WO2001016061A1

WO2001016061A1 - Procede de production de 2,6-dimethylnaphtalene

Info

Publication number: WO2001016061A1
Application number: PCT/JP2000/005844
Authority: WO
Inventors: Koji Yamamoto; Seiichi Yamamoto; Takeharu Tanaka; Masahiro Motoyuki; Shingo Yoshida
Original assignee: Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho
Priority date: 1999-08-31
Filing date: 2000-08-30
Publication date: 2001-03-08
Also published as: BR0013824A; CA2381862A1; KR20020024334A; MXPA02002225A; EP1209139A1; EP1209139A4; AU6864100A; JP2001139503A; US6894202B1

Description

明細書 2 , 6—ジメチルナフタレンの製造方法技術分野

本発明は、ポリエステルなどの製造に用いられる 2 , 6—ナフ夕レンジカルボン酸の原料等として有用な 2， 6 —ジメチルナフタレンの製造方法に関するものである。背景技術

ポリエチレンナフ夕レートを主体とする繊維ゃフイルム等の製造に用いられるポリエチレンナフ夕レートが優れた特性を発揮するには、重合原料のモノマ一成分である 2， 6—ナフタレンジカルボン酸が高純度のものであることが必要であり、従って該モノマー成分を得るための 2， 6—ジメチルナフタレン（以下、メチル基の置換位置を問わずにジメチルナフタレンを言うときは DMNと略記する）も高純度であることが要望されている。尚、 DMNには 1 0種類の異性体が存在し、 2， 6 - D MNとしては他の 9種類の異性体等をほとんど含まない高純度のもの (できれば 9 9 %以上）を用いることが望まれている。

上記 2 , 6— D MNの製造方法には、オルトキシレンとブタジエンから 1， 5— DMNを製造し、それを異性化して得られる異性体混合物から 2 , 6— D MNを分離する方法や、ナフタレンまたはメチルナフタレンをメチル化した後に異性化し分離する方法等があり、更にはタール留分や石油留分から分離する方法等もある。但し、これらの留分ゃ生成物は 2 , 6— DMN以外の多くの異性体を含む DM N異性体含有混合物である為、この DMN異性体含有混合物から 2 , 6 — DMNを分離する必要がある。しかしながら、 DMN異性体の沸点は非常に近接しており、有機化合物の分離精製に汎用されている蒸留操作だけで 2， 6 -DMN を高純度に精製することは困難である。そこで、この 2 , 6— DMNの分離方法として、結晶化による方法や吸着による方法が提案されており、更には、ある種の有機化合物を用いて錯体を形成させて分離した後、この錯体を分解する方法や、これらの方法を組み合わせた方法等が提案されている。結晶化による冷却晶析法は、 1 0種類の D MN異性体の中で 2 , 6— DMNの凝固点が最も高いという特性を利用するものであり、上記の方法の中では、冷却晶析法が最も簡便で、工業的分離方法として適している。但し、冷却晶析法のみで 2， 6— D MN純度を 9 9 %以上の高純度まで高めるのは難しく、これに溶剤による処理などのプロセスを組み合わせて用いるのが一般的である。例えば特開昭 4 8— 5 7 6 7号公報，特開昭 4 8 — 2 2 4 4 9号公報，特公昭 5 0— 2 2 5 5 3号公報では、 DMN異性体混合物を冷却晶析した後、吸引濾過により固液分離し、得られた固体成分を溶剤で溶解させ冷却晶析する方法が開示されている。しかしながら、これらの先行技術は、 1 0種類の D MN異性体の中で、 2， 6 _ DMN、 1 , 6 - DMN、 1， 5 _DMNといった相互に異性化し易く、且つ分離し易い DMNを主体とした DMN混合物を出発原料としており、 2 , 6— DM Nとの分離が困難な 2 , 7 — DMNの量を 5モル％ (ほぼ 5質量％と同量）未満に限定した特別な DMN混合物を用いるものである。通常の D MN製造工程で得られる DMN異性体含有混合物は、 2， 7— DMNを 5質量％以上含有することが一般的であり、前記先行技術に基づいて、 2 , 7— DMNを 5質量％以上含有する DM N異性体含有混合物を出発原料として用いた場合には、高純度な 2， 6 — DMNを得ることは困難であった。

