JPH01100538A - 放射線感能性混合物及び放射線感能性複写材料 - Google Patents

放射線感能性混合物及び放射線感能性複写材料

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JPH01100538A
JPH01100538A JP63232754A JP23275488A JPH01100538A JP H01100538 A JPH01100538 A JP H01100538A JP 63232754 A JP63232754 A JP 63232754A JP 23275488 A JP23275488 A JP 23275488A JP H01100538 A JPH01100538 A JP H01100538A
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JP
Japan
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carbon atoms
mixture
radiation
quinonediazide
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JP63232754A
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Michael Emmelius
ミヒヤエル・エメリウス
Andreas Elsaesser
アンドレアス・エルゼツサー
Dieter Mohr
デイーター・モール
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Hoechst AG
Original Assignee
Hoechst AG
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Publication date
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/72Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/022Quinonediazides
    • G03F7/023Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G03F7/0233Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binders or the macromolecular additives other than the macromolecular quinonediazides

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、基本成分として、1.2−キノンジアジドを
含有する放射線感能性混合物及びこの混合物を使用して
製造した複写材料に関する。
〔従来の技術〕
ボジチゾで作用する放射線感能性混合物は長い間公矧で
あp、かつ多くの型の放射線感能性複写材料、例えばジ
アゾ材料(西ドイツ国特許第376385号明細書)、
平版印刷版(西ドイツ国特許第854890号明細書)
、カラー校正フィルム(color proofing
 films ) (米国特許第3326682号明細
書に相当する西ドイツ国特許第1291197号明細書
)、液体レジスト及び積層することができるドライ・レ
ゾスト(米国特許第4093464号明細書に相当する
西ドイツ国特許公開公報第2236941号明細書)に
有用である。
一般に、これらの材料中で使用される1、2−キノンジ
アジドは、西ドイツ国特許第865410号明細書に記
載されている1、2−ナフトキノン−ジアジドスルホン
酸クロリドの誘導体、アシル化すれたフェノールとのエ
ステル例えば英国特許第759654号明細書に相当す
る西ドイツ国特許第938233号明細書に記載のよう
なトリヒトミキシベンゾフェノンとのエステルである。
良好なフィルム形成特性を得るために、これら低分子量
化合物を、米国特許第3201239号明細書に相当す
る西ドイツ国特許第1195166号明細書の記載のよ
うにフェノール樹脂と結合させる。
しかしながらこnら公知の混合物の特性は、数え上げら
れる適用の若干のものに、特に複写層が高い機械的緊張
にさらされる場合、例えば平版印刷法の場合には最適に
は適合しない。結果として不満足な印刷数が得られる。
複写層の機械的強度全改善するために、上昇し九がラス
