WO2006070728A1 - 含フッ素ジアミンおよびそれを用いた重合体 - Google Patents

含フッ素ジアミンおよびそれを用いた重合体 Download PDF

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Kazuhiro Yamanaka
Kazuhiko Maeda
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Central Glass Company, Limited
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    • C08G73/1039—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors comprising halogen-containing substituents

Definitions

  • the present invention relates to a novel hexafluoroisopropanol group-containing diamine or a derivative thereof
  • the present invention relates to a polymer obtained by using the hexafluoroisopropanol group-containing diamine or a derivative thereof.
  • diamine is used as a monomer for condensation or addition polymerization of polyimide, polyamide, polyamine, polyurea and the like. Since the obtained polymer has a cyclic structure in the molecule, it has many characteristics such as thermal decomposition temperature and mechanical stability such as tensile strength and bending strength, and excellent thermal stability such as thermal deformation temperature. It is positioned as a high-performance engineering plastic.
  • Non-Patent Document 1 describes the reduction of dielectric constant of fluorine-containing polyimide, and Non-Patent Document 2 cited therein decreases the dielectric constant by increasing the fluorine content. It is disclosed.
  • Fluorine-containing compounds are mainly in the cutting-edge field because of their characteristics such as low water absorption, heat resistance, weather resistance, corrosion resistance, transparency, low refractive index, and low dielectric properties of fluorine atoms. Are used in a wide range of application fields, mainly in the coating field at each wavelength.
  • Patent Document 3 discloses an invention of an optical waveguide composed of fluorine-containing polyimide, but discloses that an adhesive layer needs to be provided in order to improve the adhesion to the substrate. . Accordingly, there has been a demand for a fluorine-containing polymer that exhibits characteristics such as low dielectric properties and high transparency while maintaining a high fluorine content and maintaining adhesion.
  • Non-Patent Document 1 Japan Polyimide Study Group "Latest Polyimide: Basics and Applications” P269-283 (2002)
  • Non-Patent Document 2 Nitto Technical Report, 28 (2), 49, (1990)
  • Patent Document 1 Japanese Patent Laid-Open No. 2001-100055
  • the present invention has been made in view of the above problems, has low dielectric properties and high transparency, and has high solubility in an aqueous alkali solution and an organic solvent used as a developer, and to a substrate.
  • a fluorine-containing polymer that exhibits characteristics such as low dielectric properties and high transparency while maintaining a high fluorine content and maintaining adhesion. And the issue.
  • the present inventors diligently studied the development of a novel diamine, and as a result, found a novel monomer that introduces a hexafluoroisopropanol group into the same molecule.
  • a novel monomer that introduces a hexafluoroisopropanol group into the same molecule.
  • the hexafluoroisopropanol group-containing polymer used in the present invention contains fluorine and a hydroxyl group, and thus exhibits characteristics such as low dielectric constant and high transparency while maintaining adhesion. Is possible.
  • An object of the present invention is to provide a novel hexafluoroisopropanol group-containing diamine as a starting material for a fluoropolymer having the above-mentioned excellent properties.
  • a further object of the present invention is to provide a polymer and an acid labile compound using the above-mentioned diamine derivative, and further a hexafluoroisopropanol group-containing diamine or a derivative thereof.
  • a fluorine-containing diamine represented by the formula (1).
  • the first polymer is a fluorine-containing polyamic acid.
  • This polyamic acid is composed of diamine represented by formula (1) and formula (2).
  • R is a tetravalent organic group containing an aromatic ring, and the carbonyl carbon is mutually ortho-positioned to the aromatic ring of R so as to form an imidazole five-membered ring. It is a polymer represented by.
  • the second polymer is a fluorine-containing polyimide resin (hereinafter may be abbreviated as “fluorinated polyimide”).
  • fluorinated polyimide is a polymer obtained by dehydrating the fluorine-containing polyamic acid, and has the formula (5)
  • the third polymer is a fluorine-containing polyamide resin (hereinafter may be abbreviated as “fluorinated polyamide”).
  • fluorinated polyamide This fluorine-containing polyamide resin is composed of diamine represented by formula (1) and formula (6)
  • XCR ⁇ CX (6) (Wherein R 1 is a divalent organic group containing an aromatic ring, X is an OH group, a halogen (fluorine, chlorine, bromine or iodine) atom or OR ′ group, and R ′ is an alkyl group or phenyl)
  • FIG. 1 is a 1 H-NMR spectrum of the dinitro compound (formula (9)) obtained in Example 1.
  • FIG. 2 is a 1 H-NMR spectrum of the fluorinated diamine (formula (1)) obtained in Example 2.
  • FIG. 3 is a 1 H-NMR spectrum of the fluorine-containing polyamic acid (formula (10)) obtained in Example 3.
  • FIG. 4 is an infrared absorption spectrum of the fluorine-containing polyimide (formula (11)) obtained in Example 5. Detailed description
  • the fluoropolymer of the present invention has a low dielectric constant and a low thermal expansion coefficient while maintaining properties such as mechanical strength and thermal stability, and is well dissolved in an organic solvent and an alkaline aqueous solution as a developer. Insulating materials for electrical and electronic parts are useful as coating materials for optical parts.
  • the present invention relates to a hexafluoroisopropanol group-containing diamine represented by formula (1) (hereinafter referred to as fluorine-containing diamine (1)) and its application. Further, the present invention relates to a polymer or an acid labile compound using the fluorine-containing diamine (1) as a starting material.
  • the production method of the fluorine-containing diamine of the present invention is not particularly limited, but for convenience, 3,5-dinitrobenzoyl chloride and formula (8)
  • both raw materials are dissolved in an organic solvent and reacted, or both raw materials are dissolved together
  • a method of melting (melting) and reacting without solvent is employed.
  • the reaction is performed in the presence of equimolar amounts of both raw materials in a temperature range of ⁇ 20 to 80 ° C. in an organic solvent and 100 to 250 ° C. in the absence of a solvent. If the temperature is lower than these temperature ranges, the reaction does not proceed, and if it is higher, side reactions tend to occur.
  • 3,5-dinitrobenzoic acid can be used instead of 3,5-dinitrobenzoyl chloride.
  • a catalytic hydrogenation method using hydrogen gas or a chemical hydrogenation method usually using a metal and an acid is employed.
  • a method in which hydrogen gas is brought into contact with each other in the temperature range of 20 to 100 ° C. in an organic solvent in the presence of a nitro compound and a palladium or platinum catalyst can be mentioned.
  • the organic solvent used in the condensation reaction and the reduction reaction is not particularly limited as long as the raw material or the reaction product is dissolved.
  • N N-dimethylformamide (DMF), N, N—dimethylacetamide (DMAc), dimethyl sulfoxide (DMSO), phenol, o-cresol, N-methyl _2 pyrrolidone, sulfolane, m_cresol, p _Cresol, 3-black mouth phenol, 4-black mouth phenol, ⁇ -butarate rataton, ⁇ -valerolataton, ⁇ valerolataton, ⁇ -force prolataton, ⁇ -force prolataton, ⁇ -methyl- ⁇ -butalate rataton, ethylene carbonate, propylene carbonate, Triethylene glycol, acetophenone, 1,3-dimethyl_2-imidazolidinone, butyl acetate, ethyl acetate, ethinorecerosor
  • the polymer according to the present invention is produced using the fluorine-containing diamine represented by the formula (1) or a derivative thereof, and the polymer is not particularly limited, but polyimide, polyamide, polyamine, poly Examples include urea and its precursor polyamic acid and the like, and polyamides, polyesterimides, and other copolymers of these several condensation reactions.
