WO2006041176A1 - 分極反転構造の製造方法および分極反転構造 - Google Patents

分極反転構造の製造方法および分極反転構造

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WO2006041176A1
WO2006041176A1 PCT/JP2005/018993 JP2005018993W WO2006041176A1 WO 2006041176 A1 WO2006041176 A1 WO 2006041176A1 JP 2005018993 W JP2005018993 W JP 2005018993W WO 2006041176 A1 WO2006041176 A1 WO 2006041176A1
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electrode
substrate
low resistance
polarization reversal
comb
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PCT/JP2005/018993
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English (en)
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Shoichiro Yamaguchi
Yuichi Iwata
Kengo Suzuki
Original Assignee
Ngk Insulators, Ltd.
Ngk Optoceramics Co., Ltd.
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Priority to US11/713,238 priority patent/US7522791B2/en

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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/35Non-linear optics
    • G02F1/355Non-linear optics characterised by the materials used
    • G02F1/3558Poled materials, e.g. with periodic poling; Fabrication of domain inverted structures, e.g. for quasi-phase-matching [QPM]

Definitions

  • Patent application title Method for manufacturing domain-inverted structure and domain-inverted structure
  • the present invention relates to a method for manufacturing a domain-inverted part by a voltage application method.
  • the second harmonic (S HG: S eco) nd -H a rmo nic (G eneration) can be generated. Since any crystal such as lithium niobate and lithium tantalate can be easily made into an optical waveguide, it is possible to realize a high-efficiency and small second harmonic generation device.
  • This device can generate light with wavelengths from ultraviolet to visible and infrared, as long as it has an excitation laser called fundamental light, and has a wide range of applications such as medical, photochemical, and various optical measurements. Is possible.
  • the substrate surface is inclined by 3 ° with respect to the polarization axis of the ferroelectric crystal, and the comb electrode and the rod electrode are formed on the surface of the substrate.
  • Several low electric resistance portions are formed between the tip of each electrode piece and the rod-shaped electrode.
  • a DC voltage is applied between the comb-shaped electrode and the rod-shaped electrode, a polarization reversal portion is formed corresponding to the electrode piece of the comb-shaped electrode, and a polarization reversal portion corresponding to each low electric resistance portion. (Fig. 28). Disclosure of the invention
  • the width of the inversion part was different between the most advanced part and the root part of the comb electrode. That is, the width of the inversion part tends to be widened at the tip of the comb-shaped electrode, and the electric field is weakened at the base part, so that the width of the inversion part tends to be narrowed.
  • the width of the polarization reversal part is constant.
  • the periodic domain-inverted structure is usually formed on a substrate in which the polarization axis of the ferroelectric crystal constituting the substrate is inclined with respect to the substrate surface, such as a 5-degree off-cut substrate. Therefore, if the width of each domain-inverted portion is changed on the substrate surface, the width of the domain-inverted portion should change in the depth direction inside the substrate. Such a variation in the width of the domain-inverted portion degrades the high-frequency modulation characteristics.
  • An object of the present invention is to reduce the crack-like damage of the wafer due to dielectric breakdown near the tip of the comb-shaped electrode when manufacturing the domain-inverted part by a so-called voltage application method, and to reduce the variation in the width of each domain-inverted part. Is to make it smaller.
  • the present invention provides a domain-inverted structure by a voltage application method using a comb-shaped electrode having a plurality of electrode portions and a power feeding portion provided on one surface of a single-domain ferroelectric single crystal substrate.
  • Each electrode part corresponds to each polarization inversion part of the domain-inverted structure, and the electrode parts are arranged in a direction intersecting the longitudinal direction of the electrode part, and are arranged in a plurality of rows of low resistance pieces separated from each other It is characterized by having.
  • each electrode part includes a plurality of rows of low resistance pieces arranged in a direction intersecting with the longitudinal direction of the electrode part and spaced apart from each other.
  • each electrode portion of the comb-shaped electrode has a one-to-one correspondence with each inversion portion of the domain-inverted structure, and therefore there is a gap between adjacent electrode portions.
  • the electrode pieces were separated in the width direction of the electrode part, and a plurality of rows of low resistance pieces were provided. This makes it possible to alleviate the concentration of electric charges on the tip of the comb-shaped electrode, confirming the operational effect that it is easy to obtain a uniform polarization inversion shape without damaging the substrate, The present invention has been reached. Brief Description of Drawings ⁇
  • FIG. 1 is a plan view schematically showing the pattern of the comb electrode 3 and the counter electrode 1 used in an example of the present invention.
  • FIG. 2 is an enlarged photograph of the comb electrode shown in FIG.
  • FIG. 3 is a plan view showing a pattern example of the low resistance piece array portion 10.
  • FIG. 4 is a plan view showing a pattern example of the low resistance piece arrangement portion 17 according to another embodiment.
  • FIG. 5 is a schematic perspective view for explaining the voltage application method.
  • FIG. 6 is a plan view showing a pattern of a periodically poled structure obtained by the method of the present invention.
  • Fig. 7 is a plan view showing the pattern of the periodically poled structure obtained by the method of the comparative example, and the width of the domain-inverted part changes significantly.
  • FIG. 8 is a plan view showing the pattern of the periodically poled structure obtained by the method of the north comparative example, and black cracks are generated along the tip edge of the electrode.
  • FIG. 9 is a plan view showing the pattern of the periodically poled structure obtained by the method of the comparative example, where there is a large variation in the length and width of the domain-inverted portion.
  • FIG. 1 is a plan view showing a pattern of electrodes provided on a substrate.
