WO2005026612A1

WO2005026612A1 - 面光源装置及びそれに用いる導光体及びその製造方法

Info

Publication number: WO2005026612A1
Application number: PCT/JP2004/013099
Authority: WO
Inventors: Tomoyoshi Yamashita; Yoshiaki Murayama; Yoshihito Nozaki
Original assignee: Mitsubishi Rayon Co., Ltd.
Priority date: 2003-09-09
Filing date: 2004-09-09
Publication date: 2005-03-24
Also published as: US20070031106A1; TW200519320A; JPWO2005026612A1; KR20060063965A

Abstract

　一次光源から到来し光入射端面から入射する光が遮られることなく、入射光量の減少がなく、即ち全体の輝度を低下させたり、本来導光すべき光を遮蔽することによる暗線の発生を引き起こすことなしに、光入射端面近傍での輝線発生を防止することができる面光源装置用導光体を提供する。そのために、一次光源１から発せられる光を導光し、且つ一次光源１から発せられる光が入射する光入射端面３１及び導光される光が出射する光出射面３３を有する板状の導光体３は、光出射面３３に光入射端面３１に沿って延びた幅５０μｍ～１０００μｍの光吸収帯３６が形成されており、光吸収帯３６の光入射端面３１に近い側縁は光入射端面３１からの距離が３００μｍ以下である。光入射端面３１は光出射面３３との境界に至るまで一次光源１から発せられる光が入射するように構成されている。

Description

明細書

面光源装置及びそれに用いる導光体及びその製造方法

技術分野

[0001] 本発明は、エッジライト方式の面光源装置及びそれに用いる導光体に関するものであり、特に、一次光源に対向する導光体光入射端面の近傍にて該光入射端面に沿つて筋状の輝線及び Zまたは暗線として観察される輝度分布の不均一の低減を企図した面光源装置及び特にそれに用いる導光体及びその製造方法に関するものでめる。

[0002] 本発明の面光源装置は、例えば液晶表示装置のバックライトに好適に適用される。

背景技術

[0003] 近年、液晶表示装置は、携帯用ノートパソコン等のモニターとして、あるいは液晶テレビやビデオ一体型液晶テレビ等の表示部として、更にはその他の種々の分野で広く使用されてきている。液晶表示装置は、基本的にバックライト部と液晶表示素子部と力も構成されている。ノックライト部としては、液晶表示装置のコンパクトィ匕の観点からエッジライト方式のものが多用されている。従来、エッジライト方式のバックライトとしては、矩形板状の導光体の少なくとも 1つの端面を光入射端面として用いて、該光入射端面に沿って直管型蛍光ランプなどの線状または棒状の一次光源を配置し、該一次光源から発せられた光を導光体の光入射端面から導光体内部へと導入し、該導光体の 2つの主面のうちの一方である光出射面から出射させるものが広く利用されている。

[0004] このようなバックライトでは、一次光源力発せられ導光体を経て出射する光の伝搬形態に起因して、発光面の輝度分布に不均一が生ずる (輝度均斉度が低下する)ことがある。この輝度均斉度低下の 1つの形態として、一次光源に近接する領域の輝度がその他の領域より高くなることが挙げられる。

[0005] このような輝度均斉度低下を防止するための手法として、例えば実公昭 40— 2608 3号公報 (特許文献 1)、実開昭 60 - 60788号公報 (特許文献 2)及び実開昭 62 - 15 4422号公報 (特許文献 3)には、導光体の光出射面の一次光源に近い位置に光吸収性を有する膜或いは光透過抑制のための光線調整膜を配置することが開示されている。この手法は、一次光源に近い領域において導光体光出射面から出射する光の強度が一次光源力遠、領域にぉ、て出射する光の強度より大き、ことへの対処として、単に一次光源との距離の小さい光出射面領域力の光出射を制限しようとするものである。

[0006] ところで、近年、導光体の薄型化 (例えば 2— 3mm程度）が進むにつれて、上記輝度均斉度の低下の特殊な形態として、導光体の光入射端面に近接した (例えば 2m m程度)光出射面位置に対応して光入射端面と平行に周囲より明るい筋状の明部（輝線)が観察されることがある。この輝線による輝度均斉度低下の防止に、上記特許文献 1一 3のような手法を採用すると、形成される光吸収膜等の幅が広いため、輝線のみならずその周囲全体の輝度が低下したり、暗線が発生しやすくなるという問題が生ずる。

[0007] 一方、このような輝線による輝度均斉度低下を防止するための手法として、特開平 9— 197404号公報 (特許文献 4)には、導光体の光入射端面の光出射面及びその反対側の面との境界をなすエッジにインクなどの遮光部材を付することが提案されている。

[0008] また、以上のような輝線の発生に伴って隣接輝線間に、光入射端面と平行に周囲より喑、筋状の暗部（暗線)が観察されることがある。特開平 8— 227074号公報 (特許文献 5)には、このような暗線の発生を防止するたの手法として、光入射端面から遠ざかるにしたがって光吸収率が徐々に低下する光吸収パターンを有する光吸収層を形成することが開示されている。

特許文献 1：実公昭 40- 26083号公報

特許文献 2：実開昭 60-60788号公報

特許文献 3：実開昭 62- 154422号公報

特許文献 4:特開平 9— 197404号公報

特許文献 5：特開平 8— 227074号公報

発明の開示

発明が解決しょうとする課題 [0009] 上記特許文献 4の手法は、導光体光入射端面のエッジに遮光性部材を付するものであり、該遮光性部材の一部は光入射端面にも力かるので、該光入射端面から入射する光の一部が遮られることになり、その分だけ一次光源から導光体へ入射する光量が減少し、全体の輝度が低下し易いとともに、エッジ近傍から入射する光のうち遮光性部材がなければ導光する光も遮光されるため、表示エリアに暗線が発生し易くなると、う問題点を有して、る。

[0010] また、この手法は、非常に幅の狭い遮光性部材を形成するため、輝線の発生を抑止する効果も十分とはいえないものであった。また、この手法は、エッジに遮光性部材を付与するという実際には非常に実現の困難なものであり、所望の位置に遮光性部材を形成することも困難であると共にエッジに付着した遮光性部材は脱落し易い等の問題がある。

[0011] さらに、上記特許文献 5の手法では、光吸収パターンとしてドット状パターン等のパターンを採用しているが、この場合、部分的に光を吸収しない領域が存在し、この領域での遮光が不十分となるので、輝線が観察されてしまうなどの問題がある。

課題を解決するための手段

[0012] 本発明によれば、上記の技術的課題を解決するものとして、

一次光源力発せられる光を導光し、且つ前記一次光源から発せられる光が入射する光入射端面及び導光される光が出射する光出射面を有する導光体であって、前記光出射面に前記光入射端面に沿って延びた幅 50 μ m— 1000 μ mの光吸収帯が形成されており、該光吸収帯の前記光入射端面に近い側縁は前記光入射端面力もの距離が 300 μ m以下であることを特徴とする面光源装置用導光体、が提供される。

[0013] 本発明の一態様においては、前記光吸収帯は前記光入射端面に近い側縁より遠い側縁の方が可視光線透過率が高くなるように形成されている。本発明の一態様にぉヽては、前記光吸収帯の可視光線透過率は前記光入射端面に近!ヽ側縁から遠い側縁にかけて少なくとも 2段階に変化している。本発明の一態様においては、前記光吸収帯の可視光線透過率は前記光入射端面に近ヽ側縁から遠ヽ側縁にかけての少なくとも一部にお、て連続的に変化して、る。 [0014] 本発明の一態様においては、前記光吸収帯の可視光線透過率は最も低い値が 0 %— 60%の範囲内にあり且つ最も高い値が 40%— 90%の範囲内にある。本発明の一態様においては、前記光吸収帯は黒色の塗材からなる。本発明の一態様においては、前記黒色の塗材は、蒸発乾燥型インク、熱硬化型インクまたは紫外線硬化型インクのヽずれかである。

[0015] 本発明の一態様においては、前記光吸収帯は光拡散性または光吸収性の微粒子を含有する。本発明の一態様においては、前記光吸収帯の表面には微細な凹凸が形成されている。本発明の一態様においては、前記光吸収帯の表面の微細な凹凸の凸部は当該光吸収帯に含有された光拡散性または光吸収性の微粒子により形成されている。

[0016] 本発明の一態様においては、前記光出射面と前記光入射端面との境界を形成するエッジ部分は曲率半径が 50 m以下である。本発明の一態様においては、前記光出射面と前記光入射端面との境界を形成するエッジ部分は前記光出射面の他の領域に対して隆起した突出部として前記光入射端面に沿って形成されており、ここで、前記突出部は前記光出射面からの高さカ^ー 50 mであり、及び Zまたは、前記突出部は高さ半値全幅カ^ー 50 mである。

[0017] 本発明の一態様においては、前記光吸収帯の前記光入射端面に近い側縁は前記光入射端面からの距離が 0 mである。本発明の一態様においては、前記光吸収帯の幅は前記導光体の光入射端面位置での厚さの 0. 4倍以下である。本発明の一態様においては、前記光入射端面は前記光出射面との境界に至るまで前記一次光源力発せられる光が入射するように構成されて、る。

[0018] 本発明の一態様においては、前記導光体には前記光出射面及び Z又はその反対側の裏面に光出射機構が形成されている。本発明の一態様においては、前記光出射機構は粗面力なる。本発明の一態様においては、前記光出射機構は前記光出射面に形成されており、前記裏面には前記光入射端面と略直交する方向に延び且つ互いに平行な複数のプリズム列が形成されて、る。本発明の一態様にぉ、ては、前記プリズム列は頂角が 85° — 110° である。本発明の一態様においては、前記光入射端面が粗面加工されて!ヽる。 [0019] また、本発明によれば、