本発明は上記事情に着目してなされたものであって、 2 , 7 - D MN を 5質量％以上含有する DMN異性体含有混合物を出発原料として用いた場合であっても、高純度な 2， 6— DMNを得ることのできる 2， 6 一 DMNの製造方法を提供しょうとするものである。発明の開示

上記課題を解決することのできた本発明の 2 , 6 —ジメチルナフタレンの製造方法とは、 2， 6 —ジメチルナフタレンを含有するジメチルナフタレン含有混合物に冷却晶析を施し、固液分離して得られた固体成分を溶剤で洗浄処理することにより、高純度 2， 6—ジメチルナフタレンを製造する方法であって、冷却晶析後の固液分離工程に圧搾濾過を組込んで行うことを要旨とするものである。

また本発明は、 2， 6 —ジメチルナフタレンを含有するジメチルナフタレン含有混合物に冷却晶析を施し、固液分離して得られた固体成分を溶剤で洗浄処理することにより、高純度 2 , 6 —ジメチルナフタレンを製造するに際して、該洗浄処理を複数回行ない、第 2回以降の洗浄処理で得られる洗浄母液の全部または一部を、該洗浄より前の洗浄処理に用いる溶剤としてもよい。

この際、上記ジメチルナフタレン含有混合物が、ジメチルナフタレン異性体の混合物であつてもよい。

本発明方法において上記圧搾濾過の圧力は、 l O k g Z c m ²以上が望ましく、圧搾濾過にはチューブプレスでおこなうことが推奨される。更に 2 , 7 —ジメチルナフ夕レンの含有量が 5質量％以上であるジメチルナフ夕レン混合物を出発原料としてもよく、また 2， 6—ジメチルナフタレンの含有量が 2 5質量％未満のジメチルナフタレン混合物に対して冷却晶析を行ってもよく、いずれにしても高純度 2， 6—ジメチルナフ夕レンを製造することができる。

特に、 2， 6 —ジメチルナフタレンの純度が 8 0 %以上である上記固体成分を溶剤で洗浄し、次いで固液分離と蒸留を行うことにより 9 9 % 以上の高純度 2 , 6— D M Nを得ることができる。尚、洗浄に用いる上記溶剤としては、炭素数 5 〜 1 0 の脂肪族炭化水素および Z又は脂環族炭化水素を用いることが好ましい。図面の簡単な説明

第 1図は本発明方法の代表例を示す概略説明図である。

第 2図は圧搾濾過の代表例であるチューブプレス方法を示す説明図である。

第 3図は本発明の方法の代表例を示す概略図である。発明を実施するための最良の形態

2， 7 — DMNを 5質量％以上含む D MN異性体含有混合物を出発原料として、冷却晶析 · 濾過により 2， 6— DMNを分離する場合、 DM N異性体含有混合物を冷却して結晶化せしめると DMN異性体含有混合物のスラリー粘度が高くなり、このスラリーを吸引濾過して 2， 6— D MNを得ようとしても、母液との分離効率が悪く、高純度の 2 , 6 - D MNを得ることが困難である。

本発明者らは、特に 2， 7— DMNを 5質量％以上含む DMN異性体含有混合物を出発原料に用い高純度 2， 6— DMNを得ることを最重要課題として鋭意研究を重ねた結果、冷却晶析後の固液分離工程に圧搾濾過を組み込むことにより、 2， 7— DMNを 5質量％以上含む DMN異性体含有混合物を用いても高純度の 2， 6— DMNを製造することができることを見出し、本発明に想到した。

固液分離工程では、冷却晶析後スラリーを遠心分離など母液の一部を取り除く操作に供してから圧搾濾過を行なってもよく、あるいは冷却晶析後、得られたスラリーを直接圧搾濾過することが望ましい。

圧搾濾過方法には、チューブプレス，フィル夕一プレス，プレートプレス，ケージプレス，ベルトプレス，スクリユープレス，円板プレス等の方法があるが、工業的規模で大量に生産するにあたっては、高い圧力で圧榨を行うことのできる圧搾濾過方法が望ましく、 1 0 0 k g/c m² 以上の高圧力を付加することのできるチューブプレスが特に好ましい。

