WO2006105911B1 - Belichtungsvorrichtung für druckplatten - Google Patents

Belichtungsvorrichtung für druckplatten

Info

Publication number
WO2006105911B1
WO2006105911B1 PCT/EP2006/002962 EP2006002962W WO2006105911B1 WO 2006105911 B1 WO2006105911 B1 WO 2006105911B1 EP 2006002962 W EP2006002962 W EP 2006002962W WO 2006105911 B1 WO2006105911 B1 WO 2006105911B1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
light
light modulator
exposure device
light source
laser diode
Prior art date
Application number
PCT/EP2006/002962
Other languages
English (en)
French (fr)
Other versions
WO2006105911A2 (de
WO2006105911A3 (de
Inventor
Sascha Neber
John Hedde
Original Assignee
Punch Graphix Prepress Germany
Sascha Neber
John Hedde
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from DE200510015192 external-priority patent/DE102005015192A1/de
Priority claimed from DE200510015193 external-priority patent/DE102005015193A1/de
Application filed by Punch Graphix Prepress Germany, Sascha Neber, John Hedde filed Critical Punch Graphix Prepress Germany
Priority to JP2008503435A priority Critical patent/JP2008535007A/ja
Priority to BRPI0609507-0A priority patent/BRPI0609507A2/pt
Priority to EP06723922A priority patent/EP1872174A2/de
Priority to CA002603170A priority patent/CA2603170A1/en
Priority to CN200680015628.2A priority patent/CN101171548B/zh
Priority to US11/887,598 priority patent/US20090101845A1/en
Publication of WO2006105911A2 publication Critical patent/WO2006105911A2/de
Publication of WO2006105911A3 publication Critical patent/WO2006105911A3/de
Publication of WO2006105911B1 publication Critical patent/WO2006105911B1/de

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2051—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source
    • G03F7/2057—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using an addressed light valve, e.g. a liquid crystal device
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2051—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source
    • G03F7/2053—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using a laser
    • G03F7/2055—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using a laser for the production of printing plates; Exposure of liquid photohardening compositions

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

Um eine Belichtungsvorrichtung (1) mit einer Lichtquelle (2), einem Lichtmodulator (4) sowie einer Lichteinkoppelungseinheit (3) anzugeben, bei der die Bestrahlungsstärke in dem Spektralbereich, welcher für die Belichtung des zu belichtenden Materials (6) benötigt wird, auf besonders einfache und kostengünstige Art und Weise optimiert wird, wird vorgeschlagen, daß die Lichtquelle (2) mindestens eine Laserdiode (7) umfasst.