導光体素材の光出射面対応部の少なくとも光入射端面対応部に近接する領域に光吸収帯対応部を形成し、し力る後に前記光入射端面対応部に対する切削加工を行い、前記光入射端面を形成する工程を含んでなることを特徴とする、面光源装置用導光体の製造方法、

が提供される。

[0020] 本発明の一態様においては、前記切削加工において前記光吸収帯対応部の前記光入射端面対応部に近い側縁部をも同時に切削除去する。本発明の一態様においては、前記光吸収帯対応部をインクの塗布により形成する。本発明の一態様においては、前記光吸収帯対応部がインクジェット印刷、スクリーン印刷、タンボ印刷または熱転写印刷により形成される。

[0021] また、本発明によれば、

インクジェット法により多数のノズルからインクを吐出させることで、導光体の光出射面の少なくとも光入射端面に近接する領域に互いに独立し又は部分的に連続したィンクドットを形成し、次いで該インクドットの隣接するもの同士を結合させることで、前記領域の全体にわたって連続したインク層となし、し力る後に該インク層を硬化させることにより前記光吸収帯を形成することを特徴とする、面光源装置用導光体の製造方法、

が提供される。

[0022] 本発明の一態様においては、前記レべリングの時間により、前記インク層におけるインクドットの結合状態を制御する。本発明の一態様においては、前記インクドットの結合状態を制御することで前記光吸収帯の表面状態を制御する。本発明の一態様においては、前記インクが黒色の紫外線硬化型インクであり、前記インク層の硬化のために紫外線を照射する。本発明の一態様においては、導光体素材の光入射端面対応部に対する切削加工を行って前記光入射端面を形成し、しかる後に前記光吸収帯を形成する。本発明の一態様においては、前記領域の前記光入射端面に近い側縁の位置は、前記切削加工により前記光出射面の方に突出して形成される突出部にまで前記インク層が到達するように設定されてヽる。 [0023] 本発明の一態様においては、前記インクは (メタ)アタリレートモノマー及び Zまたは有機溶媒を含有する紫外線硬化型インクである。本発明の一態様においては、前記 (メタ)アタリレートモノマー及び Zまたは有機溶媒は数平均分子量 100以上のものである。本発明の一態様においては、前記 (メタ)アタリレートモノマーは、メチルメタタリレートであり、及び/または、前記インクに 0. 5— 10重量％含有されている。本発明の一態様においては、前記有機溶媒は、沸点 60°C以上のものであり、及び Zまたは、メチルェチルケトン、酢酸ェチル、クロ口ホルム、酢酸セロソルブ及びメタクリル酸のうちの少なくとも 1つを含んでなる。

[0024] 更に、本発明によれば、

以上のような面光源装置用導光体と、該導光体の前記光入射端面に隣接して配置された前記一次光源と、前記導光体の光出射面に隣接して配置された光偏向素子とを備えており、該光偏向素子は、前記導光体の光出射面に対向して位置する入光面とその反対側の出光面とを有しており、前記光偏向素子の入光面に、前記導光体の光入射端面と略平行の方向に延び且つ互いに平行な複数のプリズム列を備えてヽることを特徴とする面光源装置、

が提供される。

[0025] 本発明の一態様においては、前記光偏向素子の入光面の複数のプリズム列のそれぞれは、 2つのプリズム面を備えており且つ該プリズム面のうちの一方力入射した光を前記プリズム面のうちの他方により全反射させるものである。本発明の一態様においては、前記光偏向素子の出光面に隣接して光拡散素子が配置されており、該光拡散素子は前記導光体の光入射端面力少なくとも 2mmの位置力 4mmの位置までを含む幅の領域に光吸収ドットパターンを形成したドットパターン部を備えており、該ドットパターン部は直径 30 μ m— 70 μ mのドット状の光吸収性塗材を分散配置してなる。本発明の一態様においては、前記光拡散素子のドットパターン部は可視光線透過率が 60%— 95%である。

発明の効果

[0026] 以上のような本発明によれば、導光体の光出射面に、光入射端面に近接する位置にて該光入射端面に沿って延びた細、特定幅の光吸収帯を形成したことで、一次光源力到来し光入射端面力入射する光が遮られることはなぐ一次光源力導光体へ入射する光量の減少がなく即ち全体の輝度を低下させたり本来導光すべき光を遮蔽することによる暗線の発生を引き起こしたりすることなしに、光入射端面の近傍における輝線の発生を防止することができる。

[0027] また、本発明によれば、光吸収帯を導光体の光出射面のみに形成するので、その作成は容易であり、更に、形成された光吸収帯は容易には脱落せず長期にわたって良好に上記輝線発生防止効果を発揮することが可能である。

[0028] 更に、本発明によれば、導光体素材に光吸収帯対応部を形成した後に光入射端面対応部に対する切削加工を行って光入射端面を形成することで、光吸収帯の光入射端面に近ヽ側縁の光入射端面からの距離を容易に 0 μ mとすることができる。

[0029] 更に、本発明によれば、インクジェット法により導光体の光出射面にインクドットを形成し、次いでインクドットをレべリングさせ擬似的にインクドットの寸法を大きくして、ィンク未塗着部分をインクにより埋めて連続したインク層となし、しかる後にインク層を硬化させることにより光吸収帯を形成するので、インクの粘性の程度に応じて所要のレベリング時間を設定することによりインク層におけるインクドットの結合状態を制御して、容易に光吸収帯の表面状態を制御することができる。

発明を実施するための最良の形態

[0030] 以下、図面を参照しながら、本発明の実施の形態を説明する。

[0031] 図 1は、本発明による面光源装置の一つの実施形態を示す模式的斜視図である。

図 1に示されているように、本実施形態の面光源装置は、少なくとも一つの側端面を光入射端面 31とし、これと略直交する一つの表面を光出射面 33とする導光体 3と、この導光体 3の光入射端面 31に対向して配置され光源リフレクタ 2で覆われた線状の一次光源 1と、導光体 3の光出射面上に配置された光偏向素子 4と、光偏向素子 4の出光面 42上にこれと対向して配置された光拡散素子 6と、導光体 3の光出射面 33とは反対側の裏面 34に対向して配置された光反射素子 5とから構成される。

[0032] 導光体 3は、 XY面と平行に配置されており、全体として矩形板状をなして、る。導光体 3は 4つの側端面を有しており、そのうち YZ面と平行な 1対の側端面のうちの少なくとも一つの側端面を光入射端面 31とする。光入射端面 31は一次光源 1と対向して配置されており、一次光源 1から発せられた光は光入射端面 31から導光体 3内へと入射する。本発明においては、例えば、光入射端面 31とは反対側の側端面 32等の他の側端面にも光源を対向配置してもよい。

[0033] 導光体 3の光入射端面 31に略直交した 2つの主面は、それぞれ XY面と略平行に位置しており、いずれか一方の面（図では上面）が光出射面 33となる。この光出射面 33またはその裏面 34のうちの少なくとも一方の面に粗面力もなる指向性光出射機構や、プリズム列、レンチキュラーレンズ列、 V字状溝等の多数のレンズ列を光入射端面 31と略平行に並列形成したレンズ面力もなる指向性光出射機構等を付与することによって、光入射端面 31から入射した光を導光体 3中を導光させながら光出射面 33 力も光入射端面 31および光出射面 33に直交する面 (XZ面）内において指向性のある光を出射させる。この XZ面内分布における出射光光度分布のピークの方向（ピーク光）が光出射面 33となす角度を αとする。該角度 αは例えば 10— 40度であり、出射光光度分布の半値全幅は例えば 10— 40度である。

[0034] 導光体 3の表面に形成する粗面やレンズ列は、 IS04287Z1— 1984による平均傾斜角 Θ aが 0. 5— 15度の範囲のものとすることが、光出射面 33内での輝度の均斉度を図る点力も好ましい。平均傾斜角 Θ aは、さらに好ましくは 1一 12度の範囲であり、より好ましくは 1. 5— 11度の範囲である。この平均傾斜角 Θ aは、導光体 3の厚さ（t) と入射光が伝搬する方向の長さ (L)との比 (LZt)によって最適範囲が設定されることが好ましい。すなわち、導光体 3として LZtが 20— 200程度のものを使用する場合は、平均傾斜角 Θ aを 0. 5-7. 5度とすることが好ましぐさらに好ましくは 1一 5度の範囲であり、より好ましくは 1. 5— 4度の範囲である。また、導光体 3として LZtが 20 以下程度のものを使用する場合は、平均傾斜角 Θ aを 7— 12度とすることが好ましく、さらに好ましくは 8— 11度の範囲である。

[0035] 導光体 3に形成される粗面の平均傾斜角 Θ aは、 IS04287Z1— 1984に従って、触針式表面粗さ計を用いて粗面形状を測定し、測定方向の座標を Xとして、得られた傾斜関数 f (X)から次の式（1)および式 (2)

A a= (l/L) J ^L

0 I (d/dx) f (x) I dx · · · (1)

Θ a = tan^_1 ( A a) · · · (2) を用いて求めることができる。ここで、 Lは測定長さであり、 Δ aは平均傾斜角 Θ aの正接である。

[0036] さらに、導光体 3としては、その光出射率が 0. 5— 5%の範囲にあるものが好ましぐより好ましくは 1一 3%の範囲である。これは、光出射率が 0. 5%より小さくなると導光体 3から出射する光量が少なくなり十分な輝度が得られなくなる傾向にあり、光出射率が 5%より大きくなると一次光源 1の近傍で多量の光が出射して、光出射面 33内での X方向における出射光の減衰が著しくなり、光出射面 33での輝度の均斉度が低下する傾向にあるためである。このように導光体 3の光出射率を 0. 5— 5%とすることにより、光出射面から出射する光の出射光光度分布 (XZ面内）におけるピーク光の角度が光出射面の法線に対し 50— 80度の範囲にあり、光入射端面と光出射面との双方に垂直な XZ面における出射光光度分布 (XZ面内）の半値全幅が 10— 40度であるような指向性の高い出射特性の光を導光体 3から出射させることができ、その出射方向を光偏向素子 4で効率的に偏向させることができ、高い輝度を有する面光源装置を提供することができる。

