JPH02142830A - 2―(3―アミノフェニル)―2―(4―アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパンから得られたコポリイミド - Google Patents
2―(3―アミノフェニル)―2―(4―アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパンから得られたコポリイミドInfo
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
- C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08G73/1039—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors comprising halogen-containing substituents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、慣用の有機溶剤への溶解性が改善され、誘電
率が低く、そして熱流動性が改善された、新規なフッ素
含有コポリイミドおよびコポリアミド酸に関する。
率が低く、そして熱流動性が改善された、新規なフッ素
含有コポリイミドおよびコポリアミド酸に関する。
(従来の技術)
ポリイミドは、その強靭さ、低密度、熱安定性、耐光性
および機械的強度により、航空宇宙産“業およびエレク
トロニクス産業に広く使用されている。
および機械的強度により、航空宇宙産“業およびエレク
トロニクス産業に広く使用されている。
しかし、ポリイミドは加工が難しいことが認められてい
る。この加工性の問題は、ポリイミドが慣用の一般溶媒
のほとんどに不溶であることに原因がある。従って、安
定性は小さいが、溶解性がより高いポリアミド酸中間体
から製品を形成し、次いで熱を加えてイミド化すること
で目的とする最終製品を得ることが行われてきた。この
方法の欠点は、ポリアミド酸のイミド化時に遊離した水
により、最終製品に望ましくないボイドもしくは表面不
規則性(凹凸)が生ずるため、その機械的特性が低下す
ることである。
る。この加工性の問題は、ポリイミドが慣用の一般溶媒
のほとんどに不溶であることに原因がある。従って、安
定性は小さいが、溶解性がより高いポリアミド酸中間体
から製品を形成し、次いで熱を加えてイミド化すること
で目的とする最終製品を得ることが行われてきた。この
方法の欠点は、ポリアミド酸のイミド化時に遊離した水
により、最終製品に望ましくないボイドもしくは表面不
規則性(凹凸)が生ずるため、その機械的特性が低下す
ることである。
ジアミンおよび/または二無水物のコモノマーにヘキサ
フルオロイソプロピリデン結合基を持っているポリイミ
ドが優れた熔解特性を示すことが報告されている。いく
つかの特許にこの種のジアミンから得られたポリイミド
が開示されている。
フルオロイソプロピリデン結合基を持っているポリイミ
ドが優れた熔解特性を示すことが報告されている。いく
つかの特許にこの種のジアミンから得られたポリイミド
が開示されている。
例えば、Rogersの米国特許第3,356,648
号には2゜2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフル
オロプロパンから製造されたポリイミドが開示され;D
uFon tらの米国特許第4,592,925号には
2.2−ビス(3−アミノフェニル)ヘキサフルオロプ
ロパンから製造されたポリイミドが開示されHJone
s らの米国特許第4,111,906号には2,2−
ビス[1−(4アミノフエノキシ)フェニルコヘキサフ
ルオロプロパンから製造されたポリイミドが開示され;
そしてJonesらの米国特許第4,477.648号
には22−ビス[(2−ハロー4−アミノフェノキシ)
フェニル]ヘキサフルオロプロパンから製造されたポリ
イミドが開示されている。さらに、米国特許第4,59
2,925号には2.2−ビス(3−アミノフェニル)
ヘキサフルオロプロパンと、2,2−ビス(3,4ジカ
ルボキシフエニル)ヘキサフルオロプロパン二無水物と
しても知られている4、4゛−ヘキサフルオロイソプロ
ピリデンビス(フタル酸無水物)とを反応させることに
より得られたポリイミドが開示されている。
号には2゜2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフル
オロプロパンから製造されたポリイミドが開示され;D
uFon tらの米国特許第4,592,925号には
2.2−ビス(3−アミノフェニル)ヘキサフルオロプ
ロパンから製造されたポリイミドが開示されHJone
s らの米国特許第4,111,906号には2,2−
ビス[1−(4アミノフエノキシ)フェニルコヘキサフ
ルオロプロパンから製造されたポリイミドが開示され;
そしてJonesらの米国特許第4,477.648号
には22−ビス[(2−ハロー4−アミノフェノキシ)
フェニル]ヘキサフルオロプロパンから製造されたポリ
イミドが開示されている。さらに、米国特許第4,59
2,925号には2.2−ビス(3−アミノフェニル)
ヘキサフルオロプロパンと、2,2−ビス(3,4ジカ
ルボキシフエニル)ヘキサフルオロプロパン二無水物と
しても知られている4、4゛−ヘキサフルオロイソプロ
ピリデンビス(フタル酸無水物)とを反応させることに
より得られたポリイミドが開示されている。
また、米国特許第4,075.172号に示されるよう
に、3,4゛−ジアミノジフェニル化合物を含むジアミ
ン類の混合物と、ジカルボン酸とを縮合することでポリ
アミドを製造することも当分野では公知である。類似の
ポリイミドが米国特許3.792.148号に示されて
いる。米国特許第3,328.352号にはへキサフル
オロイソプロピリデン結合基を含むポリアミドが開示さ
れている。
に、3,4゛−ジアミノジフェニル化合物を含むジアミ
ン類の混合物と、ジカルボン酸とを縮合することでポリ
アミドを製造することも当分野では公知である。類似の
ポリイミドが米国特許3.792.148号に示されて
いる。米国特許第3,328.352号にはへキサフル
オロイソプロピリデン結合基を含むポリアミドが開示さ
れている。
(発明が解決しようとする課題)
本発明は、溶解性および加工特性が改善されたコポリイ
ミドを提供することを目的とする。
ミドを提供することを目的とする。
(課題を解決するための手段)
本発明によれば、重合体鎖に、芳香族化合物である2−
(3−アミノフェニル)−2−(4−アミノフェニル)
ヘキサフルオロプロパン(以下、メタ/パラ−6Fジア
ミンまたは3,4”−6Fジアミンと略記)が導入され
た、溶解性および加工特性が改善されたコポリイミドお
よびコポリアミド酸が提供される。このコポリアミド酸
およびコポリイミドは3.4’ −6Fジアミンを、2
種またはそれ以上の異なった芳香族四カルボン酸または
その無水物と反応させて製造される。本発明のコポリイ
ミドは、ジアミンにおいてアミノ基がメタ785位にあ
ることにより、溶解性が改善され、誘電率が低く、そし
て熱流動特性が改善されており、そのため繊維の製造の
際に熔融紡糸がより容易になることが見出された。この
重合体は適当な温度および圧力において圧縮成形したり
、複合材に加工することもできる。
(3−アミノフェニル)−2−(4−アミノフェニル)
ヘキサフルオロプロパン(以下、メタ/パラ−6Fジア
ミンまたは3,4”−6Fジアミンと略記)が導入され
た、溶解性および加工特性が改善されたコポリイミドお
よびコポリアミド酸が提供される。このコポリアミド酸
およびコポリイミドは3.4’ −6Fジアミンを、2
種またはそれ以上の異なった芳香族四カルボン酸または
その無水物と反応させて製造される。本発明のコポリイ
ミドは、ジアミンにおいてアミノ基がメタ785位にあ
ることにより、溶解性が改善され、誘電率が低く、そし
て熱流動特性が改善されており、そのため繊維の製造の
際に熔融紡糸がより容易になることが見出された。この
重合体は適当な温度および圧力において圧縮成形したり
、複合材に加工することもできる。
本発明のコポリイミドは下記構造の反復基を含むことを
特徴とする。
特徴とする。
上記式中、nは反復基の数を意味し、aおよびbは1〜
約5から独立に選ばれた整数であり、Rはそれぞれ対に
なったカルボニル基がR部分の環において隣接する炭素
に結合している4価芳香族有機基を意味し、Ro はそ
れぞれ対になったカルボニル基がR′部分の環において
隣接する炭素に結合している4価芳香族有機基を意味し
、Qは式:を有する、2−(3−アミノフェニル)−2
−(4アミノフエニル)ヘキサフルオロプロパンから誘
導されたイミド化残基である。
約5から独立に選ばれた整数であり、Rはそれぞれ対に
なったカルボニル基がR部分の環において隣接する炭素
に結合している4価芳香族有機基を意味し、Ro はそ
れぞれ対になったカルボニル基がR′部分の環において
隣接する炭素に結合している4価芳香族有機基を意味し
、Qは式:を有する、2−(3−アミノフェニル)−2
−(4アミノフエニル)ヘキサフルオロプロパンから誘
導されたイミド化残基である。
好ましくは、一般式1中のRおよびRo はフェニレン
、ナフタレンまたはとスーフェニレン型の基からなり、
それらはいずれも非置換でも、あるいはハロゲン、ヒド
ロキシ、低級CI〜C6アルキルおよび低級C+”−C
6アルコキシよりなる群から選ばれた基で置換されてい
てもよく、nは、25℃でジメチルアセトアミド中0.
