JP2661919B2 - 表示装置及びその製造方法 - Google Patents
表示装置及びその製造方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、陰極線管、液晶表示装置及び固体エレク
トロルミネセンス表示装置のような表示装置及びその製
造方法に関し、特に受像スクリーンの反射率の低減に関
する。 表示装置は、種々の照明条件下に見ることができねば
ならない。しかし、装置に表示されるイメージの明るさ
には限度があるので、高強度の周囲光レベルの条件下で
さえ明瞭に見うる画像を視聴者に提供するようにコント
ラストをできるだけ高くしなければならない。したがっ
て、表示装置製造業者は、このような装置のコントラス
トを増加させるように努力し、一つの技術は、ガラスが
4.9％の反射率を有するガラスフェースプレートにより
反射される周囲光の量を減少させることである。 人間の目の感度（第３図参照）は、約550nm（ナノメ
ートル）にピーク感度を有し400nmより下及び700nmより
上ではゼロまで減少するので、これが関心のあるスペク
トル部である。 陰極線管フェースプレートからの反射率の減少に関す
る従来の提案があった。欧州特許公告第0131341号明細
書（PHN10.737）には、陰極線管フェースプレートの外
表面を機械的に粗面化し、λ/4の厚さのフッ化マグネシ
ウム（MgF2）単層を蒸着させる方法が開示される。ここ
でλはピーク感度波長、すなわち約550nmである。空
気、ガラス及びMgF2の屈折率は、それぞれ1.0、1.57及
び1.39である。このような配置は、フェースプレートで
の反射率を減少させるけれども、次の不利益点を伴う。
（１）反射率の減少は、ピーク感度波長で最大であり、
このピーク感度波長の両側で次第に小さくなる。（２）
必要な程度の硬さを有する層を得るためには、MgF2を加
熱基板上に付着させねばならない。代表的に、基板、す
なわちフェースプレートの最低温度は、200℃である
が、250℃の温度が好ましい。フェースプレートの加熱
は、真空下に行うので、熱伝達は輻射により、これは遅
く約１時間を要する。いっそう低い温度でMgF2層を蒸着
させることは可能は可能であるが、これらの層は、反射
防止コーティングとして有用な、必要な程度の硬さを有
しない。このような層は、蒸着後、焼なましによって更
に硬くすることはできない。 説明及び特許請求の範囲は、低、中位及び高屈折率
（ｎ）を有する材料に言及する。これらの相対用語は、
光学的に透明なフェースプレートパネルを形成する材
料、例えばガラス、の屈折率と関係がある。ｎ＝1.5を
有するガラスに対して、ｎに対する低い値は1.5以下で
あり、ｎに対する中位の値は1.50より大きく1.80より小
さい範囲内にあり、ｎに対する高い値は1.80以上であ
る。 反射防止コーティングの反射率特性曲線は、スペクト
ルの可視部においてそれがほとんど一定の値、理想的に
はゼロを有するようであるべきである。レーザーの場
合、フェースプレートに適用される比較的高い屈折率を
有する第１層と、比較的低い屈折率を有する隣接する第
２層とをそなえる干渉フィルタを用いることが知られて
いる。このような配列は、Ｖ−コーティングとして知ら
れるが、これは、反射特性曲線がレーザー光の波長で頂
点（vertex）又は最小反射を有する、一般にＶ字形をな
すからである。Ｖ−特性曲線の側部は、中位の屈折率を
有する、Al2O3のような、材料の第１層と、比較的高い
屈折率を有する、TiO2のような、材料のいっそう厚い隣
接第２層と、第２層より厚さが薄く、比較的低い屈折率
を有する、MgF2のような、材料の、隣接する第３層とを
そなえる３層干渉フィルタを用いて修飾することができ
る。このコーティングは、二つの最小、中心波長の両側
に一つずつ、があるいっそう幅の広い特性曲線を有する
ので、Ｗ−コーティングとして知られている。知られて
いる限りでは、このような反射防止コーティングは、必
要な程度の硬さと耐引っかき性を得るために約300℃に
加熱した基板上に蒸着される。これらの層をつくるのに
用いられる材料は、引き続く焼なましによって硬くする
ことはできない。 この発明の目的は、処理容器内にわたる周囲温度より
高く基板（すなわちフェースプレート）を特別に加熱す
る必要がない方法によって表示装置上に引っかき抵抗の
ある反射防止コーティングを提供することである。 この発明に従って、周囲温度にある蒸着装置内でフェ
ースプレートパネル上に少なくとも３層のフィルタ層を
真空蒸着させることによりコーティングを設け、しかも
前記層の一つの層の材料がフェースプレートパネルの材
料の屈折率に関して高い屈折率を有し、前記層の別の一
つの層の材料がフェースプレートパネルの材料の屈折率
に関して低い屈折率を有し、前記層を構成する材料が蒸
着後中程度の硬さを有するようにし、次いで前記層を蒸
着装置の外で高温での焼なましにより硬くすることによ
りフェースプレートパネルの外表面上に硬くした反射防
止コーティングを設けることを特徴とする表示装置の製
造方法を提供する。 許容しうる反射防止コーティングは、３層で構成しう
るけれども、材料選択への依存度をいっそう小さくする
ためには、コーティングが４層以上から成ることが好ま
しい。 五酸化ニオブ（Nb2O5）、酸化ケイ素（SiO2）及び酸
化アルミニウム（Al2O3）のような材料を選択すること
により、真空蒸着容器内にわたる80℃の程度の周囲温度
でこれらを蒸着させて中程度の硬さの層を生成させ、次
いでこれを蒸着容器の外で高温で焼なましすることによ
り高度の硬さを有するようにすることができる。基板
（すなわちフェースプレート）を加熱しなければならぬ
ことを避けることにより真空中での加熱時間を省くこと
ができる。更に、焼なまし段階が陰極線管の通常の加工
の一部分である場合、この時間の節約は、有効になる。 このようにして反射防止コーティングを生成させるこ
とは、ほとんど又は全くひび割れのないフィルタ層を生
成させることであることを確かめた。 所要に応じて、フェースプレートの外表面は、フェー
スプレートの正反射率を低減するために機械的に粗面化
することができる。 反射防止４層コーティングの一例において、フェース
プレートに設けられる第１及び第２層は、最外層より各
薄い。第１層は、高屈折率を有し、Nb2O5より成ってよ
い。最外層は、いかなる場合にも1.4〜1.8の屈折率を有
する材料より成る第２層と同様にSiO2で構成することが
できる。 この発明に従って製造される表示装置のこの例におい
ては、４層反射防止コーティングの第１及び第２層は、
各λ/8の程度の厚さを有し、第３層は、λ/2の程度の厚
さを有し、最外層は、λ/4の程度の厚さを有する。ここ
でλは、目の感度曲線から選ばれる望ましい中心波長に
等しい。 また、この発明は、光学的に透明なガラスフェースプ
レート10及びフェースプレート10の外表面上に反射防止
コーティング20をそなえ、該反射防止コーティング20が
少なくとも３層の蒸着層26,28,30,32から成り、該反射
防止コーティングがガラスフェースプレート10上に直接
蒸着したものであり、該層26,28,30,32が焼なましによ
り硬くされており、前記層の一つの層26,30の材料がフ
ェースプレート10の材料の屈折率に関して高い屈折率を
有し、前記層の別の一つの層28,32の材料がフェースプ
レート10の材料の屈折率に関して低い屈折率を有する表
示装置にも関する。 表示装置は、カラー陰極線管、中心波長がけいりん光
体の波長である投写形テレビジョン管（PTV管）、デー
タグラフィックディスプレイ（D.G.D）管又はオシロス
コープ管のような陰極線管を含むことができる。 以下、この発明を図面を参照して例により説明する。 図面において、対応する符号は、同様な特徴を示す。 第１図に示す陰極線管は、円錐部12に結合する光学的
に透明なフェースプレートパネル10により形成されるエ
ンベロープをそなえ、ネック部14が円錐部12に結合され