[0037] 本発明において、導光体 3からの光出射率は次のように定義される。光出射面 33 の光入射端面 31側の端縁での出射光の光強度 (I )と光入射端面 31側の端縁から

0

距離 Lの位置での出射光強度 (I)との関係は、導光体 3の厚さ (Z方向寸法)を tとすると、次の式（3)

1 = 1 ( a /100) [l-( a /100) ) ]^L/t · · · (3)

0

のような関係を満足する。ここで、定数 αが光出射率であり、光出射面 33における光入射端面 31と直交する X方向での単位長さ（導光体厚さ tに相当する長さ）当たりの導光体 3から光が出射する割合 (百分率 :％)である。この光出射率 αは、縦軸に光出射面 23からの出射光の光強度の対数をとり、横軸に (LZt)をとり、これらの関係をプロットすることで、その勾配から求めることができる。

[0038] また、指向性光出射機構が付与されていない他の主面には、導光体 3からの出射光の一次光源 1と平行な面 (YZ面)での指向性を制御するために、光入射端面 31に対して略垂直の方向（X方向）に延びる多数のレンズ列を配列したレンズ面を形成することが好ましい。図 1に示した実施形態においては、光出射面 33に粗面を形成し、裏面 34に光入射端面 31に対して略垂直方向（X方向）に延びる多数のレンズ列の配列からなるレンズ面を形成している。本発明においては、図 1に示した形態とは逆に、光出射面 33にレンズ面を形成し、裏面 34を粗面とするものであってもよい。

[0039] 図 1に示したように、導光体 3の裏面 34あるいは光出射面 33にレンズ列を形成する場合、そのレンズ列としては略 X方向に延びたプリズム列、レンチキュラーレンズ列、 V字状溝等が挙げられるが、 YZ断面の形状が略三角形状のプリズム列とすることが好ましい。

[0040] 本発明にお、て、導光体 3の裏面 34にレンズ列としてプリズム列を形成する場合には、その頂角を 85— 110度の範囲とすることが好ましい。これは、頂角をこの範囲とすることによって導光体 3からの出射光を適度に集光させることができ、面光源装置としての輝度の向上を図ることができるためであり、より好ましくは 90— 100度の範囲でめる。

[0041] 本発明の導光体においては、所望のプリズム列形状を精確に作製し、安定した光学性能を得るとともに、組立作業時や光源装置としての使用時におけるプリズム頂部の摩耗や変形を抑止する目的で、プリズム列の頂部に平坦部あるいは曲面部を形成してちよい。

[0042] なお、本発明では、上記のような光出射面 33またはその裏面 34に光出射機構を形成する代わりにあるいはこれと併用して、導光体内部に光拡散性微粒子を混入分散することで指向性光出射機構を付与してもよい。

[0043] 光入射端面 31は、 XY面内及び Z又は XZ面内での光の広がりを調節するために、粗面化することが好ましい。粗面の形成方法としては、フライス工具等で切削する方法、砲石、サンドペーパー、パフ等で研磨する方法、ブラスト加工、放電加工、電解研磨、化学研磨等による方法が挙げられる。ブラスト加工に使用されるブラスト粒子としては、ガラスビーズのような球形のもの、アルミナビーズのような多角形状のものが挙げられるが、多角形状のものを使用する方が光を広げる効果の大きな粗面を形成できることから好ましい。切削加工や研磨力卩ェの加工方向を調整することにより、異方性の粗面を形成することもできる。 XY面内での光の広がりの調節のためには Z方向の加工方向を採用して Z方向の筋状凹凸形状を形成することができ、 XZ面内での光の広がりの調節のためには Y方向の加工方向を採用して Y方向の筋状凹凸形状を形成することができる。この粗面加工は、導光体の光入射端面に直接施すこともできるが、金型の光入射端面に相当する部分を加工して、これを成形時に転写することちでさる。

[0044] 光入射端面 31の粗面化の程度は、導光体厚さ方向で、平均傾斜角 Θ aが 1一 5度、中心線平均粗さ Raが 0. 05-0. 5 m、十点平均粗さ Rzが 0. 5— 3 mであることが好ましい。これは、光入射端面 31の粗面化の度合いをこの範囲とすることによつて、明帯あるいは暗帯の発生を抑止できるとともに、輝線 ·暗線をぼかし見え難くすることができるためである。平均傾斜角 Θ aは、更に好ましくは 2— 4. 5度、特に好ましくは 2. 5— 3度の範囲である。中心線平均粗さ Raは、更に好ましくは 0. 07-0. 3 ^ m 、特に好ましくは 0. 1-0. 25 mの範囲である。十点平均粗さ Rzは、更に好ましくは 0. 7-2. 5 m、特に好ましくは 1一 2 μ mの範囲である。また、光入射端面 31の粗面化の程度は、長手方向で、上記と同様の理由から、平均傾斜角 Θ aが 1一 3度、中心線平均粗さ Raが 0. 02-0.： L m、十点平均粗さ Rzが 0. 3— 2 mであることが好ましい。平均傾斜角 Θ aは、更に好ましくは 1. 3-2. 7度、特に好ましくは 1. 5 一 2. 5度の範囲である。中心線平均粗さ Raは、更に好ましくは 0. 03-0. 08 m、特に好ましくは 0. 05-0. の範囲である。十点平均粗さ Rzは、更に好ましく ίま 0. 4- 1. 7 111、特に好ましく【ま0. 5- 1. 5 /z mの範囲である。

[0045] 導光体の光出射面 33には、光入射端面 31に沿って延びた光吸収帯 36が形成されている。該光吸収帯 36は、例えば黒色の塗材を塗布することで形成することができる。光吸収帯 36の形成は、特に限定されるものではないが、たとえば、インクの塗布により行うことができ、インクジェット印刷やスクリーン印刷やタンボ印刷や熱転写印刷によることが特に好ましい。また、光吸収帯 36の材料としては、生産性の観点から速乾性の材料を用いることが好ましぐ乾燥時間が 60秒以下のものが好ましぐより好ましくは 40秒以下、さらに好ましくは 20秒以下のものである。このような光吸収帯材料としては、例えば、ェチルメチルケトン等の有機溶剤や (メタ)アタリレートモノマ一等を用いた有機溶剤系塗料や蒸発乾燥型インクや熱硬化型インク、或いは紫外線硬化型塗料や紫外線硬化型インク等が挙げられる。この光吸収帯は、光入射端面 31から導光体 3内に導入された光のうちで直接到来する光の少なくとも一部を吸収することで、光入射端面 31の近傍での輝線の発生を防止するものであり、このため可視光線透過率 (JIS— K7105B)が例えば 0— 90%であり、 0— 60%であることが好ましぐ更に好ましくは 2— 45%であり、特に好ましくは 4一 30%である。また、光吸収帯 36は、その反射率 (JIS— K7105B)が 0— 20%であることが好ましぐ更に好ましくは 0— 15%である。なお、この輝線発生には、光入射端面を経ずに光源リフレクタ 2による反射で光出射面 33から導光体内へと入り込む光も寄与していると考えられるが、光吸収帯 36は、このような光をも一部吸収することで輝線発生を防止する。

[0046] 図 2は導光体 3を一次光源 1と共に示す模式的平面図である。図 2に示されているように、光吸収帯 36は、光入射端面 31から入射する光を遮光せず、入射する光量の減少による輝度の低下や導光すべき光を遮光することによる暗線の発生を抑止するために、導光体 3の光出射面 33にのみ形成され、光入射端面 31には形成しないことが必要である。また、光吸収帯 36は、幅 (X方向寸法）が Wであり、その幅を画定する 2つの側縁のうちの光入射端面 31に近、方の側縁と該光入射端面 31との距離は D である。幅 Wは、 50— 1000 μ mであり、好ましくは 100— 700 μ mであり、特に好ましくは 200— 400 μ mである。幅 Wが 50 μ m未満であると所要の輝線発生防止効果が低下する傾向にあり、幅 Wが 1000 mを越えると暗線が発生したり全体の輝度低下が発生する傾向にある。幅 Wは、導光体 3の光入射端面位置での厚さの 0. 4倍以下であるのが好ましぐ更に好ましくは 0. 3倍以下であり、特に好ましくは 0. 2倍以下である。また、距離 Dは、 300 m以下であれば上記の輝線発生防止効果は得られ、好ましくは 200 μ m以下であり、特に好ましくは 100 μ m以下である。

[0047] 光吸収帯 36を導光体 3の光出射面 33に形成するにあたって、光出射面 33の光吸収帯形成部位の少なくとも一部に凹部を形成し、該凹部に塗料等を塗布して光吸収帯を形成してもよい。即ち、図 8及び図 9に示されているように、光出射面 33に例えば断面三角形またはレンチキュラー状の凹部 70を、例えば深さ 150 m以下、好ましくは 100 m以下、更に好ましくは 50 m以下の深さに形成し、該凹部の内部を含むように光吸収帯 36を形成する。この凹部 70の深さが大きすぎると導光体内の導波モードが欠損して暗線が出現しやすくなる。 [0048] 導光体 3としては、図 1に示したような形状に限定されるものではなぐ光入射端面の方が厚いくさび状等の種々の形状のものが使用できる。

