WO2007010764A1 - マイクロレンズ付き液晶表示パネルおよびその製造方法 - Google Patents

マイクロレンズ付き液晶表示パネルおよびその製造方法 Download PDF

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WO2007010764A1
WO2007010764A1 PCT/JP2006/313585 JP2006313585W WO2007010764A1 WO 2007010764 A1 WO2007010764 A1 WO 2007010764A1 JP 2006313585 W JP2006313585 W JP 2006313585W WO 2007010764 A1 WO2007010764 A1 WO 2007010764A1
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WO
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liquid crystal
light
crystal display
microlens
display panel
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PCT/JP2006/313585
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Inventor
Kazuya Ikuta
Kuniaki Okada
Original Assignee
Sharp Kabushiki Kaisha
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Publication date
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    • G02B3/0006Arrays
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B29DPRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/00009Production of simple or compound lenses
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B29D11/00009Production of simple or compound lenses
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    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133526Lenses, e.g. microlenses or Fresnel lenses
    • GPHYSICS
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    • G02B3/00Simple or compound lenses
    • G02B3/02Simple or compound lenses with non-spherical faces
    • G02B3/06Simple or compound lenses with non-spherical faces with cylindrical or toric faces

Definitions

  • Liquid crystal display panel with microlens and manufacturing method thereof Liquid crystal display panel with microlens and manufacturing method thereof
  • the present invention relates to a liquid crystal display panel with a microlens and a method for manufacturing the same.
  • Non-self-luminous display devices typified by liquid crystal display devices generally change the transmittance or reflectance of a display panel according to a drive signal, and increase the intensity of light from a light source irradiated on the display panel. Modulate and display images and text.
  • a display device includes a direct-view display device that directly observes an image displayed on the display panel, and a projection display device that enlarges and projects an image displayed on the display panel onto a screen by a projection lens ( Projector).
  • Projector projection lens
  • a display panel used in a liquid crystal display device is called a liquid crystal display panel.
  • non-self-luminous display panels other than liquid crystal display panels include electoric chromic display panels, electrophoretic display panels, toner display panels, and PLZT panels!
  • liquid crystal display devices are widely used in monitors, projectors, personal digital assistants, mobile phones and the like.
  • the liquid crystal display device changes the optical characteristics of the liquid crystal layer in the area of each pixel by applying a driving voltage corresponding to the image signal to the pixels regularly arranged in a matrix, thereby allowing images and characters to be displayed. Etc. are displayed.
  • an active matrix liquid crystal display panel it is necessary to provide a switching element and wiring for supplying a driving voltage to the pixel electrode.
  • switching elements non-linear two-terminal elements such as MIM (metal insulator metal) elements and three-terminal elements such as TFT (thin film transistor) elements are used.
  • a TFT substrate provided with a TFT or a pixel electrode, or a liquid crystal layer is provided on the TFT substrate.
  • a light-shielding layer also referred to as “black matrix” is provided on the counter substrate facing each other.
  • the effective pixel area does not decrease.
  • a transmissive liquid crystal display device that displays using transmitted light a TFT that does not transmit light.
  • a transflective liquid crystal display device uses a backlight to transmit light through a liquid crystal display panel under dark illumination and displays light by reflecting light from the surroundings under bright illumination.
  • a display with a high contrast ratio can be realized regardless of the brightness of the image, but there is a problem that the luminance decreases as the aperture ratio of the transmissive region decreases.
  • a microlens for condensing light is provided on each pixel of the liquid crystal display panel, and the liquid crystal display panel
  • a method for improving the effective aperture ratio has been put into practical use.
  • Most conventional microlenses are formed on a counter substrate of a liquid crystal display panel, and have a sandwich structure in which a microlens is sandwiched between two glass plates. In addition, it refers to the whole of a plurality of regularly arranged microlenses and is also called “microlens array”! / Japanese Laid-Open Patent Publication No.
  • Patent Document 1 describes self-alignment of pixels by exposing a photosensitive material applied to the surface of a counter substrate using the pixels of a liquid crystal display panel.
  • a method of forming a microlens is disclosed. According to this method, there is an advantage that alignment deviation does not occur between the microlens and the pixel, and a microlens can be manufactured at low cost.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Laid-Open No. 2002-62818
  • Patent Document 1 uses an ultraviolet ray for exposing a photosensitive material, and therefore has no color filter, and is used for a display panel (for example, a liquid crystal display panel for a three-plate projector). Can be applied, but cannot be applied to display panels with color filters because the power filter absorbs ultraviolet rays.
  • a display panel for example, a liquid crystal display panel for a three-plate projector.
  • a method for manufacturing a liquid crystal display panel with a microlens that can be applied to a liquid crystal display panel having a color filter, and such a manufacturing method can be easily manufactured.
  • An object is to provide a liquid crystal display panel with a microlens.
  • a method for manufacturing a liquid crystal display panel with a microlens includes first and second transparent substrates bonded to each other through a liquid crystal layer, and transmits light.
  • a plurality of possible pixels are defined by being separated by a light-shielding portion, and each of the plurality of pixels receives a first pixel that transmits the first color light and a second color light different from the first color light.
  • a plurality of picture elements including a second picture element to be transmitted, and the first picture element has the highest light transmittance of a property of curing a photocurable resin among the plurality of picture elements.
  • the step of preparing a liquid crystal display panel the step of forming a resin layer made of the uncured photocurable resin on the surface of the first transparent substrate, and the plurality of pixels Toward the surface, the light having the property of curing the resin layer is irradiated so as to change the incident angle, and the first picture is The light transmitted through the, an exposure step of curing the ⁇ layer partially, after the exposure step Development step of removing the uncured portion of the resin layer, and the exposure step is such that the cured portion has the shape of a cylindrical microlens and the maximum thickness of the cured portion is equal to the thickness of the resin layer. Is to be done.
  • a liquid crystal display panel with a microphone lens can be easily manufactured even when a liquid crystal display panel having a color filter is an application target.
  • FIG. 1 is an explanatory diagram of the relationship between the thickness of a glass substrate and the range of exposure light to expose a photocurable resin layer.
  • FIG. 2 (a) is an explanatory diagram showing how the resin layer is partially cured when exposed to a downward force when the transparent substrate is thin, and (b) is an explanation of the cumulative exposure when the transparent substrate is thin.
  • FIG. 3 (a) is an explanatory diagram showing how the resin layer is partially cured when exposed to a downward force when the transparent substrate is thick, and (b) is an explanation of the accumulated exposure amount when the transparent substrate is thick.
  • FIG. 4 is a conceptual diagram of a liquid crystal display device including a liquid crystal display panel with a microlens according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 5 is a partially enlarged view of a microlens array provided in the liquid crystal display panel with microlenses according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 6 is an explanatory diagram of a first step of the method for manufacturing the liquid crystal display panel with microlenses according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 7 is an enlarged plan view of one pixel of the liquid crystal display panel with microlenses according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 8 is an enlarged plan view of nine pixels of the liquid crystal display panel with microlenses according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 9 is an explanatory diagram of a second step of the method of manufacturing the liquid crystal display panel with microlenses according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 10 is a cross-sectional view taken along the line XX in FIG.
  • FIG. 11 is a cross-sectional view taken along the line XI—XI in FIG.
  • FIG. 12 Production of a liquid crystal display panel with a microlens according to the first embodiment of the present invention. It is explanatory drawing of the mode of the scan performed in a manufacturing method.
  • FIG. 13 (a) is an explanatory view showing a state in which a downward force is also exposed and the resin layer is partially cured to form an uneven ridgeline, and (b) is an explanatory view of an integrated exposure amount. .
  • FIG. 14 (a) is an explanatory view of a state in which a downward force is also exposed and a ridge line without unevenness is formed using the entire thickness of the resin layer, and (b) is an explanatory view of an integrated exposure amount.
  • FIG. 15 (a) shows that the downward force is also exposed to form a ridge line with a convex portion, but the convex portion exceeds the thickness of the resin layer, so that the convex portion is cut as a result.