  • polyimides can be expected to have a wide range of applications as electronic materials and optical materials with high heat resistance.
  • the method for producing the fluorine-containing polymer of the present invention is not particularly limited, but fluorine-containing amine (1) is used as a monomer for the synthesized amide, ester and ether-forming derivatives, and the reactive functional groups thereof. Polymerized with a reactive monomer by a mechanism such as condensation, addition polymerization or polyaddition. Therefore, when synthesizing polyester and polyether, a diol compound is used as a monomer, and when synthesizing polyamide, a diamine compound is used as a monomer.
  • the structures of these counter monomers that can be used in the present invention are not particularly limited, and known compounds can be used.
  • the diamine compounds that can be used in combination are not particularly limited, but specific examples include 3,5-diaminobenzotrifluoride, 2,5 _diaminobenzotrifluoride, 3,3 '_bistrifnore rometinore _4, 4 '— Aminobiphenyl, 3, 3'-bistrifluoromethyl-1,5,5,1-diaminobiphenyl, bis (trifluoromethyl) 4,4'-diaminodiphenyl, bis (fluorinated alkyl) 4, 4, -diaminodiphenyl Ninole, dichloro-4,4'-diaminodiphenyl, dib-mouthed 4,4'-diaminodiphenyl, bis (fluorinated alkoxy) -1,4,1, diaminodiphenyl, diphenyl-1,4,4'-diaminodiphenyl, 4 , 4'-bis (4-aminotetrafluorophenoxy)
  • the fluorine-containing polyamic acid of the present invention has the formula (4) (wherein R is a tetravalent organic group containing an aromatic ring. Yes, the carbonyl carbons are bonded to the R aromatic ring in the ortho position to form an imide five-membered ring. ) -Containing polyamic acid represented by
  • the fluorine-containing polyimide in the present invention is represented by the formula (5) (wherein R is a tetravalent organic group containing an aromatic ring, and the carbonyl carbon forms an imide five-membered ring. And a fluorine-containing polyimide containing a structural unit represented by).
  • the fluorine-containing polyimide of the present invention is a polymer having a constitutional unit represented by the formula (5) or a constitutional unit in the range of:! To 100 mol%.
  • the structural unit represented by the formula (5) is 1 mol% or less, the dielectric constant of the film obtained therefrom is not sufficiently low, which is not preferable.
  • R in formula (4) or (5) is not particularly limited as long as it is a tetravalent organic group containing an aromatic ring.
  • Y in the formula is independently a single bond, _ ⁇ _, one S-, -SO-, _C ⁇ _,-
  • the benzene ring is optionally substituted with a lower alkyl group of c, chlorine, odor.
  • a halogen atom such as elemental or fluorine.
  • m 0 and n is 1 are particularly preferred.
  • a substituent of the formula (3) can be exemplified.
  • the benzene ring in these formulas is suitably substituted with a C_C lower alkyl group, a halogen atom such as chlorine, bromine or fluorine.
  • the structure of the tetracarboxylic dianhydride that can be used in the present invention is not particularly limited, but examples thereof include trifluoromethylbenzene tetracarboxylic dianhydride and bistrifluoromethylbenzene tetracarboxylic dianhydride.
  • Anhydride Difluorobenzenetetracarboxylic dianhydride, Biphenyl tetracarboxylic dianhydride, Turfenyl tetracarboxylic dianhydride, Hexafluoroisopropylidenediphthalic dianhydride, Oxydiphthalic acid Dianhydride, bicyclo (2, 2, 2) octo-7-en-1,2,5,5,6-tetra-force norebonic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ) Fluoropropanoic acid dianhydride (6FDA).
  • the fluorine-containing polyimide of the present invention and the fluorine-containing polyamic acid which is a precursor thereof can be produced by reacting the diamine component with the tetracarboxylic dianhydride.
  • the method and conditions for this polymerization reaction are not particularly limited.
  • An almost or completely ring-closed polyimide can be obtained by a method of reacting at a medium to high temperature (100 to 250 ° C, preferably 150 to 200 ° C).
  • the diamine component and the tetracarboxylic dianhydride are reacted in an organic solvent at a temperature of -20 to 80 ° C., or the ring is not partially closed.
  • the precursor fluorine-containing polyamic acid or partially ring-closed imide is in the temperature range of 100 to 350 ° C, preferably 250 to 300 ° C, and acetic anhydride, propionic anhydride, Appropriate addition of an acid anhydride such as water-free benzoic acid, a ring-closing agent such as dicyclohexylenocarposimide, and a ring-closing catalyst such as pyridine, isoquinoline, trimethylolamine, aminoviridine, imidazole, etc. Can be polyimide.
  • a diester dicarboxylic acid derivative obtained by ring-opening the tetracarboxylic dianhydride with an alcohol and a dihalide derivative thereof can also be polymerized with the diamine.
  • the polyimide precursor in this case is a polyamic acid ester, which is superior to polyamic acid in terms of long-term storage stability.
  • the fluorine-containing polyamide of the present invention is represented by the formula (7) (wherein R 1 is a divalent organic group containing an aromatic ring.
  • R 1 is a divalent organic group containing an aromatic ring.
  • R 1 is not particularly limited as long as it is a divalent organic group containing an aromatic ring.
  • Y in the formula is each independently a single bond, O S— —SO 2 CO——
  • the benzene rings in these formulas are optionally substituted with a C C lower alkyl group, chlorine, bromine, fluorine.
  • the dicarboxylic acid, dicarboxylic acid dihalide, and dicarboxylic acid diester represented by the formula (6) that can be used in the present invention are not particularly limited in structure, but widely known corresponding compounds are widely used. It is possible to use.
  • the halogen atom used in the dicarboxylic acid dihalide include fluorine, chlorine, bromine and iodine atoms.
  • dicarboxylic acid dichloride and dicarboxylic acid dibromide using chlorine and bromine atoms are preferably used.
  • the R ′ of the 10R ′ group used in the dicarboxylic acid diester is not particularly limited. However, the methyl group, the ethyl group, the propyl group, the butyl group, the hexyl group, the Noel group, and the like of CC
  • a phenyl group substituted with an alkyl group such as an alkyl group, a methyl group or an ethyl group includes an unsubstituted phenyl group, and in particular, a methyl group, an ethyl group or a phenyl group is used.
  • Dicarboxylic acid dimethyl ester, dicarboxylic acid jetyl ester, and dicarboxylic acid diphenyl ester are preferably used.
  • oxalic acid, malonic acid, succinic acid, gnoretaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid and other aliphatic dicarboxylic acids phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid Acid, 3, 3'-dicarboxyl diphenyl ether, 3, 4 'dicanoloxyl diphenyl ether, 4, 4'-dicarboxyl diphenyl ether, 3, 3'-dicarboxyl diphenyl methane, 3, 4' —Dicarboxyldiphenylmethane, 4, 4 ′ —Dicarboxyldiphenylmethane, 3, 3′—Dicarboxyldiphenyldifluoromethane, 3,4′—Dicarboxyldiphenyldifluoromethane, 4, 4′— Dicarboxyldiphenyldifluorome
  • dicarboxylic acid dihalides such as dichlorides and dibromides of the corresponding dicarboxylic acids
  • dicarboxylic acid dialkyl esters such as dimethyl ester and jetyl esters
  • dicarboxylic acid diphenyl esters These may be used alone or in combination of two or more.
  • the fluorine-containing polyamide of the present invention is produced by reacting the fluorine-containing diamine component represented by the formula (1) with the dicarboxylic acid, dicarboxylic acid dihalide or dicarboxylic acid diester represented by the formula (6). Can do.
  • the polymerization reaction method and conditions are not particularly limited.