Claims

GEÄNDERTE ANSPRÜCHE beim Internationalen Büro eingegangen am 08. März 2007 (08.03.2007)PATENTANSPRÜCHE
1. Belichtungsvorrichtung (1) mit einer Lichtquelle (2), einem eine
Vielzahl von Zeilen aus lichtmodulierenden Zellen (28) aufweisenden Lichtmodulator (4), einer Einrichtung (27) zum Abbilden von Datenmustern auf dem Lichtmodulator (4), einer Einrichtung (29) zum
Abbilden des Lichtmodulators (4) auf lichtempfindliches Material (25), einer Einrichtung (26) zur Erzeugung einer Relativbewegung zwischen dem Lichtmodulator (4) und dem lichtempfindlichen Material (25), wobei die Relativbewegung im wesentlichen senkrecht zu den Zeilen aus lichtmodulierenden Zellen (28) verläuft, sowie mit einer Einrichtung (27) zum Scrollen eines auf einer gegebenen Zeile des Lichtmodulators (4) angezeigten Datenmusters durch die verschiedenen Zeilen des Lichtmodulators (4), wobei das Scrollen derart mit der Relativbewegung synchronisiert erfolgt, daß eine Abbildung eines auf dem Lichtmodulator (4) angezeigten
Datenmusters auf dem lichtempfindlichen Material (25) bezüglich des lichtempfindlichen Materials (25) im wesentlichen stationär ist, insbesondere nach einem der Ansprüche 1 bis 9, wobei eine Einrichtung (30) zum Inaktivieren einer vorgebbaren Anzahl von Zeilen des Lichtmodulators (4) vorgesehen ist und der
Lichtmodulator (4) durch Beschickung von im wesentlichen nur der aktiven Zeilen (32) mit den Datenmustern betreibbar ist, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , daß mindestens eine Laserdiode stationär außerhalb des Belichtungskopfes angeordnet ist.
2. Vorrichtung (1 ) nach Anspruch 1 , d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , daß die Einrichtung (30) zur Inaktivierung eines vorgebbaren zusammenhängenden Bereiches von Zeilen ausgebildet ist.
3. Vorrichtung (1) nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Bereich verschiebbar ausgebildet ist.
4. Vorrichtung (1) nach einem de,r vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß Mittel (33) zur
Fokussierung der Lichtquelle (2) im wesentlichen auf die aktiven Zeilen des Lichtmodulators (4) vorgesehen sind.
5. Vorrichtung (1 ) nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Mittel (23) zur Fokussierung bezüglich eines Fokalbereiches variabel ausgebildet sind.
6. Vorrichtung (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Lichtquelle (2) ein kleineres Etendue aufweist als eine aus dem Lichtmodulator (4) und der Einrichtung (29) zum Abbilden des Lichtmodulators (4) auf lichtempfindliches Material (25) gebildete Einheit.
7. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Lichtquelle (2) eine Wasserkühlung aufweist.
8. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass zwischen Faserbündel (9) und Lichtmodulator (4) mindestens ein Lichtwellenleiter (37) und ein Integratorstab oder Hohlleiter bzw. Lichttunnel (21) angeordnet ist.
9. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Laser als ein Faserlaser oder Scheibenlaser ausgebildet ist.
10. Belichtungsvorrichtung (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass eine Lichteinkoppelungseinheit (3) vorgesehen ist und die Lichtquelle (2) eine Laserdiode (7) umfaßt.
11. Belichtungsvorrichtung (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Laserdiode (7) Licht im Bereich von ungefähr 350nm bis ungefähr 450nm emittiert.
12. Belichtungsvorrichtung (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, d ad u rch g eke n n ze i ch n et , daß die
Lichtquelle (2) ein Modul (11) aus mehreren, vorzugsweise zwanzig, Laserdioden (7) umfaßt.
13. Belichtungsvorrichtung (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß ein Strahlungsfluß jeder Laserdiode (7) in der
Lichteinkoppelungseinheit (3) optisch überlagert wird.
14. Belichtungsvorrichtung (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Lichteinkoppelungseinheit (3) Einzelglasfasern (8) umfaßt und/oder daß jeder Laserdiode (7) jeweils eine separate Einzelglasfaser (8) zugeordnet ist und/oder daß die Einzelglasfaser (8) einen Durchmesser von ungefähr 125 μm aufweist und/oder daß die Einzelglasfasern (8) in der Lichteinkoppelungseinheit (3) zu einem Faserbündel (9) zusammengeführt sind.
15. Belichtungsvorrichtung (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Außendurchmesser des Faserbündels (9) etwa 650um beträgt.
16. Belichtungsvorrichtung (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Lichtquelle (2) mehrere Module (11) umfaßt.
17. Belichtungsvorrichtung (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, d ad u rch g eke n nze i ch n et , daß die
Lichteinkoppelungseinheit (3) einen lichtintegrierenden Glasstab (21) umfaßt und vorzugsweise einen eckigen, insbesondere rechteckigen, Querschnitt aufweist.
18. Belichtungsvorrichtung (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Strahlungsfluß der
Lichtquelle (2), vorzugsweise jeder Laserdiode (7) variierbar ausgestaltet ist und/oder die Lichtquelle (2) mit Mitteln zum separaten Zu- oder Abschalten einzelner Laserdioden (7) versehen ist.
PCT/EP2006/002962 2005-04-02 2006-03-31 Belichtungsvorrichtung für druckplatten WO2006105911A2 (de)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008503435A JP2008535007A (ja) 2005-04-02 2006-03-31 印刷版の露光装置
BRPI0609507-0A BRPI0609507A2 (pt) 2005-04-02 2006-03-31 dispositivo de exposição
EP06723922A EP1872174A2 (de) 2005-04-02 2006-03-31 Belichtungsvorrichtung für druckplatten
CA002603170A CA2603170A1 (en) 2005-04-02 2006-03-31 Exposure device for press plates
CN200680015628.2A CN101171548B (zh) 2005-04-02 2006-03-31 用于印版的曝光装置
US11/887,598 US20090101845A1 (en) 2005-04-02 2006-03-31 Exposure Device for Printing Plates