る。電子銃16をネック部14内に配設する。陰極ルミネセ
ンススクリーン18をフェースプレートパネル10の内側に
設ける。反射防止コーティング20を、酸化鉛（PbO）を
ほとんど含まない混合アルカリガラスで構成されるフェ
ースプレートパネル10の外表面上に設ける。電子銃16に
より発生された電子ビーム（図示せず）は、エンベロー
プのネック部−円錐部の遷移部に設けた偏向コイル組立
22によりスクリーン上に走査される。 説明した陰極線管は、単色管、PTV管又はオシロスコ
ープ管を含むことができる。しかし、この発明は、フェ
ースプレートの外表面からの反射率を減少することによ
りイメージのコントラストを増加させるのに主として向
けられるので、シャドーマスクの表示管又は任意の他の
表示装置に適用することができる。 第２図に示すフェースプレート構造及び反射防止コー
ティング20は、比例して描かれてはいない。図示の反射
防止コーティング20は、真空蒸着により周囲温度でフェ
ースプレートパネル10上に設けられた四つの隣接する層
26,28,30,32より成る。層26〜32は異なる厚さを有し、
層26及び30は、Nb2O5のような比較的高い屈折率を有す
る材料から成り、層28及び32は、SiO2のような比較的低
い屈折率を有する材料から成る。層26〜32の各の正確な
厚さは、各層の材料の屈折率、ｎ、と必要な光学的性能
を考えて選択されるけれども、層26,28の各の厚さは、
λ/8の程度であり、層30の厚さはλ/2の程度であり、層
32の厚さはλ/4の程度である。ここでλは、第３図に示
す目の感度曲線から選ばれた所望の中心波長に等しい。
異なる厚さの層を有することの一つの利点は、干渉効果
が減少されることである。Nb2O5及びSiO2のような材料
は、加熱されないフェースプレートパネル10上に80℃の
程度の周囲温度で蒸着される場合、中位の硬さの層を形
成する。しかし、MgF2のような材料と異なって、これら
の層は、次に高温焼なましによって硬くしてこれらに耐
引っかき性を付与することができる。 このような４層コーティングの加工では、Nb2O5層を
ガラス上に付着させ最外低屈折率層をSiO2で構成するの
が望ましいことを確かめた。しかし、このような配列
は、不可欠ではない。 第２層28は、Al2O3、MgO又はCeO2を含む種々の材料の
ようなSiO2と異なる材料で構成することができる。この
層の材料の選択基準の若干は、それが1.4〜1.8の屈折率
を有すること及びそれが比較的硬い層として蒸着され、
次いでこの層が焼なましによりいっそう硬い層になるこ
とができることである。 第３図は、人間の目の感度曲線34である。横軸は、ナ
ノメートル（nm）で表した波長、λであり、縦軸は、任
意の単位で目盛られる。曲線は、一般にガウス型で約55
0nmにピーク値を有する。 第４図は、百分率で表したガラスの反射率（Ｒ）及び
1,2又は３層のフィルタ層を有するコーティングの反射
率を波長、λ、に対して示したグラフである。ガラスの
反射率は、4.9％の反射率値を有する水平線36により示
される。 少なくとも目が感じる波長範囲にわたって反射を除く
ためには、反射防止コーティングは、理想的に破線で示
す長方形特性曲線38を有する。代表的な単層反射防止コ
ーティングは、約550nmに最小反射率値を有する一点鎖
線で示される特性曲線39を有する。代表的な２層Ｖ−コ
ートフィルタ特性曲線は、二点鎖線40で示され、波長の
狭い範囲で最小又はゼロ反射率を有し、このことは、こ
のような反射防止コーティングをレーザーに使用するの
に好適にする。３層Ｗコーティングの特性曲線は、線42
で示される。第３層の存在は、Ｖ特性曲線40の側部を横
に引っ張って理想的な特性曲線にいっそう近い曲線を生
じさせる効果を有する。４層以上を与えることにより得
られる反射率曲線は、長方形に近似してくる。４層コー
ティングの場合、層厚さは、ガラス基板から始めてλ/
8、λ/8、λ/2及びλ４の程度である。 第５図は、この発明に従う方法によりつくられた４層
反射防止コーティングの反射率（Ｒ）のグラフである。
反射防止コーティングは、フェースプレートパネルに付
着した、高屈折率（2.14）と光学厚さ（n.d./λ）0.079
を有する、Nb2O5の第１層と、低い屈折率（1.43）と光
学厚さ0.092を有する、SiO2の第２層と、0.577の光学厚
さを有する、Nb2O5の第３層と、0.249の光学厚さを有す
る、SiO2の最外層とから成る。 第６図は、この発明に従う方法でつくられた７層反射
防止コーティングの反射率（Ｒ）のグラフである。コー
ティングは、SiO2とNb2O5の交互層より成り、焼なまし
後のそれぞれの屈折率（ｎ）は、1.45及び2.10である。
最内層と最外層は、SiO2である。コーティング構造とそ
れぞれの層の光学厚さは、次の通りである。 （nd/λ） ガラス −− 層１ SiO2 0.534 ２ Nb2O5 0.059 ３ SiO2 0.119 ４ Nb2O5 0.491 ５ SiO2 0.435 ６ Nb2O5 0.376 ７ SiO2 0.193 空気 −− 図示の曲線は、第５図に示す曲線より平らであり、特
定される波長範囲にわたって反射率が１％未満であり、
この点で理想曲線38にいっそう近づく。 ３層反射防止コーティングの場合、典型的なフィルタ
は、0.25の光学厚さを有する、Al2O3（ｎ＝1.63）の第
１層と、0.50の光学厚さを有する、Nb2O5の第２層と、
0.25の光学厚さを有する、SiO2の第３層の最外層とを有
する。 第７図は、その中で反射防止コーティングのフィルタ
層をフェースプレートパネル10上に付着させる蒸着装置
の例を略図で説明する。装置は、回転支持体50に取り付
けるフェースプレートパネル10を入れたり、取り出した
りするために底板48に対して垂直に動かすことのできる
鐘形の蓋46を含むBalzers BA 510オプチカルコーター44
をそなえる。Nb2O5及びSiO2のような光学材料は、Airco
−Temesca l8kw4ポケット電子銃52により、蒸発され
る。電子銃52は、回転するフェースプレートパネル10上
での均一な厚さ分布を得るために蓋46で画成される空間
中に偏心的に配置される。 DIFF1900油拡散ポンプとDUO35回転ポンプで構成され
るポンプ装置54が底板48の入口によって蒸着装置の内部
と結合される。N2に対する有効ポンプ速度は600/sで
最終圧力は、５×10-7mmHg（トール）である。液体N2 M
eissnerトラップを付着中の水に対する特別のポンプ速
度用に組み込む。 付着速度は、水晶厚さモニター56（例えばLeybold IC
−6000）で制御される。光学層厚さndは、鐘形蓋の窓60
を経て光をあてる光源58をそなえる、オプチカルモニタ
ー、例えばダイナミック・オプチックス（Dynamic Opti
cs）製モニターを用いて蒸着中測定される。この光は、
傾斜鏡62により反射され、回転支持体50により支えられ
る監視ガラス64を通る。監視ガラス64を透過した光は、
モニターの検出器68にあたる前に単色フィルタ66により
ろ光される。モニター56は、選ばれた波長における透過
とその干渉効果を追跡する。 基板の清浄化中減圧下にアルゴン（Ar）と酸素（O2）
の混合物を、また蒸着中のみ酸素を導入するために蓋46
に入口72を設ける。アルミニウム棒74は、蓋46の内側で
固定され、基板清浄化段階中グロー放電を行うために電
源ユニット76に接続される。 この装置によって方法を実施する場合、フェースプレ
ートパネル、これは参考のためにあげる欧州特許公告第
0131341号明細書に開示される方法により外表面を機械
的に粗面化しておいてもよい、を回転支持体50に取り付
ける。鐘形蓋46を底板50上に下ろす。 最初、系は、５×10-6mmHg（トール）の程度の圧力に
真空排気される。次いで、フェースプレートパネルを、
90％Ar/10％O2の雰囲気中10-1〜10-2mmHg（トール）の
