JPH0765751A - 陰極線管 - Google Patents
陰極線管Info
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- JPH0765751A JPH0765751A JP5212434A JP21243493A JPH0765751A JP H0765751 A JPH0765751 A JP H0765751A JP 5212434 A JP5212434 A JP 5212434A JP 21243493 A JP21243493 A JP 21243493A JP H0765751 A JPH0765751 A JP H0765751A
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- thin film
- refractive index
- film
- ray tube
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- Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 安価に製作することが容易で、波長による反
射率の変化を抑制すると共にその反射率を小さくするこ
とにある。 【構成】 陰極線管バルブのフェースパネル１の表面
に、外来光Ｌの反射を防止すると共に帯電を防止する第
１及び第２の薄膜６，７を積層した二層コーティング膜
８を形成する。この二層コーティング膜８における第１
及び第２の薄膜６，７の屈折率ｎ1 ，ｎ2 及び膜厚ｄ
1 ，ｄ2 について、フェースパネル１の表面に被着され
た第１の薄膜６は、その屈折率ｎ1 を１．６〜１．８、
膜厚ｄ1 を２０〜１２０ｎｍとし、第１の薄膜６上に形
成された第２の薄膜７は、その屈折率ｎ 2 を１．４２〜
１．４８、膜厚ｄ2 を４０〜１３０ｎｍとする。
射率の変化を抑制すると共にその反射率を小さくするこ
とにある。 【構成】 陰極線管バルブのフェースパネル１の表面
に、外来光Ｌの反射を防止すると共に帯電を防止する第
１及び第２の薄膜６，７を積層した二層コーティング膜
８を形成する。この二層コーティング膜８における第１
及び第２の薄膜６，７の屈折率ｎ1 ，ｎ2 及び膜厚ｄ
1 ，ｄ2 について、フェースパネル１の表面に被着され
た第１の薄膜６は、その屈折率ｎ1 を１．６〜１．８、
膜厚ｄ1 を２０〜１２０ｎｍとし、第１の薄膜６上に形
成された第２の薄膜７は、その屈折率ｎ 2 を１．４２〜
１．４８、膜厚ｄ2 を４０〜１３０ｎｍとする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は陰極線管に関し、詳しく
は、フェースパネル表面での反射防止及び帯電防止を実
現する陰極線管に関する。
は、フェースパネル表面での反射防止及び帯電防止を実
現する陰極線管に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば、テレビ受像機やコンピュータの
ＣＲＴディスプレイに使用される陰極線管では、フェー
スパネル表面での外来光の反射を低減する一つの手段と
して、図３に示すようにそのフェースパネル１の表面を
粗面化し、外来光Ｌをフェースパネル１の表面で散乱さ
せることにより光の反射を暈す方法がある。具体的に、
このフェースパネル１の表面の粗面化は、フェースパネ
ル１の表面にシリカ等を凹凸に塗布して焼き付けるスプ
レーコーティング法や、フェースパネル１の表面をサン
ドブラストした上でフッ酸等で洗浄するダイレクトエッ
チング法などがある。
ＣＲＴディスプレイに使用される陰極線管では、フェー
スパネル表面での外来光の反射を低減する一つの手段と
して、図３に示すようにそのフェースパネル１の表面を
粗面化し、外来光Ｌをフェースパネル１の表面で散乱さ
せることにより光の反射を暈す方法がある。具体的に、
このフェースパネル１の表面の粗面化は、フェースパネ
ル１の表面にシリカ等を凹凸に塗布して焼き付けるスプ
レーコーティング法や、フェースパネル１の表面をサン
ドブラストした上でフッ酸等で洗浄するダイレクトエッ
チング法などがある。
