WO2005010961A1

WO2005010961A1 - 露光装置

Info

Publication number: WO2005010961A1
Application number: PCT/JP2004/010864
Authority: WO
Inventors: Takeshi Inoue
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 2003-07-25
Filing date: 2004-07-23
Publication date: 2005-02-03
Anticipated expiration: 2006-01-25
Also published as: TW200507066A; JPWO2005010961A1

Abstract

この露光装置は、レチクルと基板とを同期移動してレチクルのパターンを基板に露光する走査型露光装置であって、レチクルを照明するための露光光を射出する光源と、光源とレチクルとの間に設けられ、レチクルの移動に追従して移動する可動レチクルブラインドと、可動レチクルブラインドが配置される第1照明系ハウジングと、可動レチクルブラインドの移動により第1照明系ハウジングに伝達する振動を抑制又は除去する防振装置とを備えている。

Description

明細書露光装置技術分野

本発明は、マスクと基板とを同期移動してマスクのパターンを基板に露光する露光装置に関する。

本願は、 2 0 0 3年 7月 2 5日に出願された特願 2 0 0 3— 2 7 9 9 2 6号に対し優先権を主張し、その内容をここに援用する。背景技術

半導体デバイス等のマイクロデバイスは、マスク又はレチクル（以下、「レチタル」と総称する）上に形成されたパターンを、ウェハ等の感光性の基板上に転写するいわゆるフォトリソグラフィの手法により製造される。このフォトリソグラフイエ程で使用される露光装置は、レチクルを支持するレチクルステージと基板を支持する基板ステージとを有し、レチクル上に形成されたパターンをレチクルステージ及び基板ステージを逐次移動しながら投影光学系を介して基板に転写するものである。露光装置としては、基板上にレチクルのパターン全体を同時に転写する一括型露光装置と、レチクルステージと基板ステージとを同期走査しつつレチクルのパターンを連続的に基板上に転写する走查型露光装置との 2種類が主に知られている。走査型露光装置では、レチクルと基板とを同期移動しつつレチクル上のスリット状（矩形状）の照明領域を露光光で照明しレチクルのパターンを基板に露光するが、レチクル上のパターン形成領域以外の不要な部分の露光を防止するために、例えば、国際公開第 9 9 / 6 3 5 8 5号パンフレツトに示すように、ブレード部材をレチクルと同期移動することでレチクル上の照明領域を制限する可動レチクルブラインドと呼ばれる遮光装置を備えたものがある。

ところで、露光処理のスループット向上の観点等からレチクルステージ及ぴ基板ステージの移動の高速化及ぴ高加速度化が求められており、これに伴って可動レチクルブラインドのブレード部材の移動も高速ィヒ及ぴ髙加速度化する必要がある。ところが、ブレード部材の高速化及び高加速度化に伴って振動が発生し、例えば照明光学系やこの照明光学系を支持する架台を振動させ、露光精度に影響を及ぼすという問題が生じるようになつてきた。発明の開示

本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、光源とレチクル（マスク）との間に配置される可動レチクルブラインド等の移動体の移動により振動が生じても露光精度に与える影響を抑制できる露光装置を提供することを目的とする。上記の課題を解決するために、本発明は、実施の形態に示す図 1〜図 1 3に対応付けした以下の構成を採用している。

本発明の第 1の態様は、マスク（R) と基板（P ) とを同期移動してマスク（R) のパターンを基板（P ) に露光する露光装置（E X) であって、マスク（R) を照明するための照明光（E L ) を射出する光源（1 ) とマスク（R) との間に設けられ、マスク（R) の移動に追従して移動する移動体（5 0、 5 2、 5 4 ) と、移動体（5 0、 5 2、 5 4 ) が配置される第 1架台（6、 5 9 ) と、移動体（5 0、 5 2、 5 4 ) の移動により第 1架台（6、 5 9 ) に伝達する振動を抑制又は除去する防振装置（2 0 ) とを備える。

本態様によれば、光源とマスクとの間に配置される移動体の移動により第 1架台に伝達する振動を抑制又は除去する防振装置を設けたので、この第 1架台の振動に起因する露光精度の劣化を抑え、精度良い露光処理を行うことができる。そして、振動を抑制することで移動体の移動を高速化及び高加速度化できるので露光処理のスループットを向上することができる。

また、本発明の第 2の態様は、マスクと基板とを移動して、前記マスクのパターンを前記基板に露光する露光装置であって、前記マスクの照明領域を規定し、移動可能な第 1移動体と、前記第 1移動体の移動に応じて、前記第 1移動体の移動方向と反対方向に移動する第 2移動体とを備える。

また、本発明の第 3の態様は、パターンが形成されたマスクを照明する照明装置であって、前記マスクの照明領域を規定し、移動可能な第 1移動体と、前記第 1移動体の移動に応じて、前記第 1移動体の移動方向と反対方向に移動する第 2 移動体とを備える

図面の簡単な説明

図 1は、本発明の露光装置の一実施形態を示す概略構成図である。

図 2は、可動レチクルブラインドの概略を示す平面図である。

図 3は、可動レチクルブラインドの概略を示す側面図である。

図 4は、本発明に係る防振装置の一実施形態を示す平面図である。

図 5は、固定レチクルブラインドの概略を示す図である。

図 6は、マスクと可動レチクルブラインド及ぴ固定レチクルブラインドにより設定された照明領域との関係を示す模式図である。

図 7は、本発明に係る防振装置の他の実施形態を示す側面図である。

図 8は、図 7の平面図である。

図 9は、調整装置の一部を構成する計測装置の一実施形態を示す図である。図 1 0は、本発明に係る防振装置の他の実施形態を示す側面図である。

図 1 1は、本発明に係る防振装置の他の実施形態を示す平面図である。

図 1 2は、本発明に係るの防振装置の他の実施形態を示す側面図である。図 1 3は、半導体デバイスの製造工程の一例を示すフローチャート図である。発明を実施するための最良の形態

以下、本発明の露光装置について図面を参照しながら説明する。ただし、本発明は、以下の各実施例に限定されるものではなく、例えば、これら実施例の構成要素同士を適宜組み合わせてもよい。

