WO2003040788A1

WO2003040788A1 - Procede de fabrication de dispositif optique

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Publication number: WO2003040788A1
Application number: PCT/JP2002/011621
Authority: WO
Inventors: Keiji Kashima
Original assignee: Dai Nippon Printing Co., Ltd.
Priority date: 2001-11-09
Filing date: 2002-11-07
Publication date: 2003-05-15
Also published as: CN1489708A; KR100632031B1; EP2177936A1; JP2003207644A; TW591272B; EP1443345B1; CN100385272C; US20040056991A1; EP1443345A1; CN1489708B; TW200300508A; CN1657985A; KR20040020875A; EP1443345A4

Description

明細書光学素子の製造方法技術分野

本発明は、配向能を有する基材上に重合性液晶材料が重合されてなる光学素子であって、特に基材との密着性の極めて高い光学素子の製造方法に関する。背景技術

近年において、重合性液晶材料を重合させることにより得られる光学素子が提案されている（例えば、特開 2 0 0 1— 1 0 0 0 4 5号公報、特表平 1 0— 5 0 8 8 8 2号公報）。このような光学素子は、液晶が有する特性を重合により固定化してフィルムとして用いることができるといった利点を有するものであるので、種々の用途への展開が期待されている。

これらの位相差フィルム等の光学素子について、特開平 5— 2 1 0 9号公報には、耐熱性に優れた延伸位相差フィルムが開示されており、また特開平 5— 1 4 2 5 1 0号公報には、耐熱性に優れた熱重合する液晶性高分子からなる光学素子が開示されている。さらに、特閧 2 0 0 1 - 1 3 3 6 2 8号公報には、耐熱性に優れた高分子液晶および架橋性物質を含む液晶材料からなる偏光回折性フィルムが開示されている。

しかしながら、このような重合性液晶材料を重合させて得られる光学素子は、配向能を有する基材との密着性に乏しいという問題があった。したがって、このような光学素子を取り扱うに際しては、極めて慎重に行う必要があり、このような光学素子を用いて例えば画像処理装置を製造する製造工程において、その取り扱いが煩雑であるといった問題があった。

また、延伸位相差フィルムは、 1 0 0 °C以上、特に 1 2 0 °C以上になると、位相差量が変化し、したがって、車載用 L C D等に使用する場合に表示ムラ等の問題があった。発明の開示

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、液晶規則性を有した状態で重合性液晶材料を硬化させてなる光学素子の製造方法であって、基材との密着性に優れた光学素子を得ることができる光学素子の製造方法を提供することを主目的とするものである。

上記目的を達成するために、本発明の光学素子の製造方法は、配向能を有する基材を調整する工程と、前記基材上に少なくとも重合性液晶材料を含む液晶層形成用組成物を,積層し、所定の液晶規則性を有する液晶層を形成する工程と、前記液晶層に活性放射線を照射して、光学機能層とする光学機能形成工程と、前記光学機能層に対して液晶層を重合（架橋）させる前の等方層以上の温度で熱処理を行う熱処理工程とを含んでなるものである。

本発明の好ましい態様としては、上記熱処理工程の温度範囲が 8 0 °C~ 1 2 0 °C であってもよい。一方、熱処理工程の温度範囲が 1 8 0 °C；〜 2 6 0 °Cであってもよい。本発明においては、このように重合性液晶材料を重合して得られる光学機能層を所定の温度で熱処理を行うことにより、光学機能層と支持材との密着性を向上させることができる。

また、上記配向能を有する基材が、透明基板と、上記透明基板上に形成された配向膜とからなるものであることが好ましい。このような配向膜との密着性を向上させることができる点に本発明の利点があり、さらに配向膜を別途設ける構成とすることにより、配向方向の自由度を極めて高いものとすることができるからであ。

一方、上記配向能を有する基材が、延伸フィルムであってもよい。本発明においては、このような延伸フィルムと光学機能層との密着性をも改良したものであり、さらに、このように配向能を有する基材を延伸フィルムとすることにより基材の形成が容易であり、工程上簡便となるといつた利点を有するからである。本発明の態様としては、上記重合性液晶材料が、重合性モノマーであり、所定の液晶規則性がネマチック規則性またはスメクチック規則性であってもよい。このような光学機能層は位相差層として機能するものであり、位相差機能を必要とする、例えばえ/ 4位相差板等の種々の用途に用いることができるからである。また好ましくは、上記重合性液晶材料が、重合性モノマーおよび重合性カイラル剤であり、所定の液晶規則性がコレステリック規則性である。このような光学機能層は、円偏光制御層として用いることができ、例えばカラーフィル夕等の種々の用途に用いることができるからである。

さらに、上記液晶層形成用組成物に、光重合開始剤が含まれていることが好ましい。活性照射線を照射して重合を行う際に、光重合開始剤を用いることにより、重合が促進され均質な光学機能層を得ることができるからである。

また、上記液晶層形成用組成物が、溶媒を用いた液晶層形成用塗工液であることが好ましい。このように液晶層形成用塗工液を用いる方法が、例えばドライフイルム化する方法や溶融塗布する方法等の他の方法と比較すると、工程上容易であるからである。

さらに、上記熱処理の時間が、 1分〜 6 0分の範囲内であることが好ましい。上述した範囲内の時間で加熱することが、密着性向上の観点から好ましいからである。

本発明の態様としては、光学機能層形成工程の後、上記配向能を有する基材上に形成された光学機能層を被転写材上に転写する転写工程を有するものであってもよい。例えば他の機能を有する被転写材上に光学機能層が必要である場合等においては、光学機能層を被転写材に転写する転写工程を行うことも可能である。この場合、転写後に上述した熱処理工程を行うことにより、被転写材と光学機能層との密着性が良好な光学素子とすることができる。

また、上記熱処理工程の後に、さらに保護層形成工程を行うことが好ましい。熱処理工程を行うことにより密着性を向上させることが可能であるが、さらに高い密着性が要求される場合は、このような保護層を形成することが好ましいからである。

さらに、上記重合性液晶材料が、重合性液晶モノマーと重合性カイラル剤を含むものであり、該重合性カイラル剤分子が両末端に重合性官能基を有するものであることが好ましい。このように、重合性液晶モノマー分子および重合性カイラル剤の両末端に重合性官能基を有していれば、隣接する当該モノマー分子の両末端が 3次元ネットワーク的に重合して（架橋して）、より耐熱性の高い光学素子を得ることができる。

