JPH01100538A - 放射線感能性混合物及び放射線感能性複写材料 - Google Patents
放射線感能性混合物及び放射線感能性複写材料Info
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 34
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 19
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 20
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 15
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 19
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 14
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 14
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 8
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 7
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 claims description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 5
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical group N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 3
- WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 4-diazoniophenolate Chemical compound [O-]C1=CC=C([N+]#N)C=C1 WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000002527 bicyclic carbocyclic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 claims description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims 3
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 claims 2
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 claims 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims 1
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 claims 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 17
- 238000007639 printing Methods 0.000 abstract description 13
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 abstract 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 17
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 10
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 10
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 8
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 6
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000011161 development Methods 0.000 description 4
- -1 glycol ethers Chemical class 0.000 description 4
- 230000008520 organization Effects 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 3
- HZBSQYSUONRRMW-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxyphenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1O HZBSQYSUONRRMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZRYCRPNCXLQHPN-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-2-methylbenzaldehyde Chemical compound CC1=C(O)C=CC=C1C=O ZRYCRPNCXLQHPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxystyrene Chemical compound OC1=CC=C(C=C)C=C1 FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N Indole Chemical compound C1=CC=C2NC=CC2=C1 SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N monopropylene glycol Natural products CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GNWCSWUWMHQEMD-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2-dione diazide Chemical class [N-]=[N+]=[N-].[N-]=[N+]=[N-].C1=CC=C2C(=O)C(=O)C=CC2=C1 GNWCSWUWMHQEMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N quinoxaline Chemical compound N1=CC=NC2=CC=CC=C21 XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 2
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N sulfuryl dichloride Chemical compound ClS(Cl)(=O)=O YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001897 terpolymer Polymers 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 2
- NJYFRQQXXXRJHK-UHFFFAOYSA-N (4-aminophenyl) thiocyanate Chemical group NC1=CC=C(SC#N)C=C1 NJYFRQQXXXRJHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KETQAJRQOHHATG-UHFFFAOYSA-N 1,2-naphthoquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=O)C=CC2=C1 KETQAJRQOHHATG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940105324 1,2-naphthoquinone Drugs 0.000 description 1
