビペリジニノレメタクリレー卜、 2， 2, 6, 6 _テトラメチノレピペリジニルメタタリレート、メタクリロキシェチルホスフェート、メタクリロキシェチルフエニルアシッドホスフェート等のメタタリレート、 β—メタクリロイルォキシェチルハイド口ジェンフタレート、 βーメタクリロイルォキシェチルハイドロジェンサクシネート等のメタタリレート化合物、エチレングリコールジアタリレート、 1, 4 ブタンジオールジアタリレート、 1, 6—へキサンジオールジアタリレート、 1, 9ーノナンジオールジアタリレート、 1 , 3 _ブタンジオールジアタリレート、ネオペンチルグリコールジアタリレート、ダイマージオールジアタリレート等のジアタリレート化合物、エチレングリコールジメタクリレート、 1， 4_ブタンジオールジメタタリレート、 1， 6—へキサンジオールジメタタリレート、 1 , 9—ノナンジオールジメタタリレート、 1， 3 _ブタンジオールジメタタリレート、ネオペンチルグリコールジメタタリレート、ダイマージオールジメタタリレート等のジメタクリレート化合物、ジエチレングリコールジアタリレート、トリエチレングリコールジアタリレート、テトラエチレングリコールジアタリレート、ポリエチレングリコールジアタリレート、トリプロピレングリコールジアタリレート、ポリプロピレングリコールジアタリレート等のジアタリレート化合物、ジエチレングリコールジメタタリレート、トリエチレングリコールジメタタリレート、テトラエチレングリコールジメタタリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、トリプロピレングリコールジメタタリレート、ポリプロピレングリコールジメタタリレート等のジメタクリレートイ匕合物が挙げられる。

また、窒素含有アクリル重合体であるものは 2級ァミノ基、 3級ァミノ基、含窒素複素環基などの官能基を含む群から選ばれた物とすることが好ましい。例えば、アミノエチノレアタリレート、アミノエチルメタタリレート、メチルアミノエチルアタリレート、メチルアミノエチルメタタリレート等のアミノ（メタ）アタリレート類、 2—シァノエチルアタリレート、アクリル酸シァノノルボルニル、メタクリル酸シァノノルボルニル、 2—シァノエチルメタタリレート等のシァノ（メタ）アタリレート類、アクリルアミド、メタクリルアミド、 Ν—メチノレアクリルアミド、 Ν ェチルアクリルアミド、 Ν メチルメタクリルアミド、 Ν—ェチルメタクリルアミド等の（メタ）アクリルアミド類、 2, 2, 6， 6—テトラメチル _4—ピペリジルメタクリレート、 2， 2, 6, 6—テトラメチノレ _4—ピぺリジノレアタリレート、 1， 2， 2, 6, 6，一ぺンタメチノレー 4—ピペリジノレメタタリレート、 1 , 2, 2, 6， 6, —ペンタメチノレー 4_ピぺリジノレアタリレート、 Ν_ (2 '、 2'、 6 '、 6，一テトラメチル _4—ピペリジル）一メタクリノレアミド、 Ν— (2 '、 2，、 6 '、 6，一テトラメチル _4—ピペリジル）一アタリノレアミド、 Ν— ( 1 '、 2 '、 2，、 6 '、 6，_ペンタメチル _4—ピペリジル）一メタクリルアミド、 Ν_ (1 '、 2 ' 、 2，、 6 '、 6 '—ペンタメチル一 4—ピペリジル）一アクリルアミドなどがあげられる。但し、ここに示した化合物は一例であり、これらに制限されるものではない。

[0041] また、（B)成分は、エポキシ樹脂であってもよぐ例えば、ビスフエノール A型ェポキシ樹脂 [AER—X8501 (旭化成工業 (株）、商品名）、 R- 301 (油化シェルエポキシ (株）、商品名）、 YL— 980 (油化シェルエポキシ (株）、商品名）]、ビスフエノール F 型エポキシ樹脂 [YDF— 170 (東都化成 (株）、商品名）]、ビスフヱノール AD型ェポキシ樹脂 [R_ 1710 (三井石油化学工業 (株)、商品名）]、フエノーノレノボラック型ェポキシ樹脂 [N— 730S (大日本インキ化学工業 (株）、商品名）、 Quatrex _ 2010 ( ダウ'ケミカル社、商品名）]、クレゾ一ルノボラック型エポキシ樹脂 [YDCN— 702S ( 東都化成 (株）、商品名）、 EOCN_ 100 (日本化薬 (株）、商品名）]、多官能ェポキシ樹脂 [EPPN— 501 (日本化薬 (株）、商品名）、 TACTIX— 742 (ダウ'ケミカル社、商品名）、 VG_ 3010 (三井石油化学工業 (株）、商品名）、 1032S (油化シェルェポキシ (株）、商品名）]、ナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂 [HP— 4032 (大日本インキ化学工業 (株）、商品名）]、脂環式エポキシ樹脂 [EHPE— 3150、 CEL— 30 00 (ダイセル化学工業 (株）、商品名）、 DME— 100 (新日本理化 (株）、商品名）]、脂肪族エポキシ樹脂 [W—100 (新日本理化 (株)、商品名）]、アミン型エポキシ樹脂 [ELM—100 (住友化学工業 (株)、商品名）、 YH— 434L (東都化成 (株)、商品名）、 TETRAD -X, TETRAC— C (三菱瓦斯化学（株）、商品名）]、レゾルシン型ェポキシ樹脂 [デナコール EX— 201 (ナガセ化成工業 (株）、商品名）]、ネオペンチルダリコール型エポキシ樹脂 [デナコール EX— 211 (ナガセ化成工業 (株）、商品名）]、へキサンディネルダリコール型エポキシ樹脂 [デナコール EX— 212 (ナガセ化成ェ業 (株）、商品名）]、エチレン 'プロピレングリコール型エポキシ樹脂 [デナコール EX — 810、 811、 850、 851、 821、 830、 832、 841、 861 (ナガセィ匕成工業（株）、商品名）]などが挙げられる。