圧力でグロー放電を用いて清浄化する。グロー放電電流
は、100mAの程度であり、清浄化操作は、15分間続けら
れる。 次いで、蒸着段階をNb2O5から始めて３×10-4mmHg
（トール）の酸素分圧下0.7nm/s（ナノメートル／秒）
の速度で実施する。実際の厚さを厚さモニター56で監視
して所望厚さのNb2O5が付着すると、電子銃52をSiO2に
切り替え、SiO2を３×10-4mmHg（トール）の酸素分圧下
に1nm/sの速度で付着させる。蒸着段階が完了すれば、
蒸着装置に通気し、フェースプレートパネルを取り出
す。 次いで、コーティング20の焼なましを450℃の温度で
空気中約1.5時間行う。陰極線管製造に要する時間を節
約する見地から、陰極線管の通常の加工中にコーティン
グを焼なましすることが有利である。 焼なましは、層を硬くするだけでなく、それらの屈折
率をも変化させる。したがって、反射防止コーティング
を設計する場合、性能規格は、焼なまし後のフィルタコ
ーティングに関していなければならない。 コーティング20は、少なくとも３層より成ることがで
きるけれども、４層以上の方が材料選択性がいっそう大
きいためにいっそう実際的な反射防止コーティングを与
える。
トロルミネセンス表示装置のような表示装置及びその製
造方法に関し、特に受像スクリーンの反射率の低減に関
する。 表示装置は、種々の照明条件下に見ることができねば
ならない。しかし、装置に表示されるイメージの明るさ
には限度があるので、高強度の周囲光レベルの条件下で
さえ明瞭に見うる画像を視聴者に提供するようにコント
ラストをできるだけ高くしなければならない。したがっ
て、表示装置製造業者は、このような装置のコントラス
トを増加させるように努力し、一つの技術は、ガラスが
4.9％の反射率を有するガラスフェースプレートにより
反射される周囲光の量を減少させることである。 人間の目の感度（第３図参照）は、約550nm（ナノメ
ートル）にピーク感度を有し400nmより下及び700nmより
上ではゼロまで減少するので、これが関心のあるスペク
トル部である。 陰極線管フェースプレートからの反射率の減少に関す
る従来の提案があった。欧州特許公告第0131341号明細
書（PHN10.737）には、陰極線管フェースプレートの外
表面を機械的に粗面化し、λ/4の厚さのフッ化マグネシ
ウム（MgF2）単層を蒸着させる方法が開示される。ここ
でλはピーク感度波長、すなわち約550nmである。空
気、ガラス及びMgF2の屈折率は、それぞれ1.0、1.57及
び1.39である。このような配置は、フェースプレートで
の反射率を減少させるけれども、次の不利益点を伴う。
（１）反射率の減少は、ピーク感度波長で最大であり、
このピーク感度波長の両側で次第に小さくなる。（２）
必要な程度の硬さを有する層を得るためには、MgF2を加
熱基板上に付着させねばならない。代表的に、基板、す
なわちフェースプレートの最低温度は、200℃である
が、250℃の温度が好ましい。フェースプレートの加熱
は、真空下に行うので、熱伝達は輻射により、これは遅
く約１時間を要する。いっそう低い温度でMgF2層を蒸着
させることは可能は可能であるが、これらの層は、反射
防止コーティングとして有用な、必要な程度の硬さを有
しない。このような層は、蒸着後、焼なましによって更
に硬くすることはできない。 説明及び特許請求の範囲は、低、中位及び高屈折率
（ｎ）を有する材料に言及する。これらの相対用語は、
光学的に透明なフェースプレートパネルを形成する材
料、例えばガラス、の屈折率と関係がある。ｎ＝1.5を
有するガラスに対して、ｎに対する低い値は1.5以下で
あり、ｎに対する中位の値は1.50より大きく1.80より小
さい範囲内にあり、ｎに対する高い値は1.80以上であ
る。 反射防止コーティングの反射率特性曲線は、スペクト
ルの可視部においてそれがほとんど一定の値、理想的に
はゼロを有するようであるべきである。レーザーの場
合、フェースプレートに適用される比較的高い屈折率を
有する第１層と、比較的低い屈折率を有する隣接する第
２層とをそなえる干渉フィルタを用いることが知られて
いる。このような配列は、Ｖ−コーティングとして知ら
れるが、これは、反射特性曲線がレーザー光の波長で頂
点（vertex）又は最小反射を有する、一般にＶ字形をな
すからである。Ｖ−特性曲線の側部は、中位の屈折率を
有する、Al2O3のような、材料の第１層と、比較的高い
屈折率を有する、TiO2のような、材料のいっそう厚い隣
接第２層と、第２層より厚さが薄く、比較的低い屈折率
を有する、MgF2のような、材料の、隣接する第３層とを
そなえる３層干渉フィルタを用いて修飾することができ
る。このコーティングは、二つの最小、中心波長の両側
に一つずつ、があるいっそう幅の広い特性曲線を有する
ので、Ｗ−コーティングとして知られている。知られて
いる限りでは、このような反射防止コーティングは、必
要な程度の硬さと耐引っかき性を得るために約300℃に
加熱した基板上に蒸着される。これらの層をつくるのに
用いられる材料は、引き続く焼なましによって硬くする
ことはできない。 この発明の目的は、処理容器内にわたる周囲温度より
高く基板（すなわちフェースプレート）を特別に加熱す
る必要がない方法によって表示装置上に引っかき抵抗の
ある反射防止コーティングを提供することである。 この発明に従って、周囲温度にある蒸着装置内でフェ
ースプレートパネル上に少なくとも３層のフィルタ層を
真空蒸着させることによりコーティングを設け、しかも
前記層の一つの層の材料がフェースプレートパネルの材
料の屈折率に関して高い屈折率を有し、前記層の別の一
つの層の材料がフェースプレートパネルの材料の屈折率
に関して低い屈折率を有し、前記層を構成する材料が蒸
着後中程度の硬さを有するようにし、次いで前記層を蒸
着装置の外で高温での焼なましにより硬くすることによ
りフェースプレートパネルの外表面上に硬くした反射防
止コーティングを設けることを特徴とする表示装置の製
造方法を提供する。 許容しうる反射防止コーティングは、３層で構成しう
るけれども、材料選択への依存度をいっそう小さくする
ためには、コーティングが４層以上から成ることが好ま
しい。 五酸化ニオブ（Nb2O5）、酸化ケイ素（SiO2）及び酸
化アルミニウム（Al2O3）のような材料を選択すること
により、真空蒸着容器内にわたる80℃の程度の周囲温度
でこれらを蒸着させて中程度の硬さの層を生成させ、次
いでこれを蒸着容器の外で高温で焼なましすることによ
り高度の硬さを有するようにすることができる。基板
（すなわちフェースプレート）を加熱しなければならぬ
ことを避けることにより真空中での加熱時間を省くこと
ができる。更に、焼なまし段階が陰極線管の通常の加工
の一部分である場合、この時間の節約は、有効になる。 このようにして反射防止コーティングを生成させるこ
とは、ほとんど又は全くひび割れのないフィルタ層を生
成させることであることを確かめた。 所要に応じて、フェースプレートの外表面は、フェー
スプレートの正反射率を低減するために機械的に粗面化
することができる。 反射防止４層コーティングの一例において、フェース
プレートに設けられる第１及び第２層は、最外層より各
薄い。第１層は、高屈折率を有し、Nb2O5より成ってよ
い。最外層は、いかなる場合にも1.4〜1.8の屈折率を有
する材料より成る第２層と同様にSiO2で構成することが
できる。 この発明に従って製造される表示装置のこの例におい
ては、４層反射防止コーティングの第１及び第２層は、
各λ/8の程度の厚さを有し、第３層は、λ/2の程度の厚
さを有し、最外層は、λ/4の程度の厚さを有する。ここ
でλは、目の感度曲線から選ばれる望ましい中心波長に
等しい。 また、この発明は、光学的に透明なガラスフェースプ
レート10及びフェースプレート10の外表面上に反射防止
コーティング20をそなえ、該反射防止コーティング20が
少なくとも３層の蒸着層26,28,30,32から成り、該反射
