WO1998012731A1

WO1998012731A1 - Tube a image radiologique et son procede de fabrication

Info

Publication number: WO1998012731A1
Application number: PCT/JP1997/003298
Authority: WO
Inventors: Kazutoshi Tanno; Yoshinobu Sekijima; Hitoshi Yamada; Takashi Noji
Original assignee: Kabushiki Kaisha Toshiba; Toshiba Electronic Engineering Corporation
Priority date: 1996-09-18
Filing date: 1997-09-18
Publication date: 1998-03-26
Also published as: US6169360B1; DE69726252D1; EP0869533B1; CN1104026C; EP0869533A1; CN1205113A; DE69726252T2; EP0869533A4

Description

明細書

X線ィメージ管及びその製造方法技術分野この発明は、 X線イメージ管及びその製造方法に係わり、とくにその入カスク ^; ーンが形成される入力基板及びその製造方法に関する。景技術

X線イメージ管は、 X線像を可視光像乂は電気的画像信号に変換する電子管であり、医療用や工業用など t、ろいろな分野に利用されている。このような X線ィメ一ジ管は、図 2 ()に示すように、真空外囲器 ] ]の -部をなし X線入力窓を兼ねる球面状の入力基板 1 2と、その内面上に形成された X線像を ¾子像に変換する入カスクリーン 1 3と、電子レンズを構成する複数の集束電極〗 4 a， 4 b , 1 4 c、陽極 1 4 dと、さらに電子像を Ρί視光像に変換する出力スクリーン 1 5とを備えている。

人力基板 1 2には、通常、 X線透過率の良いアルミニウム又はアルミニウム合金 (以下、単にアルミニウムと記す）が使用されている。入力スクリーン 1 3は、入力基板面上に蒸着された光反射膜 1 6、その上に蒸着された柱状結晶の染合からなる蛍光体層 1 7、その上」こ付着された透光性の中間層 1 8、及びその上に形成された光電面] 9を備えている。

外部から入力基板] 2を通して入射された X線の像は、人力スクリーン 1 3で発光及び ¾子像に変換され、電子レンズ系で集朿されて出力スクリーン 1 5で可視光像又は電気的な画像信号に変換される。なお、出力可視光像は、その後方に配置される図示しない光学レンズを通して X線テレビカメラやスポッ卜カメラ等に伝達され、電気的画像処理により C R Tモニタ等に示されろ。

ところで、近年の X線幽像撮影技術においては、ますます高解像度や輝度一様性の向上が切望されている。すなわち、この分野においては、画像積分処理などによつて画像コン卜ラス卜を強調する処理が行われるようになってきており、例えば人力 ¾板面上にある微細な傷やしみ、ェツチング処理による多数のェツチピッ卜すなわち微細な穴等による出力画像上の欠陥が不所望に強調され、無視できない画像ノィズになってしまう。

このような画像ノィズ発生の主な要困は、本発明者らの考察によれば、入力基板材料の圧延時に形成される口一ル筋や、清净化のためのェツチングなどで生じるェツチピッ卜等の微細な凹凸にあるものと推定される。すなわち、入力スクリーンを形成する直前の入力基板面を顕微鏡観察すると、図 2 1に模式的に^すように、基板材料の圧延時の口一ル筋のものと見られる平行な方向性を持った凹凸や、 S板材料自身にある無数の不規則な微細凹凸、びにエッチピッ卜等の無数の |U1凸 1 2 a が認められた

そしてこのような従来の微細 [Ϊ]凸を^する人芘板面及びこの面ヒに形成した入力スクリーンにおいては、入射された X線により励起され蛍光体層 1 7で発光した光の一部は、入力基板 1 2の方向へ進み、この某板面又は図示しない光反射膜面上の無数の凹凸 1 2 aにより、矢印 Yのように、不規則な方向に乱反射される。このような反射光は、その一部は発光した同じ柱状結晶 Pの內部に戻るが、他の一部は横方向に隣接する他の柱状結晶 Pに人射してしまう。したがって、人力某板の表面状態が粗れている程、反射光が同 -の柱状結晶内に戻る確率は低ドし、出力像の解像度を低下させ且つ画像ノイズとして現れてしまう。また、エッチング処理により入力基板面に多数のエッチピッ卜が生じた場合は、極く小さいビットは光反射膜で覆われるが、比較的大きいピッ卜は出力画像に点状のノイズとして現れ、画質を劣化させる。

なお、入力基板面に凹凸を形成し、或いは某板而を研磨して鏡 iii状態にしその面上に柱状結 ¾の蛍光体層を形成することは、例えば、特公昭 5 2 - 2 0 8 1 8 公報、その対応特許としての Li S ー： 3 4 7 ：] 0 6 6 '「明細書、し' S P -：5 8 5 2 1 3号明細 Ϊ 特開昭 5 5— 1 5 0 5 3 5せ公報、特 | 昭 5 7— 8 2 9 4 ()兮公報、特開平 4一 1 5 4 0 3 2号公報、 W O— 9 4 / 1 6 1 ' 公報等に開されてレ、る Z しかしこれらの多くは、基板面に規則的な凹凸を形成しそれに依存させて蛍光体の結晶を成長させようとする技術である。或いはまた、基板面を平坦で §.つ鏡面にして発光光の乱反射を抑制し解像度を高めようとする技術である。ところ力基板面が平坦で且つ鏡面である場合には、解像度は改善されるものの、入力スクリーンの付着強度が不十分になりやすレ、など、上記の技術で実用に供されているのは必ずしも多くなレ、。

本発明は、以上のような事情に鑑みてなされたものであり、入力スクリ一ンの十分な付着強度が得られるとともに出力画像ノィズを低減し且つすぐれた解像度特性を有する X線ィメ一ジ管及びその製造方法を提供することを目的とする図面の簡単な説明図 1は、本発明の一実施例の製造工程を示すプロック図である。

図 2は、本発明の入力基板のプレス丁.程を^す縦断面図である _c

図 3は、本発明のプレス後の入力基板を支持リングに接合した状態を示す縦断面図である。

図 4は、本発明のバニッシング工程で使用する処理装置を示す概略側面図である _c 図 5は、本-発明の入力スクリーン部の構成及び光反射状態を模式的に示す要部拡大断面図である。

m 6は、本発明の入力基板材料及びプレス後の表面状態を顕微鏡写真により表した図である

図 7は、本発明の入力基板の一例のエッチング後及びバニッシング後の表面状態を顕微鏡写真により表した図である。

図 8は、本発明の入力基板の他の例のバニッシング後の表面状態を顕微鏡^真により表した図である。

図 9は、本発明の入力基板材料及びそれのェツチング後の表面凹凸プロファイルを表したグラフである。

図 1 0は、本発明の入力基板のパニツシング後及び光反射膜形成後の表面凹凸プ図 ] 1は、本発明の人力基板の他の例のパニツシング後並びにさらに別の例のェツチング後の表面凹凸プロファイルを表したグラフである

