WO2006100942A1 - 感光性樹脂組成物およびカラーフィルタ - Google Patents

感光性樹脂組成物およびカラーフィルタ Download PDF

Info

Publication number
WO2006100942A1
WO2006100942A1 PCT/JP2006/304770 JP2006304770W WO2006100942A1 WO 2006100942 A1 WO2006100942 A1 WO 2006100942A1 JP 2006304770 W JP2006304770 W JP 2006304770W WO 2006100942 A1 WO2006100942 A1 WO 2006100942A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
group
resin composition
photosensitive resin
general formula
structural unit
Prior art date
Application number
PCT/JP2006/304770
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Hiroyuki Ohnishi
Yasuaki Sugimoto
Isao Tateno
Masaru Shida
Original Assignee
Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. filed Critical Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
Priority to CN2006800070205A priority Critical patent/CN101292196B/zh
Priority to US11/908,481 priority patent/US7858275B2/en
Publication of WO2006100942A1 publication Critical patent/WO2006100942A1/ja

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/008—Azides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00—Processes of polymerisation
    • C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F8/00—Chemical modification by after-treatment
    • C08F8/34—Introducing sulfur atoms or sulfur-containing groups
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/022—Quinonediazides
    • G03F7/023—Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/201—Filters in the form of arrays

Definitions

  • the present invention relates to a photosensitive resin composition and a color filter.
  • pixels each having a color of red (R), green (G), and blue (B) are generally provided. It has a configuration surrounded by a lattice-shaped light shielding layer called black matrix.
  • a method is known in which a colored layer and a black matrix of a powerful color filter are formed by a photolithographic method using a photosensitive resin composition containing a colorant.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-270784
  • the present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide a positive photosensitive resin composition having good heat resistance and transparency, and a color filter using the same.
  • the photosensitive resin composition of the present invention has naphthoquinone 1 in which at least part of the hydrogen atoms of the phenolic hydroxyl group in the structural unit represented by the following general formula (al): 2) A resin component (A1) having a structural unit (al ′) substituted with a diazide 5 (and / or 4) sulfonyl group.
  • R ° represents a hydrogen atom or a methyl group
  • R 1 represents a single bond or an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms
  • R 2 represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms
  • a is :!.
  • b is 0 or an integer of 1 to 4
  • a + b is 5 or less should be noted that when R 2 exist two or more, these R 2 are mutually They may be different or the same.
  • the present invention also provides a color filter having a pattern formed using the photosensitive resin composition of the present invention.
  • Structural unit refers to a monomer unit constituting a polymer.
  • a positive photosensitive resin composition having good heat resistance and transparency can be provided.
  • the photosensitive resin composition of the present invention is suitable for forming a pattern constituting a color filter, and can form a high-quality color filter.
  • the photosensitive resin composition of the present invention has at least a partial strength of a hydrogen atom of a phenolic hydroxyl group in the structural unit represented by the general formula (al).
  • the resin component (A1) exhibits insoluble or hardly soluble properties in an alkaline developer due to the NQD group dissolution inhibitory action.
  • the NQD group absorbs light and reacts with moisture upon exposure, naphthoquinone_1,2-diazide becomes indenecarboxylic acid, and the resin component (A1) changes to a property that dissolves in an alkaline developer. That is, the alkali dissolution rate is higher in the exposed area than in the unexposed area. Therefore, the photosensitive resin composition of the present invention containing a strong resin component (A1) acts as a positive resist.
  • the resin component (A1) may be referred to as “component (A1)”.
  • the structural unit (al ′) is an esterified product of the structural unit (al) represented by the general formula (al) and naphthoquinone 1,2 diazido 5 sulfonyl halide and / or naphthoquinone 1,2 diazido 4-sulfonyl halide. It is.
  • the resin component (A1) includes an alkali-soluble resin component having at least the structural unit (al), naphthoquinone 1,2-diazido 5-sulfonyl halide, and / or naphthoquinone _1,2-diazide _4-sulfonyl halide.
  • the esterification reaction It is obtained by substituting some or all of the hydrogen atoms of the phenolic hydroxyl group at position (al) with an NQD group.
  • the esterification reaction includes, for example, an alkali-soluble resin component having a structural unit (al), naphthoquinone_1,2-diazide_5_sulfoylulide, and / or naphthoquinone_1,2-diazide_4_sulfoluculide, Can be carried out in a suitable solvent such as dioxane in the presence of an alkali such as triethanolamine, alkali carbonate, alkali hydrogen carbonate or the like.
  • a suitable solvent such as dioxane
  • an alkali such as triethanolamine, alkali carbonate, alkali hydrogen carbonate or the like.
  • the component (A1) preferably has both the structural units (al') and (al) that may have the structural unit (al). Masle.
  • the structure in which the NQD group of the structural unit (al ′) existing in the component (A1) is replaced with a hydrogen atom does not have to match, but usually the resin unit having the structural unit (al) works on the structural unit (al).
  • the NQD groups of the structural unit (al ') present in (A1) were replaced with hydrogen atoms.
  • the structure and the structure of the structural unit (a1) existing in the same component (A1) are the same.
  • the resin component obtained by substituting a part of the hydrogen atoms of the total phenolic hydroxyl group that has the structural unit (al) with the NQD group is particularly useful.
  • the term “resin component (A2)” or “(A2) component” may be used.
  • the ratio of the number of NQD groups introduced by the esterification reaction to the number of phenolic hydroxyl groups in the state before the introduction of NQD groups (alkali-soluble resin having a structural unit (al)) (ester The conversion ratio is preferably 2 to 80%, more preferably 10 to 50%, and even more preferably 15 to 45%.
  • Esterification rate 2 By setting it to 0 or more, the photosensitivity can be improved and the resolution can be improved. In addition, the rate of Esterii is 80. By setting it to / o or less, transparency and heat resistance can be improved.
  • hydrogen atoms may be substituted with NQD groups in all of the plurality of phenolic hydroxyl groups. In some of the plurality of phenolic hydroxyl groups, a hydrogen atom is substituted with an NQD group, and the phenolic hydroxyl group remains in the structural unit (al ′).
  • R ° represents a hydrogen atom or a methyl group, and is preferably a methyl group.
  • R 1 represents a single bond or a linear or branched alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, such as a methylene group, ethylene group, propylene group, isopropylene group, n-butylene group, isobutylene group, tert- Examples include butylene, pentylene, isopentylene, and neopentylene.
  • alkylene group a methylene group and an ethylene group are preferable.
  • a single bond and an ethylene group are preferable, and a single bond is particularly preferable.
  • R 2 represents a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and includes a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, a pentyl group. Group, isopentyl group, neopentyl group and the like. Industrially, a methyl group or an ethyl group is preferable.
  • b represents 0 or an integer of 1 to 4, and is preferably 0.
  • a represents an integer of 1 to 5, and 1 is preferable from the viewpoint of effects and production.
  • the resin component (A2) having both the structural units (al ') and (al) can be expressed as follows.
  • the photosensitive resin composition of the present invention is a resin component (A2) having a structural unit represented by the above general formula (al), and all of the resin component (A2) that works on the general formula (al). At least a part of the hydrogen atoms of the phenolic hydroxyl group is substituted with a naphthoquinone 1,2-diazido 5_ (and / or-4_) sulfonyl group, and contains a resin component (A2).
  • the ratio of the number of NQD groups introduced by the esterification reaction (esterification rate) with respect to the number of hydrogen atoms of the total phenolic hydroxyl group that works on the general formula (al) is 2-80% is preferred 10-50% is more preferred 15-45. Even more preferred is / 0 .
  • esterification rate 2% or more, the photosensitivity can be improved and the resolution can be improved. Further, by setting the ester ratio to 80% or less, transparency and heat resistance can be improved.
  • the structural unit represented by (al-1) is preferable.
  • those structural units that are R ° acetyl groups are more preferred, hereinafter referred to as “PQMA”.
  • the structural unit (al ') present in the resin component (A1) may be one type or two or more types.
  • the structural unit (al) present in the resin component (A1) may be one type or two or more types.
  • the component (A1) or the component (A2) contains, in addition to the structural unit (al '), or (al) and (al'), other structural units copolymerizable with the structural unit (al). May contain seeds or more than one species.