  • Fig. 2 is a photograph showing the planar pattern of the electrode portion of the comb-shaped electrode shown in Fig. 1
  • Fig. 3 is an enlarged view of the tip portion of each electrode portion
  • Fig. 5 is a voltage application method. It is a perspective view which shows the application method.
  • an off-force substrate made of a ferroelectric single crystal is used as the substrate 8. Since the polarization direction A of the ferroelectric single crystal is inclined at a predetermined angle, for example, 5 °, with respect to the surface 8a and the back surface 8b, the substrate 8 is called an off-force substrate.
  • the comb-shaped electrode 3 and the counter electrode 1 are formed on the front surface 8a of the substrate 8, and the uniform electrode 9 is formed on the back surface 8b.
  • the comb-shaped electrode 3 includes a large number of elongated electrode portions 5 arranged periodically, and an elongated power feeding portion 2 that connects the roots of the large number of electrode portions 5.
  • the counter electrode 1 is an elongated electrode piece, and the counter electrode 1 is provided so as to face the tip of the electrode part 5.
  • the entire substrate 8 is polarized in the non-polarization inversion direction A. Then, when a voltage of V 1 is applied between the comb-shaped electrode 3 and the counter electrode 1 and a voltage of V 2 is applied between the comb-shaped electrode 3 and the uniform electrode 9, the polarization inversion section is connected to each electrode section. Progresses gradually from 5 in parallel with direction B. The polarization inversion direction B is opposite to the non-polarization inversion direction A. It should be noted that a non-polarized inversion portion that does not undergo polarization inversion remains at a position that does not correspond to the electrode portion, that is, between adjacent polarization inversion portions. In this way, a periodically poled structure is formed in which polarization inversion parts and non-polarization inversion parts are alternately arranged. Light is emitted at the position where the periodically poled structure is formed. Waveguides can be formed.
  • the comb-shaped electrode 3 and the counter electrode 1 are formed on the front surface 8a of the substrate 8, and the uniform electrode 9 is formed on the back surface 8b.
  • the comb-shaped electrode 3 includes a plurality of elongated electrode portions 5 arranged periodically and an elongated power feeding portion 2 that connects the roots of the plurality of electrode portions 5.
  • the counter electrode 1 is composed of an elongated counter electrode piece, and the counter electrode is provided so as to face the tip of the electrode portion 5.
  • the entire substrate 8 is polarized in the non-polarization inversion direction A.
  • a voltage of V 1 is applied between the comb-shaped electrode 3 and the counter electrode 1 and a voltage of V 2 is applied between the comb-shaped electrode 3 and the uniform electrode 9, the polarization inversion section is changed to each electrode section. 5 Gradually progress from A in parallel with direction B.
  • the polarization inversion direction B is the opposite of the non-polarization inversion direction A.
  • each electrode part 5 includes a base part 7 extending from the power feeding part 2 and a low resistance piece array part 10 on the tip side separated from the base part 7. ing.
  • each low resistance piece array portion 10 is composed of a plurality of low resistance pieces separated vertically and horizontally. That is, in this example, a gap 11 is provided between the adjacent low resistance piece array portions 10.
  • Each low resistance piece array portion 10 includes a plurality of rows of low resistance pieces spaced in a direction F perpendicular to the longitudinal direction E of the electrode portion 5.
  • the array unit 10 includes a plurality of rows of low resistance pieces spaced apart in the longitudinal direction E of the electrode unit 5.
  • low resistance pieces 1 2 a, 1 2 b, 1 2 c, 1 2 d, 1 2 e are provided in the first row
  • Low resistance pieces 1 3 a, 1 3 b, 1 3 c, 1 3 d, 1 3 e are provided for the third row
  • low resistance pieces 1 4 a, 1 4 b, 1 4 c are provided for the third row
  • 14 d, 14 e are provided
  • low resistance pieces 15 5 a, 15 b, 15 c, 15 d, 15 e are provided in the fourth row.
  • low resistance pieces 16a, 16b, 16c, 16d, 16e are provided in the fifth row.
  • C is the gap in the direction of arrow E
  • D is the gap in the direction of arrow F.
  • the low resistance pieces 12 a, 12 b, 1 2 c, 1 2 d, 12 e are separated in the direction F substantially perpendicular to the longitudinal direction E of the electrode part 5 and arranged. Has been. The same applies to the second to fifth rows.
  • the concentration of electric charges is suppressed, particularly on the tip side of the electrode part 5, and the damage generated from the tip of the electrode part 5 is reduced, and a relatively long distance is formed along the array part 10.
  • the width of the reversing part can be made almost constant.
  • the electrode section includes a plurality of rows of low resistance pieces arranged in a direction F intersecting the longitudinal direction E of the electrode section and spaced apart from each other.
  • a plurality of rows of low resistance pieces are arranged and spaced apart in a direction F perpendicular to the longitudinal direction E of the electrode portion.
  • the angle formed by E and F is preferably 85 to 95 °. More preferably, the angle is 88 to 92 °.
  • each electrode portion includes a plurality of low resistance pieces spaced apart in the longitudinal direction E of the electrode portion.
  • the electrode portion 17 includes a plurality of rows of low resistance pieces 17 a, 17 b, 17 c, 17 d, and 17 e that are spaced apart in the direction F and arranged.
  • the low resistance pieces 17a to 17e are not spaced apart in the longitudinal direction E.
  • the distance L between the power feeding unit 2 (see FIG. 1) and the counter electrode 1 is not particularly limited, but is preferably 0.2 to 1 mm, for example.
  • each electrode portion 5 is formed as shown in FIG. A continuous base portion 7 and an arrow: a low resistance piece array portion 10 composed of a plurality of low resistance pieces spaced apart in the heel direction.
  • the ratio H // G of the length 7 of the base portion 7 to the total length G of the electrode portion is preferably 0.1 or more, more preferably 0.15 or more.
  • the ratio H / G with respect to the total length G of the electrode part is preferably 0.5 or less, and more preferably 0.3 or less.