  • (B) is an explanatory view of the integrated exposure amount.
  • FIG. 16 is an explanatory diagram of a third step of the method of manufacturing the liquid crystal display panel with microlenses according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 17 is an explanatory diagram of a fourth step of the method of manufacturing the liquid crystal display panel with microlenses according to the first embodiment of the present invention.
  • the inventors use exposure light that passes through a color filter, exposes the applied photosensitive material through the color filter, and is also referred to as a cylindrical microlens (“cylindrical microphone lens”).
  • a manufacturing method of a liquid crystal display panel with a microlens forming the present invention was invented (this invention is hereinafter referred to as "prior invention”). It can be formed by removing the unexposed portions after performing exposure so that an appropriate distribution of the degree of cure is formed in the photocurable resin layer using irradiation light. At this time, the distribution of the curing degree can be formed by adjusting the distribution of the light amount (orientation distribution and Z or irradiation time).
  • the thickness of the glass substrate is a constant value with high accuracy.
  • an ideal lens shape can be formed, it is difficult to control the lens shape to a high degree with an actual glass substrate. This is because an actual glass substrate has a thickness variation within a plane (the variation within one substrate is referred to as “in-plane variation”!). Therefore, when the same exposure conditions are used, there is also a force that causes unevenness in the lens shape in the microlens ridge line direction according to the thickness of the glass substrate. The reason for the unevenness is explained below.
  • the range of exposure light that has passed through the filter of the rate of exposure to the photocurable resin layer is as wide as E.
  • the present invention has been made in order to improve the prior invention in view of the above-mentioned points, and the present invention has a smooth flat surface at the center of the lens top having the effect of increasing the front luminance. A more specific purpose is to form a microlens easily. [0021] (Embodiment 1)
  • a liquid crystal display panel with a microlens according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
  • the liquid crystal display device 20 includes a liquid crystal display panel 11 with a microlens provided with a microlens 1 and a high directivity disposed on the microlens 1 side of the liquid crystal display panel 11 with a microlens.
  • a backlight device 15 receives a light source 12, a light guide plate 13 for receiving the light emitted from the light source 12, and propagating the light toward the liquid crystal display panel 11 while being emitted from the back surface of the light guide plate 13.
  • a reflecting plate 14 for reflecting the reflected light toward the light guide plate 13.
  • FIG. 1 only main components are shown, and illustration of polarizing plates provided before and after the liquid crystal display panel 11 is omitted.
  • a backlight device 15 suitably used for a liquid crystal display device for example, IDW'02 ⁇ Viewing Angle Control using Optical Microstructures on Light-uuiae Plate For Illumination System of Mobile Transmissive LCD Module ", K. KALANTAR, .549 -552nya, JP2003-35824, ⁇ 1 11 01 ⁇ & et al: Optical Society of American Annual Meeting Conference Program, Vol.10, p.189 (1998), JP-T 8-511129, etc. Can be mentioned as a backlight device
  • a liquid crystal display panel 11 with a microlens included in the liquid crystal display device 20 includes a liquid crystal layer 4, a TFT substrate 2 as first and second transparent substrates bonded together via the liquid crystal layer 4, and A microlens 1 as a cylindrical microlens formed by forming a resin layer composed of a photocurable resin on the surface of the counter substrate 3 and the TFT substrate 2 and then partially exposing and curing the resin layer. Is provided. A large number of microlenses 1 are arranged to form a microlens array. This microlens array works as a lenticular lens as a whole. Figure 5 shows a partially enlarged view of this microlens array. As shown in FIG.
  • the microlens 1 has a flat surface la having a two-dimensional extension at the ridge line portion.
  • the flat surface la is the surface of the resin layer remaining as it is by being cured to the entire thickness of the resin layer during exposure of the resin layer.
  • a liquid crystal display panel 10 is prepared as shown in FIG.
  • the liquid crystal display panel 10 is a color liquid crystal display panel, and includes a TFT substrate 2 and a counter substrate 3 on which a color filter 6 is formed.
  • the color filter 6 actually has color filters for each color corresponding to the three colors R, G, and B (red, green, and blue). In FIG. 6, for the sake of convenience, they are not displayed separately. Is simply displayed as color filter 6.
  • a predetermined liquid crystal layer 4 is formed between the TFT substrate 2 and the counter substrate 3 so as to be surrounded by the sealing material 8.
  • picture element electrodes (not shown) provided corresponding to the picture elements arranged in a matrix, TFT elements (not shown) connected to the picture element electrodes, Circuit elements (not shown) such as gate bus lines and source bus lines, and a light shielding layer 5 are formed.
  • a color filter 6 and a counter electrode (not shown) are formed on the counter substrate 3 on the liquid crystal layer 4 side.
  • an alignment film is formed on the surface of the TFT substrate 2 and the counter substrate 3 in contact with the liquid crystal layer 4 as necessary.
  • the liquid crystal display panel 10 has a large number of pixels.
  • Fig. 7 shows only 3 x 3 areas with a total of 9 pixel powers out of the large number of pixels.
  • the plurality of pixels are arranged in a matrix so that the X direction is “row” and the Y direction is “column”. This matrix has an equal pitch with P in the X direction and P in the Y direction.
  • Active mat with TFT elements
  • the row direction (X direction) is typically parallel to the gate bus line
  • the column direction ( ⁇ direction) is parallel to the source bus line (video line).
  • Each pixel is composed of three sub-pixels corresponding to the three colors R, G, and B (red, green, and blue), that is, R, G, and B pixels. It is composed.
  • FIG. 8 shows an enlarged view of the portion surrounded by the thick line in FIG.
  • the thick line frame in Fig. 7 is shifted by one picture element from the area corresponding to one pixel, but there are three picture elements. Therefore, the area can be compared to one pixel when considering the exposure scan equivalent to one pixel.
  • a group of areas defined by the arrangement of G, B, and R beyond the boundary of regular pixels is called an “exposure pixel”.
  • the screen of the liquid crystal display panel 10 can be regarded as a matrix of many pixels and at the same time as a matrix of many exposed pixels. If the entire screen is considered to be a matrix of exposed pixels, there will be extra pixels at the left and right edges of the screen that do not belong to any pseudo-pixel. Can be ignored.
  • one exposure pixel includes three picture elements, ie, G picture element, B picture element, and R picture element. This is a color filter.
  • a light shielding layer (also referred to as “black matrix” or “light shielding region”) 5 is provided around each picture element.
  • Each picture element is divided into a reflection part and a transmission part.
  • the G picture element is composed of the reflective part 7G and the transmissive part 6G
  • the B picture element is composed of the reflective part 7B and the transmissive part 6B
  • the R picture element is composed of the reflective part 7R and the transmissive part 6R.
  • the exposure pixel is composed of a sequence of three picture elements, just like regular pixels, so the pitch of the exposure pixel in the X direction is P, and the pitch in the Y direction is P.
  • both P and P are 200 / z m. This dimension is open
  • the liquid crystal display panel 10 includes a TFT substrate 2 and a counter substrate 3 as first and second transparent substrates bonded to each other via a liquid crystal layer 4, and includes a plurality of pixels that can transmit light. Is separated by the light shielding portion 5, and each of the plurality of pixels includes a first pixel that transmits the first color light and a second pixel that transmits the second color light different from the first color light.
  • the first picture element is the picture element having the highest light transmittance among the plurality of picture elements, which has the property of curing the photocurable resin.
  • “multiple picture elements” refers to three picture elements R, G and B, and the first picture element corresponds to B picture element.
  • the second picture element corresponds to the G picture element or the R picture element.
  • the first picture element is preferably the picture element having the shortest central wavelength of transmitted light among the "plural picture elements". Since the wavelength of light that cures the photocurable resin is short, in order to obtain the highest light transmission rate, the first pixel is a “multiple pixel”. Therefore, it is advantageous to make the picture element with the shortest center wavelength of transmitted light. [0035] In this embodiment, since the arrangement of picture elements in one pixel is R, G, B, assuming the concept of an exposure pixel, B picture element comes to the center G, B, R However, if the sequence of picture elements in one pixel is R, B, G or G, B, R, the exposure pixel can be assumed. It is more preferable because it can scan the exposure for each pixel and leave no picture elements at the edge of the screen.