防止コーティングがガラスフェースプレート10上に直接
蒸着したものであり、該層26,28,30,32が焼なましによ
り硬くされており、前記層の一つの層26,30の材料がフ
ェースプレート10の材料の屈折率に関して高い屈折率を
有し、前記層の別の一つの層28,32の材料がフェースプ
レート10の材料の屈折率に関して低い屈折率を有する表
示装置にも関する。 表示装置は、カラー陰極線管、中心波長がけいりん光
体の波長である投写形テレビジョン管（PTV管）、デー
タグラフィックディスプレイ（D.G.D）管又はオシロス
コープ管のような陰極線管を含むことができる。 以下、この発明を図面を参照して例により説明する。 図面において、対応する符号は、同様な特徴を示す。 第１図に示す陰極線管は、円錐部12に結合する光学的
に透明なフェースプレートパネル10により形成されるエ
ンベロープをそなえ、ネック部14が円錐部12に結合され
る。電子銃16をネック部14内に配設する。陰極ルミネセ
ンススクリーン18をフェースプレートパネル10の内側に
設ける。反射防止コーティング20を、酸化鉛（PbO）を
ほとんど含まない混合アルカリガラスで構成されるフェ
ースプレートパネル10の外表面上に設ける。電子銃16に
より発生された電子ビーム（図示せず）は、エンベロー
プのネック部−円錐部の遷移部に設けた偏向コイル組立
22によりスクリーン上に走査される。 説明した陰極線管は、単色管、PTV管又はオシロスコ
ープ管を含むことができる。しかし、この発明は、フェ
ースプレートの外表面からの反射率を減少することによ
りイメージのコントラストを増加させるのに主として向
けられるので、シャドーマスクの表示管又は任意の他の
表示装置に適用することができる。 第２図に示すフェースプレート構造及び反射防止コー
ティング20は、比例して描かれてはいない。図示の反射
防止コーティング20は、真空蒸着により周囲温度でフェ
ースプレートパネル10上に設けられた四つの隣接する層
26,28,30,32より成る。層26〜32は異なる厚さを有し、
層26及び30は、Nb2O5のような比較的高い屈折率を有す
る材料から成り、層28及び32は、SiO2のような比較的低
い屈折率を有する材料から成る。層26〜32の各の正確な
厚さは、各層の材料の屈折率、ｎ、と必要な光学的性能
を考えて選択されるけれども、層26,28の各の厚さは、
λ/8の程度であり、層30の厚さはλ/2の程度であり、層
32の厚さはλ/4の程度である。ここでλは、第３図に示
す目の感度曲線から選ばれた所望の中心波長に等しい。
異なる厚さの層を有することの一つの利点は、干渉効果
が減少されることである。Nb2O5及びSiO2のような材料
は、加熱されないフェースプレートパネル10上に80℃の
程度の周囲温度で蒸着される場合、中位の硬さの層を形
成する。しかし、MgF2のような材料と異なって、これら
の層は、次に高温焼なましによって硬くしてこれらに耐
引っかき性を付与することができる。 このような４層コーティングの加工では、Nb2O5層を
ガラス上に付着させ最外低屈折率層をSiO2で構成するの
が望ましいことを確かめた。しかし、このような配列
は、不可欠ではない。 第２層28は、Al2O3、MgO又はCeO2を含む種々の材料の
ようなSiO2と異なる材料で構成することができる。この
層の材料の選択基準の若干は、それが1.4〜1.8の屈折率
を有すること及びそれが比較的硬い層として蒸着され、
次いでこの層が焼なましによりいっそう硬い層になるこ
とができることである。 第３図は、人間の目の感度曲線34である。横軸は、ナ
ノメートル（nm）で表した波長、λであり、縦軸は、任
意の単位で目盛られる。曲線は、一般にガウス型で約55
0nmにピーク値を有する。 第４図は、百分率で表したガラスの反射率（Ｒ）及び
1,2又は３層のフィルタ層を有するコーティングの反射
率を波長、λ、に対して示したグラフである。ガラスの
反射率は、4.9％の反射率値を有する水平線36により示
される。 少なくとも目が感じる波長範囲にわたって反射を除く
ためには、反射防止コーティングは、理想的に破線で示
す長方形特性曲線38を有する。代表的な単層反射防止コ
ーティングは、約550nmに最小反射率値を有する一点鎖
線で示される特性曲線39を有する。代表的な２層Ｖ−コ
ートフィルタ特性曲線は、二点鎖線40で示され、波長の
狭い範囲で最小又はゼロ反射率を有し、このことは、こ
のような反射防止コーティングをレーザーに使用するの
に好適にする。３層Ｗコーティングの特性曲線は、線42
で示される。第３層の存在は、Ｖ特性曲線40の側部を横
に引っ張って理想的な特性曲線にいっそう近い曲線を生
じさせる効果を有する。４層以上を与えることにより得
られる反射率曲線は、長方形に近似してくる。４層コー
ティングの場合、層厚さは、ガラス基板から始めてλ/
8、λ/8、λ/2及びλ４の程度である。 第５図は、この発明に従う方法によりつくられた４層
反射防止コーティングの反射率（Ｒ）のグラフである。
反射防止コーティングは、フェースプレートパネルに付
着した、高屈折率（2.14）と光学厚さ（n.d./λ）0.079
を有する、Nb2O5の第１層と、低い屈折率（1.43）と光
学厚さ0.092を有する、SiO2の第２層と、0.577の光学厚
さを有する、Nb2O5の第３層と、0.249の光学厚さを有す
る、SiO2の最外層とから成る。 第６図は、この発明に従う方法でつくられた７層反射
防止コーティングの反射率（Ｒ）のグラフである。コー
ティングは、SiO2とNb2O5の交互層より成り、焼なまし
後のそれぞれの屈折率（ｎ）は、1.45及び2.10である。
最内層と最外層は、SiO2である。コーティング構造とそ
れぞれの層の光学厚さは、次の通りである。 （nd/λ） ガラス −− 層１ SiO2 0.534 ２ Nb2O5 0.059 ３ SiO2 0.119 ４ Nb2O5 0.491 ５ SiO2 0.435 ６ Nb2O5 0.376 ７ SiO2 0.193 空気 −− 図示の曲線は、第５図に示す曲線より平らであり、特
定される波長範囲にわたって反射率が１％未満であり、
この点で理想曲線38にいっそう近づく。 ３層反射防止コーティングの場合、典型的なフィルタ
は、0.25の光学厚さを有する、Al2O3（ｎ＝1.63）の第
１層と、0.50の光学厚さを有する、Nb2O5の第２層と、
0.25の光学厚さを有する、SiO2の第３層の最外層とを有
する。 第７図は、その中で反射防止コーティングのフィルタ
層をフェースプレートパネル10上に付着させる蒸着装置
の例を略図で説明する。装置は、回転支持体50に取り付
けるフェースプレートパネル10を入れたり、取り出した
りするために底板48に対して垂直に動かすことのできる
鐘形の蓋46を含むBalzers BA 510オプチカルコーター44
をそなえる。Nb2O5及びSiO2のような光学材料は、Airco
−Temesca l8kw4ポケット電子銃52により、蒸発され
る。電子銃52は、回転するフェースプレートパネル10上
での均一な厚さ分布を得るために蓋46で画成される空間
中に偏心的に配置される。 DIFF1900油拡散ポンプとDUO35回転ポンプで構成され
るポンプ装置54が底板48の入口によって蒸着装置の内部
と結合される。N2に対する有効ポンプ速度は600/sで
最終圧力は、５×10-7mmHg（トール）である。液体N2 M
eissnerトラップを付着中の水に対する特別のポンプ速
度用に組み込む。 付着速度は、水晶厚さモニター56（例えばLeybold IC
−6000）で制御される。光学層厚さndは、鐘形蓋の窓60
を経て光をあてる光源58をそなえる、オプチカルモニタ
ー、例えばダイナミック・オプチックス（Dynamic Opti
cs）製モニターを用いて蒸着中測定される。この光は、
傾斜鏡62により反射され、回転支持体50により支えられ
る監視ガラス64を通る。監視ガラス64を透過した光は、
