WO2001093299A1 - Tube cathodique - Google Patents

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WO2001093299A1
WO2001093299A1 PCT/JP2001/004665 JP0104665W WO0193299A1 WO 2001093299 A1 WO2001093299 A1 WO 2001093299A1 JP 0104665 W JP0104665 W JP 0104665W WO 0193299 A1 WO0193299 A1 WO 0193299A1
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WO
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support
shadow mask
ray tube
cathode ray
adjustment member
Prior art date
Application number
PCT/JP2001/004665
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English (en)
French (fr)
Inventor
Hirotoshi Watanabe
Masayuki Ohmori
Hideharu Ohmae
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.
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Publication date
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Priority to EP01934504A priority patent/EP1209717A4/en
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    • H01J29/02Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
    • H01J29/06Screens for shielding; Masks interposed in the electron stream
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    • H01J2229/07Shadow masks
    • H01J2229/0722Frame

Definitions

  • the present invention relates to a shadow mask type cathode ray tube used for a television receiver, a computer display and the like.
  • FIG. 18 is a cross-sectional view of an example of a conventional power cathode ray tube.
  • the color cathode ray tube 1 shown in the figure has a substantially rectangular face panel 2 having a phosphor screen surface 2a formed on the inner surface, a funnel 3 connected to the rear of the face panel 2, and a funnel. 3 and the neck three electron guns 4 incorporated in a, opposed to the interior of the full Eisupaneru 2 to the fluorescent screen 2 a 1 was the shadow mask 6 and., and a frame 7 for fixing this ing. Further, a deflection yoke 5 is provided on the outer peripheral surface of the funnel 3 to deflect and scan the electron beam.
  • the shadow mask 6 plays a role of color selection for three electron beams emitted from the electron gun 4, and a substantially slot-shaped opening, which is an electron beam passing hole, is formed on a flat plate by etching. Many are formed.
  • A indicates the electron beam trajectory
  • the frame 7, which is a plate-like member to which the shadow mask 6 is fixed, has a pair of frames 8, which are supports for the frame 7, fixed at both ends in the longitudinal direction.
  • the pair of frames 7 and the pair of frames 8 form a frame.
  • the frame-shaped body and the shadow mask 6 fixed thereto form a shadow / mask structure 9.
  • a plate-like spring mounting member 21 is fixed to the pair of upper and lower frames 7, and a spring member 10 is fixed to the spring mounting member 21.
  • a plate-shaped spring attachment member 11 is fixed to the pair of left and right frames 8, and a spring member 12 is fixed to the spring attachment member 11.
  • the thermal expansion of the shadow mask 6 due to the impact of the electron beam displaces the electron beam passage hole, so that the electron beam passing through the electron beam passage hole does not properly hit a predetermined phosphor, and A doming phenomenon called unevenness occurs.
  • the shadow mask 6 is stretched and held on the frame 7 by applying a tensile force in advance to absorb the thermal expansion caused by the temperature rise of the shadow mask 6. According to such a stretch holding, even if the temperature of the shadow mask 6 rises, it is possible to reduce the deviation of the mutual position between the opening of the shadow mask 6 and the phosphor stripe on the phosphor screen surface 2a. Can be.
  • the conventional color cathode ray tube as described above has the following problems.
  • the internal force moment of the shadow mask structure 9 also changes, and the balance state also changes. Due to the fluctuation of the balance, the distance (Q value) between the opening of the shadow mask 6 and the phosphor screen surface 2a is shifted, that is, the position of the shadow mask 6 in the tube axis direction is shifted, and the electron beam is displaced. Did not correctly hit the phosphor, causing color unevenness.
  • An object of the present invention is to solve the above-mentioned conventional problems, and an object of the present invention is to provide a cathode ray tube in which a position of a shadow mask in a tube axis direction is suppressed and color unevenness is prevented.
  • a cathode ray tube includes a pair of plate members, and the plate members are fixed to the plate members in a state where the pair of plate members face each other to support the plate members.
  • a cathode ray tube comprising a pair of supports and a shadow mask fixed to each of the plate members in a state where a tensile force is applied, wherein the support is convex toward the shadow mask. It is characterized by having a formed crank-shaped step portion.
  • the cathode ray tube as described above, since the internal force moment of the shadow mask structure can be reduced, even if the shadow mask thermally expands due to the electron beam bombardment, the displacement of the shadow mask in the tube axis direction can be suppressed. Q value deviation can also be suppressed. Further, the lateral gaps can be shielded by the iron-based material by the crank-shaped step portions of the supports and the holder, so that the magnetic characteristics can be improved. .
  • the support has an extension extending from an end to the inside in the longitudinal direction of the plate-like member, and the end of the extension, the plate-like member, It is preferable that the support is fixed at a portion of the plate-shaped member that enters the inside in the longitudinal direction.
  • the tension distribution of the shadow mask easily easier to mountain shape, also tends to suppress the vibration of the Shah Doumasuku at the free end portion of the shadow mask c, the thermal expansion of the case shadow mask Increases the movement of the support, but stress is absorbed by the part that goes inside and supports the support on the support The stress on the shaft to which the spring member is attached is reduced. Therefore, the effect of reducing the internal force moment of the shadow mask structure becomes more effective.
  • a spring mounting member for supporting the support which is located in a concave portion formed by the crank-shaped step portion, is further fixed to the support, and a spring member is mounted on the spring mounting member.
  • the spring member is fixed, and a mounting hole for inserting into a mounting pin is formed in the spring member.
  • a center point of the mounting hole is located at a position of the support body at a portion where the plate member is fixed.
  • the change in moment to the support member due to the reaction force of the shadow mask tensile force applied to the upper surface of the plate member can be reduced, so that the displacement amount of the upper surface of the plate member in the tube axis direction is reduced. be able to.
  • a spring member for supporting the support member is fixed to the support member, the spring member being located at a concave portion formed by the crank-shaped step portion or outside the concave portion, and a mounting pin is attached to the spring member.
  • An attachment hole for inserting the plate-shaped member is formed on a side opposite to the shadow mask side with respect to a position of the support where a plate-like member is fixed. Is preferred.
  • the spring attachment member is not required.
  • the crank-shaped step portion has a portion formed linearly in the longitudinal direction of the support. According to the cathode ray tube as described above, it is easy to attach a member for attaching the shadow mask structure to which the shadow mask is fixed to the face panel to the support. In the crank-shaped stepped portion, a center axis of a portion displaced toward the shadow mask may be located above a surface of the shadow mask. preferable. According to the cathode ray tube as described above, the shadow mask is brought closer to the phosphor screen surface side due to the thermal expansion of the shadow mask, so that a color shift correction effect can be obtained.
  • a bent portion of the crank-shaped step portion is formed in an arc shape, and a radius of curvature on an inner peripheral side of the arc is 20 mm or more. According to the cathode ray tube as described above, excessive stress concentration at a bent portion can be prevented, and sufficient rigidity can be secured.
  • a support adjustment member is further fixed so as to face the support via a concave portion formed by the crank-shaped step portion.
  • the displacement of the support in the pipe axis direction is suppressed.
  • the displacement in the horizontal direction is increased, and the correction in the tube axis direction can be performed by using the displacement in the horizontal direction.
  • the support adjustment member is further formed with a projection for reducing a spring constant in the longitudinal direction of the support adjustment member.
  • a spring constant in a longitudinal direction of the support adjustment member is 1.47 ⁇ 10 4 N / mm or less.
  • the support adjustment member may have a coefficient of thermal expansion larger than that of the support.
  • the cathode ray tube as described above, plastic deformation of the shadow mask during the heat treatment step can be prevented. Further, displacement of the cathode ray tube in the tube axis direction during operation can be suppressed.
  • a coefficient of thermal expansion of the support adjustment member is at least 1.2 times a coefficient of thermal expansion of the support.
  • a support adjusting member having a smaller thermal expansion coefficient than the support is fixed to a surface of a portion displaced toward the shadow mask among the crank-shaped step portions. According to the above-described cathode ray tube, plastic deformation of the shadow mask during the heat treatment step can be prevented.
  • an internal magnetic shield is fixed to the support adjustment member via a heat insulating material. According to the cathode ray tube as described above, heat transfer from the support to the internal magnetic shield can be suppressed, and the heat radiation effect of the internal magnetic shield can be suppressed, so that the support and the support adjustment member are stabilized at the same temperature. be able to. This makes it possible to stabilize the amount of electron beam movement and to prevent color misregistration.
  • an internal magnetic shield is fixed to the support adjustment member, and a contact area between the internal magnetic shield and the support adjustment member is 25% or less of an area of one surface of the support adjustment member. .
  • a contact area between the internal magnetic shield and the support adjustment member is small, heat transfer from the support to the internal magnetic shield via the support adjustment member is suppressed, and the heat radiation effect of the internal magnetic shield is reduced. Since it can be suppressed, the support and the support adjusting member can be stabilized at the same temperature. As a result, the amount of movement of the electron beam can be stabilized, and color shift can be prevented.
  • the contact area between the internal magnetic shield and the support adjustment member is preferably 5% or less of the area of one surface of the support adjustment member.
  • a member having a lower thermal conductivity than the internal magnetic shield and the support adjustment member is interposed between the internal magnetic shield and the support adjustment member. According to the above-described cathode ray tube, heat transfer from the support to the internal magnetic shield via the support adjusting member can be more reliably suppressed.
  • the material of the member having a low thermal conductivity is preferably SUS304.
  • the internal magnetic shield is joined to the support adjustment member via a protrusion formed on at least one of the internal magnetic shield and the support adjustment member. Preferably, it is the joint area at the part. According to the cathode ray tube as described above, the contact area between the internal magnetic shield and the support adjustment member can be reduced while the internal magnetic shield and the support adjustment member are easily and reliably joined.
  • FIG. 1 is a sectional view of a color cathode ray tube according to one embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a perspective view of the shadow mask structure according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 is a perspective view of a shadow mask structure according to Embodiment 2 of the present invention.
  • FIG. 4A is a diagram showing an example of a state in which moment is applied to a conventional shadow mask structure.
  • FIG. 4B is a diagram showing a state of application of a moment according to the shadow mask structure according to the embodiment of the present invention.
  • FIG. 5 is a diagram illustrating a state of application of a moment according to a shadow mask structure according to another embodiment of the present invention.
  • FIG. 6 is a perspective view of a shadow mask structure according to Embodiment 3 of the present invention.
  • FIG. 7A is a diagram showing a relationship between time and temperature of the frame and the support adjustment member during operation of the cathode ray tube.
  • FIG. 7B is a diagram showing the relationship between the time and the amount of electron beam movement during the operation of the cathode ray tube.
  • FIG. 8 is a perspective view showing an example of an internal magnetic shield.
  • FIG. 9 is a perspective view of a shadow mask structure according to Embodiment 4 of the present invention.
  • FIG. 10 is a view on arrow A in FIG. 9 in a state where the internal magnetic shield and the shadow mask structure are joined.
  • FIG. 11 is a cross-sectional view taken along the line I-I of FIG. 9 in a state where the internal magnetic shield and the shadow mask structure are joined.
  • FIG. 12A is a diagram showing a displacement state of a frame during a cathode ray tube operation in a state before time t1 in FIG. 7;
  • FIG. 12B is a diagram showing a displacement state of the frame when the cathode ray tube operates in a state after time t1 in FIG. 7;
  • FIG. 13A is a side view of an example of a support adjustment member having a protrusion for reducing a spring constant according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 13B is a side view of another example of a support adjustment member having a protrusion for reducing a spring constant according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 13C is a side view of still another example of the support adjusting member having a protrusion for reducing the spring constant according to the embodiment of the present invention.
  • FIG. 14 is a perspective view of Example 1 relating to joining of the internal magnetic shield and the support adjustment member.
  • Fig. 14B is a cross-sectional view taken along the line II-II in Fig. 14A.
  • FIG. 15A is a perspective view of Example 2 relating to joining of the internal magnetic shield and the support adjustment member.