[0042] 上記（B)成分の配合量は、（A)成分 100重量部に対して、 0〜： 1000重量部であることが好ましい。

[0043] 上記（C)反応性モノマは、熱や光により重合、硬化する樹脂組成物においては必須の成分となる。（C)成分の重合形態には、例えば、イオン重合やラジカル重合が良く知られている力本発明は、それら重合形態を限定するものではなレ、。また、（B)ポリマもしくはオリゴマ、（D)溶媒、（E)添加剤など他の成分により窒素原子が供給される場合には、（C)反応性モノマは必ずしも窒素原子を含む必要はない。

上記（C)の反応性モノマとしては、例えば、ウレタンアタリレートビスコート 831 (大阪有機化学工業社製商品名）、ポリエーテル型ウレタンアタリレート BTG—A (共栄社油脂化学工業社製商品名）、ポリエステル型ウレタンアタリレート D— 200A (共栄社油脂化学工業社製商品名）、ウレタンアタリレートフォトマー 6008 (サンノブコネ土製商品名）、ウレタンジァリレートケムリンク 9503 (サートマ社製商品名）等のウレタン (メタ）アタリレートやトリメチロールプロパンエトキシトリアタリレート（SR_454、サートマ一社製商品名）、トリメチロールプロパンプロポキシトリアタリレート（R— 924、日本化薬社製商品名）、ポリエチレングリコールジ (メタ）アタリレート（エチレン基の数が 2〜： 14のもの）、トリメチロールプロパンジ（メタ）アタリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）ァタリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アタリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アタリレート、ポリプロピレングリコールジ (メタ）アタリレート（プロピレン基の数が 2 〜14のもの）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アタリレート、ジペンタエリスリトールへキサ（メタ）アタリレート等の多価アルコールに α、 β 不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物、ビスフエノール Αジォキシエチレンジ（メタ）アタリレート、ビスフエノーノレ Aトリオキシエチレンジ（メタ）アタリレート、ビスフエノーノレ Aデカオキシェチレンジ（メタ）アタリレート等のビスフエノール Aジォキシエチレンジ（メタ）アタリレート、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルトリアクリルレート、ビスフエノール Aジグリシジルエーテルアタリレート等のグリシジル基含有化合物にひ、 β 不飽和カルボン酸を付加して得られる化合物、無水フタル酸等の多価カルボン酸と /3 —ヒドロキシェチノレ (メタ）アタリレート等の水酸基及びエチレン性不飽和基を有する物質とのエステル化物、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸ェチルエステル、（メタ）アタリル酸ブチルエステル、（メタ）アタリノレ酸 2 -ェチルへキシルエステル等の（メタ）アタリル酸のアルキルエステルなどが挙げられる。また、上記（Β)成分の原料として記載した各種のビュル化合物、アタリレート、メタタリレートを（C)反応性モノマーとして用いることちでさる。 [0045] 上記（C)成分の配合量は、（A)成分 100重量部に対して、 0〜： 1000重量部であることが好ましい。

[0046] また、上記（B)ポリマもしくはオリゴマおよび/または前記（C)反応性モノマ力下記式

[化 2]

[0047] (式中、 Rは、水素もしくは C〜Cアルキル基を示す）

1 1 6

で示される構造 (ヒンダードァミン）を有するものであると、膜の光安定性が向上するため好ましい。例えば、 FA—711MM (日立化成工業社製、ファンクリル、ペンタメチルピペリジルメタタリレート）、 FA— 712HM (日立化成工業社製、ファンクリル、テトラメチルピペリジルメタタリレート）を用いることが好ましい。

[0048] 上記（D)溶媒としては、炭化水素系溶剤、エーテル'ケトン類溶剤、エステル系溶剤、ハロゲン化炭化水素類、鉱物油や合成油、動植物油、アルコール系溶剤等が挙げられ、これらは 1種類もしくは 2種類以上を組み合わせて使用することができる。また、窒素原子を有する溶媒を用いることが好ましい。

[0049] 上記炭化水素系溶剤としては、ペンタン、へキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ゥンデカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、へキサデカン、イソへキサン、イソォクタン、イソドデカン、ナフテン、オタテン、シクロペンタン、シクロへキサン、シクロペンテン、シクロへキセン、ベンゼン、ェチノレベンゼン、トノレェン、キシレン、スチレン、ジビニルベンゼンなどが挙げられる。

[0050] 上記エーテル ·ケトン類溶剤としては、アセトン、メチルェチルケトン、メチルイソブチノレケトン、シクロへキサノン、イソホロン、テトラヒドロフラン、ェチルエーテル、イソプロピルエーテル、ジォキサンなどが挙げられる。

[0051] 上記エステル系溶剤としては、酢酸ェチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ァミル、酢酸オタチル、フタル酸ジメチル、フタル酸ジェチル、フタル酸ジブチル、フタノレ酸ジヘプチル、フタル酸ォクチル、フタル酸ェチルへキシル、フタル酸ジイソノニル、フタル酸ォクチルデシル、フタル酸ジイソデシル、フタル酸ブチルベンジル、ォレイン酸ブチル、グリセリンモノォレイン酸エステル、アジピン酸ジブチル、アジピン酸ジへキシル、アジピン酸ジ 2—ェチルへキシル、アジピン酸アルキル、クェン酸ァセチノレトリェチノレ、クェン酸ァセチルトリブチル、ァゼライン酸ジェチルへキシル、セバシン酸ジブチル、セバシン酸ジェチルへキシル、ジエチレングリコールジベンゾエート、トリエチレングリコールジー 2—ェチルブチラート、ァセチルリシノール酸メチル、ァセチルリシノール酸ブチル、ブチルフタリルブチルダリコレート、ァセチルクェン酸トリブチノレ、マレイン酸ジブチル、マレイン酸ジ _ 2—ェチルへキシル、リン酸トリブチノレ、リン酸トリ一 2—ェチルへキシル、リン酸トリフヱニル、リン酸トリクレシルなどが挙げられる