5重量%濃度の重合体溶液で測定して少なくとも約0.
2 a/gの対数粘度を与えるのに十分な数である。
、ナフタレンまたはとスーフェニレン型の基からなり、
それらはいずれも非置換でも、あるいはハロゲン、ヒド
ロキシ、低級CI〜C6アルキルおよび低級C+”−C
6アルコキシよりなる群から選ばれた基で置換されてい
てもよく、nは、25℃でジメチルアセトアミド中0.
5重量%濃度の重合体溶液で測定して少なくとも約0.
2 a/gの対数粘度を与えるのに十分な数である。
本発明に使用するのに好適な四カルボン酸二無水物の例
を次に列記する。
を次に列記する。
1.2,4.5−ベンゼン四カルボン酸二無水物;1.
2,3.4−ベンゼン四カルボン酸二無水物;1.4−
ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ベンゼン二無
水物; 1.3−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ベン
ゼン二無水物; 1.2,4.5−ナフタレン四カルボン酸二無水物;1
.2.5.6−ナフタレン四カルボン酸二無水物;1.
4,5.8−ナフタレン四カルボン酸二無水物;2.3
,6.7−ナフタレン四カルボン酸二無水物;2.6−
シクロロナフタレンー1.4,5.8−四カルボン酸二
無水物; 2,7−シクロロナフタレンー1.4,5.8−四カル
ボン酸二無水物; 2.3,6.7−チトラクロロナフタレンー1.4,5
.8四カルボン酸二無水物; 3.3’、4.4”−ジフェニル四カルボン酸二無水物
;2.2’、3.3’−ジフェニル四カルボン酸二無水
物;44゛−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)
ジフェニル二無水物; ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物
; 4.4°−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルエーテル二無水物; 4.4゛−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルエーテル二無水物; ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルフィド二無
水物; 4.4゛−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルスルフィドニ=水物; 4.4°−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルスルフィドニ=水物; ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン二無水
物; 4.4゛−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルスルホンニ=水物; 4.4”−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルスルホンニm水物; 3.3’ 、4.4’−ベンゾフェノン四カルボン酸二
無水物; 2.2°、3.3’−ベンゾフェノン四カルボン酸二無
水物; 2.3.3’、4’−ベンゾフェノン四カルボン酸二無
水物; 4.4゛−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ペ
ンゾフエノン二無水物; ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物
; ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物
; 1.1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン
無水物; 1.1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン
−無水物; 1.2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン
二無水物; 2.2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)プロパ
ン二無水物; 2.2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパ
ン二無水物: 2.2−ビス[4−(2’、3−ジカルボキシフェノキ
シ)フェニル]プロパン二無水物; 2.2−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ
)フェニル]プロパン二無水物; 4−(2,3−ジカルボキシフェノキシ) −4’−(
3,4ジカルボキシフエノキシ)ジフェニル−2,2プ
ロパン二無水物; 2.2−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ
3.5−ジメチル)フェニル]プロパン二無水物;2.
3,4.5−チオフェン四カルボン酸二無水物;2.3
,4.5−ピロリジン四カルボン酸二無水物;2.3,
5.6−ピラジン四カルボン酸二無水物;1.8,9.
10−フェナントレン四カルボン酸二無水物;3.4,
9.10−ペリレン四カルボン酸二無水物;2.2−ビ
ス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプ
ロパン二無水物; L3−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフ
ルオロプロパン二無水物; 1.1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1フ
ェニル−2,2,2−トリフルオロエタン二無水物;2
.2−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)
フェニル]ヘキサフルオロプロパン二無水物;1.1−
ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニ
ル]−1−フェニル−2,2,2−トリフルオロエタン
二無水物;および 4.4”−ビス[2−(3,4−ジカルボキシフェニル
)へフルオロイソプロピル] ジフェニルエーテル二無
水物。
2,3.4−ベンゼン四カルボン酸二無水物;1.4−
ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ベンゼン二無
水物; 1.3−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ベン
ゼン二無水物; 1.2,4.5−ナフタレン四カルボン酸二無水物;1
.2.5.6−ナフタレン四カルボン酸二無水物;1.
4,5.8−ナフタレン四カルボン酸二無水物;2.3
,6.7−ナフタレン四カルボン酸二無水物;2.6−
シクロロナフタレンー1.4,5.8−四カルボン酸二
無水物; 2,7−シクロロナフタレンー1.4,5.8−四カル
ボン酸二無水物; 2.3,6.7−チトラクロロナフタレンー1.4,5
.8四カルボン酸二無水物; 3.3’、4.4”−ジフェニル四カルボン酸二無水物
;2.2’、3.3’−ジフェニル四カルボン酸二無水
物;44゛−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)
ジフェニル二無水物; ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物
; 4.4°−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルエーテル二無水物; 4.4゛−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルエーテル二無水物; ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルフィド二無
水物; 4.4゛−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルスルフィドニ=水物; 4.4°−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルスルフィドニ=水物; ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン二無水
物; 4.4゛−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルスルホンニ=水物; 4.4”−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルスルホンニm水物; 3.3’ 、4.4’−ベンゾフェノン四カルボン酸二
無水物; 2.2°、3.3’−ベンゾフェノン四カルボン酸二無
水物; 2.3.3’、4’−ベンゾフェノン四カルボン酸二無
水物; 4.4゛−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ペ
ンゾフエノン二無水物; ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物
; ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物
; 1.1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン
無水物; 1.1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン
−無水物; 1.2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン
二無水物; 2.2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)プロパ
ン二無水物; 2.2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパ
ン二無水物: 2.2−ビス[4−(2’、3−ジカルボキシフェノキ
シ)フェニル]プロパン二無水物; 2.2−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ
)フェニル]プロパン二無水物; 4−(2,3−ジカルボキシフェノキシ) −4’−(
3,4ジカルボキシフエノキシ)ジフェニル−2,2プ
ロパン二無水物; 2.2−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ
3.5−ジメチル)フェニル]プロパン二無水物;2.
3,4.5−チオフェン四カルボン酸二無水物;2.3
,4.5−ピロリジン四カルボン酸二無水物;2.3,
5.6−ピラジン四カルボン酸二無水物;1.8,9.