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTQNYBBTZSBWKL-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-trihydroxbenzophenone Chemical compound OC1=C(O)C(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HTQNYBBTZSBWKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylphenol Chemical class OC1=CC=CC=C1C=C JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 2-tert-Butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC=C1O WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VISOTGQYFFULBK-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-4-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C(=O)NC(O)=C1C1=CC=CC=C1 VISOTGQYFFULBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 235000008331 Pinus X rigitaeda Nutrition 0.000 description 1
- 235000011613 Pinus brutia Nutrition 0.000 description 1
- 241000018646 Pinus brutia Species 0.000 description 1
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910000318 alkali metal phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N argon Substances [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 150000001642 boronic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000002837 carbocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003086 cellulose ether Polymers 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N chloroacetic acid Chemical class OC(=O)CCl FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001010 compromised effect Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229940118056 cresol / formaldehyde Drugs 0.000 description 1
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006158 high molecular weight polymer Polymers 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N indole Natural products CC1=CC=CC2=C1C=CN2 PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine Natural products C1=CC=C2CC=NC2=C1 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 125000000468 ketone group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 210000003127 knee Anatomy 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- YOZHLACIXDCHPV-UHFFFAOYSA-N n-(methoxymethyl)-2-methylprop-2-enamide Chemical compound COCNC(=O)C(C)=C YOZHLACIXDCHPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NXPPAOGUKPJVDI-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2-diol Chemical compound C1=CC=CC2=C(O)C(O)=CC=C21 NXPPAOGUKPJVDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVEIBLDXZNGPHR-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,4-dione;diazide Chemical compound [N-]=[N+]=[N-].[N-]=[N+]=[N-].C1=CC=C2C(=O)C=CC(=O)C2=C1 QVEIBLDXZNGPHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- QBDSZLJBMIMQRS-UHFFFAOYSA-N p-Cumylphenol Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 QBDSZLJBMIMQRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKTOLZVEWDHZMU-UHFFFAOYSA-N p-cumyl phenol Natural products CC1=CC=C(C)C(O)=C1 NKTOLZVEWDHZMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000151 polyglycol Polymers 0.000 description 1
- 239000010695 polyglycol Substances 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920001289 polyvinyl ether Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/72—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/022—Quinonediazides
- G03F7/023—Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
- G03F7/0233—Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binders or the macromolecular additives other than the macromolecular quinonediazides
