WO2000005778A1 - Guide d'ondes isole et equipement de production de semi-conducteurs - Google Patents

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WO2000005778A1
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Yuichiro Ueno
Satoshi Takemori
Yasunori Nakano
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Hitachi, Ltd.
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    • H01P5/08—Coupling devices of the waveguide type for linking dissimilar lines or devices

Abstract

L'invention concerne un procédé de production d'un guide d'onde isolé qui permet de supprimer les fuites de micro-ondes sans perturber aucunement la transmission des micro-ondes. Ce procédé permet par ailleurs le nettoyage rapide de diverses sources de plasma mettant en oeuvre un guide d'ondes hyperfréquence. Il se caractérise en ce qu'au moins deux guides d'ondes sont couplés au moyen d'une structure d'adaptation traversant le milieu isolant, en ce que le guide d'ondes est doté d'une partie conçue pour former une micro-onde stationnaire et d'une partie destinée au couplage qui est disposée à travers le milieu isolant d'au moins deux guides d'ondes au niveau d'une position correspondant à un nombre impair de fois le quart de la longueur d'onde d'une micro-onde dans le guide d'ondes à partir de l'extrémité court-circuité de ce dernier, en ce que le guide d'ondes est également doté d'une partie conçue pour former une micro-onde stationnaire et présentant une longueur égale à un nombre entier de fois une demi longueur d'onde d'une micro-onde dans le guide d'ondes, et d'une partie destinée au couplage qui est disposée à travers le milieu isolant d'au moins deux guides d'ondes au niveau d'une position correspondant à un nombre impair de fois le quart de la longueur d'onde d'une micro-onde dans le guide d'ondes à partir de l'extrémité court-circuité de ce dernier.
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002374101A (ja) * 2001-06-13 2002-12-26 New Japan Radio Co Ltd チョークフランジ
JP2005020415A (ja) * 2003-06-26 2005-01-20 Kyocera Corp 誘電体導波管線路と導波管との接続構造並びにその構造を用いたアンテナ装置及びフィルター装置
JP2007228223A (ja) * 2006-02-23 2007-09-06 Mitsubishi Electric Corp 導波管接続部
JP2008244857A (ja) * 2007-03-27 2008-10-09 National Institutes Of Natural Sciences 導波管接合器
US7555262B2 (en) 2002-09-24 2009-06-30 Honeywell International Inc. Radio frequency interference monitor
JP2010278752A (ja) * 2009-05-28 2010-12-09 Mitsubishi Electric Corp 導波管チョーク構造
GB2547211B (en) * 2016-02-10 2022-03-16 Bae Systems Plc Waveguides
EP4047739A1 (fr) * 2021-02-17 2022-08-24 Furuno Electric Co., Ltd. Structure de connexion de guide d'ondes

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63131401U (fr) * 1987-02-18 1988-08-29
JPS63271936A (ja) * 1987-04-28 1988-11-09 Sumitomo Metal Ind Ltd プラズマプロセス装置
JPS63293825A (ja) * 1987-05-27 1988-11-30 Hitachi Ltd プラズマ処理装置
JPH01153706U (fr) * 1988-04-13 1989-10-23
JPH05275353A (ja) * 1992-03-27 1993-10-22 Sumitomo Metal Ind Ltd プラズマ処理装置及び該装置のクリーニング方法
JPH07211489A (ja) * 1994-01-21 1995-08-11 Sumitomo Metal Ind Ltd マイクロ波プラズマ処理装置及び該装置のクリーニング方法
JPH09266096A (ja) * 1996-03-28 1997-10-07 Hitachi Ltd プラズマ処理装置及びこれを用いたプラズマ処理方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63131401U (fr) * 1987-02-18 1988-08-29
JPS63271936A (ja) * 1987-04-28 1988-11-09 Sumitomo Metal Ind Ltd プラズマプロセス装置
JPS63293825A (ja) * 1987-05-27 1988-11-30 Hitachi Ltd プラズマ処理装置
JPH01153706U (fr) * 1988-04-13 1989-10-23
JPH05275353A (ja) * 1992-03-27 1993-10-22 Sumitomo Metal Ind Ltd プラズマ処理装置及び該装置のクリーニング方法
JPH07211489A (ja) * 1994-01-21 1995-08-11 Sumitomo Metal Ind Ltd マイクロ波プラズマ処理装置及び該装置のクリーニング方法
JPH09266096A (ja) * 1996-03-28 1997-10-07 Hitachi Ltd プラズマ処理装置及びこれを用いたプラズマ処理方法

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002374101A (ja) * 2001-06-13 2002-12-26 New Japan Radio Co Ltd チョークフランジ
US7555262B2 (en) 2002-09-24 2009-06-30 Honeywell International Inc. Radio frequency interference monitor
JP2005020415A (ja) * 2003-06-26 2005-01-20 Kyocera Corp 誘電体導波管線路と導波管との接続構造並びにその構造を用いたアンテナ装置及びフィルター装置
JP2007228223A (ja) * 2006-02-23 2007-09-06 Mitsubishi Electric Corp 導波管接続部
JP4575313B2 (ja) * 2006-02-23 2010-11-04 三菱電機株式会社 導波管接続部
JP2008244857A (ja) * 2007-03-27 2008-10-09 National Institutes Of Natural Sciences 導波管接合器
JP2010278752A (ja) * 2009-05-28 2010-12-09 Mitsubishi Electric Corp 導波管チョーク構造
GB2547211B (en) * 2016-02-10 2022-03-16 Bae Systems Plc Waveguides
EP4047739A1 (fr) * 2021-02-17 2022-08-24 Furuno Electric Co., Ltd. Structure de connexion de guide d'ondes
US11644629B2 (en) 2021-02-17 2023-05-09 Furuno Electric Co., Ltd. Waveguide connecting structure

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