モニターの検出器68にあたる前に単色フィルタ66により
ろ光される。モニター56は、選ばれた波長における透過
とその干渉効果を追跡する。 基板の清浄化中減圧下にアルゴン（Ar）と酸素（O2）
の混合物を、また蒸着中のみ酸素を導入するために蓋46
に入口72を設ける。アルミニウム棒74は、蓋46の内側で
固定され、基板清浄化段階中グロー放電を行うために電
源ユニット76に接続される。 この装置によって方法を実施する場合、フェースプレ
ートパネル、これは参考のためにあげる欧州特許公告第
0131341号明細書に開示される方法により外表面を機械
的に粗面化しておいてもよい、を回転支持体50に取り付
ける。鐘形蓋46を底板50上に下ろす。 最初、系は、５×10-6mmHg（トール）の程度の圧力に
真空排気される。次いで、フェースプレートパネルを、
90％Ar/10％O2の雰囲気中10-1〜10-2mmHg（トール）の
圧力でグロー放電を用いて清浄化する。グロー放電電流
は、100mAの程度であり、清浄化操作は、15分間続けら
れる。 次いで、蒸着段階をNb2O5から始めて３×10-4mmHg
（トール）の酸素分圧下0.7nm/s（ナノメートル／秒）
の速度で実施する。実際の厚さを厚さモニター56で監視
して所望厚さのNb2O5が付着すると、電子銃52をSiO2に
切り替え、SiO2を３×10-4mmHg（トール）の酸素分圧下
に1nm/sの速度で付着させる。蒸着段階が完了すれば、
蒸着装置に通気し、フェースプレートパネルを取り出
す。 次いで、コーティング20の焼なましを450℃の温度で
空気中約1.5時間行う。陰極線管製造に要する時間を節
約する見地から、陰極線管の通常の加工中にコーティン
グを焼なましすることが有利である。 焼なましは、層を硬くするだけでなく、それらの屈折
率をも変化させる。したがって、反射防止コーティング
を設計する場合、性能規格は、焼なまし後のフィルタコ
ーティングに関していなければならない。 コーティング20は、少なくとも３層より成ることがで
きるけれども、４層以上の方が材料選択性がいっそう大
きいためにいっそう実際的な反射防止コーティングを与
える。
【図面の簡単な説明】
第１図は、壁の一部を取り除いて示した陰極線管の立面
図、 第２図は、反射防止コーティングを上に有するフェース
プレート構造の一部を通る断面略図、 第３図は、人間の目の感度曲線を示すグラフ、 第４図は、種々の型の反射防止コーティングの性能を説
明するのに有用な多数の反射率曲線を示すグラフ、 第５図及び第６図は、この発明に従う方法によりつくっ
た、それぞれ４及び７層を有する反射防止コーティング
の反射率を示すグラフ、 第７図は、この発明に従う方法を実施する装置の線図で
ある。 10……フェースプレートパネル 12……円錐部、14……ネック部 16……電子銃 18……陰極ルミネセンススクリーン 20……反射防止コーティング 22……偏向コイル組立、26……第１層 28……第２層、30……第３層 32……第４層、34……人間の目の感度曲線 36……ガラスの反射率、38……理想的長方形特性曲線 39……単層反射防止コーティング特性曲線 40……２層反射防止コーティング特性曲線 42……３層反射防止コーティング特性曲線 44……オプチカルコーター 46……鐘形の蓋、48……底板 50……回転支持体、52……電子銃 54……ポンプ装置、56……水晶厚さモニター 58……光源、60……窓 62……傾斜鏡、64……監視ガラス 66……単色フィルタ、68……検出器 72……入口、74……アルミニウム棒 76……電源ユニット
図、 第２図は、反射防止コーティングを上に有するフェース
プレート構造の一部を通る断面略図、 第３図は、人間の目の感度曲線を示すグラフ、 第４図は、種々の型の反射防止コーティングの性能を説
明するのに有用な多数の反射率曲線を示すグラフ、 第５図及び第６図は、この発明に従う方法によりつくっ
た、それぞれ４及び７層を有する反射防止コーティング
の反射率を示すグラフ、 第７図は、この発明に従う方法を実施する装置の線図で
ある。 10……フェースプレートパネル 12……円錐部、14……ネック部 16……電子銃 18……陰極ルミネセンススクリーン 20……反射防止コーティング 22……偏向コイル組立、26……第１層 28……第２層、30……第３層 32……第４層、34……人間の目の感度曲線 36……ガラスの反射率、38……理想的長方形特性曲線 39……単層反射防止コーティング特性曲線 40……２層反射防止コーティング特性曲線 42……３層反射防止コーティング特性曲線 44……オプチカルコーター 46……鐘形の蓋、48……底板 50……回転支持体、52……電子銃 54……ポンプ装置、56……水晶厚さモニター 58……光源、60……窓 62……傾斜鏡、64……監視ガラス 66……単色フィルタ、68……検出器 72……入口、74……アルミニウム棒 76……電源ユニット
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 １．光学的に透明なガラスフェースプレート（10）及び
フェースプレート（10）の外表面上に反射防止コーティ
ング（20）をそなえ、該反射防止コーティング（20）が
少なくとも３層の蒸着層（26,28,30,32）から成り、該
反射防止コーティングがガラスフェースプレート（10）
上に直接蒸着したものであり、該層（26,28,30,32）が
焼なましにより硬くされており、前記層の一つの層（2
6,30）の材料がフェースプレート（10）の材料の屈折率
に関して高い屈折率を有し、前記層の別の一つの層（2
8,32）の材料がフェースプレート（10）の材料の屈折率
に関して低い屈折率を有する表示装置。 ２．高い屈折率の材料がNb2O5である特許請求の範囲第
１項記載の表示装置。 ３．低い屈折率の材料がSiO2である特許請求の範囲第１
項又は第２項記載の表示装置。 ４．ガラスフェースプレート（10）の外表面を機械的に
粗面化する特許請求の範囲第１項、第２項又は第３項記
載の表示装置。 ５．コーティングが４層（26,28,30,32）より成り、第
１及び第２層（26,28）がλ/8の程度の厚さを有し、第
３層（30）がλ/2の程度の厚さを有し、最外層（32）が
λ/4の程度の厚さを有し、λが所望の中心波長に等しい
特許請求の範囲第１〜４項のいずれか一つの項に記載の
表示装置。 ６．ガラスフェースプレート（10）が陰極線管のフェー
スプレートパネルであってフェースプレート（10）の材
料がほとんど酸化鉛（PbO）を含まない混合アルカリガ
ラスより成る特許請求の範囲第１〜５項のいずれか一つ
の項に記載の表示装置。 ７．周囲温度にある蒸着装置内でフェースプレートパネ
ル上に少なくとも３層のフィルタ層を真空蒸着させるこ
とによりコーティングを設け、しかも前記層の一つの層
の材料がフェースプレートパネルの材料の屈折率に関し
て高い屈折率を有し、前記層の別の一つの層の材料がフ
ェースプレートパネルの材料の屈折率に関して低い屈折
率を有し、前記層を構成する材料が蒸着後中程度の硬さ
を有するようにし、次いで前記層を蒸着装置の外で高温
での焼なましにより硬くすることによりフェースプレー
トパネルの外表面上に硬くした反射防止コーティングを
設けることを特徴とする表示装置の製造方法。 ８．高い屈折率の材料がNb2O5より成る特許請求の範囲
第７項記載の方法。 ９．低い屈折率の材料がSiO2より成る特許請求の範囲第
７項又は第８項記載の方法。 １０．フェースプレートの外表面を機械的に粗面化する
特許請求の範囲第７〜９項のいずれか一つの項に記載の
方法。 １１．前記層の焼なましを表示装置の通常の加工中に行
う特許請求の範囲第７〜10項のいずれか一つの項に記載
の方法。 １２．フェースプレートがほとんど酸化鉛（PbO）を含
まない混合アルカリガラスより成る特許請求の範囲第７
〜11項のいずれか一つの項に記載の方法。 １３．四つのフィルタ層をフェースプレートパネル上に
付着させ、フィルタ層の一つおきの層を高屈折率を有す