  • Fig. 15B is a cross-sectional view taken along line III-III in Fig. 15A.
  • FIG. 16A is a perspective view of Example 3 relating to joining of the internal magnetic shield and the support adjustment member.
  • Fig. 16B is a cross-sectional view taken along line IV-IV in Fig. 15A.
  • FIG. 17A is a diagram showing a relationship between time and temperature of a frame and a support adjusting member during operation of a cathode ray tube according to Embodiment 6 of the present invention.
  • FIG. 17B is a diagram showing the relationship between time and the amount of electron beam movement during the operation of the cathode ray tube according to Embodiment 6 of the present invention.
  • FIG. 18 is a cross-sectional view of an example of a conventional color cathode ray tube.
  • FIG. 1 is a sectional view of a color cathode ray tube according to Embodiment 1 of the present invention.
  • FIG. 2 shows a perspective view of the shadow mask structure 16 of FIG. In FIG. 2, the illustration of the shadow mask 6 is omitted.
  • the surface 14b in this crank-shaped step portion is located on the shadow mask 6 side with respect to the surface 14a, and a step 15 is formed between the surface 14a and the surface 14b.
  • the left and right frames 14 are fixed to both ends of the upper and lower frames 7 by welding or the like to form a frame (Fig. 2), and the shadow mask 6 is formed on the upper surface of the frame 7 in the frame. Are fixed to form a shadow mask structure 16.
  • a plate-like spring mounting member 21 is fixed to the pair of upper and lower frames 7.
  • the spring member 10 is fixed to the spring mounting member 21.
  • a plate-shaped spring mounting member 11 is fixed to the pair of left and right frames 14, and a spring member 12 is fixed to the spring mounting member 11.
  • the mounting hole 12 a of the spring member 12 is located substantially at the center of the frame 14 in the longitudinal direction.
  • the portion where the surface 14 b is formed is formed linearly in the longitudinal direction of the frame 14, so that the spring mounting member 11 can be easily attached. is there.
  • the fixation of the shadow mask structure 16 to the face panel 2 is the same as in the case of Fig. 18, and the mounting holes 10a of the spring member 10 are fitted to the upper and lower pins 13 on the inner surface of the face panel 2. This is performed by fitting the mounting holes 12a of the spring member 12 with the left and right pins (not shown) on the inner surface of the face panel 2.
  • FIG. 4 is a diagram for comparing moments applied to the shadow mask structure, and each partially shows a side surface of the shadow mask structure.
  • FIG. 4A shows a configuration in the case of the conventional example shown in FIG. 18, and
  • FIG. 4B shows a configuration in the case of the present embodiment shown in FIG.
  • the direction of the z-axis in the figure is equal to the direction of the tube axis, and the direction toward the upper side is defined as positive.
  • the shadow mask 6 is stretched and held on the upper surface 7a of the frame 7, and the shadow mask 6 is applied with a tensile force in the direction of arrow a.
  • the tensile force of the shadow mask 6 is F
  • a reaction force F having the same magnitude as the tensile force F is applied to the upper surface 7a of the frame 7 in the direction of the arrow (the direction in which the upper surface 7a falls down inward).
  • the spring member 12 has a thickness of about 1 mm, and the change in moment due to the thermal expansion of the shadow mask 6 is entirely determined by each frame assembled into a frame.
  • Figure 4A shows the moment due to the reaction force F in each figure.
  • the moment M around the point A which is the center point on the center axis of the frame 8 due to the reaction force F
  • M F XL
  • L the shortest linear distance from the upper surface 7a to the center axis.
  • the moment M ′ around the point A due to the reaction force F is the shortest linear distance L ′ from the upper surface 7a to the center axis of the frame 14c.
  • M ' F XL'.
  • the surface 14b of the frame 14 is positioned in the positive direction of the z-axis, that is, on the shadow mask 6 side with respect to the surface 14a.
  • point A is displaced in the positive direction of z-axis. Therefore, the distance L ′ is shorter than the distance L by the distance of 15 steps, so that L ′ ⁇ L, and the relationship of ⁇ holds.
  • the amount of displacement in the z-axis direction due to such a change in the tensile force is proportional to the moment about point A due to the reaction force on the upper surface of the frame 7 that causes the frame 14 to bend.
  • the moment around the point A due to the reaction force of the upper surface 7a of the frame 7 can be reduced, so that the amount of change in the deflection of the frame 14 is reduced, and the z-axis of the upper surface 7a of the frame 7 is reduced.
  • the amount of displacement in the direction can also be reduced. That is, even if the shadow mask 6 is thermally expanded due to the electron beam bombardment, displacement of the shadow mask 6 in the tube axis direction (z-axis direction) can be suppressed, and the Q value shift can be suppressed.
  • the surface 14 b of the frame 14 is a force surface 14 b that is displaced in the positive direction of the z-axis with respect to the surface 14 a.
  • the step between the surface 20a and the surface 20b of the frame 20 is larger than that in the case of FIG. 4B, and the surface 20b is further positive in the z-axis.
  • the surface 20 b is located above the surface of the shadow mask 6.
  • the point A which is the center point on the center axis of the frame 20, is located above the surface of the shadow mask 6, unlike the embodiment shown in FIG. 4B.
  • the direction of the moment M around the point is reversed.
  • the direction of displacement of the upper surface 7a of the frame 7 due to the thermal expansion of the shadow mask 6 is also reversed (positive direction of the z-axis)
  • the displacement of the shadow mask 6 in the positive direction of the z-axis causes Since the shadow mask 6 comes closer to the phosphor screen surface 2a side, a color misregistration correction effect can be obtained.
  • a compressive force is applied to the frame 14 shown in FIG.
  • the radius of curvature on the inner peripheral side of the arc-shaped bent portions 14c and 14d in the crank-shaped portion is preferably 20 mm or more, more preferably 30 mm or more. This is the same in the case of FIG. 5 and the embodiment shown in FIG. 3 described below.
  • FIG. 3 shows an embodiment of a shadow mask structure according to the second embodiment.
  • illustration of the shadow mask 6 is omitted.
  • the frame 18 which is a support of the frame 7 which is a plate-like member has a bent portion, similarly to the frame-shaped body shown in FIG.
  • the bent portion forms a crank-shaped step portion.
  • the face 18b in the crank-shaped step portion is located on the shadow mask 6 side with respect to the face 18a, and a step is formed between the face 18a and the face 18b. Have been.
  • the frame 18 has an extension 18 c extending from the end to the inside in the longitudinal direction of the frame 7, and is fixed by fixing the end of the extension 18 c to the frame 7.
  • the end of the portion 18c is fixed by welding or the like at a portion that enters the inside of the frame 7 in the longitudinal direction. Therefore, at both end portions of the frame 7, the frame 7 and the support 18 are separated from each other. ''
  • the moment around the point A due to the reaction force of the upper surface ⁇ a of the frame 7 can be reduced, and the deflection of the frame 18 can be reduced.
  • the change can be reduced, and even if the shadow mask 6 thermally expands, the displacement of the shadow mask 6 in the tube axis direction can be suppressed, and the q value deviation can also be suppressed.
  • the distribution of the tensile force of the shadow mask 6 in the longitudinal direction of the frame 7 can be easily made into a mountain shape, and the vibration of the shadow mask can be reduced to the free end of the shadow mask. It becomes easy to suppress.
  • the tensile force decreases due to the thermal expansion of the shadow mask 6, the movement of the frame 18, which is the short axis, becomes larger than that of the shadow mask structure 16 as shown in FIG.
  • the stress is absorbed by the extension portion 18c that has entered inside, and the stress on the shaft on which the spring member 12 on the frame 18 is mounted is reduced. Therefore, in this embodiment, the effect of reducing the moment about the point A as described above is more effective.
  • FIG. 1 An example using the shadow mask structure according to the present embodiment as shown in FIG. 1 and a conventional example using the conventional shadow mask structure as shown in FIG. Tables 1 and 2 below show the experimental results comparing the beam movement.
  • Table 1 shows the experimental results when the electron beam was applied to the entire shadow mask
  • Table 2 shows the experimental results when the electron beam was locally applied to the shadow mask.
  • the left and right ends of the shadow mask are irradiated with the electron beam, and the area of the irradiated part is equivalent to 1/5 of the shadow mask area.
  • the EW end means the left and right ends of the shadow mask.
  • the right end is the E end and the left end is the W end when viewed from the shadow mask surface side.
  • “outside” means that the electron beam has moved outward on the phosphor surface.
  • FIG. 6 is a perspective view of a shadow mask structure according to the third embodiment.
  • a support adjustment member 22 is fixed to a frame 14 of the embodiment shown in FIG.
  • the support adjustment member 22 is disposed so as to face the frame 14 via a concave portion formed by a crank-shaped step portion. by c this the both end portions are fixed to the underside of the frame 1 4, improves the stiffness of the frame 1 4 a minor axis, the same effect as the rectangular cross section is obtained.
  • the second moment of area around the horizontal axis 28 is larger than the second moment of area around the axis 27 which is the axis in the pipe axis direction. The strength is improved. That is, in the present embodiment, the effect of increasing the rigidity of the frame 14 is added to the effect of reducing the change in moment in the embodiment of FIGS.
  • the frame 14 has a larger moment of inertia around the horizontal axis (axis 28) than the moment of inertia around the axis (axis 27) in the pipe axis direction. Therefore, the displacement of the frame 1.4 in the tube axis direction (axis 27 direction) is suppressed, but the displacement in the horizontal direction (axis 28 direction) is increased.
  • the frame 14 moves in the horizontal direction in which the frame 14 expands outward, the frame 14 can be displaced in the tube axis direction by using a plate-like spring fixed to the frame 14. . That is, the horizontal displacement of the frame 14 can be used to correct in the tube axis direction.
  • the material of the support adjustment member is made of a material having a larger thermal expansion coefficient than that of the short side frame to which the support adjustment member is fixed. Then, for example, SUS304 is used as the support adjustment member.
  • the present embodiment can prevent the plastic deformation of the shadow mask and the thermal deformation caused by the shadow mask being excessively stretched by the short side frame during the heat treatment in the high temperature region in the frit sealing step or the like. It is possible to prevent a decrease in tensile force due to the cleave phenomenon.
  • the short side frame 14 is concavely curved as shown by the arrow c.
  • a force is applied to the shadow mask in the direction of relaxing the tensile force in the stretching direction, and the tensile force applied to the shadow mask due to a rise in temperature is reduced.
  • the support adjustment member has a larger thermal expansion coefficient than the short side frame. By doing so, it is possible to prevent plastic deformation of the thermal shadow mask in a high-temperature region in a production process such as a frit sealing process.However, providing such a difference in the coefficient of thermal expansion is not effective during operation of the cathode ray tube. It also suppresses the displacement in the direction of the tube axis at. About this, figure? Explanations will be made while using 112.
  • FIG. 7 shows the relationship between the time and the temperature of the short side frame and the support adjusting member during the operation of the cathode ray tube.
  • FIG. 8 shows a perspective view of the internal magnetic shield.
  • the internal magnetic shield 30 shown in this figure has a welding flat portion 31 extending from the main body 30a, and a force portion 32 formed by bending from the flat portion 31. are doing.
  • the main body 30a is formed in a box shape so as to surround the electron beam moving section.
  • FIG. 9 shows a perspective view of one embodiment of the shadow mask structure.
  • the basic structure of the shadow mask structure 33 shown in this figure is the same as that shown in FIG. 6, and the short side frame 35 as a support is fixed to the long side frame 3 '4 as a plate-like member.
  • a shadow mask 36 is fixed to each long side frame 34.
  • a support adjustment member 37 is fixed to the short side frame 35.
  • FIG. 10 is a view as viewed in the direction of the arrow A (FIG. 9) in a state where the internal magnetic shield 30 and the shadow mask structure 33 are joined.
  • FIG. 11 is a cross-sectional view taken along the line I-I '(FIG. 9) in a state where the magnetic shield 30 and the shadow mask structure 33 are joined. As shown in the figure, an electron shield 40 is joined to the internal magnetic shield 30.
  • an electron beam is emitted from the electron gun as shown by the arrow j in FIG. 11, and the temperature inside the cathode ray tube starts to rise. Due to the structure, the electron beam scans at 110% of the effective area of the shadow mask 36, so it exceeds the effective area.3 ⁇ 4 About 5% of the electron beam on one side of the electron beam is at each end. It will hit the Electron Shield 40 (arrow i). Therefore, immediately after the operation of the cathode ray tube, the electron beam strikes the electron shield 40 and the shadow mask 36.
  • the temperature of the inner magnetic shield 30 is reduced by the electron beam impinging on the electron shield 40.
  • the temperature of the support adjusting member 37 joined to the internal magnetic shield 30 by welding also rises.
  • the temperature of the short-side frame 35 has not risen enough to approach the temperature of the support adjustment member 37. This state is shown before the time t1 in FIG. 7, and before the time t1, the temperature of the support adjustment member 37 becomes higher than that of the short side frame 34. I have. Fig.
  • FIG. 12A shows the displacement state of the short side frame '35 when the temperature of the support adjustment member 37 is higher than the temperature of the short side frame 35 before the time t1 in Fig. 7.