図 1において、露光装置 E Xは、レチクル（マスク） Rを支持するレチクルステージ R S Tと、感光性の基板 Pを支持する基板ステージ P S Tと、レチクル R を照明するための光束を射出する光源 1と、光源 1からの光束を露光光 E Lに変換し、レチクルステージ R S Tに支持されたレチクル Rを露光光 E Lで照明する照明光学系 I O Pと、露光光 E Lで照明されたレチクル Rのパターンの像を基板ステージ P S Tに支持された基板 Pに投影する投影光学系 P Lと、露光装置 E X 全体の動作を統括制御する制御装置 CONTとを備えている。レチクル Rを介して露光光 E Lで基板 Pを露光する本体部 Sを構成する照明光学系 I OPの一部である第 2部分照明光学系 I OP 2、レチクルステージ R ST、投影光学系 P L、及び基板ステージ P S Tなどは本体コラム（第 2架台） 1 0に支持されている。本実施形態では、露光装置 EXとしてレチクル Rと基板 Pとを走査方向における互いに異なる向き（逆方向）に同期移動しつつレチクル Rに形成されたパターンを基板 Pに露光する走査型露光装置（所謂スキャニングステツパ）を使用する場合を例にして説明する。

以下の説明において、水平面内においてレチクル Rと基板 Pとの同期移動方向 (走查方向）を Y軸方向、水平面内において Y軸方向と直交する方向（非走査方向）を X軸方向、 X軸及ぴ Y軸方向に直交する方向を Z軸方向とする。また、 X 軸、 Y軸、及び Z軸まわり方向をそれぞれ、 0 Χ、 Θ Ύ 及ぴ Θ Ζ方向とする。なお、ここでいう「基板」は、半導体ウェハ又はガラスプレート上にレジストを塗布したものを含む。

光源 1としては、ここでは波長 1 9 2〜1 94 nmの間で酸素の吸収帯を避けるように狭帯化されたパルス紫外光を出力する A r Fエキシマレーザ光源が用いられており、この光源 1の本体は、防振ユニット 1 Aを介して半導体製造工場のクリーンルーム内の床面 FD上に設置されている。なお、光源、 1として、波長 2 4 8 nmのパルス紫外光を出力する K r Fエキシマレーザ光源あるいは波長 1 5 7 nmのパルス紫外光を出力する F₂レーザ光源等を用いても良い。また、光源 1をクリーンルームよりクリーン度が低い別の部屋（サービスルーム）、あるいはクリーンルームの床下に設けられるユーティリテイスペースに設置しても構わない。

照明光学系 I OPは、光源 1とレチクルステージ R S T (レチクル R) との間に設けられた第 1部分照明光学系 I OP 1と第 2部分照明光学系 I OP 2との 2 部分から構成されている。第 1部分照明光学系 I OP 1は、第 1照明系ハウジング（第 1架台） 6を有し、第 2部分照明光学系 I OP 2は、第 2照明系ハウジング（第 2架台） 8を有している。ここで、第 1、第 2照明系ハウジング 6、 8は部分照明光学系を収納する筐体及ぴ鏡筒を含む。

第 1部分照明光学系 I O P 1の第 1照明系ハゥジング 6は、床面 F Dに水平に載置された装置の基準となるベースプレート（フレームキャスタ） B P上に防振ユニット 5を介して設置されている。第 2部分照明光学系 I O P 2 (第 2照明系ハウジング 8 ) は、本体コラム 1 0を構成する第 2支持コラム 1 4によって下方から支持されている。

光源 1は、遮光性のベローズ及ぴパイプを介してビームマッチングュニット B MUの一端（入射端）に接続されており、このビームマッチングユニット B MU の他端（射出端）は、内部にリレー光学系を内蔵したパイプ 2を介して照明光学系 I O Pの第 1部分照明光学系 I O P 1に接続されている。ビームマッチングュニット BMU内にはリレー光学系や複数の可動反射鏡等が設けられており、これらの可動反射鏡等を用いて光源 1から入射する狭帯化されたパルス紫外光（A r Fエキシマレーザ光）の光路を第 1部分照明光学系 I O P 1 との間で位置的にマツチングさせている。

第 1部分照明光学系 I O P 1の第 1照明系ハウジング 6内には、可変減光器、ビーム整形光学系、オプティカルインテグレータ、集光光学系、及びリレーレンズ系等が所定の位置関係で配置されている。光源 1からのパルス紫外光がビームマッチングュニット B MU及びリレー光学系を介して第 1部分照明光学系 I O P 1内に入射すると、このパルス紫外光は、可変減光器の N Dフィルタにより所定のピーク強度に調整された後、ビーム整形光学系により、オプティカルインテグレータに効率よく入射するようにその断面形状が整形される。次いで、このパルス紫外光がオプティカルインテグレータに入射すると、射出端側に面光源、すなわち多数の光源像（点光源）から成る 2次光源が形成される。これらの多数の点光源の各々から発散するパルス紫外光は、露光光 E Lとして可動レチクルプラインド 5 0に到達する。

可動レチクルプラインド（移動体） 5 0は、レチクル Rに対する露光光 E Lの照明領域を規制する可動ブレード（可動遮光部材、移動体） 5 2、 5 4を備えており、プラインドハゥジング部（移動体ハゥジング部） 5 9内に収容されている。可動レチクルブラインド 5 0及びこれを収容したブラインドハウジング部 5 9は、第 1照明系ハゥジング 6の射出端部近傍に取り付けられている。可動レチクルプラインド 5 0の可動ブレード 5 2、 5 4は、レチクル Rのパターン形成面（パターン面）とほぼ共役な位置に配置されている。そして、第 1照明系ハウジング 6 とブラインドハウジング部 5 9との間に防振装置 2 0が設けられている。