また、上記熱処理工程の後に、さらに保護層形成工程を行うこともできる。このように保護層を形成することにより、光学素子の表面を保護することができる。本発明の別の態様としての光学素子は、支持材と、上記支持材上に重合性液晶材料が所定の液晶規則性を有して硬化されてなる光学機能層とを有する光学素子であって、上記光学機能層と支持材との密着性が、 J I S K 5 4 0 0 ( 1 9 9 0 ) 8 . 5で規定する碁盤目テープ剥離試験において、 6点以上となる密着性を有することを特徴とするものである。従来の重合性液晶材料を硬化させてなる光学機能層は、極めて支持材との密着性に乏しいものであった。したがって、上述した範囲の密着性は従来ものでは達成することができない範囲であり、十分に従来品に対する優位性を有するものとなる。

好ましい態様としては、上記支持材が、配向能を有する基材である。転写工程が行われない場合は、光学機能層は配向能を有する基材上に形成されるものであり、この配向能を有する基材と光学機能層との密着性をも良好とするものだからである。

また、上記配向能を有する基材が、透明基板と上記透明基板上に形成された配向膜とからなるものであることが好ましい。このような配向膜を有する基材であつても、光学機能層との密着性を十分な範囲とすることができるからである。一方、上記配向能を有する基材が、延伸フィルムであってもよい。基材が延伸フィルムであっても十分な密着性を得ることができるからである。

さらに、上記支持材が、被転写基材であり、上記被転写基材が透明基板であることが好ましい。転写工程が行われた場合は、支持材は被転写基材となるが、この際被転写基材としては透明基板が好適に用いられるからである。

本発明の好ましい態様としては、上記重合性液晶材料が、重合性液晶モノマーであり、上記所定の液晶規則性がネマチック規則性またはスメクチック規則性であり、上記光学機能層が位相差層である。このような位相差層を有する光学素子を用いる場合において、支持材と位相差層との密着性は重要であるからである。また、上記重合性液晶材料が、重合性モノマ一および重合性カイラル剤であり、所定の液晶規則性がコレステリック規則性であり、前記光学機能が選択反射層および Zまたは位相差層であることが好ましい。このようなコレステリック層、すなわちコレステリック規則性を有した状態で固定化された層は、円偏光制御層または位相差層として機能するものであるので、この場合も基材との密着性は極めて重要だからである。

さらに、上記重合性液晶材料が、重合性液晶モノマーを含むものであり、該重合性液晶モノマ一分子が両末端に重合性官能基を有するものであってもよい。このように、重合性液晶モノマー分子の両末端に重合性官能基を有していれば、隣接する当該モノマー分子の両末端が 3次元ネットワーク的に重合して（架橋して）、より耐熱性の高い光学素子を得ることができる。

また、上記前記重合性液晶材料が、重合性液晶モノマーと重合性カイラル剤を含むものであり、該重合性力ィラル剤分子が両末端に重合性官能基を有するものであってもよい。このように、重合性カイラル剤分子の両末端に重合性官能基を有していれば、隣接する当該分子の両末端が 3次元ネットワーク的に重合して (架橋して）、より耐熱性の高い光学素子を得ることができる。図面の簡単な説明

図 1は、本発明の光学素子の製造方法の一部を示す工程を図示したものである c 図中で、 1は透明基材を、 2は配向膜を、 3は基材を示す。

図 2は、本発明の光学素子の製造方法の一部を示す工程を図示したものである ₍ 図中で、 4は液晶層を示す。

図 3は、本発明の光学素子の製造方法の一部を示す工程を図示したものである ₍ 図中で、 5は紫外線照射を示す。

図 4は、本発明の光学素子の製造方法の一部を示す工程を図示したものである < 図中で、 6は光学機能層を示す。図 5は、本発明の光学素子の製造方法の一部を示す工程を図示したものである。図中で、 7は熱を、 8は光学素子を示す。

図 6は、本発明の光学素子の製造方法の一部を示す工程を図示したものである。図 7は、本発明の光学素子の製造方法の他の態様の一部を示す工程を図示したものである。

図 8は、本発明の光学素子の製造方法の他の態様の一部を示す工程を図示したものである。図中で、 9は被転写材を示す。

図 9は、本発明の光学素子の製造方法の他の態様の一部を示す工程を図示したものである。

図 1 0は、本発明の光学素子の製造方法の他の態様の一部を示す工程を図示したものである。

図 1 1は、本発明の光学素子の製造方法の他の態様の一部を示す工程を図示したものである。発明を実施するための最良の形態

以下、本発明の光学素子の製造方法について説明し、次に、本発明の製造方法を一例として得ることができる光学素子について説明する。

<光学素子の製造方法 >

本発明の光学素子の製造方法は、配向能を有する基材を調製する工程と、上記基板上に少なくとも重合性液晶材料を含む液晶層形成用組成物を積層し、所定の液晶規則性を有する液晶層を形成する工程と、上記液晶層に活性放射線を照射して、光学機能層とする光学機能層形成工程と、上記光学機能層に対して 8 0 °C〜1 2 0 °Cまたは 1 8 0 °C〜2 6 0 °Cの範囲内の温度で熱処理を行う熱処理工程とを含んでなることを特徴とするものである。

本発明の光学素子の製造方法は、重合性液晶材料を含む液晶層形成用組成物を基材上に積層して液晶層を形成し、これに活性放射線を照射することにより、液晶層内の重合性液晶材料を硬化させて光学機能層を形成した後、上述した範囲の熱処理を行う点に特徴を有するものであり、この熱処理により光学機能層と支持材（以下、ここでいう支持材とは、上記基材および後述する被転写材を含む概念であるとする。）との密着性を向上させるものである。

本発明における熱処理工程による密着性の向上は、以下の理由によるものであると考えられる。すなわち、例えば配向能を有する基材ゃ透明基板等の他の支持材表面は、少なからず凹凸を有するものである。このような支持材表面において光学機能層に上述した範囲内の熱を加えることにより、光学機能層を形成する材料が軟化してこの凹凸に沿うように変形すると推定される。これにより、支持材と光学的機能層との密着性が向上するものと考えられる。

また、含有される光重合開始剤に起因する生成物や、光重合開始剤残渣が密着を阻害しており、これらが本発明の熱処理工程において除去される点も密着性向上に寄与するものであると推定される。

以下、図面を用いて本発明の一例を説明する。図 1〜図 6は、本発明の光学素子の製造方法の一例を示すものである。

この例では、まず透明基板 1上に配向膜 2が形成された配向能を有する基材 3 が形成される（基材調製工程、図 1参照）。

次に、この配向能を有する基材 3上に、重合性液晶材料と光重合開始剤とを溶剤中に溶解させた液晶層形成用塗工液を塗布し、溶剤を乾燥，除去し、液晶相を呈する温度の保持することにより液晶層 4を形成する（液晶層形成工程、図 2参照）。この液晶層は、配向膜 2の作用により液晶規則性を有するものとなる。そして、上記液晶規則性を有する液晶層 4に対して紫外光 5を照射することにより、液晶層 4内の重合性液晶材料を重合させ、液晶層 4を光学機能層 6とする (光学機能層形成工程、図 3および図 4参照）。