  • FIG. 12B it is assumed that the short side frame 35 and the support adjusting member 37 have the same thermal expansion coefficient (the same applies to FIG. 12B).
  • the support adjustment member 37 is higher in temperature than the short side frame 35.
  • the extension of the support adjustment member 37 due to thermal expansion is larger than the extension of the short side frame 35.
  • the support adjustment member 37 since the support adjustment member 37 is fixed to the short side frame 35, the support adjustment member 37 applies a force in the direction of pulling the short side frame 35 (arrow d). As a result, the short side frame 35 is curved concavely as shown by the arrow e, and the shadow mask 36 is displaced in a direction approaching the phosphor surface (the dashed line portion in FIG. 12A). This reduces the Q value.
  • the amount of heat of the short side frame 35 also moves to the support adjusting member 37 due to the temperature rise of the short side frame 35.
  • the support adjustment member 3 7 Is higher than the temperature of the internal magnetic shield 30 joined thereto, so that the amount of heat of the support adjusting member 37 moves to the internal magnetic shield 30. Since the internal magnetic shield 30 has a considerable surface area as shown in FIG. 8, the internal magnetic shield 30 functions as a heat sink, and the temperature of the support adjustment member 37 The rise will be suppressed.
  • FIG. 12B is a diagram showing the displacement of the short side frame 35 when the temperature of the short side frame 35 is higher than the temperature of the support adjustment member 37 in a state after the time t1 in FIG. . Assuming that the support adjustment member 37 is not fixed to the short side frame 35, the temperature of the short side frame 35 is higher than the temperature of the support adjustment member '37. When the short side frame 35 corresponding to and is compared with the short side frame 35, the expansion due to the thermal expansion of the short side frame 35 is larger than the expansion of the support adjustment member.
  • the support adjustment member 37 since the support adjustment member 37 is fixed to the short side frame 35, the support adjustment member 37 applies a force in the direction of compressing the short side frame 35 (arrow f). .
  • the short side frame 35 is curved in a convex shape as shown by the arrow g, and the shadow mask 36 is displaced away from the phosphor surface (the dashed line portion in FIG. 12B). . This increases the Q value. .
  • the thermal expansion coefficient of the support adjusting member 37 is preferably at least 1.2 times the thermal expansion coefficient of the short side frame 35.
  • Rise expansion coefficient 1 8 0 X 1 0 - 7 / ° C may be used short-side frame 35 to the chromium-molybdenum steel (thermal expansion coefficient 1 2 0 X 1 0_ 7 / ° C).
  • the thermal expansion coefficient of the support adjustment member 37 is equal to the thermal expansion coefficient of the short side frame 35, as described above, the temperature difference between the short side frame 35 and the support adjustment member 37 is determined. will be the tube axis direction of displacement due to occur, and if the difference in thermal expansion coefficient is small, c however would not such sufficiently suppressed displacement, even in this case, the short side frame 3 Since the effect of the rigidity up of 5 is obtained, compared to the configuration without the support adjustment member 37, the effect that the displacement of the shadow mask in the tube axis direction at the time of the electron beam collision can be further suppressed is considered. no change.
  • the thermal expansion coefficient of the support adjusting member 37 is larger than the thermal expansion coefficient of the short side frame 35.
  • the spring constant of the force adjusting member 37 in the longitudinal direction may be reduced. This allows The force in the direction (arrow f) to compress the short side frame 35 of the support adjustment member 37 as shown in 1 2B is reduced, so that the displacement of the shadow mask 36 in the tube axis direction is reduced. be able to.
  • FIGS. 13A to 13C are side views of the support adjustment member according to the fifth embodiment in which the spring constant is reduced.
  • Each of the support adjustment members 22 a to 22 c shown in this figure has a projection formed to reduce the spring constant, and each projection has a support adjustment member at a substantially central portion when viewed from the side. It is formed by bending.
  • the support adjustment member 22a shown in FIG. 13A has an inverted V-shaped projection when viewed from the side, and the support adjustment member 22b shown in FIG. A letter-shaped or semicircular projection is formed.
  • the support adjustment member 22c shown in FIG. 13C is obtained by adding a bent shape to the projection shape shown in FIG. 13A.
  • each support adjustment member In order for each support adjustment member to exert a spring effect and reduce the force in the compression direction of the short side frame 35, the projection shape shown in each figure must have a width w within the range of 5 to 5 O mm, Preferably, the height h is between 5 and 50 mm.
  • the spring constant in the longitudinal direction of each support adjustment members 1. 4 7 X 1 0 4 N Zmm less der Rukoto is preferred. Further, in order to reduce the spring constant, the sectional area of each support adjusting member may be reduced.
  • This embodiment is another embodiment for preventing a Q value deviation due to the passage of time.
  • the shadow mask surface approaches or separates from the phosphor surface over time.
  • the orbit of the electron beam changes.
  • FIG. 7B shows a relationship diagram between the time and the amount of electron beam movement. The change in the electron beam trajectory will be described in comparison with the relationship diagram between the time and the temperature shown in FIG. 7A.
  • the movement amount of the electron beam up to time 0 is generated by the thermal expansion of the shadow mask due to the electron beam striking the shadow mask in the initial operation, and the deformation of the frame corresponding to the thermal expansion.
  • the temperature of the support adjustment member is higher than that of the short side frame, so that the thermal expansion of the support adjustment member becomes larger than the thermal expansion of the short side frame.
  • the direction changes to return to the state of, and the beam movement amount decreases once.
  • the short-side frame keeps rising while maintaining the temperature rise rate. It changes in the direction of thermal expansion, and the beam travel increases.
  • the temperature of the support adjusting member and the temperature of the short side frame become the same at time t1
  • the amount of movement of the electron beam becomes the same as at the initial time t0. Thereafter, the beam movement gradually increases, and the beam movement eventually stabilizes.
  • This embodiment suppresses heat conduction between the support adjustment member and the internal magnetic shield, thereby preventing the occurrence of a temperature difference between the support adjustment member and the short side frame that fixes the support adjustment member, This is to stabilize the amount of electron beam movement.
  • FIG. 14A shows a perspective view of the plane portion 31, and FIG. 14B shows a cross-sectional view taken along line II-II of FIG. 14A.
  • a projection 41 is formed on a plane portion 31 of the internal magnetic shield 30.
  • the protruding portion 41 is a portion in which a recess is provided in the flat portion 31 so as to form a concave portion, and the flat portion 31 protrudes toward the support adjustment member 37.
  • 4 2 indicates the welding point, The raised portion 41 and the lower support adjusting member 37 are joined by welding.
  • a gap is formed between the lower surface of the flat portion 31 and the upper surface of the support adjustment member 37, and the internal magnetic shield 30 is formed in the gap.
  • a low thermal conductivity member 43 having a lower thermal conductivity is interposed than the support adjusting member 37. If the inner magnetic shield 30 and the support adjusting member 37 are iron materials, for example, the SS 304 is used as the low thermal conductivity member 43.
  • the electro-magnetic shield as described with reference to FIG. 40 since heat conduction between the flat portion 31 and the support adjusting member 37 is suppressed, the electro-magnetic shield as described with reference to FIG. 40, heat transfer to the support adjusting member 37 via the internal magnetic shield 30 can be cut off. Therefore, the temperature rise of the support adjustment member 37 is mainly due to heat conduction from the short side frame 35. On the other hand, by suppressing the heat conduction between the flat portion 31 and the support adjusting member 37 in this manner, the heat transfer from the support adjusting portion 37 to the flat portion 31 is also suppressed. The heat radiation effect of the internal magnetic shield 30 as described in the above can also be suppressed.
  • FIG. 17A is a diagram showing the relationship between the time and the temperature of the frame and the support adjusting member during the operation of the cathode ray tube according to the present embodiment, and FIG. The relationship between time and the amount of electron beam movement during the operation of the cathode ray tube is shown.
  • the curve shown by the dashed line in FIG. 17A is shown for comparison, and corresponds to the relationship between the time and the electron beam movement amount shown in FIG. 7B.
  • the temperatures of the short-side frame 35 and the support adjustment member 37 rise at the same rising speed after the operation of the cathode ray tube, and after the time t1, the support adjustment member 37 increases. 37 and the short side frame 35 will be stable at the same temperature.
  • the movement amount of the electron beam becomes constant and stable after time t0.
  • the contact area between the flat portion 31 and the support adjustment member 37 is the area at the joint of the protrusions 41. The smaller the contact area, the more the heat conduction between the flat portion 31 and the support adjusting member 37 can be suppressed. For this reason, the contact area is preferably 25% or less, more preferably 5% or less, of the area of one side of the support adjusting member 37.
  • FIG. 15A shows a perspective view of the plane portion 31, and FIG. 15B shows a cross-sectional view taken along line III-III of FIG. 15A.
  • a protruding portion 45 is formed on a plane portion 31 of the internal magnetic shield 30.
  • the protruding portion 45 is a portion in which a recess is provided in a portion between the slits 44 so as to form a concave portion, and the flat portion 31 protrudes toward the support adjusting member 37.
  • Numeral 45 indicates a welding point, and the projection 45 and the lower support adjusting member 37 are joined by welding.
  • the low thermal conductivity member 46 is interposed between the flat portion 31 and the support adjusting member 37.
  • the material of the low thermal conductivity member 46 and the ratio of the contact area at the protrusion 45 are the same as those in the above embodiment. That is, this embodiment is the same as the above-described embodiment shown in FIG. 14 except for the method of forming the protrusions, and the same effects can be obtained.
  • the flat portion 31 and the support adjusting member 37 are also joined via the protrusion.
  • FIG. 16A shows a perspective view of the support adjustment member 37
  • FIG. 16B shows a cross-sectional view taken along line IV-IV of FIG. 16A.
  • a protrusion 47 is formed on the support adjustment member 37.
  • the protrusion 47 is provided with a depression so as to form a recess in the support adjustment member 37 when the support adjustment member 37 is viewed from the back side, and the support adjustment member 37 is attached to the flat portion 3. This is the part protruding to the side.
  • Reference numeral 48 denotes a welding point, and the projection 47 and the flat portion 31 thereon are joined by welding.
  • a low thermal conductivity member 49 is interposed between the flat portion 31 and the support adjustment member 37.
  • the material of the low thermal conductivity member 49 and the ratio of the contact area at the protrusion 47 are the same as those in the above embodiment. That is, this embodiment is the same as the above-described embodiment shown in FIG. 14 except for the method of forming the protrusions, and the same effects can be obtained.
  • the low thermal conductivity member 49 between the flat portion 31 and the support adjusting member 37 may be used. May not be interposed.
  • the support and adjustment member 22 with high expansion is fixed on the back surface of the frame 14, but the surface 14 b of the surface of the frame 14 is attached to the surface 14 b from the frame 14.
  • a low-expansion support adjusting member having a small coefficient of thermal expansion is fixed.
  • a 36% Ni—Fe alloy can be used as the low expansion support adjusting member.
  • the spring member 12 is attached to the frames 14 and 18 via the spring attachment member 11
  • the spring member 12 is attached to the frames 14 and 18.
  • it may be directly attached to the support adjusting member 21.
  • the mounting portion may be a ⁇ -shaped portion formed by the crank-shaped step portion or may be outside the recessed portion, and there is an effect that a spring mounting member becomes unnecessary.
  • the frame 14 may be fixed to the frame 7 'while keeping the frame 14 straight.
  • crank-shaped steps formed on the frames 14 and 18 has been described in the example of a substantially U-shape, but is not limited thereto, and the support adjustment described with reference to FIG. Like the shape of the member, it may be inverted V-shaped (mountain-shaped) or inverted U-shaped (arc-shaped).
  • the shadow mask structure is suspended by four spring members
  • the same effect can be obtained by suspending the shadow mask structure by three spring members.
  • the shadow mask does not necessarily need to be fixed to the upper surface of the frame. I just need.
  • the end portion of the shadow mask may be bent, and the bent portion may be fixed to the upper portion of the side surface of the frame.
  • the present invention since a pair of frames forming the shadow mask structure are formed with the crank-shaped stepped portions, the internal force moment of the shadow mask structure can be reduced, so that the electron beam bombardment can be achieved. Even if the shadow mask thermally expands, the displacement of the shadow mask in the tube axis direction can be suppressed, and the Q value deviation can also be suppressed. In addition, the lateral gaps can be shielded by the iron-based material by the crank-shaped steps of the support, so that the magnetic properties can be improved. Therefore, the present invention can be used for a shadow mask type cathode ray tube used for a television receiver, a computer display and the like.