  • the gap C (see Fig. 3) between the low resistance pieces adjacent to each other in the arrow ⁇ ⁇ direction is preferably 0.3 to 3 ⁇ m from the viewpoint of the effect of the present invention, and is 1 to 2 / m. More preferably it is.
  • the gap D (see FIG. 3) between the low resistance pieces adjacent to each other in the direction of arrow F is preferably 0.3 to 2 ⁇ m from the viewpoint of the effect of the present invention, 0.3 to More preferably, it is L / m.
  • Low resistance piece for example, each low resistance piece in the first row 1 2 a, 1 2 b, 1 2 c, 1 2 d, 1 2 e, or the width of each low resistance piece in the second row or later From the viewpoint of effects, it is preferably 0.3 to 2 / m, and more preferably 0.4 to L: 5 mm. Also, the length of low resistance pieces, for example, 1 2 a, 1 2 b, 1 2 c, 1 2 d, 1 2 e in the first row, or each low resistance piece in the second row is 4 to 20 zm Preferably, it is 6 to 10 6m.
  • the number of low resistance strips in the direction of arrow F is not particularly limited as long as it is two or more. As the number of rows increases, the concentration of charges at the tip of the electrode portion is reduced. From this viewpoint, the number of rows of the low resistance pieces in the direction of arrow F is preferably 4 or more. However, if the number of rows of low-resistance strips is too large, patterning of the low-resistance strips will be difficult, or the effect will not be seen so much. Preferably there is. This does not apply when the period is 10 zm or more.
  • the type of the ferroelectric single crystal constituting the substrate is not limited. However, lithium niobate (L i Nb 0 3 ), lithium tantalate (L i T a 0 3 ), lithium niobate and lithium oxalate solid solution, K 3 L i 2 N b 5 0 ⁇ 5 Each single crystal is particularly preferred.
  • the optical damage resistance of the three-dimensional optical waveguide is further improved. Therefore, one or more metal elements selected from the group consisting of magnesium (Mg), zinc (Zn), scandium (Sc) and indium (In) can be contained, and magnesium is particularly preferable. .
  • a rare earth element can be contained as a doping component.
  • This rare earth element acts as an additive element for laser oscillation.
  • Nd, Er, Tm, Ho, Dy, and Pr are particularly preferable.
  • a deep inversion structure can be obtained compared to an X-cut substrate that is not an off-cut substrate.
  • the off-cut angle is a slight inclination of about 5 degrees
  • the polarization adjustment is normally performed without adjusting the optical axis for the semiconductor laser that emits light in the TE mode.
  • Efficiency degradation due to surface mismatch is small, and highly efficient wavelength conversion characteristics can be obtained.
  • the off-cut angle increases, the efficiency degradation due to polarization mismatch increases, and in such a case, it is necessary to correct the angle so that the polarization planes match.
  • This off-cut angle is not particularly limited. Particularly preferably, the off-cut angle is 1 ° or more, or 20 ° or less.
  • a so-called X-cut board, Y-cut board, and Z-cut board can be used as the board.
  • a uniform electrode is not provided on the back side of the substrate, but is provided on one surface, and a voltage may be applied between the comb electrode and the uniform electrode. it can.
  • the counter electrode may be omitted, but may be left as a floating electrode.
  • a uniform electrode is provided on the back surface, and a voltage can be applied between the comb-shaped electrode and the uniform electrode. In this case, the counter electrode is not necessarily required, but it may be left as a floating electrode.
  • a periodically poled structure was formed by a voltage application method.
  • the distance L between the power feeding section 2 and the counter electrode 1 is set to 400 mm
  • the polarization inversion period is set to 18 mm
  • the total length G of the electrode section 5 is 150 m
  • the length of the base section 7 H is 60 zm
  • the number of gaps C when viewed in direction E is 10 (11 rows)
  • the number of gaps D when viewed in direction F is 4 (5 rows).
  • the size of the gear C was set to 1 mm
  • the size of the gear D was set to 0.5 mm.
  • Figure 2 is an enlarged photograph of the comb-shaped electrode when it is actually patterned. In this example, Ta metal is used for patterning.
  • This electrode pattern was formed on the surface of the substrate, and a uniform electrode was patterned on the back surface of the substrate, and voltage was applied in the form shown in FIG. In FIG. 5, the voltage VI is supplied between the comb electrode and the counter electrode. However, in the actual voltage application, VI is not supplied, and polarization inversion can be formed without wiring. Therefore, in the following explanation, the voltage application condition for V2 only is shown.
  • the substrate used is easy to see the shape of the polarization inversion, and when it is made into an actual element, it is preferable that the polarization inversion is deep in the thickness direction of the substrate, so that the MgO-doped LiNbO 3 A 5-degree off-y substrate was used.
  • the substrate doped with MgO has higher optical damage resistance than the non-doped LiNbO 3 substrate, and a high-output wavelength conversion element can be obtained.
  • An off-cut angle of 5 degrees can deepen the polarization reversal if the substrate has a further off-cut angle, but if the angle becomes too large during mounting, the angle with the excitation light must be adjusted. Therefore, the wavelength conversion efficiency is low, so the angle that can be converted with high efficiency without strictly adjusting the angle is 5 degrees.
  • a substrate with a thickness of 0.5 mm was used.
  • a periodically poled structure was formed in the same manner as in Example 1.
  • FIGS. 1 Other examples of patterns formed by the method of Comparative Example 1 are shown in FIGS.
  • a black damaged portion (crack) is generated at the tip edge of the electrode.
  • the variation in the length of the reversing part is large.
  • the charge tends to be excessively concentrated at the tip of the electrode when voltage is applied, causing dielectric breakdown of the substrate, which is observed in black in Fig. 8.
  • Crack May occur. Such cracks are likely to occur when a wide periodic polarization inversion exceeding 1 is formed, and are difficult to occur at a period of less than about 10 m. Furthermore, if the period is less than 5 ⁇ 1, it does not occur at all.
  • Example 2 In the same manner as in Example 1, a periodically poled structure was formed. However, the comb electrode pattern was as shown in Fig. 4, and the gap in the direction of arrow E was eliminated. As a result, a uniform shape was formed from the tip of the electrode to the base, and no cracks were generated.