図 2は、可動レチクルブラインド 5 0を + Z側から見た平面図、図 3は側新面図である。

可動レチクルブラインド 5 0は、第 1照明系ハウジング 6上に X方向に間隔をあけて配置され、走査方向である Y軸方向に延在する一対の Yガイド 5 1と、 X 軸方向に延在し、一端側が Yガイド 5 1に沿ってそれぞれ Y方向に移動自在な Y 可動ブレード（可動遮光部材） 5 2と、 Yガイド 5 1の Y軸方向両端側に設けられ、 X軸方向に延在する一対の Xガイド 5 3と、 Y軸方向に延在し、一端側が X ガイド 5 3に沿ってそれぞれ X方向に移動自在な X可動ブレード（可動遮光部材） 5 4とを備えている。 Xガイド 5 3のガイド面には非接触ベアリングであるエアベアリング 5 3 Aが設けられており、エアべァリング 5 3 Aにより X可動ブレード 5 4が Xガイド 5 3に対して非接触支持されている。また、 X可動ブレード 5 4の一端部にはリニアモータ 5 6の一部を構成する可動子 5 6 Aが設けられ、この可動子 5 6 Aに対応して、 Xガイド 5 3に並ぶ位置に X軸方向に延在する固定子 5 6 Bが設けられている。ここで、リニアモータ 5 6は、可動子 5 6 Aを磁石ユニットとし固定子 5 6 Bをコイルュ-ットとする所謂ムービングマグネット型リニアモータでもよいし、可動子 5 6 Aをコイルュニットとし固定子 5 6 Bを磁石ュニットとするムービングコイル型リニアモータでもよい。同様に、 Yガイド 5 1のガイド面には非接触ベアリングであるエアベアリング 5 1 Aが設けられており、エアベアリング 5 1 Aにより Y可動ブレード 5 2が Yガイド 5 1に対して非接触支持されている。そして、 Y可動プレード 5 2の一端部にはリニアモータ 5 5の一部を構成する可動子 5 5 Aが設けられ、この可動子 5 5 Aに対応して、 Yガイド 5 1に並ぶ位置に Y軸方向に延在する固定子 5 5 Bが設けられている。本実施形態において、リニアモータ 5 5、 5 6の固定子 5 5 B、 5 6 B、及びガイド 5 1、 5 3は、ブラインドハウジング部 5 9の内壁面 5 9 Bに固定されている。また、ブラインドハウジング部 5 9には不図示のエンコーダが設けられ、可動ブレード 5 2、 5 4に設けられたリニァスケールを読んで位置検出し、制御装置 C O N Tに出力する。制御装置 C O N Tはリニアモータ 5 5、 5 6を介して可動ブレード 5 2、 5 4を駆動することで、露光光 E Lが通過する光路を規制する矩形開口部 Kの大きさを調整する。また、制御装置 C O N Tは、走査露光時において、後述するレチクルレーザ干渉計の検出信号に基づきレチクル Rの移動に追従して Y可動ブレード 5 2を移動し、レチクル R上の照明領域を規制するための矩形開口部 Kをレチクル Rの移動に追従させる。

なお、走查露光中において、駆動される可動プレードは主にスキャンブレードである Y可動ブレード 5 2であって、非スキャンブレードである X可動ブレード 5 4は、非走查方向（X軸方向）に関するレチクル Rのパターン形成領域の幅に応じて照明領域の大きさを設定するために、走查露光に先立って駆動されるだけである。したがって、この X可動ブレード 5 4を駆動するために、リニアモータを用、ずに例えば超音波モータ等の静止保持力を有するァクチユエータを用いるようにしてもよい。また、 X可動ブレード 5 4、 Y可動ブレード 5 2ともに、 2 枚のブレードを別々のガイド上で駆動しているが、共通のガイドにリニアモータを配置して 2枚のプレードを駆動するように構成してもよい。

防振装置 2 0は、可動レチクルブラインド 5 0を収容するプラインドハウジング部 5 9と、第 1照明系ハウジング 6との間に配置されている。本実施形態において、防振装置 2 0は、緩衝材であるエアパッド (エアマウント) 2 1により構成されている。図 4に示すように、エアパッド 2 1は、第 1照明系ハウジング 6 の上端面 6 Aに沿って環状に配置されている。なお、本実施形態において、第 1 照明系ハウジング 6の内部空間（露光光 E Lの光路） 6 Bは矩形状に形成されているが、円形状であってもよい。エアパッド 2 1には圧力調整装置 2 1 Aが接続されており、制御装置 C O N Tは、圧力調整装置 2 1 Aを制御することでエアパッド 2 1の内圧を調整可能である。緩衝材としてのエアパッド 2 1を、可動レチクルブラインド 5 0を収容したプラインドハウジング部 5 9と第 1照明系ハウジング 6との間に設けたことにより、可動ブレード 5 2、 5 4の移動により生じる振動が第 1照明系ハウジング 6に伝達することを抑制することができる。つまり、エアパッド 2 1により、可動ブレード 5 2、 5 4の移動に伴う反力が、第 1照明系ハウジング 6に伝達することを抑制することができる。なお、防振装置 2 0を構成する緩衝材として、エアパッド 2 1の代わりにゴム等の弾性体を配置してもよい。あるいは、エアパッド 2 1とゴム等の弾性体とを組み合わせて配置してもよい。

第 2部分照明光学系 I O P 2は、第 2照明系ハウジング 8内に所定の位置関係で収納された固定レチクルブラインド（固定視野絞り） 8 0、レンズ、ミラー、リレーレンズ系、及ぴコンデンサレンズ系等を備えている。固定レチクルブラインド 8 0は、第 2照明系ハウジング 8の入射端部近傍のレチクル Rのパターン形成面に対する共役面から僅かにデフォーカスした面に配置され、レチクル R上の照明領域を規定する矩形状（スリット状）の開口部 8 1を有している。上述したように、第 2部分照明光学系 I O P 2は本体部 Sの一部を構成しており、可動レチクルブラインド 5 0よりもレチクル R側に配置された構成となっている。

図 5は固定レチクルブラインド（固定視野絞り） 8 0の平面図である。固定レチクルプラインド 8 0は、投影光学系 P Lの円形視野内の中央で走查露光時のレチクル Rの移動方向（Y軸方向）と直交する X軸方向に直線状に延びたスリット状（矩形状）の開口部 8 1を有している。なお、固定レチクルブラインド 8 0の代わりに、矩形状の開口部を有するとともに、開口部の形状を任意の形に調整できる可変スリット装置を設けてもよい。

なお、固定レチクルブラインド 8 0の配置面をレチクル Rのパターン形成面に対する共役面から僅かにデフォーカスするのは、走査型露光装置、特にパルス光を露光光 E Lとする装置では、走查方向に関するパルス紫外光のレチクル R上での照明領域内の照度分布を台形状 (すなわち両端でそれぞれスロープを持つ形状）とし、走查露光時の基板 P上の各ショット領域内の積算光量の分布がほぼ均一になるようにするためであり、また、固定レチクルブラインド 8 0のエッジ部が一部欠けていたり、正確に真直に形成されていないおそれもあるので、これらの影響を軽減するためにレチクル Rのパターン形成領域上の照明領域の周縁部を適度にぼかすためである。