  • an uncured photo-curable resin is applied on the TFT substrate 2 of the liquid crystal display panel to form a resin layer having a thickness T.
  • a resin layer having a thickness T As a step of forming the resin layer, as shown in FIG. 9, an uncured photo-curable resin is applied on the TFT substrate 2 of the liquid crystal display panel to form a resin layer having a thickness T. Form 9. here
  • a photocurable resin having a photosensitive wavelength within a wavelength range of 420 nm is used.
  • the surface of the TFT substrate 2 may be coated with a silane coupling agent before applying the photocurable resin. It is preferable to perform modification.
  • the photocurable resin used here include acrylic monomers such as urethane acrylate, epoxy acrylate, polyester acrylate, and polyether acrylate, and mixed compositions in which a photoinitiator is mixed with an epoxy monomer. And so on.
  • the “irradiation light for exposure” is light having a property of curing the resin layer 9 and may be, for example, ultraviolet light.
  • the photocurable resin of the resin layer 9 is cured according to the light distribution.
  • the “light distribution” is the intensity distribution related to the angle (incident angle) of the exposure light incident on the display panel with respect to the surface normal of the display panel. There is a one-to-one correspondence with the incident position on the photosensitive material layer, ie, the resin layer 9.
  • FIGS. 10 is a cross-sectional view taken along the line X—X in FIG. 8
  • FIG. 11 is a cross-sectional view taken along the line XI—XI in FIG.
  • the light that hardens the resin layer 9 has an incident angle of ⁇ in the Y direction shown in Fig. 11.
  • the direction of the incident angle ⁇ is 83 in the X direction.
  • the curing step is performed such that the cured portion has the shape of a cylindrical microlens and the maximum thickness of the cured portion is equal to the above-described thickness T.
  • the exposure light may leak from the R and G picture elements, and the photocurable resin may be exposed to light. Can be formed.
  • FIGS. 13A and 13B The principle of forming the ridge line shape of the linearly connected microlenses in such a scan will be described with reference to FIGS. 13A and 13B in which a preferable exposure state is realized.
  • the transparent substrate thickness of TFT substrate 2 is T.
  • Fig. 13 (a) an area corresponding to two pixels is displayed, but the irradiated light is flat.
  • the incident angle of irradiation light changes similarly in each pixel.
  • the irradiating layer 9 located above the G and R picture elements with low transmittance is exposed while the direction of irradiation light passing through the B picture element with high transmittance changes direction.
  • the exposure dose distribution at each point on the resin layer 9 irradiated with the illumination light is as shown in FIG. 13 (b).
  • the exposure dose distribution shows that the maximum exposure dose is D, as shown in Fig. 13 (b).
  • the trapezoidal skirts of the exposure distribution generated by the irradiation light transmitted through the B picture element of the adjacent pixel on both sides of the pixel overlap each other.
  • the total exposure amount becomes D at any point. As a result, a flat surface is formed.
  • Each point of the resin layer 9 is cured by a certain thickness from the bottom in the thickness direction. That is, the portion below the broken line shown in the resin layer 9 in FIG. 13 (a) is cured. In this way, the linear shape of the ridgeline of the microlens is obtained.
  • the transparent substrate has a thickness T smaller than the thickness T as shown in FIG.
  • the trapezoid of the exposure light amount distribution has a shape with a short hem in the lateral direction as shown in FIG. 2 (b). . Therefore, the integrated exposure amount D at the part where the trapezoidal skirts overlap is insufficient and the exposure light amount at the top of the trapezoid becomes smaller. In this way, as shown by the alternate long and short dash line in Fig. 2 (b), there is a lack of exposure at the boundary between the pixels. As a result, the ridge formed by the hardened resin has irregularities as shown by the broken line in FIG.
  • the trapezoidal shape of the exposure dose distribution has a shape in which the lateral spread of the skirt is long as shown in FIG. 3 (b). Therefore, the accumulated exposure dose D at the part where the bases of the trapezoids overlap is excessive, and overlaps up to the top of the trapezoid.
  • the exposure amount becomes excessive at the boundary between pixels, so when viewed in the direction of the ridgeline of the microlens, D does not become constant, but increases and decreases repeatedly. It becomes.
  • the ridge formed by the hardened resin has irregularities as shown by the broken line in FIG.
  • the thickness of the glass substrate is T, and the incidence in Fig. 10 during exposure
  • the glass substrate is thick when the irradiated light is incident at the same angle ⁇ .
  • the exposure range E is widened. Conversely, when the exposure range is thin, the exposure range E is narrowed. Because of this area area
  • the flat surface la of the formed microlens 1 has irregularities when viewed in at least the ridgeline direction.
  • the exposure range E In the relationship between the thickness T of the glass substrate and the exposure range E, the exposure range E
  • a flat surface without unevenness is preferably formed in the direction of the ridge line.
  • the curing is the lower force constant thickness Only in the part
  • the upper part is left uncured.
  • the thickness of the glass substrate varies.
  • Exposure conditions that match the exposure dose D are designated as “optimal exposure conditions”.
  • Figures 14 (a) and (b) show the dew
  • the thickness of the part where the resin layer 9 is cured by light matches the thickness T of the resin layer 9
  • the pixel pitch in the row direction (the direction in which R, R, and G color filters belonging to one pixel are arranged) is 200 / ⁇ ⁇ , and the column direction is orthogonal to the row direction.
  • the incident angle that satisfies the optimum exposure condition is
  • the thickness of another glass substrate or other part in the same glass substrate is measured. Is always thicker than the reference glass substrate thickness, so that only the protrusions shown in Figs. 15 (a) and 15 (b) occur in the ridgeline direction of the microlens, and no recesses. Moreover, since the convex part which should be produced exceeds the thickness of the resin layer 9, it can be made into the state where this convex part was cut as a result. As a result, even when the glass substrates have different thicknesses, a microlens array having a smooth flat surface can be manufactured under the same exposure scan conditions.
  • the light distribution can be adjusted by changing the incident angle of the exposure irradiation light as exemplified here.
  • the beam of the exposure irradiation light is applied to the resin layer 9.
  • the irradiation time distribution may be adjusted by a relative translation relative to the above, or a combination thereof may be used.
  • the light distribution may be adjusted using a photomask having a predetermined transmittance distribution.
  • a development process for removing the uncured portion of the resin layer 9 is performed. Do. As a result of removing the uncured portion, only the cured portion remains, so that the microlens 1 having a shape corresponding to the distribution of the degree of curing can be obtained. In this way, a liquid crystal display panel 11 with a microlens is obtained.
  • the microlens array provided in the liquid crystal display panel 11 with microlenses is a lenticular lens arranged corresponding to a plurality of pixel rows. This microlens array is arranged so that the ridge line is in the row direction (X direction), and has a light collecting power in the column direction (Y direction), but has a light collecting power in the row direction (X direction). I don't have it.
  • the photocurable resin is further cured by irradiating the exposure light to the microlens 1 formed by curing the photocurable resin, It is preferable to approach the fully cured state. Moreover, you may use thermosetting together with photocuring.
  • the liquid crystal display panel 11 with microlenses is combined with the backlight device 15 to complete the liquid crystal display device 20.
  • the knocklight device 15 may be prepared by assembling the light source 12, the knocklight 13, and the reflection plate 14 in advance.
  • the application target of the present invention is not limited to the force using a liquid crystal display panel having a color filter.
  • a display medium layer liquid crystal layer
  • the present invention can be similarly applied to a display device that performs color display using a pigment mixed in ().
  • the present invention is not limited to a liquid crystal display panel, and can be applied to other non-self-luminous display panels (for example, an electochromic display panel, an electrophoretic display panel, a toner display panel, and a PLZT panel).

