WO2004013887A1 - カラー陰極線管およびその製造方法 - Google Patents

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WO2004013887A1
WO2004013887A1 PCT/JP2003/009049 JP0309049W WO2004013887A1 WO 2004013887 A1 WO2004013887 A1 WO 2004013887A1 JP 0309049 W JP0309049 W JP 0309049W WO 2004013887 A1 WO2004013887 A1 WO 2004013887A1
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WO
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mask
main
electron beam
auxiliary
hole
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PCT/JP2003/009049
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French (fr)
Inventor
Tohru Takahashi
Takuya Mashimo
Hiroyuki Oda
Takeshi Nakayama
Original Assignee
Kabushiki Kaisha Toshiba
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    • H01J29/02Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
    • H01J29/06Screens for shielding; Masks interposed in the electron stream
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    • H01J29/076Shadow masks for colour television tubes characterised by the shape or distribution of beam-passing apertures
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    • H01J2229/0727Aperture plate
    • H01J2229/075Beam passing apertures, e.g. geometrical arrangements
    • H01J2229/0755Beam passing apertures, e.g. geometrical arrangements characterised by aperture shape

Definitions

  • the present invention relates to a color cathode ray tube having a shadow mask and a method for manufacturing the same.
  • a color cathode ray tube has an envelope having a panel on which an inner surface is formed with a phosphor screen, and an almost provided inside the envelope facing the phosphor screen. And a rectangular shadow mask. On the effective surface of the shadow mask facing the phosphor screen, a large number of apertures are formed in a predetermined arrangement as electron beam passage holes.
  • the shadow mask has a function of selecting three electron beams emitted from the electron gun by each opening and injecting the three electron beams into the three-color phosphor layer constituting the phosphor screen.
  • the radius of curvature of the outer surface of the color cathode ray tube panel has been substantially flattened to 100,000 mm or more. Butt pipes are becoming mainstream.
  • the effective surface of the shadow mask facing the phosphor screen is formed in a shape corresponding to the inner surface shape of the panel. For this reason, the shadow mask of the flat tube has a smaller curvature than that of the conventional color cathode ray tube, and is almost flattened.
  • the shadow mask is formed of a metal plate having a thickness of about 0.22 to 0.25 mm. If the effective surface has a small curvature, the shadow mask for a large screen formed of such a thin plate is deformed by its own weight or an external force, and it is difficult to maintain the mask curved surface. That is, when the curvature of the effective surface is reduced, the holding force of the mask curved surface (hereinafter, the mask curved surface strength) decreases. In particular, the decrease in the mask curved surface strength is most remarkable in the center of the effective surface, that is, in the vicinity of the screen center.
  • the effective surface of the shadow mask will be deformed by a small external force during manufacturing or transportation.
  • the distance relationship between the opening of the shadow mask and the inner surface of the panel changes.
  • the electron beam emitted from the electron gun does not land on a predetermined phosphor layer, causing a color shift.
  • the simplest way to prevent a decrease in the strength of the mask surface is to increase the thickness of the shadow mask.
  • it becomes difficult to control the etching at the time of manufacturing the shadow mask and the variation in the hole diameter of the electron beam passage hole becomes large.
  • the production yield of the shadow mask and the color cathode ray tube may be reduced, and the screen quality may be degraded.
  • the cathode ray tube disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-1977989 in order to maintain the curved surface, the shadow mask is placed near the short axis of the shadow mask. Auxiliary mask is stuck. With such a structure, it is possible to efficiently maintain the mask curved surface.
  • a shadow mask is usually provided with a large number of openings.
  • the holes are conventionally formed by etching.
  • etching There are various methods for etching, and two methods are mainly used for manufacturing shadow masks.
  • One is a one-step etching method called double-sided etching, and the other is a two-step etching method called two-step etching.
  • Double-sided etching makes the process simple and makes it possible to manufacture a shadow mask at low cost.
  • the variation of the holes and the unevenness of the holes easily occur, and the holes that can be manufactured are limited to those having relatively large holes.
  • the state of generation of unnecessary light emission on the phosphor screen due to electron beam reflection is different between a superimposed portion in which the auxiliary mask is superimposed on the main mask and a non-superimposed portion formed only by the main mask.
  • the width of the phosphor layer in the formed phosphor screen is divided into a portion corresponding to the overlapping portion and a portion corresponding to the non-overlapping portion.
  • the present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to provide a color cathode ray tube having a sufficient mask curved surface strength and good image quality, and a method of manufacturing the same. And.
  • a color cathode ray tube includes a panel having a phosphor screen provided on an inner surface thereof, and an electron beam directed toward the phosphor screen.
  • a substantially rectangular shadow mask having a short axis, and the shadow mask faces substantially the entire surface of the phosphor screen, and has a large number of electron beam passage holes formed therein.
  • a main mask having a substantially rectangular perforated portion, and a large number of electron beams passing through the main mask and fixed to a region including the short axis of the perforated portion, and corresponding to the electron beam passing holes of the main mask.
  • a band-shaped auxiliary mask having a hole and having a longitudinal direction along the short axis.
  • Each electron beam passage hole of the main mask is formed by a communication hole that connects a large hole opened on the phosphor screen side surface of the main mask with a small hole opened on the electron gun side surface of the main mask.
  • Each electron beam passage hole of the auxiliary mask is formed by a communication hole that communicates a large hole opened on one surface of the auxiliary mask with a small hole opened on the other surface of the auxiliary mask.
  • Each of the small holes has a diameter gradually reduced from the electron gun-side surface of the main mask toward the large hole, and each small hole of the auxiliary mask has a small diameter from the other surface of the auxiliary mask. It has a diameter that is almost constant or gradually increases toward the great hole.
  • a method of manufacturing a color cathode ray tube includes a panel having an inner surface provided with a phosphor screen, an electron gun for emitting an electron beam toward the phosphor screen, A substantially rectangular shadow mask which is disposed inside the panel so as to face the phosphor screen and is orthogonal to each other and has a major axis and a minor axis orthogonal to the tube axis; And the shadow mask faces almost the entire surface of the phosphor screen. And a main mask having a substantially rectangular perforated portion in which a large number of electron beam passage holes are formed, and a main mask fixed to a region including a short axis of the perforated portion of the main mask.
  • a flat mask base plate for the main mask and a flat mask base plate for the auxiliary mask Prepare a flat mask base plate for the main mask and a flat mask base plate for the auxiliary mask, and perform two-step etching of the mask base plate for the main mask.
  • a plurality of electron beam passage holes formed of communication holes in which the large holes opened at the same time and the small holes opened at the other surface of the mask base plate are formed, and the mask base plate for the auxiliary mask is etched on both sides.
  • the mask base plate for the main mask and the mask base plate for the auxiliary mask in which the electron beam passage holes are formed are fixed to each other, and the fixed mask base plates are pressed into a desired shape to form the shadow mask. Form.
  • each of the small holes of the main mask has a diameter gradually reduced from the electron gun side surface of the main mask toward the large holes.
  • Each of the small holes of the auxiliary mask has a structure having a substantially constant diameter or a gradually increasing diameter from the other surface of the auxiliary mask toward the large hole. This ensures that the auxiliary mask has sufficient strength.
  • the state of generation of unnecessary light emission from the phosphor screen due to electron beam reflection is substantially the same between the superposed portion where the auxiliary mask is superimposed on the main mask and the non-superposed portion formed only by the main mask. be able to. Accordingly, it is possible to obtain a sufficient strength of the mask curved surface of the shadow mask and to obtain a color cathode ray tube having good image quality.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view including a major axis of a color cathode ray tube according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view including the short axis of the color cathode ray tube.
  • FIG. 3A is a perspective view showing a shadow mask in the above color cathode ray tube.
  • FIG. 3B is an enlarged plan view showing an electron beam passage hole of the shadow mask.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view along the major axis direction of the shadow mask.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view of the shadow mask taken along a short axis direction.
  • FIG. 6 is an enlarged sectional view showing a main mask and an auxiliary mask of the shadow mask.
  • 7A to 7D are cross-sectional views respectively showing a two-step etching process of the main mask.
  • FIG. 8A is a plan view showing a mask base plate used for manufacturing the main mask.
  • FIG. 8B is a plan view showing a mask blank used for manufacturing the auxiliary mask.
  • Fig. 9A or Fig. 9D shows double-sided etching of the auxiliary mask. Sectional drawing which shows each process.
  • FIG. 10A is a cross-sectional view schematically showing an opening formed by two-step etching and an opening formed by double-sided etching.
  • FIG. 10B is a cross-sectional view schematically showing an opening formed by two-step etching and an opening formed by double-sided etching.