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Abstract

電圧印加法によって分極反転部を製造するのに際して、櫛型電極の先端付近におけるダメージを低減し、各分極反転部の幅のバラツキを小さくする。単分域化している強誘電体単結晶基板の一表面上に設けられた、複数の電極部と給電部とを有する櫛型電極を用いて、電圧印加法により分極反転構造を製造する。各電極部5が分極反転構造の各分極反転部に対応している。電極部5が、電極部5の長手方向Eに対して交差する方向Fに向かって配列され、互いに離間された複数列の低抵抗片12a~12e、13a~13e、14a~14e、15a~15e、16a~16eを備えている。

Description

明細書
分極反転構造の製造方法および分極反転構造 発明の属する技術分野
本発明は、 電圧印加法により分極反転部を製造する方法に関するもの である。
背景技術
ニオブ酸リチウム単結晶やタンタル酸リチウム単結晶などの強誘電体 非線型光学結晶に、 周期的な分極反転構造を形成することによって、 そ の周期に対応した第 2高調波 (S HG : S e c o nd -H a rmo n i c一 G e n e r a t i o n) を発生させることが可能である。 ニオブ酸 リチウムやタンタル酸リチウムな.どの結晶は、 光導波路化も容易に行え るので、 高効率、 小型の第 2高調波発生デバイスを実現することが可能 である。 このデバイスは、 基本光といわれる励起レーザさえあれば、 紫 外から可視さらには赤外域などの波長の光を発生させることができ、 医 学用、 光化学用、 及び各種光計測用などの幅広い応用が可能である。 第 2高調波発生デバイスにおいて高い変換効率を得るためには、 強誘 電体単結晶内に深い分極反転構造を形成する必要がある。 特開平 1 1一
7 2 8 0 9号公報に記載された方法では、 基板表面を強誘電体結晶の分 極軸に対して 3 ° 傾斜させ、 かつ基板の表面に櫛形電極と棒状電極とを 形成し、 櫛形電極の各電極片の先端と棒状電極との間に幾つかの低電気 抵抗部分を形成している。 そして、 櫛形電極と棒状電極との間に直流電 圧を印加すると、 櫛形電極の電極片に対応して分極反転部が形成される のと共に、 各低電気抵抗部分にもそれぞれ対応して分極反転部が形成さ れるとしている (図 2 8 )。 発明の開示
しかし、 従来の方法では、 例えば周期 1 0 z m程度以上の周期状分極 反転構造を得ようとすると、 櫛型電極の先端部分で電圧印加によるダメ ージが生じる場合があった。 また、 ウェハ表面上において、 反転部の幅 が、 櫛型電極の最先端部分と根本部分との間で異なっていた。 即ち、 櫛 型電極の先端部分で反転部の幅が広がりやすく、 根本の部分では電界が 弱くなるので、 反転部の幅が狭くなる傾向にあった。
そして、 周期状分極反転の理想的な形態としては、 分極反転部の幅が 一定であることが望ましい。 なぜなら、 通常、 周期分極反転構造は、 5 度オフカット基板のように、 基板を構成する強誘電体結晶の分極軸が基 板表面に対して傾斜する基板に形成する。 従って、 基板表面において各 分極反転部の幅が変化していると、基板表面から潜った内部においては、 分極反転部の幅が深さ方向に向かって変化しているはずである。 このよ うな分極反転部の幅のバラヅキは高周波変調特性を劣化させる。
本発明の課題は、 いわゆる電圧印加法によって分極反転部を製造する のに際して、 櫛型電極の先端付近における絶縁破壊によるウェハのクラ ック状のダメージを低減し、 各分極反転部の幅のバラツキを小さくする ことである。
本発明は、 単分域化している強誘電体単結晶基板の一表面上に設けら れた、 複数の電極部と給電部とを有する櫛型電極を用いて、 電圧印加法 により分極反転構造を製造する方法であって、
各電極部が分極反転構造の各分極反転部に対応しており、 電極部が、 電極部の長手方向に対して交差する方向に向かって配列され、 互いに離 間された複数列の低抵抗片を備えていることを特徴とする。
また、 本発明は、 この方法によって製造されたことを特徴とする、 分 極反転構造に係るものである。 本発明によれば、 各電極部が、 電極部の長手方向に対して交差する方 向に向かって配列され、 互いに離間された複数列の低抵抗片を備えてい る。
即ち、 櫛型電極の各電極部は、 それそれ分極反転構造の各反転部に一 対一対応しており、 従って隣接する電極部間にはギャップがある。 これ に対して、 本発明においては、 各電極部の内部において、 電極部の幅方 向に向かって電極片を分離し、 複数列の低抵抗片を設けた。 これによつ て、 櫛型電極の先端部分への電荷の集中を緩和することができるので、 基板にダメージを与えることなく、 均一な分極反転形状が得られやすく なるという作用効果を確認し、 本発明に到達した。 図面の簡単な説明 ·
図 1は、 本発明の一例で使用する櫛型電極 3および対向電極 1のパ夕 —ンを概略的に示す平面図である。
図 2は、 図 1の櫛型電極を拡大して示す写真である。
図 3は、 低抵抗片配列部 1 0のパターン例を示す平面図である。
図 4は、 他の実施形態に係る低抵抗片配列部 1 7のパターン例を示す 平面図である。
図 5は、 電圧印加法を説明するための模式的斜視図である。
図 6は、 本発明の方法によって得られた周期分極反転構造のパターン を示す平面図である。
• 図 7は、 比較例の方法によって得られた周期分極反転構造のパターン を示す平面図であり、 分極反転部の幅が著しく変化している。