次に、このように基材 3上に光学機能層 6が形成された光学素子 8を、例えばオーブン中に保持して所定の温度に保つことにより、熱 7を加え、熱処理を行う (熱処理工程、図 5参照）。

これにより、熱処理が加えられ、配向膜 2と光学機能層 6との密着性が良好な光学素子 8を得ることができる。

図 7〜図 1 1は、本発明の光学素子の製造方法の他の例を示すものである。図 7は、すでに上記図 3に示す紫外光を照射する光学機能層形成工程が終了し、透明基材 1上に配向膜 2が形成された基材 3上に、光学機能層 6が形成された状態を示すものである。この例では、この光学機能層 6の表面側に被転写材 9を配置し（図 8参照）、光学機能層 6を被転写材 9上に転写する転写工程（図 9参照）が行われる。

被転写材 9に転写された光学機能層 6は、同様に例えばオープン中に保持して所定の温度に保つことにより、熱 7を加え、熱処理が行なわれる（熱処理工程、図 1 0参照）。そして、被転写材 9と光学機能層 6との密着性が向上した光学素子 8を得ることができる（図 1 1参照）。

以下、上述した例に示されるような本発明の光学素子の製造方法について、各工程毎に詳細に説明する。

1 . 基材調製工程

本発明の光学素子を製造するに際しては、まず配向能を有する基材が準備される。このような配向能を有する基材としては、基材そのものが配向能を有するものである場合と、図 1に示すように透明基板 1上に配向膜 2が形成されて配向能を有する基材 3として機能する場合とを挙げることができる。以下、それそれを第 1実施態様および第 2実施態様として説明する。

a . 第 1実施態様

本実施態様は、基材そのものが配向能を有する態様であり、具体的には基材が延伸フィルムである場合を挙げることができる。このように延伸フィルムを用いることにより、その延伸方向に沿って液晶材料を配向させることが可能である。したがって、基材の調製は、単に延伸フィルムを準備することにより行うことができるため、工程上極めて簡便であるという利点を有する。このような延伸フィルムとしては、市販の延伸フィルムを用いることも可能であり、また必要に応じて種々の材料の延伸フィルムを形成することも可能である。

具体的には、ポリカーボネート系高分子、ポリアリレートやポリエチレンテレフタレートの如きポリエステル系高分子、ポリイミド系高分子、ポリスルホン系高分子、ポリエーテルスルホン系高分子、ポリスチレン系高分子、ポリエチレンやポリプロピレンの如きポリオレフィン系高分子、ポリビニルアルコール系高分子、酢酸セルロース系高分子、ポリ塩化ビニル系高分子、ポリメチルメタクリレ ―ト系高分子等の熱可塑性ポリマーなどからなるフィルムや、液晶ポリマ一からなるフィルムなどを挙げることができる。

本発明においては、中でもポリエチレンテレフ夕レート（P E T ) フィルムが、延伸倍率のレンジ幅が広い点、さらには入手のしゃすさ等の観点から好ましく用いられる。

本発明に用いられる延伸フィルムの延伸率としては、配向能が発揮し得る程度の延伸率であれば特に限定されるものはない。したがって、 2軸延伸フィルムであっても 2軸間で延伸率が異なるものであれば用いることが可能である。

この延伸率は、用いる材料により大きく異なるものであり、特に限定されるものではないが、一般的には 1 5 0 %~ 3 0 0 %程度のものを用いることが可能であり、好ましくは 2 0 0 %〜 2 5 0 %のものが用いられる。

b . 第 2実施態様

第 2実施態様は、上記配向能を有する基材が、透明基板と透明基板上に形成された配向膜とからなる態様である。

本実施態様においては、配向膜を選択することにより、比較的広範囲の配向方向を選択することが可能であるという利点を有する。また、透明基板上に塗布する配向膜形成用塗工液の種類を選択することにより、種々の配向方向を実現することが可能であり、かつより効果的な配向を行うことができる。

本実施態様に用いられる配向膜は、通常液晶表示装置等において用いられる配向膜を好適に用いることが可能であり、一般的にはポリイミド系ゃポリビニルァルコール系の配向膜をラビング処理したものが好適に用いられる。また、光配向膜を用いることも可能である。

また、本実施態様に用いられる透明基板としては、透明材料により形成されたものであれば特に限定されるものではなく、例えば石英ガラス、パイレックス (登録商標）ガラス、合成石英板等の可撓性のない透明なリジット材、あるいは透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明なフレキシブル材を用いることができる。

2 . 液晶層形成工程

本発明においては、次に図 2に示すように、上記配向能を有する基材 3上に液晶層 4を形成する。

本発明におけるこの液晶層とは、重合性液晶材料で形成されたものであり、種々の液晶規則性を有する液晶相を採り得る層であれば特に限定されない。

そして、このような液晶層を形成する方法としては、重合性液晶材料を含む液晶層形成用組成物を基材上に積層し、液晶層形成用層を形成する。この液晶層形成用層を形成する方法としては、例えばドライフィルム等を予め形成してこれを液晶層形成用層としこれを基材上に積層する方法や、液晶層形成用組成物を融解させて、これを基材上に塗布する方法等を採ることも可能であるが、本発明においては、液晶層形成用組成物を溶媒に溶解し、これを基材上に塗布し、溶媒を除去することにより液晶層形成用層を形成することが好ましい。これは、他の方法と比較して工程上簡便であるからである。

この際、塗布する方法としては、スピンコート法、ロールコート法、スライドコート法、プリント法、浸漬引き上げ法、カーテンコート法（ダイコート法)等が挙げられる。

このように液晶層形成用塗工液を塗布した後、溶媒を除去するのであるが、この溶媒の除去方法としては、例えば、減圧除去もしくは加熱除去、さらにはこれらを組み合わせる方法等により行われる。溶媒が除去されることにより、液晶層形成用層が形成される。

本発明においては、このようにして形成された液晶層形成用層の層内の重合性液晶材料を、基材表面の配向能により、液晶規則性を有する状態として液晶層とする。これは、通常は重合性液晶材料が液晶相を採りえる温度まで昇温し、その温度にて保持する等の方法により行われる。

以下、まず本発明に用いられる重合性液晶材料およびこれを含む液晶層形成用組成物、さらには、上述した液晶相形成用塗工液について説明する。

(重合性液晶材料）本発明で用いられる重合性液晶材料としては、重合性液晶モノマ一、重合性液晶ォリゴマーおよび重合性液晶高分子を挙げることができる。このような重合性液晶材料は、通常、それ自体がネマチック規則性またはスメマチック規則性を有するものが用いられるが、特にこれに限定されるものではなく、重合性液晶材料がコレステリック規則性を有するものであってもよい。但し、分子の両末端に重合性官能基があることが、耐熱性のよい光学素子を得る上で好ましい。当該コレステリック規則性を付与するためには、上記重合性液晶材料自体がネマチック規則性もしくはスメクチック規則性を呈する場合は、さらに重合性カイラル剤を用いてもよい。以下、それそれについて説明する。