  • FIG. 11 is a cross-sectional view showing the passage and reflection of an electron beam in the shadow mask.
  • FIG. 12 is a cross-sectional view showing a shadow mask of a color cathode ray tube according to another embodiment of the present invention.
  • FIG. 13 is a cross-sectional view showing, on an enlarged scale, an opening portion of the shadow mask according to the other embodiment.
  • the color cathode ray tube has an envelope formed of glass.
  • This envelope has a rectangular panel 1 having a scart 2 at the periphery, a funnel 3 joined to the scart 2, and a neck extending from the small diameter portion of the funnel 3. 4 and.
  • the phosphor screen 5 is formed on the inner surface of the panel 1.
  • the envelope extends through the center of panel 1 and the center of neck 4 , the tube axis Z, the long axis (horizontal axis) X extending perpendicular to the tube axis, and the tube axis and the long axis perpendicular to the tube axis. It has a short axis (vertical axis) Y.
  • the outer surface of panel 1 has a radius of curvature of 100, It is substantially flat at 0.000 mm.
  • the inner surface of panel 1 has a substantially cylindrical shape with a radius of curvature along the X-axis along the X-axis of approximately 7, OOO mm and a radius of curvature along the Y-axis along the Y-axis of approximately 1,500 mm. I have.
  • a shadow mask structure 6 functioning as a color selection electrode is arranged so as to face the phosphor screen 5.
  • the shadow mask structure 6 includes a shadow mask 7 in which a large number of openings serving as electron beam passage holes are formed, and a rectangular frame-shaped mask frame 8 having an L-shaped cross section to which the periphery of the shadow mask 7 is fixed.
  • the shadow mask structure 6 includes a plurality of elastic supports (not shown) provided on the side walls of the mask frame 8 mounted on a stud bin (not shown) embedded in the scart portion 2 of the panel 1. By being locked, they are supported inside panel 1.
  • the opening shape of the electron beam passage hole formed in the shadow mask 7 is formed in a rectangular shape or a circular shape depending on the use.
  • An electron gun 10 that emits three electron beams 9 R, 9 G, and 9 B arranged in a line on the major axis X is arranged in the neck 4.
  • the electron beams 9R, 9G, and 9B emitted from the electron gun 10 are deflected by a deflection yoke 11 attached outside the funnel 3 to form a shadow mask 7
  • the image is displayed by scanning the phosphor screen 5 horizontally and vertically via the.
  • the shadow mask 7 includes a main mask 14 and an auxiliary mask 20 which is fixed to part of the main mask. It is provided with a partially double structure.
  • the main mask 14 is disposed so as to face almost the entire surface of the phosphor screen 5 and has a substantially rectangular mask main surface 38 formed into a predetermined curved shape and a mask main surface. And a scar section 17 extending from the periphery to the electron gun side along the tube axis Z direction.
  • the mask main surface 38 is a rectangular perforated portion 13 in which a number of apertures 12 functioning as electron beam passage holes are formed, and is located so as to surround the perforated portion. Both have a substantially rectangular frame-shaped non-porous portion 16 and, which have no aperture.
  • the main mask 14 is formed of a metal material having a thickness of about 0.1 to 0.25 mm, and is made of an iron material or an invar material (F e — Ni alloy) as a low expansion material. ).
  • Each opening 12 of the main mask 14 is formed in a substantially rectangular shape whose width direction is the long axis X direction of the perforated portion 13.
  • a plurality of apertures 12 are arranged substantially linearly in the short-axis Y direction of the perforated portion 13 via the bridge 15 to form an aperture row.
  • Many are arranged in an arrangement pitch PH of about 0.4 to 0.6 mm in the long axis X direction.
  • each opening 12 has a substantially rectangular large opening 19a opening on the surface of the main mask 14 on the phosphor screen side and an opening almost opening on the surface on the electron gun side. It is formed by a rectangular small hole 22 and a communication hole that communicates with each other.
  • Perforated part 1 The center of the large hole 19a is offset by ⁇ from the center C1 of the large hole 19a toward the periphery of the hole relative to the center C2 of the small hole 19b. To The offset amount ⁇ becomes larger as the hole is located on the peripheral side from the center of the perforated portion 13. This is to prevent the electron beam from passing through the small hole 19b and then colliding with the inner surface of the opening 12 and being reflected, thereby generating unnecessary light emission on the screen.
  • the large hole 19a is offset from the small hole 19b in both the short axis Y direction and the long axis X direction of the main mask 14.
  • the shadow mask is made of amber (Fe—Ni alloy) which is a low thermal expansion material having a thickness of 0.22 mm.
  • a plurality of openings 12 are arranged in a straight line at an arrangement pitch of 0.6 mm in the Y direction, and a row of the plurality of openings in the short axis direction is a long axis X. They are arranged at a pitch of 0.75 mm near the short axis and 0.82 mm around the long axis, and are arranged at a variable pitch where the pitch increases as approaching the long axis.
  • the opening size of the large hole 19a of the opening 12 in the width direction is 0.46 mm on the short axis Y, 0.50 mm on the periphery of the long axis X direction, and the small hole 19b is The opening dimension in the width direction is 0.18 mm on the short axis and 0.2 O mm on the periphery in the long axis.
  • the auxiliary mask 20 has an elongated band. It is fixed on the inner surface side of the main mask 14, that is, on the surface on the electron gun side, in a region including the short axis Y of the perforated portion 13.
  • the auxiliary mask 20 is provided so that its major axis direction coincides with the minor axis Y of the main mask 14.
  • the shadow mask 7 divides the overlapping portion of the double structure in which the auxiliary mask 20 is fixed and the non-overlapping portions located on both sides of the overlapping portion in an area of a predetermined width including the minor axis Y. Yes.
  • the auxiliary mask 20 is made of an iron material, a member material or the like similarly to the main mask 14 and has a thickness of about 0.25 mm.
  • the auxiliary mask 20 has a width LH 1 along the major axis X direction smaller than the major axis direction length LH 2 of the perforated portion 13 of the main mask 14, and a length along the minor axis Y direction.
  • the height is substantially equal to the length of the main mask 14 in the same direction.
  • the auxiliary mask 20 has a perforated portion 21, a non-perforated portion 23 located outside the perforated portion 21 at both ends in the longitudinal direction of the auxiliary mask, and furthermore, both ends from each non-perforated portion 23. And a pair of scar sections 24 extending to the outside.
  • a number of openings 42 were provided as electron beam passage holes corresponding to the openings 12 of the main mask 14.
  • the auxiliary mask 20 has the perforated portion 21, the non-perforated portion 23, and the scart portion 24 formed of the perforated portion 13, the non-porous portion 16, and the scart portion of the main mask 14. It is fixed to the electron gun side surface of the main mask in a state where it overlaps with 17 respectively. As a result, the area on the minor axis Y of the main mask 14 has a double structure.
  • Each opening 42 formed in the perforated portion 21 is a surface on the phosphor screen side of the auxiliary mask 20, that is, a surface on the main mask 14 side. It is formed by a communication hole that communicates a substantially rectangular large hole 25a opened to the outside and an almost rectangular small hole 25b opened to the surface on the electron gun side. That is, the auxiliary mask 20 is fixed to the main mask 14 with the large holes 25a of the openings 42 facing the main mask 14.
  • the apertures 42 of the auxiliary mask 20 form a plurality of aperture rows extending in the short-axis Y direction, and these apertures are formed. The rows are arranged at a pitch of about 0.4 to 0.6 mm in the major axis X direction. As a result, each opening 42 is arranged in alignment with the opening 12 of the main mask 14.
  • Such an auxiliary mask 20 is fixed in a state of being in close contact with the main mask 14.
  • a method such as diffusion bonding called crimping, laser welding or resistance welding can be used.
  • the auxiliary mask 20 has at least several fixed points.
  • the opening 12 of the main mask 14 is formed by two-step etching, and the opening of the auxiliary mask 20 is formed.
  • 4 2 is formed by double-sided etching.
  • a mask base plate 45 for a main mask made of amber material is prepared.
  • the resist films 44 a and 44 b of the pattern corresponding to the openings 12 of the main mask 14 are placed on both sides of the mask base plate 45. Each is formed.
  • one of the cash registers After attaching an etching protection film 46 made of a polyester resin or the like on the film 44 a, spray the etching liquid from the other resist film 44 b side. Then, a concave hole serving as the small hole 19 b is formed in the mask base plate 45.
  • the resist film 44 b is peeled off, and the surface side of the mask base plate 45 in which the concave holes are formed is washed with water and dried. Thereafter, an anti-etching agent such as norafin or lacquer is applied to this surface side, and an anti-etching layer 47 is formed so as to be embedded in the formed recess.