図 1 2は、本発明の入力基板のパニツシング後の中心部及び中^部領域の表面 i ! 凸プロファイルを表したグラフである。

図 1 3は、本発明の入力基板のパニツシング後の周辺部領域及びさらに別の基板の中心部領域の表面凹凸プロファイルを表したダラフである。

図 J 4は、本発明の人力基板のパニツシング後の中間部及び周辺部領域の表面 [H] 凸プロファイルを表したグラフである

m 1 5は、本発明の人力基板のさらに別の例のバュッシング後の中心部及び周辺部領域の表面凹凸プロファイルを表したグラフである。

図 1 6は、本発明の人力基板面の凹凸プロファイルから凹凸の Φ法を計測、算出する方法を説明するグラフである。

図 1 7は、本発明及び従来の出力画面上の脚:度分布を説明するグラフである。図 1 8は、本発明の他の実施例のパニツシング工程における要部拡大断面図である。

図〗 9は、本発明のさらに他の実施例のバニッシングエ^における要部拡大断面図である。

図 2 0は、一般的な X線ィメージ管の構成を -部を拡大して示す概略縦断面図でめる。

図 2 1は、従来の入力基板及び入力スクリーンとその動作を模式的に^す要部拡大図である。

発明の詳細な説明

本発明は、入力スクリーンの十分な付着強度、出力画像の高い解像度及び必要により輝度の一様性を保証するため、人力スクリーンを形成する人力基板面として微細な凹凸が解消又は少なくされ且つ適当なサイズのゆるやかなを有する面で構成したことを特徴とする X線ィメ一ジ Tである,. この人力 ¾板面のゆるやかな出1 凸は、柱状結晶の集合からなる人力蛍光体屑の平均結晶径の数倍以上のピツチで不規則に形成された起伏が好適である。

したがって、本発明の一つの的は、略球面状にプレス成形されたアルミニウム又はアルミユウム合金からなる入力基板の入力スクリーンが形成される凹曲面が、上記プレス成形で生じるような方向性がほとんどないゆるやかな回凸を有し、このゆるやかな凹凸の隣接する谷底間の平均距離が 5 0 μ m〜 3 0 0 μ mの範面であり、且つ山頂から谷底までの平均落差が 0 . ³ m〜4 . の範囲である X線ィメージ管を提供することである。

本発明の他の B的は、入力基板のフレス成形で生じるような凹曲面のゆるやかな凹凸が、隣接する谷底間の平均距離（Lavt、但し、単位は μ πι) の、と記人力基板の中心部領域の囬曲面の曲率半径 ( R c , 但し、単位は m m ) に対する比率 ( Lave / R c ) 力 0 . 5 ~ 1 . 2の範囲である X線イメージ管を提供することである _;：本発明のさらに他の目的は、入力基板の入力スクリーンが形成される凹曲面が、中心部領域よりも周辺部領域の乱反射率が高くなつている X線ィメージ管を提供することである。

本発明のさらに他の目的は、アルミニウム又はアルミニウム合金からなる入力基板材料を略球面状にブレス成形するプレス成形工程と、上記プレス成形後の入力基板の凹曲面の微細突起を潰すバニッシングェ程と、その後、 Uii入力基板の凹曲面上に直接又は他の被膜を介して柱状結晶の集合からなる X線励起蛍光体層及び光電 ώίを付着形成する入力スクリ一ン形成丁-程とを備える X線ィメ一ジ管の製造方法を提供することである

本発明によれば、人力スクリーンが形成される入力基板の凹曲面には微細な鋭い凹凸や圧延ロール筋などの微細凹凸が少なくなつているため、入力基板表面における光の散乱が抑えられ、解像度が向上する。さらにこれらの微細な凹凸が原因で生じる画像ノイズも減少する。また、プレス成形時に生じた比較的滑らかでゆるやかな凹凸は蛍光体層の基板への十分な付着強度を維持し、さらにこの凹面が凹面鏡のように作用するため、同じ凹面上に位置する近接した柱状結晶の集団内に反射光が集まり易くなる。このため、ゆるやかな凹凸のピッチに相当する空間周波数領域の変換伝達係数（M T F ) が向上する例えば、 2 0ラインズし' mの変換伝達係数では、従来技術の場合よりも 2 () %〜 3 0 %向上している。以下、図面を参照して本発明の実施例を望ましい製造工程にしたがって説明する„ なお、同一部分は同一符号であらわす.：まず、 X線イメージ管の人力スクリーンを形成するための入力基板の材料として、アルミニウム又はアルミニウム合金の展伸材を用意する。

X線ィメ一ジ管の真空容器の内部に大気圧が直接加わらない状態で配置する入力基板の材料としては、基板自身の強度があまり高くなくてもよいため、 J I Sの 1 0 0 0番台の純度 9 9 %以上の純アルミニウムを使用できる _cその一例としては、純度 9 9 . 5 %以上である J I Sの 1 0 5 0番の板材が適する,，

-方近来は、人力基板が真空外囲器の一部である X線入射窓を兼ねる構造の X線イメージ管が、変換効率や高解像特性の点で広く実用されてきている. _ その場合の人力基板は、大気圧に十分耐える必要があるばかりでなく、この入力基板の内面が電子レンズ系の実質的な陰極になるため、それに適合した凹曲面形状に成形できるとともに、不所望に変形しないことが必要条件となる。

このような真空外囲器の X線入射窓を兼ねる人力基板の材料としては、卨強度のアルミニウム合金が適する。その例としては、 j i Sの 5 0 0 ()番台、又は 6 0 0 0番台のアルミニウム合金が適する。その中の例えば Λ I — S i — M g合金材の - 種である J I S— 6 0 6 1番のアルミニウム合金がとくに適する。これは、 M g力；約 1 . 0質量％、 S iが約 0 . 6質量％、 C uが約（） . 2 5質量％、 C rが約 0 . 2 5質量％含まれるアルミニウム合金である. そして、材料の質別記号が " O " 、すなわち烧きなましをした、約 ϋ . 5 m mの厚さにロール圧延した展伸材を以に説明する実施例では主として使用した，勿論、このようなアルミ二ゥム合金材料は、真空容器の内部に、大気 fl-:が加わらない状態で配置する人力基板としても使用できる。

そこでまず、上記のようなアルミニゥム合金の平板材料を、 X線ィメ一ジ管の真空容器の一部となる X線人射窓を兼ねるように、 X線人射窓の外径寸法よりもわずか大きい直径の真円の円板に^断した，すなわち、例えば 9ィンチ型 X線ィメージ管用では直径約 2 65 () m rn、 1 2ィンチ型 fflでは直径約 3 5 0 m m、 1 6インチ型用では直径約 4 4 O m mに、それぞれ切断する