10−フェナントレン四カルボン酸二無水物;3.4,
9.10−ペリレン四カルボン酸二無水物;2.2−ビ
ス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプ
ロパン二無水物; L3−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフ
ルオロプロパン二無水物; 1.1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1フ
ェニル−2,2,2−トリフルオロエタン二無水物;2
.2−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)
フェニル]ヘキサフルオロプロパン二無水物;1.1−
ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニ
ル]−1−フェニル−2,2,2−トリフルオロエタン
二無水物;および 4.4”−ビス[2−(3,4−ジカルボキシフェニル
)へフルオロイソプロピル] ジフェニルエーテル二無
水物。
当業者であれば、コポリイミドの製造に対して、上に列
記した二無水物化合物の四カルボン酸(テトラカルボン
酸)または酸エステルを使用することもできることは理
解されよう。このような四カルボン酸もしくはその誘導
体は市販品を入手できるか、あるいは公知方法により合
成することができる。例えば、lea th らの米国
特許第3,847,867号およびHowsonの米国
特許第4,650,850号は、それぞれビス(エーテ
ル無水物)およびビス(ジアルキル芳香族エーテル無水
物)の合成を示している。フッ素含有二無水物の製造に
ついては、Gordonの米国特許第3,310,57
3号およびCr1td+Ieyらの米国特許第3,64
9,601号に開示されている。
記した二無水物化合物の四カルボン酸(テトラカルボン
酸)または酸エステルを使用することもできることは理
解されよう。このような四カルボン酸もしくはその誘導
体は市販品を入手できるか、あるいは公知方法により合
成することができる。例えば、lea th らの米国
特許第3,847,867号およびHowsonの米国
特許第4,650,850号は、それぞれビス(エーテ
ル無水物)およびビス(ジアルキル芳香族エーテル無水
物)の合成を示している。フッ素含有二無水物の製造に
ついては、Gordonの米国特許第3,310,57
3号およびCr1td+Ieyらの米国特許第3,64
9,601号に開示されている。
本発明の好ましいコポリイミドは、3.4’−6Fジア
ミンと、次に示す二無水物の2種またはそれ以上の混合
物とを反応させて得られる: L2,4.5ヘンゼン四
カルボン酸二無水物(ピロメリト酸−無水物、PMDM
としても知られている)、ビス(34−ジカルボキシフ
ェニル)エーテル無水物物(オキシフタル酸二無水物、
0DPAとしても知られている) 、3.3’、4.4
’ −ベンゾフェノン四カルボン酸二無水物(ベンゾフ
ェノン四カルボン酸二無水物、BTD八としても知られ
ている)、3.3’、4.4ジフエニル四カルボン酸二
無水物(BPDA)、2,2ビス(3,4−ジカルボキ
シフェニル)へキサフルオロフロパン二無水物(6FD
A)または4,4゛−ビス[2(3,4−ジカルボキシ
フェニル)ヘキサフルオロイソプロピル〕ジフェニルエ
ーテル二無水物(12FD^)。
ミンと、次に示す二無水物の2種またはそれ以上の混合
物とを反応させて得られる: L2,4.5ヘンゼン四
カルボン酸二無水物(ピロメリト酸−無水物、PMDM
としても知られている)、ビス(34−ジカルボキシフ
ェニル)エーテル無水物物(オキシフタル酸二無水物、
0DPAとしても知られている) 、3.3’、4.4
’ −ベンゾフェノン四カルボン酸二無水物(ベンゾフ
ェノン四カルボン酸二無水物、BTD八としても知られ
ている)、3.3’、4.4ジフエニル四カルボン酸二
無水物(BPDA)、2,2ビス(3,4−ジカルボキ
シフェニル)へキサフルオロフロパン二無水物(6FD
A)または4,4゛−ビス[2(3,4−ジカルボキシ
フェニル)ヘキサフルオロイソプロピル〕ジフェニルエ
ーテル二無水物(12FD^)。
本発明の最も好ましいコポリイミドは、二無水物コモノ
マーとしてPMDA、6FDAまたは12FD八を含む
゛ものであり、例えばPMDAとBPDA、 BTDA
、ODP八、6FDAまたは12FDAとを含む共重合
体、また、6FDAまたは12FDAと、上記の1種ま
たはそれ以上の非フツ素含有二無水物を含む共重合体が
ある。混合無水物は、各成分が約3対1〜約1対3の相
対モル比で存在してもよいが、1対1の割合が最も好ま
しい。混合二無水物が1対1の比で存在する場合、上記
式で定義されたコポリイミドの大部分(少なくとも50
%)はaおよびbの両者が1であるとして特徴づけられ
る、すなわち主にランダムコポリイミドである。1方あ
るいは他方の二無水物の量が1から3モル比の範囲で変
化すると、がなりの数の反復基が依然a=b−1として
存在するが、aおよびbの値は1から5の比の間で変化
する。
マーとしてPMDA、6FDAまたは12FD八を含む
゛ものであり、例えばPMDAとBPDA、 BTDA
、ODP八、6FDAまたは12FDAとを含む共重合
体、また、6FDAまたは12FDAと、上記の1種ま
たはそれ以上の非フツ素含有二無水物を含む共重合体が
ある。混合無水物は、各成分が約3対1〜約1対3の相
対モル比で存在してもよいが、1対1の割合が最も好ま
しい。混合二無水物が1対1の比で存在する場合、上記
式で定義されたコポリイミドの大部分(少なくとも50
%)はaおよびbの両者が1であるとして特徴づけられ
る、すなわち主にランダムコポリイミドである。1方あ
るいは他方の二無水物の量が1から3モル比の範囲で変
化すると、がなりの数の反復基が依然a=b−1として
存在するが、aおよびbの値は1から5の比の間で変化
する。
本発明のコポリイミドはまた、3.4”−6Fジアミン
と、その他の、次の一般式を有する1種またはそれ以上
のジアミンとの混合物を用いて製造することもできる。
と、その他の、次の一般式を有する1種またはそれ以上
のジアミンとの混合物を用いて製造することもできる。
1182−Y−N)l。
上記式中、Yはフェニレン、ナフタレンまたはビス−フ
ェニレン型の化合物の芳香族部分であり、これらは非置
換でも、あるいはハロゲン、ヒドロキシ、低級C0〜C
,アルキルまたは低級C1〜C6アルコキシ基で環置換
されていてもよい。このようなジアミン混合物が使用さ
れる場合、3,4°−6Fジアミンと、前記その他の1
種またはそれ以上のジアミンのモル比は、存在するジア
ミンの全モル数に基づいて約3対1から約1対3の範囲
にあるのが好ましい。
ェニレン型の化合物の芳香族部分であり、これらは非置
換でも、あるいはハロゲン、ヒドロキシ、低級C0〜C
,アルキルまたは低級C1〜C6アルコキシ基で環置換
されていてもよい。このようなジアミン混合物が使用さ
れる場合、3,4°−6Fジアミンと、前記その他の1
種またはそれ以上のジアミンのモル比は、存在するジア
ミンの全モル数に基づいて約3対1から約1対3の範囲
にあるのが好ましい。
3.4”−6Fジアミンと混合して使用するのに好適な
ジアミンの例を次に列記する。
ジアミンの例を次に列記する。
m−フェニレンジアミン;p−フェニレンジアミン;1
,3−ビス(4−アミノフェニル)プロパン;2.2−
ヒス(4−アミノフェニル)プロパン;4,4ジアミノ
−ジフェニルメタン;1,2−ビス(4アミノフエニル
)エタン;1,1〜ビス(4−アミノフェニル)エタン
;2,2°−ジアミノ−ジエチルスルフィド;ビス(4
−アミノフェニル)スルフィド; 2.4’−ジアミノ
−ジフェニルスルフィド;ビス(3−アミノフェニル)
スルホン;ビス(4−アミノフェニル)スルホン; 4
,4’−ジアミノ−ジベンジルスルホキシド;ビス(4
−アミノフェニル)エーテル;ビス(3−アミノフェニ
ル)エーテル;ビス(4−アミノフェニル)ジエチルシ
ラン;ビス(4アミノフエニル)ジフェニルシラン;ビ
ス(4アミノフエニル)エチルホスフィンオキシト;ビ
ス(4−アミノフェニル)フェニルホスフィンオキシト
;ビス(4−アミノフェニル)−N−フェニルアミン;
ビス(4−アミノフェニル)−N−メチルアミン;1,
2−ジアミノ−ナフタレン;1,4−ジアミノ−ナフタ
レン;1,5−ジアミノーナフタレン;1,6−ジアミ
ツーナフタレン;1,7−シアミツ−ナフタレン;1,
8−ジアミノ−ナフタレン;2.3−ジアミノ−ナフタ
レン;2,6−ジアミツナフタレン;1,4−ジアミノ
−2−メチル−ナフタレン;1,5−ジアミノ−2−メ
チル−ナフタレン;1,3−ジアミノ−2−フェニル−
ナフタレン;4,4°−ジアミノ−ビフェニルi 3,
3’−ジアミノ−ビフェニル;3.3”−ジクロロ−4
4°−ジアミノ−ビフェニル;3,3”−ジメチル−4
,4゛−ジアミノ−ビフェニルi3,4’−ジメチル−
3′、4−ジアミノ−ビフェニル;3,3”−ジメトキ
シ−4,4゛−ジアミノ−ビフェニル; 4,4’−ビ
ス(4−アミノフェノキシ)−ビフェニル;2,4−ジ
アミノ−トルエン;2,5−ジアミノ−トルエン;2,
6−ジアミツトルエン;3,5−ジアミノ−トルエン;
1,3ジアミノ−2,5−ジクロロ−ベンゼン;1,4
−ジアミノ−2,5−ジクロロ−ベンゼン;1−メトキ
シ−2,4−ジアミノ−ベンゼン;1,4−ジアミノ2
−メトキシ−5−メチルーヘンゼン;l、4ジアミノ−
2,3,5,6−チトラメチルーベンゼン;1.4−ビ
ス(2−メチル−4−アミノ−ペンチル)ベンゼン;1
,4−ビス(1,1−ジメチル−5−アミノ−ペンチル
)−ベンゼン;1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)
ベンゼン;0−キシリレンジアミン;I−キシリレンジ
アミン;p−キシリレンジアミン; 3,3’−ジアミ
ノ−ベンゾフェノン;4,4”−ジアミノ−ベンゾフェ
ノン;2,6−シアミツ−ピリジン;3,5−ジアミノ
−ピリジン;1,3−ジアミノ−アダマンタンi 3.
