JPS6365478A - 表示装置及びその製造方法 - Google Patents
表示装置及びその製造方法Info
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- JPS6365478A JPS6365478A JP62220531A JP22053187A JPS6365478A JP S6365478 A JPS6365478 A JP S6365478A JP 62220531 A JP62220531 A JP 62220531A JP 22053187 A JP22053187 A JP 22053187A JP S6365478 A JPS6365478 A JP S6365478A
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
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- H01J29/89—Optical or photographic arrangements structurally combined or co-operating with the vessel
- H01J29/896—Anti-reflection means, e.g. eliminating glare due to ambient light
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
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- C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
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- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
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- H01J2229/89—Optical components associated with the vessel
- H01J2229/8913—Anti-reflection, anti-glare, viewing angle and contrast improving treatments or devices
- H01J2229/8918—Anti-reflection, anti-glare, viewing angle and contrast improving treatments or devices by using interference effects
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- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、陰極線管、液晶表示装置及び固体エレクト
ロルミネセンス表示装置のような表示装置及びその製造
方法に関し、特に受像スクリーンの反射率の低減に関す
る。
ロルミネセンス表示装置のような表示装置及びその製造
方法に関し、特に受像スクリーンの反射率の低減に関す
る。
表示装置は、種々の照明条件下に見ることができねばな
らない。しかし、装置に表示されるイメージの明るさに
は限度があるので、高強度の周囲光レベルの条件下でさ
え明瞭に見うる画像を視聴者に提供するようにコントラ
ストをできるだけ高くしなければならない。したがって
、表示装置製造業者は、このような装置のコントラスト
を増加させるように努力し、一つの技術は、ガラスが4
.9%の反射率を有するガラスフェースプレートにより
反射される周囲光の量を減少させることである。
らない。しかし、装置に表示されるイメージの明るさに
は限度があるので、高強度の周囲光レベルの条件下でさ
え明瞭に見うる画像を視聴者に提供するようにコントラ
ストをできるだけ高くしなければならない。したがって
、表示装置製造業者は、このような装置のコントラスト
を増加させるように努力し、一つの技術は、ガラスが4
.9%の反射率を有するガラスフェースプレートにより
反射される周囲光の量を減少させることである。
人間の目の感度(第3図参照)は、約550nm (ナ
ノメートル)にピーク感度を有し400nmより下及び
700nmより上ではゼロまで減少するので、これが関
心のあるスペクトル部である。
ノメートル)にピーク感度を有し400nmより下及び
700nmより上ではゼロまで減少するので、これが関
心のあるスペクトル部である。
陰極線管フェースプレートからの反射率の減少に関する
従来の提案があった。欧州特許公告第0131341号
明細書(PHNlo、737)には、陰極線管フェース
プレートの外表面を機械的に粗面化し、λ/4の厚さの
フッ化マグネシウム(MgF z)単層を蒸着させる方
法が開示される。ここでλはピーク感度波長、すなわち
約550nmである。空気、ガラス及びMgF tの屈
折率は、それぞれ1.0.1.57及び1゜39である
。このような配置は、フェースプレートでの反射率を減
少させるけれども、次の不利益点を伴う、(1)反射率
の減少は、ピーク感度波長で最大であり、このピーク感