このように用意した平板のアルミニウム又はアルミニゥム合金からなる人力基 β 板材料から、図 1に示すような工程を経て製作する。すなわち、基板材料を X線ィメ一ジ管の入力窓又は入力スクリーン形成領域の直径よりもやや大きい直径の円板状に切断する。その後、プレス成形により所定の曲率半径の凹曲面状に成形する ^ その後これを洗浄、ェツチング処理する。その後この人力基板の周辺部を高強度の支持リングに気密接合する。そしてその後、この入力基板の入力スクリーン形成面をパニツシング処理する。しかる後、この入力基板面に蛍光体層等の入力スクリーンを形成するとともに真空容器としてその内部を排気し、 X線イメージ管を完成する。

以下、各工程について説明する平板材料を円板状に切断した後、図 2の（a ) に示すように、この円板 2 1 をプレス装置の下ダイ 2 2の上に載せ、周辺部 2 1 a を拘束用ダイ 2 3で挟んで強く拘しつつ、図 2の（b ) に示すように、常温にて、上ボンチ 2 4を所定の圧力で押し下げてプレス成形し、凹曲面状の入力基板 2 1を得た:：なお、下ダイ 2 2のプレス面 2 2 aと、上ボンチ 2 4のブレス面 2 4 aとは、所定の曲率半径で、且つ鏡面に近い表面仕上げをしてある。このようにブレス成形した入力基板 2 1を、脱脂洗浄する。

そして、酸化膜等の除去のために、入力基板 2 1の全面を硝酸等に短時間浸すェツチング処理を行った。その後、図 3に示すように、人力基板のフランジ部 2 1 a の被接合面を、厚肉のステンレス鋼製支持リング 2 5の被接合面 2 5 aに、局部熱圧接法等により気密接合した ₍：

なお、本明細書においては、入力基板 2 1の中心軸 Oから円弧状 Kの外周緣 Eまでの領域を、半径方向にほぼ 3等分し、最内側を中心部領域し'、中間部領域 m、最外側を周辺部領域 pとして区分し、また、中心部領域 cの曲率半径を R cと定義して説明する。

このような入力基板 2 1の少なくとも内 ffiには、 ¾ 2 1に示したような、ロール筋やエッチング等による多数の微細凹凸が存在している。そこで、次に、 ¾ 4にすように、パニツシング装置 3 1に入力基板 2 1を固定し、この基板 2 1 の [U1曲内面に多数の微小ボール 3 2を入れて入力基板 2 ] を所定時間にわたって連続的に回転させ、パニツシング処理をした。

なお、このパニツシング（ b u r n i s h i n g ) とは、基板の被加:に [ήίに例え

Ί ば微小ボールを転がしたり又は他の工具を押し付けてすべらせたりして、表面の小さい突起を潰し且つそれでみを埋めて表面を平滑化する加工方法である。したがつて、この方法は基板の被加工面の突起を削り取って除去する方法ではないので、この方法によると基板材料の切削屑はほとんど発生しなレ、。

パニツシング装置 ₃ 1は、加振器を兼ねる基台 3 3、円弧状部に連続した歯 3 4 を有する傾斜角度調整アーム 3 5、その駆動用歯車 3 6、入力基板 2 1を固定するための基板ホルダ 3 7、これを回転可能に支持するベアリング 3 8、基板ホルダを回転させる回転駆動モータ 3 9、及びその回転シャフト 4 0、これに結合されて回転力を伝達するとともに基板の蓋となる回カバ-- 4 〗、モータ支持用アーム 4 2 を備えている:；なお、これに類する装置は、ドイツ公開特許 2 4 3 5 6 2 9号公報に開示されており、そのような装置を使用することもできる，

パニツシング処理に際しては、人力基板 2 1 を装^の基板ホルダ: 3 7に固定するとともに、上述のように、基板 2 1の内側に所定量の微小ボール 3 2を人れる。そして、モ一タ 3 9と一体化されている回転カバー 4 1を人力基板 2 1にかぶせるとともに基板ホルダ 3 7に固定し、モータ 3 9を駆動して矢印 Sのように例えば秒速約 1回転で入力基板 2 ]回転させる。

微小ボール 3 2は、入力 Λ¾板 2 1の材料よりもビッカース硬度が 2倍以上の硬さを有する、例えばステンレス鋼のような金属材料、或いはアルミナセラミックスのような材料で構成する。また、この微小ボール 3 2の平均直径は、 0 . 3 m rr！〜 3 . O m mの範圖、例えば 1 . 0 m mのほぼ真円球である。例えば】 2インチ型用の人力基板の処理においては、重 ttが全体で 5 0 0 g程度になる複数の微小ボール 3 2 を入れて約 6 0分間にわたり人力基板を回転させた。これによつて、入力基板内面の微細な突起は転動する微小ポールで徐々に潢されるとともに、ェツチビッ卜の多くがそれにより次第に塞がれ、上述のプレス成形で生じる方向性のないゆるやかな囬凸は、後述のように、 ¾らかにしてほぼそのままの形状及び寸法で残すことがでさる

なお、パニツシングにおいて、微小ボールを所^!:使用して基板を问転させる方法力被処理基板の形状や曲率' 径の変化がほとんど起こらず好適である,：しかし、この方法に限らず、基板の変形を 4:じない程度で ¾板而に接触 fを適当な圧力で押し付けながら基板又はこの接触子の少なくとも一方を移動させて基板面の微小突起を憤す手段であってもよい。

なお、このバニッシング装置 3 1により、必要に応じて、傾斜角度調整ァ一ム 3 5を適宜調整して基板 2 1の回転中心軸の傾きを連続的又は段階的に変化させたり、或いは加振器により適宜に振動を与えて、入力基板の中心部領域、中問部領域、又は周辺部領域のバニッシング処理の程度を変化させることができる。或いはまた、傾斜角度調整アーム 3 5を傾ける速度を一定でなく、例えば、傾きが大きくなるにつれて傾ける速度を遅くしたり、或いは傾斜角度を大きくして主として周辺部領域に微小ボールを集中させる際にはモータ 3 9による基板の回転速度を低くするなど、基板面の被処理領域ごとに単位面積当たりの基板面とボールとの接触時問を所望に応じて変化させることができるなおまた、入力基板面を微小ボールが回転、移動、又は擦れるよ '）な動きであれば、任意の運動を与えるように構成することができる

このようにバニッシング処理した後、図 5に示すように、入力基板 2 \ の内側凹曲面上に、光反射膜 1 6となるアルミニウム蒸着膜を例えば約 3 0 0 0オングス卜ローム（ A ) の厚さに形成する。なお、上記のパニツシング処理では微細突起はほとんど削られないので、不所望な微粉末は生じない。したがって、その除去のための洗浄は不要である.，ただし、例えば後述の実施例のように若干の微粉末等が生じる場合には、乾式又は湿式の洗浄を行う。