なお、チューブプレスの基本原理は第 2図の（ a ), ( b ) に示す通りであり、例えば、金網に炉布を巻いた孔あき円筒体 1 1 とその内側に設けられたゴム製円筒体 1 2を同心状に配置し、両円筒体間の環状の隙間にスラリー 1 3を供給し、上記ゴム製円筒体内に高圧液体を送入して前記孔あき円筒体 1 1の外側に濾液を搾りだすことによりスラリー 1 3の圧搾を行うものである。上記チューブプレスは、汚泥処理の分野等で利用されていたが、有機化学工業の分野では、生ゴム製のゴム膜が有機溶剤に溶けてしまうことから利用されなかった。但し、最近では上記ゴム膜として、有機溶剤に不溶性のフッ素系エラストマ一（ポリフルォロカ一ボン；例えば、 Du pont 社製「Viton」）が開発されており、本発明方法にもチューブプレスが適用可能である。

本発明において冷却晶析に供される DMN異性体含有混合物としては. 2， 7 — DMNを 5質量％以上含むものであっても差し支えないが、 2 , 6— D MN濃度は 1 0質量％以上のものが好ましく、出発原料の 2 , 6 _ D MN濃度が 1 0質量％未満の場合には、 2 , 6— DMN純度の低い D MN異性体含有混合物を蒸留し、 2 , 6— DMN濃度を 1 0質量％以上に濃縮することが望ましい。

この DMN異性体含有混合物を冷却晶析にかけ、得られたスラリーを圧搾濾過により固液分離を行い、高純度の 2， 6— DMNを得る。固体成分の DMN異性体含有混合物結晶は溶剤中に投入して洗浄処理を行う < 洗浄後のスラリー状結晶を遠心分離などの一般的な方法で固液分離し、分離された固体を蒸留操作にかけ、溶剤を除去することによって、高純度の 2， 6— DMNを得ることができる。

尚、冷却晶析後の DMN異性体含有混合物中には、 2， 6— DMN以外にも 9種の DMN異性体や、その他のアルキルナフ夕レン類が含まれており、ほとんどの成分は液体の状態（一部は固体）で存在している。これらの異性体が固液分離後の結晶中に多く含まれると、その後の洗浄処理によっても高純度の 2， 6— DMNを得ることは困難である。高純度の 2， 6— DMNを得るためには、冷却晶析後の圧搾濾過によって、十分に固液分離を行うことが肝要である。従って、圧搾濾過時の圧力は高ければ高い程よく、 1 0 k g / c m²以上が望ましく、 5 0 k gZ c m²以上であればより望ましく、 8 0 k g / c m ²以上であれば更に望ましい。

この冷却晶析及び圧搾操作によって D MN異性体含有混合物中の 2 ,

6— DMN純度を 8 0 %以上にまで高めることが望ましい。 2， 6— D MN純度が 8 0 %以上の DMN異性体含有混合物中に液体の状態で存在する不純物は、溶剤を用いた洗浄処理によって容易に除去することができ、最終的に 9 9 %以上の高純度を達成できる。この冷却晶析と圧搾濾過の操作を 1回（以下、 1回の操作を「単段」ということがある。）行つただけでは、 2， 6— DMNの純度が 8 0 %以上にならない場合、冷却晶析と圧搾濾過の操作を繰り返し（以下、繰り返し操作を「多段」ということがある。）、 DMN異性体含有混合物結晶中の 2 , 6— DMN純度を 8 0 %以上にまで高めることが望ましい。尚、 2， 6— DMNと 2，

7— DMNは構造や物性が似ているため、良く似た挙動を示し、固液分離後の DM N異性体含有混合物結晶中に固体の状態で存在する不純物の多くは 2 , 7— DMNであると考えられるが、 2， 6— DM N純度を 8 0 %以上まで高め、結晶中の 2， 7— DMN濃度を低くしておけば、液体で存在する 2， 6— DMN、 2， 7 _ DMN以外の DMN異性体ゃァルキルナフタレン類が溶媒の働きをして 2， 7— DMNを溶かすため、この 2， 7— DMNの多くも他の液状で存在する不純物と同様に、容易に除去することができる。逆に、 2， 6 _ D MN純度が 8 0 %未満であると、結晶で存在する 2， 7— D MNが増えてしまい、洗浄だけで除去することが困難になる。そして、固液分離後の DMN異性体含有混合物結晶中に微小量、固体の状態で残存する 2 , 7一 DMNに関しても、 2，