度波長の両側で次第に小さくなる。(2)必要な程度の
硬さを有する層を得るためには、MgF zを加熱基板
上に付着させねばならない。代表的に、基板、すなわち
フェースプレートの最低温度は、200°Cであるが、
250°Cの温度が好ましい。フェースプレートの加熱
は、真空下に行うので、熱伝達は輻射により、これは遅
(約1時間を要する。いっそう低い温度でMghiiを
蒸着させることは可能は可能であるが、これらの層は、
反射防止コーティングとして有用な、必要な程度の硬さ
を存しない。このような層は、蒸着後、焼なましによっ
て更に硬くすることはできない。
従来の提案があった。欧州特許公告第0131341号
明細書(PHNlo、737)には、陰極線管フェース
プレートの外表面を機械的に粗面化し、λ/4の厚さの
フッ化マグネシウム(MgF z)単層を蒸着させる方
法が開示される。ここでλはピーク感度波長、すなわち
約550nmである。空気、ガラス及びMgF tの屈
折率は、それぞれ1.0.1.57及び1゜39である
。このような配置は、フェースプレートでの反射率を減
少させるけれども、次の不利益点を伴う、(1)反射率
の減少は、ピーク感度波長で最大であり、このピーク感
度波長の両側で次第に小さくなる。(2)必要な程度の
硬さを有する層を得るためには、MgF zを加熱基板
上に付着させねばならない。代表的に、基板、すなわち
フェースプレートの最低温度は、200°Cであるが、
250°Cの温度が好ましい。フェースプレートの加熱
は、真空下に行うので、熱伝達は輻射により、これは遅
(約1時間を要する。いっそう低い温度でMghiiを
蒸着させることは可能は可能であるが、これらの層は、
反射防止コーティングとして有用な、必要な程度の硬さ
を存しない。このような層は、蒸着後、焼なましによっ
て更に硬くすることはできない。
説明及び特許請求の範囲は、低、中位及び高屈折率(n
)を有する材料に言及する。これらの相対用語は、光学
的に透明なフェースプレートバネルを形成する材料、例
えばガラス、の屈折率と関係がある。n=1.5を有す
るガラスに対して、nに対する低い値は1.5以下であ
り、nに対する中位の値は1.50より太きく1.80
より小さい範囲内にあり、nに対する高い値は1.80
以上である。
)を有する材料に言及する。これらの相対用語は、光学
的に透明なフェースプレートバネルを形成する材料、例
えばガラス、の屈折率と関係がある。n=1.5を有す
るガラスに対して、nに対する低い値は1.5以下であ
り、nに対する中位の値は1.50より太きく1.80
より小さい範囲内にあり、nに対する高い値は1.80
以上である。
反射防止コーティングの反射率特性曲線は、スペクトル
の可視部においてそれがほとんど一定の値、理想的には
ゼロを有するようであるべきである。レーザーの場合、
フェースプレートに適用される比較的高い屈折率を有す
る第1層と、比較的低い屈折率を有する隣接する第2層
とをそなえる干渉フィルタを用いることが知られている
。このような配列は、■−コーティングとして知られる
が、これは、反射特性曲線がレーザー光の波長で頂点(
ver tax)又は最小反射を有する、−iにV字形
をなすからである。■−特性曲線の側部は、中位の屈折
率を有する、A 1 z(hのような、材料の第1層と
、比較的高い屈折率を有する、TiO2のような、材料
のいっそう厚い隣接第2層と、第2Nより厚さが薄く、
比較的低い屈折率を有する、MgFtのような、材料の
、隣接する第3層とをそなえる3層干渉フィルタを用い
て修飾することができる。このコーティングは、二つの
最小、中心波長の両側に一つずつ、があるいっそう幅の
広い特性曲線を有するので、W−コーティングとして知
られている。知られている限りでは、このような反射防
止コーティングは、必要な程度の硬さと耐引っかき性を
得るために約300 ’Cに加熱した基板上に蒸着され
る。これらの層をつくるのに用いられる材料は、引き続
(焼なましによって硬くすることはできない。
の可視部においてそれがほとんど一定の値、理想的には
ゼロを有するようであるべきである。レーザーの場合、
フェースプレートに適用される比較的高い屈折率を有す
る第1層と、比較的低い屈折率を有する隣接する第2層
とをそなえる干渉フィルタを用いることが知られている
。このような配列は、■−コーティングとして知られる
が、これは、反射特性曲線がレーザー光の波長で頂点(
ver tax)又は最小反射を有する、−iにV字形
をなすからである。■−特性曲線の側部は、中位の屈折
率を有する、A 1 z(hのような、材料の第1層と
、比較的高い屈折率を有する、TiO2のような、材料
のいっそう厚い隣接第2層と、第2Nより厚さが薄く、
比較的低い屈折率を有する、MgFtのような、材料の
、隣接する第3層とをそなえる3層干渉フィルタを用い
て修飾することができる。このコーティングは、二つの
最小、中心波長の両側に一つずつ、があるいっそう幅の
広い特性曲線を有するので、W−コーティングとして知
られている。知られている限りでは、このような反射防
止コーティングは、必要な程度の硬さと耐引っかき性を
得るために約300 ’Cに加熱した基板上に蒸着され
る。これらの層をつくるのに用いられる材料は、引き続
(焼なましによって硬くすることはできない。
この発明の目的は、処理容器内にわたる周囲温度より高
く基板(すなわちフェースプレート)を特別に加熱する