可動レチクルブラインド 5 0の可動ブレード 5 2、 5 4で形成される矩形開口部 Kを通過したパルス紫外光は、固定レチクルブラインド 8 0の開口部 8 1を一様な強度分布で照明する。固定レチクルブラインド 8 0の開口部 8 1を通過したパルス紫外光は、レンズ、ミラー、リレ一レンズ系、及びコンデンサレンズ系などを経て、レチクルステージ R S T上に保持されたレチクル R上の所定の照明領域（X軸方向に直線的に伸びたスリット状又は矩形状の照明領域）を均一な照度分布で照明する。

図 1に戻って、第 1部分照明光学系 I O P 1の第 1照明系ハウジング 6及びブラインドハウジング部 5 9と、第 2部分照明光学系 I O P 2の第 2照明系ハウジング 8及び本体コラム 1 0とは、振動に関して独立している。本実施形態では、ブラインドハゥジング部 5 9と第 2照明系ハゥジング 8とは僅かに離間して物理的に分離されている。なお、ブラインドハウジング部 5 9と第 2照明系ハウジング 8との間に、両者の相対変位を可能にし、且つその内部を外気に対して気密状態にすることが可能な接続部材としての伸縮自在の蛇腹状部材を介して接合してもよレ、。こうすることにより、可動レチクルブラインド 5 0の駆動に起因して露光動作中にプラインドハウジング部 5 9に生じる振動が本体コラム 1 0に支持された第 2部分照明光学系 I O P 2に伝達されることを防止することができる。本体コラム 1 0は、ベースプレート B P上に設けられた複数本（ここでは 4本）の支持部材 1 1 A〜 1 I D (但し、紙面奥側の支柱 1 1 C、 1 1 Dは図示省略）及びこれらの支持部材 1 1 A〜1 1 Dの上部にそれぞれ固定された防振ュニット 1 3 A〜 1 3 D (但し、図 1においては紙面奥側の防振ュニット 1 3 C、 1 3 D は図示せず）を介してほぼ水平に支持された鏡筒定盤 1 6と、この鏡筒定盤 1 6 の下面から下方に吊り下げられた吊り下げコラム 1 8と、鏡筒定盤 1 6上に設けられた第 1、第 2支持コラム 1 2、 1 4とを備えている。

鏡筒定盤 1 6は、錶物等で構成されており、その中央部に平面視円形の開口が形成され、その内部に投影光学系 P Lがその光軸方向を Z軸方向として上方から挿入されている。投影光学系 P Lの鏡筒部の外周部には、該鏡筒部に一体化されたフランジ F L Gが設けられている。このフランジ F L Gの素材としては、低熱膨張の材質、例えばインパー（Inver；ニッケル 3 6 %、マンガン 0 . 2 5 %、及び微量の炭素と他の元素を含む鉄からなる低膨張の合金）が用いられており、このフランジ F L Gは、投影光学系 P Lを鏡筒定盤 1 6に対して点と面と V溝とを介して 3点で支持するいわゆるキネマティック支持マウントを構成している。吊り下げコラム 1 8は、基板べ一ス定盤 6 0と、基板ベース定盤 6 0をほぼ水平に吊り下げ支持する 4本の吊り下げ部材 6 1とを備えている。また、第 1支持コラム 1 2は、鏡筒定盤 1 6の上面に投影光学系 P Lを取り囲んで設けられた 4 本の脚 6 5 (紙面奥側の脚は図示省略）と、これら 4本の脚 6 5によってほぼ水平に支持されたレチクルベース定盤 6 3とを備えている。同様に、第 2支持コラム 1 4は、鏡筒定盤 1 6の上面に、第 1支持コラム 1 2を取り囲む状態で設けられた 4本の支柱 6 2 (紙面奥側の支柱は図示省略）と、これら 4本の支柱 6 2によってほぼ水平に支持された天板 6 4とによって構成されている。この第 2支持コラム 1 4の天板 6 4によって、前述した第 2部分照明光学系 I O P 2が支持されている。

レチクルステージ R S Tは、本体コラム 1 4を構成する第 1支持コラム 1 2を構成するレチクノレベース定盤 6 3上に配置されている。レチクルステージ R S T は、例えば磁気浮上型の 2次元リニアァクチユエータ等から成るレチクルステージ駆動系によって駆動され、レチクル Rをレチクルベース定盤 6 3上で Y軸方向に大きなストロークで直線駆動するとともに、 X軸方向と Θ Z方向に関しても微小駆動が可能な構成となっている。

レチクルステージ R S Tの一部には、その位置や移動量を計測するための位置検出装置であるレチクルレーザ干渉計 7 0からの測長ビームを反射する移動鏡 7 1が取り付けられている。レチクルレーザ干渉計 7 0は、レチクルベース定盤 6 3に固定され、投影光学系 P Lの上端部側面に固定された固定鏡 7 2を基準として、レチクルステージ R S T (すなわちレチクル R) の 0 Z回転を含む X Y面内の位置を検出する。

レチクルレーザ干渉計 7 0によって計測されるレチクルステージ R S T (レチクル R) の位置情報（又は速度情報）は、制御装置 C O N Tに出力される。制御装置 C O N Tは、レチクルレーザ干渉計 7 0から出力される位置情報（或いは速度情報）が指令値（目標位置、目標速度）と一致するように（具体的には基板ステージ P S Tと追従するように）レチクルステージ駆動系を制御する。

投影光学系 P Lとしては、ここでは、物体面（レチクル R) 側及び像面（基板 P) 側の両方がテレセントリックで円形の投影視野を有し、石英や螢石を光学硝材とした屈折光学素子 (レンズ素子) のみから成る 1/4、 1/5, 又は 1/6 縮小倍率の屈折光学系が使用されている。このため、レチクル Rにパルス紫外光が照射されると、レチクル R上のパターン形成領域のうちパルス紫外光によって照明された部分からの結像光束が投影光学系 P Lに入射し、そのパターンの部分倒立像がパルス紫外光の各パルス照射の度に投影光学系 P Lの像面側の円形視野の中央に矩形状（スリット状）に制限されて結像される。これにより、投影されたパターンの部分倒立像は、投影光学系 P Lの結像面に配置された基板 P上の複数のショット領域のうちの 1つのショット領域表面のレジスト層に縮小転写される。