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、基本成分として、1.2−キノンジアジドを
含有する放射線感能性混合物及びこの混合物を使用して
製造した複写材料に関する。
含有する放射線感能性混合物及びこの混合物を使用して
製造した複写材料に関する。
ボジチゾで作用する放射線感能性混合物は長い間公矧で
あp、かつ多くの型の放射線感能性複写材料、例えばジ
アゾ材料(西ドイツ国特許第376385号明細書)、
平版印刷版(西ドイツ国特許第854890号明細書)
、カラー校正フィルム(color proofing
films ) (米国特許第3326682号明細
書に相当する西ドイツ国特許第1291197号明細書
)、液体レジスト及び積層することができるドライ・レ
ゾスト(米国特許第4093464号明細書に相当する
西ドイツ国特許公開公報第2236941号明細書)に
有用である。
あp、かつ多くの型の放射線感能性複写材料、例えばジ
アゾ材料(西ドイツ国特許第376385号明細書)、
平版印刷版(西ドイツ国特許第854890号明細書)
、カラー校正フィルム(color proofing
films ) (米国特許第3326682号明細
書に相当する西ドイツ国特許第1291197号明細書
)、液体レジスト及び積層することができるドライ・レ
ゾスト(米国特許第4093464号明細書に相当する
西ドイツ国特許公開公報第2236941号明細書)に
有用である。
一般に、これらの材料中で使用される1、2−キノンジ
アジドは、西ドイツ国特許第865410号明細書に記
載されている1、2−ナフトキノン−ジアジドスルホン
酸クロリドの誘導体、アシル化すれたフェノールとのエ
ステル例えば英国特許第759654号明細書に相当す
る西ドイツ国特許第938233号明細書に記載のよう
なトリヒトミキシベンゾフェノンとのエステルである。
アジドは、西ドイツ国特許第865410号明細書に記
載されている1、2−ナフトキノン−ジアジドスルホン
酸クロリドの誘導体、アシル化すれたフェノールとのエ
ステル例えば英国特許第759654号明細書に相当す
る西ドイツ国特許第938233号明細書に記載のよう
なトリヒトミキシベンゾフェノンとのエステルである。
良好なフィルム形成特性を得るために、これら低分子量
化合物を、米国特許第3201239号明細書に相当す
る西ドイツ国特許第1195166号明細書の記載のよ
うにフェノール樹脂と結合させる。
化合物を、米国特許第3201239号明細書に相当す
る西ドイツ国特許第1195166号明細書の記載のよ
うにフェノール樹脂と結合させる。
しかしながらこnら公知の混合物の特性は、数え上げら
れる適用の若干のものに、特に複写層が高い機械的緊張
にさらされる場合、例えば平版印刷法の場合には最適に
は適合しない。結果として不満足な印刷数が得られる。
れる適用の若干のものに、特に複写層が高い機械的緊張
にさらされる場合、例えば平版印刷法の場合には最適に
は適合しない。結果として不満足な印刷数が得られる。
複写層の機械的強度全改善するために、上昇し九がラス
転移温度を有するバインダー、例えばナフトールを基礎
とするフェノール樹脂(米国特許第4551409号明
細書)、ビニルフェノールのホモ−及びコポリマー(米
国特許第3869292号明細書に相当する西ドイツ国
特許公開第23222!10号明細書;米国特許第44
395’16号明細書に相当する西ドイツ国特許公開第
3309222号明細書;及び米国特許第467875
7号明細書に相当する西ドイツ国特許公開第34069
27号明細書)、アクリレートと遊離のフェノール性ヒ
ドロキシ基とのポリマー(特開昭51−36129号明
細書;欧州特許機構(Ep−A)第0212440号明
細書及び欧州特許機構第0212439号明細書)又は
ヒトミキシフェニルマレイミドのコポリマー(欧州特許
機構第0187517号明細書)全使用することは゛公
知である。平版印刷版中でのこれらのバインダー(bi
nder )の使用は増加した印刷数となる。しかしな
がらこの方法で達成される利点は、使用感光性1,2−
キノンジアシド化合物がバインダーマトリックスへの可
塑化作用含有するという事実によって損なわれる。この
不所望な作用は、ポリマーに化学的に結合される1、2
−キノンジアジド化合物の使用によって減少することが
できる。
転移温度を有するバインダー、例えばナフトールを基礎
とするフェノール樹脂(米国特許第4551409号明
細書)、ビニルフェノールのホモ−及びコポリマー(米
国特許第3869292号明細書に相当する西ドイツ国
特許公開第23222!10号明細書;米国特許第44
395’16号明細書に相当する西ドイツ国特許公開第
3309222号明細書;及び米国特許第467875
7号明細書に相当する西ドイツ国特許公開第34069
27号明細書)、アクリレートと遊離のフェノール性ヒ
ドロキシ基とのポリマー(特開昭51−36129号明
細書;欧州特許機構(Ep−A)第0212440号明
細書及び欧州特許機構第0212439号明細書)又は
ヒトミキシフェニルマレイミドのコポリマー(欧州特許
機構第0187517号明細書)全使用することは゛公
知である。平版印刷版中でのこれらのバインダー(bi
nder )の使用は増加した印刷数となる。しかしな
がらこの方法で達成される利点は、使用感光性1,2−
キノンジアシド化合物がバインダーマトリックスへの可
塑化作用含有するという事実によって損なわれる。この
不所望な作用は、ポリマーに化学的に結合される1、2
−キノンジアジド化合物の使用によって減少することが
できる。
通常使用さルるアルカリ性現像溶液中で可溶であるポリ
マーは、この目的の九めに“基質“ポリマーとして使用
することができる。これらは遊離カルボキシル基又は遊
離フェノール性ヒドロキシル基を有するポリマーを包含
する。
マーは、この目的の九めに“基質“ポリマーとして使用
することができる。これらは遊離カルボキシル基又は遊
離フェノール性ヒドロキシル基を有するポリマーを包含
する。
カルボキシル基を含有するポリマー及び1゜2−キノン
ジアジドスルホン酸クロリドから得られる反応生成物は
、西ドイツ国特許公開第2545697号明細書及び米
国特許第4193797号明細書から公知である。しか
しながらアルカリ性媒体中でのこれらの化合物の速かな
溶解性に基づき、露光及び非露光部分の間の区別が不十
分であり、従って化合物は実際的な適用には不適当であ
ると判明した。
ジアジドスルホン酸クロリドから得られる反応生成物は
、西ドイツ国特許公開第2545697号明細書及び米
国特許第4193797号明細書から公知である。しか
しながらアルカリ性媒体中でのこれらの化合物の速かな
溶解性に基づき、露光及び非露光部分の間の区別が不十
分であり、従って化合物は実際的な適用には不適当であ
ると判明した。
ま九遊離のフェノール注ヒトaキシル基金有するポリマ
ーが公知である(米国特許第3g5709号明細書)。
ーが公知である(米国特許第3g5709号明細書)。
これらは1,2−ナフトキノンジアンドスルホン酸クロ
リド2f口がロール/アセトン樹脂でエステル化するこ
とによって得られる。使用される樹脂は比較的低い分子
量の生成物(2000よシも少ない分子t)であるので
、達成さ1うる印刷数の増加は適度である。
リド2f口がロール/アセトン樹脂でエステル化するこ
とによって得られる。使用される樹脂は比較的低い分子
量の生成物(2000よシも少ない分子t)であるので
、達成さ1うる印刷数の増加は適度である。
米国特許第4139384号明細書に相当する西ドイツ
国特許公開第2507548号明細書は、ポリヒドロキ
シスチレンでのエステル化により得られるポリマーの1
,2−キノンジアジド化合物を明らかにしている。これ
らのジアジドはtしかに高分子ポリマーではあるが、こ
れらもアルカリ性現像溶液中に非常に可溶である。
国特許公開第2507548号明細書は、ポリヒドロキ
シスチレンでのエステル化により得られるポリマーの1
,2−キノンジアジド化合物を明らかにしている。これ
らのジアジドはtしかに高分子ポリマーではあるが、こ
れらもアルカリ性現像溶液中に非常に可溶である。