必要がない方法によって表示装置上に引っかき抵抗のあ
る反射防止コーティングを提供することである。
く基板(すなわちフェースプレート)を特別に加熱する
必要がない方法によって表示装置上に引っかき抵抗のあ
る反射防止コーティングを提供することである。
この発明に従って、周囲温度にある蒸着装置内でフェー
スプレートパネル上に少なくとも3Nのフィルタ層を真
空蒸着させることによりコーティングを設け、しかも前
記層の一つの層の材料がフェースプレートパネルの材料
の屈折率に関して高い屈折率を有し、前記層の別の一つ
の層の材料がフェースプレートパネルの材料の屈折率に
関して低い屈折率を有し、前記層を構成する材料が蒸着
後中程度の硬さを有するようにし、次いで前記層を蒸着
装置の外で高温での焼なましにより硬くすることにより
フェースプレートパネルの外表面上に硬くした反射防止
コーティングを設けることを特徴とする表示装置の製造
方法を提供する。
スプレートパネル上に少なくとも3Nのフィルタ層を真
空蒸着させることによりコーティングを設け、しかも前
記層の一つの層の材料がフェースプレートパネルの材料
の屈折率に関して高い屈折率を有し、前記層の別の一つ
の層の材料がフェースプレートパネルの材料の屈折率に
関して低い屈折率を有し、前記層を構成する材料が蒸着
後中程度の硬さを有するようにし、次いで前記層を蒸着
装置の外で高温での焼なましにより硬くすることにより
フェースプレートパネルの外表面上に硬くした反射防止
コーティングを設けることを特徴とする表示装置の製造
方法を提供する。
許容しうる反射防止コーティングは、3層で構成しうる
けれども、材料選択への依存度をいっそう小さくするた
めには、コーティングが4層以上から成ることが好まし
い。
けれども、材料選択への依存度をいっそう小さくするた
めには、コーティングが4層以上から成ることが好まし
い。
五酸化ニオブ(Nb2O5) 、酸化ケイ素(SiOz
)及び酸化アルミニウム(A f 、03)のような材
料を選択することにより、真空蒸着容器内にわたる80
°Cの程度の周囲温度でこれらを蒸着させて中程度の硬
さの層を生成させ、次いでこれを蒸着容器の外で高温で
焼なましすることにより高度の硬さを有するようにする
ことができる。基板(すなわちフェースプレート)を加
熱しなければならぬことを避けることにより真空中での
加熱時間を省(ことができる。更に、焼なまし段階が陰
極線管の通常の加工の一部分である場合、この時間の節
約は、有効になる。
)及び酸化アルミニウム(A f 、03)のような材
料を選択することにより、真空蒸着容器内にわたる80
°Cの程度の周囲温度でこれらを蒸着させて中程度の硬
さの層を生成させ、次いでこれを蒸着容器の外で高温で
焼なましすることにより高度の硬さを有するようにする
ことができる。基板(すなわちフェースプレート)を加
熱しなければならぬことを避けることにより真空中での
加熱時間を省(ことができる。更に、焼なまし段階が陰
極線管の通常の加工の一部分である場合、この時間の節
約は、有効になる。
このようにして反射防止コーティングを生成させること
は、はとんど又は全くひび割れのないフィルタ層を生成
させることであることを確かめた。
は、はとんど又は全くひび割れのないフィルタ層を生成
させることであることを確かめた。
所要に応じて、フェースプレートの外表面は、フェース
プレートの正反射率を低減するために機械的に粗面化す
ることができる。
プレートの正反射率を低減するために機械的に粗面化す
ることができる。
反射防止4Nコーテイングの一例において、フェースプ
レートに設けられる第1及び第2Nは、最外層より各薄
い。第1層は、高屈折率を有し、Nb2O5より成って
よい。最外層は、いかなる場合にも1.4〜1.8の屈
折率を有する材料より成る第2層と同様に5iOzで構
成することができる。
レートに設けられる第1及び第2Nは、最外層より各薄
い。第1層は、高屈折率を有し、Nb2O5より成って
よい。最外層は、いかなる場合にも1.4〜1.8の屈
折率を有する材料より成る第2層と同様に5iOzで構
成することができる。
この発明に従って製造される表示装置のこの例において
は、4層反射防止コーティングの第1及び第2層は、各
λ/8の程度の厚さを有し、第3層は、λ/2の程度の
厚さを有し、最外層は、λ/4の程度の厚さを有する。
は、4層反射防止コーティングの第1及び第2層は、各
λ/8の程度の厚さを有し、第3層は、λ/2の程度の
厚さを有し、最外層は、λ/4の程度の厚さを有する。
ここでλは、目の感度曲線から選ばれる望ましい中心波
長に等しい。
長に等しい。
また、この発明は、光学的に透明なフェースプレート及
びフェースプレートの外表面上に反射防止コーティング
をそなえ、該反射防止コーティングが焼なましにより硬
くされた少なくとも3層の蒸着層から成り、前記層の一
つの層の材料がフェースプレートの材料の屈折率に関し
て高い屈折率を有し、前記層の別の一つの層の材料がフ
ェースプレートの材料の屈折率に関して低い屈折率を有
する表示装置にも関する。
びフェースプレートの外表面上に反射防止コーティング
をそなえ、該反射防止コーティングが焼なましにより硬
くされた少なくとも3層の蒸着層から成り、前記層の一
つの層の材料がフェースプレートの材料の屈折率に関し
て高い屈折率を有し、前記層の別の一つの層の材料がフ
ェースプレートの材料の屈折率に関して低い屈折率を有