  • a method in which the amide-forming derivative of the diamine component and the dicarboxylic acid is dissolved (melted) with each other in a temperature range of 100 to 250 ° C., preferably 150 to 200 ° C., and reacted without a solvent examples thereof include a method of reacting in an organic solvent at a high temperature (100 to 250 ° C, preferably a temperature range of 150 to 200 ° C) and a method of reacting in an organic solvent at a temperature of 20 to 80 ° C.
  • the organic solvent that can be used for the polymerization reaction of the fluorine-containing polymer (fluorine-containing polyamic acid, fluorine-containing polyamide, and fluorine-containing polyimide) according to the present invention is not particularly limited as long as both components of the raw material are dissolved.
  • N-dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide (DMAc), dimethyl sulfoxide (DMSO), phenol, o_cresol, N-methyl-2-pyrrolidone, sulfolane, m_cresol, p_cresol, 3_ Black mouth phenolic, 4_ Black mouth phenol, ⁇ -Buchira rataton, ⁇ —Valerolataton, ⁇ —Valerolataton, y—Strength prolatatone, ⁇ —Strength prolatatone, Hiichi-methyl 1 y-Butuchilatataton, ethylene carbonate, propylene carbonate , Triethylene glycol, acetophenone, 1, 3 Dimethyl-2-imidazolidinone can be used.
  • a precipitation method is employed as a post-treatment method after the polymerization reaction of the fluorine-containing polymer (fluorine-containing polyamic acid, fluorine-containing polyamide and fluorine-containing polyimide) according to the present invention.
  • the solvent is not particularly limited as long as the unreacted raw material monomer is dissolved and the fluoropolymer is precipitated, but butyl acetate, ethinole acetate, ethyl acetate sorb, butyl cellonolev, 2-methylcellosonoleb acetate, ethyl acetate.
  • the fluorine-containing polymer (fluorine-containing polyamic acid, fluorine-containing polyamide, and fluorine-containing polyimide) in the present invention, each dissolved in dimethylacetamide (DMAc) is 0.1 lg / dl in the solvent.
  • DMAc dimethylacetamide
  • Those having a reduced viscosity, which is dissolved at a concentration and measured at 30 ° C. with an Ostwald viscometer, are not less than 0.3 OldlZg, particularly not less than 0.3 dlZg.
  • a reduced viscosity is preferably 0.01 dl / g or more for maintaining the shape, and particularly 0.3 dlZg or more for ensuring strength.
  • the fluorine-containing polymer (fluorine-containing polyamic acid, fluorine-containing polyamide and fluorine-containing polyimide) of the present invention is in a varnish state dissolved in an organic solvent, or in a powder state, a film state, or a solid state. It can be used in a state. When used in varnishes, it is applied by a commonly used method such as spin coating, spray coating, flow coating, impregnation coating or brush coating on a substrate such as glass, silicon wafer, metal, metal oxide, ceramics, or resin. can do.
  • reducing the dielectric constant of a material is effective for reducing signal delay in a semiconductor device, and in order to prevent cracks at different material interfaces, the thermal expansion coefficient of the material is aligned ( Since organic materials have a larger expansion coefficient than inorganic materials, it is effective to make the thermal expansion coefficients uniform for organic materials).
  • the hexafluoroisobropanol group-containing polyimide in the present invention is excellent in that it has both the above-mentioned properties of low dielectric constant and low thermal expansion coefficient, and also has solubility in an alkaline aqueous solution.
  • the NMR spectrum suggested the structure of formula (9) shown below.