フェノール性ヒドロキシル基の一部をエポキシドと反応
させることによってこの間Mt−解明する試みがなさn
たが、こnは合成上の付加的な出費を伴なう。
させることによってこの間Mt−解明する試みがなさn
たが、こnは合成上の付加的な出費を伴なう。
特開昭第51−39024号公報からは、ヒドロキノン
のモノ(メタ)アクリレート及びジヒドロキシナフタレ
ン全基礎とするポリマーに結合される1、2−キノンジ
アジド化合物が公知である。これらの化合物は実際には
使用されない。
のモノ(メタ)アクリレート及びジヒドロキシナフタレ
ン全基礎とするポリマーに結合される1、2−キノンジ
アジド化合物が公知である。これらの化合物は実際には
使用されない。
従って本発明の目的は、1,2−キノンジアジド化合物
を基礎とするボゾチデ作用の放射線感能性混合物及びそ
tl、を用いて製造され、慣用の混合物を用いて製造さ
れた版よシも高い印刷数全達成する平版印刷版を生じる
感光性複写材料を得ることであった。
を基礎とするボゾチデ作用の放射線感能性混合物及びそ
tl、を用いて製造され、慣用の混合物を用いて製造さ
れた版よシも高い印刷数全達成する平版印刷版を生じる
感光性複写材料を得ることであった。
この目的を果たすために、基本的成分として1.2−キ
ノンジアジドを含有する放射線感能性混合物が得られ、
これは、前記の1,2−キノンジアジドが一般式I: 〔式中Rは水素原子又は)・ロダン原子、シアニド基又
はアルキル基であ’) 、RL 、R2及びR3は同じ
又は異なり、水素原子又はノーロダン原子、アルキル基
又はアルコキシ基であJ+%Aは単環又は二環の炭素環
又は複素環系を完成するために必要な原子上表わし、D
は1,2−キノンジアシド原子図を含有する基を表わし
かつn+mは2又は3である〕の繰シ返し単位よシなる
ポリマーよシなる。
ノンジアジドを含有する放射線感能性混合物が得られ、
これは、前記の1,2−キノンジアジドが一般式I: 〔式中Rは水素原子又は)・ロダン原子、シアニド基又
はアルキル基であ’) 、RL 、R2及びR3は同じ
又は異なり、水素原子又はノーロダン原子、アルキル基
又はアルコキシ基であJ+%Aは単環又は二環の炭素環
又は複素環系を完成するために必要な原子上表わし、D
は1,2−キノンジアシド原子図を含有する基を表わし
かつn+mは2又は3である〕の繰シ返し単位よシなる
ポリマーよシなる。
式■中において、Rがアルキル基である場合には、これ
は一般に1〜6個、有利に1又は2個の炭素原子を有す
る。RがH又はメチル基である化合物が特に有利である
。
は一般に1〜6個、有利に1又は2個の炭素原子を有す
る。RがH又はメチル基である化合物が特に有利である
。
置換基R1、R2及びR3のうち、有利に1個は水素原
子であシ、特に有利にそのうちの少なくとも2個は水素
原子である。これらの記号がアルキル基又はアルコキシ
基を表わす場合には、これらは有利に1〜6個、特に1
〜3個の炭素原子を有する。
子であシ、特に有利にそのうちの少なくとも2個は水素
原子である。これらの記号がアルキル基又はアルコキシ
基を表わす場合には、これらは有利に1〜6個、特に1
〜3個の炭素原子を有する。
この際一般にアルキル基は、ハojfン原子又はヒドロ
キシル基によって置換されてよいか又はエーテル又はケ
ト基を有する環状及び開環状鎖を有する分枝鎖及び非分
枝鎖の、飽和及び不飽和基を意味すると解さ几る。1〜
3個の炭素原子を有する非分枝鎖のアルキル基が有利で
ある。
キシル基によって置換されてよいか又はエーテル又はケ
ト基を有する環状及び開環状鎖を有する分枝鎖及び非分
枝鎖の、飽和及び不飽和基を意味すると解さ几る。1〜
3個の炭素原子を有する非分枝鎖のアルキル基が有利で
ある。
炭素環状又は複素環状芳香族環系Aは、単環又は多環で
あってよい。それが複素環状である場合には、例えばビ
リソン、ピリミジン、ピラジン、キノリン、キノキサリ
ン、インドール又はチオフェン系であってよい。適当な
炭素環系はベンゼン、ナフタレン及びビフェニルである
。
あってよい。それが複素環状である場合には、例えばビ
リソン、ピリミジン、ピラジン、キノリン、キノキサリ
ン、インドール又はチオフェン系であってよい。適当な
炭素環系はベンゼン、ナフタレン及びビフェニルである
。
Aが炭素環系であることが有利である。ベンゼン環が特
に有利である。
に有利である。
Dは有利に芳香族の置換又は非置換の1,2−キノンジ
アシド基である。特にこ几は1,2−ナフドキノン−2
−ジアジド−4−又は−5−スルホニル基である。
アシド基である。特にこ几は1,2−ナフドキノン−2
−ジアジド−4−又は−5−スルホニル基である。
n+m−2が有利であシ、それによってn及びmは必ず
しも整数でなければならないことはなく、それというの
もこれらは全体の分子に関係するからである。エステル
化の程度m/n+m ハ有利に0.7よシも小さい。
しも整数でなければならないことはなく、それというの
もこれらは全体の分子に関係するからである。エステル
化の程度m/n+m ハ有利に0.7よシも小さい。
環系A上の前記の置換基の位置はいかなる制限にも従わ
ない;こルらは化合物の製造上の入手しやすさに依存す
るだけである。
ない;こルらは化合物の製造上の入手しやすさに依存す
るだけである。
本発明によるポリマーの1.2−キノンジアジドは、更
に、一般式■: 〔式中R4は水素原子又はR5に結合されてよいカルボ
キシル基であり、これは後者がカルボキシル基である場
合には、酸無水物を形成し、R5はアルキル基、アルコ
キシ基、アルキルオキシカルボニル基、アシル基、アシ
ルオキシ基、アリール基、ホルミル基、シアニド基、カ
ルボキシル基、ヒドロキシル基又はアミノカルビニル基
であシかつR6は水素原子又は・・ロダン原子ス又はア
ルキル基である〕の繰シ返し単位を特徴とする単位を有
することができる。
に、一般式■: 〔式中R4は水素原子又はR5に結合されてよいカルボ
キシル基であり、これは後者がカルボキシル基である場
合には、酸無水物を形成し、R5はアルキル基、アルコ
キシ基、アルキルオキシカルボニル基、アシル基、アシ
ルオキシ基、アリール基、ホルミル基、シアニド基、カ
ルボキシル基、ヒドロキシル基又はアミノカルビニル基
であシかつR6は水素原子又は・・ロダン原子ス又はア
ルキル基である〕の繰シ返し単位を特徴とする単位を有
することができる。
R5又ニR6がアルキル基である場合には、こ几らは一
般に1〜4個の炭素原子を有する。R15の適当な代表
的なものは次のものである:1〜8個の炭素原子を有す
るアルコキシ基、2〜16個の炭素原子を有するアルコ
キシカルボニル基、2〜20個の炭素原子を有するアシ
ル基、2〜18個の炭素原子全有するアシルオキシ基及
び6〜10個の炭素原子を有するアリール基。
般に1〜4個の炭素原子を有する。R15の適当な代表
的なものは次のものである:1〜8個の炭素原子を有す
るアルコキシ基、2〜16個の炭素原子を有するアルコ
キシカルボニル基、2〜20個の炭素原子を有するアシ
ル基、2〜18個の炭素原子全有するアシルオキシ基及
び6〜10個の炭素原子を有するアリール基。
アミノカルビニル基は非置換であるか又は1〜8個の炭
素原子によって置換されてよ贋。
素原子によって置換されてよ贋。
本発明による化合物に、文献から公知の方法により(米
国特許第3635709号明細書又は西ドイツ国特許公
開第2507548号明細書)、適当な1,2−キノン
ジアジド酸りQ リドを、それらの基礎となるポリマー
のヒドロキシル基でエステル化することによって得う几
る。
国特許第3635709号明細書又は西ドイツ国特許公
開第2507548号明細書)、適当な1,2−キノン
ジアジド酸りQ リドを、それらの基礎となるポリマー
のヒドロキシル基でエステル化することによって得う几
る。
ポリマーの出発化合物及びそれらの基礎となるモノマー
の製造も公知である(欧州特許機構第0212439号
明細書及び西ドイツ国特許公開第3528928号明細
書)。
の製造も公知である(欧州特許機構第0212439号
明細書及び西ドイツ国特許公開第3528928号明細
書)。
ポリマーの出発化合物のうら、ピロがロールモノメタク
リレートのホモ−及びコポリマーが有利である。こ1ら