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102005015192.2 2005-04-02
DE102005015193.0 2005-04-02
DE200510015192 DE102005015192A1 (de) 2005-04-02 2005-04-02 Belichtungsvorrichtung für Druckplatten
DE200510015193 DE102005015193A1 (de) 2005-04-02 2005-04-02 Belichtungsvorrichtung und Verfahren für die Belichtung von Druckplatten

Publications (3)

Publication Number Publication Date
WO2006105911A2 WO2006105911A2 (de) 2006-10-12
WO2006105911A3 WO2006105911A3 (de) 2007-04-05
WO2006105911B1 true WO2006105911B1 (de) 2007-05-18

Family

ID=36678612

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/EP2006/002962 WO2006105911A2 (de) 2005-04-02 2006-03-31 Belichtungsvorrichtung für druckplatten

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20090101845A1 (de)
EP (1) EP1872174A2 (de)
JP (1) JP2008535007A (de)
BR (1) BRPI0609507A2 (de)
CA (1) CA2603170A1 (de)
WO (1) WO2006105911A2 (de)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102006049169A1 (de) * 2006-10-18 2008-04-30 Punch Graphix Prepress Germany Gmbh Beleuchtungsanordnung
DE102008052829A1 (de) * 2008-10-16 2010-04-22 Carl Zeiss Surgical Gmbh Beleuchtungsvorrichtung für ein optisches Beobachtungsgerät
TWI666526B (zh) * 2017-10-31 2019-07-21 旭東機械工業股份有限公司 無光罩雷射直寫曝光機
CN110892334B (zh) 2017-07-20 2022-12-09 埃斯科绘图成像有限责任公司 用于光敏聚合物印刷版的直接固化的系统和过程