【０００３】また、外来光Ｌの反射を防止する他の手段
として、図４に示すようにガラスパネル２上に多層コー
ティング膜３を蒸着させたものを樹脂４などでフェース
パネル１の表面に接着し、フェースパネル１の表面での
反射を効果的に抑制するようにしている。
として、図４に示すようにガラスパネル２上に多層コー
ティング膜３を蒸着させたものを樹脂４などでフェース
パネル１の表面に接着し、フェースパネル１の表面での
反射を効果的に抑制するようにしている。
【０００４】一方、図示しないが、陰極線管では、上述
したフェースパネル１の表面での反射防止とは別に、フ
ェースパネル１の表面に導電性薄膜を被着させて帯電防
止膜を形成することにより、フェースパネル１の表面が
帯電することを未然に防止する技術がある。
したフェースパネル１の表面での反射防止とは別に、フ
ェースパネル１の表面に導電性薄膜を被着させて帯電防
止膜を形成することにより、フェースパネル１の表面が
帯電することを未然に防止する技術がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述したフ
ェースパネル１の表面での反射防止手段のうち、フェー
スパネル１の表面を粗面化する場合、スプレーコーティ
ング法やダイレクトエッチング法のいずれにしても比較
的安価に製作することが可能である。その反面、外来光
Ｌの散乱による拡散反射効果により、コントラストが低
下し、また、蛍光体からの発光が散乱され、見かけ上、
解像度が低下するという欠点があった。
ェースパネル１の表面での反射防止手段のうち、フェー
スパネル１の表面を粗面化する場合、スプレーコーティ
ング法やダイレクトエッチング法のいずれにしても比較
的安価に製作することが可能である。その反面、外来光
Ｌの散乱による拡散反射効果により、コントラストが低
下し、また、蛍光体からの発光が散乱され、見かけ上、
解像度が低下するという欠点があった。
【０００６】一方、ガラスパネル２の表面に多層コーテ
ィング膜３を蒸着形成しフェースパネル１の表面に接着
した場合、ガラスパネル２の表面での反射率を低下させ
ることができて好ましいが、コーティング膜３を多層に
形成すること、及びガラスパネル２をフェースパネル１
に接着することにより、非常に高価なものになるという
欠点があった。
ィング膜３を蒸着形成しフェースパネル１の表面に接着
した場合、ガラスパネル２の表面での反射率を低下させ
ることができて好ましいが、コーティング膜３を多層に
形成すること、及びガラスパネル２をフェースパネル１
に接着することにより、非常に高価なものになるという
欠点があった。
【０００７】そこで、近年では、フェースパネル１の表
面に直接コーティング膜を形成し、各コーティング膜の
屈折率と膜厚とを反射率が低くなるように設定し、これ
により、画面のコントラスト及び解像度を低下させるこ
となく、フェースパネル１の表面での外来光Ｌの反射を
効果的に防止し、而も、安価に製作することができるも
のが開発されている〔特開平１−１８０５０１号公
報〕。
面に直接コーティング膜を形成し、各コーティング膜の
屈折率と膜厚とを反射率が低くなるように設定し、これ
により、画面のコントラスト及び解像度を低下させるこ
となく、フェースパネル１の表面での外来光Ｌの反射を
効果的に防止し、而も、安価に製作することができるも
のが開発されている〔特開平１−１８０５０１号公
報〕。
【０００８】しかしながら、フェースパネル１の表面で
の反射率を単純に低下させるだけでは、以下に説明する
ような問題があった。例えば、図５に示すようにフェー
スパネル１の表面にコーティング膜５を形成した場合、
そのコーティング膜５に入射する外来光Ｌは、コーティ
ング膜５の表面で反射する光Ｌａと、コーティング膜５
を透過してフェースパネル１の表面で反射する光Ｌｂと
なる。ここで、外来光Ｌの反射を抑制するためにはこの
二つの反射光Ｌａ，Ｌｂを干渉により相殺するようにす
ればよい。垂直入射の場合、外来光Ｌの波長をλ、コー
ティング膜５の膜厚をｄ、その屈折率をｎとして、光学
膜厚ｎｄ＝λ／４という関係が成立することが必要であ
る。
の反射率を単純に低下させるだけでは、以下に説明する