3’−ジアミノ−1+1゛−ジアダマンタン;N−(3
−アミノフェニル)−4−アミノベンズアミド;4−ア
ミノフェニル−3−アミノベンゾエート;2,2−ビス
(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン;2,
2−ビス(3−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパ
ン;2,2ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル]ヘキサフルオロプロパン;2,2−ビス[4−(2
−クロロ−4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフ
ルオロプロパン;1,1−ビス(4−アミノフェニル)
−1−フェニル−2,2,2−)リフルオロエタン;1
,1−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]
−1−フェニル−2,2,2−)リフルオロエタン;1
,4−ビス(3−アミノフェニル)ブタ1−エン−3−
イン;1,3−ビス(3−アミノフェニル)ヘキサフル
オロプロパン; 15−ビス(3アミノフエニル)デカ
フルオロペンタン;ならびにこれらの混合物。
,3−ビス(4−アミノフェニル)プロパン;2.2−
ヒス(4−アミノフェニル)プロパン;4,4ジアミノ
−ジフェニルメタン;1,2−ビス(4アミノフエニル
)エタン;1,1〜ビス(4−アミノフェニル)エタン
;2,2°−ジアミノ−ジエチルスルフィド;ビス(4
−アミノフェニル)スルフィド; 2.4’−ジアミノ
−ジフェニルスルフィド;ビス(3−アミノフェニル)
スルホン;ビス(4−アミノフェニル)スルホン; 4
,4’−ジアミノ−ジベンジルスルホキシド;ビス(4
−アミノフェニル)エーテル;ビス(3−アミノフェニ
ル)エーテル;ビス(4−アミノフェニル)ジエチルシ
ラン;ビス(4アミノフエニル)ジフェニルシラン;ビ
ス(4アミノフエニル)エチルホスフィンオキシト;ビ
ス(4−アミノフェニル)フェニルホスフィンオキシト
;ビス(4−アミノフェニル)−N−フェニルアミン;
ビス(4−アミノフェニル)−N−メチルアミン;1,
2−ジアミノ−ナフタレン;1,4−ジアミノ−ナフタ
レン;1,5−ジアミノーナフタレン;1,6−ジアミ
ツーナフタレン;1,7−シアミツ−ナフタレン;1,
8−ジアミノ−ナフタレン;2.3−ジアミノ−ナフタ
レン;2,6−ジアミツナフタレン;1,4−ジアミノ
−2−メチル−ナフタレン;1,5−ジアミノ−2−メ
チル−ナフタレン;1,3−ジアミノ−2−フェニル−
ナフタレン;4,4°−ジアミノ−ビフェニルi 3,
3’−ジアミノ−ビフェニル;3.3”−ジクロロ−4
4°−ジアミノ−ビフェニル;3,3”−ジメチル−4
,4゛−ジアミノ−ビフェニルi3,4’−ジメチル−
3′、4−ジアミノ−ビフェニル;3,3”−ジメトキ
シ−4,4゛−ジアミノ−ビフェニル; 4,4’−ビ
ス(4−アミノフェノキシ)−ビフェニル;2,4−ジ
アミノ−トルエン;2,5−ジアミノ−トルエン;2,
6−ジアミツトルエン;3,5−ジアミノ−トルエン;
1,3ジアミノ−2,5−ジクロロ−ベンゼン;1,4
−ジアミノ−2,5−ジクロロ−ベンゼン;1−メトキ
シ−2,4−ジアミノ−ベンゼン;1,4−ジアミノ2
−メトキシ−5−メチルーヘンゼン;l、4ジアミノ−
2,3,5,6−チトラメチルーベンゼン;1.4−ビ
ス(2−メチル−4−アミノ−ペンチル)ベンゼン;1
,4−ビス(1,1−ジメチル−5−アミノ−ペンチル
)−ベンゼン;1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)
ベンゼン;0−キシリレンジアミン;I−キシリレンジ
アミン;p−キシリレンジアミン; 3,3’−ジアミ
ノ−ベンゾフェノン;4,4”−ジアミノ−ベンゾフェ
ノン;2,6−シアミツ−ピリジン;3,5−ジアミノ
−ピリジン;1,3−ジアミノ−アダマンタンi 3.
3’−ジアミノ−1+1゛−ジアダマンタン;N−(3
−アミノフェニル)−4−アミノベンズアミド;4−ア
ミノフェニル−3−アミノベンゾエート;2,2−ビス
(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン;2,
2−ビス(3−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパ
ン;2,2ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル]ヘキサフルオロプロパン;2,2−ビス[4−(2
−クロロ−4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフ
ルオロプロパン;1,1−ビス(4−アミノフェニル)
−1−フェニル−2,2,2−)リフルオロエタン;1
,1−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]
−1−フェニル−2,2,2−)リフルオロエタン;1
,4−ビス(3−アミノフェニル)ブタ1−エン−3−
イン;1,3−ビス(3−アミノフェニル)ヘキサフル
オロプロパン; 15−ビス(3アミノフエニル)デカ
フルオロペンタン;ならびにこれらの混合物。
本発明コポリイミドを製造する好ましい方法は、まず、
有機溶媒中で、好ましくは実質的に無水の条件下で、少
なくとも50%の対応するコポリアミド酸を供給するの
に十分な時間および温度でジアミンと、四カルボン酸ま
たは二無水物のような誘導体の混合物とを反応させるこ
とによりコポリアミド酸を製造し、次いでこのコポリア
ミド酸をコポリイミドに転換する。ジアミンと二無水物
とを反応させるのに好適な条件は、米国特許筒3,35
6゜648号および3,959.350号に詳細に記載
されている。中間体であるポリアミド酸はエステル化し
てポリアミド酸−エステルとしてもよい。
有機溶媒中で、好ましくは実質的に無水の条件下で、少
なくとも50%の対応するコポリアミド酸を供給するの
に十分な時間および温度でジアミンと、四カルボン酸ま
たは二無水物のような誘導体の混合物とを反応させるこ
とによりコポリアミド酸を製造し、次いでこのコポリア
ミド酸をコポリイミドに転換する。ジアミンと二無水物
とを反応させるのに好適な条件は、米国特許筒3,35
6゜648号および3,959.350号に詳細に記載
されている。中間体であるポリアミド酸はエステル化し
てポリアミド酸−エステルとしてもよい。
コポリイミドを製造する好ましい方法においては、電子
部品用品質のジアミンと二無水物を、Nメチルピロリド
ン、γ−ブチロラクトン(BLO)、またはBLOとジ
グライムのようなその他の溶剤との混合物中で反応させ
ればよい。得られた生成物はコポリアミド酸であり、こ
れは次に示すいくつかの方法のうちの1つにより目的と
するコポリイミドに転換できる:実質的にイミド化が完
了するまでコポリアミド酸溶液を加熱する、あるいは触
媒の存在下または不在下でコポリアミド酸溶液および脱
水剤を組み合わせ、任意に、得られた混合物をイミド化
が完了するまで加熱する。
部品用品質のジアミンと二無水物を、Nメチルピロリド
ン、γ−ブチロラクトン(BLO)、またはBLOとジ
グライムのようなその他の溶剤との混合物中で反応させ
ればよい。得られた生成物はコポリアミド酸であり、こ
れは次に示すいくつかの方法のうちの1つにより目的と
するコポリイミドに転換できる:実質的にイミド化が完
了するまでコポリアミド酸溶液を加熱する、あるいは触
媒の存在下または不在下でコポリアミド酸溶液および脱
水剤を組み合わせ、任意に、得られた混合物をイミド化
が完了するまで加熱する。
本発明の好ましい態様においては、ジアミンおよび二無
水物成分は約等モル量で反応させる。
水物成分は約等モル量で反応させる。
以下の実施例は本発明を具体的に説明するものである。
実施例1
2−(3−アミノフェニル)−2−(4−アミノフェニ
ル)ヘキサフルオロプロパンモノマーを、出発原料とし
て2−(4〜メチルフエニル)ヘキサフルオロプロパン
−2−オルおよびベンゼンを用いて、次に示す6段階の
工程で製造した。
ル)ヘキサフルオロプロパンモノマーを、出発原料とし
て2−(4〜メチルフエニル)ヘキサフルオロプロパン
−2−オルおよびベンゼンを用いて、次に示す6段階の
工程で製造した。
(a) 2− (4−メチルフェニル)−2−フェニル
ヘキサフルオロプロパンの製造 2−(4−メチルフェニル)ヘキサフルオロプロパン−
2−オル1290 gおよびヘンゼン780gを51鋼
製オートクレーブに入れ、フン化水素無水物1500