する表示装置にも関する。
表示装置は、カラー陰極線管、中心波長かけいりん光体
の波長である投写形テレビジョン管(PTV管)、デー
タグラフィックディスプレイ(D、G、D、)管又はオ
シロスコープ管のような陰極線管を含むことができる。
の波長である投写形テレビジョン管(PTV管)、デー
タグラフィックディスプレイ(D、G、D、)管又はオ
シロスコープ管のような陰極線管を含むことができる。
以下、この発明を図面を参照して例により説明する。
図面において、対応する符号は、同様な特徴を示す。
第1図に示す陰極線管は、円錐部12に結合する光学的
に透明なフェースプレートパネル10により形成される
エンベロープをそなえ、ネック部14が円錐部12に結
合される。電子銃16をネック部14内に配設する。陰
極ルミネセンススクリーン18をフェースプレートパネ
ル10の内側に設ける。反射防止コーティング20を、
酸化鉛(PbO)をほとんど含まない混合アルカリガラ
スで構成されるフェースプレートパネル10の外表面上
に設ける。電子銃16により発生された電子ビーム(図
示せず)は、エンベロープのネック部−円錐部の遷移部
に設けた偏向コイル組立22によりスクリーン上に走査
される。
に透明なフェースプレートパネル10により形成される
エンベロープをそなえ、ネック部14が円錐部12に結
合される。電子銃16をネック部14内に配設する。陰
極ルミネセンススクリーン18をフェースプレートパネ
ル10の内側に設ける。反射防止コーティング20を、
酸化鉛(PbO)をほとんど含まない混合アルカリガラ
スで構成されるフェースプレートパネル10の外表面上
に設ける。電子銃16により発生された電子ビーム(図
示せず)は、エンベロープのネック部−円錐部の遷移部
に設けた偏向コイル組立22によりスクリーン上に走査
される。
説明した陰極線管は、単色管、PTV管又はオシロスコ
ープ管を含むことができる。しかし、この発明は、フェ
ースプレートの外表面からの反射率を減少することによ
りイメージのコントラストを増加させるのに主として向
けられるので、シャドーマスクの表示管又は任意の他の
表示装置に適用することができる。
ープ管を含むことができる。しかし、この発明は、フェ
ースプレートの外表面からの反射率を減少することによ
りイメージのコントラストを増加させるのに主として向
けられるので、シャドーマスクの表示管又は任意の他の
表示装置に適用することができる。
第2図に示すフェースプレート構造及び反射防止コーテ
ィング20は、比例して描かれてはいない。
ィング20は、比例して描かれてはいない。
図示の反射防止コーティング20は、真空蒸着により周
囲温度でフェースプレートパネル10上に設けられた四
つの隣接する層26.28.30.32より成る。
囲温度でフェースプレートパネル10上に設けられた四
つの隣接する層26.28.30.32より成る。
層26〜32は異なる厚さを有し、層26及び30は、
NbtOlのような比較的高い屈折率を有する材料から
成り、層28及び32は、SiO□のような比較的低い
屈折率を有する材料から成る。層26〜32の各の正確
な厚さは、各層の材料の屈折率、n、と必要な光学的性
能を考えて選択されるけれども、層26゜28の各の厚
さは、λ/8の程度であり、層30の厚さはλ/2の程
度であり、層32の厚さはλ/4の程度である。ここで
λは、第3図に示す目の感度曲線から選ばれた所望の中
心波長に等しい。異なる厚さの層を有することの一つの
利点は、干渉効果が減少されることである。Nb2O5
及びSjO□のような材料は、加熱されないフェースプ
レートパネル10上に80°Cの程度の周囲温度で蒸着
される場合、中位の硬さの層を形成する。しかし、Mg
F zのような材料と異なって、これらの層は、次に高
温焼なましによって硬くしてこれらに耐引っかき性を付
与することができる。
NbtOlのような比較的高い屈折率を有する材料から
成り、層28及び32は、SiO□のような比較的低い
屈折率を有する材料から成る。層26〜32の各の正確
な厚さは、各層の材料の屈折率、n、と必要な光学的性
能を考えて選択されるけれども、層26゜28の各の厚
さは、λ/8の程度であり、層30の厚さはλ/2の程
度であり、層32の厚さはλ/4の程度である。ここで
λは、第3図に示す目の感度曲線から選ばれた所望の中
心波長に等しい。異なる厚さの層を有することの一つの
利点は、干渉効果が減少されることである。Nb2O5
及びSjO□のような材料は、加熱されないフェースプ
レートパネル10上に80°Cの程度の周囲温度で蒸着
される場合、中位の硬さの層を形成する。しかし、Mg
F zのような材料と異なって、これらの層は、次に高
温焼なましによって硬くしてこれらに耐引っかき性を付
与することができる。
このような4層コーティングの加工では、Nb2O5層
をガラス上に付着させ最外低屈折率層をSin、で構成
するのが望ましいことを確かめた。しかし、このような
配列は、不可欠ではない。
をガラス上に付着させ最外低屈折率層をSin、で構成
するのが望ましいことを確かめた。しかし、このような
配列は、不可欠ではない。
第2層28は、八1−z(h 、MgO又はCe02を
含む種々の材料のようなSiO□と異なる材料で構成す
ることができる。この層の材料の選択基準の若干は、そ
れが1.4〜1,8の屈折率を有すること及びそれが比
較的硬い層として蒸着され、次いでこの層が焼なましに