[0052] 上記ハロゲン化炭化水素類としては、塩化メチレン、クロ口ホルム、トリクロロェタン、トリクロロエチレン、フロン一 113、フロン一 112、ブロムペンテン、塩素化パラフィンなどが挙げられる。

[0053] 上記鉱物油や合成油としては、灯油、軽油、ガソリン、スピンドル油、タービン油、ギヤー油、マシン油、トランス油、ラバーゾール、ホワイトゾール、ミネラルターペン、ミネラルスピリット、 n—パラフィン、イソ一パラフィン、流動パラフィン、パラフィンワックス、シリコンオイル、ポリブテンなどが挙げられる。

[0054] 上記動植物油としては、牛脂、スクヮラン、ラノリン、大豆油、ヤシ油、菜種油、亜麻仁油、桐油、ひまし油、綿実油などが挙げられる。これらの液体は触媒液の作製前に、シリカゲルや活性アルミナ、珪藻土、活性白土などでろ過したり。減圧脱気や窒素やアルゴンなどの不活性ガスで置換しても良レ、。

[0055] 上記アルコール系溶剤としては、メタノーノレ、エタノール、 n—プロパノール、 i—プロパノール、 n—ブタノール、 i—ブタノール、 sec—ブタノール、 t—ブタノール、 n—ペンタノール、 i—ペンタノール、 2—メチルブタノール、 sec—ペンタノール、 t—ペンタノール、 3—メトキシブタノール、 n_へキサノール、 2—メチルペンタノール、 sec—へキサノール、 2—ェチルブタノール、 sec—ヘプタノール、 n_ォクタノール、 2—ェチノレへキサノーノレ、 sec ォクタノーノレ、 n ノニノレアノレコーノレ、 n デカノーノレ、 sec ゥンデシルアルコール、トリメチルノニルアルコール、 sec テトラデシルアルコール、 se c一へプタデシルアルコール、フエノール、シクロへキサノール、メチルシクロへキサノ一ノレ、ベンジノレアノレコーノレ、エチレングリコーノレ、 1 , 2 _プロピレングリコーノレ、 1 , 3 ーブチレングリコーノレ、ジエチレングリコーノレ、ジプロピレングリコーノレ、トリエチレングリコーノレ、トリプロピレングリコール等が挙げられる。

[0056] 上記（D)成分の配合量は、（A)成分 100重量部に対して、 0〜： 1000重量部であることが好ましい。

[0057] 上記（E)添加剤としては、光ラジカル重合開始剤や熱ラジカル重合開始剤等の重合開始剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、酸化防止剤等の安定化剤、カップリング剤、難燃剤などを挙げることができる。

[0058] 上記熱ラジカル重合開始剤としては、 1 , 1， 3， 3—テトラメチルパーォキシ 2—ェチノレへキサノエート、 1 , 1—ビス（t ブチルパーォキシ）シクロへキサン、 1 , 1—ビス（t ブチルパーォキシ）シクロドデカン、ジー t ブチルパーォキシイソフタレート、 t- ブチルパーべンゾエート、ジクミルパーオキサイド、 t ブチルタミルパーオキサイド、 2, 5 ジメチノレー 2, 5 ジ（t ブチルパーォキシ）へキサン、 2, 5 ジメチノレー 2, 5 ージ（t ブチルパーォキシ）へキシン、クメンハイド口パーオキサイド、メチルェチノレケトンパーォキシド、メチルイソブチルケトンパーォキシド、シクロへキサノンパーォキシド、メチルシクロへキサノンパーォキシド、ァセチルアセトンパーォキシド、イソブチノレパーォキシド、 o メチルベンゾィルパーォキシド、ビス 3, 5, 5—トリメチルへキサノィルパーォキシド、ラウロイルパーォキシド、ベンゾィルパーォキシド、 2, 4, 4— トリメチルペンチル一 2—ヒドロパーォキシド、ジイソプロピルベンゼンパーォキシド、クメンヒドロパーォキシド、 tert—ブチルヒドロパーォキシド、ジクミルパーォキシド、 2, 5 —ジメチル一2, 5—ジ（tert—ブチルパーォキシ）へキサン、 1 , 3 _ビス（tert—ブチノレパーォキシイソプロピノレ）ベンゼン、 tert—ブチノレクミノレパーォキシド、ジ一 tert— ブチルパーォキシド、 2, 5—ジメチル _ 2， 5—ジ（tert—ブチルパーォキシ）へキシン一 3、 1， 1—ジ一tert—ブチルパーォキシ _ 3， 3， 5—トリメチルシクロへキサン、 1 , 1 _ジ一 tert—ブチルパーォキシシクロへキサン、 2, 2—ジ（tert—ブチルパーォキシ）ブタン、 4, 4ージー tert ブチルパーォキシバレリック酸 n ブチルエステル、 2, 4, 4 トリメチルペンチルパーォキシフエノキシアセトン、 α タミルパーォキシネオデカノエート、 tert ブチルパーォキシネオデカノエート、 tert ブチルパーォキシ _ 2 _ェチルへキサノエート、 tert ブチルパーォキシイソブチレート、ジ一 tert —ブチルパーォキシへキサヒドロテレフタレート、 tert ブチルパーォキシアセテート、 tert ブチルパーォキシベンゾエート等が挙げられる力 S、これらに限定されるものではない。また、これらの過酸化物は、各々単独で、又は 2種類以上を組み合わせて用いてもよい。