る材料とし、残りを低屈折率を有する材料とし、フェー
スプレートパネルに付着する第１層が高屈折率を有する
ようにする特許請求の範囲第７〜12項のいずれか一つの
項に記載の方法。 １４．第２層の材料が1.4〜1.8の範囲内の屈折率を有す
る特許請求の範囲第13項記載の方法。 １５．前記層の各の厚さが蒸着される材料の屈折率に関
係し、４層反射防止コーティングの場合、第１及び第２
層が各λ/8の程度の厚さを有し、第３層がλ/2の程度の
厚さを有し、最外層がλ/4の程度の厚さを有し、ここで
λは所望の中心波長に等しい特許請求の範囲第13項又は
第14項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB8621468 | 1986-09-05 | ||
| GB868621468A GB8621468D0 (en) | 1986-09-05 | 1986-09-05 | Display device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6365478A JPS6365478A (ja) | 1988-03-24 |
| JP2661919B2 true JP2661919B2 (ja) | 1997-10-08 |
Family
ID=10603757
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62220531A Expired - Lifetime JP2661919B2 (ja) | 1986-09-05 | 1987-09-04 | 表示装置及びその製造方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4798994A (ja) |
| EP (1) | EP0263541B1 (ja) |
| JP (1) | JP2661919B2 (ja) |
| KR (1) | KR950014063B1 (ja) |
| CA (1) | CA1303119C (ja) |
| DE (1) | DE3787949T2 (ja) |
| GB (1) | GB8621468D0 (ja) |
Families Citing this family (48)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4931315A (en) * | 1986-12-17 | 1990-06-05 | Gte Products Corporation | Wide angle optical filters |
| NL8900070A (nl) * | 1989-01-12 | 1990-08-01 | Philips Nv | Inrichting voor het inspekteren van een interferentiefilter voor een projektie-televisiebeeldbuis. |
| US5138222A (en) * | 1989-06-27 | 1992-08-11 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Projection cathode ray tube having an interference filter |
| US5179318A (en) * | 1989-07-05 | 1993-01-12 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Cathode-ray tube with interference filter |
| JPH03138838A (ja) * | 1989-10-24 | 1991-06-13 | Mitsubishi Electric Corp | 投写型陰極線管 |
| DE4006804A1 (de) * | 1990-03-03 | 1991-09-05 | Renker Gmbh & Co Kg Zweigniede | Mehrschichtsystem mit hohem reflexionsvermoegen im infrarot-spektralbereich und mit hohem transmissionsvermoegen im sichtbaren bereich |
| JPH03261047A (ja) * | 1990-03-09 | 1991-11-20 | Toshiba Corp | 表示装置 |
| DE4014159A1 (de) * | 1990-05-03 | 1991-11-07 | Andreas Biedermann | Dekorierter gegenstand mit einer oberflaechenstruktur |
| FR2663486B1 (fr) * | 1990-06-15 | 1997-01-24 | Thomson Consumer Electronics | Dispositif de visualisation ou de projection d'images ou analogues. |
| ATE160107T1 (de) * | 1990-08-30 | 1997-11-15 | Viratec Thin Films Inc | Verfahren zur abscheidung von nioboxid enthaltenden optischen beschichtungen mittels reaktiver gleichstromzerstäubung |
| KR940011569B1 (ko) * | 1990-10-24 | 1994-12-21 | 미쯔비시덴끼 가부시끼가이샤 | 저 반사막을 갖는 음극선관 |
| TW311694U (en) * | 1991-06-19 | 1997-07-21 | Toshiba Co Ltd Kk | Anti-reflection film |
| DE4130930A1 (de) * | 1991-09-13 | 1993-03-25 | Flachglas Ag | Vorsatzaggregat fuer bildschirme oder dergleichen |
| JP3355654B2 (ja) * | 1992-04-06 | 2002-12-09 | 松下電器産業株式会社 | 画像表示装置およびその製造方法 |
| EP0596531B1 (en) * | 1992-11-06 | 1997-07-09 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Antireflection film and display apparatus comprising the same |
| JP2981528B2 (ja) * | 1992-12-25 | 1999-11-22 | 三菱電機株式会社 | 陰極線管およびその製造方法 |
| US5521759A (en) * | 1993-06-07 | 1996-05-28 | National Research Council Of Canada | Optical filters for suppressing unwanted reflections |
| US5450238A (en) * | 1993-12-10 | 1995-09-12 | Viratec Thin Films, Inc. | Four-layer antireflection coating for deposition in in-like DC sputtering apparatus |
| JP3569538B2 (ja) * | 1993-12-27 | 2004-09-22 | 松下電器産業株式会社 | 画像表示装置 |
