WO1998055896A1

WO1998055896A1 - Element d'affichage a cristaux liquides et son procede de fabrication

Info

Publication number: WO1998055896A1
Application number: PCT/JP1998/002470
Authority: WO
Inventors: Hirofumi Kubota; Kenji Nakao; Tsuyoshi Uemura
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.
Priority date: 1997-06-04
Filing date: 1998-06-03
Publication date: 1998-12-10
Also published as: CN1234874A; KR20000068035A; KR100328390B1; KR100401450B1

Description

明細書液晶表示素子、及びその製造方法技術分野

本発明は、液晶表示素子に関し、より詳しくは高分子化合物中に液晶を分散させた液晶表示素子、及びその製造方法に関する。背景技術

高分子分散型液層表示素子は、液晶と高分子化合物とからなる複合体の光散乱効果を利用した表示方式であり、ヅイステツドネマチック（ T N ) 等の従来方式の液晶表示素子と異なって、直線偏光を得る為の偏光子を必要としない。従って、光の利用効率が高いことから、次世代の液晶表示素子として注目され、活発に研究開発が行われている。

上記高分子分散型液晶表示素子は、以下のように分類できる。第 1 に N C A P ( Nematic Curvi l iner Al igned Phase) とばれる、ネマチック液晶をポリビニルアルコール等でマイクロカプセルィ匕したもの力⁵ ある。第 2 に P D L C ( Polymer Dispersed Liquid Crystal ) といわれる、ほぼ球形又は回転楕円体形状の液晶滴を高分子マトリタス中に相互に独立して分散させたものがある（例えば、 Society for information dis lay international symposium digest' 90 P .227 - 230 )。又、第 3 に液晶滴が互いに独立ではなく、一部が相互に接触し連なった状態で存在しているものがある（例えば、第 2 2 回液晶討論会講演予稿集 p.403 - 404、 1996 )。更に、第 4 として P N L C ( Polymer Network Liquid Crystal ) とばれる、高分子樹脂が液晶の連続相の中に 3 次元網目状に広がる構造を有するものもある（例えば、米国特許第 5 3 043 2 3 号、第 1 5 回液晶討論会講演予稿集、 p . 1 90 1 98 9 )。

従来の高分子分散型液晶表示素子では、上記のうち何れか 1 種類の構造のみを採用するのが通例であった。

ここで、例えば、液晶滴の一部が相互に接触し連なった状態で存在している高分子分散型液晶表示素子（図 3 1 ( a ) 参照）は以下の手法にて作製されていた。

先ず、対向する上基板 1 0 0 1 及び下基板 1 0 0 2 を、シ一ル材 1 0 0 6 を介してギャップが均一となるように貼り合わせる。次に、上基板 1 0 0 1 と下基板 1 0 0 2 との間に、液晶材料及び重合性モノマーを含む混合物を注入し、重合温度や照射強度が所定の条件となるように設定して、該混合物に紫外線を照射する。これにより、モノマ一を重合させることで、液晶材料とモノマーとを相分離させてレゝる。尚、上記照射強度がノネル面内で均一となるように、上記紫外線は照射される。

この結果、上記の条件に応じて、 2 枚の基板間に、液晶材料が高分子マトリクス中に分散している状態、又は高分子マトリクス中に液晶材料が連続的に繋がって分散している状態が形成される（例えば、フラットノネルディスプレイ ' 9 1 、日経 B P 社、 2 2 1 貢参昭） o . しかしながら、実際に T F T 型液晶パネルで実用化されている、液晶滴が互いに完全に独立した構造の高分子分散型液晶表示素子では、散乱性が低いことからコントラストが悪く、又駆動電圧が高いという問題点を有する。

上記のような散乱性の低下は、下記の理由による。即ち、互いに独立した液晶滴の場合、その粒径は 0 . 8 m 程度であり、これは液晶分率では約 6 9 % に相当する。粒径及び液晶分率がこれらより大きくなると、液晶滴の一部が繋がった形態となる。ここで、例えば入射してくる光の波長が 0 . 4 z m程度の場合、十分な散乱性を得る為には液晶滴の粒径は 1 . 2 m程度必要となる。これは液晶分率では約 7 5 % に相当する。しかしながら、上記のように相互に独立した液晶滴では粒径が小さすぎる為、散乱性が低い。この為コントラストの劣化が生じる。又、駆動電圧が高くなるのは、下記の理由による。即ち、一部が相互に接触し連なった液晶滴の場合と同様の散乱性を得る為には、相互に独立した液晶滴の場合、上記したように散乱性が低い為ノネルギャップを大きくする必要がある。この結果、駆動電圧が高くなる。

又、液晶滴の一部が相互に繋がった構成の高分子分散型液晶表示素子、若しくはポリマ一ネットワーク型の高分子分散型液晶表示素子に於いては、周囲の温度変化によりシ一ル材近傍から表示領域に係る高分子樹脂に亀裂を生じ、筋状の表示ムラが発生するという問題点を有する。

上記のような表示ムラは、例えば上記高分子分散型液晶表示素子の温度特性の信頼性を評価する為に、高温の環境下で一定時間放置した後、室温まで冷却する検査工程を行う場合等に発生することを本発明者等は見出した。このような表示ムラの発生するメカニズムを以下に説明する。即ち、高分子分散型液晶表示素子を、例えば 8 0 °Cの高温下で 2 4 時間放置すると、図 3 1 ( b ) に示すように、高分子樹脂 1 0 0 5 及び液晶 1 0 0 4 は膨張する。ここで、基板を支えるシール材 1 0 0 5 も温度と共に膨張するが、膨張の度合いはシール材 1 0 0 5 の方がかなり小さい。この為、液晶パネルの断面は上下基板で凸状に変形する。高温では液晶の粘度が急激に減少する為、液晶が流動しやすい。又、上基板 1 0 0 1 及び下基板 1 0 0 2 の周縁部はシール材 1 0 0 5 により固定されている。よって、複合体層 1 0 0 3 は、同図に示す矢印方向に上基板 1 0 0 1 及び下基板 1 0 0 2 から圧力を受ける。この為、シール材 1 0 0 6 近傍の液晶は該圧力を受けてパネル内部に流動する。次に、液晶パネルを室温まで冷却すると、室温では液晶の粘度が高くなる。これにより、液晶パネル中央部に流動した液晶は、シール材 1 0 0 6 近傍まで戻らず、結果的にシール材 1 0 0 6 近傍での液晶密度が低下する。この為、シール材 1 0 0 6 近傍の高分子樹脂マトリクスに上基板 1 0 0 1 及び下基板 1 0 0 2 カゝら圧力が力 a わると、亀裂 1 0 0 7 が発生する。（図 3 1 ( c ) 参照）よって、表示画面の周縁部に筋状の表示ムラが生じる。

以上のように、液晶滴が互いに完全に独立した構造の高分子分散型液晶表示素子では、表示画面上に筋状の表示ムラは視認されないがコントラストが本来的に低い。一方、液晶滴の一部が相互に繋がつた構成の高分子分散型液晶表示素子、若しくはポリマーネットヮ — ク型の高分子分散型液晶表示素子では、コントラストは良好なものの表示画面上には筋状の表示ムラが視認される。即ち、良好なコントラス卜を実現し、かつ表示ムラの発生を防止した高分子分散型液晶表示素子は、これまでに見出されていなかった。

一方、亀裂の発生に起因する上記筋状の表示ムラは、以下に述べるようなメカニズムでも発生する。尚、ここで述べる筋状の表示ムラは、 P D L C と呼ばれる高分子樹脂マトリクス中に液晶滴が互いに独立して分散した構造の高分子分散型液晶表示素子の場合であつても発生する。以下では、この P D L C を例にして説明する。上記高分子分散型液晶表示素子は、図 3 2 に示すように、表示電極 2 1 0 4 · 2 1 0 4 が形成された上基板 2 1 0 1 と下基板 2 1 0 2 との間に、複合体層 2 1 0 3 が挟持されてなる構成である。上記上基板 2 1 0 1 と表示電極 2 1 0 4 との間には、カラ一フィルタ一層 2 1 0 6 が形成されている。上記複合体層 2 1 0 3 は、上基板 2 1 0 1 と下基板 2 1 0 2 とに密着して形成されている。又、複合体層 2 1 0 3 は、液晶滴が高分子化合物からなるマトリクス相に分散されてなる構成である。

上記高分子分散型液晶表示素子に於いては、周囲の温度変化により複合体層 2 1 0 3 が膨張又は収縮して、シール材 2 1 0 5 近傍の高分子樹脂に亀裂を生じ、筋状の表示ムラが発生するという問題点を有する。

上記のような表示ムラは、例えば上記高分子分散型液晶表示素子の温度特性の信頼性を評価する為に、高温の環境下で一定時間放置した後、室温まで冷却するヒートショック等の検査工程を行う場合等に発生する。即ち、高分子分散型液晶表示素子を高温下で一定時間放置すると、図 3 3 ( b ) に示すように、複合体層 2 1 0 3 は膨張する。ここで、上記の環境下では複合体層 2 1 0 3 の粘度が急速に減少する為、該複合体層 2 1 0 3 の流動性が増大している。又、上基板 2 1 0 1 及び下基板 2 1 0 2 の周縁部はシール材 1 0 5 により固定されている。よって、複合体層 2 1 0 3 は、同図に示す矢印方向に上基板 2 1 0 1 及び下基板 2 1 0 2 から圧力を受ける。この結果、液晶パネルの中央部に高分子樹脂等が流動することにより、該中央部が更に膨張する（図 3 3 ( c ) 参照）。次に、液晶パネルを室温まで冷却すると、複合体層 2 1 0 3 の粘度増加により流動性は減少する為、シール材 2 1 0 5 近傍の液晶密度が低下し、これに起因してシール材 2 1 0 5 近傍で亀裂 2 1 1 0 が生じる（図 3 3 ( d ) 参照）。この結果、表示画面の周縁部に筋状の表示ムラが生じる。

更に、上記従来の高分子分散型液晶表示素子のように複合体層 2 1 0 3 が上基板 2 1 0 1 及び下基板 2 1 0 2 に密着していると、例えばペン入力等により表示画面を押圧した場合、表示ムラが表示画面に発生するという問題点を有する。

この問題点を以下に詳述する。図 3 4 は、従来の高分子分散型液晶表示素子を上基板 2 1 0 1 側から見た場合の平面図である。同図に示す A 点を下基板 2 1 0 2 側から押圧すると、複合体層 2 1 0 3 が上基板 2 1 0 1 及び下基板 2 1 0 2 に密着した状態では、上基板 2 1 0 1 及び下基板 2 1 0 2 と共に複合体層 2 1 0 3 も橈む（図 3 5 参照）。これにより、液晶パネルが最も撓む橈み部 2 1 2 1 · 2 1 2 1 では、上基板 2 1 0 1 と複合体層 2 1 0 3 との間、及び下基板 2 1 0 2 と複合体層 2 1 0 3 との間に、ずり応力 2 1 2 2 がそれそれ図に示す矢印方向に発生する。このずり応力 2 1 2 2 の作用により、高分子樹脂で取り囲まれた微小空間は、球状の初期状態から、上基板 2 1 0 1 と垂直な方向の長さが上基板 2 1 0 1 と平行な方向の長さに比べて小さい偏平状の微小空間に変形する（図 3 6 参照）。これにより、偏平状の微小空間に閉じ込められた液晶分子は、ずり応力方向に配列する。よって、電界 O F F 時では、領域 2 1 1 1 において透過光は散乱されて白濁外観を呈する。しかし、翼形状の領域 2 1 1 0 においては、入射方向に対する屈折率は小さくなつて散乱性は弱まり、やや透明外観を呈し、表示画面における表示ムラが発生する（図 3 4 参照）。一方、電界 O N 時では、翼形状の領域 2 1 1 0 におけるしきい値電圧が領域 2 1 1 1 と比較して小さくなりしきい値電圧にノ、' ラつきが生じる。よって、この場合も表示ムラが発生する。

更に、上記従来の高分子分散型液晶表示素子は、カラ一フィルタ —層 2 1 0 6 における色材膜 R · G · B 間の色混じりの発生や、ブラックマトリクスによる光利用効率の低下という問題点を有している。

即ち、図 3 7 に示すように、例えば下基板 2 1 0 2 側カゝら入射した入射光は、複合体層 2 1 0 3 に入射する際に散乱される。ここで、散乱された入射光の一部が該ブラックマトリクスに吸収されて光損失が起こる。一方、その他の光は複合体層 2 1 0 3 を通過してカラ一フィルタ一層 2 1 0 6 における色材膜 G に到達する。更に、該色材膜 G から上基板 2 1 0 1 に入射する際に、光は放射状に散乱される。ここで、上基板 2 1 0 1 がガラス等からなる場合、その屈折率 n _g ( 例えば、 n _g = l . 5 ) は空気中の屈折率 n _{a i} ,. ( = 1 . 0 ) よりも大きい。よって、散乱光の一部には、上基板 2 1 0 1 と空気との境界で全反射されるものがある。この全反射された光が、隣の色材膜 B に入射すると色混じりが発生する。

更に、前記従来の高分子分散型液晶表示素子においては、以下のような問題点も有している。即ち、複合体層 2 1 0 3 に電界を印加し表示画面に点欠陥や線欠陥等が存在するか、表示状態の検査が行われる。この検査工程は、組み立てられた空セルに液晶材料を注入して液晶セルとした後に行われている（このことは、 T N 型等の従来の液晶表示素子であっても同様である）。従って、複合体層 2 1 0 3 等の欠陥に起因する表示画面の欠陥等が確認された場合には、高価なカラーフィルター層等を備えた対向基板までもが廃棄されてしまう為に、コスト高を招来するという問題点を有している。以上のことを要約すると、上記従来の高分子分散型液晶表示素子には以下に述べる問題点が挙げられる。

• 液晶滴が互いに完全に独立した構造の高分子分散型液晶表示素子では、散乱性が低いことからコントラストが悪く、又駆動電圧が高い ₀

• 液晶パネルの撓みや、信頼性評価の為のヒ一トショック試験等により表示ムラが発生する。

• カラーフィルタ一層を設けてカラー表示をさせる際に、色材膜 R · G ' B 間の色混じりが発生したり、ブラックマトリクスによる光損失に起因して光利 ffl 効率の低下を招来する。

• 表示検査により欠陥が発見された場合に、高価なカラ一フィルタ —層等を備えた対向基板までもが廃棄されてしまい、コスト高を招来する。発明の開示

一群の本発明は、上記現状に鑑みなされたものであり、その第一の目的は、筋状の表示ムラが生じることなく、コントラストや散乱性等の表示特性に優れた液晶表示素子及びその製造方法を提供することにある。また、その第二の目的は、表示ムラや色混じり等の発生を抑制し、表示品位や温度特性に優れた液晶表示素子、及びその製造方法を提供することにある。

尚、一群の本発明は、同一ないし類似した着想に基づくものである。しかし、それそれの発明は異なる実施例により具現化されるものであるので、本明細書では、これらの一群の本発明を密接に関連した発明ごとに第 I の発明群、及び第 IIの発明群として区分する。そして、以下では、それそれの区分（発明群）ごとにその内容を順次説明する。

( 1 ) 第 I の発明群

第 I の発明群は、上記第 1 の目的を達成する為になされたものであって、主に表示画面上の筋状の表示ムラを解消すると共に、コントラストゃ散乱性等の表示特性に優れた液晶表示素子及びその製造方法に関するものである。即ち、上記第 1 の目的を達成する為に、液晶表示素子は、高分子化合物中に液晶滴が分散された高分子液晶複合体層が、内側面にそれそれ電極を備えた一対の基板の間に配置され、かつシール材により上記一対の基板が貼り合わされた液晶表示素子であって、上記高分子液晶複合体層は、高分子化合物を含み構成されたマトリクス連続相中に液晶滴が分散保持され、又は高分子化合物を含み構成された三次元網目状マトリクスの網目内に液晶が分散保持されたものであり、上記高分子液晶複合体層の外周面とシール材の内周面とが密着するように形成され、かつ、上記高分子液晶複合体層に於ける本体部が表示領域となり、該高分子液晶複合体層に於ける上記シール材近傍の周縁部が非表示領域となるように分割され、更に、上記表示領域に於ける高分子液晶複合体層は、高分子化合物を含み構成されたマトリクス連続相中に、液晶滴が一部相互に繋がった状態で分散保持され、又は高分子化合物を含み構成された三次元網目状マトリクスの網目内に液晶が分散保持されたものであり、上記表示領域に於ける液晶滴の粒径又は網の目の間隔と、上記非表示領域に於ける液晶滴の粒径又は網の目の間隔とが異なるように形成されていることを特徴とする。

上記の構成によれば、非表示領域に於ける液晶滴の粒径又は網の目の間隔と、表示領域に於ける液晶滴の粒径又は網の目の間隔とが異なるように形成されることにより、例えば周囲の温度が高温から低温へ変化する環境下に放置する信頼性試験等を行った場合に、シール材近傍における高分子液晶複合体層に亀裂が発生するのを防止できる。

具体的には、非表示領域の液晶滴の粒径又は網の目の間隔が、表示領域の液晶滴の粒径又は網の目の間隔よりも小さく、かつシール材近傍の領域では液晶滴が相互に独立して分散した構造となっている場合、液晶は周囲の温度が上昇しても中央部に向かって移動しにくくなる。この結果、シール材近傍の非表示領域での液晶密度が低下するのを防く' ので、亀裂の発生を防止できる。一方、非表示領域の液晶滴の粒径又は網の目の間隔が、表示領域の液晶滴の粒径又は網の目の間隔よりも大きい場合、液晶の流動を容易にすることができる。即ち、液晶滴の粒径又は網の目の間隔が大きいと、高温時に於ける液晶の膨張や冷却時に於ける周囲の高分子樹脂から受ける圧力の急激な変化にも液晶が追随し、液晶滴問を容易に移動することが可能となる。これにより、シール材近傍の非表示領域での液晶密度の低下が抑制されるので、亀裂の発生を防止できる。

しかも、表示領域では、高分子化合物を含み構成されたマトリクス中に液晶滴が相互に独立して分散した状態で保持された構造以外の高分子液晶複合体層が形成されている為、コントラス卜が良好な状態で、表示ムラの発生を防止できる。

尚、上記したような信頼性試験に於ける試験時間は種々異なるので、該試験時間が短い場合には、非表示領域の液晶滴の粒径又は網の目の間隔と、表示領域の液晶滴の粒径又は網の目の間隔との差を僅かに異ならせることにより亀裂の発生を防止できる。

更に、上記第 1 の目的を達成する為に、高分子化合物中に液晶滴が分散された高分子液晶複合体層が、内側面にそれぞれ電極を備えた一対の基板の間に配置され、かつシ一ル材により上記一対の基板が貼り合わされた液晶表示素子であって、上記高分子液晶複合体層は、高分子化合物を含み構成されたマトリタス連続相中に液晶滴が分散保持され、又は高分子化合物を含み構成された三次元網目状マトリタスの網目内に液晶が分散保持されたものであり、上記高分子液晶複合体層の外周面とシール材の内周面とが密着するように形成され、かつ、上記高分子液晶複合体層に於ける本体部が表示領域となり、該高分子液晶複合体層に於ける上記シール材近傍の周縁部が非表示領域となるように分割され、更に、上記表示領域に於ける高分子液晶複合体層は、高分子化合物を含み構成されたマトリクス連続相中に、液晶滴が一部相互に繋がった状態で分散保持され、又は高分子化合物を含み構成された三次元網目状マトリクスの網目内に液晶が分散保持されたものであり、上記表示領域に於ける液晶分率と、上記非表示領域に於ける液晶分率とが異なるように形成されていることを特徴とする。

上記の構成によれば、非表示領域に於ける液晶分率と、表示領域に於ける液晶分率とが異なるように形成されることにより、例えば周囲の温度が高温から低温へ変化する環境下に放置する信頼性試験等を行った場合に、シール材近傍における高分子液晶複合体層に亀裂が発生するのを防止できる。

具体的には、非表示領域の液晶分率が、表示領域の液晶分率よりも小さく、かつシ一ル材近傍の領域では液晶滴が相互に独立して分散した構造となっている場合、液晶は周囲の温度が上昇しても中央部に向かって移動しにくくなる。この結果、シール材近傍の非表示領域での液晶密度が低下するのを防ぐので、亀裂の発生を防止できる。一方、非表示領域の液晶分率が、表示領域の液晶分率よりも大きい場合、非表示領域の液晶滴の粒径又は網の目の間隔が、表示領域の液晶滴の粒径又は網の目の間隔よりも大きくなる。この結果、液晶の流動を容易にすることができる。即ち、高温時に於ける液晶の膨張や冷却時に於ける周囲の高分子樹脂から受ける圧力の急激な変化に対しても、液晶が追随し液晶滴間を容易に移動することが可能となる。これにより、シール材近傍の非表示領域での液晶密度の低下が抑制されるので、亀裂の発生を防止できる。

しかも、表示領域では、高分子化合物を含み構成されたマトリクス中に液晶滴が相互に独立して分散した状態で保持された構造以外の高分子液晶複合体層が形成されている為、コントラストが良好な状態で、表示ムラの発生を防止できる。尚、上記したような信頼性試験に於ける試験時間は種々異なるので、該試験時間が小さい場合には、非表示領域の液晶分率と、表示領域の液晶分率との差を僅かに異ならせることにより亀裂の発生を防止できる。

ここで、上記表示領域に於ける液晶分率と、上記非表示領域に於ける液晶分率との差は少なくとも 5 % 以上であることが好ましい。

更に、上記第 1 の目的を達成する為に、液晶表示素子は、高分子化合物中に液晶滴が分散された高分子液晶複合体層が、内側面にそれそれ電極を備えた一対の基板の間に配置され、かつシール材により上記一対の基板が貼り合わされた液晶表示素子であって、上記高分子液晶複合体層は、高分子化合物を含み構成されたマトリクス連続相中に液晶滴が分散保持され、又は高分子化合物を含み構成された三次元網目状マトリクスの網目内に液晶滴が分散保持されたものであり、かつ、上記高分子液晶複合体層の外周面とシール材の内周面とが密着するように形成され、更に、上記高分子液晶複合体層に於ける全領域のうち、上記シール材近傍の亀裂が発生する領域以外を表示領域としていることを特徴とする。

上記のように、例えば、周囲の温度が高温から低温へ変化する信頼性試験を行った場合等に亀裂が発生するシール材近傍の領域を、表示領域に含めない構成とすることにより、該亀裂に起因する筋状の表示ムラが表示画面上で視認されるのを防止することができる。

更に、上記第 1 の目的を達成する為に、液晶表示素子は、高分子化合物中に液晶滴が分散された高分子液晶複合体層が、内側面にそれそれ電極を備えた一対の基板の間に配置され、かつシール材により上記一対の基板が貼り合わされた液晶表示素子であって、上記高分子液晶複合体層は、高分子化合物を含み構成されたマトリクス連続相中に液晶滴が分散保持され、又は高分子化合物を含み構成された三次元網目状マ卜リクスの網目内に液晶が分散保持されたものであり、かつ、上記高分子液晶複合体層の外周面とシール材の内周面とが密着するように形成され、更に、上記高分子液晶複合体層に於ける、上記シール材近傍で発生する亀裂の内部に、主に液晶から成る物質が充填されていることを特徴とする。

上記構成のように、亀裂の内部を主に液晶から成る物質で塞ぐことで、亀裂と周囲の高分子液晶複合体層との屈折率差を小さくし、この結果亀裂自体を目立たなくさせることができる。

更に、更に、上記第 1 の目的を達成する為に、液晶表示素子は、高分子化合物中に液晶滴が分散された高分子液晶複合体層が、内側面にそれぞれ電極を備えた一対の基板の間に配置され、かつシール材により上記一対の基板が貼り合わされた液晶表示素子であって、上記高分子液晶複合体層は、高分子化合物を含み構成されたマトリクス連続相中に液晶滴が分散保持され、又は高分子化合物を含み構成された Ξ次元網目状マトリクスの網目内に液晶滴が分散保持されたものであり、更に、上記シール材の内周縁に少なくとも幅 1 . 5 m m 以上の枠状の領域が設けられ、かつ上記枠状の領域の内側に表示領域が設けられていることを特徴とする。

上記の構成において、亀裂は液晶パネルの面積の大小とは無関係に、シール材の内周縁から少なくとも帼 1 . 5 m m以上の枠状の領域内に発生する。よって、少なくとも上記枠状の領域の更に内側に表示領域を設けることで、確実に表示領域内に亀裂が発生するのを防止できる。この結果、該亀裂に起因する筋状の表示ムラが表示画面に現れることがない。

更に、上記第 1 の目的を達成する為に、液晶表示素子は、高分子化合物中に液晶滴が分散された高分子液晶複合体層が、内側面にそれそれ電極を備えた一対の基板の間に配置され、かつシール材により上記一対の基板が貼り合わされた液晶表示素子であって、上記高分子液晶複合体層には、表示領域と該表示領域の外周縁に枠状の非表示領域とが設けられ、上記表示領域に於ける高分子液晶複合体層は、高分子化合物を含み構成されたマトリクス連続相中に、液晶滴がー部相互に繋がった状態で分散保持され、又は高分子化合物を含み構成された三次元網目状マトリタスの網目内に液晶滴が分散保持されたものであり、上記非表示領域に於ける高分子液晶複合体層は、高分子化合物を含み構成されたマトリクス中に、ほぼ球形又は回転楕円体形状の液晶滴が相互に独立して分散した状態で保持されたものであることを特徴とする。

上記の構成とすることにより、シール材近傍の領域では液晶滴が相互に独立して分散した構造となっている為、液晶滴は周囲の温度が上昇しても中央部に向かって移動しにくくなる。この結果、シ一ル材近傍の非表示領域での液晶密度が低下するのを防ぐので、亀裂が発生するのを抑制することができる。しかも、表示領域では、高分子化合物を含み構成されたマトリクス連続相中に液晶滴が一部相互に繋がった状態で分散保持され、又は高分子化合物を含み構成された三次元網目状マトリクスの網目内に液晶滴が分散保持された構造の高分子液晶複合体層が形成されている為、コントラストが良好な状態で、表示ムラの発生を防止できる。

ここで、上記表示領域に於ける液晶の液晶分率は、上記非表示領域に於ける液晶の液晶分率よりも大きければよい。より詳しくは、表示領域に於ける液晶分率は 7 0 %以上、 8 0 %以下の範囲内にあり、かつ上記非表示領域に於ける液晶分率は 7 0 % 未満であることが好ましい。

更に、表示領域に於ける液晶滴の粒径、又は網の目の間隔が 0 . 8 〃 m 以上、 1 . 4 〃 m 以下の範囲内にあり、かつ非表示領域に於ける液晶滴の粒径が 0 . 8 〃 m未満であることが好ましい。

更に、上記非表示領域は、幅が少なくとも 1 . 0 m m 以上の枠状の領域であることが好ましい。これにより、表示ムラの発生を防止すると共に、一層表示領域を拡大することができる。

又、上記第 1 の目的を達成する為に、液晶表示素子は、高分子化合物中に液晶滴が分散された高分子液晶複合体層が、内側面にそれそれ電極を備えた一対の基板の間に配置され、かつシール材により上記一対の基板が貼り合わされた液晶表示素子であって、上記高分子液晶複合体層には、表示領域と該表示領域の外周縁に枠状の非表示領域とが設けられ、上記表示領域に於ける高分子液晶複合体層は、高分子化合物を含み構成されたマトリクス連続相中に液晶滴が一部相互に繋がった状態で分散保持され、又は高分子化合物を含み構成された三次元網目状マトリクスの網目内に液晶滴が分散保持されたものであり、上記非表示領域に於ける高分子液晶複合体層は、液晶と高分子化合物とが互いに相溶した状態で形成されていることを特徴とする。

上記の構成のように、シール材近傍の非表示領域では、液晶と高分子化合物とが互いに相溶した状態で保持され、液体若しくは半固形状で形成されている。従って、亀裂が発生することがない。しかも、表示領域では、高分子化合物を含み構成されたマトリクス連続相中に液晶滴が分散保持され、又は高分子化合物を含み構成された三次元網目状マトリタスの網目内に液晶滴が分散保持された構造の高分子液晶複合体層が形成されている為、コントラストを良好にした状態で、表示ムラの発生を抑制できる。