6— DMNと 2 , 7— DMNでは 2， 7— D M Nの方が溶剤に対する溶解度が大きく、 2， 7— DMNが優先的に溶剤中に溶け出すため、溶剤を用いた洗浄処理によって、 DMN異性体含有混合物結晶中から 2， 7 一 DMNを抽出除去することが可能である。本発明で洗浄処理に用いられる溶剤は、操作温度条件において液体であり、 D M Nとの分離が容易であれば特に制限はないが、脂肪族炭化水素や脂環族炭化水素が好適に用いられる。脂肪族炭化水素や脂環族炭化水素の炭素数は 5 〜 1 0 が好ましく、例えばへキサンやオクタン等が挙げられる。

溶剤の使用量は 2 ， 6 — D M Nを主たる成分とする D M N異性体含有混合物結晶に対して、質量にして好ましくは 1 Z 3倍量以上、より好ましくは 1 倍量以上、好ましくは 5 0倍量以下、より好ましくは 5倍量以下であればよい。また洗浄処理は、好ましくは— 1 0 以上、より好ましくは 5 T:以上、好ましくは 4 5 °C以下、より好ましくは 3 0で以下の温度範囲で行なうことが望ましい。

上述した様に溶剤を用いた洗浄処理によって、 D M N異性体含有混合物結晶中から 2 , 7 — D M Nを抽出除去することが可能であるが、 2 ， 7 —ジメチルナフタレン濃度が高い場合、 1 回の洗浄処理では 9 9 %以上の高純度の 2 ， 6 — D M Nが得られないことがある。この様な場合、洗浄処理を複数回行なうことによって、高純度に 2 ， 6 — D M Nを精製することが可能となる力、単に溶剤を用いて洗浄処理を複数回行なっただけでは 2 ， 6 一 D M Nの収率が大幅に低下することがある。従ってこの様な収率低下を防ぐには、洗浄処理を複数回行なう際に、第 3 図で例示する様に第 2 回目以降の洗浄処理で得られる洗浄母液を、該洗浄処理より前の洗浄処理における洗浄溶剤として使用することによって、収率を低下させることなく 2 ， 6 — D M Nの純度を向上させることが可能となる。

即ち洗浄処理で得られる洗浄母液は 2 ， 6 - D M Nの飽和溶液であるので、この溶液を用いて洗浄を行なっても、新たに 2 , 6 一 D M Nが溶液中に溶け出すことが無いためである。一方、 2 ，

6 一 D M N以外の不純物は飽和に達していないため、この溶液中に溶け出してくる。このため、洗浄処理で得られる洗浄母液をその洗浄処理以前の洗浄処理における洗浄溶剤として使用することで、 2 , 6 — D M Nの収率を低下させることなく、純度を向上させることが可能となる。

尚、この様な複数回の洗浄処理に供する固体成分は、冷却晶析を施し、上記した様な圧搾濾過によって得られたものが望ましいが、該圧搾濾過以外の方法によって固液分離し、得られた固体成分であってもよい。

本発明において、圧榨により得られた D M N異性体含有混合物結晶は大きなブロック状の固まりであり、これをそのまま溶剤中に導入して洗浄を行なっても、固まりの内部にある不純物を取り除くことが難しく、効率が良くない。このため、洗浄槽の外部に循環ポンプを設置し、洗浄槽内のスラリーを循環させ、湿式破碎機を用いて洗浄に供するケーキを破碎することにより洗浄効率を上げることが望ましい。

蒸留によって高純度 2 , 6— D M Nから分離された溶剤や、固液分離によって分けられた溶剤は蒸留操作によって溶質を除去した後、洗浄処理に再利用することが可能である。

以下、本発明を図面を用いて説明するが、下記の説明図は本発明を限定する性質のものではなく、前 · 後記の趣旨に基づいて設計変更することはいずれも本発明の技術的範囲内に含まれるものである。