よりいっそう硬い層になることができることである。
含む種々の材料のようなSiO□と異なる材料で構成す
ることができる。この層の材料の選択基準の若干は、そ
れが1.4〜1,8の屈折率を有すること及びそれが比
較的硬い層として蒸着され、次いでこの層が焼なましに
よりいっそう硬い層になることができることである。
第3図は、人間の目の感度曲線34である。横軸は、ナ
ノメートル(nm)で表した波長、λであり、縦軸は、
任意の単位で目盛られる。曲線は、一般にガウス型で約
550nmにピーク値を有する。
ノメートル(nm)で表した波長、λであり、縦軸は、
任意の単位で目盛られる。曲線は、一般にガウス型で約
550nmにピーク値を有する。
第4図は、百分率で表したガラスの反射率(R)及び1
.2又は3層のフィルタ層を有するコーティングの反射
率を波長、λ、に対して示したグラフである。ガラスの
反射率は、4.9%の反射率値を有する水平線36によ
り示される。
.2又は3層のフィルタ層を有するコーティングの反射
率を波長、λ、に対して示したグラフである。ガラスの
反射率は、4.9%の反射率値を有する水平線36によ
り示される。
少なくとも目が怒じる波長範囲にわたって反射を除くた
めには、反射防止コーティングは、理想的に破線で示す
長方形特性曲線38を有する。代表的な単層反射防止コ
ーティングは、約550nmに最小反射率値を有する一
点鎖線で示される特性曲線39を有する。代表的な2層
■−コートフィルタ特゛性曲線は、二点鎖線40で示さ
れ、波長の狭い範囲で最小又はゼロ反射率を有し、この
ことは、このような反射防止コーティングをレーザーに
使用するのに好適にする。31?iiWコーテイングの
特性曲線は、線42で示される。第3層の存在は、■特
性曲線400側部を横に引っ張って理想的な特性曲線に
いっそう近い曲線を生じさせる効果を有する。
めには、反射防止コーティングは、理想的に破線で示す
長方形特性曲線38を有する。代表的な単層反射防止コ
ーティングは、約550nmに最小反射率値を有する一
点鎖線で示される特性曲線39を有する。代表的な2層
■−コートフィルタ特゛性曲線は、二点鎖線40で示さ
れ、波長の狭い範囲で最小又はゼロ反射率を有し、この
ことは、このような反射防止コーティングをレーザーに
使用するのに好適にする。31?iiWコーテイングの
特性曲線は、線42で示される。第3層の存在は、■特
性曲線400側部を横に引っ張って理想的な特性曲線に
いっそう近い曲線を生じさせる効果を有する。
4層以上を与えることにより得られる反射率曲線は、長
方形に近イ以してくる。4層コーティングの場合、層厚
さは、ガラス基板から始めてλ/8、λ/8、λ/2及
びλ/4の程度である。
方形に近イ以してくる。4層コーティングの場合、層厚
さは、ガラス基板から始めてλ/8、λ/8、λ/2及
びλ/4の程度である。
第5図は、この発明に従う方法によりつくられた4筋反
射防止コーティングの反射率(R)のグラフである。反
射防止コーティングは、フェースプレートパネルに付着
した、高屈折率(2,14)と光学y7さくn、d、/
λ) 0.079を有する、Nb、O5の第1層と、低
い屈折率(1,43)と光学厚さ0.092を有する、
5i(hの第2層と、0.577の光学厚さを有する、
Nb2O5の第3層と、0.249の光学厚さを有する
、SiO□の最外層とから成る。
射防止コーティングの反射率(R)のグラフである。反
射防止コーティングは、フェースプレートパネルに付着
した、高屈折率(2,14)と光学y7さくn、d、/
λ) 0.079を有する、Nb、O5の第1層と、低
い屈折率(1,43)と光学厚さ0.092を有する、
5i(hの第2層と、0.577の光学厚さを有する、
Nb2O5の第3層と、0.249の光学厚さを有する
、SiO□の最外層とから成る。
第6図は、この発明に従う方法でつくられた7層反射防
止コーティングの反射率(R)のグラフである。コーテ
ィングは、Sin、とNb、O,の交互層より成り、焼
なまし後のそれぞれの屈折率(n)は、1.45及び2
.10である。最内層と最外層は、5i02である。コ
ーティング構造とそれぞれの層の光学厚さは、次の通り
である。
止コーティングの反射率(R)のグラフである。コーテ
ィングは、Sin、とNb、O,の交互層より成り、焼
なまし後のそれぞれの屈折率(n)は、1.45及び2
.10である。最内層と最外層は、5i02である。コ
ーティング構造とそれぞれの層の光学厚さは、次の通り
である。
(nd/λ)
ガラス
層I 5iOz 0.5342 N
b2O5 0.0593 5iOz
0.1194 Nb2O5
0.4915 S+02 0.43
56 Nb2050.376 7 5ift 0.193空気 図示の曲線は、第5図に示す曲線より平らであり、特定
される波長範囲にわたって反射率が1%未満であり、こ
の点で理想曲線38にいっそう近づく。
b2O5 0.0593 5iOz
0.1194 Nb2O5
0.4915 S+02 0.43
56 Nb2050.376 7 5ift 0.193空気 図示の曲線は、第5図に示す曲線より平らであり、特定
される波長範囲にわたって反射率が1%未満であり、こ
の点で理想曲線38にいっそう近づく。
3層反射防止コーティングの場合、典型的なフィルタは
、0.25の光学厚さを有する、A l zo+ (n
=1.63)の第1層と、0.50の光学厚さを有する