| WO1996005606A1 (en) * | 1994-08-08 | 1996-02-22 | Philips Electronics N.V. | Cathode ray tube comprising a display screen having an electroconductive coating |
| FR2730990B1 (fr) * | 1995-02-23 | 1997-04-04 | Saint Gobain Vitrage | Substrat transparent a revetement anti-reflets |
| US5662395A (en) * | 1995-06-07 | 1997-09-02 | Nova Solutions, Inc. | Underdesk computer desk structure with antireflecting viewing window |
| AU6273198A (en) * | 1997-02-11 | 1998-08-26 | Mcdonnell Douglas Corporation | High efficiency anti-reflectance coating and associated fabrication method |
| DE19708776C1 (de) * | 1997-03-04 | 1998-06-18 | Fraunhofer Ges Forschung | Entspiegelungsschicht sowie Verfahren zur Herstellung derselben |
| US5852513A (en) * | 1997-05-14 | 1998-12-22 | Optical Coating Laboratory, Inc. | Television filter |
| DE19752889C1 (de) * | 1997-11-28 | 1999-06-24 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren zur Beschichtung von Oberflächen |
| KR100346422B1 (ko) * | 1998-08-26 | 2002-08-01 | 엘지전자주식회사 | 비반사 항정전기 필름 |
| US6529322B1 (en) * | 1999-01-27 | 2003-03-04 | University Of Georgia Research Foundation, Inc. | High contrast front and rear viewing surfaces for projection displays |
| FR2793889B1 (fr) * | 1999-05-20 | 2002-06-28 | Saint Gobain Vitrage | Substrat transparent a revetement anti-reflets |
| US6258218B1 (en) | 1999-10-22 | 2001-07-10 | Sola International Holdings, Ltd. | Method and apparatus for vacuum coating plastic parts |
| KR20010103321A (ko) * | 2000-05-09 | 2001-11-23 | 츄, 자우-지어 | 씨알티 표면의 고도전성 반사방지 코팅용 진공 스퍼터링및 습식 코팅의 조합 공정 |
| JP2002075227A (ja) * | 2000-06-14 | 2002-03-15 | Sharp Corp | 気体放電表示装置およびプラズマアドレス液晶表示装置ならびにその製造方法 |
| DE10034158C2 (de) * | 2000-07-10 | 2003-05-15 | Fraunhofer Ges Forschung | Reflexionsmindernde Beschichtung aus einem Wechselschichtsystem unterschiedlicher Schichtmaterialien mit jeweils niedrigerem und höherem Brechungsindex |
| US20030059195A1 (en) * | 2001-08-29 | 2003-03-27 | Brennan James F. | Optical devices using shaped optical fibers and methods for making optical devices with shaped optical fibers |
| US6589657B2 (en) | 2001-08-31 | 2003-07-08 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Anti-reflection coatings and associated methods |
| US20030179455A1 (en) * | 2002-03-22 | 2003-09-25 | Jeffrey Hunt | Fingerprint resistant anti-reflection coatings for plastic substrates |
| US7293879B2 (en) | 2003-10-23 | 2007-11-13 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Projection screen |
| US7040764B2 (en) * | 2003-10-23 | 2006-05-09 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Projection system using ambient light |
| US6987610B2 (en) * | 2003-10-23 | 2006-01-17 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Projection screen |
| US7846391B2 (en) * | 2006-05-22 | 2010-12-07 | Lumencor, Inc. | Bioanalytical instrumentation using a light source subsystem |
| US7709811B2 (en) * | 2007-07-03 | 2010-05-04 | Conner Arlie R | Light emitting diode illumination system |
| US8098375B2 (en) | 2007-08-06 | 2012-01-17 | Lumencor, Inc. | Light emitting diode illumination system |
| US8242462B2 (en) | 2009-01-23 | 2012-08-14 | Lumencor, Inc. | Lighting design of high quality biomedical devices |
| US8389957B2 (en) | 2011-01-14 | 2013-03-05 | Lumencor, Inc. | System and method for metered dosage illumination in a bioanalysis or other system |
| US8466436B2 (en) | 2011-01-14 | 2013-06-18 | Lumencor, Inc. | System and method for metered dosage illumination in a bioanalysis or other system |