  • the proportion of the structural units (al) and (al ′) in all the structural units constituting the component (A1) or the component (A2) is 50 mol% or more. More preferably, it is at least mol%.
  • the upper limit of the structural unit (al ′) in component (A1) may be 100 mol%. By setting the proportion of each structural unit within the above range, the effect of the present invention can be improved.
  • other structural units that can be used in addition to the structural units (al) and (al ′) are not particularly limited.
  • acrylic acid, methacrylate Polymerizable unsaturated bonds selected from acids, acrylic esters, acrylamides, methacrylic esters, methacrylolamides, aryl compounds, butyl ethers, butyl esters, styrenes, and quinone esters
  • a unit derived from a compound having the following acrylic acid, methacrylate Polymerizable unsaturated bonds selected from acids, acrylic esters, acrylamides, methacrylic esters, methacrylolamides, aryl compounds, butyl ethers, butyl esters, styrenes, and quinone esters
  • a unit derived from a compound having the following is not particularly limited.
  • acrylic acid, methacrylate Polymerizable unsaturated bonds selected from acids, acrylic esters, acrylamides, methacrylic esters, methacrylolamides
  • acrylate esters examples include alkyl (the alkyl group preferably has 1 to 10 carbon atoms) acrylate (eg, methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, Ethyl hexyl acrylate, octyl acrylate, _t-octyl acrylate, chlorethyl acrylate, 2,2-dimethylhydroxypropyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 5-hydroxypentyl acrylate, Trimethylolpropane monoatarylate, pentaerythritol monoacrylate, glycidyl acrylate, benzyl acrylate, methoxybenzyl acrylate, furfurinoreatalylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, etc.), aryl acrylate (eg Phenylalanine Atari rate, etc.).
  • methacrylic acid esters examples include alkyl (the alkyl group preferably has 1 to 10 carbon atoms) metatalarate (for example, methyl metatalylate, ethyl metatalylate, propyl metatalylate, isopropyl metatalylate, Milmetatalylate, hexylmethacrylate, cyclohexylmethacrylate, benzylmethacrylate, chlorbenzilmethacrylate, octylmethacrylate, 2-hydroxyethylmethacrylate, 4-hydroxybutyl Metatalylate, 5-Hydroxypentylmetatalylate, 2,2-Dimethyl_3-Hydroxypropylmetatalylate, Trimethylolpropane monometatalylate, Pentaerythritol monomethacrylate, Glycidylmetatalylate, Furfuryl metatalylate Tetra Dorofurufurirume methacrylate, etc.), ⁇ reel me
  • Atalinoleamides include, for example, acrylamide, N-alkylacrylamide (including The alkyl group preferably has 1 to 10 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group, or a propyl group.
  • N arylacrylamide (the aryl group includes, for example, phenyl, tolyl, nitrophenyl, naphthyl, hydroxyphenyl, etc.), N, N_dialkylacrylamide (The alkyl group preferably has from 10 to 10 carbon atoms, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a butyl group, an isobutyl group, an ethylhexynole group, and a cyclohexyl group), N, N Arylamide (the aryl group includes, for example, a phenyl group), N-methyl_N_phenylacrylamide, N-hydroxyethyl-1-N-methylacrylamide, N-2-acetamidoethyl-1-
  • methacrylolamides examples include, for example, methacrylolamide, N-alkylmethacrylamide (the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is preferred, for example, a methyl group, an ethyl group, a tbutyl group, and an ethyl group.
  • N arylmethacrylamide (the aryl group includes phenyl group), N, N dialkylmethacrylamide (as the alkyl group) , Ethyl, propyl, butyl, etc.), N, N dialyl methacrylamide (the aryl group includes phenyl, etc.), N hydroxyethyl-N methyl methacrylamide, N Examples include methyl-N-phenylmethacrylamide and Nethyl-N-phenylmethacrylamide.
  • allylic compounds include allylic esters (eg, allylic acetate, gallic proprolate, allylic caprylate, lauryl allylate, allylic palmitate, allylic stearate, benzoyl allylic, allylic acetoacetate, allylic lactic acid). And aryloxyethanol.
  • allylic esters eg, allylic acetate, gallic proprolate, allylic caprylate, lauryl allylate, allylic palmitate, allylic stearate, benzoyl allylic, allylic acetoacetate, allylic lactic acid).
  • aryloxyethanol e.g, allylic esters (eg, allylic acetate, gallic proprolate, allylic caprylate, lauryl allylate, allylic palmitate, allylic stearate, benzoyl allylic, allylic acetoacetate, allylic lactic acid).
  • bur ethers examples include alkyl butyl ethers (for example, hexylvininoatenore, otachinolevininoreethenore, decinolevininoreethenore, ethinorehexinolevininoreethenoreno, methoxyethinorevininoreethenore, ethoxyethinorevininore Tenoré, Chronoetino Levinino Leetenore, 1—Metinore 1, 2, _Dimethenorepropino Levinino Leetenore, 2 —Eteno Lebutino Levinino Leetenore, Hydroxyino Levinino Letenore, Diethylene Glyco Monovinyl ether, dimethylaminoethyl vinyl ether, jetylaminoethyl vinyl ether, butylaminoethyl vinyl ether, benzyl butyl
  • bur esters examples include bur butyrate, butyl isobutyrate, vinyl trimethyl acetate, burjetyl acetate, burvalate, bur strength, burchlor acetate, bur dichloroacetate, butyl methoxyacetate, burbutoxy.
  • styrenes examples include styrene, alkyl styrene (for example, methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, jetyl styrene, isopropyl styrene, butyl styrene, hexyl styrene, cyclohexyl styrene, decyl styrene, benzyl styrene, chloro styrene.
  • alkyl styrene for example, methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, jetyl styrene, isopropyl styrene, butyl styrene, hexyl styrene,
  • Methyl styrene trifluoromethyl styrene, ethoxy styrene, 4-methoxy-3-methyl styrene, dimethoxy styrene, etc.), halogen styrene (eg chlorostyrene, dichlorostyrene, trichlorostyrene, tetrachlorostyrene, pentachlorostyrene, bromostyrene, Dibromostyrene, iodine styrene, chlorofluorostyrene, trifluorostyrene, 2_bromo_4_trifluoromethylstyrene, 4_fluoro_3_ Riffle O b methyl styrene and the like).
  • halogen styrene eg chlorostyrene, dichlorostyrene, trichlorostyrene, tetrachlorostyrene, pentachlorosty
  • crotonic acid esters examples include alkyl crotonic acid (for example, butyl crotonic acid, hexyl crotonic acid, glycerin monocrotonate, etc.); ); Dialkyls of maleic acid or fumaric acid (for example, dimethyl maleate, dibutyl fumarate, etc.); acrylonitrile, methatalonitrile.
  • alkyl crotonic acid for example, butyl crotonic acid, hexyl crotonic acid, glycerin monocrotonate, etc.
  • Dialkyls of maleic acid or fumaric acid for example, dimethyl maleate, dibutyl fumarate, etc.
  • acrylonitrile methatalonitrile.
  • preferred ones include the following (a2) to (a4) c
  • R. is the same as described above.
  • these R 3 s may be different or the same, and c is preferably 0.
  • R. is the same as above.
  • R 4 represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or a hydrogen atom.
  • Examples of the alkyl group for R 4 include the same as those described for R 2 . Among these, as R 4 , a methyl group, which is preferably an alkyl group, is more preferable.
  • R °, c is the same as above. Further, in the case where R 3 there are two or more, these R 3 Les different from each other, even if good record, I even to the same record,. )
  • R 3 and c are the same as described above.
  • the mass average molecular weight of component (A1) or component (A2) is 2000 to 30000, preferably 3000 to 25000.
  • Mw measured value in terms of styrene in gel permeation chromatography (GPC)
  • GPC gel permeation chromatography
  • (A1) component or (A2) component may be used alone or in combination of two or more.
  • the resin component (A) in the photosensitive resin composition of the present invention a mixture of the above component (A1) or (A2) and another alkali-soluble resin (A3) may be used.
  • the component (A3) include acrylic resins, hydroxystyrene resins, and novolak resins.
  • the content of component (A1) or component (A2) in resin component (A) is preferably 70% by mass or more, preferably 80% by mass or more, and most preferably 100% by mass. .
  • a colorant (C) is usually added to the photosensitive resin composition for producing a black matrix or a colored layer.
  • the colorant may be an organic colorant or an inorganic colorant.
  • the color tone of the colorant is not particularly limited
  • the color filter can be appropriately selected according to the color tone of the colored layer of the color filter to be obtained or the color tone of the black matrix.
  • the organic colorant is preferably a dye, an organic pigment, or a natural pigment.
  • the inorganic colorant is specifically an inorganic salt, or an inorganic salt such as barium sulfate called extender. preferable.
  • colorants for color filter applications colorants with high color developability and high heat resistance are preferred, especially colorants with high heat resistance decomposability.
  • pigments are particularly preferred from the viewpoint of heat resistance.
  • An organic pigment is preferably used.
  • organic pigment examples include, for example, compounds classified as pigments in the Color Index (CI; issued by The Society of Dyers and Colorists, Inc.), specifically, the following Color Index ( CI) can be listed.
  • CI Color Index
  • CI Pigment Yellow 1 (hereinafter, “CI Pigment Yellow” is the same and only the number is indicated;), 3, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 20, 24, 31, 53, 55, 60, 61, 65, 71, 73, 74, 81, 83, 86, 93, 95, 97, 98, 99, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 116, 117, 119, 120, 125, 126, 127, 128, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 166, 167, 168, 17 5 , 180, 185;
  • CI Pigment Orange 1 (hereinafter, “CI Pigment Orange” is the same and only the number is indicated;), 5, 13, 14, 16, 17, 24, 34, 36, 38, 40, 43 , 46, 49, 51, 55, 59,
  • C. I. Pigment Violet 1 (hereinafter, “C. I. Pigment Violet” is the same and only numbers are shown;), 19, 23, 29, 30, 32, 36, 37, 38, 39, 40, 50;
  • C.I. Pigment Red 1 (hereinafter, “C.I.