  • the etching protection film 46 attached to the other surface of the mask base plate 45 is peeled off.
  • the etching liquid is sprayed on the other surface of the mask base plate 45 through the resist film 44a, and the large liquid communicating with the previously formed concave hole is formed.
  • a hole 19a is formed.
  • a caustic alkali solution is sprayed, and the anti-etching layer 47 provided on the other surface and the resist film 4 formed on the other surface are sprayed. 4 Peel off a.
  • FIG. 8A a flat mask base plate 45 having a plurality of openings 12 formed with a predetermined diameter and a pitch and having a hole 13 is obtained.
  • a mask base plate 50 for an auxiliary mask made of Invar is prepared.
  • the resist films 52 a and 52 b of the pattern corresponding to the openings 42 of the auxiliary mask 20 are respectively applied to both sides of the mask base plate 50.
  • FIGS. 9A and 9B the resist films 52 a and 52 b of the pattern corresponding to the openings 42 of the auxiliary mask 20 are respectively applied to both sides of the mask base plate 50.
  • Figure 9C The mask plate 50 is continuously etched from the resist film side, that is, from the resist film 52 a side corresponding to the large hole of the opening 42, to form the opening 42.
  • the resist films 52 a and 52 b are peeled from the mask base plate 50.
  • a mask base plate 50 for an auxiliary mask as shown in FIG. 8B is obtained.
  • the mask blanks 45 and 50 obtained as described above are annealed, and then the mask blanks are superimposed on each other while being accurately positioned with respect to each other. Fix it. Subsequently, the pasted mask base plates 45 and 50 are press-formed by a press device to form a shadow mask 7 having a desired shape in which the auxiliary mask is located on the electron gun side surface of the main mask.
  • FIGS. 1OA and 1OB due to the difference in the etching method. Occurs.
  • Fig. 1 OA shows the superimposed cross-sections of the main mask 14 and the auxiliary mask 20 along the long axis X direction.
  • the dotted line shows the opening of the main mask 14 formed by two-step etching.
  • a hole 12 is shown, and a solid line shows an opening 42 formed by double-sided etching.
  • FIG. 10B is a diagram in which cross sections along the minor axis Y direction of the main mask 14 and the auxiliary mask 20 are superimposed, and the opening 12 of the main mask 14 is shown, and the solid line is the opening 4 2. Are shown respectively.
  • the difference in 42 is not so large.
  • the cross section in the short axis Y direction shown in FIG. 10B the cross sectional shapes of the openings 12 and 42 are greatly different.
  • the two-stage etching has a wider etching range for forming an opening than the two-sided etching.
  • the volume of the remaining material for forming the shadow mask 7, that is, the volume of the shadow mask 7 is reduced. Therefore, as for the strength of the mask, a mask having holes formed by double-sided etching can obtain a greater strength.
  • the volume of the main mask increases and the mask strength increases.
  • forming small holes required for high-definition display requires a two-step etching method.
  • double-sided etching is used in the manufacture of the main mask. It is difficult to use.
  • the opening 42 of the auxiliary mask 20 has a size that can sufficiently cope with double-sided etching.
  • the electron gun side surface of the main mask 14 having the openings 12 formed by the two-stage etching is provided.
  • An auxiliary mask 20 having an opening 42 formed by double-sided etching is attached.
  • the large hole 25a side of the opening 42 faces the small hole 19b side of the opening 12 formed in the main mask 14. It is arranged as follows.
  • the opening L42 of the auxiliary mask 20 is formed slightly larger than the opening 12 of the main mask 14 in the major axis X direction. This is to provide a margin in the event of misalignment between the main mask 14 and the auxiliary mask 20. Also in the short axis Y direction, it is preferable that the opening 42 of the auxiliary mask 20 has a larger dimension than the opening 12 of the main mask 14. However, since the bridge width of the main mask 14 is almost the minimum value that can be manufactured from the viewpoint of the phosphor screen luminance, the auxiliary mask 20 and the main mask are required in the short-axis Y direction.
  • the aperture diameter of 14 may be the same.
  • the opening 12 of the main mask 14 formed by two-step etching has a large moss L 19 a and a small hole 19 b.
  • the diameter of the small hole 19b gradually decreases from the electron gun side surface of the main mask 14 toward the large hole 19a. Therefore, the side wall surface 60 defining the small hole 19b is a curved surface inclined toward the electron gun.
  • the small hole 25b has a substantially constant diameter from the electron gun side surface of the auxiliary mask toward the large hole 25a. Or, the diameter is gradually increasing. Therefore, the side wall surface 62 defining the small hole 25b is not inclined toward the electron gun side and is almost parallel to the electron beam, or rather, on the phosphor screen side. It has an inclined surface.
  • the electron beam emitted from the electron gun toward the shadow mask 7 passes through the opening 42 of the auxiliary mask 20 and the opening 12 of the main mask 14 in this order, and the phosphor screen. Landing on At this time, the small holes 25 b of the openings 42 formed in the auxiliary mask 20 do not have the side wall surface facing the electron gun side, that is, the side wall surface against which the electron beam collides, so that the electron beam Pass through the opening 42 with almost no generation of secondary electrons.
  • the electron beam that has passed through the opening 42 of the auxiliary mask 20 enters the opening 12 of the main mask 14, and most of the electron beam passes through the opening 12 and is incident on the phosphor screen. To reach. A part of the electron beam incident on the opening 12 collides with the side wall surface 60 defining the small hole 19b, and emits secondary electrons. Some of the emitted secondary electrons pass through the aperture 12 of the main mask 14 and reach the phosphor screen. Due to the secondary electrons, unnecessary light emission is generated in a part of the phosphor screen.
  • the auxiliary mask 20 having the opening 42 formed by the double-sided etching has substantially no side wall surface on the small hole side where the electron beam collides, so that the secondary electron Occurrence itself is small. Therefore, the reflection of the electron beam occurs only on the side wall surface 60 of the main mask 14.
  • the state of generation of such secondary electrons is the same as the non-overlapping portion of the main mask 14 to which the auxiliary mask 20 is not attached. Therefore, unnecessary light emission itself slightly occurs in the phosphor screen, but the difference in unnecessary light emission between the portion corresponding to the overlapping portion of the shadow mask 7 and the portion corresponding to the non-overlapping portion is reduced. None can be done. This makes it possible to obtain a good image without an unnecessary brightness step or a band-like boundary appearing on the display screen.
  • the auxiliary mask 20 having the opening 42 formed by the double-sided etching is larger than the main mask 14. Also has low secondary electron emission. Therefore, it is possible to prevent a brightness step and a boundary from being caused by unnecessary light emission of the phosphor screen.
  • the generation of unnecessary light emission is substantially uniform over the entire area as described above. You can make it. Therefore, the width of the phosphor layer in the phosphor screen can be formed substantially uniformly between the region facing the overlapping portion of the shadow mask 7 and the region corresponding to the non-overlapping portion. As a result, it is possible to obtain a color cathode ray tube with improved display image quality.
  • the auxiliary mask 20 is provided so as to overlap the main mask 14, the deformation of the shadow / mask 7 near the center of the screen where deformation is most likely to occur. Can be suppressed, and as a result, the mask curved surface strength can be improved.
  • the opening of the auxiliary mask by double-sided etching, the volume of the mask material after the opening is formed can be sufficiently ensured, and the mask strength can be maintained.
  • the aperture of the auxiliary mask is formed by double-sided etching, and the aperture structure has no side wall inclined to the electron gun side, or the electron gun side.
  • the side wall surface inclined to 2 O has an aperture structure smaller than the side wall surface on the main mask side. This makes it possible to obtain a good image without generating unnecessary brightness steps due to differences in unnecessary light emission and phosphor screen between the superimposed portion and the non-superimposed portion of the shadow mask. Noh.
  • the present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be variously modified within the scope of the present invention.
  • the auxiliary mask 20 is It may be provided on the outer surface side of the main mask 14, that is, on the surface on the phosphor screen 5 side.
  • the auxiliary mask 20 is fixed to the main mask 14 with the small holes 25 b of the openings 42 facing the main mask 14. Even with the shadow mask having such a configuration, the same operation and effect as described above can be obtained.
  • the other configuration is the same as that of the above-described embodiment, and the same portions are denoted by the same reference characters and detailed description thereof will not be repeated.
  • auxiliary masks are not limited to one, and a plurality of auxiliary masks may be provided. Further, each opening of the shadow mask is not limited to a rectangular shape, and can be effectively used as a round shape.