  • the NMR spectrum is shown in Fig. 1.
  • Example 1 The compound obtained in Example 1 (formula (9)) 9.90g, 10% _ palladium carbon 0.97g, N, N-dimethylformamide (DMF) 75ml was added to a 300_ml three-necked flask, It was equipped with a hydrogen balloon and stirred at room temperature for 12 hours. The reaction mixture was treated with celite, the obtained filtrate was poured into water, and the resulting precipitate was recovered. Recrystallization refined with a mixed solvent of methanol and water to obtain 5.13 g (yield 57%) of white powder.
  • the NMR spectrum indicated the structure of formula (1) above.
  • the NMR spectrum is shown in FIG.
  • Example 3 When the polymer obtained in Example 3 (formula (10)) was dissolved in dimethylacetamide (DMAc) and spread on a glass plate and heat-treated at 250 ° C, it was highly transparent and strong. Film Obtained. From the IR spectrum of the obtained film, the structure was found to be the following fluorine-containing polyimide (formula (11)). When the dielectric constant of the obtained fluorine-containing polyimide film was measured, it was 2.5 at 1 MHz. The linear thermal expansion coefficient of this film was measured to be 50 to 300. 4 X 10- 5 / the average value of C. C. This film was dissolved in 2.38 wt% tetramethylammonium aqueous solution.
  • DMAc dimethylacetamide
  • the fluorine-containing polyimide obtained by the chemical imidization is not only DMF and DMAc but also low-boiling organic solvents such as acetone, methanol, tetrahydrofuran, propylene glycol monomethyl ether acetate, and 2.38 wt. Good solubility in% tetramethylammonium aqueous solution.

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Description

明 細 書
含フッ素ジァミンおよびそれを用いた重合体
技術分野
[0001] 本発明は、新規なへキサフルォロイソプロパノール基含有ジァミンまたはその誘導体
、さらには該へキサフルォロイソプロパノール基含有ジァミンまたはその誘導体を用 いて得られた重合体に関する。
発明の背景
[0002] 一般にジァミンは、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミン、ポリ尿素などの縮合または付カロ 重合用モノマーとして使用される。得られた重合体は主として分子内に環状構造を有 するため、引っ張り強度、曲げ強度などの機械的強度が大きぐ熱分解温度、熱変形 温度などの熱的安定性に優れる等の多くの特徴があり、高性能エンジニアリングブラ スチックとして位置づけられてレ、る。
[0003] これらの樹脂についてはエンジニアリングプラスチック、耐熱性コーティング材料、 電子材料、電子部品材料、光学材料など様々な応用がなされているが、特に半導体 や光学用部材への用途を想定すると、通信機器の発達とともに高速処理用、高周波 用などのニーズが増加していることから、その結果として、低誘電率性や高透明性が 求められている。また低熱膨張であることも重要なポイントとされている。このような低 誘電率を付与するための手段や高透明性を与える手段としては電子密度を低下させ る含フッ素重合体が活発に研究されている。例えば、非特許文献 1には、含フッ素ポ リイミドの低誘電率化に関しての記載があり、その中で引用されている非特許文献 2 には、フッ素含量を増加させることにより誘電率が低くなることが開示されている。
[0004] 含フッ素化合物は、フッ素原子が有する低吸水性、耐熱性、耐候性、耐腐食性、透 明性、低屈折率性、低誘電性などの特徴を持つことから最先端分野を中心に幅広い 応用分野で利用されており、主に各波長におけるコーティング分野で応用されている
[0005] 従来、該含フッ素重合体中のフッ素含量を上げる方法としては、長鎖パーフルォロ アルキルの導入や芳香環の水素をフッ素で置換する方法が知られている力 多くの 場合、これらの方法はシリコン基板に対する密着性を低下させてしまう。例えば、特許 文献 3には、含フッ素ポリイミドで構成される光導波路の発明が開示されているが、基 板との密着性を改善するために接着層を設ける必要があることが開示されている。そ こで、高いフッ素含有量を維持および密着性を保持しつつ、低誘電性や高透明性な どの特性を発現する含フッ素重合体が求められていた。
非特許文献 1 :日本ポリイミド研究会編「最新ポリイミド—基礎と応用—」 P269〜283 ( 2002年）
非特許文献 2 :日東技報， 28 (2) , 49， (1990)
特許文献 1：特開 2001— 100055号公報
発明の概要
[0006] 本発明は、上記の問題を鑑みてなされたものであり、低誘電性、高透明性を有し、 かつ現像液として使用されるアルカリ水溶液および有機溶媒への高溶解性、基板へ の高密着性、高成膜性を達成するため、高いフッ素含有量を維持および密着性を保 持しつつ、低誘電性や高透明性などの特性を発現する含フッ素重合体を提供するこ とを課題とする。
[0007] 本発明者らは、上記の課題を解決するため、新規のジァミンの開発に鋭意検討し たところ、同一分子内にへキサフルォロイソプロパノール基を導入する新規なモノマ 一を見出し、かつその重合体を種々検討することで、これまでにない誘電率の低下、 透明性の向上、かつ現像液として使用されるアルカリ水溶液および有機溶媒への高 溶解性、基板への高密着性、高成膜性を実現し、本発明を完成するに至った。本発 明で用いるへキサフルォロイソプロパノール基含有重合体は、フッ素と水酸基とを含 有しているため、密着性を保持しつつ、低誘電性や高透明性などの特性を発現する ことが可能となる。
[0008] 本発明の目的は、上記の優れた特性を有する含フッ素重合体の出発物質となる新 規なへキサフルォロイソプロパノール基含有ジァミンを提供することである。
[0009] 本発明のさらなる目的は前記ジァミンの誘導体、さらにはへキサフルォロイソプロパノ ール基含有ジァミンまたはその誘導体を用いた重合体及び酸不安定性化合物の提 供することである。 本発明は依れば、式（1 )で表される含フッ素ジァミンが提供される。
[化 1]
Figure imgf000005_0001
さらに、本発明に依れば、上記含フッ素ジァミン (モノマー）由来の 3種類の含フッ素 重合体が提供される。その第 1重合体は含フッ素ポリアミド酸である。このポリアミド酸 は、式（1 )で示されるジァミンと式（2)