[0049] 図 3及び図 4を用いて、以上のような導光体の製造方法の一例を説明する。

[0050] 図 3は、榭脂成形加工により成形され光吸収帯となる塗材が塗布されて得られた導光体素材 3'を示す模式的平面図である。この導光体素材 3 'は、最終的に得られる導光体 3の各部に対応する部分を対応部として示すと、光入射端面対応部 31 '、光出射面対応部 33 '及び光吸収帯対応部 36'を有する。光出射面対応部 33'には所要の光出射機構を構成する粗面としてのマット面が形成されており、その反対側の裏面対応部には所要のプリズム列が形成されている。光出射面対応部 33'の光入射端面対応部 31 'に近接する領域に、光吸収帯対応部 36'が形成されている。

[0051] 図 4に示されるように、光入射端面対応部 31 'に対する切削加工を行って不要部分を切除することで、切削加工面として光入射端面 31が形成される。これにより、容易に、光入射端面 31を光出射面 33との境界に至るまで一次光源 1から発せられる光が入射するように構成することができる。また、図 3及び図 4に示されるように、切削により切除される不要部分にまで光吸収帯対応部 31 'を形成しておき、切削加工において光吸収帯対応部 31 'の光入射端面対応部 31 'に近い側縁部をも同時に切削除去することにより、容易に、上記の距離 Dを 0 mとし且つ光入射端面 31を光出射面 33 との境界に至るまで一次光源 1から発せられる光が入射するように構成することができる。

[0052] 光偏向素子 4は、導光体 3の光出射面 33上に配置されている。光偏向素子 4の 2つの主面 41, 42は全体として互いに平行に配列されており、それぞれ全体として XY 面と平行に位置する。主面 41, 42のうちの一方 (導光体 3の光出射面 33側に位置する主面）は入光面 41とされており、他方が出光面 42とされている。出光面 42は、導光体 3の光出射面 33と平行な平坦面とされている。入光面 41は、多数の Y方向に延びるプリズム列が互いに平行に配列されたプリズム列形成面とされてヽる。プリズム列形成面は、隣接するプリズム列の間に比較的幅の狭い平坦部（例えば、プリズム列の X方向寸法と同程度あるいはそれより小さい幅の平坦部）を設けてもよいが、光の利用効率を高める点からは平坦部を設けることなくプリズム列を X方向に連続して配列することが好ましい。

[0053] 図 5に、光偏向素子 4による光偏向の様子を示す。この図は、 XZ面内での導光体 3 力のピーク光（出射光分布のピークに対応する光）の進行方向を示すものである。導光体 3の光出射面 33から角度 αで斜めに出射されるピーク光は、プリズム列の第 1面へ入射し第 2面により全反射されてほぼ出光面 42の法線の方向に出射する。また、 ΥΖ面内では、上記のような導光体裏面 34のプリズム列の作用により広範囲の領域において出光面 42の法線の方向の輝度の十分な向上を図ることができる。

[0054] 光偏向素子 4のプリズム列のプリズム面の形状は、単一平面に限られず、例えば断面凸多角形状または凸曲面形状とすることができ、これにより、高輝度化、狭視野ィ匕を図ることができる。

[0055] 本発明の光偏向素子においては、所望のプリズム形状を精確に作製し、安定した光学性能を得るとともに、組立作業時や光源装置としての使用時におけるプリズム頂部の摩耗や変形を抑止する目的で、プリズム列の頂部に平坦部あるいは曲面部を形成してもよい。この場合、プリズム列頂部に形成する平坦部あるいは曲面部の幅は、 3 m以下とすること力光源装置としての輝度の低下ゃスティキング現象による輝度の不均一パターンの発生を抑止する観点から好ましぐより好ましくは 2 m以下であり、さらに好ましくは 1 μ m以下である。

[0056] 本発明においては、輝度の低下をできる限り招くことなぐ視野範囲を目的に応じて適度に制御するために、光偏向素子 4の出光面上に光拡散素子 6を隣接配置することができる。また、本発明においては、このように光拡散素子 6を配置することによって、品位低下の原因となるぎらつきや輝度斑等を抑止し品位向上を図ることもできる。

[0057] 光拡散素子 6の光偏向素子 4に対向する入射面 61には、光偏向素子 4とのステイツキングを防止するため、凹凸構造を付与することが好ましい。同様に、光拡散素子 6 の出射面 62においても、その上に配置される液晶表示素子との間でのステイツキングを考慮して、光拡散素子 6の出射側の面にも凹凸構造を付与することが好ましい。この凹凸構造は、ステイツキング防止の目的のみで付与する場合には、平均傾斜角が 0. 7度以上となるような構造とすることが好ましぐさらに好ましくは 1度以上であり、より好ましくは 1. 5度以上である。 [0058] 光拡散素子 6の光拡散性は、光拡散素子 6中に光拡散剤例えば、シリコーンビーズ、ポリスチレン、ポリメチルメタタリレート、フッ素ィ匕メタクリレ一ト等の単独重合体あるいは共重合体等を混入したり、光拡散素子 6の少なくとも一方の表面に凹凸構造を付与することによって付与することができる。表面に形成する凹凸構造は、光拡散素子 6の一方の表面に形成する場合と両方の表面に形成する場合とでは、その程度が異なる。光拡散素子 6の一方の表面に凹凸構造を形成する場合には、その平均傾斜角を 0. 8— 12度の範囲とすることが好ましぐさらに好ましくは 3. 5— 7度であり、より好ましくは 4一 6. 5度である。光拡散素子 6の両方の表面に凹凸構造を形成する場合には、一方の表面に形成する凹凸構造の平均傾斜角を 0. 8— 6度の範囲とすることが好ましぐさらに好ましくは 2— 4度であり、より好ましくは 2. 5— 4度である。この場合、光拡散素子 6の全光線透過率の低下を抑止するためには、光拡散素子 6の入射面側の平均傾斜角を出射面側の平均傾斜角よりも大きくすることが好ましい。

[0059] また、光拡散素子 6のヘイズ値としては 8— 82%の範囲とすることが、輝度特性向上と視認性改良の観点力も好ましぐさらに好ましくは 30— 70%の範囲であり、より好ましくは 40— 65%の範囲である。

[0060] 図 6は光拡散素子 6を一次光源 1と共に示す模式的平面図である。図 1及び図 6に示されているように、光拡散素子 6には、ドットパターン部 64が形成されている。該ドットパターン部は、出射面 62〖こ直径 30 μ m— 70 μ mのドット状の光吸収性塗材を分散配置してなるものであり、導光体の光入射端面力も距離 dlの位置力も距離 d2の位置までを含む幅（d2-dl)の領域に存在する。距離 dlが 2mm以下であり距離 d2が 4 mm以上であるのが好ましい。これにより、一次光源位置の近傍での全体的な明るさを適度に抑制して、発光面につき違和感の少ない輝度分布を得ることが可能になる。このような効果を効率的に得るためには、ドットパターン部 64は可視光線透過率が 60%— 95%であるのが好ましい。また、一層違和感の少ない輝度分布を得るために、ドット状光吸収性塗材の分散配置の密度を、光入射端面から距離 d2の位置に近い少なくとも一部の幅領域において、一次光源力遠ざかるに従い次第に小さくすることが好ましい。

[0061] 一次光源 1は Y方向に延在する線状の光源であり、該一次光源 1としては例えば蛍光ランプや冷陰極管を用いることができる。この場合、一次光源 1は、図 1に示したように、導光体 3の一方の側端面に対向して設置する場合だけでなぐ必要に応じて反対側の側端面にもさらに設置することもできる。なお、本発明においては、一次光源 1 としては線状光源に限定されるものではなぐ LED光源、ハロゲンランプ、メタハロランプ等のような点光源を使用することもできる。特に、携帯電話機や携帯情報端末等の比較的小さな画面寸法の表示装置に使用する場合には、 LED等の小さな点光源を使用することが好ましい。このように一次光源 1として点光源を使用する場合には、一次光源 1の配置は導光体 3のコーナー部等に配置することもできる。この場合、導光体 3に入射した光は、光出射面と同一の平面内において一次光源 1を略中心とした放射状に導光体中を伝搬するため、導光体 3の光出射面に点光源を取り囲むようにして多数のレンズ列を略弧状に並列して形成した光出射機構を形成することが、輝度の均一性の点から好ましい。また、導光体 3の光出射面から出射する出射光も同様に一次光源 1を中心とした放射状に出射するため、このような放射状に出射する出射光を、その出射方向に関わらず効率よく所望の方向に偏向させるためには、光偏向素子 4に形成するプリズム列を一次光源 1を取り囲むように略弧状に並列して配置することが、輝度の均一性の点力も好ましい。

[0062] 光源リフレクタ 2は一次光源 1の光をロスを少なく導光体 3へ導くものである。その材質としては、例えば表面に金属蒸着反射層を有するプラスチックフィルムを用いること力 Sできる。図示されているように、光源リフレクタ 2は、光拡散素子 6及び光偏向素子 4 を避けて、光反射素子 5の端縁部外面から一次光源 1の外面を経て導光体 3の光出射面端縁部卷きつけられている。他方、光源リフレクタ 2は、光拡散素子 6のみを避けて、光反射素子 5の端縁部外面から一次光源 1の外面を経て光偏向素子 4の出光面端縁部へと卷きつけることも可能であり、或いは、光反射素子 5の端縁部外面力一次光源 1の外面を経て光拡散素子 6の出射面端縁部へと卷きつけることも可能である

[0063] このような光源リフレクタ 2と同様な反射部材を、導光体 3の側端面 31以外の側端面に付することも可能である。光反射素子 5としては、例えば表面に金属蒸着反射層を有するプラスチックシートを用いることができる。本発明においては、光反射素子 5 として反射シートに代えて、導光体 3の裏面 34に金属蒸着等により形成された光反射層等とすることも可能である。