、Nb2O5の第2層と、0.25の光学厚さを有する
、5iOzの第3層の最外層とを有する。
、0.25の光学厚さを有する、A l zo+ (n
=1.63)の第1層と、0.50の光学厚さを有する
、Nb2O5の第2層と、0.25の光学厚さを有する
、5iOzの第3層の最外層とを有する。
第7図は、その中で反射防止コーティングのフィルタ層
をフェースプレートパネル10上に付着させる蒸着装置
の例を略図で説明する。装置は、回転支持体50に取り
付けるフェースプレートパネル10を入れたり、取り出
したりするために底板48に対して垂直に動かすことの
できる鐘形の146を含4□Ba1zers BA 5
10オプチカルコーター44をそなえる。Nb、O5及
びSiO□のような光学材料は、Airco−Teme
scal 8 kW 4ポケツト電子銃52により、蒸
発される。電子銃52は、回転するフェースプレートパ
ネル10上での均一な厚さ分布を得るために蓋46で画
成される空間中に偏心的に配置される。
をフェースプレートパネル10上に付着させる蒸着装置
の例を略図で説明する。装置は、回転支持体50に取り
付けるフェースプレートパネル10を入れたり、取り出
したりするために底板48に対して垂直に動かすことの
できる鐘形の146を含4□Ba1zers BA 5
10オプチカルコーター44をそなえる。Nb、O5及
びSiO□のような光学材料は、Airco−Teme
scal 8 kW 4ポケツト電子銃52により、蒸
発される。電子銃52は、回転するフェースプレートパ
ネル10上での均一な厚さ分布を得るために蓋46で画
成される空間中に偏心的に配置される。
DIFF1900油拡散ポンプとDUO35回転ポンプ
で構成されるポンプ装置54が底板48の入口によって
蒸着装置の内部と結合される。N2に対する有効ポンプ
速度は600ffi/sで最終圧力は、5 Xl0−’
mmHg(トール)である。液体Nz Meissne
r トラップを付着中の水に対する特別のポンプ速度
用に組み込む。
で構成されるポンプ装置54が底板48の入口によって
蒸着装置の内部と結合される。N2に対する有効ポンプ
速度は600ffi/sで最終圧力は、5 Xl0−’
mmHg(トール)である。液体Nz Meissne
r トラップを付着中の水に対する特別のポンプ速度
用に組み込む。
付着速度は、水晶厚さモニター56(例えばLeybo
ld IC−6000>で制御される。光学層厚さnd
は、鐘形蓋の窓60を経て光をあてる光源58をそなえ
る、オプチカルモニター、例えばダイナミック・オプチ
ックス(Dynamic 0ptics)製モニターを
用いて蒸着巾測定される。この光は、傾斜鏡62により
反射され、回転支持体50により支えられる監視ガラス
64を通る。監視ガラス64を透過した光は、モニター
の検出器68にあたる前に単色フィルタ66によりろ光
される。モニター56は、選ばれた波長における透過と
その干渉効果を追跡する。
ld IC−6000>で制御される。光学層厚さnd
は、鐘形蓋の窓60を経て光をあてる光源58をそなえ
る、オプチカルモニター、例えばダイナミック・オプチ
ックス(Dynamic 0ptics)製モニターを
用いて蒸着巾測定される。この光は、傾斜鏡62により
反射され、回転支持体50により支えられる監視ガラス
64を通る。監視ガラス64を透過した光は、モニター
の検出器68にあたる前に単色フィルタ66によりろ光
される。モニター56は、選ばれた波長における透過と
その干渉効果を追跡する。
基板の清浄化中域圧下にアルゴン(Ar)と酸素(0□
)の混合物を、また蒸着中のみ酸素を導入するために蓋
46に入ロア2を設ける。アルミニウム棒74は、M2
Rの内側で固定され、基板清浄化段階中グロー放電を行
うために電源ユニット76に接続される。
)の混合物を、また蒸着中のみ酸素を導入するために蓋
46に入ロア2を設ける。アルミニウム棒74は、M2
Rの内側で固定され、基板清浄化段階中グロー放電を行
うために電源ユニット76に接続される。
この装置によって方法を実施する場合、フェースプレー
トパネル、これは参考のためにあげる欧州特許公告第0
131341号明細書に開示される方法により外表面を
機械的に粗面化しておいてもよい、を回転支持体50に
取り付ける。鐘形蓋46を底板50上に下ろす。
トパネル、これは参考のためにあげる欧州特許公告第0
131341号明細書に開示される方法により外表面を
機械的に粗面化しておいてもよい、を回転支持体50に
取り付ける。鐘形蓋46を底板50上に下ろす。
最初、系は、5 XIO”6mmHg (トール)の程
度の圧力に真空排気される。次いで、フェースプレート
パネルを、90%Ar/10%0□の雰囲気中10−1
〜10−”+n+n11g (トール)の圧力でグロー
放電を用いて清浄化する。グロー放電電流は、100m
Aの程度であり、清浄化操作は、15分間続けられる。
度の圧力に真空排気される。次いで、フェースプレート
パネルを、90%Ar/10%0□の雰囲気中10−1
〜10−”+n+n11g (トール)の圧力でグロー
放電を用いて清浄化する。グロー放電電流は、100m
Aの程度であり、清浄化操作は、15分間続けられる。
次いで、蒸着段階をNb2O5から始めて3X10−’
m+n)tg()−ル)の酸素分圧下0.7 nm/
5 (ナノメートル7秒)の速度で実施する。実際の厚