図 8は、北較例の方法によって得られた周期分極反転構造のパターン を示す平面図であり、 電極の先端エッジに沿って黒いクラックが発生し ている。 図 9は、 比較例の方法によって得られた周期分極反転構造のパターン を示す平面図であり、 分極反転部の長さと幅とに大きなバラツキが見ら れ o 発明を実施するための最良の形態
図 1は、 基板上に設けられた電極のパターンを示す平面図である。 図 2は、 図 1で示した櫛型電極の電極部の平面的パターンを示す写真であ り、 図 3は、 各電極部の先端部分の拡大図であり、 図 5は、 電圧印加法 の適用方法を示す斜視図である。
分極反転部を製造する際には、 例えば強誘電体単結晶からなるオフ力 ット基板を基板 8として使用する。 強誘電体単結晶の分極方向 Aは、 表 面 8 aおよび裏面 8 bに対して所定角度、例えば 5 ° 傾斜しているので、 この基板 8はオフ力ッ ト基板と呼ばれている。
基板 8の表面 8 aに櫛型電極 3および対向電極 1を形成し、 裏面 8 b に一様電極 9を形成する。 櫛型電極 3は、 周期的に配列された多数の細 長い電極部 5と、 多数の電極部 5の付け根を接続する細長い給電部 2と からなる。 対向電極 1は細長い電極片からなつており、 対向電極 1は、 電極部 5の先端に対向するように設けられている。
最初に基板 8の全体を非分極反転方向 Aに分極させておく。 そして、 櫛型電極 3と対向電極 1との間に V 1の電圧を印加し、 櫛型電極 3と一 様電極 9との間に V 2の電圧を印加すると、 分極反転部が各電極部 5か ら方向 Bと平行に徐々に進展する。 分極反転方向 Bは、 非分極反転方向 Aとは正反対になる。 なお、 電極部に対応しない位置、 すなわち隣接す る分極反転部の間には、 分極反転していない非分極反転部が残留する。 このようにして、 分極反転部と非分極反転部とが交互に配列された周期 分極反転構造が形成される。 周期分極反転構造が形成された位置に光導 波路を形成することができる。
特に図 1に示すように、 基板 8の表面 8 aに櫛型電極 3および対向電 極 1を形成し、 裏面 8 bに一様電極 9を形成する。 櫛型電極 3は、 周期 的に配列された多数の細長い電極部 5と、 多数の電極部 5の付け根を接 続する細長い給電部 2とからなる。 対向電極 1は細長い対向電極片から なっており、 対向電極は、 電極部 5の先端に対向するように設けられて いる。
最初に基板 8の全体を非分極反転方向 Aに分極させておく。 そして、 櫛型電極 3と対向電極 1 との間に V 1の電圧を印加し、 櫛型電極 3と一 様電極 9との間に V 2の電圧を印加すると、 分極反転部が各電極部 5 A から方向 Bと平行に徐々に進展する。 分極反転方向 Bは、 非分極反転方 向 Aとは正反対になる。
本例においては、 特に図 1、 図 3に示すように、 各電極部 5が、 給電 部 2から延びる基部 7と、 基部 7から分離された先端側の低抵抗片配列 部 1 0とを備えている。
各低抵抗片配列部 1 0は、 図 3に示すように、 縦横に分離された複数 の低抵抗片からなつている。 即ち、 本例においては、 隣接する低抵抗片 配列部 1 0の間にはギャップ 1 1が設けられている。 そして、 各低抵抗 片配列部 1 0は、 電極部 5の長手方向 Eに対して直交する方向 Fに離間 された複数列の低抵抗片を備えている。 これとともに、 配列部 1 0は、 電 ¾部 5の長手方向 Eに離間された複数列の低抵抗片を備えている。 具体的には、電極部 5の先端側から見て、 1列めには低抵抗片 1 2 a、 1 2 b、 1 2 c、 1 2 d、 1 2 eが設けられており、 2列めには低抵抗 片 1 3 a、 1 3 b、 1 3 c、 1 3 d、 1 3 eが設けられており、 3列め には低抵抗片 1 4 a、 1 4 b、 1 4 c、 1 4 d、 1 4 eが設けられてお り、 4列めには低抵抗片 1 5 a、 1 5 b、 1 5 c、 1 5 d、 1 5 eが設 けられており、 5列めには低抵抗片 1 6 a、 1 6 b、 1 6 c、 1 6 d、 1 6 eが設けられている。 Cは矢印 E方向のギャップであり、 Dは矢印 F方向のギヤップである。
例えば 1列めにおいて、 低抵抗片 12 a、 12 b、 1 2 c, 1 2 d、 12 eは、 電極部 5の長手方向 Eに対して略垂直な方向 Fに向かって離 間され、 配列されている。 2〜 5列めにおいても同様である。
このような構造とすると、 特に電極部 5の先端側において、 電荷の集 中が抑制され、 電極部 5の先端から発生するダメージが少なくなり、 配 列部 10に沿って比較的に長距離にわたって、 反転部め幅を一定に近く することができる。
本発明においては、 電極部が、 電極部の長手方向 Eに対して交差する 方向 Fに向かって配列され、 互いに離間された複数列の低抵抗片を備え ている。 ここで、 好ましくは、 図 3の例に示すように、 複数列の低抵抗 片が、電極部の長手方向 Eに対して直交する方向 Fに向かって配列され、 離間されている。 複数列の低抵抗片の配列方向 Fは、 長手方向 Eに対し て直交することは必須ではないが、 本発明の観点から、 Eと Fとがなす 角は 85〜95° であることが好ましく、 88〜92° であることが更 に好ましい。