  • CI Pigment Blue 1 (Hereafter, “CI Pigment Blue” is the same and only the number is indicated.), 2, 15, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 16, 22, 60, 64 66;
  • Carbon black is also preferred as the black pigment.
  • the colorant (C) may be used alone or in combination of two or more.
  • the organic pigment can be used after being purified by, for example, a sulfuric acid recrystallization method, a solvent washing method, or a combination thereof.
  • the amount of the colorant (C) added is appropriately changed according to the target color tone.
  • the target color tone for example, in the case of an organic pigment, 0. It is preferable to add in the range of 40 to 40 parts by mass, and a more preferable range is about 1 to 35 parts by mass.
  • the photosensitive resin composition of the present invention can be combined with an organic solvent for improving coating properties and adjusting the viscosity.
  • organic solvents examples include benzene, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, acetone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, methanol, ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol and diethylene glycol.
  • Glycerin ethylene glycol monomethinoatenore, ethyleneglycolenomonoethenore, propyleneglycolenomonomonotenenore, propyleneglycolenomonoethylenotenole, diethyleneglycolenomonotenenore, diethyleneglycolenoremonore Ye Cyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, 3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA), propylene glycol mononormonomethinoreate norepropionate, propylene Examples include glyconomonomethinoreethenoreporal pionate, methyl carbonate, ethyl carbonate, propyl carbonate, and butyl carbonate. Of these, PGMEA is preferred.
  • the amount of the organic solvent used is not particularly limited, but it is set appropriately depending on the coating film thickness at a concentration that can be applied to a substrate or the like.
  • additives such as a sensitizer, an antifoaming agent, and a surfactant may be added to the photosensitive resin composition.
  • sensitizer those used in conventionally known positive resists can be used. Examples thereof include compounds having a phenolic hydroxyl group with a molecular weight of 1000 or less.
  • antifoaming agent examples include conventionally known silicone-based and fluorine-based compounds.
  • surfactant examples include conventionally known compounds such as anionic, cationic and nonionic compounds.
  • the photosensitive resin composition of the present invention can be prepared, for example, by the following method.
  • the photosensitive resin composition of the present invention can be suitably used for the purpose of forming a pattern that becomes a black matrix and / or a colored layer of a color filter.
  • the photosensitive resin composition of the present invention containing a black pigment as the (C) pigment is suitable for use in forming a pattern as a black matrix.
  • the photosensitive resin composition of the present invention containing a pigment (C) selected so as to obtain a desired color tone is suitable.
  • a black matrix (or colored layer) is formed using the photosensitive resin composition of the present invention.
  • An example of a method for achieving this will be described.
  • the photosensitive resin composition is applied onto the substrate using a contact transfer type coating device such as a roll coater, reverse coater or bar coater, or a non-contact type coating device such as a spinner (rotary coating device) or a curtain flow coater.
  • a contact transfer type coating device such as a roll coater, reverse coater or bar coater
  • a non-contact type coating device such as a spinner (rotary coating device) or a curtain flow coater.
  • a light-transmitting substrate is used, for example, a glass substrate having a thickness of 0.5 to: 1.1 mm.
  • a silane coupling agent may be applied on the glass substrate in advance.
  • a silane coupling agent may be added during preparation of the photosensitive resin composition.
  • the solvent is removed by drying.
  • the drying method is not particularly limited, for example, (1) hot plate Bok (trowel 80 o G ⁇ 120 o G, a method of preferably f or 90 o G ⁇ 110.C temperature (dry iron 60 ⁇ to 120 seconds , (2) Leave for several hours to several days at room temperature, (3) Put in warm air heater or infrared heater for tens of minutes to several hours to remove solvent, Irradiate a part of the active energy rays such as ultraviolet rays, excimer laser light, etc. through a positive mask, and the energy dose to be irradiated depends on the composition of the photosensitive resin composition, for example, 30 to 2000 mj About / cm 2 is preferable.
  • the exposed film is developed with a developer to be patterned into a desired shape.
  • the development method is not particularly limited, and for example, an immersion method, a spray method, or the like can be used.
  • Specific examples of the developer include organic ones such as monoethanolamine, diethanolamine and triethanolamine, and aqueous solutions such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, ammonia, and quaternary ammonium salts. Is mentioned.
  • post-beta is performed to cure the developed pattern. It is also preferable to expose the entire surface of the formed pattern.
  • the photosensitive resin composition of the present invention containing no colorant such as a pigment has good transparency and excellent heat resistance, so that the resin component is hardly colored even when exposed to relatively high temperatures. Les.
  • the photosensitive resin composition of the present invention has good resolution and can respond to demands for fine processing. This is especially effective when manufacturing color filters such as RGB and CMY.
  • color filters such as RGB and CMY.
  • the pattern formed from the photosensitive resin composition preferably has a light transmittance in the visible light region of 400 nm to 800 nm of 70% or more, more preferably 80% or more. More preferably, it is 90% or more. As a result, the color development of the pattern (colored layer) formed from the photosensitive resin composition to which a pigment is added is particularly good.
  • the light transmittance in the visible light region is 90% or more even when heat treatment at 250 ° C. is particularly preferable.
  • the resin component (A1) was prepared. That is, Formula (al _ l) homopolymer consisting of structural units "PQMA" indicated by: and 100 parts by weight of (Mw 13000), the total number of moles of Hue Nord hydroxyl groups of the polymer 15 mole 0/0 Of naphthoquinone-1,2-diazide-5-sunorephoninorechloride in acetone in the presence of triethylamine to give a resin component (Al_1) having an esterification rate of 15%.
  • Formula (al _ l) homopolymer consisting of structural units "PQMA" indicated by: and 100 parts by weight of (Mw 13000), the total number of moles of Hue Nord hydroxyl groups of the polymer 15 mole 0/0 Of naphthoquinone-1,2-diazide-5-sunorephoninorechloride in acetone in the presence of triethylamine to give a resin component (Al_1) having
  • a positive photosensitive resin composition having a solid content of about 25% by mass was prepared by mixing the following components: Built.
  • Resin component (A) Resin component obtained above (Example 1 is (Al-1), Example 2 is (Al-2), Example 3 is (A1-3)) 100 parts by mass.
  • Sensitizer 4,4′-cyclohexylidenebisphenol 20 parts by mass.
  • Resin component (A) was changed to polyhydroxystyrene (Mw: 10000), and 1 _ [1- (4-hydroxyphenyl) isopropyl] — 4— [1, 1, 1-bis (4-hydroxyphenol) was used as a photosensitizer.
  • a positive photosensitive resin composition was produced in the same manner as in Example 1 except that 30 parts by mass of the soot was added.
  • the photosensitive resin compositions obtained in Examples:! To 3 and Comparative Example 1 were applied to glass substrates and heated at 110 ° C. for 90 seconds to form a photosensitive resin layer having a thickness of lOOOnm. Then, the exposure device through a mask: Nikon ilOD (product name, manufactured by Nikon Corporation) was used to pattern exposure at an energy of LOOmJ, 2. using tetramethylammonium Niu arm hydroxide Cid aqueous 38 mass 0/0 concentration And developed to form a line.
  • Nikon ilOD product name, manufactured by Nikon Corporation
  • Each line having the width of the limit resolution obtained above was heated at 250 ° C. for 30 minutes, and the transmittance of light having a wavelength of 500 nm before and after heating was measured.
  • Table 1 shows the ratio of the transmittance after heating to the transmittance before heating. The transmittance was measured using an apparatus name: UV — 2500PC (manufactured by Shimadzu Corporation).
  • heat resistance was also good and good transmittance was obtained after heating. That is, it was confirmed that it was difficult to color by heating. Further, no thermal sagging of the pattern due to heating was observed, and the rectangular shape of the pattern was kept good.
  • a red pigment dispersion “CF Red EX-109” (CI PR-177, 20 parts by weight of anthraquinone red pigment) is contained per 100 parts by mass of the resin component; A pigment-containing photosensitive resin composition to which 30 parts by mass of Dye Company) was added was produced. Then, using this pigment-containing photosensitive resin composition, exposure and development were performed in the same manner as described above to form a line pattern.
  • the change in transmittance with light having a wavelength of 500 nm was 90% or more.
  • a positive photosensitive resin composition having good heat resistance and transparency can be provided, and can be applied to a positive photosensitive resin composition and a color filter used therefor.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Description