[0059] 上記光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾフヱノン、 N， Ν' —テトラメチノレ一 4, 一ジァミノべンゾフエノン（ミヒラーケトン）、 Ν， Ν テトラメチル一 4， A' —ジァミノべンゾフエノン、 4 メトキシ一一ジメチルァミノべンゾフエノン、 2—ェチノレアントラキノン、フエナントレンキノン等の芳香族ケトン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインェチルエーテル、ベンゾインフエニルエーテル等のベンゾインエーテル、メチルベンゾイン、ェチルベンゾイン等のベンゾイン、ベンジルジメチルケタール等のベンジル誘導体、 2— (ο クロ口フエ二ル）一 4, 5 ジフエ二ルイミダゾ一ルニ量体、 2— (ο クロ口フエ二ル）一 4, 5 ジ（m—メトキシフエ二ル）イミダゾールニ量体、 2— (o フルオロフェニル）一4, 5 ジフエ二ルイミダゾ一ルニ量体、 2— (o—メトキシフェニル）一4, 5 ジフエ二ルイミダゾ一ルニ量体、 2— (p—メトキシフエ二ル）一 4, 5 —ジフエ二ルイミダゾ一ルニ量体、 2, 4—ジ（p—メトキシフエ二ル）一 5—フエニルイミダゾールニ量体、 2—（2, 4—ジメトキフエニル）—4, 5—ジフエ二ルイミダゾールニ量体、 2—（p—メチルメルカプトフエニル）—4, 5 ジフエ二ルイミダゾ一ルニ量体等の 2， 4， 5 トリアリールイミダゾールニ量体、 9 フエ二ルァクリジン、 1 , 7 ビス（9, 9^r —アタリジニル)ヘプタン等のアタリジン誘導体などが挙げられる力これらに限定されるものではなレ、。これらは、単独で又は 2種以上を組み合わせて用いることができる。

[0060] これらラジカル重合開始剤の配合量は、（B)成分と（C)成分の総量 100重量部に対して 0. 1〜： 10重量部の範囲であることが好ましぐ 0. 5〜5重量部の範囲であることがより好ましい。 [0061] 上記紫外線吸収剤としては、例えば、フエニルサリシレート、パラー t ブチルフエ二ルサリシレートなどのサリチル酸系紫外線吸収剤、 2, 4 ジヒドロキシベンゾフエノン、 2—ヒドロキシー 4ーメトキシベンゾフエノン、 2, 2' ージヒドロキシー 4, Α' ジメトキシベンゾフエノンなどのべンゾフエノン系紫外線吸収剤、 2 _ (2' —ヒドロキシ —メチルフエニル）ベンゾトリアゾール、 2 _ (2' —ヒドロキシ一3' , 5' —ジ一 t—ブチルフエニル）ベンゾトリアゾール 2— (2' —ヒドロキシ一 3' , 5' —ジ一 t—アミルフヱニル）ベンゾトリアゾールなどのベンゾトリアゾール系紫外線吸収斉 lj、 2 _ェチルへキシル一2—シァノ一3, 3^; —ジフエニルアタリレート、ェチル一2—シァノ一3， 3' —ジフヱニルアタリレートなどのシァノアクリレート系紫外線吸収剤が挙げられる力これらに限定されるものではなレ、。これらは単独又は 2種類以上併用してもよい。

[0062] 上記光安定化剤としては、例えば、ビス（2， 2, 6 , 6—テトラメチル _ 4—ピペリジル )セバケート、ビス（1， 2, 2, 6 , 6 _ペンタメチル _ 4—ピペリジニノレ）セバケート、コハク酸ジメチル · 1— (2 ヒドロキシェチル） 4 ヒドロキシ一 2, 2, 6, 6 テトラメチルピぺリジン重縮合物などのヒンダードアミン系光安定剤が挙げられる力 S、これらに限定されるものではない。

[0063] 上記紫外線吸収剤や光安定化剤は、通常、（B)成分と（C)成分の総量 100重量部に対し 0. 05〜20重量部の範囲で添加されうる。

[0064] 上記酸化防止剤としては、パラべンゾキノン、トルキノン、ナフトキノンなどのキノン類、ハイドロキノン、パラー tーブチルカテコール、 2, 5 ジー t ブチルハイドロキノンなどのハイドロキノン類、ジー t ブチル 'パラクレゾールハイドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロールなどのフエノール類、ナフテン酸銅やオタテン酸銅などの銅塩、トリメチルベンジルアンモニゥムクロライド、トリメチルベンジルアンモニゥムマレエート、フエニルトリメチルアンモニゥムクロライドなどの第 4級アンモニゥム塩類、キノンジォキシムゃメチルェチルケトォキシムなどのォキシム類、トリェチルァミン塩酸塩やジブチルァミン塩酸塩などのアミン塩酸塩類、鉱油、精油、脂肪油などの油類などが挙げられるカ S、これらに限定されるものではない。

[0065] 酸化防止剤は、充填材との相性や目的とする成形作業性及び樹脂保存安定性などの条件により種類、量を変えて添加する。通常、（B)成分と（C)成分の総量 100重量部に対し 10〜： 10, OOOppmである。