転移温度を有するバインダー、例えばナフトールを基礎
とするフェノール樹脂(米国特許第4551409号明
細書)、ビニルフェノールのホモ−及びコポリマー(米
国特許第3869292号明細書に相当する西ドイツ国
特許公開第23222!10号明細書;米国特許第44
395’16号明細書に相当する西ドイツ国特許公開第
3309222号明細書;及び米国特許第467875
7号明細書に相当する西ドイツ国特許公開第34069
27号明細書)、アクリレートと遊離のフェノール性ヒ
ドロキシ基とのポリマー(特開昭51−36129号明
細書;欧州特許機構(Ep−A)第0212440号明
細書及び欧州特許機構第0212439号明細書)又は
ヒトミキシフェニルマレイミドのコポリマー(欧州特許
機構第0187517号明細書)全使用することは゛公
知である。平版印刷版中でのこれらのバインダー(bi
nder )の使用は増加した印刷数となる。しかしな
がらこの方法で達成される利点は、使用感光性1,2−
キノンジアシド化合物がバインダーマトリックスへの可
塑化作用含有するという事実によって損なわれる。この
不所望な作用は、ポリマーに化学的に結合される1、2
−キノンジアジド化合物の使用によって減少することが
できる。
通常使用さルるアルカリ性現像溶液中で可溶であるポリ
マーは、この目的の九めに“基質“ポリマーとして使用
することができる。これらは遊離カルボキシル基又は遊
離フェノール性ヒドロキシル基を有するポリマーを包含
する。
カルボキシル基を含有するポリマー及び1゜2−キノン
ジアジドスルホン酸クロリドから得られる反応生成物は
、西ドイツ国特許公開第2545697号明細書及び米
国特許第4193797号明細書から公知である。しか
しながらアルカリ性媒体中でのこれらの化合物の速かな
溶解性に基づき、露光及び非露光部分の間の区別が不十
分であり、従って化合物は実際的な適用には不適当であ
ると判明した。
ま九遊離のフェノール注ヒトaキシル基金有するポリマ
ーが公知である(米国特許第3g5709号明細書)。
これらは1,2−ナフトキノンジアンドスルホン酸クロ
リド2f口がロール/アセトン樹脂でエステル化するこ
とによって得られる。使用される樹脂は比較的低い分子
量の生成物(2000よシも少ない分子t)であるので
、達成さ1うる印刷数の増加は適度である。
米国特許第4139384号明細書に相当する西ドイツ
国特許公開第2507548号明細書は、ポリヒドロキ
シスチレンでのエステル化により得られるポリマーの1
,2−キノンジアジド化合物を明らかにしている。これ
らのジアジドはtしかに高分子ポリマーではあるが、こ
れらもアルカリ性現像溶液中に非常に可溶である。
フェノール性ヒドロキシル基の一部をエポキシドと反応
させることによってこの間Mt−解明する試みがなさn
たが、こnは合成上の付加的な出費を伴なう。
特開昭第51−39024号公報からは、ヒドロキノン
のモノ(メタ)アクリレート及びジヒドロキシナフタレ
ン全基礎とするポリマーに結合される1、2−キノンジ
アジド化合物が公知である。これらの化合物は実際には
使用されない。
〔発明が解決しようとする諌題〕
従って本発明の目的は、1,2−キノンジアジド化合物
を基礎とするボゾチデ作用の放射線感能性混合物及びそ
tl、を用いて製造され、慣用の混合物を用いて製造さ
れた版よシも高い印刷数全達成する平版印刷版を生じる
感光性複写材料を得ることであった。
〔昧題を解決するための手段〕
この目的を果たすために、基本的成分として1.2−キ
ノンジアジドを含有する放射線感能性混合物が得られ、
これは、前記の1,2−キノンジアジドが一般式I: 〔式中Rは水素原子又は)・ロダン原子、シアニド基又
はアルキル基であ’) 、RL 、R2及びR3は同じ
又は異なり、水素原子又はノーロダン原子、アルキル基
又はアルコキシ基であJ+%Aは単環又は二環の炭素環
又は複素環系を完成するために必要な原子上表わし、D
は1,2−キノンジアシド原子図を含有する基を表わし
かつn+mは2又は3である〕の繰シ返し単位よシなる
ポリマーよシなる。
式■中において、Rがアルキル基である場合には、これ
は一般に1〜6個、有利に1又は2個の炭素原子を有す
る。RがH又はメチル基である化合物が特に有利である
置換基R1、R2及びR3のうち、有利に1個は水素原
子であシ、特に有利にそのうちの少なくとも2個は水素
原子である。これらの記号がアルキル基又はアルコキシ
基を表わす場合には、これらは有利に1〜6個、特に1
〜3個の炭素原子を有する。
この際一般にアルキル基は、ハojfン原子又はヒドロ
キシル基によって置換されてよいか又はエーテル又はケ