Family Cites Families (53)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4804975A (en) * 1988-02-17 1989-02-14 Eastman Kodak Company Thermal dye transfer apparatus using semiconductor diode laser arrays
US4911526A (en) * 1988-10-07 1990-03-27 Eastman Kodak Company Fiber optic array
US5049901A (en) * 1990-07-02 1991-09-17 Creo Products Inc. Light modulator using large area light sources
CA2075026A1 (en) * 1991-08-08 1993-02-09 William E. Nelson Method and apparatus for patterning an imaging member
US5132723A (en) * 1991-09-05 1992-07-21 Creo Products, Inc. Method and apparatus for exposure control in light valves
US5208818A (en) * 1991-12-12 1993-05-04 Creo Products Inc. Laser system for recording data patterns on a planar substrate
US5521748A (en) * 1994-06-16 1996-05-28 Eastman Kodak Company Light modulator with a laser or laser array for exposing image data
DE19549395A1 (de) * 1995-02-07 1996-10-31 Ldt Gmbh & Co Bilderzeugungssysteme zur Bestimmung von Sehfehlern an Probanden und für deren Therapie
DE19545821A1 (de) * 1995-12-08 1997-06-12 Friedrich Dipl Ing Luellau Vorrichtung zum Belichten von Druckplatten
US6121996A (en) * 1998-05-04 2000-09-19 Creo Srl Laser recording method
DE69822004T2 (de) * 1998-12-11 2004-09-16 Basys Print GmbH Systeme für die Druckindustrie Belichtungsvorrichtung
US6519387B1 (en) * 1999-04-27 2003-02-11 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image recording device and optical fiber
DE19944760A1 (de) * 1999-09-17 2001-03-22 Basys Print Gmbh Systeme Fuer Vorrichtung und Verfahren zur Kompensation von Inhomogenitäten bei Abbildungssystemen
US7217573B1 (en) * 1999-10-05 2007-05-15 Hitachi, Ltd. Method of inspecting a DNA chip
US6767685B2 (en) * 1999-12-03 2004-07-27 Fuji Photo Film Co., Ltd. Plate-making method, plate-making apparatus used in such plate-making method, and image recording material
DE10010619A1 (de) * 2000-03-03 2001-09-13 Krause Biagosch Gmbh Laser-Belichtungsvorrichtung für lichtempfindliche Medien, insbesondere für Druckplatten
US6587205B2 (en) * 2000-07-28 2003-07-01 Litton Systems, Inc Integrated optic gyroscope and method of fabrication
US6765724B1 (en) * 2001-01-16 2004-07-20 Holotek, Llc Diffraction grating-based wavelength selection unit having improved polarization dependent performance
JP2002316363A (ja) * 2001-02-16 2002-10-29 Fuji Photo Film Co Ltd 光造形装置及び露光ユニット
JP2002351086A (ja) * 2001-03-22 2002-12-04 Fuji Photo Film Co Ltd 露光装置
JP2002331591A (ja) * 2001-05-08 2002-11-19 Fuji Photo Film Co Ltd 光造形方法
JP2003080604A (ja) * 2001-09-10 2003-03-19 Fuji Photo Film Co Ltd 積層造形装置
JP2004004152A (ja) * 2002-03-29 2004-01-08 Fuji Photo Optical Co Ltd 一次元集光光学系および光量分布補正照明光学系、ならびに露光ヘッド
KR20050003356A (ko) * 2002-04-10 2005-01-10 후지 샤신 필름 가부시기가이샤 노광헤드 및 노광장치와 그 응용
US6960035B2 (en) * 2002-04-10 2005-11-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Laser apparatus, exposure head, exposure apparatus, and optical fiber connection method
US6928198B2 (en) * 2002-05-23 2005-08-09 Fuji Photo Film Co., Ltd. Exposure head
JP4213402B2 (ja) * 2002-05-23 2009-01-21 富士フイルム株式会社 集光レンズ、合波レーザー光源および露光装置
US20050129397A1 (en) * 2002-06-07 2005-06-16 Fuji Photo Film Co., Ltd. Exposure device
EP1372005A3 (de) * 2002-06-07 2004-11-17 Fuji Photo Film Co., Ltd. Integrierte optische Schaltung und Verfahren zu seiner Herstellung
KR20030095313A (ko) * 2002-06-07 2003-12-18 후지 샤신 필름 가부시기가이샤 레이저 어닐링장치 및 레이저 박막형성장치
JP2004012903A (ja) * 2002-06-07 2004-01-15 Fuji Photo Film Co Ltd 露光装置
CN1297836C (zh) * 2002-06-07 2007-01-31 富士胶片株式会社 曝光头以及曝光装置
US6876494B2 (en) * 2002-09-30 2005-04-05 Fuji Photo Film Co., Ltd. Imaging forming apparatus
JP4113418B2 (ja) * 2002-11-15 2008-07-09 富士フイルム株式会社 露光装置
JP4150250B2 (ja) * 2002-12-02 2008-09-17 富士フイルム株式会社 描画ヘッド、描画装置及び描画方法
JP4315694B2 (ja) * 2003-01-31 2009-08-19 富士フイルム株式会社 描画ヘッドユニット、描画装置及び描画方法
US7181105B2 (en) * 2003-03-25 2007-02-20 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method for adjusting alignment of laser beams in combined-laser-light source where the laser beams are incident on restricted area of light-emission end face of optical fiber
JP2004335639A (ja) * 2003-05-06 2004-11-25 Fuji Photo Film Co Ltd 投影露光装置
JP4244156B2 (ja) * 2003-05-07 2009-03-25 富士フイルム株式会社 投影露光装置
JP4727135B2 (ja) * 2003-05-26 2011-07-20 富士フイルム株式会社 レーザアニール装置
JP4660074B2 (ja) * 2003-05-26 2011-03-30 富士フイルム株式会社 レーザアニール装置
JP2004361472A (ja) * 2003-06-02 2004-12-24 Fuji Photo Film Co Ltd レーザ装置