上記非表示領域は、幅が少なくとも 1 . 0 m m以上の枠状の領域であることが好ましい。これにより、表示ムラの発生を防止すると共に、一層表示領域を拡大することができる。

更に、上記第 1 の目的を達成する為に、液晶表示素子は、高分子化合物中に液晶滴が分散された高分子液晶複合体層が、内側面にそれそれ電極を備えた一対の基板の間に配置され、かつシール材により上記一対の基板が貼り合わされた液晶表示素子であって、上記高分子液晶複合体層は少なくとも表示領域に相当する部分に設けられかつ上記シール材と高分子液晶複合体層との間の非表示領域に相当する部分には、側部間隙層が設けられていることを特徴とする。上記の構成では、周囲の温度変化によって高分子液晶複合体層の体積が膨張又は収縮しても、亀裂が生じるシール材近傍には側部間隙層が設けられており、高分子化合物や液晶が存在しない。従って、該亀裂の発生は完全に防止できる。よって、該亀裂による筋状の表示ムラの発生を防止できる。上記非表示領域は、幅が少なくとも 1 . 0 m m 以上の枠状の領域であることが好ましい。これにより、表示ムラの発生を防止すると共に、一層表示領域を拡大することができる。

更に、上記側部間隙層は、真空であってもよく、気体が充填されていてもよい。上記側部間隙層が真空である場合には、高温時に高分子液晶複合体層の体積が膨張しても該側部間隙層にて緩和させることができる。

又、上記側部間隙層には、高分子化合物が充填されていてもよい。これにより、該側部間隙層に液晶滴が存在する場合と比較して、破壊強度を増大させることができ、この結果亀裂の発生を抑制すること力⁵できる。

更に、上記第 1 の目的を達成する為に、液晶表示素子は、高分子化合物中に液晶滴が分散された高分子液晶複合体層が、内側面にそれそれ電極を備えた一対の基板の間に配置され、かつシール材により上記一対の基板が貼り合わされた液晶表示素子であって、上記高分子液晶複合体層は、高分子化合物を含み構成されたマトリクス連続相中に液晶滴が分散保持され、又は高分子化合物を含み構成された三次元網目状マトリクスの網目内に液晶が分散保持されたものであり、上記高分子液晶複合体屑は、上記シール材の内周縁に位置する枠状の非表示領域と、該非表示領域の内側に位置する表示領域とに分割され、上記表示領域に於ける液晶滴の粒径又は網の目の間隔よりも、シール材近傍の非表示領域に於ける液晶滴の粒径又は網の目の間隔が大きいことを特徴とする。

上記の構成によれば、上記高分子液晶複合体層に於ける、表示領域に於ける液晶滴の粒径又は網の目の間隔よりも、シール材近傍の液晶滴の粒径又は網の目の間隔を大きくすることにより、液晶の流動を容易にすることができる。即ち、非表示領域における液晶滴の粒径が大きいので、該液晶滴と表示領域における液晶滴との連結部も広くなつている。この為、温度による液晶の膨張や冷却時に周囲の高分子樹脂から受ける圧力の急激な変化にも液晶が追随し、液晶滴間を容易に移動することが可能となる。これにより、良好なコントラストを維持したままで、非表示領域における亀裂の発生が防止され、筋状の表示ムラの発生を抑制することができる。

ここで、上記表示領域に於ける液晶の液晶分率が、上記非表示領域に於ける液晶の液晶分率よりも小さければよい。より詳しくは、表示領域に於ける液晶分率は 7 0 % 以上、 8 0 % 以下の範囲内にあり、かつ上記非表示領域に於ける液晶分率は 8 0 % より大きいことが好ましい。

更に、上記表示領域に於ける液晶分率と、上記非表示領域に於ける液晶分率との差が少なくとも 5 % 以上となるように設定するのが好ましレ、。

更に、非表示領域の液晶滴の粒径又は網の目の間隔力 ^s 1 . 8 ju m 以上であり、上記表示領域の液晶滴又は網の目の間隔が 0 . 8 i m 以上、 1 . 4 〃 m 以下の範囲内であることが好ましい。

又、上記第 1 の目的を達成する為に、液晶表示素子の製造方法は、内側面にそれそれ電極を備えた一対の基板の間に、液晶と高分子前駆体を含む液晶高分子前駆体相溶液を配置した後、前記基板面に紫外線を照射して、前記液晶高分子前駆体相溶液中の液晶と高分子前駆体とを、前記高分子前駆体を重合硬化させて相分離させることにより、液晶滴が高分子化合物を含み構成されたマトリタス連続相中に分散保持され、又は液晶滴が高分子化合物を含み構成された三次元網目状マトリクスの網目内に分散保持された高分子液晶複合体層を作製する相分離工程を備える液晶表示素子の製造方法であって、上記相分離工程は、上記高分子液晶複合体層の表示領域に相当する領域に照射する第 1 の紫外線の照射強度を、上記高分子液晶複合体層の非表示領域に相当する領域に照射する第 2 の紫外線の照射強度よりも小さくすることにより、上記表示領域では、高分子化合物を含み構成されたマトリタス連続相中に液晶滴が一部相互に繋がった状態で分散保持され、又は高分子化合物を含み構成された三次元網目状マトリクスの網目内に液晶滴が分散保持された構造とし、上記非表示領域では、高分子化合物を含む構成されたマトリタス中に、ほぼ球形又は回転楕円体形状の液晶滴が相互に独立して分散した状態で保持された構造とすることを特徴とする。

上記の方法によれば、非表示領域に於いては、高分子化合物を含む構成されたマトリタス中に液晶滴が相互に独立して分散した状態で保持された構造とするので、液晶滴は周囲の温度が上昇しても中央部に向かって移動しにくくなる。この結果、シール材近傍の非表示領域での液晶密度が低下するのを防ぐので、亀裂が発生するのを抑制することができる。よって、表示ムラの発生を防止し、コントラスト等の表示特性に優れた液晶表示素子を製造することができる更に、上記第 1 の目的を達成する為に、液晶表示素子の製造方法は、内側面にそれそれ電極を備えた一対の基板の間に、液晶と高分子前駆体を含む液晶高分子前駆体相溶液を配置した後、前記基板面に紫外線を照射して、前記液晶高分子前駆体相溶液中の液晶と高分子前駆体とを、前記高分子前駆体を重合硬化させて相分離させることにより、液晶滴が高分子化合物を含み構成されたマ卜リクス連続相中に分散保持され、または液晶滴が高分子化合物を含み構成された三次元網目状マトリクスの網目内に分散保持された高分子液晶複合体層を作製する相分離工程を備える液晶表示素子の製造方法であつて、上記相分離工程は、上記高分子液晶複合体層に於ける少なくとも非表示領域に、紫外線を遮蔽する遮蔽手段を設けて該紫外線を照射することを特徴とする。

上記の方法によれば、非表示領域に紫外線を遮蔽する遮蔽手段を設けて該紫外線を照射し、高分子液晶複合体層を形成する。よって、上記非表示領域では液晶と高分子化合物とが相溶した状態で保持され、液体若しくは半固形状となっているので、亀裂が発生することがない。これにより、表示ムラの発生を防止し、コントラスト等の表示特性に優れた液晶表示素子を製造することができる。

上記遮蔽手段は、紫外線を反射する材料からなる反射板であってもよい。これにより、液晶ノネルの温度上昇を抑制することができる。よって、紫外線を照射して高分子液晶複合体層を形成する際の重合温度の制御を容易にできる。

更に、上記第 1 の目的を達成する為に、液晶表示素子の製造方法は、内側面にそれぞれ電極を備えた一対の基板の間に、液晶と高分子前駆体を含む液晶高分子前駆体相溶液を配置した後、前記基板面に紫外線を照射して、前記液晶高分子前駆体相溶液中の液晶と高分子前駆体とを、前記高分子前駆体を重合硬化させて相分離させることにより、液晶滴が高分子化合物を含み構成されたマトリクス連続相中に分散保持され、又は液晶滴が高分子化合物を含み構成された三次元網目状マトリクスの網目内に分散保持された高分子液晶複合体層を作製する相分離工程を備える液晶表示素子の製造方法であつて、上記相分離工程は、上記高分子液晶複合体層の表示領域に相当する領域に照射する第 1 の紫外線の照射強度を、上記高分子液晶複合体層の非表示領域に相当する領域に照射する第 2 の紫外線の照射強度よりも大きくすることにより、上記高分子液晶複合体層は、高分子化合物を含み構成されたマトリクス連続相中に液晶滴が分散保持され、又は高分子化合物を含み構成された Ξ 次元網目状マトリクスの網目内に液晶滴が分散保持された構造となり、かつ、上記高分子液晶複合体層に於ける表示領域の液晶滴の粒径又は網の目の間隔は、非表示領域の液晶滴の粒径又は網の目の間隔よりも小さい構造となることを特徴とする。

上記の方法によれば、第 1 の紫外線を表示領域に照射することにより、該表示領域では、高分子化合物を含み構成されたマトリクス連続相中に液晶滴が分散保持され、又は高分子化合物を含み構成された三次元網目状マ卜リタスの網目内に液晶滴が分散保持された構造となるように形成する。それと共に、非表示領域では、第 2 の紫外線を照射することにより、該非表示領域の液晶滴の粒径又は網の目の間隔が、表示領域の液晶滴の粒径又は網の目の間隔よりも大きい構造となるように形成する。これにより、温度上昇による液晶の膨張や冷却時での周囲の高分子樹脂マトリクスから受ける圧力の急激な変化に対しても、液晶は液晶滴間を容易に流動できる。よって、良好なコントラストを維持したままで、シール材近傍における非表示領域での亀裂の発生が防止され、筋状の表示ムラの発生を防止した液晶表示素子を製造することができる。

又、上記第 1 の紫外線の照射強度は 5 0 m W / c m ² 以上であり、上記第 2 の紫外線の照射強度は 2 0 m W / c m ² 以下であることが好ましい。 ( 2 ) 第 IIの発明群

第 IIの発明群は、前記第 2 の目的を達成する為になされたものであって、表示ムラの発生や色混じり等を抑制し、表示品位や温度特性に優れた液晶表示素子、及びその製造方法を提供する

前記第 2 の目的を達成する為に、液晶表示素子は、第 1 基板と、第 1 基板に対向する第 2 基板と、第 1 及び第 2 基板間に配置され液晶滴が高分子化合物中に分散保持されてなる高分子液晶複合体層と、高分子液晶複合体層に電界を印加するための一対の第 1 表示電極及び第 2 表示電極とを備えた液晶表示素子であって、上記第 1 基板に、上記高分子液晶複合体層が固着され、第 2 基板と高分子液晶複合体層との間には、間隙層が設けられ、この間隙層の基板面内における領域が、少なくとも全表示領域を含む範囲内にあることを特徴とする。

上記の構成によれば、間隙層は、高分子液晶複合体層と対向基板との間において、表示画面に対応した全表示領域を少なくとも含む範囲内に形成されている。従って、例えば上記間隙層が、第 2 基板と高分子液晶複合体層との間の全領域に設けられている場合、上記第 2 基板と高分子液晶複合体層とは全領域で接していない。その為、外部から押圧力が作用した場合であっても、ずり応力が発生することはない。又、例えば第 2 基板と高分子液晶複合体層との間の、表示領域のみに間隙層が設けられている場合、表示領域の範囲内において、外部から押圧力が作用しても、その範囲内においてずり応力が発生せず、表示ムラが発生しない。一方、表示領域外においては、ずり応力が発生するおそれがあるが、仮にずり応力が発生したとしても、上記のように、表示領域内では表示ムラが発生していないので、液晶表示素子としては何ら問題は生じない。よって、少なくとも表示領域に於いては、ずり応力の作用によって、光散乱性の異なる領域が発生するのを抑制し、表示画面における表示ムラを低減させることができる。

つまり、上記構成のように間隙層を設けると、撓み等により生じるずり応力の発生を防止する機能を付加することができる。これにより、表示ムラを低減させる等表示品位に優れ、歩留まりを向上させた液晶表示素子を提供できる。

又、前記第 2 の目的を達成する為に、液晶表示素子は、第 1 基板と、第 1 基板に対向する第 2 基板と、第 1 及び第 2 基板間に配置され液晶滴が高分子化合物中に分散保持されてなる高分子液晶複合体層と、高分子液晶複合体層に電界を印加するための一対の第 1 表示電極及び第 2 表示電極とを備え、第 1 基板と第 2 基板とは、周縁部同士がシール材を介して貼り合わされた構造の液晶表示素子であつて、上記第 1 基板に、上記高分子液晶複合体層が固着され、第 2 基板と高分子液晶複合体層との間には、間隙層が設けられ、この間隙層の基板面内における領域が、少なくとも全表示領域を含む範囲内にあることを特徴とする。

上記構成のように、第 1 及び第 2 基板の周縁部同士を、シール材を介して貼り合わせた液晶表示素子の場合においても、第 2 基板と高分子液晶複合体層との間に、間隙層を設けた構成を適用できる。

更に、前記第 2 の目的を達成する為に、液晶表示素子は、第 1 基板と、第 1 基板に対向する第 2 基板と、第 1 及び第 2 基板間に配置され液晶滴が高分子化合物中に分散保持されてなる高分子液晶複合体層と、高分子液晶複合体層に電界を印加するための一対の第 1 表示電極及び第 2 表示電極とを備え、第 1 基板と第 2 基板とは、周縁部同士がシール材を介して貼り合わされた構造の液晶表示素子であつて、上記第 1 基板に、上記高分子液晶複合体層が固着され、第 2 基板と高分子液晶複合体層との間には、間隙層が設けられ、この間隙層の基板面内における領域が、少なくともシール材近傍領域を含む範囲内にあることを特徴とする。

上記の構成では、周囲の温度変化によって、高分子液晶複合体層の体積が膨張又は収縮しても、少なくともシール材近傍領域に形成されている間隙層が緩和するので該亀裂の発生を防止できる。よって、該亀裂による筋状の表示ムラの発生を防止できる。

上記間隙層は、流動層であってもよい。上記流動層は、一定の形を持たず、外力を加えると容易に変形する等流動性を有する層である。従って、液晶表示素子を押圧しても、上記構成のように間隙層を流動層とすることにより、第 1 及び第 2 基板と高分子液晶複合体層との間にずり応力が発生するのを防ぐと共に、液晶表示素子の撓み自体を緩和することができる。

上記流動層は、該間隙層に空気が充填されることにより形成されていてもよい。このように、流動層が空気からなるとしても、押圧による表示ムラや亀裂による筋状の表示ムラを低減させた液晶表示素子を得ることができる。即ち、流動層の材料として特別な材料を使用しないので、特にコスト負担がなく表示品位に優れた液晶表示素子を提供できる。

更に、上記流動層には、液晶材料が含まれていてもよい。これにより、上記のように液晶材料が含まれている場合でも、押圧による表示ムラや亀裂による筋状の表示ムラを低減させた液晶表示素子を得ることができる。

上記間隙層は真空層であってもよい。これにより、間隙層及び側部間隙層において埃等の異物の混入を防止でき、一層表示品位を向上させることができる。

ここで、前記高分子液晶複合体層の外周面と前記シール材の内周面との間に、側部間隙層が設けられていてもよい。

これにより、周囲の温度変化によって高分子液晶複合体層の体積が膨張又は収縮しても、亀裂が生じるシール材近傍には高分子化合物や液晶が存在しない。即ち、側部間隙層が設けられているので、該亀裂の発生は完全に防止できる。よって、該亀裂による筋状の表示ムラの発生を防止できる。

更に、例えばシール材の形成パターンの線幅が横に広がる等、形状が崩れてシール材の滲みが生じても、上記側部間隙層を設けたことにより、該シール材と高分子液晶複合体層との混じりを防止することができる。又、シール材と高分子液晶複合体層との間に一定の間隔が設けられていると、該シール材の印刷時に所定の形成パターンとなるように正確に位置合わせすることを不要とする。

上記間隙層及び側部間隙層は、流動層であってもよく、真空層であってもよい。上記流動層は、間隙層及び側部間隙層に空気が充填されることにより形成されてもよい。又、上記流動層には、液晶材料が含まれていてもよい。

更に、前記第 2 の目的を達成する為に、液晶表示素子は、上記高分子液晶複合体層の第 1 基板に臨む側の表面には、上記第 1 表示電極が形成されており、高分子液晶複合体層の第 2 基板に臨む側の表面には、上記第 2 表示電極が形成されている構成であってもよい。

上記構成のように、高分子液晶複合体層における、第 1 及び第 2 基板に臨む両側面にそれぞれ表示電極を形成することにより、高分子液晶複合体層に電界を印加することができる。

ここで、上記第 2 基板には、光学カラ一フィルタ一層が設けられてレ、てもよい。

上記構成のように、光学カラ一フィルタ一層を設けることにより、カラ一表示が可能な液晶表示素子を提供することができる。

更に、上記第 2 基板の屈折率 η _ε が、空気の屈折率 n _{a i r} よりも大きい関係を満たす場合には、上記第 2 基板の屈折率 η _ε と、間隙層の屈折率 η _χ とが式（ 1 ) の関係を満たし、かつ、上記高分子液晶複合体層の屈折率 η _ρ と、間隙層の屈折率 η _χ とが式（ 2 ) の関係を満たすことが望ましい。

n _g > η _χ "' ( 1 )

η ρ > η _χ ··· ( 2 )

例えば、ノ、' ックライト光等により第 1 基板側から光を照射すると、入射光が高分子液晶複合体層に入射する際に散乱される。ここで、上式（ 1 ) のように設定することにより、散乱された散乱光の一部は、高分子液晶複合体層と間隙層との境界で全反射される。ここで、該境界にて全反射される一部の散乱光とは、第 2 基板と空気中との境界で全反射されることにより該隣の色材膜に間接的に入射する可能性のあるものや、ブラックマトリクスに吸収される光を含む。よつて、間隙層を設けたことにより、色混じりの原因となる一部の散乱光をカラーフィルター層に到達する前に予め排除しておくと共にブラックマトリクスに吸収される光を低減させる。この結果、色混じりの発生を低減させると共に、光の利用効率を高め、表示画面を明るくすることができる。

更に、上記第 2 基板には、光を反射する光学反射部材が設けられていてもよい。

上記構成のように、第 2 基板に光学反射部材を設けることで、表示ムラを防止する等、表示品位に優れた反射型の液晶表示素子を提供することができる。

更に、上記間隙層には、上記第 2 基板と、高分子液晶複合体層とが所定の間隔となるように支持部材が設けられていてもよい。

上記のように、第 2 基板と高分子液晶複合体層との間に設けられている間隙層に支持部材を分散して配置させることにより、例えば上記間隙層が真空層であっても、所定のギャップで該間隙層を確実に設けることができる。

更に、前記第 2 の目的を達成する為に、液晶表示素子は、第 1 基板と、第 1 基板に対向する第 2 基板と、第 1 及び第 2 基板間に配置され液晶滴が高分子化合物中に分散保持されてなる高分子液晶複合体層と、高分子液晶複合体層に電界を印加するための一対の第 1 表示電極及び第 2 表示電極とを備えた液晶表示素子の製造方法であつて、上記第 1 基板上に、スイッチング素子と、該スイッチング素子に電気的に接続される第 1 表示電極とを形成する第 1 ステップと、上記第 1 表示電極上に、高分子液晶複合体層を形成する第 2 ステツプと、上記高分子液晶複合体層上に、第 2 表示電極を形成する第 3 ステップと、上記第 1 及び第 2 表示電極に電圧を印加することにより、表示状態を検査する第 4 ステップと、上記第 4 ステップの検査結果に基づいて、表示状態が良好な高分子液晶複合体層に関してのみ、高分子液晶複合体層と第 2 基板との間が所定の間隙となるように、第 1 基板と第 2 基板とを貼り合わせる第 5 ステップとを有することを特徴とする。

上記の方法によれば、基板の貼り合わせ工程の前に検査を行うので、欠陥が確認されても、従来のように第 2 基板まで廃棄する必要が無い。よって、液晶表示素子を製造する際における、コストの低減を図ることができ、かつ歩留まりを向上させて製造することができる。

更に、上記の方法によれば、第 5 ステップにて、高分子液晶複合体層と第 2 基板との間が所定の間隙となるように、第 1 基板と第 2 基板とを貼り合わせるので、周囲の温度変化により発生する亀裂や、液晶ノ、° ネルのたわみに起因する表示ムラを防止し、表示品位を向上させた液晶表示素子を提供できる。

更に、上記第 5 ステップに用いられる第 2 基板は、予めその表面に光学カラ一フィルタ一層が形成されていてもよい。

上記の方法によれば、カラ一表示が可能な液晶表示素子を、コス卜の低減を図り、かつ歩留まりを向上させて製造することができる。本発明のさらに他の目的、特徴、及び優れた点は、以下に示す記載によって充分わかるであろう。又、本発明の利点は、添付図面を参照した次の説明で明白になるであろう。図面の簡単な説明

図 1 は、第 I の発明群の第 1 実施例に係る液晶表示素子の概略を示す平面図である。

図 2 は、上記液晶表示素子の概略を示す断面模式図である。

図 3 は、上記液晶表示素子を 8 0 °Cで放置した際の、放置時間に対するシール材 1 0 6 と亀裂 1 1 0 との距離の変化を示すグラフである。

図 4 は、上記液晶表示素子の要部を示す平面図である。

図 5 は、上記液晶表示素子に於いて、液晶の連続相の中に高分子樹脂が 3 次元網目状に広がる構造を有する高分子液晶複合体層の状態を示す説明図である。

図 6 ( a ) は、第 I の発明群の第 2 実施例に係る液晶表示素子の概略を示す断面模式図であり、図 6 ( b ) は表示領域に於ける液晶滴の形状を模式的に示す断面図であり、図 6 ( c ) は非表示領域に於ける液晶滴の形状を模式的に示す断面図である。

図 7 は、上記液晶表示素子の製造方法を説明する為の断面模式図である。

図 8 は、上記第 2 実施例の実施例 2 に係る液晶表示素子の製造方法を説明する為の断面模式図である。

図 9 は、第 I の発明群の第 3 実施例に係る液晶表示素子の概略を示す断面模式図である。

図 1 0 は、上記液晶表示素子の製造方法を説明する為の断面模式図である。

図 1 1 は、第 I の発明群の第 4 実施例に係る液晶表示素子の概略を示す断面模式図である。

図 1 2 は、上記第 4 実施例の実施例 4 — 2 に係る液晶表示素子の概略を示す断面模式図である。

図 1 3 は、第 I の発明群の第 5 実施例に係る液晶表示素子の概略を示す断面模式図である。

図 1 4 は、上記液晶表示素子の表示領域に於ける液晶滴の形状を模式的に示す説明図である。

図 1 5 は、上記液晶表示素子の非表示領域に於ける液晶滴の形状を模式的に示す説明図である。

図 1 6 は、上記液晶表示素子の液晶滴を模式的に示す断面図である。

図 1 7 は、上記液晶表示素子の製造方法を説明する為の断面模式図であって、図 1 Ί ( a ) は高分子液晶複合体層に於ける表示領域の形成工程を示す断面図であり、図 1 7 ( b ) は高分子液晶複合体層に於ける非表示領域の形成工程を示す断面図である。

図 1 8 は、第 IIの発明群の第 6 実施例に係る液晶表示素子の構成を示す断面図である。

図 1 9 は、上記液晶表示素子の構成を示す平面図である。

図 2 0 は、上記液晶表示素子を押圧した際の状態を示す断面図である。

図 2 1 は、上記液晶表示素子の他の構成を示す断面図である。図 2 2 は、上記液晶表示素子における光の散乱状態を示す部分断面図である。図 2 3 は、上記液晶表示素子の間隙層のギャップを示す部分断面図である。

図 2 4 は、上記液晶表示素子において、色材膜のピッチ P と間隙層のギヤップ L との関係を示すグラフである。

図 2 5 は、第 IIの発明群の第 2 実施例に係る液晶表示素子の構成を示す断面図である。

図 2 6 は、第 IIの発明群の第 3 実施例に係る液晶表示素子の構成を示す断面図である。

図 2 7 は、第 IIの発明群の第 4 実施例に係る液晶表示素子の構成を示す断面図である。

図 2 8 は、第 IIの発明群の第 5 実施例に係る液晶表示素子の構成を示す断面図である。

図 2 9 は、第 IIの発明群の他の実施例に係る液晶表示素子の構成を示す断面図である。

図 3 0 は、第 IIの発明群の更に他の実施例に係る液晶表示素子の構成を示す断面図である。

図 3 1 は、従来の液晶表示素子に於ける亀裂の発生メカニズムを説明する為の断面模式図であって、図 3 1 ( a ) は上記液晶表示素子の概略を示す断面図であり、図 3 1 ( b ) は高分子液晶複合体層の体積が膨張している様子を示す断面図であり、図 3 1 ( c ) は上記液晶表示素子に亀裂が発生している様子を示す断面図である。

図 3 2 は、従来の液晶表示素子の構成を示す断面図である。

図 3 3 は、上記従来の液晶表示素子における表示ムラを概略的に示す説明図である。

図 3 4 は、上記従来の液晶表示素子を押圧した際の状態を示す断面図である。図 3 5 は、上記従来の液晶表示素子を押圧した際の液晶滴の変形状態を示す説明図であって、図 3 5 ( a ) は押圧前の液晶滴の状態を示す説明図であり、図 3 5 ( b ) は押圧後の液晶滴の状態を示す説明図である。

図 3 6 は、上記従来の液晶表示素子をヒートショックした際の亀裂の発生メカニズムを示す説明図であって、図 3 6 ( a ) は上記液晶表示素子の概略を示す断面図であり、図 3 6 ( b ) は高分子液晶複合体層の体積が膨張している様子を示す断面図であり、図 3 6 ( c ) は高分子液晶複合体層が中央部に移動する様子を示す断面図であり、図 3 6 ( d ) は上記液晶表示素子に亀裂が発生している様子を示す断面図である。

図 3 7 は、上記従来の液晶表示素子における光の散乱状態を示す部分断面図である。発明を実施するための最良の形態

( 1 ) 第 I の発明群における実施例

以下、本発明の第 I の発明群について図面に基づいて説明する。

[第 1 実施例 ]

本発明の第 1 実施例について、図 1 ないし図 5 に基づいて説明すれば以下の通りである。

図 1 は、本発明の第 1 実施例に係る液晶表示素子 1 0 1 の平面図である。図 2 は、上記液晶表示素子の概略を示す断面図である。

図 1 及び図 2 に示すように、液晶表示素子 1 0 1 は、 T F T ( Thin Film Transistor) 基板 1 0 2 と、該 T F T 基板 1 0 2 に対向する対向基板 1 0 3 と、上記 T F T基板 1 0 2 と対向基板 1 0 3 との間に配置される高分子液晶複合体層 1 0 4 とを有する。又、上記液晶表示素子 1 0 1 に於ける表示画面は、 6 インチ以下程度となるように設定されている。

上記 T F T基板 1 0 2 は、下基板 1 1 1 上に、スイッチング素子としての T F T ( 図示しない）や、該 T F T に電気的に接続された画素電極 1 0 5 及びソースライン 1 0 8 等が形成されて構成されている。より詳しくは、上記 T F T や画素電極 1 0 5 、ソースライン 1 0 8 等は、下基板 1 1 1 上の表示領域 2 0 1 に相当する領域に形成されてレヽる。更に、下基板 1 1 1 上には、上記 T F T や画素電極 1 0 5 を覆うようにして絶縁膜 1 0 9 が設けられている。一方、上記対向基板 1 0 3 は、上基板 1 1 2 上に対向電極 1 0 7 等が形成されて構成されている更に、上記対向電極 1 0 7 上には絶緣膜 1 0 9 が設けられている又、 T F T基板 1 0 2 と対向基板 1 0 3 とを貼り合わせる為のシル材 1 0 6 が、液晶ノネルの周縁部に枠状に形成されている。

ここで、上記 T F T や画素電極 1 0 5 等が形成されている表示領域 2 0 1 とシール材 1 0 6 との間には、少なくとも幅 1 . 5 m m以上の枠状の非表示領域 2 0 2 が設けられている。