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Abstract

 マイクロレンズ付き液晶表示パネルの製造方法は、液晶表示パネルを用意する工程と、この液晶表示パネルの第1の透明基板2の表面に、未硬化の光硬化性樹脂からなる樹脂層(9)を形成する工程と、複数の画素に向けて、上記樹脂層(9)を硬化させる性質の光を、入射角を変化させるように照射し、第1絵素(6B)を透過した光によって、樹脂層(9)を部分的に硬化させる露光工程と、上記露光工程の後に上記樹脂層(9)の未硬化部分を除去する現像工程とを含み、上記露光工程は、硬化部分がシリンドリカルマイクロレンズの形状になり、硬化部分の最大厚みが上記樹脂層の厚みに等しくなるように行なわれるものである。

Description

明 細 書
マイクロレンズ付き液晶表示パネルおよびその製造方法
技術分野
[0001] 本発明は、マイクロレンズ付き液晶表示パネルおよびその製造方法に関するもので ある。
背景技術
[0002] 液晶表示装置に代表される非自発光型の表示装置は、一般に、表示パネルの透 過率または反射率を駆動信号によって変化させ、表示パネルに照射される光源から の光の強度を変調して画像や文字を表示する。このような表示装置には、表示パネ ルに表示された画像などを直接観察する直視型表示装置と、表示パネルに表示され た画像などを投影レンズによってスクリーン上に拡大投影する投影型表示装置 (プロ ジェクタ)とがある。
[0003] 液晶表示装置に用いられて!/ヽる表示パネルは液晶表示パネルと呼ばれる。液晶表 示パネル以外の非自発光型の表示パネルとしては、エレクト口クロミック表示パネル、 電気泳動型表示パネル、トナー表示パネルや PLZTパネルなどが知られて!/、る。
[0004] 現在、液晶表示装置は、モニタ、プロジェクタ、携帯情報端末、携帯電話などに幅 広く利用されている。液晶表示装置は、マトリクス状に規則的に配列された画素に画 像信号に対応した駆動電圧をそれぞれ印加することによって、各画素の領域内の液 晶層の光学特性を変化させ、画像や文字などを表示するものである。上述した画素 に独立した駆動電圧を印加する方式としては、単純マトリクス方式と、アクティブマトリ タス方式とがある。アクティブマトリクス方式の液晶表示パネルには、スイッチング素子 と、画素電極に駆動電圧を供給するための配線とを設ける必要がある。スイッチング 素子としては、 MIM (金属 絶縁体 金属)素子などの非線形 2端子素子や TFT( 薄膜トランジスタ)素子などの 3端子素子が用いられている。
[0005] 液晶表示パネルに設けたスイッチング素子 (特に TFT素子)に強 、光が入射すると 、 OFF状態における素子抵抗が下がってしまう。そうなると、電圧印加時に絵素容量 に充電された電荷が OFF状態で不所望に放電されてしま 、、所定の表示状態が得 られなくなるため、本来その画素を「黒」として表示すべき状態でも光が漏れて完全な 「黒」にはならず、結果的にコントラスト比が低下するという問題がある。
[0006] そこで、液晶表示パネルでは、たとえば、 TFT素子(特にチャネル領域)に光が入 射するのを防止するために、 TFTや画素電極が設けられた TFT基板や、 TFT基板 に液晶層を介して対向する対向基板に遮光層(「ブラックマトリクス」とも称される)が 設けられる。反射型液晶表示装置においては、反射電極を遮光層として用いれば、 有効画素面積が低下することがないが、透過光を利用して表示を行なう透過型液晶 表示装置においては、光を透過しない TFT素子、ゲートバスラインおよびソースバス ラインに加えて遮光層を設けることによって有効画素面積が低下し、表示領域の全 面積に対する有効画素面積の比率、すなわち開口率が低下する。
[0007] さらに、液晶表示パネルの高精細化、小型化が進むに連れてこの傾向は顕著にな る。これは、画素のピッチを小さくしても、 TFT素子やバスラインなどは、電気的性能 や製造技術等の制約力 ある程度のサイズよりも小さくすることができないからである 。特に、近年、携帯電話などモパイル機器の表示装置として普及している半透過型 液晶表示装置の一方式では、個々の画素に反射モードで表示する領域 (反射領域) と透過モードで表示する領域 (透過領域)とを有しているので、画素ピッチを小さくす ることによって、表示領域の全面積に対する透過領域の面積の比率 (透過領域の開 口率)が著しく低下する。半透過型液晶表示装置は、暗い照明下では液晶表示パネ ルを透過するバックライトの光を利用して表示を行ない、明るい照明下では周囲から の光を反射することによって表示を行なうので、周囲の明るさに拘らず、コントラスト比 の高い表示を実現できるが、透過領域の開口率が小さくなると、輝度が低下するとい う問題があった。
[0008] 光の利用効率を改善するための一つの方法として、投影型液晶表示装置では、液 晶表示パネルの個々の画素に光を集光するためのマイクロレンズを設けて、液晶表 示パネルの実効的な開口率を向上する方法が実用化されている。従来のマイクロレ ンズは、液晶表示パネルの対向基板に形成されるものがほとんどであり、マイクロレン ズがニ枚のガラス板の間で挟まれたサンドイッチ構造を有している。なお、規則正しく 配列された複数のマイクロレンズの全体のことを指して「マイクロレンズアレイ」とも!/、う [0009] 特開 2002— 62818号公報 (特許文献 1)は、液晶表示パネルの画素を利用して、 対向基板の表面に塗布した感光性材料を露光することにより、画素に対して自己整 合的にマイクロレンズを形成する方法を開示している。この方法〖こよると、マイクロレン ズと画素との間にァライメントずれが発生することなぐまた、低コストでマイクロレンズ を製造できるという利点がある。
特許文献 1 :特開 2002— 62818号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0010] 上記特許文献 1に記載されて 、る方法は、感光性材料を露光するために紫外線を 用いるので、カラーフィルタを有しな 、表示パネル (たとえば 3板式プロジェクタ用の 液晶表示パネル)には適用できるものの、カラーフィルタを有する表示パネルでは力 ラーフィルタが紫外線を吸収するので適用できな 、。
[0011] そこで、本発明では、カラーフィルタを有する液晶表示パネルにおいても適用可能 なマイクロレンズ付き液晶表示パネルの製造方法および、そのような製造方法によつ て容易に作製することができるようなマイクロレンズ付き液晶表示パネルを提供するこ とを目的とする。
課題を解決するための手段
[0012] 上記目的を達成するため、本発明に基づくマイクロレンズ付き液晶表示パネルの製 造方法は、液晶層を介して互いに貼り合せられた第 1,第 2の透明基板を含み、光が 透過可能な複数の画素が遮光部に隔てられることで規定されており、上記複数の画 素の各々は、第 1色光を透過させる第 1絵素と、上記第 1色光とは異なる第 2色光を 透過させる第 2絵素とを含む複数の絵素を含み、上記第 1絵素は上記複数の絵素の 中で光硬化性榭脂を硬化させる性質の光の透過率が最も高 、絵素となって 、る、液 晶表示パネルを用意する工程と、上記第 1の透明基板の表面に、未硬化の上記光 硬化性榭脂からなる榭脂層を形成する工程と、上記複数の画素に向けて、上記榭脂 層を硬化させる性質の光を、入射角を変化させるように照射し、上記第 1絵素を透過 した光によって、上記榭脂層を部分的に硬化させる露光工程と、上記露光工程の後 に上記榭脂層の未硬化部分を除去する現像工程とを含み、上記露光工程は、硬化 部分がシリンドリカルマイクロレンズの形状になり、硬化部分の最大厚みが上記榭脂 層の厚みに等しくなるように行なわれるものである。 発明の効果
[0013] 本発明によれば、カラーフィルタを有する液晶表示パネルが適用対象であってもマ イク口レンズ付き液晶表示パネルを容易に製造することができる。 図面の簡単な説明