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Abstract

シャドウマスク(7)は、主マスク(14)と補助マスク(20)とを重ねて構成されている。主マスクの各電子ビーム通過孔は、主マスクの蛍光体スクリーン側の表面に開口した大孔(19a)と電子銃側の表面に開口した小孔(19b)とを連通した連通孔で形成さている。補助マスクの各電子ビーム通過孔は、補助マスクの一方の表面に開口した大孔(25a)と補助マスクの他方の表面に開口した小孔(25b)とを連通した連通孔で形成されている。主マスクの各小孔は、主マスクの電子銃側表面から大孔に向かって徐々に減少した径を有し、補助マスクの各小孔は、補助マスクの上記他方の表面から上記大孔に向かってほぼ一定の径あるいは徐々に増加した径を有している。

Description

明 細 書
カ ラー陰極線管およびその製造方法
技術分野
この発明は、 シャ ドウマスク を備えたカ ラー陰極線管およ びその製造方法に関する。
背景技術
一般に、 カ ラー陰極線管は、 内面に蛍光体スク リ ーンが形 成されたパネルを有する外囲器と 、 この外囲器内で蛍光体ス ク リ ーンに対向 して設けられたほぼ矩形状のシャ ドウマスク と 、 を備えている。 シャ ドウマスクの蛍光体スク リ ーンと対 向する有効面には、 電子ビーム通過孔と して多数の開孔が所 定の配列で形成されている。 シャ ドウマスク は、 電子銃から 放出 された 3 電子ビームを各開孔によ り選別 し、 蛍光体スク リ ーンを構成する 3 色蛍光体層に入射させる機能を備えてい る。
近年、 外光反射が少な く 且つ画像歪を軽減 して視認性を高 めるため、 カ ラー陰極線管のパネル外面の曲率半径を 1 0 , 0 0 0 m m以上と実質的に平坦と したフラ ッ ト管が主流と な り つつある。 通常、 蛍光体スク リ ーンと対向する シャ ドウマ スクの有効面は、 パネルの内面形状に対応 した形状に形成さ れている。 そのため、 フ ラ ッ ト管のシャ ドウマスク は、 従来 のカ ラー陰極線管に対 して曲率が小さ く な リ 、 ほぼ平坦化 し ている。
と こ ろが、 このよ う な曲率の小さなシャ ドウマスク を用い た場合、 以下の問題が生 じる。 通常、 シャ ドウマスク は板厚が 0 . 2 2 〜 0 . 2 5 m m程 度の金属板によ って形成されている。 このよ う な薄板で形成 された大画面用のシャ ドウマスク は、 有効面の曲率が小さ い 場合、 自重または外力によ って変形 し、 マスク 曲面を維持す る こ とが難 しい。 すなわち、 有効面の曲率を小さ く する と 、 マスク 曲面の保持力 (以下、 マスク 曲面強度) が低下する。 特に、 マスク曲面強度の低下は有効面中心すなわち画面セ ン タ ー近傍が最も顕著と なる。
マスク 曲面強度が低い場合、 製造中ある いは輸送中の微小 な外力によ ってシャ ドウマスクの有効面が変形 して しま う 。 シャ ドウマスク が変形する と 、 シャ ドウマスク の開孔とパネ ル内面との距離関係が変動する。 その結果、 電子銃から放出 された電子ビームが所定の蛍光体層にラ ンディ ングせず、 色 ずれの原因 となる。
マスク曲面強度の低下は、 シャ ドウマスクが変形まで到達 しないまでも、 テ レ ビジ ョ ンセ ッ 卜 に組み込んだ際、 音声な どの振動によ り 、 マスク有効面が共振 しやす く な リ 、 画面上 に不要な明暗を映し出 して しま う
マスク 曲面強度の低下を防止する最も簡単な方法は、 シャ ドウマスクの板厚を厚 く する こ と である。 しか しながら、 シ ャ ドウマスク板厚が増加する と 、 シャ ドウマスク製造時のェ ツチング制御が困難と な り 、 電子ビーム通過孔の孔径のバラ ツキが大き く なる。 その結果、 シャ ドウマスク製造時及び力 ラー陰極線管製造時の歩留ま り 低下や、 画面品位劣化を生 じ る要因と なって しま う 。 これらの問題を解消するため、 例えば、 特開平 2 0 0 2 — 1 9 7 9 8 9 号公報には開示された陰極線管によれば、 スク 曲面を維持するため、 シャ ドウマスク の短軸近傍に補助マス クが貼 り 付け られている。 このよ う な構造であればマスク 曲 面を効率的に維持する こ とが可能と なる。
上述 したよ う に、 通常、 シャ ドウマスク には多数の開孔が 設け られている。 これら多数の開孔を工業的に効率良 く 得る ため、 従来よ り 、 開孔はエ ッチングによ リ 形成されている。 エ ッチングにはさまざまな手法があ り 、 シャ ドウマスク を製 造するにあた っては主に 2 つの手法が取 られている。 その 1 つは、 両面エ ッチングと呼ばれる 1 ステ ッ プエ ッチングの手 法であ り 、 他方は、 2 段エ ッチングと呼ばれる 2 ステ ッ プェ ツチングの手法である。
両面エ ッチングは、 工程が単純であ リ シャ ドウマスク を安 価に製造する こ とが可能と なる。 しか し、 この手法は、 開孔 のバラ ツキゃ開孔ムラが発生 し易 く 、 製造可能な開孔が比較 的大きなものに限られる。
2 段エ ッチングは、 2 ステ ッ プに分けて開孔を形成するた め、 工程が複雑とな り 製造コ ス トが高価と なる。 その反面、 両面エ ッチングに比較 して開孔のバラツキおよびマスク 開孔 ムラが生 じに く い。 この手法によれば、 比較的小さな開孔を 有 したシャ ドウマスク を製造する こ とができる。 そのため、 近年の高精細カ ラー陰極線管の場合は、 2 段エ ッチングを用 いて製造する こ とが好ま しいと されている。
前述 した 2枚のシャ ドウマスク を貼 り 合せる カ ラー陰極線 管では以下のよ う な課題がある。 2段エ ッチングで製造され た 2 枚のマスク を張 り 合わせた構成では、 補助マスク の強度 が弱いと 、 マスク 全体の強度をかえって低下させて しま う 恐 れがある。 そのため、 補助マスク 自体の強度を向上させる必 要がある。
補助マスクが主マスク に重ね合わされた重畳部と主マスク だけで形成されている非重畳部と で、 電子 ビーム反射に起因 する蛍光面の不要発光の発生状態が相違する。 カ ラー陰極線 管の製造時、 このシャ ドウマスク を用いて蛍光面を露光する と、 形成された蛍光面において、 上記重畳部に対応する部分 と非重畳部に対応する部分とで蛍光体層の幅が相違する。
以上の こ とから、 上記カ ラー陰極線管によ り 画像を表示 し た場合、 表示画面において、 シャ ドウマスクの重畳部に対応 する部分と非重畳部に対応する部分とで画像表示状態が相違 し、 これらの間に帯状の境界が現われて画質の劣化を招 く 恐 れがある。
発明の開示
この発明は、 以上の点に鑑みなされたもので、 その目 的は、 十分なマスク 曲面強度を有 している と と もに画像品位の良好 なカ ラー陰極線管およびその製造方法を提供する こ と にある。
上記目 的を達成するため、 この発明の態様に係るカ ラー陰 極線管は、 内面に蛍光体スク リ ーンが設けられたパネルと 、 上記蛍光体スク リ ーンに向かって電子ビームを放出する電子 銃と 、 上記パネルの内側に上記蛍光体スク リ ーンに対向 して 配置され、 互いに直交 している と と もに管軸と直交 した長軸 および短軸を備えたほぼ矩形状のシャ ドウマスク と 、 を備え、 上記シャ ドウマスク は、 上記蛍光体スク リ ーンのほぼ全面 と対向 している と と もに多数の電子 ビーム通過孔が形成され たほぼ矩形状の有孔部を有 した主マスク と 、 上記主マスクの 有孔部の短軸を含む領域に固定され、 上記主マスク の電子 ビ ーム通過孔に対応 した多数の電子ビーム通過孔を有 している と と もに上記短軸に沿った方向を長手方向 と した帯状の補助 マスク と 、 を具備 している。