Landscapes

  • Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)

Description

明 細 書
技術分野
本発明は、 テレビ受像機、 コンピューターディスプレイ等に用いられる シャドウマスク型の陰極線管に関する。 背景技術
従来の力ラー陰極線管の一例の断面図を図 1 8に示す。本図に示した力 ラー陰極線管 1は、内面に蛍光体スクリーン面 2 aが形成された実質的に 長方形状のフェイスパネル 2と、フェイスパネル 2の後方に接続されたフ アンネル 3と、 ファンネル 3のネック部 3 aに内蔵された電子銃 4と、 フ ェイスパネル 2の内部に蛍光体スクリーン面 2 aに対向して設け1られた シャドウマスク 6と.、 これを固定するフレーム 7とを備えている。 また、 電子ビームを偏向走査するために、ファンネル 3の外周面上には偏向ョー ク 5が設けられている。
シャ ドウマスク 6は、電子銃 4から発射される 3本の電子ビームに対し て色選別の役割を果たすものであり、平板に電子ビ一ム通過孔である略ス ロット形の開孔がエッチングにより多数形成されている。 Aは、 電子ビー ム軌跡を示している
シャ ドウマスク 6を固定した板状部材であるフレーム 7は、長手方向の 両端部にフレーム 7の支持体である一対のフレーム 8が固定されている。 これら、一対のフレーム 7及び一対のフレーム 8によって枠状体が形成さ れている。 この枠状体とこれに固定されたシャ ドウマスク 6とで、 シャ ド ゥマスク構体 9を形成している。 一対の上下のフレーム 7には、板状のスプリング取付部材 2 1が固着さ れ、 このスプリング取付部材 2 1にスプリング部材 1 0が固定されている。 一対の左右のフレーム 8には板状のスプリング取付部材 1 1が固着され、 このスプリング取付部材 1 1にスプリング部材 1 2が固着されている。 シャ ドウマスク構体 9のフェイスパネル 2への固定は、スプリング部材 1 0の取付け穴 1 0 aとフェイスパネル 2内面の上下のピン 1 ' 3とを嵌 合させ、スプリング部材 1 2の取付け穴 1 2 aとフェイスパネル 2内面の 左右のピン (図示せず) とを嵌合させることにより行われている。
カラ一陰極線管では、電子ビームの射突によるシャドウマスク 6の熱膨 張によって、 電子ビーム通過孔が変位して、 電子ビーム通過孔を通過する 電子ビームが所定の蛍光体に正しく当たらなくなり、色むらが発生すると いう ドーミング現象が生じる。 このため、 シャ ドウマスク 6の温度上昇に よる熱膨張を吸収できるような引張力をあらかじめ加えて、シャドウマス ク 6をフレーム 7に架張保持することが行われている。 このような、 架張 保持によれば、 シャドウマスク 6の温度が上昇しても、 シャドウマスク 6 の開孔と蛍光体スクリーン面 2 aの蛍光体ストライプとの相互位置のず れを低減することができる。
しかしながら、前記のような従来のカラー陰極線管には以下のような問 題があった。架張保持されているシャ ドウマスク 6に電子ビームが射突し て熱膨張して、 引張力が小さくなると、 シャドウマスク構体 9の内力モ一 メントも変動し、 つり合い状態も変動することになる。 このつり合い状態 の変動により、シャドウマスク 6の開孔と蛍光体スクリーン面 2 aとの間 の距離 (Q値) のずれ、 すなわちシャ ドウマスク 6の管軸方向の位置のず れが生じ、 電子ビームが蛍光体に正しく当たらなくなり、 色むらが発生す るという問題があった。
このような、 シャドウマスク 6の管軸方向の位置のずれによる色むらは、 前記のようなシャドウマスクの架張保持によっても十分に防止できなか つた。 発明の開示
本発明は、 前記のような従来の問題を解決するものであり、 シャドウマ スクの管軸方向の位置のずれを抑え、色むらを防止した陰極線管を提供す ることを目的とする。
前記目的を達成するために、 本発明の陰極線管は、 一対の板状部材と、 前記一対の板状部材が対向 た状態で前記各板状部材と固着して前記各 板状部材を支持する一対の支持体と、引張力が印加された状態で前記各板 状部材に固着されたシャ ドウマスクとを備えた陰極線管であって、前記支 持体は前記シャ ドウマスク側に凸となるように形成されたクランク状の 段差部分を有していることを特徴とする。前記のような陰極線管によれば、 シャ ドウマスク構体の内力モーメントを小さくできるので、電子ビーム射 突によりシャドウマスクが熱膨張しても、シャ ドウマスクの管軸方向の変 位を抑えることができ、 Q値ずれも抑えることができる。 また、 支,持体の クランク状の段差部分により、横方向の空隙を鉄系材料で遮蔽することが 可能となるので、 磁気特性を改善できる。 .
' 前記陰極線管においては、 前記支持体は、 前記板状部材の長手方向にお いて端部から内側に至る延出部を有しており、前記延出部の端部と前記板 状部材とを固着することにより、前記支持体は前記板状部材の長手方向に おける内側に入り込んだ部分で固着されていることが好ましい。前記のよ うな陰極線管によれば、 シャドウマスクの引張力の分布を山型にし易すく なり、 シャ ドウマスクの振動をシャド マスクの自由端部で抑え易くなる c また、 この場合シャドウマスクの熱膨張により、 支持体の動きが大きくな るが、 内側に入り込んだ部分で応力が吸収され、 支持体上のま持体を支持 するスプリング部材を取り付けた軸上への応力が軽減される。 このため、 シャドウマスク構体の内力モーメントを小さくできる効果がより有効に なる。
また、 前記支持体には、 前記クランク状の段差部分で形成された凹み部 分に位置し、前記支持体を支持するスプリング取付部材がさらに固着され ており、 前記スプリング取付部材にはスプリング部材が固着され、 前記ス プリング部材には取付けピンに差し込むための取付け孔が形成されてお り、 前記取付け孔の中心点は、 前記板状部材を固着している部分の前記支 持体の位置に対して、前記シャドウマスク側と反対側に位置していること が好ましい。 前記のような陰極線管によれば、 板状部材上面に加わるシャ ドウマスク引張力の反力による支持部材へのモーメントの変化を小さく できるので、板状部材上面の管軸方向の変位量を小さくすることができる。 また、 '前記支持体には、 前記クランク状の段差部分で形成された凹み部 分又は凹み部分の外部に位置し、前記支持体を支持するスプリング部材が 固着され、前記スプリング部材には取付けピンに差し込むための取付け孔 が形成されており、 前記取付け孔の中心点は、 前記板状部材を固着してい る部分の前記支持体の位置に対して、前記シャドウマスク側と反対側に位 置していることが好ましい。 前記のような陰極線管によれば、 スプリング 部材を直接支持体に取り付けているので、スプリング取付部材が不要とな る。
また、 前記クランク状の段差部分は、 前記支持体の長手方向にお,いて、 直線状に形成された部分を有することが好ましい。前記のような陰極線管 によれば、 シャ ドウマスクの固着されたシャドウマスク構体をフェイスパ ネルに取り付けるための部材を、 支持体に取り付けることが容易になる。 また、 前記クランク状の段差部分のうち、 前記シャ ドウマスク側に変位 した部分における中軸が、前記シャ ドウマスグの面より上側にあることが 好ましい。 前記のような陰極線管によれば、 シャドウマスクの熱膨張によ り、 シャ ドウマスクは、 蛍光体スクリーン面側に近づくことになるので、 色ずれ補正効果が得られる。
また、 前記クランク状の段差部分の折れ曲がり部分は、 円弧状に形成さ れ、前記円弧の内周側の曲率半径は 2 0 mm以上であることが好ましい。 前記のような陰極線管によれば、折れ曲がり部分における過度の応力集中 を防止することができ、 十分な剛性を確保することができる。
また、 前記クランク状の段差部分で形成された凹 部分を介して、 前記 ,支持体と対向するように支持調整部材がさらに固着されていることが好 ましい。 前記のような陰極線管によれば、 モーメント変化を小さくする効 果に、 支持体の剛性アップの効果が加わることになる。 この場合、 断面 2 次モーメン卜が増加するので、 支持体に用いる鋼材の断面サイズを、 より ランクの下のものとすることができる。 さらに、 電子ビーム射突時におけ るシャドウマスクの管軸方向の変位をより抑えることができる。
さらに、 支持体の管軸方向の軸回りの断面 2次モーメントに比べ、 水平 方向の軸回りの浙面 2次モ一メントが大きくなるので、支持体は管軸方向 の変位が抑えられる一方で、 水平方向の変位は増大することになり、 この 水平方向の変位を利用して、 管軸方向の補正も可能になる。
また、 前記支持調整部材には、 前記支持調整部材の長手方向におけるば ね定数を小さくする突起がさらに形成されていることが好ましい。前記の ような陰極線管によれば、陰極線管動作時において支持調整部材が支持体 を圧縮する方向の力を緩和することになるので、シャドウマスクの管軸方 向の変位を低減させることができる。
また、 前記支持調整部材の長手方向におけるばね定数は、 1 . 4 7 X 1 0 4 N /mm以下であることが好ましい。
また、 前記支持調整部材は、 熱膨張係数が前記支持体より大きいことが
0 好ましい。 前記のような陰極線管によれば、 熱処理工程中におけるシャ ド ゥマスクの塑性変形を防止することができる。 さらに、 陰極線管の動作時 における管軸方向の変位を抑えることができる。
また、 前記支持調整部材の熱膨張係数は、 前記支持体の熱膨張係数の 1 . 2倍以上であることが好ましい。
また、 前記支持体より熱膨張係数の小さい支持調整部材が、 前記クラン ク状の段差部分のうち、前記シャドウマスク側に変位した部分における表 面に固着されていることが好ましい。 前記のような陰極線管によれば、 熱 処理工程中におけるシャ ドウマスクの塑性変形を防止することができる。
また、 内部磁気シールドが、 前記支持調整部材に、 断熱材を介して固着 されていることが好ましい。 前記のような陰極線管によれば、 支持体から 内部磁気シールドへの熱伝達を抑え、内部磁気シールドの放熱効果を抑え ることができるので、支持体と支持調整部材とを同じ温度で安定させるこ とができる。 このことにより、 電子ビーム移動量を安定させることができ、 色ずれ防止を図ることができる。
また、 内部磁気シールドが、 前記支持調整部材に固着されており、 前記 内部磁気シールドと前記支持調整部材との接触面積は、前記支持調整部材 の片面の面積の 2 5 %以下であることが好ましい。前記のような陰極線管 によれば、内部磁気シールドと支持調整部材との接触面積が小さいので、 支持体から支持調整部材を経て内部磁気シールドへ伝わる熱伝達を抑え、 内部磁気シールドの放熱効果を抑えることができるので、支持体と支持調 整部材とを同じ温度で安定させることができる。 このことにより、 電子ビ ーム移動量を安定させることができ、 色ずれ防止を図ることができる。 また、 前記内部磁気シールドと前記支持調整部材との接触面積は、 前記 支持調整部材の片面の面積の 5 %以下であることが好ましい。前記のよう な陰極線管によれば、支持体から支持調整部材を経て内部磁気シールドへ 伝わる熱伝達をより確実に抑えることができるので、色ずれ防止がより確 実になる。 '
また、 前記内部磁気シールドと前記支持調整部材との間に、 前記内部磁 気シールド及び前記支持調整部材に比べ熱伝導率の低い部材が介在して いることが好ましい。 前記のような陰極線管によれば、 支持体から支持調 整部材を経て内部磁気シールドへ伝わる熱伝達をさらに確実に抑えるこ とができる。
また、 前記熱伝導率の低い部材の材料は、 S U S 3 0 4であることが好 ましい。
また、 前記内部磁気シールドは前記支持調整部材に、 前記内部磁気シ一 ルド及び前記支持調整部材のうち少なくともいずれかに形成された突起 部を介して接合されており、 前記接触面積は、 前記突起部における接合面 積であることが好ましい。 前記のような陰極線管によれば、 内部磁気シー ルドと前記支持調整部材とを容易かつ確実に接合しつつ、内部磁気シール ' ドと支持調整部材との接触面積を小さくすることができる。 図面の簡単な説明
図 1は、 本発明の一実施形態に係るカラー陰極線管の断面図。
図 2は、 本発明の実施形態 1に係るシャドウマスク構体の斜視図。 図 3は、 本発明の実施形態 2に係るシャ ドウマスク構体の斜視図。 図 4 Aは、従来のシャドウマスク構体に係るモーメン卜の印加状態の一 例を示す図。
図 4 Bは、本発明の '実施形態のシャ ドウマスク構体に係るモーメント の印加状態を示す図。
図 5は、本発明の別の実施形態のシャドウマスク構体に係るモーメント の印加状態を示す図。 図 6は、 本発明の実施形態 3に係るシャドウマスク構体の斜視図。 図 7 Aは、陰極線管動作時におけるフレーム及び支持調整部材の時刻と 温度との関係を示す図。
図 7 Bは、陰極線管動作時における時刻と電子ビーム移動量との関係を 示す図。
図 8は、 内部磁気シールドの一例を示す斜視図。
図 9は、 本発明の実施形態 4に係るシャドウマスク構体の斜視図。 図 1 0は、内部磁気シールドとシャドウマスク構体とを接合した状態に おける図 9の A矢視図。
図 1 1は、内部磁気シールドとシャドウマスク構体とを接合した状態に おける図 9の I一 I線における断面図。