[0014] [図 1]ガラス基板の厚みと露光照射光が光硬化性榭脂層を露光する範囲の広さとの 関係の説明図である。
[図 2] (a)は透明基板が薄い場合に下方力 露光されて榭脂層が部分的に硬化する 様子の説明図であり、 (b)は透明基板が薄い場合の積算露光量の説明図である。
[図 3] (a)は透明基板が厚い場合に下方力 露光されて榭脂層が部分的に硬化する 様子の説明図であり、 (b)は透明基板が厚い場合の積算露光量の説明図である。
[図 4]本発明に基づく実施の形態 1におけるマイクロレンズ付き液晶表示パネルを備 える液晶表示装置の概念図である。
[図 5]本発明に基づく実施の形態 1におけるマイクロレンズ付き液晶表示パネルが備 えるマイクロレンズアレイの部分拡大図である。
[図 6]本発明に基づく実施の形態 1におけるマイクロレンズ付き液晶表示パネルの製 造方法の第 1の工程の説明図である。
[図 7]本発明に基づく実施の形態 1におけるマイクロレンズ付き液晶表示パネルの 1 つの画素の拡大平面図である。
[図 8]本発明に基づく実施の形態 1におけるマイクロレンズ付き液晶表示パネルの 9 つの画素の拡大平面図である。
[図 9]本発明に基づく実施の形態 1におけるマイクロレンズ付き液晶表示パネルの製 造方法の第 2の工程の説明図である。
[図 10]図 8における X—X線に関する矢視断面図である。
[図 11]図 8における XI— XI線に関する矢視断面図である。
[図 12]本発明に基づく実施の形態 1におけるマイクロレンズ付き液晶表示パネルの製 造方法の中で行なわれるスキャンの様子の説明図である。
[図 13] (a)は下方力も露光されて榭脂層が部分的に硬化して凹凸のない稜線が形成 される様子の説明図であり、 (b)は積算露光量の説明図である。
[図 14] (a)は下方力も露光されて凹凸のない稜線が榭脂層の厚み全体を使って形成 される様子の説明図であり、 (b)は積算露光量の説明図である。
[図 15] (a)は下方力も露光されて凸部のある稜線が形成されようとするが凸部が樹脂 層の厚みを超えているので結果的に凸部がカットされた形状となる様子の説明図で あり、(b)は積算露光量の説明図である。
[図 16]本発明に基づく実施の形態 1におけるマイクロレンズ付き液晶表示パネルの製 造方法の第 3の工程の説明図である。
[図 17]本発明に基づく実施の形態 1におけるマイクロレンズ付き液晶表示パネルの製 造方法の第 4の工程の説明図である。
符号の説明
[0015] 1 マイクロレンズ、 la 平坦面、 2 TFT基板、 3 対向基板、 4 液晶層、 5 遮光 層、 8 シール材、 9 榭脂層、 10 液晶表示パネル、 11 マイクロレンズ付き液晶表 示パネル、 12 光源、 13 導光板、 14 反射板、 15 ノ ックライト装置、 20 液晶表 示装置、 81, 82, 83, 84 (光の照射の)方向。
発明を実施するための最良の形態
[0016] 発明者らは、カラーフィルタを透過する露光照射光を用い、塗布した感光性材料を カラーフィルタ越しに露光して、シリンドリカル形状のマイクロレンズ(「シリンドリカルマ イク口レンズ」とも 、う。 )を形成するマイクロレンズ付き液晶表示パネルの製造方法を まず発明した (この発明を以下「先行発明」という。 ) o先行発明では、シリンドリカルマ イク口レンズは、少なくとも一つのカラーフィルタを透過する露光照射光を用いて、光 硬化性榭脂層に硬化度の適切な分布が形成されるように露光を行なった後に未露 光部を除去することで形成することができる。このとき、硬化度の分布は、光量 (配向 分布及び Zまたは照射時間)の分布を調整することで形成できる。
[0017] し力しながら、先行発明に基づくマイクロレンズ付き液晶表示パネルの製造方法で は、ガラス基板の厚みが精度良く一定値となって 、る透過型液晶表示パネルでは、 理想のレンズ形状を形成できるが、実際のガラス基板ではレンズ形状を高度に制御 することは困難となる。なぜなら、実際のガラス基板には、面内(1枚の基板の内部で のばらつきのことを「面内」のばらつきと!/、うものとする。)もしくはガラス基板毎に厚み ばらつきが存在するため、同一の露光条件を用いた場合、ガラス基板の厚みに応じ てマイクロレンズ稜線方向のレンズ形状に凹凸が生じる力もである。凹凸が生じる理 由を以下に説明する。
[0018] 図 1に模式的に示すように、ガラス基板の厚みが Tと厚くなつている場合、高透過
1
率のフィルタを透過した露光照射光が、光硬化性榭脂層を露光する範囲が Eと広く
1 なり、逆に Tと薄くなつている場合には、露光範囲が狭く Eとなる。このため、図 2 (a)
2 2
, (b)、図 3 (a) , (b)に模式的に示すように、互いに隣接する 2つの画素にそれぞれ 設けられた高透過率のフィルタをそれぞれ透過した露光照射光によって露光される 部分の露光量の合計量 (以下「積算露光量」という。)が、目的とする露光量からずれ たものとなり、ガラス基板が厚いときには凸部を生じ、薄いときには凹部を生じる。特 に、シリンドリカルマイクロレンズを形成する場合においては、稜線に沿って延在する いわゆるレンズトップの平坦面となるべき面に、このような理由から凸部または凹部が 形成されてしまう。このようにシリンドリカルマイクロレンズの稜線方向に生じる凹凸は 、透過型液晶表示装置の色度に影響を与える。
[0019] なお、マイクロレンズに生じる凹凸を制御する方法として、それぞれのガラス基板の 厚みに対して、露光条件を適宜最適化することで滑らかな平坦面を得ることが考えら れる。しかし、 1枚のガラス基板の内部(いわゆる「面内」)においても、数十/ z mの厚 みばらつきが存在するため、透過型液晶表示装置パネルの 1枚毎に対して露光条件 を変更しなければならない。ましてや、大判の液晶表示装置においてはさらに厚み ばらつきは拡大するので、逐一、露光条件を最適化してマイクロレンズを製造するこ とは手間が掛かり、困難である。また、露光条件の最適化を行なう際に基準とする基 板の厚みによっては、他の基板において凸部のみならず凹部も生じてしまう。
[0020] 本発明は、上記諸点に鑑みて先行発明を改良するためになされたものであり、本 発明は、正面輝度を高くする効果をもつレンズトップの中央に滑らかな平坦面を有す るマイクロレンズを容易に形成することをより特定的な目的としている。 [0021] (実施の形態 1)
図 4、図 5を参照して、本発明に基づく実施の形態 1におけるマイクロレンズ付き液 晶表示パネルにつ!、て説明する。
[0022] 図 4に示すように、液晶表示装置 20は、マイクロレンズ 1を備えるマイクロレンズ付き 液晶表示パネル 11と、マイクロレンズ付き液晶表示パネル 11のマイクロレンズ 1側に 配置された高指向性のバックライト装置 15とを備えている。ノ ックライト装置 15は光 源 12と、光源 12から出射された光を受けて内部を伝搬させながら液晶表示パネル 1 1に向けて出射するための導光板 13と、導光板 13の裏面から出射された光を導光 板 13に向けて反射するための反射板 14とを備えている。なお、図 1では主要部品の み記載し、液晶表示パネル 11の前後に設けられる偏光板などの図示を省略している
[0023] 液晶表示装置に好適に用いられるバックライト装置 15としては、たとえば IDW'02 〃 Viewing Angle Control using Optical Microstructures on Light-uuiae Platefo r Illumination System of Mobile Transmissive LCD Module", K.KALANTAR, .549-552ゃ、特開2003— 35824号公報、\1 11 01^& et al: Optical Society of American Annual Meeting Conference Program, Vol.10, p.189(1998)、特 表平 8 - 511129号公報などに記載されて 、るバックライト装置を挙げることができる