上記主マスク の各電子ビーム通過孔は、 主マスク の蛍光体 スク リ ーン側の表面に開口 した大孔と主マスク の電子銃側の 表面に開口 した小孔と を連通 した連通孔で形成され、 上記補 助マスクの各電子ビーム通過孔は、 補助マスクの一方の表面 に開口 した大孔と補助マスクの他方の表面に開口 した小孔と を連通 した連通孔で形成され、 上記主マスク の各小孔は、 主 マスクの電子銃側表面か ら上記大孔に向かって徐々に減少 し た径を有 し、 上記補助マスクの各小孔は、 補助マスク の上記 他方の表面か ら 上記大孔に向か っ てほぼ一定の径ある いは 徐々に増加 した径を有 している。
この発明の他の態様に係るカ ラー陰極線管の製造方法は、 内面に蛍光体スク リ ーンが設け られたパネルと 、 上記蛍光体 スク リ ーンに向かって電子ビームを放出する電子銃と 、 上記 パネルの内側に上記蛍光体スク リ ーンに対向 して配置され、 互いに直交 して いる と と も に管軸と直交 した長軸および短軸 を備えたほぼ矩形状のシャ ドウマスク と 、 を備え、 上記シャ ドウマスク は、 上記蛍光体スク リ ーンのほぼ全面と対向 して いる と と も に多数の電子ビーム通過孔が形成されたほぼ矩形 状の有孔部を有 した主マスク と 、 上記主マスク の有孔部の短 軸を含む領域に固定され、 上記主マスク の電子 ビーム通過孔 に対応 した多数の電子ビーム通過孔を有 している と と も に上 記短軸に沿った方向を長手方向 と した帯状の補助マスク と 、 を具備 したカ ラー陰極線管の製造方法において、
上記主マスク用の平坦なマスク素板、 および上記補助マス ク用の平坦なマスク素板を用意 し、 上記主マスク用のマスク 素板を 2 段エ ッチングし、 それぞれマスク素板の一方の表面 に開口 した大孔と マスク素板の他方の表面に開口 した小孔と が連通 した連通孔からなる複数の電子ビーム通過孔を形成 し、 上記補助マスク用のマスク素板を両面エ ッチングし、 それぞ れマスク素板の一方の表面に開口 した大孔と マスク素板の他 方の表面に開口 した小孔とが連通 した連通孔か らなる複数の 電子 ビーム通過孔を形成 し、 それぞれ上記電子 ビーム通過孔 が形成された主マスク用のマスク素板および補助マスク用の マスク素板を互いに固定 し、 上記互いに固定されたマスク素 板を所望形状にプレス形成 して上記シャ ドウマスク を形成す る。
上記のよ う に構成されたカ ラー陰極線管およびその製造方 法によれば、 主マスクの各小孔を、 主マスク の電子銃側表面 から大孔に向かって徐々に減少 した径を有する構造と し、 ま た、 補助マスクの各小孔を、 補助マスクの他方の表面から大 孔に向かってほぼ一定の径ある いは徐々に増加 した径を有 し た構造と している。 これによ り 、 補助マスクの充分な強度を 確保する と と も に、 補助マスクが主マスク に重ね合わされた 重畳部と主マスク だけで形成されている非重畳部と で、 電子 ビーム反射による蛍光面の不要発光の発生状態をほぼ同一 と する こ とができる。 従っ て、 シャ ドウマスクの充分なマスク 曲面強度を得る こ と ができる と と も に、 画像品位の良好な力 ラー陰極線管を得る こ とが可能と なる。
図面の簡単な説明
図 1 は、 この発明の実施形態に係る カ ラー陰極線管の長軸 を含む断面図。
図 2 は、 上記カ ラー陰極線管の短軸を含む断面図。
図 3 Aは、 上記カ ラー陰極線管における シャ ドウマスク を 示す斜視図
図 3 B は、 上記シャ ドウマスク の電子ビーム通過孔を拡大 して示す平面図。
図 4 は、 上記シャ ドウマスクの長軸方向に沿った断面図。 図 5 は、 上記シャ ドウマスク の短軸方向に沿った断面図。 図 6 は、 上記シャ ドウマスクの主マスク および補助マスク を拡大 して示す断面図。
図 7 Aない し図 7 「 は、 上記主マスクの 2 段エ ッチングェ 程をそれぞれ示す断面図。
図 8 A は、 上記主マスクの製造に用いるマスク素板を示す 平面図。
図 8 Bは、 上記補助マスク の製造に用いるマスク素板を示 す平面図。
図 9 Aない し図 9 Dは、 上記補助マスクの両面エ ッチング 工程をそれぞれ示す断面図。
図 1 0 Aは、 2段エッチングによ り形成された開孔と両面 エッチングによ リ形成された開孔と を重ねて概略的に示す断 面図。
図 1 0 Bは、 2段エッチングによ り形成された開孔と両面 エッチングによ リ形成された開孔と を重ねて概略的に示す断 面図。
図 1 1 は、 上記シャ ドウマスクにおける電子ビームの通過 および反射状態を示す断面図。
図 1 2 は、 この発明の他の実施形態に係るカラー陰極線管 のシャ ドウマスク を示す断面図。
図 1 3 は、 上記他の実施形態におけるシャ ドウマスク を開 孔部分を拡大して示す断面図。
発明を実施するための最良の形態
以下図面を参照しながら、 この発明の実施の形態に係る力 ラー陰極線管について詳細に説明する。
図 1 および図 2 に示すよ う に、 カラー陰極線管はガラスで 形成された外囲器を備えている。 この外囲器は、 周縁部にス カー ト部 2 を有 した矩形状のパネル 1 と、 スカー ト部 2 に接 合されたフ ァ ンネル 3 と、 フ ァ ンネル 3 の小径部から伸びた ネック 4 と を有している。 パネル 1 の内面には蛍光体スク リ ーン 5が形成されている。 外囲器は、 パネル 1 の中心および ネ ッ ク 4 の中心を通る管軸 Z 、 管軸と直交 して延びた長軸 (水平軸) X、 並びに、 管軸および長軸と直交して延びた短 軸 (垂直軸) Y を有している。 画面ァスぺク ト比 1 6対 9 で画面有効径 7 6 c mの 3 2 ィ ンチワイ ドタ イ プのカラー陰極線管を一例と した場合、 パネ ル 1 の外面は、 曲率半径が 1 0 0 , 0 0 0 m mと実質的に平 坦となっている。 パネル 1 内面は、 X軸上で X軸に沿つた曲 率半径が約 7 , O O O m m , Y軸上で Y軸に沿った曲率半径 が約 1 , 5 0 0 m mとほぼ円筒状になっている。
外囲器内には、 色選別電極と して機能するシャ ドウマスク 構体 6が蛍光体スク リーン 5 に対向 して配置されている。 こ のシャ ドウマスク構体 6 は、 電子ビーム通過孔となる開孔が 多数形成されたシャ ドウマスク 7 と、 シャ ドウマスク 7 の周 辺部が固定された断面 L字形の矩形枠状のマスク フ レーム 8 と、 を有 してし、る。 シャ ドウマスク構体 6 は、 マスク フ レー ム 8の側壁に設けられた複数の弾性支持体 (図示せず) をパ ネル 1 のスカー ト部 2 に埋設されたスタ ッ ド ビン (図示せ ず) にそれぞれ係止する こ とで、 パネル 1 の内側に支持され ている。 シャ ドウマスク 7 に形成された電子ビーム通過孔の 開孔形状は、 用途に応 じて矩形状または円形状に形成される。
ネック 4 内には長軸 X上にィ ンライ ン配列された 3本の電 子ビーム 9 R、 9 G、 9 Bを放出する電子銃 1 0が配置され ている。 上記カ ラー陰極線管では、 電子銃 1 0から放出され た電子ビーム 9 R、 9 G 、 9 Bをフ ァ ンネル 3 の外側に取り 付けられた偏向ヨーク 1 1 によ り偏向 し、 シャ ドウマスク 7 を介して、 蛍光体スク リーン 5 を水平、 垂直走査する こ とで 画像を表示する。
次に、 シャ ドウマスク 7 の構成について詳細に説明する。 図 3 A、 図 3 巳、 図 4 および図 5 に示すよ う に、 シャ ドウマ スク 7 は、 主マスク 1 4 と 、 主マスクの一部に重複 して固定 された補助マスク 2 0 と、 を備え、 部分的に 2 重構造に構成 されている。
主マスク 1 4 は、 蛍光体スク リ ーン 5 のほぼ全面と対向 し て配置される と と もに所定の曲面形状に形成されたほぼ矩形 状のマスク主面 3 8 と 、 マスク主面の周縁か ら管軸 Z方向に 沿って電子銃側に延出 したスカー ト部 1 7 と 、 を一体に備え ている。 マスク主面 3 8 は、 電子 ビーム通過孔と して機能す る多数の開孔 1 2 が形成された矩形状の有孔部 1 3 と、 有孔 部を囲むよ う に位置 している と と もに開孔を持たないほぼ矩 形枠状の無孔部 1 6 と 、 を有 している。 主マスク 1 4 は、 板 厚 0 . 1 ~ 0 . 2 5 m m程度の金属材料で形成され、 その材 質と しては鉄材または低膨張材と してのアンバー材 ( F e — N i 合金) などを使用する。