より詳しくは、例えば液晶ノネルを 8 0 °Cで長時間放置すると、液晶パネル内部の高分子樹脂マトリクス化合物と液晶滴とが膨張して液晶パネル自身も膨張する。シール材 1 0 6 近傍の液晶は、下基板 1 1 1 及び上基板 1 1 2 が歪むことにより圧力を受けてパネル内部に流動する。その後、室温まで冷却すると液晶パネル内部に液晶が流動したことにより、シール材 1 0 6 近傍の液晶密度が低下し、該シール材 1 0 6 近傍の高分子樹脂マトリクスが脆くなる。更に、上記高分子樹脂マトリクスに上基板 1 1 2 及び下基板 1 1 1 から加わる圧力により高分子樹脂マトリクスに亀裂 1 1 0 が生じる。この亀裂が発生する領域が上述の非表示領域 2 0 2 に相当する。ここで、非表示領域 2 0 2 を少なくとも幅 1 . 5 m m 以上の枠状の領域としたのは、図 3 の結果に基づく。図 3 は、 8 0 °Cでの放置時間に対する、シール材 1 0 6 と亀裂 1 1 0 との距離の変ィ匕を示している。この図 3 から明らかなように、 8 0 °Cでの放置時間が 6 0 時間であつても、シール材 1 0 6 と亀裂 1 1 0 との距離 d ( m m ) は最大で 1 . 4 5 m m 程度である。この結果、非表示領域 2 0 2 は少なくとも幅 1 . 5 m m 以上の枠状の領域であればよいことがわかる。よって、本実施例に係る液晶表示素子では、周囲の温度を高温から低温へ変ィ匕させる信頼性試験等を行っても、亀裂 1 1 0 の発生領域が表示領域 2 0 1 に含まれないように、 1 . 5 m m の枠状の領域（非表示領域 2 0 2 ) を設けているので、表示画面上には筋状の表示ムラが視認されない。尚、上記シール材 1 0 6 と亀裂 1 1 0 との距離 d ( m m ) は、図 4 に示すように、シール材 1 0 6 近傍に発生した亀裂 1 1 0 のうち最も内側にある亀裂 1 1 0 と、該シール材 1 0 6 の内周面との距離を表している。

又、 T F T 基板 1 0 2 と対向基板 1 0 3 との間のノ、' ネルギャップは 1 0 m であるが、本実施例に於いては、これに限定されるものではなく、 3 〃 m 以上、 1 5 〃 m 以下の範囲内であればよい。上記の数値範囲内であると、亀裂 1 1 0 の発生領域は、シール材 1 0 6 の内周面から幅が 1 . 5 m m 以内の枠状の領域となる。ここで、亀裂 1 1 0 の発生領域は、例えば 3 インチ以上の液晶パネルではその大きさに対して依存性を示すものではない。具体的には、液晶パネルを高温下で長時間放置した後室温まで冷却すると、高分子樹脂マトリクスに上基板 1 1 2 及び下基板 1 1 1 から加わる圧力によりシ — ル材 1 0 6 近傍の高分子樹脂マトリクスに亀裂 1 1 0 が生じる。この圧力が加わる程度は、液晶ノネルの面積による影響が小さく、専らノ、' ネルギャップによるところが大である。従って、前記した数値範囲 3 m ~ 1 5 〃 m では液晶ノネルの大きさとは無関係に、シール材 1 0 6 の内周面から幅が 1 . 5 m m 以内の領域で、亀裂 1 1 0 が発生する。

尚、パネルギャップは 1 5 〃 m を越えると、高分子液晶複合体層 1 0 4 を駆動する為の駆動電圧が大幅に増加する一方、 3 m よりも小さいと、液晶パネルの透過性が増大して散乱能が低下するので好ましくない。よって、上記パネルギャップを上記数値範囲内とすることにより、高分子液晶複合体層 1 0 4 を駆動する為の駆動電圧の大幅な増加を抑制すると共に、コントラストの低下を抑制できる。

上記 T F T 基板 1 0 2 及び対向基板 1 0 3 は、少なくとも何れか一方が光透過性を有するものであれば特に限定されるものではないよって、基板の一方がシリコン基板等の不透明基板としてもよく、この場合には反射板を備えた構成とすることにより反射型の液晶表示素子とすることができる。上記光透過性を有する基板としては、例えばガラス · 石英等からなる透明基板や、プラスチック基板でも良い。この場合、 T F T 基板 1 0 2 及び対向基板 1 0 3 の材質は互いに異なっていても良い。又、上記画素電極 1 0 5 及び対向電極 1 0 7 は、例えばインジゥム錫酸化物（ I T 〇： Indium Tin Oxide) からなる透明導電膜である。

上記高分子液晶複合体層 1 0 4 は、液晶滴の一部が相互に接触し連なった状態で形成された構造である。しかしながら、上記液晶滴の存在形態はこれに限定されるものではなく、例えば、高分子化合物が 3 次元網目状に形成され、この網目の中に液晶が保持された状態で分散した構造であってもよい。ここで、液晶滴の粒径や、網の目の間隔は散乱性、即ちゲイン G と相関関係を有している。上記ゲイン G は下記の式で表される。

G = (ノ "^ ネル輝度（ n t ) /パネル照度（ l x )) X Γ

上記液晶滴の粒径とゲイン G との関係を勘案すると、該液晶滴の粒径は約 1 . 2 m付近に最適値が存在する。より詳しくは、 1 . 2 ίηι より大きいと青色光の散乱性が低下し、逆に 1 . 2 _i m より小さいと赤色光の散乱性が低下する。即ち、両者ともゲインが大きくなりコントラストの低下を招来する。よって、表示領域 2 0 1 における液晶滴の粒径は最適な粒径である 1 . 2 m付近に設定するのが好ましい。尚、上記網の目の間隔は、顕微鏡等により観察し、例えば図 5 に示す距離 a 〜 c の平均値を求めて算出した値である。上記液晶としては、常温付近で液晶状態を示すネマティック液晶、コレステリック液晶、スメクティック液晶等の各種の液晶を採用できる。これらの液晶は 1 種でもよく、又 2 種以上を混合して使用することもできる。更に、高分子化合物としては、光透過性を有しかつ高分子液晶複合体層 1 0 4 の形成後に高分子樹脂マトリクス中に液晶を保持するものであれば、特に限定されるものではない。具体的には、例えば紫外線硬化型樹脂、熱硬化型（熱相分離型）樹脂等を使用すればよい。上記紫外線硬化型樹脂としては、例えばェポキシ系樹脂、アクリル系樹脂等が挙げられる。一方、上記熱硬化型樹脂としては、例えばエポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、尿素系樹脂、ポリエステル系樹脂等が挙げられる。

上記シール材 1 0 6 としては、特に限定されるものではなく、熱硬化型シ一ル材、紫外線硬化型シール材、及び熱硬化型と紫外線硬化型との複合型シ一ル材等が挙げられる。

上記絶縁膜 1 0 9 · 1 0 9 としては、特に限定されるものではなく、ポリイミドタイプ、ポリアミック酸タイプの何れでも使用可能である。又、無機化合物からなる絶縁膜を用いても良い。本実施例のように絶縁膜 1 0 9 · 1 0 9 を用いると、高分子液晶複合体層 1 0 4 の電圧保持率をより向上させる効果がある。

以上のように、本実施例に係る液晶表示素子の特徴点は、亀裂 1 1 0 の発生領域を非表示領域 2 0 2 として、表示領域 2 0 1 と分割していることにある。又、上記非表示領域 2 0 2 は、シ一ル材 1 0 6 の内周面から幅が少なくとも 1 . 5 m m の枠状の領域からなる。これにより、表示画面に於いては、筋状の表示ムラが発生せず、良好な表示特性を有する液晶表示素子を得ることができる。

尚、下基板 1 1 1 と上基板 1 1 2 との材質が異なる場合には、高温時の膨張度合いが両者で異なる為、亀裂が一層発生しやすくなる。しかし、本実施例に於いては亀裂の発生領域が表示領域 2 0 1 に含まれないように該表示領域 2 0 1 を設定している為、上記のように材質が異なる場合でも一層有効である。

又、本実施例に於いては、 T F T を採用したアクティブマトリクス駆動について述べたが、本発明はこれに限定されるものではなく、単純マトリクス駆動でも良い。更に、前記亀裂 1 1 0 の内部を、主に液晶から成る物質で塞ぐようにしてもよい。このようにすることで、亀裂 1 1 0 以外の領域との屈折率差が小さくなり、該亀裂 1 1 0 が目立たなくなるできるからである。この結果、亀裂 1 1 0 の発生する領域も表示領域に含ませることも可能となり、表示画面の拡大が図れる。

上記亀裂 1 1 0 の内部を塞ぐ方法としては、特に限定されるものではなく、例えば液晶表示素子 1 0 1 を、 8 0 °C · 2 時間の条件にてァニールする熱処理の方法等が挙げられる。更に、亀裂 1 1 0 を液晶で塞ぐ手法としては、上記熱処理の方法の他に、 6 0 °C以上の温度でァニールを行っても同様の効果がある。又、ァニール回数を複数回行っても良い。ァニールを複数回行うと、液晶の流動性が増大した状態で一定時間持続される為、表示領域 2 0 1 の中央部から非表示領域 2 0 2 に向かう液晶の流れが発生して、亀裂 1 1 0 が塞がりやすくなる。

( 実施例 1 — 1 )

本実施例 1 に係る液晶表示素子は、前記第 1 実施例に対応する。上記液晶表示素子は、以下に示す方法にて作製した。即ち、ガラスから成る下基板 1 1 1 に、真空蒸着とエッチングとの手法を用いて、画素電極 1 0 5 、ソースライン 1 0 8 及び絶縁膜 1 0 9 等を形成し、 T F T 基板 1 0 2 とした。一方、上基板 1 1 2 に、上記と同様の方法にて対向電極 1 0 7 、絶緑膜 1 0 9 等を形成して、対向基板 1 0 3 とした。

次に、上記 T F T 基板 1 0 2 上に、シール材 1 0 6 として熱硬化型シール材（ストラクトボンド X N 2 1 — S 、三井東圧化学（株）製）を、塗布形状が液晶注入口の部分を欠いた枠状パターンとなる様に塗布した。更に、上記 T F T 基板 1 0 2 と対向基板 1 0 3 とを、上記シール材 1 0 6 を介してノネルギャップが 1 O ^ m となるように貼り合わせた。

続いて、 T F T 基板 1 0 2 と対向基板 1 0 3 との間に、液晶と紫外線硬化型高分子分散材料 P N M 2 0 1 ( 大日本インキ化学（株）製）との混合物を、真空注入法にて導入する。このとき、シール材 1 ◦ 6 に形成されている真空注入口 1 1 1 は、封口していない。その後、 3 6 5 n m を主波長とし、かつ紫外線の照射強度が 8 O m W / c m ² ( 紫外線照度計 U V — M 0 2 ( オーク製作所製）により測定）の紫外線を照射し、紫外線硬化型高分子分散材料を重合させる。これにより、高分子樹脂マトリクス中に液晶滴が連続的につながつて分散しているポリマーネットワーク型液晶素子が作製される。尚、紫外線を照射する際の重合温度は 2 0 °Cとなるようにした。しかしながら、重合条件や紫外線の照射強度につては、上記に限定されるものではなく、適宜必要に応じて設定すればよい。

更に、封口シール材（商品名； T B 3 0 2 6 、（株）スリーボンド製）を用いて封口処理を行った。これにより、本実施例 1 に係る液晶表示素子を作製した。尚、表示領域 2 0 1 は、シール材 1 0 6 の内周面より幅 3 m m の枠状となる非表示領域 2 0 2 の内周侧に設けられている。

次に、本実施例に係る液晶表示素子に対して、周囲の温度を変化させて信頼性試験を実施した。その前に、上記液晶表示素子を顕微鏡にて観察すると、シール材 1 0 6 近傍には亀裂が生じていないことが確認された。信頼性試験は、液晶表示素子を、オーブンにより 8 0 °Cで 1 0 時間ァニールし、その後該オーブンから液晶表示素子を取り出して室温で冷却した。この液晶表示素子を顕微鏡にて観察したところ、シール材 1 0 6 近傍の高分子樹脂に亀裂 1 1 0 が発生しているのが確認された。より詳しくは、該亀裂 1 1 0 はシール材 1 0 6 近傍における非表示領域 2 0 2 内の全周囲にて発生していた。更に、亀裂 1 1 0 は、シ一ル材 1 0 6 から中央部に向かって、最大で 1 . 5 m m の領域にまで発生してレヽた。このように、液晶表示素子を周囲の温度が高温から低温へ変化する環境下に置くことで、亀裂が発生することが明らかとなった。尚、本実施例に係る液晶表示素子は、シール材 1 0 6 と表示領域 2 0 1 との間に、幅が 3 m m の枠状となるように非表示領域 2 0 2 を設けている為、表示領域 2 0 1 に於ける高分子樹脂マトリタスには、亀裂が発生せず良好な表示が得られていた。

以上のことから、周囲の温度変化により、シール材 1 0 6 近傍の高分子樹脂マトリクスに亀裂が発生する液晶表示素子では、亀裂が発生する領域以外の領域を表示領域 2 0 1 とすることで、表示画面上に表示ムラが発生せず、高い信頼性と良好な表示特性とを有する液晶表示素子を得ることができる。

更に、シール材 1 0 6 と表示領域 2 0 1 との間隔を変えて、同様の実験を行った。その結果を下記表 1 に示す。尚、表示ムラの程度を決定する為の評価基準は、表示領域 2 0 1 に亀裂が発生していない場合を ◎、表示領域 2 0 1 の周囲数画素の一部に亀裂が発生している場合を〇、表示領域 2 0 1 の周囲数画素内のほぼ全てに亀裂が発生している場合を △、表示領域 2 0 1 と非表示領域 2 0 2 との境界から内側数画素以上にかけて亀裂が密集して発生している場合を X としている。 ( 表 1 )

注） ◎ : 画素に亀裂なし、〇：周囲数画素の一部に亀裂発生、 X 周囲から内側数画素以上にかけて亀裂が密集して発生表 1 から明らかなように、間隔が 1 . 5 m m より小さいと、高分子樹脂マトリクスの亀裂 1 1 0 が表示領域内に発生することにより、表示画面上に筋状の表示ムラが発生していることが確認された。即ち、亀裂 1 1 0 の発生領域は、シ一ル材 1 0 6 の内周面から幅 1 . 5 m m の枠状の領域内であると言える。よって、シール材 1 0 6 から間隔が少なくとも 1 . 5 m m となるように表示領域 2 0 1 を形成すると、表示ムラは解消され良好な表示が得られた。更に、最も優秀な効果を達成する実施要件としては 3 . 0 m m 以上の間隔を確保することがより好ましい。ここで、熱硬化型のシール材 1 0 6 と表示領域 2 0 1 との間隔が 3 . 0 m m の場合、該表示領域 2 0 1 には亀裂が存在しない為表示は良好であり、亀裂 1 1 0 は非表示領域 2

0 2 において視認できた。この亀裂 1 1 0 を調べたところ、亀裂 1

1 0 内部は真空であることがわかった。

以上の結果から、本実施例に係る液晶表示素子は、亀裂 1 1 0 が発生しても、表示画面に於いては筋状の表示ムラが発生せず、良好な表示特性を示すことが確認された。

( 実施例 1 一 2 )

本実施例 1 一 2 に係る液晶表示素子は、前記第 1 実施例に対応する。前記実施例 1 ― 1 に係る液晶表示素子と本実施例 1 一 2 に係る液晶表示素子との異なる点は、高分子液晶複合体層 1 0 4 の全領域を表示領域とし、かつ亀裂 1 1 0 に液晶を主成分とする物質を充填している点が異なる。

先ず、前記実施例 1 一 1 と同様にして、液晶表示素子を作製した。次に、上記液晶表示素子に対して、前記実施例 1 _ 1 と同様に信頼性試験を実施した。この信頼性試験後、上記液晶表示素子を顕微鏡にて観察したところ、シール材 1 0 6 近傍の高分子樹脂マトリクスに亀裂 1 1 0 が発生しているのが確認された。更に、液晶表示素子 1 0 1 を、再び 8 0 °C - 2 時間の条件でオーブンにてァニールしたところ、亀裂 1 1 0 周囲に存在する主に液晶から成る物質が該亀裂 1 1 0 に流入して塞がった。このとき、亀裂 1 1 0 以外の領域との屈折率差が小さくなり、該亀裂 1 1 0 が目立たなくなった。よつて、亀裂 1 1 0 が発生した場合には、熱処理等を行うことにより亀裂 1 1 0 を塞き該亀裂 1 1 0 を目立たなくする為に有効であることが確認された。

以上の結果から、本実施例に係る液晶表示素子は、亀裂 1 1 0 が発生しても、表示画面に於いては筋状の表示ムラが目立たず、良好な表示特性を示すことが確認された。

[第 2 実施例 ]

本発明の第 2 実施例について、図 6 及び図 7 に基づいて説明すれば以下の通りである。尚、前記第 1 実施例の液晶表示素子と同様の機能を有する構成要素については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。

本実施例に係る液晶表示素子は、前記第 1 実施例に係る液晶表示素子の構成と比して、非表示領域における高分子液晶複合体層を、液晶滴が高分子化合物からなる高分子樹脂マ卜リクス層に個々に独立して分散された構成にしている点が異なる。

図 6 ( a ) は、本実施例に係る液晶表示素子の概略を示す断面図である。図 6 ( a ) に示すように、シール材 1 0 6 の内側に、約 1 . O m m程度の幅となるような枠状の非表示領域 2 0 2 が設けられている。更に、その非表示領域 2 0 2 の内側には表示領域 2 0 1 が設けられている。上記非表示領域 2 0 2 では、ほぼ球形又は回転楕円体形状の液晶滴 2 0 6 が互いに独立した状態で分散保持されている ( 図 6 ( c ) 参照）。これに対して、表示領域 2 0 1 では、液晶滴 2 0 5 の一部が相互に接触し連なった状態で存在した構造で形成されている（図 6 ( b ) 参照）。尚、表示領域 2 0 1 は、高分子樹脂マトリクスが 3 次元網目状に形成され、この網目の中に液晶が保持された状態で分散した構造のものであってもよい。上記構成のように、シール材 1 0 6 近傍の液晶滴 2 0 6 が相互に独立した構造となっている為、該液晶滴 2 0 6 は温度を上昇させた際に内部に向かつて移動しにくくなる。この結果、非表示領域 2 0 2 における亀裂の発生を抑制することができる。一方、前記第 1 実施例でも述べたように、液晶滴の粒径や、網の目の間隔は散乱性、即ちゲイン G と相関関係を有しており、液晶滴の粒径は約 1 . 2 m とするのが好ましい。

本実施例に係る液晶表示素子の主要構成要素である高分子液晶複合体層 2 0 0 は、以下に述べる方法にて形成することができる。

図 7 は、上記液晶表示素子の製造方法を説明する為の断面図である。先ず、予め画素電極 1 0 5 及び対向電極 1 0 7 がそれそれ設けられた T F T 基板 1 0 2 又は対向基板 1 0 3 を、シール材 1 0 6 にて貼り合わせる。更に、上記 T F T 1 0 2 及び対向基板 1 0 3 の間に、紫外線硬化型樹脂等の未硬化樹脂モノマー（高分子前駆体）と液晶材料とを主要材料とする液晶高分子混合物を注入する。続いて、該液晶高分子混合物に紫外線を照射すると、未硬化樹脂モノマ一が重合して液晶と高分子樹脂マトリクスとに相分離する。

ここで、上記紫外線は、表示領域 2 0 1 と非表示領域 2 0 2 とで、紫外線の照射強度が異なるように設定されている。より詳しくは、非表示領域 2 0 2 に照射される第 2 の紫外線 2 0 3 の照射強度は、表示領域 2 0 1 に照射される第 1 の紫外線 2 0 4 の照射強度よりも大きい。上記のように、第 2 の紫外線 2 0 3 の照射強度を大きくすることにより、上記液晶と高分子化合物との相分離が一層進行するので、非表示領域 2 0 2 では、液晶滴 2 0 6 が個々に独立して分散した構造とすることができる。一方、第 1 の紫外線 2 0 4 の照射強度を第 2 の紫外線 2 0 3 の照射強度よりも小さくすることにより、液晶と高分子化合物との相分離の進行度を抑制させることができる，よって、表示領域 2 0 1 では、液晶滴 2 0 5 の一部が相互に接触し連なった状態で存在するか、或いは高分子樹脂マトリクスが 3 次元網目状に形成され、この網目の中に液晶が保持された状態で存在する構造となる。これにより、高分子液晶複合体層 2 0 0 が形成される。尚、非表示領域 2 0 2 の幅が 1 . 0 m m となっているのは、例えば第 1 の紫外線 2 0 4 を照射する際等の裏面からの回り込み光の影響によるものであり、 1 . 0 m m よりも小さくするのが困難な為である。

上記紫外線の照射強度は、上述したように表示領域 2 0 1 に於ける液晶滴 2 0 5 と非表示領域 2 0 2 に於ける液晶滴 2 0 6 との構造が得られれば、特に限定されるものではなく、任意に設定できる。しかし、紫外線の照射強度が大きいほど重合度は進行し、液晶滴の粒径が小さくなる為、非表示領域 2 0 2 に照射する照射強度は、表示領域 2 0 1 よりも大きくする必要がある。

尚、紫外線の照射強度を液晶パネル面内で変える為には、紫外線の力ットフィル夕一を液晶パネルで部分的に配置する方法等が挙げられる。例えば、表示領域 2 0 1 に 3 7 0 n m の波長をカットするカツトフィルターを配置し、かつ非表示領域 2 0 2 に 3 5 0 n m の波長をカットするカットフィルターを配置する。ここで、同一の光源から照射された紫外線は、上記カツトフィルタ一の作用により、非表示領域 2 0 2 に照射される紫外線の照射強度を、表示領域 2 0 1 より大きくすることができる。上記の方法によれば、照射回数を一回にでき、製造工程の簡略化が図れる。

以上のように、本実施例に係る液晶表示素子の特徴点は、シール材 1 0 6 近傍の領域（非表示領域 2 0 2 ) では、液晶滴 2 0 6 が相互に独立して分散した構造となっていることにある。これにより、液晶滴 2 0 6 は周囲の温度が上昇しても内部に向かって移動しにくくなり、非表示領域 2 0 2 での液晶密度が低下するのを防ぐので、亀裂の発生を防止でき、従って該亀裂に起因する表示ムラの発生も防止できる。しかも、表示領域 2 0 1 では、高分子化合物を含み構成されたマトリクス連続相中に液晶滴 2 0 5 が分散保持されている為、コントラストが良好な状態で、表示ムラの発生を防止できる。又、非表示領域 2 0 2 を、幅が少なくとも 1 . 0 m m 以上の枠状の領域としているので表示領域を一層拡大させることができる。

( 実施例 2 )

本実施例 2 に係る液晶表示素子は、前記第 2 実施例に対応する。上記液晶表示素子は、以下に示す方法にて作製した。

即ち、前記実施例 1 と同様にして、ガラスから成る下基板 1 1 1 に、真空蒸着及びエッチングにより、画素電極 1 0 5 、ソースライン 1 0 8 、絶縁膜 1 0 9 等を形成し、 T F T 基板 1 0 2 とした。更に、印刷法によりォプトマ一 A L 5 4 1 7 ( 日本合成ゴム社製）を下基板 1 1 1 上に印刷した後、オーブンにて加熱して硬化させ絶縁膜 1 0 9 を形成した。一方、上基板 1 1 2 に、上記と同様に真空蒸着及びエッチングにて対向電極 1 0 7 を形成した。更に、ォプトマ — A L 5 4 1 7 を上基板 1 1 2 上に塗布した後、上記と同様にォ一ブンにて硬化させ、絶縁膜 1 0 9 を形成し、対向基板 1 0 3 とした。続いて、上記 T F T 基板 1 0 2 上に、シール材 1 0 6 として熱硬化型シール材（ストラクトボンド X N 2 1 — S 、三井東圧化学（株）製）を、塗布形状が液晶注入口の部分を欠いた枠状パターンとなる様に塗布した。更に、ガラススぺーサを散布し、上記 T F T 基板 1 0 2 と対向基板 1 0 3 とを、上記シール材 1 0 6 を介してノネルギヤップが 1 3 〃 m となるように貼り合わせた。

次に、 T F T 基板 1 0 2 と対向基板 1 0 3 との間に、液晶と紫外線硬化型高分子分散材料 P N M 2 0 1 とを含む液晶高分子混合溶液を、真空注入法にて導入した。

更に、図 8 に示すように、シール材 1 0 6 近傍における非表示領域 2 0 2 及びシール材 1 0 6 を遮蔽するように、紫外線反射板 2 1 0 · 2 1 0 を配置した後、超高圧水銀ランプを光源とする紫外線発生機（商品名； U V A 7 0 2 - I M N S C - B B 0 1 、ゥシォ電機製） 2 1 1 を用いて、対向基板 1 0 3 側から第 1 の紫外線を 6 0 秒間照射した。これにより、紫外線反射板 2 1 0 · 2 1 0 により遮蔽された領域以外の領域における高分子を重合させて、液晶と高分子樹脂マトリクスとに相分離させた。ここで、液晶パネル温度（重合温度）は、循環恒温漕によりノネルの表面温度が 1 9 °Cとなるように設定した。更に、紫外線の強度を紫外線照度計 U V - M 0 2 ( ォーク製作所製）を用いて測定し、 1 0 0 m W / c m ² となるように設定した。

次に、紫外線反射板 2 1 0 · 2 1 0 を取り去り、パネル全面に第 2 の紫外線を 6 0 秒間照射した。上記第 2 の紫外線の照射強度は 5 0 0 m W / c m ² となるように設定した。これにより、非表示領域 2 0 2 における高分子分散材料を重合させて、液晶と高分子樹脂マトリクスとに相分離させる。上記のように、液晶高分子混合溶液に紫外線を照射する際に、非表示領域 2 0 2 に照射する紫外線の照射強度を表示領域 2 0 1 よりも大きくすることにより、液晶滴の存在形態を制御することができる。即ち、紫外線の照射強度を大きくすると、液晶と高分子化合物との相分離は一層進行する為、非表示領域 2 0 2 では液晶滴 2 0 6 が個々に独立して分散した状態で存在する。一方、表示領域 2 0 1 においては、液晶滴 2 0 5 は、その一部が相互に接触し連なった状態で存在する。

尚、上記のようにして紫外線を照射した場合、非表示領域 2 0 2 に照射された紫外線の照射強度のトータルは 6 0 0 m W / c m ² となり、表示領域 2 0 1 に照射された紫外線の照射強度のトータルは 5 0 0 m W / c m ² となる。よって、見かけ上、表示領域 2 0 1 に照射された紫外線の照射量よりも、非表示領域 2 0 2 に照射された紫外線の照射量の方が大きい。しかしながら、表示領域 2 0 1 に於いては、一回目の紫外線照射が終了した段階で液晶と高分子化合物との相分離は終了している。よって、その後 5 0 0 m W / c m ² の紫外線が照射されても反応は進行しない。この結果、相分離を行う際の紫外線の照射量は、実質的には非表示領域 2 0 2 に於ける照射量が大きいことになる。上記液晶滴 2 0 5 . 2 0 6 の構造は下記の方法により確認した。即ち、ガラスからなる一対の基板をシール材により貼り合わせ、上記と同様の組成物からなる液晶高分子混合溶液を注入して、同様の重合条件にて重合させ液晶パネルを作製する。尚、該液晶パネルには T F T 等が形成されていない。作製した液晶パネルの何れか一方の基板を剥離し、液晶滴の粒径を測定した。より詳しくは、液晶滴を顕微鏡で観察し、画像処理装置を用いて粒径の平均値を求めて行つた。観察の結果、表示領域における液晶滴の平均粒径は 1 . 2 〃 m であり、かつその一部が互いに繋がった形状となっていた。このとき、表示領域に存在する液晶分率は 7 5 % であった。一方、非表示領域における液晶滴の平均粒径は 0 . 6 m と小さく、かつ液晶滴は互いにほぼ独立した形状であった。このときの液晶分率は 6 8 % であった。