[化 2]
Figure imgf000005_0002
で表されるテトラカルボン酸あるいは式（3)
[化 3]
Figure imgf000005_0003
で表されるテトラカルボン酸二無水物を反応させて得られる重合体であって、式 (4)
Figure imgf000006_0001
(式（2)、（3)、（4)中、 Rは芳香環を含む 4価の有機基であり、カルボニル炭素はイミ ド五員環を形成するように Rの芳香環に互いにオルト位に結合している。）で示される 重合体である。
第 2重合体は含フッ素ポリイミド樹脂である（以下 「含フッ素ポリイミド」と省略する場 合もある）。この含フッ素ポリイミド樹脂は、前記含フッ素ポリアミド酸を脱水して得られ る重合体であって、式（5)
[化 5]
Figure imgf000006_0002
(式中、 Rは式 (4)と同じ)で示される重合体である。
第 3重合体は含フッ素ポリアミド樹脂である（以下、「含フッ素ポリアミド」と省略する場 合もある）。この含フッ素ポリアミド樹脂は、式（1)で示されるジァミンと式（6)
[化 6]
0 0
II , II
X-C-R^C-X (6) (式中、 R1は芳香環を含む 2価の有機基である。 Xは OH基、ハロゲン (フッ素、塩 素、臭素またはヨウ素）原子または OR'基で R'はアルキル基またはフエ二ル基を 示す。）で示されるジカルボン酸、ジカルボン酸ハライドおよびジカルボン酸ジエステ ルから選ばれる 1種とを反応させて得られる重合体であって、式（7)
[化 7]
Figure imgf000007_0001
(式中、 R1は式 (6)と同じ)で表される構成単位を含む重合体である。
図面の簡単な説明
[0014] [図 1]実施例 1で得られたジニトロ化合物（式（9) )の1 H—NMRスぺクトノレである。
[図 2]実施例 2で得られた含フッ素ジァミン（式（1) )の1 H— NMRスペクトルである。
[図 3]実施例 3で得られた含フッ素ポリアミド酸（式（10) )の1 H— NMRスペクトルであ る。
[図 4]実施例 5で得られた含フッ素ポリイミド（式（11) )の赤外吸収スペクトルである。 詳細な説明
[0015] 本発明により、高いフッ素含有量を維持および密着性を保持しつつ、低誘電性や高 透明性などの特性を発現する新規な含フッ素ポリイミドまたはその前駆体である含フ ッ素ポリアミド酸さらにそれらの重合体が提供できる。
[0016] 本発明の含フッ素重合体は機械的強度、熱的安定性などの特性を維持したまま、 低誘電率かつ低熱膨張係数で、しかも有機溶媒および現像液であるアルカリ水溶液 に良好な溶解性を示すことから、電気 ·電子部品の絶縁材ゃ光学部品のコーティン グ材として有用である。
[0017] 以下に本発明を詳細に説明する。 [0018] 本発明は式（1)で表されるへキサフルォロイソプロパノール基含有ジァミン（以下、含 フッ素ジァミン（1)という）、及びその応用に関するものである。さらに、該含フッ素ジ ァミン（1)を出発原料にした重合体あるいは酸不安定性化合物に関する。本発明の 含フッ素ジァミン ）の製造方法は特に限定されないが、簡便には 3， 5—ジニトロべ ンゾイルク口リドと式（8)
Figure imgf000008_0001
で表される化合物を原料として、それらの縮合反応と、ニトロ基の還元により製造する こと力 Sできる。
[0019] 例えば、 3, 5—ジニトロべンゾイルク口リドと式（8)で表される化合物との縮合反応で は、両原料を有機溶媒に溶解し反応する方法、もしくは両原料を相互に溶解 (溶融） させて無溶媒で反応させる方法が採られる。好ましくは、等モル数の両原料の存在 下で、有機溶媒中では— 20〜80°Cで、無溶媒では 100〜250°Cの温度範囲で反 応させる方法が挙げられる。これらの温度範囲よりも低ければ反応は進行せず、高い 場合は副反応が起こりやすい。また、この縮合反応では 3， 5—ジニトロべンゾイルク 口リドの代わりに、 3, 5—ジニトロ安息香酸を用いることも出来る。
[0020] 縮合反応で得られたニトロ化合物のニトロ基の還元反応では、水素ガスを用いた接 触水素化法、もしくは通常金属と酸を用いた化学的水素化法が採られる。好ましくは 、ニトロ化合物とパラジウムもしくは白金触媒の存在下、有機溶媒中で 20〜100°Cの 温度範囲で水素ガスを接触させて反応させる方法が挙げられる。
[0021] これらの縮合反応および還元反応で用いる有機溶媒としては、原料もしくは反応生 成物が溶解すれば特に限定されなレ、。 N， N—ジメチルホルムアミド（DMF)、 N, N —ジメチルァセトアミド（DMAc)、ジメチルスルホキシド（DMSO)、フエノール、 o—ク レゾール、 N—メチル _ 2 _ピロリドン、スルホラン、 m_クレゾール、 p _クレゾール、 3—クロ口フエノール、 4—クロ口フエノール、 γ—ブチ口ラタトン、 γ—バレロラタトン、 δ バレロラタトン、 γ—力プロラタトン、 ε—力プロラタトン、 α—メチルー γ—ブチ 口ラタトン、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、トリエチレングリコール、ァ セトフヱノン、 1， 3—ジメチル _ 2 _イミダゾリジノン、酢酸ブチル、酢酸ェチル、ェチ ノレセロソノレブ、ブチノレセロソノレブ、 2—メチノレセロソノレブアセテート、ェチノレセロソノレブ アセテート、ブチルセ口ソルブアセテート、酢酸ェチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル 、ジブチノレエーテノレ、ジエチレングリコーノレジメチノレエーテノレ、プロピレングリコーノレメ チルアセテート、テトラヒドロフラン、ジメトキシェタン、ジェトキシェタン、メチルイソブ チルケトン、ジイソプチルケトン、シクロへキサノン、メチルェチルケトン、アセトン、ブタ ノーノレ、エタノール、メタノーノレ、キシレン、トルエン、クロルベンゼン、ターペン、ミネラ ノレスピリット、石油ナフサ系溶媒など特に限定することなく使用できる。
[0022] また本発明による重合体は式（1)で示される含フッ素ジァミンまたはその誘導体を用 いて製造され、その重合体としては特に限定されなレ、が、ポリイミド、ポリアミド、ポリア ミン、ポリ尿素およびその前駆体であるポリアミド酸などやポリアミドイミド、ポリエステ ノレイミドなどこれらの数種の縮合反応を併用した共重合体が挙げられる。中でも、ポリ イミドは高い耐熱性を具備した電子材料、光学材料として幅広い応用が期待できる。
[0023] 本発明の含フッ素重合体の製造方法は特に限定されないが、含フッ素ジァミン（1) 力 合成されたアミド、エステルおよびエーテル形成性誘導体をモノマーとして用レ、、 その反応性官能基と反応し得る対モノマーと縮合、付加重合、重付加などの機構で 重合される。したがって、ポリエステルおよびポリエーテルを合成する場合は対モノマ 一としてジオール化合物が用いられ、ポリアミドを合成する場合は対モノマーとしてジ ァミン化合物が用いられる。本発明に使用できるこれらの対モノマーの構造は特に制 限されるものではなぐ公知の化合物を使用することができる。
[0024] 本発明の含フッ素ポリイミドおよび含フッ素ポリアミドの製造において、原料として含フ ッ素ジァミン（1)またはそのアミド形成性誘導体を用いた場合、それ以外のアミン成 分またはそのアミド形成誘導体を共重合することも可能である。