[0064] 本発明の導光体 3、光偏向素子 4および光拡散素子 6は、光透過率の高い合成榭脂から構成することができる。このような合成樹脂としては、メタタリル榭脂、アクリル榭脂、ポリカーボネート系榭脂、ポリエステル系榭脂、塩ィ匕ビ二ル系榭脂が例示できる。特に、メタタリル榭脂が、光透過率の高さ、耐熱性、力学的特性、成形加工性に優れており、最適である。このようなメタクリル樹脂としては、メタクリル酸メチルを主成分とする榭脂であり、メタクリル酸メチルが 80重量％以上であるものが好ましい。導光体 3 、光偏向素子 4および光拡散素子 6の粗面又はヘアライン等の表面構造やプリズム列又はレンチキュラーレンズ列等の表面構造を形成するに際しては、透明合成樹脂板を所望の表面構造を有する型部材を用いて熱プレスすることで形成してもよ、し、スクリーン印刷、押出成形や射出成形等によって成形と同時に形状付与してもよい。また、熱あるいは光硬化性榭脂等を用いて構造面を形成することもできる。更に、ポリエステル系榭脂、アクリル系榭脂、ポリカーボネート系榭脂、塩ィ匕ビ二ル系榭脂、ポリメタクリルイミド系榭脂等力もなる透明フィルムあるいはシート等の透明基材の表面に、活性エネルギー線硬化型榭脂からなる粗面構造またレンズ列配列構造を形成してもよいし、このようなシートを接着、融着等の方法によって別個の透明基材上に接合一体ィ匕させてもよい。活性エネルギー線硬化型榭脂としては、多官能 (メタ)アクリル化合物、ビニル化合物、（メタ)アクリル酸エステル類、ァリルイ匕合物、（メタ)アクリル酸の金属塩等を使用することができる。

[0065] 以上のような一次光源 1、光源リフレクタ 2、導光体 3、光偏向素子 4、光拡散素子 6 および光反射素子 5からなる光源装置の発光面 (光拡散素子 6の出射面 62)上に、図 7に示すように液晶表示素子 LCを配置することにより、本発明の光源装置をバックライトとした液晶表示装置が構成される。図 7では光拡散素子 6のドットパターン部を構成する分散配置のドット状光吸収性塗材が符号 64'で示されている。液晶表示装置は、図 7における上方力液晶表示素子 LCを通して観察者により観察される。

[0066] 図 7には、導光体 3において上記距離 Dが 0 μ mの場合が示されている。図示されているように、光吸収帯 36は光入射端面 31との境界まで延びているけれども、光入射端面 31上にまでは延びていない。即ち、光入射端面 31は光出射面 33との境界に至るまで一次光源 1から発せられる光が入射するように構成されてヽる。

[0067] 光入射端面 31から導光体 3内に導入された光のうちで直接光吸収帯 36に到達する光 L1は、該光吸収帯によりその大半が吸収される。その残りが光出射面 33で反射されて導光体内を進行する光 L2となる。この光 L2は裏面 34から出射して反射素子 5 により反射されて導光体内へと再入射し、光出射面 33から出射する。本発明では、光 L2は光吸収帯 36での光吸収により光 L1より十分に弱められており、このため、輝線発生の原因となることがない。仮に、光吸収帯 36が存在しないとすると、この光 L2 の強度はかなり強いものとなる。この光 L2即ち本発明で光吸収帯 36を付した部分での反射光が輝線発生の最も大きな原因であり、光吸収帯 36が存在しない場合には、目立つ輝線が発生する。

[0068] また、一次光源 1から発せられた光のうちの一部は、光源リフレクタ 22より反射され、光入射端面 31に至ることなく光吸収帯 36に到達し、ここでその大半が吸収される。仮に、光吸収帯 36が存在しないとすると、本発明で光吸収帯 36を付した部分の光出射端面 33から導光体内へと光が入り込む。この光も上記輝線の発生の原因であり、この点でも光吸収帯 36が存在しない場合には、輝線が発生する。

[0069] 本発明にお、ては、十分にコリメートされた狭!、輝度分布 (XZ面内）の光を光源装置力も液晶表示素子 LCに入射させることができるため、液晶表示素子での階調反転等がなく明るさ、色相の均一性の良好な画像表示が得られるとともに、所望の方向に集中した光照射が得られ、この方向の照明に対する一次光源 1の発光光量の利用効率を高めることができる。

[0070] 以上の実施形態の説明では光吸収帯 36が幅方向にほぼ均一な光吸収特性を有するものとして説明したが、本発明では光吸収帯はその光吸収特性が幅方向に変化していてもよい。このような光吸収特性の好ましい形態としては、光吸収帯 36の光入射端面に近、側縁より遠、側縁の方が可視光線透過率が高くなるように形成されているものが挙げられる。このようにすることで、光吸収帯 36とそれが形成されていない導光体光出射面 33の領域との境界における光吸収性の急激な変化を防止して、輝度不均一の発生を一層低減することができる。 [0071] 例えば、図 10に示されるように、光吸収帯 36を幅方向（X方向）に関して光入射端面に近い第 1領域 36— 1と遠い第 2領域 36— 2との 2つからなるものとし、第 1領域 36— 1の厚さを第 2領域 36— 2の厚さの約 2倍とすることで、第 2領域 36— 2の可視光線透過率 T2を第 1領域 36— 1の可視光線透過率 T1より高くすることができる。このような可視光線透過率が 2段階に変化する光吸収帯 36は、先ず第 1領域 36-1及び第 2領域 36— 2の双方に対して均等厚さに塗材の塗布を行い、し力る後に第 1領域 36— 1においてのみ追加の塗材塗布を行うとで得ることができる。同様にして 3段階以上に可視光線透過率が変化する光吸収帯を形成することができる。

[0072] また、図 11に示されるように、光吸収帯 36の厚さを光吸収帯 36の幅方向（X方向）に関して光入射端面 31に近い側縁から遠い側縁にかけて次第に小さくすることで、光吸収帯 36の可視光線透過率を光吸収帯 36の幅方向に連続的に変化するものとしてもよい。このような形態の光吸収帯 36は、マスク部材を X方向に光入射端面 31に近ヽ側カも遠、側へと移動させながら塗材塗布を行うことで得ることができる。光吸収帯 36における可視光線透過率の連続的変化は、幅方向の全体にわたる必要はなく幅方向の一部であってもよい。

[0073] また、光吸収帯 36における可視光線透過率の変化は、図 10に関し説明した段階的変化と図 11に関し説明した連続的変化とを組み合わせたものであってもよ、。

[0074] 光吸収帯 36の可視光線透過率は、最も低い値が 0%— 60%の範囲内にあり且つ最も高い値力 0%— 90%の範囲内にあるのが好ましい。この範囲内にあることで、輝線発生の防止効果を維持しつつ暗線の発生を十分に防止でき、輝度不均一の発生を一層低減することができる。

[0075] 図 12A、図 12B、図 13A及び図 13Bを用いて、以上のような導光体の製造方法の更に別の例を説明する。図 12A及び図 13Aは部分平面図であり、図 12B及び図 13 Bはその XZ部分断面図である。

[0076] 先ず、図 12A及び図 12Bに示されているように、導光体 3の光出射面 33の光入射端面 31に近接し該光入射端面力も距離 S 'を隔てた幅 D1の領域に、インクジェット法により互いに独立し又は部分的に連続したインクドット 36Aを形成する。インクジェット法の実施に使用される装置としては、コンティ-ユアス (連続噴射)方式やピエゾノズルを用いた DOD (ドロップオンデマンド）方式のプリンタが例示される。これらの装置により、多数のノズル力インクを吐出させ、必要に応じて該ノズルに対して導光体 3 を光出射面 33と平行な所要の方向に走査することで、光出射面の所定の領域に図示されるような互いに独立した多数のインクドット 36Aが形成される。これらインクドットの隣接するもの同士は図示されて、るように全てが完全に独立して、てもよ、が、それらのうちの一部が部分的に重複して連続して、てもよ、。

[0077] 次に、インクドットの隣接するもの同士を結合させ連続したインク層とする（以下、「レベリング」という）。このレべリングは、所要のレべリング量 (程度）を得るために必要な時間、実施される。これにより、図 13A及び図 13Bに示されているように、インクドットの隣接するもの同士を結合させ、光入射端面 31から距離 Sを隔てた幅 D2の領域の全体にわたって連続したインク層 36Bとなす。この幅 D2の領域は、上記幅 D1の領域の全てを包含しており、レべリングにより幅 D1より少し大きくなつている。

[0078] 次に、インク層 36Bを硬化させることにより、光吸収帯 36を形成する。

[0079] インクとしては、例えば紫外線硬化型インクが用いられる。紫外線硬化型インクは、紫外線照射のタイミングの制御により容易に所要のレべリング量 (程度）を実現することができることから、好ましく用いられる。また、所要のレべリング量を得るための時間の制御を容易にするために、インク吐出ノズルの温度即ちインクの温度を一定に維持することが好ましい。また、導光体 3を加温することによつても、インクドロップ等のィンク吐出の後のインクドット 36Aの粘度を低下させることができ、これによつて所要のレべリング量を得るための時間を短くして、印刷に要する時間を短縮することが可能となる。