( 1 ) 重合性液晶材料

本発明に用いられる重合性液晶材料としては、上述したように重合性液晶モノマー、重合性液晶オリゴマーや重合性液晶高分子等を挙げることができる。このような重合性液晶材料としては、これらのみで液晶相を形成した場合に、ネマチック規則性、スメクチック規則性、またはコレステリック規則性を有する液晶相を形成し得る重合性液晶材料であれば特に限定されるものではないが、分子の両末端に重合性官能基があることが、耐熱性のよい光学素子を得る上で好ましい。このような重合性液晶材料の一例としては、例えば下記の一般式（1 ) で表わされる化合物 ( I ) や下記に示す化合物を挙げることができる。化合物（I ) としては、一般式（1 ) に包含される化合物の 2種を混合して使用することも可能である。

重合性液晶材料としては、一般式（ 1 ) に包含される化合物や下記の化合物の 2種以上を混合して使用することもできる。

(1)

CH₂=CHC0₂(CH2)₃0- -0(CH₂)30₂CHC=H₂C

CH₂=CHC0₂(CH2)₆ - - 0(CH2)₆0₂CHC=H₂C

x= 2〜 5の整数化合物（I) を表わす一般式（1) において、 R¹および R²はそれそれ水素またはメチル基を示し、 Xは、塩素またはメチル基であることが好ましい。また、ィ匕合物（I) のスぺ一サーであるアルキレン基の鎖長を示す aおよび bは、 2〜9 の範囲であることが液晶性を発現させる上で好ましい。

上述した例では、重合性液晶モノマーの例を挙げたが、本発明においては、重合性液晶ォリゴマーや重合性液晶高分子等を用いることも可能である。このような重合性液晶ォリゴマ一や重合性液晶高分子としては、従来提案されているものを適宜選択して用いることが可能である。

( 2 ) カイラル剤

本発明においては、上記光学素子が円偏光制御光学素子、すなわち光学機能層がコレステリック層であり、かつ重合性液晶材料がネマチック規則性もしくはスメクチック規則性を有するものを用いる場合は、上記重合性液晶材料に加えて力ィラル剤を加えることが必要となる。

本発明に用いられる重合性カイラル剤とは、光学活性な部位を有する低分子化合物であり、分子量 1 5 0 0以下の化合物を意味する。カイラル剤は主として化合物（I ) が発現する正のー軸ネマチック規則性に螺旋ピッチを誘起させる目的で用いられる。この目的が達成される限り、化合物（I ) や上記の化合物と、溶液状態あるいは溶融状態において相溶し、上記ネマチック規則性をとりうる重合性液晶材料の液晶性を損なうことなく、これに所望の螺旋ピツチを誘起できるものであれば、下記に示すカイラル剤としての低分子化合物の種類は特に限定されないが、分子の両末端に重合性官能基があることが耐熱性のよい光学素子を得る上で好ましい。液晶に螺旋ピッチを誘起させるために使用するカイラル剤は、少なくとも分子中に何らかのキラリティ一を有していることが必須である。本発明の液晶性組成物に含有させる光学活性な部位を有するカイラル剤には、螺旋ピッチを誘発する効果の大きなカイラル剤を選択することが好ましく、具体的には一般式（2 ) 、 ( 3 ) または（4 ) で表されるような分子内に軸不斉を有する低分子化合物（I I ) の使用が好ましい。 14 日本国特許庁 24, 12.02

e= 2〜5の整数

(4)

！釜—替え—服'.紙（裁則 26ί

X

カイラル剤（I I) を表わす一般式（2) 、 (3) または（4) において、 R ⁴は水素またはメチル基を示す。 Yは上記に示す式（i ) 〜（X X i v ) の任意の一つであるが、なかでも、式（i ) ，（i i ) , ( i i i ) , ( v ) および（v i i ) の何れか一つであることが好ましい。また、アルキレン基の鎖長を示す c および dは、 2〜 9の範囲であることが好ましい。 cおよび dが、 2未満または 1 0以上であると、液晶性が発現しにくくなる。

本発明の重合性液晶材料に配合されるカイラル剤の量は、螺旋ピッチ誘起能力や最終的に得られる円偏光制御光学素子のコレステリック性を考慮して最適値が決められる。具体的には、用いる重合性液晶材料により大きく異なるものではあるが、重合性液晶材料の合計量 1 0 0質量部当り、 1〜 2 0質量部の範囲で選ばれる。この配合量が上記範囲よりも少ない場合は、重合性液晶材料に充分なコレステリック性を付与できない場合があり、一方、上記範囲を越える場合は、分子の配向が阻害され、活性放射線によつて硬化させる際に悪影響をおよぼす可能性がある。

本発明においては、このようなカイラル剤としては、特に重合 I¹生を有することが必須ではない。しかしながら、得られる光学機能層の熱安定性等を考慮すると、上述した重合性液晶材料と重合し、コレステリック規則性を固定化することが可能な重合性のカイラル剤を用いることが好ましい。特に、分子の両末端に重合性官能基があることが、耐熱性のよい光学素子を得る上で好ましい。

(液晶層形成用組成物）

本発明においては、上記重合性液晶材料にさらに重合に際して必要な光重合開始剤等の成分が加わつたものを液晶層形成用組成物とする。このような液晶層形成用組成物に添加できる材料について説明する。

( 1 ) 光重合開始剤

本発明においては、上述した重合性液晶材料に、光重合開始剤が添加されていることが好ましい。例えば、電子線照射により重合性液晶材料を重合させる際には、光重合開始剤が不要な場合はあるが、一般的に用いられている例えば紫外線 ( UV) 照射による硬化の場合においては、通常光重合開始剤が重合促進のために用いられるからである。なお、光重合開始剤の他に增感剤を、本発明の目的が損なわれない範囲で添加することも可能である。

このような光重合開始剤の添加量としては、一般的には 0 . 5〜1 0質量％の範囲で本発明の重合性液晶材料に添加することができる。

( 2 ) その他の添加剤

本発明に用いられる液晶層形成用組成物には、本発明の目的を損なわない範囲内で、上記以外の化合物を添加することができる。添加できる化合物としては、例えば、多価アルコールと 1塩基酸または多塩基酸を縮合して得られるポリエステルブレポリマーに、（メタ）アクリル酸を反応させて得られるポリエステル (メタ）ァクリレート；ポリオ一ル基と 2個のイソシァネート基を持つ化合物を互いに反応させた後、その反応生成物に（メタ）アクリル酸を反応させて得られるポリウレタン（メタ）ァクリレート；ビスフエノール A型エポキシ樹脂、ビスフヱノール F型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ポリカルボン酸ポリグリシジルエステル、ポリオールポリグリシジルェ一テル、脂肪族または脂璟式エポキシ樹脂、ァミンエポキシ樹脂、トリフエノールメタン型エポキシ樹脂、ジヒドロキシベンゼン型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と、（メタ）アクリル酸を反応させて得られるエポキシ（メタ）ァクリレート等の光重合性化合物；ァクリル基ゃメタクリル基を有する光重合性の液晶性化合物等が挙げられる。