ような問題があった。例えば、図５に示すようにフェー
スパネル１の表面にコーティング膜５を形成した場合、
そのコーティング膜５に入射する外来光Ｌは、コーティ
ング膜５の表面で反射する光Ｌａと、コーティング膜５
を透過してフェースパネル１の表面で反射する光Ｌｂと
なる。ここで、外来光Ｌの反射を抑制するためにはこの
二つの反射光Ｌａ，Ｌｂを干渉により相殺するようにす
ればよい。垂直入射の場合、外来光Ｌの波長をλ、コー
ティング膜５の膜厚をｄ、その屈折率をｎとして、光学
膜厚ｎｄ＝λ／４という関係が成立することが必要であ
る。
【０００９】この時、コーティング膜５の屈折率ｎが、
フェースパネル１の屈折率ｎ0 〔ガラスの屈折率＝１．
５３〕の平方根に等しい。即ち、ｎ＝√ｎ0 なる関係が
成立すれば反射は０となる。しかし、コーティング膜５
の屈折率ｎが１．５３の平方根である１．２程度になる
ような実用上の材料を選定することは困難で、更に、フ
ェースパネル１の表面での帯電防止を考慮して、コーテ
ィング膜５を帯電防止膜として機能させようとすると、
金属成分を含ませて導電性を具備させる必要上、その屈
折率が大きくならざるを得ず、１．２程度の適正な屈折
率を有するものを選定することがより一層困難である。
そして、コーティング膜５の屈折率ｎがｎ0 （＝１．５
３）よりも大きくなると、コーティング膜５は反射増加
膜として作用することになる。
フェースパネル１の屈折率ｎ0 〔ガラスの屈折率＝１．
５３〕の平方根に等しい。即ち、ｎ＝√ｎ0 なる関係が
成立すれば反射は０となる。しかし、コーティング膜５
の屈折率ｎが１．５３の平方根である１．２程度になる
ような実用上の材料を選定することは困難で、更に、フ
ェースパネル１の表面での帯電防止を考慮して、コーテ
ィング膜５を帯電防止膜として機能させようとすると、
金属成分を含ませて導電性を具備させる必要上、その屈
折率が大きくならざるを得ず、１．２程度の適正な屈折
率を有するものを選定することがより一層困難である。
そして、コーティング膜５の屈折率ｎがｎ0 （＝１．５
３）よりも大きくなると、コーティング膜５は反射増加
膜として作用することになる。
【００１０】一方、人間にとっての可視光範囲は、３５
０〜４００ｎｍの青〔Ｂ〕から７００〜７５０ｎｍの赤
〔Ｒ〕までであり、その中間に５５０ｎｍの緑〔Ｇ〕が
位置する。故に、上述したｎｄ＝λ／４の関係式に基づ
いて、例えば、反射率が最低となる波長を５５０ｎｍの
緑〔Ｇ〕に設定したとすると、フェースパネル１の表面
での反射率曲線ａは、図６に示すように５５０ｎｍの緑
〔Ｇ〕で最小値となるような曲線を描く。その結果、５
５０ｎｍの緑〔Ｇ〕の領域では反射率が小さくなるのに
反して、３５０〜４００ｎｍの青〔Ｂ〕や７００〜７５
０ｎｍの赤〔Ｒ〕の領域では、反射率がそれ程小さくな
らない。このように特定の波長領域での反射率だけが低
下すると反射光に色が付き、波長による反射率の変化が
大きいほど、フェースパネル１の反射色が濃く、膜厚の
わずかな変化によって反射色の色あいが大きく変化する
という問題もある。
０〜４００ｎｍの青〔Ｂ〕から７００〜７５０ｎｍの赤
〔Ｒ〕までであり、その中間に５５０ｎｍの緑〔Ｇ〕が
位置する。故に、上述したｎｄ＝λ／４の関係式に基づ
いて、例えば、反射率が最低となる波長を５５０ｎｍの
緑〔Ｇ〕に設定したとすると、フェースパネル１の表面
での反射率曲線ａは、図６に示すように５５０ｎｍの緑
〔Ｇ〕で最小値となるような曲線を描く。その結果、５
５０ｎｍの緑〔Ｇ〕の領域では反射率が小さくなるのに
反して、３５０〜４００ｎｍの青〔Ｂ〕や７００〜７５
０ｎｍの赤〔Ｒ〕の領域では、反射率がそれ程小さくな
らない。このように特定の波長領域での反射率だけが低
下すると反射光に色が付き、波長による反射率の変化が
大きいほど、フェースパネル１の反射色が濃く、膜厚の
わずかな変化によって反射色の色あいが大きく変化する
という問題もある。
【００１１】そこで、コーティング膜５に反射防止及び
帯電防止効果の両方を持たせる方法として、コーティン
グ膜５を二層構造とする方法がある。この場合、第１の
薄膜の膜厚ｄ1 、屈折率ｎ1 、第２の薄膜の膜厚ｄ2 、