[0024] この液晶表示装置 20に含まれるマイクロレンズ付き液晶表示パネル 11は、液晶層 4と、液晶層 4を介して互いに貼り合せられた第 1,第 2の透明基板としての TFT基板 2および対向基板 3と、 TFT基板 2の表面において光硬化性榭脂からなる榭脂層を ー且形成して力 部分的に露光させて硬化させることで形成されたシリンドリカルマイ クロレンズとしてのマイクロレンズ 1とを備える。マイクロレンズ 1は多数配列されること でマイクロレンズアレイを構成している。このマイクロレンズアレイは、全体でレンチキ ユラ一レンズとして働く。図 5にこのマイクロレンズアレイの部分拡大図を示す。図 5に 示すように、マイクロレンズ 1は稜線部分に 2次元的広がりを有する平坦面 laを有す る。この平坦面 laは、榭脂層の露光時に榭脂層の厚みの全体に至るまで硬化させた ことによって榭脂層の表面がそのまま残ったものである。 [0025] 本実施の形態におけるマイクロレンズ付き液晶表示パネル 11によれば、用いる基 板に厚みのばらつきがある場合であっても、後述する製造方法によって、凹凸のない 正し ヽ平坦面を有するマイクロレンズを容易に正確に形成することができる。
[0026] 図 6〜図 9を参照して、本発明に基づく実施の形態 1におけるマイクロレンズ付き液 晶表示パネルの製造方法にっ 、て説明する。
[0027] まず、「液晶表示パネルを用意する工程」として、図 6に示すように、液晶表示パネ ル 10を用意する。液晶表示パネル 10は、カラー液晶表示パネルであり、 TFT基板 2 と、カラーフィルタ 6が形成された対向基板 3とを備えている。カラーフィルタ 6としては 、実際には R, G, B (赤、緑、青)の 3色に対応した各色のカラーフィルタが存在する 力 図 6では説明の便宜上、区別して表示することはせずに単にカラーフィルタ 6とし て表示している。
[0028] TFT基板 2と対向基板 3との間にはシール材 8に囲まれるようにして所定の液晶層 4 が形成されている。 TFT基板 2の液晶層 4側には、マトリクス状に配列された絵素に 対応して設けられた絵素電極(図示せず)、絵素電極に接続された TFT素子(図示 せず)、ゲートバスラインおよびソースバスラインなどの回路要素(図示せず)、遮光層 5が形成されている。対向基板 3の液晶層 4側にはカラーフィルタ 6と対向電極(図示 せず)が形成されている。さらに、 TFT基板 2および対向基板 3の液晶層 4に接する 面には、必要に応じて配向膜 (図示せず)が形成されている。
[0029] 液晶表示パネル 10は多数の画素を有する。その多数の画素のうちの 3 X 3の合計 9個の画素力 なる領域だけを取り出したところを図 7に示す。複数の画素は、 X方向 を「行」、 Y方向を「列」とするようにマトリクス状に配列されている。このマトリクスは、 X 方向が P、Y方向が Pという等ピッチとなっている。 TFT素子を備えるアクティブマト
X Υ
リクス方式の表示パネルの場合、典型的には、行方向(X方向)はゲートバスラインに 平行であり、列方向(Υ方向)はソースバスライン (ビデオライン)に平行である。
[0030] 各画素(pixel)は、 R, G, B (赤、緑、青)の 3色にそれぞれ対応した 3つの絵素(sub pixel)すなわち R絵素、 G絵素および B絵素で構成されて 、る。
[0031] 図 7において太線で囲んだ部分を取り出して拡大したところを図 8に示す。図 7にお ける太線の枠は 1画素に対応する領域からは 1絵素分だけずれているが 3つの絵素 を含むので面積は 1画素分に等しぐ露光時のスキャンを考える上では 1画素分にな ぞらえることができる。このように正規の画素同士の境界を超えて G, B, Rの並びで 規定されるひとまとまりの領域を「露光画素」というものとする。この液晶表示パネル 1 0の画面は多数の画素のマトリクスであると同時に多数の露光画素のマトリクスとして も捉えることができる。画面全体を露光画素のマトリクスと考えた場合、画面の左右の 端にいずれの擬似絵素にも属さず余る絵素が生じるが、周縁部の 1画素未満の絵素 の影響は画面全体から見て微々たるものであるので無視できる。
[0032] 図 8に示すように、 1つの露光画素には G絵素、 B絵素、 R絵素の 3つの絵素が含ま れており、各絵素において、カラーフィルタ 6は担当する色のカラーフィルタとなって いる。各絵素の周囲には遮光層(「ブラックマトリクス」、「遮光領域」ともいう。) 5が設 けられている。また各絵素は反射部と透過部とに区分けされている。 G絵素は反射部 7Gおよび透過部 6G、 B絵素は反射部 7Bおよび透過部 6B、 R絵素は反射部 7Rおよ び透過部 6R力 構成されている。図 8に示すように、露光画素も正規の画素と同じく 3絵素の並びからなるので、露光画素の X方向のピッチは P、 Y方向のピッチは Pと
X Y
なる。本実施の形態では、 P , Pのいずれもが 200 /z mとなっている。この寸法はあく
X Y
まで一例であって他の長さであってもよ 、。
[0033] この液晶表示パネル 10は、液晶層 4を介して互いに貼り合せられた第 1,第 2の透 明基板としての TFT基板 2および対向基板 3を含み、光が透過可能な複数の画素が 遮光部 5に隔てられることで規定されており、複数の画素の各々は、第 1色光を透過 させる第 1絵素と、前記第 1色光とは異なる第 2色光を透過させる第 2絵素とを含む複 数の絵素を含み、第 1絵素はこれらの複数の絵素の中で光硬化性榭脂を硬化させる 性質の光の透過率が最も高い絵素となっている。ここでは、「複数の絵素」とは、 R, G , Bの 3つの絵素を指し、第 1絵素は B絵素に対応する。第 2絵素は G絵素または R絵 素に対応する。
[0034] 第 1絵素は「複数の絵素」の中で透過光の中心波長が最も短い絵素であることが好 ましい。光硬化性榭脂を硬化させる性質の光の波長は短いので、そのような光の透 過率が最も高 、絵素とするためには、第 1絵素を「複数の絵素」の中で透過光の中心 波長が最も短い絵素とすることが好都合だ力 である。 [0035] 本実施の形態では、 1画素の中の絵素の並びが R, G, Bであったので露光画素と いう概念を想定することで B絵素が中央にくる G, B, Rという並びを 1単位として露光 が行なわれたが、 1画素の中の絵素の並びが R, B, Gまたは G, B, Rとなっていれば 、露光画素という概念を想定するまでもなぐ画素ごとに露光のスキャンが行なえ、画 面の端に絵素が余ることもな 、ので、より好まし 、。
[0036] 次に榭脂層を形成する工程として、図 9に示すように、液晶表示パネルの TFT基板 2上に、未硬化の光硬化性榭脂を塗布することで厚み Tの榭脂層 9を形成する。ここ
R
では、 380nm力も 420nmの波長範囲内に感光波長を有する光硬化性榭脂を用い る。なお、榭脂層 9と TFT基板 2との密着性を高めるために、光硬化性榭脂を塗布す る前に、 TFT基板 2のガラス表面にシランカップリング剤を塗布するなどして、表面改 質を行なうことが好ましい。ここで用いられる光硬化性榭脂としては、ウレタンアタリレ ート、エポキシアタリレート、ポリエステルアタリレート、ポリエーテルアタリレートなどの アクリル系モノマーや、エポキシ系モノマーに光開始剤を混合した混合組成物などが 挙げられる。
[0037] 次に榭脂層を部分的に硬化させる露光工程を行なう。以下、露光工程の内容につ いて説明する。ここでは、 B絵素を透過した光で、光硬化性榭脂を硬化させる例を示 す。榭脂層 9に露光用照射光を入射すると、光量に応じて榭脂層 9の光硬化性榭脂 が感光し、硬化する。「露光用照射光」とは、榭脂層 9を硬化させる性質の光であって 、たとえば紫外線であってよい。