[0080] 以上のようにして、レべリング時間によりインク層 36Bにおけるインクドットの結合状態を所望のものに制御することで、光吸収帯 36の表面状態即ち凹凸の程度を制御することができる。この光吸収帯 36の表面に適度な凹凸を形成しておくことで、不要光を一層目立たなくすることができる。即ち、上記のように、一次光源 1から発せられた光のうちの一部が光源リフレクタ 22より反射され、光入射端面 31に至ることなく光吸収帯 36に到達した時に、ここで大半が吸収される。この時、残りの光は導光体光出射面 33の方へと反射されるが、この反射光を光吸収帯 36の表面の凹凸により拡散反射させることで、目立たなくすることができる。

[0081] プリンタの解像度が高い方力インクドットをより近接して形成でき、インクドットの結合のためのレべリングに要する時間を短縮することが出来るので、望ましい。

[0082] 図 14A、図 14B、図 14C及び図 14Dを用いて、以上のような導光体の製造方法の更に別の例を説明する。

[0083] この例では、先ず、図 14Aに示されるような導光体素材 3'を用意する。次に、図 14 Bに示されるように、光入射端面対応部 31 'に対する切削加工を行って光入射端面 3 1を形成する。この切削加工により、光入射端面 31と光出射面 33との境界には光出射面 33の方へと突出した (即ち光出射面 33の他の領域に対して隆起して突出した）突出部 39が形成される。この突出部 39は、光入射端面 31と光出射面 33との境界線に沿って即ち光入射端面 31に沿って延びている。この突出部 39は、上記のように切削加工により形成することもできるが、射出成形時に成形により形成してもよい。

[0084] 次に、図 14Cに示されるように、光出射面 33の所要の領域にインクドット 36Aを形成する。このインクドットの形成は、上記図 12A及び図 12Bに関し説明したようにしてなされる。次に、インクドットのレべリングを行い、図 14Dに示されるように、光出射面 3 3の所要の領域にインク層 36Bを形成する。このインク層の形成は、上記図 13A及び図 13Bに関し説明したようにしてなされる力ここでは、レべリングにより形成されるィンク層 36Bの光入射端面 31に近い側縁が突出部 39に到達するように、インクドット形成領域の位置が設定されている。即ち、図 14Cに示されるインクドット 36Aの形成される領域は、光入射端面 31から僅かしか離れていない。これにより、インクドットのレべリングの際に流動するインクは突出部 39により光入射端面 31へと移動するのを阻止される。

[0085] 最後に、インク層 36Bを硬化させることにより、光吸収帯 36を形成する。

[0086] 以上の方法によれば、光吸収帯 36を、光入射端面 31にかかることなく且つ該光入射端面 31の極く近くに形成することが容易である。この光吸収帯 36によれば、光入射端面 31から導光体 3へ入射する光量の減少を抑制することができる。

[0087] このような突出部 39によるインクの光入射端面 31への移動の適正な位置での阻止の作用を良好なものにし且つ突出部 39の形成を容易にするためには、突出部 39の寸法を次のような適切な範囲内のものとすることが好ましい。即ち、図 18に示されているように、突出部 39の高さ（光出射面 33の他の領域力もの高さ）を Hとし、突出部 3 9の XZ断面形状における高さの半値全幅を W，として、好ましくは、 Hは 1一 50 μ m、より好ましく ίま 2— 30 μ m、更に好ましく ίま 5— 20 μ mであり、 W， ίま 1一 50 μ m、より好ましくは 2— 30 μ m、更に好ましくは 5— 20 μ mである。突出部高さ Hが小さすぎるとインク移動阻止の作用が不十分となる傾向にあり、突出部高さ Hが大きすぎるものは面光源装置の組立が困難になったり、突出部の欠けが発生しやすくなつたり、更にインクを突出部の頂上付近まで移動させに《なる傾向にある。また、高さ半値全幅 W'が小さすぎるものは突出部の形成が困難になり更に機械的強度が低くインク移動阻止の作用が不確実となる傾向にあり、高さ半値全幅 W'が大きすぎるものは面光源装置の組立が困難になり更にインクを突出部の頂上付近まで移動させにくくなる傾向にめる。

[0088] 以上説明した、ずれの方法にぉ、ても、光吸収帯 36を形成するための塗材である紫外線硬化型インクとしては、（メタ）アタリレートモノマー及び Zまたは有機溶媒を含有する紫外線硬化型インクを用いるのが好ましい。これは、インク層が硬化して形成される光吸収帯 36の導光体 3の表面に対する接合力の向上に有利であるからである。インク中に有機溶媒が存在することで、導光体 3の表面を溶融し荒らすことによるァンカー効果の向上が得られる。また、特に、導光体 3として (メタ)アクリル系榭脂を使用した場合には、インク中に (メタ）アタリレートモノマーが存在することで、インクにおける重合の際に該インクと導光体との間に架橋反応が生じやすくなり、これによるアンカー効果の向上が得られる。

[0089] 上記 (メタ）アタリレートモノマーや有機溶媒は、インク濃度が大きく変化しな、ように、数平均分子量 100以上、好ましくは 150以上、更に好ましくは 200以上のものであることが好ましい。（メタ)アタリレートモノマーは、たとえばメチルメタタリレートであり、インク中にたとえば 0. 5— 10重量％含有されているのが好ましい。有機溶媒は、インク濃度が大きく変化しないように、沸点 60°C以上、好ましくは 80°C以上、更に好ましく 100°C以上のものであるのが好ましぐたとえばメチルェチルケトン、酢酸ェチル、クロロホルム、酢酸セロソルブ及びメタクリル酸のうちの少なくとも 1つを含んでなるものが例示される。

[0090] このような紫外線硬化型インクとしては、たとえば、以下に示されるような組成のものが挙げられる。

インク 1 :

アクリル酸オリゴマー： 30— 50重量⁰ /₀

アクリル酸イソボル-ル： 10— 20重量％

1, 6—へキサンジオールアタリレート： 1一 20重量⁰ /₀

テトラヒドロフルフリルアタリレート： 10— 20重量⁰ /₀

ベンゾフエノン： 1、

カーボンブラック：

インク 2:

アクリル酸イソボル-ル： 10— 20重量％

1, 6—へキサンジオールアタリレート： 1一

アクリル酸ァミン Zアクリル酸エステル混合物： 30— 50重量⁰ /₀

ベンゾフエノン： 1、

カーボンブラック：

[0091] 本発明にお、ては、光吸収帯をインクジェット法等で形成する場合には、このような紫外線硬化型インクとして、インク吐出時のヘッド温度においてインク粘度が 1一 100 cpで表面張力が 20— 55mNZmのものを用いるのが好ましぐ更に好ましくはインク粘度が 1一 50cpで表面張力が 20— 45mNZmのものであり、より好ましくはインク粘度が 1一 20cpで表面張力が 25— 35mNZmのものである。尚、ヘッド温度は、インクドットのレべリング性や導光体との密着性や吐出インクの正確な塗着位置安定性等の観点から 10— 100°Cとすることが好ましぐ更に好ましくは 35— 85°Cであり、より好ましくは 40— 60°Cの範囲である。

[0092] また、光吸収帯をインクジェット法等で形成する場合には、ヘッド速度はタクト時間の短縮、インクドットのレべリング性や導光体との密着性等との観点から、ヘッド速度を 10— lOOOmmZ秒とすることが好ましぐ更に好ましくは 200— 800mmZ秒であり、より好ましくは 250— 500mmZ秒の範囲である。 [0093] 本発明にお、ては、光吸収帯 36として光拡散性または光吸収性の微粒子を含有するものを使用することができる。この微粒子の粒径は、 20 m以下が好ましぐ更に好ましくは 14 μ m以下であり、特に好ましくは 8 μ m以下である。このような微粒子は、該微粒子を除く塗材固形分 100重量部に対して 10— 125重量％含有させることができる。光吸収性の微粒子としては、カーボンブラック等を含有したアクリル榭脂、スチレン榭脂、（メタ)アクリル Zスチレン共重合榭脂やべンゾグアナミン榭脂などの黒色ポリマー系微粒子等力もなるものが例示できる。また、光拡散性の微粒子としては、アクリル榭脂、スチレン榭脂、（メタ)アクリル Zスチレン共重合榭脂ゃシリコーン榭脂等のポリマー系微粒子やシリカ、アルミナや炭酸カルシウム等の無機系微粒子等力もなるものが例示できる。光拡散性の微粒子は、表面反射による光拡散を利用するものであってもよいし、透光性を有し内部透過光の屈折による光拡散を利用するものであってもよい。光吸収性の微粒子は光吸収帯 36の光吸収性の向上に寄与し、光拡散性の微粒子は光吸収帯 36内において光拡散を行うことで間接的に光吸収性を向上させ、更に吸収されずに出射する光の拡散による平均化に寄与する。

[0094] 図 15に、光拡散性または光吸収性の微粒子を含有する光吸収帯 36の実施形態を示す。この実施形態では、光吸収帯 36の表面に微細な凹凸が形成されている。この凹凸の凸部 37は、光吸収帯 36に含有された光拡散性または光吸収性の微粒子 38 により形成されている。この凹凸は、光吸収帯 36を構成する塗材に光拡散性または光吸収性の微粒子 38を含有させておくことで、塗膜形成に伴って形成することができる。このように光吸収帯 36の表面に微細な凹凸を形成しておくことで、不要光を一層目立たなくすることができる。即ち、上記のように、一次光源 1から発せられた光のうちの一部が光源リフレクタ 22より反射され、光入射端面 31に至ることなく光吸収帯 36 に到達した時に、ここで大半が吸収される。この時、残りの光は導光体光出射面 33の方へと反射されるが、この反射光を光吸収帯 36の表面の凹凸により拡散反射させることで、目立たなくすることができる。