ト基を有する環状及び開環状鎖を有する分枝鎖及び非分
枝鎖の、飽和及び不飽和基を意味すると解さ几る。1〜
3個の炭素原子を有する非分枝鎖のアルキル基が有利で
ある。
炭素環状又は複素環状芳香族環系Aは、単環又は多環で
あってよい。それが複素環状である場合には、例えばビ
リソン、ピリミジン、ピラジン、キノリン、キノキサリ
ン、インドール又はチオフェン系であってよい。適当な
炭素環系はベンゼン、ナフタレン及びビフェニルである
Aが炭素環系であることが有利である。ベンゼン環が特
に有利である。
Dは有利に芳香族の置換又は非置換の1,2−キノンジ
アシド基である。特にこ几は1,2−ナフドキノン−2
−ジアジド−4−又は−5−スルホニル基である。
n+m−2が有利であシ、それによってn及びmは必ず
しも整数でなければならないことはなく、それというの
もこれらは全体の分子に関係するからである。エステル
化の程度m/n+m ハ有利に0.7よシも小さい。
環系A上の前記の置換基の位置はいかなる制限にも従わ
ない;こルらは化合物の製造上の入手しやすさに依存す
るだけである。
本発明によるポリマーの1.2−キノンジアジドは、更
に、一般式■: 〔式中R4は水素原子又はR5に結合されてよいカルボ
キシル基であり、これは後者がカルボキシル基である場
合には、酸無水物を形成し、R5はアルキル基、アルコ
キシ基、アルキルオキシカルボニル基、アシル基、アシ
ルオキシ基、アリール基、ホルミル基、シアニド基、カ
ルボキシル基、ヒドロキシル基又はアミノカルビニル基
であシかつR6は水素原子又は・・ロダン原子ス又はア
ルキル基である〕の繰シ返し単位を特徴とする単位を有
することができる。
R5又ニR6がアルキル基である場合には、こ几らは一
般に1〜4個の炭素原子を有する。R15の適当な代表
的なものは次のものである:1〜8個の炭素原子を有す
るアルコキシ基、2〜16個の炭素原子を有するアルコ
キシカルボニル基、2〜20個の炭素原子を有するアシ
ル基、2〜18個の炭素原子全有するアシルオキシ基及
び6〜10個の炭素原子を有するアリール基。
アミノカルビニル基は非置換であるか又は1〜8個の炭
素原子によって置換されてよ贋。
本発明による化合物に、文献から公知の方法により(米
国特許第3635709号明細書又は西ドイツ国特許公
開第2507548号明細書)、適当な1,2−キノン
ジアジド酸りQ リドを、それらの基礎となるポリマー
のヒドロキシル基でエステル化することによって得う几
る。
ポリマーの出発化合物及びそれらの基礎となるモノマー
の製造も公知である(欧州特許機構第0212439号
明細書及び西ドイツ国特許公開第3528928号明細
書)。
ポリマーの出発化合物のうら、ピロがロールモノメタク
リレートのホモ−及びコポリマーが有利である。こ1ら
のポリマーの分子量は広い範囲内で変化してよい。分子
t5000〜100000Th有するポリマーが有利に
使用される。ポリマーのヒドロキシル数は有利に200
〜500の範囲内である。
適当なポリマーの選択は、個々の場合に意図される使用
及び混合物又は、各々、複写層中に含有される他の成分
の特性に依存する。
本発明による混合物を製造するtめに、1゜2−キノン
ソアゾド化合物金アルカリ性水容液中に可溶又は少なく
とも膨潤可能である水に不容性のパインをと有利に結合
させる。
適当なパインpつ例は次のものを包含する:フェノール
/ホルムアルデヒド樹脂又はクレゾール/ホルムアルデ
ヒド樹脂、特にエポキシド、クロロ酢酸、インシアネー
ト等と公知方法で反応させることによって変性さnうる
ノボラック。
更ニビニルフェノールのホモ−及びコポリマー、遊離フ
ェノール性ヒドロキシル基を有するアクリレートのポリ
マー、ヒドロキシフェニルマレイミドのコポリマーを使
用することができる。
パイン戸ネ一般に、混合物の全重量に対して、約30〜
90重を係の量で使用する。
例えば使用1,2−キノンジアジド化合物のエステル化
の穆度、すなわち商m / m+nが比較的に小さい時
には、混合物をバインダーなしで製造することも可能で
ある。
更に多数の他の水溶性又は選択的に、アルカリ不溶性樹
脂を放射線感能性混合物中で使用することもできる。こ
nらは、コモノマーによって変性されうる、ビニルポリ
マー、例えばポリビニルアセテート、ポリアクリレート
、ポリビニルアセタール、ポリビニルエーテル又はポリ
ビニルヒロリドン全包含する。これらの樹脂の最も有利
な割合は適用要求及び現像条件への作用に依存し、一般
にアルカリ可溶樹脂の約20重量%よシも多くない。
特別な要求、例えば可撓性、付着性、光沢等の九めに、
感光性混合物は、付加的に少量のポリグリコール、セル