しかる後、基板面上に入力スクリーン 1 3の形成を行う。すなわち、人力基板 ffi の光反射膜 1 6の上に、例えばナトリウム（N a ) で活性化されたヨウ化セシウム

( C s 1 ) からなる蛍光体層 1 7を、厚さが例えば 4 0 0〜5 0 0 μ mの柱状結晶構造となるように公知の蒸着方法で形成する。この蛍光体層〗 7の各柱状結晶 Pの直径 dの平均は、およそ 6〜 1 0 mの範囲、例えば約 8 である。この柱状結品の集合からなる蛍光体層の上に、各結晶の先端を連続させるため、透光性の中問層 1 8を形成する：そして、この人力基板の支持リングを真空容器の他の部分と気密溶接したうえ、排気装置に装着して内部を真空に排気し、光電面 1 9を形成して入力スクリーン〗：3を完成する。なお、光反射膜] 6はなくてもよし、が、入力基板而の全面にわたり、部分的なしみ等の欠陥を解消するためには有用である。さて、この発明によれば、図 5に示したように、パニツシング処理により入力基板 2 1の入力スクリーンを形成する面は、プレス成形で生じたゆるやかな凹凸 2 1 cが滑らかになってほぼそのままの形で残っており、従来顕著に認められた微細な凹凸（図 2 の符^ 1 2 a相 ) は、ほとんど無くなっているそのため、蛍光体層で発光した光のうち、各柱状結晶内を入力基板面又はその ffi上の光反射膜の方向に進んで反射する光は、概ね同じ柱状結晶内に戾り、光電面に達する。その結果、解像度特性の改善が得られる

このような特性改¾が認められた本発明実施例の人力基板面の状態について、従来のものと比較して観察したところ、次のような事実が確認された。すなわち、種々の入力基板面の状態の顕微鏡写真を、図 6〜図 8の（a ) から（〖）に示す _t. 図 6の（ a ) は、 9インチ '.!用のアルミニウム合金（ li J I Sの 6 () 6 1番）の板材そのものの表面状態を^す約 I ^{( )} 0倍の拡大率の顕微鏡写真である,：これには、口ール筋のものと認められる横方向に、 jに延びる多数の筋状凹凸、及び不規則な微細凹凸のものと認められる濃淡がある。

また、同図の（b ) は、（a ) と间稱の板材をプレス成形した後の面状態を示す同倍率の顕微鏡写真である。これには、ロール筋のものと見られる横方向に平行に延びる多数の筋状凹凸及び不規則な微細凹凸とともに、面積が比較的大きい不規則な濃淡が認められるなお、この面積が比較的大きい不規則な濃淡は、後に示す [！リ凸プロファイルと対/ させてみると、ブレス成形によつて z じたゆるやかなうねりのような凹凸によるものと認められる。

次に、ブレス成形した入力莱:板面を ] 5分問ェツチング処理した後の面状態は、図 7の（c ) のようになった。これは、上記と同倍率の顕微鏡写真である。これには、識別が容易ではないが、横方向に平行に延びるロール筋の凹凸及び不規則な微細 ΠίΙΛとともに、エッチピッ卜のものと見られる多数の小 ιίΐ積の黒い部分が混在している状態が認められる _r.

次に、エッチング処理した後の人力板を、上述のパニツシング装匱により、約

6 0分間にわたってバニッシング処理した後の基板面は、 7の（d ) に同倍率の顕微鏡写真で示す状態になつた。これから、口一ル筋の凹凸はほとんど識別できなレ、程度に解消され、且つ不規則な微細な突起がほとんどされて滑化されていることがわかる。その一方で、エッチピッ卜の多くは塞がれているが、少なからず塞がれ切れないエッチピッ卜が残って黒点状に表れている。また、ブレス成形によつて生じたゆるやかなうねりのような凹凸によるわずかな濃淡が認められる。

なお、図 8 ( e ) は、上記と同様の工程を経て同じく約 6 0分間のパニツシング処理をした後の別のサンプルの基板面の同倍率の顕微鏡写真であるこのサンブルは、ロール筋のものと見られる凹凸が少し残っている。

さらに図 8の（ f ) は、パニツシング処理を約 1 8 0分問にわたって行った後の基板面の同倍率の顕微鏡写真であるこれによれば、ゆるやかな凹凸による濃淡はそのまま残り、エッチピットによる黒点は図 7の（d ) 又は図 8 ( e ) の場合よりも少ない状態になっていることが認められる。このことから、パニツシング処理時問が長いほど、プレス成形によって生じたゆるやかな凹凸はそのまま残りロール筋の凹凸や多数の不規則な微細突起が潰され、エッチピットがさらに塞がれることが確認された。

このような表 ώί状態の入力基板面上に形成した蛍光体屑での発光光の一部は、図 5に模式的に示したように、微細凸がほとんどない基板面でほとんど散乱することなく元の同じ結晶柱内に反射して戻り、光電面方向に進む。その結果として、良好な解像度が得られる。そして、プレス成形によって生じたゆるやかな凹凸により、蛍光体層の良好な付着強度が維持される。

さて、入力基板【の ω凸プロファイルは、 j 〖 sで定める触針式表面粗さ測定にしたがって測定した結果、図 9〜図 1 5の結果が得られた。この凹凸プロファイルの測定は、基板の中心部領域 cの任意位置のおよそ 2 4 m mの範 fflを任意の -直線方向に測定したものである。なお、入力基板の中心部領域 cにおける凹凸の測定は、上記プレス成形で素材がほとんど流動しない中心軸部分を避けた領域について測定するものとし、実測したものである。

図 9の（ y A— a ) は、 9インチ型人力基板用のフレス成形前の平板材料の口 -ール筋の長手方向にほぼ直角方向に測定した凹凸プロファイルであるなお横軸は基板面に沿う横方向の位置すなわち距離であり（5 0倍の拡大率）、縦軸は縦すなわち上下方向の変化であり（ 1万倍の拡大率）、他の μπ凸ブロフアイルでも同様である。この図の凹凸プロファイルは、図 6の（a ) に顕微鋭写真を示した基板面に対応している。この【W凸プロファイルから、この状態の入力基板面には、ロール筋のものも含めて無数の微細凹凸の存在が認められる _c

図 9の（9 A— b ) は、じ 9インチ型用平板材としてブレス成形し、 ϋつ約 1 5分問のエッチング処理をした後の入力基板の中心部領域の凹凸プロファイルである。これは、図 7の（ c ) に顕微鏡写真を示した基板面に対応している。この凹凸プロファイルから、この状態の入力基板面には、さらに落差の大きい無数の微細な凹凸、及び多数のエッチピッ卜が認められる