[0038] 照射時間が一定の場合、榭脂層 9の光硬化性榭脂は配光分布に応じて硬化する。
すなわち、硬化度の分布が形成される。したがって、光量 (配光分布および Zまたは 照射時間)の分布を調整することによって、榭脂層 9内に硬化度の分布を形成するこ とができる。なお、「配光分布」とは、表示パネルに入射させる露光光の、表示パネル の面法線に対してなす角度 (入射角度)に関する強度分布のことであり、 B絵素への 入射角と感光性材料層すなわち榭脂層 9への入射位置とは 1対 1で対応する。
[0039] この工程では、複数の画素に向けて、露光用照射光を、入射角を変化させながらス キャンするように照射し、第 1絵素すなわち B絵素を透過した光によって、榭脂層 9を 部分的に硬化させる。 [0040] このスキャンについて図 10〜図 12を参照して説明する。図 10は図 8における X—X 線に関する矢視断面図、図 11は図 8における XI— XI線に関する矢視断面図である 。榭脂層 9を硬化させる性質の光は、図 11に示す Y方向に関しては入射角 Θ の方
3 向 81に固定された状態で、図 10に示すように X方向に関しては入射角 Θ の方向 83
1 から入射角 Θ の方向 84まで連続的にまたは段階的に変化させながら照射する。こ
2
のようにして片道のスキャンが終わると、今度は、図 11における Y方向の入射角を Θ
3 力もわずかにずらした新たな角度とし、 X方向に関して方向 84から方向 83まで同様 に変化させながら照射する。こうして 1往復分のスキャンが終了する。さらに引き続い て、 Y方向の入射角をわずかにずらした角度とし、 X方向に関して再び方向 83から方 向 84まで同様に変化させながら照射する。この繰返しによって、図 8に示す 1画素内 の 3つの絵素の並ぶ全領域を 2次元的にカバーするようにスキャンする。このスキャン の様子は図 12のように模式的に示すことができる。
[0041] 硬化させる工程は、硬化部分がシリンドリカルマイクロレンズの形状になり、硬化部 分の最大厚みが上述の厚み Tに等しくなるように行なわれる。カラーフィルタの特性
R
によっては、 R絵素、 G絵素からも露光用照射光が漏れ、光硬化性榭脂を感光させる ことがあるが、その漏れ光量も考慮して露光を行なうことにより所望の形状のマイクロ レンズを形成することができる。
[0042] このようなスキャンにおいて直線的に連なるマイクロレンズの稜線形状を形成する原 理について、好ましい露光状態が実現されている図 13 (a) , (b)を参照して説明する 。露光用照射光として平行光を用い、等角速度で照明光の入射角を図 13 (a)に示 す方向 83から方向 84まで変化させたときを考える。 TFT基板 2の透明基板厚みは T とする。図 13 (a)には 2つの画素に相当する領域が表示されているが照射光は平
G2
行光であるので各画素において同じように照射光の入射角度が変化する。このとき、 透過率が高い B絵素を透過した照射光が向きを変えながら透過率の低い G絵素、 R 絵素の上方にある榭脂層 9をも露光することとなる。照明光が照射された榭脂層 9上 の各点における露光量の分布は図 13 (b)に示したものになる。
[0043] ある 1つの画素に注目した場合、その画素の B絵素を透過した照射光による露光だ けを見れば、露光量分布は図 13 (b)に示すように最大露光量が Dとなる 1つの台形と なる力 その画素の両隣に隣接する画素の B絵素を透過した照射光によって生じる 露光量分布の台形の裾部分同士が互いに重なる。この重なる部分の積算露光量が 重ならない部分の最大露光量 Dと一致するようにすることで、合計露光量はどの点に おいても Dとなる。その結果、平坦面が形成される。
[0044] このような分布をもつ露光によって、図 13 (a)においては、一定厚み Tで形成され
R
ている榭脂層 9の各点は厚み方向に下から一定厚みだけ硬化する。すなわち、図 13 (a)の榭脂層 9の中に示す破線より下の部分が硬化する。こうしてマイクロレンズの稜 線の直線的な形状が得られる。
[0045] しカゝしながら、図 2 (a)に示すように透明基板が厚み T より薄い厚み T である場合
G2 G1
、図 1を参照して説明した原理により透明基板上面での露光範囲が狭くなるので、露 光量分布の台形は図 2 (b)に示すように裾の横方向への広がりが短い形状になる。し たがって、台形の裾同士が重なる部分での積算露光量 Dが不足し台形頂上での露 光量より小さなものとなってしまう。こうして図 2 (b)に一点鎖線で示すように画素同士 の境目でそれぞれ露光量不足が生じるのでマイクロレンズの稜線方向で見たとき D は一定とならず繰返し増減するような分布となる。その結果、硬化した榭脂によって 形成される稜線には、図 2 (a)に破線で示すように凹凸が生じてしまう。
[0046] 逆に、図 3 (a)に示すように透明基板が厚み T より厚い厚み T である場合、図 1を
G2 G3
参照して説明した原理により透明基板上面での露光範囲が広くなるので、露光量分 布の台形は図 3 (b)に示すように裾の横方向への広がりが長い形状になる。したがつ て、台形の裾同士が重なる部分での積算露光量 Dが過大なものとなり、台形頂上部 分にまで重なるようになる。その結果、図 3 (b)に一点鎖線で示すように画素同士の 境目でそれぞれ露光量が過大となるのでマイクロレンズの稜線方向で見たとき Dは一 定とならず繰返し増減するような分布となる。その結果、硬化した榭脂によって形成さ れる稜線には図 3 (a)に破線で示すように凹凸が生じてしまう。
[0047] ここで、透明基板としてのガラス基板の厚みと露光範囲の関係を図 10を参照して数 式を用いながら説明する。ガラス基板の厚みを Tとし、露光時の図 10における入射
G
角度を Θ とし、屈折率を nとし、便宜上、露光範囲の幅を E とすると、次の関係が成
1 area
り立つ。 E =T /n X tan Q 式 1
area G 1
このことから、照射光が同一角度 Θ で入射される場合において、ガラス基板が厚い
1
場合、露光範囲 E は拡がり、逆に薄い場合には露光範囲 E は狭くなる。このため area area
、照射光の透過率が低いカラーフィルタの上方では、透過率が高いカラーフィルタを 透過した照射光の重なり量に違いが生じてくる。すなわち、積算露光量が異なってく る。したがって、形成されるマイクロレンズ 1の平坦面 laは少なくとも稜線方向に見て 凹凸を有するものとなってしまう。
[0048] ここで、上述のガラス基板の厚み Tと露光範囲 E との関係において、露光範囲 E
G area a が画素ピッチ Pの 1Z2倍になるとき、図 13 (b)に破線で示すように積算露光量が rea X
一定になり、その結果、図 13 (a)に破線で示すように稜線に凹凸のない平坦面 laが 形成される。そこで式 1に
E = (1/2) P 式 2
area X
を代入すると
(1/2) P =T /n X tan Q 式 3
X G 1
となる。
[0049] 図 13 (a) , (b)では好ましいことに稜線方向に凹凸のない平坦面が形成されていた 力 厚み Tで形成された榭脂層 9のうち硬化するのは下力 一定厚みの部分だけで
R
上の方の部分は未硬化のまま捨てられることとなる。また、実際にはガラス基板の厚 みにはばらつきがある。
[0050] そこで次に、図 14 (a) , (b)を参照して、厚みにばらつきのある多数のガラス基板に 対して一定の露光スキャン条件を適用してマイクロレンズを量産する場合について検 討する。