| US8967846B2 (en) | 2012-01-20 | 2015-03-03 | Lumencor, Inc. | Solid state continuous white light source |
| US9217561B2 (en) | 2012-06-15 | 2015-12-22 | Lumencor, Inc. | Solid state light source for photocuring |
| US10544501B2 (en) * | 2013-12-31 | 2020-01-28 | Essilor International | Multi-layer assembly and method for controlling layer thicknesses |
Family Cites Families (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2478385A (en) * | 1946-12-07 | 1949-08-09 | Libbey Owens Ford Glass Co | Multilayer low light reflecting film |
| US2612611A (en) * | 1950-06-23 | 1952-09-30 | Rauland Corp | Cathode-ray tube |
| CH291853A (de) * | 1950-09-27 | 1953-07-15 | Alois Dr Vogt | Interferenzfähige Schicht mit hohem Brechungsexponenten und Verfahren zur Herstellung dieser Schicht. |
| US2680205A (en) * | 1950-11-17 | 1954-06-01 | American Optical Corp | Cathode-ray tube and method of making same |
| US3185020A (en) * | 1961-09-07 | 1965-05-25 | Optical Coating Laboratory Inc | Three layer anti-reflection coating |
| US4065697A (en) * | 1969-02-17 | 1977-12-27 | Owens-Illinois, Inc. | Cathode-ray tube |
| US3635751A (en) * | 1969-04-03 | 1972-01-18 | Rca Corp | Lithium silicate glare-reducing coating and method of fabrication on a glass surface |
| JPS5133751B2 (ja) * | 1972-07-27 | 1976-09-21 | ||
| US4196246A (en) * | 1976-06-23 | 1980-04-01 | Nippon Kogaku K.K. | Anti-reflection film for synthetic resin base |
| US4277286A (en) * | 1980-02-19 | 1981-07-07 | Corning Glass Works | Lead-free glasses of high x-ray absorption for cathode ray tubes |
| JPS56138701A (en) * | 1980-03-31 | 1981-10-29 | Minolta Camera Co Ltd | Antireflection film |
| NL8301824A (nl) * | 1983-05-24 | 1984-12-17 | Philips Nv | Optisch element bestaande uit een doorzichtig substraat en een antireflectieve bekleding voor het golflengtegebied in het nabije infrarood. |
| NL8302460A (nl) * | 1983-07-11 | 1985-02-01 | Philips Nv | Werkwijze voor het verminderen van de reflectie van een doorzichtig beeldscherm en beeldscherm met verminderde reflectie. |
| JPS60252301A (ja) * | 1984-05-29 | 1985-12-13 | Asahi Glass Co Ltd | 耐熱性の向上された光学体 |
| DE3441948A1 (de) * | 1984-11-16 | 1986-05-28 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Antireflex beschichtete, transparente abdeckung von zeichen, insbesondere fuer anzeigegeraete |
| JPS62105101A (ja) * | 1985-11-01 | 1987-05-15 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 反射防止された光学部品 |
-
1986
- 1986-09-05 GB GB868621468A patent/GB8621468D0/en active Pending
-
1987
- 1987-08-31 DE DE87201640T patent/DE3787949T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1987-08-31 EP EP87201640A patent/EP0263541B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-09-01 CA CA000545808A patent/CA1303119C/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-09-03 KR KR87009733A patent/KR950014063B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1987-09-04 JP JP62220531A patent/JP2661919B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1987-09-04 US US07/093,450 patent/US4798994A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB8621468D0 (en) | 1986-10-15 |
| EP0263541B1 (en) | 1993-10-27 |
| EP0263541A3 (en) | 1989-11-02 |
| KR880004524A (ko) | 1988-06-04 |
| US4798994A (en) | 1989-01-17 |
| KR950014063B1 (en) | 1995-11-20 |
| DE3787949T2 (de) | 1994-05-05 |
| EP0263541A2 (en) | 1988-04-13 |
| DE3787949D1 (de) | 1993-12-02 |
| JPS6365478A (ja) | 1988-03-24 |
| CA1303119C (en) | 1992-06-09 |
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