基板ステージ PSTは、前述した吊り下げコラム 1 8を構成する基板ベース定盤 60上に配置され、例えば磁気浮上型の 2次元リニアァクチユエータ等から成る基板ステージ駆動系によって XY面内で自在に駆動されるようになっている。基板ステージ P STは、基板ホルダ PHを介して基板 Pを真空吸着等により保持する。基板ステージ P STの XY位置及び回転量（ョ一^ fング量、ローリング量、ピッチング量）は、投影光学系 PLの鏡筒下端に固定された参照鏡 75を基準として基板ステージ P S Tの一部に固定された移動鏡 74の位置変化を計測する基板レーザ干渉計 73によつて所定の分解能でリアルタイムに計測される。この基板レーザ干渉計 73の計測値は制御装置 CONTに出力される。制御装置 CON Tは、基板レーザ干渉計 73の計測結果に基づいて、基板ステージ駆動系を制御する。

次に、上述した構成を有する露光装置 EXの動作について説明する。

基板ステージ P ST上に基板 Pが搬送され、フォーカス調整が終了すると、不図示のァライメント系を用いてレチクル Rと基板 Pとの位置決め（ァヲィメント）が行われる。このようにして、基板 Pの露光のための準備動作が終了すると、制御装置 CONTは、ァライメント結果に基づいて基板レーザ干渉計 73の計測値をモニタしつつ基板ステージ駆動系を制御して基板 P上に設定されたショット領域を露光するための走查開始位置に基板ステージ P STを移動する。

そして、制御装置 CONTは、レチクルステージ駆動系及び基板ステージ駆動系を介してレチクルステージ R ST及び基板ステージ P STの Y軸方向の走査を開始する。両ステージ RST、 P STがそれぞれの目標走査速度に達すると、制御装置 CONTは、パルス紫外光である露光光 E Lによりレチクル Rのパターン形成領域に対する照明を開始する。

なお、この走查露光の開始に先立って、光源 1の発光は開始されているが、図 6の模式図に示すように、制御装置 CONTは可動レチクルブラインド 50の各可動プレード 52 (54) を移動することで開口部 K (照明領域 I A) をレチクルステージ RST (すなわちレチクル R) に対して同期移動させているため、レチクル R上のパターン形成領域 P A外への露光光 ELの照射が遮光される。図 6 に示す例では、レチクル Rのパターン形成領域 P Aの周囲に遮光帯 MBが設けられており、可動レチクルブラインド 50の開口部 Kで設定される照明領域 I Aは遮光帯 MBに応じた大きさを有し、固定レチクルブラインド 80の開口部 81で設定される照明領域 I Bは X軸方向に延在するスリツト状である。

制御装置 C O N Tは、走查露光時にレチクルステージ RSTの Y軸方向の移動速度と基板ステージ P S Tの Y軸方向の移動速度とが投影光学系 P Lの投影倍率に応じた速度比に維持されるようにレチクルステージ駆動系及びウェハステージ駆動系を介してレチクルステージ RS T及ぴ基板ステージ P S Tを同期移動する。走查露光中においても、制御装置 CONTは、可動レチクルブラインド 50の可動ブレード 52を駆動し、開口部（照明領域 I A) をレチクル Rに追従するように移動する。可動ブレード 52が移動することにより振動が発生しても、ブラインドハウジング部 59と第 1照明系ハウジング 6との間に緩衝材であるエアパッド 21が介在されていることにより、第 1照明系ハウジング 6に対する振動の伝達は抑制される。そして、レチクル Rのパターン形成領域 PAが露光光 E で逐次照明され、パターン形成領域 P A全面に対する照明が完了することにより、基板 P上のショット領域に対する走査露光が終了する。

以上説明したように、照明光学系 I OP内に配置された可動ブレード 52 (5 4 ) の移動により第 1照明系ハウジング 6に伝達する振動を緩衝材であるエアパッド 21で抑制するようにしたので、第 1照明系ハウジング 6 (第 1部分照明光学系 I OP 1) の振動に起因する露光精度の劣化を防止することができる。そして、振動を抑制することで可動ブレード 5 2 ( 5 4 ) の移動を高速化及ぴ高加速度化でき、レチクルステージ R S T及ぴ基板ステージ P S Tの走査移動速度及び加速度を向上できるので、露光処理のスループットを向上することができる。また、防振装置 2 0をエアパッド 2 1あるいはゴム等の弾性体で構成することで、安価且つ簡易な構成で第 1照明系ハゥジング 6に伝達する振動を抑制することができる。

また、ブラインドハウジング部 5 9は、第 1照明系ハウジング 6に対して Y X 方向に微動可能に保持されているため、運動量保存の法則により、可動ブレード 5 2 ( 5 4 ) に接続する可動子 5 6 Aの + X方向（又は一 X方向）の移動に応じて固定子 5 6 B及ぴブラインドハウジング部 5 9全体が一X方向（又は + X方向）に微少量移動する。この固定子 5 6 B及びブラインドハウジング部 5 9全体の移動により、可動ブレード 5 2 ( 5 4 ) の移動に伴う反力が相殺される。つまり、本実施形態において、固定子 5 6 B及びブラインドハウジング部 5 9全体が、可動ブレード 5 2 ( 5 4 ) が移動するときの反力を受けるカウンタマスとなっている。なお、固定子 5 6 B及びブラインドハウジング部 5 9全体の移動により可動ブレード 5 2 ( 5 4 ) の位置に微少量の誤差が生じる場合は、その分を予め求めておき、可動ブレードの駆動指令信号にフィードフォヮ一ドすればよい。

なお、本実施形態では、第 1照明系ハウジング 6を第 1架台として説明したが、この第 1照明系ハウジング 6を支持する架台を設けた場合、防振装置 2 0は、この架台に対する振動の伝達を抑制あるいは除去することができる。