屈折率ｎ2 とした時、ｎ1ｄ1＝λ／４、ｎ2ｄ2＝λ／４
として、ｎ1 ／ｎ2 ＝√ｎ0 なる関係が成立すれば、、
波長λにおける反射率を０にすることができる。この場
合、ｎ1 とｎ2 は、その比が√ｎ0 になるようにすれば
よいので、選択の幅が広がる。しかし、この場合、波長
と反射率の関係は単層膜の場合よりもカバーできる波長
範囲が更に狭くなる。
帯電防止効果の両方を持たせる方法として、コーティン
グ膜５を二層構造とする方法がある。この場合、第１の
薄膜の膜厚ｄ1 、屈折率ｎ1 、第２の薄膜の膜厚ｄ2 、
屈折率ｎ2 とした時、ｎ1ｄ1＝λ／４、ｎ2ｄ2＝λ／４
として、ｎ1 ／ｎ2 ＝√ｎ0 なる関係が成立すれば、、
波長λにおける反射率を０にすることができる。この場
合、ｎ1 とｎ2 は、その比が√ｎ0 になるようにすれば
よいので、選択の幅が広がる。しかし、この場合、波長
と反射率の関係は単層膜の場合よりもカバーできる波長
範囲が更に狭くなる。
【００１２】そこで、本発明は上記問題点に鑑みて提案
されたもので、その目的とするところは、安価に製作す
ることが容易で、波長による反射率の変化を抑制すると
共にその反射率を小さくし得る反射及び帯電防止膜を具
備した陰極線管を提供することにある。
されたもので、その目的とするところは、安価に製作す
ることが容易で、波長による反射率の変化を抑制すると
共にその反射率を小さくし得る反射及び帯電防止膜を具
備した陰極線管を提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の技術的手段として、本発明は、陰極線管バルブのフェ
ースパネル表面に、外来光の反射を防止すると共に帯電
を防止する第１及び第２の薄膜を積層した二層コーティ
ング膜を形成した陰極線管において、フェースパネル表
面に被着された第１の薄膜は、その屈折率を１．６〜
２．０、膜厚を１０〜１００ｎｍとし、第１の薄膜上に
形成された第２の薄膜は、その屈折率を１．４２〜１．
４８、膜厚を８０〜１３５ｎｍとしたことを特徴とす
る。この第１の薄膜は、その屈折率を２．０、膜厚を１
９ｎｍとし、第２の薄膜は、その屈折率を１．４６、膜
厚を１２５ｎｍとすることが望ましい。また、第１の薄
膜は、酸化スズの材質からなり、第２の薄膜は、酸化ケ
イ素の材質からなることが好ましい。
の技術的手段として、本発明は、陰極線管バルブのフェ
ースパネル表面に、外来光の反射を防止すると共に帯電
を防止する第１及び第２の薄膜を積層した二層コーティ
ング膜を形成した陰極線管において、フェースパネル表
面に被着された第１の薄膜は、その屈折率を１．６〜
２．０、膜厚を１０〜１００ｎｍとし、第１の薄膜上に
形成された第２の薄膜は、その屈折率を１．４２〜１．
４８、膜厚を８０〜１３５ｎｍとしたことを特徴とす
る。この第１の薄膜は、その屈折率を２．０、膜厚を１
９ｎｍとし、第２の薄膜は、その屈折率を１．４６、膜
厚を１２５ｎｍとすることが望ましい。また、第１の薄
膜は、酸化スズの材質からなり、第２の薄膜は、酸化ケ
イ素の材質からなることが好ましい。
【００１４】
【作用】本発明に係る陰極線管では、フェースパネル表
面に第１及び第２の薄膜からなる二層のコーティング膜
を形成し、その第１及び第２の薄膜、特に、フェースパ
ネル表面に形成される第１の薄膜の屈折率及び膜厚を所
定値に設定することにより、反射率曲線を補正して反射
率を小さく維持したままで、波長による反射率の変化を
抑制する。また同時に、第１の薄膜を導電性とすること
により、あわせて帯電防止効果を持たせる。
面に第１及び第２の薄膜からなる二層のコーティング膜
を形成し、その第１及び第２の薄膜、特に、フェースパ
ネル表面に形成される第１の薄膜の屈折率及び膜厚を所
定値に設定することにより、反射率曲線を補正して反射
率を小さく維持したままで、波長による反射率の変化を
抑制する。また同時に、第１の薄膜を導電性とすること
により、あわせて帯電防止効果を持たせる。
【００１５】
【実施例】本発明に係る陰極線管の一実施例を図１及び
図２に示して説明する。尚、図３乃至図６と同一部分に
は同一参照符号を付して重複説明は省略する。
図２に示して説明する。尚、図３乃至図６と同一部分に