その併用できるジアミ ン化合物としては特に限定されなレ、が、具体的には、 3， 5—ジァミノべンゾトリフルォ リド、 2, 5 _ジァミノべンゾトリフノレ才リド、 3, 3 ' _ビストリフノレ才ロメチノレ _4， 4 '—ジ アミノビフエニル、 3, 3 '—ビストリフルォロメチル一 5, 5，一ジアミノビフエニル、ビス（ トリフルォロメチル） 4, 4 '—ジアミノジフエニル、ビス（フッ素化アルキル） 4, 4， - ジアミノジフエ二ノレ、ジクロロー 4, 4'ージアミノジフエ二ノレ、ジブ口モー 4, 4'ージアミ ノジフエニル、ビス（フッ素化アルコキシ）一4, 4，一ジアミノジフエニル、ジフエニル一 4, 4'—ジアミノジフエニル、 4， 4 '—ビス（4—アミノテトラフルオロフエノキシ）テトラフ ルォロベンゼン、 4, 4 '—ビス（4—アミノテトラフルオロフエノキシ）ォクタフルォロビフ ェニル、 4, 4'—ビナフチルァミン、 o _、 m―、 p—フエ二レンジァミン、 2， 4—ジァミノ トノレェン、 2, 5—ジアミノトノレェン、 2, 4—ジアミノキシレン、 2, 4—ジアミノジュレン、 ジメチノレ一 4, 4'—ジアミノジフエニル、ジァノレキノレ _4， 4 '—ジアミノジフエニル、ジメ トキシ一4, 4'—ジアミノジフエニル、ジエトキシ一4, 4 '—ジアミノジフエニル、 4， 4' —ジアミノジフエニルメタン、 4, 4 '—ジアミノジフエニルエーテル、 3, 4'—ジアミノジ フエニルエーテル、 4, 4 '—ジアミノジフエニルスルフォン、 3, 3 '—ジアミノジフエニル スノレフォン、 4, 4'ージァミノべンゾフエノン、 3, 3 '—ジァミノべンゾフエノン、 1 , 3—ビ ス（3—アミノフエノキシ）ベンゼン、 1 , 3—ビス（4—アミノフエノキシ）ベンゼン、 1 , 4— ビス（4—アミノフエノキシ）ベンゼン、 4, 4 '—ビス（4—アミノフエノキシ）ビフエニル、ビ ス（4— (3—アミノフエノキシ）フエニル）スルフォン、ビス（4— (4—アミノフエノキシ）フ ェニル）スルフォン、 2, 2 ビス（4一（4 アミノフエノキシ）フエ二ノレ）プロパン、 2, 2 ビス（4一（4 アミノフエノキシ）フエニル）へキサフルォロプロパン、 2, 2 ビス（4 一（3 アミノフエノキシ）フエニル）プロパン、 2, 2 ビス（4— (3 アミノフエノキシ）フ ェニル）へキサフルォロプロパン、 2, 2 ビス（4— (4 アミノー 2 トリフルォロメチル フエノキシ）フエニル）へキサフルォロプロパン、 2, 2 ビス（4— (3 アミノー 5 トリ フルォロメチルフエノキシ）フエニル）へキサフルォロプロパン、 2, 2 _ビス（4—ァミノ フエニル）へキサフルォロプロパン、 2, 2 _ビス（3—ァミノフエニル）へキサフルォロプ 口パン、 2, 2—ビス（3—ァミノ一 4—ヒドロキシフエニル）へキサフルォロプロパン、 2, 2 _ビス（3—ァミノ一 4 _メチルフエニル）へキサフルォロプロパン、 4， 4 '—ビス（4— アミノフエノキシ)ォクタフルォロビフエニル、 4, 4 '—ジァミノべンズァニリド等が例示 できる。また、これらのジァミン化合物を 2種以上併用することもできる。
本発明の含フッ素ポリアミド酸は、式 (4) (式中、 Rは芳香環を含む 4価の有機基で あり、カルボニル炭素はイミド五員環を形成するように Rの芳香環に互いにオルト位に 結合している。 )で表される含フッ素ポリアミド酸である。
[0026] また、本発明中の含フッ素ポリイミドとは、式（5) (式中、 Rは芳香環を含む 4価の有機 基であり、カルボニル炭素はイミド五員環を形成するように Rの芳香環に互レ、にオルト 位に結合している。 )で表される構成単位を含む含フッ素ポリイミドである。
[0027] 本発明の含フッ素ポリイミドは式（5)で表される構成単位からなる力 たは該構成単 位が:!〜 100モル％の範囲のポリマーである。式（5)で表される構成単位が 1モル％ 以下の場合は、それから得られた膜の誘電率が充分低くはならず好ましくない。
[0028] 式 (4)または（5)における Rは芳香環を含む 4価の有機基であれば特にその構造に 限定されないが、下記式
[化 9]
Figure imgf000011_0001
または、下記式
[化 10]
Figure imgf000011_0002
で示される基が例示できる。
[0029] ここで、式中の Yはそれぞれ独立に単結合、 _〇_、一S―、 -SO―、 _C〇_、 -
2
CH―、 -C (CH ) ―、— CF _、― C (CF ) —であり、 m、 nはそれぞれ 0〜3の整
2 3 2 2 3 2
数である。これらの式中のベンゼン環は、適宜、 c の低級アルキル基、塩素、臭
1 -c 5
素、フッ素等のハロゲン原子で置換されていてもよレ、。ここで mが 0、 nが 1のものが特 に好ましぐ例えば式（3)の置換基が例示できる。これらの式中のベンゼン環は、適 宜、 C _Cの低級アルキル基、塩素、臭素、フッ素等のハロゲン原子で置換されて
1 5
いてもよい。 [0030] 本発明で使用できるテトラカルボン酸二無水物としては、その構造は特に限定されな レ、が、例えば、トリフルォロメチルベンゼンテトラカルボン酸二無水物、ビストリフルォ ロメチルベンゼンテトラカルボン酸二無水物、ジフルォロベンゼンテトラカルボン酸二 無水物、ビフヱニルテトラカルボン酸二無水物、ターフヱニルテトラカルボン酸二無水 物、へキサフルォロイソプロピリデンジフタル酸ニ無水物、ォキシジフタル酸二無水物 、ビシクロ（2， 2, 2)ォクト _ 7—ェン一2, 3, 5, 6—テトラ力ノレボン酸二無水物、 2， 2 —ビス（3， 4—ジカルボキシフヱニル）フヱキサフルォロプロパン酸二無水物（6FDA )などが挙げられる。
[0031] 本発明の含フッ素ポリイミドおよびその前駆体である含フッ素ポリアミド酸は前記ジァ ミン成分と前記テトラカルボン酸二無水物を反応させることで製造することができる。 この重合反応の方法、条件については特に制限されなレ、。例えば、前記ジァミン成 分と前記テトラカルボン酸二無水物を 100〜250°C、好ましくは 150〜200°Cの温度 範囲で相互に溶解 (溶融）させて無溶媒で反応させる方法、また有機溶媒中高温（1 00〜250°C、好ましくは 150〜200°Cの温度範囲）で反応させる方法でほとんどまた は完全に閉環したポリイミドが得られる。また、前記ジァミン成分と前記テトラカルボン 酸二無水物を— 20〜80°Cの温度で有機溶媒中にて反応させることで閉環していな レ、かまたは部分的にしか閉環してレ、なレ、式 (4)で表される前駆体の含フッ素ポリアミ ド酸を得る方法などが採用される。
[0032] 前駆体である含フッ素ポリアミド酸または部分的に閉環したイミドは 100〜350°C、好 ましくは 250〜300°Cの温度範囲で、必要に応じて無水酢酸、無水プロピオン酸、無 水安息香酸などの酸無水物、ジシクロへキシノレカルポジイミドなどの閉環剤、さらにピ リジン、イソキノリン、トリメチノレアミン、アミノビリジン、イミダゾールなどの閉環触媒を適 宜添加して、閉環させることでポリイミドとすることができる。
[0033] またこれらの重合反応に際しては、前記テトラカルボン酸二無水物をアルコールで開 環したジエステルジカルボン酸誘導体、およびそのジハライド誘導体も前記ジァミンと 重合すること力 Sできる。特にこの場合の該ポリイミド前駆体はポリアミド酸エステルとな り、ポリアミド酸より長期保存安定性などの面で優れる。
[0034] 本発明の含フッ素ポリアミドとは、式（7) (式中、 R1は芳香環を含む 2価の有機基であ る。）で表される構成単位を含む高分子化合物である。
式（7)における R1は芳香環を含む 2価の有機基であれば特にその構造には限定さ れないが、下記式
[化 11]
Figure imgf000013_0001
または、下記式
[化 12]
Figure imgf000013_0002
で示される基が例示できる。
[0036] ここで、式中の Yはそれぞれ独立に単結合、 O S— -SO CO— -
2
CH― C (CH ) ― -CF― C (CF ) —であり、 mは:!〜 3の整数である。こ
2 3 2 2 3 2
れらの式中のベンゼン環は、適宜、 C Cの低級アルキル基、塩素、臭素、フッ素
1 5
等のハロゲン原子で置換されていてもよい。これらの式中のベンゼン環は、適宜、 c
1
-Cの低級アルキル基、塩素、臭素、フッ素等のハロゲン原子で置換されていてもよ
5
レ、。
[0037] 本発明で使用できる式（6)で表されるジカルボン酸、ジカルボン酸ジハライド、ジカル ボン酸ジエステルとしては、その構造は特に限定されなレ、が、一般に公知の相当す る化合物を広く用いることが可能である。ジカルボン酸ジハライドで用いられるハロゲ ン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素原子が挙げられ、特に塩素、臭素原子を 用いたジカルボン酸ジクロライド、ジカルボン酸ジブロマイドが好適に用いられる。ま た、ジカルボン酸ジエステルで用いられる一〇R'基の R'は特に限定されなレ、が、メ チル基、ェチル基、プロピル基、ブチル基等、へキシル基、ノエル基等の C C の
1 10 アルキル基、メチル基またはェチル基等のアルキル基が置換したフエニル基あるレヽ は非置換のフエニル基等が挙げられ、特にメチル基、ェチル基、フエ二ル基を用いた ジカルボン酸ジメチルエステル、ジカルボン酸ジェチルエステル、ジカルボン酸ジフ ェニルエステルが好適に用レ、られる。