なお、上記実施形態において、エアパッド 2 1は環状（無端状）に設けられているが、複数のエアパッド 2 1を第 1照明系ハウジング 6とブラインドハウジング部 5 9との間に島状に（離散的に）配置してもよい。こうすることにより、複数のエアパッド 2 1それぞれの内圧を個別に調整することで、ブラインドハウジング部 5 9と第 1照明系ハウジング 6との位置関係（第 1照明系ハウジング 6に対するブラインドハウジング部 5 9の傾斜方向の姿勢）を調整することができる。なお、上記実施形態において、 Y可動ブレード 5 2は、 Y軸方向に移動し、 X 可動プレード 5 4は X軸方向に移動するように説明したが、これら可動ブレード 5 2、 5 4が回転方向（0 Z方向）に微動可能であってもよい。また、固定レチクルブラインド 8 0の開口部 8 1が θ Z方向に回転可能であってもよい。これにより、走査露光中にレチクル Rに位置ずれが生じた場合でも、開口部 Kや開口部 8 1をレチクル Rに対して正確に追従移動させることができる。

上記実施形態において、移動体は、可動レチクルブラインド 5 0に限定されない。例えば、走査露光中に、レチクル Rに対する露光光 E Lの照度調整や照明光学系 I O Pの光学特性調整のためにフィルタ装置を駆動（移動）する場合があるが、このフィルタ装置の移動により照明系ハウジングに伝達する振動を抑制又は除去するために、本発明を適用することができる。すなわち、光源 1とレチクル Rとの間に設けられた移動体の移動に起因して発生する振動の全てに対して本発明を適用可能である。

以下、本発明の他の実施形態について図 7及び図 8を参照しながら説明する。以下の説明において、上述した実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図 7及び図 8に示すように、防振装置 2 0は、第 1照明系ハウジング 6とブラインドハウジング部 5 9との間において複数（4箇所）の所定位置にそれぞれ設けられたピエゾ素子 2 2と、これら複数のピエゾ素子 2 2どうしの間に設けられた複数のエアパッド 2 1とを備えている。また、ブラインドハウジング部 5 9の複数の所定位置には、振動センサ（加速度センサ） 2 3が取り付けられている。この振動センサ 2 3の役割について以下に説明する。例えば、床面 F Dから第 1照明系ハウジング 6を介してブラインドハゥジング部 5 9に伝達される振動や、可動ブレード 5 2、 5 4を駆動するための信号をリニアモータ 5 5、 5 6に与える信号ケーブルのテンション等によって、理想的な推力を可動ブレード 5 2、 5 4に対して与えられない場合がある。例えば推力が大きすぎてしまった場合、ブラインドハウジング部 5 9は、所定の値以上に振動してしまう。振動センサ 2 3 は、このような所定値以上の振動を検出し、制御装置 C O N Tに信号を送る。制御装置 C O N Tは、振動センサ 2 3が所定の許容値以上の振動を検出したときピェゾ素子 2 2のそれぞれに対して振動センサの検出結果に基づいた駆動電圧を印加し、それぞれのピエゾ素子 2 2を変位させる。これによつて、所望の推力が可動ブレード 5 2、 5 4に与えられ、可動ブレード 5 2、 5 4を高精度に駆動することが可能となる。

なお、ここではピエゾ素子 2 2を用いているが、もちろん、ピエゾ素子 2 2以外の任意の防振用ァクチユエータを用いることができる。また、ここではピエゾ素子 2 2を 4つ設けているが、少なくとも 3つ設けられていればよい。

また、図 9に示すように、第 1照明系ハウジング 6に対するブラインドハウジング部 5 9の位置を計測する計測装置 1 0 0を設けることができる。計測装置 1 0 0は、ブラインドハウジング部 5 9の + X側の側面において外方に突設された L字状部材 1 6 3の一 Z側の面（この面は X Y面にほぼ平行な面である）に固定された金属板 1 6 O Aと、 L字状部材 1 6 3の + X側の面（この面は Y Z面にほぼ平行な面である）に固定された金属板 1 6 0 Bと、これら金属板 1 6 0 A、 1 6 0 Bにそれぞれ対向して第 1照明系ハウジング 6の + X側の側面の外方に突設された L字状取付部材 1 6 2に取り付けられた 2つの渦電流変位センサ 1 6 1 A、 1 6 1 Bとを備えている。渦電流変位センサ 1 6 1 A、 1 6 1 Bでは、絶縁体に卷いたコイルに交流電圧を加えておき、導電体からなる測定対象（この場合、金属板）に近づけると、コイルによって作られた交流磁界によって導電体に渦電流が発生する。この渦電流によって発生する磁界は、コイルの電流によって作られた磁界と逆方向であり、これら 2つの磁界が重なりあって、コイルの出力に影響を与え、コイルを流れる電流の強さ及び位相が変化する。この変化は、測定対象がコイルに近いほど大きくなり、逆に遠いほど小さくなるので、コイルから電気信号を取り出すことにより、測定対象の位置、変位を知ることができる。したがつて、渦電流変位センサ 1 6 1 A、 1 6 1 Bを用いれば、両者が静止状態にあるときでも測定対象の位置、変位の計測が可能、すなわち絶対距離の計測が可能である。

制御装置 C O N Tは、計測装置 1 0 0の計測結果に基づいて、ピエゾ素子 2 2 を駆動する。こうすることにより、外乱によって可動プレード 5 2、 5 4の移動精度が悪化することがなく、精度良く可動ブレード 5 2、 5 4を駆動することができる。つまり、エアパッド 2 1のみを第 1照明系ハウジング 6とブラインドハウジング部 5 9との間に配置した場合、ブラインドハウジング部 5 9から第 1照明系ハウジング 6へ伝達する振動を抑制することは可能であるが、外乱の影響によって可動レチクルブラインド 5 0の位置（姿勢）が変位する可能性がある。この場合、レチクル R上で照明領域を所望状態に規定することができなくなる可能性が生じる。しかしながら、ピエゾ素子（ァクチユエータ） 2 2を使って、ブラインドハウジング部 5 9の過剰な振動を除去することで、外乱の影響を抑制しつつ、レチクル R上で照明領域を所望状態に規定することができる。

なお、本実施形態において、制御装置 C O N Tは、第 1照明系ハウジング 6に対するブラインドハゥジング部 5 9の位置を計測装置 1 0 0で計測し、この計測結果に基づいてピエゾ素子 2 2を駆動しているが、プラインドハウジング部 5 9 (第 1照明系ハウジング 6 ) に対する第 2照明系ハウジング 8の位置を計測装置 1 0 0で計測し、この計測結果に基づいてピエゾ素子 2 2を駆動するようにしてよい。