明 細 書
感光性樹脂組成物およびカラーフィルタ
技術分野
[0001] 本発明は感光性樹脂組成物およびカラーフィルタに関するものである。
本願は、 2005年 3月 18曰に、 日本に出願された特願 2005— 078946号に基づ き優先権を主張し、その内容をここに援用する。
背景技術
[0002] 例えば、液晶表示素子を備えたカラー表示装置に用いられるカラーフィルタにあつ ては、一般に赤 (R)、緑 (G)、青（B)の各色からなる画素（着色層）が、ブラックマトリ タスと呼ばれる格子状の遮光層で囲まれている構成を有する。
力かるカラ一フィルタの着色層およびブラックマトリクスを、着色剤を含有する感光 性樹脂組成物を用いてホトリソグラフ法によって形成する方法が知られている。
[0003] この様にホトリソグラフ法によって着色層やブラックマトリックスを製造する感光性樹 脂組成物としては、光を照射することによって硬化する特性を有するいわゆる「ネガ 型」のものが実用化されている。ホトリソグラフ法によりカラーフィルタを形成する際に 用いられる着色剤を含む感光性樹脂組成物にあっては、ブラックマトリクスや着色層（ 画素）といった微細なパターンを良好なプロファイル形状で形成できることが要求され る。そこで、従来の「ネガ型」に換えて、「ポジ型」を用いることが望まれており、「ポジ 型」のものも提案されはじめてレ、る（特許文献 1参照）。形成されたカラーフィルタの発 色を良くするためには、感光性樹脂組成物 (着色剤を含まなレ、）から形成されたパタ ーンの透明性が高レ、ことが好ましレ、。
特許文献 1 :特開 2003— 270784号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0004] し力、しながら、従来のノボラック樹脂、アクリル樹脂、ヒドロキシスチレン等を含むポジ 型の感光性樹脂組成物を用いてカラーフィルタ、レンズ、層間絶縁膜等を形成した 場合には、耐熱性が不充分であるとともに、透明性が不充分であるという問題がある 具体的には、耐熱性が不充分であると、通常行われる加熱工程において、形成さ れたパターンの収縮（レヽわゆる膜べり (Thickness loss))、あるいは形状の崩れが起こり 、所望の形状を形成できないという問題がある。さらに、加熱された際に、樹脂成分が 着色してしまうと、要求される透明性が得られないという問題がある。特に、カラーフィ ルタにおいて透明性が悪い場合には、 R、 G、 B等の所定の発色が得られず不都合 である。
[0005] 本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、良好な耐熱性および透明性を備えた ポジ型の感光性樹脂組成物、およびこれ用いたカラーフィルタを提供することを目的 とする。
課題を解決するための手段
[0006] 上記の目的を達成するために、本発明の感光性樹脂組成物は、下記一般式 (al) で表される構成単位におけるフエノール性水酸基の水素原子の少なくとも一部がナ フトキノン 1 , 2 ジアジドー 5 （及び/又は 4一）スルホニル基で置換されてレヽ る構成単位 (al ' )を有する樹脂成分 (A1)を含有することを特徴とする。
[0007] [化 1]
Figure imgf000004_0001
(上記一般式中、 R°は水素原子またはメチル基を表し、 R1は単結合または炭素数 1 〜5のアルキレン基を表し、 R2は炭素数 1〜5のアルキル基を表し、 aは:!〜 5の整数 を表し、 bは 0または 1〜4の整数を表し、 a + bは 5以下である。なお、 R2が 2個以上存 在する場合、これらの R2は相互に異なっていてもよいし同じでもよい。 ) [0009] また本発明は、本発明の感光性樹脂組成物を用いて形成されたパターンを有する カラーフィルタを提供する。
[0010] なお、「構成単位」は重合体を構成するモノマー単位を示す。
発明の効果
[0011] 本発明によれば、良好な耐熱性および透明性を備えたポジ型の感光性樹脂組成 物を提供できる。
本発明の感光性樹脂組成物は、カラーフィルタを構成するパターンを形成するの に好適であり、高品質のカラーフィルタを形成することができる。
発明を実施するための最良の形態
[0012] 樹脂成分 (A1)
本発明の感光性樹脂組成物は、上記一般式 (al)で表される構成単位におけるフ ェノール性水酸基の水素原子の少なくとも一部力 ナフトキノン一 1， 2—ジアジド _ 5 - (及び/又は— 4_)スルホニル基（以下、 NQD基ということもある）で置換されて レ、る構成単位 (al ' )を有する樹脂成分 (A1 )を含有する。
樹脂成分 (A1)は NQD基の溶解抑制作用によりアルカリ現像液に対して不溶性あ るいは難溶性の特性を示す。そして、露光により NQD基が吸光し水分と反応すると、 ナフトキノン _ 1， 2—ジアジドがインデンカルボン酸となり、樹脂成分 (A1)はアルカリ 現像液に対して溶解する特性に変化する。すなわち、露光部は未露光部に比べてァ ルカリ溶解速度が大きくなる。したがって、力かる樹脂成分 (A1)を含む本発明の感 光性樹脂組成物はポジ型のレジストとして作用する。なお、以下の説明において、榭 脂成分 (A1)を「 (A1)成分」とレ、う場合がある。
[0013] 構成単位 (al ' )
構成単位（al ' )は、前記一般式 (al)で表される構成単位（al)と、ナフトキノン 1 , 2 ジアジドー 5 スルホニルハライド、及び/又はナフトキノン 1 , 2 ジアジドー 4ースルホニルハライドとのエステル化物である。
すなわち樹脂成分 (A1)は、少なくとも構成単位 (al)を有するアルカリ可溶性の榭 脂成分とナフトキノン 1, 2—ジアジドー 5—スルホニルハライド、及び/又はナフト キノン _ 1， 2—ジアジド _4—スルホニルハライドとをエステル化反応させて、構成単 位（al)のフエノール性水酸基の水素原子の一部または全部を NQD基で置換させる ことによって得られる。
該エステル化反応は、例えば構成単位（al)を有するアルカリ可溶性樹脂成分と、 ナフトキノン _ 1， 2—ジアジド _ 5_スルホユルク口リド、及び/又はナフトキノン _ 1 , 2—ジアジド _4_スルホユルク口リドとをジォキサンなどの適当な溶剤中において、 トリエタノールァミン、炭酸アルカリ、炭酸水素アルカリなどのアルカリの存在下にて反 応させることによって行うことができる。
[0014] (A1)成分は、構成単位（al ' )の他に、構成単位（al)を有していてもよぐ構成単 位（al ' )と（al)の両方を有することが好ましレ、。
なお、（A1)成分が構成単位 (al ' )と (al)を有する場合、必ずしも、該 (A1)成分 中に存在する構成単位（al ' )の NQD基を水素原子に置き換えた構造と、同じ (A1) 成分中に存在する構成単位（al)の構造とがー致しなくてもよいが、通常は、構成単 位（al)を有する樹脂成分の、該構成単位（al)に力かる全フエノール性水酸基の水 素原子の一部を NQD基で置換して (A1)を製造するため、該 (A1)中に存在する構 成単位（al ' )の NQD基を水素原子に置き換えた構造と、同じ (A1)成分中に存在 する構成単位（a 1)の構造とは一致する。
このように、構成単位（al)を有する樹脂成分の、該構成単位（al)に力かる全フエノ ール性水酸基の水素原子の一部を NQD基で置換して得られる樹脂成分を、特に、 本明細書では「樹脂成分 (A2)」又は「 (A2)成分」とレ、うことがある。
[0015] NQD基が導入される前の状態 (構成単位（al)を有するアルカリ可溶性樹脂）にお けるフエノール性水酸基の数に対する、前記エステル化反応により導入された NQD 基の数の割合（エステル化率）は 2〜80%であることが好ましぐ 10〜50%であること 力はり好ましぐ 15〜45%であることがさらにより好ましい。
エステル化率を 2。/0以上にすることにより、感光性を向上させ、解像性を向上させる こと力 Sできる。また、エステルイ匕率を 80。/o以下にすることにより、透明性および耐熱性 を向上させることができる。
構成単位（al)がフエノール性水酸基を複数有するとき（aが 2〜5の場合）、該複数 のフヱノール性水酸基の全部において水素原子が NQD基で置換されていてもよぐ 該複数のフエノール性水酸基の一部において水素原子が NQD基で置換され、構成 単位（al ' )にフエノール性水酸基が残ってレ、てもよレ、。
[0016] 構成単位（al)
前記一般式 (al)において、 R°は水素原子またはメチル基を表し、メチル基であるこ とが望ましい。
R1は単結合または炭素数 1〜5の直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基を表し、メ チレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、 n—ブチレン基、イソブチレ ン基、 tert—ブチレン基、ペンチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基などが 挙げられる。アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基が好ましい。
これらの中でも、単結合、エチレン基が好ましぐ特に単結合が好ましい。
[0017] R2は炭素数 1〜5の直鎖または分岐鎖状のアルキル基を表し、メチル基、ェチル基 、プロピル基、イソプロピル基、 n_ブチル基、イソブチル基、 tert—ブチル基、ペンチ ル基、イソペンチル基、ネオペンチル基などが挙げられる。工業的にはメチル基又は ェチル基が好ましい。 bは 0または 1〜4の整数を表し、 0であることが望ましい。