図 1 2 Aは、図 7の時刻 t 1より前の状態における陰極線管動作時のフ レームの変位状態を示す図。
図 1 2 Bは、図 7の時刻 t 1より後の状態における陰極線管動作時のフ レームの変位状態を示す図。
図 1 3 Aは、本発明の一実施形態に係るばね定数を小さくするための突 起を形成した支持調整部材の一例の側面図。
図 1 3 Bは、本発明の一実施形態に係るばね定数を小さくするための突 起を形成した支持調整部材の別の一例の側面図。
図 1 3 Cは、本発明の一実施形態に係るばね定数を小さくするための突 起を形成した支持調整部材のさらに別の一例の側面図。
図 1 4 は、内部磁気シールドと支持調整部材との接合に係る実施例 1 の斜視図。
図 1 4 Bは、 図 1 4 Aの I I一 I I線における断面図リ
図 1 5 Aは、内部磁気シールドと支持調整部材との接合に係る実施例 2 の斜視図。 図 1 5 Bは、 図 1 5 Aの III一 III線における断面図
図 1 6 Aは、内部磁気シールドと支持調整部材との接合に係る実施例 3 の斜視図。
図 1 6 Bは、 図 1 5 Aの IV— IV線における断面図
図 1 7 Aは、本発明の実施形態 6に係る陰極線管動作時におけるフレー ム及び支持調整部材の時刻と温度との関係を示す図。
図 1 7 Bは、本発明の実施形態 6に係る陰極線管動作時における時刻と 電子ビーム移動量との関係を示す図。
図 1 8は、 従来のカラー陰極線管の一例の断面図。 発明を実施するための最良の形態
以下、 図面を参照しながら、 本発明の一実施形態について説明する。 従 来例と同一構成のものは同一番号を付して説明する。
(実施の形態 1 ) - 図 1は、本発明の実施形態 1に係るカラー陰極線管の断面図を示してい る。 図 2は、 図 1のシャドウマスク構体 1 6の斜視図を示している。 図 2 ではシャドウマスク 6の図示は省略している。
板状部材であるフレーム 7の支持体であるフレ一ム 1 4は、折れ曲がり 部分を有しており、 この折れ曲がり部分によってクランク状の段差部分が 形成されている。 このクランク状の段差部分における面 1 4 bは、 面 1 4 aに対して、 シャドウマスク 6側に位置しており、 面 1 4 aと面 1 4 bと の間には段差 1 5が形成されている。 '
' 上下のフレーム 7の各両端部に、左右のフレーム 1 4が溶接等で固着さ れて、 枠状体が形成され (図 2) 、 この枠状体のうちフレーム 7の上面に シャドウマスク 6が固着されてシャ ドウマスク構体 1 6が形成されてい る。 一対の上下のフレーム 7には、 板状のスプリング取付部材 2 1が固着 され、 このスプリング取付部材 2 1にスプリング部材 1 0が固定されてい る。一対の左右のフレーム 1 4には板状のスプリング取付部材 1 1が固着 され、 このスプリング取付部材 1 1にスプリング部材 1 2が固着されてい る。 このことにより、 スプリング部材 1 2の取付け穴 1 2 aは、 フレーム 1 4の長手方向の略中央部に位置している。 また、 フレーム 1 4のクラン ク状部分のうち、 面 1 4 bの形成部分は、 フレーム 1 4の長手方向におい て直線状に形成されているので、スプリング取付部材 1 1の取り付けが容 易である。
シャドウマスク構体 1 6のフェイスパネル 2への固定は、図 1 8の場合 と同様であり、スプリング部材 1 0の取付け穴 1 0 aとフェイスパネル 2 内面の上下のピン 1 3とを嵌合させ、スプリング部材 1 2の取付け穴 1 2 aとフェイスパネル 2内面の左右のピン (図示せず) とを嵌合させること により行われる。
図 4は、 シャ ドウマスク構体に加わるモーメントを比較するための図で あり、 それぞれシャ ドウマスク構体の側面を部分的に示している。 図 4 A は、 図 1 8に示した従来例の場合の構成であり、 図 4 Bは図 1に示した本 実施形態の場合の構成である。 図中の z軸の方向は管軸方向と等しく、 上 側に向かう方向を正とする。
いずれの図の場合も、 シャ ドウマスク 6は、 フレーム 7の上面 7 aに架 張保持されており、シャドウマスク 6は矢印 a方向に引張力が加わってい る。 シャ ドウマスク 6の引張力を Fとすると、 フレーム 7の上面 7 aには、 引張力 Fと同じ大きさの反力 Fが矢印の方向(上面 7 aが内側に倒れ込む 方向) に加わる'ことになる。 なお、 スプリング部材 1 2は厚さ 1 mm程度 のものであり、 シャドウマスク 6の熱膨張によるモ一メン卜変化は、 すべ て枠状体に組み立てられた各フレームにより決定される。
各図において、 反力 Fによるモーメントについてみると、 図 4 Aに示し 、
た従来例の場合は、反力 Fによるフレーム 8の中軸上の中心点である A点 回りのモーメント Mは、上面 7 aから中軸までの最短直線距離を Lとする と、 M=F XLとなる。 すなわち、 図 4 Aに示した状態では、 フレーム 7 の上面 Ί aの反力 Fによる A点回りのモーメン卜 Mが加わった状態でつ り合い状態が保たれていることになる。
このつり合い状態から、 シャドウマスク 6が熱膨張して、 引張力 Fが小 さくなると、 フレーム 7の上面 7 aの反力による A点回りのモ一メント M も小さくなり、 つり合い状態も変動することになる。 図 4 Aの場合では、 熱膨張による引張力 Fの低下により、一点鎖線で示した位置から実線の位 置に移動し、 この状態で再びつり合い状態が保たれることになる。 すなわ ち、 熱膨張により、 フレーム 7の上面 7 aは、 z軸の負方向に Δ ζだけ変 位することになる。実際にはフレーム 8はスプリング部材 1 2の取付け穴 1 2 aで拘束されているため、 Δ zだけ z軸の負方向に変位することにな る。 .
次に、 図 4 Bに示した本実施形態の場合についてみると、 反力 Fによる A点回りのモ一メン M' は、上面 7 aからフレーム 1 4 cの中軸までの 最短直線距離 L ' とすると、 M' =F XL ' となる。 本実施形態の場合は、 フレーム 1 4の面 1 4 bは、 面 14 aに対して、 z軸の正方向すなわちシ ャ ドウマスク 6側に位置している。 これに伴 て、 A点も z軸の正方向に 変位している。 したがって、 距離 L ' は距離 Lに比べ段差 1 5の分短くな つているので、 L ' <Lとなり、 <Μの関係が成り立つ。
すなわち、 図 4 Βに示した状態では、 Μより小さいモーメント] T が加 わった状態でつり合い状態が保たれていることになる。図 4Aの場合と同 様に、 シャドウマスク 6が熱膨張して、 引張力 Fが小さくなると、 モーメ ント M' も小さくなり, つり合い状態も変動することになる。 本図の場合 では、 引張力 Fの低下により、 一点鎖線で示した位置から実線の位置に移 動し、 この状態で再び' pり合い状態が保たれることになる。 このとき、 ' - 点鎖線で示したようにたわんだフレーム 1 4は、解放されるように動く。 すなわち、熱膨張により、フレ一ム 7の上面 7 aは、 z軸の負方向に Δ z ' だけ変位することになる。
ここで、 このような引張力の変動による z軸方向の変位量は、 フレーム 1 4のたわみを発生させるフレーム 7の上面の反力による A点回りのモ ーメントに比例する。 前記のように、 Μ ' <Mであるので、 Δ z ' く Δ z の関係が成り立つ。 したがって、 本実施形態によれば、 フレーム 7の上面 7 aの反力による A点回りのモーメン卜を小さくできるので、フレーム 1 4のたわみの変化量を軽減させフレーム 7の上面 7 aの z軸方向の変位 量も小さくすることができる。 すなわち、 電子ビーム射突によるシャドウ マスク 6が熱膨張しても、 シャ ドウマスク 6の管軸方向 (z軸方向) の変 位を抑えることができ、 Q値ずれも抑えることができる。
図 4 Bに示した実施形態では、 フレーム 1 4の面 1 4 bは、 面 1 4 aに 対して、 z軸の正方向に変位している力 面 1 4 bはシャ ドウマスク 6の 面より下側にある。 図 5に示した実施形態は、 フレーム 2 0の面 2 0 aと 面 2 0 bとの間の段差が、 図 4 Bの場合と比べて大きく、 面 2 0 bがさら に z軸の正方向に変位しており、面 2 0 bはシャドウマスク 6の面より上 側に位置している。
本実施形態によれば、 フレーム 2 0の中軸上の中心点である A点は、 図 4 Bの場合に示した実施形態と異なり、シャドウマスク 6の面より上側に 位置しているので、 A点回りのモーメント Mの方向が逆になる。 このため. シャ ドウマスク 6の熱膨張によるフレーム 7の上面 7 aの変位の方向も 逆 (z軸の正方向〉 になる。 このように、 シャドウマスク 6が z軸の正方 向に変位することにより、 シャ ドウマスク 6は、 蛍光体スクリーン面 2 a 側に近づくことになるので、 色ずれ補正効果が得られることになる。 また、 図 4 Bに示したフレーム 1 4には、 シャドウマスク 6の架張保持 の際に圧縮力が加わり、 架張保持の後においては、 前記のように A点回り のモ一メン卜が加わるので、塑性変形しない程度の一定の剛性が要求され る。 このため、 クランク状部分における円弧状の折れ曲がり部分 1 4 c 、 1 4 dの内周側の曲率半径は 2 0 mm以上であることが好ましく、 3 0 m m以上であることがより好ましい。 このことは、 図 5の場合、 及び以下に 説明する図 3に示した実施形態の場合も同様である。
(実施の形態 2 )
図 3は、実施形態 2に係るシャドウマスク構体の実施形態を示している。 本図では、 シャドウマスク 6の図示は省略している。 本図に示したシャ ド ゥマスク構体 1 7は、 図 2に示した枠状体と同様に、 板状部材であるフレ ーム 7の支持体であるフレーム 1 8は、 折れ曲がり部分を有しており、 こ の折れ曲がり部分によってクランク状の段差部分が形成されている。 この クランク状の段差部分における面 1 8 bは、 面 1 8 aに対して、 シャ ドウ マスク 6側に位置しており、面 1 8 aと面 1 8 bとの間には段差が形成さ れている。
フレーム 1 8は、フレーム 7の長手方向において端部から内側に至る延 出部 1 8 cを有しており、延出部 1 8 cの端部とフレーム 7とを固着する ことにより、延出部 1 8 cの端部はフレーム 7の長手方向における内側に 入り込んだ部分で溶接等により固着されている。 このため、 フレーム 7の 両端部分においては、 フレーム 7と支持体 1 8とは離間している。 ' 本図に示した実施形態の場合も、図 2に示した実施形態の場合と同様に、 フレーム 7の,上面 Ί aの反力による A点回りのモーメントを小さくでき、 フレーム 1 8のたわみ変化を軽減させることができ、 シャドウマスク 6が 熱膨張しても、 シャドウマスク 6 .の管軸方向の変位を抑えることができ、 q値ずれも抑えることができる。 本図に示したような、 シャドウマスク構体 1 7を用いれば、 フレーム 7 の長手方向におけるシャ ドウマスク 6の引張力の分布を山型にし易すく なり、シャドウマスクの振動をシャドウマスクの自由端部で抑え易くなる。 この場合、 シャドウマスク 6の熱膨張により、 引張力が小さくなつた場合 は、 図 2に示したようなシャ ドウマスク構体 1 6に比べて、 短軸であるフ レーム 1 8の動きが大きくなる。 しかしながら、 内側に入り込んだ延出部 1 8 cで応力が吸収され、フレーム 1 8上のスプリング部材 1 2を取り付 けた軸上への応力が軽減される。 このため、 本実施形態では前記のような A点回りのモ一メントを小さくできる効果がより有効である。
図 1に示したような本実施形態に係るシャ ドウマスク構体を用いた実 施例と、図 1 8に示したような従来のシャドウマスク構体を用いた従来例 とで、電子ビーム照射時における電子ビーム移動量を比 した実験結果を 以下の表 1 、 2に示す。
表 1
E W端部 コーナ部
従来例 外 1 5 m 外 2 0 ^ m
実施例 外 5 m 外 7 m
表 2
E W端部 コーナ部
従来例 外外 22 00 00 m 外 1 3 0 m
• 実施例 外外 1l 0O 0O i mm 外 9 0 z m
表 1は、電子ビームをシャドウマスク全体に照射した場合の実験結果で、 表 2は、電子ビームをシャドウマスクに局部的に照射した場合の実験結果 である。 表 2の場合は、 シャ ドウマスクの左右の両端部に、 電子ビームを 照射し、電子ビームを照射した部分の面積はそれぞれシャドウマスク面積 の 1 / 5に相当する。 表 1 、 2において、 E W端部とあるのは、 シャドウマスク左右の両端部 のことであり、 シャドウマスク表面側からみて右側が E端部で、 左側が W 端部である。 実験結果中、 外とあるのは電子ビ一ムが蛍光体面において外. 側に移動したことを意味する。 また、 表 1、 2のいずれの塲合も、 電子ビ ーム量は、 I a = 1 6 5 0 Aとした。