[0066] 上記カップリング剤としては、特に限定されないが、シラン系カップリング剤であることが好ましい。このシラン系カップリング剤は、通常、 Y (Si) X (Yは官能基を有し、 Si に結合する 1価の基、 Xは加水分解性を有し Siに結合する 1価の基）で表される。上記式中の Yの官能基としては、例えば、ビュル、アミ人エポキシ、クロ口、メルカプト、メタクリルォキシ、シァノ、力ルバメート、ピリジン、スルホニルアジド、尿素、スチリル、クロロメチノレ、アンモニゥム塩、アルコール等の基が挙げられる。 Xとしては、例えばクロル、メトキシ、エトキシ、メトキシェトキシ等が挙げられる。具体例としては、ビュルトリメトキシシラン、ビュルトリス（2—メトキシェトキシ）シラン、 _Ί - (2—アミノエチル）一ァ

—ジメチルァミノフエニルトリエトキシシラン、メルカプトェチルトリエトキシシラン、メタクリルォキシェチルジメチル（3—トリメトキシシリルプロピル）アンモニゥムクロライド、 3 — (Ν—スチリルメチル—2—アミノエチルァミノ）プロピルトリメトキシシラン塩酸塩等が挙げられるが、これらに限定されるものではなぐこれらを混合して使用することも可能である。カップリング剤は、通常、（Β)成分と（C)成分の総量 100重量部に対し、 0 . 001〜 5重量部添加する。

[0067] 上記難燃剤としては、例えば、へキサブロムベンゼン、テトラブロムビスフエノール A 、デカブロムジフエニルオキサイド、トリブロムフエノール、ジブロモフエニルダリシジルエーテル、パークロロペンタシクロデカン、へット酸誘導体等のハロゲン系化合物が挙げられ、これらは単独又は 2種以上併用されうる。また、リン酸トリス（ジクロ口プロピル）、リン酸トリス（ジブロモプロピル)などのリン酸化合物、ホウ酸化合物なども併用できる。さらに、助難燃剤として三酸化アンチモン、酸化鉄、水素化アルミなどを難燃剤と併用するとより難燃効果が高められる。ハロゲン系難燃剤は、一般的に、（B)成分と (C)成分の総量 100重量部に対し 1〜50重量部で、三酸化アンチモン等の助難燃剤は 1〜： 15重量部の範囲で用いられる。また、プラスチック用充填材として市販の水酸化アルミニウムや水酸化マグネシウムなどの水和物も難燃を目的とした充填材として用いることができる。これらの添加量は（B)成分と（C)成分の総量 100重量部に対し 10〜300重量部の範囲で用いることが好ましい。

[0068] 本発明の樹脂組成物は、上記した (A)成分と、（B)成分および/または（C)成分とを必須成分とし、その他必要に応じて添加される成分を、通常の樹脂組成物と同様に攪拌、混合することにより得ることができる。なお、このときに注意が必要な点は、水分の混入であり、樹脂組成物中に含まれる水分は 1重量％以下であることが好ましい。それゆえ上記混合攪拌は密閉系で行うことが望ましい。

[0069] 本発明の膜状光学部材は、例えば、本発明の樹脂組成物を基材上に塗布、乾燥し、必要に応じて硬化させることにより得ることができる。樹脂組成物を基材上に塗布する方法としては、特に限定されないが、例えば、刷毛塗り、スピン塗布法、スプレー法、スリットコーター、グラビア印刷、スクリーン印刷などを挙げることができる。また、上記基材としては、ガラス板、プラスチック板、プラスチックフィルム、太陽電池セルなどを挙げること力 Sできる。

[0070] また、樹脂組成物の塗布後に行う乾燥は、膜中の溶剤が十分に揮発すればよぐその方法や条件は特に限定されなレ、が、例えば、電気炉等を用い、好ましくは 50〜 150°C、より好ましくは 60〜80°Cの範囲で行うことができる。乾燥温度 50°C未満では、（D)成分などの乾燥が不十分になる恐れがあり、 150°Cを越えると（C)成分などが揮発してしまう恐れがあり、良好な硬化膜をえることが困難になる傾向がある。

[0071] また、乾燥後の硬化は、熱硬化性配合の場合には、その成分や配合量により硬化温度と時間を適宜決定すればよいが、好ましくは 130〜200°Cの温度で 2〜60分間、より好ましくは 130〜200°Cの温度で 2〜30分間カロ熱して行うこと力 Sでさる。このカロ熱が 130°C未満であると、十分な硬化が行えない恐れがある。また、樹脂組成物が光硬化性配合の場合にも特に制限されないが、高圧水銀灯などを用い、 100-200 OmjZcm²で露光し、最終硬化させることが好ましレ、。

[0072] 本発明の膜状光学部材の膜厚は、本発明の樹脂組成物の粘度を調整したり、膜形成手段やその条件を適宜選択することにより、容易に所望厚さに形成することが可能である。例えば、上記（D)成分である溶剤の配合量を少なくすると、樹脂組成物の粘度が上昇し、比較的厚膜の光学部材を形成しやすくなり、上記 (D)成分の配合量を多くすると、樹脂組成物の粘度が低下し、比較的薄膜の光学部材を形成しやすくなる。また、樹脂組成物の塗布手段として、スピン塗布法を適用する場合には、その回転数を下げたり、塗布回数を増やしたりすることで、比較的厚膜の光学部材を形成すること力 Sでき、その回転数を上げたり、塗布回数を減らしたりすることで、比較的薄膜の光学部材を形成することが可能である。具体的に好ましい厚さは、用途にもよるが：!〜 1000 z mの範囲である。また、本発明の膜状光学部材の屈折率は、 1. 8以上であることが好ましい。