第 1図は本発明の代表例を示す概略説明図であり、冷却晶析と圧搾濾過を 2段にした場合の例である。

原料である D M N異性体含有混合物は、第 1冷却晶析装置 1 に導入されて、 2， 6 — D M Nの凝固点以下に冷却された後、第 1圧榨濾過装置 2に送られる。冷却により得られた晶析物は、ここで液体（母液）と固体（結晶）に固液分離され、母液はポンプ P 1 により系外または前工程に送給される。一方、結晶は第 2冷却晶析装置 3に送られ、 1段目同様に冷却によって晶析され、その後、第 2圧搾濾過装置 4において固液分離される。ここで母液はライン L iを介して第 1冷却晶析装置 1 に返送される。また、結晶はライン L ₂を介して、洗浄槽 5へ送られる。上記結晶は洗浄槽 5において、ライン L ₃から導入される溶剤と混合され、攪拌洗浄される。攪拌洗浄中、洗浄槽内のスラリーは外部の湿式破砕機 6に送られ、ケーキの破砕が行なわれた後、洗浄槽 5に戻される。攪拌洗浄後、スラリーはライン L ₄を介して次の固液分離工程に送られる（以下、固液分離工程として遠心分離器を用いた例を示すが、その他の固液分離方法も適用可能である。）。遠心分離器 7により固液分離された 2， 6— DMNケーキはライン L ₅を介して溶融槽 8に送られ、そこで溶融後、ライン L ₆を介して蒸留塔 9に送られる。蒸留塔 9では溶剤成分と、製品である高純度 2， 6— D M Nに分離される。高純度 2， 6 - D MN はライン L ₇を介して製品として取り出される。一方、溶剤はライン L ₈ からライン L ₃を介して洗浄槽 5に返送される。

また、遠心分離器 7により分離された溶剤はライン L ₉を介して蒸留塔 1 0に送られ、溶剤成分と、 DMN混合物成分に分離される。上記溶剤成分はライン L ₃を介して洗浄槽 5に返送され、一方、上記 DMN混合物成分はライン。を介して第 1冷却晶析装置 1 に返送される。

また第 3 図は、洗浄処理を複数回行なう場合の 2， 6 — D M N の製造方法を例示する該略図であるが、洗浄処理は上述した通り、目的に応じて洗浄処理回数を増減することが可能である。上述した様に圧搾濾過にて固液分離して得られた結晶（固体成分）は、ラインし ₂を介して洗浄槽 5 Aへ送られる。上記結晶は洗浄槽 5 A において、ライン L ₃から導入される溶剤と混合され、攪拌洗浄される。攪拌洗浄中、洗浄槽内のスラリーは外部の湿式破砕機 6 に送られ、ケーキの破壊が行なわれた後、洗浄槽 5 Aに戻される。攪拌洗浄後、スラリーはライン L ₄を介して次の固液分離工程（遠心分離器 7 ) に送られる。遠心分離器 7 Aにより固液分離された 2 , 6 一 D M Nケーキは L ₆を介して第 2洗浄槽である洗浄槽 5 B へ送られる。

また、遠心分離器 7 Aにより分離された洗浄母液はライン L ₅ を介して蒸留塔 9 に送られ、溶剤成分と低純度 2 ， 6 — D M Nに分離される。尚、蒸留塔 9 によって分離された溶剤成分はライン L ₈からラインを介して第 2洗浄槽である洗浄槽 5 Bへ送られる。洗浄槽 5 Bではラインから導入される溶剤と混合され洗浄槽 5 Aと同様の攪拌洗浄が行なわれる。攪拌洗浄後、スラリ一は固液分離工程に送られる。ここでは固液分離工程に遠心分離器を用いた例を示すが、その他の固液分離方法も適用可能である。遠心分離機 7 B により固液分離された 2 , 6 — D M Nケーキはライン L ₉を介して溶融槽 8 に送られ、そこで溶融後、ライン L _{1 Q} を介して蒸留塔 9 Bに送られ、溶剤成分と、高純度 2， 6 — D M Nに分離される。上記溶剤成分はライン L _{1 1}を介して洗浄槽 5 B に返送される。

尚、遠心分離機 7 Bにより分離された溶剤はライン L _{1 2}を介して洗浄槽 5 Aに返送される。また蒸留塔 9 Bからライン L _{1 3}を介して製品である高純度 2 ， 6 — D M Nが得られる。