シャ ドウマスクが管軸の負方向 (蛍光体面から遠ざかる方向) に変位す るほど、 電子ビームは蛍光体面において、 外側に移動することになるが、 表 1、 2に示した実施例ではいずれも、 電子ビームの外側への移動量が大 幅に低減されており、シャドウマスクの管軸方向の変位が大幅に低減して いることが分かる。
(実施の形態 3 )
図 6は、実施形態 3に係るシャドウマスク構体の斜視図を示している。 本図では シャ ドウマスク 6の図示は省略している。 本実施形態は、 図 2 に示した実施形態のフレーム 1 4に支持調整部材 2 2を固着したもので ある。 本図に示したように、 支持調整部材 2 2は、 ,クランク状の段差部分 で形成された凹み部分を介して、フレーム 1 4と対向するように配置され ており、支持調整部材 2 2の両端部がフレーム 1 4の裏面に固着している c このことにより、 短軸であるフレーム 1 4の剛性が向上し、 矩形断面と 同様の効果が得られる。 特に、 管軸方向の軸である軸 2 7回りの断面 2次 モーメントに比べ、水平方向の軸である軸 2 8回りの断面 2次モーメン卜 が大きくなるので、 フレーム 1 4は長手方向の湾曲に対して強度が向上す る。 すなわち、 本実施形態では図 2、 3の実施形態におけるモーメント変 化を小さくする効果に、 フレーム 1 4の剛性アップの効果が加わることに なる。
このため、 図 2、 3の実施形態に比べ、 電子ビーム射突時における短軸 のモーメント変化によるシャ ドウマスクの管軸方向の変位をより抑える ことができる。 また、 前記のように剛性アップの効果が加わることにより、 断面 2次モーメン卜が増加するので、支持体に用いる鋼材の断面サイズを、 よりランクの下のものとすることができる。
さらに、 前記のように、 フレーム 1 4は、 管軸方向の軸 (軸 2 7 ) 回り の断面 2次モーメントに比べ、 水平方向の軸 (軸 2 8 ) 回りの断面 2次モ ーメントが大きくなるので、 フレーム 1 .4は管軸方向 (軸 2 7方向) の変 位が抑えられる一方で、 水平方向 (軸 2 8方向) の変位は増大することに なる。フレーム 1 4が水平方向のうちフレーム 1 4が外側に広がる方向に 動いた場合、 フレーム 1 4に固定されている板状のスプリングを用いて、 フレーム 1 4を管軸方向に変位させることもできる。 すなわち、 フレーム 1 4の水平方向の変位を利用して、 管軸方向の補正も可能になる。
(実施の形態 4 )
実施形態 4は、 さらに新たな効果を得るため、 支持調整部'材の材料を、 支持調整部材が固着される短辺フレームより熱膨張係数の大きい材料と したものであり、 短辺フレームが鉄材であれば、 支持調整部材は例えば S U S 3 0 4を用いる。
このことにより、 本実施形態は、 フリッ トシール工程等における高温領 域での熱処理の際に、 シャ ドウマスクが短辺フレームにより過度に引き伸 ばされることにより発生するシャ ドウマスクの塑性変形、及び熱クリーブ 現象による引張力の低下を防止することができる。
すなわち、 高温状態においては、 短辺フレームと支持調整部材との熱膨 張係数の差により、 例えば図 6に示した例では、 短辺フレーム 1 4は矢印 cで示したように凹状に湾曲し、 シャ ドウマスクに対しては、 架張方向の 引張力を緩和する方向に力が加わることになるのセ、温度上昇によるシャ ドウマスクに加わる引張力は軽減されることになる。
前記のように、 支持調整部材を、 短辺フレームより熱膨張係数を大きく することにより、 フリッ トシール工程等の生産工程における高温領域での 熱シャ ドウマスクの塑性変形を防止することができることになるが、 この ように熱膨張係数の差を設けることは、陰極線管の動作時における管軸方 向の変位を抑えることにもなる。 このことについて、 図?〜 1 2を用いな がら説明する。 図 7は、 陰極線管動作時おける短辺フレーム及び支持調整 部材の時刻と温度との関係を示している。線 2 3は短辺フレームの時刻と 温度との関係、線 2 4は支持調整部材の時刻と温度との関係を示している。 図 8は、 内部磁気シールドの斜視図を示している。 本図に示した内部磁 気シールド 3 0は、 本体 3 0 aから延出した溶接用の平面部 3 1と、 この 平面部 3 1から折れ曲がって形成されたス力一ト部 3 2を有している。本 体 3 0 aは、 電子ビーム移動部を囲むように、 箱状に形成されている。 図 9は、 シャ ドウマスク構体の一実施形態の斜視図を示している。 本図に示 したシャ ドウマスク構体 3 3は、基本構成は図 6に示したものと同様であ り、板状部材である長辺フレーム 3' 4に支持体である短辺フレーム 3 5が 固着されており、各長辺フレーム 3 4にはシャ ドウマスク 3 6が固着され ている。 さらに短辺フレーム 3 5には、 支持調整部材 3 7が固着されてい る。 ,
本図では、.支持調整部材 3 7側を表面にして図示しており、 図 8に示し た内部磁気シールド 3 0は、スカー卜部 3 2側がシャドウマスク構体 3 3 に覆い被さるように取付けられ、内部磁気シールド 3 0の平面部 3 1を、 シャドウマスク構体 3 3の支持調整部材 3 7に溶接することにより、双方 が互いに固着される。 例えば図 8に示した平面部 3 1の溶接点 3 8と、 図 9に示した支持調整部材 3 7の溶接^ 3 9とを重ね合わせて溶接される。 図 1 0は、内部磁気シ一ルド 3 0とシャドウマスク構体 3 3とを接合し た状態における A矢視 (図 9 ) 図である。 本図では、 内部磁気シールド 3 0のスカート部 3 2の図示は一部省略しており,平面部 3 1と支持調整部 材 3 7とが接合されていることが分かる。 図 1 1は、 磁気シールド 3 0と シャドウマスク構体 3 3とを接合した状態における I一 I線'(図 9 ) におけ る断面図である。 本図に示したように、 内部磁気シ一ルド、 3 0には、 エレ ク トロンシールド 4 0が接合されている。
陰極線管の動作により、 図 1 1の矢印し jで示したように、 電子銃か ら電子ビームが発射され、陰極線管内部の温度上昇が始まることになる。 構造上、電子ビームはシャドウマスク 3 6の有効面積の 1 1 0 %で走査す るため、 有効面積を超え ¾電子ビームのうち、 片側分の約 5 %の電子ビ一 ムがそれぞれ両端部のエレク トロンシールド 4 0に射突することになる (矢印 i ) 。 したがって、 陰極線管の動作直後から、 電子ビームは、 エレ ク トロンシールド 4 0及びシャ ドウマスク 3 6に射突することになる。 ここで、 エレクト口ンシ一ルド 4 0は、 内部磁気シールド 3 0に溶接に より接合されているので、エレクトロンシールド 4 0に電子ビームが射突 することにより、 内部磁気シ ルド 3 0の温度も上昇する。 内部磁気シ一 ルド 3 0が温度上昇すると、 これと溶接により接合されている支持調整部 材 3 7の温度も上昇する。 この段階では短辺フレーム 3 5は、 支持調整部 材 3 7の温度に接近するほどの温度上昇には至っていない。この状態を示 しているのが、 図 7の時刻 t 1より前の状態であり、 時刻 t 1より前では、 短辺フレーム 3 4より、 支持調整部材 3 7の温度の方が高くなつている。 図 1 2 Aは、 図 7の時刻 t 1より前の状態において、 支持調整部材 3 7 の温度が短辺フレーム 3 5の温度より高い場合の短辺フレ一ム' 3 5の変 位状態を示した図である。 本図では、 短辺フレーム 3 5と支持調整部材 3 7の熱膨張係数が等しいことを前提としている (図 1 2 Bについても同 じ) 。
仮に、支持調整部材 3 7が短辺フレーム 3 5に固着されていないとすれ ぱ、 支持調整部材 3 7の温度が短辺フレーム 3 5の温度より高いので、 支 持調整部材 3 7と、 これと対応する部分の短辺フレーム 3 5とを比較する ' と、支持調整部材 3 7の熱膨張による伸びが短辺フレーム 3 5の伸びより 大きくなる。
実際には、支持調整部材 3 7は短辺フレーム 3 5に固着されているので、 支持調整部材 3 7は、 短辺フレーム 3 5を引っ張る方向 (矢印 d ) に力を 印加することになる。 その結果短辺フレーム 3 5は、 矢印 eで示したよう に凹状に湾曲し、 シャ ドウマスク 3 6は、 蛍光体面に近づく方向に変位す ることになる (図 1 2 Aの一点鎖線部) 。 このことにより、 Q値は小さく なる。
エレク トロンシ一ルド 4 0には、両側分合わせて電子ビームの約 1 0 % 程度が射突するのに対して、 シャドウマスク 3 6には、 大半の電子ビーム が射突する。 このことにより、 シャドウマスク 3 6は温度上昇し、 シャド ゥマスク 3 6の熱量は長辺フレーム 3 4へと移動し、さらに短辺フレーム 3 5へと移動する。 このため、 図 7の時刻 t 1より前の状態のように、 短 辺フレーム 3 5は、支持調整部材 3 7に対して時間遅れで温度上昇するこ とになる。 .
- 短辺フレーム 3 5へは、長辺フレーム 3 4からの熱量移動が継続するの で、 短辺フレーム 3 5は温度上昇し続け、 図 7に示したように時刻 t 1に おいて、 短辺フレーム 3 5と支持調整部材 3 7との温度が等しくなり、 さ らに温度上昇を続ける。 これは、 長辺フレーム 3 4から短辺フレーム 3 5 へ伝わる熱量が、 エレクトロンシールド 4 0、 内部磁気シールド 3 0を経 て支持調整部材 3 7へ伝わる熱量より大きいからである。時刻 t 1以降も、 図 7に示したように、 短辺フレーム 3 5は温度上昇し続け、 所定の温度に 達し安定する。 ,
一方、 短辺フレーム 3 5の温度上昇により、 短辺フレーム 3 5の熱量は、 支持調整部材 3 7にも移動することになる。 この場合、 支持調整部材 3 7 の温度は、 これに接合されている内部磁気シールド 3 0の温度より高くな るので、 支持調整部材 3 7の熱量は、 内部磁気シールド 3 0へと移動する ことになる。 内部磁気シールド 3 0は、 図 8に示したように、 相当量の表 面積を有しているので、内部磁気シールド 3 0は放熱板として作用するこ とになり、 支持調整部材 3 7の温度上昇は抑えられることになる。
すなわち、支持調整部材 3 7と短辺フレーム 3 5との温度が等しくなつ た時刻 t 1以降においても、 短辺フレーム 3 5は、 温度上昇し続けるのに 対して、 支持調整部材 3 7の温度上昇は停止し、 所定温度で安定状態を維 持する。 したがって、 時刻 t 1より後においては、 支持調整部材 3 7と短 辺フレーム 3 5との温度の上下関係が逆転し、短辺フレーム 3 5の温度は、 支持調整部材 3 7の温度より高くなつた状態で安定する。
図 1 2 Bは、 図 7の時刻 t 1より後の状態において、 短辺フレーム 3 5 の温度が支持調整部材 3 7の温度より高い状態における短辺フレーム 3 5の変位を示した図である。 仮に、 支持調整部材 3 7が短辺フレーム 3 5 に固着されていないとすれば、短辺フレーム 3 5の温度が支持調整部材' 3 7の温度より高いので、 支持調整部材 3 7と、 これと対応する部分の短辺 フレーム 3 5とを比較すると、短辺フレーム 3 5の熱膨張による伸びが支 持調整部材の伸びより大きくなる。
実際には、支持調整部材 3 7は短辺フレーム 3 5に固着されているので, 支持調整部材 3 7は、 短辺フレーム 3 5を圧縮する方向 (矢印 f ) に力を 印加することになる。 その結果短辺フレーム 3 5は、 矢印 gで示したよう に凸状に湾曲し、 シャ ドウマスク 3 6は、 蛍光体面から遠ざかる方向に変 位することになる (図 1 2 Bの一点鎖線部) 。 このことにより、 Q値は大 きくなる。 .
図 1 2 Bの場合において、支持調整部材 3 7の熱膨張係数が短辺フレー ム 3 5の熱膨張係数より十分大きければ、 図 1.2 Aの場合のように、 支持 調整部材 3 7は、 短辺フレーム 3 5を引っ張る方向 (矢印 d) に力を印加 することになる。 このため、 短辺フレーム 3 5は、 矢印 eで示したように 凹状に湾曲し、 シャドウマスク 3 6は、 蛍光体面に近づく方向に変位する ことになり、 管軸方向の変位を低減させることができる。
すなわち、 支持調整部材 3 7の熱膨張係数を、 短辺フレーム 3 5の熱膨 張係数より大きくすることにより、 フリットシール工程等の生産工程にお ける高温領域でのシャドウマスクの塑性変形を防止できるだけでなく、陰 極線管の動作時において、短辺フレーム 3 5と支持調整部材 3 7との間の 温度差で生じる管軸方向の変位を抑えることができる。 この場合、 支持調 整部材 3 7の熱膨張係数は、 短辺フレーム 3 5の熱膨張係数の 1. 2倍以 上であることが好ましく、 例えば支持調整部材 3 7に S US 3 04 (熱膨 張係数 1 8 0 X 1 0 -7/°C) 、 短辺フレーム 3 5にクロムモリブデン鋼 (熱膨張係数 1 2 0 X 1 0_7/°C) を用いればよい。
なお、 支持調整部材 3 7の熱膨張係数と、 短辺フレーム 3 5の熱膨張係 数とが等しい場合は、前記のように短辺フレーム 3 5と支持調整部材 3 7 との間の温度差による管軸方向の変位が生じることになり、また熱膨張係 数の差が小さい場合は、 このような変位を十分に抑えられないことになる c しかしながら、 この場合あっても、 短辺フレーム 3 5の剛性アツプとい う効果は得られるので、 支持調整部材 3 7を有しない構成と比べ、 電子ビ —ム射突時におけるシャ ドウマスクの管軸方向の変位をより抑えること ができるという効果には変わりない。