図 1 ⁽⁾の（9 A 6 0 — C ) は、同じ 9インチ型州の人力基板について、その後約 6 0分間にわたりバニッシング処理をしたものの中心部領域の凹凸プロファイルである。これは、図 7の（d ) に顕微鏡写真を示した S板面に対応している。この凹凸プロフアイルから、この状態の入力基板面には、ブレス成形時に生じたものと認められるゆるやかな凹凸があり、処理前にあった無数の微細凹凸とエッチビッ卜のほとんどが消えていることがわかる。なお、所々に下方へのパルス状変化が認められ、これは残存しているわずかな数のェッチピットによるものである。

図] ( の（9 A— d ) は、同じ 9インチ型用の上パニツシング処理をした人力基板面に、約 3 ϋ 0 0オングストロ一ムの厚さのアルミニウムの光反射膜を蒸着した後のこの膜面の中心部領域の凹凸プロファイルであるこの凹凸プロファイルから、この状態の入力基板面には、プレス成形時に生じたゆるやかな凹凸が滑らかな表面状態になってほぼそのままの形及び凹凸サイズで現われ、ェツチビッ卜がほぼ完全に埋まっている状態が確認できる。なおまた、この凹凸プロファイルから、ノくニッシング処理をした基板面上に約 3 0 0 0オングス卜ローム程度の厚さのアルミ二ゥムの光反射膜を蒸着しても、ゆるやかな凹凸や微細凹凸はほぼそのままの形で現れることがわかる

図 1 】の（9 13 6 0 —し、）は、別の 9インチ型用の入力基板について、エツチング処理後に約 6 0分間のバニッシング処理をしたものの中心部領域の Ι¥1【^ηιプロフアイルであるこれは、図 1 ()の（ 9 Λ 6 0 —し'）に示した Γ"|凸ァロファイルのゆるやかな凹凸よりも粗くなっているとともに、少し微細凹が残っていろ状態である。

また、図 1 ]の（ 1 2 Λ— b ) は、】 2インチ -!用のブレス成形した後に約】

I Z 分問のェツチング処理をした入力基板面の中心部領域の凹凸プロフアイルである：この状態の入力基板面は、図⁹の（9 A— b ) の場合よりも大きい多数の微細凹凸及びエッチピットが認められる ,，

この基板にっレ、て、約 3 0分間のバニッシング処理を行った後の中心部領域の凹凸プロファイルは、図 1 2の（] 2 A 3 0— c c ) である。この入力基板面は、プレス成形時に生じたゆるやかな凹凸がほぼそのまま現われ、微細凹凸がやや残つている力ほとんどのエッチピッ卜が塞がっている。

なお、上記と同一の人力基板の中間部領域の凹凸プロファイルは、図 1 2の（1 2 A 3 0 - c m ) であり、周辺部領域のそれは図 1 3の（ 1 2 A 3 0 — c p ) である。これら中心部、中間部、周辺部領域の各凹凸プロファイルを対比すると、それらの問に凹凸状態の顕著な相違は認められない。

さらに、別の 1 2インチ型用のプレス成形、エッチング処理济みの入力基板について、約 6 0分間のパニツシング処理をした基板面は、その中心部領域の凹凸プロフアイルが図 1 3の（1 2 B 6 () — e c ) 、中間部領域のそれが図 1 4の U 2 B 6 0 - c m) 、周辺部領域のそれが図 ] 4の（1 2 B 6 0— c p ) のようになった。これらを対比すると、いずれの領域も概ね同等の凹凸状態であるが、周辺部領域に微細な凹凸が少し残っていることが確認できる。これは、パニツシング処理における某板面の^位面積当たりの微小ボールとの接触時間が、中心部領域よりも周辺部領域が短いためであると考えられるしカゝし、この程度の微細凹 Λの存在は、 J 辺部領域の解像度の顕著な低下をもたらさないことを確認できた。

さらにまた、図 1 5の（ 1 6 A 6 0— c c ) は、 1 6ィンチ型用すなわち前述のいずれよりも大口径の X線イメージ管用の入力基板について、プレス成形及びエツチング処理した後に約 6 0分間のバニッシング処理をした基板面の中心部領域の凹凸プロファイルである ₌ また、同じ入力基板のよ周辺部領域の凹凸プロフアイルは、同図 1 5の（1 6 Λ 6 0— c p ) のようになった。これらは、やはり概ね问等の凹凸状態であって、周辺部領域に微細な凹凸が少し残っている:，

以上の事実を比較すると、バニッシング処理時間が長いほど、微細な凹凸は解消され、それに対してプレス成形で発生したゆるやかな凹凸はほとんどそのまま残つていることが明らかである。このように本発明の製造方法によると、 fめアルミ二ゥム又はアルミ二ゥム合金からなる板材の圧延時に生じた口一ル筋のような方向性のある凹凸や方向性のない微細な凹凸と、この後のプレス成形時に生じた方向性のないゆるやかな凹凸と、さらにその後のエツチング処理時に生じた微細な囬凸とがー度は形成されているが、、バニッシング処理によつて入力 ¾板而の微細な凹凸はほとんど解消されてプレス加工時に生じた方向性のない滑らかでゆるやかな凹凸だけがほぼそのまま残された面状態となる。

なお、種々比較検討したところ、人力基板のプレス成形で生じるこのようなゆるやかな凹凸は、基板材料の結晶構造に起因し、凹凸ブロファイルの各谷底部分が各結晶粒界部分に対応し、山頂部分が各結晶粒の中心部分に対応しているものと推定される。そのため、このようなゆるやかな凹凸は、上記バニッシング処理では解消されず且つほとんど変化しないで残されるものと考えられる。

そこで、この発明の実施例において、ァレス成形によって生じバニッシング処理でも解消されない入力基板面のゆるやかな凹凸の大きさを、以上に示した凹凸プロファイルから計測した。例えば、 1 2インチ型用の入力基板の中心部領域の凹凸ブ口ファイルである図 1 2の（ 1 2 A 3 (.) — c c ) について計測、算出したところ、表]のようになった。

【表 1】

1 2インチ型用人力基板：バニッシング後の中心部領域のゆるやかな凹凸谷底問の順番谷底問の距離し（/' m ) 山頂力 >ら谷底までの落差 H ( m )

1 220 3. 30

2 60 0. 85

140 0. 80

4 1 10 0. 50

5 1 70 1 . 0

6 200 2. 60

7 160 2. 05

8 320 1. 90

9 140 (). 65

10 160 0. «0

1 1 () 2. 60

12 1 ?0 0. H5

1 180 2. 05

14 200 1. 50

1 5 】00 0. !5

16 100 1 . ?.() 17 220 0.50

18 140 1. 0

¾ i¾HHS5gf 差の合計長（ tl 3000 24.80

m)