以上のことから、本実施例に係る液晶表示素子に於いても、上記構造の場合と同様に、表示領域 2 0 1 に於ける液晶滴 2 0 5 は互いに一部が繋がった構造であり、非表示領域 2 0 2 に於ける液晶滴 2 0 6 は互いに独立した分散構造であると推察した。

続いて、作製した液晶パネルをオーブンに入れァニール処理を施した。処理条件は 8 0 °C、 1 0 時間とした。その後、室温まで冷却し、高分子樹脂マトリクスの亀裂の発生状態を顕微鏡にて観察した。この結果、シール材 1 0 6 近傍の高分子樹脂マトリクスに亀裂は発生せず、表示領域 2 0 1 にも表示ムラは発生しないことが確認された。

尚、 2 回目に紫外線を照射する際は、紫外線反射板 2 1 0 を除いて全面に照射したが、これは、 1 回目に照射した表示領域 2 0 1 に相当する領域を紫外線反射板 2 1 0 で遮蔽して照射しても良い。これにより、 1 回目に照射した上記領域を遮蔽することで、紫外線による表示領域 2 0 1 に於ける液晶等の分解を抑制する効果がある。又、紫外線の照射強度は、光源のランプ強度を変えることにより制御することも可能である。具体的には、例えば超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ等を用いた場合、紫外線の波長ピークが 3 6 5 n m にあり可視光領域における紫外線の照射強度が小さいので、液晶の分解を抑制することができ、信頼性の低下を防ぐことができる。一方、メタルハライドランプ等を用いた場合、可視光領域に於いてもランプ強度が存在する為、液晶を分解する等して信頼性に課題を有する。

[第 3 実施例 ]

本発明の第 3 実施例について、図 9 及び図 1 0 に基づいて説明すれぱ以下の通りである。尚、前記第 1 実施例又は第 2 実施例の液晶表示素子と同様の機能を有する構成要素については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。

本第 3 実施例に係る液晶表示素子は、前記第 1 実施例又は第 2 実施例に係る液晶表示素子の構成と比して、高分子液晶複合体層の非表示領域では液晶と高分子化合物とが相分離せずに溶解した状態にある点が異なる。

より詳しくは、図 9 に示すように、高分子液晶複合体層 3 0 0 におけるシール材 1 0 6 近傍の非表示領域 2 0 2 では、液晶と高分子化合物とが相分離せずに溶解した状態である。これに対して、表示領域 2 0 1 では、液晶滴の一部が相互に接触し連なった状態で存在した構造で形成されている。尚、表示領域 2 0 1 は、高分子樹脂マトリクスが 3 次元網目状に形成され、この網目の中に液晶が保持された状態で分散した構造のものであってもよい。このような構成とすることにより、亀裂の発生しやすいシール材 1 0 6 近傍を液体又は半固形状とすることができ、結果として亀裂の発生を防止できる。尚、上記非表示領域 2 0 2 は、幅が約 l m m 程度の枠状となるように形成されている。

本実施例に係る液晶表示素子の主要構成要素である高分子液晶複合体層 3 0 0 は、以下に述べる方法にて形成することができる。

図 1 0 は、上記液晶表示素子の製造方法を説明する為の断面図である。先ず、予め画素電極 1 0 5 及び対向電極 1 0 7 がそれそれ設けられた T F T 基板 1 0 2 又は対向基板 1 0 3 を、シール材 1 0 6 にて貼り合わせる。更に、上記 T F T 1 0 2 及び対向基板 1 0 3 の間に、紫外線硬化型樹脂等の未硬化樹脂モノマーと液晶材料とを主要材料とする液晶高分子混合物を注入する。続いて、該液晶高分子混合物の表示領域 2 0 1 に相当する領域にのみ紫外線を照射し、非表示領域 2 0 2 に相当する領域には紫外線を遮蔽する遮蔽手段を設ける。これにより、上記表示領域に 2 0 1 では、液晶滴の一部が相互に接触し連なった状態で存在しているか、或いは高分子樹脂マトリクスが 3 次元網目状に形成され、この網目の中に液晶が保持された状態で分散した構造とすることができる。一方、非表示領域 2 0 2 では、紫外線が照射されない為、液晶と高分子化合物とは相分離せず、紫外線硬化型樹脂と液晶材料とが溶解した状態にある。この結果、非表示領域 2 0 2 に於いては、上記紫外線硬化型樹脂は固化されていないので、該非表示領域 2 0 2 における亀裂の発生を防止することができる。

又、上記表示領域 2 0 1 は、高分子樹脂マトリクスが 3 次元網目状に形成され、この網目の中に液晶が保持された状態で分散した構造であってもよい。又、コントラストは低減するが、液晶滴が互いに独立して分散した構造であってもよい。

( 実施例 3 )

本実施例 3 に係る液晶表示素子は、前記第 3 実施例に対応する。上記液晶表示素子は、前記実施例 2 と同様にして液晶パネルを作製した。

更に、前記実施例 2 と同様にして、シール材 1 0 6 近傍における非表示領域 2 0 2 及びシール材 1 0 6 を紫外線反射板 2 1 0 · 2 1 0 にて遮蔽し、液晶パネルの表面温度を 1 9 °Cで保持して対向基板 1 0 3 側から第 1 の紫外線を照射した。ここで、照射条件としては、照射強度を 1 0 0 m W / c m ² とし、照射時間を 6 0 秒間とした。

これにより、紫外線反射板 2 1 0 · 2 1 0 により遮蔽された領域以外の領域における高分子前駆体を重合させて、液晶と高分子樹脂マトリクスとに相分離させた。この結果、表示領域 2 0 1 では、液晶滴の一部が互いに繋がった形状となっていた。更に、非表示領域 2 0 2 では未硬化で、液晶と高分子化合物とが混合した液体状となつていた。ここで、液晶パネル温度（重合温度）は、循環恒温漕により液晶パネルの表面温度が 1 9 °Cとなるように設定した。

続いて、作製した液晶パネルをオーブンに入れァニール処理を施した。処理条件は 8 0 °C、 1 0 時間とした。その後、室温まで冷却し、高分子樹脂マトリクスの亀裂の発生状態を顕微鏡にて観察した。この結果、シール材 1 0 6 近傍の高分子樹脂マトリクスに亀裂は発生せず、表示領域 2 0 1 にも表示ムラは発生せずに良好な表示画面が得られた。

[第 4 実施例 ]

本発明の第 4 実施例について、図 1 1 に基づいて説明すれば以下の通りである。尚、前記第 1 実施例〜第 3 実施例の液晶表示素子と同様の機能を有する構成要素については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。

本実施例に係る液晶表示素子は、前記第 1 実施例、第 2 実施例又は第 3 実施例に係る液晶表示素子の構成と比して、非表示領域には高分子液晶複合体層が存在せずに側部間隙層が形成されている点が異なる。

より詳しくは、図 1 1 に示すように、主に表示領域 2 0 1 にのみ高分子液晶複合体層 4 0 0 が設けられ、上記側部間隙層 4 1 2 は真空状態となっている。よって、亀裂が発生する領域に高分子樹脂マトリクスゃ液晶がそもそも存在しない為、亀裂の発生を完全に防止することが可能となる。尚、上記非表示領域 2 0 2 は、真空状態である場合に限定されるものではなく、空気や窒素、アルゴン等の他の気体や、高分子化合物等が充填されているものでもよい。又、上記空気を用いる場合には、該空気は湿度の低い乾燥した空気を用いた方が、液晶等への汚染が少ないので好ましい。

更に、上記表示領域 2 0 1 は、高分子樹脂マトリクスが 3 次元網目状に形成され、この網目の中に液晶が保持された状態で分散した構造であってもよい。又、コントラストは低減するが、液晶滴が互いに独立して分散した構造でもあってもよい。

尚、第 2 〜第 4 実施例に於いては、高分子中に液晶が分散された層において、シール材 1 0 6 付近の構造をそれ以外の部分の構造と異ならしめているわけであるが、この構造の場合、シール材 1 0 6 近辺は画像表示を行う領域として用いるのは好ましくなく、画像表示はシール材 1 0 6 近辺以外の領域を用いることが望ましい。

( 実施例 4一 1 )

本実施例 4 - 1 に係る液晶表示素子は、前記第 4 実施例に対応する。上記液晶表示素子は、以下のようにして作製した。

先ず、前記実施例 1 と同様にして、ガラスから成る下基板 1 1 1 に、真空蒸着及びエッチングにより、画素電極 1 0 5 、ソースライン 1 0 8 、絶縁膜 1 0 9 等を形成し、 T F T 基板 1 0 2 とした。更に、ォプトマ一 A L 5 4 1 7 を印刷法により下基板 1 1 1 上に印刷した後、オーブンにて加熱して硬化させ絶縁膜 1 0 9 を形成した。一方、上基板 1 1 2 に、上記と同様の方法にて対向電極 1 0 7 、絶縁膜 1 0 9 等を形成し、対向基板 1 0 3 とした。続いて、上記 T F T 基板 1 0 2 上に、シール材 1 0 6 として熱硬化型シール材を、塗布形状が液晶注入口の部分を欠いた枠状パターンとなる様に印刷した。

次に、表示領域 2 0 1 を含む領域に、液晶と紫外線硬化型高分子分散材料 P N M 2 0 1 とを含む液晶高分子混合溶液を、ノズルを用いて必要量を滴下した。ここで、表示領域 2 0 1 に高分子材料を配置する方法としては、上記の他に、非表示領域 2 0 2 をマスクして、スピンナ一にて塗布してもよい。又、口一ラー等、一般の印刷手法を用いても良い。

更に、ガラススぺ一サを散布し、上記 T F T 基板 1 0 2 と対向基板 1 0 3 とを、上記シール材 1 0 6 を介してノネルギャップ力 ^s 1 0 Αί m となるように貼り合わせて液晶ノネルを作製した。ここで、シール材 1 0 6 の内周面と表示領域 2 0 1 との間隔は 3 m m程度となるようにした。尚、 T F T 基板 1 0 2 と対向基板 1 0 3 との貼り合わせ工程は空気中で行ったため、シ一ル材 1 0 6 近傍の非表示領域 2 0 2 には空気が充填されている。

更に、超高圧水銀ランプを光源とする紫外線発生機 2 1 1 を用いて、対向基板 1 0 3 側から紫外線を 6 0 秒間照射した。これにより、表示領域 2 0 1 における高分子前駆体を重合させて、液晶と高分子化合物とに相分離させた。ここで、液晶パネル温度（重合温度）は、循環恒温漕により 2 0 °Cとなるように設定した。更に、紫外線の照射強度は 8 O m W / c m ² となるように設定した。

ここで、液晶パネルを観察したところ、側部間隙層 4 1 2 に於いては空気が充填されており、且つ表示領域 2 0 1 には高分子液晶複合体層 4 0 0 が形成されていた。

最後に、注入口を封口シール材（ T B 3 0 2 6 、（株）スリーポンド製）を用いて封口した。

更に、作製した液晶パネルを顕微鏡にて親察したところ、シール材 1 0 6 近傍の非表示領域 2 0 2 では、亀裂は確認されなかった。次に、該液晶ノネルをオーブンにより 8 0 。C · 1 0 時間ァニールし、室温で冷却した。この結果、シ一ル材 1 0 6 近傍においては、高分子液晶複合体層は存在しない為、亀裂が発生せず良好な表示特性を有する液晶表示素子が得られた。

( 実施例 4 一 2 )

本実施例 4 - 2 に係る液晶表示素子は、前記第 4 実施例に対応する。

前記実施例 4 一 1 に係る液晶表示素子と本実施例 4 — 2 に係る液晶表示素子との異なる点は、非表示領域 2 0 2 が真空である代わりに高分子樹脂層が設けられている点が異なる（図 1 2 参照）。

上記液晶表示素子は、以下のようにして作製した。

先ず、前記実施例 4 一 1 と同様にして、下基板 1 1 1 に、画素電極 1 0 5 、ソースライン 1 0 8 及び絶縁膜 1 0 9 等を形成し、 T F T 基板 1 0 2 とした。一方、上基板 1 1 2 に、上記と同様の方法にて対向電極 1 0 7 、絶縁膜 1 0 9 等を形成し、対向基板 1 0 3 とした。続いて、上記 T F T 基板 1 0 2 上に、シ一ル材 1 0 6 として熱硬化型シール材を、塗布形状が液晶注入口の部分を欠いた枠状パタ — ンとなる様に印刷した。

次に、重合性モノマー（ 2 — ェチルへキシルァクリレート） 9 0 % と、オリゴマー（商品名；ビスコート 8 2 8 、大阪有機化学工業製） 9 % と、重合開始剤（商品名；ベンジルメチルケタール、日本化薬製） 1 % とを混合し、高分子組成物 Α を作製した。更に、この高分子組成物 A 2 0 % に液晶材料 T L 2 0 5 ( メルク社製） 8 0 % を混合した高分子組成物 B を作製した。

続いて、表示領域 2 0 1 を含む領域に、高分子組成物 B をノズルにより必要量だけ滴下した。更に、高分子組成物 A を非表示領域 2 0 2 にノズルにより滴下した後、 T F T 基板 1 0 2 と対向基板 1 0 3 とを貼り合わせた。

最後に、液晶ネルに実施例 4 と同様の手法で紫外線を照射し、本実施例に係る液晶表示素子を作製した。

上記液晶表示素子を観察したところ、表示領域 2 0 1 は液晶滴が樹脂中に分散保持された高分子分散液晶であり、非表示領域 2 0 2 は重合した高分子樹脂のみが存在する構成であった。即ち、高分子樹脂層 5 2 1 が形成されていた。

続いて、作製した液晶ネルをオーブンに入れニール処理を施した。処理条件は 8 0 °C、 1 0 時間とした。その後、室温まで冷却し、高分子樹脂マトリクスの亀裂の発生状態を顕微鏡にて観察した。この結果、シール材 1 0 6 近傍の高分子樹脂マトリクスに亀裂は発生せず、表示領域 2 0 1 にも表示ムラは発生せずに良好な表示画面が得られた。

上記の理由としては、シール材 1 0 6 近傍に高分子樹脂のみが存在する為、液晶滴が存在する場合と比較して、下基板 1 1 1 又は上基板 1 1 2 の歪み等に対して破壊強度が増大しているからである。

尚、シール材 1 0 6 近傍の高分子樹脂層 5 2 1 は、高分子液晶複合体層 4 0 0 における高分子樹脂マトリクスと同様の材質である為、該高分子液晶複合体層 4 0 0 と高分子樹脂層 5 2 1 との境目が目立たなくなる。

上記高分子樹脂層 5 2 1 としては、紫外線硬化型樹脂であってもよく、熱硬化型樹脂であってもよい。紫外線硬化型樹脂は、重合開始剤等を含有させることにより紫外線で硬化する高分子樹脂であれば、特に限定されるものではなく、従来公知の種々のものを採用できる。即ち、該高分子樹脂層 5 2 1 に亀裂が発生せず良好な表示が得られる。又、紫外線を照射した際に、非表示領域 2 0 2 が、表示領域 2 0 1 より遅れて重合を開始すれば、高分子樹脂層 5 2 1 と高分子液晶複合体層 4 0 0 との境界を一層目立たなくさせる効果がある o

[第 5 実施例 ]

本発明の第 5 実施例について、図 1 3 ないし図 1 7 に基づいて説明すれば以下の通りである。尚、前記第 1 実施例〜第 4 実施例の液晶表示素子と同様の機能を有する構成要素については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。

本実施例に係る液晶表示素子は、前記第 1 実施例〜第 4 実施例に係る液晶表示素子の構成と比して、高分子液晶複合体層における表示領域の液晶滴の粒径よりも、非表示領域の液晶滴の粒径が大きい点が異なる（図 1 3 参照）。

より詳しくは、図 1 4 及び図 1 5 に示すように、表示領域 2 0 1 に於ける液晶滴 5 0 1 はその一部が互いに繋がった状態で存在している一方、非表示領域 2 0 2 に於ける液晶滴 5 0 2 はその大部分が互いに繋がった状態で存在している。よって、明らかに液晶滴 5 0 1 の粒径は、液晶滴 5 0 2 の粒径と比較して小さい。又、図 1 6 に示すように、液晶滴 5 0 1 と液晶滴 5 0 2 とを結ぶ連結部 5 0 3 は、液晶滴 5 0 1 同士を結ぶ連結部 5 0 4 と比較して広くなつている。よって、高分子液晶複合体層 5 0 0 が膨張又は収縮しても、上記連結部 5 0 3 では液晶が流動し易くなつている為、シール材 1 0 6 近傍で亀裂が発生するのを防止できる。尚、上記非表示領域 2 0 2 は枠状の領域となるように形成されているが、その幅はシール材 1 0 6 の内周面カゝら少なくとも 1 . O m m 以上となっている。

即ち、液晶表示素子を加熱することにより液晶が膨張しても、液晶滴 5 0 2 の粒径が大きくかつ連結部 5 0 3 も広い構成となってレヽるので、該液晶の流動を妨げることがない。一方、液晶パネルを冷却することにより高分子樹脂マトリクスの体積が収縮して、該高分子樹脂マトリクスから液晶に加わる圧力が急激に増大しても、上記と同様の理由から液晶の流動を妨げることがない。従って、高温下に長時間放置することにより液晶が内部に集まっても、その後室温まで冷却した際には、該液晶は容易に液晶滴間を移動して非表示領域 2 0 2 に戻ることができる。よって、亀裂の発生を防止することが可能となる。

又、前記第 1 実施例又は第 2 実施例と同様に、表示領域 2 0 1 の液晶滴 5 0 1 の粒径は、約 1 . 2 z rn とするのが好ましい。一方、非表示領域 2 0 2 では、十分なゲインが得られる 1 . 2 〃 m 程度とすると、液晶の流動が抑制され亀裂が発生しやすくなる。しかも、シール材 1 0 6 近傍の領域は表示領域 2 0 1 に含まれない為、液晶滴 5 0 2 の粒径は必ずしも最適粒径である必要はない。よって、以上のことから勘案してみても、シール材 1 0 6 近傍の液晶滴 5 0 2 の粒径、若しくは網の目の間隔を、表示領域 2 0 1 よりも大きくすることは、コントラストを確保したまま、シール材 1 0 6 近傍の亀裂の発生を防止することができるという点で一層有効である。

本実施例に係る液晶表示素子の主要構成要素である高分子液晶複合体層 5 0 0 は、以下に述べる方法にて形成することができる。

図 1 7 は、上記液晶表示素子の製造方法を説明する為の断面図である。先ず、予め画素電極 1 0 5 及び対向電極 1 0 7 がそれそれ設けられた T F T 基板 1 0 2 又は対向基板 1 0 3 を、シール材 1 0 6 にて貼り合わせる。更に、上記 T F T 1 0 2 及び対向基板 1 0 3 の間に、紫外線硬化型樹脂等の未硬化樹脂モノマーと液晶材料とを主要材料とする液晶高分子混合物を注入する。続いて、表示領域 2 0 1 と非表示領域 2 0 2 とにおける相分離の進行度に差が生じるように、上記液晶高分子混合物に紫外線を照射する。具体的には、表示領域 2 0 1 には第 1 の紫外線を照射し、非表示領域 2 0 2 には上記第 1 の紫外線よりも照射強度の小さい第 2 の紫外線を照射する。これにより、上記表示領域 2 0 1 では相分離の進行度が大きく、従って液晶滴 5 0 2 の粒径は小さくなる。一方、非表示領域 2 0 2 では相分離の進行度は、表示領域 2 0 1 と比較して小さく、従って液晶滴 5 0 1 の粒径は大きくなる。以上により、高分子液晶複合体層 5 0 0 が形成される。尚、非表示領域 2 0 2 の幅が 1 . 0 m m となっているのは、例えば紫外線を照射する際等の裏面からの回り込み光の影響によるものであり、これよりも非表示領域 2 0 2 の面積を小さくするのが困難な為である。

ここで、前記第 2 実施例に於いては、第 2 の紫外線の照射は紫外線反射板 2 1 0 を除いた後に全面に照射したが、これは第 1 の紫外線を照射した領域（表示領域 2 0 1 に相当）を紫外線反射板 2 1 0 で遮蔽して照射しても良い。これにより、表示領域 2 0 1 における液晶が第 2 の紫外線を照射する際に、紫外線による液晶等の分解を抑制する効果がある。

又、紫外線を遮蔽する手段としては、紫外線を反射する紫外線反射板を採用したが、上記の他に紫外線を遮蔽する効果を有するものであれば、特に限定されるものではない。即ち、紫外線を遮蔽する手段としては、吸収型、反射型を問わない。但し、吸収型である場合は紫外線照射時に温度が上昇する為、反射型の場合よりも重合温度を十分制御する必要がある。

更に、紫外線照射時の遮蔽手段は、液晶パネルの上下に相対的な位置が一致するように配置しても良レ、。更に、液晶パネルの側部も遮光テープ等で遮光しても良い。これにより、裏面からの回り込み光を遮蔽することができ、液晶と高分子化合物との相分離過程が均等に進行して、液晶滴の粒径等が均一な液晶パネルが作製できる。 ( 実施例 5 )

本実施例 5 に係る液晶表示素子は、前記第 5 実施例に対応する。上記液晶表示素子は、以下に示す方法にて作製した。先ず、前記実施例 2 と同様にして、下基板 1 1 1 に、画素電極 1 0 5 、ソースライン 1 0 8 及び絶縁膜 1 0 9 等を形成し、 T F T 基板 1 0 2 とした。一方、上基板 1 1 2 に、上記と同様の方法にて対向電極 1 0 7 、絶縁膜 1 0 9 等を形成し、対向基板 1 0 3 とした。続いて、上記 T F T 基板 1 0 2 上に、シール材 1 0 6 枠状ノターンとなる様に印刷した後、上記 T F T 1 0 2 と対向基板 1 0 3 とを貼り合わせた。

更に、前記実施例 2 と同様にして、シール材 1 0 6 近傍における非表示領域 2 0 2 及びシール材 1 0 6 を紫外線反射板 2 1 0 · 2 1 0 にて遮蔽し、液晶パネルの表面温度を 1 9 °Cで保持して対向基板 1 0 3 側から照射強度が 1 0 O m W / c m ² の第 1 の紫外線を 6 0 秒間照射した。これにより、紫外線反射板 2 1 0 ' 2 1 0 により遮蔽された領域以外の領域における高分子前駆体を重合させて、液晶と高分子樹脂マトリクスとに相分離させた。この結果、表示領域 2 0 1 では、液晶滴の一部が互いに繋がった形状となっていた。ここで、液晶パネル温度（重合温度）は、循環恒温漕により該液晶パネルの表面温度が 1 9 °Cとなるように設定した。

次に、紫外線反射板 2 1 0 · 2 1 0 を取り去り、パネル全面に第 2 の紫外線を 2 4 0 秒間照射した。上記第 2 の紫外線の照射強度は 1 O m W / c m ² となるように設定した。このように、紫外線の照射強度を小さくすることにより、液晶と高分子化合物との相分離を抑制するので、従って高分子の重合度も小さい。よって、非表示領域 2 0 2 に於ける液晶滴 5 0 2 の粒径は、表示領域 2 0 1 に於ける液晶滴 5 0 1 の粒径よりも大きく、液晶滴 5 0 2 の形状はその大部分が繋がった状態で存在している。一方、表示領域 2 0 1 に於いては、液晶滴 5 0 2 よりも小さな粒径の液晶滴 5 0 1 が、その一部を相互に接触し連なった状態で存在している。

上記液晶滴 5 0 1 · 5 0 2 の構造は下記の方法により確認した。即ち、ガラスからなる一対の基板をシール材により貼り合わせ、上記と同様の組成物からなる液晶高分子混合溶液を注入して、同様の重合条件にて重合させ液晶パネルを作製した。尚、該液晶パネルには T F T 等が形成されていない。作製した液晶パネルの何れか一方の基板を剥離し、液晶滴の粒径を測定した。より詳しくは、液晶滴を顕微鏡で観察し、画像処理装置を用いて粒径の平均値を求めて行つた。観察の結果、液晶滴の粒径は 1 . 2 m であり、互いに一部が繋がった形状となっていた。一方、非表示領域 2 0 2 に於ける液晶滴の粒径は 2 〃 m と大きく、大部分が互いに繋がった形状となつていた。このときの非表示領域 2 0 2 の液晶分率は 8 0 % であった。

以上のことから、本実施例に係る液晶表示素子に於いても、上記構造の場合と同様に、表示領域 2 0 1 に於ける液晶滴 5 0 1 は互いに一部が繋がった構造であり、非表示領域 2 0 2 に於ける液晶滴 5 0 2 は大部分が互いに繋がった構造であると推察した。

本発明者等は、紫外線の照射強度が小さいほど、重合速度が下がり液晶滴の粒径は大きくなることを見出した。従って、非表示領域 2 0 2 に照射される第 2 の紫外線の照射強度が、表示領域 2 0 1 に照射される第 1 の紫外線の照射強度よりも小さければ、シール材 1 0 6 近傍の液晶滴の粒径が表示領域 2 0 1 よりも大きくなり、この結果上記の構成が得られる。

ここで、第 1 及び第 2 の紫外線の照射強度を変えて、亀裂による表示ムラの程度や表示領域 2 0 1 におけるゲイン、液晶滴の粒径等を調べた。結果を下記表 2 及び表 3 に示す。尚、表 2 に表記されている評価基準は、コントラスト比が 2 5 0 の場合を ◎、コントラスト比が 1 0 0 の場合を〇、コントラスト比が 8 0 の場合を △、コントラスト比が 3 0 の場合を X としている。又、表 3 に示されている結果は、第 2 の紫外線の照射強度の値に対して、第 1 の紫外線の照射強度を 1 0 、 2 0 、 5 0 、 7 0 、 1 0 0 、 2 0 0 、 3 0 0 、 4 0 0 と変化させた場合を示している。

( 表 2 )

注） ◎ : 画素に亀裂なし、〇：周囲数画素の一部に亀裂発生、 △ : 周囲数画素内の全てに亀裂発生、 X ：周囲から内側数画素以上にかけて亀裂が密集して発生液晶ノ、' ネルのコントラスト比を 1 0 0 以上にするには、ゲイン G は 2 · 5 以下にする必要がある。この為、表示領域 2 0 1 に照射する第 1 の紫外線の照射強度は、ゲインの観点から 5 0 m W / c m ² 〜 4 0 0 m W / c m ² の範囲内であることが望ましい。即ち、液晶滴の粒径に置き換えれば、 0 . 8 Αί π！〜 1 . 4 〃 m の範囲内に相当する。一方、シール材 1 0 6 近傍の非表示領域 2 0 2 では、表示領域 2 0 1 に於ける表示ムラを解消する為に、信頼性試験に於ける冷却の際も液晶が流動しやすい状態にあることが必要である。この為、シール材 1 0 6 近傍の液晶滴の粒径は、表 3 の結果から 1 . 8 m 以上が望ましい。これは、第 2 の紫外線の照射強度では、 2 0 m W / c m ² 以下に相当する。

( 2 ) 第 IIの発明群における実施例

次に、本発明の第 IIの発明群について図面を参照しながら説明する。

[第 6 実施例 ]

本発明の第 6 実施例について、図 1 8 ないし図 2 4 に基づいて説明すれば以下の通りである。但し、説明に不要な部分は省略し、又、説明を容易にする為に拡大或レは縮小等して図示した部分がある。以上のことは以下の図面に対しても同様である。