[0095] 図 16に、導光体 3の光出射面 33と光入射端面 31との境界部の拡大図を示す。光出射面 33と光入射端面 31との境界を形成するエッジ部分は、理想的にはほぼ直角をなすのである力現実的には力卩ェに伴い微小な曲率半径の曲面とされることが多い。特に、上記のように切削加工により光入射端面 31を形成する場合には、加工により導光体材料の合成樹脂が部分的に溶融して光出射面 33と光入射端面 31との境界のエッジ部分が表面張力に基づき曲面となることがある。輝線発生防止等の輝度均一性低下の防止の観点からは、このエッジ部分の曲率半径 Rが 50 μ m以下であるのが好ましい。これは、このエッジ部の曲率半径 Rが大きすぎると、エッジ部からの光入射が顕著になり、この部分が凸レンズのように作用して、導光体 3から異常光が出射したり、光吸収帯 36による輝線発生防止効果を低減したりするおそれがあるからである。エッジ部分の曲率半径 Rは、更に好ましくは 10 m以下であり、特に好ましくは 5 μ m^ (下（¾D 。

[0096] 図 17に、光入射端面 31と光吸収帯 36の光入射端面に近い側縁とが切削加工により同時に形成された時の光出射面 33と光入射端面 31との境界部の拡大図を示す。表面張力により光出射面 33と光入射端面 31との境界のエッジ部分に曲率半径尺の曲面（上記の突出部 39に相当）が形成され、光吸収帯 36の端縁が導光体エッジ部分の一部を露出させるように位置している。この導光体エッジ部分の露出部は光入射端面 31を構成する。

実施例

[0097] 以下、実施例によって本発明を説明する。

[0098] [実施例 1一 9、比較例 1一 3]

アクリル榭脂（三菱レイヨン (株)製アタリペット [商品名 ] )を用い射出成形することによって、一方の面がマット面で、他方の面がプリズム頂角 100度、頂部先端曲率半径 15 μ m、ピッチ 50 mのプリズム列が短辺と平行になるように連設配列されたプリズムパターンである矩形状で且つくさび状の導光体素材を作製した。このプリズムバターンを形成した導光体素材のマット面に、肉厚の大きい方の長辺力種々の幅（実施例 1一 9及び比較例 1一 3)〖こスクリーン印刷により下記の黒色インクを塗布して光吸収帯対応部を形成した。なお、同様な方法で、黒色インクを厚さ 2mmの透明アタリル板に、可視光線透過率が測定できるサイズに印刷した時の紫外線硬化型黒色インクの可視光線透過率は 40%であった。

黒色インク：アクリル酸オリゴマー： 45重量⁰ /₀

アクリル酸イソボル-ル： 17重量％

1 , 6 キサンジオールアタリレート： 15重量⁰ /₀

テトラヒドロフルフリルアタリレート： 15重量⁰ /₀

ベンゾフエノン： 3重量％

カーボンブラック： 5重量％

[0099] 次に、導光体素材の光入射端面対応部に対する切削加工を行って光吸収帯対応部の一部を含む不要部分を切除することで、切削加工面として形成された光入射端面を有する導光体を得た。導光体は、 230mm X 290mm,厚さ 2. 2mm— 0. 7mm のクサビ板状をなしており、エッジ部分の曲率半径 Rは 40 /x mであり、光入射面との距離が 0 μ mの光吸収帯の幅は、次のとおりであった：

実施例 1—— 800

実施例 2- -700 μ m

実施例 3- -600 μ m

実施例 4- -500 μ m

実施例 5- -400 μ m

実施例 6- -300 μ m

実施例 7- -200 μ m

実施例 8- - 150 m

実施例 9- 一 75 μ m

比較例 1- —20 μ ι

比較例 2—— 1500 πι

比較例 3 20 μ m (光入射端面側にも 20 μ m幅の光吸収帯を連続して形成)

[0100] 導光体の長さ 290mmの辺（長辺）に対応する一方の側端面 (厚さ 2. 2mmの側の端面）に対向するようにして、長辺に沿って冷陰極管を光源リフレクタ (麗光社製銀反射フィルム)で覆い配置した。さらに、その他の側端面に光拡散反射フィルム (東レ社製 E60 [商品名])を貼付し、プリズム列配列の面 (裏面）に対向するように反射シートを配置した。以上の構成を枠体に組み込んだ。この導光体は、出射光光度分布 (XZ 面内）の最大ピークが光出射面法線方向に対して 70度、半値全幅が 22. 5度であつた。

[0101] 一方、屈折率 1. 5064のアクリル系紫外線硬化性榭脂を用いて、片方のプリズム面の曲率半径が 1000 /z mである凸曲面形状で、他方のプリズム面が平面形状で、ピッチ 50 μ mの多数のプリズム列が並列に連設されたプリズム列を厚さ 125 μ mのポリエステルフィルムの一方の表面に形成したプリズムシートを作製した。

[0102] 得られたプリズムシートを、上記導光体の光出射面 (マット面)側にプリズム列形成面が向き、導光体の光入射端面にプリズム列の稜線が平行となり、導光体の光入射端面の方に各プリズム列の平面形状プリズム面が向くように載置した。

[0103] 以上のようにして得られた実施例 1一 9及び比較例 1一 3の面光源装置について、同一の条件で一次光源を点灯させて発光面を目視により観察したところ、実施例 1一 9のものでは導光体光入射端面の近傍での輝線および表示エリア内での暗線はほとんど目立たなかったが、比較例 1のものでは導光体光入射端面の近傍での明確な輝線が認められ、また比較例 2のものでは実施例 1一 9のものに比べて導光体光入射端面の近傍での明るさの低下が認められ、比較例 3のものでは実施例 1一 9のものに比べて輝度の低下および表示エリア内での暗線が認められた。

[0104] [実施例 10]

実施例 1と同様にして、導光体素材を作製した。その後、導光体素材の光入射端面対応部に対する切削加工を行って、切削加工面として形成された光入射端面を有する導光体を得た。導光体は、 230mm X 290mm、厚さ 2. 2mm— 0. 7mmのクサビ板状をなしていた。このプリズムパターンを形成した導光体素材のマット面に、下記のような条件でインクジェット法により下記の紫外線硬化型黒色インクを多数ドロップして、図 12A及び図 12Bに示すような幅 D1が約 300 μ mで距離 S'が約 60 μ mの領域に直径約 100 mの多数の互いに独立したインクドットを形成した。その状態にて 5秒間インクドットをレべリングさせることで、図 13A及び図 13Bに示すような幅 D2が約 400 μ mで距離 Sが約 10 μ mの領域に全体にわたって連続したインク層を形成した。その時点で、紫外線を照射してインク層を硬化させ、略直線状の光吸収帯を形成した。

インクジェット法：

ヘッド速度： 400mm/秒

ヘッド温度： 55°C

ピエゾ素子による圧送方式

紫外線硬化型黒色インク (インク 95重量％ +メチルメタタリレート 5重量％)：インク組成：

アクリル酸オリゴマー： 42重量⁰ /₀

アクリル酸イソボル-ル： 15重量％

1, 6 キサンジオールアタリレート： 20重量⁰ /₀

アクリル酸ァミン Zアクリル酸エステル混合物： 15重量％

ベンゾフエノン： 3重量％

カーボンブラック： 5重量％

インク粘度（55°C) : 10cp

インク表面張力（55°C)： 30mN/m

[0105] なお、同様な方法で、紫外線硬化型黒色インクを厚さ 2mmの透明アクリル板に、可視光線透過率が測定できるサイズに印刷した時の紫外線硬化型黒色インクの可視光線透過率は 20%であった。

[0106] 得られた導光体を、実施例 1と同様にして、冷陰極管、光源リフレクタ、光拡散反射フィルム及び反射シートと組み合わせ、これにより得られた構成を枠体に組み込んだ。この導光体は、出射光光度分布 (XZ面内）の最大ピークが光出射面法線方向に対して 70度、半値全幅が 22. 5度であった。

[0107] 実施例 1と同様にして作製したプリズムシートを、上記導光体の光出射面 (マット面）側にプリズム列形成面が向き、導光体の光入射端面にプリズム列の稜線が平行となり、導光体の光入射端面の方に各プリズム列の平面形状プリズム面が向くように載置した。

[0108] 以上のようにして得られた面光源装置について、一次光源を点灯させて発光面を目視により観察したところ、導光体光入射端面の近傍での輝線および表示エリア内での暗線はほとんど目立たなかった。

[0109] [比較例 4]

実施例 1と同様の導光体素材を作製し、その後、導光体素材の光入射端面対応部に対する切削加工を行って、切削加工面として形成された光入射端面を有する導光体を得た。本比較例では光吸収帯を形成しな力つた。

[0110] 得られた導光体を、実施例 1と同様にして、冷陰極管、光源リフレクタ、光拡散反射フィルム及び反射シートと組み合わせ、これにより得られた構成を枠体に組み込んだ

。この導光体は、出射光光度分布 (XZ面内）の最大ピークが光出射面法線方向に対して 70度、半値全幅が 22. 5度であった。

[0111] 実施例 1と同様にして作製したプリズムシートを、上記導光体の光出射面 (マット面）側にプリズム列形成面が向き、導光体の光入射端面にプリズム列の稜線が平行となり、導光体の光入射端面の方に各プリズム列の平面形状プリズム面が向くように載置した。

[0112] 以上のようにして得られた面光源装置について、実施例 10と同一の条件で一次光源を点灯させて発光面を目視により観察したところ、導光体光入射端面の近傍での明確な輝線が認められた。

[0113] [実施例 11]