谷底間の平均距離 ve( μ 167 1. 8

m)、落差の平均長

m 1 n ( ' m) 60 ().2δ

m a x ί m ) 320 3· 30

谷底間の数 18 18 なお、このような凹凸ブロフアイルからのゆるやかな凹凸の計測方法は、次の通りである。すなわち、上記人力基板の凹曲面上の中心部領域で任意方向の 2. 0 m m〜 4. 0 m mについて測定して得た凹凸ブロファイルに関し、左側の測 ^開始点から、図 1 6に示すように、谷底とそのすぐ右隣の谷底との間の水平方向すなわち横方 1 の距離し、及び山頂から谷底までの落差 H (山項から両側の谷底までのうちの大きい方の落差を採る）を、右側の測定終点まで順に測定した。そして、隣接する谷底間の距離しの平均（これを、平均距離し a V eとする）、及び落差 IIの平均（これを、平均落差 H. a V eとする）を計算した。

但し、このゆるやかな凹凸の計測及び計算からは、概ね次の条件に合う超微細凹凸を除外した ₌ すなわち、ゆるやかな凹凸面上の所々に存在する微細な凹凸ゃェッチピッ卜の分は、概ね無視してよいため、同図示のように、隣接する | 1凸の谷底間の横方向の距離 Lが 2 () m未満で且つ落差 Hが 0. 2 μ m未満の超微小凸、及び落差の大きさに関係なく横方向の距離 Lが 5 / m以下の凹凸は、いずれも除外した。なお、 C s Iからなる蛍光体層の発光波長は、およそ ϋ. 4 1 μ ηιであるので、その半波長である約 0. 2 / mよりも小さい距離又は落差の凹凸は、この発光光の乱反射等をほとんどもたらさず、無視することができることもこれらの除外条件の決定に考慮した。

そして、上述及び図面に示した各口径サイズの入力基板の凹凸ブロフアイルから谷底間距離及び落差を計測し、平均値を計算した結果は、表 2のようになった。

【表 2】

サンプル型測定長凹凸数谷底間の距離山 ffiと谷底間の落差

1- ( / HI) M ( μ in) (イン (mm) (個）平均 m l n m a x 平均 m i n m a x チ） L . ave 11. ave

1， (9Α) 9 3.6 35 103 BO 210 ().58 0.15 1. 5

2 , (9Β) 9 2.9 19 ]53 60 9,80 2.20 0.50 .30

3, (12A) 1 2 3.0 18 167 60 320 1.38 0.25 3.30

4, (12B) 1 2 3.0 15 200 80 290 1.74 0.25 3.30

5, (16A) 1 6 2.9 12 215 70 550 1.97 0.50 4.30

なお、入力基板の口径サイズすなわち人力 S板の曲而に形成された領域の :径、及び中心部領域の曲率半径は、通常いずれも、 9インチ型、 1 2インチ型、 1 6ィンチ型の順に大きい寸法になっている。

以上のことから、入力 ¾板面のプレス成形により発生するゆるやかな囬凸の大きさは、中心部、中問部又は周辺部領域の間であまり顕著な相違が認められないものの、口径サイズすなわち入力基板の曲 tiiに形成された領城の直径、名 ^:しくは中心部領域の曲率半径の大きさにそれぞれ依存している... それは、ブレス成形による人力 !：·板材料の塑性変形量に依存しているためであると推定される。

そこで、各口径サイズ、曲率^径と、隣接する谷底問の^均距離（L.avし'）との比を計算すると、表 3のようになった。

【表 3】

サンプル型谷底間口径 D 中心部領域の平均距離 Z 径平均距離 Z曲率半径の平曲率半径 Rc

均距離

(イン L ave L;ive( it HI) /D (mm) l.ave ( μ m) /Rc (mm) チ:） in)

1， (9A) 9 103 250 140 0.4】 0.74

1 , (9B) 9 153 ϋ 140 0.61 1.09

3, (12Λ) 1 2 167 330 200 0.51 0.84

4，（12B) 1 200 330 200 0.61 1.00 5， ( 16A) 1 6 215 420 210 0. 51 1. 02

以上のことから、入力基板のプレス成形で生じるゆるやかな凹凸 2 1 cは、凹凸プロファイルの隣接する谷底間の距離 Lの平均が 1 0 0〜 2 2 0 mであり、山頂から谷底までの落差 Hの平均がおよそ 0 . 6〜2 . 2 / mである。入力スクリーンを形成する入力基板面のこのようなゆるやかな凹凸 2 1 cは、入力スクリーンの付着強度を高めるのに役立つとともに、 0U凸ブロファイルの谷部分すなわち凹面部が凹面鏡のように作用する。

前述のように、人力蛍光体層を構成する柱状結晶 Pの直径 dの平均は、約 6〜1 0 /z mの範囲にある _c そのため、入力基板のプレス成形で生じるゆるやかな凹凸の隣接する谷底間の平均距離し ave は、蛍光体層の柱状結晶 Pの平均直径の数倍以上を有している

そこで、人力蛍光体層を構成する柱状結晶 Pの平均直径が例えば約〗 0 μ mであり、入力基板面のゆるやかな凹凸のピッチすなわち谷底問距離が約 1 0 () μ mであれぱ、このゆるやかな凹凸の 1つの凹面部にはおよそ 1 0 0本の柱状結晶 Pが集団として構成されていることになる。

このような構成の X線イメージ管の人力部に X線が入射すると、 X線は入力基板を透過し、蛍光体層で光に変換される。そして、蛍光体層で変換された光の一部は入力基板の方向へ進み、基板面又はその面 hに蒸着された光反射層面で、図 5に矢印 Yで示すように、反射する。このとき入力基板面には微細な M凸がほとんどないため、入力基板面での不規則な方向への乱反射は少なく、元の柱状結晶に戻る確立が高くなり、 X線ィメージ管の解像度が向上する。

しかも、人力基板のゆるやかな凹凸の 1つひとつの凹面部が凹面鏡のように作川するため、各凹面部で反射した光は共通の凹面部上に形成された同一集団の柱状結晶内に入射して戻る。その結果、入力基板面のゆるやかな凹凸の谷底間距離すなわち凹凸ピッチに相当する空間周波数領域での変換伝達係数（M T V ) も^上する _c 以上のことから、実用になっている種々の口径サイズの X線イメージ管を考慮すると、入力基板の入力スクリ一ン形成面は、下記の測定条件により凹凸プロフアイルから計測した場合に、隣接する K凸の谷底から谷底までの平均距離が 5 0 μ m〜 3 00 mの範囲であって且つ山頂と谷底との平均落差が 0. 3 / m〜4. 0 / m の範囲のゆるやかな回をすることが望ましい。そして、より好ましくは、隣接する谷底問の平均距離が 8 () μ m〜 2 50 μ mの範囲であり、 B.つ山頂から谷底までの平均落差が 0. 4 π！〜 3. 0 μ mの範囲である。

また、上記ゆるやかな凹凸の隣接する谷底間の平均距離 Lave (単位は、 / m) と、入力基板の凹曲面に形成された領域の直径 Ο (単位は、 rnm) との比率（ L ave / D) は、 0. 3 5〜0. 6 5の範囲が好適である ₍：