ロースエーテル、例えばエチルセルロース、湿潤剤及び
微分配顔料のような物質全含有してもよ^。
最後に、感光性混合物に、そ1に加えら几て可溶性又は
細分された分散性染料及び用途に依シ紫外線(UV)吸
収剤を有してもよい。適当な染料は、特にそのカルビノ
ール塩基の形のトリフェニルメタン染料である。成分の
最も有利な混合比は予備実験によQ個々の場合に容易に
決定することができる。
また本発明は、放射線感能性混合物で被覆さf′L友層
支持体よシなる放射線感能性複写材料である。前記の材
料は、請求項1〜4に記載したよりな1,2−キノンジ
アシドを前記の混合物中に含有することt−特徴とする
適当な支持体全被覆する究めに、混合物音−般に溶剤中
に溶かす。溶剤の選択は、意図する被覆法、層厚及び乾
燥条件に適合されねばならない。原則的には、層成分と
相客性である全ての溶剤、例えばアルコール、ケトン、
エステル、塩素化されt炭化水素等を使用してよい。グ
リコールエーテルとの混合物が有利である。
放射線感能性混合物のための適当な支持材料は、複写法
で当業者に慣用される全ての材料である。挙げられる例
は、プラスチック薄III、銅層を有する絶縁シース、
機械的に又は電気化学的に粗面化された及び任意に陽極
酸化されたアルミニウム、スクリーン印刷ステンシル支
持体、木、セラミック、ガラス及びその表面が例えば窒
化珪素又は二酸化珪素に化学的に変換されていてよ論珪
素である。
厚さが1011m以上の層を得るための有利な基礎材料
は、転写層の仮支持材料として役立つプラスチック薄膜
である。この目的のためかつカラー校正フィルムのため
には、ポリエステル薄膜、例えばポリエチレンテレフタ
レートが有利である。ポリニレフィンフィルム、例エハ
ポリグロピレンが同様に適当である。
厚さが約10μm以下の層を得るtめに使用される基礎
材料は通例金属である。
オフセット印刷版の場合には、次のものを使用すること
が可能である:例えばポリビニルホスホン酸、珪酸塩又
は燐酸塩で付加的に化学的前処理さ1ていてもよい機械
的又は化学的に粗薄化及び任意に陽極酸化されたアルミ
ニウム。
最後に、コーティングを直接又は仮の支持材料から層転
写により、一方又は両側に銅層を有する絶縁板よシなる
回路板材料上に、付着促進処理をされていてよいがラス
又はセラミック材料上に及びシリコーンウエノ・上に作
用することができる。
コーテイング後の乾燥のために、慣用の装置及び条件を
採用することが可能であシ、約100℃及び−時的に1
20℃までの温度は放射線感能性の損失なしに耐える。
露光は、貫用の光源、例えば螢光灯、キセノンパルス灯
、金1ハライドを添加し定水銀蒸気高圧灯及びカーボン
・アーク灯で作用させてよい。放射線源としてアルゴン
イオンレーデ−を有するレーデ−放射装置、特に自動処
理系を特に有利に使用する。放射線を電子ビームで作用
することもできる。X−綜又はイオン線を同様に画像発
生のために使用してよい。
画像に応じて露光又は照射された層を公知方法で市販で
得られるナフトキノンジアジド層及びフォトレゾストt
−得るtめに公仰の現像液で処理することができ、かつ
新規材料はその複写性に幹いて有利に公矧の補助物、例
えば現像液及びプログラムを組み込まれた噴霧現像装置
に適合させることができる。現像水溶液は、例えばアル
カリ金属燐酸塩、珪酸塩、硼酸塩又は水酸化物及び同様
に湿潤剤、同じく所望の場合には、少量の有機溶剤も含
有してよい。特定の場合には、酸剤−水混合物が現像液
として適当である。最も有利な現は液の選択は、使用さ
れる個々の層上の実験によって決定することができる。
盛装ならば現鍬ヲ機械的に促進することもできる。
印刷版としての使用の場合には、英国特許第11547
49号明細書から779層に関して知られているように
、印刷中の耐久性及び洗出剤、修正剤及びUV−硬化性
印刷インキに対する抵抗金高めるために、高めた温度に
短時間加熱することができる。
〔実施例〕
本発明を次の実施例につきよ少詳細に説明し、例中重量
部(p、b、W、)及び容量部(p−b−v−)はI及
び13と同じ関係にある。他の記載のない限シ、「壬」
は「重量%」である。
合成例1 1.2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホニル
クロリド60.5 g及びスチレン及びピロがロールモ
ノメタクリレートから得られかつ平均分子量23000
及びヒドロキシル数338を有するコモノマー1811
テトラヒドロフラン1ゆ中に溶かす。トリエチルアミン
23.91−1時間以内で滴加して攪拌し、その際温度
を冷却によって25℃で保つ。添加が終了した後に攪拌