実施例

[0073] <ポリマ合成例 >

(含窒素アクリルポリマの合成）

耐圧 2. 3kg/cm¾の 4リットルのステンレス鋼製オートクレープに重合溶媒としてトノレェン 1950gを投入し、 1 , 2, 2, 6, 6, —ペンタメチノレー 4ーピペリジノレメタクリレー MFA— 711MM、日立化成工業社製） 500gを秤取した。その後、室温にて窒素ガスを約 1時間通し、溶存酸素を置換し、オートクレープ内を加圧 '密閉にして、 60°Cまで昇温した後、重合開始剤としてァゾビスイソプチロニトリル (AIBN、和光純薬社製） 1. 0g、ァゾビスシクロへキサノン一 1—カルボ二トリル (ACHN、和光純薬社製） 0· 5 gをトルエン 50gに溶解して、室温にて窒素ガスを約 10分間通し、溶存酸素を置換した混合溶液を添加した。さらに、同温度を約 18時間保持し、 90°Cまで昇温した後、同温度で約 6時間保持し、アクリルポリマ溶液を得た。ポリマの重合率は 98. 6%であつた。このポリマを L— 3と呼ぶことにする。

[0074] 以下同様にして、上記 L— 3でトルエンのところをメチルェチルケトンとした L— 4を合成した。また、上記 L— 3の合成で FA— 711MMを使っているところを、ジメチルァミノエチノレアタリレート（DE、興人社製）を用いたもので、 D_ 1〜D_4を合成した。

[0075] (ウレタンポリマの合成）

撹拌機、温度計、冷却管及び空気ガス導入管を装備した反応容器に空気ガスを導入させた後、 2—ヒドロキシェチルアタリレート 115部（ヒドロキシル基： 1. 0当量）、 1 , 5—ペンタンジオールと 1 , 6—へキサンジオールと塩化カルボニルからなるポリカーボネートジオール（T5650J :旭化成ケミカルズ株式会社製 PCDL、 Mw = 800) 400 0部（ヒドロキシル基: 4· 0当量）、ハイドロキノンモノメチルエーテル (和光純薬工業（株)製） 0. 5部、ジブチル錫ジラウレート (東京ファインケミカル (株)製、商品名： L101) 5. 0部及びトルエン 4000部を仕込み、 70°Cに昇温後、 70〜75°Cで 30分間保温し、これに、 4, 4，ージシクロへキシルメタンジイソシァネート（住友バイエルウレタン (株）製、商品名：デスモジュール W) 650部（イソシァネート基： 5. 0当量）及びトルエン 3 00部の混合液体を 70〜75°Cで 3時間かけ均一滴下し、反応させた。

[0076] 滴下完了後、 70〜75°Cで約 5時間保温して反応させ、 IR測定によりイソシァネートが消失したことを確認した後、反応を終了させた。さらに、ベンゾフヱノン (和光純薬工業 (株)製） 150部を加え攪拌'溶解し、ウレタン系 UV硬化樹脂組成物（S_ l)を得た。

[0077] ぐ樹脂組成物の調製と評価 >

表：!〜 8に示される配合量 (重量部）にて各成分を 12時間攪拌混合することで、実施例：!〜 81の樹脂組成物を調製した。

[0078] ついで、得られた各樹脂組成物の溶解性と色を目視により観察した。また、各樹脂組成物をガラス上に数滴たらし、溶媒を乾燥させて厚み 5〜： 100 _β mの膜を作製し、その膜質を目視により観察した。

[0079] さらに、各樹脂組成物を適当に溶媒で希釈し、これを、約 25mm角に切断したシリコンウェハ上（屈折率測定用）、およびガラス上（吸光度測定用）のそれぞれに、 200

0rpm、 30secの条件でスピンコートし、ホットプレート（90°C、約 120sec)を用いて、溶媒を乾燥させた。なお、熱硬化性配合の樹脂組成物に関しては、さらに 150°Cで 1 0分間ホットプレートにて硬化させた。また、屈折率測定に用いる試料膜の膜厚は、 0 . 01〜0. 2 μ ΐηであり、吸光度測定に用レ、る試料膜の膜厚は、 1〜20 μ ΐηである。

[0080] このようにして得た各試料膜について、屈折率測定と吸光度測定を行った。屈折率測定は、エリプソメータ（633nm)を用いて測定し、吸光度測定は、日立ハイテク社製 UV分光光度計 U— 3310を用い、 450nmの範囲で測定した。なお、吸光度は、膜厚を触針型膜厚計 Solan社製 Dektakを用いて測定し、単位膜厚当たりの吸光度として評価した。

[0081] 各評価結果についても表 1〜8にまとめて示す。なお、表中の略号の意味は、以下のとおりである。 (成分項目）

< (A)成分〉

TiOiPr:チタニウムテトライソプロポキシド

< (B)成分 >

MS-12：アクリル系 UV硬化樹脂組成物（日立化成工業社製）

ピッツコール K-30：ポリビュルピロリドン (第一工業製薬社製）

ピッツコール K-90：ポリビュルピロリドン (第一工業製薬社製）

L-3： FA-711MMアクリルホモポリマ（TLS70重量⁰ /₀含）

L-4： FA-711MMアクリルホモポリマ（MEK70重量⁰ /₀含）

D-1： DEアタリノレホモポリマ（TLS80重量⁰ /₀含）

D-2： DEアクリルホモポリマ（オリゴマ、 TLS80重量⁰ /₀含）

D-3： DEアクリルホモポリマ（TLS60重量⁰ /₀含）

D-4： DEアクリルホモポリマ（ACS60重量⁰ /₀含）

S-1 :AHEC-T/T5650J/DISMO-W=2.8/71.6/25.6 (AHEC-T :共栄社ィヒ学製、 2_ヒドロキシェチルアタリレート、 T5650J :旭化成ケミカルズ株式会社製 PCDL、 1 , 5—ペンタンジオールと 1, 6—へキサンジオールと塩化カルボニルからなるポリカーボネートジオール（Mw= 800)、 DISM0-W:住化バイエルウレタン株式会社製、ジシクロへキシルメタン 4, 4，ージイソシァネート、 TLS55重量⁰ /₀含）