gを密封したオートクレーブにポンプで入れる。反応混
合物を攪拌しながら170−175℃で64時間加熱す
る。反応の完了後、フッ化水素ガスを80℃で逃がし、
次いで液体生成物を水で2回洗浄し、塩化カルシウムで
乾燥し、分別蒸留する。沸点135−136℃/1.4
mbar、収量:1424 g(89,5%)。
ヘキサフルオロプロパンの製造 2−(4−メチルフェニル)ヘキサフルオロプロパン−
2−オル1290 gおよびヘンゼン780gを51鋼
製オートクレーブに入れ、フン化水素無水物1500
gを密封したオートクレーブにポンプで入れる。反応混
合物を攪拌しながら170−175℃で64時間加熱す
る。反応の完了後、フッ化水素ガスを80℃で逃がし、
次いで液体生成物を水で2回洗浄し、塩化カルシウムで
乾燥し、分別蒸留する。沸点135−136℃/1.4
mbar、収量:1424 g(89,5%)。
(b) 2− (4−カルボキシフェニル)−2−フェ
ニルヘキサフルオロプロパンの製造 (a)工程において製造した2−(4−メチルフェニル
)−2−フェニルヘキサフルオロプロパン298g、酢
酸コハル) (11)四水和物2.49g、酢酸マンガ
ン(TV)四水和物2.45gおよび臭化水素0.41
g (lIBrの氷酢酸10%溶液の4.1 gに相
当する)を1!のガラス製オートクレーブに入れる。発
熱反応を伴いながら、この混合物を6.5 barの酸
素圧力下で約180℃にまで加熱し、170−180
’Cで1時間静置する。約100℃に温度を下げた反応
溶液から、酢酸200 gを留出させる。沸点において
フラスコ中に残留している溶液(約600 g )に、
水275gをゆっくり加える。晶出したカルボン酸を吸
引により濾過し、50%の酢酸水溶液75+nlで2回
、水85m lで5回洗浄し、60℃/60mbarで
乾燥した。収量:311 g (95,5%)。
ニルヘキサフルオロプロパンの製造 (a)工程において製造した2−(4−メチルフェニル
)−2−フェニルヘキサフルオロプロパン298g、酢
酸コハル) (11)四水和物2.49g、酢酸マンガ
ン(TV)四水和物2.45gおよび臭化水素0.41
g (lIBrの氷酢酸10%溶液の4.1 gに相
当する)を1!のガラス製オートクレーブに入れる。発
熱反応を伴いながら、この混合物を6.5 barの酸
素圧力下で約180℃にまで加熱し、170−180
’Cで1時間静置する。約100℃に温度を下げた反応
溶液から、酢酸200 gを留出させる。沸点において
フラスコ中に残留している溶液(約600 g )に、
水275gをゆっくり加える。晶出したカルボン酸を吸
引により濾過し、50%の酢酸水溶液75+nlで2回
、水85m lで5回洗浄し、60℃/60mbarで
乾燥した。収量:311 g (95,5%)。
(C) 2−(4−カルボキシフェニル)−2−(3−
ニトロフェニル)ヘキサフルオロプロパンの製造(b)
工程で製造した2−(4−カルボキシフェニル)−2−
フェニルヘキサフルオロプロパン261gを塩化メチレ
ン500 ml中に懸濁し、濃硫酸188m1を添加後
、−5〜0℃において濃硝酸75m1を滴下した。反応
混合物を1時間強この温度で攪拌し、次いで氷2000
g U−に注ぐ。固形分を濾別し、洗浄水がpH3〜
4となるまで水で洗浄した。粗生成物208g、 M、
p、180−185℃0濾液の後処理:有機相を分離し
、水で2回洗浄し、硫酸マグネシラムで乾燥させ、蒸発
させる。粘着性の黄色残渣についてトルエンからの再結
晶を2回行い、その後さらに30gの粗生成物(融点1
80−184℃)を得た。
ニトロフェニル)ヘキサフルオロプロパンの製造(b)
工程で製造した2−(4−カルボキシフェニル)−2−
フェニルヘキサフルオロプロパン261gを塩化メチレ
ン500 ml中に懸濁し、濃硫酸188m1を添加後
、−5〜0℃において濃硝酸75m1を滴下した。反応
混合物を1時間強この温度で攪拌し、次いで氷2000
g U−に注ぐ。固形分を濾別し、洗浄水がpH3〜
4となるまで水で洗浄した。粗生成物208g、 M、
p、180−185℃0濾液の後処理:有機相を分離し
、水で2回洗浄し、硫酸マグネシラムで乾燥させ、蒸発
させる。粘着性の黄色残渣についてトルエンからの再結
晶を2回行い、その後さらに30gの粗生成物(融点1
80−184℃)を得た。
合計量(238g )の粗生成物についてトルエンから
の再結晶を2回行い、その後ガスクロマトグラフィーに
より測定して99.2%の純度をもつ白色固体を得た。
の再結晶を2回行い、その後ガスクロマトグラフィーに
より測定して99.2%の純度をもつ白色固体を得た。
(d) 2− (4−カルバモイルフェニル)−2〜
(3ニトロフエニル)ヘキサフルオロプロパンの製造(
C)工程で製造した2−(4−カルボキシフェニル)−
2−(3−ニトロフェニル)ヘキサフルオロプロパン1
98gを、濃硫酸700 mlおよび発煙硫酸(65%
)350mlの混合物中に導入する。スルファミン酸2
00gを添加後、反応混合物を90〜95℃で3時間加
熱する。約20℃に冷却した懸濁液を常に攪拌しながら
、氷約6g上に注いだ。次に、析出した固形物を濾別し
、中性となるまで水で洗浄した。収量:白色固体191
g (97%)。門、p、 :147−148℃0(e
)4 、4 ’−ビス[2−(3−ニトロフェニル)ヘ
キサ7ルオロイソプロビル1アゾヘンゼンの製造 (d)工程で製造した2−(4−カルバモイルフェニル
) −2−(3−ニトロフェニル)ヘキサフルオロプロ
パン157gを0〜5℃において、13%次亜塩素酸ナ
トリウム水溶液900 ml、50%水酸化ナトリウム
溶液150 mlおよび塩化トリカプリルメチルアンモ
ニウム5mlの混合物に導入した。懸濁液を、反応温度
が50℃を超えないようにして、24時間攪拌した。反
応液を希酢酸で中和し、固形物を濾別し、水で洗浄した
。乾燥した粗生成物(149g)の再結晶後、融点18
5−187℃の固体を61g得た。母液の後処理により
、さらに14gの生成物を得た。
(3ニトロフエニル)ヘキサフルオロプロパンの製造(
C)工程で製造した2−(4−カルボキシフェニル)−
2−(3−ニトロフェニル)ヘキサフルオロプロパン1
98gを、濃硫酸700 mlおよび発煙硫酸(65%
)350mlの混合物中に導入する。スルファミン酸2
00gを添加後、反応混合物を90〜95℃で3時間加
熱する。約20℃に冷却した懸濁液を常に攪拌しながら
、氷約6g上に注いだ。次に、析出した固形物を濾別し
、中性となるまで水で洗浄した。収量:白色固体191
g (97%)。門、p、 :147−148℃0(e
)4 、4 ’−ビス[2−(3−ニトロフェニル)ヘ
キサ7ルオロイソプロビル1アゾヘンゼンの製造 (d)工程で製造した2−(4−カルバモイルフェニル
) −2−(3−ニトロフェニル)ヘキサフルオロプロ
パン157gを0〜5℃において、13%次亜塩素酸ナ
トリウム水溶液900 ml、50%水酸化ナトリウム
溶液150 mlおよび塩化トリカプリルメチルアンモ
ニウム5mlの混合物に導入した。懸濁液を、反応温度
が50℃を超えないようにして、24時間攪拌した。反
応液を希酢酸で中和し、固形物を濾別し、水で洗浄した
。乾燥した粗生成物(149g)の再結晶後、融点18
5−187℃の固体を61g得た。母液の後処理により
、さらに14gの生成物を得た。
収量ニア5g(52%)。
(f)2−(3−アミノフェニル) −2−(4−アミ
ノフェニル)ヘキサフルオロプロパンの製造(e)工程
で製造した4、4”−ビス+2−(3−ニトロフェニル
)ヘキサフルオロイソプロピルjアゾヘンゼン74.2
gを酢酸エチル600 mlに溶解し、5%Pd/CI
gを加え、この混合物を、最初は25“Cで、反応が落
ちついたら100″Cでオートクレーブ中で水素(10
0bar)により還元した。触媒を濾別後、溶剤を除去
した。残渣を希塩酸に吸収させ、活性炭で処理した。こ
うして得られた無色の濾液を牛深アンモニア水で中和し
た。析出した沈澱物を濾別し、水で洗浄し、一定重量に
なるまで乾燥した。収量:白色固体48g (72%)
。M、p、142−143℃0実施例2 3.4’ −6Fジアミンのコポリイミドの製造冷却器
、温度計、攪拌機を備えた100 ml三つロフラスコ
へ、窒素雰囲気下において、2−(3−アミノフェニル
)−2−(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパ
ン(3,4”−6Fジアミン)6.672g(0,00
8モル)を蒸留したN−メチルピロリドン(NMP)
Logとともに装入した。透明溶液が得られるまで混合
物を攪拌した。この透明な溶液へ、攪拌を続けながら、
ピロメリト酸二無水物(PMDA)および3.3’、4