のポリマーの分子量は広い範囲内で変化してよい。分子
t5000〜100000Th有するポリマーが有利に
使用される。ポリマーのヒドロキシル数は有利に200
〜500の範囲内である。
リレートのホモ−及びコポリマーが有利である。こ1ら
のポリマーの分子量は広い範囲内で変化してよい。分子
t5000〜100000Th有するポリマーが有利に
使用される。ポリマーのヒドロキシル数は有利に200
〜500の範囲内である。
適当なポリマーの選択は、個々の場合に意図される使用
及び混合物又は、各々、複写層中に含有される他の成分
の特性に依存する。
及び混合物又は、各々、複写層中に含有される他の成分
の特性に依存する。
本発明による混合物を製造するtめに、1゜2−キノン
ソアゾド化合物金アルカリ性水容液中に可溶又は少なく
とも膨潤可能である水に不容性のパインをと有利に結合
させる。
ソアゾド化合物金アルカリ性水容液中に可溶又は少なく
とも膨潤可能である水に不容性のパインをと有利に結合
させる。
適当なパインpつ例は次のものを包含する:フェノール
/ホルムアルデヒド樹脂又はクレゾール/ホルムアルデ
ヒド樹脂、特にエポキシド、クロロ酢酸、インシアネー
ト等と公知方法で反応させることによって変性さnうる
ノボラック。
/ホルムアルデヒド樹脂又はクレゾール/ホルムアルデ
ヒド樹脂、特にエポキシド、クロロ酢酸、インシアネー
ト等と公知方法で反応させることによって変性さnうる
ノボラック。
更ニビニルフェノールのホモ−及びコポリマー、遊離フ
ェノール性ヒドロキシル基を有するアクリレートのポリ
マー、ヒドロキシフェニルマレイミドのコポリマーを使
用することができる。
ェノール性ヒドロキシル基を有するアクリレートのポリ
マー、ヒドロキシフェニルマレイミドのコポリマーを使
用することができる。
パイン戸ネ一般に、混合物の全重量に対して、約30〜
90重を係の量で使用する。
90重を係の量で使用する。
例えば使用1,2−キノンジアジド化合物のエステル化
の穆度、すなわち商m / m+nが比較的に小さい時
には、混合物をバインダーなしで製造することも可能で
ある。
の穆度、すなわち商m / m+nが比較的に小さい時
には、混合物をバインダーなしで製造することも可能で
ある。
更に多数の他の水溶性又は選択的に、アルカリ不溶性樹
脂を放射線感能性混合物中で使用することもできる。こ
nらは、コモノマーによって変性されうる、ビニルポリ
マー、例えばポリビニルアセテート、ポリアクリレート
、ポリビニルアセタール、ポリビニルエーテル又はポリ
ビニルヒロリドン全包含する。これらの樹脂の最も有利
な割合は適用要求及び現像条件への作用に依存し、一般
にアルカリ可溶樹脂の約20重量%よシも多くない。
脂を放射線感能性混合物中で使用することもできる。こ
nらは、コモノマーによって変性されうる、ビニルポリ
マー、例えばポリビニルアセテート、ポリアクリレート
、ポリビニルアセタール、ポリビニルエーテル又はポリ
ビニルヒロリドン全包含する。これらの樹脂の最も有利
な割合は適用要求及び現像条件への作用に依存し、一般
にアルカリ可溶樹脂の約20重量%よシも多くない。
特別な要求、例えば可撓性、付着性、光沢等の九めに、
感光性混合物は、付加的に少量のポリグリコール、セル
ロースエーテル、例えばエチルセルロース、湿潤剤及び
微分配顔料のような物質全含有してもよ^。
感光性混合物は、付加的に少量のポリグリコール、セル
ロースエーテル、例えばエチルセルロース、湿潤剤及び
微分配顔料のような物質全含有してもよ^。
最後に、感光性混合物に、そ1に加えら几て可溶性又は
細分された分散性染料及び用途に依シ紫外線(UV)吸
収剤を有してもよい。適当な染料は、特にそのカルビノ
ール塩基の形のトリフェニルメタン染料である。成分の
最も有利な混合比は予備実験によQ個々の場合に容易に
決定することができる。
細分された分散性染料及び用途に依シ紫外線(UV)吸
収剤を有してもよい。適当な染料は、特にそのカルビノ
ール塩基の形のトリフェニルメタン染料である。成分の
最も有利な混合比は予備実験によQ個々の場合に容易に
決定することができる。
また本発明は、放射線感能性混合物で被覆さf′L友層
支持体よシなる放射線感能性複写材料である。前記の材
料は、請求項1〜4に記載したよりな1,2−キノンジ
アシドを前記の混合物中に含有することt−特徴とする
。
支持体よシなる放射線感能性複写材料である。前記の材
料は、請求項1〜4に記載したよりな1,2−キノンジ
アシドを前記の混合物中に含有することt−特徴とする
。
適当な支持体全被覆する究めに、混合物音−般に溶剤中
に溶かす。溶剤の選択は、意図する被覆法、層厚及び乾
燥条件に適合されねばならない。原則的には、層成分と
相客性である全ての溶剤、例えばアルコール、ケトン、
エステル、塩素化されt炭化水素等を使用してよい。グ
リコールエーテルとの混合物が有利である。
に溶かす。溶剤の選択は、意図する被覆法、層厚及び乾
燥条件に適合されねばならない。原則的には、層成分と
相客性である全ての溶剤、例えばアルコール、ケトン、
エステル、塩素化されt炭化水素等を使用してよい。グ
リコールエーテルとの混合物が有利である。
放射線感能性混合物のための適当な支持材料は、複写法
で当業者に慣用される全ての材料である。挙げられる例
は、プラスチック薄III、銅層を有する絶縁シース、
機械的に又は電気化学的に粗面化された及び任意に陽極
酸化されたアルミニウム、スクリーン印刷ステンシル支
持体、木、セラミック、ガラス及びその表面が例えば窒
化珪素又は二酸化珪素に化学的に変換されていてよ論珪
素である。
で当業者に慣用される全ての材料である。挙げられる例
は、プラスチック薄III、銅層を有する絶縁シース、
機械的に又は電気化学的に粗面化された及び任意に陽極
酸化されたアルミニウム、スクリーン印刷ステンシル支
持体、木、セラミック、ガラス及びその表面が例えば窒
化珪素又は二酸化珪素に化学的に変換されていてよ論珪
素である。
厚さが1011m以上の層を得るための有利な基礎材料
は、転写層の仮支持材料として役立つプラスチック薄膜
である。この目的のためかつカラー校正フィルムのため
には、ポリエステル薄膜、例えばポリエチレンテレフタ
レートが有利である。ポリニレフィンフィルム、例エハ
ポリグロピレンが同様に適当である。
は、転写層の仮支持材料として役立つプラスチック薄膜
である。この目的のためかつカラー校正フィルムのため
には、ポリエステル薄膜、例えばポリエチレンテレフタ
レートが有利である。ポリニレフィンフィルム、例エハ
ポリグロピレンが同様に適当である。
厚さが約10μm以下の層を得るtめに使用される基礎
材料は通例金属である。
材料は通例金属である。
オフセット印刷版の場合には、次のものを使用すること
が可能である:例えばポリビニルホスホン酸、珪酸塩又
は燐酸塩で付加的に化学的前処理さ1ていてもよい機械
的又は化学的に粗薄化及び任意に陽極酸化されたアルミ
ニウム。
が可能である:例えばポリビニルホスホン酸、珪酸塩又
は燐酸塩で付加的に化学的前処理さ1ていてもよい機械
的又は化学的に粗薄化及び任意に陽極酸化されたアルミ
ニウム。
最後に、コーティングを直接又は仮の支持材料から層転
写により、一方又は両側に銅層を有する絶縁板よシなる
回路板材料上に、付着促進処理をされていてよいがラス
又はセラミック材料上に及びシリコーンウエノ・上に作
用することができる。
写により、一方又は両側に銅層を有する絶縁板よシなる
回路板材料上に、付着促進処理をされていてよいがラス
又はセラミック材料上に及びシリコーンウエノ・上に作
用することができる。
コーテイング後の乾燥のために、慣用の装置及び条件を
採用することが可能であシ、約100℃及び−時的に1
20℃までの温度は放射線感能性の損失なしに耐える。
採用することが可能であシ、約100℃及び−時的に1
20℃までの温度は放射線感能性の損失なしに耐える。
露光は、貫用の光源、例えば螢光灯、キセノンパルス灯
、金1ハライドを添加し定水銀蒸気高圧灯及びカーボン
・アーク灯で作用させてよい。放射線源としてアルゴン
イオンレーデ−を有するレーデ−放射装置、特に自動処
理系を特に有利に使用する。放射線を電子ビームで作用
することもできる。X−綜又はイオン線を同様に画像発
生のために使用してよい。