主マスク 1 4 の各開孔 1 2 は、 有孔部 1 3 の長軸 X方向 を 幅方向 とするほぼ矩形状に形成されている。 複数の開孔 1 2 が、 それぞれ有孔部 1 3 の短軸 Y方向にブ リ ッ ジ 1 5 を介 し てほぼ直線状に配列されて開孔列を構成 し、 この開孔列が、 長軸 X方向に約 0 . 4 ~ 0 . 6 m mの配列 ピ ッチ P Hで多数 配列 されている。
図 6 のよ う に各開孔 1 2 は、 主マスク 1 4 の蛍光体スク リ ーン側の表面に開口 したほぼ矩形状の大孔 1 9 a と 、 電子銃 側の表面に開口 したほぼ矩形状の小孔 2 2 と 、 を連通 した連 通孔によ り 形成されている。 これら開孔 1 2 の内、 有孔部 1 3 の中心から周辺側にずれて位置した開孔は、 大孔 1 9 a の 中心 C 1 が小孔 1 9 b の中心 C 2 に対して相対的に有孔部周 辺側へ Δだけオフセッ ト している。 有孔部 1 3 の中心から周 辺側に位置した開孔ほど、 オフセ ッ ト量 Δが大き く なつてい る。 これは、 電子ビームが小孔 1 9 b を通過したあと、 開孔 1 2 の内面に衝突 して反射し、 画面上に不要発光が生じるの を抑制するためである。 主マスク 1 4の短軸 Y方向、 長軸 X 方向と もに、 大孔 1 9 a は小孔 1 9 b に対してオフセッ トさ れている。
具体例によれば、 シャ ドウマスクは、 板厚 0 . 2 2 m mの 低熱膨張材であるアンバー ( F e — N i 合金) で形成されて いる。 シャ ドウマスクの短軸 Y方向には複数個の開孔 1 2が 0 . 6 m mの配列 ピッチで直線状に配置され、 この短軸方向 の複数個の開孔からなる開孔列が長軸 X方向に短軸付近で 0 . 7 5 m m , 長軸方向周辺で 0 . 8 2 m mのピッチで配列され、 長軸方向周辺に近づく に したがって ピッチが大き く なるバリ アプルピッチで配列されている。 開孔 1 2 の大孔 1 9 a の幅 方向の開孔寸法は、 短軸 Y上で 0 . 4 6 m m、 長軸 X方向周 辺部で 0 . 5 0 m m、 小孔 1 9 b の幅方向の開孔寸法は、 短 軸上で 0 . 1 8 m m、 長軸方向周辺部で 0 . 2 O m mとなつ ている。 電子ビームが長軸 X方向周辺部に位置 した開孔 1 2 に 4 6 ° の偏向角で入射する場合、 長軸 X方向周辺の開孔の 小孔 1 9 bに対する大孔 1 9 a のオフセッ ト 厶は 0 . 0 6 m mとなっている。
図 3 ないし図 6 に示すよ う に、 補助マスク 2 0は細長い帯 状に形成され、 主マスク 1 4 の内面側、 つま り 、 電子銃側の 表面上で、 有孔部 1 3 の短軸 Y を含む領域に重ねて固定され ている。 補助マスク 2 0 は、 その長軸方向が、 主マスク 1 4 の短軸 Y と一致 して設け られている。 これによ り 、 シャ ドウ マスク 7 は、 短軸 Y を含む所定幅の領域に、 補助マスク 2 0 が固定された 2 重構造の重複部と 、 重複部の両側に位置 した 非重複部と を有 している。
補助マスク 2 0 は、 主マスク 1 4 と 同様に鉄材あるいはァ ンバー材等か ら構成され、 板厚は 0 . 2 5 m m程度に形成さ れている。 補助マスク 2 0 は、 長軸 X方向に沿った幅 L H 1 が主マスク 1 4 の有孔部 1 3 の長軸方向長 L H 2 よ り も小さ く 、 また、 短軸 Y方向に沿った長さは主マスク 1 4 の同方向 長さ と ほぼ等 し く 形成されている。 補助マスク 2 0 は、 有孔 部 2 1 と 、 有孔部 2 1 の外側で補助マスク の長手方向両端部 に位置 した無孔部 2 3 と 、 更に、 各無孔部 2 3 か ら両端方向 へ延出 した一対のスカー 卜部 2 4 と、 を一体に備えている。 有孔部 2 1 には、 主マスク 1 4 の開孔 1 2 に対応 した電子 ビ ーム通過孔と しての多数の開孔 4 2 が設け られた
そ して、 補助マスク 2 0 は、 その有孔部 2 1 、 無孔部 2 3 、 スカー ト部 2 4 が主マスク 1 4 の有孔部 1 3 、 無孔部 1 6 お よびスカー ト部 1 7 と それぞれ重なった状態で主マスクの電 子銃側の表面に固定されている。 これによ り 、 主マスク 1 4 の短軸 Y上の領域は全て 2重構造となっている。
有孔部 2 1 に形成された各開孔 4 2 は、 補助マスク 2 0 の 蛍光体スク リ ーン側の表面、 つま り 、 主マスク 1 4側の表面 に開口 したほぼ矩形状の大孔 2 5 a と 、 電子銃側の表面に開 口 したほぼ矩形状の小孔 2 5 b と 、 を連通 した連通孔によ リ 形成されている。 すなわち、 補助マスク 2 0 は、 開孔 4 2 の 大孔 2 5 a が主マスク 1 4 と 向かい合った状態で主マスク 1 4 に固定されている。 そ して、 主マスク 1 4 の開孔 1 2 と 同 様に、 補助マスク 2 0 の開孔 4 2 は、 短軸 Y方向に延びた複 数の開孔列を形成 し、 これらの開孔列は、 長軸 X方向に約 0 . 4 〜 0 . 6 m mの ピッチで配列されている。 これによ り 、 各 開孔 4 2 は、 主マスク 1 4の開孔 1 2 と整列 して配置されて いる。
このよ う な補助マスク 2 0 は、 主マスク 1 4 に密着した状 態で固定されて いる。 主マスク 1 4 と補助マスク 2 0 と の固 定には、 圧着と呼ばれる拡散接合や、 レーザー溶接ある いは 抵抗溶接な どの手法を用いる こ とができる。 補助マスク 2 0 は、 少な く と も数箇所の固定点を有 している。
上記のよ う に構成されたカ ラー陰極線管において、 シャ ド ゥマスク 7 を製造する場合、 主マスク 1 4 の開孔 1 2 は 2 段 エ ッチングによ り 、 また、 補助マスク 2 0 の開孔 4 2 は両面 エ ツチングによ リ 形成する。
まず、 主マスク 1 4 の開孔 1 2 を 2段エ ッチングによ り 形 成する場合について説明する。 例えば、 アンバー材からなる 主マスク用のマスク素板 4 5 を用意する。 次に、 図 7 A、 7 Bに示すよ う に、 主マスク 1 4 の開孔 1 2 に対応するパタ ー ンの レジス ト膜 4 4 a 、 4 4 b をマスク素板 4 5 の両面にそ れぞれ形成する。 続いて、 図 7 C に示すよ う に、 一方の レジ ス ト膜 4 4 a に重ねてポリ エステル樹脂な どか らなるエ ッチ ング保護フ ィ ルム 4 6 を貼着 した後、 他方の レジス ト膜 4 4 b側か らエ ッ チング液をスプレー してマスク素板 4 5 に小孔 1 9 b と なる凹孔を形成する。
次に、 図 7 D に示すよ う に、 レジス ト膜 4 4 b を剥離 し、 凹孔の形成されたマスク素板 4 5 の表面側を水洗および乾燥 する。 その後、 この表面側にノ ラ フ ィ ン、 ラ ッ カーなどの抗 エ ッ チ ング剤を塗布 し、 形成された凹孔に埋込むよ う に抗ェ ツチ ング層 4 7 を形成する。 マスク素板 4 5 の他方の面側に 貼着されたエ ッチング保護フ ィ ルム 4 6 を剥離する。
この状態、 図 7 E に示すよ う に、 レジス ト膜 4 4 a を介 し てマスク素板 4 5 の他方の面にエ ッチング液をスプレー し、 先に形成された凹孔に連通する大孔 1 9 a を形成する。 その 後、 図 7 F に示すよ う に、 苛性アルカ リ 溶液をスプレー して、 他方の面に設け られている抗エ ッチング層 4 7 およびも う一 方の面に形成された レジス ト膜 4 4 a を剥離する。 これによ リ 、 図 8 A に示すよ う な、 多数の開孔 1 2 が所定の径および ピッ チで形成された有孔部 1 3 を有 した平坦なマスク素板 4 5 が得られる。