.4’−ジフェニル四カルボン酸二無水物(BPDA)
の等モル混合物2.06g (0,008モル)を徐々
に加えた。次にNMP 16.8gを反応混合物に添加
し、室温における攪拌を一晩、約21時間続けた。
ノフェニル)ヘキサフルオロプロパンの製造(e)工程
で製造した4、4”−ビス+2−(3−ニトロフェニル
)ヘキサフルオロイソプロピルjアゾヘンゼン74.2
gを酢酸エチル600 mlに溶解し、5%Pd/CI
gを加え、この混合物を、最初は25“Cで、反応が落
ちついたら100″Cでオートクレーブ中で水素(10
0bar)により還元した。触媒を濾別後、溶剤を除去
した。残渣を希塩酸に吸収させ、活性炭で処理した。こ
うして得られた無色の濾液を牛深アンモニア水で中和し
た。析出した沈澱物を濾別し、水で洗浄し、一定重量に
なるまで乾燥した。収量:白色固体48g (72%)
。M、p、142−143℃0実施例2 3.4’ −6Fジアミンのコポリイミドの製造冷却器
、温度計、攪拌機を備えた100 ml三つロフラスコ
へ、窒素雰囲気下において、2−(3−アミノフェニル
)−2−(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパ
ン(3,4”−6Fジアミン)6.672g(0,00
8モル)を蒸留したN−メチルピロリドン(NMP)
Logとともに装入した。透明溶液が得られるまで混合
物を攪拌した。この透明な溶液へ、攪拌を続けながら、
ピロメリト酸二無水物(PMDA)および3.3’、4
.4’−ジフェニル四カルボン酸二無水物(BPDA)
の等モル混合物2.06g (0,008モル)を徐々
に加えた。次にNMP 16.8gを反応混合物に添加
し、室温における攪拌を一晩、約21時間続けた。
得られたコポリアミド酸は25℃でジメチルアセトアミ
ド中重合体濃度0.5g/dir:測定し70.71d
l/gの対数粘度であった。
ド中重合体濃度0.5g/dir:測定し70.71d
l/gの対数粘度であった。
このコポリアミド酸を次のようにしてイミド化した:無
水酢酸4.2gおよびβ−ピコリン0.42gをコポリ
アミド酸溶液に添加した。反応混合物を室温において一
晩、約22時間攪拌し、得られたコポリイミドをメタノ
ール中に析出さゼ、新しいメタノールで洗浄し、60−
65 ”Cの減圧乾燥器で一晩乾燥した。この共重合体
はNMP、テトラヒドロフラン、アセトン、MEK 、
ジグライム、DMAC,クロロホルムおよびBLO溶剤
に可溶であることが見出された。
水酢酸4.2gおよびβ−ピコリン0.42gをコポリ
アミド酸溶液に添加した。反応混合物を室温において一
晩、約22時間攪拌し、得られたコポリイミドをメタノ
ール中に析出さゼ、新しいメタノールで洗浄し、60−
65 ”Cの減圧乾燥器で一晩乾燥した。この共重合体
はNMP、テトラヒドロフラン、アセトン、MEK 、
ジグライム、DMAC,クロロホルムおよびBLO溶剤
に可溶であることが見出された。
実施例3〜6
概略実施例2に示された操作によって、3,4゛6Fジ
アミンを、次に示す二無水物の等モル量混合物と反応さ
せることにより、コポリイミドを製造した。
アミンを、次に示す二無水物の等モル量混合物と反応さ
せることにより、コポリイミドを製造した。
実施例3 : 1,2,4.5−ベンゼン四カルボン酸
二無水物(PMDM)および3.3’、4.4’−ヘン
ヅフェノン四カルボン酸二無水物(BTDA)実施例4
:ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテル二無
水物(ODPA)およびL24,5ヘンゼン四カルボン
酸二無物(PMDA)実施例5: L2,4.5−ベン
ゼン四カルボン酸二無水物(PMDA)および2,2−
ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)へキサフルオロ プロパン二無水物(6FOA) 実施例5: 3,3’、4.4’−ジフェニル四カルボ
ン酸二無水物(BPDA)および2,2−ビス(3,4
ジカルボキシフエニル)へキサフル オロブロバン二無水物(6FDA) 実施例2〜6で製造されたコポリアミド酸(PA)およ
びコポリイミド(PI)のそれぞれの対数粘度を第1表
に示す。また、示差走査熱量法により測定したガラス転
移温度(Tg’C)および空気中で5重量%減量が見ら
れるTGA温度(℃)も示す。
二無水物(PMDM)および3.3’、4.4’−ヘン
ヅフェノン四カルボン酸二無水物(BTDA)実施例4
:ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテル二無
水物(ODPA)およびL24,5ヘンゼン四カルボン
酸二無物(PMDA)実施例5: L2,4.5−ベン
ゼン四カルボン酸二無水物(PMDA)および2,2−
ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)へキサフルオロ プロパン二無水物(6FOA) 実施例5: 3,3’、4.4’−ジフェニル四カルボ
ン酸二無水物(BPDA)および2,2−ビス(3,4
ジカルボキシフエニル)へキサフル オロブロバン二無水物(6FDA) 実施例2〜6で製造されたコポリアミド酸(PA)およ
びコポリイミド(PI)のそれぞれの対数粘度を第1表
に示す。また、示差走査熱量法により測定したガラス転
移温度(Tg’C)および空気中で5重量%減量が見ら
れるTGA温度(℃)も示す。
各コポリイミドの重量平均(M−)および数平均(Mn
)分子量、ならびに、およそM−をMnで割った値であ
る分散性因子(disoersity factor)
(d)も示す。
)分子量、ならびに、およそM−をMnで割った値であ
る分散性因子(disoersity factor)
(d)も示す。
本発明コポリイミドは、N−メチルピロリドン(NMP
) 、ジメチルアセトアミド(DM八へ)、ジグライム
、メチルエチルケトン(MEK) 、テトラヒドロフラ
ン(THF) 、アセトン、クロロホルム、ブチロラク
トン(BLO) 、ジメチルスルホキシド(DMS)
、ジメチルホルムアミド(DMF) 、プロピレングリ
コールメチルエーテル(PGME)等の溶剤に良好な溶
解性を示す。
) 、ジメチルアセトアミド(DM八へ)、ジグライム
、メチルエチルケトン(MEK) 、テトラヒドロフラ
ン(THF) 、アセトン、クロロホルム、ブチロラク
トン(BLO) 、ジメチルスルホキシド(DMS)
、ジメチルホルムアミド(DMF) 、プロピレングリ
コールメチルエーテル(PGME)等の溶剤に良好な溶
解性を示す。
これは、実施例2〜5のコポリイミドの場合に特に重要
である、というのは、PMDAと、2,2−ビス(3−
アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパンまたは2,2
−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン イミドは、上記溶剤には不溶であるか、わずかに溶解す
るだけであるからである。
である、というのは、PMDAと、2,2−ビス(3−
アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパンまたは2,2
−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン イミドは、上記溶剤には不溶であるか、わずかに溶解す
るだけであるからである。
本発明コポリイミドは、また、熱流動特性が改善され、
溶融紡糸して繊維やフィラメントを形成することができ
る。慣用の溶剤に対する良好な溶解性により、溶剤溶液
からフィルムを流延することができる。このようなフィ
ルムは印刷回路基板、絶縁中間層として、また、良好な
誘電特性をもつ強靭で高温安定性のフィルムがこれまで
用いられてきたその他の用途において使用できる。
溶融紡糸して繊維やフィラメントを形成することができ
る。慣用の溶剤に対する良好な溶解性により、溶剤溶液
からフィルムを流延することができる。このようなフィ
ルムは印刷回路基板、絶縁中間層として、また、良好な
誘電特性をもつ強靭で高温安定性のフィルムがこれまで
用いられてきたその他の用途において使用できる。
本発明のコポリイミドは、圧縮成形もしくは射出成形な
どの標準的な成形法を用いて成形することで、安全マス
ク、風防、電子回路基板、航空機の窓などの溶融成形品
を製造することができる。
どの標準的な成形法を用いて成形することで、安全マス
ク、風防、電子回路基板、航空機の窓などの溶融成形品
を製造することができる。
また、本発明のポリイミドは、黒鉛、黒鉛繊維、二硫化
モリブデンおよびPTFEなどを配合すると、ピストン