、金1ハライドを添加し定水銀蒸気高圧灯及びカーボン
・アーク灯で作用させてよい。放射線源としてアルゴン
イオンレーデ−を有するレーデ−放射装置、特に自動処
理系を特に有利に使用する。放射線を電子ビームで作用
することもできる。X−綜又はイオン線を同様に画像発
生のために使用してよい。
画像に応じて露光又は照射された層を公知方法で市販で
得られるナフトキノンジアジド層及びフォトレゾストt
−得るtめに公仰の現像液で処理することができ、かつ
新規材料はその複写性に幹いて有利に公矧の補助物、例
えば現像液及びプログラムを組み込まれた噴霧現像装置
に適合させることができる。現像水溶液は、例えばアル
カリ金属燐酸塩、珪酸塩、硼酸塩又は水酸化物及び同様
に湿潤剤、同じく所望の場合には、少量の有機溶剤も含
有してよい。特定の場合には、酸剤−水混合物が現像液
として適当である。最も有利な現は液の選択は、使用さ
れる個々の層上の実験によって決定することができる。
得られるナフトキノンジアジド層及びフォトレゾストt
−得るtめに公仰の現像液で処理することができ、かつ
新規材料はその複写性に幹いて有利に公矧の補助物、例
えば現像液及びプログラムを組み込まれた噴霧現像装置
に適合させることができる。現像水溶液は、例えばアル
カリ金属燐酸塩、珪酸塩、硼酸塩又は水酸化物及び同様
に湿潤剤、同じく所望の場合には、少量の有機溶剤も含
有してよい。特定の場合には、酸剤−水混合物が現像液
として適当である。最も有利な現は液の選択は、使用さ
れる個々の層上の実験によって決定することができる。
盛装ならば現鍬ヲ機械的に促進することもできる。
印刷版としての使用の場合には、英国特許第11547
49号明細書から779層に関して知られているように
、印刷中の耐久性及び洗出剤、修正剤及びUV−硬化性
印刷インキに対する抵抗金高めるために、高めた温度に
短時間加熱することができる。
49号明細書から779層に関して知られているように
、印刷中の耐久性及び洗出剤、修正剤及びUV−硬化性
印刷インキに対する抵抗金高めるために、高めた温度に
短時間加熱することができる。
本発明を次の実施例につきよ少詳細に説明し、例中重量
部(p、b、W、)及び容量部(p−b−v−)はI及
び13と同じ関係にある。他の記載のない限シ、「壬」
は「重量%」である。
部(p、b、W、)及び容量部(p−b−v−)はI及
び13と同じ関係にある。他の記載のない限シ、「壬」
は「重量%」である。
合成例1
1.2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホニル
クロリド60.5 g及びスチレン及びピロがロールモ
ノメタクリレートから得られかつ平均分子量23000
及びヒドロキシル数338を有するコモノマー1811
テトラヒドロフラン1ゆ中に溶かす。トリエチルアミン
23.91−1時間以内で滴加して攪拌し、その際温度
を冷却によって25℃で保つ。添加が終了した後に攪拌
t−2時間続ける。反応溶液を4チ濃度の塩酸20kI
I中に注ぐ。沈殿を濾別し、H2Oで十分に洗浄しかつ
40℃及び56.2・10”Pa(40mHg)で、重
量カ一定テ留’するまで乾燥する。得られるポリマーの
硫黄含量から、次のエステル化度が計算さnるニー −
0,206 m+n 合成例2 合成例1の工程に従って、1,2−ナフトキノン−2−
シアラド−4−スルホニルクロリドとして、ポリマーの
1.2−キノンジアジド化合物を製造する。得らルる生
成物にエステル化度0.204 t−有する。
クロリド60.5 g及びスチレン及びピロがロールモ
ノメタクリレートから得られかつ平均分子量23000
及びヒドロキシル数338を有するコモノマー1811
テトラヒドロフラン1ゆ中に溶かす。トリエチルアミン
23.91−1時間以内で滴加して攪拌し、その際温度
を冷却によって25℃で保つ。添加が終了した後に攪拌
t−2時間続ける。反応溶液を4チ濃度の塩酸20kI
I中に注ぐ。沈殿を濾別し、H2Oで十分に洗浄しかつ
40℃及び56.2・10”Pa(40mHg)で、重
量カ一定テ留’するまで乾燥する。得られるポリマーの
硫黄含量から、次のエステル化度が計算さnるニー −
0,206 m+n 合成例2 合成例1の工程に従って、1,2−ナフトキノン−2−
シアラド−4−スルホニルクロリドとして、ポリマーの
1.2−キノンジアジド化合物を製造する。得らルる生
成物にエステル化度0.204 t−有する。
合成例3
合成例1の工程に従って、メチルメタクリレート及びピ
ロがロールモノメタクリレートから得られかつ平均分子
量21000及びヒドロキシル数462を有するコポリ
マー195.!l”基質1ポリマーとして使用すること
全例外として、ポリマーの1,2−キノンジアジド化合
物を製造する。得らルる生成物はエステル化度0.15
t−有する。
ロがロールモノメタクリレートから得られかつ平均分子
量21000及びヒドロキシル数462を有するコポリ
マー195.!l”基質1ポリマーとして使用すること
全例外として、ポリマーの1,2−キノンジアジド化合
物を製造する。得らルる生成物はエステル化度0.15
t−有する。
例 1
塩酸中で電気分解によシ粗面化し、硫酸中で陽極酸化し
かつポリビニルホスホン酸での処理によって親水性にし
たアルミニウム板を次の容器でスぎンー被覆する: テトラヒドロフラン、プロピレングリコールモノメチル
エーテル及び酢酸ブチル(重量比2:2:1)よりなる
溶剤混合物91.72重量部中の合成例1の化合物
2.0重量部クレゾール−ホルムアルデヒド
ノボラック(DIN53181に従って細管法によシ測
定した融点105〜120°C”) 6
.0重量部、1.2−ナフトキノン−2−ジアジド−4
−スルホニルクロリド 0.2重量部及
び クリスタルバイオレット0.08重量部。
かつポリビニルホスホン酸での処理によって親水性にし
たアルミニウム板を次の容器でスぎンー被覆する: テトラヒドロフラン、プロピレングリコールモノメチル
エーテル及び酢酸ブチル(重量比2:2:1)よりなる
溶剤混合物91.72重量部中の合成例1の化合物
2.0重量部クレゾール−ホルムアルデヒド
ノボラック(DIN53181に従って細管法によシ測
定した融点105〜120°C”) 6
.0重量部、1.2−ナフトキノン−2−ジアジド−4
−スルホニルクロリド 0.2重量部及
び クリスタルバイオレット0.08重量部。
次いで板を100℃で2分間乾燥する。得られる層は厚
さ2μmt−有する。
さ2μmt−有する。
比較のために、もう1つの印刷版全同様の方法で、1,
2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホニルクロ
リド3モル及び2,3,4一トリヒドロキシベンゾフェ
ノン1モルカラ得らnるエステル化生成物2.0重量部
を合成例1の化合物の代シに加えることを例外として、
製造する。
2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホニルクロ
リド3モル及び2,3,4一トリヒドロキシベンゾフェ
ノン1モルカラ得らnるエステル化生成物2.0重量部
を合成例1の化合物の代シに加えることを例外として、
製造する。
110c1rLの距離に配置した5KW金属ハロrン化
物灯を用いて、印刷版をボゾチデ透明画を通して露光す
る。現像を、 H2O89,2重量部中の Na25i03X 9H208−5重量部NaOHO、
8重量部及び Na2 B2O−t x 10 Hs O1,5重量部
よシなる現像液を用いて行ない、この際、露光層部分は
除去される。
物灯を用いて、印刷版をボゾチデ透明画を通して露光す
る。現像を、 H2O89,2重量部中の Na25i03X 9H208−5重量部NaOHO、
8重量部及び Na2 B2O−t x 10 Hs O1,5重量部
よシなる現像液を用いて行ない、この際、露光層部分は
除去される。
印刷試験において、本発明により製造したオフセット印
刷版は、130000の良好な印刷を与えるが、比較印
刷版はほんの100000印刷数分の後に、著しく損傷
する。
刷版は、130000の良好な印刷を与えるが、比較印
刷版はほんの100000印刷数分の後に、著しく損傷
する。
例 2