aは 1〜5の整数を表し、効果、製造上の点から 1が好ましい。
また、ベンゼン環において、水酸基の結合位置は、その少なくとも 1つは、「一 C (〇 )— O—尺1—」の結合位置を 1位としたとき、 4位の位置に結合していることが望ましい
[0018] 構成単位（al ' )と（al)の両方を有する樹脂成分 (A2)は、以下のように表現するこ とができる。
本発明の感光性樹脂組成物は、前記一般式 (al)で表される構成単位を有する樹 脂成分 (A2)であって、該樹脂成分 (A2)における一般式 (al)に力かる全フエノール 性水酸基の水素原子のうち、少なくとも一部がナフトキノン一 1， 2—ジアジドー 5 _ ( 及び/又は— 4 _ )スルホニル基で置換されてレ、る樹脂成分 (A2)を含有する。 前記樹脂成分 (A2)において、一般式 (al)に力かる全フエノール性水酸基の水素 原子の数に対して、前記エステル化反応により導入された NQD基の数の割合 (エス テル化率）は 2〜80%であることが好ましぐ 10〜50%であることがより好ましぐ 15 〜45。/0であることがさらにより好ましい。 エステル化率を 2%以上にすることにより、感光性を向上させ、解像性を向上させる こと力 Sできる。また、エステルイ匕率を 80%以下にすることにより、透明性および耐熱性 を向上させることができる。
[0019] 構成単位（al)として好ましい例を以下に挙げる。
[0020] [化 2]
0
a
2
Figure imgf000008_0001
[0021] (上記一般式中、 R°は前記と同じである。 )
[0022] これらの化学式（al— 1 )および（al— 2)で表される構成単位のうち、（al— 1)で表 される構成単位が好ましい。 （al— 1)で表される構成単位の中でも R°カ チル基で あるものがより好ましぐこの構成単位を以下「PQMA」ということがある。
[0023] 樹脂成分 (A1)中に存在する構成単位（al ' )は 1種でもよぐ 2種以上であってもよ レ、。樹脂成分 (A1)中に存在する構成単位（al)は 1種でもよぐ 2種以上であっても よい。
[0024] (A1)成分または (A2)成分は、構成単位（al ' )、または（al)および（al ' )の他に 、構成単位（al)と共重合可能な他の構成単位を 1種または 2種以上含んでいてもよ レ、。
(A1)成分または (A2)成分を構成する全構成単位中にぉレ、て、構成単位（al)お よび（al ' )が占める割合は、 50モル％以上であることが望ましぐ 80モル％以上であ ることがより望ましい。
(A1)成分における構成単位（al ' )の上限は 100モル％であってもよレ、。 各構成単位の割合を上記の範囲内とすることにより、本発明の効果を向上させるこ とができる。
(A1)成分または (A2)成分において、構成単位（al)および（al ' )以外に用いるこ とが可能な他の構成単位は、特に限定するものではないが、例えば、アクリル酸、メタ クリル酸、アクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル酸エステル類、メタクリノレ アミド類、ァリル化合物、ビュルエーテル類、ビュルエステル類、スチレン類、及びク 口トン類エステル類などから選ばれる、重合性不飽和結合を有する化合物から誘導さ れる単位が挙げられる。
アクリル酸エステル類としては、例えば、アルキル (該アルキル基の炭素数は 1〜： 10 が好ましい）アタリレート（例えばアクリル酸メチル、アクリル酸ェチル、アクリル酸プロ ピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ァミル、アクリル酸ェチルへキシル、アクリル酸ォ クチル、アクリル酸 _t—ォクチル、クロルェチルアタリレート、 2, 2—ジメチルヒドロキ シプロピルアタリレート、 2—ヒドロキシェチルアタリレート、 5—ヒドロキシペンチルァク リレート、トリメチロールプロパンモノアタリレート、ペンタエリスリトールモノアタリレート 、グリシジルアタリレート、ベンジルアタリレート、メトキシベンジルアタリレート、フルフリ ノレアタリレート、テトラヒドロフルフリルアタリレート、など）、ァリールアタリレート（例えば フエニルアタリレートなど）が挙げられる。
メタクリル酸エステル類としては、例えば、アルキル（該アルキル基の炭素数は 1〜1 0が好ましい）メタタリレート（例えばメチルメタタリレート、ェチルメタタリレート、プロピ ルメタタリレート、イソプロピルメタタリレート、ァミルメタタリレート、へキシルメタクリレー ト、シクロへキシルメタタリレート、ベンジルメタタリレート、クロルべンジルメタタリレート 、ォクチルメタタリレート、 2—ヒドロキシェチルメタタリレート、 4—ヒドロキシブチルメタ タリレート、 5—ヒドロキシペンチルメタタリレート、 2, 2—ジメチル _ 3—ヒドロキシプロ ピルメタタリレート、トリメチロールプロパンモノメタタリレート、ペンタエリスリトールモノメ タクリレート、グリシジルメタタリレート、フルフリルメタタリレート、テトラヒドロフルフリルメ タクリレート、など）、ァリールメタタリレート（例えばフエニルメタタリレート、クレジルメタ タリレート、ナフチルメタタリレート、など）が挙げられる。
アタリノレアミド類としては、例えば、アクリルアミド、 N—アルキルアクリルアミド（該ァ ルキル基としては、炭素数 1〜： 10が好ましぐ例えばメチル基、ェチル基、プロピル基
、ブチル基、 t ブチル基、ヘプチル基、ォクチル基、シクロへキシル基、ヒドロキシェ チル基、ベンジル基などがある。）、 N ァリールアクリルアミド（該ァリール基としては 、例えばフエ二ル基、トリル基、ニトロフエ二ル基、ナフチル基、ヒドロキシフヱニル基な どがある。）、 N， N_ジァルキルアクリルアミド（該アルキル基としては、炭素数:!〜 10 のものが好ましく、例えばメチル基、ェチル基、ブチル基、イソブチル基、ェチルへキ シノレ基、シクロへキシル基などがある。）、 N， N ァリールアクリルアミド（該ァリール 基としては、例えばフエニル基などがある。）、 N メチル _N_フエニルアクリルアミド 、 N—ヒドロキシェチル一 N メチルアクリルアミド、 N— 2—ァセトアミドエチル一 N— ァセチルアクリルアミドが挙げられる。
メタクリノレアミド類としては、例えば、メタクリノレアミド、 N—アルキルメタクリルアミド（ 該アルキル基としては、炭素数 1〜： 10のものが好ましぐ例えばメチル基、ェチル基、 t ブチル基、ェチルへキシル基、ヒドロキシェチル基、シクロへキシル基などがある 。）、 N ァリールメタクリルアミド（該ァリール基としては、フエニル基などがある。）、 N , N ジアルキルメタクリルアミド（該アルキル基としては、ェチル基、プロピル基、ブ チル基などがある。）、 N, N ジァリールメタクリルアミド（該ァリール基としては、フエ ニル基などがある。）、 N ヒドロキシェチルー N メチルメタクリルアミド、 N メチル —N—フエニルメタクリルアミド、 N ェチルー N—フエニルメタクリルアミドが挙げられ る。
ァリル化合物としては、例えば、ァリルエステル類（例えば酢酸ァリル、力プロン酸ァ リル、カプリル酸ァリル、ラウリン酸ァリル、パルミチン酸ァリル、ステアリン酸ァリル、安 息香酸ァリル、ァセト酢酸ァリル、乳酸ァリルなど）、ァリルォキシエタノールが挙げら れる。
ビュルエーテル類としては、例えば、アルキルビュルエーテル（例えばへキシルビ ニノレエーテノレ、オタチノレビニノレエーテノレ、デシノレビニノレエーテノレ、ェチノレへキシノレビ ニノレエーテノレ、メトキシェチノレビニノレエーテノレ、エトキシェチノレビニノレエーテノレ、クロ ノレエチノレビニノレエーテノレ、 1—メチノレ一 2， 2 _ジメチノレプロピノレビニノレエーテノレ、 2 —ェチノレブチノレビニノレエーテノレ、ヒドロキシェチノレビニノレエーテノレ、ジエチレングリコ 一ルビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビ二ルエーテル、ジェチルアミノエチルビ ニルエーテル、ブチルアミノエチルビ二ルエーテル、ベンジルビュルエーテル、テトラ ヒドロフルフリルビエルエーテルなど）、ビニルァリールエーテル（例えばビニルフエ二 ノレエーテノレ、ビニノレトリノレエーテノレ、ビニノレクロノレフエニノレエーテノレ、ビニノレ _ 2， 4— ジクロルフエニルエーテル、ビュルナフチルエーテル、ビュルアントラニルエーテルな ど）が挙げられる。
ビュルエステル類としては、例えば、ビュルブチレート、ビュルイソブチレート、ビニ ルトリメチルアセテート、ビュルジェチルアセテート、ビュルバレート、ビュル力プロェ ート、ビュルクロルアセテート、ビュルジクロルアセテート、ビュルメトキシアセテート、 ビュルブトキシアセテート、ビュルフエニルアセテート、ビュルァセトアセテート、ビニ ルラクテート、ビュル一 β—フエ二ルブチレート、ビュルシクロへキシルカルボキシレ ート、安息香酸ビュル、サリチル酸ビュル、クロル安息香酸ビュル、テトラクロル安息 香酸ビュル、ナフトェ酸ビニルが挙げられる。
スチレン類としては、例えば、スチレン、アルキルスチレン（例えばメチルスチレン、 ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、ェチルスチレン、ジェチルスチレン、イソプロピ ルスチレン、ブチルスチレン、へキシルスチレン、シクロへキシルスチレン、デシルス チレン、ベンジルスチレン、クロルメチルスチレン、トリフルォロメチルスチレン、ェトキ シスチレン、 4ーメトキシー 3—メチルスチレン、ジメトキシスチレンなど）、ハロゲンスチ レン（例えばクロルスチレン、ジクロルスチレン、トリクロルスチレン、テトラクロルスチレ ン、ペンタクロノレスチレン、ブロムスチレン、ジブロムスチレン、ョードスチレン、フノレオ ロスチレン、トリフルォロスチレン、 2 _ブロム _4 _トリフルォロメチルスチレン、 4_フ ルォロ _ 3 _トリフルォロメチルスチレンなど）が挙げられる。