さを厚さモニター56で監視して所望厚さのNb2O5
が付着すると、電子銃52をSiO□に切り替え、Si
n、を3×10−’mmHg (トール)の酸素分圧下
にlnm/sの速度で付着させる。蒸着段階が完了すれ
ば、蒸着装置に通気し、フェースプレートパネルを取り
出す。
m+n)tg()−ル)の酸素分圧下0.7 nm/
5 (ナノメートル7秒)の速度で実施する。実際の厚
さを厚さモニター56で監視して所望厚さのNb2O5
が付着すると、電子銃52をSiO□に切り替え、Si
n、を3×10−’mmHg (トール)の酸素分圧下
にlnm/sの速度で付着させる。蒸着段階が完了すれ
ば、蒸着装置に通気し、フェースプレートパネルを取り
出す。
次いで、コーティング20の焼なましを450°Cの温
度で空気巾約1.5時間行う。陰極線管製造に要する時
間を節約する見地から、陰極線管の通常の加工中にコー
ティングを焼なましすることが有利である。
度で空気巾約1.5時間行う。陰極線管製造に要する時
間を節約する見地から、陰極線管の通常の加工中にコー
ティングを焼なましすることが有利である。
焼なましは、層を硬くするだけでなく、それらの屈折率
をも変化させる。したがって、反射防止コーティングを
設計する場合、性能規格は、焼なまし後のフィルタコー
ティングに関していなければならない。
をも変化させる。したがって、反射防止コーティングを
設計する場合、性能規格は、焼なまし後のフィルタコー
ティングに関していなければならない。
コーティング20は、少なくとも3Nより成ることがで
きるけれども、4層以上の方が材料選択性がいっそう大
きいためにいっそう実際的な反射防止コーティングを与
える。
きるけれども、4層以上の方が材料選択性がいっそう大
きいためにいっそう実際的な反射防止コーティングを与
える。
第1図は、壁の一部を取り除いて示した陰極線管の立面
図、 第2図は、反射防止コーティングを上に有するフェース
プレート構造の一部を通る断面略図、第3図は、人間の
目の感度曲線を示すグラフ、第4図は、種々の型の反射
防止コーティングの性能を説明するのに有用な多数の反
射率曲線を示すグラフ、 第5図及び第6図は、この発明に従う方法によりつくっ
た、それぞれ4及び7層を有する反射防止コーティング
の反射率を示すグラフ、第7図は、この発明に従う方決
を実施する装置の線図である。 10・・・フェースプレートパネル 12・・・円錐部 14・・・ネック部16
・・・電子銃 18・・・陰極ルミネセンススクリーン20・・・反射
防止コーティング 22・・・偏向コイル組立 26・・・第1N28・
・・第2層 30・・・第3層32・・・第4
N34・・・人間の目の感度曲線36・・・ガラスの反
射率 38・・・理想的長方形特性曲線39・・・単
層反射防止コーティング特性曲線40・・・2層反射防
止コーティング特性曲線42・・・3層反射防止コーテ
ィング特性曲線44・・・オプチカルコーター 46・・・鐘形の蓋 48・・・底板50・・
・回転支持体 52・・・電子銃54・・・ポン
プ装置 56・・・水晶厚さモニター58・・・
光源 60・・・窓62・・・傾斜鏡
64・・・監視ガラス66・・・単色フィルタ
68・・・検出器72・・・入ロア4・・・アルミ
ニウム棒76・・・電源ユニット 特許出願人 エヌ・ベー・フィリップス・フルーイ
ランペンファブリケン 嘴1 LL LL i〜 口 す く ζ \巴、−− シ 8◆−一 〆−一一
図、 第2図は、反射防止コーティングを上に有するフェース
プレート構造の一部を通る断面略図、第3図は、人間の
目の感度曲線を示すグラフ、第4図は、種々の型の反射
防止コーティングの性能を説明するのに有用な多数の反
射率曲線を示すグラフ、 第5図及び第6図は、この発明に従う方法によりつくっ
た、それぞれ4及び7層を有する反射防止コーティング
の反射率を示すグラフ、第7図は、この発明に従う方決
を実施する装置の線図である。 10・・・フェースプレートパネル 12・・・円錐部 14・・・ネック部16
・・・電子銃 18・・・陰極ルミネセンススクリーン20・・・反射
防止コーティング 22・・・偏向コイル組立 26・・・第1N28・
・・第2層 30・・・第3層32・・・第4
N34・・・人間の目の感度曲線36・・・ガラスの反
射率 38・・・理想的長方形特性曲線39・・・単
層反射防止コーティング特性曲線40・・・2層反射防
止コーティング特性曲線42・・・3層反射防止コーテ
ィング特性曲線44・・・オプチカルコーター 46・・・鐘形の蓋 48・・・底板50・・
・回転支持体 52・・・電子銃54・・・ポン
プ装置 56・・・水晶厚さモニター58・・・
光源 60・・・窓62・・・傾斜鏡
64・・・監視ガラス66・・・単色フィルタ
68・・・検出器72・・・入ロア4・・・アルミ
ニウム棒76・・・電源ユニット 特許出願人 エヌ・ベー・フィリップス・フルーイ
ランペンファブリケン 嘴1 LL LL i〜 口 す く ζ \巴、−− シ 8◆−一 〆−一一
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、光学的に透明なフェースプレート及びフェースプレ
ートの外表面上に反射防止コーティングをそなえ、該反
射防止コーティングが焼なましにより硬くされた少なく
とも3層の蒸着層から成り、前記層の一つの層の材料が
フェースプレートの材料の屈折率に関して高い屈折率を