本発明の液晶性組成物に対するこれら化合物の添加量は、本発明の目的が損なわれない範囲で選択され、一般的には、本発明の液晶性組成物の 4 0重量％以下、 2 0重量％以下でぁる。これらの化合物の添加により、本発明の液晶性組成物は硬化性が向上し、硬化膜の機械強度が増大し、液晶の安定性が改善される。

(液晶層形成用塗工液）

本発明においては、上述したように液晶層を形成するにあたり液晶相形成用塗ェ液を塗布し、乾燥する方法が好ましい。この液晶層形成用塗工液は、上述した液晶層形成用材料を溶媒に溶解させたものであり、必要に応じて界面活性剤等が添加される。以下、それそれについて説明する。 ( 1 ) 溶媒

上記液晶層形成用塗工液に用いられる溶媒としては、上述した重合性液晶材料等を溶解することが可能な溶媒であり、かつ配向能を有する基材上の配向能を阻害しない溶媒であれば特に限定されるものではない。

具体的には、ベンゼン、トルエン、キシレン、 n—ブチルベンゼン、ジェチルベンゼン、テトラリン等の炭化水素類、メトキシベンゼン、 1,2-ジメトキシベンゼン、ジエチレングリコールジメチルェ一テル等のエーテル類、アセトン、メチルェチルケトン、メチルイソプチルケトン、シクロへキサノン、 2、 4一ペン夕ンジオン等のケトン類、酢酸ェチル、エチレングリコールモノメチルェ一テルァセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノェチルエーテルアセテート、ァ一ブチロラクトン等のエステル類、 2-ピロリドン， N-メチル -2-ピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルァセトアミド等のアミド系溶媒、クロ口ホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロェタン、テトラクロロェタン、トリトリクロロエチレン、テトラクロロェチレン、クロ口ベンゼン、オルソジクロ口ベンゼン等のハロゲン系溶媒、 t -ブチルァルコール、ジアセトンアルコール、グリセリン、モノァセチン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、へキシレングリコール、エチレングリコ一ルモノメチルエーテル、ェチルセルソルブ、ブチルセルソルブ等のアルコール類、フェノ一ル、パラクロロフエノ一ル等のフヱノ一ル類等の 1種または 2種以上が使用可能である。

単一種の溶媒を使用しただけでは、重合性液晶材料等の溶解性が不充分であつたり、配向能を有する基板が侵食される場合がある。しかし 2種以上の溶媒を混合使用することにより、かかる不都合を回避することができる。上記した溶媒のうち、単独溶媒として好ましいものは、炭化水素系溶媒とグリコールモノェ一テルアセテート系溶媒であり、混合溶媒として好ましいのは、エーテル類またはケトン類と、グリコ一ル類との混合系である。溶液の濃度は、液晶性組成物の溶解性や製造せんとする円偏光制御光学素子の膜厚に依存するため一概には規定できないが、通常は 1〜6 0重量％、好ましくは 3〜4 0重量％の範囲で調整される。 ( 2 ) 界面活性剤

また、上記液晶層形成用塗工液には、塗布を容易にするために界面活性剤等を加えることができる。添加可能な界面活性剤を例示すると、イミダゾリン、第四級アンモニゥム塩、アルキルアミンオキサイド、ポリアミン誘導体等の陽イオン系界面活性剤、ポリオキシエチレン—ポリオキシプロピレン縮合物、第一級あるいは第二級アルコールエトキシレート、アルキルフエノールエトキシレート、ポリエチレングリコールおよびそのエステル、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸アンモニゥム、ラウリル硫酸アミン類、アルキル置換芳香族スルホン酸塩、アルキルリン酸塩、脂肪族あるいは芳香族スルホン酸ホルマリン縮合物等の陰ィオン系界面活性剤、ラウリルアミドプロピルべ夕イン、ラウリルアミノ酢酸べ夕イン等の両性系界面活性剤、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンアルキルアミン等の非イオン系界面活性剤、パーフルォロアルキルスルホン酸塩、パーフルォロアルキルカルボン酸塩、パーフルォロアルキルェチレンォキシド付加物、パ一フルォロアルキルトリメチルアンモニゥム塩、パ一フルォロアルキル基 ·親水性基含有オリゴマー、パーフルォロアルキル ·親油基含有オリゴマ一パーフルォロアルキル基含有ウレタン等のフッ素系界面活性剤などが挙げられる。

界面活性剤の添加量は、界面活性剤の種類、重合性液晶材料の種類、溶媒の種類、さらには溶液を塗布する配向能を有する基材の種類にもよるが、通常は溶液に含まれる液晶性組成物の 1 0重量 ρ ρ π！〜 1 0重量％、好ましくは 1 0 0重量 ρ ρ π！〜 5重量％、さらに好ましくは 0 . 1〜1重量％の範囲にある。

(液晶規則性）

本発明においては、上記重合性液晶材料が所定の液規則性を有することにより液晶層とされる。

ここで、この液晶規則性とは、ネマチック規則性、スメクチック規則性およびコレステリック規則性がある。光学素子が位相差層積層体である場合は、上記光学機能層は、ネマチック規則性もしくはスメクチック規則性を有するものである一方、光学素子が円偏光制御光学素子である場合は、コレステリック規則性を有するものである。

上記規則性は、基本的には用いる重合性液晶材料が自ら呈する液晶規則性およびカイラル剤を用いるか否かにより決定されるものである。

このような液晶規則性は、配向能を有する基材上に、上述した重合性液晶材料および必要に応じて添加される重合性カイラル剤とからなる液晶層形成用層を形成し、液晶相となる温度で保持することにより得られるものである。

3 . 光学機能層形成工程

本発明においては、上述した液晶層形成工程において形成された重合性液晶材料を主成分とする液晶層に活性照射線を照射することにより、液晶層がその液晶規則性を有した状態で硬化させることにより、種々の光学的機能を有する光学機能層を形成することができる。

この際照射する活性放射線とは、重合性液晶材料や重合性カイラル剤等を重合せさることが可能な放射線であれば特に限定されるものではないが、通常は、波長が 2 5 0〜4 5 0 nmの照射光が用いられる。