本発明において好ましくは、 例えば図 3の例に示すように、 各電極部 が、 電極部の長手方向 Eに向かって離間された複数の低抵抗片を備えて いる。 しかし、 この要件は必須ではない。 例えば図 4に示す例では、 電 極部 17が、 方向 Fに向かって離間され、 配列された複数列の低抵抗片 1 7 a、 17 b、 17 c、 17 d、 17 eを備えている。 しかし、 各低 抵抗片 1 7 a〜 1 7 eは、 長手方向 Eに向かっては離間されていない。 本発明において、 給電部 2 (図 1参照) と対向電極 1との間隔 Lは特 に限定されないが、 たとえは、 0. 2〜lmmが好ましい。 Lは 1. 0 mmを超えても良いが、 限られた基板面積内で、 Lを大きく し過ぎると、 デバイスの取り数が少なくなるので、 1 mm以下が適当な大きさである。 また、 分極反転部の周期は特に限定されない。 しかし、 分極反転周期が 5 ^m、 更には 1 0〃m以上となると、 電極部先端エッジにおけるクラ ヅクゃ分極反転部の幅のバラツキが生じ易くなる。 このことから、 本発 明は、 分極反転周期 5 /m、 更には 1 0〃m以上のときに特に有用であ 好適な実施形態においては、各電極部 5が、例えば図 1に示すように、 連続した基部 7と、 矢印: Ε方向に離間された複数の低抵抗片からなる低 抵抗片配列部 1 0とを備えている。 このような基部 7を設けず、 電極部 の全長にわたって低抵抗片を離間するギヤップを設けることもできるが、 この場合には電極の先端部分に電流を流し難いので、 ある程度連続した 基部 7を設けることが好ましい。 この観点から、 基部 7の長さ Ηの電極 部全長 Gに対する割合 H//Gは、 0. 1以上とすることが好ましく、 0. 1 5以上とすることが更に好ましい。
一方、 電極部 5の全長にわたってギャップを設けない場合には、 電極 部 5の先端への電流供給量が多くなり、 絶縁破壊が生じ易くなるので、 この観点からは、基部 7の長さ Ηの電極部全長 Gに対する割合 H/Gは、 0. 5以下とすることが好ましく、 0. 3以下とすることが更に好まし い。
矢印 Ε方向に隣接する各低抵抗片のギャップ C (図 3参照) は、 本発 明の作用効果の観点からは、 0. 3〜 3〃mであることが好ましく、 1 〜2 /mであることが更に好ましい。 また、 矢印 F方向に隣接する各低 抵抗片のギャップ D (図 3参照) は、 本発明の作用効果の観点からは、 0. 3〜 2〃mであることが好ましく、 0. 3〜; L / mであることが更 に好ましい。 低抵抗片、 例えば 1列目の各低抵抗片 1 2 a、 1 2 b、 1 2 c、 1 2 d、 1 2 e , あるいは 2列目以降の各低抵抗片幅は、 本発明の作用効果 の観点からは 0. 3〜 2 /mであることが好ましく、 0. 4〜 : L . 5〃 mであることが更に好ましい。 また、 低抵抗片、 例えば 1列目の 1 2 a、 1 2 b、 1 2 c、 1 2 d、 1 2 e、 あるいは 2列目以降の各低抵抗片の 長さは 4〜 2 0 zmであることが好ましく、 6〜 1 0〃mであることが 更に好ましい。
また、 一列目の低抵抗片 1 2 a〜 1 2 eから基部 7に向けて、 低抵抗 片の長さを長く していく方が更に好ましい。
矢印 F方向における低抵抗片の列数は 2列以上であればよく、 特に限 定されない。 この列数が多いほど、 電極部先端部における電荷の集中が 低減されるので、 この観点からは矢印 F方向における低抵抗片の列数は 4列以上であることが好ましい。 ただし、 低抵抗片の列数が多くなり過 ぎると、 低抵抗片のパターン形成が難しくなつたり、 また、 効果があま り見られなくなつたりするので、 例えば周期 1 0 mの場合 8列以下で あることが好ましい。 周期が 1 0 zm以上の広い場合にはこの限りでは ない。
低抵抗片の形成実現方法としては、 酸素欠損層を形成して基板の表面 に導電性を持たせるような処理をする方法もあるが、 A 1、 C r一 Au、 Ag:、 C r、 Cu、 N i、 N i— C r、 P d、 T a、 Moなどの金属材 でパターニングする方が精度良く形成できるので、 好ましい。
基板を構成する強誘電体単結晶の種類は限定されない。 しかし、 ニォ ブ酸リチウム (L i Nb 03)、 タンタル酸リチウム (L i T a 03)、 ニオブ酸リチウム一夕ン夕ル酸リチウム固溶体、 K 3 L i 2 N b 50丄 5 の各単結晶が特に好ましい。
強誘電体単結晶中には、 三次元光導波路の耐光損傷性を更に向上させ るために、 マグネシウム (M g )、 亜鉛 (Z n )、 スカンジウム ( S c ) 及びインジウム ( I n ) からなる群より選ばれる 1種以上の金属元素を 含有させることができ、 マグネシウムが特に好ましい。
強誘電体単結晶中には、 ドープ成分として、 希土類元素を含有させる ことができる。 この希土類元素は、 レーザ発振用の添加元素として作用 する。 この希土類元素としては、 特に N d、 E r、 T m、 H o、 D y、 P rが好ましい。
いわゆるオフカツ ト基板を用いることで、 オフカッ トではない Xカヅ トゃ y基板に比べて、 深い反転構造を得ることができる。 オフカッ ト角 度が 5度程度の僅かな傾きであれば、 通常、 TE モードで出射する半導 体レ一ザとの光軸調整も、 オフカッ ト分の角度補正をしなくても、 偏波 面の不整合による効率劣化が少なく、 高効率な波長変換特性を得ること ができる。 但し、 オフカッ ト角が大きくなれば偏波不整合による効率劣 化分が大きくなるので、 そのような場合は、 偏波面が合うように角度補 正をする必要がある。