リング、弁座、ベアリング、およびシールなどに有用な
自己潤滑性耐摩耗表面を形成することもできる。さらに
、ガラス繊維、黒鉛繊維もしくはホウ素繊維などの繊維
を配合すると、ジェットエンジン部品などの高強度構造
部材用の成形材料を形成することもできる。本発明のコ
ポリイミドはまた、摩擦材料を配合して高温ブレーキ部
材用の成形材料を形成したり、あるいはダイアモンドな
どの摩耗材料を配合して高速研削砥石車の製造にも使用
できる。
モリブデンおよびPTFEなどを配合すると、ピストン
リング、弁座、ベアリング、およびシールなどに有用な
自己潤滑性耐摩耗表面を形成することもできる。さらに
、ガラス繊維、黒鉛繊維もしくはホウ素繊維などの繊維
を配合すると、ジェットエンジン部品などの高強度構造
部材用の成形材料を形成することもできる。本発明のコ
ポリイミドはまた、摩擦材料を配合して高温ブレーキ部
材用の成形材料を形成したり、あるいはダイアモンドな
どの摩耗材料を配合して高速研削砥石車の製造にも使用
できる。
本発明のコポリイミドはフィルム状に流延することがで
き、得られたフィルムは電線およびケーブル被覆材料、
モータースロット・ライナー、可撓性印刷回路基板など
として有用である。本発明のコポリイミドはアルミニウ
ムもしくは二酸化ケイ素などの基板上の皮膜として使用
することもできる。本発明のコポリイミドはまた、電磁
ワイヤー用の高温被覆、各種電子部品用の浸漬被覆、ガ
ラス、金属およびプラスチック基体上の保護被覆、耐摩
耗性被覆、および微細電子部品製造に使用するだめのフ
ォトレジスト被覆を製造するのにも使用することができ
る。
き、得られたフィルムは電線およびケーブル被覆材料、
モータースロット・ライナー、可撓性印刷回路基板など
として有用である。本発明のコポリイミドはアルミニウ
ムもしくは二酸化ケイ素などの基板上の皮膜として使用
することもできる。本発明のコポリイミドはまた、電磁
ワイヤー用の高温被覆、各種電子部品用の浸漬被覆、ガ
ラス、金属およびプラスチック基体上の保護被覆、耐摩
耗性被覆、および微細電子部品製造に使用するだめのフ
ォトレジスト被覆を製造するのにも使用することができ
る。
本発明のコポリイミドはさらに、航空宇宙用構造材料も
しくは電気回路の接合用の高温接着剤の製造、銀もしく
は金などの導電性充填材を配合した場合には微細電子部
品の製造に有用な導電性接着剤の製造、あるいはガラス
、金属もしくはプラスチック基体の接着剤の製造にも使
用することができる。
しくは電気回路の接合用の高温接着剤の製造、銀もしく
は金などの導電性充填材を配合した場合には微細電子部
品の製造に有用な導電性接着剤の製造、あるいはガラス
、金属もしくはプラスチック基体の接着剤の製造にも使
用することができる。
本発明のコポリイミドはまた、複合体およびラミネート
製造用のワニス組成物もしくはマトリンクス樹脂として
使用することもできる。ワニス組成物およびマトリック
ス樹脂は、ガラスもしくは石英クロス、あるいは黒鉛も
しくはホウ素繊維に含浸させて、レードーム、印刷回路
基板、放射性廃棄物容器、タービン羽根、航空宇宙用構
造部品、もしくは高温性能、不燃性および優れた電気特
性を必要とするその他の構造部品の製造に使用すること
もできる。
製造用のワニス組成物もしくはマトリンクス樹脂として
使用することもできる。ワニス組成物およびマトリック
ス樹脂は、ガラスもしくは石英クロス、あるいは黒鉛も
しくはホウ素繊維に含浸させて、レードーム、印刷回路
基板、放射性廃棄物容器、タービン羽根、航空宇宙用構
造部品、もしくは高温性能、不燃性および優れた電気特
性を必要とするその他の構造部品の製造に使用すること
もできる。
一般に、本発明のコポリイミドおよびコポリアミド酸前
駆体は、1987年11月24日に米国特許庁に出願し
た係属中の米国特許出願筒124,704号に開示され
ている用途のすべてに用いることができる。
駆体は、1987年11月24日に米国特許庁に出願し
た係属中の米国特許出願筒124,704号に開示され
ている用途のすべてに用いることができる。
本発明の上記具体例は単なる例示であり、当業者が種々
の変更を容易に想起できることは当然である。従って、
本発明はここで開示された具体例に限定されるとみなさ
れるのではなく、請求の範囲の規定によって解釈される
べきである。
の変更を容易に想起できることは当然である。従って、
本発明はここで開示された具体例に限定されるとみなさ
れるのではなく、請求の範囲の規定によって解釈される
べきである。
Claims (17)
- (1)一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される構造の反復基を含むコポリイミド重合体。 上記式中、nは反復基の数を意味し;aおよびbは1〜
約5から独立に選ばれた整数を意味し、RおよびR’は
異なった4価芳香族有機基を意味し、Qは式: ▲数式、化学式、表等があります▼ を有する残基を意味する。 - (2)RおよびR’が、非置換か、あるいはハロゲン、
ヒドロキシ、低級C_1〜C_6アルキルおよび低級C
_1〜C_6アルコキシよりなる群から選ばれた基で環
置換された、フェニレン、ナフタレンおよびビス−フェ
ニレン基よりなる群から選ばれた基である請求項1記載
の共重合体。 - (3)nが、25℃でジメチルアセトアミド中0.5重
量%濃度の重合体溶液で測定して、少なくとも約0.2
dl/gの対数粘度を与えるのに十分な数である請求項
1記載の共重合体。 - (4)2−(3−アミノフェニル)−2−(4−アミノ
フェニル)ヘキサフルオロプロパンと、2種以上の芳香
族二無水物の混合物とのアミド酸縮合物を生成させ、該
アミド酸縮合物をイミド化することにより得られた請求
項1記載の共重合体。 - (5)前記芳香族二無水物が、ビス(3,4−ジカルボ
キシフェニル)エーテル二無水物、3,3’,4,4’
−ベンゾフェノン四カルボン酸二無水物、3,3’,4
,4’−ジフェニル四カルボン酸二無水物、2,2−ビ
ス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプ
ロパン二無水物、1,2,4,5−ベンゼン四カルボン
酸二無水物および4,4’−ビス〔2−(3,4−ジカ
ルボキシフェニル)ヘキサフルオロイソプロピル〕ジフ
ェニルエーテル二無水物の2種またはそれ以上の混合物
よりなる群から選ばれた請求項4記載の共重合体。 - (6)前記アミド酸縮合物が、前記2−(3−アミノフ
ェニル)−2−(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロ
プロパンと一般式: NH_2−Y−NH_2 (式中、Yは芳香族基である) を有する少なくとも1種の他のジアミンとの混合物をジ
アミン成分としてを含むものである請求項4記載の共重
合体。 - (7)nが、25℃でジメチルアセトアミド中0.5重
量%濃度の重合体溶液で測定して、少なくとも約0.2
dl/gの対数粘度を与えるのに十分な数である請求項
5記載のポリイミド共重合体。 - (8)前記二無水物の一方が2,2−ビス(3,4−ジ
カルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二無水物
である請求項7記載の共重合体。 - (9)前記二無水物の一方が1,2,4,5−ベンゼン
四カルボン酸二無水物である請求項7記載の共重合体。 - (10)前記混合物が1,2,4,5−ベンゼン四カル
ボン酸二無水物を含む請求項8記載の共重合体。 - (11)前記混合二無水物の各成分が約3対1から約1
対3の相対モル比で存在する請求項5記載の共重合体。 - (12)前記混合二無水物の各成分が約等モル量で存在
する請求項11記載の共重合体。 - (13)前記ジアミンと前記二無水物を約等モル量で反
応させた請求項5記載の共重合体。 - (14)有機溶剤に溶解した請求項1記載の共重合体。
- (15)請求項1記載のコポリイミドからなる繊維。
- (16)請求項1記載のコポリイミドからなるフィルム
。 - (17)請求項1記載のコポリイミドからなる圧縮成形
物品。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US252,630 | 1988-09-30 | ||
US07/252,630 US4952669A (en) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | Copolyimides prepared from 2-(3-aminophenyl)-2-(4-aminophenyl) Hexafluoro propane |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02142830A true JPH02142830A (ja) | 1990-05-31 |