S-2 :AHEC-T/T5650J/MPD/DISMO-W=3.4/49.6/8.6/38.4 (MPD :株式会社クラレ製、 3—メチノレー 1 , 5 ペンタンジ才ーノレ、 TLS40重量⁰ /₀含）

S-3 :AHEC-T/P1010/DISMO-W=2.5/75.2/22.3 (P1010：株式会社クラレ製、ポリ [ (3 —メチル—1 , 5_ペンタンジオール）—alt アジピン酸]、 TLS50重量⁰ /₀含） S-4 :AHEC-T/T5652/DISMO=2.7/83.4/13.8 (T5652：旭化成ケミカノレズ株式会社製 PCDL、 1， 5 _ペンタンジオールと 1， 6—へキサンジオールと塩化カルボニルからなるポリカーボネートジオール（Mw = 2000)、 TLS50重量⁰ /₀含）

LM-1： FA-711MM/MMA=75/25 (MMA：メチルメタタリレート、 TLS70重量⁰ /₀含） LM-2： FA-711MM/MMA=50/50 (TLS70重量⁰ /₀含）

LH-2 : tBAEM (デダサジャパン株式会社製、 2_t_ブチルアミノエチルメタタリレート、下1^70重量％含）

LH-3： FA-712HM (日立化成工業社製ファンクリル、テトラメチルピペリジルメタクリレート、丁1^70重量％含）

LH-3-1： FA-711MM (CHNZEtOH=80/20溶媒 70重量％含）

PMMA:ポリメチルメタタリレート（TLS90重量⁰ /₀含）

AS：シアン化ビュル/スチレン共重合体 1^70重量％含）

LC-1： FA-711MM/HEMA (HEMA：日本触媒社製、 2-ヒドロキシェチルメタタリレート、 TLS/EtOH=80/20溶媒 70重量％含）

LC1_0 : FA-711MM/HEMA (TLS70重量⁰ /₀含）

LC-2： FA-711MM/HOMS (HOMS：共栄社化学製、 2 メタクリロイロキシェチルコハク酸、 TLS/EtOH=80/20溶媒 70重量％含）

LC-3 : FA-711MM/HOA (HOA:共栄社化学製、 2—ヒドロキシェチルアタリレート、 T LS/EtOH=80/20溶媒 70重量％含）

LC- 4 : FA-711MM/HOA- MS (HOA- MS :共栄社化学製、 2—アタリロイロキシェチルコハク酸、 TLS/EtOH=80/20溶媒 70重量％含）

LC-5： FA-711MM/HOA-MPL (HOA-MPL：共栄社化学製、 2—アタリロイロキシェチノレ 2 ヒドロキシェチルーフタル酸、 TLS/EtOH=80/20溶媒 70重量⁰ /₀含）

LC-5-0： FA-711MM/HOA-MPL (TLS70重量⁰ /₀含）

LI-1： FA-711MM/CHMI=80/20 (CHMI：シクロへキシルマレイミド、 TLS/BuOH=80/2 0溶媒 70重量％含）

LI-lC : FA-711MM/CHMI=80/20 (CHN/EtOH=80/20溶媒 70重量⁰ /₀含）

LI-3-1C： FA-711MM (CHN/EtOH=80/20溶媒 70重量⁰ /₀含）

MI-1： MMA/CHMI=80/20 (TLS/BuOH=80/20溶媒 80重量％含）

MI-1C： MMA/CHMI=80/20 (CHN/EtOH=80/20溶媒 70重量⁰ /₀含）

LS_l : FA_711MM/HOA-MS=90/10 (TLS/BuOH=80/20溶媒 70重量％含）

LS-1C： FA-711MM/HOA-MS=90/10 (CHN/EtOH=80/20溶媒 80重量⁰ /₀含） LS_2 : FA_711MM/HOA-MS=95/5 (TLS/BuOH=80/20溶媒 70重量％含）

LS-2C： FA-711MM/HOA-MS=95/5 (CHN/EtOH=80/20溶媒 80重量％含） DS-IC： DE/HOA-MS=90/10 (CHN/EtOH=80/20溶媒 70重量％含）

DS-2C： DE/HOA-MS=95/5 (CHN/EtOH=80/20溶媒 70重量％含）

< (C)成分 >

MAA:メタクリル酸

FA-711MM :日立化成工業社製ファンクリル、ペンタメチルピペリジルメタタリレート

DE :大阪有機化学社製、ジメチルアミノエチルアタリレート

R-712 :日本化薬社製、カャラッド、 EO変性ビスフエノール Fジアタリレート

ACM〇：興人社製、ァクロィルモルフォリン

AOEC：共栄社化学製、 2_ェチルへキシノレアタリレート

IB- XA:大阪有機化学社製、イソボニルアタリレート

ぐ（D)溶媒 >

EtOH :エタノール

IPA:イソプロピルアルコール

BuOH：ブタノール

TLS :トルエン

CHN :シクロへキサノン

MEK：メチルェチルケトン

ACS :アセトン

< (E)添加剤 >

22-70E :トリゴノックス 22-70E、化薬ァクゾ社製、 1,1-ジ (t_ブチルパーォキシ)シクロへキサン

パークミル D :日本油脂社製、ジクミルパーオキサイド

1-184：チバスべシャリティケミカルズ社製、ィルガキュア

A-714 :日本ュニカー社製、シランカップリング剤

(評価項目）

ぐ樹脂組成物の溶解性 >

良：良好、難:難溶 (致命的ではなレ、）、分:分離、濁:濁り、ゲ:ゲル化、

<溶液色 > 透:無色透明、淡:淡黄、黄:黄色、濃:濃い黄色〜橙色、濁:濁り

<膜質 >

良：良好、濁:濁り（ヘイズ)、不延:製膜時に樹脂溶液が延びない（致命的ではない) 、ス:ストリーク（致命的ではない）、ム：ムラ（致命的ではない）、ベ：ベとつき、害 ij :フィルム割れ、荒:フィルム表面が荒れている、析:膜中に微粒子が析出、薄:膜が薄レ、（