このオフカツ ト角度は特に限定されない。 特に好ましくは、 オフカヅ ト角度は 1 ° 以上であり、 あるいは、 2 0 ° 以下である。
また、 基板として、 いわゆる Xカッ ト基板、 Yカッ ト基板、 Zカッ ト 基板を使用可能である。 Xカツ ト基板や Yカツ ト基板を使用する場合に は、 一様電極を基板裏面に設けず、 一表面上に設け、 櫛型電極と一様電 極との間に電圧を印加することができる。 この場合には、 対向電極はな く ともよいが、 浮動電極として残しておいても良い。 また、 Zカッ ト基 板を使用する場合には、 一様電極を裏面上に設け、 櫛型の電極と一様電 極との間に電圧を印加することができる。 この場合には、 対向電極は必 ずしも必要ないが、 浮動電極として残しておいても良い。 実施例
(実施例 1 )
図 1〜図 3、 図 5を参照しつつ説明した方法に従い、 電圧印加法によ つて周期分極反転構造を形成した。 ただし、 給電部 2と対向電極 1 との 間隔 Lを 4 0 0〃mとし、 分極反転周期を 1 8〃mとし、 電極部 5の全 長 Gを 1 5 0 mとし、 基部 7の長さ Hを 6 0 z mとし、 方向 Eに見た ときのギャップ Cの個数を 1 0個とし( 1 1列)、方向 Fに見たときのギ ャヅプ Dの個数を 4個 ( 5列) とし、 ギヤップ Cの大きさを 1〃mとし、 ギヤヅプ Dの大きさを 0 . 5〃mとした。 図 2は、 実際にパターニング した時の櫛型電極部分の拡大写真である。 この実施例では、 T a金属を 用いてパ夕一ニングしている。
この電極パターンを基板の表面に形成し、 基板の裏面に一様電極をパ 夕一ニングして、 図 5に示すような形態で電圧印加を行った。 なお、 図 5においては、 櫛型電極と対向電極間に電圧 VI を供給する系としてい るが、 実際の電圧印加において、 VIは供給せず、 また、 配線しなくても 分極反転が形成できたので、 以下の説明においては V2のみの電圧印加 条件を示す。
使用した基板は、 分極反転の形状が見やすく、 また、 実素子にしたと きに分極反転が基板の厚さ方向に深いものが形成された方が好ましいの で、 MgOがドープされた LiNbO3の 5度のオフ yカヅト基板を用いた。 MgOがド一プされた基板は、 ノンド一プの LiNbO3基板に比べて、 光損 傷耐性が強く、 高出力の波長変換素子を得ることができる。 オフカッ ト 角の 5度は、 さらにオフカッ ト角度がついた基板であれば、 分極反転を 深くすることができるが、 実装において、 あまりにも角度が大きくなる と、 励起光との角度調整をしなければ波長変換効率が低くなるので、 角 度調整を厳密にしなくても高効率に波長変換可能な角度として、 5 度の ものを使用した。 基板厚は 0.5mmのものを使用した。
電圧印加条件として、 V2 としてバイアス電圧 1.6kVを重畳しつつ、 1.6kVのパルス幅 100msecのパルス電圧を 20回、 パルス間隔を 1秒で 給電処理した結果、 図 6に示すような反転形状が形成できた。 ただし、 図 6に示す形状は、 ふつ硝酸で基板表面をエッチング処理して得られた ものである。
(比較例 1 )
実施例 1と同様にして周期分極反転構造を形成した。
ただし、 矢印 F方向へと複数列の低抵抗片を分離することはせず、 各 電極部 5ごとに一列とした。 得られた基板表面をふつ硝酸でエッチング 処理し、 図 7に示す形態を得た。 ただし、 図 6と図 7で反転部の輪郭が 異なっているのは、弗硝酸のエッチング条件が異なっているためである。 図 6に示す実施例では、 電極の先端部から根元部分に向けて、 幅の揃 つた形状ができており、 均一性が高いことが分かる。 図 7に示す比較例 では、 電極の先端部が最も電界強度が強まるため、 反転されやすく、 幅 が広がりやすい傾向にある。 これに対して、 図 6の例では、 隙間を設け ることで、 各電極部分の電界が均一化しやすいので、 反転形状が整いや すいと思われる。 LiNbO3 を用いた波長変換素子においては、 分極反転 の形状が均一であることが望ましく、 高効率な素子が期待できる。
また、 比較例 1の方法で形成されたパターンの他の例を図 8、 図 9に 示す。
図 8の比較例では、電極の先端エッジに黒いダメージ部分(クラック) が発生している。図 9の比較例では、反転部の長さのバラヅキが大きレ、。 矢印 F方向にギヤップの設けられていない比較例の電極では、 電圧印 加時に電極先端部分に過度に電荷が集中しやすいことになるので、 基板 の絶縁破壊を引き起こして、 図 8に黒っぽく観察されるようなクラック を生じさせることがある。 このようなクラックは 1 を超える広い 周期的分極反転を形成する時に生じやすく、 10 m程度未満の周期にお いては生じにくい。 さらに周期 5 Π1未満であれば全く生じない。 しか し、 周期 1 0 / mの分極反転を形成するときに、 図 8に観られるような クラックが生じないまでも、 櫛型電極のある一部分で電荷が集中しゃす いという状況においては、 その部分で反転が進みやすくなるので、 図 9 に示すような反転形状のバラヅキが生じることになる。
(実施例 2 )
実施例 1 と同様にして周期分極反転構造を形成した。 ただし、 櫛型電 極のパターンは図 4に示すようにし、矢印 E方向のギャップをなく した。 この結果、 電極の先端部から根元部分に向けて、 幅の揃った形状ができ ており、 またクラックも生じなかった。