照射強度は、液晶層を形成している重合性液晶材料の組成や光重合開始剤の多寡によって適宜調整されて照射される。

4 . 転写工程

本発明においては、必要に応じて、上記光学機能層形成工程の後、上記配向能を有する基材上に形成された光学機能層を被転写材上に転写する工程を有するものであってもよい。

これは、光学機能層を他の層と組み合わせて用いる場合や、光学機能層は可撓性の無い基材上で形成することが好ましいが、使用に際しては可撓性のあるフィルム表面において用いたい場合等の必要に応じて行われる。

転写は、上述した光学機能層形成工程で形成された光学機能層の表面に被転写材表面を接触させることにより行われる（図 8および図 9参照）。

この際の転写方法としては、例えば、被転写材表面もしくは上記光学機能層表面に接着層を予め形成しておき、この接着力により転写する方法、基材上の配向膜等を易剥離性としておく方法等が挙げられる。さらに有効な方法としては、光学機能層の被転写材が接触する側の表面の表面硬度を基材側の表面硬度よりも低くなるように形成し、この状態で転写を行う方法や、光学機能層の上記被転写材側表面の残存二重結合率が、上記基材側のものよりも高くするように形成し、この状態で転写を行う方法等を挙げることができる。このように、光学機能層における表面側の重合度を基材側の重合度より低く形成する方法としては、酸素の存在下において重合速度が低下する酸素依存性を有する光重合開始剤を上記重合性液晶材料に用い、表面側にのみ酸素が接触するような条件下で重合させる方法等を挙げることができる。

この工程において用いられる被転写材としては、用いられる光学素子の用途に応じて適宜選択されるものではあるが、一般的には光学素子であることから透明な材料、すなわち透明基板が好適に用いられる。

この透明基板に関しては、上記の 1 . 基材調製工程の欄で説明したものと同様であるので、ここでの説明は省略する。

5 . 熱処理工程

本発明においては、上記光学機能層形成工程の後、もしくは転写工程の後、熱処理工程を行うところに特徴を有するものである。

すなわち、本発明の光学素子の熱処理方法は、上述した基材調製工程において調製された基材と、この基材上に上述した光学機能層形成工程により形成された光学機能層とを有する光学素子に対して、もしくは転写工程が行われた場合は、被転写材およびその表面に転写された光学機能層を有する光学素子に対して、転写側の基材が T A Cフィルム等の場合は 8 0〜 1 2 0 °Cの範囲内の温度で、また、転写側の基材がガラスの場合は 1 8 0〜2 4 0 °Cの範囲内、好ましくは 1 9 0 °C 〜2 3 0 °Cの範囲内、特に 2 0 0 °C〜2 2 0 °Cの範囲内の温度で熱処理が行われる点に特徴を有する。

本発明においては、上記温度範囲より低い温度で熱処理が行われた場合は、密着性が十分でないことから好ましくなく、上記温度範囲より高い温度で熱処理が行われた場合は光学機能層もしくは基材、さらには被転写材等に際してダメージを与える可能性があることから好ましくない。本発明においては、上記範囲で熱処理を行う時間、具体的には光学的機能層が上記温度範囲内となってからの経過時間が、 1分〜 6 0分、好ましくは 3分〜 4 5分、特に 5分〜 3 0分の範囲内の時間であることが好ましい。上述した時間より短い熱処理時間の場合は、支持材と光学機能層との密着性が十分でないことから好ましくなく、上記範囲より長い時間熱処理を行った場合は、光学機能層および支持材のいずれかに熱劣化を与える可能性があることから好ましくないからである。

このような熱処理は、一般的なオーブン等の熱処理用機器を用いて行うことが可能である。

6 . その他の工程

本発明においては、上述したい製造工程の後に、必要に応じて種々の工程を行うことが可能である。

具体的には、上記光学機能層上に保護層を形成する工程を行ってもよい。このように保護層を形成することにより、光学機能層と支持材との密着性がまだ不十分であつた場合でも、保護層により補強されることから光学素子として使用することができるからである。

このような保護層は、保護層形成用塗工液を塗布することにより形成することが可能であり、アクリル系、エポキシ系等の樹脂材料が通常用いられる。

<光学素子 >

本発明の光学素子は、支持材と、上記支持材上に重合性液晶材料が所定の液晶規則性を有して硬化されてなる光学機能層とを有する光学素子であって、上記光学機能層と支持材との密着性が、 J I S K 5 4 0 0 ( 1 9 9 0 ) 8 . 5で規定する碁盤目テープ剥離試験において、 6点以上である密着性を有することを特徴とするものであり、この密着性は 8点以上、特に 1 0点以上であることがより好ましいものである。

本発明の光学素子は、光学機能層と支持材との間に上述したような密着性を有するものであるので、画像処理装置等に用いるに際しての取り扱いが容易となるまた、従来の重合性液晶材料を硬化させてなる光学機能層は、極めて支持材との密着性に乏しいものであり、上述した範囲の密着性は従来ものでは達成することができない範囲である。したがって、十分に従来品に対する優位性を有するものとなる。

上記碁盤目テープ剥離試験とは、試験片の上の塗膜を貫通して、試験板の生地面到達するまでの切傷を、鋭利な刃で切りつけ、さらにテープを接着させてから剥がして、塗膜の生地への付着性の良否を推定する試験であり、詳細には上述したように J I S K 5 4 0 0 ( 1 9 9 0 ) 8 . 5に規定されたものである。

以下、このような光学素子について、各要素毎に説明する。

1 . 支持材

本発明でいう支持材とは、配向能を有する基材、もしくは転写工程により光学機能層が転写された場合は被転写材を示すものである。

ここで配向能を示す基材に関する説明は、上記「光学素子の製造方法」の欄で説明したものと同様であるので、ここでの説明は省略する。

一方、被転写材は、表面に配向能を有さないような基材上で光学機能層を用いたい場合に、上記「光学素子の製造方法」の欄で説明したように、配向能を有する基材上から被転写材に光学機能層を転写させる場合があり、このような場合に、支持材として被転写材が用いられる。この被転写材についての説明も上述したとおりであるので、ここでの説明は省略する。

2 . 光学機能層

本発明の光学素子は、支持材上に、重合性液晶材料が所定の液晶規則性を有して硬化されてなる光学機能層が形成されてなるものである。この光学機能層は、液晶規則性を有する高分子を構成する重合性液晶材料からなるものである。

上記重合性液晶材料および液晶規則性に関する説明は、上記「光学素子の製造方法」の欄で説明したものと同様であるので、ここでの説明は省略する。

3 . 光学素子の具体例

本発明の光学素子の具体例としては、光学機能層が位相差層である場合の位相差層積層体および光学機能層がコレステリック層である円偏光制御光学素子を挙げることができる。以下、それそれについて説明する。光学素子が位相差層積層体である場合としては、本発明においては、支持材と、上記支持材に重合性液晶材料がネマチック規則性もしくはスメクチック規則性を有して硬化された位相差層とを有する位相差層積層体であって、支持材と光学機能層とが上述したような範囲内の密着度合いで密着しているものである。