1 β m未滴)

[表 1]

【表 1】

[表 2] 【表 2】

3]

【表 3】

4]

【表 4】

5]

【表 5】

6]

【表 6】

' m

名称 ·略称

5 1 5 2 5 3 5 4 5 5 5 6 5 7 5 8 5 9 6 0

(A) ァルコシキド TiQiPr 100 100 100 100 100 100 100 100 100 100

L-4 50 50

D-3 50 50

LM-1 50

^^アクリルポリマ

LH-3 1 50

CB)

U 1 50

MI-1 50

^ .カルボ:^ LS-1 50

ァクリリマ LS-2 50

性モノマ MAA 40 10 10 10 10

(0

^^励性モノマ FA-711MM 10 40 40 40 40 50 50 50 50 50

IPA 10 10 10 10 10 10 10 10 10

BuOH 33 33 33 33 50

CD) 灘

TLS 160 125 125 133 133 133 133 200 E 150

(Ε) 22-70E 4 4 4 4 4 4 4 4 nN/nM 0.564 1.069 1細 1.468 1.468 1.128 1.158 1.187 1.227 1.228

WN W t o t a 1 0.008 0.025 0.015 0.021 0.022 0.015 0.015 0.015 0.016 0.013 含有水分率 (%) <1 <1 <1 <1 <1 <1 <1 <1 <1 <1 諭性良良良良良良良良良良淡黄黄黄黄透透濁膜質不延スススススス屈折率 2.195 1.862 1.967 1.75 2.004 2.334 m 0.007 0.006 0.003 0.003 0.001 0.005 [0089] [表 7]

【表 7】

[0090] [表 8]

【表 8】

名称- 魏例

敝

略称 7 1 7 2 7 3 7 4 7 5 7 6 7 7 7 8 7 9 8 0 8 1 アル ^ド TiOiPr 100 100 100 100 100 100 100 100 100 100 100

LM-2 50 25 50

アクリルポリマ

CB) s-i 25

ウレタ ^ポリマ S-3 50 50 50 70 70 80

S-4 50 50

FA-711

50 50 50 50 15 30 20 MM

(0 性モノマ DE 50 50 50 50

ACMO 5

性モノマ AOEC 15

(D) 靈 TLS 160 160 160 100 100 100 100 100 140 140 160 合開欄 1-184 1 1 1 1 1

22-70E 4 2 2 2 2 2 2

(E)

A-174 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 酸 m 5 5 5 5 5 5 5 5 2 2 2 nN/nM 1.289 1.311 1.289 0.715 0.669 0.715 0.669 1.114 0.348 0.526 0.431

WN/W t o t a 1 0.017 0.017 0.017 0.011 0.011 0.011 0.011 0.018 0.005 0.008 0.006 含有水分率 {%) <1 <1 <1 <1 <1 <1 <1 <1 <1 <1 <1

良良良良良良良良良良良淡淡淡黄黄黄黄黄黄黄黄膜質良良良良良良良良良良良屈折率 1.971 1.919 1.959 2.036

0.002 0.006 0.011 0.015 0.0003 0.001 0.0009 0.0008

Claims

請求の範囲

[1] (A)金属アルコキシドと、（B)ポリマもしくはオリゴマおよび/または（C)反応性モノマと、を含有する樹脂組成物であって、前記 (A)成分以外の少なくとも 1つの成分が窒素原子を有し、該樹脂組成物中の窒素原子のモル数を n、窒素原子の質量を W

N N

、金属アルコキシドのモル数を n 、該樹脂組成物全体の質量を W としたとき、

total

N N total

以下である樹脂組成物。

[2] 前記（A)金属アルコキシドカチタンアルコキシドまたはジルコニウムアルコキシドである請求項 1記載の樹脂組成物。

[3] 前記（B)ポリマもしくはオリゴマおよび/または前記（C)反応性モノマ力窒素原子を有する請求項 1または 2記載の樹脂組成物。

[4] 前記（B)ポリマもしくはオリゴマが、水酸基もしくはカルボキシル基を有しないもの、または、水酸基もしくはカルボキシル基を有し、かつ窒素原子を有するものである請求項:!〜 3のいずれか 1項記載の樹脂組成物。

[5] 前記（B)ポリマもしくはオリゴマおよび/または前記（C)反応性モノマ力 S、下記式

[化 1]

(式中、 Rは、水素もしくは C〜Cアルキル基を示す）

1 1 6

で示される構造を有する請求項:!〜 4のいずれか 1項記載の樹脂組成物。

[6] (D)溶媒をさらに含有する請求項:!〜 5のいずれか 1項記載の樹脂組成物。

[7] 前記 (D)溶媒が窒素原子を有する溶媒を含有する請求項 6記載の樹脂組成物。

[8] 請求項 1〜7のいずれ力 4項記載の樹脂組成物を用いてなる膜状光学部材。

[9] 膜厚が 1〜： 1000 μ mの範囲である請求項 8に記載の膜状光学部材。

[10] 屈折率が 1. 8以上である請求項 8または 9に記載の膜状光学部材。