Family
ID=22956854
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1255088A Pending JPH02142830A (ja) | 1988-09-30 | 1989-09-29 | 2―(3―アミノフェニル)―2―(4―アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパンから得られたコポリイミド |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4952669A (ja) |
EP (1) | EP0361413A1 (ja) |
JP (1) | JPH02142830A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014501301A (ja) * | 2010-12-31 | 2014-01-20 | コーロン インダストリーズ インク | 透明ポリイミドフィルムおよびその製造方法 |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3833338A1 (de) * | 1988-09-30 | 1990-05-31 | Hoechst Ag | Fluorhaltige monomere, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung |
US4933132A (en) * | 1989-02-28 | 1990-06-12 | Hoechst Celanese Corp. | Process of making a shaped article from intermediate molecular weight polyimides |
US4954609A (en) * | 1989-02-28 | 1990-09-04 | Hoechst Celanese Corp. | Intermediate molecular weight fluorine containing polymide and method for preparation |
US5137751A (en) * | 1990-03-09 | 1992-08-11 | Amoco Corporation | Process for making thick multilayers of polyimide |
US5061784A (en) * | 1990-08-06 | 1991-10-29 | Hoechst Celanese Corporation | Polymers prepared from 4,4'-bis(3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoroisopropyl) diphenyl dianhydride |
US5109107A (en) * | 1990-12-21 | 1992-04-28 | Hoecht Celanese Corp. | Polyamide-imide polymers having fluorine-containing linking groups |
US5120826A (en) * | 1990-12-21 | 1992-06-09 | Hoechst Celanese Corp. | Polyamide-imide polymers having fluorine-containing linking groups |
JPH0641305A (ja) * | 1991-10-25 | 1994-02-15 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | フッ素化された反応体からのポリアミド酸およびポリイミド |
US5750633A (en) * | 1994-10-26 | 1998-05-12 | Nitto Denko Corporation | Dope for cast formation and method of manufacturing the same |
US5649045A (en) * | 1995-12-13 | 1997-07-15 | Amoco Corporation | Polymide optical waveguide structures |
US11926726B2 (en) * | 2020-11-18 | 2024-03-12 | United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Polyimide-gold-nanorod J-aggregates with broadened surface plasmonic resonance band and method of manufacture |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3328352A (en) * | 1963-06-17 | 1967-06-27 | Du Pont | Fluorine containing aromatic polycarbonamides |
BE649336A (ja) * | 1963-06-17 | 1964-12-16 | ||
US3356648A (en) * | 1966-10-13 | 1967-12-05 | Du Pont | Polyamide-acids and polyimides from hexafluoropropylidine bridged diamine |
DE2118510A1 (de) * | 1971-04-16 | 1972-10-26 | Farbwerke Hoechst AG, vormals Meister Lucius & Brüning, 6000 Frankfurt | Verfahren zur Herstellung von Formkörpern aus Polyamiden |
DE2556883C2 (de) * | 1974-12-27 | 1981-11-26 | Teijin Ltd., Osaka | Aromatische Copolyamide und deren Verwendung zur Herstellung von Fasern, Fäden, Filmen und Folien |
US4111906A (en) * | 1976-07-19 | 1978-09-05 | Trw Inc. | Polyimides prepared from perfluoroisopropylidene diamine |
AU567442B2 (en) * | 1982-12-20 | 1987-11-19 | Hughes Aircraft Co. | Polyimide composition and method for protecting photoreactivecells |
US4592925A (en) * | 1982-12-20 | 1986-06-03 | Hughes Aircraft Company | Polyimide composition and method for protecting photoreactive cells |
-
1988
- 1988-09-30 US US07/252,630 patent/US4952669A/en not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-09-27 EP EP89117802A patent/EP0361413A1/en not_active Withdrawn
- 1989-09-29 JP JP1255088A patent/JPH02142830A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014501301A (ja) * | 2010-12-31 | 2014-01-20 | コーロン インダストリーズ インク | 透明ポリイミドフィルムおよびその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0361413A1 (en) | 1990-04-04 |
US4952669A (en) | 1990-08-28 |
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