t−2時間続ける。反応溶液を4チ濃度の塩酸20kI
I中に注ぐ。沈殿を濾別し、H2Oで十分に洗浄しかつ
40℃及び56.2・10”Pa(40mHg)で、重
量カ一定テ留’するまで乾燥する。得られるポリマーの
硫黄含量から、次のエステル化度が計算さnるニー −
0,206 m+n 合成例2 合成例1の工程に従って、1,2−ナフトキノン−2−
シアラド−4−スルホニルクロリドとして、ポリマーの
1.2−キノンジアジド化合物を製造する。得らルる生
成物にエステル化度0.204 t−有する。
合成例3 合成例1の工程に従って、メチルメタクリレート及びピ
ロがロールモノメタクリレートから得られかつ平均分子
量21000及びヒドロキシル数462を有するコポリ
マー195.!l”基質1ポリマーとして使用すること
全例外として、ポリマーの1,2−キノンジアジド化合
物を製造する。得らルる生成物はエステル化度0.15
t−有する。
例  1 塩酸中で電気分解によシ粗面化し、硫酸中で陽極酸化し
かつポリビニルホスホン酸での処理によって親水性にし
たアルミニウム板を次の容器でスぎンー被覆する: テトラヒドロフラン、プロピレングリコールモノメチル
エーテル及び酢酸ブチル(重量比2:2:1)よりなる
溶剤混合物91.72重量部中の合成例1の化合物  
     2.0重量部クレゾール−ホルムアルデヒド
ノボラック(DIN53181に従って細管法によシ測
定した融点105〜120°C”)        6
.0重量部、1.2−ナフトキノン−2−ジアジド−4
−スルホニルクロリド        0.2重量部及
び クリスタルバイオレット0.08重量部。
次いで板を100℃で2分間乾燥する。得られる層は厚
さ2μmt−有する。
比較のために、もう1つの印刷版全同様の方法で、1,
2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホニルクロ
リド3モル及び2,3,4一トリヒドロキシベンゾフェ
ノン1モルカラ得らnるエステル化生成物2.0重量部
を合成例1の化合物の代シに加えることを例外として、
製造する。
110c1rLの距離に配置した5KW金属ハロrン化
物灯を用いて、印刷版をボゾチデ透明画を通して露光す
る。現像を、 H2O89,2重量部中の Na25i03X 9H208−5重量部NaOHO、
8重量部及び Na2 B2O−t x 10 Hs O1,5重量部
よシなる現像液を用いて行ない、この際、露光層部分は
除去される。
印刷試験において、本発明により製造したオフセット印
刷版は、130000の良好な印刷を与えるが、比較印
刷版はほんの100000印刷数分の後に、著しく損傷
する。
例  2 硝酸中での電気分解によシ粗面化し、硫酸中で陽極酸化
しかつポリビニルホスホン酸での処理によシ親水性にし
tアルミニウム板を次の溶液でスピン−被覆する: 例1の溶剤混合物     91.72重量部中の合成
例2の化合物      2.0 重量部例1で記載し
たノボラック  5.9 重量部フェノール及びt−ブ
チルフェノールから得ら几かつDIN 53736に従
って測定した融点110〜120℃を有するノボラック 0.1  重量部 1.2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スルホニル
クロリド     0.2 重量部クリスタルバイオレ
ット   0.06重量部及びスーダンイエロー()G
N     0 、02重量部゛乾燥層厚は2μmであ
る。再び比較板を製造し、この際p−クミルフェノール
1モル及び1゜2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−
スルホニルクロリド1モルから得られるエステル化生成
物2.0重量部を合成例2の化合物の代りに使用する。
印刷版の露光及び現像は、例1におけるように行なう。
本発明によるオフセット版は180000印刷を与える
が、比較板は130000印刷を与えるにすぎない。
例  3 硝酸中での電気分解によシ粗面化し、硫酸中で陽極酸化
しかつポリビニルホスホン酸での処理によシ親水性にし
たアルミニウム板Th17の溶液でスピン−被覆する: 例1の溶剤混合物     91.72重量部中の合成
例3の化合物      8.0  重量部2−(4−
スチリルフェニル)−4,6−ビス−トリクロロメチル
−S−トリアジン 0.2 重量部 クリスタル・バイオレット0.05重量部及びビクトリ
ア・ピュアー・デル− 0,03重量部 得られる乾燥ノー厚は2.3μmである。板を例1に記
載したように露光しかつH2O及び例1の現像液の50
 : 50混合物で現像する。