次に、 補助マスク 2 0 の開孔 4 2 を両面エ ッチングによ り 形成する場合について説明する。 例えば、 ア ンバー材からな る補助マスク用のマスク素板 5 0 を用意する。 次に、 図 9 A、 9 B に示すよ う に、 補助マスク 2 0 の開孔 4 2 に対応するパ ターンの レジス ト膜 5 2 a 、 5 2 b をマスク素板 5 0 の両面 にそれぞれ形成する。 続いて、 図 9 C に示すよ う に、 一方の レジス ト膜側から、 つま り 、 開孔 4 2 の大孔に対応する レジ ス ト膜 5 2 a 側からマスク素板 5 0 を連続的にエ ッチング し、 開孔 4 2 を形成する。 その後、 図 9 D に示すよ う に、 マスク 素板 5 0 から レジス ト膜 5 2 a 、 5 2 b を剥離する。 これに よ り 、 図 8 B に示すよ う な、 補助マスク用のマスク素板 5 0 が得られる。
次に、 上記のよ う に して得られたマスク素板 4 5 および 5 0 をァニール処理 した後、 これらのマスク素板を互いに正確 に位置決め した状態で重ね合わせ、 レーザー溶接によ り 互い に固定する。 続いて、 貼 り 合わされたマスク素板 4 5 および 5 0 をプレス装置によ ってプレス成形 し、 主マスクの電子銃 側表面に補助マスクが位置 した所望形状のシャ ドウマスク 7 を形成する。
上記のよ う に構成されたシャ ドウマスク 7 において、 主マ スク 1 4 および補助マスク 2 0 は、 エ ッチング方法の違いか ら、 図 1 O A、 1 O B に示すよ う なマスク断面形状の相違が 生 じる。 図 1 O Aは、 主マスク 1 4 および補助マスク 2 0 の 長軸 X方向に沿った断面を重ね合わせて示 した図で、 点線は 2段エ ッチングによ り 形成された主マスク 1 4 の開孔 1 2 を、 実線は両面エ ッチングによ リ 形成された開孔 4 2 をそれぞれ 示 している。 図 1 0 B は、 主マスク 1 4 および補助マスク 2 0 の短軸 Y方向に沿った断面を重ね合わせて示 した図で、 主 マスク 1 4 の開孔 1 2 を、 実線は開孔 4 2 をそれぞれ示 して いる。
図 1 0 A に示す長軸 X方向の断面に関 しては、 開孔 1 2 、 4 2 の相違はそれほど大き く ない。 しか し、 図 1 0 Bに示す 短軸 Y方向の断面については、 開孔 1 2 、 4 2 の断面形状が 大き く 相違している。 2段エ ッチ ングは、 両面エ ッチングよ リ も開孔を形成するためのエ ッチング範囲が広い。 その結果、 2段エ ッチングを用いた場合、 シャ ドウマスク 7 を形成する 材料の残 り 、 つま リ は体積が少な く なる。 そのため、 マスク 強度と しては両面エ ッチングによ リ 開孔を形成 したマスク の 方がよ リ 大きな強度を得る こ とができる。
この際、 主マスク 1 4 について も、 両面エ ッチングによ り 開孔 1 2 を形成する こ と によ り 、 主マスク の体積が増加 しマ スク強度が上がる。 しか し、 高精細な表示に要求される小さ い開孔を形成するためには、 2 段エ ッチングによ る形成方法 が必要と な り 、 実際には、 主マスクの製造に両面エ ッチング を使用する こ と は難 し い。
補助マスク 2 0 の場合は、 主マスク 1 4 と の位置合わせ余 裕度を確保する等の観点から、 主マスクの開孔よ り も大きい 開孔を有 した構造とする必要がある。 そのため、 補助マスク 2 0 の開孔 4 2 は、 両面エ ッチングでも充分対応可能な大き さ と なつている。
図 1 1 に示すよ う に、 本実施の形態における シャ ドウマス ク 7 によれば、 2 段エ ッチングによ り 形成された開孔 1 2 を 有 した主マスク 1 4 の電子銃側表面に、 両面エ ッチングによ リ 形成された開孔 4 2 を有 した補助マスク 2 0 が貼 り 合わさ れている。 補助マスク 2 0 は、 開孔 4 2 の大孔 2 5 a 側が主 マスク 1 4 に形成された開孔 1 2 の小孔 1 9 b 側 と対向する よ う に配置されている。
補助マスク 2 0の開子 L 4 2 は、 長軸 X方向について、 主マ スク 1 4の開孔 1 2 よ り もやや大きな寸法に形成されている。 これは、 主マスク 1 4 と補助マスク 2 0 との位置合せズレが 発生した場合の余裕を持たせるためである。 短軸 Y方向につ いても、 補助マスク 2 0の開孔 4 2 の方が主マスク 1 4の開 孔 1 2 よ り も大きな寸法を有 しているこ とが好ま しい。 しか し、 蛍光面輝度の点から、 主マスク 1 4のブリ ッ ジ幅は製造 上可能なほぼ最小値となっているため、 短軸 Y方向に関 して は、 補助マスク 2 0 および主マスク 1 4の開孔径を同一と し てもよい。
次に、 上記のよ う に構成されたシャ ドウマスクにおける電 子ビームの反射について説明する。 図 1 1 に示 したよ う に、 2段エッチングによ り形成された主マスク 1 4の開孔 1 2 は、 大孑 L 1 9 a および小孔 1 9 b を有 している。 小孔 1 9 b は、 主マスク 1 4 の電子銃側表面か ら大孔 1 9 a 側に向かっ て 徐々に径が小さ く なつている。 そのため、 小孔 1 9 b を規定 している側壁面 6 0 は、 電子銃側に向かって傾斜した曲面と なってしゝる。
これに対し、 両面エッチングによ リ形成された補助マスク 2 0の開孔 4 2 において、 小孔 2 5 b は、 補助マスクの電子 銃側表面から大孔 2 5 a に向かって径がほぼ一定、 あるいは、 径が徐々に大き く なつている。 そのため、 小孔 2 5 b を規定 している側壁面 6 2 は、 電子銃側に向かって傾斜する こ とな く 、 電子ビームとほぼ平行か、 むしろ蛍光体スク リーン側に 傾斜 した曲面 と なっている。
電子銃から シャ ドウマスク 7 に向かって放射された電子ビ ー厶は、 補助マスク 2 0 の開孔 4 2 およ ぴ主マスク 1 4 の開 孔 1 2 を順に通過 して蛍光体スク リ ーンにラ ンディ ングする。 この際、 補助マスク 2 0 に形成された開孔 4 2 の小孔 2 5 b は、 電子銃側を向いた側壁面、 つま り 、 電子 ビームが衝突す る側壁面を持たないため、 電子 ビームは 2次電子をほとんど 発生する こ と な く 開孔 4 2 を通過する。
一方、 補助マスク 2 0 の開孔 4 2 を通過 した電子 ビームは、 主マスク 1 4 の開孔 1 2 に入射 し、 その大部分は開孔 1 2 を 通過 して蛍光体スク リ ーンに到達する。 開孔 1 2 に入射 した 電子 ビームの一部は、 小孔 1 9 b を規定 している側壁面 6 0 に衝突 し 2次電子を放出 させる。 放出 された 2 次電子の一部 は主マスク 1 4 の開孔 1 2 を通過し蛍光面に到達する。 この 2次電子によ り 、 蛍光体スク リ ーンの一部に不要発光が発生 する。
以上のよ う に、 両面エ ッチングによ り 形成された開孔 4 2 を有 した補助マスク 2 0 は、 実質的に電子ビームの衝突する 小孔側の側壁面がないため、 2 次電子の発生自体が少ない。 そのため、 電子 ビームの反射は主マスク 1 4 の側壁面 6 0 だ けで発生する。 このよ う な 2次電子の発生状態は、 補助マス ク 2 0が貼 り 付け られていない主マスク 1 4 の非重畳部と 同 じ状態と なる。 そのため、 蛍光体スク リ ーンにおいて、 不要 発光自体は僅かに発生するが、 シャ ドウマスク 7 の重畳部に 対応する部分と 非重畳部に対応する部分と で不要発光の差を 無 く すこ とができる。 これによ り 、 表示画面上に不要な明る さの段差や帯状の境界が現われる こ とがな く 、 良好な画像を 得る こ とが可能と なる。