図 1 8 は本実施例に係る液晶表示素子の要部断面図である。液晶表示素子は、第 1 基板としての T F T ( Thin Film Transistor) 基板 6 0 1 と、該 T F T 基板 6 0 1 に対向する第 2 基板としての対向基板 6 0 2 と、 T F T基板と対向基板 6 0 2 との間に配置される高分子液晶複合体層 6 0 5 とを有する。上記 T F T基板 6 0 1 の内側表面には、スイッチング素子としての T F T ( 図示しない）と、該 T F T に電気的に接続された第 1 表示電極としての表示電極 6 0 3 とが形成されている。又、 T F T基板 6 0 1 と対向基板 6 0 2 とを貼り合わせる為のシール材層 6 1 5 が、液晶表示素子の周縁部に枠状に形成されている。一方、上記対向基板 6 0 2 の内側表面には第 2 表示電極としての対向電極 6 0 4 が形成されている。更に、対向電極 6 0 4 と高分子液晶複合体層 6 0 5 との間には、間隙層 6 0 6 a が設けられている。この間隙層 6 0 6 a の基板面内における領域は、シール材層 6 1 5 を除く基板全面に渡っている。換言すれば、上記間隙層 6 0 6 a は表示画面に対応した表示領域を含む全領域に設けられている。尚、上記表示領域は、基板面内に於いて T F T ァレイが形成されている領域に対応する。更に、図 1 9 に示すように、上記シール材層 6 1 5 の内周面と、高分子液晶複合体層 6 0 5 の外周面との間には、枠状の側部間隙層 6 0 6 b が形成されている。又、上記間隙層 6 0 6 a には、所定の間隔となるように、支持部材としてのスぺ一サ 6 0 8 が分散して配置されている。

上記 T F T 基板 6 0 1 及び対向基板 6 0 2 は、例えばガラスや石英等からなる透明基板である。又、上記表示電極 6 0 3 及び対向電極 6 0 4 は、例えばィンジゥム錫酸化物（ I T 0 ： I n d i u m T i n O x i d e ) からなる透明導電膜である。

上記高分子液晶複合体層 6 0 5 は、液晶滴が高分子化合物からなるマトリクス相に分散されてなる構成である。ここで、上記液晶滴の存在形態はこれに限定されるものではなく、例えば、液晶滴の一部が相互に接触し連なった状態で存在していてもよい。又、高分子化合物が 3 次元網目状に形成され、この網目の中に液晶が保持された状態で分散した構造のものであってもよい。

液晶としては、常温付近で液晶状態を示すネマティック液晶、コレステリック液晶、スメクティック液晶等の各種の液晶を採用できる。これらの液晶は 1 種でもよく、また 2 種以上を混合して使用することもできる。又、高分子化合物としては、光透過性を有するものであれば特に限定されるものではなく、従来公知の種々ものを採用できる。

本実施例に係る液晶表示素子の主要構成要素である間隙層 6 0 6 a 及び側部間隙層 6 0 6 b は、空気等からなる流動層である。上記空気は低湿度である方が、液晶表示素子への汚染が少ないのでより好ましい。尚、本実施例に於いては、窒素やアルゴン等の他の気体であってもよい。

ここで、上記の様に間隙層 6 0 6 a を設けることで、撓み等に起因するずり応力の発生を防止する機能を付加することができる。例えば、 T F T 基板 6 0 1 の下面外側から押圧すると、液晶表示素子は図 2 0 に示すように橈む。しかしながら、高分子液晶複合体層 6 0 5 の一方の側には間隙層 6 0 6 a が形成され、対向基板 6 0 2 と高分子液晶複合体層 6 0 5 とが接していないので、ずり応力の発生を防止することができる。よって、液晶表示素子が橈んでも散乱性の異なる領域が生じず、表示画面における表示ムラを低減させることができる。

尚、上記の例では、間隙層 6 0 6 a は表示領域を含む全領域に設けられていたけれども、表示領域のみに間隙層 6 0 6 a を設けるようにしてもよい。このような構成であれば、表示領域の範囲内において、外部から押圧力が作用しても、その範囲内においてずり応力が発生せず、表示ムラが発生しない。一方、表示領域外においては、ずり応力が発生するおそれがあるが、仮にずり応力が発生したとしても、表示領域内では表示ムラが発生していないので、液晶表示素子としては何ら問題は生じない。よって、少なくとも表示領域に於いては、ずり応力の作用によって、光散乱性の異なる領域が発生するのを抑制し、表示画面における表示ムラを低減させることができる。

前記側部間隙層 6 0 6 b は、上述のようにシール材層 6 1 5 の内周面と高分子液晶複合体層 6 0 5 の外周面との間に、枠状となるように設けられている。従って、ヒ一トショック等の信頼性試験を行つても、亀裂が生じるシール材層 6 1 5 近傍には高分子化合物や液晶が存在しないので、該亀裂の発生は完全に防止できる。よって、該亀裂による筋状の表示ムラの発生を防止できる。更に、シ一ル材層 6 1 5 の形成パターンの線幅が横に広がる等、形状が崩れてシ一ル材層 6 1 5 の滲みが生じることによる、該シール材層 6 1 5 と高分子液晶複合体層 6 0 5 との混じりを防止することができる。又、該シール材層 6 1 5 の印刷時の精度要求も緩和することができる。

本発明に係る液晶表示素子にカラー表示をさせるには、例えば図 2 1 に示すように、対向基板 6 0 2 と対向電極 6 0 4 との間にカラ一フィルタ一層 6 3 1 を設ければよい。上記カラ一フィルタ一層 6 3 1 は、色材膜 R ' G ' B 、及びブラックマトリクス 6 3 2 …を含んで構成される。ここで、我々は間隙層 6 0 6 a を設けることにより、カラ一フィルタ一層 6 3 1 における色材膜 R · G · B 間の色混じりの発生や、ブラックマトリクス 6 3 2 …による光損失も抑制できることを見出した。

例えば、カラーフィル夕一層 6 3 1 における色材膜 G に着目して考えてみる。図 2 2 に示すように、ノヽ' ックライト光等により T F T 基板 6 0 1 側から光を照射すると、高分子液晶複合体層 6 0 5 に入射する際に入射光が散乱される。ここで、対向基板 6 0 2 の屈折率 n _g と空気の屈折率 n _{a i r} との関係が n _g > n _{a i r} である場合に、高分子液晶複合体層 6 0 5 の屈折率 n _p と間隙層 6 0 6 a の屈折率 n _x との関係を、

n p > n _x … （ 1 )

とする。更に、 T F T 基板 6 0 1 の屈折率 η _ε と間隙層 6 0 6 a の屈折率 n _x との関係を、 n _g > n _x ··· ( 2 ) とする。この場合、上式（ 1 ) から明らかなように、高分子液晶複合体層 6 0 5 に入射する際に散乱された散乱光の一部は、高分子液晶複合体層 6 0 5 と間隙層 6 0 6 a との境界で全反射される。ここで、該境界にて全反射される一部の散乱光とは、対向基板 6 0 2 と空気中との境界で全反射されることにより隣の色材膜 B に間接的に入射する可能性のあるものや、ブラックマトリクス 6 3 2 に吸収される光を含む。よって、間隙層 6 0 6 a を設け、かつ、高分子液晶複合体層 6 0 5 、間隙層 6 0 6 a 及び T F T 基板 6 0 1 が上式（ 1 ) 及び（ 2 ) の関係を満たす屈折率からなる材料とすることにより、色混じりの原因となる一部の散乱光をカラ一フィルタ一層 6 3 1 に到達する前に予め排除しておくと共に、ブラックマトリクス 6 3 2 に吸収される光を低減させることができる。この結果、色混じりの発生を低減し、光の利用効率を高め、表示画面を明るくすることができる。

ところで、上記間隙層 6 0 6 a のギャップは、カラ一フィル夕一層 6 3 1 における色材膜 R · G · B のピッチとの関係を考慮して設定する必要がある。即ち、図 2 3 に示すように、色材膜 R · G · B のそれぞれのピッチを P ( 〃 m )、ブラックマトリクス 6 3 2 の幅を d ( m ) とすると、開口率 O p ( % ) は、

O p ( % ) = 1 0 0 x ( P - d ) ² / P ² - ( 3 ) で表わされる。ここで、例えば開口率が 4 0 % 以上となる為には、

O p ( % ) = 1 0 0 X ( P - d ) ² / P ² ≥ 4 0 - ( 4 ) となる。これにより、 P と d との関係は、

d ≤ P { 1 - ( 0 . 4 ) ' 2 } - ( 5 ) で表わされる。一方、図 2 3 に示すように、 T F T 基板 6 0 1 側から入射した光が高分子液晶複合体層 6 0 5 と間隙層 6 0 6 a との境界で散乱した場合において、直進光と散乱光のなす角を Θ とする。上記の場合、間隙層 6 0 6 a のギャップ L ( j m ) と、上記直進光及び散乱光のカラ一フィルタ一層 6 3 1 への到達点の距離 X { ju m ) との関係は、 X = L ' t a n 0 となる。散乱光が直接隣の色材膜に入射しない為には、 X がブラックマトリクス 6 3 2 の形成されている範囲内にあればよい。即ち、 X d の関係を満たせばよい。従って、

L - t a η Θ ≤ d ··· ( 6 ) となる。これにより、上式（ 5 ) 及び（ 6 ) の関係から、

い t a " ^ P { l — ( 0 . 4 ) ¹ ノ ² } - ( 7 ) となる。よって、次式

L ≤ P · { 1 - ( 0 . 4 ) ¹ / ² } / t a η Θ - ( 8 ) に基づいて、間隙層 6 0 6 a のギャップ L は設定される。以上の様にして間隙層 6 0 6 a のギャップを設定すると、高分子液晶複合体層 6 0 5 と間隙層 6 0 6 a との境界で散乱された光の一部が隣の色材膜に入射することも防ぐことができる。図 2 4 は、直進光と散乱光のなす角 Sが 4 0 、 5 0 、 6 0 度の場合における、色材膜 R ' G - B のピッチ P と間隙層 6 0 6 a のギャップ L との関係を示している通常のノート型ノ一ソナルコンピュータやモニター等は、 P が 8 0 - 1 2 0 〃 m の範囲内であり、最も高精細なものでも 3 0 ~ 5 0 μ. m程度である。従って、開口率を 4 0 % 以上とする場合には、 P の値に応じてギャップ L を図 2 4 に示す範囲内で設定すればよい。尚、以上の説明は開口率を 4 0 % 以上とする場合について述べたが、間隙層 6 0 6 a のギャップは、設定する開口率の値に応じて比較的任意に設定できる。従って、以上の説明はその他の開口率の値についても同様に論じることができる。

次に、本実施例に係る液晶表示素子の製造方法を説明する。

即ち、丁？丁基板 6 0 1 上に、従来公知の方法により薄膜トランジスタ（ T F T ； Thin Film Transistor) を設ける。更に、上記 T F T基板 6 0 1 上に、液晶材料及び高分子材料を主要材料とする液晶高分子混合物（例えば、商品名； P N M 2 0 1 、口ディヅク（株）製）を印刷法にて塗布して、液晶高分子混合物層（図示しない）を形成した。該液晶高分子混合物層の膜厚は、 1 0 〃 m とした。

次に、高圧水銀ランプ（ゥシォ電機（株）製）を光源とする紫外線を上記液晶高分子混合物層に照射して重合させた。これにより、高分子化合物中に液晶滴が分散した高分子液晶複合体層 6 0 5 を形成した。尚、照射条件は、照射強度 1 2 0 m w / c m ² 、照射時間 1 5 s e c とした。更に、直径 1 mの球状のスぺーサ（シリカ球、触媒化成（株）製） 8 を、高分子液晶複合体層 6 0 5 上に分布密度が均一となるように散布した。

次に、 T F T 基板 6 0 1 の周縁部に、塗布形状が枠状となる様に紫外線硬化型シール材（商品名；ヮードロック 7 0 4 、協立化学（株）製）を塗布した。この際、該紫外線硬化形シール材と、高分子液晶複合体層 6 0 5 との間が所定の間隔となるように、紫外線硬化形シ —ル材を形成した。この後、高分子液晶複合体層 6 0 5 と上記対向電極 6 0 4 とが対向するように、対向電極 6 0 4 及びカラーフィル夕一層 6 3 1 が設けられた対向基板 6 0 2 ( 凸版印刷（株）製）と、 T F T基板 6 0 1 とを大気中にて貼り合わせた。又、両基板を貼り合わせる際には、 0 . 2 k g / c m ² の圧力で押圧しながら行った。更に、紫外線を照射して、該紫外線硬化型シール材を硬化させた。照射条件としては、例えばエネルギー密度 7 0 m W / c m ² で、照射時間 3 0 s e c とした。これにより、対向基板 6 0 2 と高分子液晶複合体層 6 0 5 との間に空気からなる間隙層 6 0 6 a が形成された本実施例 1 に係る液晶表示素子が得られた。

上記の様にして得られた液晶ノネルの断面を S E M ( Scanning Electron Microscope : 走査型電子顕微鏡）観察したところ、間隙層 6 0 6 a が形成されていることが確認された。更に、本実施例に係る液晶表示素子に押圧力を加えてたわませたところ、高分子液晶複合体層 6 0 5 の散乱性の変化による表示ムラは視認されなかった _t [第 7 実施例 ]

本発明の第 7 実施例について、図 2 5 に基づいて説明すれば以下の通りである。尚、前記第 6 実施例の液晶表示素子と同様の機能を有する構成要素については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。

本実施例に係る液晶表示素子は、前記第 6 実施例に係る液晶表示素子の構成と比して、間隙層 6 0 6 a 及び側部間隙層 6 0 6 b を真空層 6 2 6 にした点が異なる。

上記液晶表示素子は、 T F T 基板 6 0 1 と対向電極 6 0 2 とを貼り合わせる工程を真空中で行う以外は、前記第 6 実施例と同様のェ程を行うことにより得られる。

更に、本実施例に係る液晶表示素子の断面を S E M観察したところ、大気圧によりスぺ一サ 6 0 8 が高分子液晶複合体層 6 0 5 にめり込んでいる部分が見受けられたが、真空層 6 2 6 が形成されていることが確認された。更に、本実施例に係る液晶表示素子に押圧力を加えてたわませたところ、表示画面において表示ムラは視認されなカゝつた。

[第 8 実施例 ] 本第 8 実施例について、図 2 6 に基づいて説明すれば以下の通りである。尚、前記第 6 実施例の液晶表示素子と同様の機能を有する構成要素については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。本実施例に係る液晶表示素子は、前記第 6 実施例に係る液晶表示素子の構成と比して、カラーフィルタ一層 6 3 1 を光学反射部材 6 4 1 に代えた点が異なる。

上記液晶表示素子は、対向基板 6 0 2 上にアルミニウム（ A 1 ) 等の光反射性を有する金属被膜を形成する以外は、前記第 6 実施例と同様の工程を行うことにより得られる。光学反射部材 6 4 1 の形成方法としては、特に限定されるものではなく、従来公知の方法を採用できる。

この様にして得られた本実施例に係る液晶表示素子に押圧力を加えて撓ませたところ、表示画面において表示ムラは視認されなかつた。

[第 9 実施例 ]

本発明の第 9 実施例について、図 2 7 に基づいて説明すれば以下の通りである。尚、前記第 6 実施例の液晶表示素子と同様の機能を有する構成要素については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。

本第 9 実施例に係る液晶表示素子は、前記第 6 実施例に係る液晶表示素子の構成と比して、間隙層 6 0 6 a 及び側部間隙層 6 0 6 b に液晶材料を含む流動層を充填し液晶層 6 3 6 とした点が異なる。上記液晶材料としては、透過性と流動性とを有するものであれば特に限定されるものではなく、従来公知の種々のものを採用できる。上記液晶表示素子は、前記第 6 実施例と同様にして作製した。但し、紫外線硬化型シール材は、 T F T 基板 6 0 1 又は対向基板 6 0 2 の内、何れか一方の基板上に、塗布形状が液晶注入口の部分を欠いた枠状パターンとなる様に塗布した。続いて、液晶材料（商品名； Z L I 2 2 5 4 、メルク社製）を真空注入法にて注入し、液晶注入口を封止して液晶層 6 3 6 を形成した。

上記の様にして得られた本実施例に係る液晶表示素子に押圧力を加えて撓ませたところ、高分子液晶複合体層 6 0 5 の表示ムラは視認されなかった。

[第 1 0 実施例 ]

本発明の第 1 0 実施例について、図 2 8 に基づいて説明すれば以下の通りである。尚、前記第 6 実施例の液晶表示素子と同様の機能を有する構成要素については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。

本第 1 0 実施例に係る液晶表示素子は、前記第 6 実施例に係る液晶表示素子の構成と比して、対向電極 6 0 4 が高分子液晶複合体層 6 0 5 上に形成されている点が異なる。又、該液晶表示素子の製造過程に於いて、表示状態を検査する検査工程も行った。

前記第 6 実施例と同様にして、 T F T 基板 6 0 1 上に表示電極 6 0 3 を形成し、更に該表示電極 6 0 3 上に高分子液晶複合体層 6 0 5 を形成した。続いて、高分子液晶複合体層 6 0 5 上にスパッタリング法により I T 0 を蒸着し、不要な部分をフォトリソグラフィー法により除去して、対向電極 6 0 4 を形成した。

次に、 T F T 基板 6 0 1 と対向基板 6 0 2 と貼り合わせる前に、 T F T 基板 6 0 1 の表示状態を検査する為の検査工程を実施した。即ち、表示電極 6 0 3 と対向電極 6 0 4 とに電源を接続して、 T F T 駆動により高分子液晶複合体層 6 0 5 に電界を印加した。これにより、該高分子液晶複合体層 6 0 5 は電圧 O F F 時には白濁状態となる一方、電圧 O N 時には透明状態となって、高分子液晶複合体層 6 0 5 や T F T 等の動作状態を検査することができた。ここで、 T F T 基板 6 0 1 に点欠陥や線欠陥等の不良が発見された場合、該 T F T 基板 6 0 1 のみを廃棄した。このように、 T F T 基板 6 0 1 と対向基板 6 0 2 とを貼り合わせる前に検査工程を行うので、 T F T 基板 6 0 1 に不良が発見されても、該 T F T 基板 6 0 1 と共に対向基板 6 0 2 等を廃棄する必要が無くなり、その結果コス卜の低減や歩留まりの向上が可能となる。

更に、前記第 6 実施例と同様にして、 T F T 基板 6 0 1 の周縁部に紫外線硬化型シール材を塗布し、該 T F T 基板 6 0 1 と、対向電極 6 0 4 及びカラ一フィルタ一層 6 3 1 が設けられた対向基板 6 0 2 と、を大気中にて貼り合わせた。続いて、紫外線を照射して、該紫外線硬化型シール材を硬化させ本実施例に係る液晶表示素子が得られた。

尚、前記検査工程は、透明導電膜を高分子液晶複合体層 6 0 5 に直接蒸着せずに、該透明導電膜を蒸着したフィルムを該高分子液晶複合体層 6 0 5 に押圧し、 T F T を駆動しても同様に行うことができる。この場合、検査終了後、上記フィルムを剥がし、再び高分子液晶複合体層 6 0 5 と対向基板 6 0 2 との間が所定の間隔となるように、 T F T 基板 6 0 1 と対向基板 6 0 2 とを貼り合わせればよい。

[第 1 1 実施例 ]

本発明の第 1 1 実施例について、説明すれば以下の通りである。尚、前記第 6 実施例の液晶表示素子と同様の機能を有する構成要素については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。

本実施例に係る液晶表示素子は、前記第 6 実施例に係る液晶表示素子の構成と同様であるが、その製造に於いては以下に述べる方法で行った。

即ち、 T F T や表示電極 6 0 3 等を形成した T F T 基板 6 0 1 上に、液晶材料及び高分子材料を主要材料とする液晶高分子混合物（例えば、商品名； P N M 2 0 1 、ロディック（株）製）と、球状のスぺ一サ 6 0 8 ( 粒径： 1 0 〃 m ) とを混合したものをシリンジで滴下し、液晶高分子混合物層を形成した。

次に、ガラス基板上に、涴水作用を有する材料としてのシラン力ブラ一（シラン系高分子化合物のカップリング剤）をスピンナ一にて塗布して硬化させ、洗水処理を施した。更に、該ガラス基板の周縁部には、例えばスノッタリング法により C r ( クロム）等からなるマスクを枠状となるように形成しておいた。尚、上記浼水作用を有する材料としては、上記に限定されるものではなく、例えばフッ素系の高分子化合物等が挙げられる。

続いて、撥水処理が施されたガラス基板と、液晶高分子混合物が塗布された T F T 基板 6 0 1 とを貼り合わせ、所定のセルギャップになるまで押圧した。更に、外部から上記液晶高分子混合物に紫外線を照射して重合させ、高分子液晶複合体層 6 0 5 を形成した。この際、ガラス基板の周縁部にはマスクが形成されているので、表示領域のみに上記高分子液晶複合体層 6 0 5 を形成することができた，この様にすることで、後の工程でシール材層 6 1 5 や側部間隙層 6 0 6 b を形成する為の領域を確保することができる。続いて、ガラス基板を剥がし、 T F T 基板 6 0 1 上に均一な膜厚の高分子液晶複合体層 6 0 5 を形成することができた。

以下、前記第 6 実施例と同様にして T F T 基板 6 0 1 の周縁部に、塗布形状が枠状となる様に紫外線硬化型シール材を塗布した。更に、対向電極 6 0 4 及びカラ一フィルタ一層 6 3 1 が設けられた対向基板 6 0 2 と、 T F T 基板 6 0 1 とを所定の圧力で押圧しながら大気中にて貼り合わせた。これにより、本実施例に係る液晶表示素子が得られた。

この様にして得られた上記液晶表示素子に押圧力を加えて撓ませたところ、表示画面において表示ムラは視認されなかった。

[その他の実施例 ]

前記各第 6 実施例〜第 1 1 実施例に於いては、間隙層 6 0 6 a が対向基板 6 0 2 と高分子液晶複合体層 6 0 5 との間でかつ全面にわたって形成され、側部間隙層 6 0 6 b がシール材層 6 1 5 の内周面と、高分子液晶複合体層 6 0 5 の外周面との間に枠状に形成されている態様を示したが、本発明はこれに限定されるものではない。具体的には、例えば、図 2 9 に示すように、シール材層 6 1 5 の内周面が、全周にわたって高分子液晶複合体層 6 0 5 の外周面に接し、側部間隙層 6 0 6 b が完全に存在しない構造であってもよく、また、シール材層 6 1 5 の内周面が、部分的に高分子液晶複合体層 6 0 5 の外周面に接し、側部間隙層 6 0 6 b が高分子液晶複合体層 6 0 5 の外周面に沿って部分的に存在する構造であってもよい。

又、図 3 0 に示すように、側部間隙層 6 0 6 b が完全に存在しない構造であり、しかも、高分子液晶複合体層 6 0 5 は、その中央部分 5 a が上方に突出した段差状に形成され、かつ中央部分 5 a が対向電極 6 0 4 と接することにより、間隙層 6 0 6 a が、シール材層 6 1 5 近傍領域にしか存在しない構造であってもよい。

尚、第 IIの発明群の前記各実施例に於いては、表示画面は T F T 基板 6 0 1 側ではなく対向基板 6 0 2 側に対応している。

[比較例 1 ]

比較用の液晶表示素子は、前記第 6 実施例に係る液晶表示素子と比して、間隙層 6 0 6 a 及び側部間隙層 6 0 6 b が設けられていない点が異なる。上記比較用の液晶表示素子は、以下の様にして作製した。

即ち、それそれ透明導電膜等が形成された一対の基板を、ガラススべ一サーを介在させて所定の間隔で貼り合わせた。次いで、貼り合わせた両基板の間に、液晶材料及び高分子材料を主要材料とする液晶高分子混合物（商品名； P N M 2 0 1 、ロディック（株）製）を真空注入法にて注入し、外部から所定の照射強度の紫外線を照射して重合させた。これにより、高分子化合物中に液晶滴が分散した高分子液晶複合体層を配置した比較用の液晶表示素子を作製した。更に、第 6 実施例と同様に、上記比較用の液晶表示素子に押圧力を加えて撓ませたところ、一部に散乱性の弱い領域が現れ、表示ムラが視認された。

以上のように、第 6 〜第 9 実施例及び第 1 1 実施例と、比較例 1 における結果の比較から、対向基板 6 0 2 と高分子液晶複合体層 6 0 5 との間に所定の間隔で間隙層 6 0 6 a が設けられていると、液晶表示素子に押圧力を力！] えてたわませても、表示画面に表示ムラが生じないことが確認された。

発明の詳細な説明の項においてなされた具体的な実施態様は、あくまでも、本発明の技術内容を明確にするものであって、そのような具体例にのみ限定して狭義に解釈されるべきものではなく、本発明の精神と次に記載する特許請求事項との範囲内で、種々に変更して実施することができるものである。産業上の利用可能性

以上に説明したように、本発明の構成によれば、本発明の各課題を十分に達成することができる。

即ち、周囲の温度変化によりシール材近傍の領域に亀裂を生じても、該亀裂の発生する領域を表示領域に含めない構成としているので、亀裂に起因する筋状の表示ムラが表示画面上で視認されるのを防止することができる。

更に、シール材近傍の非表示領域に於いて、液晶滴を独立して分散した構造か、或いは表示領域における液晶滴の粒径よりも大きくすることにより、亀裂の発生を防止し、良好なコントラストを維持したままで、筋状の表示ムラの発生を抑制することができる。

更に、シール材近傍の非表示領域には、高分子液晶複合体層を形成しないことにより、亀裂の発生を防止し、良好なコントラストを維持したままで、筋状の表示ムラの発生を抑制することができる。

又、基板面に押圧力が加えられる等して液晶表示素子が橈んでも、液晶高分子複合体層と何れか一方の基板との間に間隙層が設けられてレ、るので、ずり応力が発生するのを防止する。これにより、表示画面において散乱性の異なる領域が生じず、表示ムラの発生を低減することができる。

更に、周囲の温度変化により、液晶高分子複合体層の体積が膨張又は収縮しても、シール材層の内周面と液晶高分子複合体層の外周面との間に側部間隙層が設けられているので、該シール材層近傍の液晶高分子複合体層に亀裂が発生するのを防止できる。これにより、該亀裂による筋状の表示ムラの発生を防止できる。又、色材膜 R · G · B 間の色混じりの発生を低減し、ブラックマトリクスに起因する光利用効率の低下を抑制させることができる。

更に、スイッチング素子や液晶高分子複合体層等の表示検査を、基板の貼り合わせ工程の前に予め実施するので、欠陥等が発見されても、光学カラ一フィルタ一層等を備えた対向する基板も廃棄する必要が無い。これにより、歩留まりの向上が可能となり、かつコストの低減も図れる。よって、本発明の産業上の意義は大である。

Claims

請求の範囲

( 1 ) 高分子化合物中に液晶滴が分散された高分子液晶複合体層が、内側面にそれぞれ電極を備えた一対の基板の間に配置され、かつシール材により上記一対の基板が貼り合わされた液晶表示素子であって、

上記高分子液晶複合体層は、高分子化合物を含み構成されたマトリクス連続相中に液晶滴が分散保持され、又は高分子化合物を含み構成された三次元網目状マトリクスの網目内に液晶が分散保持されたものであり、

上記高分子液晶複合体層の外周面とシール材の内周面とが密着するように形成され、

かつ、上記高分子液晶複合体層に於ける本体部が表示領域となり、該高分子液晶複合体層に於ける上記シール材近傍の周縁部が非表示領域となるように分割され、

更に、上記表示領域に於ける高分子液晶複合体層は、高分子化合物を含み構成されたマトリクス連続相中に、液晶滴が一部相互に繋がった状態で分散保持され、又は高分子化合物を含み構成された三次元網目状マトリタスの網目内に液晶が分散保持されたものであり上記表示領域に於ける液晶滴の粒径又は網の目の間隔と、上記非表示領域に於ける液晶滴の粒径又は網の目の間隔とが異なるように形成されていることを特徴とする液晶表示素子。

( 2 ) 高分子化合物中に液晶滴が分散された高分子液晶複合体層が、内側面にそれぞれ電極を備えた一対の基板の間に配置され、かつシール材により上記一対の基板が貼り合わされた液晶表示素子であって、

更に、上記表示領域に於ける高分子液晶複合体層は、高分子化合物を含み構成されたマトリクス連続相中に、液晶滴が一部相互に繋がった状態で分散保持され、又は高分子化合物を含み構成された三次元網目状マトリタスの網目内に液晶が分散保持されたものであり，上記表示領域に於ける液晶分率と、上記非表示領域に於ける液晶分率とが異なるように形成されていることを特徴とする液晶表示素子。