クロトン酸エステル類としては、例えば、クロトン酸アルキル（例えばクロトン酸ブチル 、クロトン酸へキシル、グリセリンモノクロトネートなど）〕；ィタコン酸ジアルキル類（例え ばィタコン酸ジメチル、ィタコン酸ジェチル、ィタコン酸ジブチルなど）；マレイン酸ある いはフマール酸のジアルキル類（例えばジメチルマレエート、ジブチルフマレートなど )；アクリロニトリル、メタタリロニトリルが挙げられる。 これらの中でも好ましレ、ものとしては、以下の（a2)〜（a4)が挙げられる c
[0026] [化 3]
Figure imgf000012_0001
ta2)
[0027] (上記一般式 (a2)中、 R。は上記と同じである。 は水酸基、炭素数 1〜5のアルキル 基を示し、 cは 0又は 1〜5の整数を示す。なお、 R3が 2個以上存在する場合、これら の R3は相互に異なっていてもよいし同じでもよレ、。 cは 0であることが望ましい。 )
[0028] [化 4]
Figure imgf000012_0002
[0029] (上記一般式中、 R。は上記と同じである。 R4は炭素数 1〜5のアルキル基または水素 原子を示す。 )
[0030] R4におけるアルキル基としては、 R2の説明と同様のものが挙げられる。中でも、 R4と しては、アルキル基が好ましぐメチル基がより好ましい。
[0031] [化 5]
Figure imgf000013_0001
Ca4)
[0032] (上記一般式中、 R°、
Figure imgf000013_0002
cは上記と同じである。また、 R3が 2個以上存在する場合、 これらの R3は相互に異なってレ、てもよレ、し同じでもよレ、。 )
[0033] 一般式（a4)において、 R3、 cについては上記と同じである。
[0034] (A1)成分または（A2)成分の質量平均分子量（Mw :ゲルパーミエーシヨンクロマト グラフィ（GPC)のスチレン換算による測定値）は、 2000〜30000、好ましくは 3000 〜25000である。下限値以上とすることにより容易に膜状に形成することができ、上 限値以下にすることにより、適度なアルカリ溶解性が得られ、好ましい。
また、 （A1)成分または (A2)成分はそれぞれ 1種でもよく 2種以上混合して用いて あよい。
[0035] 本発明の感光性樹脂組成物における樹脂成分 (A)として、上記 (A1)成分または（ A2)成分と、他のアルカリ可溶性樹脂 (A3)を混合したものを用いてもよい。該 (A3) 成分としては、例えばアクリル樹脂、ヒドロキシスチレン樹脂、ノボラック樹脂などが挙 げられる。ただし、好ましくは樹脂成分 (A)中の (A1)成分または (A2)成分の含有量 は 70質量％以上であり、好ましくは 80質量％以上であり、 100質量％であることが最 も望ましい。
[0036] 着色剤 (C)
カラーフィルターの製造において、ブラックマトリックスや着色層を製造するための 感光性樹脂組成物には、通常着色剤（C)が配合される。
着色剤は、有機着色剤でも無機着色剤でもよい。着色剤の色調は特に限定されず 、得ようとするカラーフィルタの着色層の色調、またはブラックマトリクスの色調に応じ て適宜選定することができる。
前記有機着色剤は、具体的には染料、有機顔料、天然色素等が好ましぐ前記無 機着色剤は、具体的には無機顔料のほか、体質顔料と呼ばれる硫酸バリウム等の無 機塩が好ましい。
カラーフィルタ用途における着色剤としては、発色性が高ぐかつ耐熱性の高い着 色剤、特に耐熱分解性の高い着色剤が好ましぐ通常、特に耐熱性の点から、顔料 が好ましぐ特に好ましくは有機顔料が用いられる。
[0037] 前記有機顔料としては、例えば、カラーインデックス（C. I. ； The Society of D yers and Colourists 社発行）においてビグメント（Pigment)に分類されている 化合物、具体的には、下記のようなカラーインデックス（C. I. )番号が付されているも のを挙げることができる。
[0038] C. I.ビグメントイエロー 1(以下、「C. I.ビグメントイエロー」は同様で番号のみ記載 する。；)、 3、 11、 12、 13、 14、 15、 16、 17、 20、 24、 31、 53、 55、 60、 61、 65、 71 、 73、 74、 81、 83、 86、 93、 95、 97、 98、 99、 100、 101、 104、 106、 108、 109、 110、 113、 114、 116、 117、 119、 120、 125、 126、 127、 128、 129、 137、 138 、 139、 147、 148、 150、 151、 152、 153、 154、 155、 156、 166、 167、 168、 17 5、 180、 185;
[0039] C. I.ビグメントオレンジ 1(以下、「C. I.ビグメントオレンジ」は同様で番号のみ記 載する。；)、 5、 13、 14、 16、 17、 24, 34, 36, 38, 40、 43, 46, 49, 51、 55, 59,
61、 63、 64、 71、 73;
C. I.ビグメントバイオレット 1(以下、「C. I.ピグメントバイオレット」は同様で番号の み記載する。；)、 19、 23、 29、 30、 32、 36、 37、 38、 39、 40、 50;
[0040] C. I.ビグメントレッド 1(以下、「C. I.ビグメントレッド」は同様で番号のみ記載する。
)、 2、 3、 4、 5、 6、 7、 8、 9、 10、 11、 12、 14、 15、 16、 17、 18、 19、 21、 22、 23、 3
0、 31、 32、 37、 38、 40、 41、 42、 48:1、 48:2、 48:3、 48:4、 49:1、 49:2、 50:
1、 52:1、 53:1、 57、 57:1、 57:2、 58:2、 58:4、 60:1、 63:1、 63:2、 64:1、 81 :1、 83、 88、 90:1、 97、 101、 102、 104、 105、 106、 108、 112、 113、 114、 12 2、 123、 144、 146、 149、 150、 151、 155、 166、 168、 170、 171、 172、 174、 1 75、 176、 177、 178、 179、 180、 185、 187、 188、 190、 192、 193、 194、 202、 206、 207、 208、 209、 215、 216、 217、 220、 223、 224、 226、 227、 228、 240 、 242、 243、 245、 254、 255、 264、 265 ;
[0041] C. I.ビグメントブルー 1 (以下、「C. I.ピグメントブルー」は同様で番号のみ記載す る。）、 2、 15、 15 : 3、 15 : 4、 15 : 6、 16、 22、 60、 64、 66 ;
C. I.ビグメントグリーン 7、 C. I. ビグメントグリーン 36、 C. I. ビグメントグリーン 37 ;
C. I.ビグメントブラウン 23、 C. I.ビグメントブラウン 25、 C. I.ビグメントブラウン 26 、 C. I.ビグメントブラウン 28 ;
C. I.ビグメントブラック 1、ピグメントブラック 7。
また黒色顔料としてカーボンブラックも好ましい。
[0042] 着色剤（C)は 1種または 2種以上混合して用いることができる。
また、前記有機顔料は、例えば、硫酸再結晶法、溶剤洗浄法や、これらの組み合 わせ等により精製して使用することができる。
着色剤（C)の添加量は、 目的の色調に応じて適宜変更されるものである力 一般 的に、例えば有機顔料の場合には、樹脂成分 (A)100質量部に対して 0.：!〜 40質 量部の範囲で添カ卩することが好ましぐより好ましい範囲は 1〜35質量部程度である 。下限値以上にすることにより良好な発色が得られる。上限値以下にすることにより感 光性の低下を防止することができる。
[0043] 有機溶剤
本発明の感光性樹脂組成物には、塗布性の改善、粘度調整のため有機溶剤を配 合できる。
有機溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、メチルェチルケトン、アセトン、メ チルイソブチルケトン、シクロへキサノン、メタノーノレ、エタノール、プロパノール、ブタ ノーノレ、へキサノーノレ、シクロへキサノーノレ、エチレングリコーノレ、ジエチレングリコー ノレ、グリセリン、エチレングリコーノレモノメチノレエーテノレ、エチレングリコーノレモノェチ ノレエーテノレ、プロピレングリコーノレモノメチノレエーテノレ、プロピレングリコーノレモノェチ ノレエーテノレ、ジエチレングリコーノレモノメチノレエーテノレ、ジエチレングリコーノレモノェ チルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジェチ ノレエーテル、 3—メトキシブチルアセテート、 3—メチルー 3—メトキシブチルァセテー ト、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（PGMEA)、プロピレングリコ 一ノレモノメチノレエーテノレプロピオネート、プロピレングリコーノレモノェチノレエーテノレプ 口ピオネート、炭酸メチル、炭酸ェチル、炭酸プロピル、炭酸ブチルなどが挙げられる 。中でも PGMEAが好ましい。