硝酸中での電気分解によシ粗面化し、硫酸中で陽極酸化
しかつポリビニルホスホン酸での処理によシ親水性にし
tアルミニウム板を次の溶液でスピン−被覆する: 例1の溶剤混合物 91.72重量部中の合成
例2の化合物 2.0 重量部例1で記載し
たノボラック 5.9 重量部フェノール及びt−ブ
チルフェノールから得ら几かつDIN 53736に従
って測定した融点110〜120℃を有するノボラック 0.1 重量部 1.2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スルホニル
クロリド 0.2 重量部クリスタルバイオレ
ット 0.06重量部及びスーダンイエロー()G
N 0 、02重量部゛乾燥層厚は2μmであ
る。再び比較板を製造し、この際p−クミルフェノール
1モル及び1゜2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−
スルホニルクロリド1モルから得られるエステル化生成
物2.0重量部を合成例2の化合物の代りに使用する。
しかつポリビニルホスホン酸での処理によシ親水性にし
tアルミニウム板を次の溶液でスピン−被覆する: 例1の溶剤混合物 91.72重量部中の合成
例2の化合物 2.0 重量部例1で記載し
たノボラック 5.9 重量部フェノール及びt−ブ
チルフェノールから得ら几かつDIN 53736に従
って測定した融点110〜120℃を有するノボラック 0.1 重量部 1.2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スルホニル
クロリド 0.2 重量部クリスタルバイオレ
ット 0.06重量部及びスーダンイエロー()G
N 0 、02重量部゛乾燥層厚は2μmであ
る。再び比較板を製造し、この際p−クミルフェノール
1モル及び1゜2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−
スルホニルクロリド1モルから得られるエステル化生成
物2.0重量部を合成例2の化合物の代りに使用する。
印刷版の露光及び現像は、例1におけるように行なう。
本発明によるオフセット版は180000印刷を与える
が、比較板は130000印刷を与えるにすぎない。
が、比較板は130000印刷を与えるにすぎない。
例 3
硝酸中での電気分解によシ粗面化し、硫酸中で陽極酸化
しかつポリビニルホスホン酸での処理によシ親水性にし
たアルミニウム板Th17の溶液でスピン−被覆する: 例1の溶剤混合物 91.72重量部中の合成
例3の化合物 8.0 重量部2−(4−
スチリルフェニル)−4,6−ビス−トリクロロメチル
−S−トリアジン 0.2 重量部 クリスタル・バイオレット0.05重量部及びビクトリ
ア・ピュアー・デル− 0,03重量部 得られる乾燥ノー厚は2.3μmである。板を例1に記
載したように露光しかつH2O及び例1の現像液の50
: 50混合物で現像する。
しかつポリビニルホスホン酸での処理によシ親水性にし
たアルミニウム板Th17の溶液でスピン−被覆する: 例1の溶剤混合物 91.72重量部中の合成
例3の化合物 8.0 重量部2−(4−
スチリルフェニル)−4,6−ビス−トリクロロメチル
−S−トリアジン 0.2 重量部 クリスタル・バイオレット0.05重量部及びビクトリ
ア・ピュアー・デル− 0,03重量部 得られる乾燥ノー厚は2.3μmである。板を例1に記
載したように露光しかつH2O及び例1の現像液の50
: 50混合物で現像する。
印刷試験において、この方法で製造したオフセット印刷
版は170000印刷を与える。
版は170000印刷を与える。
例 4
印刷版を例1に従って、しかし次のバインダーの1種を
クレゾール−ホルムアルデヒドノボラックの代りに使用
して、製造する: a) 4−ヒドロキシスチレン及びスチレンからiら
れ、ヒドロキシ数250及び分子t 22000を有す
るコポリマー; b> 4−ヒトClキシスチレン、スチレン及ヒN−
メトキシメチルメタクリルアミド(50:35 : 1
5)から得られ、ヒドロキシル数237及び分子量23
000t−有するテルポリマー;C) カテコールモ
ノメタクリレート及びスチレン(70:30)から得ら
れ、ヒドロキシル数230及び分子t19500を有す
るコポリマー;及び a) カテコールモノメタクリレート、スチレン及び
N−メトキシメチルメタクリルアミド(70:15:1
5)から得られ、ヒドロキシル数265及び分子量20
500t−有するテルポリマー。
クレゾール−ホルムアルデヒドノボラックの代りに使用
して、製造する: a) 4−ヒドロキシスチレン及びスチレンからiら
れ、ヒドロキシ数250及び分子t 22000を有す
るコポリマー; b> 4−ヒトClキシスチレン、スチレン及ヒN−
メトキシメチルメタクリルアミド(50:35 : 1
5)から得られ、ヒドロキシル数237及び分子量23
000t−有するテルポリマー;C) カテコールモ
ノメタクリレート及びスチレン(70:30)から得ら
れ、ヒドロキシル数230及び分子t19500を有す
るコポリマー;及び a) カテコールモノメタクリレート、スチレン及び
N−メトキシメチルメタクリルアミド(70:15:1
5)から得られ、ヒドロキシル数265及び分子量20
500t−有するテルポリマー。
層は全て乾燥厚2μmKvN整する。露光及び現像は、
例1に従って行なう。次の印刷数を達成することができ
る: a)150000;b)140000;c)16[D[
D;及び(1) 150000゜
例1に従って行なう。次の印刷数を達成することができ
る: a)150000;b)140000;c)16[D[
D;及び(1) 150000゜
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、基本成分として1、2−キノンジアジドを含有する
放射線感能性混合物において、1、2−キノンジアジド
は、一般式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中Rは水素原子、ハロゲン原子、シアニド基又はア
ルキル基であり、R_1、R_2及びR_3は同じか又
は異なり、水素原子又はハロゲン原子、非置換の又は置
換されているアルキル基又はアルコキシ基を表わし、A
は単環又は二環の炭素環状又は複素環状の芳香族環系を
完成するために要求される原子を表わし、Dは1、2−
キノンジアジド原子団を有する基を表わし、かつn+m
は2又は3である〕の繰り返し単位よりなるポリマーで
あることを特徴とする放射線本能性混合物。 2、Rは水素原子又は1〜6個の炭素原子を有するアル
キル基を表わし、R_1、R_2及びR_3は水素原子
、1〜6個の炭素原子を有する非置換の又は置換された
アルキル基又はアルコキシ基を表わし、Aは炭素環の環
系を表わし、Dは1、2−ナフトキノン−2−ジアジド
−4−又は−5−スルホニル基を表わしかつn+mは2
である、請求項1記載の混合物。 3、1、2−キノンジアジドは、更に一般式II:▲数式
、化学式、表等があります▼(II) 〔式中R_4は水素原子又はR_5に結合されてよいカ
ルボキシル基であり、これは後者がカルボキシル基であ
る場合には、酸無水物を形成し、R_5はアルキル基、
アルコキシ基、アルキルオキシカルボニル基、アシル基
、アシルオキシ基、アリール基、ホルミル基、シアニド
基、カルボキシル基、ヒドロキシル基又はアミノカルボ
ニル基であり、かつR_6は水素原子又はハロゲン原子
又はアルキル基である〕の繰り返し単位を有する、請求
項1記載の混合物。 4、式中R_3は1〜4個の炭素原子を有するアルキル
基、1〜8個の炭素原子を有するアルコキシ基、2〜1
3個の炭素原子を有するアルコキシカルボニル基、2〜
20個の炭素原子を有するアシル基、2〜18個の炭素
原子を有するアシルオキシ基又は6〜10個の炭素原子
を有するアリール基を表わし、かつR_6は1〜4個の
炭素原子を有するアルキル基を表わす、請求項3記載の
混合物。 5、水に不溶性であるがアルカリ性水溶液に可溶又は少
なくとも膨潤性であるバインダーを含有する、請求項1
から4項までのいずれか1項記載の混合物。 6、バインダーはノボラックである、請求項5記載の放