(実施の形態 5)
以上、 陰極線管動作時において、 シャドウマスク 3 6を、 蛍光体面に近 づく方向に変位させるために、 支持調整部材 3 7の熱膨張係数を、 短辺フ ' レーム 3 5の熱膨張係数より大きくした例を説明した力 支持調整部材 3 7の長手方向におけるばね定数を小さくしてもよい。 このことにより、 図 1 2 Bに示したような支持調整部材 3 7の短辺フレーム 3 5を圧縮する 方向 (矢印 f ) の力を緩和することになるので、 シャドウマスク 3 6の管 軸方向の変位を低減させることができる。
図 1 3 A〜Cは、 ばね定数を小さくした実施形態 5に係る支持調整部材 の側面図である。 本図に示した支持調整部材 2 2 a〜2 2 cは、 ばね定数 を小さくするため、 いずれも突起が形成されており、 各突起は支持調整部 材を、 側面から見て略中央部分で曲げ加工して形成したものである。 図 1 3 Aの支持調整部材 2 2 aは、側面から見て逆 V字型の突起が形成されて おり、 図 1 3 Bに示した支持調整部材 2 2 bは、 側面から見て逆 U字型、 又は半円上の突起が形成されている。図 1 3 Cに示した支持調整部材 2 2 cは、図 1 3 Aに示した突起形状にさらに折り曲げ形状を追加したもので ある。
各支持調整部材が、 ばね効果を発揮し、 短辺フレーム 3 5の圧縮方向の 力を緩和するためには、 各図に示した突起形状は、 幅 wが 5〜 5 O m mの 範囲内、 高さ hが 5〜 5 0 mmであることが好ましい。 また、 各支持調整 部材の長手方向におけるばね定数は、 1 . 4 7 X 1 0 4 N Zmm以下であ ることが好ましい。 また、 ばね定数を小さくするため、 各支持調整部材の 断面積を小さくしてもよい。
(実施の形態 6 ) , 本実施形態は、時間の経過による Q値ずれを防止する別の実施形態であ る。 実施形態 4で説明したように、 支持調整部材 3 7と短辺フレーム 3 4 の熱膨張係数が同程度であるとすれば、 時間の経過ともに、 シャ ドウマス ク面が、 蛍光体面に近づいたり離れたりするため、 電子ビーム軌道が変化 する。 図 7 Bには、 時刻と電子ビーム移動量との関係図を示しており、 電 子ビーム軌道の変化について、図 7 Aに示した時刻と温度との関係図と対 比しながら説明する。 時刻 0までの、 電子ビーム移動量は、 動作初期において電子ビームが シャドウマスクに射突することにより、 シャドウマスクが熱膨張し、 この 熱膨張に対応したフレームの変形により発生するものである。時刻 t 0を 過ぎると、 短辺フレームよりも支持調整部材の方が温度が高いため、 支持 調整部材の熱膨張が短辺フレームの熱膨張に比べて大きくなるので、シャ ドウマスクは熱膨張する前の状態に戻る方向に変化し、 ビーム移動量が一 旦小さくなる。
続いて、 支持調整部材の温度上昇が緩やかになるのに対して、 短辺フレ —ムは温度上昇速度を維持したまま、 温度上昇し続けるので、 短辺フレー ムの熱膨張により、 シャドウマスクは熱膨張する方向に変化し、 ビーム移 動量が増加する。時刻 t 1において支持調整部材と短辺フレームとの温度 が同じになると、電子ビーム移動量は初期の時刻 t 0の場合と同じになる。 その後もビーム移動量は次第に増加し、 ビーム移動量は最終的には安定す る。
このような電子ピ一ム移動量の変化は、 T Vセッ 卜の調整を困難にして しまう。 本実施形態は、 支持調整部材と内部磁気シ一ルドとの間の熱伝導 を抑えることにより、支持調整部材とこれを固定している短辺フレームと の間の温度差の発生を防止し、電子ビームの移動量を安定させるためのも のである。
図 1 4に示した実施例は、図 8に示したような内部磁気シールド 3 0の 平面部 3 1と支持調整部材 3 7とを突起部を介して接合したものである。 図 1 4 Aは、 平面部 3 1の斜視図を示しており、 図 1 4 Bは、 図 1 4 Aの I I一 I I線における断面図を示している。 図 1 4 A、 Bにおいて、 内部磁気 シールド 3 0の平面部 3 1には、 突起部 4 1が形成されている。 突起部 4 1は、 平面部 3 1に凹部を形成するように窪みを設け、 平面部 3 1を支持 調整部材 3 7側に突起させた部分である。 4 2は溶接点を示しており、 突 起部 4 1とその下の支持調整部材 3 7とが溶接により接合される。
このことにより、 図 1 4 Bに示したように、 平面部 3 1の下面と支持調 整部材 3 7の上面との間には間隙が形成され、 この間隙内に内部磁気シ一 ルド 3 0及び支持調整部材 3 7より、熱伝導率が低い低熱伝導率部材 4 3 が介在している。内部磁気シールド 3 0及び支持調整部材 3 7が鉄材であ れば、 低熱伝導率部材 4 3には、 例えば S U S 3 0 4を用いる。
本図に示した実施例によれば、平面部 3 1 と支持調整部材 3 7との間の 熱伝導が抑えられるので、実施形態 4で図 1 1を用いて説明したような、 エレク トロンシールド 4 0、内部磁気シールド 3 0を経て支持調整部材 3 7へ伝わる熱伝達を遮断することができる。 したがって、 支持調整部材 3 7の温度上昇は、 専ら短辺フレーム 3 5からの熱伝導によることになる。 一方、 このように平面部 3 1と支持調整部材 3 7との間の熱伝導を抑え たことにより、支持調整部お 3 7から平面部 3 1への熱伝達も抑えられる ので、 実施形態 4で説明したような、 内部磁気シールド 3 0の放熱効果も 抑えることができる。
ここで、 図 1 7 Aは、 本実施形態に係る陰極線管動作時におけるフレー ム及び支持調整部材の時刻と温度との関係を示す図を示しており、図 1 Ί Aは、本実施形態に係る陰極線管動作時における時刻と電子ビーム移動量 との関係を示している。 図 1 7 Aの破線で示した曲線は、 比較のた.め図示 したものであり、図 7 Bに示した時刻と電子ビーム移動量との関係に相当 する。
すなわち、 図 1 7 Aに示したように、 短辺フレーム 3 5と支持調整部材 3 7の温度は、 陰極線管の動作後、 同じ上昇速度で上昇し、 時刻 t 1より 後において、 支持調整部材 3 7と短辺フレーム 3 5とは、 同じ温度で安定 することになる。 このことにより、 図 1 7 Bに示したように、 時刻 t 0以 降においては、 電子ビーム移動量は、 一定値となり安定する。 本実施例では、 図 1 4 Bに示したように、 平面部 3 1と支持調整部材 3 7との間の接触面積は、 突起部 4 1の接合部分における面積となる。 この 接触面積は、小さいほど平面部 3 1 と支持調整部材 3 7との間の熱伝導を 抑えることができる。 このため、 接触面積は、 支持調整部材 3 7の片面の 面積の 2 5 %以下であることが好ましく、 5 %以下であることがより好ま しい。
図 1 5に示した実施例も、図 8に示した内部磁気シールド 3 0の平面部 3 1と支持調整部材 3 7とを突起部を介して接合したものである。図 1 5 Aは、 平面部 3 1の斜視図を示しており、 図 1 5 Bは、 図 1 5 Aの I I I一 I I I線における断面図を示している。 図 1 5 A、 Bにおいて、 内部磁気シー ルド 3 0の平面部 3 1には、 突起部 4 5が形成されている。 突起部 4 5は、 スリツ ト 4 4間の部分に凹部を形成するように窪みを設け、平面部 3 1を 支持調整部材 3 7側に突起させた部分である。 4 5は溶接点を示しており、 突起部 4 5とその下の支持調整部材 3 7とが溶接により接合される。
本実施例においても、平面部 3 1と支持調整部材 3 7との間に低熱伝導 率部材 4 6が介在している。 低熱伝導率部材 4 6の材料、 及び突起部 4 5 における接触面積の比率は、 前記実施例と同様である。 すなわち、 本実施 例は、 突起部の形成方法以外の構成は、 図 1 4に示した前記実施例と同様 であり、 同様の効果が得られる。 ■ 図 1 6に示した実施例も、 平面部 3 1と支持調整部材 3 7とを、 突起部 を介して接合したものである。 図 1 6 Aは、 支持調整部材 3 7の斜視図を 示しており、 図 1 6 Bは、 図 1 6 Aの IV— IV線における断面図を示してい る。
図 1 6 A、 Bにおいて、 支持調整部材 3 7には、 突起部 4 7が形成され ている。 突起部 4 7は、 支持調整部材 3 7を裏面側からみて、 支持調整部 材 3 7に凹部を形成するように窪みを設け、支持調整部材 3 7を平面部 3 1側に突起させた部分である。 4 8は溶接点を示しており、 突起部 4 7と その上の平面部 3 1とが溶接により接合される。 '
本実施例においても、平面部 3 1と支持調整部材 3 7との間に低熱伝導 率部材 4 9が介在している。 低熱伝導率部材 4 9の材料、 及び突起部 4 7 における接触面積の比率は、 前記実施例と同様である。 すなわち、 本実施 例は、 突起部の形成方法以外の構成は、 図 1 4に示した前記実施例と同様 であり、 同様の効果が得られる。
図 1 4〜 1 6に示.した実施例では、平面部 3 1と支持調整部材 3 7との 間を突起部を介して接合した例で説明レたが、突起部を形成することなく、 平面部 3 1 と支持調整部材 3 7 との間にセラミック等の断熱材を介在さ せて接合させてもよい。 この構成では、'図 1 3〜1 5に示した実施例と比 ベ、 容易かつ確実な接合という点では不利になるが、 平面部 3 1と支持調 整部材 3 7とが直接接する部分がなくなるので、断熱効果がより確実にな る。
また、 平面部 3 1 と支持調整部材 3 7との接触面積が小さく、 十分な断 熱効果を発揮できる場合は、平面部 3 1と支持調整部材 3 7との間の低熱 伝導率部材 4 9を介在させない構成としてもよい。
なお、 図 6に示した実施形態では、 フレーム 1 4の裏面に高膨張の支持 調整部材 2 2を固着レた例で示したが、フレーム 1 4表面の面 1 4 bにフ レーム 1 4より熱膨張係数の小さい低膨張の支持調整部材を固着した場 合であっても、 同様の効果が得られる。 この場合の低膨張の支持調整部材 としては、 例えば 3 6 % N i— F e合金を用いることができる。
また、図 2に示した実施形態のフレーム 1 4に支持調整部材を固着した 例で説明したが、図 3に示した実施形態のフレーム 1 8にま持調整部材を 固着しても同様の効果が得られる。
また、 シャドウマスクを一軸で架張した場合、 横方向に空隙ができるた め、 地磁気の磁束が通り易くなり、 そのため電子ビームが動き色ずれが発 生することになる。 前記各実施形態では、 フレームにクランク状の段差部 分を形成することにより、横方向の空隙を鉄系材料で遮蔽することが可能 となるので、 磁気シールド効果が得られることになる。
また、 前記各実施形態では、 スプリング取付部材 1 1を介して、 スプリ ング部材 1 2をフレーム 1 4、 1 8に取り付けた例で説明したが、 スプリ ング部材 1 2をフレーム 1 4、 1 8又は支持調整部材 2 1に、 直接取り付 けてもよい。 この場合の取り付け部分は、 クランク状の段差部分で形成さ れた βΰみ部分でも、 凹み部分の外部でもよく、 スプリング取り付け部材が 不要になるという効果がある。 ,
また、 フレーム 1 4のフレーム 7への固着部分において、 フレ一ム 1 4 を折り曲げている例で説明したが、 フレーム 1 4を直線状のままフレーム 7 'へ固着してもよい。
また、 フレーム 1 4、 1 8に形成したクランク状の段差部分の形状は、 略コの字状の例で説明したが、 これに限る.ものではなく、 図 1 7を用いて 説明した支持調整部材の形状のように、 逆 V字型 (山型) や逆 U字型 (円 弧型) であってもよい。
また、 シャドウマスク構体を 4つのスプリング部材で懸架した例で説明 したが、 3つのスプリング部材で懸架しても同様の効果が得られる。 また、 前記実施形態では、 板状部材である上下フレームの上面にシャド ゥマスクを固着した例で説明したが、シャドウマスクは必ずしもフレーム の上面に固着する必要はなく、 フレームの上部に固着されていればよい。 例えばシャ ドウマスク端部を折り曲げ、 この折り曲げ部をフレーム側面の 上部に固着したものでもよい。 産業上の利用可能性 以上のように、 本発明によれば、 シャドウマスク構体を形成する一対の フレームに、 クランク状の段差部分が形成されているので、 シャ ドウマス ク構体の内力モーメントを小さくでき、電子ビーム射突によりシャドウマ スクが熱膨張しても、 シャドウマスクの管軸方向の変位を抑えることがで き、 Q値ずれも抑えることができる。 また、 支持体のクランク状の段差部 分により、 横方向の空隙を鉄系材料で遮蔽することが可能となるので、 磁 気特性を改善できる。 このため本発明は、 テレビ受像機、 コンピューター ディスプレイ等に用いられるシャ ドウマスク型の陰極線管に用いること ができる。 2
8