有機溶剤の使用量は特に限定しないが、基板等に塗布可能な濃度で、塗布膜厚 に応じて適宜設定される。
[0044] また、感光性樹脂組成物には、増感剤、消泡剤、界面活性剤等の各種添加剤を添 加してもよい。
[0045] 増感剤としては、従来公知のポジ型レジストに用いられるものを使用することができ る。分子量 1000以下のフエノール性水酸基を有する化合物等が挙げられる。
上記消泡剤としては、従来公知のものであってよぐシリコーン系、フッ素系化合物 が挙げられる。
上記界面活性剤としては、従来公知のものであってよぐァニオン系、カチオン系、 ノニオン系等の化合物が挙げられる。
[0046] 本発明の感光性樹脂組成物は、例えば以下の方法により調製することができる。
樹脂成分 (A)に有機溶剤および必要に応じてその他の添加剤を加えて、 3本ロー ルミル、ボールミル、サンドミル等の撹拌機で混合（分散'混練）し、 5 μ ΐηメンブランフ ィルターで濾過して感光性樹脂組成物を調製する。
[0047] 本発明の感光性樹脂組成物は、カラーフィルタのブラックマトリクスおよび/または 着色層となるパターンを形成する用途に好適に用いることができる。
特に、ブラックマトリクスとしてのパターンを形成する用途には、（C)顔料として黒色 顔料を含有する本発明の感光性樹脂組成物が好適である。
また、カラーフィルタの着色層としてのパターンを形成する用途には、所望の色調 が得られるように選択された（C)顔料を含有する本発明の感光性樹脂組成物が好適 である。
[0048] 以下、本発明の感光性樹脂組成物を用いてブラックマトリクス（または着色層）を形 成する方法の例を説明する。
まず感光性樹脂組成物を、基板上にロールコーター、リバースコーター、バーコ一 ター等の接触転写型塗布装置やスピンナー（回転式塗布装置）、カーテンフローコー タ等の非接触型塗布装置を用いて塗布する。基板は、光透過性を有する基板が用 いられ、例えば厚さ 0. 5〜： 1. 1mmのガラス基板である。
ガラス基板と感光性樹脂組成物との密着性を向上させるために、予めガラス基板上 にシランカップリング剤を塗布しておいてもよい。あるいは感光性樹脂組成物の調製 時にシランカップリング剤を添カ卩しておレ、てもよレ、。
上記塗布後、乾燥させて溶剤を除去する。乾燥方法は特に限定されず、例えば（1 )ホットプレー卜 (こて 80oG〜120oG、好ましく fま 90oG〜110。Cの温度 (こて 60禾少〜 120 秒間乾燥する方法、（2)室温にて数時間〜数日放置する方法、（3)温風ヒーターや 赤外線ヒーター中に数十分〜数時間入れて溶剤を除去する方法、のレ、ずれでもよレ、 次いで、ポジ型のマスクを介して、紫外線、エキシマレーザー光等の活性エネルギ 一線を照射して部分的に露光する。照射するエネルギー線量は、感光性樹脂組成 物の組成によっても異なる力 例えば 30〜2000mj/cm2程度が好ましい。
露光後の膜を、現像液を用いて現像することによって所望の形状にパターニングす る。
現像方法は特に限定されず、例えば浸漬法、スプレー法等を用いることができる。 現像液の具体例としては、モノエタノールァミン、ジエタノールァミン、トリエタノールァ ミン等の有機系のものや、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、アンモ ユア、 4級アンモニゥム塩等の水溶液が挙げられる。
現像後、ポストベータを行って現像後のパターンを硬化させる。また、形成されたパ ターンを全面露光することが好ましレ、。
さらに、ポジ型の感光性樹脂組成物であるので、上記マスクとしてハーフトーンマス クを使用することができ、膜厚の異なるパターンを 1段階で形成することができる。 本発明によれば、良好な耐熱性および透明性を備えたポジ型の感光性樹脂組成 物を提供できる。 (c)顔料等の着色剤を含まない状態での本発明の感光性樹脂組成物は透明性が 良好であり、耐熱性に優れるので比較的高温に曝されても樹脂成分の着色が生じ難 レ、。
すなわち、比較的高温で加熱する工程を有するカラーフィルタの製造プロセスにお いても樹脂成分の着色が生じにくぐしたがってカラーフィルタの着色層においては、 良好な発色が得られる。
また、本発明の感光性樹脂組成物は解像性が良好であり、微細加工の要望に対応 すること力 Sできる。特に、 RGB、 CMY等のカラーフィルタを製造する場合には、効果 的である。また、耐熱性に優れるので、加熱によるパターンの熱ダレが生じにくぐ所 望のサイズの着色層やブラックマトリックスが得られる。よって、高品質のカラーフィル タを製造することができる。
また、上記感光性樹脂組成物から形成されるパターンは、 400nm〜800nmの可 視光領域の光の透過率が 70%以上であることが好ましぐ 80%以上であることがより 好ましぐ 90%以上であることがさらに好ましい。これにより、特に顔料を添加した感 光性樹脂組成物から形成されるパターン (着色層）の発色が良好となる。
特に樹脂成分 (A1)に、構成単位（al— 1)を用いた場合には、 250°Cで加熱処理 したとしても、可視光領域の光の透過率が 90%以上となり、特に好ましい。
実施例
[0050] (実施例:!〜 3)
まず、樹脂成分 (A1)を調製した。すなわち、前記化学式 (al _ l)で示す構成単位 「PQMA」からなるホモポリマー（Mw: 13000)の 100質量部と、前記ポリマーのフエ ノール性水酸基の合計モル数に対して 15モル0 /0のナフトキノン—1 , 2—ジアジド— 5—スノレホニノレクロリドとを、アセトン中、トリェチルァミンの存在下で付加反応させ、ェ ステル化率 15%の樹脂成分 (Al _ 1)を得た。
前記と同様にしてエステル化率 30%の樹脂成分 (A1— 2)を得た。
前記ナフトキノン 1, 2 ジアジドー 5 スルホニルクロリドを用いて前記と同様に してエステル化率 45%の樹脂成分 (A1 - 3)を得た。
[0051] 下記成分を混合して固形分濃度約 25質量％のポジ型の感光性樹脂組成物を製 造した。
樹脂成分 (A)：上記で得た樹脂成分 (実施例 1は (Al— 1)、実施例 2は (Al— 2)、実 施例 3は (A1— 3) ) 100質量部。
増感剤： 4, 4 '—シクロへキシリデンビスフヱノール 20質量部。
界面活性剤： XR— 104 (商品名、大日本インキ化学工業 (株)社製）
0. 1質量部。
有機溶斉 U : PGMEA。
[0052] (比較例 1)
樹脂成分 (A)を、ポリヒドロキシスチレン（Mw: 10000)に変更し、感光剤として 1 _ [ 1— (4—ヒドロキシフエニル）イソプロピル]— 4— [1 , 1—ビス（4—ヒドロキシフエニル )ェチル]ベンゼンとビス（4—ヒドロキシ _ 2， 3， 5_トリメチルフエ二ル）一 2—ヒドロキ シフエ二ノレメタン 1モノレと 1， 2_ナフトキノンジアジド一 5—スルホン酸クロライド 2モル とのエステルイ匕物 30質量部を追加添加した以外は実施例 1と同様にしてポジ型の感 光性樹脂組成物を製造した。
[0053] <解像性の評価 >
ガラス基板に実施例：!〜 3、および比較例 1でそれぞれ得られた感光性樹脂組成物 を塗布し、 110°C、 90秒加熱し、厚さ lOOOnmの感光性樹脂層を形成した。ついで、 マスクを介して露光装置： Nikon ilOD (製品名、ニコン社製）を用いて、 lOOmJの エネルギーでパターン露光し、 2. 38質量0 /0濃度のテトラメチルアンモニゥムヒドロキ シド水溶液を用いて現像することによりラインを形成した。
このときのラインの幅を小さくしていき、解像できる最少の幅を限界解像度として評 価した。その結果を表 1に示す。
[0054] <透明性および耐熱性の評価 >
上記で得られた限界解像度の幅を有する各ラインについて、 250°C30分間の条件 で加熱し、加熱前後における波長 500nmの光の透過率を測定した。加熱前の透過 率に対する加熱後の透過率の割合を表 1に示した。透過率の測定は、装置名： UV _ 2500PC (島津製作所製）を用いて行った。
さらに、加熱後のラインについて、形状を電子顕微鏡にて観察することにより、耐熱 性を評価した。評価は、加熱する前のパターンと比較し、形状の変化がほぼ無いもの を〇、熱ダレ等が生じ形状の変化が大きなものを Xとして行った。その結果を表 1に 示す。
[表 1]
Figure imgf000020_0001
[0056] 表 1の結果より、本発明の感光性樹脂組成物は解像性が良好であることが認められ た。
また耐熱性も良好で、加熱後も良好な透過率が得られた。すなわち、加熱によって着 色しにくいことが確認できた。また、加熱によるパターンの熱ダレも認められず、パタ ーンの矩形性が良好に保たれていた。
[0057] (製造例 1)
前記実施例 1〜 3の感光性樹脂組成物に、樹脂成分 100質量部に対して赤色顔料 分散液「CFレッド EX— 109」 (C. I. PR- 177,アントラキノン系赤顔料 20重量部含 有;御国色素社製）を 30質量部添加した顔料含有感光性樹脂組成物を製造した。そ して、この顔料含有感光性樹脂組成物を用いて、上記と同様に露光、現像処理を行 レ、、ラインパターンを形成した。
その結果、いずれも問題なくパターンを得ることができた。また、波長 500nmの光 における透過率変化も 90%以上であり良好であった。
産業上の利用可能性
[0058] 良好な耐熱性および透明性を備えたポジ型の感光性樹脂組成物を提供でき、ポジ 型の感光性樹脂組成物、およびこれ用いたカラーフィルタに適用できる。