は同一参照符号を付して重複説明は省略する。
【００１６】本発明の陰極線管は、図１に示すように陰
極線管バルブのフェースパネル１の表面に、外来光Ｌの
反射を防止すると共に帯電を防止する第１及び第２の薄
膜６，７を積層した二層コーティング膜８を形成する。
この二層コーティング膜８における第１及び第２の薄膜
６，７の屈折率ｎ1 ，ｎ2 及び膜厚ｄ1 ，ｄ2 を以下の
ように設定する。
極線管バルブのフェースパネル１の表面に、外来光Ｌの
反射を防止すると共に帯電を防止する第１及び第２の薄
膜６，７を積層した二層コーティング膜８を形成する。
この二層コーティング膜８における第１及び第２の薄膜
６，７の屈折率ｎ1 ，ｎ2 及び膜厚ｄ1 ，ｄ2 を以下の
ように設定する。
【００１７】即ち、フェースパネル１の表面に被着され
た第１の薄膜６は、その屈折率ｎ1を１．６〜２．０、
膜厚ｄ1 を１０〜１２０ｎｍとし、第１の薄膜６上に形
成された第２の薄膜７は、その屈折率ｎ2 を１．４２〜
１．４８、膜厚ｄ2 を４０〜１４０ｎｍとする。第１及
び第２の薄膜６，７の屈折率ｎ1 ，ｎ2 が１．６，１．
４２より小さい場合、又は２．０，１．４８より大きい
場合、反射防止効果が小さくなって不適である。また、
第１及び第２の薄膜６，７の膜厚ｄ1 ，ｄ2 が１０ｎ
ｍ，４０ｎｍより小さい場合、又は１２０ｎｍ，１４０
ｎｍより大きい場合、反射防止効果が小さくなって不適
である。
た第１の薄膜６は、その屈折率ｎ1を１．６〜２．０、
膜厚ｄ1 を１０〜１２０ｎｍとし、第１の薄膜６上に形
成された第２の薄膜７は、その屈折率ｎ2 を１．４２〜
１．４８、膜厚ｄ2 を４０〜１４０ｎｍとする。第１及
び第２の薄膜６，７の屈折率ｎ1 ，ｎ2 が１．６，１．
４２より小さい場合、又は２．０，１．４８より大きい
場合、反射防止効果が小さくなって不適である。また、
第１及び第２の薄膜６，７の膜厚ｄ1 ，ｄ2 が１０ｎ
ｍ，４０ｎｍより小さい場合、又は１２０ｎｍ，１４０
ｎｍより大きい場合、反射防止効果が小さくなって不適
である。
【００１８】ここで、、第１の薄膜６をその屈折率ｎ1
が２．０であり、膜厚ｄ1 が２７０オングストローム
に、また、第２の薄膜７をその屈折率ｎ2 が１．４６で
あり、膜厚ｄ2 が１２５０オングストロームに設定する
と、図２の反射率曲線ａに示す反射率となる。この場合
は、反射率の波長による変化が大きい。この反射率の変
化を小さくするため、第１の薄膜６をその屈折率ｎ1 が
２．０であり、膜厚ｄ1が１９０オングストロームに、
また、第２の薄膜７をその屈折率ｎ2 が１．４６であ
り、膜厚ｄ2 が１２５０オングストロームに設定する。
この場合は、図２の反射率曲線ｂに示すように反射率は
波長による変化が小さくなる。
が２．０であり、膜厚ｄ1 が２７０オングストローム
に、また、第２の薄膜７をその屈折率ｎ2 が１．４６で
あり、膜厚ｄ2 が１２５０オングストロームに設定する
と、図２の反射率曲線ａに示す反射率となる。この場合
は、反射率の波長による変化が大きい。この反射率の変
化を小さくするため、第１の薄膜６をその屈折率ｎ1 が
２．０であり、膜厚ｄ1が１９０オングストロームに、
また、第２の薄膜７をその屈折率ｎ2 が１．４６であ
り、膜厚ｄ2 が１２５０オングストロームに設定する。
この場合は、図２の反射率曲線ｂに示すように反射率は
波長による変化が小さくなる。
【００１９】尚、上述した屈折率ｎ1 ，ｎ2 及び膜厚ｄ
1 ，ｄ2 の設定に基づいて、第１の薄膜６の材質として
は、酸化スズ、第２の薄膜７の材質としては、酸化ケイ
素が好ましい。この第１及び第２の薄膜６，７として
は、二層コーティング膜８の屈折率ｎ1 ／ｎ2 が、第１
の薄膜６の屈折率ｎ1 と第２の薄膜７の屈折率ｎ2 との
比となるので、それぞれの各屈折率ｎ1 ，ｎ2 として、
金属成分を含む導電性を有し、大きな屈折率を持つ材質
を選択することができるので、反射防止膜としての機能
に加えて、帯電防止膜としての機能を具備させることも
容易である。
1 ，ｄ2 の設定に基づいて、第１の薄膜６の材質として
は、酸化スズ、第２の薄膜７の材質としては、酸化ケイ
素が好ましい。この第１及び第２の薄膜６，７として