なお、制御装置 C O N Tは、振動センサ 2 3や計測装置 1 0 0の検出信号に基づいて、ブラインドハウジング部 5 9のベースプレート B P及び第 2照明系ハウジング 8に対する位置ずれを検出し、その検出結果を可動ブレード 5 2 ( 5 4 ) の位置制御にフィードパックしてもよい。これによつて、第 2照明系ハウジング 8に対して第 1照明系ハウジング 6がずれたとしても、高精度に可動ブレード 5 2 ( 5 4 ) をレチクル Rに追従させることができる。また、第 2照明系ハウジング 8に対する第 1照明系ハウジング 6の位置ずれを直接計測する計測装置を別個に設け、この計測装置からの検出信号を可動プレード 5 2 ( 5 4 ) の位置制御にフィードバックしてもよい。

図 1 0は、本発明の他の実施形態を示す図である。本実施形態において、エアパッド 2 1は設けられておらず、ブラインドハウジング部 5 9と第 1照明系ハウジング 6とは接続され、プラインドハウジング部 5 9は第 1照明系ハウジング 6 の一部を構成している。そして、可動ブレード 5 4 ( 5 2 ) を駆動するリニアモータ 5 6 ( 5 5 ) の固定子 5 6 B ( 5 5 B ) は、非接触ベアリングであるエアべァリング 2 5により、ブラインドハウジング部 5 9の内壁面 5 9 Bに対して非接触支持されている。このため、運動量保存の法則により可動ブレード 5 4に接続する可動子 5 6 Aの + X方向（又は一 X方向）の移動に応じて固定子 5 6 Bがー X方向（+ X方向）に移動する。この固定子 5 6 Bの移動により可動ブレード 5 4の移動に伴う反力が相殺される。つまり、本実施形態において、固定子 5 6 B が、可動ブレード 5 4が移動するときの反力を受けるカウンタマスとなっている。これにより、可動ブレード 5 4の移動により第 1照明系ハウジング 6 (ブラインドハゥジング部 5 9 ) に伝達する振動を抑制することができる。

なお、固定子 5 6 B ( 5 5 B ) をカウンタマスとすることで、エアパッド（緩衝材） 2 1やアクティブ防振のためのピエゾ素子 2 2を設けない構成であっても防振効果を得ることができるが、カウンタマスとエアパッド（あるいはピエゾ素子）とを組み合わせることもできる。また、固定子 5 5 Bも内壁面 5 9 Bに対して非接触支持されており、カウンタマスとしての機能を有している。

図 1 1は、本発明の他の実施形態を示す模式図である。

図 1 1において図 2に示す部材と同じ部材には同一の符号を付している。本実施形態は、図 2に示す実施形態に対して、可動ブレードが移動するときの反力を受けるカウンタマスの機能を有する 2つのバランサー 9 0を加えたものである。図 1 1に示すように、パランサー 9 0は Y方向に延びるリニアモータ 9 1上に設けられており、リニアモータ 9 1上を移動可能である。 2つのリニアモータ 9 1 は、一対のリニアモータ 5 5から同じ距離だけ離れて配置されている。このパランサー 9 0は、制御装置 C O N Tによって駆動が制御され、可動ブレード 5 2の移動に伴って、その移動方向とは逆方向に移動する。可動ブレード 5 2の重さに対してバランサー 9 0の重さを 4倍に設定すると、可動ブレード 5 2の移動距離に対してバランサー 9 0の移動距離を 1 Z 4にすることができる。バランサー 9 0及ぴリニアモータ 9 1は、それぞれブラインドハウジング部 5 9内に設けられているので、可動ブレード 5 2の移動に伴う反力はプラインドハウジング部 5 9 内で相殺され、第 1照明系ハゥジング 6への伝達を抑制することができる。

なお、ブラインドハウジング部 5 9内のスペースの関係で、例えば片側のリニァモータ 9 1を X方向に沿ってリニアモータ 5 5に近づけることも可能である。この場合、近づけた方のパランサー 9 0の推力を、リニアモータ 5 5からの距離に比例して大きくする必要がある。

また、バランサー 9 0の重量を変えることができない場合は、パランサー 9 0 の加速度を変えて可動プレート 5 2の反力を相殺するようにバランサー 9 0が発生する推力を調整すればよレ、。

なお、図 1 1に示す実施例では、 2つの可動プレート 52に対してそれぞれ Y ガイド 51およびリニアモータ 55を設けているが、 Yガイド 51及びリニアモータ 55の固定子 55部を共用してもよい。具体的には、図 1 1の上側の Yガイド 51と固定子 55 Bとを省略して、下側の Yガイド 51で 2つの可動ブレード 52をガイドするとともに、 2つの可動プレート 52を駆動する際に、図 1 1の下側のリニアモータの固定子 55 Bを共用すればよい。この場合、図 1 1の上側のパランサー 90に与える推力は、下側のリニアモータ 55から距離に比例して小さくすればよい。

図 12は、本発明の他の実施形態を示す模式図である。図 12において、リニァモータ 56 (55) の固定子 56 B (55 B) はブラインドハウジング部 59 の内壁面 59 Bに対して離間しており、支持部材 28を介して床面 FD (あるいはベースプレート BP) に支持されている。すなわち、ブラインドハウジング部 59及ぴこれに接続する第 1照明系ハウジング 6と、固定子 56 Bを支持する支持部材 28とが振動に関して分離（独立）しており、可動ブレード 54に接続する可動子 56 Aの移動に伴う反力は、床面 FD (ベースプレート BP) に伝達されるようになっている。このように、可動ブレード 54 (52) の移動に伴う反力を、第 1照明系ハウジング 6 (ブラインドハウジング部 59) に対して振動的に分離された床面 F Dに逃がすことにより、第 1照明系ハウジング 6に振動が伝達されるのを防止することができる。ここで、第 1照明系ハウジング 6はベースプレート BPに対して防振ュニット 5を介して支持されているため、支持部材 2 8を介して床面 FD (あるいはベースプレート BP) に逃がした振動は第 1照明系ハウジング 6に伝達されない。