Claims

請求の範囲 [1] 下記一般式 (al)で表される構成単位におけるフエノール性水酸基の水素原子の 少なくとも一部がナフトキノン _ 1， 2—ジアジド _ 5 _ (及び Z又は一 4_)スルホニル 基で置換されてレ、る構成単位 (al ' )を有する樹脂成分 (A1 )を含有することを特徴と する感光性樹脂組成物。
[化 1]
Figure imgf000021_0001
Cal )
(上記一般式中、 は水素原子またはメチル基を表し、 R1は単結合または炭素数 1 〜5のアルキレン基を表し、 R2は炭素数 1〜5のアルキル基を表し、 aは:!〜 5の整数 を表し、 bは 0または 1〜4の整数を表し、 a + bは 5以下である。なお、 R2が 2個以上存 在する場合、これらの R2は相互に異なっていてもよいし同じでもよい。 )
[2] 請求項 1に記載の感光性樹脂組成物において、さらに（C)顔料を含む感光性樹脂 組成物。
[3] 前記 (C)顔料が黒色顔料である請求項 2に記載の感光性樹脂組成物。
[4] 下記一般式 (al)で表される構成単位を有する樹脂成分 (A2)を含有する感光性 樹脂組成物であって、
該樹脂成分 (A2)における一般式 (al)に力、かる全フエノール性水酸基の水素原子 のうち、少なくとも一部がナフトキノン一1 , 2—ジアジド _ 5_ (及び/又は一 4_)ス ルホニル基で置換されていることを特徴とする感光性樹脂組成物。
[化 2]
Figure imgf000022_0001
(a1 }
(上記一般式中、 R°は水素原子またはメチル基を表し、 R1は単結合または炭素数 1 〜5のアルキレン基を表し、 R2は炭素数 1〜5のアルキル基を表し、 aは:!〜 5の整数 を表し、 bは 0または 1〜4の整数を表し、 a + bは 5以下である。なお、 R2が 2個以上存 在する場合、これらの R2は相互に異なっていてもよいし同じでもよい。 )
[5] 前記全フエノール性水酸基の水素原子のうち、 2〜80%がナフトキノン 1, 2—ジ アジド 5—（及び/又は 4 )スルホニル基で置換されてレ、ることを特徴とする請 求項 4に記載の感光性樹脂組成物。
[6] 請求項 1〜5のいずれかに記載の感光性樹脂組成物を用いて形成されたパターン を有するカラーフィルタ。
PCT/JP2006/304770 2005-03-18 2006-03-10 感光性樹脂組成物およびカラーフィルタ WO2006100942A1 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2006800070205A CN101292196B (zh) 2005-03-18 2006-03-10 感光性树脂组合物以及滤色器
US11/908,481 US7858275B2 (en) 2005-03-18 2006-03-10 Photosensitive resin composition and color filter

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005078946A JP2006259461A (ja) 2005-03-18 2005-03-18 感光性樹脂組成物およびカラーフィルタ
JP2005-078946 2005-03-18

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2006100942A1 true WO2006100942A1 (ja) 2006-09-28

Family

ID=37023612

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2006/304770 WO2006100942A1 (ja) 2005-03-18 2006-03-10 感光性樹脂組成物およびカラーフィルタ

Country Status (6)

Country Link
US (1) US7858275B2 (ja)
JP (1) JP2006259461A (ja)
KR (1) KR100923893B1 (ja)
CN (1) CN101292196B (ja)
TW (1) TWI326010B (ja)
WO (1) WO2006100942A1 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7759048B2 (en) * 2007-07-09 2010-07-20 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Photosensitive resin composition and microlens formed with use thereof
JP2009222733A (ja) * 2008-01-25 2009-10-01 Rohm & Haas Electronic Materials Llc ノボラック樹脂ブレンドを含むフォトレジスト
JP5466375B2 (ja) * 2008-04-08 2014-04-09 東京応化工業株式会社 樹脂パターンの製造方法
JP5819693B2 (ja) * 2011-09-26 2015-11-24 東京応化工業株式会社 着色感光性樹脂組成物、カラーフィルタ及び表示装置

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5139024A (ja) * 1974-09-27 1976-04-01 Konishiroku Photo Ind Kankoseisoseibutsu
JPH01100538A (ja) * 1987-09-18 1989-04-18 Hoechst Ag 放射線感能性混合物及び放射線感能性複写材料
JPH0782491A (ja) * 1993-09-17 1995-03-28 Japan Synthetic Rubber Co Ltd カラーフィルタ用感放射線性組成物
JPH0784121A (ja) * 1993-09-16 1995-03-31 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 顔料分散型カラーフィルター用組成物
JPH08137098A (ja) * 1994-11-14 1996-05-31 Sumitomo Chem Co Ltd ブラックマトリックス用フォトレジスト
JP2004240115A (ja) * 2003-02-05 2004-08-26 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、回路形成用基板、レジストパターンの製造法、プリント配線板の製造法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4002397A1 (de) * 1990-01-27 1991-08-01 Hoechst Ag Strahlungsempfindliches gemisch und hieraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE4003025A1 (de) * 1990-02-02 1991-08-08 Hoechst Ag Strahlungsempfindliches gemisch, hiermit hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von reliefaufzeichnungen
JPH1130857A (ja) 1997-07-10 1999-02-02 Mitsubishi Chem Corp ポジ型感放射線性樹脂組成物
JP2003270784A (ja) 2002-03-14 2003-09-25 Fuji Photo Film Co Ltd 着色感光性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法
US6984476B2 (en) * 2002-04-15 2006-01-10 Sharp Kabushiki Kaisha Radiation-sensitive resin composition, forming process for forming patterned insulation film, active matrix board and flat-panel display device equipped with the same, and process for producing flat-panel display device
KR101001936B1 (ko) 2002-06-07 2010-12-17 후지필름 가부시키가이샤 염료 함유 경화성 조성물, 컬러필터 및 그 제조방법

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5139024A (ja) * 1974-09-27 1976-04-01 Konishiroku Photo Ind Kankoseisoseibutsu
JPH01100538A (ja) * 1987-09-18 1989-04-18 Hoechst Ag 放射線感能性混合物及び放射線感能性複写材料
JPH0784121A (ja) * 1993-09-16 1995-03-31 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 顔料分散型カラーフィルター用組成物
JPH0782491A (ja) * 1993-09-17 1995-03-28 Japan Synthetic Rubber Co Ltd カラーフィルタ用感放射線性組成物
JPH08137098A (ja) * 1994-11-14 1996-05-31 Sumitomo Chem Co Ltd ブラックマトリックス用フォトレジスト
JP2004240115A (ja) * 2003-02-05 2004-08-26 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、回路形成用基板、レジストパターンの製造法、プリント配線板の製造法

Also Published As

Publication number Publication date
KR100923893B1 (ko) 2009-10-28
CN101292196A (zh) 2008-10-22
TWI326010B (en) 2010-06-11
TW200700920A (en) 2007-01-01
JP2006259461A (ja) 2006-09-28
US20090067076A1 (en) 2009-03-12
US7858275B2 (en) 2010-12-28
KR20070107155A (ko) 2007-11-06
CN101292196B (zh) 2012-07-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101291480B1 (ko) 감광성 조성물 및 이 감광성 조성물에 의해 형성된 컬러 필터
KR100232372B1 (ko) 감방사선성 수지 조성물
JP4794870B2 (ja) 遮光層形成用感光性樹脂組成物ならびに遮光層およびカラーフィルタ
TWI403836B (zh) 感光性樹脂組成物
CN101051186B (zh) 负型感光性树脂组合物
JP3987491B2 (ja) フォトレジスト用感光性樹脂組成物
CN101122740B (zh) 层间绝缘膜用感光性树脂组合物及层间绝缘膜的形成方法
US6686120B2 (en) Photoresist composition and method of forming pattern using the same
JP2001330953A (ja) 感放射線性樹脂組成物
US7740996B2 (en) Photosensitive resin composition and color filter
KR20020027271A (ko) 감방사선성 수지 조성물, 그의 경화물 및 소자
JP2006209113A (ja) 感光性樹脂組成物、ｌｃｄ基板及びそのパターン形成方法
WO2006100942A1 (ja) 感光性樹脂組成物およびカラーフィルタ
CN101256360B (zh) 放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜、以及它们的制备方法
TWI225161B (en) Radiation sensitive composition for color filter
JP3241399B2 (ja) マイクロレンズ用感放射線性樹脂組成物
JP2000327877A (ja) 感放射線性樹脂組成物、その層間絶縁膜およびマイクロレンズへの使用、並びに層間絶縁膜およびマイクロレンズ
JP3082179B2 (ja) レンズ用感光性樹脂組成物
JP6807148B2 (ja) 感光性組成物
WO2005010615A1 (ja) ポジ型感光性樹脂組成物
JP3374706B2 (ja) 黒色感光性樹脂組成物およびそれを用いたカラーフィルタとその製造方法
CN101315521B (zh) 感光性树脂组合物
JPH03223702A (ja) レンズ形成用ポジ型感光材料
JP2010037542A (ja) 着色感光性樹脂組成物及びオキシム系光重合開始剤
KR20090062899A (ko) 절연막 형성용 감광성 수지 조성물

Legal Events

Date Code Title Description
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 200680007020.5

Country of ref document: CN

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 11908481

Country of ref document: US

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 1020077021899

Country of ref document: KR

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: RU

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 06715540

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1