より具体的には、例えばシユウ酸、マロン酸、コハク酸、グノレタル酸、アジピン酸、ピメ リン酸、スベリン酸、ァゼライン酸、セバシン酸等の脂肪族ジカルボン酸、フタル酸、ィ ソフタル酸、テレフタル酸、 3， 3 '—ジカルボキシルジフエニルエーテル、 3， 4'ジカ ノレボキシルジフエニルエーテル、 4， 4 '—ジカルボキシルジフエニルエーテル、 3， 3' —ジカルボキシルジフエニルメタン、 3， 4 '—ジカルボキシルジフエニルメタン、 4， 4' —ジカルボキシルジフエニルメタン、 3， 3 '—ジカルボキシルジフエニルジフルォロメ タン、 3， 4'—ジカルボキシルジフエニルジフルォロメタン、 4, 4'—ジカルボキシルジ フエニルジフルォロメタン、 3， 3 '—ジカルボキシルジフエニルスルホン、 3， 4 '—ジ力 ノレボキシルジフエニルスルホン、 4, 4 '—ジカルボキシルジフエニルスルホン、 3, 3' —ジカルボキシルジフヱニルスルフイド、 3， 4 '—ジカルボキシルジフヱニルスルフイド 、 4, 4'ージカルボキシルジフエニルスルフイド、 3, 3'ージカルボキシルジフエ二ルケ トン、 3, 4'—ジカルボキシルジフエ二ルケトン、 4, 4'ージカルボキシルジフエ二ルケ トン、 2, 2 ビス（3 カルボキシフエ二ノレ）プロパン、 2, 2 ビス（3, 4'—ジカルボキ シフエ二ノレ）プロパン、 2, 2 ビス（4 カルボキシフエ二ノレ）プロパン、 2, 2 ビス（3 カルボキシフエ二ノレ）へキサフルォロプロパン、 2, 2 ビス（3, 4'—ジカルボキシ フエニル）へキサフルォロプロパン、 2, 2 ビス（4 カルボキシフエ二ノレ）へキサフル ォロプロパン、 1 , 3—ビス（3—カルボキシフエノキシ）ベンゼン、 1, 4—ビス（3—カル ボキシフエノキシ）ベンゼン、 1 , 4一ビス（4一カルボキシフエノキシ）ベンゼン、 3, 3 ，ー（1 , 4 フエ二レンビス（1ーメチルェチリデン））ビス安息香酸、 3, 4，一（1 , 4ーフ ェニレンビス（1—メチルェチリデン））ビス安息香酸、 4， 4， - (1 , 4_フエ二レンビス（ 1—メチルェチリデン））ビス安息香酸、 2， 2_ビス（4 (3—カルボキシフエノキシ）フエ ニル）プロパン、 2, 2_ビス（4— (4 カルボキシフエノキシ）フエニル）プロパン、 2， 2 —ビス（4— (3—カルボキシフエノキシ）フエニル）へキサフルォロプロパン、 2， 2—ビ ス（4— (4一カルボキシフエノキシ）フエニル）へキサフルォロプロパン、ビス（4— (3— カルボキシフエノキシ）フエニル）スルフイド、ビス（4— (4—カルボキシフエノキシ）フエ ニル）スルフイド、ビス（4— (3—カルボキシフヱノキシ）フヱニル）スルホン、ビス（4— ( 4—カルボキシフエノキシ）フエ二ノレ）スルホン、 5— (パーフルォロノネニルォキシ）ィ ソフタル酸、 4 （パーフルォロノネニルォキシ）フタル酸、 2—（パーフルォロノネニル ォキシ）テレフタル酸、 4ーメトキシー5—（パーフルォロノネニルォキシ）イソフタル酸 などのパーフルォロノネニルォキシ基含有のジカルボン酸、 5 _ (パーフルォ口へキ セニルォキシ）イソフタル酸、 4 _ (パーフルォ口へキセニルォキシ）フタル酸、 2 _ (パ 一フルォ口へキセニルォキシ）テレフタル酸、 4—メトキシ _ 5 _ (パーフルォ口へキセ ニルォキシ）イソフタル酸などのパーフルォ口へキセニルォキシ基含有のジカルボン 酸、等の芳香族ジカルボン酸およびこれらのカルボン酸の各々に相当するジカルボ ン酸ジハライド、ジカルボン酸ジエステルが例示できる。すなわち、相当するジカルボ ン酸のジクロライド、ジブロマイド等のジカルボン酸ジハロゲン化物、ジメチルエステ ノレ、ジェチルエステル等のジカルボン酸ジアルキルエステル、ジカルボン酸ジフエ二 ルエステル等が挙げられる。これらは単独でも、 2種以上を混合していてもよい。
[0039] 本発明の含フッ素ポリアミドは式（1 )で表される前記含フッ素ジァミン成分と式（6)で 示される前記ジカルボン酸、ジカルボン酸ジハライドまたはジカルボン酸ジエステル を反応させることで製造することができる。この重合反応の方法、条件については特 に制限されない。例えば、前記ジァミン成分と前記ジカルボン酸のアミド形成性誘導 体を 100〜250°C、好ましくは 1 50〜200°Cの温度範囲で相互に溶解（溶融）させて 無溶媒で反応させる方法、また有機溶媒中高温（100〜250°C、好ましくは 1 50〜2 00°Cの温度範囲）で反応させる方法、 20〜80°Cの温度で有機溶媒中にて反応 する方法があげられる。
[0040] 本発明による含フッ素重合体 (含フッ素ポリアミド酸、含フッ素ポリアミドおよび含フッ 素ポリイミド）の重合反応に使用できる有機溶媒としては原料の両成分が溶解すれば 特に限定されないが、 N， N—ジメチルホルムアミド（DMF)、 N， N—ジメチルァセト アミド（DMAc)、ジメチルスルホキシド（DMSO)、フエノール、 o _クレゾール、 N メ チル一 2 _ピロリドン、スルホラン、 m _クレゾール、 p _クレゾール、 3 _クロ口フエノー ノレ、 4 _クロ口フエノール、 γ—ブチ口ラタトン、 Ί—バレロラタトン、 δ—バレロラタトン 、 y—力プロラタトン、 ε—力プロラタトン、 ひ一メチル一 y—ブチ口ラタトン、エチレン カーボネート、プロピレンカーボネート、トリエチレングリコール、ァセトフヱノン、 1 , 3 ジメチルー 2—イミダゾリジノンなどが使用可能である。さらに両原料成分の溶解性 を損なわない範囲であれば、その他の有機溶媒、例えば、酢酸ブチル、酢酸ェチル 、ェチノレセロソノレブ、ブチノレセロソノレブ、 2—メチノレセロソノレブアセテート、ェチノレセロ ソルブアセテート、ブチルセ口ソルブアセテート、酢酸ェチル、酢酸ブチル、酢酸イソ ブチノレ、ジブチノレエーテノレ、ジエチレングリコーノレジメチノレエーテノレ、プロピレングリ コールメチルアセテート、テトラヒドロフラン、ジメトキシェタン、ジエトキシェタン、メチ ノレイソブチルケトン、ジイソプチルケトン、シクロへキサノン、メチルェチルケトン、ァセ トン、ブタノール、エタノール、キシレン、トルエン、クロルベンゼン、ターペン、ミネラル スピリット、石油ナフサ系溶媒など特に限定することなく使用できる。
[0041] 本発明中による含フッ素重合体 (含フッ素ポリアミド酸、含フッ素ポリアミドおよび含フ ッ素ポリイミド）の重合反応後の後処理方法としては、沈殿方法が採られる。未反応原 料モノマーが溶解し、含フッ素重合体が沈殿する溶媒であれば特に限定されなレ、が 、酢酸ブチル、酢酸ェチノレ、ェチルセ口ソルブ、ブチルセロソノレブ、 2—メチルセロソ ノレブアセテート、ェチルセ口ソルブアセテート、ブチルセ口ソルブアセテート、酢酸ェ チノレ、酢酸イソブチノレ、ジブチノレエーテノレ、ジエチレングリコー/レジメチノレエーテノレ、 プロピレングリコールメチルアセテート、テトラヒドロフラン、ジメトキシェタン、ジェトキ シェタン、メチルイソブチルケトン、ジイソプチルケトン、シクロへキサノン、メチルェチ ノレケトン、アセトン、ブタノール、エタノール、メタノール、イソプロピルアルコール、へ キサン、キシレン、トルエン、クロルベンゼン、ターペン、ミネラノレスピリット、石油ナフ サ系溶媒などを使用できる。
[0042] 本発明中の含フッ素重合体 (含フッ素ポリアミド酸、含フッ素ポリアミドおよび含フッ素 ポリイミド）は、それぞれジメチルァセトアミド（DMAc)に溶解するものは、該溶媒に 0 . lg/dlの濃度で溶解し、ォストワルド粘度計により 30°Cで測定した還元粘度が 0. OldlZg以上、特に 0. 3dlZg以上のものが好ましい。該含フッ素重合体のフィルム を作製する際に、形状を保持するためには還元粘度が 0. 01dl/g以上、特に強度 を確保するためには 0. 3dlZg以上のものが好ましい。
[0043] 本発明の含フッ素重合体 (含フッ素ポリアミド酸、含フッ素ポリアミドおよび含フッ素ポ リイミド）は有機溶媒に溶解したワニス状態、または粉末状態、フィルム状態、固体状 態で使用に供することが可能である。ワニスで使用する場合は、ガラス、シリコンゥェ ーハ、金属、金属酸化物、セラミックス、樹脂などの基材上にスピンコート、スプレーコ ート、フローコート、含浸コート、ハケ塗りなど通常用いられる方法で塗布することがで きる。