そしてまた、谷底間平均距離し ave (^位は、 m) と、曲率半径 R c (単位は、 mm) との比率（ Lave Z Rし'）は、 0. 7〜 1. 1の範 [ |が好適である _<;

ところで、既に述べたことから明らかなように、入力 ¾板面のバニッシング処理において、例えば基板の中心部領域よりも屮問部領域、さらに周辺部領域の順に単位而稍当たりの微小ボールの転動接触時問を桕対的に短くすることにより、微小突起又はエッチピッ卜の解消程度を中心部領域、中問部領域、周辺部領域の順で少なくし、例えば X線イメージ管の出力 Hi像の輝度 -様性を向上させることができる。このことに関連し、通常の X線イメージ管の出力《ί祝光像の中心部から周辺部に至る輝度には、図 1 7に示すような関係があることが確認されている _D 同図の横軸は、入力基板の中心軸に対応する出力画像の中心軸 Oからの半径方の距離であり、縦軸は中心 Oを 1 () ()とした場合の相対輝度（½) である。曲線 Λは、周辺部領域の乱反射率が約 20%、正反射率が約: 3 5%の従来の ¾板而を持つ X線ィメ一ジ管の出力輝度分布を示しているそれに対して曲線 Hは、 ^じく周辺部領域の乱反射率が約 30 °/₀、正反射率が約 9 5 %の本発明 ¾施例に近レ、基板面を持つ X線ィメ一ジ管の出力輝度分布を示している。なお、曲線 Λ及び Bの乱反射率、正反射率は、いずれも入力基板の中心軸部を 1 00とした場合の相対値である:：また、出力スクリーンの発光効率は全領域で均一であると仮定している _t:

ここで、乱反射率とは、 S板面に翁直に入射した光が、反射点に垂 ( な法線から 2. 5° 以上離れた方向に反射する比率で、 I'l色粉体を 1 () ()%とした時の相対値で定義される。また、正反射率とは、反射点に :直な線から 2. 5 未満に反射する比率で、鏡面を 1 00%とした時の相対値で定義される ₍）したがって、入力基板面が微細凹凸面であれば、乩反射率がく、その而上に形成された入力スクリーンから得られる出力スクリーンの輝度は高くなる。一方、入力基板面が微細 00凸がなくて鏡面に近ければ、正反射率が高く、柱状結晶によるライトガイド部分を通って光電面に到達する光量の発光総量に対する割合が高くなり、解像度が向上する。図 1 7の曲線 Aと曲線 Bとを比較した場合、乱反射率及び正反射率が低レ、従来の曲線 Aの方が周辺部の輝度が低下し、輝度の- -様性が悪くなつている。それに対して、基板面全体の正反射率を高くし、且つ周辺部の乱反射率の低下を抑えた本発明の曲線 Bによれば、輝度の一様性及び解像度のいずれも改善することができることを;^してレ、る ₃

そこで、ヒ記したパニツシング装置によって、入力基板面の中心部から周辺部の全領域にわたってバニッシング処理を十分な時間かけて行えば、入力基板面の正反射率が全体的に高くなり、解像度が改善される。また、単位面積当たりの基板面と微小ボールとの接触時間を、入力基板の中心部領域域よりも周辺部領域で相対的に短くすろ。或いは中心部領域よりも周辺部領域のパニツシング量が少なくなるように、回転中の入力基板傾斜角度を調節する。それらによって、周辺部領域の微小凹凸 uをある程度残して乱反射率の低下を少なく抑えてこの周辺部の輝度の低下を抑えることができる。この結果、周辺部領域では解像度が中心部よりも改善度合いが少ないとは言え輝度の改善効果を大きくでき、出力画面の良好な解像度及び輝度の一様性を改善することができる。

図】 8に示す実施例は、ステンレス鋼製の微小ボール 3 2に、少量のアルミニゥム又はマグネシウムの微粒子 3 2 aを混合し、パニツシング処理をする方法であるこの方法によれば、パニツシング処理で微粒子 3 2 aが人力基板 2 1の表面に付着し、基板面は比較的短時間に平滑化される。これは、付着した微粒子の一部が次第に潰され延ばされ、入力基板面のは微細な突起が潰れるとともにェツチピットを含めた凹み部分が微粒子で埋まることによると考えられる。したがって、適当な時問このバニッシング処理をすることにより、基板面の正反射率を高め、乱反射率を低めることができる ₍：

そこで、入力基板の主として中心部領域のパニツシング処理にこの方法を適用すれば、中心部領域の解像度を高める一方でこの中心部領域の輝度を少し抑えて画面全体の輝度一様性を向上させることができる，なおこの方法によれば、パニツ

ή グ処理時間を前述の実施例の場合よりも短くできる:：なおまた、処理後に基板面に容易に取れる状態の微粒子が残る場合は、クリ一ユングにより除去する。

図 1 9に示す実施例は、アルミニウム又はマグネシウムの薄い被膜 3 2 bを表面に蒸着したステンレス鋼製の微小ボール 3 を使用してパニツシング処理をする方法である。この方法によれば、微小ボールの被膜 3 2 bが基板表面と擦れ合い、次第に上記図 1 8の実施例の場合と同様に平滑化され、同様の作用、効果が得られる。この場合、被膜の厚さは 5 0 ()オングストローム以上あれば十分な効果が得られる。

なお、例えばステンレス鋼のような金属製の微小ボールは、その表面 Πりの少ないものが得やすいが、セラミックス製の微小ボールはやや表面凹凸の大きいものが一般的である。このようなセラミックス製の微小ボ- -ルを使用してバニッシング処理をすると、初期にこのボールの表面に基板面が少し削られてアルミニゥム粒子が付着し、その後は次第にそれが基板面の微小な叩みに付着して平滑化に役立つようになる。したがって、任意の凹凸面にするために必要によりセラミックス製の微小ボールを使用することができる。但し、この微小ボールの表面が 5 m以上の凹凸を有すると、人力基板の微小凹凸の低減、解消が困難になるため、微小ポールの表面凹凸は 5 /i m以下、とくに 3 / m以下が望ましい。

なおまた、パニツシング処理において、最初、ステンレス鋼製の微小ボールで入力基板面の全体を処理し、その後、セラミックス製の微小ボールに変えて例えば中心部領域を主に処理する方法でもよい。また、表面凹凸の程度に差があろ複数種の微小ボールを、種々組み合わせたり或いは使い分けてパニツシング処理をしてもよレ、。

さらにまた、このようなバニッシング処理を長時間継続すると、入力基板而の微細凹凸が一旦解消される力 _S、続いて次に基板面に微小ボールの超微小な擦り傷が無数に発生するようになる。このような擦り傷が生じた板而は、っぽく且つビ力ピカな表面状態を呈する:：このような而は、乱反射が低く止反射率が^く、したがってこのような入力基板によれば、輝度が低く解像度が卨ぃ出力両面となる，このことを応用して、中心部領域のパニツシング処理に I -分い時問をかけ、この中心部領域よりも中問部領域、周辺部領域にかけてバニッシング時問を徐々に短くす