説明は省略するが、 不要発光の発生は短軸 Y方向について も同様であ り 、 両面エ ッチングによ り 形成された開孔 4 2 を 有 した補助マスク 2 0 は、 主マスク 1 4 よ り も 2 次電子放出 が少ない。 そのため、 蛍光体スク リ ーンの不要発光に起因す る明る さの段差、 境界の発生を防止する こ とができる。
また、 カ ラー陰極線管の製造時、 上記のシャ ドウマスク 7 を用いて例えばス トライ プ状の蛍光体層を露光、 形成する際、 上記と 同様に、 不要発光の発生を全域に渡ってほぼ均一にす る こ とができる。 そのため、 蛍光体スク リ ーンにおける蛍光 体層の幅をシャ ドウマスク 7 の重畳部に対向する領域と非重 畳部に対応する領域とでほぼ均一に形成する こ とができる。 その結果、 表示画像の品位が向上 したカ ラー陰極線管を得る こ とが可能と なる。
以上のよ う に構成されたカ ラー陰極線管によれば、 主マス ク 1 4 に重ねて補助マスク 2 0 を設ける こ と によ り 、 シャ ド ゥマスク 7 の最も変形 しやすい画面中央近傍の変形を抑制す る こ とが可能と な り 、 結果的にマスク 曲面強度を向上させる こ とができる。 特に、 補助マスク の開孔を両面エ ッチングに よって形成する こ と によ り 、 開孔形成後のマスク材の体積を 充分に確保 し、 マスク強度を維持する こ とができる。 更に、 補助マスク の開孔を両面エ ッチングによ り 形成 し、 電子銃側 に傾斜 した側壁面を持たない開孔構造、 あるいは、 電子銃側 2 O に傾斜 した側壁面が主マスク側の側壁面に比較 して小さ い開 孔構造と して いる。 これによ り 、 シャ ドウマスクの重畳部と 非重畳部との間で不要発光及び蛍光面の違いによる不要な明 る さの段差が発生する こ とな く 、 良好が画像を得る こ とが可 能と なる。
なお、 この発明は上述 した実施の形態に限定される こ と な く 、 この発明の範囲内で種々変形可能である。 例えば、 上述 した実施形態において、 補助マスク 2 0 が主マスク 1 4 の電 子銃側に配置された構成について説明 したが、 図 1 2 および 図 1 3 に示すよ う に、 補助マスク 2 0 は主マスク 1 4の外面 側、 つま り 、 蛍光体スク リ ーン 5 側の表面に設けても よい。 この場合、 補助マスク 2 0 は、 開孔 4 2 の小孔 2 5 b が主マ スク 1 4 に対向 した状態で、 主マスク 1 4 に固定される。 こ のよ う な構成のシャ ドウマスク と した場合でも、 上記と 同様 の作用効果を得る こ とができる。 なお、 他の構成は前述 した 実施の形態と 同一であ り 、 同一の部分には同一の参照符号を 付 してその詳細な説明を省略する。
また、 補助マスク は 1 枚に限らず複数設けて も よい。 更に、 シャ ドウマスクの各開孔は、 矩形状に限らず、 丸型と して も 有効に活用する こ とができる。
産業上の利用可能性
以上詳述 したよ う に、 本発明によれば、 十分なマスク 曲面 強度を有 して いる と と もに画像品位の良好なカ ラー陰極線管 およびその製造方法を提供する こ とができる。

Claims

請 求 の 範 囲
1 . 内面に蛍光体スク リ ーンが設け られたパネルと 、 上 記蛍光体スク リ ーンに向かって電子 ビームを放出する電子銃 と 、 上記パネルの内側に上記蛍光体スク リ ーンに対向 して配 置され、 互いに直交 している と と も に管軸と直交 した長軸お よび短軸を備えたほぼ矩形状のシャ ドウマスク と 、 を備え、 上記シャ ドウマスク は、
上記蛍光体スク リ ーンのほぼ全面と対向 している と と も に 多数の電子 ビーム通過孔が形成されたほぼ矩形状の有孔部を 有 した主マスク と、
上記主マスク の有孔部の短軸を含む領域に固定され、 上記 主マスクの電子 ビーム通過孔に対応 した多数の電子 ビーム通 過孔を有 している と と も に上記短軸に沿った方向 を長手方向 と した帯状の補助マスク と 、 を具備 し、
上記主マスク の各電子 ビーム通過孔は、 主マスクの蛍光体 スク リ ーン側の表面に開口 した大孔と主マスク の電子銃側の 表面に開口 した小孔と を連通 した連通孔で形成され、
上記補助マスクの各電子 ビーム通過孔は、 補助マスク の一 方の表面に開口 した大孔と補助マスクの他方の表面に開口 し た小孔と を連通 した連通孔で形成され、
上記主マスク の各小孔は、 主マスクの電子銃側表面から上 記大孔に向かって徐々に減少 した径を有 し、 上記補助マスク の各小孔は、 補助マスクの上記他方の表面から上記大孔に向 かってほぼ一定の径ある いは徐々に増加 した径を有 している カ ラー陰極線管。
2 . 上記主マスク は、 各小孔を規定 している と と も に上 記電子銃側に傾斜し電子ビームが衝突する側壁面を有 し、 上 記補助マスク は、 各小孔を規定 している と と も に電子ビーム と ほぼ平行な、 あるいは、 蛍光体スク リ ーン側に傾斜 した側 壁面を有 している請求項 1 に記載のカ ラー陰極線管。
3 . 上記主マスク の電子 ビーム通過孔は 2 段エ ッチ ング によ り 形成され、 上記補助マスクの電子ビーム通過孔は両面 エ ッチ ングによ リ形成されている請求項 1 又は 2 に記載の力 ラー陰極線管。
4 . 上記補助マスク は、 上記主マスクの電子銃側の表面 に重ねて設け られている こ と を特徴とする請求項 1 又は 2 に 記載のカ ラー陰極線管。
5 . 上記補助マスク は上記大孔側の表面が、 上記主マス クの小孔側の表面に接 して設け られている請求項 1 又は 2 に 記載のカ ラー陰極線管。
6 . 上記補助マスク は、 上記主マスクの蛍光体スク リ ー ン側の表面に重ねて設けられて いる請求項 1 又は 2 に記載の カ ラー陰極線管。
7 . 内面に蛍光体スク リ ーンが設けられたパネルと 、 上 記蛍光体スク リ ーンに向かって電子ビームを放出する電子銃 と 、 上記パネルの内側に上記蛍光体スク リ ーンに対向 して配 置され、 互いに直交 している と と もに管軸と直交 した長軸お よび短軸を備えたほぼ矩形状のシャ ドウマスク と 、 を備え、 上記シャ ドウマスク は、 上記蛍光体スク リ ーンのほぼ全面と 対向 している と と もに多数の電子ビーム通過孔が形成された ほぼ矩形状の有孔部を有 した主マスク と、 上記主マスクの有 孔部の短軸を含む領域に固定され、 上記主マスク の電子ビー 厶通過孔に対応 した多数の電子ビーム通過孔を有 している と と も に上記短軸に沿った方向を長手方向 と した帯状の補助マ スク と 、 を具備 したカ ラー陰極線管の製造方法であって、
上記主マスク用の平坦なマスク素板、 および上記補助マス ク用の平坦なマスク素板を用意 し、
上記主マスク用のマスク素板を 2 段エ ッチング し、 それぞ れマスク素板の一方の表面に開口 した大孔と マスク素板の他 方の表面に開口 した小孔とが連通 した連通孔か らなる複数の 電子 ビーム通過孔を形成 し、
上記補助マスク用のマスク素板を両面エ ッチング し、 それ ぞれマスク素板の一方の表面に開口 した大孔と マスク素板の 他方の表面に開口 した小孔とが連通 した連通孔からなる複数 の電子 ビーム通過孔を形成 し、
それぞれ上記電子ビーム通過孔が形成された主マスク用の マスク素板および補助マスク用のマスク素板を互いに固定 し、 上記互いに固定されたマスク素板を所望形状にプレス形成 してシャ ドウマスク を形成するカ ラー陰極線管の製造方法。
8 . 上記補助マスク用のマスク素板を上記大孔側の表面 が、 上記主マスク用マスク素板の小孔側の表面に接する よ う に上記マスク素板を レーザー溶接によ り 固定 し、 上記補助マ スクが上記主マスク の電子銃側に位置するよ う に上記マスク 素板をプ レス成形する請求項 7 に記載のカ ラー陰極線管の製 造方法。
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