印刷試験において、この方法で製造したオフセット印刷
版は170000印刷を与える。
例  4 印刷版を例1に従って、しかし次のバインダーの1種を
クレゾール−ホルムアルデヒドノボラックの代りに使用
して、製造する: a)  4−ヒドロキシスチレン及びスチレンからiら
れ、ヒドロキシ数250及び分子t 22000を有す
るコポリマー; b>  4−ヒトClキシスチレン、スチレン及ヒN−
メトキシメチルメタクリルアミド(50:35 : 1
5)から得られ、ヒドロキシル数237及び分子量23
000t−有するテルポリマー;C)  カテコールモ
ノメタクリレート及びスチレン(70:30)から得ら
れ、ヒドロキシル数230及び分子t19500を有す
るコポリマー;及び a)  カテコールモノメタクリレート、スチレン及び
N−メトキシメチルメタクリルアミド(70:15:1
5)から得られ、ヒドロキシル数265及び分子量20
500t−有するテルポリマー。
層は全て乾燥厚2μmKvN整する。露光及び現像は、
例1に従って行なう。次の印刷数を達成することができ
る: a)150000;b)140000;c)16[D[
D;及び(1) 150000゜

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、基本成分として1、2−キノンジアジドを含有する
    放射線感能性混合物において、1、2−キノンジアジド
    は、一般式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中Rは水素原子、ハロゲン原子、シアニド基又はア
    ルキル基であり、R_1、R_2及びR_3は同じか又
    は異なり、水素原子又はハロゲン原子、非置換の又は置
    換されているアルキル基又はアルコキシ基を表わし、A
    は単環又は二環の炭素環状又は複素環状の芳香族環系を
    完成するために要求される原子を表わし、Dは1、2−
    キノンジアジド原子団を有する基を表わし、かつn+m
    は2又は3である〕の繰り返し単位よりなるポリマーで
    あることを特徴とする放射線本能性混合物。 2、Rは水素原子又は1〜6個の炭素原子を有するアル
    キル基を表わし、R_1、R_2及びR_3は水素原子
    、1〜6個の炭素原子を有する非置換の又は置換された
    アルキル基又はアルコキシ基を表わし、Aは炭素環の環
    系を表わし、Dは1、2−ナフトキノン−2−ジアジド
    −4−又は−5−スルホニル基を表わしかつn+mは2
    である、請求項1記載の混合物。 3、1、2−キノンジアジドは、更に一般式II:▲数式
    、化学式、表等があります▼(II) 〔式中R_4は水素原子又はR_5に結合されてよいカ
    ルボキシル基であり、これは後者がカルボキシル基であ
    る場合には、酸無水物を形成し、R_5はアルキル基、
    アルコキシ基、アルキルオキシカルボニル基、アシル基
    、アシルオキシ基、アリール基、ホルミル基、シアニド
    基、カルボキシル基、ヒドロキシル基又はアミノカルボ
    ニル基であり、かつR_6は水素原子又はハロゲン原子
    又はアルキル基である〕の繰り返し単位を有する、請求
    項1記載の混合物。 4、式中R_3は1〜4個の炭素原子を有するアルキル
    基、1〜8個の炭素原子を有するアルコキシ基、2〜1
    3個の炭素原子を有するアルコキシカルボニル基、2〜
    20個の炭素原子を有するアシル基、2〜18個の炭素
    原子を有するアシルオキシ基又は6〜10個の炭素原子
    を有するアリール基を表わし、かつR_6は1〜4個の
    炭素原子を有するアルキル基を表わす、請求項3記載の
    混合物。 5、水に不溶性であるがアルカリ性水溶液に可溶又は少
    なくとも膨潤性であるバインダーを含有する、請求項1
    から4項までのいずれか1項記載の混合物。 6、バインダーはノボラックである、請求項5記載の放
    射線感能性混合物。 7、層支持体及びその上に塗布する放射線感能性混合物
    よりなる放射線感能性複写材料において、混合物は、請
    求項1から4までのいずれか1項記載の1、2−キノン
    ジアジドを含有する放射線感能性複写材料。
JP63232754A 1987-09-18 1988-09-19 放射線感能性混合物及び放射線感能性複写材料 Pending JPH01100538A (ja)

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