0 れば、中心部から周辺部にかけて乱反射率が徐々に増カ卩し、良好な輝度の一様性が得られる：

以上述べたように、本発明によれば、入力蛍光体層の基板への十分な付着強度を維持したまま、解像度の低下を防止し、さらに必要により輝度の一様性を改善し、且つ基板の表状態に起因する画像ノイズが低减された X線イメージ管を実現できる。

Claims

請求の範囲

1 . 略球面状態にプレス成形されたアルミニウム又はアルミニウム合金からなる入力基板と、この入力基板の凹曲面上に直接又は他の被膜を介して付着形成された柱状結晶の集合からなる X線励起蛍光体層及び光電面を有する入力スクリーンとを具備する X線イメージ管において、

上記人力基板の凹曲面は方向性がほとんどないゆるやかな凹凸を有し、該ゆるやかな凹凸は下記により凹凸プロフアイルの測定及び 31-測をした場合に、隣接する谷底間の平均距離が 5 0 m〜 3 0 0 μ mの範囲であり、且つ山顶から谷底までの平均落差が 0 . 3 / n！〜 4 . 0 yu mの範囲であることを特徴とする X線イメージ管。

上記測定及び計測方法は、 h記人力基板の凹曲上の中心部頟城で任意の方向に直線で 2 . O m rr！〜 4 . 0 m mについて測定した凹凸プロファイルから、隣接する谷底間の横方向の平均距離、及び山頂から谷底までの平均落¾を計測する。但し、隣接する谷底問の横方向の距離が 2 0 μ m未満で且つ山：! Ϊから谷底までの落差が 0 . 2 / m未満の微小な凹凸、及び落差の寸法に関係なく横方向の距離が 5 m以下の微小な凹凸は、いずれも上記の山頂又は谷底に含めない。

2 . ヒ記 X線励起蛍光体層の柱状結晶は、平均直径が 6 μ rr！〜 1 0 μ mの範囲である請求項 1記載の X線ィメージ管。

3 . 上記隣接する谷底問の平均距離は、前記入力基板の中心部領域よりも周辺部領域の方が小さくなつていることを特徴とする請求項 ]記載の X線ィメージ管。

4 . ヒ記入力基板面のゆるやかな凹凸面に、隣接する'谷底問の距離が 4 0 / m以下の微細凹凸が存在し、該微細凹凸は前記基板の中心部領域より周辺部領域に多く存在している請求項 1記載の X線ィメージ管,，

5 . 上記入力基板はアルミニウム合金からなるとともに :空容器の X線入力窓を兼ねており、該入力基板の凹曲面上に上記入力フ、クリ一ンが形成されている請求項

1記載の X線イメージ管。

6 . 略球面状態にブレス成形されたアルミニゥム又はアルミニウム合金からなる入力基板と、この入力 S板の凹曲面上に ΐίϊ接又は他の被膜を介して付若形成された柱状結晶からなる X線励起蛍光体) 及び光電面を有する人力スクリーンとを具備する X線イメージ管において、上記入力基板の凹曲面は、方向性がほとんどないゆるやかな凹凸を有し、該ゆるやかな凹凸は下記により四凸プロフアイルの測定及び計測をした場合に、上記ゆるやかな凹凸の隣接する谷底問の平均距離 Lave (単位は、 /i m) と、上記入力基板の凹曲面状に成形された領域の直径 D (単位は、 mm) との比率（ Lave / D) は、 0. 3 5〜0. 6 5の範囲であることを特徴とする X線イメージ管。

上記測定及び計測方法は、上記入力基板の凹曲面上の中心部領域で任意の方向に直線で 2. 0 mm〜4. () mmについて測定した凹凸プロファイルから、隣接する谷底問の横方向の平均距離、及び山頂から谷底までの平均落差を計測する但し、隣接する谷底問の横方向の距離が 2 0 μ m未満で且つ山頂から谷底までの落差が 0. 2 μ m未満の微小な凹凸、及び落差の寸法に関係なく横方向の距離が 5 μ m以下の微小な凹凸は、いずれも上記の山頂又は谷底に含めない。

7. 上記瞵接する谷底間の平均距離し ave (単位は、 i m) と、上記人力基板の中心部領域の凹曲面の曲率半径 R c (単位は、 mm) との比率

( L. ave / R c ) は、 0. 7〜 1 . 1の範囲である請求項 6記載の X線ィメ一ジ管

8. 略球面状態にプレス成形されたアルミニウム又はアルミニウム合金からなる人力基板と、この入力基板の凹曲面上に直接又は他の被膜を介して付着形成された柱状結晶の集合からなる X線励起蛍光体層及び光電面を有する入力スクリーンとを具備する X線イメージ管において、上記入力基板の上記入力スクリーンが形成される凹曲面は、その中心部領域よりも周辺部領域の乱反射率が高くなつていることを特徴とする X線ィメ一ジ管。

9. アルミニウム又はアルミニウム合金からなる入力基板材料を略球 1¾状にプレス成形するプレス成形工程と、上記プレス成形後の入力基板の囬曲面の微細突起を潰すバニッシング工程と、その後、上記入力基板の PQ曲面上に直接又は他の被膜を介して柱状結晶の集合からなる X線励起蛍光体層及び光電面を付着形成する入力スクリ一ン形成工程とを備えることを特徴とする X線ィメ --ジ1'の製造方法,，

1 0. 上記バニッシング工程は、上記人力基板のブレス成形で生じる隣接谷底問距離が 5 0 μ m以上のゆるやかな凹凸を残し、それよりも微細な突起を溃す請求 i 9記載の X線イメージ管の製造方法。

1 1 · 上記パニツシング工程は、上記プレス成形後の入力基板の凹曲面上に無数の微小ボールを載せて該入力基板面上を連続的に転がすことにより該入力基板面の微細突起を潰す処理を含む請求項 9記載の X線ィメージ管の製造方法。

1 2 . 上記パニツシング工程で使用する微小ボールは、上記入力基板のピツカ一ス硬度の 2倍以上のピツカ一ス硬度を有する金属又はセラミックスからなる請求項 1 1記載の X線ィメージ管の製造方法。

1 3 . 上記微小ボールの平均直径は、（）. 3 m m〜3 . O m mの範囲である請求項 1 1記載の X線イメージ管の製造方法。

1 4 . 上記バニッシング工程は、上記入力基板の中心部領域よりも周辺部領域の単位面積当たりのバニッシング処理時間を短くする請求項 9記載の X線ィメ一ジ管の製造方法。

1 5 . 上記パニツシング工程は、上記微小ボールにアルミニウム又はマグネシゥムの微粒子を混入又は被膜として付着して処理する請求項 1 1記載の X線ィメ一ジ管の製造方法。

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訂正された用紙（規則 91 )