このように、本発明の光学素子においては、支持材と光学機能層とが十分に密着していることから、これを光学機器に用いる際にも、その取り扱いが容易であり、種々の用途に用いることが可能となる。

円偏光制御光学素子

光学素子が円偏光制御光学素子である場合としては、本発明においては、支持材と、上記支持材上に重合性液晶材料がコレステリック規則性を有して硬化されたコレステリック層とを有する円偏光制御光学素子であって、支持材と光学機能層とが上述したような範囲内の密着度合いで密着しているものである。

この場合も、上記位相差層積層体の場合と同様に、支持材と光学機能層とが十分に密着していることから、これを光学機器に用いる際にも、その取り扱いが容易であり、種々の用途に用いることが可能となる。

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。

【実施例】

以下に実施例を示し、本発明をさらに説明する。

A . コレステリヅク層

1 . 液晶層形成用塗工液の調製

重合性液晶材料、カイラル剤、および光重合開始剤を 1 0 0 : 5 : 5 (重量 %) の割合で混合した粉体を、トルエンに 3 0重量％になるように溶解して液晶層形成用塗工液を調製した。重合性液晶材料、カイラル剤、および光重合開始剤としては、下記のものを用いた。 •重合性液晶材料：末端に重合可能な官能基を有し、 50 °C；〜 100 °Cでネマチック液晶性を示す下記化学式（5) に示す重合性液晶モノマ一

x=2~5の整数

(5)

•カイラル剤：下記化学式（ 6 ) に示す化合物のメソゲン両端にスぺーサ一を介して、ァクリレートを設け、重合可能にした重合性カイラル剤

e= 2〜5の整数

(6)

•光重合開始剤：チバスぺシャリティケミカルズ社製の I R G 907 (商品名） 2. 配向膜の調製

次に、厚さ 0. 7mmのガラス基板に、ポリイミドを主成分とする配向膜溶液をスピンコ一ティングし、溶媒を蒸発させた後に、 200°Cでポストべイクし、既知の方法でラビングして配向膜を作製した。

また、厚さ 80 /mの TACフィルムにポリビニルアルコールを主成分とする配向膜溶液をバーコーティングし、溶媒を蒸発させた後に、 100°Cでボストべイクし、既知の方法でラビングして配向膜を作成した。

3. コレステリヅク層の形成

上記液晶層形成用塗工液を、上記のポリビニルアルコール配向膜上にスビンコ一ティングした。次に、溶媒を蒸発させた後、 80°Cx 3分で液晶分子を配向させ、コレステリック構造特有の選択反射を示すことを確認した上で、 UVを照射して重合させることによりコレステリヅク層を形成し、試料 1を作成した。また、上記液晶形成用塗工液を、上記のポリビニルアルコール配向膜上にバ一

差眷ぇ用紙（規則²⁶) コーティングした。次に、溶媒を蒸発させた後、 80°Cx 3分で液晶分子を配向させ、コレステリック構造特有の選択反射を示すことを確認した上で、 UVを照射して重合させることによりコレステリック層を形成し、試料 2を作成した。このようにして得た試料を、下記に示す熱処理条件でそれそれ熱処理を施した後、室温まで自然冷却して 1日放置した。これらを熱処理条件により、それそれ、比較例 1〜8、および実施例 1〜8とした。

4. 評価

上記比較例 1〜 8および実施例 1〜8の各試料を、 J I SK5400 (199 0) 8. 5で規定されている碁盤目テープ剥離試験を実施した。熱処理条件と結果を下記の表 1にまとめる。

表 1 碁盤目テープ剥 i¾の結果

¾4几理^ ίφ

比嫌 |J 1 言謝 1 L 無し 0

比棚 2 80°CX30分 0

比糊 3 ■⁰CX3盼 0

比翻 4 120°Cx3盼 0

比翻 5 160^ο。Χ3吩 2

»例 1 言謝 1 180°CX30^ 6

麵列 2 200°CX3盼 8

難例 3 220⁰CX3盼 8

調列 4 240°Cx3盼 10

糊5 260°CX3盼 1 0

細列 6 言 80°CX30分 6

例 7 100°CX3盼 8

難例 8 120°CX3盼 10

比較修言舰無し 0

比較 7 80°Cx30分 0

比翻 8 100°CX3盼 0 なお、表中の比較例 1および 6である、熱処理無しの場合は全面で剥離してしまい、他の加熱処理したものと比較して、さらに悪い結果であった。

上記表中の評価点は、上記 JI SK 5400 ( 1990) 8. 5に定める下記表 2の基準により決定したものである。表 2 碁盤目テープ剥

B. 位相差層

1. 液晶相形成用塗工液および配向膜の調製

カイラル剤を用いず、重合性液晶材料および光重合開始剤を 100 : 5 (重量 %) とした以外は、上記 Aと同様にして液晶層形成用塗工液を調製した。また、配向膜も上記 Aと同様にして調整した。

2. 位相差層の形成

上記液晶層形成用塗工液を、上記配向膜上にスピンコ一ティングまたはバーコ —ティングした。次に、溶媒を蒸発させた後、 80°Cx 3分で液晶分子をネマチック配向させた上で、 UVを照射して重合させることにより位相差層を形成し、試料 3および 4を作成した。

このようにして得た試料を、下記に示す熱処理条件でそれそれ熱処理を施した後、室温まで自然冷却して 1日放置した。これらを熱処理条件により、それそれ、比較例 1〜 8、および実施例 1〜 8とした。

3 . 評価

上記比較例 1 ~ 8および実施例 1〜 8の各試料を、 J I S K 5 4 0 0 ( 1 9 9 0 ) 8 . 5で規定されている碁盤目テープ剥離試験を実施した。熱処理条件と結果を下記の表 3にまとめる。表 3 碁盤目テープ剥 ϋ¾の結果

■CG^ilタリ I ^し U

卜ト！ S ？ ο

比翻 3 100°CX30分 0

比翻 4 120°Cx30分 0

比較例 5 160°CX30分 2

麵列 1 180°Cx30分 6

諭例 2 200°CX30分 8

雄例 3 220°CX30分 8

雄例 4 240°CX30分 1 0

麵列 5 260°CX30分 1 0

謹列 6 言 4 80°CX30分 6

麵列 7 100°CX30分 8

細列 8 120°CX30分 1 0

比棚 6 難 4 舰 ¾無し 0

比翻 7 80。CX30分 0

比翻 8 100°CX30分 0 なお、表中の比較例 1および 6である、熱処理無しの場合は全面で剥離してしまい、他の加熱処理したものと比較して、さらに悪い結果であった。