( 3 ) 上記表示領域に於ける液晶分率と、上記非表示領域に於ける液晶分率との差が少なくとも 5 %以上であることを特徴とする請求項 2 に記載の液晶表示素子。

( 4 ) 高分子化合物中に液晶滴が分散された高分子液晶複合体層が、内側面にそれそれ電極を備えた一対の基板の間に配置され、かっシ一ル材により上記一対の基板が貼り合わされた液晶表示素子であって、上記高分子液晶複合体層は、高分子化合物を含み構成されたマトリクス連続相中に液晶滴が分散保持され、又は高分子化合物を含み構成された三次元網目状マトリクスの網目内に液晶が分散保持されたものであり、

かつ、上記高分子液晶複合体層の外周面とシール材の内周面とが密着するように形成され、

更に、上記高分子液晶複合体層に於ける全領域のうち、上記シ一ル材近傍の亀裂が発生する領域以外を表示領域としていることを特徴とする液晶表示素子。

( 5 ) 高分子化合物中に液晶滴が分散された高分子液晶複合体層が、内側面にそれそれ電極を備えた一対の基板の間に配置され、かつシール材により上記一対の基板が貼り合わされた液晶表示素子であって、

上記高分子液晶複合体層は、高分子化合物を含み構成されたマトリクス連続相中に液晶滴が分散保持され、又は高分子化合物を含み構成された三次元網目状マ卜リタスの網目内に液晶が分散保持されたものであり、

更に、上記高分子液晶複合体層に於ける、上記シール材近傍で発生する亀裂の内部に、主に液晶から成る物質が充填されていることを特徴とする液晶表示素子。

( 6 ) 高分子化合物中に液晶滴が分散された高分子液晶複合体層が、内側面にそれそれ電極を備えた一対の基板の間に配置され、かつシール材により上記一対の基板が貼り合わされた液晶表示素子であって、

更に、上記シール材の内周縁に少なくとも幅 1 . 5 m m 以上の枠状の領域が設けられ、かつ上記枠状の領域の内側に表示領域が設けられていることを特徴とする液晶表示素子。

( 7 ) 高分子化合物中に液晶滴が分散された高分子液晶複合体層が、内側面にそれぞれ電極を備えた一対の基板の間に配置され、かつシール材により上記一対の基板が貼り合わされた液晶表示素子であって、

上記高分子液晶複合体層は、表示領域と、該表示領域の外周縁に位置する枠状の非表示領域とに分割され、

上記表示領域に於ける高分子液晶複合体層は、高分子化合物を含み構成されたマトリクス連続相中に液晶滴が一部相互に繋がった状態で分散保持され、又は高分子化合物を含み構成された三次元網目状マトリクスの網目内に液晶が分散保持されたものであり、

上記非表示領域に於ける高分子液晶複合体層は、高分子化合物を含み構成されたマトリクス中に、ほぼ球形又は回転楕円体形状の液晶滴が相互に独立して分散した状態で保持されたものであることを特徴とする液晶表示素子。

( 8 ) 上記非表示領域は、幅が少なくとも 1 . 0 m m 以上の枠状の領域であることを特徴とする請求項 7 に記載の液晶表示素子。

( 9 ) 上記表示領域に於ける液晶の液晶分率が、上記非表示領域に於ける液晶の液晶分率よりも大きいことを特徴とする請求項 8 に記載の液晶表示素子。

( 1 0 ) 上記表示領域に於ける液晶分率は 7 0 % 以上、 8 0 % 以下の範囲内にあり、かつ上記非表示領域に於ける液晶分率は 7 0 % 未満であることを特徴とする請求項 9 に記載の液晶表示素子。

( 1 1 ) 高分子化合物中に液晶滴が分散された高分子液晶複合体層が、内側面にそれそれ電極を備えた一対の基板の間に配置され、かつシール材により上記一対の基板が貼り合わされた液晶表示素子であって、

上記表示領域に於ける高分子液晶複合体層は、高分子化合物を含み構成されたマトリクス連続相中に液晶滴が - 部相互に繋がった状態で分散保持され、又は高分子化合物を含み構成された三次元網目状マトリタスの網目内に液晶が分散保持されたものであり、

( 1 2 ) 上記表示領域に於ける液晶滴の粒径、又は網の目の間隔力 S O . 8 〃 m 以上、 1 . 4 〃 m 以下の範囲内にある、かつ非表示領域に於ける液晶滴の粒径が 0 . 8 X m 未満であることを特徴とする請求項 1 1 に記載の液晶表示素子。 ( 1 3 ) 高分子化合物中に液晶滴が分散された高分子液晶複合体層が、内側面にそれそれ電極を備えた一対の基板の間に配置され、かつシ一ル材により上記一対の基板が貼り合わされた液晶表示素子であって、

上記高分子液晶複合体層には、表示領域と該表示領域の外周縁に枠状の非表示領域とに分割され、

上記表示領域に於ける高分子液晶複合体層は、高分子化合物を含み構成されたマ卜リクス連続相中に液晶滴が一部相互に繋がった状態で分散保持され、又は高分子化合物を含み構成された三次元網目状マトリクスの網目内に液晶が分散保持されたものであり、

上記非表示領域に於ける高分子液晶複合体層は、液晶と高分子化合物とが互いに相溶した状態で形成されていることを特徴とする液晶表示素子。

( 1 4 ) 上記非表示領域は、幅が少なくとも 1 . 0 m m以上の枠状の領域であることを特徴とする請求項 1 3 に記載の液晶表示素子

( 1 5 ) 高分子化合物中に液晶滴が分散された高分子液晶複合体層が、内側面にそれそれ電極を備えた一対の基板の間に配置され、かつシール材により上記一対の基板が貼り合わされた液晶表示素子であって、

上記高分子液晶複合体層は少なくとも表示領域に相当する部分に設けられ、かつ上記シール材と高分子液晶複合体層との間の非表示領域に相当する部分には、側部間隙層が設けられていることを特徴とする液晶表示素子。

( 1 6 ) 上記側部間隙層は、真空からなることを特徴とする請求項 1 5 に記載の液晶表示素子。

( 1 7 ) 上記非表示領域は、幅が少なくとも 1 . 0 m m 以上の枠状の領域であることを特徴とする請求項 1 6 に記載の液晶表示素子

( 1 8 ) 高分子化合物中に液晶滴が分散された高分子液晶複合体層が、内側面にそれそれ電極を備えた一対の基板の間に配置され、かつシール材により上記一対の基板が貼り合わされた液晶表示素子であって、

上記高分子液晶複合体層は表示領域に相当する部分に設けられ、かつ上記シール材と高分子液晶複合体層との間の非表示領域に相当する部分には、側部間隙層が設けられていることを特徴とする液晶表示素子。

( 1 9 ) 上記側部間隙層には、気体が充填されていることを特徴とする請求項 1 8 に記載の液晶表示素子。

( 2 0 ) 上記非表示領域は、幅が少なくとも 1 . 0 m m 以上の枠状の領域であることを特徴とする請求項 1 9 に記載の液晶表示素子

( 2 1 ) 高分子化合物中に液晶滴が分散された高分子液晶複合体層が、内側面にそれそれ電極を備えた一対の基板の間に配置され、かつシール材により上記一対の基板が貼り合わされた液晶表示素子であって、

( 2 2 ) 上記側部間隙層は、高分子化合物が形成されていることを特徴とする請求項 2 1 に記載の液晶 ¾示素子。

( 2 3 ) 上記非表示領域は、幅が少なくとも 1 . 0 m m 以上の枠状の領域であることを特徴とする請求項 2 2 に記載の液晶表示素子

( 2 4 ) 高分子化合物中に液晶滴が分散された高分子液晶複合体層が、内側面にそれそれ電極を備えた一対の基板の間に配置され、かつシール材により上記一対の基板が貼り合わされた液晶表示素子であって、

上記高分子液晶複合体層は、高分子化合物を含み構成されたマトリクス連続相中に液晶滴が分散保持され、又は高分子化合物を含み構成された Ξ次元網目状マトリクスの網目内に液晶が分散保持されたものであり、

上記高分子液晶複合体層は、上記シール材の内周縁に位置する枠状の非表示領域と、該非表示領域の内側に位置する表示領域とに分割され、

上記表示領域に於ける液晶滴の粒径又は網の目の間隔よりも、シール材近傍の非表示領域に於ける液晶滴の粒径又は網の目の間隔が大きいことを特徴とする液晶表示素子。

( 2 5 ) 上記非表示領域は、幅が少なくとも 1 . 0 m m以上の枠状の領域であることを特徴とする請求項 2 4 に記載の液晶表示素子。

( 2 6 ) 上記表示領域に於ける液晶の液晶分率が、上記非表示領域に於ける液晶の液晶分率よりも小さいことを特徴とする請求項 2 5 に記載の液晶表示素子。

( 2 7 ) 上記表示領域に於ける液晶分率は 7 0 % 以上、 8 0 % 以下の範囲内にあり、かつ上記非表示領域に於ける液晶分率は 8 0 % より大きいことを特徴とする請求項 2 6 に記載の液晶表示素子。

( 2 8 ) 上記表示領域に於ける液晶分率と、上記非表示領域に於ける液晶分率との差が少なくとも 5 % 以上であることを特徴とする請求項 2 7 に記載の液晶表示素子。

( 2 9 )上記シール材近傍の液晶滴の粒径又は網の目の間隔が 1 . 8 m以上であり、

かつ、上記表示領域の液晶滴又は網の目の間隔が 0 . 8 〃 m以上、 1 . 4 〃 m 以下の範囲内であることを特徴とする特許請求項 2 8 に記載の液晶表示素子。

( 3 0 ) 内側面にそれそれ電極を備えた一対の基板の間に、液晶と高分子前駆体を含む液晶高分子前駆体相溶液を配置した後、前記基板面に紫外線を照射して、前記液晶高分子前駆体相溶液中の液晶と高分子前駆体とを、前記高分子前駆体を重合硬化させて相分離させることにより、液晶滴が高分子化合物を含み構成されたマトリクス連続相中に分散保持され、又は液晶が高分子化合物を含み構成された ≡次元網目状マトリクスの網目内に分散保持された高分子液晶複合体層を作製する相分離工程を備える液晶表示素子の製造方法であって、

上記相分離工程は、

上記高分子液晶複合体層の表示領域に相当する領域に照射する第 1 の紫外線の照射強度を、上記高分子液晶複合体層の非表示領域に相当する領域に照射する第 2 の紫外線の照射強度よりも小さくすることにより、

上記表示領域では、高分子化合物を含み構成されたマトリクス連続相中に液晶滴が一部相互に繁がった状態で分散保持され、又は高分子化合物を含み構成された三次元網目状マトリクスの網目内に液晶が分散保持された構造とし、

上記非表示領域では、高分子化合物を含む構成されたマトリタス中に、ほほ球形又は回転楕円体形状の液晶滴が相互に独立して分散した状態で保持された構造とすることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。

( 3 1 ) 内側面にそれそれ電極を備えた一対の基板の間に、液晶と高分子前駆体を含む液晶高分子前駆体相溶液を配置した後、前記基板の全面に紫外線を照射して、前記液晶高分子前駆体相溶液中の液晶と高分子前駆体とを、前記高分子前駆体を重合硬化させて相分離させることにより、液晶滴が高分子化合物を含み構成されたマトリクス連続相中に分散保持され、又は液晶が高分子化合物を含み構成された三次元網目状マトリタスの網目内に分散保持された高分子液晶複合体層を作製する相分離工程を備える液晶表示素子の製造方法であって、

上記相分離工程は、上記高分子液晶複合体層に於ける少なくとも非表示領域に、紫外線を遮蔽する遮蔽手段を設けて該紫外線を照射することを特徴とする液晶表示素子の製造方法。

( 3 2 ) 上記遮蔽手段は、紫外線を反射する材料からなる反射板であることを特徴とする特許請求項 3 1 に記載の液晶表示素子の製造方法。

( 3 3 ) 内側面にそれぞれ電極を備えた一対の基板の間に、液晶と高分子前駆体を含む液晶高分子前駆体相溶液を配置した後、前記基板面に紫外線を照射して、前記液晶高分子前駆体相溶液中の液晶と高分子前駆体とを、前記高分子前駆体を重合硬化させて相分離させることにより、液晶滴が高分子化合物を含み構成されたマトリクス連続相中に分散保持され、又は液晶が高分子化合物を含み構成された三次元網目状マトリクスの網目内に分散保持された高分子液晶複合体層を作製する相分離工程を備える液晶表示素子の製造方法であって、

上記相分離工程は、

上記高分子液晶複合体層の表示領域に相当する領域に照射する第 1 の紫外線の照射強度を、上記高分子液晶複合体層の非表示領域に相当する領域に照射する第 2 の紫外線の照射強度よりも大きくすることにより、

上記高分子液晶複合体層は、高分子化合物を含み構成されたマトリクス連続相中に液晶滴が分散保持され、又は高分子化合物を含み構成された三次元網目状マトリタスの網目内に液晶が分散保持された構造となり、

かつ、上記高分子液晶複合体層に於ける表示領域の液晶滴の粒径又は網の目の間隔は、非表示領域の液晶滴の粒径又は網の目の間隔よりも小さい構造となることを特徴とする液晶表示素子の製造方法

( 3 4 ) 上記第 1 の紫外線の照射強度が 5 O m W / c m ² 以上であり、上記第 2 の紫外線の照射強度が 2 O m W / c m ² 以下であることを特徴とする請求項 3 3 に記載の液晶表示素子の製造方法。

( 3 5 ) 少なくとも第 1 基板と、第 1 基板に対向する第 2 基板と、第 1 及び第 2 基板間に配置され液晶滴が高分子化合物中に分散保持されてなる高分子液晶複合体層と、高分子液晶複合体層に電界を印力！] するための一対の第 1 表示電極及び第 2 表示電極とを備えた液晶表示素子であって、

上記第 1 基板に、上記高分子液晶複合体層が固着され、第 2 基板と高分子液晶複合体層との間には、間隙層が設けられ、この間隙層の基板面内における領域が、少なくとも全表示領域を含む範囲内にあることを特徴とする液晶表示素子。

( 3 6 ) 少なくとも第 1 基板と、第 1 基板に対向する第 2 基板と、第 1 及び第 2 基板間に配置され液晶滴が高分子化合物中に分散保持されてなる高分子液晶複合体層と、高分子液晶複合体層に電界を印加するための一対の第 1 表示電極及び第 2 表示電極とを備え、第 1 基板と第 2 基板とは、周縁部同士がシール材を介して貼り合わされた構造の液晶表示素子であって、

( 3 7 ) 前記高分子液晶複合体層の外周面と前記シール材の内周面との間に、側部間隙層が設けられていることを特徴とする請求項 3 6 に記載の液晶表示素子。

( 3 8 ) 上記間隙層及び側部間隙層が、流動層であることを特徴とする請求項 3 7 に記載に液晶表示素子。

( 3 9 ) 上記流動層には、空気が充填されていることを特徴とする請求項 3 8 に記載の液晶表示素子。

( 4 0 ) 上記第 2 基板には、光学カラ一フィルタ一層が設けられていることを特徴とする請求項 3 9 に記載の液晶表示素子。 ( 4 1 ) 上記第 2 基板の屈折率 n _gが、空気の屈折率 n _{a i r} よりも大きい関係を満たす場合に、

上記第 2 基板の屈折率 n _g と、間隙層の屈折率 n _x とが式（ 1 ) の関係を満たし、かつ、上記高分子液晶複合体層の屈折率 n _p と、間隙層の屈折率 n _x とが式（ 2 ) の関係を満たすことを特徴とする請求項 4 0 に記載の液晶表示素子。

n _g > n _x … （ 1 ) n _n > n ( 2

( 4 2 ) 上記複数の色材膜のうち任意の色材膜に隣接するブラックマトリクスと該色材膜との境界面が、上記間隙層と高分子液晶複合体層との境界の対応する位置に、光が入射して散乱した場合に於いて、

散乱した散乱光のうち、上記境界面に向けて進行する第 1 の散乱光と、上記ブラックマトリクスと上記色材膜に隣接している色材膜との境界面に向けて進行する第 2 の散乱光とのなす角を 0 とし、上記光学カラーフィルタ一層における複数の色材膜間のピッチを P ( m ) とし、

開口率を O p ( % ) とした場合に、

上記間隙層のギャップ L ( ju m ) は、以下の式で表されることを特徴とする請求項 4 1 に記載の液晶表示素子。

L ≤ P - ( l - O p ^{1 / 2} ) / t a n 0 - ( 8 )

( 4 3 ) 上記間隙層には、上記第 2 基板と、高分子液晶複合体層とが所定の間隔となるように支持部材が設けられていることを特徴とする請求項 4 2 に記載の液晶表示素子。

( 4 4 ) 少なくとも第 1 基板と、第 1 基板に対向する第 2 基板と、第 1 及び第 2 基板間に配置され液晶滴が高分子化合物中に分散保持されてなる高分子液晶複合体層と、高分子液晶複合体層に電界を印加するための一対の第 1 表示電極及び第 2 表示電極とを備え、第 1 基板と第 2 基板とは、周縁部同士がシ一ル材を介して貼り合わされた構造の液晶表示素子であって、上記第 1 基板に、上記高分子液晶複合体層が固着され、第 2 基板と高分子液晶複合体層との間には、間隙層が設けられ、この間隙層の基板面内における領域が、少なくとも全表示領域を含む範囲内にあることを特徴とする液晶表示素子。

( 4 5 ) 前記高分子液晶複合体層の外周面と前記シール材の内周面との間に、側部間隙層が設けられていることを特徴とする請求項 4 4 に記載の液晶表示素子。

( 4 6 ) 上記間隙層及び側部間隙層は、真空であることを特徴とする請求項 4 5 に記載の液晶表示素子。

( 7 ) 上記第 2 基板には、光学カラーフィルタ一層が設けられていることを特徴とする請求項 4 6 に記載の液晶表示素子。

( 4 8 ) 上記第 2 基板の屈折率 n _s が、空気の屈折率 n _{a i r} よりも大きい関係を満たす場合に、

上記第 2 基板の屈折率 n _g と、間隙層の屈折率 n _x とが式（ 1 ) の関係を満たし、かつ、上記高分子液晶複合体層の屈折率 n _p と、間隙層の屈折率 n _x とが式（ 2 ) の関係を満たすことを特徴とする請求項 4 7 に記載の液晶表示素子。

n _g > n _x … （ 1 )

n p > n _x ··· ( 2 )

( 4 9 ) 上記複数の色材膜のうち任意の色材膜に隣接するブラックマトリクスと該色材膜との境界面が、上記間隙層と高分子液晶複合体層との境界の対応する位置に、光が入射して散乱した場合に於いて、

散乱した散乱光のうち、上記境界面に向けて進行する第 1 の散乱光と、上記ブラックマトリクスと上記色材膜に隣接している色材膜との境界面に向けて進行する第 2 の散乱光とのなす角を 0 とし、上記光学カラ一フィルタ一層における複数の色材膜間のピッチを P ( j m ) とし、

開口率を O p ( % ) とした場合に、

上記間隙層のギャップ L ( ju m ) は、以下の式で表されることを特徴とする請求項 4 8 に記載の液晶表示素子。

L ≤ P - ( 1 - O p ¹ / ² ) / t a η θ - ( 8 )

( 5 0 ) 上記間隙層には、上記第 2 基板と、高分子液晶複合体層とが所定の間隔となるように支持部材が設けられてレ、ることを特徴とする請求項 4 9 に記載の液晶表示素子。

( 5 1 ) 少なくとも第 1 基板と、第 1 基板に対向する第 2 基板と、第 1 及び第 2 基板間に配置され液晶滴が高分子化合物中に分散保持されてなる高分子液晶複合体層と、高分子液晶複合体層に電界を印加するための一対の第 1 表示電極及び第 2 表示電極とを備え、第 1 基板と第 2 基板とは、周縁部同士がシール材を介して貼り合わされた構造の液晶表示素子であって、

上記第 1 基板に、上記高分子液晶複合体層が固着され、第 2 基板と高分子液晶複合体層との間には、間隙層が設けられ、この間隙層の基板面内における領域が、少なくとも全表示領域を含む範囲内にあることを特徴とする液晶表示素子。 ( 5 2 ) 前記高分子液晶複合体層の外周面と前記シール材の内周面との間に、側部間隙層が設けられていることを特徴とする請求項 4 1 に記載の液晶表示素子。

( 5 3 ) 上記間隙層及び側部間隙層が、流動層であることを特徴とする請求項 5 2 に記載に液晶表示素子。

( 5 4 ) 上記流動層には、空気が充填されていることを特徴とする請求項 5 3 に記載の液晶表示素子。

( 5 5 ) 上記第 2 基板には、光を反射する光学反射部材が設けられていることを特徴とする請求項 5 4 に記載の液晶表示素子。 ( 5 6 ) 上記間隙層には、上記第 2 基板と、高分子液晶複合体層とが所定の間隔となるように支持部材が設けられていることを特徴とする請求項 5 5 に記載の液晶表示素子。

( 5 7 ) 少なくとも第 1 基板と、第 1 基板に対向する第 2 基板と、第 1 及び第 2 基板間に配置され液晶滴が高分子化合物中に分散保持されてなる高分子液晶複合体層と、高分子液晶複合体層に電界を印加するための一対の第 1 表示電極及び第 2 表示電極とを備え、第 1 基板と第 2 基板とは、周縁部同士がシール材を介して貼り合わされた構造の液晶表示素子であって、

( 5 8 ) 前記高分子液晶複合体層の外周面と前記シール材の内周面との間に、側部間隙層が設けられていることを特徴とする請求項 5 7 に記載の液晶表示素子。

( 5 9 ) 上記間隙層及び側部間隙層が、流動層であることを特徴とする請求項 5 8 に記載に液晶表示素子。

( 6 0 ) 上記流動層には、液晶材料が含まれていることを特徴とする請求項 5 9 に記載の液晶表示素子。

( 6 1 ) 上記第 2 基板には、光学カラ一フィルタ一層が設けられていることを特徴とする請求項 6 0 に記載の液晶表示素子。

( 6 2 ) 上記第 2 基板の屈折率 n _g が、空気の屈折率 n _{a r} よりも大きい関係を満たす場合に、

上記第 2 基板の屈折率 n _g と、間隙層の屈折率 n _x とが式（ 1 ) の関係を満たし、かつ、上記高分子液晶複合体層の屈折率 n _p と、間隙層の屈折率 n _x とが式（ 2 ) の関係を満たすことを特徴とする請求項 6 1 に記載の液晶表示素子。

n „ > n _x ··· ( ! )

n p > n ( 2 )

6 3 ) 上記複数の色材膜のうち任意の色材膜に隣接するブラックマトリクスと該色材膜との境界面が、上記間隙層と高分子液晶複合体層との境界の対応する位置に、光が入射して散乱した場合に於いて、

散乱した散乱光のうち、上記境界面に向けて進行する第 1 の散乱光と、上記ブラックマトリクスと上記色材膜に隣接している色材膜との境界面に向けて進行する第 2 の散乱光とのなす角を S とし、上記光学カラーフィルター層における複数の色材膜間のピッチを P ( ) とし、

開口率を O p ( % ) とした場合に、

上記間隙層のギャップ L ( ja m ) は、以下の式で表されることを特徴とする請求項 6 2 に記載の液晶表示素子。

L ≤ P - ( l - O p ^{1 / 2} ) / t a n 0 - ( 8 )

( 6 4 ) 上記間隙層には、上記第 2 基板と、高分子液晶複合体層とが所定の間隔となるように支持部材が設けられていることを特徴とする請求項 6 3 に記載の液晶表示素子。

( 6 5 ) 少なくとも第 1 基板と、第 1 基板に対向する第 2 基板と、第 1 及び第 2 基板間に配置され液晶滴が高分子化合物中に分散保持されてなる高分子液晶複合体層と、高分子液晶複合体層に電界を印加するための一対の第 1 表示電極及び第 2 表示電極とを備え、第 1 基板と第 2 基板とは、周縁部同士がシール材を介して貼り合わされた構造の液晶表示素子であって、

( 6 6 ) 前記高分子液晶複合体層の外周面と前記シール材の内周面との間に、側部間隙層が設けられていることを特徴とする請求項 6 5 に記載の液晶表示素子。

( 6 7 ) 上記間隙層及び側部間隙層が、流動層であることを特徴とする請求項 6 6 に記載に液晶表示素子。 ( 6 8 ) 上記流動層には、空気が充填されていることを特徴とする請求項 6 7 に記載の液晶表示素子。

( 6 9 )上記高分子液晶複合体層の第 1 基板に臨む側の表面には、上記第 1 表示電極が形成されており、高分子液晶複合体層の第 2 基板に臨む側の表面には、上記第 2 表示電極が形成されていることを特徴とする請求項 6 8 に記載の液晶表示素子。

( 7 0 ) 上記第 2 基板には、光学カラーフィルタ一層が設けられていることを特徴とする請求項 6 9 に記載の液晶表示素子。

( 7 1 ) 上記第 2 基板の屈折率 η _εが、空気の屈折率 n _{a i r} よりも大きい関係を満たす場合に、

上記第 2 基板の屈折率 n _g と、間隙層の屈折率 n _x とが式（ 1 ) の関係を満たし、かつ、上記高分子液晶複合体層の屈折率 n p と、間隙層の屈折率 n _x とが式（ 2 ) の関係を満たすことを特徴とする請求項 7 0 に記載の液晶表示素子。 n _ε > n _x ··· ( 1 )

n p > n _x ··· ( 2 )

( 7 2 ) 上記複数の色材膜のうち任意の色材膜に隣接するブラックマトリタスと該色材膜との境界面が、上記間隙層と高分子液晶複合体層との境界の対応する位置に、光が入射して散乱した場合に於いて、

散乱した散乱光のうち、上記境界面に向けて進行する第 1 の散乱光と、上記ブラックマトリクスと上記色材膜に隣接している色材膜との境界面に向けて進行する第 2 の散乱光とのなす角を Θ とし、上記光学カラ一フィルター層における複数の色材膜間のピッチを P ( m ) とし、

開口率を O p ( % ) とした場合に、

上記間隙層のギャップ L ( u rn ) は、以下の式で表されることを特徴とする請求項 7 1 に記載の液晶表示素子。

L ≤ P · ( 1 - 0 p ¹ / ² ) / t a η Θ - ( 8 )

( 7 3 ) 上記間隙層には、上記第 2 基板と、高分子液晶複合体層とが所定の間隔となるように支持部材が設けられていることを特徴とする請求項 7 2 に記載の液晶表示素子。

( 7 4 ) 少なくとも第 1 基板と、第 1 基板に対向する第 2 基板と、第 1 及び第 2 基板間に配置され液晶滴が高分子化合物中に分散保持されてなる高分子液晶複合体層と、高分子液晶複合体層に電界を印加するための一対の第 1 表示電極及び第 2 表示電極とを備え、第 1 基板と第 2 基板とは、周縁部同士がシール材を介して貼り合わされた構造の液晶表示素子であって、

( 7 5 ) 前記高分子液晶複合体層の外周面と前記シール材の内周面との間に、側部間隙層が設けられていることを特徴とする請求項 7 4 に記載の液晶表示素子。

( 7 6 ) 上記間隙層及び側部間隙層は、真空であることを特徴とする請求項 7 5 に記載の液晶表示素子。

( 7 7 ) 上記第 2 基板には、光を反射する光学反射部材が設けられていることを特徴とする請求項 7 6 に記載の液晶表示素子。

( 7 8 ) 上記間隙層には、上記第 2 基板と、高分子液晶複合体層とが所定の間隔となるように支持部材が設けられていることを特徴とする請求項 7 7 に記載の液晶表示素子。

( 7 9 ) 少なくとも第 1 基板と、第 1 基板に対向する第 2 基板と、第 1 及び第 2 基板間に配置され液晶滴が高分子化合物中に分散保持されてなる高分子液晶複合体層と、高分子液晶複合体層に電界を印加するための一対の第 1 表示電極及び第 2 表示電極とを備え、第 1 基板と第 2 基板とは、周縁部同士がシール材を介して貼り合わされた構造の液晶表示素子であって、上記第 1 基板に、上記高分子液晶複合体層が固着され、第 2 基板と高分子液晶複合体層との間には、間隙層が設けられ、この間隙層の基板面内における領域が、少なくとも全表示領域を含む範囲内にあることを特徴とする液晶表示素子。