有し、前記層の別の一つの層の材料がフェースプレート
の材料の屈折率に関して低い屈折率を有する表面装置。 2、高い屈折率の材料がNb_2O_5である特許請求
の範囲第1項記載の表示装置。 3、低い屈折率の材料がSiO_2である特許請求の範
囲第1項又は第2項記載の表示装置。 4、フェースプレートの外表面を機械的に粗面化する特
許請求の範囲第1項、第2項又は第3項記載の表示装置
。 5、コーティングが4層より成り、第1及び第2層がλ
/8の程度の厚さを有し、第3層がλ/2の程度の厚さ
を有し、最外層がλ/4の程度の厚さを有し、λが所望
の中心波長に等しい特許請求の範囲第1〜4項のいずれ
か一つの項に記載の表示装置。 6、フェースプレートが陰極線管のフェースプレートパ
ネルであってフェースプレートの材料がほとんど酸化鉛
(PbO)を含まない混合アルカリガラスより成る特許
請求の範囲第1〜5項のいずれか一つの項に記載の表示
装置。 7、周囲温度にある蒸着装置内でフェースプレートパネ
ル上に少なくとも3層のフィルタ層を真空蒸着させるこ
とによりコーティングを設け、しかも前記層の一つの層
の材料がフェースプレートパネルの材料の屈折率に関し
て高い屈折率を有し、前記層の別の一つの層の材料がフ
ェースプレートパネルの材料の屈折率に関して低い屈折
率を有し、前記層を構成する材料が蒸着後中程度の硬さ
を有するようにし、次いで前記層を蒸着装置の外で高温
での焼なましにより硬くすることによりフェースプレー
トパネルの外表面上に硬くした反射防止コーティングを
設けることを特徴とする表示装置の製造方法。 8、高い屈折率の材料がNb_2O_5より成る特許請
求の範囲第7項記載の方法。 9、低い屈折率の材料がSiO_2より成る特許請求の
範囲第7項又は第8項記載の方法。 10、フェースプレートの外表面を機械的に粗面化する
特許請求の範囲第7〜9項のいずれか一つの項に記載の
方法。 11、前記層の焼なましを表示装置の通常の加工中に行
う特許請求の範囲第7〜10項のいずれか一つの項に記
載の方法。 12、フェースプレートがほとんど酸化鉛(PbO)を
含まない混合アルカリガラスより成る特許請求の範囲第
7〜11項のいずれか一つの項に記載の方法。 13、四つのフィルタ層をフェースプレートパネル上に
付着させ、フィルタ層の一つおきの層を高屈折率を有す
る材料とし、残りを低屈折率を有する材料とし、フェー
スプレートパネルに付着する第1層が高屈折率を有する
ようにする特許請求の範囲第7〜12項のいずれか一つ
の項に記載の方法。 14、第2層の材料が1.4〜1.8の範囲内の屈折率
を有する特許請求の範囲第13項記載の方法。 15、前記層の各の厚さが蒸着される材料の屈折率に関
係し、4層反射防止コーティングの場合、第1及び第2
層が各λ/8の程度の厚さを有し、第3層がλ/2の程
度の厚さを有し、最外層がλ/4の程度の厚さを有し、
ここでλは所望の中心波長に等しい特許請求の範囲第1
3項又は第14項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB8621468 | 1986-09-05 | ||
GB868621468A GB8621468D0 (en) | 1986-09-05 | 1986-09-05 | Display device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6365478A true JPS6365478A (ja) | 1988-03-24 |
JP2661919B2 JP2661919B2 (ja) | 1997-10-08 |
Family
ID=10603757
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62220531A Expired - Lifetime JP2661919B2 (ja) | 1986-09-05 | 1987-09-04 | 表示装置及びその製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4798994A (ja) |
EP (1) | EP0263541B1 (ja) |
JP (1) | JP2661919B2 (ja) |
KR (1) | KR950014063B1 (ja) |
CA (1) | CA1303119C (ja) |
DE (1) | DE3787949T2 (ja) |
GB (1) | GB8621468D0 (ja) |
Families Citing this family (48)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4931315A (en) * | 1986-12-17 | 1990-06-05 | Gte Products Corporation | Wide angle optical filters |
NL8900070A (nl) * | 1989-01-12 | 1990-08-01 | Philips Nv | Inrichting voor het inspekteren van een interferentiefilter voor een projektie-televisiebeeldbuis. |
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