Claims

請求の範囲
1 . 単分域化している強誘電体単結晶基板の一表面上に設けられ た、 複数の電極部と給電部とを有する櫛型電極を用いて、 電圧印加法に より分極反転構造を製造する方法であって、
前記各電極部が前記分極反転構造の各分極反転部に対応しており、 前 記電極部が、 前記電極部の長手方向に対して交差する方向に向かって配 列され、 互いに離間された複数列の低抵抗片を備えていることを特徴と する、 分極反転構造の製造方法。
2 . 前記各電極部が、 前記電極部の長手方向に向かって離間され た複数の低抵抗片を備えていることを特徴とする、請求項 1記載の方法。
3 . 請求項 1または 2記載の方法によって製造されたことを特徴とす る、 分極反転構造。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008152377A1 (en) * 2007-06-11 2008-12-18 University Of Southampton Improved electric field poling of ferroelectric materials

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7428097B1 (en) * 2007-09-21 2008-09-23 Hc Photonics Corp. Poled structure with inhibition blocks
US7502163B1 (en) * 2007-11-12 2009-03-10 Hc Photonics Corp. Method for preparing a poled structure by using leakage and tunnel effects
CN112987447A (zh) * 2019-12-02 2021-06-18 济南量子技术研究院 一种用于铁电晶体材料周期极化的电极结构及极化方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6002515A (en) 1997-01-14 1999-12-14 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method for producing polarization inversion part, optical wavelength conversion element using the same, and optical waveguide
US20020057489A1 (en) 2000-11-14 2002-05-16 Fuji Photo Film Co., Ltd. Polarization inversion method of ferroelectrics and fabrication method of optical wavelength conversion device
JP2002214655A (ja) * 2000-11-14 2002-07-31 Fuji Photo Film Co Ltd 強誘電体の分極反転方法および光波長変換素子の作製方法
JP2002277915A (ja) 2001-03-22 2002-09-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd 分極反転形成方法および光波長変換素子

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4119508B2 (ja) 1997-01-14 2008-07-16 松下電器産業株式会社 光波長変換素子とその製造方法、この素子を用いた光発生装置および光ピックアップ、ならびに分極反転部の製造方法
JP3511204B2 (ja) * 2000-09-18 2004-03-29 独立行政法人物質・材料研究機構 光機能素子、該素子用単結晶基板、およびその使用方法
DE10102683A1 (de) * 2001-01-22 2002-08-14 Fraunhofer Ges Forschung Vorrichtung zum Vervielfachen von Lichtfrequenzen
US6999668B2 (en) * 2002-01-09 2006-02-14 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method for manufacturing optical waveguide device, optical waveguide device, and coherent light source and optical apparatus using the optical waveguide device

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6002515A (en) 1997-01-14 1999-12-14 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method for producing polarization inversion part, optical wavelength conversion element using the same, and optical waveguide
US20020057489A1 (en) 2000-11-14 2002-05-16 Fuji Photo Film Co., Ltd. Polarization inversion method of ferroelectrics and fabrication method of optical wavelength conversion device
JP2002214655A (ja) * 2000-11-14 2002-07-31 Fuji Photo Film Co Ltd 強誘電体の分極反転方法および光波長変換素子の作製方法
JP2002277915A (ja) 2001-03-22 2002-09-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd 分極反転形成方法および光波長変換素子

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008152377A1 (en) * 2007-06-11 2008-12-18 University Of Southampton Improved electric field poling of ferroelectric materials
US8054536B2 (en) 2007-06-11 2011-11-08 University Of Southampton Electric field poling of ferroelectric materials

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