C. 位相差層 2

1. 液晶相形成用塗工液および配向膜の調製

重合性液晶材料、カイラル剤、および光重合開始剤を 100 : 7 : 5 (重量 %) の割合とした以外は、上記 Aと同様にして液晶層形成用塗工液を調製した。また、配向膜も上記 Aと同様にして調整した。

2. 位相差層の形成

上記液晶層形成用塗工液を、上記のポリイミド配向膜上にスピンコ一ティングした。次に、溶媒を蒸発させた後、 80°Cx 3分で液晶分子を配向させ、 UVを照射して重合させることによりコレステリヅク層を形成し、試料 5を作成した。上記液晶層用塗工液は、実施例 1で用いた液晶形成用塗工液よりもカイラル剤成分を多く含むため、作成された試料 5の選択反射中心波長は、紫外光領域であつた。なお、このようにして作成された位相差層は、負の Cプレート位相差補償板として機能するものであった。

また、上記液晶形成用塗工液を、上記のポリビニルアルコール配向膜上にバーコーティングした。次に、溶媒を蒸発させた後、 80°Cx 3分で液晶分子を配向させ、 UVを照射して重合させることによりコレステリック層を形成し、試料 6 を作成した。試料 6においても、選択反射中心波長は、紫外光領域であった。このようにして得た試料を、下記に示す熱処理条件でそれそれ熱処理を施した後、室温まで自然冷却して 1日放置した。これらを熱処理条件により、それぞれ、比較例 1〜8、および実施例 1〜8とした。

3. 評価

上記比較例 1〜 8および実施例 1〜 8の各試料を、 JI SK5400 ( 199 0) 8. 5で規定されている碁盤目テープ剥離試験を実施した。熱処理条件と結果を下記の表 4にまとめる。表 4 碁盤目テープ剥离 l¾の結果

なお、表中の比較例 1および 6である、熱処理無しの場合は全面で剥離してしまい、他の加熱処理したものと比較して、さらに悪い結果であった。

Claims

請求の範囲 1 . 配向能を有する基材を調製する工程と、

前記基材上に少なくとも重合性液晶材料を含む液晶層形成用組成物を積層し、所定の液晶規則性を有する液晶層を形成する工程と、

前記液晶層に活性放射線を照射して、光学機能層とする光学機能層形成工程と、前記光学機能層に対して液晶層を重合（架橋）させる前の等方層以上の温度で熱処理を行う熱処理工程と

を含んでなることを特徴とする、光学素子の製造方法。

2 . 前記熱処理工程の温度範囲が、 8 0 °C〜 1 2 0 °Cである請求項 1記載の方法。

3 . 前記熱処理工程の温度範囲が、 1 8 0 °C~ 2 6 0 °Cである請求項 1記載の方法。

4 . 前記配向能を有する基材が、透明基板と、前記透明基板上に形成された配向膜とからなるものである、請求項 1〜 3のいずれか 1項に記載の方法。

5 . 前記配向能を有する基材が、延伸フィルムである、請求項 1〜3のいずれか 1項に記載の方法。

6 . 前記重合性液晶材料が、重合性モノマ一であり、所定の液晶規則性がネマチック規則性またはスメクチック規則性である、請求項 1〜 5のいずれか 1項に記載の方法。

7 . 前記重合性液晶材料が、重合性モノマーおよび重合性カイラル剤であり、所定の液晶規則性がコレステリック規則性である、請求項 1〜5のいずれか 1項に記載の方法。

8 . 前記液晶層形成用組成物に、さらに、光重合開始剤が含まれてなる、請求項 1〜 7のいずれか 1項に記載の方法。

9 . 前記液晶層形成用組成物が、溶媒を用いた液晶層形成用塗工液である、請求項 1〜 8のいずれか 1項に記載の方法。

1 0 . 前記熱処理時間が、 1分〜 6 0分の範囲内である、請求項 1 ~ 9のいずれか 1項に記載の方法。

1 1 . 前記の光学機能層形成工程の後、前記配向能を有する基材上に形成された光学機能層を被転写材上に転写する転写工程を含んでなる、請求項 1〜1 0 のいずれか 1項に記載の方法。

1 2 . 前記重合性液晶材料が、重合性液晶モノマーを含んでなり、前記重合性液晶モノマー分子が、両末端に重合性官能基を有する、請求項 1〜1 1のいずれか 1項に記載の方法。

1 3 . 前記重合性液晶材料が、重合性液晶モノマーと重合性カイラル剤とを含んでなり、前記重合性カイラル剤分子が、両末端に重合性官能基を有する、請求項 1 2に記載の方法。

1 4 . 上記熱処理工程の後に、さらに、保護層形成工程を含んでなる、請求項 1〜 1 3のいずれか 1項に記載の方法。

1 5 . 支持材と、前記支持材上に重合性液晶材料が所定の液晶規則性を有して硬化されてなる光学機能層とを有する光学素子であって、前記光学機能層と支持材との密着性が、 J I S K 5 4 0 0 ( 1 9 9 0 ) 8 . 5で規定する基盤目テ一プ剥離試験において、 6点以上となる密着性を有することを特徴とする、光学素子。

1 6 . 前記支持材が、配向能を有する基材である、請求項 1 5に記載の光学素子。

1 7 . 前記配向能を有する基材が、透明基板と前記透明基板上に形成された配向膜とからなる、請求項 1 6に記載の光学素子。

1 8 . 前記配向能を有する基材が、延伸フィルムである、請求項 1 6に記載の光学素子。

1 9 . 前記支持材が、被転写基材であり、前記被転写基材が透明基板である、請求項 1 5に記載の光学素子。

2 0 . 前記重合性液晶材料が、重合性モノマ一であり、所定の液晶規則性がネマチック規則性またはスメクチック規則性であり、前記光学機能層が、位相差層である請求項 1 5〜1 9のいずれか 1項に記載の光学素子。

2 1 . 前記重合性液晶材料が、重合性モノマ一および重合性カイラル剤であり、所定の液晶規則性がコレステリック規則性であり、前記光学機能が、選択反射層および/または位相差層である、請求項 1 5〜1 9のいずれか 1項に記載の光学素子。

2 2 . 請求項 1 5〜2 1のいずれか 1項に記載の光学素子を熱処理する方法であって、前記重合性液晶材料が、重合性液晶モノマーを含むものであり、前記重合性液晶モノマー分子が、両末端に重合性官能基を有することを特徴とする、光学素子の熱処理方法。

2 3 . 前記重合性液晶材料が、重合性液晶モノマーと重合性カイラル剤とを含んでなり、前記重合性カイラル剤分子が、両末端に重合性官能基を有する、請求項 2 2に記載の方法。