は、二層コーティング膜８の屈折率ｎ1 ／ｎ2 が、第１
の薄膜６の屈折率ｎ1 と第２の薄膜７の屈折率ｎ2 との
比となるので、それぞれの各屈折率ｎ1 ，ｎ2 として、
金属成分を含む導電性を有し、大きな屈折率を持つ材質
を選択することができるので、反射防止膜としての機能
に加えて、帯電防止膜としての機能を具備させることも
容易である。
【００２０】このようにして、図２に示すように、３５
０〜４００ｎｍの青〔Ｂ〕から、中間の５５０ｎｍの緑
〔Ｇ〕を経て、７００〜７５０ｎｍの赤〔Ｒ〕までに至
る人間にとっての可視光範囲において、フェースパネル
１の表面での反射率曲線ｂは、図中実線で示すように、
外来光Ｌの波長、即ち、色の違いによる反射率の変化が
小さい曲線となる。ここで、３５０〜４００ｎｍの青
〔Ｂ〕や７００〜７５０ｎｍの赤〔Ｒ〕の紫外及び赤外
領域に近いところでは、反射率の変化がそれ程小さくな
らなくても、視感度が低いので実際上、それ程問題とは
ならない。
０〜４００ｎｍの青〔Ｂ〕から、中間の５５０ｎｍの緑
〔Ｇ〕を経て、７００〜７５０ｎｍの赤〔Ｒ〕までに至
る人間にとっての可視光範囲において、フェースパネル
１の表面での反射率曲線ｂは、図中実線で示すように、
外来光Ｌの波長、即ち、色の違いによる反射率の変化が
小さい曲線となる。ここで、３５０〜４００ｎｍの青
〔Ｂ〕や７００〜７５０ｎｍの赤〔Ｒ〕の紫外及び赤外
領域に近いところでは、反射率の変化がそれ程小さくな
らなくても、視感度が低いので実際上、それ程問題とは
ならない。
【００２１】
【発明の効果】本発明によれば、フェースパネル表面
に、所定の屈折率及び膜厚を有する第１及び第２の薄膜
からなる二層コーティング膜を形成したことにより、反
射率曲線を補正して反射率を小さく維持したままで、波
長による反射率の変化を抑制できる陰極線管を安価に製
作することが容易となり、反射防止及び帯電防止の両機
能を備えた高品質の陰極線管を提供できる。
に、所定の屈折率及び膜厚を有する第１及び第２の薄膜
からなる二層コーティング膜を形成したことにより、反
射率曲線を補正して反射率を小さく維持したままで、波
長による反射率の変化を抑制できる陰極線管を安価に製
作することが容易となり、反射防止及び帯電防止の両機
能を備えた高品質の陰極線管を提供できる。
【図１】本発明に係る陰極線管の一実施例を示すフェー
スパネルの要部拡大部分を含む断面図
スパネルの要部拡大部分を含む断面図
【図２】本発明の陰極線管を使用した場合の反射率曲線
を示す特性図
を示す特性図
【図３】陰極線管の従来例を説明するためのもので、表
面を粗面化したフェースパネルを示す要部拡大部分を含
む断面図
面を粗面化したフェースパネルを示す要部拡大部分を含
む断面図
【図４】多層コーティング膜を形成したフェースパネル
を示す要部拡大部分を含む断面図
を示す要部拡大部分を含む断面図
【図５】コーティング膜を形成したフェースパネルでの
外来光の反射状態を示す部分拡大断面図
外来光の反射状態を示す部分拡大断面図
【図６】従来の陰極線管での反射率曲線を示す特性図
１ フェースパネル ６ 第１の薄膜 ７ 第２の薄膜 ８ 二層コーティング膜 Ｌ 外来光 ｎ1，ｎ2 屈折率 ｄ1，ｄ2 膜厚
Claims (5)
- 【請求項１】 陰極線管バルブのフェースパネル表面
に、外来光の反射を低減すると共に帯電を防止する第１
及び第２の薄膜を積層した二層コーティング膜を形成し
た陰極線管において、フェースパネル表面に被着された
第１の薄膜は、その屈折率を１．６〜１．８、膜厚を２
０〜１２０ｎｍとし、第１の薄膜上に形成された第２の
薄膜は、その屈折率を１．４２〜１．４８、膜厚を４０
〜１３０ｎｍとしたことを特徴とする陰極線管。 - 【請求項２】 請求項１記載の第１の薄膜は、その屈折
率を１．８〜２．０、膜厚を１０〜２０ｎｍとし、第２
の薄膜は、その屈折率を１．４２〜１．４８、膜厚を１
１０〜１４０ｎｍとしたことを特徴とする陰極線管。 - 【請求項３】 第１の薄膜は、その屈折率を２．０、膜
厚を１６〜１９ｎｍとし、第２の薄膜は、その屈折率を
１．４６、膜厚を１２５ｎｍとしたことを特徴とする請