( 8 0 ) 前記高分子液晶複合体層の外周面と前記シール材の内周面との間に、側部間隙層が設けられていることを特徴とする請求項 7 9 に記載の液晶表示素子。 ( 8 1 ) 上記間隙層及び側部間隙層が、流動層であることを特徴とする請求項 8 0 に記載の液晶表示素子。

( 8 2 ) 上記流動層には、液晶材料が含まれていることを特徴とする請求項 8 1 に記載の液晶表示素子。

( 8 3 ) 上記第 2 基板には、光を反射する光学反射部材が設けられていることを特徴とする請求項 8 2 に記載の液晶表示素子。

( 8 4 ) 上記間隙層には、上記第 2 基板と、高分子液晶複合体層とが所定の間隔となるように支持部材が設けられていることを特徴とする請求項 8 3 に記載の液晶表示素子。

( 8 5 ) 少なくとも第 1 基板と、第 1 基板に対向する第 2 基板と、第 1 及び第 2 基板間に配置され液晶滴が高分子化合物中に分散保持されてなる高分子液晶複合体層と、高分子液晶複合体層に電界を印加するための一対の第 1 表示電極及び第 2 表示電極とを備え、第 1 基板と第 2 基板とは、周縁部同士がシール材を介して貼り合わされた構造の液晶表示素子であって、

( 8 6 ) 前記高分子液晶複合体層の外周面と前記シール材の内周面との間に、側部間隙層が設けられていることを特徴とする請求項 6 8 に記載の液晶表示素子。

( 8 7 ) 上記間隙層及び側部間隙層が、流動層であることを特徴とする請求項 6 9 に記載の液晶表示素子。 ( 8 8 ) 上記流動層には、空気が充填されていることを特徴とする請求項 8 7 に記載の液晶表示素子。

( 8 9 )上記高分子液晶複合体層の第 1 基板に臨む側の表面には、上記第 1 表示電極が形成されており、高分子液晶複合体層の第 2 基板に臨む側の表面には、上記第 2 表示電極が形成されていることを特徴とする請求項 8 8 に記載の液晶表示素子。

( 9 0 ) 上記第 2 基板には、光を反射する光学反射部材が設けられていることを特徴とする請求項 8 9 に記載の液晶表示素子。

( 9 1 ) 上記間隙層には、上記第 2 基板と、高分子液晶複合体層とが所定の間隔となるように支持部材が設けられていることを特徴とする請求項 9 0 に記載の液晶表示素子。

( 9 2 ) 少なくとも第 1 基板と、第 1 基板に対向する第 2 基板と、第 1 及び第 2 基板間に配置され液晶滴が高分子化合物中に分散保持されてなる高分子液晶複合体層と、高分子液晶複合体層に電界を印加するための一対の第 1 表示電極及び第 2 表示電極とを備え、第 1 基板と第 2 基板とは、周縁部同士がシール材を介して貼り合わされた構造の液晶表示素子であって、

上記第 1 基板に、上記高分子液晶複合体層が固着され、第 2 基板と高分子液晶複合体層との間には、間隙層が設けられ、この間隙層の基板面内における領域が、少なくともシール材近傍領域を含む範囲内にあることを特徴とする液晶表示素子。 ( 9 3 ) 前記高分子液晶複合体層の外周面と前記シール材の内周面との間に、側部間隙層が設けられていることを特徴とする請求項 9 2 に記載の液晶表示素子。

( 9 4 ) 上記間隙層及び側部間隙層が、流動層であることを特徴とする請求項 9 3 に記載に液晶表示素子。

( 9 5 ) 上記流動層には、空気が充填されていることを特徴とする請求項 9 4 に記載の液晶表示素子。 ( 9 6 ) 上記第 2 基板には、光学カラ一フィルタ一層が設けられていることを特徴とする請求項 9 5 に記載の液晶表示素子。 ( 9 7 ) 上記第 2 基板の屈折率 n _g が、空気の屈折率 n _{a i r} よりも大きい関係を満たす場合に、

上記第 2 基板の屈折率 n _s と、間隙層の屈折率 n _x とが式（ 1 ) の関係を満たし、かつ、上記高分子液晶複合体層の屈折率 n _p と、間隙層の屈折率 n _x とが式（ 2 ) の関係を満たすことを特徴とする請求項 9 6 に記載の液晶表示素子。

n _g > n _x ··· ( 1 )

n _p > n _x ··· ( 2 )

( 9 8 ) 上記複数の色材膜のうち任意の色材膜に隣接するブラックマトリクスと該色材膜との境界面が、上記間隙層と高分子液晶複合体層との境界の対応する位置に、光が入射して散乱した場合に於いて、

散乱した散乱光のうち、上記境界面に向けて進行する第 1 の散乱光と、上記ブラックマトリクスと上記色材膜に隣接している色材膜との境界面に向けて進行する第 2 の散乱光とのなす角を Θ とし、上記光学カラーフィルター層における複数の色材膜間のピッチを P ( ju m ) とし、

開口率を O p ( % ) とした場合に、

上記間隙層のギャップ L ( j m ) は、以下の式で表されることを特徴とする請求項 9 7 に記載の液晶表示素子。

L ≤ P - ( l - O p ^{1 / 2} ) / t a η θ - ( 8 )

( 9 9 ) 上記間隙層には、上記第 2 基板と、高分子液晶複合体層とが所定の間隔となるように支持部材が設けられていることを特徴とする請求項 9 8 に記載の液晶表示素子。

( 1 0 0 ) 少なくとも第 1 基板と、第 1 基板に対向する第 2 基板と、第 1 及び第 2 基板間に配置され液晶滴が高分子化合物中に分散保持されてなる高分子液晶複合体層と、高分子液晶複合体層に電界を印加するための一対の第 1 表示電極及び第 2 表示電極とを備え、第 1 基板と第 2 基板とは、周縁部同士がシール材を介して貼り合わされた構造の液晶表示素子であって、

上記第 1 基板に、上記高分子液晶複合体層が固着され、第 2 基板と高分子液晶複合体層との間には、間隙層が設けられ、この間隙層の基板面内における領域が、少なくともシール材近傍領域を含む範囲内にあることを特徴とする液晶表示素子。

( 1 0 1 ) 前記高分子液晶複合体層の外周面と前記シール材の内周面との間に、側部間隙層が設けられていることを特徴とする請求項 1 0 0 に記載の液晶表示素子。

( 1 0 2 ) 上記間隙層及び側部間隙層は、真空であることを特徴とする請求項 1 0 1 に記載の液晶表示素子。

( 1 0 3 ) 上記第 2 基板には、光学カラーフィルタ一層が設けられていることを特徴とする請求項 1 0 2 に記載の液晶表示素子。

( 1 0 4 ) 上記第 2 基板の屈折率 n _gが、空気の屈折率 n _{a i r} よりも大きい関係を満たす場合に、

上記第 2 基板の屈折率 n _g と、間隙層の屈折率 n _x とが式（ 1 ) の関係を満たし、かつ、上記高分子液晶複合体層の屈折率 n _p と、間隙層の屈折率 n _x とが式（ 2 ) の関係を満たすことを特徴とする請求項 1 0 3 に記載の液晶表示素子。

n _g > n _x … （ 1 )

n p > n _x … （ 2 )

( 1 0 5 ) 上記光学カラ一フィルタ一層における複数の色材膜間のピッチを P ( j ) とし、

上記第 1 基板側から光が入射した際に、上記複数の色材膜のうちの一方の色材膜に直進する直進光と、該高分子液晶複合体層と間隙層との境界で散乱し、かつ上記色材膜に隣接する他方の色材膜に入射しない散乱光とのなす角を Θ とし、

開口率を O p ( % ) とした場合に、

上記間隙層のギャップ L { rn ) は、以下の式で表されることを特徴とする請求項 1 0 4 に記載の液晶表示素子。

L ≤ P - ( l - O p ^{1 / 2} ) / t a η θ - ( 8 )

( 1 0 6 ) 上記間隙層には、上記第 2 基板と、高分子液晶複合体層とが所定の間隔となるように支持部材が設けられていることを特徴とする請求項 1 0 5 に記載の液晶表示素子。

( 1 0 7 ) 少なくとも第 1 基板と、第 1 基板に対向する第 2 基板と、第 1 及び第 2 基板間に配置され液晶滴が高分子化合物中に分散保持されてなる高分子液晶複合体層と、高分子液晶複合体層に電界を印加するための一対の第 1 表示電極及び第 2 表示電極とを備え、第 1 基板と第 2 基板とは、周縁部同士がシール材を介して貼り合わされた構造の液晶表示素子であって、

( 1 0 8 ) 前記高分子液晶複合体層の外周面と前記シール材の内周面との間に、側部間隙層が設けられていることを特徴とする請求項 1 0 7 に記載の液晶表示素子。

( 1 0 9 ) 上記間隙層及び側部間隙層が、流動層であることを特徴とする請求項 1 0 8 に記載に液晶表示素子。

( 1 1 0 ) 上記流動層には、空気が充填されていることを特徴とする請求項 1 0 9 に記載の液晶表示素子。

( 1 1 1 ) 上記第 2 基板には、光を反射する光学反射部材が設けられていることを特徴とする請求項 1 1 0 に記載の液晶表示素子。 ( 1 1 2 ) 上記間隙層には、上記第 2 基板と、高分子液晶複合体層とが所定の間隔となるように支持部材が設けられていることを特徴とする請求項 1 1 1 に記載の液晶表示素子。

( 1 1 3 ) 少なくとも第 1 基板と、第 1 基板に対向する第 2 基板と、第 1 及び第 2 基板間に配置され液晶滴が高分子化合物中に分散保持されてなる高分子液晶複合体層と、高分子液晶複合体層に電界を印加するための一対の第 1 表示電極及び第 2 表示電極とを備え、第 1 基板と第 2 基板とは、周縁部同士がシール材を介して貼り合わされた構造の液晶表示素子であって、

( 1 1 4 ) 前記高分子液晶複合体層の外周面と前記シール材の内周面との間に、側部間隙層が設けられていることを特徴とする請求項 1 1 3 に記載の液晶表示素子。

( 1 1 5 ) 上記間隙層及び側部間隙層が、流動層であることを特徴とする請求項 1 1 4 に記載に液晶表示素子。

( 1 1 6 ) 上記流動層には、液晶材料が含まれていることを特徴とする請求項 1 1 5 に記載の液晶表示素子。

( 1 1 7 ) 上記第 2 基板には、光学カラーフィルタ一層が設けられていることを特徴とする請求項 1 1 6 に記載の液晶表示素子。

( 1 1 8 ) 上記第 2 基板の屈折率 n _gが、空気の屈折率 n _{a i r} よりも大きい関係を満たす場合に、

上記第 2 基板の屈折率 n _g と、間隙層の屈折率 n _x とが式（ 1 ) の関係を満たし、かつ、上記高分子液晶複合体層の屈折率 n _p と、間隙層の屈折率 n _x とが式（ 2 ) の関係を満たすことを特徴とする請求項 1 1 7 に記載の液晶表示素子

n „ > n _v ( 1 )

n _n n _v ( 2 ) ( 1 1 9 ) 上記複数の色材膜のうち任意の色材膜に隣接するブラックマトリクスと該色材膜との境界面が、上記間隙層と高分子液晶複合体層との境界の対応する位置に、光が入射して散乱した場合に於いて、

散乱した散乱光のうち、上記境界面に向けて進行する第 1 の散乱光と、上記ブラックマトリクスと上記色材膜に隣接している色材膜との境界面に向けて進行する第 2 の散乱光とのなす角を Sとし、上記光学カラ一フィル夕一層における複数の色材膜間のピッチを P ( ra ) とし、

開口率を O p ( % ) とした場合に、

上記間隙層のギャップ L ( ju ) は、以下の式で表されることを特徴とする請求項 1 1 8 に記載の液晶表示素子。

L ≤ P - ( l - O p ^{1 / 2} ) / t Ά η θ - ( 8 )

( 1 2 0 ) 上記間隙層には、上記第 2 基板と、高分子液晶複合体層とが所定の間隔となるように支持部材が設けられていることを特徴とする請求項 1 1 9 に記載の液晶表示素子。

( 1 2 1 ) 少なくとも第 1 基板と、第 1 基板に対向する第 2 基板と、第 1 及び第 2 基板間に配置され液晶滴が高分子化合物中に分散保持されてなる高分子液晶複合体層と、高分子液晶複合体層に電界を印加するための一対の第 1 表示電極及び第 2 表示電極とを備え、第 1 基板と第 2 基板とは、周縁部同士がシ一ル材を介して貼り合わされた構造の液晶表示素子であって、

( 1 2 2 ) 前記高分子液晶複合体層の外周面と前記シール材の内周面との間に、側部間隙層が設けられていることを特徴とする請求項 1 2 1 に記載の液晶表示素子。

( 1 2 3 ) 上記間隙層及び側部間隙層が、流動層であることを特徴とする請求項 1 2 2 に記載に液晶表示素子。 ( 1 2 4 ) 上記流動層には、空気が充填されていることを特徴とする請求項 1 2 3 に記載の液晶表示素子。

( 1 2 5 ) 上記高分子液晶複合体層の第 1 基板に臨む側の表面には、上記第 1 表示電極が形成されており、高分子液晶複合体層の第 2 基板に臨む側の表面には、上記第 2 表示電極が形成されていることを特徴とする請求項 1 2 4 に記載の液晶表示素子。

( 1 2 6 ) 上記第 2 基板には、光学カラ一フィルタ一層が設けられていることを特徴とする請求項 1 2 5 に記載の液晶表示素子。

( 1 2 7 ) 上記第 2 基板の屈折率 n _s が、空気の屈折率 n _{a i r} よりも大きい関係を満たす場合に、

上記第 2 基板の屈折率 n _g と、間隙層の屈折率 n _x とが式（ 1 ) の関係を満たし、かつ、上記高分子液晶複合体層の屈折率 n _p と、間隙層の屈折率 n _x とが式（ 2 ) の関係を満たすことを特徴とする請求項 1 2 6 に記載の液晶表示素子。

n _g > n _x … ( 1 )

n p > n _x ··· ( 2 )

( 1 2 8 ) 上記複数の色材膜のうち任意の色材膜に隣接するブラックマトリクスと該色材膜との境界面が、上記間隙層と高分子液晶複合体層との境界の対応する位置に、光が入射して散乱した場合に於いて、

散乱した散乱光のうち、上記境界面に向けて進行する第 1 の散乱光と、上記ブラックマトリクスと上記色材膜に隣接している色材膜との境界面に向けて進行する第 2 の散乱光とのなす角を Θ とし、上記光学カラーフィルタ一層における複数の色材膜間のピッチを P { ju rn ) とし、

開口率を 0 p ( % ) とした場合に、

上記間隙層のギャップ L ( u rn ) は、以下の式で表されることを特徴とする請求項 1 2 7 に記載の液晶表示素子。

L ^ P - C l - O p ' / / t a n ^ - ( 8 )

( 1 2 9 ) 上記間隙層には、上記第 2 基板と、高分子液晶複合体層とが所定の間隔となるように支持部材が設けられていることを特徴とする請求項 1 2 8 に記載の液晶表示素子。 ( 1 3 0 ) 少なくとも第 1 基板と、第 1 基板に対向する第 2 基板と、第 1 及び第 2 基板間に配置され液晶滴が高分子化合物中に分散保持されてなる高分子液晶複合体層と、高分子液晶複合体層に電界を印加するための一対の第 1 表示電極及び第 2 表示電極とを備え、第 1 基板と第 2 基板とは、周縁部同士がシール材を介して貼り合わされた構造の液晶表示素子であって、

( 1 3 1 ) 前記高分子液晶複合体層の外周面と前記シール材の内周面との間に、側部間隙層が設けられていることを特徴とする請求項 1 3 0 に記載の液晶表示素子。

( 1 3 2 ) 上記間隙層及び側部間隙層は、真空であることを特徴とする請求項 1 3 1 に記載の液晶表示素子。

( 1 3 3 ) 上記第 2 基板には、光を反射する光学反射部材が設けられていることを特徴とする請求項 1 3 2 に記載の液晶表示素子。

( 1 3 4 ) 上記間隙層には、上記第 2 基板と、高分子液晶複合体層とが所定の間隔となるように支持部材が設けられていることを特徴とする請求項 1 3 3 に記載の液晶表示素子。

( 1 3 5 ) 少なくとも第 1 基板と、第 1 基板に対向する第 2 基板と、第 1 及び第 2 基板間に配置され液晶滴が高分子化合物中に分散保持されてなる高分子液晶複合体層と、高分子液晶複合体層に電界を印加するための一対の第 1 表示電極及び第 2 表示電極とを備え、第 1 基板と第 2 基板とは、周縁部同士がシール材を介して貼り合わされた構造の液晶表示素子であって、

( 1 3 6 ) 前記高分子液晶複合体層の外周面と前記シール材の内周面との間に、側部間隙層が設けられていることを特徴とする請求項 1 3 5 に記載の液晶表示素子。

( 1 3 7 ) 上記間隙層及び側部間隙層が、流動層であることを特徴とする請求項 1 3 6 に記載の液晶表示素子。

( 1 3 8 ) 上記流動層には、液晶材料が含まれていることを特徴とする請求項 1 3 7 に記載の液晶表示素子。

( 1 3 9 ) 上記第 2 基板には、光を反射する光学反射部材が設けられていることを特徴とする請求項 1 3 8 に記載の液晶表示素子。

( 1 4 0 ) 上記間隙層には、上記第 2 基板と、高分子液晶複合体層とが所定の間隔となるように支持部材が設けられていることを特徴とする請求項 1 3 9 に記載の液晶表示素子。 ( 1 4 1 ) 少なくとも第 1 基板と、第 1 基板に対向する第 2 基板と、第 1 及び第 2 基板間に配置され液晶滴が高分子化合物中に分散保持されてなる高分子液晶複合体層と、高分子液晶複合体層に電界を印加するための一対の第 1 表示電極及び第 2 表示電極とを備え、第 1 基板と第 2 基板とは、周縁部同士がシール材を介して貼り合わされた構造の液晶表示素子であって、

( 1 4 2 ) 前記高分子液晶複合体層の外周面と前記シール材の内周面との間に、側部間隙層が設けられていることを特徴とする請求項 1 4 1 に記載の液晶表示素子。

( 1 4 3 ) 上記間隙層及び側部間隙層が、流動層であることを特徴とする請求項 1 4 2 に記載の液晶表示素子。 ( 1 4 4 ) 上記流動層には、空気が充填されていることを特徴とする請求項 1 4 3 に記載の液晶表示素子。

( 1 4 5 ) 上記高分子液晶複合体層の第 1 基板に臨む側の表面には、上記第 1 表示電極が形成されており、高分子液晶複合体層の第 2 基板に臨む側の表面には、上記第 2 表示電極が形成されていることを特徴とする請求項 1 4 4 に記載の液晶表示素子。 ( 1 4 6 ) 上記第 2 基板には、光を反射する光学反射部材が設けられていることを特徴とする請求項 1 4 5 に記載の液晶表示素子。 ( 1 4 7 ) 上記間隙層には、上記第 2 基板と、高分子液晶複合体層とが所定の間隔となるように支持部材が設けられていることを特徴とする請求項 1 4 6 に記載の液晶表示素子。

( 1 4 8 ) 少なくとも第 1 基板と、第 1 基板に対向する第 2 基板と、第 1 及び第 2 基板間に配置され液晶滴が高分子化合物中に分散保持されてなる高分子液晶複合体層と、高分子液晶複合体層に電界を印加するための一対の第 1 表示電極及び第 2 表示電極とを備え、第 1 基板と第 2 基板とは、周縁部同士がシール材を介して貼り合わされた構造の液晶表示素子であって、

上記第 1 基板に、上記高分子液晶複合体層が固着され、第 2 基板と高分子液晶複合体層との間には、間隙層が設けられ、この間隙層の基板面内における領域が、少なくとも一部の表示領域を含む範囲内にあることを特徴とする液晶表示素子。 ( 1 4 9 ) 少なくとも第 1 基板と、第 1 基板に対向する第 2 基板と、第 1 及び第 2 基板間に配置され液晶滴が高分子化合物中に分散保持されてなる高分子液晶複合体層と、高分子液晶複合体層に電界を印加するための一対の第 1 表示電極及び第 2 表示電極とを備えた液晶表示素子の製造方法であって、

上記第 1 基板上に、スイッチング素子と、該スイッチング素子に電気的に接続される第 1 表示電極とを形成する第 1 ステップと、上記第 1 表示電極上に、高分子液晶複合体層を形成する第 2 ステップと、

上記高分子液晶複合体層上に、第 2 表示電極を形成する第 3 ステップと、

上記第 1 及び第 2 表示電極に電圧を印加することにより、表示状態を検査する第 4 ステップと、

上記第 4 ステップの検査結果に基づいて、表示状態が良好な高分子液晶複合体層に関してのみ、高分子液晶複合体層と第 2 基板との間が所定の間隙となるように、第 1 基板と第 2 基板とを貼り合わせる第 5 ステップと、

を有することを特徴とする液晶表示素子の製造方法。

( 1 5 0 ) 上記第 5 ステップに用いられる第 2 基板は、予めその表面に光学カラーフィルター層が形成されていることを特徴とする請求項 1 4 9 に記載の液晶表示素子の製造方法。

補正書の請求の範囲

[ 1 9 9 8年 1 0月 1日（0 1 .

1 0 . 9 8 ) 国際事務局受理：出願当初の請求の範囲 1— 1 5 0は補正された請求の範囲 1— 1 1 1に置き換えられた。（2 5頁） ] 請 .. 求の範囲

( 1 ) (補正後）高分子化合物中に液晶滴が分散された高分子液晶複合体層が、内側面にそれそれ電極を備えた一対の基板の間に配置され、かつシール材により上記一対の基板が貼り合わされた液晶表示素子であって、

上記高分子液晶複合体層は、高分子化合物を含み構成されたマトリクス連続相中に液晶滴が分散保持され、又は高分子化合物を含み構成された Ξ 次元網目状マトリクスの網目内に液晶が分散保持されたものであり、

上記高分子液晶 ¾合体層の外周面とシール材の内周面とが密着するように形成され、

かつ、上記高分子液晶複合沐層に於ける本体部が表示領域となり、該高分子液晶複合体層に於ける上記シール材近傍の周緣部が非表示 ¾a域となるように分され、

更に、上記表示領域に於ける高分子液晶 ¾合体層は、高分子化合物を 3 み構成されたマトリクス連統相中に、液晶滴が一部相互に繫がった状態で分散保持され、又は高分子化合物を含み構成された三次元網目状マトリクスの網目内に液晶が分散保持されたものであり、上記表示領域に於ける液晶滴の粒径又は網の目の間隔と、上記非表示領域に於ける液晶滴の粒 s又は網の目の間隔とが異なるように形成されていることを特徴とする液晶表示素子。

( 2 ) ( 補正後）高分子化合物中に液晶滴が分散された高分子液晶複合体層が、内側面にそれそれ電極を備えた一対の基板の間に配置され、かつシール材により上記一対の基板が貼り合わされた液晶

1 16

補正された用紙（条約第 19条）表示素子であって、上記高分子液晶複合体層は、高分子化合物を含み構成されたマトリクス連続相中に液晶滴が分.散保持され、又は高分子化合物を含み構成された三次元網目状マトリタスの網目内に液晶が分散保持されたものであり、上記高分子液晶複合体層の外周面とシール材の内周面とが密着するように形成され、

かつ、上記高分子液晶複合体層に於ける本体部が表示領域となり、該高分子液晶複合体層に於ける上記シール材近傍の周縁部が非表示領域となるように分割され、更に、上記表示領域に於ける高分子液晶複合体層は、高分子化合物を含み構成されたマトリクス連続相中に、液晶滴が一部相互に繋がった状態で分散保持され、又は高分子化合物を含み構成された三次元網目状マトリクスの網目内に液晶が分散保持されたものであり、上記表示領域に於ける液晶分率と、上記非表示領域に於ける液晶分率とが異なるように形成されていることを特徴とする液晶表示素子。

( 3 ) ( 補正後）上記表示領域に於ける液晶分率と、上記非表示領域に於ける液晶分率との差が少なくとも 5 % 以上であることを特徴とする請求項 2 に記載の液晶表示素子。

( 4 ) ( 補正後）高分子化合物中に液晶滴が分散された高分子液晶複合体層が、内側面にそれそれ電極を備えた一対の基板の間に配置され、かつシール材により上記一対の基板が貼り合わされた液晶表示素子であって、

1 17

補正された用紙（条約第 19条）上記高分子液晶複合体層は、高分子化合物を含み構成されたマトリクス連続相中に液晶滴が分散保持され、又は高分子化合物を含み構成された三次元網目状マト .リクスの網目内に液晶が分散保持されたものであり、

更に、上記高分子液晶複合体層に於ける全領域のうち、上記シール材近傍の亀裂が発生する領域以外を表示領域としていることを特徴とする液晶表示素子。

( 5 ) ( 補正後）高分子化合物中に液晶滴が分散された高分子液晶複合体層が、内側面にそれぞれ電極を備えた一対の基板の間に配置され、かつシール材により上記一対の基板が貼り合わされた液晶表示素子であって、

上記高分子液晶複合体層は、高分子化合物を含み構成されたマトリクス連镜相中に液晶滴が分散保持され、又は高分子化合物を含み溝成された三次元網目状マトリクスの網目内に液晶が分散保持されたものであり、

( 6 ) ( 補正後）上記シール材近傍の亀裂が発生する領域と、該亀裂が発生する領域以外の領域との屈折率差を小さくするべく、熱

1 18

補正された用紙（条約第 19条）処理により上記亀裂の内部に液晶から成る物質を充填することを特徴とする請求項 5 に記載の液晶表示素子。

( 7 ) (補正後）高分子化合物中に液晶滴が分散された高分子液晶複合体層が、内側面にそれぞれ電極を備えた一対の基板の間に配置され、かつシール材により上記一対の基板が貼り合わされた液晶表示素子であって、

上記高分子液晶複合体層は、高分子化合物を含み構成されたマトリクス連続相中に液晶滴が分散保持され、又は高分子化台物を含み構成された三次元網目状マ卜リクスの網目内に液晶が分散保持されたものであり、

更に、上記シール材の内周縁に少なくとも幅 1 . 5 m m以上の枠状の領域が設けられ、かつ上記枠状の領域の内側に表示領域が設けられていることを特徴とする液晶表示素子。

( 8 ) ( 補正後）上記枠状の領域は、上記シール材の内周縁から 2 m rn 以上、 6 m m 以下の範囲内にあることを特徴とする請求項 7 に記載の液晶表示素子。 ( 9 ) ( 補正後）高分子化合物中に液晶滴が分散された高分子液晶複合体層が、内側面にそれぞれ電極を備えた一対の基板の間に配置され、かつシール材により上記一対の基板が貼り合わされた液晶表示素子であって、

上記表示領域に於ける高分子液晶複合体層は、高分子化合物を含

1 1 9

補正された用紙（条約第 19条）み構成されたマトリクス連続相中に液晶滴が一部相互に繋がった状態で分散保持され、又は高分子化合物を含み構成された三次元網目状マ卜リクスの網目内に液晶.が分散保持されたものであり、

( 1 0 ) ( 正後）上記非表示領域は、幅が少なくとも 1 . 0 m m 以上の枠状の領域であることを特徴とする請求項 9 に記載の液晶表示素子。

( 1 1 ) ( 補正後）上記表示領域に於ける液晶滴の粒径、又は網の目の間隔が 0 . 8 〃 m 以上、 1 . 4 〃 m 以下の範囲内にあり、かつ非表示領域に於ける液晶滴の粒径力 s 0 . 8 m 未満であることを特徴とする請求項 9 に記載の液晶表示素子。

( 1 2 ) (補正後）上記表示領域に於ける液晶の液晶分率が、上記非表示領域に於ける液晶の液晶分率よりも大きいことを特徴とする請求項 9 に記載の液晶表示素子。

( 1 3 ) (補正後）上記表示領域に於ける液晶分率は 7 0 % 以上、 8 0 % 以下の範囲内にあり、かつ上記非表示領域に於ける液晶分率は 7 0 % 未満であることを特徴とする請求項 1 2 に記載の液晶表示素子。