以下、本発明を実施例によって更に詳細に説明するが、下記の実施例は本発明を限定する性質のものではなく、前 · 後記の趣旨に基づいて設計変更することはいずれも本発明の技術的範囲内に含まれるものである, なお以下の各実施例及び比較例における「％」は「質量％」である。実施例 1

表 1 に示す組成の原料（DMN異性体含有混合物）を 9 にて結晶を析出させ、約 1 0 0 k g Z c m²で圧搾濾過することにより、表 1 に示すような組成の D MN異性体含有混合物ケーキを得た。この D MN異性体含有混合物結晶 1 0 0 gとノルマルへキサン 2 0 0 gを、攪拌機を取り付けたセパラブルフラスコにとり、温度 3 0 で 1時間攪拌した。その後、吸引濾過により結晶を分離した後、結晶の上からきれいな溶剤 1 0 0 gを注いだ。得られた結晶をガスクロマトグラフィーにより分析したところ表 1 に示す組成の結晶を得た。「その他不純物」としては、メチルナフタレン，ェチルナフ夕レン，その他 DMN類相当の沸点を持つ炭化水素類などが含まれる。表 1

尚、洗浄前のケーキ中の 2， 6 — D MNに対する収率は 6 5. 7 1 であった。本発明によれば、高純度の 2， 6— DMNが高い収率で得られることが分かる。実施例 2

表 2に示す組成の原料（DM N異性体含有混合物）を 1段目は 1 5で、 2段目は 7 O :にて結晶を析出させ、夫々の冷却晶析後に約 1 0 0 k g c m²で圧搾濾過を行ったこと以外は、実施例 1 と同様にして、表 2 に示すような組成の DMN異性体含有混合物ケーキと洗浄後結晶を得た表 2

洗浄前のケーキ中の 2 , 6 _ DMNに対する収率は 6 5. 0 5 %であつた。本発明によれば、高純度の 2 , 6— D ΜΝが高い収率で得られることが分かる。実施例 3

表 3に示す組成の原料（DMN異性体含有混合物）を 1段目はで結晶を析出させ、遠心分離で固液分離後、 2段目は 6 5. 8 にて結晶を析出させ、チューブプレスを用いて、操作圧力 1 0 0 k g Z c m ²で圧搾濾過を行ったこと以外は、実施例 1 と同様にして、表 3に示すような組成の DMN異性体含有混合物ケーキと洗浄後結晶を得た。尚、チュ —ブプレスにはァシザヮ（株）製 T P S— 1 [温度調節機能付き]、ろ過面積： 0. 4 5 m²、内容量： 1 7 リットル] を用いた。表 3

洗浄前のケーキ中の 2， 6— D ΜΝに対する収率は 7 7. 2 4 %であつた。本発明によれば、高純度の 2， 6 _ DMNが高い収率で得られることが分かる。実施例 4

表 4に示す組成の原料（DMN異性体含有混合物）を 2 9 :にて結晶を析出させ、約 1 0 0 k gZ c m²で圧搾濾過を行ったこと以外は、実施例 1 と同様にして、表 4に示すような組成の D MN異性体含有混合物ケーキと洗浄後結晶を得た。表 4

洗浄前のケーキ中の 2， 6— D MNに対する収率は 6 6. 6 6 %であつた。本発明によれば、高純度の 2 , 6— DMNが高い収率で得られることが分かる。実施例 5

以下の様にして洗浄母液の返送を含む複数段洗浄を実施した。

①表 5に示す組成の原料（DMN異性体混合物）を 3 2 にて結晶析出させ、約 1 0 0 k gZ c m²で圧搾濾過することにより、表 5に示すような組成の DM N異性体混合物ケーキを得た。

②この D M N異性体混合物結晶 5 4 5 g とノルマルへキサン 6 6 0 g を、攪拌機を取りつけたセパラブルフラスコにとり、温度 3 0 °Cで 1 時間攪拌した。その後圧搾濾過により結晶を分離し、母液を回収した。