[0051] 上述した式 3の関係を満足する露光条件を用い、かつ、マイクロレンズの稜線方向 の平坦面を形成する積算露光量が厚み Tの光硬化性榭脂を露光するのに必要な
R
露光量 Dと一致するような露光条件を「最適露光条件」とする。図 14 (a) , (b)では露
T
光によって榭脂層 9が硬化する部分の厚みが榭脂層 9の厚み Tと一致している様子
R
を示している。最適露光条件においては、このように無駄のない硬化が行なわれる。
[0052] 露光照射光が入射角度 Θ のときの露光量を D 、また、露光照射光が入射角度 Θ のときの露光量を D とした場合、最適露光条件とは、
2 theta2
D =D +D 式 4
T thetal theta2
ということになる。この最適露光条件を決める際に用いるガラス基板の厚み Tにはガ
G
ラス基板の面内の最薄値またはガラス基板毎の厚みばらつきのうちの最小値を用い
、これを「基準ガラス基板厚」とする。図 13 (a) , (b)、図 14 (a) , (b)では T =T であ
G G2 つた。図 7で例示した液晶表示パネルの例では、行方向(1画素に属する R, Β, Gの カラーフィルタが並ぶ方向)の画素ピッチ Ρ力 200 /ζ πι、行方向に直行する列方向の
X
画素ピッチ Ρ力 ^OO /z n^ TFT基板 2の透明基板部分の屈折率は 1. 52であるが、
Y
ここで基準ガラス基板厚が 400 mであるとすると、最適露光条件を満たす入射角度 は
θ = θ =tan_1{ (l/2) P / (T /η) }
1 2 X G
=tan_1{ (1/2) X 200/ (400/1. 52) }
= tan"1 (100/260) =約 21。
となる。
[0053] 基準ガラス基板厚に対応するこの最適露光条件を用いて光硬化性榭脂からなる榭 脂層 9の感光を行なうとき、他のガラス基板または同一ガラス基板内の他の部位の厚 みは基準ガラス基板厚より常に厚いものになるので、マイクロレンズの稜線方向には 図 15 (a) , (b)に示すような凸部のみが生じ、凹部は生じない。また、生じるはずの凸 部は榭脂層 9の厚みを超えてしまうため、結果的にこの凸部をカットしたような状態に することができる。これにより、ガラス基板の厚みが異なる場合においても、同一の露 光スキャン条件によって滑らかな平坦面を有するマイクロレンズアレイを製造すること ができる。
[0054] なお、配光分布は、ここで例示したように露光用照射光の入射角を変化させること によって調整することもできる力 そのほかの方法として、露光用照射光のビームを榭 脂層 9に対して相対的に平行移動させることによって、照射時間の分布を調整しても よいし、これらを組み合わせてもよい。さらにほかの方法として、所定の透過率の分布 を有するフォトマスクを用いて配光分布を調整してもよ 、。
[0055] 次に図 16に示すように、榭脂層 9 (図 9参照)の未硬化部分を除去する現像工程を 行なう。未硬化部分を除去した結果、硬化した部分のみが残るので、硬化度の分布 に対応した形状のマイクロレンズ 1が得られる。こうしてマイクロレンズ付き液晶表示パ ネル 11が得られる。このマイクロレンズ付き液晶表示パネル 11が備えるマイクロレン ズアレイは、複数の画素の列に対応して配列されたレンチキュラーレンズである。この マイクロレンズアレイは、稜線が行方向(X方向)になるように配列されており、列方向 (Y方向)には集光力を有するが、行方向 (X方向)には集光力を有しない。
[0056] なお、現像工程の後で、光硬化性榭脂が硬化してできたマイクロレンズ 1に再度、 露光用照射光を照射することによって、光硬化性榭脂の硬化をさらに進行させ、完全 硬化状態に近づけることが好ましい。また、光硬化とともに熱硬化を併用してもよい。
[0057] この後、図 17に示すように、マイクロレンズ付き液晶表示パネル 11をバックライト装 置 15と組み合わせて液晶表示装置 20が完成する。ノ ックライト装置 15は、予め、光 源 12、ノ ックライト 13、反射板 14を組み立てて作製しておいたものであってよい。
[0058] 上述の実施の形態では、カラーフィルタを有する液晶表示パネルを用いた力 本発 明の適用対象はこれに限られず、たとえばゲスト'ホスト液晶表示装置のように、表示 媒体層 (液晶層)に混合した色素などを用いてカラー表示を行なう表示装置にも同様 に適用できる。さらに、液晶表示パネルに限られず、他の非自発光型表示パネル (た とえば、エレクト口クロミック表示パネル、電気泳動型表示パネル、トナー表示パネル 、 PLZTパネル)にも適用できる。
[0059] なお、今回開示した上記実施の形態はすべての点で例示であって制限的なもので はない。本発明の範囲は上記した説明ではなくて請求の範囲によって示され、請求 の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更を含むものである。

Claims

請求の範囲
[1] 液晶層 (4)を介して互いに貼り合せられた第 1,第 2の透明基板 (2, 3)を含み、光 が透過可能な複数の画素が遮光部(5)に隔てられることで規定されており、前記複 数の画素の各々は、第 1色光を透過させる第 1絵素と、前記第 1色光とは異なる第 2 色光を透過させる第 2絵素とを含む複数の絵素を含み、前記第 1絵素は前記複数の 絵素の中で光硬化性榭脂を硬化させる性質の光の透過率が最も高 、絵素となって いる、液晶表示パネル(10)を用意する工程と、
前記第 1の透明基板の表面に、未硬化の前記光硬化性榭脂からなる榭脂層(9)を 形成する工程と、
前記複数の画素に向けて、前記榭脂層(9)を硬化させる性質の光を、入射角を変 ィ匕させるように照射し、前記第 1絵素を透過した光によって、前記榭脂層(9)を部分 的に硬化させる露光工程と、
前記露光工程の後に前記榭脂層(9)の未硬化部分を除去する現像工程とを含み 前記露光工程は、硬化部分がシリンドリカルマイクロレンズの形状になり、硬化部分 の最大厚みが前記榭脂層の厚みに等しくなるように行なわれるものである、マイクロレ ンズ付き液晶表示パネルの製造方法。
[2] 前記第 1絵素は前記複数の絵素の中で透過光の中心波長が最も短い絵素である 、請求の範囲第 1項に記載のマイクロレンズ付き液晶表示パネルの製造方法。
[3] 前記シリンドリカルマイクロレンズの稜線方向の露光のためのスキャンを行なう際の 光照射条件であるマイクロレンズ稜線方向露光スキャン条件を、前記第 1の透明基板 の面内厚みばらつきまたは個体間ばらつきにおける最薄厚みを基準に決定するェ 程を含む、請求の範囲第 1項に記載のマイクロレンズ付き液晶表示パネルの製造方 法。
[4] 前記マイクロレンズ稜線方向露光スキャン条件は、前記最薄厚みが T、画素ピッチ
G
力 、屈折率が n、露光照射光の最大入射角度が Θ のとき、
1
1/2 -P =T /nX tan Q
x G 1
を満足し、かつ、前記シリンドリカルマイクロレンズの稜線に相当する部分の積算露光 量が前記榭脂層の厚み分の前記光硬化性榭脂を露光するのに必要な露光量に一 致するように決定される、請求の範囲第 3項に記載のマイクロレンズ付き液晶表示パ ネルの製造方法。
[5] 液晶層(4)と、
前記液晶層(4)を介して互いに貼り合せられた第 1,第 2の透明基板 (2, 3)と、 前記第 1の透明基板 (2)の表面において光硬化性榭脂からなる榭脂層を一旦形成 して力も部分的に露光させて硬化させることで形成されたシリンドリカルマイクロレンズ
(1)とを備え、
前記シリンドリカルマイクロレンズ (1)は稜線部分に 2次元的広力 Sりを有する平坦面( la)を有し、前記平坦面(la)は、前記榭脂層の露光時に前記榭脂層の厚みの全体 に至るまで硬化させたことによって前記榭脂層の表面がそのまま残ったものである、 マイクロレンズ付き液晶表示パネル。
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