[0044] 電子材料用途に関して言えば、半導体素子内の信号遅延を低減するためには材料 の低誘電率化が有効で、また異種材料界面のクラックを防ぐためには材料の熱膨張 係数を揃える (有機材料は無機材料に比べて膨張係数が大きいので、有機材料に 関しては熱膨張係数を揃えることは低熱膨張化に相当する）ことが有効である。特に 本発明中のへキサフルォロイソブロパノール基含有ポリイミドは、上記低誘電率化と 低熱膨張率化の両方の性質を有する点で優れ、しかもアルカリ水溶液への可溶性も 具備する。
[0045] 以下、本発明の実施例を説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定される ものではない。
実施例 1
[0046] 式（8)のィ匕合物を 20. 00g、 3, 5—ジニトロべンゾィノレクロリドを 10. 82g、ピリジン 4· 6ml、塩化メチレン 150mlを 300ml三つ口フラスコに加え、窒素雰囲気下、 40°Cに て 3時間攪拌した。反応液を 0. 6N— HC1水溶液に投入し、得られた白色沈殿をろ 別により回収後、室温にて真空乾燥した。 20. 97g (収率 72%)の白色粉体を得た。
NMRスペクトルにより、下記に示す式（9)の構造が示唆された。 NMRスペクトルを 図 1に示す。
[化 13]
Figure imgf000017_0001
実施例 2
[0047] 実施例 1で得られた化合物（式（9) ) 9. 90g、 10% _パラジウムカーボン 0. 97g、 N , N—ジメチルホルムアミド（DMF) 75mlを 300_ml三つ口フラスコ中に加え、水素 風船を備え付け室温で 12時間攪拌した。反応混合物をセライト処理し、得られたろ 液を水に投入、得られた沈殿を回収した。メタノールと水の混合溶媒にて再結晶精 製し、 5. 13g (収率 57%)の白色粉体を得た。 NMRスペクトルにより、上記の式（1) の構造が指示された。 NMRスペクトルを図 2に示す。
実施例 3
[0048] 実施例 2で得られた含フッ素ジァミン（式（1) ) 1 · 50g、 6FDA (2, 2—ビス（3, 4—ジ カルボキシフエニル）フエキサフルォロプロパン酸二無水物） 1. 19gおよび N， N—ジ メチルァセトアミド（DMAc) lO. 8mlを撹拌装置の付いた 100_ml三つ口フラスコ 中に仕込み、窒素気流下、室温にて 5時間攪拌した。反応溶液をメタノールと水の混 合溶媒に投入し、ポリマーを沈殿させた。沈殿したポリマーをろ別、 50°Cで真空乾燥 し、含フッ素ポリアミド酸 2. 50g (収率 95。/。）を得た。 DMAcに 0. lg/dlの濃度で溶 解し、ォストワルド粘度計により 30°Cで測定した固有粘度は 0. 44dl/gであった。得 られたポリアミド酸の構造は IRおよび1 H— NMRスぺタトノレで確認したところ、下記式 (10)であることが示唆された。 H— NMRスペクトルを図 3に示す。
[化 14]
Figure imgf000018_0001
実施例 4
実施例 3で得られたポリマー（式（10) )をジメチルァセトアミド（DMAc)に溶解しガラ ス板上に展開して、 250°Cにて加熱処理したところ、透明性の高い強靱なフィルムが 得られた。得られたフィルムの IRスペクトルから、構造は下記含フッ素ポリイミド（式（1 1) )であることがわかった。得られた含フッ素ポリイミドフィルムの誘電率の測定を行つ たところ 1MHzで 2. 5であった。このフィルムの線熱膨張係数を測定したところ 50〜 300。Cの平均値として 4 X 10— 5/。Cであった。また、このフィルムは 2. 38wt%テトラ メチルアンモニゥム水溶液に溶解した。
[化 15]
Figure imgf000019_0001
実施例 5
[0050] 実施例 3で得られたポリアミド酸（式（10) ) 0· 50g、ピリジン 0· 10g、無水酢酸 0· 13 g、 DMF4. 5gを 100ml三つ口フラスコ中に加え、窒素雰囲気下、 110°Cにて 12時 間攪拌した。反応溶液をメタノールと水の混合溶媒に投入し、ポリマーを沈殿させた 。沈殿したポリマーをろ別、 100°Cで真空乾燥し、含フッ素ポリイミド 0. 43g (収率 90 %)を得た。 IRおよび1 H— NMRスペクトルによる構造解析から、得られたポリイミドは 式（11)の化学構造を有していることがわかった。 DMAcに 0. lg/dlの濃度で溶解 し、ォストワルド粘度計により 30°Cで測定した固有粘度は 0. 30dl/gであった。得ら れた IRスペクトルを図 4に示す。該化学イミド化により得られた含フッ素ポリイミド（式（ 11) )は、 DMF、 DMAc以外にも、アセトン、メタノーノレ、テトラヒドロフラン、プロピレ ングリコールモノメチルエーテルアセテートといった低沸点の有機溶剤、および 2. 38 wt%テトラメチルアンモニゥム水溶液にも良好な溶解性を示した。
実施例 6
[0051] 実施例 2で得られたジァミン（式（1) ) 1 · 50g、 2, 2—ビス（3—カルボキシフヱニル） へキサフルォロプロパン）酸二塩化物 1 · 15g、 N, N—ジメチルァセトアミド（DMAc) 10. 8mlを撹拌装置の付いた 100ml三つ口フラスコ中に仕込み、窒素気流下、室温 にて 5時間攪拌した。反応溶液をメタノールと水の混合溶媒に投入し、ポリマーを沈 殿させた。沈殿したポリマーをろ別、 100°Cで真空乾燥し、含フッ素ポリアミド（式（12 ) ) 2. 38g (収率 95%)を得た。 DMAcに 0. lg/dlの濃度で溶解し、ォストワルド粘 度計により 30°Cで測定した固有粘度は 0. 40dl/gであった。得られたポリアミド酸の 構造は IRおよび1 H— NMRスペクトルで確認した。
[化 16]
Figure imgf000020_0001

Claims

請求の範囲 式 (1)
[化 17]
Figure imgf000021_0001
で表される含フッ素ジァミン,
式 (1)
[化 18]
Figure imgf000021_0002
で示されるジァミンと、式（2)
[化 19]
Figure imgf000021_0003
で表されるテトラカルボン酸あるいは式（3)
Figure imgf000022_0001
で表されるテトラカルボン酸二無水物を反応させて得られる重合体であって、式 (4) [化 21]
Figure imgf000022_0002
(式中、 Rは芳香環を含む 4価の有機基であり、カルボニル炭素はイミド五員環を形 成するように Rの芳香環に互いにオルト位に結合している。）で示される含フッ素ポリ アミド酸。
式 (4)
[化 22]
Figure imgf000022_0003
で示される含フッ素ポリアミド酸を脱水して得られる重合体であって、式（5)
[化 23]
Figure imgf000023_0001
(式中、 Rは式 (4)と同じ)で示される含フッ素ポリイミド樹脂。
Rが下記式
[化 24]
Figure imgf000023_0002
(式中、各芳香環は互いにオルト位に未結合手を有し、芳香環の水素原子はハロゲ ン (フッ素、塩素、臭素またはヨウ素)原子で置換していても良い。）で表される有機基 である請求項 3に記載の含フッ素ポリイミド樹脂。
式 (1)
[化 25]
Figure imgf000023_0003
で示されるジァミンと式（6)
[化 26]
Figure imgf000024_0001
(式中、 R1は芳香環を含む 2価の有機基である。 Xは—〇H基、ハロゲン (フッ素、塩 素、臭素またはヨウ素）原子または— OR'基で R'はアルキル基またはフエ二ル基を 示す。）で示されるジカルボン酸、ジカルボン酸ハライドおよびジカルボン酸ジエステ ルから選ばれる 1種とを反応させて得られる重合体であって、式（7)
[化 27]
Figure imgf000024_0002
(式中、 R1は式 (6)と同じ)で表される構成単位を含む含フッ素ポリアミド樹脂
[6] R1が、下記式
[化 28]
Figure imgf000024_0003
(式中、芳香環の水素原子はハロゲン (フッ素、塩素、臭素またはヨウ素)原子で置換 していても良い。 )で表される有機基である請求項 5記載の含フッ素ポリアミド樹脂。
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