なお、上記各実施形態において、露光装置 EXの用途としては半導体製造用の露光装置や、角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを露光する液晶用の露光装置に限定されることなく、薄膜磁気へッドを製造するための露光装置にも広く適当できる。

投影光学系 P Lとしては、エキシマレーザなどの遠紫外線を用いる場合は硝材として石英や蛍石などの遠紫外線を透過する材料を用い、 F ₂レーザや X線を用いる場合は反射屈折系または屈折系の光学系にし（マスクも反射型タイプのものを用いる）、また、電子線を用いる場合には光学系として電子レンズおよび偏向器からなる電子光学系を用いればいい。なお、電子線が通過する光路は真空状態にすることはいうまでもない。

基板ステージ P S Tやマスクステージ M S丁にリニァモータを用いる場合は、エアベアリングを用いたエア浮上型およびローレンツ力またはリアクタンス力を用いた磁気浮上型のどちらを用いてもいい。また、ステージは、ガイドに沿って移動するタイプでもいいし、ガイドを設けないガイドレスタイプでもよい。

ステージの駆動装置として平面モータを用いる場合、磁石ュニット（永久磁石）と電機子ュエツトのいずれか一方をステージに接続し、磁石ュニットと電機子ュニットの他方をステージの移動面側（ベース）に設ければよい。

基板ステージ P S Tの移動により発生する反力は、特開平 8—1 6 6 4 7 5号公報に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がしてもよい。本発明は、このような構造を備えた露光装置においても適用可能である。

マスクステージ M S Tの移動により発生する反力は、特開平 8— 3 3 0 2 2 4 号公報に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がしてもよい。本発明は、このような構造を備えた露光装置においても適用可能である。

本実施形態の露光装置 E Xは、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。

各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。

半導体デバイスは、図 1 3.に示すように、デバイスの機能 ·性能設計を行うステツプ 2 0 1、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ 2 0 2、デバイスの基材である基板（ウェハ、ガラスプレート）を製造するステップ 2 0 3、前述した実施形態の露光装置によりマスクのパターンを感光基板 Pに露光する基板処理ステップ 2 0 4、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む） 2 0 5、検査ステップ 2 0 6等を経て製造される。産業上の利用の可能性

本発明は、マスクと基板とを同期移動して、前記マスクのパターンを前記基板に露光する露光装置であって、前記マスクを照明するための照明光を射出する光源と前記マスクとの間に設けられ、前記マスクの移動に追従して移動する移動体と、前記移動体が配置される第 1架台と、前記移動体の移動により前記第 1架台に伝達する振動を抑制又は除去する防振装置とを備えるので、精度良い露光処理を実現することができる。さらに、振動を抑制することで移動体の移動を高速化及ぴ高加速度化できるので露光処理のスループットを向上することができる。

Claims

請求の範囲

1 . マスクと基板とを同期移動して、前記マスクのパターンを前記基板に露光する露光装置であって、

前記マスクを照明するための照明光を射出する光源と前記マスクとの間に設けられ、前記マスクの移動に追従して移動する移動体と、

前記移動体が配置される第 1架台と、

前記移動体の移動により前記第 1架台に伝達する振動を抑制又は除去する防振装置と、を備える。

2 . 請求項 1記載の露光装置であって、

前記移動体は、前記照明光の照明領域を規制する可動遮光部材である。

3 . 請求項 2記載の露光装置であって、

前記可動遮光部材は、前記マスクのパターン面とほぼ共役な位置に配置される。

4 . 請求項 1記載の露光装置であって、

前記防振装置は、前記移動体を収容する移動体ハゥジング部と前記第 1架台との間に配置される緩衝材を含む。

5 . 請求項 4記載の露光装置であって、

前記緩衝材は、エアパッドを含む。

6 . 請求項 4記載の露光装置であって、

前記緩衝材は、弾性体を含む。

7 . 請求項 4記載の露光装置であって、

前記移動体ハゥジング部と前記第 1架台との間に配置され、前記移動体ハゥジング部と前記第 1架台との位置関係を調整する調整装置を備える。

8 . 請求項 1記載の露光装置であって、

前記防振装置は、前記移動体が移動するときの反力を受けるカウンタマスを有する。

9 . 請求項 8記載の露光装置であって、

前記移動体は、前記移動体ハウジング部に対して非接触で保持されており、前記カウンタマスは、前記移動体ハウジング部を含む。

1 0 . 請求項 1記載の露光装置であって、

前記マスクを介して前記照明光で前記基板を露光する本体部と、

前記本体部が配置される第 2架台とを備え、

前記第 1架台と前記第 2架台とは、振動に関して独立している。

1 1 . 請求項 1 0記載の露光装置であって、

前記本体部は、前記照明光の照明領域を規定する固定視野絞りを有する。

1 2 . 請求項 1 0記載の露光装置であって、

前記本体部は、前記マスクを介した前記照明光を前記基板上に投射する投影光学系を有する。

1 3 . 請求項 1記載の露光装置であって、

前記照明光で前記マスクを照明する照明光学系を備え、

前記移動体は、前記照明光学系内に配置されている。

1 4 . 請求項 1 0記載の露光装置であって、

前記照明光で前記マスクを照明する照明光学系を備え、

前記移動体は、前記照明光学系内に配置されており、

前記移動体よりも前記マスク側に配置される前記照明光学系の一部が前記本体部に設けられている

1 5 . マスクと基板とを移動して、前記マスクのパターンを前記基板に露光する露光装置であって、

前記マスクの照明領域を規定し、移動可能な第 1移動体と、

前記第 1移動体の移動に応じて、前記第 1移動体の移動方向と反対方向に移動する第 2移動体とを備える。

1 6 . 請求項 1 5記載の露光装置であって、

前記第 2移動体の重量は、前記第 1移動体の重量よりも大きい。

1 7 . 請求項 1 5記載の露光装置であって、

前記第 1移動体と前記第 2移動体とは、共通の架台に支持されている。

1 8 . 請求項 1 5記載の露光装置であって、

前記第 2移動体を駆動する駆動装置を備える。

1 9 . パターンが形成されたマスクを照明する照明装置であって、

2 0 . 請求項 1 9記載の照明装置であって、

2 1 . 請求項 1 9記載の露光装置であって、

2 2 . 請求項 1 9記載の露光装置であって、前記第 2移動体を駆動する駆動装置を備える。