US7016018B2 (en) * 2003-06-04 2006-03-21 Fuji Photo Film Co., Ltd. Exposure device
TWI260154B (en) * 2003-07-03 2006-08-11 Fuji Photo Film Co Ltd Image forming device
TWI246848B (en) * 2003-07-03 2006-01-01 Fuji Photo Film Co Ltd Image formation device
JP4373731B2 (ja) * 2003-07-22 2009-11-25 富士フイルム株式会社 描画装置及び描画方法
JP2005055881A (ja) * 2003-07-22 2005-03-03 Fuji Photo Film Co Ltd 描画方法および描画装置
US7187399B2 (en) * 2003-07-31 2007-03-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Exposure head with spatial light modulator
US20050104953A1 (en) * 2003-09-16 2005-05-19 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image exposure method and image exposure apparatus
KR100796582B1 (ko) * 2003-12-26 2008-01-21 후지필름 가부시키가이샤 노광방법 및 장치
KR100742251B1 (ko) * 2003-12-26 2007-07-24 후지필름 가부시키가이샤 화상노광방법 및 장치
JP2005309380A (ja) * 2004-03-26 2005-11-04 Fuji Photo Film Co Ltd 画像露光装置
US20100014063A1 (en) * 2005-05-31 2010-01-21 Fujifilm Corporation Image exposure apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
JP2008535007A (ja) 2008-08-28
US20090101845A1 (en) 2009-04-23
BRPI0609507A2 (pt) 2011-05-24
WO2006105911A2 (de) 2006-10-12
EP1872174A2 (de) 2008-01-02
WO2006105911A3 (de) 2007-04-05
CA2603170A1 (en) 2006-10-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE4324848C1 (de) Videoprojektionssystem
EP3504580B1 (de) Wellenleiter sowie vorrichtungen zur dateneinspiegelung
DE102021101164B4 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen eines dreidimensionalen Objekts in einem optisch reaktiven Ausgangsmaterial
DE69634241T2 (de) Vorrichtung zur kontrolle der ausgangsleistung, projektionsanzeigevorrichtung
DE102013215054A1 (de) Beleuchtungsvorrichtung mit Leuchtstoffrad und Anregungsstrahlungsquelle
DE60303557T2 (de) Led-array mit mehrkegelstruktur
DE102014222130A1 (de) Beleuchtungsvorrichtung mit einer Wellenlängenkonversionsanordnung
DE102009021440B4 (de) Spektroskopiemodul und Verfahren zum Herstellen desselben
DE19622359A1 (de) Vorrichtung zur Einkopplung der Strahlung von Kurzpulslasern in einem mikroskopischen Strahlengang
WO2014173736A1 (de) Optische anordnung und anzeigegerät
EP3130950A1 (de) Strahlumlenkelement sowie optisches bauelement mit strahlumlenkelement
EP1965244A2 (de) Optische Anordnung und optisches Verfahren
DE102008020858B4 (de) Projektionssystem für ein optisches Anzeigegerät sowie Head-mounted Display mit einem solchen
WO2006105911B1 (de) Belichtungsvorrichtung für druckplatten
DE102008013764A1 (de) Medizinische Beleuchtungsvorrichtung und medizinische Bilderzeugungsvorrichtung
DE102020203506A1 (de) Wellenlängenumwandlungselement, lichtquellenvorrichtung und beleuchtungsvorrichtung
EP1403695A1 (de) Vorrichtung zum Aufbelichten einer Vorlage mittels einer Vielzahl homogenisierter und überlagerter Punktlichtquellen
DE112015003920B4 (de) Optisches Bilderzeugungssystem, Beleuchtungsvorrichtung, Mikroskopvorrichtung und Phasenmodulationselement
DE102017200170A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Formung eines Laserstrahls durch einen programmierbaren Strahlformer
DE3821076A1 (de) Farbbildleser
DE102018204627A1 (de) Projektionsvorrichtung für eine Datenbrille, eine solche Datenbrille sowie Verfahren zum Betrieb einer solchen Projektionsvorrichtung
DE102019110587A1 (de) Vorrichtung zur Herstellung eines Replik-Hologramms, Replik-Hologramm sowie Beleuchtungsvorrichtung für ein Fahrzeug
DE102013224691A1 (de) Beleuchtungsvorrichtung zur Erzeugung von Licht mittels Wellenlängenkonversion
DE102014223992B4 (de) Projektionseinrichtung
DE60008781T2 (de) Digitales photographisches wiedergabegerät

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2006723922

Country of ref document: EP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 11887598

Country of ref document: US

Ref document number: 2603170

Country of ref document: CA

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2008503435

Country of ref document: JP

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: RU

WWW Wipo information: withdrawn in national office

Ref document number: RU

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 200680015628.2

Country of ref document: CN

WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 2006723922

Country of ref document: EP

ENP Entry into the national phase

Ref document number: PI0609507

Country of ref document: BR

Kind code of ref document: A2

Effective date: 20070927