③次いで、 ①で得られた DMN異性体混合物結晶 1 6 5 gと、 ②で得られた母液 6 6 0 gとを用い、温度を 3 5でとした以外は②と同様の洗浄処理を行なった。その後、遠心分離により結晶を分離した。

④更に、 ③で得られた結晶 1 2 8 gとノルマルへキサン 4 1 1 gとを用いて②と同様の洗浄処理を行なった。その後、圧搾濾過により結晶を分離し、得られた結晶をガスクロマトグラフにより分析したところ表 5に示す組成であった。洗浄前のケーキ中の 2 6 - DMNに対する収率は 4 5 %であった。表 5

比較例 1

表 6に示す組成の原料（DMN異性体含有混合物）を 2 6 にて結晶析出させ、約 2 k c m²で加圧しながら吸引濾過を行ったこと以外は、実施例 1 と同様にして、表 6に示すような組成の D MN異性体含有混合物ケーキと洗浄後結晶を得た。表 6

組成原料冷却晶析，吸引冷却晶析 ·吸引

(質量％) 濾過後ケーキ濾過後濾液

2, 6-DMN 21.95 37.74 15.09

2, 7-DMN 10.45 7.50 11.24

その他不純物 67.50 54.76 73.67

口 a 100.00 100.00 100.00 得られた洗浄後結晶の 2， 6 _ DMN純度は 7 0 %未満であった。産業上の利用可能性

本発明は以上の様に構成されており、本発明の方法を用いれば 2， 7 一 DMNの含有量が 5質量％以上である DMN混合物を出発原料としても高純度 2 , 6— DMNを製造することができ、また 2， 6— DMNの含有量が 2 5質量％未満の DMN混合物に対して冷却晶析を行っても高純度 2， 6 _ D MNを製造することができる。特に、 2 , 6— DMNの純度が 8 0 %以上である固体成分を溶剤で洗浄し、次いで固液分離と蒸留を行うことにより 9 9 %以上の高純度 2， 6— DMNを得ることがでさる。

Claims

請求の範囲

1 . 2， 6 —ジメチルナフタレンを含有するジメチルナフタレン含有混合物に冷却晶析を施し、固液分離して得られた固体成分を溶剤で洗浄処理することにより、高純度 2， 6 —ジメチルナフタレンを製造する方法であって、

冷却晶析後の固液分離工程に圧搾濾過を組込んで行うことを特徴とする 2， 6—ジメチルナフタレンの製造方法。

2 . 2 , 6 —ジメチルナフタレンを含有するジメチルナフタレン含有混合物に冷却晶析を施し、固液分離して得られた固体成分を溶剤で洗浄処理することにより、高純度 2， 6 _ジメチルナフタレンを製造する方法であって、

該洗浄処理を複数回行ない、第 2 回以降の洗浄処理で得られる洗浄母液の全部または一部を、該洗浄より前の洗浄処理に用いる溶剤とすることを特徴とする 2 , 6 —ジメチルナフタレンの製造方法。

3 . 前記ジメチルナフタレン含有混合物がジメチルナフタレン異性体の混合物である請求項 1 または 2に記載の製造方法。

4 . 1 0 k g c m ²以上の圧力で圧搾濾過を行う請求項 1〜 3のいずれかに記載の製造方法。

5 . 2 , 7 —ジメチルナフタレンの含有量が 5質量％以上であるジメチルナフ夕レン含有混合物を出発原料とする請求項 1〜 4のいずれかに記載の製造方法。

6 . 2 , 6 —ジメチルナフタレンの含有量が 2 5質量％未満のジメチルナフタレン含有混合物に対して冷却晶析を行う請求項 1〜 5のいずれかに記載の製造方法。

7 . 2 , 6 —ジメチルナフタレンの純度が 8 0 %以上である上記固体成分を溶剤で洗浄し、次いで固液分離と蒸留を行うことにより 9 9 % 以上の高純度 2 , 6 —ジメチルナフタレンを得る請求項 1〜 6のいずれかに記載の製造方法。

8 . 洗浄に用いる溶剤が、炭素数 5 〜 1 0 の脂肪族炭化水素および Z又は脂環族炭化水素である請求項 1 〜 7 のいずれかに記載の製造方法。

9 . 圧搾濾過をチューブプレスにて行なう請求項 1 〜 8 のいずれかに記載の方法。