射線感能性混合物。 7、層支持体及びその上に塗布する放射線感能性混合物
よりなる放射線感能性複写材料において、混合物は、請
求項1から4までのいずれか1項記載の1、2−キノン
ジアジドを含有する放射線感能性複写材料。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19873731439 DE3731439A1 (de) | 1987-09-18 | 1987-09-18 | Strahlungsempfindliches gemisch und hieraus hergestelltes kopiermaterial |
DE3731439.4 | 1987-09-18 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01100538A true JPH01100538A (ja) | 1989-04-18 |
Family
ID=6336339
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63232754A Pending JPH01100538A (ja) | 1987-09-18 | 1988-09-19 | 放射線感能性混合物及び放射線感能性複写材料 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0307828A3 (ja) |
JP (1) | JPH01100538A (ja) |
KR (1) | KR890005573A (ja) |
BR (1) | BR8804797A (ja) |
DE (1) | DE3731439A1 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000122272A (ja) * | 1998-08-14 | 2000-04-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版の製造方法および感光性樹脂組成物 |
WO2006100942A1 (ja) * | 2005-03-18 | 2006-09-28 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 感光性樹脂組成物およびカラーフィルタ |
JP2007033517A (ja) * | 2005-07-22 | 2007-02-08 | Showa Highpolymer Co Ltd | 感光性の樹脂組成物 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4003025A1 (de) * | 1990-02-02 | 1991-08-08 | Hoechst Ag | Strahlungsempfindliches gemisch, hiermit hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von reliefaufzeichnungen |
DE4106356A1 (de) * | 1991-02-28 | 1992-09-03 | Hoechst Ag | Strahlungsempfindliche polymere mit naphthochinon-2-diazid-4-sulfonyl-gruppen und deren verwendung in einem positiv arbeitenden aufzeichnungsmaterial |
DE4106357A1 (de) * | 1991-02-28 | 1992-09-03 | Hoechst Ag | Strahlungsempfindliche polymere mit 2-diazo-1,3-dicarbonyl-gruppen, verfahren zu deren herstellung und verwendung in einem positiv arbeitenden aufzeichnungsmaterial |
US5362597A (en) * | 1991-05-30 | 1994-11-08 | Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. | Radiation-sensitive resin composition comprising an epoxy-containing alkali-soluble resin and a naphthoquinone diazide sulfonic acid ester |
JP2000347397A (ja) | 1999-06-04 | 2000-12-15 | Jsr Corp | 感放射線性樹脂組成物およびその層間絶縁膜への使用 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA1005673A (en) * | 1972-12-22 | 1977-02-22 | Constantine C. Petropoulos | Positive printing plate incorporating diazoquinone |
DE3528930A1 (de) * | 1985-08-13 | 1987-02-26 | Hoechst Ag | Polymere verbindungen und diese enthaltendes strahlungsempfindliches gemisch |
DE3528929A1 (de) * | 1985-08-13 | 1987-02-26 | Hoechst Ag | Strahlungsempfindliches gemisch, dieses enthaltendes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von reliefbildern |
-
1987
- 1987-09-18 DE DE19873731439 patent/DE3731439A1/de not_active Withdrawn
-
1988
- 1988-09-10 EP EP88114835A patent/EP0307828A3/de not_active Withdrawn
- 1988-09-15 KR KR1019880011898A patent/KR890005573A/ko not_active Application Discontinuation
- 1988-09-16 BR BR8804797A patent/BR8804797A/pt unknown
- 1988-09-19 JP JP63232754A patent/JPH01100538A/ja active Pending
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US7858275B2 (en) | 2005-03-18 | 2010-12-28 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Photosensitive resin composition and color filter |
JP2007033517A (ja) * | 2005-07-22 | 2007-02-08 | Showa Highpolymer Co Ltd | 感光性の樹脂組成物 |
JP4713262B2 (ja) * | 2005-07-22 | 2011-06-29 | 昭和電工株式会社 | 感光性の樹脂組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
BR8804797A (pt) | 1989-04-25 |
KR890005573A (ko) | 1989-05-15 |
DE3731439A1 (de) | 1989-03-30 |
EP0307828A2 (de) | 1989-03-22 |
EP0307828A3 (de) | 1990-05-16 |
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