実施例 1と同様にして、導光体素材を作製した。その後、導光体素材の光入射端面対応部に対する切削加工を行って、切削加工面として形成された光入射端面を有する導光体を得た。導光体は、 230mm X 290mm、厚さ 2. 2mm— 0. 7mmのクサビ板状をなしていた。このプリズムパターンを形成した導光体素材のマット面に、実施例 10と同様にしてインクジェット法により紫外線硬化型黒色インクを多数ドロップして、図 12A及び図 12Bに示すような幅 D1が約 300 μ mで距離 S'が約 60 μ mの領域に直径約 100 mの多数のインクドットを形成した。その直後に、インクドットをレベリングさせないように、紫外線を照射してインクドットを硬化させ、略直線状の光吸収帯を形成した。この光吸収帯は、各インクドットが互いに独立に位置しており、幅が約 30 0 μ mで、光入射端面力もの距離が約 60 μ mであった。

[0114] なお、同様な方法で、紫外線硬化型黒色インクを厚さ 2mmの透明アクリル板に、可視光線透過率が測定できるサイズに印刷した時の紫外線硬化型黒色インクの可視光線透過率は 20%であった。

[0115] 得られた導光体を、実施例 1と同様にして、冷陰極管、光源リフレクタ、光拡散反射フィルム及び反射シートと組み合わせ、これにより得られた構成を枠体に組み込んだ。この導光体は、出射光光度分布 (XZ面内）の最大ピークが光出射面法線方向に対して 70度、半値全幅が 22. 5度であった。

[0116] 実施例 1と同様にして作製したプリズムシートを、上記導光体の光出射面 (マット面）側にプリズム列形成面が向き、導光体の光入射端面にプリズム列の稜線が平行となり、導光体の光入射端面の方に各プリズム列の平面形状プリズム面が向くように載置した。

[0117] 以上のようにして得られた面光源装置について、実施例 10と同一の条件で一次光源を点灯させて発光面を目視により観察したところ、実施例 10のものに比べてやや輝度の低下が認められ、更に導光体光入射端面の近傍で若干の輝線が認められた

[0118] [実施例 12]

実施例 10と同様にして、導光体素材の光入射端面対応部に対する切削加工を行つて、切削加工面として形成された光入射端面を有する導光体を得た。切削加工により光入射端面と光出射面との境界に光出射面の他の領域に対して隆起して突出した突出部 (突出部）が形成された。この突出部は、高さがで高さの半値全幅が 10 /z mであった。実施例 10と同様にして、インクドットを形成しレべリングさせることで、インク層を形成した。但し、上記インクドットの形成領域の位置は、レべリングによりインク層が突出部に到達するように設定した。

[0119] 得られた導光体を用いて実施例 10と同様にして得た面光源装置について、一次光源を点灯させて発光面を目視により観察したところ、導光体光入射端面の近傍での輝線および表示エリア内での暗線はほとんど目立たなかった。

図面の簡単な説明

[0120] [図 1]本発明による面光源装置の一つの実施形態を示す模式的斜視図である。

[図 2]導光体を一次光源と共に示す模式的平面図である。 [図 3]本発明による導光体の製造方法の一例を説明するための図である。

[図 4]本発明による導光体の製造方法の一例を説明するための図である。

[図 5]光偏向素子による光偏向の様子を示す図である。

[図 6]光拡散素子を一次光源と共に示す模式的平面図である。

[図 7]本発明による面光源装置をバックライトとした液晶表示装置の模式的部分断面図である。

[図 8]導光体の模式的部分断面図である。

[図 9]導光体の模式的部分断面図である。

[図 10]導光体と光吸収帯の可視光線透過率とを示す図である。

[図 11]導光体と光吸収帯の可視光線透過率とを示す図である。

[図 12A]導光体の製造方法の例を示す説明図である。

[図 12B]導光体の製造方法の例を示す説明図である。

[図 13A]導光体の製造方法の例を示す説明図である。

[図 13B]導光体の製造方法の例を示す説明図である。

[図 14A]導光体の製造方法の例を示す説明図である。

[図 14B]導光体の製造方法の例を示す説明図である。

[図 14C]導光体の製造方法の例を示す説明図である。

[図 14D]導光体の製造方法の例を示す説明図である。

[図 15]導光体の部分断面図である。

[図 16]導光体のエッジ部分の拡大図である。

[図 17]導光体のエッジ部分の拡大図である。

[図 18]導光体のエッジ部分の拡大図である。

符号の説明

1 一次光源

2 光源リフレクタ

3 導光体

3' 導光体素材

31 光入射端面 ' 光入射端面対応部側端面

光出射面

' 光出射面対応部裏面

光吸収帯

-1 光吸収帯第 1領域-2 光吸収帯第 2領域A インクドット

B インク層

' 光吸収帯対応部凹凸の凸部光拡散性微粒子突出部 (突出部）光偏向素子

入光面

出光面

光反射素子

光拡散素子

入射面

出射面

ドットパターン部 ' ドット状光吸収性塗材凹部

Claims

請求の範囲

[1] 一次光源から発せられる光を導光し、且つ前記一次光源から発せられる光が入射する光入射端面及び導光される光が出射する光出射面を有する導光体であって、前記光出射面に前記光入射端面に沿って延びた幅 50 μ m— 1000 μ mの光吸収帯が形成されており、該光吸収帯の前記光入射端面に近い側縁は前記光入射端面力もの距離が 300 μ m以下であることを特徴とする面光源装置用導光体。

[2] 前記光吸収帯は前記光入射端面に近!、側縁より遠!、側縁の方が可視光線透過率が高くなるように形成されてヽることを特徴とする、請求項 1に記載の面光源装置用導光体。

[3] 前記光吸収帯の表面には微細な凹凸が形成されていることを特徴とする、請求項 1 に記載の面光源装置用導光体。

[4] 前記光出射面と前記光入射端面との境界を形成するエッジ部分は曲率半径が 50 μ m以下であることを特徴とする、請求項 1に記載の面光源装置用導光体。

[5] 前記光出射面と前記光入射端面との境界を形成するエッジ部分は前記光出射面の他の領域に対して隆起した突出部として前記光入射端面に沿って形成されており、前記突出部は前記光出射面力もの高さカ^ー 50 mであることを特徴とする、請求項 1に記載の面光源装置用導光体。

[6] 前記光出射面と前記光入射端面との境界を形成するエッジ部分は前記光出射面の他の領域に対して隆起した突出部として前記光入射端面に沿って形成されており、前記突出部は高さ半値全幅カ^ー 50 mであることを特徴とする、請求項 1に記載の面光源装置用導光体。

[7] 導光体素材の光出射面対応部の少なくとも光入射端面対応部に近接する領域に光吸収帯対応部を形成し、しカゝる後に前記光入射端面対応部に対する切削加工を行い、前記光入射端面を形成する工程を含んでなることを特徴とする、面光源装置用導光体の製造方法。

[8] 前記光吸収帯対応部をインクの塗布により形成することを特徴とする、請求項 7に記載の面光源装置用導光体の製造方法。

[9] インクジェット法により多数のノズルからインクを吐出させることで、導光体の光出射面の少なくとも光入射端面に近接する領域に互いに独立し又は部分的に連続したインクドットを形成し、次いで該インクドットの隣接するもの同士を結合させることで、前記領域の全体にわたって連続したインク層となし、し力る後に該インク層を硬化させることにより前記光吸収帯を形成することを特徴とする、面光源装置用導光体の製造方法。

[10] 導光体素材の光入射端面対応部に対する切削加工を行って前記光入射端面を形成し、しかる後に前記光吸収帯を形成することを特徴とする、請求項 9に記載の面光源装置用導光体の製造方法。

[11] 前記領域の前記光入射端面に近い側縁の位置は、前記切削加工により前記光出射面の方に突出して形成される突出部にまで前記インク層が到達するように設定されていることを特徴とする、請求項 10に記載の面光源装置用導光体の製造方法。

[12] 前記インクは (メタ)アタリレートモノマー及び Zまたは有機溶媒を含有する紫外線硬化型インクであることを特徴とする、請求項 8または 9に記載の面光源装置用導光体の製造方法。

[13] 前記 (メタ)アタリレートモノマー及び Zまたは有機溶媒は数平均分子量 100以上のものであることを特徴とする、請求項 12に記載の面光源装置用導光体の製造方法。

[14] 前記 (メタ)アタリレートモノマーはメチルメタタリレートであることを特徴とする、請求項

12に記載の面光源装置用導光体の製造方法。

[15] 前記 (メタ)アタリレートモノマーは前記インクに 0. 5— 10重量％含有されていることを特徴とする、請求項 12に記載の面光源装置用導光体の製造方法。

[16] 前記有機溶媒は沸点 60°C以上のものであることを特徴とする、請求項 12に記載の面光源装置用導光体の製造方法。

[17] 前記有機溶媒はメチルェチルケトン、酢酸ェチル、クロ口ホルム、酢酸セロソルブ及びメタクリル酸のうちの少なくとも 1つを含んでなることを特徴とする、請求項 12に記載の面光源装置用導光体の製造方法。

[18] 請求項 1一 6のいずれかに記載の面光源装置用導光体と、該導光体の前記光入射端面に隣接して配置された前記一次光源と、前記導光体の光出射面に隣接して配置された光偏向素子とを備えており、該光偏向素子は、前記導光体の光出射面に対向して位置する入光面とその反対側の出光面とを有しており、前記光偏向素子の入光面に、前記導光体の光入射端面と略平行の方向に延び且つ互!、に平行な複数のプリズム列を備えて、ることを特徴とする面光源装置。

[19] 前記光偏向素子の出光面に隣接して光拡散素子が配置されており、該光拡散素子は前記導光体の光入射端面力少なくとも 2mmの位置力 4mmの位置までを含む幅の領域に光吸収ドットパターンを形成したドットパターン部を備えており、該ドットパターン部は直径 30 μ m— 70 μ mのドット状の光吸収性塗材を分散配置してなることを特徴とする、請求項 18に記載の面光源装置。