Claims

求 の 範 囲
1 . 一対の板状部材と、 前記一対の板状部材が対向した状態で前記各板状 部材と固着して前記各板状部材を支持する一対の支持体と、引張力が印加 された状態で前記各板状部材に固着されたシャ ドウマスクとを備えた陰 極線管であって、前記支持体は前記シャドウマスク側に凸となるように形 成されたクランク状の段差部分を有していることを特徴とする陰極線管。
2 . 前記支持体は、 前記板状部材の長手方向において端部から内側に至る 延出部を有しており、前記延出部の端部と前記板状部材とを固着すること により、前記支持体は前記板状部材の長手方向における内側に入り込んだ 部分で固着されている請求の範囲第 1項に記載の陰極線管。
3 . 前記支持体には、 前記クランク状の段差部分で形成された凹み部分に 位置し、前記支持体を支持するスプリング取付部材がさらに固着されてお り、 前記スプリング取付部材にはスプリング部材が固着され、 前記スプリ ング部材には取付けピンに差し込むための取付け孔が形成されており、前 記取付け孔の中心点は、前記板状部材を固着している部分の前記支持体の 位置に対して、前記シャドウマスク側と反対側に位置している請求の範囲 第 1項に記載の陰極線管。
4 . 前記支持体には、 前記クランク状の段差部分で形成された凹み部分又 は凹み部分の外部に位置し、前記支持体を支持するスプリング部材が固着 され、前記スプリング部材には取付けピンに差し込むための取付け孔が形 成されており、 前記取付け孔の中心点は、 前記板状部材を固着している部 分の前記支持体の位置に対して、前記シャドウマスク側と反対側に位置し ている請求の範囲第 1項に記載の陰極線管。
5 . 前記クランク状の段差部分は、.前記支持体の長手方向において、 直線 状に形成された部分を有する請求の範囲第 1項に記載の陰極線管。
6 . 前記クランク状の段差部分のうち、 前記シャドウマスク側に変位した 部分における中軸が、前記シャドウマスクの面より上側にある請求の範囲 第 1項に記載の陰極線管。 '
7 . 前記クランク状の段差部分の折れ曲がり部分は、 円弧状に形成され、 前記円弧の内周側の曲率半径は 2 0 mm以上である請求の範囲第 1項に 記載の陰極線管。
8 . 前記クランク状の段差部分で形成された凹み部分を介して、 前記支持 体と対向するように支持調整部材がさらに固着されている請求の範囲第 1項に記載の陰極線管。
9 . 前記支持調整部材には、 前記支持調整部材の長手方向におけるばね定 数を小さくする突起がさらに形成されている請求の範囲第 8項に記載の 陰極線管。
1 0 . 前記支持調整部材の長手方向におけるばね定数は 1 . 4 7 X 1 0 4 N /mm以下である請求の範囲第 8項に記載の陰極線管。
1 1 . 前記支持調整部材は、 熱膨張係数が前記支持体より大きい請求の範 囲第 8項に記載の陰極線管。
1 2 . 前記支持調整部材の熱膨張係数は、 前記支持体の熱膨張係数の 1 . 2倍以上である請求の範囲第 1 1項に記載の陰極線管。
1 3 . 前記支持体より熱膨張係数の小さい支持調整部材が、 前記クランク 状の段差部分のうち、前記シャドウマスク側に変位した部分における表面 に固着されている請求の範囲第 1項に記載の陰極線管。
1 4 . 内部磁気シールドが、 前記支持調整部材に、 断熱材を介して固着さ れている請求の範囲第 8項に記載の陰極線管。
1 5 . 内部磁気シールドが、 前記支持調整部材に固着されており、 前記内 部磁気シールドと前記支持調整部材との接触面積は、前記支持調整部材の 片面の面積の 2 5 %以下である請求の範囲第 8項に記載の陰極線管。
1 6 . 前記内部磁気シールドと前記支持調整部材との接触面積は、 前記支 持調整部材の片面の,面積の 5 %以下である請求の範囲第 1 5項に記載の 陰極線管。 ·
1 7 . 前記内部磁気シールドと前記支持調整部材との間に、 前記内部磁気 シ一ルド及び前記支持調整部材に比べ熱伝導率の低い部材が介在してい る請求の範囲第 1 5項に記載の陰極線管。
1 8 . 前記熱伝導率の低い部材の材料は、 S U S 3 0 4である請求の範囲 第 1 7項に記載の陰極線管。
1 9 . 前記内部磁気シールドは前記支持調整部材に、 前記内部磁気シール ド及1び前記支持調整部材のうち.少なくともいずれかに形成された突起部 を介して接合されており、 前記接触面積は、'前記突起部における接合面積 である請求の範囲第 1 5項に記載の陰極線管。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100414488B1 (ko) * 2002-02-06 2004-01-07 엘지.필립스디스플레이(주) 음극선관

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100335113B1 (ko) * 2000-05-16 2002-05-04 구자홍 음극선관용 프레임구조
US6727638B2 (en) * 2000-12-22 2004-04-27 Thomson Licensing S.A. Shield for a tension masks in a cathode ray tube
JP3882514B2 (ja) * 2001-03-08 2007-02-21 松下電器産業株式会社 カラー陰極線管
KR20030095623A (ko) * 2002-06-12 2003-12-24 삼성에스디아이 주식회사 음극선관용 마스크 조립체
EP1469502A1 (de) * 2003-04-14 2004-10-20 MT Picture Display Germany GmbH Farbbildröhre mit verbesserter Abschirmung
WO2007027183A1 (en) * 2005-08-30 2007-03-08 Thomson Licensing Spring for connecting a support frame to panel studs within a cathode ray tube
US7674148B2 (en) * 2006-02-10 2010-03-09 Griffin Todd R Shadow mask tensioning method

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11317176A (ja) * 1998-04-30 1999-11-16 Matsushita Electron Corp カラー陰極線管
JP2000048735A (ja) * 1998-07-27 2000-02-18 Mitsubishi Electric Corp 陰極線管

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU4177168A (en) * 1968-08-07 1968-09-12 Radio Corporation Of America Method of fabricating and processing cathode ray tubes
JPH04126341A (ja) * 1990-06-05 1992-04-27 Sony Corp カラー陰極線管
JP3271214B2 (ja) * 1993-09-27 2002-04-02 ソニー株式会社 ブラウン管の色選別電極架張フレームとその製造方法
JP3466760B2 (ja) 1995-03-29 2003-11-17 株式会社東芝 カラー受像管
JPH10255677A (ja) * 1997-03-07 1998-09-25 Sony Corp カラー陰極線管の色選別機構
KR100544112B1 (ko) * 1999-03-29 2006-01-23 삼성에스디아이 주식회사 음극선관용 마스크프레임 어셈블리
KR20010069126A (ko) * 2000-01-12 2001-07-23 구자홍 평면 브라운관의 프레임 어셈블리 구조

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11317176A (ja) * 1998-04-30 1999-11-16 Matsushita Electron Corp カラー陰極線管
JP2000048735A (ja) * 1998-07-27 2000-02-18 Mitsubishi Electric Corp 陰極線管

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP1209717A4 *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100414488B1 (ko) * 2002-02-06 2004-01-07 엘지.필립스디스플레이(주) 음극선관

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