求項２記載の陰極線管。 - 【請求項４】 前記第１の薄膜は、酸化スズの材質から
なり、第２の薄膜は、酸化ケイ素の材質からなることを
特徴とする請求項２及び３記載の陰極線管。 - 【請求項５】 前記第１の薄膜は、酸化スズをＣＶＤ
（Chemical Vapor Deposition ）法により形成し、第２
の薄膜は、酸化ケイ素をスピンコーティング法により形
成したことを特徴とする請求項３記載の陰極線管。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5212434A JP2715854B2 (ja) | 1993-08-27 | 1993-08-27 | 陰極線管 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5212434A JP2715854B2 (ja) | 1993-08-27 | 1993-08-27 | 陰極線管 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0765751A true JPH0765751A (ja) | 1995-03-10 |
| JP2715854B2 JP2715854B2 (ja) | 1998-02-18 |
Family
ID=16622544
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5212434A Expired - Lifetime JP2715854B2 (ja) | 1993-08-27 | 1993-08-27 | 陰極線管 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2715854B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6180030B1 (en) | 1996-09-26 | 2001-01-30 | Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd. | Substrate with transparent conductive coating and display device |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05190090A (ja) * | 1992-01-14 | 1993-07-30 | Asahi Glass Co Ltd | 導電膜および低反射導電膜およびその製造方法 |
| JPH05205659A (ja) * | 1992-01-27 | 1993-08-13 | Matsushita Electron Corp | 受像管 |
-
1993
- 1993-08-27 JP JP5212434A patent/JP2715854B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05190090A (ja) * | 1992-01-14 | 1993-07-30 | Asahi Glass Co Ltd | 導電膜および低反射導電膜およびその製造方法 |
| JPH05205659A (ja) * | 1992-01-27 | 1993-08-13 | Matsushita Electron Corp | 受像管 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6180030B1 (en) | 1996-09-26 | 2001-01-30 | Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd. | Substrate with transparent conductive coating and display device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2715854B2 (ja) | 1998-02-18 |
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