120

補正された用紙（条約第 19条） ( 1 4 ) ( 補正後）高分子化合物中に液晶滴が分散された高分子液晶複合体層が、内側面にそれぞれ電極を備えた一対の基板の間に配置され、かつシール材によ.り上記一対の基板が貼り合わされた液晶表示素子であって、

上記非表示領域に於ける高分子液晶祓合体層は、液晶と高分子化合物とが互いに相溶した状態で形成されていることを特徴とする液晶 ^¹ 。 ( 1 5 ) ( 補正後）上記非表示領域は、幅が少なくとも 1 . 0 m m 以上の枠状の領域であることを特徴とする請求項 1 4 に記載の液晶表子。

( 1 6 ) ( 補正後）高分子化合物中に液晶滴が分散された高分子液晶複合体層が、内側面にそれぞれ電極を備えた一対の基板の間に配置され、かつシ一ル材により上記一対の基板が貼り合わされた液晶表示素子であって、

1 21

補正された用紙（条約第 19条） ( 1 7 ) ( 補正後）上記非表示領域は、幅が少なくとも 1 . 0 m m 以上の枠状の領域であるこ.とを特徴とする請求項 1 6 に記載の液晶表示素子。

( 1 8 ) ( 補正後）上記側部間隙層は、真空からなることを特徴とする請求項 1 7 に記載の液晶表示素子。

( 1 9 ) ( 補正後）上記側部間隙層には、気体が充填されていることを特徴とする請求項 1 7 に己載の液晶表示素子。

( 2 0 ) ( 補正後）上記側部間隙層は、高分子化合物が形成されていることを特徴とする請求項 1 7 に記載の液晶表示素子。

( 2 1 ) ( 補正後）高分子化合物中に液晶滴が分散された高分子液晶複合体層が、内側面にそれぞれ電極を備えた一対の基板の間に配置され、かつシール材により上記一対の基板が貼り合わされた液晶表示素子であって、上記高分子液晶複合体層は、高分子化合物を含み構成されたマトリクス連続相中に液晶滴が分散保持され、又は高分子化合物を含み構成された三次元網目状マトリクスの網目内に液晶が分散保持されたものであり、上記高分子液晶複合体層は、上記シール材の内周縁に位置する枠状の非表示領域と、該非表示領域の内側に位置する表示領域とに分割され、上記表示領域に於ける液晶滴の粒径又は網の目の間隔よりも、シ

1 22

補正された用紙（条約第 19条）ール材近傍の非表示領域に於ける液晶滴の粒径又は網の目の間隔が大きいことを特徴とする液晶表示素子。

( 2 2 ) ( 補正後）上記非表示領域は、幅が少なくとも 1 . 0 m m 以上の枠状の領域であることを特徴とする請求項 2 1 に記載の液晶表示素子。

( 2 3 ) ( 補正後）上記表示領域に於ける液晶の液晶分率が、上記非表示領域に於ける液晶の液晶分率よりも小さいことを特徴とする請求項 2 1 に記載の液晶表示素子。

( 2 4 ) ( 補正後）上記表示領域に於ける液晶分率は 7 0 % 以上、 8 0 % 以下の範囲内にあり、かつ上記非表示領域に於ける液晶分率は 8 0 % より大きいことを特徴とする請求項 2 3 に記載の液晶表示素子。

( 2 5 ) ( 補正後）上記表示領域に於ける液晶分率と、上記非表示領域に於ける液晶分率との差が少なくとも 5 % 以上であることを特徴とする請求項 2 4 に記載の液晶表示素子。

( 2 6 ) ( 補正後）上記シール材近傍の液晶滴の粒径又は網の目の間隔が 1 . 8 m 以上であり、

かつ、上記表示領域の液晶滴又は網の目の間隔が 0 . 8 m 以上、 1 . 4 〃 m 以下の範囲内であることを特徴とする請求項 2 1 に記載の液晶表示素子。

1 23

補正された用紙（条約第 19条） ( 2 7 ) (補正後）内側面にそれぞれ電極を備えた一対の基板の間に、液晶と高分子前駆体を含む液晶高分子前駆体相溶液を配置した後、前記基板面に紫外線を照射して、前記液晶高分子前駆体相溶液中の液晶と高分子前駆体とを、前記高分子前駆体を重合硬化させて相分離させることにより、液晶滴が高分子化合物を含み構成されたマ卜リクス連続相中に分散保持され、又は液晶が高分子化合物を含み構成された三次元網目状マトリクスの網目内に分散保持された高分子液晶複合体層を作製する相分離工程を備える液晶表示素子の製造方法であって、

上記相分離工程は、

上記表示領域では、高分子化合物を含み構成されたマトリクス連続相中に液晶滴が一部相互に繋がった状態で分散保持され、又は高分子化合物を含み構成された三次元網目状マトリクスの網目内に液晶が分散保持された構造とし、

上記非表示領域では、高分子化合物を含む構成されたマ卜リクス中に、ほぼ球形又は回転楕円体形状の液晶滴が相互に独立して分散した状態で保持された構造とすることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。

( 2 8 ) ( 補正後）内側面にそれそれ電極を備えた一対の基板の間に、液晶と高分子前駆体を含む液晶高分子前駆体相溶液を配置した後、前記基板の全面に紫外線を照射して、前記液晶高分子前駆体

124

補正された用紙（条約第 19条）相溶液中の液晶と高分子前駆体とを、前記高分子前駆体を重合硬化させて相分離させることにより、液晶滴が高分子化合物を含み構成されたマトリタス連続相中に分散保持され、又は液晶が高分子化合物を含み構成された三次元網目状マトリクスの網目内に分散保持された高分子液晶複合体層を作製する相分離工程を備える液晶表示素子の製造方法であって、

( 2 9 ) ( 補正後）上記遮蔽手段は、紫外線を反射する材料からなる反射板であることを特徴とする請求項 2 8 に記載の液晶表示素子の製造方法。

( 3 0 ) ( 補正後）内側面にそれそれ電極を備えた一対の基板の間に、液晶と高分子前駆体を含む液晶高分子前駆体相 '；容液を配置した後、前記基板面に紫外線を照射して、前記液晶高分子前駆体相溶液中の液晶と高分子前駆体とを、前記高分子前駆体を重合硬化させて相分離させることにより、液晶滴が高分子化合物を含み構成されたマトリクス連続相中に分散保持され、又は液晶が高分子化合物を含み構成された三次元網目状マトリクスの網目内に分散保持された高分子液晶複合体層を作製する相分離工程を備える液晶表示素子の製造方法であって、

上記相分離ェ程は、

上記高分子液晶複合体層の表示領域に相当する領域に照射する第 1 の紫外線の照射強度を、上記高分子液晶複合体層の非表示領域に

1 25

補正された用紙（条約第 19条）相当する領域に照射する第 2 の紫外線の照射強度よりも大きくすることにより、

( 3 1 ) (補正後）上記第 1 の紫外線の照射強度が 5 0 m W / c m ² 以上であり、上記第 2 の紫外線の照射強度が 2 0 m W / c m ² 以下であることを特徴とする請求項 3 0 に記載の液晶表示素子の製造方法。

( 3 2 ) ( 補正後）少なくとも第 1 基板と、第 1 基板に対向する第 2 基板と、第 1 及び第 2 基板間に配置され液晶滴が高分子化合物中に分散保持されてなる高分子液晶複合体層と、高分子液晶複合体層に電界を印加するための一対の第 1 表示電極及び第 2 表示電極とを備え、第 1 基板と第 2 基板とは、周縁部同士がシール材を介して貼り合わされた構造の液晶表示素子であって、

上記第 1 基板に、上記高分子液晶複合体層が固着され、上記第 2 基板と高分子液晶複合体層との間には、間隙層が設けられ、この間隙層の基板面内における領域が、少なくとも全表示領域を含む範囲内にあることを特徴とする液晶表示素子。

1 26

補正された用紙（条約第 19条） ( 3 3 ) ( 補正後）上記第 2 基板の屈折率 n _s が、空気の屈折率 n _{a i r} よりも大きい場合に、

上記第 2 基板の屈折率 n g と、間隙層の屈折率 n _x とが下記式 ( 1 ) の関係を満たし、かつ、上記高分子液晶複合体層の屈折率 n _p と、間隙層の屈折率 n _x とが下記式（ 2 ) の関係を満たすことを特徴とする請求項 3 2 に記載の液晶表示素子。

n _g > n _x … ( 1 )

n p > n _x - ( 2 )

( 3 4 ) ( 補正後）上記第 1 表示電極、及び第 2 表示電極が透明電極であることを特徴とする請求項 3 3 に記載の液晶表示素子。

( 3 5 ) ( 補正後）上記間隙層には、空気が充填されていることを特徴とする請求項 3 4 に記載の液晶表示素子。

( 3 6 ) ( 補正後）上記間隙層が真空であることを特徴とする請求項 3 4 記載の液晶表示素子。

( 3 7 ) ( 補正後）上記間隙層には、液晶材料が含まれていることを特徴とする請求項 3 4 記載の液晶表示素子。

( 3 8 ) ( 補正後）上記第 2 基板には、光学カラ一フィルタ一層が設けられていることを特徴とする請求項 3 4 に記載の液晶表示素子。

( 3 9 ) ( 補正後）上記間隙層には、上記第 2 基板と、高分子液

1 27

補正された用紙（条約第 19条）晶複合体層とが所定の間隔となるように支持部材が設けられていることを特徴とする請求項 3 4 に記載の液晶表示素子。

( 4 0 ) ( 補正後）上記液晶表示素子が、表示画面を操作入力手段で押圧して表示する形態であることを特徴とする請求項 3 4 に記載の液晶表示素子。

( 4 1 ) ( 補正後）上記操作入力手段で押圧する押圧側の基板が、第 1 基板であることを特徴とする請求項 4 0 に記載の液晶表示素子（

( 4 2 ) ( 補正後）上記操作入力手段で押圧する押圧側の基板が、第 2 基板であることを特徴とする請求項 4 0 に記載の液晶表示素子，

( 4 3 ) ( 補正後）上記第 1 表示電極又は第 2 表示電極のうちの何れか一方が、光を反射する光学反射電極であることを特徴とする請求項 3 3 に記載の液晶表示素子。

( 4 4 ) ( 補正後）上記間隙層には、空気が充填されていることを特徴とする請求項 4 3 に記載の液晶表示素子。

( 4 5 ) ( 補正後）上記間隙層が真空であることを特徴とする請求項 4 3 に記載の液晶表示素子。

( 4 6 ) ( 補正後）上記間隙層には、液晶材料が含まれていることを特徴とする請求項 4 3 に記載の液晶表示素子。

1 28

補正された用紙（条約第 19条） ( 4 7 ) ( 補正後）上記第 1 基板又は第 2 基板のうち、上記光学反射電極が形成された基板とは異なる基板側に、光学カラーフィル夕一層が設けられていること..を特徴とする請求項 4 3 に記載の液晶表示素子。

( 4 8 ) ( 補正後）上記間隙層には、上記第 2 基板と、高分子液晶複合体層とが所定の間隔となるように支持部材が設けられていることを特徴とする請求項 4 3 に記載の液晶表示素子。

( 4 9 ) ( 補正後）上記液晶表示素子が、表示画面を操作入力手段で押圧して表示する形態であることを特徴とする請求項 4 3 に記載の液晶表示素子。

( 5 0 ) ( 補正後）上記操作入力手段で押圧する押圧側の基板が、第 1 基板であることを特徴とする請求項 4 9 に記載の液晶表示素子

( 5 1 ) ( 補正後）上記操作入力手段で押圧する押圧側の基板が、第 2 基板であることを特徴とする請求項 4 9 に記載の液晶表示素子 ( 5 2 ) ( 補正後）前記高分子液晶複合体層の外周面と前記シ一ル材の内周面との間に、側部間隙層が設けられていることを特徴とする請求項 3 3 に記載の液晶表示素子。

( 5 3 ) ( 補正後）上記第 1 表示電極、及び第 2 表示電極が透明電極であることを特徴とする請求項 5 2 に記載の液晶表示素子。

1 29

補正された用紙（条約第 19条） ( 5 4 ) ( 補正後）上記間隙層、及び側部間隙層には、空気が充填されていることを特徴とする請求項 5 3 に記載の液晶表示素子。

( 5 5 ) (補正後）上記間隙層、及び側部間隙層が真空であることを特徴とする請求項 5 3 に記載の液晶表示素子。

( 5 6 ) ( 補正後）上記間隙層、及び側部間隙層には、液晶材料が含まれていることを特徴とする請求項 5 3 に記載の液晶表示素子。

( 5 7 ) ( 補正後）上記第 2 基板には、光学カラ一フィルタ一層が設けられていることを特徴とする請求項 5 3 に記載の液晶表示素子。

( 5 8 ) ( 補正後）上記間隙層には、上記第 2 基板と、高分子液晶複合体層とが所定の間隔となるように支持部材が設けられていることを特徴とする請求項 5 3 に記載の液晶表示素子。

( 5 9 ) ( 補正後）上記液晶表示素子が、表示画面を操作入力手段で押圧して表示する形態であることを特徴とする請求項 5 3 に記載の液晶表示素子。

( 6 0 ) (補正後）上記操作入力手段で押圧する押圧側の基板が、第 1 基板であることを特徴とする請求項 5 9 に記載の液晶表示素子

( 6 1 ) (補正後）上記操作入力手段で押圧する押圧側の基板が、

130

補正された用紙（条約第 19条）第 2 基板であることを特徴とする請求項 5 9 に記載の液晶表示素子。

( 6 2 ) ( 補正後）上記第, 1 表示電極又は第 2 表示電極のうちの何れか一方が、光を反射する光学反射電極であることを特徴とする請求項 5 2 に記載の液晶表示素子。

( 6 3 ) ( 補正後）上記間隙層、及び側部間隙層には、空気が充填されていることを特徴とする請求項 6 2 に記載の液晶表示素子。 ( 6 4 ) ( 補正後）上記間隙層、及び側部間隙層が真空であることを特徴とする請求項 6 2 に記載の液晶表示素子。

( 6 5 ) ( 補正後）上記間隙層、及び側部間隙層には、液晶材料が含まれていることを特徴とする請求項 6 2 に記載の液晶表示素子。

( 6 6 ) ( 補正後）上記第 1 基板又は第 2 基板のうち、上記光学反射電極が形成された基板とは異なる基板側に、光学カラ一フィルター層が設けられていることを特徴とする請求項 6 2 に記載の液晶表示素子。

( 6 7 ) ( 補正後）上記間隙層には、上記第 2 基板と、高分子液晶複合体層とが所定の間隔となるように支持部材が設けられていることを特徴とする請求項 6 2 に記載の液晶表示素子。

( 6 8 ) ( 補正後）上記液晶表示素子が、表示画面を操作入力手

131

補正された用紙（条約第 19条）段で押圧して表示する形態であることを特徴とする請求項 6 2 に記載の液晶表示素子。

( 6 9 ) ( 補正後）上記操作入力手段で押圧する押圧側の基板が、第 1 基板であることを特徴とする請求項 6 8 に記載の液晶表示素子。

( 7 0 ) ( 補正後）上記操作入力手段で押圧する押圧側の基板が、第 2 基板であることを特徴とする請求項 6 8 に記載の液晶表示素子。

( 7 1 ) ( 補正後）少なくとも第 1 基板と、第 1 基板に対向する第 2 基板と、第 1 及び第 2 基板間に配置され液晶滴が高分子化合物中に分散保持されてなる高分子液晶複合体層と、高分子液晶複合体層に電界を印加するための一対の第 1 表示電極及び第 2 表示電極と、上記第 2 基板側に設けられた光学カラーフィルタ一層とを備え、第 1 基板と第 2 基板とは、周縁部同士がシール材を介して貼り合わされた構造の液晶表示素子であって、

上記第 1 基板に上記高分子液晶複合体層が固着され、かつ該高分子液晶複合体層上に第 2 表示電極が形成され、さらに第 2 表示電極と第 2 基板との間には、間隙層が設けられ、この間隙層の基板面内における領域が、少なくとも全表示領域を含む範囲内にあることを特徴とする液晶表示素子。

( 7 2 ) ( 補正後）上記光学カラ一フィルタ一層に於ける複数の色材膜のうち任意の色材膜に隣接するブラックマトリクスと該色材膜との境界面を延長し、該境界面が上記間隙層と高分子液晶複合体層との境界に対応する位置に、光が入射して散乱した場合に於いて、

1 32

補正された用紙（条約第 19条）散乱した散乱光のうち、上記境界面に向けて進行する第 1 の散乱光と、上記ブラックマトリクスと上記色材膜に隣接している色材膜との境界面に向けて進行する—第 2 の散乱光とのなす角を 0 とし、上記光学カラーフィル夕一層における複数の色材膜間のピッチを P ( m ) とし、

開口率を 0 p ( % ) とした場合に、

L ≤ P - ( l - O p ' / ² ) / t a n 0 - ( 8 )

( 7 3 ) ( 補正後）上記第 1 表示電極、及び第 2 表示電極が透明電極であることを特徴とする請求項 7 2 に記載の液晶表示素子。

( 7 4 ) ( 補正後）上記第 2 基板の屈折率 n _s が、空気の屈折率 n _{a i r} よりも大きい場合に、

上記第 2 基板の屈折率 n _s と、間隙層の屈折率 n _x とが下記式 ( 1 ) の関係を満たし、かつ、上記高分子液晶複合体層の屈折率 n p と、間隙層の屈折率 n _x とが下記式（ 2 ) の関係を満たすことを特徴とする請求項 7 3 に記載の液晶表示素子。

η _ε > n _x … （ 1 )

n p > n _x … （ 2 )

( 7 5 ) ( 補正後）上記間隙層には、空気が充填されていることを特徴とする請求項 7 4 に記載の液晶表示素子。

133

補正された用紙（条約第 19条） ( 7 6 ) ( 補正後）上記間隙層が真空であることを特徴とする請求項 7 4 記載の液晶表示素子。

( 7 7 ) (補正後）上記間隙層には、液晶材料が含まれていることを特徴とする請求項 7 4 に記載の液晶表示素子。

( 7 8 ) ( 補正後）上記間隙層には、上記第 2 基板と、高分子液晶複合体層とが所定の間隔となるように支持部材が設けられていることを特徴とする請求項 7 3 に記載の液晶表示素子。

( 7 9 ) ( 補正後）上記液晶表示素子が、表示画面を操作入力手段で押圧して表示する形態であることを特徴とする請求項 7 3 に記載の液晶表示素子。

( 8 0 ) (補正後）上記操作入力手段で押圧する押圧側の基板が、上記第 1 基板であることを特徴とする請求項 7 9 に記載の液晶表示素子。

( 8 1 ) (補正後）上記操作入力手段で押圧する押圧側の基板が、上記第 2 基板であることを特徴とする請求項 7 9 に記載の液晶表示素子。

( 8 2 ) ( 補正後）上記第 1 基板上に形成された上記第 1 表示電極が光を反射する光学反射電極であることを特徴とする請求項 7 2 に記載の液晶表示素子。

1 34

補正された用紙（条約第 19条） ( 8 3 ) (補正後）上記第 2 基板の屈折率 n _s が、空気の屈折率 n _{a i r} よりも大きい場合に、

上記第 2 基板の屈折率 n と、間隙層の屈折率 n _x とが下記式 ( 1 ) の関係を満たし、かつ、上記高分子液晶複合体層の屈折率 n _p と、間隙層の屈折率 n _x とが下記式（ 2 ) の関係を満たすことを特徴とする請求項 8 2 に記載の液晶表示素子。

n _g > n _x … （ 1 )

n p > n _x … （ 2 )

( 8 4 ) ( 補正後）上記間隙層には、空気が充填されていることを特徴とする請求項 8 3 に記載の液晶表示素子。

( 8 5 ) ( 補正後）上記間隙層が真空であることを特徴とする請求項 8 3 に記載の液晶表示素子。

( 8 6 ) ( 補正後）上記間隙層には、液晶材料が含まれていることを特徴とする請求項 8 3 に記載の液晶表示素子。

( 8 7 ) ( 補正後）上記間隙層には、上記第 2 基板と、高分子液晶複合体層とが所定の間隔となるように支持部材が設けられていることを特徴とする請求項 8 2 に記載の液晶表示素子。

( 8 8 ) ( 補正後）上記液晶表示素子が、表示画面を操作入力手段で押圧して表示する形態であることを特徴とする請求項 8 2 に記載の液晶表示素子。

1 35

補正された用紙（条約第 19条） ( 8 9 ) (補正後）上記操作入力手段で押圧する押圧側の基板が、上記第 1 基板であることを特徴とする請求項 8 8 に記載の液晶表示素子。 . ( 9 0 ) (補正後）上記操作入力手段で押圧する押圧側の基板が、上記第 2 基板であることを特徴とする請求項 8 8 に記載の液晶表示素子。

( 9 1 ) ( 補正後）前記高分子液晶複合体層の外周面と前記シール材の内周面との間に、側部間隙層が設けられていることを特徴とする請求項 7 2 に記載の高分子分散型液晶表示素子。

( 9 2 ) ( 補正後）上記第 1 表示電極、及び第 2 表示電極が透明電極であることを特徴とする請求項 9 1 に記載の液晶表示素子。

( 9 3 ) ( 補正後）上記第 2 基板の屈折率 n _s が、空気の屈折率 n _a i _r よりも大きい場合に、

上記第 2 基板の屈折率 n _s と、間隙層の屈折率 n _x とが下記式 ( 1 ) の関係を満たし、かつ、上記高分子液晶複合体層の屈折率 n p と、間隙層の屈折率 n _x とが下記式（ 2 ) の関係を満たすことを特徴とする請求項 9 2 に記載の液晶表示素子。

n _g > n _x ― ( 1 )

n p > n _x … （ 2 )

( 9 4 ) (補正後）上記間隙層、及び側部間隙層には、空気が充填されていることを特徴とする請求項 9 3 に記載の液晶表示素子。

1 36

補正された用紙（条約第 19条） ( 9 5 ) (補正後）上記間隙層、及び側部間隙層が真空であることを特徴とする請求項 9 3 に.記載の液晶表示素子。

( 9 6 ) (補正後）上記間隙層、及び側部間隙層には、液晶材料が含まれていることを特徴とする請求項 9 3 に記載の液晶表示素子。

( 9 7 ) ( 補正後）上記間隙層には、上記第 2 基板と、高分子液晶複合体層とが所定の間隔となるように支持部材が設けられていることを特徴とする請求項 9 2 に記載の液晶表示素子。

( 9 8 ) ( 補正後）上記液晶表示素子が、表示画面を操作入力手段で押圧して表示する形態であることを特徴とする請求項 9 2 に記載の液晶表示素子。

( 9 9 ) ( 補正後）上記操作入力手段で押圧する押圧側の基板が、上記第 1 基板であることを特徴とする請求項 9 8 に記載の液晶表示素子。

( 1 0 0 ) ( 補正後）上記操作入力手段で押圧する押圧側の基板が、上記第 2 基板であることを特徴とする請求項 9 8 に記載の液晶表示素子。

( 1 0 1 ) ( 補正後）上記第 1 基板上に形成された上記第 1 表示電極が、光を反射する光学反射電極であることを特徴とする請求項

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補正された用紙（条約第 19条） 9 1 記載の液晶表示素子。

( 1 0 2 ) ( 補正後）上記第 2 基板の屈折率 n _s が、空気の屈折率 n _{a i r} よりも大きい場合に、上記第 2 基板の屈折率 n _s と、間隙層の屈折率 n _x とが下記式 ( 1 ) の関係を満たし、かつ、上記高分子液晶複合体層の屈折率 n _p と、間隙層の屈折率 n _x とが下記式（ 2 ) の関係を満たすことを特徴とする請求項 1 0 1 に記載の液晶表示素子。

n _? > n _x … ( 1 )

n p > n _x … （ 2 )

( 1 0 3 ) ( 補正後）上記間隙層、及び側部間隙層には、空気が充填されていることを特徴とする請求項 1 0 2 に記載の液晶表示素子 ,

( 1 0 4 ) ( 補正後）上記間隙層、及び側部間隙層が真空であることを特徴とする請求項 1 0 2 に記載の液晶表示素子。

( 1 0 5 ) ( 補正後）上記間隙層、及び側部間隙層には、液晶材料が含まれていることを特徴とする請求項 1 0 2 に記載の液晶表示素子。

( 1 0 6 ) ( 補正後）上記間隙層には、上記第 2 基板と、高分子液晶複合体層とが所定の間隔となるように支持部材が設けられていることを特徴とする請求項 1 0 1 に記載の液晶表示素子。

1 0 7 ) ( 補正後）上記液晶表示素子が、表示画面を操作入力

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補正された用紙（条約第 19条）手段で押圧して表示する形態であることを特徴とする請求項 1 0 1 に記載の液晶表示素子。

( 1 0 8 ) ( 補正後）上記操作入力手段で押圧する押圧側の基板が、上記第 1 基板であることを特徴とする請求項 1 0 7 に記載の液晶表示素子。

( 1 0 9 ) ( 補正後）上記操作入力手段で押圧する押圧側の基板が、上記第 2 基板であることを特徴とする請求項 1 0 7 に記載の液晶表示素子。

( 1 1 0 ) ( 補正後）少なくとも第 1 基板と、第 1 基板に対向する第 2 基板と、第 1 及び第 2 基板間に配置され液晶滴が高分子化合物中に分散保持されてなる高分子液晶複合体層と、高分子液晶複合体層に電界を印加するための一対の第 1 表示電極及び第 2 表示電極とを備えた液晶表示素子の製造方法であって、上記第 1 基板上に、スイッチング素子と、該スイッチング素子に電気的に接続される第 1 表示電極とを形成する第 1 ステップと、上記第 1 表示電極上に、高分子液晶複合体層を形成する第 2 ステップと、上記高分子液晶複合体層上に、第 2 表示電極を形成する第 3 ステップと、

上記第 4 ステップの検査結果に基づいて、表示状態が良好な高分子液晶複合体層に関してのみ、高分子液晶複合体層と第 2 基板との

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補正された用紙（条約第 19条）間が所定の間隙となるように、第 1 基板と第 2 基板とを貼り合わせる第 5 ステップと、

を有することを特徴とする.液晶表示素子の製造方法。

( 1 1 1 ) ( 補正後）上記第 5 ステップに用いられる第 2 基板は、予めその表面に光学カラ一フィルター層が形成されていることを特徴とする請求項 1 1 0 に記載の液晶表示素子の製造方法。

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補正された用紙（条約第 19条）条約 1 9条に基づく説明書請求の範囲第 1 項〜第 3 1 項は、表示領域及び非表示領域を有する液晶表示素子に関して作成したものである。

請求の範囲第 3 2 項〜第 7 0 項は、間隙層を備えた液晶表示素子について作成したものである。より詳しくは、請求の範囲第 3 4 項〜第 4 2 項は間隙層を備えた透過型の液晶表示素子に関するものであり、請求の範囲第 4 3 項〜第 5 1 項は間隙層を備えた反射型の液晶表示素子に関するものである。請求の範囲第 5 2 項〜第 6 1 項は間隙層及び側部間隙層を備えた透過 S の液晶表示素子に関するものであり、請求の範囲第 6 2 項〜第 7 0 項は間隙層及び側部間隙層を備えた反射型の液晶表示素子に関するものである。

請求の範囲第 7 1 項〜第 1 0 9 項は、光学カラ一フィルタ一層及び間隙層を備えた液晶表示素子について作成したものである。より詳しくは、請求の範囲第 7 3 項〜第 8 1 項は光学カラ一フィル夕一層及び間隙層を備えた透過型の液晶表示素子に関するものであり、請求の範囲第 8 2 項〜第 9 0 項は光学カラ一フィルタ一層及び間隙層を備えた反射型の液晶表示素子に関するものである。請求の範囲第 9 1 項〜第 1 0 0 項は光学カラーフィルタ一層、間隙層及び側部間隙層を備えた透過型の液晶表示素子に関するものであり、請求の範囲第 1 0 1 項〜第 1 0 9 項は光学カラ一フィルタ一層、間隙層及び側部間隙層を備えた反射型の液晶表示素子に関するものである。

請求の範囲第 1 1 0 項〜第 1 1 1 項は、間隙層を備えた液晶表示素子の製造方法について作成したものである。